KR20190058661A - 임프린트 리소그래피 프로세스들에서의 기판들의 포지셔닝 - Google Patents

임프린트 리소그래피 프로세스들에서의 기판들의 포지셔닝 Download PDF

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Abstract

기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법은, 제1 및 제2 척들의 정상에 제1 및 제2 기판들을 각각 지지하는 단계, 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 부싱들 내에서 측방향으로 공압식으로 현수(pneumatically suspending)하는 단계, 제1 및 제2 부싱들 내에서 수직으로 제1 및 제2 척들을 지지하는 단계, 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 고정된 회전 배향들로 각각 유지하는 단계, 및 제1 및 제2 부싱들 내에서 측방향으로 현수된 제1 및 제2 척들을 유지하는 동안 그리고 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 고정된 회전 배향들로 유지하는 동안, 제1 및 제2 기판들의 제1 및 제2 최상부 표면들이 동일평면에 있게 될 때까지 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 수직 저항력들에 대해 각각 서로 독립적으로 하향 방향으로 강제(forcing)하는 단계를 포함한다.

Description

임프린트 리소그래피 프로세스들에서의 기판들의 포지셔닝
본 출원은, 2016년 10월 20일자로 출원된 미국 가출원 번호 제62/410,651호의 출원일의 권익을 주장한다. 미국 출원 번호 제62/410,651호의 내용들은 그 전체가 인용에 의해 본원에 포함된다.
본 발명은 임프린트 리소그래피 프로세스들에서 기판들을 포지셔닝하는 것에 관한 것으로, 더 구체적으로는 기판들의 정상에 균일한 임프린팅을 달성하기 위해 상이한 두께들을 갖는 다수의 기판들의 최상부 표면들을 동일평면 어레인지먼트(coplanar arrangement)로 정렬하는 것에 관한 것이다.
나노제작(예컨대, 나노임프린트 리소그래피)은 약 100 나노미터 이하의 피처(feature)들을 갖는 매우 작은 구조들의 제작을 포함할 수 있다. 나노제작이 상당한 영향을 미친 하나의 애플리케이션은 집적 회로들의 프로세싱에 있다. 반도체 프로세싱 산업은 기판 상에 형성되는, 기판의 단위 면적당 회로들의 수를 증가시키면서 더 큰 생산 수율들을 위해 계속 노력하고 있다. 이를 위해, 반도체 프로세싱 산업에서 원하는 결과들을 획득하는 데 나노제작이 점점 더 중요해지고 있다. 나노제작은 기판들 상에 형성되는 구조들의 최소 피처 치수들의 계속되는 감소를 가능하게 하면서 더 큰 프로세스 제어를 제공한다. 나노제작이 이용된 다른 개발 영역들은 생명공학, 광학 기술, 기계 시스템들 등을 포함한다. 일부 예들에서, 나노제작은, 기판들의 정상에 다양한 구조들을 형성하기 위해 기판들을 프로세싱 모듈(예컨대, 에칭 모듈, 포토레지스트 경화 모듈, 또는 피처 형성 모듈)에 노출시킴으로써 동일하고 고정된 높이를 갖는 다수의 기판 지지부들 상에 각각 배열된 다수의 기판들을 동시에 프로세싱하는 것을 포함한다.
본 발명은, 임프린트 리소그래피 프로세스들 동안 기판들을 포지셔닝하는 데 있어서의 개선들이 동시에 프로세싱되는 상이한 기판들의 정상의 임프린팅의 품질(예컨대, 균일성)을 개선할 수 있다는 인식을 포함한다. 종래의 임프린트 리소그래피 프로세스들은, 기판들의 정상에 다양한 구조들을 형성하기 위해 기판들을 프로세싱 모듈에 노출시킴으로써 동일하고 고정된 높이를 갖는 다수의 척들 상에 각각 배열된 다수의 기판들을 동시에 프로세싱하는 것을 포함할 수 있다. 그러한 다수의 기판들이 상이한 두께들을 갖는 경우, 기판들의 최상부 표면들의 높이들에 있어서의 대응하는 변동성은 기판들 사이에 바람직하지 않은 불균일한 임프린팅을 초래할 수 있다. 이와 관련하여, 개시된 임프린트 리소그래피 시스템들의 다양한 설계 양상들은, 기판들의 정상에서의 원하는 임프린트 결과들을 위해 다수의 기판들의 최상부 표면들의 동일평면 어레인지먼트를 달성하기 위해, 척 어셈블리에 의해 지지되는 다양한 두께들의 다수의 기판들에 일관된 튜닝가능한 힘들이 인가되는 것을 가능하게 할 수 있다. 그러한 설계 양상들은 척 어셈블리의 다수의 척들의 동일한 중량, 연관된 공기 부싱들 내에서의 척들의 실질적으로 마찰없는 이동, 진공 호스들에 의해 척들에 인가되어 척들에 흡인(suction)을 공급하는 최소의 힘들, 및 척들의 등가의 안티-토션 구성(equivalent anti-torsion configuration)들을 포함할 수 있다. 따라서, 척 어셈블리는, 가요성 템플릿에 의한 작용 시에 모든 기판들의 최상부 표면들이 동일한 수직 평면에 포지셔닝되지 않으면 다르게 발생할 수 있는 임프린트들의 변동성을 방지할 수 있다.
본 발명의 일 양상은 기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법을 특징으로 한다. 임프린트 리소그래피 방법은, 제1 및 제2 척들의 정상에 제1 및 제2 기판들을 각각 지지하는 단계, 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 부싱들 내에서 측방향으로 공압식으로 현수(pneumatically suspending)하는 단계, 제1 및 제2 부싱들 내에서 수직으로 제1 및 제2 척들을 지지하는 단계, 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 고정된 회전 배향들로 각각 유지하는 단계, 및 제1 및 제2 부싱들 내에서 측방향으로 현수된 제1 및 제2 척들을 유지하는 동안 그리고 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 고정된 회전 배향들로 유지하는 동안, 제1 및 제2 기판들의 제1 및 제2 최상부 표면들이 동일평면에 있게 될 때까지 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 수직 저항력들에 대해 각각 서로 독립적으로 하향 방향으로 강제(forcing)하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 제1 기판의 제1 두께는 제2 기판의 제2 두께와 상이하다.
소정의 실시예들에서, 방법은 제1 및 제2 기판들을 제1 및 제2 척들에 각각 흡인하는 단계를 더 포함한다.
일부 실시예들에서, 제1 및 제2 수직 저항력들은 수직 공기 압력에 의해 제공된다.
소정의 실시예들에서, 방법은 제1 및 제2 척들과 유체 접촉하는 공기 플레넘 내에서 수직 공기 압력을 제어하는 단계를 더 포함한다.
일부 실시예들에서, 제1 및 제2 수직 저항력들은 제1 및 제2 공기 실린더들에 의해 전달되는 공기에 의해 각각 제공된다.
소정의 실시예들에서, 제1 및 제2 수직 저항력들은 스프링에 의해 제공된다.
일부 실시예들에서, 제1 및 제2 척들의 제1 및 제2 고정된 회전 배향들은 제1 및 제2 부싱들을 지지하는 베이스에 제1 및 제2 척들을 연결하는 제1 및 제2 스트립들에 의해 유지된다.
소정의 실시예들에서, 제1 및 제2 척들의 제1 및 제2 고정된 회전 배향들은 제1 및 제2 부싱들과 각각 연관된 제1 및 제2 더블-샤프트 어레인지먼트들에 의해 유지된다.
일부 실시예들에서, 방법은 상향으로 지향된 힘을 기판 프로세싱 엘리먼트에 인가하는 단계를 더 포함한다.
일부 실시예들에서, 제1 및 제2 척들은 마찰없는 방식으로 제1 및 제2 공기 부싱들 내에서 공압식으로 현수된다.
소정의 실시예들에서, 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 공기 부싱들 내에서 측방향으로 공압식으로 현수하는 단계는 제1 및 제2 척들에 반경방향 공기 압력을 인가하는 단계를 포함한다.
일부 실시예들에서, 임프린트 리소그래피 방법은 제1 및 제2 부싱들의 제1 및 제2 내부 표면들에 걸쳐 각각 배열된 제1 및 제2 기공들을 통해 제1 및 제2 부싱들의 반경방향 내향으로 공기를 지향시키는 단계를 더 포함한다.
소정의 실시예들에서, 임프린트 리소그래피 방법은 제1 및 제2 부싱들 내에서의 제1 및 제2 척들의 상향 수직 이동을 제한하기 위해 제1 및 제2 척들의 제1 및 제2 단부 부분들을 고정된 구조(fixed structure)에 접하게(abutting) 하는 단계를 더 포함한다.
일부 실시예들에서, 임프린트 리소그래피 방법은 제1 및 제2 기판들에 각각 인가되는 흡인 압력들을 독립적으로 제어하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 다른 양상은 기판들을 포지셔닝하도록 동작가능한 임프린트 리소그래피 시스템을 특징으로 한다. 임프린트 리소그래피 시스템은, 제1 및 제2 기판들을 각각 지지하도록 구성된 제1 및 제2 척들, 제1 및 제2 부싱들 ― 제1 및 제2 부싱들은 제1 및 제2 척들을 각각 둘러싸고, 그리고 제1 및 제2 부싱들 내에서 제1 및 제2 척들을 측방향으로 공압식으로 현수하도록 구성됨 ―, 제1 및 제2 척들 아래에 배치되고 그리고 제1 및 제2 부싱들 내에서 제1 및 제2 척들을 수직으로 지지하도록 구성된 하나 이상의 지지 메커니즘들, 및 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 고정된 회전 배향들로 유지하는 제1 및 제2 피처들을 포함한다. 제1 및 제2 척들은, 제1 및 제2 척들이 제1 및 제2 부싱들 내에서 측방향으로 현수되는 동안 그리고 제1 및 제2 척들이 제1 및 제2 고정된 회전 배향들로 유지되는 동안, 제1 및 제2 기판들의 제1 및 제2 최상부 표면들이 동일평면에 있게 될 때까지 하나 이상의 지지 메커니즘들에 의해 제공되는 제1 및 제2 수직 저항력들에 대해 각각 서로 독립적으로 하향 방향으로 강제되도록 구성된다.
일부 실시예들에서, 제1 기판의 제1 두께는 제2 기판의 제2 두께와 상이하다.
소정의 실시예들에서, 임프린트 리소그래피 시스템은 제1 및 제2 기판들을 제1 및 제2 척들에 각각 흡인하도록 구성된 진공 소스를 더 포함한다.
일부 실시예들에서, 제1 및 제2 수직 저항력들은 공기 압력이다.
소정의 실시예들에서, 하나 이상의 지지 메커니즘들은 제1 및 제2 부싱들 내에서 수직으로 제1 및 제2 척들을 공압식으로 현수하도록 구성된 공기 플레넘을 포함한다.
일부 실시예들에서, 하나 이상의 지지 메커니즘들은 제1 및 제2 부싱들 내에서 수직으로 제1 및 제2 척들을 공압식으로 현수하도록 구성된 제1 및 제2 공기 실린더들을 포함한다.
소정의 실시예들에서, 하나 이상의 지지 메커니즘들은 제1 및 제2 부싱들 내에서 수직으로 제1 및 제2 척들을 각각 지지하도록 구성된 제1 및 제2 스프링들을 포함한다.
일부 실시예들에서, 제1 및 제2 피처들은 제1 및 제2 척들을 지지하는 베이스에 제1 및 제2 척들을 연결하는 제1 및 제2 스트립들을 포함한다.
소정의 실시예들에서, 제1 및 제2 피처들은 제1 및 제2 부싱들과 각각 연관된 제1 및 제2 더블-샤프트 어레인지먼트들을 포함한다.
일부 실시예들에서, 제1 및 제2 척들은 상향으로 지향된 힘을 기판 프로세싱 엘리먼트에 인가하도록 구성된다.
일부 실시예들에서, 제1 및 제2 부싱들은 제1 및 제2 척들을 마찰없는 방식으로 측방향으로 공압식으로 현수하도록 구성된다.
소정의 실시예들에서, 제1 및 제2 부싱들은, 제1 및 제2 척들에 반경방향 공기 압력을 인가함으로써 제1 및 제2 부싱들 내에서 제1 및 제2 척들을 측방향으로 공압식으로 현수하도록 구성된다.
일부 실시예들에서, 제1 및 제2 부싱들은 제1 및 제2 내부 표면들에 걸쳐 배열된 제1 및 제2 기공들을 각각 정의하고, 제1 및 제2 기공들을 통해 공기가 제1 및 제2 부싱들의 반경방향 내향으로 지향될 수 있다.
소정의 실시예들에서, 제1 및 제2 척들은 제1 및 제2 부싱들 내에서의 제1 및 제2 척들의 상향 수직 이동을 제한하기 위해 지지 구조에 접하도록 구성된 제1 및 제2 스토퍼(stopper)들을 포함한다.
일부 실시예들에서, 임프린트 리소그래피 시스템은 제1 및 제2 척들과 각각 연관된 제1 및 제2 진공 소스들을 더 포함한다.
본 발명의 하나 이상의 실시예들의 세부사항들은 아래의 설명 및 첨부 도면들에서 기술된다. 본 발명의 다른 특징들, 양상들 및 장점들은 상세한 설명, 도면들 및 청구항들로부터 자명해질 것이다.
도 1은 임프린트 리소그래피 시스템의 도면이다.
도 2는 도 1의 임프린트 리소그래피 시스템에 의해 형성된 패터닝된 층의 도면이다.
도 3은 도 1의 임프린트 리소그래피 시스템과 함께 사용될 수 있는 공기 플레넘 및 단일-샤프트 페디스털 척들을 포함하는 척 어셈블리의 단면도이다.
도 4는 도 1의 임프린트 리소그래피 시스템과 함께 사용될 수 있는 공기 플레넘 및 더블-샤프트 페디스털 척들을 포함하는 척 어셈블리의 단면도이다.
도 5는 도 1의 임프린트 리소그래피 시스템과 함께 사용될 수 있는 압축 스프링들 및 더블-샤프트 페디스털 척들을 포함하는 척 어셈블리의 단면도이다.
도 6은 도 1의 임프린트 리소그래피 시스템과 함께 사용될 수 있는 공기 실린더들 및 단일-샤프트 페디스털 척들을 포함하는 척 어셈블리의 단면도이다.
도 7은 임프린트 리소그래피 프로세스에서 기판들을 포지셔닝하기 위한 예시적인 프로세스의 흐름도이다.
다양한 도면들에서 동일한 참조부호들은 동일한 엘리먼트들을 표시한다.
기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 시스템이 아래에서 설명된다. 임프린트 리소그래피 시스템은, 임프린트 리소그래피 시스템이 동일평면 어레인지먼트로 다수의 척들에 의해 지지되는 상이한 두께들의 다수의 기판들을 정렬하는 것을 가능하게 하는 다수의 수직으로 이동가능한 척들(예컨대, 수직으로 플로팅가능한 척들), 다수의 공기 부싱들, 및 연관된 압력 소스들을 포함한다. 그러한 어레인지먼트는, 수직으로 고정된 척들을 갖는 시스템들을 사용하여 형성되는 것과 비교하여 기판들의 정상에 형성되는 임프린팅을 개선할 수 있다.
도 1은 기판(101)(예컨대, 웨이퍼)의 최상부 표면(103) 상에 릴리프 패턴(relief pattern)을 형성하도록 동작가능한 임프린트 리소그래피 시스템(100)을 예시한다. 임프린트 리소그래피 시스템(100)은 기판(101)을 지지 및 이송하는 지지 어셈블리(102), 기판(101)의 최상부 표면(103) 상에 릴리프 패턴을 형성하는 임프린팅 어셈블리(104), 기판(101)의 최상부 표면(103) 상에 중합가능 물질(polymerizable substance)을 증착시키는 유체 디스펜서(fluid dispenser)(106), 및 기판(101)을 지지 어셈블리(102) 상에 배치하는 로봇(108)을 포함한다. 임프린트 리소그래피 시스템(100)은 또한 하나 이상의 프로세서들(128)을 포함하며, 그 하나 이상의 프로세서들(128)은 메모리에 저장된 컴퓨터 판독가능 프로그램 상에서 동작할 수 있고, 지지 어셈블리(102), 임프린팅 어셈블리(104), 유체 디스펜서(106) 및 로봇(108)과 통신하고 그리고 이들을 제어하도록 프로그래밍된다.
기판(101)은, 통상적으로 실리콘, 실리콘 디옥사이드, 알루미늄 옥사이드, 사파이어, 게르마늄, 갈륨 비소(GaAs), 실리콘과 게르마늄의 합금, 인듐 포스파이드(InP), 또는 다른 예시적인 재료들을 포함하는 하나 이상의 재료들로 제조되는 실질적으로 평탄하고 얇은 슬라이스이다. 기판(101)은 통상적으로, 실질적으로 원형 또는 직사각형 형상을 갖는다. 기판(101)은 통상적으로, 대략 50 mm 내지 대략 200 mm(예컨대, 대략 65 mm, 대략 150 mm, 또는 대략 200 mm)의 범위의 직경, 또는 대략 50 mm 내지 대략 200 mm(예컨대, 대략 65 mm, 대략 150 mm, 또는 대략 200 mm)의 범위의 길이 및 폭을 갖는다. 기판(101)은 통상적으로 대략 0.2 mm 내지 대략 1.0 mm 범위의 두께를 갖는다. 기판(101)의 두께는 기판(101)에 걸쳐 실질적으로 균일하다(예컨대, 일정함). 릴리프 패턴은, 아래에서 더 상세하게 논의될 바와 같이, 기판(101)의 최상부 표면(103) 상에 중합가능 물질의 구조적 피처들(예컨대, 돌출부들 및 흡인 구조들)의 세트로서 형성된다.
지지 어셈블리(102)는 기판(101)을 지지 및 고정하는 척(110), 척(110)을 지지하는 공기 베어링(112), 및 공기 베어링(112)을 지지하는 베이스(114)를 포함한다. 베이스(114)는 고정된 포지션에 위치되는 반면, 공기 베어링(112)은 (예컨대, 일부 경우들에서, 기판(101)을 운반하는) 척(110)을 로봇(108), 유체 디스펜서(106), 및 임프린팅 어셈블리(104)로 그리고 로봇(108), 유체 디스펜서(106), 및 임프린팅 어셈블리(104)로부터 이송하기 위해 최대 3개의 방향들(예컨대, x, y 및 z 방향들)로 이동할 수 있다. 일부 실시예들에서, 척(110)은 진공 척, 핀형 척(pin-type chuck), 그루브형 척(groove-type chuck), 전자기 척, 또는 다른 유형의 척이다.
도 1을 계속 참조하면, 임프린팅 어셈블리(104)는 가요성 템플릿(116)을 포함하며, 가요성 템플릿(116)은, 기판(101)의 최상부 표면(103) 상에 릴리프 패턴이 상보적으로(complementarily) 형성되는 원래의 패턴을 정의하는 패터닝 표면을 갖는다. 따라서, 가요성 템플릿(116)의 패터닝 표면은 구조적 피처들, 이를테면, 돌출부들 및 흡인 구조들을 포함한다. 임프린팅 어셈블리(104)는 또한, 가요성 템플릿(116)의 선택된 부분이 프로세싱 구역(130)을 따라 기판(101)과 정렬되게(예컨대, 중첩되게) 하기 위해, 가요성 템플릿(116)의 하나 이상의 부분들이 임프린트 리소그래피 시스템(100)의 프로세싱 구역(130) 내에서 x 방향으로 이동되는 것을 가능하게 하도록 회전하는 다양한 직경들의 다수의 롤러들(118, 120, 122)을 포함한다. 롤러들(118, 120, 122) 중 하나 이상은 임프린팅 어셈블리(104)의 프로세싱 구역(130)에서 가요성 템플릿(116)의 수직 포지션을 변화시키기 위해 수직 방향(예컨대, z 방향)으로 개별적으로 또는 함께 이동가능하다. 따라서, 가요성 템플릿(116)은 기판(101)의 정상에 임프린트를 형성하기 위해 프로세싱 구역(130)에서 기판(101) 상에 푸시 다운(push down)될 수 있다. 임프린트 리소그래피 시스템(100)의 다양한 설계 파라미터들에 따라, 롤러들(118, 120, 122)의 어레인지먼트 및 개수가 변화될 수 있다. 일부 실시예들에서, 가요성 템플릿(116)은 진공 척, 핀형 척, 그루브형 척, 전자기 척, 또는 다른 유형의 척에 커플링된다(예컨대, 이들에 의해 지지 또는 고정됨).
임프린트 리소그래피 시스템(100)의 동작에서, 가요성 템플릿(116) 및 기판(101)은 롤러들(118, 120, 122) 및 공기 베어링(112)에 의해 원하는 수직 및 측방향 포지션들에 각각 정렬된다. 그러한 포지셔닝은 가요성 템플릿(116)과 기판(101) 사이의 프로세싱 구역(130) 내에 볼륨을 정의한다. 일단 중합가능 물질이 유체 디스펜서(106)에 의해 기판(101)의 최상부 표면(103) 상에 증착되면, 그 볼륨은 중합가능 물질로 채워질 수 있고, 척(110)(예컨대, 기판(101)을 운반함)은 후속적으로 공기 베어링(112)에 의해 프로세싱 구역(130)으로 이동된다. 따라서, 가요성 템플릿(116) 및 기판(101)의 최상부 표면(103) 둘 모두는 임프린트 리소그래피 시스템(100)의 프로세싱 구역(130)에서 중합가능 물질과 접촉할 수 있다. 예시적인 중합가능 물질들은, 하나 이상의 물질들, 이를테면, 이소보닐 아크릴레이트, n-헥실 아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, (2-메틸-2-에틸-1,3-디옥솔란-4-일)메틸 아크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(4-모르폴린일)-1-프로파논, 디페닐 (2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로파논, 및 다양한 계면활성제들로부터 포뮬레이팅될(formulated) 수 있다. 중합가능 물질이 유체 디스펜서(106)에 의해 기판(101)의 정상에 증착될 수 있게 하는 예시적인 기법들은 드롭 분배(drop dispense), 스핀-코팅(spin-coating), 딥 코팅(dip coating), 화학 기상 증착(CVD; chemical vapor deposition), 물리 기상 증착(PVD; physical vapor deposition), 박막 증착(thin film deposition), 후막 증착(thick film deposition), 및 다른 기법들을 포함한다. 일부 예들에서, 중합가능 물질은 다수의 드롭들로 기판(101)의 정상에 증착된다.
임프린팅 어셈블리(104)는 프로세싱 구역(130) 내의 기판(101)의 정상의 중합가능 물질 쪽으로 에너지(예컨대, 광대역 자외선 방사)를 지향시키는 에너지 소스(126)를 포함한다. 에너지 소스(126)로부터 방출된 에너지는 중합가능 물질이 고체화되게 그리고/또는 가교-결합(cross-link)되게 함으로써, 프로세싱 구역(130) 내의 중합가능 물질과 접촉하는 가요성 템플릿(116)의 부분의 형상에 일치(conform)하는 패터닝된 층을 초래한다.
도 2는 임프린트 리소그래피 시스템(100)에 의해 기판(101) 상에 형성된 예시적인 패터닝된 층(105)을 예시한다. 패터닝된 층(105)은 잔류 층(107), 및 잔류 층(107)으로부터 연장되는 돌출부들(109) 및 인접한 돌출부들(109)과 잔류 층(107)에 의해 형성되는 흡인 구조들(111)을 포함하는 다수의 피처들을 포함한다.
일부 실시예들에서, 임프린트 리소그래피 시스템(100)의 척(110)은 다수의 기판들을 지지하도록 구성된 다수의 척들의 세트로서 제공된다. 예컨대, 도 3은 임프린트 리소그래피 시스템(100)의 프로세싱 구역(130)에서 가요성 템플릿(116) 아래에 다수의 기판들(201)을 동시에 지지하도록 구성된 다수의 개별적인 페디스털 척들(202)의 어레이를 포함하는 척 어셈블리(200)(예컨대, 클러스터 척)를 예시한다. 척 어셈블리(200)의 동작에서, 페디스털 척들(202)은, 상이한 두께들을 갖는 개개의 기판들(201)의 최상부 표면들이 다수의 기판들(201)에 걸쳐 가요성 템플릿(116)에 의한 균일한 임프린팅을 위해 동일한 평면에서 특정 수직 포지션으로 포지셔닝될 수 있도록, 수직으로 그리고 서로 독립적으로 이동하도록 허용된다. 페디스털 척들(202) 이외에, 척 어셈블리(200)는 페디스털 척들(202)과 각각 연관된 다수의 공기 부싱들(204), 공기 부싱들(204)을 지지하는 베이스(206), 베이스(206) 아래에 배치된 공기 플레넘(208), 및 페디스털 척들(202)과 각각 연관된 다수의 진공 호스들(210)을 포함한다.
척 어셈블리(200)는 또한, 공기 플레넘(208) 내의 공기 압력이 제어될 수 있게 하는 압력 제어 포트(212), 공기 부싱들(204)에 공기를 제공하는 공기 공급 포트(214), 및 부압(negative pressure)(예컨대, 흡인)을 페디스털 척들(202)에 제공하는 진공 공급 포트(216)를 포함한다. 압력 제어 포트(212), 공기 공급 포트(214), 및 진공 공급 포트(216)는 베이스(206)의 측부에 장착된다.
각각의 페디스털 척(202)은 기판 마운트(218), 기판 마운트(218)로부터 연장되는 샤프트(220), 및 샤프트(220)의 단부에 부착된 스토퍼(222)를 포함한다. 기판 마운트(218)는 실질적으로 원형 또는 직사각형 형상을 가지며, 기판 마운트(218)의 최상부 표면에 걸쳐 연장되고 기판(201)을 지지하도록 크기가 정해진 흡인 구조(224)(예컨대, 핀 척)를 정의한다. 기판(201)은 구성 및 재료 포뮬레이션(material formulation)에 있어서 기판(101)과 실질적으로 유사하다. 흡인 구조(224)는 통상적으로, 대략 50 mm 내지 대략 200 mm의 범위의 폭, 대략 50 mm 내지 대략 200 mm의 범위의 길이, 및 대략 0.2 mm 내지 대략 2.0 mm(예컨대, 대략 1.0 mm)의 깊이를 갖는다. 일부 실시예들에서, 흡인 구조(224)는, 규칙적인 패턴으로(예컨대, 와플형 패턴(waffle-like pattern)으로) 흡인 구조의 최하부 표면에 걸쳐 배열되고 그 최하부 표면으로부터 상향으로 연장되는 피처들(예컨대, 핀들, 직사각형 돌출부들, 다른 돌출부들, 직사각형 벽들, 또는 다른 피처들)의 어레이를 정의한다.
기판 마운트(218)는 또한, (예컨대, 진공 공급 포트(216)에 의해 공급되는) 진공 호스(210)로부터의 진공 압력을, 기판(201)을 기판 마운트(218)에 대해 흡인하기 위한 흡인 구조(224)에 전달하는 채널(242)을 정의한다. 진공 압력은 흡인 구조(224) 내의 피처들의 어레이 둘레의 구역에서 기판(201)에 인가된다. 진공 호스(210)는 베이스(206) 위에서 나선형 구성으로 페디스털 척(202)의 샤프트(220) 둘레에 감겨져 있다. 진공 호스(210)에 의해 전달된 부압은 기판(201)을 페디스털 척(202)의 기판 마운트(218)에 대해 견고하게 홀딩한다. 샤프트(220)는 통상적으로 대략 10 mm 내지 대략 50 mm(예컨대, 대략 30 mm)의 직경 및 대략 50 mm 내지 대략 100 mm(예컨대, 대략 75 mm)의 길이를 갖는다.
스토퍼(222)는, 샤프트(220)에 수직하게 배향된 바아(bar)(226), 및 바아(226)를 통해 페디스털 척(202)의 샤프트(220) 내로 연장되는 패스너(228)(예컨대, 스크루 패스너)로서 제공된다. 바아(226)의 길이는 샤프트(220)의 직경보다 커서, 공기 플레넘(208) 내의 공기 압력이 페디스털 척(202)을 상향 방향으로 강제(force)할 때, 바아(226)는 베이스(206)의 개구의 벽(230)에 접한다. 이러한 방식으로, 스토퍼(222)는, 페디스털 척(202)의 초기 수직 포지션을 결정하고 페디스털 척(202)의 상향 이동을 제한할 수 있는 바이어스를 제공한다.
각각의 공기 부싱(204)은 페디스털 척(202)의 샤프트(220)를 둘러싸며, 공기 부싱(204)의 내부 표면(232)에 걸쳐 다수의 기공들(예컨대, 다공성 탄소 슬리브)을 갖는 원통형 슬리브로서 형성된다. 공기 부싱(204)의 내부 표면(232)은, 내부 표면(232)과 샤프트(220) 사이에 반경방향 간극이 존재하도록 대략 10 mm 내지 대략 50 mm(예컨대, 대략 30 mm)의 직경을 갖는다. 공기 공급 포트(214)에 의해 공급되고 공기 공급 호스(238)에 의해 전달되는 공기가 공기 부싱(204)의 기공들을 통과하여 페디스털 척(202)의 샤프트(220)에 내향 반경방향 리프팅 힘을 인가함으로써, 페디스털 척(202)이 공기 부싱(204)의 내부 표면(232)과 접촉함이 없이 공기 부싱(204) 내에서 측방향으로 플로팅되게(예컨대, 반경 방향으로 제약되게) 한다. 따라서, 페디스털 척(202)의 샤프트(220)는 실질적으로 마찰없는 방식으로 공기 부싱(204) 내에 센터링된 포지션에서(예컨대, 공기 부싱(204)의 중심 축을 따라) 플로팅될 수 있다. 그러한 제로 마찰 구성은 페디스털 척들(202)에 의해 지지되는 모든 기판들(201)과 가요성 템플릿(116) 사이에 일정한 임프린트 압력을 유지하는 데 중요하다.
공기 플레넘(208)은 커버(240)(예컨대, 스프링 강으로 제조됨)에 의해 밀봉된 공기 격실(air compartment)이다. 공기 플레넘(208) 내의 공기 압력은 압력 제어 포트(212)에 의해 제어될 수 있다. 공기 플레넘(208) 내의 공기 압력은 공기 플레넘(208) 위에 장착된 각각의 페디스털 척(202)에 수직 리프팅 힘(예컨대, 이는 샤프트(220)의 단면적에 공기 압력을 곱한 크기를 가짐)을 인가한다. 수직 리프팅 힘은 페디스털 척(202)이 공기 부싱(204)의 중심 축을 따라 공기 부싱(204) 내에서 수직으로 플로팅되게 한다. 가요성 템플릿(116)이 척 어셈블리(200) 위에서 일정한 수직 포지션으로 유지되기 때문에, 가요성 템플릿(116)이 기판(201)의 정상의 중합가능 물질에 대해 하향 힘을 가함(예컨대, 하향으로 푸시함)에 따라, 가요성 템플릿(116)은 각각의 페디스털 척(202)의 수직 포지션을 결정한다. 수직 리프팅 힘을 통해, 페디스털 척(202)은 또한 가요성 템플릿(116)에 대해 상향 힘을 가하며(예컨대, 상향으로 푸시함), 이는 기판(201)의 정상의 중합가능 물질을 따라 임프린팅되는 피처들의 정밀도를 개선할 수 있다.
공기 부싱들(204)에 의해 샤프트들(220)에 인가되는 내향 반경방향 리프팅 힘 및 공기 플레넘(208) 내의 공기 압력에 의해 샤프트들(220)에 인가되는 상향 리프팅 힘으로 인해, 척 어셈블리(200)의 다수의 페디스털 척들(202)은 수직으로 그리고 서로 독립적으로 이동할 수 있다. 결과적으로, 다수의 페디스털 척들(202)에 의해 지지되는 기판들(201)의 최상부 표면들(203)은 기판들(201)의 두께들의 임의의 변동에도 불구하고 동일한 수직 높이에서 동일평면 어레인지먼트로 포지셔닝(예컨대, 정렬)될 수 있다. 따라서, 다수의 페디스털 척들(202)에 의해 지지되는 기판들(201)과 가요성 템플릿(116) 사이에서 일정한 임프린트 압력이 달성될 수 있다.
토션을 제한하는 어떤 힘도 없으면, 페디스털 척들(202)의 샤프트들(220)은 공기 부싱들(204) 내에서 회전될 수 있다. 이와 관련하여, 척 어셈블리(200)는, 페디스털 척들(202)이 공기 부싱들(204) 내에서 회전되는 것을 방지하기 위해 페디스털 척들(202)을 척 어셈블리(200)의 베이스(206)에 고정시키는 다수의 스트립들(234)(예컨대, 안티-토션 스트립들)을 포함한다. 예컨대, 스트립들(234)은 일 단부에서 페디스털 척(202)의 스토퍼(222)(예컨대, 스토퍼(222)의 패스너(228))에 부착될 수 있고, 제2 단부에서 베이스(206)에 부착된 패스너(236)에 부착될 수 있다. 일부 실시예들에서, 스트립들(234)은, 거의 힘을 인가하지 않으면서 수직 방향으로 비교적 용이하게 이동할 수 있지만 스트립들(234)의 폭에 대한 회전 운동에 저항하기에 충분히 강성인, 얇고 넓은 가요성(예컨대, 탄성) 재료 조각들로서 제공된다.
다수의 페디스털 척들(202)의 동일한 중량, 공기 부싱들(204) 내에서의 페디스털 척들(202)의 실질적으로 마찰없는 이동, 진공 호스들(201)에 의해 페디스털 척들(202)에 인가되는 최소의 힘들, 및 페디스털 척들(202)에 인가되는 등가의 안티-토션 구성들에 따라, 척 어셈블리(200)는 기판들(210)의 정상의 원하는(예컨대, 균일한) 임프린트 결과들을 위해 다수의 기판들(201)의 최상부 표면들(203)의 동일평면 어레인지먼트를 달성하기 위해, 척 어셈블리(200)에 의해 지지되는 다양한 두께들의 다수의 기판들(201)에 일관된 튜닝가능한 힘들이 인가되는 것을 가능하게 한다. 척 어셈블리(200)의 그러한 설계 양상들은, 가요성 템플릿(116)에 의한 작용 시에 모든 기판들(201)의 최상부 표면들(203)이 동일한 수직 평면에 포지셔닝되지 않으면 다르게 발생할 수 있는 임프린트들의 변동성(예컨대, 불균일성)을 방지할 수 있다.
척 어셈블리(200)가 공기 부싱들(204) 내에서의 페디스털 척들(202)의 회전을 방지하기 위해 안티-토션 스트립들(234)을 포함하는 것으로 설명되고 예시되었지만, 일부 실시예들에서, 척 어셈블리(200)와 기능에 있어서 유사한 척 어셈블리는 대안적으로, 공기 부싱들 내에서의 척들의 회전을 방지하기 위해 상이한 구성을 가질 수 있다. 예컨대, 도 4에 도시된 바와 같이, 척 어셈블리(300)는 페디스털 척들(302)의 회전을 방지하기 위해 더블-샤프트 구성을 갖는 페디스털 척들(302)을 포함한다. 척 어셈블리(300)의 동작에서, 페디스털 척들(302)은, 상이한 두께들을 갖는 개개의 기판들(301)의 최상부 표면들이 다수의 기판들(301)에 걸쳐 가요성 템플릿(116)에 의한 균일한 임프린팅을 위해 동일한 평면에서 특정 수직 포지션으로 포지셔닝될 수 있도록, 수직으로 그리고 서로 독립적으로 이동하도록 허용된다. 페디스털 척들(302) 이외에, 척 어셈블리(300)는 각각의 페디스털 척(302)과 연관된 2개의 공기 부싱들(304), 공기 부싱들(304)을 지지하는 베이스(306), 베이스(306) 아래에 배치된 공기 플레넘(308), 및 2개의 페디스털 척들(302)과 각각 연관된 2개의 진공 호스들(310)을 포함한다.
척 어셈블리(300)는 또한, 공기 플레넘(308) 내의 공기 압력이 제어될 수 있게 하는 압력 제어 포트(312), 공기 부싱들(304)에 공기를 제공하는 공기 공급 포트(314), 및 부압(예컨대, 흡인)을 페디스털 척들(302)에 제공하는 진공 공급 포트(316)를 포함한다. 압력 제어 포트(312), 공기 공급 포트(314), 및 진공 공급 포트(316)는 베이스(306)의 측부에 장착된다.
각각의 페디스털 척(302)은 기판 마운트(318), 각각의 기판 마운트(318)로부터 연장되는 2개의 샤프트들(320), 및 각각의 샤프트(320)의 단부에 부착된 스토퍼(322)를 포함한다. 기판 마운트(318)는 실질적으로 원형 또는 직사각형 형상을 가지며, 기판 마운트(318)의 최상부 표면에 걸쳐 연장되고 기판(301)을 지지하도록 크기가 정해진 흡인 구조(324)(예컨대, 핀 척)를 정의한다. 기판(301)은 구성 및 재료 포뮬레이션에 있어서 기판(101)과 실질적으로 유사하다. 흡인 구조(324)는 통상적으로, 대략 50 mm 내지 대략 200 mm의 범위의 폭, 대략 50 mm 내지 대략 200 mm의 범위의 길이, 및 대략 0.2 mm 내지 대략 2.0 mm(예컨대, 대략 1.0 mm)의 깊이를 갖는다. 일부 실시예들에서, 흡인 구조(324)는 규칙적인 패턴으로(예컨대, 와플형 패턴으로) 흡인 구조의 최하부 표면에 걸쳐 배열되고 그 최하부 표면으로부터 상향으로 연장되는 피처들(예컨대, 핀들, 직사각형 돌출부들, 다른 돌출부들, 직사각형 벽들, 또는 다른 피처들)의 어레이를 정의한다.
기판 마운트(318)는 또한, (예컨대, 진공 공급 포트(316)에 의해 공급되는) 진공 호스(310)로부터의 진공 압력을, 기판(301)을 기판 마운트(318)에 대해 흡인하기 위한 흡인 구조(324)에 전달하는 채널(342)을 정의한다. 진공 압력은 흡인 구조(324) 내의 피처들의 어레이 둘레의 구역에서 기판(301)에 인가된다. 진공 호스(310)는 베이스(306)를 통해 기판 마운트(318)의 채널(342)까지 통과한다. 진공 호스(310)에 의해 전달된 부압은 기판(301)을 페디스털 척(302)의 기판 마운트(318)에 대해 견고하게 홀딩한다. 샤프트(320)는 통상적으로 대략 10 mm 내지 대략 50 mm(예컨대, 대략 30 mm)의 직경 및 대략 50 mm 내지 대략 100 mm(예컨대, 대략 75 mm)의 길이를 갖는다.
각각의 스토퍼(322)는, 샤프트(320)에 수직하게 배향된 바아(326), 및 바아(326)를 통해 페디스털 척(302)의 샤프트(320) 내로 연장되는 패스너(328)(예컨대, 스크루 패스너)로서 제공된다. 바아(326)의 길이는 샤프트(320)의 직경보다 커서, 공기 플레넘(308) 내의 공기 압력이 페디스털 척(302)을 상향 방향으로 강제할 때, 바아(326)는 베이스(306)의 개구의 벽(330)에 접한다. 이러한 방식으로, 스토퍼들(322)은, 페디스털 척(302)의 초기 수직 포지션을 결정하고 페디스털 척(302)의 상향 이동을 제한할 수 있는 바이어스를 제공한다.
공기 부싱(304)은 각각의 페디스털 척(302)의 샤프트(320)를 둘러싸며, 공기 부싱(304)의 내부 표면(332)에 걸쳐 다수의 기공들(예컨대, 다공성 탄소 슬리브)을 갖는 원통형 슬리브로서 형성된다. 공기 부싱(304)의 내부 표면(332)은, 내부 표면(332)과 샤프트(320) 사이에 반경방향 간극이 존재하도록 대략 10 mm 내지 대략 50 mm(예컨대, 대략 30 mm)의 직경을 갖는다. 공기 공급 포트(314)에 의해 공급되고 공기 공급 호스(338)에 의해 전달되는 공기가 공기 부싱들(304)의 기공들을 통과하여 페디스털 척(302)의 샤프트들(320)에 내향 반경방향 리프팅 힘을 인가함으로써, 페디스털 척(302)이 공기 부싱(304)의 내부 표면(332)과 접촉함이 없이 공기 부싱(304) 내에서 측방향으로 플로팅되게(예컨대, 반경 방향으로 제약되게) 한다. 따라서, 페디스털 척(302)의 샤프트들(320)은 실질적으로 마찰없는 방식으로 공기 부싱들(304) 내에 센터링된 포지션들에서(예컨대, 공기 부싱들(304)의 중심 축들을 따라) 각각 플로팅될 수 있다. 그러한 제로 마찰 구성은 페디스털 척들(302)에 의해 지지되는 모든 기판들(301)과 가요성 템플릿(116) 사이에 일정한 임프린트 압력을 유지하는 데 중요하다. 개개의 공기 부싱들(304) 내에서의 2개의 샤프트들(320)의 중앙 정렬로 인해, 페디스털 척들(302)이 공기 부싱들(304) 내에서 회전되는 것이 실질적으로 방지된다.
공기 플레넘(308)은 커버(340)(예컨대, 알루미늄으로 제조됨)에 의해 밀봉된 공기 격실이다. 공기 플레넘(308) 내의 공기 압력은 압력 제어 포트(312)에 의해 제어될 수 있다. 공기 플레넘(308)의 공기 압력은 공기 플레넘(308) 위에 장착된 각각의 페디스털 척(302)에 수직 리프팅 힘(예컨대, 이는 샤프트(320)의 단면적에 공기 압력을 곱한 크기를 가짐)을 인가한다. 수직 리프팅 힘은 페디스털 척(302)의 샤프트들(320)이 공기 부싱들(304)의 중심 축들을 따라 공기 부싱들(304) 내에서 수직으로 플로팅되게 한다. 가요성 템플릿(116)이 척 어셈블리(300) 위에서 일정한 수직 포지션으로 유지되기 때문에, 가요성 템플릿(116)이 기판(301)의 정상의 중합가능 물질에 대해 하향 힘을 가함(예컨대, 하향으로 푸시함)에 따라, 가요성 템플릿(116)은 각각의 페디스털 척(302)의 수직 포지션을 결정한다. 수직 리프팅 힘을 통해, 페디스털 척(302)은 또한 가요성 템플릿(116)에 대해 상향 힘을 가하며(예컨대, 상향으로 푸시함), 이는 기판(301)의 정상의 중합가능 물질을 따라 임프린팅되는 피처들의 정밀도를 개선할 수 있다.
공기 부싱들(304)에 의해 샤프트들(320)에 인가되는 내향 반경방향 리프팅 힘 및 공기 플레넘(308) 내의 공기 압력에 의해 샤프트들(320)에 인가되는 상향 리프팅 힘으로 인해, 척 어셈블리(300)의 다수의 페디스털 척들(302)은 수직으로 그리고 서로 독립적으로 이동할 수 있다. 결과적으로, 다수의 페디스털 척들(302)에 의해 지지되는 기판들(301)의 최상부 표면들(303)은 기판들(301)의 두께들의 임의의 변동에도 불구하고 동일한 수직 높이에서 동일평면 어레인지먼트로 포지셔닝(예컨대, 정렬)될 수 있다. 따라서, 다수의 페디스털 척들(302)에 의해 지지되는 기판들(301)과 가요성 템플릿(116) 사이에서 일정한 임프린트 압력이 달성될 수 있다.
다수의 페디스털 척들(302)의 동일한 중량, 공기 부싱들(304) 내에서의 페디스털 척들(302)의 실질적으로 마찰없는 이동, 진공 호스들(310)에 의해 페디스털 척들(302)에 인가되는 최소의 힘들, 및 페디스털 척들(302)의 등가의 안티-토션 구성들에 따라, 척 어셈블리(300)는 기판들(301)의 정상의 원하는(예컨대, 균일한) 임프린트 결과들을 위해 다수의 기판들(301)의 최상부 표면들(303)의 동일평면 어레인지먼트를 달성하기 위해, 척 어셈블리(300)에 의해 지지되는 다양한 두께들의 다수의 기판들(301)에 일관된 튜닝가능한 힘들이 인가되는 것을 가능하게 한다. 척 어셈블리(300)의 그러한 설계 양상들은, 가요성 템플릿(116)에 의한 작용 시에 모든 기판들(301)의 최상부 표면들(303)이 동일한 수직 평면에 포지셔닝되지 않으면 다르게 발생할 수 있는 임프린트들의 변동성(예컨대, 불균일성)을 방지할 수 있다.
척 어셈블리들(200, 300)이 페디스털 척들(202, 302)에 대해 상향으로 지향된 힘을 제공하는 공기 플레넘들(208, 308)을 포함하는 것으로 설명되고 예시되었지만, 일부 실시예들에서, 척 어셈블리들(200, 300) 중 어느 하나와 기능에 있어서 유사한 척 어셈블리는 대안적으로, 페디스털 척에 대해 상향으로 지향된 힘을 제공하기 위한 상이한 메커니즘을 포함할 수 있다. 예컨대, 도 5에 도시된 바와 같이, 척 어셈블리(400)는 페디스털 척들(402)에 수직 저항들을 제공하는 압축 스프링들(444)을 포함한다. 척 어셈블리(400)의 동작에서, 페디스털 척들(402)은, 상이한 두께들을 갖는 개개의 기판들(401)의 최상부 표면들이 다수의 기판들(401)에 걸쳐 가요성 템플릿(116)에 의한 균일한 임프린팅을 위해 동일한 평면에서 특정 수직 포지션으로 포지셔닝될 수 있도록, 수직으로 그리고 서로 독립적으로 이동하도록 허용된다. 기판(401)은 구성 및 재료 포뮬레이션에 있어서 기판(101)과 실질적으로 유사하다.
척 어셈블리(400)가 공기 플레넘 및 연관된 컴포넌트들 대신에 압축 스프링들(444) 및 연관된 스프링 마운트들(448)을 포함하는 것을 제외하면, 척 어셈블리(400)는 구성 및 기능에 있어서 척 어셈블리(300)와 유사하다. 따라서, 척 어셈블리(400)는 척 어셈블리(300)의 다양한 유사한 컴포넌트들에 대해 위에서 설명된 바와 같이 구성되고 기능하는 몇몇 컴포넌트들을 포함한다. 예컨대, 척 어셈블리(400)는 페디스털 척들(402)(예컨대, 샤프트들(420), 스토퍼들(422), 및 흡인 구조들(424) 및 채널들(442)을 정의하는 기판 마운트들(418)을 포함함), 공기 부싱들(404)(예컨대, 내부 표면들(432)을 정의함), 진공 공급 포트(416), 진공 호스들(410), 공기 공급 포트(414), 및 공기 공급 호스들(438)을 포함한다.
척 어셈블리(400)는 또한, 베이스(306)와 유사하고 공기 부싱들(404)을 지지하는 베이스(406), 진공 공급 포트(416), 진공 호스들(410), 공기 공급 포트(414), 및 공기 공급 호스들(438)을 포함한다. 부가적으로, 공기 플레넘을 정의하는 대신에, 베이스(406)는 공기 부싱들(404)을 각각 지지하는 4개의 보어들(446) 및 압축 스프링들(444)을 지지하는 스프링 마운트들(448)을 정의한다. 각각의 스토퍼(422)는 샤프트(420)에 수직하게 배향되고, 스토퍼(422)의 길이는 샤프트(420)의 직경보다 더 커서, 스토퍼(422)는, 압축 스프링들(444)이 페디스털 척(402)을 상향 방향으로 강제할 때, 보어(446) 내의 공기 부싱(404)의 벽에 접한다. 이러한 방식으로, 스토퍼들(422)은, 페디스털 척(402)의 초기 수직 포지션을 결정하고 페디스털 척(402)의 상향 이동을 제한할 수 있는 바이어스를 제공한다. 압축 스프링들(444)이 형성될 수 있는 예시적인 재료들은 스프링 강, 뮤직 와이어(music wire), 및 스테인리스 강을 포함한다.
압축 스프링들(444)은 보어들(446) 내에 배치된 각각의 페디스털 척(402)에 수직 리프팅 힘을 인가한다. 수직 리프팅 힘은 페디스털 척들(402)의 샤프트들(420)이 공기 부싱들(404)의 중심 축들을 따라 공기 부싱들(404) 내에서 수직으로 플로팅되게 한다. 가요성 템플릿(116)이 척 어셈블리(400) 위에서 일정한 수직 포지션으로 유지되기 때문에, 가요성 템플릿(116)이 기판(401)의 정상의 중합가능 물질에 대해 하향 힘을 가함(예컨대, 하향으로 푸시함)에 따라, 가요성 템플릿(116)은 각각의 페디스털 척(402)의 수직 포지션을 결정한다. 수직 리프팅 힘을 통해, 페디스털 척(402)은 또한 가요성 템플릿(116)에 대해 상향 힘을 가하며(예컨대, 상향으로 푸시함), 이는 기판(401)의 정상의 중합가능 물질을 따라 임프린팅되는 피처들의 정밀도를 개선할 수 있다.
공기 부싱들(404)에 의해 샤프트들(420)에 인가되는 내향 반경방향 리프팅 힘 및 압축 스프링들(444)에 의해 샤프트들(420)에 인가되는 상향 리프팅 힘으로 인해, 척 어셈블리(400)의 다수의 페디스털 척들(402)은 수직으로 그리고 서로 독립적으로 이동할 수 있다. 결과적으로, 다수의 페디스털 척들(402)에 의해 지지되는 기판들(401)의 최상부 표면들(403)은 기판들(401)의 두께들의 임의의 변동에도 불구하고 동일한 수직 높이에서 동일평면 어레인지먼트로 포지셔닝(예컨대, 정렬)될 수 있다. 따라서, 다수의 페디스털 척들(402)에 의해 지지되는 기판들(401)과 가요성 템플릿(116) 사이에서 일정한 임프린트 압력이 달성될 수 있다.
다수의 페디스털 척들(402)의 동일한 중량, 공기 부싱들(404) 내에서의 페디스털 척들(402)의 실질적으로 마찰없는 이동, 진공 호스들(410)에 의해 페디스털 척들(402)에 인가되는 최소의 힘들, 및 페디스털 척들(402)의 등가의 안티-토션 구성들에 따라, 척 어셈블리(400)는 기판들(401)의 정상의 원하는(예컨대, 균일한) 임프린트 결과들을 위해 다수의 기판들(401)의 최상부 표면들(403)의 동일평면 어레인지먼트를 달성하기 위해, 척 어셈블리(400)에 의해 지지되는 다양한 두께들의 다수의 기판들(401)에 일관된 튜닝가능한 힘들이 인가되는 것을 가능하게 한다. 척 어셈블리(400)의 그러한 설계 양상들은, 가요성 템플릿(116)에 의한 작용 시에 모든 기판들(401)의 최상부 표면들(403)이 동일한 수직 평면에 포지셔닝되지 않으면 다르게 발생할 수 있는 임프린트들의 변동성(예컨대, 불균일성)을 방지할 수 있다.
척 어셈블리들(200, 300, 400)이 페디스털 척들(202, 302, 402)에 대해 상향으로 지향된 힘을 제공하는 압축 스프링들(444) 또는 공기 플레넘들(208, 308)을 포함하는 것으로 설명되고 예시되었지만, 일부 실시예들에서, 척 어셈블리들(200, 300, 400) 중 임의의 것과 기능에 있어서 유사한 척 어셈블리는 대안적으로, 페디스털 척에 대해 상향으로 지향된 힘을 제공하기 위한 상이한 메커니즘을 포함할 수 있다. 예컨대, 도 6에 도시된 바와 같이, 척 어셈블리(500)는 페디스털 척들(502)에 수직 저항들을 제공하는 공기 실린더들(550)을 포함한다. 척 어셈블리(500)의 동작에서, 페디스털 척들(502)은, 상이한 두께들을 갖는 개개의 기판들(501)의 최상부 표면들이 다수의 기판들(501)에 걸쳐 가요성 템플릿(116)에 의한 균일한 임프린팅을 위해 동일한 평면에서 특정 수직 포지션으로 포지셔닝될 수 있도록, 수직으로 그리고 서로 독립적으로 이동하도록 허용된다. 기판(501)은 구성 및 재료 포뮬레이션에 있어서 기판(101)과 실질적으로 유사하다.
척 어셈블리(500)가 공기 플레넘 및 연관된 컴포넌트들 대신에 공기 실린더들(550), 연관된 공기 실린더 공급 포트(552), 및 연관된 공기 실린더 공급 호스들(554)을 포함하는 것을 제외하고는, 척 어셈블리(500)는 구성 및 기능에 있어서 척 어셈블리(200)와 유사하다. 따라서, 척 어셈블리(500)는 척 어셈블리(200)의 다양한 유사한 컴포넌트들에 대해 위에서 설명된 바와 같이 구성되고 기능하는 몇몇 컴포넌트들을 포함한다. 예컨대, 척 어셈블리(500)는 페디스털 척들(502)(예컨대, 샤프트들(520), 바아들(526) 및 패스너들(528)을 포함하는 스토퍼들(522), 및 흡인 구조들(524) 및 채널들(542)을 정의하는 기판 마운트들(518)을 포함함), 공기 부싱들(504)(예컨대, 내부 표면들(532)을 정의함), 안티-토션 스트립들(534), 진공 공급 포트(516), 진공 호스들(510), 공기 공급 포트(514), 및 공기 공급 호스들(538)을 포함한다.
척 어셈블리(500)는 또한, 베이스(206)와 유사하고 공기 부싱들(504)을 지지하는 베이스(506), 진공 공급 포트(516), 진공 호스들(510), 공기 공급 포트(414), 공기 공급 호스들(438), 공기 실린더 공급 포트(552), 및 공기 실린더 공급 호스들(554)을 포함한다. 부가적으로, 공기 플레넘을 정의하는 대신에, 베이스(506)는 공기 실린더들(550) 및 공기 부싱들(504)을 각각 지지하는 3개의 보어들(546)을 정의한다. 각각의 스토퍼(522)의 바아(526)는 샤프트(520)에 수직하게 배향되고, 바아(526)의 길이는 샤프트(520)의 직경보다 더 커서, 스토퍼(522)는, 공기 실린더(550)에 의해 전달되는 공기가 페디스털 척(502)을 상향 방향으로 강제할 때, 보어(546) 내의 공기 부싱(504)의 벽에 접한다. 이러한 방식으로, 스토퍼(522)는, 페디스털 척(502)의 초기 수직 포지션을 결정하고 페디스털 척(502)의 상향 이동을 제한할 수 있는 바이어스를 제공한다.
공기 실린더들(550)에 의해 전달되는 공기는 보어들(546) 내에 배치된 페디스털 척들(502)에 수직 리프팅 힘들을 인가한다. 수직 리프팅 힘은 페디스털 척들(502)이 공기 부싱들(504)의 중심 축들을 따라 공기 부싱들(504) 내에서 수직으로 플로팅되게 한다. 가요성 템플릿(116)이 척 어셈블리(500) 위에서 일정한 수직 포지션으로 유지되기 때문에, 가요성 템플릿(116)이 기판(501)의 정상의 중합가능 물질에 대해 하향 힘을 가함(예컨대, 하향으로 푸시함)에 따라, 가요성 템플릿(116)은 각각의 페디스털 척(502)의 수직 포지션을 결정한다. 수직 리프팅 힘을 통해, 페디스털 척(502)은 또한 가요성 템플릿(116)에 대해 상향 힘을 가하며(예컨대, 상향으로 푸시함), 이는 기판(501)의 정상의 중합가능 물질을 따라 임프린팅되는 피처들의 정밀도를 개선할 수 있다.
공기 부싱들(504)에 의해 샤프트들(520)에 인가되는 내향 반경방향 리프팅 힘 및 공기 실린더들(550)에 의해 전달되는 공기에 의해 샤프트들(420)에 인가되는 상향 리프팅 힘으로 인해, 척 어셈블리(500)의 다수의 페디스털 척들(502)은 수직으로 그리고 서로 독립적으로 이동할 수 있다. 결과적으로, 다수의 페디스털 척들(502)에 의해 지지되는 기판들(501)의 최상부 표면들(503)은 기판들(501)의 두께들의 임의의 변동에도 불구하고 동일한 수직 높이에서 동일평면 어레인지먼트로 포지셔닝(예컨대, 정렬)될 수 있다. 따라서, 다수의 페디스털 척들(502)에 의해 지지되는 기판들(501)과 가요성 템플릿(116) 사이에서 일정한 임프린트 압력이 달성될 수 있다.
다수의 페디스털 척들(502)의 동일한 중량, 공기 부싱들(504) 내에서의 페디스털 척들(502)의 실질적으로 마찰없는 이동, 진공 호스들(510)에 의해 페디스털 척들(502)에 인가되는 최소의 힘들, 및 페디스털 척들(502)의 등가의 안티-토션 구성들에 따라, 척 어셈블리(500)는 기판들(501)의 정상의 원하는(예컨대, 균일한) 임프린트 결과들을 위해 다수의 기판들(501)의 최상부 표면들(503)의 동일평면 어레인지먼트를 달성하기 위해, 척 어셈블리(500)에 의해 지지되는 다양한 두께들의 다수의 기판들(501)에 일관된 튜닝가능한 힘들이 인가되는 것을 가능하게 한다. 척 어셈블리(500)의 그러한 설계 양상들은, 가요성 템플릿(116)에 의한 작용 시에 모든 기판들(501)의 최상부 표면들(503)이 동일한 수직 평면에 포지셔닝되지 않으면 다르게 발생할 수 있는 임프린트들의 변동성(예컨대, 불균일성)을 방지할 수 있다.
도 7은 임프린트 리소그래피 프로세스에서 기판들을 포지셔닝하기 위한 예시적인 프로세스(600)의 흐름도를 디스플레이한다. 제1 및 제2 기판들(예컨대, 기판들(201, 301, 401, 501))은 제1 및 제2 척들(예컨대, 페디스털 척들(202, 302, 402, 502))의 정상에 각각 지지된다(602). 제1 기판의 제1 두께는 제2 기판의 제2 두께와 상이할 수 있다. 제1 및 제2 기판들은, 제1 및 제2 기판들을 제1 및 제2 척들에 흡인함으로써 지지될 수 있다. 일부 예들에서, 제1 및 제2 기판들에 인가되는 흡인 압력들은 서로 독립적으로 제어될 수 있다.
제1 및 제2 척들은 제1 및 제2 부싱들(예컨대, 공기 부싱들(204, 304, 404, 504)) 내에서 측방향으로 공압식으로 현수된다(604). 제1 및 제2 척들은 마찰없는 방식으로 제1 및 제2 공기 부싱들 내에서 공압식으로 현수된다. 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 공기 부싱들 내에서 공압식으로 현수하는 것은, 제1 및 제2 척들에 반경방향 공기 압력을 인가하는 것을 포함한다. 예컨대, 공기는 제1 및 제2 부싱들의 제1 및 제2 내부 표면들(예컨대, 내부 표면(232, 332, 432, 532))에 걸쳐 각각 배열된 제1 및 제2 기공들을 통해 제1 및 제2 부싱들의 반경방향 내향으로 지향된다. 제1 및 제2 척들은 제1 및 제2 부싱들 내에서 수직으로 지지된다(606). 게다가, 상향으로 지향된 힘은 기판 프로세싱 엘리먼트에 인가된다.
제1 및 제2 척들은 제1 및 제2 고정된 회전 배향들로 각각 유지된다(608). 일부 예들에서, 제1 및 제2 척들의 제1 및 제2 고정된 회전 배향들은 제1 및 제2 부싱들을 지지하는 베이스(예컨대, 베이스(206, 506))에 제1 및 제2 척들을 연결하는 제1 및 제2 스트립들(예컨대, 스트립들(234, 534))에 의해 유지된다. 일부 예들에서, 제1 및 제2 척들의 제1 및 제2 고정된 회전 배향들은 제1 및 제2 부싱들과 각각 연관된 제1 및 제2 더블-샤프트 어레인지먼트들(예컨대, 샤프트들(320, 420)에 의해 제공됨)에 의해 유지된다.
제1 및 제2 척들이 제1 및 제2 부싱들 내에서 현수되어 유지되고 제1 및 제2 고정된 회전 방향들로 유지되는 동안, 제1 및 제2 척들은, 제1 및 제2 기판들의 제1 및 제2 최상부 표면들이 동일평면에 있게 될 때까지, 제1 및 제2 수직 저항력들에 대해 서로 독립적으로 하향 방향으로 강제된다(610). 일부 예들에서, 제1 및 제2 수직 저항력들은 수직 공기 압력에 의해 제공된다. 예컨대, 수직 공기 압력은 제1 및 제2 척들과 유체 접촉(예컨대, 공기 접촉)하는 공기 플레넘(예컨대, 플레넘(208, 308)) 내에서 제어될 수 있다. 다른 경우들에서, 제1 및 제2 수직 저항력들은 제1 및 제2 공기 실린더들(예컨대, 공기 실린더들(550))에 의해 전달되는 공기에 의해 각각 제공된다. 일부 예들에서, 제1 및 제2 수직 저항력들은 스프링(예컨대, 압축 스프링(444))에 의해 제공된다.
척 어셈블리들(200, 300, 400, 500)이, 1 × 3 어레이로 배열된 3개의 페디스털 척들(202, 502) 및 1 × 2 어레이로 배열된 2개의 페디스털 척들(302, 402)을 포함하는 것으로서 각각 예시되었지만, 일부 실시예들에서, 척 어셈블리들(200, 300, 400, 500) 중 임의의 것과 구성 및 기능에 있어서 유사한 척 어셈블리는 대안적으로, 상이한 구성으로 배열된 상이한 개수의 페디스털 척들을 포함할 수 있다. 다른 예시적인 구성들은 2 × 2 어레이로 배열된 4개의 페디스털 척들, 2 × 3 어레이로 배열된 6개의 페디스털 척들, 및 3 × 3 어레이로 배열된 9개의 페디스털 척들을 포함한다. 페디스털 척 구성의 변동은 기판 면적에 대해 툴 스루풋(tool throughput)을 유지하면서 더 작은 기판들의 프로세싱을 가능하게 할 수 있다.
척 어셈블리들(200, 300, 400, 500)이, 페디스털 척들(202, 302, 402, 502) 모두에 진공 압력을 공급하는 하나의 진공 공급 포트(216, 316, 416, 516)를 포함하는 것으로 설명되고 예시되었지만, 일부 실시예들에서, 척 어셈블리들(200, 300, 400, 500) 중 임의의 것과 구성 및 기능에 있어서 유사한 척 어셈블리는 대안적으로, 상이한 페디스털 척에 각각 개별적으로 공급하는 다수의 진공 공급 포트들을 포함할 수 있다. 그러한 구성은 서로 별개로 페디스털 척들로부터 (예컨대, 상이한 시간에 개별적으로) 기판들이 언로딩되는 경우들에서 유리할 수 있다.
척 어셈블리들(200, 300, 400, 500)이, 기판들(201, 301, 401, 501)을 척들(202, 302, 402, 502)의 흡인 구조들(224, 324, 424, 524) 내로 흡인하는 진공-핀형 척들(202, 302, 304, 404)을 포함하는 것으로 설명되고 예시되었지만, 일부 실시예들에서, 척 어셈블리들(200, 300, 400, 500) 중 임의의 것과 구성 및 기능에 있어서 유사한 척 어셈블리는 대안적으로, 기판과 척 사이의 접촉없이 척 위에 기판을 플로팅시키기 위해 정압(positive pressure) 및 부압(negative pressure) 둘 모두를 사용하는 상이한 유형의 척을 포함할 수 있다.
척 어셈블리들(200, 300)이, 페디스털 척들(202, 302) 모두에 동일한 공기 압력을 공급하는 압력 제어 포트들(212, 312) 및 플레넘들(208, 308)을 포함하는 것으로 설명되고 예시되었지만, 일부 실시예들에서, 척 어셈블리(200) 또는 척 어셈블리(300)와 구성 및 기능에 있어서 유사한 척 어셈블리는 대안적으로, 각각의 페디스털 척(202, 302)에 상이한 제어가능한 공기 압력을 각각 공급하는 분할된 플레넘 및 다수의 압력 제어 포트들을 포함할 수 있다. 그러한 구성은, 임프린트가 기판(201, 301)의 정상에서 경화되는 동안 에너지 소스(126) 아래의 가요성 템플릿(116)의 지지되지 않는 부분에 인가될 필요가 있는 것보다 더 높은 힘으로 롤러들(118)에 의해 지지되는 가요성 템플릿(116)에 대해 페디스털 척(202, 302)이 상향으로 푸시할 필요가 있는 경우들에서 유리할 수 있다. 그러한 경우들에서, 기판(201, 301)이 가요성 템플릿(116)의 지지된 부분으로부터 이동됨에 따라, 페디스털 척(202, 302)에 대한 공기 압력이 감소될 수 있는 한편, 가요성 템플릿(116)의 지지되는 부분과 아직 접촉하지 않은 페디스털 척들(202, 302)에 대한 공기 압력은, 그러한 페디스털 척들(202, 302)이 가요성 템플릿(116)의 지지되지 않는 부분으로 전이될 때까지, 더 높은 레벨로 유지된다.
척 어셈블리(400)가, 수직 리프팅 힘을 제공하기 위한 압축 스프링들(444)을 포함하는 것으로 그리고 페디스털 척들(402)의 더블-샤프트 어레인지먼트에 의해 제공되는 안티-토션 구성을 포함하는 것으로 설명되고 예시되었지만, 일부 실시예들에서, 척 어셈블리(400)와 구성 및 기능에 있어서 유사한 척 어셈블리는 대안적으로, 단일-샤프트 페디스털 척들(예컨대, 이를테면, 페디스털 척들(202))에 수직 리프팅 힘을 제공하기 위한 압축 스프링들, 및 안티-토션 스트립들(예컨대, 이를테면, 안티-토션 스트립들(234))에 의해 제공되는 안티-토션 구성을 포함할 수 있다.
척 어셈블리(500)가, 수직 리프팅 힘을 제공하기 위한 공기 실린더들(550)을 포함하는 것으로 그리고 안티-토션 스트립들(534)에 의해 제공되는 안티-토션 구성 포함하는 것으로 설명되고 예시되었지만, 일부 실시예들에서, 척 어셈블리(500)와 구성 및 기능에 있어서 유사한 척 어셈블리는 대안적으로, 안티-토션 구성을 나타내는 더블-샤프트 페디스털 척들(예컨대, 이를테면, 페디스털 척들(302))에 수직 리프팅 힘을 제공하기 위한 공기 실린더들을 포함할 수 있다.
다수의 실시예들이 예시 목적들로 설명되었지만, 전술한 설명은 첨부된 청구항들의 범위에 의해 정의되는 본 발명의 범위를 제한하도록 의도되지 않는다. 다음의 청구항들의 범위 내에서 다른 예들, 수정들, 및 조합들이 존재하며, 그리고 존재할 것이다.

Claims (20)

  1. 기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법으로서,
    제1 및 제2 척들의 정상에 제1 및 제2 기판들을 각각 지지하는 단계;
    상기 제1 및 제2 척들을 각각 제1 및 제2 부싱들 내에서 측방향으로 공압식으로 현수(pneumatically suspending)하는 단계;
    상기 제1 및 제2 부싱들 내에서 수직으로 상기 제1 및 제2 척들을 각각 지지하는 단계;
    상기 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 고정된 회전 배향들로 각각 유지하는 단계; 및
    상기 제1 및 제2 부싱들 내에서 측방향으로 현수된 상기 제1 및 제2 척들을 유지하는 동안 그리고 상기 제1 및 제2 척들을 상기 제1 및 제2 고정된 회전 배향들로 유지하는 동안, 상기 제1 및 제2 기판들의 제1 및 제2 최상부 표면들이 동일평면에 있게 될 때까지 상기 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 수직 저항력들에 대해 각각 서로 독립적으로 하향 방향으로 강제(forcing)하는 단계를 포함하는,
    기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 기판의 제1 두께는 상기 제2 기판의 제2 두께와 상이한,
    기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 기판들을 상기 제1 및 제2 척들에 각각 흡인(suctioning)하는 단계를 더 포함하는,
    기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 수직 저항력들은 수직 공기 압력에 의해 제공되는,
    기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 척들과 유체 접촉하는 공기 플레넘 내에서 상기 수직 공기 압력을 제어하는 단계를 더 포함하는,
    기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법.
  6. 제4 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 수직 저항력들은 제1 및 제2 공기 실린더들에 의해 전달되는 공기에 의해 각각 제공되는,
    기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 수직 저항력들은 스프링에 의해 제공되는,
    기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 척들의 제1 및 제2 고정된 회전 배향들은 상기 제1 및 제2 부싱들을 지지하는 베이스에 상기 제1 및 제2 척들을 연결하는 제1 및 제2 스트립들에 의해 유지되는,
    기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 척들의 제1 및 제2 고정된 회전 배향들은 상기 제1 및 제2 부싱들과 각각 연관된 제1 및 제2 더블-샤프트 어레인지먼트들에 의해 유지되는,
    기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법.
  10. 제1 항에 있어서,
    상향으로 지향된 힘을 기판 프로세싱 엘리먼트에 인가하는 단계를 더 포함하는,
    기판들을 포지셔닝하기 위한 임프린트 리소그래피 방법.
  11. 임프린트 리소그래피 시스템으로서,
    제1 및 제2 기판들을 각각 지지하도록 구성된 제1 및 제2 척들;
    제1 및 제2 부싱들 ― 상기 제1 및 제2 부싱들은 상기 제1 및 제2 척들을 각각 둘러싸고, 그리고 상기 제1 및 제2 부싱들 내에서 상기 제1 및 제2 척들을 측방향으로 공압식으로 현수하도록 구성됨 ―;
    상기 제1 및 제2 척들 아래에 배치되고 그리고 상기 제1 및 제2 부싱들 내에서 상기 제1 및 제2 척들을 수직으로 각각 지지하도록 구성된 하나 이상의 지지 메커니즘들; 및
    상기 제1 및 제2 척들을 제1 및 제2 고정된 회전 배향들로 유지하는 제1 및 제2 피처(feature)들을 포함하고,
    상기 제1 및 제2 척들은, 상기 제1 및 제2 척들이 상기 제1 및 제2 부싱들 내에서 측방향으로 현수되는 동안 그리고 상기 제1 및 제2 척들이 상기 제1 및 제2 고정된 회전 배향들로 유지되는 동안, 상기 제1 및 제2 기판들의 제1 및 제2 최상부 표면들이 동일평면에 있게 될 때까지 상기 하나 이상의 지지 메커니즘들에 의해 제공되는 제1 및 제2 수직 저항력들에 대해 각각 서로 독립적으로 하향 방향으로 강제되도록 구성되는,
    임프린트 리소그래피 시스템.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 기판의 제1 두께는 상기 제2 기판의 제2 두께와 상이한,
    임프린트 리소그래피 시스템.
  13. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 기판들을 상기 제1 및 제2 척들에 각각 흡인하도록 구성된 진공 소스를 더 포함하는,
    임프린트 리소그래피 시스템.
  14. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 수직 저항력들은 공기 압력을 포함하는,
    임프린트 리소그래피 시스템.
  15. 제14 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 지지 메커니즘들은 상기 제1 및 제2 부싱들 내에서 수직으로 상기 제1 및 제2 척들을 공압식으로 현수하도록 구성된 공기 플레넘을 포함하는,
    임프린트 리소그래피 시스템.
  16. 제14 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 지지 메커니즘들은 상기 제1 및 제2 부싱들 내에서 수직으로 상기 제1 및 제2 척들을 공압식으로 현수하도록 구성된 제1 및 제2 공기 실린더들을 포함하는,
    임프린트 리소그래피 시스템.
  17. 제11 항에 있어서,
    상기 하나 이상의 지지 메커니즘들은 상기 제1 및 제2 부싱들 내에서 수직으로 상기 제1 및 제2 척들을 각각 지지하도록 구성된 제1 및 제2 스프링들을 포함하는,
    임프린트 리소그래피 시스템.
  18. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 피처들은 상기 제1 및 제2 척들을 지지하는 베이스에 상기 제1 및 제2 척들을 연결하는 제1 및 제2 스트립들을 포함하는,
    임프린트 리소그래피 시스템.
  19. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 피처들은 상기 제1 및 제2 부싱들과 각각 연관된 제1 및 제2 더블-샤프트 어레인지먼트들을 포함하는,
    임프린트 리소그래피 시스템.
  20. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 척들은 상향으로 지향된 힘을 기판 프로세싱 엘리먼트에 인가하도록 구성되는,
    임프린트 리소그래피 시스템.
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