KR20170077656A - Flexible Display Device and Method for Manufacturing the Same - Google Patents

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KR20170077656A
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Abstract

본 발명은 글래스 제거시 박리가 용이한 플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 플렉서블 표시 장치는, 글래스 기판 상에 폴리머 기재 형성하고 이어 무기막들을 성막한 후 폴리머 기재의 에지를 따라 홀을 형성하여, 상기 에지에서 글래스 기판에 강하게 결합력을 가진 무기막들이 없게 하여, 글래스 기판의 박리를 용이하게 한다.The present invention relates to a flexible display device which is easy to peel off during glass removal and a method of manufacturing the same, and a flexible display device of the present invention is a flexible display device in which a polymer substrate is formed on a glass substrate and then inorganic films are formed, Holes are formed so that inorganic films having strong bonding force to the glass substrate at the edges are not present, thereby facilitating the peeling of the glass substrate.

Description

플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법{Flexible Display Device and Method for Manufacturing the Same}Technical Field [0001] The present invention relates to a flexible display device and a manufacturing method thereof,

본 발명은 표시 장치에 관한 것으로, 특히 글래스 제거시 박리가 용이한 플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a display device, and more particularly, to a flexible display device which is easy to peel off when glass is removed and a method of manufacturing the same.

평판 표시장치의 구체적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 유기 발광 표시 장치(Organic Emitting Display Device), 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel device: PDP), 양자점 표시 장치(Quantum Dot Display Device), 전계방출표시장치(Field Emission Display device: FED), 전기영동 표시장치(Electrophoretic Display Device: EPD) 등을 들 수 있는데, 이들은 공통적으로 화상을 구현하는 평판 표시패널을 필수적인 구성요소로 하는 바, 평판 표시패널은 고유의 발광 또는 편광 혹은 그 밖의 광학 물질층을 사이에 두고 한 쌍의 투명 절연기판을 대면 합착시킨 구성을 갖는다.Specific examples of the flat panel display include a liquid crystal display (LCD) device, an organic light emitting display device, a plasma display panel (PDP) device, a quantum dot display device ), A field emission display device (FED), and an electrophoretic display device (EPD). The flat display panel, which realizes images in common, is an essential component, The flat panel display panel has a structure in which a pair of transparent insulation substrates are bonded together with inherent light emission, polarization, or other optical material layers interposed therebetween.

최근 표시장치의 대형화에 따라 공간 점유가 적은 평면 표시 장치로서의 요구가 증대되고 있는데, 이러한 요구는 증진되어, 최근에는 평면 표시 장치를 플렉서블한 형태로 이용하고자 하는 요구가 있다. In recent years, there has been a demand for a flat display device to be used in a flexible form.

이러한 요구에 부응하여 고려된 플렉서블 표시 장치는, 두께가 점차로 얇아지며 접을 수 있는 형태로도 발전되고 있다. 또한, 사용자의 편리성을 고려하여, 상측에 터치 스크린이 부가된 형태도 제안되고 있다. The flexible display device considered in response to such a demand has been gradually reduced in thickness and developed in a foldable form. Also, in consideration of the convenience of the user, a form in which a touch screen is added on the upper side is also proposed.

이러한 터치 스크린이 부가된 플렉서블 표시 장치 중 표시 패널을 유기 발광 표시 패널로 이용하는 예가, 광원을 생략하여 보다 슬림하며 경량의 구성이 가능하여 플렉서블한 형태 구현이 용이하여 각광받고 있다. Among the flexible display devices to which the touch screen is added, an example in which the display panel is used as the organic light emitting display panel is omnipresent because the light source is omitted and a slimmer and lighter weight configuration is possible and the flexible form can be easily realized.

일반적인 플렉서블 표시 장치는, 하판 글래스 기판에 박막 트랜지스터 어레이와 유기 발광 다이오드 어레이를 구성하고, 상판 글래스 기판에는 터치 센싱 어레이를 구성한 후, 양 글래스 기판 사이에 접착층이 대응하도록 하여 합착한다.In general flexible display devices, a thin film transistor array and an organic light emitting diode array are formed on a lower plate glass substrate, a touch sensing array is formed on an upper plate glass substrate, and then an adhesive layer is made to correspond between the both glass substrates.

한편, 상기 상부 글래스 기판과 하부 글래스 기판은 언급된 순서로 제거되는데, 레이저를 조사하여 글래스 기판이 글래스 기판이 인접한 어레이로부터 분리되도록 하여, 상하부 글래스 기판을 제거한다. On the other hand, the upper glass substrate and the lower glass substrate are removed in the order mentioned, the glass substrate is separated from the adjacent array by irradiating the laser, and the upper and lower glass substrates are removed.

그런데, 이러한 상하부 글래스 기판을 제거하는 과정에서, 레이저 조사 외에도 글래스 기판을 완전히 제거하기 위해 물리적 외력이 어레이 측에 가해지는데, 이 과정에서 어레이와 연결된 일부 배선이 크랙되는 등 동작이 불가능한 경우가 발생한다. 이로써, 크랙이 발생된 어레이의 동작이 불가능한 문제가 있어, 이의 해결이 요구된다.In the process of removing the upper and lower glass substrates, a physical external force is applied to the array side in order to completely remove the glass substrate in addition to the laser irradiation. In this process, some wirings connected to the array are cracked, . As a result, there is a problem that the operation of the array in which cracks are generated is impossible, and a solution thereof is required.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 글래스 제거시 박리가 용이한 플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법을 제공하는 데, 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a flexible display device which is easy to peel off during glass removal and a manufacturing method thereof.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플렉서블 표시 장치는, 글래스 기판 상에 폴리머 기재 형성하고 이어 무기막들을 성막한 후 폴리머 기재의 에지를 따라 홀을 형성하여, 상기 에지에서 글래스 기판에 강하게 결합력을 가진 무기막들이 없게 하여, 글래스 기판의 박리를 용이하게 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a flexible display device comprising: a polymer substrate formed on a glass substrate; an inorganic film formed on the glass substrate; and a hole formed along the edge of the polymer substrate, So that the glass substrate can be easily peeled off.

이를 위한 본 발명의 플렉서블 표시 장치는, 상부면보다 하부면이 더 넓게 형성되어 측부에 경사를 갖는 제 1 폴리머 기재와, 상기 제 1 폴리머 기재와 대향하는 제 2 폴리머 기재와, 상기 제 1 폴리머 기재의 상부면 및 측부를 덮으며, 상기 제 1 폴리머 기재의 하부면이 정의되는 에지 라인에 일치하는 절단면을 갖는 복수층의 무기막 및 상기 제 1, 제 2 폴리머 기재 사이에 구비된 접착층을 포함한다.To this end, a flexible display device of the present invention comprises a first polymer substrate having a lower surface than the upper surface and being wider than the upper surface, a second polymer substrate facing the first polymer substrate, A plurality of layers of an inorganic film covering the top and sides and having a cut surface conforming to an edge line in which the bottom surface of the first polymer substrate is defined and an adhesive layer provided between the first and second polymer substrates.

또한, 상기 복수층의 무기막의 절단면은 평면상 상기 제 1 폴리머 기재의 하부면의 에지를 따른 사각형 형상을 가질 수 있다. In addition, the cut surfaces of the plurality of inorganic films may have a rectangular shape along the edge of the lower surface of the first polymer substrate in plan view.

그리고, 상기 사각형의 테두리의 각 코너에, 상기 복수층의 무기막과 연결된 무기막 패턴을 더 포함할 수 있다. In addition, each corner of the rim of the quadrangle may further include an inorganic film pattern connected to the plurality of inorganic films.

한편, 상기 복수층의 무기막의 절단면은 상기 제 1 폴리머 기재의 에지 라인을 따라 불연속적으로 구비될 수도 있다. 이 경우, 평면상으로 상기 불연속적으로 구비된 무기막의 절단면 사이에는, 상기 제 1 폴리머 기재 외측으로 돌출한 무기막 패턴들 더 포함할 수도 있다. On the other hand, the cut surfaces of the inorganic films of the plurality of layers may be discontinuously provided along the edge line of the first polymer base. In this case, inorganic film patterns protruding outside the first polymer substrate may further be provided between the cut surfaces of the inorganic film provided discontinuously in a plane.

한편, 상기 무기막은 복수층의 버퍼층, 층간 절연막 및 보호막을 포함할 수 있다. On the other hand, the inorganic film may include a plurality of buffer layers, an interlayer insulating film, and a protective film.

여기서, 상기 복수층의 버퍼층 상에, 상기 층간 절연막을 경계로 상하로 위치한 제 1 터치 전극과 제 2 터치 전극을 더 구비할 수 있다. 그리고, 상기 보호막은 상기 층간 절연막 및 제 2 터치 전극을 덮을 수 있다. Here, a first touch electrode and a second touch electrode positioned above and below the interlayer insulating film may be further provided on the plurality of buffer layers. The protective layer may cover the interlayer insulating layer and the second touch electrode.

또한, 상기 제 2 폴리머 기재 상에, 박막 트랜지스터 어레이 및 이와 접속되는 유기 발광 다이오드 어레이를 더 포함할 수 있다. 상기 접착층의 제 1 면과 제 2 면은 각각 상기 유기 발광 다이오드 어레이와 상기 보호막에 접할 수 있다. Further, on the second polymer substrate, a thin film transistor array and an organic light emitting diode array connected thereto may be further included. The first surface and the second surface of the adhesive layer may contact the organic light emitting diode array and the protective film, respectively.

상기 제 1, 제 2 폴리머 기재는 폴리 이미드일 수 있다. The first and second polymer substrates may be polyimides.

한편, 동일한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 제조 방법은 제 1 글래스 기판 상에 제 1 폴리머 기재를 형성하는 단계와, 상기 제 1 폴리머 기재 상부에, 상기 제 1 폴리머 기재를 덮으며, 상기 제 1 폴리머 기재의 에지로부터 일정 폭 돌출하여 상기 제 1 글래스 기판과 접한 무기막을 형성하는 단계와, 상기 제 1 폴리머 기재의 에지에, 상기 무기막을 제거하여 상기 제 1 글래스 기판을 노출하는 홀을 형성하는 단계와, 제 2 글래스 기판 상에 제 2 폴리머 기재를 형성하는 단계와, 상기 무기막 및 상기 제 2 폴리머 기재 사이에 접착층을 개재하여 합착하는 단계와, 상기 제 1 글래스 기판의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 1 글래스 기판을 제거하는 단계 및 상기 제 2 글래스 기판의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 2 글래스 기판을 제거하는 단계를 포함하여 이루어진다.On the other hand, to achieve the same object, a manufacturing method of a flexible display device of the present invention includes the steps of forming a first polymer substrate on a first glass substrate, covering the first polymer substrate on the first polymer substrate Forming an inorganic film in contact with the first glass substrate by projecting a predetermined width from an edge of the first polymer substrate; removing the inorganic film on an edge of the first polymer substrate to expose the first glass substrate Forming a second polymer substrate on the second glass substrate; bonding the first polymer substrate and the second polymer substrate through an adhesive layer between the inorganic film and the second polymer substrate; Irradiating the second glass substrate with laser light to remove the first glass substrate and irradiating a laser beam on the back surface of the second glass substrate, A giant step to comprise.

본 발명의 플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.The flexible display device of the present invention and its manufacturing method have the following effects.

글래스 기판 상에, 폴리머 기재의 에지로부터 돌출한 무기막에 대해, 폴리머 기재의 에지를 따라 홀을 구비함으로써, 글래스 기판을 제거하는 과정에서 레이저 조사만으로 외력 인가없이, 자연적으로 글래스 기판을 폴리머 기재로부터 박리시킬 수 있다. By providing a hole along the edge of the polymer substrate with respect to the inorganic film protruding from the edge of the polymer substrate on the glass substrate, it is possible to remove the glass substrate naturally from the polymer substrate It can peel off.

따라서, 글래스 기판 제거시 폴리머 기재에 외력이 가해지지 않아, 종래 글래스 기판 제거시 발생되었던 에지의 크랙이 파생되어 액티브 영역까지 전달되는 문제점이나, 장치 내 글래스 제거시의 외력이 잔류 응력으로 폴리머 기재 내에 남는 문제를 해결할 수 있다.Therefore, when an external force is not applied to the polymer substrate at the time of removing the glass substrate, cracks of the edges, which are generated when removing the glass substrate, are generated and transmitted to the active region. However, I can solve the remaining problem.

또한, 어플리케이션으로 TV나 태블릿 혹은 모바일 제품까지 적용 가능하여 해당 제품의 양산성 및 패널 신뢰성을 확보할 수 있다.In addition, applications such as TVs, tablets, and mobile products can be applied, ensuring mass productivity and panel reliability of the products.

도 1은 본 발명의 터치 스크린의 단면도.
도 2는 본 발명의 터치 스크린의 평면도.
도 3은 본 발명의 터치 스크린 제조시 제 1 글래스 기판 상의 구성을 나타낸 평면도.
도 4a 내지 도 4c는 터치 스크린 제조 방법을 나타낸 공정 단면도.
도 5는 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 액티브 영역과 비액티브 영역을 나타낸 단면도.
도 6은 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 공정 단면도.
도 7은 본 발명의 터치 스크린 제조 방법에서 무기막 홀 및 무기막 적층 패턴을 나타낸 제 1 글래스 기판의 평면도.
도 8a 내지 도 8b는 도 7의 I~I' 선상 및 Ⅱ~Ⅱ'선상의 단면도.
도 9a 및 도 9b는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도.
도 10a 및 도 10b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도
도 11a 및 도 11b는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도.
1 is a cross-sectional view of a touch screen of the present invention.
2 is a plan view of the touch screen of the present invention.
3 is a plan view showing a configuration on a first glass substrate in manufacturing a touch screen of the present invention.
4A to 4C are process sectional views showing a method of manufacturing a touch screen.
5 is a cross-sectional view showing an active region and a non-active region of the flexible display device of the present invention.
6 is a process sectional view showing a manufacturing method of a flexible display device of the present invention.
7 is a plan view of a first glass substrate showing inorganic film holes and inorganic film lamination patterns in the method of manufacturing a touch screen of the present invention.
8A to 8B are cross-sectional views taken on lines I to I 'and II to II' of FIG. 7;
FIGS. 9A and 9B are plan views of a touch screen illustrating a method of manufacturing a touch screen according to a first embodiment of the present invention, which illustrates steps of forming an inorganic film hole and removing a first glass substrate; FIG.
FIGS. 10A and 10B are top views of a touch screen illustrating steps of forming an inorganic film hole and removing a first glass substrate in a method of manufacturing a touch screen according to a second embodiment of the present invention;
FIGS. 11A and 11B are plan views of a touch screen illustrating a method of manufacturing a touch screen according to a third embodiment of the present invention, which illustrates steps of forming an inorganic film hole and removing the first glass substrate. FIG.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조 번호들은 실질적으로 동일한 구성 요소들을 의미한다. 이하의 설명에서, 본 발명과 관련된 공지 기술 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 이하의 설명에서 사용되는 구성요소 명칭은 명세서 작성의 용이함을 고려하여 선택된 것으로, 실제 제품의 부품 명칭과 상이할 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals throughout the specification denote substantially identical components. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the following description, a detailed description of known technologies or configurations related to the present invention will be omitted when it is determined that the gist of the present invention may be unnecessarily obscured. The component names used in the following description are selected in consideration of easiness of specification, and may be different from the parts names of actual products.

도 1은 본 발명의 터치 스크린의 단면도이며, 도 2는 본 발명의 터치 스크린의 평면도이다. 도 3은 본 발명의 터치 스크린 제조시 제 1 글래스 기판 상의 구성을 나타낸 평면도이다.FIG. 1 is a cross-sectional view of a touch screen of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of a touch screen of the present invention. 3 is a plan view showing a configuration on a first glass substrate in manufacturing a touch screen of the present invention.

도 1 과 같이, 본 발명의 터치 스크린(1000)은 제 1 폴리머 기재(110)와, 상기 제 1 폴리머 기재(110) 상에 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 포함한다.1, the touch screen 1000 of the present invention includes a first polymer substrate 110, a first multi-buffer layer 120, an interlayer insulating layer 130, and a protective layer 140 ).

그리고, 도 1와 같이, 상기 터치 스크린(1000)에 있어서, 상기 제 1 폴리머 기재(110)는 상부면과 하부면이 서로 다른 면적으로 형성되고, 특히 외곽 영역에 있어서, 하부면이 상부면에 비해 돌출되어, 가장 자리 측부에서 일정 각도의 경사를 갖고 있으며, 이러한 제 1 폴리머 기재(110)의 경사 측면을 그 상부의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)이 덮고 있다.1, the upper surface and the lower surface of the first polymer substrate 110 are formed in different areas on the touch screen 1000, and in particular, in the outer region, the lower surface is formed on the upper surface And the inclined side surfaces of the first polymer substrate 110 are connected to the upper surface of the first multiple buffer layer 120, the interlayer insulating film 130, and the protective film 140 Covering.

여기서, 상기 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)들의 가장자리는 에지 라인에 일치한 수직의 절단면을 공통으로 갖는다.Here, the edges of the first multi-buffer layer 120, the interlayer insulating layer 130, and the protective layer 140 have vertical cut surfaces that coincide with the edge lines.

플렉서블 표시 장치에 있어서는, 장치의 연성화와 특정 영역의 벤딩(bending) 혹은 폴딩(folding)을 위해 제 1 글래스 기판 상에 상기 제 1 폴리머 기재(110)부터 성막하여 형성한 후, 상기 제 1 폴리머 기재(110) 상에 어레이를 형성하고, 이후에 연성화를 위해 제 1 글래스 기판을 제거하는 공정을 진행한다.In the flexible display device, after forming from the first polymer substrate 110 on the first glass substrate for the purpose of softening the device and bending or folding a specific region, An array is formed on the first glass substrate 110, and then a process for removing the first glass substrate is performed for softening.

그런데, 상대적으로 용액 공정으로 코팅되는 유기물의 고분자 폴리머 성분의 제 1 폴리머 기재(110)는 제 1 글래스 기판(100)의 에지 라인으로부터 안쪽에 용액이 모여 응집되며 그 가장자리에 일정 경사를 갖게 된다.However, the first polymer substrate 110 of the organic polymer polymer component coated with the solution process is aggregated and agglomerated inward from the edge line of the first glass substrate 100, and has a predetermined inclination at the edge thereof.

반면, 도 3과 같이, 무기계 가스 CVD(Chemical Vapor Deposition) 방식으로 증착된 무기 성분의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 포함한 무기막 적층체(170)는 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 가장자리를 덮도록 하여 제 1 폴리머 기재(110)의 가장 자리로부터 돌출되어 형성된다.3, an inorganic film laminate 170 including an inorganic component first buffer layer 120, an interlayer insulating film 130, and a protective film 140 deposited by an inorganic gas CVD (Chemical Vapor Deposition) And protrude from the edge of the first polymer substrate 110 so as to cover the edge of the first polymer substrate 110.

이러한 제 1 폴리머 기재의 에지 및 외곽을 덮는 무기 성분의 제 1 복수 버퍼층, 층간 절연막 및 보호막 성분은 글래스 기판과의 결합성이 좋아, 제 1 글래스 기판(100)의 가장 자리에서 상기 무기막들이 잡고 있어, 연성화를 위해 요구되는 제 1 글래스 기판의 제거 공정에서, 단순히 레이저 조사만으로는 상기 무기막들을 포함한 제 1 폴리머 기재가 제 1 글래스 기판으로부터 분리가 힘들었다. 이를 해결하기 위해, 제 1 폴리머 기재를 제 1 글래스 기판과 서로 다른 방향으로 힘을 작용하여, 글래스 기판을 제거하는 방법이 제안되어 왔다. 특히, 상기 제 1 글래스 기판의 제거는, 제 1 글래스 기판 상에 제조된 터치 스크린과, 또 다른 제 2 글래스 기판 상에 제조된 박막 트랜지스터 어레이와 유기 발광 다이오드 어레이를 포함한 표시 패널과의 사이에 접착층을 개재하여, 합착한 이후에 이루어지는데, 이 경우에는 제 1 글래스 기판 제거시마다 터치 스크린의 제 1 폴리머 기재나 표시 패널측의 제 2 폴리머 기재에 상이한 외력이 잔류 응력으로 남아, 제 1 글래스 기판 제거 후에 제 1 폴리머 기재, 제 2 폴리머 기재가 말리거나 벗겨지는 문제가 있어, 이러한 외력 제공도 글래스 기판 제거의 문제점을 완전히 해결한 것은 아니었다.The first multiple buffer layer, the interlayer insulating film, and the protective film component of the first polymer-based edge and outer covering inorganic compound have good bonding with the glass substrate, and the inorganic films are held at the edge of the first glass substrate 100 In the process of removing the first glass substrate required for softening, the first polymer substrate containing the inorganic films was difficult to separate from the first glass substrate merely by laser irradiation. To solve this problem, there has been proposed a method of removing a glass substrate by applying a force to the first polymer substrate in a direction different from that of the first glass substrate. Particularly, the removal of the first glass substrate is carried out by using a touch screen manufactured on the first glass substrate, an adhesive layer between the thin film transistor array fabricated on another second glass substrate and the display panel including the organic light emitting diode array, In this case, a different residual stress acts on the first polymer base material of the touch screen or the second polymer base material of the display panel side each time the first glass substrate is removed, so that the first glass substrate removal There is a problem that the first polymer substrate and the second polymer substrate are dried or peeled afterwards, and this provision of external force has not completely solved the problem of glass substrate removal.

도 3과 같이, 본 발명의 플렉서블 표시 장치는, 제 1 글래스 기판(100) 제거시 레이저 조사로 탈리(脫離) 반응이 좋은 제 1 글래스 기판(100)과 제 1 폴리머 기재(110) 사이와 비교하여, 제 1 폴리머 기재(110)의 에지 및 외곽을 덮는 무기 성분의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)은 상기 제 1 글래스 기판(100)과 결합성이 좋은 영역을 그렇지 않은 영역과 구분하도록, 평면상으로 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 따라 수직한 무기막 홀(150)을 형성하여, 제 1 폴리머 기재(110)와 탈리가 일어난 제 1 글래스 기판(100)을 구분하여, 무기막 홀(150)을 경계만으로 구분하여 레이저 조사만으로 제 1 글래스 기판(100)의 자연 박리가 가능한 것이다.As shown in FIG. 3, the flexible display device of the present invention is compared with the first glass substrate 100 and the first polymer substrate 110, which are excellent in the elimination reaction by laser irradiation when the first glass substrate 100 is removed, The first multi-buffer layer 120, the interlayer insulating film 130, and the protective film 140 of an inorganic component covering the edge and the outer edge of the first polymer substrate 110 are formed to have a good bonding property with the first glass substrate 100 An inorganic film hole 150 is formed in a plane perpendicular to the edge of the first polymer substrate 110 so as to separate the region from the non-existent region, so that the first polymer substrate 110 and the first glass The first glass substrate 100 can be peeled off naturally only by laser irradiation by dividing the substrate 100 by dividing the inorganic film hole 150 into boundaries only.

상기 무기막 홀(150)은 제 1 글래스 기판(100)과의 결합성이 좋은 무기 성분의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 일정 폭으로 제거하는 것으로, 상기 제 1 폴리머 기재(110)을 상기 무기막 홀(150)을 경계로 이격하여 외곽의 무기 적층체(170)과 구분할 수 있다면, 그 폭은 다양한 범위에서 결정할 수 있다. 그런데, 상기 무기막 홀(150)을 형성하는 방법에 따라, 그 크기는 결정될 수 있으며, 예를 들어, 레이저 컷팅에 의해 상기 무기막 홀(150)의 정의시 그 폭은 수 ㎛ 범위에서도 결정될 수 있으며, 무기막 홀(150)은 각 무기막들에 동일한 직경을 가질 수 있다. 즉, 단면상으로 수직한 절단면을 갖게 된다. The inorganic film hole 150 is formed by removing a first multi-buffer layer 120 of an inorganic component, an interlayer insulating film 130, and a protective film 140 having a good bonding property with the first glass substrate 100, The width of the first polymer substrate 110 can be determined in various ranges as long as the first polymer substrate 110 can be separated from the inorganic stack 170 outside the inorganic membrane hole 150. However, depending on the method of forming the inorganic film hole 150, the size may be determined. For example, when the inorganic film hole 150 is defined by laser cutting, its width may be determined in a range of several μm And the inorganic film hole 150 may have the same diameter in each inorganic film. That is, it has a vertical cross-section.

도 2에 도시된 도면은, 제 1 글래스 기판(100)을 제거한 후의 형상을 나타낸 것으로, 제 1 폴리머 기재(110)의 네 코너에, 무기막 패턴(170a)이 일부 남은 상태를 나타낸다. 이는 무기막 홀(150)이 형성되지 않은 부위의 무기막 적층체(170) 중 제 1 글래스 기판(100) 제거시 상대적으로 제 1 폴리머 기재(110)의 측부와 접착성이 좋을 때, 가능한 구조이며, 일부 돌출된 상기 무기막 패턴(170a)은 상기 제 1 글래스 기판(100)이 부재한 영역에 제 1 폴리머 기재(110)의 측부를 따라 완만히 형성될 수 있다. 그리고, 상기 무기막 패턴(170a)은 네 코너에서 각각 돌출된 형상으로 보이지만, 실제 제 1 폴리머 기재(110)의 측부 및 상부를 덮는 복수 무기막(120, 130, 140)과 일체형으로 연결되어 있다. 2 shows the shape after the first glass substrate 100 is removed, and shows a state in which a part of the inorganic film pattern 170a remains at the four corners of the first polymer substrate 110. In Fig. This is because when the first glass substrate 100 is relatively removed from the inorganic film stacked body 170 in the region where the inorganic film hole 150 is not formed, And the protruding inorganic film pattern 170a may be gently formed along the side of the first polymer substrate 110 in a region where the first glass substrate 100 is absent. The inorganic film patterns 170a are integrally connected to the plurality of inorganic films 120, 130, and 140 that cover the side and upper portions of the first polymer substrate 110, though they appear to protrude from the four corners .

레이저 컷팅 외에도 노광 방식에 의해 상기 무기막 홀(150)은 각 무기막(120, 130, 140) 성막시 함께 정의될 수도 있고, 혹은 드라이 에치(dry etch) 방식으로, 상기 무기막들(120, 130, 140)에 특정 마스크를 적용하여, 해당 부위에만 플라즈마를 공급하여, 레이저 수직한 절단면을 갖는 무기막 홀(150)을 형성할 수 있다.In addition to the laser cutting, the inorganic film holes 150 may be defined together with the inorganic films 120, 130 and 140 by the exposure method, or may be defined by the dry etch method, 130 and 140 by applying a specific mask so that the inorganic film holes 150 having laser vertical cut surfaces can be formed.

이 경우, 상기 무기막 홀(150) 내에서 상기 무기막들(120, 130, 140)의 형상은 평면상 상기 제 1 폴리머 기재의 하부면의 에지를 따른 사각형 형상을 갖는다. 그리고, 이 때, 상기 무기막 홀(150) 내에서 제 1 폴리머 기재와 제 1 글래스 기판 사이는 레이저 조사만으로 탈리가 쉬워 단순 레이저 조사만으로도 제 1 글래스 기판의 제거가 가능하다.In this case, the shapes of the inorganic films 120, 130, and 140 in the inorganic film hole 150 have a rectangular shape along the edge of the lower surface of the first polymer substrate in plan view. At this time, the first polymer substrate and the first glass substrate in the inorganic film hole 150 can be easily removed only by laser irradiation, so that the first glass substrate can be removed by simple laser irradiation.

한편, 본 발명의 터치 스크린에 있어서, 상기 제 1 폴리머 기재(110)는 그 성분이 폴리에스테르(polyester) 또는 폴리 에스테르를 포함하는 공중합체, 폴리이미드(polyimide) 또는 폴리 이미드를 포함하는 공중합체, 올레핀계 공중합체, 폴리아크릴산(polyacrylic acid) 또는 폴리아크릴산을 포함하는 공중합체, 폴리스티렌(polystyrene) 또는 폴리스테린을 포함하는 공중합체, 폴리설페이트(polysulfate) 또는 폴리설페이트를 포함하는 공중합체, 폴리카보네이트(polycarbonate) 또는 폴리 카보네이트를 포함하는 공중합체, 폴리아믹산(polyamic acid) 또는 폴리아믹산을 포함하는 공중합체, 폴리아민(polyamine) 및 폴리아믹산을 포함하는 공중합체, 폴리비닐 알콜(polyvinylalcohol), 폴리 알릴아민(polyallyamine)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 고분자 화합물을 포함할 수 있으며, 그 두께는 5㎛ 내지 20㎛일 수 있다. 그리고, 상기 제 1 폴리머 기재(110)는 투명 기재로, 실제 플렉서블 표시 장치에 적용시 시청자가 보는 최외부 면일 수 있다. 상술한 제 1 폴리머 기재(110)는 일예로 폴리이미드(polyimide)일 수 있다.Meanwhile, in the touch screen of the present invention, the first polymer substrate 110 may be made of a copolymer containing a polyester or a polyester, a polyimide or a polyimide- , Copolymers comprising olefinic copolymers, polyacrylic acid or polyacrylic acid, copolymers comprising polystyrene or polystyrene, copolymers comprising polysulfates or polysulfates, polycarbonates a copolymer comprising a polycarbonate or polycarbonate, a copolymer including a polyamic acid or a polyamic acid, a copolymer including a polyamine and a polyamic acid, a polyvinyl alcohol, a polyallyl amine and polyallyamine, and may include one or more polymer compounds selected from the group consisting of polyalamine, The thickness may be 5㎛ to 20㎛. The first polymer substrate 110 is a transparent substrate, and may be an outermost surface viewed by a viewer when applied to an actual flexible display device. The first polymer substrate 110 described above may be, for example, a polyimide.

상기 제 1 복수 버퍼층(120)은 산화막, 질화막 또는 산화 질화막일 수 있다. 경우에 따라, 금속을 포함한 금속 산화막의 형태로도 이루어진다. 상기 제 1 복수 버퍼층(120)은 제 1 폴리머 기재(110)가 취약한 내투습성을 보상하며, 이후 형성되는 터치 스크린을 이루는 제 1, 제 2 터치 전극 등의 증착, 에칭 등의 공정에 상기 제 1 폴리머 기재(110)를 보호할 수 있다.The first multi-buffer layer 120 may be an oxide layer, a nitride layer, or a nitride oxide layer. In some cases, it may be in the form of a metal oxide film including a metal. The first multi-buffer layer 120 compensates for the weak moisture permeability of the first polymer substrate 110, and the first multi-buffer layer 120 is formed on the first multi- The polymer substrate 110 can be protected.

한편, 상기 터치 스크린(1000)은, 후술하는 도 5와 같이, 액티브 영역(AA)에 터치 센싱을 위한 서로 교차하는 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)을 포함한다.Meanwhile, the touch screen 1000 includes first and second touch electrodes 122 and 124 crossing each other for touch sensing in the active area AA, as shown in FIG. 5 which will be described later.

상기 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)은 바 형상 혹은 다이아몬드 형상 혹은 다각형 형상 등 여러가지 형태로 구비할 수 있으며, 동일층에 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)의 주 센싱부(122a, 124)를 구비하고, 교차부에는 브리지 전극(122b)을 다른 층에 구비하여, 서로간의 쇼트를 방지한다. 도면 상에는 상기 제 1 터치 전극의 주 센싱부(122a)와 브리지 전극(122b)이 층간 절연막(130)을 사이에 두며, 상기 층간 절연막(130)에 구비된 콘택홀을 통해 서로 접속된 형상을 나타낸다. 이 경우, 상기 제 2 터치 전극(124)은 주 센싱부와 이들의 연결부가 일체형으로 형성된 형상이다. 경우에 따라, 제 1 터치 전극(122)과 제 2 터치 전극(124)의 형상을 바꾸어 형성할 수 있다.The first and second touch electrodes 122 and 124 may be formed in various shapes such as a bar shape, a diamond shape, or a polygonal shape. The first and second touch electrodes 122 and 124 may be formed in the same layer, (122a, 124), and bridge electrodes (122b) are provided in the other layer at the intersections to prevent a short circuit between them. The main sensing portion 122a and the bridge electrode 122b of the first touch electrode are connected to each other through the contact hole provided in the interlayer insulating layer 130 with the interlayer insulating layer 130 interposed therebetween . In this case, the second touch electrode 124 has a shape in which the main sensing portion and the connection portion thereof are integrally formed. In some cases, the first touch electrode 122 and the second touch electrode 124 can be formed in different shapes.

어느 경우나, 상기 터치 스크린은 표시 패널 상측에 위치한 것으로, 표시를 위해, 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)의 주센싱부는 투명 전극으로 이루어진다.In any case, the touch screen is located on the upper side of the display panel. For display, the main sensing unit of the first and second touch electrodes 122 and 124 is a transparent electrode.

한편, 상기 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)과 층간 절연막(130)을 덮는 형상으로, 보호막(140)이 형성된다. 상기 보호막(140)은 상기 제 1, 제 2 터치 전극(122, 124)의 보호 기능을 하며, 터치 스크린(1000)의 구동에 의한 영향이 표시 패널측에 간섭되지 않도록 기능한다.A protective layer 140 is formed to cover the first and second touch electrodes 122 and 124 and the interlayer insulating layer 130. The protective layer 140 protects the first and second touch electrodes 122 and 124 and prevents the influence of the driving of the touch screen 1000 on the display panel.

이하, 본 발명의 터치 스크린 제조 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a touch screen of the present invention will be described.

도 4a 내지 도 4c의 터치 스크린 제조 방법을 나타낸 공정 단면도이다.Figs. 4A to 4C are process cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the touch screen.

도 4a와 같이, 제 1 글래스 기판(100) 상에, 제 1 폴리머 기재(110)를 코팅한다. 이 경우, 상기 제 1 폴리머 기재(110)는 용액성으로 제 1 글래스 기판(100)의 에지로부터 안쪽에 응집되어 코팅되며, 경화 후 가장자리의 일정 각도의 경사를 갖는다. 액티브 영역에서 상기 제 1 폴리머 기재(110)는 평탄성을 유지한다.As shown in FIG. 4A, the first polymer substrate 110 is coated on the first glass substrate 100. In this case, the first polymer substrate 110 is cohesively coated on the inside from the edge of the first glass substrate 100 in a liquid state, and has an inclination of a certain angle of the edge after curing. In the active region, the first polymer substrate 110 maintains flatness.

이어, 상기 제 1 폴리머 기재(110) 상에, 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition) 방식으로 산화막 또는 질화막 혹은 산화질화막 성분의 제 1 복수 버퍼층(120)을 성막한다. 여기서, 제 1 복수 버퍼층(120)은 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 가장자리의 경사를 덮으며, 이보다 돌출되어, 제 1 복수 버퍼층(120)의 가장자리가 상기 제 1 글래스 기판(100)의 표면에 접한다.Next, a first multiple buffer layer 120 of an oxide film, a nitride film, or a nitrided oxide film is formed on the first polymer substrate 110 by a chemical vapor deposition (CVD) method. Here, the first multiple buffer layer 120 covers the inclination of the edge of the first polymer substrate 110, and protrudes more than the inclination of the edge of the first polymer substrate 110, so that the edge of the first multiple buffer layer 120 contacts the surface of the first glass substrate 100 .

이어, 상기 제 1 복수 버퍼층(120)와 유사한 형상으로, 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 가장자리를 덮으며 이 보다 돌출된 형상으로 상기 제 1 복수 버퍼층(120) 상에, 차례로, 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 형성한다.Next, the first multi-buffer layer 120 is formed in a shape similar to the first multi-buffer layer 120 by covering the edges of the first polymer substrate 110 and protruding from the first multi-buffer layer 120, 130 and a protective film 140 are formed.

여기서, 후술하는 도 5의 액티브 영역(AA)에 구비되는 제 1, 제 2 전극(122, 124)은 상기 제 1 복수 버퍼층(120) 상에 투명 전극을 패터닝하여, 제 1 전극 센싱부(122a)와 상기 제 1 전극 센싱부와 교차하는 방향으로 제 2 전극 센싱부를 갖고, 제 2 전극 센싱부 사이를 연결하는 연결부를 일체형으로 갖는 제 2 전극(124)을 형성하고, 상기 제 1 전극 센싱부(122a) 및 제 2 전극(124)을 덮으며, 인접한 제 1 전극 센싱부(122a)의 일부를 노출하는 콘택홀을 갖는 층간 절연막(130)을 형성하고, 상기 층간 절연막(130)의 콘택홀을 통해 상기 인접한 제 1 전극 센싱부(122a)와 접속되어 상기 층간 절연막(130) 상에서 이들을 연결하는 브리지 전극(122b)를 형성한다. 여기서, 상기 제 1 전극 센싱부(122a)와 브리지 전극(122b)은 전기적으로 연결되어 제 1 전극(122)으로 기능한다.The first and second electrodes 122 and 124 provided in the active area AA of FIG. 5 to be described later are formed by patterning a transparent electrode on the first multiple buffer layer 120 and forming a first electrode sensing part 122a And a second electrode sensing part having a first electrode sensing part and a second electrode sensing part, the second electrode sensing part having a connection part for connecting between the second electrode sensing parts, An interlayer insulating layer 130 covering the first electrode sensing portion 122a and the second electrode 124 and having a contact hole exposing a portion of the adjacent first electrode sensing portion 122a is formed, And a bridge electrode 122b connected to the adjacent first electrode sensing portion 122a and connecting them on the interlayer insulating layer 130 is formed. Here, the first electrode sensing unit 122a and the bridge electrode 122b are electrically connected to each other to function as a first electrode 122.

이어, 상기 층간 절연막(130) 및 브리지 전극(122b)을 덮는 보호막(140)을 형성한다.Next, a protective film 140 covering the interlayer insulating layer 130 and the bridge electrode 122b is formed.

도 4b와 같이, 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지에, 무기막 성분의 보호막(140), 층간 절연막(130) 및 제 1 복수 버퍼층(120)을 제거하여 상기 제 1 폴리머 기재(110)를 노출하는 무기막 홀(150)을 형성한다. 한편, 상기 무기막 홀(150)의 형성은 레이저 컷팅으로 하거나 혹은 상기 무기막 홀(150) 부위만 선택적으로 드라이 에치하여 이루어질 수 있다. 혹은 상기 무기막 홀(150)을 상기 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140) 형성시 이들의 패터닝을 수행하는 포토 마스크를 변경하여, 제 1 폴리머 기재(110) 에지를 따라, 무기막 홀(150)을 구비하도록 할 수 있다. 포토 마스크를 구비한 경우에는, 도 4b 에 따른 공정이 별도로 진행되지 않고, 상기 도 4a의 공정에서 이루어질 수도 있다.4B, the protective film 140 of the inorganic film component, the interlayer insulating film 130, and the first multiple buffer layer 120 are removed at the edge of the first polymer substrate 110 to form the first polymer substrate 110, An inorganic film hole 150 is formed. The inorganic film hole 150 may be formed by laser cutting or selectively dry etching only the inorganic film hole 150. Or the photomask for patterning the inorganic film holes 150 when the first multi-buffer layer 120, the interlayer insulating film 130, and the protective film 140 are formed, The inorganic film hole 150 can be provided. When the photomask is provided, the process according to FIG. 4B is not performed separately, and the process according to FIG. 4A may be performed.

이어, 도 4c와 같이, 제 1 글래스 기판(100) 측에 레이저를 조사하여, 상기 무기막 홀(150) 내부의 상기 제 1 폴리머 기재(110)를 상기 제 1 글래스 기판(100)으로부터 분리한다.4C, the first glass substrate 100 is irradiated with a laser beam to separate the first polymer substrate 110 inside the inorganic film hole 150 from the first glass substrate 100 .

이러한 분리 공정을 통해, 상기 제 1 폴리머 기재(110)와 그 상부의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)과 그 내부에 있는 제 1, 제 2 전극(122, 124)을 포함한 터치 스크린(1000)이 형성된다.Through this separation process, the first polymer substrate 110 and the first multi-buffer layer 120, the interlayer insulating film 130, and the protective film 140 on the first polymer substrate 110 and the first and second electrodes 122, 124 are formed on the touch screen.

한편, 상술한 방식과 같이, 글래스 기판의 자연 박리는 비단 터치 스크린에만 한하지 않으며, 상대적으로 폴리머 기재 대비 가장자리가 더 넓게 성막되는 무기막을 갖는 구조라면, 박막 트랜지스터 어레이와 유기 발광 다이오드 어레이를 포함한 표시 패널측에도 적용 가능할 것이다.On the other hand, as in the above-described method, if the glass substrate is naturally peeled off only in a non-touch screen, and has a structure in which an inorganic film is formed with a wider edge relative to a polymer substrate, It will also be applicable to the panel side.

하지만, 표시 패널의 폴리머 기재는 유색성 기재이며, 에지부에 경사를 갖지 않을 수도 있으므로, 상대적으로 상기 터치 스크린 측 대비 글래스 기판의 박리의 어려움이 없을 수도 있으므로, 폴리머 기재의 에지부 형상에 따라, 이러한 무기막 홀 구비는 선택적으로 진행한다.However, since the polymer substrate of the display panel is a colored substrate and may not have a slope at the edge portion, there may be no difficulty in peeling the glass substrate relative to the touch screen side. Therefore, depending on the shape of the edge of the polymer substrate, Such inorganic film hole provision proceeds selectively.

이하, 구체적으로 상기 터치 스크린을 적용한 본 발명의 플렉서블 표시 장치를 구성을 살펴본다.Hereinafter, a configuration of a flexible display device of the present invention to which the touch screen is applied will be described in detail.

도 5는 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 액티브 영역과 비액티브 영역을 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view showing an active region and a non-active region of the flexible display device of the present invention.

앞서, 터치 스크린측의 액티브 영역에는, 제 1 플렉서블 기재(110) 상에, 제 1 복수 버퍼층(120), 제 1, 제 2 전극(122, 124), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 구비하는 점은 설명한 바 있다. The first multi-buffer layer 120, the first and second electrodes 122 and 124, the interlayer insulating film 130, and the protective film 140 are formed on the first flexible substrate 110 in the active area on the touch- As shown in Fig.

또한, 액티브 영역의 외측이 비액티브 영역에는 도 5와 같이, 상기 터치 스크린 측은, 제 1 플렉서블 기재(110)의 에지가 일정 경사를 갖고, 그 상부의 무기막 성분의 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)이 상기 경사를 덮도록 구비되며, 이들 무기막들은 수직한 절단면을 가짐을 알 수 있다.5, on the touch screen side, the edge of the first flexible substrate 110 has a predetermined inclination, and the first multi-buffer layer 120 of the inorganic film component on the edge of the first flexible substrate 110 has an inclination, An interlayer insulating film 130, and a protective film 140 are provided so as to cover the inclination, and these inorganic films have vertical cut surfaces.

한편, 상기 제 1 복수 버퍼층(120) 상에 터치 라우팅 배선(125)을 구비한 예를 나타내었는데, 이는 상기 제 1, 제 2 전극(122, 124) 형성 전 별도의 금속 배선을 패터닝하여 형성하거나 혹은 상기 제 1, 제 2 전극(122, 124)이 이중층일 때, 이 중 금속 성분으로 한하여 형성하거나 혹은 상기 제 1 전극의 브리지 전극(122b)과 동일층에 형성할 수 있다. 제 1 전극의 브리지 전극(122b)과 터치 라우팅 배선(125)을 동일층에 형성시 상기 터치 라우팅 배선(125)은 층간 절연막(130) 상부에 위치할 수도 있다.In the meantime, an example in which the touch routing wiring 125 is provided on the first multi-buffer layer 120 has been described. However, the metal wiring may be formed by patterning a separate metal wiring before forming the first and second electrodes 122 and 124 Alternatively, when the first and second electrodes 122 and 124 are double layers, they may be formed of the heavy metal component or may be formed on the same layer as the bridge electrode 122b of the first electrode. The touch routing wiring 125 may be located on the interlayer insulating layer 130 when the bridge electrode 122b of the first electrode and the touch routing wiring 125 are formed on the same layer.

그리고, 제 2 폴리머 기재(210) 상에는, 상기 제 2 폴리머 기재(210)를 덮는 제 2 복수 버퍼층(220)이 성막되며, 상기의 액티브 영역의 박막 트랜지스터 어레이(230)는, 상기 제 2 복수 버퍼층(220) 상에 각 화소에 대응하여 구비된 2개 이상의 박막 트랜지스터를 포함하며, 상기 박막 트랜지스터를 덮으며, 보호 기능의 제 2 층간 절연막(237)을 구비한다.A second multi-buffer layer 220 is formed on the second polymer substrate 210 so as to cover the second polymer substrate 210. The thin film transistor array 230 in the active area is formed on the second multi- And a second interlayer insulating film 237 covering the thin film transistor and having a protective function.

한편, 상기 제 2 폴리머 기재(210)도 상기 제 1 폴리머 기재(110)와 마찬가지로 그 성분이 폴리에스테르(polyester) 또는 폴리 에스테르를 포함하는 공중합체, 폴리이미드(polyimide) 또는 폴리 이미드를 포함하는 공중합체, 올레핀계 공중합체, 폴리아크릴산(polyacrylic acid) 또는 폴리아크릴산을 포함하는 공중합체, 폴리스티렌(polystyrene) 또는 폴리스테린을 포함하는 공중합체, 폴리설페이트(polysulfate) 또는 폴리설페이트를 포함하는 공중합체, 폴리카보네이트(polycarbonate) 또는 폴리 카보네이트를 포함하는 공중합체, 폴리아믹산(polyamic acid) 또는 폴리아믹산을 포함하는 공중합체, 폴리아민(polyamine) 및 폴리아믹산을 포함하는 공중합체, 폴리비닐 알콜(polyvinylalcohol), 폴리 알릴아민(polyallyamine)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 고분자 화합물을 포함할 수 있으며, 그 두께는 5㎛ 내지 30㎛일 수 있다. 그러나, 상기 제 2 폴리머 기재(210)는 유색성의 기재로, 상대적으로 제 1 폴리머 기재(110) 대비 투명하지 않을 수 있다. 일예로, 상술한 제 2 폴리머 기재(210)는 일예로 폴리이미드(polyimide)일 수 있으나, 이 경우, 제 1 폴리머 기재(110)와 다른 두께 다른 색상으로 형성하여, 제 2 폴리머 기재(210)의 외측 광은 차단할 수 있다.The second polymer substrate 210 may also include a copolymer, a polyimide, or a polyimide, as in the first polymer substrate 110, whose components include a polyester or a polyester. A copolymer comprising an olefinic copolymer, a copolymer comprising polyacrylic acid or polyacrylic acid, a copolymer comprising polystyrene or polystyrene, a copolymer comprising polysulfate or polysulfate, Copolymers comprising polycarbonate or polycarbonate, copolymers comprising polyamic acid or polyamic acid, copolymers comprising polyamine and polyamic acid, polyvinylalcohol, poly (vinyl alcohol), poly Polyallylamine, and mixtures thereof. The term " polyallylamine " And its thickness may be 5 탆 to 30 탆. However, the second polymer substrate 210 may be non-transparent relative to the first polymer substrate 110 as a colored substrate. For example, the second polymer substrate 210 described above may be a polyimide, but in this case, the second polymer substrate 210 may be formed in a different color than the first polymer substrate 110, It is possible to block the outside light of the light source.

여기서, 상기 박막 트랜지스터는 상기 제 2 복수 버퍼층(120)의 선택적 영역에 위치한 액티브층(231)과, 상기 액티브층(231)을 덮는 게이트 절연막(222)과, 상기 액티브층(231) 상부에 상기 게이트 절연막(222) 접하여 위치한 게이트 전극(233)과, 상기 게이트 전극(233)을 덮는 제 1 층간 절연막(234)과, 상기 제 1 층간 절연막(234)을 관통하여 상기 액티브층(231)의 양측을 노출하는 콘택홀을 통해 상기 액티브층(231)의 양측과 각각 접속한 소오스 전극(235) 및 드레인 전극(236)을 포함한다.The thin film transistor includes an active layer 231 located in a selective region of the second multiple buffer layer 120, a gate insulating layer 222 covering the active layer 231, A first interlayer insulating film 234 covering the gate electrode 233 and a gate electrode 233 located adjacent to the gate insulating film 222. The first interlayer insulating film 234 is formed on both sides of the active layer 231 through the first interlayer insulating film 234, And a source electrode 235 and a drain electrode 236 connected to both sides of the active layer 231 through contact holes exposing the active layer 231.

그리고, 제 2 층간 절연막(237)은 상기 소오스 전극(235) 및 드레인 전극(236)과 액티브층(231)과의 접속 부위에 콘택홀을 갖고, 나머지 부위를 덮는다.The second interlayer insulating film 237 has a contact hole at a connection portion between the source electrode 235 and the drain electrode 236 and the active layer 231 and covers the remaining portion.

그리고, 상기 유기 발광 다이오드 어레이(240)는 각 화소에 대응하여, 유기 발광 다이오드(OLED)가 구비되며, 상기 유기 발광 다이오드(OLED)는 구동 박막 트랜지스터(D-TFT)와 접속된 제 1 전극(241)과, 상기 제 1 전극(242) 상에 구비된 유기 발광층(243) 및 상기 유기 발광층(243) 상에 제 2 전극(244)을 포함한다. 여기서, 상기 유기 발광층(243)은 각 화소의 경계부에 뱅크(242)를 구비하여 발광 영역을 정의하여, 상기 발광 영역 내에 형성된다. The organic light emitting diode array 240 includes an organic light emitting diode OLED corresponding to each pixel and the organic light emitting diode OLED includes a first electrode connected to the driving thin film transistor D- An organic light emitting layer 243 provided on the first electrode 242 and a second electrode 244 formed on the organic light emitting layer 243. Here, the organic light emitting layer 243 includes a bank 242 at a boundary of each pixel to define a light emitting region, and is formed in the light emitting region.

그리고, 외부로부터의 습기 또는 외기로부터 보호하기 위해 상기 봉지층(250)은, 상기 각 화소별로 구비된 복수개의 유기 발광 다이오드(OLED)와 함께 유기 발광 다이오드 어레이(240)에 포함될 수 있으며, 이 경우, 상기 봉지층(250)은 유기 발광 어레이(240)를 상부 및 측부를 덮는 형상으로, 유기막 및 무기막의 교번 구성의 배리어 적층체의 형상으로 구비될 수 있다. The sealing layer 250 may be included in the organic light emitting diode array 240 together with a plurality of organic light emitting diodes OLED provided for each pixel in order to protect the organic light emitting diode array 240 from external moisture or external air. The sealing layer 250 may be formed in the shape of a barrier laminate having an alternating configuration of an organic film and an inorganic film in a shape covering the upper and side portions of the organic light emitting array 240.

또한, 상기 터치 스크린(1000)와, 상기 박막 트랜지스터 어레이(230), 유기 발광 다이오드 어레이(240) 및 봉지층(250)을 포함한 표시 패널은 그 사이에 접착층(160)을 개재하여 합착된다. 이러한 합착 후, 상기 접착층(160)의 제 1 면에는 상기 유기 발광 다이오드 어레이(240)를 덮는 봉지층(250)이며, 상기 제 2 면에는 상기 보호막(140)에 접한다. The display panel including the touch screen 1000, the thin film transistor array 230, the organic light emitting diode array 240, and the sealing layer 250 is bonded together with an adhesive layer 160 therebetween. After the adhesion, the first surface of the adhesive layer 160 is an encapsulating layer 250 covering the organic light emitting diode array 240 and the second surface is in contact with the protective layer 140.

한편, 도 4a 내지 도 4c의 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀(150) 형성 후 제 1 글래스 기판(100)의 제거가 이루어지는 점을 나타내었으나, 실제 제 1 글래스 기판(100)의 제거는 상술한 각각 제 1 글래스 기판(100) 상에 제조된 터치 스크린(1000)과 제 2 글래스 기판(200) 상에 제조된 표시 소자 어레이(2000)를 합착한 후에, 제 1 글래스 기판(100)의 제거부터 차례로 이루어진다.4A to 4C, the removal of the first glass substrate 100 is shown after the formation of the inorganic film hole 150. However, the removal of the first glass substrate 100 is not limited to the removal of the first glass substrate 100 After the touch screen 1000 manufactured on the first glass substrate 100 and the display element array 2000 manufactured on the second glass substrate 200 are attached to each other, Removal takes place one after another.

또한, 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 제조 방법에서는, 상기 제 1 글래스 기판(100)의 제거가 레이저 조사만으로 단순 박리가 이루어질 수 있어, 외력 공정이 추가되는 알려진 방식 대비 공정의 용이성이 있으며, 또한, 성막된 무기 성분의 무기막들이 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지에서 깔끔히 박리되지 않아 외력 인가시 제 1 폴리머 기재(110)의 변성이 나타나는 문제점을 해결할 수 있다.In addition, in the method of manufacturing a flexible display device of the present invention, the removal of the first glass substrate 100 can be performed simply by laser irradiation, which facilitates the process compared to a known method in which an external force process is added, It is possible to solve the problem that the inorganic films of the inorganic components formed are not peeled off at the edge of the first polymer substrate 110 and denaturation of the first polymer substrate 110 occurs when an external force is applied.

이하, 상술한 터치 스크린 제조 방법을 이용한, 플렉서블 표시 장치의 제조 방법을 살펴본다.Hereinafter, a manufacturing method of a flexible display device using the above-described touch screen manufacturing method will be described.

도 6은 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 공정 단면도이다. 도 5의 단면도를 포함하여 하기의 제조 공정을 이해할 수 있다.6 is a process sectional view showing a manufacturing method of the flexible display device of the present invention. The following manufacturing process can be understood including the cross-sectional view of Fig.

먼저, 제 1 글래스 기판(100) 상에 제 1 폴리머 기재(110)를 형성한다(S100).First, a first polymer substrate 110 is formed on a first glass substrate 100 (S100).

상기 제 1 폴리머 기재(110) 상부에, 상기 제 1 폴리머 기재(110)를 덮으며, 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지로부터 일정 폭 돌출하여 상기 제 1 글래스 기판(100)과 접한 무기막을 형성한다(S110). 상기 무기막으로는 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)을 들 수 있다. 그리고, 상기 무기막은 단일 무기막일 경우뿐만 아니라 복수층의 무기막을 포함한 경우도 포함한다.An inorganic film that covers the first polymer substrate 110 and protrudes from the edge of the first polymer substrate 110 by a predetermined width and is in contact with the first glass substrate 100 is formed on the first polymer substrate 110, (S110). Examples of the inorganic film include a first multiple buffer layer 120, an interlayer insulating film 130, and a protective film 140. The inorganic film includes not only a single inorganic film but also a plurality of inorganic films.

상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지에, 상기 무기막을 제거하여 상기 제 1 글래스 기판(100)을 노출하는 무기막 홀(150)을 형성한다(S120). 무기막 형성 후, 특징 부위만의 무기막 홀(150) 형성은 레이저 컷팅이나 해당 부위만 오픈시켜 식각 성분의 플라즈마를 공급하는 드라이 에치 방식을 이용할 수 있다.An inorganic film hole 150 is formed at an edge of the first polymer substrate 110 by removing the inorganic film to expose the first glass substrate 100 (S120). After the formation of the inorganic film, the formation of the inorganic film hole 150 only in the characteristic region can be performed by laser cutting or a dry etch method in which only the corresponding region is opened to supply the plasma of the etching component.

혹은, 상기 무기막의 제거는 각층의 무기막의 패터닝시 동시에 진행할 수도 있다. 이 경우, 각 층의 홀의 직경이 정렬되지 않거나 직경이 상이할 수 있어, 앞의 설명한 무기막을 형성한 후, 제 1 폴리머 기재(110)의 에지부위의 무기막 홀 형성을 하는 것이 바람직할 수 있다.Alternatively, the removal of the inorganic film may proceed simultaneously with the patterning of the inorganic film of each layer. In this case, the diameters of the holes in the respective layers may not be aligned or the diameters may be different, and it may be preferable to form the inorganic film holes at the edge portions of the first polymer substrate 110 after the above-described inorganic film is formed .

제 2 글래스 기판(200) 상에 제 2 폴리머 기재(210)를 형성한다(S130).A second polymer substrate 210 is formed on the second glass substrate 200 (S130).

상기 무기막 및 상기 제 2 폴리머 기재(210) 사이에 접착층(160)을 개재하여 합착한다(S140).The inorganic film and the second polymer substrate 210 are bonded together through an adhesive layer 160 (S140).

이어, 상기 제 1 글래스 기판(100)의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 1 글래스 기판(100)을 제거한다(S150).Next, the first glass substrate 100 is removed by laser irradiation on the back surface of the first glass substrate 100 (S150).

이어, 상기 제 2 글래스 기판(200)의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 2 글래스 기판(200)을 제거한다(S160).Next, the second glass substrate 200 is removed by laser irradiation on the back surface of the second glass substrate 200 (S160).

즉, 본 발명의 플렉서블 표시 장치는, 제 1 플렉서블 기재의 외측으로 돌출된 제 1 글래스 기판과 접한 무기막이 제 1 글래스 기판과의 강한 접착성으로 레이저 조사만으로 박리되지 않은 문제점을 인식하여, 제 1 플렉서블 기재의 가장 자리에 위치한 무기막에 레이저 컷팅 등의 방식으로 홀을 형성한 것으로 이를 통해 상기 1 플렉서블 기재와 제 1 글래스 기판과 자연 박리가 가능하다. That is, the flexible display device of the present invention recognizes the problem that the inorganic film in contact with the first glass substrate protruding to the outside of the first flexible substrate is not peeled only by laser irradiation with strong adhesion to the first glass substrate, A hole is formed in the inorganic film located at the edge of the flexible substrate by a method such as laser cutting or the like, whereby the first flexible substrate and the first glass substrate can be peeled off naturally.

또한, 무기막에 홀을 형성하는 것을 글래스 기판 합착 전에 수행하고, 그 이후에 양 글래스 기판 상의 어레이가 마주본 상태로 합착하고, 각각의 글래스 기판을 제거한다.Further, the holes are formed in the inorganic film before the glass substrate is bonded, and thereafter, the arrays on both glass substrates are adhered to each other while facing each other, and the respective glass substrates are removed.

여기서, 홀의 형성은 도시된 공정 순서도에서는 제 1 글래스 기판 상에서만 이루어진 점을 나타내지만, 상기 제 2 글래스 기판 상에 제 2 폴리머 기재 상의 무기막들이 제 2 글래스 기판의 가장자리를 덮으며 돌출된 형상일 때는 이에도 적용될 수 있다.Here, although the formation of the holes is shown only on the first glass substrate in the illustrated process flow chart, the inorganic films on the second polymer substrate cover the edges of the second glass substrate on the second glass substrate, It can also be applied to this.

한편, 상술한 플렉서블 표시 장치의 제조 방법의 설명에서 제 1, 제 2 글래스 기판 상에 각각 형성되는 구성은 터치 스크린과 박막 트랜지스터 어레이/유기 발광 다이오드 어레이이지만, 이에 한하지 않고, 서로 교체되어 형성될 수 있으며, 본 발명의 폴리머 기재의 측면이 경사를 갖는 형상으로 그 후에 성막되는 무기 절연막들이 상기 폴리머 기재의 상부뿐만 아니라 측면 및 글래스 기판까지 위치하여, 기판과 무기 절연막들간의 강한 결합성을 가질 때라면 응용하여 적용할 수 있다.On the other hand, in the above description of the manufacturing method of the flexible display device, the structures formed on the first and second glass substrates are the touch screen and the thin film transistor array / organic light emitting diode array, but the present invention is not limited thereto, And the inorganic insulating films formed after the polymer substrate of the present invention has a shape with a side face inclined are positioned not only on the upper side of the polymer substrate but also on the side faces and the glass substrate and have strong bonding properties between the substrate and the inorganic insulating films Can be applied to the application.

이하, 무기막 홀의 형상과 이들의 다양한 실시예에 대해 설명한다. Hereinafter, the shape of the inorganic film hole and various embodiments thereof will be described.

도 7은 본 발명의 터치 스크린 제조 방법에서 무기막 홀 및 무기막 패턴을 나타낸 제 1 글래스 기판의 평면도이며, 도 8a 내지 도 8b는 도 7의 I~I' 선상 및 Ⅱ~Ⅱ'선상의 단면도이다.FIG. 7 is a plan view of a first glass substrate showing inorganic film holes and inorganic film patterns in the method of manufacturing a touch screen of the present invention. FIGS. 8A to 8B are sectional views taken on lines I to I 'and II to II' to be.

도 7 내지 도 8b와 같이, 무기막 홀(150) 형성 직후 제 1 글래스 기판(100) 상의 무기막 홀(150) 외측에는 앞에서 제 1 폴리머 기재(110) 상에 형성된 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140) 적층의 무기막 적층체(170)이 남아있다.7 to 8B, a first multiple buffer layer 120 formed on the first polymer substrate 110 is formed outside the inorganic film hole 150 on the first glass substrate 100 immediately after the inorganic film hole 150 is formed. The interlayer insulating film 130, and the protective film 140 are left.

평면상으로 상기 무기막 홀(150)의 안쪽에는 제 1 글래스 기판(100) 상에 직접 접하여, 제 1 폴리머 기재(110)가 위치하며, 그 상부에 상기 무기막 적층체(170)과 동일 구성으로, 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)이 위치한다.The first polymer substrate 110 is disposed on the inside of the inorganic film hole 150 in a planar manner directly on the first glass substrate 100 and on top of the first polymer substrate 110, The first multiple buffer layer 120, the interlayer insulating film 130, and the protective film 140 are located.

도 9a 및 도 9b는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도이다.FIGS. 9A and 9B are plan views of a touch screen illustrating a method of manufacturing a touch screen according to a first embodiment of the present invention, which illustrates steps of forming an inorganic film hole and removing the first glass substrate.

도 9a는 제 1 글래스 기판(100) 상에 제 1 폴리머 기재(110)가 차지하는 영역은 액티브 영역(AA)과 그 주변의 일정 폭에 상당한 A 영역까지이며, 무기막 적층체는 제 1 폴리머 기재(110)를 덮는 형상으로, A 영역보다는 B 영역까지 보다 외측으로 넓게 성막된다. 상기 무기막 적층체에 구비되는 무기막 홀(150)은 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 따라 평면상 사각형의 테두리 형상을 갖도록 구비되는 것으로, A 영역과 B 영역 사이에 구비된다. 무기막 적층체와 제 1 글래스 기판과의 결합을 방지하는 것으로, A 영역의 무기막 홀(150)의 시점이 정해지고, 종점은 B 영역보다 안쪽에 위치하여야 합착 전후로, 제 1 글래스 기판(100) 상에 터치 스크린이 슬라이딩됨을 방지할 수 있다. 여기서, 이러한 테두리 형상은 끊김없이 연속된 형상이다.9A shows that the area occupied by the first polymer substrate 110 on the first glass substrate 100 is up to the area A corresponding to a certain width of the active area AA and its periphery, (110), and is formed to be wider outward than the region (A) to the region (B). The inorganic film hole 150 provided in the inorganic film laminate is provided between the A region and the B region so as to have a rectangular shape in the shape of a plane along the edge of the first polymer substrate 110. The time point of the inorganic film hole 150 in the region A is determined and the end point is located in the region B than the first glass substrate 100 to prevent the inorganic glass film stack 100 from being bonded to the first glass substrate 100 It is possible to prevent the touch screen from sliding on the touch screen. Here, such a border shape is a continuous shape without interruption.

이러한 무기막 홀(150)을 구비한 제 1 글래스 기판(100) 상에, 제 1 복수 버퍼층(120), 층간 절연막(130) 및 보호막(140)이 무기막 홀(150) 외로 상기 제 1 글래스 기판(100) 상에 상기 무기막 적층체(170)가 돌출되어 있으며, 이들은 도 9b와 같이, 양 글래스 기판을 합착 후, 레이저 조사로 상기 제 1 글래스 기판(100)을 제거하는 공정에서, 함께 제거된다. The first multiple buffer layer 120, the interlayer insulating film 130 and the protective film 140 are formed on the first glass substrate 100 having the inorganic film holes 150, The inorganic film stack body 170 protrudes on the substrate 100. In the step of removing the first glass substrate 100 by laser irradiation after attaching the both glass substrates together as shown in Fig. Removed.

제 1 글래스 기판 상의 제 1 폴리머 기재(110)의 외측 홀은 제 1 글래스 기판이 노출되어 있어, 제 1 글래스 기판(100)의 배면의 레이저 조사시에 서로 다른 성분의 제 1 폴리머 기재(110)와 제 1 글래스 기판(100) 사이에 기공이 발생되고, 가장자리는 오픈되어, 쉽게 제 1 폴리머 기재(110)가 제 1 글래스 기판(100)으로부터 분리될 수 있다. 제 1 글래스 기판(100) 제거 후에는, 터치 스크린은 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 가장자리로 갖는다. 즉, 제 1 폴리머 기재(110)의 가장자리 측부가 일정한 경사를 가질 때, 상기 경사를 갖는 측부가 상기 제 1 글래스 기판(100)과 접한(도 4a 참조) 에지(A)까지 터치 스크린의 부위로 정의된다.The first glass substrate 110 is exposed at the outer holes of the first polymer substrate 110 on the first glass substrate 100 and the first polymer substrate 110 having different components is irradiated with laser light on the back surface of the first glass substrate 100. [ Pores are generated between the first glass substrate 100 and the first glass substrate 100 and the edges are opened so that the first polymer substrate 110 can be easily separated from the first glass substrate 100. After the first glass substrate 100 is removed, the touch screen has the edge of the first polymer substrate 110 as an edge. That is, when the edge side of the first polymer substrate 110 has a constant inclination, the side having the inclination reaches the edge of the touch screen touching the first glass substrate 100 (see FIG. 4A) Is defined.

도 10a 및 도 10b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도이다.FIGS. 10A and 10B are plan views of a touch screen illustrating a method of manufacturing a touch screen according to a second embodiment of the present invention, which illustrates steps of forming an inorganic film hole and removing the first glass substrate.

도 10a은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에서 무기막 홀의 형성을 나타낸 것으로, 무기막 홀(150)을 평면상으로 사각형 테두리의 코너를 제외하여 형성한 것이다. 이 경우, 도 10b과 같이, 상기 제 1 글래스 기판(100) 상의 무기막 적층체(170a)가 상기 사각형의 테두리의 코너와 상기 무기막 홀(151) 외측에 일정 폭으로 남아있다. 이 경우, 상기 테두리 코너와 무기막 홀(151) 외측에 남아있는 무기막 적층체(170a)는 터치 스크린을 갖는 제 1 글래스 기판(100)과 하측의 박막 트랜지스터 어레이와 유기 발광 다이오드 어레이를 갖는 제 2 글래스 기판(200)과의 합착시 양 글래스 기판의 기판의 유동을 잡아주게 된다. 즉, 무기막 홀(150)의 형성은 양 글래스 기판 합착 전 이루어지기 때문에, 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 무기막 홀로 모두 노출시 합착 과정에서, 제 1 폴리머 기재(110)가 노출된 무기막 홀로 슬라이딩될 수 있어, 이러한 슬라이딩을 방지하고자 합착 과정에서 약한 인력으로 코너부만 무기막 적층체(170a)가 상기 제 1 글래스 기판(100)과 접한 관계를 갖게 한다. 10A shows the formation of an inorganic film hole in the method of manufacturing a touch screen according to the second embodiment of the present invention, in which the inorganic film hole 150 is formed in a plane except for a corner of a rectangular frame. In this case, as shown in FIG. 10B, the inorganic film stack 170a on the first glass substrate 100 remains at a corner of the rectangular edge and outside the inorganic film hole 151 with a constant width. In this case, the inorganic film stack body 170a remaining on the outside of the rim corner and the inorganic film hole 151 is divided into a first glass substrate 100 having a touch screen, a second thin film transistor array having a lower thin film transistor array and an organic light emitting diode array 2 glass substrate 200, the flow of the substrate of both glass substrates is caught. That is, since the inorganic film hole 150 is formed before the two glass substrates are bonded together, when the edge of the first polymer substrate 110 is exposed to the inorganic film hole, the first polymer substrate 110 is exposed The inorganic film stack 170a may be in contact with the first glass substrate 100 only at the corners with a weak attraction force during the adhesion process to prevent the sliding of the inorganic film stack 170a.

경우에 따라, 상기 제 1 글래스 기판(100) 상기 무기막 홀(150) 코너의 무기막 적층체(170a)도 함께 제거될 수도 있다.In some cases, the inorganic film stack body 170a at the corner of the inorganic film hole 150 of the first glass substrate 100 may also be removed.

도 10b과 같이, 제 1 글래스 기판(100)의 배면측에 레이저를 조사하면 상기 제 1 글래스 기판(100)은 상기 무기막 홀(150) 주변의 무기막 적층체(170a)와 함께 제거된다. 이 경우, 상기 무기막 홀(150)의 코너부의 일부 무기막 패턴(170a)이 남아있을 수 있다. The first glass substrate 100 is removed along with the inorganic film stack body 170a around the inorganic film hole 150 when a laser beam is irradiated to the back side of the first glass substrate 100 as shown in FIG. In this case, a part of the inorganic film pattern 170a at the corner of the inorganic film hole 150 may remain.

도 11a 및 도 11b는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 스크린 제조 방법에 있어서, 무기막 홀 형성 단계와 제 1 글래스 기판 제거 후를 나타낸 터치 스크린의 평면도이다.FIGS. 11A and 11B are plan views of a touch screen illustrating a method of manufacturing a touch screen according to a third embodiment of the present invention, which illustrates steps of forming an inorganic film hole and removing the first glass substrate.

도 11a와 같이, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 스크린은 무기막 홀(150)을 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 따라 불연속적으로 구비한 것이다. 이러한 불연속면은 예를 들어, 상기 무기막 홀(152)에 대응되는 부분만을 레이저 커팅하거나 드라이 에치하여 정의할 수 있다.As shown in FIG. 11A, the touch screen according to the third embodiment of the present invention includes the inorganic film hole 150 discontinuously along the edge of the first polymer substrate 110. Such a discontinuity surface can be defined, for example, by laser cutting or dry etching only the portion corresponding to the inorganic film hole 152.

이 경우, 도 11b와 같이, 레이저 조사 후 제 1 글래스 기판(100) 제거 후에는, 도 11b와 같이, 무기막 적층체로 이루어진 무기막 패턴(170a)이 일부 남아있을 수 있다. 혹은 도 9b와 같이, 이미 무기막 홀(150)로 제 1 폴리머 기재(110)의 에지 라인을 따라 대략적으로 사각형 테두리 형상의 무기막 제거 영역이 정의되어 있어, 레이저 조사시의 강도를 크게 할 경우 상기 제 1 폴리머 기재(110)의 에지를 따라 무기막 홀(150) 사이 사이에 무기막 적층체(170) 또한 제거될 수 있다.In this case, as shown in FIG. 11B, after the first glass substrate 100 is removed after the laser irradiation, as shown in FIG. 11B, a part of the inorganic film pattern 170a made of the inorganic film laminate may remain. Alternatively, as shown in FIG. 9B, an inorganic film removing region having a substantially quadrangular rim shape is defined along the edge line of the first polymer substrate 110 by the inorganic film hole 150, and when the intensity at the time of laser irradiation is increased The inorganic film stack 170 may also be removed between the inorganic membrane holes 150 along the edge of the first polymer substrate 110.

한편, 이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be the most practical and preferred embodiment, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Will be apparent to those of ordinary skill in the art.

100: 제 1 글래스 기판 110: 제 1 폴리머 기재
120: 제 1 복수 버퍼층 130: 층간 절연막
140: 보호막 150: 무기막 홀
160: 접착층 170: 무기 적층체
200: 제 2 글래스 기판 210: 제 2 폴리머 기재
220: 제 2 복수 버퍼층 230: 박막 트랜지스터 어레이
240: 유기 발광 다이오드 어레이 250: 봉지층
100: first glass substrate 110: first polymer substrate
120: first multiple buffer layer 130: interlayer insulating film
140: Protective film 150: Inorganic film hole
160: adhesive layer 170: inorganic laminate
200: second glass substrate 210: second polymer substrate
220: second multiple buffer layer 230: thin film transistor array
240: organic light emitting diode array 250: sealing layer

Claims (12)

상부면보다 하부면이 더 넓게 형성되어 측부에 경사를 갖는 제 1 폴리머 기재;
상기 제 1 폴리머 기재와 대향하는 제 2 폴리머 기재;
상기 제 1 폴리머 기재의 상부면 및 측부를 덮으며, 상기 제 1 폴리머 기재의 하부면이 정의되는 에지 라인에 일치하는 절단면을 갖는 복수층의 무기막; 및
상기 제 1, 제 2 폴리머 기재 사이에 구비된 접착층을 포함한 플렉서블 표시 장치.
A first polymer substrate having a lower surface wider than an upper surface and having a slope on a side;
A second polymer substrate opposite the first polymer substrate;
A plurality of layers of inorganic films covering the top and sides of the first polymer substrate and having a cross-section corresponding to an edge line in which the bottom surface of the first polymer substrate is defined; And
And an adhesive layer provided between the first and second polymer substrates.
제 1항에 있어서,
상기 복수층의 무기막의 절단면은 평면상 상기 제 1 폴리머 기재의 하부면의 에지를 따른 사각형 형상을 갖는 플렉서블 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the cut surfaces of the plurality of inorganic films have a rectangular shape along the edge of the lower surface of the first polymer substrate in a plan view.
제 2항에 있어서,
상기 사각형의 테두리의 각 코너에, 상기 복수층의 무기막과 연결된 무기막 패턴을 더 포함한 플렉서블 표시 장치.
3. The method of claim 2,
Further comprising an inorganic film pattern connected to the plurality of inorganic films at corners of the rim of the quadrangle.
제 1항에 있어서,
상기 복수층의 무기막의 절단면은 상기 제 1 폴리머 기재의 에지 라인을 따라 불연속적으로 구비된 플렉서블 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the cut surfaces of the inorganic films of the plurality of layers are discontinuously provided along an edge line of the first polymer substrate.
제 4항에 있어서,
평면상으로 상기 불연속적으로 구비된 무기막의 절단면 사이에는, 상기 제 1 폴리머 기재 외측으로 돌출한 무기막 패턴들 더 포함한 플렉서블 표시 장치.
5. The method of claim 4,
Further comprising inorganic film patterns protruding outward from the first polymer substrate between cut surfaces of the inorganic film disposed discontinuously in a plane.
제 1항에 있어서,
상기 무기막은 복수층의 버퍼층, 층간 절연막 및 보호막을 포함한 플렉서블 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the inorganic film includes a plurality of buffer layers, an interlayer insulating film, and a protective film.
제 6항에 있어서,
상기 복수층의 버퍼층 상에, 상기 층간 절연막을 경계로 상하로 위치한 제 1 터치 전극과 제 2 터치 전극을 더 구비한 플렉서블 표시 장치.
The method according to claim 6,
Further comprising: a first touch electrode and a second touch electrode disposed above and below the interlayer insulating film on the plurality of buffer layers.
제 7항에 있어서,
상기 보호막은 상기 층간 절연막 및 제 2 터치 전극을 덮는 플렉서블 표시 장치.
8. The method of claim 7,
And the protective film covers the interlayer insulating film and the second touch electrode.
제 8항에 있어서,
상기 제 2 폴리머 기재 상에, 박막 트랜지스터 어레이 및 이와 접속되는 유기 발광 다이오드 어레이를 더 포함한 플렉서블 표시 장치.
9. The method of claim 8,
Further comprising a thin film transistor array and an organic light emitting diode array connected to the thin film transistor array on the second polymer substrate.
제 9항에 있어서,
상기 접착층의 제 1 면과 제 2 면은 각각 상기 유기 발광 다이오드 어레이와 상기 보호막에 접한 플렉서블 표시 장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the first surface and the second surface of the adhesive layer are in contact with the organic light emitting diode array and the protective film, respectively.
제 1항에 있어서,
상기 제 1, 제 2 폴리머 기재는 폴리 이미드인 플렉서블 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first and second polymer substrates are polyimide.
제 1 글래스 기판 상에 제 1 폴리머 기재를 형성하는 단계;
상기 제 1 폴리머 기재 상부에, 상기 제 1 폴리머 기재를 덮으며, 상기 제 1 폴리머 기재의 에지로부터 일정 폭 돌출하여 상기 제 1 글래스 기판과 접한 무기막을 형성하는 단계;
상기 제 1 폴리머 기재의 에지에, 상기 무기막을 제거하여 상기 제 1 글래스 기판을 노출하는 홀을 형성하는 단계;
제 2 글래스 기판 상에 제 2 폴리머 기재를 형성하는 단계;
상기 무기막 및 상기 제 2 폴리머 기재 사이에 접착층을 개재하여 합착하는 단계;
상기 제 1 글래스 기판의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 1 글래스 기판을 제거하는 단계; 및
상기 제 2 글래스 기판의 배면에서 레이저 조사하여, 상기 제 2 글래스 기판을 제거하는 단계를 포함한 플렉서블 표시 장치의 제조 방법.
Forming a first polymer substrate on a first glass substrate;
Forming an inorganic film on the first polymer substrate on the first polymer substrate so as to protrude from the edge of the first polymer substrate to a predetermined width and in contact with the first glass substrate;
Removing the inorganic film on an edge of the first polymer substrate to form a hole exposing the first glass substrate;
Forming a second polymer substrate on a second glass substrate;
Bonding the inorganic film and the second polymer substrate through an adhesive layer;
Removing the first glass substrate by laser irradiation on the back surface of the first glass substrate; And
And removing the second glass substrate by laser irradiation on the back surface of the second glass substrate.
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