KR20200006093A - Apparatus and Method for Handling Devices - Google Patents

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KR20200006093A
KR20200006093A KR1020197036250A KR20197036250A KR20200006093A KR 20200006093 A KR20200006093 A KR 20200006093A KR 1020197036250 A KR1020197036250 A KR 1020197036250A KR 20197036250 A KR20197036250 A KR 20197036250A KR 20200006093 A KR20200006093 A KR 20200006093A
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KR
South Korea
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carrier
major surface
path
outer edge
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Application number
KR1020197036250A
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Korean (ko)
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토드 벤슨 플레밍
영-선 박
형-상 로
문 환 설
에린 캐슬린 왓킨스
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코닝 인코포레이티드
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Publication date
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Abstract

기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법은 상기 기판과 캐리어 간 결합 인터페이스에 규정된 외부 경계의 프로파일에 기초하여 제1경로를 규정하는 단계, 상기 캐리어의 외부 에지의 프로파일에 기초하여 제2경로를 규정하는 단계, 상기 제1경로와 제2경로 간 측방향으로 위치된 상기 기판 상에 분리 경로를 위치시키는 단계, 및 상기 분리 경로를 따라 상기 기판을 분리하는 단계를 포함한다. 또한, 복수의 교차 분리 경로를 포함하는 분리 경로를 포함하는 기판 및 캐리어를 포함하는 장치가 제공된다.A method of processing an apparatus comprising a substrate and a carrier includes defining a first path based on a profile of an outer boundary defined at the bonding interface between the substrate and the carrier, and a second path based on the profile of the outer edge of the carrier. Defining a; positioning a separation path on the substrate located laterally between the first and second paths; and separating the substrate along the separation path. Also provided is an apparatus comprising a carrier and a substrate comprising a separation path comprising a plurality of crossover separation paths.

Description

장치를 처리하기 위한 장치 및 방법Apparatus and Method for Handling Devices

본 출원은 35 U.S.C.§119 하에 2017년 5월 11일 출원된 미국 가출원 제62/504,810호를 우선권 주장하고 있으며, 상기 특허 문헌의 내용은 참조를 위해 본 발명에 모두 포함된다. This application claims priority to US Provisional Application No. 62 / 504,810, filed May 11, 2017, under 35 U.S.C. §119, the contents of which are incorporated herein by reference in their entirety.

본 개시는 일반적으로 기판 및 캐리어를 처리하기 위한 방법 및 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판이 캐리어에 결합되는 동안 분리 경로를 따라 기판을 분리하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.FIELD The present disclosure relates generally to methods and apparatus for treating a substrate and a carrier, and more particularly, to a method and apparatus for separating a substrate along a separation path while the substrate is bonded to the carrier.

유리 시트는, 예를 들어 액정 디스플레이(LCD), 전기영동 디스플레이(EPD), 유기 발광 다이오드 디스플레이(OLED), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 터치 센서, 광전지 등과 같은 디스플레이 애플리케이션에 일반적으로 사용된다. 유리 시트는, 예를 들어 다양한 리본 형성 공정, 예컨대 슬롯 드로우, 플로트, 다운-드로우, 퓨전-다운 드로우, 롤링, 또는 업-드로우에 의해 제조될 수 있다. 유리 리본은 한정하진 않지만 모바일 장치, 웨어러블(예컨대, 시계), 텔레비전, 컴퓨터, 태블릿, 및 다른 디스플레이 모니터용 기판을 포함하는 원하는 디스플레이 애플리케이션으로 추가 처리에 적합한 얇고 유연한 유리 시트를 제공하도록 후속적으로 분리될 수 있다. 유연한 전자 장치 또는 다른 전자 장치들을 포함하는 기판의 제조에 있어서 얇고 유연한 유리 시트를 제공하고 처리하는 데 관심이 있다. 기판의 제조는 얇고 유연한 유리 시트의 이송 및 취급을 포함할 수 있다. 따라서, 기판을 포함하는 장치 및 기판을 처리하는 방법을 필요로 한다.Glass sheets are commonly used in display applications such as, for example, liquid crystal displays (LCDs), electrophoretic displays (EPDs), organic light emitting diode displays (OLEDs), plasma display panels (PDPs), touch sensors, photovoltaic cells, and the like. Glass sheets can be produced, for example, by various ribbon forming processes, such as slot draw, float, down-draw, fusion-down draw, rolling, or up-draw. The glass ribbon is not limited but subsequently separated to provide a thin, flexible glass sheet suitable for further processing into desired display applications, including substrates for mobile devices, wearables (eg, watches), televisions, computers, tablets, and other display monitors. Can be. There is an interest in providing and processing thin, flexible glass sheets in the manufacture of substrates comprising flexible electronics or other electronic devices. Fabrication of the substrate may include the transport and handling of thin, flexible glass sheets. Accordingly, there is a need for an apparatus comprising a substrate and a method of treating the substrate.

기판을 처리하는 동안 얇은 유연한 유리를 취급하는 하나의 방식에 있어서, 그러한 유연한 유리 시트는 캐리어에 결합된다. 일단 캐리어에 결합되면, 캐리어의 특성 및 크기는 제조시 유리 시트의 원하지 않는 구부러짐 없이 그리고 유리 시트의 손상을 초래하지 않으면서 그러한 결합된 구조를 취급 및 이송할 수 있게 한다. 예를 들어, 얇은 유연한 유리 시트는 비교적 단단한 캐리어에 결합될 수 있고, 이후 기능성 요소(예컨대, 컬러 필터, 터치 센서, 또는 박막 트랜지스터(TFT) 요소)는 디스플레이 애플리케이션을 위한 전자 장치의 제조에 채용될 수 있는 유리 기판을 생산하기 위해 얇고 유연한 유리 시트에 부착될 수 있다. 추가로, 유리 시트를 캐리어에 결합함으로써, 캐리어의 특성 및 크기는 기존의 생산 장비에 대한 상당한 변경없이 그 결합된 구조가 생산 장비에서 취급 및 이송될 수 있게 하여, 비용을 감소시키고 처리 기술의 효율을 증가시킨다.In one way of handling thin flexible glass while processing a substrate, such flexible glass sheet is bonded to a carrier. Once bonded to the carrier, the nature and size of the carrier makes it possible to handle and transport such bonded structure without unwanted bending of the glass sheet during manufacture and without causing damage to the glass sheet. For example, thin flexible glass sheets may be bonded to relatively rigid carriers, and then functional elements (eg, color filters, touch sensors, or thin film transistor (TFT) elements) may be employed in the manufacture of electronic devices for display applications. It can be attached to a thin, flexible glass sheet to produce a viable glass substrate. In addition, by bonding the glass sheet to the carrier, the nature and size of the carrier allows the combined structure to be handled and transported in the production equipment without significant changes to existing production equipment, thereby reducing costs and efficiency of processing technology. To increase.

예를 들어, 다양한 애플리케이션에 채용될 수 있는 미리 결정된 형상 및 크기를 갖는 중앙 부분을 제공하기 위해 기판의 중앙 부분으로부터 하나 이상의 주변 부분을 분리함으로써 기판의 크기를 정하는 것이 요망된다. 그 후, 일단 이송, 취급, 사이징(sizing), 및 다른 처리 단계가 완료되면, 기판이, 예를 들어 디스플레이 애플리케이션을 위한 전자 장치에 채용될 수 있도록 캐리어로부터 미리 결정된 크기 및 형상을 갖는 기판을 제거하는 것이 요망된다. 그러나, 기판의 섬세한 특성으로 인해, 불행하게도 기판을 캐리어에 결합할 때, 기판 및 캐리어의 처리 및 사이징 동안, 그리고 기판을 캐리어로부터 분리할 때 그 기판 및/또는 캐리어에 손상이 발생할 수 있다.For example, it is desirable to size a substrate by separating one or more peripheral portions from the central portion of the substrate to provide a central portion having a predetermined shape and size that can be employed in various applications. Then, once transfer, handling, sizing, and other processing steps are completed, the substrate with a predetermined size and shape is removed from the carrier so that the substrate can be employed, for example, in an electronic device for a display application. It is desired to do it. However, due to the delicate nature of the substrate, unfortunately damage may occur to the substrate and / or carrier when bonding the substrate to the carrier, during processing and sizing of the substrate and carrier, and when separating the substrate from the carrier.

트리밍(trimming)된 유연한 유리 시트를 캐리어에 결합시키기 전에 사이징하기 위해 그 유연한 유리 시트를 트리밍하는 현재의 기술은, 통상적으로 캐리어를 오염시킬 수 있는 유리 입자를 생성함으로써, 현재 또는 미래의 처리 절차를 위한 캐리어의 유용성을 감소시키거나 없앤다. 추가로, 트리밍된 유연한 유리 시트를 캐리어 기판에 결합시키기 전에 사이징하기 위해 그 유연한 유리 시트를 트리밍하는 것은 유연한 유리 시트의 제2주표면을 오염시키는 유리 입자를 생성할 수 있으며, 이는 다음과 같은 문제를 야기할 수 있다: 유연한 유리 시트와 캐리어 기판 간 결합의 강도를 감소시키고; 유연한 유리 시트 상에서 장치를 처리하는 동안 유연한 유리 시트/캐리어 인터페이스 내로 공정 액체의 유입을 위한 경로를 제공하고; 그리고/또 유리 입자가 유연한 유리 시트와 캐리어 간 결합 메커니즘을 제공할 때 캐리어로부터 유연한 유리 시트를 분리시키는 데, 이러한 결합 메커니즘은 분리 공정 동안 유연한 유리 시트 및/또는 캐리어에 손상을 초래할 수 있다. 더욱이, 유연한 유리 시트의 대응하는 외부 에지와 캐리어 간 미리 결정된 측면 거리를 제공하고자하는 요구가 있다. 그러나, 결합시키기 전에 사이징하기 위해 유연한 유리 시트를 트리밍하는 현재의 기술은 미리 결정된 측면 거리 및/또는 미리 결정된 측면 거리의 범위 내에서 측면 거리를 달성하기 위해 트리밍된 유연한 유리 시트를 캐리어에 정밀하게 위치시키고 결합하는 것을 복잡하게 한다.Current techniques for trimming a flexible glass sheet for sizing it prior to bonding the trimmed flexible glass sheet to a carrier typically produce current or future treatment procedures by creating glass particles that may contaminate the carrier. Reduce or eliminate the usefulness of the carrier. In addition, trimming the flexible glass sheet for sizing it before bonding the trimmed flexible glass sheet to the carrier substrate can produce glass particles that contaminate the second major surface of the flexible glass sheet, May cause: to reduce the strength of the bond between the flexible glass sheet and the carrier substrate; Provide a path for entry of process liquid into the flexible glass sheet / carrier interface during processing of the device on the flexible glass sheet; And / or separate the flexible glass sheet from the carrier when the glass particles provide a bonding mechanism between the flexible glass sheet and the carrier, which may cause damage to the flexible glass sheet and / or carrier during the separation process. Moreover, there is a desire to provide a predetermined side distance between the carrier and the corresponding outer edge of the flexible glass sheet. However, current techniques for trimming the flexible glass sheet for sizing prior to bonding have precisely positioned the trimmed flexible glass sheet to the carrier to achieve side distances within a range of predetermined side distances and / or predetermined side distances. And complicated to combine.

따라서, 캐리어와 기판을 손상시키지 않고 기판을 캐리어에 결합하고, 기판을 처리 및 사이징하고, 캐리어로부터 기판을 분리하기 위한 실질적인 해결책이 필요하다. 마찬가지로, 기판의 손상을 감소 및 제거하고 일관되고 반복 가능한 공정을 제공하는 기판의 중앙 부분로부터 기판의 주변 부분을 분리하기 위한 실질적인 해결책이 또한 요구된다. 따라서, 기판의 처리 및 사이징 동안 기판에 대한 손상을 감소 및 제거하고, 캐리어 및 기판을 손상시키지 않고 캐리어에 대한 기판의 결합 및 캐리어로부터 기판의 분리를 가능하게 하고, 다양한 의도된 애플리케이션을 위해 기판을 사이징하기 위한 일관되고 반복 가능한 공정을 제공하는 캐리어 및 기판을 처리하는 방법 뿐만 아니라 캐리어 및 기판의 특정 장치가 요구된다.Accordingly, there is a need for a practical solution for bonding a substrate to a carrier, processing and sizing the substrate, and separating the substrate from the carrier without damaging the carrier and the substrate. Similarly, there is also a need for a practical solution for separating peripheral portions of the substrate from the central portion of the substrate that reduces and eliminates damage to the substrate and provides a consistent and repeatable process. Thus, reducing and eliminating damage to the substrate during processing and sizing of the substrate, enabling bonding of the substrate to the carrier and detachment of the substrate from the carrier without damaging the carrier and the substrate, and providing the substrate for a variety of intended applications. What is needed is a particular apparatus for carriers and substrates, as well as methods for treating carriers and substrates that provide a consistent and repeatable process for sizing.

본 발명은 기판이 캐리어에 결합되는 동안 분리 경로를 따라 기판을 분리하기 위한 방법 및 장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a method and apparatus for separating a substrate along a separation path while the substrate is bonded to a carrier.

기판 및 캐리어를 포함하는 장치의 예시적인 실시예가 제시된다. 또한, 기판 및 캐리어를 처리하는 방법이 제공된다.An exemplary embodiment of an apparatus comprising a substrate and a carrier is presented. Also provided are methods of treating a substrate and a carrier.

본 개시에 걸쳐 기술하는 바와 같이, 기판은 단일의 유리 기판(예컨대, 단일의 유연한 유리 기판, 또는 단일의 강성 유리 기판), 단일의 유리-세라믹 기판, 단일의 세라믹 기판, 또는 단일의 실리콘 기판을 포함하는 광범위한 기판을 포함한다. 또한, 기판은 비-유리 기판, 예를 들어 폴리머, 예컨대 폴리카보네이트 또는 투명, 반투명 및 불투명 폴리머를 포함하는 다른 폴리머일 수 있다. 본원에 사용된 용어 "유리"는 유리 및 유리-세라믹을 포함하여 유리로 적어도 부분적으로 만들어진 임의의 재료를 포함하는 것을 의미한다. 실시예들에 있어서, 유리-세라믹은 약 30% 내지 약 90%의 결정도를 갖는다. 채용될 수 있는 유리 세라믹 시스템의 비-제한적인 예는 Li2O×Al2O3×nSiO2(즉, LAS 시스템), MgO×Al2O3×nSiO2(즉, MAS 시스템) 및 ZnO×Al2O3×nSiO2(즉, ZAS 시스템)를 포함한다. 일부의 실시예에 있어서, 기판은 재료의 단일의 블랭크 기판, 예를 들어 단일의 블랭크 유리 기판(예컨대, 다운-드로우 퓨전 공정 또는 다른 기술에 의해 생성된 유리 리본으로부터 분리된 깨끗한 표면을 포함하는 유리 시트), 단일의 블랭크 유리-세라믹 기판, 단일의 블랭크 실리콘 기판(예컨대, 단일의 블랭크 실리콘 웨이퍼)을 포함한다. 단일의 블랭크 유리 기판으로서 제공되는 경우, 그 단일의 블랭크 유리 기판은 투명, 반투명 또는 불투명일 수 있고, 선택적으로 단일의 블랭크 유리 기판의 제1주표면으로부터 제2주표면까지 단일의 블랭크 유리 기판의 전체 두께에 걸쳐 동일한 유리 조성을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 단일의 블랭크 유리 기판은 화학적으로 강화된 단일의 블랭크 유리 기판을 포함할 수 있다.As described throughout the present disclosure, a substrate may comprise a single glass substrate (eg, a single flexible glass substrate, or a single rigid glass substrate), a single glass-ceramic substrate, a single ceramic substrate, or a single silicon substrate. Including a wide range of substrates. The substrate can also be a non-glass substrate, for example a polymer such as polycarbonate or other polymers including transparent, translucent and opaque polymers. The term "glass" as used herein is meant to include any material made at least partially of glass, including glass and glass-ceramic. In embodiments, the glass-ceramic has a crystallinity of about 30% to about 90%. Non-limiting examples of glass ceramic systems that may be employed include Li 2 O × Al 2 O 3 × nSiO 2 (ie, LAS system), MgO × Al 2 O 3 × nSiO 2 (ie, MAS system) and ZnO × Al 2 O 3 xnSiO 2 (ie, ZAS system). In some embodiments, the substrate comprises a single blank substrate of material, such as a single blank glass substrate (eg, a clean surface separated from a glass ribbon produced by a down-draw fusion process or other technique). Sheet), a single blank glass-ceramic substrate, a single blank silicon substrate (eg, a single blank silicon wafer). When provided as a single blank glass substrate, the single blank glass substrate can be transparent, translucent, or opaque, and optionally from the first major surface to the second major surface of the single blank glass substrate, The same glass composition can be included over the entire thickness. In some embodiments, the single blank glass substrate may comprise a single blank glass substrate that is chemically strengthened.

본 개시의 임의의 단일의 기판은 선택적으로 광범위한 기능성을 포함할 수 있다. 예를 들어, 단일의 유리 기판은 기판이 광을 변경하거나 디스플레이 장치, 터치 센서 요소, 또는 다른 장치에 통합될 수 있게 하는 형태를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 단일의 유리 기판은 컬러 필터, 편광기, 박막 트랜지스터(TFT) 또는 다른 요소들을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 기판이 단일의 실리콘 기판으로서 제공되는 경우, 그 실리콘 기판은 실리콘 기판이 집적 회로, 광전지 장치, 또는 다른 전기 요소에 통합될 수 있게 하는 형태를 포함할 수 있다.Any single substrate of the present disclosure may optionally include a wide range of functionality. For example, a single glass substrate may include a form that allows the substrate to change light or be integrated into a display device, touch sensor element, or other device. In some embodiments, a single glass substrate can include a color filter, polarizer, thin film transistor (TFT) or other elements. In some embodiments, where the substrate is provided as a single silicon substrate, the silicon substrate may comprise a form that allows the silicon substrate to be integrated into an integrated circuit, photovoltaic device, or other electrical element.

일부의 실시예에 있어서, 기판은, 예를 들어 소정의 하나 이상의 단일의 기판을 포함하는 단일의 기판의 스택을 포함할 수 있다. 단일의 기판의 스택은 서로에 대해 결합되는 인접한 단일의 기판의 주표면과 마주 보면서 서로에 대해 스택된 둘 이상의 단일의 기판에 의해 구성될 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 단일의 기판의 스택은 단일의 유리 기판의 스택을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1의 단일의 유리 기판은 컬러 필터를 포함할 수 있고, 제2의 단일의 유리 기판은 하나 이상의 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2의 단일의 유리 기판은 디스플레이 애플리케이션을 위한 디스플레이 패널로서 형성될 수 있는 단일의 기판의 스택으로서 함께 결합될 수 있다. 따라서, 본 개시의 기판들은 소정의 하나 이상의 단일의 기판 또는 단일의 기판의 스택을 포함할 수 있다.In some embodiments, the substrate may comprise a stack of single substrates, including, for example, any one or more single substrates. A stack of single substrates may be constituted by two or more single substrates stacked on each other while facing the major surface of adjacent single substrates joined to each other. In some embodiments, the stack of single substrates may comprise a stack of single glass substrates. For example, the first single glass substrate may comprise a color filter and the second single glass substrate may comprise one or more thin film transistors. The first and second single glass substrates may be joined together as a stack of single substrates that may be formed as display panels for display applications. Thus, substrates of the present disclosure may include any one or more single substrates or stacks of single substrates.

본 개시의 일부 예시의 실시예는 임의의 실시예들이 단독으로 또는 서로 조합되어 사용될 수 있다는 이해와 함께 이하 기술된다.Some exemplary embodiments of the present disclosure are described below with the understanding that any embodiments can be used alone or in combination with each other.

실시예 1. 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법이 개시된다. 상기 기판은 제1주표면 및 제2주표면을 포함하며, 상기 기판의 두께는 상기 기판의 제1주표면과 상기 기판의 제2주표면 간 규정된다. 상기 캐리어는 제1주표면 및 제2주표면을 포함하며, 상기 캐리어의 두께는 상기 캐리어의 제1주표면과 상기 캐리어의 제2주표면 간 규정된다. 상기 기판의 두께는 상기 캐리어의 두께보다 작고, 상기 기판의 제2주표면의 제1부분은 상기 캐리어의 제1주표면에 결합되고, 상기 기판의 제2주표면의 제1부분의 외부 경계는 상기 기판의 제2주표면과 상기 캐리어의 제1주표면 간 결합 인터페이스에 규정되고, 상기 기판의 제2주표면의 제2부분은 상기 외부 경계로부터 상기 캐리어의 외부 에지를 지나 상기 기판의 제2주표면의 제1부분으로부터 멀리 확장된다. 상기 방법은 상기 외부 경계의 프로파일에 기초하여 제1경로를 규정하는 단계, 상기 캐리어의 외부 에지의 프로파일에 기초하여 제2경로를 규정하는 단계, 상기 제1경로와 제2경로 간 측방향으로 위치된 상기 기판 상에 분리 경로를 위치시키는 단계, 및 상기 분리 경로를 따라 상기 기판을 분리하는 단계를 포함한다.Example 1. A method of processing an apparatus comprising a substrate and a carrier is disclosed. The substrate includes a first major surface and a second major surface, the thickness of the substrate being defined between the first major surface of the substrate and the second major surface of the substrate. The carrier includes a first major surface and a second major surface, the thickness of the carrier being defined between the first major surface of the carrier and the second major surface of the carrier. The thickness of the substrate is less than the thickness of the carrier, the first portion of the second major surface of the substrate is coupled to the first major surface of the carrier, and the outer boundary of the first portion of the second major surface of the substrate is A second interface of the second major surface of the substrate and the first major surface of the carrier, the second portion of the second major surface of the substrate passing from the outer boundary past the outer edge of the carrier It extends away from the first portion of the major surface. The method includes defining a first path based on the profile of the outer boundary, defining a second path based on the profile of the outer edge of the carrier, located laterally between the first path and the second path. Positioning a separation path on the substrate, and separating the substrate along the separation path.

실시예 2. 실시예 1의 방법에 있어서, 상기 기판의 두께는 약 50 micron 내지 약 300 micron이다.Example 2 The method of example 1, wherein the substrate has a thickness of about 50 microns to about 300 microns.

실시예 3. 실시예 1 또는 2의 방법에 있어서, 상기 기판의 재료는 유리, 유리-세라믹, 세라믹, 및 실리콘을 포함하는 그룹으로부터 선택된다.Example 3 The method of example 1 or 2, wherein the material of the substrate is selected from the group comprising glass, glass-ceramic, ceramic, and silicon.

실시예 4. 실시예 1 내지 3 중 어느 한 실시예의 방법에 있어서, 상기 분리 단계는 기판의 제1주표면 상에 결함을 생성하는 단계를 포함한다.Example 4 The method of any one of embodiments 1-3, wherein the separating comprises creating a defect on the first major surface of the substrate.

실시예 5. 실시예 4의 방법에 있어서, 상기 결함은 분리 경로를 따라 확장되는 스코어 라인을 포함한다.Example 5 The method of example 4, wherein the defect comprises a score line extending along the separation path.

실시예 6. 실시예 4 또는 5의 방법에 있어서, 상기 기판의 제1주표면부터 상기 기판의 제2주표면까지의 분리 경로를 따라 확장되는 전신 크랙(full-body crack)을 생성하기 위해, 상기 기판의 제2주표면의 제1부분이 상기 캐리어의 제1주표면에 결합되는 동안, 상기 결함을 확대하는 단계를 포함한다.Example 6 The method of embodiment 4 or 5, wherein a full-body crack is created that extends along a separation path from the first major surface of the substrate to the second major surface of the substrate, Enlarging the defect while the first portion of the second major surface of the substrate is coupled to the first major surface of the carrier.

실시예 7. 상기 결함을 확대하는 단계는 상기 기판의 제2주표면의 제1부분이 상기 캐리어의 제1주표면에 결합되는 동안 상기 기판의 주변 부분에 힘을 인가하는 단계를 포함한다.Embodiment 7 The step of enlarging the defect includes applying a force to a peripheral portion of the substrate while the first portion of the second major surface of the substrate is coupled to the first major surface of the carrier.

실시예 8. 실시예 1 내지 7 중 어느 한 실시예의 방법에 있어서, 상기 캐리어의 외부 에지는 상기 캐리어의 제1주표면 및 상기 캐리어의 제2주표면과 교차하는 에지 표면을 포함하고, 상기 캐리어의 에지 표면과 제1주표면의 교차점은 외부 경계와 공통 경계 축을 따라 확장된다.Embodiment 8 The method of any of embodiments 1-7, wherein the outer edge of the carrier comprises an edge surface that intersects the first major surface of the carrier and the second major surface of the carrier, and wherein the carrier The intersection of the edge surface and the first major surface of s extends along the outer boundary and common boundary axis.

실시예 9. 실시예 8의 방법에 있어서, 상기 캐리어의 에지 표면은 볼록한 프로파일을 포함한다.Example 9 The method of example 8, wherein the edge surface of the carrier comprises a convex profile.

실시예 10. 실시예 1 내지 9 중 어느 한 실시예의 방법에 있어서, 제1경로를 규정하는 단계는 외부 경계의 제1의 복수의 포인트를 식별하는 단계를 포함한다.Embodiment 10 The method of any one of embodiments 1 to 9, wherein defining the first path includes identifying a first plurality of points of an outer boundary.

실시예 11. 실시예 10의 방법에 있어서, 제1라인을 상기 제1의 복수의 포인트에 맞추고, 이후 상기 제1경로를 상기 제1라인으로 규정하는 단계를 포함한다.Embodiment 11 The method of Embodiment 10, comprising fitting a first line to the first plurality of points, and then defining the first path as the first line.

실시예 12. 실시예 1 내지 11 중 어느 한 실시예의 방법에 있어서, 제2경로를 규정하는 단계는 캐리어의 외부 에지의 제2의 복수의 포인트를 식별하는 단계를 포함한다. Embodiment 12 The method of any one of embodiments 1 to 11, wherein defining the second path includes identifying a second plurality of points of the outer edge of the carrier.

실시예 13. 실시예 12의 방법에 있어서, 제2라인을 상기 제2의 복수의 포인트에 맞추고, 이후 상기 제2경로를 상기 제2라인으로 규정하는 단계를 더 포함한다.Embodiment 13 The method of embodiment 12, further comprising: fitting a second line to the second plurality of points, and then defining the second path as the second line.

실시예 14. 실시예 1 내지 13 중 어느 한 실시예의 방법에 있어서, 분리 경로는 선형이다.Example 14 The method of any of embodiments 1-13, wherein the separation path is linear.

실시예 15. 실시예 14의 방법에 있어서, 제1경로 및 제2경로의 적어도 하나는 비-선형이다.Example 15 The method of example 14, wherein at least one of the first path and the second path is non-linear.

실시예 16. 실시예 15의 방법에 있어서, 제1경로는 비-선형이고 제2경로는 비-선형이다.Example 16 The method of example 15, wherein the first path is non-linear and the second path is non-linear.

실시예 17. 실시예 1 내지 16 중 어느 한 실시예의 방법에 있어서, 분리 단계는 상기 캐리어의 외부 에지로부터 멀어지는 방향의 외부 경계로부터의 제1거리와 상기 캐리어의 외부 에지로 향하는 방향의 외부 경계로부터의 제2거리 간 측방향으로 규정된 새로운 외부 에지를 기판에 제공한다.Embodiment 17 The method of any of embodiments 1-16, wherein the separating step is from a first distance from an outer boundary in a direction away from the outer edge of the carrier and from an outer boundary in a direction towards the outer edge of the carrier. The substrate is provided with a new outer edge defined laterally between the second distances of.

실시예 18. 실시예 17의 방법에 있어서, 제1거리는 약 0 micron 내지 약 50 micron이다.Example 18 The method of example 17, wherein the first distance is from about 0 microns to about 50 microns.

실시예 19. 실시예 17 또는 실시예 18의 방법에 있어서, 제2거리는 약 0 micron 내지 약 150 micron이다.Example 19 The method of embodiment 17 or 18, wherein the second distance is from about 0 micron to about 150 micron.

실시예 20. 장치는 제1주표면 및 제2주표면을 포함하는 기판과 제1주표면 및 제2주표면을 포함하는 캐리어를 포함한다. 상기 기판의 두께는 상기 기판의 제1주표면과 상기 기판의 제2주표면 간 규정되고, 상기 캐리어의 두께는 상기 캐리어의 제1주표면과 상기 캐리어의 제2주표면 간 규정되며, 상기 기판의 두께는 상기 캐리어의 두께보다 작다. 상기 기판의 제2주표면은 상기 캐리어의 제1주표면에 결합되고, 상기 기판의 외부 에지는 상기 캐리어의 외부 에지를 측방향으로 둘러싼다. 상기 기판은 상기 기판의 중앙 부분을 측방향으로 둘러싸는 연속 경계를 포함하는 분리 경로를 포함한다. 상기 캐리어의 외부 에지는 분리 경로의 연속 경계를 측방향으로 둘러싸고, 상기 분리 경로는 제1분리 경로, 제2분리 경로, 및 제3분리 경로를 포함하는 복수의 교차 분리 경로를 포함한다. 상기 제1분리 경로는 상기 제2분리 경로와 교차하고, 상기 제3분리 경로는 상기 제1분리 경로 및 제2분리 경로와 교차한다. 상기 기판의 제1주변 부분은 상기 기판의 외부 에지와 상기 제1분리 경로 간 규정되고, 상기 기판의 제2주변 부분은 상기 기판의 외부 에지와 상기 제2분리 경로 간 규정되고, 상기 기판의 모서리 부분은 상기 제3분리 경로, 상기 기판의 제1주변 부분, 및 상기 기판의 제2주변 부분 간 규정된다.Example 20 An apparatus comprises a substrate comprising a first major surface and a second major surface and a carrier comprising the first major surface and the second major surface. The thickness of the substrate is defined between the first major surface of the substrate and the second major surface of the substrate, and the thickness of the carrier is defined between the first major surface of the carrier and the second major surface of the carrier and the substrate The thickness of is smaller than the thickness of the carrier. The second major surface of the substrate is coupled to the first major surface of the carrier, the outer edge of the substrate enclosing the outer edge of the carrier laterally. The substrate includes a separation path that includes a continuous boundary that laterally surrounds a central portion of the substrate. The outer edge of the carrier laterally surrounds a continuous boundary of the separation path, the separation path including a plurality of cross separation paths including a first separation path, a second separation path, and a third separation path. The first separation path intersects the second separation path, and the third separation path intersects the first separation path and the second separation path. A first peripheral portion of the substrate is defined between an outer edge of the substrate and the first separation path, and a second peripheral portion of the substrate is defined between an outer edge of the substrate and the second separation path and an edge of the substrate A portion is defined between the third separation path, the first peripheral portion of the substrate, and the second peripheral portion of the substrate.

실시예 21. 실시예 20의 장치에 있어서, 상기 기판의 두께는 약 50 micron 내지 약 300 micron이다.Example 21 The apparatus of example 20, wherein the substrate has a thickness of about 50 microns to about 300 microns.

실시예 22. 실시예 20 또는 실시예 21의 장치에 있어서, 상기 기판의 재료는 유리, 유리-세라믹, 세라믹, 및 실리콘을 포함하는 그룹으로부터 선택된다.Example 22 The apparatus of example 20 or example 21, wherein the material of the substrate is selected from the group comprising glass, glass-ceramic, ceramic, and silicon.

실시예 23. 실시예 20 내지 22 중 어느 한 실시예의 장치를 처리하는 방법은 복수의 교차 분리 경로의 각 경로를 기판 상에 위치시키는 단계 및 각 경로를 따라 기판을 분리하는 단계를 포함한다.Embodiment 23 The method of processing the device of any one of embodiments 20 to 22, comprises placing each path of the plurality of cross separation paths on the substrate and separating the substrate along each path.

실시예 24. 실시예 23의 방법에 있어서, 분리 단계는 기판의 제2주표면이 캐리어의 제1주표면에 결합되는 동안 수행된다.Embodiment 24 The method of embodiment 23, wherein the separating step is performed while the second major surface of the substrate is bonded to the first major surface of the carrier.

실시예 25. 실시예 23 또는 실시예 24의 방법에 있어서, 복수의 교차 분리 경로의 각 경로는 상기 복수의 교차 분리 경로의 다른 경로와 독립적으로 기판 상에 위치된다.Embodiment 25 The method of embodiment 23 or embodiment 24, wherein each path of the plurality of cross separation paths is located on a substrate independently of other paths of the plurality of cross separation paths.

실시예 26. 실시예 23 내지 25 중 어느 한 실시예의 방법에 있어서, 분리 단계는 제1분리 경로를 따라 기판의 중앙 부분으로부터 기판의 제1주변 부분을 분리하고, 제2분리 경로를 따라 기판의 중앙 부분으로부터 기판의 제2주변 부분을 분리하며, 이후 제3분리 경로를 따라 기판의 중앙 부분으로부터 기판의 모서리 부분을 분리하는 단계를 포함한다.Embodiment 26 The method of any one of embodiments 23-25, wherein the separating step separates the first peripheral portion of the substrate from the central portion of the substrate along the first separation path and removes the first peripheral portion of the substrate along the second separation path. Separating the second peripheral portion of the substrate from the central portion, and then separating the edge portion of the substrate from the central portion of the substrate along the third separation path.

실시예 27. 실시예 23 내지 26 중 어느 한 실시예의 방법에 있어서, 기판의 제2주표면의 제1부분은 캐리어의 제1주표면에 결합되고, 상기 기판의 제2주표면의 제1부분의 외부 경계는 상기 기판의 제2주표면과 상기 캐리어의 제1주표면 간 결합 인터페이스에 규정되고, 상기 기판의 제2주표면의 제2부분은 상기 외부 경계로부터 상기 캐리어의 외부 에지를 지나 상기 기판의 제2주표면의 제1부분으로 멀리 확장된다. 상기 분리 단계는 상기 중앙 부분을 측방향으로 둘러싸고 상기 캐리어의 외부 에지로부터 멀어지는 방향의 외부 경계로부터의 제1거리와 상기 캐리어의 외부 에지로 향하는 방향의 외부 경계로부터의 제2거리 간 측방향으로 규정된 새로운 외부 에지를 기판에 제공한다.Embodiment 27 The method of any of embodiments 23-26, wherein the first portion of the second major surface of the substrate is coupled to the first major surface of the carrier and the first portion of the second major surface of the substrate An outer boundary of the substrate is defined at a mating interface between the second major surface of the substrate and the first major surface of the carrier, the second portion of the second major surface of the substrate passing from the outer boundary past the outer edge of the carrier; Extends far into the first portion of the second major surface of the substrate. The separating step is defined laterally between the first distance from the outer boundary in a direction surrounding the central portion and away from the outer edge of the carrier and the second distance from the outer boundary in the direction toward the outer edge of the carrier. The new outer edge to the substrate.

실시예 28. 실시예 27의 방법에 있어서, 제1거리는 약 0 micron 내지 약 50 micron이다.Example 28 The method of example 27, wherein the first distance is from about 0 micron to about 50 micron.

실시예 29. 실시예 27 또는 실시예 28의 방법에 있어서, 제2거리는 약 0 micron 내지 약 150 micron이다.Example 29 The method of embodiment 27 or 28, wherein the second distance is from about 0 micron to about 150 micron.

본 발명에 의하면, 기판이 캐리어에 결합되는 동안 분리 경로를 따라 기판을 분리하기 위한 방법 및 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, a method and apparatus for separating a substrate along a separation path while the substrate is bonded to a carrier can be provided.

본 개시의 실시예들의 상기 및 다른 형태 및 장점들은 수반되는 도면을 참조하여 다음의 상세한 설명을 읽을 때 더 잘 이해된다:
도 1은 본 개시의 실시예들에 따른 기판 및 캐리어를 포함하는 예시 장치의 평면도를 나타내고;
도 2는 본 개시의 실시예들에 따른 도 1의 라인 2-2에 걸친 예시 장치의 부분 단면도를 나타내고;
도 3은 본 개시의 실시예들에 따른 도 2의 라인 3-3에 걸친 예시 장치의 부분 단면도의 상면도를 나타내고;
도 4는 본 개시의 실시예들에 따른 도 2의 예시 장치의 부분 단면도의 예시 실시예를 나타내고;
도 5는 본 개시의 실시예들에 따른 분리 경로를 따라 기판을 분리한 후의 도 1의 예시 장치의 평면도를 나타내며;
도 6은 본 개시의 실시예들에 따른 분리 경로를 따라 기판을 분리한 후의 도 5의 라인 6-6에 걸친 예시 장치의 부분 단면도를 나타낸다.
The above and other forms and advantages of embodiments of the present disclosure are better understood upon reading the following detailed description with reference to the accompanying drawings:
1 shows a top view of an example device including a substrate and a carrier in accordance with embodiments of the present disclosure;
FIG. 2 shows a partial cross-sectional view of the example device over line 2-2 of FIG. 1 in accordance with embodiments of the present disclosure; FIG.
3 shows a top view of a partial cross-sectional view of the exemplary device over line 3-3 of FIG. 2 in accordance with embodiments of the present disclosure;
4 illustrates an example embodiment of a partial cross-sectional view of the example device of FIG. 2 in accordance with embodiments of the present disclosure;
5 shows a top view of the example device of FIG. 1 after separating a substrate along a separation path in accordance with embodiments of the present disclosure;
FIG. 6 illustrates a partial cross-sectional view of the exemplary device over lines 6-6 of FIG. 5 after separating the substrate along a separation path in accordance with embodiments of the present disclosure.

이하, 예시의 실시예들이 도시된 수반의 도면들을 참조하여 실시예들이 더 완전하게 설명될 것이다. 가능할 때마다, 도면 전체에 걸쳐 동일하거나 유사한 부분을 지칭하기 위해 동일한 참조 번호가 사용된다. 그러나, 청구범위는 다양한 실시예들의 많은 상이한 형태를 포함할 수 있으며, 본원에 기재된 실시예들로 제한되는 것으로 해석되어서는 안된다.The embodiments will now be described more fully with reference to the accompanying drawings, in which exemplary embodiments are shown. Wherever possible, the same reference numerals are used to refer to the same or similar parts throughout the drawings. However, the claims may include many different forms of various embodiments and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

상기 간략하게 나타낸 바와 같이, 다양한 실시예들에서, 기판을 처리하기 위한 방법 및 장치가 제공된다. 처리 동안 기판의 취급 및 이송을 가능하게 하기 위해, 기판은 캐리어에 결합될 수 있다. 기판과 관련하여, 캐리어의 특성 및 크기는 기판을 손상시키고 그리고/또 기판에 장착될 수 있는 구성 요소를 손상시킬 수 있는 기판을 크게 구부리지 않고 처리하는 동안 상기 결합된 기판이 취급 및 이송되게 할 수 있다. 달리 언급되지 않는 한, 본 개시의 임의의 실시예들의 기판은 단일 기판 또는 둘 이상의 단일 기판의 스택을 포함할 수 있다. 그러한 단일 기판은, 다른 두께가 일부의 실시예에서 제공될 수 있을 지라도, 약 50 마이크로미터(microns, ㎛) 내지 약 300 micron의 두께를 가질 수 있다.As briefly described above, in various embodiments, a method and apparatus for processing a substrate are provided. The substrate can be coupled to a carrier to enable handling and transfer of the substrate during processing. With respect to the substrate, the nature and size of the carrier may allow the bonded substrate to be handled and transported during processing without significantly bending the substrate, which may damage the substrate and / or damage components that may be mounted to the substrate. have. Unless stated otherwise, the substrates of any embodiments of the present disclosure may include a single substrate or a stack of two or more single substrates. Such a single substrate may have a thickness of about 50 microns (μm) to about 300 microns, although other thicknesses may be provided in some embodiments.

일부의 실시예에 있어서, 단일의 유연한 유리 기판 또는 단일의 유연한 유리 기판의 스택은 결합제, 예를 들어 폴리머 결합제, 실리콘 결합제, 하나 이상의 인접한 표면들(예컨대, 거친 인접한 표면들) 간 자연적으로 생성된 힘, 또는 다른 결합제를 사용하여 캐리어에 제거 가능하게 결합될 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 기판은 결합제 없이 캐리어에 결합될 수 있고, 기판과 캐리어 간 직접적인 접촉에 기초한 결합력은 캐리어를 기판에 결합시킬 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 기판은 기판의 처리 동안 조건을 견딜 수 있는 유리, 수지 또는 다른 재료(예컨대, 섬유 시트의 저압 라미네이트 또는 고압 라미네이트, 또는 폴리카보네이트)로 제조된 캐리어에 결합될 수 있다. 따라서, 캐리어는 캐리어에 제거 가능하게 결합된 기판의 두께와 결합(또는 이와 함께 작용)할 수 있는 추가적인 두께를 캐리어에 제공함으로써 원하는 레벨의 강성을 도입할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 캐리어는 캐리어에 결합된 단일 기판의 두께보다 큰 두께를 갖는 플레이트(예컨대, 강성 플레이트)를 포함할 수 있다. 또한, 일부의 실시예에 있어서, 캐리어는, 상기 캐리어 및 이 캐리어에 결합된 기판의 전체 두께가 캐리어 및 이 캐리어에 결합된 기판의 전체 두께 범위 내의 두께를 갖는 비교적 두꺼운 유리 기판을 처리하도록 구성된 처리 기계 및 장비와 함께 채용될 수 있는 범위 내에 있을 수 있는 두께를 포함하도록 선택될 수 있다.In some embodiments, a single flexible glass substrate or stack of single flexible glass substrates is formed naturally between a binder, eg, a polymeric binder, a silicone binder, one or more adjacent surfaces (eg, rough adjacent surfaces). Force, or other binder, can be removably coupled to the carrier. In some embodiments, the substrate can be bonded to the carrier without a binder, and the bonding force based on direct contact between the substrate and the carrier can couple the carrier to the substrate. In some embodiments, the substrate can be bonded to a carrier made of glass, resin, or other material (eg, low pressure laminate or high pressure laminate of a fiber sheet, or polycarbonate) that can withstand conditions during processing of the substrate. Thus, the carrier can introduce a desired level of rigidity by providing the carrier with an additional thickness that can engage (or work with) the thickness of the substrate that is removably bonded to the carrier. In some embodiments, the carrier may comprise a plate (eg, rigid plate) having a thickness greater than the thickness of a single substrate bonded to the carrier. Further, in some embodiments, the carrier is a treatment configured to treat a relatively thick glass substrate having a thickness within the overall thickness range of the carrier and the substrate bonded to the carrier, within the full thickness range of the carrier and the substrate bonded to the carrier. It may be selected to include a thickness that may be within a range that may be employed with the machine and equipment.

기판을 캐리어에 결합한 후, 기판을 손상시키지 않고 기판으로부터 캐리어를 후속적으로 제거하는 것이 바람직할 수 있다. 예를 들어, 기판을 처리하기 전에(예컨대, 하나 이상의 기능성 구성 요소를 부가함으로써), 캐리어로부터 기판을 제거하는 것이 바람직할 수 있다. 대안으로, 일부의 실시예에 있어서, 기판이 하나 이상의 기능적 요소들을 갖는 단일의 기판으로 처리된 후 및 단일의 기판의 스택으로서 기판을 생성하기 전에 캐리어로부터 단일의 기판을 제거하고자 하는 요구가 있을 수 있다. 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 단일의 기판의 스택을 포함하는 기판으로부터 캐리어를 제거하고자 할 수 있다.After bonding the substrate to the carrier, it may be desirable to subsequently remove the carrier from the substrate without damaging the substrate. For example, it may be desirable to remove the substrate from the carrier prior to processing the substrate (eg, by adding one or more functional components). Alternatively, in some embodiments, there may be a need to remove a single substrate from a carrier after the substrate has been treated with a single substrate having one or more functional elements and before creating the substrate as a stack of single substrates. have. In addition, in some embodiments, it may be desired to remove a carrier from a substrate comprising a stack of single substrates.

본 개시는 장치를 처리하기 위한 장치 및 방법을 제공한다. 예를 들어, 도 1은 기판(110) 및 캐리어(120)를 포함하는 예시 장치(100)의 예시 형태를 나타낸다. 명확성을 위해, 도 1의 평면도에서 캐리어(120)가 기판(110) 아래에 위치되기 때문에, 도 1에서 캐리어(120)의 형태가 점선으로 도시되어 있다. 일부의 실시예에 있어서, 기판(110)의 재료는 유리, 유리-세라믹, 세라믹, 및 실리콘을 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있고, 캐리어(120)의 재료는 폴리우레탄, 유리, 유리-세라믹, 세라믹, 실리콘, 플라스틱, 및 금속을 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 기판(110) 및/또는 캐리어(120)는 광을 투과하거나 투과하지 않을 수 있고, 따라서 적어도 부분적으로 또는 전체적으로 투명, 반투명 또는 불투명할 수 있다. 추가로, 도 2에 나타낸 바와 같이. 도 1의 라인 2-2에 따른 장치(100)의 부분 단면도를 나타내며, 일부의 실시예에서, 기판(110)은 제1주표면(111) 및 제2주표면(112)을 포함할 수 있고, 캐리어(120)는 제1주표면(121) 및 제2주표면(122)을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 제1주표면(111)과 제2주표면(112) 간 규정된 기판(110)의 두께 "t1"은 약 50 micron 내지 약 300 micron일 수 있다. 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 그러한 두께 "t1"은 제1주표면(121)과 제2주표면(122) 간 규정된 캐리어(120)의 두께 "t2"보다 작을 수 있다.The present disclosure provides an apparatus and method for processing an apparatus. For example, FIG. 1 shows an exemplary form of an example device 100 that includes a substrate 110 and a carrier 120. For clarity, the shape of the carrier 120 is shown in dashed lines in FIG. 1 because the carrier 120 is located below the substrate 110 in the top view of FIG. 1. In some embodiments, the material of substrate 110 may be selected from the group comprising glass, glass-ceramic, ceramic, and silicon, and the material of carrier 120 may be polyurethane, glass, glass-ceramic, It may be selected from the group comprising ceramics, silicon, plastics, and metals. In some embodiments, substrate 110 and / or carrier 120 may or may not transmit light, and thus may be transparent, translucent, or opaque at least partially or entirely. In addition, as shown in FIG. 2. A partial cross-sectional view of device 100 along line 2-2 of FIG. 1 is shown, and in some embodiments, substrate 110 can include a first major surface 111 and a second major surface 112 and The carrier 120 may include a first major surface 121 and a second major surface 122. In some embodiments, the thickness “t1” of the substrate 110 defined between the first major surface 111 and the second major surface 112 may be between about 50 microns and about 300 microns. In addition, in some embodiments, such thickness “t1” may be less than the thickness “t2” of the carrier 120 defined between the first major surface 121 and the second major surface 122.

일부의 실시예에 있어서, 기판(110)의 제2주표면(112)은 캐리어(120)의 제1주표면(121)에 결합될 수 있다. 일부의 실시예에서, 기판(110)의 제2주표면(112)과 캐리어(120)의 제1주표면(121) 간 결합은 일시적인 것으로 간주될 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 일단 결합되면, 기판(110)을 캐리어(120)로부터 분리한 다음, 예를 들어 하나 이상의 디스플레이 애플리케이션에 그 기판(110)을 채용하기 위해, 제1주표면(121)으로부터 제2주표면(112)을 분리하려는(예컨대, 장치(100)를 처리한 후 나중에) 의도가 있을 수 있다.In some embodiments, the second major surface 112 of the substrate 110 may be coupled to the first major surface 121 of the carrier 120. In some embodiments, the coupling between the second major surface 112 of the substrate 110 and the first major surface 121 of the carrier 120 may be considered temporary. For example, in some embodiments, once joined, the first note may be detached from the carrier 120 and then, for example, to employ the substrate 110 in one or more display applications. Intention may be intended to separate the second major surface 112 from the surface 121 (eg, after processing the apparatus 100).

일부의 실시예에 있어서, 상기 제2주표면(112)은 상기 제1주표면(121)과 직접적으로 접촉할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 제주표면(112)과 제1주표면(121) 간 적어도 직접적인 접촉에 기초하여, 상기 제2주표면(112)은 상기 제1주표면(121)에 직접적으로 결합될 수 있다. 대안으로 또는 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 장치(100)는 상기 제2주표면(112)을 제1주표면(121)에 결합시키기 위해 상기 제2주표면(112)과 제1주표면(121) 간 위치된 접착제(나타내지 않음)를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)의 제2주표면(112)은 기판(110)을 캐리어(120)에 부착시키기 위해 라미네이션(lamination), 프레싱( pressing), 가열, 또는 다른 결합 방법들에 의해 캐리어(120)의 제1주표면(121)에 결합될 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)의 제2주표면(112)의 제1부분(201)은 상기 캐리어(120)의 제1주표면(121)에 결합될 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)과 캐리어(120) 간 결합은 일시적인 것으로 간주되지 않을 수 있고, 이에 의해 일단 크기가 조정된 기판(110)과 캐리어(120)는 최종 제품(예컨대, 건축 패널 또는 백스플래시(backsplash))으로서 채용된다.In some embodiments, the second major surface 112 may be in direct contact with the first major surface 121. In some embodiments, based on at least direct contact between the Jeju surface 112 and the first major surface 121, the second major surface 112 is directly coupled to the first major surface 121. Can be. Alternatively or in addition, in some embodiments, the device 100 is adapted to couple the second major surface 112 to the first major surface 121 and the first major surface 112. Adhesive (not shown) located between surfaces 121. In some embodiments, the second major surface 112 of the substrate 110 is a lamination, pressing, heating, or other bonding method for attaching the substrate 110 to the carrier 120. Can be coupled to the first major surface 121 of the carrier 120. For example, in some embodiments, the first portion 201 of the second major surface 112 of the substrate 110 may be coupled to the first major surface 121 of the carrier 120. . In some embodiments, the coupling between the substrate 110 and the carrier 120 may not be considered temporary, whereby once sized the substrate 110 and the carrier 120 are finished products (eg, It is employed as a building panel or as a backsplash.

일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)의 제2주표면(112)의 제1부분(201)의 외부 경계(150)는 상기 기판(110)의 제2주표면(112)과 캐리어(120)의 제1주표면(121) 간 결합 인터페이스에 규정될 수 있다. 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)의 제2주표면(112)의 제2부분(202)은 외부 경계(150)로부터 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)를 지나 제2주표면(112)의 제1부분(201)으로부터 멀리 확장될 수 있다. 따라서, 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)은 캐리어(120)에 비해 대형화될 수 있고, 결합된 부분(예컨대, 제1부분(201))에 대해 캔틸레버(cantilever)된 캔틸레버 부분(예컨대, 제2부분(202))을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 캐리어(120)에 비해 대형화된 기판(110)은 결합 단계 동안 캐리어(120)에 대한 기판(110)의 정확한 정렬이 요망되지 않을 수 있기 때문에 결합 단계를 단순화할 수 있다. 오히려, 아래에서 더 상세히 논의되는 바와 같이, 기판(110)이 캐리어(120)에 결합된 후 기판(110)의 주변 부분의 후속 분리에 의해 기판(110)의 미리 결정된 치수가 제공될 수 있다.In some embodiments, the outer boundary 150 of the first portion 201 of the second major surface 112 of the substrate 110 may include a second major surface 112 of the substrate 110 and a carrier ( The coupling interface between the first major surface 121 of 120 may be defined. In addition, in some embodiments, the second portion 202 of the second major surface 112 of the substrate 110 passes from the outer boundary 150 beyond the outer edge 125 of the carrier 120. It may extend away from the first portion 201 of the second major surface 112. Thus, in some embodiments, the substrate 110 may be larger in size than the carrier 120, and cantilevered portions (eg, cantilevered) relative to the joined portion (eg, the first portion 201). , A second portion 202). In some embodiments, the substrate 110 oversized relative to the carrier 120 may simplify the bonding step because accurate alignment of the substrate 110 with respect to the carrier 120 may not be desired during the bonding step. . Rather, as discussed in greater detail below, the predetermined dimensions of the substrate 110 may be provided by subsequent separation of the peripheral portion of the substrate 110 after the substrate 110 is coupled to the carrier 120.

일부의 실시예에 있어서, 외부 에지(125)는 제1주표면(121)과 제2주표면(122) 간 캐리어(120)의 두께 "t2"를 가로질러 확장될 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 캐리어(120)의 외부 에지(125)는 캐리어(120)의 제1주표면(121) 및 캐리어(120)의 제2주표면(122)과 교차하는 에지 표면을 포함할 수 있다. 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 외부 에지(125)의 에지 표면과 상기 캐리어(120)의 제1주표면(121)의 교차점은 외부 경계(150)와 공통 경계 축을 따라 확장될 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 외부 에지(125)는 상기 제1주표면(121)과 제2주표면(122) 간 두께 "t2"의 적어도 일부를 가로질러 확장되는 평면 에지 표면을 포함할 수 있다. 또한, 일부의 실시예에 있어서, 상기 외부 에지(125)는 상기 제1주표면(121)과 제2주표면(122) 간 두께 "t2"의 적어도 일부를 가로질러 확장되는 볼록한 프로파일 및 오목한 프로파일 중 적어도 하나를 포함하는 비-평면 에지 표면(예컨대,도 2에 도시된 바와 같이 볼록한 에지 표면)을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 외부 에지(125)는 둘 이상의 평면 에지 표면, 둘 이상의 비-평면 에지 표면, 또는 하나 이상의 평면 에지 표면 및 제1주표면(121)과 제2주표면(122) 간 두께 "t2"의 적어도 일부를 가로질러 확장되는 하나 이상의 비-평면 에지 표면의 조합을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 외부 에지(125)는 적어도 하나 이상의 성형 공정, 절단 공정, 및 분리 공정의 동작에 기초하여 형성된 "성형" 에지일 수 있다. 추가로 또는 대안으로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 외부 에지(125)는 상기 외부 에지(125)의 에지 표면에 하나 이상의 프로파일, 형상, 및 표면 특성을 제공하도록 연삭하고, 연마하고, 버핑(buffing)하고, 그리고 기계 가공하는 것 중 하나 이상일 수 있다. In some embodiments, the outer edge 125 may extend across the thickness "t2" of the carrier 120 between the first major surface 121 and the second major surface 122. In some embodiments, the outer edge 125 of the carrier 120 includes an edge surface that intersects the first major surface 121 of the carrier 120 and the second major surface 122 of the carrier 120. can do. In addition, in some embodiments, the intersection of the edge surface of the outer edge 125 and the first major surface 121 of the carrier 120 may extend along the outer boundary 150 and the common boundary axis. . In some embodiments, the outer edge 125 may comprise a planar edge surface extending across at least a portion of the thickness “t2” between the first major surface 121 and the second major surface 122. have. Further, in some embodiments, the outer edge 125 is a convex profile and a concave profile extending across at least a portion of the thickness “t2” between the first major surface 121 and the second major surface 122. Non-planar edge surfaces (eg, convex edge surfaces as shown in FIG. 2) that include at least one of the following. In some embodiments, the outer edge 125 may comprise two or more planar edge surfaces, two or more non-planar edge surfaces, or one or more planar edge surfaces and first and second major surfaces 121 and 122. And a combination of one or more non-planar edge surfaces extending across at least a portion of the liver thickness “t2”. In some embodiments, the outer edge 125 may be a “molding” edge formed based on the operation of at least one molding process, cutting process, and separation process. Additionally or alternatively, in some embodiments, the outer edge 125 is ground, polished, and buffed to provide one or more profiles, shapes, and surface properties to the edge surface of the outer edge 125. may be one or more of: buffing, and machining.

추가로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 외부 에지(125)는 평면 에지 표면과 제1주표면(121) 및 제2주표면(122) 중 적어도 하나 간 모서리를 포함할 수 있다. 유사하게, 일부의 실시예들에 있어서, 상기 외부 에지(125)는 비-평면 에지 표면과 제1주표면(121) 및 제2주표면(122) 중 적어도 하나 간 모서리를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 모서리는 제1주표면(121) 및 제2주표면(122) 중 적어도 하나가 실질적으로 90도 각도로 평면 에지 표면에 연결되는 정사각형 모서리를 포함할 수 있다. 대안으로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 모서리는 둥근 모서리, 절단 모서리, 모따기 모서리, 경사진 모서리, 또는 제1주표면(121) 및 제2주표면(122) 중 적어도 하나를 평면 에지 표면 또는 비-평면 에지 표면에 연결하는 다른 형상의 모서리를 포함할 수 있다. 따라서, 본 개시의 목적을 위해, 형상에 관계 없이, 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)는 제1주표면(121)과 제2주표면(122) 간 캐리어(120)의 두께 "t2"를 가로질러 확장하고 상기 제1주표면(121) 및 제2주표면(122)을 둘러싸는 표면으로 정의될 수 있고, 이에 의해 캐리어(120)의 외주를 형성한다.In addition, in some embodiments, the outer edge 125 may include a corner between the planar edge surface and at least one of the first major surface 121 and the second major surface 122. Similarly, in some embodiments, the outer edge 125 may include a corner between a non-planar edge surface and at least one of the first major surface 121 and the second major surface 122. In some embodiments, the edges may include square edges where at least one of the first major surface 121 and the second major surface 122 is connected to the planar edge surface at a substantially 90 degree angle. Alternatively, in some embodiments, the edge may be a rounded edge, a cut edge, a chamfered edge, an inclined edge, or a planar edge surface or at least one of the first major surface 121 and the second major surface 122. Other shaped edges that connect to the non-planar edge surfaces. Thus, for the purposes of the present disclosure, regardless of shape, the outer edge 125 of the carrier 120 may have a thickness " t2 " of the carrier 120 between the first major surface 121 and the second major surface 122. And extend across and define the surface surrounding the first major surface 121 and the second major surface 122, thereby forming the outer circumference of the carrier 120.

일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)의 제2주표면(112)을 상기 캐리어(120)의 제1주표면(121)에 결합한 후, 상기 장치(100)가 처리될 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 처리는 세정, 세척, 사이징(예컨대, 트리밍), 및 기능성 요소들(예컨대, 컬러 필터, 터치 센서, 또는 박막 트랜지스터(TFT) 요소)을 상기 기판(110)에 부착시키는 것 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)은 상기 캐리어(120)에 결합된 기판(110)을 포함하는 결합된 구조가, 예를 들어 그 결합된 구조가 상당한 변경 없이 제조 장비에서 취급되고 제조 장비로 이송될 수 있게 하는 특성 및 크기를 제공하는 기존의 제조 장비를 사용함으로써 처리될 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 기존의 제조 장비는 미리 결정된 두께를 갖는 구조를 처리하도록 구성될 수 있다. 따라서, 일부의 실시예에 있어서, 상기 캐리어(120)의 두께 "t2"와 조합된 상기 기판(110)의 두께 "t1"은 처리를 위해 기존의 제조 장비가 구성될 수 있는 미리 결정된 두께와 동일한 상기 기판(110)의 제1주표면(111)과 상기 캐리어(120)의 제2주표면(122) 간 상기 장치(100)의 두께 "t3"를 제공하도록 선택될 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 두께 "t3"은 약 400 micron 내지 약 750 micron, 약 500 micron 내지 약 1 millimeter, 약 1 millimeter 내지 약 2 millimeter일 수 있고; 그러나, 일부의 실시예에 있어서, 상기 장치(100)의 두께 "t3"은 본 개시의 범위를 벗어나지 않으면서 본 개시에서 제공되는 명시적 치수보다 크거나 작을 수 있다.In some embodiments, the device 100 may be processed after coupling the second major surface 112 of the substrate 110 to the first major surface 121 of the carrier 120. In some embodiments, the process includes cleaning, cleaning, sizing (eg, trimming), and attaching functional elements (eg, a color filter, touch sensor, or thin film transistor (TFT) element) to the substrate 110. It may include one or more of the. For example, in some embodiments, the substrate 110 is a bonded structure comprising a substrate 110 coupled to the carrier 120, for example, the bonded structure may be fabricated without significant modification. It can be handled by using existing manufacturing equipment that provides characteristics and sizes that can be handled and transferred to the manufacturing equipment. For example, in some embodiments, existing manufacturing equipment may be configured to process structures having a predetermined thickness. Thus, in some embodiments, the thickness “t1” of the substrate 110 in combination with the thickness “t2” of the carrier 120 is equal to a predetermined thickness at which existing manufacturing equipment may be configured for processing. It may be selected to provide a thickness “t3” of the device 100 between the first major surface 111 of the substrate 110 and the second major surface 122 of the carrier 120. In some embodiments, the thickness “t3” may be about 400 micron to about 750 micron, about 500 micron to about 1 millimeter, about 1 millimeter to about 2 millimeter; However, in some embodiments, the thickness “t3” of the device 100 may be larger or smaller than the explicit dimensions provided in the present disclosure without departing from the scope of the present disclosure.

도 1로 되돌아 가서, 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)의 외부 에지(115)는 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)를 측방향으로 둘러쌀 수 있다. 본 개시의 전체에서, 제2형태를 "측방향으로 둘러싸는" 제1형태는, 상기 기판(110) 및/또는 캐리어(120)의 하나 이상의 주표면에 수직인 방향의 상면 또는 하면에서, 예를 들어 상기 제1형태에 의해 규정된 외주가 상기 제2형태에 의해 규정된 외주를 둘러싼다는 것을 의미하도록 의도된다. 따라서, 예를 들어, 도 1의 평면도에 나타낸 바와 같이, 상기 기판(110)의 외주(외부 에지(115)에 의해 규정된)는 상기 캐리어(120)의 외주(외부 에지(125)에 의해 규정된)를 둘러싼다. 마찬가지로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)는 상기 기판(110)의 제2주표면(112)과 상기 캐리어(120)의 제1주표면(121) 간 결합 인터페이스에 규정된 외부 경계(150)를 측방향으로 둘러쌀 수 있다. 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)은 상기 기판(110)의 중앙 부분(180)을 측방향으로 둘러싸는 연속 경계를 포함하는 분리 경로(175)를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)는 상기 분리 경로(175)의 연속 경계를 측방향으로 둘러쌀 수 있다. 따라서, 일부의 실시예에 있어서, 상기 분리 경로(175)는 상기 외부 경계(150)를 측방향으로 둘러싸는 분리 경로(175) 및 상기 분리 경로(175)를 측방향으로 둘러싸는 외부 에지(125)를 갖는 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)와 상기 외부 경계(150) 사이에 측방향으로 위치될 수 있다.Returning to FIG. 1, in some embodiments, the outer edge 115 of the substrate 110 may laterally surround the outer edge 125 of the carrier 120. Throughout this disclosure, a first aspect that “laterally encloses” a second aspect is, for example, on an upper or lower surface in a direction perpendicular to one or more major surfaces of the substrate 110 and / or carrier 120. For example, it is intended to mean that the outer circumference defined by the first form surrounds the outer circumference defined by the second form. Thus, for example, as shown in the plan view of FIG. 1, the outer circumference (defined by the outer edge 115) of the substrate 110 is defined by the outer circumference (the outer edge 125) of the carrier 120. Enclosed). Likewise, in some embodiments, the outer edge 125 of the carrier 120 is coupled between the second major surface 112 of the substrate 110 and the first major surface 121 of the carrier 120. The outer boundary 150 defined in the interface may laterally surround. Additionally, in some embodiments, the substrate 110 can include a separation path 175 that includes a continuous boundary that laterally surrounds the central portion 180 of the substrate 110. In some embodiments, the outer edge 125 of the carrier 120 may laterally surround a continuous boundary of the separation path 175. Thus, in some embodiments, the separation path 175 includes a separation path 175 that laterally surrounds the outer boundary 150 and an outer edge 125 that laterally surrounds the separation path 175. May be laterally located between the outer edge 125 of the carrier 120 and the outer boundary 150.

이하 좀더 상세히 논의하는 바와 같이, 상기 장치(100)를 처리하는 방법은, 예를 들어 하나 이상의 애플리케이션, 예컨대 디스플레이 애플리케이션에 채용을 위해 선택된 미리 결정된 형상 및 크기를 갖는 기판(110)을 제공하기 위해 상기 분리 경로(175)를 따라 상기 기판(110)을 분리하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)를 측방향으로 둘러싸는 외부 에지(115)를 갖는 상기 기판(110)을 상기 캐리어(120) 상에 위치시킨 후, 상기 분리 경로(175)를 따라 상기 기판(110)을 분리시킴으로써, 기판(110)의 초기 크기, 형상, 및 배치(예컨대, 장치(100)를 처리하기 전)는, 예를 들어 기판(110)을 캐리어(120)에 결합시키기 전에 기판(110)을 미리 결정된 형상 및 크기로 사이징하는 것보다 더 빠르고 저렴하게 수행될 수 있다. 예를 들어, 상기 기판(110)이 기판(110)을 캐리어(120)에 결합하기 전에 사이징하기 위해 트리밍되는 경우, 일부의 실시예에서, 상기 기판(110)을 상기 캐리어(120)에 대해 조심스럽게 위치시키기 위해 극도의 정밀함이 요구될 수 있다. 추가로, 상기 기판(110)이 기판(110)을 캐리어(120)에 결합하기 전에 사이징하기 위해 트리밍되는 경우, 일부의 실시예에서, 상기 기판 (110)을 취급 및 이송할 때, 상기 앞서 트리밍된 기판의 에지를 깎거나, 긁거나 크랙하지 않도록 극도의 주의가 요구될 수 있다. 따라서, 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)을 캐리어(120)에 결합한 후 기판(110)을 캐리어(120)에 결합한 상태에서 분리 경로(175)를 따라 기판(110)을 분리하는 것은 공정의 효율을 증가시키고, 기판(110)의 사이징, 취급, 및 이송 중에 기판(110)이 손상될 가능성을 감소시킬 수 있다.As will be discussed in more detail below, the method of processing the device 100 may, for example, provide the substrate 110 with a predetermined shape and size selected for employment in one or more applications, such as a display application. The substrate 110 may be separated along the separation path 175. After positioning the substrate 110 on the carrier 120 having an outer edge 115 laterally surrounding the outer edge 125 of the carrier 120, the separation path 175 is followed by the substrate 110. By separating the substrate 110, the initial size, shape, and placement of the substrate 110 (eg, prior to processing the apparatus 100) may, for example, prior to bonding the substrate 110 to the carrier 120. It may be faster and cheaper than sizing the substrate 110 to a predetermined shape and size. For example, where the substrate 110 is trimmed to size the substrate 110 prior to coupling the carrier 120, in some embodiments, the substrate 110 is careful against the carrier 120. Extreme precision may be required to position it smoothly. Additionally, where the substrate 110 is trimmed for sizing prior to bonding the substrate 110 to the carrier 120, in some embodiments, the preceding trim when handling and transporting the substrate 110. Extreme care may be required to avoid cutting, scratching or cracking the edges of the substrate. Accordingly, in some embodiments, separating the substrate 110 along the separation path 175 after the substrate 110 is coupled to the carrier 120 and the substrate 110 is coupled to the carrier 120. The efficiency of the process can be increased and the likelihood of damage to the substrate 110 during sizing, handling, and transporting the substrate 110 can be reduced.

추가로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 분리 경로(175)는 제1분리 경로(175a), 제2분리 경로(175b), 및 제3분리 경로(175c)를 포함하는 복수의 교차 분리 경로를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 제1분리 경로(175a)는 상기 제2분리 경로(175b)와 교차할 수 있고, 상기 제3분리 경로(175c)는 상기 제1분리 경로(175a) 및 제2분리 경로(175b)와 교차할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)의 제1주변 부분(181)은 상기 기판의 외부 에지(115)와 제1분리 경로(175a) 간 규정될 수 있고, 상기 기판(110)의 제2주변 부분(182)은 상기 기판(110)의 외부 에지(115)와 상기 제2분리 경로(175b) 간 규정될 수 있다. 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)의 모서리 부분(183)은 상기 제3분리 경로(175c), 제1주변 부분(181), 및 제2주변 부분(182) 간 규정될 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 그러한 복수의 교차 경로들은 상기 기판(110)의 중앙 부분(180)을 규정할 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 상기 복수의 교차 경로들 중 하나 이상의 경로는 2개의 위치에서 상기 기판(110)의 외부 에지(115)와 교차하는 상기 기판(110)의 제1주표면(111)을 가로질러 개별적으로 확장될 수 있고, 상기 복수의 교차 경로들 중 하나 이상의 다른 경로들과 함께 상기 기판(110)의 중앙 부분(180)을 규정할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110)이 채용될 수 있는 특정 애플리케이션에 적어도 부분적으로 기초하여 선택될 수 있는 임의의 크기 및 형상을 포함하도록 상기 중앙 부분(180)을 규정하는 소정 수의 교차 분리 경로를 상기 분리 경로(175)가 포함할 수 있다는 것을 알아야 한다.Further, in some embodiments, the separation path 175 includes a plurality of cross separation paths including a first separation path 175a, a second separation path 175b, and a third separation path 175c. It may include. In some embodiments, the first separation path 175a may intersect the second separation path 175b, and the third separation path 175c may be the first separation path 175a and the second separation path 175a. May intersect the separation path 175b. In some embodiments, the first peripheral portion 181 of the substrate 110 may be defined between the outer edge 115 of the substrate and the first separation path 175a, and the first portion of the substrate 110 may be formed. Two peripheral portions 182 may be defined between the outer edge 115 of the substrate 110 and the second separation path 175b. In addition, in some embodiments, the corner portion 183 of the substrate 110 may be defined between the third separation path 175c, the first peripheral portion 181, and the second peripheral portion 182. Can be. In some embodiments, such a plurality of crossover paths may define a central portion 180 of the substrate 110. For example, in some embodiments, one or more of the plurality of crossover paths intersect the outer edge 115 of the substrate 110 at two locations, the first major surface of the substrate 110. It can extend separately across 111 and define a central portion 180 of the substrate 110 along with other one or more of the plurality of intersecting paths. In some embodiments, any number of intersections defining the central portion 180 to include any size and shape that may be selected based at least in part on the particular application in which the substrate 110 may be employed. It should be appreciated that the separation path 175 can include a separation path.

이제 도 3-6을 참조하여 상기 분리 경로(175)를 따라 상기 기판(110)을 분리하는 방법이 기술되며, 도 3은 도 2의 라인 3-3에 따른 상기 장치(100)의 부분 단면도의 상면도를 나타낸다. 예를 들어, 도 3은 머신 비전 장치(225; machine vision device)가 볼 수 있는 것의 예시적인 도면을 제공한다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 머신 비전 장치(225)는 상기 장치(100)의 하나 이상의 형태의 이미지-기반 자동 검사 및 분석을 제공하기 위한 이미징 기술(예컨대, 카메라, 센서, 광, 레이저 등)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 상기 머신 비전 장치(225)는 상기 장치(100)의 하나 이상의 형태를 포함하는 이미지를 획득할 수 있다. 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 머신 비전 장치(225)는 유선 또는 무선 커넥션을 통해 제어기(250; 예컨대, 컴퓨터, CPU, 프로그램가능 로직 제어기)에 연결될 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 제어기(250)는 머신 비전 장치(225)를 동작시키도록 지향되고, 프로그래밍되고, 인코딩되고, 디자인되고, 그리고/또 이루어질 수 있으며, 상기 머신 비전 장치(225)에 의해 획득된 정보(예컨대, 디지털 이미지)를 처리할 수 있다. 상기 제어기(250)는 상기 머신 비전 장치(225)에 의해 획득된 이미지의 이미지 처리 능력을 제공하기 위한 하드웨어 및 소프트웨어를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 상기 제어기(250)는 이미지, 이미지 비교 기술, 에지 검출 능력, 이미지 스티칭(image stitching) 및 등록, 픽셀 카운팅 및 조작, 분할, 패턴 인식, 컬러 분석, 광학 분석, 측정 및 계측, 및 다른 머신 비전 이미지 처리 방법으로부터 데이터를 획득하기 위해, 필터, 이미지 추출 및 디코딩 기술들을 이용하여 이미지를 처리할 수 있다. 이미지 처리 능력에 적어도 부분적으로 기초하여, 상기 제어기(250)는 출력(예컨대, 제어 신호)을 하나 이상의 요소들에 제공하여 그 출력에 기초하여 상기 장치(100)를 처리, 트리밍, 이송 및 취급할 수 있다.A method of separating the substrate 110 along the separation path 175 is now described with reference to FIGS. 3-6, wherein FIG. 3 is a partial cross-sectional view of the device 100 along line 3-3 of FIG. 2. Top view is shown. For example, FIG. 3 provides an exemplary diagram of what a machine vision device 225 can see. In some embodiments, the machine vision device 225 is an imaging technology (eg, camera, sensor, light, laser, etc.) to provide one or more forms of image-based automated inspection and analysis of the device 100. It may include. For example, in some embodiments, the machine vision device 225 may acquire an image that includes one or more forms of the device 100. In addition, in some embodiments, the machine vision device 225 may be coupled to a controller 250 (eg, computer, CPU, programmable logic controller) via a wired or wireless connection. In some embodiments, the controller 250 may be directed, programmed, encoded, designed, and / or made to operate a machine vision device 225, and may be coupled to the machine vision device 225. Information (e.g., digital images) obtained by the present invention. The controller 250 may further include hardware and software for providing image processing capability of the image acquired by the machine vision device 225. For example, in some embodiments, the controller 250 may include images, image comparison techniques, edge detection capabilities, image stitching and registration, pixel counting and manipulation, segmentation, pattern recognition, color analysis, optical To obtain data from analysis, measurement and metrology, and other machine vision image processing methods, images may be processed using filters, image extraction and decoding techniques. Based at least in part on image processing capability, the controller 250 may provide an output (eg, a control signal) to one or more elements to process, trim, transport and handle the device 100 based on the output. Can be.

따라서, 개시의 목적을 위해, 상기 머신 비전 장치(225)는, 단독으로 또는 상기 제어기(250)와 조합하여, 예를 들어 인간의 시각 시스템으로 획득된 시각적 세부 사항을 해석하기 위해 단독으로 또는 인간의 뇌와 조합하여 시각적 세부 사항을 처리하도록 인간의 중추 신경계의 시각 시스템을 이용하는 인간의 눈과 기술적으로 구별되는 것으로 이해된다. 따라서, 일부의 실시예에 있어서, 상기 머신 비전 장치(225)는, 단독으로 또는 상기 제어기(250)와 조합하여, 인간의 상호작용 없이 상기 장치(100)의 형태의 자동 이미지 캡처 및 이미지 처리를 제공할 수 있고, 이에 의해 상기 기판(110) 및 캐리어(120)를 처리하기 위한 확장 가능하고, 일관되며, 반복 가능한 자동 방법을 제공할 수 있다. 또한, 비록 도면에 단일의 머신 비전 장치(225)가 나타나 있을 지라도, 일부의 실시예에서, 하나 이상의 머신 비전 장치가 본 개시의 범위를 벗어나지 않고 본 개시의 방법에 따라 채용될 수 있다는 것을 이해해야 한다.Thus, for purposes of the disclosure, the machine vision device 225, alone or in combination with the controller 250, may be used alone or in humans, for example, to interpret visual details obtained with a human visual system. It is understood to be technically distinct from the human eye, which uses the visual system of the human central nervous system to process visual details in combination with the brain. Thus, in some embodiments, the machine vision device 225, alone or in combination with the controller 250, performs automatic image capture and image processing in the form of the device 100 without human interaction. It is possible to provide a scalable, consistent and repeatable automated method for processing the substrate 110 and the carrier 120 thereby. In addition, although a single machine vision device 225 is shown in the figures, it should be understood that in some embodiments, one or more machine vision devices may be employed in accordance with the methods of the present disclosure without departing from the scope of the present disclosure. .

상기 방법의 특징들은, 일부의 실시예에서, 본 개시의 범위로부터 벗어나지 않고 복수의 교차 분리 경로의 하나 이상의 분리 경로(175)를 따라 기판(100)을 분리하기 위해 하나 이상의 형태가 단독으로 또는 동일하거나 유사한 방식과 조합하여 적용될 수 있다는 것을 이해하면서 상기 제1분리 경로(175a)와 관련하여 기술될 것이다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 방법은 상기 외부 경계(150)의 프로파일에 기초하여 제1경로(예컨대, 제1선형 경로(301), 제1비-선형 경로(303))를 규정하는 단계를 포함할 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 상기 제1경로(301, 303)를 규정하는 단계는 상기 외부 경계(150)의 제1의 복수의 포인트(301a, 301b, 301c, 301d, 301e, 301f, 301g, 301h, 301i)를 식별하는 단계를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 방법은 제1라인(301, 303)을 상기 제1의 복수의 포인트(301a-301i)에 맞추고, 이후 상기 제1경로(301, 303)를 상기 제1라인(301, 303)으로 규정하는 단계를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 방법은 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)의 프로파일에 기초하여 제2경로(예컨대, 제2선형 경로(302), 제2비-선형 경로(304))를 규정하는 단계를 포함할 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 상기 제2경로(302, 304)를 규정하는 단계는 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)의 제2의 복수의 포인트(302a, 302b, 302c, 302d, 302e, 302f, 302g, 302h, 302i)를 식별하는 단계를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 방법은 제2라인(302, 304)을 상기 제2의 복수의 포인트(302a-302i)에 맞추고, 이후 상기 제2경로(302, 304)를 상기 제2라인(302, 304)으로 규정하는 단계를 포함할 수 있다.The features of the method are, in some embodiments, one or more forms alone or the same to separate the substrate 100 along one or more separation paths 175 of the plurality of cross separation paths without departing from the scope of the present disclosure. Or will be described in connection with the first separation path 175a with the understanding that it may be applied in combination in a similar manner. In some embodiments, the method includes defining a first path (eg, first linear path 301, first non-linear path 303) based on the profile of the outer boundary 150. It may include. For example, in some embodiments, defining the first paths 301, 303 may include the first plurality of points 301a, 301b, 301c, 301d, 301e, 301f of the outer boundary 150. , 301g, 301h, 301i). In some embodiments, the method aligns the first lines 301, 303 with the first plurality of points 301a-301i, and then aligns the first paths 301, 303 with the first line ( 301 and 303). In some embodiments, the method further comprises a second path (eg, second linear path 302, second non-linear path 304) based on the profile of the outer edge 125 of the carrier 120. It may include the step of defining. For example, in some embodiments, defining the second paths 302, 304 may include the second plurality of points 302a, 302b, 302c, of the outer edge 125 of the carrier 120. 302d, 302e, 302f, 302g, 302h, 302i). In some embodiments, the method aligns second lines 302, 304 with the second plurality of points 302a-302i, and then aligns the second paths 302, 304 with the second line ( 302 and 304).

일부의 실시예에 있어서, 상기 머신 비전 장치(225)는, 단독으로 또는 상기 제어기(250)와 조합하여, 상기 제1경로(301, 303) 및 제2경로(302, 304) 중 적어도 하나를 자동으로 규정할 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 상기 머시 비전 장치(225)는, 상기 장치(100)의 적어도 한 영역의 이미지를 획득할 수 있고, 상기 외부 경계(150)의 제1의 복수의 포인트(301a-301i) 및 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)의 제2의 복수의 포인트(302a-302i) 중 적어도 하나를 식별하기 위해 하나 이상의 이미지 처리 기술을 이용하여 처리할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 제1의 복수의 포인트(301a-301i)는, 예를 들어 물리적 형태 및/또는 상기 외부 경계(150)의 물리적 형태의 공간적 위치에 대응할 수 있고, 상기 제2의 복수의 포인트(302a-302i)는, 예를 들어 물리적 형태 및/또는 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)의 물리적 형태의 공간적 위치에 대응할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 외부 경계(150) 및 외부 에지(125)의 적어도 하나는 불규칙한(예컨대, 비-선형) 형태를 포함할 수 있다. 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 제1의 복수의 포인트(301a-301i) 및 제2의 복수의 포인트(302a-302i)를 식별하는 단계는 상기 외부 경계(150) 및 외부 에지(125) 중 적어도 하나의 불규칙한 형태의 불규칙한 형상의 추정을 제공할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 그러한 포인트의 수는, 예를 들어 추정된 프로파일의 공간적 해상도 및 정확도를 증가시키기 위해 증가되거나, 또는 예를 들어 계산 속도를 증가시키기 위해 감소될 수 있다. 따라서, 일부의 실시예에 있어서, 본 개시의 방법들은 상기 기판(110)의 제1주표면(111) 상에 프로젝트된 외부 경계(150)의 프로파일 및 상기 기판(110)의 제1주표면(111) 상에 프로젝트된 캐리어(120)의 외부 에지(125)의 프로파일을 추정할 수 있다.In some embodiments, the machine vision device 225, alone or in combination with the controller 250, may combine at least one of the first paths 301, 303 and the second paths 302, 304. It can be specified automatically. For example, in some embodiments, the mash vision device 225 may obtain an image of at least one area of the device 100, and the first plurality of points of the outer boundary 150. One or more image processing techniques may be used to identify at least one of 301a-301i and the second plurality of points 302a-302i of the outer edge 125 of the carrier 120. In some embodiments, the first plurality of points 301a-301i may correspond to, for example, the spatial location of the physical form and / or the physical form of the outer boundary 150, The plurality of points 302a-302i may correspond to, for example, the spatial location of the physical shape and / or the physical shape of the outer edge 125 of the carrier 120. In some embodiments, at least one of the outer boundary 150 and the outer edge 125 may comprise an irregular (eg, non-linear) shape. Further, in some embodiments, identifying the first plurality of points 301a-301i and the second plurality of points 302a-302i may include the outer boundary 150 and the outer edge 125. ) Can provide an estimate of the irregular shape of at least one irregular shape. In some embodiments, the number of such points may be increased, for example, to increase the spatial resolution and accuracy of the estimated profile, or, for example, to increase the computation speed. Thus, in some embodiments, the methods of the present disclosure provide a profile of the outer boundary 150 projected on the first major surface 111 of the substrate 110 and the first major surface of the substrate 110. The profile of the outer edge 125 of the carrier 120 projected on 111 can be estimated.

또한, 일부의 실시예에 있어서, 상기 제어기(250)는 상기 제1라인(301; 제1선형 경로(301)를 규정하는)을 상기 제1의 복수의 포인트(301a-301i)에 맞추고 상기 제2라인(302; 제2선형 경로(302)를 규정하는)을 상기 제2의 복수의 포인트(302a-302i)에 맞추도록 하나 이상의 라인 맞춤 기술(예컨대, 선형 회귀 분석)을 채용할 수 있다. 유사하게, 일부의 실시예에 있어서, 상기 제어기(250)는 상기 제1라인(303; 제1비-선형 경로(303)를 규정하는)을 상기 제1의 복수의 포인트(301a-301i)에 맞추고 상기 제2라인(304; 제2비-선형 경로(304)를 규정하는)을 상기 제2의 복수의 포인트(302a-302i)에 맞추도록 하나 이상의 라인 n차 다항식 회귀 분석 기술(예컨대, 2차, 3차 등)을 채용할 수 있다. 따라서, 본 개시의 방법들에 기초하여, 상기 제1경로(301, 303)는, 예를 들어 상기 외부 경계(150)의 추정된 형태 또는 단일의 포인트에 기초한 추정보다 상기 기판(110)의 제1주표면(111) 상에 프로젝트된 것과 같은 상기 외부 경계(150)의 실제 프로파일의 좀더 정확한 추정을 제공할 수 있다. 유사하게, 본 개시의 방법들에 기초하여, 상기 제2경로(302, 304)는, 예를 들어 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)의 추정된 형태 또는 단일의 포인트에 기초한 추정보다 상기 기판(110)의 제1주표면(111) 상에 프로젝트된 것과 같은 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)의 실제 프로파일의 좀더 정확한 추정을 제공할 수 있다. 상기 외부 경계(150) 및 외부 에지(125)의 프로파일의 보다 정확한 추정을 제공함으로써, 본 개시의 특징들은, 예를 들어 상기 기판(110) 상에 분리 경로(175)를 위치시킬 때, 증가된 정밀도 및 정확성을 제공하여, 상기 기판(110)의 보다 정확한 치수 및 기판(110)의 형상 및 크기의 일관된 제어를 제공한다.Further, in some embodiments, the controller 250 aligns the first line 301 (which defines the first linear path 301) with the first plurality of points 301a-301i and the first line. One or more line fitting techniques (eg, linear regression analysis) may be employed to fit two lines 302 (which define a second linear path 302) to the second plurality of points 302a-302i. Similarly, in some embodiments, the controller 250 attaches the first line 303 (which defines the first non-linear path 303) to the first plurality of points 301a-301i. One or more line n-order polynomial regression analysis techniques (e.g., 2) to fit and fit the second line 304 (which defines the second non-linear path 304) to the second plurality of points 302a-302i. Car, tertiary, etc.) may be employed. Thus, based on the methods of the present disclosure, the first paths 301, 303 may be, for example, based on the estimated shape of the outer boundary 150 or an estimate based on a single point of the substrate 110. It may provide a more accurate estimate of the actual profile of the outer boundary 150 as projected on the primary surface 111. Similarly, based on the methods of the present disclosure, the second paths 302, 304 are more than, for example, the estimated shape of the outer edge 125 of the carrier 120 or an estimate based on a single point. It may provide a more accurate estimate of the actual profile of the outer edge 125 of the carrier 120 as projected on the first major surface 111 of the substrate 110. By providing a more accurate estimate of the profile of the outer boundary 150 and outer edge 125, the features of the present disclosure are increased, for example, when positioning the separation path 175 on the substrate 110. Provides precision and accuracy, providing more accurate dimensions of the substrate 110 and consistent control of the shape and size of the substrate 110.

따라서, 일부의 실시예에 있어서, 상기 방법은 기판(110) 상에 분리 경로(175)를 위치시키는 단계를 더 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 위치시키는 단계는, 예를 들어 머신 비전 장치(225)에 의해 획득된 이미지 상에서 제어기(250)에 의해 실시된 하나 이상의 이미지 처리 기술에 의해 디지털적으로 달성될 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 상기 머신 비전 장치(225)는, 단독으로 또는 상기 제어기(250)와 조합하여, 상기 외부 경계(150)의 프로파일의 추정 및 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)의 프로파일의 추정에 기초하여 상기 기판(110) 상에 상기 분리 경로(175)의 대응하는 공간적 위치를 결정할 수 있다. 상기 기판(110) 상에 분리 경로(175)의 대응하는 공간적 위치에 기초하여, 상기 제어기(250)는 본 개시의 방법에 따라 상기 장치(100)를 자동으로 처리하기 위해 하나 이상의 요소들을 동작시킬 수 있다. 도 1로 다시 되돌아 가서, 일부의 실시예에 있어서, 상기 위치시키는 단계는 상기 기판(110) 상에 복수의 교차 분리 경로(175)의 각 경로(예컨대, 제1분리 경로(175a), 제2분리 경로(175b), 제3분리 경로(175c))를 위치시키는 단계를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 복수의 교차 분리 경로(175)의 각 경로는 상기 복수의 교차 분리 경로(175)의 다른 경로들과 독립적으로 상기 기판(110) 상에 위치될 수 있다. 상기 복수의 분리 경로(175)의 다른 경로들과 독립적으로 상기 복수의 교차 분리 경로(175)의 각 경로를 독립적으로 위치시킴으로써, 상기 각 경로의 위치는 상기 복수의 교차 분리 경로(175)의 다른 경로들의 형태와 상관없이 상기 기판(110) 및/또는 캐리어(120)의 형태에 기초하여 더 양호하게 제어될 수 있다.Thus, in some embodiments, the method may further comprise positioning the separation path 175 on the substrate 110. In some embodiments, the positioning may be accomplished digitally, for example, by one or more image processing techniques performed by the controller 250 on an image acquired by the machine vision device 225. . For example, in some embodiments, the machine vision device 225, alone or in combination with the controller 250, estimates the profile of the outer boundary 150 and the exterior of the carrier 120. Based on the estimation of the profile of the edge 125, the corresponding spatial location of the separation path 175 on the substrate 110 may be determined. Based on the corresponding spatial location of the separation path 175 on the substrate 110, the controller 250 may operate one or more elements to automatically process the device 100 in accordance with the methods of the present disclosure. Can be. Returning back to FIG. 1, in some embodiments, the positioning may comprise each path (eg, first separation path 175a, second path) of a plurality of cross separation paths 175 on the substrate 110. And a separation path 175b and a third separation path 175c). In some embodiments, each path of the plurality of cross separation paths 175 may be located on the substrate 110 independently of other paths of the plurality of cross separation paths 175. By positioning each path of the plurality of cross separation paths 175 independently of other paths of the plurality of separation paths 175, the position of each path is different from that of the plurality of cross separation paths 175. Regardless of the shape of the paths, it may be better controlled based on the shape of the substrate 110 and / or carrier 120.

도 5는 상기 복수의 교차 분리 경로(175)의 각 경로를 따라 기판(110)을 분리한 후의 상기 장치(100)의 평면도를 나타낸다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 분리 단계는 상기 기판(110)의 중앙 부분(180)을 측방향으로 둘러싸는 새로운 외부 에지(500)를 갖는 기판(110)을 제공할 수 있다. 추가로, 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)는 상기 기판(110)의 상기 새로운 외부 에지(500)를 측방향으로 둘러쌀 수 있다. 상기 기판(110)의 새로운 외부 에지(500)를 측방향으로 둘러쌈으로써, 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)는 상기 기판(110) 및 캐리어(120) 중 적어도 하나에 영향을 줄 수 있는 외력 및 물체와의 접촉으로부터 상기 새로운 외부 에지(500)를 격리시킬 수 있다. 예를 들어, 상기 캐리어(120)에 결합된 기판(110)의 취급, 처리, 및 이송 동안, 상기 기판(110) 및 캐리어(120)의 적어도 하나는 외력 및 물체와의 접촉에 영향받을 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 만약 상기 기판(110)이 외력 및 물체와의 접촉에 직접적으로 영향받을 경우, 상기 기판(110)은 적어도 그러한 외력 및 물체와의 접촉에 의해 손상(예컨대, 크랙, 깍임, 긁힘 등)될 수 있다. 그러나, 상기 기판(110)의 새로운 외부 에지(500)를 측방향으로 둘러쌈으로써, 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)는 상기 외력 및 물체와 접촉할 수 있고 그러한 외력 및 물체와의 직접적인 접촉으로부터 새로운 외부 에지(500)를 격리시킴으로써, 상기 기판(110)에 대한 손상을 적어도 방지하거나 감소시킬 수 있다.5 shows a top view of the device 100 after separating the substrate 110 along each path of the plurality of cross separation paths 175. In some embodiments, the separating step may provide a substrate 110 having a new outer edge 500 laterally surrounding the central portion 180 of the substrate 110. In addition, the outer edge 125 of the carrier 120 may laterally surround the new outer edge 500 of the substrate 110. By laterally surrounding the new outer edge 500 of the substrate 110, the outer edge 125 of the carrier 120 may affect at least one of the substrate 110 and the carrier 120. The new outer edge 500 can be isolated from external force and contact with the object. For example, during handling, processing, and transport of the substrate 110 coupled to the carrier 120, at least one of the substrate 110 and the carrier 120 may be affected by external forces and contact with an object. . In some embodiments, if the substrate 110 is directly affected by external force and contact with the object, the substrate 110 is damaged (eg, cracked, chipped) by at least such external force and contact with the object. , Scratches, etc.). However, by laterally enclosing the new outer edge 500 of the substrate 110, the outer edge 125 of the carrier 120 can be in contact with the external force and the object and in direct contact with the external force and the object. By isolating the new outer edge 500 from contact, damage to the substrate 110 can be at least prevented or reduced.

일부의 실시예에 있어서, 상기 분리 단계는 상기 복수의 교차 분리 경로(175)의 각 경로를 따라 기판(110)을 분리하는 단계를 포함할 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 상기 분리 단계는 상기 제1분리 경로(175a)를 따라 상기 기판(110)의 중앙 부분(180)으로부터 상기 기판(110)의 제1주변 부분(181)을 분리하고, 상기 제2분리 경로(175b)를 따라 상기 기판(110)의 중앙 부분(180)으로부터 상기 기판(110)의 제2주변 부분(182)을 분리한 후, 상기 제3분리 경로(175c)를 따라 상기 기판(110)의 중앙 부분(180)으로부터 상기 기판(110)의 모서리 부분(183)을 분리하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 제1분리 경로(175a)를 따라 상기 기판(110)을 분리하는 단계는 상기 기판(110)에 제1의 새로운 외부 에지(500a)를 제공할 수 있고, 상기 제2분리 경로(175b)를 따라 상기 기판(110)을 분리하는 단계는 상기 기판(110)에 제2의 새로운 외부 에지(500b)를 제공할 수 있다. 마찬가지로, 상기 제3분리 경로(175c)를 따라 모서리 부분(183)을 제공하는 단계는 상기 기판(110)에 제3의 새로운 외부 에지(500c)를 제공할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 미리 결정된 순서로 상기 중앙 부분(180)으로부터 각각의 주변 부분을 분리하는 것은, 예를 들어 상기 제1주변 부분(181) 및 제2주변 부분(182) 모두를 분리하기 전에 상기 모서리 부분(183)이 상기 중앙 부분(180)으로부터 분리된 경우, 그렇지 않으면 존재할 수 있는 분리에 의해 야기된 상기 분리 경로(175)에 따른 상기 기판(110)에서의 크랙, 깍임, 및 깨짐 중 적어도 하나를 방지 및 감소시킬 수 있다.In some embodiments, the separating step may include separating the substrate 110 along each path of the plurality of cross separation paths 175. For example, in some embodiments, the separating step comprises a first peripheral portion 181 of the substrate 110 from a central portion 180 of the substrate 110 along the first separation path 175a. After separating the second peripheral portion 182 of the substrate 110 from the central portion 180 of the substrate 110 along the second separation path 175b, the third separation path ( The method may include separating the edge portion 183 of the substrate 110 from the central portion 180 of the substrate 110 along 175c. Separating the substrate 110 along the first separation path 175a may provide a first new outer edge 500a to the substrate 110 and may provide the second separation path 175b. Accordingly, the separating of the substrate 110 may provide a second new outer edge 500b to the substrate 110. Similarly, providing a corner portion 183 along the third separation path 175c may provide a third new outer edge 500c on the substrate 110. In some embodiments, separating each peripheral portion from the central portion 180 in a predetermined order, for example, separating both the first peripheral portion 181 and the second peripheral portion 182. If the corner portion 183 was previously separated from the central portion 180, cracks, chipping, and cracking in the substrate 110 along the separation path 175 caused by separation that may otherwise be present. At least one of can be prevented and reduced.

도 3에 나타낸 바와 같이, 일부의 실시예에 있어서, 상기 제1분리 경로(175a)는 상기 제1경로(301, 303)와 제2경로(302, 304) 간 측방향으로 위치될 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110) 상에 제1분리 경로(175a)를 위치시킨 후, 상기 방법은 상기 제1분리 경로(175a)를 따라 상기 기판(110)을 분리하는 단계를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 그러한 분리 단계는 상기 기판(110)의 제1주표면(111) 상에 결함(300)을 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 결함(300)은 상기 제1분리 경로(175a)를 따라 확장되는 스코어 라인을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 결함(300)은 상기 기판(110)의 외부 에지(115)의 제1위치부터 상기 기판(110)의 외부 에지(115)의 제2위치까지 전체 제1분리 경로(175a)를 따라 확장될 수 있다. 그러나, 도 3에 나타낸 바와 같이, 그러한 결함(300)은, 일부의 실시예에서, 상기 제1분리 경로(175a)를 따라 부분적인 거리로 확장될 수 있다. 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 제1분리 경로(175a)는 선형일 수 있고, 상기 기판(110)의 제1주표면(111)을 도구(예컨대, 스코어 휠, 스크라이브, 다이아몬드 팁, 인덴터(indenter) 등)와 접촉시킴으로써 형성될 수 있다. 대안으로 또는 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 결함(300)은 레이저에 의해 형성될 수 있고, 상기 제1분리 경로(175a)를 따라 복수의 결함을 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 냉각 유체(예컨대, 액체, 가스, 또는 액체와 가스의 조합)는, 단독으로 또는 가열 장치(예컨대, 전자기 방사선, 레이저, 자외선 레이저, 펄스 레이저 등)와 조합하여, 결함(300)을 형성하고 그리고/또 제1분리 경로(175a)를 따라 기판(110)을 분리하기 위해 제1분리 경로(175a)를 따라 기판(110) 상에 열 응력을 인가하도록 채용될 수 있다.As shown in FIG. 3, in some embodiments, the first separation path 175a may be located laterally between the first paths 301 and 303 and the second paths 302 and 304. In some embodiments, after placing a first separation path 175a on the substrate 110, the method includes separating the substrate 110 along the first separation path 175a. can do. In some embodiments, such separation may include creating a defect 300 on the first major surface 111 of the substrate 110. In some embodiments, the defect 300 may include a score line extending along the first separation path 175a. In some embodiments, the defect 300 is an entire first separation path from a first position of the outer edge 115 of the substrate 110 to a second position of the outer edge 115 of the substrate 110. May extend along 175a. However, as shown in FIG. 3, such defect 300 may, in some embodiments, extend at a partial distance along the first separation path 175a. In addition, in some embodiments, the first separation path 175a may be linear, and the first major surface 111 of the substrate 110 may be tools (eg, score wheels, scribes, diamond tips, Contact with an indenter). Alternatively or in addition, in some embodiments, the defect 300 may be formed by a laser and may include a plurality of defects along the first separation path 175a. In some embodiments, the cooling fluid (eg, liquid, gas, or a combination of liquid and gas) may be defective, alone or in combination with a heating device (eg, electromagnetic radiation, laser, ultraviolet laser, pulsed laser, etc.). And may be employed to apply thermal stress on the substrate 110 along the first separation path 175a to form 300 and / or to separate the substrate 110 along the first separation path 175a. .

추가로, 도 4의 부분 단면도에 나타낸 바와 같이, 일부의 실시예에 있어서, 상기 분리 단계는, 상기 기판(110)의 제1주표면(111)부터 상기 기판(110)의 제2주표면(112)까지의 제1분리 경로(175a)를 따라 확장되는 전신 크랙(400)을 생성하기 위해, 상기 기판(110)의 제2주표면(112)의 제1부분(201)이 상기 캐리어(120)의 제1주표면(121)에 결합되는 동안, 상기 결함(300)을 확대하는 단계를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 결함(300) 확대 단계는 상기 기판(110)의 제2주표면(112)의 제1부분(201)이 상기 캐리어(120)의 제1주표면(121)에 결합되는 동안 상기 기판(110)의 주변 부분(예컨대, 제1주변 부분(181))에 힘 "F"를 인가하는 단계를 포함할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 캐리어(120)는 상기 중앙 부분(180) 및 제1주변 부분(181)을 지지하고 상기 제1분리 경로(175a)를 따라 상기 기판(110)을 분리하는 동안 중앙 부분(180) 및 제1주변 부분(181) 중 적어도 하나의 움직임을 방지 및 감소(예컨대, 진동 완화)시킬 수 있다. 상기 제1분리 경로(175a)를 따라 기판(110)을 분리하는 동안 상기 중앙 부분(180) 및 제1주변 부분(181)을 지지하는 것은, 상기 중앙 부분(180) 및 제1주변 부분(181)이 캐리어(120)에 의해 지지되지 않을 경우, 그렇지 않으면 존재할 수 있는 분리에 의해 야기된 제1분리 경로(175a)를 따라 상기 기판(110)에서의 크랙, 깍임, 및 깨짐을 적어도 방지 및 감소시킬 수 있다.In addition, as shown in the partial cross-sectional view of FIG. 4, in some embodiments, the separating step may include the first major surface 111 of the substrate 110 to the second major surface of the substrate 110. In order to create the whole-body crack 400 extending along the first separation path 175a to 112, the first portion 201 of the second major surface 112 of the substrate 110 is moved to the carrier 120. While coupled to the first major surface 121 of), it may include the step of enlarging the defect (300). In some embodiments, the step of enlarging the defect 300 may include the first portion 201 of the second major surface 112 of the substrate 110 being attached to the first major surface 121 of the carrier 120. It may include applying a force "F" to the peripheral portion (eg, the first peripheral portion 181) of the substrate 110 while being bonded. In some embodiments, the carrier 120 supports the center portion 180 and the first peripheral portion 181 and is centered while separating the substrate 110 along the first separation path 175a. The movement of at least one of the portion 180 and the first peripheral portion 181 may be prevented and reduced (eg, vibration dampened). Supporting the central portion 180 and the first peripheral portion 181 while separating the substrate 110 along the first separation path 175a may include the central portion 180 and the first peripheral portion 181. Is not supported by the carrier 120, at least prevents and reduces cracks, chippings, and cracks in the substrate 110 along the first separation path 175a caused by separation that may otherwise be present. You can.

도 6은 상기 제1분리 경로(175a)를 따라 상기 기판(110)을 분리한 후의 도 5의 라인 6-6에 따른 장치(100)의 부분 단면도를 나타낸다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 분리 단계는 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)로부터 멀어지는 방향의 외부 경계(150)로부터의 제1거리 "d1"과 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)로 향하는 방향의 외부 경계(150)로부터의 제2거리 "d2" 간 측방향으로 규정된 제1의 새로운 외부 에지(500a)를 기판(110)에 제공할 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 상기 제1거리 "d1"은 약 0 micron 내지 약 50 micron일 수 있고, 그리고/또 상기 제2거리 "d2"는 약 0 micron 내지 약 150 micron일 수 있다. 예를 들어, 일부의 실시예에 있어서, 상기 제1거리 "d1"은 그 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함하여, 약 0 micron 내지 약 10 micron, 약 10 micron 내지 약 50 micron, 약 10 micron 내지 약 20 micron, 약 20 micron 내지 약 40 micron일 수 있다. 마찬가지로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 제2거리 "d2"는 그 사이의 모든 범위 및 하위 범위를 포함하여, 약 0 micron 내지 약 10 micron, 약 10 micron 내지 약 150 micron, 약 10 micron 내지 약 50 micron, 약 50 micron 내지 약 100 micron, 약 100 micron 내지 약 150 micron일 수 있다.6 shows a partial cross-sectional view of the device 100 along line 6-6 of FIG. 5 after separating the substrate 110 along the first separation path 175a. For example, in some embodiments, the detaching step may include a first distance “d1” from the outer boundary 150 in a direction away from the outer edge 125 of the carrier 120 and the outside of the carrier 120. The first new outer edge 500a defined laterally between the second distance “d2” from the outer boundary 150 in the direction towards the edge 125 may be provided to the substrate 110. In some embodiments, the first distance “d1” may be about 0 micron to about 50 micron, and / or the second distance “d2” may be about 0 micron to about 150 micron. For example, in some embodiments, the first distance “d1” includes all ranges between and subranges therebetween, from about 0 micron to about 10 micron, about 10 micron to about 50 micron, about 10 micron to about 20 micron, about 20 micron to about 40 micron. Likewise, in some embodiments, the second distance “d2” includes all ranges and subranges therebetween, from about 0 micron to about 10 micron, from about 10 micron to about 150 micron, from about 10 micron to about 50 micron, about 50 micron to about 100 micron, about 100 micron to about 150 micron.

일부의 실시예에 있어서, 상기 제1분리 경로(175a)를 위치시키는 방법에 기초하여, 제1의 새로운 외부 에지(500a)가 캐리어(120)의 외부 에지(125) 내에 위치될 수 있다. 예를 들어, 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)는 상기 기판(110) 및 캐리어(120) 중 적어도 하나에 영향을 줄 수 있는 외력 및 물체와의 접촉으로부터 상기 제1의 새로운 외부 에지(500a)를 격리시킬 수 있다. 예를 들어, 상기 캐리어(120)에 결합된 기판(110)의 취급, 처리, 및 이송 동안, 상기 기판(110) 및 캐리어(120)의 적어도 하나는 외력 및 물체와의 접촉에 영향받을 수 있다. 일부의 실시예에 있어서, 만약 상기 기판(110)이 외력 및 물체와의 접촉에 직접적으로 영향받을 경우, 상기 기판(110)은 적어도 그러한 외력 및 물체와의 접촉에 의해 손상(예컨대, 크랙, 깍임, 긁힘 등)될 수 있다. 그러나, 상기 기판(110)의 제1의 새로운 외부 에지(500a)가 상기 캐리어(120)의 외부 에지(125)의 내에 측방향으로 위치된 상태에서, 상기 캐리어(120)는 상기 외력 및 물체와 접촉할 수 있고 그러한 외력 및 물체와의 직접적인 접촉으로부터 제1의 새로운 외부 에지(500a)를 격리시킴으로써, 상기 기판(110)에 대한 손상을 적어도 방지 및 감소시킬 수 있다.In some embodiments, based on the method of locating the first separation path 175a, a first new outer edge 500a may be located within the outer edge 125 of the carrier 120. For example, the outer edge 125 of the carrier 120 may be connected to the first new outer edge from contact with an external force and an object that may affect at least one of the substrate 110 and the carrier 120. 500a) can be isolated. For example, during handling, processing, and transport of the substrate 110 coupled to the carrier 120, at least one of the substrate 110 and the carrier 120 may be affected by external forces and contact with an object. . In some embodiments, if the substrate 110 is directly affected by external force and contact with the object, the substrate 110 is damaged (eg, cracked, chipped) by at least such external force and contact with the object. , Scratches, etc.). However, with the first new outer edge 500a of the substrate 110 positioned laterally within the outer edge 125 of the carrier 120, the carrier 120 is in contact with the external force and object. By contacting and isolating the first new outer edge 500a from such external force and direct contact with the object, damage to the substrate 110 can be at least prevented and reduced.

따라서, 예를 들어 상기 기판(110)의 제1주표면(111)에 부착된 소정의 기능성 요소들(예컨대, 컬러 필터, 터치 센서, 또는 박막 트랜지스터(TFT) 요소)을 포함하는 기판(110; 예컨대, 중앙 부분(180))을 상기 분리 경로(175)를 따라 분리한 후, 상기 기판(110)은 상기 캐리어(120)로부터 분리될 수 있고 디스플레이 애플리케이션 또는 기판(110)이 유용성을 찾을 수 있는 임의의 다른 애플리케이션을 위한 전자 장치에 사용될 수 있다. 추가로, 일부의 실시예에 있어서, 상기 기판(110) 및 캐리어(120)는 최종 제품(예컨대, 건축 패널 또는 백스플레시)을 함께 형성할 수 있으며, 따라서 상기 기판(110) 및 캐리어(120)가 유용성을 찾을 수 있는 하나 이상의 애플리케이션에 함께 채용될 수 있다.Thus, for example, a substrate 110 including certain functional elements (eg, a color filter, a touch sensor, or a thin film transistor (TFT) element) attached to the first major surface 111 of the substrate 110; For example, after separating the central portion 180 along the separation path 175, the substrate 110 may be separated from the carrier 120 and the display application or substrate 110 may find usefulness. It can be used in electronic devices for any other application. In addition, in some embodiments, the substrate 110 and the carrier 120 may form an end product (eg, a building panel or backsplash) together, and thus the substrate 110 and the carrier 120. May be employed together in one or more applications where utility may be found.

본원에 기술된 실시예 및 기능 동작들은, 본 명세서에 개시된 구조 및 이들의 구조적 등가물, 또는 이들 중 하나 이상의 조합을 포함하여, 디지털 전자 회로, 또는 컴퓨터 소프트웨어, 펌웨어, 또는 하드웨어로 구현될 수 있다. 본원에 기술된 실시예들은 하나 이상의 컴퓨터 프로그램 제품, 즉 데이터 처리 장치에 의해 실행되거나 그 동작을 제어하기 위해 유형의 프로그램 캐리어 상에 인코딩된 컴퓨터 프로그램 명령의 하나 이상의 모듈로서 구현될 수 있다. 그러한 유형의 프로그램 캐리어는 컴퓨터 판독가능 매체일 수 있다. 그 컴퓨터 판독가능 매체는 기계-판독가능 저장 장치, 기계-판독가능 저장 기판, 메모리 장치, 또는 이들 중 하나 이상의 조합일 수 있다.The embodiments and functional operations described herein may be implemented in digital electronic circuitry, or computer software, firmware, or hardware, including the structures disclosed herein and their structural equivalents, or a combination of one or more thereof. Embodiments described herein may be implemented as one or more modules of computer program instructions encoded on one or more computer program products, namely program carriers, executed by or for controlling the operation of the data processing apparatus. Such type of program carrier may be a computer readable medium. The computer readable medium may be a machine-readable storage device, a machine-readable storage substrate, a memory device, or a combination of one or more thereof.

용어 "프로세서" 또는 "제어기"는, 예로서 프로그램가능 프로세서, 컴퓨터, 또는 다수의 프로세서 또는 컴퓨터를 포함하여, 데이터를 처리하기 위한 모든 기기, 장치 및 기계를 포함할 수 있다. 상기 프로세서는, 하드웨어 이외에, 해당 컴퓨터 프로그램에 대한 실행 환경을 생성하는 코드, 예컨대 프로세서 펌웨어, 프로토콜 스택, 데이터베이스 관리 시스템, 운영 시스템, 또는 이들 중 하나의 조합을 구성하는 코드를 포함할 수 있다.The term “processor” or “controller” may include any device, apparatus, and machine for processing data, including, by way of example, a programmable processor, a computer, or multiple processors or computers. The processor may include, in addition to hardware, code that creates an execution environment for the computer program, such as processor firmware, a protocol stack, a database management system, an operating system, or a combination thereof.

컴퓨터 프로그램(프로그램, 소프트웨어, 소프트웨어 애플리케이션, 스크립트, 또는 코드라고도 알려진)은 컴파일되거나 해석된 언어, 또는 선언적 또는 절차 적 언어를 포함하여 모든 형태의 프로그래밍 언어로 작성될 수 있으며, 컴퓨팅 환경에서 사용하기에 적합한 모듈, 요소, 서브루틴, 또는 다른 유닛 또는 독립 프로그램을 포함하여 모든 형태로 배치될 수 있다. 컴퓨터 프로그램이 반드시 파일 시스템의 파일에 해당하는 것은 아니다. 프로그램은 다른 프로그램 또는 데이터(예컨대, 마크업 언어 문서에 저장된 하나 이상의 스크립트)를 보유하는 파일의 일부, 해당 프로그램 전용의 단일 파일, 또는 다수의 조정된 파일(예컨대, 하나 이상의 모듈, 하위 프로그램 또는 코드의 일부를 저장하는 파일)에 저장될 수 있다. 컴퓨터 프로그램은 하나의 컴퓨터 또는 하나의 사이트에 위치하거나 다수의 사이트에 분산되어 있고 통신 네트워크에 의해 상호 연결된 다수의 컴퓨터에서 실행되도록 배치될 수 있다.Computer programs (also known as programs, software, software applications, scripts, or code) can be written in any form of programming language, including compiled or interpreted languages, or declarative or procedural languages, and are intended for use in computing environments. It can be arranged in any form, including suitable modules, elements, subroutines, or other units or standalone programs. A computer program does not necessarily correspond to a file in a file system. A program may be a portion of a file that holds another program or data (eg, one or more scripts stored in a markup language document), a single file dedicated to that program, or multiple coordinated files (eg, one or more modules, subprograms, or code). File to store a portion of the. The computer program may be arranged to run on one computer or on multiple computers located at one site or distributed across multiple sites and interconnected by a communication network.

본원에 기술된 프로세스는 입력 데이터를 조작하여 출력을 생성함으로써 기능을 수행하기 위해 하나 이상의 컴퓨터 프로그램을 실행하는 하나 이상의 프로그램가능 프로세서에 의해 수행될 수 있다. 프로세스 및 로직 흐름은 또한 특수 목적 로직 회로, 예를 들자면 FPGA(field programmable gate array) 또는 ASIC (application specific integrated circuit)에 의해 수행될 수 있고, 그에 의해 장치 또한 구현될 수 있다.The processes described herein may be performed by one or more programmable processors executing one or more computer programs to perform functions by manipulating input data to produce output. Processes and logic flows may also be performed by special purpose logic circuits, such as field programmable gate arrays (FPGAs) or application specific integrated circuits (ASICs), whereby the device may also be implemented.

컴퓨터 프로그램의 실행에 적합한 프로세서는 예로서 범용 마이크로 프로세서 및 특수 목적 마이크로 프로세서, 및 임의의 종류의 디지털 컴퓨터의 소정 하나 이상의 프로세서를 포함한다. 일반적으로, 프로세서는 판독 전용 메모리 또는 랜덤-액세스 메모리 또는 둘 모두로부터 명령 및 데이터를 수신할 것이다. 컴퓨터의 필수 요소는 명령을 수행하기 위한 프로세서 및 명령 및 데이터를 저장하기 위한 하나 이상의 데이터 메모리 장치이다. 일반적으로, 컴퓨터는 또한, 예를 들어 자기, 광 자기 디스크, 또는 광 디스크와 같은 데이터를 저장하기 위한 하나 이상의 대용량 저장 장치를 포함하거나, 또는 그것들로부터 데이터를 수신하거나 또는 그것으로 데이터를 전송하기 위해 또는 그 둘 모두를 위해 동작 가능하게 결합될 것이다. 그러나 컴퓨터에는 그와 같은 장치가 필요하지 않다. 또한, 컴퓨터는 다른 장치, 일부 예를 들자면 휴대 전화, PDA(personal digital assistant)와 같은 다른 장치에 내장될 수 있다.Processors suitable for the execution of a computer program include, by way of example, general purpose microprocessors and special purpose microprocessors, and any one or more processors of any kind of digital computer. In general, a processor will receive instructions and data from read-only memory or random-access memory or both. Essential elements of a computer are a processor for performing instructions and one or more data memory devices for storing instructions and data. In general, a computer also includes one or more mass storage devices for storing data such as, for example, magnetic, magneto-optical disks, or optical disks, or for receiving data from or transmitting data to them. Or operatively combined for both. But a computer does not need such a device. In addition, the computer may be embedded in other devices, such as, for example, cell phones, personal digital assistants (PDAs).

컴퓨터 프로그램 명령 및 데이터를 저장하기에 적합한 컴퓨터 판독가능 매체는, 예로서 EPROM, EEPROM 및 플래시 메모리 장치와 같은 반도체 메모리 장치를 포함하는 비휘발성 메모리, 매체 및 메모리 장치; 자기 디스크, 예컨대 내부 하드 디스크 또는 이동식 디스크; 광 자기 디스크; 및 CD ROM 및 DVD-ROM 디스크를 포함하는 모든 형태의 데이터 메모리를 포함한다. 그러한 프로세서 및 메모리는 특수 목적 로직 회로에 의해 보충되거나 그에 통합될 수 있다.Computer-readable media suitable for storing computer program instructions and data include, for example, nonvolatile memory, media and memory devices, including semiconductor memory devices such as EPROM, EEPROM, and flash memory devices; Magnetic disks such as internal hard disks or removable disks; Magneto-optical disks; And all forms of data memory including CD ROM and DVD-ROM discs. Such processors and memory may be supplemented or integrated into special purpose logic circuits.

사용자와의 상호작용을 제공하기 위해, 본원에 기술된 실시예들은 디스플레이 장치, 예컨대 사용자에게 정보를 디스플레이하기 위한 CRT(음극선 관) 또는 LCD (액정 디스플레이) 모니터 및 키보드 및 포인팅 장치, 예컨대 마우스 또는 트랙볼, 또는 사용자가 컴퓨터에 입력을 제공할 수 있는 터치 스크린을 갖춘 컴퓨터 상에서 구현될 수 있다. 사용자와의 상호작용을 제공하기 위해 다른 종류의 장치들이 사용될 수도 있다. 예를 들어, 사용자로부터의 입력은 음향, 음성 또는 촉각 입력을 포함하는 소정의 형태로 수신될 수 있다.In order to provide for interaction with a user, embodiments described herein can be used to provide a display device, such as a cathode ray tube (CRT) or LCD (liquid crystal display) monitor and keyboard and pointing device, such as a mouse or trackball, for displaying information to a user. Or may be implemented on a computer with a touch screen that allows a user to provide input to the computer. Other kinds of devices may be used to provide for interaction with a user. For example, input from a user may be received in some form, including acoustic, voice, or tactile input.

본원에 기술된 실시예들은, 예컨대 데이터 서버와 같은 백 엔드 컴포넌트(back end component)를 포함하거나, 미들웨어 컴포넌트(middleware component), 예컨대 애플리케이션 서버를 포함하거나, 프론트 엔드 컴포넌트(front end component), 예컨대 사용자가 본원에 기술한 대상의 실행과 상호작용할 수 있는 그래픽 사용자 인터페이스 또는 웹 브라우저, 또는 하나 이상의 그와 같은 백 엔드 컴포넌트, 미들웨어 컴포넌트, 또는 프론트 엔트 컴포넌트의 임의의 조합을 포함하는 컴퓨팅 시스템에서 실시될 수 있다. 그러한 시스템의 구성 요소는 임의의 형태 또는 매체의 디지털 데이터 통신, 예컨대 통신 네트워크에 의해 상호 연결될 수 있다. 통신 네트워크의 예는 근거리 통신망("LAN") 및 광역 통신망("WAN"), 예컨대 인터넷을 포함한다.Embodiments described herein include a back end component such as, for example, a data server, a middleware component such as an application server, or a front end component, such as a user. Can be implemented in a computing system that includes a graphical user interface or web browser capable of interacting with the execution of a subject described herein, or any combination of one or more such back end components, middleware components, or front end components. have. The components of such a system may be interconnected by any form or medium of digital data communication, such as a communication network. Examples of communication networks include local area networks (“LANs”) and wide area networks (“WANs”), such as the Internet.

컴퓨팅 시스템은 클라이언트 및 서버를 포함할 수 있다. 클라이언트 및 서버는 일반적으로 서로 멀리 떨어져 있으며, 통상적으로 통신 네트워크를 통해 상호작용한다. 클라이언트와 서버의 관계는 각각의 컴퓨터에서 실행되고 서로 클라이언트-서버 관계를 갖는 컴퓨터 프로그램으로 인해 발생한다.The computing system can include a client and a server. Clients and servers are generally remote from each other and typically interact via a communication network. The relationship between client and server occurs due to computer programs running on each computer and having a client-server relationship with each other.

여기에서 사용된 방향 용어들(예컨대, 위, 아래, 오른쪽, 왼쪽, 앞, 뒤, 상부, 하부)는 그려진 도면들만을 참조하여 이루어진 것으로, 절대 방향을 의미하지는 않는다.Directional terms used herein (eg, up, down, right, left, front, back, top, bottom) are made only with reference to the drawings, and do not mean absolute directions.

본원에 사용된 용어 "그", "하나" 또는 "한"은 "적어도 하나"를 의미하고, 달리 명시적으로 나타내지 않는 한 "하나만"으로 제한되지 않아야 한다. 따라서, 예를 들어, "구성 요소"에 대한 언급은 문맥 상 명백하게 다르게 나타내지 않는 한 둘 이상의 그와 같은 구성 요소를 갖는 실시예들을 포함한다.As used herein, the term “that”, “one” or “one” means “at least one” and should not be limited to “only one” unless expressly indicated otherwise. Thus, for example, reference to "an element" includes embodiments having two or more such elements unless the context clearly indicates otherwise.

본원에 사용된 바와 같이, 용어 "약"은 양, 크기, 제형, 파라미터, 및 다른 양 및 특성이 정확하지는 않고 정확할 필요는 없지만, 공차, 변환 계수, 반올림, 측정 에러 등과, 당업자에게 알려진 다른 요소들을 반영하여 원하는 대로 근사시키거나 그리고/또 더 크게 하거나 작게 할 수 있음을 의미한다. 용어 "약"이 범위의 값 또는 끝점을 기술하는데 사용될 때, 본 개시는 언급된 특정 값 또는 끝점을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 명세서에서 수치 또는 범위의 끝점에 대해 "약"이 언급되는지 여부에 관계없이, 범위의 수치 또는 끝점은 2개의 실시예, 즉 "약"에 의해 변형된 것과 "약"에 의해 변형되지 않은 것을 포함하는 것으로 의도된다. 각 범위의 끝점은 다른 끝점과 관련하여 그리고 다른 끝점과 무관하게 중요하다는 것을 더 이해해야 할 것이다.As used herein, the term "about" means that the quantity, size, formulation, parameters, and other quantities and characteristics are not accurate and need not be accurate, but tolerances, conversion factors, rounding, measurement errors, and the like are known to those skilled in the art. This means that they can be approximated and / or made larger or smaller as desired. When the term "about" is used to describe a value or endpoint in a range, it is to be understood that the present disclosure includes the specific value or endpoint mentioned. Regardless of whether "about" is referred to herein for an endpoint of a numerical value or range, the numerical value or endpoint of the range is modified by two embodiments, "about" and that is not modified by "about". It is intended to be included. It should be further understood that the endpoint of each range is important in relation to and independent of the other endpoints.

본원에 사용된 용어 "실질적인", "실질적으로", 및 그 변형은 설명된 형태가 값 또는 설명과 동일하거나 대략 동일하다는 것을 주목하도록 의도된다. 예를 들어, "실질적으로 평면인" 표면은 평면이거나 대략 평면인 표면을 나타내도록 의도된다. 또한, 위에서 정의된 바와 같이, "실질적으로 유사한"은 두 값이 동일하거나 대략 동일하다는 것을 나타내도록 의도된다. 일부의 실시예에 있어서, "실질적으로 유사한"은 서로 약 10% 이내, 예컨대 서로 약 5% 이내, 또는 서로 약 2% 이내의 값을 나타낼 수 있다.As used herein, the terms "substantially", "substantially", and variations thereof are intended to be noted that the described form is equal to or approximately equal to the value or description. For example, a "substantially planar" surface is intended to represent a planar or approximately planar surface. Also, as defined above, “substantially similar” is intended to indicate that the two values are equal or approximately identical. In some embodiments, “substantially similar” may represent a value within about 10% of each other, such as within about 5% of each other, or within about 2% of each other.

상기 실시예들, 및 이들 실시예의 형태는 예시적인 것으로, 이들 단독으로, 또는 본 개시의 범위를 벗어나지 않고 본원에 제공된 다른 실시예들의 소정의 하나 이상의 형태와 임의의 조합으로 제공될 수 있다.The above embodiments, and forms of these embodiments, are exemplary and can be provided in any combination with any one or more of these embodiments alone or in any other embodiment provided herein without departing from the scope of the present disclosure.

본 개시의 사상 및 범위를 벗어나지 않으면서 본 개시에 대한 다양한 변경 및 변형이 이루어질 수 있음이 당업자에게 명백할 것이다. 따라서, 본 개시는 첨부된 청구범위 및 그 등가물의 범위 내에 있는 한 본 개시의 변경 및 변형을 포함하는 것으로 의도된다.It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made to the present disclosure without departing from the spirit and scope of the disclosure. Accordingly, it is intended that the present disclosure cover the modifications and variations of this disclosure provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents.

Claims (29)

기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법으로서,
상기 기판은 제1주표면, 제2주표면, 및 상기 기판의 제1주표면과 상기 기판의 제2주표면 간 규정된 두께를 포함하고;
상기 캐리어는 제1주표면, 제2주표면, 및 상기 캐리어의 제1주표면과 상기 캐리어의 제2주표면 간 규정된 두께를 포함하고;
상기 기판의 두께는 상기 캐리어의 두께보다 작고, 상기 기판의 제2주표면의 제1부분은 상기 캐리어의 제1주표면에 결합되고, 상기 기판의 제2주표면의 제1부분의 외부 경계는 상기 기판의 제2주표면과 상기 캐리어의 제1주표면 간 결합 인터페이스에 규정되고, 상기 기판의 제2주표면의 제2부분은 상기 외부 경계로부터 상기 캐리어의 외부 에지를 지나 상기 기판의 제2주표면의 제1부분으로부터 멀리 확장되며,
상기 방법은:
상기 외부 경계의 프로파일에 기초하여 제1경로를 규정하는 단계;
상기 캐리어의 외부 에지의 프로파일에 기초하여 제2경로를 규정하는 단계;
상기 제1경로와 제2경로 간 측방향으로 위치된 상기 기판 상에 분리 경로를 위치시키는 단계; 및
상기 분리 경로를 따라 상기 기판을 분리하는 단계를 포함하는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
A method of processing an apparatus comprising a substrate and a carrier,
The substrate comprises a first major surface, a second major surface, and a prescribed thickness between the first major surface of the substrate and the second major surface of the substrate;
The carrier comprises a first major surface, a second major surface, and a prescribed thickness between the first major surface of the carrier and the second major surface of the carrier;
The thickness of the substrate is less than the thickness of the carrier, the first portion of the second major surface of the substrate is coupled to the first major surface of the carrier, and the outer boundary of the first portion of the second major surface of the substrate is A second interface of the second major surface of the substrate and the first major surface of the carrier, the second portion of the second major surface of the substrate passing from the outer boundary past the outer edge of the carrier Extend away from the first part of the major surface,
The method is:
Defining a first path based on the profile of the outer boundary;
Defining a second path based on the profile of the outer edge of the carrier;
Positioning a separation path on the substrate located laterally between the first and second paths; And
Separating the substrate along the separation path.
청구항 1에 있어서,
상기 기판의 두께는 약 50 micron 내지 약 300 micron인, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 1,
And a substrate having a thickness of about 50 microns to about 300 microns.
청구항 1 또는 2에 있어서,
상기 기판의 재료는 유리, 유리-세라믹, 세라믹, 및 실리콘을 포함하는 그룹으로부터 선택되는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the material of the substrate is selected from the group comprising glass, glass-ceramic, ceramic, and silicon.
청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분리 단계는 기판의 제1주표면 상에 결함을 생성하는 단계를 포함하는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the separating step comprises creating a defect on the first major surface of the substrate.
청구항 4에 있어서,
상기 결함은 분리 경로를 따라 확장되는 스코어 라인을 포함하는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 4,
Wherein the defect comprises a score line extending along a separation path.
청구항 4 또는 5에 있어서,
상기 기판의 제1주표면부터 상기 기판의 제2주표면까지의 분리 경로를 따라 확장되는 전신 크랙(full-body crack)을 생성하기 위해, 상기 기판의 제2주표면의 제1부분이 상기 캐리어의 제1주표면에 결합되는 동안, 상기 결함을 확대하는 단계를 더 포함하는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 4 or 5,
A first portion of the second major surface of the substrate is formed by the carrier to create a full-body crack that extends along a separation path from the first major surface of the substrate to the second major surface of the substrate. Enlarging the defect while being coupled to the first major surface of the substrate.
청구항 6에 있어서,
상기 결함을 확대하는 단계는 상기 기판의 제2주표면의 제1부분이 상기 캐리어의 제1주표면에 결합되는 동안 상기 기판의 주변 부분에 힘을 인가하는 단계를 포함하는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 6,
Magnifying the defect includes applying a force to a peripheral portion of the substrate while the first portion of the second major surface of the substrate is coupled to the first major surface of the carrier. How to handle the device.
청구항 6에 있어서,
청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 캐리어의 외부 에지는 상기 캐리어의 제1주표면 및 상기 캐리어의 제2주표면과 교차하는 에지 표면을 포함하고, 상기 캐리어의 에지 표면과 제1주표면의 교차점은 외부 경계와 공통 경계 축을 따라 확장되는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 6,
The method according to any one of claims 1 to 7,
The outer edge of the carrier includes an edge surface that intersects the first major surface of the carrier and the second major surface of the carrier, the intersection of the edge surface of the carrier and the first major surface along an outer boundary and a common boundary axis. A method of processing an apparatus comprising a substrate and a carrier, which is extended.
청구항 8에 있어서,
상기 캐리어의 에지 표면은 원뿔 프로파일을 포함하는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 8,
Wherein the edge surface of the carrier comprises a conical profile.
청구항 1 내지 9 중 어느 한 항에 있어서,
제1경로를 규정하는 단계는 외부 경계의 제1의 복수의 포인트를 식별하는 단계를 포함하는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to any one of claims 1 to 9,
Defining a first path includes identifying a first plurality of points of an outer boundary.
청구항 10에 있어서,
제1라인을 상기 제1의 복수의 포인트에 맞추고, 이후 상기 제1경로를 상기 제1라인으로서 규정하는 단계를 더 포함하는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 10,
Aligning a first line to the first plurality of points, and then defining the first path as the first line.
청구항 1 내지 11 중 어느 한 항에 있어서,
제2경로를 규정하는 단계는 캐리어의 외부 에지의 제2의 복수의 포인트를 식별하는 단계를 포함하는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to any one of claims 1 to 11,
Defining a second path includes identifying a second plurality of points of an outer edge of the carrier.
청구항 12에 있어서,
제2라인을 상기 제2의 복수의 포인트에 맞추고, 이후 상기 제2경로를 상기 제2라인으로 규정하는 단계를 더 포함하는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 12,
And aligning a second line to the second plurality of points, and then defining the second path as the second line.
청구항 1 내지 13 중 어느 한 항에 있어서,
분리 경로는 선형인, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to any one of claims 1 to 13,
And wherein the separation path is linear.
청구항 1 내지 14 중 어느 한 항에 있어서,
제1경로 및 제2경로의 적어도 하나는 비-선형인, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to any one of claims 1 to 14,
Wherein at least one of the first path and the second path is non-linear.
청구항 15에 있어서,
제1경로는 비-선형이고 제2경로는 비-선형인, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 15,
Wherein the first path is non-linear and the second path is non-linear.
청구항 1 내지 16 중 어느 한 항 있어서,
분리 단계는 상기 캐리어의 외부 에지로부터 멀어지는 방향의 외부 경계로부터의 제1거리와 상기 캐리어의 외부 에지로 향하는 방향의 외부 경계로부터의 제2거리 간 측방향으로 규정된 새로운 외부 에지를 기판에 제공하는, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to any one of claims 1 to 16,
The separating step provides the substrate with a new outer edge defined laterally between a first distance from an outer boundary in a direction away from an outer edge of the carrier and a second distance from an outer boundary in a direction towards the outer edge of the carrier. And a device comprising a substrate and a carrier.
청구항 17에 있어서,
제1거리는 약 0 micron 내지 약 50 micron인, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 17,
Wherein the first distance is from about 0 microns to about 50 microns.
청구항 17 또는 18에 있어서,
제2거리는 약 0 micron 내지 약 150 micron인, 기판 및 캐리어를 포함하는 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 17 or 18,
And the second distance is from about 0 microns to about 150 microns.
제1주표면, 제2주표면, 및 상기 제1주표면과 제2주표면 간 규정된 두께를 포함하는 기판; 및
제1주표면, 제2주표면, 및 상기 제1주표면과 제2주표면 간 규정된 두께를 포함하는 캐리어를 포함하며,
상기 기판의 두께는 상기 캐리어의 두께보다 작고, 상기 기판의 제2주표면은 상기 캐리어의 제1주표면에 결합되고, 상기 기판의 외부 에지는 상기 캐리어의 외부 에지를 측방향으로 둘러싸고,
상기 기판은 상기 기판의 중앙 부분을 측방향으로 둘러싸는 연속 경계를 포함하는 분리 경로를 포함하고,
상기 캐리어의 외부 에지는 분리 경로의 연속 경계를 측방향으로 둘러싸고, 상기 분리 경로는 제1분리 경로, 제2분리 경로, 및 제3분리 경로를 포함하는 복수의 교차 분리 경로를 포함하고, 상기 제1분리 경로는 상기 제2분리 경로와 교차하고, 상기 제3분리 경로는 상기 제1분리 경로 및 제2분리 경로와 교차하고, 상기 기판의 제1주변 부분은 상기 기판의 외부 에지와 상기 제1분리 경로 간 규정되고, 상기 기판의 제2주변 부분은 상기 기판의 외부 에지와 상기 제2분리 경로 간 규정되며, 상기 기판의 모서리 부분은 상기 제3분리 경로, 상기 기판의 제1주변 부분, 및 상기 기판의 제2주변 부분 간 규정되는, 장치.
A substrate comprising a first major surface, a second major surface, and a thickness defined between the first major surface and the second major surface; And
A carrier comprising a first major surface, a second major surface, and a thickness defined between the first major surface and the second major surface,
The thickness of the substrate is less than the thickness of the carrier, the second major surface of the substrate is coupled to the first major surface of the carrier, the outer edge of the substrate surrounds the outer edge of the carrier,
The substrate includes a separation path including a continuous boundary that laterally surrounds a central portion of the substrate,
The outer edge of the carrier laterally surrounds a continuous boundary of the separation path, the separation path comprising a plurality of cross separation paths including a first separation path, a second separation path, and a third separation path, A first separation path intersects the second separation path, the third separation path intersects the first separation path and the second separation path, and a first peripheral portion of the substrate has an outer edge of the substrate and the first separation path. A second peripheral portion of the substrate is defined between the separation path, and a second peripheral portion of the substrate is defined between the outer edge of the substrate and the second separation path, the edge portion of the substrate is the third separation path, the first peripheral portion of the substrate, and And defined between the second peripheral portion of the substrate.
청구항 20에 있어서,
상기 기판의 두께는 약 50 micron 내지 약 300 micron인, 장치.
The method of claim 20,
And the substrate has a thickness of about 50 microns to about 300 microns.
청구항 20 또는 21에 있어서,
상기 기판의 재료는 유리, 유리-세라믹, 세라믹, 및 실리콘을 포함하는 그룹으로부터 선택되는, 장치.
The method according to claim 20 or 21,
The material of the substrate is selected from the group comprising glass, glass-ceramic, ceramic, and silicon.
청구항 20 내지 22 중 어느 한 항의 장치를 처리하는 방법으로서, 상기 방법은:
복수의 교차 분리 경로의 각 경로를 기판 상에 위치시키는 단계; 및
상기 복수의 교차 분리 경로의 각 경로를 따라 기판을 분리하는 단계를 포함하는, 장치를 처리하는 방법.
A method of treating the apparatus of claim 20, wherein the method comprises:
Positioning each path of the plurality of cross separation paths on the substrate; And
Separating the substrate along each path of the plurality of cross separation paths.
청구항 23에 있어서,
분리 단계는 기판의 제2주표면이 캐리어의 제1주표면에 결합되는 동안 수행되는, 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 23,
And wherein the separating step is performed while the second major surface of the substrate is joined to the first major surface of the carrier.
청구항 23 또는 24에 있어서,
복수의 교차 분리 경로의 각 경로는 상기 복수의 교차 분리 경로의 다른 경로와 독립적으로 기판 상에 위치되는, 장치를 처리하는 방법.
The method according to claim 23 or 24,
Wherein each path of the plurality of cross separation paths is located on a substrate independently of other paths of the plurality of cross separation paths.
청구항 23 내지 25 중 어느 한 항에 있어서,
분리 단계는 제1분리 경로를 따라 기판의 중앙 부분으로부터 기판의 제1주변 부분을 분리하고, 제2분리 경로를 따라 기판의 중앙 부분으로부터 기판의 제2주변 부분을 분리하며, 제3분리 경로를 따라 기판의 중앙 부분으로부터 기판의 모서리 부분을 분리하는 단계를 포함하는, 장치를 처리하는 방법.
The method according to any one of claims 23 to 25,
The separating step separates the first peripheral portion of the substrate from the central portion of the substrate along the first separation path, separates the second peripheral portion of the substrate from the central portion of the substrate along the second separation path, and removes the third separation path. Accordingly separating the corner portion of the substrate from the central portion of the substrate.
청구항 23 내지 26 중 어느 한 항에 있어서,
기판의 제2주표면의 제1부분은 캐리어의 제1주표면에 결합되고, 상기 기판의 제2주표면의 제1부분의 외부 경계는 상기 기판의 제2주표면과 상기 캐리어의 제1주표면 간 결합 인터페이스에 규정되고, 상기 기판의 제2주표면의 제2부분은 상기 외부 경계로부터 상기 캐리어의 외부 에지를 지나 상기 기판의 제2주표면의 제1부분으로 멀리 확장되며,
분리 단계는 상기 중앙 부분을 측방향으로 둘러싸고 상기 캐리어의 외부 에지로부터 멀어지는 방향의 외부 경계로부터의 제1거리와 상기 캐리어의 외부 에지로 향하는 방향의 외부 경계로부터의 제2거리 간 측방향으로 규정된 새로운 외부 에지를 기판에 제공하는, 장치를 처리하는 방법.
The method according to any one of claims 23 to 26,
The first portion of the second major surface of the substrate is coupled to the first major surface of the carrier, and the outer boundary of the first portion of the second major surface of the substrate is the second major surface of the substrate and the first principal of the carrier. Defined in an interfacial coupling interface, the second portion of the second major surface of the substrate extends away from the outer boundary past the outer edge of the carrier to the first portion of the second major surface of the substrate,
The separating step is defined laterally between the first distance from the outer boundary in the direction surrounding the central portion and away from the outer edge of the carrier and the second distance from the outer boundary in the direction towards the outer edge of the carrier. Providing a new outer edge to the substrate.
청구항 27에 있어서,
제1거리는 약 0 micron 내지 약 50 micron인, 장치를 처리하는 방법.
The method of claim 27,
The first distance is about 0 micron to about 50 micron.
청구항 27 또는 28에 있어서,
제2거리는 약 0 micron 내지 약 150 micron인, 장치를 처리하는 방법.
The method of claim 27 or 28,
And the second distance is about 0 microns to about 150 microns.
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