KR20190063987A - Thin film coating apparatus for THz beam splitter and coating methode thereof - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an apparatus for coating a thin film used for manufacturing a beam splitter that is widely used in various apparatuses using a terahertz (THz) beam and a method thereof. According to the present invention, the thin film coating apparatus for manufacturing a THz beam splitter is configured such that a thin film coated by spraying a coating solution containing a metal on a thin film coating sample coated with a thin film on a ring-shaped thin film holder has a predetermined reflectance and a projection rate. The thin film coating apparatus transports a specimen mounting part, on which the thin film coating sample is seated, to the left and right, and sprays the coating solution on the thin film coating sample by using an air spray, thereby uniformly and reproducibly coating a large area and performing thin film coating for manufacturing a THz beam splitter having desired reflectance and transmittance at low costs.

Description

THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 장치 및 이를 이용한 코팅 방법 {Thin film coating apparatus for THz beam splitter and coating methode thereof}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a thin film coating apparatus for producing a THz beam splitter and a coating method using the thin film coating apparatus,

본 발명은 빔 스플리터 제작에 사용되는 박막 코팅 장치 및 이를 이용한 코팅 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 테라헤르츠(THz) 빔을 이용한 여러 장치에 널리 이용되는 빔 스플리터 제작에 사용되는 박막을 코팅하는 장치 및 그 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a thin film coating apparatus used for beam splitter production and a coating method using the thin film coating apparatus. More specifically, the present invention relates to a thin film coating apparatus for coating a thin film used for beam splitter widely used in various apparatuses using THz And a method thereof.

빔 스플리터란 입사하는 빛의 일부는 반사하고 일부는 투과하여 입사 광선속을 둘로 나누는 광학 소자이다. The beam splitter is an optical element that reflects a part of incident light and transmits a part of the light to divide the incident light beam into two.

통상 THz 빔에 사용되는 빔 스플리터는 고저항 실리콘 웨이퍼로 제작되지만 두께가 수 mm에 이르게 되므로, 시스템에 사용시 앞면에서 반사하는 빔과 뒷면에서 반사하는 빔이 동시에 생성되어 신호 해석에 어려움이 있다. Generally, the beam splitter used in the THz beam is fabricated from a high-resistance silicon wafer but has a thickness of several millimeters. Therefore, when used in a system, a beam reflected from the front surface and a beam reflected from the back surface are simultaneously generated.

상기 문제점을 해결하기 위해 Benjamin S.-Y. 등은 두께가 수 마이크로 정도의 매우 얇은 THz 빔 스플리터를 제작하는 방법으로 일반 가정에서 많이 사용하는 랩 (LDPE: low density polyethylene) 표면에 금속 물질을 코팅하는 방법을 제안하였고, 금속 물질의 코팅 두께를 조절하여 원하는 반사율과 투과율을 가지는 빔 스플리터를 제작할 수 있음을 개시한 바 있다.To solve this problem, Benjamin S.-Y. (LDPE), which is widely used in general households, is proposed as a method of fabricating a very thin THz beam splitter with a thickness of several micrometers, and a method of coating a metal material on the surface of a low density polyethylene (LDPE) It is possible to manufacture a beam splitter having desired reflectance and transmittance.

그러나, Benjamin S.-Y. 등은 에어 브러쉬를 사용하여 얇은 막에 금속을 코팅하는 방법을 이용하였고, 넓은 면적을 균일하게 코팅하기가 어렵고, 작업자가 직접 손으로 수행하기 때문에 코팅 두께를 조절하거나, 동일한 두께의 빔 스플리터를 재현성 있게 제작하는 것이 불가능하다는 문제가 있다. However, Benjamin S.-Y. Etc. are coated with a thin film by using an airbrush, and it is difficult to uniformly coat a large area, and since the operator directly carries out the coating, the thickness of the coating can be adjusted or the beam splitter of the same thickness can be reproduced There is a problem in that it is impossible to produce such a product.

“Low-cost ultra-thin broadband terahertz beam-splitter”(Benjamin S.-Y. Ung, Christophe Fumeaux, Hungyen Lin, Bernd M. Fischer, Brian W.-H. Ng, Derek Abbott, 13 February 2012 / Vol. 20, No. 5 / OPTICS EXPRESS"Low-cost ultra-thin broadband terahertz beam-splitter" (Benjamin S.-Y. Ung, Christophe Fumeaux, Hungry Lin, Bernd M. Fischer, Brian W.-H. Ng, Derek Abbott, 13 February 2012 / Vol. 20, No. 5 / OPTICS EXPRESS

본 발명은 상기한 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명은 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 시에 넓은 면적을 균일하게 코팅할 수 있는 코팅 장치와 코팅 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.DISCLOSURE OF INVENTION Technical Problem It is an object of the present invention to provide a coating apparatus and a coating method capable of uniformly coating a large area at the time of thin film coating for manufacturing a THz beam splitter do.

또한, 본 발명은 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 시에 코팅 두께를 재현성 있게 조절할 수 있는 코팅 장치와 코팅 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a coating apparatus and a coating method which can reproducibly control the coating thickness during thin film coating for the production of a THz beam splitter.

또한, 본 발명은 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 시에 다수의 박막을 동시에 코팅할 수 있는 코팅 장치와 코팅 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a coating apparatus and a coating method capable of simultaneously coating a plurality of thin films at the time of thin film coating for manufacturing a THz beam splitter.

또한, 본 발명은 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 시에 코팅 면적에 따라 코팅 금속을 적절히 분사하여 코팅 재료의 낭비를 줄일 수 있는 코팅 장치와 코팅 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a coating apparatus and a coating method capable of reducing waste of a coating material by appropriately spraying a coating metal according to a coating area in a thin film coating process for producing a THz beam splitter.

또한, 본 발명은 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 시에 건조 전 상태에서의 박막의 반사율과 투과율을 측정하고 이로부터 건조 후의 박막의 반사율 투과율을 추정하여 코팅 두께를 조절하는 코팅 장치와 코팅 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention also provides a coating apparatus and a coating method for measuring the reflectance and transmittance of a thin film in a state before drying and estimating a reflectance transmittance of the thin film after drying in a thin film coating process for preparing a THz beam splitter .

위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 장치는, 링형상의 박막 지지구에 얇은 박막이 씌워진 박막 코팅 시료에 금속이 포함된 코팅액을 분무하여 코팅된 박막이 일정 반사율과 투과율을 갖도록 하는 박막 코팅 장치에 있어서, 상기 박막 코팅 시료가 안착되는 시편 지지구, 상기 시편 지지구를 좌우로 이동시키는 시편 좌우 이송구를 포함하는 시편 이송부; 및 상기 박막 코팅 시료에 코팅액을 분사하는 에어 스프레이를 포함하는 코팅액 분무부;를 포함하여 구성된다.In order to achieve the above object, the thin film coating apparatus for manufacturing a THz beam splitter of the present invention is a thin film coating apparatus for forming a THz beam splitter by spraying a coating solution containing a metal on a thin film coating sample coated with a thin film on a ring- The thin film coating apparatus according to claim 1, wherein the thin film coating unit comprises: a specimen supporting unit on which the thin film coating specimen is mounted; a specimen conveying unit including a specimen supporting unit for moving the specimen support unit to the left and right; And a coating liquid spray part including an air spray for spraying the coating liquid onto the thin film coating sample.

또한, 상기 코팅액 분무부는 상기 에어 스프레이와 박막 코팅 시료 사이의 거리를 조정하기 위한 에어 스프레이 전후 이송구를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The coating liquid spraying unit may further include an air spray front and rear delivery port for adjusting a distance between the air spray and the thin film coating sample.

또한, 상기 에어 스프레이 전후 이송구는 상기 에어 스프레이가 고정되는 베이스 플레이트와 상기 베이스 플레이트가 슬라이딩 운동하도록 구성되는 가이드 레일을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The air spray front and rear conveyance holes include a base plate on which the air spray is fixed and a guide rail on which the base plate is slidably moved.

또한, 상기 시편 이송부는 상기 시편의 좌우 위치를 감지하는 좌우 위치 감지구를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The specimen transferring unit may further include a left and right position sensing unit for sensing a left and right position of the specimen.

또한, 상기 박막 코팅 장치는 상기 시편의 좌우 이송 방향으로 나란이 배열되는 복수의 시편 지지대를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the thin film coating apparatus includes a plurality of specimen supports arranged in the lateral direction of the specimen.

또한, 상기 박막 코팅 장치는 상기 에어 스프레이로 박막 코팅 시료에 코팅액을 분사한 후 박막의 반사율과 투과율을 측정할 수 있는 반사율 투과율 측정 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The thin film coating apparatus may further include a reflectance transmittance measuring device capable of measuring a reflectance and a transmittance of the thin film after spraying the coating solution onto the thin film coated sample with the air spray.

또한, 상기 반사율 투과율 측정 장치는 상기 박막에 THz 빔을 조사하는 THz 빔 조사부, 상기 박막의 반사율을 측정하는 반사율 측정부, 및 상기 박막의 투과율을 측정하는 투과율 측정부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The reflectance transmittance measuring apparatus may further include a THz beam irradiating unit for irradiating the thin film with a THz beam, a reflectance measuring unit for measuring the reflectance of the thin film, and a transmittance measuring unit measuring the transmittance of the thin film.

또한, 상기 시편 지지구의 내부에는 중공부가 형성되어, 상기 THz 빔 조사부에서 조사된 THz 빔이 상기 박막과 상기 중공부를 통과하여 상기 투과율 측정부로 전달되는 것을 특징으로 한다.The THz beam irradiated from the THz beam irradiating unit passes through the thin film and the hollow part, and is transmitted to the transmittance measuring unit.

한편, 본 발명의 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 방법은 링형상의 박막 지지구에 얇은 박막이 씌워진 박막 코팅 시료를 분비하는 단계; 상기 박막 코팅 시료를 시편 이송부의 시편 지지구에 장착하는 단계; 상기 에어 스프레이와 박막 코팅 시료와의 거리를 조절하기 위해 에어 스프레이의 위치를 조절하는 단계; 상기 시편 지지구의 좌우 이동 거리, 속도, 방향 전환 유지 시간 중 어느 하나 이상의 파라미터를 설정하는 시편 이동 파라미터 설정 단계; 및 시편 지지대를 좌우로 이동 시키며 에어 스프레이로 코팅액을 분무하는 시편 이송 및 분무 코팅 단계;를 포함하여 구성된다.Meanwhile, the thin film coating method for manufacturing a THz beam splitter of the present invention includes the steps of: secreting a thin film coating sample coated with a thin film on a ring-shaped thin film support; Attaching the thin film coating sample to a specimen support portion of a specimen conveyance portion; Adjusting the position of the air spray to adjust the distance between the air spray and the thin film coating sample; A sample moving parameter setting step of setting a parameter of at least one of a left / right moving distance, a speed, and a direction switching holding time of the specimen support strip; And a sample transporting and spray coating step of spraying the coating liquid by air spray while moving the sample support to the left and right.

또한, 본 발명의 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 방법은 링형상의 박막 지지구에 얇은 박막이 씌워진 박막 코팅 시료를 분비하는 단계; 상기 박막 코팅 시료를 시편 이송부의 시편 지지구에 장착하는 단계; 상기 에어 스프레이와 박막 코팅 시료와의 거리를 조절하기 위해 에어 스프레이의 위치를 조절하는 단계; 상기 시편 지지구의 좌우 이동 거리, 속도, 방향 전환 유지 시간 중 어느 하나 이상의 파라미터를 설정하는 시편 이동 파라미터 설정 단계; 시편 지지대를 좌우로 이동 시키며 에어 스프레이로 코팅액을 분무하는 시편 이송 및 분무 코팅 단계; 상기 에어 스프레이로 박막 코팅 시료에 코팅액을 분사한 후 박막의 반사율과 투과율을 측정하는 반사율 및 투과율 측정 단계; 상기 측정된 반사율 및 투과율을 건조 후 박막의 반사율 및 투과율로 환산하는 반사율 및 투과율 환산 단계; 및 상기 환산된 반사율 및 투과율을 기준으로 박막 코팅의 완료 여부를 판단하는 코팅 완료 판단 단계;를 포함하고, 코팅이 완료 되지 않았다고 판단되면, 시편 이송 및 분무 코팅 단계;를 다시 수행하는 것을 특징으로 한다.In addition, the thin film coating method for manufacturing a THz beam splitter of the present invention includes the steps of: secreting a thin film coating sample coated with a thin film on a ring-shaped thin film support; Attaching the thin film coating sample to a specimen support portion of a specimen conveyance portion; Adjusting the position of the air spray to adjust the distance between the air spray and the thin film coating sample; A sample moving parameter setting step of setting a parameter of at least one of a left / right moving distance, a speed, and a direction switching holding time of the specimen support strip; A sample transferring and spray coating step of spraying the coating solution by air spray while moving the sample support to the left and right; A reflectance and transmittance measuring step of measuring the reflectance and transmittance of the thin film after spraying the coating solution on the thin film coated sample with the air spray; A reflectance and transmittance conversion step of converting the measured reflectance and transmittance into reflectance and transmittance of the thin film after drying; And a coating completion judgment step of judging whether or not the thin film coating is completed based on the converted reflectance and transmittance. When it is judged that the coating is not completed, the sample transportation and the spray coating step are performed again .

위와 같은 과제 해결 수단을 통해 본 발명의 박막 코팅 장치 및 코팅 방법은 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 시에 넓은 면적을 균일하게 코팅할 수 있고, 코팅 두께를 재현성 있게 조절할 수 있는 효과를 갖는다.The thin film coating apparatus and coating method of the present invention can uniformly coat a large area uniformly in the thin film coating process for the THz beam splitter through the above-mentioned problem solving means, and have the effect of controlling the coating thickness reproducibly.

또한, 본 발명은 다수의 박막을 동시에 코팅할 수 있으며, 코팅 면적에 따라 코팅 금속을 적절히 분사하여 코팅 재료의 낭비를 줄일 수 있는 효과를 갖는다.In addition, the present invention can simultaneously coat a plurality of thin films, and it is possible to reduce the waste of the coating material by properly spraying the coating metal according to the coating area.

또한, 본 발명은 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 시에 건조 전 상태에서의 박막의 반사율과 투과율을 측정하고 이로부터 건조 후의 박막의 반사율 투과율을 추정하여 희망하는 코팅 두께를 정확히 조절할 수 있는 효과를 갖는다.In addition, the present invention has an effect of accurately measuring the reflectance and transmittance of a thin film in a state before drying and estimating the reflectance transmittance of the thin film after drying in a thin film coating process for preparing a THz beam splitter, .

도 1은 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 시료의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 장치 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 박막 코팅 장치의 시편 이송부 평면도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 박막 코팅 장치의 코팅액 분무부 사시도이다
도 5는 본 발명의 박막 코팅 장치를 이용하여 제작된 여러 코팅 두께로 코팅된 박막의 사진이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 박막 코팅 장치의 변형예이다,
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 박막 코팅 장치의 사시도이다.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 박막 코팅 방법을 나타낸 순서도이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 박막 코팅 방법을 나타낸 순서도이다.1 is a top view of a thin film coating sample for making a THz beam splitter.
2 is a perspective view of a thin film coating apparatus for manufacturing a THz beam splitter according to an embodiment of the present invention.
3 is a top plan view of a specimen conveyance unit of a thin film coating apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of a coating liquid spray portion of the thin film coating apparatus according to an embodiment of the present invention
5 is a photograph of a thin film coated with various coating thicknesses fabricated using the thin film coating apparatus of the present invention.
6 is a modification of the thin film coating apparatus according to an embodiment of the present invention,
7 is a perspective view of a thin film coating apparatus according to another embodiment of the present invention.
8 is a flowchart illustrating a method of coating a thin film according to an embodiment of the present invention.
9 is a flowchart illustrating a thin film coating method according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 기술적 사상을 첨부된 도면을 사용하여 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the technical idea of the present invention will be described more specifically with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도면은 본 발명의 기술적 사상을 더욱 구체적으로 설명하기 위하여 도시한 일예에 불과하므로 본 발명의 기술적 사상이 첨부된 도면의 형태에 한정되는 것은 아니다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are included to provide a further understanding of the technical concept of the present invention, are incorporated in and constitute a part of the specification, and are not intended to limit the scope of the present invention.

도 1은 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 시료(100)를 나타낸 것으로, 도 1을 참조하면 본 발명의 박막 코팅 시료(100)는 링형상의 박막 지지구(120)에 얇은 박막(110)을 씌운 형태로 준비된다. 이때 박막(110)은 일반 가정에서 많이 사용하는 랩(LDPE: low density polyethylene)이 이용될 수 있으며, 필요에 따라 투명 재질의 여러 고분자 물질이 이용될 수 있고, 설계하는 THz 시스템의 특성에 따라 적절한 두께로 선택될 수 있다. 이와 같이 준비된 박막 코팅 시료(100)는 본 발명의 박막 코팅 장치(1000)에 안착되어 박막이 일정 반사율과 투과율을 갖도록 표면에 금속 물질이 코팅되게 된다.1, a thin film coating sample 100 according to the present invention includes a thin film 110 coated with a ring-shaped thin film support 120, . At this time, the thin film 110 may be a low density polyethylene (LDPE) which is widely used in the home, and various transparent polymer materials may be used, and the thin film 110 may be appropriately selected depending on the characteristics of the THz system Thickness. The thin film coating sample 100 thus prepared is placed on the thin film coating apparatus 1000 of the present invention so that the metal material is coated on the surface thereof so that the thin film has a certain reflectance and transmittance.

도2는 본 발명의 일실시예에 따른 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 장치(1000)를 나타낸 것으로, 도 2를 참조하면 본 발명의 박막 코팅 장치(1000)는 박막 코팅 시료(100)가 안착되는 시편 장착부(210), 상기 시편 장착부(210)를 좌우로 이동시키는 시편 좌우 이송구(230)를 포함하는 시편 이송부(200) 및 상기 박막 코팅 시료(100)에 코팅액을 분사하는 에어 스프레이(310)를 포함하는 코팅액 분무부(300)를 포함하여 구성된다.FIG. 2 illustrates a thin film coating apparatus 1000 for manufacturing a THz beam splitter according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, the thin film coating apparatus 1000 of the present invention includes a thin film coating apparatus 100, A specimen transferring unit 200 including a specimen mounting unit 210 and a specimen transporting unit 230 for moving the specimen mounting unit 210 to the left and right and an air spray 310 for spraying a coating liquid onto the thin coating sample 100, And a spraying part 300 for spraying the coating liquid.

시편 장착부(210)은 박막 코팅 시료(100)가 안착 지지되는 곳으로서, 중앙에 일정 홈이 형성되어 박막 코팅 시료(100)가 홈의 내부에 안착되어 지지되며, 필요에 따라 볼트 체결 등의 별도 지지 수단을 구비할 수 있다. 시편 좌우 이송구(230)는 코팅액이 분무되는 동안 시편 장착부(210)을 좌우로 이송시키는 장치이며, 모터와 구동벨트 또는 리니어 액츄에이터 등 다양한 선형 이송 수단이 이용될 수 있다. 코팅액 분무부(300)에는 박막 코팅을 위한 금속 나노 입자가 포함된 코팅액을 에어 스프레이(310) 형태로 박막 코팅 시료(100)에 분사하는 장치이다. The specimen mounting part 210 is a place where the thin film coating specimen 100 is seated and supported, and a predetermined groove is formed at the center thereof, so that the thin film coating specimen 100 is seated inside the groove and supported. A support means may be provided. The specimen left and right conveying tool 230 is a device for conveying the specimen attaching portion 210 to the left and right while spraying the coating liquid, and various linear conveying means such as a motor, a drive belt, or a linear actuator can be used. The coating liquid spraying unit 300 is a device for spraying a coating liquid containing metal nanoparticles for thin coating onto the thin coating sample 100 in the form of an air spray 310.

도 3을 참조하여 본 발명의 시편 이송부(200)에 대해 좀 더 자세히 설명하면, 본 발명의 시편 이송부(200)는 시편 장착부(210), 시편 지지대(230), 시편 좌우 위치 감지구(231)를 포함하여 구성된다. 시편 장착부(210)은 앞서 설명하였듯이 박막 코팅 시료(100)가 안착 지지되는 부분이며, 시편 지지대(230)는 시편의 지지구의 설치 위치를 상하로 조정하는 부분이고, 시편 좌우 이송구(230)는 코팅액이 분무되는 동안 시편 장착부(210)을 좌우로 이송시키는 장치이며, 좌우 위치 감지구(231)는 시편 장착부(210)의 좌우 이송시 왕복 운동을 위한 방향 전환 시점을 감지하기 위한 장치이다. 즉, 시편 좌우 이송구(230)를 통해 시편 장착부(210)이 좌에서 우 또는 우에서 좌로 이동시 좌우 위치 감지구(231)가 설치된 특정 위치를 지나는 경우 이동 방향을 반대로 전환하도록 하기 위한 감지 장치이다. 좌우 위치 감지구(231)는 시편 장착부(210)의 양측에 일정 간격 이격되어 설치되며, 광학 센서 또는 리미트 스위치와 같은 다양한 감지 센서가 이용될 수 있다. 또한, 상기 좌우 위치 감지구(231)를 통해 왕복 운동의 횟수를 인식하여 코팅 두께를 조절할 수 있다.3, the specimen transferring part 200 of the present invention includes a specimen mounting part 210, a specimen support 230, a specimen left / right sensing part 231, . As described above, the test piece mounting unit 210 is a part where the thin film coating sample 100 is supported and supported. The test piece support 230 is a part for vertically adjusting the mounting position of the test piece. The left and right position sensitive strips 231 are devices for sensing a direction switching time for reciprocating motion of the test piece mounting unit 210 in the left and right directions. That is, when the specimen mounting unit 210 is moved from the left to the right or from the right to the left through the specimen left / right feed port 230, . The left and right position sensing zones 231 are spaced apart from each other on both sides of the specimen mounting unit 210, and various sensors such as optical sensors or limit switches can be used. Also, the thickness of the coating can be adjusted by recognizing the number of reciprocating movements through the left and right position sensing strips 231.

본 발명의 시편 이송부(200)에 대해 부연 설명하면, 시편 좌우 이송구(230)는 박막 코팅 시료(100)를 일정한 속도로 가로 방향으로 이송시켜주는 것으로 이송 속도를 제어함으로 코팅되는 두께를 조절할 수 있다. 즉, 이송 속도가 느릴수록 코팅되는 양이 많아서 코팅 두께가 두꺼워지고 이송 속도가 빠를수록 코팅이 얇아진다. 또한 시편 좌우 이송구(230)를 통해 박막 코팅 시료(100)를 왕복 운동시키고, 왕복 횟수 만큼 여러 겹의 코팅이 이루어 지게된다. 본 발명의 코팅액 분무부(300)는 코팅액을 세로로 일자 형태로 분사하고, 시편 좌우 이송구(230)의 이동 거리가 코팅의 가로 면적을 결정하므로, 빔 스플리터의 크기에 따라 이동거리를 조절하며, 이를 위해 좌우 위치 감지구(231)를 시편 장착부(210)의 좌우 이동 거리를 감지하게 되는 것이다. The specimen transporting unit 230 transports the thin coating sample 100 in a horizontal direction at a predetermined speed. The thickness of the coated coating can be controlled by controlling the transporting speed. have. That is, the slower the conveying speed, the greater the amount of coating and the thicker the coating, and the faster the conveying speed, the thinner the coating becomes. In addition, the thin film coating sample 100 is reciprocated through the sample left and right conveying holes 230, and the coating is repeated several times. Since the coating liquid spraying part 300 of the present invention injects the coating liquid vertically in the form of a straight line and the moving distance of the sample left and right transporting part 230 determines the lateral area of the coating, the moving distance is adjusted according to the size of the beam splitter To this end, the left and right position sensing strips 231 sense the left and right movement distances of the specimen mounting section 210.

도 4를 참조하여 본 발명의 시편 이송부(200)에 대해 좀 더 자세히 설명하면, 본 발명의 코팅액 분무부(300)는 박막 코팅 시료(100)에 코팅액을 분사하는 에어 스프레이(310)와 에어 스프레이(310)와 박막 코팅 시료(100) 사이의 거리를 조정하기 위한 에어 스프레이 전후 이송구(320)를 포함하여 구성된다. 에어 스프레이(310)는 코팅액을 분무하는 스프레이 노즐(311), 코팅액을 공급하기 위한 코팅액 공급부(312), 스프레이 노즐(311)을 개폐하기 위한 에어를 공급하여 분무를 제어하기 위한 노즐 개폐 에어 공급부(313)를 포함하여 구성된다. 앞서 설명하였듯이 본 발명의 코팅액 분무부(300)는 코팅액을 세로로 일자 형태로 분사하게 되며 따라서 스프레이 노즐(311)은 이에 맞게 개구가 형성된다. 본 발명의 코팅액은 점착액이 포함된 용액에 금속 나노 입자가 혼합되어 형성될 수 있으며, 이를 통해 분무된 금속 나노 입자가 박막의 표면에 점착되어 코팅층을 형성하게 된다. 금속 나노 입자는 바람직하게 은 입자가 이용될 수 있으며, 필요에 따라 다른 금속 입자가 선택되어 사용될 수 있다. 이 때 에탄올과 같은 희석액으로 금속 나노 입자의 밀도를 조절하여 코팅 두께를 조절할 수 있다. 노즐 개폐 에어 공급부(313)는 박막 코팅 시료(100)가 움직이는 동안만 스프레이 노즐을 열어서 페인트를 절약할 수 있게 한다.4, the coating solution spraying part 300 of the present invention includes an air spray 310 for spraying the coating solution onto the thin film coating sample 100, And an air spray front and rear conveyance port 320 for adjusting the distance between the thin film coating sample 310 and the thin film coating sample 100. The air spray 310 includes a spray nozzle 311 for spraying the coating liquid, a coating liquid supply part 312 for supplying the coating liquid, a nozzle opening and closing air supply part for controlling spraying by supplying air for opening and closing the spray nozzle 311 313). As described above, the coating liquid spraying part 300 of the present invention injects the coating liquid vertically in the form of a straight line, so that the spray nozzle 311 has an opening formed therein. The coating solution of the present invention can be formed by mixing metal nanoparticles into a solution containing a tacky solution, whereby the sprayed metal nanoparticles are adhered to the surface of the thin film to form a coating layer. The metal nanoparticles may preferably be silver particles, and other metal particles may be selected and used as needed. At this time, the thickness of the metal nanoparticles can be controlled by adjusting the density of the coating with a diluent such as ethanol. The nozzle opening and closing air supply unit 313 opens the spray nozzle only while the thin film coating sample 100 is moving, thereby saving paint.

본 발명의 에어 스프레이 전후 이송구(320)는 박막 코팅 시료(100)와 에어 스프레이(310) 사이의 거리를 조절하여 코팅되는 세로 면적을 결정하기 위한 장치로서, 본 발명의 에어 스프레이 전후 이송구(320)는 상기 에어 스프레이(310)가 고정되는 베이스 플레이트(321)와 상기 베이스 플레이트(321)가 슬라이딩 운동하도록 구성되는 가이드 레일(322)을 통해 구현될 수 있다. 박막 코팅 시료(100)와 에어 스프레이(310) 사이의 거리가 가까울수록 코팅 면적이 좁고 박막 코팅 시료(100)와 에어 스프레이(310) 사이의 거리가 멀수록 코팅액이 퍼져 나가 코팅 면적이 증가하게 되며, 코팅 면적이 좁을 때는 분무 밀도가 증가하여 두껍게 코팅되고 코팅 면적이 넓을 때는 분무 밀도가 감소하여 얇게 코팅되게 되며, 이를 조절함으로써 코팅 두께를 조절할 수도 있다.The air spray front and rear conveying port 320 of the present invention is an apparatus for determining the vertical area to be coated by adjusting the distance between the thin film coating sample 100 and the air spray 310, 320 may be implemented through a base plate 321 on which the air spray 310 is fixed and a guide rail 322 on which the base plate 321 is slidably moved. As the distance between the thin film coating sample 100 and the air spray 310 is shorter and the coating area is narrower and the distance between the thin coating sample 100 and the air spray 310 is longer, When the coating area is narrow, the spray density is increased and thickly coated. When the coating area is wide, the spray density is decreased to be thinly coated, and the coating thickness can be controlled by controlling the spray density.

특히, 본 발명의 에어 스프레이(310)는 일반적인 원형의 형태가 아닌 일자 형태로 세로로 코팅액을 분사하고, 이송 장치를 이용하여 박막 코팅 시료(100)를 가로로 이송하여 박막 시료의 전체 면적에 고르게 코팅할 수 있으며, 두께를 균일하게 조절할 수 있다. 즉, 에어 스프레이(310)는 세로 방향으로 일자로 뿌려주고, 이송 장치는 가로 방향으로 움직이기 때문에 코팅 영역이 직사각형 모양으로 균일하게 형성되어 균일한 코팅이 가능하게 되고, 이 때 에어 스프레이(310)와 박막 코팅 시료(100) 사이의 거리를 조절함으로써 세로 방향의 코팅면의 크기를 조절하고, 이송 장치의 왕복 이송 거리를 조절함으로써 가로 방향의 코팅면의 크기를 조절하게 되며, 박막 코팅 시료(100)의 왕복 횟수를 조절함으로써 코팅 두께를 조절하게 되는 것이다. Particularly, the air spray 310 according to the present invention is sprayed longitudinally in the form of a straight line rather than a general circular shape, and the thin film coating sample 100 is transferred horizontally by using a transfer device, And the thickness can be uniformly adjusted. That is, since the air spray 310 is sprayed in the longitudinal direction and the transfer device moves in the horizontal direction, the coating area is uniformly formed in a rectangular shape, The size of the coated surface in the longitudinal direction is controlled by adjusting the distance between the thin film coated sample 100 and the thin film coated sample 100 and the size of the coated surface in the transverse direction is controlled by adjusting the reciprocating distance of the transfer device, ) To adjust the coating thickness.

도 5는 본 발명의 박막 코팅 장치(1000)에 의해 제작된 여러 두께의 THz 빔 스플리터이다. 오른쪽에서 왼쪽으로 갈수록 두께가 얇아지는 것으로 좌측 상단의 THz 빔 스플리터 경우 밑에 있는 바닥에 놓인 인쇄물의 글자가 잘 안 보이나 우측 상단의 THz 빔 스플리터 경우 코팅 두께가 얇아 바닥에 놓인 글자의 형태를 확인할 수 있다.5 is a THz beam splitter of various thicknesses fabricated by the thin film coating apparatus 1000 of the present invention. THz beam splitter on the upper left side can not see the letter of the printed material placed on the bottom, but if the THz beam splitter on the upper right side is thin, the thickness of the coating is thin and the shape of the letter placed on the bottom can be confirmed .

도 6은 본 발명의 박막 코팅 장치(1000)의 변형예를 도시한 것으로, 도 6에서와 같이 시편 장착부(210)이 가로 방향으로 복수 개 배치될 수 있으며, 도면으로 표시하지는 않았으나 시편 장착부(210)을 세로 방향으로 복수 개 배치할 수 있다. 이와 같이 복수의 시편 장착부(210)에 박막 코팅 시료(100)를 배치하여 많은 수의 박막 코팅 시료를 동시에 제작할 수 있으며, 동일한 생산 배치에서 복수의 THz 빔 스플리터를 제작함으로써 균일한 품질의 빔 스플리터를 얻을 수 있을 뿐만 아니라 생산 효율도 높일 수 있다. 6 illustrates a modification of the thin film coating apparatus 1000 according to the present invention. As shown in FIG. 6, a plurality of the test piece mounting units 210 may be disposed in the lateral direction. Can be arranged in the longitudinal direction. As described above, a plurality of thin film coating samples can be simultaneously prepared by disposing the thin film coating samples 100 on the plurality of sample pieces 210, and a plurality of THz beam splitters can be manufactured in the same production batch, Not only can it be obtained, but also the production efficiency can be increased.

한편, 본 발명의 박막 코팅 장치(1000)는 박막 코팅 시료(100)의 이송 속도와 왕복 횟수를 설정하고, 에어 스프레이(310)의 분무 시간을 제어하기 위한 제어부를 포함하는 컴퓨터를 더 포함하여 구성될 수 있다. The thin film coating apparatus 1000 of the present invention further includes a computer including a control unit for setting the feeding speed and the number of reciprocations of the thin film coating sample 100 and controlling the spraying time of the air spray 310, .

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 박막 코팅 장치(1000)의 사시도로서, 본 발명의 다른 실시예에서는 예어 스프레이로 박막 코팅 시료(100)에 코팅액을 분사한 후 박막의 반사율과 투과율을 측정할 수 있는 반사율 투과율 측정 장치(400)를 더 포함하여 구성된다. 본 발명의 반사율 투과율 측정 장치(400)는, 박막에 THz 빔을 조사하는 THz 빔 조사부(410), 상기 박막의 반사율을 측정하는 반사율 측정부(420) 및 상기 박막의 투과율을 측정하는 투과율 측정부(430)를 포함하여 구성된다. 이때, 시편 장착부(210)의 내부에는 중공부(211)가 형성되어 상기 THz 빔 조사부(410)에서 조사된 THz 빔이 박막과 중공부(211)를 통과하여 상기 투과율 측정부(430)로 전달되도록 구성된다.FIG. 7 is a perspective view of a thin film coating apparatus 1000 according to another embodiment of the present invention. In another embodiment of the present invention, a coating solution is sprayed onto a thin film coating sample 100 with a forer spray, and then the reflectance and transmittance And a reflectance transmittance measuring device 400 capable of measuring the transmittance and the transmittance. The reflectance transmittance measuring apparatus 400 of the present invention includes a THz beam irradiating unit 410 for irradiating a thin film with a THz beam, a reflectance measuring unit 420 for measuring the reflectance of the thin film, a transmittance measuring unit 420 for measuring the transmittance of the thin film, (430). At this time, a hollow portion 211 is formed in the specimen mounting portion 210 so that the THz beam emitted from the THz beam irradiating portion 410 passes through the thin film and the hollow portion 211 and is transmitted to the transmittance measuring portion 430 .

이와 같이 본 발명의 다른 실시예에서는 박막 시료를 코팅한 후 반사율 투과율 측정 장치(400)를 통해 코팅된 박막 시료의 반사율 및 투과율을 측정하여 코팅의 완성 정도를 판단하게 된다. 이 때 박막에 부착된 코팅액이 건조된 후 반사율 및 투과율이 달라질 수 있으므로, 측정된 반사율 및 투과율을 건조 후 박막의 반사율 및 투과율로 환산하여 코팅의 완성 정도를 판단할 수 있다.As described above, according to another embodiment of the present invention, the reflectance and transmittance of the thin film sample coated through the reflectance transmittance measuring apparatus 400 after coating the thin film sample is measured to determine the degree of completion of the coating. In this case, since the reflectance and transmittance may vary after the coating liquid attached to the thin film is dried, the reflectance and transmittance of the thin film may be converted into reflectance and transmittance of the thin film after drying to determine the degree of completion of the coating.

한편, 도면에는 도시하지 않았으나, THz 빔 조사부(410), 반사율 측정부(420) 및 투과율 측정부(430)에는 별도의 개폐 커버가 구비되어 코팅액 분무시에는 커버를 닫도록 구성함으로써 분무되는 코팅액에 의해 Hz 빔 조사부, 반사율 측정부(420) 및 투과율 측정부(430)가 오염되는 것을 방지할 수 있다. Although not shown in the drawing, the THz beam irradiating unit 410, the reflectance measuring unit 420, and the transmittance measuring unit 430 are provided with a separate opening / closing cover to close the cover for ignition of the coating liquid, It is possible to prevent the Hz beam irradiating unit, the reflectance measuring unit 420 and the transmittance measuring unit 430 from being contaminated.

본 발명의 박막 코팅 장치(1000)를 이용한 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 방법은 도 8에서와 같이, 링형상의 박막 지지구에 얇은 박막이 씌워진 박막 코팅 시료(100)를 분비하는 단계, 상기 박막 코팅 시료(100)를 시편 이송부(200)의 시편 장착부(210)에 장착하는 단계, 상기 에어 스프레이(310)와 박막 코팅 시료(100)와의 거리를 조절하기 위해 에어 스프레이(310)의 위치를 조절하는 단계, 상기 시편 장착부(210)의 좌우 이동 거리, 속도, 방향 전환 유지 시간 중 어느 하나 이상의 파라미터를 설정하는 시편 이동 파라미터 설정 단계 및 시편 지지대(220)를 좌우로 이동 시키며 에어 스프레이(310)로 코팅액을 분무하는 시편 이송 및 분무 코팅 단계를 포함하여 구성될 수 있다.As shown in FIG. 8, the thin film coating method for fabricating a THz beam splitter using the thin film coating apparatus 1000 of the present invention includes the steps of secreting a thin film coating sample 100 on a thin ring- A method of adjusting the position of the air spray 310 to adjust the distance between the air spray 310 and the thin film coating sample 100. The method includes the steps of mounting the coating sample 100 on the specimen mounting part 210 of the sample transferring part 200, A sample moving parameter setting step of setting a parameter of at least one of a left and right moving distance, a speed and a direction switching holding time of the sample mounting unit 210 and a sample moving step of moving the sample supporting stand 220 to the left and right, And a spraying and spray coating step in which the coating liquid is sprayed.

한편, 본 발명의 다른 실시예에 따라 박막 코팅 장치(1000)가 반사율 투과율 측정 장치(400)를 더 포함하는 경우에는 도 9에서와 같이 시편 지지대(220)를 좌우로 이동 시키며 에어 스프레이(310)로 코팅액을 분무하는 시편 이송 및 분무 코팅 단계 이후에 상기 에어 스프레이(310)로 박막 코팅 시료(100)에 코팅액을 분사한 후 박막의 반사율과 투과율을 측정하는 반사율 및 투과율 측정 단계, 측정된 반사율 및 투과율을 건조 후 박막의 반사율 및 투과율로 환산하는 반사율 및 투과율 환산 단계 및 환산된 반사율 및 투과율을 기준으로 박막 코팅의 완료 여부를 판단하는 코팅 완료 판단 단계를 더 포함하고, 코팅이 완료 되지 않았다고 판단되면, 시편 이송 및 분무 코팅 단계를 다시 수행하게 된다.9, when the thin film coating apparatus 1000 further includes the reflectance transmittance measuring apparatus 400 according to another embodiment of the present invention, the specimen support 220 is moved to the left and right, , Measuring the reflectance and transmittance of the thin film after spraying the coating solution onto the thin film coating sample (100) with the air spray (310) after the sample transfer and spray coating step of spraying the coating solution, measuring the reflectance and transmittance of the thin film, A step of determining the completion of the thin film coating on the basis of the reflectance and transmittance conversion step of converting the transmittance into the reflectance and transmittance of the thin film after drying and the converted reflectance and transmittance, , The sample transfer and spray coating steps are performed again.

이상 바람직한 실시예를 기초로 본 발명에 대해 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to the preferred embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It goes without saying that the present invention can be practiced.

1000 : 박막 코팅 장치
100 : 박막 코팅 시료
110 : 박막 120 : 박막 지지구
200 : 시편 이송부
210 : 시편 장착부 211 : 중공부
220 : 시편 지지대
230 : 시편 좌우 이송구 231 : 좌우 위치 감지구
300 : 코팅액 분무부
310 : 에어 스프레이
311 : 스프레이 노즐 312 : 코팅액 공급부 313 : 노즐 개폐 에어 공급부
320 : 에어 스프레이 전후 이송구
321 : 베이스 플레이트 322 가이드 레일
400 : THz 빔의 반사율 투과율 측정 장치
410 : THz 빔 조사부 420 : 반사율 측정부 430 : 투과율 측정부1000: Thin film coating apparatus
100: Thin film coating sample
110: Thin film 120: Thin film holding region
200: Specimen transport section
210: specimen mounting part 211: hollow part
220: specimen support
230: Specimen left and right feed 231:
300: coating liquid spraying part
310: Air Spray
311 spray nozzle 312 coating liquid supply unit 313 nozzle opening /
320: Before and after air spray
321: base plate 322 guide rail
400: Reflectance transmittance measuring device of THz beam
410: THz beam irradiating unit 420: reflectance measuring unit 430: transmittance measuring unit

Claims (10)

링형상의 박막 지지구에 얇은 박막이 씌워진 박막 코팅 시료에 금속이 포함된 코팅액을 분무하여 코팅된 박막이 THz 빔의 일정 반사율과 투과율을 갖도록 하는 박막 코팅 장치에 있어서,
상기 박막 코팅 장치는,
상기 박막 코팅 시료가 안착되는 시편 장착부, 상기 시편 장착부를 좌우로 이동시키는 시편 좌우 이송구를 포함하는 시편 이송부; 및
상기 박막 코팅 시료에 코팅액을 분사하는 에어 스프레이를 포함하는 코팅액 분무부;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는, 박막 코팅 장치.
A thin film coating apparatus for spraying a coating solution containing a metal on a thin film coating sample coated with a thin film on a ring shaped thin film holder to have a certain reflectance and transmittance of the THz beam,
In the thin film coating apparatus,
A sample transfer part including a sample mounting part on which the thin film coating sample is placed and a sample transfer part for moving the sample mounting part to the left and right; And
And a coating liquid spray part including an air spray for spraying the coating liquid onto the thin film coating specimen.
제 1항에 있어서,
상기 코팅액 분무부는,
상기 에어 스프레이와 박막 코팅 시료 사이의 거리를 조정하기 위한 에어 스프레이 전후 이송구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 박막 코팅 장치.
The method according to claim 1,
The spraying portion of the coating liquid,
Further comprising an air spray front and rear delivery port for adjusting a distance between the air spray and the thin film coating sample.
제 2항에 있어서,
상기 에어 스프레이 전후 이송구는,
상기 에어 스프레이가 고정되는 베이스 플레이트와 상기 베이스 플레이트가 슬라이딩 운동하도록 구성되는 가이드 레일을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는, 박막 코팅 장치.
3. The method of claim 2,
The air spray front-
A base plate on which the air spray is fixed, and a guide rail configured to slide on the base plate.
제 1항에 있어서,
상기 시편 이송부는,
상기 시편의 좌우 위치를 감지하는 좌우 위치 감지구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 박막 코팅 장치.
The method according to claim 1,
The specimen-
Further comprising a left and right position sensing region for sensing a lateral position of the specimen.
제 4항에 있어서,
상기 박막 코팅 장치는,
상기 시편의 좌우 이송 방향으로 나란이 배열되는 복수의 시편 지지대를 포함하는 것을 특징으로 하는, 박막 코팅 장치.
5. The method of claim 4,
In the thin film coating apparatus,
And a plurality of specimen supports arranged side by side in the lateral direction of the specimen.
제 1항에 있어서,
상기 박막 코팅 장치는,
상기 에어 스프레이로 박막 코팅 시료에 코팅액을 분사한 후 박막의 반사율과 투과율을 측정할 수 있는 THz 빔의 반사율 투과율 측정 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 박막 코팅 장치.
The method according to claim 1,
In the thin film coating apparatus,
Further comprising a THz beam reflectance transmittance measurement device capable of measuring the reflectance and transmittance of the thin film after spraying the coating solution onto the thin film coated sample with the air spray.
제 6항에 있어서,
상기 THz 빔의 반사율 투과율 측정 장치는,
상기 박막에 THz 빔을 조사하는 THz 빔 조사부, 상기 박막의 반사율을 측정하는 반사율 측정부, 및 상기 박막의 투과율을 측정하는 투과율 측정부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 박막 코팅 장치.
The method according to claim 6,
The reflectance transmittance measuring device of the THz-
Further comprising a THz beam irradiating part for irradiating the THz beam onto the thin film, a reflectance measuring part for measuring the reflectance of the thin film, and a transmittance measuring part for measuring the transmittance of the thin film.
제 7항에 있어서,
상기 시편 장착부의 내부에는 중공부가 형성되어, 상기 THz 빔 조사부에서 조사된 THz 빔이 상기 박막과 상기 중공부를 통과하여 상기 투과율 측정부로 전달되는 것을 특징으로 하는, 박막 코팅 장치.
8. The method of claim 7,
Wherein a hollow portion is formed in the specimen mounting portion, and the THz beam irradiated from the THz beam irradiating portion passes through the thin film and the hollow portion, and is transmitted to the transmittance measuring portion.
제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항의 박막 코팅 장치를 이용하여 THz 빔 스플리터 제작용 박막을 코팅하는 방법에 관한 것으로,
링형상의 박막 지지구에 얇은 박막이 씌워진 박막 코팅 시료를 준비하는 단계;
상기 박막 코팅 시료를 시편 이송부의 시편 장착부에 장착하는 단계;
상기 에어 스프레이와 박막 코팅 시료와의 거리를 조절하기 위해 에어 스프레이의 위치를 조절하는 단계;
상기 시편 장착부의 좌우 이동 거리, 속도, 방향 전환 유지 시간 중 어느 하나 이상의 파라미터를 설정하는 시편 이동 파라미터 설정 단계; 및
시편 지지대를 좌우로 이동 시키며 에어 스프레이로 코팅액을 분무하는 시편 이송 및 분무 코팅 단계;를 포함하는 THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 방법.

A method for coating a thin film for THz beam splitter production using the thin film coating apparatus of any one of claims 1 to 5,
Preparing a thin film coating sample having a thin film on the ring-shaped thin film support;
Attaching the thin film coating sample to a specimen mounting portion of a specimen conveyance portion;
Adjusting the position of the air spray to adjust the distance between the air spray and the thin film coating sample;
A specimen moving parameter setting step of setting one or more parameters of a moving distance, a speed, and a direction switching holding time of the specimen mounting part; And
And a sample transporting and spray coating step of spraying the coating liquid by air spray while moving the sample support to the left and right.

제 6항 내지 제 8항 중 어느 한 항의 박막 코팅 장치를 이용하여 THz 빔 스플리터 제작용 박막을 코팅하는 방법에 관한 것으로,
링형상의 박막 지지구에 얇은 박막이 씌워진 박막 코팅 시료를 준비하는 단계;
상기 박막 코팅 시료를 시편 이송부의 시편 장착부에 장착하는 단계;
상기 에어 스프레이와 박막 코팅 시료와의 거리를 조절하기 위해 에어 스프레이의 위치를 조절하는 단계;
상기 시편 장착부의 좌우 이동 거리, 속도, 방향 전환 유지 시간 중 어느 하나 이상의 파라미터를 설정하는 시편 이동 파라미터 설정 단계;
시편 지지대를 좌우로 이동 시키며 에어 스프레이로 코팅액을 분무하는 시편 이송 및 분무 코팅 단계;
상기 에어 스프레이로 박막 코팅 시료에 코팅액을 분사한 후 박막의 반사율과 투과율을 측정하는 THz 빔의 반사율 및 투과율 측정 단계;
상기 측정된 반사율 및 투과율을 건조 후 박막의 반사율 및 투과율로 환산하는 반사율 및 투과율 환산 단계; 및
상기 환산된 반사율 및 투과율을 기준으로 박막 코팅의 완료 여부를 판단하는 코팅 완료 판단 단계;를 포함하고,
코팅이 완료 되지 않았다고 판단되면, 시편 이송 및 분무 코팅 단계;를 다시 수행하는 것을 특징으로 하는, THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 방법.
A method for coating a thin film for THz beam splitter production using the thin film coating apparatus according to any one of claims 6 to 8,
Preparing a thin film coating sample having a thin film on the ring-shaped thin film support;
Attaching the thin film coating sample to a specimen mounting portion of a specimen conveyance portion;
Adjusting the position of the air spray to adjust the distance between the air spray and the thin film coating sample;
A specimen moving parameter setting step of setting one or more parameters of a moving distance, a speed, and a direction switching holding time of the specimen mounting part;
A sample transferring and spray coating step of spraying the coating solution by air spray while moving the sample support to the left and right;
Measuring reflectance and transmittance of the THz beam to measure the reflectance and transmittance of the thin film after spraying the coating solution on the thin film coated sample with the air spray;
A reflectance and transmittance conversion step of converting the measured reflectance and transmittance into reflectance and transmittance of the thin film after drying; And
And determining completion of the thin film coating based on the converted reflectance and transmittance,
If it is determined that the coating is not completed, the sample transporting and spray coating steps are performed again.
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