CN107924849B - 利用基于目标的空中图像的变换的焦点计量和目标 - Google Patents

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Abstract

本发明提供焦点计量方法和模块，其使用基于空中图像的变换以共享自多个目标导出的测量信息和/或设计针对指定兼容目标的额外目标，此实现依据改变的生产条件简单调整焦点目标。方法包括：将两个或两个以上焦点目标定位在每一晶片场中；进行目标的焦点测量；将焦点测量变换为针对每一场的单组结果；使用基于目标的空中图像的目标之间的变换；及自单组结果导出焦点结果；及可能使用指定目标的空中图像参数自指定目标设计焦点目标。

Description

利用基于目标的空中图像的变换的焦点计量和目标
相关申请案的交叉参考
本申请案主张2015年8月6日申请的第62/201,975号美国临时专利申请案的优先权，所述专利申请案的全部内容特此以引用方式并入。
技术领域
本发明涉及焦点剂量计量的领域，且更具体来说，涉及改进焦点和剂量测量准确度和灵活性的测量方法和目标。
背景技术
在信号响应计量(SRM)中，依据若干所关注参数学习信号的响应。使用指定实验组，改变所关注参数且测量信号。在平版印刷工具(例如扫描仪或步进器)的情况中，使用SRM以焦点和剂量为参数完成焦点和剂量计量。在特殊晶片(即，焦点曝光矩阵(FEM)晶片)上针对不同焦点和剂量值印刷单元组(即，计量目标)。经学习信号可由(例如)实施角度分辨的散射测量技术的对应计量工具导出。
SRM中的固有问题是经学习信号中的误差。在焦点计量的情况中，FEM焦点的模糊度可为约20nm。在FEM和生产晶片两者上预期这些焦点误差。FEM晶片上的扫描仪焦点位置的此大模糊度不允许建立良好校准的模型且导致随后的焦点/剂量测量中的较大误差。此外，如在底层和抗蚀剂中的工艺变动引起FEM与生产印刷图案之间的差异且又引起经测量信号的差异。
现有技术焦点剂量测量通常使用由线-空间图案组成的两个单元。一个单元(称为密集单元)具有以最小间距的线且另一个单元(称为ISO单元)具有与密集单元相同的线但具有双倍间距。虽然ISO单元对焦点和剂量两者非常灵敏，但密集单元对焦点不灵敏。因此，可使焦点与剂量贡献去相关(参见麦克(Mack)、克里斯(Chris)2008年的《光学平版印刷法的基本原理(Fundamental principles of optical lithography)》：《微制造的科学(thescience of microfabrication)》，约翰·威利父子出版公司)。不对称目标具有取决于焦点和曝光的(若干)不对称特征。此类目标通常具有较大间距(400nm到900nm)，这实现测量第一阶之间的差分信号。使用具有不同间距和不对称性的多个目标来使焦点与剂量去相关(见WIPO公开案第2013/189724号，所述公开案的全文以引用的方式并入本文中)。
发明内容
下文是提供本发明的初步理解的简明概要。概要不一定识别关键元素，也不限制本发明的范围，而仅充当以下描述的导论。
本发明的一个方面提供一种焦点计量方法，其包括：将两个或两个以上焦点目标定位在每一晶片场中；进行所述目标的焦点测量；将所述焦点测量变换为针对每一场的单组结果；使用基于所述目标的空中图像的所述目标之间的变换；及自所述单组结果导出焦点结果。
本发明的这些、额外和/或其它方面和/或优点在下文的具体实施方式中阐述；可能可自详具体实施方式推断；和/或可通过实践本发明而学习。
附图说明
为了更好地理解本发明的实施例且展示可如何实行本发明的实施例，现将纯粹通过实例参考附图，其中遍及图式中的相同数字指定对应元件或区段。
在附图中：
图1是根据本发明的一些实施例的计量工具中的焦点模块的高阶示意性框图。
图2A示意性说明自测量的理想化焦点剂量结果导出，且图2B示意性说明自测量的现有技术焦点剂量结果导出。
图3是根据本发明的一些实施例的用于导出变换的针对变化焦点值的单目标元件的经计算空中图像的示例性说明。
图4A和4B分别示意性说明根据本发明的一些实施例的使用基于空中图像的变换将多个目标的焦点测量变换为单组结果的非限制性实例和所得经改进的焦点测量。
图5是根据本发明的一些实施例的使用基于空中图像的变换达成的经改进准确度的示例性说明。
图6示意性说明根据本发明的一些实施例的用于实行目标优化程序的可能多参数掩模设计。
图7是说明根据本发明的一些实施例的方法的高阶流程图。
具体实施方式
在阐述具体实施方式之前，阐述将在下文中使用的某些术语的定义可为有用的。
如本申请案中使用的术语“目标”或“单元”是指印刷在晶片上的几何图案，通常目标包括一或多个单元。单元包括元件的一或多个周期性图案，在最简单非限制性的情况中是由条构成的光栅。
如本申请案中使用的术语“空中图像”是指在晶片平面处的光学图像，其在与晶片交互时用于在晶片上产生相应结构。通常，空中图像是对应于目标的周期性结构的周期性图案。在本文中针对对应目标的单个元件说明空中图像。
在以下描述中，描述本发明的各种方面。出于解释的目的，阐述特定配置和细节以提供本发明的透彻理解。但是，所属领域的技术人员也将了解，本发明可在没有本文中呈现的具体细节的情况下实践。此外，可能已省略或简化熟知的特征以不模糊本发明。具体参考图式，应强调，所展示细节是作为实例且仅是为了阐释性讨论本发明的目的，且为了提供据信是本发明的原理和概念方面的最有用且容易理解的描述的原因而呈现。在这方面，不试图比基本理解本发明所需那样更详细展示本发明的结构细节，结合图式进行的描述使所属领域的技术人员了解实际上可如何体现本发明的若干形式。
在详细解释本发明的至少一个实施例前，应理解，本发明在其应用上不限于以下描述中阐述或图式中说明的组件的构造和布置的细节。本发明可应用在可以各种方式实践或实行的其它实施例以及所揭示实施例的组合。又，应理解，本文中采用的词组及术语是为了描述的目的且不应视为限制性的。
除非另外明确陈述，否则如自以下论述显而易见，应了解，贯穿说明书，利用例如”“处理”、“计算”、“运算”、“确定”、“增强”或类似者的术语的论述是指计算机或计算系统或类似电子计算装置的动作和/或过程，所述动作和/或过程将表示为计算系统的寄存器和/或存储器内的物理(例如电子)量的数据操纵和/或变换为类似表示为计算系统的存储器、寄存器或其它此类信息存储、传输或显示设备内的物理量的其它数据。
本发明的实施例提供用于以高准确度测量计量工具中的焦点和剂量的有效且经济的方法及机构。本发明提供在计量目标的印刷单元之间共享信息以通过考虑单元的掩模的经计算空中图像而改进信号校准和测量两者的新方法。特定来说，发明者已发现，使用具有相同间距的单元的经计算空中图像可用于改进焦点和剂量计量。本发明可在任何计量平台中实施以用于焦点和剂量控制且可与使用具有相同间距的两个或两个以上的单元的任何类型的焦点/剂量测量且与任何工具头且与任何测量算法组合。
提供焦点计量方法和模块，其使用基于空中图像的变换以共享自多个目标导出的测量信息和/或设计针对指定兼容目标的额外目标，这实现依据改变的生产条件简单调整焦点目标。方法包括：将两个或两个以上焦点目标定位在每一晶片场中；进行目标的焦点测量；将焦点测量变换为针对每一场的单组结果；使用基于目标的空中图像的目标之间的变换；及自单组结果导出焦点结果；及可能使用指定目标的空中图像参数自指定目标设计焦点目标。
图1是根据本发明的一些实施例的计量工具90中的焦点模块100的高阶示意性框图。计量焦点模块100包括处理模块110，所述处理模块110经配置以使用基于定位在晶片60的晶片场70中的多个目标101的空中图像85的目标101之间的变换115将所述目标101的焦点测量112变换为针对场70的单组结果118。计量焦点模块100经配置以自(若干)单组结果118导出焦点结果105。目标101可选自现有技术目标80A、80B(例如在第20140141536号美国专利公开案中揭示)，可自其修改或设计为目标120，如下文中解释。由第20140141536号美国专利公开案教示的目标设计可用作目标80A、80B且根据下文中提供的指导对应地修改为目标120。具体来说，目标120可包括如下文中解释使用变换115实现在目标120之间传送信息的单间距目标。
处理模块110可进一步经配置以根据指定目标使用指定目标的空中图像参数建议焦点目标设计，其中自由计量焦点模块100实行的初步测量凭经验确定指定目标。某些经测量目标80A、80B、120可用作如下文中揭示用于使用基于空中图像的变换115导出其它目标设计120的模板。
图2A示意性说明来自测量的理想化焦点剂量结果导出，且图2B示意性说明来自测量的现有技术焦点剂量结果导出。在当前过程中，单独完成每一单元的信号校准和测量。没有信息在单元之间传送以改进经测量信号。当使用具有不同间距和不同对称性的目标单元时，像差效应不同地作用于每一目标。不同效应引起焦点测量的不准确度，如由范海维(vanHaver)、斯文(Sven)等人所著的2014年的《使用对从相移光栅成像的目标的覆盖测量的平版印刷系统的基于晶片的像差计量(Wafer-based aberration metrology forlithographic systems using overlay measurements on targets imaged from phase-shift gratings)》，《应用光学(Applied Optics)》53.12：第2562-2582页展示。在现有技术中(例如)通过
Figure GDA0001566809480000041
针对每一单元单独计算经印刷目标对焦点和剂量的响应，其中
Figure GDA0001566809480000051
是针对单元j在每一焦点和剂量值i下的经测量信号(分别表示为fi,di)且SSj是使用FEM晶片在较早训练阶段期间学习的函数。当前方法的缺点是其受作为误差源的以下项目高度影响：工艺变动(抗蚀剂和底层参数的变动)和扫描仪误差(在印刷结构中达成的焦点和剂量的值相对于编程值的差)。在图2A和2B中示例性说明这些误差，图2A和2B说明不具有及具有扫描仪变动的经校准信号。表面描绘经运算的焦点-剂量相依性且点是测量点。扫描仪变动作为一个因素在现有技术中导入引入运算焦点-剂量相依性中的显著误差的大变动。
图3是根据本发明的一些实施例的用于导出变换115的针对变化焦点值的单目标元件的经计算空中图像85的示例性说明。发明者已发现，如下文中描述可使用单元的空中图像来达成信号的更好的校准。针对周期性图案使用掩模和扫描仪照明方案计算传达晶片上的光强度的空中图像。空中图像不受晶片工艺影响。围绕特定焦点值(称为最佳焦点)，可依据如由方程式1表达的焦点和剂量来近似表示强度I(f,d)，其中f和d分别表示焦点和剂量偏移，d0表示标称剂量且A,B、α和
Figure GDA0001566809480000052
表示掩模的性质。
Figure GDA0001566809480000053
图3说明由目标元件针对各种焦点值产生的空中图像85。
针对一些情况，一个单元在给定焦点和剂量(fk,dk)下的空中图像85可通过另一单元使用不同焦点和剂量值((fj,dj)而建立。如果两个单元产生相同空中图像，那么两个单元也印刷相同的光栅图案(目标)。必要条件是两个单元具有相同间距。使用经计算空中图像85，可使用方程式1的参数表达单元k的(fk,dk)与单元j的(fj,dj)之间的变换115，如由方程式2提供，方程式2可指定为自j至k的变换115，(fj,dj)＝Gk→j(fk,dk)。
dj＝(Ak/Aj)dk 方程式2
Figure GDA0001566809480000054
图4A和4B分别示意性说明根据本发明的一些实施例的使用基于空中图像的变换115将多个目标101的焦点测量112变换为单组结果118的非限制性实例和所得经改进的焦点测量105。图4A说明绘制在一起的两个目标的(fj,dj)和(fk,dk)值。可排除不存在针对其的对应变换的一些点((fk,dk)值)。在使用单元k测量的信号的校准步骤期间，可添加具有焦点和剂量值(fj,dj)的单元j的校准以通过关联于来自多个目标单元的作为单组测量的(经变换)测量112而改进焦点和剂量测量的准确度，所述单组测量具有比任何单目标测量更多的点。图4B使用经变换信号示例经改进的经校准信号105，表面说明经运算的焦点剂量相依性且点指示测量和经变换测量(更系统比较见图5)。方程式3表达使用单元之间的经传送信息以提供单元j的经改进的经校准信号SSj(f,d)，其中当变换115Gk→j(f,d)真实且有效时，(f,d)最小化自单元j和单元k测量的信号两者。
Figure GDA0001566809480000061
应注意，虽然图4A和4B示例使用结合两个单元的变换115，但可使用任何数目个单元以用于信号响应的校准。数据在单元之间的变换不受单元的数目限制。
图5是根据本发明的一些实施例的使用基于空中图像的变换115达成的经改进准确度的示例性说明。所揭示的实施例减小经校准且经测量的信号的模糊度，例如，图5呈现在现有技术中且在使用基于空中图像的变换115来改进焦点和剂量测量的准确度的情况下，依据FEM晶片中的印刷焦点模糊度的焦点误差的标准偏差。数据是基于共享其的信号响应的五个目标，每个目标具有55个不同焦点及剂量组合和900个不同信号的学习组。在这实例中，空中图像仅用于改进校准而非测量。在所说明的实例中，尤其针对大模糊度达成较大益处，其中使用空中图像的经校准信号更抗模糊度。
关于目标120，以下揭示内容提供目标选择和/或设计的方式，其使用上文揭示的使用基于空中图像的变换115以在目标设计120之间连接的原理进一步增强焦点剂量测量的准确度和灵活性。
在现有技术中，小间距计量目标用于扫描仪的焦点测量中以及用于不同类型的测量(例如像差测量)且也可并入较大间距的目标中。但是，找到可印刷且灵敏目标的掩模设计(特定于计量)仍是主要问题。在下文中，提供减轻找到此类目标的负担的方式，给定已知针对一些不同照明条件和/或不同掩模类型和/或不同工艺窗的设计，所述方式简化找到此类目标的掩模设计。
以下揭示内容克服现有技术的主要缺点，例如经验方法(在恰为随后在生产中使用的类型的特殊主光罩上曝写约10,000个不同设计；使用此掩模曝写晶片；收集计量信号；及评定设计；及选择最佳适当掩模设计)不适用于处置快速改变的产品(例如在晶片代工厂设计中)。改变的产品可需要扫描仪照明改变、掩模类型改变、底层堆叠改变等，其接着需要相应地改变焦点剂量晶片和/或特殊主光罩，因此需要进行长搜索来找到可印刷且灵敏的计量目标。以下揭示内容克服现有技术的主要缺点，例如模拟方法中对非常良好校准的平版印刷和计量模拟的需要(使用非常良好校准的平版印刷和计量模拟找到针对计量目标的最佳适当掩模设计)。具体来说，非常难以依适当准确度水平达成抗蚀剂校准(其在模拟中起关键作用)。此外，使用详细平版印刷和计量模拟的计量目标设计非常耗资源和时间。
相较于现有技术方法，发明者已发现，假设已知一些指定目标，可使用基于空中图像的变换115以导出额外适当目标120。指定目标根据与(若干)给定掩模类型(例如，二元掩模)、抗蚀剂(化学、物理性质(介电常数和磁导率)及厚度)、堆叠(TARC(顶部抗反射涂层)、BARC(底部抗反射涂层)及其它底层，包含其的厚度和物理性质-介电常数和磁导率)和照明条件相关的要求必须可印刷(在整个工艺窗中)且灵敏。指定目标可由现有技术方法识别，例如上文描述的经验方法或模拟方法。
可使用基于空中图像的变换115以导出具有与先前找到的目标相同的可印刷性及灵敏度的其它目标120。此假设TARC、抗蚀剂和BARC化学性、厚度和物理性质保持不变(可能未知，但固定)而任意扫描仪照明、掩模类型改变和/或底层堆叠(厚度和/或物理性质)改变和/或工艺窗移动。
应注意，目标设计、掩模类型及照明的组合等效于另一此组合，使得如果这些组合引发相同空中图像，那其产生目标的完全相同的光栅几何形状。小间距目标设计的空中图像由方程式1A表达，其中F表示焦点，x表示x坐标，px表示沿着x方向的间距且A、B、F0及α表示对应参数(见上文中的方程式1，此处加上cos(x/2πpx)以表达空中图像的空间相依性)。
C+[A+B cos(α(F-F0))]cos(x/2πpx) 方程式1A
参数A、B、C、α、F0和px取决于掩模设计、掩模堆叠和照明条件。针对作为针对照明条件和掩模参数的(若干)特定组合的经验证目标设计的指定目标，可导出处理(若干)类似空中图像的(若干)新掩模和目标，此在参数A、B、C、α、F0及px的不同组合下维持相同空中图像。在工艺窗移动的情况中，可使用最佳焦点相依常数将空中图像方程式乘以最佳剂量相依系数而额外调整F0。
有利地，发明者已发现，使用此方法，可在不知道堆叠(包含抗蚀剂)的情况下实行具有规定空中图像的掩模设计。所需的唯一信息是掩模堆叠和照明。
图6示意性说明根据本发明的一些实施例的用于实行目标优化程序的可能多参数掩模设计120A。应强调，可针对对应于任何目标设计120的掩模以及针对目标80A、80B和在以引用的方式并入本文中的美国专利公开案第20140141536号中教示的其它目标类型实行类似分析。掩模120A的示例性几何参数表示为P1、P2、P3及间距X。在优化程序中，变动掩模参数以在参数的不同组合下产生相同空中图像。应注意，由于空中图像计算是计算上非常轻的运算，因此方法可行且有效。又，虽然优化问题可能非凸的，但在大多数情况下使用具有足够参数的掩模模板实现找到适当掩模设计。此外，如果仅存在工艺窗改变，那么可在较小参数范围内实行优化(例如，间距X及α可保持恒定(双光束成像效应)，使得空中图像参数的数目较小地降低(A、B、C和F0)。
有利地，所揭示的方法实现在微小照明和掩模堆叠改变后目标的可印刷性和灵敏度的验证以及随着提供目标的可印刷性及灵敏度的验证实时实施微小照明改变的能力。使用所揭示的方法，不需要经验掩模设计搜索，也不需要具有非常准确校准过程的长模拟过程。
在某些实施例中，取代“空中图像”近似或作为其补充，可使用“抗蚀剂中的图像”近似。方法可实施为(例如)由处理模块110运行的软件工具或实施为可由开发者和/或客户使用以改进焦点偏移目标设计流程的独立软件。
图7是说明根据本发明的一些实施例的方法200的高阶流程图。可针对上文中描述的焦点模块100实行方法阶段，所述焦点模块100可视情况经配置以实施方法200。方法200可至少部分由至少一个计算机处理器(例如，由计量工具90中的处理模块110)实施。某些实施例包括计算机程序产品，其包括具有以其体现且经配置以实行方法200的相关阶段的计算机可读程序的计算机可读储存媒体。某些实施例包括由方法200的实施例设计的相应焦点目标的目标设计文件。
焦点计量方法200包括：将两个或两个以上焦点目标定位在每一晶片场中(阶段210)；进行目标的焦点测量(阶段220)；将焦点测量变换为针对每一场的单组结果(阶段230)；使用基于目标的空中图像的目标之间的变换(阶段235)；及自所述组结果导出焦点结果(阶段240)。
方法200可进一步包括使用指定目标的空中图像参数自指定目标(例如，自根据指定要求可印刷且灵敏的指定目标)设计焦点目标(阶段250)。指定目标可自初步测量凭经验确定(阶段255)且用于使用基于空中图像的变换115提供额外目标。
方法200可进一步包括使用基于空中图像的变换115选择描述焦点目标的指定参数的参数值(阶段260)以将焦点目标设计为等效于指定目标。
某些实施例包括根据方法200设计的焦点目标的目标设计文件和/或此类目标的计量焦点/剂量测量。
某些实施例包括计量焦点模块100，其包括经配置以使用基于目标的空中图像的目标之间的变换将定位在晶片场中的多个目标的焦点测量变换为针对所述场的单组结果，其中计量焦点模块经配置以自单组结果导出焦点结果。在计量焦点模块100中，处理模块110可进一步经配置以根据指定目标使用指定目标的空中图像参数建议焦点目标设计，其中自由计量焦点模块实行的初步测量凭经验确定指定目标。
某些实施例包括(例如，焦点模块110中的)计算机程序产品，其包括具有以其体现的计算机可读程序的非暂时性计算机可读储存媒体，计算机可读程序经配置以使用基于目标的空中图像的目标之间的变换将定位在晶片场中的多个目标的焦点测量变换为针对所述场的单组结果，且进一步自单组结果导出焦点结果。
某些实施例包括(例如，焦点模块110中的)计算机程序产品，其包括具有以其体现的计算机可读程序的非暂时性计算机可读储存媒体，计算机可读程序经配置以通过选择描述焦点目标的指定参数的参数值以提供与指定目标相同的空中图像而使用指定目标的空中图像参数自指定目标设计焦点目标。
在上文中参考根据本发明的实施例的方法、设备(系统)和计算机程序产品的流程图说明和/或部分图式描述本发明的方面。应了解，流程图说明和/或部分图式的各部分和流程图说明和/或部分图式中的部分的组合可由计算机程序指令实施。可将这些计算机程序指令提供至通用计算机、专用计算机或其它可编程数据处理设备的处理器以产生机器，使得经由计算机或其它可编程数据处理设备的处理器执行的指令建立用于实施流程图和/或部分图式或其的部分中指定的功能/动作的构件。
这些计算机程序指令也可储存在计算机可读媒体中，所述计算机程序指令可引导计算机、其它可编码数据处理设备或其它装置以特定方式起作用，使得储存在计算机可读媒体中的指令产生制品，包含实施流程图和/或部分图式或其的部分中指定的功能/动作的指令。
计算机程序指令也可加载到计算机、其它可编程数据处理设备或其它装置上以导致在计算机、其它可编程设备或其它装置上执行一系列操作步骤以产生计算机实施程序，使得在计算机或其它可编程设备上执行的指令提供用于实施在流程图和/或部分图式或其的部分中指定的功能/动作的过程。
前述流程图及图式说明根据本发明的各项实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实施方案的架构、功能和操作。在这方面，流程图或部分图式中的各部分可表示模块、片段或代码的部分，其包括用于实施(若干)指定逻辑功能的一或多个可执行指令。也应注意，在一些替代实施方案中，部分中提及的功能可不以图中提及的顺序发生。举例来说，事实上，取决于所涉及的功能，依序展示的两个部分可实质上同时执行或所述部分有时可以相反顺序执行。也应注意，部分图式和/或流程图说明的各部分及部分图式和/或流程图说明中的部分的组合可由执行指定功能或动作的基于专用硬件的系统或专用硬件和计算机指令的组合实施。
在上文的描述中，实施例是本发明的实例或实施方案。“一个实施例”、“实施例”、“某些实施例”或“一些实施例”的不同出现不一定全部是指相同实施例。虽然可在单个实施例的背景内容中描述本发明的各种特征，但所述特征也可单独或以任何适合组合提供。相反地，虽然为了清楚起见本文中在单独实施例的背景内容中描述本发明，但本发明也可在单个实施例中实施。本发明的某些实施例可包含来自上文中揭示的不同实施例的特征，且某些实施例可并入来自上文中揭示的其它实施例的元件。不应将在特定实施例的背景内容中对本发明的元件的揭示视为将其的用途单独限于特定实施例中。此外，应理解，本发明可以多种方式实行或实践且本发明可实施于除了上文中的描述中概述的实施例外的某些实施例中。
本发明不限于所述图式或对应描述。举例来说，流程不需要进行每一所说明的框或状态或按如所说明且描述的完全相同的顺序进行。本文中使用的技术及科学术语的意义是如由所属领域的技术人员普遍理解，除非另外定义。虽然已针对有限数目个实施例描述本发明，但不应将这些理解为对本发明的范围的限制，而为一些优选实施例的例证。其它可能变动、修改及应用也在本发明的范围内。因此，本发明的范围不应由目前为止已描述的内容限制，而应由所附权利要求书及其的合法等效物限制。

Claims (21)

1.一种焦点计量方法，其包括：
将两个以上焦点目标定位在每一晶片场中，
进行所述目标的焦点测量，
使用所述目标之间的变换将所述焦点测量变换为针对每一场的单组结果，所述变换基于所述目标的空中图像且在第一单元k的(fk,dk)与第二单元j的(fj,dj)之间，其中f代表焦点且d代表剂量，及
自所述单组结果导出焦点结果。
2.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括使用指定目标的空中图像参数自所述指定目标设计所述焦点目标。
3.根据权利要求2所述的方法，其进一步包括自初步测量凭经验确定所述指定目标。
4.根据权利要求2所述的方法，其中所述设计包括选择描述所述焦点目标的指定参数的参数值。
5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的方法，其至少部分由至少一个计算机处理器实行。
6.根据权利要求1所述的方法，其中所述变换被描绘为从j到k，（fj,dj)＝Gk→j(fk,dk)，其中所述变换通过等式dj＝(Ak/Aj)dk和
Figure FDA0003691404890000011
Figure FDA0003691404890000012
来表示，且其中A、B、α和
Figure FDA0003691404890000015
表示掩模的性质。
7.根据权利要求1所述的方法，其中所述焦点结果包括强度I(f,d)的最佳焦点。
8.根据权利要求7所述的方法，其中强度的最佳焦点通过等式
Figure FDA0003691404890000016
Figure FDA0003691404890000013
来表示，其中d0表示标称剂量，且其中A、B、α和
Figure FDA0003691404890000014
表示掩模的性质。
9.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括排除不存在所述变换的点。
10.一种非暂时性计算机可读存储媒体，其存储由根据权利要求2到4中任一权利要求的方法设计的焦点目标的目标设计文件。
11.一种非暂时性计算机可读存储媒体，其存储计算机可读程序，所述计算机可读程序经配置以执行由根据权利要求2到4中任一权利要求的方法设计的焦点目标的计量测量。
12.一种计量焦点模块，其包括处理模块，所述处理模块经配置以将定位在晶片场中的多个目标的焦点测量使用所述目标之间的变换变换为针对所述场的单组结果，所述变换基于所述目标的空中图像且在第一单元k的(fk,dk)与第二单元j的(fj,dj)之间，其中f代表焦点且d代表剂量，其中所述计量焦点模块经配置以自所述单组结果导出焦点结果。
13.根据权利要求12所述的计量焦点模块，其中所述处理模块进一步经配置以根据指定目标使用所述指定目标的空中图像参数建议焦点目标设计，其中自由所述计量焦点模块实行的初步测量凭经验确定所述指定目标。
14.根据权利要求12所述的计量焦点模块，其中所述变换被描绘为从j到k，(fj,dj)＝Gk →j(fk,dk)，其中所述变换通过等式dj＝(Ak/Aj)dk和
Figure FDA0003691404890000021
来表示，且其中A、B、α和
Figure FDA0003691404890000022
表示掩模的性质。
15.根据权利要求12所述的计量焦点模块，其中所述焦点包括强度I(f,d)的最佳焦点，其中强度的最佳焦点通过等式
Figure FDA0003691404890000023
来表示，其中d0表示标称剂量，且其中A、B、α和
Figure FDA0003691404890000024
表示掩模的性质。
16.一种非暂时性计算机可读存储媒体，其具有与其一起体现的计算机可读程序，所述计算机可读程序经配置以将定位在晶片场中的多个目标的焦点测量使用所述目标之间的变换变换为针对所述场的单组结果，所述变换基于所述目标的空中图像且在第一单元k的(fk,dk)与第二单元j的(fj,dj)之间，其中f代表焦点且d代表剂量，且进一步自所述单组结果导出焦点结果。
17.根据权利要求16所述的非暂时性计算机可读存储媒体，其中所述变换被描绘为从j到k，(fj,dj)＝Gk→j(fk,dk)，其中所述变换通过等式dj＝(Ak/Aj)dk和
Figure FDA0003691404890000031
来表示，且其中A、B、α和
Figure FDA0003691404890000032
表示掩模的性质。
18.根据权利要求16所述的非暂时性计算机可读存储媒体，其中所述焦点结果包括强度I(f,d)的最佳焦点，其中强度的最佳焦点通过等式
Figure FDA0003691404890000033
来表示，其中d0表示标称剂量，且其中A、B、α和
Figure FDA0003691404890000034
表示掩模的性质。
19.一种包括根据权利要求16所述的非暂时性计算机可读存储媒体的计量焦点模块。
20.一种非暂时性计算机可读存储媒体，其具有与其一起体现的计算机可读程序，所述计算机可读程序经配置以通过选择描述焦点目标的指定参数的参数值以提供与指定目标相同的空中图像而使用所述指定目标的空中图像参数自所述指定目标设计所述焦点目标，其中所述设计焦点目标基于所述目标之间的变换，且所述变换基于所述目标的空中图像且在第一单元k的(fk,dk)与第二单元j的(fj,dj)之间，其中f代表焦点且d代表剂量。
21.一种包括根据权利要求20所述的非暂时性计算机可读存储媒体的计量焦点模块。
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