KR20200049472A - Method of manufacturing flexible organic electro luminescence dispaly - Google Patents

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Abstract

Provided is a manufacturing method of a flexible organic EL display which is difficult to deteriorate the manufacturing efficiency. The manufacturing method of the flexible organic EL display is related to in manufacturing a multi-layered stacked substrate (10) including a first stacked substrate (11) which a first glass layer (11A) and a first resin layer (11B) are stacked, and a second stacked substrate (12) which a second glass layer (12A) and a second region layer (12B) are stacked, wherein the first resin layer (11B) and the second resin layer (12B) are stacked to be opposite. The manufacturing method comprises a post-process which is a process after a process of stacking the first stacked substrate (11) and the second stacked substrate (12). The post-process includes a discharge unit forming process of forming a discharge unit for discharging foreign matters generated due to cutting at least one of the first resin layer (11B) and the second resin layer (12B), in at least one side of the first glass layer (11A) and the second glass layer (12A).

Description

플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법{METHOD OF MANUFACTURING FLEXIBLE ORGANIC ELECTRO LUMINESCENCE DISPALY}Manufacturing method of flexible organic EL display {METHOD OF MANUFACTURING FLEXIBLE ORGANIC ELECTRO LUMINESCENCE DISPALY}

본 발명은, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a flexible organic EL display.

유기 EL(electro luminescence) 디스플레이는 발광층, 전극 및, 기판이 적층된 발광 디바이스를 구비한다. 플렉시블 유기 EL 디스플레이에서는, 기판에 플렉시블 기판이 이용된다. 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 공정에서는, 유리층에 수지층이 형성되고, 수지층에 발광층 등이 형성된다(예를 들면, 특허문헌 1).An organic electroluminescence (EL) display includes a light emitting device in which a light emitting layer, an electrode, and a substrate are stacked. In a flexible organic EL display, a flexible substrate is used for the substrate. In the manufacturing process of a flexible organic EL display, a resin layer is formed on the glass layer, and a light emitting layer or the like is formed on the resin layer (for example, Patent Document 1).

일본재공표특허공보 WO2011/030716호Japanese Patent Publication No. WO2011 / 030716

새로운 구조의 발광 디바이스가 제안되어 있다. 이 발광 디바이스는 대향하도록 형성되는 제1 수지층 및 제2 수지층을 갖는다. 제1 수지층과 제2 수지층의 사이에 발광층 등이 형성된다. 종래의 발광 디바이스와는 구조가 상이하기 때문에, 새로운 구조의 발광 디바이스의 제조에 관한 효율이 저하할 우려가 있다.A novel structured light emitting device has been proposed. This light emitting device has a first resin layer and a second resin layer formed to face each other. A light emitting layer or the like is formed between the first resin layer and the second resin layer. Since the structure is different from that of the conventional light emitting device, there is a concern that the efficiency of manufacturing a light emitting device having a new structure may decrease.

본 발명의 목적은, 제조 효율이 저하하기 어려운 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a flexible organic EL display in which manufacturing efficiency is difficult to decrease.

본 발명에 관한 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법은, 유리층과 수지층이 적층된 복수의 적층 기판을 구비하고, 상기 복수의 적층 기판은 제1 유리층과 제1 수지층이 적층된 제1 적층 기판 및, 제2 유리층과 제2 수지층이 적층된 제2 적층 기판을 포함하고, 상기 제1 수지층과 상기 제2 수지층이 대향하도록 적층된 다층 적층 기판의 제조에 관한 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법으로서, 상기 복수의 적층 기판을 적층하는 공정 이후의 공정인 후단(後段) 공정을 포함하고, 상기 후단 공정은, 상기 복수의 적층 기판의 적어도 한쪽의 상기 유리층에, 상기 수지층의 절단에 수반하여 발생하는 이물을 배출하는 배출부를 형성하는 배출부 형성 공정을 포함한다.The method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present invention includes a plurality of laminated substrates in which a glass layer and a resin layer are stacked, and the plurality of laminated substrates is a first laminate in which a first glass layer and a first resin layer are stacked. A flexible organic EL display comprising a substrate and a second laminated substrate on which a second glass layer and a second resin layer are stacked, wherein the first resin layer and the second resin layer are stacked so as to face each other. As a manufacturing method of the, including the post-processing process which is a process after the process of laminating | stacking the said several laminated board | substrate, The said rear-end process is a process of the said resin layer in at least one said glass layer of the said several laminated board | substrate. It includes a discharge portion forming process for forming a discharge portion for discharging foreign matter generated with the cutting.

이 제조 방법에 의하면, 예를 들면 수지층을 레이저로 절단하는 경우에 발생하는 가스가 유리층의 배출부를 통하여 다층 적층 기판의 외부로 배출되어, 가스의 영향에 의해 수지층의 품질이 저하할 우려가 저감된다.According to this manufacturing method, for example, gas generated when the resin layer is cut with a laser is discharged to the outside of the multi-layer laminated substrate through the discharge portion of the glass layer, and the quality of the resin layer may deteriorate due to the influence of the gas. Is reduced.

상기 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 일 예로는, 상기 배출부 형성 공정에서는, 상기 유리층을 절단함으로써, 또는, 상기 유리층을 스크라이브함으로써 상기 배출부를 형성한다.As an example of the manufacturing method of the flexible organic EL display, in the discharge portion forming step, the discharge portion is formed by cutting the glass layer or by scribing the glass layer.

유리층을 절단하는 경우, 예를 들면 수지층을 레이저로 절단하는 경우에 수지층에 레이저를 조사하는 것에 수반하여 발생하는 가스가 유리층의 절단 부분으로부터 다층 적층 기판의 외부로 배출된다. 유리층을 스크라이브하는 경우, 예를 들면 수지층을 레이저로 절단하는 경우에 레이저를 수지층에 조사하는 것에 수반하여 발생하는 가스에 의해 유리층을 브레이크한 후에 유리층의 절단 부분으로부터 다층 적층 기판의 외부로 가스가 배출된다. 가스가 수지층의 품질에 영향을 미칠 우려가 낮아진다.In the case of cutting the glass layer, for example, in the case of cutting the resin layer with a laser, gas generated by irradiating the resin layer with a laser is discharged from the cut portion of the glass layer to the outside of the multilayer laminated substrate. When the glass layer is scribed, for example, when the resin layer is cut with a laser, after the glass layer is braked by a gas generated by irradiating the resin layer with a laser, the glass layer is cut from the cut portion of the multi-layer laminated substrate. Gas is discharged to the outside. It is less likely that the gas will affect the quality of the resin layer.

상기 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 일 예로는, 상기 배출부 형성 공정에서는, 상기 유리층을 레이저 또는 다이싱에 의해 절단하여, 상기 배출부를 형성한다.As an example of a method of manufacturing the flexible organic EL display, in the discharge portion forming step, the glass layer is cut by laser or dicing to form the discharge portion.

이 제조 방법에서는, 유리층의 절단에 일반적으로 이용되는 절단 방법에 의해 유리층에 배출부가 형성된다. 예를 들면, 기존의 장치를 유용할 수 있다.In this manufacturing method, the discharge portion is formed in the glass layer by a cutting method commonly used for cutting the glass layer. For example, existing devices may be useful.

상기 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 일 예로는, 상기 배출부 형성 공정에서는, 스크라이빙 휠에 의해 상기 유리층을 스크라이브하여, 상기 배출부를 형성한다.As an example of a method of manufacturing the flexible organic EL display, in the discharge portion forming step, the glass layer is scribed by a scribing wheel to form the discharge portion.

이 제조 방법에서는, 예를 들면 다음과 같이 배출부가 형성된다. 제1 예에서는, 유리층이 스크라이브되고, 그 유리층이 브레이크됨으로써 배출부가 형성된다. 제2 예에서는, 유리층이 스크라이브되고, 그 상태로 수지층이 레이저로 절단됨으로써, 레이저의 조사에 수반하여 발생하는 가스에 의해 유리층이 브레이크되어, 배출부가 형성된다.In this manufacturing method, the discharge portion is formed as follows, for example. In the first example, the glass layer is scribed, and the discharge portion is formed by breaking the glass layer. In the second example, the glass layer is scribed, and the resin layer is cut with a laser in such a state, whereby the glass layer is braked by the gas generated in response to the laser irradiation to form a discharge portion.

상기 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 일 예로는, 상기 배출부 형성 공정에서는, 복수의 스크라이브 라인이 교차하도록 상기 유리층을 스크라이브한다.As an example of a method for manufacturing the flexible organic EL display, in the discharge portion forming process, the glass layer is scribed so that a plurality of scribe lines intersect.

이 제조 방법에 의하면, 유리층에 있어서의 복수의 스크라이브가 교차하는 부분에서는, 유리층이 브레이크된 경우에 상대적으로 넓은 배출부가 형성된다. 수지층의 절단에 수반하여 발생하는 이물의 배출성이 향상된다.According to this manufacturing method, a relatively wide discharge portion is formed when the glass layer is braked at a portion where a plurality of scribes in the glass layer intersect. The discharging property of the foreign matter generated due to the cutting of the resin layer is improved.

상기 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 일 예로는, 상기 후단 공정은, 상기 배출부 형성 공정의 후에 상기 복수의 적층 기판의 적어도 한쪽의 상기 수지층을 레이저에 의해 절단하는 후단 절단 공정을 추가로 포함한다.As an example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, the rear end process further includes a rear end cutting process for cutting at least one of the resin layers of the plurality of laminated substrates by laser after the forming of the discharge portion. do.

이 제조 방법에서는, 수지층이 레이저에 의해 절단되기 때문에, 절단에 수반하는 발열량이 적어, 수지층의 품질이 저하하기 어렵다.In this manufacturing method, since the resin layer is cut by a laser, the calorific value accompanying cutting is small, and the quality of the resin layer is hardly deteriorated.

상기 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 일 예로는, 상기 배출부 형성 공정에서는, 상기 복수의 적층 기판의 한쪽에 상기 배출부를 형성하고, 상기 후단 절단 공정에서는, 상기 배출부가 형성되어 있지 않은 상기 유리층을 통하여 상기 수지층에 레이저를 조사한다.As an example of a method of manufacturing the flexible organic EL display, in the discharge portion forming step, the discharge portion is formed on one side of the plurality of laminated substrates, and in the rear end cutting step, the glass layer in which the discharge portion is not formed. The laser is irradiated onto the resin layer.

이 제조 방법에서는, 레이저가 유리층의 배출부의 영향을 받는 일 없이 수지층에 조사되어, 수지층이 효율적으로 절단 또는 스크라이브된다.In this manufacturing method, the laser is irradiated onto the resin layer without being affected by the discharge portion of the glass layer, and the resin layer is efficiently cut or scribed.

본 발명에 의하면, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 효율이 저하하기 어려워진다.According to the present invention, the manufacturing efficiency of the flexible organic EL display is less likely to decrease.

도 1은 제1 실시 형태의 제조 방법에 관한 다층 적층 기판의 단면도이다.
도 2는 도 1의 다층 적층 기판의 평면도이다.
도 3은 레이저 가공 장치의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 4는 스크라이브 가공 장치의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 5는 실시 형태의 제조 방법을 나타내는 플로우 차트이다.
도 6은 배출부 형성 공정의 제1 예를 나타내는 도면이다.
도 7은 배출부 형성 공정의 제2 예를 나타내는 도면이다.
도 8은 레이저 가공 장치의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 9는 박리 공정의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 10은 제2 실시 형태의 제조 방법에 관한 다층 적층 기판의 단면도이다.
도 11은 변형예의 제조 방법에 관한 다층 적층 기판의 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of a multi-layer laminated substrate according to the manufacturing method of the first embodiment.
FIG. 2 is a plan view of the multilayer laminated substrate of FIG. 1.
3 is a schematic view showing the configuration of a laser processing apparatus.
4 is a schematic view showing the configuration of a scribe processing apparatus.
5 is a flow chart showing the manufacturing method of the embodiment.
6 is a view showing a first example of the discharge portion forming process.
7 is a view showing a second example of the discharge portion forming process.
8 is a schematic view showing the configuration of a laser processing apparatus.
9 is a view showing an example of a peeling process.
10 is a cross-sectional view of a multi-layer laminated substrate according to the manufacturing method of the second embodiment.
11 is a cross-sectional view of a multilayer laminated substrate according to a manufacturing method of a modified example.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Form for carrying out the invention)

(제1 실시 형태)(First embodiment)

도면을 참조하여 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법에 대해서 설명한다. 플렉시블 유기 EL 디스플레이는, 거치형의 기기 및 휴대 기기 등에 이용된다. 거치형의 기기의 일 예는, 퍼스널 컴퓨터 및 텔레비전 수상기이다. 휴대 기기의 일 예는, 휴대 정보 단말, 웨어러블 컴퓨터 및, 노트형 퍼스널 컴퓨터이다. 휴대 정보 단말의 일 예는 스마트폰, 태블릿 및, 휴대 게임기이다. 웨어러블 컴퓨터의 일 예는, 헤드 마운트 디스플레이 및 스마트 워치이다.A method of manufacturing a flexible organic EL display will be described with reference to the drawings. The flexible organic EL display is used in stationary devices and portable devices. Examples of stationary devices are personal computers and television receivers. Examples of portable devices are portable information terminals, wearable computers, and notebook personal computers. An example of a portable information terminal is a smart phone, a tablet, and a portable game machine. One example of a wearable computer is a head mounted display and a smart watch.

플렉시블 유기 EL 디스플레이는, 발광층, 전극 및, 기판이 적층된 발광 디바이스와, 발광 디바이스를 한쪽으로부터 덮는 제1 보호 필름과, 발광 디바이스를 다른 한쪽으로부터 덮는 제2 보호 필름을 갖는다. 제1 보호 필름 및 제2 보호 필름은 각각, 예를 들면 PET(polyethylene terephthalate)가 이용된다. 또한, 제1 보호 필름 및 제2 보호 필름의 한쪽은 생략해도 좋다. 발광 디바이스의 제조 공정에서는, 도 1에 나타나는 1매의 다층 적층 기판(10)으로부터 복수의 발광 디바이스가 제조된다.The flexible organic EL display has a light emitting device in which a light emitting layer, an electrode, and a substrate are stacked, a first protective film covering the light emitting device from one side, and a second protective film covering the light emitting device from the other side. Each of the first protective film and the second protective film is, for example, PET (polyethylene terephthalate). Further, one of the first protective film and the second protective film may be omitted. In the manufacturing process of the light emitting device, a plurality of light emitting devices are manufactured from a single multilayer laminated substrate 10 shown in FIG. 1.

다층 적층 기판(10)은, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조의 도중 단계에서 제조된다. 다층 적층 기판(10)은, 제1 유리층(11A)과 제1 수지층(11B)이 적층된 제1 적층 기판(11)과, 제2 유리층(12A)과 제2 수지층(12B)이 적층된 제2 적층 기판(12)을 갖는다. 다층 적층 기판(10)은, 제1 수지층(11B)과 제2 수지층(12B)이 대향하도록 제1 적층 기판(11)과 제2 적층 기판(12)이 적층되어 구성되어 있다. 다층 적층 기판(10)은, 도전층(13)을 추가로 갖는다. 도전층(13)은, 예를 들면 제1 적층 기판(11)의 제1 수지층(11B) 상에 형성되어 있다. 도전층(13)은, 제1 수지층(11B)과 제2 수지층(12B)의 사이에 끼워져 있다. 도전층(13)은, OLED(Organic Light Diode), TFT(Thin Film Transistor) 등의 전자 디바이스용 부재가 형성되어 있다. 제1 수지층(11B), 도전층(13) 및, 제2 수지층(12B)은, 발광 디바이스를 구성하고 있다.The multi-layered laminated substrate 10 is produced in the middle of the production of a flexible organic EL display. The multilayer laminated substrate 10 includes a first laminated substrate 11 on which the first glass layer 11A and the first resin layer 11B are stacked, and a second glass layer 12A and the second resin layer 12B. This laminated second laminated substrate 12 is provided. The multilayer laminated substrate 10 is configured by stacking the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 so that the first resin layer 11B and the second resin layer 12B face each other. The multilayer laminated substrate 10 further includes a conductive layer 13. The conductive layer 13 is formed on the first resin layer 11B of the first laminated substrate 11, for example. The conductive layer 13 is sandwiched between the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. The conductive layer 13 is formed of a member for an electronic device such as an organic light diode (OLED) or a thin film transistor (TFT). The first resin layer 11B, the conductive layer 13, and the second resin layer 12B constitute a light emitting device.

제1 적층 기판(11)의 제1 유리층(11A)과 제2 적층 기판(12)의 제2 유리층(12A)은 동일한 재료가 이용되고, 동일한 사이즈로 형성되어 있다. 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 조성은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 알칼리 금속 산화물을 함유하는 유리, 또는 무알칼리 유리 등의 여러 가지 조성의 유리를 이용할 수 있다. 알칼리 금속 산화물을 함유하는 유리의 일 예는, 소다 라임 유리이다. 본 실시 형태에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)은, 무알칼리 유리가 이용된다. 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 두께는 각각, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 0.5㎜ 정도인 것이 바람직하다. 제1 유리층(11A)은, 제1 수지층(11B)이 형성되는 제1 평면(14A) 및, 제1 평면(14A)과 쌍을 이루는 제2 평면(14B)을 갖는다. 제2 유리층(12A)은, 제2 수지층(12B)이 형성되는 제1 평면(15A) 및, 제1 평면(15A)과 쌍을 이루는 제2 평면(15B)을 갖는다.The first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 and the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12 are made of the same material and are formed in the same size. Although the composition of the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A is not specifically limited, Glass of various compositions, such as glass containing alkali metal oxide, or alkali free glass, can be used, for example. . One example of a glass containing an alkali metal oxide is soda lime glass. In the present embodiment, alkali-free glass is used for the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. Although the thickness of the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A is not specifically limited respectively, It is preferable that it is about 0.5 mm, for example. The first glass layer 11A has a first plane 14A on which the first resin layer 11B is formed, and a second plane 14B paired with the first plane 14A. The second glass layer 12A has a first plane 15A on which the second resin layer 12B is formed, and a second plane 15B paired with the first plane 15A.

제1 적층 기판(11)의 제1 수지층(11B)과 제2 적층 기판(12)의 제2 수지층(12B)은 동일한 재료가 이용되고, 동일한 사이즈로 형성되어 있다. 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 조성은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 폴리이미드(PI)를 이용할 수 있다. 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 두께는 각각, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 10㎛ 이상 30㎛ 이하의 범위인 것이 바람직하다.The first resin layer 11B of the first laminated substrate 11 and the second resin layer 12B of the second laminated substrate 12 are made of the same material and are formed in the same size. The composition of the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B is not specifically limited, For example, polyimide (PI) can be used. Although the thickness of the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B is not specifically limited, It is preferable that it is 10 micrometers or more and 30 micrometers or less, for example.

도 2는, 다층 적층 기판(10)의 평면도이다.2 is a plan view of the multilayer laminated substrate 10.

도 2의 파선에 의해 나타나는 절단 예정부(16, 17)를 따라 다층 적층 기판(10)을 격자 형상으로 절단함으로써 단위 적층 기판(20)이 형성된다. 단위 적층 기판(20)의 평면에서 볼 때에 있어서의 사이즈는, 평면에서 볼 때에 있어서 발광 디바이스의 미리 결정된 사이즈에 상당한다.The unit stacked substrate 20 is formed by cutting the multilayer stacked substrate 10 in a lattice shape along the cut scheduled portions 16 and 17 indicated by the broken line in FIG. 2. The size of the unit laminated substrate 20 when viewed from the plane corresponds to a predetermined size of the light emitting device when viewed from the plane.

다층 적층 기판(10)의 절단에는, 레이저 가공 장치 및 스크라이브 가공 장치의 적어도 한쪽이 이용된다. 도 3은, 레이저 가공 장치의 구성의 일 예이고, 도 4는, 스크라이브 가공 장치의 구성의 일 예이다. 도 3 및 도 4에 있어서, X축 방향, Y축 방향 및, Z축 방향을 도 3 및 도 4에 나타내는 대로 규정한다. 또한, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)의 절단에는, 다이싱 가공 장치(도시 생략)를 이용해도 좋다.At least one of a laser processing apparatus and a scribe processing apparatus is used for cutting of the multilayer laminated substrate 10. 3 is an example of the configuration of the laser processing apparatus, and FIG. 4 is an example of the configuration of the scribing processing apparatus. 3 and 4, the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction are defined as shown in Figs. In addition, a dicing processing apparatus (not shown) may be used for cutting the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12.

도 3에 나타나는 바와 같이, 레이저 가공 장치(30)는, 다층 적층 기판(10)을 절단하기 위한 레이저 장치(31)와, 레이저 장치(31)에 대하여 다층 적층 기판(10)을 이동시키기 위한 기계 구동계(32)와, 레이저 장치(31) 및 기계 구동계(32)를 제어하는 제1 제어부(33)를 구비한다.As shown in FIG. 3, the laser processing device 30 includes a laser device 31 for cutting the multilayer laminated substrate 10 and a machine for moving the multilayer laminated substrate 10 relative to the laser device 31. A driving system 32, a laser device 31, and a first control unit 33 for controlling the mechanical driving system 32 are provided.

레이저 장치(31)는, 다층 적층 기판(10)에 있어서의 제1 수지층(11B), 제2 수지층(12B), 제1 유리층(11A) 및, 제2 유리층(12A)의 적어도 1개를 가공한다. 레이저 장치(31)는, 다층 적층 기판(10)에 레이저광을 조사하기 위한 레이저 발진기(34)와, 레이저광을 기계 구동계(32)에 전송하는 전송 광학계(35)를 갖는다. 레이저 발진기(34)는, 예를 들면 UV(Ultra Violet) 레이저 또는 CO2 레이저이다. 레이저 가공 장치(30)가 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 가공하는 경우, 레이저 발진기(34)는 UV 레이저이다. 레이저 가공 장치(30)가 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 가공하는 경우, 레이저 발진기(34)는 CO2 레이저 또는 UV 레이저이다. 전송 광학계(35)는, 예를 들면 집광 렌즈, 복수의 미러, 프리즘, 빔 익스팬더 등으로 구성된다. 또한, 전송 광학계(35)는, 예를 들면 레이저 발진기(34)가 조입된(incorporated) 레이저 조사 헤드를 X축 방향으로 이동시키기 위한 X축 방향 이동 기구를 갖는다. 레이저 발진기(34)로부터 조사된 레이저광은, 전송 광학계(35)를 통하여 다층 적층 기판(10)을 향하여 조사된다.The laser device 31 includes at least the first resin layer 11B, the second resin layer 12B, the first glass layer 11A, and the second glass layer 12A in the multilayer laminated substrate 10. Process 1 The laser device 31 has a laser oscillator 34 for irradiating laser light on the multilayer laminated substrate 10 and a transmission optical system 35 that transmits the laser light to the mechanical drive system 32. The laser oscillator 34 is, for example, a UV (Ultra Violet) laser or a CO 2 laser. When the laser processing device 30 processes the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the laser oscillator 34 is a UV laser. When the laser processing apparatus 30 processes the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the laser oscillator 34 is a CO 2 laser or a UV laser. The transmission optical system 35 is composed of, for example, a condenser lens, a plurality of mirrors, a prism, a beam expander, or the like. Further, the transmission optical system 35 has an X-axis direction movement mechanism for moving the laser irradiation head in which the laser oscillator 34 is incorporated, for example, in the X-axis direction. The laser light irradiated from the laser oscillator 34 is irradiated toward the multilayer laminated substrate 10 through the transmission optical system 35.

기계 구동계(32)는, 레이저 장치(31)와 Z축 방향에 대향하여 배치되어 있다. 기계 구동계(32)는, 베드(36), 가공 테이블(37) 및, 이동 장치(38)로 구성된다. 가공 테이블(37) 상에는, 다층 적층 기판(10)이 올려 놓여진다. 이동 장치(38)는, 가공 테이블(37)을 베드(36)에 대하여 수평 방향(X축 방향 및 Y축 방향)으로 이동시킨다. 이동 장치(38)는, 가이드 레일, 이동 테이블, 모터 등을 갖는 공지의 기구이다.The mechanical drive system 32 is disposed to face the laser device 31 and the Z-axis direction. The mechanical drive system 32 is composed of a bed 36, a processing table 37, and a moving device 38. On the processing table 37, a multilayer laminated substrate 10 is placed. The moving device 38 moves the machining table 37 in the horizontal direction (X-axis direction and Y-axis direction) with respect to the bed 36. The moving device 38 is a known mechanism having a guide rail, a moving table, a motor, and the like.

제1 제어부(33)는, 미리 정해지는 제어 프로그램을 실행하는 연산 처리 장치를 갖는다. 연산 처리 장치는, 예를 들면 CPU(Central Processing Unit) 또는 MPU(Micro Processing Unit)를 갖는다. 제1 제어부(33)는, 1 또는 복수의 마이크로 컴퓨터를 가져도 좋다. 제1 제어부(33)는, 기억부를 추가로 갖는다. 기억부에는, 각종의 제어 프로그램 및 각종의 제어 처리에 이용되는 정보가 기억된다. 기억부는, 예를 들면 불휘발성 메모리 및 휘발성 메모리를 갖는다. 제1 제어부(33)는, 레이저 장치(31)에 형성되어도 좋고, 기계 구동계(32)에 형성되어도 좋고, 레이저 장치(31) 및 기계 구동계(32)와는 별도로 형성되어도 좋다. 제1 제어부(33)가 레이저 장치(31) 및 기계 구동계(32)와는 별도로 형성되는 경우, 제1 제어부(33)의 배치 위치는 임의로 설정 가능하다.The first control unit 33 has an arithmetic processing device that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU (Central Processing Unit) or an MPU (Micro Processing Unit). The first control unit 33 may have one or a plurality of microcomputers. The first control unit 33 further has a storage unit. In the storage unit, information used for various control programs and various control processes is stored. The storage unit has, for example, a nonvolatile memory and a volatile memory. The first control unit 33 may be formed in the laser device 31, may be formed in the machine drive system 32, or may be formed separately from the laser device 31 and the machine drive system 32. When the first control unit 33 is formed separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32, the arrangement position of the first control unit 33 can be arbitrarily set.

도 4에 나타나는 바와 같이, 스크라이브 가공 장치(40)는, 스크라이빙 휠(50)과 다층 적층 기판(10)이 X축 방향 및 Y축 방향으로 상대적으로 이동함으로써 다층 적층 기판(10)에 X축 방향 및 Y축 방향을 따르는 스크라이브 라인을 형성한다. 스크라이브 가공 장치(40)는, 다층 적층 기판(10)을 가공하기 위한 가공 장치(41)와, 다층 적층 기판(10)을 반송하기 위한 반송 장치(42)와, 가공 장치(41) 및 반송 장치(42)를 제어하는 제2 제어부(43)를 구비한다.As shown in FIG. 4, the scribe processing apparatus 40 is X on the multi-layer laminated substrate 10 as the scribing wheel 50 and the multi-layer laminated substrate 10 move relatively in the X-axis direction and the Y-axis direction. A scribe line along the axial direction and the Y-axis direction is formed. The scribing processing device 40 includes a processing device 41 for processing the multilayer laminated substrate 10, a transport device 42 for transporting the multilayer laminated substrate 10, a processing device 41 and a transport device It is equipped with the 2nd control part 43 which controls 42.

반송 장치(42)는, 한 쌍의 레일(44), 테이블(45), 직진 구동 장치(46), 회전 장치(47) 등으로 구성된다. 한 쌍의 레일(44)은, Y축 방향을 따라 연장되어 있다. 도 4의 스크라이브 가공 장치(40)에서는, 스크라이브 가공 장치(40)의 베이스(도시 생략)에 한 쌍의 레일(44)이 배치되고, 직진 구동 장치(46)에 의해 테이블(45)이 한 쌍의 레일(44)을 따라 왕복 이동하고, 회전 장치(47)에 의해 테이블(45)이 중심축(C) 주위를 회전한다. 테이블(45)에는, 다층 적층 기판(10)이 올려 놓여진다. 직진 구동 장치(46)의 일 예는, 이송 나사 장치를 갖는다. 회전 장치(47)는, 구동원이 되는 모터를 갖는다.The conveying device 42 is composed of a pair of rails 44, a table 45, a straight drive device 46, a rotating device 47, and the like. The pair of rails 44 extend along the Y-axis direction. In the scribe processing apparatus 40 of Fig. 4, a pair of rails 44 are arranged on the base (not shown) of the scribing processing apparatus 40, and the table 45 is paired by the straight drive device 46. It reciprocates along the rail 44 of the table, and the table 45 is rotated around the central axis C by the rotation device 47. On the table 45, a multi-layer laminated substrate 10 is placed. An example of the straight drive device 46 has a feed screw device. The rotating device 47 has a motor serving as a driving source.

가공 장치(41)는, 가로 구동 장치(48), 세로 구동 장치(49) 및, 스크라이빙 휠(50) 등으로 구성된다. 스크라이빙 휠(50)은, 스크라이빙 휠(50)을 보유지지(保持)하기 위한 홀더 유닛에 부착된다. 홀더 유닛은, 홀더 유닛을 보유지지하기 위한 스크라이브 헤드에 부착된다. 스크라이브 헤드는, 가로 구동 장치(48)에 의해 X축 방향으로 이동하고, 세로 구동 장치(49)에 의해 Z축 방향으로 이동한다. 스크라이빙 휠(50)이 X축 방향으로 이동함으로써, 다층 적층 기판(10)에 X축 방향을 따르는 스크라이브 라인을 형성한다.The processing device 41 is composed of a horizontal driving device 48, a vertical driving device 49, a scribing wheel 50, and the like. The scribing wheel 50 is attached to a holder unit for holding the scribing wheel 50. The holder unit is attached to a scribe head for holding the holder unit. The scribe head moves in the X-axis direction by the horizontal drive device 48, and moves in the Z-axis direction by the vertical drive device 49. As the scribing wheel 50 moves in the X-axis direction, a scribe line along the X-axis direction is formed on the multi-layer laminated substrate 10.

스크라이빙 휠(50)은, 홀더 유닛에 부착되는 핀(도시 생략)으로 회전 가능하게 지지된다. 스크라이빙 휠(50)을 구성하는 재료의 일 예는, 소결 다이아몬드(Poly Crystalline Diamond), 초경 금속, 단결정 다이아몬드 및, 다결정 다이아몬드이다.The scribing wheel 50 is rotatably supported by a pin (not shown) attached to the holder unit. Examples of materials constituting the scribing wheel 50 are sintered diamond (Poly Crystalline Diamond), cemented metal, single crystal diamond, and polycrystalline diamond.

제2 제어부(43)는, 미리 정해지는 제어 프로그램을 실행하는 연산 처리 장치를 갖는다. 연산 처리 장치는, 예를 들면 CPU 또는 MPU를 갖는다. 제2 제어부(43)는, 1 또는 복수의 마이크로 컴퓨터를 가져도 좋다. 제2 제어부(43)는, 기억부를 추가로 갖는다. 기억부에는, 각종의 제어 프로그램 및 각종의 제어 처리에 이용되는 정보가 기억된다. 기억부는, 예를 들면 불휘발성 메모리 및 휘발성 메모리를 갖는다. 제2 제어부(43)는, 가공 장치(41)에 형성되어도 좋고, 반송 장치(42)에 형성되어도 좋고, 가공 장치(41) 및 반송 장치(42)와는 별도로 형성되어도 좋다. 제2 제어부(43)가 가공 장치(41) 및 반송 장치(42)와는 별도로 형성되는 경우, 제2 제어부(43)의 배치 위치는 임의로 설정 가능하다.The second control unit 43 has an arithmetic processing device that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU or an MPU. The second control unit 43 may have one or a plurality of microcomputers. The second control unit 43 further has a storage unit. In the storage unit, information used for various control programs and various control processes is stored. The storage unit has, for example, a nonvolatile memory and a volatile memory. The 2nd control part 43 may be provided in the processing apparatus 41, may be provided in the conveying apparatus 42, or may be formed separately from the processing apparatus 41 and the conveying apparatus 42. When the second control part 43 is formed separately from the processing device 41 and the transfer device 42, the arrangement position of the second control part 43 can be set arbitrarily.

〔플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법〕(Method of manufacturing flexible organic EL display)

다음으로, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 상세에 대해서 설명한다. 도 5는, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 공정의 일 예를 나타낸다.Next, details of the manufacturing method of the flexible organic EL display will be described. 5 shows an example of a process of a method for manufacturing a flexible organic EL display.

플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법에서는, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)을 접합하여 다층 적층 기판(10)을 제조 후, 다층 적층 기판(10)을 소정 사이즈로 절단하여 단위 적층 기판(20)을 제조한다. 다음으로, 단위 적층 기판(20)으로부터 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 제거함으로써, 발광 디바이스가 제조된다. 그리고, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 제1 보호 필름 및 제2 보호 필름을 부착한다. 이에 따라, 플렉시블 유기 EL 디스플레이가 제조된다.In the method of manufacturing a flexible organic EL display, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are joined to produce a multilayer laminated substrate 10, and then the multilayer laminated substrate 10 is cut into a predetermined size to unit The laminated substrate 20 is manufactured. Next, the light emitting device is manufactured by removing the first glass layer 11A and the second glass layer 12A from the unit laminated substrate 20. Then, the first protective film and the second protective film are attached to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. Thus, a flexible organic EL display is produced.

도 5에 나타나는 바와 같이, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법은, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)을 적층하는 공정보다도 전(前)의 공정인 전단(前段) 공정과, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)을 적층하는 공정 이후의 공정인 후단 공정으로 구분된다. 전단 공정은, 전단 적층 공정을 포함한다. 전단 적층 공정은, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)을 제조하는 공정이다. 후단 공정은, 후단 적층 공정, 후단 가공 공정 및, 박리 공정을 포함한다. 후단 적층 공정은, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)을 적층하여 다층 적층 기판(10)을 제조하는 공정이다. 후단 가공 공정은, 다층 적층 기판(10)의 절단 예정부(16, 17)를 따라 다층 적층 기판(10)을 절단함으로써, 즉 다층 적층 기판(10)을 소정 사이즈로 절단함으로써, 단위 적층 기판(20)을 제조하는 공정이다. 박리 공정은, 레이저 리프트 오프(LLO: Laser Lift Off)에 의해 제1 유리층(11A)과 제1 수지층(11B)을 박리하고, 제2 유리층(12A)과 제2 수지층(12B)을 박리하는 공정이다. 이하, 각 공정의 상세에 대해서 설명한다.As shown in FIG. 5, the manufacturing method of a flexible organic EL display includes a shearing step, which is a step prior to the step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, It is divided into a rear end process, which is a process after the process of stacking the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The shearing step includes a shearing laminating step. The shear lamination process is a process of manufacturing the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The rear end step includes a rear end lamination step, a rear end step, and a peeling step. The back-end lamination process is a process of manufacturing the multi-layer laminated substrate 10 by laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. In the post-processing step, the multi-layer laminated substrate 10 is cut along a predetermined cutting portion 16, 17 of the multi-layer laminated substrate 10, that is, by cutting the multi-layer laminated substrate 10 to a predetermined size. 20). In the peeling process, the first glass layer 11A and the first resin layer 11B are separated by laser lift off (LLO), and the second glass layer 12A and the second resin layer 12B are removed. It is a process of peeling. Hereinafter, the detail of each process is demonstrated.

전단 적층 공정에서는, 제1 유리층(11A)의 제1 평면(14A)의 전체에 걸쳐 제1 수지층(11B)을 형성함으로써 제1 적층 기판(11)을 제조하고, 제2 유리층(12A)의 제1 평면(15A)의 전체에 걸쳐 제2 수지층(12B)을 형성함으로써 제2 적층 기판(12)을 제조한다. 제1 유리층(11A)의 제1 평면(14A)으로의 제1 수지층(11B)의 형성 방법 및, 제2 유리층(12A)의 제1 평면(15A)으로의 제2 수지층(12B)의 형성 방법은 각각, 유리층에 수지층을 도포하는 방법, 또는, 유리층에 접착층을 통하여 수지층을 라미네이트하는 방법을 선택할 수 있다. 또한 유리층에 수지층을 고정하는 방법으로서, 가열 경화 처리, 또는, 프레스법에 의한 가열 및 가압 처리를 선택할 수 있다.In the shear lamination process, the first laminated substrate 11 is manufactured by forming the first resin layer 11B over the entire first plane 14A of the first glass layer 11A, and the second glass layer 12A The second laminated substrate 12 is manufactured by forming the second resin layer 12B over the entire first plane 15A of). Method of forming the first resin layer 11B in the first plane 14A of the first glass layer 11A, and second resin layer 12B in the first plane 15A of the second glass layer 12A ), Respectively, the method of applying a resin layer to the glass layer or the method of laminating the resin layer through the adhesive layer to the glass layer can be selected. In addition, as a method of fixing the resin layer to the glass layer, heat curing treatment or heating and pressing treatment by a pressing method can be selected.

후단 적층 공정에서는, 소정 사이즈로 절단되어 있지 않은 제1 적층 기판(11)과 소정 사이즈로 절단되어 있지 않은 제2 적층 기판(12)을 적층한다. 일 예로는, 제1 적층 기판(11)과 제2 적층 기판(12)이, 예를 들면 접착층(SD)을 통하여 접합된다. 이에 따라, 다층 적층 기판(10)이 제조된다.In the subsequent stacking step, the first laminated substrate 11 that is not cut to a predetermined size and the second laminated substrate 12 that is not cut to a predetermined size are stacked. As an example, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are bonded, for example, through an adhesive layer SD. Thereby, the multilayer laminated substrate 10 is manufactured.

후단 가공 공정은, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽에 가스를 배출하는 배출부(18)를 형성하는 배출부 형성 공정과, 레이저에 의해 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 적어도 한쪽을 절단하는 후단 절단 공정을 포함한다. 후단 가공 공정에서는, 배출부 형성 공정 및 후단 절단 공정의 순서로 실시된다.The post-processing step includes a discharge part forming process for forming a discharge part 18 for discharging gas on at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, and a first resin layer ( 11B) and a rear end cutting step of cutting at least one of the second resin layer 12B. In a post-processing process, it is performed in the order of a discharge part formation process and a post-stage cutting process.

일 예로는, 후단 가공 공정에서는, 배출부 형성 공정에 있어서 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A) 및 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)의 한쪽에 배출부(18)를 형성한 후, 후단 절단 공정에 있어서 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B) 및 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)의 적어도 한쪽을 절단한다.As an example, in the post-processing step, in the step of forming the discharge portion, the discharge portion is disposed on one side of the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A and the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A ( After forming 18), at least one of the cutting scheduled portion 16B of the first resin layer 11B and the cutting scheduled portion 17B of the second resin layer 12B is cut in the subsequent cutting step.

일 예로는, 후단 가공 공정에서는, 배출부 형성 공정에 있어서 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A) 및 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)의 한쪽에 배출부(18)를 형성한 후, 후단 절단 공정에 있어서 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 한쪽에 대응하는 수지층을 절단한다. 다음으로, 배출부 형성 공정에 있어서 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16B) 및 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17B)의 다른 한쪽에 배출부(18)를 형성한 후, 후단 절단 공정에 있어서 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 다른 한쪽에 대응하는 수지층을 절단한다.As an example, in the post-processing step, in the step of forming the discharge portion, the discharge portion is disposed on one side of the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A and the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A ( After forming 18), the resin layer corresponding to one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is cut in the rear end cutting step. Next, in the discharge portion forming process, the discharge portion 18 is formed on the other side of the portion to be cut 16B of the first glass layer 11A and the portion to be cut 17B of the second glass layer 12A. Thereafter, in the subsequent cutting step, the resin layer corresponding to the other of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is cut.

일 예로는, 후단 가공 공정에서는, 배출부 형성 공정에 있어서 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A)에 배출부(18)를 형성한 후, 후단 절단 공정에 있어서 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단한다. 일 예로는, 후단 가공 공정에서는, 배출부 형성 공정에 있어서 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)에 배출부(18)를 형성한 후, 후단 절단 공정에 있어서 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단한다. 또한, 후단 가공 공정에 있어서의 레이저에 의한 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 가공은, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 절단을 대신하여, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 스크라이브하는 것이라도 좋다.As an example, in the post-processing step, in the discharge part forming process, after the discharge part 18 is formed in the 16A of the cut portion of the first glass layer 11A, the first resin layer ( 11B) and the second resin layer 12B are cut. For example, in the post-processing step, in the discharge part forming process, after the discharge part 18 is formed in the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A, the first resin layer ( 11B) and the second resin layer 12B are cut. In addition, the processing of the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B by a laser in a post-processing process replaces the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B cutting. , The first resin layer 11B and the second resin layer 12B may be scribed.

배출부 형성 공정에서는, 배출부(18)의 형성 방법으로서 다음의 제1 예 및 제2 예 중 어느 하나를 선택할 수 있다. 제1 예에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽을 절단함으로써 배출부(18)를 형성한다. 제2 예에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽에 홈(스크라이브 라인)을 형성하고, 배출부(18)를 형성한다. 또한, 배출부 형성 공정에서는, 제1 유리층(11A)에만 배출부(18)를 형성해도 좋고, 제2 유리층(12A)에만 배출부(18)를 형성해도 좋다.In the discharge portion forming process, any one of the following first and second examples can be selected as a method of forming the discharge portion 18. In the first example, the discharge portion 18 is formed by cutting at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. In the second example, grooves (scribe lines) are formed on at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, and the discharge portion 18 is formed. Further, in the discharge portion forming step, the discharge portion 18 may be formed only in the first glass layer 11A, or the discharge portion 18 may be formed only in the second glass layer 12A.

제1 예의 배출부 형성 공정에서는, 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A) 및 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)의 적어도 한쪽을, 레이저, 다이싱, 또는, 브레이크에 의해 절단한다. 절단 예정부(16A) 및 절단 예정부(17A) 중의 절단된 부분이 배출부(18)를 형성한다. 도 6은, 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)를 절단한 경우를 나타낸다. 절단 예정부(17A)에 있어서 제2 유리층(12A)이 절단된 부분이 배출부(18)를 구성한다.In the process of forming the discharge portion of the first example, at least one of the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A and the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A is laser, diced, or Cut by brake. The cut portion of the cut scheduled portion 16A and the cut scheduled portion 17A forms the discharge portion 18. Fig. 6 shows a case in which the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A is cut. The portion where the second glass layer 12A is cut in the portion to be cut 17A constitutes the discharge portion 18.

제2 예의 배출부 형성 공정에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽에 대해서, 스크라이빙 휠(50)에 의해 복수의 스크라이브 라인이 교차하도록 스크라이브한다. 복수의 스크라이브 라인의 교차부는, 스크라이브 라인의 다른 부분보다도 깊게 스크라이브됨으로써 배출부(18)를 형성한다. 도 7은, 제1 유리층(11A)의 4개의 스크라이브 라인(SL)이 교차하도록 제1 유리층(11A)이 스크라이브된 경우를 나타낸다. 4개의 스크라이브 라인(SL)의 교차부가 배출부(18)를 구성한다. 또한, 스크라이브 라인의 교차부에 있어서 스크라이브 라인이 형성된 유리층을 관통하도록 레이저를 조사하여 배출부(18)를 형성해도 좋다.In the discharge example forming process of the second example, at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is scribed by a scribing wheel 50 so that a plurality of scribe lines intersect. The intersection of the plurality of scribe lines forms a discharge portion 18 by scribing deeper than the other portions of the scribe line. 7 shows a case in which the first glass layer 11A is scribed so that the four scribe lines SL of the first glass layer 11A intersect. The intersection of the four scribe lines SL constitutes the discharge portion 18. Further, the discharge portion 18 may be formed by irradiating a laser so as to penetrate the glass layer on which the scribe line is formed at the intersection of the scribe line.

또한, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽에 대해서, 레이저에 의해 절단 예정부를 따라 홈을 형성함으로써, 절단 예정부의 교차부에 배출부(18)를 형성해도 좋다. 이 홈은, 스크라이빙 휠(50)에 의한 스크라이브 라인에 상당한다. 절단 예정부의 교차부에 있어서 홈이 형성된 유리층이 관통하도록 레이저를 조사하여 배출부(18)를 형성해도 좋다.Further, at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A may be formed with a groove along a portion to be cut by a laser, so that the discharge portion 18 may be formed at an intersection of the portion to be cut. . This groove corresponds to a scribe line by the scribing wheel 50. The discharge portion 18 may be formed by irradiating a laser so that the grooved glass layer penetrates at the intersection of the portion to be cut.

후단 절단 공정에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 적어도 한쪽을 레이저에 의해 절단한다. 레이저의 조사 방향은 임의로 설정 가능하다. 일 예로는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 대하여 동일한 조사 방향에서 레이저를 조사해도 좋고, 제1 수지층(11B)에 대한 레이저의 조사 방향과 제2 수지층(12B)에 대한 레이저의 조사 방향이 반대 방향이라도 좋다.In the subsequent cutting step, at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is cut by a laser. The irradiation direction of the laser can be set arbitrarily. As an example, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B may be irradiated with a laser in the same irradiation direction, and the irradiation direction of the laser with respect to the first resin layer 11B and the second resin layer ( The direction in which the laser is irradiated to 12B) may be in the opposite direction.

제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A)가 스크라이브된 경우, 레이저는, 제1 유리층(11A)측으로부터 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B)로 향하여 조사해도 좋고, 제2 유리층(12A)측으로부터 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(16B)로 향하여 조사해도 좋다. 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)가 스크라이브된 경우, 레이저는, 제2 유리층(12A)측으로부터 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)로 향하여 조사해도 좋고, 제1 유리층(11A)측으로부터 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(17B)로 향하여 조사해도 좋다. 이들의 경우, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 순서로 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B) 및 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)를 절단해도 좋고, 제2 수지층(12B) 및 제1 수지층(11B)의 순서로 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B) 및 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)를 절단해도 좋다. 또한, 레이저를 수지층의 절단 예정부에 고(高)정밀도로 조사하는 관점에서, 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A)가 스크라이브된 경우, 레이저는, 제2 유리층(12A)측으로부터 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)로 향하여 조사하는 것이 바람직하다. 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)가 스크라이브된 경우, 레이저는, 제1 유리층(11A)측으로부터 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B)로 향하여 조사하는 것이 바람직하다.When the cutting scheduled portion 16A of the first glass layer 11A is scribed, the laser may be irradiated from the first glass layer 11A side toward the cutting scheduled portion 16B of the first resin layer 11B. , It may be irradiated from the side of the second glass layer 12A toward the portion to be cut 16B of the second resin layer 12B. When the part to be cut 17A of the second glass layer 12A is scribed, the laser may be irradiated from the side of the second glass layer 12A toward the part to be cut 17B of the second resin layer 12B. , You may irradiate from the 1st glass layer 11A side toward the cutting scheduled part 17B of the 1st resin layer 11B. In these cases, the cut scheduled portion 16B of the first resin layer 11B and the cut scheduled portion 17B of the second resin layer 12B in the order of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. ) May be cut, and in the order of the second resin layer 12B and the first resin layer 11B, the cut scheduled portion 16B of the first resin layer 11B and the cut scheduled portion of the second resin layer 12B. (17B) may be cut. In addition, from the viewpoint of irradiating the laser with a high precision to the portion to be cut of the resin layer, when the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A is scribed, the laser is provided with the second glass layer 12A It is preferable to irradiate from the side toward the part to be cut 17B of the second resin layer 12B. When the cutting scheduled portion 17A of the second glass layer 12A is scribed, the laser is irradiated from the first glass layer 11A side toward the cutting scheduled portion 16B of the first resin layer 11B. desirable.

제1 유리층(11A)이 스크라이브된 상태로 제2 유리층(12A)측으로부터 제2 수지층(12B)으로 향하여 레이저를 조사하는 경우, 레이저는, 제2 수지층(12B)을 절단한 후, 제1 수지층(11B)을 절단 또는 제1 수지층(11B)을 스크라이브해도 좋다. 제1 유리층(11A)이 스크라이브된 상태로 제1 유리층(11A)측으로부터 제1 수지층(11B)으로 향하여 레이저가 조사되는 경우, 레이저는, 제1 수지층(11B)을 절단한 후, 제2 수지층(12B)을 절단 또는 제2 수지층(12B)을 스크라이브해도 좋다. 제2 유리층(12A)이 스크라이브된 상태로 제1 유리층(11A)측으로부터 제1 수지층(11B)으로 향하여 레이저를 조사하는 경우, 레이저는, 제1 수지층(11B)을 절단한 후, 제2 수지층(12B)을 절단 또는 제2 수지층(12B)을 스크라이브해도 좋다. 제2 유리층(12A)이 스크라이브된 상태로 제2 유리층(12A)측으로부터 제2 수지층(12B)으로 향하여 레이저를 조사하는 경우, 레이저는, 제2 수지층(12B)을 절단한 후, 제1 수지층(11B)을 절단 또는 제1 수지층(11B)을 스크라이브해도 좋다.When the laser is irradiated toward the second resin layer 12B from the second glass layer 12A side with the first glass layer 11A scribed, the laser cuts the second resin layer 12B. , The first resin layer 11B may be cut or the first resin layer 11B may be scribed. When the laser is irradiated from the side of the first glass layer 11A to the first resin layer 11B while the first glass layer 11A is scribed, the laser cuts the first resin layer 11B. , The second resin layer 12B may be cut or the second resin layer 12B may be scribed. When the laser is irradiated from the side of the first glass layer 11A toward the first resin layer 11B with the second glass layer 12A scribed, the laser cuts the first resin layer 11B. , The second resin layer 12B may be cut or the second resin layer 12B may be scribed. When the laser is irradiated from the side of the second glass layer 12A toward the second resin layer 12B with the second glass layer 12A scribed, the laser cuts the second resin layer 12B. , The first resin layer 11B may be cut or the first resin layer 11B may be scribed.

레이저의 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 대한 조사에 수반하여 가스가 발생한다. 가스는 배출부(18)를 통하여 다층 적층 기판(10)의 외부로 배출되기 때문에, 가스가 다층 적층 기판(10)의 내부에 체류되는 것이 억제된다. 게다가, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 가공 시에 발생하는 파편 등의 이물이 배출부(18)를 통하여 다층 적층 기판(10)의 외부로 배출된다. 이 때문에, 다층 적층 기판(10)의 내부의 가스의 체류 및 이물에 의한 다층 적층 기판(10)의 내부의 압력 증가에 기인하여 제1 유리층(11A), 제1 수지층(11B), 제2 수지층(12B) 및, 제2 유리층(12A)이 변형되는 것이 억제된다.Gas is generated as the laser irradiates the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. Since the gas is discharged to the outside of the multi-layer laminated substrate 10 through the discharge portion 18, it is suppressed that the gas remains inside the multi-layer laminated substrate 10. In addition, foreign substances such as debris generated during the processing of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are discharged to the outside of the multi-layer laminated substrate 10 through the discharge portion 18. For this reason, the 1st glass layer 11A, the 1st resin layer 11B, the 1st glass layer 11A, the 1st glass layer 11A, the 1st resin layer 11B, due to the gas retention inside the multilayer laminated substrate 10 and the pressure increase inside the multilayer laminated substrate 10 by foreign matter The deformation of the 2 resin layer 12B and the second glass layer 12A is suppressed.

제1 예의 배출부 형성 공정에 있어서 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 절단한 경우, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단함으로써 단위 적층 기판(20)이 제조된다. 제1 예의 배출부 형성 공정에 있어서 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 한쪽을 절단한 경우, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단한 후, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 다른 한쪽을 절단함으로써 단위 적층 기판(20)이 제조된다.When the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A are cut in the process of forming the discharge part of a 1st example, a unit laminated substrate is cut by cutting the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B 20 is produced. In the case of cutting one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A in the process of forming the discharge portion of the first example, after cutting the first resin layer 11B and the second resin layer 12B , The unit laminated substrate 20 is manufactured by cutting the other side of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A.

제2 예의 배출부 형성 공정에 있어서 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 각각에 스크라이브 라인(SL)을 형성한 경우, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단한 후, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 브레이크함으로써 단위 적층 기판(20)이 제조된다. 제2 예의 배출부 형성 공정에 있어서 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 한쪽에 스크라이브 라인(SL)을 형성한 경우, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단한 후, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 다른 한쪽을 스크라이브하고, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 브레이크함으로써 단위 적층 기판(20)이 제조된다. 또한, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)이 스크라이브된 경우에는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 브레이크 시에 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)이 아울러 브레이크된다.When the scribe line SL is formed in each of the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A in the process of forming a discharge part of a 2nd example, the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer ( After cutting 12B), the unit laminated substrate 20 is manufactured by breaking the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. When the scribe line SL is formed in one of the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A in the process of forming a discharge part of a 2nd example, the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer ( After cutting 12B), the other side of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is scribed, and the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are braked to break the unit laminated substrate. 20 is produced. In addition, when the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B are scribed, when the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A break, the 1st resin layer 11B and The second resin layer 12B is also braked.

유리층 및 수지층의 각각을 레이저에 의해 절단하는 경우, 또는, 유리층 및 수지층의 각각에 레이저에 의해 스크라이브 라인을 형성하는 경우, 도 3에 나타나는 레이저 가공 장치(30)를 대신하여, 도 8에 나타나는 레이저 가공 장치(30A)가 이용된다. 레이저 가공 장치(30A)는, 레이저 가공 장치(30)와 비교하여, 레이저 장치의 구성이 상이하다. 이하, 레이저 가공 장치(30A) 중의 상이한 구성에 대해서 설명한다.When cutting each of the glass layer and the resin layer with a laser, or when forming a scribe line with a laser in each of the glass layer and the resin layer, instead of the laser processing apparatus 30 shown in FIG. 3, FIG. The laser processing apparatus 30A shown in 8 is used. The laser processing device 30A has a different configuration of the laser device compared to the laser processing device 30. Hereinafter, different structures in the laser processing apparatus 30A will be described.

레이저 가공 장치(30A)의 레이저 장치(31A)는, 제1 레이저 발진기(34A) 및 제2 레이저 발진기(34B)를 포함한다. 제1 레이저 발진기(34A)는 UV 레이저이고, 제2 레이저 발진기(34B)는 CO2 레이저이다. 제1 레이저 발진기(34A)로부터 조사된 레이저광 및, 제2 레이저 발진기(34B)로부터 조사된 레이저광은, 전송 광학계(35)를 통하여 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)에 조사된다. 또한, 전송 광학계(35)는, 제1 레이저 발진기(34A)에 대응하는 전송 광학계와, 제2 레이저 발진기(34B)에 대응하는 전송 광학계가 개별적으로 형성되어도 좋다.The laser device 31A of the laser processing device 30A includes a first laser oscillator 34A and a second laser oscillator 34B. The first laser oscillator 34A is a UV laser, and the second laser oscillator 34B is a CO 2 laser. The laser beam irradiated from the first laser oscillator 34A and the laser beam irradiated from the second laser oscillator 34B are transmitted through the transmission optical system 35 to the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. Is investigated. In addition, the transmission optical system 35 may have a transmission optical system corresponding to the first laser oscillator 34A and a transmission optical system corresponding to the second laser oscillator 34B individually.

제1 제어부(33)는, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)에 대한 가공 대상의 종류(유리층 또는 수지층)에 따라서 제1 레이저 발진기(34A) 및 제2 레이저 발진기(34B)를 선택한다. 예를 들면 제1 제어부(33)는, 미리 기억된 제어 프로그램에 의해 가공 대상의 종류인 유리층 및 수지층의 가공 순번을 정하고, 정해진 가공 순번에 따라서 제1 레이저 발진기(34A) 및 제2 레이저 발진기(34B)를 선택한다.The 1st control part 33 is the 1st laser oscillator 34A and the 2nd laser oscillator according to the kind (process layer of glass or resin) of the object to be processed for the 1st laminated board 11 and the 2nd laminated board 12 Choose (34B). For example, the first control unit 33 determines the processing sequence of the glass layer and the resin layer, which are the types of objects to be processed, by the previously stored control program, and the first laser oscillator 34A and the second laser according to the determined processing sequence. Select the oscillator 34B.

박리 공정에서는, 레이저 리프트 오프 장치(도시 생략)를 이용한다. 본 실시 형태에서는, 레이저 리프트 오프 장치의 레이저로서 UV 레이저가 이용된다. 도 9(a)에 나타나는 바와 같이, 제1 유리층(11A)측으로부터 제1 수지층(11B)으로 레이저를 조사함으로써 제1 수지층(11B)과 제1 유리층(11A)을 박리한다. 제1 유리층(11A)과 제1 수지층(11B)을 박리하는 경우, 레이저는, 제1 유리층(11A)의 제2 평면(14B)에 직교하도록 조사된다. 다음으로, 도 9(b)에 나타나는 바와 같이, 제2 유리층(12A)측으로부터 제2 수지층(12B)으로 레이저를 조사함으로써 제2 수지층(12B)과 제2 유리층(12A)을 박리한다. 제2 유리층(12A)과 제2 수지층(12B)을 박리하는 경우, 레이저는, 제2 유리층(12A)의 제2 평면(15B)에 직교하도록 조사된다. 또한, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 박리하는 순번은 임의로 변경 가능하다. 예를 들면, 제2 수지층(12B)과 제2 유리층(12A)을 박리한 후, 제1 수지층(11B)과 제1 유리층(11A)을 박리해도 좋다.In the peeling process, a laser lift-off device (not shown) is used. In this embodiment, a UV laser is used as the laser of the laser lift-off device. As shown in Fig. 9 (a), the first resin layer 11B and the first glass layer 11A are peeled by irradiating a laser from the first glass layer 11A side to the first resin layer 11B. When peeling the 1st glass layer 11A and the 1st resin layer 11B, a laser is irradiated to be orthogonal to the 2nd plane 14B of the 1st glass layer 11A. Next, as shown in Fig. 9 (b), the second resin layer 12B and the second glass layer 12A are irradiated by laser irradiation from the second glass layer 12A side to the second resin layer 12B. Peel off. In the case of peeling the second glass layer 12A and the second resin layer 12B, the laser is irradiated to be perpendicular to the second plane 15B of the second glass layer 12A. In addition, the order of peeling the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A can be arbitrarily changed. For example, after peeling the 2nd resin layer 12B and the 2nd glass layer 12A, you may peel the 1st resin layer 11B and the 1st glass layer 11A.

다층 적층 기판(10)으로부터 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)이 제거된(도 9(c) 참조) 후, 즉 발광 디바이스의 제조 후, 제1 수지층(11B)을 덮도록 제1 보호 필름이 부착되고, 제2 수지층(12B)을 덮도록 제2 보호 필름이 부착됨으로써, 플렉시블 유기 EL 디스플레이가 제조된다.After the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are removed from the multilayer laminated substrate 10 (see Fig. 9 (c)), that is, after the production of the light emitting device, the first resin layer 11B is removed. A flexible organic EL display is produced by attaching the first protective film to cover and attaching the second protective film to cover the second resin layer 12B.

본 실시 형태의 효과에 대해서 설명한다.The effects of this embodiment will be described.

(1-1) 후단 가공 공정은, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽에 배출부(18)를 형성하는 배출부 형성 공정을 포함한다. 이 제조 방법에 의하면, 예를 들면 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 레이저로 절단하는 경우에 발생하는 가스가 배출부(18)를 통하여 다층 적층 기판(10)의 외부로 배출되기 때문에, 가스의 영향에 의해 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 품질이 저하할 우려가 저감된다.(1-1) The post-processing step includes a discharge portion forming step of forming a discharge portion 18 on at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. According to this manufacturing method, for example, gas generated when the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut by a laser is discharged through the discharge portion 18 to the outside of the multi-layer laminated substrate 10. Since it is discharged to the furnace, the possibility that the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B decreases due to the influence of gas is reduced.

(1-2) 배출부 형성 공정에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽을 절단함으로써, 배출부(18)를 형성한다. 이 제조 방법에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽을 절단하는 경우, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 레이저를 조사하는 것에 수반하여 발생하는 가스가 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽의 절단 부분으로부터 다층 적층 기판(10)의 외부로 배출된다. 이 때문에, 가스가 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 품질에 영향을 미칠 우려가 낮아진다.(1-2) In the discharge portion forming step, the discharge portion 18 is formed by cutting at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. In this manufacturing method, when cutting at least one of the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A, it is accompanied by irradiating a laser to the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B. The generated gas is discharged from at least one cut portion of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A to the outside of the multilayer laminated substrate 10. For this reason, there is less possibility that the gas affects the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B.

(1-3) 배출부 형성 공정에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽을 레이저 또는 다이싱에 의해 절단하여, 배출부(18)를 형성한다. 이 제조 방법에서는, 유리층의 절단에 일반적으로 이용되는 절단 방법에 의해 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽에 배출부(18)가 형성된다. 이 때문에, 예를 들면, 기존의 장치를 유용할 수 있다.(1-3) In the discharge portion forming step, at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is cut by laser or dicing to form the discharge portion 18. In this manufacturing method, the discharge portion 18 is formed on at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A by a cutting method generally used for cutting the glass layer. For this reason, for example, an existing device can be used.

(1-4) 배출부 형성 공정에서는, 스크라이빙 휠(50)에 의해 복수의 스크라이브 라인(SL)이 교차하도록 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽을 스크라이브한다. 이 제조 방법에 의하면, 스크라이브 라인(SL)이 교차하는 교차부는, 스크라이브 라인(SL)의 다른 부분과 비교하여, 스크라이브된 깊이가 깊어짐으로써, 유리층을 관통한다. 이 때문에, 스크라이브 라인(SL)이 교차하는 교차부는, 배출부(18)를 형성한다. 이 때문에, 예를 들면, 기존의 장치를 유용할 수 있다.(1-4) In the discharge part forming process, at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is scribed so that the plurality of scribe lines SL intersect by the scribing wheel 50. do. According to this manufacturing method, the intersection where the scribe line SL intersects the glass layer by deepening the scribed depth as compared with other parts of the scribe line SL. For this reason, the intersection part where the scribe line SL intersects forms the discharge part 18. For this reason, for example, an existing device can be used.

(1-5) 후단 가공 공정은, 배출부 형성 공정의 후에 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 적어도 한쪽을 레이저에 의해 절단하는 후단 절단 공정을 포함한다. 이 제조 방법에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 적어도 한쪽이 레이저에 의해 절단되기 때문에, 절단에 수반하는 발열량이 적어, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 품질이 저하하기 어렵다.(1-5) The rear end processing step includes a rear end cutting step in which at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is cut by a laser after the discharge portion forming process. In this manufacturing method, since at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is cut by a laser, the calorific value accompanying cutting is small, and the first resin layer 11B and the second water The quality of the formation layer 12B is difficult to deteriorate.

(1-6) 배출부 형성 공정에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 한쪽에 배출부(18)를 형성하고, 후단 절단 공정에서는, 배출부(18)가 형성되어 있지 않은, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 다른 한쪽을 통하여 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 다른 한쪽에 대응하는 수지층에 레이저를 조사한다. 이 제조 방법에서는, 레이저가 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 한쪽의 배출부(18)의 영향을 받는 일 없이, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 다른 한쪽에 대응하는 수지층에 조사되어, 수지층이 효율적으로 절단 또는 스크라이브된다.(1-6) In the discharge part forming process, the discharge part 18 is formed on one side of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, and in the rear end cutting process, the discharge part 18 is formed. The laser is applied to the resin layer corresponding to the other side of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A through the other side of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, which are not being made. Investigate. In this manufacturing method, the first glass layer 11A and the second glass layer (without being influenced by one of the discharge portions 18 of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A) The resin layer corresponding to the other side of 12A) is irradiated, and the resin layer is efficiently cut or scribed.

(1-7) 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법은, 제1 적층 기판(11)과 제2 적층 기판(12)을 적층하는 공정 이후의 공정인 후단 공정에 있어서, 다층 적층 기판(10)을 소정 사이즈로 절단한다. 이 제조 방법에서는, 제1 적층 기판(11)과 제2 적층 기판(12)이 적층된 다층 적층 기판(10)의 상태로 절단되기 때문에, 적층 작업이 간소화된다. 이 때문에, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 효율이 저하하기 어렵다.(1-7) The manufacturing method of the flexible organic EL display is a step subsequent to the step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, and the multilayer laminated substrate 10 is predetermined. Cut to size. In this manufacturing method, since the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are cut in the state of the laminated multilayer substrate 10, the lamination operation is simplified. For this reason, the manufacturing efficiency of the flexible organic EL display is unlikely to decrease.

(1-8) 후단 절단 공정에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 레이저에 의해 절단한다. 이 때문에, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 절단 시의 발열량이 적어, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 품질이 저하하기 어렵다.(1-8) In the rear end cutting step, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut with a laser. For this reason, the calorific value at the time of cutting | disconnecting the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B is small, and the quality of the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B is hard to fall.

(제2 실시 형태)(Second embodiment)

도 10을 참조하여, 제2 실시 형태의 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법에 대해서 설명한다. 본 실시 형태에서는, 제1 실시 형태와 비교하여, 후단 가공 공정이 상이하다. 이하의 설명에 있어서, 제1 실시 형태와 상이한 부분에 대해서 상세하게 설명하고, 제1 실시 형태와 공통되는 다층 적층 기판(10)의 구성 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고, 그 설명을 생략한다.The manufacturing method of the flexible organic EL display of 2nd Embodiment is demonstrated with reference to FIG. In this embodiment, the post-processing step is different compared with the first embodiment. In the following description, parts different from the first embodiment will be described in detail, and components of the multi-layer laminated substrate 10 common to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description is omitted.

배출부 형성 공정에서는, 제1 적층 기판(11)의 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A) 및 제2 적층 기판(12)의 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)의 적어도 한쪽을 스크라이브함으로써 배출부(18)를 형성한다. 일 예로는, 레이저 또는 스크라이브에 의해 배출부(18)가 형성된다.In the discharge portion forming process, the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 and the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12 ), A discharge portion 18 is formed by scribing at least one side. In one example, the discharge portion 18 is formed by laser or scribe.

본 실시 형태의 배출부 형성 공정에서는, 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A) 및 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)의 한쪽에 배출부(18)를 형성하고, 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A) 및 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)의 다른 한쪽에 배출부(18)를 형성하지 않는다. 도 10은, 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)에 배출부(18)가 형성되고, 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A)에 배출부(18)가 형성되어 있지 않은 예를 나타낸다.In the discharge portion forming process of the present embodiment, the discharge portion 18 is formed on one of the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A. , The discharge portion 18 is not formed on the other side of the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A and the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A. In FIG. 10, the discharge portion 18 is formed in the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A, and the discharge portion 18 is formed in the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A. It shows an example that is not.

후단 절단 공정에서는, 레이저에 의해 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B) 및 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)의 적어도 한쪽을 절단, 또는 레이저에 의해 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B) 및 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)의 적어도 한쪽에 스크라이브 라인을 형성한다. 본 실시 형태에서는, 후단 절단 공정에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 대한 1회당의 레이저의 조사에 있어서의 레이저의 출력을, 소정 온도 이상의 가스의 발생이 촉진되는 소정 출력 이상으로 설정한다. 소정 출력 이상으로 설정하면, 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B) 및 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)로의 레이저의 조사에 수반하여 다층 적층 기판(10) 내에 발생한 가스가 예비 가공이 실시된 유리층을 브레이크 가능한 힘을 유리층에 작용시킨다.In the rear-end cutting process, at least one of the cutting scheduled portion 16B of the first resin layer 11B and the cutting scheduled portion 17B of the second resin layer 12B is cut by a laser, or the laser can be firstly cut. A scribe line is formed on at least one of the portion to be cut 16B of the base layer 11B and the portion to be cut 17B of the second resin layer 12B. In the present embodiment, in the subsequent cutting step, the output of the laser in the irradiation of the laser per one time to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is accelerated by the generation of gas at a predetermined temperature or higher. Set to more than the specified output. When it is set to a predetermined output or more, in the multi-layered laminated substrate 10 with the irradiation of the laser to the cutting scheduled portion 16B of the first resin layer 11B and the cutting scheduled portion 17B of the second resin layer 12B, The generated gas exerts a force that can break the glass layer on which the pretreatment has been applied to the glass layer.

이와 같이, 후단 절단 공정에서는, 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A) 및 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A) 중의 스크라이브 라인(배출부(18))이 형성된 유리층을, 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B) 및 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)에 대한 레이저의 조사에 수반하여 발생하는 가스로 브레이크한다. 이에 따라, 배출부(18)는, 다층 적층 기판(10)의 내부와 외부를 연통(communication)하게 되어, 다층 적층 기판(10) 내의 가스를 다층 적층 기판(10)의 외부로 배출할 수 있다.As described above, in the rear end cutting step, the glass in which the scribe line (discharge portion 18) is formed in the cut scheduled portion 16A of the first glass layer 11A and the cut scheduled portion 17A of the second glass layer 12A is formed. The layer is braked with a gas generated in response to irradiation of the laser to the portion to be cut 16B of the first resin layer 11B and the portion to be cut 17B of the second resin layer 12B. Accordingly, the discharge unit 18 communicates with the inside and the outside of the multi-layered laminate substrate 10, so that the gas in the multi-layer laminate substrate 10 can be discharged to the outside of the multi-layer laminate substrate 10. .

후단 절단 공정의 일 예로는, 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)에 배출부(18)가 형성된 경우, 제2 유리층(12A)측으로부터 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)에 대하여 레이저를 조사한다. 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)에 대한 레이저의 조사에 수반하여 발생하는 가스로 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)가 브레이크된다. 일 예로는, 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)에 배출부(18)가 형성된 경우, 제1 유리층(11A)측으로부터 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B)에 대하여 레이저를 조사하여 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B)를 절단한 후, 동일한 조사 방향에서 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)에 레이저를 조사하여 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)를 절단 또는 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)를 스크라이브한다. 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B) 및 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)에 대한 레이저의 조사에 수반하여 발생하는 가스로 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)가 브레이크된다.As an example of the rear end cutting process, when the discharge portion 18 is formed in the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A, the second resin layer 12B is cut from the second glass layer 12A side. The laser is irradiated to the predetermined portion 17B. The to-be-cut portion 17A of the second glass layer 12A is braked by the gas generated by the irradiation of the laser to the to-be-cut portion 17B of the second resin layer 12B. As an example, when the discharge portion 18 is formed in the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A, the portion to be cut 16B of the first resin layer 11B from the side of the first glass layer 11A ), And then cut the portion to be cut 16B of the first resin layer 11B, then irradiate the laser to the portion to be cut 17B of the second resin layer 12B in the same irradiation direction. 2 The cut scheduled portion 17B of the resin layer 12B is cut, or the cut scheduled portion 17B of the second resin layer 12B is scribed. Cutting of the second glass layer 12A with a gas generated in response to laser irradiation on the cutting scheduled portion 16B of the first resin layer 11B and the cutting scheduled portion 17B of the second resin layer 12B The scheduled portion 17A is braked.

후단 절단 공정의 일 예로는, 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A)에 배출부(18)가 형성된 경우, 제1 유리층(11A)측으로부터 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B)에 대하여 레이저를 조사한다. 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B)에 대한 레이저의 조사에 수반하여 발생하는 가스로 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A)가 브레이크된다. 일 예로는, 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A)에 배출부(18)가 형성된 경우, 제2 유리층(12A)측으로부터 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)에 대하여 레이저를 조사하여 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)를 절단한 후, 동일한 조사 방향에서 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B)에 레이저를 조사하여 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B)를 절단 또는 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B)를 스크라이브한다. 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B) 및 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B)에 대한 레이저의 조사에 수반하여 발생하는 가스로 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A)가 브레이크된다.As an example of the rear-end cutting process, when the discharge portion 18 is formed in the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A, the first resin layer 11B is cut from the first glass layer 11A side. The laser is irradiated to the predetermined portion 16B. The to-be-cut portion 16A of the first glass layer 11A is braked by the gas generated by the irradiation of the laser to the to-be-cut portion 16B of the first resin layer 11B. As an example, when the discharge portion 18 is formed in the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A, the portion to be cut 17B of the second resin layer 12B from the second glass layer 12A side ), And then cut the portion to be cut 17B of the second resin layer 12B, then irradiate the laser to the portion to be cut 16B of the first resin layer 11B in the same irradiation direction. 1 The cut scheduled portion 16B of the resin layer 11B is cut or the cut scheduled portion 16B of the first resin layer 11B is scribed. Cutting of the first glass layer 11A with a gas generated by irradiation of the laser to the portion to be cut 17B of the second resin layer 12B and the portion to be cut 16B of the first resin layer 11B The scheduled portion 16A is braked.

후단 절단 공정은, 배출부(18)가 형성되어 있지 않은 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 다른 한쪽을 절단한다. 일 예로는, 후단 절단 공정에서는, 레이저 가공 장치(30) 또는 스크라이브 가공 장치(40)에 의해 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 다른 한쪽을 스크라이브한 후, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 다른 한쪽을 스크라이브 라인을 따라 브레이크한다. 이에 따라, 단위 적층 기판(20)이 제조된다. 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 한쪽에 스크라이브 라인이 형성되어 있는 경우, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 브레이크 시에 아울러 브레이크한다. 이에 따라, 단위 적층 기판(20)이 제조된다. 일 예로는, 후단 절단 공정에서는, 레이저 또는 다이싱에 의해 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 다른 한쪽을 절단한다. 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 한쪽에 스크라이브 라인이 형성되어 있는 경우, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 다른 한쪽의 절단 후, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 다른 한쪽을 브레이크한다. 이에 따라, 단위 적층 기판(20)이 제조된다.In the rear end cutting step, the other of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A where the discharge portion 18 is not formed is cut. As an example, in the post-cutting process, the other side of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is scribed by the laser processing apparatus 30 or the scribe processing apparatus 40, and then the first glass The other side of the layer 11A and the second glass layer 12A is braked along the scribe line. Thereby, the unit laminated substrate 20 is manufactured. When a scribe line is formed in one of the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B, it brakes simultaneously when the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A are braked. Thereby, the unit laminated substrate 20 is manufactured. In one example, in the subsequent cutting step, the other of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is cut by laser or dicing. When a scribe line is formed on one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, after the other of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is cut, the first The other of the resin layer 11B and the second resin layer 12B is braked. Thereby, the unit laminated substrate 20 is manufactured.

본 실시 형태의 효과에 대해서 설명한다.The effects of this embodiment will be described.

(2-1) 배출부 형성 공정에서는, 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A) 및 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)의 적어도 한쪽에 배출부(18)를 형성한다. 후단 절단 공정에서는, 배출부(18)가 형성된 유리층을 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 적어도 한쪽에 대한 레이저의 조사에 수반하여 발생하는 가스로 브레이크한다. 이 제조 방법에서는, 레이저에 의해 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 적어도 한쪽을 절단하는 작업에 아울러 배출부(18)가 형성된 유리층이 절단된다. 이 때문에, 다층 적층 기판(10)의 절단에 관한 공수(工數)가 삭감되어, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 효율이 저하하기 어렵다.(2-1) In the discharge portion forming step, the discharge portion 18 is disposed on at least one of the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A and the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A. To form. In the rear end cutting process, the glass layer on which the discharge portion 18 is formed is braked with a gas generated in response to laser irradiation on at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. In this manufacturing method, the glass layer on which the discharge portion 18 is formed is cut along with the operation of cutting at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B by laser. For this reason, the labor for cutting the multilayer laminated substrate 10 is reduced, and the manufacturing efficiency of the flexible organic EL display is unlikely to decrease.

(2-2) 후단 절단 공정에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 대한 1회당의 레이저의 조사에 있어서의 레이저의 출력을, 소정 온도 이상의 가스의 발생이 촉진되는 소정 출력 이상으로 설정한다. 이 제조 방법에서는, 레이저에 의한 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 적어도 한쪽의 절단에 수반하여 비교적 고온의 가스가 발생하고, 예비 가공이 실시된 유리층이 가스에 의해 적절히 브레이크된다.(2-2) In the rear end cutting step, the output of the laser in the irradiation of the laser per one time to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is accelerated by the generation of gas at a predetermined temperature or higher. Set to more than the specified output. In this manufacturing method, a relatively high temperature gas is generated with cutting of at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B by a laser, and the glass layer subjected to preliminary processing is subjected to gas. It brakes properly.

(2-3) 배출부 형성 공정에서는, 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A) 및 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)의 한쪽에 배출부(18)를 형성하고, 제1 유리층(11A)의 절단 예정부(16A) 및 제2 유리층(12A)의 절단 예정부(17A)의 다른 한쪽에 배출부(18)를 형성하지 않는다. 이 제조 방법에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 한쪽만이 가스로 브레이크된다. 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 양쪽이 가스로 브레이크되는 경우와 비교하여, 브레이크 시의 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 상태가 안정된다.(2-3) In the discharge portion forming step, the discharge portion 18 is formed on one of the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A and the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A. Then, the discharge portion 18 is not formed on the other side of the portion to be cut 16A of the first glass layer 11A and the portion to be cut 17A of the second glass layer 12A. In this manufacturing method, only one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is braked with gas. Compared to the case where both the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are braked with gas, the states of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A at the time of break are stable. .

(2-4) 후단 절단 공정에서는, 배출부(18)가 형성되어 있지 않은 유리층을 통하여, 배출부(18)가 형성되어 있지 않은 유리층에 대응하는 수지층에 레이저를 조사한다. 이 제조 방법에서는, 레이저가 예비 가공된 유리층의 피가공부의 영향을 받는 일 없이, 배출부(18)가 형성되어 있지 않은 유리층에 대응하는 수지층에 조사되기 때문에, 수지층이 효율적으로 절단 또는 효율적으로 수지층이 스크라이브된다.(2-4) In the rear end cutting process, the laser is irradiated to the resin layer corresponding to the glass layer in which the discharge portion 18 is not formed, through the glass layer in which the discharge portion 18 is not formed. In this manufacturing method, since the laser is irradiated onto the resin layer corresponding to the glass layer on which the discharge portion 18 is not formed, without being affected by the portion to be processed of the pre-processed glass layer, the resin layer is efficiently The resin layer is cut or cut efficiently.

(2-5) 후단 절단 공정에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 레이저에 의해 절단한 후에, 배출부(18)가 형성되어 있지 않은 유리층을 절단한다. 이 제조 방법에서는, 배출부(18)가 형성되어 있지 않은 유리층에 의해 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)이 지지된 상태로 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)이 레이저에 의해 절단된다. 이 때문에, 절단 시의 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 상태가 안정된다.(2-5) In the rear-end cutting process, after cutting the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B with a laser, the glass layer in which the discharge part 18 was not formed is cut. In this manufacturing method, the first resin layer 11B and the second water can be held in a state where the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are supported by the glass layer on which the discharge portion 18 is not formed. The formation layer 12B is cut by a laser. For this reason, the state of the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B at the time of cutting is stable.

(변형예)(Modified example)

상기 각 실시 형태는 본 개시에 관한 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법을 취할 수 있는 형태의 예시로서, 그 형태를 제한하는 것을 의도하고 있지 않다. 본 개시에 관한 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법은 각 실시 형태에 예시된 형태와는 상이한 형태를 취할 수 있다. 그의 일 예는, 각 실시 형태의 구성의 일부를 치환, 변경, 혹은, 생략한 형태, 또는, 각 실시 형태에 새로운 구성을 부가한 형태이다. 이하의 변형예에 있어서, 각 실시 형태의 형태와 공통되는 부분에 대해서는, 각 실시 형태와 동일한 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.Each of the above-described embodiments is an example of a form that can take the manufacturing method of the flexible organic EL display according to the present disclosure, and is not intended to limit the form. The method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present disclosure can take a form different from the form illustrated in each embodiment. An example thereof is a form in which a part of the configuration of each embodiment is replaced, changed, or omitted, or a new configuration is added to each embodiment. In the following modified examples, parts common to those of the respective embodiments are given the same reference numerals as those of the respective embodiments, and descriptions thereof are omitted.

·제1 실시 형태에 있어서, 후단 절단 공정에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 대한 1회당의 레이저의 조사에 있어서의 레이저의 출력을, 소정 온도 이상의 가스의 발생이 억제되는 소정 출력 미만으로 설정하고, 복수회의 레이저의 조사에 의해, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단해도 좋다. 이 제조 방법에 의하면, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 레이저가 조사된 경우에 고온의 가스가 발생하기 어려워, 가스의 영향에 의해 제1 유리층(11A), 제2 유리층(12A), 제1 수지층(11B) 및, 제2 수지층(12B)의 품질이 저하할 우려가 한층 저감된다.In the first embodiment, in the post-cutting step, the output of the laser in the irradiation of the laser per one time to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is generated at a temperature higher than a predetermined temperature. The first resin layer 11B and the second resin layer 12B may be cut by setting a value below the suppressed predetermined output and irradiating the laser multiple times. According to this manufacturing method, when a laser is irradiated to the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B, high-temperature gas is hard to generate | occur | produce, and the 1st glass layer 11A and the 1st glass layer are influenced by gas. 2 The fear that the quality of the glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B will decrease is further reduced.

·상기 변형예에 있어서, 복수회의 레이저의 조사에 의해, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단하는 경우, 레이저를 소정 출력 미만으로 설정하는 것을 대신하여 또는 더하여, 일정한 시간을 두고 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 레이저를 복수회 조사함으로써 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단해도 좋다. 이 제조 방법에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 한쪽에 레이저가 조사되고, 레이저의 조사가 일시적으로 중단되어, 일정한 시간이 경과한 후에 재차 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 한쪽에 레이저가 조사되고, 이들 레이저의 조사 및 일시적인 조사의 중단이 복수회에 걸쳐 반복된다. 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 다른 한쪽에 레이저가 조사되는 경우도 마찬가지이다. 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 대한 레이저의 조사에 수반하여 발생한 가스가, 레이저의 조사가 일시적으로 중단되어 있을 때에 냉각되어, 가스의 영향에 의해 제1 유리층(11A), 제2 유리층(12A), 제1 수지층(11B) 및, 제2 수지층(12B)의 품질이 저하할 우려가 한층 저감된다.In the above modification, in the case of cutting the first resin layer 11B and the second resin layer 12B by irradiation of a plurality of lasers, instead of or in addition to setting the laser below a predetermined output, a constant You may cut | disconnect the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B by irradiating a laser to the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B several times over time. In this manufacturing method, the laser is irradiated to one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the laser irradiation is temporarily stopped, and after a certain time has elapsed, the first resin layer 11B ) And one of the second resin layers 12B is irradiated, and the interruption of irradiation of these lasers and temporary irradiation is repeated multiple times. The same applies to the case where the laser is irradiated to the other of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. The gas generated upon irradiation of the laser to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is cooled when the laser irradiation is temporarily stopped, and the first glass layer ( 11A), the possibility that the quality of the 2nd glass layer 12A, the 1st resin layer 11B, and the 2nd resin layer 12B will fall is further reduced.

·제1 실시 형태에 있어서, 다층 적층 기판(10)에 있어서의 배출부(18)가 형성되는 장소는, 제1 적층 기판(11)의 절단 예정부(16) 및 제2 적층 기판(12)의 절단 예정부(17)에 한정되지 않는다. 예를 들면 도 2에 나타나는 바와 같이, 다층 적층 기판(10)에 있어서, 서로 이웃하는 단위 적층 기판(20)의 사이의 부분에 배출부(18)가 형성되어도 좋다.In the first embodiment, the place where the discharge portion 18 in the multi-layered laminated substrate 10 is formed is the cut scheduled portion 16 and the second laminated substrate 12 of the first laminated substrate 11. It is not limited to the cutting scheduled portion 17 of the. For example, as shown in FIG. 2, in the multi-layer laminated substrate 10, a discharge portion 18 may be formed in a portion between adjacent unit laminated substrates 20.

·각 실시 형태에 있어서, 후단 절단 공정에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단하는 경우, 제1 수지층(11B)의 절단 예정부(16B) 및 제2 수지층(12B)의 절단 예정부(17B)에 대한 레이저의 조사에 수반하여 발생하는 가스를 흡인하는 흡인 기구(60)가 형성되어도 좋다. 도 11에 나타나는 바와 같이, 흡인 기구(60)는, 다층 적층 기판(10)의 주면(周面;10A)을 통하여 가스를 흡인하도록 구성된다. 흡인 기구(60)의 일 예는, 흡기 팬을 갖는다. 흡인 기구(60)는, 흡기 팬이 구동함으로써, 다층 적층 기판(10)의 주면(10A)에 있어서의 공기를 흡인한다. 이 경우, 다층 적층 기판(10) 내에 발생한 가스가 주면(10A)을 통하여 다층 적층 기판(10)의 외부로 배출된다.In each embodiment, in the step of cutting the back end, when the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut, the cutting scheduled portion 16B and the second number of the first resin layer 11B A suction mechanism 60 may be formed which sucks the gas generated in response to the irradiation of the laser with respect to the portion to be cut 17B of the formation layer 12B. As shown in FIG. 11, the suction mechanism 60 is configured to suck gas through the main surface 10A of the multilayer laminated substrate 10. As shown in FIG. One example of the suction mechanism 60 has an intake fan. The suction mechanism 60 sucks air in the main surface 10A of the multi-layer laminated substrate 10 by driving the intake fan. In this case, gas generated in the multilayer laminated substrate 10 is discharged to the outside of the multilayer laminated substrate 10 through the main surface 10A.

·각 실시 형태에 있어서, 제1 적층 기판(11)에 도전층(13)이 형성되는 것을 대신하여, 또는 제1 적층 기판(11)에 도전층(13)이 형성되는 것에 더하여, 제2 적층 기판(12)에 도전층(13)이 형성되어도 좋다.In each embodiment, instead of forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11 or in addition to forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11, the second stacking The conductive layer 13 may be formed on the substrate 12.

10 : 다층 적층 기판
11 : 제1 적층 기판
11A : 제1 유리층
11B : 제1 수지층
12 : 제2 적층 기판
12A : 제2 유리층
12B : 제2 수지층
18 : 배출부
50 : 스크라이빙 휠
SL : 스크라이브 라인
10: multilayer laminated substrate
11: first laminated substrate
11A: first glass layer
11B: 1st resin layer
12: second laminated substrate
12A: second glass layer
12B: Second resin layer
18: outlet
50: scribing wheel
SL: scribe line

Claims (7)

유리층과 수지층이 적층된 복수의 적층 기판을 구비하고, 상기 복수의 적층 기판은 제1 유리층과 제1 수지층이 적층된 제1 적층 기판 및, 제2 유리층과 제2 수지층이 적층된 제2 적층 기판을 포함하고, 상기 제1 수지층과 상기 제2 수지층이 대향하도록 적층된 다층 적층 기판의 제조에 관한 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법으로서,
상기 복수의 적층 기판을 적층하는 공정 이후의 공정인 후단(後段) 공정을 포함하고,
상기 후단 공정은, 상기 복수의 적층 기판의 적어도 한쪽의 상기 유리층에, 상기 수지층의 절단에 수반하여 발생하는 이물을 배출하는 배출부를 형성하는 배출부 형성 공정을 포함하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
A plurality of laminated substrates having a glass layer and a resin layer laminated thereon is provided. The plurality of laminated substrates include a first laminated substrate on which a first glass layer and a first resin layer are stacked, and a second glass layer and a second resin layer. A method of manufacturing a flexible organic EL display comprising a stacked second laminated substrate, and the first resin layer and the second resin layer stacked so as to face each other.
And a rear end process, which is a process after the step of stacking the plurality of laminated substrates,
The post-processing step includes manufacturing a flexible organic EL display including a discharge portion forming process for forming a discharge portion for discharging foreign substances generated by cutting of the resin layer in at least one of the glass layers of the plurality of laminated substrates. Way.
제1항에 있어서,
상기 배출부 형성 공정에서는, 상기 유리층을 절단함으로써, 또는, 상기 유리층을 스크라이브함으로써 상기 배출부를 형성하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
According to claim 1,
In the step of forming the discharge portion, a method of manufacturing a flexible organic EL display by forming the discharge portion by cutting the glass layer or by scribing the glass layer.
제2항에 있어서,
상기 배출부 형성 공정에서는, 상기 유리층을 레이저 또는 다이싱에 의해 절단하여, 상기 배출부를 형성하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
According to claim 2,
In the discharge portion forming step, a method of manufacturing a flexible organic EL display by cutting the glass layer by laser or dicing to form the discharge portion.
제2항에 있어서,
상기 배출부 형성 공정에서는, 스크라이빙 휠에 의해 상기 유리층을 스크라이브하여, 상기 배출부를 형성하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
According to claim 2,
In the discharge portion forming step, a method of manufacturing a flexible organic EL display by scribing the glass layer by a scribing wheel to form the discharge portion.
제4항에 있어서,
상기 배출부 형성 공정에서는, 복수의 스크라이브 라인이 교차하도록 상기 유리층을 스크라이브하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
The method of claim 4,
In the discharge portion forming step, a method of manufacturing a flexible organic EL display that scribes the glass layer such that a plurality of scribe lines intersect.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 후단 공정은, 상기 배출부 형성 공정의 후에 상기 복수의 적층 기판의 적어도 한쪽의 상기 수지층을 레이저에 의해 절단하는 후단 절단 공정을 추가로 포함하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The rear end step further comprises a rear end cutting step of cutting at least one of the resin layers of the plurality of laminated substrates with a laser after the discharge part forming step.
제6항에 있어서,
상기 배출부 형성 공정에서는, 상기 복수의 적층 기판의 한쪽에 상기 배출부를 형성하고,
상기 후단 절단 공정에서는, 상기 배출부가 형성되어 있지 않은 상기 유리층을 통하여 상기 수지층에 레이저를 조사하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
The method of claim 6,
In the discharge portion forming step, the discharge portion is formed on one side of the plurality of laminated substrates,
In the rear end cutting step, a method of manufacturing a flexible organic EL display irradiating a laser to the resin layer through the glass layer in which the discharge portion is not formed.
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