KR20200040029A - Organic lighting emitting display - Google Patents

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KR20200040029A
KR20200040029A KR1020180119764A KR20180119764A KR20200040029A KR 20200040029 A KR20200040029 A KR 20200040029A KR 1020180119764 A KR1020180119764 A KR 1020180119764A KR 20180119764 A KR20180119764 A KR 20180119764A KR 20200040029 A KR20200040029 A KR 20200040029A
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Abstract

According to the present invention, an organic lighting emitting display comprises: a substrate having a display area with a plurality of pixels and a non-display area around the display area; a thin film transistor disposed in the display area and an organic light emitting element electrically connected to the thin film transistor; and an alignment structure provided to adjust a bonding position between the substrate and a polarizing plate disposed in the non-display area; and a protective layer covering the alignment structure, wherein the alignment structure has a laminated shape in which an inorganic insulating layer on a substrate, an organic insulating layer directly contacting the inorganic insulating layer, and a metal layer on the organic insulating layer are stacked. Accordingly, the organic light emitting display device may prevent damage to the alignment structure as the metal layer of the alignment structure is not lost.

Description

유기 발광 표시 장치{ORGANIC LIGHTING EMITTING DISPLAY}Organic light emitting display device {ORGANIC LIGHTING EMITTING DISPLAY}

본 명세서는 유기 발광 표시 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 신뢰성이 향상된 유기 발광 표시 장치에 관한 것이다.The present specification relates to an organic light emitting display device, and more particularly, to an organic light emitting display device having improved reliability.

최근 정보 디스플레이에 관한 관심이 고조되고 휴대가 가능한 정보매체를 이용하려는 요구가 높아지면서 기존의 표시장치인 브라운관(Cathode Ray Tube; CRT)을 대체하는 경량 박형 평판표시장치(Flat Panel Display; FPD)에 대한 연구 및 상업화가 중점적으로 이루어지고 있다.Recently, as interest in information display has increased and the demand to use a portable information medium has increased, it has been applied to a lightweight flat panel display (FPD) that replaces the existing display device, the cathode ray tube (CRT). Korea's research and commercialization are focused.

이러한 평판표시장치 분야에서, 지금까지는 가볍고 전력소모가 적은 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device; LCD)가 가장 주목받는 디스플레이 장치였지만, 액정표시장치는 발광소자가 아니라 수광소자이며 밝기와, 명암비(contrast ratio) 및 시야각 등에 단점이 있기 때문에 이러한 단점을 극복할 수 있는 새로운 디스플레이 장치에 대한 개발이 활발하게 전개되고 있다.In the field of flat panel display devices, a liquid crystal display device (LCD), which is light and low in power consumption, has been the most popular display device so far, but the liquid crystal display device is not a light emitting device, but a light receiving device and is a brightness and contrast ratio. ratio) and viewing angles, so development of new display devices capable of overcoming these disadvantages has been actively developed.

새로운 디스플레이 장치 중 하나인 유기 발광 표시 장치는 자체 발광형이기 때문에 액정표시장치에 비해 시야각과 명암비 등이 우수하다. 또한, 백라이트(backlight)가 필요하지 않기 때문에 경량 박형이 가능하고, 소비전력 측면에서도 유리하다. 그리고, 직류 저전압 구동이 가능하고 응답속도가 빠르다는 장점이 있다.Since one of the new display devices, the organic light emitting display device is self-emission type, it has a better viewing angle and contrast ratio than a liquid crystal display device. In addition, since a backlight is not required, light weight and thinness are possible, and it is advantageous in terms of power consumption. In addition, there is an advantage that DC low voltage driving is possible and the response speed is fast.

유기 발광 표시 장치는 유기발광다이오드를 가지는 서브-화소를 매트릭스 형태로 배열하고 그 서브-화소들을 데이터전압과 스캔전압으로 선택적으로 제어함으로써 화상을 표시한다.The organic light emitting display device displays an image by arranging sub-pixels having an organic light-emitting diode in a matrix form and selectively controlling the sub-pixels with a data voltage and a scan voltage.

이때, 유기 발광 표시 장치는 수동 매트릭스(passive matrix) 방식 또는 스위칭소자로써 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT)를 이용하는 능동 매트릭스(active matrix) 방식으로 나뉘어진다. 이 중 능동 매트릭스 방식은 능동소자인 TFT를 선택적으로 턴-온(turn on)시켜 서브-화소를 선택하고 스토리지 커패시터에 유지되는 전압으로 서브-화소의 발광을 유지한다.In this case, the organic light emitting display device is divided into a passive matrix method or an active matrix method using a thin film transistor (TFT) as a switching element. Among them, the active matrix method selects a sub-pixel by selectively turning on a TFT, which is an active element, and maintains the light emission of the sub-pixel at a voltage maintained in the storage capacitor.

이러한 유기 발광 표시 장치는 다양한 용도의 정렬 구조물을 구비하고 있다.The organic light emitting display device has an alignment structure for various uses.

예를 들어, 기판 상에 박막트랜지스터를 형성할 때, 포토 마스크와 기판을 정확한 위치로 정렬시키기 위한 정렬 구조물, 박막트랜지스터가 구비된 기판과 이에 대향하는 편광판을 합착시킬 때, 두 기판을 정확한 위치로 정렬시키기 위한 정렬 구조물 또는 디스플레이 패널의 패드부에 구동부가 구비된 인쇄회로기판 등을 정확한 위치로 부착시키기 위한 정렬 구조물, P-MOS TFT 사용시 TFT에 역바이어스를 인가하여 신뢰성에서 발생할 수 있는 약휘점을 사전에 제거하는 작업인 T-aging이나 Auto Prove 장비를 검사하는 AMI 검사 시 사용하는 정렬 구조물 등이 있다.For example, when forming a thin film transistor on a substrate, when aligning a photo mask and an alignment structure for aligning the substrate to the correct position, when a substrate equipped with a thin film transistor and a polarizing plate opposed thereto are bonded, the two substrates are brought to the correct position. Alignment structure for alignment, or alignment structure for attaching a printed circuit board equipped with a driver to the pad portion of the display panel to the correct position, and when using P-MOS TFT, apply reverse bias to the TFT to prevent weak points that may occur in reliability. There are alignment structures used for T-aging, which is a pre-removal task, or AMI inspection, which inspects Auto Prove equipment.

통상적으로, 정렬 구조물은 영상이 표시되지 않는 비표시 영역에 구비되며, 기판의 상부 또는 하부에서 카메라를 통해 정렬 구조물과 부착하고자 하는 구조물 등을 정렬하여 부착하게 된다.Typically, the alignment structure is provided in a non-display area where an image is not displayed, and the alignment structure and the structure to be attached are aligned and attached through a camera at the top or bottom of the substrate.

일반적인 유기 발광 표시 장치는 외부광의 반사에 의해 시인성이 저하되는 것을 방지하기 위해 표시패널 상부 표면에 편광판을 적용한다. 이러한 편광판이 표시패널과 정확한 위치에서 부착되지 않을 경우, 측면 시야각에서 색감이 이상해지는 현상이 발생하게 된다. 또한, 지그류 체결 및/또는 공정 트레이 안착 등의 문제로 공정 진행이 불가능해 질 수 있다. In a general organic light emitting display device, a polarizing plate is applied to an upper surface of a display panel to prevent visibility from being deteriorated by reflection of external light. When the polarizing plate is not attached to the display panel at the correct position, a phenomenon in which color sense is abnormal in a side viewing angle occurs. In addition, the process may not be possible due to problems such as fastening jigs and / or seating of the process tray.

본 발명의 발명자들은, 유기 발광 표시장치의 표시품질 개선을 위한 편광판 부착에 대한 연구를 하였고, 유기 발광 표시장치의 비표시 영역에 있는 정렬 구조물이 훼손될 경우 편광판과 표시패널이 정확히 정렬되기 어렵다는 사실을 인식하였다.The inventors of the present invention have studied the attachment of a polarizing plate to improve the display quality of the organic light emitting display device, and the fact that the polarizing plate and the display panel are difficult to accurately align when the alignment structure in the non-display area of the organic light emitting display device is damaged. Was recognized.

이에, 본 명세서는 보다 개선된 정렬 구조물을 채용한 유기 발광 표시 장치를 제공하고자 한다. 본 명세서의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Accordingly, this specification is intended to provide an organic light emitting display device employing a more improved alignment structure. The problems in this specification are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 복수의 화소가 있는 표시 영역과 표시 영역의 주변에 있는 비표시 영역을 갖는 기판, 표시 영역에 배치된 박막 트랜지스터 및 박막 트랜지스터에 전기적으로 연결된 유기 발광 소자, 비표시 영역에 배치된 기판과 편광판과의 합착 위치 조정을 위해 구비된 정렬 구조물 및 정렬 구조물을 덮는 보호 층을 포함하고 정렬 구조물은 기판 상의 무기 절연 층, 상기 무기 절연 층 상에 직접 접하는 유기 절연 층 및 상기 유기 절연 층 상의 금속 층이 적층된 형상을 갖는다.The organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a substrate having a display area having a plurality of pixels and a non-display area around the display area, a thin film transistor disposed in the display area, and organic light emission electrically connected to the thin film transistor A device, an alignment structure provided for adjusting the bonding position of the substrate disposed in the non-display area and the polarizing plate, and a protective layer covering the alignment structure, the alignment structure comprising an inorganic insulating layer on the substrate, an organic contacting directly on the inorganic insulating layer The insulating layer and the metal layer on the organic insulating layer have a stacked shape.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 실시예들은 편광판 부착 시 사용되는 정렬 구조물이 손상되는 문제를 개선할 수 있다. 또한 본 발명의 실시예에 따른 표시장치는, 정렬 구조물의 금속층 하부에는 접착강화층을 구비함으로써, 금속층 패터닝 시 식각액 하침에 의한 금속층의 유실을 방지되고 정렬 구조물이 훼손되는 현상이 개선되어 편광판 부착 공정의 정확성을 높일 수 있다.Embodiments of the present invention can improve the problem that the alignment structure used when attaching the polarizing plate is damaged. In addition, the display device according to an embodiment of the present invention is provided with an adhesive reinforcement layer under the metal layer of the alignment structure, thereby preventing the loss of the metal layer due to etchant lowering during patterning of the metal layer and improving the phenomenon that the alignment structure is damaged to improve the polarizing plate attachment process. Can increase the accuracy of.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effects according to the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치를 개략적으로 도시한 블록도이다.
도 2는 도1에 도시된 유기 발광 표시 장치의 표시패널의 1픽셀영역을 개략적으로 도시한 등가 회로도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 정렬 구조물의 개략적인 단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 정렬 구조물의 개략적인 단면도이다.
1 is a block diagram schematically illustrating an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram schematically showing a pixel area of a display panel of the organic light emitting diode display illustrated in FIG. 1.
3 is a schematic plan view of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention.
5 is a schematic cross-sectional view of an alignment structure according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic cross-sectional view of an alignment structure according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and methods for achieving them will be clarified with reference to embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various different forms, and only the present embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and the ordinary knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the holder of the scope of the invention, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for describing the embodiments of the present invention are exemplary and the present invention is not limited to the illustrated matters. The same reference numerals refer to the same components throughout the specification. In addition, in the description of the present invention, when it is determined that detailed descriptions of related known technologies may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, detailed descriptions thereof will be omitted. When 'include', 'have', 'consist of', etc. mentioned in this specification are used, other parts may be added unless '~ man' is used. When a component is expressed as a singular number, the plural number is included unless otherwise specified.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In analyzing the components, it is interpreted as including the error range even if there is no explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들면, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다. In the case of the description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of two parts is described as '~ top', '~ upper', '~ bottom', '~ side', etc., 'right' Alternatively, one or more other parts may be located between the two parts unless 'direct' is used.

소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위 (on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다.An element or layer being referred to as being "on" another element or layer includes all instances of other layers or other elements immediately above or in between.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another component. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.The same reference numerals refer to the same components throughout the specification.

도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The size and thickness of each component shown in the drawings are illustrated for convenience of description, and the present invention is not necessarily limited to the size and thickness of the illustrated component.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하며, 당업자가 충분히 이해할 수 있듯이 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시 가능할 수도 있다.Each of the features of the various embodiments of the present invention may be partially or totally combined with or combined with each other, and technically various interlocking and driving may be possible as those skilled in the art can fully understand, and each of the embodiments may be independently implemented with respect to each other. It can also be implemented together in an association relationship.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시 예를 상세하게 설명하기로 한다. 이하, 도 1 및 도 2를 참조하여 본 발명의 실시예에 따르는 유기 발광 표시 장치에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Hereinafter, an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

도 1은 본 발명의 실시예에 따르는 유기발광 표시장치를 개략적으로 도시한 블록도이고, 도 2는 도 1에 도시된 유기발광 표시장치의 표시패널의 1픽셀영역을 개략적으로 도시한 등가 회로도이다.1 is a block diagram schematically showing an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an equivalent circuit diagram schematically showing a pixel area of a display panel of the organic light emitting display device shown in FIG. 1. .

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따르는 유기발광 표시장치는 표시패널(10), 표시패널(10)의 일측에 배치된 데이터 구동부, 게이트 구동부(LS, SR), 타이밍 콘트롤러(TC)를 포함한다.Referring to FIG. 1, an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a display panel 10, a data driver disposed on one side of the display panel 10, a gate driver LS and SR, and a timing controller TC. It includes.

타이밍 콘트롤러(TC)는 외부의 호스트 시스템(HS)으로부터 데이터 인에이블 신호, 수직 동기신호, 수평 동기신호 및 클럭신호 등을 포함하는 구동신호와 더불어 데이터신호(RGB)를 공급받는다.The timing controller TC is supplied with a data signal RGB along with a driving signal including a data enable signal, a vertical synchronization signal, a horizontal synchronization signal, and a clock signal from an external host system HS.

타이밍 콘트롤러(TC)는 구동신호에 기초하여 게이트 구동부(LS, SR)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 게이트 타이밍 제어신호(GDC)와 데이터 구동부의 동작 타이밍을 제어하기 위한 데이터 타이밍 제어신호(DDC)를 출력한다.The timing controller TC includes a gate timing control signal GDC for controlling the operation timing of the gate drivers LS and SR and a data timing control signal DDC for controlling the operation timing of the data driver based on the driving signal. Output.

타이밍 콘트롤러(TC)는 플렉서블 인쇄회로기판(30)에 IC 형태로 형성될 수 있다.The timing controller TC may be formed in the form of an IC on the flexible printed circuit board 30.

데이터 구동부는 타이밍 콘트롤러(TC)로부터 공급되는 데이터 타이밍 제어신호(DDC)에 응답하여 타이밍 콘트롤러(TC)로부터 공급되는 데이터신호(RGB)를 샘플링하고 래치하여 감마 기준전압으로 변환한 후, 그 데이터전압을 게이트펄스(또는 스캔펄스)에 동기되도록 표시패널(10)의 데이터라인들(DL)에 공급한다.The data driver samples and latches the data signal RGB supplied from the timing controller TC in response to the data timing control signal DDC supplied from the timing controller TC, converts it into a gamma reference voltage, and then converts the data voltage. Is supplied to the data lines DL of the display panel 10 so as to be synchronized with the gate pulse (or scan pulse).

데이터 구동부의 데이터 구동 IC(DIC)는 COF(Chip On Film) 공정이나 TAB(Tape Automated Bonding) 공정으로 표시패널(10)의 데이터라인들(DL)에 접속될 수 있다. 도 2의 실시예에서 데이터 구동 IC(DIC)가 일측은 소스인쇄회로기판(DPCB)의 일단부에 접속되고, 타측은 표시패널(10)의 일단부에 부착되는 칩온필름(COF) 상에 실장된 예를 보여주고 있다.The data driving IC (DIC) of the data driving unit may be connected to the data lines DL of the display panel 10 by a chip on film (COF) process or a tape automated bonding (TAB) process. In the embodiment of FIG. 2, one side of the data driving IC (DIC) is connected to one end of the source printed circuit board (DPCB), and the other side is mounted on a chip-on film (COF) attached to one end of the display panel 10. It shows an example.

게이트 구동부는 타이밍 콘트롤러(TC)로부터 공급된 게이트 타이밍 제어신호(GDC)에 응답하여 게이트전압의 레벨을 시프트시키면서 게이트신호를 출력한다. 도 2의 실시예는 게이트 구동부가 GIP(Gate In Panel) 타입인 경우를 예로 든 것으로, 플렉서블 인쇄회로기판(30) 상에 실장된 레벨 쉬프터(LS)와, 표시패널(10)의 기판(SUB)상에 형성된 쉬프트 레지스터(SR)를 포함한다.The gate driver outputs a gate signal while shifting the level of the gate voltage in response to the gate timing control signal GDC supplied from the timing controller TC. The embodiment of FIG. 2 exemplifies a case in which the gate driver is a GIP (Gate In Panel) type, a level shifter LS mounted on the flexible printed circuit board 30 and a substrate SUB of the display panel 10 ), And a shift register SR formed thereon.

레벨 쉬프터(LS)는 타이밍 콘트롤러(TC)로부터 스타트 펄스(ST), 게이트 쉬프트 클럭들(GLCK), 및 플리커 신호(FLK) 등의 신호를 입력 받고, 또한 게이트 하이 전압(VGH), 게이트 로우 전압(VGL) 등의 구동 전압을 공급 받는다.The level shifter LS receives signals such as a start pulse ST, gate shift clocks GLCK, and a flicker signal FLK from the timing controller TC, and also a gate high voltage VGH and a gate low voltage. (VGL) and other driving voltages are supplied.

레벨 쉬프터(LS)는 타이밍 콘트롤러(TC)로부터 입력되는 스타트 펄스(ST)와, 게이트 쉬프트 클럭들(GLCK) 각각을 게이트 하이 전압(VGH)과 게이트 로우 전압(VGL)으로 레벨 쉬프트한 쉬프트 클럭신호들(CLK)을 출력한다.The level shifter LS is a shift clock signal in which the start pulse ST input from the timing controller TC and each of the gate shift clocks GLCK are level shifted to the gate high voltage VGH and the gate low voltage VGL. Outputs CLK.

따라서, 레벨 쉬프터(LS)로부터 출력되는 스타트 펄스(VST)와 쉬프트 클럭신호들(CLK) 각각은 게이트 하이 전압(VGH)과 게이트 로우 전압(VGL) 사이에서 스윙한다. 레벨 쉬프터(LS)는 플리커 신호(FLK)에 따라 게이트 하이 전압을 낮추어 액정 셀의 킥백 전압(Δ을 낮추어 플리커를 줄일 수 있다.Accordingly, each of the start pulse VST and the shift clock signals CLK output from the level shifter LS swings between the gate high voltage VGH and the gate low voltage VGL. The level shifter LS may reduce the flicker by lowering the gate high voltage according to the flicker signal FLK to lower the kickback voltage Δ of the liquid crystal cell.

쉬프트 레지스터(SR)에는 도 2에 도시된 바와 같이 스타트펄스(VST), 클럭신호들(CLK1~CLKn), 게이트 로우 전압(VGL) 및 게이트 하이전압(VGH)이 입력된다. 쉬프트 레지스터(SR)는 종속적으로 접속된 다수의 스테이지들(도시생략)을 포함한다. 클럭신호들(CLK1~n)은 위상이 순차적으로 지연된 n(n은 2 이상의 자연수)상 클럭신호들이다. 클럭신호들(CLK1~CLKn)은 클럭신호 공급라인들(도시생략)을 통해 각 스테이지들에 공급된다.2, a start pulse VST, clock signals CLK1 to CLKn, a gate low voltage VGL, and a gate high voltage VGH are input to the shift register SR. The shift register SR includes a plurality of stages (not shown) that are connected to each other. The clock signals CLK1 to n are n (n is a natural number of 2 or more) phase clock signals whose phases are sequentially delayed. The clock signals CLK1 to CLKn are supplied to each stage through clock signal supply lines (not shown).

쉬프트 레지스터(SR)는 레벨 쉬프터(LS)로부터 입력되는 스타트 펄스(VST)를 게이트 쉬프트 클럭신호들(CLK1~CLKn)에 따라 쉬프트함으로써 게이트 하이 전압(VGH)과 게이트 로우 전압(VGL) 사이에서 스윙하는 게이트 펄스를 순차적으로 쉬프트시킨다. 쉬프트 레지스터(SR)로부터 출력되는 게이트 펄스는 게이트 라인들(GL)에 순차적으로 공급된다.The shift register SR swings between the gate high voltage VGH and the gate low voltage VGL by shifting the start pulse VST input from the level shifter LS according to the gate shift clock signals CLK1 to CLKn. The gate pulses to be shifted are sequentially shifted. The gate pulse output from the shift register SR is sequentially supplied to the gate lines GL.

표시패널(10)은 액티브 영역(AA)과 베젤영역(BA)을 포함한다. 액티브 영역(AA)은 입력 영상이 표시되는 영역으로 픽셀 어레이가 배치되는 영역이다. 베젤영역(BA)은 입력 영상이 표시되지 않는 영역으로 게이트 구동회로의 쉬프트 레지스터 및 각종 신호배선과 전원 공급라인이 배치되는 영역이다.The display panel 10 includes an active area AA and a bezel area BA. The active area AA is an area in which an input image is displayed and an area in which a pixel array is disposed. The bezel area BA is an area in which an input image is not displayed, and is a region in which shift registers of the gate driving circuit, various signal wirings, and power supply lines are disposed.

표시패널(10)의 픽셀 어레이는 데이터라인들(DL)과 게이트라인들(GL)의 교차에 의해 정의된 픽셀들을 포함한다.The pixel array of the display panel 10 includes pixels defined by the intersection of the data lines DL and the gate lines GL.

픽셀들 각각은 자기발광 소자인 유기발광 다이오드(Organic Light Emitting Diode)를 포함한다.Each of the pixels includes an organic light emitting diode, which is a self-light emitting device.

도 1을 참조하면, 표시패널(10)에는 다수의 데이터라인들(DL)과, 다수의 게이트라인들(GL)이 교차되고, 이 교차 영역마다 픽셀들이 매트릭스 형태로 배치된다. 픽셀들 각각은 유기발광 다이오드(OLED), 유기발광 다이오드(OLED)에 흐르는 전류량을 제어하는 구동 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, 이하 TFT라 함)(DT), 구동 TFT(DT)의 게이트-소스간 전압을 세팅하기 위한 프로그래밍부(SC)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a plurality of data lines DL and a plurality of gate lines GL are intersected on the display panel 10, and pixels are arranged in a matrix form for each of the intersecting areas. Each of the pixels is an organic light emitting diode (OLED), a driving thin film transistor (Thin Film Transistor, hereinafter referred to as TFT) (DT) that controls the amount of current flowing through the organic light emitting diode (OLED), and the gate-source of the driving TFT (DT) And a programming unit SC for setting the voltage.

프로그래밍부(SC)는 적어도 하나 이상의 스위치 TFT와, 적어도 하나 이상의 스토리지 캐패시터를 포함할 수 있다.The programming unit SC may include at least one switch TFT and at least one storage capacitor.

스위치 TFT는 게이트 라인(GL)으로부터의 스캔 신호에 응답하여 턴 온 됨으로써, 데이터라인(DL)으로부터의 데이터전압을 스토리지 캐패시터의 일측 전극에 인가한다.The switch TFT is turned on in response to the scan signal from the gate line GL, thereby applying the data voltage from the data line DL to one electrode of the storage capacitor.

구동 TFT(DT)는 스토리지 캐패시터에 충전된 전압의 크기에 따라 유기발광 다이오드(OLED)로 공급되는 전류량을 제어하여 유기발광 다이오드(OLED)의 발광량을 조절한다. 유기발광 다이오드(OLE)의 발광량은 구동 TFT(DT)로부터 공급되는 전류량에 비례한다.The driving TFT (DT) controls the amount of current supplied to the organic light emitting diode (OLED) according to the magnitude of the voltage charged in the storage capacitor to adjust the amount of light emitted from the organic light emitting diode (OLED). The amount of light emitted from the organic light emitting diode OLE is proportional to the amount of current supplied from the driving TFT DT.

각각의 픽셀은 고전위 전원 전압원(EVDD)과 저전위 전원 전압원(EVSS)에 연결되어, 전원 발생부(도시생략)로부터 각각 고전위 전원 전압과 저전위 전원 전압을 공급받는다.Each pixel is connected to a high-potential power supply voltage source (EVDD) and a low-potential power supply voltage source (EVSS), and receives a high-potential power supply voltage and a low-potential power supply voltage from a power generator (not shown), respectively.

픽셀을 구성하는 TFT들은 p 타입으로 구현되거나 또는, n 타입으로 구현될 수 있다. 또한, 픽셀을 구성하는 TFT들의 반도체층은, 비정질 실리콘 또는, 폴리 실리콘 또는, 산화물을 포함할 수 있다. 유기발광 다이오드(OLE)는 애노드 전극(ANO), 캐소드 전극(CAT), 및 애노드 전극(ANO)과 캐소드 전극(CAT) 사이에 개재된 유기막층(도시 생략)을 포함한다. 애노드 전극(ANO)은 구동 TFT(DT)와 접속된다. 유기막층은 발광층(Emission layer, EML)을 포함하고, 발광층을 사이에 두고 정공 주입층(Hole injection layer, HIL) 및 정공 수송층(Hole transport layer, HTL)과 전자 수송층(Electron transport layer, ETL) 및 전자주입층(Electron injection layer, EIL)이 배치될 수 있다.The TFTs constituting the pixel may be implemented in p-type or n-type. Further, the semiconductor layer of the TFTs constituting the pixel may include amorphous silicon, polysilicon, or oxide. The organic light emitting diode OLE includes an anode electrode ANO, a cathode electrode CAT, and an organic layer (not shown) interposed between the anode electrode ANO and the cathode electrode CAT. The anode electrode ANO is connected to the driving TFT DT. The organic layer includes an emission layer (EML), a hole injection layer (HIL) and a hole transport layer (HTL), an electron transport layer (ETL), and An electron injection layer (EIL) may be disposed.

다음으로, 도 3 및 도 4를 참조하여, 본 발명의 실시예에 따르는 유기발광 표시장치의 구조에 대해 보다 구체적으로 설명하기로 한다Next, with reference to FIGS. 3 and 4, the structure of the organic light emitting display device according to the exemplary embodiment of the present invention will be described in more detail.

도 3은 본 발명의 실시예에 따르는 유기 발광 표시 장치의 표시패널의 일부 영역을 도시한 평면도이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따르는 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.3 is a plan view illustrating a partial area of a display panel of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention.

일반적인 유기 발광 표시 장치의 표시패널의 평면을 나타낸 도 3을 참조하면, 영상이 표시되는 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA)의 테두리를 따라 영상이 표시되지 않는 비표시 영역(NDA)이 정의된다.Referring to FIG. 3, which shows a plane of a display panel of a general organic light emitting diode display, an image display area DA and a non-display area NDA not displaying an image along a border of the display area DA are defined. do.

이 때, 비표시 영역(NDA)은 베젤 영역이라고도 정의되며, 비표시 영역(NDA)에는 빛을 차단하기 위한 차광층이 구비됨으로써 유기 발광 표시 장치가가 구동되지 않을 시 표시 영역(DA)과 동일한 색상을 나타내도록 구비된다In this case, the non-display area NDA is also defined as a bezel area, and the non-display area NDA is provided with a light-blocking layer for blocking light, so that the organic light emitting display device is the same as the display area DA when it is not driven. It is provided to show the color

통상적으로, 정렬 구조물은 영상이 표시되지 않는 비표시 영역(NDA)에 구비되며, 기판의 상부 또는 하부에서 카메라를 통해 정렬 구조물과 부착하고자 하는 구동부 등을 정렬하여 부착하게 된다Typically, the alignment structure is provided in the non-display area NDA in which an image is not displayed, and the alignment structure and a driver to be attached are aligned and attached through a camera at the top or bottom of the substrate.

도 4는 상기 유기발광 표시장치의 단면도이다. 유기발광 표시장치(200)의 경우, 표시 영역(DA)에는 베이스 층(201) 상에 박막트랜지스터(220), 유기발광 소자(240) 및 각종 기능 층(layer)들이 위치한다.4 is a cross-sectional view of the organic light emitting display device. In the case of the organic light emitting display device 200, the thin film transistor 220, the organic light emitting device 240, and various functional layers are positioned on the base layer 201 in the display area DA.

베이스 층(201)은 유기 발광 표시 장치(200)의 다양한 구성요소들을 지지한다. 베이스 층(201)은 투명한 절연 물질, 예를 들어 유리, 플라스틱 등과 같은 절연 물질로 형성될 수 있다. 기판(어레이 기판)은, 상기 베이스 층(201) 위에 형성된 소자 및 기능 층, 예를 들어 스위칭 TFT, 구동 TFT, 유기 발광 소자, 보호막 등을 포함하는 개념으로 지칭되기도 한다.The base layer 201 supports various components of the organic light emitting diode display 200. The base layer 201 may be formed of a transparent insulating material, for example, an insulating material such as glass or plastic. The substrate (array substrate) may also be referred to as a concept including an element and a functional layer formed on the base layer 201, for example, a switching TFT, a driving TFT, an organic light emitting element, and a protective film.

버퍼 층(202)이 베이스 층(201) 상에 위치할 수 있다. 상기 버퍼 층(buffer layer)은 베이스 층(201) 또는 하부의 층들에서 유출되는 알칼리 이온 등과 같은 불순물로부터 박막트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)를 보호하기 위한 기능 층이다. 상기 버퍼 층(202)은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx) 또는 이들의 다층으로 이루어질 수 있다.A buffer layer 202 can be located on the base layer 201. The buffer layer is a functional layer for protecting a thin film transistor (TFT) from impurities such as alkali ions flowing out of the base layer 201 or lower layers. The buffer layer 202 may be made of silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiNx), or multiple layers thereof.

상기 버퍼 층(202) 또는 상기 베이스 층(201) 위에 박막트랜지스터가 놓인다. 박막트랜지스터는 반도체 층(221), 게이트 절연층(225), 게이트 전극(222), 층간 절연층(interlayer dielectric layer, 226), 소스 전극(228) 및 드레인 전극(224)이 순차적으로 적층된 형태일 수 있다. 반도체 층(221)은 폴리 실리콘(p-Si)으로 만들어질 수 있으며, 이 경우 소정의 영역이 불순물로 도핑될 수도 있다. 또한, 반도체 층(221)은 아몰포스 실리콘(a-Si)으로 만들어질 수도 있고, 펜타센 등과 같은 다양한 유기 반도체 물질로 만들어질 수도 있다. 나아가 반도체 층(221)은 산화물(oxide)로 만들어질 수도 있다. A thin film transistor is placed on the buffer layer 202 or the base layer 201. In the thin film transistor, a semiconductor layer 221, a gate insulating layer 225, a gate electrode 222, an interlayer dielectric layer 226, a source electrode 228, and a drain electrode 224 are sequentially stacked. Can be The semiconductor layer 221 may be made of polysilicon (p-Si), in which case a predetermined region may be doped with impurities. In addition, the semiconductor layer 221 may be made of amorphous silicon (a-Si), or may be made of various organic semiconductor materials such as pentacene. Furthermore, the semiconductor layer 221 may be made of oxide.

게이트 전극(222)은 다양한 도전성 물질, 예컨대, 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 금(Au) 또는 이들의 합금 등으로 형성될 수 있다.The gate electrode 222 may be formed of various conductive materials, such as magnesium (Mg), aluminum (Al), nickel (Ni), chromium (Cr), molybdenum (Mo), tungsten (W), gold (Au), or alloys thereof. And the like.

게이트 절연층(225), 층간 절연층(226)은 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx) 등과 같은 절연성 물질로 형성될 수 있으며, 이외에도 절연성 유기물 등으로 형성될 수도 있다. 게이트 절연층(225)과 층간 절연층(226)의 선택적 제거로 소스 및 드레인 영역이 노출되는 컨택 홀(contact hole)이 형성될 수 있다.The gate insulating layer 225 and the interlayer insulating layer 226 may be formed of an insulating material such as silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx), or may be formed of an insulating organic material. Selective removal of the gate insulating layer 225 and the interlayer insulating layer 226 may form contact holes through which source and drain regions are exposed.

소스 전극(228) 및 드레인 전극(224)은 게이트 절연층(225) 또는 층간 절연층(226) 상에 전극용 물질로 단일층 또는 다층의 형상으로 형성된다. 필요에 따라 무기 절연 물질로 구성된 보호 층(passivation)이 상기 소스 및 드레인 전극(218)을 덮을 수도 있다.The source electrode 228 and the drain electrode 224 are formed on the gate insulating layer 225 or the interlayer insulating layer 226 in the form of a single layer or multiple layers as an electrode material. If necessary, a passivation layer made of an inorganic insulating material may cover the source and drain electrodes 218.

평탄화 층(227)이 박막트랜지스터 상에 위치할 수 있다. 평탄화 층(227)은 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀을 구비한다. 평탄화 층(227)은 유기 발광 소자를 구성하는 유기발광 층(242)을 매끈한 평면 상태에서 도포하기 위해 기판 표면의 거칠기를 균일하게 하는 기능을 한다. 평탄화 층(227)은 다양한 형태로 구성될 수 있는데, BCB(Benzocyclobutene) 또는 아크릴(Acryl) 등과 같은 유기 절연막, 또는 실리콘 질화막(SiNx), 실리콘 산화막(SiOx)와 같은 무기 절연막으로 형성될 수도 있고, 단층으로 형성되거나 이중 혹은 다중 층으로 구성될 수도 있는 등 다양한 변형이 가능하다.A planarization layer 227 may be located on the thin film transistor. The planarization layer 227 has a contact hole exposing the drain electrode of the thin film transistor. The planarization layer 227 functions to uniformize the roughness of the substrate surface in order to apply the organic light emitting layer 242 constituting the organic light emitting device in a smooth flat state. The planarization layer 227 may be formed in various forms, such as an organic insulating film such as Benzocyclobutene (BCB) or acrylic (Acryl), or an inorganic insulating film such as a silicon nitride film (SiNx) or a silicon oxide film (SiOx). Various modifications are possible, such as being formed in a single layer or composed of double or multiple layers.

유기 발광 소자는 제1 전극(241), 유기발광 층(242), 제2 전극(243)이 순차적으로 배치된 형태일 수 있다. 즉, 유기 발광 소자는 평탄화 층(227) 상에 형성된 제1 전극(241), 제1 전극(241) 상에 위치한 유기발광 층(242) 및 유기발광 층(242) 상에 위치한 제2 전극(243)으로 구성될 수 있다.The organic light emitting device may have a shape in which the first electrode 241, the organic emission layer 242, and the second electrode 243 are sequentially arranged. That is, the organic light emitting device includes a first electrode 241 formed on the planarization layer 227, an organic emission layer 242 positioned on the first electrode 241, and a second electrode located on the organic emission layer 242 ( 243).

제1 전극(241)은 컨택 홀을 통해 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극(224)과 전기적으로 연결된다. 유기 발광 표시 장치(200)가 상부 발광(top emission) 방식인 경우, 이러한 제1 전극(241)은 반사율이 높은 불투명한 도전 물질로 만들어질 수 있다. 예를 들면, 제1 전극(241)은 은(Ag), 알루미늄(Al), 금(Au), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 크롬(Cr) 또는 이들의 합금 등으로 형성될 수 있다. 상기 제1 전극(241)은 유기발광 다이오드의 애노드(anode)일 수 있다.The first electrode 241 is electrically connected to the drain electrode 224 of the driving thin film transistor through the contact hole. When the organic light emitting diode display 200 is of a top emission type, the first electrode 241 may be made of an opaque conductive material having high reflectivity. For example, the first electrode 241 may be formed of silver (Ag), aluminum (Al), gold (Au), molybdenum (Mo), tungsten (W), chromium (Cr), or alloys thereof. . The first electrode 241 may be an anode of an organic light emitting diode.

뱅크(244)는 발광 영역을 제외한 나머지 영역에 형성된다. 이에 따라, 뱅크(244)는 발광 영역과 대응되는 제1 전극(241)을 노출시키는 뱅크 홀을 가진다. 뱅크(244)는 실리콘 질화막(SiNx), 실리콘 산화막(SiOx)와 같은 무기 절연 물질 또는 BCB, 아크릴계 수지 또는 이미드계 수지와 같은 유기 절연물질로 만들어질 수 있다.The bank 244 is formed in regions other than the light emitting region. Accordingly, the bank 244 has a bank hole exposing the first electrode 241 corresponding to the emission region. The bank 244 may be made of an inorganic insulating material such as a silicon nitride film (SiNx) or a silicon oxide film (SiOx) or an organic insulating material such as BCB, acrylic resin or imide resin.

스페이서(245)는 뱅크(244) 상에 형성될 수 있다. 스페이서는 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기막으로 형성될 수 있다. 스페이서는 생략될 수 있다.The spacer 245 may be formed on the bank 244. The spacer may be formed of an organic film such as an acrylic resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, or a polyimide resin. Spacers can be omitted.

유기발광 층(242)이 뱅크(244)에 의해 노출된 제1 전극(241) 상에 위치한다. 유기발광 층(242)은 발광층, 전자주입층, 전자수송층, 정공수송층, 정공주입층 등을 포함할 수 있다. 상기 유기발광 층은, 하나의 빛을 발광하는 단일 발광층 구조로 구성될 수도 있고, 복수 개의 발광층으로 구성되어 백색 광을 발광하는 구조로 구성될 수도 있다. The organic light emitting layer 242 is positioned on the first electrode 241 exposed by the bank 244. The organic light emitting layer 242 may include a light emitting layer, an electron injection layer, an electron transport layer, a hole transport layer, a hole injection layer, and the like. The organic light emitting layer may be configured as a single light emitting layer structure that emits one light, or may be composed of a plurality of light emitting layers to emit white light.

제2 전극(243)이 유기발광 층(242) 상에 위치한다. 유기발광 표시장치(200)가 상부 발광(top emission) 방식인 경우, 제2 전극(243)은 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide; ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Induim Zinc Oxide; IZO) 등과 같은 투명한 도전 물질로 형성됨으로써 유기발광 층(242)에서 생성된 광을 제2 전극(243) 상부로 방출시킨다. 상기 제2 전극(243)은 유기발광 다이오드의 캐소드(cathode)일 수 있다The second electrode 243 is positioned on the organic light emitting layer 242. When the organic light emitting display 200 is a top emission method, the second electrode 243 is a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO). By being formed of a material, light generated in the organic emission layer 242 is emitted over the second electrode 243. The second electrode 243 may be a cathode of an organic light emitting diode.

제 2 전극(243)은 봉지부(230)로 덮일 수 있다. 봉지부(230)는 제 1 봉지층(231), 제 2 봉지층(233), 및 이물보상층(232)을 포함할 수 있다.The second electrode 243 may be covered with an encapsulation portion 230. The encapsulation unit 230 may include a first encapsulation layer 231, a second encapsulation layer 233, and a foreign material compensation layer 232.

제 1 봉지층(231)은 무기물 계열로 형성된다. 제 1 봉지층(231)은 질화실리콘(SiNx) 또는 산화알루미늄(AlyOz) 중 하나를 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition; CVD) 또는 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition; ALD) 등의 진공성막법을 사용하여 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. The first encapsulation layer 231 is formed of an inorganic material series. The first encapsulation layer 231 uses one of silicon nitride (SiNx) or aluminum oxide (AlyOz) using a vacuum deposition method such as Chemical Vapor Deposition (CVD) or Atomic Layer Deposition (ALD). It may be formed, but is not limited thereto.

이물보상층(232)은 유기물 계열로 형성된다. 이물보상층(232)은 실리콘옥시카본(SiOCz)이 사용되거나, 아크릴(Acryl) 또는 에폭시(Epoxy) 계열의 레진(Resin)이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들어, 이물보상층(232)이 SiOCz로 형성되는 경우, CVD 공정으로 이물보상층(232)이 형성될 수 있다. SiOCz는 무기물이나, 특정 조건하에서 유기물로 분류될 수 있다. 구체적으로 설명하면, SiOCz는 실리콘과 탄소의 원자 비율(C/Si) 비율에 따라 흐름성이 달라지게 된다. 예를 들어, SiOCz의 흐름성이 나빠지면 무기물에 가까운 특성을 가지게 되므로 이물을 보상하는 성능이 저하되고 흐름성이 좋아지면 유기물에 가까운 특성을 가지게 되므로 이물을 보상하는 성능이 향상된다. SiOCz의 C/Si 비율은 CVD 공정 중 산소(O2)와 헥사메틸다이실록산(Hexamethyldisiloxane; HMDSO)의 비율을 조절하여 제어될 수 있다. 특히 SiOCz로 이물보상층(232)을 형성하면 봉지부(230)의 두께가 매우 얇게 구현될 수 있고, 유기 발광 표시 장치(200)의 두께가 저감될 수 있다. The foreign material compensation layer 232 is formed of an organic material series. As the foreign material compensation layer 232, silicon oxycarbon (SiOCz) may be used, or acryl or epoxy-based resin may be used, but is not limited thereto. For example, when the foreign material compensation layer 232 is formed of SiOCz, the foreign material compensation layer 232 may be formed by a CVD process. SiOCz is inorganic, but can be classified as organic under certain conditions. Specifically, SiOCz has a different flowability depending on the atomic ratio (C / Si) ratio of silicon and carbon. For example, when the flowability of SiOCz deteriorates, it has characteristics close to inorganic matters, so the performance for compensating foreign matters is deteriorated. When the flowability is improved, it has characteristics close to organic matters, so performance for compensating foreign matters is improved. The C / Si ratio of SiOCz can be controlled by adjusting the ratio of oxygen (O2) and hexamethyldisiloxane (HMDSO) during the CVD process. In particular, when the foreign material compensation layer 232 is formed of SiOCz, the thickness of the encapsulation unit 230 may be very thin, and the thickness of the organic light emitting diode display 200 may be reduced.

예를 들어, 이물보상층(232)이 아크릴 또는 에폭시 계열의 레진으로 형성되는 경우, 슬릿 코팅(Slit Coating) 또는 스크린 프린팅(Screen Printing) 공정으로 이물보상층(232)이 형성될 수 있다. 이 때, 에폭시 계열의 레진은 고점도의 비스페놀-A-에폭시(Bisphenol-A-Epoxy) 또는 저점도의 비스페놀-F-에폭시(Bisphenol-F-Epoxy) 등이 사용 가능하다. 이물보상층(232)은 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 레진의 균일도를 개선하기 위해서 레진의 표면장력을 감소시키는 습윤제(Wetting agent), 레진의 표면 평탄성을 개선하기 위한 레벨링제(Leveling agent), 레진에 포함된 기포를 제거하기 위한 소포제(Defoaming agent)가 첨가제로서 더 추가될 수 있다. 이물보상층(232)은 개시제를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 열에 의해서 연쇄 반응을 개시시킴에 의해 액상 레진을 경화시키는 안티몬(Antimony) 계열의 개시제 또는 무수물(Anhydride)계열의 개시제를 사용하는 것이 가능하다. For example, when the foreign material compensation layer 232 is formed of an acrylic or epoxy-based resin, the foreign material compensation layer 232 may be formed by a slit coating or a screen printing process. At this time, the epoxy-based resin may be a high viscosity bisphenol-A-epoxy (Bisphenol-A-Epoxy) or a low viscosity bisphenol-F-epoxy (Bisphenol-F-Epoxy). The foreign material compensation layer 232 may further include an additive. For example, a wetting agent that reduces the surface tension of the resin to improve the uniformity of the resin, a leveling agent to improve the surface flatness of the resin, and an antifoaming agent to remove bubbles contained in the resin ( Defoaming agent) may be further added as an additive. The foreign material compensation layer 232 may further include an initiator. For example, it is possible to use an antimony-based initiator or an anhydride-based initiator that cures the liquid resin by initiating a chain reaction by heat.

추가적으로, 레진의 온도가 상승하면, 액상 레진의 점도가 급속도로 낮아지다가, 일정 시간이 지나면 경화가 시작되면서 점도가 급상승하여 경화가 완료된다. 하지만 점도가 낮아지는 일정 시간 동안에는 레진은 유동성이 높기 때문에, 이 때 과도포 현상이 발생할 가능성이 특히 증가하게 된다In addition, when the temperature of the resin increases, the viscosity of the liquid resin rapidly decreases, and after a certain period of time, the curing begins and the viscosity rises rapidly to complete curing. However, since the resin has high fluidity for a certain period of time during which the viscosity decreases, the possibility of over-applying is particularly increased.

이물보상층(232)은 공정 상 발생할 수 있는 이물 또는 파티클(Particle)을 커버하도록 기능한다. 예를 들어, 제 1 봉지층(231)에는 이물 또는 파티클에 의해서 발생된 크랙에 의한 불량이 존재할 수 있다. 하지만 이물보상층(232)에 의해서 이러한 굴곡 및 이물이 덮힐 수 있고 이물보상층(232)의 상면은 평탄화 된다. 즉, 이물보상층(232)은 이물을 보상하고 표시 영역(110)을 평탄화시킨다. 그 결과, 이물보상층(232)은 보상층으로 지칭될 수도 있다.The foreign material compensation layer 232 functions to cover foreign materials or particles that may occur in the process. For example, the first encapsulation layer 231 may have defects due to cracks generated by foreign substances or particles. However, the curvature and the foreign material may be covered by the foreign material compensation layer 232, and the upper surface of the foreign material compensation layer 232 may be flattened. That is, the foreign material compensation layer 232 compensates for the foreign material and flattens the display area 110. As a result, the foreign material compensation layer 232 may be referred to as a compensation layer.

제 2 봉지층(233)은 이물보상층(232) 및 제 1 봉지층(231) 상에 형성된다. 제1 봉지층(231)과 제2 봉지층(233)은 표시 패널의 외곽부에서 서로 접촉하도록 형성된다. 즉, 제 1 봉지층(231)과 제 2 봉지층(233)에 의해서 이물보상층(232)이 밀봉될 수 있다. 이러한 구조에 따르면 이물보상층(232)은 제 1 봉지층(131) 및 제 2 봉지층(233)에 의해서 밀봉되게 되어 이물보상층(232)을 통한 직접적인 수분 침투 경로가 억제된다.The second encapsulation layer 233 is formed on the foreign material compensation layer 232 and the first encapsulation layer 231. The first encapsulation layer 231 and the second encapsulation layer 233 are formed to contact each other at an outer portion of the display panel. That is, the foreign matter compensation layer 232 may be sealed by the first encapsulation layer 231 and the second encapsulation layer 233. According to this structure, the foreign material compensation layer 232 is sealed by the first encapsulation layer 131 and the second encapsulation layer 233, thereby suppressing a direct water infiltration path through the foreign material compensation layer 232.

이하에서는 도 5를 참조하여 정렬구조물을 상세히 살펴본다.Hereinafter, the alignment structure will be described in detail with reference to FIG. 5.

도 5에 도시된 표시 장치는 베이스 층(301) 상에 형성된 정렬구조물을 포함한다. 이때, 베이스 층(301)은 복수의 화소들이 형성된 표시 영역과 표시 영역의 주변에 있는 비표시 영역을 포함한다.The display device illustrated in FIG. 5 includes an alignment structure formed on the base layer 301. At this time, the base layer 301 includes a display area in which a plurality of pixels are formed and a non-display area around the display area.

정렬구조물은 비표시 영역에 형성된다. 정렬구조물은 무기물 층(350) 및 금속층(341)을 포함한다.The alignment structure is formed in the non-display area. The alignment structure includes an inorganic layer 350 and a metal layer 341.

무기물 층(350)은 앞에서 설명한 버퍼층(302), 게이트 절연층(325) 및 층간 절연층(326) 중 적어도 하나 이상의 층으로 형성될 수 있다. The inorganic layer 350 may be formed of at least one layer of the buffer layer 302, the gate insulating layer 325, and the interlayer insulating layer 326 described above.

금속층(341)은 표시 패널의 모서리에 배치될 수 있다. 금속층은 소정의 패턴을 가질 수 있다. 도3 에서는 금속층(341)이 십자가 형상을 가지는 것으로 도시하고 있으나, 이에 한정되지 않는다. The metal layer 341 may be disposed at the edge of the display panel. The metal layer may have a predetermined pattern. 3, the metal layer 341 is illustrated as having a cross shape, but is not limited thereto.

금속층(341)은 제1 전극(241)으로 형성된 단일층일 수 있으나, 다중층일 수도 있다. The metal layer 341 may be a single layer formed of the first electrode 241, or may be a multiple layer.

보호층(360)은 금속층(341) 상에 형성되어 금속층(341)이 파손되지 않도록 보호한다. 보호층(360)은 뱅크(244) 및 스페이서(245) 중 적어도 하나와 동시에 형성될 수 있으며, 뱅크(244) 및 스페이서(245) 중 적어도 하나와 같은 물질로 이루어질 수 있다. 이와 같은 경우 보호층(360)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기 물질로 형성될 수 있다.The protective layer 360 is formed on the metal layer 341 to protect the metal layer 341 from being damaged. The protective layer 360 may be formed simultaneously with at least one of the bank 244 and the spacer 245, and may be made of the same material as at least one of the bank 244 and the spacer 245. In this case, the protective layer 360 is made of an organic material such as an acrylic resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, or a polyimide resin. Can be formed.

한편, 별도의 보호층(360)을 형성할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 보호층(360)은 생략될 수도 있다. 이와 같은 경우, 금속층(341)은 봉지부(230)에 의하여 보호될 수 있다.Meanwhile, a separate protective layer 360 may be formed, but is not limited thereto. The protective layer 360 may be omitted. In this case, the metal layer 341 may be protected by the encapsulation portion 230.

상술한 것과 같이, 정렬구조물을 통해 표시패널에 편광판을 부착할 때 합착 위치 조정으로 표시패널과 편광판을 어긋남 없이 합착할 수 있으나, 본 명세서의 발명자들은 정렬구조물의 금속층과 관련한 문제도 있음을 발견하였다. 즉, 금속층의 하부층인 무기물층 형성 시, 고온 열처리 및 표면처리 과정으로 인하여 그 표면의 평탄도가 나빠져서 금속층 증착 시 접착력이 떨어지며, 금속층 패터닝 시 식각액이 접착력이 떨어진 부위로 흘러들어가게 된다. 이와 같은 경우, 금속층의 유실이 발생하여 편광판 부착 공정 시 정렬이 어긋나는 현상이 관찰되었다. 이에 따라 본 발명자들은 금속층이 유실되는 문제를 해소할 수 있는 개선 구조를 고안하였다.As described above, when attaching the polarizing plate to the display panel through the alignment structure, the display panel and the polarizing plate can be bonded without misalignment by adjusting the bonding position, but the inventors of the present specification have found that there is also a problem with the metal layer of the alignment structure. . That is, when forming the inorganic layer, which is the lower layer of the metal layer, the flatness of the surface deteriorates due to the high temperature heat treatment and the surface treatment process, so that the adhesive strength decreases when the metal layer is deposited, and the etching solution flows to the portion where the adhesive strength is decreased when patterning the metal layer. In such a case, a phenomenon in which alignment of the metal layers was misaligned during the process of attaching the polarizer due to loss of the metal layer was observed. Accordingly, the present inventors devised an improved structure capable of solving the problem of the metal layer being lost.

도 6은 본 명세서의 일 실시예에 따른 표시장치를 나타내는 예시적인 도면이다.6 is an exemplary diagram illustrating a display device according to an exemplary embodiment of the present specification.

도 6에서 정렬구조물을 제외한 나머지 구조는 도 5에서 설명된 것과 동일하므로, 중복 설명은 생략한다. 다만, 이하에서 설명되는 표시장치는 도 5와는 달리 정렬구조물이 유기물 층(427)을 더 포함하고 있는 바, 이하에서는 그 차이점을 중심으로 설명한다.In FIG. 6, the rest of the structure except for the alignment structure is the same as that described in FIG. 5, and duplicate description is omitted. However, in the display device described below, unlike FIG. 5, the alignment structure further includes an organic material layer 427, which will be mainly described below.

도 6에 도시된 것과 같이, 정렬구조물은 무기물 층(460), 유기물 층(427) 및 금속층(441)을 포함한다.As shown in FIG. 6, the alignment structure includes an inorganic layer 460, an organic layer 427, and a metal layer 441.

무기물 층(450)은 앞에서 설명한 버퍼층(402), 게이트 절연층(425) 및 층간 절연층(426) 중 적어도 하나 이상의 층으로 형성될 수 있다. 즉, 무기물 층(450)은 버퍼층(402), 게이트 절연층(425) 및 층간 절연층(426) 중 하나의 층으로만 형성될 수 있으며, 이 층들 중 선택적으로 두 개의 층으로 형성될 수도 있다. 그리고 세 개의 층이 모두 형성될 수 있다.The inorganic layer 450 may be formed of at least one of the buffer layer 402, the gate insulating layer 425, and the interlayer insulating layer 426 described above. That is, the inorganic layer 450 may be formed of only one of the buffer layer 402, the gate insulating layer 425, and the interlayer insulating layer 426, and may be formed of two layers selectively among these layers. . And all three layers can be formed.

유기물 층(427)은 무기물 층(450) 상에 직접 접하여 형성된다. 유기물 층(427)은 앞에서 설명한 평탄화 층(427)과 동시에 형성될 수 있으며 평탄화 층(427)과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 예를 들면, BCB(Benzocyclobutene) 또는 아크릴(Acryl) 등과 같은 물질로 형성될 수 있다.The organic layer 427 is formed by directly contacting the inorganic layer 450. The organic material layer 427 may be formed simultaneously with the planarization layer 427 described above, and may be formed of the same material as the planarization layer 427. For example, it may be formed of a material such as BCB (Benzocyclobutene) or acrylic (Acryl).

금속층(441)은 유기물 층(427)의 상부에 직접 접하여 형성된다. 금속층(441)은 소정의 패턴을 가질 수 있다. 도 3에서는 금속층(441)이 십자가 형상을 가지는 것으로 도시하고 있으나, 이에 한정되지 않는다. 금속층(441)은 원형, 사각형, 삼각형, 막대형 등 다양한 형상으로 패턴 형성될 수 있다. 금속층(441)은 유기 발광 소자의 제1 전극(241)과 동시에 형성될 수 있으며, 제1 전극(241)과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 이와 같은 경우, 금속층(441)은 은(Ag), 알루미늄(Al), 금(Au), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 크롬(Cr) 또는 이들의 합금 등으로 형성될 수 있다. The metal layer 441 is formed in direct contact with the top of the organic layer 427. The metal layer 441 may have a predetermined pattern. 3, the metal layer 441 is illustrated as having a cross shape, but is not limited thereto. The metal layer 441 may be patterned in various shapes such as circular, square, triangular, and rod shapes. The metal layer 441 may be formed at the same time as the first electrode 241 of the organic light emitting device, and may be formed of the same material as the first electrode 241. In this case, the metal layer 441 may be formed of silver (Ag), aluminum (Al), gold (Au), molybdenum (Mo), tungsten (W), chromium (Cr), or alloys thereof.

금속층(441)은 제1 전극(241)으로 형성된 단일층일 수 있으나, 다중층일 수도 있다. 이와 같은 경우, 금속층(441)의 하부층은 제1 전극(241)과 동일한 물질로 형성될 수 있고, 하부층의 상부에 유기 발광 소자의 제2 전극(243)과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 예를 들면 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide; ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Induim Zinc Oxide; IZO) 등으로 형성될 수 있다.The metal layer 441 may be a single layer formed of the first electrode 241, but may also be a multiple layer. In this case, the lower layer of the metal layer 441 may be formed of the same material as the first electrode 241, and may be formed of the same material as the second electrode 243 of the organic light emitting device on the lower layer. For example, it may be formed of Indium Tin Oxide (ITO) or Induim Zinc Oxide (IZO).

보호층(460)은 금속층(441) 상에 형성되어 금속층(441)이 파손되지 않도록 보호한다. 보호층(460)은 뱅크(244) 및 스페이서(245) 중 적어도 하나와 동시에 형성될 수 있으며, 뱅크(244) 및 스페이서(245) 중 적어도 하나와 같은 물질로 이루어질 수 있다. 이와 같은 경우 보호층(460)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기 물질로 형성될 수 있다.The protective layer 460 is formed on the metal layer 441 to protect the metal layer 441 from being damaged. The protective layer 460 may be formed simultaneously with at least one of the bank 244 and the spacer 245, and may be made of the same material as at least one of the bank 244 and the spacer 245. In this case, the protective layer 460 is an organic material such as an acrylic resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, or a polyimide resin. Can be formed.

한편, 별도의 보호층을 형성할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 보호층은 생략될 수도 있다. 이와 같은 경우, 금속층(441)은 봉지부(230)에 의하여 보호될 수 있다.Meanwhile, a separate protective layer may be formed, but is not limited thereto. The protective layer may be omitted. In this case, the metal layer 441 may be protected by the encapsulation portion 230.

상술한 것과 같이, 금속층(441)의 하부에 유기물 층(427)을 형성하게 되면 유기물 층(427)은 표면 평탄도가 무기물 층보다 좋아 상부에 금속층(441) 증착 시 접착력이 향상될 수 있다. 이럴 경우 금속층(441) 패터닝 시 식각액이 금속층과 유기물 층의 계면으로 흘러들어가지 않게 되며 금속층(441)의 유실이 방지된다. 결국 금속층(441)의 유실로 정렬구조물이 데미지를 받게 되는 현상이 개선되어 편광판 부착 공정 시 오정렬(mis-align)을 방지할 수 있다. As described above, when the organic layer 427 is formed under the metal layer 441, the organic layer 427 has a better surface flatness than the inorganic layer, and adhesion may be improved when the metal layer 441 is deposited thereon. In this case, when patterning the metal layer 441, the etchant does not flow into the interface between the metal layer and the organic material layer, and the metal layer 441 is prevented from being lost. As a result, the phenomenon that the alignment structure is damaged due to the loss of the metal layer 441 is improved, and thus mis-alignment may be prevented in the process of attaching the polarizing plate.

본 발명의 다양한 실시예들에 따른 유기 발광 표시 장치는 다음과 같이 설명될 수 있다.The OLED display according to various embodiments of the present invention may be described as follows.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 복수의 화소가 있는 표시 영역과 상기 표시 영역의 주변에 있는 비표시 영역을 갖는 기판; 표시 영역에 배치된 박막 트랜지스터 및 상기 박막 트랜지스터에 전기적으로 연결된 유기 발광 소자; 비표시 영역에 배치된, 기판과 편광판과의 합착 위치 조정을 위해 구비된 정렬 구조물; 및 정렬 구조물을 덮는 보호 층을 포함하고, 정렬 구조물은, 기판 상의 무기 절연 층, 상기 무기 절연 층 상에 직접 접하는 유기 절연 층 및 유기 절연 층 상의 금속 층이 적층된 형상을 갖을 수 있다.An organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a substrate having a display area having a plurality of pixels and a non-display area around the display area; A thin film transistor disposed in the display area and an organic light emitting element electrically connected to the thin film transistor; An alignment structure disposed in the non-display area and provided for adjusting a bonding position between the substrate and the polarizer; And a protective layer covering the alignment structure, wherein the alignment structure may have a shape in which an inorganic insulating layer on a substrate, an organic insulating layer directly contacting the inorganic insulating layer, and a metal layer on the organic insulating layer are stacked.

상기 유기 절연 층은, 상기 무기 절연 층과 상기 금속 층 사이의 접착력을 향상시킬 수 있다.The organic insulating layer may improve adhesion between the inorganic insulating layer and the metal layer.

실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 금속 층은 유기 발광 소자의 애노드 전극과 동일한 물질일 수 있다.The metal layer of the organic light emitting diode display according to the embodiment may be the same material as the anode electrode of the organic light emitting diode.

이때, 애노드 전극은 박막 트랜지스터에 연결될 수 있다.At this time, the anode electrode may be connected to the thin film transistor.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 유기 절연 층의 표면 평탄도는 상기 무기 절연층의 표면 평탄도 보다 클 수 있다.According to another feature of the invention, the surface flatness of the organic insulating layer may be greater than the surface flatness of the inorganic insulating layer.

상기 유기 절연 층은 표시 영역에서 상기 박막 트랜지시터의 상부를 평탄화하는 평탄화 층과 동일 물질로 동일 공정에서 형성될 수 있다.The organic insulating layer may be formed in the same process with the same material as the planarization layer for planarizing the upper portion of the thin film transistor in the display area.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 금속층은 두 개의 층으로 이루어지며 두 개의 층은 각각 상기 표시 영역에 배치되는 유기 발광 소자의 제1 전극(애노드 전극) 및 제2 전극(캐소드) 전극과 동일한 물질일 수 있다.According to another feature of the present invention, the metal layer is composed of two layers, and the two layers are the same material as the first electrode (anode electrode) and second electrode (cathode) electrode of the organic light emitting device, respectively, which are disposed in the display area. Can be

상기 보호 층은 상기 표시 영역에서 뱅크 또는 스페이서와 동일 물질로 동일 공정에서 형성될 수 있다.The protective layer may be formed of the same material as the bank or spacer in the display area in the same process.

이때, 보호층 상부에 봉지부가 배치될 수 있다.At this time, an encapsulation portion may be disposed on the protective layer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 복수의 화소가 있는 표시 영역과 표시 영역의 주변에 있는 비표시 영역을 갖는 기판; 및 비표시 영역에 배치된, 무기 절연 층, 금속층 및 무기 절연 층과 금속층 사이에 있으며 둘 사이의 접착력을 높여주는 접착강화층을 포함하는 정렬 구조물을 포함할 수 있다.According to another aspect of the invention, a substrate having a display area with a plurality of pixels and a non-display area around the display area; And an alignment structure including an inorganic insulating layer, a metal layer, and an adhesive reinforcing layer disposed between the inorganic insulating layer and the metal layer and enhancing adhesion between the two.

이때, 접착강화층은 표시 영역에서 박막 트랜지시터의 상부를 평탄화하는 평탄화 층과 동일 물질로 동일 공정에서 형성된 유기 절연층일 수 있다.At this time, the adhesion-reinforced layer may be an organic insulating layer formed in the same process with the same material as the planarization layer for planarizing the upper portion of the thin film transistor in the display area.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서의 실시예들을 상세하게 설명하였으나, 본 명세서는 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 그 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 명세서에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 당업자에 의해 기술적으로 다양하게 연동 및 구동될 수 있으며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시되거나 연관 관계로 함께 실시될 수도 있다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present specification have been described in detail with reference to the accompanying drawings, the present specification is not necessarily limited to these embodiments, and may be variously modified without departing from the technical spirit. Therefore, the embodiments disclosed in the present specification are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to explain the scope, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by the embodiments. Each of the features of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combined with each other, and may be technically interlocked and driven by a person skilled in the art, and each of the embodiments may be implemented independently of each other or together in an associative relationship. It may be practiced. The scope of protection of the present invention should be interpreted by the claims below, and all technical spirits within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

201, 301, 401: 베이스 층
202, 302, 402: 버퍼층
220: 박막트랜지스터
221: 반도체층
222: 게이트 전극
223: 소스 전극
224: 드레인 전극
225, 325, 425: 게이트 절연층
226, 326, 426: 층간 절연막
227,427: 평탄화층
240: 유기 발광 소자
241, 341, 441: 제1 전극
242: 유기발광층
243: 제2 전극
244: 뱅크
245: 스페이서
230: 봉지부
231: 제1 봉지층
232: 이물보상층
233: 제2 봉지층
201, 301, 401: base layer
202, 302, 402: buffer layer
220: thin film transistor
221: semiconductor layer
222: gate electrode
223: source electrode
224: drain electrode
225, 325, 425: gate insulating layer
226, 326, 426: interlayer insulating film
227,427: planarization layer
240: organic light emitting device
241, 341, 441: first electrode
242: organic light emitting layer
243: second electrode
244: bank
245: spacer
230: sealing bag
231: first sealing layer
232: foreign body compensation layer
233: second sealing layer

Claims (19)

복수의 화소가 있는 표시 영역과 상기 표시 영역의 주변에 있는 비표시 영역을 갖는 기판;
상기 표시 영역에 배치된 박막 트랜지스터 및 상기 박막 트랜지스터에 전기적으로 연결된 유기 발광 소자;
상기 비표시 영역에 배치된, 상기 기판과 편광판과의 합착 위치 조정을 위해 구비된 정렬 구조물; 및
상기 정렬 구조물을 덮는 보호 층을 포함하고,
상기 정렬 구조물은,
상기 기판 상의 무기 절연 층, 상기 무기 절연 층 상에 직접 접하는 유기 절연 층 및 상기 유기 절연 층 상의 금속 층이 적층된 형상을 갖는, 유기 발광 표시 장치.
A substrate having a display area with a plurality of pixels and a non-display area around the display area;
A thin film transistor disposed in the display area and an organic light emitting device electrically connected to the thin film transistor;
An alignment structure disposed in the non-display area and provided for adjusting a bonding position between the substrate and the polarizer; And
A protective layer covering the alignment structure,
The alignment structure,
An organic light emitting display device having a shape in which an inorganic insulating layer on the substrate, an organic insulating layer directly contacting the inorganic insulating layer, and a metal layer on the organic insulating layer are stacked.
제1 항에 있어서,
상기 유기 절연 층은, 상기 무기 절연 층과 상기 금속 층 사이의 접착력을 향상시키는, 유기 발광 표시 장치.
According to claim 1,
The organic insulating layer improves adhesion between the inorganic insulating layer and the metal layer.
제1 항에 있어서,
상기 금속 층은, 상기 유기 발광 소자의 애노드 전극과 동일한 물질인, 유기 발광 표시 장치.
According to claim 1,
The metal layer is made of the same material as the anode electrode of the organic light emitting diode, the organic light emitting display device.
제3 항에 있어서,
상기 애노드 전극은 상기 박막 트랜지스터에 연결된, 유기 발광 표시 장치.
According to claim 3,
The anode electrode is connected to the thin film transistor, an organic light emitting display device.
제1 항에 있어서,
상기 유기 절연 층의 표면 평탄도는 상기 무기 절연층의 표면 평탄도 보다 큰, 유기 발광 표시 장치.
According to claim 1,
An organic light emitting display device having a surface flatness of the organic insulating layer greater than that of the inorganic insulating layer.
제1 항에 있어서,
상기 유기 절연 층은, 상기 표시 영역에서 상기 박막 트랜지시터의 상부를 평탄화하는 평탄화 층과 동일 물질로 동일 공정에서 형성된, 유기 발광 표시 장치.
According to claim 1,
The organic insulating layer is formed in the same process with the same material as the planarization layer for planarizing the upper portion of the thin film transistor in the display area.
제1 항에 있어서,
상기 금속 층은, 두 개의 층으로 이루어지며,
상기 두 개의 층은 각각 상기 표시 영역에 배치되는 유기 발광 소자의 애노드 전극 및 상기 유기 발광 소자의 캐소드 전극과 동일한 물질인, 유기 발광 표시 장치.
According to claim 1,
The metal layer is composed of two layers,
The two layers are made of the same material as the anode electrode of the organic light emitting element and the cathode electrode of the organic light emitting element, respectively, disposed in the display area.
제1 항에 있어서,
상기 보호 층은 상기 표시 영역에서 뱅크 또는 스페이서와 동일 물질로 동일 공정에서 형성된, 유기 발광 표시 장치.
According to claim 1,
The protective layer is formed of the same material as the bank or spacer in the display area, the organic light emitting display device.
제8항에 있어서,
상기 보호 층 상부에 봉지부가 배치되는, 유기 발광 표시 장치.
The method of claim 8,
An encapsulation portion is disposed on the protective layer, the organic light emitting display device.
복수의 화소가 있는 표시 영역과 상기 표시 영역의 주변에 있는 비표시 영역을 갖는 기판; 및
상기 비표시 영역에 배치된, 무기 절연 층, 금속층 및 상기 무기 절연 층과 금속층 사이에 있으며 둘 사이의 접착력을 높여주는 접착강화층을 포함하는 정렬 구조물을 포함하는, 표시 장치.
A substrate having a display area with a plurality of pixels and a non-display area around the display area; And
And an alignment structure including an inorganic insulating layer, a metal layer, and an adhesive strengthening layer disposed between the inorganic insulating layer and the metal layer and enhancing adhesion between the inorganic insulating layer and the metal layer.
제10 항에 있어서,
상기 표시 영역에 배치된 박막 트랜지스터 및 상기 박막 트랜지스터에 전기적으로 연결된 유기 발광 소자를 더 포함하는, 표시 장치.
The method of claim 10,
And a thin film transistor disposed in the display area and an organic light emitting element electrically connected to the thin film transistor.
제10 항에 있어서,
상기 접착강화층은 유기 절연층인, 표시 장치
The method of claim 10,
The adhesive reinforcement layer is an organic insulating layer, a display device
제11 항에 있어서,
상기 금속 층은, 상기 유기 발광 소자의 애노드 전극과 동일한 물질인, 표시 장치.
The method of claim 11,
The metal layer is the same material as the anode electrode of the organic light emitting device, the display device.
제13 항에 있어서,
상기 애노드 전극은 상기 박막 트랜지스터에 연결된, 표시 장치..
The method of claim 13,
The anode electrode is connected to the thin film transistor, a display device ..
제12 항에 있어서,
상기 접착강화층의 표면 평탄도는 상기 무기 절연 층의 표면 평탄도 보다 큰, 표시 장치.
The method of claim 12,
The surface flatness of the adhesive reinforcement layer is greater than the surface flatness of the inorganic insulating layer.
제12 항에 있어서,
상기 접착강화층은, 상기 표시 영역에서 박막 트랜지스터의 상부를 평탄화하는 평탄화 층과 동일 물질로 동일 공정에서 형성된, 표시 장치
The method of claim 12,
The adhesive enhancement layer is formed in the same process with the same material as the planarization layer for planarizing the upper portion of the thin film transistor in the display area.
제10 항에 있어서,
상기 금속층의 상부에 보호 층을 더 포함하는, 표시 장치.
The method of claim 10,
A display device further includes a protective layer on the metal layer.
제17 항에 있어서,
상기 보호 층은 상기 표시 영역에서 뱅크 또는 스페이서와 동일 물질로 공정에서 형성된, 유기 발광 표시 장치.
The method of claim 17,
The protective layer is formed in a process using the same material as a bank or spacer in the display area.
제18 항에 있어서,
상기 보호 층 상부에 봉지부가 배치되는, 유기 발광 표시 장치.
The method of claim 18,
An encapsulation portion is disposed on the protective layer, the organic light emitting display device.
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