KR20190083577A - Shield-layer of nanocable and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20190083577A
KR20190083577A KR1020180001395A KR20180001395A KR20190083577A KR 20190083577 A KR20190083577 A KR 20190083577A KR 1020180001395 A KR1020180001395 A KR 1020180001395A KR 20180001395 A KR20180001395 A KR 20180001395A KR 20190083577 A KR20190083577 A KR 20190083577A
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Abstract

The present invention relates to an ultrafine cable. The ultrafine cable comprises: a core comprising one or more first conductor lines; an insulating layer covering the outer surface of the core; a second conductor layer covering the outer surface of the insulating layer; and a shield layer covering the surface of the second conductor layer. The shield layer includes a nanocarbon coating layer of 2 to 10μmthickness and an electroplating layer of 10 to 20μmthickness formed on the nanocarbon coating layer. According to the present invention, the electrical resistance characteristic is further improved.

Description

초극세 케이블 쉴드층 및 이의 제조방법{SHIELD-LAYER OF NANOCABLE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}[0001] SHIELD-LAYER OF NANOCABLE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF [0002]

본 발명은 초극세 케이블 쉴드층 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an ultrafine cable shield layer and a method of manufacturing the same.

최근, 내시경 등 의료기기 또는 휴대용 멀티미디어기기 등의 극소형화가 진행되면서, 이들을 구동하기 위한 케이블의 선경 극세화 및 성능 향상을 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. 예를 들어, 직경 1 ㎜ 이하인 극세 동축케이블에 관한 한국등록특허 제10-0910431호에는 두 개 이상의 극세 금속선으로 이루어진 중심 도체; 중심 도체를 둘러 감싸는 절연층; 절연층을 두 개 이상의 평각 형상의 금속선으로 횡권하여 둘러 감싸는 금속 차폐층; 및 금속 차폐층을 둘러 감싸는 시스층 (sheath); 을 포함하고, 금속 차폐층을 구성하는 금속선을 평각 성형하여 금속 차폐층의 두께를 줄임으로써, 케이블의 최종선경(최종선경이란, 중심 도체 및 이를 둘러 감싸는 절연층 등의 구성을 모두 포함하는 케이블의 전체 입경을 의미함)을 극세화한 기술이 개시되어 있다.2. Description of the Related Art Recently, miniaturization of medical devices such as endoscopes or portable multimedia devices has been progressing, and studies for miniaturization of cables and performance improvement of cables for driving them have been progressing actively. For example, Korean Patent No. 10-0910431 for a micro-coaxial cable having a diameter of 1 mm or less includes a center conductor made of two or more extra fine metal wires; An insulating layer surrounding the central conductor; A metal shielding layer surrounding the insulating layer in a transverse direction by two or more metal wires of a square shape; And a sheath surrounding the metal shielding layer; And the metal wire constituting the metal shielding layer is formed in a flat shape to reduce the thickness of the metal shielding layer, whereby the final wire diameter of the cable (the final wire diameter refers to the diameter of the cable including all of the center conductor and the insulating layer Quot; means the entire particle diameter).

한편, 오늘날 전자기기 등의 극초소형화에 의해 종래의 최종선경이 수 ㎜ 미만인 케이블보다 더욱 얇은, 최종선경이 수 ㎛ 내지 수백 ㎛이고 코어(중심 도선)의 입경이 나노 수준인 케이블에 대한 필요성이 증가하고 있는데, 일반적으로 도선의 두께를 가늘게 하는 경우 저항이 커져 전류세기가 감소하는 성능 저하의 문제점이 있어, 수 ㎛ 내지 수백 ㎛ 두께의 케이블을 다양한 응용 분야에 적용하는데 한계가 있다. 한편, 한국등록특허 제10-0910431호에서도 금속 차폐층의 차폐 특성만 염두하고 있을 뿐, 케이블의 선경 극세화에 따른 저항 증가로 인한 전류세기 감소를 방지하기 위한 해결책을 제공하고 있지는 않는다.On the other hand, due to the recent miniaturization of electronic devices and the like, the need for a cable having a final diameter of a few microns to several hundreds of micrometers and a diameter of a core of a core (center conductor) is increased as compared with a cable having a final final wire diameter of less than several millimeters In general, when the thickness of the conductive wire is reduced, there is a problem of performance deterioration in which the resistance is increased and the current intensity is decreased. Therefore, there is a limit in applying a cable having a thickness of several 탆 to several hundred 탆 to various application fields. Korean Patent No. 10-0910431 does not provide a solution for preventing the decrease in current intensity due to the increase in resistance due to the miniaturization of the cable, merely considering the shielding characteristic of the metal shielding layer.

한편, 탄소나노튜브는 10 내지 107 Ω/□의 매우 넓은 범위의 전도성, 균일하고 선형적인 전도도, 탁월한 투명도 및 낮은 반사율을 가지며, 우수한 접착력, 내구성, 내마모성 및 굴곡성을 가지는 등 물리적·전기적 특성이 우수하여 전극 재료용 투명 전도성 막 형성 시 필러 등과 같은 형태로 많이 사용되고 있는 나노물질이며, 특히 상술한 바와 같이 매우 적은 수치의 면저항 (10 Ω/□)부터 매우 큰 수치의 면저항 (107 Ω/□)까지 넓은 범위의 전도성을 보이므로 용도에 따라 면저항을 조정할 수 있다. 이러한 탄소나노튜브는 고분자, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (polyethyleneterephthalate; PET), 에폭시, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리비닐 알코올 등과 친화력이 있는 성질을 가질 수 있음이, Sertan Yesil 등에 의한 논문 (Polymer Engineering & Science, Volume 51, Issue 7, Article first published online: 11 FEB 2011)에 개시된 바 있다.On the other hand, carbon nanotubes have a wide range of conductivity, uniform and linear conductivity of 10 to 10 7 Ω / □, excellent transparency and low reflectance, excellent physical properties such as excellent adhesion, durability, abrasion resistance and flexibility (10 Ω / □) to a very large number of sheet resistances (10 7 Ω / □) as described above, and in particular, it is a nanomaterial that has been widely used in the form of a filler or the like when forming a transparent conductive film for an electrode material. ), It is possible to adjust the sheet resistance according to the application. Such carbon nanotubes may have affinity with polymers, for example, polyethylene terephthalate (PET), epoxy, polycarbonate, polyethylene glycol, polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, etc. Sertan Yesil (Polymer Engineering & Science, Volume 51, Issue 7, Article first published online: 11 FEB 2011).

그러나 탄소나노튜브는 상기와 같은 우수한 물리적, 전기적 성질에도 불구하고, 케이블의 형태로 길이를 길게 만드는 것이 기술적으로 어렵고 공정이 복잡하여, 종래의 동축케이블에 사용되는 전도체로 적용하기 어렵다는 문제가 있다.However, carbon nanotubes have a problem in that it is technically difficult to make the length of the cable in the form of a cable, and the process is complicated, so that it is difficult to apply the carbon nanotube to a conductor used in a conventional coaxial cable, despite the excellent physical and electrical properties as described above.

본 발명은, 제1 도선인 제1 전도체 선을 포함하는 코어, 코어 상의 절연층, 절연층 상에 제2 도선인 탄소나노튜브를 포함한 제2 전도체층, 제2 전도체층 상에 형성되는 쉴드(shield)층으로 구성된 초극세 케이블에 있어서, 상기 쉴드층으로서 나노카본소재 분산 용액으로 형성한 나노카본코팅층 및 전해도금방법을 이용하여 형성한 전해도금층을 포함한 이중층 구조를 구비하도록 함으로써, 선경 극세화에 따른 저항 증가로 인한 전류세기 감소 문제를 해결하고, 전기저항특성이 더욱 향상된 초극세 케이블 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention provides a method of manufacturing a semiconductor device comprising a core including a first conductor wire as a first conductor, an insulating layer on the core, a second conductor layer including a carbon nanotube as a second conductor on the insulating layer, layer structure including a nano-carbon coating layer formed of a nano-carbon material dispersion solution and an electrolytic plating layer formed by using an electrolytic plating method as the shield layer in the ultra-fine cable composed of a shield layer, And to provide a microfabricated cable having improved electric resistance characteristics and a method of manufacturing the same.

본 명세서에서는 하나 이상의 제1 전도체 선을 포함하는 코어; 상기 코어 외표면을 피복하는 절연층; 상기 절연층의 외표면을 피복하는 제2 전도체층; 및 상기 제2 전도체층의 표면을 피복하는 쉴드층; 을 포함하며, 상기 쉴드층은 2 내지 10㎛ 두께의 나노카본코팅층 및 상기 나노카본코팅층 상에 형성된 10 내지 20㎛ 두께의 전해도금층을 포함하는, 초극세 케이블이 제공된다. A core comprising at least one first conductor wire; An insulating layer covering the outer surface of the core; A second conductor layer covering an outer surface of the insulating layer; And a shield layer covering a surface of the second conductor layer; Wherein the shield layer comprises a nanocarbon coating layer having a thickness of 2 to 10 mu m and an electroplating layer having a thickness of 10 to 20 mu m formed on the nanocarbon coating layer.

또한, 본 명세서에서는, a)하나 이상의 제1 전도체 선을 포함하는 코어를 절연층으로 피복하는 단계; b)절연층으로 피복된 코어를 제2 전도체-함유 용액에 통과시켜, 상기 절연층 외표면에 제2 전도체층을 형성하는 단계; c)상기 제2 전도체층이 형성된 코어를 나노카본소재 분산용액에 통과시켜 제2 전도체층 상에 나노카본코팅층을 형성하는 단계; 및 d)상기 나노카본코팅층이 형성된 코어를 전해도금 용액으로 전해도금하여 나노카본코팅층 상에 전해도금층을 형성하는 단계; 를 포함하는, 초극세 케이블 제조방법이 제공된다.Also disclosed herein is a method comprising: a) coating a core comprising at least one first conductor wire with an insulating layer; b) passing a core coated with an insulating layer through a second conductor-containing solution to form a second conductor layer on the outer surface of the insulating layer; c) passing the core having the second conductor layer formed thereon through a nano-carbon material dispersion solution to form a nano-carbon coating layer on the second conductor layer; And d) electroplating the core formed with the nano-carbon coating layer with an electrolytic plating solution to form an electroplating layer on the nano-carbon coating layer; The method comprising the steps of:

이하 발명의 구체적인 구현예에 따른 초극세 케이블 및 그 제조방법에 대하여 보다 상세하게 설명하기로 한다. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a microfabricated cable according to a specific embodiment of the present invention will be described in detail.

초극세 케이블Micro cable

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 하나 이상의 제1 전도체 선을 포함하는 코어; 상기 코어 외표면을 피복하는 절연층; 상기 절연층의 외표면을 피복하는 제2 전도체층; 및 상기 제2 전도체층의 표면을 피복하는 쉴드층;을 포함하며, 상기 쉴드층은 2 내지 10㎛ 두께의 나노카본코팅층 및 상기 나노카본코팅층 상에 형성된 10 내지 20㎛ 두께의 전해도금층을 포함하는, 초극세 케이블이 제공될 수 있다.As described above, according to one embodiment of the present invention, a core comprising at least one first conductor wire; An insulating layer covering the outer surface of the core; A second conductor layer covering an outer surface of the insulating layer; And a shield layer covering the surface of the second conductor layer, wherein the shield layer includes a nano-carbon coating layer having a thickness of 2 to 10 mu m and an electrolytic plating layer having a thickness of 10 to 20 mu m formed on the nano- , Ultrafine cable can be provided.

본 발명자들은 초극세 케이블에 있어서, 쉴드층을 2 내지 10㎛ 두께의 나노카본코팅층 및 상기 나노카본코팅층 상에 형성된 10 내지 20㎛ 두께의 전해도금층으로 구성하는 경우, 선경 극세화에 따른 저항 증가로 인한 전류세기 감소 문제를 해결하고, 전기저항특성이 더욱 향상된다는 점을 실험을 통하여 확인하고 본 발명을 완성하였다. The present inventors have found that when a shield layer is composed of a nano carbon coating layer having a thickness of 2 to 10 μm and an electrolytic plating layer having a thickness of 10 to 20 μm formed on the nano carbon coating layer in the ultrafine cable, The present invention solves the problem of decreasing the current intensity and further improves the electric resistance characteristic through experiments.

우선, 코어는 제1 전도체 선이 하나 또는 복수개의 제1 전도체 선을 꼬아서 형성한 것일 수 있다. 본 발명 명세서 및 청구항 전반에서 사용되는 용어 "제1" 또는 "제2"는 구분을 위해 임의로 순서를 붙인 것으로 이해되어야 한다. First, the core may be formed by twisting a first conductor line or a plurality of first conductor lines. It is to be understood that the terms " first "or" second "used in the specification and claims throughout the specification are to be construed in an arbitrary order for the sake of clarity.

코어를 구성하는 본 발명의 일실시예에 따른 제1 전도체 선은 내부 도선으로서, 구리, 나트륨, 알루미늄, 마그네슘, 철, 니켈, 코발트, 크롬, 망간, 인듐, 주석, 카드뮴, 팔라듐, 티타늄, 금, 백금 및 은으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 전도체 선은 구리 또는 구리를 이용한 합금일 수 있다. The first conductor wire according to an embodiment of the present invention constituting the core may be formed of at least one selected from the group consisting of copper, sodium, aluminum, magnesium, iron, nickel, cobalt, chromium, manganese, indium, tin, cadmium, , Platinum, and silver. Specifically, the first conductor wire may be an alloy using copper or copper.

한편, 상술한 코어는 직경이 0.01 ㎛ 내지 1,000 ㎛ 범위 내인 것이 사용될 수 있으나, 특별히 제한되는 것은 아니다. 다만, 1,000 ㎛ 범위를 초과하는 경우 초극세 케이블 형성이 어려울 수 있고. 예를 들어, 0.1 ㎛ 내지 100㎛ 범위 이내인 것일 수 있다. On the other hand, the core having a diameter in the range of 0.01 to 1,000 占 퐉 may be used, but is not particularly limited. However, if it exceeds the range of 1,000 μm, ultrafine cable formation may be difficult. For example, it may be within the range of 0.1 mu m to 100 mu m.

다음으로, 상기 코어 외표면을 피복하는 절연층은 상술한 코어와 후술할 제2 전도체층 간의 결합력을 높이기 위해 구비되는 것일 수 있다. 절연층 재질은 구체적으로, 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate; PET), 폴리에틸렌, 및 폴리프로필렌 중 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있으나, 필요에 따라 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 것이 채용될 수 있다. Next, the insulating layer covering the outer surface of the core may be provided to increase the bonding force between the core and the second conductor layer described later. Specifically, the insulating layer material may include at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene, and polypropylene, but those commonly used in the art may be employed if necessary.

한편, 상술한 절연층은 두께가 10㎛ 내지 100㎛범위 내일 수 있는데, 상기 절연층 두께가 100㎛를 초과하는 경우 초극세 케이블 형성이 어려울 수 있고, 절연층 두께가 상기 범위 미만인 경우 케이블에 흐르는 허용전류가 감소하거나 절연파괴 강도가 낮아지는 것과 같이 전기적 신뢰성이 저하될 수 있다. On the other hand, if the thickness of the insulating layer exceeds 100 탆, it may be difficult to form an ultrafine cable. If the thickness of the insulating layer is less than the above range, The electrical reliability may be lowered as the current decreases or the dielectric breakdown strength decreases.

다음으로, 상기 절연층의 외표면을 피복하는 제2 전도체층은 탄소나노튜브 또는 그래핀을 포함하여 형성되는 것이 바람직하다.Next, it is preferable that the second conductor layer covering the outer surface of the insulating layer is formed to include carbon nanotubes or graphene.

그래핀은 6원환의 탄소가 반복되어 벌집 모양으로 배열되어 있는 얇은 막 형태의 나노물질로서, 단층 그래핀 또는 약 50층 이하의 그래핀 시트가 적층된 것일 수 있고, 그래핀 시트의 층 수를 조절하여 제2 전도체층 두께를 조절할 수 있다. 또한, 그래핀의 경우 층 수에 따라 투명도, 전도도, 산소 차폐 효과 등에 영향을 미칠 수 있으므로, 그래핀의 층 수를 조절하여 요구되는 두께로 형성할 수 있다.Graphene is a thin film-like nanomaterial in which six-ring carbon is repeatedly arranged in a honeycomb shape. It may be a single-layer graphene or a graphene sheet of about 50 or less layers laminated, To adjust the thickness of the second conductor layer. Further, in the case of graphene, transparency, conductivity, oxygen shielding effect and the like may be affected depending on the number of layers.

탄소나노튜브는 그래핀의 탄소 동소체로서, 그래핀이 원통형으로 말려있는 형태로 볼 수 있으나, 실제로는 나선형으로 비틀린 구조를 갖고 있으며, 그래핀과는 전혀 다른 나노 물질이다. 본 발명에 있어서 탄소나노튜브는 상기 절연층의 외표면에 자기조립된 탄소나노튜브 네트워크를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. Carbon nanotubes are carbon isotopes of graphene, which can be seen as graphene cylindrically rolled, but in reality they are spirally twisted and are completely different from graphene nanomaterials. In the present invention, the carbon nanotubes may include a carbon nanotube network self-assembled on the outer surface of the insulating layer, but the present invention is not limited thereto.

한편, 상기 제2 전도체층이 탄소나노튜브 또는 그래핀인 경우, 상기 탄소나노튜브 또는 그래핀은 표면개질된 것을 포함할 수도 있다. 구체적으로, 상기 표면개질은 히드록시기, 카르복시기, 할로겐기, 아미노기, 아민기, 아마이드기, 티올기, 니트로기, 케톤기, 설폰산기, 인산기, 황산, 질산, 인산, 초산, 소듐 도데실 설페이트 (SDS), 폴리에틸렌글리콜 (PEG), 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르 (DGEBA), 폴리비닐피롤리돈, 폴리아닐린, 폴리아크릴산 및 폴리(4-스티렌설포네이트)로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상에 의해 수행되는 것일 수 있다. Meanwhile, when the second conductor layer is a carbon nanotube or graphene, the carbon nanotube or graphene may be surface-modified. Specifically, the surface modification may be carried out by using a surface modification agent such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen group, an amino group, an amine group, an amide group, a thiol group, a nitro group, a ketone group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, ), Polyethylene glycol (PEG), diglycidyl ether of bisphenol A (DGEBA), polyvinylpyrrolidone, polyaniline, polyacrylic acid and poly (4-styrenesulfonate) .

한편, 상기 제2 전도체층은 두께가 약 2 ㎚ 내지 20㎛인 것일 수 있고, 상기 두께 범위를 초과하는 경우, 투명도, 전도도, 산소 차폐 효과 등이 저하될 우려가 있다. On the other hand, the second conductor layer may have a thickness of about 2 nm to 20 μm, and if it exceeds the thickness range, transparency, conductivity, oxygen shielding effect, and the like may be lowered.

다음으로, 본 발명의 일실시예에 따른 초극세 케이블은, 상기 제2 전도체층의 표면을 피복하는 쉴드층을 포함하며, 구체적으로 쉴드층은 2 내지 10㎛ 두께의 나노카본코팅층 및 상기 나노카본코팅층 상에 형성된 10 내지 20㎛ 두께의 전해도금층을 포함할 수 있다.Next, the ultrafine cable according to an embodiment of the present invention includes a shield layer covering the surface of the second conductor layer. Specifically, the shield layer includes a nano-carbon coating layer having a thickness of 2 to 10 탆, And an electroplating layer having a thickness of 10 to 20 占 퐉.

종래 기술에 따르면, 초극세 케이블에는 제2 전도체 층 외표면을 피복하는 쉴드층 및 상기 쉴드층의 외부에 형성되는 보호층(jacket) 등이 존재한다는 점은 알려져 있으나, 쉴드층의 구성 및 재질을 특별히 제한하지 아니하였고, 이에 따라 쉴드층 구성 및 재질을 설계변경함으로써, 선경 극세화에 따른 저항 증가로 인한 전류세기 감소 문제를 해결하고, 전기저항특성이 더욱 향상될 수 있다는 점에 대해서는 구체적으로 인식하지 못하였다. According to the prior art, it is known that a superfine cable includes a shield layer covering the outer surface of the second conductor layer and a jacket formed outside the shield layer, but the structure and material of the shield layer are specifically The present inventors have not specifically recognized that the problem of reducing the current intensity due to the increase in resistance due to the miniaturization of the wire diameter can be solved and the electrical resistance characteristic can be further improved by designing the shield layer structure and materials I did not.

그러나, 본 발명에 따라, 쉴드층을 2 내지 10㎛ 두께의 나노카본코팅층 및 상기 나노카본코팅층 상에 형성된 10 내지 20㎛ 두께의 전해도금층의 이중층 구조로 구성하는 경우, 종래 기술 대비 현저히 향상된 전기저항특성을 구현할 수 있게 된다. However, according to the present invention, when the shield layer is composed of a two-layer structure of a nano carbon coating layer having a thickness of 2 to 10 μm and an electrolytic plating layer having a thickness of 10 to 20 μm formed on the nano carbon coating layer, Properties can be implemented.

한편, 상술한 바와 같은 구성을 가진 본 발명의 일실시예에 따른 초극세 케이블의 외경은 140 내지 180㎛일 수 있다. Meanwhile, the outer diameter of the ultrafine cable according to an embodiment of the present invention having the above-described structure may be 140 to 180 탆.

초극세 케이블 제조방법How to make ultra-fine cable

본 발명의 또 다른 일실시예에 따르면, a)하나 이상의 제1 전도체 선을 포함하는 코어를 절연층으로 피복하는 단계; b)절연층으로 피복된 코어를 제2 전도체-함유 용액에 통과시켜, 상기 절연층 외표면에 제2 전도체층을 형성하는 단계; c)상기 제2 전도체층이 형성된 코어를 나노카본소재 분산용액에 통과시켜 제2 전도체층 상에 나노카본코팅층을 형성하는 단계; 및 d)상기 나노카본코팅층이 형성된 코어를 전해도금 용액으로 전해도금하여 나노카본코팅층 상에 전해도금층을 형성하는 단계; 를 포함하는, 초극세 케이블 제조방법이 제공된다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a) coating a core comprising at least one first conductor line with an insulating layer; b) passing a core coated with an insulating layer through a second conductor-containing solution to form a second conductor layer on the outer surface of the insulating layer; c) passing the core having the second conductor layer formed thereon through a nano-carbon material dispersion solution to form a nano-carbon coating layer on the second conductor layer; And d) electroplating the core formed with the nano-carbon coating layer with an electrolytic plating solution to form an electroplating layer on the nano-carbon coating layer; The method comprising the steps of:

먼저, 하나 이상의 제1 전도체 선을 포함하는 코어를 절연층으로 피복한다(단계 a). First, a core comprising at least one first conductor line is coated with an insulating layer (step a).

상기 제1 전도체 선은 상술한 바와 같으며, 코어는 예를 들어 복수개의 제1 전도체 선을 스트렌딩(stranding)하여 형성한 것일 수 있다. 한편, 상기 코어의 직경은 상술한 바와 같다. The first conductor line is as described above, and the core may be formed by stranding a plurality of first conductor wires, for example. On the other hand, the diameter of the core is as described above.

한편, 절연층 피복 과정은 제1 전도체 선을 포함하는 코어를 고분자-함유 용액에 통과시켜 수행될 수 있다. 구체적으로 제1 전도체 선을 포함하는 코어를 고분자-함유 용액이 들어있는 반응조에 수회 침지시켜 절연층을 코어 외표면에 형성시키는 형태로 수행될 수 있으며, 고분자 함유 용액은 고분자와 용매를 포함하되, 용액 내의 고분자는 상술한 바와 같이, 목적에 따라 절연층 재질에 따라 달라질 수 있다. 일례로 상기 고분자는 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate; PET), 폴리에틸렌, 및 폴리프로필렌 중 선택되는 1종 이상일 수 있다. 한편, 상기 고분자-함유 용액의 온도는 고분자의 용융점을 고려하여 구체적으로 선택될 수 있다. 구체적으로, 용액의 온도는 150 내지 400 범위 내일 수 있으나, 특별히 제한되는 것은 아니다. On the other hand, the insulation layer coating process can be performed by passing a core containing the first conductor line through the polymer-containing solution. Specifically, the core may be immersed several times in a reaction vessel containing a polymer-containing solution to form an insulating layer on the outer surface of the core. The polymer-containing solution includes a polymer and a solvent, The polymer in the solution may vary depending on the purpose of the insulating layer material, as described above. For example, the polymer may be at least one selected from the group consisting of polyethyleneterephthalate (PET), polyethylene, and polypropylene. On the other hand, the temperature of the polymer-containing solution can be specifically selected in consideration of the melting point of the polymer. Specifically, the temperature of the solution may be in the range of 150 to 400, but is not particularly limited.

한편, 상기 절연층 피복 과정을 거쳐 형성된 절연층의 두께는 상술한 바와 같다. Meanwhile, the thickness of the insulating layer formed through the insulating layer covering process is as described above.

다음으로, 절연층으로 피복된 코어를 제2 전도체-함유 용액에 통과시켜, 상기 절연층 외표면에 제2 전도체 층을 형성한다(단계 b).Next, a core coated with an insulating layer is passed through the second conductor-containing solution to form a second conductor layer on the outer surface of the insulating layer (step b).

상기 제2 전도체층 형성 과정은 절연층에 의해 피복된 코어를 제2 전도체-함유 용액에 통과시켜 수행될 수 있으며, 구체적으로 상기 절연층에 의해 피복된 코어를 제2 전도체-함유 용액이 들어있는 반응조에 수회 침지시켜 제2 전도체층을 절연층 외표면에 형성시키는 형태로 수행될 수 있으며, 제2 전도체-함유 용액은 용매 중에 제2 전도체를 분산시킨 것일 수 있다. 구체적으로 상기 용매는 물, 부틸아민, 헥실아민, 트리에틸아민, 피리딘, 피라진, 피롤, 메틸피리딘, 메탄올, 에탄올, 트리플루오로에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 테르피네올, 테트라하이드로퓨란, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 1,2-디클로로벤젠, 클로로포름, 사이클로헥사논, 톨루엔, 1,4-다이옥산, 아세톤, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 메틸메타아크릴레이트, 에틸렌글리콜, 헥산, 디메틸포름아마이드, 디메틸아세트아마이드, 디메틸설폭사이드, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 부틸셀로솔브, 부틸셀로솔브아세테이트, 및 N-메틸-피롤리돈으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다. 한편, 상기 제2 전도체는 탄소나노튜브 또는 그래핀일 수 있으나, 특별히 제한되는 것은 아니며, 상기 탄소나노튜브 또는 그래핀은 상술한 바와 같다. 한편, 상기 탄소나노튜브 또는 그래핀은 상술한 바와 같이 표면개질된 것일 수 있는데, 표면개질된 탄소나노튜브 또는 그래핀을 제2 전도체층에 도입하는 경우, 절연층과 제2 전도체 층이 강한 결합을 형성하게 되어, 하네스 공정 중 발생할 수 있는 제2 전도체층 탈피를 방지할 수 있다. 한편, 탄소나노튜브 또는 그래핀은 용매와 혼합 전에 볼밀링을 거친 것일 수 있다. The second conductor layer forming process may be performed by passing a core coated with an insulating layer into a second conductor-containing solution. Specifically, the core coated with the insulating layer may be formed of a material containing a second conductor- And the second conductor layer may be formed on the outer surface of the insulating layer, and the second conductor-containing solution may be one in which the second conductor is dispersed in the solvent. Specifically, the solvent is selected from the group consisting of water, butylamine, hexylamine, triethylamine, pyridine, pyrazine, pyrrole, methylpyridine, methanol, ethanol, trifluoroethanol, propanol, isopropanol, terpineol, tetrahydrofuran, But are not limited to, 1,2-dichloroethane, 1,2-dichlorobenzene, chloroform, cyclohexanone, toluene, 1,4-dioxane, acetone, ethyl acetate, butyl acetate, methyl methacrylate, ethylene glycol, hexane, And may be at least one selected from the group consisting of dimethyl acetamide, dimethyl sulfoxide, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, and N-methyl-pyrrolidone. Meanwhile, the second conductor may be carbon nanotubes or graphenes, but is not particularly limited, and the carbon nanotubes or graphenes are as described above. Meanwhile, when the carbon nanotubes or graphenes are surface-modified as described above, when the surface-modified carbon nanotubes or graphenes are introduced into the second conductor layer, the insulating layer and the second conductor layer are strongly bonded So that it is possible to prevent the second conductor layer from peeling which may occur during the harness process. On the other hand, the carbon nanotube or graphene may be ball milled before mixing with the solvent.

한편, 상기 제2 전도체-함유 용액은 초음파 또는 자력(magnetic force)을 이용하여 제2 전도체를 용매 내에 균일하게 분산시킨 것일 수 있으나, 제한되지 않으며, 제2 전도체-함유 용액은 상기 제2 전도체의 분산량이 약 0.02mg/mL 내지 0.5mg/mL 인 것일 수 있다. 상기 분산량 범위를 초과하는 경우 분산성 저하로 인하여 제2 전도체층 두께가 일정하지 못하고, 돌기가 형성되거나 하는 문제점이 발생할 수 있다. 한편, 상기 제2 전도체-함유 용액은 상온 내지 약 80 온도를 가질 수 있다. The second conductor-containing solution may be one in which the second conductor is uniformly dispersed in a solvent using ultrasonic waves or a magnetic force. However, the second conductor-containing solution may be a solution of the second conductor- The amount of dispersion may be about 0.02 mg / mL to 0.5 mg / mL. If the dispersion amount is more than the above range, the thickness of the second conductor layer may not be uniform due to the lowering of dispersibility, and protrusions may be formed. On the other hand, the second conductor-containing solution may have a temperature of about room temperature to about 80 ° C.

한편, 상기 제2 전도체층 형성 과정을 거쳐 형성된 제2 전도체층의 두께는 상술한 바와 같다. The thickness of the second conductor layer formed through the second conductor layer forming process is as described above.

다음으로, 상기 제2 전도체층이 형성된 코어를 나노카본소재 분산용액에 통과시켜 제2 전도체 층 상에 나노카본코팅층을 형성한다(단계 c).Next, the core formed with the second conductor layer is passed through a nano-carbon material dispersion solution to form a nano-carbon coating layer on the second conductor layer (step c).

상술한 바와 같이, 본 발명에서 제2 전도체층 외표면은 쉴드층으로 피복되며, 상기 쉴드층은 2 내지 10㎛ 두께의 나노카본코팅층 및 상기 나노카본코팅층 상에 형성된 10 내지 20㎛ 두께의 전해도금층을 포함하여 구성되는 것일 수 있다. As described above, in the present invention, the outer surface of the second conductor layer is covered with a shield layer, and the shield layer is formed of a nano-carbon coating layer having a thickness of 2 to 10 탆 and a 10 to 20 탆 thick electrolytic plating layer As shown in FIG.

구체적으로, 상기 나노카본코팅층 형성 과정은, 상기 제2 전도체층이 형성된 코어를 나노카본코팅 용액에 침지시키거나, 상기 코어 외표면에 나노카본코팅 용액을 도포하여 형성하는 것일 수 있다.Specifically, the nano-carbon coating layer may be formed by immersing the core in which the second conductor layer is formed in a nano-carbon coating solution or by coating a nano-carbon coating solution on the outer surface of the core.

상기 나노카본코팅 용액은 에탄올, 디메틸포름아미드(dimethylformamide)의 혼합액 및 이소프로판올(isopropanol) 중 선택되는 1종 이상 또는 이들의 혼합물을 분산 용매로 하고, 상기 용매에 그래핀, 다중벽 탄소나노튜브 및 단일벽 탄소나노튜브 3종을 분산하여 만든 용액에 금속나노입자 전구체를 투입하여 제조하는 것일 수 있다. The nano-carbon coating solution may be prepared by mixing one or more selected from ethanol, a mixture of dimethylformamide and isopropanol, or a mixture thereof, as a dispersion solvent, adding graphene, multi-walled carbon nanotubes, and single Wall carbon nanotubes may be produced by adding a metal nanoparticle precursor to a solution prepared by dispersing three kinds of wall carbon nanotubes.

구체적으로, 상기 나노카본코팅 용액 내의 금속나노입자 전구체, 그래핀, 다중벽 탄소나노튜브 및 단일벽 탄소나노튜브로 구성한 전자파 차폐층 두께 범위는 2 내지 10㎛ 범위 내일 수 있고, 구체적으로, 그래핀, 다중벽 탄소나노튜브 및 단일벽 탄소나노튜브가 1 : 2.5 ~ 3.5 : 4 ~ 5의 중량비로 혼합 및 분산된 것일 수 있다. 한편, 상기 그래핀, 다중벽 탄소나노튜브 및 단일벽 탄소나노튜브가 상기 중량비 범위로 포함됨으로써, 전기저항특성 및 전자파 차폐 특성을 동시에 만족시킬 수 있게 된다. Specifically, the thickness of the electromagnetic wave shielding layer formed of the metal nanoparticle precursor, graphene, multi-wall carbon nanotube, and single wall carbon nanotube in the nanocarbon coating solution may be in the range of 2 to 10 μm, , Multiwall carbon nanotubes, and single wall carbon nanotubes may be mixed and dispersed in a weight ratio of 1: 2.5 to 3.5: 4 to 5. Meanwhile, by including the graphene, the multi-walled carbon nanotube, and the single-walled carbon nanotube in the weight ratio range, it is possible to satisfy the electric resistance characteristic and the electromagnetic wave shielding property at the same time.

한편, 상기 금속나노입자 전구체는, 크롬(Cr), 구리(Cu), 금(Au), 팔라듐(Pd), 니켈(Ni) 및 백금(Pt)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 금속 이온일 수 있다. 한편, 상기 금속나노입자 전구체는 상기 용매에 그래핀, 다중벽 탄소나노튜브 및 단일벽 탄소나노튜브 3종을 분산하여 만든 용액 100중량부를 기준으로, 20 내지 35 중량부로 포함될 수 있다. 금속나노입자 전구체가 상기 중량부 범위로 포함되어야, 상기 용액 내에 효과적으로 분산이 가능하며, 이에 따라 전기저항특성을 효과적으로 증가시킬 수 있게 된다. 상기 범위 미만인 경우, 전기저항특성을 효과적으로 증가시키기 어렵고, 상기 범위를 초과하는 경우, 분산이 곤란한 문제점이 있다.The metal nanoparticle precursor may be at least one metal ion selected from the group consisting of chromium (Cr), copper (Cu), gold (Au), palladium (Pd), nickel (Ni) . Meanwhile, the metal nanoparticle precursor may be included in the solvent in an amount of 20 to 35 parts by weight based on 100 parts by weight of a solution prepared by dispersing three kinds of graphene, multi-wall carbon nanotubes and single wall carbon nanotubes in the solvent. When the metal nanoparticle precursor is included in the above-mentioned weight range, it is possible to effectively disperse the metal nanoparticle precursor in the solution, thereby effectively increasing the electrical resistance characteristic. If it is less than the above range, it is difficult to effectively increase the electric resistance characteristic, and if it exceeds the above range, dispersion becomes difficult.

한편, 상기 나노카본코팅층 형성 단계를 보다 상세하게 설명하면, 제2 전도체층이 형성된 코어를 나노카본코팅 용액에 침지시키거나, 상기 코어 외표면에 나노카본코팅 용액을 도포한 다음, λ=360㎚, Intensity=0.1Mw/cm2 조건에서 UV 조사함으로써, 나노카본코팅층을 형성하는 것일 수 있다. The core formed with the second conductor layer may be immersed in a nano-carbon coating solution, or a nano-carbon coating solution may be coated on the outer surface of the core, , And Intensity = 0.1 Mw / cm 2 to form a nano-carbon coating layer.

구체적으로, 상기와 같은 과정을 통해 형성된 나노카본코팅층의 두께는 2 내지 10㎛이고, 나노카본코팅층 중간중간에는 금속 나노입자가 분산된 형태로 층 내에 삽입된 구성을 가지게 된다(도 1 참조). 한편, 상기 나노카본코팅층에 분산된 금속 나노입자의 크기는 10 내지 40㎚일 수 있다. 금속나노입자가 상기 범위를 초과하는 경우, 용액 내 분산이 곤란한 문제점이 있고, 상기 범위를 초과하더라도 전기전도성이 크게 달라지지않아, 경제성 측면에서도 상기 범위 내가 적절할 수 있다.Specifically, the thickness of the nano-carbon coating layer formed through the above-described process is 2 to 10 탆, and the nano-carbon coating layer has a structure in which metal nanoparticles are dispersed in the middle of the nano-carbon coating layer. Meanwhile, the size of the metal nanoparticles dispersed in the nanocarbon coating layer may be 10 to 40 nm. When the metal nanoparticles exceed the above range, there is a problem that dispersion in the solution is difficult. Even if the metal nanoparticles exceed the above range, the electrical conductivity does not greatly vary and the above range may be suitable from the viewpoint of economical efficiency.

다음으로, 상기 나노카본코팅층이 형성된 코어를 전해도금 용액으로 전해도금하여 나노카본코팅층 상에 전해도금층을 형성한다(단계 d). Next, the core having the nano-carbon coating layer formed thereon is electroplated with an electroplating solution to form an electroplating layer on the nano-carbon coating layer (step d).

상술한 바와 같이, 본 발명에서 제2 전도체층 외표면은 쉴드층으로 피복되며, 상기 쉴드층은 2 내지 10㎛ 두께의 나노카본코팅층 및 상기 나노카본코팅층 상에 형성된 10 내지 20㎛ 두께의 전해도금층을 포함하여 구성되는 것일 수 있다. As described above, in the present invention, the outer surface of the second conductor layer is covered with a shield layer, and the shield layer is formed of a nano-carbon coating layer having a thickness of 2 to 10 탆 and a 10 to 20 탆 thick electrolytic plating layer As shown in FIG.

구체적으로, 상기 전해도금층 형성 과정은, 상기 나노카본코팅층이 형성된 코어에 음극을 부여하고, 금속판에 양극을 부여한 다음, 상기 금속판과 나노카본코팅층이 형성된 코어 간에 전류를 인가함으로써 높은 전기적 전도성을 갖는 전해도금층을 형성하는 것일 수 있다. 구체적으로, 전해도금 용액은 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 것을 채용하되, 예를 들어 설파이드(sulfide)계, 클로라이드(chloride)계 및 나이트라이드(nitride)계 금속염 중 적어도 1종 이상을 포함하는 것이 사용될 수 있고, 용매로서는 수계 용매를 사용할 수 있으나 특별히 제한되는 것은 아니다.Specifically, the electroplating layer forming process includes: providing a negative electrode to a core having the nano-carbon coating layer formed thereon, applying a positive electrode to the metal plate, and applying an electric current between the metal plate and the nano- To form a plating layer. Specifically, the electrolytic plating solution employs those generally used in the art, for example, one containing at least one of a sulfide system, a chloride system, and a nitride system metal salt is used As the solvent, an aqueous solvent can be used, but it is not particularly limited.

한편, 상기 전해도금층 형성 과정에서 사용되는 금속판은 전이금속인 것일 수 있고, 상세하게는 백금(Pt), 구리(Cu), 니켈(Ni), 은(Ag), 철(Fe), 크롬(Cr), 알루미늄(Al), 코발트(Co), 루테늄(Ru), 및 아연(Zn)으로 이루어진 군에서 선택되는 1종, 더욱 상세하게는 구리, 니켈 및 철로 이루어지는 군에서 선택되는 1종의 재질인 것일 수 있다. The metal plate used in the process of forming the electroplating layer may be a transition metal. Specifically, the metal plate may be formed of platinum (Pt), copper (Cu), nickel (Ni), silver (Ag), iron (Fe) ), One selected from the group consisting of aluminum (Al), cobalt (Co), ruthenium (Ru), and zinc (Zn), more specifically, one kind of material selected from the group consisting of copper, Lt; / RTI >

한편, 본 발명의 일실시예에 따른 전해도금층 형성 과정은 상기 전해도금 용액 중에서 도금 전류밀도는 50 내지 70 mA/cm2 범위 내일 수 있고, 전류는 600 내지 900초간 인가하여 수행될 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 경우 상기 전류밀도 및 시간 범위 내에서 전해도금 과정을 수행하여야, 원하는 전해도금층 두께인 10 내지 20㎛를 달성할 수 있다. 상기 전류밀도 및 시간 범위 미만에서는 목적하는 전해도금층 두께를 달성하기 곤란하며, 상기 범위를 초과하는 경우, 금속 양이 지나치게 많아질 우려가 있고 두께가 과도하게 두꺼워져 초극세 케이블을 형성하기 곤란할 수 있다. Meanwhile, in the electroplating layer forming process according to an embodiment of the present invention, the plating current density in the electroplating solution may be in the range of 50 to 70 mA / cm 2 , and the current may be applied in the range of 600 to 900 seconds. Specifically, in the case of the present invention, the electrolytic plating process should be performed within the current density and time range to achieve the desired electroplating layer thickness of 10 to 20 μm. If the current density is lower than the above-mentioned current density and the time range, it is difficult to achieve the desired electroplating layer thickness. If it exceeds the above range, the amount of metal may be excessively increased and the thickness becomes excessively thick, making it difficult to form an ultrafine cable.

이상과 설명한 바와 같은 본 발명에 따르면, 제1 도선인 제1 전도체 선을 포함하는 코어, 코어 상의 절연층, 절연층 상에 제2 도선인 탄소나노튜브를 포함한 제2 전도체층, 제2 전도체층 상에 형성되는 쉴드(shield)층으로 구성된 초극세 케이블에 있어서, 상기 쉴드층으로서 나노카본소재 분산 용액으로 형성한 나노카본코팅층 및 전해도금방법을 이용하여 형성한 전해도금층을 포함한 이중층 구조를 구비하도록 함으로써, 선경 극세화에 따른 저항 증가로 인한 전류세기 감소 문제를 해결하고, 전기저항특성이 더욱 향상된 초극세 케이블을 제공할 수 있다. As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor device including a core including a first conductor wire as a first conductor, an insulating layer on the core, a second conductor layer including a carbon nanotube as a second conductor on the insulating layer, Layered structure including a nano-carbon coating layer formed of a nano-carbon material dispersion solution and an electrolytic plating layer formed using an electrolytic plating method as the shield layer in the ultra-fine cable composed of a shield layer , It is possible to solve the problem of decreasing the current intensity due to the increase in resistance due to the miniaturization of the wire diameter and to provide a microfibre cable having an improved electric resistance characteristic.

Claims (7)

하나 이상의 제1 전도체 선을 포함하는 코어;
상기 코어 외표면을 피복하는 절연층;
상기 절연층의 외표면을 피복하는 제2 전도체층; 및
상기 제2 전도체층의 표면을 피복하는 쉴드층; 을 포함하며,
상기 쉴드층은 2 내지 10㎛ 두께의 나노카본코팅층 및 상기 나노카본코팅층 상에 형성된 10 내지 20㎛ 두께의 전해도금층을 포함하는, 초극세 케이블.
A core comprising at least one first conductor wire;
An insulating layer covering the outer surface of the core;
A second conductor layer covering an outer surface of the insulating layer; And
A shield layer covering the surface of the second conductor layer; / RTI >
Wherein the shield layer comprises a nanocarbon coating layer having a thickness of 2 to 10 mu m and an electroplating layer having a thickness of 10 to 20 mu m formed on the nanocarbon coating layer.
제 1 항에 있어서,
상기 초극세 케이블의 외경은 140 내지 180㎛인, 초극세 케이블.
The method according to claim 1,
Wherein the ultrafine cable has an outer diameter of 140 to 180 mu m.
a)하나 이상의 제1 전도체 선을 포함하는 코어를 절연층으로 피복하는 단계;
b)절연층으로 피복된 코어를 제2 전도체-함유 용액에 통과시켜, 상기 절연층 외표면에 제2 전도체층을 형성하는 단계;
c)상기 제2 전도체층이 형성된 코어를 나노카본소재 분산용액에 통과시켜 제2 전도체층 상에 나노카본코팅층을 형성하는 단계; 및
d)상기 나노카본코팅층이 형성된 코어를 전해도금 용액으로 전해도금하여 나노카본코팅층 상에 전해도금층을 형성하는 단계; 를 포함하, 초극세 케이블 제조방법.
a) coating a core comprising at least one first conductor wire with an insulating layer;
b) passing a core coated with an insulating layer through a second conductor-containing solution to form a second conductor layer on the outer surface of the insulating layer;
c) passing the core having the second conductor layer formed thereon through a nano-carbon material dispersion solution to form a nano-carbon coating layer on the second conductor layer; And
d) electroplating the core having the nano-carbon coating layer formed thereon with an electrolytic plating solution to form an electroplating layer on the nano-carbon coating layer; Wherein the microfibre cable comprises at least one fiber.
제 3 항에 있어서,
상기 c 단계의 나노카본소재 분산용액은 금속나노입자 전구체, 그래핀, 다중벽 탄소나노튜브, 단일벽 탄소나노튜브 및 용매를 포함하는, 초극세 케이블 제조방법.
The method of claim 3,
Wherein the nano-carbon material dispersion solution of step (c) comprises a metal nanoparticle precursor, a graphene, a multi-wall carbon nanotube, a single-wall carbon nanotube, and a solvent.
제 3 항에 있어서,
상기 c 단계는 제2 전도체층이 형성된 코어를 나노카본코팅 용액에 침지시키거나, 상기 코어 외표면에 나노카본코팅 용액을 도포한 다음, λ=360㎚, Intensity=0.1Mw/cm2 조건에서 UV 조사하여 수행되는, 초극세 케이블 제조방법.
The method of claim 3,
Wherein step c is in the second conductor layer is applied to the nano-carbon coating solution to the core outer surface to immersion of the core is formed of carbon nano-coating or solution, then, λ = 360㎚, Intensity = 0.1Mw / cm 2 UV conditions Wherein the ultrafine cable is produced by the method.
제 3 항에 있어서,
상기 c 단계에서 형성되는 나노카본코팅층에는 금속 나노입자가 분산되되,
상기 금속나노입자의 크기는 10 내지 40㎚인, 초극세 케이블 제조방법.
The method of claim 3,
The metal nanoparticles are dispersed in the nanocarbon coating layer formed in step (c)
Wherein the size of the metal nanoparticles is 10 to 40 nm.
제 3 항에 있어서,
상기 d 단계는 전해도금용액 중에서 나노카본코팅층이 형성된 코어에 음극을 부여하고,
구리, 니켈 및 철로 이루어진 군에서 선택되는 전이금속판에 양극을 부여하며,
상기 전이금속판과 나노카본코팅층이 형성된 코어 간에 도금 전류밀도 50 내지 70 mA/cm2로 전류를 600 내지 900초 동안 인가함으로써 두께가 10 내지 20㎛인 전해도금층을 형성하는, 초극세 케이블 제조방법.
The method of claim 3,
In the step (d), a negative electrode is applied to a core in which a nano-carbon coating layer is formed in an electrolytic plating solution,
A positive electrode is provided to a transition metal plate selected from the group consisting of copper, nickel and iron,
The transition metal sheet and the nano-carbon coating layer by applying a current to a plating current density of 50 to 70 mA / cm 2 for 600 to 900 seconds between the formed electrolytic core having a thickness of 10 to 20㎛ to form a plating layer, method of producing ultra-fine cables.
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