KR20200002240A - Decorative film - Google Patents

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Abstract

The invention relates to a decorative film, which comprises a first film including a transparent resin layer, and a second film including a decorative layer. The first film comprises the transparent resin layer and a transparent metal oxide layer disposed on the transparent resin layer, and the second film comprises a base layer and a decorative layer disposed on the base layer. In addition, the transparent metal oxide layer is disposed between the transparent resin layer and the decorative layer and consists of high refractive index metal oxide.

Description

장식필름{DECORATIVE FILM}Decorative film {DECORATIVE FILM}

발명은 장식필름에 관한 것이다. The invention relates to a decorative film.

장식필름은, 건축물의 내외장재, 자동차용 내외장재, 전자제품의 내외장재 등에, 그림, 문자, 숫자, 무늬, 입체감 등의 다양한 장식효과를 제공할 수 있는 표면 마감재이다. The decorative film is a surface finishing material that can provide various decorative effects such as pictures, letters, numbers, patterns, and three-dimensional effects to interior and exterior materials of buildings, interior and exterior materials for automobiles, interior and exterior materials of electronic products, and the like.

장식필름의 치장을 위해, 투명 수지층 상에 직접 장식층을 형성하거나 또는 투명 수지층 상에 직접 금속 증착층을 형성하는 것이 일반적이다. For decoration of the decorative film, it is common to form a decorative layer directly on the transparent resin layer or to form a metal deposition layer directly on the transparent resin layer.

투명 수지층 상에 장식층을 직접 형성하는 종래의 방법으로 얻어진 장식필름은 투명 수지층과 장식층의 사이를 깊게 보이게 하는데 한계가 있었다. The decorative film obtained by the conventional method of directly forming the decorative layer on the transparent resin layer has a limit in making the transparent resin layer and the decorative layer appear deep.

또한, 투명 수지층 상에 금속 증착층을 직접 형성하는 종래의 방법으로 얻어진 장식필름은 금속의 낮은 광투과율로 인해, 금속 특유의 광택감과 장식층의 시인성을 동시에 만족시키는 것이 어려웠다. In addition, the decorative film obtained by the conventional method of directly forming the metal deposition layer on the transparent resin layer, due to the low light transmittance of the metal, it was difficult to satisfy the glossiness peculiar to the metal and visibility of the decorative layer at the same time.

발명은 상기한 종래 방법의 문제점을 해결할 수 있는 장식필름을 제공하고자 한다.The present invention is to provide a decorative film that can solve the problems of the conventional method described above.

발명은 투명 수지층과 장식층의 사이를 깊게 보이게 할 수 있고, 광택감 및 장식층의 시인성을 동시에 제공할 수 있는 장식필름을 제공하고자 한다.The present invention is to provide a decorative film that can make a deep visible between the transparent resin layer and the decorative layer, and can simultaneously provide glossiness and visibility of the decorative layer.

발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 것으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problem to be solved by the present invention is not limited to those mentioned above, and the problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

발명에 따른 장식필름은 투명필름과 장식층을 포함한다. 상기 투명필름은 투명 수지층과 투명 금속 산화물층을 포함하고, 상기 투명 금속 산화물층은 상기 투명 수지층 상에 배치된다. 상기 장식층은 상기 투명 금속 산화물층 상에 배치된다. 상기 투명 금속 산화물층은 상기 투명 수지층과 상기 장식층의 사이에 배치된다.Decorative film according to the invention comprises a transparent film and a decorative layer. The transparent film includes a transparent resin layer and a transparent metal oxide layer, and the transparent metal oxide layer is disposed on the transparent resin layer. The decorative layer is disposed on the transparent metal oxide layer. The transparent metal oxide layer is disposed between the transparent resin layer and the decorative layer.

상기 투명 금속 산화물층은 굴절률이 1.7 내지 2.4 인 금속 산화물로 이루어지며, 상기 굴절률이 1.7 내지 2.4 인 금속 산화물은 전이금속 산화물, 전이후금속 산화물 및 이들의 조합으로부터 이루어진 군에서 선택된 어느 하나이다.The transparent metal oxide layer is made of a metal oxide having a refractive index of 1.7 to 2.4, and the metal oxide having a refractive index of 1.7 to 2.4 is any one selected from the group consisting of transition metal oxide, post-transition metal oxide, and combinations thereof.

상기 투명필름은 하기 (1) 및 (2)를 만족한다.The transparent film satisfies the following (1) and (2).

(1) (R1-R2)/R1 비의 절대값이 0.01 내지 2.0 이다. 이 때, R1은 상기 투명 수지층의 반사율이며, R2는 상기 투명필름의 반사율이고, (R1-R2)는 상기 투명 수지층의 반사율과 상기 투명필름의 반사율의 차이이다. (R1-R2)/R1 비는 (R1-R2)를 R1으로 나눈 값이다. (1) The absolute value of the (R1-R2) / R1 ratio is 0.01 to 2.0. At this time, R1 is the reflectance of the transparent resin layer, R2 is the reflectance of the transparent film, (R1-R2) is the difference between the reflectance of the transparent resin layer and the reflectance of the transparent film. The (R1-R2) / R1 ratio is a value obtained by dividing (R1-R2) by R1.

(2) 가시광선 파장대(x)와 상기 투명필름의 반사율(y)의 함수 y=f(x)의 그래프에서 f'(x) = 0 인 점이 4 개 이하이다. 상기 가시광선 파장대는 360nm 내지 740nm의 파장대를 의미한다. (2) In the graph of the function y = f (x) of the visible light wavelength band (x) and the reflectance (y) of the transparent film, there are four or less points with f '(x) = 0. The visible light wavelength band refers to a wavelength band of 360nm to 740nm.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings.

발명은 투명 수지층과 장식층의 사이를 깊게 보이게 할 수 있는 장식필름을 제공할 수 있다. 구체적으로, 발명은 고굴절률의 금속 산화물로 이루어진 투명 금속 산화물층을 장식층과 투명 수지층의 사이에 배치시킴으로써, 관찰자가 장식필름을 투명 수지층의 상부에서 관찰할 때, 관찰자에게 장식층과 투명 수지층의 사이에 유리막이 개재된 것과 같은 깊이감을 제공할 수 있다. The invention can provide a decorative film which can make the transparent resin layer and the decorative layer visible deeply. Specifically, the invention is by placing a transparent metal oxide layer made of a high refractive index metal oxide between the decorative layer and the transparent resin layer, when the observer observes the decorative film from the top of the transparent resin layer, the decorative layer and transparent to the observer A sense of depth such as a glass film interposed between the resin layers can be provided.

발명은 광택감 및 장식층의 시인성을 동시에 만족하는 장식필름을 제공할 수 있다. 구체적으로, 발명은 투명 금속 산화물층을 투명 수지층과 장식층의 사이에 배치시킴으로써, 관찰자가 장식필름을 투명 수지층의 상부에서 관찰할 때, 관찰자에게 장식층의 시인성을 제공할 수 있다. 또한, 발명은 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대)에서의 투명 수지층의 반사율과 투명필름의 반사율의 차이를 제어함으로써, 관찰자가 장식필름을 투명 수지층의 상부에서 관찰할 때, 관찰자에게 광택감을 제공할 수 있다. The invention can provide a decorative film that satisfies the glossiness and visibility of the decorative layer at the same time. Specifically, the invention can arrange the transparent metal oxide layer between the transparent resin layer and the decorative layer, thereby providing the viewer with visibility of the decorative layer when the observer observes the decorative film from above the transparent resin layer. In addition, the invention controls the difference between the reflectance of the transparent resin layer and the reflectance of the transparent film in the visible light wavelength band (wavelength range of 360nm to 740nm), so that when the observer observes the decorative film from above the transparent resin layer, Can be provided.

발명은 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대)에서의 투명필름의 반사율 그래프의 패턴을 제어함으로써, 모아레 현상의 개선할 수 있으므로, 관찰자가 장식필름을 투명 수지층의 상부에서 관찰할 때, 관찰자에게 깊이감, 광택감, 장식층의 시인성 및 우수한 디자인 품질을 제공할 수 있다.The present invention can improve the moiré phenomenon by controlling the pattern of the reflectance graph of the transparent film in the visible light wavelength band (wavelength band of 360 nm to 740 nm), so that when the observer observes the decorative film from above the transparent resin layer, It can provide a sense of depth, gloss, visibility of the decorative layer, and excellent design quality.

발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effects according to the invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present specification.

도 1은 일 실시예에 따른 장식필름의 모식적인 단면도이다.
도 2 내지 도 6에는 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대)에서의 제1 필름의 반사율 그래프들이 도시되어 있다.
도 2는 투명 오산화티탄(Ti3O5)층이 구비된 제1 필름에 관한 것이다.
도 3은 투명 산화니오븀(Nb2O5)층이 구비된 제1 필름에 관한 것이다.
도 4 및 도 5는 각각 투명 산화알루미늄(Al2O3)층이 구비된 제1 필름에 관한 것이다.
도 6은 투명 주석산화물(SnO)층이 구비된 제1 필름에 관한 것이다.
도 7은 다른 일 실시예에 따른 장식필름의 모식적인 단면도이다.
도 8은 또 다른 일 실시예에 따른 장식필름의 모식적인 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a decorative film according to an embodiment.
2 to 6 show reflectance graphs of the first film in the visible light wavelength band (wavelength band of 360 nm to 740 nm).
2 relates to a first film provided with a transparent titanium pentoxide (Ti 3 O 5 ) layer.
3 relates to a first film having a transparent niobium oxide (Nb 2 O 5 ) layer.
4 and 5 relate to a first film provided with a transparent aluminum oxide (Al 2 O 3 ) layer, respectively.
6 relates to a first film having a transparent tin oxide (SnO) layer.
7 is a schematic cross-sectional view of a decorative film according to another embodiment.
8 is a schematic cross-sectional view of a decorative film according to another embodiment.

발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되는 실시형태들과 실험예들을 참조하면 명확해질 것이다. 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 기술의 사상을 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 그 기술의 사상이 제한되는 것으로 해석되어서는 아니됨을 유의해야 한다.Advantages and features of the present invention, and a method of accomplishing the same will be apparent with reference to the embodiments and experimental examples described below in detail together with the accompanying drawings. It is to be noted that the accompanying drawings are only for easily understanding the spirit of the technology disclosed in the present specification and are not to be construed as limiting the spirit of the technology by the accompanying drawings.

또한, 발명은 이하에서 개시되는 내용에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 이하에서 게시되는 내용은 발명의 개시가 완전하도록 하며, 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이고, 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. In addition, the invention is not limited to the contents disclosed below but may be embodied in various forms, the contents disclosed below to complete the disclosure of the invention, the invention to those skilled in the art to which the invention belongs It is provided to fully inform the scope of the invention, and the invention is only defined by the scope of the claims.

관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 기술의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략할 수 있다. If it is determined that the detailed description of the related known technology may obscure the gist of the technology, the detailed description may be omitted.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 도면에서 층 및 영역들의 크기 및 상대적인 크기는 설명의 명료성을 위해 과장된 것일 수 있다.Like reference numerals refer to like elements throughout. In the drawings, the sizes and relative sizes of layers and regions may be exaggerated for clarity.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것으로, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 제1 구성요소는 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are of course not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from other components, and unless the description clearly indicates otherwise, the first component may be the second component.

명세서 전체에서, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 각 구성요소는 단수일 수도 있고 복수일 수도 있다. Throughout the specification, unless otherwise stated, each component may be singular or plural.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함하는(including)", "가진(having)" 이라고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. Throughout the specification, when a part is referred to as "including", "having" a certain component, this is not to exclude other components, except to describe other components unless specifically stated otherwise It means you can include.

명세서 전체에서, "A 및/또는 B" 라고 할 때, 이는 특별한 반대되는 기재가 없는 한, A, B 또는 A 및 B 를 의미하며, "C 내지 D" 라고 할 때, 이는 특별한 반대되는 기재가 없는 한, C 이상이고 D 이하인 것을 의미한다.Throughout the specification, when referred to as "A and / or B", unless otherwise stated, means A, B or A and B, and when referred to as "C to D", this means that Unless otherwise, it means more than C and less than D.

소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층의 "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 다른 소자 또는 층의 바로 위 뿐만 아니라 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않은 것을 나타낸다.When elements or layers are referred to as "on" or "on" of another element or layer, intervening other elements or layers as well as intervening another layer or element in between It includes everything. On the other hand, when a device is referred to as "directly on" or "directly on" indicates that no device or layer is intervened in the middle.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. The spatially relative terms " below ", " beneath ", " lower ", " above ", " upper " It may be used to easily describe the correlation of a device or components with other devices or components. Spatially relative terms are to be understood as including terms in different directions of the device in use or operation in addition to the directions shown in the figures.

이하, 도면을 참고하여, 발명에 대해 보다 상세하게 설명하기로 한다. Hereinafter, with reference to the drawings, the invention will be described in more detail.

도 1은 일 실시예에 따른 장식필름(100)의 모식적인 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a decorative film 100 according to an embodiment.

도 1을 참조하면, 장식필름(100)은 제1 필름(110)과 장식층(120)을 포함한다. 제1 필름(110)은 투명 수지층(111)과 투명 금속산화물층(112)을 포함한다. 장식층(120)은 투명 금속산화물층(112) 상에 배치된다. 다시 말하면, 투명 금속산화물층(112)은 투명 수지층(111)과 장식층(120)의 사이에 배치된다. Referring to FIG. 1, the decorative film 100 includes a first film 110 and a decoration layer 120. The first film 110 includes a transparent resin layer 111 and a transparent metal oxide layer 112. The decoration layer 120 is disposed on the transparent metal oxide layer 112. In other words, the transparent metal oxide layer 112 is disposed between the transparent resin layer 111 and the decoration layer 120.

장식필름(100)은 기재층(130)을 더 포함할 수 있다. 장식층(120)은 기재층(130) 상에 배치된다. 다시 말하면, 장식층(120)은 제1 필름(110)과 기재층(130)의 사이에 배치된다.The decorative film 100 may further include a base layer 130. The decoration layer 120 is disposed on the base layer 130. In other words, the decoration layer 120 is disposed between the first film 110 and the base layer 130.

제1 필름(110)은 투명 금속산화물층(112)이 투명 수지층(111) 상에 직접 배치된 구조를 가진 투명필름이며, 관찰자가 장식필름(100)을 투명 수지층(111)의 상부에서 관찰할 때, 관찰자는 제1 필름(110)의 하부에 배치된 장식층(120)을 시인할 수 있다. 제1 필름(110)은 파장 580nm 에서의 광학밀도(Optical density; O.D.)가 0.1 미만이다.The first film 110 is a transparent film having a structure in which the transparent metal oxide layer 112 is disposed directly on the transparent resin layer 111, and the observer places the decorative film 100 on the transparent resin layer 111. When observing, the observer can visually recognize the decorative layer 120 disposed under the first film 110. The first film 110 has an optical density (OD) of less than 0.1 at a wavelength of 580 nm.

장식필름(100)은 투명 금속산화물층(112)이 투명 수지층(111)과 장식층(120)의 사이에 배치된 구조를 가지며, 제1 필름(110)은 하기 (1) 및 (2)를 만족한다.The decorative film 100 has a structure in which the transparent metal oxide layer 112 is disposed between the transparent resin layer 111 and the decorative layer 120, and the first film 110 has the following (1) and (2) Satisfies.

발명자들은 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대)에서의 투명 수지층(111)과 제1 필름(110)의 반사율의 차이와 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대)에서의 제1 필름(110)의 반사율 그래프의 패턴을 제어하는 것에 의해, 관찰자가 장식필름(100)을 투명 수지층(111)의 상부에서 관찰할 때, 관찰자에게 광택감, 장식층(120)의 시인성 및 디자인 품질이 우수한 장식필름(100)을 얻을 수 있었다. The inventors have compared the difference in reflectance between the transparent resin layer 111 and the first film 110 in the visible light wavelength band (wavelength band of 360 nm to 740 nm) and the first film 110 in the visible light wavelength band (wavelength band of 360 nm to 740 nm). By controlling the pattern of the reflectance graph of the, when the observer observes the decorative film 100 from the top of the transparent resin layer 111, the decorative film excellent in the glossiness, visibility of the decorative layer 120 and design quality to the observer 100 could be obtained.

(1) (R1-R2)/R1 비의 절대값이 0.01 내지 2.0 이다. 이 때, R1은 투명 수지층(111)의 반사율이며, R2는 제1 필름(110)의 반사율이고, (R1-R2)는 투명 수지층(111)의 반사율과 제1 필름(110)의 반사율의 차이이다. (R1-R2)/R1 비는 (R1-R2)를 R1 으로 나눈 값이다.  (1) The absolute value of the (R1-R2) / R1 ratio is 0.01 to 2.0. In this case, R1 is a reflectance of the transparent resin layer 111, R2 is a reflectance of the first film 110, (R1-R2) is a reflectance of the transparent resin layer 111 and the reflectance of the first film 110. Is the difference. The (R1-R2) / R1 ratio is a value obtained by dividing (R1-R2) by R1.

(R1-R2)/R1 비의 절대값이 0.01 내지 2.0 을 벗어나는 경우, 투명 수지층(111) 대비 제1 필름(110)의 반사율의 증가가 미비하여, 장식필름(100)은 광택감을 구현하기 어렵다. When the absolute value of the (R1-R2) / R1 ratio is more than 0.01 to 2.0, the increase in reflectance of the first film 110 is insignificant compared to the transparent resin layer 111, so that the decorative film 100 may realize a glossiness. It is difficult.

(2) 가시광선 파장대(x)와 제1 필름(110)의 반사율(y)의 함수 y=f(x)의 그래프에서 f'(x) = 0 인 점이 4 개 이하이다. 상기 가시광선 파장대는 360nm 내지 740nm의 파장대를 의미한다. f'(x) 는 f(x)의 도함수이다. f'(x) = 0 인 점은 y=f(x)의 기울기가 0인 점을 의미하며, 다시 말하면, f'(x) = 0 인 점은 그 점에서의 임의의 접선의 기울기가 0 인 것을 의미한다. (2) In the graph of the function y = f (x) of the visible light wavelength band x and the reflectance y of the first film 110, f '(x) = 0 is four or less. The visible light wavelength band refers to a wavelength band of 360nm to 740nm. f '(x) is the derivative of f (x). A point with f '(x) = 0 means a point at which y = f (x) has a slope of 0, that is, a point with f' (x) = 0 has a slope of any tangent at that point with 0 Means to be.

f'(x) = 0 인 점이 4 개를 초과하는 경우, 제1 필름(110)에는 모아레(moire) 현상이 발생한다. 모아레 현상은 장식층(120)의 시인성을 훼손하여 장식필름(100)의 디자인 품질을 저하시키므로, 제1 필름(110)에서 모아레 현상의 발생을 방지하기 위해, f'(x) = 0 인 점은 4 개 이하로 제어되어야 한다. f'(x) = 0 인 점이 4 개 이하로 제어되는 것에 의해, 발명은 모아레 현상의 발생이 억제되어 장식층(120)의 시인성이 향상되고 디자인 품질이 향상된 장식필름(100)을 제공할 수 있다.When more than four points having f '(x) = 0, a moire phenomenon occurs in the first film 110. The moiré phenomenon degrades the design quality of the decorative film 100 by impairing the visibility of the decorative layer 120, and thus, in order to prevent occurrence of the moiré phenomenon in the first film 110, a point f '(x) = 0 Should be controlled to no more than four. By controlling the point at which f '(x) = 0 is 4 or less, the invention can suppress the occurrence of moiré phenomenon to provide the decorative film 100 having improved visibility of the decorative layer 120 and improved design quality. have.

투명 수지층(111)은 공기에 비해 고굴절률을 가진 투명 합성수지로 이루어질 수 있다. 투명 수지층(111)은, 예를 들어, 굴절률이 1.3 초과 1.7 미만인 투명 합성수지 필름으로 이루어질 수 있으며, 투명 합성수지의 예로는, 폴리에스테르계 수지필름, 폴리올레핀계 수지필름, 폴리아미드계 수지필름, 폴리아크릴레이트계 수지필름, 열가소성 폴리우레탄계 수지필름, 폴리카보네이트계 수지필름, ABS(Acrylonitrile-Butadiene-Styrene) 수지필름 등을 들 수 있다. 폴리에스테르계 수지필름의 예로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지필름을 들 수 있고, 폴리아미드계 수지필름의 예로는 나일론 수지필름을 들 수 있다. The transparent resin layer 111 may be made of a transparent synthetic resin having a higher refractive index than air. The transparent resin layer 111 may be formed of, for example, a transparent synthetic resin film having a refractive index greater than 1.3 and less than 1.7. Examples of the transparent synthetic resin may include a polyester resin film, a polyolefin resin film, a polyamide resin film, and a poly resin. And acrylate resin films, thermoplastic polyurethane resin films, polycarbonate resin films, and ABS (Acrylonitrile-Butadiene-Styrene) resin films. Examples of the polyester resin film may include a polyethylene terephthalate (PET) resin film, and examples of the polyamide resin film may include a nylon resin film.

투명 수지층(111)의 두께는, 예를 들어, 약 10 ㎛ 내지 약 100 ㎛ 일 수 있다. 투명 수지층(111)의 두께가 약 10 ㎛ 미만인 경우 제1 필름(110)의 가공성과 취급성이 불리하며, 투명 수지층(111)의 두께가 약 100 ㎛ 초과인 경우 장식필름(100)의 가격 경쟁력이 저하될 수 있다. 상기한 이유로, 투명 수지층(111)의 두께는, 예를 들어, 약 20 ㎛ 내지 약 80 ㎛ 일 수 있다. The thickness of the transparent resin layer 111 may be, for example, about 10 μm to about 100 μm. When the thickness of the transparent resin layer 111 is less than about 10 μm, the processability and handleability of the first film 110 are disadvantageous, and when the thickness of the transparent resin layer 111 is greater than about 100 μm, the thickness of the decorative film 100 is increased. Price competitiveness may deteriorate. For the above reason, the thickness of the transparent resin layer 111 may be, for example, about 20 μm to about 80 μm.

투명 금속산화물층(112)은 투명 수지층(111)에 비해 고굴절률을 가진 금속 산화물로 이루어진다. 투명 금속산화물층(112)은 스퍼터링법 또는 열증착법 등을 이용하여 얻어질 수 있다. The transparent metal oxide layer 112 is made of a metal oxide having a higher refractive index than the transparent resin layer 111. The transparent metal oxide layer 112 may be obtained using a sputtering method or a thermal evaporation method.

투명 수지층(111)을 경유하여 투명 금속산화물층(112)으로 입사된 빛은 투명 수지층(111)과 투명 금속산화물층(112)의 경계면을 지나면서 진행방향이 바뀌며, 투명 수지층(111)과 투명 금속산화물층(112)의 경계면에서의 빛의 굴절에 의해, 장식필름(100)은 제1 필름(110)의 하부에 배치된 장식층(120)이 제1 필름(110)의 내부에 떠 있는 것과 같은 입체감을 표현할 수 있다. Light incident on the transparent metal oxide layer 112 via the transparent resin layer 111 passes through an interface between the transparent resin layer 111 and the transparent metal oxide layer 112, and the direction of travel changes, and the transparent resin layer 111 ) By the refraction of light at the interface between the transparent metal oxide layer 112 and the decorative film 100, the decorative layer 120 disposed below the first film 110 is formed inside the first film 110. Can express the three-dimensional feeling like floating on.

따라서, 관찰자가 장식필름(100)을 투명 수지층(111)의 상부에서 관찰할 때, 장식필름(100)은 관찰자에게 장식층(120)과 투명 수지층(111)의 사이에 유리막이 개재된 것과 같은 깊이감을 제공할 수 있다. Therefore, when the observer observes the decorative film 100 from above the transparent resin layer 111, the decorative film 100 is provided to the observer with a glass film interposed between the decorative layer 120 and the transparent resin layer 111 It can provide the same sense of depth.

투명 금속산화물층(112)은 굴절률이 1.7 내지 2.4 인 금속 산화물로 이루어질 수 있다. 굴절률이 1.7 내지 2.4 인 금속 산화물은 전이금속 산화물, 전이후금속 산화물 및 이들의 조합으로부터 이루어진 군에서 선택된 어느 하나이다. 예를 들어, 굴절률이 1.7 내지 2.4인 금속 산화물은 AlxOy(0<x<3, 0<y<4), TixOy(0<x<4, 0<y<6), SnxOy(0<x<4, 0<y<5) 및 NbxOy(0<x<3, 0<y<6) 중에서 선택된 어느 하나일 수 있다. The transparent metal oxide layer 112 may be made of a metal oxide having a refractive index of 1.7 to 2.4. The metal oxide having a refractive index of 1.7 to 2.4 is any one selected from the group consisting of transition metal oxides, post transition metal oxides, and combinations thereof. For example, metal oxides with refractive indices of 1.7 to 2.4 are AlxOy (0 <x <3, 0 <y <4), TixOy (0 <x <4, 0 <y <6), SnxOy (0 <x <4 , 0 <y <5) and NbxOy (0 <x <3, 0 <y <6).

발명자들이 확인한 바에 따르면, 투명 금속산화물층(112)이 굴절률이 2.0 내지 2.4 인 금속 산화물로 이루어진 경우, 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대) 전 영역에서 제1 필름(110)의 반사율(R2)이 투명 수지층(111)의 반사율(R1)에 비해 컸다. 또한, 발명자들이 확인한 바에 따르면, 투명 금속산화물층(112)이 굴절률이 2.0 내지 2.4 인 금속 산화물로 이루어진 경우, (R1-R2)의 절대값이 투명 금속산화물층(112)이 굴절률이 1.7 이상 2.0 미만인 금속 산화물로 이루어진 경우에 비해 컸으며, 장식필름(100)의 광택감이 높았다. According to the inventors, when the transparent metal oxide layer 112 is made of a metal oxide having a refractive index of 2.0 to 2.4, the reflectance R2 of the first film 110 in the entire visible wavelength range (wavelength range of 360 nm to 740 nm) It was larger than the reflectance R1 of this transparent resin layer 111. In addition, according to the inventors, when the transparent metal oxide layer 112 is made of a metal oxide having a refractive index of 2.0 to 2.4, the absolute value of (R1-R2) is that the transparent metal oxide layer 112 has a refractive index of 1.7 or more and 2.0. Compared with the case where the metal oxide is less than, the glossiness of the decorative film 100 was high.

장식필름(100)의 광택감을 높이기 위해, 투명 금속산화물층(112)은 굴절률이 2.0 내지 2.4 인 금속 산화물로 이루어질 수 있다. 굴절률이 2.0 내지 2.4 인 금속 산화물은 전이금속 산화물, 전이후금속 산화물 및 이들의 조합으로부터 이루어진 군에서 선택된 어느 하나이다. 예를 들어, 굴절률이 2.0 내지 2.4인 금속 산화물은 TixOy(0<x<4, 0<y<6), SnxOy(0<x<4, 0<y<5) 및 NbxOy(0<x<3, 0<y<6) 중에서 선택된 어느 하나일 수 있다.In order to increase the glossiness of the decorative film 100, the transparent metal oxide layer 112 may be made of a metal oxide having a refractive index of 2.0 to 2.4. The metal oxide having a refractive index of 2.0 to 2.4 is any one selected from the group consisting of transition metal oxides, post-transition metal oxides, and combinations thereof. For example, metal oxides with refractive indices of 2.0 to 2.4 include TixOy (0 <x <4, 0 <y <6), SnxOy (0 <x <4, 0 <y <5) and NbxOy (0 <x <3 , 0 <y <6).

투명 금속산화물층(112)이 굴절률이 2.0 내지 2.4 인 금속 산화물로 이루어진 경우, 제1 필름(110)은 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대) 전 영역에서 제1 필름(110)의 반사율(R2)이 투명 수지층(111)의 반사율(R1)에 비해 크고, (R1-R2)/R1 비의 절대값이 0.04 내지 2.0 이며, f'(x) = 0 인 점이 4 개 이하인 것을 만족할 수 있다. When the transparent metal oxide layer 112 is formed of a metal oxide having a refractive index of 2.0 to 2.4, the first film 110 may have a reflectance (R2) of the first film 110 in the entire visible wavelength range (wavelength range of 360 nm to 740 nm). ) Is larger than the reflectance R1 of the transparent resin layer 111, the absolute value of the (R1-R2) / R1 ratio is 0.04 to 2.0, and f '(x) = 0 can be satisfied that four or less points. .

한편, 투명 금속산화물층(112)의 두께는 약 5 nm 내지 약 100 nm 일 수 있다. 투명 금속산화물층(112)의 두께가 약 100 nm 초과인 경우, 파동성이 커져 f'(x) = 0 인 점이 4 개를 초과하였다. Meanwhile, the thickness of the transparent metal oxide layer 112 may be about 5 nm to about 100 nm. When the thickness of the transparent metal oxide layer 112 was greater than about 100 nm, the wave property became large and f '(x) = 0 exceeded four points.

발명자들이 확인한 바에 따르면, 굴절률이 2.0 내지 2.4 인 금속 산화물로 이루어지고 두께가 약 10 nm 내지 약 80 nm 인 투명 금속산화물층(112)이 구비된 제1 필름(110)은, 굴절률이 2.0 내지 2.4 인 금속 산화물로 이루어지고 두께가 약 10 nm 미만인 투명 금속산화물층(112)이 구비된 제1 필름(110)에 비해 장식필름(100)에 높은 광택감을 제공하였다. According to the inventors, the first film 110 made of a metal oxide having a refractive index of 2.0 to 2.4 and having a transparent metal oxide layer 112 having a thickness of about 10 nm to about 80 nm has a refractive index of 2.0 to 2.4. Compared to the first film 110 made of phosphorus metal oxide and provided with a transparent metal oxide layer 112 having a thickness of less than about 10 nm, the decorative film 100 provided high glossiness.

광택감이 높은 장식필름(100)을 제공하기 위해, 투명 금속산화물층(112)의 두께는 약 10 nm 내지 약 80 nm 일 수 있고, 투명 금속산화물층(112)은 굴절률이 2.0 내지 2.4 인 금속 산화물로 이루어질 수 있다. 이 경우, 제1 필름(110)은 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대) 전 영역에서 투명 금속산화물층(112)의 반사율이 투명 수지층(111)의 반사율에 비해 크고, (R1-R2)/R1 비의 절대값이 0.1 내지 2.0 이며, f'(x) = 0 인 점이 4 개 이하인 것을 만족할 수 있다. In order to provide a high gloss decorative film 100, the thickness of the transparent metal oxide layer 112 may be about 10 nm to about 80 nm, the transparent metal oxide layer 112 is a metal oxide having a refractive index of 2.0 to 2.4 It may be made of. In this case, the reflectance of the transparent metal oxide layer 112 is greater than that of the transparent resin layer 111 in the entire region of the visible light wavelength band (the wavelength band of 360 nm to 740 nm), and (R1-R2). It can be satisfied that the absolute value of the / R1 ratio is 0.1 to 2.0, and four or less points having f '(x) = 0.

전술한 바와 같이, 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대)에서의 투명필름의 반사율 그래프가 파동성을 가지는 경우, 모아레 현상이 발생될 수 있다. 모아레 현상의 발생 가능성을 더욱 감소시키고 광택감이 높은 장식필름(100)을 얻기 위해, 제1 필름(110)은 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대) 전 영역에서 제1 필름(110)의 반사율(R2)이 투명 수지층(111)의 반사율(R1)에 비해 크고, (R1-R2)/R1 비의 절대값이 0.10 내지 2.0 이며, f'(x) = 0 인 점이 2 개 이하, 바람직하게는 1 개인 것을 만족할 수 있다. As described above, when the reflectance graph of the transparent film in the visible light wavelength band (wavelength band of 360nm to 740nm) has a wave property, the moiré phenomenon may occur. In order to further reduce the occurrence of moiré phenomenon and to obtain the decorative film 100 having high glossiness, the first film 110 has a reflectance of the first film 110 in the entire visible wavelength range (wavelength range of 360 nm to 740 nm). R2) is larger than the reflectance R1 of the transparent resin layer 111, the absolute value of the (R1-R2) / R1 ratio is 0.10 to 2.0, and two points or less where f '(x) = 0 is preferable. Can satisfy one individual.

장식층(120)은 인쇄층 및/또는 금속질감층일 수 있다. The decoration layer 120 may be a printing layer and / or a metal texture layer.

인쇄층은 색상 및/또는 무늬를 구비할 수 있다. 인쇄층은 색상 및/또는 무늬를 통해 장식필름(100)에 심미성을 부여하는 역할을 할 수 있다. The print layer may have color and / or pattern. The print layer may serve to impart aesthetics to the decorative film 100 through color and / or pattern.

인쇄층은 유색층 또는 투명층일 수 있다. 유색층을 형성하는 잉크의 조성이나 인쇄 방법 등은 특별히 한정되는 것이 아니다. 예를 들어, 아크릴계, 염화비닐-초산비닐 공중합체계, 우레탄계, 폴리 에스테르계, 섬유소 유도체계, 염소화 폴리프로필렌계, 폴리비닐 부티랄계 등의 1종 또는 2종 이상의 혼합계 인쇄 잉크 또는 도료를 사용하여 유색층이 형성될 수 있다. 인쇄층에는 전사 인쇄, 그라비어 인쇄, 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄, 로터리 인쇄 또는 플렉소 인쇄 등의 다양한 방식으로 무늬가 형성될 수 있다. The print layer may be a colored layer or a transparent layer. The composition, printing method and the like of the ink for forming the colored layer are not particularly limited. For example, using one or two or more mixed printing inks or paints such as acrylic, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, urethane, polyester, fibrin derivative, chlorinated polypropylene, polyvinyl butyral, etc. A colored layer can be formed. Patterns may be formed on the printed layer in various ways such as transfer printing, gravure printing, screen printing, offset printing, rotary printing, or flexographic printing.

금속질감층은 장식필름(100)에 금속질감을 부여하는 역할을 할 수 있다. 금속질감층은 금속소재를 스퍼터링(Sputtering), 열증착 등의 방법으로 투명 금속산화물층(112) 상에 증착하는 것에 의해 얻어질 수 있다. 금속질감층을 형성하는 금속소재로는 주석, 알루미늄, 구리, 은, 백금, 크롬, 니켈 또는 이들의 합금 등이 사용될 수 있다. The metal texture layer may serve to impart a metal texture to the decorative film 100. The metal texture layer may be obtained by depositing a metal material on the transparent metal oxide layer 112 by sputtering, thermal deposition, or the like. Tin, aluminum, copper, silver, platinum, chromium, nickel, or an alloy thereof may be used as the metal material for forming the metal texture layer.

장식층(120)이 인쇄층과 금속질감층을 모두 포함하는 경우, 인쇄층은 금속질감층 상에 형성될 수 있다. 다시 말하면, 장식층(120)이 인쇄층과 금속질감층을 모두 포함하는 경우, 장식필름(100)은 투명 금속산화물층(112)과 인쇄층의 사이에 금속질감층이 개재된 구조를 가질 수 있다. When the decorative layer 120 includes both the print layer and the metal texture layer, the print layer may be formed on the metal texture layer. In other words, when the decoration layer 120 includes both the print layer and the metal texture layer, the decoration film 100 may have a structure in which the metal texture layer is interposed between the transparent metal oxide layer 112 and the print layer. have.

장식층(120)의 두께는 약 5 nm 내지 약 10㎛ 일 수 있다. 장식층(120)은 금속질감층으로 이루어질 수도 있고, 금속질감층과 인쇄층의 적층구조를 포함할 수도 있다. 이 때, 금속질감층의 두께는 약 5 nm 내지 약 100 nm 일 수 있다.The decoration layer 120 may have a thickness of about 5 nm to about 10 μm. The decoration layer 120 may be formed of a metal texture layer, or may include a laminated structure of the metal texture layer and the print layer. In this case, the thickness of the metal texture layer may be about 5 nm to about 100 nm.

장식층(120)은 인쇄층으로 이루어질 수도 있고, 인쇄층과 금속질감층의 적층구조를 포함할 수도 있다. 이 때, 인쇄층의 두께는 약 0.1 ㎛ 내지 약 10 ㎛ 일 수 있다. 인쇄층의 두께가 상기 범위의 두께를 유지하는 것에 의해, 장식필름(100)은 정밀한 인쇄 효과를 구현할 수 있고, 건조성을 확보함으로써 가공성 및 생산성을 높일 수 있다.The decorative layer 120 may be formed of a printed layer, or may include a laminated structure of a printed layer and a metal texture layer. In this case, the thickness of the printed layer may be about 0.1 μm to about 10 μm. By maintaining the thickness of the print layer in the above range, the decorative film 100 can implement a precise printing effect, it is possible to increase the workability and productivity by ensuring dryness.

기재층(130)은 열가소성 수지 필름으로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 폴리에스테르계 수지필름, 폴리올레핀계 수지필름, 폴리아미드계 수지필름, 폴리아크릴레이트계 수지필름, 열가소성 폴리우레탄계 수지필름, 폴리카보네이트계 수지필름, ABS(Acrylonitrile-Butadiene-Styrene) 수지필름, 폴리염화비닐필름 등으로 이루어질 수 있다. 기재층(130)의 두께는 약 10㎛ 내지 약 100㎛ 일 수 있다. 기재층(130)의 두께가 약 10 ㎛ 미만인 경우 가공성 및 취급성이 불리하며, 기재층(130)의 두께가 약 100 ㎛ 초과인 경우 장식필름(100)의 제조비용을 상승시킬 수 있다. The base layer 130 may be formed of a thermoplastic resin film, for example, a polyester resin film, a polyolefin resin film, a polyamide resin film, a polyacrylate resin film, a thermoplastic polyurethane resin film, or a polycarbonate. It may be made of a resin film, ABS (Acrylonitrile-Butadiene-Styrene) resin film, polyvinyl chloride film and the like. The substrate layer 130 may have a thickness of about 10 μm to about 100 μm. When the thickness of the base layer 130 is less than about 10 μm, workability and handleability are disadvantageous, and when the thickness of the base layer 130 is more than about 100 μm, the manufacturing cost of the decorative film 100 may be increased.

하기 실시예 1 내지 9에서 얻은 투명필름을 이용하여 장식필름을 제조하였다. 장식층은 투명 금속산화물층 상에 형성되었다. A decorative film was prepared using the transparent film obtained in Examples 1 to 9 below. The decorative layer was formed on the transparent metal oxide layer.

실시예 1Example 1

투명 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도레이첨단소재, XM30, 25㎛) 상에 두께 5nm 의 투명 Ti3O5 층이 증착된 투명필름을 제조하였다.A transparent film in which a transparent Ti 3 O 5 layer having a thickness of 5 nm was deposited on a transparent polyethylene terephthalate (PET) film (Toray Advanced Materials, XM30, 25 μm) was prepared.

- 증착장비: UNIVAC-800-Evaporation Equipment: UNIVAC-800

- 증착원: Ti3O5 Deposition Source: Ti 3 O 5

- 진공도: 8.0 × 10-5 Torr-Degree of vacuum: 8.0 × 10 -5 Torr

실시예 2Example 2

두께 10nm 의 투명 Ti3O5 층을 투명 PET 필름 상에 증착한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명필름을 제조하였다.A transparent film was manufactured in the same manner as in Example 1, except that a transparent Ti 3 O 5 layer having a thickness of 10 nm was deposited on the transparent PET film.

실시예 3Example 3

두께 15nm 의 투명 Ti3O5 층을 투명 PET 필름 상에 증착한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명필름을 제조하였다.A transparent film was manufactured in the same manner as in Example 1, except that a transparent Ti 3 O 5 layer having a thickness of 15 nm was deposited on the transparent PET film.

실시예 4Example 4

두께 50nm 의 투명 Ti3O5 층을 투명 PET 필름 상에 증착한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명필름을 제조하였다.A transparent film was prepared in the same manner as in Example 1 except that a 50 nm thick transparent Ti 3 O 5 layer was deposited on the transparent PET film.

실시예 5Example 5

두께 100nm 의 투명 Ti3O5 층을 투명 PET 필름 상에 증착한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명필름을 제조하였다.A transparent film was prepared in the same manner as in Example 1 except that a 100 nm thick transparent Ti 3 O 5 layer was deposited on the transparent PET film.

실시예 6Example 6

투명 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도레이첨단소재, XM30, 25㎛) 상에 두께 80nm 의 투명 Nb2O5 층이 증착된 투명필름을 제조하였다.A transparent film on which a transparent Nb 2 O 5 layer having a thickness of 80 nm was deposited on a transparent polyethylene terephthalate (PET) film (Toray Advanced Materials, XM30, 25 μm) was prepared.

- 증착장비: UNIVAC-800-Evaporation Equipment: UNIVAC-800

- 증착원: Nb2O5 Deposition source: Nb 2 O 5

- 진공도: 8.0 × 10-5 Torr-Degree of vacuum: 8.0 × 10 -5 Torr

실시예 7Example 7

투명 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도레이첨단소재, XM30, 25㎛) 상에 두께 30nm 의 투명 Al2O3 층이 증착된 투명필름을 제조하였다.A transparent film in which a transparent Al 2 O 3 layer having a thickness of 30 nm was deposited on a transparent polyethylene terephthalate (PET) film (Toray Advanced Materials, XM30, 25 μm) was prepared.

- 증착장비: UNIVAC-800-Evaporation Equipment: UNIVAC-800

- 증착원: Al2O3 Deposition Source: Al 2 O 3

- 진공도: 8.0 × 10-5 Torr-Degree of vacuum: 8.0 × 10 -5 Torr

실시예 8Example 8

두께 15nm 의 투명 Al2O3 층을 투명 PET 필름 상에 증착한 것을 제외하고는 실시예 7과 동일한 방법으로 투명필름을 제조하였다.A transparent film was manufactured in the same manner as in Example 7, except that a transparent Al 2 O 3 layer having a thickness of 15 nm was deposited on the transparent PET film.

실시예 9Example 9

투명 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도레이첨단소재, XM30, 25㎛) 상에 두께 50nm 의 투명 SnO 층이 증착된 투명필름을 제조하였다.Transparent SnO having a thickness of 50 nm on a transparent polyethylene terephthalate (PET) film (Toray Advanced Materials, XM30, 25 μm) A transparent film on which a layer was deposited was prepared.

- 증착장비: UNIVAC-800-Evaporation Equipment: UNIVAC-800

- 증착원: Nb2O5 Deposition source: Nb 2 O 5

- 진공도: 8.0 × 10-5 Torr-Degree of vacuum: 8.0 × 10 -5 Torr

비교예 1Comparative Example 1

두께 300nm 의 투명 Ti3O5 층을 투명 PET 필름 상에 증착한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명필름을 제조하였다.A transparent film was prepared in the same manner as in Example 1 except that a 300 nm thick transparent Ti 3 O 5 layer was deposited on the transparent PET film.

비교예 2Comparative Example 2

투명 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도레이첨단소재, XM30, 25㎛) 상에 O.D.값이 0.6인 알루미늄 증착층이 형성된 금속증착필름을 제조하였다. On the transparent polyethylene terephthalate (PET) film (Toray Advanced Materials, XM30, 25 µm), a metal deposition film was formed on which an aluminum deposition layer having an O.D. value of 0.6 was formed.

- 증착장비: UNIVAC-800-Evaporation Equipment: UNIVAC-800

- 증착원: 알루미늄(Al)Evaporation source: aluminum (Al)

- 진공도: 8.0 × 10-5 Torr-Degree of vacuum: 8.0 × 10 -5 Torr

비교예 3Comparative Example 3

O.D.값이 0.4인 알루미늄 증착층을 PET 필름 상에 증착한 것을 제외하고는 비교예 2와 동일한 방법으로 금속증착필름을 제조하였다. A metal deposition film was prepared in the same manner as in Comparative Example 2 except that an aluminum deposition layer having an O.D. value of 0.4 was deposited on a PET film.

실험방법Experiment method

반사율 및 색차값Reflectance and Color Difference Values

CM-5(코니카 미놀타社)를 사용하여 실시예 및 비교예에서 얻은 필름에 대해 가시광선영역에서의 반사율과 색차값을 측정하였다. 반사율은 투명 수지층(PET 필름)의 방향에서 측정되었다.Using the CM-5 (Konica Minolta Co., Ltd.), the reflectance and color difference values in the visible region were measured for the films obtained in Examples and Comparative Examples. The reflectance was measured in the direction of the transparent resin layer (PET film).

광학밀도(O.D.)Optical Density (O.D.)

301x(X-lite社)를 사용하여 실시예 및 비교예에서 얻은 필름에 대해 O.D. 값을 측정하였다. 301x (X-lite) was used for the films obtained in Examples and Comparative Examples. The value was measured.

도 2 내지 도 6에는 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대)에서의 제1 필름(110)의 반사율 그래프가 도시되어 있다. 2 through 6 illustrate graphs of reflectances of the first film 110 in the visible light wavelength band (the wavelength band of 360 nm to 740 nm).

도 2는 투명 오산화티탄(Ti3O5, 굴절률 2.15)층이 구비된 제1 필름(110)에 관한 것이며, 도 3은 투명 산화니오븀(Nb2O5, 굴절률 2.34)층이 구비된 제1 필름(110)에 관한 것이고, 도 4 및 도 5는 각각 투명 산화알루미늄(Al2O3, 굴절률 1.77)층이 구비된 제1 필름(110)에 관한 것이다. 도 6은 투명 주석산화물(SnO, 굴절률 2.01)층이 구비된 제1 필름(110)에 관한 것이다.FIG. 2 relates to a first film 110 provided with a transparent titanium pentoxide (Ti 3 O 5 , refractive index 2.15) layer, and FIG. 3 illustrates a first provided with a transparent niobium oxide (Nb 2 O 5 , refractive index 2.34) layer. 4 and 5 are directed to a first film 110 provided with a transparent aluminum oxide (Al 2 O 3 , refractive index 1.77) layer, respectively. FIG. 6 relates to a first film 110 provided with a transparent tin oxide (SnO) layer having a refractive index of 2.01.

또한, 도 2 내지 도 6에는 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대)에서의 투명 수지층(111)의 반사율 그래프가 도시되어 있으며, 도 2 내지 도 6에서, 예를 들어, Ti3O5_5nm 는 투명 금속산화물층(112)이 Ti3O5로 이루어지며, 투명 금속산화물층(112)의 두께가 5 nm 인 것을 의미하고, BHL 및 bare PET는 각각 투명 금속산화물층(112)이 형성되지 않은 순수 투명 수지층(111)을 의미한다.2 to 6 show graphs of reflectances of the transparent resin layer 111 in the visible light wavelength band (wavelength bands of 360 nm to 740 nm), and in FIGS. The layer 112 is made of Ti 3 O 5 , which means that the thickness of the transparent metal oxide layer 112 is 5 nm, and BHL and bare PET are pure transparent water in which the transparent metal oxide layer 112 is not formed, respectively. It means the strata 111.

표 1에는 도 2 내지 도 6의 R1, R2, (R1-R2), (R1-R2)/R1 비 및 f'(x)=0 인 점의 개수가 정리되어 있다. 표 1에서, 도 2의 제1 필름(110)은 A(Ti3O5)로 표기하였고, 도 3의 제1 필름(110)을 B(Nb2O5)로 표기하였으며, 도 4의 제1 필름(110)을 C(Al2O3)로 표기하였고, 도 5의 제1 필름(110)을 D(Al2O3)로 표기하였고, 도 6의 제1 필름(110)을 E(SnO)로 표기하였다. Table 1 summarizes the numbers of R1, R2, (R1-R2), (R1-R2) / R1 ratio and f '(x) = 0 in FIGS. In Table 1, the first film 110 of FIG. 2 is labeled A (Ti 3 O 5 ), the first film 110 of FIG. 3 is labeled B (Nb 2 O 5 ), and the agent of FIG. 1 film 110 is referred to as C (Al 2 O 3 ), the first film 110 of FIG. 5 is referred to as D (Al 2 O 3 ), the first film 110 of FIG. SnO).

표 1에서, PET는 도 2 내지 도 6의 제1 필름(110)의 투명 수지층(111)으로 사용된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 의미한다. 표 1에서, MOx 두께는 투명 금속산화물층(112)의 두께를 의미한다.In Table 1, PET refers to a polyethylene terephthalate film used as the transparent resin layer 111 of the first film 110 of FIGS. In Table 1, the MOx thickness means the thickness of the transparent metal oxide layer 112.

MOx 두께 (nm)MOx thickness (nm) R1
(단위 %)
R1
(unit %)
R2
(단위 %)
R2
(unit %)
(R1-R2)(R1-R2) (R1-R2)/R1 비(R1-R2) / R1 ratio f'(x)=0 인 점의 개수the number of points with f '(x) = 0
PETPET N/AN / A 11.0411.04 N/AN / A N/AN / A N/AN / A N/AN / A A(Ti3O5)A (Ti 3 O 5 ) 55 N/AN / A 11.4411.44 -0.4-0.4 -0.04-0.04 1One 1010 N/AN / A 12.1212.12 -1.08-1.08 -0.10-0.10 1One 1515 N/AN / A 12.9512.95 -1.91-1.91 -0.17-0.17 1One 5050 N/AN / A 20.5420.54 -9.5-9.5 -0.86-0.86 1One 100100 N/AN / A 10.9510.95 0.090.09 0.010.01 22 300300 N/AN / A 17.1717.17 -6.13-6.13 -0.56-0.56 55 B(Nb2O5)B (Nb 2 O 5 ) 8080 N/AN / A 13.5213.52 -2.48-2.48 -0.22-0.22 22 C(Al2O3)C (Al 2 O 3 ) 3030 N/AN / A 10.610.6 0.440.44 0.040.04 22 D(Al2O3)D (Al 2 O 3 ) 1515 N/AN / A 11.411.4 -0.36-0.36 -0.03-0.03 22 E(SnO)E (SnO) 5050 N/AN / A 20.1520.15 -0.91-0.91 -0.83-0.83 1One

표 1과 함께 도 2 내지 도 6 을 참조하면, 표 1에서, MOx 두께가 300 nm 인 A(Ti3O5)의 경우, 다시 말하면, 도 2의 Ti3O5_300nm 는, f'(x)=0 인 점의 개수가 5 개이다. Referring to FIGS. 2 to 6 together with Table 1, in Table 1, in the case of A (Ti 3 O 5 ) having a MOx thickness of 300 nm, in other words, Ti 3 O 5_300 nm of FIG. 2 is f ′ (x) = 0. The number of points is five.

도 2는 투명 금속산화물층(112)의 두께가 증가할수록 반사율이 증가되지만, 일정 두께 이상이 되면, Ti3O5_100 nm 와 같이 BHL 보다 작은 반사율을 가지는 파장대가 나타났음을 보여준다. 2 shows that the reflectance increases as the thickness of the transparent metal oxide layer 112 increases. However, when the thickness of the transparent metal oxide layer 112 increases, a wavelength band having a reflectance smaller than that of BHL, such as Ti 3 O 5 —100 nm, is shown.

도 2를 참조하면, Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm 는 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대) 전 영역에서, BHL에 비해 높은 반사율을 가지며, f'(x)=0 인 점이 1 개임을 알 수 있다. 특히, Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm 중 Ti3O5_50 nm 는 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대) 전 영역에서, BHL에 비해 높은 반사율을 가지며, f'(x)=0 인 점이 1 개이고, BHL의 반사율과의 차이가 가장 컸다.Referring to FIG. 2, Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm have a higher reflectance compared to BHL in the entire visible wavelength range (wavelength range of 360nm to 740nm), and show that one point is f '(x) = 0. Can be. In particular, among the Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm, Ti3O5_50 nm has a higher reflectance than BHL in the entire visible wavelength range (wavelength range of 360 nm to 740 nm) and has one point of f '(x) = 0, and one of BHL The difference with the reflectance was the largest.

도 3을 참조하면, Nb2O5_80nm 는 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대) 전 영역에서, BHL에 비해 높은 반사율을 가지며, f'(x)=0 인 점이 2 개임을 알 수 있다.Referring to FIG. 3, it can be seen that Nb 2 O 5 — 80 nm has higher reflectance than BHL in all visible light wavelength bands (wavelength bands of 360 nm to 740 nm), and two points having f ′ (x) = 0.

도 4 및 도 5는 굴절률이 2.0 미만인 금속산화물로 이루어진 투명 금속 산화물층(112)이 구비된 제1 필름(110)의 반사율 그래프이며, Al2O3_30nm, Al2O3_15nm 가 bare PET 보다 작은 반사율을 가지는 파장대를 가짐을 보여준다.4 and 5 are graphs of reflectance of the first film 110 having the transparent metal oxide layer 112 made of a metal oxide having a refractive index of less than 2.0, wherein Al 2 O 3 — 30 nm and Al 2 O 3 — 15 nm have a wavelength band having a reflectance smaller than that of bare PET. Shows.

도 6은 SnO_50nm 는 가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대) 전 영역에서, BHL에 비해 높은 반사율을 가지며, f'(x)=0 인 점이 1 개이고, Ti3O5_50 nm 와 유사한 그래프 형태를 가짐을 보여준다. FIG. 6 shows that SnO_50nm has a higher reflectance compared to BHL in the entire visible wavelength range (wavelength of 360nm to 740nm), one point of f '(x) = 0, and a graph form similar to Ti3O5_50nm.

발명자들이 확인한 바에 따르면, (R1-R2)/R1 비의 절대값이 0.01 내지 2.0을 만족하는 경우에도, 도 2의 Ti3O5_300nm 와 같이, 가시광선 파장에 대한 반사율의 그래프가 f'(x)=0 인 점이 4 개를 초과하는 파동성을 보이고 단파장으로 갈수록 파장이 짧아지는 패턴을 보이는 경우, 제1 필름(110)에서 모아레 현상이 발생되었고 장식필름(100)의 디자인 품질이 훼손되었다. As confirmed by the inventors, even when the absolute value of the (R1-R2) / R1 ratio satisfies 0.01 to 2.0, the graph of the reflectance with respect to the visible wavelength is as f '(x) = 0, as in Ti3O5_300nm of FIG. In the case where the phosphorus point shows a wave characteristic exceeding four and the wavelength becomes shorter toward the short wavelength, the moiré phenomenon occurs in the first film 110 and the design quality of the decorative film 100 is impaired.

Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm, Ti3O5_100 nm, SnO_50nm, Nb2O5_80nm 는 가시광선 파장에 대한 반사율의 그래프가 f'(x)=0 인 점이 2 개 이하였고, 반사율 측정값이 BHL 에 비해 높았다. 발명자들이 확인한 바에 따르면, Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm, Ti3O5_100 nm, SnO_50nm, Nb2O5_80nm 는 모아레 현상이 방지되어, Ti3O5_300nm 에 비해 장식층의 시인성이 우수하였다. Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm, Ti3O5_100 nm, SnO_50nm and Nb2O5_80nm had two or less points of f '(x) = 0 with respect to visible wavelength, and the reflectance measurement value was higher than that of BHL. According to the inventors, the moiety of Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm, Ti3O5_100 nm, SnO_50nm, and Nb2O5_80nm was prevented, and the visibility of the decorative layer was superior to Ti3O5_300nm.

다만, Ti3O5_100 nm는 Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm, SnO_50nm, Nb2O5_80nm 에 비해 광택감이 낮았다. However, Ti3O5_100 nm had lower glossiness than Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm, SnO_50nm, and Nb2O5_80nm.

Al2O3_30nm 및 Al2O3_15nm 는 가시광선 파장에 대한 반사율의 그래프가 f'(x)=0 인 점이 2 개 이하였고, 반사율 측정값이 BHL 에 비해 낮았다. 발명자들이 확인한 바에 따르면, Al2O3_30nm 및 Al2O3_15nm 는 모아레 현상이 방지되어, Ti3O5_300nm 에 비해 장식층의 시인성이 우수하였으나, Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm, SnO_50nm, Nb2O5_80nm 에 비해 광택감이 낮았다. Al2O3_30nm and Al2O3_15nm have two or less points where f '(x) = 0 is a graph of reflectance versus visible wavelength, and reflectance measurements are lower than those of BHL. According to the inventors, Al2O3_30nm and Al2O3_15nm prevented moiré, and the visibility of the decorative layer was superior to Ti3O5_300nm, but was lower than Ti3O5_5nm, Ti3O5_10nm, Ti3O5_15nm, Ti3O5_50 nm, SnO_50nm, and Nb2O5_80nm.

표 2에는 금속 증착필름과의 비교 결과가 정리되어 있다. 표 2에서, 금속증착필름은 MDF로 표기되어 있다. 표 3에는 금속 증착필름과의 비교 결과가 정리되어 있다. 표 3에서, 금속증착필름은 MDF로 표기되어 있다.Table 2 summarizes the results of comparison with the metal deposited film. In Table 2, the metal deposition film is designated as MDF. Table 3 summarizes the results of comparison with the metal deposited film. In Table 3, the metal deposition film is designated as MDF.

ODOD MDF 반증착MDF Semi-Deposition 0.40.4 MDF 완증착MDF complete deposition 0.60.6 SnO_50nmSnO_50nm 0.020.02

Y(D65)Y (D65) L*(D65)L * (D65) a*(D65)a * (D65) b*(D65)b * (D65) MDF 반증착MDF Semi-Deposition 20.420.4 52.2952.29 -0.6-0.6 0.110.11 MDF 완증착MDF complete deposition 42.9842.98 71.5471.54 -0.79-0.79 0.880.88 SnO_50nmSnO_50nm 20.1520.15 52.0152.01 -1.76-1.76 -4.26-4.26

표 3을 참조하면, SnO_50nm은 MDF 반증착과 유사한 정도의 반사율을 보였다. SnO_50nm의 반사율(Y(D65))은 20.15 이었으며, MDF 반증착의 반사율(Y(D65))은 20.4 이었다. SnO_50nm는 장식필름(100)에 금속과 같은 광택을 제공하였다. Referring to Table 3, SnO_50nm showed similar reflectance as MDF semi-deposition. The reflectance (Y (D65)) of SnO_50nm was 20.15, and the reflectance (Y (D65)) of MDF semi-deposition was 20.4. SnO_50nm provided the decorative film 100 with a metallic luster.

표 2를 참조하면, SnO_50nm의 O.D. 값은 0.02 이며, SnO_50nm은 MDF 반증착에 비해 낮은 O.D. 값을 보였다. 표 2 및 표 3을 참조하면, SnO_50nm은 MDF 반증착과 유사한 정도의 반사율을 보였으며, MDF 반증착에 비해 투명하였다. SnO_50nm는 장식필름(100)에 금속증착필름에 비해 투명하면서도 금속과 같은 광택을 제공하였다. Referring to Table 2, O.D. of SnO 50 nm. The value is 0.02 and SnO_50 nm is lower in O.D. Value was shown. Referring to Table 2 and Table 3, SnO_50nm showed a reflectance similar to that of MDF semi-deposition, and was transparent compared to MDF semi-deposition. SnO_50nm provided the decorative film 100 with a metal-like gloss while being transparent compared to the metal deposition film.

도 7은 다른 일 실시예에 따른 장식필름(200)의 모식적인 단면도이다. 이하에서는, 장식필름(100)과 장식필름(200)의 차이점에 대해서만 상세하게 설명하기로 하고, 동일한 구성 등에 대해 전술한 내용은 생략하기로 한다. 7 is a schematic cross-sectional view of a decorative film 200 according to another embodiment. Hereinafter, only the difference between the decorative film 100 and the decorative film 200 will be described in detail, and the above description of the same configuration and the like will be omitted.

도 1 및 도 7을 참조하면, 제2 필름(210)은 투명 디자인 패턴층(213)을 포함하는 점에서 제1 필름(110)과 차이가 있다. 1 and 7, the second film 210 is different from the first film 110 in that the transparent design pattern layer 213 is included.

도 7을 참조하면, 장식필름(200)은 제2 필름(210)과 장식층(120)을 포함한다. 제2 필름(210)은 투명 수지층(211), 투명 금속산화물층(212) 및 투명 수지층(211)과 투명 금속 산화물층(212)의 사이에 배치된 투명 디자인 패턴층(213)을 포함한다. 디자인 패턴층(213)은 장식필름(200)에 입체감을 제공하여 디자인 효과를 극대화할 수 있다. Referring to FIG. 7, the decorative film 200 includes a second film 210 and a decoration layer 120. The second film 210 includes a transparent resin layer 211, a transparent metal oxide layer 212, and a transparent design pattern layer 213 disposed between the transparent resin layer 211 and the transparent metal oxide layer 212. do. The design pattern layer 213 may provide a three-dimensional effect to the decorative film 200 to maximize the design effect.

제2 필름(210)의 파장 580nm 에서의 O.D. 값은 0.15 미만이며, 이 점에서 제1 필름(110)의 파장 580nm 에서의 O.D. 값과 차이가 있을 수 있다. 디자인 패턴층(213)에는 홈(H)이 구비되며, 홈(H)에는 투명 금속 산화물층(211)이 채워지고, 디자인 패턴층(213)의 패턴에 의해, 제2 필름(210)의 O.D. 값이 제1 필름(110)의 O.D. 값에 비해 커지는 경우가 있다. O.D. at a wavelength of 580 nm of the second film 210. The value is less than 0.15, and at this point the O.D. It may differ from the value. The design pattern layer 213 is provided with a groove H, the groove H is filled with a transparent metal oxide layer 211, and the pattern of the design pattern layer 213 is used to form the O.D. Value of the first film 110. It may be larger than the value.

장식층(120)은 투명 금속산화물층(212) 상에 배치된다. 다시 말하면, 투명 금속산화물층(212)은 투명 수지층(211)과 장식층(120)의 사이에 배치된다.The decoration layer 120 is disposed on the transparent metal oxide layer 212. In other words, the transparent metal oxide layer 212 is disposed between the transparent resin layer 211 and the decorative layer 120.

투명 디자인 패턴층(213)은, 예를 들어, 3D 입체 패턴, 엠보 패턴 등을 포함할 수 있고, 3D 입체 패턴, 엠보 패턴 등을 통해 장식필름(200)에 입체감을 부여할 수 있다. 투명 디자인 패턴층(213)은, 다양한 방법으로 제작될 수 있으며, 예를 들어, 임프린팅 기술을 이용하여 제작될 수 있다. The transparent design pattern layer 213 may include, for example, a 3D stereoscopic pattern, an embossing pattern, or the like, and may impart a stereoscopic feeling to the decorative film 200 through the 3D stereoscopic pattern, the embossing pattern, or the like. The transparent design pattern layer 213 may be manufactured by various methods, for example, may be manufactured using an imprinting technique.

투명 디자인 패턴층(213)은, 예를 들어, 약 1 ㎛ 내지 약 50 ㎛ 의 두께를 가질 수 있다. 투명 디자인 패턴층(213)의 두께가 약 1 ㎛ 미만인 경우, 장식필름(200)의 입체감이 떨어지며, 투명 디자인 패턴층(213)의 두께가 약 50 ㎛ 초과인 경우, 장식필름(200)의 투명성 및 층간 계면 밀착성의 물성이 저하될 수 있다.The transparent design pattern layer 213 may have a thickness of, for example, about 1 μm to about 50 μm. When the thickness of the transparent design pattern layer 213 is less than about 1 μm, the three-dimensional appearance of the decorative film 200 is reduced, and when the thickness of the transparent design pattern layer 213 is greater than about 50 μm, the transparency of the decoration film 200 is reduced. And physical properties of the interlayer interfacial adhesion may be lowered.

도 8은 또 다른 일 실시예에 따른 장식필름(300)의 모식적인 단면도이다. 이하에서는, 장식필름(100)과 장식필름(300)의 차이점에 대해서만 상세하게 설명하기로 하고, 동일한 구성 등에 대해 전술한 내용은 생략하기로 한다.8 is a schematic cross-sectional view of a decorative film 300 according to another embodiment. Hereinafter, only the difference between the decorative film 100 and the decorative film 300 will be described in detail, and the above description of the same configuration and the like will be omitted.

도 1 및 도 8을 참조하면, 제3 필름(310)은 헤어라인 패턴을 포함하는 점에서 제1 필름(110)과 차이가 있다. 1 and 8, the third film 310 is different from the first film 110 in that it includes a hairline pattern.

도 8을 참조하면, 장식필름(300)은 제3 필름(310)과 장식층(120)을 포함한다. 제3 필름(310)은 투명 수지층(311)과 투명 금속산화물층(312)을 포함한다. 투명 수지층(311)은 헤어라인 패턴을 가지며, 투명 금속산화물층(312)은 투명 수지층(311)의 헤어라인 패턴에 상보적인 대응패턴을 가진다. Referring to FIG. 8, the decorative film 300 includes a third film 310 and a decoration layer 120. The third film 310 includes a transparent resin layer 311 and a transparent metal oxide layer 312. The transparent resin layer 311 has a hairline pattern, and the transparent metal oxide layer 312 has a corresponding pattern complementary to the hairline pattern of the transparent resin layer 311.

헤어라인 패턴은, 예를 들어 부직포 등에 연마제를 균일하게 부착한 후 투명 수지층(311)의 표면을 연마하는 방법 또는 샌드 페이퍼를 이용하여 투명 수지층(311)의 표면을 연마는 방법 등을 이용하여 얻을 수 있다.The hairline pattern may be, for example, a method of polishing the surface of the transparent resin layer 311 after uniformly attaching an abrasive to a nonwoven fabric or the like, or polishing the surface of the transparent resin layer 311 using sand paper. Can be obtained.

이상 첨부된 도면을 참조하여 실시예들을 설명하였으나, 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 각 실시예에 게시된 내용들을 조합하여 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although the embodiments have been described above with reference to the accompanying drawings, the invention is not limited to the above embodiments, but may be manufactured in various forms by combining the contents posted in each embodiment, and in the art to which the invention pertains. Those skilled in the art will understand that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the invention. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

100, 200, 300: 장식필름
110: 제1 필름
210: 제2 필름
310: 제3 필름
111, 211, 311: 투명 수지층
112, 212, 312: 투명 금속산화물층
213: 투명 디자인 패턴층
120: 장식층
130: 기재층
100, 200, 300: decorative film
110: first film
210: second film
310: third film
111, 211, and 311: transparent resin layer
112, 212 and 312: transparent metal oxide layer
213: transparent design pattern layer
120: decorative layer
130: substrate layer

Claims (8)

투명 수지층과 상기 투명 수지층 상에 배치된 투명 금속 산화물층을 포함하는 투명필름; 및
상기 투명 금속 산화물층 상에 배치된 장식층;을 포함하고,
상기 투명 금속 산화물층은 굴절률이 1.7 내지 2.4 인 금속 산화물로 이루어지며,
상기 굴절률이 1.7 내지 2.4 인 금속 산화물은 전이금속 산화물, 전이후금속 산화물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나이며,
상기 투명필름이 하기 (1) 및 (2)를 만족하는 장식필름:
(1) (R1-R2)/R1 비의 절대값이 0.01 내지 2.0 이고, 이 때, R1은 상기 투명 수지층의 반사율이며, R2는 상기 투명필름의 반사율이고, (R1-R2)는 상기 투명 수지층의 반사율과 상기 투명필름의 반사율의 차이이며,
(2) 가시광선 파장대(x)와 상기 투명필름의 반사율(y)의 함수 y=f(x)의 그래프에서 f'(x) = 0 인 점이 4 개 이하이며, 상기 가시광선 파장대는 360nm 내지 740nm의 파장대를 의미한다.
A transparent film comprising a transparent resin layer and a transparent metal oxide layer disposed on the transparent resin layer; And
Includes; decorative layer disposed on the transparent metal oxide layer,
The transparent metal oxide layer is made of a metal oxide having a refractive index of 1.7 to 2.4,
The metal oxide having a refractive index of 1.7 to 2.4 is any one selected from the group consisting of transition metal oxides, post-transition metal oxides, and combinations thereof.
The transparent film is a decorative film satisfying the following (1) and (2):
(1) The absolute value of the ratio (R1-R2) / R1 is 0.01 to 2.0, wherein R1 is the reflectance of the transparent resin layer, R2 is the reflectance of the transparent film, and (R1-R2) is the transparent Is the difference between the reflectance of the resin layer and the reflectance of the transparent film,
(2) In the graph of the function y = f (x) of the visible light wavelength band (x) and the reflectance (y) of the transparent film, there are four or less points having f '(x) = 0, and the visible light wavelength band is 360 nm to It means the wavelength band of 740nm.
제1 항에 있어서,
상기 투명 금속 산화물층은 굴절률이 2.0 내지 2.4 인 금속 산화물로 이루어지며,
상기 굴절률이 2.0 내지 2.4 인 금속 산화물은 전이금속 산화물, 전이후금속 산화물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 장식필름.
According to claim 1,
The transparent metal oxide layer is made of a metal oxide having a refractive index of 2.0 to 2.4,
The metal oxide having a refractive index of 2.0 to 2.4 is any one selected from the group consisting of a transition metal oxide, a transition metal oxide, and a combination thereof.
제1 항에 있어서,
상기 투명필름은 상기 투명 수지층 상에 상기 투명 금속 산화물층이 직접 배치된 구조를 가진 제1 필름이고,
상기 제1 필름은 파장 580nm 에서의 광학밀도(Optical density; O.D.)가 0.1 미만인 장식필름.
According to claim 1,
The transparent film is a first film having a structure in which the transparent metal oxide layer is directly disposed on the transparent resin layer,
The first film is a decorative film having an optical density (OD) of less than 0.1 at a wavelength of 580 nm.
제1 항에 있어서,
상기 투명필름은 상기 투명 수지층과 상기 투명 금속 산화물층의 사이에 배치된 투명 디자인 패턴층;을 더 포함하는 제2 필름이고, 이 때, 상기 디자인 패턴층은 홈을 구비하며, 상기 홈에는 상기 금속 산화물층이 채워지고,
상기 제2 필름은 파장 580nm 에서의 광학밀도(Optical density; O.D.)가 0.15 미만인 장식필름.
According to claim 1,
The transparent film is a second film further comprises a transparent design pattern layer disposed between the transparent resin layer and the transparent metal oxide layer, wherein the design pattern layer is provided with a groove, the groove The metal oxide layer is filled,
The second film is a decorative film having an optical density (OD) of less than 0.15 at a wavelength of 580 nm.
제1 항에 있어서,
상기 굴절률이 1.7 내지 2.4인 금속 산화물은 AlxOy(0<x<3, 0<y<4), TixOy(0<x<4, 0<y<6), SnxOy(0<x<4, 0<y<5) 및 NbxOy(0<x<3, 0<y<6) 중 어느 하나인 장식필름.
According to claim 1,
Metal oxides having a refractive index of 1.7 to 2.4 include AlxOy (0 <x <3, 0 <y <4), TixOy (0 <x <4, 0 <y <6), and SnxOy (0 <x <4, 0 < The decorative film of any one of y <5) and NbxOy (0 <x <3, 0 <y <6).
제2 항에 있어서,
상기 굴절률이 2.0 내지 2.4인 금속 산화물은 TixOy(0<x<4, 0<y<6), SnxOy(0<x<4, 0<y<5) 및 NbxOy(0<x<3, 0<y<6) 중 어느 하나인 장식필름.
The method of claim 2,
The metal oxides having a refractive index of 2.0 to 2.4 include TixOy (0 <x <4, 0 <y <6), SnxOy (0 <x <4, 0 <y <5), and NbxOy (0 <x <3, 0 < The decorative film of any one of y <6).
제1 항에 있어서,
상기 투명 금속 산화물층의 두께가 10 nm 내지 80 nm 인 장식필름.
According to claim 1,
The transparent metal oxide layer has a thickness of 10 nm to 80 nm decorative film.
제1 항에 있어서,
가시광선 파장대(360nm 내지 740nm의 파장대) 전 영역에서, 상기 투명필름의 반사율(R2)이 상기 투명 수지층의 반사율(R1)에 비해 크고,
상기 (R1-R2)/R1 비의 절대값이 0.10 내지 2.0 이며,
상기 f'(x) = 0 인 점이 1 개인 장식필름.
According to claim 1,
In the entire visible wavelength range (360 nm to 740 nm), the reflectance (R2) of the transparent film is larger than the reflectance (R1) of the transparent resin layer,
The absolute value of the ratio (R1-R2) / R1 is 0.10 to 2.0,
The decorative film having one point where f '(x) = 0.
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