KR102364729B1 - Method of transferring micro light emitting device - Google Patents

Method of transferring micro light emitting device Download PDF

Info

Publication number
KR102364729B1
KR102364729B1 KR1020200052820A KR20200052820A KR102364729B1 KR 102364729 B1 KR102364729 B1 KR 102364729B1 KR 1020200052820 A KR1020200052820 A KR 1020200052820A KR 20200052820 A KR20200052820 A KR 20200052820A KR 102364729 B1 KR102364729 B1 KR 102364729B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
adhesive member
light emitting
micro light
substrate
temperature
Prior art date
Application number
KR1020200052820A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20210133780A (en
KR102364729B9 (en
Inventor
김자연
사기동
김사웅
정지호
Original Assignee
한국광기술원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국광기술원 filed Critical 한국광기술원
Priority to KR1020200052820A priority Critical patent/KR102364729B1/en
Publication of KR20210133780A publication Critical patent/KR20210133780A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102364729B1 publication Critical patent/KR102364729B1/en
Publication of KR102364729B9 publication Critical patent/KR102364729B9/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/52Mounting semiconductor bodies in containers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68778Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by supporting substrates others than wafers, e.g. chips
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L24/14Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/124Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/15Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission
    • H01L27/153Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars
    • H01L27/156Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars two-dimensional arrays
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/005Processes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls

Abstract

실시예는 제1 기판에 형성된 복수 개의 마이크로 발광소자를 제1 점착부재로 전사하는 단계; 상기 복수 개의 마이크로 발광소자를 상기 제1 점착부재에서 제2 점착부재로 전사하는 단계; 및 상기 복수 개의 마이크로 발광소자를 상기 제2 점착부재에서 제2 기판으로 전사하는 단계를 포함하고, 상기 제1 점착부재로 전사하는 단계에서 상기 제1 점착부재를 제어하는 제1 온도는 상기 제2 점착부재로 전사하는 단계에서 상기 제1 점착부재 및 상기 제2 점착부재를 제어하는 제2 온도와 상이하고, 상기 제2 온도는 상기 제2 기판으로 전사하는 단계에서 상기 제2 점착부재와 상기 제2 기판의 도전성 접착층을 제어하는 제3 온도와 상이하고, 상기 제1 온도와 상기 제3 온도는 상기 제2 온도보다 높은 마이크로 발광소자 전사방법을 개시한다.The embodiment includes the steps of transferring a plurality of micro light emitting devices formed on a first substrate to a first adhesive member; transferring the plurality of micro light emitting devices from the first adhesive member to a second adhesive member; and transferring the plurality of micro light emitting devices from the second adhesive member to a second substrate, wherein in the transferring to the first adhesive member, a first temperature for controlling the first adhesive member is the second The second temperature is different from the second temperature for controlling the first and second adhesive members in the step of transferring to the adhesive member, and the second temperature is different from the second temperature in the step of transferring to the second substrate. The second temperature is different from the third temperature for controlling the conductive adhesive layer of the substrate, and the first temperature and the third temperature are higher than the second temperature.

Description

마이크로 발광소자 전사방법{METHOD OF TRANSFERRING MICRO LIGHT EMITTING DEVICE}Micro light emitting device transfer method {METHOD OF TRANSFERRING MICRO LIGHT EMITTING DEVICE}

실시 예는 마이크로 발광소자 전사방법에 관한 것이다.The embodiment relates to a method for transferring a micro light emitting device.

최근 디스플레이 기술 분야에서 박형, 플렉서블 등의 우수한 특성을 가지는 디스플레이 장치가 개발되고 있다. 이에 반해, 현재 상용화된 주요 디스플레이는 LCD(Liquid Crystal Display)와 OLED(Organic Light Emitting Diodes)로 대표되고 있다.Recently, in the field of display technology, a display device having excellent characteristics such as thinness and flexibility has been developed. In contrast, currently commercialized major displays are represented by liquid crystal displays (LCDs) and organic light emitting diodes (OLEDs).

최근에는 OLED 디스플레이에 대한 개발이 활발하나 OLED 디스플레이는 수명이 짧고, 양산 수율이 좋지 않다는 문제점이 있다.Although the development of OLED displays is active in recent years, OLED displays have short lifespan and poor mass production yield.

발광 다이오드(Light Emitting Diode: LED)는 전류가 인가되면 광을 방출하는 발광 소자 중 하나이다. 발광 다이오드는 저전압으로 고효율의 광을 방출할 수 있어 에너지 절감 효과가 뛰어나다. 최근, 발광 다이오드의 휘도 문제가 크게 개선되어, 액정표시장치의 백라이트 유닛(Backlight Unit), 전광판, 표시기, 가전 제품 등과 같은 각종 기기에 적용되고 있다.A light emitting diode (LED) is one of light emitting devices that emits light when an electric current is applied thereto. Light-emitting diodes can emit high-efficiency light with low voltage, and thus have an excellent energy-saving effect. Recently, the luminance problem of light emitting diodes has been greatly improved, and it has been applied to various devices such as a backlight unit of a liquid crystal display device, an electric sign board, a display device, and a home appliance.

GaN, AlGaN 등의 화합물을 포함하는 발광 다이오드는 넓고 조정이 용이한 밴드 갭 에너지를 가지는 등의 많은 장점을 가져서 발광 소자, 수광 소자 및 각종 다이오드 등으로 다양하게 사용될 수 있다. 특히 저소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경 친화성의 장점을 가진다. A light emitting diode including a compound such as GaN or AlGaN has many advantages, such as having a wide and easily adjustable band gap energy, and thus can be used in various ways as a light emitting device, a light receiving device, and various diodes. In particular, it has advantages of low power consumption, semi-permanent lifespan, fast response speed, safety, and environmental friendliness.

최근에는 발광 다이오드를 작게 제작한 마이크로 발광소자를 디스플레이의 픽셀로 사용하는 기술에 대한 연구가 진행되고 있다. 이러한 마이크로 발광소자는 매우 작아 다른 기판에 대면적으로 전사하는 기술이 중요하다.Recently, research on a technology for using a micro light emitting diode made of a small light emitting diode as a pixel of a display is being conducted. Since these micro light emitting devices are very small, it is important to transfer them to another substrate in a large area.

종래에는 기판에 제조된 마이크로 발광소자에 레이저를 조사하여 분리하는 방식이여서 대면적 전사가 어려운 문제가 있으며, 2차 전사 또는 선택적 전사가 어려운 문제가 있다. 또한 리페어가 불가능한 문제가 있다.Conventionally, there is a problem in that it is difficult to transfer a large area because a laser is irradiated and separated from a micro light emitting device manufactured on a substrate, and there is a problem in that secondary transfer or selective transfer is difficult. Also, there is a problem that repair is impossible.

실시예는 대면적의 전사가 용이한 전사방법을 제공할 수 있다.Embodiments may provide a transfer method that facilitates transfer of a large area.

실시예는 점착력 차이를 이용하여 여러 번 전사(플립)가 가능할 수 있다.In the embodiment, it may be possible to transfer (flip) several times using the difference in adhesive force.

실시예는 선택적 전사가 가능한 전사방법을 제공할 수 있다.Embodiments may provide a transfer method capable of selective transfer.

실시예에서 해결하고자 하는 과제는 이에 한정되는 것은 아니며, 아래에서 설명하는 과제의 해결수단이나 실시 형태로부터 파악될 수 있는 목적이나 효과도 포함된다고 할 것이다.The problem to be solved in the embodiment is not limited thereto, and it will be said that the purpose or effect that can be grasped from the method of solving the problem described below or the embodiment is also included.

본 발명의 일 특징에 따른 마이크로 발광소자 전사방법은, 제1 기판에 형성된 복수 개의 마이크로 발광소자를 제1 점착부재로 전사하는 단계; 상기 복수 개의 마이크로 발광소자를 상기 제1 점착부재에서 제2 점착부재로 전사하는 단계; 및 상기 복수 개의 마이크로 발광소자를 상기 제2 점착부재에서 제2 기판으로 전사하는 단계를 포함하고, 상기 제1 점착부재로 전사하는 단계에서 상기 제1 점착부재를 제어하는 제1 온도는 상기 제2 점착부재로 전사하는 단계에서 상기 제1 점착부재 및 상기 제2 점착부재를 제어하는 제2 온도와 상이하고, 상기 제2 온도는 상기 제2 기판으로 전사하는 단계에서 상기 제2 점착부재와 상기 제2 기판의 도전성 접착층을 제어하는 제3 온도와 상이하고, 상기 제1 온도와 상기 제3 온도는 상기 제2 온도보다 높다.According to one aspect of the present invention, there is provided a method for transferring a micro light emitting device, comprising: transferring a plurality of micro light emitting devices formed on a first substrate to a first adhesive member; transferring the plurality of micro light emitting devices from the first adhesive member to a second adhesive member; and transferring the plurality of micro light emitting devices from the second adhesive member to a second substrate, wherein in the transferring to the first adhesive member, a first temperature for controlling the first adhesive member is the second The second temperature is different from the second temperature for controlling the first and second adhesive members in the step of transferring to the adhesive member, and the second temperature is different from the second temperature in the step of transferring to the second substrate. 2 is different from a third temperature for controlling the conductive adhesive layer of the substrate, wherein the first temperature and the third temperature are higher than the second temperature.

실시예에 따르면, 마이크로 발광소자의 대면적의 전사가 가능해질 수 있다.According to the embodiment, it may be possible to transfer a large area of the micro light emitting device.

실시예는 마이크로 발광소자의 선택적 전사가 가능해질 수 있다.An embodiment may enable selective transfer of the micro light emitting device.

본 발명의 다양하면서도 유익한 장점과 효과는 상술한 내용에 한정되지 않으며, 본 발명의 구체적인 실시형태를 설명하는 과정에서 보다 쉽게 이해될 수 있을 것이다.Various and advantageous advantages and effects of the present invention are not limited to the above, and will be more easily understood in the course of describing specific embodiments of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 마이크로 발광소자 전사방법의 흐름도이고,
도 2는 제1 기판에 발광 구조물을 성장시킨 상태를 보여주는 도면이고,
도 3은 제1 기판에 마이크로 발광소자를 제작한 상태를 보여주는 도면이고,
도 4는 제1 기판에 상면을 식각하여 복수 개의 돌출부를 형성한 상태를 보여주는 도면이고,
도 5는 도 4의 일부 확대도이고,
도 6은 도 5의 변형예이고,
도 7과 도 8은 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면에 제1 점착부재를 부착하는 상태를 보여주는 도면이고,
도 9a는 제1 점착부재와 제1 기판을 이격시켜 제1 점착부재에 복수 개의 마이크로 발광소자를 전사하는 상태를 보여주는 도면이고,
도 9b는 복수 개의 마이크로 발광소자를 제1 기판에서 분리하는 방향을 설명하기 위한 도면이고,
도 9c는 도 9b의 변형예이고,
도 10은 도 9a의 변형예이고,
도 11은 제1 점착부재에 전사된 복수 개의 마이크로 발광소자를 보여주는 평면도이고,
도 12는 마이크로 발광소자가 제1 점착부재에 전사된 상태를 보여주는 도면이고,
도 13 및 도 14는 복수 개의 마이크로 발광소자의 타면에 제2 점착부재를 부착하는 상태를 보여주는 도면이고,
도 15a는 제2 점착부재와 제1 점착부재를 이격시켜 제2 점착부재에 복수 개의 마이크로 발광소자를 전사하는 상태를 보여주는 측면도이고,
도 15b는 도 15a의 제1 변형예이고,
도 15c는 도 15a의 제2 변형예이고,
도 15d는 도 15a의 제3 변형예이고,
도 16 및 도 17은 제2 기판 상에 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면을 부착하는 상태를 보여주는 도면이고,
도 18a는 제2 점착부재와 제2 기판을 이격시켜 제2 기판에 복수 개의 마이크로 발광소자를 전사하는 상태를 보여주는 측면도이고,
도 18b는 도 18a의 제1 변형예이고,
도 18c는 도 18a의 제2 변형예이고,
도 18d는 도 18a의 제3 변형예이고,
도 19는 누름부재를 이용하여 복수 개의 마이크로 발광소자를 제2 기판에 전기적으로 연결하는 상태를 보여주는 도면이고,
도 20은 마이크로 발광소자가 제2 기판의 전극과 전기적으로 연결된 상태를 보여주는 도면이고,
도 21은 본 발명의 일 실시 예에 따른 마이크로 발광소자가 전사된 디스플레이 장치의 개념도이다.
1 is a flowchart of a method for transferring a micro light emitting device according to an embodiment of the present invention;
2 is a view showing a state in which a light emitting structure is grown on a first substrate;
3 is a view showing a state in which a micro light emitting device is fabricated on a first substrate;
4 is a view showing a state in which a plurality of protrusions are formed by etching the upper surface of the first substrate;
5 is a partially enlarged view of FIG. 4;
Figure 6 is a modified example of Figure 5,
7 and 8 are views showing a state in which a first adhesive member is attached to one surface of a plurality of micro light emitting devices;
9A is a view showing a state in which a plurality of micro light emitting devices are transferred to the first adhesive member by separating the first adhesive member and the first substrate;
9B is a view for explaining a direction in which a plurality of micro light emitting devices are separated from a first substrate;
Figure 9c is a modification of Figure 9b,
Figure 10 is a modified example of Figure 9a,
11 is a plan view showing a plurality of micro light emitting devices transferred to the first adhesive member;
12 is a view showing a state in which the micro light emitting device is transferred to the first adhesive member;
13 and 14 are views showing a state in which a second adhesive member is attached to the other surfaces of a plurality of micro light emitting devices;
15A is a side view illustrating a state in which a plurality of micro light emitting devices are transferred to a second adhesive member by separating the second adhesive member and the first adhesive member;
Figure 15b is a first modification of Figure 15a,
Figure 15c is a second modification of Figure 15a,
15D is a third modified example of FIG. 15A,
16 and 17 are views showing a state in which one surface of a plurality of micro light emitting devices is attached on a second substrate;
18A is a side view illustrating a state in which a plurality of micro light emitting devices are transferred to a second substrate by separating the second adhesive member from the second substrate;
Figure 18b is a first modification of Figure 18a,
Figure 18c is a second modification of Figure 18a,
18D is a third modified example of FIG. 18A,
19 is a view showing a state in which a plurality of micro light emitting devices are electrically connected to a second substrate using a pressing member;
20 is a view showing a state in which a micro light emitting device is electrically connected to an electrode of a second substrate;
21 is a conceptual diagram of a display device to which a micro light emitting device is transferred according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. Since the present invention may have various changes and may have various embodiments, specific embodiments will be illustrated and described in the drawings. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and it should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

제2, 제1 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제2 구성요소는 제1 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제1 구성요소도 제2 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다. Terms including an ordinal number such as second, first, etc. may be used to describe various elements, but the elements are not limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the second component may be referred to as the first component, and similarly, the first component may also be referred to as the second component. and/or includes a combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. When a component is referred to as being “connected” or “connected” to another component, it may be directly connected or connected to the other component, but it is understood that other components may exist in between. it should be On the other hand, when it is said that a certain element is "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that the other element does not exist in the middle.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, terms such as “comprise” or “have” are intended to designate that a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification exists, but one or more other features It should be understood that this does not preclude the existence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present application. does not

이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, the embodiment will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the same or corresponding components are given the same reference numerals regardless of reference numerals, and overlapping descriptions thereof will be omitted.

마이크로 발광소자는 사이즈는 1㎛ 내지 200㎛인 발광 다이오드일 수 있다. 예시적으로 마이크로 발광소자의 사이즈는 30㎛ 내지 60㎛일 수 있으나, 반드시 이에 한정하는 것은 아니고 다양한 사이즈의 발광 소자가 작용될 수 있다. 또한, 마이크로 발광소자 이외에 200㎛ 내지 500㎛의 미니 사이즈 발광소자도 적용될 수 있다.The micro light emitting device may be a light emitting diode having a size of 1 μm to 200 μm. Illustratively, the size of the micro light emitting device may be 30 μm to 60 μm, but is not limited thereto, and light emitting devices of various sizes may be used. In addition, a mini-size light emitting device of 200 μm to 500 μm may be applied in addition to the micro light emitting device.

본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치는 SD(Standard Definition)급 해상도(760×480), HD(High Definition)급 해상도(1180×720), FHD(Full HD)급 해상도(1920×1080), UH(Ultra HD)급 해상도(3480×2160), 또는 UHD급 이상의 해상도(예: 4K(K=1000), 8K 등)으로 구현될 수 있다. 이때, 실시 예에 따른 마이크로 발광소자는 해상도에 맞게 복수로 배열되고 연결될 수 있다.A display device according to an embodiment of the present invention includes SD (Standard Definition) level resolution (760×480), HD (High Definition) level resolution (1180×720), FHD (Full HD) level resolution (1920×1080), UH (Ultra HD) level resolution (3480×2160), or UHD level or higher resolution (eg, 4K (K=1000), 8K, etc.) may be implemented. In this case, a plurality of micro light emitting devices according to the embodiment may be arranged and connected to suit the resolution.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 마이크로 발광소자 전사방법의 흐름도이다.1 is a flowchart of a method for transferring a micro light emitting device according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 실시 예에 따른 마이크로 발광소자 전사방법은 제1 기판에 배치된 복수 개의 마이크로 발광소자를 제1 점착부재로 전사하는 단계(S20), 복수 개의 마이크로 발광소자를 제1 점착부재에서 제2 점착부재로 전사하는 단계(S30), 및 복수 개의 마이크로 발광소자를 제2 점착부재에서 제2 기판으로 전사하는 단계(S40)를 포함한다.Referring to FIG. 1 , the micro light emitting device transfer method according to the embodiment includes the steps of transferring a plurality of micro light emitting devices disposed on a first substrate to a first adhesive member (S20), and transferring the plurality of micro light emitting devices to a first adhesive member and transferring the plurality of micro light emitting devices from the second adhesive member to the second substrate (S40).

또한, 실시 예에 따른 마이크로 발광소자 전사방법은 제1 기판에 마이크로 발광소자를 제작하는 단계(S10)와 제2 기판에 마이크로 발광소자를 전기적으로 연결하는 단계(S50)를 더 포함할 수 있다.In addition, the micro light emitting device transfer method according to the embodiment may further include manufacturing the micro light emitting device on the first substrate ( S10 ) and electrically connecting the micro light emitting device to the second substrate ( S50 ).

이하에서 각 단계에 대해 자세히 설명한다.Each step will be described in detail below.

도 2는 제1 기판에 발광 구조물을 성장시킨 상태를 보여주는 도면이고, 도 3은 제1 기판에 마이크로 발광소자를 제작한 상태를 보여주는 도면이고, 도 4는 제1 기판에 상면을 식각하여 복수 개의 돌출부를 형성한 상태를 보여주는 도면이고, 도 5는 도 4의 일부 확대도이고, 도 6은 도 5의 변형예이다.FIG. 2 is a view showing a state in which a light emitting structure is grown on a first substrate, FIG. 3 is a view showing a state in which a micro light emitting device is manufactured on a first substrate, and FIG. It is a view showing a state in which the protrusion is formed, FIG. 5 is a partially enlarged view of FIG. 4 , and FIG. 6 is a modified example of FIG. 5 .

도 2를 참조하면, 제1 기판(110)에 마이크로 발광소자를 제작하는 단계(S10)는, 제1 기판(110) 상에 발광 구조물(120)을 형성할 수 있다. 제1 기판(110)은 실리콘(Si) 기판일 수 있으나 반드시 이에 한정하는 것은 아니고 다양한 재질의 기판이 제한 없이 적용될 수 있다.Referring to FIG. 2 , in the step of fabricating the micro light emitting device on the first substrate 110 ( S10 ), the light emitting structure 120 may be formed on the first substrate 110 . The first substrate 110 may be a silicon (Si) substrate, but is not limited thereto, and substrates of various materials may be applied without limitation.

발광 구조물(120)은 유기금속 화학 증착법(Metal Organic Chemical Vapor Deposition; MOCVD), 화학 증착법(Chemical Vapor Deposition; CVD), 플라즈마 화학 증착법(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition; PECVD), 분자선 성장법(Molecular Beam Epitaxy; MBE), 수소화물 기상 성장법(Hydride Vapor Phase Epitaxy; HVPE), 스퍼터링(Sputtering) 등의 방법을 이용하여 에피 성장시킬 수 있다.The light emitting structure 120 may be formed by a metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) method, a chemical vapor deposition method (CVD), a plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method, or a molecular beam growth method (Molecular Beam). Epitaxy; MBE), hydride vapor phase epitaxy (HVPE), sputtering (Sputtering), etc. may be used for epitaxial growth.

도 3을 참조하면, 발광 구조물(120)을 복수 개로 분리한 후 각각 제1 전극(131)과 제2 전극(132)을 형성하여 복수 개의 마이크로 발광소자를 제작할 수 있다.Referring to FIG. 3 , after the light emitting structure 120 is separated into a plurality of pieces, a first electrode 131 and a second electrode 132 are respectively formed to manufacture a plurality of micro light emitting devices.

도 3과 도 4를 참조하면, 제1 기판(110)의 상면(110a)을 식각하여 복수 개의 마이크로 발광소자와 연결되는 복수 개의 돌출부(111)를 형성할 수 있다. 제1 기판의 상면(110a)을 식각 용액 접촉시켜 식각함으로써 복수 개의 돌출부(111)를 형성할 수 있다. 식각 용액은 실리콘 기판을 식각하면서 마이크로 발광소자에는 손상을 주지 않는 용액이 제한 없이 사용될 수 있다. 예시적으로 식각 용액은 HCl, HF, BOE, HNA(HF, HNO3, CH3COOH), KOH, TMAH(Tetramethyl Ammonium Hydroxide), EDP(Ethylene Diamine Pyrochatechol) 등이 선택될 수 있으나 반드시 이에 한정하지 않는다.3 and 4 , the upper surface 110a of the first substrate 110 may be etched to form a plurality of protrusions 111 connected to the plurality of micro light emitting devices. The plurality of protrusions 111 may be formed by etching the upper surface 110a of the first substrate by contacting the etching solution. As the etching solution, a solution that does not damage the micro light emitting device while etching the silicon substrate may be used without limitation. Illustratively, the etching solution may be selected from HCl, HF, BOE, HNA (HF, HNO 3, CH 3 COOH), KOH, TMAH (Tetramethyl Ammonium Hydroxide), EDP (Ethylene Diamine Pyrochatechol), etc., but is not necessarily limited thereto. .

도 5를 참조하면, 돌출부(111)의 폭은 마이크로 발광소자(10A)의 폭보다 작을 수 있다. 구체적으로 돌출부(111)의 폭은 마이크로 발광소자(10A)의 폭의 0.01 내지 0.3배일 수 있다. 돌출부(111)의 폭이 0.01배 보다 작은 경우 돌출부(111)의 폭이 너무 얇아져 마이크로 발광소자를 지지 및 고정하기 어렵고 돌출부(111)의 폭이 0.3배보다 큰 경우 돌출부(111)의 폭이 너무 두꺼워져 전사가 어려워질 수 있다. 예시적으로 마이크로 발광소자의 사이즈가 100㎛보다 작아지면 돌출부(111)의 폭은 마이크로 발광소자의 단측면의 0.1배 보다 작아질 수 있다.Referring to FIG. 5 , the width of the protrusion 111 may be smaller than the width of the micro light emitting device 10A. Specifically, the width of the protrusion 111 may be 0.01 to 0.3 times the width of the micro light emitting device 10A. When the width of the protrusion 111 is less than 0.01 times, the width of the protrusion 111 becomes too thin to support and fix the micro light emitting device. When the width of the protrusion 111 is greater than 0.3 times, the width of the protrusion 111 is too large It may become thick and difficult to transfer. For example, when the size of the micro light emitting device is smaller than 100 μm, the width of the protrusion 111 may be smaller than 0.1 times the short side surface of the micro light emitting device.

발광 구조물(120)은 제1 도전형 반도체층(121), 활성층(122), 제2 도전형 반도체층(123)을 포함할 수 있다. 발광 구조물(120)은 제1 도전형 반도체층(121), 활성층(122), 제2 도전형 반도체층(123)이 순서대로 적층된 구조일 수 있다. The light emitting structure 120 may include a first conductivity type semiconductor layer 121 , an active layer 122 , and a second conductivity type semiconductor layer 123 . The light emitting structure 120 may have a structure in which a first conductivity type semiconductor layer 121 , an active layer 122 , and a second conductivity type semiconductor layer 123 are sequentially stacked.

제1 도전형 반도체층(121)은 Ⅲ-Ⅴ족, Ⅱ-Ⅵ족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제1 도전형 반도체층(121)에 제1 도펀트가 도핑될 수 있다. 제1 도전형 반도체층(121)은 AlxInyGa(1-x-y)N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질, InAlGaN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있으나, 이에 한정하지 않는다. 제1 도펀트가 Si, Ge, Sn, Se, Te 등과 같은 n형 도펀트인 경우, 제1 도전형 반도체층(121)은 n형 질화물 반도체층일 수 있다.The first conductivity type semiconductor layer 121 may be implemented with a group III-V group or group II-VI compound semiconductor, and the first conductivity type semiconductor layer 121 may be doped with a first dopant. The first conductivity type semiconductor layer 121 is a semiconductor material having a composition formula of AlxInyGa(1-xy)N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1), InAlGaN, AlGaAs, GaP , GaAs, GaAsP, may be formed of any one or more of AlGaInP, but is not limited thereto. When the first dopant is an n-type dopant such as Si, Ge, Sn, Se, or Te, the first conductivity-type semiconductor layer 121 may be an n-type nitride semiconductor layer.

활성층(122)은 제1 도전형 반도체층(121) 상에 배치될 수 있다. 또한, 활성층(122)은 제1 도전형 반도체층(121)과 제2 도전형 반도체층(123) 사이에 배치될 수 있다.The active layer 122 may be disposed on the first conductivity-type semiconductor layer 121 . Also, the active layer 122 may be disposed between the first conductivity-type semiconductor layer 121 and the second conductivity-type semiconductor layer 123 .

활성층(122)은 제1 도전형 반도체층(121)을 통해서 주입되는 전자(또는 정공)와 제2 도전형 반도체층(123)을 통해서 주입되는 정공(또는 전자)이 만나는 층이다. 활성층(122)은 전자와 정공이 재결합함에 따라 낮은 에너지 준위로 천이하며, 그에 상응하는 파장을 가지는 빛을 생성할 수 있다.The active layer 122 is a layer in which electrons (or holes) injected through the first conductivity type semiconductor layer 121 and holes (or electrons) injected through the second conductivity type semiconductor layer 123 meet. The active layer 122 may transition to a low energy level as electrons and holes recombine, and may generate light having a corresponding wavelength.

활성층(122)은 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 단일 양자 우물 구조, 다중 양자 우물(Multi Quantum Well; MQW) 구조, 양자점 구조 또는 양자선 구조 중 어느 하나의 구조를 가질 수 있으며, 활성층(122)의 구조는 이에 한정하지 않는다. 활성층은 가시광 파장대의 광을 생성할 수 있다. The active layer 122 may have any one of a single well structure, a multi-well structure, a single quantum well structure, a multi quantum well (MQW) structure, a quantum dot structure, or a quantum wire structure, and the active layer 122 . The structure of is not limited thereto. The active layer may generate light in a wavelength band of visible light.

예시적으로 활성층은 청색, 녹색, 및 적색 중 어느 하나의 파장대의 광을 출력할 수 있다. 그러나, 반드시 이에 한정하는 것은 아니고 활성층(122)은 자외선 파장대의 광 또는 적외선 파장대의 광을 생성할 수도 있다.Exemplarily, the active layer may output light in any one wavelength band of blue, green, and red. However, the present invention is not limited thereto, and the active layer 122 may generate light in an ultraviolet wavelength band or light in an infrared wavelength band.

제2 도전형 반도체층(123)은 활성층(122) 상에 배치될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(123)은 Ⅲ-Ⅴ족, Ⅱ-Ⅵ족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제2 도전형 반도체층(123)에 제2 도펀트가 도핑될 수 있다. The second conductivity type semiconductor layer 123 may be disposed on the active layer 122 . The second conductivity-type semiconductor layer 123 may be implemented with a group III-V or group II-VI compound semiconductor, and the second conductivity-type semiconductor layer 123 may be doped with a second dopant.

제2 도전형 반도체층(123)은 Inx5Aly2Ga1-x5-y2N (0≤x5≤1, 0≤y2≤1, 0≤x5+y2≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질 또는 AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중 선택된 물질로 형성될 수 있다. 제2 도펀트가 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등과 같은 p형 도펀트인 경우, 제2 도펀트가 도핑된 제2 도전형 반도체층(123)은 p형 반도체층일 수 있다. 제2 도전형 반도체층(123) 상에는 반사층(150)이 형성될 수 있다. 반사층(150)은 활성층(122)으로 출사되는 광을 반사할 수 있는 재질이면 특별히 한정하지 않는다. 예시적으로 반사층(150)은 Ag, Au, Ni, Ti, Al 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The second conductivity type semiconductor layer 123 is a semiconductor material having a composition formula of Inx5Aly2Ga1-x5-y2N (0≤x5≤1, 0≤y2≤1, 0≤x5+y2≤1) or AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs , GaAsP, may be formed of a material selected from AlGaInP. When the second dopant is a p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, Sr, or Ba, the second conductivity-type semiconductor layer 123 doped with the second dopant may be a p-type semiconductor layer. A reflective layer 150 may be formed on the second conductivity-type semiconductor layer 123 . The reflective layer 150 is not particularly limited as long as it is a material capable of reflecting the light emitted to the active layer 122 . For example, the reflective layer 150 may include at least one of Ag, Au, Ni, Ti, and Al.

제1 전극(131)은 제1 도전형 반도체층(121) 상에 배치될 수 있다. 여기서, 제1 도전형 반도체층(121)은 식각에 의해 일부가 노출될 수 있다. 그리고 제1 전극(131)은 식각에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(121) 상에 배치될 수 있다. The first electrode 131 may be disposed on the first conductivity-type semiconductor layer 121 . Here, a portion of the first conductivity type semiconductor layer 121 may be exposed by etching. In addition, the first electrode 131 may be disposed on the first conductivity-type semiconductor layer 121 exposed by etching.

제1 전극(131)은 제1 도전형 반도체층(121) 상에 배치되는 제1-1전극(131a) 및 제1-1 전극(131a) 상에 형성되는 제1-2 전극(131b)을 포함할 수 있다. 제1-1 전극(131a)은 제1 도전형 반도체층(121)이 식각된 높이를 보상하기 위해 형성될 수 있다. 제1-1 전극(131a)과 제1-2 전극(131b)의 재질은 동일할 수 있다.The first electrode 131 includes the 1-1 electrode 131a disposed on the first conductivity-type semiconductor layer 121 and the 1-2 electrode 131b formed on the 1-1 electrode 131a. may include The first-first electrode 131a may be formed to compensate for the height at which the first conductivity-type semiconductor layer 121 is etched. The material of the first-first electrode 131a and the first-second electrode 131b may be the same.

제2 전극(132)은 제2 도전형 반도체층(123) 상에 배치될 수 있다. 제2 전극(132)은 제2 도전형 반도체층(123)과 전기적으로 연결될 수 있다.The second electrode 132 may be disposed on the second conductivity-type semiconductor layer 123 . The second electrode 132 may be electrically connected to the second conductivity-type semiconductor layer 123 .

제1 전극(131)과 제2 전극(132)은 Cr, Au, Ni, Ti, TiN, AuGe, AuNi, Al, 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으나, 이러한 재료에 한정되는 않는다. The first electrode 131 and the second electrode 132 may include at least one of Cr, Au, Ni, Ti, TiN, AuGe, AuNi, and Al, but is not limited thereto.

제1 전극(131)과 제2 전극(132)의 두께(d1, d2)는 3㎛ 이상일 수 있다. 제1 전극(131)과 제2 전극(132)의 두께가 3㎛ 이상인 경우에는 도전볼이 제1 전극(131)과 제2 전극(132) 사이에 삽입되어도 가압되지 않으므로 전기적 채널을 형성하지 않는다. 따라서, 쇼트를 방지할 수 있다.The thicknesses d1 and d2 of the first electrode 131 and the second electrode 132 may be 3 μm or more. When the thickness of the first electrode 131 and the second electrode 132 is 3 μm or more, even if the conductive ball is inserted between the first electrode 131 and the second electrode 132 , it is not pressed, so that an electric channel is not formed. . Therefore, short circuit can be prevented.

절연층(141)은 발광 구조물(120)의 상부면에 배치될 수 있다. 그러나 반드시 이에 한정하는 것은 아니고 절연층은 발광 구조물(120)의 측면까지 연장 형성될 수도 있다.The insulating layer 141 may be disposed on the upper surface of the light emitting structure 120 . However, the present invention is not limited thereto, and the insulating layer may be formed to extend to the side surface of the light emitting structure 120 .

절연층(141)은 SiO2, SixOy, Si3N4, SixNy, SiOxNy, Al2O3, TiO2, AlN, HfxOy 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정하지 않는다.The insulating layer 141 may include at least one of SiO 2 , Si x O y , Si 3 N 4 , Si x N y , SiO x N y , Al 2 O 3 , TiO 2 , AlN, and HfxOy, but must be It is not limited to this.

도 6을 참조하면 실시 예에 따른 마이크로 발광소자(10B)는 플립칩 타입으로 제작될 수도 있다. 제1 전극(131)은 제2 도전형 반도체층(123)과 활성층(122)을 관통하여 제1 도전형 반도체층(121)과 전기적으로 연결될 수 있다.Referring to FIG. 6 , the micro light emitting device 10B according to the embodiment may be manufactured in a flip-chip type. The first electrode 131 may pass through the second conductivity type semiconductor layer 123 and the active layer 122 to be electrically connected to the first conductivity type semiconductor layer 121 .

도 7과 도 8은 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면에 제1 점착부재를 부착하는 상태를 보여주는 도면이고, 도 9a는 제1 점착부재와 제1 기판을 이격시켜 제1 점착부재에 복수 개의 마이크로 발광소자를 전사하는 상태를 보여주는 도면이고, 도 9b는 복수 개의 마이크로 발광소자를 제1 기판에서 분리하는 방향을 설명하기 위한 도면이고, 도 9c는 도 9b의 변형예이다.7 and 8 are views illustrating a state in which a first adhesive member is attached to one surface of a plurality of micro light emitting devices, and FIG. 9A is a first adhesive member and a first substrate spaced apart to emit a plurality of micro light on the first adhesive member It is a view showing a state in which a device is transferred, FIG. 9B is a view for explaining a direction in which a plurality of micro light emitting devices are separated from a first substrate, and FIG. 9C is a modified example of FIG. 9B .

제1 점착부재로 전사하는 단계(S20)는, 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면(S1)에 제1 점착부재(200)를 배치하는 단계, 및 복수 개의 마이크로 발광소자를 제1 기판(110)에서 분리하는 단계를 포함할 수 있다.The transferring to the first adhesive member (S20) includes disposing the first adhesive member 200 on one surface (S1) of the plurality of micro light emitting devices, and disposing the plurality of micro light emitting devices on the first substrate 110 . Separation may be included.

도 7을 참조하면, 제1 점착부재(200)를 배치하는 단계는, 제1 점착부재(200)의 중앙부가 먼저 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면(S1)에 부착된 후, 도 8과 같이 제1 점착부재(200)의 전체면이 복수 개의 마이크로 발광소자(10)에 부착되는 것이 바람직하다. 이러한 방법에 의하면 제1 점착부재(200)와 제1 기판(110) 사이에 기포가 형성되는 것이 방지되므로 전사 효율이 증가할 수 있다.Referring to FIG. 7 , in the step of disposing the first adhesive member 200, the central portion of the first adhesive member 200 is first attached to one surface S1 of the plurality of micro light emitting devices, and then, as shown in FIG. 1 It is preferable that the entire surface of the adhesive member 200 is attached to the plurality of micro light emitting devices 10 . According to this method, since bubbles are prevented from being formed between the first adhesive member 200 and the first substrate 110 , transfer efficiency can be increased.

제1 점착부재(200)는 제1 베이스층(220) 및 제1 베이스층(220) 상에 배치되는 제1 점착층(210)을 포함할 수 있다. 제1 점착층(210)의 두께는 15㎛ 이하일 수 있다. 제1 점착층(210)의 두께는 15㎛ 보다 큰 경우 제1 점착층(210)의 두께가 너무 두꺼워져 칩이 제1 점착층(210)에 너무 깊이 묻히게 되어 전사가 어려워질 수 있다. 즉, GaN on Si의 마이크로 LED 칩 이외에 칩과 칩 사이의 Si 기판층까지 붙어서 Si 기판의 표면층이 분리되어 딸려올 수 있다. 또한, 제 2 점착부재에 플립(Flip) 시킬 때, 제1 점착부재의 점착층(210)에 칩이 파묻혀서 제1 점착층이 통째로 제 2점착부재로 전사가 되는 문제가 생길 수 있다.The first adhesive member 200 may include a first base layer 220 and a first adhesive layer 210 disposed on the first base layer 220 . The thickness of the first adhesive layer 210 may be 15 μm or less. When the thickness of the first adhesive layer 210 is greater than 15 μm, the thickness of the first adhesive layer 210 is too thick, so that the chip is buried too deeply in the first adhesive layer 210 , and transfer may be difficult. That is, in addition to the GaN on Si micro LED chip, the Si substrate layer between the chip and the chip may also be attached to the surface layer of the Si substrate to be separated. In addition, when flipping the second adhesive member, the chip may be buried in the adhesive layer 210 of the first adhesive member, so that the entire first adhesive layer may be transferred to the second adhesive member.

또한 전사 과정에서 제1 점착층(210) 자체가 제1 베이스층(220)에서 떨어져 전사될 수 있다.In addition, during the transfer process, the first adhesive layer 210 itself may be transferred away from the first base layer 220 .

제1 점착층(210)은 50℃ 내지 90℃에서 점착제로 사용 가능한 정도의 점착력을 갖고 50℃ 내지 70℃의 제1 온도 내에서 최대 점착력을 가질 수 있다. 제1 점착층의 최대 점착력은 0.8N/25mm 내지 2.0N/25mm일 수 있다. The first adhesive layer 210 may have an adhesive strength that can be used as an adhesive at 50° C. to 90° C., and may have a maximum adhesive strength within a first temperature of 50° C. to 70° C. The maximum adhesive force of the first adhesive layer may be 0.8N/25mm to 2.0N/25mm.

제1 점착부재(200)는 온도 가변형 점착층을 포함할 수 있다. 제1 점착층(210)은 50℃ 내지 70℃의 온도 범위 내에서 점착력이 최대가 되고 그 온도를 벗어나면 점착력이 낮아지는 열 가소성 수지이면 특별히 제한되지 않는다.The first adhesive member 200 may include a temperature-variable adhesive layer. The first adhesive layer 210 is not particularly limited as long as it is a thermoplastic resin having a maximum adhesive strength within a temperature range of 50° C. to 70° C. and a low adhesive strength when out of the temperature.

온도를 50℃ 내지 70℃로 조절한 상태에서 제1 점착부재(200)를 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면(S1)에 부착하면, 제1 점착부재(200)는 복수 개의 마이크로 발광소자(10)에 강하게 부착될 수 있다.When the first adhesive member 200 is attached to one surface S1 of the plurality of micro light emitting devices in a state in which the temperature is adjusted to 50 ° C to 70 ° C, the first adhesive member 200 is a plurality of micro light emitting devices 10 . can be strongly attached to

제1 기판(110)은 제1 홀더(1001)에 배치되고 제1 점착부재(200)는 제2 홀더(1002)에 배치될 수 있다. 제1 홀더(1001)는 제1 기판(110)을 냉각 또는 가열할 수 있는 온도제어부재(미도시)를 구비할 수 있고, 제2 홀더(1002)는 제1 점착부재(200)를 가열할 수 있는 온도제어부재(미도시)를 구비할 수 있다. The first substrate 110 may be disposed on the first holder 1001 , and the first adhesive member 200 may be disposed on the second holder 1002 . The first holder 1001 may include a temperature control member (not shown) capable of cooling or heating the first substrate 110 , and the second holder 1002 may heat the first adhesive member 200 . It may be provided with a temperature control member (not shown) that can.

따라서, 제1 기판(110)과 제1 점착부재(200)는 50℃ 내지 70℃의 제1 온도로 일정 시간 유지될 수 있다. 이 과정에서 제1 점착부재(200)는 마이크로 발광소자와 강하게 결합될 수 있다. 제1 기판(110)이 제1 온도로 가열되면 제1 점착층(210)의 접착면이 제1 온도로 유지될 수 있어 전사 효율이 증가할 수 있다.Accordingly, the first substrate 110 and the first adhesive member 200 may be maintained at a first temperature of 50° C. to 70° C. for a predetermined time. In this process, the first adhesive member 200 may be strongly coupled to the micro light emitting device. When the first substrate 110 is heated to the first temperature, the adhesive surface of the first adhesive layer 210 may be maintained at the first temperature, thereby increasing transfer efficiency.

온도제어부재는 히터 또는 펠티어 소자일 수 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 그러나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 필요에 따라 제1 홀더(1001) 및/또는 제2 홀더(1002)는 생략될 수도 있다.The temperature control member may be a heater or a Peltier element, but is not necessarily limited thereto. However, the present invention is not necessarily limited thereto, and the first holder 1001 and/or the second holder 1002 may be omitted if necessary.

도 8 및 9a를 참조하면, 복수 개의 마이크로 발광소자(10)를 제1 기판(110)에서 분리하는 단계는, 제1 점착부재(200)를 제1 기판(110)과 이격시켜 마이크로 발광소자를 전사할 수 있다.8 and 9A , in the step of separating the plurality of micro light emitting devices 10 from the first substrate 110 , the first adhesive member 200 is spaced apart from the first substrate 110 to form the micro light emitting devices. can fight

이때, 제1 점착부재(200)의 온도를 제1 온도의 70~80%로 감소시킨 후 분리 작업을 진행할 수 있다. 이 과정에서 제1 점착부재(200)의 점착력은 최대 점착력의 40% 내지 80%로 떨어질 수 있다. 제1 점착부재(200)가 최대 점착력을 갖는 상태에서 분리하면 GaN on Si 웨이퍼의 칩 이외에 칩과 칩사이의 Si 웨이퍼 표면이 함께 분리가 되어 마이크로 LED 칩만 선택적으로 제1 기판(110)과 분리하기 어려운 문제가 있기 때문이다. 예시적으로 제1 점착부재(200)의 온도를 35℃ 내지 45℃로 냉각하면 점착력은 0.6N/25mm 내지 0.8N/25mm로 낮아질 수 있다.In this case, after reducing the temperature of the first adhesive member 200 to 70 to 80% of the first temperature, the separation operation may be performed. In this process, the adhesive force of the first adhesive member 200 may drop to 40% to 80% of the maximum adhesive force. When the first adhesive member 200 is separated in a state having the maximum adhesive force, in addition to the chip of the GaN on Si wafer, the surface of the Si wafer between the chip and the chip is separated together, so that only the micro LED chip is selectively separated from the first substrate 110 Because there are difficult problems. For example, when the temperature of the first adhesive member 200 is cooled to 35°C to 45°C, the adhesive force may be lowered to 0.6N/25mm to 0.8N/25mm.

제1 점착부재(200)는 제2 홀더(1002)에 의해 약 35℃ 내지 45℃로 냉각 제어할 수 있으나 제어 온도는 반드시 이에 한정하지 않는다. 즉, 제1 기판(110)과 분리 가능하며 마이크로 발광소자의 전사가 가능해지는 적정한 온도로 조절될 수 있다.The first adhesive member 200 may be cooled to about 35° C. to 45° C. by the second holder 1002 , but the control temperature is not necessarily limited thereto. That is, it can be separated from the first substrate 110 and adjusted to an appropriate temperature at which the micro light emitting device can be transferred.

제1 점착부재(200)를 냉각하는 방법은 제1 홀더(1001)와 제2 홀더(1002)를 이용할 수 있다. 즉, 제1 홀더(1001)를 이용하여 제1 기판(110)을 35℃ 내지 45℃로 냉각시키고 제2 홀더(1002)를 이용하여 제1 점착부재(200)를 35℃ 내지 45℃로 냉각시킬 수 있다. 그러나 반드시 이에 한정하는 것은 아니고 자연 냉각시킬 수도 있다.As a method of cooling the first adhesive member 200 , the first holder 1001 and the second holder 1002 may be used. That is, the first substrate 110 is cooled to 35° C. to 45° C. using the first holder 1001 , and the first adhesive member 200 is cooled to 35° C. to 45° C. using the second holder 1002 . can do it However, the present invention is not necessarily limited thereto and may be naturally cooled.

도 9a를 참조하면, 제1 점착부재(200)를 고정한 상태에서 제1 기판(110)의 일 측을 들어올리면 복수 개의 마이크로 발광소자(10)에 연결된 돌출부(111)가 분리되면서 복수 개의 마이크로 발광소자는 제1 점착부재(200)에 전사될 수 있다. 이 과정에서 돌출부(111)의 일부는 마이크로 발광소자(10)에 잔존할 수 있다. 이때 제1 기판(110)은 제1 홀더(1001)에 의해 들어 올려질 수 있으나 반드시 이에 한정하지 않는다.Referring to FIG. 9A , when one side of the first substrate 110 is lifted while the first adhesive member 200 is fixed, the protrusions 111 connected to the plurality of micro light emitting devices 10 are separated and a plurality of micro light emitting devices are separated. The device may be transferred to the first adhesive member 200 . In this process, a portion of the protrusion 111 may remain in the micro light emitting device 10 . In this case, the first substrate 110 may be lifted by the first holder 1001 , but is not limited thereto.

도 9b를 참조하면, 돌출부(111)는 장측면과 단측면을 갖는 직사각형 형상을 가질 수 있다. 이때, 복수 개의 마이크로 발광소자(10)를 기판에서 분리하는 힘의 방향(D1)은 장측면과 수직한 방향일 수 있다. 따라서, 돌출부(111)는 쉽게 제1 기판(110)에서 분리될 수 있다. 만약 복수 개의 마이크로 발광소자를 기판에서 분리하는 힘의 방향이 장측면과 평행한 경우 더 많은 힘을 주어야 마이크로 발광소자를 분리할 수 있으므로 전사 불량이 발생할 수 있다. 또한, 과도한 힘에 의해 마이크로 발광소자가 파손될 수도 있다.Referring to FIG. 9B , the protrusion 111 may have a rectangular shape having a long side surface and a short side surface. In this case, the direction D1 of the force separating the plurality of micro light emitting devices 10 from the substrate may be a direction perpendicular to the long side surface. Accordingly, the protrusion 111 may be easily separated from the first substrate 110 . If the direction of the force to separate the plurality of micro light emitting devices from the substrate is parallel to the long side, more force may be applied to separate the micro light emitting devices, and thus transfer failure may occur. In addition, the micro light emitting device may be damaged by excessive force.

돌출부(111)의 형상은 제작 조건에 따라 다양한 형상을 가질 수 있다. 도 9c를 참조하면 돌출부(111)는 다각형 형상을 가질 수도 있다. 돌출부(111)의 형상이 육각형인 경우 복수 개의 마이크로 발광소자(10)를 기판에서 분리하는 힘의 방향은 마이크로 발광소자(10)의 단측면과 평행할 수 있다.The shape of the protrusion 111 may have various shapes according to manufacturing conditions. Referring to FIG. 9C , the protrusion 111 may have a polygonal shape. When the shape of the protrusion 111 is hexagonal, the direction of the force separating the plurality of micro light emitting devices 10 from the substrate may be parallel to the short side surface of the micro light emitting device 10 .

도 10은 도 9a의 변형예이다.Fig. 10 is a modification of Fig. 9A.

도 10을 참조하면, 제1 기판(110)을 기울이지 않고 제1 점착부재(200)와 수직 방향으로 들어올려 전사할 수도 있다. 제1 홀더와 제2 홀더에 의해 제1 기판(110)과 제1 점착부재(200)의 온도가 35℃ 내지 45℃로 조절되었으므로 점착력이 낮아졌으므로 제1 기판(110)을 기울이지 않고 분리하여도 전사 효율이 높을 수 있다.Referring to FIG. 10 , the transfer may be performed by lifting the first substrate 110 in a vertical direction to the first adhesive member 200 without tilting it. Since the temperature of the first substrate 110 and the first adhesive member 200 was adjusted to 35° C. to 45° C. by the first holder and the second holder, the adhesive force was lowered, so even when the first substrate 110 is separated without tilting it. The transfer efficiency can be high.

도 11은 제1 점착부재에 전사된 복수 개의 마이크로 발광소자를 보여주는 평면도이고, 도 12는 마이크로 발광소자가 제1 점착부재에 전사된 상태를 보여주는 도면이다.11 is a plan view showing a plurality of micro light emitting devices transferred to the first adhesive member, and FIG. 12 is a view showing a state in which the micro light emitting devices are transferred to the first adhesive member.

도 11 및 도 12를 참조하면, 실시예에 따르면 제1 기판(110)에 돌출부(111)를 형성한 후에 제1 점착부재(200)를 이용하여 전사하므로 대부분의 마이크로 발광소자(10)가 전사될 수 있다. 따라서, 대면적 전사가 가능해지고 전사 효율이 높아질 수 있다.11 and 12 , according to the embodiment, after the protrusion 111 is formed on the first substrate 110, it is transferred using the first adhesive member 200, so that most of the micro light emitting devices 10 are transferred. can be Accordingly, large-area transfer is possible and transfer efficiency can be increased.

도 11에서는 제1 기판(110)에 있던 복수 개의 마이크로 발광소자가 모두 제1 점착부재(200)에 전사된 것을 예시하였으나 반드시 이에 한정하지 않는다. 제1 점착부재(200)를 패터닝하여 제1 기판(110)에 형성된 복수 개의 마이크로 발광소자 중 일부만을 선택적으로 전사할 수도 있다.11 illustrates that all of the plurality of micro light emitting devices on the first substrate 110 are transferred to the first adhesive member 200, but the present invention is not limited thereto. By patterning the first adhesive member 200 , only some of the plurality of micro light emitting devices formed on the first substrate 110 may be selectively transferred.

도 13 및 도 14는 복수 개의 마이크로 발광소자의 타면에 제2 점착부재를 부착하는 상태를 보여주는 도면이다.13 and 14 are views illustrating a state in which a second adhesive member is attached to the other surfaces of a plurality of micro light emitting devices.

제2 점착부재에 전사하는 단계(S30)는, 복수 개의 마이크로 발광소자의 타면(S2)에 제2 점착부재(300)를 배치하는 단계, 및 복수 개의 마이크로 발광소자를 제1 점착부재(200)에서 분리하는 단계를 포함할 수 있다.The transferring to the second adhesive member (S30) includes disposing the second adhesive member 300 on the other surface S2 of the plurality of micro light emitting devices, and attaching the plurality of micro light emitting devices to the first adhesive member 200 It may include the step of separating from

도 13을 참조하면, 복수 개의 마이크로 발광소자의 타면(S2)에 제2 점착부재(300)를 배치하는 단계는, 제2 점착부재(300)의 중앙부가 먼저 복수 개의 마이크로 발광소자의 타면(S2)에 부착된 후, 도 14와 같이 제2 점착부재(300)의 전체면이 복수 개의 마이크로 발광소자(10)에 부착되는 것이 바람직하다. 이러한 경우 제1 점착부재(200)와 제2 점착부재(300) 사이에 기포가 형성되는 것을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 13 , in the step of disposing the second adhesive member 300 on the other surface S2 of the plurality of micro light emitting devices, the central portion of the second adhesive member 300 is first the other surface S2 of the plurality of micro light emitting devices. ), it is preferable that the entire surface of the second adhesive member 300 is attached to the plurality of micro light emitting devices 10 as shown in FIG. 14 . In this case, it is possible to prevent air bubbles from being formed between the first adhesive member 200 and the second adhesive member 300 .

제2 점착부재(300)는 제2 베이스층(320) 및 제2 베이스층(320) 상에 배치되는 제2 점착층(310)을 포함할 수 있다 제2 점착부재(300)의 두께는 특별히 한정되지 않는다. 예시적으로 제2 점착부재(300)의 두께는 제1 점착부재보다 두꺼울 수 있다.The second adhesive member 300 may include a second base layer 320 and a second adhesive layer 310 disposed on the second base layer 320. The thickness of the second adhesive member 300 is particularly not limited For example, the thickness of the second adhesive member 300 may be thicker than that of the first adhesive member.

제2 점착층(310)은 50℃ 미만에서 사용 가능하며 1℃ 내지 10℃의 제2 온도에서 점착력이 최대가 될 수 있다. 제2 점착층의 최대 점착력은 0.8N/25mm 내지 2.0N/25mm일 수 있다. 예시적으로 제2 점착부재(300)는 온도 가변형 점착층을 포함할 수 있다. 제2 점착층(310)은 1℃ 내지 10℃의 온도에서 점착력이 최대가 되고 이 범위를 벗어날수록 점착력이 낮아지는 열 가소성 수지이면 특별히 제한되지 않는다.The second adhesive layer 310 may be used at less than 50° C., and may have a maximum adhesive strength at a second temperature of 1° C. to 10° C. The maximum adhesive force of the second adhesive layer may be 0.8N/25mm to 2.0N/25mm. For example, the second adhesive member 300 may include a temperature-variable adhesive layer. The second adhesive layer 310 is not particularly limited as long as the adhesive force is maximized at a temperature of 1° C. to 10° C. and is a thermoplastic resin in which the adhesive force decreases as it goes out of this range.

제2 점착부재(300)는 제3 홀더(1004)에 배치될 수 있다. 제3 홀더(1004)는 제2 점착부재(300)를 냉각 또는 가열할 수 있는 온도제어부재(미도시)를 구비할 수 있다. 온도제어부재는 히터 또는 펠티어 소자일 수 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The second adhesive member 300 may be disposed on the third holder 1004 . The third holder 1004 may include a temperature control member (not shown) capable of cooling or heating the second adhesive member 300 . The temperature control member may be a heater or a Peltier element, but is not necessarily limited thereto.

도 15a는 제2 점착부재와 제1 점착부재를 이격시켜 제2 점착부재에 복수 개의 마이크로 발광소자를 전사하는 상태를 보여주는 측면도이고, 도 15b는 제2 점착부재와 제1 점착부재를 이격시켜 제2 점착부재에 복수 개의 마이크로 발광소자를 전사하는 상태를 보여주는 평면도이고, 도 15c는 도 15a의 변형예이다.15A is a side view illustrating a state in which a plurality of micro light emitting devices are transferred to a second adhesive member by separating the second adhesive member from the first adhesive member, and FIG. 2 It is a plan view showing a state in which a plurality of micro light emitting devices are transferred to an adhesive member, and FIG. 15C is a modification of FIG. 15A .

도 15a를 참조하면, 복수 개의 마이크로 발광소자를 제1 점착부재(200)에서 분리하는 단계는, 제1 점착부재(200)와 제2 점착부재(300)를 1℃ 내지 10℃의 제2 온도로 냉각한 후 일정 시간 유지할 수 있다. 이 과정에서 제2 점착부재(300)는 점착력이 증가하여 마이크로 발광소자(10)와 강하게 결합될 수 있다. 이와 반대로 제1 점착부재(200)는 온도가 내려갈수록 점차 점착력이 낮아지고, 1℃ 내지 10℃의 온도에서 점착력이 최소가 될 수 있다. 즉, 1℃ 내지 10℃의 제2 온도에서 제2 점착부재(300)의 점착력은 제1 점착부재(200)의 점착력보다 커질 수 있다.Referring to FIG. 15A , the step of separating the plurality of micro light emitting devices from the first adhesive member 200 includes heating the first adhesive member 200 and the second adhesive member 300 at a second temperature of 1°C to 10°C. After cooling, it can be maintained for a certain period of time. In this process, the second adhesive member 300 may be strongly coupled to the micro light emitting device 10 by increasing adhesive force. Conversely, the adhesive force of the first adhesive member 200 is gradually lowered as the temperature decreases, and the adhesive force may be minimized at a temperature of 1°C to 10°C. That is, at the second temperature of 1° C. to 10° C., the adhesive force of the second adhesive member 300 may be greater than that of the first adhesive member 200 .

실시예에 따르면 제2 홀더(1002)에 의해 제1 점착부재(200)를 냉각하고 제3 홀더(1004)에 의해 제2 점착부재(200)를 냉각하므로 제1 점착층(210)의 접착면과 제2 점착층(310)의 접착면이 제2 온도로 정밀하게 제어될 수 있다.According to the embodiment, since the first adhesive member 200 is cooled by the second holder 1002 and the second adhesive member 200 is cooled by the third holder 1004, the adhesive surface of the first adhesive layer 210 is The adhesive surface of the and the second adhesive layer 310 may be precisely controlled to the second temperature.

이 후, 제2 점착부재(300)와 제1 점착부재(200)를 이격시키면 복수 개의 마이크로 발광소자(10)는 제2 점착부재(300)에 전사될 수 있다.Thereafter, when the second adhesive member 300 and the first adhesive member 200 are spaced apart, the plurality of micro light emitting devices 10 may be transferred to the second adhesive member 300 .

제2 점착부재(300)를 홀더에 고정한 상태에서 제1 점착부재(200)를 들어올려 전사할 수 있으나 반드시 이에 한정하지 않는다. 예시적으로 제1 점착부재를 홀더에 고정한 상태에서 제2 점착부재를 들어올려 전사할 수 도 있다.While the second adhesive member 300 is fixed to the holder, the first adhesive member 200 may be lifted for transfer, but the present invention is not limited thereto. Illustratively, the transfer may be performed by lifting the second adhesive member while the first adhesive member is fixed to the holder.

도 15b를 참조하면, 제1 점착부재(200)는 서로 마주보는 제1 측면(201)과 제2 측면(202) 및 서로 마주보는 제3 측면(203) 및 제4 측면(204)을 포함하고, 제1 점착부재(200)의 일 모서리(207) 부분을 들어올려 박리할 수 있다. 또는 도 15c와 같이 제2 측면(202)을 들어올려 박리할 수도 있다. 또는 도 15d와 같이, 제1 점착부재(200)와 제2 점착부재(300)를 평행하게 마주보는 상태에서 수직 방향으로 들어올려 박리할 수도 있다.15B, the first adhesive member 200 includes a first side 201 and a second side 202 facing each other, and a third side 203 and a fourth side 204 facing each other, , may be peeled off by lifting one edge 207 of the first adhesive member 200 . Alternatively, it may be peeled off by lifting the second side surface 202 as shown in FIG. 15C . Alternatively, as shown in FIG. 15D , the first adhesive member 200 and the second adhesive member 300 may be peeled off by lifting them in a vertical direction in a state in which they face each other in parallel.

도 16 및 도 17은 제2 기판 상에 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면을 부착하는 상태를 보여주는 도면이다.16 and 17 are views illustrating a state in which one surface of a plurality of micro light emitting devices is attached on a second substrate.

제2 점착부재에서 제2 기판으로 전사하는 단계(S40)는, 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면(S1)을 제2 기판(400)에 부착하는 단계, 및 복수 개의 마이크로 발광소자를 제2 점착부재(300)에서 분리하는 단계를 포함할 수 있다.The step of transferring (S40) from the second adhesive member to the second substrate includes attaching one surface S1 of the plurality of micro light emitting devices to the second substrate 400, and attaching the plurality of micro light emitting devices to the second adhesive member. It may include the step of separating in (300).

도 16 및 도 17을 참조하면, 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면(S1)을 제2 기판(400)에 배치하는 단계는, 먼저 제2 점착부재(300)의 온도를 상온으로 유지하는 단계를 수행할 수 있다. 만약 제2 점착부재(300)의 온도가 제2 온도로 유지되어 있는 경우 제2 점착층(310)이 너무 무르기 때문에 제2 기판(400)과 가압시 복수 개의 마이크로 발광소자(10)가 제2 기판(400)에 부착되기 전에 제2 기판(400)에 밀려서 제2 점착층(310)으로 깊이 묻히게 될 수 있기 때문이다. 따라서, 제3 홀더(1004)는 제2 점착부재(300)의 온도가 10℃ 내지 30℃의 상온(제4 온도)이 되도록 가열할 수 있다. 또는 소정 시간을 방치하여 상온으로 온도를 올릴 수도 있다. 이 과정에서 제2 점착부재의 점착력은 최대 점착력의 40% 내지 70%로 떨어질 수 있다. 이때, 제4 홀더(1003)는 미리 제2 기판(400)의 도전성 접착층(500)을 제3 온도로 가열할 수 있다.16 and 17 , the step of disposing one surface S1 of the plurality of micro light emitting devices on the second substrate 400 is performed by first maintaining the temperature of the second adhesive member 300 at room temperature. can do. If the temperature of the second adhesive member 300 is maintained at the second temperature, since the second adhesive layer 310 is too soft, the plurality of micro light emitting devices 10 are formed when pressed with the second substrate 400 . This is because it may be deeply buried with the second adhesive layer 310 by being pushed to the second substrate 400 before being attached to the substrate 400 . Accordingly, the third holder 1004 may be heated so that the temperature of the second adhesive member 300 is at room temperature (fourth temperature) of 10°C to 30°C. Alternatively, the temperature may be raised to room temperature by allowing it to stand for a predetermined time. In this process, the adhesive force of the second adhesive member may drop to 40% to 70% of the maximum adhesive force. In this case, the fourth holder 1003 may previously heat the conductive adhesive layer 500 of the second substrate 400 to a third temperature.

이후 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면(S1)을 제2 기판(400)에 배치하는 단계는, 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면(S1)이 도전성 접착층(500)이 형성된 제2 기판(400)과 마주보도록 배치한 후, 제2 점착부재(300)를 제2 기판(400)에 1kgf 내지 2kgf로 가압하여 복수 개의 마이크로 발광소자를 제2 기판(400)의 도전성 접착층(500)에 부착할 수 있다. 제2 기판(400)은 디스플레이 기판일 수 있다. 제2 기판(400)에는 픽셀을 구동하기 위한 회로가 형성되어 있을 수 있다.Thereafter, in the step of disposing one surface S1 of the plurality of micro light emitting devices on the second substrate 400, one surface S1 of the plurality of micro light emitting devices faces the second substrate 400 on which the conductive adhesive layer 500 is formed. After disposing to be viewed, the second adhesive member 300 may be pressed to the second substrate 400 at 1 kgf to 2 kgf to attach the plurality of micro light emitting devices to the conductive adhesive layer 500 of the second substrate 400 . The second substrate 400 may be a display substrate. A circuit for driving a pixel may be formed on the second substrate 400 .

제2 기판(400)은 제4 홀더(1003)에 배치되고 제2 점착부재(300)는 제3 홀더(1004)와 접촉될 수 있다. 이때, 제4 홀더(1003)는 제2 기판(400)을 냉각 또는 가열할 수 있는 온도제어부재(미도시)를 구비할 수 있다. 온도제어부재는 히터 또는 펠티어 소자일 수 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The second substrate 400 may be disposed on the fourth holder 1003 , and the second adhesive member 300 may be in contact with the third holder 1004 . In this case, the fourth holder 1003 may include a temperature control member (not shown) capable of cooling or heating the second substrate 400 . The temperature control member may be a heater or a Peltier element, but is not necessarily limited thereto.

도 18a는 제2 점착부재와 제2 기판을 이격시켜 제2 기판에 복수 개의 마이크로 발광소자를 전사하는 상태를 보여주는 측면도이고, 도 18b는 제2 점착부재와 제2 기판을 이격시켜 제2 기판에 복수 개의 마이크로 발광소자를 전사하는 상태를 보여주는 평면도이고, 도 18c는 도 18a의 변형예이다.18A is a side view illustrating a state in which a plurality of micro light emitting devices are transferred to a second substrate by separating the second adhesive member from the second substrate, and FIG. 18B is a second adhesive member and a second substrate spaced apart from the second substrate It is a plan view showing a state in which a plurality of micro light emitting devices are transferred, and FIG. 18C is a modified example of FIG. 18A .

도 18a를 참조하면, 제2 점착부재(300)를 복수 개의 마이크로 발광소자에서 분리하는 단계는 제3 홀더(1004)와 제4 홀더(1003)를 이용하여 제2 기판(400)과 제2 점착부재(300)를 가열할 수 있다. Referring to FIG. 18A , in the step of separating the second adhesive member 300 from the plurality of micro light emitting devices, the second substrate 400 and the second adhesive by using the third holder 1004 and the fourth holder 1003 . The member 300 may be heated.

제2 점착부재(300)는 온도가 상승할수록 점차 점착력이 약해지고, 70℃ 내지 80℃의 제3 온도에서 점착력이 최소가 될 수 있다. 그 결과 제3 온도에서 도전성 접착층(500)의 접착력은 제2 점착부재(300)의 점착력보다 커질 수 있다. 즉, 제3 온도는 제1 온도보다 높을 수 있다.The adhesive force of the second adhesive member 300 is gradually weakened as the temperature increases, and the adhesive force may be minimized at a third temperature of 70°C to 80°C. As a result, the adhesive force of the conductive adhesive layer 500 at the third temperature may be greater than that of the second adhesive member 300 . That is, the third temperature may be higher than the first temperature.

따라서, 제2 점착부재(300)를 70℃ 내지 80℃로 가열한 상태에서 제2 점착부재(300)와 제2 기판(400)을 분리시키면 복수 개의 마이크로 발광소자(10)는 제2 기판(400)에 전사될 수 있다.Accordingly, when the second adhesive member 300 is separated from the second substrate 400 in a state in which the second adhesive member 300 is heated to 70° C. to 80° C., the plurality of micro light emitting devices 10 are formed on the second substrate ( 400) can be transcribed.

제2 기판(400)을 홀더에 고정한 상태에서 제2 점착부재(300)를 들어올려 전사할 수 있으나 반드시 이에 한정하지 않는다. 예시적으로 제2 점착부재를 홀더에 고정한 상태에서 제2 기판을 들어올려 전사할 수 도 있다.While the second substrate 400 is fixed to the holder, the second adhesive member 300 may be lifted and transferred, but the present invention is not limited thereto. For example, the second substrate may be lifted and transferred while the second adhesive member is fixed to the holder.

도 18b를 참조하면, 제2 점착부재(300)는 서로 마주보는 제1 측면(301)과 제2 측면(302) 및 서로 마주보는 제3 측면(303) 및 제4 측면(304)을 포함하고, 제2 점착부재(300)의 일 모서리(307) 부분을 들어올려 박리할 수 있다. 또는 도 18c와 같이 제2 측면(302)을 들어올려 박리할 수도 있다. 또는 도 18d와 같이, 제2 점착부재(300)와 제2 기판(400)을 평행하게 마주보는 상태에서 수직 방향으로 들어올려 박리할 수도 있다.Referring to FIG. 18B , the second adhesive member 300 includes a first side surface 301 and a second side surface 302 facing each other, and a third side surface 303 and a fourth side surface 304 facing each other, , may be peeled off by lifting one edge 307 of the second adhesive member 300 . Alternatively, it may be peeled off by lifting the second side surface 302 as shown in FIG. 18C . Alternatively, as shown in FIG. 18D , the second adhesive member 300 and the second substrate 400 may be peeled off by lifting them in a vertical direction while facing each other in parallel.

복수 개의 마이크로 발광소자와 제2 기판의 전기적 연결은 모든 마이크로 발광소자의 전사가 완료된 이후에 일괄적으로 진행될 수 있다. 예시적으로 2인치, 4인치, 6인치의 기판의 마이크로 발광소자를 큰 패널에 전사할 때 필수적으로 전술한 전사 공정을 여러 번 수행해야 한다. 따라서, 전술한 단계를 반복하여 디스플레이 기판에 해상도에 맞는 개수의 마이크로 발광소자를 전사한 후 전기적 연결 과정 및 본딩 작업이 진행될 수 있다.Electrical connection between the plurality of micro light emitting devices and the second substrate may be performed collectively after the transfer of all the micro light emitting devices is completed. Illustratively, when transferring a micro light emitting device of a 2 inch, 4 inch, or 6 inch substrate to a large panel, it is essential to perform the above-described transfer process several times. Accordingly, after repeating the above-described steps to transfer the number of micro light emitting devices suitable for resolution to the display substrate, the electrical connection process and bonding operation may be performed.

또한 RGB 픽셀을 구성하기 위해 청색광을 출사하는 마이크로 발광소자를 제2 기판(400)에 전사한 후, 다시 녹색광 및 적색광을 출사하는 마이크로 발광소자를 제2 기판(400)에 순차적으로 전사할 수 있다. 이후에 RGB 마이크로 발광소자를 한번에 제2 기판(400)에 본딩할 수 있다. 이때, 제1 점착부재는 필요한 마이크로 발광소자만 전사할 수 있도록 패터닝할 수 있다.In addition, after transferring the micro light emitting device emitting blue light to the second substrate 400 to configure the RGB pixel, the micro light emitting device emitting green light and red light may be sequentially transferred to the second substrate 400 again. . Thereafter, the RGB micro light emitting device may be bonded to the second substrate 400 at once. In this case, the first adhesive member may be patterned so that only necessary micro light emitting devices can be transferred.

도 19는 누름부재를 이용하여 복수 개의 마이크로 발광소자를 제2 기판에 전기적으로 연결하는 상태를 보여주는 도면이고, 도 20은 마이크로 발광소자가 제2 기판의 회로 전극과 전기적으로 연결된 상태를 보여주는 도면이다.19 is a view showing a state in which a plurality of micro light emitting devices are electrically connected to a second substrate using a pressing member, and FIG. 20 is a view showing a state in which the micro light emitting devices are electrically connected to a circuit electrode of the second substrate .

도 19를 참조하면 모든 마이크로 발광소자의 전사가 완료된 경우 누름부재(600)를 이용하여 복수 개의 마이크로 발광소자(10)를 가압할 수 있다. 예시적으로 300℃ 내지 350℃의 열과 8kgf 내지 12 kgf의 압력을 인가할 수 있다.Referring to FIG. 19 , when the transfer of all the micro light emitting devices is completed, the plurality of micro light emitting devices 10 may be pressed using the pressing member 600 . Exemplarily, heat of 300° C. to 350° C. and pressure of 8 kgf to 12 kgf may be applied.

도 20을 참조하면, 도전성 접착층(500)은 이방성 도전 필름(ACF)일 수 있다. 따라서, 마이크로 발광소자가 가압되면 제2 기판(400)의 도전성 접착층(500)에 분산된 도전볼(500a)이 서로 가압되면서 전기적인 통로를 형성할 수 있다. 가압시 도전볼(500a)을 둘러싸고 있는 레진층이 제거되고 도전볼(500a)에 크랙이 발생하면서 전기적인 통로를 형성할 수 있다. 300℃ 내지 350℃의 열이 가해지면 도전성 접착층(500)은 경화가 완료될 수 있다.Referring to FIG. 20 , the conductive adhesive layer 500 may be an anisotropic conductive film (ACF). Accordingly, when the micro light emitting device is pressed, the conductive balls 500a dispersed in the conductive adhesive layer 500 of the second substrate 400 are pressed together to form an electrical path. When pressurizing, the resin layer surrounding the conductive ball 500a is removed, and cracks are generated in the conductive ball 500a, thereby forming an electrical path. When heat of 300° C. to 350° C. is applied, curing of the conductive adhesive layer 500 may be completed.

즉, 도 17과 같이 복수 개의 마이크로 발광소자를 가본딩하는 단계에서는 50℃ 내지 70℃의 열과 1kgf 내지 2kgf/cm2의 압력을 인가하므로 도전성 접착층(500)은 경화되지 않고 도전볼은 전기적인 통로를 형성하지 않는다.That is, in the step of temporary bonding a plurality of micro light emitting devices as shown in FIG. 17, heat of 50° C. to 70° C. and pressure of 1 kgf to 2 kgf/cm2 are applied, so that the conductive adhesive layer 500 is not cured and the conductive ball passes through an electrical passage. does not form

그러나, 본 본딩 단계에서는 300℃ 내지 350℃의 열과 8kgf 내지 12 kgf/cm2의 압력을 인가하므로 도전성 접착층(500)은 경화되고 도전볼은 전기적인 통로를 형성하게 된다.However, in the bonding step, since heat of 300° C. to 350° C. and pressure of 8 kgf to 12 kgf/cm 2 are applied, the conductive adhesive layer 500 is cured and the conductive balls form an electrical passage.

이때, 마이크로 발광소자(10)의 제1, 제2 전극(131, 132)의 두께(d1, d2)는 도전볼(500a)의 직경(d3)과 동일하거나 클 수 있다. 만약 마이크로 발광소자(10)의 전극의 두께가 도전볼(500a)보다 작은 경우 제1 전극(131)과 제2 전극(132) 사이에 위치한 도전볼(500a)이 압력에 의해 전기적인 통로를 형성하여 쇼트가 발생할 수 있다. 또한, 제1 전극(131)의 끝단면과 제2 전극(132)의 끝단면은 동일 높이로 제작되어 발광 구조물의 단차에도 불구하고 동일한 높이를 가질 수 있다.In this case, the thicknesses d1 and d2 of the first and second electrodes 131 and 132 of the micro light emitting device 10 may be equal to or greater than the diameter d3 of the conductive ball 500a. If the thickness of the electrode of the micro light emitting device 10 is smaller than the conductive ball 500a, the conductive ball 500a positioned between the first electrode 131 and the second electrode 132 forms an electrical path by pressure. This may cause a short circuit. In addition, the end face of the first electrode 131 and the end face of the second electrode 132 are manufactured to have the same height, so that they may have the same height despite the step difference of the light emitting structure.

도전성 접착층(500)의 두께는 15㎛이하일 수 있다. 만약 도전성 접착층의 두께가 15㎛보다 큰 경우 5㎛ 정도의 두께를 갖는 마이크로 발광소자가 파손(Breaking)될 수 있다.The thickness of the conductive adhesive layer 500 may be 15 μm or less. If the thickness of the conductive adhesive layer is greater than 15 μm, the micro light emitting device having a thickness of about 5 μm may be broken.

도 21은 본 발명의 일 실시 예에 따른 마이크로 발광소자가 전사된 디스플레이 장치의 개념도이다.21 is a conceptual diagram of a display device to which a micro light emitting device is transferred according to an embodiment of the present invention.

도 21을 참조하면, 마이크로 발광소자를 포함하는 디스플레이 장치는 제2 패널 기판(410), 구동 박막 트랜지스터(T2), 평탄화층(430), 공통전극(CE), 화소전극(AE) 및 마이크로 발광소자를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 21 , a display device including a micro light emitting device includes a second panel substrate 410 , a driving thin film transistor T2 , a planarization layer 430 , a common electrode CE, a pixel electrode AE, and a micro light emitting device. It may include elements.

구동 박막 트랜지스터(T2)는 게이트 전극(GE), 반도체층(SCL), 오믹 컨택층(OCL), 소스 전극(SE), 및 드레인 전극(DE)을 포함할 수 있다.The driving thin film transistor T2 may include a gate electrode GE, a semiconductor layer SCL, an ohmic contact layer OCL, a source electrode SE, and a drain electrode DE.

구동 박막 트랜지스터는 구동 소자로, 마이크로 발광소자와 전기적으로 연결되어 마이크로 발광소자를 구동할 수 있다.The driving thin film transistor is a driving device and may be electrically connected to the micro light emitting device to drive the micro light emitting device.

게이트 전극(GE)은 게이트 라인과 함께 형성될 수 있다. 이러한, 게이트 전극(GE)은 게이트 절연층(440)로 덮일 수 있다.The gate electrode GE may be formed together with the gate line. The gate electrode GE may be covered with a gate insulating layer 440 .

게이트 절연층(440)은 무기 물질로 이루어진 단일층 또는 복수의 층으로 구성될 수 있으며, 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx) 등으로 이루어질 수 있다.The gate insulating layer 440 may be formed of a single layer or a plurality of layers made of an inorganic material, and may be made of silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiNx), or the like.

반도체층(SCL)은 게이트 전극(GE)과 중첩(overlap)되도록 게이트 절연층(440) 상에 미리 설정된 패턴(또는 섬) 형태로 배치될 수 있다. 반도체층(SCL)은 비정질 실리콘(amorphous silicon), 다결정 실리콘(polycrystalline silicon), 산화물(oxide) 및 유기물(organic material) 중 어느 하나로 이루어진 반도체 물질로 구성될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The semiconductor layer SCL may be disposed in the form of a preset pattern (or island) on the gate insulating layer 440 to overlap the gate electrode GE. The semiconductor layer SCL may be made of a semiconductor material made of any one of amorphous silicon, polycrystalline silicon, oxide, and an organic material, but is not limited thereto.

오믹 컨택층(OCL)은 반도체층(SCL) 상에 미리 설정된 패턴(또는 섬) 형태로 배치될 수 있다. 오믹 컨택층(PCL)은 반도체층(SCL)과 소스/드레인 전극(SE, DE) 간의 오믹 컨택을 위한 것일 수 있다.The ohmic contact layer OCL may be disposed in a preset pattern (or island) shape on the semiconductor layer SCL. The ohmic contact layer PCL may be for ohmic contact between the semiconductor layer SCL and the source/drain electrodes SE and DE.

소스 전극(SE)은 반도체층(SCL)의 일측과 중첩되도록 오믹 컨택층(OCL)의 타측 상에 형성된다.The source electrode SE is formed on the other side of the ohmic contact layer OCL to overlap one side of the semiconductor layer SCL.

드레인 전극(DE)은 반도체층(SCL)의 타측과 중첩되면서 소스 전극(SE)과 이격되도록 오믹 컨택층(OCL)의 타측 상에 형성될 수 있다. 드레인 전극(DE)은 소스 전극(SE)과 함께 형성될 수 있다.The drain electrode DE may be formed on the other side of the ohmic contact layer OCL to be spaced apart from the source electrode SE while overlapping the other side of the semiconductor layer SCL. The drain electrode DE may be formed together with the source electrode SE.

평탄화막은 제2 패널 기판(410) 상의 전면(全面)에 배치될 수 있다. 평탄화막의 내부에 구동 박막 트랜지스터(T2)가 배치될 수 있다. 일 예에 따른 평탄화막은 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene) 또는 포토 아크릴(photo acryl)과 같은 유기 물질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The planarization layer may be disposed over the entire surface of the second panel substrate 410 . A driving thin film transistor T2 may be disposed inside the planarization layer. The planarization layer according to an embodiment may include an organic material such as benzocyclobutene or photo acryl, but is not limited thereto.

마이크로 발광소자는 제 1 및 제 2 전극이 디스플레이 장치의 회로(미도시됨)와 연결될 수 있다. 마이크로 발광소자의 제 2 전극(132)은 화소전극(AE)을 통해 구동 박막 트랜지스터(T2)의 소스 전극(SE)에 전기적으로 연결될 수 있다. 그리고 마이크로 발광소자의 제1 전극(131)은 공통전극(CE)을 통해 공통 전원 라인(CL)에 연결될 수 있다. 이때 마이크로 발광소자는 상면에 돌출부의 일부(111a)가 잔존할 수 있다.In the micro light emitting device, first and second electrodes may be connected to a circuit (not shown) of the display device. The second electrode 132 of the micro light emitting device may be electrically connected to the source electrode SE of the driving thin film transistor T2 through the pixel electrode AE. In addition, the first electrode 131 of the micro light emitting device may be connected to the common power line CL through the common electrode CE. In this case, a portion of the protrusion 111a may remain on the upper surface of the micro light emitting device.

화소전극(AE)은 구동 박막 트랜지스터(T2)의 소스 전극(SE)과 마이크로 발광소자의 제2 전극을 전기적으로 연결할 수 있다.The pixel electrode AE may electrically connect the source electrode SE of the driving thin film transistor T2 and the second electrode of the micro light emitting device.

공통전극(CE)은 공통 전원 라인(CL)과 마이크로 발광소자의 제1 전극을 전기적으로 연결할 수 있다.The common electrode CE may electrically connect the common power line CL and the first electrode of the micro light emitting device.

화소전극(AE)과 공통전극(CE)은 각각 투명 도전성 물질을 포함할 수 있다. 투명 도전성 물질은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide) 등의 물질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.Each of the pixel electrode AE and the common electrode CE may include a transparent conductive material. The transparent conductive material may include a material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), but is not limited thereto.

본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치는 SD(Standard Definition)급 해상도(760×480), HD(High Definition)급 해상도(1180×720), FHD(Full HD)급 해상도(1920×1080), UH(Ultra HD)급 해상도(3480×2160), 또는 UHD급 이상의 해상도(예: 4K(K=1000), 8K 등)으로 구현될 수 있다. 이때, 실시 예에 따른 마이크로 발광소자는 해상도에 맞게 복수로 배열되고 연결될 수 있다.A display device according to an embodiment of the present invention includes SD (Standard Definition) level resolution (760×480), HD (High Definition) level resolution (1180×720), FHD (Full HD) level resolution (1920×1080), UH (Ultra HD) level resolution (3480×2160), or UHD level or higher resolution (eg, 4K (K=1000), 8K, etc.) may be implemented. In this case, a plurality of micro light emitting devices according to the embodiment may be arranged and connected to suit the resolution.

실시 예는 마이크로 발광소자를 이용하여 영상 및 이미지를 구현하므로 색순도(color purity) 및 색재현성(color reproduction)이 우수한 장점을 갖는다.Since the embodiment implements an image and an image using a micro light emitting device, color purity and color reproduction are excellent.

실시 예는 직진성이 우수한 마이크로 발광소자를 이용하여 영상 및 이미지를 구현하므로 선명한 100인치 이상의 대형 표시장치를 구현할 수 있다.Since the embodiment implements images and images by using a micro light emitting device having excellent straightness, a clear large display device of 100 inches or more can be implemented.

이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.In the above, the embodiment has been mainly described, but this is only an example and does not limit the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains are not exemplified above in the range that does not depart from the essential characteristics of the present embodiment. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be implemented by modification. And differences related to such modifications and applications should be construed as being included in the scope of the present invention defined in the appended claims.

Claims (15)

제1 기판에 형성된 복수 개의 마이크로 발광소자를 제1 점착부재로 전사하는 단계;
상기 복수 개의 마이크로 발광소자를 상기 제1 점착부재에서 제2 점착부재로 전사하는 단계; 및
상기 복수 개의 마이크로 발광소자를 상기 제2 점착부재에서 제2 기판으로 전사하는 단계를 포함하고,
상기 제1 점착부재로 전사하는 단계에서 상기 제1 점착부재를 제어하는 제1 온도는 상기 제2 점착부재로 전사하는 단계에서 상기 제1 점착부재 및 상기 제2 점착부재를 제어하는 제2 온도와 상이하고,
상기 제2 온도는 상기 제2 기판으로 전사하는 단계에서 상기 제2 점착부재와 상기 제2 기판의 도전성 접착층을 제어하는 제3 온도와 상이하고,
상기 제1 온도와 상기 제3 온도는 상기 제2 온도보다 높고,
상기 제3 온도는 상기 제1 온도보다 높고,
상기 제1 온도와 상기 제3 온도는 상기 도전성 접착층의 경화 완료 온도보다 낮고,
상기 제1 점착부재로 전사하는 단계는,
상기 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면에 상기 제1 점착부재를 배치하는 단계; 및
상기 제1 점착부재를 상기 제1 기판과 이격시켜 상기 복수 개의 마이크로 발광소자를 상기 제1 기판에서 분리하는 단계를 포함하고,
상기 제1 점착부재를 배치하는 단계는 상기 제1 점착부재를 상기 제1 온도로 가열하여 최대 점착력을 갖도록 조절하고, 상기 제1 점착부재를 구부려 상기 제1 점착부재의 중앙부를 먼저 상기 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면에 부착시킨 후 상기 제1 점착부재의 가장자리를 상기 복수 개의 마이크로 발광소자에 부착시키고,
상기 제1 기판에서 분리하는 단계는 상기 제1 점착부재의 온도를 상기 제1 온도의 70~80%로 감소시켜 상기 제1 점착부재의 점착력을 상기 최대 점착력보다 감소시킨 후 상기 제1 점착부재의 일 측면을 들어올려 분리하고,
상기 제1 기판은 상기 복수 개의 마이크로 발광소자와 각각 연결되는 복수 개의 돌출부를 포함하고,
상기 복수 개의 돌출부의 폭은 상기 마이크로 발광소자의 폭보다 작고, 상기 복수 개의 돌출부는 상기 제1 기판의 일면을 식각하여 형성되고,
상기 돌출부는 장측면과 단측면을 갖고, 상기 복수 개의 마이크로 발광소자를 상기 기판에서 분리하는 힘의 방향은 상기 장측면과 교차하는 마이크로 발광소자 전사방법.
transferring the plurality of micro light emitting devices formed on the first substrate to the first adhesive member;
transferring the plurality of micro light emitting devices from the first adhesive member to a second adhesive member; and
and transferring the plurality of micro light emitting devices from the second adhesive member to a second substrate,
The first temperature for controlling the first adhesive member in the step of transferring to the first adhesive member is a second temperature for controlling the first adhesive member and the second adhesive member in the step of transferring to the second adhesive member different,
The second temperature is different from a third temperature for controlling the second adhesive member and the conductive adhesive layer of the second substrate in the step of transferring to the second substrate,
The first temperature and the third temperature are higher than the second temperature,
The third temperature is higher than the first temperature,
The first temperature and the third temperature are lower than the curing completion temperature of the conductive adhesive layer,
The step of transferring to the first adhesive member,
disposing the first adhesive member on one surface of the plurality of micro light emitting devices; and
separating the plurality of micro light emitting devices from the first substrate by separating the first adhesive member from the first substrate;
In the disposing of the first adhesive member, the first adhesive member is heated to the first temperature to have the maximum adhesive strength, and the first adhesive member is bent so that the central portion of the first adhesive member is first the plurality of micro After attaching to one surface of the light emitting device, the edge of the first adhesive member is attached to the plurality of micro light emitting devices,
In the step of separating from the first substrate, the temperature of the first adhesive member is reduced to 70 to 80% of the first temperature to reduce the adhesive force of the first adhesive member from the maximum adhesive force, and then Lift one side to separate it,
The first substrate includes a plurality of protrusions respectively connected to the plurality of micro light emitting devices,
A width of the plurality of protrusions is smaller than a width of the micro light emitting device, and the plurality of protrusions are formed by etching one surface of the first substrate,
The protrusion has a long side and a short side, and a direction of a force separating the plurality of micro light emitting devices from the substrate crosses the long side.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제2 점착부재로 전사하는 단계는,
상기 복수 개의 마이크로 발광소자의 타면에 상기 제2 점착부재를 배치하는 단계; 및
상기 제2 점착부재를 상기 제2 온도로 냉각시켜 제2 점착부재의 점착력이 상기 제1 점착부재의 점착력보다 높아지도록 조절한 후 상기 제2 점착부재와 상기 제1 점착부재를 이격시켜 상기 복수 개의 마이크로 발광소자를 상기 제1 점착부재에서 분리하는 단계를 포함하는 마이크로 발광소자 전사방법.
According to claim 1,
The step of transferring to the second adhesive member,
disposing the second adhesive member on the other surfaces of the plurality of micro light emitting devices; and
After cooling the second adhesive member to the second temperature to adjust the adhesive force of the second adhesive member to be higher than that of the first adhesive member, the second adhesive member and the first adhesive member are spaced apart to make the plurality of A micro light emitting device transfer method comprising the step of separating the micro light emitting device from the first adhesive member.
제7항에 있어서,
상기 제1 점착부재와 상기 제2 점착부재의 최대 점착력은 0.8N/25mm 내지 2.0N/25mm인 마이크로 발광소자 전사방법.
8. The method of claim 7,
The maximum adhesive force of the first adhesive member and the second adhesive member is 0.8N/25mm to 2.0N/25mm.
제7항에 있어서,
상기 제1 점착부재의 두께는 15㎛ 이하인 마이크로 발광소자 전사방법.
8. The method of claim 7,
The thickness of the first adhesive member is 15㎛ or less micro light emitting device transfer method.
제7항에 있어서,
상기 제2 점착부재에서 제2 기판으로 전사하는 단계는,
상기 제2 점착부재와 상기 제2 기판의 도전성 접착층을 상기 제3 온도로 가열하여 상기 제2 점착부재의 점착력보다 상기 도전성 접착층의 접착력이 높아지도록 조절한 후 상기 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면을 상기 제2 기판의 도전성 접착층에 부착하는 단계; 및
상기 제2 점착부재와 상기 제2 기판을 이격시켜 상기 복수 개의 마이크로 발광소자를 상기 제2 점착부재에서 분리하는 단계를 포함하는 마이크로 발광소자 전사방법.
8. The method of claim 7,
The step of transferring from the second adhesive member to the second substrate,
The second adhesive member and the conductive adhesive layer of the second substrate are heated to the third temperature to adjust the adhesive strength of the conductive adhesive layer to be higher than that of the second adhesive member, and then, one surface of the plurality of micro light emitting devices is applied to the adhering to the conductive adhesive layer of the second substrate; and
and separating the plurality of micro light emitting devices from the second adhesive member by separating the second adhesive member from the second substrate.
제10항에 있어서,
상기 제2 점착부재에서 제2 기판으로 전사하는 단계는,
상기 복수 개의 마이크로 발광소자의 일면을 상기 제2 기판의 도전성 접착층에 부착하는 단계 이전에, 상기 제2 점착부재의 온도를 제4 온도로 가열하고 상기 제2 기판은 상기 제3 온도로 가열하는 단계를 포함하고,
상기 제4 온도는 상기 제2 온도보다 높고 상기 제3 온도보다 낮은 마이크로 발광소자 전사방법.
11. The method of claim 10,
The step of transferring from the second adhesive member to the second substrate,
Before attaching one surface of the plurality of micro light emitting devices to the conductive adhesive layer of the second substrate, heating the second adhesive member to a fourth temperature and heating the second substrate to the third temperature including,
The fourth temperature is higher than the second temperature and lower than the third temperature.
제10항에 있어서,
상기 도전성 접착층은 복수 개의 도전볼을 포함하고,
상기 복수 개의 마이크로 발광소자의 제1 전극과 제2 전극의 두께는 상기 도전볼의 직경보다 큰 마이크로 발광소자 전사방법.
11. The method of claim 10,
The conductive adhesive layer includes a plurality of conductive balls,
The thickness of the first electrode and the second electrode of the plurality of micro light emitting device is larger than the diameter of the conductive ball micro light emitting device transfer method.
삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020200052820A 2020-04-29 2020-04-29 Method of transferring micro light emitting device KR102364729B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200052820A KR102364729B1 (en) 2020-04-29 2020-04-29 Method of transferring micro light emitting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200052820A KR102364729B1 (en) 2020-04-29 2020-04-29 Method of transferring micro light emitting device

Publications (3)

Publication Number Publication Date
KR20210133780A KR20210133780A (en) 2021-11-08
KR102364729B1 true KR102364729B1 (en) 2022-02-22
KR102364729B9 KR102364729B9 (en) 2023-06-14

Family

ID=78497172

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200052820A KR102364729B1 (en) 2020-04-29 2020-04-29 Method of transferring micro light emitting device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102364729B1 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003007986A (en) 2001-06-27 2003-01-10 Sony Corp Transfer method for element and arrangement method for element by using the same as well as method of manufacturing image display device
JP2003060242A (en) * 2001-08-16 2003-02-28 Sony Corp Method for packaging element and arranging element, and method for manufacturing image display device
JP2003282478A (en) 2002-01-17 2003-10-03 Sony Corp Method for alloying and method forming wire, method for forming display element, and method for manufacturing image display device
JP2003332184A (en) * 2002-05-13 2003-11-21 Sony Corp Element transferring method
JP2004063510A (en) 2002-07-25 2004-02-26 Sony Corp Method for transferring element
JP2020043209A (en) 2018-09-10 2020-03-19 国立大学法人東北大学 Method of manufacturing micro LED array, method of manufacturing micro LED display, and micro LED array, and micro LED display

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3790361B1 (en) * 2015-07-23 2022-10-19 Seoul Semiconductor Co., Ltd. Display apparatus
KR102579645B1 (en) * 2016-09-29 2023-09-18 엘지이노텍 주식회사 Method of transferring semiconductor device, semiconductor device carrier, and method of fabricating display panel
US10325893B2 (en) * 2016-12-13 2019-06-18 Hong Kong Beida Jade Bird Display Limited Mass transfer of micro structures using adhesives
KR20180092056A (en) * 2017-02-08 2018-08-17 한국광기술원 Micro LED chip Separating and transferring method
KR101959057B1 (en) * 2017-07-21 2019-03-18 한국광기술원 Transfering method and apparatus of micro LED chip
KR102095215B1 (en) * 2018-02-08 2020-04-23 한국과학기술원 Active-Matrix RGB vertical microLED display using transfer member and selective-transferring method

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003007986A (en) 2001-06-27 2003-01-10 Sony Corp Transfer method for element and arrangement method for element by using the same as well as method of manufacturing image display device
JP2003060242A (en) * 2001-08-16 2003-02-28 Sony Corp Method for packaging element and arranging element, and method for manufacturing image display device
JP2003282478A (en) 2002-01-17 2003-10-03 Sony Corp Method for alloying and method forming wire, method for forming display element, and method for manufacturing image display device
JP2003332184A (en) * 2002-05-13 2003-11-21 Sony Corp Element transferring method
JP2004063510A (en) 2002-07-25 2004-02-26 Sony Corp Method for transferring element
JP2020043209A (en) 2018-09-10 2020-03-19 国立大学法人東北大学 Method of manufacturing micro LED array, method of manufacturing micro LED display, and micro LED array, and micro LED display

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210133780A (en) 2021-11-08
KR102364729B9 (en) 2023-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3996139A1 (en) Display device using micro led, and manufacturing method therefor
US9391051B2 (en) Display device using semiconductor light emitting device and method of fabricating the same
US9825013B2 (en) Transfer-bonding method for the light emitting device and light emitting device array
AU2014370328B2 (en) LED with internally confined current injection area
US8557619B2 (en) Light emitting diode display and method of manufacturing the same
CN107393940B (en) LED display device and method of manufacturing the same
WO2019223567A1 (en) Display substrate, display apparatus, and manufacturing method for display substrate
US20220230997A1 (en) Display device using micro led and manufacturing method therefor
US20220367774A1 (en) Display device using micro led, and manufacturing method therefor
US11387383B2 (en) Method of transferring light emitting device for display and display apparatus
KR102512027B1 (en) Semiconductor device, display panel, display device, method of fabricating display panel
US20220367771A1 (en) Display device using micro led, and manufacturing method therefor
KR20190097946A (en) Fabricating method of display apparatus using semiconductor light emitting device
KR102555828B1 (en) High resolution micro led display device and the manufacturing method of the same
TW201826516A (en) Micro light-emitting diode chip
KR102078643B1 (en) Display appartus using one chip type led and fabrication method of the same
US20200373473A1 (en) Method for manufacturing display device using semiconductor light-emitting elements and display device
EP4050656A1 (en) Display apparatus using micro led and method for manufacturing same
US20220416128A1 (en) Display device using semiconductor light emitting elements, and method for manufacturing same
US11450788B2 (en) Semiconductor device
KR20190112916A (en) Display apparatus and method for manufacturing thereof
KR102364729B1 (en) Method of transferring micro light emitting device
KR102073572B1 (en) Display apparatus and method for manufacturing thereof
US20230031398A1 (en) Display device using semiconductor light-emitting element, and manufacturing method therefor
CN110993761A (en) Active matrix colour display device

Legal Events

Date Code Title Description
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant
G170 Re-publication after modification of scope of protection [patent]