KR20200027138A - Non-foaming floorings with excellent in iodine resistance and having radial flexure structure on surface - Google Patents

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KR20200027138A
KR20200027138A KR1020180105061A KR20180105061A KR20200027138A KR 20200027138 A KR20200027138 A KR 20200027138A KR 1020180105061 A KR1020180105061 A KR 1020180105061A KR 20180105061 A KR20180105061 A KR 20180105061A KR 20200027138 A KR20200027138 A KR 20200027138A
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Abstract

The present invention relates to a non-foaming flooring material having a radial flexure structure on the surface, thereby having excellent fouling resistance. The non-foaming flooring material uses a specific range of short-wavelength light in an acrylic resin composition by stages under different conditions to have a high curing density, can realize low gloss by comprising a cured layer having the radial flexure structure on the surface thereof, and thus can realize excellent fouling resistance (in particular, iodine resistance), thereby being able to be usefully used in industrial flooring materials requiring excellent fouling resistance.

Description

표면에 방사형 굴곡 구조를 갖고, 내요오드성이 우수한 비발포식 바닥재{Non-foaming floorings with excellent in iodine resistance and having radial flexure structure on surface}Non-foaming floorings with excellent in iodine resistance and having radial flexure structure on surface}

본 발명은 표면에 방사형 굴곡 구조를 갖는 비발포식 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 경화 시 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용하여 표면에 방사형 굴곡 구조를 유도시킴으로써 우수한 내오염성을 나타내는 비발포식 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a non-foaming flooring having a radially curved structure on a surface and a method for manufacturing the same, in detail, when curing, a specific range of short wavelength light is used in stages under different conditions to induce a radially curved structure on the surface, leading to excellent resistance It relates to a non-foaming flooring material exhibiting contamination and a method for manufacturing the same.

일반적으로 바닥재는 시멘트 바닥으로부터 먼지 및 냉기를 차단하여 위생적인 공간을 제공하고, 다양한 색상의 미려한 무늬가 인쇄되어 있어 고객 취향에 따라 실내분위기를 아늑하게 바꿔주는 등 장식효과도 가진다. 이러한 종래의 바닥재는 그 표면이 오염물질로 더럽혀진 경우 사용자가 오염물질의 흔적을 쉽게 지울 수 없기 때문에 오염물질 흔적을 가진 바닥재는 그 기본 기능을 다할 수 없게 되는 문제가 있다.In general, the flooring material provides a hygienic space by blocking dust and cold air from the cement floor, and the beautiful patterns of various colors are printed to change the atmosphere of the room according to the customer's taste and have a decorative effect. This conventional flooring has a problem that the flooring having a trace of the contaminant cannot perform its basic functions because the user cannot easily erase the trace of the contaminant when the surface is contaminated with the contaminant.

이러한 문제점을 극복하기 위해, 바닥재의 최상층에 표면처리층을 형성시킴으로써 바닥재의 내오염성을 부여하게 된다. 그러나, 종래 바닥재는 특정 성능을 향상시키기 위하여 첨가제로서 다양한 종류의 필러를 표면처리층에 사용하게 되는데, 내스크래치성을 구현하거나 광택을 저하시키기 위한 필러로서 실리카와 같은 무기입자를 사용하는 경우, 첨가된 필러의 대부분은 다공질로서 겉보기 비중이 매우 낮으므로, 함량이 증가할수록 미세먼지, 습기, 기름때 등의 흡착이 용이하게 되어 내오염성이 급격하게 감소하고, 손, 발 땀자국 등의 자국이 표면 처리된 바닥재의 표면에 남게 되어, 그 외관이 안개가 낀 것과 같이 뿌옇게 되는 현상이 발생하게 된다.In order to overcome this problem, by forming a surface treatment layer on the top layer of the flooring to impart contamination resistance of the flooring. However, conventional flooring materials use various types of fillers in the surface treatment layer as additives to improve specific performance. When inorganic particles such as silica are used as fillers to achieve scratch resistance or to reduce gloss, additives are added. Since most of the fillers are porous and have a very low apparent specific gravity, the adsorption of fine dust, moisture, grease, etc. becomes easy as the content increases, and the stain resistance is rapidly reduced, and marks such as hand and foot sweat marks are surface treated. It remains on the surface of the flooring, which causes the appearance to become cloudy, like fog.

따라서, 무기 입자 등을 포함하는 필러의 사용 여부와 상관없이 오염물이 바닥재 표면에 용이하게 부착되지 않도록 내오염성이 개선된 바닥재의 개발이 절실히 요구되고 있다.Therefore, there is an urgent need to develop a flooring material with improved stain resistance so that contaminants are not easily attached to the flooring material regardless of whether a filler containing inorganic particles or the like is used.

대한민국 공개특허 제 2014-0089074호Republic of Korea Patent Publication No. 2014-0089074

본 발명의 목적은 무기 입자 등을 포함하는 필러의 사용여부와 상관없이 오염물이 바닥재 표면에 용이하게 부착되지 않도록 내오염성이 개선된 비발포식 바닥재를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a non-foaming type flooring material having improved stain resistance so that contaminants are not easily attached to the surface of the flooring material regardless of whether a filler containing inorganic particles or the like is used.

이에, 본 발명은 하나의 실시예에서,Thus, in one embodiment of the present invention,

기재층; 및Base layer; And

표면에는 한 점을 중심부로 하고 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가는 방사형의 굴곡 구조인 덴드라이트 형상을 갖는 아크릴 수지 조성물의 경화층을 포함하며,The surface includes a cured layer of an acrylic resin composition having a dendrite shape which is a radially curved structure extending from the center to the periphery with one point as the center,

상기 방사형 굴곡 구조는 조건 1 및 2 중 어느 하나 이상을 만족하고,The radial bending structure satisfies any one or more of conditions 1 and 2,

적외선(IR) 분광 측정 시, 810±10㎝-1 범위에 존재하는 제1 피크의 강도(Ip1)와 1720±10㎝-1 범위에 존재하는 제2 피크의 강도(Ip2)의 비율(Ip1/Ip2)이 0.020 내지 0.055인 비발포식 바닥재를 제공한다:In infrared (IR) spectroscopy, the ratio of the intensity of the first peak (I p1 ) in the range of 810 ± 10 cm -1 and the intensity of the second peak (I p2 ) in the range of 1720 ± 10 cm -1 ( I p1 / I p2 ) provides a non-foaming flooring of 0.020 to 0.055:

[조건 1] 방사형 굴곡 구조의 평균 직경은 5㎛ 내지 500㎛이고; 및[Condition 1] The average diameter of the radially curved structure is 5 µm to 500 µm; And

[조건 2] 방사형 굴곡 구조는 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지되 중심부의 평균 높이는 1㎛ 내지 30㎛ 이다.[Condition 2] The radially curved structure is lower in height from the center to the periphery, but the average height of the center is 1 μm to 30 μm.

또한, 본 발명은 하나의 실시예에서,In addition, the present invention in one embodiment,

기재층 상에 위치하는 아크릴 수지 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 상기 조성물을 활성화시키는 제1 광 조사 단계;A first light irradiation step of activating the composition by irradiating light having a wavelength of less than 300 nm to an acrylic resin composition located on the base layer under inert gas conditions;

활성화된 조성물에, 공기(air) 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 1차 광 경화시키는 제2 광 조사 단계; 및A second light irradiation step of irradiating the activated composition with light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under air conditions to firstly cure the composition; And

1차 경화된 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 2차 광 경화시켜 경화층을 형성하는 제3 광 조사 단계를 포함하고,A third light irradiation step of irradiating light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under an inert gas condition to the primary cured composition to secondary-cure the composition to form a cured layer,

상기 경화층에 대한 적외선(IR) 분광 측정 시, 810±10㎝-1 범위에 존재하는 제1 피크의 강도(Ip1)와 1720±10㎝-1 범위에 존재하는 제2 피크의 강도(Ip2)의 비율(Ip1/Ip2)이 0.020 내지 0.055인 비발포식 바닥재의 제조방법을 제공한다.Infrared (IR) spectroscopy of the cured layer, the intensity of the first peak (I p1 ) in the range of 810 ± 10 cm -1 and the intensity of the second peak (I p1 ) in the range of 1720 ± 10 cm -1 It provides a method for producing a non-foaming flooring having a ratio of p2 ) (I p1 / I p2 ) of 0.020 to 0.055.

본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용하여 경화 밀도가 높고, 표면에 방사형 굴곡 구조를 갖는 경화층을 포함함으로써 낮은 광택도를 구현할 수 있을 뿐만 아니라 우수한 내오염성(특히, 내요오드성)을 구현하므로, 우수한 내오염성이 요구되는 산업용 바닥재 등에 유용하게 사용될 수 있다.The non-foaming flooring according to the present invention can implement a low gloss by including a cured layer having a high cured density and a radially curved structure on the surface of the acrylic resin composition using a specific range of short wavelength light step by step under different conditions. In addition, since it implements excellent stain resistance (especially iodine resistance), it can be usefully used in industrial flooring materials that require excellent stain resistance.

도 1은 본 발명에 따른 경화층의 제조 시 사용되는 광 경화장치의 일례를 도시한 구조도이다.
도 2 및 3은 실시예 1 및 3에서 제조된 비발포식 바닥재의 경화층 표면을 주사 전자현미경(SEM) 촬영한 이미지이다.
도 4는 비교예 3에서 제조된 비발포식 바닥재의 경화층 표면을 주사 전자현미경(SEM) 촬영한 이미지이다.
1 is a structural diagram showing an example of an optical curing apparatus used in the manufacture of a cured layer according to the present invention.
2 and 3 are images obtained by scanning electron microscopy (SEM) on the surface of the cured layer of the non-foaming floors prepared in Examples 1 and 3.
FIG. 4 is a scanning electron microscope (SEM) image of the surface of the cured layer of the non-foaming floor prepared in Comparative Example 3.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다.The present invention can be applied to various changes and may have various embodiments, and specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description.

그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present invention, the terms "comprises" or "having" are intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, components, or a combination thereof.

또한, 본 발명에서 첨부된 도면은 설명의 편의를 위하여 확대 또는 축소하여 도시된 것으로 이해되어야 한다.In addition, it is to be understood that the accompanying drawings in the present invention are shown to be enlarged or reduced for convenience of description.

이하, 본 발명에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명하고, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings, and the same or corresponding components are denoted by the same reference numerals regardless of the reference numerals, and redundant description thereof will be omitted.

본 발명은 표면에 방사형 굴곡 구조를 갖는 비발포식 바닥재에 관한 것이다.The present invention relates to a non-foaming flooring having a radially curved structure on its surface.

기존의 바닥재는 그 표면이 오염물질로 더럽혀진 경우 사용자가 오염물질의 흔적을 쉽게 지울 수 없기 때문에 오염물질 흔적을 가진 바닥재는 그 기본 기능을 다할 수 없게 되는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 극복하기 위해, 바닥재의 최상층에 표면처리층을 형성시킴으로써 바닥재의 내스크래치성 및 내스크래치성은 물론 내오염성을 부여하게 된다. 그러나, 종래 바닥재는 특정 성능을 향상시키기 위하여 첨가제로서 다양한 종류의 필러를 표면처리층에 사용하게 되는데, 내스크래치성을 구현하거나 광택을 저하시키기 위한 필러로서 실리카와 같은 무기입자를 사용하는 경우, 첨가된 필러의 대부분은 다공질로서 겉보기 비중이 매우 낮으므로, 함량이 증가할수록 미세먼지, 습기, 기름때 등의 흡착이 용이하게 되어 내오염성이 급격하게 감소하고, 손, 발 땀자국 등의 자국이 표면 처리된 바닥재의 표면에 남게 되어, 그 외관이 안개가 낀 것과 같이 뿌옇게 되는 현상이 발생하게 된다.Existing flooring has a problem that the flooring with a trace of the pollutant can not perform its basic function because the user can not easily erase the trace of the pollutant when the surface is soiled with contaminants. In order to overcome this problem, by forming a surface treatment layer on the top layer of the flooring, scratch resistance and scratch resistance of the flooring as well as contamination resistance are provided. However, conventional flooring materials use various types of fillers in the surface treatment layer as additives to improve specific performance. When inorganic particles such as silica are used as fillers to achieve scratch resistance or to reduce gloss, additives are added. Since most of the fillers are porous and have a very low apparent specific gravity, the adsorption of fine dust, moisture, grease, etc. becomes easy as the content increases, and the stain resistance is rapidly reduced, and marks such as hand and foot sweat marks are surface treated. It remains on the surface of the flooring, which causes the appearance to become cloudy, like fog.

이에, 본 발명은 표면에 방사형 굴곡 구조를 가져 내오염성이 우수한 비발포식 바닥재 및 이의 제조방법을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a non-foaming flooring having a radially curved structure on the surface and having excellent stain resistance, and a method for manufacturing the same.

본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용하여 경화 밀도가 높고, 표면에 방사형 굴곡 구조를 갖는 경화층을 포함함으로써 낮은 광택도를 구현할 수 있을 뿐만 아니라 우수한 내오염성(특히, 내요오드성)을 구현하므로, 우수한 내오염성이 요구되는 산업용 바닥재 등에 유용하게 사용될 수 있다.The non-foaming flooring according to the present invention can implement a low gloss by including a cured layer having a high cured density and a radially curved structure on the surface of the acrylic resin composition using a specific range of short wavelength light step by step under different conditions. In addition, since it implements excellent stain resistance (especially iodine resistance), it can be usefully used in industrial flooring materials that require excellent stain resistance.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

비발포식 바닥재Non-foaming flooring

본 발명은 일실시예에서,The present invention in one embodiment,

기재층; 및Base layer; And

표면에는 한 점을 중심부로 하고 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가는 방사형의 굴곡 구조인 덴드라이트 형상을 갖는 경화층을 포함하는 비발포식 바닥재를 제공한다.On the surface, a non-foaming flooring material including a cured layer having a dendrite shape, which is a radially curved structure extending from the center to the periphery with one point as the center, is provided.

본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 사무실 등에 사용되는 산업용 세라믹 타일이나 고무 타일(rubber flooring) 혹은 폴리염화비닐(PVC) 재질로 구성되는 가소성 바닥재로서, 단일층 시트 (single layer sheet, SLS) 형태의 타일 바닥재일 수 있다. 상기 바닥재는 기재층 상에 아크릴계 올리고머를 포함하는 조성물의 경화층을 구조체의 최외각층에 포함하고, 상기 경화층은 표면에 특정 형태를 갖는 굴곡 구조를 갖는다. 구체적으로, 상기 비발포식 바닥재는 표면에 미세한 굴곡 구조를 갖는 경화층을 최외각에 구비할 수 있다. 상기 굴곡 구조는 경화층 표면에 존재하는 임의의 한 점을 중심부로 하며, 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가되 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지는 방사형의 요철이 랜덤하게 분산된 구조를 갖는다. 예를 들어, 상기 방사형 굴곡 구조는 경화층 표면의 임의의 한 점을 중심부로 하는 수지상 구조(arborescence structure)나 덴드라이트 구조(dendrite structure)가 랜덤하게 분산된 구조를 포함할 수 있다.The non-foaming flooring according to the present invention is a plastic flooring material composed of industrial ceramic tiles or rubber flooring or polyvinyl chloride (PVC) materials used in offices, and the like, in the form of a single layer sheet (SLS) tile. It can be flooring. The flooring material includes a cured layer of a composition containing an acrylic oligomer on the base layer in the outermost layer of the structure, and the cured layer has a curved structure having a specific shape on the surface. Specifically, the non-foaming type flooring material may have a cured layer having a finely curved structure on its outermost surface. The curved structure has a structure in which a random point present on the surface of the cured layer is a central portion, and a radial irregularity that extends from the central portion to the peripheral portion but decreases in height from the central portion to the peripheral portion is randomly distributed. For example, the radially curved structure may include a structure in which an arborescence structure or a dendrite structure is randomly dispersed at an arbitrary point on the surface of the cured layer.

또한, 상기 방사형 굴곡 구조는 그 크기나 높이에 의해 표면 물성, 구체적으로는 표면 광택도, 내오염성(구체적으로는 내요오드성) 등이 조절될 수 있으며, 이를 위하여 상기 방사형 굴곡 구조는 하기 조건 1 및 2 중 어느 하나 이상을 만족할 수 있다:In addition, the radial bend structure may be controlled by its size or height, surface properties, specifically, surface glossiness, fouling resistance (specifically, iodine resistance), for this purpose, the radial bend structure has the following condition 1 And 2 or more:

[조건 1] 방사형 굴곡 구조의 평균 직경은 5㎛ 내지 500㎛이고; 및[Condition 1] The average diameter of the radially curved structure is 5 µm to 500 µm; And

[조건 2] 방사형 굴곡 구조는 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지되 중심부의 평균 높이는 1㎛ 내지 30㎛ 이다.[Condition 2] The radially curved structure is lower in height from the center to the periphery, but the average height of the center is 1 μm to 30 μm.

구체적으로, 상기 조건 1은 경화층 표면에 존재하는 개별 방사형 굴곡 구조의 평균 크기를 나타내는 것으로서, 상기 평균 직경은 5㎛ 내지 500㎛일 수 있으며, 보다 구체적으로는 5㎛ 내지 450㎛, 5㎛ 내지 400㎛, 5㎛ 내지 350㎛, 5㎛ 내지 300㎛, 5㎛ 내지 250㎛, 5㎛ 내지 200㎛, 5㎛ 내지 150㎛, 5㎛ 내지 100㎛, 5㎛ 내지 50㎛, 50㎛ 내지 200㎛, 50㎛ 내지 100㎛, 100㎛ 내지 500㎛, 100㎛ 내지 300㎛, 100㎛ 내지 200㎛, 80㎛ 내지 150㎛, 20㎛ 내지 100㎛, 25㎛ 내지 60㎛, 40㎛ 내지 80㎛, 80㎛ 내지 120㎛, 90㎛ 내지 110㎛, 5㎛ 내지 40㎛, 5㎛ 내지 30㎛, 5㎛ 내지 25㎛, 5㎛ 내지 20㎛, 5㎛ 내지 15㎛, 5㎛ 내지 10㎛, 10㎛ 내지 30㎛, 15㎛ 내지 30㎛, 15㎛ 내지 25㎛, 20㎛ 내지 30㎛, 1㎛ 내지 10㎛, 2㎛ 내지 10㎛, 4㎛ 내지 10㎛, 5㎛ 내지 10㎛, 7.5㎛ 내지 10㎛, 8㎛ 내지 10㎛¸0.5㎛ 내지 7.5㎛, 0.5㎛ 내지 5㎛, 0.5㎛ 내지 3㎛, 0.5㎛ 내지 2㎛, 0.5㎛ 내지 1㎛, 1㎛ 내지 5㎛¸1㎛ 내지 3㎛, 1㎛ 내지 2㎛, 2㎛ 내지 5㎛, 2㎛ 내지 3.5㎛, 4㎛ 내지 8㎛, 4㎛ 내지 6㎛, 5㎛ 내지 8㎛, 5㎛ 내지 6.5㎛, 6㎛ 내지 9㎛, 6㎛ 내지 8㎛, 7㎛ 내지 9㎛ 또는 3㎛ 내지 5㎛일 수 있다.Specifically, the condition 1 shows the average size of the individual radially curved structures present on the surface of the cured layer, and the average diameter may be 5 μm to 500 μm, more specifically 5 μm to 450 μm, 5 μm to 400㎛, 5㎛ to 350㎛, 5㎛ to 300㎛, 5㎛ to 250㎛, 5㎛ to 200㎛, 5㎛ to 150㎛, 5㎛ to 100㎛, 5㎛ to 50㎛, 50㎛ to 200㎛ , 50㎛ to 100㎛, 100㎛ to 500㎛, 100㎛ to 300㎛, 100㎛ to 200㎛, 80㎛ to 150㎛, 20㎛ to 100㎛, 25㎛ to 60㎛, 40㎛ to 80㎛, 80 Μm to 120 μm, 90 μm to 110 μm, 5 μm to 40 μm, 5 μm to 30 μm, 5 μm to 25 μm, 5 μm to 20 μm, 5 μm to 15 μm, 5 μm to 10 μm, 10 μm to 30㎛, 15㎛ to 30㎛, 15㎛ to 25㎛, 20㎛ to 30㎛, 1㎛ to 10㎛, 2㎛ to 10㎛, 4㎛ to 10㎛, 5㎛ to 10㎛, 7.5㎛ to 10㎛ , 8㎛ to 10㎛¸0.5㎛ to 7.5㎛, 0.5㎛ to 5㎛, 0.5 ㎛ to 3㎛, 0.5㎛ to 2㎛, 0.5㎛ to 1㎛, 1㎛ to 5㎛¸1㎛ to 3㎛, 1㎛ to 2㎛, 2㎛ to 5㎛, 2㎛ to 3.5㎛, 4㎛ to It may be 8 μm, 4 μm to 6 μm, 5 μm to 8 μm, 5 μm to 6.5 μm, 6 μm to 9 μm, 6 μm to 8 μm, 7 μm to 9 μm, or 3 μm to 5 μm.

아울러, 상기 조건 2는 경화물 표면에 존재하는 개별 방사형 굴곡 구조가 갖는 최대 높이의 평균값을 나타내고, 상기 평균 높이는 1㎛ 내지 30㎛㎛일 수 있으며, 보다 구체적으로는 상기 평균 높이는 2㎛ 내지 25㎛, 5㎛ 내지 20㎛, 1㎛ 내지 10㎛, 10㎛ 내지 15㎛, 10㎛ 내지 20㎛, 15㎛ 내지 30㎛, 20㎛ 내지 30㎛, 5㎛ 내지 12㎛, 13㎛ 내지 21㎛ 또는 15㎛ 내지 19㎛일 수 있다.In addition, the condition 2 represents the average value of the maximum height of the individual radially curved structures present on the surface of the cured product, and the average height may be 1 μm to 30 μm, and more specifically, the average height is 2 μm to 25 μm. , 5㎛ to 20㎛, 1㎛ to 10㎛, 10㎛ to 15㎛, 10㎛ to 20㎛, 15㎛ to 30㎛, 20㎛ to 30㎛, 5㎛ to 12㎛, 13㎛ to 21㎛ or 15 It may be from μm to 19 μm.

이와 더불어, 상기 방사형 굴곡 구조는 경화층의 표면 광택도, 내오염성(구체적으로는 내요오드성) 등의 물성을 향상시키기 위하여 단위 면적에 일정한 빈도, 예컨대 일정한 개수로 형성될 수 있고, 방사형 굴곡 구조의 개수는 단위 면적에 존재하는 방사형 굴곡 구조의 중심부 개수와 동일할 수 있다. 또한, 상기 방사형 굴곡 구조는 경화층 표면의 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 2 내지 400개 존재할 수 있으며, 구체적으로는 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 10 내지 350개, 10 내지 300개, 10 내지 250개, 10 내지 200개, 10 내지 150개, 100 내지 400개, 100 내지 350개, 150 내지 350개, 250 내지 350개, 200 내지 400개, 30 내지 100개, 5 내지 180개, 5 내지 150개, 5 내지 120개, 10 내지 100개, 10 내지 80개, 10 내지 50개, 20 내지 50개, 40 내지 60개, 80 내지 120개, 140 내지 180개, 30 내지 40개, 5 내지 15개, 10 내지 20개, 5 내지 16개, 또는 5 내지 20개 존재할 수 있다.In addition, the radial bending structure may be formed at a certain frequency, for example, a certain number in a unit area, to improve physical properties such as surface glossiness, contamination resistance (specifically, iodine resistance) of the cured layer, and the radial bending structure The number of may be the same as the number of central portions of the radially curved structure present in the unit area. In addition, the radial bending structure may be 2 to 400 per unit area (1 mm X 1 mm) of the surface of the cured layer, specifically 10 to 350 per unit area (1 mm X 1 mm), 10 to 300 Dogs, 10 to 250, 10 to 200, 10 to 150, 100 to 400, 100 to 350, 150 to 350, 250 to 350, 200 to 400, 30 to 100, 5 to 180 Dogs, 5 to 150, 5 to 120, 10 to 100, 10 to 80, 10 to 50, 20 to 50, 40 to 60, 80 to 120, 140 to 180, 30 to 40 Dogs, 5 to 15, 10 to 20, 5 to 16, or 5 to 20.

예를 들어, 상기 경화층은 평균 직경이 60 내지 70㎛이고, 표면 조도 (Rz) 18 내지 22㎛인 덴드라이트 형상을 표면에 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 80 내지 120개로 포함할 수 있다.For example, the cured layer may include 80 to 120 dendrite shapes having an average diameter of 60 to 70 μm and a surface roughness (Rz) of 18 to 22 μm per unit area (1 mm X 1 mm) on the surface. have.

또한, 본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 최외각층인 경화층의 경화 밀도가 높으므로 경화층 표면에는 낮은 비율의 이중결합이 잔류할 수 있다. 예를 들어, 상기 경화층은 표면에 잔류하는 이중결합의 분포가 낮아 적외선(IR) 분광 측정 시 아크릴레이트의 이중결합를 나타내는 810±10㎝-1 범위에 존재하는 제1 피크의 강도(Ip1)와 1720±10㎝-1 범위에 존재하는 기준 피크인 제2 피크의 강도(Ip2)의 비율(Ip1/Ip2)이 0.020 내지 0.055인 범위를 만족할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제1 피크와 제2 피크의 강도 비율(Ip1/Ip2)은 0.020 내지 0.035, 0.020 내지 0.045, 0.020 내지 0.043, 0.025 내지 0.050, 0.030 내지 0.045, 0.035 내지 0.043, 0.038 내지 0.043, 0.040 내지 0.055, 또는 0.041 내지 0.042의 범위를 만족할 수 있다. 본 발명은 경화층 표면에 대한 적외선(IR) 분광 측정 시 제1 피크와 제2 피크의 비율(Ip1/Ip2)을 상기 범위로 만족시킴으로써 표면에 요오드 등의 오염물이 흡착 또는 결합하는 것을 최소화하여 내오염성을 향상시킬 수 있다.In addition, the non-foaming flooring according to the present invention has a high curing density of the outermost layer of the cured layer, so that a low proportion of double bonds may remain on the surface of the cured layer. For example, the cured layer has a low distribution of double bonds remaining on the surface, and the intensity of the first peak (I p1 ) in the range of 810 ± 10 cm -1 , which represents the double bond of acrylate when measured by infrared (IR) spectroscopy. And a ratio (I p1 / I p2 ) of the intensity (I p2 ) of the second peak, which is a reference peak present in the range of 1720 ± 10 cm -1 , may satisfy a range of 0.020 to 0.055. More specifically, the intensity ratio (I p1 / I p2 ) of the first peak and the second peak is 0.020 to 0.035, 0.020 to 0.045, 0.020 to 0.043, 0.025 to 0.050, 0.030 to 0.045, 0.035 to 0.043, 0.038 to 0.043 , 0.040 to 0.055, or 0.041 to 0.042. The present invention minimizes the absorption or binding of contaminants such as iodine to the surface by satisfying the ratio (I p1 / I p2 ) of the first peak and the second peak in the above range when performing infrared (IR) spectroscopy measurement on the surface of the cured layer. It can improve the stain resistance.

하나의 예로서, 상기 비발포식 바닥재는 22±1℃, 50±5% RH의 습도에서 1 부피%의 요오드 용액으로 최외각층인 경화층을 오염시키고 5분 경화 후 킴스와이프로 표면을 닦은 다음 표면에 잔류하는 요오드의 면적을 육안으로 확인하면 최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 1% 미만일 수 있고, 구체적으로는, 0.9% 이하, 0.8% 이하, 0.7% 이하, 0.6% 이하 또는 0.5% 이하일 수 있으며, 경우에 따라서는 표면의 요오드가 모두 제거되어 잔류 면적이 0%일 수 있다.As an example, the non-foaming flooring contaminates the outermost layer of the cured layer with 1% by volume of iodine solution at a humidity of 22 ± 1 ° C and 50 ± 5% RH, and after 5 minutes of curing, wipe the surface with a Kim's wipe and then surface When the area of iodine remaining in the eye is visually confirmed, the area of iodine remaining on the basis of the initial contamination area may be less than 1%, specifically, 0.9% or less, 0.8% or less, 0.7% or less, 0.6% or less, or 0.5% or less In some cases, iodine on the surface may be removed, and the residual area may be 0%.

나아가, 본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 상기와 같은 방사형 굴곡 구조를 표면에 구비함으로써 소광제 등의 첨가제를 사용하지 않거나 극소량 사용하여도 현저히 낮은 광택을 구현할 수 있다. 구체적으로 상기 방사형 굴곡 구조는 비발포식 바닥재 표면에 입사되는 광의 산란을 유도하므로, 소광제를 사용하지 않거나 극소량 사용하여도 표면에 낮은 광택을 부여할 수 있다. 하나의 예로서, 상기 비발포식 바닥재는 광택 측정기(Gloss Meter)를 이용한 60° 광택도(글로스 60° 조건) 측정 시 표면 광택도가 10 미만일 수 있고, 구체적으로, 상한값이 9 이하, 8 이하, 7.5 이하, 7 이하, 6.5 이하, 6 이하, 또는 5 이하이고, 하한값이 0.1 이상, 0.5 이상, 1 이상, 1.5 이상, 2 이상, 2.5 이상 또는 3 이상일 수 있다. 하나의 예로서, 상기 비발포식 바닥재의 표면 광택도는 1 내지 9, 2 내지 9, 4 내지 9, 1 내지 8, 1 내지 7, 1 내지 6, 4 내지 8, 5 내지 8, 4 내지 6, 4 내지 7, 7 내지 9, 7.2 내지 8.7, 2 내지 6, 4 내지 6, 2 내지 5, 또는 3.2 내지 4.7일 수 있다.Furthermore, the non-foaming flooring according to the present invention can realize a significantly low gloss even if an additive such as a matting agent is not used or a very small amount is provided by providing the radially curved structure as described above. Specifically, the radially curved structure induces scattering of light incident on the surface of the non-foaming flooring material, so that a low gloss can be imparted to the surface even when a small amount of a matting agent is not used. As one example, the non-foaming type flooring may have a surface glossiness of less than 10 when measuring 60 ° glossiness (gloss 60 ° condition) using a gloss meter, and specifically, an upper limit of 9 or less, 8 or less, 7.5 or less, 7 or less, 6.5 or less, 6 or less, or 5 or less, and the lower limit may be 0.1 or more, 0.5 or more, 1 or more, 1.5 or more, 2 or more, 2.5 or more, or 3 or more. As one example, the surface gloss of the non-foaming flooring is 1 to 9, 2 to 9, 4 to 9, 1 to 8, 1 to 7, 1 to 6, 4 to 8, 5 to 8, 4 to 6, 4 to 7, 7 to 9, 7.2 to 8.7, 2 to 6, 4 to 6, 2 to 5, or 3.2 to 4.7.

한편, 상기 경화층에 형성하는 아크릴 수지 조성물은 우레탄 아크릴계 올리고머, 중합성 반응기를 1개 이상 포함하는 모노머 및 개시제를 포함할 수 있다.Meanwhile, the acrylic resin composition formed on the cured layer may include a urethane acrylic oligomer, a monomer including at least one polymerizable reactor, and an initiator.

구체적으로, 상기 우레탄 아크릴계 올리고머는 우레탄기와 함께 중합성 관능기로서 아크릴기를 포함하는 올리고머를 의미한다. 상기 우레탄 아크릴계 올리고머의 중량평균 분자량은 100 내지 50,000일 수 있고, 보다 구체적으로는 500 내지 30,000, 1,000 내지 10,000 또는 1,000 내지 5,000일 수 있다. 본 발명은 우레탄 아크릴계 올리고머의 중량평균 분자량을 상기 범위로 조절함으로써 경화층의 내구성을 보다 향상시킬 수 있다.Specifically, the urethane acrylic oligomer means an oligomer containing an acrylic group as a polymerizable functional group together with the urethane group. The urethane acrylic oligomer may have a weight average molecular weight of 100 to 50,000, more specifically 500 to 30,000, 1,000 to 10,000, or 1,000 to 5,000. The present invention can further improve the durability of the cured layer by adjusting the weight average molecular weight of the urethane acrylic oligomer to the above range.

아울러, 중합성 반응기를 1개 이상 포함하는 모노머는 아크릴레이트계 모노머일 수 있다. 예를 들어, 상기 모노머로는 (메타)아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트 또는 2-히드록시프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시아세트산, 3-(메타)아크릴로일옥시프로필산, 4-(메타)아크릴로일옥시부틸산, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-HDDA), 아크릴산 이중체, 이타콘산,말레산, 카프로락톤 변성 히드록시아크릴레이트(caprolactone modified hydroxyl acrylate, CHA), 테트라에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 및 N-비닐피롤리돈(N-vinylpyrrolidone)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.In addition, the monomer containing at least one polymerizable reactor may be an acrylate-based monomer. For example, the monomers include (meth) acrylate, benzyl acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate , 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethylene glycol (meth) acrylate or 2-hydroxypropylene glycol (meth) acrylate, acrylic acid, meta Acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyacetic acid, 3- (meth) acryloyloxypropyl acid, 4- (meth) acryloyloxybutyl acid, 1,6-hexanediol diacrylate (1, 6-HDDA), acrylic acid doublets, itaconic acid, maleic acid, caprolactone modified hydroxyl acrylate (CHA), tetraethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylic Late, triethylene glycol Diacrylate, pentaerythritol tri it can include acrylate, trimethylolpropane ethoxy triacrylate, and N- vinylpyrrolidone one or more selected from the group consisting of (N-vinylpyrrolidone).

이와 더불어, 상기 아크릴 수지 조성물은 아크릴계 올리고머 100 중량부 및 중합성 반응기를 1개 이상 포함하는 모노머 50 내지 150 중량부를 포함할 수 있고, 구체적으로는 아크릴계 올리고머 100 중량부와 함께, 중합성 반응기를 1개 이상 포함하는 모노머 50 내지 140 중량부, 50 내지 130 중량부, 50 내지 120 중량부, 50 내지 110 중량부, 50 내지 100 중량부, 50 내지 90 중량부, 50 내지 80 중량부, 75 내지 150 중량부, 90 내지 150 중량부, 100 내지 150 중량부, 120 내지 150 중량부, 130 내지 150 중량부, 75 내지 95 중량부, 90 내지 105 중량부, 105 내지 120 중량부, 115 내지 130 중량부, 120 내지 140 중량부, 또는 135 내지 150 중량부를 포함할 수 있다.In addition, the acrylic resin composition may include 100 parts by weight of an acrylic oligomer and 50 to 150 parts by weight of a monomer containing one or more polymerizable reactors, and specifically, 100 parts by weight of an acrylic oligomer, and a polymerizable reactor 1 50 to 140 parts by weight, 50 to 130 parts by weight, 50 to 120 parts by weight, 50 to 110 parts by weight, 50 to 100 parts by weight, 50 to 90 parts by weight, 50 to 80 parts by weight, 75 to 150 Parts by weight, 90 to 150 parts by weight, 100 to 150 parts by weight, 120 to 150 parts by weight, 130 to 150 parts by weight, 75 to 95 parts by weight, 90 to 105 parts by weight, 105 to 120 parts by weight, 115 to 130 parts by weight , 120 to 140 parts by weight, or 135 to 150 parts by weight.

또한, 상기 아크릴 수지 조성물은 아크릴계 올리고머 및 모노머 100 중량부에 대하여 10 중량부 이하, 구체적으로는 8 중량부 이하, 6 중량부 이하, 3 중량부 이하, 3 중량부 미만, 2 중량부 이하, 2 중량부 미만 또는 1 중량부 이하의 개시제를 포함할 수 있다. 본 발명은 조성물의 경화 시 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용함으로써 개시제를 상기 범위로 소량 포함하여도 높은 경화 밀도를 나타낼 수 있다. 그 예로서, 본 발명에 따른 경화층의 경화율은 80% 이상, 85% 이상, 90% 이상, 83% 내지 98%, 88% 내지 97%, 81% 내지 87%, 86% 내지 91%, 93% 내지 99%, 85% 내지 95%, 90% 내지 98% 또는 88% 내지 96%일 수 있다.In addition, the acrylic resin composition is 10 parts by weight or less, specifically 8 parts by weight or less, 6 parts by weight or less, 3 parts by weight or less, 3 parts by weight or less, 2 parts by weight or less, 2 based on 100 parts by weight of the acrylic oligomer and monomer Less than 1 part by weight or less than 1 part by weight of initiator. The present invention can exhibit a high cure density even when a small amount of the initiator is included in the above range by using a short range of light in a specific range stepwise under different conditions when curing the composition. As an example, the curing rate of the cured layer according to the present invention is 80% or more, 85% or more, 90% or more, 83% to 98%, 88% to 97%, 81% to 87%, 86% to 91%, 93% to 99%, 85% to 95%, 90% to 98% or 88% to 96%.

나아가, 본 발명에 따른 조성물은 경화층 표면에 형성된 덴드라이트 형상의 씨드(seed) 역할을 일부 수행하면서 내구성을 향상시키기 위하여 경도가 높은 필러를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 필러로는 조성물의 경화 후 경화층의 광택에 영향을 미치지 않으면서 표면경도를 향상시킬 수 있는 것을 사용할 수 있다. 구체적으로, 상기 필러로서 콜로이달 실리카, 알루미나, 글래스 비드, 유기물 비드(고분자 입자 등) 등을 사용할 수 있으며, 이들의 평균 직경은 1 ㎛ 내지 15 ㎛일 수 있고, 보다 구체적으로는 1 ㎛ 내지 12 ㎛, 1 ㎛ 내지 10 ㎛, 2 ㎛ 내지 13 ㎛, 3 ㎛ 내지 10 ㎛, 3 ㎛ 내지 7 ㎛, 9 ㎛ 내지 12 ㎛, 11 ㎛ 내지 15 ㎛, 4 ㎛ 내지 11 ㎛ 또는 6 ㎛ 내지 9 ㎛일 수 있다. 본 발명은 필러의 평균 직경을 상기 범위로 제어함으로써 경화층의 크랙 발생을 방지하고 경화층과 다른 층간의 접착력을 증가시켜 내구성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 필러는 조성물 100 중량부에 대하여 10 중량부 미만로 포함될 수 있다. 예를 들어, 상기 필러는 조성물 100 중량부에 대하여 10 중량부 이하를 포함할 수 있고, 보다 구체적으로 상기 필러의 함량은 상한값이 10 중량부 미만, 9 중량부 미만, 8 중량부 미만, 7 중량부 미만, 6 중량부 미만, 5 중량부 미만 또는 4 중량부 미만일 수 있고, 하한값이 0.01 중량부 이상, 0.05 중량부 이상, 0.1 중량부 이상, 0.5 중량부 이상, 또는 1 중량부 이상일 수 있다. 하나의 예로서, 상기 필러는 0.1 내지 3 중량부, 0.1 내지 2.5 중량부, 0.5 내지 2.5 중량부, 1 내지 3 중량부, 1.5 내지 3 중량부, 2.5 내지 3 중량부, 1.5 내지 2 중량부, 2 내지 2.5 중량부, 또는 2.2 내지 2.7 중량부로 포함될 수 있다. 본 발명은 필러의 함량을 상기 범위로 제어함으로써 경화층 표면에 덴드라이트 형상의 방사형 굴곡 구조를 적절히 유도하면서 경화층의 접착력을 증가시키고, 크랙 발생으로 인한 내구성 저하를 억제할 수 있다.Furthermore, the composition according to the present invention may further include a filler having a high hardness in order to improve durability while performing a part of a dendrite-shaped seed formed on the surface of the cured layer. For example, as the filler, one that can improve the surface hardness without affecting the gloss of the cured layer after curing the composition may be used. Specifically, colloidal silica, alumina, glass beads, organic beads (polymer particles, etc.) may be used as the filler, and their average diameter may be 1 μm to 15 μm, more specifically 1 μm to 12 μm. Μm, 1 μm to 10 μm, 2 μm to 13 μm, 3 μm to 10 μm, 3 μm to 7 μm, 9 μm to 12 μm, 11 μm to 15 μm, 4 μm to 11 μm, or 6 μm to 9 μm You can. In the present invention, by controlling the average diameter of the filler to the above range, it is possible to prevent cracking of the cured layer and increase the adhesion between the cured layer and other layers to improve durability. In addition, the filler may be included in less than 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the composition. For example, the filler may contain 10 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the composition, and more specifically, the content of the filler has an upper limit of less than 10 parts by weight, less than 9 parts by weight, less than 8 parts by weight, and 7 parts by weight It may be less than 6 parts by weight, less than 5 parts by weight, or less than 4 parts by weight, and the lower limit may be 0.01 parts by weight or more, 0.05 parts by weight or more, 0.1 parts by weight or more, 0.5 parts by weight or more, or 1 part by weight or more. As one example, the filler may be 0.1 to 3 parts by weight, 0.1 to 2.5 parts by weight, 0.5 to 2.5 parts by weight, 1 to 3 parts by weight, 1.5 to 3 parts by weight, 2.5 to 3 parts by weight, 1.5 to 2 parts by weight, 2 to 2.5 parts by weight, or 2.2 to 2.7 parts by weight. The present invention can increase the adhesion of the cured layer while properly inducing a dendrite-shaped radial bend structure on the surface of the cured layer by controlling the content of the filler to the above range, it is possible to suppress the durability decrease due to cracking.

아울러, 상기 경화층의 평균 두께는 내구성에 영향을 미치지 않는 적절한 범위로 조절될 수 있다. 예를 들어, 상기 경화층은 외부 자극에 찢어지거나 손실되지 않도록 3㎛ 내지 50㎛의 평균 두께를 가질 수 있고, 보다 구체적으로는 3㎛ 내지 30㎛, 3㎛ 내지 15㎛, 3㎛ 내지 10㎛, 10㎛ 내지 20㎛, 10㎛ 내지 30㎛, 25㎛ 내지 50㎛, 30㎛ 내지 50㎛, 20㎛ 내지 40㎛, 15㎛ 내지 20㎛, 15㎛ 내지 25㎛, 11㎛ 내지 24㎛ 또는 18㎛ 내지 28㎛일 수 있다. 본 발명에서 언급되는 경화층의 평균 두께는 도 2에 나타낸 바와 같이 덴드라이트의 높이를 배제한 경화층의 평균 두께 (Taver)를 의미할 수 있고, 경우에 따라서는 덴드라이트의 높이가 배제된 경화층의 평균 두께 (Taver)와 덴드라이트의 평균 최대 높이 (Rmax)의 1/2 값을 포함하는 두께를 의미할 수 있다.In addition, the average thickness of the cured layer can be adjusted to an appropriate range that does not affect durability. For example, the cured layer may have an average thickness of 3 μm to 50 μm so as not to be torn or lost by external stimuli, more specifically 3 μm to 30 μm, 3 μm to 15 μm, 3 μm to 10 μm , 10㎛ to 20㎛, 10㎛ to 30㎛, 25㎛ to 50㎛, 30㎛ to 50㎛, 20㎛ to 40㎛, 15㎛ to 20㎛, 15㎛ to 25㎛, 11㎛ to 24㎛ or 18 It may be from µm to 28 µm. The average thickness of the cured layer referred to in the present invention may mean the average thickness (T aver ) of the cured layer excluding the height of dendrites as shown in FIG. 2, and in some cases, the dendrite height is excluded It may mean a thickness including 1/2 of the average thickness (T aver ) of the layer and the average maximum height (R max ) of the dendrites.

비발포식 바닥재의 제조방법Method for manufacturing non-foaming flooring

또한, 본 발명은 일실시예에서,In addition, the present invention in one embodiment,

기재층 상에 위치하는 아크릴 수지 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 상기 조성물을 활성화시키는 제1 광 조사 단계;A first light irradiation step of activating the composition by irradiating light having a wavelength of less than 300 nm to an acrylic resin composition located on the base layer under inert gas conditions;

활성화된 조성물에, 공기(air) 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 1차 광 경화시키는 제2 광 조사 단계; 및A second light irradiation step of irradiating the activated composition with light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under air conditions to firstly cure the composition; And

1차 경화된 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 2차 광 경화시켜 경화층을 형성하는 제3 광 조사 단계를 포함하고,A third light irradiation step of irradiating light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under an inert gas condition to the primary cured composition to secondary-cure the composition to form a cured layer,

상기 경화층에 대한 적외선(IR) 분광 측정 시, 810±10㎝-1 범위에 존재하는 제1 피크의 강도(Ip1)와 1720±10㎝-1 범위에 존재하는 제2 피크의 강도(Ip2)의 비율(Ip1/Ip2)이 0.020 내지 0.055인 비발포식 바닥재의 제조방법을 제공한다.Infrared (IR) spectroscopy of the cured layer, the intensity of the first peak (I p1 ) in the range of 810 ± 10 cm -1 and the intensity of the second peak (I p1 ) in the range of 1720 ± 10 cm -1 It provides a method for producing a non-foaming flooring having a ratio of p2 ) (I p1 / I p2 ) of 0.020 to 0.055.

본 발명에 따른 비발포식 바닥재의 제조방법은 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 3 단계로 조사하여 경화시키는 단계를 포함하고, 이러한 단계적인 광 경화 공정을 수행함으로써 앞서 설명한 바와 같이 기재층 상에 형성된 경화층 표면에 이중 결합의 비율을 적외선(IR) 분광 측정 시 810±10㎝-1 범위에 존재하는 제1 피크의 강도(Ip1)와 1720±10㎝-1 범위에 존재하는 제2 피크의 강도(Ip2)의 비율(Ip1/Ip2)이 0.020 내지 0.055를 만족하도록 이중 결합 비율을 낮게 제어할 수 있고; 경화층 표면에 존재하는 임의의 한 점을 중심부로 하며, 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가되 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지는 방사형의 요철이 랜덤하게 분산된 방사형 굴곡 구조를 용이하게 형성할 수 있다.The method for manufacturing a non-foaming flooring according to the present invention includes the step of irradiating an acrylic resin composition with a short range of light in a specific range in three steps under different conditions, and performing the stepwise light curing process as described above. The ratio of the double bond on the surface of the cured layer formed on the base layer is in the range of the intensity of the first peak (I p1 ) and the range of 1720 ± 10 cm -1 in the range of 810 ± 10 cm -1 when measured by infrared (IR) spectroscopy. It is possible to control the double bond ratio low so that the ratio (I p1 / I p2 ) of the intensity (I p2 ) of the second peak to satisfy 0.020 to 0.055; Any point present on the surface of the cured layer is used as the center, and a radially curved structure in which radial irregularities that extend from the center to the periphery but decrease in height from the center to the periphery can be easily formed.

구체적으로, 제1 광 조사 단계는 기재층 상에 도포된 조성물에 광을 조사하는 첫 번째 단계로서, 조사된 광에 의해 발생된 엑시머(excimer)가 도포된 조성물 및/또는 경화층의 표면을 수축시켜 주름을 형성함으로써 표면에 입사되는 빛의 산란율을 증가시키는 단계이다. 본 발명은 엑시머를 이용하여 조성물 및/또는 경화층의 표면을 상술된 방사형 굴곡 구조로 수축시킴으로써 표면의 내오염성, 구체적으로는 내요오드성을 현저히 향상시킬 수 있으며, 빛의 산란율을 증가시킬 수 있으므로 소광제를 사용하지 않거나 극소량 사용하고도 표면 광택도를 감소시킬 수 있다. 이를 위해 상기 제1 광 조사 단계는 고에너지를 갖는 300㎚ 미만, 구체적으로는 100 내지 200㎚ 또는 150 내지 195㎚의 파장을 광을 사용하여 산소(O2)를 소량 포함하는 질소(N2) 분위기에서 수행될 수 있다. 구체적으로, 제1 광 조사 단계에서 질소(N2)에 포함된 산소(O2)의 농도는 10 내지 30,000ppm일 수 있고, 구체적으로는 10 내지 20,000ppm, 10 내지 5,000ppm, 1,000 내지 2,000ppm, 2,000 내지 3,000ppm, 3,000 내지 4,000ppm, 4,000 내지 5,000ppm, 10 내지 2,000ppm, 10 내지 1,000ppm, 10 내지 500ppm, 100 내지 300ppm, 10 내지 200ppm, 50 내지 150ppm, 80 내지 120pp, 4,000 내지 6,000 ppm, 4,500 내지 5,500 ppm 또는 4,800 내지 5,200ppm일 수 있다. 또한, 제1 광 조사 단계에서 조성물과 광원의 거리는 5~100㎜일 수 있고, 구체적으로는 5~80㎜, 5~60㎜, 5~40㎜, 10~70㎜, 10~50㎜, 10~30㎜, 20~80㎜, 20~60㎜, 20~50㎜, 20~30㎜, 25~75㎜, 50~80㎜, 40~60㎜ 또는 45~55㎜일 수 있다.Specifically, the first light irradiation step is a first step of irradiating light to the composition applied on the substrate layer, and the surface of the composition and / or the cured layer to which the excimer generated by the irradiated light is applied is contracted This is a step of increasing the scattering rate of light incident on the surface by forming wrinkles. The present invention can significantly improve the stain resistance of the surface, specifically, iodine resistance, and increase the scattering rate of light by shrinking the surface of the composition and / or the cured layer into the above-described radial bending structure using an excimer. Surface gloss can be reduced by using no matting agent or using a very small amount. To this end, the first light irradiation step includes nitrogen (N 2 ) containing a small amount of oxygen (O 2 ) using light having a wavelength of less than 300 nm, specifically, 100 to 200 nm or 150 to 195 nm with high energy. May be performed in an atmosphere. Specifically, the concentration of oxygen (O 2 ) contained in the nitrogen (N 2 ) in the first light irradiation step may be 10 to 30,000ppm, specifically 10 to 20,000ppm, 10 to 5,000ppm, 1,000 to 2,000ppm , 2,000 to 3,000 ppm, 3,000 to 4,000 ppm, 4,000 to 5,000 ppm, 10 to 2,000 ppm, 10 to 1,000 ppm, 10 to 500 ppm, 100 to 300 ppm, 10 to 200 ppm, 50 to 150 ppm, 80 to 120 ppm, 4,000 to 6,000 ppm , 4,500 to 5,500 ppm or 4,800 to 5,200 ppm. In addition, the distance between the composition and the light source in the first light irradiation step may be 5 to 100 mm, specifically 5 to 80 mm, 5 to 60 mm, 5 to 40 mm, 10 to 70 mm, 10 to 50 mm, 10 It may be ˜30 mm, 20-80 mm, 20-60 mm, 20-50 mm, 20-30 mm, 25-75 mm, 50-80 mm, 40-60 mm or 45-55 mm.

하나의 예로서, 상기 제1 광 조사 단계는 조성물 내에 엑시머를 형성하기 위하여 조성물에 172±2㎚ 파장을 갖는 광을 100ppm의 산소(O2)를 포함하는 질소(N2) 조건에서 5~100 mJ/㎠의 광량으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 조사하여 수행될 수 있다.As one example, the first light irradiation step is 5 ~ 100 in nitrogen (N 2 ) conditions containing 100ppm of oxygen (O 2 ) of light having a wavelength of 172 ± 2nm in the composition to form an excimer in the composition. It can be performed by irradiating for a very short time of 1 to 2 seconds with a light amount of mJ / cm 2.

본 발명은 제1 광 조사 단계 수행 시 가스 조건 및 조성물과 광원의 거리를 상기 범위로 제어함으로써 경화층의 표면에 형성되는 랜덤 방사형의 미세 굴곡 구조의 평균 직경, 높이 및/또는 빈도를 용이하게 제어할 수 있다.The present invention can easily control the average diameter, height and / or frequency of the randomly-cured finely curved structure formed on the surface of the cured layer by controlling the gas conditions and the distance between the composition and the light source when performing the first light irradiation step. can do.

또한, 상기 제1 광 조사 단계에서 광 조사량은 1 mJ/㎠ 내지 100 mJ/㎠일 수 있고, 구체적으로는 1 mJ/㎠ 내지 80 mJ/㎠, 1 mJ/㎠ 내지 60 mJ/㎠¸1 mJ/㎠ 내지 40 mJ/㎠, 1 mJ/㎠ 내지 35 mJ/㎠, 1 mJ/㎠ 내지 30 mJ/㎠¸1 mJ/㎠ 내지 20 mJ/㎠, 1 mJ/㎠ 내지 10 mJ/㎠, 5 mJ/㎠ 내지 10 mJ/㎠, 5 mJ/㎠ 내지 20 mJ/㎠, 5 mJ/㎠ 내지 25 mJ/㎠, 5 mJ/㎠ 내지 35 mJ/㎠, 5 mJ/㎠ 내지 50 mJ/㎠, 15 mJ/㎠ 내지 25 mJ/㎠, 25 mJ/㎠ 내지 35 mJ/㎠, 25 mJ/㎠ 내지 50 mJ/㎠, 40 mJ/㎠ 내지 60 mJ/㎠, 70 mJ/㎠ 내지 100 mJ/㎠ 또는 5 mJ/㎠ 내지 33 mJ/㎠일 수 있다. 본 발명은 제1 광 조사 단계의 광 조사량을 상기 범위로 제어함으로써 경화층 표면에 형성되는 랜덤 방사형의 미세 굴곡 구조의 평균 직경, 높이 및/또는 빈도를 용이하게 제어할 수 있다.In addition, in the first light irradiation step, the light irradiation amount may be 1 mJ / cm 2 to 100 mJ / cm 2, specifically 1 mJ / cm 2 to 80 mJ / cm 2, 1 mJ / cm 2 to 60 mJ / cm 2 ¸ 1 mJ / Cm2 to 40 mJ / cm2, 1 mJ / cm2 to 35 mJ / cm2, 1 mJ / cm2 to 30 mJ / cm2 to 1 mJ / cm2 to 20 mJ / cm2, 1 mJ / cm2 to 10 mJ / cm2, 5 mJ / Cm2 to 10 mJ / cm2, 5 mJ / cm2 to 20 mJ / cm2, 5 mJ / cm2 to 25 mJ / cm2, 5 mJ / cm2 to 35 mJ / cm2, 5 mJ / cm2 to 50 mJ / cm2, 15 mJ / Cm 2 to 25 mJ / cm 2, 25 mJ / cm 2 to 35 mJ / cm 2, 25 mJ / cm 2 to 50 mJ / cm 2, 40 mJ / cm 2 to 60 mJ / cm 2, 70 mJ / cm 2 to 100 mJ / cm 2 or 5 mJ / Cm 2 to 33 mJ / cm 2. The present invention can easily control the average diameter, height and / or frequency of the randomly-radiated finely curved structure formed on the surface of the cured layer by controlling the light irradiation amount of the first light irradiation step to the above range.

아울러, 기재 상에 조성물을 도포하는 방법은 기술분야에서 공지된 방법에 의해 수행될 수 있으며, 예를 들어, 메이어(Mayer), 디-바(D-bar), 고무롤(rubber roll), G/V 롤(G/V roll), 에어나이프(air knife), 슬롯다이(slot die) 등을 이용하여 수행될 수 있다.In addition, the method of applying the composition on the substrate may be performed by a method known in the art, for example, Mayer (Mayer), D-bar (D-bar), rubber roll (rubber roll), G / It may be performed using a V roll (G / V roll), an air knife, or a slot die.

또한, 제2 광 조사 단계는 표면이 수축된 조성물 및/또는 경화층에 자외선(UV) 에너지를 가하여 가경화시키는 단계로서, 200 내지 400㎚ 이상의 파장, 구체적으로는 250 내지 380㎚, 280 내지 380㎚, 250 내지 350㎚, 또는 280 내지 320㎚ 파장의 광을 공기(air) 조건에서 조사하여 수행될 수 있다. 이때, 가경화된 조성물 및/또는 경화층의 표면 온도는 20 내지 90℃, 구체적으로는 20 내지 80℃ 또는 30 내지 70℃일 수 있다.In addition, the second light irradiation step is a step of temporarily curing by applying ultraviolet (UV) energy to the composition and / or cured layer of the surface shrinkage, wavelengths of 200 to 400nm or more, specifically 250 to 380nm, 280 to 380nm , 250-350 nm, or 280-320 nm light may be performed by irradiating in air conditions. At this time, the surface temperature of the provisionally cured composition and / or cured layer may be 20 to 90 ℃, specifically 20 to 80 ℃ or 30 to 70 ℃.

하나의 예로서, 상기 제2 광 조사 단계는 조성물 및/또는 경화층에 300±5㎚ 파장을 갖는 광을 공기 조건에서 20~800 mJ/㎠의 광량으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 조사하여 수행될 수 있고, 이때 조성물 및/또는 경화층과 광원 사이의 거리는 0.5 내지 10㎜일 수 있다.As an example, the second light irradiation step may be performed by irradiating the composition and / or the cured layer with light having a wavelength of 300 ± 5 nm for a very short time of 1 to 2 seconds at a light amount of 20 to 800 mJ / cm 2 under air conditions. Where the distance between the composition and / or the cured layer and the light source can be 0.5 to 10 mm.

이와 더불어, 제3 광 조사 단계는 가경화된 조성물 및/또는 경화층에 자외선(UV)을 추가적으로 조사하여 진경화를 수행하는 단계로서, 400㎚ 이하의 파장, 구체적으로는 100 내지 400㎚, 200 내지 400㎚, 200 내지 300㎚, 300 내지 400㎚, 150 내지 300㎚, 200 내지 250㎚ 또는 270 내지 320㎚의 파장을 광을 사용하여 산소(O2)를 소량 포함하는 질소(N2) 분위기에서 수행될 수 있다. 여기서, 질소(N2)에 포함된 산소(O2)의 농도는 10 내지 30,000ppm일 수 있고, 구체적으로는 10 내지 5,000ppm, 1,000 내지 2,000ppm, 2,000 내지 3,000ppm, 3,000 내지 4,000ppm, 4,000 내지 5,000ppm, 100 내지 1,000ppm, 100 내지 500ppm, 100 내지 200ppm, 10 내지 2,000ppm, 10 내지 1,000ppm, 10 내지 500ppm, 100 내지 300ppm, 10 내지 200ppm, 50 내지 150ppm, 80 내지 120ppm, 15,000 내지 25,000 ppm, 17,000 내지 23,000 ppm, 19,000 내지 21,000 ppm, 또는 19,500 내지 20,500 ppm일 수 있다. 본 발명은 진경화가 수행되는 제3 광 조사 단계에서 산소(O2)의 농도를 상기 범위로 제어함으로써 조성물 및/또는 경화층의 경화 밀도를 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 산소 분자(O2)의 오존(O3) 전환을 통해 경화층의 표면을 세정하는 효과를 유도할 수 있다.In addition, the third light irradiation step is a step of additionally irradiating ultraviolet (UV) to the provisionally cured composition and / or the cured layer to perform the hardening, a wavelength of 400nm or less, specifically, 100 to 400nm, 200 Nitrogen (N 2 ) atmosphere containing a small amount of oxygen (O 2 ) using light at a wavelength of from 400 nm, 200 to 300 nm, 300 to 400 nm, 150 to 300 nm, 200 to 250 nm or 270 to 320 nm. It can be performed in. Here, the concentration of oxygen (O 2 ) contained in the nitrogen (N 2 ) may be 10 to 30,000ppm, specifically 10 to 5,000ppm, 1,000 to 2,000ppm, 2,000 to 3,000ppm, 3,000 to 4,000ppm, 4,000 To 5,000 ppm, 100 to 1,000 ppm, 100 to 500 ppm, 100 to 200 ppm, 10 to 2,000 ppm, 10 to 1,000 ppm, 10 to 500 ppm, 100 to 300 ppm, 10 to 200 ppm, 50 to 150 ppm, 80 to 120 ppm, 15,000 to 25,000 ppm, 17,000 to 23,000 ppm, 19,000 to 21,000 ppm, or 19,500 to 20,500 ppm. The present invention can improve the curing density of the composition and / or the cured layer by controlling the concentration of oxygen (O 2 ) in the above range in the third light irradiation step in which the photocuring is performed, as well as ozone of oxygen molecules (O 2 ) The effect of cleaning the surface of the cured layer can be induced through (O 3 ) conversion.

하나의 예로서, 상기 제3 광 조사 단계는 조성물 및/또는 경화층에 300±5㎚ 파장을 갖는 광을 100~3,000 mJ/㎠의 광량으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 조사하여 수행될 수 있고, 이때 조성물 및/또는 경화층과 광원 사이의 거리는 50±10㎜일 수 있다.As one example, the third light irradiation step may be performed by irradiating the composition and / or cured layer with light having a wavelength of 300 ± 5 nm for a very short time of 1 to 2 seconds with a light amount of 100 ~ 3,000 mJ / ㎠ In this case, the distance between the composition and / or the cured layer and the light source may be 50 ± 10 mm.

본 발명에서 조사되는 광은 각 단계에서 요구되는 파장의 광을 조사할 수 있는 공지된 방법에 따라 조사될 수 있다. 예를 들어, UV 영역인 400㎚ 이하의 파장을 갖는 광은 수은 또는 메탈 할라이드 램프 등을 이용하여 조사될 수 있다.The light irradiated in the present invention can be irradiated according to a known method capable of irradiating light of a wavelength required in each step. For example, light having a wavelength of 400 nm or less, which is a UV region, may be irradiated using a mercury or metal halide lamp or the like.

또한, 본 발명에서 광이 조사되는 시간은 1~2초의 매우 짧은 시간일 수 있고, 이러한 광 조사 시간은 광 조사 시 조성물이 이동하는 속도, 예컨대 기재 상에 코팅된 조성물의 이동 속도에 의해 제어될 수 있다. 예를 들어, 상기 조성물 및/또는 조성물이 코팅된 기재의 이동 속도는 1 내지 50 m/min일 수 있고, 구체적으로는 5 내지 40 m/min, 10 내지 40 m/min, 20 내지 40 m/min, 30 내지 40 m/min, 15 내지 25 m/min, 5 내지 15 m/min, 15 내지 20 m/min, 35 내지 40 m/min 또는 18 내지 22 m/min일 수 있다.In addition, the time for which light is irradiated in the present invention may be a very short time of 1 to 2 seconds, which is controlled by the speed at which the composition moves during light irradiation, such as the rate of movement of the composition coated on the substrate. Can be. For example, the composition and / or the movement speed of the substrate coated with the composition may be 1 to 50 m / min, specifically 5 to 40 m / min, 10 to 40 m / min, 20 to 40 m / min, 30 to 40 m / min, 15 to 25 m / min, 5 to 15 m / min, 15 to 20 m / min, 35 to 40 m / min or 18 to 22 m / min.

한편, 본 발명에서 사용되는 조성물은 기존의 조성물과 대비하여 경화층의 광택 저감을 위한 소광제를 포함하지 않아 25℃에서 100 내지 1,500 cps, 구체적으로는 100 내지 1,200 cps, 100 내지 1,000 cps, 100 내지 800 cps, 100 내지 500 cps, 100 내지 400 cps, 150 내지 350 cps, 200 내지 350 cps, 250 내지 350 cps 또는 280 내지 300 cps의 낮은 점도를 가질 수 있으며, 경화층의 내구성 향상을 위하여 필러를 더 포함하여도 350 cps 이하의 낮은 점도를 나타낼 수 있다. 상기 조성물은 350 cps 이하의 낮은 점도를 가짐으로써 작업성이 우수한 이점을 갖는다.On the other hand, the composition used in the present invention does not contain a matting agent for reducing the gloss of the cured layer compared to the existing composition, 100 to 1,500 cps at 25 ° C, specifically 100 to 1,200 cps, 100 to 1,000 cps, 100 It may have a low viscosity of 800 to 500 cps, 100 to 500 cps, 100 to 400 cps, 150 to 350 cps, 200 to 350 cps, 250 to 350 cps, or 280 to 300 cps, and a filler may be used to improve the durability of the cured layer. Even further, it may exhibit a low viscosity of 350 cps or less. The composition has the advantage of excellent workability by having a low viscosity of 350 cps or less.

이하, 본 발명을 실시예 및 실험예에 의해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples and experimental examples.

단, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예 및 실험예에 한정되는 것은 아니다.However, the following Examples and Experimental Examples are only illustrative of the present invention, and the content of the present invention is not limited to the following Examples and Experimental Examples.

실시예 1 내지 5.Examples 1 to 5.

메틸우레탄아크릴레이트 올리고머(분자량: 2,200±100) 60 중량부, 히드록시에틸 아크릴레이트 30 중량부, 및 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 10 중량부와 개시제인 벤조페논 5 중량부 및 필러인 콜로이달 실리카 (평균 직경: 5±0.5 ㎛)를 포함하는 조성물을 가로 10 ㎝ X 세로 10 ㎝의 폴리비닐클로라이드 (PVC) 기재에 도포하고 도 1에 나타낸 것과 같은 구조의 광 경화장치에 고정시켰다. 그 후 하기 표 1에 나타낸 바와 같이 9±0.5 m/min의 이동속도로 기재를 이동시키면서 단계적으로 광 조사를 수행하여 SLS 타입의 비발포식 타일 바닥재 시편을 제조하였다. 이때, 상기 경화층의 평균 두께는 15±1㎛이였다.60 parts by weight of methyl urethane acrylate oligomer (molecular weight: 2,200 ± 100), 30 parts by weight of hydroxyethyl acrylate, and 10 parts by weight of 1,6-hexanediol diacrylate, 5 parts by weight of initiator benzophenone and colo as filler This month, a composition comprising silica (average diameter: 5 ± 0.5 μm) was applied to a 10 cm wide 10 cm long polyvinylchloride (PVC) substrate and fixed to a photocuring device having a structure as shown in FIG. 1. Then, as shown in Table 1 below, while moving the substrate at a moving speed of 9 ± 0.5 m / min, light irradiation was performed stepwise to prepare a non-foamed tile flooring specimen of SLS type. At this time, the average thickness of the cured layer was 15 ± 1㎛.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 필러 함량[조성물 전체
100 중량부 기준]
Filler content [total composition
100 parts by weight]
3 중량부3 parts by weight 3 중량부3 parts by weight 3 중량부3 parts by weight 3 중량부3 parts by weight 5 중량부5 parts by weight
제1 광 조사First light irradiation 파장범위Wavelength range 172±5 ㎚172 ± 5 nm 172±5 ㎚172 ± 5 nm 172±5 ㎚172 ± 5 nm 172±5 ㎚172 ± 5 nm 172±5 ㎚172 ± 5 nm 조사량Dose 32 mJ/㎠32 mJ / ㎠ 18 mJ/㎠18 mJ / ㎠ 7 mJ/㎠7 mJ / ㎠ 32 mJ/㎠32 mJ / ㎠ 32 mJ/㎠32 mJ / ㎠ 광원과의
거리
With light source
Street
50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm
가스 조건Gas condition N2 조건(O2 5,000 ppm)N 2 conditions (O 2 5,000 ppm) N2 조건
(O2 5,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 5,000 ppm)
N2 조건
(O2 5,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 5,000 ppm)
N2 조건
(O2 5,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 5,000 ppm)
N2 조건
(O2 5,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 5,000 ppm)
제2 광 조사Second light irradiation 파장 범위Wavelength range 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 조사량Dose 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 광원과의
거리
With light source
Street
2±1㎜2 ± 1㎜ 2±1㎜2 ± 1㎜ 2±1㎜2 ± 1㎜ 2±1㎜2 ± 1㎜ 2±1㎜2 ± 1㎜
가스 조건Gas condition 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 제3 광 조사Third light irradiation 파장 범위Wavelength range 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 조사량Dose 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 광원과의
거리
With light source
Street
100±1㎜100 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm
가스 조건Gas condition N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
경화율Curing rate 85%85% 85%85% 82%82% 86%86% 85%85%

비교예 1 내지 4.Comparative Examples 1 to 4.

하기 표 2에 경화조건으로 조성물을 경화하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하여 SLS 타입의 비발포식 타일 바닥재 시편을 제조하였다.SLS type non-foaming tile flooring specimens were prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition was cured under the curing conditions in Table 2 below.

비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 필러 함량[조성물 전체
100 중량부 기준]
Filler content [total composition
100 parts by weight]
3 중량부3 parts by weight 3 중량부3 parts by weight 3 중량부3 parts by weight 5 중량부5 parts by weight
제1

조사
First
ore
Research
파장범위Wavelength range 172±5 ㎚172 ± 5 nm -- 172±5 ㎚172 ± 5 nm --
조사량Dose 3 mJ/㎠3 mJ / ㎠ -- 118 mJ/㎠118 mJ / ㎠ -- 광원과의
거리
With light source
Street
50±1㎜50 ± 1 mm -- 10±1㎜10 ± 1㎜ --
가스 조건Gas condition N2 조건(O2 5,000 ppm)N 2 conditions (O 2 5,000 ppm) -- N2 조건
(O2 5,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 5,000 ppm)
--
제2

조사
2nd
ore
Research
파장 범위Wavelength range -- 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm
조사량Dose -- 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 광원과의
거리
With light source
Street
-- 100±1㎜100 ± 1 mm 2±1㎜2 ± 1 100±1㎜100 ± 1 mm
가스 조건Gas condition -- 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 제3

조사
The third
ore
Research
파장 범위Wavelength range 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm
조사량Dose 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 광원과의
거리
With light source
Street
100±1㎜100 ± 1 mm 100±1㎜100 ± 1 mm 100±1㎜100 ± 1 mm 100±1㎜100 ± 1 mm
가스 조건Gas condition N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)

실험예 1Experimental Example 1

본 발명에 따른 비발포식 바닥재의 최외각층인 경화층의 표면 구조를 확인하기 위하여 실시예 1 및 3과 비교예 2 및 3에서 제조된 비발포식 바닥재 시편을 대상으로 주사 전자현미경(SEM) 분석을 수행하였으며, 그 결과는 도 2 내지 4에 나타내었다.Scanning electron microscope (SEM) analysis was performed on the non-foaming flooring specimens prepared in Examples 1 and 3 and Comparative Examples 2 and 3 to confirm the surface structure of the cured layer, which is the outermost layer of the non-foaming flooring according to the present invention. The results are shown in Figures 2 to 4.

도 2 및 3을 살펴보면, 본 발명에 따른 실시예 1 및 3의 시편은 표면에 일정 크기와 빈도로 방사형 굴곡 구조를 포함하는 것으로 나타났으며, 상기 방사형 굴곡 구조는 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지는 구조를 갖는 것을 알 수 있다.2 and 3, the specimens of Examples 1 and 3 according to the present invention were found to include a radially curved structure at a certain size and frequency on the surface, and the radially curved structure was lower in height from the center to the periphery. It can be seen that the paper has a structure.

또한, 실시예 1과 3의 적층 필름을 살펴보면, 적층 필름의 경화층은 제1 광 경화 단계에서의 광 조사량이 강해질수록 미세 굴곡이 강하게 형성되면서 표면에 형성된 랜덤 방사형의 미세굴곡 구조의 크기(즉, 직경)은 작아지고, 중심부의 높이와 빈도는 증가하는 것으로 확인되었다. 구체적으로, 실시예 1의 경우 방사형 굴곡 구조의 평균 크기는 50±2 ㎛이고, 중심부의 높이는 19±1 ㎛이며, 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 140 내지 165개의 덴드라이트 형상을 포함하고, 실시예 3의 경우 방사형 굴곡 구조의 평균 크기는 70±2 ㎛이고, 중심부의 높이는 12±1 ㎛이며, 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 40 내지 60개를 포함하는 것으로 나타났다. In addition, when looking at the laminated films of Examples 1 and 3, the cured layer of the laminated film is formed with a fine bend stronger as the amount of light irradiation in the first photocuring step becomes stronger, and the size of the random-radial fine-bending structure formed on the surface (that is, , Diameter), it was confirmed that the height and frequency of the center increased. Specifically, in Example 1, the average size of the radially curved structure is 50 ± 2 μm, the center has a height of 19 ± 1 μm, and includes 140 to 165 dendrite shapes per unit area (1 mm X 1 mm). , In the case of Example 3, the average size of the radially curved structure was 70 ± 2 μm, the height of the center was 12 ± 1 μm, and it was found to include 40 to 60 per unit area (1 mm X 1 mm).

이에 반해, 제1 광 경화 단계를 수행하지 않은 비교예 2의 시편은 표면에 미세 굴곡 구조를 갖지 않는 것으로 나타났으며, 도 4를 살펴보면, 제1 광 경화 단계를 수행하였으나 광의 조사량이 현저히 많은 비교예 3의 시편은 표면에 굴곡 구조를 포함하나 굴곡 정도가 커 중심부를 포함하지 않으므로 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지는 방사형의 구조를 갖지 않는 것으로 확인되었다.On the other hand, the specimen of Comparative Example 2, which did not perform the first photo-curing step, was found to have no micro-curved structure on the surface. Referring to FIG. 4, the first photo-curing step was performed, but the amount of light irradiation was significantly higher. It was confirmed that the specimen of Example 3 does not have a radial structure that includes a curved structure on the surface, but does not include a central portion due to a large degree of bending, so that the height decreases from the central portion to the peripheral portion.

이러한 결과로부터, 200 ㎚ 미만 파장의 광을 조사하는 제1 광 조사 단계는 엑시머를 발생시키고, 발생된 엑시머는 단파장 UV를 발생시켜 조성물 및/또는 경화층의 표면 경화를 빠르게 촉진시키며, 이에 따라 조성물 및/또는 경화층의 표면은 수축이 발생되어 미세한 굴곡 구조를 형성됨을 알 수 있다. 다시 말해, 상기 제1 광 조사 단계의 수행 조건을 특정 조건으로 조절함으로써 미세 굴곡 구조의 형태를 제어할 수 있음을 알 수 있다.From these results, the first light irradiation step of irradiating light with a wavelength of less than 200 nm generates an excimer, and the generated excimer generates short-wave UV, thereby rapidly promoting surface hardening of the composition and / or cured layer, and thus the composition And / or the surface of the cured layer can be seen that shrinkage occurs to form a fine curved structure. In other words, it can be seen that the shape of the fine bend structure can be controlled by adjusting the performance condition of the first light irradiation step to a specific condition.

실험예 2Experimental Example 2

본 발명에 따른 비발포식 바닥재의 내오염성을 평가하기 위하여 실시예 4 및 비교예 2에서 제조된 비발포식 바닥재 시편을 대상으로 경화층 표면의 적외선(IR) 분광을 측정하였다.In order to evaluate the fouling resistance of the non-foaming flooring according to the present invention, infrared (IR) spectroscopy of the cured layer surface was measured on the non-foaming flooring specimens prepared in Example 4 and Comparative Example 2.

그 결과, 본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 최외각층인 경화층 표면에 낮은 비율의 이중결합을 포함하는 것을 알 수 있다. 구체적으로, 실시예 4 및 비교예 2의 시편들은 모두 아크릴레이트의 이중결합을 나타내는 810±10㎝-1 범위에 존재하는 제1 피크와 1720±10㎝-1 범위에 존재하는 기준 피크인 제2 피크가 존재하는 것을 확인할 수 있다. 그러나, 실시예 4의 시편은 경화층의 경화 밀도가 높아 경화층 표면에 존재하는 이중결합의 비율이 낮으므로 제1 피크와 제2 피크의 강도 비율(Ip1/Ip2)이 0.020 내지 0.055이나, 제1 광조사 단계가 수행되지 않은 비교예 2의 시편은 제1 피크와 제2 피크의 강도 비율(Ip1/Ip2)이 0.055를 초과하는 것으로 나타났다.As a result, it can be seen that the non-foaming flooring according to the present invention contains a low proportion of double bonds on the outermost layer of the cured layer. Specifically, the specimens of Example 4 and Comparative Example 2 are both the first peak present in the 810 ± 10 cm −1 range and the second reference peak present in the 1720 ± 10 cm −1 range, which represents a double bond of acrylate. It can be confirmed that a peak exists. However, the specimen of Example 4 has a high cure density of the cured layer, so the ratio of double bonds present on the surface of the cured layer is low, so the intensity ratio (I p1 / I p2 ) of the first peak and the second peak is 0.020 to 0.055. , In the specimen of Comparative Example 2 in which the first light irradiation step was not performed, the intensity ratio (I p1 / I p2 ) of the first peak and the second peak was found to exceed 0.055.

이러한 결과로부터 본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 최외각층인 경화층 표면에 낮은 비율로 이중결합을 포함하는 것을 알 수 있다.From these results, it can be seen that the non-foaming flooring according to the present invention contains a double bond at a low rate on the surface of the cured layer, which is the outermost layer.

실험예 3.Experimental Example 3.

본 발명에 따른 비발포식 바닥재의 성능을 평가하기 위하여 실시예 1 내지 4와 비교예 1 내지 3에서 제조된 비발포식 바닥재 시편을 대상으로 광택도, 요오드 오염에 따른 관능평가 및 표면 경도를 측정하였다. 구체적인 측정방법은 다음과 같으며, 측정된 결과는 하기 표 3에 나타내었다:To evaluate the performance of the non-foaming flooring according to the present invention, the non-foaming flooring specimens prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 were subjected to glossiness, sensory evaluation according to iodine contamination, and surface hardness. The specific measurement method is as follows, and the measured results are shown in Table 3 below:

가) 광택도 평가A) Glossiness evaluation

광택 측정기(Gloss Meter)를 이용하여 60° 광택도 (글로스 60° 조건)를 측정하였다.The gloss meter (Gloss Meter) was used to measure the gloss of 60 ° (60 gloss conditions).

나) 내요오드성 평가B) Evaluation of iodine resistance

22±1℃, 50±5% RH의 습도에서, 시편 표면에 1 부피%의 요오드 용액 3방울 (약 10㎕)을 각각 떨어뜨려 오염시키고, 5분, 10분 및 15분 후에 킴스와이프로 3회 닦은 다음 육안으로 세척된 표면을 관찰하여 다음의 등급 기준으로 잔류하는 요오드 용액의 정도를 평가하였다:At 22 ± 1 ° C and 50 ± 5% RH humidity, 3 drops (approximately 10 μl) of 1% by volume of iodine solution were respectively contaminated on the surface of the specimen and contaminated. After 5, 10 and 15 minutes, Kim's Wipe 3 After washing the ash, the surface washed with the naked eye was observed to evaluate the degree of iodine solution remaining on the basis of the following grades:

- 1 등급: 경화층의 박리나 파괴-Grade 1: Peeling or breaking of the cured layer

(최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 40% 이상),(The area of iodine remaining in the initial contamination area is 40% or more),

- 2 등급: 경화층의 상당한 형태 변화와 광택 또는 색상 상당한 변화 발생-Grade 2: Significant change in shape of the hardened layer and significant change in gloss or color

(최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 20% 이하 40% 미만),(The area of iodine remaining in the initial contamination area is less than 40% and less than 20%),

- 3 등급: 경화층의 형태 변화가 없거나 약간의 변화가 있고, 광택이나 색상의 상당한 변화 발생-Grade 3: There is no or little change in the shape of the cured layer, and a significant change in gloss or color occurs.

(최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 5% 이하 20% 미만),(The area of iodine remaining in the initial contamination area is less than 5% and less than 20%),

- 4 등급: 경화층의 형태 변화 없이 광택이나 색상의 약간의 변화 발생-Grade 4: slight change in gloss or color without changing the shape of the cured layer

(최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 1% 이하 5% 미만),(The area of iodine remaining on the basis of the initial contamination area is less than 1% and less than 5%),

- 5 등급: 경화층의 형태, 광택 및 색상의 변화 없음-Grade 5: No change in shape, luster and color of cured layer

(최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 1% 미만).(The area of iodine remaining in the initial contamination area is less than 1%).

다) 경도 평가C) Hardness evaluation

스크래치 시험기(Erichsen scratch tester 413)를 사용하여 ISO 4586-2에 따라 적층 필름의 경도를 측정하였다. 구체적으로, 시험기에 장착된 다이아몬즈 팁(tip)이 0 내지 1 N의 하중으로 원형(회전수: 5회/min)을 그리며 필름 표면을 지나가게 한 후 팁이 지나간 필름 표면의 스크래치 유무를 판단하였다. 이때, 스크래치 유무를 판단함에 있어 필름의 스크래치 유무를 관찰하는 조건, 즉 평가자 눈과 필름의 거리는 공식적으로 정해진 바가 없으나, 적층 필름을 평가자의 눈 앞 10 cm 에 위치하여 형광등 아래 밝은 장소에서 보았을 때 스크래치가 발생되지 않는 하중을 확인하였다.The hardness of the laminated film was measured according to ISO 4586-2 using a scratch tester (Erichsen scratch tester 413). Specifically, after the diamond tip mounted on the tester draws a circle (revolution: 5 times / min) with a load of 0 to 1 N and passes through the film surface, it is determined whether the tip has scratched the film surface. Did. At this time, in determining the presence or absence of scratches, the conditions for observing the presence or absence of scratches on the film, that is, the distance between the evaluator's eyes and the film are not officially determined, but when the laminated film is positioned 10 cm in front of the evaluator's eyes and viewed in a bright place under a fluorescent lamp It was confirmed that the load does not occur.

광택도Glossiness 내요오드성 평가Iodine resistance evaluation 경도Hardness 5분5 minutes 10분10 minutes 15분15 minutes 실시예 1Example 1 2.5±0.52.5 ± 0.5 44 33 33 0.3 N0.3 N 실시예 2Example 2 3.3±0.53.3 ± 0.5 44 33 33 0.3 N0.3 N 실시예 3Example 3 5.0±0.55.0 ± 0.5 44 22 22 0.2 N0.2 N 실시예 4Example 4 2.5±0.52.5 ± 0.5 44 44 33 0.3 N0.3 N 실시예 5Example 5 2.5±0.52.5 ± 0.5 44 33 33 0.3 N0.3 N 비교예 1Comparative Example 1 7.0±0.57.0 ± 0.5 22 1One 1One 0.2 N0.2 N 비교예 2Comparative Example 2 9.3±0.59.3 ± 0.5 1One 00 00 0.2 N0.2 N 비교예 3Comparative Example 3 2.0±0.52.0 ± 0.5 44 44 33 0.3 N0.3 N 비교예 4Comparative Example 4 4.0±0.54.0 ± 0.5 1One 00 00 0.2 N0.2 N

상기 표 3에 나타낸 바와 같이 본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 낮은 광택도를 나타내고 내오염성(특히 내요오드성) 및 표면경도가 우수한 것으로 알 수 있다.As shown in Table 3, it can be seen that the non-foaming flooring according to the present invention exhibits low gloss and has excellent stain resistance (especially iodine resistance) and surface hardness.

구체적으로, 실시예 1 내지 4의 비발포식 바닥재들은 소광제를 소량 사용하여도 글로스 60° 조건에서의 광택도가 6 이하인 것으로 확인되었다. 또한, 상기 바닥재들은 내오염성이 뛰어나 요오드 오염 전후 표면의 형태 변화는 물론 광택이나 색상 변화도 거의 발생되지 않는 것으로 나타났으며, 우레탄 아크릴레이트 올리고머 등을 포함하여 유연성이 높은 아크릴 수지 조성물로 경화층을 형성함에도 불구하고 경화층의 표면 경도가 1차 광 조사 조건에 따라 0.25~0.35 N으로 향상되는 것으로 확인되었다.Specifically, the non-foaming type flooring materials of Examples 1 to 4 were confirmed to have a gloss of 6 or less at a gloss of 60 ° even when a small amount of a matting agent was used. In addition, the flooring materials have excellent stain resistance, and it has been found that almost no change in surface shape as well as gloss or color change occurs before and after iodine contamination. Despite the formation, it was confirmed that the surface hardness of the cured layer improved to 0.25 to 0.35 N depending on the primary light irradiation conditions.

이러한 결과로부터 경화층 광 경화 시 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 조사하여 경화시킴으로써 표면에 방사형의 굴곡 구조를 유도하면서 경화층의 경화 밀도를 최적화할 수 있으므로 이를 포함하는 비발포식 바닥재의 광택도를 낮출 수 있을 뿐만 아니라 내오염성(특히, 내요오드성)과 표면 경도를 향상시킬 수 있음을 알 수 있다. 나아가, 상기 경화층들은 표면에 구현된 방사형 굴곡 구조의 평균 크기, 중심부의 높이 및 단위 면적당 빈도가 증가할수록 광택이 낮아지는 경향을 보였다. 이는 상기 방사형 굴곡 구조가 경화층의 표면 물성에 영향을 미침을 의미한다.From these results, it is possible to optimize the curing density of the cured layer while inducing a radially curved structure on the surface by irradiating and curing the short-wavelength light in a specific range under different conditions when curing the cured layer light. It can be seen that not only can the glossiness be lowered, but also the stain resistance (especially iodine resistance) and surface hardness can be improved. Furthermore, the cured layers tended to have a lower gloss as the average size of the radially curved structure implemented on the surface, the height of the center portion, and the frequency per unit area increased. This means that the radially curved structure affects the surface properties of the cured layer.

100: 광 경화장치
110: 광 조사실
111: 제1 광 조사기 (UV 조사기)
112: 제2 광 조사기 (UV 조사기)
113: 제3 광 조사기 (UV 조사기)
120: 조사된 광
130: 컨베이어 벨트
140: 가스 격막
150: 시편
200: 비발포식 바닥재의 단면구조
210: 경화층
220: 기재층
211: 덴드라이트
100: light curing device
110: light irradiation chamber
111: first light irradiator (UV irradiator)
112: second light irradiator (UV irradiator)
113: third light irradiator (UV irradiator)
120: irradiated light
130: conveyor belt
140: gas septum
150: Psalms
200: cross-sectional structure of non-foaming flooring
210: hardened layer
220: substrate layer
211: dendrites

Claims (12)

기재층; 및
표면에는 한 점을 중심부로 하고 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가는 방사형의 굴곡 구조인 덴드라이트 형상을 갖는 아크릴 수지 조성물의 경화층을 포함하며,
상기 방사형 굴곡 구조는 조건 1 및 2 중 어느 하나 이상을 만족하고,
적외선(IR) 분광 측정 시, 810±10㎝-1 범위에 존재하는 제1 피크의 강도(Ip1)와 1720±10㎝-1 범위에 존재하는 제2 피크의 강도(Ip2)의 비율(Ip1/Ip2)이 0.020 내지 0.055인 비발포식 바닥재:
[조건 1] 방사형 굴곡 구조의 평균 직경은 5㎛ 내지 500㎛이고; 및
[조건 2] 방사형 굴곡 구조는 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지되 중심부의 평균 높이는 1㎛ 내지 30㎛ 이다.
Base layer; And
The surface includes a cured layer of an acrylic resin composition having a dendrite shape which is a radially curved structure extending from the center to the periphery with one point as the center,
The radial bending structure satisfies any one or more of conditions 1 and 2,
In infrared (IR) spectroscopy, the ratio of the intensity of the first peak (I p1 ) in the range of 810 ± 10 cm -1 and the intensity of the second peak (I p2 ) in the range of 1720 ± 10 cm -1 ( Non-foaming flooring with I p1 / I p2 ) of 0.020 to 0.055:
[Condition 1] The average diameter of the radially curved structure is 5 µm to 500 µm; And
[Condition 2] The radially curved structure is lower in height from the center to the periphery, but the average height of the center is 1 μm to 30 μm.
제1항에 있어서,
방사형 굴곡 구조는 표면의 단위 면적 (1㎜ X 1㎜)당 2 내지 400개 존재하는 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
Non-foaming flooring with 2 to 400 radial curved structures present per unit area (1 mm X 1 mm) of the surface.
제1항에 있어서,
상기 경화층은 22±1℃, 50±5% RH의 습도에서 1 부피%의 요오드 용액으로 오염시키고 5분 경과 후 세척 시, 최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 1% 미만인 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
The cured layer is 22 ± 1 ℃, 50 ± 5% RH at a humidity of 1% by volume of iodine solution, and after washing for 5 minutes, the area of iodine remaining on the basis of the initial contamination area is less than 1%.
제1항에 있어서,
표면 광택도가 글로스(Gloss) 60° 조건 하에서 10 미만인 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
Non-foaming flooring with a surface gloss of less than 10 under Gloss 60 ° conditions.
제1항에 있어서,
아크릴 수지 조성물은,
우레탄 아크릴계 올리고머 100 중량부; 및
중합성 반응기를 1개 이상 포함하는 모노머 50 내지 150 중량부를 포함하고,
아크릴계 올리고머 및 모노머 100 중량부에 대하여 10 중량부 이하의 개시제를 포함하는 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
Acrylic resin composition,
Urethane acrylic oligomer 100 parts by weight; And
50 to 150 parts by weight of a monomer containing at least one polymerizable reactor,
A non-foaming flooring material comprising 10 parts by weight or less of an initiator based on 100 parts by weight of an acrylic oligomer and a monomer.
제1항에 있어서,
아크릴 수지 조성물은 실리카, 알루미나, 글래스 비드 및 유기물 비드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 필러를 더 포함하는 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
The acrylic resin composition is a non-foaming type flooring material further comprising at least one filler selected from the group consisting of silica, alumina, glass beads, and organic beads.
제5항에 있어서,
필러의 평균 직경은 1 ㎛ 내지 15 ㎛인 비발포식 바닥재.
The method of claim 5,
The non-foaming flooring having an average diameter of the filler is 1 μm to 15 μm.
제5항에 있어서,
필러의 함량은 조성물 100 중량부에 대하여 10 중량부 미만인 비발포식 바닥재.
The method of claim 5,
The content of the filler is a non-foaming type flooring material having less than 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the composition.
제1항에 있어서,
경화층의 평균 두께는 3 ㎛ 내지 50 ㎛인 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
The non-foaming flooring having an average thickness of the cured layer is 3 μm to 50 μm.
기재층 상에 위치하는 아크릴 수지 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 상기 조성물을 활성화시키는 제1 광 조사 단계;
활성화된 조성물에, 공기(air) 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 1차 광 경화시키는 제2 광 조사 단계; 및
1차 경화된 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 2차 광 경화시켜 경화층을 형성하는 제3 광 조사 단계를 포함하고,
상기 경화층에 대한 적외선(IR) 분광 측정 시, 810±10㎝-1 범위에 존재하는 제1 피크의 강도(Ip1)와 1720±10㎝-1 범위에 존재하는 제2 피크의 강도(Ip2)의 비율(Ip1/Ip2)이 0.020 내지 0.055인 비발포식 바닥재의 제조방법.
A first light irradiation step of activating the composition by irradiating light having a wavelength of less than 300 nm to an acrylic resin composition located on the base layer under inert gas conditions;
A second light irradiation step of irradiating the activated composition with light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under air conditions to firstly cure the composition; And
A third light irradiation step of irradiating light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under an inert gas condition to the primary cured composition to secondary-cure the composition to form a cured layer,
Infrared (IR) spectroscopy of the cured layer, the intensity of the first peak (I p1 ) in the range of 810 ± 10 cm -1 and the intensity of the second peak (I p1 ) in the range of 1720 ± 10 cm -1 p2 ) ratio (I p1 / I p2 ) of 0.020 to 0.055 non-foaming method of manufacturing a flooring.
제10항에 있어서,
제1 광 조사 단계는 1 mJ/㎠ 내지 100 mJ/㎠의 광 조사량으로 수행되는 것을 특징으로 하는 비발포식 바닥재의 제조방법.
The method of claim 10,
The first light irradiation step is 1 mJ / ㎠ to 100 mJ / ㎠ method of manufacturing a non-foaming flooring characterized in that it is performed with a light irradiation amount.
제10항에 있어서,
제1 광 조사 단계 및 제3 광 조사 단계는, 산소(O2)의 농도가 10 ppm 내지 30,000 ppm인 질소(N2) 조건 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 비발포식 바닥재의 제조방법.
The method of claim 10,
The first light irradiation step and the third light irradiation step, the concentration of oxygen (O 2 ) The method of manufacturing a non-foaming type flooring, characterized in that performed under nitrogen (N 2 ) conditions of 10 ppm to 30,000 ppm.
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