KR20190115838A - Display appartus using one chip type led and fabrication method of the same - Google Patents

Display appartus using one chip type led and fabrication method of the same

Info

Publication number
KR20190115838A
KR20190115838A KR1020180039032A KR20180039032A KR20190115838A KR 20190115838 A KR20190115838 A KR 20190115838A KR 1020180039032 A KR1020180039032 A KR 1020180039032A KR 20180039032 A KR20180039032 A KR 20180039032A KR 20190115838 A KR20190115838 A KR 20190115838A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
light emitting
metal
substrate
light
Prior art date
Application number
KR1020180039032A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102078643B1 (en
Inventor
민재식
이재엽
조병구
Original Assignee
(주)라이타이저
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)라이타이저 filed Critical (주)라이타이저
Priority to KR1020180039032A priority Critical patent/KR102078643B1/en
Publication of KR20190115838A publication Critical patent/KR20190115838A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102078643B1 publication Critical patent/KR102078643B1/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/15Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission
    • H01L27/153Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars
    • H01L27/156Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars two-dimensional arrays
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/005Processes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/36Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/501Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
    • H01L33/502Wavelength conversion materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls

Abstract

Disclosed are a display device using a one chip type light emitting diode and a method of manufacturing the same. In the display device according to an embodiment of the present invention, at least one light emitting element and driving element are disposed on a substrate for a display panel. In the light emitting element, a first metal layer, a light emitting layer, and a second metal layer are disposed horizontally while being sequentially in contact with one another. It is possible to manufacture a reliable display device quickly.

Description

원칩 타입의 발광 다이오드를 이용한 디스플레이 장치 및 그 제조 방법{DISPLAY APPARTUS USING ONE CHIP TYPE LED AND FABRICATION METHOD OF THE SAME}DISPLAY APPARTUS USING ONE CHIP TYPE LED AND FABRICATION METHOD OF THE SAME}

본 발명은 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 원칩 타입의 발광 다이오드를 이용한 디스플레이 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device using a one-chip type light emitting diode and a method of manufacturing the same.

발광 다이오드(Light Emitting Diode: LED)는 전류가 인가되면 광을 방출하는 발광 소자 중 하나이다. 발광 다이오드는 저 전압으로 고효율의 광을 방출할 수 있어 에너지 절감 효과가 뛰어나다. 최근, 발광 다이오드의 휘도 문제가 크게 개선되어, 액정표시장치의 백라이트 유닛(Backlight Unit), 전광판, 표시기, 가전 제품 등과 같은 각종 기기에 적용되고 있다.A light emitting diode (LED) is one of light emitting devices that emit light when a current is applied. Light emitting diodes can emit high-efficiency light at low voltage, resulting in excellent energy savings. Recently, the luminance problem of the light emitting diode has been greatly improved, and has been applied to various devices such as a backlight unit, a display board, a display, and a home appliance of a liquid crystal display.

최근 발광 다이오드를 활용한 디스플레이 장치가 활발히 개발되고 있다. 대부분의 디스플레이 장치 기술은 하나의 픽셀을 구현하기 위하여 3개의 발광 다이오드(적색, 녹색, 청색) 칩이 사용하고 있다. 그런데 각 칩마다 구동전류가 차이가 나기 때문에 동일한 구동회로를 구성하는데 어려움이 있다. 또한, 다른 종류의 발광 다이오드 칩이므로, 수명이 서로 다른 단점이 있다.Recently, display devices using light emitting diodes have been actively developed. Most display device technologies use three light emitting diode (red, green, blue) chips to implement one pixel. However, since the driving current is different for each chip, it is difficult to configure the same driving circuit. In addition, different types of light emitting diode chips have different disadvantages.

마이크로 발광 다이오드(μμ-LED)의 크기는 5 ~ 200μμm 수준으로 매우 작고, 40 인치(inch)의 디스플레이 장치를 구현하기 위해서는 대략 2,500만개 이상의 픽셀이 요구된다. 따라서, 40 인치의 디스플레이 장치를 하나 만드는데 단순한 픽앤플레이스(Pick & Place) 방법으로는 시간적으로 최소 한 달 이상이 소요되는 문제가 있다.Micro light-emitting diodes (μμ-LEDs) are very small, ranging from 5μm to 200μm, and require more than 25 million pixels to implement a 40-inch display device. Therefore, there is a problem that it takes at least one month in time for a simple pick and place method to make a 40-inch display device.

등록특허공보 제10-1100579호, 공고일자 2012년01월13일Patent Application Publication No. 10-1100579, Publication Date January 13, 2012 등록특허공보 제10-0696445호, 공고일자 2007년03월19일Patent Application Publication No. 10-0696445, Publication Date March 19, 2007

이러한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 다수의 단위 셀을 각각 포함하는 다수의 발광 소자를 다수 개의 픽셀 어레이 형태로 형성한 후에 픽셀 어레이 단위로 다이싱하고, 디스플레이 패널용 기판 상에 픽셀 어레이 단위로 솔더링한 후에 각 단위 셀에 다수의 파장 변환층을 형성하도록 한, 원칩 타입의 발광 다이오드를 이용한 디스플레이 장치 및 그 제조 방법을 제공하는데 있다.In order to solve the problems of the prior art, an object of the present invention is to form a plurality of light emitting devices each including a plurality of unit cells in the form of a plurality of pixel array, and then dicing them into a pixel array unit, the display panel substrate Disclosed is a display device using a one-chip type light emitting diode and a method of manufacturing the same, wherein a plurality of wavelength conversion layers are formed in each unit cell after soldering on a pixel array basis.

다만, 본 발명의 목적은 상기 목적들로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.However, the object of the present invention is not limited to the above objects, and may be variously expanded within a range without departing from the spirit and scope of the present invention.

상기 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 한 관점에 따른 디스플레이 장치는 디스플레이 패널용 기판 상에 하나 이상의 발광 소자 및 구동 소자가 배치되고, 상기 발광 소자는 제1 금속층, 발광층 및 제2 금속층이 순차적으로 접하여 수평 배치될 수 있다.In order to achieve the object of the present invention, a display device according to an aspect of the present invention is one or more light emitting elements and driving elements are disposed on a substrate for a display panel, the light emitting element is a first metal layer, a light emitting layer and a second metal layer These may be sequentially arranged horizontally.

본 발명의 다른 한 관점에 따른 디스플레이 장치는 디스플레이 패널용 기판; 상기 디스플레이 패널용 기판의 상부에 배치된 금속 패드; 상기 금속 패드의 상부에 전기적으로 연결되고, 서로 다른 파장의 광을 방출하는 다수의 단위 셀을 각각 포함하고, 다수의 픽셀 어레이 형태로 배열된 다수의 발광 소자; 및 상기 디스플레이 패널용 기판의 상부에 배치되고, 상기 다수의 발광 소자 각각을 전기적으로 구동시키는 다수의 구동 소자;를 포함하고, 상기 발광 소자는 발광층; 상기 발광층의 일 측면에 형성된 제1 금속층; 및 상기 발광층의 타 측면에 형성된 제2 금속층;을 포함하고, 상기 제1 금속층, 상기 발광층, 상기 제2 금속층이 순차적으로 수평 배치될 수 있다.According to another aspect of the present invention, a display apparatus includes a substrate for a display panel; A metal pad disposed on the display panel substrate; A plurality of light emitting elements electrically connected to the upper portions of the metal pads, each of the plurality of unit cells emitting light of different wavelengths, the plurality of light emitting elements being arranged in the form of a plurality of pixel arrays; And a plurality of driving elements disposed on the display panel substrate and electrically driving each of the plurality of light emitting elements. A first metal layer formed on one side of the light emitting layer; And a second metal layer formed on the other side of the light emitting layer, wherein the first metal layer, the light emitting layer, and the second metal layer may be sequentially arranged horizontally.

또한, 상기 금속 패드는 제1 금속 패드와 상기 제1 금속 패드와 소정 간격 이격되어 배치된 제2 금속 패드를 포함하고, 상기 제1 금속층이 상기 제1 금속 패드에 전기적으로 연결되고, 상기 제2 금속층이 상기 제2 금속 패드에 전기적으로 연결될 수 있다.The metal pad may include a first metal pad and a second metal pad disposed to be spaced apart from the first metal pad by a predetermined distance, wherein the first metal layer is electrically connected to the first metal pad, and the second metal pad is electrically connected to the first metal pad. A metal layer may be electrically connected to the second metal pad.

또한, 상기 제1 금속층은 제1 도전층과 제1 본딩 물질층을 포함하고, 상기 제2 금속층은 제2 도전층과 제2 본딩 물질층을 포함하고, 상기 제1 본딩 물질층이 상기 제1 금속 패드에 전기적으로 연결되고, 상기 제2 본딩 물질층이 상기 제2 금속 패드에 전기적으로 연결될 수 있다.Further, the first metal layer includes a first conductive layer and a first bonding material layer, the second metal layer includes a second conductive layer and a second bonding material layer, and the first bonding material layer is the first bonding layer. The second pad may be electrically connected to the metal pad, and the second bonding material layer may be electrically connected to the second metal pad.

또한, 상기 발광층은 순차적으로 수평 배치된 +EPI층, 활성층, -EPI층을 포함하고, 상기 -EPI층 및 상기 제2 금속층을 공통층으로 하고, 상기 활성층, 상기 +EPI층 및 상기 제1 금속층은 다수로 분리되어 단위 셀을 이룰 수 있다.The light emitting layer may include a + EPI layer, an active layer, and an -EPI layer, which are sequentially arranged horizontally, and have the -EPI layer and the second metal layer as a common layer, and the active layer, the + EPI layer, and the first metal layer. May be separated into a plurality to form a unit cell.

또한, 상기 제1 금속층부터 상기 +EPI층 및 상기 활성층까지에는 식각 공정을 통해 상기 다수의 단위 셀 각각을 구분하는 트렌치가 형성될 수 있다.In addition, a trench may be formed in each of the plurality of unit cells through an etching process from the first metal layer to the + EPI layer and the active layer.

또한, 상기 다수의 단위 셀은 적색 파장의 광을 방출하는 제1 단위 셀, 녹색 파장의 광을 방출하는 제2 단위 셀, 청색 파장의 광을 방출하는 제3 단위 셀을 포함하거나, 상기 다수의 단위 셀은, 제1 적색 파장의 광을 방출하는 제1 단위 셀, 제2 적색 파장의 광을 방출하는 제2 단위 셀, 녹색 파장의 광을 방출하는 제3 단위 셀, 청색 파장의 광을 방출하는 제3 단위 셀을 포함할 수 있다.The plurality of unit cells may include a first unit cell emitting light of a red wavelength, a second unit cell emitting light of a green wavelength, a third unit cell emitting light of a blue wavelength, or the plurality of unit cells. The unit cell may include a first unit cell emitting light of a first red wavelength, a second unit cell emitting light of a second red wavelength, a third unit cell emitting light of a green wavelength, and emitting light of a blue wavelength. It may include a third unit cell.

또한, 본 발명에 따른 디스플레이 장치는 상기 발광 소자는 상기 발광층의 상부에 형성된 파장 변환층;을 더 포함하고, 상기 파장 변환층은 퀀텀닷 형광체 또는 YAG 형광체를 포함할 수 있다.The display device according to the present invention may further include a wavelength conversion layer formed on the light emitting layer, wherein the wavelength conversion layer may include a quantum dot phosphor or a YAG phosphor.

본 발명의 한 관점에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법은 성장 기판 상에 행 또는 열 중 어느 하나 이상의 픽셀 어레이 형태로 발광층을 형성시킨 후, 상기 발광층의 상부와 하부에 제1 금속층과 제 2 금속층을 적층시켜 발광 구조물을 형성하는 단계; 상기 발광 구조물을 소정의 패턴으로 식각하는 단계; 상기 발광 구조물을 픽셀 어레이 단위로 다이싱하여 다수의 발광 소자를 포함하는 발광 소자 어레이를 형성하는 단계; 수직 적층된 상기 발광 소자 어레이를 디스플레이 패널용 기판 상에 수평 배치시키는 단계; 및 상기 발광 소자 어레이를 상기 디스플레이 패널용 기판에 전기적으로 연결하는 단계;를 포함할 수 있다.In the method of manufacturing a display device according to an aspect of the present invention, after forming a light emitting layer in the form of a pixel array of at least one of a row or a column on a growth substrate, a first metal layer and a second metal layer are laminated on and under the light emitting layer. To form a light emitting structure; Etching the light emitting structure in a predetermined pattern; Dicing the light emitting structure in pixel array units to form a light emitting device array including a plurality of light emitting devices; Horizontally arranging the vertically stacked array of light emitting devices on a substrate for a display panel; And electrically connecting the light emitting device array to the substrate for the display panel.

또한, 상기 발광 구조물을 형성하는 단계는 상기 성장 기판 상에 행 또는 열 중 어느 하나 이상의 픽셀 어레이 형태로 발광층을 형성시킨 후, 상기 발광층의 상부에 제1 금속층을 형성하는 단계; 상기 제1 금속층의 상부에 지그를 접착시키고, 상기 성장 기판을 제거하는 단계; 상기 발광층의 하부에 제2 금속층을 형성한 후 상기 지그를 제거하여 상기 발광 구조물을 형성하는 단계;를 포함할 수 있다.The forming of the light emitting structure may include forming a light emitting layer in the form of a pixel array of one or more rows or columns on the growth substrate, and then forming a first metal layer on the light emitting layer; Adhering a jig on top of the first metal layer and removing the growth substrate; And forming the light emitting structure by removing the jig after forming a second metal layer under the light emitting layer.

또한, 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법은 상기 디스플레이 패널용 기판의 상부에 상기 발광 소자가 전기적으로 연결되는 금속 패드와 상기 금속 패드에 연결된 발광 소자를 전기적으로 구동시키는 구동 소자를 형성하는 단계;를 더 포함하고, 상기 연결하는 단계에서는 상기 발광 소자 어레이 내 발광 소자가 상기 금속 패드에 전기적으로 연결되도록 솔더링할 수 있다.In addition, the method of manufacturing a display apparatus according to the present invention includes forming a metal pad on which the light emitting element is electrically connected and a driving element electrically driving the light emitting element connected to the metal pad on the display panel substrate; The method may further include soldering the light emitting device in the light emitting device array to be electrically connected to the metal pad.

또한, 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법은 상기 발광 소자의 상부에 파장 변환층을 형성하는 단계;를 더 포함하고, 상기 파장 변환층을 형성하는 단계에서는 퀀텀닷 형광체와 YAG 형광체 중 어느 하나의 형광체와 실리콘을 배합한 형광체액을 프린팅(printing) 또는 디스펜싱(dispensing)하여 형성할 수 있다.In addition, the manufacturing method of the display device according to the present invention further comprises the step of forming a wavelength conversion layer on the light emitting element, wherein in the step of forming the wavelength conversion layer of any one of the quantum dot phosphor and YAG phosphor The phosphor solution containing phosphor and silicon may be formed by printing or dispensing.

또한, 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법은 상기 발광 소자와 상기 발광 소자의 상부에 형성된 파장 변환층을 보호하는 보호층을 형성하는 단계;를 더 포함할 수 있다.In addition, the method of manufacturing the display device according to the present invention may further include forming a protective layer protecting the light emitting device and the wavelength conversion layer formed on the light emitting device.

또한, 상기 제1 금속층은 제1 도전층과 제1 본딩 물질층을 포함하고, 상기 제2 금속층은 제2 도전층과 제2 본딩 물질층을 포함할 수 있다.In addition, the first metal layer may include a first conductive layer and a first bonding material layer, and the second metal layer may include a second conductive layer and a second bonding material layer.

또한, 상기 발광층은 순차적으로 적층된 -EPI층, 활성층, +EPI층을 포함하고, 상기 식각하는 단계에서는, 상기 제1 본딩 물질층부터 상기 제1 도전층, 상기 발광층의 +EPI층과 활성층까지 상기 다수의 단위 셀들로 구분하기 위한 트렌치가 형성되도록 건식 식각할 수 있다.The light emitting layer may include a -EPI layer, an active layer, and an + EPI layer sequentially stacked, and in the etching, the first bonding material layer, the first conductive layer, the + EPI layer and the active layer of the light emitting layer may be formed. Dry etching may be performed to form a trench for dividing the plurality of unit cells.

이처럼, 본 발명은 다수의 단위 셀을 각각 포함하는 다수의 발광 소자를 다수개의 픽셀 어레이 형태로 형성한 후에 픽셀 어레이 단위로 다이싱하고, 디스플레이 패널용 기판 상에 픽셀 어레이 단위로 솔더링한 후에 각 단위 셀에 다수의 파장 변환층을 형성하도록 함으로써, 구동 소조와 금속 패드가 구비된 디스플레이 패널용 기판으로 픽셀 어레이 단위로 바로 전사되기 때문에 파장 변환층까지 구비된 LED를 하나씩 기판에 직접 옮기는 픽앤플레이스(Pick & Place) 공정에 비해 속도가 매우 빠르고, 이로 인해 수천 수만개의 픽셀을 갖는 디스플레이 장치의 제조 시간이 획기적으로 단축될 수 있다.As such, the present invention forms a plurality of light emitting devices each including a plurality of unit cells in the form of a plurality of pixel arrays, and then dices them into pixel array units and solders each pixel array unit onto a display panel substrate. By forming a plurality of wavelength conversion layers in a cell, the pick-and-place that directly transfers the LEDs up to the wavelength conversion layer one by one is directly transferred to the substrate for display panel provided with the driving element and the metal pad. & Place) is very fast compared to the process, which can significantly reduce the manufacturing time of the display device having tens of thousands of pixels.

또한, 본 발명은 동일한 청색 LED를 이용하여 픽셀(적색, 녹색, 청색)이 형성되기 때문에, 동일한 조건에서 구동이 가능하고, 신뢰성 있는 디스플레이 장치를 신속하게 제조할 수 있다.Further, in the present invention, since the pixels (red, green, blue) are formed using the same blue LED, it is possible to drive under the same conditions and to quickly manufacture a reliable display device.

또한, 본 발명은 전류가 도전층과 발광층을 관통하여 한 방향으로 흐르는 구조로 형성되기 때문에 전류 설계가 용이하고 발광 효율을 최대화할 수 있다.In addition, the present invention is formed in a structure that the current flows in one direction through the conductive layer and the light emitting layer, it is easy to design the current and can maximize the luminous efficiency.

또한 본 발명은 발광층, 도전층과 동일 평면 상에 본딩 물질층이 존재하기 때문에 와이어 본딩이 필요하지 않고 칩 스케일에서 바로 납땜이 가능할 수 있다.In addition, in the present invention, since a bonding material layer exists on the same plane as the light emitting layer and the conductive layer, soldering may be performed directly on a chip scale without wire bonding.

다만, 본 발명의 효과는 상기 효과들로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.However, the effects of the present invention are not limited to the above effects, and may be variously extended within a range without departing from the spirit and scope of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치를 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 디스플레이 장치 내 하나의 픽셀 영역의 확대도이다.
도 3은 디스플레이 장치 내 하나의 픽셀 영역을 A-A'로 자른 단면도이다.
도 4는 도 2에 도시된 디스플레이 장치 내 하나의 픽셀 영역의 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법을 나타내는 도면이다.
도 6a 내지 도 6m은 도 5의 디스플레이 장치의 제조 과정을 설명하기 위한 도면이다.
1 illustrates a display device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged view of one pixel area in the display device illustrated in FIG. 1.
3 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of one pixel area in the display device.
FIG. 4 is a perspective view of one pixel area in the display device shown in FIG. 2.
5 is a diagram illustrating a manufacturing method of a display apparatus according to an exemplary embodiment.
6A to 6M are diagrams for describing a manufacturing process of the display apparatus of FIG. 5.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.DETAILED DESCRIPTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different but need not be mutually exclusive. For example, certain shapes, structures, and characteristics described herein may be embodied in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention with respect to one embodiment. In addition, it is to be understood that the location or arrangement of individual components within each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description, therefore, is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is defined only by the appended claims, along with the full range of equivalents to which such claims are entitled. Like reference numerals in the drawings refer to the same or similar functions throughout the several aspects.

이하, 첨부되는 도면을 참조하여 본 발명의 예시적인 실시형태에 따른 원칩 타입의 발광 다이오드를 이용한 디스플레이 장치 및 그 제조 방법을 설명한다. 특히, 본 발명에서는 다수의 단위 셀을 각각 포함하는 다수의 발광 소자를 다수 개의 픽셀 어레이 형태로 형성한 후에 픽셀 어레이 단위로 다이싱하고, 디스플레이 패널용 기판 상에 픽셀 어레이 단위로 솔더링한 후에 각 단위 셀에 다수의 파장 변환층을 형성하도록 한, 새로운 제조 방법 및 그 제조 방법으로 제조된 디스플레이 장치를 제안한다.Hereinafter, a display device using a one-chip type light emitting diode according to an exemplary embodiment of the present invention and a manufacturing method thereof will be described with reference to the accompanying drawings. Particularly, in the present invention, after forming a plurality of light emitting devices each including a plurality of unit cells in the form of a plurality of pixel arrays, dicing them in pixel array units and soldering them in pixel array units on a display panel substrate, and then each unit A novel fabrication method and a display device fabricated by the fabrication method are proposed, in which a plurality of wavelength conversion layers are formed in a cell.

일반적으로 마이크로 LED는 5~100㎛ 크기의 초소형 LED 입자를 기판에 이어 붙여 디스플레이를 제작하는 기술로, 차세대 TV 패널로 각광받고 있다. LED 칩 자체를 화소(픽셀)로 활용해 플렉서블이나 롤러블 화면을 구현하는 데 적합하고, OLED 대비 전력 소모량은 적으면서 반응 속도와 밝기는 뛰어나다. 이러한 마이크로 LED는 그 구조에 따라 수평칩(Lateral Chip), 수직칩(Vertical Chip), 플립칩(Flip Chip)들이 있는데, 이 칩들은 EPI와 금속 전극 등이 동일 평면 상에 존재하지 않는 구조를 가지고 있다. 특히, 수직칩은 구조적으로 전극이 동일 평면에 존재하지 않기 때문에 칩 스케일에서 납땜(soldering)이 불가능하고, 플립칩은 칩 스케일에서 납땜이 가능하지만 전류의 흐름이 수직칩처럼 일방향성을 갖지 않아 전극 설계가 어렵고 광효율이 떨어진다. 따라서, 본 발명에서는 수직칩과 플립칩의 장점만을 이용한 새로운 구조인 원칩(One Chip) 타입의 발광 다이오드를 이용한 디스플레이 장치 및 그 제조 방법을 제안한다.In general, micro LED is a technology for manufacturing a display by attaching ultra-small LED particles having a size of 5 ~ 100㎛ to a substrate, which is attracting attention as a next generation TV panel. It is suitable for implementing flexible or rollable screens by utilizing the LED chip itself as pixels (pixels), and it has excellent response speed and brightness while using less power than OLED. These micro LEDs have a horizontal chip, a vertical chip, and flip chips according to their structure, and these chips have a structure in which the EPI and the metal electrode do not exist on the same plane. have. In particular, vertical chips cannot be soldered at the chip scale because the electrodes are not coplanar in structure, and flip chips can be soldered at the chip scale, but the current flow is not unidirectional as the vertical chip. Difficult to design and low light efficiency. Accordingly, the present invention proposes a display device using a light emitting diode of one chip type, which is a new structure using only advantages of a vertical chip and a flip chip, and a manufacturing method thereof.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치를 나타내는 도면이고, 도 2는 도 1에 도시된 디스플레이 장치 내 하나의 픽셀 영역을 확대한 도면이고, 도 3은 디스플레이 장치 내 하나의 픽셀 영역을 A-A'로 자른 도면이고, 도 4는 도 2에 도시된 디스플레이 장치 내 하나의 픽셀 영역의 사시도이다.1 is a diagram illustrating a display apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged view of one pixel region in the display apparatus illustrated in FIG. 1, and FIG. 3 is a diagram illustrating one pixel region in the display apparatus. 4 is a perspective view of one pixel area in the display device shown in FIG. 2.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치는 기판(100), 금속 패드(200), 발광 소자(300), 구동 소자(400)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, a display device according to an exemplary embodiment may include a substrate 100, a metal pad 200, a light emitting device 300, and a driving device 400.

기판(100)은 디스플레이 장치의 디스플레이 패널용 기판일 수 있다. 기판(100)은 광을 전부 또는 일부 투과할 수 있는 재질일 수 있다. 예를 들어, 기판(100)은 유리 기판일 수 있으며, 플라스틱 재질의 기판일 수도 있다.The substrate 100 may be a substrate for a display panel of the display device. The substrate 100 may be a material capable of transmitting all or part of light. For example, the substrate 100 may be a glass substrate, or may be a plastic substrate.

기판(100)은 플렉서블 필름(Flexible Film), 금속 PCB(Metal PCB), 세라믹 PCB(ceramic PCB) 중 하나일 수 있다.The substrate 100 may be one of a flexible film, a metal PCB, and a ceramic PCB.

기판(100)은 상면(110)과 하면을 포함한다. 기판(100)의 상면(110) 상에 다수의 발광 소자(300)가 배치될 수 있다. 기판(100)의 상면(110)과 하면은 대면적일 수 있다. 예를 들어, 상면(110)의 대각선 길이가 수십 인치일 수 있다.The substrate 100 includes an upper surface 110 and a lower surface. A plurality of light emitting devices 300 may be disposed on the top surface 110 of the substrate 100. The upper surface 110 and the lower surface of the substrate 100 may have a large area. For example, the diagonal length of the top surface 110 may be several tens of inches.

기판(100)은 평면 기판 또는 곡면 기판일 수 있다. 기판(100)이 평면 기판인 경우, 기판(100)의 상면(110)은 평면일 수 있다. 한편 기판(100)이 곡면 기판인 경우, 기판(100)의 상면(110)은 전부 또는 일부가 만곡된 곡면을 포함할 수 있다.The substrate 100 may be a planar substrate or a curved substrate. When the substrate 100 is a flat substrate, the upper surface 110 of the substrate 100 may be a flat surface. Meanwhile, when the substrate 100 is a curved substrate, the upper surface 110 of the substrate 100 may include a curved surface in which all or part of the substrate 100 is curved.

기판(100)은 딱딱한(rigid) 재질일 수도 있고, 플렉서블(flexible) 재질일 수도 있다.The substrate 100 may be a rigid material or may be a flexible material.

금속 패드(200)는 기판(100)의 상부에 배치될 수 있다. 금속 패드(200)는 발광 소자(300)의 일측이 전기적으로 연결되는 제1 금속 패드(201)와 제1 금속 패드와 소정 간격 이격되어 배치되고 발광 소자(300)의 타측이 전기적으로 연결되는 제2 금속 패드(220)를 포함할 수 있다.The metal pad 200 may be disposed on the substrate 100. The metal pad 200 may include a first metal pad 201 electrically connected to one side of the light emitting device 300 and a first metal pad spaced apart from the first metal pad by a predetermined distance, and electrically connected to the other side of the light emitting device 300. 2 may include a metal pad 220.

발광 소자(300)는 기판(100)의 상부에 배치될 수 있다. 구체적으로, 발광 소자(300)는 기판(100)의 상부에 형성된 금속 패드(200)의 상부에 전기적으로 연결되도록 배치될 수 있다. 다수의 발광 소자(300)는 기판(100)의 상부에 어레이(array) 형태로 배열되는데, 본 발명에서는 이러한 픽셀 어레이 형태로 배열된 구조를 픽셀 바(pixel bar)라고 명명한다.The light emitting device 300 may be disposed on the substrate 100. In detail, the light emitting device 300 may be disposed to be electrically connected to an upper portion of the metal pad 200 formed on the substrate 100. The plurality of light emitting devices 300 are arranged in an array form on the substrate 100. In the present invention, the structure arranged in the form of a pixel array is referred to as a pixel bar.

도 2를 참조하면, 하나의 픽셀마다 하나의 발광 소자(300)가 배치되는데, 하나의 발광 소자(300)는 다수의 단위 셀(300a, 300b, 300c)을 포함할 수 있다. 다수의 단위 셀(300a, 300b, 300c)은 서로 다른 파장의 광을 방출할 수 있다. 예컨대, 제1 단위 셀(300a)는 적색 파장의 광을 방출하고, 제2 단위 셀(300b)는 녹색 파장의 광을 방출하고, 제3 단위 셀(300c)은 청색 파장의 광을 방출한다.Referring to FIG. 2, one light emitting device 300 is disposed for each pixel, and one light emitting device 300 may include a plurality of unit cells 300a, 300b, and 300c. The plurality of unit cells 300a, 300b, and 300c may emit light having different wavelengths. For example, the first unit cell 300a emits light having a red wavelength, the second unit cell 300b emits light having a green wavelength, and the third unit cell 300c emits light having a blue wavelength.

여기서는 3개의 단위 셀을 일 예로 설명하고 있지만, 반드시 이에 한정되지 않고 필요에 따라 2개의 단위 셀 또는 4개 이상의 단위 셀이 사용될 수 있다.Although three unit cells are described as an example, two unit cells or four or more unit cells may be used as necessary.

도 3을 참조하면, 하나의 발광 소자(300)는 발광층(310), 제1 도전층(320a), 제1 본딩 물질층(320a)를 포함하는 제1 금속층(320), 제2 도전층(330a), 제2 본딩 물질층(330b)을 포함하는 제2 금속층(330)을 포함하고, 여기서, 발광층(310)은 -EPI층(311), 활성층(312), +EPI층(313)을 포함할 수 있다. 이러한 발광 소자(300)의 각 층(layer)은 기판 상에 수평 배치될 수 있다.Referring to FIG. 3, one light emitting device 300 includes a light emitting layer 310, a first conductive layer 320a, and a first metal layer 320 and a second conductive layer (including the first bonding material layer 320a). 330a) and a second metal layer 330 including a second bonding material layer 330b, wherein the light emitting layer 310 includes an -EPI layer 311, an active layer 312, and a + EPI layer 313. It may include. Each layer of the light emitting device 300 may be disposed horizontally on the substrate.

도 4를 참조하면, 하나의 발광 소자(300)는 다수의 단위 셀(300a, 300b, 300c)을 포함하는데, 다수의 단위 셀(300a, 300b, 300c)은 발광층(310)의 -EPI층(311)과, 제2 금속층(330) 즉, 제2 도전층(330a)과 제2 본딩 물질층(330b)을 공통층으로 하고, 발광층(310)의 활성층(312)과 +EPI층(313), 제1 금속층(320) 즉, 제1 도전층(320a)과 제1 본딩 물질층(320b)은 다수로 분리된다.Referring to FIG. 4, one light emitting device 300 includes a plurality of unit cells 300a, 300b, and 300c, and the plurality of unit cells 300a, 300b, and 300c may include -EPI layers of the light emitting layer 310. 311 and the second metal layer 330, that is, the second conductive layer 330a and the second bonding material layer 330b as a common layer, the active layer 312 and the + EPI layer 313 of the light emitting layer 310 The first metal layer 320, that is, the first conductive layer 320a and the first bonding material layer 320b are separated into a plurality of layers.

이때, 발광층(310)의 활성층(312)과 +EPI층(313), 제1 금속층(320) 즉, 제1 도전층(320a)과 제1 본딩 물질층(320b) 간의 트렌치(trench)는 식각 공정을 통해 형성된다.At this time, the trench between the active layer 312, the + EPI layer 313, the first metal layer 320, that is, the first conductive layer 320a and the first bonding material layer 320b of the emission layer 310 is etched. It is formed through the process.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법을 나타내는 도면이고, 도 6a 내지 도 6m은 도 5의 디스플레이 장치의 제조 과정을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 5 is a diagram illustrating a manufacturing method of a display apparatus according to an exemplary embodiment, and FIGS. 6A to 6M are diagrams for describing a manufacturing process of the display apparatus of FIG. 5.

도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법은 구동소자/금속패드 형성 단계(S510), 발광층 성장 단계(S520), 적층 단계(S530), 식각 단계(S540), 다이싱 단계(S550), 솔더링 단계(S560), 변환층 형성 단계(S570) 및 보호층 형성 단계(S580)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 5, a method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention may include driving device / metal pad forming step (S510), emitting layer growing step (S520), laminating step (S530), etching step (S540), A dicing step S550, a soldering step S560, a conversion layer forming step S570, and a protective layer forming step S580 may be included.

1)구동소자/금속패드 형성 단계(S510)에서, 도 6a와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치의 디스플레이 패널용 기판(100)의 상부에 금속 패드(200)와 구동 소자(400)가 형성되는데, (a)에서는 사시도, (b)에서는 측면도를 보여준다.1) In the driving device / metal pad forming step (S510), as shown in FIG. 6A, the metal pad 200 and the driving device 400 are disposed on the display panel substrate 100 of the display device according to the exemplary embodiment of the present invention. (A) is a perspective view, (b) shows a side view.

금속 패드(200)는 제1 금속 패드(210)와 제2 금속 패드(220)를 포함하는데, 제1 금속 패드(210)는 발광 소자 어레이 내 다수의 발광 소자 각각의 일측에 개별 연결되도록 다수 개가 배치되고, 제2 금속 패드(220)는 발광 소자 어레이 내 다수의 발광 소자 각각의 타측에 공통 연결되도록 하나가 배치된다.The metal pad 200 may include a first metal pad 210 and a second metal pad 220, and a plurality of first metal pads 210 may be individually connected to one side of each of the plurality of light emitting devices in the light emitting device array. The second metal pad 220 is disposed to be commonly connected to the other side of each of the plurality of light emitting devices in the light emitting device array.

구동 소자(400)는 기판(100)의 상부에 배치되되, 제1 금속 패드(210)와 인접하여 배치되고, 제1 금속 패드(210)에 연결된 발광 소자를 전기적으로 구동시킬 수 있다. 구동 소자(400)는 발광 소자 내 다수의 단위 셀 각각을 구동시킬 수 있도록 다수 개가 배치되되, 단위 셀과 일대일 대응되도록 배치될 수 있다.The driving device 400 is disposed above the substrate 100, is disposed adjacent to the first metal pad 210, and electrically drives the light emitting device connected to the first metal pad 210. A plurality of driving devices 400 may be disposed to drive each of the plurality of unit cells in the light emitting device, and may be disposed to correspond one-to-one with the unit cells.

구동 소자(400)는 TFT(Thin Film Transistor)를 포함하는 반도체 구동회로일 수 있다. 여기서 TFT는 인접한 발광 소자와 전기적으로 연결되고, 외부 제어 신호에 따라 인접한 발광 소자의 구동을 제어할 수 있다.The driving device 400 may be a semiconductor driving circuit including a thin film transistor (TFT). The TFT may be electrically connected to the adjacent light emitting devices, and may control driving of the adjacent light emitting devices according to an external control signal.

2)발광층 성장 단계(S520)에서, 도 6b와 같이 성장 기판(10) 상에 발광층(310) 즉, -EPI층(311), 활성층(312), +EPI층(313)을 성장시킬 수 있다. GaN 성장을 위한 성장 기판으로는 상대적으로 고온에서 안정되고 가격이 저렴한 사파이어 기판(sapphire substrate)이 널리 사용되는데, 사파이어 기판은 부도체 기판이기 때문에 발광층에서 n 전극과 p 전극을 모두 형성해야 한다. 즉, 발광층(310)은 -EPI(311), 활성층(312), +EPI(313)로 구성되는데, -EPI(311)는 nGaN층이고, +EPI(313)는 pGaN층일 수 있다.2) In the light emitting layer growth step (S520), as shown in FIG. 6B, the light emitting layer 310, that is, the -EPI layer 311, the active layer 312, and the + EPI layer 313 may be grown on the growth substrate 10. . As a growth substrate for GaN growth, a sapphire substrate, which is relatively stable at a high temperature and is inexpensive, is widely used. Since the sapphire substrate is an insulator substrate, both the n electrode and the p electrode must be formed in the light emitting layer. That is, the light emitting layer 310 may be composed of -EPI 311, active layer 312, and + EPI 313. The -EPI 311 may be an nGaN layer, and the + EPI 313 may be a pGaN layer.

3)적층 단계(S530)에서, 성장 기판에서 성장시킨 발광층(310)의 상부와 하부 각각에 동일하게 금속층 즉, 도전층과 본딩 물질층을 순차적으로 적층시킬 수 있다. 이때, 발광층을 기준으로 그 상부와 하부에 도전층과 본딩 물질층이 대칭되도록 형성된다.3) In the stacking step S530, a metal layer, that is, a conductive layer and a bonding material layer, may be sequentially stacked on the upper and lower portions of the light emitting layer 310 grown on the growth substrate. In this case, the conductive layer and the bonding material layer are formed on the upper and lower portions of the light emitting layer so as to be symmetrical to each other.

구체적으로 설명하면, 3-1)도 6c와 같이, 발광층(310) 즉, +EPI(313)의 상부에 제1 금속층 즉, 제1 도전층(320a)과 제1 본딩 물질층(320b)을 순차적으로 적층시킬 수 있다.Specifically, 3-1) as shown in FIG. 6C, the first metal layer, that is, the first conductive layer 320a and the first bonding material layer 320b, is disposed on the light emitting layer 310, that is, the + EPI 313. It can be laminated sequentially.

3-2)도 6d와 같이, 적층된 제1 본딩 물질층(320b)의 상부에 지그(jig)(20)를 접착시킬 수 있다.3-2) as shown in FIG. 6D, the jig 20 may be adhered to the stacked first bonding material layer 320b.

3-3)도 6e와 같이, 발광층(310)을 성장시킨 성장 기판(10)을 제거할 수 있다. 이때, 사파이어 기판과 같은 성장 기판은 레이저 리프트 오프(Laser Lift-Off), 화학적인 리프트 오프 등의 방법으로 박리될 수 있다.3-3) as shown in FIG. 6E, the growth substrate 10 on which the light emitting layer 310 is grown may be removed. In this case, the growth substrate such as the sapphire substrate may be peeled off by a laser lift-off method, a chemical lift-off method, or the like.

3-4)도 6f와 같이, 발광층(310) 즉, -EPI(311)의 하부에 제2 금속층 즉, 제2 도전층(330a)과 제2 본딩 물질층(330b)을 순차적으로 적층시킬 수 있다.3-4) as shown in FIG. 6F, the second metal layer, that is, the second conductive layer 330a and the second bonding material layer 330b may be sequentially stacked below the light emitting layer 310, that is, the -EPI 311. have.

3-5)도 6g와 같이, 발광층(310)의 상부와 하부에 제1 금속층과 제2 금속층의 적층이 완료되면 제1 본딩 물질층(320b)의 상부에 접착된 지그(20)를 제거함으로써, 제1 본딩 물질층, 제1 도전층, 발광층, 제2 금속층, 제2 본딩 물질층에 순차적으로 적층된 발광 구조물을 형성할 수 있다.3-5) as shown in FIG. 6g, when the lamination of the first metal layer and the second metal layer on the upper and lower portions of the light emitting layer 310 is completed, the jig 20 adhered to the upper portion of the first bonding material layer 320b is removed. The light emitting structure may be sequentially formed on the first bonding material layer, the first conductive layer, the light emitting layer, the second metal layer, and the second bonding material layer.

이때, 도전층 즉, 제1 도전층과 제2 도전층 각각은 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au) 중 어느 하나의 금속 물질로 이루어지고, 그 두께가 10㎛ ~ 100㎛의 범위 이내로 형성될 수 있다. 또한, 본딩 물질층 즉, 제1 본딩 물질층과 제2 본딩 물질층 각각은 금-주석(AuSn), 납(Pb), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au) 중 어느 하나의 금속 물질로 이루어질 수 있다.At this time, each of the conductive layer, that is, the first conductive layer and the second conductive layer is made of a metal material of any one of copper (Cu), silver (Ag), and gold (Au), and has a thickness of 10 μm to 100 μm. It can be formed within a range. In addition, each of the bonding material layers, that is, the first bonding material layer and the second bonding material layer, may be formed of any one of gold-tin (AuSn), lead (Pb), copper (Cu), silver (Ag), and gold (Au). It may be made of a metallic material.

4)식각 단계(S540)에서, 도 6h와 같이 발광 구조물을 미리 정해진 패턴으로 트렌치(trench)가 형성되도록 건식 식각(full dry etch)할 수 있다. 이때, 트렌치는 단위 셀 단위로 발광 구조물의 제1 본딩 물질층(320b)부터 제1 도전층(320a), 발광층의 +EPI층(313)과 활성층(312)까지 형성될 수 있다.4) In the etching step (S540), as shown in FIG. 6H, the light emitting structure may be fully dry etched so that a trench is formed in a predetermined pattern. In this case, the trench may be formed from the first bonding material layer 320b of the light emitting structure to the first conductive layer 320a, the + EPI layer 313 and the active layer 312 of the light emitting layer in unit cell units.

즉, 제1 본딩 물질층(320b)부터 제1 도전층(320a), 발광층의 +EPI층(313)과 활성층(312)까지는 각 단위 셀을 분리하기 위한 트렌치가 형성되도록 건식 식각(dry etching)될 수 있다. 즉, 발광층의 -EPI층(311)과 제2 도전층(330a), 제2 본딩 물질층(330b)은 분리되지 않아 단위 셀들이 공통층으로 할 수 있다. 이렇게 형성된 다수의 단위 셀은 3개 이상일 수 있다.That is, dry etching is performed from the first bonding material layer 320b to the first conductive layer 320a, the + EPI layer 313 and the active layer 312 of the emission layer to form a trench for separating each unit cell. Can be. That is, since the -EPI layer 311, the second conductive layer 330a, and the second bonding material layer 330b of the emission layer are not separated, the unit cells may be the common layer. The plurality of unit cells thus formed may be three or more.

이때, 하나의 발광 소자를 이루는 다수의 단위 셀 간의 트렌치의 크기는 동일하되, 다수의 발광 소자 간의 트렌치의 크기보다는 작게 형성된다.In this case, the size of the trench between the plurality of unit cells constituting one light emitting device is the same, but smaller than the size of the trench between the plurality of light emitting devices.

5)다이싱 단계(S550)에서, 도 6i와 같이 발광 구조물은 다수의 발광 소자를 포함하는 복수의 픽셀 어레이로 구성된다. 발광 구조물을 픽셀 어레이 단위로 다이싱(dicing)하여 다수의 발광 소자를 포함하는 발광 소자 어레이 즉, 픽셀 바를 형성할 수 있다. 이렇게 형성된 발광 소자의 단면 즉, 발광 소자의 각 층이 적층된 방향으로 자른 단면은 직사각형 또는 정사각형일 수 있다. 여기서, 발광 소자 어레이는 동일 픽셀 어레이에 배치되는 다수의 발광 소자를 포함한다.5) In the dicing step S550, the light emitting structure is composed of a plurality of pixel arrays including a plurality of light emitting elements as shown in FIG. The light emitting structure may be diced in pixel array units to form a light emitting device array including a plurality of light emitting devices, that is, a pixel bar. The cross section of the thus formed light emitting device, that is, the cross section cut in the direction in which each layer of the light emitting device is stacked may be rectangular or square. Here, the light emitting element array includes a plurality of light emitting elements arranged in the same pixel array.

6)솔더링 단계(S560)에서, 도 6j와 같이 다이싱된 발광 소자 어레이 내 발광 소자의 각 층을 동일 평면 상에 위치하도록 수평 배치시켜, 발광 소자의 상부와 하부 각각에 형성된 본딩 물질층 즉, 제1 본딩 물질층(320b)과 제2 본딩 물질층(330b)이 기판 상의 금속 패드(210, 220)와 전기적으로 연결되도록 솔더링(soldering)할 수 있다.6) In the soldering step (S560), by placing each layer of the light emitting device in the diced light emitting device array as shown in Figure 6j so as to be located on the same plane, the bonding material layer formed on the upper and lower portions of the light emitting device, that is, The first bonding material layer 320b and the second bonding material layer 330b may be soldered to be electrically connected to the metal pads 210 and 220 on the substrate.

이때, 발광 소자는 그 크기에 따라 다양한 LED 예컨대, 20㎛ ~ 200㎛의 마이크로 LED, 200㎛ ~ 600㎛의 미니 LED, 600㎛ 이상의 일반 LED로 구분될 수 있다.In this case, the light emitting device may be classified into various LEDs, for example, micro LEDs of 20 μm to 200 μm, mini LEDs of 200 μm to 600 μm, and general LEDs of 600 μm or more.

7)변환층 형성 단계(S570)에서, 도 6k와 같이 솔더링된 발광 소자의 상부에 서로 다른 파장의 광을 방출하는 파장 변환층(340)을 형성할 수 있다. 여기서, 파장 변환층(340)은 퀀텀닷(Quantum Dot) 형광체 또는 YAG 형광체를 이용하여 형성될 수 있다. 파장 변환층(340)은 퀀텀닷 형광체와 YAG 형광체 중 어느 하나의 형광체와 실리콘을 배합한 형광체액을 프린팅(printing) 또는 디스펜싱(dispensing) 방법으로 코팅하여 형성될 수 있다.7) In the conversion layer forming step (S570), a wavelength conversion layer 340 for emitting light of different wavelengths can be formed on the soldered light emitting device as shown in FIG. The wavelength conversion layer 340 may be formed using a quantum dot phosphor or a YAG phosphor. The wavelength conversion layer 340 may be formed by coating or dispensing a phosphor solution in which any one of the quantum dot phosphor and the YAG phosphor and silicon are mixed.

특히 본 발명의 일 실시예에 따른 파장 변환층(340)은 퀀텀닷 형광체를 이용한 파장 변환을 통해 3개의 색 예컨대, 적색, 녹색, 청색 중 하나의 색을 형성할 수 있다. 여기서 퀀텀닷은 지름 수십 나노미터 이하의 반도체 결정물질로서 특이한 전기적, 광학적 성질을 지니는 입자를 말하는데, 전기를 통하게 하면 입자 크기에 따라 다른 길이의 빛 파장을 발생시켜 다양한 색을 낼 수 있을 뿐만 아니라, 색 순도와 광 안정성이 높은 물질이다.In particular, the wavelength conversion layer 340 according to an embodiment of the present invention may form one of three colors, for example, red, green, and blue, through wavelength conversion using a quantum dot phosphor. Here, the quantum dot is a semiconductor crystal material having a diameter of several tens of nanometers or less, and refers to particles having specific electrical and optical properties. It is a material with high color purity and light stability.

이러한 파장 변환층은 발광 소자의 상부에 형성되되, 발광 소자를 구성하는 제1 도전층, 발광층 제2 도전층의 상부 면적보다 크게 형성될 수 있다.The wavelength conversion layer may be formed on the light emitting device, and may be formed larger than the upper areas of the first conductive layer and the light emitting layer second conductive layer constituting the light emitting device.

도 6l를 참조하면, 픽셀 라인 또는 픽셀 어레이에서 하나의 픽셀에 해당하는 하나의 발광 소자는 서로 다른 파장 변환층이 형성된 다수의 단위 셀을 포함한다. 예컨대, 적색 발광 영역에 위치하는 제1 단위 셀(300a)의 상부에는 적색 파장 변환층(340a)이 형성되고, 녹색 발광 영역에 위치하는 제2 단위 셀(300b)의 상부에는 녹색 파장 변환층(340b)이 형성되며, 청색 발광 영역에 위치하는 제3 단위 셀(300c)의 상부에는 청색 파장 변환층(340c)이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 6L, one light emitting device corresponding to one pixel in a pixel line or pixel array includes a plurality of unit cells in which different wavelength conversion layers are formed. For example, a red wavelength conversion layer 340a is formed on the first unit cell 300a positioned in the red emission region, and a green wavelength conversion layer (above the upper portion of the second unit cell 300b located in the green emission region. 340b may be formed, and a blue wavelength conversion layer 340c may be formed on the third unit cell 300c positioned in the blue emission region.

이때, RGB 픽셀은 청색 광을 방출하는 발광 소자를 광원(light source)으로 하여 RGB 발광 영역에 파장 변환층을 형성하되, 적색 발광 영역에는 적색 파장 변환층을 형성하고, 녹색 발광 영역에는 녹색 파장 변환층을 형성하지만, 청색 발광 영역에는 별도로 파장 변환층을 형성하지 않을 수 있다. 이러한 경우는 해당 단위 셀에서 방출되어야 하는 광의 파장이 해당 셀 내의 활성층에서 방출되는 광의 파장과 동일한 경우에 해당한다.In this case, the RGB pixel forms a wavelength conversion layer in the RGB light emitting area using a light emitting element emitting blue light as a light source, a red wavelength conversion layer in the red light emitting area, and a green wavelength conversion in the green light emitting area. Although the layer is formed, the wavelength conversion layer may not be separately formed in the blue light emitting region. This case corresponds to a case where the wavelength of light to be emitted from the unit cell is the same as the wavelength of light emitted from the active layer in the cell.

즉, 녹색 발광 영역에 형성되는 녹색 파장 변환층은 발광 소자로부터 방출된 청색 광을 녹색 광으로 변환시키고, 적색 발광 영역에 형성되는 적색 파장 변환층은 발광 소자로부터 방출된 청색 광을 적색 광으로 변환시킨다.That is, the green wavelength conversion layer formed in the green light emitting area converts blue light emitted from the light emitting device into green light, and the red wavelength conversion layer formed in the red light emitting area converts blue light emitted from the light emitting device into red light. Let's do it.

8)보호층 형성 단계(S580)에서, 도 6m과 같이 발광 소자를 구성하는 다수의 단위 셀 각각의 상부에 형성된 파장 변환층을 캡슐화하여 보호하는 보호층(350)을 형성할 수 있다. 보호층(350)은 단위 셀을 밀봉하여 외부 이물질이나 충격으로부터 단위 셀을 보호할 수 있다. 이러한 단위 셀의 캡슐화 공정을 수행함으로써, 도 1 내지 도 4에 도시된 본 발명의 일 실시 형태에 따른 디스플레이 장치를 제조할 수 있다.8) In the forming of the protective layer (S580), as shown in FIG. 6M, a protective layer 350 may be formed to encapsulate and protect the wavelength conversion layer formed on each of the plurality of unit cells constituting the light emitting device. The protective layer 350 may seal the unit cell to protect the unit cell from foreign matter or impact. By performing the encapsulation process of the unit cell, a display device according to an exemplary embodiment of the present invention illustrated in FIGS. 1 to 4 may be manufactured.

이러한 보호층(350)은 실리콘(silicon), 에폭시(epoxy) 등의 유기 물질이나 질화 실리콘(SiNx), 실리콘 산화물(SiOx) 등의 무기 물질을 이용하여 형성될 수 있다.The protective layer 350 may be formed using an organic material such as silicon, epoxy, or an inorganic material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx).

또한, 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법에서 구동소자/금속패드 형성 단계는 첫번째로 수행되는 단계로 설명하고 있지만 반드시 이에 한정되지 않고 발광 소자를 형성하는 과정과 함께 수행될 수 있다.In addition, the driving device / metal pad forming step in the method of manufacturing the display device according to the present invention is described as the first step, but is not necessarily limited thereto and may be performed together with the process of forming the light emitting device.

앞서 살펴본 도 5 내지 도 6m에 도시된 본 발명의 일 실시 형태에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법은, 다수의 단위 셀을 각각 포함하는 다수의 발광 소자(300)를 픽셀 어레이 형태로 형성한 후 픽셀 어레이 단위로 다이싱하고, 디스플레이 패널용 기판(100) 상에 픽셀 어레이 단위로 솔더링한 후에 다수의 파장 변환층을 형성하기 때문에, 파장 변환층까지 구비된 LED를 하나씩 기판(100)에 직접 옮기는 픽앤플레이스(Pick & Place) 공정에 비해 속도가 매우 빠르다. 따라서, 수천 수만개의 픽셀을 갖는 디스플레이 장치의 제조 시간이 획기적으로 단축되는 이점이 있다. 또한, 동일한 청색 LED를 이용하여 픽셀(적색, 녹색, 청색)이 형성되기 때문에, 동일한 조건에서 구동이 가능하고, 신뢰성 있는 디스플레이 장치를 신속하게 제조할 수 있는 이점이 있다.In the method of manufacturing the display apparatus according to the exemplary embodiment of the present invention illustrated in FIGS. 5 to 6M described above, a plurality of light emitting devices 300 each including a plurality of unit cells are formed in a pixel array form, and then a pixel array is formed. Since a plurality of wavelength conversion layers are formed after dicing in units and soldering in a pixel array unit on the display panel substrate 100, a pick-and-place that directly transfers LEDs provided up to the wavelength conversion layer to the substrate 100 one by one. It is very fast compared to the Pick & Place process. Therefore, there is an advantage that the manufacturing time of a display device having tens of thousands of pixels is greatly shortened. In addition, since the pixels (red, green, blue) are formed using the same blue LED, there is an advantage that can be driven under the same conditions, and can quickly produce a reliable display device.

이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Features, structures, effects, etc. described in the above embodiments are included in one embodiment of the present invention, and are not necessarily limited to one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, contents related to such combinations and modifications should be construed as being included in the scope of the present invention.

또한, 이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.In addition, the above description has been made with reference to the embodiment, which is merely an example, and is not intended to limit the present invention. Those skilled in the art to which the present invention pertains will be illustrated as above without departing from the essential characteristics of the present embodiment. It will be appreciated that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be modified. And differences relating to such modifications and applications will have to be construed as being included in the scope of the invention defined in the appended claims.

10: 성장 기판
20: 지그
100: 기판
200: 금속 패드
300: 발광 소자
310: 발광층
320: 제1 금속층
330: 제2 금속층
340: 파장 변환층
350: 보호층
400: 구동 소자
10: growth substrate
20: jig
100: substrate
200: metal pad
300: light emitting element
310: light emitting layer
320: first metal layer
330: second metal layer
340 wavelength conversion layer
350: protective layer
400: drive element

Claims (16)

디스플레이 패널용 기판 상에 하나 이상의 발광 소자 및 구동 소자가 배치되고,
상기 발광 소자는 제1 금속층, 발광층 및 제2 금속층이 순차적으로 접하여 수평 배치된, 디스플레이 장치.
At least one light emitting device and a driving device are disposed on a substrate for a display panel,
The light emitting device is a display device wherein the first metal layer, the light emitting layer and the second metal layer are sequentially arranged in a horizontal position.
디스플레이 패널용 기판;
상기 디스플레이 패널용 기판의 상부에 배치된 금속 패드;
상기 금속 패드의 상부에 전기적으로 연결되고, 서로 다른 파장의 광을 방출하는 다수의 단위 셀을 각각 포함하고, 다수의 픽셀 어레이 형태로 배열된 다수의 발광 소자; 및
상기 디스플레이 패널용 기판의 상부에 배치되고, 상기 다수의 발광 소자 각각을 전기적으로 구동시키는 다수의 구동 소자;를 포함하고,
상기 발광 소자는,
발광층;
상기 발광층의 일 측면에 형성된 제1 금속층; 및
상기 발광층의 타 측면에 형성된 제2 금속층;을 포함하고, 상기 제1 금속층, 상기 발광층, 상기 제2 금속층이 순차적으로 수평 배치된, 디스플레이 장치.
A display panel substrate;
A metal pad disposed on the display panel substrate;
A plurality of light emitting elements electrically connected to the upper portions of the metal pads, each of the plurality of unit cells emitting light of different wavelengths, the plurality of light emitting elements being arranged in the form of a plurality of pixel arrays; And
And a plurality of driving elements disposed on the display panel substrate and electrically driving each of the plurality of light emitting elements.
The light emitting device,
Light emitting layer;
A first metal layer formed on one side of the light emitting layer; And
And a second metal layer formed on the other side of the light emitting layer, wherein the first metal layer, the light emitting layer, and the second metal layer are sequentially arranged horizontally.
제2항에 있어서,
상기 금속 패드는 제1 금속 패드와 상기 제1 금속 패드와 소정 간격 이격되어 배치된 제2 금속 패드를 포함하고,
상기 제1 금속층이 상기 제1 금속 패드에 전기적으로 연결되고, 상기 제2 금속층이 상기 제2 금속 패드에 전기적으로 연결된, 디스플레이 장치.
The method of claim 2,
The metal pad may include a first metal pad and a second metal pad disposed to be spaced apart from the first metal pad by a predetermined interval.
And the first metal layer is electrically connected to the first metal pad, and the second metal layer is electrically connected to the second metal pad.
제3항에 있어서,
상기 제1 금속층은 제1 도전층과 제1 본딩 물질층을 포함하고, 상기 제2 금속층은 제2 도전층과 제2 본딩 물질층을 포함하고,
상기 제1 본딩 물질층이 상기 제1 금속 패드에 전기적으로 연결되고, 상기 제2 본딩 물질층이 상기 제2 금속 패드에 전기적으로 연결된, 디스플레이 장치.
The method of claim 3,
The first metal layer comprises a first conductive layer and a first bonding material layer, the second metal layer comprises a second conductive layer and a second bonding material layer,
And the first bonding material layer is electrically connected to the first metal pad, and the second bonding material layer is electrically connected to the second metal pad.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 발광층은 순차적으로 수평 배치된 +EPI층, 활성층, -EPI층을 포함하고,
상기 -EPI층 및 상기 제2 금속층을 공통층으로 하고, 상기 활성층, 상기 +EPI층 및 상기 제1 금속층은 다수로 분리되어 단위 셀을 이루는, 디스플레이 장치.
The method according to claim 1 or 2,
The emission layer includes a + EPI layer, an active layer, -EPI layer horizontally arranged,
And the -EPI layer and the second metal layer as a common layer, and the active layer, the + EPI layer and the first metal layer are separated into a plurality to form a unit cell.
제5항에 있어서,
상기 제1 금속층부터 상기 +EPI층 및 상기 활성층까지에는 식각 공정을 통해 상기 다수의 단위 셀 각각을 구분하는 트렌치가 형성된, 디스플레이 장치.
The method of claim 5,
And a trench for separating each of the plurality of unit cells through an etching process from the first metal layer to the + EPI layer and the active layer.
제2항에 있어서,
상기 다수의 단위 셀은, 적색 파장의 광을 방출하는 제1 단위 셀, 녹색 파장의 광을 방출하는 제2 단위 셀, 청색 파장의 광을 방출하는 제3 단위 셀을 포함하거나,
상기 다수의 단위 셀은, 제1 적색 파장의 광을 방출하는 제1 단위 셀, 제2 적색 파장의 광을 방출하는 제2 단위 셀, 녹색 파장의 광을 방출하는 제3 단위 셀, 청색 파장의 광을 방출하는 제3 단위 셀을 포함하는, 디스플레이 장치.
The method of claim 2,
The plurality of unit cells may include a first unit cell emitting light of a red wavelength, a second unit cell emitting light of a green wavelength, and a third unit cell emitting light of a blue wavelength,
The plurality of unit cells may include a first unit cell emitting light of a first red wavelength, a second unit cell emitting light of a second red wavelength, a third unit cell emitting light of a green wavelength, and a blue wavelength. And a third unit cell for emitting light.
제2항에 있어서,
상기 발광 소자는 상기 발광층의 상부에 형성된 파장 변환층;을 더 포함하고,
상기 파장 변환층은 퀀텀닷 형광체 또는 YAG 형광체를 포함하는, 디스플레이 장치.
The method of claim 2,
The light emitting device further includes a wavelength conversion layer formed on the light emitting layer,
And the wavelength conversion layer comprises a quantum dot phosphor or a YAG phosphor.
성장 기판 상에 행 또는 열 중 어느 하나 이상의 픽셀 어레이 형태로 발광층을 형성시킨 후, 상기 발광층의 상부와 하부에 제1 금속층과 제 2 금속층을 적층시켜 발광 구조물을 형성하는 단계;
상기 발광 구조물을 소정의 패턴으로 식각하는 단계;
상기 발광 구조물을 픽셀 어레이 단위로 다이싱하여 다수의 발광 소자를 포함하는 발광 소자 어레이를 형성하는 단계;
수직 적층된 상기 발광 소자 어레이를 디스플레이 패널용 기판 상에 수평 배치시키는 단계; 및
상기 발광 소자 어레이를 상기 디스플레이 패널용 기판에 전기적으로 연결하는 단계;를 포함하는 디스플레이 장치의 제조 방법.
Forming a light emitting layer in the form of a pixel array of at least one of rows or columns on the growth substrate, and then forming a light emitting structure by stacking a first metal layer and a second metal layer on and under the light emitting layer;
Etching the light emitting structure in a predetermined pattern;
Dicing the light emitting structure in pixel array units to form a light emitting device array including a plurality of light emitting devices;
Horizontally arranging the vertically stacked array of light emitting devices on a substrate for a display panel; And
Electrically connecting the array of light emitting elements to the substrate for a display panel.
제9항에 있어서,
상기 발광 구조물을 형성하는 단계는,
상기 성장 기판 상에 행 또는 열 중 어느 하나 이상의 픽셀 어레이 형태로 발광층을 형성시킨 후, 상기 발광층의 상부에 제1 금속층을 형성하는 단계;
상기 제1 금속층의 상부에 지그를 접착시키고, 상기 성장 기판을 제거하는 단계;
상기 발광층의 하부에 제2 금속층을 형성한 후 상기 지그를 제거하여 상기 발광 구조물을 형성하는 단계;를 포함하는 디스플레이 장치의 제조 방법.
The method of claim 9,
Forming the light emitting structure,
Forming a light emitting layer in the form of a pixel array of at least one of rows or columns on the growth substrate, and then forming a first metal layer on the light emitting layer;
Adhering a jig on top of the first metal layer and removing the growth substrate;
And forming the light emitting structure by removing the jig after forming a second metal layer under the light emitting layer.
제9항에 있어서,
상기 디스플레이 패널용 기판의 상부에 상기 발광 소자가 전기적으로 연결되는 금속 패드와 상기 금속 패드에 연결된 발광 소자를 전기적으로 구동시키는 구동 소자를 형성하는 단계;를 더 포함하고,
상기 연결하는 단계에서는 상기 발광 소자 어레이 내 발광 소자가 상기 금속 패드에 전기적으로 연결되도록 솔더링하는, 디스플레이 장치의 제조 방법.
The method of claim 9,
Forming a metal pad on which the light emitting device is electrically connected and a driving device to electrically drive the light emitting device connected to the metal pad on the display panel substrate;
In the connecting step, soldering the light emitting devices in the light emitting device array to be electrically connected to the metal pads.
제9항에 있어서,
상기 발광 소자의 상부에 파장 변환층을 형성하는 단계;를 더 포함하고,
상기 파장 변환층을 형성하는 단계에서는 퀀텀닷 형광체와 YAG 형광체 중 어느 하나의 형광체와 실리콘을 배합한 형광체액을 프린팅(printing) 또는 디스펜싱(dispensing)하여 형성하는, 디스플레이 장치의 제조 방법.
The method of claim 9,
Forming a wavelength conversion layer on the light emitting device;
In the step of forming the wavelength conversion layer, a method of manufacturing a display device, which is formed by printing or dispensing the phosphor solution containing silicon and any one of the quantum dot phosphor and YAG phosphor.
제9항에 있어서,
상기 발광 소자와 상기 발광 소자의 상부에 형성된 파장 변환층을 보호하는 보호층을 형성하는 단계;를 더 포함하는, 디스플레이 장치의 제조 방법.
The method of claim 9,
And forming a protective layer protecting the light emitting element and the wavelength conversion layer formed on the light emitting element.
제9항에 있어서,
상기 제1 금속층은 제1 도전층과 제1 본딩 물질층을 포함하고, 상기 제2 금속층은 제2 도전층과 제2 본딩 물질층을 포함하는, 디스플레이 장치의 제조 방법.
The method of claim 9,
Wherein the first metal layer comprises a first conductive layer and a first bonding material layer, and the second metal layer comprises a second conductive layer and a second bonding material layer.
제14항에 있어서,
상기 발광층은 순차적으로 적층된 -EPI층, 활성층, +EPI층을 포함하고,
상기 식각하는 단계에서는, 상기 제1 본딩 물질층부터 상기 제1 도전층, 상기 발광층의 +EPI층과 활성층까지 상기 다수의 단위 셀들로 구분하기 위한 트렌치가 형성되도록 건식 식각하는, 디스플레이 장치의 제조 방법.
The method of claim 14,
The light emitting layer includes a -EPI layer, an active layer, + EPI layer sequentially stacked,
In the etching, dry etching may be performed to form a trench for dividing the plurality of unit cells from the first bonding material layer to the first conductive layer, the + EPI layer and the active layer of the emission layer. .
제9항 내지 제15항 중 어느 하나에 의한 디스플레이 장치의 제조 방법으로 제조된 디스플레이 장치.A display device manufactured by the method of manufacturing a display device according to any one of claims 9 to 15.
KR1020180039032A 2018-04-04 2018-04-04 Display appartus using one chip type led and fabrication method of the same KR102078643B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180039032A KR102078643B1 (en) 2018-04-04 2018-04-04 Display appartus using one chip type led and fabrication method of the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180039032A KR102078643B1 (en) 2018-04-04 2018-04-04 Display appartus using one chip type led and fabrication method of the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190115838A true KR20190115838A (en) 2019-10-14
KR102078643B1 KR102078643B1 (en) 2020-04-07

Family

ID=68171671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180039032A KR102078643B1 (en) 2018-04-04 2018-04-04 Display appartus using one chip type led and fabrication method of the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102078643B1 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021137654A1 (en) * 2020-01-03 2021-07-08 서울바이오시스주식회사 Light-emitting element and led display device comprising same
WO2021137660A1 (en) * 2020-01-03 2021-07-08 서울바이오시스주식회사 Light-emitting element and led display device comprising same
CN113594194A (en) * 2020-04-30 2021-11-02 华为机器有限公司 Stacking structure, display screen and display device
WO2021221454A1 (en) * 2020-04-29 2021-11-04 삼성전자주식회사 Display module comprising junction structure between micro led and tft layer

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06326365A (en) * 1993-05-14 1994-11-25 Sharp Corp Chip component light emitting diode and manufacture thereof
JP2002141492A (en) * 2000-10-31 2002-05-17 Canon Inc Light-emitting diode display panel and manufacturing method thereof
KR100696445B1 (en) 2005-06-13 2007-03-19 주식회사 비첼 LED display device and method for manufacturing same
KR20070036375A (en) * 2005-09-29 2007-04-03 삼성전기주식회사 White light emitting device package
US20070087644A1 (en) * 2000-07-18 2007-04-19 Sony Corporation Method of producing image display unit
KR101100579B1 (en) 2005-01-06 2012-01-13 엘지이노텍 주식회사 Semiconductor light emitting diode, method for fabricating semiconductor light emitting diode and display using the same
KR20160001857A (en) * 2014-06-27 2016-01-07 엘지디스플레이 주식회사 Light emitting diode package and light emitting diode display device
KR20160059576A (en) * 2014-11-18 2016-05-27 피에스아이 주식회사 Nano-scale LED for horizontal arrayed assembly, method for manufacturing thereof and horizontal arrayed assembly comprising the same
KR20160092396A (en) * 2015-01-27 2016-08-04 엘지전자 주식회사 Display device using semiconductor light emitting device
KR20170108623A (en) * 2016-03-18 2017-09-27 엘지이노텍 주식회사 Light emitting device and display device having thereof
KR20180015940A (en) * 2016-08-04 2018-02-14 엘지전자 주식회사 Display device using semiconductor light emitting device
KR20180017914A (en) * 2016-08-11 2018-02-21 삼성전자주식회사 Led lighting device package and display apparatus using the same

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06326365A (en) * 1993-05-14 1994-11-25 Sharp Corp Chip component light emitting diode and manufacture thereof
US20070087644A1 (en) * 2000-07-18 2007-04-19 Sony Corporation Method of producing image display unit
JP2002141492A (en) * 2000-10-31 2002-05-17 Canon Inc Light-emitting diode display panel and manufacturing method thereof
KR101100579B1 (en) 2005-01-06 2012-01-13 엘지이노텍 주식회사 Semiconductor light emitting diode, method for fabricating semiconductor light emitting diode and display using the same
KR100696445B1 (en) 2005-06-13 2007-03-19 주식회사 비첼 LED display device and method for manufacturing same
KR20070036375A (en) * 2005-09-29 2007-04-03 삼성전기주식회사 White light emitting device package
KR20160001857A (en) * 2014-06-27 2016-01-07 엘지디스플레이 주식회사 Light emitting diode package and light emitting diode display device
KR20160059576A (en) * 2014-11-18 2016-05-27 피에스아이 주식회사 Nano-scale LED for horizontal arrayed assembly, method for manufacturing thereof and horizontal arrayed assembly comprising the same
KR20160092396A (en) * 2015-01-27 2016-08-04 엘지전자 주식회사 Display device using semiconductor light emitting device
KR20170108623A (en) * 2016-03-18 2017-09-27 엘지이노텍 주식회사 Light emitting device and display device having thereof
KR20180015940A (en) * 2016-08-04 2018-02-14 엘지전자 주식회사 Display device using semiconductor light emitting device
KR20180017914A (en) * 2016-08-11 2018-02-21 삼성전자주식회사 Led lighting device package and display apparatus using the same

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021137654A1 (en) * 2020-01-03 2021-07-08 서울바이오시스주식회사 Light-emitting element and led display device comprising same
WO2021137660A1 (en) * 2020-01-03 2021-07-08 서울바이오시스주식회사 Light-emitting element and led display device comprising same
US11749708B2 (en) 2020-01-03 2023-09-05 Seoul Viosys Co., Ltd. Light emitting device and LED display apparatus including the same
US11948922B2 (en) 2020-01-03 2024-04-02 Seoul Viosys Co., Ltd. Light emitting device and LED display apparatus including the same
US11961876B2 (en) 2020-01-03 2024-04-16 Seoul Viosys Co., Ltd. Light emitting device and LED display apparatus including the same
WO2021221454A1 (en) * 2020-04-29 2021-11-04 삼성전자주식회사 Display module comprising junction structure between micro led and tft layer
CN113594194A (en) * 2020-04-30 2021-11-02 华为机器有限公司 Stacking structure, display screen and display device

Also Published As

Publication number Publication date
KR102078643B1 (en) 2020-04-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102617466B1 (en) Micro led array display apparatus
US11437453B2 (en) Display apparatus
KR101452768B1 (en) Display device using semiconductor light emitting device and method of fabricating the same
US10340257B2 (en) Display device using semiconductor light emitting device and fabrication method thereof
EP3648164B1 (en) Display device using semiconductor light emitting element
RU2617917C1 (en) Display device using semiconductor light-emitting device
KR102078643B1 (en) Display appartus using one chip type led and fabrication method of the same
US20220375988A1 (en) Micro led display panel and transfer printing method of micro led
US20220367774A1 (en) Display device using micro led, and manufacturing method therefor
TW201947737A (en) Light-emitting device and manufacturing method thereof
TWI689092B (en) Micro led display module having light transmissive substrate and manufacturing method thereof
TWI607558B (en) Micro light-emitting diode chip
CN111048497B (en) Method for manufacturing active matrix color display device
US11557705B2 (en) Method for manufacturing display device using semiconductor light-emitting elements and display device
KR20190112916A (en) Display apparatus and method for manufacturing thereof
KR102073572B1 (en) Display apparatus and method for manufacturing thereof
TWI811680B (en) Light-emitting diode micro display device
CN110993761A (en) Active matrix colour display device
KR102017554B1 (en) One chip type light emitting device and fabrication method of the same
KR102364729B1 (en) Method of transferring micro light emitting device
TWI633681B (en) Micro led display module manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant