KR20190066205A - Display Device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 표시장치에 관한 것으로, 보다 자세하게는 서브픽셀의 개구율을 향상시키고 빛샘을 방지할 수 있는 표시장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device capable of improving the aperture ratio of a subpixel and preventing light leakage.
정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있다. 표시장치 분야는 부피가 큰 음극선관(Cathode Ray Tube: CRT)을 대체하는, 얇고 가벼우며 대면적이 가능한 평판 표시장치(Flat Panel Display Device: FPD)로 급속히 변화해 왔다. 평판 표시장치에는 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device: LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP), 유기발광표시장치(Organic Light Emitting Display Device: OLED), 그리고 전기영동표시장치(Electrophoretic Display Device: ED) 등이 있다.As the information society develops, the demand for display devices for displaying images is increasing in various forms. The display field has rapidly changed to a thin, light, and large-area flat panel display device (FPD) that replaces bulky cathode ray tubes (CRTs). The flat panel display includes a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an organic light emitting display (OLED), and an electrophoretic display device : ED).
이 중 유기발광표시장치는 스스로 발광하는 자발광 소자로서 응답속도가 빠르고 발광효율, 휘도 및 시야각이 큰 장점이 있다. 특히, 유기발광표시장치는 유연한(flexible) 플렉서블 기판 위에도 형성할 수 있을 뿐 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel)이나 무기 전계발광(EL) 디스플레이에 비해 낮은 전압에서 구동 가능하고 전력 소모가 비교적 적으며, 색감이 뛰어나다는 장점이 있다.Among these organic electroluminescent display devices, self-luminous elements emit self-luminous elements, which have the advantage of high response speed and high luminous efficiency, brightness and viewing angle. In particular, the organic light emitting display device can be formed on a flexible flexible substrate, and can be driven at a lower voltage than a plasma display panel or an inorganic electroluminescence (EL) display, and the power consumption is relatively low It has the advantage of excellent color.
유기발광표시장치는 적색, 녹색 및 청색의 3개의 서브픽셀이 하나의 단위 픽셀을 구성하거나, 백색을 더하여 4개의 서브픽셀이 하나의 단위 픽셀을 구성한다. 유기발광표시장치는 각 서브픽셀의 개구율을 증가시켜 표시 품질을 향상시키기 위한 설계가 시도되고 있다. 이때, 각 서브픽셀의 발광영역가 서로 인접하게 배치됨에 따라 인접한 서브픽셀의 광이 다른 서브픽셀을 통해 방출되는 빛샘이 발생하는 문제가 있다. In the organic light emitting diode display, three subpixels of red, green, and blue form one unit pixel, or four subpixels constitute one unit pixel by adding white. The organic light emitting display device is designed to improve the display quality by increasing the aperture ratio of each subpixel. At this time, since the light emitting regions of the respective subpixels are disposed adjacent to each other, a light leakage occurs in which light of adjacent subpixels is emitted through the other subpixels.
본 발명은 서브픽셀의 개구율을 향상시키고 빛샘을 방지할 수 있는 표시장치를 제공한다.The present invention provides a display device capable of improving the aperture ratio of sub-pixels and preventing light leakage.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 기판 상에 위치하는 제1 서브픽셀을 포함하며, 상기 제1 서브픽셀은 상기 기판 상에 위치하는 제1 게이트 라인, 상기 제1 게이트 라인과 교차하는 제1 데이터 라인, 상기 제1 데이터 라인과 나란하게 배치되며 유기발광다이오드를 포함하는 발광영역, 및 상기 발광영역과 나란하게 배치되되 상기 발광영역을 사이에 두고 상기 제1 데이터 라인과 이웃하여 배치되고, 복수의 박막트랜지스터 및 커패시터를 포함하는 회로영역을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a display device including a first sub-pixel positioned on a substrate, a first gate line positioned on the substrate, A first data line intersecting with the first gate line, a light emitting region arranged in parallel with the first data line and including an organic light emitting diode, and a second light emitting region arranged in parallel with the light emitting region, And a circuit region disposed adjacent to the data line and including a plurality of thin film transistors and a capacitor.
상기 제1 서브픽셀에 인접한 제2 서브픽셀을 포함하며, 상기 제2 서브픽셀은 상기 제1 게이트 라인과 교차하는 제2 데이터 라인, 상기 제2 데이터 라인과 나란하게 배치되며 유기발광다이오드를 포함하는 발광영역, 및 상기 발광영역과 나란하게 배치되되 상기 발광영역을 사이에 두고 상기 제2 데이터 라인과 이웃하여 배치되고, 복수의 박막트랜지스터 및 커패시터를 포함하는 회로영역을 포함한다.And a second sub-pixel adjacent to the first sub-pixel, wherein the second sub-pixel includes a second data line intersecting the first gate line, an organic light emitting diode disposed in parallel with the second data line, And a circuit region disposed in parallel with the light emitting region and disposed adjacent to the second data line with the light emitting region interposed therebetween, the circuit region including a plurality of thin film transistors and a capacitor.
상기 제1 서브픽셀의 회로영역과 상기 제2 서브픽셀의 회로영역은 서로 나란하게 배치되며 서로 인접한다.The circuit region of the first subpixel and the circuit region of the second subpixel are arranged side by side and are adjacent to each other.
상기 제1 데이터 라인의 바깥 측에 상기 제1 데이터 라인과 나란하며, 상기 제1 서브픽셀과 상기 제2 서브픽셀에 각각 공유된 제1 전원라인을 포함한다.And a first power line that is aligned with the first data line on the outer side of the first data line and is shared by the first sub pixel and the second sub pixel, respectively.
상기 제2 데이터 라인의 바깥 측에 상기 제1 서브픽셀과 상기 제2 서브픽셀에 각각 공유된 센싱라인을 포함한다.And a sensing line shared on the outer side of the second data line with the first subpixel and the second subpixel, respectively.
상기 센싱라인을 기준으로 상기 제1 서브픽셀 및 상기 제2 서브픽셀과 대칭하는 제3 서브픽셀 및 제4 서브픽셀을 포함하며, 상기 센싱라인은 상기 제3 서브픽셀 및 제4 서브픽셀에 공유된다.And a third subpixel and a fourth subpixel that are symmetrical to the first and second subpixels with respect to the sensing line, and the sensing line is shared by the third subpixel and the fourth subpixel .
상기 제3 서브픽셀은 상기 센싱라인과 인접한 제3 데이터 라인을 포함하고, 상기 제4 서브픽셀은 상기 제4 서브픽셀의 바깥 측에 상기 제3 데이터 라인과 나란한 제4 데이터 라인을 포함한다.The third subpixel includes a third data line adjacent to the sensing line and the fourth subpixel includes a fourth data line on the outside of the fourth subpixel in parallel with the third data line.
상기 제4 데이터 라인의 바깥 측에 상기 제4 데이터 라인과 나란하며, 상기 제3 서브픽셀과 상기 제4 서브픽셀에 각각 공유된 제2 전원라인을 포함한다.And a second power line which is arranged outside the fourth data line and is shared by the fourth data line and is shared by the third subpixel and the fourth subpixel, respectively.
상기 제1 내지 제4 서브픽셀 하측에 배치된 제2 게이트 라인, 및 상기 제2 게이트 라인에 연결되고 각각 상기 제1 내지 제4 서브픽셀과 동일한 구조를 가진 제5 내지 제8 서브픽셀을 포함한다.A second gate line disposed below the first through fourth subpixels, and fifth through eighth subpixels connected to the second gate line and having the same structure as the first through fourth subpixels, respectively .
상기 제1 서브픽셀과 상기 제5 서브픽셀은 동일한 색을 방출하며, 상기 제1 서브픽셀과 상기 제5 서브픽셀의 컬러필터가 연속적으로 연결된다.The first subpixel and the fifth subpixel emit the same color, and the color filters of the first subpixel and the fifth subpixel are connected in series.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 서브픽셀의 발광영역을 사이에 두고 데이터 라인과 이격하여 회로영역을 배치함으로써, 인접한 서브픽셀들 사이에 회로영역들이 배치된다. 따라서, 인접한 서브픽셀들 간의 빛샘이 발생하는 것을 방지할 수 있다.A display device according to an embodiment of the present invention includes circuit regions disposed between neighboring subpixels by disposing a circuit region apart from a data line with a light emitting region of the subpixel interposed therebetween. Therefore, it is possible to prevent light leakage between adjacent sub-pixels from occurring.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 같은 색을 방출하는 서브픽셀들의 컬러필터를 인접한 서브픽셀들에 연속적으로 형성함으로써, 서브픽셀들의 개구율을 향상시키고 컬러필터의 제조 공정을 용이하게 할 수 있다.In addition, the display device according to an embodiment of the present invention continuously forms the color filter of the sub-pixels emitting the same color in the adjacent sub-pixels, thereby improving the aperture ratio of the sub-pixels and facilitating the manufacturing process of the color filter .
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 각 서브픽셀의 제1 전극과 인접한 게이트 라인을 광차단층으로 형성함으로써, 제1 전극과 게이트 라인 사이에 발생할 수 있는 기생 커패시터를 줄일 수 있다. In addition, the display device according to an embodiment of the present invention can reduce parasitic capacitors that may occur between the first electrode and the gate line by forming the gate line adjacent to the first electrode of each subpixel as a light blocking layer.
도 1은 유기발광표시장치의 개략적인 블록도.
도 2는 서브픽셀의 개략적인 회로 구성도.
도 3은 서브픽셀의 상세 회로 구성도.
도 4는 표시 패널의 단면도.
도 5는 본 발명에 따른 서브픽셀들의 평면 레이아웃을 개략적으로 나타낸 도면.
도 6은 본 발명의 서브픽셀의 평면 레이아웃을 나타낸 도면.
도 7은 도 6의 절취선 A-A'에 따라 절취한 단면도.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 서브픽셀들의 평면 레이아웃을 간략히 나타낸 도면.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 서브픽셀들의 평면 레이아웃을 상세히 나타낸 도면.
도 10은 도 9의 절취선 B-B'에 따른 단면도.
도 11은 도 9의 절취선 C-C'에 따른 단면도.1 is a schematic block diagram of an organic light emitting diode display.
2 is a schematic circuit configuration diagram of a subpixel.
3 is a detailed circuit diagram of a subpixel.
4 is a sectional view of a display panel;
Figure 5 schematically illustrates a planar layout of subpixels according to the present invention;
6 illustrates a planar layout of a subpixel of the present invention.
7 is a cross-sectional view taken along the cutting line A-A 'in Fig. 6;
8 is a simplified plan view layout of subpixels in accordance with an embodiment of the present invention.
Figure 9 illustrates a detailed layout of subpixels according to an embodiment of the present invention.
10 is a sectional view taken along the cutting line B-B 'in Fig. 9;
11 is a sectional view taken along the cutting line C-C 'in Fig. 9;
이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시 예들을 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조 번호들은 실질적으로 동일한 구성 요소들을 의미한다. 이하의 설명에서, 본 발명과 관련된 공지 기술 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 이하의 설명에서 사용되는 구성요소 명칭은 명세서 작성의 용이함을 고려하여 선택된 것일 수 있는 것으로서, 실제 제품의 부품 명칭과는 상이할 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals throughout the specification denote substantially identical components. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the following description, a detailed description of known technologies or configurations related to the present invention will be omitted when it is determined that the gist of the present invention may be unnecessarily obscured. In addition, the component names used in the following description may be selected in consideration of easiness of specification, and may be different from the parts names of actual products.
본 발명에 따른 표시장치는 유리 기판 또는 플렉서블 기판 상에 표시소자가 형성된 표시장치이다. 표시장치의 예로, 유기발광표시장치, 액정표시장치, 전기영동표시장치 등이 사용 가능하나, 본 발명에서는 유기발광표시장치를 예로 설명한다. 유기발광표시장치는 애노드인 제1 전극과 캐소드인 제2 전극 사이에 유기물로 이루어진 유기막층을 포함한다. 따라서, 제1 전극으로부터 공급받는 정공과 제2 전극으로부터 공급받는 전자가 유기막층 내에서 결합하여 정공-전자쌍인 여기자(exciton)를 형성하고, 여기자가 바닥상태로 돌아오면서 발생하는 에너지에 의해 발광하는 자발광 표시장치이다. A display device according to the present invention is a display device in which a display element is formed on a glass substrate or a flexible substrate. As an example of the display device, an organic light emitting display device, a liquid crystal display device, an electrophoretic display device, or the like can be used. In the present invention, an organic light emitting display device will be described as an example. The organic light emitting diode display includes an organic layer between the first electrode, which is an anode, and the second electrode, which is a cathode. Therefore, the holes supplied from the first electrode and the electrons supplied from the second electrode are combined in the organic layer to form excitons, which are hole-electron pairs, and the excitons emit light by energy generated when the excitons return to the ground state Emitting display device.
도 1은 유기발광표시장치의 개략적인 블록도이고, 도 2는 서브픽셀의 개략적인 회로 구성도이며, 도 3은 서브픽셀의 상세 회로 구성도이고, 도 4는 표시 패널의 단면도이다.FIG. 1 is a schematic block diagram of an organic light emitting display device, FIG. 2 is a schematic circuit configuration diagram of a subpixel, FIG. 3 is a detailed circuit configuration diagram of a subpixel, and FIG.
도 1에 도시된 바와 같이, 유기발광표시장치에는 영상 처리부(110), 타이밍 제어부(120), 데이터 구동부(130), 스캔 구동부(140) 및 표시 패널(150)이 포함된다.1, the OLED display includes an
영상 처리부(110)는 외부로부터 공급된 데이터 신호(DATA)와 더불어 데이터 인에이블 신호(DE) 등을 출력한다. 영상 처리부(110)는 데이터 인에이블 신호(DE) 외에도 수직 동기신호, 수평 동기신호 및 클럭신호 중 하나 이상을 출력할 수 있으나 이 신호들은 설명의 편의상 생략 도시한다.The
타이밍 제어부(120)는 영상 처리부(110)로부터 데이터 인에이블 신호(DE) 또는 수직 동기신호, 수평 동기신호 및 클럭신호 등을 포함하는 구동신호와 더불어 데이터 신호(DATA)를 공급받는다. 타이밍 제어부(120)는 구동신호에 기초하여 스캔 구동부(140)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 게이트 타이밍 제어신호(GDC)와 데이터 구동부(130)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 데이터 타이밍 제어신호(DDC)를 출력한다.The
데이터 구동부(130)는 타이밍 제어부(120)로부터 공급된 데이터 타이밍 제어신호(DDC)에 응답하여 타이밍 제어부(120)로부터 공급되는 데이터 신호(DATA)를 샘플링하고 래치하여 감마 기준전압으로 변환하여 출력한다. 데이터 구동부(130)는 데이터 라인들(DL1 ~ DLn)을 통해 데이터 신호(DATA)를 출력한다. 데이터 구동부(130)는 IC(Integrated Circuit) 형태로 형성될 수 있다.The
스캔 구동부(140)는 타이밍 제어부(120)로부터 공급된 게이트 타이밍 제어신호(GDC)에 응답하여 스캔 신호를 출력한다. 스캔 구동부(140)는 게이트 라인들(GL1 ~ GLm)을 통해 스캔 신호를 출력한다. 스캔 구동부(140)는 IC(Integrated Circuit) 형태로 형성되거나 표시 패널(150)에 게이트인패널(Gate In Panel) 방식으로 형성된다.The
표시 패널(150)은 데이터 구동부(130) 및 스캔 구동부(140)로부터 공급된 데이터 신호(DATA) 및 스캔 신호에 대응하여 영상을 표시한다. 표시 패널(150)은 영상을 표시할 수 있도록 동작하는 서브픽셀들(SP)을 포함한다.The
서브픽셀들(SP)은 적색 서브픽셀, 녹색 서브픽셀 및 청색 서브픽셀을 포함하거나 백색 서브픽셀, 적색 서브픽셀, 녹색 서브픽셀 및 청색 서브픽셀을 포함한다. 서브픽셀들(SP)은 발광 특성에 따라 하나 이상 다른 발광 면적을 가질 수 있다.The subpixels SP include a red subpixel, a green subpixel, and a blue subpixel or a white subpixel, a red subpixel, a green subpixel, and a blue subpixel. The subpixels SP may have one or more different emission areas depending on the emission characteristics.
도 2에 도시된 바와 같이, 하나의 서브픽셀에는 스위칭 트랜지스터(SW), 구동 트랜지스터(DR), 커패시터(Cst), 보상회로(CC) 및 유기 발광다이오드(OLED)가 포함된다.As shown in FIG. 2, one sub-pixel includes a switching transistor SW, a driving transistor DR, a capacitor Cst, a compensation circuit CC, and an organic light emitting diode OLED.
스위칭 트랜지스터(SW)는 제1 게이트 라인(GL1)을 통해 공급된 스캔신호에 응답하여 제1 데이터 라인(DL1)을 통해 공급되는 데이터 신호가 커패시터(Cst)에 데이터 전압으로 저장되도록 스위칭 동작한다. 구동 트랜지스터(DR)는 커패시터(Cst)에 저장된 데이터 전압에 따라 전원 라인(EVDD)(고전위전압)과 캐소드 전원 라인(EVSS)(저전위전압) 사이로 구동 전류가 흐르도록 동작한다. 유기발광다이오드(OLED)는 구동 트랜지스터(DR)에 의해 형성된 구동 전류에 따라 빛을 발광하도록 동작한다.The switching transistor SW is operated so that a data signal supplied through the first data line DL1 is stored as a data voltage in the capacitor Cst in response to a scan signal supplied through the first gate line GL1. The driving transistor DR operates so that the driving current flows between the power supply line EVDD (high potential voltage) and the cathode power supply line EVSS (low potential voltage) in accordance with the data voltage stored in the capacitor Cst. The organic light emitting diode OLED operates to emit light in accordance with the driving current generated by the driving transistor DR.
보상회로(CC)는 구동 트랜지스터(DR)의 문턱전압 등을 보상하기 위해 서브픽셀 내에 추가된 회로이다. 보상회로(CC)는 하나 이상의 트랜지스터로 구성된다. 보상회로(CC)의 구성은 외부 보상 방법에 따라 매우 다양한바 이에 대한 예시를 설명하면 다음과 같다.The compensation circuit CC is a circuit added in the sub-pixel to compensate the threshold voltage of the driving transistor DR and the like. The compensation circuit CC is composed of one or more transistors. The configuration of the compensation circuit (CC) varies greatly according to the external compensation method. An example of the compensation circuit (CC) is as follows.
도 3에 도시된 바와 같이, 보상회로(CC)에는 센싱 트랜지스터(ST)와 센싱 라인(VREF)(또는 레퍼런스라인)이 포함된다. 센싱 트랜지스터(ST)는 구동 트랜지스터(DR)의 소스 전극과 유기발광다이오드(OLED)의 애노드 전극 사이(이하 센싱노드)에 접속된다. 센싱 트랜지스터(ST)는 센싱 라인(VREF)을 통해 전달되는 초기화전압(또는 센싱전압)을 구동 트랜지스터(DR)의 센싱 노드에 공급하거나 구동 트랜지스터(DR)의 센싱 노드 또는 센싱 라인(VREF)의 전압 또는 전류를 센싱할 수 있도록 동작한다.As shown in Fig. 3, the compensation circuit CC includes a sensing transistor ST and a sensing line VREF (or a reference line). The sensing transistor ST is connected between the source electrode of the driving transistor DR and the anode electrode of the organic light emitting diode OLED (hereinafter referred to as a sensing node). The sensing transistor ST supplies the initialization voltage (or sensing voltage) transmitted through the sensing line VREF to the sensing node of the driving transistor DR or the voltage of the sensing node VREF Or to sense the current.
스위칭 트랜지스터(SW)는 제1 데이터 라인(DL1)에 드레인 전극이 연결되고, 구동 트랜지스터(DR)의 게이트 전극에 소스 전극이 연결된다. 구동 트랜지스터(DR)는 전원 라인(EVDD)에 드레인 전극이 연결되고 유기발광다이오드(OLED)의 애노드 전극에 소스 전극이 연결된다. 커패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(DR)의 게이트 전극에 상부전극이 연결되고 유기발광다이오드(OLED)의 애노드 전극에 하부전극이 연결된다. 유기발광다이오드(OLED)는 구동 트랜지스터(DR)의 소스 전극에 애노드 전극이 연결되고 제2 전원 라인(EVSS)에 캐소드 전극이 연결된다. 센싱 트랜지스터(ST)는 센싱 라인(VREF)에 드레인 전극이 연결되고 센싱 노드인 유기발광다이오드(OLED)의 애노드 전극 및 구동 트랜지스터(DR)의 소스 전극에 소스 전극이 연결된다.A drain electrode of the switching transistor SW is connected to the first data line DL1, and a source electrode of the switching transistor SW is connected to a gate electrode of the driving transistor DR. In the driving transistor DR, a drain electrode is connected to the power supply line EVDD and a source electrode is connected to the anode electrode of the organic light emitting diode OLED. In the capacitor Cst, the upper electrode is connected to the gate electrode of the driving transistor DR, and the lower electrode is connected to the anode electrode of the organic light emitting diode OLED. In the organic light emitting diode OLED, an anode electrode is connected to the source electrode of the driving transistor DR and a cathode electrode is connected to the second power supply line EVSS. In the sensing transistor ST, a drain electrode is connected to the sensing line VREF, and a source electrode is connected to the anode electrode of the organic light emitting diode OLED, which is a sensing node, and the source electrode of the driving transistor DR.
센싱 트랜지스터(ST)의 동작 시간은 외부 보상 알고리즘(또는 보상 회로의 구성)에 따라 스위칭 트랜지스터(SW)와 유사/동일하거나 다를 수 있다. 일례로, 스위칭 트랜지스터(SW)는 제1 게이트 라인(GL1)에 게이트 전극이 연결되고, 센싱 트랜지스터(ST)는 제2 게이트 라인(GL2)에 게이트 전극이 연결될 수 있다. 이 경우, 제1 게이트 라인(GL1)에는 스캔 신호(Scan)가 전달되고 제2 게이트 라인(GL2)에는 센싱 신호(Sense)가 전달된다. 다른 예로, 스위칭 트랜지스터(SW)의 게이트 전극에 연결된 제1 게이트 라인(GL1)과 센싱 트랜지스터(ST)의 게이트 전극에 연결된 제2 게이트 라인(GL2)은 공통으로 공유하도록 연결될 수 있다.The operating time of the sensing transistor ST may be similar to, or the same as, or different from that of the switching transistor SW depending on the external compensation algorithm (or the configuration of the compensation circuit). For example, the gate electrode of the switching transistor SW may be connected to the first gate line GL1, and the gate electrode of the sensing transistor ST may be coupled to the second gate line GL2. In this case, a scan signal (Scan) is transmitted to the first gate line (GL1) and a sensing signal (Sense) is transmitted to the second gate line (GL2). As another example, the first gate line GL1 connected to the gate electrode of the switching transistor SW and the second gate line GL2 connected to the gate electrode of the sensing transistor ST may be connected in common.
센싱 라인(VREF)은 데이터 구동부에 연결될 수 있다. 이 경우, 데이터 구동부는 실시간, 영상의 비표시기간 또는 N 프레임(N은 1 이상 정수) 기간 동안 서브픽셀의 센싱 노드를 센싱하고 센싱결과를 생성할 수 있게 된다. 한편, 스위칭 트랜지스터(SW)와 센싱 트랜지스터(ST)는 동일한 시간에 턴온될 수 있다. 이 경우, 데이터 구동부의 시분할 방식에 의거 센싱 라인(VREF)을 통한 센싱 동작과 데이터 신호를 출력하는 데이터 출력 동작은 상호 분리(구분) 된다.The sensing line VREF may be connected to the data driver. In this case, the data driver can sense the sensing node of the subpixel during the non-display period of the real time image, or the N frame (N is an integer of 1 or more) and generate the sensing result. On the other hand, the switching transistor SW and the sensing transistor ST can be turned on at the same time. In this case, the sensing operation through the sensing line (VREF) and the data output operation for outputting the data signal are separated (separated) based on the time division system of the data driver.
이 밖에, 센싱결과에 따른 보상 대상은 디지털 형태의 데이터신호, 아날로그 형태의 데이터신호 또는 감마 등이 될 수 있다. 그리고 센싱결과를 기반으로 보상신호(또는 보상전압) 등을 생성하는 보상 회로는 데이터 구동부의 내부, 타이밍 제어부의 내부 또는 별도의 회로로 구현될 수 있다.In addition, the object to be compensated according to the sensing result may be a digital data signal, an analog data signal, gamma, or the like. The compensation circuit for generating the compensation signal (or the compensation voltage) based on the sensing result may be implemented in the interior of the data driver, in the timing controller, or in a separate circuit.
광차단층(LS)은 구동 트랜지스터(DR)의 채널영역 하부에만 배치되거나 구동 트랜지스터(DR)의 채널영역 하부뿐만 아니라 스위칭 트랜지스터(SW) 및 센싱 트랜지스터(ST)의 채널영역 하부에도 배치될 수 있다. 광차단층(LS)은 단순히 외광을 차단할 목적으로 사용하거나, 광차단층(LS)을 다른 전극이나 라인과의 연결을 도모하고, 커패시터 등을 구성하는 전극으로 활용할 수 있다. 그러므로 광차단층(LS)은 차광 특성을 갖도록 복층(이종 금속의 복층)의 금속층으로 선택된다.The light blocking layer LS may be disposed only below the channel region of the driving transistor DR or may be disposed not only below the channel region of the driving transistor DR but also below the channel region of the switching transistor SW and the sensing transistor ST. The light blocking layer LS may be used merely for blocking external light, or the light blocking layer LS may be connected to other electrodes or lines and used as an electrode constituting a capacitor or the like. Therefore, the light blocking layer LS is selected as a multi-layered metal layer having a light shielding property.
기타, 도 3에서는 스위칭 트랜지스터(SW), 구동 트랜지스터(DR), 커패시터(Cst), 유기발광다이오드(OLED), 센싱 트랜지스터(ST)를 포함하는 3T(Transistor)1C(Capacitor) 구조의 서브픽셀을 일례로 설명하였지만, 보상회로(CC)가 추가된 경우 3T2C, 4T2C, 5T1C, 6T2C 등으로 구성될 수도 있다.3, a sub-pixel of a 3T (Capacitor) structure including a switching transistor SW, a driving transistor DR, a capacitor Cst, an organic light emitting diode OLED, and a sensing transistor ST However, if the compensation circuit CC is added, it may be composed of 3T2C, 4T2C, 5T1C, 6T2C, and the like.
도 4에 도시된 바와 같이, 기판(또는 박막 트랜지스터 기판)(SUB1)의 표시영역(AA) 상에는 도 3에서 설명된 회로를 기반으로 서브픽셀들이 형성된다. 표시영역(AA) 상에 형성된 서브픽셀들은 보호필름(또는 보호기판)(SUB2)에 의해 밀봉된다. 기타 미설명된 NA는 비표시영역을 의미한다. 기판(SUB1)은 유리나 연성을 갖는 재료로 선택될 수 있다.As shown in FIG. 4, subpixels are formed on the display area AA of the substrate (or thin film transistor substrate) SUB1 based on the circuit described in FIG. The subpixels formed on the display area AA are sealed by a protective film (or protective substrate) SUB2. NA not otherwise described means non-display area. The substrate SUB1 may be made of glass or a material having ductility.
서브픽셀들은 표시영역(AA) 상에서 적색(R), 백색(W), 청색(B) 및 녹색(G)의 순으로 수평 또는 수직하게 배치된다. 그리고 서브픽셀들은 적색(R), 백색(W), 청색(B) 및 녹색(G)이 하나의 픽셀(P)이 된다. 그러나 서브픽셀들의 배치 순서는 발광재료, 발광면적, 보상회로의 구성(또는 구조) 등에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 또한, 서브픽셀들은 적색(R), 청색(B) 및 녹색(G)이 하나의 픽셀(P)이 될 수 있다.The subpixels are arranged horizontally or vertically in the order of red (R), white (W), blue (B) and green (G) on the display area AA. The subpixels are red (R), white (W), blue (B), and green (G) However, the arrangement order of the subpixels can be variously changed depending on the light emitting material, the light emitting area, the structure (or structure) of the compensation circuit, and the like. Also, the subpixels may be red (R), blue (B), and green (G) as one pixel (P).
도 5는 본 발명에 따른 서브픽셀들의 평면 레이아웃을 개략적으로 나타낸 도면이다. 5 is a schematic diagram illustrating a planar layout of subpixels according to the present invention.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 기판(SUB1)의 표시영역(AA) 상에는 발광영역(EMA)과 회로영역(DRA)을 갖는 제1 서브픽셀(SPn1) 내지 제4 서브픽셀(SPn4)이 형성된다. 발광영역(EMA)에는 유기발광다이오드(발광소자)가 형성되고, 회로영역(DRA)에는 유기발광다이오드를 구동하는 스위칭, 센싱 및 구동 트랜지스터 등을 포함하는 회로가 형성된다. 제1 서브픽셀(SPn1) 내지 제4 서브픽셀(SPn4)은 회로영역(DRA)에 위치하는 스위칭 및 구동 트랜지스터 등의 동작에 대응하여 발광영역(EMA)에 위치하는 유기발광다이오드가 빛을 발광하게 된다. 제1 서브픽셀(SPn1) 내지 제4 서브픽셀(SPn4) 사이에 위치하는 "WA"는 배선영역으로서, 전원 라인(EVDD), 센싱 라인(VREF), 제1 내지 제4 데이터 라인들(DL1 ~ DL4)이 배치된다. 제1 및 제2 게이트 라인들(GL1, GL2)은 제1 서브픽셀(SPn1) 내지 제4 서브픽셀(SPn4)을 가로지르며 배치된다.4 and 5, a first sub-pixel SPn1 to a fourth sub-pixel SPn4 having a light emitting area EMA and a circuit area DRA are formed on the display area AA of the substrate SUB1, . An organic light emitting diode (light emitting element) is formed in the light emitting region EMA and a circuit including a switching, sensing and driving transistor for driving the organic light emitting diode is formed in the circuit region DRA. The first subpixel SPn1 to the fourth subpixel SPn4 are turned on in response to the operation of switching and driving transistors located in the circuit region DRA so that the organic light emitting diode located in the light emitting region EMA emits light do. WA "positioned between the first subpixel SPn1 to the fourth subpixel SPn4 is a wiring region and includes the power supply line EVDD, the sensing line VREF, the first to fourth data lines DL1- DL4 are disposed. The first and second gate lines GL1 and GL2 are disposed across the first to fourth subpixels SPn1 to SPn4.
전원 라인(EVDD), 센싱 라인(VREF), 제1 내지 제4 데이터 라인들(DL1 ~ DL4)과 같은 배선들은 물론 박막 트랜지스터를 구성하는 전극들은 서로 다른 층에 위치하지만 콘택홀(비어홀)을 통한 접촉으로 인하여 전기적으로 연결된다. 센싱 라인(VREF)은 센싱 연결라인(VREFC)을 통해 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1~SPn4)의 각 센싱 트랜지스터(미도시)에 연결된다. 전원 라인(EVDD)은 전원 연결라인(EVDDC)을 통해 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1~SPn4)의 각 구동 트랜지스터(미도시)에 연결된다. 제1 및 제2 게이트 라인들(GL1, GL2)은 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1~SPn4)의 각 센싱 및 스위칭 트랜지스터(미도시)에 연결된다. The electrodes constituting the thin film transistor as well as the wirings such as the power supply line EVDD, the sensing line VREF and the first to fourth data lines DL1 to DL4 are located on different layers but are connected to each other through the contact holes And are electrically connected due to the contact. The sensing line VREF is connected to each sensing transistor (not shown) of the first to fourth sub-pixels SPn1 to SPn4 through a sensing connection line VREFC. The power supply line EVDD is connected to each driving transistor (not shown) of the first to fourth sub-pixels SPn1 to SPn4 through a power supply connection line EVDDC. The first and second gate lines GL1 and GL2 are connected to respective sensing and switching transistors (not shown) of the first to fourth sub-pixels SPn1 to SPn4.
도 6은 본 발명의 서브픽셀의 평면 레이아웃을 나타낸 도면이고 도 7은 도 6의 절취선 A-A'에 따라 절취한 단면도이다.FIG. 6 is a plan view of a subpixel of the present invention, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the cutting line A-A 'of FIG.
도 6을 참조하면, 본 발명의 유기발광표시장치는 제1 및 제2 게이트 라인(GL1, GL2)과 제1 내지 제4 데이터 라인(DL1~DL4)이 교차하여 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1~SPn4)이 정의된다. 구체적으로, 제1 내지 제4 데이터 라인(DL1~DL4)과 각각 연결되는 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1~SPn4)은 센싱 라인(VREF)에 공통으로 연결되어 있다. 센싱 라인(VREF)은 제2 및 제3 서브픽셀(SPn2, SPn3)과는 직접 연결되어 있고, 제1 및 제4 서브픽셀(SPn1, SPn4)과는 센싱 연결라인(VREFC)을 통해 연결된다. 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1~SPn4)의 양 가장자리에는 전원 라인(EVDD)이 각각 배치되고, 전원 라인(EVDD)과 인접한 제1 및 제4 서브픽셀(SPn1, SPn4)은 직접 연결되고 제2 및 제3 서브픽셀(SPn2, SPn3)은 전원 연결라인(EVDDC)을 통해 연결된다.Referring to FIG. 6, the OLED display of the present invention includes first to fourth sub-pixels GL1 and GL2 intersecting first and second gate lines GL1 and GL2 and first to fourth data lines DL1 to DL4, SPn1 to SPn4) are defined. Specifically, the first to fourth sub-pixels SPn1 to SPn4 connected to the first to fourth data lines DL1 to DL4 are commonly connected to the sensing line VREF. The sensing line VREF is directly connected to the second and third subpixels SPn2 and SPn3 and is connected to the first and fourth subpixels SPn1 and SPn4 through a sensing connection line VREFC. A power supply line EVDD is disposed on both edges of the first to fourth subpixels SPn1 to SPn4 and first and fourth subpixels SPn1 and SPn4 adjacent to the power supply line EVDD are directly connected to each other. 2 and the third sub-pixels SPn2 and SPn3 are connected through a power supply connection line EVDDC.
각 서브픽셀들의 발광영역(EMA)에는 유기발광다이오드(OLED)의 제1 전극(ANO)이 배치되어 있고, 회로영역(DRA)에는 구동 트랜지스터(DR), 커패시터(Cst), 센싱 트랜지스터(ST) 및 스위칭 트랜지스터(SW)가 배치된다. 예를 들어, 센싱 트랜지스터(ST)는 게이트 전극(240), 드레인 전극(250D), 소스 전극(250S) 및 반도체층(220)으로 구성된다. 센싱 라인(VREF)은 센싱연결라인(VREFC)을 통해 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1~SPn4)의 각 센싱 트랜지스터(ST)에 연결된다. 전원 라인(EVDD)은 전원 연결라인(EVDDC)을 통해 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1~SPn4)의 각 구동 트랜지스터(DR)에 연결된다. 제1 및 제2 게이트 라인들(GL1, GL2)은 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1~SPn4)의 각 센싱 및 스위칭 트랜지스터(ST, SW)에 연결된다. The first electrode ANO of the organic light emitting diode OLED is disposed in the emission region EMA of each subpixel and the driving transistor DR, the capacitor Cst, and the sensing transistor ST are connected to the circuit region DRA. And a switching transistor SW are disposed. For example, the sensing transistor ST is composed of a gate electrode 240, a
도 7에 도시된 제1 및 제2 서브픽셀(SPn1, SPn2)의 경계부의 단면을 참조한다. 제1 서브픽셀(SPn1)은 적색 서브픽셀이고 제2 서브픽셀(SPn2)은 백색 서브픽셀일 수 있다. Reference is made to the cross section of the boundary between the first and second subpixels SPn1 and SPn2 shown in FIG. The first subpixel SPn1 may be a red subpixel and the second subpixel SPn2 may be a white subpixel.
기판(SUB) 상에 제1 버퍼층(BUF1), 제2 버퍼층(BUF2), 게이트 절연막(GI), 층간 절연막(ILD)이 순차적으로 배치되고, 그 위에 제1 데이터 라인(DL1)과 제2 데이터 라인(DL2)이 배치된다. 제1 및 제2 데이터 라인(DL1, DL2) 상에 패시베이션막(PAS)이 배치되고, 제1 서브픽셀(SPn1) 영역에 적색의 컬러필터(CF)가 배치된다. 적색의 컬러필터(CF) 상에 오버코트층(OC)이 배치되고, 오버코트층(OC) 상에 제1 전극(ANO)이 제1 및 제2 서브픽셀(SPn1, SPn2)에 각각 배치된다. 제1 전극(ANO) 상에는 각 서브픽셀의 발광영역을 정의하는 뱅크층(BNK)이 배치된다.A first buffer layer BUF1, a second buffer layer BUF2, a gate insulating film GI and an interlayer insulating film ILD are sequentially arranged on a substrate SUB and a first data line DL1 and a second data line DL2 are sequentially formed thereon, The line DL2 is arranged. A passivation film PAS is disposed on the first and second data lines DL1 and DL2 and a red color filter CF is disposed in the first subpixel SPn1 region. The overcoat layer OC is disposed on the red color filter CF and the first electrode ANO is disposed on the overcoat layer OC respectively in the first and second subpixels SPn1 and SPn2. On the first electrode ANO, a bank layer BNK defining the light emitting region of each subpixel is disposed.
제1 서브픽셀(SPn1)은 적색의 컬러필터(CF)가 구비되어 적색의 컬러필터(CF)를 통해 적색 광을 방출한다. 제2 서브픽셀(SPn2)은 컬러필터를 구비하지 않아, 백색의 광을 그대로 방출한다. 제1 서브픽셀(SPn1)의 적색의 컬러필터(CF)가 제2 서브픽셀(SPn2) 영역을 일부 침범하게 되면, 제2 서브픽셀(SPn2) 구동 시 백색의 광이 침범한 적색의 컬러필터(CF)를 일부 투과하여 레디쉬(reddish)해지게 된다. 따라서, 인접한 서브픽셀 간의 빛샘으로 인해 표시 품질이 저하된다. The first sub-pixel SPn1 is provided with a red color filter CF to emit red light through a red color filter CF. The second sub-pixel SPn2 does not have a color filter, and emits white light as it is. When the red color filter CF of the first subpixel SPn1 partially invades the second subpixel SPn2 region, the red color filter CF) is partially transmitted and becomes reddish. Therefore, display quality is degraded due to light leakage between adjacent sub-pixels.
하기에서는 전술한 서브픽셀 간의 빛샘을 방지하고 개구율을 향상시키기 위한 표시장치를 개시한다.In the following, a display device for preventing light leakage between the sub-pixels and improving the aperture ratio is disclosed.
<실시예><Examples>
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 서브픽셀들의 평면 레이아웃을 간략히 나타낸 도면이고, 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 서브픽셀들의 평면 레이아웃을 상세히 나타낸 도면이고, 도 10은 도 9의 절취선 B-B'에 따른 단면도이고, 도 11은 도 9의 절취선 C-C'에 따른 단면도이다. FIG. 8 is a simplified plan view of a subpixel according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 9 is a detailed plan view of a subpixel according to an exemplary embodiment of the present invention. Sectional view taken along the perforated line B-B ', and FIG. 11 is a sectional view taken along the perforated line C-C' shown in FIG.
도 8 및 도 9를 참조하면, 기판(SUB1) 상에 발광영역(E)과 회로영역(D)을 갖는 제1 서브픽셀(SPn1) 내지 제8 서브픽셀(SPn8)이 배치된다. 발광영역(E)에는 유기발광다이오드(발광소자)가 형성되고, 회로영역(D)에는 유기발광다이오드를 구동하는 스위칭, 센싱 및 구동 트랜지스터 등을 포함하는 회로가 형성된다. 제1 서브픽셀(SPn1) 내지 제8 서브픽셀(SPn8)은 회로영역(D)에 위치하는 스위칭 및 구동 트랜지스터 등의 동작에 대응하여 발광영역(E)에 위치하는 유기발광다이오드가 빛을 발광하게 된다. 제1 서브픽셀(SPn1) 내지 제8 서브픽셀(SPn8)에는 제1 및 제2 전원 라인(EVDD1, EVDD2), 센싱 라인(VREF), 제1 내지 제4 데이터 라인들(DL1 ~ DL4)이 배치된다. 제1 게이트 라인(GL1)은 제1 서브픽셀(SPn1) 내지 제4 서브픽셀(SPn4)을 가로지르며 배치되고, 제2 게이트 라인(GL2)은 제5 서브픽셀(SPn5) 내지 제8 서브픽셀(SPn8)을 가로지르며 배치된다.8 and 9, a first subpixel SPn1 to an eighth subpixel SPn8 having a light emitting region E and a circuit region D are disposed on a substrate SUB1. An organic light emitting diode (light emitting element) is formed in the light emitting region E and a circuit including a switching, sensing, and driving transistor for driving the organic light emitting diode is formed in the circuit region D. The first subpixel SPn1 to the eighth subpixel SPn8 correspond to the operations of the switching and driving transistors located in the circuit region D so that the organic light emitting diode located in the light emitting region E emits light do. The first and second power supply lines EVDD1 and EVDD2, the sensing line VREF and the first to fourth data lines DL1 to DL4 are arranged in the first to eighth subpixels SPn1 to SPn8. do. The first gate line GL1 is arranged across the first subpixel SPn1 to the fourth subpixel SPn4 and the second gate line GL2 is arranged across the fifth subpixel SPn5 to the eighth subpixel SPn5 SPn8.
전원 라인(EVDD), 센싱 라인(VREF), 제1 내지 제4 데이터 라인들(DL1 ~ DL4)과 같은 배선들은 물론 박막 트랜지스터를 구성하는 전극들은 서로 다른 층에 위치하지만 콘택홀(미도시)을 통한 접촉으로 인하여 전기적으로 연결된다. 센싱 라인(VREF)은 제1 내지 제8 서브픽셀(SPn1~SPn8)의 각 센싱 트랜지스터(미도시)에 연결된다. 제1 전원 라인(EVDD1)은 제1, 제2, 제5 및 제6 서브픽셀(SPn1, SPn2, SPn5, SPn6)의 각 구동 트랜지스터(미도시)에 연결된다. 제2 전원 라인(EVDD2)은 제3, 제4, 제7 및 제8 서브픽셀(SPn3, SPn4, SPn7, SPn8)의 각 구동 트랜지스터(미도시)에 연결된다. 제1 게이트 라인(GL1)은 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1~SPn4)의 각 센싱 및 스위칭 트랜지스터(미도시)에 연결되고, 제2 게이트 라인(GL2)은 제5 내지 제8 서브픽셀(SPn5~SPn8)의 각 센싱 및 스위칭 트랜지스터(미도시)에 연결된다.The electrodes constituting the thin film transistor as well as the wirings such as the power supply line EVDD, the sensing line VREF and the first to fourth data lines DL1 to DL4 are located on different layers, but a contact hole Lt; RTI ID = 0.0 > through < / RTI > The sensing line VREF is connected to each sensing transistor (not shown) of the first to eighth sub-pixels SPn1 to SPn8. The first power supply line EVDD1 is connected to each driving transistor (not shown) of the first, second, fifth and sixth subpixels SPn1, SPn2, SPn5 and SPn6. The second power supply line EVDD2 is connected to each driving transistor (not shown) of the third, fourth, seventh and eighth subpixels SPn3, SPn4, SPn7, SPn8. The first gate line GL1 is connected to each sensing and switching transistor (not shown) of the first to fourth subpixels SPn1 to SPn4 and the second gate line GL2 is connected to the fifth to eighth subpixels SPn5 to SPn8) and a switching transistor (not shown).
본 발명의 서브픽셀(SPn1~SPn8)들 각각은 발광영역(E)과 회로영역(D)이 제1 데이터 라인(DL1)과 나란하게 배치된다. 구체적으로, 제1 서브픽셀(SPn1)의 회로영역(D1)은 발광영역(E1)과 나란하게 배치되되 발광영역(E1)을 사이에 두고 제1 데이터 라인(DL1)과 이웃하여 배치된다. 제2 서브픽셀(SPn2)의 회로영역(D2)은 발광영역(E2)과 나란하게 배치되되 발광영역(E2)을 사이에 두고 제2 데이터 라인(DL2)과 이웃하여 배치된다. 제1 서브픽셀(SPn1)의 회로영역(D1)과 제2 서브픽셀(SPn2)의 회로영역(D2)은 서로 나란하게 배치되며 서로 인접하게 배치된다. 제3 서브픽셀(SPn3)의 회로영역(D3)은 발광영역(E3)과 나란하게 배치되되 발광영역(E3)을 사이에 두고 제3 데이터 라인(DL3)과 이웃하여 배치된다. 제4 서브픽셀(SPn4)의 회로영역(D4)은 발광영역(E4)과 나란하게 배치되되 발광영역(E4)을 사이에 두고 제4 데이터 라인(DL4)과 이웃하여 배치된다. 제3 서브픽셀(SPn3)의 회로영역(D3)과 제4 서브픽셀(SPn4)의 회로영역(D4)은 서로 나란하게 배치되며 서로 인접하게 배치된다.Each of the subpixels SPn1 to SPn8 of the present invention has the light emitting region E and the circuit region D arranged in parallel with the first data line DL1. Specifically, the circuit region D1 of the first subpixel SPn1 is disposed in parallel with the light emitting region E1 and is disposed adjacent to the first data line DL1 with the light emitting region E1 interposed therebetween. The circuit region D2 of the second subpixel SPn2 is disposed adjacent to the light emitting region E2 and adjacent to the second data line DL2 with the light emitting region E2 therebetween. The circuit region D1 of the first subpixel SPn1 and the circuit region D2 of the second subpixel SPn2 are arranged side by side and disposed adjacent to each other. The circuit region D3 of the third subpixel SPn3 is disposed in parallel to the light emitting region E3 and is disposed adjacent to the third data line DL3 with the light emitting region E3 interposed therebetween. The circuit region D4 of the fourth subpixel SPn4 is disposed adjacent to the light emitting region E4 and adjacent to the fourth data line DL4 with the light emitting region E4 therebetween. The circuit region D3 of the third subpixel SPn3 and the circuit region D4 of the fourth subpixel SPn4 are arranged side by side and disposed adjacent to each other.
제2 게이트 라인(GL2)을 사이에 두고 제5 내지 제8 서브픽셀(SPn5~SPn8)이 위치한다. 제5 서브픽셀(SPn5)의 회로영역(D5)은 발광영역(E5)과 나란하게 배치되되 발광영역(E5)을 사이에 두고 제1 데이터 라인(DL1)과 이웃하여 배치된다. 제6 서브픽셀(SPn6)의 회로영역(D6)은 발광영역(E6)과 나란하게 배치되되 발광영역(E6)을 사이에 두고 제2 데이터 라인(DL2)과 이웃하여 배치된다. 제5 서브픽셀(SPn5)의 회로영역(D5)과 제6 서브픽셀(SPn6)의 회로영역(D6)은 서로 나란하게 배치되며 서로 인접하게 배치된다. 제7 서브픽셀(SPn7)의 회로영역(D7)은 발광영역(E7)과 나란하게 배치되되 발광영역(E7)을 사이에 두고 제3 데이터 라인(DL3)과 이웃하여 배치된다. 제8 서브픽셀(SPn8)의 회로영역(D8)은 발광영역(E8)과 나란하게 배치되되 발광영역(E8)을 사이에 두고 제4 데이터 라인(DL4)과 이웃하여 배치된다. 제7 서브픽셀(SPn7)의 회로영역(D7)과 제8 서브픽셀(SPn8)의 회로영역(D8)은 서로 나란하게 배치되며 서로 인접하게 배치된다.And the fifth to eighth sub-pixels SPn5 to SPn8 are positioned with the second gate line GL2 therebetween. The circuit region D5 of the fifth subpixel SPn5 is disposed adjacent to the light emitting region E5 and adjacent to the first data line DL1 with the light emitting region E5 therebetween. The circuit region D6 of the sixth subpixel SPn6 is disposed adjacent to the light emitting region E6 and adjacent to the second data line DL2 with the light emitting region E6 interposed therebetween. The circuit region D5 of the fifth subpixel SPn5 and the circuit region D6 of the sixth subpixel SPn6 are arranged side by side and disposed adjacent to each other. The circuit region D7 of the seventh subpixel SPn7 is disposed adjacent to the light emitting region E7 and adjacent to the third data line DL3 with the light emitting region E7 interposed therebetween. The circuit region D8 of the eighth subpixel SPn8 is disposed adjacent to the light emitting region E8 and adjacent to the fourth data line DL4 with the light emitting region E8 interposed therebetween. The circuit region D7 of the seventh subpixel SPn7 and the circuit region D8 of the eighth subpixel SPn8 are arranged side by side and disposed adjacent to each other.
한편, 제1 데이터 라인(DL1)의 바깥 측에 제1 데이터 라인(DL1)과 나란하며, 제1 서브픽셀(SPn1)과 제2 서브픽셀(SPn2)에 각각 연결된 제1 전원라인(EVDD1)이 배치된다. 제4 데이터 라인(DL4)의 바깥 측에 제4 데이터 라인(DL4)과 나란하며, 제3 서브픽셀(SPn3)과 제4 서브픽셀(SPn4)에 각각 공유된 제2 전원라인(EVDD2)이 배치된다. 제2 데이터 라인(DL2)의 바깥 측, 즉 제2 데이터 라인(DL2)과 제3 데이터 라인(DL3) 사이에 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1)에 각각 공유된 센싱라인이 배치된다. 제3 서브픽셀(SPn3)과 제4 서브픽셀(SPn4)은 센싱라인(VREF)을 기준으로 제1 서브픽셀(SPn1) 및 제2 서브픽셀(SPn2)과 대칭하여 이루어진다. 제3 서브픽셀(SPn3)은 센싱라인(VREF)과 인접한 제3 데이터 라인(DL3)을 포함하고, 제4 서브픽셀(SPn4)은 제4 서브픽셀(SPn4)의 바깥 측에 제3 데이터 라인(DL3)과 나란한 제4 데이터 라인(DL4)을 포함한다. 설명하지 않았지만 제5 내지 제8 서브픽셀(SPn5~SPn8)도 전술한 제1 내지 제4 서브픽셀(SPn1~SPn4)과 동일하게 구성된다.On the other hand, a first power line EVDD1 connected to the first data line DL1 and connected to the first and second subpixels SPn1 and SPn2 is connected to the outside of the first data line DL1, . A second power line EVDD2 is arranged outside the fourth data line DL4 and aligned with the fourth data line DL4 and shared by the third subpixel SPn3 and the fourth subpixel SPn4 do. A sensing line shared between the first to fourth subpixels SPn1 is disposed between the second data line DL2 and the second data line DL2 and between the third data line DL3 and the third data line DL3. The third subpixel SPn3 and the fourth subpixel SPn4 are symmetrical to the first subpixel SPn1 and the second subpixel SPn2 with respect to the sensing line VREF. The third subpixel SPn3 includes a third data line DL3 adjacent to the sensing line VREF and the fourth subpixel SPn4 includes a third data line DL3 on the outside of the fourth subpixel SPn4. And a fourth data line DL4 in parallel with the data lines DL1 and DL2. Although not described, the fifth to eighth sub-pixels SPn5 to SPn8 are configured in the same manner as the first to fourth sub-pixels SPn1 to SPn4 described above.
도 8과 함께 도 9를 참조하여 제1 서브픽셀(SPn1)의 구조를 대표로 설명한다. 제1 서브픽셀(SPn1)은, 제1 및 제2 게이트 라인들(GL1, GL2)과 제1 데이터 라인(DL1)이 교차하여 정의된다. 제1 서브픽셀(SPn1)은 구동 트랜지스터(DR), 센싱 트랜지스터(ST), 스위칭 트랜지스터(SW), 커패시터(Cst) 및 유기발광다이오드(OLED)를 포함한다. The structure of the first subpixel SPn1 will be described with reference to FIG. 9 with reference to FIG. The first subpixel SPn1 is defined by intersecting the first and second gate lines GL1 and GL2 and the first data line DL1. The first sub-pixel SPn1 includes a driving transistor DR, a sensing transistor ST, a switching transistor SW, a capacitor Cst, and an organic light emitting diode OLED.
발광영역(E1)에는 유기발광다이오드(OLED)의 제1 전극(ANO)이 배치되어 있고, 회로영역(D1)에는 구동 트랜지스터(DR), 커패시터(Cst), 센싱 트랜지스터(ST) 및 스위칭 트랜지스터(SW)가 배치된다. 예를 들어, 스위칭 트랜지스터(SW)는 제1 게이트 라인(GL1), 드레인 전극(250D), 소스 전극(250S) 및 반도체층(220)으로 구성된다. 또한 센싱 트랜지스터(ST)는 센싱라인(VREF)으로부터 연장된 센싱 연결라인(VREFC)에 연결된 소스 전극(240S), 제1 게이트 라인(GL1), 및 반도체층(230)이 드레인 전극으로 함께 작용하여 구성된다. 구동 트랜지스터(DR)는 반도체층(230), 게이트 전극(260), 제1 전원라인(EVDD)으로부터 연장된 전원 연결라인(EVDDC)에 연결된 소스 전극(270S), 및 드레인 전극(270D)으로 구성된다. 커패시터(Cst)는 커패시터 하부전극(LCst), 커패시터 중부전극(MCst) 및 제1 전극(ANO)으로 구성된다. 제1 전극(ANO)은 비어홀(VIA)을 통해 구동 트랜지스터(DR)의 드레인 전극(270D)에 연결된다.A first electrode ANO of the organic light emitting diode OLED is disposed in the light emitting region E1 and a driving transistor DR, a capacitor Cst, a sensing transistor ST, SW) are disposed. For example, the switching transistor SW is composed of a first gate line GL1, a
한편, 전술한 도 6은 게이트 라인이 연장된 방향으로 각 서브픽셀들의 발광영역이 인접하여 배치된다. 따라서, 인접한 서브픽셀들 간에 빛샘이 발생할 여지가 있다. 반면, 도 8에 도시된 것처럼 본 발명에서는 제1 게이트 라인(GL1)이 연장된 방향으로 제1 서브픽셀(SPn1)의 발광영역(E1)/회로영역(D1)/제2 서브픽셀(SPn2)의 회로영역(D2)/발광영역(E2)이 배치된다. 제1 서브픽셀(SPn1)의 발광영역(E1)과 제2 서브픽셀(SPn2)의 발광영역(E2) 사이에 2개의 회로영역(D1, D2)이 배치되기 때문에 옆으로 새는 빛을 이들 회로영역들(D1, D2)에서 차단하게 된다. On the other hand, in Fig. 6 described above, the emission regions of the respective subpixels are arranged adjacent to each other in the direction in which the gate lines extend. Therefore, light leakage may occur between adjacent sub-pixels. On the other hand, as shown in FIG. 8, in the present invention, the light emitting area E1 / circuit area D1 / second sub-pixel SPn2 of the first sub-pixel SPn1 in the extended direction of the first gate line GL1, A light emitting region E2 is arranged. Since two circuit regions D1 and D2 are disposed between the light emitting region E1 of the first subpixel SPn1 and the light emitting region E2 of the second subpixel SPn2, (D1, D2).
구체적으로 도 10을 참조하면, 제1 서브픽셀(SPn1) 및 제2 서브픽셀(SPn2)의 기판(SUB1) 상에 각각 커패시터 하부전극(LCst), 커패시터 중부전극(MCst) 및 제1 전극(ANO)을 포함한 커패시터(Cst)가 배치된다. 커패시터 중부전극(MCst) 상에 패시베이션막(PAS)이 위치하고, 패시베이션막(PAS) 상에 적색 컬러필터(RCF)가 배치된다. 적색 컬러필터(RCF) 상에 오버코트층(OC)이 위치하고 그 상부에 각 서브픽셀의 제1 전극들(ANO)이 위치한다. 또한 각 서브픽셀의 발광영역을 구획하는 뱅크층(BNK)이 위치한다. 10, on the substrate SUB1 of the first and second subpixels SPn1 and SPn2, a capacitor lower electrode LCst, a capacitor center electrode MCst, and a first electrode ANO And a capacitor Cst including a capacitor Cst. A passivation film PAS is disposed on the capacitor center electrode MCst and a red color filter RCF is disposed on the passivation film PAS. An overcoat layer OC is positioned on a red color filter (RCF), and first electrodes (ANO) of each subpixel are disposed on the overcoat layer (OC). Further, a bank layer BNK for partitioning the light emitting region of each subpixel is located.
도 8에서 도시된 것처럼, 제1 서브픽셀(SPn1)의 발광영역(E1)과 제2 서브픽셀(SPn2)의 발광영역(E2) 사이에 2개의 회로영역(D1, D2) 즉, 제1 서브픽셀(SPn1)의 커패시터(Cst)와 제2 서브픽셀(SPn2)의 커패시터(Cst)가 배치함으로써, 인접한 서브픽셀들 간에 빛샘을 방지할 수 있다. 8, two circuit regions D1 and D2 are formed between the light emitting region E1 of the first subpixel SPn1 and the light emitting region E2 of the second subpixel SPn2, The capacitor Cst of the pixel SPn1 and the capacitor Cst of the second subpixel SPn2 are disposed to prevent light leakage between adjacent subpixels.
그리고 제1 서브픽셀(SPn1)의 적색 컬러필터(RCF)는 제2 서브픽셀(SPn2)의 커패시터(Cst)가 배치된 영역으로 더 도포될 수 있는 마진을 가질 수 있다. 또한 제1 서브픽셀(SPn1)의 발광영역(E1)과 제2 서브픽셀(SPn2)의 발광영역(E2) 사이에 2개의 회로영역(D1, D2)이 존재함에 따라, 상부에 위치한 뱅크층(BNK)도 그만큼 마진을 넓게 가질 수 있다. And the red color filter RCF of the first subpixel SPn1 may have a margin that can be further applied to the region where the capacitor Cst of the second subpixel SPn2 is disposed. The two circuit regions D1 and D2 exist between the light emitting region E1 of the first subpixel SPn1 and the light emitting region E2 of the second subpixel SPn2, BNK) can have a wider margin.
전술한 도 7과 도 10을 비교해 보면, 도 7에서는 서브픽셀들 사이에 2개의 데이터 라인만 존재하기 때문에 서브픽셀들 사이의 간격이 좁아 빛샘이 발생할 수 있다. 반면, 도 10에서는 제1 서브픽셀(SPn1)과 제2 서브픽셀(SPn2) 사이에 커패시터들(Cst)이 배치되기 때문에 제1 및 제2 서브픽셀들(SPn1, SPn2) 사이의 간격을 현저히 넓힐 수 있어 빛샘을 방지할 수 있다. 또한, 제1 및 제2 서브픽셀들(SPn1, SPn2) 사이의 간격이 넓어짐에 따라 적색 컬러필터(RCF)도 제2 서브픽셀(SPn2)쪽으로 더 형성될 수 있는 마진을 가질 수 있어 형성이 용이해질 수 있다. 또한, 제1 및 제2 서브픽셀들(SPn1, SPn2) 사이의 간격이 넓어짐에 따라 뱅크층(BNK)도 마진을 가질 수 있어 제1 서브픽셀(SPn1)의 제1 전극(ANO)의 마진 또한 넓어지게 된다. 이러한 적색 컬러필터(RCF), 뱅크층(BNK) 및 제1 전극(ANO)의 마진이 넓어짐으로써, 설계가 자유로워져 개구율이 향상되고 공정이 용이해 질 수 있다.7 and FIG. 10, only two data lines are present between the subpixels in FIG. 7, so that a space between the subpixels is narrow and light leakage may occur. 10, since the capacitors Cst are arranged between the first subpixel SPn1 and the second subpixel SPn2, the interval between the first and second subpixels SPn1 and SPn2 is significantly widened It can prevent light leakage. In addition, as the interval between the first and second subpixels SPn1 and SPn2 becomes wider, the red color filter RCF can have a margin that can be further formed toward the second subpixel SPn2, . As the interval between the first and second subpixels SPn1 and SPn2 becomes wider, the bank layer BNK may have a margin, and the margin of the first electrode ANO of the first subpixel SPn1 It becomes wider. As the margins of the red color filter (RCF), the bank layer (BNK), and the first electrode (ANO) are widened, the design becomes free and the aperture ratio can be improved and the process can be facilitated.
다시 도 8을 참조하면, 제3 서브픽셀(SPn3)과 제4 서브픽셀(SPn4)도 제1 서브픽셀(SPn1)과 제2 서브픽셀(SPn2)과 동일하게 배치되어 이들 사이에서 발생할 수 있는 빛샘을 방지할 수 있다. 그리고 제2 서브픽셀(SPn2)과 제3 서브픽셀(SPn3) 사이에는 센싱라인(VREF), 제2 데이터 라인(DL2) 및 제3 데이터 라인(DL3)이 배치되어, 제2 서브픽셀(SPn2)의 발광영역(E2)과 제3 서브픽셀(SPn3)의 발광영역(E3) 사이에서 발생할 수 있는 빛샘을 방지한다.Referring again to FIG. 8, the third subpixel SPn3 and the fourth subpixel SPn4 are arranged in the same manner as the first subpixel SPn1 and the second subpixel SPn2, Can be prevented. A sensing line VREF, a second data line DL2 and a third data line DL3 are arranged between the second subpixel SPn2 and the third subpixel SPn3 to form the second subpixel SPn2, Emitting region E2 of the third sub-pixel SPn3 and the light-emitting region E3 of the third sub-pixel SPn3.
한편, 본 발명의 컬러필터들은 전술한 도 6과는 달리, 데이터 라인이 연장된 방향으로 연속적으로 형성된다. 구체적으로, 본 발명의 제1 서브픽셀(SPn1)과 제5 서브픽셀(SPn5)은 제1 데이터 라인(DL1)이 연장된 방향으로 배치되어 서로 동일한 적색을 방출한다. 제2 서브픽셀(SPn2)과 제6 서브픽셀(SPn6)도 서로 동일한 백색을 방출한다. 제3 서브픽셀(SPn3)과 제7 서브픽셀(SPn7)도 서로 동일한 청색을 방출한다. 제4 서브픽셀(SPn4)과 제8 서브픽셀(SPn8)도 서로 동일한 녹색을 방출한다. On the other hand, the color filters of the present invention are formed consecutively in the extending direction of the data lines, unlike the case of Fig. Specifically, the first subpixel SPn1 and the fifth subpixel SPn5 of the present invention are arranged in the extending direction of the first data line DL1 and emit the same red color to each other. The second subpixel SPn2 and the sixth subpixel SPn6 also emit the same white color. The third subpixel SPn3 and the seventh subpixel SPn7 also emit the same blue color. The fourth subpixel SPn4 and the eighth subpixel SPn8 also emit the same green.
전술한 도 6에 도시된 서브픽셀의 발광영역은 주변에 회로영역들과 다른 색을 방출하는 발광영역이 배치되기 때문에 컬러필터는 섬 형상으로 패턴될 수 밖에 없다. 그러나 본 발명은 제1 데이터 라인(DL1)이 연장된 방향으로 동일한 색을 방출하는 서브픽셀의 발광영역이 배치되기 때문에 컬러필터가 제1 데이터 라인(DL1)이 연장된 방향으로 연속적으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 적색 컬러필터(RCF)는 제1 서브픽셀(SPn1)과 제5 서브픽셀(SPn5)에 연속적으로 형성된다. 청색 컬러필터(BCF)는 제3 서브픽셀(SPn3)과 제7 서브픽셀(SPn7)에 연속적으로 형성된다. 녹색 컬러필터(GCF)는 제4 서브픽셀(SPn4)과 제8 서브픽셀(SPn8)에 연속적으로 형성된다. 이와 같이, 컬러필터가 연속적으로 형성되면 서브픽셀의 개구율이 향상되는 효과를 나타낼 수 있다. The light emitting region of the subpixel shown in FIG. 6 has a light emitting region that emits a color different from that of the circuit regions, so that the color filter can only be patterned into an island shape. However, since the light emitting region of the subpixel emitting the same color in the extending direction of the first data line DL1 is disposed, the color filter can be continuously formed in the extending direction of the first data line DL1 have. For example, a red color filter (RCF) is formed continuously in the first subpixel SPn1 and the fifth subpixel SPn5. The blue color filter BCF is formed continuously in the third subpixel SPn3 and the seventh subpixel SPn7. The green color filter GCF is formed continuously in the fourth subpixel SPn4 and the eighth subpixel SPn8. As described above, when the color filter is formed continuously, the aperture ratio of the subpixel can be improved.
예를 들어, 도 9의 절취선 C-C'에 따른 단면도인 도 11을 참조하면, 제1 데이터 라인이 연장된 방향으로 배치된 서브픽셀들 사이에는 제1 게이트 라인(GL1)이 배치된다. 제1 게이트 라인(GL1)은 제1 버퍼층(BUF1) 상에 배치된다. 제1 게이트 라인(GL1) 상에 제2 버퍼층(BUF2), 게이트 절연막(GI), 층간 절연막(ILD), 패시베이션막(PAS), 적색 컬러필터(RCF) 및 오버코트층(OC)이 순차적으로 배치된다. 오버코트층(OC) 상에 각 서브픽셀의 제1 전극(ANO)들이 배치된다. 적색 컬러필터(RCF)는 인접한 서브픽셀들에 연속적으로 형성된다. For example, referring to FIG. 11, which is a cross-sectional view taken along a perforated line C-C 'of FIG. 9, a first gate line GL1 is disposed between subpixels arranged in the extending direction of the first data line. The first gate line GL1 is disposed on the first buffer layer BUF1. The second buffer layer BUF2, the gate insulating film GI, the interlayer insulating film ILD, the passivation film PAS, the red color filter RCF and the overcoat layer OC are sequentially arranged on the first gate line GL1 do. The first electrodes ANO of each subpixel are disposed on the overcoat layer OC. A red color filter (RCF) is formed continuously in adjacent subpixels.
여기서, 제1 게이트 라인(GL1)의 상부에 각 서브픽셀의 제1 전극(ANO)이 매우 인접하여 배치되기 때문에 기생 커패시터가 생길 우려가 있다. 그러나, 본 발명에서는 제1 게이트 라인(GL1)을 가장 기판에 인접한 도전성 재료인 광차단층 물질로 형성함으로써, 제1 전극(ANO)과 제1 게이트 라인(GL1)에서 발생할 수 있는 기생 커패시터를 최소화할 수 있다. Here, since the first electrodes ANO of the respective subpixels are arranged very close to the first gate line GL1, parasitic capacitors may be generated. However, in the present invention, the first gate line GL1 is formed of a light blocking layer material that is the conductive material closest to the substrate, thereby minimizing parasitic capacitors that may occur in the first electrode ANO and the first gate line GL1 .
전술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 서브픽셀의 발광영역을 사이에 두고 데이터 라인과 이격하여 회로영역을 배치함으로써, 인접한 서브픽셀들 사이에 회로영역들이 배치된다. 따라서, 인접한 서브픽셀들 간의 빛샘이 발생하는 것을 방지할 수 있다.As described above, in the display device according to the embodiment of the present invention, circuit regions are arranged between adjacent subpixels by disposing a circuit region apart from a data line with a light emitting region of the subpixel interposed therebetween. Therefore, it is possible to prevent light leakage between adjacent sub-pixels from occurring.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 같은 색을 방출하는 서브픽셀들의 컬러필터를 인접한 서브픽셀들에 연속적으로 형성함으로써, 서브픽셀들의 개구율을 향상시키고 컬러필터의 제조 공정을 용이하게 할 수 있다.In addition, the display device according to an embodiment of the present invention continuously forms the color filter of the sub-pixels emitting the same color in the adjacent sub-pixels, thereby improving the aperture ratio of the sub-pixels and facilitating the manufacturing process of the color filter .
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 각 서브픽셀의 제1 전극과 인접한 게이트 라인을 광차단층으로 형성함으로써, 제1 전극과 게이트 라인 사이에 발생할 수 있는 기생 커패시터를 줄일 수 있다. In addition, the display device according to an embodiment of the present invention can reduce parasitic capacitors that may occur between the first electrode and the gate line by forming the gate line adjacent to the first electrode of each subpixel as a light blocking layer.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood that the invention may be practiced. It is therefore to be understood that the embodiments described above are to be considered in all respects only as illustrative and not restrictive. In addition, the scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the detailed description. Also, all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.
GL1~GL2 : 제1 및 제2 게이트 라인
DL1~DL4 : 제1 내지 제4 데이터 라인
VREF : 센싱라인
EVDD1~EVDD2 : 제1 및 제2 전원라인
SPn1~SPn8 : 제1 내지 제8 서브픽셀
E1~E8 : 발광영역
D1~D8 : 회로영역GL1 to GL2: first and second gate lines DL1 to DL4: first to fourth data lines
VREF: sensing lines EVDD1 to EVDD2: first and second power lines
SPn1 to SPn8: first to eighth sub-pixels E1 to E8:
D1 to D8: circuit area
Claims (10)
상기 제1 서브픽셀은,
상기 기판 상에 위치하는 제1 게이트 라인;
상기 제1 게이트 라인과 교차하는 제1 데이터 라인;
상기 제1 데이터 라인과 나란하게 배치되며 유기발광다이오드를 포함하는 발광영역; 및
상기 발광영역과 나란하게 배치되되 상기 발광영역을 사이에 두고 상기 제1 데이터 라인과 이웃하여 배치되고, 복수의 박막트랜지스터 및 커패시터를 포함하는 회로영역을 포함하는 표시장치.A first sub-pixel located on a substrate,
The first sub-
A first gate line positioned on the substrate;
A first data line crossing the first gate line;
A light emitting region disposed in parallel with the first data line and including an organic light emitting diode; And
And a circuit region disposed in parallel with the light emitting region and disposed adjacent to the first data line with the light emitting region interposed therebetween, the circuit region including a plurality of thin film transistors and a capacitor.
상기 제1 서브픽셀에 인접한 제2 서브픽셀을 포함하며,
상기 제2 서브픽셀은,
상기 제1 게이트 라인과 교차하는 제2 데이터 라인;
상기 제2 데이터 라인과 나란하게 배치되며 유기발광다이오드를 포함하는 발광영역; 및
상기 발광영역과 나란하게 배치되되 상기 발광영역을 사이에 두고 상기 제2 데이터 라인과 이웃하여 배치되고, 복수의 박막트랜지스터 및 커패시터를 포함하는 회로영역을 포함하는 표시장치.The method according to claim 1,
A second sub-pixel adjacent to the first sub-pixel,
The second sub-
A second data line crossing the first gate line;
A light emitting region arranged in parallel with the second data line and including an organic light emitting diode; And
And a circuit region disposed in parallel to the light emitting region and disposed adjacent to the second data line with the light emitting region therebetween, the circuit region including a plurality of thin film transistors and a capacitor.
상기 제1 서브픽셀의 회로영역과 상기 제2 서브픽셀의 회로영역은 서로 나란하게 배치되며 서로 인접한 표시장치.3. The method of claim 2,
And the circuit region of the first subpixel and the circuit region of the second subpixel are arranged in parallel to each other and adjacent to each other.
상기 제1 데이터 라인의 바깥 측에 상기 제1 데이터 라인과 나란하며, 상기 제1 서브픽셀과 상기 제2 서브픽셀에 각각 공유된 제1 전원라인을 포함하는 표시장치.The method of claim 3,
And a first power line that is parallel to the first data line and is shared by the first sub-pixel and the second sub-pixel, respectively, outside the first data line.
상기 제2 데이터 라인의 바깥 측에 상기 제1 서브픽셀과 상기 제2 서브픽셀에 각각 공유된 센싱라인을 포함하는 표시장치.5. The method of claim 4,
And a sensing line shared on the outer side of the second data line with the first sub pixel and the second sub pixel, respectively.
상기 센싱라인을 기준으로 상기 제1 서브픽셀 및 상기 제2 서브픽셀과 대칭하는 제3 서브픽셀 및 제4 서브픽셀을 포함하며, 상기 센싱라인은 상기 제3 서브픽셀 및 제4 서브픽셀에 공유된 표시장치.6. The method of claim 5,
And a third subpixel and a fourth subpixel symmetrical to the first and second subpixels with respect to the sensing line, the sensing line being connected to the third subpixel and the fourth subpixel Display device.
상기 제3 서브픽셀은 상기 센싱라인과 인접한 제3 데이터 라인을 포함하고, 상기 제4 서브픽셀은 상기 제4 서브픽셀의 바깥 측에 상기 제3 데이터 라인과 나란한 제4 데이터 라인을 포함하는 표시장치.The method according to claim 6,
The third subpixel includes a third data line adjacent to the sensing line, and the fourth subpixel includes a fourth data line on the outer side of the fourth subpixel, the fourth data line being parallel to the third data line. .
상기 제4 데이터 라인의 바깥 측에 상기 제4 데이터 라인과 나란하며, 상기 제3 서브픽셀과 상기 제4 서브픽셀에 각각 공유된 제2 전원라인을 포함하는 표시장치.8. The method of claim 7,
And a second power line that is arranged outside the fourth data line and is in parallel with the fourth data line and is shared by the third subpixel and the fourth subpixel, respectively.
상기 제1 내지 제4 서브픽셀 하측에 배치된 제2 게이트 라인; 및
상기 제2 게이트 라인에 연결되고 각각 상기 제1 내지 제4 서브픽셀과 동일한 구조를 가진 제5 내지 제8 서브픽셀을 포함하는 표시장치.9. The method of claim 8,
A second gate line disposed below the first through fourth subpixels; And
And fifth to eighth sub-pixels connected to the second gate line and having the same structure as the first to fourth sub-pixels, respectively.
상기 제1 서브픽셀과 상기 제5 서브픽셀은 동일한 색을 방출하며, 상기 제1 서브픽셀과 상기 제5 서브픽셀의 컬러필터가 연속적으로 연결된 표시장치.
9. The method of claim 8,
The first subpixel and the fifth subpixel emit the same color, and the color filters of the first subpixel and the fifth subpixel are connected in series.
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