KR20200022146A - Polyimide Film with Improved Base Resistance and Method for Preparing The Same - Google Patents

Polyimide Film with Improved Base Resistance and Method for Preparing The Same Download PDF

Info

Publication number
KR20200022146A
KR20200022146A KR1020180097930A KR20180097930A KR20200022146A KR 20200022146 A KR20200022146 A KR 20200022146A KR 1020180097930 A KR1020180097930 A KR 1020180097930A KR 20180097930 A KR20180097930 A KR 20180097930A KR 20200022146 A KR20200022146 A KR 20200022146A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polyimide film
polyimide
polyamic acid
film
dianhydride
Prior art date
Application number
KR1020180097930A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102153507B1 (en
Inventor
김기훈
이길남
최정열
Original Assignee
에스케이씨코오롱피아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 filed Critical 에스케이씨코오롱피아이 주식회사
Priority to KR1020180097930A priority Critical patent/KR102153507B1/en
Priority to CN201880096720.9A priority patent/CN112585195B/en
Priority to PCT/KR2018/011539 priority patent/WO2020040347A1/en
Publication of KR20200022146A publication Critical patent/KR20200022146A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102153507B1 publication Critical patent/KR102153507B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1075Partially aromatic polyimides
    • C08G73/1078Partially aromatic polyimides wholly aromatic in the diamino moiety
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/04Carbon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133308Support structures for LCD panels, e.g. frames or bezels
    • G02F1/133331Cover glasses
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/35Non-linear optics
    • G02F1/355Non-linear optics characterised by the materials used
    • G02F1/361Organic materials
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/35Non-linear optics
    • G02F1/355Non-linear optics characterised by the materials used
    • G02F1/361Organic materials
    • G02F1/3615Organic materials containing polymers
    • G02F2001/133331

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

Provided is a polyimide film which is prepared by imidizing a precursor composition composed of: a first polyamic acid in which a first diamine having two or less of benzene rings and a first dianhydride are polymerized; a second polyamic acid in which a second diamine having three or more benzene rings and a second dianhydride are polymerized; and carbon black. The crystallinity is 65% or higher, the light transmittance is 0.09 or less, a basic resistance index evaluated based on the thickness of the polyimide film before and after exposure to base components is 70% or higher, and the thickness is 8.0 μm or less.

Description

내염기성이 향상된 폴리이미드 필름 및 이의 제조방법 {Polyimide Film with Improved Base Resistance and Method for Preparing The Same}Polyimide Film with Improved Base Resistance and Method for Preparing The Same}

본 발명은 내염기성이 향상된 폴리이미드 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polyimide film having improved base resistance and a method of manufacturing the same.

폴리이미드(polyimide, PI)는 강직한 방향족 주쇄를 기본으로 하는 열적 안정성을 가진 고분자 물질로, 이미드 고리의 화학적 안정성을 기초로 하여 우수한 기계적 강도, 내화학성, 내후성, 내열성을 가진다. Polyimide (PI) is a polymer material having thermal stability based on a rigid aromatic backbone, and has excellent mechanical strength, chemical resistance, weather resistance, and heat resistance based on the chemical stability of an imide ring.

뿐만 아니라 폴리이미드는 절연특성, 낮은 유전율과 같은 뛰어난 전기적 특성에 기반하여 미소 전자 분야, 광학 분야 등에 사용될 수 있는 고기능성 재료로 크게 각광받고 있다.In addition, polyimide has attracted much attention as a highly functional material that can be used in microelectronics and optical fields based on excellent electrical properties such as insulation and low dielectric constant.

미소 전자 분야의 예로서, 휴대용 전자기기 및 통신기기에 포함되는 고집적 회로 등을 들 수 있다. 폴리이미드는 회로에 부착 또는 부가되어 상기 회로에 전기적 절연성을 제공함과 동시에, 수분, 광원, 충격 등에 대해 회로를 보호하는 필름으로서 이용될 수 있다.As an example of a microelectronic field, the high integrated circuit etc. which are contained in a portable electronic device and a communication device are mentioned. The polyimide may be used as a film that is attached to or added to a circuit to provide electrical insulation to the circuit and at the same time protects the circuit against moisture, light sources, impacts, and the like.

이와 같이 회로를 보호하는 필름으로는 다양한 예들이 존재할 수 있지만, 필름의 일면 또는 양면에 접착층이 형성되어 있는 복합 필름의 경우, 좁은 의미에서 커버레이(coverlay)로 지칭할 수 있고, 폴리이미드 필름은 상기 커버레이에 바람직하게 이용될 수 있다. As a film protecting the circuit as described above, various examples may exist, but in the case of a composite film having an adhesive layer formed on one or both sides of the film, the film may be referred to as a coverlay in a narrow sense, and the polyimide film may be It can be preferably used for the coverlay.

최근에는 회로에 대한 시각적 보안성, 차폐기능 및 차광기능이 중요하게 부각되면서, 카본 블랙을 함유하여 블랙 색조를 가지는 특수한 폴리이미드 필름이 커버레이의 소재로 각광받고 있다.Recently, as the visual security of the circuit, the shielding function and the light shielding function have been highlighted, a special polyimide film containing carbon black and having a black tint is spotlighted as a material of a coverlay.

블랙 색조를 가지는 폴리이미드 필름을 제조하기 위해서는, 전구체인 폴리아믹산 중에 카본 블랙을 혼합하고 고르게 분산시키는 과정이 필수적이다. 이러한 과정에서 카본 블랙이 고르게 분산되지 않는 경우 차폐기능이 저하되거나 표면 불량이 발생하는 등의 문제가 발생할 수 있다. 본질적으로 카본 블랙은 폴리아믹산 또는 폴리이미드와 물리적/화학적 성질이 상이하여 폴리이미드 또는 폴리아믹산 중에 혼화 및/또는 분산되는 것이 용이하지 않다.In order to produce a polyimide film having a black tint, a process of mixing and evenly dispersing carbon black in a polyamic acid as a precursor is essential. If the carbon black is not evenly dispersed in this process, problems such as poor shielding or surface defects may occur. In essence, carbon blacks differ in physical / chemical properties from polyamic acids or polyimides and are therefore not easily blended and / or dispersed in polyimides or polyamic acids.

또한, 회로의 제조 과정이 드릴(drill) 공정, 도금 공정, 디스미어(desmear) 공정 및 세척 공정 등을 포함할 수 있으며, 이상의 공정 중에 폴리이미드 필름이 염기성 용액에 노출될 수 있다. 이때 염기성 용액에 의해 폴리이미드 필름이 약간이라도 분해되거나 변성되는 경우, 그에 함유되어 있던 카본 블랙이 대거 탈락될 수 있다.In addition, the manufacturing process of the circuit may include a drill process, a plating process, a desmear process, a washing process, and the like, and the polyimide film may be exposed to the basic solution during the above process. At this time, when the polyimide film is slightly decomposed or modified by the basic solution, the carbon black contained therein may be largely dropped.

이러한 이유로 커버레이에서 블랙 색조의 제거와 함께 차폐성이 소실될 수 있으며, 카본 블랙의 탈락으로 인한 표면 불량뿐만 아니라 중량 및 두께 감소가 수반될 수 있어 커버레이로서의 기능이 현저히 저하될 수 있다.For this reason, the shielding may be lost with the removal of the black tint from the coverlay, and the weight and thickness reduction may be accompanied as well as the surface defects due to the dropping of the carbon black, so that the function as the coverlay may be significantly reduced.

따라서, 이러한 문제점을 근본적으로 해결할 수 있는 기술에 대한 필요성이 높은 실정이다.Therefore, there is a high need for a technology that can fundamentally solve these problems.

본 발명의 일 측면에 따르면, 서로 상이한 특성을 가진 제1 폴리아믹산 및 제2 폴리아믹산과 카본 블랙을 이용하여 제조된 폴리이미드 필름은, 8 ㎛ 이하의 초 박막 형태임에도 불구하고 그에 요구되는 소정의 기계적 물성을 충족하면서도, 매우 우수한 차폐성 및 개선된 염기 성분에 대한 내성(이하 '내염기성'으로 지칭함)을 내재할 수 있다.According to an aspect of the present invention, a polyimide film prepared using the first polyamic acid, the second polyamic acid, and carbon black having different characteristics from each other, even though it is in the form of an ultra thin film of 8 μm or less, While meeting the mechanical properties, it may have very good shielding properties and resistance to improved base components (hereinafter referred to as 'base resistance').

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 제2 폴리아믹산과 카본 블랙을 포함하는 혼합액을 제조하고 이를 제1 폴리아믹산과 혼합하여 폴리이미드 필름을 제조할 경우, 카본 블랙의 분산이 향상되어 양질의 폴리이미드 필름을 수득할 수 있다. According to another aspect of the present invention, when preparing a mixed solution containing the second polyamic acid and carbon black and mixed with the first polyamic acid to produce a polyimide film, the dispersion of the carbon black is improved to improve the quality of the polyimide A film can be obtained.

이러한 측면들에 따라 앞선 종래의 문제가 해결될 수 있으며, 이에 본 발명은 이의 구체적 실시예를 제공하는데 실질적인 목적이 있다.According to these aspects, the prior art problem can be solved, and thus the present invention has a substantial object to provide a specific embodiment thereof.

하나의 실시양태에서, 본 발명은 제1 디안하이드라이드 및 2 개 이하의 벤젠 고리를 함유하는 제1 디아민이 중합된 제1 폴리아믹산;In one embodiment, the present invention provides a polymer comprising: a first polyamic acid polymerized with a first diamine containing a first dianhydride and up to two benzene rings;

제2 디안하이드라이드 및 3 개 이상의 벤젠 고리를 함유하는 제2 디아민이 중합된 제2 폴리아믹산; 및 카본 블랙을 포함하는 전구체 조성물을 이미드화하여 제조되는 폴리이미드 필름을 제공한다.A second polyamic acid polymerized with a second diamine containing a second dianhydride and three or more benzene rings; And it provides a polyimide film prepared by imidating a precursor composition comprising carbon black.

하나의 실시양태에서, 본 발명은 상기 폴리이미드 필름을 제조하는 방법을 제공한다.In one embodiment, the present invention provides a method of making the polyimide film.

하나의 실시양태에서, 본 발명은 상기 폴리이미드 필름을 포함하는 커버레이(coverlay) 및 상기 커버레이를 포함하는 전자 장치를 제공한다. In one embodiment, the present invention provides a coverlay comprising the polyimide film and an electronic device comprising the coverlay.

이하에서는 본 발명에 따른 "폴리이미드 필름" 및 "폴리이미드 필름의 제조방법"의 순서로 발명의 실시양태를 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the invention will be described in more detail in the order of "polyimide film" and "method for producing polyimide film" according to the present invention.

이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Prior to this, terms or words used in the present specification and claims should not be construed as having a conventional or dictionary meaning, and the inventors should properly explain the concept of terms in order to best explain their own invention. It should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예의 구성은 본 발명의 가장 바람직한 하나의 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the configuration of the embodiments described herein is only one of the most preferred embodiments of the present invention and does not represent all of the technical idea of the present invention, various equivalents and modifications that can replace them at the time of the present application It should be understood that examples may exist.

본 명세서에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다", "구비하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 구성 요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 구성 요소, 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.As used herein, the singular forms "a", "an" and "the" include plural forms unless the context clearly indicates otherwise. As used herein, the terms "comprise", "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, component, or combination thereof, that is, one or more other features, It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of adding or presenting numbers, steps, components, or combinations thereof.

본 명세서에서 "디안하이드라이드(이무수물; dianhydride)"는 그 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 디안하이드라이드가 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디아민과 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다.As used herein, "dianhydride" is intended to include precursors or derivatives thereof, which technically may not be dianhydride, but nevertheless will react with the diamine to form a polyamic acid. This polyamic acid can be converted back to polyimide.

본 명세서에서 "디아민(diamine)"은 그의 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 디아민이 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디안하이드라이드와 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다.As used herein, "diamine" is intended to include precursors or derivatives thereof, which may not technically be diamines, but will nevertheless react with dianhydrides to form polyamic acid, which polyamic The acid can be converted back to polyimide.

본 명세서에서 양, 농도, 또는 다른 값 또는 파라미터가 범위, 바람직한 범위 또는 바람직한 상한 값 및 바람직한 하한 값의 열거로서 주어지는 경우, 범위가 별도로 개시되는지에 상관없이 임의의 한 쌍의 임의의 위쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값 및 임의의 아래쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값으로 형성될 수 있는 모든 범위를 구체적으로 개시하는 것으로 이해되어야 한다. 수치 값의 범위가 본 명세서에서 언급될 경우, 달리 기술되지 않는다면, 그 범위는 그 종점 및 그 범위 내의 모든 정수와 분수를 포함하는 것으로 의도된다. 본 발명의 범주는 범위를 정의할 때 언급되는 특정 값으로 한정되지 않는 것으로 의도된다.Where an amount, concentration, or other value or parameter is given herein as an enumeration of ranges, preferred ranges, or preferred upper and preferred lower values, any pair of upper range limits, whether or not the ranges are disclosed separately, or It is to be understood that this disclosure specifically discloses all ranges that may be formed to the desired value and any lower range limit or desired value. When a range of numerical values is mentioned herein, unless stated otherwise, the range is intended to include the endpoint and all integers and fractions within that range. It is intended that the scope of the invention not be limited to the particular values mentioned when defining the range.

폴리이미드 필름Polyimide film

본 발명에 따른 폴리이미드 필름은, Polyimide film according to the present invention,

제1 디안하이드라이드 및 2 개 이하의 벤젠 고리를 함유하는 제1 디아민이 중합된 제1 폴리아믹산;A first polyamic acid polymerized with a first diamine containing a first dianhydride and up to two benzene rings;

제2 디안하이드라이드 및 3 개 이상의 벤젠 고리를 함유하는 제2 디아민이 중합된 제2 폴리아믹산; 및A second polyamic acid polymerized with a second diamine containing a second dianhydride and three or more benzene rings; And

카본 블랙을 포함하는 전구체 조성물을 이미드화하여 제조되고,Prepared by imidizing a precursor composition comprising carbon black,

결정화도가 65 % 이상이고, 광투과율이 0.09 이하이고, 염기 성분 노출 전후의 폴리이미드 필름 두께를 기준으로 평가한 내염기성 지수가 70 % 이상이며, 두께가 8.0 ㎛ 이하일 수 있다.The crystallinity is 65% or more, the light transmittance is 0.09 or less, the base resistance index evaluated based on the polyimide film thickness before and after the base component exposure is 70% or more, the thickness may be 8.0 ㎛ or less.

하나의 구체적인 예에서, 상기 제1 폴리아믹산은 이미드화를 통해 제1 폴리이미드 사슬을 형성할 수 있고, 상기 제2 폴리아믹산은 이미드화를 통해 제2 폴리이미드 사슬을 형성할 수 있다. In one specific example, the first polyamic acid may form a first polyimide chain through imidization, and the second polyamic acid may form a second polyimide chain through imidization.

일부 측면에서, 이미드화를 통해 상기 제1 폴리이미드 사슬 및 상기 제2 폴리이미드 사슬의 적어도 일부가 서로 가교될 수 있다. In some aspects, at least a portion of the first polyimide chain and the second polyimide chain may be crosslinked with each other through imidization.

상기 제1 폴리아믹산은 분자 구조 상, 상대적으로 강직한 구조의 물질일 수 있다. 따라서, 제1 폴리아믹산으로부터 유도된 제1 폴리이미드 사슬은 상대적으로 강직한 구조로 이루어질 수 있다. The first polyamic acid may be a material having a relatively rigid structure in molecular structure. Thus, the first polyimide chain derived from the first polyamic acid can be of relatively rigid structure.

이러한 제1 폴리이미드 사슬은 폴리이미드 필름이 소정의 기계적 강도를 갖도록, 상세하게는 폴리이미드 필름에 필연적으로 요구되는 인장강도 및/또는 모듈러스를 내재하게 하는데 기여할 수 있다.This first polyimide chain can contribute to inherent the tensile strength and / or modulus inevitably required for the polyimide film, in particular for the polyimide film to have a certain mechanical strength.

상기 제2 폴리아믹산은 분자 구조 상, 상대적으로 유연한 구조의 물질일 수 있고, 상대적으로 결정화도가 높으며 내화학성이 우수한 물질일 수 있다. 따라서, 상기 제2 폴리아믹산으로부터 유도된 제2 폴리이미드 사슬은 상대적으로 고 결정성이면서도 내화학성이 우수할 수 있다.The second polyamic acid may be a material having a relatively flexible structure on the molecular structure, a material having a relatively high crystallinity and excellent chemical resistance. Accordingly, the second polyimide chain derived from the second polyamic acid may be relatively high in crystallinity and excellent in chemical resistance.

주목할 점은, 이들 사슬 각각의 특성들이 상보적으로 작용함에 따라, 본 발명의 폴리이미드 필름은 8 ㎛ 이하의 얇은 형태에서도, 제1 폴리이미드 사슬에 상응하는 수준의 기계적 특성을 내재할 뿐만 아니라 제1 폴리이미드 사슬만으로는 내재되기 어려운, 소정의 결정화도(65 % 이상)와 내화학성이 제2 폴리이미드 사슬에 의해 내재될 수 있다. Note that, as the properties of each of these chains work complementarily, the polyimide film of the present invention not only inherently possesses a level of mechanical properties corresponding to the first polyimide chain, even in a thin form of 8 μm or less. The predetermined degree of crystallinity (65% or more) and chemical resistance, which are difficult to be embedded by only one polyimide chain, may be embedded by the second polyimide chain.

일반적으로, 고분자 결정은 빛을 산란시키거나 흡수하므로 결정화도가 높을수록 필름의 광투과율은 낮아지는 반비례 관계인 바, 본 발명의 폴리이미드 필름은, 65 % 미만의 저 결정화도를 갖는 통상적인 폴리이미드 필름과 비교하여 상대적으로 낮은 광투과율을 가질 수 있다. 이는 차폐, 차광 등이 요구되는, 카본 블랙을 함유하는 폴리이미드 필름에서 매우 중요한 이점으로 작용할 수 있다. In general, since the polymer crystals scatter or absorb light, the higher the crystallinity, the lower the light transmittance of the film. In contrast, the polyimide film of the present invention is a conventional polyimide film having a low crystallinity of less than 65%. It can have a relatively low light transmittance in comparison. This can serve as a very important advantage in polyimide films containing carbon black where shielding, shading and the like are required.

앞선 특징에 기반하여 본 발명의 폴리이미드 필름은, 하기의 물성을 가질 수 있다. Based on the foregoing features, the polyimide film of the present invention may have the following physical properties.

필름 상태에서의 고분자 결정화도가 70 % 이상이고, The crystallinity of the polymer in the film state is 70% or more,

인장강도가 200 kgf/cm3 이상이고, Tensile strength is more than 200 kgf / cm 3 ,

모듈러스가 3 GPa 이상이고,Modulus is 3 GPa or more,

광투과율이 0.07 이하이고,Light transmittance is 0.07 or less,

염기 성분 노출 전후의 폴리이미드 필름 두께를 기준으로 평가한 내염기성 지수가 75 % 이상일 수 있다.The base resistance index evaluated based on the polyimide film thickness before and after base component exposure may be at least 75%.

하나의 구체적인 예에서, 상기 제1 폴리아믹산은 고형분 함량이 15 중량%일 때 23℃에서 측정한 점도가 50,000 cP 내지 300,000 cP이고, 상기 제2 폴리아믹산은 고형분 함량이 15 중량%일 때 23℃에서 측정한 점도가 5,000 cP 내지 30,000 cP일 수 있다.In one specific example, the first polyamic acid has a viscosity of 50,000 cP to 300,000 cP measured at 23 ° C. when the solid content is 15% by weight, and the second polyamic acid has 23 ° C. when the solid content is 15% by weight. The viscosity measured at may be 5,000 cP to 30,000 cP.

상기 제1 폴리아믹산의 점도가 50,000 cP 미만일 때, 폴리이미드 필름은 내열성 및 기계적 물성이 크게 저하될 수 있다. 상기 제1 폴리아믹산의 점도가 300,000 cP 초과일 때, 필름의 제조 공정 측면에서 문제가 있을 수 있다. 구체적으로, 상기 전구체 조성물이 고점도를 가짐에 따라, 필름의 제막 공정에 문제가 생길 가능성이 있으며, 나아가 8 ㎛ 이하로 필름을 제작하기 어려울 수 있다.When the viscosity of the first polyamic acid is less than 50,000 cP, the polyimide film may significantly reduce heat resistance and mechanical properties. When the viscosity of the first polyamic acid is more than 300,000 cP, there may be a problem in terms of the manufacturing process of the film. Specifically, as the precursor composition has high viscosity, there may be a problem in the film forming process of the film, and it may be difficult to produce the film to 8 μm or less.

상기 제2 폴리아믹산의 점도가 5,000 cP 미만일 때, 제2 폴리이미드 사슬의 형성이 충분하지 않을 수 있다. 이는 폴리이미드 필름의 내염기성 향상 측면에서 바람직하지 않다. 상기 제2 폴리아믹산의 점도가 30,000 cP를 초과할 때에는, 전구체 조성물 중에서 카본 블랙의 분산성이 저하될 수 있는 바, 폴리이미드 필름의 제조 공정성 측면에서 바람직하지 않다.When the viscosity of the second polyamic acid is less than 5,000 cP, the formation of the second polyimide chain may not be sufficient. This is not preferable in terms of improving the base resistance of the polyimide film. When the viscosity of the second polyamic acid exceeds 30,000 cP, the dispersibility of carbon black in the precursor composition may be lowered, which is not preferable in view of manufacturing processability of the polyimide film.

한편, 폴리이미드는 염기 환경에 노출되는 경우 분해되거나 변성되는 등 염기 성분에 취약한 편이다. 카본 블랙을 포함하는 폴리이미드 필름은, 염기 성분에 의한 분해나 변성 시, 카본 블랙이 대거 탈락하여 두께 감소가 더욱 심각하다. On the other hand, polyimide is vulnerable to base components such as degradation or denaturation when exposed to a base environment. In the polyimide film containing carbon black, when the decomposition or modification by the base component, the carbon black is largely eliminated and the thickness reduction is more serious.

최근에는, 전자 기기의 소형화에 대응하기 위해 두께가 매우 얇은, 예를 들어, 8 ㎛ 이하의 초박막형 폴리이미드 필름이 요구되고 있다. 그러나 초박막형 폴리이미드 필름에서의 카본 블랙의 탈락 현상은 10 ㎛ 이상의 통상적인 두께를 갖는 폴리이미드 필름과 비교하여 그 폐해가 더 심각하다. 이는 통상의 폴리이미드 필름과 초박막형 폴리이미드 필름에서 동일한 절대량의 카본 블랙이 탈락된다고 하더라도, 초박막형의 경우 폴리이미드 필름 전체의 카본 블랙 대비 탈락되는 카본 블랙의 비율이 훨씬 높기 때문이다. 또한, 염기 성분은 표면으로부터 침투하므로, 표면과의 거리가 가까운 초박막형의 폴리이미드 필름의 경우, 동일한 조건에서 상대적으로 더 많은 카본 블랙이 탈락될 수 있다.In recent years, in order to cope with the miniaturization of electronic devices, ultra-thin polyimide films of very thin thickness, for example, 8 µm or less have been required. However, the dropout phenomenon of carbon black in the ultra-thin polyimide film is more severe than that of the polyimide film having a typical thickness of 10 μm or more. This is because even if the same absolute amount of carbon black is dropped in the normal polyimide film and the ultra-thin polyimide film, the ratio of the carbon black dropped to the carbon black of the entire polyimide film is much higher in the ultra-thin type. In addition, since the base component penetrates from the surface, in the case of an ultra-thin polyimide film having a close distance to the surface, relatively more carbon black may be eliminated under the same conditions.

따라서, 특히 카본 블랙을 포함하면서 두께가 8 ㎛ 이하인 초박막형 폴리이미드 필름은 이의'내염기성'을 개선할 필요가 있다.Therefore, ultrathin polyimide films having a thickness of 8 µm or less, particularly including carbon black, need to improve their 'base resistance'.

내염기성이란, 폴리이미드 필름이 염기 환경에 노출되더라도 쉽게 분해 및/또는 변성되지 않는 성질을 의미하며 상기 분해 및/또는 변성 시에 폴리이미드 필름의 두께가 감소되므로, 두께 감소에 기준하여 내염기성을 판단할 수 있다. The basic resistance means that the polyimide film is not easily decomposed and / or denatured even when exposed to the base environment, and the thickness of the polyimide film is reduced during the decomposition and / or denaturation. You can judge.

이와 관련하여 내염기성을 평가하기 위한 하나의 예는 염기성 용액에 폴리이미드 필름을 노출시키고, 노출 전후의 필름의 두께 변화를 측정하는 방법이며, 본 발명에서는 하기 단계를 포함하는 테스트 방법 (a)를 이용한다:One example for evaluating the basic resistance in this regard is a method of exposing a polyimide film to a basic solution and measuring the thickness change of the film before and after exposure, and in the present invention a test method (a) comprising the following steps: Uses:

폴리이미드 필름의 양면을 코로나 처리하는 단계;Corona treating both sides of the polyimide film;

폴리이미드 필름, 본딩 시트 및 동박을 순서대로 적층한 후, 핫 프레스를 이용하여 온도 160 ℃에서 30 분간 50 kgf의 압력 하에 접합시킨 후 4*10 ㎝로 재단하여 연성회로기판 시료를 제조하고 두께(제1 두께)를 측정하는 단계; 및After laminating the polyimide film, the bonding sheet, and the copper foil in order, using a hot press, bonding them under a pressure of 50 kgf for 30 minutes at a temperature of 160 ° C., cutting them to 4 * 10 cm to prepare a flexible circuit board sample, and Measuring the first thickness); And

4*10 ㎝로 재단한 연성회로기판을 10% NaOH 용액에 55 ℃에서 3분 노출시키고, 디스미어액(10 % NaMnO4 + 4 % NaOH)에 55 ℃에서 5분 노출시킨 후 세척하는 공정을 2회 반복하고 필름의 두께(제2 두께)를 측정하는 단계; 및The flexible circuit board cut to 4 * 10 ㎝ was exposed to 10% NaOH solution for 3 minutes at 55 ° C, and the desmear solution (10% NaMnO 4 + 4% NaOH) was exposed to 5 minutes at 55 ° C. Repeating twice and measuring the thickness of the film (second thickness); And

상기 제1 두께에 대한 상기 제2 두께의 변화 정도를 백분율로 나타내는 단계((제1 두께-제2 두께)/제1 두께 X 100).Indicating the degree of change of the second thickness relative to the first thickness as a percentage ((first thickness-second thickness) / first thickness X 100).

통상의 폴리이미드 필름의 경우, 이상의 테스트 방법 (a)을 거치면 내염기성 지수가 대략 50 % 내지 60 % 정도로 나타날 수 있다.In the case of the conventional polyimide film, after the above test method (a), the basic resistance index may be about 50% to 60%.

반면에 본 발명의 폴리이미드 필름은 테스트 방법 (a)에 의한 내염기성 지수가 적어도 70 %이상, 상세하게는 75 %이상, 특히 상세하게는 80 % 이상일 수 있다. 이는 통상의 폴리이미드 필름에 비해 현저하게 개선된 내염기성이다.On the other hand, the polyimide film of the present invention may have a base resistance index according to the test method (a) of at least 70% or more, in particular 75% or more, in particular 80% or more. This is a markedly improved base resistance compared to conventional polyimide films.

이상에 대해서는 '발명을 실시하기 위한 구체적인 내용'을 통해 보다 구체적으로 증명할 것이지만, 요약하면, 제2 폴리아믹산으로부터 유래된 제2 폴리이미드 사슬이 염기 성분에 대해 상대적으로 강력한 내성을 가짐에 따라, 폴리이미드 필름으로의 염기 성분 침투가 차단되는 것은 물론, 제1 폴리이미드 사슬이 분해되더라도 제2 폴리이미드 사슬이 폴리이미드 필름의 골격을 어느 정도 유지할 수 있기 때문으로 추측된다. 이에 따라, 카본 블랙 탈락 현상의 빈도가 현저하게 감소될 수 있음은 물론이다.The above will be demonstrated in more detail through 'specifications for carrying out the invention', but in summary, as the second polyimide chain derived from the second polyamic acid has relatively strong resistance to the base component, It is assumed that not only the base component penetration into the mid film is blocked, but also the second polyimide chain can maintain the skeleton of the polyimide film to some extent even if the first polyimide chain is decomposed. Accordingly, of course, the frequency of the carbon black dropout phenomenon can be significantly reduced.

다만 이상의 이점에도 불구하고 제2 폴리이미드 사슬이 폴리이미드 필름에 무조건적으로 많이 포함되는 것은 바람직하지 않다.Despite the above advantages, however, it is not preferable that the second polyimide chain is unconditionally contained in the polyimide film unconditionally.

구체적으로, 폴리이미드 필름에서 제2 폴리이미드 사슬의 함량이 일정 수준일 때 앞선 이점이 발현될 수 있지만, 이를 넘어서는 경우, 내염기성에 대한 이점이 강화되거나 향상되지 않는데 반해, 폴리이미드 필름의 인장강도 및/또는 모듈러스가 급격하게 저하될 수 있기 때문이다. Specifically, the above advantages may be expressed when the content of the second polyimide chain in the polyimide film is at a certain level, but if it exceeds, the benefits for the base resistance are not enhanced or improved, whereas the tensile strength of the polyimide film And / or the modulus may drop dramatically.

이러한 현상은 8.0 ㎛ 이하의 초박막형 필름에서 더욱 두드러지게 나타날 수 있다. 즉, 기계적 물성과 내염기성이 양립 가능하도록, 폴리이미드 필름은 적정량의 제1 폴리이미드 사슬 및 제2 폴리이미드 사슬을 함유하는 것이 중요하다. This phenomenon may be more prominent in ultra thin films of 8.0 μm or less. That is, it is important that the polyimide film contains an appropriate amount of the first polyimide chain and the second polyimide chain so that the mechanical properties and the base resistance are compatible.

이에 본 발명의 폴리이미드 필름은 이의 총 중량에 대하여, 80 내지 92 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 3 내지 10 중량%의 제2 폴리이미드 사슬, 및 5 내지 10 중량%의 평균입경이 0.1 내지 5 ㎛인 카본 블랙을 포함할 수 있으며, 필름의 두께는 7.5 ㎛ 이하일 수 있다.Thus, the polyimide film of the present invention has an average particle diameter of 80 to 92% by weight of the first polyimide chain, 3 to 10% by weight of the second polyimide chain, and 5 to 10% by weight, based on the total weight thereof. 5 μm of carbon black, and the thickness of the film may be 7.5 μm or less.

더욱 상세하게는 본 발명의 폴리이미드 필름은 이의 총 중량에 대하여, 83 내지 92 중량%의 제1 폴리이미드 사슬 5 내지 7 중량%의 제2 폴리이미드 사슬을 포함할 수 있다. More specifically, the polyimide film of the present invention may include from 5 to 7 wt% of the second polyimide chain of 83 to 92 wt% of the first polyimide chain, based on its total weight.

하나의 구체적인 예에서, 상기 제1 디안하이드라이드는 피로멜리틱 디안하이드라이드(또는 PMDA)이고,In one specific example, the first dianhydride is pyromellitic dianhydride (or PMDA),

상기 제2 디안하이드라이드는 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 s-BPDA) 및/또는 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 a-BPDA)일 수 있다.The second dianhydride is 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or s-BPDA) and / or 2,3,3', 4'-biphenyltetracarboxylic Ric dianhydride (or a-BPDA).

상기 제1 디아민은, The first diamine,

1) 벤젠 고리 1개를 갖는 디아민: 1,4-디아미노벤젠(또는 파라페닐렌디아민, PDA, PPD), 1,3-디아미노벤젠, 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 3,5-디아미노벤조익 애시드(DABA); 1) Diamines with one benzene ring: 1,4-diaminobenzene (or paraphenylenediamine, PDA, PPD), 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 2,6-dia Minotoluene, 3,5-diaminobenzoic acid (DABA);

2) 벤젠 고리 2개를 갖는 디아민: 4,4'-디아미노디페닐에테르(또는 옥시디아닐린, ODA), 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메테인(메틸렌디아민), 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-비스(트라이플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3'-디카르복시-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 4,4'-디아미노벤즈아닐라이드, 3,3'-디클로로벤지딘, 3,3'-디메틸벤지딘(또는 o-톨리딘), 2,2'-디메틸벤지딘(또는 m-톨리딘), 3,3'-디메톡시벤지딘, 2,2'-디메톡시벤지딘, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐설파이드, 3,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디메톡시벤조페논, 3,3'-디아미노디페닐메테인, 3,4'-디아미노디페닐메테인, 4,4'-디아미노디페닐메테인, 2,2-비스(3-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(3-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 3,3'-디아미노디페닐설폭사이드, 3,4'-디아미노디페닐설폭사이드 및 4,4'-디아미노디페닐설폭사이드으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종일 수 있다.2) diamines having two benzene rings: 4,4'-diaminodiphenylether (or oxydianiline, ODA), 3,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylmethe Phosphorus (methylenediamine), 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-bis (trifluoro) Methyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane Phosphorus, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, bis (4-aminophenyl) sulfide, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,3 '-Dichlorobenzidine, 3,3'-dimethylbenzidine (or o-tolidine), 2,2'-dimethylbenzidine (or m-tolidine), 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimeth Oxybenzidine, 3,3'-diaminodiphenylether, 3,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylether, 3,3'-diaminodiphenylsulfide, 3,4 '-Diaminodiphenylsulfide, 4,4'-dia Nodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4 '-Diaminobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dimethoxybenzophenone, 3,3'-diaminodi Phenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis (3-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4- Aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1, 1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 3,3'-diaminodiphenylsulfoxide, 3,4'-diaminodiphenylsulfoxide and 4,4'-diaminodiphenylsulfoxide It may be at least one selected from the group consisting of side.

상기 제2 디아민은, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPE-R) 및/또는 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠(TPE-Q)일 수 있다.The second diamine may be 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPE-R) and / or 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene (TPE-Q).

상기 제1 디아민과 제1 디안하이드라이드는, 분자 구조가 강직하며, 이들이 조합되어 형성되는 제2 폴리이미드 사슬이 폴리이미드 필름에 요구되는 소정 수준의 내열성, 인장강도 및 모듈러스를 구현할 수 있다.The first diamine and the first dianhydride have a rigid molecular structure, and the second polyimide chain formed by combining them may realize a predetermined level of heat resistance, tensile strength and modulus required for the polyimide film.

상기 TPE계 디아민은 벤젠 고리 3 개를 함유하는 단량체로서, 내화학성이 우수한 단량체이고, 중합체의 결정화도 상승에 주요하게 작용할 수 있다. The TPE-based diamine is a monomer containing three benzene rings, a monomer having excellent chemical resistance, and may mainly act to increase the crystallinity of the polymer.

상기 BPDA계 디안하이드라이드는 2 개의 벤젠 고리를 포함하여 분자 구조 상으로 상대적으로 연성의 단량체이며, 내화학성이 우수하다.The BPDA-based dianhydride is a relatively soft monomer on the molecular structure including two benzene rings, and excellent in chemical resistance.

따라서, 이들이 조합되어 형성되는 제2 폴리이미드 사슬은 우수한 내화학성을 구현할 수 있다. Thus, the second polyimide chains formed by combining them can implement excellent chemical resistance.

폴리이미드 필름의 제조방법Manufacturing method of polyimide film

본 발명의 폴리이미드 필름의 제조방법은, The manufacturing method of the polyimide film of this invention,

제1 디안하이드라이드 및 제1 디아민으로부터 제1 폴리아믹산을 중합하는 단계;Polymerizing a first polyamic acid from the first dianhydride and the first diamine;

제2 디안하이드라이드 및 제2 디아민으로부터 제2 폴리아믹산을 중합하는 단계;Polymerizing a second polyamic acid from a second dianhydride and a second diamine;

밀링기를 이용하여 평균입경 0.1 내지 5 ㎛의 카본 블랙을 제조하고 이를 포함하는 블랙 조액을 제조하는 단계;Preparing a carbon black liquid having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm using a milling machine and preparing a black crude liquid comprising the same;

상기 제2 폴리아믹산 및 상기 블랙 조액을 혼합하여 혼합액을 제조하는 단계; Preparing a mixed liquid by mixing the second polyamic acid and the black crude liquid;

상기 제1 폴리아믹산에 상기 혼합액을 혼합하여 전구체 조성물을 제조하는 단계; 및Preparing a precursor composition by mixing the mixed solution with the first polyamic acid; And

상기 전구체 조성물을 이미드화하여 폴리이미드 필름을 수득하는 단계를 포함할 수 있다.It may include the step of imidating the precursor composition to obtain a polyimide film.

일반적으로, 카본 블랙은 폴리아믹산과의 단순 혼합 시 쉽게 분산되지 않고 응집하려는 경향이 있다. 반면, 유사한 화학적 특성을 공유하는 제1 폴리아믹산과 제2 폴리아믹산은 상대적으로 쉽게 혼화될 수 있다.In general, carbon blacks tend to agglomerate rather than readily disperse upon simple mixing with polyamic acid. On the other hand, the first polyamic acid and the second polyamic acid, which share similar chemical properties, can be relatively easily mixed.

이에, 본 발명의 제조방법은 상기 블랙 조액 형태의 카본 블랙을 상대적으로 저점도의 제2 폴리아믹산과 혼합함으로써, 카본 블랙의 분산을 일차적으로 손쉽게 유도할 수 있다. Thus, in the production method of the present invention, the carbon black in the form of the black crude liquid is mixed with the second polyamic acid having a relatively low viscosity, thereby easily inducing the dispersion of the carbon black primarily.

이후 혼합액을 제1 폴리아믹산에 혼합하면, 제2 폴리아믹산이 제1 폴리아믹산과 쉽게 혼합됨에 따라, 이미 분산되어 있던 카본 블랙이 제2 폴리아믹산과 함께 제1 폴리아믹산의 전반으로 빠르게 혼화 및/또는 분산될 수 있다. 이상이 본 발명에 따른 제조방법의 주요한 이점일 수 있다.Then, when the mixed solution is mixed with the first polyamic acid, as the second polyamic acid is easily mixed with the first polyamic acid, the carbon black that has already been dispersed rapidly mixes with the second polyamic acid and the first polyamic acid in the first half. Or may be dispersed. The above may be a major advantage of the manufacturing method according to the present invention.

하나의 구체적인 예에서, 제1 폴리아믹산, 제2 폴리아믹산 및 블랙 조액을 제조하는 단계에서 유기용매가 이용될 수 있다. In one specific example, an organic solvent may be used in preparing the first polyamic acid, the second polyamic acid, and the black crude liquid.

이들 단계에서 사용될 수 있는 유기용매의 비제한적인 예는, 비양성자성 극성 용매(aprotic polar solvent)일 수 있다.Non-limiting examples of organic solvents that can be used in these steps may be aprotic polar solvents.

상기 비양성자성 극성 용매의 비제한적인 예로서, N,N'-디메틸포름아미드(DMF), N,N'-디메틸아세트아미드(DMAc) 등의 아미드계 용매, p-클로로페놀, o-클로로페놀 등의 페놀계 용매, N-메틸-피롤리돈(NMP), 감마 브티로 락톤(GBL) 및 디그림(Diglyme) 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합되어 사용될 수 있다. Non-limiting examples of the aprotic polar solvent include amide solvents such as N, N'-dimethylformamide (DMF) and N, N'-dimethylacetamide (DMAc), p-chlorophenol, o-chloro Phenol solvents such as phenol, N-methyl-pyrrolidone (NMP), gamma butyrolactone (GBL), diglyme, and the like, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기 제1 폴리아믹산 및 제2 폴리아믹산을 중합하는 방법은 예를 들어,For example, the method of polymerizing the first polyamic acid and the second polyamic acid,

(1) 디아민 단량체 전량을 유기용매 중에 넣고, 그 후 디안하이드라이드 단량체를 디아민 단량체와 실질적으로 등몰이 되도록 첨가하여 중합하는 방법;(1) a method in which the entire amount of the diamine monomer is placed in an organic solvent, and then the dianhydride monomer is added to be substantially equimolar with the diamine monomer and polymerized;

(2) 디안하이드라이드 단량체 전량을 유기용매 중에 넣고, 그 후 디아민 단량체를 디안하이드라이드 단량체와 실질적으로 등몰이 되도록 첨가하여 중합하는 방법; (2) a method in which the entire amount of the dianhydride monomer is put in an organic solvent, and then the diamine monomer is added so as to be substantially equimolar with the dianhydride monomer and polymerized;

(3) 디아민 단량체 중 일부 성분을 유기용매 중에 넣은 후, 반응 성분에 대해서 디안하이드라이드 단량체 중 일부 성분을 약 95 몰% 내지 105 몰%의 비율로 혼합한 후, 나머지 디아민 단량체 성분을 첨가하고 이에 연속해서 나머지 디안하이드라이드 단량체 성분을 첨가하여, 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체가 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법; (3) After putting some components of the diamine monomer in the organic solvent, and mixed some components of the dianhydride monomer in the ratio of about 95 mol% to 105 mol% with respect to the reaction component, the remaining diamine monomer component is added thereto Successively adding the remaining dianhydride monomer component to polymerize the diamine monomer and the dianhydride monomer so as to be substantially equimolar;

(4) 디안하이드라이드 단량체를 유기용매 중에 넣은 후, 반응 성분에 대해서 디아민 화합물 중 일부 성분을 95 몰% 내지 105 몰%의 비율로 혼합한 후, 다른 디안하이드라이드 단량체 성분을 첨가하고 연속해서 나머지 디아민 단량체 성분을 첨가하여, 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체가 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법; 및(4) After the dianhydride monomer is put in the organic solvent, some components of the diamine compound are mixed at a ratio of 95 mol% to 105 mol% with respect to the reaction component, and then another dianhydride monomer component is added and the remaining Adding a diamine monomer component so that the diamine monomer and the dianhydride monomer are substantially equimolar and polymerized; And

(5) 유기용매 중에서 일부 디아민 단량체 성분과 일부 디안하이드라이드 단량체 성분을 어느 하나가 과량이 되도록 반응시켜, 제1 중합물을 형성하고, 또 다른 유기용매 중에서 일부 디아민 단량체 성분과 일부 디안하이드라이드 단량체 성분을 어느 하나가 과량이 되도록 반응시켜 제2 중합물을 형성한 후, 제1, 제2 중합물들을 혼합하고, 중합을 완결하는 방법으로서, 이 때 제1 중합물을 형성할 때 디아민 단량체 성분이 과잉일 경우, 제2 중합물에서는 디안하이드라이드 단량체 성분을 과량으로 하고, 제1 중합물에서 디안하이드라이드 단량체 성분이 과잉일 경우, 제2 중합물에서는 디아민 단량체 성분을 과량으로 하여, 제1, 제2 중합물들을 혼합하여 이들 반응에 사용되는 전체 디아민 단량체 성분과 디안하이드라이드 단량체 성분이 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법 등을 들 수 있다.(5) Some diamine monomer components and some dianhydride monomer components are reacted in excess in an organic solvent to form a first polymer, and some diamine monomer components and some dianhydride monomer components in another organic solvent. After reacting to make an excess of any one to form a second polymer, and then mixing the first and second polymers, and complete the polymerization, when the diamine monomer component is excessive when forming the first polymer When the dianhydride monomer component is excessive in the second polymer and the dianhydride monomer component is excessive in the first polymer, the diamine monomer component is excessive in the second polymer, and the first and second polymers are mixed. The total diamine monomer component and dianhydride monomer component used in these reactions are substantially equimolar. The method of superposing | polymerizing so that it may be mentioned, etc. will be mentioned.

다만, 상기 방법은 본 발명의 실시를 돕기 위한 예시로서, 본 발명의 범주가 이들로서 한정되는 것은 아니며, 공지된 어떠한 방법을 사용할 수 있음은 물론이다.However, the above method is only an example to assist in the practice of the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto, and any known method may be used.

한편, 상기 전구체 조성물로부터 유래되는 폴리이미드 필름의 접동성, 열전도성, 도전성, 코로나 내성, 루프 경도 등의 필름의 여러 가지 특성을 개선할 목적으로 제1 폴리아믹산, 제2 폴리아믹산 및/또는 블랙 조액의 제조 시, 필러를 첨가할 수도 있다. 첨가되는 필러는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직한 예로는 실리카, 산화티탄, 알루미나, 질화규소, 질화붕소, 인산수소칼슘, 인산칼슘, 운모, 제2인산칼슘, 황산바륨 및 탄산칼슘 등을 들 수 있다.On the other hand, the first polyamic acid, the second polyamic acid and / or black for the purpose of improving various properties of the film, such as the sliding, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, loop hardness of the polyimide film derived from the precursor composition In the preparation of the crude liquid, a filler may be added. Although the filler to be added is not particularly limited, preferred examples include silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, mica, dicalcium phosphate, barium sulfate, calcium carbonate and the like.

필러의 평균 입경은 특별히 한정되는 것은 아니고, 개질하고자 하는 폴리이미드 필름 특성과 첨가하는 필러의 종류에 따라서 결정할 수 있다. 하나의 예에서, 상기 필러의 평균 입경은 0.05 ㎛ 내지 100 ㎛, 상세하게는 0.1 ㎛ 내지 75 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.1 ㎛ 내지 50 ㎛, 특히 상세하게는 0.1 ㎛ 내지 25 ㎛일 수 있다.The average particle diameter of a filler is not specifically limited, It can determine according to the polyimide film characteristic to modify and the kind of filler to add. In one example, the average particle diameter of the filler may be from 0.05 μm to 100 μm, in particular from 0.1 μm to 75 μm, more preferably from 0.1 μm to 50 μm, in particular from 0.1 μm to 25 μm.

평균 입경이 이 범위를 하회하면 개질 효과가 미미하고, 이 범위를 상회하면 필러가 폴리이미드 필름의 표면성을 크게 손상시키거나, 필름의 기계적 특성 저하를 유발할 수 있다.If the average particle diameter is less than this range, the modifying effect is insignificant, and if it exceeds this range, the filler may significantly impair the surface property of the polyimide film or cause a decrease in the mechanical properties of the film.

또한, 필러의 첨가량에 대해서도 특별히 한정되는 것은 아니고, 개질하고자 하는 폴리이미드 필름 특성이나 필러 입경 등에 의해 결정할 수 있다.In addition, it is not specifically limited also about the addition amount of a filler, It can determine by the polyimide film characteristic to be modified, filler particle diameter, etc ..

하나의 예에서, 필러의 첨가량은 전구체 조성물의 폴리아믹산 고형분 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 100 중량부, 바람직하게는 0.01 중량부 내지 90 중량부, 더욱 바람직하게는 0.02 중량부 내지 80 중량부이다.In one example, the amount of the filler added is 0.01 to 100 parts by weight, preferably 0.01 to 90 parts by weight, more preferably 0.02 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyamic acid solids of the precursor composition. to be.

필러 첨가량이 이 범위를 하회하면, 필러에 의한 개질 효과가 나타나기 어렵고, 이 범위를 상회하면 폴리이미드 필름의 기계적 특성이 크게 저하될 수 있다. 필러의 첨가 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지된 어떠한 방법을 이용할 수 있음은 물론이다.If the amount of filler added is less than this range, the effect of modification by the filler is less likely to appear, and if it exceeds this range, the mechanical properties of the polyimide film may be greatly reduced. The addition method of a filler is not specifically limited, Of course, any well-known method can be used.

한편, 상기 폴리이미드 필름을 수득하는 단계는 상기 전구체 조성물을 지지체에 제막하고 건조하여 겔 필름을 제조한 후, 상기 겔 필름을 이미드화하여 폴리이미드 필름을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.Meanwhile, the obtaining of the polyimide film may include forming a polyimide film by imidating the gel film after preparing the gel film by forming the precursor composition on a support and drying the film.

이러한 이미드화의 구체적인 방법으로는 열 이미드화법, 화학 이미드화법 또는 상기 열 이미드화법과 화학 이미드화법을 병용하는 복합 이미드화법을 예로 들 수 있으며, 이들에 대해서는 이하의 비제한적인 예를 통해 보다 구체적으로 설명한다.As a specific method of such imidation, the thermal imidation method, the chemical imidation method, or the composite imidation method which uses the said thermal imidation method and the chemical imidation method together is mentioned as an example, About these the following non-limiting examples It will be described in more detail through.

<열 이미드화법> <Thermal imidization method>

상기 열 이미드화 법은, 화학적 촉매를 배제하고, 열풍이나 적외선 건조기 등의 열원으로 이미드화 반응을 유도하는 방법으로서, The thermal imidization method is a method of excluding an chemical catalyst and inducing an imidization reaction with a heat source such as a hot air or an infrared dryer.

상기 전구체 조성물을 건조하여 겔 필름을 형성하는 과정; 및 Drying the precursor composition to form a gel film; And

상기 겔 필름을 열처리하여 폴리이미드 필름을 수득하는 과정을 포함할 수 있다.The gel film may be heat-treated to obtain a polyimide film.

여기서, 겔 필름이란, 폴리아믹산으로부터 폴리이미드로의 변환에 대해 중간 단계에서 자기 지지성을 가지는 필름 중간체라 이해할 수 있다. Here, a gel film can be understood as a film intermediate which has self-support at an intermediate stage with respect to the conversion from polyamic acid to polyimide.

상기 겔 필름을 형성하는 과정은, 전구체 조성물을 유리판, 알루미늄 박, 무단(endless) 스테인레스 벨트, 또는 스테인레스 드럼 등의 지지체 상에 필름형으로 캐스팅하고, 이후 지지체 상의 전구체 조성물을 50 ℃ 내지 200 ℃, 상세하게는 80 ℃ 내지 150 ℃ 범위의 가변적인 온도에서 건조하는 것일 수 있다. The process of forming the gel film, the precursor composition is cast in the form of a film on a support such as glass plate, aluminum foil, endless stainless belt, or stainless drum, and then the precursor composition on the support 50 ℃ to 200 ℃, Specifically, the drying may be performed at a variable temperature ranging from 80 ° C to 150 ° C.

이에 따라 전구체 조성물에 부분적인 경화 및/또는 건조가 일어남으로써 겔 필름이 형성될 수 있다. 그 다음에 지지체로부터 박리하여 겔 필름을 얻을 수 있다.This may result in the formation of a gel film by partial curing and / or drying of the precursor composition. It can then peel off from the support to obtain a gel film.

경우에 따라서는 이후 열처리 과정에서 수득되는 폴리이미드 필름의 두께 및 크기를 조절하고 배향성을 향상시키기 위하여 상기 겔 필름을 연신시키는 공정이 수행될 수 있으며, 연신은 기계반송방향(MD) 및 기계반송방향에 대한 횡방향(TD) 중 적어도 하나의 방향으로 수행될 수 있다.In some cases, a process of stretching the gel film may be performed to adjust the thickness and size of the polyimide film obtained in the subsequent heat treatment process and to improve orientation, and the stretching may be performed in the machine transport direction (MD) and the machine transport direction. It may be performed in at least one direction of the transverse direction (TD) with respect to.

이와 같이 수득한 겔 필름을, 텐터에 고정한 다음 50 ℃ 내지 500 ℃, 상세하게는 150 ℃ 내지 500 ℃ 범위의 가변적인 온도에서 열처리하여 겔 필름에 잔존하는 물, 잔류 용매 등을 제거하고, 남아 있는 거의 모든 아믹산기를 이미드화하여, 본 발명의 폴리이미드 필름을 수득할 수 있다.The gel film thus obtained is fixed to a tenter and then heat treated at a variable temperature ranging from 50 ° C. to 500 ° C., specifically 150 ° C. to 500 ° C. to remove water, residual solvent, and the like remaining in the gel film. Nearly all amic acid groups can be imidated to obtain the polyimide film of the present invention.

경우에 따라서는 상기와 같이 수득한 폴리이미드 필름을 400 ℃ 내지 650 ℃의 온도로 5 초 내지 400 초간 가열 마감하여 폴리이미드 필름을 더욱 경화시킬 수도 있으며, 수득한 폴리이미드 필름에 잔류할 수도 있는 내부 응력을 완화시키기 위해서 소정의 장력 하에서 이를 수행할 수도 있다.In some cases, the polyimide film obtained as described above may be heated to a temperature of 400 ° C. to 650 ° C. for 5 seconds to 400 seconds to further cure the polyimide film, and may remain in the obtained polyimide film. This may be done under a predetermined tension to relieve stress.

<화학 이미드화법><Chemical imidization method>

상기 화학 이미드화법은 전구체 조성물에 탈수제 및/또는 이미드화제를 첨가하여 아믹산기의 이미드화를 촉진하는 방법이다.The chemical imidization method is a method of promoting imidization of an amic acid group by adding a dehydrating agent and / or an imidizing agent to the precursor composition.

여기서 "탈수제"란, 폴리아믹산에 대한 탈수 작용을 통해 폐환 반응을 촉진하는 물질을 의미하고, 이에 대한 비제한적인 예로서, 지방족의 애시드 안하이드라이드, 방향족의 애시드 안하이드라이드, N,N'-디알킬카르보디이미드, 할로겐화 저급 지방족, 할로겐화 저급 패티 애시드 안하이드라이드, 아릴 포스포닉 디할라이드, 및 티오닐 할라이드 등을 들 수 있다. 이중에서도 입수의 용이성, 및 비용의 관점에서 지방족 애시드 안하이드라이드가 바람직할 수 있고, 이의 비제한적인 예로서, 아세틱 안하이드라이드(AA), 프로피온 애시드 안하이드라이드, 및 락틱 애시드 안하이드라이드 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.As used herein, the term "dehydrating agent" refers to a substance that promotes a ring-closure reaction through dehydration to polyamic acid, and includes, but is not limited to, aliphatic acid anhydrides, aromatic acid anhydrides, and N, N '. -Dialkylcarbodiimide, halogenated lower aliphatic, halogenated lower patty acid anhydride, aryl phosphonic dihalide, thionyl halide and the like. Of these, aliphatic acid anhydrides may be preferred in view of ease of availability and cost, and non-limiting examples thereof include acetic anhydride (AA), propion acid anhydride, and lactic acid anhydride. These etc. are mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, "이미드화제"란 폴리아믹산에 대한 폐환 반응을 촉진하는 효과를 갖는 물질을 의미하고, 예를 들어 지방족 3급 아민, 방향족 3급 아민, 및 복소환식 3급 아민 등의 이민계 성분일 수 있다. 이중에서도 촉매로서의 반응성의 관점에서 복소환식 3급 아민이 바람직할 수 있다. 복소환식 3급 아민의 비제한적인 예로서, 퀴놀린, 이소퀴놀린, β-피콜린(BP), 피리딘 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In addition, "imidizing agent" means a substance having an effect of promoting a ring closure reaction to polyamic acid, and may be an imine-based component such as aliphatic tertiary amine, aromatic tertiary amine, and heterocyclic tertiary amine. Can be. Of these, heterocyclic tertiary amines may be preferable in view of reactivity as a catalyst. Non-limiting examples of heterocyclic tertiary amines include quinoline, isoquinoline, β-picolin (BP), pyridine, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.

탈수제의 첨가량은 폴리아믹산 중 아믹산기 1 몰에 대하여 0.5 내지 5 몰의 범위 내인 것이 바람직하고, 1.0 몰 내지 4 몰의 범위 내인 것이 특히 바람직하다. 또한, 이미드화제의 첨가량은 폴리아믹산 중 아믹산기 1 몰에 대하여 0.05 몰 내지 2 몰의 범위 내인 것이 바람직하고, 0.2 몰 내지 1 몰의 범위 내인 것이 특히 바람직할 수 있다.It is preferable that the addition amount of a dehydrating agent exists in the range of 0.5-5 mol with respect to 1 mol of amic acid groups in polyamic acid, and it is especially preferable to exist in the range of 1.0 mol-4 mol. In addition, the addition amount of the imidizing agent is preferably in the range of 0.05 mol to 2 mol, and particularly preferably in the range of 0.2 mol to 1 mol with respect to 1 mol of the amic acid group in the polyamic acid.

상기 탈수제 및 이미드화제가 상기 범위를 하회하면 화학적 이미드화가 불충분하고, 제조되는 폴리이미드 필름에 크랙이 형성될 수 있고, 필름의 기계적 강도도 저하될 수 있다. 또한, 이들 첨가량이 상기 범위를 상회하면 이미드화가 과도하게 빠르게 진행될 수 있으며, 이 경우, 필름 형태로 캐스팅하기 어렵거나 제조된 폴리이미드 필름이 브리틀(brittle)한 특성을 보일 수 있어, 바람직하지 않다. When the dehydrating agent and the imidating agent are less than the above range, chemical imidization is insufficient, cracks may be formed in the polyimide film to be produced, and the mechanical strength of the film may be lowered. In addition, if the amount of these additions exceeds the above range, the imidization may proceed excessively rapidly, and in this case, it is difficult to cast in the form of a film or the produced polyimide film may exhibit brittle characteristics, which is not preferable. not.

<복합 이미드화법><Complex imidation method>

이상의 화학 이미드화법에 연계하여, 열 이미드화법을 추가로 수행하는 복합 이미드화법이 폴리이미드 필름의 제조에 이용될 수 있다.In connection with the above-mentioned chemical imidation method, the composite imidation method which further performs the thermal imidation method can be used for manufacture of a polyimide film.

구체적으로 복합 이미드화법은, 저온에서 전구체 조성물에 탈수제 및/또는 이미드화제를 첨가하는 화학 이미드화 과정; 및 상기 전구체 조성물을 건조하여 겔 필름을 형성하고, 상기 겔 필름을 열처리하는 열 이미드화 과정을 포함할 수 있다.Specifically, the complex imidation method includes a chemical imidization process of adding a dehydrating agent and / or an imidizing agent to the precursor composition at a low temperature; And a thermal imidization process of drying the precursor composition to form a gel film and heat treating the gel film.

상기 화학 이미드화 과정의 수행 시, 탈수제와 이미드화제의 종류 및 첨가량은 앞선 화학 이미드화법에 설명한 바에 따라 적절하게 선택될 수 있다.In carrying out the chemical imidization process, the type and amount of the dehydrating agent and the imidating agent may be appropriately selected according to the above-described chemical imidization method.

상기 겔 필름을 형성하는 과정에서는 탈수제 및/또는 이미드화제를 함유하는 전구체 조성물을 유리판, 알루미늄 박, 무단(endless) 스테인레스 벨트, 또는 스테인레스 드럼 등의 지지체 상에 필름형으로 캐스팅하고, 이후 지지체 상의 전구체 조성물을 50 ℃ 내지 200 ℃, 상세하게는 80 ℃ 내지 200 ℃ 범위의 가변적인 온도에서 건조한다. 이러한 과정에서, 화학 전환제 및/또는 이미드화제가 촉매로 작용하여 아믹산기가 이미드기로 빠르게 변환될 수 있다.In the process of forming the gel film, the precursor composition containing a dehydrating agent and / or an imidizing agent is cast in a film form on a support such as a glass plate, an aluminum foil, an endless stainless belt, or a stainless drum, and then onto the support. The precursor composition is dried at a variable temperature in the range of 50 ° C. to 200 ° C., specifically 80 ° C. to 200 ° C. In this process, chemical converting agents and / or imidating agents can act as catalysts so that amic acid groups can be rapidly converted to imide groups.

경우에 따라서는 이후 열처리 과정에서 수득되는 폴리이미드 필름의 두께 및 크기를 조절하고 배향성을 향상시키기 위하여 상기 겔 필름을 연신시키는 공정이 수행될 수 있으며, 연신은 기계반송방향(MD) 및 기계반송방향에 대한 횡방향(TD) 중 적어도 하나의 방향으로 수행될 수 있다.In some cases, a process of stretching the gel film may be performed to adjust the thickness and size of the polyimide film obtained in the subsequent heat treatment process and to improve orientation, and the stretching may be performed in the machine transport direction (MD) and the machine transport direction. It may be performed in at least one direction of the transverse direction (TD) with respect to.

이와 같이 수득한 겔 필름을, 텐터에 고정한 다음 50 ℃ 내지 600 ℃, 상세하게는 150 ℃ 내지 600 ℃ 범위의 가변적인 온도에서 열처리하여 겔 필름에 잔존하는 물, 촉매, 잔류 용매 등을 제거하고, 남아 있는 거의 모든 아믹산기를 이미드화하여, 본 발명의 폴리이미드 필름을 수득할 수 있다. 이와 같은 열처리 과정에서도 탈수제 및/또는 이미드화제가 촉매로서 작용하여 아믹산기가 이미드기로 빠르게 전환될 수 있어 높은 이미드화율의 구현이 가능할 수 있다.The gel film thus obtained is fixed in a tenter and then heat treated at a variable temperature in the range of 50 ° C. to 600 ° C., specifically 150 ° C. to 600 ° C. to remove water, catalyst, residual solvent, etc. remaining in the gel film, Nearly all remaining amic acid groups can be imidated to obtain the polyimide film of the present invention. In such a heat treatment process, the dehydrating agent and / or the imidating agent may act as a catalyst so that the amic acid group may be rapidly converted into the imide group, thereby enabling high imidization rate.

경우에 따라서는 상기와 같이 수득한 폴리이미드 필름을 400 ℃ 내지 650 ℃의 온도로 5 초 내지 400 초간 가열 마감하여 폴리이미드 필름을 더욱 경화시킬 수도 있으며, 수득한 폴리이미드 필름에 잔류할 수도 있는 내부 응력을 완화시키기 위해서 소정의 장력 하에서 이를 수행할 수도 있다.In some cases, the polyimide film obtained as described above may be heated to a temperature of 400 ° C. to 650 ° C. for 5 seconds to 400 seconds to further cure the polyimide film, and may remain in the obtained polyimide film. This may be done under a predetermined tension to relieve stress.

본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 제1 폴리이미드 사슬, 제2 폴리이미드 사슬 및 카본 블랙을 포함하고 있다. 이러한 폴리이미드 필름은, 각각의 폴리이미드 사슬이 가진 특성들이 상보적으로 작용함에 따라, 서로 양립되기 난해한 기계적 물성 및 내염기성을 소망하는 수준으로 내재할 수 있으며, 높은 결정화도를 가지면서 광투과율이 낮은 이점을 가진다.The polyimide film according to the invention comprises a first polyimide chain, a second polyimide chain and carbon black. Such a polyimide film may be inherent to desired levels of mechanical properties and basic resistance which are difficult to be compatible with each other as the properties of each polyimide chain complementarily act, and have high crystallinity and low light transmittance. Has an advantage.

특히, 본 발명의 폴리이미드 필름은 8 ㎛ 이하의 얇은 두께임에도 불구하고 내염기성 우수하여, 염기 성분 노출 시에도 카본 블랙 탈락이 상당히 억제될 수 있다.In particular, the polyimide film of the present invention is excellent in base resistance despite having a thin thickness of 8 μm or less, and thus carbon black dropout can be significantly suppressed even when the base component is exposed.

본 발명에 따른 제조방법의 이점은 카본 블랙의 분산을 용이하게 할 수 있는 방법을 포함하는 것이다. An advantage of the production process according to the invention is that it includes a method which can facilitate the dispersion of carbon black.

구체적으로, 본 발명의 제조방법은, 블랙 조액 형태의 카본 블랙을 상대적으로 저점도의 제2 폴리아믹산과 혼합함으로써, 카본 블랙의 분산을 일차적으로 손쉽게 유도할 수 있고, 이후 혼합액을 제1 폴리아믹산에 혼합하면, 제2 폴리아믹산이 제1 폴리아믹산과 쉽게 혼합됨에 따라 이미 분산되어 있던 카본 블랙이 제2 폴리아믹산과 함께 제1 폴리아믹산의 전반으로 빠르게 혼화 및/또는 분산될 수 있다.Specifically, in the production method of the present invention, by mixing carbon black in the form of a black crude liquid with a relatively low viscosity second polyamic acid, dispersion of the carbon black can be easily induced primarily, and then the mixed solution is first polyamic acid. When mixed in, the carbon black that has already been dispersed can quickly blend and / or disperse with the second polyamic acid throughout the first polyamic acid as the second polyamic acid is easily mixed with the first polyamic acid.

이하, 발명의 구체적인 실시예를 통해, 발명의 작용 및 효과를 보다 상술하기로 한다. 다만, 이러한 실시예는 발명의 예시로 제시된 것에 불과하며, 이에 의해 발명의 권리범위가 정해지는 것은 아니다. Hereinafter, the operation and effects of the invention will be described in more detail with reference to specific examples of the invention. However, these embodiments are only presented as an example of the invention, whereby the scope of the invention is not determined.

<실시예 1><Example 1>

제조예 1-1: 제1 폴리아믹산의 중합Preparation Example 1-1 Polymerization of First Polyamic Acid

제1 폴리아믹산 용액 중합 공정으로서, 질소 분위기하의 1 L 반응기에 용매로서 DMF를 407.5 g 투입하였다. As a 1st polyamic-acid solution polymerization process, 407.5g of DMF was added as a solvent to the 1 L reactor in nitrogen atmosphere.

온도를 25 ℃로 설정한 다음, 디아민 단량체로서 ODA 13.26 g 및 PPD 21.48 g을 투입하고, 30 분 가량 교반하여 단량체가 용해된 것을 확인한 뒤에 PMDA을 57.76 g을 분할 투입하고 최종적으로 점도 250,000 cP에서 300,000 cP가 되도록 마지막 투입량을 조정하여 투입하였다.After the temperature was set at 25 ° C., 13.26 g of ODA and 21.48 g of PPD were added as a diamine monomer, and stirred for about 30 minutes to confirm that the monomer was dissolved. Then, 57.76 g of PMDA was divided and finally added at a viscosity of 250,000 cP The final dose was adjusted to be cP.

투입이 끝나면 온도를 유지하면서 1 시간 동안 교반하여 최종점도 260,000 cP의 제1 폴리아믹산 용액을 수득하였다.After the addition, the mixture was stirred for 1 hour while maintaining the temperature to obtain a first polyamic acid solution having a final viscosity of 260,000 cP.

제조예 1-2: 제2 폴리아믹산의 중합Preparation Example 1-2 Polymerization of Second Polyamic Acid

제2 폴리아믹산 용액의 중합 공정으로서, 질소 분위기하의 1 L 반응기에 용매로서 DMF를 425 g 투입하였다.As a polymerization process of the second polyamic acid solution, 425 g of DMF was added as a solvent to a 1 L reactor under a nitrogen atmosphere.

온도를 25 ℃로 설정한 다음, 디아민 단량체로서 TPE-R 37.38 g를 투입하고, 30 분 가량 교반하여 단량체가 용해된 것을 확인한 뒤에 s-BPDA 37.62 g을 분할 투입하고 최종점도를 5,000 cP에서 30,000 cP가 되도록 소량씩 투입하였다.After the temperature was set at 25 ° C., 37.38 g of TPE-R was added as a diamine monomer, and stirred for about 30 minutes to confirm that the monomer was dissolved. Then, 37.62 g of s-BPDA was added and the final viscosity was 30,000 cP at 5,000 cP. Small amount was added so as to be.

투입이 끝나면 온도를 유지하면서 2 시간 동안 교반하여 최종 점도 5,500 cP의 제2 폴리아믹산 용액을 수득하였다.After the addition, the mixture was stirred for 2 hours while maintaining the temperature to obtain a second polyamic acid solution having a final viscosity of 5,500 cP.

제조예 1-3: 블랙 조액 및 제2 폴리아믹산을 혼합한 혼합액의 제조Preparation Example 1-3: Preparation of Mixed Liquid of Black Mixture and Second Polyamic Acid

카본 블랙 30 g을 70 g의 DMF와 분산제 BYK-1162 0.1 g 와 혼합한 후 밀링 머신을 이용하여 평균 입경 0.5 ㎛의 블랙조액을 제조하였다.30 g of carbon black was mixed with 70 g of DMF and 0.1 g of a dispersant BYK-1162, and then a black crude liquid having an average particle diameter of 0.5 μm was prepared using a milling machine.

상기 제조예 1-2에서 제조된 제2 폴리아믹산 용액 24.5 g과 상기 블랙 조액 32 g을 DMF 43.5 g과 혼합하여 혼합액을 제조하였다.24.5 g of the second polyamic acid solution prepared in Preparation Example 1-2 and 32 g of the black crude liquid were mixed with 43.5 g of DMF to prepare a mixed solution.

제조예 1-4: 초박막 블랙 폴리이미드 필름의 제조Preparation Example 1-4: Preparation of Ultra-thin Black Polyimide Film

상기 제조예 1-1에서 제조된 제1 폴리아믹산 용액 40.5 g에 상기 제조예 1-3에서 제조된 혼합액 13.3 g을 혼합하고, 촉매로서 이소퀴놀린(IQ) 3.47 g, 무수초산(AA) 16.47 g, 및 DMF 5.89 g을 투입한 후, 균일하게 혼합하여 SUS plate(100SA, Sandvik)에 닥터 블레이드를 사용하여 70 ㎛로 캐스팅하고 100 ℃ 내지 200 ℃의 온도범위에서 건조시켰다.13.3 g of the mixed solution prepared in Preparation Example 1-3 was mixed with 40.5 g of the first polyamic acid solution prepared in Preparation Example 1-1, 3.47 g of isoquinoline (IQ) and 16.47 g of acetic anhydride (AA) as a catalyst. And, after adding 5.89 g of DMF, the mixture was uniformly mixed, cast to 70 ㎛ using a doctor blade on a SUS plate (100SA, Sandvik) and dried at a temperature range of 100 ℃ to 200 ℃.

그 다음, 필름을 SUS Plate에서 박리하여 핀 프레임에 고정시켜 고온 텐터로 이송하였다.Then, the film was peeled off the SUS plate, fixed to the pin frame, and transferred to a high temperature tenter.

필름을 고온 텐터에서 200 ℃부터 600 ℃까지 가열한 후 25 ℃에서 냉각시킨 후 핀 프레임에서 분리하여 폴리이미드 필름 총 중량에 대하여 약 86 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 5 중량%의 제2 폴리이미드 사슬 및 9 중량%의 카본 블랙을 포함하는 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.The film was heated from 200 ° C. to 600 ° C. in a high temperature tenter and then cooled at 25 ° C. and separated from the pin frame to remove about 86% by weight of the first polyimide chain and 5% by weight of the second polyimide relative to the total weight of the polyimide film. A 7.5 μm thick polyimide film was prepared comprising the mid chain and 9 wt% carbon black.

<실시예 2><Example 2>

폴리이미드 필름이 이의 총 중량에 대하여 약 88 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 3 중량%의 제2 폴리이미드 사슬을 포함하도록, 제1 폴리아믹산 용액과 제2 폴리아믹산 용액의 투입량을 각각 조절한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.The amounts of the first polyamic acid solution and the second polyamic acid solution were adjusted so that the polyimide film contained about 88% by weight of the first polyimide chain and 3% by weight of the second polyimide chain relative to the total weight thereof. Except that, a polyimide film having a thickness of 7.5 ㎛ was prepared in the same manner as in Example 1.

<실시예 3><Example 3>

폴리이미드 필름이 이의 총 중량에 대하여 약 84 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 7 중량%의 제2 폴리이미드 사슬을 포함하도록, 제1 폴리아믹산 용액과 제2 폴리아믹산 용액의 투입량을 각각 조절한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.The amounts of the first polyamic acid solution and the second polyamic acid solution were adjusted so that the polyimide film contained about 84% by weight of the first polyimide chain and 7% by weight of the second polyimide chain relative to the total weight thereof. Except that, a polyimide film having a thickness of 7.5 ㎛ was prepared in the same manner as in Example 1.

<실시예 4><Example 4>

폴리이미드 필름이 이의 총 중량에 대하여 약 92 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 3 중량%의 제2 폴리이미드 사슬 및 5 중량%의 카본 블랙을 포함하도록, 제1 폴리아믹산 용액, 제2 폴리아믹산 용액 및 카본 블랙의 투입량을 각각 조절한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.The first polyamic acid solution, the second polyamic acid, such that the polyimide film comprises about 92% by weight of the first polyimide chain, 3% by weight of the second polyimide chain and 5% by weight of carbon black relative to its total weight A 7.5 μm-thick polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of the solution and the carbon black was adjusted.

<비교예 1>Comparative Example 1

제조예 1-2를 생략하였고, 제조예 1-3에서 혼합액의 제조를 생략하였으며, 약 91 중량%의 제1 폴리이미드 사슬 및 9 중량%의 카본 블랙을 포함하도록, 제조예 1-4에서 투입량을 조절하여 제1 폴리아믹산에 블랙 조액을 직접 혼합한 것을 제외하면 실시예 1과 동일한 방법으로 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.Preparation Example 1-2 was omitted, and Preparation of the mixed solution was omitted in Preparation Example 1-3, and the dosage amount in Preparation Example 1-4 to include about 91 wt% of the first polyimide chain and 9 wt% of carbon black. A polyimide film having a thickness of 7.5 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that the black crude liquid was directly mixed with the first polyamic acid.

<비교예 2>Comparative Example 2

폴리이미드 필름이 이의 총 중량에 대하여 약 90 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 1 중량%의 제2 폴리이미드 사슬을 포함하도록, 제1 폴리아믹산 용액과 제2 폴리아믹산 용액의 투입량을 각각 조절한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.The amounts of the first polyamic acid solution and the second polyamic acid solution were adjusted so that the polyimide film contained about 90% by weight of the first polyimide chain and 1% by weight of the second polyimide chain relative to the total weight thereof. Except that, a polyimide film having a thickness of 7.5 ㎛ was prepared in the same manner as in Example 1.

<비교예 3>Comparative Example 3

폴리이미드 필름이 이의 총 중량에 대하여 약 80 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 11 중량%의 제2 폴리이미드 사슬을 포함하도록, 제1 폴리아믹산 용액과 제2 폴리아믹산 용액의 투입량을 각각 조절한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.The amounts of the first polyamic acid solution and the second polyamic acid solution were adjusted so that the polyimide film contained about 80% by weight of the first polyimide chain and 11% by weight of the second polyimide chain relative to the total weight thereof. Except that, a polyimide film having a thickness of 7.5 ㎛ was prepared in the same manner as in Example 1.

<비교예 4><Comparative Example 4>

제조예 1-3을 생략하고, 폴리이미드 필름이 이의 총 중량에 대하여 약 95 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 5 중량%의 제2 폴리이미드 사슬을 포함하도록, 제1 폴리아믹산 용액과 제2 폴리아믹산 용액의 투입량을 각각 조절하여 혼합한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.Omitting Preparation Examples 1-3, the first polyamic acid solution and the second, such that the polyimide film comprises about 95% by weight of the first polyimide chain, 5% by weight of the second polyimide chain, relative to its total weight A polyimide film having a thickness of 7.5 μm was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of the polyamic acid solution was adjusted and mixed.

<비교예 5>Comparative Example 5

폴리이미드 필름이 이의 총 중량에 대하여 약 92 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 5 중량%의 제2 폴리이미드 사슬 및 3 중량%의 카본 블랙을 포함하도록, 제1 폴리아믹산 용액, 제2 폴리아믹산 용액 및 카본 블랙의 투입량을 각각 조절한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.The first polyamic acid solution, the second polyamic acid, such that the polyimide film comprises about 92% by weight of the first polyimide chain, 5% by weight of the second polyimide chain, and 3% by weight of carbon black, relative to its total weight A 7.5 μm-thick polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of the solution and the carbon black was adjusted.

<비교예 6>Comparative Example 6

폴리이미드 필름이 이의 총 중량에 대하여 약 80 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 5 중량%의 제2 폴리이미드 사슬 및 15 중량%의 카본 블랙을 포함하도록, 제1 폴리아믹산 용액, 제2 폴리아믹산 용액 및 카본 블랙의 투입량을 각각 조절한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.The first polyamic acid solution, the second polyamic acid, such that the polyimide film comprises about 80% by weight of the first polyimide chain, 5% by weight of the second polyimide chain, and 15% by weight of carbon black, relative to its total weight A 7.5 μm-thick polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of the solution and the carbon black was adjusted.

<비교예 7>Comparative Example 7

제조예 1-2를 하기와 같이 변경하여 제2 폴리아믹산을 제조한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드 필름 총 중량에 대하여 약 86 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 5 중량%의 제2 폴리이미드 사슬 및 9 중량%의 카본 블랙을 포함하는 7.5㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다:About 86 wt% of the first polyimide chain, 5 wt%, based on the total weight of the polyimide film in the same manner as in Example 1, except that Preparation Example 1-2 was changed to the following to prepare a second polyamic acid. A 7.5 μm thick polyimide film was prepared comprising a second polyimide chain of 9 wt% carbon black.

-제2 폴리아믹산 용액의 중합 공정으로서, 질소 분위기하의 1L 반응기에 용매로서 DMF를 425 g 투입하였다. 온도를 25 ℃로 설정한 다음, 디아민 단량체로서 ODA 30.51 g를 투입하고, 30분 가량 교반하여 단량체가 용해된 것을 확인한 뒤에 s-BPDA 43.49 g을 분할 투입하고 최종점도를 5,000 cP에서 30,000 cP가 되도록 소량씩 투입하였다. 투입이 끝나면 온도를 유지하면서 1시간 동안 교반하여 최종 점도 5,500 cP의 제2 폴리아믹산 용액을 수득하였다.-As a polymerization process of the second polyamic acid solution, 425 g of DMF was added to a 1 L reactor under a nitrogen atmosphere as a solvent. After the temperature was set at 25 ° C., 30.51 g of ODA was added as a diamine monomer, and stirred for about 30 minutes to confirm that the monomer was dissolved. Then, 43.49 g of s-BPDA was separately added and the final viscosity was adjusted to 5,000 cP to 30,000 cP. A small amount was added. After the addition, the mixture was stirred for 1 hour while maintaining the temperature to obtain a second polyamic acid solution having a final viscosity of 5,500 cP.

<비교예 8><Comparative Example 8>

비교예 7에 기재된 제2 폴리아믹산 용액을 이용하였으며, 폴리이미드 필름이 이의 총 중량에 대하여 약 88 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 3 중량%의 제2 폴리이미드 사슬을 포함하도록, 제1 폴리아믹산 용액 및 제2 폴리아믹산 용액의 투입량을 각각 조절한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.The second polyamic acid solution described in Comparative Example 7 was used, such that the polyimide film comprises about 88% by weight of the first polyimide chain and 3% by weight of the second polyimide chain relative to its total weight. A 7.5 μm-thick polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amounts of the mixed acid solution and the second polyamic acid solution were adjusted.

<비교예 9>Comparative Example 9

비교예 7에 기재된 제2 폴리아믹산 용액을 이용하였으며, 폴리이미드 필름이 이의 총 중량에 대하여 약 84 중량%의 제1 폴리이미드 사슬, 7 중량%의 제2 폴리이미드 사슬을 포함하도록, 제1 폴리아믹산 용액 및 제2 폴리아믹산 용액의 투입량을 각각 조절한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.The second polyamic acid solution described in Comparative Example 7 was used, so that the polyimide film comprises about 84% by weight of the first polyimide chain, 7% by weight of the second polyimide chain, relative to its total weight; A 7.5 μm-thick polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amounts of the mixed acid solution and the second polyamic acid solution were adjusted.

<실험예: 폴리이미드 필름의 물성 평가>Experimental Example: Evaluation of Physical Properties of Polyimide Film

실시예 1 내지 실시예 4 및 비교예 1 내지 비교예 9에서 각각 제조된 폴리이미드 필름에 대해 다음과 같은 방식으로 내염기성, 광투과율, 인장강도, 모듈러스 및 결정화도를 측정하고, 이의 결과를 하기 표 1에 정리하였다.The polyimide films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 9, respectively, were measured in the following manner to measure base resistance, light transmittance, tensile strength, modulus, and crystallinity, and the results are shown in the following table. We summarized in 1.

1) 내염기성 테스트 1) Base resistance test

테스트 방법(a)를 이용하여 내염기성 지수를 측정하였다.The base resistance index was measured using test method (a).

2) 광투과율 테스트2) Light transmittance test

광투과율 측정 기기(모델명: ColorQuesetXE, 제조사: HunterLab)를 이용하여 가시광 영역에서 ASTM D1003 방법으로 광투과율을 측정하였다.The light transmittance was measured in the visible region using an optical transmittance measuring device (Model: ColorQuesetXE, manufacturer: HunterLab).

3) 인장강도3) tensile strength

인장강도는 KS6518 에 제시된 방법에 의해 측정하였다.Tensile strength was measured by the method given in KS6518.

4) 모듈러스4) modulus

모듈러스는 Instron 5564 모델을 이용하여, ASTM D882에 제시된 방법에 의해 측정하였다. Modulus was measured by the method set forth in ASTM D882, using the Instron 5564 model.

5) 결정화도5) Crystallinity

XRD(X-Ray Diffraction) 분석을 통해 결정화도를 측정하였다. 일반적으로 무정형 고분자의 경우 넓은 영역을 점유하는 피크가 나오며, 다만 고분자 사슬이 결정성 부분을 포함하는 경우에는 부분적으로 뾰족한 회절피크와 넓은 영역이 동시에 나오게 된다. 여기서 두 피크의 세기와 상대면적을 비교하여 결정화도를 측정 할 수 있다.Crystallinity was measured by X-ray diffraction (XRD) analysis. In general, in the case of the amorphous polymer, a peak occupying a wide area comes out. However, when the polymer chain includes a crystalline part, a partly sharp diffraction peak and a wide area appear simultaneously. Here, the degree of crystallinity can be measured by comparing the intensity and relative area of the two peaks.

비율* Ratio * 제2 PAA** 단량체Second PAA ** Monomer 내염기성
(%)
Basic resistance
(%)
광투과율
(%)
Light transmittance
(%)
인장강도
(kgf/cm3)
The tensile strength
(kgf / cm 3)
모듈러스
(GPa)
Modulus
(GPa)
결정화도
(%)
Crystallinity
(%)
실시예 1Example 1 86:5:986: 5: 9 TPE-R; BPDATPE-R; BPDA 7575 0.040.04 210210 3.13.1 7070 실시예 2Example 2 88:3:988: 3: 9 TPE-R; BPDATPE-R; BPDA 7373 0.070.07 200200 3.03.0 6565 실시예 3Example 3 84:7:984: 7: 9 TPE-R; BPDATPE-R; BPDA 8181 0.030.03 215215 3.23.2 7676 실시예 4Example 4 92:3:592: 3: 5 TPE-R; BPDATPE-R; BPDA 7070 0.090.09 210210 3.153.15 6565 비교예 1Comparative Example 1 91:0:991: 0: 9 없음none 5454 0.130.13 190190 2.92.9 00 비교예 2Comparative Example 2 90:1:990: 1: 9 TPE-R; BPDATPE-R; BPDA 5656 0.200.20 190190 2.92.9 3030 비교예 3Comparative Example 3 80:11:980: 11: 9 TPE-R; BPDATPE-R; BPDA 8585 0.010.01 165165 2.42.4 8989 비교예 4Comparative Example 4 95:5:095: 5: 0 TPE-R; BPDATPE-R; BPDA 7878 6565 210210 3.23.2 7070 비교예 5Comparative Example 5 92:5:392: 5: 3 TPE-R; BPDATPE-R; BPDA 7272 1313 215215 3.13.1 7070 비교예 6Comparative Example 6 80:5:1580: 5: 15 TPE-R; BPDATPE-R; BPDA 6868 0.000.00 140140 2.02.0 7070 비교예 7Comparative Example 7 86:5:986: 5: 9 ODA; BPDAODA; BPDA 7070 0.130.13 185185 2.92.9 5353 비교예 8Comparative Example 8 88:3:988: 3: 9 ODA; BPDAODA; BPDA 6868 0.130.13 180180 2.852.85 4949 비교예 9Comparative Example 9 84:7:984: 7: 9 ODA; BPDAODA; BPDA 7272 0.130.13 190190 2.952.95 5858

* 제1 폴리아믹산 : 제2 폴리아믹산 : 카본 블랙의 중량 비율* Weight ratio of 1st polyamic acid: 2nd polyamic acid: carbon black

** 제2 PAA = 제2 폴리아믹산** second PAA = second polyamic acid

표 1에서와 같이, 실시예 1 내지 4는 상대적으로 높은 결정화도를 나타내었고, 광투과율이 0.09 이하로 매우 우수한 차폐, 차광 기능을 가지며, 내염기성 또한 우수함을 알 수 있다. 뿐만 아니라, 실시예 1 내지 4는 기계적 물성인 인장강도와 모듈러스도 준수한 수준을 나타내었다.As shown in Table 1, Examples 1 to 4 exhibited a relatively high crystallinity, light transmittance of 0.09 or less, very good shielding and light shielding functions, and also excellent base resistance. In addition, Examples 1 to 4 exhibited a level of compliance with tensile strength and modulus, which are mechanical properties.

한편, 제2 폴리이미드 사슬을 전혀 함유하지 않은 비교예 1은 매우 불량한 내염기성을 나타내며, 결정화도는 약 0으로서 극히 낮고 이에 따라 카본 블랙을 포함함에도 불구하고 광투과율이 상대적으로 높게 측정되어 차폐, 차광 특성에서도 우수함을 나타내지 못하였다. 이로부터 본 발명에 따른 제2 폴리이미드 사슬의 함유 여부가 내염기성과 차폐, 차광 특성 개선에 주요하게 작용함을 알 수 있다.On the other hand, Comparative Example 1, which contains no second polyimide chain at all, shows very poor base resistance, and the crystallinity is about 0, which is extremely low. The characteristics did not show superiority. From this, it can be seen that the inclusion of the second polyimide chain according to the present invention plays a major role in improving the base resistance, shielding, and light shielding properties.

비교예 2는 본 발명의 범위를 벗어나서 소량의 제2 폴리이미드 사슬을 함유함에 따라, 낮은 내염기성을 나타내었다.Comparative Example 2 exhibited low base resistance as it contained a small amount of second polyimide chain outside the scope of the present invention.

비교예 3은 본 발명의 범위를 벗어나서 과량의 제2 폴리이미드 사슬을 함유하지만, 인장강도와 모듈러스가 현저하게 저하된 것을 확인할 수 있다. 이러한 결과로부터 제1 폴리이미드 사슬과 제2 폴리이미드 사슬이 본 발명의 범위로 함유되는 것이 중요함을 이해할 수 있다.Comparative Example 3 contains an excess of the second polyimide chain outside the scope of the present invention, but it can be seen that the tensile strength and modulus are significantly reduced. From these results it can be understood that it is important that the first polyimide chain and the second polyimide chain are contained within the scope of the present invention.

비교예 4 내지 6은 카본 블랙이 본 발명의 범위로 포함됨이 낮은 광투과율 달성 측면에서 바람직함을 보여주고 있고, 특히 비교예 6은 제2 폴리이미드 사슬이 함유되었음에도 불구하고 과도한 카본 블랙의 함량으로 인해 내염기성이 저하되었다.Comparative Examples 4 to 6 show that the inclusion of carbon black in the scope of the present invention is preferable in terms of achieving a low light transmittance, and in particular, Comparative Example 6 is due to the excessive amount of carbon black even though the second polyimide chain is contained. Due to the low base resistance.

비교예 7 내지 9는 본 발명에 개시된 단량체와는 다른 단량체를 이용하여 제2 폴리이미드 사슬을 구현한 것이다. 이들 비교예를 실시예 1 내지 3과 비교하면 제2 폴리이미드 사슬이 동일한 함량으로 함유될 때, 실시예의 결과가 더 우수한 것을 알 수 있다. 또한, 비교예 7 내지 9는 결정화도가 낮아 실시예와 비교하여 차폐, 차광 특성 개선 효과가 없음을 알 수 있다.Comparative Examples 7 to 9 implement the second polyimide chain using monomers different from the monomers disclosed in the present invention. Comparing these comparative examples with Examples 1 to 3, it can be seen that the results of the examples are better when the second polyimide chain is contained in the same content. In addition, Comparative Examples 7 to 9 have a low crystallinity, and it can be seen that there is no effect of improving shielding and light shielding properties as compared with the Examples.

이상 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 상기 내용을 바탕을 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.Although described above with reference to embodiments of the present invention, those of ordinary skill in the art, it will be possible to perform various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above contents.

Claims (15)

제1 디안하이드라이드 및 2 개 이하의 벤젠 고리를 함유하는 제1 디아민이 중합된 제1 폴리아믹산;
제2 디안하이드라이드 및 3 개 이상의 벤젠 고리를 함유하는 제2 디아민이 중합된 제2 폴리아믹산; 및
카본 블랙;
을 포함하는 전구체 조성물을 이미드화하여 제조되고,
결정화도가 65 % 이상이고, 광투과율이 0.09 이하이고, 염기 성분 노출 전후의 폴리이미드 필름 두께를 기준으로 평가한 내염기성 지수가 70 % 이상이며, 두께가 8.0 ㎛ 이하인 폴리이미드 필름.
A first polyamic acid polymerized with a first diamine containing a first dianhydride and up to two benzene rings;
A second polyamic acid polymerized with a second diamine containing a second dianhydride and three or more benzene rings; And
Carbon black;
Is prepared by imidizing the precursor composition comprising a,
A polyimide film having a crystallinity of 65% or more, a light transmittance of 0.09 or less, a base resistance index of 70% or more, and a thickness of 8.0 μm or less, evaluated based on the thickness of the polyimide film before and after base component exposure.
제1항에 있어서,
상기 제1 폴리아믹산은 이미드화를 통해 제1 폴리이미드 사슬을 형성하고,
상기 제2 폴리아믹산은 이미드화를 통해 제2 폴리이미드 사슬을 형성하는 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The first polyamic acid forms a first polyimide chain through imidization,
The second polyamic acid is a polyimide film to form a second polyimide chain through imidization.
제2항에 있어서,
이미드화를 통해 상기 제1 폴리이미드 사슬 및 상기 제2 폴리이미드 사슬의 적어도 일부가 서로 가교되는 폴리이미드 필름.
The method of claim 2,
At least a portion of the first polyimide chain and the second polyimide chain are crosslinked with each other through imidization.
제1항에 있어서,
상기 제1 폴리아믹산은 고형분 함량이 15 중량%일 때 23℃에서 측정한 점도가 50,000 cP 내지 300,000 cP이고,
상기 제2 폴리아믹산은 고형분 함량이 15 중량%일 때 23℃에서 측정한 점도가 5,000 cP 내지 30,000 cP인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The first polyamic acid has a viscosity of 50,000 cP to 300,000 cP measured at 23 ° C. when the solid content is 15% by weight.
The second polyamic acid has a viscosity of 5,000 cP to 30,000 cP measured at 23 ° C. when the solid content is 15% by weight.
제1항에 있어서,
폴리이미드 필름 총 중량에 대하여,
80 내지 92 중량%의 제1 폴리이미드 사슬,
3 내지 10 중량%의 제2 폴리이미드 사슬, 및
5 내지 10 중량%의 평균입경이 0.1 내지 5 ㎛인 카본 블랙을 포함하고,
필름의 두께가 7.5 ㎛ 이하인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
Regarding the total weight of the polyimide film,
80 to 92% by weight of the first polyimide chain,
3 to 10 weight percent of a second polyimide chain, and
5 to 10% by weight of carbon black containing an average particle diameter of 0.1 to 5 ㎛,
The polyimide film whose thickness of a film is 7.5 micrometers or less.
제5항에 있어서,
폴리이미드 필름 총 중량에 대하여,
83 내지 92 중량%의 제1 폴리이미드 사슬,
5 내지 7 중량%의 제2 폴리이미드 사슬을 포함하는 폴리이미드 필름.
The method of claim 5,
Regarding the total weight of the polyimide film,
83 to 92 weight percent of the first polyimide chain,
Polyimide film comprising 5 to 7% by weight of the second polyimide chain.
제1항에 있어서,
상기 제1 디안하이드라이드는 피로멜리틱 디안하이드라이드(또는 PMDA)이고,
상기 제2 디안하이드라이드는 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 s-BPDA) 및/또는 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 a-BPDA)인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The first dianhydride is pyromellitic dianhydride (or PMDA),
The second dianhydride is 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or s-BPDA) and / or 2,3,3', 4'-biphenyltetracarboxylic A polyimide film that is rick dianhydride (or a-BPDA).
제1항에 있어서,
상기 제1 디아민은,
1) 벤젠 고리 1개를 갖는 디아민: 1,4-디아미노벤젠(또는 파라페닐렌디아민, PDA, PPD), 1,3-디아미노벤젠, 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 3,5-디아미노벤조익 애시드(DABA);
2) 벤젠 고리 2개를 갖는 디아민: 4,4'-디아미노디페닐에테르(또는 옥시디아닐린, ODA), 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메테인(메틸렌디아민), 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-비스(트라이플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3'-디카르복시-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 4,4'-디아미노벤즈아닐라이드, 3,3'-디클로로벤지딘, 3,3'-디메틸벤지딘(또는 o-톨리딘), 2,2'-디메틸벤지딘(또는 m-톨리딘), 3,3'-디메톡시벤지딘, 2,2'-디메톡시벤지딘, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐설파이드, 3,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디메톡시벤조페논, 3,3'-디아미노디페닐메테인, 3,4'-디아미노디페닐메테인, 4,4'-디아미노디페닐메테인, 2,2-비스(3-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(3-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 3,3'-디아미노디페닐설폭사이드, 3,4'-디아미노디페닐설폭사이드 및 4,4'-디아미노디페닐설폭사이드으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The first diamine,
1) Diamines with one benzene ring: 1,4-diaminobenzene (or paraphenylenediamine, PDA, PPD), 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 2,6-dia Minotoluene, 3,5-diaminobenzoic acid (DABA);
2) diamines having two benzene rings: 4,4'-diaminodiphenylether (or oxydianiline, ODA), 3,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylmethe Phosphorus (methylenediamine), 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-bis (trifluoro) Methyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane Phosphorus, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, bis (4-aminophenyl) sulfide, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,3 '-Dichlorobenzidine, 3,3'-dimethylbenzidine (or o-tolidine), 2,2'-dimethylbenzidine (or m-tolidine), 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimeth Oxybenzidine, 3,3'-diaminodiphenylether, 3,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylether, 3,3'-diaminodiphenylsulfide, 3,4 '-Diaminodiphenylsulfide, 4,4'-dia Nodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4 '-Diaminobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dimethoxybenzophenone, 3,3'-diaminodi Phenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis (3-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4- Aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1, 1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 3,3'-diaminodiphenylsulfoxide, 3,4'-diaminodiphenylsulfoxide and 4,4'-diaminodiphenylsulfoxide Polyimide film which is at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a side.
제1항에 있어서,
상기 제2 디아민은, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPE-R) 및/또는 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠(TPE-Q)인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The second diamine is 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPE-R) and / or 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene (TPE-Q).
제1항에 있어서,
광투과율이 0.07 이하이고, 염기 성분 노출 전후의 폴리이미드 필름 두께를 기준으로 평가한 내염기성 지수가 75 % 이상인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
A polyimide film having a light transmittance of 0.07 or less and a base resistance index of 75% or more, evaluated based on the thickness of the polyimide film before and after base component exposure.
제1항에 있어서,
필름 상태에서의 고분자 결정화도가 70 % 이상이고,
인장강도가 200 kgf/cm3 이상이고,
모듈러스가 3 GPa 이상인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The crystallinity of the polymer in the film state is 70% or more,
Tensile strength is more than 200 kgf / cm 3 ,
Polyimide film having a modulus of 3 GPa or more.
제1항에 따른 폴리이미드 필름을 제조하는 방법으로서,
제1 디안하이드라이드 및 제1 디아민으로부터 제1 폴리아믹산을 중합하는 단계;
제2 디안하이드라이드 및 제2 디아민으로부터 제2 폴리아믹산을 중합하는 단계;
밀링기를 이용하여 평균입경 0.1 내지 5 ㎛의 카본 블랙을 제조하고 이를 포함하는 블랙 조액을 제조하는 단계;
상기 제2 폴리아믹산 및 상기 블랙 조액을 혼합하여 혼합액을 제조하는 단계;
상기 제1 폴리아믹산에 상기 혼합액을 혼합하여 전구체 조성물을 제조하는 단계; 및
상기 전구체 조성물을 이미드화하여 폴리이미드 필름을 수득하는 단계를 포함하는 제조방법.
As a method of manufacturing the polyimide film according to claim 1,
Polymerizing a first polyamic acid from the first dianhydride and the first diamine;
Polymerizing a second polyamic acid from a second dianhydride and a second diamine;
Preparing a black crude liquid including a carbon black having an average particle diameter of 0.1 to 5 μm using a milling machine;
Preparing a mixed liquid by mixing the second polyamic acid and the black crude liquid;
Preparing a precursor composition by mixing the mixed solution with the first polyamic acid; And
Imidating the precursor composition to obtain a polyimide film.
제12항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름을 수득하는 단계는 상기 전구체 조성물을 지지체에 제막하고 건조하여 겔 필름을 제조한 후, 상기 겔 필름을 이미드화하여 폴리이미드 필름을 형성하는 단계를 포함하는 제조방법.
The method of claim 12,
The obtaining of the polyimide film may include forming a polyimide film by forming the precursor composition on a support and drying the gel film to form a polyimide film, and then imidating the gel film.
제1항에 따른 폴리이미드 필름을 포함하는 커버레이(coverlay).A coverlay comprising the polyimide film of claim 1. 제14항에 따른 커버레이를 포함하는 전자 장치.An electronic device comprising the coverlay according to claim 14.
KR1020180097930A 2018-08-22 2018-08-22 Polyimide Film with Improved Base Resistance and Method for Preparing The Same KR102153507B1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180097930A KR102153507B1 (en) 2018-08-22 2018-08-22 Polyimide Film with Improved Base Resistance and Method for Preparing The Same
CN201880096720.9A CN112585195B (en) 2018-08-22 2018-09-28 Polyimide film having improved alkali resistance and method for preparing the same
PCT/KR2018/011539 WO2020040347A1 (en) 2018-08-22 2018-09-28 Polyimide film having improved alkali resistance and method for manufacturing same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180097930A KR102153507B1 (en) 2018-08-22 2018-08-22 Polyimide Film with Improved Base Resistance and Method for Preparing The Same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200022146A true KR20200022146A (en) 2020-03-03
KR102153507B1 KR102153507B1 (en) 2020-09-09

Family

ID=69592872

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180097930A KR102153507B1 (en) 2018-08-22 2018-08-22 Polyimide Film with Improved Base Resistance and Method for Preparing The Same

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR102153507B1 (en)
CN (1) CN112585195B (en)
WO (1) WO2020040347A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220065396A (en) * 2020-11-13 2022-05-20 피아이첨단소재 주식회사 Polyimide film for graphite sheet and graphite sheet prepared thereform

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113817196A (en) * 2021-11-05 2021-12-21 江西有泽新材料科技有限公司 Polyimide film having improved alkali resistance and method for preparing the same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09124791A (en) * 1995-10-27 1997-05-13 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Polyamic acid, polyimide and liquid crystal orienting agent
KR101167011B1 (en) * 2011-08-16 2012-07-24 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 Black polyimide film and method for preparing the same
KR20130113778A (en) * 2012-04-06 2013-10-16 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 Black polyimide film
KR20140137160A (en) * 2013-05-22 2014-12-02 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 Polyimide Film
KR20170114366A (en) * 2016-04-04 2017-10-16 주식회사 엘지화학 Polyimide precursor composition and transparent polyimide film prepared by using same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100839760B1 (en) * 2006-02-06 2008-06-19 주식회사 엘지화학 Copper clad laminate for chip on film
KR101531737B1 (en) * 2011-06-30 2015-06-25 코오롱인더스트리 주식회사 Polyamic acid and Polyamic acid solution, Polyimide protecive layer, Polyimide film
KR20170100792A (en) * 2016-02-26 2017-09-05 코오롱인더스트리 주식회사 Polyamic acid, Polyimide Resin, Polyimide Film and Display Device Comprising Thereof

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09124791A (en) * 1995-10-27 1997-05-13 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Polyamic acid, polyimide and liquid crystal orienting agent
KR101167011B1 (en) * 2011-08-16 2012-07-24 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 Black polyimide film and method for preparing the same
KR20130113778A (en) * 2012-04-06 2013-10-16 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 Black polyimide film
KR20140137160A (en) * 2013-05-22 2014-12-02 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 Polyimide Film
KR20170114366A (en) * 2016-04-04 2017-10-16 주식회사 엘지화학 Polyimide precursor composition and transparent polyimide film prepared by using same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220065396A (en) * 2020-11-13 2022-05-20 피아이첨단소재 주식회사 Polyimide film for graphite sheet and graphite sheet prepared thereform

Also Published As

Publication number Publication date
CN112585195B (en) 2023-03-28
WO2020040347A1 (en) 2020-02-27
KR102153507B1 (en) 2020-09-09
CN112585195A (en) 2021-03-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101906393B1 (en) Ultra Thin Black Polyimide Film and Method Preparing The Same
CN112955497B (en) Ultrathin polyimide film with improved dimensional stability and preparation method thereof
KR102153505B1 (en) Polyimide Film Comprising Fluorine-Contained Silane Additive and Carbon Black and Method for Preparing The Same
KR101550005B1 (en) Multilayer polyimide film, laminate and metal-clad laminate
KR101906394B1 (en) Ultra Thin Black Polyimide Film and Method For Preparing The Same
KR102171061B1 (en) Polyimide Film with Improved Surface Property and Method for Preparing the Same
KR102164470B1 (en) Polyimide Film Comprising Two or More Fillers Having Different Particle Diameter and Electronic Device Comprising the Same
KR102362385B1 (en) High Elastic and High Heat Resistant Polyimide Film and Manufacturing Method Thereof
KR102153507B1 (en) Polyimide Film with Improved Base Resistance and Method for Preparing The Same
KR102151506B1 (en) Polyimide Film Comprising Non-directional Polymer Chain, Method for Preparing the Same And Graphite Sheet Prepared by Using the Same
KR102153508B1 (en) Polyimide Film Comprising Crystalline Polyimide Resin and Thermal Conductive Filler and Method for Preparing The Same
KR102153506B1 (en) Polyimide Film Comprising Clay Particle and Carbon Black and Method for Preparing The Same
KR102270652B1 (en) Polyimide Film Comprising Two or More Fillers Having Different Particle Diameter and Electronic Device Comprising the Same
KR102370413B1 (en) Polyimide Composite Film with Superior Performance for Electromagnetic Wave Shielding and Method for Preparing the Same
CN113166454B (en) Polyimide film with improved thermal conductivity and method for preparing same
KR102013535B1 (en) Method for Preparing Polyimide Precursor Composition With Improved Storage Stability and Viscosity Stability, and Polyimide Precursor Composition Prepared by Using the Same
KR102138704B1 (en) Polyimide Film Comprising Bismaleimide Resin and Carbon Black and Method for Preparing The Same
KR102081090B1 (en) Black Polyimide Film Comprising Fluorine Resin and Method for Preparing The Same
KR102336859B1 (en) Polyimide film with improved chemical resistnace properties and manufacturing method thereof
KR102270651B1 (en) Polyimide Film Comprising Two or More Fillers Having Different Particle Diameter and Electronic Device Comprising the Same
KR102668440B1 (en) LOW DIELECTRIC BLACK Polyimide film and manufacturing method thereof
TWI847885B (en) Black polyimide film and the manufacturing method thereof
KR102164467B1 (en) Polyimide Film Comprising Two or More Fillers Having Different Particle Diameter and Electronic Device Comprising the Same
KR20230143380A (en) Manufacturing method of the polyimide film
KR20230171297A (en) Black polyimide film and manufacturing method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant