KR20190072786A - 세라믹 박막의 제조방법 및 그 제조장치 - Google Patents

세라믹 박막의 제조방법 및 그 제조장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 세라믹 박막의 제조방법 및 그 제조장치에 관한 것이다.
본 발명의 세라믹 박막의 제조방법은 매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)으로 이루어진 주석 산화물이 함유된 도핑용액을 인라인(in-line) 믹서에 의해 혼합 직후 기화시켜, 반응 챔버 내 불균일한 반응에 의한 입자생성을 최소화하고, 특히, 3-웨이 밸브를 통해 비활성기체를 주기적으로 공급하여 내부 생성된 입자를 제거함으로써, 발열 균일성을 확보하여 발열 성능 및 열적 내구성이 우수하여 최대 온도가 종래보다 향상된 저전력 고열의 세라믹 박막을 제공할 수 있다.

Description

세라믹 박막의 제조방법 및 그 제조장치{MANUFACTURING METHOD OF CERAMIC THIN FILM AND DEVICE THEREOF}
본 발명은 세라믹 박막의 제조방법 및 그 제조장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기판상에 세라믹 발열층을 형성할 때 매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)으로 이루어진 주석 산화물이 함유된 도핑용액을 혼합 직후 기화함으로써 입자 생성을 억제하고, 3-웨이 밸브를 통해 비활성기체를 주기적으로 공급하여 내부 생성된 입자를 제거함으로써, 발열 균일성을 확보하여 발열 성능 및 높은 온도에서 내구성이 우수한 세라믹 박막의 제조방법 및 그 제조장치에 관한 것이다.
전기 통전에 의해 가열되는 전기 발열체는 온도 조절이 용이하고 공기가 오염되지 않아 위생적이며, 소음이 없고 취급이 용이하여 일생활에 다양하게 활용되고 있다. 이러한 전기 발열체의 발열원으로는 니켈크롬, 철크롬, 구리니켈과 같은 금속 저항선이 일반적으로 사용된다.
그러나, 상기 금속 저항선을 이용한 발열체에서는 전기가 상기 저항성을 통해 흐리기 때문에 금속 저항성의 어느 한 부분이라도 전기적으로 개방되면 전기 발열체가 작동하지 않으며, 상기 금속 저항선의 단락이 있는 경우에는 과열에 의한 화재 위험성이 있다.
또한, 상기 금속 저항선은 저항이 높은 곳에서만 열이 발생하는 부분 발열방식으로 가열이 이루어지므로 전기 발열체 전체의 온도 분포가 불균일하며, 가시광선 방사율이 비교적 크고, 적외선의 방사율이 낮기 때문에 금속 저항선의 가열 효율은 일반적으로 낮다.
또한 상기 금속 저항선을 이용한 발열체는 전류 흐름에 따른 전자기파 발생으로 인체 유해성 문제로 인해 의료분야에 사용이 제한되어 왔다.
상기 금속 저항선을 대체하는 전기 발열체로서, 탄소 섬유를 펄프 부재와 같은 기판 상에 분산시켜 제조되는 섬유형 발열체(특허문헌 1, 2) 및 흑연 판상의 분말이나 탄소 분말을 분산시킨 전도성 고분자 발열 시트와 같은 면상 발열체(특허문헌 3)가 개발되고 있다.
그러나 일련의 박막형의 면상 발열체는 제조 원가가 높으며, 무엇보다 통상 도전 입자를 활용하는 기술이어서 기판 전체에 걸쳐 발열 균일성 확보가 중요하다. 이때, 발열 균열성이 확보되지 못하면, 대면적화에 제한이 따르고, 적외선 방사 효율이 작기 때문에 저전력 구현이 불가능하며, 열적 내구성이 취약하여 최대 온도가 낮아지는 문제점이 있다.
이에, 본 발명자들은 종래 문제점을 해소하기 위하여 노력한 결과, 기판상에 세라믹 발열층을 형성할 때 반응 챔버 내에서 불균일한 반응에 의한 입자생성을 억제하거나 제거하여 세라믹 박막의 균일성을 확보하고, 박막의 결함이 생성되는 것을 최소화하여 발열체의 내구성을 확보할 수 있으므로, 발열 성능 및 최대 온도가 종래보다 높아 열적 내구성이 향상된 저전력 고열의 세라믹 박막을 제공함으로써, 본 발명을 완성하였다.
대한민국특허 제1804872 호(2017.11. 29 등록) 대한민국특허 제1783995 호(2017. 09. 26 등록) 대한민국특허 제1316935 호(2013. 10. 02 등록) 대한민국특허 제1737693 호(2017. 05. 12 등록) 대한민국특허 제1539387 호(2015. 07. 20 등록)
본 발명의 목적은 발열 균일성을 확보하여 발열 성능 및 높은 온도에서 내구성이 우수한 세라믹 박막의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 세라믹 박막의 제조장치를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 1) 매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)으로 이루어진 주석 산화물이 함유된 도핑용액의 준비공정,
2) 상기 도핑용액이 증기전달시스템 내부에 배치된 인라인(in-line) 믹서에 의해 혼합 직후의 액상이 기화되는 공정 및
3) 상기 기화된 기상이 화학기상증착 챔버로 전달되어 기판상에 세라믹 발열층이 증착되는 공정으로 수행된, 세라믹 박막의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 제조방법 중 2) 공정은 혼합 직후의 액상이 통과되는 지점에 3-웨이 밸브를 통해 비활성기체가 주기적으로 공급되도록 한다.
이때, 2) 공정에서 혼합 직후의 액상 및 3-웨이 밸브를 통해 공급된 비활성기체가 교차적으로 화학기상증착 챔버로 전달되도록 하여, 반응 시 생성되는 입자를 제거할 수 있다.
또한, 본 발명은 매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)이 인라인(in-line) 믹서에 의해 주석 산화물이 함유된 도핑용액이 혼합 및 기화되는 증기전달시스템; 기판 및 인젝션 헤드가 배치된 화학기상증착 챔버;로 이루어지되, 상기 증기전달시스템으로부터 기화된 기상이 인젝션 헤드를 통해 기판에 증착되어 세라믹 발열층을 형성하는 세라믹 박막의 제조장치를 제공한다.
구체적으로 상기 증기전달시스템에서, 매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)은 각 용기에 충진되며 MFC(Mass Flow Controller)에 의해 혼합비율이 조정되어 인라인 믹서에 투입될 수 있다.
또한, 상기 인라인 믹서에 의해 혼합된 액상이 통과되는 공급라인과 증발기(Vaporizer)의 중간 지점에 3-웨이 밸브가 더 구비될 수 있다.
이때, 상기 3-웨이 밸브는 MFC(Mass Flow Controller)가 부착된 비활성기체 공급 탱크와 연결되어 인라인(in-line) 믹서에 의해 혼합 직후의 액상이 통과 지점에 비활성기체를 공급할 수 있다.
본 발명은 기판상에 세라믹 발열층이 화학기상증착법에 의해 세라믹 박막을 제조할 때, 반응성이 높은 두 용액을 기화 직전에 혼합하고, 비활성기체를 주기적으로 공급하여 내부 생성된 입자를 제거함으로써, 화학기상증착 챔버 내에서 불균일한 반응에 의한 입자생성을 억제하거나 제거하여 발열 균일성을 확보하여 대면적으로 발열 성능 및 열적 내구성이 우수한 세라믹 박막을 제조할 수 있다.
따라서, 본 발명은 세라믹 박막의 제조방법과 제조장치를 통해, 최대 온도가 종래보다 높고 면저항성 낮아 적외선 방사 효율이 우수하여 저전력 구현이 가능하고, 열적 내구성이 우수하여 고열 적용이 가능한 저전력 고열 세라믹 박막을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시형태의 세라믹 박막의 제조장치에 대한 모식도이고,
도 2는 본 발명의 제2실시형태의 세라믹 박막의 제조장치에 대한 모식도이고,
도 3은 종래 세라믹 박막의 제조장치에 대한 모식도를 비교한 것이다.
이하, 본 발명을 상세히 설명하고자 한다.
본 발명은 1) 매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)으로 이루어진 주석 산화물이 함유된 도핑용액의 준비공정,
2) 상기 도핑용액이 증기전달시스템 내부에 배치된 인라인(in-line) 믹서에 의해 혼합 직후의 액상이 기화되는 공정 및
3) 상기 기화된 기상이 화학기상증착 챔버로 전달되어 기판상에 세라믹 발열층이 증착되는 공정으로 수행된, 세라믹 박막의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 제조방법에서 1) 공정의 도핑용액은 세라믹 박막의 발열원으로서 세라믹 발열층으로 형성되는 것으로, 상기 용액의 반응성이 높아 반응 고형물이 코팅표면을 오염시켜 불균일한 박막층의 원인이 되며, 반응과정에 과량 투입시 미반응 또는 부산물의 입자생성을 촉진하게 된다.
또한, 1) 공정의 도핑용액에서, 준금속 및 상기 전이후금속은 상기 주석 산화물 내에서 산화물 형태로 존재할 수 있다.
상기 준금속은 금속과 비금속의 중간 성질을 가지며, 바람직하게는 B(붕소), Si(규소), 게르마늄(Ge), 비소(As), 안티몬(Sb) 또는 텔루륨(Te)을 포함하며, 더욱 바람직하게는, 상기 준금속은 Sb (안티몬)을 포함한다.
상기 주석 산화물 내 준금속의 도핑량은 0.65 내지 0.75 at.%(원자수비)일 수 있다. 상기 주석 산화물 내 준금속의 도핑량이 0.65 at.% 미만일 경우, 상기 주석 산화물 내에서 도펀트 역할을 수행하기 어렵고, 도핑량이 0.75 at.% 초과하면, 면저항의 값이 증가하여 면상 발열체의 발열 온도를 감소시킬 수 있다.
상기 전이후금속은 전이 금속에 비해 녹는점과 끓는점이 낮아 주석 산화물 내에서 전이 금속에 비해 반응성이 크다. 예를 들어, 상기 전이후금속은 알루미늄(Al), 갈륨(Ga), 인(In), 주석(Sn), 탈륨(Tl), 납(Pb), 비스무트(Bi) 또는 폴로늄(Po)을 포함한다. 바람직하게, 상기 전이후금속은 Bi (비스무트)를 포함한다.
상기 주석 산화물 내 전이후금속의 도핑량은 0.10 내지 0.15 at.%의 범위 내이다. 상기 주석 산화물 내 전이후금속의 도핑량이 0.1 at.% 미만이면, 상기 주석 산화물 내에서 도펀트 역할을 수행하기 어렵고, 도핑량이 0.15 at.% 초과하면, 반응성이 큰 전이후 금속에 의해 오히려 면상 발열체의 구조 안정화가 어려울 수 있다. 그러나, 상기 범위 내에서, 전이후 금속은 상기 주석 산화물 내에서 산소와 강하게 결합하여 면상 발열체의 구조 안정화를 꾀하여 열적 내구성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 제조방법 중 2) 공정은 혼합 직후의 액상이 통과되는 지점에 3-웨이 밸브를 통해 비활성기체가 주기적으로 공급되도록 한다.
이때, 2) 공정은 1) 공정에서의 반응성이 높은 용액을 혼합한 직후 기화시키거나 또는 기화 직전에 혼합하는 공정이다.
즉, 반응성이 높은 두 용액을 혼합한 직후 기화시킴으로써, 반응에 필요한 시간을 단축시켜 반응에 의한 입자생성을 억제한다.
이때, 매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)을 인라인(in-line) 믹서를 통해 인시츄(in-situ)로 혼합한 후 CVD 증착공정을 수행한다.
상기 인라인 믹서(15)는 증기전달시스템(10) 내에 배치되어 두 용액간 혼합할 수 있는 것이라면, 공지의 수단에서 제한 없이 채용 가능하다.
또한, 본 발명의 증기전달시스템(10)에는 인라인 믹서(15)이 증발기(18)에 통과되는 지점에 3-웨이 밸브를 통해 비활성기체가 주기적으로 공급한다.
구체적으로는 혼합 직후의 액상과 3-웨이 밸브를 통해 공급된 비활성기체가 번갈아 교차적으로 화학기상증착 챔버로 전달되도록 함으로써, 상기 비활성기체가 챔버 내부에 생성된 입자들을 제거하여, 반응 부산물에 의한 박막 결합을 최소화하여 균일한 코팅막으로 제공되도록 한다.
본 발명의 제조방법에서, 3) 공정은 상기 기화된 기상이 화학기상증착 챔버로 전달되어 기판(21)상에 세라믹 발열층(22)이 증착되어 세라믹 박막을 완성하는 것이다.
이때, 기판(21)은 유리(glass), 석영(quartz), 세라믹(ceramic), 소다 라임(soda lime), 플라스틱(plastic), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate) 수지, 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 또는 폴리카보네이트(polycarbonate) 수지를 포함할 수 있으며, 본 발명의 실시예에서는 가장 바람직한 일례로서 세라믹을 사용하여 설명하나, 이에 한정되지 아니할 것이다.
3) 공정에서의 증착된 세라믹 발열층의 두께는 적용분야에 따라 증착조건으로 조절할 수 있으나, 바람직하게는 100 내지 500㎚인 것이다. 상기 세라믹 발열층의 두께가 100㎚ 미만이면, 높은 저항 값에 비하여 낮은 열 용량으로 인해 발열 효과가 미미할 수 있고, 상기 세라믹 발열층의 두께가 500㎚ 초과하면, 기판 상에 균일하게 형성되지 어렵거나 기판과 세라믹 발열층의 열팽창 계수의 차이와 같은 요인에 의한 크랙(crack)과 같은 결함이 발생할 수 있다. 이 범위에서 고온에서의 수명을 결정하는 박막의 기계적 강도와 발열 온도가 최적화된다.
또한, 3) 공정에서 화학기상증착 조건은 통상 이 기술분야에서 채용되는 조건으로 실시할 수 있으므로 구체적인 기술은 생략한다.
나아가, 본 발명은 매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)이 인라인(in-line) 믹서에 의해 주석 산화물이 함유된 도핑용액이 혼합 및 기화되는 증기전달시스템; 기판 및 인젝션 헤드가 배치된 화학기상증착 챔버;로 이루어지되, 상기 증기전달시스템으로부터 기화된 기상이 인젝션 헤드를 통해 기판에 증착되어 세라믹 발열층을 형성하는 세라믹 박막의 제조장치를 제공한다.
도 1은 본 발명의 제1실시형태의 세라믹 박막의 제조장치에 대한 모식도로서, 상기 증기전달시스템(10)에서, 매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)은 용기에 충진되며, 상기 용기에는 MFC(Mass Flow Controller)에 의해 적정 혼합비율로 제어되어 인라인 믹서(15)에 투입될 수 있다.
상기 인라인 믹서(15)에서 용액이 혼합된 직후 증발기(18) 및 증기 컷-오프 밸브(19)를 통해 화학기상증착(CVD) 챔버(20)의 인젝션 헤드(22)에 공급하고, 증착 장비를 이용하여 300 내지 600℃ 범위에서 분사 가열된 기판(21)상에 증착을 수행하여 세라믹 발열층을 형성함으로써, 세라믹 박막을 제조한다.
도 2는 본 발명의 제2실시형태의 세라믹 박막의 제조장치에 대한 모식도로서, 도 1의 증기전달시스템(10) 상에서 인라인 믹서(15)에 의해 혼합된 액상이 통과되는 공급라인과 증발기(18)의 중간 지점에 3-웨이 밸브(17)가 더 구비되는 것이다.
상기 3-웨이 밸브(17)는 MFC(14)가 부착된 비활성기체 공급 탱크와 연결되며, 인라인 믹서(15)에 의해 혼합 직후의 액상이 통과 지점에 비활성기체를 공급하는 것이고, 더욱 구체적으로는 인라인 믹서(15)에 의해 혼합 직후의 액상이 통과되면, 3-웨이 밸브(17)를 열어 비활성기체를 공급함으로써, 챔버 내부에 생성된 입자들을 배출구를 통해 제거하여, 반응 부산물에 의한 박막 결합을 최소화할 수 있다.
이상으로부터, 본 발명은 기판 상에 1종 이상의 준금속과 1종 이상의 전이후금속이 도핑되어 있는 주석 산화물을 포함하는 세라믹 발열층이 형성된 세라믹 박막을 제공한다.
상기 세라믹 박막은 주석 메트릭스에 준금속 안티몬 및 전이후금속 비스무스가 도핑된 주석 산화물이 안정적으로 도핑되어 우수한 면저항 균일도를 통해 대면적으로 우수한 발열 성능 및 열적 내구성을 구현한다.
특히, 최대 온도가 종래보다 높고 면저항성 낮아 적외선 방사 효율이 우수하여 저전력 구현이 가능하고, 열적 내구성이 우수하여 고열 적용이 가능한 저전력 고열 세라믹 박막을 제공할 수 있다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하고자 한다.
본 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
메탄올 5g, 메트릭스 전구체인 염화주석 5g을 혼합한 매트릭스 전구체 함유용액(A)를 준비하고, 준금속 전구체인 삼화 안티몬 0.5g, 전이후전구체인 염화 비스무트 0. 2g을 메탄올 5g에 녹여 준비한 용액(B)를 준비하였다.
상기 용액(A) 및 용액(B)를 도 1에 도시된 증기전달시스템(10) 내부에 배치된 인라인(in-line) 믹서(15)에서 혼합한 직후, 증발기(18)과 증기 컷-오프 밸브(19)를 통해 CVD 챔버(20)의 인젝션 헤드(22)에 공급하고, 증착 장비를 이용하여 300 내지 600℃ 범위에서 분사 가열된 세라믹 기판(21)상에 증착을 수행하여 세라믹 발열층을 형성하여 세라믹 박막을 완성하였다.
<실시예 2>
메탄올 5g, 메트릭스 전구체인 염화주석 5g을 혼합한 매트릭스 전구체 함유용액(A)를 준비하고, 준금속 전구체인 삼화 안티몬 0.5g, 전이후전구체인 염화 비스무트 0. 2g을 메탄올 5g에 녹여 준비한 용액(B)를 준비하였다.
상기 용액(A) 및 용액(B)를 도 2에 도시된 증기전달시스템(10) 내부에 배치된 인라인(in-line) 믹서(15)에서 혼합한 직후, 증발기(18)과 증기 컷-오프 밸브(19)를 통해 CVD 챔버(20)의 인젝션 헤드(22)에 공급하고, 인라인(in-line) 믹서(15)와 증발기(18) 중간 지점에 3-웨이 볼 밸브(17)을 통해 질소가스를 공급하되, 액상이 통과와 질소가스 공급을 번갈아 교차로 실시하였다. 이후, 증착 장비를 이용하여 300 내지 600℃ 범위에서 분사 가열된 세라믹 기판(21)상에 증착을 수행하여 세라믹 발열층을 형성하여 세라믹 박막을 완성하였다.
<비교예 1>
메탄올 5g, 메트릭스 전구체인 염화주석 5g을 혼합한 매트릭스 전구체 함유용액(A)와 준금속 전구체인 삼화 안티몬 0.5g, 전이후전구체인 염화 비스무트 0. 2g을 메탄올 5g에 녹여 준비한 용액(B)를 혼합하여 준비하였다.
상기 혼합용액(101)을 증기전달시스템(100)내 증발기(118)과 증기 컷-오프 밸브(119)를 통해 CVD 챔버(20)의 인젝션 헤드(22)에 공급하고, 증착 장비를 이용하여 300 내지 600℃ 범위에서 분사 가열된 세라믹 기판(21)상에 증착을 수행하여 세라믹 발열층을 형성하여 세라믹 박막을 완성하였다.
<실험예 1> 물성평가
상기 실시예 1∼2 및 비교예 1에서 제조된 세라믹 박막에 대한 물성평가를 수행하였다.
상기 면상 발열체를 4-point probe를 이용하여 면저항(sheet resistance)을 측정하였고, 석영관(quartz tube)에 둘러싸인 면상 발열체의 양 끝단 전극의 접촉 부분에 220V의 전압을 걸어 주어 발생되는 발열체의 최고 온도를 측정하여, 하기 표 1에 기재하였다.
Figure pat00001
상기 표 1의 결과로부터, 실시예 1∼2에서 제조된 세라믹 박막은 최고온도 수치가 비교예 1대비 현저히 높게 확인되었으며, 면저항 균일도도 우수한 결과를 보였다.
이상으로부터, 실시예 1∼2에서 제조된 세라믹 박막은 주석 메트릭스에 준금속 안티몬 및 전이 후 금속 비스무스가 도핑된 주석 산화물이 안정적으로 도핑되어 면저항 균일도를 통해 대면적으로 발열 성능 및 열적 내구성을 확인하였다.
반면에 비교에 1의 결과로부터, 안티몬 및 비스무스 도핑 균일도가 떨어질 뿐만 아니라, 챔버 내에서 생성된 입자들이 박막을 오염시켜 많은 박막 결함을 유발하여 따라서 부분 발열에 의한 내구성 저하를 초래함을 확인하였다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
10, 100: 증기전달시스템 20: 화학기상증착 챔버
11: 용액(A) 12: 용액(B)
13: 용액내 센서 14: MFC(Mass Flow Controller)
15: 인라인(in-line) 믹서 16: 공급밸브
17: 3-웨이 볼 밸브 18, 118: 증발기
19, 119: 증기 컷-오프 밸브 21: 기판
22: 인젝션 헤드 101: 혼합용액

Claims (7)

1) 매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)으로 이루어진 주석 산화물이 함유된 도핑용액의 준비공정,
2) 상기 도핑용액이 증기전달시스템 내부에 배치된 인라인(in-line) 믹서에 의해 혼합 직후의 액상이 기화되는 공정 및
3) 상기 기화된 기상이 화학기상증착 챔버로 전달되어 기판상에 세라믹 발열층이 증착되는 공정으로 수행되는 세라믹 박막의 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 2) 공정에서 혼합 직후의 액상이 통과되는 지점에 3-웨이 밸브를 통해 비활성기체가 주기적으로 공급되도록 설계되는 것을 특징으로 하는 세라믹 박막의 제조방법.
제2항에 있어서, 상기 2) 공정에서 혼합 직후의 액상 및 3-웨이 밸브를 통해 공급된 비활성기체가 교차적으로 화학기상증착 챔버로 전달되는 것을 특징으로 하는 세라믹 박막의 제조방법.
매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)이 인라인(in-line) 믹서에 의해 주석 산화물이 함유된 도핑용액이 혼합 및 기화시키는 증기전달시스템; 및
기판 및 인젝션 헤드가 배치된 화학기상증착 챔버;로 이루어지되, 상기 증기전달시스템으로부터 기화된 기상이 인젝션 헤드를 통해 기판에 증착되어 세라믹 발열층을 형성하는 세라믹 박막의 제조장치.
제4항에 있어서, 상기 매트릭스 전구체 함유용액(A)과 1종 이상의 준금속 및 1종 이상의 전이후금속 함유용액(B)이 충진된 각 용기에는 MFC(Mass Flow Controller)가 부착되고 상기 MFC에 의해 혼합비율이 조정되어 인라인 믹서에 투입되는 것을 특징으로 하는 세라믹 박막의 제조장치.
제4항에 있어서, 상기 인라인 믹서에 의해 혼합된 직후의 액상이 통과되는 공급라인과 증발기의 중간 지점에 3-웨이 밸브가 구비된 것을 특징으로 하는 세라믹 박막의 제조장치.
제4항에 있어서, 상기 3-웨이 밸브가 MFC(Mass Flow Controller)가 부착된 비활성기체 공급 탱크와 연결된 것을 특징으로 하는 세라믹 박막의 제조장치.
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