KR20190051814A

KR20190051814A - Imprint apparatus, information processing apparatus, and method of manufacturing article

Info

Publication number: KR20190051814A
Application number: KR1020180130351A
Authority: KR
Inventors: 마사시 다카하시
Original assignee: 캐논 가부시끼가이샤
Priority date: 2017-11-07
Filing date: 2018-10-30
Publication date: 2019-05-15
Also published as: KR102357573B1

Abstract

The present invention relates to an imprinting apparatus for performing an imprinting process for forming a pattern of an imprint material in a shot area on a substrate using a mold. In addition, the imprinting apparatus comprises: an imaging unit for imaging the shot area including an imprinting material on the substrate and a part in contact with the mold, and acquiring an image corresponding to the shot area; and a control unit for controlling a display unit to arrange and display the image corresponding to a plurality of shot areas acquired by the imaging unit.

Description

TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an imprint apparatus, an information processing apparatus,

본 발명은 임프린트 장치, 정보 처리 장치 및 물품의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an imprint apparatus, an information processing apparatus, and a method of manufacturing an article.

임프린트 기술은, 나노 스케일의 미세한 패턴의 전사를 가능하게 하는 기술이며, 반도체 디바이스나 자기 기억 매체의 양산용 나노 리소그래피 기술의 하나로서 주목받고 있다. 임프린트 기술을 사용한 임프린트 장치는, 패턴이 형성된 몰드와 기판 상의 임프린트재를 접촉시킨 상태에서 임프린트재를 경화시켜, 경화된 임프린트재로부터 몰드를 분리함으로써 기판 상에 패턴을 형성한다.The imprint technique is a technique that enables transfer of a fine pattern of a nanoscale and is attracting attention as a nanolithography technique for mass production of semiconductor devices and magnetic storage media. An imprint apparatus using an imprint technique forms a pattern on a substrate by separating the mold from the cured imprint material by hardening the imprint material while bringing the imprint material on the substrate into contact with the patterned mold.

임프린트 장치에서는, 기판의 상방에 배치된 촬상부로부터의 촬상 정보(화상)에 기초하여, 기판에 형성된 패턴의 양부, 즉, 임프린트 처리의 양부를 판정하는 것이 유효하다. 일본 특허 공개 제2016-111335호 공보에는, 임프린트 처리의 특정한 타이밍에 있어서 촬상부에서 얻어지는 화상과, 미리 준비된 기준 화상(정상적인 상태에 있어서 촬상부에서 얻어지는 화상)을 비교함으로써, 임프린트 처리의 양부를 판정하는 기술이 개시되어 있다.In the imprint apparatus, it is effective to determine both parts of the pattern formed on the substrate, that is, both parts of the imprint processing, based on the image pickup information (image) from the image pickup section disposed above the substrate. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-111335 discloses a technique of comparing the image obtained at the image pickup section at a specific timing of the imprint process with the reference image prepared in advance (an image obtained in the image pickup section in a normal state) And the like.

그러나, 임프린트 처리의 성능 검증이나 정밀도 유지를 위해서는, 임프린트 처리의 특정한 타이밍에서만 임프린트 처리의 양부를 판정하는 것이 아니라, 임프린트 처리의 상황을 파악(검토)하여 임프린트 처리의 양부를 판정할 필요가 있다. 임프린트 처리의 상황을 정확하게 파악하기 위해서는, 기판 전체의 임프린트 처리의 비교, 기판 상의 샷 영역간의 임프린트 처리의 비교 및 기판간의 임프린트 처리의 비교를 용이하게 행하는 것이 필요해진다.However, in order to verify the performance of the imprint process or to maintain the accuracy, it is necessary to judge the imprint process by understanding (reviewing) the situation of the imprint process, rather than determining the imprint process only at specific timings of the imprint process. In order to precisely grasp the situation of the imprint process, it is necessary to easily compare the imprint process of the entire substrate, the comparison of the imprint process between the shot areas on the substrate, and the imprint process between the substrates.

본 발명은 임프린트 처리의 상황을 용이하게 파악하는 데 유리한 임프린트 장치를 제공한다.The present invention provides an imprint apparatus which is advantageous for easily grasping the situation of imprint processing.

본 발명의 일측면으로서의 임프린트 장치는, 몰드를 사용하여 기판 상의 샷 영역에 임프린트재의 패턴을 형성하는 임프린트 처리를 행하는 임프린트 장치이며, 상기 기판 상의 임프린트재와 상기 몰드가 접촉하고 있는 부분을 포함하는 샷 영역을 촬상하여 해당 샷 영역에 대응하는 화상을 취득하는 촬상부와, 상기 촬상부에서 취득된 복수의 상기 샷 영역에 대응하는 상기 화상을 배열하여 표시하도록 표시부를 제어하는 제어부를 갖는 것을 특징으로 한다.An imprint apparatus according to one aspect of the present invention is an imprint apparatus for performing an imprint process for forming a pattern of an imprint material on a shot area on a substrate using a mold. The imprint apparatus includes a shot And a control unit for controlling the display unit to arrange and display the images corresponding to the plurality of shot areas acquired by the image pickup unit .

본 발명의 다른 목적 또는 기타의 측면은, 이하, 첨부 도면을 참조하여 설명되는 바람직한 실시 형태에 의해 분명해질 것이다.Other objects and other aspects of the present invention will become apparent from the following description of preferred embodiments with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따르면, 예를 들어 임프린트 처리의 상황을 용이하게 파악하는 데 유리한 임프린트 장치를 제공할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide an imprint apparatus which is advantageous for easily grasping the situation of, for example, imprint processing.

도 1은, 본 발명의 일측면으로서의 임프린트 장치의 구성을 도시하는 개략도이다.
도 2의 (a) 및 도 2의 (b)는, 도 1에 도시하는 임프린트 장치의 관찰부에서 관찰되는 간섭 줄무늬의 일례를 도시하는 도면이다.
도 3은, 일반적인 임프린트 처리를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 4의 (a) 내지 도 4의 (f)는, 일반적인 임프린트 처리를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는, 도 1에 도시되는 임프린트 장치의 표시부에 표시되는 표시 화면의 일례를 도시하는 도면이다.
도 6은, 도 1에 도시되는 임프린트 장치의 표시부에 표시되는 표시 화면의 일례를 도시하는 도면이다.
도 7은, 도 1에 도시되는 임프린트 장치의 표시부에 표시되는 표시 화면의 일례를 도시하는 도면이다.
도 8은, 도 1에 도시되는 임프린트 장치의 표시부에 표시되는 표시 화면의 일례를 도시하는 도면이다.
도 9는, 도 1에 도시되는 임프린트 장치의 표시부에 표시되는 표시 화면의 일례를 도시하는 도면이다.
도 10의 (a) 내지 도 10의 (f)는, 물품의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.1 is a schematic view showing a configuration of an imprint apparatus as one aspect of the present invention.
2 (a) and 2 (b) are diagrams showing an example of interference fringes observed at the observation portion of the imprint apparatus shown in Fig. 1. Fig.
3 is a flowchart for explaining a general imprint process.
4 (a) to 4 (f) are diagrams for explaining a general imprint process.
5 is a diagram showing an example of a display screen displayed on the display unit of the imprint apparatus shown in Fig.
Fig. 6 is a diagram showing an example of a display screen displayed on the display unit of the imprint apparatus shown in Fig. 1. Fig.
Fig. 7 is a view showing an example of a display screen displayed on the display unit of the imprint apparatus shown in Fig. 1. Fig.
Fig. 8 is a diagram showing an example of a display screen displayed on the display unit of the imprint apparatus shown in Fig. 1. Fig.
9 is a diagram showing an example of a display screen displayed on the display unit of the imprint apparatus shown in Fig.
10 (a) to 10 (f) are views for explaining a method of manufacturing an article.

이하, 첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 적합한 실시 형태에 대하여 설명한다. 또한, 각 도면에 있어서, 동일한 부재에 대해서는 동일한 참조 번호를 부여하고, 중복되는 설명은 생략한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are assigned to the same members, and redundant explanations are omitted.

도 1은, 본 발명의 일측면으로서의 임프린트 장치(100)의 구성을 도시하는 개략도이다. 임프린트 장치(100)는 물품으로서의 반도체 디바이스 등의 제조에 사용되어, 몰드를 사용하여 기판 상에 임프린트재의 패턴을 형성하는 리소그래피 장치이다. 본 실시 형태에서는, 임프린트 장치(100)는 기판 상에 공급된 임프린트재와 몰드를 접촉시켜, 임프린트재에 경화용 에너지를 부여함으로써, 몰드의 요철 패턴이 전사된 경화물의 패턴을 형성한다.1 is a schematic view showing a configuration of an imprint apparatus 100 as one aspect of the present invention. The imprint apparatus 100 is a lithographic apparatus used for manufacturing a semiconductor device or the like as an article and forming a pattern of an imprint material on a substrate using a mold. In the present embodiment, the imprint apparatus 100 contacts the mold with the imprint material supplied on the substrate, and imparts curing energy to the imprint material, thereby forming a pattern of the cured product on which the concave-convex pattern of the mold is transferred.

임프린트재에는, 경화용 에너지가 부여됨으로써 경화되는 경화성 조성물(미경화 상태의 수지라고 칭하는 경우도 있음)이 사용된다. 경화용 에너지로서는, 전자파, 열 등이 사용된다. 전자파로서는, 예를 들어 그 파장이 10nm 이상 1mm 이하의 범위로부터 선택되는, 적외선, 가시광선, 자외선 등의 광을 사용한다.In the imprint material, a curable composition (sometimes referred to as uncured resin) which is cured by imparting curing energy is used. As curing energy, electromagnetic waves, heat, etc. are used. As the electromagnetic wave, for example, light such as infrared rays, visible light, and ultraviolet rays, whose wavelength is selected from the range of 10 nm or more and 1 mm or less, is used.

경화성 조성물은, 광의 조사에 의해, 혹은, 가열에 의해 경화되는 조성물이다. 광의 조사에 의해 경화되는 광경화성 조성물은, 중합성 화합물과 광중합 개시제를 적어도 함유하고, 필요에 따라, 비중합성 화합물 또는 용제를 함유해도 된다. 비중합성 화합물은, 증감제, 수소 공여체, 내첨형 이형제, 계면 활성제, 산화 방지제, 폴리머 성분 등의 군으로부터 선택되는 적어도 일종이다.The curable composition is a composition which is cured by irradiation of light or by heating. The photocurable composition that is cured by irradiation with light contains at least a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, and may contain a non-polymerizable compound or a solvent as required. The non-polymerizable compound is at least one selected from the group consisting of a sensitizer, a hydrogen donor, an internal release agent, a surfactant, an antioxidant, and a polymer component.

임프린트재는, 스핀 코터나 슬릿 코터에 의해 기판 상에 막 형상으로 부여되어도 된다. 또한, 임프린트재는, 액체 분사 헤드에 의해, 액적 형상, 혹은, 복수의 액적이 연결되어서 형성된 섬 형상 또는 막 형상으로 기판 상에 부여되어도 된다. 임프린트재의 점도(25℃에서의 점도)는, 예를 들어, 1mPa·s 이상 100mPa·s 이하이다.The imprint material may be imparted as a film on the substrate by a spin coater or a slit coater. The imprint material may be applied on the substrate by a liquid ejection head in a droplet shape or an island shape or a film shape formed by connecting a plurality of droplets. The viscosity (viscosity at 25 캜) of the imprint material is, for example, 1 mPa · s or more and 100 mPa · s or less.

기판에는, 유리, 세라믹스, 금속, 반도체, 수지 등이 사용되고, 필요에 따라, 그 표면에 기판과는 다른 재료로 이루어지는 부재가 형성되어 있어도 된다. 구체적으로는, 기판은, 실리콘 웨이퍼, 화합물 반도체 웨이퍼, 석영 유리 등을 포함한다.As the substrate, glass, ceramics, metal, semiconductor, resin, or the like is used, and if necessary, a member made of a material different from the substrate may be formed on the surface. Specifically, the substrate includes a silicon wafer, a compound semiconductor wafer, quartz glass, and the like.

임프린트 장치(100)는, 본 실시 형태에서는, 임프린트재의 경화법으로서 광경화법을 채용하고 있다. 단, 임프린트재의 경화법은, 광경화법에 한정되는 것이 아니라, 예를 들어 열경화법을 채용해도 된다. 또한, 도 1에서는, 서로 직교하는 3축 방향으로, X축, Y축 및 Z축을 정의하고 있다.In the present embodiment, the imprint apparatus 100 employs a photo-curing method as a curing method for an imprint material. However, the curing method of the imprint material is not limited to the light curing method, but a heat curing method may be employed, for example. 1, X-axis, Y-axis, and Z-axis are defined in three mutually orthogonal directions.

임프린트 장치(100)는 기판(W)을 보유 지지하는 기판 척(1)과, 기판 척(1)을 지지하여 이동하는 기판 스테이지(2)와, 패턴(P)이 형성된 몰드(M)를 보유 지지하는 몰드 척(3)을 갖는다. 또한, 임프린트 장치(100)는 몰드 척(3)을 지지하여 이동하는 몰드 스테이지(4)를 갖는다. 또한, 임프린트 장치(100)는 기판 상에 임프린트재(R)를 공급하는 공급부(디스펜서)(8)와, 임프린트 장치(100)의 전체를 제어하는 제어부(9)를 갖는다. 추가로, 임프린트 장치(100)는 유저 인터페이스로서 기능하는 표시 화면을 관리하는 콘솔부(10)와, 표시 화면을 표시하는 표시부(11)와, 키보드나 마우스 등의 입력부(12)와, 기억부(13)를 갖는다. 또한, 임프린트 장치(100)와는 다른 외부의 장치에서 임프린트재(R)를 공급한 기판(W)을 임프린트 장치(100)로 반입할 경우에는, 임프린트 장치(100)는 공급부(8)를 갖지 않아도 된다.The imprint apparatus 100 includes a substrate chuck 1 for holding a substrate W, a substrate stage 2 for supporting and moving the substrate chuck 1, and a mold M having a pattern P formed thereon And a mold chuck 3 for supporting the mold. In addition, the imprint apparatus 100 has a mold stage 4 that moves and supports the mold chuck 3. The imprint apparatus 100 also has a supply section (dispenser) 8 for supplying the imprint material R onto the substrate and a control section 9 for controlling the entire imprint apparatus 100. In addition, the imprint apparatus 100 includes a console section 10 for managing a display screen functioning as a user interface, a display section 11 for displaying a display screen, an input section 12 such as a keyboard and a mouse, (13). When the substrate W supplied with the imprint material R from an external apparatus other than the imprint apparatus 100 is carried into the imprint apparatus 100, the imprint apparatus 100 does not have the supply section 8 do.

임프린트 장치(100)는 기판 상의 샷 영역에 공급부(8)로부터 임프린트재(R)를 공급시켜(공급 처리), 기판 상의 샷 영역에 공급된 임프린트재(R)와 몰드(M)를 접촉시킨다(압인 처리). 그리고, 임프린트 장치(100)는 임프린트재(R)와 몰드(M)를 접촉시킨 상태에서 임프린트재(R)를 경화시켜(경화 처리), 경화된 임프린트재(R)로부터 몰드(M)를 분리(이형 처리)함으로써 기판 상에 패턴을 형성한다. 여기서, 임프린트 처리는, 공급 처리와, 압인 처리와, 경화 처리와, 이형 처리를 포함한다. 공급 처리는, 기판 상의 샷 영역에 임프린트재(R)를 공급하는 처리이다. 압인 처리는, 몰드(M)와 기판 상의 임프린트재(R)를 접촉시키는 처리이다. 몰드(M)와 기판 상의 임프린트재(R)를 접촉시키는, 즉, 몰드(M)를 임프린트재(R)에 압박함으로써, 임프린트재(R)가 몰드(M)의 패턴(P)에 충전된다. 경화 처리는, 몰드(M)와 기판 상의 임프린트재(R)를 접촉시킨 상태에서 임프린트재(R)를 경화시키는 처리이다. 이형 처리는, 기판 상의 경화된 임프린트재(R)로부터 몰드(M)를 떼어내는 처리이다.The imprint apparatus 100 supplies the imprint material R from the supply unit 8 to the shot region on the substrate (supply processing), and contacts the mold M with the imprint material R supplied to the shot region on the substrate Ablation treatment). The imprint apparatus 100 separates the mold M from the cured imprint material R by hardening the imprint material R in a state in which the imprint material R and the mold M are in contact with each other (Mold-release treatment) to form a pattern on the substrate. Here, the imprint process includes a supply process, a stamping process, a curing process, and a release process. The supply process is a process for supplying the imprint material R to the shot area on the substrate. The stamping process is a process for bringing the mold M into contact with the imprint material R on the substrate. The imprint material R is filled in the pattern P of the mold M by contacting the mold M with the imprint material R on the substrate, that is, by pressing the mold M onto the imprint material R . The hardening treatment is a treatment for hardening the imprint material R in a state in which the mold M and the imprint material R on the substrate are in contact with each other. The mold releasing process is a process for removing the mold M from the cured imprint material R on the substrate.

몰드 척(3)에는, 몰드(M)의 패턴면(패턴(P)이 형성된 면)과 반대측 면에, 패턴(P)의 면적보다도 큰 면적을 갖는 오목부가 형성되어 있다. 이러한 오목부는, 몰드(M)와 시일 유리(도시하지 않음)에 의해 밀폐되어서 밀폐 공간(캐비티)을 규정한다. 캐비티에는 압력 제어부(도시하지 않음)가 접속되어 있고, 캐비티의 압력을 제어하는 것이 가능하다. 몰드(M)와 기판 상의 임프린트재(R)를 접촉시킬 때는, 캐비티의 압력을 올려서 몰드(M)를 기판측으로 볼록 형상으로 변형시킴으로써, 몰드(M)와 기판 상의 임프린트재(R) 사이에 기포가 끼워짐을 억제한다. 그리고, 몰드(M)와 기판 상의 임프린트재(R)가 접촉하면, 캐비티의 압력을 복귀시켜서 몰드(M)가 기판(W)과 평행해지(기판 상의 임프린트재(R)와 완전히 접촉됨)도록 한다.The mold chuck 3 is provided with a concave portion having an area larger than the area of the pattern P on the side opposite to the pattern side (the side on which the pattern P is formed) of the mold M. These recesses are sealed by a mold M and a seal glass (not shown) to define a closed space (cavity). A pressure control section (not shown) is connected to the cavity, and it is possible to control the pressure of the cavity. When the mold M is brought into contact with the imprint material R on the substrate by elevating the pressure of the cavity to deform the mold M into a convex shape toward the substrate side, . When the mold M comes into contact with the imprint material R on the substrate, the pressure of the cavity is returned so that the mold M becomes parallel to the substrate W (completely in contact with the imprint material R on the substrate) do.

임프린트 장치(100)는 자외선광(경화 광)을 방사하는 광원(5)과, 몰드(M) 및 기판(W) 중 적어도 한쪽을 관찰하는 관찰부(6)와, 미러(7)를 더 갖는다. 미러(7)는 다이크로익 미러를 포함하고, 광원(5)으로부터의 경화 광을 반사하고, 관찰부(6)로부터의 광(관찰 광)을 투과하는 특성을 갖는다. 광원(5)으로부터의 경화 광을 미러(7)에서 반사하고, 몰드(M)를 통하여 기판 상의 임프린트재(R)에 조사하여 임프린트재(R)를 경화시킴으로써, 기판 상에 몰드(M)의 패턴(P)에 대응하는 임프린트재의 패턴이 형성된다.The imprint apparatus 100 further includes a light source 5 for emitting ultraviolet light (cured light), an observation section 6 for observing at least one of the molds M and the substrate W, and a mirror 7. The mirror 7 includes a dichroic mirror and has a characteristic of reflecting the cured light from the light source 5 and transmitting the light (observation light) from the observation part 6. The cured light from the light source 5 is reflected by the mirror 7 and irradiated to the imprint material R on the substrate via the mold M to cure the imprint material R, A pattern of the imprint material corresponding to the pattern P is formed.

관찰부(6)는, 관찰 광원(6a)과 촬상 소자(6b)를 포함하고, 임프린트 처리에 있어서 몰드(M) 및 기판(W) 중 적어도 한쪽을 촬상하여 화상, 구체적으로는, 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상을 취득하는 촬상부로서 기능한다. 관찰부(6)는 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상으로서, 동화상이나 정지 화상을 취득한다. 관찰부(6)에서 취득된 화상, 즉, 동화상이나 정지 화상은, 기억부(13)에 기억된다. 기억부(13)는, 예를 들어 하드 디스크(HD), 콤팩트 디스크(CD), 마그네트 옵티컬 디스크(MO), 메모리 카드 등으로 구성된다.The observation section 6 includes an observation light source 6a and an image pickup element 6b and picks up at least one of the mold M and the substrate W in the imprint process to obtain an image, As an image pickup unit. The observation section 6 acquires a moving image or a still image as an image representing the situation of the imprint processing. The image acquired by the observation unit 6, that is, the moving image or the still image, is stored in the storage unit 13. [ The storage unit 13 is composed of, for example, a hard disk (HD), a compact disk (CD), a magneto optical disk (MO), a memory card, or the like.

관찰 광원(6a)으로부터의 관찰 광은, 미러(7) 및 몰드(M)를 투과하여, 기판(W)(샷 영역)을 조명한다. 촬상 소자(6b)는 기판(W)의 표면에서 반사된 광 및 몰드(M)의 패턴면에서 반사된 광을 관찰 광으로서 검출한다. 상술한 바와 같이, 몰드(M)와 기판 상의 임프린트재(R)를 접촉시킬 때에는, 몰드(M)를 기판측으로 볼록 형상으로 변형시키고 있다. 그 때문에, 몰드(M)와 기판 상의 임프린트재(R)가 접촉된 부분으로부터, 몰드(M)와 기판(W) 사이의 갭(거리)이 연속적으로 변화된다. 따라서, 촬상 소자(6b)에서는, 기판(W)의 표면에서 반사된 광과 몰드(M)의 패턴면에서 반사된 광의 간섭 줄무늬, 소위, 뉴튼 링이 촬상된다. 도 2의 (a) 및 도 2의 (b)는, 관찰부(6)에서 관찰되는 간섭 줄무늬의 일례를 도시하는 도면이며, 도 2의 (a)는, 몰드(M)와 기판(W) 사이의 갭을 도시하고, 도 2의 (b)는, 촬상 소자(6b)에서 촬상되는 화상을 도시하고 있다. 즉, 이 화상은, 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상이며, 몰드(M)와 기판(W) 사이의 거리에 따라 변화하는 화상이다.The observation light from the observation light source 6a is transmitted through the mirror 7 and the mold M to illuminate the substrate W (shot area). The image pickup element 6b detects light reflected by the surface of the substrate W and light reflected by the pattern surface of the mold M as observation light. As described above, when the mold M is brought into contact with the imprint material R on the substrate, the mold M is deformed into a convex shape toward the substrate side. Therefore, the gap (distance) between the mold M and the substrate W is continuously changed from the portion where the mold M is in contact with the imprint material R on the substrate. Thus, in the image pickup element 6b, interference fringes of light reflected on the surface of the substrate W and light reflected on the pattern surface of the mold M, that is, Newton rings, are picked up. 2 (a) and 2 (b) are views showing an example of interference fringes observed in the observation section 6, and Fig. 2 (a) And FIG. 2B shows an image picked up by the image pickup device 6b. As shown in FIG. That is, this image is an image representing the situation of the imprint processing, and is an image that changes in accordance with the distance between the mold M and the substrate W.

제어부(9)는, 예를 들어 CPU나 메모리 등을 포함하고, 임프린트 장치(100)의 각 부를 제어하여 임프린트 처리를 행한다. 제어부(9)는 관찰부(6)에서 취득된 화상(동화상이나 정지 화상)을 관리한다. 예를 들어, 제어부(9)는 관찰부(6)에서 취득된 화상을, 기판(W)의 샷 영역별로(즉, 각 샷 영역에 관련지어), 및/또는, 기판(W)별로(즉, 각 기판에 관련지어), 기억부(13)에 기억시킨다. 또한, 제어부(9)는 기판(W)의 복수의 샷 영역의 배열을 나타내는 샷 레이아웃에, 복수의 샷 영역 각각에 대응하는, 관찰부(6)에서 취득된 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상을 중첩하여 표시하는 표시 화면을 생성한다. 그리고, 제어부(9)는, 이러한 표시 화면을, 표시부(11)를 통하여, 유저 인터페이스로서 제공한다.The control unit 9 includes, for example, a CPU, a memory, and the like, and controls each section of the imprint apparatus 100 to perform the imprint processing. The control unit 9 manages an image (a moving image or a still image) acquired by the observation unit 6. For example, the control unit 9 may control the image acquired by the observation unit 6 to be used for each shot area of the substrate W (i.e., associated with each shot area) and / And associated with each substrate), and stores them in the storage unit 13. The control unit 9 superimposes, on the shot layout representing the arrangement of the plurality of shot regions of the substrate W, an image representing the situation of the imprint processing acquired by the observation unit 6, corresponding to each of the plurality of shot regions And generates a display screen for display. Then, the control section 9 provides such a display screen as a user interface through the display section 11.

콘솔부(10)는 제어부(9)와 마찬가지로, CPU나 메모리 등을 포함하고, 제어부(9)에서 생성된 표시 화면을 관리함과 함께, 표시부(11)에 표시시킨다. 또한, 콘솔부(10)는 제어부(9)에 내장되어 있어도 된다.Like the control unit 9, the console unit 10 includes a CPU, a memory, and the like, and manages the display screen generated by the control unit 9 and causes the display unit 11 to display the display screen. Also, the console unit 10 may be incorporated in the control unit 9.

도 3 및 도 4의 (a) 내지 도 4의 (f)를 참조하여, 일반적인 임프린트 처리에 대하여 설명한다. 임프린트 처리는, 도 3에 도시되는 바와 같이, 공급 처리(S101)와, 압인 처리(S102)와, 경화 처리(S103)와, 이형 처리(S104)를 포함한다. 도 4의 (a) 내지 도 4의 (f)는, 임프린트 처리에 있어서의 기판(W)의 상태의 변화를 도시하는 도면이다.A general imprint process will be described with reference to Figs. 3 and 4 (a) to 4 (f). As shown in Fig. 3, the imprinting process includes a supply process S101, a stamping process S102, a hardening process S103, and a mold release process S104. 4 (a) to 4 (f) are diagrams showing changes in the state of the substrate W in the imprint process.

도 4의 (a)는, 임프린트 처리를 개시하기 전의 기판(W)의 상태를 도시하고 있다. 도 4의 (a)에 도시되는 바와 같이, 기판(W)은 미처리의 상태이다.4 (a) shows the state of the substrate W before the imprint process is started. As shown in Fig. 4 (a), the substrate W is in an untreated state.

도 4의 (b)는, 공급 처리가 행하여진 기판(W)의 상태를 도시하고 있다. 공급 처리에서는, 공급부(8)로부터 기판 상에 임프린트재(R)의 액적을 토출함으로써 기판(W)에 임프린트재(R)를 공급한다. 도 4의 (b)에 도시되는 바와 같이, 미리 결정된 기판 상의 위치에 임프린트재(R)의 액적이 공급되어, 임프린트재(R)의 액적의 배열이 기판 상에 형성되어 있다.Fig. 4 (b) shows the state of the substrate W subjected to the supplying process. In the supply process, the impregnant material R is supplied to the substrate W by discharging droplets of the imprint material R from the supply unit 8 onto the substrate. A droplet of the imprint material R is supplied to a predetermined position on the substrate as shown in Fig. 4 (b), and the arrangement of droplets of the imprint material R is formed on the substrate.

도 4의 (c)는, 압인 처리에 있어서의 기판(W)의 상태를 나타내고 있다. 압인 처리에서는, 도 4의 (c)에 도시되는 바와 같이, 몰드(M)를 기판측으로 볼록 형상으로 변형시킨 상태에서 몰드(M)를 기판(W)에 접근시킴으로써 몰드(M)의 중심부로부터 주변부를 향하여 점점 기판 상의 임프린트재(R)와 접촉시킨다. 따라서, 압인 처리에서는, 몰드(M)와 기판(W) 사이에서 갭이 발생하고, 도 2의 (a)에 도시되는 바와 같은 간섭 줄무늬가 관찰된다.4 (c) shows the state of the substrate W in the stamping process. 4 (c), the mold M is moved toward the substrate W from the central portion of the mold M by approaching the mold M to the substrate W while the mold M is deformed into the convex shape toward the substrate side, To the imprint material (R) on the substrate. Therefore, in the stamping process, a gap is generated between the mold M and the substrate W, and interference fringes as shown in Fig. 2 (a) are observed.

도 4의 (d)는, 경화 처리에 있어서의 기판(W)의 상태를 나타내고 있다. 경화 공정에서는, 몰드(M)와 기판 상의 임프린트재(R)를 접촉시킨 상태에서 광원(5)으로부터의 경화 광을 임프린트재(R)에 조사하여, 임프린트재(R)를 경화시킨다. 도 4의 (d)에 도시되는 바와 같이, 경화 공정에서는, 몰드(M)와 기판 상의 임프린트재(R)는 완전히 접촉하고, 몰드(M)의 패턴(P)에 임프린트재(R)가 충전되어 있다.4 (d) shows the state of the substrate W in the curing process. In the curing process, the imprint material R is cured by irradiating the imprint material R with cured light from the light source 5 in a state in which the mold M and the imprint material R on the substrate are in contact with each other. The mold M and the imprint material R on the substrate are in complete contact with each other so that the imprint material R is charged in the pattern P of the mold M in the curing step as shown in Figure 4 (d) .

도 4의 (e)는, 이형 처리에 있어서의 기판(W)의 상태를 나타내고 있다. 이형 처리에서는, 기판 상의 경화된 임프린트재(R)로부터 몰드(M)를 떼어내기 위한 힘인 이형력을 저감하기 위해서, 도 4의 (e)에 도시되는 바와 같이, 몰드(M)를 기판측으로 볼록 형상으로 변형시키면서 몰드(M)를 기판(W)으로부터 이격하고 있다. 따라서, 이형 처리에서는, 압인 처리와 마찬가지로, 몰드(M)와 기판(W) 사이에서 갭이 발생하고, 도 2의 (b)에 도시되는 바와 같은 간섭 줄무늬가 관찰된다.4 (e) shows the state of the substrate W in the mold releasing process. 4 (e), in order to reduce the releasing force, which is a force for detaching the mold M from the cured imprint material R on the substrate, And the mold M is separated from the substrate W while being deformed into a shape. Therefore, in the mold releasing process, a gap is generated between the mold M and the substrate W as in the case of the stamping process, and interference fringes as shown in FIG. 2 (b) are observed.

도 4의 (f)는, 임프린트 처리의 종료 시에 있어서의 기판(W)의 상태를 도시하고 있다. 도 4의 (f)에 도시되는 바와 같이, 기판(W)에는, 몰드(M)의 패턴(P)에 대응하는 임프린트재(R)의 패턴이 형성되어 있다.FIG. 4F shows the state of the substrate W at the end of the imprint process. The pattern of the imprint material R corresponding to the pattern P of the mold M is formed on the substrate W as shown in Fig.

이와 같이, 임프린트 처리 사이의 기판(W)의 상태는, 임프린트 처리의 각 처리(각 상황)에 따라서 변화된다. 종래 기술에서는, 임프린트 처리의 각 처리(특정한 타이밍)에 따라, 임프린트 처리의 양부를 판정하기 위한 기준을 변경하면서, 임프린트 처리의 양부를 판정하고 있다. 단, 종래 기술에서는, 임프린트 처리의 양부를 판정하기 위한 기준으로서 정지 화상을 사용하고 있기 때문에, 임프린트 처리의 특정한 타이밍에 밖에는 임프린트 처리의 양부를 판정할 수 없다.As described above, the state of the substrate W between the imprint processing is changed according to each processing (each situation) of the imprint processing. In the prior art, the criterion for determining the imprint process is determined while changing the criterion for determining the imprint process in accordance with each process (specific timing) of the imprint process. However, in the conventional technique, since the still image is used as a criterion for judging the amount of the imprint process, it is not possible to judge whether the imprint process is correct or not at a specific timing of the imprint process.

그래서, 본 실시 형태에서는, 임프린트 처리의 상황을 파악하는 데 유리한 기술을 제공한다. 구체적으로는, 도 5에 도시되는 바와 같이, 기판(W)의 복수의 샷 영역(SR)의 배열을 나타내는 샷 레이아웃(SL)에, 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상(IM)을 중첩하여 표시하는 표시 화면(DW)을 유저 인터페이스로서 표시부(11)에 표시한다. 또한, 도 5에 도시되는 표시 화면(DW)을 표시하기 위한 데이터를 하나의 파일로서 외부의 표시 장치로 출력하여, 이러한 표시 장치에 있어서, 표시 화면(DW)을 유저 인터페이스로서 표시해도 된다.Thus, the present embodiment provides a technique that is advantageous for grasping the situation of the imprint processing. Specifically, as shown in Fig. 5, an image IM indicating the status of the imprint processing is superimposed on the shot layout SL indicating the arrangement of a plurality of shot areas SR of the substrate W And displays the display screen DW on the display unit 11 as a user interface. The data for displaying the display screen DW shown in Fig. 5 may be outputted as one file to an external display device. In such a display device, the display screen DW may be displayed as a user interface.

표시 화면(DW)은, 임프린트 레시피로부터 얻어지는 샷 레이아웃과, 관찰부(6)에서 취득된 화상(기억부(13)에 기억된 화상)에 기초하여 제어부(9)에서 생성되어, 콘솔부(10)를 통하여, 표시부(11)에 제공된다. 본 실시 형태에서는, 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상(IM)으로서, 임프린트 처리를 하는 동안 관찰부(6)에서 취득된 동화상을 표시한다. 이러한 동화상은, 예를 들어 기판 상에 임프린트재(R)를 공급하는 공급 공정으로부터 기판 상의 경화된 임프린트재(R)로부터 몰드(M)를 떼어내는 이형 공정까지의 기간의 동화상을 포함한다. 이때, 각 샷 영역에 있어서, 복수의 샷 영역(SR) 각각에 대한 임프린트 처리를 개시하고 나서의 경과 시간이 동기되도록 동화상을 표시한다. 이와 같이, 복수의 샷 영역(SR)의 배열에 따라, 임프린트 처리의 상황을 나타내는 동화상(화상(IM))을 배열하여 표시함으로써, 각 샷 영역의 임프린트 처리의 상황을 용이하게, 또한, 신속히 파악할 수 있다. 또한, 각 샷 영역의 임프린트 처리의 상황을 나타내는 동화상을 비교함으로써, 임프린트 처리에 이상이 발생된 샷 영역을 검지할 수 있다. 바꾸어 말하면, 도 3에 도시되는 공급 처리(S101), 압인 처리(S102), 경화 처리(S103) 및 이형 처리(S104) 각각의 처리의 변화의 타이밍이나 처리의 이상을 용이하게 검지할 수 있다.The display screen DW is generated by the control unit 9 based on the shot layout obtained from the imprint recipe and the image acquired by the observation unit 6 (the image stored in the storage unit 13) And is provided to the display unit 11 through the display unit 11. In the present embodiment, a moving image acquired by the observation section 6 during the imprint process is displayed as the image IM indicating the status of the imprint process. This moving image includes a moving image during a period from a supplying step of supplying the imprint material R onto the substrate to a releasing step of detaching the mold M from the hardened imprint material R on the substrate. At this time, the moving image is displayed so that the elapsed time from the start of the imprint processing for each of the plurality of shot areas SR is synchronized in each shot area. As described above, moving images (IM) indicating the status of the imprint process are arranged and displayed according to the arrangement of the plurality of shot areas SR to easily and quickly grasp the situation of the imprint process of each shot area . Also, by comparing the moving images representing the situation of the imprint processing of each shot area, it is possible to detect the shot area in which the abnormality has occurred in the imprint processing. In other words, it is possible to easily detect the timing of the change in the processing of each of the supply processing (S101), the pressing processing (S102), the hardening processing (S103), and the processing of the mold releasing processing (S104) shown in FIG.

여기서, 임프린트 처리에 이상이 발생된 샷 영역을 검지하는 방법에 대하여 설명한다. 제어부(9)는 각 샷 영역의 임프린트 처리의 상황을 나타내는 동화상의 화상 특징을 구한다. 그리고, 제어부(9)는 구해진 화상 특징으로부터 정상적인 임프린트 처리가 행하여진 화상(표준 화상)과 비교 대상의 화상이 서로 상이한 정도(상이도)를 구한다. 그리고, 제어부(9)는 구해진 상이도가 미리 정해진 허용 범위 내에 있는지 여부로 이상이 발생된 샷 영역을 검지한다. 예를 들어, 제어부(9)는 표준 화상 및 비교 대상의 화상으로부터 화소값을 구하고, 화소값의 차분의 제곱합이나 절댓값의 합으로부터 상이도를 구할 수 있다. 또한, 표준 화상 및 비교 대상의 화상 화소값으로부터 정규화 상호 상관을 구하여 상이도로 해도 된다. 또한, 복수의 화상 특징의 특징량을 정규화하여 구한 마하라노비스 거리를 상이도로 해도 된다. 이 경우, 화상 특징으로서, 예를 들어 화상에 포함되는 화소값의 최댓값, 평균값, 분산값, 첨도, 왜곡도 및 상승 평균 중 적어도 하나를 사용할 수 있다. 또한, 전 화소값의 거시적인 화상 특징뿐만 아니라, 필터링 처리에 의해 산출된 국소적인 화소값의 미시적인 화상 특징을 사용해도 된다.Here, a method of detecting a shot area in which an abnormality has occurred in the imprint process will be described. The control unit 9 obtains the image feature of the moving image indicating the situation of the imprint process of each shot area. Then, the control unit 9 obtains the degree of difference (the degree of difference) between the image (standard image) subjected to the normal imprint processing and the image of the comparison object from the obtained image characteristics. Then, the control unit 9 detects a shot area in which an abnormality has occurred, based on whether or not the obtained image degree is within a predetermined allowable range. For example, the control unit 9 can obtain the pixel value from the standard image and the comparison object image, and obtain the image degree from the sum of the sum of the squares of the differences of the pixel values and the subtraction values. Also, the normalized cross-correlation may be obtained from the standard image and the image pixel values of the comparison object, and the difference may be determined. Further, the Mahalanobis distance obtained by normalizing the feature quantities of a plurality of image features may be different. In this case, at least one of the maximum value, the average value, the variance value, the kurtosis, the degree of distortion, and the rising average of the pixel values included in the image can be used as the image characteristic. In addition to the macroscopic image characteristics of all pixel values, microscopic image features of local pixel values calculated by the filtering process may be used.

그리고, 제어부(9)는 구해진 상이도가 미리 정해진 허용 범위 내인 경우에는 정상적으로 임프린트 처리가 행하여진 샷 영역으로서, 구해진 상이도가 미리 정해진 허용 범위 밖일 경우에는 이상이 발생된 샷 영역으로서 검지한다.If the determined degree of difference is within the predetermined allowable range, the control unit 9 detects the shot region in which the abnormality has occurred, as the shot region in which the imprint processing is normally performed, and the calculated degree of difference is out of the predetermined allowable range.

또한, 본 실시 형태에서는, 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상(IM)으로서, 임프린트 처리를 하는 동안 관찰부(6)에서 취득된 동화상을 표시하고 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상(IM)으로서, 임프린트 처리를 하는 동안 관찰부(6)에서 취득된 정지 화상을 연속적으로 표시 해도 되고, 1매의 정지 화상만을 표시해도 된다. 이때, 각 샷 영역에 있어서, 복수의 샷 영역(SR) 각각에 대한 임프린트 처리를 개시하고 나서의 경과 시간이 동일한 정지 화상을 표시함으로써, 각 샷의 임프린트 처리의 상황을 파악할 수 있다.Further, in the present embodiment, as the image IM indicating the situation of the imprint processing, the moving image acquired by the observation section 6 during the imprint processing is displayed, but the present invention is not limited to this. For example, as the image IM indicating the situation of the imprint processing, the still images acquired in the observation section 6 during the imprint processing may be continuously displayed or only one still image may be displayed. At this time, the state of the imprint process of each shot can be grasped by displaying still images having the same elapsed time since the start of the imprint process for each of the plurality of shot areas SR in each shot area.

또한, 임프린트 처리의 상황을 나타내는 동화상은, 기판 상의 임프린트재(R)와 몰드(M)를 접촉시키는 압인 공정으로부터 기판 상의 임프린트재(R)와 몰드(M)를 접촉시킨 상태에서 임프린트재(R)를 경화시키는 경화 공정까지의 기간의 동화상이어도 된다. 압인 공정으로부터 경화 공정까지의 기간, 즉, 임프린트재(R)를 몰드(M)의 패턴(P)에 충전하고 있는 충전 기간의 동화상을 표시함으로써, 각 샷 영역에서의 임프린트재(R)의 충전 상태(충전 지연 등)를 파악할 수 있다. 예를 들어, 도 5에서는, 샷 영역(SR1)에서의 임프린트재(R)의 충전이 다른 샷 영역에서의 임프린트재(R)의 충전보다도 늦어짐, 즉, 샷 영역(SR1)에서 임프린트 처리의 이상이 발생됨을 검지할 수 있다. 또한, 도 6에 도시되는 바와 같이, 복수의 샷 영역(SR) 중, 임프린트 처리에 이상이 발생된 샷 영역(SR1)에 대응하는 화상(IM)을, 하이라이트하거나 하여 식별 가능하게(특징 붙여) 표시해도 된다. 이와 같이, 본 실시 형태에서는, 종래 기술에서는 파악하는 것이 곤란한 임프린트재(R)의 충전 지연 등의 임프린트 처리의 양부를 판정할 수 없는 상황에 대하여 용이하게 양부를 판정하는 것이 가능해진다.The moving image representing the situation of the imprint process is obtained by a process of pressing the imprint material R on the substrate and the mold M in the state of bringing the imprint material R on the substrate into contact with the imprint material R ) To a curing process for curing the cured product. The moving image of the charging period in which the imprint material R is filled in the pattern P of the mold M is displayed during the period from the stamping process to the hardening process so that the charging of the imprint material R State (charge delay, etc.) can be grasped. 5 shows that the filling of the imprint material R in the shot area SR1 becomes slower than the filling of the imprint material R in the other shot area, that is, the imprinting process in the shot area SR1 Can be detected. 6, the image IM corresponding to the shot area SR1 in which the abnormality has occurred in the imprinting process among the plurality of shot areas SR is highlighted (identifiable) May be displayed. As described above, in the present embodiment, it is possible to easily judge whether the imprinting process, such as the charging delay of the imprint material R, which is difficult to grasp in the prior art, can not be judged.

또한, 각 샷 영역의 임프린트 처리를 더 상세하게 비교하기 위해서, 표시 화상(DW)에 표시되는 동화상을 유저가 지정하는 재생 속도로 재생해도 되고, 임의의 타이밍에 동화상을 정지시켜도 된다. 이러한 유저에 의한 재생 속도의 지정이나 동화상의 정지 지시는, 입력부(12)를 통하여 행하여진다. 단, 표시부(11)가 터치 패널로 구성되어 있는 경우에는, 터치 패널을 통하여, 재생 속도의 지정이나 동화상의 정지 지시를 행해도 된다.Further, in order to compare the imprint processing of each shot area in more detail, the moving image displayed on the display image DW may be reproduced at a reproduction speed designated by the user, or the moving image may be stopped at an arbitrary timing. The user designates the playback speed and stops the moving image through the input unit 12. However, in the case where the display section 11 is constituted by a touch panel, the designation of the reproduction speed and the instruction to stop the moving picture may be performed through the touch panel.

도 5나 도 6에 도시되는 표시 화면(DW)은, 샷 레이아웃(SL)에 대하여 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상(IM)을 중첩하여 표시하고 있기 때문에, 기판 전체의 임프린트 처리의 상황을 파악하는 데 유리하다. 단, 각 샷 영역의 임프린트 처리를 상세하게 비교하기 위해서, 도 7에 도시되는 바와 같이, 임의의 샷 영역에 대응하는 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상(IM)만을 표시해도 된다. 구체적으로는, 표시 화면(DW)에 표시된 복수의 샷 영역(SR)으로부터, 입력부(12)를 통하여, 적어도 하나의 샷 영역이 선택되면, 이러한 샷 영역에 대응하는 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상(IM)을 표시한다. 또한, 입력부(12)는 유저가 복수의 샷 영역(SR)으로부터 적어도 하나의 샷 영역을 선택하기 위한 선택부로서 기능한다. 예를 들어, 도 7에 도시되는 바와 같이, 샷 영역(SR2 및 SR3)이 선택되면, 샷 영역(SR2)에 대응하는 화상(IM2) 및 샷 영역(SR3)에 대응하는 화상(IM3)을 확대하여 배열하여 표시한다. 이에 의해, 임의의 샷 영역의 임프린트 처리의 상황을 상세하게 비교하는 것이 가능하게 된다.The display screen DW shown in Figs. 5 and 6 overlaps and displays the image IM indicative of the situation of the imprint processing with respect to the shot layout SL, so that the situation of the imprint processing of the entire substrate is grasped It is advantageous. However, in order to compare the imprint processing of each shot area in detail, as shown in Fig. 7, only the image IM indicating the situation of the imprint processing corresponding to an arbitrary shot area may be displayed. More specifically, when at least one shot area is selected from a plurality of shot areas SR displayed on the display screen DW through the input unit 12, an image representing the situation of the imprint process corresponding to such shot area ( IM). The input unit 12 also functions as a selection unit for the user to select at least one shot area from the plurality of shot areas SR. 7, when the shot areas SR2 and SR3 are selected, the image IM2 corresponding to the shot area SR2 and the image IM3 corresponding to the shot area SR3 are enlarged And displays it. Thereby, it becomes possible to compare the situation of the imprint processing of an arbitrary shot area in detail.

입력부(12)를 통하여 선택하는 샷 영역은, 도 7에 도시되는 바와 같이, 동일 기판의 샷 영역에 한정되는 것이 아니라, 도 8에 도시되는 바와 같이, 복수의 기판(다른 기판)의 샷 영역이어도 된다. 예를 들어, 도 7에 도시되는 바와 같이, 제1 기판의 샷 영역(SR4) 및 제2 기판의 샷 영역(SR5)이 선택되면, 샷 영역(SR4)에 대응하는 화상(IM4) 및 샷 영역(SR5)에 대응하는 화상(IM5)을 확대하여 배열하여 표시한다. 또한, 도 8에 도시되는 바와 같이, 복수의 기판간에서 동일 위치의 샷 영역에 대한, 임프린트 처리의 상황을 나타내는 화상을 표시함으로써, 기판간의 동일 위치의 샷 영역의 임프린트 처리의 상황을 파악할 수 있다.As shown in Fig. 7, the shot area selected through the input unit 12 is not limited to the shot area of the same substrate but may be a shot area of a plurality of substrates (another substrate) do. 7, when the shot area SR4 of the first substrate and the shot area SR5 of the second substrate are selected, the image IM4 corresponding to the shot area SR4, The image IM5 corresponding to the image SR5 is displayed in an enlarged arrangement. 8, by displaying an image showing the situation of the imprint process for the shot area at the same position among a plurality of substrates, the situation of the imprint process of the shot area at the same position between the substrates can be grasped .

또한, 도 7에서는, 하나의 기판의 복수의 샷 영역으로부터 두 샷 영역을 선택하고, 도 8에서는, 두 기판 각각으로부터 하나의 샷 영역을 선택하고 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 하나의 기판의 복수의 샷 영역으로부터 선택하는 샷 영역의 수나 복수의 기판 각각으로부터 선택하는 샷 영역의 수는 임의이다.In Fig. 7, two shot regions are selected from a plurality of shot regions of one substrate, and one shot region is selected from each of the two substrates in Fig. 8, but the present invention is not limited thereto. The number of shot regions selected from a plurality of shot regions of one substrate or the number of shot regions selected from each of the plurality of substrates is arbitrary.

또한, 도 9에 도시되는 바와 같이, 유저 인터페이스로서 기억부(13)에 화상(IM)이 기억되어 있는 복수의 기판(기판 A, 기판 B, 기판 C, 기판 D)의 리스트(LT)를 표시해도 된다. 그리고, 리스트(LT)에 표시된 복수의 기판으로부터, 입력부(12)를 통하여, 적어도 두 기판이 지정되면, 이러한 적어도 두 기판의 샷 영역의 배열을 나타내는 샷 레이아웃 각각에, 각각에 대응하는 화상(IM)을 중첩하여 표시한다. 또한, 입력부(12)는 유저가 리스트(LT)로부터 적어도 두 기판을 지정하기 위한 지정부로서 기능한다. 예를 들어, 도 9에 도시되는 바와 같이, 리스트(LT)로부터 기판(A 및 C)이 지정되었다고 하자. 이 경우, 기판 A의 샷 영역의 배열을 나타내는 샷 레이아웃(SLA)에, 기판 A의 복수의 샷 영역에 대응하는 화상(IMA)이 중첩되어 표시된다. 마찬가지로, 기판 B의 샷 영역의 배열을 나타내는 샷 레이아웃(SLB)에, 기판 B의 복수의 샷 영역에 대응하는 화상(IMB)이 중첩되어 표시된다. 또한, 이들은 배열하여 표시된다. 이와 같이, 복수의 기판간에 임프린트 처리의 상황을 비교함으로써, 기판마다 발생하는 이상인지, 임프린트 처리마다 발생하는 이상인지를 파악하는 것이 가능하게 된다.9, a list LT of a plurality of substrates (substrate A, substrate B, substrate C, and substrate D) in which an image IM is stored in the storage unit 13 as a user interface is displayed . Then, if at least two substrates are designated from a plurality of substrates displayed in the list LT through the input unit 12, the respective shot layouts representing the arrangement of the shot regions of the at least two substrates, ) Are superimposed and displayed. Further, the input unit 12 functions as a determination unit for the user to designate at least two substrates from the list LT. For example, assume that boards A and C are designated from the list LT, as shown in Fig. In this case, an image IMA corresponding to a plurality of shot regions of the substrate A is superimposed on the shot layout SLA indicating the arrangement of the shot regions of the substrate A, and displayed. Similarly, an image (IMB) corresponding to a plurality of shot areas of the substrate B is superimposed on the shot layout SLB indicating the arrangement of the shot areas of the substrate B and displayed. Also, they are arranged and displayed. As described above, by comparing the situation of the imprint process between a plurality of substrates, it is possible to grasp whether an abnormality occurs for each substrate or whether an abnormality occurs for each imprint process.

또한, 표시 화면(DW)에는, 기억부(13)에 기억된 화상(과거의 데이터)을 표시하는 것이 아니라, 임프린트 처리를 하는 동안 관찰부(6)에서 취득되는 동화상(현재의 데이터)을 실시간으로 표시해도 된다. 관찰부(6)가 동화상을 취득한 시점에서, 이러한 동화상을 샷 레이아웃의 대응하는 샷 영역에 표시한다. 이에 의해, 각 샷 영역간의 임프린트 처리의 상황을 용이하게 파악할 뿐만 아니라, 대상 샷 영역의 임프린트 처리(현재의 임프린트 처리)의 상황도 용이하게 파악할 수 있다. 이 경우, 특별한 지정이 없으면, 각 샷 영역의 현재의 임프린트 처리의 상황을 나타내는 동화상을 마지막까지 표시하지만, 유저의 지정에 따라, 임의의 타이밍에서 동화상의 표시를 정지해도 된다.It should be noted that the display screen DW does not display the image (past data) stored in the storage unit 13 but displays the moving image (current data) acquired by the observation unit 6 during the imprint process in real time May be displayed. At the time when the observation section 6 acquires the moving image, this moving image is displayed in the corresponding shot area of the shot layout. Thereby, not only the situation of the imprint process between each shot area can be easily grasped, but also the situation of the imprint process (current imprint process) of the target shot area can be grasped easily. In this case, if there is no special designation, a moving image showing the current imprint processing state of each shot area is displayed to the end, but the display of the moving image may be stopped at an arbitrary timing according to the user's designation.

임프린트 장치(100)를 사용하여 형성된 경화물의 패턴은, 각종 물품의 적어도 일부에 항구적으로, 혹은, 각종 물품을 제조할 때에 일시적으로 사용된다. 물품이란, 전기 회로 소자, 광학 소자, MEMS, 기록 소자, 센서, 혹은, 형틀 등이다. 전기 회로 소자로서는, DRAM, SRAM, 플래시 메모리, MRAM 등의 휘발성 또는 불휘발성의 반도체 메모리나, LSI, CCD, 이미지 센서, FPGA 등의 반도체 소자 등을 들 수 있다. 형틀로서는, 임프린트용 몰드 등을 들 수 있다.The pattern of the cured product formed by using the imprint apparatus 100 is temporarily used at least partly of various articles or at the time of manufacturing various articles. An article is an electric circuit element, an optical element, a MEMS, a recording element, a sensor, or a mold. Examples of the electric circuit element include a volatile or nonvolatile semiconductor memory such as a DRAM, an SRAM, a flash memory, and an MRAM, and a semiconductor element such as an LSI, a CCD, an image sensor, and an FPGA. Examples of the molds include molds for imprinting.

경화물의 패턴은, 상술한 물품의 적어도 일부의 구성 부재로서 그대로 사용되던지, 혹은, 레지스트 마스크로서 일시적으로 사용된다. 기판의 가공 공정에 있어서 에칭 또는 이온 주입 등이 행하여진 후, 레지스트 마스크는 제거된다.The pattern of the cured product is used as it is as a constituent member of at least part of the above-mentioned article, or temporarily used as a resist mask. After etching or ion implantation or the like is performed in the processing step of the substrate, the resist mask is removed.

이어서, 물품의 구체적인 제조 방법에 대하여 설명한다. 도 10의 (a)에 도시되는 바와 같이, 절연체 등의 피가공재가 표면에 형성된 실리콘 웨이퍼 등의 기판(W)을 준비하고, 계속해서, 잉크젯법 등에 의해, 피가공재의 표면에 임프린트재(R)를 부여한다. 여기에서는, 복수의 액적 형상으로 된 임프린트재(R)가 기판 상에 부여된 모습을 나타내고 있다.Next, a specific manufacturing method of the article will be described. As shown in Fig. 10A, a substrate W such as a silicon wafer having a surface to be processed such as an insulator is prepared, and then an imprint material (R ). In this embodiment, a plurality of droplet-shaped imprint materials R are provided on the substrate.

도 10의 (b)에 도시되는 바와 같이, 임프린트용 몰드(M)를, 그 요철 패턴이 형성된 측을 기판 상의 임프린트재(R)을 향해 대향시킨다. 도 10의 (c)에 도시되는 바와 같이, 임프린트재(R)가 부여된 기판(W)과 몰드(M)를 접촉시켜, 압력을 가한다. 임프린트재(R)는, 몰드(M)와 피가공재의 간극에 충전된다. 이 상태에서 경화용 에너지로서 광을 몰드(M)을 통하여 조사하면, 임프린트재(R)는 경화된다.The imprint mold M is opposed to the imprint material R on the substrate as shown in Fig. 10 (b). As shown in Fig. 10 (c), the substrate W with the imprint material R is brought into contact with the mold M, and pressure is applied. The imprint material R is filled in the gap between the mold M and the material to be processed. When the light is irradiated through the mold M as curing energy in this state, the imprint material R hardens.

도 10의 (d)에 도시되는 바와 같이, 임프린트재(R)를 경화시킨 후, 몰드(M)와 기판(W)을 떼어내면, 기판 상에 임프린트재(R)의 경화물의 패턴이 형성된다. 이 경화물의 패턴은, 몰드(M)의 오목부가 경화물의 볼록부에, 몰드(M)의 볼록부가 경화물의 오목부에 대응한 형상으로 되어 있으며, 즉, 임프린트재(R)에 몰드(M)의 요철 패턴이 전사되게 된다.As shown in Fig. 10D, when the mold M and the substrate W are separated after the imprint material R is cured, a pattern of the cured product of the imprint material R is formed on the substrate . The pattern of the cured product is such that the concave portion of the mold M has a shape corresponding to the convex portion of the cured product and the convex portion of the mold M corresponding to the concave portion of the cured product, The concavo-convex pattern of FIG.

도 10의 (e)에 도시되는 바와 같이, 경화물의 패턴을 내 에칭마스크로 해서에칭을 행하면, 피가공재의 표면 중, 경화물이 없는, 혹은, 얇게 잔존한 부분이 제거되어 홈으로 된다. 도 10의 (f)에 도시되는 바와 같이, 경화물의 패턴을 제거하면, 피가공재의 표면에 홈이 형성된 물품을 얻을 수 있다. 여기에서는, 경화물의 패턴을 제거했지만, 가공 후도 제거하지 않고, 예를 들어 반도체 소자 등에 포함되는 층간 절연용의 막, 즉, 물품의 구성 부재로서 이용해도 된다.As shown in FIG. 10 (e), when etching is performed using the pattern of the cured product as an inner etching mask, the portion of the surface of the material to be processed which is free of cured material or thinly remains is removed. As shown in Fig. 10 (f), when the pattern of the cured product is removed, an article having a groove formed on the surface of the material to be processed can be obtained. Here, although the pattern of the cured product is removed, it may be used as a constituent member of an interlayer insulating film, that is, an article included in a semiconductor element or the like without being removed after processing.

이상, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대하여 설명했지만, 본 발명은 이들 실시 형태에 한정되지 않음은 말할 필요도 없고, 그 요지의 범위 내에서 다양한 변형 및 변경이 가능하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, it is needless to say that the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications and changes are possible within the scope of the present invention.

Claims

An imprint apparatus for performing an imprint process for forming a pattern of an imprint material in a shot area on a substrate using a mold,
An image pickup section for picking up an image of a shot area including an imprint material on the substrate and a part in contact with the mold and acquiring an image corresponding to the shot area,
And a control unit for controlling the display unit to arrange and display the images corresponding to the plurality of shot areas acquired by the image pickup unit
And an imprinting device for forming the imprinting device.

The method according to claim 1,
Wherein the control unit controls the display unit to display an image indicating a status of the imprint process.

The method according to claim 1,
Wherein the control unit controls the display unit to display an image that changes in accordance with a distance between the substrate and the mold while the mold is in contact with the imprint material on the substrate.

The method according to claim 1,
Wherein the control unit controls the display unit to display an image including interference fringes generated by interference between light reflected from the substrate and light reflected from the mold.

The method according to claim 1,
Wherein the control unit controls the display unit to display a plurality of images corresponding to the plurality of shot areas on the same substrate.

The method according to claim 1,
Wherein the control unit controls the display unit to display a plurality of images corresponding to a plurality of shot areas on another substrate.

The method according to claim 1,
Wherein the control unit controls the display unit to display a plurality of images corresponding to shot regions at the same position among different substrates.

The method according to claim 1,
Wherein the control unit controls the display unit to display the moving image acquired by the imaging unit during the imprinting process.

The method according to claim 1,
Further comprising a selection unit for allowing the user to select at least one shot area from the plurality of shot areas via the display unit,
Wherein the control unit controls the display unit to display the image acquired by the image pickup unit, corresponding to the at least one shot area selected by the selection unit.

9. The method of claim 8,
Wherein the control unit controls the display unit to display the moving image so that the elapsed time from the start of the imprint processing for each of the plurality of shot regions is synchronized with respect to the plurality of shot regions, Device.

The method according to claim 1,
Wherein,
Based on the image obtained by the image pickup section, a shot area in which an abnormality has occurred in the imprint process,
And controls the display unit so that an image representing the situation of the imprint processing acquired by the image pickup unit, corresponding to the shot area in which the abnormality is generated, is identifiably displayed among the plurality of shot areas, .

The method according to claim 1,
Further comprising: a storage unit that stores an image acquired by the imaging unit, the storage unit corresponding to each of the plurality of shot regions,
Wherein the control unit controls the display unit to display a list of a plurality of substrates on which images are stored in the storage unit.

13. The method of claim 12,
Further comprising a designation section through which the user designates at least two substrates from the plurality of substrates through the display section,
The control unit controls the display unit to arrange and display the images stored in the storage unit corresponding to each of the two substrates in each shot layout indicating an arrangement of shot regions of the at least two substrates specified by the specifying unit Wherein the imprint apparatus comprises:

9. The method of claim 8,
Further comprising an input unit for inputting a playback speed of the moving image displayed on the display unit,
Wherein the control section reproduces the moving image displayed on the display section at the playback speed input to the input section.

The method according to claim 1,
Wherein the control unit controls the display unit to display, in real time, the moving image acquired by the imaging unit during the imprinting process as the image.

9. The method of claim 8,
Wherein the moving image includes a moving image during a period from the step of supplying the imprint material onto the substrate to the step of removing the mold from the cured imprint material on the substrate.

9. The method of claim 8,
Wherein the moving image includes a moving image during a period from the step of bringing the imprint material on the substrate into contact with the mold to the step of curing the imprint material while the imprint material on the substrate is in contact with the mold, Imprint device.

The method according to claim 1,
Wherein the control unit controls the display unit to display, as the image, the still image acquired by the imaging unit during the imprinting process.

An imprint apparatus for performing an imprint process for forming a pattern of an imprint material in a shot area on a substrate using a mold,
An image pickup section for picking up a shot area including an area in which the imprint material on the substrate and the mold are in contact with each other and acquiring an image corresponding to the shot area,
A control unit for controlling the display unit so as to detect a shot area where an abnormality has occurred in the imprint processing based on the image acquired by the imaging unit and display the image acquired by the imaging unit corresponding to the shot area in which the abnormality has occurred a controller for
And an imprinting device for forming the imprinting device.

When an imprint process for forming a pattern of an imprint material on a shot area on a substrate is performed using a mold, a shot area including an imprint material on the substrate and an area in contact with the mold is picked up to acquire an image corresponding to the shot area Wherein the control unit controls the display unit to arrange and display the images corresponding to the plurality of shot areas acquired by the image pickup unit.

A step of forming a pattern on a substrate using an imprint apparatus,
A step of processing the substrate on which the pattern is formed in the step,
A step of producing an article from the processed substrate
Lt; / RTI &
Wherein the imprint apparatus is an imprint apparatus that performs an imprint process for forming a pattern of an imprint material on a shot area on the substrate using a mold,
An image pickup section for picking up an image of a shot area including an imprint material on the substrate and a part in contact with the mold and acquiring an image corresponding to the shot area,
And a control unit for controlling the display unit to arrange and display the images corresponding to the plurality of shot areas acquired by the image pickup unit
&Lt; / RTI >

A step of forming a pattern on a substrate using an imprint apparatus,
A step of processing the substrate on which the pattern is formed in the step,
A step of producing an article from the processed substrate
Lt; / RTI &
Wherein the imprint apparatus is an imprint apparatus that performs an imprint process for forming a pattern of an imprint material on a shot area on the substrate using a mold,
An image pickup section for picking up a shot area including an area in which the imprint material on the substrate and the mold are in contact with each other and acquiring an image corresponding to the shot area,
A control unit for controlling the display unit so as to detect a shot area where an abnormality has occurred in the imprint processing based on the image acquired by the imaging unit and display the image acquired by the imaging unit corresponding to the shot area in which the abnormality has occurred a controller for
&Lt; / RTI >