KR20190138256A - Full-size mask assembly and manufacturing method therof - Google Patents

Full-size mask assembly and manufacturing method therof Download PDF

Info

Publication number
KR20190138256A
KR20190138256A KR1020180094382A KR20180094382A KR20190138256A KR 20190138256 A KR20190138256 A KR 20190138256A KR 1020180094382 A KR1020180094382 A KR 1020180094382A KR 20180094382 A KR20180094382 A KR 20180094382A KR 20190138256 A KR20190138256 A KR 20190138256A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
cell unit
structural auxiliary
cell
frame
Prior art date
Application number
KR1020180094382A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102466835B1 (en
Inventor
김정호
Original Assignee
주식회사 케이피에스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020180064033A external-priority patent/KR101909582B1/en
Application filed by 주식회사 케이피에스 filed Critical 주식회사 케이피에스
Priority to KR1020180094382A priority Critical patent/KR102466835B1/en
Publication of KR20190138256A publication Critical patent/KR20190138256A/en
Priority to KR1020220148483A priority patent/KR102544342B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102466835B1 publication Critical patent/KR102466835B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H01L51/56—
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2059—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam
    • G03F7/2063—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam for the production of exposure masks or reticles
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/033—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers
    • H01L21/0334—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their size, orientation, disposition, behaviour, shape, in horizontal or vertical plane
    • H01L21/0337—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their size, orientation, disposition, behaviour, shape, in horizontal or vertical plane characterised by the process involved to create the mask, e.g. lift-off masks, sidewalls, or to modify the mask, e.g. pre-treatment, post-treatment
    • H01L51/0018—
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/20—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
    • H10K71/231—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by etching of existing layers
    • H10K71/233—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by etching of existing layers by photolithographic etching

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Disclosed is a full size mask assembly. According to one embodiment of the present invention, the full size mask assembly can comprise: a frame having an opening part and having a support part surrounding the opening part; a structural auxiliary mask supported by the support part and having a plurality of props forming a lattice shape so as to form a plurality of structural auxiliary mask opening parts; and a plurality of cell unit masks supported by the structural auxiliary mask and having a deposition pattern part for passing a deposition material. Therefore, the present invention is capable of improving a precision and a mechanical strength of the mask.

Description

풀 사이즈 마스크 조립체와 그 제조방법{FULL-SIZE MASK ASSEMBLY AND MANUFACTURING METHOD THEROF}FULL-SIZE MASK ASSEMBLY AND MANUFACTURING METHOD THEROF

본 발명은 풀 사이즈 마스크 조립체와 그 제조방법에 관련된 것으로, 보다 상세하게는 기판 상에 증착물질을 증착하기 위한 풀 사이즈 마스크 조립체와 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a full size mask assembly and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a full size mask assembly and a method for manufacturing the deposition material on a substrate.

디스플레이 장치들 중에서도 유기발광표시장치(Organic Light Emitting Device, OLED)는 시야각이 넓고, 콘트라스트(contrast)가 우수할 뿐만 아니라, 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있다. 그에 따라 유기발광표시장치(OLED)의 사용 영역이 점차 확대되어 가는 추세이다.Among the display devices, the organic light emitting device (OLED) has a wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed. Accordingly, the use area of the OLED is gradually increasing.

이러한 유기발광표시장치(OLED)의 전극들과 발광층을 포함한 중간층은 여러 가지 방법에 의하여 형성 가능한데, 이 중 하나의 방법이 증착법(deposition)이다.The intermediate layer including the electrodes and the light emitting layer of the OLED may be formed by various methods, one of which is deposition.

중소형 유기발광표시장치(OLED) 제품에서의 고해상도 유기발광표시장치(OLED)를 제조하는 데에 가장 큰 난관은 유기발광표시장치(OLED) 공정에서 RGB 픽셀을 만드는 데 핵심인 증착 공정(deposition)에 있다. 기판 상에 형성될 박막 등의 패턴과 동일한 패턴을 가지는 파인 메탈 마스크(Fine Metal Mask, 이하 '마스크'라 한다)를 정렬하고 박막의 원소재를 증착하여 원하는 패턴의 박막을 형성한다. 이러한 증착 공정은 챔버(chamber) 하단에 위치한 증착 소스에서 유기물을 가열하고, 가열된 유기물을 승화시켜 상부에 위치한 마스크를 통과해 TFT 글래스에 증착하는 방법을 취한다.The biggest challenge in manufacturing high resolution OLEDs in small to medium size OLED displays is the deposition process, which is key to making RGB pixels in OLED displays. have. A fine metal mask having a pattern identical to a pattern of a thin film to be formed on a substrate is aligned, and a thin film having a desired pattern is formed by depositing a raw material of the thin film. This deposition process takes a method of heating an organic material in a deposition source located at the bottom of a chamber, subliming the heated organic material, and passing it on a TFT glass through a mask located at an upper portion thereof.

증착공정에서는 마스크를 TFT 글래스와 이격된 부분이 없도록 붙여 증착한다. 이격이 발생하는 경우 쉐도우 효과에 의하여 증착 불량이 발생하기 때문이다. 올바른 증착을 위하여 10㎛ - 30㎛ 두께의 마스크는 글래스와 편평도가 유지되도록, 마스크를 팽팽하게 잡아당겨 탄력이 유지된 상태가 되어야 한다. 마스크를 팽팽하게 유지하기 위하여 마스크의 가장자리에 인장을 위한 추가적인 날개를 만들고 인장력을 가할 수 있는 클램프로 날개부분을 잡고 인장한다. 기판 상에 형성될 박막 등의 패턴과 일치하도록 마스크의 홀들을 정렬한 후, 프레임에 마스크의 가장자리에 겹치는 부분을 용접하여 마스크 프레임을 만든다.In the deposition process, the mask is deposited so that there is no part spaced apart from the TFT glass. This is because poor deposition occurs due to the shadow effect when spacing occurs. For proper deposition, a 10 μm-30 μm thick mask should be stretched and stretched to keep the glass flat and flat. To keep the mask taut, make additional wings for tension on the edge of the mask and hold the wings with a clamp that can exert a tension. After aligning the holes of the mask to match a pattern of a thin film or the like to be formed on the substrate, a portion of the mask overlapping the edge of the mask is welded to form a mask frame.

AMOLED(Active Matrix OLED) 패널의 경우, 양산용으로 6세대 하프 크기까지 와 있으나, 7세대, 8세대 등의 대면적화가 불가피하다. 이러한 대면적화가 이루어져야만 다면취 제작에 의한 대형 AMOLED 패널의 동시 제조가 가능하기 때문이다.In the case of AMOLED (Active Matrix OLED) panels, they are up to 6th generation half size for mass production, but the large area of 7th generation and 8th generation is inevitable. This is because it is possible to simultaneously manufacture large AMOLED panels by producing multi-sided odors when such large area is made.

또한, 고해상도로 갈수록 미세한 패터닝 작업을 필요로 한다. 미세한 패터닝 작업을 하기 위하여 마스크 내의 홀의 크기와 홀의 간격이 줄어들어야 한다. TFT와 마스크 간의 배치 정밀도 또한 정확해져야 한다. 나아가 마스크의 두께도 얇아져야 한다. 마스크의 제작이 점점 더 어려워지고, 수율도 급격히 하락하게 된다. 또한 TFT 글래스가 대면적화되면 패턴 형성을 위한 에칭 오차가 커지고, 자중에 의하여 중앙부의 처짐 현상도 심해진다.In addition, finer patterning operations are required at higher resolutions. In order to perform fine patterning operations, the size of the holes in the mask and the spacing of the holes must be reduced. Placement accuracy between the TFT and the mask must also be accurate. In addition, the thickness of the mask should be thinner. The making of masks becomes more and more difficult, and the yield drops sharply. In addition, when the TFT glass becomes larger, the etching error for pattern formation becomes large, and the deflection phenomenon of the central portion is also increased by its own weight.

도 1a는 종래 기술에 따른 인장된 스틱 마스크를 보여주는 개략도이다.1A is a schematic diagram showing a tensioned stick mask according to the prior art.

현재까지는 1장 단위로 마스크를 제조할 수 없어서, 여러 개의 마스크(1a)를 스틱(stick) 형태로 만들고, 프레임에 붙여서 스틱 마스크 타입의 마스크 조립체가 사용되어 왔다. 스틱 마스크(1)는 복수의 마스크들과 인장에 필요한 날개로이루어진다.Until now, masks could not be manufactured in units of sheets, so that a mask assembly of a stick mask type has been used by making several masks 1a into sticks and attaching them to a frame. The stick mask 1 is made up of a plurality of masks and wings for tensioning.

고해상도 대면적이 되면서 스틱 마스크(1)의 폭과 길이 또한 늘어남에 따라, 스틱 마스크(1)를 구성하는 마스크(1a)의 개수와 각각의 마스크 크기도 커지고 있다. 스틱 마스크(1) 또한 고해상도 대면적으로 제작하여야 하는데, 에칭 균일성 확보가 어려워 제작에 어려움이 따른다. 또한 설계 도면대로 만들어진 스틱 마스크(1)를 팽팽한 상태로 고정하기 위해 인장력을 가할 경우, 스틱 마스크(1)의 변형이나 마스크 표면의 주름이 발생하는 등의 문제점이 있었다.As the width and length of the stick mask 1 also increase while being a high resolution large area, the number of masks 1a constituting the stick mask 1 and the size of each mask also increase. The stick mask 1 should also be manufactured in a high resolution large area, which makes it difficult to secure the uniformity of etching. In addition, when a tensile force is applied to fix the stick mask 1 made according to the design drawing in a taut state, there are problems such as deformation of the stick mask 1 and wrinkles on the surface of the mask.

또한 설계 도면대로 만들어진 스틱 마스크(1)를 팽팽한 상태로 고정하기 위해 인장된 스틱 마스크(1)의 날개를 클램프가 잡고 있는데, 이 경우 인장시의 문제가 발생한다.In addition, the clamp is holding the wing of the tensioned stick mask (1) in order to fix the stick mask (1) made in accordance with the design drawing in a taut state, in this case a problem in tension occurs.

도 1b는 종래 기술에 따른 인장된 스틱 마스크의 변형 상태를 보여주는 개략도이다.1B is a schematic diagram showing a deformation state of a tensioned stick mask according to the prior art.

스틱 마스크(1)가 길이 방향(이하, 'Y방향'이라 한다)으로 인장되어 팽팽하게 잡아 당겨진 상태에서 스틱 마스크 조립체에 결합시키게 된다. 도 1b에 도시된 대로, 스틱 마스크(1)를 잡아당기면 스틱 마스크(1) 길이의 수직방향(이하, 'X방향'이라 한다)으로 수축이 일어나고 스틱 마스크(1)의 길이가 길어질수록 각 마스크(1a)의 수축 정도도 커지게 된다.The stick mask 1 is tensioned in the longitudinal direction (hereinafter referred to as the 'Y direction') to be coupled to the stick mask assembly in the state of being pulled tight. As shown in FIG. 1B, when the stick mask 1 is pulled out, shrinkage occurs in the vertical direction of the stick mask 1 (hereinafter, referred to as 'X direction'), and the length of each stick mask 1 becomes longer. The degree of shrinkage of (1a) also becomes large.

현재 스틱 마스크(1)는 길이방향으로만 인장할 수 있고, X방향으로는 인장할 수 없다. 따라서 X방향으로의 보정을 필요로 한데, 이는 스틱 마스크(1)의 설계시 X방향에 대한 수축을 감안해 설계하는 실정이다.At present, the stick mask 1 can be stretched only in the longitudinal direction and cannot be stretched in the X direction. Therefore, a correction in the X direction is required, which is designed in consideration of the shrinkage in the X direction when the stick mask 1 is designed.

하지만 실제 스틱 마스크 조립체를 만들기 위하여 스틱 마스크(1)에 가하는 인장력은 설계시 감안한 인장력과 다르다. 따라서 스틱 마스크 조립체 생산시 X방향에 대한 R, G, B 위치에 에러를 발생시키게 된다. 스틱 마스크(1)의 해상도가 높아지면 높아질수록, 길이가 길어지면 길어질수록, 이러한 에러가 잦아지는 문제점이 있었다.However, the tensile force applied to the stick mask 1 to make the actual stick mask assembly is different from the tensile force considered in the design. Therefore, in the production of the stick mask assembly, an error occurs in the R, G, and B positions in the X direction. The higher the resolution of the stick mask 1 and the longer the length, the more frequently this error occurs.

도 2는 종래 기술에 따른 스틱 마스크를 프레임에 용접할 경우에 발생하는 문제점을 설명하기 위한 개략도이다.Figure 2 is a schematic diagram for explaining a problem occurring when welding the stick mask according to the prior art to the frame.

도 2에 도시된 대로, 스틱 마스크 조립체를 생산하기 위하여, 스틱 마스크(1)를 인장하여 R, G, B 위치에 맞춘 후 스틱 마스크의 용접영역(1b)을 스틱 마스크의 상부에서 프레임에 용접하게 된다. 이 경우 용접영역(1b)이 스틱 마스크(1)의 양끝 가장자리만을 지지하게 되어 프레임에 용접된다.As shown in Fig. 2, in order to produce the stick mask assembly, the stick mask 1 is tensioned to be in R, G, and B positions, and then the welding area 1b of the stick mask is welded to the frame at the top of the stick mask. do. In this case, the welding region 1b supports only both edges of the stick mask 1 and is welded to the frame.

스틱 마스크 조립체를 일정한 사용 횟수로 사용한 후에는 반드시 마스크 세정이 필요로 하다. 이때 세정과 보관 단계에서 스틱 마스크(1)는 양단만 프레임에 고정되어 있어, 기계적인 강도가 약해 프레임에서 쉽게 떨어지는 문제점이 있었다.Mask cleaning is necessary after using the stick mask assembly a certain number of times of use. At this time, the stick mask (1) in the cleaning and storage step is fixed to the frame only at both ends, the mechanical strength is weak, there was a problem that easily falls off the frame.

등록특허공보 제10-1742816호(2017. 06. 02.)Patent Registration No. 10-1742816 (2017. 06. 02.)

본 발명이 해결하고자 하는 일 기술적 과제는, 기존 스틱 마스크의 제조 한계 및 마스크 대면적화의 기술적 한계를 극복하고, 마스크의 정밀도 및 기계적인 강도를 향상시킨 풀 사이즈 마스크 조립체를 제공하는데 있다.One technical problem to be solved by the present invention is to provide a full-size mask assembly that overcomes the manufacturing limitations of the existing stick mask and the technical limitations of the mask large area, and improves the precision and mechanical strength of the mask.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 기술적 과제는, X방향과 Y방향으로 셀 단위 마스크에 인장력을 가할 수 있어, 화소 위치 정확도(PPA, Pixel Position Accuracy)를 향상시킨 풀 사이즈 마스크 조립체를 제공하는 데 있다.Another technical problem to be solved by the present invention is to provide a full size mask assembly capable of applying a tensile force to a cell unit mask in the X direction and the Y direction, thereby improving pixel position accuracy (PPA).

상기 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 셀 단위 마스크를 이용한 풀 사이즈 마스크 조립체를 제공한다.In order to solve the above technical problem, the present invention provides a full-size mask assembly using a cell unit mask.

본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체는, 프레임 개구부가 형성되며, 상기 프레임 개구부를 둘러싸는 지지부를 가지는 프레임; 상기 지지부에 의해 지지되며, 복수 개의 구조용 보조 마스크 개구부가 형성되도록 격자 형태를 이루는 복수의 살대를 가지는 구조용 보조 마스크; 및 상기 구조용 보조 마스크에 의해 지지되며, 증착 물질을 통과시키는 증착패턴부를 구비한 복수 개의 셀 단위 마스크를 포함할 수 있다.Full size mask assembly according to an embodiment of the present invention, the frame opening is formed, the frame having a support surrounding the frame opening; A structural auxiliary mask supported by the support part and having a plurality of ribs forming a lattice such that a plurality of structural auxiliary mask openings are formed; And a plurality of cell unit masks supported by the structural auxiliary mask and having a deposition pattern portion through which a deposition material passes.

일 실시 예에 따르면, 제1 위치정렬홀은 상기 증착패턴부의 어느 일 측 모서리에 위치한 것으로, 상기 제1 위치정렬홀은 수직 방향에서 상기 구조용 보조 마스크 개구부 내에 정렬되도록 마련될 수 있다.According to one embodiment, the first alignment hole is located at one edge of the deposition pattern portion, the first alignment hole may be provided to be aligned in the structural auxiliary mask opening in the vertical direction.

일 실시 예에 따르면, 제2 위치정렬홀은 상기 증착패턴부 중에서 다수 개로 제공된 기준 홀로, 상기 제2 위치정렬홀의 중심은 수직 방향에서 TFT 글래스의 TFT 위치와 서로 일치하도록 정렬될 수 있다.According to one embodiment, the second alignment hole is a reference hole provided in a plurality of the deposition pattern portion, the center of the second alignment hole may be aligned to coincide with the TFT position of the TFT glass in the vertical direction.

일 실시 예에 따르면, 상기 살대는, 제1 방향에서 상기 셀 단위 마스크를 지지하는 제1 셀 단위 지지부; 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향에서 상기 셀 단위 마스크를 지지하는 제2 셀 단위 지지부; 및 상기 제1 셀 단위 지지부와 상기 제2 셀 단위 지지부 사이에 소정 간격을 가지고 격자 형상을 형성하며, 상기 셀 단위 마스크를 접촉하지 않는 셀 단위 이격부를 포함할 수 있다.According to an embodiment, the rib may include: a first cell unit supporter supporting the cell unit mask in a first direction; A second cell unit supporter supporting the cell unit mask in a second direction perpendicular to the first direction; And a cell unit spaced part having a predetermined interval between the first cell unit support part and the second cell unit support part to form a lattice shape and not contacting the cell unit mask.

일 실시 예에 따르면, 상기 셀 단위 마스크는 제1 방향 및 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 복수 개가 서로 단속적으로 마련될 수 있다.According to an embodiment, a plurality of cell unit masks may be intermittently provided in a first direction and a second direction perpendicular to the first direction.

일 실시 예에 따르면, 상기 셀 단위 마스크는 제1 방향 및 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 상기 구조용 보조 마스크 개구부 보다 큰 영역을 가질 수 있다.According to an embodiment, the cell unit mask may have a larger area than the structural auxiliary mask opening in a first direction and a second direction perpendicular to the first direction.

일 실시 예에 따르면, 상기 증착패턴부는 제1 방향 및 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 상기 구조용 보조 마스크 개구부 보다 작은 영역을 가질 수 있다.In example embodiments, the deposition pattern part may have a smaller area than the structural auxiliary mask opening in a first direction and a second direction perpendicular to the first direction.

상기 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 셀 단위 마스크를 이용한 풀 사이즈 마스크 조립체 제조방법을 제공한다.In order to solve the above technical problem, the present invention provides a method for manufacturing a full-size mask assembly using a cell unit mask.

본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체 제조방법은, 프레임에 고정된 구조용 보조 마스크에 형성된 구조용 보조 마스크 개구부에 각각의 셀 단위 마스크를 대향시켜 상기 셀 단위 마스크마다 개별적으로 정렬하는 셀 단위 마스크 정렬 단계를 포함하고, 상기 셀 단위 마스크 정렬 단계는, 셀 마스크 그리퍼(gripper)가 상기 셀 단위 마스크를 제1 방향 및 제2 방향으로 인장력을 가하는 셀 단위 마스크 인장 단계; 증착 물질을 통과시키는 증착패턴부 중 어느 일 측 모서리에 위치한 제1 위치정렬홀을 수직 방향에서 상기 구조용 보조 마스크 개구부 내로 정렬시키는 셀 단위 마스크 제1 위치정렬 단계; 상기 증착패턴부 중에서 다수 개의 제2 위치정렬홀을 수직 방향에서 TFT 글래스의 TFT 위치에 정렬시키는 셀 단위 마스크 제2 위치정렬 단계; 및 상기 구조용 보조 마스크 개구부에 상기 셀 단위 마스크를 안착시키는 셀 단위 마스크 안착 단계를 더 포함할 수 있다.In the method of manufacturing a full-size mask assembly according to an embodiment of the present invention, a cell unit mask is arranged separately for each cell unit mask by opposing each cell unit mask to a structural auxiliary mask opening formed in a structural auxiliary mask fixed to a frame. An alignment step, wherein the cell unit mask alignment step comprises: a cell unit mask tensioning step in which a cell mask gripper exerts a tension force on the cell unit mask in a first direction and a second direction; A first mask alignment step of aligning the first alignment hole located at one edge of the deposition pattern portion through which the deposition material passes, into the structural auxiliary mask opening in a vertical direction; A second mask alignment step of aligning a plurality of second alignment holes in the deposition pattern portion with the TFT positions of the TFT glasses in a vertical direction; And mounting a cell unit mask in which the cell unit mask is seated in the structural auxiliary mask opening.

본 발명의 실시 예에 따르면, 각각의 셀 단위 마스크 단위로 마련함으로써, 마스크 제작 면적이 최소화됨으로 인해 제작이 용이해져 생산 효율의 상승, 고정밀의 마스크 제작 가능 및 생산단가가 절감되는 이점이 있다.According to the embodiment of the present invention, by providing a mask unit for each cell, the mask fabrication area is minimized, thereby making it easy to manufacture, thereby increasing production efficiency, enabling high-precision mask fabrication, and reducing production costs.

또한 본 발명의 실시 예에 따르면, 각각의 셀 단위 마스크 단위로 구현함으로써, 스틱 마스크를 이용한 풀 사이즈 마스크가 원판 글래스 사이즈 확대에 대응하기 어려운 문제를 해결할 수 있어, 6세대 풀 사이즈 뿐만 아니라 그 이상의 풀 사이즈의 제작이 가능하다는 이점이 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, by implementing each cell mask unit, it is possible to solve the problem that the full-size mask using a stick mask is difficult to cope with the expansion of the original glass size, so that not only the full size of the sixth generation but also the full size The advantage is that the size can be produced.

또한 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 각각의 셀 단위 마스크 단위로 구현함으로써, X방향은 물론이고 Y방향으로 셀 단위 마스크에 인장력을 가할 수 있어, 마스크의 토탈 피치를 더욱 정밀하게 제어할 수 있는 이점이 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, by implementing in each cell unit mask unit, it is possible to apply a tensile force to the cell unit mask in the Y direction as well as the X direction, it is possible to more precisely control the total pitch of the mask There is an advantage.

또한 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 각각의 셀 단위 마스크 별로 둘 이상의 셀 단위 결합부를 가짐으로써, 풀 사이즈 마스크 조립체의 사용에 따른 변형을 최소화하여 내구성을 향상시킬 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, by having two or more cell unit coupling units for each cell unit mask, it is possible to improve the durability by minimizing the deformation caused by the use of the full-size mask assembly.

또한 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 셀 단위 마스크의 둘레면을 따라 복수 개의 용접점으로 이루어진 셀 단위 결합부가 마련됨으로써, 풀 사이즈 마스크 조립체 내의 셀 단위 마스크의 결합력을 높여, 세정 횟수의 증가 및 마스크 교체 소요시간의 감소, 증착기의 연속 가동시간의 연장에 따른 생산성을 높일 수 있는 이점이 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, a cell unit coupling part including a plurality of welding points is provided along the circumferential surface of the cell unit mask, thereby increasing the bonding force of the cell unit mask in the full size mask assembly, thereby increasing the number of cleaning and masking. Reduced turnaround time, there is an advantage to increase the productivity by extending the continuous operation of the evaporator.

또한 본 발명의 일 실시 예에 따르면, TFT 글래스의 접촉면에 대한 이면인 셀 단위 마스크의 하면, 즉 증착면에 용접함으로써, 용접시 발생한 버(bur)가 발생하더라도 증착시 기판이 풀 사이즈 마스크 조립체와 들뜸이 없이 부착될 수 있어, 쉐도우(shadow) 현상에 따른 증착 불량을 없앨 수 있는 이점이 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, by welding to the lower surface of the cell unit mask that is the back surface of the TFT glass contact surface, that is, the deposition surface, even if a bur generated during welding occurs, the substrate is deposited with the full size mask assembly. Since it can be attached without lifting, there is an advantage that can eliminate the deposition failure due to the shadow (shadow) phenomenon.

도 1a와 도 1b는 종래 기술에 따른 스틱 마스크와 인장된 스틱 마스크의 변형 상태를 보여주는 개략도이다.
도 2는 종래 기술에 따른 스틱 마스크를 프레임에 용접할 경우에 발생하는 문제점을 설명하기 위한 개략도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체의 평면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 프레임의 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 구조용 보조 마스크의 구조를 보여주는 개략도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 프레임에 고정된 구조용 보조 마스크의 구조를 보여주는 사시도이다.
도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 셀 단위 마스크의 구조를 보여주는 개략도이다.
도 8과 도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 프레임에 고정된 구조용 보조 마스크에 셀 단위 마스크가 제1 위치정렬되는 방식을 설명하기 위한 개략도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시 예에 따른 셀 단위 마스크가 제1 위치정렬된 상태를 보여주는 개략도이다.
도 11은 본 발명의 일 실시 예에 따른 셀 단위 마스크가 제2 위치정렬된 상태를 보여주는 개략도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시 예에 따른 용접에 의해 셀 단위 마스크를 구조용 보조 마스크에 결합시, 용접 방향을 보여주는 개략도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체에서 구조용 보조 마스크를 보여주는 개략도이다.
도 14는 본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체에서 셀 단위 마스크를 보여주는 개략도이다.
도 15는 본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체 제조방법을 보여주는 블록도이다.
도 16은 도 15에서 셀 단위 마스크의 정렬하는 방법을 보여주는 블록도이다.1A and 1B are schematic views showing deformation states of a stick mask and a tensioned stick mask according to the prior art.
Figure 2 is a schematic diagram for explaining a problem occurring when welding the stick mask according to the prior art to the frame.
3 is a plan view of a full size mask assembly according to one embodiment of the invention.
4 is a perspective view of a frame according to an embodiment of the present invention.
5 is a schematic view showing the structure of a structural auxiliary mask according to an embodiment of the present invention.
6 is a perspective view illustrating a structure of a structural auxiliary mask fixed to a frame according to an embodiment of the present invention.
7A to 7C are schematic views illustrating a structure of a cell unit mask according to an embodiment of the present invention.
8 and 9 are schematic diagrams for describing a method in which a cell unit mask is first aligned with a structural auxiliary mask fixed to a frame according to an embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a state in which a cell unit mask is first aligned, according to an exemplary embodiment.
FIG. 11 is a schematic diagram illustrating a second position alignment of a cell unit mask according to an exemplary embodiment. FIG.
12 is a schematic diagram illustrating a welding direction when a cell unit mask is coupled to a structural auxiliary mask by welding according to an embodiment of the present invention.
13 is a schematic diagram illustrating a structural auxiliary mask in a full size mask assembly according to an embodiment of the present invention.
14 is a schematic diagram illustrating a cell unit mask in a full size mask assembly according to an embodiment of the present invention.
15 is a block diagram illustrating a method of manufacturing a full-size mask assembly according to an embodiment of the present invention.
FIG. 16 is a block diagram illustrating a method of aligning a cell mask in FIG. 15.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명할 것이다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 여기서 설명되는 실시 예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화 될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시 예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the technical idea of the present invention is not limited to the exemplary embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided to ensure that the disclosed contents are thorough and complete, and that the spirit of the present invention can be sufficiently delivered to those skilled in the art.

본 명세서에서, 어떤 구성요소가 다른 구성요소 상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 구성요소 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 구성요소가 개재될 수도 있다는 것을 의미한다. 또한, 도면들에 있어서, 형상 및 크기는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다.In the present specification, when a component is mentioned to be on another component, it means that it may be formed directly on the other component or a third component may be interposed therebetween. In addition, in the drawings, the shape and size are exaggerated for the effective description of the technical content.

또한, 본 명세서의 다양한 실시 예들에서 제1, 제2, 제3 등의 용어가 다양한 구성요소들을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 구성요소들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이들 용어들은 단지 어느 구성요소를 다른 구성요소와 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 따라서 어느 한 실시 예에 제 1 구성요소로 언급된 것이 다른 실시 예에서는 제 2 구성요소로 언급될 수도 있다. 여기에 설명되고 예시되는 각 실시 예는 그것의 상보적인 실시 예도 포함한다. 또한, 본 명세서에서 '및/또는'은 전후에 나열한 구성요소들 중 적어도 하나를 포함하는 의미로 사용되었다.In addition, in various embodiments of the present specification, terms such as first, second, and third are used to describe various components, but these components should not be limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Therefore, what is referred to as a first component in one embodiment may be referred to as a second component in another embodiment. Each embodiment described and illustrated herein also includes its complementary embodiment. In addition, the term 'and / or' is used herein to include at least one of the components listed before and after.

명세서에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다. 또한, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 구성요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 구성요소 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 배제하는 것으로 이해되어서는 안 된다. 또한, 본 명세서에서 "연결"은 복수의 구성 요소를 간접적으로 연결하는 것, 및 직접적으로 연결하는 것을 모두 포함하는 의미로 사용된다.In the specification, the singular encompasses the plural unless the context clearly indicates otherwise. In addition, the terms "comprise" or "having" are intended to indicate that there is a feature, number, step, element, or combination thereof described in the specification, and one or more other features or numbers, steps, configurations It should not be understood to exclude the possibility of the presence or the addition of elements or combinations thereof. In addition, the term "connection" is used herein to mean both indirectly connecting a plurality of components, and directly connecting.

또한, 하기에서 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 것이다.In addition, in the following description of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

이하에서는 설명의 편의를 위하여 제1 방향은 가로 폭 방향으로 직교 좌표계의 X축을 지칭하고, 제2 방향은 세로 폭 방향으로 직교 좌표계의 Y축을 지칭한다. 이때 제1 방향은 제2 방향과 직교한다.Hereinafter, for convenience of description, the first direction refers to the X axis of the Cartesian coordinate system in the horizontal width direction, and the second direction refers to the Y axis of the Cartesian coordinate system in the vertical width direction. At this time, the first direction is orthogonal to the second direction.

도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체(10)의 평면도이며, 도 8은 본 발명의 일 실시 예에 따른 프레임(100)에 고정된 구조용 보조 마스크(200)에 셀 단위 마스크(300)가 제1 위치정렬되는 방식을 설명하기 위한 개략도이다.3 is a plan view of a full-size mask assembly 10 according to an embodiment of the present invention, Figure 8 is a unit cell mask in the structural auxiliary mask 200 fixed to the frame 100 according to an embodiment of the present invention A schematic diagram illustrating the manner in which 300 is first aligned.

도 3과 도 8을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체(10)는, 기판(미도시) 상에 증착물질의 증착하는 증착공정에 이용될 수 있다. 이러한 풀 사이즈 마스크 조립체(10)는, 프레임(100)과 구조용 보조 마스크(200), 복수의 셀 단위 마스크(300)를 포함할 수 있다. 이 경우 풀 사이즈 마스크 조립체(10)는, 프레임(100)과 구조용 보조 마스크(200), 셀 단위 마스크(300)가 수직 방향으로 순차 적층된 구조일 수 있다.3 and 8, the full size mask assembly 10 according to an embodiment of the present invention may be used in a deposition process for depositing a deposition material on a substrate (not shown). The full size mask assembly 10 may include a frame 100, a structural auxiliary mask 200, and a plurality of cell unit masks 300. In this case, the full size mask assembly 10 may have a structure in which the frame 100, the structural auxiliary mask 200, and the cell unit mask 300 are sequentially stacked in the vertical direction.

프레임(100)Frame (100)

도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 프레임(100)의 사시도이다.4 is a perspective view of a frame 100 according to an embodiment of the present invention.

도 3과 도 4를 참조하면 본 발명의 일 실시 예에 따른 프레임(100)은, 내측의 프레임 개구부(120)와 지지부(110)를 포함할 수 있다. 프레임(100)에는, 후술할 구조용 보조 마스크(200)와 복수의 셀 단위 마스크(300)가 결합될 수 있다. 프레임(100)은, 구조용 보조 마스크(200)와 셀 단위 마스크(300)의 인장방향으로 작용하는 압축력에 의한 변형이 일어나지 않도록 강성이 큰 금속 재질로 제작될 수 있다. 또한 프레임(100)은, 일정 두께와 사각 형상을 가질 수 있다. 3 and 4, the frame 100 according to an embodiment of the present invention may include an inner frame opening 120 and a support 110. The structural auxiliary mask 200 and the plurality of cell unit masks 300 to be described later may be coupled to the frame 100. The frame 100 may be made of a metal material having a high rigidity such that deformation by a compressive force acting in the tensile direction between the structural auxiliary mask 200 and the cell unit mask 300 does not occur. In addition, the frame 100 may have a predetermined thickness and a rectangular shape.

도 4에 도시된 대로 프레임(100)에는, 하나 이상의 프레임 개구부(120)가 형성될 수 있다. 그에 따라 프레임 개구부(120)는, 대략 사각 형상을 가질 수 있다. 프레임 개구부(120)는, 후술할 복수의 셀 단위 마스크(300)들을 수직 방향으로 노출시키기 위하여, 일정 간격으로 배열된 복수의 셀 단위 마스크(300)들에 대응되는 크기와 형상을 가질 수 있다.As shown in FIG. 4, one or more frame openings 120 may be formed in the frame 100. Accordingly, the frame opening 120 may have a substantially rectangular shape. The frame opening 120 may have a size and a shape corresponding to the plurality of cell unit masks 300 arranged at regular intervals in order to expose the plurality of cell unit masks 300 to be described later in a vertical direction.

지지부(110)는, 중앙의 프레임 개구부(120)를 둘러싸는 형상으로, 후술할 구조용 보조 마스크(200)의 하부에 마련되어, 구조용 보조 마스크(200)의 일면을 지지할 수 있다. 즉 지지부(110)는, 수직방향에서 면접촉된 구조용 보조 마스크(200)의 하면을 지지할 수 있다. 또한, 지지부(110)는, 구조용 보조 마스크(200)와의 결합이 가능하도록 대응하는 크기와 형상을 가질 수 있다.The support unit 110 may be formed under the structural auxiliary mask 200 to be described later and may support one surface of the structural auxiliary mask 200 in a shape surrounding the frame opening 120 in the center. That is, the support 110 may support the lower surface of the structural auxiliary mask 200 which is in surface contact in the vertical direction. In addition, the support 110 may have a corresponding size and shape so as to be coupled to the structural auxiliary mask 200.

풀 사이즈 마스크 조립체(10)의 또 다른 구성인 구조용 보조 마스크(200)에 대해 설명하기로 한다.The structural auxiliary mask 200, which is another configuration of the full size mask assembly 10, will be described.

구조용 보조 마스크(200)Structural Aid Masks (200)

도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 구조용 보조 마스크(200)의 구조를 보여주는 개략도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 프레임에 고정된 구조용 보조 마스크의 구조를 보여주는 사시도이고, 도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체(10)에서 구조용 보조 마스크(200)를 보여주는 개략도이다.5 is a schematic view showing the structure of a structural auxiliary mask 200 according to an embodiment of the present invention, Figure 6 is a perspective view showing the structure of a structural auxiliary mask fixed to a frame according to an embodiment of the present invention, Figure 13 is a schematic diagram illustrating a structural auxiliary mask 200 in a full size mask assembly 10 according to an embodiment of the present invention.

도 3 및 도 5, 도6, 도 13을 참조하면 본 발명의 일 실시 예에 따른 구조용 보조 마스크(200)는, 셀 단위 마스크(300)의 제작공차인 토탈 피치(total pitch)를 일정하게 유지하며, 후술할 셀 단위 마스크(300)를 지지할 수 있다. 구조용 보조 마스크(200)는, 중앙에 복수 개의 구조용 보조 마스크 개구부(210)가 형성되며, 각각의 격자를 이루는 복수의 살대(220)를 포함할 수 있다. 이러한 구조용 보조 마스크(200)는, 프레임(100)과 복수의 셀 단위 마스크(300) 사이에 개재될 수 있다.3, 5, 6, and 13, the structural auxiliary mask 200 according to an exemplary embodiment maintains a total pitch, which is a manufacturing tolerance of the cell unit mask 300, in a constant manner. The cell unit mask 300 to be described later may be supported. The structural auxiliary mask 200 may have a plurality of structural auxiliary mask openings 210 formed at a center thereof, and may include a plurality of ribs 220 forming each lattice. The structural auxiliary mask 200 may be interposed between the frame 100 and the plurality of cell unit masks 300.

구조용 보조 마스크(200)는, 중앙에 복수의 구조용 보조 마스크 개구부(210)들이 격자 형태를 이루고, 각각의 격자를 이루는 살대(220)들이 제1 방향과 제2 방향에 대칭적으로 배열될 수 있다. 이러한 구조용 보조 마스크 개구부(210)들은, 제조 및 가공의 편의성 때문에 격자 형태를 가지나, 크기가 각기 다르거나 불규칙한 경우와 같이 반드시 격자형으로 배열될 필요는 없다.The structural auxiliary mask 200 may have a plurality of structural auxiliary mask openings 210 formed in a lattice shape at the center thereof, and the ribs 220 constituting each lattice may be symmetrically arranged in a first direction and a second direction. . These structural auxiliary mask openings 210 have a lattice shape because of ease of manufacture and processing, but do not necessarily have to be arranged in a lattice form, such as when the sizes are different or irregular.

구조용 보조 마스크(200)는, 프레임(100)과 셀 단위 마스크(300)에 균일한 인장력을 가할 수 있도록, 각각의 살대(220)들의 크기와 형태, 폭(너비) 등이 서로 대칭적일 수 있다. 구조용 보조 마스크(200)는, 공정 중에 발생하는 열에 의한 온도 변화에 뒤틀림이 발생하지 않도록 열팽창 계수는 높고, 처짐 등의 변형이 발생하지 않는 재질일 수 있다. 또한 구조용 보조 마스크(200)는, 판상의 형상을 가지며, 100㎛ 내지 200㎛의 두께를 가질 수 있다.The structural auxiliary mask 200 may be symmetrical in size, shape, width (width), etc. of the ribs 220 so as to apply uniform tensile force to the frame 100 and the cell unit mask 300. . The structural auxiliary mask 200 may be made of a material having a high coefficient of thermal expansion and no deformation such as deflection so that distortion does not occur due to a change in temperature caused by heat generated during the process. In addition, the structural auxiliary mask 200 may have a plate shape and have a thickness of 100 μm to 200 μm.

구조용 보조 마스크 개구부(210)Structural Auxiliary Mask Opening 210

다시 도 5와 도 6, 도 8, 도 13을 참조하면 구조용 보조 마스크 개구부(210)는, 대략 사각 형상을 가질 수 있다. 구조용 보조 마스크 개구부(210)는, 후술할 셀 단위 마스크(300)의 증착패턴부(310)를 수직 방향으로 노출시키기 위하여, 살대(220) 간의 이격 거리만큼 격자 영역을 가질 수 있다. 또한 구조용 보조 마스크 개구부(210)는, 증착패턴부(310)에 대응되는 크기와 형상으로 형성될 수 있다. 하나의 구조용 보조 마스크 개구부(210)는, 하나의 셀 단위 마스크(300)에 대응할 수 있다. 따라서 하나의 풀 사이즈 마스크 조립체(10)를 이용한 단일 공정으로 복수의 유기발광표시장치(OLED)에 해당하는 패턴들을 동시에 증착할 수 있다.Referring back to FIGS. 5, 6, 8, and 13, the structural auxiliary mask opening 210 may have a substantially rectangular shape. The structural auxiliary mask opening 210 may have a lattice area by a distance between the ribs 220 in order to expose the deposition pattern part 310 of the cell unit mask 300 to be described later in a vertical direction. In addition, the structural auxiliary mask opening 210 may be formed in a size and shape corresponding to the deposition pattern part 310. One structural auxiliary mask opening 210 may correspond to one cell unit mask 300. Accordingly, patterns corresponding to the plurality of OLEDs may be simultaneously deposited in a single process using one full size mask assembly 10.

살대(220)Flesh (220)

도 8과 도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 프레임(100)에 고정된 구조용 보조 마스크(200)에 셀 단위 마스크(300)가 제1 위치정렬되는 방식을 설명하기 위한 개략도이고, 도 10은 본 발명의 일 실시 예에 따른 셀 단위 마스크(300)가 제1 위치정렬된 상태를 보여주는 개략도이고, 도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체(10)에서 구조용 보조 마스크(200)를 보여주는 개략도이다. 8 and 9 are schematic diagrams for describing a method in which the cell unit mask 300 is first aligned with the structural auxiliary mask 200 fixed to the frame 100 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 10. FIG. 13 is a schematic view showing a state in which the cell unit mask 300 according to an embodiment of the present invention is first aligned, and FIG. 13 illustrates a structural auxiliary mask in the full size mask assembly 10 according to an embodiment of the present invention. 200 is a schematic diagram showing.

도 5와 도 8 내지 도 10을 참조하면 살대(220)는, 후술할 셀 단위 마스크(300)의 셀 단위 지지부에 면접촉하여, 각각의 셀 단위 마스크(300)를 지지할 수 있다. 이러한 살대(220)는, 전체적으로 제1 방향과 제2 방향에서 각각 평행하도록 마련되고, 각각의 방향에서 복수 개가 동일한 폭과 길이를 가질 수 있다. 살대(220)는, 격자 형태로 배치되어 구조용 보조 마스크 개구부(210)의 사이 영역을 제공할 수 있다.5 and 8 to 10, the rib 220 may be in surface contact with the cell unit support of the cell unit mask 300, which will be described later, to support each cell unit mask 300. The rib 220 is provided to be parallel to each other in the first direction and the second direction as a whole, and a plurality of ribs may have the same width and length in each direction. The rib 220 may be disposed in a lattice form to provide an area between the structural auxiliary mask openings 210.

도 13을 참조하면 살대(220)는, 제1 셀 단위 지지부(221)와 제2 셀 단위 지지부(222), 셀 단위 이격부(223)를 포함하며, 단부의 돌출부(224)를 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 13, the rib 220 may include a first cell unit support 221, a second cell unit support 222, and a cell unit spacer 223, and further include a protrusion 224 at an end portion. Can be.

제1 셀 단위 지지부(221)는, 제1 방향에서 셀 단위 마스크(300)를 지지할 수 있다. 제1 셀 단위 지지부(221)는, 제2 방향으로 일정한 폭을 가지며, 셀 단위 마스크(300)와 면접촉할 수 있다.The first cell unit support part 221 may support the cell unit mask 300 in the first direction. The first cell unit support part 221 has a constant width in the second direction and may be in surface contact with the cell unit mask 300.

제2 셀 단위 지지부(222)는, 제2 방향에서 셀 단위 마스크(300)를 지지할 수 있다. 제2 셀 단위 지지부(222)는, 제1 방향으로 일정한 폭을 가지며, 셀 단위 마스크(300)와 면접촉할 수 있다. 이 경우 제2 셀 단위 지지부(222)는, 제1 셀 단위지지부(221)와 서로 다른 폭으로 셀 단위 마스크(300)를 지지할 수 있다.The second cell unit support part 222 may support the cell unit mask 300 in the second direction. The second cell unit support part 222 has a constant width in the first direction and may be in surface contact with the cell unit mask 300. In this case, the second cell unit support part 222 may support the cell unit mask 300 with a width different from that of the first cell unit support part 221.

셀 단위 이격부(223)는, 제1 셀 단위 지지부(221)와 제2 셀 단위 지지부(222) 사이 영역으로, 소정 간격을 가지며 격자 형상을 이루도록 복수개가 서로 이격되어 마련될 수 있다. 셀 단위 이격부(223)는, 살대(220)에서 제1 셀 단위 지지부(221)와 제2 셀 단위 지지부(222)를 제외한 영역을 가질 수 있다. 즉, 셀 단위 이격부(223)만큼 각각의 셀 단위 마스크(300)가 일정 간격으로 이격될 수 있다. 셀 단위 이격부(223)는, 스틱 마스크와 달리 제2 방향에 대해서도 각각의 셀 단위 마스크(300)와 접촉하지 않는 영역을 가질 수 있다. 즉, 셀 단위 이격부(223)는, 제1 방향과 제2 방향에 대하여 각각의 셀 단위 마스크(300) 간 서로 접촉하지 않고 이격된 영역을 일컫는다.The cell unit spacer 223 may be provided as a region between the first cell unit support 221 and the second cell unit support 222, spaced apart from each other to form a lattice shape with a predetermined interval. The cell unit spacer 223 may have an area except for the first cell unit support part 221 and the second cell unit support part 222 in the rib 220. That is, each cell unit mask 300 may be spaced at regular intervals by the cell unit spacer 223. Unlike the stick mask, the cell unit spacer 223 may have an area that does not contact each cell unit mask 300 in the second direction. That is, the cell unit spacer 223 refers to an area spaced apart without contact between the cell unit masks 300 in the first direction and the second direction.

돌출부(224)는, 살대(220)의 가장자리에서 돌출 연장된 영역일 수 있다. 돌출부(224)는, 구조용 보조 프레임(200)에 인장력을 가하기 위해 클램프 장치(미도시)가 물리는 영역으로, 프레임(100)과 면접촉하여 프레임(100)에 지지될 수 있다. 제1 방향과 제2 방향 각각의 돌출부(224) 한 쌍이 양방향으로 인장됨으로써, 프레임(100)에 구조용 보조 마스크(200)를 인장할 수 있다.The protrusion 224 may be an area protruding from the edge of the rib 220. The protrusion 224 is an area in which a clamp device (not shown) is bitten to apply a tensile force to the structural auxiliary frame 200, and may be supported by the frame 100 in surface contact with the frame 100. The pair of protrusions 224 in each of the first and second directions may be stretched in both directions, thereby tensioning the structural auxiliary mask 200 on the frame 100.

이 경우, 구조용 보조 마스크(200)를 인장시키기 위해 돌출부(224) 각각에 클램프 장치(미도시)가 설치될 수 있다. 클램프 장치(미도시)가 돌출부(224) 양단에 인장력을 가함으로써, 구조용 보조 마스크(200)이 팽팽하게 잡아당겨진 상태에서 프레임(100)에 고정될 수 있다. 이때 돌출부(224)는, 프레임(100)에 접합되는 영역(이하, '프레임 결합부'라 한다)과 접합되지 아니하는 영역으로 이루어질 수 있다. 그 결과, 프레임(100)의 내측과 구조용 보조 마스크(200)의 살대(220) 사이가 공간적으로 떨어져 배치될 수 있다.In this case, a clamp device (not shown) may be installed on each of the protrusions 224 to tension the structural auxiliary mask 200. The clamp device (not shown) exerts a tensile force on both ends of the protrusion 224, so that the structural auxiliary mask 200 can be fixed to the frame 100 while being stretched. In this case, the protrusion 224 may be formed of an area that is not bonded to an area (hereinafter, referred to as a 'frame coupling part') that is bonded to the frame 100. As a result, the inside of the frame 100 and the rib 220 of the structural auxiliary mask 200 may be spaced apart from each other.

프레임 결합부는, 돌출부(224)의 단부로, 일정한 길이를 가지는 영역이다. 프레임 결합부는, 지지부(110)에 면접촉하며, 프레임(100)과 용접 등의 방법으로 결합되어 고정되는 영역이다. 프레임 결합부는, 용접 방법에 의하여, 제1 방향과 제2 방향에서 인장된 구조용 보조 마스크(200)를 프레임(100)에 용접함으로써, 프레임(100)과 구조용 보조 마스크(200)를 일체화할 수 있다. 다만 구조용 보조 마스크(200)는, 용접 방법 이외의 방법으로 프레임(100)에 고정될 수 있다.The frame coupling portion is an end portion of the protrusion 224 and is an area having a constant length. The frame coupling part is an area that is in surface contact with the support part 110 and coupled to and fixed to the frame 100 by welding or the like. The frame coupling unit may integrate the frame 100 and the structural auxiliary mask 200 by welding the structural auxiliary mask 200, which is stretched in the first direction and the second direction, to the frame 100 by a welding method. . However, the structural auxiliary mask 200 may be fixed to the frame 100 by a method other than a welding method.

이러한 프레임 결합부는, 프레임(100)과 접촉 영역을 최소화함으로써, 그 결과 프레임의 열응력이 구조용 보조 마스크(200)로 전달되는 현상을 최소화할 수 있고, 나아가 구조용 보조 마스크(200)에 의해 지지되는 셀 단위 마스크(300)들에 전달되는 열응력도 최소화할 수 있다.Such a frame coupling part may minimize a contact area with the frame 100, thereby minimizing a phenomenon in which thermal stress of the frame is transferred to the structural auxiliary mask 200, and further supported by the structural auxiliary mask 200. Thermal stress transmitted to the cell unit masks 300 may also be minimized.

이와 같이 구성된 풀 사이즈 마스크 조립체(10)에서 프레임(100)과 구조용 보조 마스크(200)의 결합구조를 설명하면 다음과 같다.Referring to the coupling structure of the frame 100 and the structural auxiliary mask 200 in the full-size mask assembly 10 configured as described above are as follows.

도 8과 9에 도시된 대로 풀 사이즈 마스크 조립체(10)는, 구조용 보조 마스크(200)를 구성하는 각각의 살대(220) 양단에 마주보는 돌출부(224)를 서로 반대방향으로 인장한다. 이때 프레임(100)과 구조용 보조 마스크(200)는 여러 가지 방식으로 결합될 수 있는데, 도 8에 도시된 풀 사이즈 마스크 조립체(10)는, 인장된 상태에서, 구조용 보조 마스크(200)의 프레임 결합부를 프레임(100)의 지지부(110)에 면접촉시켜 용접된 상태를 나타낸다.As shown in FIGS. 8 and 9, the full-size mask assembly 10 tensions the protrusions 224 opposite the ribs constituting the structural auxiliary mask 200 in opposite directions. In this case, the frame 100 and the structural auxiliary mask 200 may be combined in various ways. In the tensioned state, the full size mask assembly 10 shown in FIG. 8 is coupled to the frame of the structural auxiliary mask 200. The part is in surface contact with the support part 110 of the frame 100 and shows the state welded.

풀 사이즈 마스크 조립체(10)의 또 다른 구성인 셀 단위 마스크(300)에 대해 설명하기로 한다.The cell unit mask 300, which is another configuration of the full size mask assembly 10, will be described.

셀 단위 마스크(300)Cell masks (300)

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 셀 단위 마스크(300)의 구조를 보여주는 개략도이고, 도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체(10)에서 셀 단위 마스크(300)를 보여주는 개략도이다.7A to 7C are schematic views illustrating a structure of a cell unit mask 300 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 13 is a cell unit mask (10) in the full size mask assembly 10 according to an embodiment of the present invention. 300 is a schematic diagram showing.

도 3 및 도7a 내지 도 13을 참조하면 셀 단위 마스크(300)는, 증착 공정 단계에서 증착 물질이 증착패턴부(310)를 통과해 기판(미도시) 상에 증착되어 원하는 모양의 박막(금속층 또는 유기발광층 등)을 형성시키게 된다. 이러한 셀 단위 마스크(300)는, 증착패턴부(310)를 포함하고, 나아가 셀 단위 결합부(320)를 더 포함할 수 있다. 셀 7단위 마스크(300)는, 판상의 형상으로 10㎛ 내지 30㎛의 두께를 가짐으로써, 일면이 구조용 보조 마스크(200)에 직접 면접촉하여 지지될 수 있다.Referring to FIGS. 3 and 7A to 13, in the cell unit mask 300, a deposition material is deposited on a substrate (not shown) through a deposition pattern part 310 in a deposition process step to form a thin film (metal layer) of a desired shape. Or an organic light emitting layer). The unit cell mask 300 may include a deposition pattern unit 310, and further include a unit cell coupling unit 320. The cell 7 unit mask 300 has a thickness of 10 μm to 30 μm in a plate shape, so that one surface thereof may be directly in surface contact with the structural auxiliary mask 200.

셀 단위 마스크(300)는, 제1 방향 및 제2 방향으로 구조용 보조 마스크 개구부(210)보다 큰 영역을 가질 수 있다. 아울러 후술할 증착패턴부(310)는, 제1 방향 및 제2 방향으로 구조용 보조 마스크 개구부(210)보다 작은 영역을 가질 수 있다. 즉 구조용 보조 마스크 개구부(210)는, 증착패턴부(310)보다 크지만, 셀 단위 마스크(300)보다는 작은 영역으로 형성될 수 있다.The unit cell mask 300 may have a larger area than the structural auxiliary mask opening 210 in the first direction and the second direction. In addition, the deposition pattern part 310 to be described later may have a region smaller than the structural auxiliary mask opening 210 in the first direction and the second direction. That is, the structural auxiliary mask opening 210 may be formed as an area larger than the deposition pattern part 310 but smaller than the cell mask 300.

증착패턴부(310)Deposition pattern part 310

도 10은 본 발명의 일 실시 예에 따른 셀 단위 마스크(300)가 제1 위치정렬된 상태를 보여주는 개략도이고, 도 11은 본 발명의 일 실시 예에 따른 셀 단위 마스크(300)가 제2 위치정렬된 상태를 보여주는 개략도이다.FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a first position alignment of the cell unit mask 300 according to an embodiment of the present disclosure, and FIG. 11 is a second position of the cell unit mask 300 according to an embodiment of the present disclosure. A schematic showing the sorted state.

도 10 내지 도 11을 참조하면 증착패턴부(310)는, 프레임(100)에 고정된 구조용 보조 마스크(200)에 셀 단위 마스크(300)를 위치정렬시키는 데 이용되거나, 증착 공정에서 증착 물질을 통과시키기 위한 유기발광표시장치(OLED)의 R, G, B 픽셀 중에서 어느 하나로 이용될 수 있다. 이러한 증착패턴부(310)는, 제1 위치정렬홀(311)과 제2 위치정렬홀(312)을 포함할 수 있 수 있다. 나아가 증착패턴부(310)는, 구조용 보조 마스크 개구부(210)에 대향하는 위치에 마련될 수 있는데, 복수 개의 홀들의 배열로 제시되었으나 이외에도 복수 개의 슬릿으로 형성될 수 있다.10 to 11, the deposition pattern unit 310 is used to align the cell unit mask 300 to the structural auxiliary mask 200 fixed to the frame 100, or to deposit a deposition material in a deposition process. One of the R, G, and B pixels of the organic light emitting display OLED may be used. The deposition pattern unit 310 may include a first alignment hole 311 and a second alignment hole 312. Further, the deposition pattern unit 310 may be provided at a position opposite to the structural auxiliary mask opening 210, but is provided in an array of a plurality of holes, but may be formed of a plurality of slits.

제1 위치정렬홀(311)은, 각각의 셀 단위 마스크(300)를 구조용 보조 마스크(200)에 제1 위치정렬시키는 데 이용할 수 있다. 이때 제1 위치정렬홀(311)은, 증착패턴부(310)의 어느 일 측 모서리에 위치할 수 있다. 제1 위치정렬을 위하여 구조용 보조 마스크 개구부(210)와 제1 위치정렬홀(311)의 위치를 이용할 수 있다. 즉 구조용 보조 마스크 개구부(210)의 내측 길이가 증착패턴부(310)의 길이보다 길므로, 제2 위치정렬에 앞서, 셀 단위 마스크(300)의 제1 위치정렬홀(311)이 구조용 보조 마스크 개구부(210)의 내측에 대응 되는 위치에 오도록 하여 셀 단위 마스크(300)를 대략적으로 위치정렬 시킬 수 있다.The first alignment holes 311 may be used to align each of the cell unit masks 300 to the structural auxiliary mask 200. In this case, the first position alignment hole 311 may be located at one side edge of the deposition pattern unit 310. Positions of the structural auxiliary mask openings 210 and the first alignment holes 311 may be used for the first alignment. That is, since the inner length of the structural auxiliary mask opening 210 is longer than the length of the deposition pattern part 310, the first position alignment hole 311 of the cell unit mask 300 may be a structural auxiliary mask before the second position alignment. The cell unit mask 300 may be roughly aligned by being positioned at a position corresponding to the inside of the opening 210.

제2 위치정렬홀(312)은, 각각의 셀 단위 마스크(300)를 TFT 글래스의 TFT위치에 제2 위치정렬시키는 데 이용할 수 있다. 이때 제2 위치정렬홀(312)은, 복수개의 홀로 구성된 증착패턴부(310) 중에서 다수 개로 선별하여 제공된 기준 홀일 수 있다. 제2 위치정렬홀(3120)의 중심을 이용하여 제2 위치정렬시킬 수 있다. 증착공정 단계에서 셀 단위 마스크(300)의 증착패턴부(310)는, TFT 글래스의 TFT 위치에 대응되므로, 해당 TFT 위치의 절대좌표값을 토대로 각각의 셀 단위 마스크(300)의 위치를 정렬시킬 수 있다.The second alignment holes 312 can be used to align each cell unit mask 300 to the TFT position of the TFT glass at the second position. In this case, the second position alignment holes 312 may be reference holes provided by selecting a plurality of deposition pattern units 310 including a plurality of holes. The second position alignment may be performed using the center of the second position alignment hole 3120. Since the deposition pattern part 310 of the cell unit mask 300 corresponds to the TFT position of the TFT glass in the deposition process step, the position of each cell unit mask 300 is aligned based on the absolute coordinate value of the TFT position. Can be.

셀 단위 지지부는, 셀 단위 마스크(300)에서 증착패턴부(310) 해당영역을 제외한 영역일 수 있다. 셀 단위 지지부는, 살대(220)와 면접촉하는 영역으로, 일부에 대해서는 셀 단위 결합부(320)와 중첩되는 영역일 수 있다. 셀 단위 지지부는, 제1 방향에서 제1 셀 단위 지지부(221)와 면접촉하고, 제2 방향에서 제2 셀 단위 지지부(222)와 면접촉한 채로, 구조용 보조 마스크(200)에 지지될 수 있다.The cell unit support part may be an area excluding the corresponding area of the deposition pattern part 310 in the cell unit mask 300. The cell unit support part may be an area in surface contact with the rib 220, and may be an area overlapping with the cell unit coupling part 320. The cell unit support part may be supported by the structural auxiliary mask 200 while in surface contact with the first cell unit support part 221 in the first direction and in surface contact with the second cell unit support part 222 in the second direction. .

셀 단위 결합부(320)Cell unit coupling part 320

도 12는 본 발명의 일 실시 예에 따른 용접에 의해 셀 단위 마스크(300)를 구조용 보조 마스크(200)에 결합시, 용접 방향을 보여주는 개략도이다.12 is a schematic diagram illustrating a welding direction when the cell unit mask 300 is coupled to the structural auxiliary mask 200 by welding according to an embodiment of the present invention.

다시 도 7a 내지 도 7c, 도 13을 참조하면 셀 단위 결합부(320)는, 셀 단위 마스크(300)의 일면, 즉 증착방향면인 셀 단위 마스크(300)의 하면에 마련될 수 있다. 셀 단위 결합부(320)는, 셀 단위 지지부 중에서도 구조용 보조 마스크(200)와 용접 등의 방법으로 결합되어 고정되는 영역이다. 셀 단위 결합부(320)는, 용접 등에 의하여 구조용 보조 마스크(200)에 고정될 경우, 셀 단위 마스크(300)의 둘레면을 따라 복수 개의 용접점(321)이 일정 간격으로 배치 마련될 수 있다. 셀 단위 마스크(300) 하면의 용접점(321)과 구조용 보조 마스크(200)의 상면이 마주보며 들뜸이 없이 결합될 수 있다. 다만 셀 단위 마스크(300)는, 용접 방법 이외의 방법으로 구조용 보조 마스크(200)에 고정될 수 있다.7A to 7C and 13, the cell unit coupling part 320 may be provided on one surface of the cell unit mask 300, that is, the bottom surface of the cell unit mask 300, which is a deposition direction surface. The cell unit coupling part 320 is an area of the cell unit support part that is coupled to and fixed by the structural auxiliary mask 200 by welding or the like. When the cell unit coupling part 320 is fixed to the structural auxiliary mask 200 by welding or the like, a plurality of welding points 321 may be disposed at predetermined intervals along the circumferential surface of the cell unit mask 300. . The welding point 321 on the lower surface of the cell unit mask 300 and the upper surface of the structural auxiliary mask 200 may be coupled to each other without lifting. However, the cell unit mask 300 may be fixed to the structural auxiliary mask 200 by a method other than a welding method.

셀 단위 결합부(320)는, 둘레면을 따라 제1 방향으로 형성된 제1 셀 단위 결합부(322) 및/또는 둘레면을 따라 제2 방향으로 형성된 제2 셀 단위 결합부(323)를 포함할 수 있다.The cell unit coupling unit 320 includes a first cell unit coupling unit 322 formed in a first direction along a circumferential surface and / or a second cell unit coupling unit 323 formed in a second direction along a circumferential surface. can do.

일 실시 예에 따르면, 셀 단위 결합부(320)는, 제1 셀 단위 결합부(322)와 제2 셀 단위 결합부(323) 모두일 수 있다. 다른 실시 예에 따르면, 셀 단위 결합부(320)는, 제1 셀 단위 결합부(322) 또는 제2 셀 단위 결합부(323) 중 어느 하나일 수 있다.According to an embodiment, the cell unit combiner 320 may be both the first cell unit combiner 322 and the second cell unit combiner 323. According to another embodiment, the cell unit combiner 320 may be either the first cell unit combiner 322 or the second cell unit combiner 323.

이는 증착패턴부(310)의 크기에 비례한다. 즉 증착패턴부(310)의 크기가 상대적으로 클 경우, 구조용 보조 마스크(200)와의 결합력을 높이기 위하여, 제1 셀 단위 결합부(322)와 제2 셀 단위 결합부(323) 모두에 대하여 용접할 수 있다. 이와 반대로 증착패턴부(310)의 크기가 상대적으로 작을 경우, 적은 결합 영역으로도 셀 단위 마스크(300)를 용이하게 지지할 수 있으므로, 제1 셀 단위 결합부(322) 또는 제2 셀 단위 결합부(323) 중 어느 하나를 선택적으로 용접할 수 있다. 즉, 셀 단위 마스크(300)의 셀 단위 지지부가 구조용 보조 마스크(200)의 제1 셀 단위 지지부(221)와 제2 셀 단위 지지부(222)에 지지된 채로, 풀 사이즈 마스크 조립체(10)의 하부에 위치한 레이저광(미도시)에 의해 셀 단위 마스크(300)의 하면에서, 셀 단위 마스크(300)의 제1 셀 단위 결합부(322) 및/또는 제2 셀 단위 결합부(323)가 용접될 수 있다.This is proportional to the size of the deposition pattern portion 310. That is, when the size of the deposition pattern portion 310 is relatively large, in order to increase the bonding force with the structural auxiliary mask 200, welding is performed on both the first cell unit coupling portion 322 and the second cell unit coupling portion 323. can do. On the contrary, when the size of the deposition pattern unit 310 is relatively small, the cell unit mask 300 can be easily supported even with a small coupling area, so that the first cell unit coupling unit 322 or the second cell unit coupling is performed. Any one of the portions 323 may be selectively welded. That is, the cell unit support part of the cell unit mask 300 is supported by the first cell unit support part 221 and the second cell unit support part 222 of the structural auxiliary mask 200. In the lower surface of the cell unit mask 300 by the laser light (not shown) located below, the first cell unit coupling part 322 and / or the second cell unit coupling part 323 of the cell unit mask 300 is formed. Can be welded.

도 12에 도시된 대로, 풀 사이즈 마스크 조립체(10)의 TFT 글래스의 접촉면에 대한 이면인 셀 단위 마스크의 하면, 즉 풀 사이즈 마스크 조립체(10)의 하부에 위치한 레이저광(미도시)으로 증착면에 용접함으로써, 용접시 발생한 버(bur)가 발생하더라도 증착시 기판이 풀 사이즈 마스크 조립체와 들뜸이 없이 부착될 수 있다.As shown in FIG. 12, the lower surface of the cell unit mask, which is the back side of the contact surface of the TFT glass of the full size mask assembly 10, that is, the deposition surface with laser light (not shown) located under the full size mask assembly 10. By welding to the substrate, the substrate can be attached to the full size mask assembly without being lifted, even if burrs generated during welding occur.

나아가 풀 사이즈 마스크 조립체(10)를 이루는 각각의 셀 단위 마스크(300)는, 구조용 보조 마스크(200)에 의해 지지된 상태에서, 제1 방향과 제2 방향으로 복수 개가 서로 단속적으로 마련될 수 있다. 즉, 각각의 셀 단위 마스크(300) 간에는, 제1 방향과 제2 방향에 대하여 셀 단위 이격부(223)만큼 이격된 채로 구조용 보조 마스크(200)에 고정 결합될 수 있다.Furthermore, each cell unit mask 300 constituting the full size mask assembly 10 may be provided intermittently in a first direction and a second direction in a state supported by the structural auxiliary mask 200. . That is, the cell unit masks 300 may be fixedly coupled to the structural auxiliary mask 200 while being spaced apart by the cell unit spacers 223 with respect to the first direction and the second direction.

이와 같이 구성된 풀 사이즈 마스크 조립체(10)에서 구조용 보조 마스크(200)와 셀 단위 마스크(300)의 결합구조를 설명하면 다음과 같다.The combination structure of the structural auxiliary mask 200 and the cell unit mask 300 in the full size mask assembly 10 configured as described above is as follows.

도 10과 도 11에 도시된 대로 풀 사이즈 마스크 조립체(10)는, 셀 단위 마스크(300)를 일련의 과정인 제1 위치정렬과 제2 위치정렬하여, 구조용 보조 마스크(200)에 셀 단위 마스크(300)를 결합시킬 수 있다.As shown in FIGS. 10 and 11, the full-size mask assembly 10 aligns the cell unit mask 300 with the first position alignment and the second position alignment, which are a series of processes, to form the cell unit mask in the structural auxiliary mask 200. 300 may be combined.

셀 마스크 그리퍼(gripper, 미도시)가 셀 단위 마스크(300)를 지지한 채로 제1 방향 및 제2 방향으로 인장력을 가하여 구조용 보조 마스크(200)의 구조용 보조 마스크 개구부(210) 내에 셀 단위 마스크(300) 중 제1 위치정렬홀(311)이 들어오도록 셀 단위 마스크(300)를 제1 위치정렬시킬 수 있다. 이후 셀 단위 마스크(300) 중 제2 위치정렬홀(312)의 중심을 TFT 글래스의 TFT 위치와 수직 방향에서 서로 일치하도록 하여 제2 위치정렬시킬 수 있다.The cell mask gripper (not shown) applies a tensile force in the first direction and the second direction while supporting the cell unit mask 300 to form the cell unit mask (not shown) in the structural auxiliary mask opening 210 of the structural auxiliary mask 200. The cell unit mask 300 may be firstly aligned such that the first alignment hole 311 is entered. Subsequently, the center of the second alignment hole 312 in the cell unit mask 300 may be aligned with the TFT position of the TFT glass in the vertical direction to perform the second alignment.

셀 마스크 그리퍼(미도시)는, 진공 방식 또는 정전기 유도 방식 등에 의하여 셀 단위 마스크(300)를 위치제어할 수 있다. 이러한 셀 마스크 그리퍼(미도시)는, 제1 방향, 제2 방향은 물론 수직 방향에서 셀 단위 마스크(300)의 위치값은 물론 수평방향의 평탄도를 제어할 수 있다.The cell mask gripper (not shown) may position control the cell unit mask 300 by a vacuum method or an electrostatic induction method. The cell mask gripper (not shown) may control the flatness in the horizontal direction as well as the position value of the cell unit mask 300 in the vertical direction as well as the first direction and the second direction.

이때 구조용 보조 마스크(200)와 각각의 셀 단위 마스크(300)는 여러 가지 방식으로 결합될 수 있는데, 도 13과 도 14에 도시된 풀 사이즈 마스크 조립체(10)는, 셀 단위 마스크(300)의 가장자리에 마련된 셀 단위 결합부(320)의 각각의 용접점(321)을 따라 용접될 수 있다.In this case, the structural auxiliary mask 200 and each of the unit cell masks 300 may be combined in various ways, and the full size mask assembly 10 illustrated in FIGS. 13 and 14 may be formed of the unit cell mask 300. It may be welded along each welding point 321 of the cell unit coupling portion 320 provided at the edge.

이하, 도 12, 도 15 및 도 16을 참조하여 본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체 제조방법에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a full size mask assembly manufacturing method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 12, 15, and 16.

도 15는 본 발명의 일 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체 제조방법을 보여주는 블록도이고, 도 16은 도 15에서 셀 단위 마스크(300)의 정렬하는 방법을 보여주는 블록도이다.FIG. 15 is a block diagram illustrating a method of manufacturing a full-size mask assembly according to an exemplary embodiment. FIG. 16 is a block diagram illustrating a method of aligning the mask unit 300 in FIG. 15.

도 15에 도시된 대로, 풀 사이즈 마스크 조립체 제조방법은, 구조용 보조 마스크 정렬 단계(s10)와, 구조용 보조 마스크 인장 단계(s20), 구조용 보조 마스크 고정 단계(s30), 셀 단위 마스크 정렬 단계(s40), 셀 단위 마스크 고정 단계(s50)를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 15, the method for manufacturing a full-size mask assembly includes: a structural auxiliary mask alignment step (s10), a structural auxiliary mask tension step (s20), a structural auxiliary mask fixing step (s30), and a cell unit mask alignment step (s40) ), And may include a cell unit mask fixing step (s50).

구조용 보조 마스크 정렬 단계(s10)에서는, 프레임(100)의 프레임 개구부(120)에 구조용 보조 마스크(200)를 대향시켜 정렬시킬 수 있다.In the structural auxiliary mask alignment step S10, the structural auxiliary mask 200 may be aligned to face the frame opening 120 of the frame 100.

구조용 보조 마스크 인장 단계(s20)에서는, 클램프 장치(미도시)를 이용해 구조용 보조 마스크(200)를 제1 방향과 제2 방향으로 인장시킬 수 있다. 구조용 보조 마스크(200)에서 각각의 살대(220)의 양단에 마주보는 각각의 돌출부(224)를 클램프 장치(미도시)에 물린 채 서로 반대방향으로 인장함으로써, 구조용 보조 마스크(200)에 인장력을 가할 수 있다.In the structural auxiliary mask tensioning step s20, the structural auxiliary mask 200 may be tensioned in a first direction and a second direction by using a clamp device (not shown). In the structural auxiliary mask 200, each of the protrusions 224 facing both ends of each rib 220 is tensioned in the opposite direction with a clamp device (not shown), thereby tensioning the structural auxiliary mask 200. Can be added.

구조용 보조 마스크 고정 단계(s30)에서는, 프레임(100)과 구조용 보조 마스크(200)를 용접으로 접합하여 프레임(100)에 구조용 보조 마스크(200)를 고정시킬 수 있다. 구조용 보조 마스크(200)의 프레스 결합부가 프레임(100)의 지지부(120)에 면접촉한 상태로 용접될 수 있다.In the structural auxiliary mask fixing step s30, the structural auxiliary mask 200 may be fixed to the frame 100 by welding the frame 100 and the structural auxiliary mask 200 by welding. The press coupling part of the structural auxiliary mask 200 may be welded in surface contact with the support part 120 of the frame 100.

셀 단위 마스크 정렬 단계(s40)에서는, 구조용 보조 마스크(200)의 구조용 보조 마스크 개구부(210)에 셀 단위 마스크(300)를 대향시켜 정렬할 수 있다. 셀 단위 마스크 정렬 단계(s40)는 하기와 같이 각 단계로 세분화할 수 있다.In the cell unit mask alignment step (S40), the unit cell mask 300 may be aligned to face the structure auxiliary mask opening 210 of the structure auxiliary mask 200. The cell-based mask alignment step s40 may be subdivided into the following steps.

도 16에 도시된 대로, 셀 단위 마스크 정렬 단계(s40)는, 셀 단위 마스크 인장 단계(s41), 셀 단위 마스크 제1 위치정렬 단계(s42), 셀 단위 마스크 제2 위치정렬 단계(s43) 및 셀 단위 마스크 안착 단계(s44)를 더 포함할 수 있다.As shown in FIG. 16, the unit cell mask alignment step s40 includes a unit cell mask tensioning step s41, a unit cell mask first position alignment step s42, a unit cell mask second position alignment step s43, and The cell-based mask mounting step s44 may be further included.

셀 단위 마스크 인장 단계(s41)에서는, 셀 마스크 그리퍼(미도시)가 각각의 셀 단위 마스크(300) 단위로 제1 방향 및 제2 방향으로 인장력을 가할 수 있다. 즉 셀 단위 마스크(300)에 인장력을 가할 수 있는 셀 마스크 그리퍼(미도시)가 수직 방향에서 셀 단위 마스크(300)의 일면을 지지한 채로 제1 방향 및 제2 방향에서 셀 단위 마스크(300)를 인장시킬 수 있다.In the cell unit mask tensioning step s41, a cell mask gripper (not shown) may apply a tensile force in a first direction and a second direction in units of each cell unit mask 300. That is, a cell mask gripper (not shown) capable of applying a tensile force to the cell unit mask 300 supports one surface of the cell unit mask 300 in the vertical direction, and the cell unit mask 300 in the first and second directions. Can be tensioned.

셀 단위 마스크 제1 위치정렬 단계(s42)에서는, 셀 마스크 그리퍼(미도시)가 각각의 구조용 보조 마스크 개구부(210)로 개별 셀 단위 마스크(300)를 이동시킬 수 있다. 즉 셀 마스크 그리퍼(미도시)가 인장력을 가하여 셀 단위 마스크(300)를 지지한 채로, 구조용 보조 마스크 개구부(210) 내에 셀 단위 마스크(300)의 제1 위치정렬홀(311)이 들어오도록 셀 단위 마스크(300)를 제1 위치정렬시킬 수 있다.In the unit cell mask first alignment step S42, the cell mask gripper (not shown) may move the individual unit cell mask 300 to each structural auxiliary mask opening 210. That is, the cell mask gripper (not shown) supports the cell unit mask 300 by applying a tensile force, so that the first alignment hole 311 of the cell unit mask 300 enters into the structural auxiliary mask opening 210. The unit mask 300 may be first aligned.

셀 단위 마스크 제2 위치정렬 단계(s43)에서는, 카메라(미도시)를 이용하여 각각의 셀 단위 마스크(300)의 위치를 정렬시킬 수 있다. 풀 사이즈 마스크 조립체(10)의 하부에 위치한 카메라(미도시)를 통하여 제1 방향 및 제2 방향에서 제2 위치정렬홀(312)의 중심이 TFT 글래스의 TFT 위치의 중심과 1um 이내로 일치되는지 여부를 확인하여, 셀 마스크 그리퍼(미도시)의 위치를 제1 방향 또는 제2 방향에서 미세 조정하여 셀 단위 마스크(300)를 제2 위치정렬시킬 수 있다.In the second cell alignment mask s43, the position of each cell mask 300 may be aligned using a camera (not shown). Whether the center of the second alignment hole 312 in the first and second directions coincides within 1 um with the center of the TFT position of the TFT glass through a camera (not shown) positioned below the full size mask assembly 10. The cell unit mask 300 may be secondly aligned by finely adjusting the position of the cell mask gripper (not shown) in the first direction or the second direction.

셀 단위 마스크 안착 단계(s44)에서는, 구조용 보조 마스크 개구부(210)에 셀 단위 마스크(300)를 안착시킬 수 있다. 셀 마스크 그리퍼(미도시)를 수직 방향으로 이동시켜, 구조용 보조 마스크 개구부(210)에 셀 단위 마스크(300)를 안착시킬 수 있다.In the cell unit mask mounting step s44, the cell unit mask 300 may be seated in the structural auxiliary mask opening 210. The cell mask gripper (not shown) may be moved in the vertical direction to mount the cell unit mask 300 in the structural auxiliary mask opening 210.

즉, 셀 단위 마스크 제1 위치정렬 단계(s42)와 셀 단위 마스크 제2 위치정렬 단계(s43)에서 제1 방향 및 제2 방향으로 셀 단위 마스크(300)의 위치를 정렬하고, 셀 단위 마스크 안착 단계(s44)에서는 수직방향에서 셀 단위 마스크(300)를 위치정렬하여, 풀 사이즈 마스크 조립체(10) 내에서 각각의 셀 단위 마스크(300)를 위치정렬시킬 수 있다.That is, the cell unit mask 300 is aligned in the first direction and the second direction in the cell unit mask first position alignment step s42 and the cell unit mask second position alignment step s43, and the cell unit mask is mounted. In operation S44, the cell unit mask 300 may be aligned in the vertical direction, thereby aligning each cell unit mask 300 in the full size mask assembly 10.

셀 단위 마스크 고정 단계(s50)에서는, 구조용 보조 마스크(200)와 셀 단위 마스크(300) 사이에 셀 단위 결합부(320)를 형성하여 구조용 보조 마스크(200)에 셀 단위 마스크(300)를 고정할 수 있다. 이 경우 용접 등의 방법을 이용해 고정할 수 있다.In the unit cell mask fixing step (s50), the unit cell coupling unit 320 is formed between the structural auxiliary mask 200 and the unit cell mask 300 to fix the unit cell mask 300 to the structural auxiliary mask 200. can do. In this case, it can be fixed using a method such as welding.

다양한 실시 예 중에서도 용접을 이용한 셀 단위 마스크 고정 단계(s50)를 살펴보면, 셀 마스크 그리퍼(미도시)로 셀 단위 마스크(300)를 안착 후 구조용 보조 마스크(200)에 지지시킨 상태에서, 셀 단위 마스크(300)의 가장자리를 따라 마련된 제1 셀 단위 결합부(322) 및/또는 제2 셀 단위 결합부(323)를 구조용 보조 마스크(200)에 접합시킬 수 있다.Referring to the cell unit mask fixing step (s50) among various embodiments, in a state in which the cell unit mask 300 is supported by the structural auxiliary mask 200 after being seated with the cell mask gripper (not shown), the unit cell mask The first cell unit coupling part 322 and / or the second cell unit coupling part 323 provided along the edge of the 300 may be bonded to the structural auxiliary mask 200.

보다 구체적으로, 풀 사이즈 마스크 조립체(10)의 하측 방향에서 마련한 레이저광(미도시)을 이용하여, 제1 셀 단위 결합부(322) 및/또는 제2 셀 단위 결합부(323)에 형성된 각각의 용접점(321)들을 통해 셀 단위 마스크(300)를 용접할 수 있다.More specifically, each of the first cell unit coupling unit 322 and / or the second cell unit coupling unit 323 is formed using a laser beam (not shown) provided in the downward direction of the full size mask assembly 10. The cell unit mask 300 may be welded through the welding points 321.

한편, 다른 실시 예에 따른 풀 사이즈 마스크 조립체 제조방법은, 프레임(100)에 고정된 구조용 보조 마스크(200)의 셀 마스크 개구부(210)에 셀 단위 마스크(300)를 대향시켜 정렬하는 셀 단위 마스크 정렬 단계를 포함할 수 있다.Meanwhile, in the method of manufacturing a full-size mask assembly according to another embodiment, a cell unit mask in which the cell unit mask 300 is aligned to face the cell mask opening 210 of the structural auxiliary mask 200 fixed to the frame 100. It may include an alignment step.

셀 단위 마스크 정렬 단계는, 셀 마스크 그리퍼(미도시)가 셀 단위 마스크(300)를 제1 방향 및 제2 방향으로 인장력을 가하는 셀 단위 마스크 인장 단계; 증착 물질을 통과시키는 증착패턴부(310) 중 어느 일 측 모서리에 위치한 제1 위치정렬홀(311)을 수직 방향에서 구조용 보조 마스크 개구부(210) 내로 정렬시키는 셀 단위 마스크 제1 위치정렬 단계; 증착패턴부(310) 중에서 다수 개의 제2 위치정렬홀(312)을 수직 방향에서 TFT 글래스의 TFT 위치에 정렬시키는 셀 단위 마스크 제2 위치정렬 단계; 및 구조용 보조 마스크 개구부(210)에 셀 단위 마스크(300)를 안착시키는 셀 단위 마스크 안착 단계를 더 포함할 수 있다.The cell-by-cell mask aligning step may include a cell-by-mask mask tensioning step in which a cell mask gripper (not shown) exerts a force on the cell-by-cell mask 300 in a first direction and a second direction; A first mask alignment step of aligning the first alignment hole 311 positioned at one edge of the deposition pattern portion 310 for passing the deposition material into the structural auxiliary mask opening 210 in the vertical direction; A second mask alignment step of aligning the plurality of second alignment holes 312 in the deposition pattern unit 310 to the TFT position of the TFT glass in the vertical direction; And mounting a cell unit mask to mount the cell unit mask 300 in the structural auxiliary mask opening 210.

이상, 본 발명을 바람직한 실시 예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail using the preferable embodiment, the scope of the present invention is not limited to a specific embodiment and should be interpreted by the attached Claim. In addition, those skilled in the art should understand that many modifications and variations are possible without departing from the scope of the present invention.

10 : 풀 사이즈 마스크 조립체
100 : 프레임 110 : 지지부
120 : 프레임 개구부
200 : 구조용 보조 마스크 210 : 구조용 보조 마스크 개구부
220 : 살대 221 : 제1 셀 단위 지지부
222 : 제2 셀 단위 지지부 223 : 셀 단위 이격부
224 : 돌출부
300 : 셀 단위 마스크 310 : 증착패턴부
311 : 제1 위치정렬홀 312 : 제2 위치정렬홀
320 : 셀 단위 결합부 321 : 용접점
322 : 제1 셀 단위 결합부 323 : 제2 셀 단위 결합부10: full size mask assembly
100 frame 110 support part
120: frame opening
200: structural auxiliary mask 210: structural auxiliary mask opening
220: rod 221: first cell unit support
222: second cell unit support 223: cell unit spacing
224 protrusions
300: cell unit mask 310: deposition pattern portion
311: first position alignment hole 312: second position alignment hole
320: cell unit coupling portion 321: welding point
322: first cell unit combiner 323: second cell unit combiner

Claims (8)

프레임 개구부가 형성되며, 상기 프레임 개구부를 둘러싸는 지지부를 가지는 프레임;
상기 지지부에 의해 지지되며, 복수 개의 구조용 보조 마스크 개구부가 형성되도록 격자 형태를 이루는 복수의 살대를 가지는 구조용 보조 마스크; 및
상기 구조용 보조 마스크에 의해 지지되며, 증착 물질을 통과시키는 증착패턴부를 구비한 복수 개의 셀 단위 마스크를 포함하는, 풀 사이즈 마스크 조립체.
A frame having a frame opening, the frame having a support surrounding the frame opening;
A structural auxiliary mask supported by the support part and having a plurality of ribs forming a lattice such that a plurality of structural auxiliary mask openings are formed; And
And a plurality of cell unit masks supported by the structural auxiliary mask and having a deposition pattern portion through which a deposition material passes.
제 1 항에 있어서,
제1 위치정렬홀은 상기 증착패턴부의 어느 일 측 모서리에 위치한 것으로,
상기 제1 위치정렬홀은 수직 방향에서 상기 구조용 보조 마스크 개구부 내에 정렬되도록 마련된, 풀 사이즈 마스크 조립체.
The method of claim 1,
The first alignment hole is located at one side edge of the deposition pattern portion.
And the first alignment hole is arranged to align within the structural auxiliary mask opening in a vertical direction.
제 2 항에 있어서,
제2 위치정렬홀은 상기 증착패턴부 중에서 다수 개로 제공된 기준 홀로,
상기 제2 위치정렬홀의 중심은 수직 방향에서 TFT 글래스의 TFT 위치와 서로 일치하도록 정렬된, 풀 사이즈 마스크 조립체.
The method of claim 2,
The second alignment hole is a reference hole provided in a plurality of the deposition pattern portion,
And the centers of the second alignment holes are aligned to coincide with the TFT positions of the TFT glasses in the vertical direction.
제 1 항에 있어서,
상기 살대는,
제1 방향에서 상기 셀 단위 마스크를 지지하는 제1 셀 단위 지지부;
상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향에서 상기 셀 단위 마스크를 지지하는 제2 셀 단위 지지부; 및
상기 제1 셀 단위 지지부와 상기 제2 셀 단위 지지부 사이에 소정 간격을 가지고 격자 형상을 형성하며, 상기 셀 단위 마스크를 접촉하지 않는 셀 단위 이격부를 포함하는, 풀 사이즈 마스크 조립체.
The method of claim 1,
The flesh,
A first cell unit supporter supporting the cell unit mask in a first direction;
A second cell unit supporter supporting the cell unit mask in a second direction perpendicular to the first direction; And
And forming a lattice shape at a predetermined interval between the first cell unit support and the second cell unit support, and including a cell unit spacer that does not contact the cell unit mask.
제 1 항에 있어서,
상기 셀 단위 마스크는 제1 방향 및 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 복수 개가 서로 단속적으로 마련된, 풀 사이즈 마스크 조립체.
The method of claim 1,
And a plurality of the cell unit masks are intermittently provided in a first direction and in a second direction perpendicular to the first direction.
제 1 항에 있어서,
상기 셀 단위 마스크는 제1 방향 및 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 상기 구조용 보조 마스크 개구부 보다 큰 영역을 가지는, 풀 사이즈 마스크 조립체.
The method of claim 1,
And the cell unit mask has a larger area than the structural auxiliary mask opening in a first direction and a second direction orthogonal to the first direction.
제 1 항에 있어서,
상기 증착패턴부는 제1 방향 및 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 상기 구조용 보조 마스크 개구부 보다 작은 영역을 가지는, 풀 사이즈 마스크 조립체.
The method of claim 1,
And the deposition pattern portion has a smaller area than the structural auxiliary mask opening in a first direction and a second direction orthogonal to the first direction.
프레임에 고정된 구조용 보조 마스크에 형성된 구조용 보조 마스크 개구부에 각각의 셀 단위 마스크를 대향시켜 상기 셀 단위 마스크마다 개별적으로 정렬하는 셀 단위 마스크 정렬 단계를 포함하는, 풀 사이즈 마스크 조립체 제조방법.And a cell unit mask alignment step of individually arranging each unit cell mask to the structural unit mask opening formed in the structural auxiliary mask fixed to the frame and individually arranging the unit cell masks.
KR1020180094382A 2018-06-04 2018-08-13 Full-size mask assembly and manufacturing method therof KR102466835B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180094382A KR102466835B1 (en) 2018-06-04 2018-08-13 Full-size mask assembly and manufacturing method therof
KR1020220148483A KR102544342B1 (en) 2018-08-13 2022-11-09 Full-size mask assembly and manufacturing method therof

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180064033A KR101909582B1 (en) 2018-06-04 2018-06-04 Full-size mask assembly and manufacturing method therof
KR1020180094382A KR102466835B1 (en) 2018-06-04 2018-08-13 Full-size mask assembly and manufacturing method therof

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180064033A Division KR101909582B1 (en) 2018-06-04 2018-06-04 Full-size mask assembly and manufacturing method therof

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220148483A Division KR102544342B1 (en) 2018-08-13 2022-11-09 Full-size mask assembly and manufacturing method therof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190138256A true KR20190138256A (en) 2019-12-12
KR102466835B1 KR102466835B1 (en) 2022-11-15

Family

ID=84042135

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180094382A KR102466835B1 (en) 2018-06-04 2018-08-13 Full-size mask assembly and manufacturing method therof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102466835B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102409797B1 (en) * 2021-12-20 2022-06-22 주식회사 핌스 Thin Film deposition Metal Mask having reformation resistance

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040084314A (en) * 2003-03-27 2004-10-06 삼성에스디아이 주식회사 Deposition mask for display device and Method for fabricating the same
KR20140147353A (en) * 2013-06-19 2014-12-30 삼성디스플레이 주식회사 Mask structure for deposition
KR101742816B1 (en) 2010-12-20 2017-06-02 삼성디스플레이 주식회사 Mask frame assembly, manufacturing method of the same, and manufacturing method of organic light emitting display device thereused

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040084314A (en) * 2003-03-27 2004-10-06 삼성에스디아이 주식회사 Deposition mask for display device and Method for fabricating the same
KR101742816B1 (en) 2010-12-20 2017-06-02 삼성디스플레이 주식회사 Mask frame assembly, manufacturing method of the same, and manufacturing method of organic light emitting display device thereused
KR20140147353A (en) * 2013-06-19 2014-12-30 삼성디스플레이 주식회사 Mask structure for deposition

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102409797B1 (en) * 2021-12-20 2022-06-22 주식회사 핌스 Thin Film deposition Metal Mask having reformation resistance

Also Published As

Publication number Publication date
KR102466835B1 (en) 2022-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101909582B1 (en) Full-size mask assembly and manufacturing method therof
KR100811730B1 (en) Mask film formation method and mask film formation apparatus
US20130040047A1 (en) Method for manufacturing el device
KR20120044259A (en) Film formation method and film formation apparatus
KR101986525B1 (en) Producing method of mask
US20190372002A1 (en) Manufacturing method for mask sheet, vapor deposition mask, and display panel
KR20130060125A (en) Film formation apparatus, film formation method, and mask unit to be used for them
CN109023236A (en) The preparation method of deposition system and OLED luminescent device
KR102466835B1 (en) Full-size mask assembly and manufacturing method therof
KR20200065576A (en) Template for supporting mask, template for supporting mask metal sheet and producing methoe thereof and producing method of mask integrated frame
KR102666397B1 (en) Frame for producing mask integrated frame and producing method thereof
KR102544342B1 (en) Full-size mask assembly and manufacturing method therof
KR102138800B1 (en) Mask and mask integrated frame
KR101986526B1 (en) Producing method of mask
KR102342737B1 (en) Producing method of mask
KR20200044747A (en) Producing method of mask and producing method of mask integrated frame
KR20210064996A (en) Mask cell sheet for producing mask integrated frame
KR20200040474A (en) Mask integrated frame and producing method of mask integrated frame
KR102138799B1 (en) Mask and mask integrated frame
KR20120021055A (en) Mask frame assembly and depositingmethod using the same
KR102152688B1 (en) Producing method of mask integrated frame
KR101986524B1 (en) Producing method of mask integrated frame
KR101986530B1 (en) Producing method of mask integrated frame
KR102404744B1 (en) Stick mask, frame-integrated mask and producing method thereof
KR20200040649A (en) Mask integrated frame and producing method of mask integrated frame

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
A107 Divisional application of patent
GRNT Written decision to grant