KR20200006801A - Apparatus for processing substrate - Google Patents

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KR20200006801A
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모성원
이양호
배정현
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Abstract

Disclosed is a substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus of the present invention includes: a heater unit heating a substrate; a rotation body unit installed in a shape of surrounding the heater unit and having a substrate support part supporting the substrate; a window unit installed between the substrate and the heater unit; and a rotation control unit fixed to the heater unit and controlling rotation of the window unit.

Description

기판처리장치{APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE}Substrate Processing Equipment {APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE}

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판으로 전달되는 열에너지의 균일도를 향상시킬 수 있는 기판처리장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus capable of improving the uniformity of the thermal energy transferred to the substrate.

일반적으로, 발광 다이오드(LED) 소자 또는 반도체 소자 등이 고밀도, 고집적화, 고성능화되고, 회로 패턴의 미세화가 급속히 진행됨에 따라, 기판 표면을 식각하거나, 기판 표면에 잔류하는 파티클(Particle), 유기 오염물, 금속 오염물 등의 오염물질을 세정하기 위한 기판 처리공정의 중요성이 커지고 있다. In general, as light emitting diode (LED) devices or semiconductor devices, such as high density, high integration, and high performance, and miniaturization of circuit patterns are rapidly progressed, the surface of the substrate is etched, or particles, organic contaminants, The importance of substrate processing for cleaning contaminants such as metal contaminants is increasing.

기판을 식각하거나, 기판을 세정하는 기판 처리장치는 건식(Dry) 또는 습식(Wet) 처리방식 중 어느 하나의 방식으로 기판 표면을 처리한다. 특히, 습식 처리방식은 약액 등의 처리액을 이용한 처리방식으로써, 복수의 기판을 동시에 세정하는 배치식과 기판을 낱장 단위로 세정하는 매엽식으로 구분될 수 있다.A substrate treating apparatus for etching a substrate or cleaning the substrate treats the surface of the substrate by either a dry (dry) or wet (wet) process. In particular, the wet treatment method is a treatment method using a treatment liquid such as a chemical liquid, and may be classified into a batch type for simultaneously cleaning a plurality of substrates and a sheet type for cleaning the substrates in sheet units.

매엽식 기판 처리장치는, 기판지지부에 의해 기판이 지지된 상태에서 고속으로 회전되는 기판의 표면에 약액을 분사하는 방식으로 기판을 처리하게 된다. The single wafer type substrate processing apparatus processes the substrate by spraying a chemical liquid onto the surface of the substrate which is rotated at a high speed while the substrate is supported by the substrate support portion.

기판지지부는 기판의 하측면 또는 외측면에 접하며 기판을 지지하며 기판의 하측에는 발열부가 설치되어 회전되는 기판을 가열한다.The substrate support part contacts the lower side or the outer side surface of the substrate and supports the substrate, and a heating part is installed at the lower side of the substrate to heat the rotated substrate.

발명부와 기판의 사이에는 발열부를 보호하기 위한 투명패널이 설치되나, 투명패널의 투고율이 균일하지 않은 상태에서 기판과 함께 투명패널이 회전되는 경우에는 기판으로 전달되는 열에너지의 균일도가 저하되어 기판의 불량율이 증가되는 원인이 된다. 따라서 이를 개선할 필요성이 요청된다. A transparent panel is provided between the invention unit and the substrate to protect the heat generating unit. However, when the transparent panel is rotated together with the substrate in a state in which the transparent panel is not uniform, the uniformity of heat energy transferred to the substrate is reduced. This causes an increase in the defective rate. Therefore, there is a need for improvement.

본 발명의 배경 기술은, 대한민국 공개특허공보 제2004-0023943호(2004.03.20 공개, 발명의 명칭: 양면 동시 세정이 가능한 매엽식 웨이퍼 세정장치)에 개시되어 있다.
Background art of the present invention is disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2004-0023943 (published on March 20, 2004, title of the invention: single-sheet wafer cleaning apparatus capable of simultaneously cleaning both sides).

본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선하기 위해 창출된 것으로, 본 발명의 목적은 기판으로 전달되는 열에너지의 균일도를 향상시킬 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것이다.
The present invention was created to improve the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of improving the uniformity of thermal energy transferred to the substrate.

본 발명에 따른 기판처리장치는: 기판을 가열하는 히터부와, 히터부를 감싸는 형상으로 설치되며 기판을 지지하는 기판지지부를 구비하는 회전몸체부와, 기판과 히터부의 사이에 설치되는 윈도우부 및 히터부에 고정되며 윈도우부의 회전을 구속하는 회전구속부를 포함하는 것을 특징으로 한다.A substrate processing apparatus according to the present invention includes: a heater body for heating a substrate, a rotating body portion provided with a shape surrounding the heater portion, and a substrate support portion for supporting the substrate, and a window portion and a heater provided between the substrate and the heater portion. It is characterized in that it comprises a rotary restraining portion fixed to the portion and restrains the rotation of the window portion.

또한 히터부는, 기판의 일측에 위치하는 테이블부 및 테이블부에 구비되며 기판을 가열하는 히터를 포함하는 것을 특징으로 한다.The heater unit may include a table unit positioned at one side of the substrate and a table unit and a heater configured to heat the substrate.

또한 히터부는, 테이블부에 구비되며 히터에서 발생되는 열을 기판 측으로 반사하는 반사부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The heater unit may further include a reflection unit provided in the table unit and reflecting heat generated from the heater to the substrate side.

또한 회전몸체부는, 히터부의 측면과 하측을 감싸는 형상으로 설치되며 회전 가능하게 설치되는 베이스부 및 베이스부의 상측에서 측방향으로 연장되며 기판지지부가 착탈 가능하게 연결되는 테두리부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the rotating body portion is installed in a shape surrounding the heater side and the lower side, the base portion is rotatably installed and extends laterally from the upper side and characterized in that it comprises a border member detachably connected to the substrate support portion .

또한 윈도우부는, 회전구속부의 상측에 안착되는 판 형상의 윈도우몸체 및 회전구속부의 구속돌기와 마주하는 윈도우몸체의 측면이 절개되어 구속돌기에 걸리는 측면걸림부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the window portion is characterized in that it comprises a plate-shaped window body that is seated on the upper side of the rotational restriction portion and the side surface of the window body facing the restraint projection of the rotational restriction portion is cut off and caught by the restraint projection.

또한 회전구속부는, 윈도우몸체를 지지하며 히터부에 고정되는 회전구속몸체를 포함하며, 구속돌기는 회전구속몸체의 테두리를 따라 복수로 설치되는 것을 특징으로 한다.In addition, the rotational restraint part includes a rotational restraint body that supports the window body and is fixed to the heater, and the constraining protrusion is installed in plural along the edge of the rotational restraint body.

또한 회전구속몸체는, 회전몸체부를 감싸는 형상으로 설치되는 내측홈부를 구비하는 제1몸체 및 제1몸체의 측방향으로 연장되어 윈도우몸체와 히터부의 사이에 위치하는 제2몸체를 포함하는 것을 특징으로 한다.
In addition, the rotational restriction body, characterized in that it comprises a first body having an inner groove that is installed in a shape surrounding the rotating body portion and a second body extending in the lateral direction of the first body located between the window body and the heater portion do.

본 발명에 따른 기판처리장치는, 윈도우부의 평탄도 및 투과율이 균일하지 않아도 윈도우부가 히터부와 함께 회전이 구속되므로, 회전되는 기판으로 전달되는 열에너지의 균일도를 향상시킬 수 있다.
In the substrate treating apparatus according to the present invention, even though the flatness and transmittance of the window portion are not uniform, rotation of the window portion is constrained together with the heater portion, thereby improving the uniformity of thermal energy transmitted to the rotated substrate.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치의 구조를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우부가 기판처리장치에서 분리된 상태를 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우부와 회전구속부가 기판처리장치에서 분리된 상태를 도시한 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우부와 회전구속부를 도시한 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 회전구속부가 회전몸체부에 설치된 상태를 도시한 사시도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전구속부가 회전몸체부에서 분리된 상태를 도시한 사시도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전구속부의 저면 사시도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치의 단면도이다.1 is a perspective view schematically showing the structure of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view illustrating a state in which a window unit is separated from a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view illustrating a state in which the window portion and the rotational restriction portion are separated from the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a plan view showing a window portion and the rotational restriction according to an embodiment of the present invention.
5 is a perspective view showing a state in which the rotational restraint unit is installed in the rotating body according to an embodiment of the present invention.
Figure 6 is a perspective view showing a state in which the rotating restraint portion is separated from the rotating body portion according to an embodiment of the present invention.
7 is a bottom perspective view of a rotary restraint according to an exemplary embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치를 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다. Hereinafter, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In this process, the thickness of the lines or the size of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of description.

또한 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
In addition, the terms to be described below are terms defined in consideration of functions in the present invention, which may vary according to the intention or convention of a user or an operator. Therefore, the definitions of these terms should be made based on the contents throughout the specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치의 구조를 개략적으로 도시한 사시도이며, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우부가 기판처리장치에서 분리된 상태를 도시한 사시도이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우부와 회전구속부가 기판처리장치에서 분리된 상태를 도시한 사시도이며, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우부와 회전구속부를 도시한 평면도이며, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 회전구속부가 회전몸체부에 설치된 상태를 도시한 사시도이며, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전구속부가 회전몸체부에서 분리된 상태를 도시한 사시도이며, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전구속부의 저면 사시도이며, 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치의 단면도이다.1 is a perspective view schematically showing the structure of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a perspective view showing a state in which the window portion separated from the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, 3 is a perspective view illustrating a state in which the window portion and the rotational restriction portion are separated from the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a plan view illustrating the window portion and the rotational restriction portion according to the embodiment of the present invention. 5 is a perspective view showing a state in which the rotational restraint is installed in the rotating body portion according to an embodiment of the present invention, Figure 6 is a state in which the rotational restraint portion is separated from the rotating body portion in accordance with an embodiment of the present invention; 7 is a bottom perspective view of a rotational restricting part according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view of the substrate treating apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치(1)는, 기판(50)을 가열하는 히터부(10)와, 히터부(10)를 감싸는 형상으로 설치되며 기판(50)을 지지하는 기판지지부(28)를 구비하는 회전몸체부(20)와, 기판(50)과 히터부(10)의 사이에 설치되는 윈도우부(30) 및 히터부(10)에 고정되며 윈도우부(30)의 회전을 구속하는 회전구속부(40)를 포함한다.1 to 8, the substrate processing apparatus 1 according to the exemplary embodiment of the present invention has a heater portion 10 for heating the substrate 50 and a shape surrounding the heater portion 10. A rotating body portion 20 provided with a substrate support portion 28 for supporting the substrate 50, and a window portion 30 and a heater portion 10 disposed between the substrate 50 and the heater portion 10. It is fixed to the) and includes a rotation restraining portion 40 for restraining the rotation of the window (30).

도 2와 도 8에 도시된 바와 같이, 히터부(10)는 기판(50)을 가열하는 열에너지를 공급하는 기술사상 안에서 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 일 실싱예에 따른 히터부(10)는 테이블부(12)와 히터(14)와 반사부(16)를 포함한다.As shown in FIG. 2 and FIG. 8, the heater unit 10 may be formed in various shapes within a technical concept of supplying thermal energy for heating the substrate 50. The heater unit 10 according to one embodiment includes a table unit 12, a heater 14, and a reflector 16.

테이블부(12)는 기판(50)의 일측에 위치하며, 일 실시예에 따른 테이블부(12)는 기판(50)의 하측에 위치한다. 테이블부(12)는 기판(50)의 형상에 대응되게 형성된다. 예를 들어 기판(50)의 형상이 원형인 경우 테이블부(12)는 원형으로 형성되되, 기판(50)의 직경 보다 큰 직경을 갖도록 하여, 테이블부(12)에 장착된 히터(14)가 기판(50)의 전 면적을 가열할 수 있도록 한다. The table part 12 is located on one side of the substrate 50, and the table part 12 according to an embodiment is located under the substrate 50. The table portion 12 is formed to correspond to the shape of the substrate 50. For example, when the shape of the substrate 50 is circular, the table portion 12 is formed in a circular shape, and has a diameter larger than the diameter of the substrate 50, so that the heater 14 mounted on the table portion 12 is The entire area of the substrate 50 can be heated.

히터(14)는 테이블부(12)에 구비되며 기판(50)을 가열한다. 본 발명의 일 실시예에서 히터(14)는 테이블부(12)의 일측면인 기판(50)에 대향되는 면에 구비되며, 외부에서 전원이 인가되면 전기에너지를 열에너지로 전환시켜 기판(50)을 가열한다. The heater 14 is provided in the table portion 12 and heats the substrate 50. In one embodiment of the present invention, the heater 14 is provided on a surface opposite to the substrate 50, which is one side of the table portion 12, when the power is applied from the outside converts the electrical energy into thermal energy to the substrate 50 Heat it.

본 발명의 일 실시예에서 히터(14)는 대략 링 형상으로 형성되며, 복수 개의 히터(14)가 히터부(10) 또는 베이스부(22)의 회전축을 중심으로 하는 동심원이 되도록 배열되며, 기판지지부(28)와 함께 회전되는 기판(50)을 가열한다. In an embodiment of the present invention, the heater 14 is formed in a substantially ring shape, and the plurality of heaters 14 are arranged to be concentric circles about the rotation axis of the heater unit 10 or the base unit 22, and the substrate The substrate 50 rotates together with the support 28.

히터(14)는 링 형상 이외에도 직선, 원형 등 다양한 형상으로 형성될 수 있으며, 약액이 공급되는 위치, 기판(50)의 형상 등을 고려하여 다양한 배열이 적용될 수 있다. In addition to the ring shape, the heater 14 may be formed in various shapes such as a straight line and a circular shape, and various arrangements may be applied in consideration of the position at which the chemical liquid is supplied, the shape of the substrate 50, and the like.

반사부(16)는 테이블부(12)에 구비되며, 히터(14)에서 발생되는 열을 기판(50) 측으로 반사함으로써, 히터(14)가 기판(50)을 가열하는 효율을 증대시킨다. The reflector 16 is provided in the table 12, and reflects heat generated from the heater 14 toward the substrate 50, thereby increasing the efficiency of the heater 14 heating the substrate 50.

본 발명의 일 실시예에서 반사부(16)는 히터(14)와 테이블부(12)의 사이에 위치하며 반사율이 높은 금속 재질 등을 포함하여 이루어져 히터(14)에서 발생되는 열을 기판(50) 측으로 반사한다.In one embodiment of the present invention, the reflector 16 is disposed between the heater 14 and the table unit 12 and includes a metal material having a high reflectance. ) To the side.

도 1 내지 도 3 및 도 8에 도시된 바와 같이, 회전몸체부(20)는 히터부(10)를 감싸는 형상으로 설치되며, 기판(50)을 지지하는 기술사상 안에서 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 일 실시예에 따른 회전몸체부(20)는 베이스부(22)와 테두리부재(24)와 경계돌기(26)와 기판지지부(28)를 포함한다.As shown in Figures 1 to 3 and 8, the rotating body portion 20 is installed in a shape surrounding the heater unit 10, it may be formed in various shapes within the technical concept of supporting the substrate 50. . Rotating body portion 20 according to an embodiment includes a base portion 22, the edge member 24, the boundary projection 26 and the substrate support (28).

베이스부(22)는 히터부(10)의 측면과 하측을 감싸는 형상으로 설치되며, 회전 가능하게 설치된다.Base portion 22 is installed in a shape surrounding the side and the lower side of the heater 10, it is installed rotatably.

테두리부재(24)는 베이스부(22)의 상측에서 측방향으로 연장되며 기판지지부(28)가 착탈 가능하게 연결된다. 링 형상의 테두리부재(24)는 베이스부(22)의 상측 외부에 고정되며, 테두리부재(24)를 따라 복수의 기판지지부(28)가 설치된다.The edge member 24 extends laterally from the upper side of the base portion 22 and the substrate support portion 28 is detachably connected. The ring-shaped rim member 24 is fixed to the outer side of the upper side of the base portion 22, and a plurality of substrate support portions 28 are installed along the rim member 24.

히터부(10)와 마주하는 테두리부재(24)의 일측에서 상측으로 연장된 경계돌기(26)는 회전구속부(40)의 내측으로 삽입된다. 따라서 윈도우부(30)의 상측을 따라 이동하는 약액이 회전구속부(40)와 경계돌기(26)의 사이를 통과하지 못하므로 히터부(10)가 액약에 의해 손상됨을 방지할 수 있다. 경계돌기(26)는 상하 방향으로 연장된 격벽 형상이며, 원주방향을 따라 연장된다.The boundary protrusion 26 extending upward from one side of the edge member 24 facing the heater 10 is inserted into the rotational restraint 40. Therefore, since the chemical liquid moving along the upper side of the window portion 30 does not pass between the rotational constraining portion 40 and the boundary protrusion 26, the heater 10 may be prevented from being damaged by the liquid medicine. The boundary protrusion 26 has a partition wall shape extending in the vertical direction and extends along the circumferential direction.

회전몸체부(20)가 회전동력을 전달받아 회전되는 구성은 기판처리장치(1)에서 공지된 구성이므로 이에 따른 상세한 설명은 생략한다.Since the rotation body 20 is rotated by receiving the rotational power is a known configuration in the substrate processing apparatus 1, detailed description thereof will be omitted.

도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 윈도우부(30)는 히터부(10)와 기판(50) 사이에 구비되어, 기판(50)에 공급되는 약액 등이 히터부(10)에 장착되는 히터(14) 등에 전달되는 것을 방지한다. 본 실시예에서 윈도우부(30)는 윈도우몸체(32)와 측면걸림부(34)를 포함한다.As shown in FIGS. 2 to 4, the window part 30 is provided between the heater part 10 and the substrate 50 so that the chemical liquid supplied to the substrate 50 is mounted on the heater part 10. It is prevented from being transmitted to the heater 14 or the like. In the present embodiment, the window part 30 includes a window body 32 and a side catching part 34.

윈도우몸체(32)는 히터부(10)와 기판(50) 사이에 위치하고, 히터부(10)를 덮는 형상으로 형성되며, 석영이나 실리콘 등의 투명한 재질을 포함하여 이루어져, 히터부(10)에서 발생되는 열이 기판(50)에 전달되도록 함과 동시에, 기판(50)에서 처리되는 약액 등이 히터(14)에 전달되는 것을 방지하여 히터(14)의 부식, 오작동 등을 방지한다. The window body 32 is positioned between the heater unit 10 and the substrate 50 and is formed in a shape covering the heater unit 10, and includes a transparent material such as quartz or silicon, and the heater unit 10 includes: At the same time, the generated heat is transferred to the substrate 50, and the chemical liquid processed in the substrate 50 is prevented from being transferred to the heater 14, thereby preventing corrosion and malfunction of the heater 14.

본 실시예에서 윈도우몸체(32)는 히터부(10)의 형상에 대응하여, 대략 원판 형상으로 형성된다. 또한 윈도우몸체(32)는 회전구속부(40)의 상측에 안착되는 판 형상으로 이루어지는 기술사상 안에서 다양한 형상으로 변형이 가능하다.In the present embodiment, the window body 32 is formed in a substantially disc shape corresponding to the shape of the heater unit 10. In addition, the window body 32 can be deformed into various shapes within the technical concept consisting of a plate shape that is seated on the upper side of the rotary restraining portion 40.

측면걸림부(34)는 회전구속부(40)의 구속돌기(46)와 마주하는 윈도우몸체(32)의 측면이 절개되어 구속돌기(46)에 걸리는 면을 형성한다. 측면걸림부(34)는 구속돌기(46)에 걸려서 회전이 구속되는 기술사상 안에서 평면이나 홈부 등 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 일 실시예에 따른 측면걸림부(34)는 윈도우몸체(32)의 둘레를 따라 복수의 지점에 직선 형상으로 절개된 평면을 형성한다.The side catching part 34 has a side surface of the window body 32 facing the restraining protrusion 46 of the rotational restraining part 40 to be cut to form a surface that is caught by the restraining protrusion 46. The side catching part 34 may be formed in various shapes such as a plane or a groove in a technical concept in which rotation is constrained by the restraining protrusion 46. The side catching part 34 according to an embodiment forms a plane cut in a linear shape at a plurality of points along the circumference of the window body 32.

윈도우부(30)의 평탄도와 투과율이 균일할 경우, 히터부(10)에서 발생된 열에너지는 윈도우부(30)를 통해 기판(50)으로 전달될 때 기판(50)을 균일하게 가열할 수 있으나, 윈도우부(30)의 평탄도와 투과율이 균일하지 못할 경우에는 히터부(10)에서 발생된 열에너지가 윈도우부(30)를 통해 기판(50)으로 전달될 때 기판(50)을 균일하게 가열하지 못할 수 있다. 이를 방지하기 위해 히터부(10)와 윈도우부(30)는 회전을 구속하고 기판(50)과 회전몸체부(20)만 회전시키므로 윈도우부(30)의 평탄도와 투과율이 균일하지 못할 경우에도 기판(50)으로 전달되는 열에너지가 균일하게 되며, 이로 인하여 기판(50)의 에칭 균일도가 향상될 수 있다.When the flatness and transmittance of the window part 30 are uniform, the heat energy generated by the heater part 10 may uniformly heat the substrate 50 when it is transferred to the substrate 50 through the window part 30. When the flatness and transmittance of the window part 30 are not uniform, when the heat energy generated by the heater part 10 is transferred to the substrate 50 through the window part 30, the substrate 50 is not uniformly heated. You may not be able to. In order to prevent this, the heater unit 10 and the window unit 30 restrain the rotation and rotate only the substrate 50 and the rotating body unit 20, so that even when the flatness and transmittance of the window unit 30 are not uniform, The thermal energy transferred to 50 may be uniform, thereby improving the uniformity of etching of the substrate 50.

본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우부(30)는 종래 대비 직경이 축소되며 고정된 상태로 설치된다.Window portion 30 according to an embodiment of the present invention is installed in a fixed state is reduced in diameter compared to the conventional.

도 4 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 회전구속부(40)는 히터부(10)에 고정되며, 윈도우부(30)의 회전을 구속하는 기술사상 안에서 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 일 실시예에 따른 회전구속부(40)는 회전구속몸체(42)와 구속돌기(46)를 포함한다.As shown in FIGS. 4 to 7, the rotational constraining part 40 is fixed to the heater part 10 and may be formed in various shapes within the technical concept of restricting the rotation of the window part 30. Rotating constraining portion 40 according to an embodiment includes a rotating constraining body 42 and the restraining protrusion 46.

회전구속몸체(42)는 윈도우몸체(32)를 지지하며 히터부(10)에 고정된다. 일 실시예에 따른 회전구속몸체(42)는, 회전몸체부(20)를 감싸는 형상으로 설치되는 내측홈부(44)를 구비하는 제1몸체(43) 및 제1몸체(43)의 측방향으로 연장되어 윈도우몸체(32)와 히터부(10)의 사이에 위치하는 제2몸체(45)를 포함한다.The rotation restraint body 42 supports the window body 32 and is fixed to the heater unit 10. Rotating binding body 42 according to an embodiment, the first body 43 and the first body 43 having an inner groove 44 is installed in a shape surrounding the rotating body portion 20 in the lateral direction of the first body 43. It extends and includes a second body 45 located between the window body 32 and the heater unit 10.

윈도우부(30)의 테두리 하측에 위치하는 회전구속부(40)는 링 형상으로 형성되며, 히터부(10)에 고정되므로 회전이 구속된다. 회전구속몸체(42)는 회전몸체부(20)의 경계돌기(26)의 상측을 감싸는 형상으로 설치되는 제1몸체(43)와, 제1몸체(43)에서 수평방향으로 연장되어 윈도우부(30)의 하측을 지지하는 제2몸체(45)로 구성된다.Rotational restraint portion 40 positioned below the edge of the window portion 30 is formed in a ring shape, and the rotation is constrained because it is fixed to the heater portion 10. The rotary binding body 42 extends in the horizontal direction from the first body 43 and the first body 43 installed in a shape surrounding the upper side of the boundary protrusion 26 of the rotary body part 20 and the window portion ( The second body 45 supporting the lower side of the 30.

제1몸체(43)에 구비된 내측홈부(44)는 하측을 향하여 개구된 "ㄷ"자 형상의 홈부를 형성하므로, 회전구속부(40)의 외측으로 낙하되는 약액이 다시 히터부(10)로 이동됨을 차단한다.Since the inner groove 44 provided in the first body 43 forms a “c” shaped groove that is opened toward the lower side, the chemical liquid dropped to the outside of the rotary restraint portion 40 is again heated by the heater unit 10. Block moving to

제2몸체(45)의 상측은 윈도우부(30)의 하측에 접하며 제2몸체(45)의 상측은 히터부(10)의 테이블부(12)에 접하므로 히터(14)를 향한 방향으로 약액이 이동됨을 차단한다.The upper side of the second body 45 is in contact with the lower side of the window portion 30 and the upper side of the second body 45 is in contact with the table portion 12 of the heater unit 10, so that the chemical liquid in the direction toward the heater 14. Blocks this move.

구속돌기(46)는 제1몸체(43)에서 상측으로 돌출되어 윈도우부(30)의 측면걸림부(34)와 마주하는 형상으로 설치된다. 따라서 윈도우부(30)의 측면걸림부(34)가 구속돌기(46)에 걸리므로 윈도우부(30)의 회전이 구속된다. 이러한 구속돌기(46)는 회전구속몸체(42)의 테두리를 따라 복수로 설치된다.The restraining protrusion 46 protrudes upward from the first body 43 and is installed in a shape facing the side catching part 34 of the window part 30. Therefore, since the side catching part 34 of the window part 30 is caught by the restraining protrusion 46, the rotation of the window part 30 is constrained. The restriction protrusion 46 is provided in plurality along the rim of the rotary binding body 42.

도 1과 도 2에 도시된 바와 같이, 테이블부(12)의 대략 중심에는 기판(50)에 약액을 공급하는 약액공급부(60)가 구비된다. 약액공급부(60)는 테이블부(12)의 대략 중심에 구비되며, 기판(50)을 처리하기 위하여 공급되는 약액을 기판(50)에 공급한다. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, a chemical solution supply unit 60 for supplying a chemical solution to the substrate 50 is provided at approximately the center of the table unit 12. The chemical liquid supply unit 60 is provided at the center of the table portion 12 and supplies the chemical liquid supplied to process the substrate 50 to the substrate 50.

약액공급부(60)는 기판(50)의 형상, 기판(50)을 처리하는 공정의 특성, 약액의 종류 등을 고려하여, 기판(50)의 상측 또는 하측에 구비되는 것은 물론, 기판(50)의 상하측 모두에 장착될 수도 있다. The chemical liquid supply unit 60 is provided above or below the substrate 50 in consideration of the shape of the substrate 50, the characteristics of the process of processing the substrate 50, the kind of the chemical liquid, and the like, and the substrate 50 of the substrate 50. It may be mounted on both the top and bottom of the.

이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치(1)의 작동상태를 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the operating state of the substrate processing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention.

기판(50)이 기판지지부(28)에 의해 지지된 상태에서, 회전몸체부(20)의 회전으로 기판지지부(28)와 기판(50)이 함께 회전한다. 그리고 히터부(10)와 윈도우부(30)와 회전구속부(40)는 회전이 구속된 상태이다.In a state where the substrate 50 is supported by the substrate support 28, the substrate support 28 and the substrate 50 rotate together by the rotation of the rotary body 20. In addition, the heater 10, the window 30, and the rotation restraint 40 are in a restricted state.

윈도우부(30)의 측면걸림부(34)가 회전구속부(40)의 구속돌기(46)에 걸리므로 윈도우부(30)의 회전은 구속된다.Since the side catching part 34 of the window part 30 is caught by the restraining protrusion 46 of the rotation restraining part 40, the rotation of the window part 30 is constrained.

히터부(10)의 히터(14)에서 발생된 열에너지는 고정된 윈도우부(30)를 통해 회전되는 기판(50)으로 전달되므로, 윈도우부(30)의 평탄도와 투과율이 균일하지 못할 경우에도 기판(50)으로 전달되는 열에너지가 균일하게 되며, 이로 인하여 기판(50)의 에칭 균일도가 향상된다.Since the heat energy generated by the heater 14 of the heater unit 10 is transmitted to the substrate 50 which is rotated through the fixed window unit 30, even when the flatness and transmittance of the window unit 30 are not uniform, the substrate The thermal energy transferred to 50 becomes uniform, thereby improving the etching uniformity of the substrate 50.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따르면 윈도우부(30)의 평탄도 및 투과율이 균일하지 않아도 윈도우부(30)가 히터부(10)와 함께 회전이 구속되므로, 회전되는 기판(50)으로 전달되는 열에너지의 균일도를 향상시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, even though the flatness and transmittance of the window part 30 are not uniform, rotation of the window part 30 is constrained together with the heater part 10, so that the window part 30 is transferred to the rotated substrate 50. The uniformity of thermal energy can be improved.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.
Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. will be. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the claims below.

1: 기판처리장치 10: 히터부
12: 테이블부 14: 히터
16: 반사부 20: 회전몸체부
22: 베이스부 24: 테두리부재
26: 경계돌기 28: 기판지지부
30: 윈도우부 32: 윈도우몸체
34: 측면걸림부 40: 회전구속부
42: 회전구속몸체 43: 제1몸체
44: 내측홈부 45: 제2몸체
46: 구속돌기 50: 기판
60: 약액공급부1: substrate processing apparatus 10: heater unit
12: table portion 14: heater
16: Reflector 20: Rotating Body
22: base portion 24: frame member
26: boundary protrusion 28: substrate support
30: window part 32: window body
34: side locking part 40: rotation restraint part
42: rotating body 43: the first body
44: inner groove portion 45: second body
46: restraint protrusion 50: substrate
60: chemical supply unit

Claims (7)

기판을 가열하는 히터부;
상기 히터부를 감싸는 형상으로 설치되며, 상기 기판을 지지하는 기판지지부를 구비하는 회전몸체부;
상기 기판과 상기 히터부의 사이에 설치되는 윈도우부; 및
상기 히터부에 고정되며 상기 윈도우부의 회전을 구속하는 회전구속부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
A heater unit for heating the substrate;
A rotating body part installed to surround the heater part and having a substrate support part supporting the substrate;
A window part disposed between the substrate and the heater part; And
And a rotation constraining part fixed to the heater part to constrain the rotation of the window part.
제 1 항에 있어서, 상기 히터부는,
상기 기판의 일측에 위치하는 테이블부; 및
상기 테이블부에 구비되며, 상기 기판을 가열하는 히터;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
The method of claim 1, wherein the heater unit,
A table unit located on one side of the substrate; And
And a heater provided in the table, the heater heating the substrate.
제 2 항에 있어서, 상기 히터부는,
상기 테이블부에 구비되며, 상기 히터에서 발생되는 열을 상기 기판 측으로 반사하는 반사부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
The method of claim 2, wherein the heater unit,
And a reflecting unit provided in the table unit and reflecting heat generated from the heater to the substrate side.
제 1 항에 있어서, 상기 회전몸체부는,
상기 히터부의 측면과 하측을 감싸는 형상으로 설치되며, 회전 가능하게 설치되는 베이스부; 및
상기 베이스부의 상측에서 측방향으로 연장되며 상기 기판지지부가 착탈 가능하게 연결되는 테두리부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
The method of claim 1, wherein the rotating body portion,
A base part installed in a shape surrounding the side and the lower part of the heater part and rotatably installed; And
And an edge member extending in a lateral direction from the upper side of the base portion and detachably connected to the substrate support portion.
제 1 항에 있어서, 상기 윈도우부는,
상기 회전구속부의 상측에 안착되는 판 형상의 윈도우몸체; 및
상기 회전구속부의 구속돌기와 마주하는 상기 윈도우몸체의 측면이 절개되어 상기 구속돌기에 걸리는 측면걸림부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
The method of claim 1, wherein the window unit,
A plate-shaped window body seated on an upper side of the rotational restraint unit; And
And a side catching part of the side of the window body facing the restraint protrusion of the rotary constraining part to be caught and caught by the restraint protrusion.
제 5 항에 있어서, 상기 회전구속부는,
상기 윈도우몸체를 지지하며 상기 히터부에 고정되는 회전구속몸체;를 포함하며,
상기 구속돌기는 상기 회전구속몸체의 테두리를 따라 복수로 설치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
The method of claim 5, wherein the rotational restraint unit,
And a rotational restriction body supporting the window body and fixed to the heater unit.
The restraint projection is a substrate processing apparatus, characterized in that provided in plurality along the edge of the rotational binding body.
제 6 항에 있어서, 상기 회전구속몸체는,
상기 회전몸체부를 감싸는 형상으로 설치되는 내측홈부를 구비하는 제1몸체; 및
상기 제1몸체의 측방향으로 연장되어 상기 윈도우몸체와 상기 히터부의 사이에 위치하는 제2몸체;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 6, wherein the rotational binding body,
A first body having an inner groove part installed in a shape surrounding the rotating body part; And
And a second body extending in the lateral direction of the first body and positioned between the window body and the heater part.
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