KR20200053492A - 다각형 개구로 역반사기 프리즘을 제조하는 방법 및 그 장치 - Google Patents

Abstract

기판에 역반사 프리즘을 형성하는 방법은 단일 포인트 다이아몬드 툴, 기판, 또는 단일 포인트 다이아몬드 툴과 기판 모두를 적어도 하나의 축을 따라 이동 방향으로 이동시키는 동안 기판의 표면을 통해 단일 포인트 다이아몬드 툴을 삽입 및 후퇴시켜 단일 다이아몬드 포인트 툴 또는 기판 중 적어도 하나의 이동 방향에 평행한 면 페이스를 갖는 기판에 면을 생성하는 단계를 포함한다. 면 페이스는 단일 포인트 다이아몬드 툴의 조각 에지에 의해 정의된 각도를 갖는다. 삽입 및 후퇴는 기판의 복수의 위치들에서 반복되어 기판의 표면에 역반사 미세 구조의 어레이를 형성한다. 역반사 미세 구조의 어레이 중 적어도 하나는 다각형 투영 개구를 갖는 역반사 프리즘이다.

Description

다각형 개구로 역반사기 프리즘을 제조하는 방법 및 그 장치

본 출원은 2017년 9월 11일자로 출원된 미국 가 특허 출원 제62/556,735호의 우선권을 주장하며, 이는 그 전체가 본원에서 참고로 포함된다.

본 기술은 다각형 개구로 역반사기 프리즘(retroreflector prisms)을 제조하는 방법 및 그 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 기술은 다각형 형상의 개구로 역반사 프리즘을 제조하기 위해 미세조각 기술(microchiseling techniques)을 사용하는 것에 관한 것이다.

미세프리즘의 역반사 시트는 절단된 큐브와 직사각형 전체 큐브로 만들어졌다(예를 들어, 미국 특허 번호 6,253,442; 7,156,527 및 3,689,346 참조). 절단 된 디자인은 일반적으로 직사각형 전체 큐브보다 효율이 떨어지므로 역반사 시트에 대한 최신 ASTM 및 기타 글로벌 사양 중 일부를 충족시키는 데 어려움이 있다.

역반사 설계를 위한 툴 제작은 절단 및 직사각형 프리즘 모두에 대한 단일 포인트 다이아몬드 룰링(ruling) 또는 플라이커팅(flycutting)에 의해 지배되었다. 플라이커팅 프로세스에서, 단일 포인트 다이아몬드 툴의 각도는 스핀들(spindle)과 같은 회전 툴 홀더에 설정된다. 그 후, 단일 포인트 다이아몬드는 기판을 통해 선형 패턴으로 이동하면서 스핀들이 회전하여 필요한 프리즘 형상을 형성한다(예를 들어, 미국 특허 번호 3,712,706 참조). 이 방법을 사용하여, 역반사체의 원하는 최종 기하학적 구조에 기초하여 간격을 두고 기판의 한 측면에서 다른 측면으로 기판을 절단한다. 세 개의 프리즘 측면들은 그루브들의 하나의 완전한 배향이 완료된 후 기판을 회전시킴으로써 형성된다. 플라이컷팅을 사용하면, 프리즘 형상의 변화는 플라이컷팅 설정의 제약으로 제한된다. 종래의 플라이커팅 기술은 본원에 개시된 역반사 프리즘의 제작에는 적합하지 않다.

기판에 역반사 프리즘을 형성하는 방법은 단일 포인트 다이아몬드 툴, 기판, 또는 단일 포인트 다이아몬드 툴과 기판 모두를 적어도 하나의 축을 따라 이동 방향으로 이동시키는 동안 기판의 표면을 통해 단일 포인트 다이아몬드 툴을 삽입 및 후퇴시켜 단일 다이아몬드 포인트 툴 또는 기판 중 적어도 하나의 이동 방향에 평행한 면 페이스를 갖는 기판에 면을 생성하는 단계를 포함한다. 면 페이스는 단일 포인트 다이아몬드 툴의 조각 에지에 의해 정의된 각도를 갖는다. 삽입 및 후퇴는 기판의 복수의 위치들에서 반복되어 기판의 표면에 역반사 미세 구조의 어레이를 형성한다. 역반사 미세 구조의 어레이 중 적어도 하나는 다각형 투영 개구를 갖는 역반사 프리즘이다.

기판에 역반사 프리즘을 형성하는 방법은 표면을 갖는 기판을 제공하는 단계를 포함한다. 역반사 미세 구조의 어레이는 기판의 표면으로 미세 조각된다. 역반사 미세 구조의 어레이에서 역반사 미세 구조들 중 적어도 하나는 다각형 투영 개구를 갖는 역반사 프리즘이다.

프로세서에 의해 실행될 때, 상기 프로세서로 하여금 단계들을 수행하게 하는 실행 가능 코드를 포함하는 기판에 역반사 프리즘을 형성하기 위한 명령어를 저장한 비 일시적 컴퓨터 판독 가능 매체에 있어서, 상기 단계들은, 단일 포인트 다이아몬드 툴, 기판, 또는 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴과 상기 기판 모두를 적어도 하나의 축을 따라 이동 방향으로 이동시키면서 상기 기판의 표면을 통해 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴을 삽입 및 후퇴를 지시하여 상기 단일 다이아몬드 포인트 툴 또는 상기 기판 중 적어도 하나의 상기 이동 방향에 평행한 면 페이스를 갖는 기판에 면을 생성하는 단계를 포함한다. 상기 면 페이스는 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴의 조각 에지에 의해 정의된 각도를 갖는다. 단일 포인트 다이아몬드 툴은 기판의 표면에 복수의 위치에서 삽입 및 후퇴을 반복하여 기판의 표면에 역반사 미세 구조의 어레이를 형성하도록 지시된다. 역반사 미세 구조의 어레이에서 역반사 미세 구조들 중 적어도 하나는 다각형 투영 개구를 갖는 역반사 프리즘이다.

본 기술은 유리하게는 다각형 역반사 프리즘을 갖는 역반사 시트 및 툴링을 제조하는데 이용될 수 있는 역반사 프리즘을 형성하기 위한 향상된 방법을 제공한다. 본 기술은 미세 조각 기술을 사용하여 다각형 역반사기를 생성하여 활성 영역을 증가시킨다. 미세 조각 공정은 삼각형, 마름모꼴, 직사각형, 정사각형, 오각형, 육각형 또는 팔각형 프리즘과 같은 다각형을 포함하는 역반사 미세 구조의 다양한 유형 및 형상을 포함하는 어레이를 생성할 수 있게 한다.

도 1은 기판에 역반사 프리즘을 형성하기 위한 환경의 블록도이다.
도 2는 다이아몬드 툴을 사용하여 기판을 미세조각(microchiseling)하기 위한 전형적인 삽입 및 후퇴 툴 경로의 표현이다.
도 3은 본 기술의 방법을 사용하여 형성될 수 있는 예시적인 타입 I 육각형 역반사기이다.
도 4는 본 기술의 방법을 사용하여 형성될 수 있는 유동 채널로 배열된 예시적인 타입 II 육각형 역반사기이다.
도 5는 본 기술의 방법을 사용하여 형성된 동일한 회전을 갖는 육각형 역반사 프리즘의 예시적인 어레이를 도시한다.
도 6은 본 기술의 방법을 사용하여 형성될 수 있는 직사각형 역반사 프리즘의 예시적인 어레이를 도시한다.
도 7은 본 기술의 방법을 사용하여 형성될 수 있는 오각형 역반사 프리즘의 예시적인 어레이를 도시한다.
도 8은 본 기술의 방법을 사용하여 형성될 수 있는 어레이 내에서 다양한 경사 각들로 배열된 정사각 역반사 프리즘의 예시적인 어레이를 도시한다.
도 9는 본 기술의 방법을 사용하여 형성될 수 있는 오각형 및 절단된 삼각형 역반사 프리즘의 예시적인 하이브리드 어레이를 도시한다.
도 10은 본 기술의 방법을 사용하여 형성될 수 있는 오각형 및 불규칙한 육각형 역반사 프리즘의 예시적인 하이브리드 어레이를 도시한다.

도 1을 참조하면, 다이아몬드 미세조각(diamond microchiseling)을 사용하여 역반사기 툴 및 역반사 시트를 제조하는데 사용될 수 있는, 기판에 역반사 프리즘을 형성하기 위한 환경(10)이 도시되어 있다. 다이아몬드 미세 조각(Diamond Micro Chiseling, DMC)은 다축 고정밀 기계가 재료를 제거하기 위해 기판을 통해 다이아몬드를 밀어넣고(plunge) 후퇴시키는(retract) 공정이며, 이는 Brinksmeier 등의 "대규모 역반사 어레이의 다이아몬드 미세 조각", 정밀 공학, 34(4): 650-57,(2012)에 설명되어 있고, 그 개시 내용은 그 전문이 본원에 참조로 포함된다. DMC는 유리하게는 전통적인 플라이커팅 기술(flycutting techniques)을 사용하여 생성될 수 없는 다각형 또는 다른 유사한 형상의 역반사 프리즘(retroreflective prisms)을 포함하는 역반사기 툴링(tooling)을 생성하는 방법을 제공한다. DMC는 또한 역반사기 설계에서 유연성을 향상시킨다. DMC는 이러한 역반사기의 다양한 글로벌 사양을 충족하는 활성 영역이 증가된 다각형 역반사기의 생산을 가능하게 한다.

다시 도 1을 참조하면, 환경(10)은 제어 컴퓨팅 디바이스(16)에 연결된 5 축 병진 머신(translation machine)와 같은 병진 머신(13)에 부착된 다이아몬드 절삭 툴(diamond cutting tool)(12)을 포함하지만, 환경(10)은 다른 유형 및/또는 숫자의 디바이스들을 다른 조합으로 포함할 수 있다. 다이아몬드 절삭 툴(12)은 기판(14)을 미세 조각하기 위해 이용될 수 있다. 일 예시에서, 번역 머신(13)은, 제어 컴퓨팅 장치(16)가 다이아몬드 절삭 툴(12)의 위치를 제어하기 위해 이용될 수 있도록, 제어 컴퓨팅 디바이스(16)에 결합된다. 다른 예시에서, 기판(14)은 본원에 개시된 방법을 수행하기 위해, 단독으로 또는 다이아몬드 절삭 툴의(12)의 이동과 조합하여 기판(14)이 이동하도록 병진 머신에 결합될 수 있다. 병진 머신(13)은 다이아몬드를 기판(14)을 향해, 통하고, 기판으로부터 멀어지게 하는 병진 머신(13)의 공급 속도(feed rate)를 사용하여 다이아몬드 절삭 툴(12)의 다이아몬드를 기판(14)을 통해 밀어 넣기 및 후퇴시키도록 구성된다. 병진 머신(13)은 공급 속도에 의해 발생된 밀어 넣기 및 후퇴 동안 추가적인 운동 축을 허용한다. 일 예시에서, 병진 기계(13)는 보다 복잡한 툴 경로를 제공하기 위해 다수의 축들을 맞물리게 한다.

일 예시에서, 다이아몬드 절삭 툴(12)은 특정 프리즘 형상을 기계 가공할 수 있도록 미세 조각 공정을 위해 특별히 설계된다. 이는 다이아몬드 절삭 툴(12)이 미세 조각 공정의 높은 절삭력에 대해 더욱 견고하게 할 수 있게 한다. 일 예시에서, 다이아몬드 절삭 툴(12)의 다이아몬드는 기판(14)에 미리 형성된 다른 프리즘과의 간섭을 제거하거나 미세 조각 공정의 일부로서 대향하는 드래프트 각도 요소(opposing draft angle features)를 포함하도록 설계된다. 다른 예시에서, 다이아몬드 절삭 툴(12)의 다이아몬드 설계는 비대칭일 수 있다. 예시로서, 평면 또는 반경은 다이아몬드 절삭 툴(12)의 다이아몬드 팁에 부가되어 툴 마모를 최소화하고 최종 역반사 제품에서 성능 저하가 거의 또는 전혀 없이 다이아몬드 절삭 툴(12)의 수명을 증가시킬 수 있다.

기판(14)은 단일 포인트 다이아몬드 기계 가공과 호환되는(compatible) 금속으로 형성된다. 다른 금속들 또는 다른 재료들이 기판(14)에 사용될 수 있지만, 이들은 오직 예시로서 황동, 알루미늄, 구리 및 고 인성 니켈을 포함한다. 복제 편차(replication deviation), 폴리머 수축(polymer shrinkage) 및 기타 치수 및 모양 변화와 같은 제조 변수는 역반사 마스터 프리즘 설계의 형상에 반영된다. 최종 부품의 성능은 UV/EB 주조 또는 엠보싱(embossing)에 의해 형성된 폴리머 광학(polymer optic)이기 때문에 기판(14) 내로 기계 가공될 때 프리즘 디자인에서 최종 제품의 성능이 보상되어야 한다. 일 예시에서, 새로운 역반사 설계의 신속한 프로토타이핑 및 테스트를 위해, 광학은 폴리머 기판 내로 미세 조각되어 복제(replication)없이 디자인을 테스트할 수 있다.

이 예에서, 기판(14)은 평면 기판이다. 다른 예시에서, 비평면 기판이 공작물에 사용될 수 있다. 예를 들어, 미세조각에 의해 생성된 광학 구조가 비 평면 기판에 첨가되는 구면 곡률 반경(spherical radius of curvature) 또는 자유형 표면(freeform surface)을 갖는 공작물 상에서 미세가공이 수행될 수 있다.

이 예에서 제어 컴퓨팅 디바이스(16)는 하나 이상의 프로세서들(18), 메모리(20) 및 통신 인터페이스(22)를 포함하고, 이들은 버스(24) 또는 다른 통신 링크에 의해 함께 결합되며, 다만 제어 컴퓨팅 디바이스(16)는 다른 구성에서 다른 유형 및/또는 숫자의 요소들을 포함할 수 있다. 제어 컴퓨팅 디바이스(16)의 프로세서(들)(18)는 본원에 설명되고 도시된 임의의 수의 기능들을 위해 메모리(20)에 저장된 프로그래밍된 명령어를 실행할 수 있다. 제어 컴퓨팅 디바이스(16)의 프로세서(들)(18)는, 예를 들어, 비록 다른 유형의 프로세서(들)이 사용될 수 있지만, 하나 이상의 CPU 또는 하나 이상의 처리 코어들을 갖는 범용 프로세서를 포함할 수 있다.

제어 컴퓨팅 디바이스(16)의 메모리(20)는 본원에 기술되고 도시된 바와 같이 본 기술의 하나 이상의 양태들에 대한 이러한 프로그래밍된 명령어를 저장하지만, 프로그래밍된 명령어의 일부 또는 전부가 다른 곳에 저장될 수 있다. 다양한 유형의 메모리 저장 디바이스, 예를 들어, 랜덤 액세스 메모리(RAM), 판독 전용 메모리(ROM), 하드 디스크, 솔리드 스테이트 드라이브, 플래시 메모리 또는 프로세서(들)(18)에 결합된 자기, 광학 또는 다른 판독 및 기록 시스템에 의해 판독되고 기록되는 다른 컴퓨터 판독 가능 매체와 같은 것들이 메모리(20)에 사용될 수 있다.

따라서, 제어 컴퓨팅 디바이스(16)의 메모리(20)는 제어 컴퓨팅 디바이스(16)에 의해 실행될 때 제어 컴퓨팅 디바이스(16)로 하여금 아래 설명되고 예시된 동작을 수행하게 하는 컴퓨터 실행 가능 명령어를 포함할 수 있는 하나 이상의 어플리케이션들 또는 프로그램들을 저장할 수 있다. 어플리케이션(들)은 모듈 또는 다른 어플리케이션들의 구성 요소로서 구현될 수 있다. 또한, 어플리케이션(들)은 운영 체제 확장, 모듈, 플러그인 등으로 구현될 수 있다.

또한, 어플리케이션(들)은 클라우드 기반 컴퓨팅 환경에서 동작할 수 있다. 어플리케이션(들)은 클라우드 기반 컴퓨팅 환경에서 관리될 수 있는 가상 머신(들) 또는 가상 서버(들) 내에서 또는 이들로서 실행될 수 있다. 또한, 어플리케이션(들)은 제어 컴퓨팅 디바이스(16) 상에서 실행되는 하나 이상의 가상 머신들(VM들)에서 실행될 수 있다.

제어 컴퓨팅 디바이스(16)의 통신 인터페이스(22)는 당업계에 공지된 바와 같이 제어 컴퓨팅 디바이스(16)와 다이아몬드 절삭 툴(12) 사이를 작동 가능하게 결합하고 통신한다. 다른 예시에서, 제어 컴퓨팅 디바이스(16)는 아날로그-디지털 변환기, 디지털-아날로그 변환기, 직렬 버스, 범용 I/O 핀, RAM 및 ROM과 같은 다양한 온-보드 하드웨어 기능들(on-board hardware functions)을 갖춘 고집적 마이크로 컨트롤러 디바이스이다.

예시적인 제어 컴퓨팅 디바이스(16)가 본원에서 설명되고 도시되었지만, 다른 토폴로지에서 다른 유형 및/또는 숫자의 시스템, 디바이스, 구성 요소 및/또는 요소들이 사용될 수 있다. 본원에 설명된 예의 시스템은 예시적인 목적을 위한 것으로 이해되며, 예를 구현하기 위해 사용된 특정 하드웨어 및 소프트웨어의 많은 변형이 관련 기술(들)의 당업자에 의해 이해될 수 있는 것으로 이해되어야 한다.

또한, 제어 컴퓨팅 디바이스(16) 대신에 2 개 이상의 컴퓨팅 시스템들 또는 디바이스들이 대체될 수 있다. 따라서, 리던던시(redundancy) 및 복제와 같은 분산 처리의 원리 및 장점은 또한 필요에 따라 실시되어 예시들의 디바이스 및 시스템의 견고성 및 성능을 증가시킬 수 있다. 예시들은 또한 적절한 형태(예를 들어, 음성 및 모뎀)의 텔레트래픽, 무선 트래픽 네트워크, 셀룰러 트래픽 네트워크, 패킷 데이터 네트워크(PDN), 인터넷, 인트라넷 및 이들의 조합을 단지 예시로서 포함하는 임의의 적절한 인터페이스 메커니즘 및 트래픽 기술을 사용하여 임의의 적합한 네트워크를 통해 확장되는 컴퓨터 시스템(들)에서 구현될 수 있다.

예시들은 또한 본원의 예시들을 통해 설명되고 도시된 바와 같이 본 기술의 하나 이상의 양태들에 대해 저장된 명령어들을 갖는 하나 이상의 비 일시적 컴퓨터 판독 가능 매체로서 구현될 수 있다. 일부 예시들의 명령어는 하나 이상의 프로세서들에 의해 실행될 때 프로세서로 하여금 본원에 기술되고 예시된 본 기술의 예시의 방법을 구현하는데 필요한 단계를 수행하게 하는 실행 가능 코드를 포함한다.

다각형의 투영 개구 역반사 프리즘(polygonal projected aperture retroreflective prism)을 포함하는, 역반사 미세 구조체를 형성하기 위해 표면을 미세 조각하는 예시적인 공정이 도 1 내지 도 10과 관련하여 설명될 것이다.

미세 조각 공정은 상기한 바와 같이 기판(14)을 제공함으로써 시작된다. 일 예시에서, 전-처리 단계는 기판(14)을 제조하기 위해 미세 조각 공정에 포함된다. 미세 조각 공정은 긴 선형 그루브를 빠르게 생성하는 룰링(ruling) 및 플라이커팅(flycutting)과 비교할 때 상대적으로 느린 공정이다. 사이클 시간을 줄이기 위해, 전처리 단계는, 하기에 기술된 바와 같이 미세 조각 공정을 사용하여 기판(14) 상의 최종 프리즘 형상을 마무리하기 전에, 절단된 프리즘 형상 또는 그루브 또는 다른 패턴을 위한 설계를 사용하여 초과 재료가 기판(14) 밖으로 거칠어 지도록 포함된다. 이 황삭 기술(roughing technique)은 공정 시간을 크게 단축시킬 수 있다. 또한, 보다 견고한 다이아몬드를 사용하여 더 빠른 기계 가공 속도로 큰 절삭 깊이를 황삭(rough out)할 수 있다. 다음으로, 마무리 다이아몬드를 사용하여 아래에 설명된 바와 같이 미세 조각 공정에서 최종 기하 구조를 얻을 수 있다.

다음으로, 미세 조각 공정을 수행하기 위해, 다이아몬드 절삭 툴(12)의 다이아몬드가 기판(14)을 통해 밀어 넣어져 후퇴된다. 다이아몬드 절삭 툴(12)의 예시적인 툴 경로가 도 2에 도시되어 있다. 미세 조각 공정은 병진 머신(13)을 사용하여 다이아몬드를 삽입 경로(30)를 따라 기판(14) 내로 밀어 넣고, 후퇴 경로(31)를 따라 기판(14)으로부터 다이아몬드를 후퇴시킨다. 밀어 넣기 및 후퇴는 병진 머신(13)의 공급 속도를 사용하여 다이아몬드 절삭 툴(12)을 기판(14)을 통해 이동시키고 다이아몬드 절삭 툴(12)을 병진 머신(13)의 하나 이상의 다른 운동 축을 따라 이동시켜, 주어진 큐브의 면(facet)을 생성하며, 다만 비록 다른 예들에서, 기판(14)은 면을 생성하기 위해 단독으로 또는 병진 머신(14)의 이동과 함께 이동될 수 있다. 면은 도 2에 도시된 바와 같이 다이아몬드 절삭 툴(12)의 다이아몬드의 조각 에지(32)의 배향에 의해 정의된 각도에 있을 것이다. 이러한 방식으로, 미세 조각으로 형성된 면은 병진 머신(13)의 운동과 평행할 것이다. 그러나, 추가 축이 보다 복잡한 툴 경로에 결합된 경우, 형성된 면에는 예를 들어 스텝 기능(step functions), 반경(radii), 자유형 프로파일(freeform profiles) 또는 임의의 모양이 있을 수 있다. 다른 예에서, 면 토폴로지는 또한 특수하게 형상화된 다이아몬드 절삭 툴(12)을 사용함으로써 플랫하지 않을 수 있다.

삽입 경로(30)를 따른 밀어 넣기 및 후퇴 경로(31)를 따른 후퇴는 예를 들어 기판(14)을 따라 다양한 위치들에서 반복되어 기판(14) 상에 복수의 역반사 구조를 형성한다. 일 예시에서, 미세 조각은 병진 머신(13)에 연결된 제어 컴퓨팅 디바이스(16)에 의해 제어된다. 미세 조각 공정은 예를 들어 삼각형, 마름모꼴, 직사각형, 정사각형, 오각형, 육각형, 팔각형 또는 다른 다각형과 같은 일반적인 다각형을 포함하여, 다수의 역반사기 어레이 설계를 가능하게 한다.

본원에 전체적으로 참조로 포함된, 미국 특허 제6,015,214호에 개시된 것과 같은 다양한 역반사기 형상 구성이 미세 조각 공정을 사용하여 형성될 수 있다. 본원에 개시된 역반사 프리즘을 형성하기 위한 DMC 방법은 미국 특허 제6,015,214 호에 개시된 방법을 사용해서는 불가능한 훨씬 더 많은 유연성 및 많은 다른 기하학적 실시 예를 갖는 이러한 동일한 기하학적 실시 예를 생성할 수 있다.

도 3 및 4는 본원에 개시된 방법을 사용하여 기판에 형성될 수 있는 예시적인 육각형 역반사기 또는 프리즘을 도시한다. 육각형 투영 개구 프리즘 역반사기는 두 가지 기본 기하학적 유형을 가질 수 있다: 유형 I(도 3)과 유형 II(도 4). 도 3을 참조하면, 유형 I 육각형 프리즘은 이면 에지들(dihedral edges)이 생성된 프리즘 면들이 4 면이되도록 외부 육각형 투영 개구(34)의 코너들과 교차하는 형상을 갖는 것으로 정의된다. 대조적으로, 도 4를 참조하면, 유형 II 육각형 프리즘은 프리즘의 이면 에지들이 외부 육각형 투영 개구(36)의 모서리와 교차하지 않는 형상으로 정의된다. 유형 II 프리즘은 3 개의 오각형 면을 초래한다. 도 3 및 도 4 모두에 도시된 바와 같이, 이면 에지들은 프리즘의 면들의 교차점에서 형성된 에지들이며, 이들 이면 에지들은 육각형 프리즘의 정점에서 만나다. 육각형 프리즘 설계를 위한 세 개의 이면 에지들과 세 개의 면들이 있다. 주어진 개구 크기에 대해, 타입 I 프리즘은 동일한 개구 크기의 타입 II 프리즘보다 더 깊거나 더 크다.

육각형 투영 개구 프리즘에 대한 설계와 관련하여, 도 3에 도시된 바와 같은 유형 II 육각형 프리즘에 대해, 미세 조각은 주어진 개구 내에서 프리즘의 가변 배향을 허용한다. 이면 에지들은 육각형 개구 내에서 임의의 회전을 가질 수 있다. 도 5는 어레이 전체의 개구 내의 프리즘에 일정한 회전이 적용되는 본 기술의 방법을 사용하여 형성된 육각형 역반사 프리즘의 예시적인 어레이를 도시한다.

다른 예에서, 미세 조각 공정은 또한 어레이 내의 각 프리즘이 개구 내에서 이면 에지들의 상이한 회전을 가질 수 있게 한다. 또한, 설정된 회전 그룹이 주어진 비율의 회전 세트가 어레이에 포함될 수 있도록 설계될 수 있다. 일 예시에서, 어레이의 육각형 프리즘의 50 %는 회전되지 않고, 25 %는 10도에서 회전되고, 25 %는 -10도에서 회전된다. 예시적인 회전 세트가 설명되었지만, 미세 조각 공정은 어레이 내에서 회전 각도 및 회전 비율의 변화의 임의의 조합을 허용한다는 것을 이해해야 한다. 일 예에서, 도 4에 도시된 바와 같이, 유형 II 육각형 프리즘은 아래에 더 설명되는 바와 같이 복제 공정을 보조하는 유동 채널(flow channels)(37)을 갖도록 배열되고 제조될 수 있다.

미세 조각은 도 5에 도시된 바와 같이 개구가 고정된 크기로 유지되는, 유형 II 육각형 프리즘의 면 및 이면 에지들의 회전을 허용한다. 일 예시에서, 육각형 프리즘의 개구 크기는 어레이에서 변할 수 있다. 프리즘 회전이 이면 에지들이 개구를 만나는 수직 벽 산물(artifact)을 만들 수 있지만, 이들 산물은 아래에서 더 상세히 설명되는 바와 같이 복제 프로세스를 용이하게 하기 위해 드래프트 각도를 갖도록 최소화되거나 제거되거나 설계될 수 있다. 다른 예에서, 개구와 함께 전체 프리즘은 주어진 어레이에서 임의의 각도로 회전된다. 이러한 방식으로, 임의의 기하학적 타일 배열들(tiling arrangements)이 가능하다.

단지 예시로서, 본원에 개시된 방법을 사용하여 형성될 수 있는 역반사 프리즘 어레이의 추가적인 기하학적 실시 예들이 도 6 내지 도 10에 도시되어 있다. 도 6은 직사각형 투영 개구(40)를 갖는 역반사 프리즘을 도시한다. 도 7은 오각형 투영 개구(42)를 갖는 역반사 프리즘을 도시한다. 도 8은 정사각형 투영 개구(44)를 갖는 역반사 프리즘을 도시한다. 도 9 및 도 10은 상이한 형상의 투영 개구 역반사 프리즘의 하이브리드 조합을 갖는 역반사 어레이들을 도시한다.

틸트(tilt)가 없는, 포지티브 틸트, 네거티브 틸트 및 이러한 틸트들의 조합을 갖는 프리즘을 설계하고 제조할 수 있는 능력이 미세 조각 공정의 특징이기도 하다. 역반사기 프리즘 틸트는 미국 특허 제4,588,258호, 2,380,447호 및 5,171,624호에 기술된 바와 같은 이러한 틸트 방향으로의 광 복귀를 향상시키기 위해 이용될 수 있으며, 그 개시 내용은 그 전문이 본원에 참조로 포함된다. 종래의 프리즘 설계의 경우, 프리즘의 틸트는 개구 변화를 필요로 한다. 미세 조각 공정은 프리즘 개구를 변경하지 않고 프리즘 틸트 및 회전이 설계에 통합될 수 있게 한다. 하나의 이러한 예시적인 형태가 도 8에 도시되어 있으며, 여기서 4 개의 사각형 개구 역반사기(45)의 인접 세트는 면 영역 비율의 차이에 의해 입증되는 바와 같이 매우 다른 프리즘 틸트들을 갖는다.

이제 도 9 내지 도 10을 참조하면, 미세 조각 공정은 임의의 유형 및 형상의 역반사기 프리즘을 혼합하는 능력을 갖는다. 예를 들어, 도 9에 도시된 바와 같이, 절단된 삼각형 투영 개구 프리즘(47)은 오각 투영 개구 프리즘(46)과 혼합될 수 있다. 다른 예시가 도 10에 도시되어 있으며, 오각 투영 개구 프리즘(48)은 불규칙한 육각형 투영 개구 프리즘(49)과 혼합된다. 또한, 동일한 유형의 프리즘의 상이한 피치 및 크기가 혼합될 수 있도록 설계가 제한되지 않는다. 프리즘의 가변 피치 및 가변 깊이의 다른 조합도 가능하다. 동일한 설계의 여러 유형의 프리즘 이외에, 프리즘 깊이는 가변 프리즘 개구와 동일하게 설계될 수 있거나 프리즘 깊이는 특정 프리즘 형상의 개구에 따라 변하도록 설계될 수 있다. 삼각형, 마름모꼴, 직사각형, 정사각형, 오각형, 육각형, 팔각형 또는 그렇지 않으면 각 프리즘 또는 프리즘들의 그룹 내에서 가변 회전, 틸트 및 다중 이면 각을 갖는 다각형 개구들을 포함하는 미세 조각의 유연성으로 많은 설계 기능을 사용할 수 있다. 또한, 역반사기들 사이의 간격은 원하는 대로 특정 패턴, 역반사기들의 클러스터 또는 다른 코스메틱 특징부를 생성하도록 수정될 수 있다. 또한, 역반사기들 사이의 간격은 특정 패턴, 역반사기 클러스터 또는 원하는 다른 코스메틱 특징부를 생성하도록 수정될 수 있다.

미세 조각은 회절 효과(diffraction effects)를 감소 시키거나 제거하기 위해 랜덤 또는 가변 개구 크기를 선택할 수 있게 한다. 개구 크기들의 개별 세트를 랜덤화, 의사-랜덤화 또는 선택하는 것은 역반사기 어레이의 광학 성능이 완전한 기하학적 모델(purely geometric model)로 수렴될 수 있다.

미세 조각 공정은 프리즘 면의 깊이, 피치, 각도 및 표면 마감을 개별적으로 조정하는데 이용될 수 있다. 이러한 조정은 위조 방지 요소(anti-counterfeiting features)에 대해 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 생성된 면 상에 숨겨진 특징을 미세한 스케일로 삽입하는 것; 가시적 로고 특징을 수십 또는 다수의 프리즘, 또는 역반사기 물품의 패턴 및 이들 각각의 간격이 될 수 있는 매크로 스케일로 삽입하는 단계; 특정 시야각, 특정 파장, 조명 조건에서만 또는 비-가시적인 파장에서 특수 측정 장비를 사용하여 볼 수 있는 특징을 생성하는 것을 포함할 수 있다. 표면 마감 차이(surface finish differences)를 달성하는 방법은 특정 면 또는 어레이의 특정 프리즘들에 대한 힘과 공급 속도를 맞게 조정하는 것을 포함한다.

다른 예에서, 미세 조각을 이용하여, 로고는 프리즘 패턴으로 설계되어 포토메트릭 성능(photometric performance)을 감소시키는 현재의 조각 패턴과 비교하여 비파괴적이고 기능적이게 된다. 예를 들어, 절단 프로그램은 "워터마크(watermark)" 유형 효과를 발생시키기 위해 규정된 방식으로 수정될 수 있다. 다중 DAD/틸트 설계의 경우, 워터마크 패턴에 대해 특정 프리즘 규칙들(prism prescriptions)이 함께 집계될 수 있다. 이 예시에서, 유사한 프리즘 규칙들이 워터마크 정의 영역으로 배열된다.

미세 조각 공정은 구조 벽에 드래프트 각도 컷(draft angle cuts)을 포함시켜 전기주조(electroforming) 또는 몰딩 동안 방출을 돕는다. 특정 지오메트리의 경우, 기판에서 생성된 프리즘 구조는 수직 벽 또는 언더컷(undercut)을 가지며, 이는 추가의 복제 공정에서 방출하기 어려울 수 있다. 일부 역반사기 설계는 인접한 프리즘의 면과 겹치는 프리즘 면을 갖는다. 이러한 겹침으로 인해 드래프트 각도가 음수가 되고 이후 툴링(tooling)으로 복제하는 동안 구조가 "고정(lock on)"된다. 미세 조각을 사용하면 이러한 언더컷이나 간섭 표면을 제거하고 수직 벽(언더컷 없음)으로 대체하거나 표면에서 양의 각도(드래프트)를 허용하여 복제에서 쉽게 방출할 수 있는 가공 기능을 통합 할 수 있다.

다이아몬드 툴에 대한 높은 인장력은 툴 수명을 감소시킬 수 있다. 일 예에서, 미세 조각은 절단의 후퇴 부분(retraction portion) 동안 다이아몬드 절삭 툴(12)에 대한 높은 인장력을 피하도록 제어된다. 이 예시에서, 다이아몬드 절삭 툴(12)의 작동은 밀어 넣는 동안 재료 제거에 영향을 미치도록 최적화되며, 다이아몬드는 툴 후퇴 대신에, 생성된 압축력에 대해 더 견고하다. 압축 시 다이아몬드로만 가공하는 이 공정은 후퇴 시 재료를 제거하면 다이아몬드가 장력을 받을 때 툴이 손상 될 가능성이 높아 지므로 다이아몬드 수명을 늘리는 방법이다.

미세 조각 공정을 사용하여 기판에서 프리즘 어레이가 완성되면, 기판은 폴리머 역반사 필름 시트를 만드는데 사용되는 롤-대-롤 벨트 또는 원통형 벨트로 복제될 수 있다. 복제주기 시간을 줄이기 위해, 사출 성형된 복제물들이 제조되고 함께 파케이되어(parqueted) 더 큰 크기의 툴링을 형성할 수 있다. 미세 조각 공정은 각 큐브를 조각하는 데 필요한 시간과 마스터가 생산되는 머신 툴에 대한 이동 한계로 인해 상대적으로 작은 마스터(master)(2 인치 정사각형 크기)를 생성한다. 롤-대-롤 폴리머 공정을 수행할 수 있도록 마스터 구조를 크기로 만들려면 복제 및 파케이가 필요하다.

프리즘 어레이는 예를 들어 미국 특허 제4,478,769호 및 제6,322,652호뿐만 아니라 PCT 공보 WO2103/151691에 개시된 바와 같은 폭이 24 인치 내지 50 인치 이상이고 원주가 25 내지 150 인치인 원통형 벨트에 대해 복제 및 파케이될 수 있고, 그 개시 내용은 그 전문이 본원에 참조로 포함된다. 구조가 제조 드럼(manufacturing drum)의 외부 표면을 완전히 덮으려면, 툴 마스터를 복제하고 파케이 해야 한다.

일 예시에서, 미세 조각된 부분의 다수의 폴리머 복제물들이 제조되고 벨트에 대해 더 큰 역반사 프리즘 배열을 만들기 위해 함께 정확하게 파케이된다. 이 더 큰 어레이는 도전성 코팅으로 코팅되고 전기 주조 공정에서 복제되어 개별 스탬퍼들(stampers)을 생성한 후 벨트로 조립될 수 있다. 폴리머 복제 파케이 공정은 저렴하고, 생산 시간이 덜 걸리며, 최종 UV 캐스트 또는 엠보싱된 역반사기의 필요한 광학 성능을 유지한다.

폴리머 복제물을 사용하면 역반사성 어레이의 일부가 파케이 공정 동안 재배열될 수 있다. 벨트를 만드는 과정에서 마스터의 파케이가 필요하기 때문에, 미세 조각된 역반사기의 복제물은 어플리케이션에 따라 다른 최종 제품에 필요한 각도에서 역반사 성능을 향상 시키도록 배향될 수 있다.

미세 조각 공정으로, 프리즘 형상, 설계 구속 조건 및 절단 실행 계획(logistics)을 기반으로 양의 또는 음의 생성 부품이 설계되고 기계 가공될 수 있다. 미세 조각 공정의 적응성으로 인해, 부품의 양의 또는 음의 생성이 제조될 수 있다. 다른 방향에 대해 하나의 배향을 선택하는 이유는 가공 과정의 간섭 및 한 생성 또는 다른 생성에 대해 매우 작은 포함된 각도 다이아몬드가 필요한 각도를 갖는 프리즘으로 인해 한 생성 또는 다른 생성을 불가능하게 할 수 있는 프리즘의 지오메트리를 포함한다. 특수 프리즘 어레이는 복제 생성에 관계없이 생성에 무관하게 설계 될 수 있다. 예를 들어, "양의" 및 "음의" 생성 큐브 코너의 완벽한 통합이 가능할 수 있다. 이는 완성된 부품의 "잘못된" 생성에서 프리즘 비율에 의해 활성 영역을 감소시키는 부작용이 있지만 양면 역반사 제품에는 유리할 수 있다. 또한, 양의 및 음의 툴 생성이 모두 사용될 수 있으므로, 제조 공정에 이용 가능한 툴의 수율이 효과적으로 두 배가 될 수 있다.

절단된 프리즘 역반사 설계는 단일 평면에서 3 개의 비-이면 에지들에 의해 경계를 이루는 각각의 프리즘을 갖는다. 이 설계는 폴리머로 채워져야 하는 폐쇄 셀을 형성하고 포집된 공기가 재료를 통해 확산되거나 확산될 수 있게 함으로써 주조 또는 엠보싱 속도를 감소시킨다. 폐쇄 셀 포켓이 없고 프리즘 어레이는 폴리머 재료 또는 공기가 흐르도록 채널을 통합하여 제조 동안 가스의 배출 및 폴리머 재료의 흐름을 허용한다. 일 예시에서, 타입 II 육각형 프리즘은 복제 프로세스를 위한 흐름 연속성을 제공하기 위해 도 4에 도시된 바와 같이 흐름 채널로 배열되고 제조될 수 있다. 흐름 연속성은 재료가 폐쇄된 셀에 갇히지 않기 때문에 성형 또는 주조 공정에서 중요한 역할을 한다. 이 흐름 라인은 재료 흐름 및 속도 처리를 용이하게 하기 위해 제조 벨트에서 주조 또는 성형 방향으로 배향될 수 있다.

따라서, 이 기술은 유리하게는 미세 조각 기술을 사용하여 다각형 역반사기를 갖는 역반사 시트 및 툴링을 위해 사용될 수 있는 기판에 역반사 프리즘을 형성하기 위한 개선된 방법을 제공한다. 또한, 이 기술들은 큐브 코너 프리즘의 생성을 유리하게 제공하고 역반사 어레이를 위한 설계 능력을 향상시킨다.

이와 같이 본 발명의 기본 개념을 설명하였지만, 전술한 상세한 설명은 단지 예로서 제시되고 제한되지 않는 것이 당업자에게는 명백할 것이다. 본 명세서에서 명시적으로 언급되지는 않았지만 다양한 변경, 개선 및 수정이 이루어질 것이 당업자에게 의도된다. 이러한 변경, 개선 및 수정은 본 명세서에서 제안되고 본 발명의 사상 및 범위 내에 있다. 또한, 처리 요소 또는 시퀀스의 언급된 순서, 또는 숫자, 문자 또는 다른 명칭의 사용은 청구 범위에서 특정될 수 있는 것을 제외하고 청구된 프로세스를 임의의 순서로 제한하도록 의도되지 않는다. 따라서, 본 발명은 다음의 청구 범위 및 그 등가물에 의해서만 제한된다.

Claims (28)

1. 기판(substrate)에 역반사성 프리즘(retroreflective prism)을 형성하는 방법에 있어서,
   단일 포인트 다이아몬드 툴, 기판, 또는 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴과 상기 기판 모두를 적어도 하나의 축을 따라 이동 방향으로 이동시키면서 상기 기판의 표면을 통해 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴을 삽입(inserting) 및 후퇴(retracting)시켜 상기 단일 다이아몬드 포인트 툴 또는 상기 기판 중 적어도 하나의 상기 이동 방향에 평행한 면 페이스(facet face)를 갖는 기판에 면(facet)을 생성하는 단계로서, 상기 면 페이스는 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴의 조각 에지(chiseling edge)에 의해 정의된 각도를 갖는, 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴일 삽입(inserting) 및 후퇴(retracting)시키는 단계; 및
   상기 기판의 복수의 위치들에서 상기 삽입 및 후퇴를 반복하여 상기 기판의 표면에 역반사성 미세 구조의 어레이를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 역반사 미세 구조의 어레이에서 상기 역반사 미세 구조 중 적어도 하나는 다각형 투영 개구(polygonal projected aperture)를 갖는 역반사 프리즘인, 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 역반사 미세 구조의 어레이를 형성하는 것을 상기 반복하기 위한 상기 복수의 위치들은 삼각형, 마름모꼴, 직사각형, 정사각형, 오각형, 육각형 또는 팔각형 투영 개구 역반사 프리즘들 중 적어도 하나를 생성하도록 선택되는, 방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 역반사 미세 구조의 어레이를 형성하는 것을 상기 반복하기 위한 상기 복수의 위치들은 다중 유형의 역반사 프리즘들을 생성하도록 선택되는, 방법.
4. 제1항에 있어서, 상기 역반사 미세 구조의 어레이를 형성하는 것을 상기 반복하기 위한 상기 복수의 위치들은 경사, 회전, 면 각도, 높이 및 크기의 변화를 갖는 개별 역반사 프리즘을 생성하도록 선택되는, 방법.
5. 제1항에 있어서, 상기 삽입 또는 수축 단계는,
   상기 단일 포인트 다이아몬드 툴 또는 상기 기판을 다중 이동 방향으로 이동시키면서 상기 기판의 상기 표면을 통해 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴을 삽입 및 후퇴시켜 스텝 요소(step function), 반경(radius), 프리폼 프로파일(freeform profile), 또는 이들의 조합을 포함하는 면 페이스를 갖는 기판에 면을 생성하는 단계를 더 포함하는, 방법.
6. 제1항에 있어서,
   상기 역반사성 미세 구조의 어레이에서 하나 이상의 드래프트 각도들(draft angles)을 생성하기 위해 상기 표면을 통해 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴을 삽입하고 후퇴시키는 단계를 더 포함하는, 방법.
7. 제1항에 있어서,
   상기 생성된 면의 깊이, 피치 또는 표면 마감도를 조정하기 위해 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴의 삽입 및 수축을 조정하는 단계를 더 포함하는, 방법.
8. 제1항에 있어서, 상기 기판은 비평면인, 방법.
9. 제1항에 있어서,
   상기 역반사성 미세 구조의 어레이를 복제하여 상기 역반사 미세 구조의 어레이를 포함하는 역반사기 툴을 형성하는 단계를 더 포함하는, 방법.
10. 제9항에 있어서,
    상기 역반사 미세 구조의 어레이를 포함하는 복수의 역반사기 툴을 형성하기 위해 상기 복제를 반복하는 단계;
    상기 복수의 복제 역반사기 툴들을 파케이(parqueting)하는 단계; 및
    상기 파케이된 복수의 복제 역반사기 툴들을 원통형 드럼, 원통형 벨트 또는 롤-대-롤 벨트에 적용하는 단계를 더 포함하는, 방법.
11. 제10항에 있어서,
    상기 원통형 드럼, 상기 원통형 벨트 또는 상기 롤-대-롤 벨트를 사용하여 표면에 상기 역반사성 미세 구조의 어레이를 포함하는 역반사성 시트를 형성하는 단계를 더 포함하는, 방법.
12. 기판에 역반사성 프리즘을 형성하는 방법에 있어서,
    표면을 갖는 기판을 제공하는 단계;
    상기 기판의 상기 표면에 역반사 미세 구조의 어레이를 형성하기 위해 상기 기판을 미세 조각하는 단계를 포함하고, 상기 역반사 미세 구조의 어레이에서 상기 역반사 미세 구조들 중 적어도 하나는 다각형 투영 개구를 갖는 역반사 프리즘인, 방법.
13. 제12항에 있어서, 상기 역반사 미세 구조의 어레이를 상기 미세 조각하는 단계는 삼각형, 마름모꼴, 직사각형, 정사각형, 오각형, 육각형 또는 팔각형 투영 개구 역반사 프리즘들 중 적어도 하나를 형성하는, 방법.
14. 제12항에 있어서, 상기 역반사 미세 구조의 어레이를 상기 미세 조각하는 단계는 다중 유형의 역반사 프리즘들을 형성하는, 방법.
15. 제12항에 있어서, 상기 역반사 미세 구조의 어레이를 상기 미세 조각하는 단계는 틸트(tilt), 회전, 면 각도, 높이 및 크기의 변화를 갖는 개별 역반사 프리즘을 형성하는, 방법.
16. 제12항에 있어서, 상기 미세 조각 단계는 스텝 요소(step function), 반경(radius), 프리폼 프로파일(freeform profile), 또는 이들의 조합을 포함하는 면 페이스를 갖는 기판에 면을 생성하는 단계를 더 포함하는, 방법.
17. 제12항에 있어서, 상기 미세 조각 단계는 상기 역반사성 미세 구조의 어레이에서 하나 이상의 드래프트 각도들(draft angles)을 생성하는 단계를 더 포함하는, 방법.
18. 제12항에 있어서, 상기 기판은 비평면인, 방법.
19. 제12항에 있어서,
    상기 역반사성 미세 구조의 어레이를 복제하여 상기 역반사 미세 구조의 어레이를 포함하는 역반사기 툴을 형성하는 단계를 더 포함하는, 방법.
20. 제19항에 있어서, 상기 역반사 미세 구조의 어레이를 포함하는 복수의 복제 역반사기 툴들을 형성하기 위해 상기 역반사기 툴링을 복제하는 단계;
    상기 복수의 복제 역반사기 툴들을 파케이(parqueting)하는 단계; 및
    상기 파케이된 복수의 복제 역반사기 툴들을 원통형 드럼, 원통형 벨트 또는 롤-대-롤 벨트에 적용하는 단계를 더 포함하는, 방법.
21. 제20항에 있어서,
    상기 원통형 드럼, 상기 원통형 벨트 또는 상기 롤-대-롤 벨트를 사용하여 표면에 상기 역반사성 미세 구조의 어레이를 포함하는 역반사성 시트를 형성하는 단계를 더 포함하는, 방법.
22. 프로세서에 의해 실행될 때, 상기 프로세서로 하여금 단계들을 수행하게 하는 실행 가능 코드를 포함하는 기판에 역반사 프리즘을 형성하기 위한 명령어를 저장한 비 일시적 컴퓨터 판독 가능 매체에 있어서, 상기 단계들은,
    단일 포인트 다이아몬드 툴, 기판, 또는 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴과 상기 기판 모두를 적어도 하나의 축을 따라 이동 방향으로 이동시키면서 상기 기판의 표면을 통해 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴을 삽입(inserting) 및 후퇴(retracting)를 지시하여 상기 단일 다이아몬드 포인트 툴 또는 상기 기판 중 적어도 하나의 상기 이동 방향에 평행한 면 페이스(facet face)를 갖는 기판에 면(facet)을 생성하는 단계로서, 상기 면 페이스는 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴의 조각 에지(chiseling edge)에 의해 정의된 각도를 갖는, 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴일 삽입(inserting) 및 후퇴(retracting)시키는 단계;
    상기 기판의 복수의 위치들에서 상기 삽입 및 후퇴의 반복을 지시하여 상기 기판의 표면에 역반사성 미세 구조의 어레이를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 역반사 미세 구조의 어레이에서 상기 역반사 미세 구조 중 적어도 하나는 다각형 투영 개구(polygonal projected aperture)를 갖는 역반사 프리즘인, 매체.
23. 제22항에 있어서, 상기 역반사 미세 구조의 어레이를 형성하기 위해 상기 복수의 위치들의 반복을 지시하는 단계는 삼각형, 마름모꼴, 직사각형, 정사각형, 오각형, 육각형 또는 팔각형 투영 개구 역반사 프리즘들 중 적어도 하나를 생성하도록 선택되는, 매체.
24. 제22항에 있어서, 상기 역반사 미세 구조의 어레이를 형성하기 위한 반복을 위한 상기 복수의 위치들은 다중 유형의 역반사 프리즘을 생성하도록 선택되는, 매체.
25. 제22항에 있어서, 상기 역반사성 미세 구조의 어레이를 형성을 반복하기 위한 상기 복수의 위치들은 틸트(tilt), 회전, 면 각도, 높이 및 크기의 변화를 갖는 개별 역반사 프리즘을 생성하도록 선택되는, 방법.
26. 제22항에 있어서, 상기 프로세서에 의해 실행될 때 상기 프로세서로 하여금 적어도 하나의 추가 단계를 수행하게 하는 적어도 하나의 추가 명령어를 더 저장하며, 상기 적어도 하나의 추가 단계는,
    상기 단일 포인트 다이아몬드 툴 또는 상기 기판을 다중 이동 방향으로 이동시키면서 상기 기판의 상기 표면을 통해 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴의 삽입 및 후퇴를 지시하여 스텝 요소(step function), 반경(radius), 프리폼 프로파일(freeform profile), 또는 이들의 조합을 포함하는 면 페이스를 갖는 기판에 면을 생성하는 단계를 더 포함하는, 매체.
27. 제22항에 있어서, 상기 프로세서에 의해 실행될 때 상기 프로세서로 하여금 적어도 하나의 추가 단계를 수행하게 하는 적어도 하나의 추가 명령어를 더 저장하고, 상기 적어도 하나의 추가 단계는,
    상기 단일 포인트 다이아몬드 툴의 상기 표면을 통한 삽입 및 후퇴를 지시하여 상기 역반사 미세 구조의 어레이의 하나 이상의 드래프트 각도를 생성하는 단계를 포함하는, 매체.
28. 제22항에 있어서, 상기 프로세서에 의해 실행될 때 상기 프로세서로 하여금 적어도 하나의 추가 단계를 수행하게 하는 적어도 하나의 추가 명령어를 더 저장하고, 상기 적어도 하나의 추가 단계는,
    상기 생성된 면의 깊이, 피치 또는 표면 마감도를 조정하기 위해 상기 단일 포인트 다이아몬드 툴의 삽입 및 후퇴를 조정하는 단계를 포함하는, 방법.

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