KR20190076884A - An antistatic agent for active energy-ray curable resin composition, active energy-ray curable resin composition, cured product and film - Google Patents

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Abstract

The present invention provides an antistatic agent for an active energy ray-curable resin composition, an active energy ray-curable resin composition, a cured product, and a film. The antistatic agent for an active energy ray-curable resin composition comprises: (a1) a constituent unit derived from a vinyl monomer containing a quaternary ammonium salt structure; (a2) a constituent unit derived from a vinyl monomer which is an adduct generated during a ring-opening of a hydroxyl group-containing vinyl monomer and a lactone and has a weight average molecular weight of 1,000 to 10,000; and (a3) a constituent unit derived from a vinyl monomer containing a branched alkyl ester group having 3 to 5 carbon atoms. The antistatic agent for an active energy ray-curable resin composition further comprises (A) a polymer having a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 1.8 to 5.0. In addition, the present invention provides an active energy ray-curable resin composition including the antistatic agent, a cured product of the composition, and a film including the cured product.

Description

활성 에너지 선 경화성 수지 조성물용 대전 방지제, 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물, 경화물 및 필름{An antistatic agent for active energy-ray curable resin composition, active energy-ray curable resin composition, cured product and film}[0001] The present invention relates to an antistatic agent for an active energy ray-curable resin composition, an active energy ray-curable resin composition, an antistatic agent for active energy ray-curable resin composition,

본 발명은 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물용 대전 방지제, 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물, 경화물 및 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an antistatic agent, an active energy ray-curable resin composition, a cured product and a film for an active energy ray-curable resin composition.

활성 에너지 선 경화성 수지 조성물을 평판 디스플레이 용도로 사용하는 경우, 디스플레이 조립 및 작동 중의 정전기에 기인한 문제를 방지하거나, 고정밀 화상을 실현하거나 하기 위하여, 좋은 대전 방지성이 요구되기 때문에, 대전 방지제가 사용되고 있다.When an active energy ray-curable resin composition is used for a flat panel display, a good antistatic property is required in order to prevent problems caused by static electricity during display assembly and operation, or to realize a high-precision image, so that an antistatic agent is used have.

대전 방지제는, 대전 방지성과 함께 투명성, 내찰상성 및 내습 열성이 양호한 것이 요구된다. 따라서, 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 좋은 대전 방지 성을 나타내고, 또한 투명성, 내찰상성 및 내습 열성도 좋은 대전 방지제를 제공하는 것이다.The antistatic agent is required to have good transparency, scratch resistance and heat and humidity resistance, as well as antistatic properties. Accordingly, an object of the present invention is to provide an antistatic agent which exhibits good antistatic properties and which is also excellent in transparency, scratch resistance and heat and humidity resistance.

본 발명자들은, 예의 검토한 결과, 특정 모노머를 사용하여, 폴리머의 분자량 분포를 특정 값으로 제어한 폴리머를 사용함으로써, 상기 과제가 해결되는 것을 발견하였다.As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by using a polymer in which the molecular weight distribution of the polymer is controlled to a specific value by using a specific monomer.

본 발명에 따라 이하의 항목이 제공된다.According to the present invention, the following items are provided.

(항목 1)(Item 1)

4급 암모늄염 구조를 포함하는 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a1),(A1) derived from a vinyl monomer containing a quaternary ammonium salt structure,

수산기 함유 비닐 모노머와 락톤과의 개환 중 부가물이며, 한편,Is an adduct in the ring opening of a hydroxyl group-containing vinyl monomer and a lactone,

중량 평균 분자량이 1,000 ~ 10,000 인 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a2), 및(A2) derived from a vinyl monomer having a weight average molecular weight of 1,000 to 10,000, and

탄소수 3~5의 분기 알킬 에스테르기를 포함하는 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a3)을 포함하고,(A3) derived from a vinyl monomer containing a branched alkyl ester group having 3 to 5 carbon atoms,

분자량 분포 (Mw / Mn)가 1.8 ~ 5.0 인 폴리머 (A)를 포함하는,(A) having a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.8 to 5.0,

활성 에너지 선 경화성 수지 조성물용 대전 방지제.An antistatic agent for an active energy ray curable resin composition.

(항목 2)(Item 2)

상기 항목에 기재된 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물용 대전 방지제를 포함하는 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물.An active energy ray curable resin composition comprising an antistatic agent for an active energy ray-curable resin composition described in the above item.

(항목 3)(Item 3)

상기 항목에 기재된 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물의 경화물.The cured product of the active energy ray-curable resin composition described in the item above.

(항목 4)(Item 4)

상기 항목에 기재된 경화물을 포함하는 필름.A film comprising the cured product described in the above item.

본 발명에 있어서, 상기 1 이상의 특징은, 명시된 조합에 더하여, 더욱 조합시켜 제공될 수 있다.In the present invention, the one or more characteristics may be provided in combination in addition to the specified combination.

상기 대전 방지제는 좋은 대전 방지성, 투명성, 내찰상성 및 내습 열성을 겸비하는 효과를 나타낸다.The antistatic agent exhibits an effect of combining good antistatic properties, transparency, scratch resistance and heat and humidity resistance.

본 발명의 전체에 걸쳐, 각 물성치, 함유량 등의 수치 범위는, 적절하게(예를 들면, 하기의 각 항목에 기재의 상한 및 하한 값으로부터 선택하여) 설정될 수있다. 구체적으로는, 수치 α 대해, 수치 α의 상한 및 하한으로서 A1, A2, A3, A4 (A1>A2>A3>A4로 된다)등이 예시될 경우, 수치 α의 범위는 A1 이하, A2 이하, A3 이하, A2 이상, A3 이상 , A4 이상, A1 ~ A2, A1 ~ A3, A1 ~ A4, A2 ~ A3, A2 ~ A4, A3 ~ A4 등이 예시된다.Throughout the present invention, numerical ranges of the respective properties, contents, and the like can be appropriately set (for example, by selecting from the upper and lower limit values described in the following items). Specifically, when A1, A2, A3, and A4 (A1> A2> A3> A4) are exemplified as the upper and lower limits of the value a with respect to the value α, the range of the value α is not more than A1, A3 or less, A2 or more, A3 or more, A4 or more, A1 to A2, A1 to A3, A1 to A4, A2 to A3, A2 to A4 and A3 to A4.

[폴리머 (A)][Polymer (A)]

본 발명은, 4급 암모늄염 구조를 포함하는 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a1), 수산기 함유 비닐 모노머와 락톤과의 개환 중 부가물이며, 또한, 중량 평균 분자량이 1,000 ~ 10,000 인 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a2), 및 탄소수 3~5의 분기 알킬 에스테르기를 포함하는 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a3)을 포함하고, 분자량 분포(Mw / Mn)가 1.8 ~ 5.0 인 폴리머 (A)를 제공한다.The present invention relates to a composition comprising a structural unit (a1) derived from a vinyl monomer having a quaternary ammonium salt structure, an adduct of a hydroxyl group-containing vinyl monomer and a lactone in ring opening and having a weight average molecular weight of 1,000 to 10,000 (A) having a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.8 to 5.0 and containing a structural unit (a3) derived from a vinyl monomer having a unit (a2) and a branched alkyl ester group having 3 to 5 carbon atoms.

<4급 암모늄염 구조를 포함하는 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a1)><Structural unit (a1) derived from vinyl monomer containing quaternary ammonium salt structure>

4급 암모늄염 구조를 포함하는 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a1)는, 4급 암모늄염 구조를 포함하는 비닐 모노머 (a1')를 이용하여 폴리머를 제조할 경우 폴리머 사슬에 포함되는 구성 단위이다. 상기 비닐 모노머 (a1')은 2종 이상을 병용 할 수 있다.The constituent unit (a1) derived from a vinyl monomer having a quaternary ammonium salt structure is a constituent unit contained in a polymer chain when a polymer is produced using a vinyl monomer (a1 ') having a quaternary ammonium salt structure. The vinyl monomer (a1 ') may be used in combination of two or more.

4급 암모늄염 구조를 포함하는 비닐 모노머 (a1')는, 식 (1):The vinyl monomer (a1 ') having a quaternary ammonium salt structure has the formula (1):

[CH2=C(R1)-C(=O)-A-B-N + (R2)(R3)(R4)] n · Xn- [CH 2 = C (R 1 ) -C (= O) -ABN + (R 2) (R 3) (R 4)] n · X n-

(식 중, R1은 H 또는 CH3, R2 ~ R4는 탄소수 1~3 정도의 알킬기를, A는 O 또는 NH를, B는 탄소수 1 ~ 3 정도의 알킬렌기를, X-는 카운터 음이온 종을, n은 1 이상의 정수를 나타낸다)로 표시되는 (메타) 아크릴레이트 화합물 등이 예시된다. 또한, X-는 Cl-, SO4 2-, SO3 -, C2H5SO4 -, Br- 등이 예시되고, 정전기 방지 효과의 관점에서 Cl-가 가장 바람직하다. 또한, (a1) 성분의 시판품은, 쿄에이샤 화학(주) 제 「라이트 에스테르 DQ-100」, 코우진(주) 제「DMAEA-Q 」등이 예시된다.(Wherein, R 1 is H or CH 3, R 2 ~ R 4 is an alkyl group of about 1 to 3 carbon atoms, A is O or a NH, B is a group having a carbon number of 1 to 3 degrees of alkylene group, X - is a counter An anionic species, and n represents an integer of 1 or more), and the like. In addition, X - represents Cl - , SO 4 2- , SO 3 - , C 2 H 5 SO 4 - , Br - and the like, and Cl - is the most preferable in terms of antistatic effect. Examples of commercially available products of the component (a1) include "Wright Ester DQ-100" manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., "DMAEA-Q" manufactured by Kojoo Corporation.

탄소수 1~3의 알킬기는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기가 예시된다.Examples of the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and an isopropyl group.

탄소수 1 내지 3의 알킬렌기는 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 이소프로필렌기가 예시된다.Examples of the alkylene group having 1 to 3 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and an isopropylene group.

폴리머의 전체 질량에 대한 구성 단위 (a1)의 함유량의 상한과 하한은, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30 질량% 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 폴리머의 전체 중량을 기준으로 구성 단위 (a1)을 30 ~ 60 중량% 포함하는 것이 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the content of the constituent unit (a1) relative to the total mass of the polymer are 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30 mass% and the like. In one embodiment, it is preferable to contain the structural unit (a1) in an amount of 30 to 60% by weight based on the total weight of the polymer.

<수산기 함유 비닐 모노머와 락톤과의 개환 중 부가물이며, 또한, 중량 평균 분자량이 1,000 ~ 10,000인 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a2)><Structural unit (a2) derived from a vinyl monomer having an adduct of a hydroxyl group-containing vinyl monomer and lactone during ring opening and having a weight average molecular weight of 1,000 to 10,000>

수산기 함유 비닐 모노머와 락톤과의 개환 중 부가물이며, 또한 중량 평균 분자량이 1,000 ~ 10,000 인 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a2)는 수산기 함유 비닐 모노머와 락톤과의 개환 중 부가물이며, 또한, 중량 평균 분자량이 1,000 ~ 10,000인 비닐 모노머 (a2')를 이용하여 폴리머를 제조할 경우, 폴리머 사슬에 포함되는 구성 단위이다. 상기 비닐 모노머 (a2')는 2종 이상을 병용할 수 있다.(A2) derived from a vinyl monomer having a weight average molecular weight of 1,000 to 10,000 is an adduct during the ring opening of a hydroxyl group-containing vinyl monomer and a lactone, and the weight When a polymer is produced using a vinyl monomer (a2 ') having an average molecular weight of 1,000 to 10,000, it is a constitutional unit contained in the polymer chain. The vinyl monomer (a2 ') may be used in combination of two or more.

상기 비닐 모노머 (a2')는, 수산기 함유 비닐 모노머와 락톤과를 이용하여, 공지의 방법에 의해 개환 중 부가 반응시킴으로써 제조된다. 수산기 함유 비닐 모노머는 2종 이상을 병용할 수 있고, 락톤도 2종 이상을 병용할 수 있다.The vinyl monomer (a2 ') is produced by carrying out addition reaction during ring-opening by a known method using a hydroxyl group-containing vinyl monomer and a lactone. Two or more hydroxyl group-containing vinyl monomers may be used together, and two or more types of lactones may be used in combination.

수산기 함유 비닐 모노머는, 수산기 함유 (메타) 아크릴레이트 화합물, 수산기 함유 비닐 모노머 등이 예시된다. 이 중에서도 특히 라디칼 공중합성의 관점에서, 수산기 함유 (메타) 아크릴레이트 화합물이 바람직하다.Examples of the hydroxyl group-containing vinyl monomer include a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound and a hydroxyl group-containing vinyl monomer. Among them, from the viewpoint of radical copolymerization, a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound is preferable.

본 발명에서 「(메타) 아크릴레이트」는 「아크릴레이트 및 메타크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나」를 의미한다. 마찬가지로「(메타) 아크릴」은 「아크릴 및 메타크릴로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나」를 의미한다.In the present invention, "(meth) acrylate" means "at least one selected from the group consisting of acrylate and methacrylate". Similarly, "(meth) acrylic" means "at least one selected from the group consisting of acrylic and methacrylic".

수산기 함유 (메타) 아크릴레이트 화합물은, 하이드록시 에틸 (메타) 아크릴레이트, 하이드록시 프로필 (메타) 아크릴레이트, 하이드록시 부틸 (메타) 아크릴레이트 및 하이드록시 에틸 (메타) 아크릴아미드 등이 예시된다.Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate and hydroxyethyl (meth) acrylamide.

수산기 함유 비닐 모노머는, 하이드록시 에틸 비닐 에테르, 하이드록시 부틸 비닐 에테르 및 하이드록시 에틸렌 글리콜 에테르 등이 예시된다.Examples of the hydroxyl group-containing vinyl monomer include hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, and hydroxyethyleneglycol ether.

락톤은, β-프로피오 락톤, γ-부티로 락톤, δ-발레로 락톤, β-메틸-δ-발레로 락톤 및 ε-카프로 락톤 등이 예시된다. 이 중에서도 특히 개환 중합 반응성의 관점에서, ε-카프로 락톤 및 δ-발레로 락톤으로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 바람직하다.Examples of the lactone include? -Propiolactone,? -Butyrolactone,? -Valerolactone,? -Methyl-? -Valerolactone and? -Caprolactone. Of these, from the viewpoint of ring-opening polymerization reactivity, one kind selected from the group consisting of? -Caprolactone and? -Valerolactone is preferable.

폴리머의 전체 질량에 대한 구성 단위 (a2)의 함유량의 상한과 하한은, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15 질량% 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 폴리머의 전체 중량을 기준으로 구성 단위 (a2)를 15 ~ 50 중량% 포함하는 것이 바람직하다.Examples of the upper limit and lower limit of the content of the constituent unit (a2) relative to the total mass of the polymer are 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20 and 15 mass%. In one embodiment, it is preferable to contain the structural unit (a2) in an amount of 15 to 50 wt% based on the total weight of the polymer.

비닐 모노머 (a2')의 중량 평균 분자량의 상한과 하한은, 10,000, 8,000, 7,000, 6,000, 5,000, 4,000, 3,999, 3,000, 2,000, 1,000 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 비닐 모노머 (a2')의 중량 평균 분자량의 범위는 1,000 ~ 10,000이 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the weight average molecular weight of the vinyl monomer (a2 ') are 10,000, 8,000, 7,000, 6,000, 5,000, 4,000, 3,999, 3,000, 2,000 and 1,000. In one embodiment, the weight average molecular weight of the vinyl monomer (a2 ') is preferably 1,000 to 10,000.

(a2) 성분의 제조 방법은, 상기 수산기 함유 비닐 모노머를 개시제로서, 상기 락톤을 개환 중 부가 반응시키는 방법 등이 예시된다. 상기 중량 평균 분자량은 반응 시에 양자의 포함되는 비율이나 반응 온도, 촉매종, 촉매량을 적절히 선택하여 조정할 수 있다.A method for producing the component (a2) is exemplified by a method in which the above-mentioned vinyl monomer containing a hydroxyl group is used as an initiator and the addition reaction of the lactone is conducted during ring opening. The weight-average molecular weight can be adjusted by appropriately selecting the ratio of the two, the reaction temperature, the catalyst species, and the catalyst amount during the reaction.

반응 시에는, 촉매가 사용될 수 있다. 촉매는, 황산 및 인산 등의 무기산; 리튬, 나트륨 및 칼륨 등의 알칼리 금속; n-부틸 리튬 및 t-부틸 리튬 등의 알킬 금속 화합물; 티타늄 테트라 부톡사이드 등의 금속 알콕사이드; 디부틸 틴 디라우레이트, 디부틸 틴 옥토레이트, 디부틸 틴 머캅티드, 및 옥틸산 주석 등의 주석 화합물 등이 예시된다. 촉매의 사용량은 수산기 함유 비닐 모노머 및 락톤의 총 100 중량%에 대하여 0.01 ~ 10 중량% 정도가 바람직하다.In the reaction, a catalyst may be used. The catalyst may be selected from inorganic acids such as sulfuric acid and phosphoric acid; Alkali metals such as lithium, sodium and potassium; alkyl metal compounds such as n-butyllithium and t-butyllithium; Metal alkoxides such as titanium tetrabutoxide; And tin compounds such as dibutyl tin dilaurate, dibutyl tin octoate, dibutyl tin mercaptide, and tin octylate. The amount of the catalyst to be used is preferably about 0.01 to 10% by weight based on 100% by weight of the total of the hydroxyl group-containing vinyl monomer and the lactone.

<탄소수 3~5 분기 알킬 에스테르기를 포함하는 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a3)><Structural unit (a3) derived from a vinyl monomer containing an alkyl ester group having 3 to 5 carbon atoms>

탄소수 3~5의 분기 알킬 에스테르기를 포함하는 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a3)는, 탄소수 3~5 분기 알킬 에스테르기를 포함하는 비닐 모노머 (a3')를 이용하여 폴리머를 제조할 경우 폴리머 사슬에 포함되는 구성 단위이다. 상기 비닐 모노머 (a3')은 2종 이상을 병용할 수 있다. 하나의 실시예에서, 상기 비닐 모노머 (a3 ')은 지환 구조를 갖지 않는다. 이 경우, 구성 단위 (a3)는 지환 구조를 갖지 않는 것이 된다.(A3) derived from a vinyl monomer containing a branched alkyl ester group having 3 to 5 carbon atoms is contained in a polymer chain when a polymer is produced using a vinyl monomer (a3 ') containing an alkyl ester group having 3 to 5 carbon atoms &Lt; / RTI &gt; The vinyl monomer (a3 ') may be used in combination of two or more. In one embodiment, the vinyl monomer (a3 ') has no alicyclic structure. In this case, the structural unit (a3) does not have an alicyclic structure.

탄소수 3~5 분기 알킬 에스테르기는, 이소프로필 에스테르기, 이소부틸 에스테르기, sec-부틸 에스테르기, tert-부틸 에스테르기, 1-메틸부틸 에스테르기, 2-메틸부틸 에스테르기, 3-메틸부틸 에스테르기, 1-에틸프로필 에스테르기, 1,1-디메틸프로필 에스테르기, 1,2-디메틸프로필 에스테르기, 2,2-디메틸프로필 에스테르기가 예시된다.The alkyl ester group having 3 to 5 carbon atoms is preferably an isopropyl ester group, an isobutyl ester group, a sec-butyl ester group, a tert-butyl ester group, a 1-methylbutyl ester group, a 2-methylbutyl ester group, Ethylpropyl ester group, 1,1-dimethylpropyl ester group, 1,2-dimethylpropyl ester group and 2,2-dimethylpropyl ester group.

탄소수 3~5 분기 알킬 에스테르기를 포함하는 비닐 모노머 (a3')은, 이소프로필 (메타) 아크릴레이트, tert-부틸 (메타) 아크릴레이트, 이소부틸 (메타) 아크릴레이트 및 이소펜틸 (메타) 아크릴레이트 등이 예시된다.The vinyl monomer (a3 ') containing an alkyl ester group having 3 to 5 carbon atoms is preferably a vinyl monomer (a3') having an alkylene group such as isopropyl (meth) acrylate, tert- butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate and isopentyl And the like.

폴리머의 전체 질량에 대한 구성 단위 (a3)의 함유량의 상한과 하한은, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5 질량% 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 폴리머의 전체 중량을 기준으로 구성 단위 (a3)을 5 ~ 40 중량% 포함하는 것이 바람직하다.Examples of the upper limit and lower limit of the content of the constituent unit (a3) relative to the total mass of the polymer are 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10 and 5 mass%. In one embodiment, it is preferable to contain 5 to 40% by weight of the constituent unit (a3) based on the total weight of the polymer.

<구성 단위 (a1) ~ (a3) 이외의 구성 단위 (a4)><Structural unit (a4) other than the structural units (a1) to (a3)> [

상기 폴리머는 상기 구성 단위 (a1) ~ (a3) 이외의 구성 단위 (a4) (「기타의 구성 단위 (a4) 」라고도 함)를 포함할 수 있다. 기타 구성 단위 (a4)는, 상기 모노머 (a1') ~ (a3') 이외의 모노머 (「기타 모노머」, 「모노머 (a4 ')」라고도 함)를 이용하여 폴리머를 제조할 경우 폴리머 사슬에 포함되는 구성 단위이다. 기타 모노머는 2종 이상을 병용할 수 있다.The polymer may include a structural unit (a4) other than the structural units (a1) to (a3) (also referred to as "other structural units (a4)"). The other structural unit (a4) may be included in the polymer chain when the polymer is produced by using a monomer other than the monomers (a1 ') to (a3') (also referred to as "other monomer" or "monomer (a4 ' &Lt; / RTI &gt; The other monomers may be used in combination of two or more.

모노머 (a4')은, (a3) 성분에 해당하지 않는 모노 (메타) 아크릴레이트, 방향환 구조 함유 비닐 모노머 등이 예시된다.Monomer (a4 ') includes, for example, mono (meth) acrylate and aromatic monomer containing vinyl monomer which do not correspond to component (a3).

(a3) 성분에 해당하지 않는 모노 (메타) 아크릴레이트는, 탄소수 1 ~ 10 정도의 탄화수소기를 갖는 모노 (메타) 아크릴레이트 등이 예시된다.Mono (meth) acrylate which does not correspond to the component (a3) is exemplified by mono (meth) acrylate having a hydrocarbon group having about 1 to 10 carbon atoms.

상기 탄소수 1 ~ 10 정도의 탄화수소기를 갖는 모노 (메타) 아크릴레이트는, 메틸 (메타) 아크릴레이트, 에틸 (메타) 아크릴레이트, n-부틸 (메타) 아크릴레이트, n-펜틸 (메타) 아크릴레이트, 헥실 (메타) 아크릴레이트, 벤질 (메타) 아크릴레이트 및 페닐 (메타) 아크릴레이트 등이 예시된다.The mono (meth) acrylate having a hydrocarbon group of about 1 to 10 carbon atoms is preferably a mono (meth) acrylate such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n- butyl (meth) acrylate, Hexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and phenyl (meth) acrylate.

상기 방향환 구조 함유 비닐 모노머는, 스티렌, α-메틸 스티렌 및 4-메틸 스티렌 등이 예시된다.Examples of the vinyl monomer having an aromatic ring structure include styrene,? -Methylstyrene, and 4-methylstyrene.

폴리머의 전체 질량에 대한 구성 단위 (a4)의 함유량의 상한과 하한은, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 1, 0 질량% 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 폴리머의 전체 중량을 기준으로 구성 단위 (a4)를 0~50 중량% 포함하는 것이 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the content of the constituent unit (a4) relative to the total mass of the polymer are 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 5, 1, 0 mass% and the like. In one embodiment, it is preferable to include the structural unit (a4) in an amount of 0 to 50% by weight based on the total weight of the polymer.

<구성 단위 사이의 상대 비율>&Lt; Relative ratio between constituent units >

구성 단위 (a1)와 구성 단위 (a2)와의 질량비(구성 단위 (a1)의 질량 / 구성 단위 (a2)의 질량)의 상한과 하한은, 4, 3.5, 3, 2.5, 2, 1.5, 1, 0.5 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 구성 단위 (a1)와 구성 단위 (a2)와의 질량비 (구성 단위 (a1)의 질량 / 구성 단위 (a2)의 질량)은 0.5 ~ 4가 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the mass ratio of the structural unit (a1) to the structural unit (a2) (mass of the structural unit (a1) / mass of the structural unit (a2)) are 4, 3.5, 3, 0.5, and the like. In one embodiment, the mass ratio of the structural unit (a1) to the structural unit (a2) (mass of the structural unit (a1) / mass of the structural unit (a2)) is preferably 0.5 to 4.

구성 단위 (a1)와 구성 단위 (a3)와의 질량비(구성 단위 (a1)의 질량 / 구성 단위 (a3)의 질량)의 상한과 하한은, 12, 11, 10, 9, 7.5, 5, 2.5, 1, 0.5 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 구성 단위 (a1)와 구성 단위 (a3)와의 질량비(구성 단위 (a1)의 질량 / 구성 단위 (a3)의 질량)은 0.5 ~ 12이 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the mass ratio of the constituent unit (a1) to the constituent unit (a3) (the mass of the constituent unit (a1) / the mass of the constituent unit (a3)) are 12, 11, 10, 9, 7.5, 1, 0.5, and the like are exemplified. In one embodiment, the mass ratio of the structural unit (a1) to the structural unit (a3) (mass of the structural unit (a1) / mass of the structural unit (a3)) is preferably 0.5 to 12.

구성 단위 (a2)와 구성 단위 (a3)와의 질량비(구성 단위 (a2)의 질량 / 구성 단위 (a3)의 질량)의 상한과 하한은, 10, 9, 7.5, 5, 2.5, 1, 0.5, 0.3 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 구성 단위 (a2)와 구성 단위 (a3)와의 질량비(구성 단위 (a2)의 질량 / 구성 단위 (a3)의 질량)은 0.3 ~ 10이 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the mass ratio of the structural unit (a2) to the structural unit (a3) (mass of the structural unit (a2) / mass of the structural unit (a3)) are 10, 9, 7.5, 0.3, and the like. In one embodiment, the mass ratio (mass of the constituent unit (a2) / mass of the constituent unit (a3)) of the constituent unit (a2) and the constituent unit (a3) is preferably 0.3 to 10.

구성 단위 (a4)와 구성 단위 (a1)와의 질량비(구성 단위 (a4)의 질량 / 구성 단위 (a1)의 질량)의 상한과 하한은, 2, 1.5, 1, 0.5, 0.1, 0 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 구성 단위 (a4)와 구성 단위 (a1)와의 질량비(구성 단위 (a4)의 질량 / 구성 단위 (a1)의 질량)은 0 ~ 2가 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the mass ratio of the structural unit (a4) to the structural unit (a1) (mass of the structural unit (a4) / mass of the structural unit (a1)) are 2, 1.5, 1, 0.5, 0.1, do. In one embodiment, the mass ratio of the structural unit (a4) to the structural unit (a1) (mass of the structural unit (a4) / mass of the structural unit (a1)) is preferably 0 to 2.

구성 단위 (a4)와 구성 단위 (a2)와의 질량비(구성 단위 (a4)의 질량 / 구성 단위 (a2)의 질량)의 상한과 하한은, 4, 3, 2, 1, 0.5, 0.1, 0 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 구성 단위 (a4)와 구성 단위 (a2)와의 질량비(구성 단위 (a4)의 질량 / 구성 단위 (a2)의 질량)은 0 ~ 4가 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the mass ratio of the constituent unit (a4) to the constituent unit (a2) (the mass of the constituent unit (a4) / the mass of the constituent unit (a2)) are 4, 3, 2, 1, 0.5, 0.1, . In one embodiment, the mass ratio of the structural unit (a4) to the structural unit (a2) (mass of the structural unit (a4) / mass of the structural unit (a2)) is preferably 0 to 4.

구성 단위 (a4)와 구성 단위 (a3)와의 질량비(구성 단위 (a4)의 질량 / 구성 단위 (a3)의 질량)의 상한과 하한은, 10, 9, 7.5, 5, 4, 3, 2, 1, 0.5, 0.1, 0 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 구성 단위 (a4)와 구성 단위 (a3)의 질량비 (구성 단위 (a4)의 질량 / 구성 단위 (a3)의 질량)은 0 ~ 10이 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the mass ratio of the structural unit (a4) to the structural unit (a3) (mass of the structural unit (a4) / mass of the structural unit (a3)) are 10, 9, 7.5, 1, 0.5, 0.1, 0, and the like. In one embodiment, the mass ratio of the structural unit (a4) to the structural unit (a3) (mass of the structural unit (a4) / mass of the structural unit (a3)) is preferably 0 to 10.

<폴리머 (A)의 물성 등>&Lt; Physical properties of polymer (A) >

폴리머 (A)의 중량 평균 분자량 (Mw)의 상한과 하한은, 500,000, 450,000, 400,000, 350,000, 300,000, 250,000, 200,000, 180,000 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 폴리머 (A)의 중량 평균 분자량 (Mw)은 180,000 ~ 500,000이 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the weight average molecular weight (Mw) of the polymer (A) are 500,000, 450,000, 400,000, 350,000, 300,000, 250,000, 200,000 and 180,000. In one embodiment, the weight average molecular weight (Mw) of the polymer (A) is preferably 180,000 to 500,000.

폴리머 (A)의 수 평균 분자량 (Mn)의 상한과 하한은, 200,000, 175,000, 150,000, 100,000, 75,000, 50,000 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 폴리머 (A)의 수 평균 분자량 (Mn)은 50,000 ~ 200,000이 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the number average molecular weight (Mn) of the polymer (A) are 200,000, 175,000, 150,000, 100,000, 75,000 and 50,000. In one embodiment, the number average molecular weight (Mn) of the polymer (A) is preferably from 50,000 to 200,000.

폴리머 (A)의 분자량 분포 (Mw/Mn)의 상한과 하한은, 5.0, 4.9, 4.5, 4.0, 3.5, 3.0, 2.5, 2.0, 1.9, 1.8 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 폴리머 (A)의 분자량 분포 (Mw/Mn)는 1.8 ~ 5.0이 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymer (A) are 5.0, 4.9, 4.5, 4.0, 3.5, 3.0, 2.5, 2.0, 1.9 and 1.8. In one embodiment, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymer (A) is preferably 1.8 to 5.0.

<폴리머 (A)의 제조 방법>&Lt; Production method of polymer (A)

(A) 성분은 모노머 (a1') ~ (a3'), 및 필요에 따라 모노머 (a4') 성분을 각종 공지의 방법(괴상 중합, 용액 중합, 유화 중합 등)으로 라디칼 공중합시키는 것에 의해 얻어진다. 반응 시간은 2 ~ 12 시간 정도가 바람직하다. 또한, 분자량 분포는 중합 온도 및 중합 개시제의 양에 의해 조절될 수 있다.The component (A) is obtained by radical copolymerizing the monomers (a1 ') to (a3') and optionally the monomer (a4 ') component by various known methods (bulk polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization, etc.) . The reaction time is preferably about 2 to 12 hours. Further, the molecular weight distribution can be controlled by the polymerization temperature and the amount of the polymerization initiator.

중합 온도의 상한과 하한은, 130, 120, 110, 100, 90, 80, 75, 70℃ 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 중합 온도는 70 ~ 130℃ 정도가 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the polymerization temperature are 130, 120, 110, 100, 90, 80, 75, 70 캜 and the like. In one embodiment, the polymerization temperature is preferably about 70 to 130 占 폚.

반응의 경우에는, 라디칼 중합 개시제를 사용하여도 좋다. 라디칼 중합 개시제는, 과산화수소, 황산 암모늄과 황산 칼륨 등의 무기 과산화물; 벤조일 퍼옥사이드, 쿠밀 퍼옥사이드 및 라우릴 퍼옥사이드 등의 유기 과산화물; 2,2-아조비스 (이소부티로나이트릴) 및 2,2'-아조비스(메틸부티로니트릴) 등의 아조계 화합물 등이 예시된다. 라디칼 중합 개시제를 사용하는 경우, 그 사용량은 모노머 (a1') ~ (a3') 및 기타 모노머의 총 질량에 대하여 0.01 ~ 10 중량% 정도가 바람직하다.In the case of the reaction, a radical polymerization initiator may be used. Examples of the radical polymerization initiator include inorganic peroxides such as hydrogen peroxide, ammonium sulfate and potassium sulfate; Organic peroxides such as benzoyl peroxide, cumyl peroxide and lauryl peroxide; And azo compounds such as 2,2-azobis (isobutyronitrile) and 2,2'-azobis (methylbutyronitrile). When a radical polymerization initiator is used, the amount of the radical polymerization initiator is preferably 0.01 to 10% by weight based on the total mass of the monomers (a1 ') to (a3') and other monomers.

또한, 반응시에 연쇄 이동제를 사용하여도 좋다. 연쇄 이동제는, 도데실 메르캅탄, 2- 머캅토 벤조티아졸 및 브롬 트라이클로로메탄 등이 예시된다. 연쇄 이동제를 사용하는 경우, 그 사용량은 모노머 (a1') ~ (a3') 및 기타 모노머의 총 질량에 대하여 0.01 ~ 10 중량% 정도가 바람직하다.A chain transfer agent may be used in the reaction. Examples of the chain transfer agent include dodecyl mercaptan, 2-mercaptobenzothiazole and bromotrichloromethane. When a chain transfer agent is used, its amount to be used is preferably about 0.01 to 10% by weight based on the total mass of the monomers (a1 ') to (a3') and other monomers.

또한, 용액 중합의 경우, 에틸렌 글리콜 모노 에틸에테르 및 프로필렌 글리콜 모노 메틸에테르 등의 글리콜 에테르 용제; 메탄올, 에탄올 및 n-프로판올 등의 알코올 용제; 메틸 에틸 케톤 및 메틸 이소 부틸 케톤 등의 케톤 용제; 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용제; 초산 에틸, 초산 부틸 등의 아세트산 에스테르 용제; 클로로포름 및 디메틸 포름아마이드 등의 유기 용제를 사용할 수 있다. 이 중에서도 (a1) 성분 ~ (a4) 성분의 용해력의 관점에서 글리콜 에테르 용제 및 알콜 용제가 바람직하다. 또한, 유화 중합의 경우에는, 각종 공지의 음이온성, 비이온성, 양이온성 계면 활성제를 사용할 수 있다.In the case of solution polymerization, glycol ether solvents such as ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether; Alcohol solvents such as methanol, ethanol and n-propanol; Ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene; Acetic acid ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; Organic solvents such as chloroform and dimethylformamide can be used. Among them, glycol ether solvents and alcohol solvents are preferable from the viewpoint of solubility of the components (a1) to (a4). In the case of emulsion polymerization, various known anionic, nonionic, and cationic surfactants can be used.

[활성 에너지 선 경화성 수지 조성물용 대전 방지제 : 「대전 방지제」라고도 한다][Antistatic agent for active energy ray-curable resin composition: also referred to as &quot; antistatic agent &quot;)

본 발명은, 상기 폴리머 (A)를 포함하는 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물용 대전 방지제를 제공한다.The present invention provides an antistatic agent for an active energy ray-curable resin composition comprising the polymer (A).

(희석 용제)(Diluting solvent)

하나의 실시예에서, 상기 대전 방지제는 희석 용제가 포함된다. 희석 용제는 2종 이상을 병용해도 좋다. 희석 용제는 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소 부틸 케톤, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 에탄올, n-프로필 알코올, 이소 프로필 알코올, n-부탄올, 이소 부틸 알코올, tert-부틸 알코올, 디아세톤 알코올, 아세틸 아세톤, 톨루엔, 크실렌 , n-헥산, 사이클로 헥산, 메틸 사이클로 헥산, n-헵탄, 이소 프로필 에테르, 메틸 셀로 솔브, 에틸 셀로 솔브, 1,4-디옥산, 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노 에틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 아세테이트 등이 예시되고 한다.In one embodiment, the antistatic agent includes a diluting solvent. Two or more kinds of diluting solvents may be used in combination. The diluting solvent is selected from the group consisting of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, isobutyl alcohol, But are not limited to, acetone, toluene, xylene, n-hexane, cyclohexane, methylcyclohexane, n-heptane, isopropyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, Ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and the like.

희석 용제 함유량은 특별히 제한되지 않는다. 대전 방지제 100 중량부에 대한 희석 용제 함유량의 상한과 하한은, 1900, 1500, 1000, 500, 100, 50, 25, 0 중량부 등이 예시된다. 대전 방지제 중에 희석 용제를 포함하는 경우, 하나의 실시예에서, 희석 용제를 대전 방지제 100 중량부에 대하여 도공성의 관점으로부터, 25 ~ 1900 중량부 정도 포함하는 것이 바람직하다.The content of the diluting solvent is not particularly limited. The upper limit and lower limit of the diluting solvent content with respect to 100 parts by weight of the antistatic agent are 1900, 1500, 1000, 500, 100, 50, 25, 0 parts by weight and the like. In the case where a diluting solvent is contained in the antistatic agent, in one embodiment, the diluting solvent is preferably contained in an amount of about 25 to 1900 parts by weight from the viewpoint of coatability with respect to 100 parts by weight of the antistatic agent.

(첨가제)(additive)

상기 대전 방지제는, 상기 폴리머 (A)도, 희석 용제도 아닌 제를 첨가제로 포함할 수 있다. 첨가제는 2종 이상을 병용해도 좋다. 첨가제는, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 소포제, 표면 조정제, 방오염제, 안료, 금속 산화물 미립자 분산체, 유기 미립자 분산체 등이 예시된다.The above-mentioned antistatic agent may contain, as an additive, the above-mentioned polymer (A) and a diluting solvent. Two or more kinds of additives may be used in combination. Examples of the additives include antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, antifoaming agents, surface conditioners, antifouling agents, pigments, metal oxide fine particle dispersions, and organic fine particle dispersions.

하나의 실시예에서, 첨가제 함유량은, 대전 방지제 고형분 100 중량부에 대하여, 0 ~ 50 중량부, 40 중량부 미만, 25 중량부 미만. 10 중량부 미만, 5 중량부 미만, 1 중량부 미만, 0.1 중량부 미만, 0.01 중량부 미만, 0 중량부 등이 예시된다.In one embodiment, the additive content is 0 to 50 parts by weight, less than 40 parts by weight, and less than 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the antistatic agent solids. Less than 10 parts by weight, less than 5 parts by weight, less than 1 part by weight, less than 0.1 part by weight, less than 0.01 part by weight, and 0 part by weight.

다른 실시예에서, 첨가제 함유량은, 폴리머 (A) 100 중량부에 대하여, 0 ~ 333 중량부, 300 중량부 미만, 200 중량부 미만, 100 중량부 미만, 50 중량부 미만, 25 중량부 미만, 10 중량부 미만, 5 중량부 미만, 1 중량부 미만, 0.1 중량부 미만, 0.01 중량부 미만, 0 중량부 등이 예시된다.In another embodiment, the additive content is 0 to 333 parts by weight, less than 300 parts by weight, less than 200 parts by weight, less than 100 parts by weight, less than 50 parts by weight, less than 25 parts by weight, Less than 10 parts by weight, less than 5 parts by weight, less than 1 part by weight, less than 0.1 part by weight, less than 0.01 part by weight, and 0 part by weight.

[활성 에너지 선 경화성 수지 조성물 : 「조성물」이라고도 함][Active Energy ray curable resin composition: also referred to as &quot; composition &quot;

본 발명은 상기 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물용 대전 방지제를 포함하는 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물을 제공한다. 상기 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물은, 상기 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물용 대전 방지제 외에 5개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트, 반응성 희석제, 광 중합 개시제 및 / 또는 첨가제를 포함할 수 있다.The present invention provides an active energy ray curable resin composition comprising an antistatic agent for the active energy ray curable resin composition. The active energy ray-curable resin composition contains, in addition to the antistatic agent for the active energy ray-curable resin composition, a poly (meth) acrylate having 5 or more (meth) acryloyl groups, a reactive diluent, a photopolymerization initiator and / can do.

(5개 이상 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트)(Poly (meth) acrylate having 5 or more (meth) acryloyl groups)

5개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트는, 비우레탄 변성 폴리 (메타) 아크릴레이트 (1) ((1) 성분이라고도 함), 우레탄 변성 폴리 (메타) 아크릴레이트 (2) ((2) 성분이라고도 함) 등이 예시된다. 5개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트는 2종 이상을 병용해도 좋다.The poly (meth) acrylate having 5 or more (meth) acryloyl groups may be a urethane-modified poly (meth) acrylate (1) (also referred to as component (1) ) (Also referred to as component (2)). Two or more poly (meth) acrylates having 5 or more (meth) acryloyl groups may be used in combination.

비우레탄 변성 폴리 (메타) 아크릴레이트 (1)는, 디펜타 에리트리톨 폴리 (메타) 아크릴레이트, 트리펜타 에리트리톨 폴리 (메타) 아크릴레이트 및 폴리 펜타 에리트리톨 폴리 (메타) 아크릴레이트 등이 예시된다.Examples of the urethane-modified poly (meth) acrylate (1) include dipentaerythritol poly (meth) acrylate, tripentaerythritol poly (meth) acrylate and polypentaerythritol poly (meth) .

우레탄 변성 폴리 (메타) 아크릴레이트 (2)는, 상기 (1) 성분 중의 1개 이상의 수산기를 갖는 성분 또는 4개 이하의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 수산기 함유 (메타) 아크릴레이트와 각종 공지의 폴리 이소시아네이트와의 화합물 등이 예시된다.The urethane-modified poly (meth) acrylate (2) is obtained by copolymerizing a component having at least one hydroxyl group in the component (1) or a hydroxyl group-containing (meth) acrylate having at most 4 (meth) acryloyl groups, A compound with a polyisocyanate, and the like.

폴리 이소시아네이트는, 방향족 디이소시아네이트, 지환족 디이소시아네이트 및 지방족 디이소시아네이트 및 이들의 다량체 (2 ~ 20 량체) 등이 예시된다. 이 중에서도 경화 피막의 내후성의 관점에서 지환족 디이소시아네이트 화합물이 바람직하다.Examples of the polyisocyanate include aromatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates, aliphatic diisocyanates, and their multimers (2- to 20-mer). Among them, an alicyclic diisocyanate compound is preferable from the viewpoint of weatherability of the cured coating.

방향족 디이소시아네이트는, 2,4-트릴렌 이소시아네이트, 2,6-트릴렌 이소시아네이트, 1,3-크실렌 디이소시아네이트, 디페닐 메탄-4,4'-디이소시아네이트, 3- 메틸-디페닐 메탄 디이소시아네이트 및 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트 등이 예시된다.The aromatic diisocyanate is preferably selected from the group consisting of 2,4-tolylene isocyanate, 2,6-tolylene isocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 3-methyl-diphenylmethane diisocyanate And 1,5-naphthalene diisocyanate.

지환족 디이소시아네이트는, 디사이클로헥실메탄 디이소시아네이트 및 이소 포론 디이소시아네이트, 수첨 크실렌 디이소시아네이트, 수첨 톨루엔 디이소시아네이트 등이 예시된다.Examples of the alicyclic diisocyanate include dicyclohexylmethane diisocyanate and isophorone diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, and hydrogenated toluene diisocyanate.

지방족 디이소시아네이트는, 헥사메틸렌 디이소시아네이트 등이 예시된다.Examples of the aliphatic diisocyanate include hexamethylene diisocyanate and the like.

5개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트의 분자량의 상한과 하한은, 10000, 9000, 8000, 7000, 5000, 4000, 3000, 2000, 1000, 900, 750, 700, 600, 550이 예시된다. 하나의 실시예에서, 5개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트의 분자량은, 폴리머 (A)와 상용성, 경화 피막의 대전 방지성, 투명성, 경도 및 내찰상성 등의 관점에서, 550 ~ 10000 정도가 바람직하고, 550 ~ 7000 정도가 보다 바람직하다.The upper and lower molecular weights of the poly (meth) acrylate having 5 or more (meth) acryloyl groups are preferably 10000, 9000, 8000, 7000, 5000, 4000, 3000, 2000, 1000, 900, 750, 700, 600 , 550 are exemplified. In one embodiment, the molecular weight of the poly (meth) acrylate having 5 or more (meth) acryloyl groups is not particularly limited as long as compatibility with the polymer (A), antistatic property of the cured film, transparency, hardness and scratch resistance , It is preferably about 550 to 10000, and more preferably about 550 to 7000.

또한, 본 발명에 있어서, 단순히 「분자량」이라고 기재하는 경우, 하기의 의미를 가진다. 즉, 디펜타 에리트리톨 폴리 (메타) 아크릴레이트와 같은 특정 화학식에서 유일한 화합물의 구조를 표현할 수 있는(즉, 분자량 분포가 1이다) 경우, 상기 분자량은 식 량을 의미한다. 한편, 폴리머 폴리 (메타) 아크릴레이트와 같은 특정 화학식에서 유일한 화합물의 구조를 표현할 수 없는(즉, 분자량 분포가 1 보다 크다) 경우, 상기 분자량은 중량 평균 분자량을 의미한다.In the present invention, when simply "molecular weight" is described, it has the following meaning. That is, when the structure of a unique compound in a specific formula such as dipentaerythritol poly (meth) acrylate can be expressed (i.e., the molecular weight distribution is 1), the molecular weight means a food amount. On the other hand, when the polymer can not express the structure of a unique compound in a specific formula such as poly (meth) acrylate (i.e., the molecular weight distribution is larger than 1), the molecular weight means the weight average molecular weight.

나아가, 5개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트의 수산기 값의 상한과 하한은, 100, 90, 75, 50, 25, 10, 5,0 mg KOH/g 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 5개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트의 수산기 값은, 폴리머 (A)와 상용성, 경화 피막의 대전 방지성, 투명성, 경도 및 내찰상성 등의 관점에서 0 ~ 100 mg KOH/g 정도가 바람직하고, 5 ~ 90 mg KOH/g 정도가 보다 바람직하다.Further, the upper limit and the lower limit of the hydroxyl value of the poly (meth) acrylate having 5 or more (meth) acryloyl groups are 100, 90, 75, 50, 25, 10, 5 and 0 mg KOH / do. In one embodiment, the hydroxyl value of the poly (meth) acrylate having at least five (meth) acryloyl groups is preferably at least one selected from the group consisting of compatibility with the polymer (A), antistatic property of the cured film, transparency, hardness and scratch resistance It is preferably about 0 to 100 mg KOH / g, more preferably about 5 to 90 mg KOH / g.

조성물 고형분의 전체 질량에 대한 5개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트의 함유량의 상한과 하한은, 80, 70, 60, 50, 40, 30, 20, 10, 5, 0 중량% 등이 예시된다. 하나의 실시예에서, 조성물 고형분의 전체 중량을 기준으로 5개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트를 0 ~ 80 중량% 포함하는 것이 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the content of the poly (meth) acrylate having 5 or more (meth) acryloyl groups based on the total mass of the composition solid are 80, 70, 60, 50, 40, 30, 20, 10, 0 wt%, and the like. In one embodiment, it is preferred to include from 0 to 80% by weight of poly (meth) acrylate having at least five (meth) acryloyl groups based on the total weight of the composition solids.

(반응성 희석제)(Reactive diluent)

반응성 희석제는,「5 개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트」이외의 탄소-탄소 불포화 결합 등의 활성 에너지 선 반응성 관능기를 갖는 화합물이다. 반응성 희석제는 2종 이상을 병용해도 좋다. 반응성 희석제를 병용함으로써,폴리머 (A)와 5개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트의 상용성이 더욱 양호해진다. 그 결과, 본 발명에 따른 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물의 투명성이 향상하며, 정전기 방지, 투명성, 경도 및 내찰상성 등에 특히 우수한 경화 피막을 얻을 수 있다.The reactive diluent is a compound having an active energy ray-reactive functional group such as a carbon-carbon unsaturated bond other than the &quot; poly (meth) acrylate having 5 or more (meth) acryloyl groups &quot;. The reactive diluent may be used in combination of two or more. By using the reactive diluent in combination, the compatibility of the polymer (A) with the poly (meth) acrylate having 5 or more (meth) acryloyl groups is further improved. As a result, the transparency of the active energy ray-curable resin composition according to the present invention is improved, and a cured film particularly excellent in antistatic, transparency, hardness and scratch resistance can be obtained.

반응성 희석제는, 테트라 (메타) 아크릴레이트, 트리 (메타) 아크릴레이트, 디 (메타) 아크릴레이트, 상기 모노머 (a1') ~ (a3'), 상기 탄소수 1 ~ 10 정도의 탄화수소기를 갖는 모노 (메타) 아크릴레이트, 상기 방향환 구조 함유 비닐 모노머 등이 예시된다. 특히 상용화 작용과 경화 피막 성능(경도, 내찰상성 등)의 관점에서 트리 (메타) 아크릴레이트, 테트라 (메타) 아크릴레이트가 바람직하다.The reactive diluent may be selected from the group consisting of tetra (meth) acrylate, tri (meth) acrylate, di (meth) acrylate, the monomers (a1 ') to (a3' ) Acrylate, and the vinyl monomer having an aromatic ring structure. Particularly, tri (meth) acrylate and tetra (meth) acrylate are preferable from the viewpoints of the compatibilizing action and the cured coating performance (hardness, scratch resistance, etc.).

테트라 (메타) 아크릴레이트는, 펜타 에리트리톨 테트라 (메타) 아크릴레이트, 디트리 메틸올 프로판 테트라 (메타) 아크릴레이트 등이 예시된다.Examples of the tetra (meth) acrylate include pentaerythritol tetra (meth) acrylate and ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate.

트리 (메타) 아크릴레이트는, 펜타 에리트리톨 트리 (메타) 아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리 (메타) 아크릴레이트 등이 예시된다.Examples of the tri (meth) acrylate include pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylol propane tri (meth) acrylate and the like.

디 (메타) 아크릴레이트는, 1,6-헥산디올 디 (메타) 아크릴레이트, 1,9-노난디올 디 (메타) 아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디 (메타) 아크릴레이트, 테트라 에틸렌 글리콜 디 (메타) 아크릴레이트, 헥사에틸렌 글리콜 디 (메타) 아크릴레이트, 디프로필렌 글리콜 디 (메타) 아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디 (메타) 아크릴레이트, 디사이클로 펜타디엔 디 (메타) 아크릴레이트, 비스페놀 A 에틸렌 옥사이드 변성 디 (메타) 아크릴레이트 등이 예시된다.Examples of the di (meth) acrylate include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) (Meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentadienedi (meth) acrylate, bisphenol A ethylene oxide Di (meth) acrylate, and the like.

(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)

하나의 실시예에서, 상기 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물은, 광중합 개시제가 포함된다. 광중합 개시제는 2종 이상을 병용해도 좋다. 광중합 개시제는, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 1-사이클로헥실 페닐케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-온, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀 옥사이드, 4-메틸 벤조페논 등이 예시된다. 또한, 광중합 개시제는, 자외선 경화를 행하는 경우에 사용되며, 전자선 경화를 할 경우에는 반드시 필요하지 않다.In one embodiment, the active energy ray curable resin composition includes a photopolymerization initiator. Two or more photopolymerization initiators may be used in combination. The photopolymerization initiator may be at least one selected from the group consisting of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane- Phenyl-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and 4-methylbenzophenone. The photopolymerization initiator is used in the case of ultraviolet curing, and is not necessarily required in the case of electron beam curing.

광중합 개시제의 함유량은, 특별히 제한되지 않는다. 조성물 100 중량부에 대한 광중합 개시제의 함유량의 상한과 하한은, 15, 14, 10, 9, 8, 7, 6, 5, 4, 3, 2, 1, 0.5, 0 질량부 등이 예시된다. 조성물 중에 광중합 개시제가 포함되는 경우, 하나의 실시예에서, 조성물 고형분 100 중량부에 대해 광중합 개시제를 (메타) 아크릴로일기의 반응 진행의 관점에서 0.5 ~ 15 중량부가 바람직하고, 0.5 ~ 10 중량부 정도 포함하는 것이 보다 바람직하다.The content of the photopolymerization initiator is not particularly limited. Examples of the upper limit and lower limit of the content of the photopolymerization initiator relative to 100 parts by weight of the composition are 15, 14, 10, 9, 8, 7, 6, 5, 4, 3, 2, 1, 0.5, 0 parts by mass and the like. When the photopolymerization initiator is contained in the composition, in one embodiment, the photopolymerization initiator is added in an amount of 0.5 to 15 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight, in terms of the reaction progress of the (meth) acryloyl group, Is more preferable.

폴리머 (A) 100 중량부에 대한 광중합 개시제의 함유량의 상한과 하한은, 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 9, 8, 7, 6, 5, 4, 3, 2, 1, 0.5, 0 중량부 등이 예시된다. 조성물 중에 광중합 개시제가 포함되는 경우, 하나의 실시예에서, 폴리머 (A) 100 중량부에 대해 광중합 개시제의 함유량은, (메타) 아크릴로일기의 반응 진행의 관점에서 0.5 ~ 50 중량부가 바람직하고, 5 ~ 20 중량부 정도가 보다 바람직하다.The upper limit and the lower limit of the content of the photopolymerization initiator relative to 100 parts by weight of the polymer (A) were 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 15, 10, 9, 8, 7, 6, , 2, 1, 0.5, 0 parts by weight, and the like. When the photopolymerization initiator is contained in the composition, in one embodiment, the content of the photopolymerization initiator relative to 100 parts by weight of the polymer (A) is preferably 0.5 to 50 parts by weight from the viewpoint of progress of the reaction of the (meth) acryloyl group, More preferably about 5 to 20 parts by weight.

(첨가제)(additive)

상기 조성물은 상기 폴리머 (A), 희석 용제, 5개 이상의 (메타) 아크릴로일기를 갖는 폴리 (메타) 아크릴레이트, 반응성 희석제, 광중합 개시제의 어느 것도 아닌 제를 첨가제로서 포함될 수 있다. 첨가제는 2 종 이상을 병용해도 좋다. 첨가제는 상술한 것 등이 예시된다.The composition may include any one of the above polymer (A), a diluting solvent, a poly (meth) acrylate having at least five (meth) acryloyl groups, a reactive diluent and a photopolymerization initiator as additives. Two or more kinds of additives may be used in combination. As the additives, the above-mentioned ones and the like are exemplified.

하나의 실시예에서, 첨가제 함유량은 조성물 고형분 100 중량부에 대하여 0 ~ 60 중량부, 40 중량부 미만, 25 중량부 미만, 10 중량부 미만, 5 중량부 미만, 1 중량부 미만, 0.1 중량부 미만, 0.01 중량부 미만, 0 중량부 등이 예시된다.In one embodiment, the additive content is 0 to 60 parts by weight, less than 40 parts by weight, less than 25 parts by weight, less than 10 parts by weight, less than 5 parts by weight, less than 1 part by weight, less than 0.1 part by weight Less than 0.01 part by weight, 0 part by weight, and the like.

[경화물][Cured goods]

본 발명은 상기 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물의 경화물을 제공한다. 상기 경화물은 상기 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물에 자외선, 전자선, 방사선 등의 활성 에너지 선을 조사함으로써 얻어진다.The present invention provides a cured product of the active energy ray-curable resin composition. The cured product is obtained by irradiating the active energy ray-curable resin composition with active energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, and radiation.

경화 반응에 사용하는 활성 에너지 선은, 자외선이나 전자선이 예시된다. 자외선의 광원으로는 제논 램프, 고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프를 갖는 자외선 조사 장치를 사용할 수 있다. 또한, 광량 및 광원 배치, 반송 속도 등은 필요에 따라 조정할 수 있으며, 예를 들어, 고압 수은등을 사용하는 경우에는, 80 ~ 160 W/cm 정도의 램프 출력을 갖는 램프 1 등에 대하여 이송 속도 5 ~ 50 m/분 정도로 경화시키는 것이 바람직하다. 한편, 전자선의 경우에는 10 ~ 300 kV 정도의 가속 전압을 갖는 전자선 가속 장치로, 이송 속도 5 ~ 50 m/분 정도로 경화시키는 것이 바람직하다.Examples of the active energy ray used for the curing reaction include ultraviolet rays and electron beams. As a light source of ultraviolet rays, an ultraviolet irradiation apparatus having a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, and a metal halide lamp may be used. For example, in the case of using a high-pressure mercury lamp, the lamp 1 having a lamp output of about 80 to 160 W / cm or so may be fed at a feed speed of 5 to 20 W / cm, It is preferable to cure at about 50 m / min. On the other hand, in the case of an electron beam, it is preferable to use an electron beam accelerating device having an acceleration voltage of about 10 to 300 kV and curing at a conveying speed of about 5 to 50 m / min.

[필름][film]

본 발명은 상기 경화물을 포함하는, 필름을 제공한다. 상기 필름은, 상기 경화물 및 각종 기반 필름을 구성 요소로하는 물품이다. 하나의 실시예에서, 상기 필름은 플라스틱 필름이다.The present invention provides a film comprising the cured product. The film is an article comprising the cured product and various base films as constituent elements. In one embodiment, the film is a plastic film.

베이스 필름 (기재)는 각종 공지의 것을 채용할 수 있다. 베이스 필름은, 폴리 카보네이트 필름, 아크릴 필름 (폴리메틸 메타크릴레이트 필름 등), 폴리스티렌 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리올레핀 필름, 에폭시 수지 필름, 멜라민 수지 필름, 트리아세틸 셀룰로오스 필름, ABS 필름, AS 필름, 노르보르넨계 수지 필름, 환상 올레핀 필름, 폴리비닐알코올 필름 등이 예시된다. 베이스 필름의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 15 ~ 100 μm 정도가 바람직하다.As the base film (substrate), various known ones can be adopted. Examples of the base film include a polycarbonate film, an acrylic film (such as polymethyl methacrylate film), a polystyrene film, a polyester film, a polyolefin film, an epoxy resin film, a melamine resin film, a triacetylcellulose film, an ABS film, A boron-based resin film, a cyclic olefin film, and a polyvinyl alcohol film. The thickness of the base film is not particularly limited, but is preferably about 15 to 100 mu m.

상기 필름은 각종 공지의 방법으로 제조할 수 있다. 필름의 제조 방법은 상기 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물을 상기베이스 필름의 적어도 한면에 도공하고, 필요에 따라 건조시킨 후, 활성 에너지 선을 조사하는 방법 등이 예시된다. 또한, 얻어진 베이스 필름의 비도공면에 본 실시예에 따른 수지 조성물을 도공하고, 그 위에 다른 베이스 필름을 붙여 합치는 것으로부터 활성 에너지 선을 조사하여 적층 필름을 제조할 수도 있다.The film can be produced by various known methods. The film may be produced by coating the active energy ray-curable resin composition on at least one side of the base film, drying the base film, if necessary, and then irradiating with an active energy beam. In addition, the resin composition according to the present embodiment is coated on the non-coplanar surface of the obtained base film, and another base film is laminated on the non-coplanar surface of the obtained base film, so that a laminated film can be produced by irradiating active energy rays.

도공 방법은, 바 코터 도공, 와이어 바 도공, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 도공, 그라비아 도공, 리버스 그라비아 도공, 오프셋 인쇄, 플렉소 인쇄, 스크린 인쇄 등이 예시된다.Examples of coating methods include bar coater coating, wire bar coating, Meyer bar coating, air knife coating, gravure coating, reverse gravure coating, offset printing, flexo printing, and screen printing.

도공량은 특별히 한정되지 않지만, 건조 후 질량이 0.1 ~ 30 g/m2 정도가 바람직하고, 1 ~ 20 g/m2가 보다 바람직하다.The coating amount is not particularly limited, but the mass after drying is preferably about 0.1 to 30 g / m 2, more preferably 1 to 20 g / m 2 .

[실시예][Example]

이하에, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을보다 구체적으로 설명한다. 본 발명은 이하의 실시예에 한정되지 않는다. 또한, 이하에서 「부」및 「%」는 특히 설명이 없는 한 각각 중량부 및 중량%를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following embodiments. In the following, &quot; part (s) &quot; and &quot;% &quot;

또한, (A) 성분의 중량 평균 분자량은, 시판의 분자량 측정기를 이용하여, 이하의 조건에서 측정한 실측 값이다.The weight average molecular weight of the component (A) is a measured value measured under the following conditions using a commercially available molecular weight measuring instrument.

분자량 측정기 : 제품명 「HLC-8320GPC」도소(주) 제Molecular weight measuring apparatus: product name "HLC-8320GPC" manufactured by Tosoh Corporation

컬럼 : 제품명 「TSKgel G6000PWXL-CP」, 「TSKgel G3000PWXL-CP」도소(주) 제Column: product name "TSKgel G6000PW XL -CP", "TSKgel G3000PW XL -CP" manufactured by TOSOH CORPORATION

전개 용제 : 0.1 M의 NaNO3 및 0.1 M 아세트산Developing solvent: 0.1 M NaNO 3 and 0.1 M acetic acid

유속 : 0.5 mL/minFlow rate: 0.5 mL / min

시료 농도 : 0.5 g/LSample concentration: 0.5 g / L

표준 물질 : 폴리에틸렌 옥사이드(TSKgel 표준 폴리에틸렌 옥사이드 SE-키트 도소(주) 제)Standard substance: polyethylene oxide (TSKgel standard polyethylene oxide SE-KITTOSO CO., LTD.)

<(a2) 성분의 합성>< Synthesis of component (a2) >

합성예 1Synthesis Example 1

교반 장치, 냉각관을 구비한 반응 장치에, 하이드록시 에틸 메타크릴레이트 130 부, ε-카프로 락톤 1140 부 및 옥틸산 주석 1.3 부를 넣고 150 ℃까지 승온시켜, 6 시간 보온한 후 냉각하여, 중량 평균 분자량이 약 2750인 수산기 함유 비닐 모노머와 락톤과의 개환 중 부가물(이하 (a2-1) 성분이라 한다)을 얻었다.130 parts of hydroxyethyl methacrylate, 1140 parts of epsilon -caprolactone and 1.3 parts of tin octylate were placed in a reactor equipped with a stirrer and a cooling tube, and the mixture was heated to 150 DEG C, maintained at that temperature for 6 hours, cooled, (Hereinafter referred to as a component (a2-1)) of a hydroxyl group-containing vinyl monomer having a molecular weight of about 2750 and a lactone.

또한, 해당 중량 평균 분자량은 시판의 분자량 측정기(본체 제품명 「HLC-8220GPC」도소(주) 제)를 이용하여,The weight average molecular weight was measured using a commercially available molecular weight analyzer ("HLC-8220GPC" manufactured by Tosoh Corporation)

컬럼 제품명 「TSKgel SuperHZ-M 」, 도소(주) 제; Column "TSKgel SuperHZ-M", manufactured by Tosoh Corporation;

전개 용제 : 테트라하이드로퓨란Developing solvent: tetrahydrofuran

유속 : 0.35 mL/minFlow rate: 0.35 mL / min

시료 농도 : 0.5%Sample concentration: 0.5%

표준 물질 : 폴리스티렌 (표준 폴리스티렌 키트 PStQuickA, B, C 도소(주) 제)Standard material: polystyrene (standard polystyrene kit PStQuick A, B, C manufactured by TOSOH CORPORATION)

라는 조건에서 측정하여 얻은 값이다(이하, 동일). 표 1에 조성 및 중량 평균 분자량을 나타낸다(이하, 동일).(Hereinafter the same). The composition and weight average molecular weight are shown in Table 1 (hereinafter the same).

<(A) 성분의 합성>&Lt; Synthesis of component (A) >

제조예 1Production Example 1

합성예 1과 동일한 반응 장치에, 메타크릴로일 옥시에틸 트리메틸암모늄 클로라이드(DMC)(이하 (a1-1) 성분이라 한다) 100 부, (a2-1) 성분 80 부, tert-부틸 메타 아크릴레이트(tBMA)(이하 (a3-1) 성분이라 한다) 20 부 및 프로필렌 글리콜 모노 메틸에테르(이하, PGM이라 한다.) 800 부를 추가하여, 80 ℃까지 승온하였다. 다음으로 2,2'-아조비스(메틸부티로니트릴)(이하, AMBN라 한다.) 8 부 및 PGM32 부를 첨가하여, 중합 반응을 개시, 85℃에서 6시간 보온 한 후 냉각하고, 4급 암모늄염 구조 함유 폴리머 (A-1)의 용액(불휘발분 20%)을 얻었다.100 parts of methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride (DMC) (hereinafter referred to as component (a1-1)), 80 parts of component (a2-1), 80 parts of tert-butylmethacrylate (hereinafter referred to as "component (a3-1)") and 800 parts of propylene glycol monomethyl ether (hereinafter referred to as PGM) were added, and the temperature was raised to 80 ° C. Next, 8 parts of 2,2'-azobis (methylbutyronitrile) (hereinafter referred to as AMBN) and 32 parts of PGM were added to initiate the polymerization reaction. The mixture was maintained at 85 ° C for 6 hours and then cooled to obtain a quaternary ammonium salt (Nonvolatile matter content 20%) of the structure-containing polymer (A-1) was obtained.

제조예 2 ~ 6 및 비교제조예 1 ~ 4Production Examples 2 to 6 and Comparative Production Examples 1 to 4

표 1에 기재한 바와 같이 성분을 변경한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 실시하였다.The procedure of Production Example 1 was repeated except that the components were changed as shown in Table 1.

[표 1][Table 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

*조성수치는 질량부 수* Composition value is the number of parts

tBMA : tert-부틸 메타 아크릴레이트tBMA: tert-butyl methacrylate

iBMA : 이소부틸 메타 아크릴레이트iBMA: isobutyl methacrylate

CHMA : 사이클로헥실 메타 크릴레이트CHMA: cyclohexyl methacrylate

LMA : 라우릴 메타 크릴레이트LMA: Lauryl methacrylate

<활성 에너지 선 경화성 수지 조성물의 제조>&Lt; Preparation of active energy ray-curable resin composition >

실시예 1Example 1

용액 상태의 (A-1) 성분으로 이루어진 대전 방지제를 5 부, 디펜타 에리스리톨 헥사아크릴레이트(DPHA)(MIWON 제, 상품명 「MIRAMER M600」)을 50 부, 우레탄 아크릴레이트(아라카와 화학 공업(주) 제, 상품명 「빔 세트 577 」)를 50 부 및 1- 하이드록시-사이클로헥실-페닐 케톤(BASF 재팬(주) 제, 상품명 「이르가 큐어 184」)를 2 부, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-2-프로판-2-온(BASF 재팬 (주) 제, 상품명 「이르가 큐어 2959 」)를 3 부, 고형분 비율로 배합하고, PGM 희석하여, 불휘발분 30%의 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물을 제조하였다., 5 parts of an antistatic agent composed of the component (A-1) in a solution state, 50 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) (trade name: MIRAMER M600, manufactured by MIWON Co., 50 parts and 1 part of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone (trade name: Irgacure 184, manufactured by BASF Japan Ltd.), 1 part of [4- (2 (Trade name: Irgacure 2959, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) in a solid content ratio of 3: 1, And subjected to PGM dilution to prepare an active energy ray-curable resin composition having a nonvolatile content of 30%.

실시예 2 ~ 6 및 비교예 1 ~ 4Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 4

표 2에 기재한 바와 같이 성분을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.The procedure of Example 1 was repeated except that the components were changed as shown in Table 2.

[표 2][Table 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

(필름의 제작)(Production of film)

100 μm 두께의 PET 필름(도레이(주) 제 루미라 100U483) 상에, 각 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물을, 경화 후의 피막의 두께가 5 μm가 되도록 #15 바 코터로 도포하여, 80℃에서 1분간 건조시켜 필름을 제작하였다. 다음으로, 얻어진 필름을 자외선 경화 장치(제품명 : UBT-080-7A/BM (주) 멀티플라이 제, 고압 수은등 600 mJ/cm2)를 사용하여 경화 피막을 제공한 필름을 얻었다. 제작한 필름에 대한 다음의 평가 결과를 표 2에 나타낸다.Each active energy ray-curable resin composition was coated on a 100 μm thick PET film (Lumira 100U483, Toray Co., Ltd.) with a # 15 bar coater so that the thickness of the cured film became 5 μm, And dried for a minute to produce a film. Next, the film thus obtained was provided with a cured coating film by using an ultraviolet curing device (product name: UBT-080-7A / BM (multipurpose material, high pressure mercury lamp, 600 mJ / cm 2 )). Table 2 shows the evaluation results of the produced films.

<대전 방지성 시험><Antistatic Property Test>

필름의 제작 직후의 표면 저항을, 시판 저항 측정기(미츠비시 화학(주) 제, 제품명 「하이레스타 MCP-HT-450」)를 이용하여 JIS K 6911에 따라, 인가 전압 500 V에서 측정하였다.Immediately after the film was formed, the surface resistance was measured at an applied voltage of 500 V according to JIS K 6911 using a commercially available resistance meter (product name: HILESTA MCP-HT-450, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).

1 × 1011 Ω/sq ≥ ... ○1 x 10 11 Ω / sq ≥ ... ○

1 × 1011 Ω/sq ＜ ... ×1 x 10 11 ? / Sq <... x

<투명성 측정><Transparency Measurement>

필름의 헤이즈 값을, 무라카미 색채 기술 연구소 제 칼라 헤이즈 측정기를 이용하여 측정하였다.The haze value of the film was measured using a color haze meter manufactured by Murakami Color Research Laboratory.

1.0 ≥ ... ○1.0 ≥ ... ○

1.0 ＜ ... ×1.0 <... ×

<내습 열성 시험><Humidity Resistance Test>

필름을 온도 80℃, 습도 95% Rh 환경 하에 24시간 방치한 후, 필름 표면에 표면 석출물의 유무를 육안으로 확인하였다.The film was allowed to stand for 24 hours under the environment of a temperature of 80 캜 and a humidity of 95% Rh, and the presence or absence of surface precipitates was visually confirmed on the surface of the film.

표면 석출물 없음 ... ○No surface deposits ... ○

표면 석출물 있음 ... ×Surface precipitates present ... ×

<내찰상성 시험>&Lt; Scratch resistance test >

필름의 경화 피막을 철강 양모(10 mm × 10 mm)을 바닥에 붙인 추(500g)로 10회 문질러, 도막 외관을 기준으로 육안 평가하였다.The cured film of the film was rubbed ten times with a weight (500 g) of steel wool (10 mm x 10 mm) attached to the bottom and visually evaluated based on the appearance of the coating film.

상처 없음 ... ○No scratches ... ○

상처 있음 ... ×Wounded ... ×

Claims (4)

4급 암모늄염 구조를 포함하는 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a1),
수산기 함유 비닐 모노머와 락톤과의 개환 중 부가물이며, 한편,
중량 평균 분자량이 1,000 ~ 10,000 인 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a2), 및
탄소수 3~5의 분기 알킬 에스테르기를 포함하는 비닐 모노머 유래의 구성 단위 (a3)을 포함하고,
분자량 분포 (Mw / Mn)가 1.8 ~ 5.0 인 폴리머 (A)를 포함하는,
활성 에너지 선 경화성 수지 조성물용 대전 방지제.
(A1) derived from a vinyl monomer containing a quaternary ammonium salt structure,
Is an adduct in the ring opening of a hydroxyl group-containing vinyl monomer and a lactone,
(A2) derived from a vinyl monomer having a weight average molecular weight of 1,000 to 10,000, and
(A3) derived from a vinyl monomer containing a branched alkyl ester group having 3 to 5 carbon atoms,
(A) having a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.8 to 5.0,
An antistatic agent for an active energy ray curable resin composition.
제1항에 기재된 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물용 대전 방지제를 포함하는 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물.
An active energy ray curable resin composition comprising an antistatic agent for an active energy ray curable resin composition according to claim 1.
제2항에 기재된 활성 에너지 선 경화성 수지 조성물의 경화물.
A cured product of the active energy ray-curable resin composition according to claim 2.
제3항에 기재된 경화물을 포함하는 필름.A film comprising the cured product according to claim 3.
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