KR20200016991A - 오버레이 계측에서 높은 정확도를 달성하기 위한 이미징 기술의 진폭 및 위상 비대칭 추정 - Google Patents

오버레이 계측에서 높은 정확도를 달성하기 위한 이미징 기술의 진폭 및 위상 비대칭 추정 Download PDF

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Abstract

대응하는 계측 측정 신호(들)가 최소의 진폭 비대칭을 갖는 값(들)을 식별하는 단계에 의해 계측 측정 파라미터 값(들)을 도출하는 계측 방법이 제공된다. 개시된 바와 같이 측정 파라미터 값을 선택하는 것은 측정 부정확성을 상당히 감소시킨다. 예를 들어, 최소의 진폭 비대칭 및/또는 최소의 위상 비대칭을 나타내기 위해 파장 값 및/또는 포커스 값이 검출될 수도 있다. 어떤 실시예에서, 최소의 진폭 비대칭을 제공하는 파장 값은 또한 포커스에 최소의 신호 감도를 제공한다. 웨이퍼 및 로트에 걸쳐 프로세스 견고성을 나타내기 위해, 개발된 메트릭이 더 사용될 수도 있다. 일부 실시예에서, 이미징 정확도는 진폭 비대칭의 쓰루-포커스 랜드스케이핑 및 최소의 진폭 비대칭을 가지는 파라미터 값 검출에 의해 향상될 수도 있다.

Description

오버레이 계측에서 높은 정확도를 달성하기 위한 이미징 기술의 진폭 및 위상 비대칭 추정
관련 출원에 대한 교차 참조
본 출원은 2017년 7월 6일에 출원된 미국 가출원 No. 62/529,107에 대한 우선권을 주장하고, 2018년 1월 26일 출원된 미국 가출원 No. 62/622,712에 대한 우선권을 추가로 주장하며, 위 가출원들은 그 전체가 참조로서 본 명세서에 포함된다.
기술 분야
본 발명은 반도체 계측의 분야에 관한 것이고, 더 구체적으로는, 계측 이미징 측정(metrology imaging measurement)의 정확도를 개선하는 것에 관한 것이다.
반도체 노드 크기가 줄어듦에 따라, 계측 측정에 대한 정확도 요구가 증가하고 생산 비대칭의 효과가 더욱 더 중요해지고 있다.
다음은 본 발명의 초기 이해를 제공하는 간략화된 요약이다. 요약은 반드시 핵심 구성요소를 식별하거나 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니며, 단지 다음의 설명에 대한 소개로서 쓸모가 있다(serve).
본 발명의 하나의 양태는 대응하는 계측 측정 신호가 최소의 진폭 비대칭을 가지는 값을 식별함으로써 적어도 하나의 계측 측정 파라미터의 값을 도출하는 단계를 포함하는 방법을 제공한다.
본 발명의 이러한, 추가적인, 및/또는 다른 양태들 및/또는 이점들은 다음의 상세한 설명에서 제시되고; 아마도 상세한 설명으로부터 추론될 수 있고/있거나; 본 발명의 실시에 의해 학습 가능하다.
본 발명의 실시예에 대한 더 나은 이해 및 동일한 실시예가 어떻게 시행될 수도 있는지 보여주기 위해, 순전히 예시로서, 전체에 걸쳐 유사한 숫자가 대응하는 구성요소 및 부분을 지정하는 첨부 도면에 대한 참조가 이제 이루어질 것이다.
첨부 도면에서,
도 1은, 본 발명의 일부 실시예에 따른 계측 타겟을 측정하는데 사용되는 계측 도구의 높은 수준의 개략적인 블록도이다.
도 2는, 본 발명의 일부 실시예에 따른 방법을 예시하는 높은 수준의 개략적인 흐름도이다.
도 3은, 본 발명의 일부 실시예에 따른, 격자 구조(grating structure)에서 시뮬레이션된(simulated) 측벽 각도(side wall angle, SWA) 비대칭이 존재하는 현실적인 스택(stack)의 엄밀한 결합파 해석(Rigorous Coupled Wave Analysis, RCWA) 시뮬레이션에서 측정 파장에 대한, 진폭 비대칭
Figure pct00001
및 쓰루-포커스(through-focus) 격자 위치 변화의 경험적으로 확립된 의존성에 대한 비제한적인 예시를 제공한다.
도 4는, 본 발명의 일부 실시예에 따른, 격자 구조에서 시뮬레이션된 SWA 비대칭이 존재하는 현실적인 스택의 RCWA 시뮬레이션에서 측정 파장에 대한, 진폭 비대칭
Figure pct00002
, 위상 비대칭
Figure pct00003
및
Figure pct00004
의 경험적으로 확립된 의존성에 대한 비제한적인 예시를 제공한다.
이하 설명에서, 본 발명의 다양한 양태들이 설명된다. 설명의 목적으로, 본 발명의 완전한 이해를 제공하기 위해 특정 구성 및 세부 사항이 제시된다. 그러나, 본 발명이 명세서에 제시된 특정 세부 사항 없이 실시될 수도 있다는 것이 당업자에게 또한 명백할 것이다. 나아가, 본 발명을 모호하게 하지 않기 위해 잘 알려진 특징들이 생략되고 간략화될 수도 있다. 도면에 대한 특정 참조로, 도시된 상세한 내용(particulars)은 예시로서 그리고 단지 본 발명의 예시적인 논의를 목적으로 하고, 본 발명의 원리 및 개념적인 양태의 가장 유용하고 쉽게 이해되는 설명으로 여겨지는 것을 제공하기 위하여 제시되는 것이 강조된다. 이와 관련하여, 본 발명의 기본적인 이해를 위해 필요한 것보다 더 상세하게 본 발명의 구조적 세부사항을 도시하려는 시도는 이루어지지 않았으며, 도면과 함께 설명은 어떻게 본 발명의 몇몇 형태가 실제로 구현될 수도 있는지 당업자에게 명백하게 한다.
본 발명의 적어도 하나의 실시예가 상세하게 설명되기 전에, 본 발명은 다음의 설명에서 제시되거나 도면에서 예시된 컴포넌트의 배열 및 구성의 세부 사항에 대한 적용(application)에 제한되지 않는다는 것이 이해되어야 한다. 본 발명은 개시된 실시예들의 조합에뿐만 아니라 다양한 방식으로 실시되거나 수행될 수도 있는 다른 실시예에도 적용할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 이용된(employed) 어구(phraseology) 및 용어(terminology)는 설명의 목적을 위한 것이며 제한하는 것으로 간주되어서는 안된다는 것이 이해되어야 한다.
달리 구체적으로 명시되지 않는 한, 이하 논의로부터 명백한 바와 같이, 명세서 논의 전반에 걸쳐 "프로세싱하는(processing)", "컴퓨팅하는(computing)", "계산하는(calculating)", "결정하는(determining)", "향상시키는(enhancing)", "도출하는(deriving)" 등과 같은 용어를 이용하는 것은 컴퓨팅 시스템의 레지스터 및/또는 메모리 내의 전자적인 양과 같은 물리적 양으로서 표시되는 데이터를 컴퓨팅 시스템의 메모리, 레지스터 또는 다른 이러한 정보 스토리지, 전송 또는 디스플레이 디바이스 내의 물리적 양으로서 비슷하게 표시되는 다른 데이터로 처리하고/처리하거나 변환하는 컴퓨터 또는 컴퓨팅 시스템, 또는 유사한 전자 컴퓨팅 디바이스의 동작(action) 및/또는 프로세스를 지칭한다고 인식된다. 어떤 실시예에서, 조명 기술은 가시 범위에 있는 전자기 방사선(electromagnetic radiation), 자외선 또는 x선(x rays)과 같은 더욱 짧은 파장 방사선, 및 아마도 입자 빔(particle beam)까지도 포함할 수도 있다.
본 발명의 실시예는 계측 정확도를 향상시키기 위한 효율적이고 경제적인 방법 및 메커니즘을 제공하므로 이에 의해 반도체 계측의 기술 분야에 개선을 제공한다. 어떤 실시예는 이미징 기술에서 부정확성을 초래하는 신호에서 진폭 비대칭을 추정하고 아마도 0nm로 부정확을 감소시키는 최적의 측정을 결정하는 방식을 제공한다. 개시된 방법은 오버레이 측정의 정확도를 개선시키는 것을 허용한다.
대응하는 계측 측정 신호(들)가 최소의 진폭 비대칭을 갖는 값(들)을 식별함으로써 계측 측정 파라미터 값(들)을 도출하는 계측 방법이 제공된다. 개시된 바와 같이 측정 파라미터 값을 선택하는 것은 측정 부정확도를 상당히 감소시킨다. 예를 들어, 최소의 진폭 비대칭 및/또는 최소의 위상 비대칭을 나타내기 위해 파장 값 및/또는 포커스(focus) 값이 검출될 수도 있다. 어떤 실시예에서, 최소의 진폭 비대칭을 제공하는 파장 값은 또한 포커스에 최소의 신호 감도를 제공한다. 웨이퍼 및 로트(lot)에 걸쳐 프로세스 견고성(robustness)을 나타내기 위해 개발된 메트릭(metric)이 더 사용될 수도 있다. 일부 실시예에서, 이미징 정확도는 진폭 비대칭의 쓰루-포커스 랜드스케이핑(landscaping) 및 최소의 진폭 비대칭을 가지는 파라미터 값의 검출에 의해 향상될 수도 있다.
어떤 실시예에서, 오버레이 이미징 기술은 (예를 들어, 이전 레이어 및 현재 레이어에서, 2개 이상의 레이어에서 격자와 같은 주기적인 패턴을 포함하는) AIM(advanced imaging metrology: 고급 이미징 계측) 타겟을 이미징하는 단계 및 주기적인 패턴 사이에서 어긋남(misalignment)을 (예를 들어, 나노미터로) 표현하는 오버레이 값(들)을 추출하는 단계를 포함한다. 예를 들어, 인쇄 가능성(printability) 오류로 인해, 타겟에서 비대칭은 오버레이 측정에서 부정확성을 유도한다. 각각의 타겟 구조는, 측정할 때, 상이한 회절 차수들 사이의 간섭의 곱인 신호를 (예를 들어, 현재 또는 이전 레이어에서) 제공하며, 신호는 수식 1로 표현되고,
Figure pct00005
은 좌표 x에서 신호 S의 +1/-1 회절 차수의 강도 및 대응하는 각도 좌표
Figure pct00006
를 의미하고, P는 격자 구조(예를 들어, 패턴 피치(pattern pitch))의 주기성을 의미하고,
Figure pct00007
는 신호의 진폭을 의미하고,
Figure pct00008
는 지형 위상(topographic phase)을 의미하고,
Figure pct00009
및
Figure pct00010
는 각각 위상 및 진폭 비대칭을 의미하고,
Figure pct00011
는 알려지지 않은 함수이고,
Figure pct00012
는 포커스 파라미터에 대한 의존성을 의미한다.
Figure pct00013
수식 1
타겟 격자가 완벽하게 대칭인 경우, 신호에서 임의의 진폭 또는 위상 비대칭 없이 그리고 오버레이 측정의 최고의 정확도로 신호는
Figure pct00014
로 표현될 수도 있다. 격자 구조에서 임의의 작은 비대칭은 진폭 및 위상 비대칭(
Figure pct00015
and
Figure pct00016
)을 초래하므로 부정확성을 초래한다. 통상적으로, 진폭 비대칭
Figure pct00017
가 부정확성의 주요 원인이 되는 반면 위상 비대칭
Figure pct00018
는 보통 무시할 수 있다. 본 발명자들은
Figure pct00019
가 강하게 파장-의존적(wavelength-dependent)이고, 레이어의 임의의 스택에 대하여, 진폭 비대칭이 최소화되고 심지어 상쇄되는(cancelled) 스펙트럼 내의 파장
Figure pct00020
가 있음에 주목하였다. 본 발명자들은 진폭 비대칭
Figure pct00021
의 상쇄가 포커스 의존성
Figure pct00022
의 상쇄를 초래하도록 수식 1에 있는 위상 비대칭
Figure pct00023
및 디포커스
Figure pct00024
사이의 결합을 주목한다. 따라서, 상이한 포커스 위치를 통한 오버레이 변화를 측정하는 것은 위상 비대칭 행동을 나타내었다. 또한 본 발명자들은 진폭 비대칭이 작거나 0인(예를 들어,
Figure pct00025
=0) 파장
Figure pct00026
에서, (
Figure pct00027
에서) 부정확성은 또한 작거나 0이며, 오버레이는 포커스 위치에 따라 크게 변하지 않는다는 것(오버레이 변화가 0이거나 0에 가깝다)에 주목한다. 어떤 실시예에서, 포커스를 통한 오버레이 변화는 이에 따라 신호의 비대칭 강도를 평가하는데 사용될 수도 있고, 또한 가장 정확한 측정 레시피(예를 들어, 레시피의 하나 이상의 측정 파라미터의 값)를 선택하는데 사용될 수도 있다.
도 1은 본 발명의 일부 실시예에 따른 계측 타겟(90)을 측정하는데 사용되는 계측 도구(100)의 높은 수준의 개략적인 블록도이다. 시뮬레이션에서 또는 실제 측정 동안, 다수의 측정 파라미터의 값을 나타내는 측정 레시피(들)는 계측 타겟(들)(90)으로부터 계측 신호(들)를 도출하기 위해 계측 도구(100)에 의해 적용된다. 계측 도구(100)는 개시된 방법을 수행하기 위해 시뮬레이션 또는 실제 측정을 사용하는 계측 모듈을 포함할 수도 있다.
도 2는 본 발명의 일부 실시예에 따른 방법(200)을 예시하는 높은 수준의 개략적인 흐름도이다. 방법 단계는 위에서 설명된 계측 도구 또는 계측 모듈(100)에 대하여 수행될 수도 있으며, 방법(200)을 구현하도록 선택적으로 구성될 수도 있다. 방법(200)은 예를 들어, 계측 모듈에서, 적어도 하나의 컴퓨터 프로세서에 의해 적어도 부분적으로 구현될 수도 있다. 어떤 실시예는 컴퓨터 판독 가능 프로그램을 구현하고 방법(200)의 관련 단계를 수행하도록 구성되는 컴퓨터 판독 가능 저장 매체를 포함하는 컴퓨터 프로그램 제품을 포함한다. 방법(200)은, 그들의 순서에 상관없이, 이하 단계들을 포함할 수도 있다.
방법(200)은 대응하는 계측 측정 신호가 최소의 진폭 비대칭을 갖는 값을 식별하는 단계(단계 220)에 의해 적어도 하나의 계측 측정 파라미터의 값을 도출하는 단계(단계 210)를 포함할 수도 있다. 예를 들어, 식별하는 단계(220)는 적어도 하나의 측정 파라미터의 적어도 하나의 범위를 스캔하는 단계(단계 230), 예를 들어, 특정된 균일하고/균일하거나 분리된 범위에 걸쳐 적어도 하나의 계측 측정 파라미터로서 측정 파장 및/또는 측정 포커스 위치를 스캔하는 단계(단계 232)에 의해 수행될 수도 있다. 어떤 실시예에서, 방법(200)은 제1 파라미터 값으로서 파장을 결정하기 위해 시뮬레이션에서 측정 파장을 스캔하는 단계, 및 제2 파라미터 값으로서 포커스 위치를 결정하기 위해 타겟 측정 동안 측정 포커스를 스캔하는 단계(단계 234)를 포함할 수도 있다. 방법(200)의 다양한 실시예는 이미징 계측 및 이미징 계측 타겟에 적용될 수도 있다(단계 240).
어떤 실시예에서, 방법(200)은 이미징 타겟으로부터 측정된 신호에서 진폭 비대칭이 최소화되는 적어도 하나의 측정 파라미터 값을 식별하는 단계(단계 220), 및 적어도 하나의 식별된 값에서 이미징 타겟 측정을 수행하기 위한 계측 도구 및/또는 계측 모듈을 구성하는 단계(단계 250)를 포함할 수도 있다. 식별하는 단계(220)는 적어도 하나의 측정 파라미터로서 파장에 대하여 수행될 수도 있고, 방법(200)은 진폭 비대칭이 최소화되는 값을 식별하기 위한 특정된 파장 범위를 스캔하는 단계(단계 230)를 더 포함할 수도 있다. 어떤 실시예에서, 식별하는 단계(220)는 적어도 하나의 측정 파라미터로서 파장 및 포커스 위치에 대하여 수행될 수도 있으며, 방법(200)은 대응하는 격자 위치가 식별된 파장에서 최소의 진폭 비대칭을 제공하는 포커스 위치 및 파장을 식별하기 위해 특정된 파장 및 포커스 범위를 스캔하는 단계(단계 232)를 더 포함한다.
어떤 실시예는 대응하는 계측 측정 신호가 최소의 진폭 비대칭을 가지는 값을 식별하는 단계에 의해 적어도 하나의 계측 측정 파라미터의 값을 도출하도록 구성되는 계측 모듈(들)을 포함한다. 식별하는 단계는 적어도 하나의 측정 파라미터의 적어도 하나의 범위를 스캔하는 단계에 의해 수행될 수도 있다. 스캔하는 단계는 적어도 하나의 계측 측정 파라미터로서 측정 파장 및/또는 측정 포커스 위치를 스캔하는 단계를 포함할 수도 있다. 어떤 실시예에서, 측정 파장을 스캔하는 단계는 제1 파라미터 값으로서 파장을 결정하기 위해 시뮬레이션에서 수행될 수도 있고, 측정 포커스를 스캔하는 단계는 제2 파라미터 값으로서 포커스 위치를 결정하기 위해 타겟 측정 동안 수행된다. 개시된 계측 모듈 및 도구는 이미징 계측 및 이미징 계측 타겟에 적용될 수도 있고, 대응하는 계측 시스템(들)의 일부일 수도 있다. 어떤 실시예에서, 타겟 구조의 쓰루-포커스 위치 변화와 같은 메트릭은 웨이퍼 내의, 또는 웨이퍼 또는 로트 사이의 프로세스 견고성을 나타내는데 또한 사용될 수도 있다.
도 3은, 본 발명의 일부 실시예에 따른, 격자 구조(grating structure)에서 시뮬레이션된(simulated) 측벽 각도(side wall angle, SWA) 비대칭이 존재하는 현실적인 스택(stack)의 엄밀한 결합파 해석(Rigorous Coupled Wave Analysis, RCWA) 시뮬레이션에서 측정 파장에 대한, 진폭 비대칭
Figure pct00028
및 쓰루-포커스(through-focus) 격자 위치 변화의 경험적으로 확립된 의존성에 대한 비제한적인 예시를 제공한다. 도 3에 예시된 바와 같이, 쓰루-포커스 격자 위치는 진폭 비대칭과 상관관계가 있고, 더욱이 진폭 비대칭이 최소이고 0에 가까운 파장 값을 나타낸다고 발견되었다(예를 들어, 진폭 비대칭(및 쓰루-포커스 격자 위치 변화)이 약 495nm 및 약 750nm에서 거의 사라져서 오버레이 측정의 높은 정확도를 초래한다). 이들 값들은 다음의 측정을 위한 측정 파라미터(들)(예를 들어, 파장 및/또는 대응하는 포커스 위치)로서 선택될 수도 있다. 어떤 실시예에서, 더 넓은 최소값들(minima)을 갖는 값이 측정 파라미터 값에서 편차에 대하여 더 견고하고 높은 정확도로 측정을 제공하도록 선택될 수도 있다.
도 4는, 본 발명의 일부 실시예에 따른, 격자 구조에서 시뮬레이션된 SWA 비대칭이 존재하는 현실적인 스택의 RCWA 시뮬레이션에서 측정 파장에 대한, 진폭 비대칭
Figure pct00029
, 위상 비대칭
Figure pct00030
및
Figure pct00031
의 경험적으로 확립된 의존성에 대한 비제한적인 예시를 제공한다.
도 4는 진폭 비대칭이 최소화되는 파라미터 값(예를 들어, 약 590nm 및 약 740nm)의 존재를 다시 예시하고, 더욱이 위상 비대칭이 진폭 비대칭과 유사하게 행동하는 것을 보여주며, 따라서
Figure pct00032
로서 추정할 수도 있다.
유리하게는, 개시된 방법은 신호 진폭 비대칭 및 따라서 측정의 부정확성과 크게 상관관계가 있는 새로운 메트릭을 제공하고, 측정 정확도에 상당한 개선을 가능하게 한다. 어떤 실시예에서, 본 발명자들은 각각의 격자의 격자 위치 또는 오버레이의 쓰루-포커스 변화가 진폭 비대칭 및 따라서 부정확성과 크게 상관관계가 있는 것을 발견하였으며, 결과적으로, 연관된 메트릭이 가장 정확한 측정 조건을 선택하는데 사용될 수도 있다. 이들 메트릭은 비대칭 정도에 따라 조정되므로(scale), 웨이퍼 내의, 또는 웨이퍼 또는 로트 사이의 프로세스 견고성의 지표로서 또한 사용될 수도 있다. 실제 계측 측정은 필드, 웨이퍼 및 로트 내에 존재하는 프로세스 변화를 매핑하기 위해 비대칭에 대한 감도가 높은 파장에서 수행될 수도 있다. 더욱이, 진폭 및 위상 비대칭에 대한 감도가 최소화되는 타겟 디자인이 제안된다.
본 발명의 양태는 본 발명의 실시예에 따른 방법, 장치(시스템) 및 컴퓨터 프로그램 제품의 흐름도 예시 및/또는 부분도(portion diagram)를 참조하여 위에서 설명되었다. 흐름도 예시의 및/또는 부분도의 각각의 부분, 및 흐름도 예시 및/또는 부분도에서 부분들의 조합은 컴퓨터 프로그램 명령어에 의해 구현될 수 있음이 이해될 것이다. 이들 컴퓨터 프로그램 명령어는 컴퓨터 또는 다른 프로그래밍 가능 데이터 프로세싱 장치의 프로세서를 통해 실행되는 명령어가 흐름도 및/또는 부분도 또는 그것의 부분에 특정된 기능/동작을 구현하기 위한 수단을 생성하도록 기계를 제조(produce)하기 위해 범용(general-purpose) 컴퓨터, 특수 목적 컴퓨터 또는 다른 프로그래밍 가능 데이터 프로세싱 장치의 프로세서에 제공될 수도 있다.
또한 컴퓨터 판독 가능 매체에 저장된 명령어가 흐름도 및/또는 부분도 또는 그것의 부분에 특정된 기능/동작을 구현하는 명령어를 포함하는 제품(article of manufacture)을 제조하도록 컴퓨터, 다른 프로그래밍 가능 데이터 프로세싱 장치 또는 다른 디바이스를 특정한 방식으로 기능하도록 지시할(direct) 수 있는 이들 컴퓨터 프로그램 명령어가 컴퓨터 판독 가능 매체에 저장될 수도 있다.
또한 컴퓨터 프로그램 명령어는 컴퓨터 또는 다른 프로그래밍 가능 장치에서 실행되는 명령어가 흐름도 및/또는 부분도 또는 그것의 부분에 특정된 기능/동작을 구현하기 위한 프로세스를 제공하도록 컴퓨터 구현 프로세스를 제조하기 위해 컴퓨터, 다른 프로그래밍 가능 장치 또는 다른 디바이스 상에서 수행되도록 일련의 작동 단계를 야기하기 위해 컴퓨터, 다른 프로그래밍 가능 데이터 프로세싱 장치 또는 다른 디바이스에 로딩될 수도 있다.
전술한 흐름도 및 다이어그램은 아키텍처(architecture), 기능(functionality), 및 본 발명의 다양한 실시예에 따른 시스템, 방법 및 컴퓨터 프로그램 제품의 가능한 구현의 작동을 예시한다. 이와 관련하여, 흐름도 또는 부분도에서 각각의 부분은 특정된 논리적 기능(들)을 구현하기 위한 하나 이상의 실행 가능한 명령어를 포함하는 모듈, 세그먼트(segment) 또는 코드의 부분을 표시할 수도 있다. 또한 일부 대안적인 구현에서, 부분에서 언급된 기능은 도면에서 언급된 순서를 벗어나서 일어날 수도 있음에 주의해야 한다. 예를 들어, 연속해서 도시된 두 부분은, 실제로, 실질적으로 동시에 실행될 수도 있거나, 부분들은 관련된 기능에 따라 때때로 역순으로 실행될 수도 있다. 또한, 부분도 및/또는 흐름도 예시의 각 부분 및 부분도 및/또는 흐름도 예시에서 부분들의 조합은 특정된 기능 또는 동작을 수행하는 특수 목적 하드웨어-기반 시스템, 또는 특수 목적 하드웨어 및 컴퓨터 명령어의 조합에 의해 구현될 수도 있음에 주의할 것이다.
위 설명에서, 실시예는 본 발명의 예시 또는 구현이다. "하나의 실시예(one embodiment)", "실시예(an embodiment)", "어떤 실시예(certain embodiments)" 또는 "일부 실시예(some embodiments)"의 다양한 모습들은 모두 동일한 실시예를 지칭할 필요는 없다. 본 발명의 다양한 특징이 단일 실시예의 맥락에서 설명될 수도 있지만, 특징은 또한 개별적으로 또는 임의의 적절한 조합으로 제공될 수도 있다. 반대로, 본 발명은 명확성을 위해 개별 실시예의 맥락에서 본 명세서에 설명될 수도 있지만, 본 발명은 또한 단일 실시예로 구현될 수도 있다. 본 발명의 어떤 실시예는 위에 개시된 상이한 실시예로부터 특징을 포함할 수도 있고, 어떤 실시예는 위에 개시된 다른 실시예로부터 구성요소를 포함할 수도 있다. 특정 실시예의 맥락에서 본 발명의 구성요소의 개시는 그들의 사용을 특정 실시예 단독에서 제한하는 것으로 취급되어서는 안된다. 나아가, 본 발명은 다양한 방식으로 수행 또는 실시될 수 있고, 본 발명은 위의 설명에서 기술된(outlined) 실시예들 이외의 어떤 실시예에서 구현될 수 있는 것이 이해되어야 한다.
본 발명은 이들 다이어그램 또는 대응하는 설명에 제한되지 않는다. 예를 들어, 흐름은 각각의 예시된 박스 또는 상태를 통해 움직이거나, 예시되고 설명된 것과 정확히 동일한 순서로 움직일 필요는 없다. 본 명세서에서 사용된 기술적 및 과학적 용어의 의미는, 달리 정의되지 않는 한, 본 발명이 속한 기술분야의 당업자에 의해 통상적으로 이해되어야 한다. 본 발명이 제한된 수의 실시예에 대하여 설명되었지만, 이들은 본 발명의 범위를 제한하는 것이 아니라 일부 선호되는 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 다른 가능한 변형, 수정 및 애플리케이션이 또한 본 발명의 범위 내에 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 지금까지 설명된 것에 의해서가 아니라, 첨부된 청구범위 및 그들의 법적 균등물에 의해 제한되어야 한다.

Claims (15)

  1. 방법에 있어서,
    대응하는 계측 측정 신호가 최소의 진폭 비대칭을 갖는 값을 식별하는 단계에 의해 적어도 하나의 계측 측정 파라미터의 값을 도출하는 단계를 포함하는 것인 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 식별하는 단계는 상기 적어도 하나의 측정 파라미터의 적어도 하나의 범위를 스캔하는 단계에 의해 수행되는 것인 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 스캔하는 단계는 상기 적어도 하나의 계측 측정 파라미터로서 측정 파장 및/또는 측정 포커스 위치를 스캔하는 단계를 포함하는 것인 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 측정 파장을 스캔하는 단계는 제1 파라미터 값으로서 파장을 결정하기 위한 시뮬레이션에서 수행되고, 상기 측정 포커스를 스캔하는 단계는 제2 파라미터 값으로서 포커스 위치를 결정하기 위해 타겟 측정 동안 수행되는 것인 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    이미징 계측 및 이미징 계측 타겟에 적용되는 것인 방법.
  6. 방법에 있어서,
    이미징 타겟으로부터 측정된 신호에서 진폭 비대칭이 최소화되는 적어도 하나의 측정 파라미터 값을 식별하는 단계; 및
    상기 적어도 하나의 식별된 값에서 이미징 타겟 측정을 수행하도록 측정 도구를 구성하는 단계
    를 포함하는 것인 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 식별하는 단계는 상기 적어도 하나의 측정 파라미터로서 파장에 대하여 수행되고, 상기 방법은 상기 진폭 비대칭이 최소화되는 값을 식별하기 위한 특정된 파장 범위를 스캔하는 단계를 더 포함하는 것인 방법.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 식별하는 단계는 상기 적어도 하나의 측정 파라미터로서 파장 및 포커스 위치에 대하여 수행되고, 상기 방법은 대응하는 격자(grating) 위치가 식별된 파장에서 최소의 진폭 비대칭을 제공하는 포커스 위치 및 파장을 식별하도록, 특정된 파장 및 포커스 범위를 스캔하는 단계를 더 포함하는 것인 방법.
  9. 컴퓨터 프로그램 제품에 있어서,
    컴퓨터 판독 가능 프로그램이 구현된 비일시적 컴퓨터 판독 가능 저장 매체를 포함하고,
    상기 컴퓨터 판독 가능 프로그램은 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 방법을 수행하도록 구성되는 것인 컴퓨터 프로그램 제품.
  10. 계측 모듈에 있어서,
    대응하는 계측 측정 신호가 최소의 진폭 비대칭을 갖는 값을 식별하는 단계에 의해 적어도 하나의 계측 측정 파라미터의 값을 도출하도록 구성되는 것인 계측 모듈.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 식별하는 단계는 상기 적어도 하나의 측정 파라미터의 적어도 하나의 범위를 스캔하는 단계에 의해 수행되는 것인 계측 모듈.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 스캔하는 단계는 상기 적어도 하나의 계측 측정 파라미터로서 측정 파장 및/또는 측정 포커스 위치를 스캔하는 단계를 포함하는 것인 계측 모듈.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 측정 파장을 스캔하는 단계는 제1 파라미터 값으로서 파장을 결정하기 위한 시뮬레이션에서 수행되고, 상기 측정 포커스를 스캔하는 단계는 제2 파라미터 값으로서 포커스 위치를 결정하기 위해 타겟 측정 동안 수행되는 것인 계측 모듈.
  14. 제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    이미징 계측 및 이미징 계측 타겟에 적용되는 것인 계측 모듈.
  15. 계측 시스템에 있어서,
    제10항 내지 제13항 중 어느 한 항의 상기 계측 모듈을 포함하는 것인 계측 시스템.
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