KR20200035340A - Optical film with protective film - Google Patents

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KR20200035340A
KR20200035340A KR1020190099229A KR20190099229A KR20200035340A KR 20200035340 A KR20200035340 A KR 20200035340A KR 1020190099229 A KR1020190099229 A KR 1020190099229A KR 20190099229 A KR20190099229 A KR 20190099229A KR 20200035340 A KR20200035340 A KR 20200035340A
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antifouling layer
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료타로 요코이
요시히토 다카미
도모타케 나시키
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

An optical film (100) with a protective film attached thereto includes: the optical film (10) having an antifouling layer (4) on the outermost surface thereof; and a surface protection film (70) temporarily attached to the antifouling layer of the optical film. A water contact angle of the antifouling layer is 100° or higher. The protection film is provided with an adhesion layer (8) on a film base (7). An adhesive force between the antifouling layer of the optical film and the adhesive layer of the surface protection film is less than 0.07 N / 50 mm. It is desired that thickness of the adhesive layer is 16 μm or more.

Description

보호 필름 부착 광학 필름{OPTICAL FILM WITH PROTECTIVE FILM}Optical film with protective film {OPTICAL FILM WITH PROTECTIVE FILM}

본 발명은, 표면 보호 필름이 임시 부착된 광학 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film to which a surface protection film is temporarily attached.

화상 표시 장치의 최표면에 배치되는 반사 방지 필름, 터치 패널의 위치 검출용 필름, 창유리나 쇼윈도에 첩합 (貼合) 되는 윈도 필름 등은, 외부로부터 접촉 가능한 상태에서 사용되기 때문에, 지문, 손때, 먼지 등에 의한 오염의 영향을 받기 쉽다. 그 때문에, 외부 환경으로부터의 오염 방지나, 부착된 오염 물질의 제거를 용이하게 할 목적에서, 방오층이 형성되어 있다 (예를 들어 특허문헌 1 및 특허문헌 2).Since the anti-reflection film disposed on the outermost surface of the image display device, the film for detecting the position of the touch panel, and the window film attached to a window glass or a show window are used in a state in which they can be contacted from the outside, fingerprints, handprints, etc. It is susceptible to contamination by dust. Therefore, an antifouling layer is formed for the purpose of facilitating prevention of contamination from the external environment and removal of adhered contaminants (for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).

이들 광학 필름은, 가공이나 수송 등의 사용 전 상태에서의 흠집이나 오염 등을 방지하기 위하여 표면 보호 필름이 임시 부착된다 (예를 들어 특허문헌 3). 표면 보호 필름은, 필름 기재의 주면에 점착제층을 구비하고, 이 점착제층을 개재하여, 보호 대상의 표면에 첩합된다. 표면 보호 필름은 공정재이기 때문에, 저점착성으로 피착체로부터 용이하게 박리 가능하고, 피착체에 대한 풀 잔류가 발생하지 않을 것이 요구된다.The surface protective film is temporarily attached to these optical films to prevent scratches or contamination in the pre-use state such as processing or transportation (for example, Patent Document 3). The surface protection film is provided with an adhesive layer on the main surface of the film base material, and is pasted on the surface to be protected via the adhesive layer. Since the surface protection film is a process material, it is required to be easily peelable from the adherend with low tackiness, and it is required that no residual of the glue adheres to the adherend.

일본 공개특허공보 2015-69008호Japanese Patent Application Publication No. 2015-69008 일본 공개특허공보 2017-117666호Japanese Patent Publication No. 2017-117666 일본 공개특허공보 2008-151996호Japanese Patent Application Publication No. 2008-151996

방오층은, 수분이나 유분을 튕겨내기 쉽기 때문에, 방오층의 표면에 표면 보호 필름을 첩합시키면, 방오층과 점착제층의 밀착성이 낮아, 수송이나 가공 등의 광학 필름의 사용 전 상태에 있어서, 광학 필름의 표면으로부터 표면 보호 필름이 박리되거나, 첩합 계면에 기포가 혼입되거나 하는 문제가 발생하기 쉽다. 특히, 방오층의 방오 특성이 높은 경우에는 그 경향이 현저하다. 한편, 표면 보호 필름의 밀착성을 높이기 위하여, 점착제층의 접착력을 높이면, 광학 필름으로부터 표면 보호 필름을 박리했을 때에, 방오층의 표면에 대한 풀 잔류 등에서 기인되는 오염이 발생하기 쉽다.Since the antifouling layer is easy to repel moisture and oil, when the surface protective film is pasted on the surface of the antifouling layer, the adhesion between the antifouling layer and the pressure-sensitive adhesive layer is low. It is easy to cause a problem that the surface protective film is peeled from the surface of the film or bubbles are mixed in the bonding interface. Particularly, when the antifouling property of the antifouling layer is high, the tendency is remarkable. On the other hand, if the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer is increased in order to increase the adhesion of the surface protection film, when the surface protection film is peeled off from the optical film, contamination caused by residues on the surface of the antifouling layer is likely to occur.

본 발명자들은, 소정의 점착제층을 구비하는 표면 보호 필름을 사용함으로써, 방오 특성이 높은 방오층에 대해 충분한 밀착성을 갖고, 또한 표면 보호 필름의 박리시의 풀 잔류가 잘 발생하지 않는 것을 알아냈다.The present inventors have found that, by using a surface protective film provided with a predetermined pressure-sensitive adhesive layer, it has sufficient adhesion to an antifouling layer having high antifouling properties, and does not easily generate full residue when peeling off the surface protective film.

본 발명은, 최표면층으로서 방오층을 구비하는 광학 필름과, 광학 필름의 방오층에 임시 부착된 표면 보호 필름을 포함하는 보호 필름 부착 광학 필름에 관한 것이다. 표면 보호 필름은, 필름 기재 상에 점착제층을 구비하고, 광학 필름의 방오층과 표면 보호 필름의 점착제층이 접하고 있다.The present invention relates to an optical film with a protective film including an optical film having an antifouling layer as the outermost surface layer and a surface protective film temporarily attached to the antifouling layer of the optical film. The surface protection film is provided with an adhesive layer on the film substrate, and the antifouling layer of the optical film and the adhesive layer of the surface protection film are in contact.

광학 필름의 방오층은, 수접촉각이 100°이상이다. 표면 보호 필름의 점착제층은 두께가 16 ㎛ 이상인 것이 바람직하다. 본 발명의 보호 필름 부착 광학 필름에 있어서, 광학 필름의 상기 방오층과 표면 보호 필름의 점착제층의 접착력은, 0.07 N/50 ㎜ 미만이다.The anti-fouling layer of the optical film has a water contact angle of 100 ° or more. It is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protection film has a thickness of 16 µm or more. In the optical film with a protective film of the present invention, the adhesive force between the antifouling layer of the optical film and the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film is less than 0.07 N / 50 mm.

점착제층의 표면 경도는 600 ㎪ 이하가 바람직하다. 방오층의 동마찰 계수는 0.15 이하가 바람직하다. 방오층의 재료의 예로서, 퍼플루오로폴리에테르 골격을 갖는 불소계 수지 등을 들 수 있다.The surface hardness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 600 MPa or less. The anti-fouling layer preferably has a coefficient of dynamic friction of 0.15 or less. Examples of the material of the antifouling layer include a fluorine-based resin having a perfluoropolyether skeleton.

광학 필름은, 필름 기재와 방오층 사이에, 적어도 1 층의 무기 박막을 구비하고 있어도 된다. 무기 박막은, 굴절률이 상이한 복수의 무기 박막으로 이루어지는 반사 방지층이어도 된다.The optical film may be provided with at least one layer of an inorganic thin film between the film base material and the antifouling layer. The inorganic thin film may be an antireflection layer composed of a plurality of inorganic thin films having different refractive indexes.

광학 필름은, 필름 기재 상에 하드 코트층을 구비하고 있어도 된다. 필름 기재 상의 하드 코트층은, 미립자를 함유하는 방현성 하드 코트층이어도 된다. 광학 필름은, 방오층의 표면의 산술 평균 조도가 0.1 ∼ 2.5 ㎛ 여도 된다.The optical film may be provided with a hard coat layer on the film substrate. The hard coat layer on the film substrate may be an anti-glare hard coat layer containing fine particles. The optical film may have an arithmetic average roughness of 0.1 to 2.5 µm on the surface of the antifouling layer.

본 발명의 보호 필름 부착 광학 필름에서는, 광학 필름의 최표면에 형성된 방오층의 수접촉각이 100°이상이기 때문에, 방오성이 우수하다. 또, 광학 필름과 표면 보호 필름의 접착력이 소정 범위이기 때문에, 첩합 계면으로의 기포의 혼입이나, 광학 필름의 사용 전에 있어서의 표면 보호 필름의 박리를 방지할 수 있다.In the optical film with a protective film of the present invention, since the water contact angle of the antifouling layer formed on the outermost surface of the optical film is 100 ° or more, the antifouling property is excellent. In addition, since the adhesive force between the optical film and the surface protection film is within a predetermined range, it is possible to prevent mixing of bubbles at the bonding interface and peeling of the surface protection film before use of the optical film.

도 1 은 보호 필름 부착 반사 방지 필름의 적층 구성을 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a laminated structure of an antireflection film with a protective film.

본 발명의 보호 필름 부착 광학 필름은, 광학 필름과 표면 보호 필름의 적층체이다. 광학 필름은, 필름 기재의 1 주면 상에 적어도 방오층을 구비하고, 표면 보호 필름은, 필름 기재 상에 점착제층을 구비한다. 방오층은 광학 필름의 최표면에 형성되어 있다. 보호 필름 부착 광학 필름에 있어서는, 광학 필름의 방오층에 표면 보호 필름의 점착제층이 첩합된다.The optical film with a protective film of this invention is a laminated body of an optical film and a surface protective film. The optical film includes at least an antifouling layer on one main surface of the film substrate, and the surface protection film includes an adhesive layer on the film substrate. The antifouling layer is formed on the outermost surface of the optical film. In the optical film with a protective film, the adhesive layer of the surface protective film is stuck to the antifouling layer of an optical film.

도 1 은, 광학 필름의 일 실시형태인 반사 방지 필름 (10) 의 표면에 표면 보호 필름 (70) 이 임시 부착된 보호 필름 부착 반사 방지 필름 (100) 의 구성을 나타내는 단면도이다. 반사 방지 필름 (10) 은, 필름 기재 (1) 상에 반사 방지층 (3) 을 구비하고, 반사 방지층 (3) 상에 방오층 (4) 을 구비한다. 표면 보호 필름 (70) 은, 필름 기재 (7) 상에 점착제층 (8) 을 구비한다. 방오층 (4) 은 반사 방지 필름 (10) 의 최표면층이고, 이 방오층 (4) 에 표면 보호 필름 (70) 의 점착제층 (8) 이 첩합되어 있다.1 is a cross-sectional view showing the configuration of an antireflection film 100 with a protective film temporarily attached to a surface of an antireflection film 10 that is one embodiment of an optical film. The antireflection film 10 includes an antireflection layer 3 on the film base 1, and an antifouling layer 4 on the antireflection layer 3. The surface protection film 70 is provided with an adhesive layer 8 on the film base 7. The antifouling layer 4 is the outermost layer of the antireflection film 10, and the pressure-sensitive adhesive layer 8 of the surface protection film 70 is pasted on the antifouling layer 4.

이하에서는, 도 1 에 나타내는 보호 필름 부착 반사 방지 필름의 바람직한 형태를 따라, 각 층의 재료나 특성 등에 대해 순서대로 설명한다.Hereinafter, the material, properties, and the like of each layer will be described in order, according to a preferred form of the antireflection film with a protective film shown in FIG. 1.

[반사 방지 필름][Anti-reflection film]

반사 방지 필름 (10) 은, 필름 기재 (1) 의 제 1 주면 상에, 최표면층으로서 방오층 (4) 을 구비하고, 필름 기재 (1) 와 방오층 (4) 사이에 반사 방지층 (3) 을 구비한다. 필름 기재 (1) 의 제 1 주면 상에는 하드 코트층 (2) 이 형성되어 있어도 된다.The antireflection film 10 is provided with an antifouling layer 4 as the outermost layer on the first main surface of the film substrate 1, and the antireflection layer 3 is provided between the film substrate 1 and the antifouling layer 4. It is provided. The hard coat layer 2 may be formed on the first main surface of the film substrate 1.

<필름 기재><Film description>

필름 기재 (1) 로는, 예를 들어, 투명 필름이 사용된다. 투명 필름의 가시광 투과율은, 바람직하게는 80 % 이상, 보다 바람직하게는 90 % 이상이다. 투명 필름을 구성하는 수지 재료로는, 예를 들어, 투명성, 기계 강도, 및 열안정성이 있는 수지 재료가 바람직하다. 수지 재료의 구체예로는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 고리형 폴리올레핀계 수지 (노르보르넨계 수지), 폴리아릴레이트계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 및 이것들의 혼합물을 들 수 있다.As the film base 1, a transparent film is used, for example. The visible light transmittance of the transparent film is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. As the resin material constituting the transparent film, for example, a resin material having transparency, mechanical strength, and thermal stability is preferable. Specific examples of the resin material include cellulose-based resins such as triacetyl cellulose, polyester-based resins, polyethersulfone-based resins, polysulfone-based resins, polycarbonate-based resins, polyamide-based resins, polyimide-based resins, and polyolefin-based resins. Resins, (meth) acrylic resins, cyclic polyolefin resins (norbornene resins), polyarylate resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, and mixtures thereof.

필름 기재 (1) 에는, 산화방지제, 자외선 흡수제, 광안정제, 조핵제, 충전제, 안료, 계면 활성제, 대전 방지제 등이 함유되어 있어도 된다. 필름 기재의 표면에는, 용이 접착층, 용이 미끄러짐층, 블로킹 방지층, 대전 방지층, 반사 방지층, 올리고머 방지층 등이 형성되어 있어도 된다.The film base 1 may contain antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, nucleating agents, fillers, pigments, surfactants, antistatic agents, and the like. An easily adhesive layer, an easy slip layer, an anti-blocking layer, an anti-static layer, an anti-reflection layer, and an oligomer-preventing layer may be formed on the surface of the film base material.

필름 기재의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 강도나 취급성 등의 작업성, 박층성 등의 관점에서, 5 ∼ 300 ㎛ 정도가 바람직하고, 10 ∼ 250 ㎛ 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 200 ㎛ 가 더욱 바람직하다.The thickness of the film base material is not particularly limited, but from the viewpoints of workability such as strength, handling properties, thin layer properties, etc., about 5 to 300 μm is preferable, 10 to 250 μm is more preferable, and 20 to 200 μm is further desirable.

(하드 코트층)(Hard coat layer)

필름 기재 (1) 의 표면에는, 하드 코트층 (2) 이 형성되어 있는 것이 바람직하다. 필름 기재 (1) 의 반사 방지층 (3) 형성면측에 하드 코트층 (2) 이 형성됨에 따라, 반사 방지 필름의 표면 경도나 내찰상성 등의 기계 특성을 향상시킬 수 있다.It is preferable that the hard coat layer 2 is formed on the surface of the film base material 1. As the hard coat layer 2 is formed on the surface of the anti-reflection layer 3 formed on the film base 1, mechanical properties such as surface hardness and scratch resistance of the anti-reflection film can be improved.

하드 코트층 (2) 을 구성하는 경화성 수지로는, 열경화형 수지, 자외선 경화형 수지, 전자선 경화형 수지 등을 들 수 있다. 경화성 수지의 종류로는 폴리에스테르계, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 아미드계, 실리콘계, 실리케이트계, 에폭시계, 멜라민계, 옥세탄계, 아크릴우레탄계 등의 각종의 수지를 들 수 있다. 이들 경화성 수지는, 1 종 또는 2 종 이상을, 적절히 선택하여 사용할 수 있다.Examples of the curable resin constituting the hard coat layer 2 include a thermosetting resin, an ultraviolet curing resin, and an electron beam curing resin. Examples of the curable resin include various resins such as polyester, acrylic, urethane, acrylic urethane, amide, silicone, silicate, epoxy, melamine, oxetane, and acrylic urethane. These curable resins can be used alone or in combination of two or more.

이것들 중에서도, 경도가 높고, 자외선 경화가 가능하며 생산성이 우수한 점에서, 아크릴계 수지, 아크릴우레탄계 수지, 및 에폭시계 수지가 바람직하고, 그 중에서도 아크릴우레탄계 수지가 바람직하다. 자외선 경화형 수지에는, 자외선 경화형의 모노머, 올리고머, 폴리머 등이 함유된다. 바람직하게 사용되는 자외선 경화형 수지는, 예를 들어 자외선 중합성의 관능기를 갖는 것, 그 중에서도 당해 관능기를 2 개 이상, 특히 3 ∼ 6 개 갖는 아크릴계의 모노머나 올리고머를 성분으로서 함유하는 것을 들 수 있다.Among these, acrylic resin, acrylic urethane resin, and epoxy resin are preferred from the viewpoint of high hardness, UV curing, and excellent productivity, and acrylic urethane resin is preferred. The ultraviolet curable resin contains an ultraviolet curable monomer, oligomer, polymer, and the like. The ultraviolet-curable resin preferably used includes, for example, those having an ultraviolet polymerizable functional group, and those containing, as a component, an acrylic monomer or oligomer having two or more of these functional groups, particularly three to six.

반사 방지 필름에, 방현성 및 번쩍거림 방지성을 갖게 하기 위하여, 하드 코트층 (2) 에 방현성을 갖게 해도 된다. 방현성 하드 코트층으로는, 예를 들어, 상기의 경화성 수지 매트릭스 중에, 미립자를 분산시킨 것을 들 수 있다. 수지 매트릭스 중에 분산시키는 미립자로는, 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화칼슘, 산화주석, 산화인듐, 산화카드뮴, 산화안티몬 등의 각종 금속 산화물 미립자, 유리 미립자, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리우레탄, 아크릴-스티렌 공중합체, 벤조구아나민, 멜라민, 폴리카보네이트 등의 각종 투명 폴리머로 이루어지는 가교 또는 미가교의 유기계 미립자, 실리콘계 미립자 등의 투명성을 갖는 것을 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 미립자의 평균 입자경은 20 ∼ 5000 ㎚ 가 바람직하고, 2000 ∼ 4000 ㎚ 가 더욱 바람직하다. 미립자의 비율은 특별히 제한되지 않지만, 매트릭스 수지 100 중량부에 대해 2 ∼ 40 중량부가 바람직하고, 3 ∼ 20 중량부가 보다 바람직하다. 미립자의 평균 입자경 및 함유량이 상기 범위이면, 하드 코트층 (2) 의 표면에 광산란에 적합한 요철이 형성되고, 양호한 방현성을 부여할 수 있다.In order to provide the antireflection film with anti-glare properties and anti-glare properties, the hard coat layer 2 may have anti-glare properties. As an anti-glare hard coat layer, what disperse | distributed microparticles | fine-particles in the said curable resin matrix is mentioned, for example. The fine particles dispersed in the resin matrix include various metal oxide fine particles such as silica, alumina, titania, zirconia, calcium oxide, tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide, glass fine particles, polymethyl methacrylate, polystyrene, and poly A crosslinked or uncrosslinked organic fine particle made of various transparent polymers such as urethane, acrylic-styrene copolymer, benzoguanamine, melamine, and polycarbonate, or a transparent substance such as silicone fine particles can be used without particular limitation. The average particle diameter of the fine particles is preferably 20 to 5000 nm, and more preferably 2000 to 4000 nm. The proportion of the fine particles is not particularly limited, but is preferably 2 to 40 parts by weight, and more preferably 3 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the matrix resin. When the average particle diameter and content of the fine particles are within the above range, unevenness suitable for light scattering is formed on the surface of the hard coat layer 2, and good anti-glare property can be imparted.

하드 코트층 (2) 상에 형성되는 반사 방지층 (3) 및 방오층 (4) 은 두께가 작기 때문에, 방오층 (4) 의 표면 형상은, 하드 코트층 (2) 의 표면 형상에 의존한다. 후술하는 바과 같이, 방오층 (4) 의 표면의 산술 평균 조도는, 0.1 ∼ 2.5 ㎛ 가 바람직하다. 방오층 (4) 의 표면의 산술 평균 조도를 상기 범위로 하기 위해서는, 하드 코트층 (2) 의 산술 평균 조도가 0.1 ∼ 2.5 ㎛ 인 것이 바람직하다. 산술 평균 조도 Ra 는, 레이저 현미경을 사용한 100 ㎛ × 100 ㎛ 의 관찰 이미지로부터, JIS B0601 : 1994 에 준하여 산출된다. 하드 코트층에 함유되는 미립자의 입자경이나 함유량을 조정함으로써, 하드 코트층 (2) 의 표면의 요철 형상을 조정할 수 있다.Since the antireflection layer 3 and the antifouling layer 4 formed on the hard coat layer 2 have a small thickness, the surface shape of the antifouling layer 4 depends on the surface shape of the hard coat layer 2. As will be described later, the arithmetic average roughness of the surface of the antifouling layer 4 is preferably 0.1 to 2.5 μm. In order to make the arithmetic mean roughness of the surface of the antifouling layer 4 into the above range, it is preferable that the arithmetic mean roughness of the hard coat layer 2 is 0.1 to 2.5 µm. The arithmetic mean roughness Ra is calculated according to JIS B0601: 1994 from an observation image of 100 μm × 100 μm using a laser microscope. The uneven shape of the surface of the hard coat layer 2 can be adjusted by adjusting the particle diameter and content of the fine particles contained in the hard coat layer.

하드 코트층은, 예를 들어, 투명 필름 상에, 경화성 수지를 함유하는 용액을 도포함으로써 형성할 수 있다. 하드 코트층을 형성하기 위한 용액에는, 자외선 중합 개시제가 배합되어 있는 것이 바람직하다. 미립자를 함유하는 방현성 하드 코트층을 형성하기 위해서는, 경화성 수지에 더하여 상기의 미립자를 함유하는 용액을 투명 필름 상에 도포하는 것이 바람직하다. 용액 중에는, 레벨링제, 틱소트로피제, 대전 방지제 등의 첨가제를 함유시켜도 된다. 방현성 하드 코트층의 형성에 있어서는, 용액 중에 틱소트로피제 (예를 들어, 입자경 0.1 ㎛ 이하의 실리카, 마이카 등의 입자) 를 함유시킴으로써, 하드 코트층의 표면에 있어서, 돌출 입자에 의해 미세 요철 구조를 용이하게 형성할 수 있다.The hard coat layer can be formed, for example, by applying a solution containing a curable resin on a transparent film. It is preferable that an ultraviolet polymerization initiator is blended in the solution for forming the hard coat layer. In order to form an anti-glare hard coat layer containing fine particles, it is preferable to apply a solution containing the fine particles on the transparent film in addition to the curable resin. In the solution, additives such as a leveling agent, a thixotropic agent, and an antistatic agent may be contained. In the formation of the anti-glare hard coat layer, by adding a thixotropic agent (for example, particles having a particle diameter of 0.1 µm or less in particles, such as silica and mica) in the solution, fine irregularities are caused by protruding particles on the surface of the hard coat layer. The structure can be easily formed.

하드 코트층 (2) 의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 높은 경도를 실현하기 위해서는, 0.5 ㎛ 이상이 바람직하고, 1 ㎛ 이상이 보다 바람직하다. 도포에 의한 형성의 용이성을 고려하면, 하드 코트층의 두께는 15 ㎛ 이하가 바람직하고, 12 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 10 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.The thickness of the hard coat layer 2 is not particularly limited, but in order to realize high hardness, 0.5 µm or more is preferable, and 1 µm or more is more preferable. Considering the ease of formation by application, the thickness of the hard coat layer is preferably 15 μm or less, more preferably 12 μm or less, and even more preferably 10 μm or less.

하드 코트층 (2) 상에 반사 방지층 (3) 을 형성하기 전에, 하드 코트층 (2) 과 반사 방지층 (3) 의 밀착성의 추가적인 향상 등을 목적으로 하여, 하드 코트층 (2) 의 표면 처리가 실시되어도 된다. 표면 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 프레임 처리, 오존 처리, 프라이머 처리, 글로 처리, 알칼리 처리, 산 처리, 커플링제에 의한 처리 등의 표면 개질 처리를 들 수 있다. 표면 처리로서 진공 플라즈마 처리를 실시해도 된다. 진공 플라즈마 처리에 의해, 하드 코트층의 표면 조도를 조정할 수도 있다. 예를 들어, 고방전 전력으로 진공 플라즈마 처리를 실시하면, 하드 코트층 표면의 Ra 가 커지는 경향이 있다. 진공 플라즈마 처리 (예를 들어, 아르곤 플라즈마 처리) 의 방전 전력은, 0.5 ∼ 10 ㎾ 정도이고, 바람직하게는 1 ∼ 5 ㎾ 정도이다.Before forming the antireflection layer 3 on the hard coat layer 2, the surface treatment of the hard coat layer 2 for the purpose of further improving the adhesion of the hard coat layer 2 and the antireflection layer 3, etc. May be carried out. Examples of the surface treatment include surface modification treatment such as corona treatment, plasma treatment, frame treatment, ozone treatment, primer treatment, glow treatment, alkali treatment, acid treatment, and treatment with a coupling agent. As a surface treatment, you may perform vacuum plasma treatment. The surface roughness of the hard coat layer can also be adjusted by vacuum plasma treatment. For example, when vacuum plasma treatment is performed at a high discharge power, Ra on the surface of the hard coat layer tends to be large. The discharge power of the vacuum plasma treatment (for example, argon plasma treatment) is about 0.5 to 10 kW, and preferably about 1 to 5 kW.

<반사 방지층><Anti-reflection layer>

일반적으로, 반사 방지층은, 입사광과 반사광이 역전된 위상이 상쇄되도록, 박막의 광학 막두께 (굴절률과 두께의 곱) 가 조정된다. 굴절률이 상이한 복수의 박막의 다층 적층체에 의해, 가시광의 광대역의 파장 범위에 있어서, 반사율을 작게 할 수 있다. 반사 방지층 (3) 을 구성하는 박막의 재료로는, 금속의 산화물, 질화물, 불화물 등을 들 수 있다. 반사 방지층 (3) 은, 바람직하게는, 고굴절률층과 저굴절률층의 교호 적층체이다. 방오층과의 계면에서의 반사를 저감시키기 위하여, 반사 방지층 (3) 의 최외층으로서 형성되는 박막 (34) 은, 저굴절률층인 것이 바람직하다.In general, in the antireflection layer, the optical film thickness (the product of the refractive index and the thickness) of the thin film is adjusted so that the phase in which incident light and reflected light are reversed is canceled. The multilayered laminate of a plurality of thin films having different refractive indices can reduce the reflectance in a wide wavelength range of visible light. Examples of the material of the thin film constituting the antireflection layer 3 include metal oxides, nitrides, and fluorides. The antireflection layer 3 is preferably an alternating laminate of a high refractive index layer and a low refractive index layer. In order to reduce reflection at the interface with the antifouling layer, the thin film 34 formed as the outermost layer of the antireflection layer 3 is preferably a low refractive index layer.

고굴절률층 (31, 33) 은, 예를 들어 굴절률이 1.9 이상, 바람직하게는 2.0 이상이다. 고굴절률 재료로는, 산화티탄, 산화니오브, 산화지르코늄, 산화탄탈, 산화아연, 산화인듐, 산화인듐주석 (ITO), 안티몬도프 산화주석 (ATO) 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 산화티탄 또는 산화니오브가 바람직하다. 저굴절률층 (32, 34) 은, 예를 들어 굴절률이 1.6 이하, 바람직하게는 1.5 이하이다. 저굴절률 재료로는, 산화실리콘, 질화티탄, 불화마그네슘, 불화바륨, 불화칼슘, 불화하프늄, 불화란탄 등을 들 수 있다. 그 중에서도 산화실리콘이 바람직하다. 특히, 고굴절률층으로서의 산화니오브 (Nb2O5) 박막 (31, 33) 과, 저굴절률층으로서의 산화실리콘 (SiO2) 박막 (32, 34) 을 교대로 적층하는 것이 바람직하다. 저굴절률층과 고굴절률층에 더하여, 굴절률 1.6 ∼ 1.9 정도의 중굴절률층이 형성되어도 된다.The high refractive index layers 31 and 33 have, for example, a refractive index of 1.9 or more, preferably 2.0 or more. Examples of high refractive index materials include titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and antimony dope tin oxide (ATO). Especially, titanium oxide or niobium oxide is preferable. The low-refractive-index layers 32 and 34 have, for example, a refractive index of 1.6 or less, preferably 1.5 or less. Examples of the low-refractive-index material include silicon oxide, titanium nitride, magnesium fluoride, barium fluoride, calcium fluoride, hafnium fluoride, and lanthanum fluoride. Among them, silicon oxide is preferred. In particular, it is preferable to alternately stack the niobium oxide (Nb 2 O 5 ) thin films 31 and 33 as the high refractive index layer and the silicon oxide (SiO 2 ) thin films 32 and 34 as the low refractive index layer. In addition to the low-refractive-index layer and the high-refractive-index layer, a medium refractive index layer having a refractive index of about 1.6 to 1.9 may be formed.

고굴절률층 및 저굴절률층의 막두께는, 각각, 5 ∼ 200 ㎚ 정도이고, 15 ∼ 150 ㎚ 정도가 바람직하다. 굴절률이나 적층 구성 등에 따라, 가시광의 반사율이 작아지도록, 각 층의 막두께를 설계하면 된다. 예를 들어, 고굴절률층과 저굴절률층의 적층 구성으로는, 필름 기재측으로부터, 광학 막두께 25 ㎚ ∼ 55 ㎚ 정도의 고굴절률층 (31), 광학 막두께 35 ㎚ ∼ 55 ㎚ 정도의 저굴절률층 (32), 광학 막두께 80 ㎚ ∼ 240 ㎚ 정도의 고굴절률층 (33), 및 광학 막두께 120 ㎚ ∼ 150 ㎚ 정도의 저굴절률층 (34) 의 4 층 구성을 들 수 있다.The film thickness of the high-refractive-index layer and the low-refractive-index layer is about 5 to 200 nm, respectively, and preferably about 15 to 150 nm. The film thickness of each layer may be designed such that the reflectance of visible light is reduced according to a refractive index or a laminated structure. For example, as a laminated structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer, from the film base side, the high refractive index layer 31 with an optical film thickness of about 25 nm to about 55 nm, and a low with an optical film thickness of about 35 nm to about 55 nm. Four-layer structures of the refractive index layer 32, a high refractive index layer 33 having an optical film thickness of about 80 nm to about 240 nm, and a low refractive index layer 34 having an optical film thickness of about 120 nm to about 150 nm are mentioned.

반사 방지층 (3) 은, 바람직하게는, 하드 코트층 (2) 과 접하는 면에 프라이머층 (30) 을 구비하고, 그 위에, 고굴절률층 및 저굴절률층을 구비한다.The antireflection layer 3 preferably includes a primer layer 30 on a surface in contact with the hard coat layer 2, and a high refractive index layer and a low refractive index layer thereon.

프라이머층 (30) 을 구성하는 재료로는, 예를 들어, 실리콘, 니켈, 크롬, 주석, 금, 은, 백금, 아연, 티탄, 텅스텐, 알루미늄, 지르코늄, 팔라듐 등의 금속 ; 이들 금속의 합금 ; 이들 금속의 산화물, 불화물, 황화물 또는 질화물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 프라이머층의 재료는 산화물이 바람직하고, 산화실리콘이 특히 바람직하다. 산화실리콘은 굴절률이 작기 때문에, 하드 코트층 (2) 과 프라이머층 (30) 의 계면에서의 가시광의 반사를 저감시킬 수 있다.Examples of the material constituting the primer layer 30 include metals such as silicon, nickel, chromium, tin, gold, silver, platinum, zinc, titanium, tungsten, aluminum, zirconium, and palladium; Alloys of these metals; And oxides, fluorides, sulfides or nitrides of these metals. Among them, the material of the primer layer is preferably oxide, and silicon oxide is particularly preferable. Since the silicon oxide has a small refractive index, it is possible to reduce reflection of visible light at the interface between the hard coat layer 2 and the primer layer 30.

프라이머층 (30) 은, 바람직하게는, 화학량론 조성보다 산소량이 적은 무기 산화물층이다. 비화학량론 조성의 무기 산화물 중에서도, 조성식 SiOx (0.5 ≤ x < 2) 로 나타내지는 산화실리콘이 바람직하다.The primer layer 30 is preferably an inorganic oxide layer having a lower oxygen content than the stoichiometric composition. Among non-stoichiometric inorganic oxides, silicon oxide represented by the composition formula SiOx (0.5 ≦ x <2) is preferable.

프라이머층 (30) 의 두께는, 예를 들어, 1 ∼ 20 ㎚ 정도이고, 바람직하게는 3 ∼ 15 ㎚ 이다. 프라이머층의 막두께가 상기 범위이면, 하드 코트층 (2) 과의 밀착성과 높은 광투과성을 양립시킬 수 있다.The thickness of the primer layer 30 is, for example, about 1 to 20 nm, and preferably 3 to 15 nm. When the film thickness of the primer layer is within the above range, adhesion to the hard coat layer 2 and high light transmittance can be achieved.

반사 방지층 (3) 을 구성하는 박막의 성막 방법은 특별히 한정되지 않고, 웨트 코팅법, 드라이 코팅법 중 어느 것이어도 된다. 막두께가 균일한 박막을 형성할 수 있는 점에서, 진공 증착, CVD, 스퍼터, 전자선 증착 등의 드라이 코팅법이 바람직하다. 그 중에서도, 막두께의 균일성이 우수하고, 치밀한 막을 형성하기 쉬운 점에서, 스퍼터법이 바람직하다.The film forming method of the thin film constituting the antireflection layer 3 is not particularly limited, and may be either a wet coating method or a dry coating method. In view of being able to form a thin film having a uniform film thickness, dry coating methods such as vacuum deposition, CVD, sputtering, and electron beam deposition are preferred. Especially, sputtering method is preferable at the point which is excellent in uniformity of film thickness and easy to form a dense film.

스퍼터법에서는, 롤 투 롤 방식에 의해, 장척의 필름 기재를 일방향 (길이 방향) 으로 반송하면서, 박막을 연속 성막할 수 있다. 스퍼터법에서는, 아르곤등의 불활성 가스, 및 필요에 따라 산소 등의 반응성 가스를 챔버 내에 도입하면서 성막이 실시된다. 스퍼터법에 의한 산화물층의 성막은, 산화물 타깃을 사용하는 방법, 및 금속 타깃을 사용한 반응성 스퍼터 중 어느 것이어도 실시할 수 있다. 높은 레이트로 금속 산화물을 성막하기 위해서는, 금속 타깃을 사용한 반응성 스퍼터가 바람직하다.In the sputtering method, a thin film can be continuously formed while conveying a long film base material in one direction (longitudinal direction) by a roll-to-roll method. In the sputtering method, film formation is performed while introducing an inert gas such as argon and a reactive gas such as oxygen into the chamber as necessary. The film formation of the oxide layer by sputtering can be performed using either a method using an oxide target or a reactive sputter using a metal target. In order to form a metal oxide at a high rate, reactive sputtering using a metal target is preferable.

<방오층><Antifouling layer>

반사 방지 필름 (10) 은, 필름 기재 (1) 의 제 1 주면 상의 최표면층으로서 방오층 (4) 을 구비한다. 최표면에 방오층이 형성됨으로써, 외부 환경으로부터의 오염 (지문, 손때, 먼지 등) 의 영향을 저감시킬 수 있음과 함께, 표면에 부착된 오염 물질의 제거가 용이해진다. 오염 방지성 및 오염 물질의 제거성을 높이기 위하여, 방오층 (4) 의 수접촉각은 100°이상이 바람직하고, 102°이상이 보다 바람직하고, 105°이상이 더욱 바람직하다. 수접촉각이 클수록 발수성이 높아, 오염 물질의 부착 방지 효과나 오염 물질 제거성이 향상되는 경향이 있다.The antireflection film 10 includes an antifouling layer 4 as the outermost layer on the first main surface of the film base 1. By forming an antifouling layer on the outermost surface, it is possible to reduce the influence of contamination (fingerprints, fingerprints, dust, etc.) from the external environment, and also facilitate removal of contaminants attached to the surface. In order to increase the anti-pollution property and the removal of contaminants, the water contact angle of the antifouling layer 4 is preferably 100 ° or more, more preferably 102 ° or more, and even more preferably 105 ° or more. The larger the water contact angle, the higher the water repellency, and the tendency for the prevention of adhesion of pollutants and the removal of pollutants tends to be improved.

한편, 수접촉 각도가 과도하게 크면 젖음성이 낮기 때문에, 방오층 표면에 표면 보호 필름을 첩합시킬 때에, 점착제층과의 밀착성이 낮아, 반송·가공시의 보호 필름의 박리나, 첩합 계면으로의 기포의 혼입 등의 문제가 발생하는 경우가 있다. 그 때문에, 방오층 (4) 의 수접촉각은 130°이하가 바람직하고, 125°이하가 보다 바람직하고, 120°이하가 더욱 바람직하다.On the other hand, since the wettability is low when the water contact angle is excessively large, when the surface protective film is pasted onto the surface of the antifouling layer, the adhesiveness with the pressure-sensitive adhesive layer is low, and the protective film is peeled off during transport and processing, or air bubbles at the bonding interface. Problems such as mixing may occur. Therefore, the water contact angle of the antifouling layer 4 is preferably 130 ° or less, more preferably 125 ° or less, and even more preferably 120 ° or less.

방오층 (4) 의 동마찰 계수는, 0.15 이하가 바람직하고, 0.13 이하가 보다 바람직하고, 0.11 이하가 더욱 바람직하다. 동마찰 계수가 작을수록, 미끄러짐성이 양호하고, 표면에 대한 흡집이 잘 발생하지 않아 내찰상성이 향상되는 경향이 있다. 한편, 동마찰 계수가 과도하게 작으면, 필름의 반송이나 핸들링에 지장을 초래하는 경우가 있기 때문에, 방오층 (4) 의 동마찰 계수는 0.01 이상이 바람직하고, 0.03 이상이 보다 바람직하고, 0.05 이상이 더욱 바람직하다.The coefficient of dynamic friction of the antifouling layer 4 is preferably 0.15 or less, more preferably 0.13 or less, and even more preferably 0.11 or less. The smaller the coefficient of dynamic friction, the better the slipperiness, and the higher the frictional resistance tends to be because the absorption on the surface is less likely to occur. On the other hand, if the coefficient of dynamic friction is excessively small, it may interfere with conveyance or handling of the film, so the coefficient of dynamic friction of the antifouling layer 4 is preferably 0.01 or more, more preferably 0.03 or more, and 0.05 The above is more preferable.

동마찰 계수는, 방오층을 형성하는 재료, 및 방오층의 표면 형상에 의존한다. 동마찰 계수를 상기 범위로 하기 위하여, 방오층 (4) 의 산술 평균 조도는, 0.1 ∼ 2.5 ㎛ 가 바람직하고, 0.5 ∼ 2.2 ㎛ 가 보다 바람직하고, 0.8 ∼ 1.8 ㎛ 가 더욱 바람직하다.The dynamic friction coefficient depends on the material forming the antifouling layer and the surface shape of the antifouling layer. In order to set the dynamic friction coefficient within the above range, the arithmetic average roughness of the antifouling layer 4 is preferably 0.1 to 2.5 μm, more preferably 0.5 to 2.2 μm, and even more preferably 0.8 to 1.8 μm.

반사 방지층 (3) 및 방오층 (4) 은 두께가 작기 때문에, 방오층 (4) 의 표면에는, 하드 코트층 (2) 의 표면 형상을 반영한 요철 형상이 형성되기 쉽다. 그 때문에, 방오층 (4) 의 표면의 산술 평균 조도를 상기 범위로 하기 위해서는, 하드 코트층 (2) 에 입자를 함유시켜 표면 요철을 형성하는 것이 바람직하다. 또, 하드 코트층 (2) 에 진공 플라즈마 처리 등의 표면 처리를 실시함으로써 표면 형상을 조정해도 된다.Since the antireflection layer 3 and the antifouling layer 4 have a small thickness, an uneven shape reflecting the surface shape of the hard coat layer 2 is likely to be formed on the surface of the antifouling layer 4. Therefore, in order to make the arithmetic average roughness of the surface of the antifouling layer 4 into the above range, it is preferable to form particles in the hard coat layer 2 to form surface irregularities. Further, the surface shape may be adjusted by subjecting the hard coat layer 2 to surface treatment such as vacuum plasma treatment.

반사 방지층 (3) 의 반사 방지 특성을 유지하기 위하여, 방오층 (4) 은, 반사 방지층 (3) 의 최표면의 저굴절률층 (34) 과의 굴절률차가 작은 것이 바람직하다. 방오층 (4) 의 굴절률은, 1.6 이하가 바람직하고, 1.55 이하가 보다 바람직하다.In order to maintain the antireflection characteristics of the antireflection layer 3, it is preferable that the antifouling layer 4 has a small refractive index difference with the low refractive index layer 34 on the outermost surface of the antireflection layer 3. The refractive index of the antifouling layer 4 is preferably 1.6 or less, and more preferably 1.55 or less.

방오층 (4) 의 재료로는, 불소 함유 화합물이 바람직하다. 불소 함유 화합물은, 방오성을 부여함과 함께, 저굴절률화에도 기여할 수 있다. 그 중에서도, 발수성이 우수하고, 높은 방오성을 발휘할 수 있는 점에서, 퍼플루오로폴리에테르 골격을 함유하는 불소계 폴리머가 바람직하다. 방오성을 높이는 관점에서, 강직하게 병렬 가능한 주사슬 구조를 갖는 퍼플루오로폴리에테르가 특히 바람직하다. 퍼플루오로폴리에테르의 주사슬 골격의 구조 단위로는, 탄소수 1 ∼ 4 의 분지를 갖고 있어도 되는 퍼플루오로알킬렌옥사이드가 바람직하고, 예를 들어, 퍼플루오로메틸렌옥사이드, (-CF2O-), 퍼플루오로에틸렌옥사이드 (-CF2CF2O-), 퍼플루오로프로필렌옥사이드 (-CF2CF2CF2O-), 퍼플루오로이소프로필렌옥사이드 (-CF(CF3)CF2O-) 등을 들 수 있다.As a material of the antifouling layer 4, a fluorine-containing compound is preferable. The fluorine-containing compound not only imparts antifouling properties but can also contribute to lower refractive index. Among them, a fluorine-based polymer containing a perfluoropolyether skeleton is preferred from the viewpoint of excellent water repellency and high antifouling properties. From the viewpoint of enhancing antifouling properties, perfluoropolyethers having a main chain structure that can be rigidly parallel are particularly preferred. As the structural unit of the main chain skeleton of the perfluoropolyether, perfluoroalkylene oxide which may have a branch having 1 to 4 carbon atoms is preferable, for example, perfluoromethylene oxide, (-CF 2 O -), Perfluoroethylene oxide (-CF 2 CF 2 O-), perfluoropropylene oxide (-CF 2 CF 2 CF 2 O-), perfluoroisopropylene oxide (-CF (CF 3 ) CF 2 O-) and the like.

방오층은, 리버스 코트법, 다이 코트법, 그라비아 코트법 등의 웨트법이나, CVD 법 등의 드라이법 등에 의해 형성할 수 있다. 방오층의 두께는, 통상적으로, 2 ∼ 50 ㎚ 정도이다. 방오층 (4) 의 두께가 클수록, 수접촉 각도가 커지는 경향이 있다. 방오층 (4) 의 수접촉각을 100°이상으로 하기 위해서는, 방오층 (4) 의 두께는 7 ㎚ 이상이 바람직하다.The antifouling layer can be formed by a wet method such as a reverse coating method, a die coating method, a gravure coating method, or a dry method such as a CVD method. The thickness of the antifouling layer is usually about 2 to 50 nm. As the thickness of the antifouling layer 4 increases, the water contact angle tends to increase. In order to make the water contact angle of the antifouling layer 4 100 ° or more, the thickness of the antifouling layer 4 is preferably 7 nm or more.

[표면 보호 필름][Surface protection film]

표면 보호 필름 (70) 은, 필름 기재 (7) 의 1 주면 상에 점착제층 (8) 을 구비한다. 표면 보호 필름 (70) 을 반사 방지 필름 (10) 의 표면에 첩합시킴으로써, 수송이나 가공 등의 프로세스에 있어서, 반사 방지 필름 (10) 의 표면을 보호하고, 방오층 (4) 의 흠집이나 오염을 방지할 수 있다.The surface protection film 70 is provided with an adhesive layer 8 on one main surface of the film base 7. By attaching the surface protection film 70 to the surface of the antireflection film 10, in a process such as transportation or processing, the surface of the antireflection film 10 is protected, and scratches and contamination of the antifouling layer 4 are prevented. Can be prevented.

<필름 기재><Film description>

표면 보호 필름 (70) 은, 반사 방지 필름 (10) 의 표면을 보호하는 공정재로서, 반사 방지 필름 (10) 의 사용시에는 박리 제거된다. 그 때문에, 표면 보호 필름 (70) 의 필름 기재 (7) 는, 표면을 보호하기 위한 기계 강도를 갖고 있으면, 그 재료나 두께는 특별히 한정되지 않는다. 필름 기재 (7) 로는, 반사 방지 필름 (10) 의 필름 기재 (1) 에 관하여 먼저 예시한 수지 재료나 두께를 갖는 것이 바람직하게 사용된다.The surface protection film 70 is a process material for protecting the surface of the antireflection film 10, and is peeled off when the antireflection film 10 is used. Therefore, if the film base material 7 of the surface protection film 70 has a mechanical strength for protecting the surface, the material and thickness are not particularly limited. As the film base 7, those having a resin material or thickness exemplified above with respect to the film base 1 of the antireflection film 10 are preferably used.

<점착제층><Adhesive layer>

수접촉각이 큰 방오층에 대한 접착력을 높여, 표면 보호 필름의 박리나 첩합 계면으로의 기포의 혼입 등을 억제하는 관점에서, 점착제층 (8) 의 두께는 16 ㎛ 이상이 바람직하고, 18 ㎛ 이상이 보다 바람직하고, 20 ㎛ 이상이 더욱 바람직하다. 점착제층의 경도를 높여, 풀 잔류를 저감시키는 관점에서, 점착제층 (8) 의 두께는 50 ㎛ 이하가 바람직하고, 40 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 35 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.From the viewpoint of increasing the adhesion to the antifouling layer having a large water contact angle and suppressing peeling of the surface protection film or mixing of bubbles into the bonding interface, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 8 is preferably 16 μm or more, and 18 μm or more More preferably, 20 µm or more is more preferable. From the viewpoint of increasing the hardness of the pressure-sensitive adhesive layer and reducing paste retention, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 8 is preferably 50 µm or less, more preferably 40 µm or less, and even more preferably 35 µm or less.

점착제층 (8) 을 구성하는 점착제의 조성은 특별히 한정되지 않고, 아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리비닐에테르, 아세트산비닐/염화비닐 코폴리머, 변성 폴리올레핀, 에폭시계, 불소계, 천연 고무, 합성 고무 등의 고무계 등의 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 것을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 특히, 접착성 및 광학적 투명성이 우수한 점에서, 아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 아크릴계 점착제가 바람직하게 사용된다.The composition of the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer 8 is not particularly limited, and acrylic polymer, silicone polymer, polyester, polyurethane, polyamide, polyvinyl ether, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, modified polyolefin, epoxy-based, A polymer such as a rubber-based polymer such as fluorine-based, natural rubber or synthetic rubber can be appropriately selected and used. In particular, from the viewpoint of excellent adhesiveness and optical transparency, an acrylic pressure sensitive adhesive using an acrylic polymer as a base polymer is preferably used.

아크릴계 점착제의 아크릴계 베이스 폴리머로는, (메트)아크릴산알킬에스테르의 모노머 단위를 주골격으로 하는 것이 바람직하게 사용된다. 또한, 본 명세서에 있어서,「(메트)아크릴」이란, 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미한다.As the acrylic base polymer of the acrylic pressure-sensitive adhesive, one having a main skeleton as a monomer unit of the (meth) acrylic acid alkyl ester is preferably used. In addition, in this specification, "(meth) acrylic" means acrylic and / or methacrylic.

(메트)아크릴산알킬에스테르로는, 알킬기의 탄소수가 1 ∼ 20 인 (메트)아크릴산알킬에스테르가 바람직하게 사용된다. 예를 들어, (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산부틸, (메트)아크릴산이소부틸, (메트)아크릴산s-부틸, (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산펜틸, (메트)아크릴산이소펜틸, (메트)아크릴산네오펜틸, (메트)아크릴산헥실, (메트)아크릴산헵틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실, (메트)아크릴산옥틸, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산노닐, (메트)아크릴산이소노닐, (메트)아크릴산데실, (메트)아크릴산이소데실, (메트)아크릴산운데실, (메트)아크릴산도데실, (메트)아크릴산이소트리도데실, (메트)아크릴산테트라데실, (메트)아크릴산이소테트라데실, (메트)아크릴산펜타데실, (메트)아크릴산세틸, (메트)아크릴산헵타데실, (메트)아크릴산옥타데실, (메트)아크릴산이소옥타데실, (메트)아크릴산노나데실, (메트)아크릴산아르알킬 등을 들 수 있다.As the (meth) acrylic acid alkyl ester, a (meth) acrylic acid alkyl ester having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl group is preferably used. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate , (Meth) acrylic acid isopentyl, (meth) acrylic acid neopentyl, (meth) acrylic acid hexyl, (meth) acrylic acid heptyl, (meth) acrylic acid 2-ethylhexyl, (meth) acrylic acid octyl, (meth) acrylic acid isooctyl, ( Nonyl meth) acrylate, isononyl methacrylate, decyl methacrylate, isodecyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, isotridodecyl methacrylate, ( Tetradecyl methacrylate, isotetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, isooctadecyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid nonadecyl, (meth) acrylic acid aralkyl, etc. You can.

(메트)아크릴산알킬에스테르의 함유량은, 아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전체량에 대해 40 중량% 이상이 바람직하고, 50 중량% 이상이 보다 바람직하고, 60 중량% 이상이 더욱 바람직하다. 아크릴계 폴리머는, 복수의 (메트)아크릴산알킬에스테르의 공중합체여도 된다. 구성 모노머 단위의 나열은 랜덤이어도 되고, 블록이어도 된다.The content of the (meth) acrylic acid alkyl ester is preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, and even more preferably 60% by weight or more with respect to the total amount of the monomer components constituting the acrylic polymer. The acrylic polymer may be a copolymer of a plurality of (meth) acrylic acid alkyl esters. The arrangement of the constituent monomer units may be random or may be a block.

아크릴계 폴리머는, 공중합 성분으로서, 가교 가능한 관능기를 갖는 모노머 성분을 함유하는 것이 바람직하다. 가교 가능한 관능기를 갖는 모노머로는 하이드록시기 함유 모노머나, 카르복시기 함유 모노머를 들 수 있다. 그 중에서도, 공중합 성분으로서 하이드록시기 함유 모노머를 함유하는 것이 바람직하다. 하이드록시기나 카르복시기는, 후술하는 가교제와의 반응점이 된다. 베이스 폴리머에 가교 구조가 도입됨으로써, 점착제의 응집력이 향상되고, 피착체에 대한 적당한 접착력을 나타냄과 함께, 피착체로부터 표면 보호 필름의 재박리가 용이해져, 풀 잔류 등에서 기인되는 오염을 억제할 수 있는 경향이 있다.It is preferable that an acrylic polymer contains the monomer component which has a crosslinkable functional group as a copolymerization component. Examples of the monomer having a crosslinkable functional group include a hydroxy group-containing monomer and a carboxyl group-containing monomer. Especially, it is preferable to contain a hydroxy group containing monomer as a copolymerization component. The hydroxy group or carboxy group is a reaction point with a crosslinking agent described later. By introducing a cross-linked structure to the base polymer, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive is improved, and while showing proper adhesion to the adherend, re-removal of the surface protection film from the adherend becomes easy, and contamination caused by pool retention can be suppressed. Tend to be.

하이드록시기 함유 모노머로는, (메트)아크릴산2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산2-하이드록시프로필, (메트)아크릴산4-하이드록시부틸, (메트)아크릴산6-하이드록시헥실, (메트)아크릴산8-하이드록시옥틸, (메트)아크릴산10-하이드록시데실, (메트)아크릴산12-하이드록시라우릴이나 (4-하이드록시메틸시클로헥실)-메틸아크릴레이트 등을 들 수 있다. 카르복시기 함유 모노머로는, (메트)아크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸말산, 크로톤산 등을 들 수 있다.Examples of the hydroxy group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, and (meth) And 8-hydroxyoctyl acrylic acid, 10-hydroxydecyl (meth) acrylic acid, 12-hydroxylauryl (meth) acrylic acid, and (4-hydroxymethylcyclohexyl) -methylacrylate. Examples of the carboxyl group-containing monomers include (meth) acrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid.

아크릴계 폴리머는, 상기 이외에, 공중합 모노머 성분으로서, 산무수물기 함유 모노머, 아크릴산의 카프로락톤 부가물, 술폰산기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머 등을 사용할 수도 있다. 또, 개질 모노머로서, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, N-비닐피롤리돈, 메틸비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 비닐피페리돈, 비닐피리미딘, 비닐피페라진, 비닐피라진, 비닐피롤, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸, 비닐모르폴린, N-비닐카르복실산아미드류, 스티렌, α-메틸스티렌, N-비닐카프로락탐 등의 비닐계 모노머 ; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노아크릴레이트계 모노머 ; (메트)아크릴산글리시딜 등의 에폭시기 함유 아크릴계 모노머 ; (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머 ; (메트)아크릴산테트라하이드로푸르푸릴, 불소(메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트나 2-메톡시에틸아크릴레이트 등의 아크릴산에스테르계 모노머 등도 사용할 수 있다.In addition to the above, as the acrylic polymer, an acid anhydride group-containing monomer, acrylic acid caprolactone adduct, sulfonic acid group-containing monomer, phosphoric acid group-containing monomer, or the like may be used as the copolymerization monomer component. Moreover, as a modified monomer, vinyl acetate, vinyl propionate, N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole , Vinyl-based monomers such as vinyl oxazole, vinyl morpholine, N-vinyl carboxylic acid amides, styrene, α-methyl styrene, and N-vinyl caprolactam; Cyanoacrylate-based monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Epoxy group-containing acrylic monomers such as (meth) acrylic acid glycidyl; Glycol-based acrylic ester monomers such as (meth) acrylic acid polyethylene glycol, (meth) acrylic acid polypropylene glycol, (meth) acrylic acid methoxyethylene glycol, and (meth) acrylic acid methoxy polypropylene glycol; Acrylic acid ester monomers such as tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, fluorine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, and 2-methoxyethyl acrylate can also be used.

아크릴계 폴리머 중의 공중합 모노머 성분의 비율은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 가교점을 도입할 목적에서 공중합 모노머 성분으로서 하이드록시기 함유 모노머나 카르복시기 함유 모노머를 사용하는 경우, 하이드록시기 함유 모노머와 카르복시기 함유 모노머의 함유량의 합계는, 아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전체량에 대해, 1 ∼ 20 % 정도가 바람직하고, 2 ∼ 15 % 정도가 보다 바람직하다.Although the proportion of the copolymerized monomer component in the acrylic polymer is not particularly limited, for example, when a hydroxy group-containing monomer or a carboxyl group-containing monomer is used as the copolymerized monomer component for the purpose of introducing a crosslinking point, the hydroxy group-containing monomer and the carboxyl group are contained. The total content of the monomers is preferably about 1 to 20%, more preferably about 2 to 15%, relative to the total amount of the monomer components constituting the acrylic polymer.

상기 모노머 성분을, 용액 중합, 유화 중합, 괴상 중합, 현탁 중합 등의 각종 공지된 방법에 의해 중합함으로써, 아크릴계 폴리머가 얻어진다. 점착제의 접착력, 유지력 등의 특성의 밸런스나, 비용 등의 관점에서, 용액 중합법이 바람직하다. 용액 중합의 용매로는, 아세트산에틸, 톨루엔 등이 사용된다. 용액 농도는 통상적으로 20 ∼ 80 중량% 정도이다. 중합 개시제로는, 아조계, 과산화물계 등의 각종 공지된 것을 사용할 수 있다. 분자량을 조정하기 위하여, 연쇄 이동제가 사용되고 있어도 된다. 반응 온도는 통상적으로 50 ∼ 80 ℃ 정도, 반응 시간은 통상적으로 1 ∼ 8 시간 정도이다.An acrylic polymer is obtained by polymerizing the monomer component by various known methods such as solution polymerization, emulsion polymerization, bulk polymerization, and suspension polymerization. From the viewpoint of balance of properties such as adhesive strength and holding power of the pressure-sensitive adhesive, and cost, a solution polymerization method is preferred. As a solvent for solution polymerization, ethyl acetate, toluene, or the like is used. The solution concentration is usually about 20 to 80% by weight. As a polymerization initiator, various well-known things, such as azo type and peroxide type, can be used. In order to adjust the molecular weight, a chain transfer agent may be used. The reaction temperature is usually about 50 to 80 ° C, and the reaction time is usually about 1 to 8 hours.

아크릴계 폴리머의 분자량은, 점착제층 (8) 이 소기의 접착력을 갖도록 적절히 조정되지만, 예를 들어, 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이 5 만 ∼ 200 만 정도, 바람직하게는 7 만 ∼ 180 만 정도, 보다 바람직하게는 10 만 ∼ 150 만 정도, 더욱 바람직하게는 20 만 ∼ 100 만 정도이다. 또한, 아크릴계 베이스 폴리머에 가교 구조가 도입되는 경우, 가교 구조 도입 전의 폴리머의 분자량이 상기 범위인 것이 바람직하다.The molecular weight of the acrylic polymer is appropriately adjusted so that the pressure-sensitive adhesive layer 8 has a desired adhesive strength, but, for example, the weight average molecular weight in terms of polystyrene is about 50,000 to 2 million, preferably about 70 to 1.8 million, more Preferably it is about 100,000 to 1.5 million, more preferably about 200 to 1 million. Moreover, when a crosslinked structure is introduce | transduced into an acrylic base polymer, it is preferable that the molecular weight of the polymer before introduce | transducing a crosslinked structure is the said range.

점착제층 (8) 의 접착력의 조정 등을 목적으로 하여, 베이스 폴리머에 가교 구조를 도입해도 된다. 예를 들어, 아크릴계 폴리머를 중합 후의 용액에 가교제를 첨가하여, 필요에 따라 가열을 실시함으로써, 가교 구조가 도입된다. 가교제로는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴계 폴리머의 하이드록시기나 카르복시기와의 반응성이 높고, 가교 구조의 도입이 용이한 점에서, 이소시아네이트계 가교제 및 에폭시계 가교제가 바람직하다. 이들 가교제는, 폴리머 중에 도입된 하이드록시기나 카르복시기 등의 관능기와 반응하여 가교 구조를 형성한다.For the purpose of adjusting the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer 8, a crosslinked structure may be introduced into the base polymer. For example, a crosslinking structure is introduced by adding a crosslinking agent to the solution after polymerization of the acrylic polymer and heating it as necessary. As a crosslinking agent, an isocyanate type crosslinking agent, an epoxy type crosslinking agent, an oxazoline type crosslinking agent, an aziridine type crosslinking agent, a carbodiimide type crosslinking agent, a metal chelate type crosslinking agent, etc. are mentioned. Among them, an isocyanate-based crosslinking agent and an epoxy-based crosslinking agent are preferable from the viewpoint of high reactivity of the acrylic polymer with a hydroxy group or a carboxyl group and easy introduction of a crosslinked structure. These crosslinking agents react with functional groups such as hydroxy groups and carboxy groups introduced into the polymer to form a crosslinked structure.

이소시아네이트계 가교제로는, 1 분자 중에 2 개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 폴리이소시아네이트가 사용된다. 이소시아네이트계 가교제로는, 예를 들어, 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소시아네이트류 ; 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트류 ; 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트류 ; 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 3 량체 부가물 (예를 들어, 토소 제조「코로네이트 L」), 트리메틸올프로판/헥사메틸렌디이소시아네이트 3 량체 부가물 (예를 들어, 토소 제조「코로네이트 HL」), 자일릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물 (예를 들어, 미츠이 화학 제조「타케네이트 D110N」, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 (예를 들어, 토소 제조「코로네이트 HX」) 등의 이소시아네이트 부가물 등을 들 수 있다.As an isocyanate type crosslinking agent, polyisocyanate which has 2 or more isocyanate groups in 1 molecule is used. As an isocyanate type crosslinking agent, For example, lower aliphatic polyisocyanates, such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; Alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate; Aromatic isocyanates such as 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, and xylylene diisocyanate; Trimethylolpropane / tolylene diisocyanate trimer adduct (e.g., `` Coronate L '' manufactured by Tosoh), Trimethylolpropane / hexamethylene diisocyanate trimer adduct (e.g., `` Coronate HL '' by Tosoh) , Trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate (e.g., Mitsui Chemicals `` Takenate D110N ''), hexamethylene diisocyanate isocyanurate body (e.g., Tosoh `` Coronate HX ''), etc. And isocyanate adducts.

에폭시계 가교제로는, 1 분자 중에 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 다관능 에폭시 화합물이 사용된다. 에폭시계 가교제의 에폭시기는 글리시딜기여도 된다. 에폭시계 가교제로는, 예를 들어, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민, 디글리시딜아닐린, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 소르비톨폴리글리시딜에테르, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜에테르, 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르, 소르비탄폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 아디프산디글리시딜에스테르, o-프탈산디글리시딜에스테르, 트리글리시딜-트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트, 레조르신디글리시딜에테르, 비스페놀-S-디글리시딜에테르 등을 들 수 있다. 에폭시계 가교제로서, 나가세 켐텍스 제조의「데나콜」, 미츠비시 가스 화학 제조의「테트라드 X」「테트라드 C」등의 시판품을 사용해도 된다.As the epoxy-based crosslinking agent, a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule is used. The epoxy group of the epoxy-based crosslinking agent may be a glycidyl group. Examples of the epoxy-based crosslinking agent include N, N, N ', N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, diglycidylaniline, and 1,3-bis (N, N-diglycylic). Diylaminomethyl) cyclohexane, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl Ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, Trimethylolpropane polyglycidyl ether, diglycidyl adipic acid ester, diglycidyl ester o-phthalate, triglycidyl-tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, resorcin diglycidyl ether And bisphenol-S-diglycidyl ether. All. As the epoxy-based crosslinking agent, commercial products such as "Denacol" manufactured by Nagase Chemtex and "tetrad X" and "tetrad C" manufactured by Mitsubishi Gas Chemical may be used.

중합 후의 아크릴계 폴리머에 가교제를 첨가함으로써, 가교 구조가 도입된다. 가교제의 사용량은, 폴리머의 조성이나 분자량, 목적으로 하는 접착 특성 등에 따라 적절히 조정하면 된다. 점착제에 적당한 응집력을 갖게 하고, 피착체로부터 보호 필름을 박리할 때의 박리력을 적절한 범위로 조정하기 위해서는, 가교제의 사용량은, 아크릴계 폴리머 100 중량부에 대해, 1.5 중량부 이상이 바람직하고, 2 중량부 이상이 보다 바람직하고, 2.5 중량부 이상이 더욱 바람직하다. 피착체에 대한 적당한 접착성을 갖게 하기 위해서는, 가교제의 사용량은, 아크릴계 폴리머 100 중량부에 대해, 12 중량부 이하가 바람직하고, 10 중량부 이하가 보다 바람직하고, 8 중량부 이하가 더욱 바람직하다.A crosslinking structure is introduced by adding a crosslinking agent to the acrylic polymer after polymerization. The amount of the crosslinking agent to be used may be appropriately adjusted depending on the polymer composition, molecular weight, desired adhesive properties and the like. The amount of the crosslinking agent is preferably 1.5 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer, in order to have a suitable cohesive force for the pressure-sensitive adhesive and to adjust the peel force when peeling the protective film from the adherend to an appropriate range, 2 More preferably, parts by weight or more are more preferable, and parts more than 2.5 parts by weight are more preferable. In order to have proper adhesion to the adherend, the amount of the crosslinking agent is preferably 12 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or less, and even more preferably 8 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the acrylic polymer. .

가교제의 사용량의 증가에 수반하여 점착제층의 경도가 높아져 점성이 저하되는 경향이 있다. 그 때문에, 가교제의 사용량의 증가에 수반하여, 반사 방지 필름 (10) 으로부터 표면 보호 필름 (70) 을 박리했을 때의 방오층 (4) 표면에 대한 풀 잔류가 억제되는 경향이 있다. 한편, 가교제의 사용량이 증가하면, 점착제층의 경도가 과도하게 상승하여, 접착성이 저하되기 때문에, 반송·가공시의 보호 필름의 박리나, 첩합 계면으로의 기포의 혼입 등의 문제가 발생하는 경우가 있다. 특히, 방오층 (4) 의 수접촉각이 100°이상인 경우에는, 점착제가 방오층으로 확산되기 어렵기 때문에, 가교제의 사용량이 과도하게 큰 경우에는, 밀착성이 저하되기 쉽다. 또, 가교제의 사용량이 증가하면, 미반응의 가교제가 점착제층 (8) 의 표면에 블리드되어, 방오층 (4) 의 표면을 오염시키는 원인이 되는 경우가 있다.The viscosity of the pressure-sensitive adhesive layer tends to increase and the viscosity tends to decrease as the amount of the crosslinking agent increases. Therefore, with the increase in the amount of the cross-linking agent used, there is a tendency that the residual of the glue on the surface of the antifouling layer 4 when the surface protective film 70 is peeled from the antireflection film 10 tends to be suppressed. On the other hand, when the amount of the cross-linking agent increases, the hardness of the pressure-sensitive adhesive layer rises excessively, and the adhesiveness decreases, which causes problems such as peeling of the protective film during transport and processing, and mixing of bubbles into the bonding interface. There are cases. In particular, when the water contact angle of the antifouling layer 4 is 100 ° or more, the pressure-sensitive adhesive is unlikely to diffuse into the antifouling layer, and therefore, when the amount of the crosslinking agent used is excessively large, the adhesiveness tends to deteriorate. In addition, when the amount of the crosslinking agent used increases, unreacted crosslinking agent may bleed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 8 and cause contamination of the surface of the antifouling layer 4.

점착제층의 경도를 적절한 범위로 하고, 또한 가교제에서 기인하는 방오층의 오염을 억제하는 관점에서, 아크릴계 폴리머의 가교 가능한 관능기와, 가교제의 반응성 관능기의 비율을 조정하는 것이 바람직하다. 가교제의 첨가량은, 가교제의 반응성 관능기의 몰 당량이, 아크릴계 폴리머의 가교 가능한 관능기의 몰 당량의 0.3 ∼ 1.2 배의 범위 내가 되도록 조정하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 경우에는, 이소시아네이트기의 몰 당량이, 폴리머의 수산기의 몰 당량의 0.3 ∼ 1.2 배가 되도록, 가교제의 양을 조정하는 것이 바람직하다. 에폭시계 가교제를 사용하는 경우에는, 에폭시기의 몰 당량이, 폴리머의 카르복시기의 몰 당량의 0.3 ∼ 1.2 배가 되도록, 가교제의 양을 조정하는 것이 바람직하다. 가교제의 반응성 관능기의 몰 당량은, 폴리머의 가교 가능한 관능기의 몰 당량의 0.4 ∼ 1.0 배가 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 0.9 배가 더욱 바람직하다.It is preferable to adjust the ratio of the crosslinkable functional group of the acrylic polymer and the reactive functional group of the crosslinking agent from the viewpoint of setting the hardness of the pressure-sensitive adhesive layer in an appropriate range and suppressing contamination of the antifouling layer caused by the crosslinking agent. It is preferable that the addition amount of the crosslinking agent is adjusted so that the molar equivalent of the reactive functional group of the crosslinking agent is within the range of 0.3 to 1.2 times the molar equivalent of the crosslinkable functional group of the acrylic polymer. For example, when using an isocyanate-based crosslinking agent, it is preferable to adjust the amount of the crosslinking agent so that the molar equivalent of the isocyanate group is 0.3 to 1.2 times the molar equivalent of the hydroxyl group of the polymer. When using an epoxy crosslinking agent, it is preferable to adjust the amount of the crosslinking agent so that the molar equivalent of the epoxy group is 0.3 to 1.2 times the molar equivalent of the carboxyl group of the polymer. The molar equivalent of the reactive functional group of the crosslinking agent is more preferably 0.4 to 1.0 times, more preferably 0.5 to 0.9 times the molar equivalent of the crosslinkable functional group of the polymer.

점착제층을 형성하기 위한 점착제 조성물은, 베이스 폴리머, 및 필요에 따라 가교제 및 용매를 함유한다. 점착제 조성물은, 중합 촉매, 가교 촉매, 실란 커플링제, 점착성 부여제, 가소제, 연화제, 열화 방지제, 충전제, 착색제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면 활성제, 대전 방지제 등의 첨가제를, 본 발명의 특성을 저해하지 않는 범위에서 함유하고 있어도 된다.The pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer contains a base polymer and, if necessary, a crosslinking agent and a solvent. The pressure-sensitive adhesive composition, additives such as polymerization catalysts, crosslinking catalysts, silane coupling agents, tackifiers, plasticizers, softeners, deterioration inhibitors, fillers, colorants, ultraviolet absorbers, antioxidants, surfactants, antistatic agents, and the properties of the present invention. You may contain it in the range which does not inhibit.

점착제 조성물을, 롤 코트, 키스 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥 롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어 나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트, 다이 코트 등에 의해, 기재 상에 도포하고, 필요에 따라 용매를 건조 제거함으로써 점착제층이 형성된다. 건조 방법으로는, 적의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 가열 건조 온도는, 바람직하게는 40 ℃ ∼ 200 ℃, 보다 바람직하게는 50 ℃ ∼ 180 ℃, 더욱 바람직하게는 70 ℃ ∼ 170 ℃ 이다. 건조 시간은, 바람직하게는 5 초 ∼ 20 분, 보다 바람직하게는 5 초 ∼ 15 분, 더욱 바람직하게는 10 초 ∼ 10 분, 특히 바람직하게는 10 초 ∼ 5 분이다.The pressure-sensitive adhesive composition is on the substrate by roll coat, kiss roll coat, gravure coat, reverse coat, roll brush, spray coat, dip roll coat, bar coat, knife coat, air knife coat, curtain coat, lip coat, die coat, etc. The adhesive layer is formed by applying to and drying and removing the solvent as necessary. As the drying method, any suitable method may be employed. The heating and drying temperature is preferably 40 ° C to 200 ° C, more preferably 50 ° C to 180 ° C, further preferably 70 ° C to 170 ° C. The drying time is preferably 5 seconds to 20 minutes, more preferably 5 seconds to 15 minutes, still more preferably 10 seconds to 10 minutes, particularly preferably 10 seconds to 5 minutes.

점착제 조성물이 가교제를 함유하는 경우에는, 용매의 건조와 동시, 또는 용매의 건조 후에, 가열 또는 에이징에 의해 가교를 진행시키는 것이 바람직하다. 점착제 조성물이 베이스 폴리머의 구성 모노머 성분을 함유하는 경우에는, 가열 또는 에이징에 의해 중합을 실시하는 것이 바람직하다. 가열 온도나 가열 시간은, 사용하는 모노머나 가교제의 종류에 따라 적절히 설정되고, 통상적으로, 20 ℃ ∼ 160 ℃ 의 범위에서, 1 분에서 7 일 정도이다. 용매를 건조 제거하기 위한 가열이, 중합 또는 가교를 위한 가열을 겸하고 있어도 된다.When the pressure-sensitive adhesive composition contains a crosslinking agent, it is preferable to advance the crosslinking by heating or aging simultaneously with drying of the solvent or after drying of the solvent. When the pressure-sensitive adhesive composition contains the constituent monomer component of the base polymer, it is preferable to perform polymerization by heating or aging. The heating temperature and the heating time are appropriately set depending on the type of the monomer or crosslinking agent to be used, and are usually about 1 minute to 7 days in the range of 20 ° C to 160 ° C. The heating for drying and removing the solvent may also serve as heating for polymerization or crosslinking.

필름 기재 (7) 상에 점착제층 (8) 을 적층함으로써, 표면 보호 필름이 얻어진다. 점착제층 (8) 은, 필름 기재 (7) 상에 직접 형성해도 되고, 다른 기재 상에서 시트상으로 형성된 점착제층을 필름 기재 (7) 상에 전사해도 된다. 표면 보호 필름은, 반사 방지 필름 등의 피착체와 첩합시킬 때까지의 동안, 점착제층 (8) 의 표면을 보호하기 위하여, 세퍼레이터를 부설하는 것이 바람직하다.The surface protection film is obtained by laminating the adhesive layer 8 on the film base material 7. The pressure-sensitive adhesive layer 8 may be formed directly on the film substrate 7, or the pressure-sensitive adhesive layer formed in a sheet form on another substrate may be transferred onto the film substrate 7. The surface protection film is preferably provided with a separator to protect the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 8 until it adheres to an adherend such as an antireflection film.

상기 서술한 바와 같이, 수접촉각이 큰 방오층에 대한 접착성을 확보하는 관점에서, 필름 기재 (7) 상에 형성된 점착제층 (8) 의 두께는 18 ㎛ 이상이 바람직하다. 또, 방오층에 대한 접착성을 보다 높이는 관점에서, 점착제층 (8) 의 표면 경도는, 600 ㎪ 이하가 바람직하고, 400 ㎪ 이하가 보다 바람직하고, 300 ㎪ 이하가 더욱 바람직하고, 200 ㎪ 이하가 특히 바람직하다. 한편, 방오층에 대한 풀 잔류를 억제하는 관점에서, 필름 기재 (7) 상에 형성된 점착제층 (8) 의 표면 경도는, 20 ㎪ 이상이 바람직하고, 30 ㎪ 이상이 보다 바람직하고, 40 ㎪ 이상이 더욱 바람직하고, 50 ㎪ 이상이 특히 바람직하다. 점착제층의 표면 경도는 나노인텐데이션에 의해 측정된다.As described above, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 8 formed on the film base 7 is preferably 18 µm or more from the viewpoint of ensuring adhesion to the antifouling layer having a large water contact angle. Moreover, from the viewpoint of further improving the adhesion to the antifouling layer, the surface hardness of the pressure-sensitive adhesive layer 8 is preferably 600 MPa or less, more preferably 400 MPa or less, further preferably 300 MPa or less, and further preferably 200 MPa or less Is particularly preferred. On the other hand, the surface hardness of the pressure-sensitive adhesive layer 8 formed on the film base 7 from the viewpoint of suppressing the residual of the glue against the antifouling layer is preferably 20 MPa or more, more preferably 30 MPa or more, and 40 MPa or more. This is more preferable, and 50 MPa or more is particularly preferable. The surface hardness of the pressure-sensitive adhesive layer is measured by nanointention.

수접촉각이 큰 방오층에 대한 적당한 접착성을 확보하고, 또한 적당한 경도를 갖게 하여 점착제의 이착 등에서 기인되는 방오층의 오염을 억제하는 관점에서, 점착제층 (8) 의 겔 분율은, 85 ∼ 95 % 가 바람직하다. 점착제층 (8) 의 겔 분율이 과도하게 크면 피착체에 대한 젖음성이 저하되어, 접착력이 불충분해지는 경우가 있다. 한편, 겔 분율이 과도하게 작으면 점착제의 경도가 저하되어, 방오층의 오염의 원인이 되는 경우가 있다. 겔 분율은, 아세트산에틸 등의 용매에 대한 불용분으로서 구할 수 있고, 구체적으로는, 점착제층을 아세트산에틸 중에 23 ℃ 에서 7 일간 침지시킨 후의 불용 성분의, 침지 전의 시료에 대한 중량 분율 (단위 : 중량%) 로서 구할 수 있다. 일반적으로, 폴리머의 겔 분율은 가교도와 동등하고, 폴리머 중의 가교된 부분이 많을수록, 겔 분율이 커진다.The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer 8 is 85 to 95 from the viewpoint of ensuring adequate adhesion to the antifouling layer having a large water contact angle, and having appropriate hardness to suppress contamination of the antifouling layer caused by adhesion or the like of the pressure-sensitive adhesive. % Is preferred. When the gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer 8 is excessively large, wettability to the adherend is lowered, and the adhesive force may be insufficient. On the other hand, if the gel fraction is excessively small, the hardness of the pressure-sensitive adhesive decreases, which may cause contamination of the antifouling layer. The gel fraction can be determined as an insoluble content for a solvent such as ethyl acetate, and specifically, the weight fraction of the insoluble component after immersing the pressure-sensitive adhesive layer in ethyl acetate at 23 ° C for 7 days for a sample before immersion (unit: Weight%). Generally, the gel fraction of the polymer is equal to the degree of crosslinking, and the more crosslinked portions in the polymer, the larger the gel fraction.

점착제층 (8) 에 적당한 경도를 갖게 하여, 반사 방지 필름 (10) 으로부터 표면 보호 필름 (70) 을 박리할 때의 박리력을 작게 하는 관점에서, 점착제층 (2) 의 23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 G' 는, 5.0 × 104 ㎩ 이상이 바람직하고, 7.5 × 104 ㎩ 이상이 보다 바람직하고, 1.0 × 105 ㎩ 이상이 더욱 바람직하다. 점착제층 (8) 의 저장 탄성률이 과도하게 크면, 방오층에 대한 젖음성이 저하되어, 접착력이 불충분해지는 경우가 있다. 그 때문에, 점착제층 (2) 의 23 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률 G' 는, 5.0 × 106 ㎩ 이하가 바람직하고, 2.5 × 106 ㎩ 이하가 보다 바람직하고, 1.0 × 106 ㎩ 이하가 더욱 바람직하다. 저장 탄성률 G' 는, 동적 점탄성 측정 장치 (예를 들어 리오메트릭스사 제조「ARES」) 를 사용하여, 주파수 1 ㎐, 온도 범위 -70 ℃ ∼ 150 ℃, 승온 속도 5 ℃/min 의 조건으로 전단 모드에서 점 탄성 측정을 실시함으로써 구할 수 있다.Storage of the pressure-sensitive adhesive layer 2 at 23 ° C. from the viewpoint of reducing the peel force when the surface protection film 70 is peeled from the anti-reflective film 10 by providing the pressure-sensitive adhesive layer 8 with a suitable hardness. The elastic modulus G 'is preferably 5.0 × 10 4 MPa or more, more preferably 7.5 × 10 4 MPa or more, and even more preferably 1.0 × 10 5 MPa or more. When the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer 8 is excessively large, wettability to the antifouling layer is lowered, and the adhesive force may be insufficient. Therefore, the storage elastic modulus G 'at 23 ° C of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably 5.0 × 10 6 MPa or less, more preferably 2.5 × 10 6 MPa or less, and even more preferably 1.0 × 10 6 MPa or less. Do. The storage modulus G 'is a shear mode under the conditions of a frequency of 1 kHz, a temperature range of -70 ° C to 150 ° C, and a heating rate of 5 ° C / min using a dynamic viscoelasticity measuring device (for example, "ARES" manufactured by Riometrics Co., Ltd.). It can be obtained by performing a viscoelastic measurement.

[반사 방지 필름과 표면 보호 필름의 적층][Lamination of antireflection film and surface protection film]

반사 방지 필름 (10) 의 방오층 (4) 상에, 표면 보호 필름 (70) 의 점착제층 (8) 을 첩합시킴으로써, 보호 필름 부착 반사 방지 필름 (100) 이 얻어진다. 첩합 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 롤 라미네이터 등을 사용한 일반적인 첩합법을 채용할 수 있다.The antireflection film 100 with a protective film is obtained by bonding the adhesive layer 8 of the surface protection film 70 on the antifouling layer 4 of the antireflection film 10. The bonding method is not particularly limited, and for example, a general bonding method using a roll laminator or the like can be adopted.

반사 방지 필름 (10) 과 표면 보호 필름 (70) 의 접착력은, 0.07 N/50 ㎜ 미만이 바람직하다. 양자의 접착력이 0.07 N/50 ㎜ 미만이면, 표면 보호 필름을 박리 후의 방오층 (4) 의 표면에 대한 풀 잔류 등에서 기인되는 오염을 방지할 수 있다. 풀 잔류 등에서 기인되는 오염을 보다 확실하게 방지하는 관점에서, 반사 방지 필름 (10) 과 표면 보호 필름 (70) 의 접착력은, 0.06 N/50 ㎜ 이하가 보다 바람직하고, 0.05 N/50 ㎜ 이하가 더욱 바람직하다. 접착력은, 인장 속도 0.3 m/분으로 180°박리 시험을 실시했을 때의 박리력이다.The adhesive force between the antireflection film 10 and the surface protection film 70 is preferably less than 0.07 N / 50 mm. When both of the adhesive strengths are less than 0.07 N / 50 mm, it is possible to prevent contamination caused by the residual of the surface protective film on the surface of the antifouling layer 4 after peeling off or the like. From the viewpoint of more reliably preventing contamination caused by pool residues and the like, the adhesive force between the antireflection film 10 and the surface protection film 70 is more preferably 0.06 N / 50 mm or less, and 0.05 N / 50 mm or less It is more preferable. The adhesive force is the peel force when the 180 ° peeling test is performed at a tensile speed of 0.3 m / min.

첩합 계면으로의 기포의 혼입이나 반사 방지 필름의 사용 전의 표면 보호 필름의 박리를 방지하는 관점에서, 반사 방지 필름 (10) 과 표면 보호 필름 (70) 의 접착력은, 0.01 N/50 ㎜ 이상이 바람직하고, 0.02 N/50 ㎜ 이상이 보다 바람직하다. 상기 서술한 바와 같이, 점착제층 (8) 의 형성에 사용되는 점착제 조성물에 있어서의 가교제의 사용량을 조정하고, 점착제층 (8) 의 경도를 적절한 범위로 함으로써, 접착력을 상기 범위 내로 조정할 수 있다.From the viewpoint of preventing the incorporation of bubbles into the bonding interface or the peeling of the surface protection film before use of the antireflection film, the adhesive force between the antireflection film 10 and the surface protection film 70 is preferably 0.01 N / 50 mm or more. And 0.02 N / 50 mm or more is more preferable. As described above, by adjusting the amount of the crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive composition used for forming the pressure-sensitive adhesive layer 8, and setting the hardness of the pressure-sensitive adhesive layer 8 to an appropriate range, the adhesive force can be adjusted within the above range.

[반사 방지 필름 이외에 대한 적용][Applied for other than anti-reflection film]

최표면에 방오층 (4) 을 구비하는 반사 방지 필름 (10) 의 표면에 표면 보호 필름 (70) 을 첩합시키는 예에 대해 설명했지만, 표면 보호 필름 (70) 에 의한 보호 대상인 광학 필름은, 필름 기재의 최표면에, 수접촉각이 100°이상인 방오층을 구비하는 것이면, 반사 방지 필름에 한정되지 않는다.Although an example has been described in which the surface protection film 70 is pasted on the surface of the antireflection film 10 having the antifouling layer 4 on its outermost surface, the optical film to be protected by the surface protection film 70 is a film It is not limited to an antireflection film as long as it has an antifouling layer having a water contact angle of 100 ° or more on the outermost surface of the substrate.

광학 필름은, 필름 기재 상에 방오층만을 구비하는 방오 필름이어도 된다. 또, 광학 필름은, 필름 기재와 방오층 사이에 각종의 기능층을 갖는 기능성 광학 필름이어도 된다. 방오 필름이나 기능성 광학 필름은, 필름 기재 상에 하드 코트층이나 방현층 등을 구비하고 있어도 된다.The optical film may be an antifouling film having only an antifouling layer on a film base material. Further, the optical film may be a functional optical film having various functional layers between the film base material and the antifouling layer. The antifouling film and the functional optical film may be provided with a hard coat layer, an antiglare layer, or the like on the film substrate.

기능성 광학 필름으로는, 터치 패널의 위치 검출 등에 사용되는 도전성 필름, 창유리나 쇼윈도에 첩합되는 일사 차폐 필름이나 차열·단열 필름 등을 들 수 있다. 이와 같은 기능성 광학 필름의 기능층으로는, 금속이나 금속 화합물 (금속 또는 반금속의 산화물, 질화물, 탄화물, 황화물, 불화물 등) 등의 무기 박막을 들 수 있다. 기능층은, 도전성이어도 되고 절연성이어도 되며, 반도체여도 된다.As a functional optical film, the conductive film used for position detection, etc. of a touch panel, a solar radiation shielding film bonded to a window glass or a window, a heat insulating / insulation film, etc. are mentioned. Examples of the functional layer of the functional optical film include inorganic thin films such as metals and metal compounds (oxides, nitrides, carbides, sulfides, fluorides, etc. of metals or semimetals). The functional layer may be either conductive or insulating, or may be a semiconductor.

실시예Example

이하에, 실시예를 들어 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

[반사 방지 필름의 제조][Preparation of anti-reflection film]

<반사 방지 필름 A><Anti-reflection film A>

바인더 수지로서의 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 (오사카 유기 화학 제조「비스코트 #300」) 50 중량부 및 우레탄아크릴레이트프리폴리머 (신나카무라 화학 공업 제조「UA-53H-80BK」) 50 중량부 ; 실리콘 입자 (모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬 제조「토스펄 130」, 중량 평균 입경 : 3 ㎛) 3.5 중량부 ; 유기 점토인 합성 스멕타이트 (코업 케미컬 제조「루센타이트 SAN」) 2 중량부 ; 광중합 개시제 (BASF 제조「이르가큐어 907」) 3 중량부 ; 그리고 레벨링제 (DIC 제조「PC4100」, 고형분 10 %) 0.2 를 혼합하고, 톨루엔/시클로펜타논 혼합 용매 (중량비 70/30) 로 희석하여, 고형분 농도 33 중량% 의 하드 코트층 형성용 조성물을 조제하였다. 또한, 유기 점토는, 톨루엔으로 고형분이 6 중량% 가 되도록 희석하여 사용하였다. 이 조성물을, 두께 40 ㎛ 의 트리아세틸셀룰로오스 필름 (코니카 미놀타 제조「KC4UA」) 에, 콤마 코터 (등록 상표) 를 사용하여 도포하고, 80 ℃ 에서 1 분간 가열하였다. 그 후, 고압 수은 램프에서 적산 광량 300 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고, 도포층을 경화시켜 두께 : 6.3 ㎛ 의 방현성 하드 코트층을 형성하였다.50 parts by weight of pentaerythritol triacrylate ("Biscoat® 300" manufactured by Osaka Organic Chemicals) as a binder resin and 50 parts by weight of a urethane acrylate prepolymer ("UA-53H-80BK" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industries); 3.5 parts by weight of silicon particles (Momentive Performance Materials Japan's "Tos Pearl 130", weight average particle diameter: 3 µm); 2 parts by weight of synthetic smectite, which is an organic clay ("Lucentite SAN" manufactured by Coop Chemical); 3 parts by weight of a photopolymerization initiator ("Irgacure 907" manufactured by BASF); Then, a leveling agent ("PC4100" manufactured by DIC, 10% solid content) was mixed, diluted with a toluene / cyclopentanone mixed solvent (weight ratio 70/30), and a composition for forming a hard coat layer having a solid content concentration of 33% by weight was prepared. Did. In addition, the organic clay was diluted with toluene so that the solid content became 6% by weight and used. This composition was applied to a 40 µm-thick triacetylcellulose film (KK4UA manufactured by Konica Minolta) using a comma coater (registered trademark) and heated at 80 ° C. for 1 minute. Thereafter, a high-pressure mercury lamp was irradiated with ultraviolet light having an accumulated light amount of 300 mJ / cm 2, and the coating layer was cured to form an anti-glare hard coat layer having a thickness of 6.3 μm.

(반사 방지층의 형성)(Formation of anti-reflection layer)

하드 코트층이 형성된 트리아세틸셀룰로오스 필름을, 롤 투 롤 방식의 스퍼터 성막 장치에 도입하고, 필름을 주행시키면서, 방현성 하드 코트층 형성면에 봄바드 처리 (Ar 가스에 의한 플라즈마 처리) 를 실시한 후, 밀착성 향상층으로서, 3.5 ㎚ 의 SiOx 층 (x < 2) 을 성막하고, 그 위에, 10.1 ㎚ 의 Nb2O5 층, 27.5 ㎚ 의 SiO2 층, 105.0 ㎚ 의 Nb2O5 층 및 83.5 ㎚ 의 SiO2 층을 순서대로 성막하였다. 밀착성 향상층 및 SiO2 층의 성막에는 Si 타깃, Nb2O5 층의 성막에는 Nb 타깃을 사용하였다. SiO2 층의 성막 및 Nb2O5 층의 성막에 있어서는, 플라즈마 발광 모니터링 (PEM) 제어에 의해, 성막 모드가 천이 영역을 유지하도록 도입하는 산소량을 조정하였다.After introducing the triacetylcellulose film on which the hard coat layer was formed into a roll-to-roll type sputter film forming apparatus, and carrying out the film while subjecting the anti-glare hard coat layer forming surface to a spring-bard treatment (plasma treatment with Ar gas) , As an adhesion improving layer, a 3.5 nm SiO x layer (x <2) is deposited, and thereon, a 10.1 nm Nb 2 O 5 layer, a 27.5 nm SiO 2 layer, a 105.0 nm Nb 2 O 5 layer and 83.5 A SiO 2 layer of nm was formed in order. The Si target was used to form the adhesion improving layer and the SiO 2 layer, and the Nb target was used to form the Nb 2 O 5 layer. In the film formation of the SiO 2 layer and the film formation of the Nb 2 O 5 layer, the amount of oxygen introduced into the film forming mode to maintain the transition region was adjusted by plasma emission monitoring (PEM) control.

(방오층의 형성)(Formation of antifouling layer)

주사슬 골격에 -(CF2-CF2-O)- 및 -(CF2-O)- 를 함유하는 퍼플루오로에테르를 함유하는 불소계 수지 용액 (방오 재료 1) 을, 반사 방지층의 표면 SiO2 층 상에, 건조 후 두께가 9 ㎚ 가 되도록 도포하고, 탑코트층으로서의 방오층을 형성하였다.A fluorine-based resin solution (antifouling material 1) containing perfluoroethers containing-(CF 2 -CF 2 -O)-and-(CF 2 -O)-on the main chain skeleton, and the surface SiO 2 of the antireflection layer After drying, it was applied so that the thickness became 9 nm after drying, and an antifouling layer was formed as a top coat layer.

<반사 방지 필름 B, C><Anti-reflection film B, C>

반사 방지 필름 B 및 반사 방지 필름 C 는, 방오층의 구성이 상이한 것 이외에는 반사 방지 필름 A 와 동일하게 제조하였다. 반사 방지 필름 B 에서는, 방오층의 재료를, 주사슬 골격에 -(O-CF(CF3)-CF2)- 를 함유하는 퍼플루오로에테르를 함유하는 불소계 수지 용액 (방오 재료 2) 으로 변경하고, 방오층의 두께를 6 ㎚ 로 하였다. 반사 방지 필름 C 에서는 방오층의 두께를 4 ㎚ 로 변경하였다.The antireflection film B and the antireflection film C were produced in the same manner as the antireflection film A except that the constitution of the antifouling layer was different. In the antireflection film B, the material of the antifouling layer was changed to a fluorine-based resin solution (antifouling material 2) containing perfluoroether containing-(O-CF (CF 3 ) -CF 2 )-in the main chain skeleton. The thickness of the antifouling layer was 6 nm. In the antireflection film C, the thickness of the antifouling layer was changed to 4 nm.

[점착제 조성물의 조제][Preparation of adhesive composition]

<점착제 조성물 A 의 조제><Preparation of adhesive composition A>

온도계, 교반기, 냉각기 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에, 모노머 성분으로서, 2-에틸헥실아크릴레이트 (2EHA) 96 중량부, 및 하이드록시에틸아크릴레이트 (HEA) 4 중량부, 그리고 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 (AIBN) 0.2 중량부를 아세트산에틸 150 중량부와 함께 주입하고, 23 ℃ 에서 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환을 실시하였다. 그 후, 액온을 65 ℃ 부근에 유지하여 6 시간 중합 반응을 실시하여, 아크릴 폴리머의 용액 (농도 40 중량%) 을 얻었다.In a reaction vessel equipped with a thermometer, stirrer, cooler, and nitrogen gas introduction tube, 96 parts by weight of 2-ethylhexylacrylate (2EHA), and 4 parts by weight of hydroxyethylacrylate (HEA) as a monomer component, and a polymerization initiator As 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN), 0.2 parts by weight of ethyl acetate was injected together with 150 parts by weight of ethyl acetate, and nitrogen gas was introduced by gently stirring at 23 ° C to perform nitrogen substitution. Thereafter, the liquid temperature was maintained at around 65 ° C, and polymerization reaction was carried out for 6 hours to obtain a solution of an acrylic polymer (concentration 40% by weight).

아크릴 폴리머의 용액 250 중량부 (폴리머 100 중량부) 에, 톨루엔 73 중량부 및 아세틸아세톤 10 중량부를 첨가하여, 농도 30 중량% 로 희석하였다. 이 용액에, 가교제로서 트리메틸올프로판의 톨릴렌디이소시아네이트 3 량체 부가물의 75 % 아세트산에틸 용액 (토소 제조「코로네이트 L」) 5.3 중량부 (고형분 4.0 중량부), 및 가교 촉매로서 디옥틸주석라우레이트의 0.5 % 용액 (도쿄 파인 케미컬 제조「엔비라이저 OL-1) 4 중량부 (고형분 0.02 중량부) 를 첨가하여 교반하고, 아크릴계 점착제 용액 A 를 조제하였다. 이 조성물에 있어서의 가교제의 이소시아네이트 당량은, 폴리머의 수산기 당량의 0.69 배였다.To 250 parts by weight of an acrylic polymer solution (100 parts by weight of a polymer), 73 parts by weight of toluene and 10 parts by weight of acetylacetone were added and diluted to a concentration of 30% by weight. To this solution, 5.3 parts by weight of a 75% ethyl acetate solution of tolylene diisocyanate trimer adduct of trimethylolpropane as a crosslinking agent ("Coronate L" manufactured by Tosoh) (5.3 parts by weight of solids), and dioctyltin laurate as a crosslinking catalyst 4% by weight of a 0.5% solution ("Naviriser OL-1" manufactured by Tokyo Fine Chemical) (0.02 parts by weight of solid content) was added and stirred to prepare an acrylic pressure-sensitive adhesive solution A. The isocyanate equivalent weight of the crosslinking agent in this composition was 0.69 times the hydroxyl group equivalent weight of the polymer.

<점착제 조성물 B 의 조제><Preparation of adhesive composition B>

가교제를 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 (토소 제조「코로네이트 HX」) 4.0 중량부로 변경한 것 이외에는, 점착제 조성물 A 의 조제와 동일하게 하여, 아크릴계 점착제 용액 B 를 조제한 이 조성물에 있어서의 가교제의 이소시아네이트 당량은, 폴리머의 수산기 당량의 0.73 배였다.In this composition in which the acrylic pressure-sensitive adhesive solution B was prepared in the same manner as in the preparation of the pressure-sensitive adhesive composition A, except that the crosslinking agent was changed to 4.0 parts by weight of an isocyanurate product of hexamethylene diisocyanate ("Coronate HX" manufactured by Tosoh). The isocyanate equivalent weight of the crosslinking agent was 0.73 times the hydroxyl group equivalent weight of the polymer.

<점착제 조성물 C 의 조제><Preparation of adhesive composition C>

온도계, 교반기, 냉각기 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에, 모노머 성분으로서, 2-에틸헥실아크릴레이트 54 중량부, 아세트산비닐 (VAC) 43 중량부, 및 아크릴산 (AA) 3 중량부, 그리고 중합 개시제로서 벤조일퍼옥사이드 (BPO) 0.2 중량부를 아세트산에틸 233 중량부와 함께 주입하고, 23 ℃ 에서 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환을 실시하였다. 그 후, 액온을 65 ℃ 부근에 유지하여 6 시간 중합 반응을 실시하고, 아크릴 폴리머의 용액 (농도 30 중량%) 을 조제하였다.In a reaction vessel equipped with a thermometer, stirrer, cooler, and nitrogen gas introduction tube, as a monomer component, 54 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 43 parts by weight of vinyl acetate (VAC), and 3 parts by weight of acrylic acid (AA), and As a polymerization initiator, 0.2 parts by weight of benzoyl peroxide (BPO) was injected together with 233 parts by weight of ethyl acetate, and nitrogen was introduced by introducing nitrogen gas while gently stirring at 23 ° C. Thereafter, the liquid temperature was maintained at about 65 ° C, and polymerization reaction was carried out for 6 hours to prepare a solution (concentration 30% by weight) of the acrylic polymer.

아크릴 폴리머의 용액 333 중량부 (폴리머 100 중량부) 에, 메틸에틸케톤 67 중량부를 첨가하고, 농도 25 중량% 로 희석하였다. 이 용액에, 가교제로서 4 관능 에폭시계 화합물 (미츠비시 가스 화학 제조「테트라드 C」) 10 중량부를 첨가하여 교반하고, 아크릴계 점착제 용액 C 를 조제하였다. 이 조성물에 있어서의 가교제의 에폭시 당량은, 폴리머의 카르복시기 당량의 1.46 배였다.To 333 parts by weight of the acrylic polymer solution (100 parts by weight of the polymer), 67 parts by weight of methyl ethyl ketone was added and diluted to a concentration of 25% by weight. To this solution, 10 parts by weight of a tetrafunctional epoxy-based compound ("tetrade C" manufactured by Mitsubishi Gas Chemical) was added as a crosslinking agent and stirred to prepare an acrylic pressure-sensitive adhesive solution C. The epoxy equivalent of the crosslinking agent in this composition was 1.46 times the equivalent of the carboxyl group of the polymer.

[표면 보호 필름의 제조][Production of surface protection film]

<표면 보호 필름 1><Surface protection film 1>

편면에 대전 방지층이 형성된 두께 38 ㎛ 의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (미츠비시 케미컬 제조「다이아포일 T100G38」의 대전 방지층이 형성되어 있지 않은 면에, 상기의 점착제 조성물 A 를 도포하고, 130 ℃ 에서 2 분간 건조시켜, 두께 21 ㎛ 의 점착제층을 형성하였다. 점착제층의 표면에, 세퍼레이터 (편면이 실리콘 이형 처리된 두께 25 ㎛ 의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 의 이형 처리면을 첩합시켰다.A polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 µm with an antistatic layer formed on one side (the Mitsubishi Chemical `` Diafoil T100G38 '' antistatic layer is not formed, the above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition A was applied and dried at 130 ° C. for 2 minutes. , A pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 21 µm was formed, and a release treatment surface of a separator (a polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 µm on which one side was subjected to silicone release treatment) was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer.

<표면 보호 필름 2><Surface protection film 2>

점착제 조성물 A 대신에 점착제 조성물 B 를 사용한 것 이외에는, 표면 보호 필름 1 의 제조와 동일하게 하여, 표면 보호 필름 2 를 제조하였다.A surface protective film 2 was produced in the same manner as in the preparation of the surface protective film 1, except that the adhesive composition B was used instead of the adhesive composition A.

<표면 보호 필름 3><Surface protection film 3>

점착제 조성물 A 대신에 점착제 조성물 C 를 사용하고, 점착제층의 두께를 23 ㎛ 로 변경한 것 이외에는, 표면 보호 필름 1 의 제조와 동일하게 하여, 표면 보호 필름 3 을 제조하였다.The pressure-sensitive adhesive composition C was used instead of the pressure-sensitive adhesive composition A, and the surface protective film 3 was produced in the same manner as in the preparation of the surface protective film 1, except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was changed to 23 μm.

<표면 보호 필름 4><Surface protection film 4>

표면 보호 필름 4 로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 두께 15 ㎛ 의 아크릴계 점착제층을 구비하고, 점착제층의 표면에 세퍼레이터가 임시 부착된 시판되는 점착 필름 (산에이 화연 제조「SAT-2038T10-JSL」) 을 사용하였다.As the surface protection film 4, a commercially available adhesive film having an acrylic pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 μm on a polyethylene terephthalate film and a separator temporarily attached to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (SAT-2038T10-JSL manufactured by San-A Chemical Co., Ltd.) Was used.

[보호 필름 부착 반사 방지 필름의 제조][Production of antireflection film with protective film]

표면 보호 필름 1 ∼ 4 의 세퍼레이터를 박리하고, 롤 라미네이터를 사용하여, 반사 방지 필름 A ∼ C 의 방오층의 표면에 표면 보호 필름의 점착제층을 첩합시켜, 표 1 에 나타내는 실시예 1, 2 및 비교예 1 ∼ 4 의 보호 필름 부착 반사 방지 필름을 제조하였다.The separators of the surface protection films 1 to 4 were peeled off, and the adhesive layers of the surface protection films were pasted on the surfaces of the antifouling layers of the antireflection films A to C using a roll laminator, and the Examples 1, 2 and Table 1 shown in Table 1 were used. The antireflection films with protective films of Comparative Examples 1 to 4 were prepared.

[평가 방법][Assessment Methods]

이하의 측정 및 평가는, 모두, 23 ℃, 상대 습도 50 % 의 환경 (이하「표준 환경」) 하에서 실시하였다.All of the following measurements and evaluations were performed under an environment (hereinafter referred to as "standard environment") at 23 ° C and a relative humidity of 50%.

<반사 방지 필름의 수접촉각><Water contact angle of anti-reflection film>

접촉각 측정 장치 (쿄와 계면 화학사 제조「DMo-701」) 를 사용하여, 표면 보호 필름을 첩합시키기 전의 반사 방지 필름의 방오층 표면에, 약 5.0 ㎕ 의 물을 적하하였다. 적하로부터 2 초 후에, 방오층의 표면과 액적 단부의 접선의 각도를 측정하였다. 실시예 1 및 실시예 2 에 대해서는, 반사 방지 필름의 표면에 보호 필름을 첩합시켜, 온도 60 ℃, 상대 습도 90 % 의 항온 항습조에서 250 시간 정치 (靜置) 시킨 후, 표면 보호 필름을 박리하고, 다시, 표준 환경 하에서 반사 방지 필름의 수접촉각 (습열 시험 후의 수접촉각) 을 측정하였다.About 5.0 µl of water was added dropwise to the surface of the antifouling layer of the antireflection film before bonding the surface protective film using a contact angle measuring device ("DMo-701" manufactured by Kyowa Interface Chemical Co., Ltd.). Two seconds after dropping, the angle of the tangent between the surface of the antifouling layer and the end of the droplet was measured. About Example 1 and Example 2, after attaching a protective film to the surface of an antireflection film, and leaving it standing for 250 hours in a constant temperature and humidity tank at a temperature of 60 ° C and a relative humidity of 90%, the surface protective film was peeled off. Then, the water contact angle (water contact angle after the wet heat test) of the antireflection film was measured again under a standard environment.

<반사 방지 필름의 동마찰 계수><Dynamic coefficient of antireflection film>

표면성 측정기 (신토 과학 제조「트라이보 기어 TYPE : 14) 를 사용하여, 미끄러짐편으로서 10 ㎜φ 의 펠트를 사용하고, 하중 500 g, 속도 300 ㎜/분, 길이 50 ㎜ 의 조건으로 방오층의 표면을 일방향으로 찰과하고, 마찰 계수 (마찰력/하중) 의 평균치를 반사 방지 필름 (방오층) 의 동마찰 계수로 하였다.Using a surface measuring instrument (Shinto Scientific Manufacturing `` Tribo Gear TYPE: 14) '', a felt of 10 mmφ was used as a slip piece, and the antifouling layer was subjected to a load of 500 g, a speed of 300 mm / min, and a length of 50 mm. The surface was rubbed in one direction, and the average value of the friction coefficient (friction force / load) was used as the dynamic friction coefficient of the antireflection film (antifouling layer).

<반사 방지 필름의 표면 조도><Surface roughness of the antireflection film>

레이저 현미경 (키엔스 제조「VK-X200」) 을 사용하여, 배율 10 배에서의 관찰 이미지 (100 ㎛ × 100 ㎛) 로부터, 산술 평균 조도 Ra 를 구하였다.The arithmetic average roughness Ra was calculated | required from the observation image (100 micrometers x 100 micrometers) at the magnification 10 times using the laser microscope ("VK-X200" manufactured by Keyence).

<점착제의 표면 경도><Surface hardness of adhesive>

표면 보호 필름의 점착제층 부설면을 상방향으로 하여, 나노인덴테이션 시스템 (Hysitron 제조「TI950 TriboIndenter」) 의 스테이지 상에 고정시켰다. 베르코비치 (삼각뿔) 형의 다이아몬드제 압자 (선단의 곡률 반경 : 0.1 ㎛) 를 사용하여, 서서히 하중을 인가하고, 깊이 1500 ㎚ 까지 밀어넣었을 때의 압입 경도 (압입 하중/압자와 시료의 투영 접촉 면적) 를 산출하였다. 또한, 압자와 시료의 투영 접촉 면적은, 일본 공개특허공보 2005-195357호에 기재된 방법에 의해 산출하였다.The surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protection film was placed upward, and was fixed on the stage of a nanoindentation system ("TI950 TriboIndenter" manufactured by Hysitron). Using a Berkovich (triangular pyramid) type indenter (curvature radius at the tip: 0.1 µm), a load was gradually applied and the indentation hardness (indentation load / projection contact between the indenter and the sample) when pushed to a depth of 1500 nm. Area). In addition, the projected contact area of the indenter and the sample was calculated by the method described in JP 2005-195357 A.

<표면 보호 필름의 박리력><Peeling power of surface protection film>

보호 필름 부착 반사 방지 필름을 폭 50 ㎜ × 길이 100 ㎜ 로 잘라내어, 표준 환경 하에서 30 분간 정치시킨 후, 반사 방지 필름의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측의 면을 양면 점착 테이프를 사용하여 아크릴판에 고정시켰다. 시료의 길이 방향의 단부의 표면 보호 필름을 박리하고, 박리 각도 180°, 인장 속도 0.3 m/분으로 필 시험을 실시하였다.The antireflection film with a protective film was cut to a width of 50 mm x a length of 100 mm, left standing for 30 minutes under a standard environment, and then the side of the polyethylene terephthalate film side of the antireflection film was fixed to an acrylic plate using double-sided adhesive tape. The surface protection film at the end portion in the longitudinal direction of the sample was peeled off, and a peel test was performed at a peeling angle of 180 ° and a tensile speed of 0.3 m / min.

<보호 필름의 밀착성><Adhesiveness of protective film>

반사 방지 필름의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측의 면에 유리판을 첩합시키고, 50 ℃, 0.5 ㎫ 의 오토클레이브에서 15 분간 처리를 실시하였다. 그 후, 표준 환경 하에서 30 분간 정치시킨 후, 보호 필름과 반사 방지 필름의 계면에서의 기포의 유무를 육안으로 확인하였다. 기포가 확인된 것을「밀착 불량 (×)」, 기포가 보이지 않은 것을「밀착성 양호 (○)」로 하였다.A glass plate was attached to the surface of the polyethylene terephthalate film side of the antireflection film, and treatment was performed for 15 minutes in an autoclave at 50 ° C and 0.5 MPa. Thereafter, after standing for 30 minutes under a standard environment, the presence or absence of bubbles at the interface between the protective film and the antireflection film was visually confirmed. What was confirmed as a bubble was "defective adhesion (x)", and what was not seen was defined as "good adhesion (○)".

<오염성><Contamination>

반사 방지 필름의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름측의 면에 흑색 아크릴판을 첩합시키고, 온도 60 ℃, 상대 습도 90 % 의 항온 항습조에서 250 시간 정치한 후, 표면 보호 필름을 박리하였다. 반사 방지 필름의 일부의 영역의 표면에 점착 테이프를 첩합시킨 후 박리하여, 표면의 부착 물질을 제거하였다. 그 후, 삼파장 형광등을 설치한 암실 하에서, 반사 방지 필름으로부터의 반사광을 육안으로 관찰하고, 테이프에 의해 부착 물질을 제거한 영역과 다른 영역의 차의 유무를 확인하였다. 육안에 의한 반사광의 차가 보인 것을「오염 있음 (×)」, 반사광의 차가 보이지 않은 것을「오염 없음 (○)」으로 하였다.After attaching a black acrylic plate to the surface of the polyethylene terephthalate film side of the antireflection film, and standing for 250 hours in a constant temperature and constant humidity bath at a temperature of 60 ° C and a relative humidity of 90%, the surface protective film was peeled off. The adhesive tape was adhered to the surface of a portion of the area of the antireflection film and then peeled to remove the adherent material on the surface. Thereafter, in the dark room provided with a three-wavelength fluorescent lamp, the reflected light from the antireflection film was visually observed, and the presence or absence of a difference between the area where the adhesion substance was removed by the tape and the other area was confirmed. What was seen by the difference of the reflected light by the naked eye was "with contamination (x)", and what was not seen by the difference of the reflected light was "no pollution (○)".

상기의 실시예 및 비교예에 있어서의 반사 방지 필름의 방오층의 구성, 및 표면 보호 필름에 있어서의 점착제층의 구성, 그리고 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.Table 1 shows the constitution of the antifouling layer of the antireflection film in the examples and comparative examples, and the constitution of the pressure-sensitive adhesive layer in the surface protection film, and evaluation results.

Figure pat00001
Figure pat00001

실시예 1 및 실시예 2 에서는, 반사 방지 필름의 방오층과 표면 보호 필름의 첩합 계면에 기포가 보이지 않아 양호한 밀착성을 나타내고, 또한 표면 보호 필름을 박리 후의 방오층의 표면에 오염이 보이지 않았다. 또, 반사 방지 필름에 표면 보호 필름을 첩합시킨 상태에서 습열 시험을 실시한 후에도, 방오층의 수접촉각에 큰 변화는 보이지 않아, 표면 보호 필름의 점착제에 의한 오염이 발생하지 않은 것을 알 수 있다.In Example 1 and Example 2, air bubbles were not seen at the bonding interface of the antireflection layer of the antireflection film and the surface protection film, and good adhesion was exhibited, and no contamination was observed on the surface of the antifouling layer after peeling the surface protection film. In addition, even after the wet heat test was performed in a state where the surface protection film was pasted on the antireflection film, no significant change was observed in the water contact angle of the antifouling layer, and it was found that contamination by the pressure-sensitive adhesive of the surface protection film did not occur.

실시예 1 과 동일한 표면 보호 필름을 사용한 비교예 4 에서는, 실시예 1 과 동일하게 양호한 밀착성 및 내오염성을 나타냈지만, 방오층의 수접촉각이 작고, 방오성이 떨어졌다. 표면 경도가 높은 점착제층을 구비하는 표면 보호 필름을 사용한 비교예 1 및 비교예 3 에서는, 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리력이 크고, 표면 보호 필름을 박리 후의 방오층에 오염이 보였다. 표면 보호 필름으로서 시판되는 점착제 부착 필름을 사용한 비교예 2 에서는, 표면 보호 필름의 박리력은 실시예 1 과 동등했지만, 점착제층의 두께가 작기 때문에, 방오층과 표면 보호 필름의 밀착성이 떨어졌다. 또, 비교예 2 에서는, 표면 보호 필름을 박리 후의 방오층에 오염이 보였다.In Comparative Example 4 using the same surface protection film as in Example 1, although good adhesion and stain resistance were exhibited in the same manner as in Example 1, the water contact angle of the antifouling layer was small and the antifouling property was poor. In Comparative Example 1 and Comparative Example 3 using the surface protective film having the pressure-sensitive adhesive layer having a high surface hardness, the peeling force when peeling the surface protective film was large, and contamination was observed in the antifouling layer after peeling the surface protective film. In Comparative Example 2 using a commercially available adhesive film as a surface protection film, the peeling force of the surface protection film was the same as in Example 1, but because the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was small, the adhesion between the antifouling layer and the surface protection film was poor. Moreover, in Comparative Example 2, contamination was observed in the antifouling layer after peeling the surface protection film.

이상의 결과로부터, 소정의 점착제층을 구비하는 표면 보호 필름을 사용함으로써, 수접촉각이 크고 방오성이 높은 방오층을 구비하는 광학 필름에 대해서도, 충분한 밀착성을 나타내고, 또한 점착제에서 기인되는 오염을 방지할 수 있는 것을 알 수 있다.From the above results, by using a surface protective film provided with a predetermined pressure-sensitive adhesive layer, even an optical film having a high water contact angle and a high antifouling property anti-fouling layer exhibits sufficient adhesion and can prevent contamination caused by the pressure-sensitive adhesive. You can see that there is.

10 : 광학 필름 (반사 방지 필름)
1 : 필름 기재
2 : 하드 코트층
3 : 반사 방지층
30 : 프라이머층
31, 33 : 고굴절률층
32, 34 : 저굴절률층
4 : 방오층
70 : 표면 보호 필름
7 : 필름 기재
8 : 점착제층
10: optical film (anti-reflection film)
1: film base
2: Hard coat layer
3: anti-reflection layer
30: primer layer
31, 33: high refractive index layer
32, 34: low refractive index layer
4: Antifouling layer
70: surface protection film
7: Film substrate
8: Adhesive layer

Claims (9)

제 1 필름 기재의 제 1 주면 상에 최표면층으로서 방오층이 형성된 광학 필름과, 상기 광학 필름의 상기 방오층에 임시 부착된 표면 보호 필름을 포함하고,
상기 표면 보호 필름은 제 2 필름 기재 상에 점착제층을 구비하고,
상기 점착제층의 두께가 16 ㎛ 이상이고,
상기 방오층의 수접촉각이 100°이상이고,
상기 방오층과 상기 점착제층이 접하고 있고,
상기 광학 필름의 상기 방오층과, 상기 표면 보호 필름의 상기 점착제층의 접착력이, 0.07 N/50 ㎜ 미만인, 보호 필름 부착 광학 필름.
An optical film having an antifouling layer formed on the first main surface of the first film substrate as an outermost surface layer, and a surface protective film temporarily attached to the antifouling layer of the optical film,
The surface protection film is provided with an adhesive layer on the second film substrate,
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 16 μm or more,
The water contact angle of the antifouling layer is 100 ° or more,
The antifouling layer and the pressure-sensitive adhesive layer are in contact,
The optical film with a protective film whose adhesive force of the said antifouling layer of the said optical film and the said adhesive layer of the said surface protective film is less than 0.07 N / 50 mm.
제 1 항에 있어서,
상기 점착제층의 표면 경도가 600 ㎪ 이하인, 보호 필름 부착 광학 필름.
According to claim 1,
The optical film with a protective film whose surface hardness of the said adhesive layer is 600 Mpa or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 방오층의 동마찰 계수가 0.15 이하인, 보호 필름 부착 광학 필름.
The method of claim 1 or 2,
The optical film with a protective film whose dynamic friction coefficient of the said antifouling layer is 0.15 or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 방오층이 퍼플루오로폴리에테르 골격을 갖는 불소계 수지를 함유하는, 보호 필름 부착 광학 필름.
The method of claim 1 or 2,
An optical film with a protective film, wherein the antifouling layer contains a fluorine-based resin having a perfluoropolyether skeleton.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 광학 필름은, 상기 제 1 필름 기재와 상기 방오층 사이에, 적어도 1 층의 무기 박막을 구비하는, 보호 필름 부착 광학 필름.
The method of claim 1 or 2,
The optical film is provided with at least one layer of an inorganic thin film between the first film substrate and the antifouling layer, the optical film with a protective film.
제 5 항에 있어서,
상기 무기 박막은, 굴절률이 상이한 복수의 무기 박막으로 이루어지는 반사 방지층인, 보호 필름 부착 광학 필름.
The method of claim 5,
The said inorganic thin film is an antireflection layer which consists of several inorganic thin films from which refractive index differs, The optical film with a protective film.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 광학 필름은, 상기 제 1 필름 기재의 제 1 주면 상에 하드 코트층을 구비하는, 보호 필름 부착 광학 필름.
The method of claim 1 or 2,
The optical film is provided with a hard coat layer on the first main surface of the first film substrate, an optical film with a protective film.
제 7 항에 있어서,
상기 하드 코트층이, 미립자를 함유하는 방현성 하드 코트층인, 보호 필름 부착 광학 필름.
The method of claim 7,
An optical film with a protective film, wherein the hard coat layer is an anti-glare hard coat layer containing fine particles.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 방오층의 표면의 산술 평균 조도가 0.1 ∼ 2.5 ㎛ 인, 보호 필름 부착 광학 필름.
The method of claim 1 or 2,
The optical film with a protective film whose arithmetic average roughness of the surface of the said antifouling layer is 0.1-2.5 micrometers.
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