KR20200012915A - 글레이징 품질의 분석을 위한 광학 디바이스의 교정 및 관련 방법 - Google Patents

글레이징 품질의 분석을 위한 광학 디바이스의 교정 및 관련 방법 Download PDF

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로멩 데쿠르셀
올리비에 뒤물렝
테오 리바르직
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Abstract

본원은 제1 편광계, 제1 광검출기(6, 6')의 세트, 및 광학적 지연 생성기(3)를 포함하는 광학 디바이스(1000, 1001, 1002)를 개시한다. 본원은 또한 글레이징의 품질을 분석하기 위한 디바이스(2001, 2002, 2003), 가열 및 템퍼링 라인, 그리고 생산, 교정 및 품질 분석 방법을 개시한다.

Description

글레이징 품질의 분석을 위한 광학 디바이스의 교정 및 관련 방법
본 발명은 글레이징의 품질 분석 분야, 그리고 특히 템퍼링된 또는 반-템퍼링된(다른 말로, 강화된) 글레이징 내의 ?치 마크(quench mark) 또는 가열 불균일성의 분석에 관한 것이다.
알려진 바와 같이, 응력을 포함하는 템퍼링된 유리는 광학적으로 이방적이다. 이는 복굴절 특성을 유발한다. 특허 WO 2011/157815에서, 이러한 특성들을 이용하여 ?치 마크를 분석한다.
?치 마크의 이러한 분석을 실행하기 위해서, 글레이징은 템퍼로부터 초래된 복굴절의 존재를 측정하기 위한 조립체를 통과한다. 이러한 조립체의 핵심은 광탄성 측정을 위한 디바이스 또는 편광계이고, 이는:
- 글레이징 상류에서, 광원, 제1 선형 편광기, 및 제1 파장판; 그리고
- 글레이징의 하류에서, 제2 파장판, 분석기(제2 선형 편광기) 및 광검출기를 포함한다.
이는 글레이징 상에 위치된 마크의 심각도 및 분포에 관한 화상을 생성한다. 이어서, 관찰자에 대한 이러한 마크의 외관 인지에 상응하도록, 존재 마크의 화상이 미리 구축된 기준을 이용하여 분석된다. 일련의 템퍼링된 글레이징을 받은 전문가 패널에 의해서 통계학적 평가가 실행되었다.
분석되는 화상이 사용되는 광학 시스템에 의존하는 범위 내에서, 이러한 분석은 신뢰성이 부족하다.
본 발명의 하나의 목적은, 사용되는 하드웨어와 무관한, 템퍼링된 그리고 심지어 반-템퍼링된 글레이징의 품질의 분석을 제공하는 것이다.
이를 위해서, 본 발명의 제1 대상은 제1의, 바람직하게 수직 배향된, 편광계를 포함하는 광학 디바이스이고, 편광계는, 이하의 순서로, 광학 축(바람직하게 수직 축(Z) 또는 수평 축)과 광학적으로 정렬된:
- 광이 광학 축에 의해서 주어진 방향으로 바람직하게 방출되는 - 광 빔을 전달하는, 주어진, 특히 백색의 스펙트럼을 갖는 제1 (가시적), 바람직하게 다색성, 광원, 특히 복수의 무기 발광 다이오드(LED로 지칭됨) 또는 심지어 하나 이상의 유기 발광 다이오드(OLED로 지칭됨)로서, 상기 제1 광원은 특히 광학 축에 직각으로 배치되는, 제1 광원;
- 특히 제1 편광화 축(X1)을 갖는 - 특히 제1 선형 편광기 및 - 특히 제1 편광화 축(X1)에 대해서 45°의 각도(A1)를 갖는 제1 고속 축(fast axis) 및 제1 저속 축을 갖는 - 제1 사분체 파장판(quarter waveplate)을 특히 포함하는, 제1 방향 - 좌측 또는 우측 - (편광화) 회전 방향으로 편광화시키는, 특히 광학 축에 직각으로 배치되는, 제1 원형 (또는 준-원형) 편광기; 및
- 제1 회전 방향에 반대되는 제2 - 각각, 우측 또는 좌측의 - 편광화 회전 방향으로 편광화시키고, 특히 광학 축에 직각으로 배치되는, 제1 분석기 즉, 원형(또는 준-원형 편광기) 편광기로서, 제1 분석기는, 특히 광학 축에 그리고 제1 편광화 축(X1)(그에 따라 제1 및 제2 편광기가 교차된다) 수직인 제2 편광화 축(Y1)을 갖는 제2 선형 편광기가 후속되는, 특히 (절대 값으로 A1과 동일한 각도(A2)에서) 제2 고속 축 및 제2 저속 축을 갖는 제2 사분체 파장판을 특히 포함하고, 제2 서행 축은 특히 제1 고속 축과 정렬되고, 제2 고속 축은 제1 저속 축과 정렬되는, 제1 분석기를 포함한다.
본 발명에 따른 광학 디바이스는 제1 분석기의 하류에서 그리고 광학적 정렬로:
- 특히 광학 축에 직각으로 배치된, 제1 디지털 센서; 및- 제1 디지털 센서에 대면되고 제1 분석기와 제1 디지털 센서 사이에 있는, 특히 제1 디지털 센서에 또는 그에 반하여(against) 체결되는, 특히 광학 축에 직각으로 배치되고 초점 평면을 형성하는 제1 대물렌즈를 포함한다.
또한, 본 발명에 따른 광학 디바이스는, 0 nm 내지 100 nm 범위의 값 A(바람직하게 정수)를 갖는 범위(AB) 내의 광학적 지연을 생성하기 위해서, 특히 광학 축에 직각으로, 제1 편광기와 제1 분석기 사이에 그리고 광학적 정렬로 배치된, 교정된 제1 광학적 지연 생성기, 특히 바비넷(Babinet) 보상기를 포함하고, A는 바람직하게 0 nm이고, 차이(B-A)는 적어도 100 nm 또는 심지어 적어도 200 nm 그리고 심지어 2000 nm이하, 또는 심지어 800 nm 이하 또는 500 nm 이하 또는 300 nm이하이고, 바람직하게 제1 광학적 지연 생성기는 초점 평면 내에 위치된다.
제1 디지털 센서는, 주어진 스펙트럼 응답을 갖는, 제1 광원의 스펙트럼에 민감한 제1 광검출기의 세트를 포함한다. 교정 광검출기로 지칭되는 광검출기인, 하나의 또는 (바람직하게) 하나 초과의 제1 광검출기가 제1 광학적 지연 생성기에 대면되어(교정 지역, 특히 그 개구) 위치된다. 각각의 교정 제1 광검출기는, 연속적으로, 범위(AB) 내의 광학적 지연의 각각을 위해서, 제1 분석기로부터 빠져 나오는 광 빔으로부터 발생된 광 에너지를 수신하고, 이어서 제1 디지털 센서는 범위(AB) 내의 광학적 지연을 위한 교정 디지털 화상으로 지칭되는 것을 생성하고, 각각의 교정 디지털 화상은, 하나 이상의 기준 채널(Ck)로, 하나 이상의 교정 제1 광검출기의 스펙트럼 응답을 나타내는 하나 이상의 화소로부터 형성된다.
본 발명에 따른 광학 디바이스는 마지막으로, 범위(AB) 내의 각각의 광학적 지연을 위해서, 기준 채널(Ck)의 각각에 대한 디지털 값(Ik)을 포함하는 교정 데이터베이스를 형성하기 위해서, 교정 디지털 화상을 프로세스하기 위한 제1 프로세싱 유닛을 포함하고, 디지털 값(Ik)은 하나 이상의 교정 제1 광검출기에 의해서 수집된 광 에너지를 나타낸다.
따라서, 교정된 제1 광학적 지연 생성기를 이용하여 본 발명에 따라 제1 디지털 센서 및 제1 편광계를 교정할 수 있고, 이는 이하의 장점을 갖는다:
- 각각의 광학적 지연의 측정이 편광계를 위해서 사용되는 광학적 하드웨어의 선택과 독립적인 것으로 인한 객관성;
- 용이하게 입수할 수 있는 광학 시스템을 기초로하는 것에 의한 단순성;
- 지연과 Ik 값의 연관이 복잡한 계산(수치 계산, 방정식, 광탄성 법칙의 이용 등)을 필요로 하지 않는 것으로 인한 신속성으로서, 특히 이는 교정 데이터베이스를 형성하기 위해서 디지털 데이터(각각의 지연을 위한 Ik 값)를 단순히 추출/수집하는 문제이고; 복수의 교정 화소가 이용되는 경우에, Ik 값의 평균을 단순하게 취할 수 있다.
특히, 각각의 교정 화상의 크기가 작을 수 있다. 또한, 합리적인 수의 교정 화상이 수집되고 그에 따라 프로세싱 시간이 짧다.
이러한 교정 중에, (균일한) 광 빔의 일부만이 사용된다(개구, 판의 구역, 교정 지역 등을 통과하는 부분).
예를 들어, (적어도 중앙 부분이) 글레이징의 품질 분석에서 후속하여 전체가 그 역할을 하는, (선형, 직사각형 등) 발광 스트립이 형성된다. 예를 들어, 다이오드 - LED 또는 OLED(들) -의 세트가 설치되면, 다이오드의 일부(예를 들어, 대부분)가 사용되지 않고(이들은 턴 오프 또는 턴 온과 관계없을 수 있다), 글레이징의 품질 분석에서 후속하여 그 역할을 할 것이다. (교정 지역의 또는 개구의) 교정 이후의 다이오드의 추가는 가능한 한 피하여야 하는데, 이는 그러한 추가가 발광 환경을 변화시켜 교정을 손상시킬 수 있고 및/또는 단계를 부가하기 때문이다.
교정 중에, 글레이징의 품질 분석에서 후속하여 이용되는 광검출기의 전부가 바람직하게 설치되고, 광검출기의 일부(예를 들어, 대부분)는 사용되지 않으나, 글레이징의 품질 분석에서 그 역할을 할 것이다. 대안적으로, 광검출기가 교정 후에 (교정 지역의, 개구의 어느 측면 상에) 부가될 수 있다.
분석기 또는 편광기의 크기 선택과 관련하여서도 동일하고, 이들은 바람직하게 글레이징의 품질의 후속 분석을 위한 충분한 크기가 되도록 선택된다. 교정 중에, 지연 구역 외측에서 광 빔에 의해서 조명되는 임의의 광검출기가 사용되지 않는다. 이들은, 품질 분석의 시작 전에 부가될 수 있으나, 단순함을 위해서, 교정을 위해서 이들 모두를 설치하는 것이 바람직하다.
그에 따라, 광학 축은 제1 대물렌즈의 중심을, 그리고 특히 교정 지역의(개구의) 중심을 통과한다. 바람직하게, 이는 제1 공급원의 중심(중심선)을 통과한다.
유리하게, 교정된 제1 광학적 지연 생성기는, 이하로부터 선택된, 복굴절 재료로 제조된 광학 시스템을 포함한다:
- a) 범위(AB) 내에서 광학적 지연을 생성하는 상호 교환 가능한 교정된 정적 광학적 평면형 파장판의 세트로서, 각각의 판은, 연속적으로, 광학 디바이스 내로 삽입되고;
- 또는 b) 복굴절 재료로 제조된 제1 및 제2 쐐기-형상의 판을 포함하는, 교정된 광학적 보상기 또는 시스템, 바람직하게 바비넷-소레일 보상기(Babinet-Soleil compensator)(또는 균등물)로서, 제2 판은 정적인 제1 판에 대해서 병진운동적으로 이동 가능하다.
이어서, 본 발명에 따른 그러한 복굴절 광학 시스템을 이용한 교정은 매우 단순한데, 이는, 예를 들어 유리 샘플을 인장 또는 압축 응력(반경방향 압축의 예) 하에 배치하는 기계적 장치에 의해서 광학적 지연이 생성되는 복잡한 장치를 필요로 하지 않기 때문이다.
또한, 본 발명에 따른 그러한 복굴절 광학 시스템을 이용한 이러한 교정은, 해당 응력장을 알아야 하고 해당 지연 파워가 광탄성 법칙의 이용에 의해서 추정되는 하나 이상의 기준 판재(pane)를 필요로 하는 교정보다 바람직하다.
본 발명에 따른 그러한 복굴절 광학 시스템을 갖는 광학 디바이스는, 필요한 경우에, 용이하게 휴대될 수 있다.
바람직하게, 제1 광학적 지연 생성기, 예를 들어 복굴절 광학 시스템, 특히 보상기는 정지적인 (지연에 의한 교정 지연의 순간에 부동적, 정적인) 장착 홀더 상에, 그리고 예를 들어 광학적 정렬이 수직으로 배향되는 경우에 바람직하게 수평인 프레임 또는 측방향 잼(jamb)에 체결되는 편평한 시트 상에 (안정화되도록) 배치 및/또는 체결된다.
본 발명에 따른 제1 광학적 지연 생성기는, 편평한 시트일 수 있는 선택적인 장착 홀더 내의 홀에 대면되어, 광학 축을 중심으로 하여 위치되는, 교정 지역에 의해서 형성될 수 있다.
예를 들어, a)에서, 정적인 광학적 지연을 갖는, 특히 2 mm 두께의, 플라스틱으로 제조된(바람직하게 아크릴로 제조된) 시트들이 순서대로 사용된다. 바람직하게, 광 빔은, 연부 부근의 영역을 포함하지 않는 구역 내에서 시트를 통과한다.
예를 들어 회전 가능한 또는 병진운동적으로 이동 가능한 유형의 시스템으로, 정적인 광학적 평면형 파장판의 교환이 자동화될 수 있다.
본 발명에 따른 교정된(바비넷-소레일) 보상기를 갖는 광학 디바이스는, 추가적으로, 광학 디바이스를 수정(광학적 요소의 부가 또는 교환)하지 않고, 모두가 맞춤 영역 내에 있는 광학적 지연이 얻어질 수 있게 한다.
바람직하게, 제1 광학적 지연 생성기는, 서로 대면되고 이격된 이하를 포함하는, 보상기, 특히 바비넷-소레일 보상기이다:
- 석영 또는 마그네슘 불화물과 같은 다른 결정과 같은, 제1 (제1 광학 축에 의해서 형성된 단축의) 복굴절 재료로 제조된 정지적인 제1 쐐기-형상의, 즉 삼각형의 판; 및
- 바람직하게 제1 복굴절 재료와 동일한, 석영 또는 마그네슘 불화물과 같은 다른 결정과 같은, 제2 (제2 광학 축에 의해서 형성된 단축의) 복굴절 재료로 제조된, 제1 판에 대해서 병진운동적으로 이동 가능한 제2 쐐기-형상의, 즉 삼각형의 판.
이동 가능한 쐐기-형상의 판의 병진운동이 모터에 의해서 또는 특히 미크론-크기의 스크류(또는 다른 기계적 수단)로 수동적으로 생성될 수 있다. 심지어 수동적으로, 주어진 스텝(step) 크기(스크류 상의 기준 마크, 등)로 범위(AB) 내에서 (A로부터 B로 증가시키기 위해서 또는 B로부터 A로 감소시키기 위해서) 광학적 지연을 증가시킬 수 있다.
이러한 제1 및 제2 광학 축들은 직각이다. 각각, 광학 디바이스의 광학 축을 따른 제1 쐐기-형상의 판 및 제2 쐐기-형상의 판의 국소적인 두께를 d1 및 d2로 명명하고 복굴절 재료의 특별 및 일반 굴절률을 ne 및 no로 명명하면, 서로 직각이고 보상기의 2개의 판의 광학 축에 각각 평행한 2개의 전자기 진동들 사이의 광학적 지연 또는 경로 차이(δ)는: (no-ne) (d1-d2)에 상응한다.
본 발명에 따른 보상기는, 광학 축을 중심으로 하는, 개구에 의해서 형성될 수 있다. 이러한 개구는 제1 광원에 의해서 전체적으로 조명되고, 개구는 전술한 초점 평면 내에 위치되고 그 폭(O1)은 30 mm 이하이다(개구가 원형인 경우에 직경, 또는 등가 직경). 개구는 광의 통과 구역 내에 위치되고, 그러한 통과 구역은, 개구를 구비한 차폐부 또는 불투명한 상자와 같은, 밀폐 수단에 의해서 둘러싸인다. 하나 이상의 교정 제1 광검출기가 개구에 대면되어 위치된다.
바람직하게, 광학적 지연의 변화는 자동화되고(컴퓨터-제어되고), 특히:
- 예를 들어 회전 가능한 또는 병진운동적으로 이동 가능한 유형의 시스템으로, 정적인 광학적 평면형 파장판의 교환이 자동화되고; 또는
- 제1 광학적 지연 생성기가, 범위(AB) 내에서 (A로부터 B로 증가시키기 위해서 또는 B로부터 A로 감소시키기 위해서) 광학적 지연을 자동적으로 증가시킬 수 있는 모터화된 보상기, 예를 들어 바비넷-소레일 보상기이다.
(컴퓨터-제어되는) 모터는 예를 들어 편평한 시트와 같은 (제1) 장착 홀더 상에 위치된다. 증가 스텝 크기(P0)는, 특히 15 내지 25 nm 그리고 심지어 0 내지 25 nm의 지연 범위 내에서, 바람직하게 1 nm 이하 및 심지어 0.5 nm 이하 그리고 적어도 2 nm이다.
가변적 스텝 크기가 선택될 수 있고, 예를 들어 이하와 같을 수 있다:
- 0 내지 200 nm의 지연 범위(AB1)에서, 작은 스텝 크기 즉, 0.5 nm의 스텝 크기;
- 200 nm 내지 800 nm의 지연 범위에서, 큰 스텝 크기 즉, 1 nm의 스텝 크기.
특히, 특히 바비넷-소레일 보상기와 같은 제1 광학적 지연 생성기가, 제1 프로세싱 유닛과 통신하는 제어 인터페이스(컴퓨터)에 연결될 수 있다.
화소는, 편광계를 통과하는 광 빔을 위한 수신기를 형성하는 제1 센서(카메라)의 하나 이상의 감광성 구성요소(제1 광검출기의 세트)에 의해서 수신되는 광 에너지를 나타내는 값을 포함하는 디지털 화상이다. 각각의 제1 광검출기는 컬러마다(그리고 그에 따라 화소의 기준 채널마다) 하나의 (기본적인) 감광성 지역, 그리고 특히 R, G 및 B 채널을 갖는 화소를 위한 3개의 (기본적인) 감광성 지역을 가질 수 있다. 각각의 제1 광검출기는 대안적으로 모든 컬러(그에 따라 화소의 모든 기준 채널)을 위한 하나의 감광성 지역, 특히 R, G 및 B 채널을 갖는 하나의 화소를 위한 1개의 (기본적인) 감광성 지역을 가질 수 있다.
제1 프로세싱 유닛은, 교정에서 사용되는 각각의 화소에 대해서, 각각의 기준 채널(Ck)을 위한 값(Ik)을 구축하고, 각각의 광학적 지연을 위해서 그렇게 한다.
제1 프로세싱 유닛은, 각각의 화소에 대해서, 각각의 기준 채널(Ck)을 위한 값(Ik)을 구축하고, 각각의 광학적 지연을 위해서 그렇게 한다.
바람직하게, 기생 광(parasitic light)은 존재하지 않는다.
제1 광학적 지연 생성기의 레벨에서의 발광 지역이 (개구의) 교정 지역의 크기보다 클 수 있고, 그에 따라 교정 지역(개구)을 통과하는 발광 파워가 균일하고, cd의 광 세기는 특히 5% 이하만큼 변화된다.
더 일반적으로, 더 정밀한 교정을 위해서, 제1 광학적 지연 생성기의, 특히 복굴절 광학 시스템(예를 들어 정적 파장판)의 레벨에서의 발광 파워가 균일한 것이 바람직할 수 있다.
주어진 지연에서의 교정을 위해서, 바람직하게 광학 축을 중심으로 하는 단일 교정 제1 광검출기(그리고 그에 따라 하나의 기준 화소)가 지연 대 기준 채널의 교정 데이터베이스를 충분히 정확하게 생성할 수 있다. 특히, 예를 들어 시준 광학기기가 없는 발산 광 빔(광학 축이 멀리 이동될 때의 광선의 각도)의 이용으로 인한 원근 효과(effects of perspective)가 그에 따라 계산에서 제외된다.
보상기가 있는 상태에서, 단일 제1 광검출기가 개구에 대면되어 그리고 심지어 개구의 중심에 위치된다.
보상기를 이용한 주어진 지연에서의 교정에서, 개구 내의 그리고 제1 센서의 조명되는 제1 광검출기의 부분을 특히 선택하기 위한 선별을 할 수 있다. 교정 제1 광검출기에 의해서, 개구의 중심을 나타내는 그러한 광검출기를 이용하여 연부 효과를 회피할 수 있다. 다음에, 이러한 대표적인 교정 광검출기가 채널별로 평균화되고, 그에 따라 각각의 광학적 지연에 대한 Ik 값이 획득된다.
특히, 보상기의 개구는 직경(O1)의 원형이거나, 보상기의 개구는 등가 직경(O1)이고, 개구의 중심은 직경(O1/2)의 중앙 디스크 내에 내접되고, 대표적인 것으로 여겨지는 교정 제1 광검출기가 전체적으로 중앙 디스크에 대면된다.
제1 광학적 지연 생성기는 광 빔에 의해서 (균일하게) 조명되는 진입 지역을 포함하여, 교정 지역을 형성할 수 있다. 이는 전체 지역에 걸쳐 하나의 (균일한) 지연을 생성한다.
교정 지역은 유리의 분석 지역보다 (아주 매우) 작을 수 있다. 예를 들어, 교정 지역은 5 mm 내지 25 mm 범위의 30 mm 이하의 직경(디스크) 또는 30 mm 이하의 그리고 심지어 5 mm 내지 25 mm의 등가 직경의 지역(직사각형 등)이다. 예를 들어, 유리의 분석 지역은 교정 지역보다 적어도 10배 그리고 적어도 100배 더 크다.
특히 보상기에서, 교정 지역이 개구의 지역(예를 들어, 개구의 중앙 디스크의 지역)의 전부 또는 일부일 수 있고, 유리의 분석 지역보다 (아주 매우) 작을 수 있다. 예를 들어, 유리의 분석 지역은 개구의 또는 심지어 개구의 중앙 디스크의 지역보다 적어도 10배 또는 적어도 100배 더 크다.
교정 제1 광검출기의 (그리고 심지어 제1 광검출기의 세트 중의 다른 광검출기의) 기본적인 감광성 지역이 폭(Wp)이고 바람직하게 정사각형 형상이다. 그에 따라, Wp는 O1 미만이고 심지어 O1/2 미만이다.
대표적인 교정 제1 광검출기의 행 부분(row fraction) 또는 행렬 어레이로 배열된 교정 광검출기의 부분을 가질 수 있다.
제1 광검출기의 세트가 행으로 또는 행렬 어레이로 배열될 수 있다. 제1 광원의 빔은, 선형인 즉, 초기 광 빔의 방향에 평행한 방향으로 선형적으로 연장되는, 제1 디지털 센서에 의해서 수신된다. 그에 따라, 제1 광검출기는 이러한 방향으로 정렬된다.
각각의 화소 내의 각각의 기준 채널을 위한 세기(Ik)는 디지털 유닛(Du)으로 주어진다. 8-비트 코딩 체계에서, 세기는 0으로부터 255로(256 즉 28 디지털 값)로 변화된다.
코딩 체계는 적어도 3개의 기준 파장, 예를 들어 람다1 = 611.3 nm를 중심으로 하는 적색("R"), 람다2 = 549.2 nm를 중심으로 하는 녹색("G"), 및 람다3 = 464.3 nm를 중심으로 하는 청색("B")(RGB)을 고려할 수 있다. 그에 따라, 3개의 스펙트럼 대역, 예를 들어 R ± 50 nm; G ± 50 nm; B ± 50 nm가 존재한다.
그에 따라, 기준 채널을 통해서, 용이하게 이용될 수 있는 RGB 채널이 바람직하게 선택된다. 그에 따라, 각각의 지연에 대한, 개구 내의 각각의 화소에 대한, 하나의 RGB의 3개 1벌(triplet)(a,b,c)이 RGB 채널마다 얻어 지고, 여기에서 a, b 및 c는 Ik 값이다.
제1 프로세싱 유닛이, 특히 컨베이어로부터 원거리에 위치되고 바람직하게 제1 광원에 연결되는, 제1 센서에 대한 무선 또는 유선 링크에 의해서 연결된, 제1 디지털 센서의 상류에 배열된다.
제1 프로세싱 유닛은, 무선 또는 유선 링크에 의해서 제1 센서에 그리고 바람직하게 제1 광원에 연결된 (컨베이어로부터 원거리에 위치된) 컴퓨터를 포함할 수 있다. 제1 프로세싱 유닛은 제1 센서 그리고 심지어 제1 광원을 제어한다.
무선 또는 유선 링크에 의해서 제1 센서에 그리고 바람직하게 제1 광원에 연결된 (컨베이어로부터 원거리에 위치된) 컴퓨터가 이용될 수 있다.
제1 프로세싱 유닛(컴퓨터)은 제1 디지털 센서와 상호작용하고(이를 제어하고 데이터를 수집하며) 심지어 제1 광원을 제어한다.
제1 디지털 센서는, 특히 "GigE" 프로토콜을 이용하여, (네트워크 카드 등을 갖는) 컴퓨터의 이더넷 포트에 연결될 수 있다.
컴퓨터는 제1 광원을 관리할 수 있고 특히 (적은 하드웨어 피로를 위해서) 그 턴 온을 제어할 수 있다.
제1 프로세싱 유닛(컴퓨터)는 제1 디지털 센서로부터 데이터를 수신하고 획득 값(노출 시간 등)을 제어하며, 데이터를 수집하고 이를 화소 형태로 저장한다.
제1 프로세싱 유닛(컴퓨터)은 하나의 광학적 지연으로부터 다른 광학적 지연으로의 자동적 통과를 제어하고, 예를 들어 자동화된 (바비넷) 보상기의 모터의 또는 (특히) "정지적인" 파장판을 유지하는 휠의 이동, 디지털 센서의 데이터의 분석, 교정으로부터 초래되는 파일의 기록, 및 인간-기계 인터페이스의 디스플레이를 제어한다.
바람직하게, 광학 디바이스는, 제1 광학적 지연 생성기와 선형 제1 센서 사이에서, 제1 분석기의 상류에서, 값(Ik)과 광학적 지연 사이의 관계가, 특히 70 또는 75 내지 175 nm 또는 185 nm 또는 350 또는 375 nm 내지 425 nm의, 기준 채널(Ck) 중 적어도 하나에서 실질적으로 선형인 구역 내에서 선택된 지연(A'0)을 갖는 교정된 광학적 파장판을 포함한다.
제1 광원의 광 빔에 의해서 조명되는 2개의 구역(또는 심지어 2개 초과의 구역)이 요소의 증식(multiplication)에 의해서 동시에 교정될 수 있다. 요구되는 광학적 요소가 복제되고; 특히, (제1 편광계가 공유되는 경우에) 적어도 이하가 부가된다:
- 바람직하게 제1 광학적 지연 생성기와 동일한, 제2 광학적 지연 생성기; 및
- 바람직하게 해당 대물렌즈와 동일한, 제2 광검출기의 세트.
2개의 광학적 지연 생성기의 2개의 교정 지역(예를 들어 보상기의 2개의 개구)을 광학 축 상에, 특히 선형 공급원의 중심선 상에 배치하는 것이 선택된다. 예를 들어, 이들은 중심으로부터 동일 거리에 있고 및/또는 적어도 50 cm만큼 이격된다.
이러한 경우에, 프로세싱 유닛은 2개의 교정을 동시에 프로세스할 수 있다. 또한, 제1 광학적 지연 생성기가 이동되는 경우에, 제1 광원의 광 빔에 의해서 조명되는 2개의 구역(또는 심지어 2개 초과의 구역)을 연속적으로 교정할 수 있다.
바람직하게, 무엇보다 온-라인 교정에서, 광학 디바이스가 수직으로 배향되고, 광학 축(Z)이 수직이다. 바람직하게, 광학 축(Z)은 수직이고, 제1 편광계, 제1 디지털 센서 및 제1 광학적 지연 생성기는, 특히 냉각 구역 내에서, 템퍼링 시스템(템퍼링 스테이션)의 하류에서, 가열 및 템퍼링(제조) 라인 상에, 그리고 선택적으로 가열 및 굽힘-템퍼링 라인 상에 위치되고, 글레이징은 교정 구역을 통과하지 않고 보다 더 양호하게 정지된다(정적). 라인은 (수평) 이송 축(Y)을 따라 글레이징을 이송하기 위한 수평 컨베이어를 포함하고, 수직 광학 축(Z)은 축(Y)에 수직이고, 라인은 선택적으로 굽힘-템퍼링 라인이고, 제1 편광계, 제1 디지털 센서 및 제1 광학적 지연 생성기는 굽힘 시스템의 하류에 위치된다.
제1 생성기의 제1 장착 홀더는 정지된 글레이징의 컨베이어 상에 배치될 수 있거나 컨베이어 - 또는 적어도 수평 컨베이어의 이동 가능 부분, 일반적으로 개별적으로 회전되는 롤러 또는 하나 이상의 인접 컨베이어 벨트의 시스템을 갖는 롤러 - 와 독립적일 수 있다.
따라서, 본 발명은 또한, 템퍼링 시스템 하류의, 가열 및 템퍼링 라인 내의, 그리고 선택적으로 가열 및 굽힘-템퍼링 라인 내의 전술한 바와 같은 광학 디바이스의 이용에 관한 것이다.
따라서, 본 발명은 또한 가열 및 템퍼링 라인에 그리고 선택적으로 가열 및 굽힘-템퍼링 라인에 관한 것이고:
- 이송 축(Y)을 따른 글레이징의 이송을 위한 바람직하게 수평인, 컨베이어로서, 라인이 선택적으로 굽힘-템퍼링 라인인, 컨베이어를 포함하고;
- 그리고, 템퍼링 시스템의 하류에서, 특히 냉각 구역에서, 전술한 바와 같은 광학 디바이스를 포함하고, 글레이징은 (제1 광학적 지연 생성기의 교정 지역, 즉 광 빔에 의해서 조명되는 진입 지역을 갖는) 교정 구역을 통과하지 않고 보다 더 양호하게 정지되며;
그리고, 굽힘의 경우에, 제1 편광계, 제1 디지털 센서, 대물렌즈, 및 제1 광학적 지연 생성기가 굽힘 시스템의 하류에 위치된다. 2개의 롤러가 충분히 이격되어 제1 광원의 빔이 통과할 수 있게 한다.
컨베이어는 특히, 예를 들어 적어도 지연 생성기의 교정 지역의 크기의 롤러-간 공간에 의해서 이격된 2개의 롤러를 포함한다.
바람직하게, 제1 광원은 이송 구역 아래에 위치되고, (전체적으로 또는 부분적으로) 2개의 롤러들 사이에 및/또는 (부분적으로) 전술한 롤러들에 인접한 2개의 롤러들 아래에 위치되고, 제1 광원은 선택적으로, 지면으로부터 이격되고 컨베이어의 양 측면 상에서 (롤러의 측방향 단부들의 양 측면 상에서) (금속, 기타의) 잼에 의해서 체결되는 공급원 홀더 상에 위치되고, 제1의, 바람직하게 선형의 디지털 센서가 이격되고 이송 구역의 2개의 롤러 위에 위치된다.
제1 광학적 지연 생성기가 장착 홀더 상에서 2개의 롤러에 체결될 수 있고, 그러한 홀더는 (보상기의 개구의) 교정 지역에 대면되는 홀을 갖는다.
롤러는 예를 들어 강으로 제조된다.
하나의 바람직한 구성에서:
- 제1 광원이, 지면측에, 2개의 롤러 아래에, 롤러-간 공간에 대면되어 위치되고;
- 제1 원형 편광기는 2개의 롤러 아래에서 제1 공급원에 체결되고;
- 제1 장착 홀더는 2개의 롤러 위에서, 진동 없이, 지면에 또는 정지된 컨베이어 상에 (진동 없이) 체결되고; 그리고
- 제1 분석기는 필터 홀더 내에 위치되고, 제1 광검출기는 2개의 롤러 위에 위치된다.
광학 디바이스는 또한 오프-라인으로 그리고 예를 들어 수평 광학적 정렬로 작동된다.
제1 광원은, (예를 들어, 광학 축에 수직이고, 이송 축에 수직인) 주어진 방향으로 선형적인 발광 스트립을 형성할 수 있고, 예를 들어 하나 이상의 측방향 불투명 스트립(차폐부, 접착 테이프)에 의해서, 상기 방향으로, 마스킹되는, 기능적 중앙 방출 (스트립) 구역 및 하나의 또는 보다 더 양호하게 하나 초과의 측방향 (스트립) 구역을 가질 수 있다. 특히, (공급원 홀더 상의) 제1 광원이 지면으로부터 이격되고, (금속 등의) 프로파일에 의해서 예를 들어 컨베이어의 양 측면 상에 체결된다.
제1 선형 편광기 및 제1 사분체 파장판이 예를 들어 접착제로 함께 결합되고 제1 광원에 부가된다. 이들은 예를 들어 적어도 기능적으로 중앙 방출 구역 내에 있고, 하나 이상의 측방향 불투명 스트립(접착 테이프)에 의해서 체결된다. 제2 사분체 파장판 및 제2 선형 편광기가 예를 들어 접착제로 함께 결합되고 제1 대물렌즈에 부가된다. 제1 선형 편광기 및 제1 사분체 파장판이 또한 투명 홀더(예를 들어, 폴리메틸 메타크릴레이트인 PMMA와 같은 플라스틱)에 적층될 수 있거나 그에 접착 결합될 수 있고 내부 기계적 응력을 가지지 않을 수 있다.
2개의 550 nm 사분체 파장판이 선택될 수 있다. 400 내지 700 nm의 광대역의 원형 편광기 및 분석기가 선택될 수 있다.
제1 광원은 특히 무기 발광 다이오드의 하나 이상의 행일 수 있고 및/또는 제1 디지털 센서(예를 들어, 카메라)가 선형적일 수 있고, 즉 (광원의 방향을 따른) 분석 길이라고 지칭되는 것 위에 인접한 동일한 행 내의 제2 광검출기를 갖는 제2 디지털 센서(예를 들어, 디지털 카메라)를 선택적으로 가지는 행 내의 제1 광검출기를 가질 수 있다.
특히 선형 (직사각형) 조명 스트립을 형성하는 제1 광원, 특히 무기 발광 다이오드 또는 하나 이상의 유기 발광 다이오드가 배열되어, 적어도 1 m 또는 심지어 적어도 2m의 시계(즉, 제1 광검출기에서의 입체각)를 달성할 수 있다.
제1 광원은, 폭(Wi)의 직사각형 또는 정사각형(또는 임의의 다른 형상)인 방출 스트립과 함께, 제1 생성기(또는 수평 컨베이어)의 평면 내에서 (Wp 이상의) 폭(W0)의 직사각형 또는 정사각형(또는 임의의 다른 형상)인 발광 스트립을 형성한다.
제1 센서(디지털 카메라)가 폭(Wi)보다, 폭(Wp)보다 작은 그리고 (개구의) 교정 지역의 크기보다 작은 폭(크기)(Wp)의 행 내에서 제1 광검출기와 선형적일 수 있다. (교정) 제1 광검출기의 행은 광학 축을 통해서 그리고 제1 광원의 중심선을 따라서 연장되고, 그에 따라 연부 효과가 일 방향을 따라 방지된다.
제1의 바람직한 경우에, 제1 광원은 - 후속하여, (롤러의 방향을 따라) 전체 분석 길이에 걸쳐 가능한 한 균일하게 글레이징을 조명하기 위해서 - (이송 축에 수직인) 롤러의 길이의 전부 또는 일부(예를 들어, 길이의 적어도 70% 또는 80%)인, (롤러의 방향을 따른) 분석 길이의 전부를 조명할 수 있다.
제2 경우에, 광학 디바이스는, 후속하여, (롤러의 방향을 따라) 전체 분석 길이에 걸쳐 가능한 한 균일하게 글레이징을 조명하기 위해서, 제1 공급원에 인접한 제2 (동일한 스펙트럼, 및 보다 양호하게 동일한) 광원을 포함한다.
하나 이상의 광원의 광 빔은 적어도 실제 (유효) 글레이징 이송 길이를 조명하는 반면, 선택적으로 롤러의 경계의 영역 내의 구역을 배제한다.
제1 광원, 작업 거리, 광검출기의 크기, 화소의 크기, (특히 교정) 광검출기의 수, 및 이송 속력은, 결함(하나의 유형 또는 몇 가지 유형의 결함)의 크기, 분포, 및/또는 빈도수에 따라, 그리고 또한 글레이징 상에서 검사되는 구역 또는 구역들의 지역(전체 지역, 중앙 구역, 일련의 분리된 기준 구역들: 중앙 및/또는 경계 상의, 기타)에 따라 선택된다.
범위(AB)는 또한 결함의 유형에 따라 선택된다.
해상도(mm/화소)는 검사되는 글레이징 및 이방적 구역들의 전형적인 크기에 따라 달라진다. 예를 들어, 해상도는, 예를 들어 선형 디지털 센서에서, 적어도 2 mm/화소이고, 보다 더 양호하게 적어도 1 mm/화소이다.
예를 들어, 1 m의 분석 길이 및 적어도 1000개의 광검출기 또는 2000개의 광검출기, 2m의 분석 길이 및 적어도 2000개의 광검출기 또는 4000개의 광검출기 등이 선택될 수 있다.
당연하게, 교정 중에, 개구 또는 개구들을 넘어서 위치되는 광검출기는 이용되지 않는다.
제1 디지털 센서가 디지털 카메라일 수 있다.
광학 디바이스가 사실상, 하나의 전용 광학적 지연 생성기 및 하나의 편광계(선택적으로 공통 수단)와 각각 연관된, 수평 컨베이어의 롤러의 길이를 따라 인접되는 복수의 선형 디지털 센서(카메라)를 포함할 수 있다.
검사되는 정적(정지된 또는 오프-라인) 글레이징의 경우에, 특히 수평 정렬(수평 광학 축)을 갖는 교정에서 바람직한, 선형 시스템에 대한 대안적인 실시예에서, 제1 광원은 제1 생성기 상에서 디스크-형상의 발광 지역을 형성하고 및/또는 제1 디지털 센서가 행렬-어레이 센서이고, 그에 따라 제1 광검출기는 예를 들어 1600x1200개의 광검출기의 행렬 어레이로 위치된다.
하나의 구성에서, 정적 글레이징의 검사와 관련하여, 교정이 디지털 센서에 의해서 연속적으로 실행되고, 제1 센서는, 제1 (다시 정적) 교정 후에 수평 컨베이어의 길이를 따라서 이동되고, 그에 따라 제1 광학적 지연 생성기를 제1 교정 구역으로부터 제2 교정 구역으로 이동시키는 로봇 아암 상의 선형적 또는 행렬-어레이 센서이다.
일 실시예에서, 희망 시계를 획득하기 위해서, 광학 디바이스는 제1 광원의 하류에 그리고 제1 광학적 지연 생성기의 상류에 그리고 바람직하게 제1 편광기의 상류에(또는 하류에서, 시준 수단은 광의 편광화를 변경하지 않는다) 제1 (텔레센트릭(telecentric)) 시준 수단을 포함하고, 제1 대물렌즈는 텔레센트릭이다.
제1 디지털 센서(카메라)가 선형적- 또는 행렬-어레이 센서일 수 있다. 글레이징의 분석에서, 이어서 제1 대물렌즈가 단독으로, 이송 축(Y)에 수직으로 광을 수신할 수 있다.
지면에 대한 하나 이상의 편광계의 배향은 제한되지 않는다.
하나 이상의 편광계 및 하나 이상의 광검출기는, 교정 중에 그리고 글레이징의 품질에 관한 후속 분석 중에, 동일하게 배치된다.
일 실시예에서, 선택적으로 수단을 공유하는(예를 들어, 제1 광원 및 제1 원형 편광기를 공유하는) 제2 편광계가 사용된다. 제2 편광계가 사용되는 경우에, 교정 지역(개구)는 예를 들어 중심선의 중심 주위에서 대칭적으로 배치된다. 편광계들이 바람직하게 정렬되고: 시계 및 광학 축에 의해서 형성되는 평면들이 일치된다.
따라서, 일 실시예에서, 광학 디바이스는, 광학 축(Z)에 평행한 이차적인 광학 축을 따라서, 이차적인 광학적 정렬로 지칭되는, 광학적 정렬로, 이하의 순서대로 이하를 포함하는, 제1 편광계와 동일하고 그에 인접하는 제2 편광계를 포함한다:
- a) 제1 원형 편광기 및 제1 사분체 파장판이 뒤따르는, 제1 광원 또는
- b) 특히 제2 광학 축에 직각으로 그리고 제1 공급원의 길이를 따라 제1 광원에 인접하여 배치되는, 그리고 제2 원형 편광기 및 제2 사분체 파장판이 뒤따르는, 주어진 스펙트럼을 갖는, 제2의 단색성 또는 바람직하게 다색성 선형 광원 및
- 제2 분석기 즉, 특히 제2 광학 축에 직각으로 배치된, 제1 방향에 반대인 제2 회전 방향으로 편광화시키는 원형 편광기로서, 제2 선형 편광기가 뒤따르는 제2 사분체 파장판을 포함하는, 제2 분석기.
이는, 제2 분석기의 하류에 그리고 이차적인 광학적 정렬로,
- 제2 분석기에 대면되는, 제2 디지털 센서 및 이차적인 초점 평면으로 지칭되는 것을 형성하는 제2 대물렌즈를 포함하는, 특히 제2 광학 축에 직각으로 배치되는, 제2 광검출기;
- 제2 분석기와 제1 또는 제2 편광기 사이의, 제2 광학적 지연 생성기; 및
- 제1 프로세싱 유닛 또는 제2 프로세싱 유닛을 포함한다.
그러나, 대안적으로, 교정이 연속적으로, 즉 제1 센서에 이어서 제2 센서가 실행되는 경우에, 제1 지연 생성기만으로도 충분할 수 있고, 제1 생성기가 제1 교정 구역으로부터 제2 교정 구역으로 이동된다.
바람직하게, 제1 및 제2 선형 광원의 빔들이 (글레이징의 평면 내의) 100 mm 이하의 중앙 세그먼트 내에서 교차된다.
바람직하게, 초점 평면들이 희망 시계의 폭의 절반 이하의 중앙 세그먼트에 걸쳐 교차된다. 그에 따라, 초점 평면들은 전체 시계를 함께 형성한다.
전체 시계를 증가시켜 획득 화상의 해상도를 높이기 위해서, 편광계가 다중화될 수 있다.
본 발명의 다음 대상은, 특히 템퍼링 또는 반-템퍼링(강인화)된, 선택적으로 곡선형인, 글레이징의 품질을 분석하기 위한 (광학) 디바이스이고, 그러한 (깨끗한, 매우-깨끗한, 착색된, 기타의) 글레이징은 선택적으로, 그 투명도(특히 0이 아닌 광 투과도)를 감소시키지 않는 표면 코팅 및/또는 표면 텍스쳐를 가지며, 그에 따라 이러한 매체를 통과하는 광의 편광화의 변화는 내부의 기계적 응력에만 기인한다.
본 발명에 따른 품질-분석 디바이스는, 특히 바람직하게 제1 교정된 광학적 지연 생성기(그리고 심지어 그 장착 홀더)에 의해서 교정된 제1 편광계, 제1 대물렌즈, 특히 바람직하게 교정된 제1 광학적 지연 생성기(그리고 그에 따라 제1 광검출기의 세트)에 의해서 교정된 제1 디지털 센서, 및 전술한 광학 디바이스의 교정 데이터베이스를 포함한다(재사용한다)(바람직하게 교정 구역의 외측에 이미 존재하는 광검출기에 제1 광검출기를 부가할 필요가 없다).
그에 따라, 제1 광학적 지연 생성기가 후퇴되고, 동작 시에, 예를 들어 이미 설명한 컨베이어 위에서 병진운동적으로 이동되는 정적인 또는 바람직하게 이동 가능한 글레이징이 분석된다.
동작 시에, 글레이징은 제1 편광기와 제1 분석기 사이에 위치되고, 광학 축은 조명되는 지역 세그먼트 내의 글레이징의 표면에 대해서 접선적인 평면에 수직이고, 바람직하게 글레이징이 컨베이어(롤러)에 의해서 따라서 이송되는 축에 수직이다.
다시 말해서, 품질-분석 디바이스는, 특히 바람직하게 교정된 제1 광학적 지연 생성기에 의해서 교정된 제1 편광계를 포함하고, 이하의 순서로, 광학 축(Z)을 따른 광학적 정렬로, 이하를 포함한다:
- 특히 광학 축에 직각으로 배치되고 광 빔을 전달하는, 주어진 스펙트럼을 갖는 제1의, 바람직하게 다색성의 광원;
- 특히 광학 축에 직각으로 배치되고 제1 사분체 파장판이 뒤따르는 제1 선형 편광기를 포함하는, 제1 편광화 회전 방향으로 편광화시키는 제1 원형 편광기; 및
- 제1 분석기 즉, 특히 광학 축에 직각으로 배치된, 제1 회전 방향에 반대인 제2 편광화 회전 방향으로 편광화시키는 원형 편광기로서, 제2 선형 편광기가 뒤따르는 제2 사분체 파장판을 포함하는, 제1 분석기.
품질-분석 디바이스는 또한:
- 제1 분석기의 하류의 그리고 광학적 정렬로, 특히 바람직하게 교정된 제1 광학적 지연 생성기로 교정된, 그리고 특히 광학 축에 직각으로 배치된, 제1 디지털 센서, 및 광학 축에 직각으로 배치되고 초점 평면을 형성하는 제1 대물렌즈로서, 제1 분석기와 제1 디지털 센서 사이에서, 제1 디지털 센서에 대면되어 위치된, 제1 대물렌즈를 포함하고;
- 디바이스가 동작 중일 때, 글레이징이 제1 편광기와 제1 분석기 사이에 위치되고,- 제1 디지털 센서는, 주어진 스펙트럼 응답을 갖는, 제1 광원의 스펙트럼에 민감한 제1 광검출기의 세트를 포함하고;
- 교정 디지털 화상의 전부를 프로세스하기 위한 제1 디지털 프로세싱 유닛으로서, 제1 프로세싱 유닛이 교정 데이터베이스를 형성하는, 제1 디지털 프로세싱 유닛. 또한, 전술한 세트 중의 각각의 제1 광검출기는, 제1 분석기로부터 나오는 광 빔으로부터 발생되는 광 에너지를 수신할 수 있고, 이어서 제1 디지털 센서는 품질-분석 디지털 화상이라고 지칭되는 것을 생성하고, 각각의 품질-분석 디지털 화상은, 기준 채널(들)(Ck)로, 제1 광검출기의 스펙트럼 응답을 나타내는 하나 이상의 화소로부터 형성된다.
분석 디바이스는 또한, 조명된 지역 세그먼트에 대면되는 제1 센서의 (그리고 선택적인 제2 센서 등의) 품질-분석 디지털 화상의 전부를 프로세스하기 위한 프로세싱 유닛을 포함하고, 그에 따라 (범위(AB) 내의 각각의 광학적 지연을 위해서, 기준 채널(Ck)의 각각을 위한 디지털 값(Ik)을 포함하는) 이미 설명한 교정 데이터베이스에 의한 조명된 지역 세그먼트에 대면되는 광학적 지연의 맵을 형성한다.
구체적으로, 교정은, 분석되는 지역 세그먼트의 지역 요소에 상응하는 각각의 화소의 각각의 기준 채널(Ck)에 대한 Ik - 광학적 지연(nm) 상응성을 제공하고; 각각의 지역 요소에 상응하는 광학적 지연은 교정 표로부터 판독된다.
또한, (교정을 위해서 이미 사용된) RGB 채널이 바람직하게 기준 채널로서 위치된다.
이러한 측정은 객관적이고, 그에 따라 측정된 글레이징에 관한 정량적인 정보를 제공한다.
프로세싱 유닛(컴퓨터)은, 글레이징의 분석을 위해서: 모든 획득, 하나 이상의 센서의 데이터의 분석, 결과 파일의 기록, 데이터베이스의 관리, 인간-기계 인터페이스의 디스플레이, 등을 제어한다.
맵을 기초로 글레이징의 품질 보장을 위해서, (기준 위험에 처한 구역 즉, 노즐 구역의 크기 등에 따라, 맵의 하나의 행 또는 복수의 행에 대한) 특히 이하의 매개변수를 계산하도록 선택할 수 있다:
- 광학적 지연의 평균,
- 표준 편차,
- 사분위수(quantile) 또는 사분위수들,
- 적합한 광학적 지연을 위한 분포의 값.
광학적 지연(모든 지점에서의 광학적 지연의 값)의 맵을 기초로, 바람직하게 수학적 또는 통계적 분석을 기초로 하는 하나 이상의 메트릭(metric)을 결정하는 것에 관심을 갖는다:
- 전체적 메트릭: 주어진 광학적 지연 값에 대한 평균 및 표준 편차, 사분위수, 분포(후자의 경우에, 50 nm가 관련 문턱값인 것으로 간주된다).
- 및/또는 국소적 메트릭: 특히 인간의 눈이 감지할 수 있는 광학적 지연의 큰 국소적 변동을 식별하기 위해서, 결함의 공간적 분포를 고려한다(큰 그러나, 다른 판재와 비교하지 않는 경우에, 일정한 광학적 지연을 갖는 판재가 결함적인 것으로 반드시 인식되지는 않는다).
템퍼링 응력 패턴에서 관찰되는 특성적인 결함은 다음과 같다:
- 장파장(10 cm 초과의 스케일)의 경우 1): 특성적인 가열 마크;
- 평균 파장(10 cm의 스케일, 그러나 템퍼링 스테이션의 기하형태적 특성에 따라 달라진다)의 경우 2): 냉각 노즐로 인한 마크;
- 단파장(10 cm 미만의 스케일)의 경우 3): 예를 들어 냉각 구역에서 형성된 다른 마크;
- (10 cm 미만의 스케일의) 홀 주위의 연부 마크 또는 마크들의 경우 4): 이러한 구역은 배제될 수 있는데, 이는 내부의 광학적 지연이 계통적으로 매우 크고 일반적으로, 프레임 내에 장착될, 최종 글레이징에서 마스킹되기 때문이다.
결함이 클수록, 메트릭이 더 전체적이 되고, 반대의 경우에는 반대가 된다. 경우 1)에서, 전체적인 메트릭이 바람직하게 관심의 대상이고, 경우 2) 및 3) 또는 심지어 4)에서, 국소적인 메트릭이 결함의 공간적 분포를 보다 양호하게 특성화한다.
다음에, 메트릭이 기준과 비교될 수 있다.
라인의 각각의 판재의 측정은 데이터베이스가 구성될 수 있게 한다. 이러한 데이터베이스의 이용은, 판재의 100%가 검사 가능한 경우에, 생산에 관한 많은 정보에 접근할 수 있게 한다.
컨베이어 상의 글레이징의 배향은 제한이 없다. 더 넓게, 발광 스트립의 방향(길이)과 관련된 글레이징의 배향은 제한이 없다.
시간(t)에서 빔에 의해서 조명되는 지역 세그먼트는, (임의의 형상: 직사각형, 정사각형, 사변형, 삼각형, 둥근형, 등일 수 있는) 글레이징의 연부에 반드시 평행할 필요가 없는 발광 (바람직하게 직사각형의) 스트립일 수 있다.
세그먼트별로 전체 지역을 분석하는 것이 바람직할 수 있다(2개의 획득들 사이에서 가능한 한 미세한 외부 구역).
(높은 층의 건물의) 예를 들어 커튼 월을 위한, 예를 들어, 이중 또는 삼중 글레이징에서 이용되는 글레이징의 경우에, 이격부재 및 밀봉 수단에 의해서 마스킹된 연부는 폭이 3 내지 20 mm 이하이고; 그에 따라 이러한 연부를 반드시 검사할 필요는 없다 - 이방성은 글레이징의 연부에서 크다. 그들이 일반적으로 설치 후에 프레임에 의해서 은폐된다는 것을 고려하면, 글레이징의 보이는 지역과 동일한 방식으로 이들을 항상 프로세스할 필요가 있는 것으로 보이지 않을 것이다. 그러나, 가시적인 글레이징 지역이 최대가 되도록, 특정 글레이징이 배치된다.
실제로, 글레이징의 (거의) 전부의 분석을 실행하기 위해서, 글레이징은 선형 형상의 빔으로 그리고 화소의 행을 형성하는 하나 이상의 센서로 유리하게 스캐닝된다. 글레이징의 전부를 덮기 위해서, 그에 따라, (정적) 분석 디바이스에 대한 글레이징의 이동이 제공된다. 이를 위해서, 글레이징은 이동 가능하고, 유리하게 병진운동적인 균일한 이동으로 움직이는 이동 가능 수단 상에 배치된다. 바람직하게, 이는 이미 설명한 것과 같은 (수평) 컨베이어의 문제이다. 이는 (속력이 제어된다면) 캐리지일 수 있다.
전술한 광학 디바이스와 유사하게, 하나의 바람직한 실시예에서:
- 수직 광학 축이 Z이고 - 또는 수직에 대해서 각도를 가지고 -, 제1 편광계 및 제1 디지털 센서는, (냉각 구역 내의) 템퍼링 시스템 하류에서, 가열 및 템퍼링 (제조) 라인 상에 위치되고, 라인은 이송 축(Y)을 따라 글레이징을 이송하기 위한 (수평) 컨베이어를 포함하고, 수직 광학 축(Z)은 바람직하게 축(Y)에 수직이고, 제조 라인은 선택적으로 가열, 굽힘 및 템퍼링 라인이고, 제1 편광계, 제1 디지털 센서는 굽힘 시스템의 하류에 위치되고;
- 특히, 제1 광원은, 바람직하게 단독으로 또는 인접한 제2 광원과 함께, 이송 축(Y)에 수직으로, 컨베이어의 길이의 전부 또는 일부를 조명할 수 있고;
- 제1 디지털 센서는 행 내의 제1 광검출기와 선형적이고(선형적 카메라), 제1 디지털 센서는 특히 단독적으로 또는 인접한 선형 제2 디지털 센서(그리고 그 대물렌즈)와 함께 위치되며, 그에 따라 광검출기의 행을 형성하고, 그리고 특히 이송 축(Y)에 수직으로 컨베이어의 전체 길이를 연장시키고;
그리고 특히 프로세싱 유닛과의, 제1 디지털 센서(그리고 선택적인 제2 디지털 센서, 및 그에 따라 각각의 센서)와의, 그리고 심지어 제1 광원과의 대화에서:
- 후속 시간(t0)에 제1 획득을 트리거링하기 위해서, 그리고 선택적으로 그러한 글레이징의(또는 배치체(batch)(또는 작업 로트(job lot)의 복수의 글레이징의) 통과의 종료를 표시하기 위해서, 그에 따라 후속 시간(td)에서 또는 (오븐의) 배치체(또는 작업 로트)의 최대 길이를 아는 타이머로 마지막 획득을 규정하기 위해서, 예를 들어 제1 광원으로부터 1 m 이하의, 바람직하게 제1 광원 상류의 글레이징의 존재를 검출하기 위한 존재 검출기;
- 바람직하게 제1 광원의 측면에 위치되는 2개의 롤러의 순간 속력(V)의 표시자;
- 제1 획득의 트리거링, 획득 지속시간(Taq) 및 (데이터의 저장을 위한) 각각의 획득과 획득의 정지 사이의 데드 시간(tm)을 관리하는 획득을 관리하기 위한 수단.
따라서, 본 발명은, 이송 축(Y)을 따라 글레이징을 이송하기 위한, 바람직하게 수평의, 컨베이어를 포함하고 가열 및 템퍼링 라인에 관한 것이고, 라인은 선택적으로 굽힘-템퍼링 라인이고, 이는, 템퍼링 시스템의 하류에서, 전술한 바와 같은 품질-분석 디바이스를 포함하고, 광학 축은 바람직하게 수직(Z)이고, 제1 디지털 센서는 선형적이고, 제1 광검출기는 행으로 위치되고, 선택적으로, 특히 제조에서, 라인은 가열, 굽힘 및 템퍼링 라인이고, 제1 편광계 및 제1 디지털 센서는 굽힘 시스템의 하류에 위치된다.
이는 또한, 특히 시간(t0)에 제1 획득을 트리거링하기 위해서 및/또는 바람직하게 제1 광원의 측면에 위치되는 2개의 롤러의 순간 속력(V)의 표시자를 전달하기 위해서, 제1 광원의 상류에서 글레이징의 존재를 검출하기 위한 존재 검출기를 포함할 수 있다.
그에 따라, 본 발명에 따라, 본 발명에 따른 품질-분석 디바이스로 글레이징의 품질을 분석하기 위해서, 동일한 가열 및 템퍼링(또는 심지어 굽힘) 라인에서, 라인이 정지될 때, 이어서, 라인이 작동되고 글레이징이 이동될 때 본 발명에 따른 광학 디바이스를 이용한 교정이 실행될 수 있다.
또한, 이하가 바람직하게 이용된다:
- 편광계로부터 생성된 화상을 기초로 하는 지연의 맵의 생성기(프로세서);
- 지연 맵을 기초로 메트릭을 계산하기 위한 프로세서; 및
- 메트릭을 기준에 비교하기 위한 비교기.
글레이징의 일정한 이동 속력(V)은 지역의 분석 전체를 통해서 안정적인 해상도를 보장한다. 미끄러짐이 있는 경우에, 컨베이어의 속력(V)은 글레이징의 속력(V')과 다를 수 있다. 가정되고, 회전 인코더가 속력을 제어할 수 있게 하는 V=V'의 경우에, 일정한 해상도가 달성될 수 있다.
제1 광원은, 분석되는 지역 세그먼트 내에서 일정한 빔을 생성한다.
획득 중에, 화소는 판재의 지역 요소로부터 통합된 정보에 상응한다.
예를 들어, 2개의 롤러에 평행한, 분석 길이를 따른 폭(W)의 정사각형 화소가 규정된다.
지속시간(TAQ)의 획득 동안, 행의 각각의 광검출기는 글레이징을 통과한 광, 즉 이송 축을 따른 폭(LAQ)에 의해서 규정되는 글레이징의 지역의 요소를 조명한 빔을 수신하기 쉽다. LAQ는, 획득 지속시간(TAQ)에 제1 광원을 경계 짓는 롤러의 순간 이송 속력(V)을 곱한 것과 같다.
또한, 화소가 "기능적"이 아닌 - 데이터를 수집하기 위한 - 데드 시간(tm)이 존재한다. 예를 들어, tm은 100 ms 이하이다.
이는, LAQ+Vtm = W가 되도록 바람직하게 배열된다.
만약, 획득 지속시간 동안, 광검출기가 (글레이징의 구역을 통과하지 않고) 제1 광원으로부터 직접적으로 빔을 수신한다면, 광 세기는 이방적인 차이에 의해서 변경되지 않고, 그에 따라 화소는 식별 가능한 정보의 조각(검은색 화소 = 축적된 지연이 없음)을 전달한다.
(루프형) 획득 시퀀스는 예를 들어 이하이다:
- 획득 시퀀스를 트리거링하는, 컨베이어의 회전 인코더로부터의 펄스(N)의 수신;
- 프로세싱 유닛에 의해서 송신된 전자 펄스로 이루어진 소프트웨어로 조정된 노출 시간(TAQ) - 제1 센서는 신호(즉, 이러한 시간(TAQ) 중에 수신되는 광 에너지의 전부)를 통합한다;
- 적어도, 프로세싱을 위해서 화소를 판독하기 위해서 요구되는 시간에 상응하는 "데드" 시간;
- 획득 시간과 데드 시간의 합계 이후의 인코더 펄스(N+1) 도달.
제1 광원과 개구 사이의 거리가 적어도 10 cm 및 특히 300 mm일 수 있는 것과 같이, 제1 광원과 글레이징 사이의 거리가 적어도 10 cm 및 특히 300 mm일 수 있다.
개구와 대물렌즈 사이의 거리가 적어도 1 m 및 특히 2 m일 수 있는 것과 같이, 글레이징과 대물렌즈 사이의 거리가 적어도 1 m 및 특히 2 m일 수 있다.
글레이징 및 제1 생성기(바람직하게 바비넷 보상기)가 제1 광원으로부터 (그리고 편광기로부터 그리고 분석기로부터) 동일한 거리에 연속적으로 위치될 수 있다.
존재 검출기는 예를 들어, 이송되는 판재의 연부 면에 대면되는 컨베이어의 일 단부에 배열된 센서이다. 회전 인코더는 예를 들어 컨베이어의 하나의 롤러의 일 단부에 배열된다.
품질-분석 광학 디바이스는 바람직하게 제2 편광계를 포함한다(그 장착 홀더(들) 상의 제1 및 제2 광학적 지연 생성기가 글레이징에 의해서 대체된다).
다른 실시예에서:
- 글레이징은 바람직하게 정적, 수평적, 또는 수직적이고; 그리고
- 제1 센서는 (제1 광검출기를 행렬 어레이로 포함하는) 행렬-어레이 센서이다.
본 발명은 또한 글레이징을 제조하기 위한 방법에 관한 것으로서, 그러한 방법은, 연속적으로, 글레이징을 형성하는 단계, 가열 동작 및 템퍼링 또는 굽힘-템퍼링 동작, 바람직하게 가열 및 템퍼링 라인에서 전술한 바와 같은 글레이징의 품질을 분석하기 위한 디바이스를 이용하는 단계를 포함하고, 바람직하게 자동화된 교정된 제1 광학적 지연 생성기를 이용하여, 범위(AB) 내에서 변화되는 광학적 지연을, 바람직하게 자동적으로, 제1 편광계 내로 도입하는 것에 의해서 달성되는, 전술한 광학 디바이스의 일부를 형성하는 제1 디지털 센서의 그리고 제1 편광계의 교정이 상기 품질 분석에 선행하고, 교정은 바람직하게 라인 상에서 정지 중에 실행된다.
특히, 이는, 제조의 및/또는 가열의 및/또는 라인의 정지 및/또는 가열 및/또는 템퍼링 디바이스의 매개변수에서 생성되는 피드백을 초래하는 경고를 포함할 수 있다.
마지막으로, 본 발명은, 범위(AB) 내에서 변화되는 광학적 지연을, 바람직하게 자동적으로, 제1 편광계 내로 도입하는 것에 의해서, 제1 디지털 센서 및 제1 편광계를 교정하기 위한 방법에 관한 것이고, 그러한 교정은 바람직하게 자동화된 교정된 제1 광학적 지연 생성기를 이용한다.
평면형 글레이징에서, (각각의 다이오드의) 광원의 빔은 분석되는 글레이징의 주 응력의 평면에 수직이다.
곡선형 글레이징에서, 광학 축이 멀리 이동되는 경우에 측정은 여전히 유효하고; 바람직하게 양호한 관찰 조건을 보존하기 위해서 충분한 수의 카메라가 요구되거나, 로봇 아암 상의 카메라를 이용할 필요가 있다.
바람직하게:
- 글레이징은 적어도 5%의 광 투과도(TL)를 가지고; 그리고- 흡수(A)는 가시광선 스펙트럼 내에서 균일한 것으로 간주된다.
본 발명은, 단지 비제한적인 예에 의해서 주어진 그리고 첨부 도면을 참조한 이하의 설명으로부터 보다 잘 이해될 것이다.
도 1은 수평 컨베이어를 갖춘 템퍼링 제조 라인의 부분을 형성하는, 본 발명에 따른 광학 디바이스(1000)의, X-Z 평면 내의, 개략적 횡단면도이다.
도 1a는 도 1의 광학 디바이스(1000)에서 사용되는 2개의 모터화된 바비넷-소레일 보상기의 2개의 개구 및 장착 홀더를 갖춘 컨베이어를 도시하는 (수평 X-Y 평면 내의) 개략적 상면도이다.
도 1b는 도 1의 광학 디바이스(1000)에서 사용되는 장착 홀더 상의 모터화된 바비넷 보상기의 (수평 X-Y 평면 내의) 개략적 상면도이다. 도 1c는 도 1의 광학 디바이스(100)에서 사용된, 2개의 컨베이어 롤러의 그리고 광원의, 그리고 롤러-간 공간 내의 원형 편광기의 개략적 사시도이다.
도 1d는 도 1의 광학 디바이스(1000)에서 이용된, 제1 원형 분석기, 제1 대물렌즈, 선형 제1 카메라 및 장착 프로파일을 도시한 개략적 사시도이다.
도 1e는 도 1의 광학 디바이스(1000)의, Y-Z 평면에서의, 개략적 횡단면도이다.
도 1f는 (개구 내의 광검출기의 주어진 대표적 화소에 대한 또는 개구 내의 복수의 광검출기의 화소에 걸쳐 평균화된 것에 대한) 3개의 채널(RGB)에 대한 광학적 지연의 함수로서의 값(Ik)의 3개의 그래프를 도시한다.
도 2는, 바비넷 보상기 및 그 제어 메커니즘과 관련된 것을 제외하고, 도 1에서와 동일한 장치를 이용하는, 본 발명에 따른 글레이징의 품질을 분석하기 위한 광학 디바이스(2000)의, Y-Z 평면에서의, 개략적 횡단면도이다.
도 2'는 도 2에 도시된, 컨베이어의 그리고 검사되는 글레이징의 개략적 상면도이다.
도 2a는 컨베이어의 상세 내용의 개략도이다.
도 2b는 스캐닝된 지역을 기초로 획득을 설명한다.
도 2c 및 도 2d는 획득 데이터의 수집에 대한 획득 시퀀스 및 데드-시간 시퀀스를 도시한 그래프이다.
도 3a는 제2 실시예에서 템퍼링 제조 라인의 부분을 형성하는, 본 발명에 따른 광학 디바이스(1001)의, X-Z 평면 에서의, 개략적 횡단면도이다.
도 3b는, 바비넷 보상기 및 그 제어 메커니즘과 관련된 것을 제외하고, 도 3a에서와 동일한 장치를 이용하는, 본 발명에 따른 글레이징의 품질을 분석하기 위한 광학 디바이스(2001)의, X-Z 평면에서의, 개략적 횡단면도이다.
도 4a는 제3 실시예에서 본 발명에 따른 광학 디바이스(1002)의, Y-Z 평면 에서의, 개략적 횡단면도이다.
도 4b는, 바비넷 보상기 및 그 제어 메커니즘과 관련된 것을 제외하고, 도 4a에서와 동일한 장치를 이용하는, 본 발명에 따른 글레이징의 품질을 분석하기 위한 광학 디바이스(2002)의, Y-Z 평면에서의, 개략적 측면도이다.
도 1은 수평 컨베이어를 갖춘 템퍼링 제조 라인의 부분을 형성하는, 본 발명에 따른 광학 디바이스(1000)의, X-Z 평면 내의, 개략적 횡단면도이다.
광학 디바이스(1000)는 제1 수직 배향된 편광계를 포함하고, 제1 수직 배향된 편광계는, 이하의 순서로(하단으로부터 상단까지), 수직 광학 축(Z)과 광학적으로 정렬된:
- 백색의 제1 광원(1)으로서, 여기에서 LED의, 또는 변형예로서, 하나 이상의 유기 발광 다이오드(OLED)의 스트립은 여기에서 시준 수단이 없이 광 빔을 전달하고 - 그 광은 광학 축에 의해서 주어진 방향으로 방출되고 -, 그러한 발광 스트립은 광학 축에 직각으로 배치되고, 확산기가 있거나 없는 상태에서, 균일한 광을 생성하는, 백색의 제1 광원(1);
- 발광 스트립(1)에 반하는 또는 그에 접착 결합되는, 특히 제1 선형 편광기 및 제1 사분체 파장판을 포함하는, 제1 - 좌측 또는 우측 - 회전 방향으로 편광화시키는 제1 원형 (또는 준-원형) 편광기(2); 및
- 제1 분석기(2') 즉, 제1 회전 방향에 반대인 제2 - 각각, 우측 또는 좌측 - 편광화 회전 방향으로 편광화시키는 원형 (또는 준-원형) 편광기로서, 상기 제1 분석기는 특히 제2 선형 편광기가 뒤따르는 제2 사분체 파장판을 포함하는, 제1 분석기(2').
광학 디바이스(1000)는 제1 분석기의 하류에서 그리고 광학적 정렬로:
- 광학 축에 직각으로 배치되는 제1 디지털 센서(6), 즉 여기에서 제1 광검출기의 행을 갖춘 선형 디지털 카메라; 및
- 제1 디지털 센서에 대면되고 제1 분석기(2)와 제1 디지털 센서 사이에 있는, 특히 제1 디지털 센서에 또는 그에 반하여 체결되는, 광학 축에 직각으로 배치되고 초점 평면을 형성하는 제1 대물렌즈(5)를 포함한다.
또한, 본 발명에 따른 광학 디바이스는, 0 nm 내지 800 nm 범위(AB) 내에서 광학적 지연을 생성하기 위해서, 제1 편광기와 제1 분석기 사이에서, 그리고 광학적 정렬로, 광학 축에 직각으로 배치된, 교정된 제1 광학적 지연 생성기(4), 여기에서 바비넷(소레일) 보상기를 포함하고, 제1 광학적 지연 생성기가 초점 평면 내에 위치된다.
그에 다라, 제1 디지털 센서(6)는, 주어진 스펙트럼 응답을 갖는, 제1 광원(1)의 스펙트럼에 민감한 제1 광검출기의 세트를, 행으로, 포함한다.
교정 광검출기로 지칭되는 것인, 제1 광검출기의 일부는 제1 광학적 지연 생성기의 개구(31)에 대면되어 위치된다.
바람직하게, 광학 디바이스는 또한, 제1 광학적 지연 생성기와 선형 제1 센서 사이에서, 제1 분석기의 상류에서, 값(Ik)과 광학적 지연 사이의 관계가, 특히 70 또는 75 내지 175 nm 또는 185 nm 또는 350 또는 375 nm 내지 425 nm의, 기준 채널 중 적어도 하나에서 실질적으로 선형인 구역 내에서 선택된 지연(A'0)을 갖는 교정된 광학적 파장판을 포함한다.
이러한 방식으로, 작은 이방성을 가지는 글레이징이 더 정밀하게 측정될 수 있는데, 이는, 작은 지연 변동이, Ik의 이차적인 변동(quadratic variation)이 아니라, 선형적인 것을 초래할 것이기 때문이다.
바비넷-소레일 보상기(3)는, 복굴절 재료로 제조된, 제1 및 제2 쐐기-형상의 판을 포함하고, 제2 판은 정적인 제1 판에 대해서 병진운동적으로 이동 가능하고, 보상기는 특히, 광학 축을 중심으로 하는 개구(31)에 의해서 형성되고; 그러한 개구는 제1 광원(1)에 의해서 전체적으로 조명되고 초점 평면 내에 위치되며, 하나 이상의 교정 제1 광검출기가 개구에 대면되어 위치된다.
광학적 지연의 변화는 자동화되고 특히 컴퓨터-제어된다. 모터화되고 특히 컴퓨터에 의해서 제어되는 바비넷-소레일 보상기는, 특히 0.5 nm 이하 및 심지어 0.3 nm 이하, 그리고 특히 15 내지 25 mm 및 심지어 0 내지 25 mm의 증가 스텝 크기(P0)로, 범위(AB) 내에서 광학적 지연을 자동적으로 증가시킬 수 있다.
보상기의 개구(31)는 원형이고, 직경(O1)이 30 mm 이하이고; 개구의 중심은 직경(O1/2)의 중앙 디스크 내에 내접되고; 이용되는 하나 이상의 교정 제1 광검출기가 전체적으로 중앙 디스크에 대면되게 위치된다.
각각의 교정 제1 광검출기는, 연속적으로, 범위(AB) 내의 광학적 지연의 각각에 대해서, 제1 분석기(2')로부터 나오는 광 빔으로부터 생성된 광 에너지를 수신한다. 이어서 제1 디지털 센서는 범위(AB) 내의 광학적 지연에 대한 교정 디지털 화상으로 지칭되는 것을 생성하고, 각각의 교정 디지털 화상은, 하나 이상의 기준 채널(Ck)로, 교정 제1 광검출기(들)의 스펙트럼 응답을 나타내는 하나 이상의 화소로부터 형성된다. 기준 채널(Ck)은, RGB 채널로서 지칭되는, 3개의 적색, 녹색 및 청색 채널이다.
제1 편광계, 제1 디지털 센서 및 제1 광학적 지연 생성기가, 정지 중에, 템퍼링 시스템의 하류에서, 가열 및 템퍼링 라인에 장착되고, 그러한 라인은 이송 축(Y)을 따라 글레이징을 이송하기 위한 수평 컨베이어를 포함하고, 라인은 선택적으로 굽힘-템퍼링 라인이다.
도 1a는 도 1의 광학 디바이스(1000)에서 사용되는 2개의 모터화된 바비넷-소레일 보상기의 2개의 개구 및 장착 홀더를 갖춘 컨베이어를 도시하는 (수평 X-Y 평면 내의) 개략적 상면도이다. 도 1c는 도 1의 광학 디바이스(1000)에서 사용되는, 2개의 컨베이어 롤러의 그리고 광원의, 그리고 롤러-간 공간 내의 원형 편광기의 개략적 사시도이다. 도 1e는 도 1의 광학 디바이스(1000)의, Y-Z 평면에서의, 개략적 횡단면도이다.
컨베이어(특히 도 1a 및 도 1c 참조)는, 롤러-간 공간만큼 이격된 2개의 롤러(81 및 82)를 포함하고; 제1 광원(1)은, 지면으로부터 이격되고 이송 구역의 아래에 있는 공급원 홀더(10) 상에서, 2개의 롤러 아래에 위치되고 롤러-간 공간에 대면된다. 제1 디지털 센서는 선형적이고 2개의 롤러로부터 이격되고 그 위에 위치된다. 제1 디지털 센서는 특히 컨베이어의 양 측면에서 금속 갠트리(70)에 체결될 수 있다.
제1 광학적 지연 생성기가 장착 홀더(7) 상에서 2개의 롤러에 체결되고, 그러한 장착 홀더는 개구(31)에 대면되는 홀(71)을 갖는다.
발광 스트립의 측방향 지역들이 (예를 들어 불투명한 스트립(20)에 의해서) 마스킹될 수 있고, 제1 편광기(21)의 (중앙) 부분에 반하는 중앙 지역 만이 보상기(3)를 조명한다.
광학 디바이스(1000)는 마지막으로, 범위(AB) 내의 각각의 광학적 지연을 위해서, 기준 채널(Ck)의 각각에 대한 디지털 값(Ik)을 포함하는 교정 데이터베이스를 형성하기 위해서, 교정 디지털 화상을 프로세스하기 위한 제1 프로세싱 유닛(컴퓨터)을 포함하고, 디지털 값(Ik)은 교정 제1 광검출기에 의해서 수집된 광 에너지를 나타낸다.
롤러의 길이는 예를 들어 3 내지 4 m이다. 여기에서, 발광 스트립(1)을 이용하는 제2 편광계, 편광기(2), (다른 홀(71)을 갖는) 장착 홀더(7), 제2 교정된 정적 파장판(4), 제2 분석기(2'), 선형적 제2 카메라(6) 및 개구(31)를 갖는 제2 보상기(3)가 이용된다.
도 1b는, 개구(31)보다 큰, 홀(71)을 갖는 장착 홀더(7) 상의 모터화된 바비넷 보상기의 (수평 X-Y 평면 에서의) 개략적 상면도이다. (또한 홀더 상의) 모터(32)의 제어 메커니즘이 케이블(33)에 의해서 보상기(3)에 연결되고 예를 들어 미크론-크기의 스크류 상에 작용한다.
도 1d는 (예를 들어 필터 홀더 내의) 정적 파장판(4), 제1 대물렌즈(5), 선형 제1 카메라(6) 및 장착 프로파일(101), 그리고 카메라(6)를 배치하기 위한 스크류(103)를 갖는 스테이지(102)를 도시한 개략적 사시도이다. 도 1f는 개구 내의 복수의 광검출기의 화소에 걸쳐 평균화된 3개의 RGB 채널에 대한 광학적 지연(δ)(nm)의 함수로서의 값(Ik)의 3개의 그래프(15, 16, 17)를 도시한다.
도 2는, 바비넷 보상기 및 그 제어 메커니즘과 관련된 것을 제외하고, 도 1에서와 동일한 장치를 이용하는 글레이징의 품질을 분석하기 위한 광학 디바이스(2000)의, Y-Z 평면에서의, 개략적 횡단면도이다. 글레이징(100)은 축(Y)을 따라 이동되고 발광 스트립(1)에 의해서 스캐닝된다.
도 2'는 도 2에 도시된, X-Y 평면 내의 컨베이어의 그리고 검사되는 글레이징(100)의 개략적 상면도이다.
도 2a는 롤러(81, 82)(그리고 체결 갠트리(70))를 갖는 컨베이어(8)의 상세 부분의 개략도이다. 글레이징(미도시)의 존재를 검출하여 획득을 트리거링하기 위해서, 존재 검출기(84)가 이용된다. 또한, 순간 속력(V)에 관한 정보를 제공하는 회전 인코더(83)가 바람직하게 이용된다. 도 2b는 스캐닝된 지역을 기초로 획득을 설명한다.
제1 광원은, 분석되는 지역 세그먼트 내에서 일정한 빔을 생성한다.
획득 중에, 화소는 판재의 지역 요소로부터 통합된 정보에 상응한다.
예를 들어, 2개의 롤러에 평행한, 분석 길이를 따른 폭(W)의 정사각형 화소(91)가 규정된다.
지속시간(TAQ)의 획득 동안, 행의 각각의 광검출기는 Y를 따라서 이동되는 글레이징(100)을 통과한 광, 즉 이송 축을 따른 폭(L)에 의해서 규정되는 글레이징의 지역의 요소를 조명한 빔을 수신하기 쉽다. L은, 획득 지속시간(TAQ)에 제1 광원을 경계 짓는 롤러의 순간 이송 속력(V)을 곱한 것과 같다.
또한, 화소가 "기능적"이 아닌 - 데이터를 수집하기 위한 - 데드 시간(tm)이 존재한다. 예를 들어, tm은 100 ms 이하이다.
이는, L+Vtm = W가 되도록 바람직하게 배열된다.
만약, 획득 지속시간 동안, 광검출기가 (글레이징의 구역을 통과하지 않고) 제1 광원으로부터 직접적으로 빔을 수신한다면, 광 세기는 이방적인 차이에 의해서 변경되지 않고, 그에 따라 화소는 식별 가능한 정보의 조각(검은색 화소 = 축적된 지연이 없음)을 전달한다.
(루프형) 획득 시퀀스는 예를 들어 이하이다:
- 획득 시퀀스를 트리거링하는, 컨베이어의 회전 인코더로부터의 펄스(N)의 수신;
- 프로세싱 유닛에 의해서 송신된 전자 펄스로 이루어진 소프트웨어로 조정된 노출 시간(TAQ) - 제1 센서(6)는 신호(즉, 이러한 시간(TAQ) 중에 수신되는 광 에너지의 전부)를 통합한다;
- 적어도, 프로세싱을 위해서 화소를 판독하기 위해서 요구되는 시간에 상응하는 "데드" 시간;
- 획득 시간과 데드 시간의 합계 이후의 인코더 펄스(N+1) 도달.
도 2c 및 도 2d는, 도 2c와 관련하여, 획득을 시작하기 위한 펄스(18), 그리고, 도 2d와 관련하여, 획득 데이터의 수집을 위한 데드 시간을 갖는 획득 시퀀스를 도시하는 그래프이다.
도 3a는 제2 실시예에서 템퍼링 제조 라인의 부분을 형성하는, 본 발명에 따른 광학 디바이스(1001)의, X-Z 평면 에서의, 개략적 횡단면도이다. 이는, 빔(13)이 시준되고(LED의 스트립(1')이 시준되고) 제1 대물렌즈(6')가 텔레센트릭이라는 점에서, 전술한 제1 디바이스(1000)와 상이하다. 이어서, 단일 편광계 및 단일 보상기(3)가 사용될 수 있다.
도 3b는, 바비넷 보상기 및 그 제어 메커니즘과 관련된 것을 제외하고, 도 3a에서와 동일한 장치를 이용하는, 본 발명에 따른 글레이징(100)의 품질을 분석하기 위한 광학 디바이스(2001)의, X-Z 평면에서의, 개략적 횡단면도이다.
도 4a는 제3 실시예에서 본 발명에 따른 광학 디바이스(1002)의, Y-Z 평면 에서의, 개략적 횡단면도이다.
이는, 광학 축(Y)이 수평이라는 점, 그리고 그에 따라 요소(1, 2, 4, 2', 5, 6)가 평면형 수직 홀더(70, 70') 상에 위치되고 보상기(3)가 예를 들어 측방향의 잼(71, 72) 상에 위치된다는 점에서, 제1 디바이스(1000)와 상이하다. 도 4b는, 바비넷 보상기 및 그 제어 메커니즘과 관련된 것을 제외하고, 도 4a에서와 동일한 장치를 이용하는, 글레이징(1000)의 품질을 분석하기 위한 광학 디바이스(2002)의, Y-Z 평면에서의, 개략적 측면도이다. 글레이징은, 예를 들어 측방향에 위치되는 잼(73) 상에 위치된다.

Claims (30)

  1. 광학 디바이스(1000, 1001, 1002)에 있어서, 제1 편광계를 포함하고, 제1 편광계는, 이하의 순서로, 광학 축(Z)을 따라 광학적으로 정렬된,
    - 광학 축에 직각으로 배치되고 광 빔을 전달하는, 주어진 스펙트럼을 갖는 제1의, 바람직하게 다색성의, 광원(1);
    - 광학 축에 직각으로 배치되고 제1 사분체 파장판이 뒤따르는 제1 선형 편광기를 포함하는, 제1 편광화 회전 방향으로 편광화시키는 제1 원형 편광기(2); 및
    - 제1 분석기(2) 즉, 광학 축에 직각으로 배치된, 제1 회전 방향에 반대인 제2 편광화 회전 방향으로 편광화시키는 원형 편광기로서, 제1 분석기는 제2 선형 편광기가 뒤따르는 제2 사분체 파장판을 포함하는, 제1 분석기(2)를 포함하고;
    광학 디바이스는, 제1 분석기의 하류에 그리고 광학적 정렬로, 광학 축에 직각으로 배치된 제1 디지털 센서(6, 6'), 및 광학 축에 직각으로 배치되고 초점 평면을 형성하는 제1 대물렌즈(5, 5')를 포함하고, 제1 대물렌즈는, 제1 분석기와 제1 디지털 센서 사이에서, 제1 디지털 센서에 대면되어 위치되고;
    광학 디바이스는, 광학 축에 직각으로 배치된, 제1 편광기와 제1 분석기 사이의, 그리고 광학적으로 정렬된, 범위(AB) 내의 광학적 지연을 생성하기 위한 교정된 제1 광학적 지연 생성기(3)를 포함하고, 값(A)은 바람직하게 0 nm 내지 100 nm 범위 내이고, 차이(B-A)는 바람직하게 적어도 100 nm이며, 제1 광학적 지연 생성기는 초점 평면 내에 위치되고;
    제1 디지털 센서는, 주어진 스펙트럼 응답을 갖는, 제1 광원의 스펙트럼에 민감한 제1 광검출기(6, 6')의 세트를 포함하고, 교정 광검출기로 지칭되는 광검출기인, 하나 이상의 제1 광검출기가 제1 광학적 지연 생성기에 대면되어 위치되고, 각각의 교정 제1 광검출기는, 연속적으로, 범위(AB) 내의 광학적 지연의 각각을 위해서, 제1 분석기로부터 빠져 나오는 광 빔으로부터 발생된 광 에너지를 수신하고, 이어서 제1 디지털 센서는 범위(AB) 내의 광학적 지연을 위한 교정 디지털 화상으로 지칭되는 것을 생성하고, 각각의 교정 디지털 화상은, 하나 이상의 기준 채널(Ck)로, 하나 이상의 교정 제1 광검출기의 스펙트럼 응답을 나타내는 하나 이상의 화소로부터 형성되고; 광학 디바이스는, 교정 디지털 화상의 전부를 프로세스하기 위한 제1 디지털 프로세싱 유닛을 포함하고, 제1 프로세싱 유닛은 교정 데이터베이스를 형성하고, 교정 데이터베이스는, 범위(AB) 내의 각각의 광학적 지연을 위해서, 기준 채널(Ck)의 각각에 대한 디지털 값(Ik)을 포함하고, Ik는 하나 이상의 교정 제1 광검출기에 의해서 수집된 광 에너지를 나타내는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1001, 1002).
  2. 제1항에 있어서,
    교정된 제1 광학적 지연 생성기는:
    - 교정된 정적 광학적 평면형 파장판의 세트로서, 판은 상호 교환 가능하고, 각각의 판이, 연속적으로, 광학 디바이스 내로 삽입되는, 교정된 정적 광학적 평면형 파장판의 세트;
    - 또는, 복굴절 재료로 제조된 제1 및 제2 쐐기-형상의 판을 포함하는, 특히 바비넷-소레일 보상기와 같은 시스템(3)으로서, 제2 판은 정적 제1 판에 대해서 병진운동적으로 이동 가능하고, 보상기는 특히, 광학 축을 중심으로 하는 개구(31)에 의해서 형성되고, 개구는 제1 광원에 의해서 전체적으로 조명되고, 개구는 초점 평면 내에 위치되며, 하나 이상의 교정 제1 광검출기가 개구에 대면되는, 시스템(3);
    으로부터 선택된, 복굴절 재료로 제조된 광학 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1001, 1002).
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    광학적 지연의 변화가 자동화되고 특히 컴퓨터-제어되고, 제1 광학적 지연 생성기(3)는 특히 모터화되고 특히 컴퓨터-제어되는 보상기, 예를 들어 바비넷-소레일 보상기이고, 특히 15 내지 25 nm 그리고 심지어 0 내지 25 nm의, 특히 0.5 nm 이하 그리고 심지어 적어도 0.3 nm 이하의 증가 스텝 크기(P0)로, 범위(AB) 내에서 광학적 지연을 자동적으로 증가시킬 수 있고, 또는 정적 광학적 평면형 파장판의 교환이, 예를 들어 회전 가능한 또는 병진운동적으로 이동 가능한 유형의 자동화된 시스템으로, 자동화되는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1001, 1002).
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    보상기의 개구(31)는, 직경(O1)의, 원형이거나, 보상기의 개구가 30 mm 이하의 직경의 또는 등가 직경의 등가 직경(O1)이고, 개구의 중심은 직경(O1/2)의 중앙 디스크 내에 내접되고, 사용되는 하나 이상의 교정 제1 광검출기가 25 mm 이하 그리고 심지어 10 mm 이하 그리고 보다 양호하게 적어도 5 mm의 직경 또는 등가 직경의 중앙 디스크에 전체적으로 대면되는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1001, 1002).
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    기준 채널(Ck)은 3개의 적색, 녹색 및 청색 채널, 즉 RGB 채널로 지칭되는 3개의 채널을 포함하거나, 심지어 3개의 채널인 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1001, 1002).
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 광학적 지연 생성기는, 광 빔에 의해서 조명되고 30 mm 이하 그리고 바람직하게 5 mm 내지 25 mm 범위의 직경 또는 등가 직경의 교정 지역을 형성하는, 진입 지역(31)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1001, 1002).
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 광학 축(Z)은 수직이고, 제1 편광계, 제1 디지털 센서(6), 대물렌즈(5), 및 제1 광학적 지연 생성기가, 템퍼링 시스템의 하류에서, 가열 및 템퍼링 라인 상에 위치되고, 글레이징은 교정 구역을 통과하지 않고 보다 더 양호하게 정지되며, 라인은 이송 축(Y)을 따라 글레이징을 이송하기 위한, 바람직하게 수평인, 컨베이어를 포함하고, 라인은 선택적으로 굽힘-템퍼링 라인이고, 제1 편광계, 제1 디지털 센서, 대물렌즈(5) 및 제1 광학적 지연 생성기는 굽힘 시스템의 하류에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1001, 1002).
  8. 제7항에 있어서,
    컨베이어(8)는, 롤러-간 공간만큼 이격된 2개의 롤러를 포함하고, 제1 광원은 이송 구역 아래에 위치되고, 2개의 롤러 사이에 및/또는 2개의 롤러 아래에 위치되고, 제1 광원은 선택적으로, 지면으로부터 이격된 공급원 홀더 상에 위치되고, 제1 디지털 센서는 선형적이고 2개의 롤러로부터 이격되고 그 위에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1001).
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    컨베이어는, 롤러-간 공간만큼 이격된 2개의 롤러를 포함하고, 제1 광학적 지연 생성기는 장착 홀더(7) 상에서 2개의 롤러에 체결되며, 장착 홀더는, 광 빔에 의해서 조명되는 진입 지역인, 제1 광학적 지연 생성기의 교정 지역에 대면되는 홀을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1001).
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 디지털 센서(6)는 선형적인 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1001).
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 광원, 특히 무기 발광 다이오드(1) 또는 하나 이상의 유기 발광 다이오드가 선형 발광 스트립을 형성하고, 특히, 발광 스트립의 측방향 지역이 마스킹되고, 중앙 지역이 제1 광학적 지연 생성기를 조명하는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1001, 1002).
  12. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 디지털 센서는 행렬-어레이 센서이고, 제1 광검출기는 행렬 어레이로 배열되는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1002).
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 광원(1') 하류에서 그리고 제1 광학적 지연 생성기의 상류에서 그리고 심지어 바람직하게 제1 편광기(2)의 상류에서 제1 시준 수단을 포함하는 것, 그리고 제1 대물렌즈(5')가 텔레센트릭인 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1002).
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 광학적 지연 생성기와 선형적 제1 센서 사이에서, 제1 분석기의 상류에서, 값(Ik)과 광학적 지연 사이의 관계가 기준 채널(Ck)의 적어도 하나에 대해서 실질적으로 선형인 구역 내에서 선택된 지연(A'0)을 갖는 교정된 광학적 파장판(4)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스(1000, 1002).
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 광원은 컴퓨터-제어되는 및/또는 제1 광검출기는 컴퓨터-제어되는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  16. 글레이징의 품질을 분석하기 위한 디바이스(2001, 2002, 2003)로서, 상기 디바이스는, 바람직하게 교정된 제1 광학적 지연 생성기(3)를 갖는, 특히 교정된, 제1 편광계(1, 2, 2'), 특히 바람직하게 교정된 제1 광학적 지연 생성기(3)로 교정된 제1 디지털 센서(6, 6'), 제1 대물렌즈(5, 5'), 및 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에서 규정된 광학 디바이스의 교정 데이터베이스를 포함하고, 이러한 품질-분석 디바이스는 특히 교정된 제1 광학적 지연 생성기(3)를 포함하지 않고 사실상 교정된 제1 광학적 지연 생성기(3)의 장착 홀더도 포함하지 않는, 디바이스에 있어서, 특히, 동작 시에, 글레이징(100)은 제1 편광기(2)와 제1 분석기(2') 사이에 위치되고, 광학 축은, 조명된 지역 세그먼트 내의 글레이징의 표면에 접선적인 평면에 수직인 것을 특징으로 하고, 상기 세트 중의 각각의 제1 광검출기는 제1 광원의 스펙트럼 내의 광 에너지 즉, 제1 분석기를 빠져 나오는 광 빔으로부터 발생된 에너지를 수신할 수 있고, 이어서, 제1 디지털 센서는, 품질-분석 디지털 화상이라고 지칭되는 것인 디지털 화상을 생성하고, 각각의 품질-분석 디지털 화상은, 기준 채널(들)(Ck)로, 제1 광검출기의 스펙트럼 응답을 나타내는 하나 이상의 화소로부터 형성되며, 상기 디바이스는 품질-분석 디지털 화상의 전부를 프로세스하기 위한 디지털 프로세싱 유닛을 더 포함하고, 조명된 지역 세그먼트에 대면되는 선택적인 제2 디지털 센서의 화상의 전부가 교정 데이터베이스에 의해서 상기 조명된 지역 세그먼트에 대면되는 광학적 지연의 맵을 형성하는 것을 특징으로 하는 글레이징의 품질을 분석하기 위한 디바이스(2001, 2002, 2003).
  17. 제16항에 있어서,
    맵을 기초로, 바람직하게 수학적 또는 통계적 분석을 기초로 하는 하나 이상의 메트릭을 결정하는 프로세서를 포함하는 것을 특징으로 하는 글레이징의 품질을 분석하기 위한 디바이스.
  18. 제16항 또는 제17항에 있어서,
    광학 축(Z)은 바람직하게 수직이고, 제1 편광계 및 제1 디지털 센서가, 템퍼링 시스템의 하류에서, 가열 및 템퍼링 라인 상에 위치되고, 라인은 이송 축(Y)을 따라 글레이징을 이송하기 위한, 바람직하게 수평인, 컨베이어를 포함하고, 제조 라인은 선택적으로 가열, 굽힘 및 템퍼링 라인이며, 제1 편광계 및 제1 디지털 센서는 굽힘 시스템의 하류에 위치되고, 제1 디지털 센서는 선형적이고, 제1 광검출기들이 행으로 위치되는 것을 특징으로 하는 글레이징의 품질을 분석하기 위한 디바이스.
  19. 제18항에 있어서,
    특히 시간(t0)에 제1 획득을 트리거링하기 위해서 및/또는 바람직하게 제1 광원의 측면에 위치되는 2개의 롤러의 순간 속력(V)의 표시자를 전달하기 위해서, 제1 광원의 상류에서 글레이징의 존재를 검출하기 위한 존재 검출기를 포함하는 것을 특징으로 하는 글레이징의 품질을 분석하기 위한 디바이스.
  20. 제16항 또는 제17항에 있어서,
    글레이징은 바람직하게 정적, 수평 또는 수직이고, 제1 디지털 센서는 행렬-어레이 센서이고, 제1 광검출기는 행렬 어레이로 배열되는 것을 특징으로 하는 글레이징의 품질을 분석하기 위한 디바이스(2003).
  21. 이송 축(Y)을 따라 글레이징을 이송하기 위한, 바람직하게 수평인, 컨베이어를 포함하는 가열 및 템퍼링 라인이며, 라인은 선택적으로 굽힘-템퍼링 라인이고, 이는, 템퍼링 시스템의 하류에서, 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 광학 디바이스를 포함하고, 글레이징은 교정 구역을 통과하지 않고 보다 더 양호하게 정지되며, 굽힘의 경우에, 제1 편광계, 제1 디지털 센서, 대물렌즈(5), 및 제1 광학적 지연 생성기는 굽힘 시스템의 하류에 위치되는, 가열 및 템퍼링 라인.
  22. 제21항에 있어서,
    컨베이어(8)는, 롤러-간 공간만큼 이격된 2개의 롤러를 포함하고, 제1 광원은 이송 구역 아래에 위치되고, 2개의 롤러 사이에 및/또는 2개의 롤러 아래에 위치되고, 제1 광원은 선택적으로, 지면으로부터 이격된 공급원 홀더 상에 위치되고, 제1 디지털 센서는 선형적이고 2개의 롤러로부터 이격되고 그 위에 위치되는 것을 특징으로 하는 가열 및 템퍼링 라인.
  23. 제21항 또는 제22항에 있어서,
    컨베이어는, 롤러-간 공간만큼 이격된 2개의 롤러를 포함하고, 제1 광학적 지연 생성기는 장착 홀더(7) 상에서 2개의 롤러에 체결되며, 장착 홀더는, 광 빔에 의해서 조명되는 진입 지역인, 제1 광학적 지연 생성기의 교정 지역에 대면되는 홀을 가지는 것을 특징으로 하는 가열 및 템퍼링 라인.
  24. 이송 축(Y)을 따라 글레이징을 이송하기 위한, 바람직하게 수평인, 컨베이어를 포함하는 가열 및 템퍼링 라인으로서, 라인은 선택적으로 굽힘-템퍼링 라인이고, 이는, 템퍼링 시스템의 하류에서, 제16항 내지 제20항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 품질-분석 디바이스를 포함하고, 광학 축(Z)은 바람직하게 수직인, 가열 및 템퍼링 라인에 있어서, 제1 디지털 센서는 선형적이고, 제1 광검출기는 행으로 위치되고, 선택적으로, 특히 제조에서, 라인은 가열, 굽힘 및 템퍼링 라인이고, 제1 편광계 및 제1 디지털 센서는 굽힘 시스템의 하류에 위치되고, 특히, 동작 시에, 글레이징(100)은 제1 편광기(2)와 제1 분석기(2') 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 가열 및 템퍼링 라인.
  25. 제24항에 있어서,
    특히 시간(t0)에 제1 획득을 트리거링하기 위해서 및/또는 바람직하게 제1 광원의 측면에 위치되는 2개의 롤러의 순간 속력(V)의 표시자를 전달하기 위해서, 제1 광원의 상류에서 글레이징의 존재를 검출하기 위한 존재 검출기를 포함하는 것을 특징으로 하는 가열 및 템퍼링 라인.
  26. 글레이징을 제조하기 위한 방법이며, 연속적으로, 글레이징을 형성하는 단계, 가열 동작 및 템퍼링 또는 굽힘-템퍼링 동작을 포함하고, 이어서 바람직하게 가열 및 템퍼링 라인에서, 제16항 내지 제20항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 분석 디바이스를 이용한 글레이징(100)의 품질 분석이 후속되며, 바람직하게 자동화된 교정된 제1 광학적 지연 생성기를 이용하여, 범위(AB) 내에서 변화되는 광학적 지연을, 바람직하게 자동적으로, 제1 편광계 내로 도입하는 것에 의해서 달성되는, 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 광학 디바이스의 일부를 형성하는 제1 디지털 센서의 그리고 제1 편광계의 교정이 상기 품질 분석에 선행하고, 상기 교정은 바람직하게 라인 상에서 정지 중에 실행되는, 방법.
  27. 제26항에 있어서,
    글레이징의 품질 분석은 가열 및 템퍼링 라인 상에서 실행되고, 제조 및/또는 가열 및/또는 라인에 관한 경고 또는 그 정지를 초래하고, 및/또는 가열 및/또는 템퍼링 디바이스의 매개변수에서 생성된 피드백을 초래하는 것을 특징으로 하는 방법.
  28. 바람직하게 자동화된 교정된 제1 광학적 지연 생성기를 이용하여 범위(AB) 내에서 변화되는 광학적 지연을, 바람직하게 자동적으로, 제1 편광계 내로 도입하는 것에 의해서, 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 광학 디바이스의 일부를 형성하는 제1 디지털 센서 및 제1 편광계를 교정하기 위한 방법.
  29. 제28항에서 청구된 바와 같은 교정 방법에 후속하여 실시되는 글레이징의 품질을 분석하기 위한 방법이며, 품질 분석은 제16항 내지 제20항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 품질-분석 디바이스를 기초로 하며, 글레이징(100)은 제1 편광기(2)와 제1 분석기(2') 사이에 위치되고, 광학 축은 특히 조명된 지역 세그먼트 내의 글레이징의 표면에 접선적인 평면에 수직이고, 품질 분석은 바람직하게 정지 중에 가열 및 템퍼링 라인에서 실행되고, 품질-분석 디바이스는 템퍼의 하류에 위치되는, 글레이징의 품질을 분석하기 위한 방법.
  30. 제29항에 있어서,
    템퍼 하류의 가열 및 템퍼링 라인에서 실행되고, 글레이징은 이동 가능하고 특히 라인의 컨베이어에 걸쳐 병진운동적으로 통과하는 것을 특징으로 하는 글레이징의 품질을 분석하기 위한 방법.
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