KR102153506B1 - Polyimide Film Comprising Clay Particle and Carbon Black and Method for Preparing The Same - Google Patents

Polyimide Film Comprising Clay Particle and Carbon Black and Method for Preparing The Same Download PDF

Info

Publication number
KR102153506B1
KR102153506B1 KR1020180083622A KR20180083622A KR102153506B1 KR 102153506 B1 KR102153506 B1 KR 102153506B1 KR 1020180083622 A KR1020180083622 A KR 1020180083622A KR 20180083622 A KR20180083622 A KR 20180083622A KR 102153506 B1 KR102153506 B1 KR 102153506B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polyimide film
dianhydride
bis
clay particles
carbon black
Prior art date
Application number
KR1020180083622A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200009362A (en
Inventor
김기훈
이길남
최정열
Original Assignee
피아이첨단소재 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 피아이첨단소재 주식회사 filed Critical 피아이첨단소재 주식회사
Priority to KR1020180083622A priority Critical patent/KR102153506B1/en
Priority to CN201880095601.1A priority patent/CN112399984B/en
Priority to PCT/KR2018/011538 priority patent/WO2020017692A1/en
Publication of KR20200009362A publication Critical patent/KR20200009362A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102153506B1 publication Critical patent/KR102153506B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • C08G73/1007Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/04Carbon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

본 발명은 폴리이미드 수지; 판상형 점토(clay) 입자; 및 카본 블랙을 포함하고, 상기 점토 입자는 필름 내에 분산되어 복수개의 베리어층을 형성하며, 적어도 일부의 카본 블랙이 상기 베리어층들 사이에 위치하는, 폴리이미드 필름을 제공한다.The present invention is a polyimide resin; Plate-shaped clay particles; And carbon black, wherein the clay particles are dispersed in the film to form a plurality of barrier layers, and at least a portion of the carbon black is provided between the barrier layers.

Description

점토 입자 및 카본 블랙을 포함하는 폴리이미드 필름 및 이의 제조방법 {Polyimide Film Comprising Clay Particle and Carbon Black and Method for Preparing The Same}Polyimide Film Comprising Clay Particle and Carbon Black and Method for Preparing The Same {Polyimide Film Comprising Clay Particle and Carbon Black and Method for Preparing The Same}

본 발명은 점토 입자 및 카본 블랙을 포함하는 폴리이미드 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polyimide film containing clay particles and carbon black, and a method for producing the same.

폴리이미드(polyimide, PI)는 강직한 방향족 주쇄를 기본으로 하는 열적 안정성을 가진 고분자 물질로, 이미드 고리의 화학적 안정성을 기초로 하여 우수한 기계적 강도, 내화학성, 내후성, 내열성을 가진다.Polyimide (PI) is a polymer material with thermal stability based on a rigid aromatic backbone, and has excellent mechanical strength, chemical resistance, weather resistance, and heat resistance based on the chemical stability of the imide ring.

뿐만 아니라 폴리이미드는 절연특성, 낮은 유전율과 같은 뛰어난 전기적 특성에 기반하여 미소 전자 분야, 광학 분야 등에 사용될 수 있는 고기능성 재료로 크게 각광받고 있다.In addition, polyimide has been in the spotlight as a highly functional material that can be used in microelectronics and optical fields based on excellent electrical properties such as insulation properties and low dielectric constants.

미소 전자 분야의 예로서, 휴대용 전자기기 및 통신기기에 포함되는 고집적 회로 등을 들 수 있다. 폴리이미드는 회로에 부착 또는 부가되어 상기 회로에 전기적 절연성을 제공함과 동시에, 수분, 광원, 충격 등에 대해 회로를 보호하는 필름으로서 이용될 수 있다.Examples of the field of microelectronics include highly integrated circuits included in portable electronic devices and communication devices. Polyimide is attached or added to a circuit to provide electrical insulation to the circuit, and can be used as a film to protect the circuit against moisture, light sources, impacts, and the like.

이와 같이 회로를 보호하는 필름으로는 다양한 예들이 존재할 수 있지만, 필름의 일면 또는 양면에 접착층이 형성되어 있는 복합 필름의 경우, 좁은 의미에서 커버레이(coverlay)로 지칭할 수 있고, 폴리이미드 필름은 상기 커버레이에 바람직하게 이용될 수 있다.There may be various examples as a film protecting the circuit as described above, but in the case of a composite film in which an adhesive layer is formed on one or both sides of the film, it may be referred to as a coverlay in a narrow sense, and the polyimide film It can be preferably used for the coverlay.

최근에는 회로에 대한 시각적 보안성, 차폐기능 및 차광기능이 중요하게 부각되면서, 카본 블랙을 함유하여 블랙 색조를 가지는 특수한 폴리이미드 필름이 커버레이의 소재로 각광받고 있다.In recent years, as the visual security, shielding function and light-shielding function for circuits have been highlighted, a special polyimide film containing carbon black and having a black color tone has been in the spotlight as a material for coverlays.

그러나, 회로의 제조 과정이 드릴(drill) 공정, 도금 공정, 디스미어(desmear) 공정 및 세척 공정 등을 포함할 수 있으며, 이상의 공정 중에 폴리이미드 필름이 염기성 용액에 노출될 수 있다.However, the manufacturing process of the circuit may include a drill process, a plating process, a desmear process, and a washing process, and the polyimide film may be exposed to a basic solution during the above process.

이때 염기성 용액에 의해 폴리이미드 필름이 약간이라도 분해되거나 변성되는 경우, 그에 함유되어 있던 카본 블랙이 대거 탈락될 수 있다.At this time, if the polyimide film is decomposed or denatured even slightly by the basic solution, the carbon black contained therein may be largely eliminated.

이러한 이유로 커버레이에서 블랙 색조의 제거와 함께 차폐성이 소실될 수 있으며, 카본 블랙의 탈락으로 인한 표면뿐만 아니라 중량 및 두께 감소가 수반될 수 있어 커버레이로서의 기능이 현저히 저하될 수 있다.For this reason, the shielding property may be lost along with the removal of the black tint from the coverlay, and a reduction in weight and thickness as well as the surface due to the loss of carbon black may be accompanied, so that the function as a coverlay may be significantly deteriorated.

따라서, 이러한 문제점을 근본적으로 해결할 수 있는 기술에 대한 필요성이 높은 실정이다.Therefore, there is a high need for a technology that can fundamentally solve this problem.

발명의 목적은 폴리이미드 필름 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.It is an object of the invention to provide a polyimide film and a method for producing the same.

본 발명의 일 측면에 따르면, 폴리이미드 필름은, 점토 입자 및 카본 블랙을 포함하도록 제조된다.According to an aspect of the present invention, a polyimide film is prepared to contain clay particles and carbon black.

이러한 일 측면에서, 본 발명의 폴리이미드 필름에 포함되는 점토 입자는, 염기성 용액 등에 의해 폴리이미드 필름에 불가피한 변성 또는 분해가 유발되더라도, 카본 블랙의 탈락을 억제하는데 유용하게 작용할 수 있다.In this aspect, even if the clay particles included in the polyimide film of the present invention are inevitable denaturation or decomposition of the polyimide film by a basic solution or the like, it may be useful to suppress the loss of carbon black.

다른 측면에서, 점토 입자는 염기 성분이 폴리이미드 필름 내로 침투하는 현상을 지연시키거나, 염기 성분의 침투량을 감소시키는데 도움을 줄 수 있다.In another aspect, the clay particles may help delay the penetration of the base component into the polyimide film, or help reduce the amount of penetration of the base component.

결과적으로 본 발명의 일 측면에 따라 앞선 종래의 문제가 해결될 수 있다.As a result, according to one aspect of the present invention, the prior problems can be solved.

이에 본 발명은 이의 구체적 실시예를 제공하는데 실질적인 목적이 있다.Accordingly, the present invention has a practical purpose to provide specific examples thereof.

하나의 실시양태에서, 본 발명은 폴리이미드 수지;In one embodiment, the present invention is a polyimide resin;

판상형 점토(clay) 입자; 및Plate-shaped clay particles; And

카본 블랙을 포함하고,Including carbon black,

상기 점토 입자는 필름 내에 분산되어 복수개의 베리어층을 형성하며,The clay particles are dispersed in the film to form a plurality of barrier layers,

적어도 일부의 카본 블랙이 상기 베리어층들 사이에 위치하는, 폴리이미드 필름을 제공한다.At least a portion of the carbon black is provided between the barrier layers, a polyimide film.

하나의 실시양태에서, 본 발명은 상기 폴리이미드 필름을 제조하는 방법을 제공한다.In one embodiment, the present invention provides a method of making the polyimide film.

하나의 실시양태에서, 본 발명은 상기 폴리이미드 필름을 포함하는 커버레이(coverlay) 및 상기 커버레이를 포함하는 전자 장치를 제공한다.In one embodiment, the present invention provides a coverlay including the polyimide film and an electronic device including the coverlay.

이하에서는 본 발명에 따른 "폴리이미드 필름" 및 "폴리이미드 필름의 제조방법"의 순서로 발명의 실시양태를 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the invention will be described in more detail in the order of “polyimide film” and “manufacturing method of polyimide film” according to the present invention.

이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Prior to this, terms or words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to their usual or dictionary meanings, and the inventors appropriately explain the concept of terms in order to explain their own invention in the best way. Based on the principle that it can be defined, it should be interpreted as a meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예의 구성은 본 발명의 가장 바람직한 하나의 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the configuration of the embodiments described in the present specification is only one of the most preferred embodiments of the present invention, and does not represent all of the technical spirit of the present invention, and various equivalents and modifications that can replace them at the time of application It should be understood that examples may exist.

본 명세서에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다", "구비하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 구성 요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 구성 요소, 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present specification, expressions in the singular include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present specification, terms such as "comprise", "include" or "have" are intended to designate the presence of implemented features, numbers, steps, components, or a combination thereof, and one or more other features or It is to be understood that the possibility of the presence or addition of numbers, steps, elements, or combinations thereof is not preliminarily excluded.

본 명세서에서 "디안하이드라이드(이무수물; dianhydride)"는 그 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 디안하이드라이드가 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디아민과 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다.In the present specification, "dianhydride (dianhydride)" is intended to include its precursor or derivative, which may not be technically dianhydride, but nevertheless react with diamine to form polyamic acid. And this polyamic acid can be converted back to polyimide.

본 명세서에서 "디아민(diamine)"은 그의 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 디아민이 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디안하이드라이드와 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다.In the present specification "diamine" is intended to include precursors or derivatives thereof, which may not technically be diamines, but nevertheless will react with dianhydride to form polyamic acid, and this polyamic The acid can be converted back to polyimide.

본 명세서에서 양, 농도, 또는 다른 값 또는 파라미터가 범위, 바람직한 범위 또는 바람직한 상한 값 및 바람직한 하한 값의 열거로서 주어지는 경우, 범위가 별도로 개시되는지에 상관없이 임의의 한 쌍의 임의의 위쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값 및 임의의 아래쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값으로 형성될 수 있는 모든 범위를 구체적으로 개시하는 것으로 이해되어야 한다. 수치 값의 범위가 본 명세서에서 언급될 경우, 달리 기술되지 않는다면, 그 범위는 그 종점 및 그 범위 내의 모든 정수와 분수를 포함하는 것으로 의도된다. 본 발명의 범주는 범위를 정의할 때 언급되는 특정 값으로 한정되지 않는 것으로 의도된다.Where an amount, concentration, or other value or parameter herein is given as an enumeration of a range, a preferred range, or a preferred upper and lower preferred value, any pair of any upper range limits, or It is to be understood that the preferred values and any lower range limits or all ranges that may be formed with preferred values are specifically disclosed. When a range of numerical values is referred to herein, unless stated otherwise, the range is intended to include its endpoints and all integers and fractions within that range. It is intended that the scope of the invention is not limited to the specific values recited when defining the range.

폴리이미드 필름Polyimide film

폴리이미드 수지;Polyimide resin;

판상형 점토(clay) 입자; 및Plate-shaped clay particles; And

카본 블랙을 포함하고,Including carbon black,

상기 점토 입자는 필름 내에 분산되어 복수개의 베리어층을 형성하며,The clay particles are dispersed in the film to form a plurality of barrier layers,

적어도 일부의 카본 블랙이 상기 베리어층들 사이에 위치하는 것을 특징으로 한다.It is characterized in that at least some of the carbon black is located between the barrier layers.

이러한 폴리이미드 필름은, 이하 상세하게 설명할 것이나, 점토 입자가 염기성 용액의 침투를 최소화하고, 염기성 용액에 의한 불가피한 변성을 억제하며, 카본 블랙의 탈락 또한 억제하는 효과를 가진다.Such a polyimide film will be described in detail below, but the clay particles have the effect of minimizing the penetration of the basic solution, suppressing the inevitable denaturation by the basic solution, and also suppressing the loss of carbon black.

앞서 설명한 바와 같이, 폴리이미드는, 일반적으로 염기 환경에 노출되는 경우 분해되거나 변성되는 등 염기 성분에 취약한 편이다.As described above, polyimides are generally vulnerable to basic components such as decomposition or denaturation when exposed to a basic environment.

또한 카본 블랙을 포함하는 폴리이미드 필름은 제조가 까다로울 뿐만 아니라 앞서 설명한 것처럼 카본 블랙의 탈락 때문에 염기 성분에 대해 더욱 취약하다고 할 수 있다.In addition, the polyimide film containing carbon black is difficult to manufacture, and as described above, it can be said that the polyimide film is more vulnerable to the base component due to the elimination of the carbon black.

카본 블랙의 탈락은 또한, 이를 포함하는 폴리이미드 필름에서 광투과율 저하를 야기할 수 있다.The removal of the carbon black may also cause a decrease in light transmittance in the polyimide film comprising the same.

따라서, 폴리이미드 필름, 특히 카본 블랙을 포함하는 폴리이미드 필름의 '내염기성' 개선이 필요하다.Accordingly, there is a need to improve the'basic resistance' of a polyimide film, particularly a polyimide film including carbon black.

내염기성이란, 폴리이미드 필름이 염기 환경에 노출되더라도 쉽게 분해 및/또는 변성되지 않는 성질을 의미하며 상기 분해 및/또는 변성 시에 폴리이미드 필름의 두께가 감소되므로, 두께 감소에 기준하여 내염기성을 판단할 수 있다.Basic resistance refers to a property that does not easily decompose and/or denature even when the polyimide film is exposed to a basic environment, and the thickness of the polyimide film decreases during the decomposition and/or modification. I can judge.

이와 관련하여 내염기성을 평가하기 위한 하나의 예는 염기성 용액에 폴리이미드 필름을 노출시키고, 노출 전후의 필름의 두께 변화를 측정하는 방법이다.In this regard, one example for evaluating basic resistance is a method of exposing a polyimide film to a basic solution and measuring a change in thickness of the film before and after exposure.

본 발명에서는 폴리이미드 필름의 내염기성을 평가하기 위한 방법으로서 평가방법 (a)를 이용한다.In the present invention, the evaluation method (a) is used as a method for evaluating the basic resistance of the polyimide film.

평가방법 (a)는 다음의 단계를 포함할 수 있다:Evaluation method (a) may include the following steps:

폴리이미드 필름의 양면을 코로나 처리하는 단계;Corona treatment on both sides of the polyimide film;

폴리이미드 필름, 본딩 시트 및 동박을 순서대로 적층한 후, 핫 프레스를 이용하여 온도 160℃에서 30 분간 50 kgf의 압력 하에 접합시킨 후 4*10 ㎝로 재단하여 연성회로기판 시료를 제조하는 단계; 및After sequentially laminating a polyimide film, a bonding sheet, and a copper foil, bonding them under a pressure of 50 kgf at a temperature of 160° C. for 30 minutes using a hot press, and then cutting into 4*10 cm to prepare a flexible circuit board sample; And

상기 연성회로기판 시료의 두께를 측정한 다음, 동일한 시료를 10 % NaOH 용액에 50℃에서 100 분간 노출시킨 후 두께를 측정하는 단계.After measuring the thickness of the flexible circuit board sample, measuring the thickness after exposing the same sample to a 10% NaOH solution at 50° C. for 100 minutes.

평가방법 (a)에 의한 두께 감소율은 NaOH 용액에 노출시키기 전에 측정한 연성회로기판 시료의 두께 대비 노출시킨 이후의 두께 변화를 백분율로 산출하여 염기 내성지수로서 나타낼 수 있다.The thickness reduction rate according to the evaluation method (a) can be expressed as a base resistance index by calculating the change in thickness after exposure to the thickness of the flexible circuit board sample measured before exposure to NaOH solution.

즉, 두께 감소율을 통해 산출한 염기 내성지수로 내염기성에 대한 정량적 수치로 볼 수 있다.That is, the base resistance index calculated through the thickness reduction rate can be viewed as a quantitative value for base resistance.

통상의 폴리이미드 필름의 경우, 이상의 평가방법 (a)을 거치면 염기 내성지수가 대략 60 % 이하로 나타날 수 있으며, 특히, 필름의 두께가 8 ㎛ 이하인 초박막 폴리이미드 필름의 경우, 상기의 평가방법 (a)을 거치면 염기 내성지수가 대략 50 % 이하로 나타날 수 있다.In the case of a conventional polyimide film, the base resistance index may be approximately 60% or less after passing through the above evaluation method (a). In particular, in the case of an ultra-thin polyimide film having a thickness of 8 µm or less, the evaluation method ( Through a), the base resistance index can be approximately 50% or less.

반면에 점토 입자 및 카본 블랙을 포함하는 본 발명의 폴리이미드 필름은 평가방법 (a)에 의한 염기 내성지수가 60 % 이상, 상세하게는 65 % 이상일 수 있으며, 통상의 폴리이미드 필름에 비해 개선된 내염기성을 갖는다.On the other hand, the polyimide film of the present invention including clay particles and carbon black may have a base resistance index of 60% or more, specifically 65% or more, according to the evaluation method (a), and is improved compared to a conventional polyimide film. It has basic resistance.

한편, 본 발명에 따른 점토 입자는 음전하를 갖는 옥사이드 층들이 적층되어 있는 층상구조를 갖는 점토 광물로서, 점토 입자의 두께가 약 1 내지 100 nm 이고, 장축의 길이가 1 내지 10 ㎛ 이며, 종횡비가 약 1 내지 1000 범위인 천연점토 또는 합성점토 입자일 수 있다.On the other hand, the clay particles according to the present invention are clay minerals having a layered structure in which oxide layers having negative charges are stacked, the thickness of the clay particles is about 1 to 100 nm, the length of the long axis is 1 to 10 ㎛, and the aspect ratio is It may be natural clay or synthetic clay particles ranging from about 1 to 1000.

하나의 구체적인 예에서, 상기 점토 입자는 노크기의 알루미늄 실리케이트 또는 마그네슘 실리케이트 층으로 이루어진 음전하를 띠는 필로실리케이트(phyllosilicates), 또는 필로실리케이트 층 사이에 나트륨 이온(Na+)또는 칼륨 이온(K+)이 충진된 칼륨 또는 나트륨 필로실리케이트일 수 있다.In one specific example, the clay particles are negatively charged phyllosilicates composed of a layer of no-sized aluminum silicate or magnesium silicate, or sodium ions (Na + ) or potassium ions (K + ) between phyllosilicate layers. It may be filled potassium or sodium phyllosilicate.

더욱 구체적인 예에서, 상기 상기 필로실리케이트는 몬모릴로나이트(montmorillonite), 헥토라이트(hectorite), 사포나이트(saponite), 베이델라이트(beidellite), 논트로나이트(nontronite), 버미큘라이트(vermiculite), 볼콘스코이트(volkonskoite), 소코나이트(sauconite), 불화헥토라이트(fluorohectorite), 마가다이트(magadite), 카올리나이트(kaolinite) 및 할로이사이트(halloysite)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이것만으로 한정되는 것은 아니다.In a more specific example, the phyllosilicate is montmorillonite, hectorite, saponite, beidellite, nontronite, vermiculite, volconscoite ( volkonskoite), soconite, fluorohectorite, magadite, kaolinite, and halloysite may be one or more selected from the group consisting of, but limited to this no.

또한, 상기 필로실리케이트, 나트륨필로실리케이트, 칼륨필로실리케이트가 4가 암모늄이온으로 처리된(modified) 점토가 사용될 수 있으며, 이러한 점토 입자는 소수성을 가짐으로써, 염기 성분이 폴리이미드 필름 내로 침투하는 현상을 지연시키거나, 염기 성분의 침투량을 감소시킬 수 있으며, 폴리이미드 필름 내에 배치된 구조에 따라 염기성 용액 등에 의해 폴리이미드 필름에 불가피한 변성 또는 분해가 유발되더라도, 카본 블랙의 탈락을 억제하는데 유용하게 작용할 수 있다.In addition, clay modified with the phyllosilicate, sodium phyllosilicate, and potassium phyllosilicate with quaternary ammonium ions may be used, and such clay particles have hydrophobic properties, thereby preventing the penetration of a base component into the polyimide film. It can delay or reduce the penetration amount of the basic component, and depending on the structure arranged in the polyimide film, even if inevitable denaturation or decomposition of the polyimide film is caused by a basic solution, etc., it can be useful in suppressing the loss of carbon black. have.

이상에 대해서는 '발명을 실시하기 위한 구체적인 내용'을 통해 보다 구체적으로 입증할 것이지만, 요약하면, 점토 입자가 하기에서 선택되는 적어도 하나의 상태로 폴리이미드 필름에 존재함에 따른 것으로 추측된다.The above will be demonstrated in more detail through'specific details for carrying out the invention', but in summary, it is assumed that the clay particles are present in the polyimide film in at least one state selected from below.

구체적으로 예에서, 상기 점토 입자는 하기에서 선택되는 적어도 하나의 상태로 복수개의 베리어층을 형성하고, 적어도 일부의 카본 블랙이 상기 베리어 층들 사이에 위치할 수 있다.Specifically, in an example, the clay particles may form a plurality of barrier layers in at least one state selected from the following, and at least a portion of carbon black may be positioned between the barrier layers.

(a) 점토 입자의 장축이 폴리이미드 필름의 기계반송방향(machine direction; MD)과 0 내지 45°의 각도를 갖도록 배치되는 제1 상태; 및(a) a first state in which the long axis of the clay particles is arranged to have an angle of 0 to 45° with the machine direction (MD) of the polyimide film; And

(b) 점토 입자의 장축이 폴리이미드 필름의 폭방향(transverse direction; TD)과 0 내지 45°의 각도를 갖도록 배치되는 제2 상태.(b) a second state in which the long axis of the clay particles is arranged to have an angle of 0 to 45° with the transverse direction (TD) of the polyimide film.

더욱 구체적인 예에서, 상기 제1 상태는 점토 입자의 장축이 폴리이미드 필름의 MD 방향과 평행하게 배치되어 복수개의 배리어층을 형성하는 구조일 수 있고, 상기 제2 상태는 점토 입자의 장축이 폴리이미드 필름의 TD 방향과 평행하게 배치되어 복수개의 배리어층을 형성하는 구조일 수 있다.In a more specific example, the first state may be a structure in which the long axis of the clay particles is arranged parallel to the MD direction of the polyimide film to form a plurality of barrier layers, and in the second state, the long axis of the clay particles is polyimide It may have a structure arranged in parallel with the TD direction of the film to form a plurality of barrier layers.

또 다른 구체적인 예에서, 상기 점토 입자는 하기에서 선택되는 적어도 하나의 상태로 복수개의 베리어층을 형성하고, 적어도 일부의 카본 블랙이 상기 베리어 층들 사이에 위치할 수 있다.In another specific example, the clay particles may form a plurality of barrier layers in at least one state selected from the following, and at least a portion of carbon black may be positioned between the barrier layers.

(a) 점토 입자가 폴리이미드 필름의 표면에 배치되는 제3 상태;(a) a third state in which clay particles are disposed on the surface of the polyimide film;

(b) 점토 입자가 폴리이미드 필름의 표면에 인접하게 배치되는 제4 상태; 및(b) a fourth state in which the clay particles are disposed adjacent to the surface of the polyimide film; And

(c) 점토 입자의 폴리이미드 필름 내부에 배치되는 제5 상태.(c) A fifth state arranged inside the polyimide film of clay particles.

앞서 설명한 바와 같이, 염기성 용액에 의해 폴리이미드 필름이 약간이라도 분해되거나 변성되는 경우, 그에 함유되어 있던 카본 블랙이 대거 탈락될 수 있으며, 특히, 표면에서부터 분해되거나 변성된 부위에 계속해서 염기성 용액이 침투하여 연속적으로 분해되거나 변성될 수 있는 바, 폴리이미드 필름 내에 함유되어 있는 카본 블랙이 연속적으로 탈락되는 문제가 발생할 수 있다.As described above, if the polyimide film is slightly decomposed or denatured by the basic solution, the carbon black contained therein may be largely eliminated, and in particular, the basic solution continues to permeate the decomposed or denatured portion from the surface. As a result, the carbon black contained in the polyimide film may be continuously decomposed or denatured.

반면에, 본 발명의 폴리이미드 필름은 점토 입자가 폴리이미드 필름의 표면에 배치되는 제3 상태를 포함하여 베리어층을 형성할 수 있으며, 소수성을 가지는 점토 입자는 폴리이미드 필름의 표면에서 염기성 용액이 침투되는 것을 억제할 수 있다.On the other hand, the polyimide film of the present invention can form a barrier layer including the third state in which the clay particles are disposed on the surface of the polyimide film, and the clay particles having hydrophobicity have a basic solution on the surface of the polyimide film. It can suppress penetration.

또한, 점토 입자가 폴리이미드 필름의 표면에 인접하게 배치는 제4 상태 및 점토 입자가 폴리이미드 필름 내부에 배치되는 제5 상태를 포함하여 베리어층을 형성할 수 있는 바, 염기성 용액의 침투되어 폴리이미드 필름이 분해되거나 변성되더라도, 판상형 점토 입자가 형성하는 복수개의 베리어층들 사이에 위치하는 카본 블랙은 이들의 구조에 의해 폴리이미드 필름 밖으로 탈락되는 것이 억제될 수 있다.In addition, a barrier layer can be formed including the fourth state in which the clay particles are disposed adjacent to the surface of the polyimide film and the fifth state in which the clay particles are disposed inside the polyimide film. Even if the mid film is decomposed or denatured, the carbon black positioned between the plurality of barrier layers formed by the plate-shaped clay particles can be suppressed from falling out of the polyimide film due to their structure.

따라서, 판상형 점토 입자가 가지는 소수성과 그 구조를 기반으로 염기성 용액이 폴리이미드 필름 내로 침투하는 현상을 지연시키거나, 염기성 용액이 침투되더라도 카본 블랙이 대거 탈락하는 문제를 해소할 수 있고, 폴리이미드 필름의 내염기성 개선에 유효하게 작용할 수 있다.Therefore, based on the hydrophobicity and structure of the plate-shaped clay particles, it is possible to delay the penetration of the basic solution into the polyimide film, or solve the problem that the carbon black is largely eliminated even if the basic solution penetrates, and the polyimide film It can act effectively in improving the basic resistance of

이처럼, 카본 블랙과 함께 점토 입자를 포함하는 본 발명의 폴리이미드 필름은 상술한 제1 내지 제5 상태로 존재하는 점토 입자에 기반하여 향상된 내염기성을 가질 수 있다.As such, the polyimide film of the present invention including clay particles together with carbon black may have improved basic resistance based on the clay particles present in the first to fifth states described above.

다만 이상의 이점에도 불구하고 점토 입자를 무조건적으로 많이 함유하는 것은 바람직하지 않다.However, despite the above advantages, it is not desirable to contain a lot of clay particles unconditionally.

구체적으로, 점토 입자의 함량이 일정 수준일 때 앞선 이점이 발현될 수 있지만, 이를 넘어서는 경우에는 폴리이미드 필름의 기계적 물성이 급격하게 저하될 수 있고, 그에 점토 입자로 인한 이점이 현저히 증대되지도 않기 때문이다.Specifically, when the content of the clay particles is at a certain level, the above advantages may be expressed, but if the content exceeds this, the mechanical properties of the polyimide film may be rapidly deteriorated, and the benefits due to the clay particles are not significantly increased. Because.

경우에 따라서는 본 발명의 범위를 벗어나 과량으로 존재하는 점토 입자는 기계적 물성을 저하시킬 수 있고, 서로 응집되어 폴리이미드 필름의 구조적 결함, 예를 들어 핀홀이나 크랙 등을 유발하여 염기 용액 등의 침투를 원활하게 할 수도 있으며, 이 경우, 내염기성은 오히려 감소될 수 있다.In some cases, clay particles that are present in excess outside the scope of the present invention may deteriorate mechanical properties, and aggregate with each other to cause structural defects of the polyimide film, for example, pinholes or cracks, and penetration of a base solution, etc. It may be smooth, and in this case, the base resistance may be rather reduced.

본 발명에서, 폴리이미드 필름의 기계적 물성과 앞선 이점이 양립 가능하도록, 적정량의 점토 입자가 포함되는 것이 중요하다.In the present invention, it is important to contain an appropriate amount of clay particles so that the mechanical properties of the polyimide film and the foregoing advantages are compatible.

이에 본 발명에서는 폴리이미드 필름 총 중량에 대하여, 85 내지 94.5 중량%의 폴리이미드 수지, 2 내지 5 중량%의 점토 입자, 및 5 내지 10 중량%의 카본 블랙을 포함할 수 있다.Accordingly, in the present invention, 85 to 94.5% by weight of the polyimide resin, 2 to 5% by weight of clay particles, and 5 to 10% by weight of carbon black may be included based on the total weight of the polyimide film.

상기 카본 블랙은 평균입경이 0.1 내지 5 ㎛일 수 있고, 카본 블랙의 함량은 폴리이미드 필름에서 소망하는 차폐성의 발현을 위해 선택될 수 있지만, 과도하게 첨가된 카본 블랙은 폴리이미드 필름의 기계적 물성을 저하시킬 수 있고, 서로 응집되어 표면 결함을 유발할 가능성이 있으므로 바람직하지 않다.The carbon black may have an average particle diameter of 0.1 to 5 µm, and the content of carbon black may be selected to express the desired shielding property in the polyimide film, but excessively added carbon black may have mechanical properties of the polyimide film. It is not preferable because it can be degraded, and there is a possibility that it aggregates with each other to cause surface defects.

또한, 카본 블랙의 함량이 상기 범위를 하회할 경우, 광투과율이 증가하여 폴리이미드 필름은 소망하는 수준의 차폐성을 가질 수 없다.In addition, when the content of carbon black is less than the above range, the light transmittance increases, and the polyimide film cannot have a desired level of shielding properties.

한편, 본 발명의 폴리이미드 수지는 폴리아믹산으로부터 유래될 수 있다. 상기 폴리아믹산은 디안하이드라이드 단량체 및 디아민 단량체가 중합된 것일 수 있다. Meanwhile, the polyimide resin of the present invention may be derived from polyamic acid. The polyamic acid may be obtained by polymerization of a dianhydride monomer and a diamine monomer.

상기 디아민 단량체는 방향족 디아민으로서, 이하와 같이 분류하여 예를 들 수 있다.The diamine monomer is an aromatic diamine, and is classified as follows and examples thereof are given.

1) 1,4-디아미노벤젠(또는 파라페닐렌디아민, PDA), 1,3-디아미노벤젠, 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 3,5-디아미노벤조익 애시드(또는 DABA) 등과 같이, 구조 상 벤젠 고리 1개를 갖는 디아민으로서, 상대적으로 강직한 구조의 디아민;1) 1,4-diaminobenzene (or paraphenylenediamine, PDA), 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, 3,5-diaminobenzo As a diamine having one benzene ring in structure, such as an acid acid (or DABA), a diamine having a relatively rigid structure;

2) 4,4'-디아미노디페닐에테르(또는 옥시디아닐린, ODA), 3,4'-디아미노디페닐에테르 등의 디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메테인(메틸렌디아민), 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-비스(트라이플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3'-디카르복시-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 4,4'-디아미노벤즈아닐라이드, 3,3'-디클로로벤지딘, 3,3'-디메틸벤지딘(또는 o-톨리딘), 2,2'-디메틸벤지딘(또는 m-톨리딘), 3,3'-디메톡시벤지딘, 2,2'-디메톡시벤지딘, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐설파이드, 3,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디메톡시벤조페논, 3,3'-디아미노디페닐메테인, 3,4'-디아미노디페닐메테인, 4,4'-디아미노디페닐메테인, 2,2-비스(3-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(3-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 3,3'-디아미노디페닐설폭사이드, 3,4'-디아미노디페닐설폭사이드, 4,4'-디아미노디페닐설폭사이드 등과 같이, 구조 상 벤젠 고리 2개를 갖는 디아민;2) Diaminodiphenyl ether, such as 4,4'-diaminodiphenyl ether (or oxydianiline, ODA), 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane (Methylenediamine), 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-bis (trifluoromethyl )-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane , 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, bis(4-aminophenyl)sulfide, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,3' -Dichlorobenzidine, 3,3'-dimethylbenzidine (or o-tolidine), 2,2'-dimethylbenzidine (or m-tolidine), 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimethoxy Benzidine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenylsulfide, 3,4' -Diaminodiphenylsulfide, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone , 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4' -Dimethoxybenzophenone, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis(3- Aminophenyl)propane, 2,2-bis(4-aminophenyl)propane, 2,2-bis(3-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 3,3'-diaminodiphenylsulfoxide, 3,4'-diaminodi Diamines having two benzene rings in structure, such as phenyl sulfoxide and 4,4'-diaminodiphenyl sulfoxide;

3) 1,3-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(4-아미노 페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-Q), 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-Q), 1,3-비스(3-아미노페녹시)-4-트라이플루오로메틸벤젠, 3,3'-디아미노-4-(4-페닐)페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디(4-페닐페녹시)벤조페논, 1,3-비스(3-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설파이 드)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(3-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠 등과 같이, 구조 상 벤젠 고리 3개를 갖는 디아민;3) 1,3-bis(3-aminophenyl)benzene, 1,3-bis(4-aminophenyl)benzene, 1,4-bis(3-aminophenyl)benzene, 1,4-bis(4-amino Phenyl)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(3-aminophenoxy)benzene (or TPE-Q), 1,4-bis(4-aminophenoxy) Benzene (or TPE-Q), 1,3-bis(3-aminophenoxy)-4-trifluoromethylbenzene, 3,3'-diamino-4-(4-phenyl)phenoxybenzophenone, 3 ,3'-diamino-4,4'-di(4-phenylphenoxy)benzophenone, 1,3-bis(3-aminophenylsulfide)benzene, 1,3-bis(4-aminophenylsulfide) Benzene, 1,4-bis(4-aminophenylsulfide)benzene, 1,3-bis(3-aminophenylsulfone)benzene, 1,3-bis(4-aminophenylsulfone)benzene, 1,4-bis( 4-aminophenylsulfone)benzene, 1,3-bis[2-(4-aminophenyl)isopropyl]benzene, 1,4-bis[2-(3-aminophenyl)isopropyl]benzene, 1,4- Diamines having three benzene rings in structure, such as bis[2-(4-aminophenyl)isopropyl]benzene;

4) 3,3'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 3,3'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(4-아미노 페녹시)페닐〕케톤, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스 〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕메테인, 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕프로페인(BAPP), 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인 등과 같이, 구조 상 벤젠 고리 4개를 갖는 디아민. 이들은 소망하는 바에 따라 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.4) 3,3'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 3,3'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, bis [3-(3-aminophenoxy)phenyl] ether, bis [3-(4-aminophenoxy)phenyl] ether, bis [4- (3-aminophenoxy)phenyl] ether, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) ether, bis (3- (3-aminophenoxy) phenyl) ketone, bis (3- (4-aminophenoxy) Si) phenyl] ketone, bis (4-(3-aminophenoxy) phenyl) ketone, bis (4- (4-amino phenoxy) phenyl) ketone, bis (3- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfide , Bis [3-(4-aminophenoxy)phenyl] sulfide, bis [4-(3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4-(4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (3-aminophenoxy)phenyl] sulfone, bis (3-(4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (4-aminophenoxy) Si) phenyl] sulfone, bis (3-(3-aminophenoxy) phenyl) methane, bis (3- (4-aminophenoxy) phenyl) methane, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl ] Methane, bis [4-(4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-bis [3-(3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3-(4 -Aminophenoxy)phenyl] propane, 2,2-bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane ( BAPP), 2,2-bis [3-(3-aminophenoxy) phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [3-(4- Aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3 ,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, etc. A diamine having 4 phase benzene rings. These can be used alone or in combination of two or more as desired.

상기 디안하이드라이드 단량체는 방향족 테트라카르복실릭 디안하이드라이드일 수 있다.The dianhydride monomer may be an aromatic tetracarboxylic dianhydride.

상기 방향족 테트라카르복실릭 디안하이드라이드는 피로멜리틱 디안하이드라이드(또는 PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 s-BPDA), 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 a-BPDA), 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(또는 ODPA), 디페닐설폰-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 DSDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)설파이드 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인 디안하이드라이드, 2,3,3',4'- 벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 BTDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메테인 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로페인 디안하이드라이드, p-페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), p-바이페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), m-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, p-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 1,3-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)바이페닐 디안하이드라이드, 2,2-비스〔(3,4-디카르복시 페녹시)페닐〕프로페인 디안하이드라이드(BPADA), 2,3,6,7-나프탈렌테트라카복실산 디안하이드라이드, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 4,4'-(2,2-헥사플루오로아이소프로필리덴)디프탈산 디안하이드라이드 등을 예로 들 수 있다. 이들은 소망하는 바에 따라 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.The aromatic tetracarboxylic dianhydride is pyromellitic dianhydride (or PMDA), 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or s-BPDA), 2,3 ,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or a-BPDA), oxydiphthalic dianhydride (or ODPA), diphenylsulfone-3,4,3',4'-tetracar Boxylic dianhydride (or DSDA), bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfide dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3, 3-hexafluoropropane dianhydride, 2,3,3',4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (Or BTDA), bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, p-phenylenebis(trimelitic Monoester acid anhydride), p-biphenylenebis (trimelitic monoester acid anhydride), m-terphenyl-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, p -Terphenyl-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, 1,3-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)benzene dianhydride, 1,4-bis(3, 4-dicarboxyphenoxy)benzene dianhydride, 1,4-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)biphenyl dianhydride, 2,2-bis ((3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl ) Propane dianhydride (BPADA), 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(2, 2-hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride, etc. are mentioned. These can be used alone or in combination of two or more as desired.

폴리이미드 필름의 제조방법Manufacturing method of polyimide film

본 발명의 폴리이미드 필름의 제조방법은,The manufacturing method of the polyimide film of the present invention,

(a) 1종 이상의 디안하이드라이드 단량체 및 1종 이상의 디아민 단량체로부터 폴리아믹산을 중합하는 단계;(a) polymerizing a polyamic acid from at least one dianhydride monomer and at least one diamine monomer;

(b) 점토 입자와 제1 유기용매를 포함하는 제1 조성물을 제조하는 단계;(b) preparing a first composition comprising clay particles and a first organic solvent;

(c) 카본 블랙과 제2 유기용매를 포함하는 제2 조성물을 제조하는 단계;(c) preparing a second composition comprising carbon black and a second organic solvent;

(d) 상기 폴리아믹산에 상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물을 혼합하여 폴리이미드 전구체 조성물을 제조하는 단계; 및(d) preparing a polyimide precursor composition by mixing the first composition and the second composition with the polyamic acid; And

(e) 상기 폴리이미드 전구체 조성물을 지지체에 제막하고 열처리하여 이미드화하는 단계를 포함 할 수 있다.(e) The polyimide precursor composition may be formed on a support and subjected to heat treatment to be imidized.

발명에서 폴리아믹산 용액의 제조는 예를 들어,Preparation of the polyamic acid solution in the invention, for example

(1) 디아민 단량체 전량을 용매 중에 넣고, 그 후 디안하이드라이드 단량체를 디아민 단량체와 실질적으로 등몰이 되도록 첨가하여 중합하는 방법;(1) a method of polymerizing by putting the entire amount of the diamine monomer into a solvent, and then adding the dianhydride monomer so that it becomes substantially equimolar with the diamine monomer;

(2) 디안하이드라이드 단량체 전량을 용매 중에 넣고, 그 후 디아민 단량체를 디안하이드라이드 단량체와 실질적으로 등몰이 되도록 첨가하여 중합하는 방법;(2) a method of polymerizing by putting the entire amount of the dianhydride monomer into a solvent, and then adding the diamine monomer so as to be substantially equimolar with the dianhydride monomer;

(3) 디아민 단량체 중 일부 성분을 용매 중에 넣은 후, 반응 성분에 대해서 디안하이드라이드 단량체 중 일부 성분을 약 95~105 몰%의 비율로 혼합한 후, 나머지 디아민 단량체 성분을 첨가하고 이에 연속해서 나머지 디안하이드라이드 단량체 성분을 첨가하여, 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체가 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법;(3) After adding some components of the diamine monomer in the solvent, mixing some components of the dianhydride monomer with respect to the reaction component in a ratio of about 95 to 105 mol%, the remaining diamine monomer components are added, followed by the remaining A method of polymerization by adding a dianhydride monomer component to make the diamine monomer and the dianhydride monomer substantially equimolar;

(4) 디안하이드라이드 단량체를 용매 중에 넣은 후, 반응 성분에 대해서 디아민 화합물 중 일부 성분을 95~105 몰%의 비율로 혼합한 후, 다른 디안하이드라이드 단량체 성분을 첨가하고 계속되어 나머지 디아민 단량체 성분을 첨가하여, 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체가 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법;(4) After putting the dianhydride monomer in the solvent, some components of the diamine compound are mixed in a ratio of 95 to 105 mol% with respect to the reaction component, and then another dianhydride monomer component is added, followed by the remaining diamine monomer component. A method of polymerization by adding to make the diamine monomer and the dianhydride monomer substantially equimolar;

(5) 용매 중에서 일부 디아민 단량체 성분과 일부 디안하이드라이드 단량체 성분을 어느 하나가 과량이도록 반응시켜, 제1 조성물을 형성하고, 또 다른 용매 중에서 일부 디아민 단량체 성분과 일부 디안하이드라이드 단량체 성분을 어느 하나가 과량이도록 반응시켜 제2 조성물을 형성한 후, 제1, 제2 조성물들을 혼합하고, 중합을 완결하는 방법으로서, 이 때 제1 조성물을 형성할 때 디아민 단량체 성분이 과잉일 경우, 제 2조성물에서는 디안하이드라이드 단량체 성분을 과량으로 하고, 제1 조성물에서 디안하이드라이드 단량체 성분이 과잉일 경우, 제2 조성물에서는 디아민 단량체 성분을 과량으로 하여, 제1, 제2 조성물들을 혼합하여 이들 반응에 사용되는 전체 디아민 단량체 성분과 디안하이드라이드 단량체 성분이 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법 등을 들 수 있다.(5) In a solvent, some diamine monomer components and some dianhydride monomer components are reacted so that any one is in excess to form a first composition, and some diamine monomer components and some dianhydride monomer components are selected in another solvent. A method of mixing the first and second compositions and completing polymerization after reacting so as to react so as to have an excessive amount. In this case, when the diamine monomer component is excessive when forming the first composition, the second composition In the case where the dianhydride monomer component is excessive, and the dianhydride monomer component is excessive in the first composition, the diamine monomer component is used in an excessive amount in the second composition, and the first and second compositions are mixed and used for these reactions. And a method of polymerization by making all the diamine monomer components and dianhydride monomer components substantially equimolar.

상기 유기 용매는 폴리아믹산이 용해될 수 있는 용매라면 특별히 한정되지는 않으나, 하나의 예로서, 비양성자성 극성 용매(aprotic polar solvent)일 수 있다.The organic solvent is not particularly limited as long as it is a solvent in which polyamic acid can be dissolved, but as an example, it may be an aprotic polar solvent.

상기 비양성자성 극성 용매의 비제한적인 예로서, N,N'-디메틸포름아미드(DMF), N,N'-디메틸아세트아미드(DMAc) 등의 아미드계 용매, p-클로로페놀, o-클로로페놀 등의 페놀계 용매, N-메틸-피롤리돈(NMP), 감마 브티로 락톤(GBL) 및 디그림(Diglyme) 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합되어 사용될 수 있다. As a non-limiting example of the aprotic polar solvent, amide solvents such as N,N'-dimethylformamide (DMF), N,N'-dimethylacetamide (DMAc), p-chlorophenol, o-chloro Phenolic solvents such as phenol, N-methyl-pyrrolidone (NMP), gamma butyrolactone (GBL), and Diglyme, and these may be used alone or in combination of two or more.

경우에 따라서는 톨루엔, 테트라히드로푸란, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메탄올, 에탄올, 물 등의 보조적 용매를 사용하여, 폴리아믹산의 용해도를 조절할 수도 있다.In some cases, an auxiliary solvent such as toluene, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, or water may be used to adjust the solubility of the polyamic acid.

하나의 예에서, 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물 제조에 특히 바람직하게 사용될 수 있는 유기 용매는 아미드계 용매인 N,N'-디메틸포름아미드 및 N,N'-디메틸아세트아미드일 수 있다.In one example, the organic solvent that can be particularly preferably used for preparing the polyimide precursor composition of the present invention may be N,N'-dimethylformamide and N,N'-dimethylacetamide, which are amide solvents.

상기 중합 방법이 이상의 예들로만 한정되는 것은 아니며, 공지된 어떠한 방법을 사용할 수 있음은 물론이다.It goes without saying that the polymerization method is not limited to the above examples, and any known method may be used.

상기 디안하이드라이드 단량체는 앞서 설명한 예시로부터 적절하게 선택될 수 있으며, 상세하게는, 피로멜리틱 디안하이드라이드(PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(s-BPDA) 및 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(a-BPDA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함할 수 있다.The dianhydride monomer may be appropriately selected from the examples described above, and in detail, pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) and 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA) may further include one or more selected from the group consisting of.

상기 디아민 단량체는 앞서 설명한 예시로부터 적절하게 선택될 수 있으며, 상세하게는 1,4-디아미노벤젠(PPD), 1,3-디아미노벤젠(MPD), 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔 및 3,5-디아미노벤조익 애시드(DABA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상이 바람직하게 이용될 수 있다.The diamine monomer may be appropriately selected from the examples described above, and in detail, 1,4-diaminobenzene (PPD), 1,3-diaminobenzene (MPD), 2,4-diaminotoluene, 2, At least one selected from the group consisting of 6-diaminotoluene and 3,5-diaminobenzoic acid (DABA) may be preferably used.

이와 같이 제조된 폴리아믹산은 중량평균분자량이 150,000 g/mole 이상 내지 1,000,000 g/mole 이하일 수 있고, 상세하게는 260,000 g/mole 이상 내지 700,000 g/mole 이하일 수 있으며, 더욱 상세하게는 280,000 g/mole 이상 내지 500,000 g/mole 이하일 수 있다.The polyamic acid prepared as described above may have a weight average molecular weight of 150,000 g/mole or more and 1,000,000 g/mole or less, in detail, 260,000 g/mole or more and 700,000 g/mole or less, and more specifically 280,000 g/mole It may be greater than or equal to 500,000 g/mole or less.

이러한 중량평균분자량을 갖는 폴리아믹산은, 보다 우수한 내열성과 기계적 물성을 갖는 폴리이미드 필름의 제조에 바람직할 수 있다. The polyamic acid having such a weight average molecular weight may be preferable for production of a polyimide film having more excellent heat resistance and mechanical properties.

일반적으로 폴리아믹산의 중량평균분자량은, 폴리아믹산과 유기용매를 포함하는 전구체 조성물의 점도에 비례할 수 있는 바, 상기 점도를 조절하여 폴리아믹산의 중량평균분자량을 상기 범위로 제어할 수 있다.In general, the weight average molecular weight of the polyamic acid may be proportional to the viscosity of the precursor composition containing the polyamic acid and an organic solvent, and the weight average molecular weight of the polyamic acid may be controlled within the above range by adjusting the viscosity.

이는 전구체 조성물의 점도가 폴리아믹산 고형분의 함량, 상세하게는 중합 반응에 사용된 디안하이드라이드 단량체와 디아민 단량체의 총량과 비례하기 때문이다.This is because the viscosity of the precursor composition is proportional to the content of the polyamic acid solid content, in particular, the total amount of the dianhydride monomer and the diamine monomer used in the polymerization reaction.

다만, 중량평균분자량이 점도에 대해 일 차원의 선형적인 비례 관계를 나타내는 것은 아니며, 로그 함수의 형태로 비례한다.However, the weight average molecular weight does not show a linear proportional relationship in one dimension to viscosity, and is proportional in the form of a log function.

즉, 보다 높은 중량평균분자량의 폴리아믹산을 얻기 위해 점도를 증가시켜도 중량평균분자량이 증가할 수 있는 범위가 제한적인 반면에 점도가 지나치게 높은 경우, 폴리이미드 필름의 제막공정에서 다이를 통한 전구체 조성물 토출 시, 다이 내부의 압력 상승 등으로 인한 공정성의 문제를 야기할 수 있다.In other words, even if the viscosity is increased to obtain a polyamic acid having a higher weight average molecular weight, the range in which the weight average molecular weight can be increased is limited, whereas when the viscosity is too high, the precursor composition is discharged through the die in the film forming process of the polyimide film. In this case, it may cause a problem of fairness due to an increase in pressure inside the die.

이에 본 발명의 폴리아믹산은 15 중량% 내지 20 중량%의 폴리아믹산 고형분 및 80 중량% 내지 85 중량%의 유기 용매를 포함할 수 있고, 이 경우 점도가 90,000 cP 이상 내지 300,000 cP 이하, 상세하게는 100,000 cP 이상 내지 250,000 cP일 수 있다.Accordingly, the polyamic acid of the present invention may include a polyamic acid solid content of 15% by weight to 20% by weight and an organic solvent of 80% to 85% by weight, and in this case, the viscosity is 90,000 cP or more to 300,000 cP or less, in detail It may be 100,000 cP or more to 250,000 cP.

이러한 점도 범위 내에서 폴리아믹산의 중량평균분자량이 상기 범위에 속할 수 있고, 앞서 설명한 제막공정 상의 문제를 유발하지 않을 수 있다.Within this viscosity range, the weight average molecular weight of the polyamic acid may fall within the above range, and may not cause problems in the film forming process described above.

한편, 상기 폴리아믹산으로부터 유래되는 폴리이미드 필름의 접동성, 열전도성, 도전성, 코로나 내성, 루프 경도 등의 필름의 여러 가지 특성을 개선할 목적으로 폴리아믹산의 제조 시, 필러를 첨가할 수도 있다.On the other hand, in the preparation of polyamic acid, a filler may be added for the purpose of improving various properties of the film such as sliding properties, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, and loop hardness of the polyimide film derived from the polyamic acid.

첨가되는 필러는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직한 예로는 실리카, 산화티탄, 알루미나, 질화규소, 질화붕소, 인산수소칼슘, 인산칼슘, 운모, 제2인산칼슘, 황산바륨 및 탄산칼슘 등을 들 수 있다.The filler to be added is not particularly limited, but preferred examples include silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, mica, dicalcium phosphate, barium sulfate, and calcium carbonate.

필러의 평균 입경은 특별히 한정되는 것은 아니고, 개질하고자 하는 폴리이미드 필름 특성과 첨가하는 필러의 종류에 따라서 결정할 수 있다.The average particle diameter of the filler is not particularly limited, and can be determined according to the characteristics of the polyimide film to be modified and the type of filler to be added.

하나의 예에서, 상기 필러의 평균 입경은 0.05 ㎛ 내지 100 ㎛, 상세하게는 0.1 ㎛ 내지 75 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.1 ㎛ 내지 50 ㎛, 특히 상세하게는 0.1 ㎛ 내지 25 ㎛일 수 있다.In one example, the average particle diameter of the filler may be 0.05 µm to 100 µm, specifically 0.1 µm to 75 µm, more preferably 0.1 µm to 50 µm, and particularly 0.1 µm to 25 µm.

평균 입경이 이 범위를 하회하면 개질 효과가 미미하고, 이 범위를 상회하면 필러가 폴리이미드 필름의 표면성을 크게 손상시키거나, 필름의 기계적 특성 저하를 유발할 수 있다.If the average particle diameter is less than this range, the modification effect is insignificant, and if it exceeds this range, the filler may greatly impair the surface property of the polyimide film or cause a decrease in the mechanical properties of the film.

또한, 필러의 첨가량에 대해서도 특별히 한정되는 것은 아니고, 개질하고자 하는 폴리이미드 필름 특성이나 필러 입경 등에 의해 결정할 수 있다.In addition, the addition amount of the filler is not particularly limited, and can be determined by the characteristics of the polyimide film to be modified, the particle diameter of the filler, or the like.

하나의 예에서, 필러의 첨가량은 전구체 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 100 중량부, 바람직하게는 0.01 중량부 내지 90 중량부, 더욱 바람직하게는 0.02 중량부 내지 80 중량부이다.In one example, the amount of the filler added is 0.01 parts by weight to 100 parts by weight, preferably 0.01 parts by weight to 90 parts by weight, more preferably 0.02 parts by weight to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the precursor composition.

필러 첨가량이 이 범위를 하회하면, 필러에 의한 개질 효과가 나타나기 어렵고, 이 범위를 상회하면 폴리이미드 필름의 기계적 특성이 크게 저하될 수 있다. 필러의 첨가 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지된 어떠한 방법을 이용할 수 있음은 물론이다.If the amount of the filler added is less than this range, the modification effect by the filler is difficult to appear, and if it exceeds this range, the mechanical properties of the polyimide film may be greatly reduced. The method of adding the filler is not particularly limited, and it goes without saying that any known method may be used.

상기 제1 조성물 또는 제2 조성물을 제조하는 단계는 밀링 공정에 의해 수행될 수 있다.The step of preparing the first composition or the second composition may be performed by a milling process.

상기 밀링은, 비제한적으로 비드 밀링(bead milling) 법의 사용이 고려될 수 있다. 비드 밀링은, 혼합물의 유속이 낮은 경우에도 효과적으로 교반을 할 수 있어 점토 입자 또는 카본 블랙의 분산에 유리한 점이 있다.For the milling, use of a bead milling method may be considered without limitation. Bead milling has an advantage in dispersing clay particles or carbon black because it can be effectively stirred even when the flow rate of the mixture is low.

단 이는 발명의 실시를 돕기위한 예시일 뿐임을 이해하여야 한다.However, it should be understood that this is only an example to aid in the implementation of the invention.

상기 제1 조성물 또는 2 조성물을 제조하는 단계에서 사용될 수 있는 제1 유기 용매 또는 제2 유기 용매의 비제한적인 예는, 점토 입자 또는 카본 블랙의 분산이 가능하면서도 혼합되면 폴리아믹산을 용해시킬 수 있는 용매, 상세하게는 앞서 설명한 비양성자성 극성 용매일 수 있다.A non-limiting example of the first organic solvent or the second organic solvent that can be used in the step of preparing the first composition or the second composition is that the clay particles or carbon black can be dispersed, but when mixed, the polyamic acid can be dissolved. It may be a solvent, in detail, the aprotic polar solvent described above.

경우에 따라서는, 상기 제1 조성물 또는 2 조성물을 제조하는 단계에서 분산제를 더 첨가할 수 있으며, 상기 분산제는 상기 점토 입자 또는 카본 블랙 100 중량부를 기준으로, 0.5 중량부 이상 내지 2 중량부 이하로 첨가될 수 있고, 그 종류는, 제1 유기 용매 또는 제2 유기 용매에 용해 가능한 것이라면, 특별히 한정되지 않지만, 계면 활성제, 합성 고분자 또는 천연 고분자를 사용할 수 있다.In some cases, in the step of preparing the first composition or the second composition, a dispersant may be further added, and the dispersant may be 0.5 parts by weight or more and 2 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the clay particles or carbon black. It may be added, and the kind thereof is not particularly limited as long as it is soluble in the first organic solvent or the second organic solvent, but a surfactant, a synthetic polymer, or a natural polymer may be used.

또한, 상업적으로 입수할 수 있는 BYK사의 DISPERBYK-2155을 사용할 수도 있다.In addition, BYK's DISPERBYK -2155, which can be obtained commercially, may be used.

상기 분산제의 첨가량이 상기 범위를 벗어나 과도할 경우, 폴리이미드 필름의 내코로나성, 내열성 등의 기계적 물성을 저하시킬 수 있고, 상기 범위를 하회할 경우, 카본 블랙의 분산에 기여하기 어렵다. When the amount of the dispersant is excessive outside the above range, mechanical properties such as corona resistance and heat resistance of the polyimide film may be deteriorated. When it is less than the above range, it is difficult to contribute to the dispersion of carbon black.

한편, 상기 폴리이미드 필름을 수득하는 단계의 이미드화는, 상기 전구체 조성물을 지지체에 캐스팅하고 건조하여 겔 필름을 제조한 후, 상기 겔 필름을 이미드화하여 폴리이미드 필름을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.On the other hand, the imidization of the step of obtaining the polyimide film may include the step of forming a polyimide film by casting the precursor composition on a support and drying to prepare a gel film, and then imidizing the gel film. have.

이러한 이미드화의 구체적인 방법으로는 열 이미드화법, 화학 이미드화법 또는 상기 열 이미드화법과 화학 이미드화법을 병용하는 복합 이미드화법을 예로 들 수 있으며, 이들에 대해서는 이하의 비제한적인 예를 통해 보다 구체적으로 설명한다.Specific methods of such imidization include thermal imidation, chemical imidization, or a complex imidization method in which the thermal imidization and chemical imidization are used in combination, and the following non-limiting examples It will be described in more detail through.

<열 이미드화법><Thermal imidization method>

상기 열 이미드화 법은, 화학적 촉매를 배제하고, 열풍이나 적외선 건조기 등의 열원으로 이미드화 반응을 유도하는 방법으로서,The thermal imidation method is a method of inducing an imidation reaction with a heat source such as hot air or an infrared dryer, excluding a chemical catalyst,

상기 전구체 조성물을 건조하여 겔 필름을 형성하는 과정; 및Drying the precursor composition to form a gel film; And

상기 겔 필름을 열처리하여 폴리이미드 필름을 수득하는 과정을 포함할 수 있다.Heat treatment of the gel film may include a process of obtaining a polyimide film.

여기서, 겔 필름이란, 폴리아믹산으로부터 폴리이미드로의 변환에 대해 중간 단계에서 자기 지지성을 가지는 필름 중간체라 이해할 수 있다.Here, the gel film can be understood as a film intermediate having self-supporting properties in an intermediate step for conversion from polyamic acid to polyimide.

상기 겔 필름을 형성하는 과정은, 전구체 조성물을 유리판, 알루미늄 박, 무단(endless) 스테인레스 벨트, 또는 스테인레스 드럼 등의 지지체 상에 필름형으로 캐스팅하고, 이후 지지체 상의 전구체 조성물을 50℃ 내지 200℃, 상세하게는 80℃ 내지 150℃ 범위의 가변적인 온도에서 건조하는 것일 수 있다.In the process of forming the gel film, the precursor composition is cast in a film form on a support such as a glass plate, an aluminum foil, an endless stainless belt, or a stainless drum, and then the precursor composition on the support is 50°C to 200°C, Specifically, it may be drying at a variable temperature in the range of 80°C to 150°C.

이에 따라 전구체 조성물에 부분적인 경화 및/또는 건조가 일어남으로써 겔 필름이 형성될 수 있다. 그 다음에 지지체로부터 박리하여 겔 필름을 얻을 수 있다.Accordingly, a gel film may be formed by partial curing and/or drying of the precursor composition. Then, the gel film can be obtained by peeling from the support.

경우에 따라서는 이후 열처리 과정에서 수득되는 폴리이미드 필름의 두께 및 크기를 조절하고 배향성을 향상시키기 위하여 상기 겔 필름을 연신시키는 공정이 수행될 수 있으며, 연신은 기계반송방향(MD) 및 기계반송방향에 대한 횡방향(TD) 중 적어도 하나의 방향으로 수행될 수 있다.In some cases, a process of stretching the gel film may be performed in order to adjust the thickness and size of the polyimide film obtained in the subsequent heat treatment process and improve orientation, and the stretching may be performed in the machine transfer direction (MD) and the machine transfer direction. It may be performed in at least one of the transverse directions TD.

이와 같이 수득한 겔 필름을, 텐터에 고정한 다음 50℃ 내지 500℃, 상세하게는 150℃ 내지 500℃ 범위의 가변적인 온도에서 열처리하여 겔 필름에 잔존하는 물, 잔류 용매 등을 제거하고, 남아 있는 거의 모든 아믹산기를 이미드화하여, 본 발명의 폴리이미드 필름을 수득할 수 있다.The gel film thus obtained is fixed to a tenter and then heat-treated at a variable temperature in the range of 50°C to 500°C, specifically 150°C to 500°C to remove water and residual solvent remaining in the gel film, and Almost all of the amic acid groups can be imidized to obtain the polyimide film of the present invention.

경우에 따라서는 상기와 같이 수득한 폴리이미드 필름을 400℃ 내지 650℃의 온도로 5 초 내지 400 초간 가열 마감하여 폴리이미드 필름을 더욱 경화시킬 수도 있으며, 수득한 폴리이미드 필름에 잔류할 수도 있는 내부 응력을 완화시키기 위해서 소정의 장력 하에서 이를 수행할 수도 있다.In some cases, the polyimide film obtained as described above may be further cured by heating and finishing at a temperature of 400° C. to 650° C. for 5 to 400 seconds to further cure the polyimide film. It is also possible to do this under a certain tension to relieve the stress.

<화학 이미드화법><Chemical imidization method>

상기 화학 이미드화법은 전구체 조성물에 탈수제 및/또는 이미드화제를 첨가하여 아믹산기의 이미드화를 촉진하는 방법이다.The chemical imidization method is a method of promoting imidization of an amic acid group by adding a dehydrating agent and/or an imidizing agent to the precursor composition.

여기서 "탈수제"란, 폴리아믹산에 대한 탈수 작용을 통해 폐환 반응을 촉진하는 물질을 의미하고, 이에 대한 비제한적인 예로서, 지방족의 애시드 안하이드라이드, 방향족의 애시드 안하이드라이드, N,N'-디알킬카르보디이미드, 할로겐화 저급 지방족, 할로겐화 저급 패티 애시드 안하이드라이드, 아릴 포스포닉 디할라이드, 및 티오닐 할라이드 등을 들 수 있다.Here, the "dehydrating agent" means a substance that promotes a ring closure reaction through a dehydration action on polyamic acid, and non-limiting examples thereof include an aliphatic acid anhydride, an aromatic acid anhydride, N,N' -Dialkylcarbodiimide, halogenated lower aliphatic, halogenated lower patty acid anhydride, aryl phosphonic dihalides, and thionyl halides.

이중에서도 입수의 용이성, 및 비용의 관점에서 지방족 애시드 안하이드라이드가 바람직할 수 있고, 이의 비제한적인 예로서, 아세틱 안하이드라이드(AA), 프로피온 애시드 안하이드라이드, 및 락틱 애시드 안하이드라이드 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Among these, aliphatic acid anhydride may be preferred from the viewpoint of availability and cost, and non-limiting examples thereof include acetic anhydride (AA), propion acid anhydride, and lactic acid anhydride. And the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

또한, "이미드화제"란 폴리아믹산에 대한 폐환 반응을 촉진하는 효과를 갖는 물질을 의미하고, 예를 들어 지방족 3급 아민, 방향족 3급 아민, 및 복소환식 3급 아민 등의 이민계 성분일 수 있다.In addition, the term "imidating agent" refers to a substance having an effect of promoting a ring closure reaction with respect to polyamic acid, and is an imine component such as an aliphatic tertiary amine, an aromatic tertiary amine, and a heterocyclic tertiary amine. I can.

이중에서도 촉매로서의 반응성의 관점에서 복소환식 3급 아민이 바람직할 수 있다. 복소환식 3급 아민의 비제한적인 예로서, 퀴놀린, 이소퀴놀린, β-피콜린(BP), 피리딘 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Among these, a heterocyclic tertiary amine may be preferable from the viewpoint of reactivity as a catalyst. Non-limiting examples of the heterocyclic tertiary amine include quinoline, isoquinoline, β-picoline (BP), pyridine, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

탈수제의 첨가량은 폴리아믹산 중 아믹산기 1 몰에 대하여 0.5 내지 5 몰의 범위 내인 것이 바람직하고, 1.0 몰 내지 4 몰의 범위 내인 것이 특히 바람직하다. 또한, 이미드화제의 첨가량은 폴리아믹산 중 아믹산기 1 몰에 대하여 0.05 몰 내지 2 몰의 범위 내인 것이 바람직하고, 0.2 몰 내지 1 몰의 범위 내인 것이 특히 바람직할 수 있다.The amount of the dehydrating agent added is preferably in the range of 0.5 to 5 moles, and particularly preferably in the range of 1.0 to 4 moles per 1 mole of the amic acid group in the polyamic acid. In addition, the amount of the imidizing agent added is preferably within the range of 0.05 to 2 moles, and particularly preferably within the range of 0.2 to 1 mole, per 1 mole of the amic acid group in the polyamic acid.

상기 탈수제 및 이미드화제가 상기 범위를 하회하면 화학적 이미드화가 불충분하고, 제조되는 폴리이미드 필름에 크랙이 형성될 수 있고, 필름의 기계적 강도도 저하될 수 있다. 또한, 이들 첨가량이 상기 범위를 상회하면 이미드화가 과도하게 빠르게 진행될 수 있으며, 이 경우, 필름 형태로 캐스팅하기 어렵거나 제조된 폴리이미드 필름이 브리틀(brittle)한 특성을 보일 수 있어, 바람직하지 않다.If the dehydrating agent and the imidizing agent are less than the above ranges, chemical imidization is insufficient, cracks may be formed in the polyimide film to be produced, and the mechanical strength of the film may be reduced. In addition, if the amount of these additions exceeds the above range, imidization may proceed excessively quickly, and in this case, it is difficult to cast into a film or the manufactured polyimide film may exhibit brittle characteristics, which is not preferable. not.

<복합 이미드화법><Complex imidization method>

이상의 화학 이미드화법에 연계하여, 열 이미드화법을 추가로 수행하는 복합 이미드화법이 폴리이미드 필름의 제조에 이용될 수 있다.In connection with the above chemical imidization method, a composite imidization method in which a thermal imidization method is additionally performed can be used for the production of a polyimide film.

구체적으로 복합 이미드화법은, 저온에서 전구체 조성물에 탈수제 및/또는 이미드화제를 첨가하는 화학 이미드화법 과정; 및 상기 전구체 조성물을 건조하여 겔 필름을 형성하고, 상기 겔 필름을 열처리하는 열 이미드화법 과정을 포함할 수 있다.Specifically, the composite imidization method includes a chemical imidization process of adding a dehydrating agent and/or an imidizing agent to a precursor composition at a low temperature; And a thermal imidization process of drying the precursor composition to form a gel film and heat-treating the gel film.

상기 화학 이미드화법 과정의 수행 시, 탈수제와 이미드화제의 종류 및 첨가량은 앞선 화학 이미드화법에 설명한 바에 따라 적절하게 선택될 수 있다.When performing the chemical imidization process, the types and amounts of the dehydrating agent and the imidizing agent may be appropriately selected as described in the above chemical imidization method.

상기 겔 필름을 형성하는 과정에서는 탈수제 및/또는 이미드화제를 함유하는 전구체 조성물을 유리판, 알루미늄 박, 무단(endless) 스테인레스 벨트, 또는 스테인레스 드럼 등의 지지체 상에 필름형으로 캐스팅하고, 이후 지지체 상의 전구체 조성물을 50℃ 내지 180℃, 상세하게는 80℃ 내지 180℃ 범위의 가변적인 온도에서 건조한다. 이러한 과정에서, 화학 전환제 및/또는 이미드화제가 촉매로 작용하여 아믹산기가 이미드기로 빠르게 변환될 수 있다.In the process of forming the gel film, a precursor composition containing a dehydrating agent and/or an imidizing agent is cast in a film form on a support such as a glass plate, an aluminum foil, an endless stainless belt, or a stainless drum, and then on the support. The precursor composition is dried at varying temperatures ranging from 50°C to 180°C, specifically 80°C to 180°C. In this process, a chemical converting agent and/or an imidizing agent may act as a catalyst to rapidly convert an amic acid group into an imide group.

경우에 따라서는 이후 열처리 과정에서 수득되는 폴리이미드 필름의 두께 및 크기를 조절하고 배향성을 향상시키기 위하여 상기 겔 필름을 연신시키는 공정이 수행될 수 있으며, 연신은 기계반송방향(MD) 및 기계반송방향에 대한 횡방향(TD) 중 적어도 하나의 방향으로 수행될 수 있다.In some cases, a process of stretching the gel film may be performed in order to adjust the thickness and size of the polyimide film obtained in the subsequent heat treatment process and improve orientation, and the stretching may be performed in the machine transfer direction (MD) and the machine transfer direction. It may be performed in at least one of the transverse directions TD.

이와 같이 수득한 겔 필름을, 텐터에 고정한 다음 50℃ 내지 500℃, 상세하게는 150℃ 내지 300℃ 범위의 가변적인 온도에서 열처리하여 겔 필름에 잔존하는 물, 촉매, 잔류 용매 등을 제거하고, 남아 있는 거의 모든 아믹산기를 이미드화하여, 본 발명의 폴리이미드 필름을 수득할 수 있다.The gel film thus obtained is fixed to a tenter and then heat-treated at a variable temperature in the range of 50°C to 500°C, specifically 150°C to 300°C to remove water, catalyst, residual solvent, etc. remaining in the gel film, By imidizing almost all remaining amic acid groups, the polyimide film of the present invention can be obtained.

이와 같은 열처리 과정에서도 탈수제 및/또는 이미드화제가 촉매로서 작용하여 아믹산기가 이미드기로 빠르게 전환될 수 있어 높은 이미드화율의 구현이 가능할 수 있다.Even in such a heat treatment process, a dehydrating agent and/or an imidizing agent may act as a catalyst to rapidly convert an amic acid group into an imide group, thereby enabling a high imidation rate.

경우에 따라서는 상기와 같이 수득한 폴리이미드 필름을 400℃ 내지 650℃의 온도로 5 초 내지 400 초간 가열 마감하여 폴리이미드 필름을 더욱 경화시킬 수도 있으며, 수득한 폴리이미드 필름에 잔류할 수도 있는 내부 응력을 완화시키기 위해서 소정의 장력 하에서 이를 수행할 수도 있다.In some cases, the polyimide film obtained as described above may be further cured by heating and finishing at a temperature of 400° C. to 650° C. for 5 to 400 seconds to further cure the polyimide film. It is also possible to do this under a certain tension to relieve the stress.

한편, 본 발명에서는 8 ㎛ 이하의 초박막 필름을 구현하기 위해 폴리아믹산을 지지체에 도포(토출)할 때, 토출량, 속도, 압력 등의 공정 조건을 제어하여야 한다.Meanwhile, in the present invention, when applying (discharging) polyamic acid to a support in order to implement an ultra-thin film of 8 μm or less, process conditions such as discharge amount, speed, and pressure must be controlled.

구체적으로, T-다이(T-Die)에서 엔드리스 벨트(endless belt)로 폴리아믹산 용액이 토출되어 막 형태로 착지하는 시점의 흔들림을 최소화하여야 하는데, 이를 위해, 토출막 형성시 일반 폴리이미드 필름 제조시에 사용되는 압력보다 낮은 압력, 예컨대, 10 내지 40 mmH2O의 압력에서 에어(air)를 공급할 수 있다.Specifically, it is necessary to minimize the shaking at the point when the polyamic acid solution is discharged from the T-Die to an endless belt and lands in the form of a film.To this end, a general polyimide film is manufactured when the discharge film is formed. Air can be supplied at a pressure lower than the pressure used at the time, for example, 10 to 40 mmH 2 O.

이때, T-다이에서 토출되는 양 및 엔드리스 벨트의 속도는 하기 수학식을 만족할 수 있고, 예컨대, T-다이에서 토출되는 양은 150 kg/hr 내지 300 kg/hr 일 수 있고, 엔드리스 벨트의 속도는 15 mpm 내지 25 mpm 일 수 있다.At this time, the amount discharged from the T-die and the speed of the endless belt may satisfy the following equation, for example, the amount discharged from the T-die may be 150 kg/hr to 300 kg/hr, and the speed of the endless belt is It may be between 15 mpm and 25 mpm.

[수학식][Equation]

T-다이에서 토출되는 양/T-다이에서 토출되는 시간 = 필름의 비중*(T-다이 단면적)*(엔드리스 벨트의 속도)Amount discharged from T-die/Time discharged from T-die = Specific gravity of film*(T-die cross-sectional area)*(Speed of endless belt)

실험실 수준에서는 캐스팅 두께를 조절하여 초박막 두께의 폴리이미드 필름을 얻을 수 있으나, 대량 생산 공정에서는 상기 범위를 만족할 때, 8㎛ 이하의 초박막의 두께 구현이 가능하다.At the laboratory level, an ultra-thin polyimide film can be obtained by controlling the casting thickness, but in a mass production process, when the above range is satisfied, an ultra-thin film of 8 μm or less can be realized.

구체적으로, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 7.5 ㎛ 이하, 상세하게는, 3 내지 7.5 ㎛, 더욱 상세하게는, 5 내지 7.5 ㎛의 두께를 가질 수 있다.Specifically, the polyimide film according to the present invention may have a thickness of 7.5 μm or less, specifically, 3 to 7.5 μm, and more specifically, 5 to 7.5 μm.

또한, 핀 타입의 프레임에 고정시킨 후 텐터 드라이어 등의 기기를 이용한 열처리시, 열처리 공정 중 필름에 파단이 발생하는 것을 방지하기 위해 같은 두께의 옐로우 폴리이미드 필름 제조시의 열처리 최고 온도 기준 50 내지 150℃ 낮은 온도에서 열처리를 수행할 수 있다.In addition, in order to prevent breakage in the film during the heat treatment using a device such as a tenter dryer after fixing it to a pin-type frame, the maximum heat treatment temperature standard for manufacturing a yellow polyimide film of the same thickness is 50 to 150. The heat treatment can be performed at a lower temperature.

또한, 이미드화가 완료된 필름을 20 내지 30℃ 에서 냉각 처리하여 필름화할 수 있다.In addition, the imidization-completed film can be cooled down at 20 to 30°C to form a film.

본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 점토 입자 및 카본 블랙을 포함함으로써, 내염기성이 향상될 수 있음을 이상에서 충분히 설명하였다.It has been sufficiently explained above that the polyimide film according to the present invention contains clay particles and carbon black, so that basic resistance can be improved.

정리하면, 점토 입자를 포함하는 폴리이미드 필름은 내화학성이 우수한 바, 이를 기반으로 하여 카본 블랙과 폴리이미드 수지 사이에서 염기 성분에 의한 폴리이미드 수지의 분해 및/또는 변성을 억제할 수 있다.In summary, since the polyimide film including clay particles has excellent chemical resistance, it is possible to suppress decomposition and/or modification of the polyimide resin by a base component between carbon black and the polyimide resin based on this.

뿐만 아니라, 점토 입자는 이의 흡습성에 기반하여 염기 성분이 폴리이미드 필름 내로 침투하는 현상을 지연시키거나, 염기 성분의 침투량을 감소시킬 수 있다.In addition, the clay particles may delay the penetration of the base component into the polyimide film or reduce the penetration amount of the base component based on its hygroscopicity.

본 발명에 따른 제조방법은, 상기한 폴리이미드 필름의 구현을 가능하게 하는데 실질적인 이점이 있다.The manufacturing method according to the present invention has a substantial advantage in enabling the implementation of the polyimide film described above.

이하, 발명의 구체적인 실시예를 통해, 발명의 작용 및 효과를 보다 상술하기로 한다. 다만, 이러한 실시예는 발명의 예시로 제시된 것에 불과하며, 이에 의해 발명의 권리범위가 정해지는 것은 아니다.Hereinafter, the functions and effects of the invention will be described in more detail through specific embodiments of the invention. However, these embodiments are only presented as examples of the invention, and the scope of the invention is not determined thereby.

<실시예 1><Example 1>

제조예 1: 폴리아믹산 중합Preparation Example 1: Polyamic acid polymerization

폴리아믹산 용액 중합 공정으로서, 500 mL 반응기에 질소 분위기하에서 용매로서 디메틸포름아미드(DMF)를 425 g 투입하였다.As a polyamic acid solution polymerization process, 425 g of dimethylformamide (DMF) was added as a solvent in a nitrogen atmosphere to a 500 mL reactor.

온도를 25℃로 설정한 다음, 디아민 단량체로서 ODA 를 35.90g 투입하고, 30분 가량 교반하여 단량체가 용해된 것을 확인한 뒤에 디안하이드라이드 단량체로서 PMDA를 39.10 g 투입하고 최종적으로 점도 250,000 cP에서 280,000 cP가 되도록 마지막 투입량을 조정하여 투입하였다.After setting the temperature to 25° C., 35.90 g of ODA was added as a diamine monomer, and after confirming that the monomer was dissolved by stirring for about 30 minutes, 39.10 g of PMDA was added as a dianhydride monomer, and finally 280,000 cP at a viscosity of 250,000 cP. The final input amount was adjusted so that it was added.

투입이 끝나면 온도를 유지하면서 1시간 동안 교반하여 최종점도 280,000 cP의 폴리아믹산 용액을 중합하였다.Upon completion of the addition, the mixture was stirred for 1 hour while maintaining the temperature to polymerize a polyamic acid solution having a final viscosity of 280,000 cP.

제조예 2: 제1 조성물 제조Preparation Example 2: Preparation of the first composition

제1 유기용매로서 100 g의 DMF에 점토 입자로서 10 g의 클로이사이트(Cloisite) 30B® 를 혼합하여 제1 조성물을 제조하였다.The first composition by mixing 10 g of Chloe site (Cloisite) 30B ® as clay particles in DMF for 100 g as the first organic solvent was prepared.

제조예 3: 제2 조성물 제조Preparation Example 3: Preparation of the second composition

제2 유기용매로서 100 g의 DMF에 10 g의 카본 블랙 및 0.1 g의 분산제 BYK-430를 혼합한 후 밀링기를 이용하여 평균 입경이 0.4 ㎛ 인 카본 블랙을 포함하는 제2 조성물을 제조하였다.After mixing 10 g of carbon black and 0.1 g of dispersant BYK-430 in 100 g of DMF as a second organic solvent, a second composition including carbon black having an average particle diameter of 0.4 µm was prepared using a milling machine.

제조예 4: 폴리이미드 필름의 제조Preparation Example 4: Preparation of polyimide film

상기 제조예 1에서 제조된 폴리아믹산 용액 50 g에 제조예 2에서 제조된 제1 조성물 6.55 g, 제조예 3에서 제조된 제2 조성물 2.81 g을 혼합하고, 촉매로서 이소퀴놀린(IQ) 4.76 g, 무수초산(AA) 26.36 g, 및 DMF 18.87 g을 투입한 후, 균일하게 혼합하여 SUS plate(100SA, Sandvik)에 닥터 블레이드를 사용하여 70 ㎛로 캐스팅하고 100℃ 내지 200℃의 온도범위에서 건조시켰다.To 50 g of the polyamic acid solution prepared in Preparation Example 1, 6.55 g of the first composition prepared in Preparation Example 2 and 2.81 g of the second composition prepared in Preparation Example 3 were mixed, and isoquinoline (IQ) 4.76 g as a catalyst, After adding 26.36 g of acetic anhydride (AA) and 18.87 g of DMF, they were uniformly mixed, cast to 70 μm using a doctor blade on a SUS plate (100SA, Sandvik), and dried at a temperature of 100°C to 200°C. .

그 다음, 필름을 SUS Plate에서 박리하여 핀 프레임에 고정시켜 고온 텐터로 이송하였다.Then, the film was peeled off the SUS plate, fixed to the pin frame, and transferred to a high-temperature tenter.

필름을 고온 텐터에서 200℃부터 600℃까지 가열한 후 25℃에서 냉각시킨 후 핀 프레임에서 분리하여 폴리이미드 필름 총 중량에 대하여 7 중량%의 카본 블랙 및 3 중량%의 점토 입자를 포함하는 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.7.5 µm containing 7% by weight of carbon black and 3% by weight of clay particles based on the total weight of the polyimide film after heating the film from 200°C to 600°C in a high-temperature tenter, cooling it at 25°C, and separating it from a pin frame A thick polyimide film was prepared.

<실시예 2> 내지 <실시예 4><Example 2> to <Example 4>

카본 블랙 및 점토 입자의 함량을 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 약 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.A polyimide film having a thickness of about 7.5 μm was prepared in the same manner as in Example 1, except that the contents of carbon black and clay particles were changed as shown in Table 1 below.

<비교예 1><Comparative Example 1>

점토 입자를 첨가하지 않은 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 약 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.A polyimide film having a thickness of about 7.5 μm was prepared in the same manner as in Example 1, except that clay particles were not added.

<비교예 2> 내지 <비교예 9><Comparative Example 2> to <Comparative Example 9>

카본 블랙 및 점토 입자의 함량을 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 약 7.5 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름을 제조하였다.A polyimide film having a thickness of about 7.5 μm was prepared in the same manner as in Example 1, except that the contents of carbon black and clay particles were changed as shown in Table 1 below.

카본 블랙
(중량%)
Carbon black
(weight%)
점토 입자
(중량%)
Clay particles
(weight%)
실시예 1Example 1 77 33 실시예 2Example 2 77 55 실시예 3Example 3 99 33 실시예 4Example 4 99 55 비교예 1Comparative Example 1 99 00 비교예 2Comparative Example 2 99 1010 비교예 3Comparative Example 3 99 1One 비교예 4Comparative Example 4 0.50.5 0.10.1 비교예 5Comparative Example 5 1One 77 비교예 6Comparative Example 6 33 99 비교예 7Comparative Example 7 1212 1010 비교예 8Comparative Example 8 1515 1515 비교예 9Comparative Example 9 2020 2020

실험예 1: 염기 내성지수 평가Experimental Example 1: Base resistance index evaluation

실시예 1 내지 실시예 4, 비교예 1 내지 비교예 9에서 각각 제조한 폴리이미드 필름을 앞서 기재한 평가방법 (a)에 따라 두께 변화율을 측정하였고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The polyimide films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 9 were measured for thickness change according to the evaluation method (a) described above, and the results are shown in Table 2 below.

실험예 2: 투과도 평가Experimental Example 2: Evaluation of transmittance

실시예 1 내지 실시예 4, 비교예 1 내지 비교예 9에서 각각 제조한 폴리이미드 필름에 대해서, 투과도 측정 기기(모델명: ColorQuesetXE, 제조사: HunterLab)를 이용하여 가시광 영역에서 ASTM D1003 방법으로 투과도를 측정하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.For the polyimide films each prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 9, transmittance was measured by ASTM D1003 method in the visible light region using a transmittance measuring device (model name: ColorQuesetXE, manufacturer: HunterLab). And the results are shown in Table 2 below.

<실험예 3: 인장강도 평가><Experimental Example 3: Evaluation of tensile strength>

실시예 1 내지 실시예 4, 비교예 1 내지 비교예 9에서 각각 제조한 폴리이미드 필름에 대해서, KS6518 에 제시된 방법에 의해 인장강도를 측정하고, 결과는 하기 표 2에 나타냈다.For the polyimide films each prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 9, tensile strength was measured by the method presented in KS6518, and the results are shown in Table 2 below.

염기 내성지수
(%)
Base resistance index
(%)
투과도
(%)
Transmittance
(%)
인장강도
(MPa)
The tensile strength
(MPa)
실시예 1Example 1 6262 0.140.14 225225 실시예 2Example 2 6767 0.110.11 235235 실시예 3Example 3 6363 0.070.07 230230 실시예 4Example 4 6767 0.050.05 235235 비교예 1Comparative Example 1 5454 0.120.12 210210 비교예 2Comparative Example 2 6767 0.010.01 150150 비교예 3Comparative Example 3 5656 0.090.09 215215 비교예 4Comparative Example 4 5959 65.065.0 220220 비교예 5Comparative Example 5 6363 20.020.0 200200 비교예 6Comparative Example 6 6262 7.07.0 195195 비교예 7Comparative Example 7 5656 0.00.0 160160 비교예 8Comparative Example 8 4949 0.00.0 145145 비교예 9Comparative Example 9 4040 0.00.0 125125

상기 표 2를 참조하면, 점토 입자 및 카본 블랙을 본 발명의 범위로 포함하는 실시예들은 염기 내성지수가 60 % 이상으로서 염기 용액에 의한 카본 블랙의 탈락이 상대적으로 적음을 알 수 있다.Referring to Table 2, it can be seen that the examples including clay particles and carbon black within the scope of the present invention have a base resistance index of 60% or more, and thus the dropout of carbon black by the base solution is relatively small.

즉, 실시예의 폴리이미드 필름은 내염기성이 높음을 알 수 있다.That is, it can be seen that the polyimide film of Examples has high basic resistance.

또한, 투과도가 0.5 % 이하이고, 인장강도가 225 MPa 이상으로 차폐성이 요구되는 폴리이미드 필름으로서 사용 가능한 수준의 물성을 만족하는 것을 확인할 수 있다.In addition, it can be seen that the transmittance is 0.5% or less and the tensile strength is 225 MPa or more, which satisfies the level of physical properties usable as a polyimide film requiring shielding properties.

반면에, 점토 입자를 포함하지 않은 비교예 1 및 점토 입자를 본 발명의 범위보다 적게 포함하는 비교예 3의 경우, 염기 내성지수가 우수하지 못하며, 과량으로 점토 입자를 포함하는 비교예 2의 경우, 인장강도가 실시예에 비해 낮게 측정된 것을 확인할 수 있다.On the other hand, in the case of Comparative Example 1 not including the clay particles and Comparative Example 3 including the clay particles less than the scope of the present invention, the base resistance index is not excellent, and in the case of Comparative Example 2 including the clay particles in excess , It can be seen that the tensile strength was measured lower than that of the Example.

또한, 점토 입자 또는 카본 블랙을 본 발명의 범위보다 적게 포함하는 비교예 4 내지 5의 경우, 투과도가 매우 높아 차폐성이 요구되는 폴리이미드 필름으로서 사용 불가능한 수준이었다.In addition, in the case of Comparative Examples 4 to 5 containing less clay particles or carbon black than the range of the present invention, the transmittance was very high, and thus the level was unusable as a polyimide film requiring shielding properties.

반대로, 점토 입자 또는 카본 블랙을 본 발명의 범위보다 과량으로 포함하는 비교예 6 내지 9의 경우, 염기 내성지수, 투과도 또는 인장강도 중 어느 하나 이상의 물성이 현저히 저하된 것을 확인할 수 있다.On the contrary, in the case of Comparative Examples 6 to 9 containing clay particles or carbon black in excess than the scope of the present invention, it can be seen that the physical properties of any one or more of the base resistance index, transmittance, and tensile strength were significantly reduced.

이상 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 상기 내용을 바탕을 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.Although the above description has been made with reference to the embodiments of the present invention, a person of ordinary skill in the field to which the present invention belongs will be able to perform various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above contents.

Claims (17)

폴리이미드 필름 총 중량에 대하여,
85 내지 90 중량%의 폴리이미드 수지;
2 내지 5 중량%의 판상형 점토(clay) 입자; 및
5 내지 10 중량%의 카본 블랙을 포함하고,
상기 점토 입자는 필름 내에 분산되어 복수개의 베리어층을 형성하며,
적어도 일부의 카본 블랙이 상기 베리어층들 사이에 위치하고,
두께를 기준으로 평가한 염기 내성지수가 60 %이상이고, 인장 강도가 225 MPa 이상인, 폴리이미드 필름.
Based on the total weight of the polyimide film,
85 to 90% by weight of a polyimide resin;
2 to 5% by weight of plate-shaped clay particles; And
5 to 10% by weight of carbon black,
The clay particles are dispersed in the film to form a plurality of barrier layers,
At least some of the carbon black is located between the barrier layers,
A polyimide film having a base resistance index of 60% or more, and a tensile strength of 225 MPa or more, evaluated based on thickness.
제1항에 있어서,
상기 점토 입자는 하기에서 선택되는 적어도 하나의 상태로 복수개의 베리어층을 형성하고, 적어도 일부의 카본 블랙이 상기 베리어 층들 사이에 위치하는, 폴리이미드 필름:
(a) 점토 입자의 장축이 폴리이미드 필름의 기계반송방향(machine direction; MD)과 0 내지 45°의 각도를 갖도록 배치되는 제1 상태; 및
(b) 점토 입자의 장축이 폴리이미드 필름의 폭방향(transverse direction; TD)과 0 내지 45°의 각도를 갖도록 배치되는 제2 상태.
The method of claim 1,
The clay particles form a plurality of barrier layers in at least one state selected from the following, and at least some of the carbon black is located between the barrier layers, a polyimide film:
(a) a first state in which the long axis of the clay particles is arranged to have an angle of 0 to 45° with the machine direction (MD) of the polyimide film; And
(b) a second state in which the long axis of the clay particles is arranged to have an angle of 0 to 45° with the transverse direction (TD) of the polyimide film.
제2항에 있어서,
상기 제1 상태는 점토 입자의 장축이 폴리이미드 필름의 MD 방향과 평행하게 배치되어 복수개의 배리어층을 형성하는 상태인, 폴리이미드 필름.
The method of claim 2,
The first state is a state in which the long axis of the clay particles is arranged parallel to the MD direction of the polyimide film to form a plurality of barrier layers, a polyimide film.
제2항에 있어서,
상기 제2 상태는 점토 입자의 장축이 폴리이미드 필름의 TD 방향과 평행하게 배치되어 복수개의 배리어층을 형성하는 상태인, 폴리이미드 필름.
The method of claim 2,
The second state is a state in which the long axis of the clay particles is arranged in parallel with the TD direction of the polyimide film to form a plurality of barrier layers.
제1항에 있어서,
상기 점토 입자는 하기에서 선택되는 적어도 하나의 상태로 복수개의 베리어층을 형성하고, 적어도 일부의 카본 블랙이 상기 베리어 층들 사이에 위치하는, 폴리이미드 필름:
(a) 점토 입자가 폴리이미드 필름의 표면에 배치되는 제3 상태;
(b) 점토 입자가 폴리이미드 필름의 표면에 인접하게 배치되는 제4 상태; 및
(c) 점토 입자가 폴리이미드 필름 내부에 배치되는 제5 상태.
The method of claim 1,
The clay particles form a plurality of barrier layers in at least one state selected from the following, and at least some of the carbon black is located between the barrier layers, a polyimide film:
(a) a third state in which clay particles are disposed on the surface of the polyimide film;
(b) a fourth state in which the clay particles are disposed adjacent to the surface of the polyimide film; And
(c) A fifth state in which clay particles are disposed inside the polyimide film.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 점토 입자는 필로실리케이트(phyllosilicates), 나트륨 필로실리케이트, 칼륨 필로실리케이트 및 이들이 4가 암모늄이온으로 처리된 점토로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The clay particles are at least one selected from the group consisting of phyllosilicates, sodium phyllosilicates, potassium phyllosilicates, and clays treated with quaternary ammonium ions, polyimide film.
제7항에 있어서,
상기 필로실리케이트는 몬모릴로나이트(montmorillonite), 헥토라이트(hectorite), 사포나이트(saponite), 베이델라이트(beidellite), 논트로나이트(nontronite), 버미큘라이트(vermiculite), 볼콘스코이트(volkonskoite), 소코나이트(sauconite), 불화헥토라이트(fluorohectorite), 마가다이트(magadite), 카올리나이트(kaolinite) 및 할로이사이트(halloysite)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 폴리이미드 필름.
The method of claim 7,
The phyllosilicate is montmorillonite, hectorite, saponite, beidellite, nontronite, vermiculite, volkonskoite, soconite sauconite), hectorite fluoride (fluorohectorite), magadite (magadite), kaolinite (kaolinite) and one or more selected from the group consisting of haloysite (halloysite), a polyimide film.
제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 수지는 폴리아믹산으로부터 유래되고,
상기 폴리아믹산은 적어도 하나의 디안하이드라이드 단량체 및 적어도 하나의 디아민 단량체가 중합된 것인, 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The polyimide resin is derived from polyamic acid,
The polyamic acid is a polyimide film in which at least one dianhydride monomer and at least one diamine monomer are polymerized.
제9항에 있어서,
상기 디안하이드라이드 단량체가, 피로멜리틱 디안하이드라이드(또는 PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 s-BPDA), 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 a-BPDA), 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(또는 ODPA), 디페닐설폰-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 DSDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)설파이드 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인 디안하이드라이드, 2,3,3',4'- 벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 BTDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메테인 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로페인 디안하이드라이드, p-페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), p-바이페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), m-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, p-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 1,3-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)바이페닐 디안하이드라이드, 2,2-비스〔(3,4-디카르복시 페녹시)페닐〕프로페인 디안하이드라이드(BPADA), 2,3,6,7-나프탈렌테트라카복실산 디안하이드라이드, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실릭 디안하이드라이드 및 4,4'-(2,2-헥사플루오로아이소프로필리덴)디프탈산 디안하이드라이드로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 폴리이미드 필름.
The method of claim 9,
The dianhydride monomer is pyromellitic dianhydride (or PMDA), 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or s-BPDA), 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or a-BPDA), oxydiphthalic dianhydride (or ODPA), diphenylsulfone-3,4,3',4'-tetracarboxylic dian Hydride (or DSDA), bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfide dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexa Fluoropropane dianhydride, 2,3,3',4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (or BTDA ), bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, p-phenylenebis(trimellitic monoester acid Anhydride), p-biphenylenebis (trimelitic monoester acid anhydride), m-terphenyl-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, p-terphenyl -3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, 1,3-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)benzene dianhydride, 1,4-bis(3,4-di Carboxyphenoxy)benzene dianhydride, 1,4-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)biphenyl dianhydride, 2,2-bis[(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane Dianhydride (BPADA), 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 4,4'-(2,2-hexa) Fluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride, at least one selected from the group consisting of, polyimide film.
제9항에 있어서,
상기 디아민 단량체가 1,4-디아미노벤젠(또는 파라페닐렌디아민, PDA), 1,3-디아미노벤젠, 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 3,5-디아미노벤조익 애시드(또는 DABA), 4,4'-디아미노디페닐에테르(또는 옥시디아닐린, ODA), 3,4'-디아미노디페닐에테르 등의 디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메테인(메틸렌디아민), 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-비스(트라이플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3'-디카르복시-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 4,4'-디아미노벤즈아닐라이드, 3,3'-디클로로벤지딘, 3,3'-디메틸벤지딘(또는 o-톨리딘) 및 2,2'-디메틸벤지딘(또는 m-톨리딘)으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 폴리이미드 필름.
The method of claim 9,
The diamine monomer is 1,4-diaminobenzene (or paraphenylenediamine, PDA), 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, 3,5-dia Diaminodiphenyl ethers, such as minobenzoic acid (or DABA), 4,4'-diaminodiphenyl ether (or oxydianiline, ODA), 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4' -Diaminodiphenylmethane (methylenediamine), 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-Bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl,3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane,3,3'-dicarboxy-4,4' -Diaminodiphenylmethane, 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, bis(4-aminophenyl)sulfide, 4,4'-diaminobenz Anilide, 3,3'-dichlorobenzidine, 3,3'-dimethylbenzidine (or o-tolidine) and at least one selected from the group consisting of 2,2'-dimethylbenzidine (or m-tolidine), Polyimide film.
제1항에 있어서,
상기 카본 블랙은 평균입경이 0.1 내지 5 ㎛인, 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The carbon black has an average particle diameter of 0.1 to 5 μm, a polyimide film.
제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름은 두께가 2 내지 8 ㎛인 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
The polyimide film is a polyimide film having a thickness of 2 to 8 μm.
제1항에 있어서,
가시광선 영역에서의 광투과도가 0.5 % 이하인, 폴리이미드 필름.
The method of claim 1,
A polyimide film having a light transmittance of 0.5% or less in a visible light region.
제1항에 따른 폴리이미드 필름을 제조하는 방법으로서,
(a) 1종 이상의 디안하이드라이드 단량체 및 1종 이상의 디아민 단량체로부터 폴리아믹산을 중합하는 단계;
(b) 점토 입자와 제1 유기용매를 포함하는 제1 조성물을 제조하는 단계;
(c) 카본 블랙과 제2 유기용매를 포함하는 제2 조성물을 제조하는 단계;
(d) 상기 폴리아믹산에 상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물을 혼합하여 폴리이미드 전구체 조성물을 제조하는 단계; 및
(e) 상기 폴리이미드 전구체 조성물을 지지체에 제막하고 열처리하여 이미드화하는 단계를 포함하는, 폴리이미드 필름의 제조방법.
As a method for producing the polyimide film according to claim 1,
(a) polymerizing a polyamic acid from at least one dianhydride monomer and at least one diamine monomer;
(b) preparing a first composition comprising clay particles and a first organic solvent;
(c) preparing a second composition comprising carbon black and a second organic solvent;
(d) preparing a polyimide precursor composition by mixing the first composition and the second composition with the polyamic acid; And
(e) forming a film of the polyimide precursor composition on a support and imidizing by heat treatment.
제1항에 따른 폴리이미드 필름을 포함하는 커버레이(coverlay).A coverlay comprising the polyimide film according to claim 1. 제16항에 따른 커버레이를 포함하는 전자 장치.An electronic device comprising the coverlay according to claim 16.
KR1020180083622A 2018-07-18 2018-07-18 Polyimide Film Comprising Clay Particle and Carbon Black and Method for Preparing The Same KR102153506B1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180083622A KR102153506B1 (en) 2018-07-18 2018-07-18 Polyimide Film Comprising Clay Particle and Carbon Black and Method for Preparing The Same
CN201880095601.1A CN112399984B (en) 2018-07-18 2018-09-28 Polyimide film containing clay particles and carbon black and preparation method thereof
PCT/KR2018/011538 WO2020017692A1 (en) 2018-07-18 2018-09-28 Polyimide film comprising clay particles and carbon black and manufacturing method therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180083622A KR102153506B1 (en) 2018-07-18 2018-07-18 Polyimide Film Comprising Clay Particle and Carbon Black and Method for Preparing The Same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200009362A KR20200009362A (en) 2020-01-30
KR102153506B1 true KR102153506B1 (en) 2020-09-09

Family

ID=69163685

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180083622A KR102153506B1 (en) 2018-07-18 2018-07-18 Polyimide Film Comprising Clay Particle and Carbon Black and Method for Preparing The Same

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR102153506B1 (en)
CN (1) CN112399984B (en)
WO (1) WO2020017692A1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230171297A (en) * 2022-06-13 2023-12-20 피아이첨단소재 주식회사 Black polyimide film and manufacturing method thereof
CN116082682B (en) * 2023-03-03 2024-04-05 四川大学 Polyimide/fluorinated nano Al 2 O 3 Composite film and preparation method thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003342471A (en) * 2002-05-30 2003-12-03 Teijin Ltd Polyimide film
JP2005187727A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Sekisui Chem Co Ltd Polyimide resin composition, method for producing the same, its film and material for substrate
JP2013221150A (en) * 2012-04-13 2013-10-28 Mortech Corp Polyimide film and method for manufacturing the same

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004123774A (en) * 2002-09-30 2004-04-22 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polyimide resin composition, polyimide film, and polyimide tube
US20070232734A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-04 Karthikeyan Kanakarajan Polyimide based compositions useful in high frequency circuitry applications and methods relating thereto
KR20070102053A (en) * 2006-04-13 2007-10-18 주식회사 코오롱 Polyimide nanocomposites films and method for preparing thereof
JP2008007631A (en) * 2006-06-29 2008-01-17 Kaneka Corp Polyimide film
KR20130113778A (en) * 2012-04-06 2013-10-16 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 Black polyimide film
CN106478950A (en) * 2016-09-26 2017-03-08 安徽国风塑业股份有限公司 A kind of preparation method of high-adhesion Kapton

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003342471A (en) * 2002-05-30 2003-12-03 Teijin Ltd Polyimide film
JP2005187727A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Sekisui Chem Co Ltd Polyimide resin composition, method for producing the same, its film and material for substrate
JP2013221150A (en) * 2012-04-13 2013-10-28 Mortech Corp Polyimide film and method for manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200009362A (en) 2020-01-30
WO2020017692A1 (en) 2020-01-23
CN112399984A (en) 2021-02-23
CN112399984B (en) 2023-08-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102153505B1 (en) Polyimide Film Comprising Fluorine-Contained Silane Additive and Carbon Black and Method for Preparing The Same
KR102153509B1 (en) Ultra-Thin Polyimide Film with Improved Dimensional Stability and Method for Preparing the Same
KR102164470B1 (en) Polyimide Film Comprising Two or More Fillers Having Different Particle Diameter and Electronic Device Comprising the Same
KR102153506B1 (en) Polyimide Film Comprising Clay Particle and Carbon Black and Method for Preparing The Same
KR102224504B1 (en) Polyamic acid composition, method for preparing polyamic acid composition and polyimide comprising the same
KR102153508B1 (en) Polyimide Film Comprising Crystalline Polyimide Resin and Thermal Conductive Filler and Method for Preparing The Same
KR102153507B1 (en) Polyimide Film with Improved Base Resistance and Method for Preparing The Same
KR102097431B1 (en) Polyimide and method for preparing the same
KR102270652B1 (en) Polyimide Film Comprising Two or More Fillers Having Different Particle Diameter and Electronic Device Comprising the Same
KR102013535B1 (en) Method for Preparing Polyimide Precursor Composition With Improved Storage Stability and Viscosity Stability, and Polyimide Precursor Composition Prepared by Using the Same
KR102063216B1 (en) Polyamic Acid Bound with Silane-based Compound, Polyimide Film Prepared Therefrom and Method for Preparing the Same
KR102138704B1 (en) Polyimide Film Comprising Bismaleimide Resin and Carbon Black and Method for Preparing The Same
KR102270651B1 (en) Polyimide Film Comprising Two or More Fillers Having Different Particle Diameter and Electronic Device Comprising the Same
KR102162627B1 (en) Manufacturing Method of Polyimide Film with Superior Orientation, Polyimide Film Prepared Thereby and Graphite Sheet Prepared by Using the Same
KR102164467B1 (en) Polyimide Film Comprising Two or More Fillers Having Different Particle Diameter and Electronic Device Comprising the Same
KR102336859B1 (en) Polyimide film with improved chemical resistnace properties and manufacturing method thereof
KR102224506B1 (en) Polyamic acid composition, method for preparing polyamic acid composition and polyimide comprising the same
KR20230143380A (en) Manufacturing method of the polyimide film
KR20230171297A (en) Black polyimide film and manufacturing method thereof
KR20240047062A (en) Black polyimide film and the manufacturing method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant