KR102511040B1 - Flexible Display Device and Method for Manufacturing the Same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 글래스 제거시 박리가 용이한 플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 플렉서블 표시 장치는, 글래스 기판 상에 폴리머 기재 형성하고 이어 무기막들을 성막한 후 폴리머 기재의 에지를 따라 홀을 형성하여, 상기 에지에서 글래스 기판에 강하게 결합력을 가진 무기막들이 없게 하여, 글래스 기판의 박리를 용이하게 한다.The present invention relates to a flexible display device that is easily peelable when glass is removed, and a method for manufacturing the same. By forming a hole, the inorganic film having a strong binding force to the glass substrate is eliminated from the edge, thereby facilitating separation of the glass substrate.
Description
본 발명은 표시 장치에 관한 것으로, 특히 글래스 제거시 박리가 용이한 플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a flexible display device that is easily peelable when glass is removed and a method for manufacturing the same.
평판 표시장치의 구체적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 유기 발광 표시 장치(Organic Emitting Display Device), 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel device: PDP), 양자점 표시 장치(Quantum Dot Display Device), 전계방출표시장치(Field Emission Display device: FED), 전기영동 표시장치(Electrophoretic Display Device: EPD) 등을 들 수 있는데, 이들은 공통적으로 화상을 구현하는 평판 표시패널을 필수적인 구성요소로 하는 바, 평판 표시패널은 고유의 발광 또는 편광 혹은 그 밖의 광학 물질층을 사이에 두고 한 쌍의 투명 절연기판을 대면 합착시킨 구성을 갖는다.Specific examples of the flat panel display device include a liquid crystal display device (LCD), an organic light emitting display device (Organic Emitting Display Device), a plasma display panel device (PDP), and a quantum dot display device (Quantum Dot Display Device). ), field emission display device (FED), electrophoretic display device (EPD), etc., which commonly use a flat panel display panel for realizing an image as an essential component, A flat panel display panel has a structure in which a pair of transparent insulating substrates are bonded face-to-face with an inherent light emitting or polarizing or other optical material layer interposed therebetween.
최근 표시장치의 대형화에 따라 공간 점유가 적은 평면 표시 장치로서의 요구가 증대되고 있는데, 이러한 요구는 증진되어, 최근에는 평면 표시 장치를 플렉서블한 형태로 이용하고자 하는 요구가 있다. With the recent increase in the size of display devices, demand for a flat display device that occupies less space is increasing. This demand is increasing, and recently, there is a demand for using a flat display device in a flexible form.
이러한 요구에 부응하여 고려된 플렉서블 표시 장치는, 두께가 점차로 얇아지며 접을 수 있는 형태로도 발전되고 있다. 또한, 사용자의 편리성을 고려하여, 상측에 터치 스크린이 부가된 형태도 제안되고 있다. A flexible display device considered in response to such a demand has gradually become thinner and has been developed into a foldable type. In addition, in consideration of user's convenience, a form in which a touch screen is added to the upper side has also been proposed.
이러한 터치 스크린이 부가된 플렉서블 표시 장치 중 표시 패널을 유기 발광 표시 패널로 이용하는 예가, 광원을 생략하여 보다 슬림하며 경량의 구성이 가능하여 플렉서블한 형태 구현이 용이하여 각광받고 있다. Among flexible display devices with a touch screen, an example in which a display panel is used as an organic light emitting display panel is drawing attention because it can be configured with a slimmer and lighter weight by omitting a light source, and thus can be easily implemented in a flexible form.
일반적인 플렉서블 표시 장치는, 하판 글래스 기판에 박막 트랜지스터 어레이와 유기 발광 다이오드 어레이를 구성하고, 상판 글래스 기판에는 터치 센싱 어레이를 구성한 후, 양 글래스 기판 사이에 접착층이 대응하도록 하여 합착한다.In a typical flexible display device, a thin film transistor array and an organic light emitting diode array are formed on a lower glass substrate, and a touch sensing array is formed on an upper glass substrate, and then the two glass substrates are bonded together with adhesive layers corresponding to each other.
한편, 상기 상부 글래스 기판과 하부 글래스 기판은 언급된 순서로 제거되는데, 레이저를 조사하여 글래스 기판이 글래스 기판이 인접한 어레이로부터 분리되도록 하여, 상하부 글래스 기판을 제거한다. On the other hand, the upper glass substrate and the lower glass substrate are removed in the mentioned order, and laser is irradiated so that the glass substrate is separated from the array adjacent to the glass substrate, thereby removing the upper and lower glass substrates.
그런데, 이러한 상하부 글래스 기판을 제거하는 과정에서, 레이저 조사 외에도 글래스 기판을 완전히 제거하기 위해 물리적 외력이 어레이 측에 가해지는데, 이 과정에서 어레이와 연결된 일부 배선이 크랙되는 등 동작이 불가능한 경우가 발생한다. 이로써, 크랙이 발생된 어레이의 동작이 불가능한 문제가 있어, 이의 해결이 요구된다.However, in the process of removing the upper and lower glass substrates, in addition to laser irradiation, a physical external force is applied to the array side to completely remove the glass substrate. . As a result, there is a problem in which the operation of the cracked array is impossible, and a solution thereof is required.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 글래스 제거시 박리가 용이한 플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법을 제공하는 데, 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has an object to provide a flexible display device that can be easily peeled when glass is removed, and a method for manufacturing the same.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플렉서블 표시 장치는, 글래스 기판 상에 폴리머 기재 형성하고 이어 무기막들을 성막한 후 폴리머 기재의 에지를 따라 홀을 형성하여, 상기 에지에서 글래스 기판에 강하게 결합력을 가진 무기막들이 없게 하여, 글래스 기판의 박리를 용이하게 한다.In order to achieve the above object, the flexible display device of the present invention forms a polymer substrate on a glass substrate, forms inorganic films thereon, and then forms a hole along the edge of the polymer substrate, so that the edge has a strong bonding force to the glass substrate. By eliminating the inorganic films with the, it facilitates the separation of the glass substrate.
이를 위한 본 발명의 플렉서블 표시 장치는, 상부면보다 하부면이 더 넓게 형성되어 측부에 경사를 갖는 제 1 폴리머 기재와, 상기 제 1 폴리머 기재와 대향하는 제 2 폴리머 기재와, 상기 제 1 폴리머 기재의 상부면 및 측부를 덮으며, 상기 제 1 폴리머 기재의 하부면이 정의되는 에지 라인에 일치하는 절단면을 갖는 복수층의 무기막 및 상기 제 1, 제 2 폴리머 기재 사이에 구비된 접착층을 포함한다.To this end, the flexible display device of the present invention includes a first polymer substrate having a lower surface that is wider than an upper surface and having an inclination at the side, a second polymer substrate facing the first polymer substrate, and the first polymer substrate. A multi-layered inorganic film covering an upper surface and a side surface and having a cut surface corresponding to an edge line defined by a lower surface of the first polymer substrate and an adhesive layer provided between the first and second polymer substrates.
또한, 상기 복수층의 무기막의 절단면은 평면상 상기 제 1 폴리머 기재의 하부면의 에지를 따른 사각형 형상을 가질 수 있다. In addition, a cut surface of the multi-layered inorganic film may have a rectangular shape along the edge of the lower surface of the first polymer substrate in plan view.
그리고, 상기 사각형의 테두리의 각 코너에, 상기 복수층의 무기막과 연결된 무기막 패턴을 더 포함할 수 있다. In addition, an inorganic film pattern connected to the plurality of inorganic films may be further included at each corner of the quadrangular edge.
한편, 상기 복수층의 무기막의 절단면은 상기 제 1 폴리머 기재의 에지 라인을 따라 불연속적으로 구비될 수도 있다. 이 경우, 평면상으로 상기 불연속적으로 구비된 무기막의 절단면 사이에는, 상기 제 1 폴리머 기재 외측으로 돌출한 무기막 패턴들 더 포함할 수도 있다. Meanwhile, the cut surfaces of the multi-layered inorganic film may be provided discontinuously along the edge line of the first polymer substrate. In this case, inorganic film patterns protruding outwardly of the first polymer substrate may be further included between cut surfaces of the discontinuously provided inorganic film on a plane.
한편, 상기 무기막은 복수층의 버퍼층, 층간 절연막 및 보호막을 포함할 수 있다. Meanwhile, the inorganic layer may include a plurality of layers of a buffer layer, an interlayer insulating layer, and a protective layer.
여기서, 상기 복수층의 버퍼층 상에, 상기 층간 절연막을 경계로 상하로 위치한 제 1 터치 전극과 제 2 터치 전극을 더 구비할 수 있다. 그리고, 상기 보호막은 상기 층간 절연막 및 제 2 터치 전극을 덮을 수 있다. Here, first touch electrodes and second touch electrodes may be further provided on the plurality of buffer layers and vertically positioned with the interlayer insulating film as a boundary. The passivation layer may cover the interlayer insulating layer and the second touch electrode.
또한, 상기 제 2 폴리머 기재 상에, 박막 트랜지스터 어레이 및 이와 접속되는 유기 발광 다이오드 어레이를 더 포함할 수 있다. 상기 접착층의 제 1 면과 제 2 면은 각각 상기 유기 발광 다이오드 어레이와 상기 보호막에 접할 수 있다. In addition, a thin film transistor array and an organic light emitting diode array connected thereto may be further included on the second polymer substrate. The first and second surfaces of the adhesive layer may contact the organic light emitting diode array and the passivation layer, respectively.
상기 제 1, 제 2 폴리머 기재는 폴리 이미드일 수 있다. The first and second polymer substrates may be polyimide.
한편, 동일한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 제조 방법은 제 1 글래스 기판 상에 제 1 폴리머 기재를 형성하는 단계와, 상기 제 1 폴리머 기재 상부에, 상기 제 1 폴리머 기재를 덮으며, 상기 제 1 폴리머 기재의 에지로부터 일정 폭 돌출하여 상기 제 1 글래스 기판과 접한 무기막을 형성하는 단계와, 상기 제 1 폴리머 기재의 에지에, 상기 무기막을 제거하여 상기 제 1 글래스 기판을 노출하는 홀을 형성하는 단계와, 제 2 글래스 기판 상에 제 2 폴리머 기재를 형성하는 단계와, 상기 무기막 및 상기 제 2 폴리머 기재 사이에 접착층을 개재하여 합착하는 단계와, 상기 제 1 글래스 기판의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 1 글래스 기판을 제거하는 단계 및 상기 제 2 글래스 기판의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 2 글래스 기판을 제거하는 단계를 포함하여 이루어진다.Meanwhile, a method of manufacturing a flexible display device of the present invention for achieving the same object includes forming a first polymer substrate on a first glass substrate, covering the first polymer substrate on top of the first polymer substrate, and , Forming an inorganic film that protrudes from the edge of the first polymer substrate by a predetermined width and contacts the first glass substrate, and removes the inorganic film from the edge of the first polymer substrate to expose the first glass substrate. Forming a second polymer substrate on a second glass substrate, bonding between the inorganic film and the second polymer substrate through an adhesive layer, and on the rear surface of the first glass substrate The step of removing the first glass substrate by irradiating a laser beam and the step of removing the second glass substrate by irradiating a laser beam from the rear surface of the second glass substrate are included.
본 발명의 플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.The flexible display device and the manufacturing method of the present invention have the following effects.
글래스 기판 상에, 폴리머 기재의 에지로부터 돌출한 무기막에 대해, 폴리머 기재의 에지를 따라 홀을 구비함으로써, 글래스 기판을 제거하는 과정에서 레이저 조사만으로 외력 인가없이, 자연적으로 글래스 기판을 폴리머 기재로부터 박리시킬 수 있다. On the glass substrate, for the inorganic film protruding from the edge of the polymer substrate, by providing a hole along the edge of the polymer substrate, in the process of removing the glass substrate, the glass substrate is naturally separated from the polymer substrate only by laser irradiation without application of external force. can be peeled off.
따라서, 글래스 기판 제거시 폴리머 기재에 외력이 가해지지 않아, 종래 글래스 기판 제거시 발생되었던 에지의 크랙이 파생되어 액티브 영역까지 전달되는 문제점이나, 장치 내 글래스 제거시의 외력이 잔류 응력으로 폴리머 기재 내에 남는 문제를 해결할 수 있다.Therefore, when removing the glass substrate, external force is not applied to the polymer substrate, which causes cracks on the edge that occurred during the removal of the conventional glass substrate to be transmitted to the active area. Remaining problems can be solved.
또한, 어플리케이션으로 TV나 태블릿 혹은 모바일 제품까지 적용 가능하여 해당 제품의 양산성 및 패널 신뢰성을 확보할 수 있다.In addition, it can be applied to TV, tablet or mobile products as an application, so that mass production and panel reliability of the product can be secured.
도 1은 본 발명의 터치 스크린의 단면도.
도 2는 본 발명의 터치 스크린의 평면도.
도 3은 본 발명의 터치 스크린 제조시 제 1 글래스 기판 상의 구성을 나타낸 평면도.
도 4a 내지 도 4c는 터치 스크린 제조 방법을 나타낸 공정 단면도.
도 5는 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 액티브 영역과 비액티브 영역을 나타낸 단면도.
도 6은 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 공정 단면도.
도 7은 본 발명의 터치 스크린 제조 방법에서 무기막 홀 및 무기막 적층 패턴을 나타낸 제 1 글래스 기판의 평면도.
도 8a 내지 도 8b는 도 7의 I~I' 선상 및 Ⅱ~Ⅱ'선상의 단면도.
도 9a 및 도 9b는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도.
도 10a 및 도 10b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도
도 11a 및 도 11b는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도.1 is a cross-sectional view of a touch screen of the present invention.
2 is a plan view of a touch screen of the present invention;
Figure 3 is a plan view showing the configuration on the first glass substrate in manufacturing the touch screen of the present invention.
4a to 4c are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a touch screen.
5 is a cross-sectional view illustrating an active area and an inactive area of the flexible display device according to the present invention.
6 is a process cross-sectional view illustrating a manufacturing method of the flexible display device according to the present invention.
7 is a plan view of a first glass substrate showing inorganic film holes and inorganic film stacking patterns in the touch screen manufacturing method of the present invention.
8A to 8B are cross-sectional views along lines II to II' and II to II' in FIG. 7;
9a and 9b are plan views of the touch screen showing the inorganic film hole forming step and after removing the first glass substrate in the touch screen manufacturing method according to the first embodiment of the present invention.
10A and 10B are plan views of the touch screen showing the inorganic film hole formation step and after removing the first glass substrate in the touch screen manufacturing method according to the second embodiment of the present invention.
11a and 11b are plan views of the touch screen showing the inorganic film hole forming step and after removing the first glass substrate in the touch screen manufacturing method according to the third embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조 번호들은 실질적으로 동일한 구성 요소들을 의미한다. 이하의 설명에서, 본 발명과 관련된 공지 기술 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 이하의 설명에서 사용되는 구성요소 명칭은 명세서 작성의 용이함을 고려하여 선택된 것으로, 실제 제품의 부품 명칭과 상이할 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Like reference numbers throughout the specification indicate substantially the same elements. In the following description, if it is determined that a detailed description of a known technology or configuration related to the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, the component names used in the following description are selected in consideration of the ease of writing the specification, and may be different from the part names of the actual product.
도 1은 본 발명의 터치 스크린의 단면도이며, 도 2는 본 발명의 터치 스크린의 평면도이다. 도 3은 본 발명의 터치 스크린 제조시 제 1 글래스 기판 상의 구성을 나타낸 평면도이다.1 is a cross-sectional view of a touch screen of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of the touch screen of the present invention. 3 is a plan view showing the configuration on the first glass substrate when manufacturing the touch screen of the present invention.
도 1 과 같이, 본 발명의 터치 스크린(1000)은 제 1 폴리머 기재(110)와, 상기 제 1 폴리머 기재(110) 상에 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 포함한다.1, the
그리고, 도 1와 같이, 상기 터치 스크린(1000)에 있어서, 상기 제 1 폴리머 기재(110)는 상부면과 하부면이 서로 다른 면적으로 형성되고, 특히 외곽 영역에 있어서, 하부면이 상부면에 비해 돌출되어, 가장 자리 측부에서 일정 각도의 경사를 갖고 있으며, 이러한 제 1 폴리머 기재(110)의 경사 측면을 그 상부의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)이 덮고 있다.And, as shown in FIG. 1, in the
여기서, 상기 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)들의 가장자리는 에지 라인에 일치한 수직의 절단면을 공통으로 갖는다.Here, the edges of the first plurality of
플렉서블 표시 장치에 있어서는, 장치의 연성화와 특정 영역의 벤딩(bending) 혹은 폴딩(folding)을 위해 제 1 글래스 기판 상에 상기 제 1 폴리머 기재(110)부터 성막하여 형성한 후, 상기 제 1 폴리머 기재(110) 상에 어레이를 형성하고, 이후에 연성화를 위해 제 1 글래스 기판을 제거하는 공정을 진행한다.In a flexible display device, after forming a film from the
그런데, 상대적으로 용액 공정으로 코팅되는 유기물의 고분자 폴리머 성분의 제 1 폴리머 기재(110)는 제 1 글래스 기판(100)의 에지 라인으로부터 안쪽에 용액이 모여 응집되며 그 가장자리에 일정 경사를 갖게 된다.However, in the
반면, 도 3과 같이, 무기계 가스 CVD(Chemical Vapor Deposition) 방식으로 증착된 무기 성분의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 포함한 무기막 적층체(170)는 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 가장자리를 덮도록 하여 제 1 폴리머 기재(110)의 가장 자리로부터 돌출되어 형성된다.On the other hand, as shown in FIG. 3, the
이러한 제 1 폴리머 기재의 에지 및 외곽을 덮는 무기 성분의 제 1 복수 버퍼층, 층간 절연막 및 보호막 성분은 글래스 기판과의 결합성이 좋아, 제 1 글래스 기판(100)의 가장 자리에서 상기 무기막들이 잡고 있어, 연성화를 위해 요구되는 제 1 글래스 기판의 제거 공정에서, 단순히 레이저 조사만으로는 상기 무기막들을 포함한 제 1 폴리머 기재가 제 1 글래스 기판으로부터 분리가 힘들었다. 이를 해결하기 위해, 제 1 폴리머 기재를 제 1 글래스 기판과 서로 다른 방향으로 힘을 작용하여, 글래스 기판을 제거하는 방법이 제안되어 왔다. 특히, 상기 제 1 글래스 기판의 제거는, 제 1 글래스 기판 상에 제조된 터치 스크린과, 또 다른 제 2 글래스 기판 상에 제조된 박막 트랜지스터 어레이와 유기 발광 다이오드 어레이를 포함한 표시 패널과의 사이에 접착층을 개재하여, 합착한 이후에 이루어지는데, 이 경우에는 제 1 글래스 기판 제거시마다 터치 스크린의 제 1 폴리머 기재나 표시 패널측의 제 2 폴리머 기재에 상이한 외력이 잔류 응력으로 남아, 제 1 글래스 기판 제거 후에 제 1 폴리머 기재, 제 2 폴리머 기재가 말리거나 벗겨지는 문제가 있어, 이러한 외력 제공도 글래스 기판 제거의 문제점을 완전히 해결한 것은 아니었다.The first plurality of buffer layers, interlayer insulating film, and protective film components of inorganic components covering the edges and outer edges of the first polymer substrate have good bonding with the glass substrate, and the inorganic films hold at the edge of the
도 3과 같이, 본 발명의 플렉서블 표시 장치는, 제 1 글래스 기판(100) 제거시 레이저 조사로 탈리(脫離) 반응이 좋은 제 1 글래스 기판(100)과 제 1 폴리머 기재(110) 사이와 비교하여, 제 1 폴리머 기재(110)의 에지 및 외곽을 덮는 무기 성분의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)은 상기 제 1 글래스 기판(100)과 결합성이 좋은 영역을 그렇지 않은 영역과 구분하도록, 평면상으로 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 따라 수직한 무기막 홀(150)을 형성하여, 제 1 폴리머 기재(110)와 탈리가 일어난 제 1 글래스 기판(100)을 구분하여, 무기막 홀(150)을 경계만으로 구분하여 레이저 조사만으로 제 1 글래스 기판(100)의 자연 박리가 가능한 것이다.As shown in FIG. 3 , the flexible display device of the present invention has a good separation reaction by laser irradiation when the
상기 무기막 홀(150)은 제 1 글래스 기판(100)과의 결합성이 좋은 무기 성분의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 일정 폭으로 제거하는 것으로, 상기 제 1 폴리머 기재(110)을 상기 무기막 홀(150)을 경계로 이격하여 외곽의 무기 적층체(170)과 구분할 수 있다면, 그 폭은 다양한 범위에서 결정할 수 있다. 그런데, 상기 무기막 홀(150)을 형성하는 방법에 따라, 그 크기는 결정될 수 있으며, 예를 들어, 레이저 컷팅에 의해 상기 무기막 홀(150)의 정의시 그 폭은 수 ㎛ 범위에서도 결정될 수 있으며, 무기막 홀(150)은 각 무기막들에 동일한 직경을 가질 수 있다. 즉, 단면상으로 수직한 절단면을 갖게 된다. The
도 2에 도시된 도면은, 제 1 글래스 기판(100)을 제거한 후의 형상을 나타낸 것으로, 제 1 폴리머 기재(110)의 네 코너에, 무기막 패턴(170a)이 일부 남은 상태를 나타낸다. 이는 무기막 홀(150)이 형성되지 않은 부위의 무기막 적층체(170) 중 제 1 글래스 기판(100) 제거시 상대적으로 제 1 폴리머 기재(110)의 측부와 접착성이 좋을 때, 가능한 구조이며, 일부 돌출된 상기 무기막 패턴(170a)은 상기 제 1 글래스 기판(100)이 부재한 영역에 제 1 폴리머 기재(110)의 측부를 따라 완만히 형성될 수 있다. 그리고, 상기 무기막 패턴(170a)은 네 코너에서 각각 돌출된 형상으로 보이지만, 실제 제 1 폴리머 기재(110)의 측부 및 상부를 덮는 복수 무기막(120, 130, 140)과 일체형으로 연결되어 있다. The drawing shown in FIG. 2 shows the shape after the
레이저 컷팅 외에도 노광 방식에 의해 상기 무기막 홀(150)은 각 무기막(120, 130, 140) 성막시 함께 정의될 수도 있고, 혹은 드라이 에치(dry etch) 방식으로, 상기 무기막들(120, 130, 140)에 특정 마스크를 적용하여, 해당 부위에만 플라즈마를 공급하여, 레이저 수직한 절단면을 갖는 무기막 홀(150)을 형성할 수 있다.In addition to laser cutting, the
이 경우, 상기 무기막 홀(150) 내에서 상기 무기막들(120, 130, 140)의 형상은 평면상 상기 제 1 폴리머 기재의 하부면의 에지를 따른 사각형 형상을 갖는다. 그리고, 이 때, 상기 무기막 홀(150) 내에서 제 1 폴리머 기재와 제 1 글래스 기판 사이는 레이저 조사만으로 탈리가 쉬워 단순 레이저 조사만으로도 제 1 글래스 기판의 제거가 가능하다.In this case, the shape of the
한편, 본 발명의 터치 스크린에 있어서, 상기 제 1 폴리머 기재(110)는 그 성분이 폴리에스테르(polyester) 또는 폴리 에스테르를 포함하는 공중합체, 폴리이미드(polyimide) 또는 폴리 이미드를 포함하는 공중합체, 올레핀계 공중합체, 폴리아크릴산(polyacrylic acid) 또는 폴리아크릴산을 포함하는 공중합체, 폴리스티렌(polystyrene) 또는 폴리스테린을 포함하는 공중합체, 폴리설페이트(polysulfate) 또는 폴리설페이트를 포함하는 공중합체, 폴리카보네이트(polycarbonate) 또는 폴리 카보네이트를 포함하는 공중합체, 폴리아믹산(polyamic acid) 또는 폴리아믹산을 포함하는 공중합체, 폴리아민(polyamine) 및 폴리아믹산을 포함하는 공중합체, 폴리비닐 알콜(polyvinylalcohol), 폴리 알릴아민(polyallyamine)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 고분자 화합물을 포함할 수 있으며, 그 두께는 5㎛ 내지 20㎛일 수 있다. 그리고, 상기 제 1 폴리머 기재(110)는 투명 기재로, 실제 플렉서블 표시 장치에 적용시 시청자가 보는 최외부 면일 수 있다. 상술한 제 1 폴리머 기재(110)는 일예로 폴리이미드(polyimide)일 수 있다.Meanwhile, in the touch screen of the present invention, the
상기 제 1 복수 버퍼층(120)은 산화막, 질화막 또는 산화 질화막일 수 있다. 경우에 따라, 금속을 포함한 금속 산화막의 형태로도 이루어진다. 상기 제 1 복수 버퍼층(120)은 제 1 폴리머 기재(110)가 취약한 내투습성을 보상하며, 이후 형성되는 터치 스크린을 이루는 제 1, 제 2 터치 전극 등의 증착, 에칭 등의 공정에 상기 제 1 폴리머 기재(110)를 보호할 수 있다.The plurality of first buffer layers 120 may be an oxide layer, a nitride layer, or an oxynitride layer. In some cases, it is also made in the form of a metal oxide film containing metal. The first plurality of buffer layers 120 compensates for the weak resistance to moisture permeability of the
한편, 상기 터치 스크린(1000)은, 후술하는 도 5와 같이, 액티브 영역(AA)에 터치 센싱을 위한 서로 교차하는 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)을 포함한다.Meanwhile, as shown in FIG. 5 to be described later, the
상기 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)은 바 형상 혹은 다이아몬드 형상 혹은 다각형 형상 등 여러가지 형태로 구비할 수 있으며, 동일층에 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)의 주 센싱부(122a, 124)를 구비하고, 교차부에는 브리지 전극(122b)을 다른 층에 구비하여, 서로간의 쇼트를 방지한다. 도면 상에는 상기 제 1 터치 전극의 주 센싱부(122a)와 브리지 전극(122b)이 층간 절연막(130)을 사이에 두며, 상기 층간 절연막(130)에 구비된 콘택홀을 통해 서로 접속된 형상을 나타낸다. 이 경우, 상기 제 2 터치 전극(124)은 주 센싱부와 이들의 연결부가 일체형으로 형성된 형상이다. 경우에 따라, 제 1 터치 전극(122)과 제 2 터치 전극(124)의 형상을 바꾸어 형성할 수 있다.The first and
어느 경우나, 상기 터치 스크린은 표시 패널 상측에 위치한 것으로, 표시를 위해, 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)의 주센싱부는 투명 전극으로 이루어진다.In any case, the touch screen is located on the upper side of the display panel, and for display, the main sensing parts of the first and
한편, 상기 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)과 층간 절연막(130)을 덮는 형상으로, 보호막(140)이 형성된다. 상기 보호막(140)은 상기 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)의 보호 기능을 하며, 터치 스크린(1000)의 구동에 의한 영향이 표시 패널측에 간섭되지 않도록 기능한다.Meanwhile, a
이하, 본 발명의 터치 스크린 제조 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, the touch screen manufacturing method of the present invention will be described.
도 4a 내지 도 4c의 터치 스크린 제조 방법을 나타낸 공정 단면도이다.4A to 4C are process cross-sectional views showing the touch screen manufacturing method.
도 4a와 같이, 제 1 글래스 기판(100) 상에, 제 1 폴리머 기재(110)를 코팅한다. 이 경우, 상기 제 1 폴리머 기재(110)는 용액성으로 제 1 글래스 기판(100)의 에지로부터 안쪽에 응집되어 코팅되며, 경화 후 가장자리의 일정 각도의 경사를 갖는다. 액티브 영역에서 상기 제 1 폴리머 기재(110)는 평탄성을 유지한다.As shown in FIG. 4A , the
이어, 상기 제 1 폴리머 기재(110) 상에, 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition) 방식으로 산화막 또는 질화막 혹은 산화질화막 성분의 제 1 복수 버퍼층(120)을 성막한다. 여기서, 제 1 복수 버퍼층(120)은 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 가장자리의 경사를 덮으며, 이보다 돌출되어, 제 1 복수 버퍼층(120)의 가장자리가 상기 제 1 글래스 기판(100)의 표면에 접한다.Then, on the
이어, 상기 제 1 복수 버퍼층(120)와 유사한 형상으로, 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 가장자리를 덮으며 이 보다 돌출된 형상으로 상기 제 1 복수 버퍼층(120) 상에, 차례로, 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 형성한다.Next, in a shape similar to the first plurality of buffer layers 120, covering the edge of the
여기서, 후술하는 도 5의 액티브 영역(AA)에 구비되는 제 1, 제 2 전극(122, 124)은 상기 제 1 복수 버퍼층(120) 상에 투명 전극을 패터닝하여, 제 1 전극 센싱부(122a)와 상기 제 1 전극 센싱부와 교차하는 방향으로 제 2 전극 센싱부를 갖고, 제 2 전극 센싱부 사이를 연결하는 연결부를 일체형으로 갖는 제 2 전극(124)을 형성하고, 상기 제 1 전극 센싱부(122a) 및 제 2 전극(124)을 덮으며, 인접한 제 1 전극 센싱부(122a)의 일부를 노출하는 콘택홀을 갖는 층간 절연막(130)을 형성하고, 상기 층간 절연막(130)의 콘택홀을 통해 상기 인접한 제 1 전극 센싱부(122a)와 접속되어 상기 층간 절연막(130) 상에서 이들을 연결하는 브리지 전극(122b)를 형성한다. 여기서, 상기 제 1 전극 센싱부(122a)와 브리지 전극(122b)은 전기적으로 연결되어 제 1 전극(122)으로 기능한다.Here, the first and
이어, 상기 층간 절연막(130) 및 브리지 전극(122b)을 덮는 보호막(140)을 형성한다.Subsequently, a
도 4b와 같이, 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지에, 무기막 성분의 보호막(140), 층간 절연막(130) 및 제 1 복수 버퍼층(120)을 제거하여 상기 제 1 폴리머 기재(110)를 노출하는 무기막 홀(150)을 형성한다. 한편, 상기 무기막 홀(150)의 형성은 레이저 컷팅으로 하거나 혹은 상기 무기막 홀(150) 부위만 선택적으로 드라이 에치하여 이루어질 수 있다. 혹은 상기 무기막 홀(150)을 상기 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140) 형성시 이들의 패터닝을 수행하는 포토 마스크를 변경하여, 제 1 폴리머 기재(110) 에지를 따라, 무기막 홀(150)을 구비하도록 할 수 있다. 포토 마스크를 구비한 경우에는, 도 4b 에 따른 공정이 별도로 진행되지 않고, 상기 도 4a의 공정에서 이루어질 수도 있다.As shown in FIG. 4B, the
이어, 도 4c와 같이, 제 1 글래스 기판(100) 측에 레이저를 조사하여, 상기 무기막 홀(150) 내부의 상기 제 1 폴리머 기재(110)를 상기 제 1 글래스 기판(100)으로부터 분리한다.Subsequently, as shown in FIG. 4C , laser is irradiated to the side of the
이러한 분리 공정을 통해, 상기 제 1 폴리머 기재(110)와 그 상부의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)과 그 내부에 있는 제 1, 제 2 전극(122, 124)을 포함한 터치 스크린(1000)이 형성된다.Through this separation process, the
한편, 상술한 방식과 같이, 글래스 기판의 자연 박리는 비단 터치 스크린에만 한하지 않으며, 상대적으로 폴리머 기재 대비 가장자리가 더 넓게 성막되는 무기막을 갖는 구조라면, 박막 트랜지스터 어레이와 유기 발광 다이오드 어레이를 포함한 표시 패널측에도 적용 가능할 것이다.On the other hand, as in the above-described method, the natural peeling of the glass substrate is not limited to the touch screen, and if the structure has an inorganic film with a relatively wider edge than the polymer substrate, a display including a thin film transistor array and an organic light emitting diode array It will be applicable to the panel side as well.
하지만, 표시 패널의 폴리머 기재는 유색성 기재이며, 에지부에 경사를 갖지 않을 수도 있으므로, 상대적으로 상기 터치 스크린 측 대비 글래스 기판의 박리의 어려움이 없을 수도 있으므로, 폴리머 기재의 에지부 형상에 따라, 이러한 무기막 홀 구비는 선택적으로 진행한다.However, since the polymer substrate of the display panel is a colored substrate and may not have an inclination at the edge portion, there may be relatively no difficulty in peeling the glass substrate compared to the touch screen side. Depending on the shape of the edge portion of the polymer substrate, The provision of such an inorganic film hole is selectively performed.
이하, 구체적으로 상기 터치 스크린을 적용한 본 발명의 플렉서블 표시 장치를 구성을 살펴본다.Hereinafter, the configuration of the flexible display device to which the touch screen is applied will be described in detail.
도 5는 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 액티브 영역과 비액티브 영역을 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating an active area and an inactive area of the flexible display device according to the present invention.
앞서, 터치 스크린측의 액티브 영역에는, 제 1 플렉서블 기재(110) 상에, 제 1 복수 버퍼층(120), 제 1, 제 2 전극(122, 124), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 구비하는 점은 설명한 바 있다. Previously, in the active area on the touch screen side, the first plurality of buffer layers 120, the first and
또한, 액티브 영역의 외측이 비액티브 영역에는 도 5와 같이, 상기 터치 스크린 측은, 제 1 플렉서블 기재(110)의 에지가 일정 경사를 갖고, 그 상부의 무기막 성분의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)이 상기 경사를 덮도록 구비되며, 이들 무기막들은 수직한 절단면을 가짐을 알 수 있다.In addition, as shown in FIG. 5, the outside of the active area is in the non-active area, the edge of the first
한편, 상기 제 1 복수 버퍼층(120) 상에 터치 라우팅 배선(125)을 구비한 예를 나타내었는데, 이는 상기 제 1, 제 2 전극(122, 124) 형성 전 별도의 금속 배선을 패터닝하여 형성하거나 혹은 상기 제 1, 제 2 전극(122, 124)이 이중층일 때, 이 중 금속 성분으로 한하여 형성하거나 혹은 상기 제 1 전극의 브리지 전극(122b)과 동일층에 형성할 수 있다. 제 1 전극의 브리지 전극(122b)과 터치 라우팅 배선(125)을 동일층에 형성시 상기 터치 라우팅 배선(125)은 층간 절연막(130) 상부에 위치할 수도 있다.Meanwhile, an example in which the
그리고, 제 2 폴리머 기재(210) 상에는, 상기 제 2 폴리머 기재(210)를 덮는 제 2 복수 버퍼층(220)이 성막되며, 상기의 액티브 영역의 박막 트랜지스터 어레이(230)는, 상기 제 2 복수 버퍼층(220) 상에 각 화소에 대응하여 구비된 2개 이상의 박막 트랜지스터를 포함하며, 상기 박막 트랜지스터를 덮으며, 보호 기능의 제 2 층간 절연막(237)을 구비한다.Further, on the
한편, 상기 제 2 폴리머 기재(210)도 상기 제 1 폴리머 기재(110)와 마찬가지로 그 성분이 폴리에스테르(polyester) 또는 폴리 에스테르를 포함하는 공중합체, 폴리이미드(polyimide) 또는 폴리 이미드를 포함하는 공중합체, 올레핀계 공중합체, 폴리아크릴산(polyacrylic acid) 또는 폴리아크릴산을 포함하는 공중합체, 폴리스티렌(polystyrene) 또는 폴리스테린을 포함하는 공중합체, 폴리설페이트(polysulfate) 또는 폴리설페이트를 포함하는 공중합체, 폴리카보네이트(polycarbonate) 또는 폴리 카보네이트를 포함하는 공중합체, 폴리아믹산(polyamic acid) 또는 폴리아믹산을 포함하는 공중합체, 폴리아민(polyamine) 및 폴리아믹산을 포함하는 공중합체, 폴리비닐 알콜(polyvinylalcohol), 폴리 알릴아민(polyallyamine)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 고분자 화합물을 포함할 수 있으며, 그 두께는 5㎛ 내지 30㎛일 수 있다. 그러나, 상기 제 2 폴리머 기재(210)는 유색성의 기재로, 상대적으로 제 1 폴리머 기재(110) 대비 투명하지 않을 수 있다. 일예로, 상술한 제 2 폴리머 기재(210)는 일예로 폴리이미드(polyimide)일 수 있으나, 이 경우, 제 1 폴리머 기재(110)와 다른 두께 다른 색상으로 형성하여, 제 2 폴리머 기재(210)의 외측 광은 차단할 수 있다.Meanwhile, the
여기서, 상기 박막 트랜지스터는 상기 제 2 복수 버퍼층(120)의 선택적 영역에 위치한 액티브층(231)과, 상기 액티브층(231)을 덮는 게이트 절연막(222)과, 상기 액티브층(231) 상부에 상기 게이트 절연막(222) 접하여 위치한 게이트 전극(233)과, 상기 게이트 전극(233)을 덮는 제 1 층간 절연막(234)과, 상기 제 1 층간 절연막(234)을 관통하여 상기 액티브층(231)의 양측을 노출하는 콘택홀을 통해 상기 액티브층(231)의 양측과 각각 접속한 소오스 전극(235) 및 드레인 전극(236)을 포함한다.Here, the thin film transistor includes an
그리고, 제 2 층간 절연막(237)은 상기 소오스 전극(235) 및 드레인 전극(236)과 액티브층(231)과의 접속 부위에 콘택홀을 갖고, 나머지 부위를 덮는다.Further, the second
그리고, 상기 유기 발광 다이오드 어레이(240)는 각 화소에 대응하여, 유기 발광 다이오드(OLED)가 구비되며, 상기 유기 발광 다이오드(OLED)는 구동 박막 트랜지스터(D-TFT)와 접속된 제 1 전극(241)과, 상기 제 1 전극(242) 상에 구비된 유기 발광층(243) 및 상기 유기 발광층(243) 상에 제 2 전극(244)을 포함한다. 여기서, 상기 유기 발광층(243)은 각 화소의 경계부에 뱅크(242)를 구비하여 발광 영역을 정의하여, 상기 발광 영역 내에 형성된다. In addition, the organic light emitting
그리고, 외부로부터의 습기 또는 외기로부터 보호하기 위해 상기 봉지층(250)은, 상기 각 화소별로 구비된 복수개의 유기 발광 다이오드(OLED)와 함께 유기 발광 다이오드 어레이(240)에 포함될 수 있으며, 이 경우, 상기 봉지층(250)은 유기 발광 어레이(240)를 상부 및 측부를 덮는 형상으로, 유기막 및 무기막의 교번 구성의 배리어 적층체의 형상으로 구비될 수 있다. And, to protect from external moisture or air, the
또한, 상기 터치 스크린(1000)와, 상기 박막 트랜지스터 어레이(230), 유기 발광 다이오드 어레이(240) 및 봉지층(250)을 포함한 표시 패널은 그 사이에 접착층(160)을 개재하여 합착된다. 이러한 합착 후, 상기 접착층(160)의 제 1 면에는 상기 유기 발광 다이오드 어레이(240)를 덮는 봉지층(250)이며, 상기 제 2 면에는 상기 보호막(140)에 접한다. Also, the display panel including the
한편, 도 4a 내지 도 4c의 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀(150) 형성 후 제 1 글래스 기판(100)의 제거가 이루어지는 점을 나타내었으나, 실제 제 1 글래스 기판(100)의 제거는 상술한 각각 제 1 글래스 기판(100) 상에 제조된 터치 스크린(1000)과 제 2 글래스 기판(200) 상에 제조된 표시 소자 어레이(2000)를 합착한 후에, 제 1 글래스 기판(100)의 제거부터 차례로 이루어진다.On the other hand, in the touch screen manufacturing method of FIGS. 4A to 4C, it is shown that the
또한, 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 제조 방법에서는, 상기 제 1 글래스 기판(100)의 제거가 레이저 조사만으로 단순 박리가 이루어질 수 있어, 외력 공정이 추가되는 알려진 방식 대비 공정의 용이성이 있으며, 또한, 성막된 무기 성분의 무기막들이 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지에서 깔끔히 박리되지 않아 외력 인가시 제 1 폴리머 기재(110)의 변성이 나타나는 문제점을 해결할 수 있다.In addition, in the manufacturing method of the flexible display device of the present invention, since the removal of the
이하, 상술한 터치 스크린 제조 방법을 이용한, 플렉서블 표시 장치의 제조 방법을 살펴본다.Hereinafter, a method of manufacturing a flexible display device using the above-described method of manufacturing a touch screen will be described.
도 6은 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 공정 단면도이다. 도 5의 단면도를 포함하여 하기의 제조 공정을 이해할 수 있다.6 is a process cross-sectional view illustrating a manufacturing method of the flexible display device according to the present invention. The following manufacturing process can be understood by including the cross-sectional view of FIG. 5 .
먼저, 제 1 글래스 기판(100) 상에 제 1 폴리머 기재(110)를 형성한다(S100).First, a
상기 제 1 폴리머 기재(110) 상부에, 상기 제 1 폴리머 기재(110)를 덮으며, 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지로부터 일정 폭 돌출하여 상기 제 1 글래스 기판(100)과 접한 무기막을 형성한다(S110). 상기 무기막으로는 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 들 수 있다. 그리고, 상기 무기막은 단일 무기막일 경우뿐만 아니라 복수층의 무기막을 포함한 경우도 포함한다.An inorganic film covering the
상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지에, 상기 무기막을 제거하여 상기 제 1 글래스 기판(100)을 노출하는 무기막 홀(150)을 형성한다(S120). 무기막 형성 후, 특징 부위만의 무기막 홀(150) 형성은 레이저 컷팅이나 해당 부위만 오픈시켜 식각 성분의 플라즈마를 공급하는 드라이 에치 방식을 이용할 수 있다.The inorganic film is removed from the edge of the
혹은, 상기 무기막의 제거는 각층의 무기막의 패터닝시 동시에 진행할 수도 있다. 이 경우, 각 층의 홀의 직경이 정렬되지 않거나 직경이 상이할 수 있어, 앞의 설명한 무기막을 형성한 후, 제 1 폴리머 기재(110)의 에지부위의 무기막 홀 형성을 하는 것이 바람직할 수 있다.Alternatively, the removal of the inorganic film may be performed simultaneously during patterning of the inorganic film of each layer. In this case, since the diameters of the holes of each layer may not be aligned or the diameters may be different, it may be preferable to form the inorganic film hole at the edge of the
제 2 글래스 기판(200) 상에 제 2 폴리머 기재(210)를 형성한다(S130).A
상기 무기막 및 상기 제 2 폴리머 기재(210) 사이에 접착층(160)을 개재하여 합착한다(S140).Bonding is performed between the inorganic film and the
이어, 상기 제 1 글래스 기판(100)의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 1 글래스 기판(100)을 제거한다(S150).Next, laser irradiation is performed on the rear surface of the
이어, 상기 제 2 글래스 기판(200)의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 2 글래스 기판(200)을 제거한다(S160).Next, laser irradiation is performed on the rear surface of the second glass substrate 200 to remove the second glass substrate 200 (S160).
즉, 본 발명의 플렉서블 표시 장치는, 제 1 플렉서블 기재의 외측으로 돌출된 제 1 글래스 기판과 접한 무기막이 제 1 글래스 기판과의 강한 접착성으로 레이저 조사만으로 박리되지 않은 문제점을 인식하여, 제 1 플렉서블 기재의 가장 자리에 위치한 무기막에 레이저 컷팅 등의 방식으로 홀을 형성한 것으로 이를 통해 상기 1 플렉서블 기재와 제 1 글래스 기판과 자연 박리가 가능하다. That is, the flexible display device of the present invention recognizes the problem that the inorganic film in contact with the first glass substrate protruding outward from the first flexible substrate is not peeled off only by laser irradiation due to strong adhesion to the first glass substrate, A hole is formed in the inorganic film located at the edge of the flexible substrate by a method such as laser cutting, through which the first flexible substrate and the first glass substrate can be naturally separated.
또한, 무기막에 홀을 형성하는 것을 글래스 기판 합착 전에 수행하고, 그 이후에 양 글래스 기판 상의 어레이가 마주본 상태로 합착하고, 각각의 글래스 기판을 제거한다.In addition, forming a hole in the inorganic film is performed before bonding the glass substrate, and then bonding the arrays on both glass substrates in a state facing each other, and removing each glass substrate.
여기서, 홀의 형성은 도시된 공정 순서도에서는 제 1 글래스 기판 상에서만 이루어진 점을 나타내지만, 상기 제 2 글래스 기판 상에 제 2 폴리머 기재 상의 무기막들이 제 2 글래스 기판의 가장자리를 덮으며 돌출된 형상일 때는 이에도 적용될 수 있다.Here, the formation of the hole indicates that it is made only on the first glass substrate in the illustrated process flow chart, but the inorganic films on the second polymer substrate on the second glass substrate may protrude while covering the edge of the second glass substrate. It can also be applied at times.
한편, 상술한 플렉서블 표시 장치의 제조 방법의 설명에서 제 1, 제 2 글래스 기판 상에 각각 형성되는 구성은 터치 스크린과 박막 트랜지스터 어레이/유기 발광 다이오드 어레이이지만, 이에 한하지 않고, 서로 교체되어 형성될 수 있으며, 본 발명의 폴리머 기재의 측면이 경사를 갖는 형상으로 그 후에 성막되는 무기 절연막들이 상기 폴리머 기재의 상부뿐만 아니라 측면 및 글래스 기판까지 위치하여, 기판과 무기 절연막들간의 강한 결합성을 가질 때라면 응용하여 적용할 수 있다.Meanwhile, in the description of the manufacturing method of the flexible display device described above, the components formed on the first and second glass substrates are a touch screen and a thin film transistor array/organic light emitting diode array, but are not limited thereto, and may be formed by replacing each other. When the inorganic insulating films formed thereafter have a shape in which the side surface of the polymer substrate of the present invention has an inclination, they are located not only on the upper part of the polymer substrate but also on the side surface and the glass substrate, and have strong bonding between the substrate and the inorganic insulating film It can be applied by application.
이하, 무기막 홀의 형상과 이들의 다양한 실시예에 대해 설명한다. Hereinafter, the shape of the inorganic film hole and various embodiments thereof will be described.
도 7은 본 발명의 터치 스크린 제조 방법에서 무기막 홀 및 무기막 패턴을 나타낸 제 1 글래스 기판의 평면도이며, 도 8a 내지 도 8b는 도 7의 I~I' 선상 및 Ⅱ~Ⅱ'선상의 단면도이다.7 is a plan view of a first glass substrate showing inorganic film holes and inorganic film patterns in the touch screen manufacturing method of the present invention, and FIGS. am.
도 7 내지 도 8b와 같이, 무기막 홀(150) 형성 직후 제 1 글래스 기판(100) 상의 무기막 홀(150) 외측에는 앞에서 제 1 폴리머 기재(110) 상에 형성된 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140) 적층의 무기막 적층체(170)이 남아있다.7 to 8B, on the outside of the
평면상으로 상기 무기막 홀(150)의 안쪽에는 제 1 글래스 기판(100) 상에 직접 접하여, 제 1 폴리머 기재(110)가 위치하며, 그 상부에 상기 무기막 적층체(170)과 동일 구성으로, 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)이 위치한다.On a plane, inside the
도 9a 및 도 9b는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도이다.9a and 9b are plan views of the touch screen showing the inorganic film hole forming step and after removing the first glass substrate in the touch screen manufacturing method according to the first embodiment of the present invention.
도 9a는 제 1 글래스 기판(100) 상에 제 1 폴리머 기재(110)가 차지하는 영역은 액티브 영역(AA)과 그 주변의 일정 폭에 상당한 A 영역까지이며, 무기막 적층체는 제 1 폴리머 기재(110)를 덮는 형상으로, A 영역보다는 B 영역까지 보다 외측으로 넓게 성막된다. 상기 무기막 적층체에 구비되는 무기막 홀(150)은 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 따라 평면상 사각형의 테두리 형상을 갖도록 구비되는 것으로, A 영역과 B 영역 사이에 구비된다. 무기막 적층체와 제 1 글래스 기판과의 결합을 방지하는 것으로, A 영역의 무기막 홀(150)의 시점이 정해지고, 종점은 B 영역보다 안쪽에 위치하여야 합착 전후로, 제 1 글래스 기판(100) 상에 터치 스크린이 슬라이딩됨을 방지할 수 있다. 여기서, 이러한 테두리 형상은 끊김없이 연속된 형상이다.9A shows that the area occupied by the
이러한 무기막 홀(150)을 구비한 제 1 글래스 기판(100) 상에, 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)이 무기막 홀(150) 외로 상기 제 1 글래스 기판(100) 상에 상기 무기막 적층체(170)가 돌출되어 있으며, 이들은 도 9b와 같이, 양 글래스 기판을 합착 후, 레이저 조사로 상기 제 1 글래스 기판(100)을 제거하는 공정에서, 함께 제거된다. On the
제 1 글래스 기판(100) 상의 제 1 폴리머 기재(110)의 외측에 있는 무기막 홀(150)은 제 1 글래스 기판(100)이 노출되어 있어, 제 1 글래스 기판(100)의 배면의 레이저 조사시에 서로 다른 성분의 제 1 폴리머 기재(110)와 제 1 글래스 기판(100) 사이에 기공이 발생되고, A영역의 가장자리의 제 1 글래스 기판(100)은 오픈되어, 쉽게 제 1 폴리머 기재(110)가 제 1 글래스 기판(100)으로부터 분리될 수 있다. 제 1 글래스 기판(100) 제거 후에는, 터치 스크린은 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 가장자리로 갖는다. 즉, 제 1 폴리머 기재(110)의 가장자리 측부가 일정한 경사를 가질 때, 상기 경사를 갖는 측부가 상기 제 1 글래스 기판(100)과 접한(도 4a 참조) 에지(A)까지 터치 스크린의 부위로 정의된다.In the
도 10a 및 도 10b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도이다.10A and 10B are plan views of a touch screen showing an inorganic film hole forming step and a first glass substrate removed in a touch screen manufacturing method according to a second embodiment of the present invention.
도 10a은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에서 무기막 홀의 형성을 나타낸 것으로, 무기막 홀(150)을 평면상으로 사각형 테두리의 코너를 제외하여 형성한 것이다. 이 경우, 도 10b과 같이, 상기 제 1 글래스 기판(100) 상의 무기막 적층체(170a)가 상기 사각형의 테두리의 코너와 상기 무기막 홀(151) 외측에 일정 폭으로 남아있다. 이 경우, 상기 테두리 코너와 무기막 홀(151) 외측에 남아있는 무기막 적층체(170a)는 터치 스크린을 갖는 제 1 글래스 기판(100)과 하측의 박막 트랜지스터 어레이와 유기 발광 다이오드 어레이를 갖는 제 2 글래스 기판(200)과의 합착시 양 글래스 기판의 기판의 유동을 잡아주게 된다. 즉, 무기막 홀(150)의 형성은 양 글래스 기판 합착 전 이루어지기 때문에, 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 무기막 홀로 모두 노출시 합착 과정에서, 제 1 폴리머 기재(110)가 노출된 무기막 홀로 슬라이딩될 수 있어, 이러한 슬라이딩을 방지하고자 합착 과정에서 약한 인력으로 코너부만 무기막 적층체(170a)가 상기 제 1 글래스 기판(100)과 접한 관계를 갖게 한다. 10A shows the formation of inorganic film holes in the touch screen manufacturing method according to the second embodiment of the present invention, and the inorganic film holes 150 are formed by excluding corners of rectangular edges on a plane. In this case, as shown in FIG. 10B , the
경우에 따라, 상기 제 1 글래스 기판(100) 상기 무기막 홀(150) 코너의 무기막 적층체(170a)도 함께 제거될 수도 있다.In some cases, the
도 10b과 같이, 제 1 글래스 기판(100)의 배면측에 레이저를 조사하면 상기 제 1 글래스 기판(100)은 상기 무기막 홀(150) 주변의 무기막 적층체(170a)와 함께 제거된다. 이 경우, 상기 무기막 홀(150)의 코너부의 일부 무기막 패턴(170a)이 남아있을 수 있다. As shown in FIG. 10B , when laser is irradiated to the rear surface of the
도 11a 및 도 11b는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도이다.11A and 11B are plan views of the touch screen showing the inorganic film hole forming step and after removing the first glass substrate in the touch screen manufacturing method according to the third embodiment of the present invention.
도 11a와 같이, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 스크린은 무기막 홀(150)을 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 따라 불연속적으로 구비한 것이다. 이러한 불연속면은 예를 들어, 상기 무기막 홀(152)에 대응되는 부분만을 레이저 커팅하거나 드라이 에치하여 정의할 수 있다.As shown in FIG. 11A, the touch screen according to the third embodiment of the present invention has inorganic film holes 150 discontinuously along the edge of the
이 경우, 도 11b와 같이, 레이저 조사 후 제 1 글래스 기판(100) 제거 후에는, 도 11b와 같이, 무기막 적층체로 이루어진 무기막 패턴(170a)이 일부 남아있을 수 있다. 혹은 도 9b와 같이, 이미 무기막 홀(150)로 제 1 폴리머 기재(110)의 에지 라인을 따라 대략적으로 사각형 테두리 형상의 무기막 제거 영역이 정의되어 있어, 레이저 조사시의 강도를 크게 할 경우 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 따라 무기막 홀(150) 사이 사이에 무기막 적층체(170) 또한 제거될 수 있다.In this case, as shown in FIG. 11B, after laser irradiation and removal of the
한편, 이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.On the other hand, the present invention described above is not limited to the above-described embodiments and accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible within a range that does not depart from the technical spirit of the present invention. It will be clear to those skilled in the art.
100: 제 1 글래스 기판 110: 제 1 폴리머 기재
120: 제 1 복수 버퍼층 130: 층간 절연막
140: 보호막 150: 무기막 홀
160: 접착층 170: 무기 적층체
200: 제 2 글래스 기판 210: 제 2 폴리머 기재
220: 제 2 복수 버퍼층 230: 박막 트랜지스터 어레이
240: 유기 발광 다이오드 어레이 250: 봉지층100: first glass substrate 110: first polymer substrate
120: first plurality of buffer layers 130: interlayer insulating film
140: protective film 150: weapon film hole
160: adhesive layer 170: inorganic laminate
200: second glass substrate 210: second polymer substrate
220: second plurality of buffer layers 230: thin film transistor array
240: organic light emitting diode array 250: encapsulation layer
Claims (12)
상기 제 1 폴리머 기재와 대향하는 제 2 폴리머 기재;
상기 제 1 폴리머 기재의 상부면 및 측부를 덮으며, 상기 제 1 폴리머 기재의 하부면이 정의되는 에지 라인에 일치하는 절단면을 갖는 복수층의 무기막; 및
상기 에지 라인보다 안쪽에, 상기 복수층의 무기막과, 상기 제 2 폴리머 기재 사이에 구비된 접착층을 포함하며,
상기 제 1, 제 2 폴리머 기재 사이에서, 상기 에지 라인과 상기 복수층의 무기막이 유기층을 개재하지 않고 접한 플렉서블 표시 장치.A first polymer substrate having a lower surface wider than an upper surface and having an inclination at a side portion;
a second polymer substrate facing the first polymer substrate;
a plurality of layers of inorganic films covering upper and side portions of the first polymer substrate and having a cut surface coincident with an edge line defining a lower surface of the first polymer substrate; and
An adhesive layer provided between the plurality of inorganic films and the second polymer substrate inside the edge line,
The flexible display device of claim 1 , wherein the edge line and the multi-layered inorganic film are in contact with each other between the first and second polymer substrates without intervening an organic layer.
상기 복수층의 무기막의 절단면은 평면상 상기 제 1 폴리머 기재의 하부면의 에지를 따른 사각형 형상을 갖는 플렉서블 표시 장치.According to claim 1,
The flexible display device of claim 1 , wherein a cut surface of the plurality of layers of the inorganic film has a rectangular shape along an edge of a lower surface of the first polymer substrate in plan view.
상기 사각형의 테두리의 각 코너에, 상기 복수층의 무기막과 연결된 무기막 패턴을 더 포함한 플렉서블 표시 장치. According to claim 2,
The flexible display device further comprises an inorganic film pattern connected to the plurality of inorganic films at each corner of the quadrangular edge.
상기 복수층의 무기막의 절단면은 상기 제 1 폴리머 기재의 에지 라인을 따라 불연속적으로 구비된 플렉서블 표시 장치.According to claim 1,
The flexible display device of claim 1 , wherein cut surfaces of the plurality of layers of the inorganic film are discontinuously provided along an edge line of the first polymer substrate.
평면상으로 상기 불연속적으로 구비된 무기막의 절단면 사이에는, 상기 제 1 폴리머 기재 외측으로 돌출한 무기막 패턴들 더 포함한 플렉서블 표시 장치.According to claim 4,
The flexible display device further includes inorganic film patterns protruding outward from the first polymer substrate between cut surfaces of the discontinuously provided inorganic film on a plane.
상기 무기막은 복수층의 버퍼층, 층간 절연막 및 보호막을 포함한 플렉서블 표시 장치.According to claim 1,
The inorganic film includes a plurality of buffer layers, an interlayer insulating film, and a protective film.
상기 복수층의 버퍼층 상에, 상기 층간 절연막을 경계로 상하로 위치한 제 1 터치 전극과 제 2 터치 전극을 더 구비한 플렉서블 표시 장치.According to claim 6,
The flexible display device further includes first touch electrodes and second touch electrodes disposed vertically on the plurality of buffer layers with the interlayer insulating film as a boundary.
상기 보호막은 상기 층간 절연막 및 제 2 터치 전극을 덮는 플렉서블 표시 장치.According to claim 7,
The protective layer covers the interlayer insulating layer and the second touch electrode.
상기 제 2 폴리머 기재 상에, 박막 트랜지스터 어레이 및 이와 접속되는 유기 발광 다이오드 어레이를 더 포함한 플렉서블 표시 장치.According to claim 8,
The flexible display device further comprising a thin film transistor array and an organic light emitting diode array connected to the thin film transistor array on the second polymer substrate.
상기 접착층의 제 1 면과 제 2 면은 각각 상기 유기 발광 다이오드 어레이와 상기 보호막에 접한 플렉서블 표시 장치.According to claim 9,
The first and second surfaces of the adhesive layer are in contact with the organic light emitting diode array and the passivation layer, respectively.
상기 제 1, 제 2 폴리머 기재는 폴리 이미드인 플렉서블 표시 장치.According to claim 1,
The flexible display device of claim 1 , wherein the first and second polymer substrates are polyimide.
상기 제 1 폴리머 기재 상에, 상기 제 1 폴리머 기재의 상부면 및 측부를 덮으며, 상기 제 1 폴리머 기재의 하부면이 정의되는 에지 라인으로부터 일정 폭 돌출하여 상기 제 1 글래스 기판과 접한 복수층의 무기막을 형성하는 단계;
상기 에지 라인 외측에, 상기 복수층의 무기막을 함께 일정 폭 제거하여, 상기 에지 라인에 일측이 일치하는 무기막 홀을 형성하며 상기 에지 라인에 상기 복수층의 무기막을 유기층을 개재하지 않고 접하게 하고, 상기 무기막 홀 부위에 상기 제 1 글래스 기판을 노출하는 단계;
제 2 글래스 기판 상에 제 2 폴리머 기재를 형성하는 단계;
상기 복수층의 무기막의 최상면과 상기 제 2 폴리머 기재 사이에, 상기 에지 라인보다 안쪽으로 접착층을 개재하여 합착하는 단계;
상기 제 1 글래스 기판의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 1 글래스 기판을 제거하는 단계; 및
상기 제 2 글래스 기판의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 2 글래스 기판을 제거하는 단계를 포함한 플렉서블 표시 장치의 제조 방법.forming a first polymer substrate on a first glass substrate, the lower surface of which is wider than the upper surface, and the side of the polymer substrate is inclined;
On the first polymer substrate, covering the upper and side surfaces of the first polymer substrate, protruding a certain width from the edge line in which the lower surface of the first polymer substrate is defined, and contacting the first glass substrate. Forming an inorganic film;
Outside the edge line, the plurality of inorganic films are removed together to a predetermined width to form an inorganic film hole whose one side coincides with the edge line, and the plurality of inorganic films are brought into contact with the edge line without intervening an organic layer, exposing the first glass substrate to the inorganic film hole;
Forming a second polymer substrate on a second glass substrate;
adhering an uppermost surface of the plurality of layers of the inorganic film and the second polymer substrate to an inner side of the edge line through an adhesive layer;
removing the first glass substrate by irradiating a laser on the rear surface of the first glass substrate; and
and removing the second glass substrate by irradiating a laser on the rear surface of the second glass substrate.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |