KR20190050980A - Curable resin composition for printed wiring board, dry film, cured product and printed wiring board - Google Patents
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Abstract
저열팽창성이며, 금속 도체와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있는 프린트 배선판용 경화성 수지 조성물, 드라이 필름, 경화물 및 프린트 배선판을 제공한다. 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유의 카르복실기가 아민 화합물 및 제4급 암모늄 화합물 중 적어도 어느 1종에 의해 수식되어 소수화되어 이루어지는 미세 셀룰로오스 섬유와, 경화성 수지를 포함하는 수지 조성물이다. 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 직경이 0.1nm 이상 200nm 이하이고, 평균 섬유 길이가 600nm 이하이고, 또한 평균 애스펙트비가 1 이상 200 이하이다.A curable resin composition, a dry film, a cured product and a printed wiring board for a printed wiring board which are low in thermal expansion and which can obtain a cured product having good adhesion to a metal conductor. Microcrystalline cellulose fibers obtained by modifying a carboxyl group of a microcellulose fiber having a carboxyl group with at least one of an amine compound and a quaternary ammonium compound to be hydrophobic, and a curable resin. The average fiber diameter of the microcellulose fibers having a carboxyl group is 0.1 nm or more and 200 nm or less, the average fiber length is 600 nm or less, and the average aspect ratio is 1 or more and 200 or less.
Description
본 발명은, 소수화된 미세 셀룰로오스 섬유를 포함하는 프린트 배선판용 경화성 수지 조성물(이하, 간단히 「경화성 수지 조성물」이라고도 부른다), 드라이 필름, 경화물 및 프린트 배선판에 관한 것이다.The present invention relates to a curable resin composition for a printed wiring board (hereinafter, simply referred to as a " curable resin composition ") containing hydrophobized microcellulose fibers, a dry film, a cured product and a printed wiring board.
프린트 배선판은 절연 기재에 도전체의 배선을 실시하여 전자 부품을 접속 고정하는 것이며, 용도에 따라 절연층 및 도체층을 다층화하거나, 가요성이 있는 절연 기재를 사용하거나 하는 경우가 있고, 전자 기기에 있어서는 중요한 부품으로 되어 있다. 또한, 프린트 배선판은 반도체 패키지에도 사용되며, 프린트 배선판용 경화성 수지 조성물이나 드라이 필름은, 배선판이나 반도체 실장 후의 외층으로서 사용되고 있다.The printed wiring board is used for connecting and fixing the electronic parts by wiring the conductor to the insulating substrate. Depending on the application, the insulating layer and the conductor layer may be multilayered or a flexible insulating substrate may be used. It is an important component. The printed wiring board is also used for a semiconductor package, and the curable resin composition for a printed wiring board and the dry film are used as a wiring board or an outer layer after semiconductor mounting.
최근 몇년간, 전자 기기의 소형화에 따라, 프린트 배선판에 대하여 배선의 고밀도화가 요구되어 오고 있으며, 배선이나 부품 접속부의 신뢰성 확보를 위해, 프린트 배선판의 재료에는 낮은 열팽창성이 요구되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, with the miniaturization of electronic devices, there has been a demand for higher density wiring for printed wiring boards. For ensuring the reliability of wiring and component connecting parts, the materials of printed wiring boards are required to have low thermal expansion properties.
낮은 열팽창성을 달성하는 방법으로서, 예를 들어 특허문헌 1, 2에는, 미세 셀룰로오스 섬유를 조성물 중에 분산시킨 재료를 사용하는 방법이 제안되어 있다.As a method of achieving low thermal expansion, for example, Patent Documents 1 and 2 propose a method using a material in which microcellulose fibers are dispersed in a composition.
그러나, 특허문헌 1, 2에 기재된 재료에서는, 금속 도체의 밀착성이 떨어지는 등의 신뢰성의 저하를 일으킨다는 문제가 있었다.However, in the materials described in Patent Documents 1 and 2, there is a problem that reliability is lowered such that the adhesion of the metal conductor is deteriorated.
그래서 본 발명의 목적은, 저열팽창성이며, 금속 도체와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있는 프린트 배선판용 경화성 수지 조성물, 드라이 필름, 경화물 및 프린트 배선판을 제공하는 데 있다.Therefore, an object of the present invention is to provide a curable resin composition for a printed wiring board, a dry film, a cured product and a printed wiring board which can obtain a cured product having a low thermal expansion property and good adhesion to a metal conductor.
본 발명자들은 예의 검토한 결과, 평균 섬유 직경이 특정한 범위이며, 평균 섬유 길이가 특정값 이하이고, 평균 섬유 직경과 평균 섬유 길이의 비를 나타내는 애스펙트비가 특정한 범위인, 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유를 소수화한 것을 사용함으로써 상기 과제를 해결할 수 있다는 것을 알아내어, 본 발명을 해결하기에 이르렀다.As a result of intensive investigations, the inventors of the present invention have found that a microcellulose fiber having a carboxyl group having an average fiber diameter in a specific range, an average fiber length of not more than a specific value and an aspect ratio indicating a ratio of an average fiber diameter to an average fiber length, The above problems can be solved, and the present invention has been accomplished.
즉, 본 발명의 프린트 배선판용 경화성 수지 조성물은, 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유의 해당 카르복실기가 아민 화합물 및 제4급 암모늄 화합물 중 적어도 어느 1종에 의해 수식되어 소수화되어 이루어지는 미세 셀룰로오스 섬유와, 경화성 수지를 포함하는 수지 조성물로서,That is, the curable resin composition for a printed wiring board according to the present invention is a curable resin composition for a printed wiring board, which comprises a microcellulose fiber obtained by hydrophobing a corresponding carboxyl group of a microcellulose fiber having a carboxyl group with at least one of an amine compound and a quaternary ammonium compound, , Wherein the resin composition
상기 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 직경이 0.1nm 이상 200nm 이하이고, 평균 섬유 길이가 600nm 이하이고, 또한 평균 애스펙트비가 1 이상 200 이하인 것을 특징으로 하는 것이다.Wherein the microcellulose fibers having carboxyl groups have an average fiber diameter of 0.1 nm or more and 200 nm or less, an average fiber length of 600 nm or less, and an average aspect ratio of 1 or more and 200 or less.
본 발명의 수지 조성물은, 실리카를 더 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 수지 조성물은, 상기 경화성 수지로서 열경화성 수지 및 광경화성 수지 중 적어도 어느 1종을 포함하는 것이 바람직하다.The resin composition of the present invention preferably further comprises silica. The resin composition of the present invention preferably contains at least one of a thermosetting resin and a photo-curable resin as the curable resin.
본 발명의 드라이 필름은, 상기 프린트 배선판용 경화성 수지 조성물이 필름 상에 도포, 건조되어 이루어지는 수지층을 갖는 것을 특징으로 하는 것이다.The dry film of the present invention is characterized by having a resin layer formed by applying and drying the curable resin composition for a printed wiring board on a film.
본 발명의 경화물은, 상기 프린트 배선판용 경화성 수지 조성물, 또는 상기 드라이 필름의 상기 수지층이 경화되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 것이다.The cured product of the present invention is characterized in that the curable resin composition for a printed wiring board or the resin layer of the dry film is cured.
본 발명의 프린트 배선판은, 상기 경화물을 구비하는 것을 특징으로 하는 것이다.The printed wiring board of the present invention is characterized by comprising the cured product.
본 발명에 따르면, 저열팽창성이며, 금속 도체와의 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 있는 프린트 배선판용 경화성 수지 조성물, 드라이 필름, 경화물 및 프린트 배선판을 실현하는 것이 가능하게 되었다.According to the present invention, it becomes possible to realize a curable resin composition, a dry film, a cured product and a printed wiring board for a printed wiring board which can obtain a cured product having low thermal expansion and good adhesion to a metal conductor.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
본 발명의 프린트 배선판용 경화성 수지 조성물은, 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유의 카르복실기가 아민 화합물 및 제4급 암모늄 화합물 중 적어도 어느 1종에 의해 수식되어 소수화되어 이루어지는 미세 셀룰로오스 섬유와, 경화성 수지를 포함하는 것이며, 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유로서, 평균 섬유 직경이 0.1nm 이상 200nm 이하이고, 평균 섬유 길이가 600nm 이하이고, 또한 평균 애스펙트비(평균 섬유 길이/평균 섬유 직경)가 1 이상 200 이하인 것을 사용한다.The curable resin composition for a printed wiring board of the present invention comprises a microcellulose fiber obtained by hydrophobing a carboxyl group of a microcellulose fiber having a carboxyl group with at least one of an amine compound and a quaternary ammonium compound and hydrophobizing the microcellulose fiber, (Average fiber length / average fiber diameter) of not less than 1 and not more than 200 are used as the microcellulose fibers having a carboxyl group and having an average fiber diameter of not less than 0.1 nm and not more than 200 nm, an average fiber length of not more than 600 nm and an average aspect ratio .
여기서, 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유는, 평균 섬유 직경이 0.1nm 이상 200nm 이하이고, 평균 섬유 길이가 600nm 이하이고, 또한 평균 애스펙트비가 1 이상 200 이하이지만, 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유의 카르복실기가 수식되어 소수화되어 이루어지는 미세 셀룰로오스 섬유도, 평균 섬유 직경이 0.1nm 이상 200nm 이하이고, 평균 섬유 길이가 600nm 이하이고, 또한 평균 애스펙트비가 1 이상 200 이하이다.Here, the microcellulose fibers having a carboxyl group have an average fiber diameter of 0.1 nm or more and 200 nm or less, an average fiber length of 600 nm or less and an average aspect ratio of 1 or more and 200 or less, but the carboxyl groups of the microcellular cellulose fibers having a carboxyl group are modified The fine cellulosic fibers obtained by hydrophobicity also have an average fiber diameter of 0.1 nm or more and 200 nm or less, an average fiber length of 600 nm or less, and an average aspect ratio of 1 or more and 200 or less.
이하, 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유를, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유라고도 하며, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유의 카르복실기가 소수화되어 이루어지는 미세 셀룰로오스 섬유를, 소수화 미세 셀룰로오스 섬유라고도 한다.Hereinafter, the microcellulose fiber having a carboxyl group is also referred to as a carboxyl group-containing microcellulose fiber, and the microcellulose fiber obtained by hydrophobing the carboxyl group of the carboxyl group-containing microcellulose fiber is also referred to as hydrophobic microcellulose fiber.
종래, 통상 300 정도의 평균 애스펙트비를 갖는 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유에 대하여 각종 수식기를 결합시키는 등의 소수화 처리를 행한 것은 있었지만, 이러한 미세 셀룰로오스 섬유는, 저열팽창성이기는 하지만 금속 도체와의 밀착성이 낮았다.Conventionally, hydrophobic treatments such as binding of various water-soluble groups to the microcellular cellulose fibers having a carboxyl group having an average aspect ratio of about 300 have been carried out. Such microcellular cellulose fibers are low in thermal expansion property but have low adhesion to metal conductors .
그러나, 본 발명자들은, 평균 애스펙트비가 1 이상 200 이하인 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유에 대하여 소수화 처리를 실시한 것과 경화성 수지를 포함하는 조성물로 하면, 이 조성물로부터 얻어지는 경화물은 저열팽창성을 유지한 채, 금속 도체와의 밀착성도 우수하다는 것을 알아내었다.However, the inventors of the present invention found that when a hydrophobic treatment is applied to a microcellulose fiber containing a carboxyl group having an average aspect ratio of 1 or more and 200 or less, and a composition containing a curable resin, the cured product obtained from the composition maintains low thermal expansion, Is also excellent.
이러한 효과가 발휘되는 상세한 이유는 불분명하지만, 평균 애스펙트비가 상기 범위에 포함되는 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유는, 천연 셀룰로오스 섬유 중에 존재하는 취약한 부분, 예를 들어 비결정 영역이 절단되어 단섬유화된 것이기 때문에, 전체로서 결정 영역의 분포 비율이 증가한다는 점에서, 단섬유이면서 저열팽창성을 유지할 수 있었다고 추정된다.The detailed reason why such effects are exhibited is unclear, but the carboxyl group-containing microcellulose fibers having an average aspect ratio in the above range are short fibers in which the weak portions existing in the natural cellulose fibers, for example, amorphous regions are cut, It is presumed that a short fiber and a low thermal expansion property can be maintained in that the distribution ratio of the crystal region increases.
또한, 얻어지는 소수화 미세 셀룰로오스 섬유의 섬유 길이도 짧다는 점에서, 수지 조성물 중에서의 분산성이 향상되어, 필러로서의 효과도 충분히 발휘되기 때문에, 저열팽창성이 우수하면서, 금속 도체와의 밀착성도 우수하다고 생각된다.In addition, since the obtained hydrophobic microcellulose fibers have a short fiber length, the dispersibility in the resin composition is improved, and the effect as a filler is sufficiently exhibited. Therefore, it is considered that the adhesion to the metal conductor is excellent do.
본 발명의 경화성 수지 조성물은, 프린트 배선판의 절연층을 형성하기 위해 적합하게 사용되며, 예를 들어 프린트 배선판의 코어층, 층간 절연층, 솔더 레지스트 등의 표면 보호층을 형성하기 위해 적합하게 사용된다.The curable resin composition of the present invention is suitably used for forming an insulating layer of a printed wiring board and is suitably used for forming a surface protective layer such as a core layer of a printed wiring board, an interlayer insulating layer, a solder resist, or the like .
또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물로서는, 예를 들어 열경화성 수지를 포함하는 열경화성 수지 조성물, 광경화성 수지를 포함하는 광경화성 수지 조성물, 광경화성 수지 및 열경화성 수지를 포함하는 광경화성 열경화성 수지 조성물을 들 수 있다.Examples of the curable resin composition of the present invention include a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin, a photocurable resin composition containing a photocurable resin, a photocurable thermosetting resin composition containing a photocurable resin and a thermosetting resin have.
〔소수화 미세 셀룰로오스 섬유〕 [Hydrophobic microcellulose fiber]
상기 소수화 미세 셀룰로오스 섬유는, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유의 카르복실기가 아민 화합물 및 제4급 암모늄 화합물 중 적어도 어느 1종에 의해 수식되어 소수화되어 이루어지는 것이며, 이하와 같이 하여 얻을 수 있다.The hydrophobic microcellulose fiber is obtained by modifying the carboxyl group of the carboxyl group-containing microcellulose fiber with at least one of an amine compound and a quaternary ammonium compound to be hydrophobized and can be obtained as follows.
원재료인 천연 셀룰로오스 섬유로서는, 예를 들어 침엽수계 펄프, 활엽수계 펄프 등의 목재 펄프; 코튼 린터, 코튼 린트와 같은 면계 펄프; 밀짚 펄프, 바가스 펄프 등의 비목재계 펄프; 박테리아 셀룰로오스 등을 들 수 있으며, 이들 중 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the natural cellulose fiber as a raw material include wood pulp such as softwood pulp and hardwood pulp; Cotton pulp such as cotton linter, cotton lint; Pulp based on non-wood such as straw pulp and bagasse pulp; Bacterial cellulose, etc. One of these may be used singly or two or more of them may be used in combination.
상기 원재료는 주로 셀룰로오스, 헤미셀룰로오스 및 리그닌으로 구성되며, 이 중 리그닌의 함유량은 통상 0 내지 40질량% 정도, 특히는 0 내지 10질량% 정도이다. 이들 원재료에 대해서는, 필요에 따라 리그닌의 제거 내지 표백 처리를 행하여, 리그닌양의 조정을 행할 수 있다. 또한, 리그닌 함유량의 측정은, Klason법에 의해 행할 수 있다.The raw material is mainly composed of cellulose, hemicellulose and lignin. The content of lignin is usually about 0 to 40 mass%, particularly about 0 to 10 mass%. With respect to these raw materials, the lignin amount can be adjusted by performing lignin removal or bleaching treatment if necessary. Further, the lignin content can be measured by the Klason method.
식물의 세포벽 중에서는, 셀룰로오스 분자가 단분자가 아니라 규칙적으로 응집되어 수십개 모인 결정성을 갖는 마이크로피브릴을 형성하고 있으며, 이것이 식물의 기본 골격 물질로 되어 있다. 따라서, 상기 원재료로부터 미세 셀룰로오스 섬유를 제조하기 위해서는, 상기 원재료에 대하여 고해 내지 분쇄 처리, 고온 고압 수증기 처리, 인산염 등에 의한 처리 등을 실시함으로써, 이 섬유를 나노 사이즈까지 풀어낼 수 있다.In the cell walls of plants, cellulosic molecules are not monomolecular but are regularly aggregated to form microfibrils having crystallizations in which dozens are aggregated, which is the basic skeleton material of plants. Therefore, in order to produce microcellulose fibers from the raw materials, the raw materials can be untangled to nano-size by subjecting the raw materials to a treatment with a high-temperature or high-pressure steam treatment, a treatment with a phosphate or the like.
또한, 천연 셀룰로오스 섬유에 대하여 산화 처리(예를 들어, 후술하는 TEMPO를 사용한 산화 처리)를 행함으로써, 천연 셀룰로오스의 글루코피라노오스환 중의 C6위치의 1급 수산기를 선택적으로 카르복실기로 산화함으로써, 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유를 얻을 수 있다. 이 처리를 행함으로써, 셀룰로오스 섬유를 비교적 약한 전단력으로 나노 사이즈까지 풀어낼 수 있다.Further, by oxidizing the natural cellulose fiber with a carboxyl group at the C6 position in the glucopyranose ring of natural cellulose by oxidation treatment (for example, oxidation treatment using TEMPO described later), carboxyl group Containing cellulose fibers can be obtained. By carrying out this treatment, the cellulose fibers can be released to a nano-size with a relatively weak shear force.
또한, 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유의 카르복실기를, 아민 화합물 및 제4급 암모늄 화합물 중 적어도 1종으로 수식하여 소수화함으로써, 상기 소수화 미세 셀룰로오스 섬유를 얻을 수 있다.In addition, the hydrophobic microcellulose fiber can be obtained by modifying the carboxyl group of the carboxyl group-containing cellulose fiber with at least one of an amine compound and a quaternary ammonium compound to hydrophobize the carboxyl group-containing cellulose fiber.
이하, 본 발명에서 사용하는 소수화 미세 셀룰로오스 섬유의 제조 방법에 대하여 구체적으로 기재한다.Hereinafter, a method for producing hydrophobic microcellulose fibers used in the present invention will be described in detail.
(슬러리화 공정) (Slurrying step)
우선, 수중에 천연 셀룰로오스 섬유를 분산시킨 슬러리를 제조한다. 슬러리는, 원료가 되는 천연 셀룰로오스 섬유(절대 건조 기준: 150℃에서 30분간 가열 건조시킨 후의 천연 셀룰로오스 섬유의 질량)에 대하여 약 10 내지 1000배량(질량 기준)의 물을 가하고, 믹서 등으로 처리함으로써 얻어진다. 천연 셀룰로오스 섬유는, 고해 등의 표면적을 높이는 처리가 실시되어 있어도 된다. 또한, 상기 시판된 펄프의 셀룰로오스 I형 결정화도는, 통상 80% 이상이다.First, a slurry in which natural cellulose fibers are dispersed in water is prepared. Water is added to the slurry in an amount of about 10 to 1000 times (mass basis) relative to the natural cellulose fiber to be the raw material (the mass of the natural cellulose fiber obtained by heating and drying for 30 minutes at 150 캜 on the basis of absolute drying) . The natural cellulose fiber may be subjected to a treatment for increasing the surface area such as defatting. The cellulose I-form crystallinity of commercially available pulp is usually 80% or more.
(산화 처리 공정) (Oxidation treatment step)
이어서, 상기 천연 셀룰로오스 섬유를 N-옥실 화합물 등의 산화제의 존재하에서 산화 처리하여, 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유를 얻는다(이하, 간단히 「산화 처리」라 부르는 경우가 있다).Subsequently, the natural cellulose fibers are subjected to an oxidation treatment in the presence of an oxidizing agent such as an N-oxyl compound to obtain a carboxyl group-containing cellulose fiber (hereinafter, simply referred to as "oxidation treatment").
N-옥실 화합물로서는, 탄소수 1 또는 2의 알킬기를 갖는 피페리딘옥실 화합물, 피롤리딘옥실 화합물, 이미다졸린옥실 화합물 및 아자아다만탄 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 복소환식 N-옥실 화합물이 바람직하다. 이들 중에서는 반응성의 관점에서, 탄소수 1 또는 2의 알킬기를 갖는 피페리딘옥실 화합물이 바람직하고, 2,2,6,6-테트라알킬피페리딘-1-옥실(TEMPO), 4-히드록시-2,2,6,6-테트라알킬피페리딘-1-옥실, 4-알콕시-2,2,6,6-테트라알킬피페리딘-1-옥실, 4-벤조일옥시-2,2,6,6-테트라알킬피페리딘-1-옥실, 4-아미노-2,2,6,6-테트라알킬피페리딘-1-옥실 등의 디-tert-알킬니트록실 화합물, 4-아세트아미도-TEMPO, 4-카르복시-TEMPO, 4-포스포녹시-TEMPO 등을 들 수 있다. 이들 피페리딘옥실 화합물 중에서는, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실(TEMPO), 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실, 4-메톡시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실이 보다 바람직하고, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실(TEMPO)이 더욱 바람직하다.As the N-oxyl compound, at least one heterocyclic N-oxyl compound selected from a piperidineoxyl compound having an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms, a pyrrolidineoxyl compound, an imidazoline oxyl compound and an azadimantane compound desirable. Among them, piperidineoxyl compounds having an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms are preferable from the viewpoint of reactivity, and 2,2,6,6-tetraalkylpiperidine-1-oxyl (TEMPO), 4-hydroxy -2,2,6,6-tetraalkylpiperidine-1-oxyl, 4-alkoxy-2,2,6,6-tetraalkylpiperidine-1-oxyl, 4- benzoyloxy- Di-tert-alkylnitroxyl compounds such as 6,6-tetraalkylpiperidine-1-oxyl and 4-amino-2,2,6,6-tetraalkylpiperidine-1-oxyl, -TEMPO, 4-carboxy-TEMPO, 4-phosphonoxy-TEMPO, and the like. Among these piperidineoxyl compounds, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (TEMPO), 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine- Oxyl and 4-methoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl are more preferable, and 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (TEMPO) Is more preferable.
N-옥실 화합물의 양은 촉매량이면 되고, 천연 셀룰로오스 섬유(절대 건조 기준) 100질량부에 대하여 바람직하게는 0.001 내지 10질량부, 보다 바람직하게는 0.01 내지 9질량부, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 8질량부, 보다 더욱 바람직하게는 0.5 내지 5질량부이다.The amount of the N-oxyl compound may be a catalytic amount, and is preferably 0.001 to 10 parts by mass, more preferably 0.01 to 9 parts by mass, more preferably 0.1 to 8 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the natural cellulose fiber (absolute drying standard) More preferably 0.5 to 5 parts by mass.
천연 셀룰로오스 섬유의 산화 처리에 있어서는, N-옥실 화합물 이외의 산화제를 사용할 수 있다. 산화제로서는, 용매를 알칼리성 영역으로 조정한 경우의 용해도나 반응 속도 등의 관점에서, 산소 또는 공기, 과산화물; 할로겐, 차아할로겐산, 아할로겐산, 과할로겐산 및 이들의 알칼리 금속염 또는 알칼리 토금속염; 할로겐 산화물, 질소 산화물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 알칼리 금속 차아할로겐산염이 바람직하고, 구체적으로는 차아염소산나트륨이나 차아브롬산나트륨이 예시된다. 산화제의 사용량은, 천연 셀룰로오스 섬유의 카르복실기 치환도(산화도)에 따라 선택하면 되고, 또한 반응 조건에 따라 산화 반응 수율이 상이하기 때문에 일률적으로는 결정되지 않지만, 원재료인 천연 셀룰로오스 섬유(절대 건조 기준) 100질량부에 대하여 바람직하게는 약 1 내지 100질량부가 되는 범위이다.In the oxidation treatment of the natural cellulose fibers, an oxidizing agent other than the N-oxyl compound can be used. From the viewpoints of the solubility and the reaction rate when the solvent is adjusted to the alkaline region, the oxidizing agent may be oxygen or air, peroxide; Halogen, hypohalous acid, halogenated acid, perhalogen acid and alkali metal or alkaline earth metal salts thereof; Halogen oxides, nitrogen oxides and the like. Among them, an alkali metal hypochlorite is preferable, and specifically sodium hypochlorite and sodium hypobromite are exemplified. The amount of the oxidizing agent to be used can be selected according to the substitution degree (degree of oxidation) of the carboxyl group of the natural cellulose fiber and is not uniformly determined because the oxidation reaction yield varies depending on the reaction conditions. However, ) Is preferably in the range of about 1 to 100 parts by mass per 100 parts by mass.
또한, 산화 반응을 한층 더 효율적으로 행하기 위해, 조촉매로서, 브롬화나트륨, 브롬화칼륨 등의 브롬화물이나, 요오드화나트륨, 요오드화칼륨 등의 요오드화물 등을 사용할 수 있다. 조촉매의 양은, 그의 기능을 발휘할 수 있는 유효량이면 되고, 특별히 제한은 없다.Further, in order to carry out the oxidation reaction more efficiently, bromides such as sodium bromide and potassium bromide, iodides such as sodium iodide and potassium iodide and the like can be used as the co-catalyst. The amount of the cocatalyst may be an effective amount capable of exerting its function, and there is no particular limitation.
산화 처리에 있어서의 반응 온도는, 반응의 선택성, 부반응의 억제의 관점에서 바람직하게는 50℃ 이하, 보다 바람직하게는 40℃ 이하, 더욱 바람직하게는 20℃ 이하이고, 그의 하한은 바람직하게는 -5℃ 이상이다.The reaction temperature in the oxidation treatment is preferably 50 占 폚 or lower, more preferably 40 占 폚 or lower, still more preferably 20 占 폚 or lower, from the viewpoints of selectivity of reaction and suppression of side reactions, 5 ° C or higher.
또한, 반응계의 pH는 산화제의 성질에 맞추는 것이 바람직하며, 예를 들어 산화제로서 차아염소산나트륨을 사용하는 경우, 반응계의 pH는 알칼리성으로 하는 것이 바람직하고, pH 7 내지 13이 바람직하고, pH 10 내지 13이 보다 바람직하다. 또한, 반응 시간은 1 내지 240분간이 바람직하다.The pH of the reaction system is preferably adjusted to the nature of the oxidizing agent. For example, when sodium hypochlorite is used as the oxidizing agent, the pH of the reaction system is preferably alkaline, preferably pH 7 to 13, 13 is more preferable. The reaction time is preferably 1 to 240 minutes.
상기 산화 처리를 행함으로써, 카르복실기 함유량이 바람직하게는 0.1mmol/g 이상인 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유가 얻어진다.By carrying out the oxidation treatment, a carboxyl group-containing cellulose fiber having a carboxyl group content of preferably 0.1 mmol / g or more can be obtained.
(정제 공정) (Purification process)
상기 산화 처리 공정에서 얻어지는 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유는, 촉매로서 사용하는 TEMPO 등의 N-옥실 화합물이나 부생염을 포함한다. 그대로 다음 공정을 행해도 되지만, 정제를 행하여 순도가 높은 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유를 얻을 수도 있다. 정제 방법으로서는, 산화 반응에 있어서의 용매의 종류, 생성물의 산화의 정도, 정제의 정도에 따라 최적의 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 양용매로서 물, 빈용매로서 메탄올, 에탄올, 아세톤 등을 사용한 재침전, 헥산 등의 물과 상 분리되는 용매로의 TEMPO 등의 추출, 및 염의 이온 교환, 투석 등에 의한 정제 등을 들 수 있다.The carboxyl group-containing cellulose fibers obtained in the oxidation treatment step include N-oxyl compounds such as TEMPO used as a catalyst and by-products. The following steps may be carried out as it is, but purification may be carried out to obtain carboxyl group-containing cellulose fibers having high purity. As the purification method, an optimum method can be adopted depending on the kind of the solvent in the oxidation reaction, the degree of oxidation of the product, and the degree of purification. For example, reprecipitation using water as a good solvent, reprecipitation using methanol, ethanol, acetone or the like as a poor solvent, extraction of TEMPO with a solvent that is phase-separated from water such as hexane, purification by ion exchange of salt, .
(미세화 공정) (Finishing step)
이어서, 상기 정제 공정 후에 얻어진 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유를 미세화하는 공정을 행한다. 미세화 공정에서는, 상기 정제 공정을 거친 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유를 용매 중에 분산시키고, 미세화 처리를 행하는 것이 바람직하다. 이 미세화 공정을 행함으로써, 평균 애스펙트비가 상기 범위에 있는 미세 셀룰로오스 섬유가 얻어진다.Then, a step of making the carboxyl group-containing cellulose fibers obtained after the purification step is made fine. In the micronization step, it is preferable that the cellulose group-containing cellulose fibers subjected to the purification step are dispersed in a solvent and subjected to fineness treatment. By carrying out this refining step, microcellulose fibers having an average aspect ratio in the above range can be obtained.
분산매로서의 용매는, 물 이외에 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 탄소수 1 내지 6, 바람직하게는 탄소수 1 내지 3의 알코올; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소수 3 내지 6의 케톤; 직쇄 또는 분지상의 탄소수 1 내지 6의 포화 탄화수소 또는 불포화 탄화수소; 벤젠, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소; 염화메틸렌, 클로로포름 등의 할로겐화 탄화수소; 탄소수 2 내지 5의 저급 알킬에테르; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, 숙신산과 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르의 디에스테르 등의 극성 용매 등이 예시된다. 이들은, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있지만, 미세화 처리의 조작성의 관점에서, 물, 탄소수 1 내지 6의 알코올, 탄소수 3 내지 6의 케톤, 탄소수 2 내지 5의 저급 알킬에테르, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, 숙신산메틸트리글리콜디에스테르 등의 극성 용매가 바람직하고, 환경 부하 저감의 관점에서 물이 보다 바람직하다. 용매의 사용량은, 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유를 분산시킬 수 있는 유효량이면 되고, 특별히 제한은 없지만, 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유에 대하여 바람직하게는 1 내지 500질량배, 보다 바람직하게는 2 내지 200질량배로 사용할 수 있다.As the solvent for the dispersion medium, in addition to water, alcohols having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, such as methanol, ethanol and propanol; Ketones having 3 to 6 carbon atoms such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Saturated or unsaturated hydrocarbons having 1 to 6 carbon atoms; Aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; Lower alkyl ethers having 2 to 5 carbon atoms; And polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide and diesters of succinic acid and triethylene glycol monomethyl ether. These solvents may be used alone or in admixture of two or more. In view of the operability of the finely divided treatment, water, an alcohol having 1 to 6 carbon atoms, a ketone having 3 to 6 carbon atoms, a lower alkyl ether having 2 to 5 carbon atoms, Polar solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide and succinic acid methyltriglycol diester are preferable, and water is more preferable from the viewpoint of environmental load reduction. The amount of the solvent to be used is not particularly limited and may be an effective amount capable of dispersing the carboxyl group-containing cellulose fibers. The solvent may be used in an amount of preferably 1 to 500 times by mass, more preferably 2 to 200 times by mass with respect to the carboxyl group-containing cellulose fibers .
미세화 처리에서 사용하는 장치로서는, 공지된 분산기가 적합하게 사용된다. 예를 들어, 이해기, 고해기, 저압 호모지나이저, 고압 호모지나이저, 그라인더, 커터 밀, 볼 밀, 제트 밀, 단축 압출기, 2축 압출기, 초음파 교반기, 가정용 주서 믹서 등을 사용할 수 있다. 또한, 미세화 처리에 있어서의 반응물 섬유의 고형분 농도는 50질량% 이하가 바람직하다.As the apparatus used in the fineness treatment, known dispersing apparatuses are suitably used. For example, a grinder, a cutter mill, a ball mill, a jet mill, a single screw extruder, a twin screw extruder, an ultrasonic stirrer, a domestic screw kneader, and the like can be used as a stirrer, a breaker, a low pressure homogenizer, a high pressure homogenizer, The solid content concentration of the reactant fiber in the fineness treatment is preferably 50 mass% or less.
또한, 본 발명에서는, 상기 미세화 처리를 행하기 전에 생화학적 처리, 화학 처리 및 기계 처리로부터 선택되는 적어도 하나의 처리를 더 행할 수 있다. 구체적으로는, 산 가수분해, 열수 분해, 산화 분해, 분쇄, 효소 처리, UV 처리, 전자선 처리 등의 처리 방법을 들 수 있는데, 이들 처리에 의해 셀룰로오스 섬유의 단섬유화가 도모되어, 미세화 처리를 보다 효율적으로 행할 수 있고, 나아가서는 평균 애스펙트비가 상기 범위 내에 포함되게 된다. 상기 처리 내용으로서는, 예를 들어 정제 공정을 거친 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유를 산으로 환류하는 방법을 들 수 있다. 산의 종류 및 그의 농도는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 농염산을 첨가하여, 염산 농도가 0.1 내지 10M인 카르복실기 함유 셀룰로오스 섬유의 수분산액을 가열하는 방법이 예시된다.Further, in the present invention, at least one process selected from a biochemical process, a chemical process, and a mechanical process may be further performed before the above-described miniaturization process. Specifically, there are treatment methods such as acid hydrolysis, hydrolysis, oxidative decomposition, pulverization, enzymatic treatment, UV treatment, electron beam treatment, etc. By these treatments, shortening of the cellulose fibers is achieved, So that the average aspect ratio is included within the above range. Examples of the treatment include, for example, a method of refluxing carboxyl group-containing cellulose fibers subjected to a purification process to an acid. The kind of the acid and its concentration are not particularly limited. For example, a method of heating an aqueous dispersion of a carboxyl group-containing cellulose fiber having a hydrochloric acid concentration of 0.1 to 10 M by adding concentrated hydrochloric acid is exemplified.
얻어진 미세 셀룰로오스 섬유의 형태로서는, 필요에 따라 고형분 농도를 조정한 현탁액상(목시적으로 무색 투명 또는 불투명한 액), 혹은 건조 처리한 분말상(단, 미세 셀룰로오스 섬유가 응집된 분말상이며, 셀룰로오스 입자를 의미하는 것은 아니다)으로 할 수도 있다. 또한, 현탁액상으로 하는 경우, 분산매로서 물만을 사용해도 되고, 물과 다른 유기 용매(예를 들어, 에탄올 등의 알코올류)나 계면 활성제, 산, 염기 등의 혼합 용매를 사용해도 된다.As the form of the obtained fine cellulosic fibers, there may be used a suspension (a colorless transparent or opaque liquid for purpose), or a dried powdery form (in the form of a powder in which fine cellulose fibers are agglomerated) whose cellulosic particles It does not mean that you can do it). In the case of a suspension, the water may be used alone as the dispersion medium, or a mixed solvent of water and other organic solvents (for example, alcohols such as ethanol), a surfactant, an acid, and a base may be used.
상기와 같이 하여, 셀룰로오스 구성 단위의 C6 위치의 수산기가 알데히드기를 경유하여 카르복실기로 선택적으로 산화되어, 상기 카르복실기 함유량이 0.1mmol/g 이상이고, 또한 평균 섬유 직경이 0.1 내지 200nm, 평균 섬유 길이가 600nm 이하, 평균 애스펙트비가 1 이상 200 이하인 미세화된 셀룰로오스, 바람직하게는 30% 이상의 결정화도를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유를 얻을 수 있다.As described above, the hydroxyl group at the C6 position of the cellulose constituting unit is selectively oxidized to a carboxyl group via an aldehyde group to have a carboxyl group content of 0.1 mmol / g or more, an average fiber diameter of 0.1 to 200 nm, an average fiber length of 600 nm Hereinafter, micronized cellulose having an average aspect ratio of 1 or more and 200 or less, preferably microcellulose fibers having a crystallinity of 30% or more can be obtained.
〔미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 직경, 평균 섬유 길이 및 평균 애스펙트비〕[Average fiber diameter, average fiber length and average aspect ratio of microcellulose fibers]
카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 직경, 평균 섬유 길이 및 평균 애스펙트비는, 이하와 같이 하여 측정할 수 있다.The average fiber diameter, average fiber length and average aspect ratio of the carboxyl group-containing microcellulose fibers can be measured as follows.
카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유에 물을 가하여, 그의 농도가 0.0001질량%인 분산액을 제조하고, 이 분산액을 마이카(운모) 상에 적하하여 건조한 것을 관찰 시료로 하여, 원자간력 현미경(AFM, Nanoscope III Tapping mode AFM, Digital instrument사제, 프로브는 나노센서즈사제 Point Probe(NCH)를 사용)을 사용하여, 관찰 시료 중의 미세 셀룰로오스 섬유의 섬유 높이를 측정한다. 이 때, 미세 셀룰로오스 섬유를 확인할 수 있는 현미경 화상에 있어서, 미세 셀룰로오스 섬유를 5개 이상 추출하고, 이들의 섬유 높이로부터 평균 섬유 직경을 산출한다. 또한, 섬유 방향의 거리로부터, 평균 섬유 길이를 산출한다. 평균 애스펙트비는 평균 섬유 길이/평균 섬유 직경으로부터 산출된다.Water was added to the carboxyl group-containing microcellulose fiber to prepare a dispersion having a concentration of 0.0001% by mass, and the dispersion was dropped on a mica (mica) and dried. As an observation sample, an atomic force microscope (AFM, Nanoscope III Tapping mode AFM, manufactured by Digital Instruments, and a probe using Point Probe (NCH) manufactured by Nanosensors), and the fiber height of the microcellulose fibers in the observation sample is measured. At this time, in the microscopic image confirming the microcellulose fibers, five or more microcellulose fibers are extracted and the average fiber diameter is calculated from the height of the fibers. Further, the average fiber length is calculated from the distance in the fiber direction. The average aspect ratio is calculated from the average fiber length / average fiber diameter.
본 발명에 있어서, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 직경은 0.1nm 이상 200nm 이하이고, 바람직하게는 1nm 이상 100nm 이하, 보다 바람직하게는 2nm 이상 50nm 이하, 더욱 바람직하게는 2.5nm 이상 20nm 이하이다. 평균 섬유 직경 0.1nm 미만인 것은 제조가 곤란하며, 또한 평균 섬유 직경이 200nm를 초과하면, 프린트 배선판의 도체와 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 없다.In the present invention, the average fiber diameter of the carboxyl group-containing microcellulose fibers is 0.1 nm or more and 200 nm or less, preferably 1 nm or more and 100 nm or less, more preferably 2 nm or more and 50 nm or less, and further preferably 2.5 nm or more and 20 nm or less. When the average fiber diameter is less than 0.1 nm, it is difficult to produce. When the average fiber diameter exceeds 200 nm, a cured product having good adhesion to the conductor of the printed wiring board can not be obtained.
카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 길이는 600nm 이하이고, 바람직하게는 50nm 이상 600nm 이하, 보다 바람직하게는 100nm 이상 500nm 이하, 더욱 바람직하게는 150nm 이상 500nm 이하이다. 평균 섬유 길이가 600nm를 초과하는 것은, 조성물로 했을 때의 분산이 어려워진다.The average fiber length of the carboxyl group-containing microcellulose fibers is 600 nm or less, preferably 50 nm or more and 600 nm or less, more preferably 100 nm or more and 500 nm or less, and further preferably 150 nm or more and 500 nm or less. When the average fiber length exceeds 600 nm, dispersion becomes difficult when the composition is used.
카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 애스펙트비는 1 이상 200 이하이고, 바람직하게는 5 이상 180 이하, 보다 바람직하게는 9 이상 170 이하, 특히 바람직하게는 9 이상 100 미만이다. 평균 애스펙트비가 1 미만인 것은 제조가 곤란하며, 평균 애스펙트비가 200을 초과하면, 금속 도체와 밀착성이 양호한 경화물을 얻을 수 없다. 평균 애스펙트비가 200 이하이면, 금속 도체와 경화물의 밀착성이 양호해지고, 평균 애스펙트비가 작아질수록 금속 도체와 경화물의 밀착성이 우수하며, 조성물의 점도를 낮출 수 있다.The average aspect ratio of the carboxyl group-containing microcellulose fibers is 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 180 or less, more preferably 9 or more and 170 or less, particularly preferably 9 or more and 100 or less. If the average aspect ratio is less than 1, it is difficult to produce. If the average aspect ratio exceeds 200, a cured product having good adhesion to the metal conductor can not be obtained. When the average aspect ratio is 200 or less, the adhesion between the metal conductor and the cured product is improved. As the average aspect ratio is decreased, the adhesion between the metal conductor and the cured product is excellent, and the viscosity of the composition can be lowered.
본 발명에 있어서는, 상기 카르복실기를 수식하여, 소수화한 미세 셀룰로오스 섬유를 사용한다. 즉, 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유를, 아민 화합물이나 제4급 암모늄 화합물을 사용하여 수식한 소수화 미세 셀룰로오스 섬유를 사용한다.In the present invention, microcellulose fibers obtained by modifying the carboxyl group and hydrophobizing the cellulose are used. That is, hydrophobic microcellulose fibers obtained by modifying a microcellulose fiber having a carboxyl group with an amine compound or a quaternary ammonium compound are used.
이하, 이 소수화 미세 셀룰로오스 섬유에 대하여 설명한다.Hereinafter, the hydrophobic microcellulose fiber will be described.
카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유의 카르복실기가 수식되어 소수화되어 이루어지는 미세 셀룰로오스 섬유에 있어서는, 수식기가 아미드 결합 또는 아민염 중 어느 한쪽 혹은 양쪽을 통해 셀룰로오스 주쇄에 결합하고 있다.In the microcellulose fiber formed by hydrophobizing the carboxyl group of the carboxyl group-containing microcellulose fiber, the water-soluble group is bonded to the cellulose main chain through either or both of the amide bond and the amine salt.
수식기로서는, 아미드 결합 또는 아민염 중 어느 한쪽 혹은 양쪽을 통해 결합하는 관능기이면 되고, 예를 들어 탄소수 1의 탄화수소기, 또는 탄소수 2 내지 30의 포화 혹은 불포화된 직쇄상 혹은 분지상의 탄화수소기를 들 수 있다. 구체예로서는, 이하의 탄화수소기를 들 수 있다.The alkyl group may be any functional group that bonds through either or both of the amide bond and the amine salt. For example, a hydrocarbon group having 1 carbon atom or a saturated or unsaturated straight or branched hydrocarbon group having 2 to 30 carbon atoms may be used. . Specific examples thereof include the following hydrocarbon groups.
탄소수 1의 탄화수소기: 메틸기.Hydrocarbon group having 1 carbon atom: methyl group.
탄소수 2 내지 30의 포화된 직쇄상의 탄화수소기: 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 도데실기, 옥타데실기, 도코실기, 옥타코사닐기.A saturated straight chain hydrocarbon group having 2 to 30 carbon atoms: an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group, an octadecyl group, a docosyl group and an octacosyl group.
탄소수 2 내지 30의 불포화된 직쇄상의 탄화수소기: 올레일기, 미리스트레일기, 팔미트레일기, 리놀레일기, 리놀레닐기, 에이코사닐기.Unsaturated straight chain hydrocarbon group having 2 to 30 carbon atoms: oleyl group, myristyl group, palmitoleyl group, linoleyl group, linolenyl group, eicosanyl group.
탄소수 2 내지 30의 포화된 분지상의 탄화수소기: 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, t-펜틸기, 이소헥실기, 2-헥실기, 디메틸부틸기, 에틸부틸기.Saturated branched hydrocarbon groups of 2 to 30 carbon atoms such as isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, isopentyl, t-pentyl, isohexyl, Butyl group, ethyl butyl group.
포화 혹은 불포화된 직쇄상 혹은 분지상의 탄화수소기의 탄소수는, 경화성 수지와의 조합에 따라 임의로 선택되지만, 1 이상, 특히 3 이상, 그 중에서도 10 이상인 것이 바람직하고, 또한 30 이하, 특히 20 이하, 그 중에서도 18 이하인 것이 바람직하다. 예를 들어, 1 이상 30 이하인 것이 바람직하고, 3 이상 20 이하인 것이 바람직하고, 10 이상 18 이하인 것이 한층 더 바람직하다. 탄소수가 상술한 범위에 있음으로써, 미세 셀룰로오스 섬유와 경화성 수지가 균일한 혼합 상태가 되고, 저선열팽창 계수 등 수지 조성물로서 양호한 물성이 얻어진다.The number of carbon atoms of the saturated or unsaturated straight-chain or branched hydrocarbon group is arbitrarily selected depending on the combination with the curable resin, but is preferably 1 or more, especially 3 or more, more preferably 10 or more, further preferably 30 or less, Among them, it is preferable that it is 18 or less. For example, it is preferably 1 or more and 30 or less, more preferably 3 or more and 20 or less, still more preferably 10 or more and 18 or less. When the number of carbon atoms is within the above-mentioned range, the microcellulose fibers and the curable resin become uniformly mixed, and good physical properties such as a low coefficient of linear thermal expansion can be obtained.
상기 포화 혹은 불포화된 직쇄상 혹은 분지상의 탄화수소기를 갖는 아민으로서는, 구체적으로 제1급 아민으로서는, 예를 들어 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, 이소프로필아민, 부틸아민, 헥실아민, 옥틸아민, 데실아민, 도데실아민, 옥타데실아민, 올레일아민 등의 모노알킬아민을 들 수 있다. 제2급 아민으로서는, 예를 들어 디메틸아민, 디에틸아민, 디부틸아민, 디옥타데실아민 등의 디알킬아민을 들 수 있다.Specific examples of the amine having a saturated or unsaturated straight-chain or branched hydrocarbon group include methylamine, ethylamine, propylamine, isopropylamine, butylamine, hexylamine, octylamine, Decylamine, dodecylamine, octadecylamine, oleylamine, and other monoalkylamines. Examples of secondary amines include dialkylamines such as dimethylamine, diethylamine, dibutylamine and dioctadecylamine.
또한, 방향족 탄화수소기를 갖는 아민으로서는, 총 탄소수가 6 내지 20이면 되고, 제1급 아민, 제2급 아민 중 어느 것이어도 되지만, 카르복실기와의 반응성의 관점에서는 제1급 아민이 바람직하다. 또한, 아민에 있어서의 방향족 탄화수소기의 수는, 총 탄소수가 6 내지 20이 되는 것이면, 1개, 2개 중 어느 것이어도 되지만, 1개가 바람직하다.The amine having an aromatic hydrocarbon group may have a total carbon number of 6 to 20, and may be either a primary amine or a secondary amine, but a primary amine is preferable from the viewpoint of reactivity with a carboxyl group. The number of aromatic hydrocarbon groups in the amine may be either one or two, provided that the total number of carbon atoms is 6 to 20, but is preferably one.
방향족 탄화수소기를 갖는 아민으로서는, 아릴기를 갖는 아민, 아르알킬기를 갖는 아민을 들 수 있으며, 수지와의 상용성의 관점에서, 아릴기를 갖는 아민이 바람직하다.Examples of the amine having an aromatic hydrocarbon group include an amine having an aryl group and an amine having an aralkyl group, and from the viewpoint of compatibility with a resin, an amine having an aryl group is preferable.
아릴기로서는, 구체적으로는 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 비페닐기, 트리페닐기를 들 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상 결합하고 있어도 된다. 그 중에서도, 수지와의 상용성의 관점에서, 페닐기, 나프틸기, 비페닐기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다.Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, a biphenyl group and a triphenyl group, and these may be used alone or in combination of two or more. Among them, a phenyl group, a naphthyl group and a biphenyl group are preferable from the viewpoint of compatibility with a resin, and a phenyl group is more preferable.
아르알킬기로서는, 구체적으로는 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 페닐펜틸기, 페닐헥실기, 페닐헵틸기를 들 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상 결합하고 있어도 된다. 그 중에서도, 수지와의 상용성의 관점에서, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 페닐펜틸기, 페닐헥실기가 바람직하고, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 페닐펜틸기가 보다 바람직하다.Specific examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a phenylpentyl group, a phenylhexyl group and a phenylheptyl group, and these may be used alone or in combination of two or more. Among them, a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a phenylpentyl group and a phenylhexyl group are preferable, and a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group and a phenylpentyl group are more preferable from the viewpoint of compatibility with a resin.
또한, 상기 아릴기, 아르알킬기는 치환기를 가져도 되고, 치환기로서는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 이소펜틸기, 헥실기 등의 탄소수 1 내지 6의 알킬기; 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, 헥실옥시기 등의 탄소수 1 내지 6의 알콕시기; 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 이소프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기, 이소부톡시카르보닐기, sec-부톡시카르보닐기, tert-부톡시카르보닐기, 펜틸옥시카르보닐기, 이소펜틸옥시카르보닐기 등의 탄소수 1 내지 6의 알콕시카르보닐기; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자; 탄소수 1 내지 6의 아실기, 아르알킬기, 아르알킬옥시기를 들 수 있다.The aryl group and the aralkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec- An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a butyl group, a butyl group, Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, An alkoxy group; An alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, an isobutoxycarbonyl group, a sec-butoxycarbonyl group, a tert-butoxycarbonyl group, a pentyloxycarbonyl group, An alkoxycarbonyl group of 6 to 6 carbon atoms; A halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; An acyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aralkyl group, and an aralkyloxy group.
상기 방향족 탄화수소기를 갖는 아민으로서는, 구체적으로는, 아릴기를 갖는 아민으로서는, 아닐린, 톨루일아민, 4-비페닐릴아민, 디페닐아민, 2-아미노나프탈렌, p-테르페닐아민, 2-아미노안트라센, 2-아미노안트라퀴논을 들 수 있다. 이 중에서도, 수지와의 상용성의 관점에서 아닐린, 톨루일아민, 4-비페닐릴아민, 디페닐아민, 2-아미노나프탈렌이 바람직하고, 아닐린이 보다 바람직하다. 아르알킬기를 갖는 아민으로서는, 벤질아민, 페네틸아민, 3-페닐프로필아민, 5-페닐펜틸아민, 6-페닐헥실아민, 7-페닐헵틸아민, 8-페닐옥틸아민을 들 수 있다. 이 중에서도, 동일한 관점에서 벤질아민, 페네틸아민, 3-페닐프로필아민, 5-페닐펜틸아민, 6-페닐헥실아민, 7-페닐헵틸아민이 바람직하고, 벤질아민, 페네틸아민, 3-페닐프로필아민, 5-페닐펜틸아민, 6-페닐헥실아민이 보다 바람직하고, 벤질아민, 페네틸아민, 3-페닐프로필아민, 5-페닐펜틸아민이 더욱 바람직하다. 본 발명에 있어서 사용하는 방향족 탄화수소기를 갖는 아민은 공지된 방법에 따라 제조해도 되고, 시판품이어도 된다.Specific examples of the amines having an aromatic hydrocarbon group include amines having an aryl group such as aniline, toluylamine, 4-biphenylyl amine, diphenylamine, 2-aminonaphthalene, p-terphenylamine, , And 2-aminoanthraquinone. Of these, aniline, toluylamine, 4-biphenylyl amine, diphenylamine and 2-aminonaphthalene are preferable from the standpoint of compatibility with resins, and aniline is more preferable. Examples of the amine having an aralkyl group include benzylamine, phenethylamine, 3-phenylpropylamine, 5-phenylpentylamine, 6-phenylhexylamine, 7-phenylheptylamine and 8-phenyloctylamine. Of these, benzylamine, phenethylamine, 3-phenylpropylamine, 5-phenylpentylamine, 6-phenylhexylamine, and 7-phenylheptylamine are preferable from the same viewpoint, and benzylamine, phenethylamine, 3-phenyl Propylamine, 5-phenylpentylamine and 6-phenylhexylamine are more preferable, and benzylamine, phenethylamine, 3-phenylpropylamine and 5-phenylpentylamine are more preferable. The amine having an aromatic hydrocarbon group used in the present invention may be produced according to a known method or may be a commercially available product.
또한 그 밖에도, 프로필렌글리콜알킬에테르에 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드를 원하는 양 부가시킨 후, 수산기 말단을 아미노화한 아민, 히드록시에틸기, 히드록시프로필기 등 친수기를 갖는 아민이나, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 폴리에테르쇄나, 락티드, 카프로락톤 등의 폴리에스테르쇄를 갖는 폴리에테르아민이나 폴리에스테르아민, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 지환식 탄화수소를 갖는 아민도, 본 발명에서 사용하는 소수화 미세 셀룰로오스 섬유에 있어서 아미드 결합 또는 아민염 중 어느 한쪽 혹은 양쪽을 통해 결합하는 화합물로서 적합하게 사용된다.In addition, an amine having a hydrophilic group such as an amine, a hydroxyethyl group or a hydroxypropyl group obtained by aminating an end of a hydroxyl group with a desired amount of ethylene oxide or propylene oxide added to the propylene glycol alkyl ether, or an amine having a hydrophilic group such as ethylene glycol, propylene glycol , Polyether amines having a polyester chain such as lactide and caprolactone, and amines having alicyclic hydrocarbons such as polyester amines, cyclopentyl groups and cyclohexyl groups, as well as hydrophobic microcellulose used in the present invention And is suitably used as a compound which binds to fibers through either or both of an amide bond and an amine salt.
소수화 미세 셀룰로오스 섬유의 카르복실기를 수식하여 아민염을 형성하기 위한 제4급 암모늄 화합물로서는, 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라에틸암모늄 히드록시드, 테트라부틸암모늄히드록시드, 테트라프로필암모늄히드록시드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 테트라부틸암모늄클로라이드, 라우릴트리메닐암모늄클로라이드, 디라우릴디메틸클로라이드, 스테아릴트리메틸암모늄클로라이드, 디스테아릴디메틸암모늄클로라이드, 세틸트리메틸암모늄클로라이드, 알킬벤질디메틸암모늄클로라이드를 들 수 있다. 이 중에서도, 카르복실기로의 수식의 용이함의 관점에서, 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라에틸암모늄히드록시드, 테트라프로필암모늄히드록시드, 테트라부틸암모늄히드록시드가 바람직하다.Examples of the quaternary ammonium compound for modifying the carboxyl group of the hydrophobic microcellulose fiber to form an amine salt include tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, Tetraethyl ammonium chloride, tetrabutyl ammonium chloride, lauryl trimethyl ammonium chloride, dilauryl dimethyl chloride, stearyl trimethyl ammonium chloride, distearyl dimethyl ammonium chloride, cetyl trimethyl ammonium chloride and alkyl benzyl dimethyl ammonium chloride. Among them, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide and tetrabutylammonium hydroxide are preferable from the viewpoint of ease of modification into a carboxyl group.
본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서의 소수화 미세 셀룰로오스 섬유의 첨가량은, 경화성 수지의 전량(고형분 기준) 100질량부에 대하여 바람직하게는 0.1질량부 이상 30질량부 이하, 보다 바람직하게는 1질량부 이상 20질량부 이하, 더욱 바람직하게는 2질량부 이상 10질량부 이하이다. 첨가량을 0.1질량부 이상으로 하면 열팽창성이 낮아지고, 30질량부 이하로 하면, 저열팽창성과 금속 도체의 밀착성의 밸런스가 우수한 것이 된다.The amount of hydrophobic microcellulose fiber to be added in the curable resin composition of the present invention is preferably 0.1 part by mass or more and 30 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or more (based on 100 parts by mass of the total amount of the curable resin) 20 parts by mass or less, and more preferably 2 parts by mass or more and 10 parts by mass or less. When the addition amount is 0.1 parts by mass or more, the thermal expansion property is lowered, and when it is 30 parts by mass or less, the balance between the low thermal expansion property and the adhesion property of the metal conductor is excellent.
(미세 셀룰로오스 섬유의 카르복실기의 수식 방법) (Method for Modifying the Carboxyl Group of Microcellulose Fibers)
본 발명에 있어서의 미세 셀룰로오스 섬유의 카르복실기의 수식 방법으로서는, 이하의 것을 들 수 있다.As the method for modifying the carboxyl group of the microcellulose fiber in the present invention, the following may be mentioned.
제1 방법으로서, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유와 수식기를 갖는 아민 화합물을 용매 중에서 혼합시켜, 염으로 하는 방법을 들 수 있다.As a first method, there can be mentioned a method in which an amine compound having a carboxyl group-containing microcellulose fiber and a water-soluble group is mixed in a solvent to form a salt.
상기 아민 화합물의 사용량은, 소수화 미세 셀룰로오스 섬유에 있어서의 원하는 아민염의 결합량에 따라 정할 수 있지만, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유에 함유되는 카르복실기 1mol에 대하여 아미노기가, 바람직하게는 0.1mol 이상, 보다 바람직하게는 0.5mol 이상, 더욱 바람직하게는 0.7mol 이상, 보다 더욱 바람직하게는 1mol 이상이며, 제품 순도의 관점에서 바람직하게는 50mol 이하, 보다 바람직하게는 20mol 이하, 더욱 바람직하게는 10mol 이하가 되는 양을 사용한다. 또한, 상기 범위에 포함되는 양의 아민을 한번에 염 형성 공정에 사용해도, 분할하여 염 형성 공정에 사용해도 된다.The amount of the amine compound to be used can be determined according to the binding amount of the desired amine salt in the hydrophobic microcellulose fiber, but the amount of the amino group is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.1 mol or more per mol of the carboxyl group contained in the carboxyl group- Is preferably not less than 0.5 mol, more preferably not less than 0.7 mol, still more preferably not less than 1 mol, and preferably not more than 50 mol, more preferably not more than 20 mol, still more preferably not more than 10 mol, from the viewpoint of product purity use. Amines in the above range may be used in a salt forming step at one time or may be used in a salt forming step by dividing.
용매로서는, 사용하는 아민 화합물이 용해되는 용매를 선택하는 것이 바람직하고, 예를 들어 에탄올, 이소프로판올(IPA), N,N-디메틸포름아미드(DMF), 디메틸술폭시드(DMSO), N,N-디메틸아세트아미드, 테트라히드로푸란(THF), 숙신산과 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르의 디에스테르, 아세톤, 메틸에틸케톤(MEK), 아세토니트릴, 디클로로메탄, 클로로포름, 톨루엔, 아세트산 등을 들 수 있으며, 이들 중 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 극성 용매 중에서도, 숙신산과 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르의 디에스테르, 에탄올, DMF가 바람직하다.As the solvent, it is preferable to select a solvent in which the amine compound to be used is dissolved. Examples of the solvent include ethanol, isopropanol (IPA), N, N-dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMSO) There may be mentioned dimethyl acetamide, tetrahydrofuran (THF), diester of succinic acid and triethylene glycol monomethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), acetonitrile, dichloromethane, chloroform, toluene, May be used alone or in combination of two or more. Among these polar solvents, succinic acid and diesters of triethylene glycol monomethyl ether, ethanol and DMF are preferable.
혼합시의 온도는, 바람직하게는 0℃ 이상, 보다 바람직하게는 5℃ 이상, 더욱 바람직하게는 10℃ 이상이다. 또한, 소수화 미세 셀룰로오스 섬유의 착색의 관점에서, 바람직하게는 50℃ 이하, 보다 바람직하게는 40℃ 이하, 더욱 바람직하게는 30℃ 이하이다. 혼합 시간은, 사용하는 아민 및 용매의 종류에 따라 적절히 설정할 수 있지만, 바람직하게는 0.01시간 이상, 보다 바람직하게는 0.1시간 이상, 더욱 바람직하게는 1시간 이상이고, 바람직하게는 48시간 이하, 보다 바람직하게는 24시간 이하, 더욱 바람직하게는 12시간 이하이다.The temperature at the time of mixing is preferably 0 占 폚 or higher, more preferably 5 占 폚 or higher, and still more preferably 10 占 폚 or higher. From the standpoint of coloration of the hydrophobic microcellulose fiber, it is preferably 50 占 폚 or lower, more preferably 40 占 폚 or lower, and still more preferably 30 占 폚 or lower. The mixing time can be appropriately set according to the type of the amine and the solvent used, but is preferably 0.01 hour or more, more preferably 0.1 hour or more, further preferably 1 hour or more, preferably 48 hours or less Preferably not more than 24 hours, more preferably not more than 12 hours.
상기 염의 형성 후, 염의 형성에 사용되지 않은 아민 화합물을 제거하기 위해, 후처리를 적절히 행해도 된다. 이 후처리의 방법으로서는, 예를 들어 여과, 원심 분리, 투석 등을 사용할 수 있다.After the formation of the salt, a post-treatment may be appropriately performed in order to remove the amine compound not used for salt formation. As the post-treatment method, for example, filtration, centrifugation, dialysis or the like can be used.
제2 방법으로서, 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유와 수식기를 갖는 아민 화합물을 용매 중에서 아미드화 반응시키는 방법을 들 수 있다.As a second method, a method of amidating a microcellulose fiber having a carboxyl group and an amine compound having a silyl group in a solvent can be mentioned.
상기 수식기를 갖는 아민 화합물의 사용량은, 소수화 미세 셀룰로오스 섬유에 있어서의 원하는 결합량에 따라 정할 수 있지만, 반응성의 관점에서, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유에 함유되는 카르복실기 1mol에 대하여 아미노기가, 바람직하게는 0.1mol 이상, 보다 바람직하게는 0.5mol 이상, 더욱 바람직하게는 0.7mol 이상, 보다 더욱 바람직하게는 1mol 이상이며, 제품 순도의 관점에서 바람직하게는 50mol 이하, 보다 바람직하게는 20mol 이하, 더욱 바람직하게는 10mol 이하가 되는 양을 사용한다. 또한, 상기 범위에 포함되는 양의 아민을 한번에 반응에 사용해도, 분할하여 반응에 사용해도 된다.The amount of the amine compound having the water-soluble group is determined depending on the desired binding amount in the hydrophobic microcellulose fiber. From the viewpoint of reactivity, the amino group is preferably used in an amount of 1 mole of the carboxyl group contained in the carboxyl group-containing microcellulose fiber, More preferably not less than 0.1 mol, more preferably not less than 0.5 mol, still more preferably not less than 0.7 mol, still more preferably not less than 1 mol, from the viewpoint of product purity, preferably not more than 50 mol, more preferably not more than 20 mol, Is used in an amount of 10 mol or less. Amines in the above range may be used either singly or in the form of a reaction.
상기 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유와, 수식기를 갖는 아민 화합물의 반응에 있어서는, 공지된 축합제를 사용할 수도 있다.In the reaction of the carboxyl group-containing microcellulose fiber with an amine compound having a silyl group, a known condensing agent may be used.
축합제로서는 특별히 한정되지는 않지만, 합성 화학 시리즈 펩티드 합성(마루젠사) P116 기재, 또는 Tetrahedron, 57, 1551(2001)에 기재된 축합제 등을 들 수 있으며, 예를 들어 4-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-4-메틸모르폴리늄클로라이드(이하, 「DMT-MM」이라 부르는 경우가 있다) 등을 들 수 있다.Examples of the condensing agent include, but are not limited to, those described in Synthetic Chemistry Series Peptide Synthesis (Maruzen Co.) P116 or a condensation agent described in Tetrahedron, 57, 1551 (2001) Dimethoxy-1,3,5-triazin-2-yl) -4-methylmorpholinium chloride (hereinafter sometimes referred to as "DMT-MM").
상기 축합 반응에 있어서는, 사용하는 아민 화합물이 용해되는 용매를 선택하는 것이 바람직하다.In the condensation reaction, it is preferable to select a solvent in which the amine compound to be used is dissolved.
상기 축합 반응에 있어서의 반응 시간 및 반응 온도는, 사용하는 아민 및 용매의 종류 등에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 반응률 및 생산성의 관점에서 바람직하게는 1 내지 24시간, 보다 바람직하게는 10 내지 20시간이다. 또한, 반응 온도는, 반응성의 관점에서 바람직하게는 0℃ 이상, 보다 바람직하게는 5℃ 이상, 더욱 바람직하게는 10℃ 이상이다. 또한, 소수화 미세 셀룰로오스 섬유의 착색의 관점에서, 바람직하게는 200℃ 이하, 보다 바람직하게는 80℃ 이하, 더욱 바람직하게는 30℃ 이하이다.The reaction time and the reaction temperature in the condensation reaction can be appropriately selected according to the kind of the amine and the solvent to be used, but are preferably 1 to 24 hours, more preferably 10 to 20 hours from the viewpoint of the reaction rate and the productivity . The reaction temperature is preferably 0 deg. C or more, more preferably 5 deg. C or more, and still more preferably 10 deg. C or more from the viewpoint of reactivity. From the standpoint of coloration of the hydrophobic microcellulose fiber, it is preferably 200 占 폚 or lower, more preferably 80 占 폚 or lower, and still more preferably 30 占 폚 or lower.
상기 혼합 후 및 반응 후에 있어서는, 미반응된 아민 화합물이나 축합제 등을 제거하기 위해, 후처리를 적절히 행해도 된다. 이 후처리의 방법으로서는, 예를 들어 여과, 원심 분리, 투석 등을 사용할 수 있다.After the mixing and after the reaction, post-treatment may be appropriately performed in order to remove unreacted amine compounds and condensing agents. As the post-treatment method, for example, filtration, centrifugation, dialysis or the like can be used.
제3 방법으로서, 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유와 수식기를 갖는 제4급 암모늄 화합물을 용매 중에서 혼합시켜, 염으로 하는 방법을 들 수 있다.As a third method, there can be mentioned a method of mixing a microcellulose fiber having a carboxyl group and a quaternary ammonium compound having a water-soluble group in a solvent to prepare a salt.
상기 제4급 암모늄 화합물의 사용량은, 소수화 미세 셀룰로오스 섬유에 있어서의 원하는 결합량에 따라 정할 수 있지만, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유에 함유되는 카르복실기 1mol에 대하여 제4급 암모늄 양이온이, 바람직하게는 0.1mol 이상, 보다 바람직하게는 0.5mol 이상, 더욱 바람직하게는 0.7mol 이상, 보다 더욱 바람직하게는 1mol 이상이며, 제품 순도의 관점에서 바람직하게는 50mol 이하, 보다 바람직하게는 20mol 이하, 더욱 바람직하게는 10mol 이하가 되는 양을 사용한다. 또한, 상기 범위에 포함되는 양의 제4급 암모늄 화합물을 한번에 염의 형성 공정에 사용해도, 분할하여 염의 형성 공정에 사용해도 된다.The amount of the quaternary ammonium compound to be used can be determined according to the desired binding amount in the hydrophobic microcellulose fiber. However, quaternary ammonium cations are preferably used in an amount of 0.1 mol per mol of the carboxyl group contained in the carboxyl group-containing microcellulose fibers, More preferably at least 0.7 mol, even more preferably at least 1 mol, from the viewpoint of product purity, preferably at most 50 mol, more preferably at most 20 mol, even more preferably at most 10 mol Or less. The quaternary ammonium compound in the above range may be used in a salt forming step at one time or may be used in a salt forming step by dividing.
용매로서는, 상기 아민과 혼합할 때에 사용되는 용매를 마찬가지로 사용할 수 있으며, 이들에 더하여 물도 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 그 중에서도 물, 숙신산과 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르의 디에스테르, 에탄올, DMF가 바람직하다.As the solvent, a solvent used when mixing with the amine can be used as well, and water can be used in addition to them. These may be used alone or in combination of two or more. Among them, water, succinic acid and diesters of triethylene glycol monomethyl ether, ethanol and DMF are preferable.
혼합시의 온도나 시간, 및 염 형성 후의 후처리에 대해서는, 상기 아민 화합물과 혼합하는 경우를 참조하여 적절히 설정할 수 있다.The temperature and time at the time of mixing and the post-treatment after the salt formation can be appropriately set with reference to the case of mixing with the amine compound.
〔경화성 수지〕 [Curable resin]
본 발명의 경화성 수지 조성물은, 열경화성 수지 조성물, 광경화성 수지 조성물 또는 광경화성 열경화성 수지 조성물이다.The curable resin composition of the present invention is a thermosetting resin composition, a photo-curable resin composition or a photo-curable thermosetting resin composition.
(열경화성 수지 조성물) (Thermosetting resin composition)
본 발명의 열경화성 수지 조성물은, 열경화성 수지, 무기 필러 및 경화 촉매를 포함하는 것이 바람직하다.The thermosetting resin composition of the present invention preferably contains a thermosetting resin, an inorganic filler, and a curing catalyst.
열경화성 수지 조성물에 사용하는 열경화성 수지로서는, 열에 의한 경화 반응이 가능한 관능기를 갖는 수지를 사용하는 것이 바람직하고, 특히 분자 중에 1개 이상의 환상 (티오)에테르기를 갖는 화합물이 바람직하게 사용된다.As the thermosetting resin used in the thermosetting resin composition, it is preferable to use a resin having a functional group capable of curing reaction by heat, and a compound having at least one cyclic (thio) ether group in the molecule is preferably used.
환상 에테르기를 갖는 화합물로서는, 예를 들어 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 비스페놀 E형 에폭시 수지, 비스페놀 M형 에폭시 수지, 비스페놀 P형 에폭시 수지, 비스페놀 Z형 에폭시 수지 등의 비스페놀형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락 에폭시 수지 등의 노볼락형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비페닐아르알킬형 에폭시 수지, 아릴알킬렌형 에폭시 수지, 테트라페닐올에탄형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 안트라센형 에폭시 수지, 페녹시형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 노르보르넨형 에폭시 수지, 아다만탄형 에폭시 수지, 플루오렌형 에폭시 수지, 글리시딜메타크릴레이트 공중합계 에폭시 수지, 시클로헥실말레이미드와 글리시딜메타크릴레이트의 공중합 에폭시 수지, 에폭시 변성의 폴리부타디엔 고무 유도체, CTBN 변성 에폭시 수지, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 페닐-1,3-디글리시딜에테르, 비페닐-4,4'-디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜 또는 프로필렌글리콜의 디글리시딜에테르, 소르비톨폴리글리시딜에테르, 트리스(2,3-에폭시프로필)이소시아누레이트, 트리글리시딜트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 등의 에폭시 수지; 페놀노볼락 수지, 크레졸노볼락 수지, 비스페놀 A 노볼락 수지 등의 노볼락형 페놀 수지, 미변성된 레졸페놀 수지, 동유, 아마인유, 호두유 등으로 변성한 오일 변성 레졸페놀 수지 등의 레졸형 페놀 수지 등의 페놀 수지; 페녹시 수지; 요소(우레아) 수지; 멜라민 수지 등의 트리아진환 함유 수지; 불포화 폴리에스테르 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 실리콘 수지, 벤조옥사진환을 갖는 수지, 노르보르넨계 수지, 시아네이트 수지, 이소시아네이트 수지, 우레탄 수지, 벤조시클로부텐 수지, 말레이미드 수지, 비스말레이미드트리아진 수지, 폴리아조메틴 수지, 열경화성 폴리이미드, 시아네이트에스테르 수지, 활성 에스테르 수지 등을 들 수 있다.Examples of the compound having a cyclic ether group include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol E type epoxy resin, bisphenol M type epoxy resin, bisphenol P type epoxy resin, bisphenol Z type epoxy Novolac epoxy resins such as bisphenol epoxy resins, bisphenol A novolac epoxy resins, phenol novolac epoxy resins and cresol novolac epoxy resins; biphenyl epoxy resins; biphenylaralkyl type epoxy resins; An epoxy resin, an epoxy resin, an arylalkylene type epoxy resin, a tetraphenylol ethane type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, an anthracene type epoxy resin, a phenoxy type epoxy resin, a dicyclopentadiene type epoxy resin, a norbornene type epoxy resin, Based epoxy resin, a glycidyl methacrylate copolymer-based epoxy resin, a cyclohexyl Polybutadiene rubber derivatives of epoxy-modified, CTBN-modified epoxy resins, trimethylolpropane polyglycidyl ether, phenyl-1,3-diglycidyl ether, biphenyl Hexanediol diglycidyl ether, diglycidyl ether of ethylene glycol or propylene glycol, sorbitol polyglycidyl ether, tris (2,3-epoxy Propyl) isocyanurate, and triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate; Novolac phenol resins such as phenol novolac resin, cresol novolak resin and bisphenol A novolac resin, unmodified resol phenol resins, oil-modified resol phenol resins modified with tung oil, linseed oil, Phenol resins such as phenol resin; Phenoxy resins; Urea (urea) resin; A triazine ring-containing resin such as melamine resin; A resin having an unsaturated polyester resin, a diallyl phthalate resin, a silicone resin, a resin having a benzoxazine ring, a norbornene resin, a cyanate resin, an isocyanate resin, a urethane resin, a benzocyclobutene resin, a maleimide resin, a bismaleimide triazine resin , Polyazomethine resin, thermosetting polyimide, cyanate ester resin, and active ester resin.
열경화성 수지로서는, 에폭시 수지 및 페놀 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 에폭시 수지 및 페놀 수지를 포함함으로써, 내열성, 필 강도 및 절연 신뢰성 등을 향상시킬 수 있다. 에폭시 수지의 함유량으로서는, 전체 열경화성 수지 100질량부에 대하여, 예를 들어 1질량부 이상 90질량부 이하, 바람직하게는 10질량부 이상 85질량부 이하, 보다 바람직하게는 20질량부 이상 80질량부 이하이다. 페놀 수지의 함유량으로서는, 전체 열경화성 수지에 대하여 예를 들어 1질량부 이상 70질량부 이하, 바람직하게는 5질량부 이상 60질량부 이하, 보다 바람직하게는 10질량부 이상 50질량부 이하이다.As the thermosetting resin, it is preferable to include an epoxy resin and a phenol resin. By including an epoxy resin and a phenol resin, heat resistance, peel strength, insulation reliability, and the like can be improved. The content of the epoxy resin is, for example, not less than 1 part by mass and not more than 90 parts by mass, preferably not less than 10 parts by mass and not more than 85 parts by mass, more preferably not less than 20 parts by mass and not less than 80 parts by mass based on 100 parts by mass of the entire thermosetting resin Or less. The content of the phenol resin is, for example, 1 part by mass or more and 70 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or more and 60 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, based on the entire thermosetting resin.
또한, 열경화성 수지로서 활성 에스테르 수지를 사용하는 경우에는, 디메틸아미노피리딘을 사용하면 경화성을 향상시킬 수 있다.When an active ester resin is used as the thermosetting resin, the use of dimethylaminopyridine improves the curability.
본원 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서는, 미세 셀룰로오스 섬유와 무기 필러를 병용함으로써, 경화물의 선팽창 계수의 저감 효과가 우수하다.In the curable resin composition of the present invention, by using the microcellulose fiber and the inorganic filler in combination, the effect of reducing the linear expansion coefficient of the cured product is excellent.
무기 필러로서는, 황산바륨, 티타늄산바륨, 무정형 실리카, 결정성 실리카, 용융 실리카, 구상 실리카, 탈크, 클레이, 탄산마그네슘, 탄산칼슘, 산화알루미늄, 수산화알루미늄, 질화규소, 질화알루미늄 등을 들 수 있다. 이들 무기 필러 중에서도 비중이 작고, 조성물 중에 높은 비율로 배합 가능하고, 저열팽창성이 우수하다는 점에서 실리카, 그 중에서도 구상 실리카가 바람직하다.Examples of the inorganic filler include barium sulfate, barium titanate, amorphous silica, crystalline silica, fused silica, spherical silica, talc, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, silicon nitride and aluminum nitride. Among these inorganic fillers, silica is preferred because it has a small specific gravity, is capable of being blended in a high proportion in the composition, and is excellent in low-temperature expandability.
본원 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서는, 미세 셀룰로오스 섬유와 실리카의 조합이 적합하며, 이 경우, 경화물의 선팽창 계수의 저감 효과가 더욱 우수하고, 금속 도체와의 밀착성이 더욱 양호해진다.In the curable resin composition of the present invention, a combination of microcellulose fiber and silica is suitable. In this case, the effect of reducing the linear expansion coefficient of the cured product is more excellent, and the adhesion with the metal conductor is further improved.
무기 필러의 평균 입경은 3㎛ 이하인 것이 바람직하고, 1㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 또한, 무기 필러의 평균 입경은, 레이저 회절식 입자 직경 분포 측정 장치에 의해 구할 수 있다.The average particle diameter of the inorganic filler is preferably 3 mu m or less, more preferably 1 mu m or less. The average particle diameter of the inorganic filler can be obtained by a laser diffraction particle diameter distribution measuring apparatus.
무기 필러의 배합량은, 조성물의 고형분에 대하여 예를 들어 25 내지 90질량%, 바람직하게는 30 내지 90질량%, 보다 바람직하게는 35 내지 85질량%이다. 무기 필러의 배합량을 상기 범위 내로 함으로써, 경화 후의 경화물의 도막 성능을 양호하게 확보할 수 있다.The blending amount of the inorganic filler is, for example, 25 to 90 mass%, preferably 30 to 90 mass%, and more preferably 35 to 85 mass% with respect to the solid content of the composition. When the blending amount of the inorganic filler is within the above range, the coating performance of the cured product after curing can be satisfactorily secured.
경화 촉매는, 경화성 수지 중, 주로 열경화성 수지를 경화시키기 위한 것이며, 예를 들어 이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 4-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸 유도체; 디시안디아미드, 벤질디메틸아민, 4-(디메틸아미노)-N,N-디메틸벤질아민, 4-메톡시-N,N-디메틸벤질아민, 4-메틸-N,N-디메틸벤질아민 등의 아민 화합물, 아디프산디히드라지드, 세바스산디히드라지드 등의 히드라진 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물, 디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다. 또한, 시판품으로서는, 예를 들어 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ(시꼬꾸 가세이 고교(주)제), U-CAT3503N, U-CAT3502T, DBU, DBN, U-CATSA102, U-CAT5002(산아프로(주)제) 등을 들 수 있으며, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용해도 상관없다. 또한 마찬가지로, 구아나민, 아세토구아나민, 벤조구아나민, 멜라민, 2,4-디아미노-6-메타크릴로일옥시에틸-S-트리아진, 2-비닐-2,4-디아미노-S-트리아진, 2-비닐-4,6-디아미노-S-트리아진·이소시아누르산 부가물, 2,4-디아미노-6-메타크릴로일옥시에틸-S-트리아진·이소시아누르산 부가물 등의 S-트리아진 유도체를 사용할 수도 있다.The curing catalyst is for curing a thermosetting resin mainly in the curable resin and includes, for example, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl- Imidazole derivatives such as phenylimidazole, 4-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole and 1- (2-cyanoethyl) ; Amines such as dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4- (dimethylamino) -N, N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N, N-dimethylbenzylamine and 4- Compounds, hydrazine compounds such as adipic acid dihydrazide and sebacic acid dihydrazide; Phosphorus compounds such as triphenylphosphine, and dimethylaminopyridine. U-CAT3503N, U-CAT3502T, DBU, DBN, U-CATSA102, U-CATSA102, and U-CATSA102 are commercially available products such as 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ (manufactured by Shikoku Chemicals Corporation) And CAT5002 (manufactured by SANA PRO) can be used alone or in combination of two or more kinds. Likewise, it is also possible to use, for example, guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melamine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine, 2- Triazine, isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine, isocyanuric acid, S-triazine derivatives such as acid adducts may also be used.
경화 촉매로서는, 염기성 촉매가 바람직하다. 특히 이미다졸류가 바람직하고, 이미다졸류를 사용함으로써, 조성물의 경화성과 안정성을 양립할 수 있으며, 내열성을 향상시킬 수 있다. 경화 촉매의 함유량은, 열경화성 수지 100질량부에 대하여 예를 들어 0.01질량부 이상 20질량부 이하, 바람직하게는 0.05질량부 이상 15질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.1질량부 이상 15질량부 이하이다.As the curing catalyst, a basic catalyst is preferred. In particular, imidazoles are preferred, and by using imidazoles, both the curability and stability of the composition can be achieved, and the heat resistance can be improved. The content of the curing catalyst is, for example, from 0.01 to 20 parts by mass, preferably from 0.05 to 15 parts by mass, and more preferably from 0.1 to 15 parts by mass relative to 100 parts by mass of the thermosetting resin .
본 발명의 열경화성 수지 조성물에는, 소수화 미세 셀룰로오스 섬유, 열경화성 수지, 무기 필러 및 경화 촉매 이외에, 그의 용도에 따라 관용의 다른 배합 성분을 적절히 배합하는 것이 가능하다.In addition to hydrophobic microcellulose fibers, thermosetting resins, inorganic fillers, and curing catalysts, the thermosetting resin composition of the present invention can be blended with other blending components for general use according to the use thereof.
관용의 다른 배합 성분으로서는, 예를 들어 착색제, 유기 용제, 분산제, 소포제·레벨링제, 요변제, 커플링제, 난연제 등을 들 수 있다.Examples of other compounding ingredients for tolerance include colorants, organic solvents, dispersants, defoamers and leveling agents, thixotropic agents, coupling agents, flame retardants and the like.
착색제로서는, 착색 안료나 염료 등으로서 컬러 인덱스로 표시되는 공지 관용의 것이 사용 가능하다. 예를 들어, Pigment Blue 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 60, Solvent Blue 35, 63, 68, 70, 83, 87, 94, 97, 122, 136, 67, 70, Pigment Green 7, 36, 3, 5, 20, 28, Solvent Yellow 163, Pigment Yellow 24, 108, 193, 147, 199, 202, 110, 109, 139, 179, 185, 93, 94, 95, 128, 155, 166, 180, 120, 151, 154, 156, 175, 181, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62:1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 104, 105, 111, 116, 167, 168, 169, 182, 183, 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, 81, 83, 87, 126, 127, 152, 170, 172, 174, 176, 188, 198, Pigment Orange 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63, 64, 71, 73, Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 112, 114, 146, 147, 151, 170, 184, 187, 188, 193, 210, 245, 253, 258, 266, 267, 268, 269, 37, 38, 41, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53:1, 53:2, 57:1, 58:4, 63:1, 63:2, 64:1, 68, 171, 175, 176, 185, 208, 123, 149, 166, 178, 179, 190, 194, 224, 254, 255, 264, 270, 272, 220, 144, 166, 214, 220, 221, 242, 168, 177, 216, 122, 202, 206, 207, 209, Solvent Red 135, 179, 149, 150, 52, 207, Pigment Violet 19, 23, 29, 32, 36, 38, 42, Solvent Violet 13, 36, Pigment Brown 23, 25, Pigment Black 1, 7 등을 들 수 있다.As the coloring agent, a coloring pigment, a dye, or the like known in color index can be used. For example, Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 60, Solvent Blue 35, 63, 68, 70, 83, 87, 122, 136, 67, 70, Pigment Green 7, 36, 3, 5, 20, 28, Solvent Yellow 163, Pigment Yellow 24, 108, 193, 147, 199, 202, 110, 109, 139, 179, 185, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62: 1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 104, 105, 111, 116, 167, 168, 169, 182, 183, 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, Pigment Orange 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63, 64, 71, 73, Pigment Red 1, 2,3,4,5,6,8,9,12,14,15,16,17,21,22,23,31,32, 48, 2, 3, 4, 5, 6, 26, 26, 26, 37, 38, 41, 48, 52: 1, 52: 2, 53: 1, 53: 2, 57: 1, 58: 4, 63: 1, 63: 1, 48: 3, 48: 4, 49: 2, 64: 1, 68, 171, 175, 176, 185, 208, 123, 149, 166, 178, 179, 190, 194, 224, 254, 255, 264, 270, 272, 220, 214, 22 Solvent Red 135, 179, 149, 150, 52, 207, Pigment Violet 19, 23, 29, 32, 36, 38, 42, Solvent Violet 13, 36, Pigment Brown 23, 25, Pigment Black 1, 7, and the like.
착색제의 함유량은, 전체 조성물 중에 예를 들어 0.01질량% 이상 3질량% 이하, 바람직하게는 0.05질량% 이상 1질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.1질량% 이상 0.5질량% 이하이다. 또한, 산화티타늄 등을 사용하여 백색의 경화막을 얻는 경우에는, 전체 조성물 중에 예를 들어 1질량% 이상 65질량% 이하, 바람직하게는 3질량% 이상 60질량% 이하, 보다 바람직하게는 5질량% 이상 50질량% 이하이다.The content of the colorant is, for example, 0.01 mass% or more and 3 mass% or less, preferably 0.05 mass% or more and 1 mass% or less, and more preferably 0.1 mass% or more and 0.5 mass% or less, When a white cured film is obtained by using titanium oxide or the like, the total composition contains, for example, 1 mass% or more and 65 mass% or less, preferably 3 mass% or more and 60 mass% or less, more preferably 5 mass% Or more and 50 mass% or less.
유기 용제로서는, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 메틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 및 상기 글리콜에테르류의 에스테르화물 등의 에스테르류; 에탄올, 프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알코올류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등의 아미드류, 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소류; 석유 에테르, 석유 나프타, 수소 첨가 석유 나프타, 솔벤트 나프타 등의 석유계 용제 등을 들 수 있다.Examples of the organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; Methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, etc. Of glycol ethers; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate and esters of the glycol ethers; Alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol and propylene glycol; Amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; Petroleum ether such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha and solvent naphtha.
분산제로서는, 폴리카르복실산계, 나프탈렌술폰산포르말린 축합계, 폴리에틸렌글리콜, 폴리카르복실산 부분 알킬에스테르계, 폴리에테르계, 폴리알킬렌폴리아민계 등의 고분자형 분산제, 알킬술폰산계, 4급 암모늄계, 고급 알코올 알킬렌옥사이드계, 다가 알코올에스테르계, 알킬폴리아민계 등의 저분자형 분산제 등을 사용할 수 있다.Examples of the dispersing agent include polymer dispersing agents such as polycarboxylic acid type, naphthalenesulfonic acid formalin condensation type, polyethylene glycol, polycarboxylic acid partial alkyl ester type, polyether type, and polyalkylene polyamine type, alkylsulfonic acid type, quaternary ammonium type, And low-molecular dispersants such as higher alcohol alkylene oxide-based, polyhydric alcohol ester-based, alkylpolyamine-based, and the like.
소포제·레벨링제로서는, 실리콘, 변성 실리콘, 광물유, 식물유, 지방족 알코올, 지방산, 금속 비누, 지방산 아미드, 폴리옥시알킬렌글리콜, 폴리옥시알킬렌알킬에테르, 폴리옥시알킬렌 지방산 에스테르 등의 화합물 등을 사용할 수 있다.Examples of the antifoaming agents and leveling agents include silicones, modified silicones, mineral oils, vegetable oils, aliphatic alcohols, fatty acids, metal soaps, fatty acid amides, polyoxyalkylene glycols, polyoxyalkylene alkyl ethers, polyoxyalkylene fatty acid esters, Can be used.
요변제로서는, 미립자 실리카, 실리카겔, 부정형 무기 입자, 폴리아미드계 첨가제, 변성 우레아계 첨가제, 왁스계 첨가제 등을 사용할 수 있다.As a thixotropic agent, particulate silica, silica gel, amorphous inorganic particles, polyamide-based additives, modified urea-based additives, wax-based additives and the like can be used.
커플링제로서는, 알콕시기로서 메톡시기, 에톡시기, 아세틸 등이며, 반응성 관능기로서 비닐, 메타크릴, 아크릴, 에폭시, 환상 에폭시, 머캅토, 아미노, 디아미노, 산 무수물, 우레이드, 술피드, 이소시아네이트 등인, 예를 들어 비닐에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐·트리스(β-메톡시에톡시)실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 비닐계 실란 화합물, γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-우레이도프로필트리에톡시실란 등의 아미노계 실란 화합물, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란 등의 에폭시계 실란 화합물, γ-머캅토프로필트리메톡시실란 등의 머캅토계 실란 화합물, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등의 페닐아미노계 실란 화합물 등의 실란 커플링제, 이소프로필트리이소스테아로일화 티타네이트, 테트라옥틸비스(디트리데실포스파이트)티타네이트, 비스(디옥틸파이로포스페이트)옥시아세테이트티타네이트, 이소프로필트리도데실벤젠술포닐티타네이트, 이소프로필트리스(디옥틸파이로포스페이트)티타네이트, 테트라이소프로필비스(디옥틸포스파이트)티타네이트, 테트라(1,1-디알릴옥시메틸-1-부틸)비스-(디트리데실)포스파이트티타네이트, 비스(디옥틸파이로포스페이트)에틸렌티타네이트, 이소프로필트리옥타노일티타네이트, 이소프로필디메타크릴이소스테아로일티타네이트, 이소프로필트리스테아로일디아크릴티타네이트, 이소프로필트리(디옥틸포스페이트)티타네이트, 이소프로필트리쿠밀페닐티타네이트, 디쿠밀페닐옥시아세테이트티타네이트, 디이소스테아로일에틸렌티타네이트 등의 티타네이트계 커플링제, 에틸렌성 불포화 지르코네이트 함유 화합물, 네오알콕시지르코네이트 함유 화합물, 네오알콕시트리스네오데카노일지르코네이트, 네오알콕시트리스(도데실)벤젠술포닐지르코네이트, 네오알콕시트리스(디옥틸)포스페이트지르코네이트, 네오알콕시트리스(디옥틸)피로포스페이트지르코네이트, 네오알콕시트리스(에틸렌디아미노)에틸지르코네이트, 네오알콕시트리스(m-아미노)페닐지르코네이트, 테트라(2,2-디알릴옥시메틸)부틸, 디(디트리데실)포스파이트지르코네이트, 네오펜틸(디알릴)옥시, 트리네오데카노일지르코네이트, 네오펜틸(디알릴)옥시, 트리(도데실)벤젠-술포닐지르코네이트, 네오펜틸(디알릴)옥시, 트리(디옥틸)포스파토지르코네이트, 네오펜틸(디알릴)옥시, 트리(디옥틸)피로-포스파토지르코네이트, 네오펜틸(디알릴)옥시, 트리(N-에틸렌디아미노)에틸지르코네이트, 네오펜틸(디알릴)옥시, 트리(m-아미노)페닐지르코네이트, 네오펜틸(디알릴)옥시, 트리메타크릴지르코네이트, 네오펜틸(디알릴)옥시, 트리아크릴지르코네이트, 디네오펜틸(디알릴)옥시, 디파라아미노벤조일지르코네이트, 디네오펜틸(디알릴)옥시, 디(3-머캅토)프로피오닉지르코네이트, 지르코늄(IV)2,2-비스(2-프로페놀라토메틸)부탄올라토,시클로디[2,2-(비스2-프로페놀라토메틸)부탄올라토]피로포스파토-O,O 등의 지르코네이트계 커플링제, 디이소부틸(올레일)아세토아세틸알루미네이트, 알킬아세토아세테이트알루미늄디이소프로필레이트 등의 알루미네이트계 커플링제 등을 사용할 수 있다.Examples of the coupling agent include a methoxy group, an ethoxy group and an acetyl group as the alkoxy group, and examples of the reactive functional group include vinyl, methacryl, acrylic, epoxy, cyclic epoxy, mercapto, amino, diamino, acid anhydride, , Vinyl-based silane compounds such as vinyl ethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyl tris (? -Methoxyethoxy) silane and? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane,? -Aminopropyl (Aminoethyl)? - aminopropylmethyldimethoxysilane,? - ureidopropyltriethoxysilane, and the like can be used as the silane coupling agent, such as trimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, Epoxy silane compounds such as amino silane compounds,? - glycidoxypropyltrimethoxysilane,? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and? -Glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, such as? -mercaptopropyltrimethoxysilane Silane coupling agents such as mercapto silane compounds and phenylamino silane compounds such as N-phenyl-gamma -aminopropyltrimethoxysilane, isopropyl triisostearoyl titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) (Dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, isopropyltridodecylbenzene sulfonyl titanate, isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate, tetraisopropyl bis (dioctylphosphite) (Ditridecylphosphate) ethylene titanate, isopropyltri octanoyl titanate, isopropyl tin octanoate titanate, tetra (1,1-diallyloxymethyl-1-butyl) Isopropyltrimethacrylate, isopropyltrimethacrylate, isopropyldimethacrylate, isostearyl acrylate, isopropyldimethacrylate, isostearyl acrylate, isopropyltrimethacrylate, isopropyltrimethacrylate, Titanate-based coupling agents such as phenyltrimethylammonium phenyl titanate, dicumylphenyloxyacetate titanate and diisostearoylethylenetitanate, ethylenically unsaturated zirconate-containing compounds, neoalkoxyzirconate-containing compounds, neoalkoxy (Dioctyl) phosphate zirconate, neoalkoxytris (dioctyl) pyrophosphate zirconate, neoalkoxytris (dodecyl) benzenesulfonylate, neoalkoxytris (Ethylene diamino) ethyl zirconate, neoalkoxytris (m-amino) phenyl zirconate, tetra (2,2-diallyloxymethyl) butyl, di (ditridecyl) phosphite zirconate, neopentyl (Diallyl) oxy, trienodecanoyl zirconate, neopentyl (diallyl) oxy, tri (dodecyl) benzene-sulfonyl zirconate, neopentyl (diallyl) Tri (dioctyl) phosphatozirconate, neopentyl (diallyl) oxy, tri (N-ethylenediamino) ethylglycine, (Diallyl) oxy, tri (m-amino) phenyl zirconate, neopentyl (diallyl) oxy, trimethacrylic zirconate, neopentyl (diallyl) oxy, triacrylic zirconate , Dienopentyl (diallyl) oxy, diparaaminobenzoyl zirconate, dineopentyl (diallyl) oxy, di (3-mercapto) propionic zirconate, zirconium (IV) Zirconate coupling agents such as cyclopyrrolopyrrole, 2-propenolatomethyl) butanolato, cyclodi [2,2- (bis 2-propanolatomethyl) butanolato] pyrophosphato-O and O, diisobutyl An aluminate-based coupling agent such as acetoacetyl aluminate and alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate may be used have.
난연제로서는, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 등의 수화 금속계, 적린, 인산암모늄, 탄산암모늄, 붕산아연, 주석산아연, 몰리브덴 화합물계, 브롬 화합물계, 염소 화합물계, 인산에스테르, 인 함유 폴리올, 인 함유 아민, 멜라민시아누레이트, 멜라민 화합물, 트리아진 화합물, 구아니딘 화합물, 실리콘 폴리머 등을 사용할 수 있다.Examples of the flame retardant include metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, ammonia, ammonium phosphate, ammonium carbonate, zinc borate, zinc stannate, molybdenum compound, bromine compound, chlorine compound, phosphoric acid ester, phosphorus- Melamine cyanurate, melamine compound, triazine compound, guanidine compound, silicone polymer and the like can be used.
(광경화성 수지 조성물) (Photo-curable resin composition)
본 발명의 광경화성 수지 조성물은, 광경화성 수지, 무기 필러, 광중합 개시제 및 착색제 등을 포함하는 것이 바람직하다.The photocurable resin composition of the present invention preferably contains a photocurable resin, an inorganic filler, a photopolymerization initiator, and a colorant.
광경화성 수지로서는, 활성 에너지선 조사에 의한 경화 반응이 가능한 관능기를 갖는 수지를 사용하는 것이 바람직하고, 라디칼 중합성이어도 양이온 중합성이어도 된다.As the photo-curable resin, it is preferable to use a resin having a functional group capable of curing reaction by irradiation with active energy rays, and it may be radical polymerizable or cationic polymerizable.
예를 들어, 분자 중에 1개 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물, 지환 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물을 들 수 있으며, 분자 중에 1개 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물이 바람직하게 사용된다.For example, a compound having at least one ethylenic unsaturated bond in the molecule, an alicyclic epoxy compound, and an oxetane compound, and a compound having at least one ethylenic unsaturated bond in the molecule are preferably used.
에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물로서는, 공지 관용의 광중합성 올리고머 및 광중합성 비닐 모노머 등이 사용된다.As the compound having an ethylenically unsaturated bond, a photopolymerizable oligomer and a photopolymerizable vinyl monomer for publicly known generations are used.
상기 광중합성 올리고머로서는, 불포화 폴리에스테르계 올리고머, (메타)아크릴레이트계 올리고머 등을 들 수 있다. (메타)아크릴레이트계 올리고머로서는, 페놀노볼락에폭시(메타)아크릴레이트, 크레졸노볼락에폭시(메타)아크릴레이트, 비스페놀형 에폭시(메타)아크릴레이트 등의 에폭시(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트, 에폭시우레탄(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리에테르(메타)아크릴레이트, 폴리부타디엔 변성 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerizable oligomer include unsaturated polyester oligomers and (meth) acrylate oligomers. (Meth) acrylate oligomers include epoxy (meth) acrylates such as phenol novolak epoxy (meth) acrylate, cresol novolak epoxy (meth) acrylate, and bisphenol epoxy (meth) Acrylate, epoxy urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate and polybutadiene modified (meth) acrylate.
또한, 본 명세서에서 (메타)아크릴레이트란, 아크릴레이트, 메타크릴레이트 및 이들의 혼합물을 총칭하는 용어이며, 다른 유사한 표현에 대해서도 마찬가지이다.In the present specification, the term (meth) acrylate is generically referred to as acrylate, methacrylate and a mixture thereof, and the same applies to other similar expressions.
상기 광중합성 비닐 모노머로서는 공지 관용의 것, 예를 들어 스티렌, 클로로스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌 유도체; 아세트산비닐, 부티르산비닐 또는 벤조산비닐 등의 비닐에스테르류; 비닐이소부틸에테르, 비닐-n-부틸에테르, 비닐-t-부틸에테르, 비닐-n-아밀에테르, 비닐이소아밀에테르, 비닐-n-옥타데실에테르, 비닐시클로헥실에테르, 에틸렌글리콜모노부틸비닐에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸비닐에테르 등의 비닐에테르류; 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-히드록시메틸아크릴아미드, N-히드록시메틸메타크릴아미드, N-메톡시메틸아크릴아미드, N-에톡시메틸아크릴아미드, N-부톡시메틸아크릴아미드 등의 (메타)아크릴아미드류; 트리알릴이소시아누레이트, 프탈산디알릴, 이소프탈산디알릴 등의 알릴 화합물; 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 이소보로닐(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산의 에스테르류; 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트류; 메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시에틸(메타)아크릴레이트 등의 알콕시알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트류; 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 부탄디올디(메타)아크릴레이트류, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 알킬렌폴리올폴리(메타)아크릴레이트; 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 에톡시화 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 프로폭시화 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트 등의 폴리옥시알킬렌글리콜폴리(메타)아크릴레이트류; 히드록시피발산네오펜틸글리콜에스테르디(메타)아크릴레이트 등의 폴리(메타)아크릴레이트류; 트리스[(메타)아크릴옥시에틸]이소시아누레이트 등의 이소시아누레이트형 폴리(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerizable vinyl monomer include known ones such as styrene derivatives such as styrene, chlorostyrene, and? -Methylstyrene; Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate; N-butyl ether, vinyl-n-amyl ether, vinyl isoamyl ether, vinyl-n-octadecyl ether, vinyl cyclohexyl ether, ethylene glycol monobutyl vinyl ether Vinyl ethers such as ether and triethylene glycol monomethyl vinyl ether; Acrylamides such as acrylamide, methacrylamide, N-hydroxymethylacrylamide, N-hydroxymethylmethacrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-ethoxymethylacrylamide and N-butoxymethylacrylamide Meta) acrylamides; Allyl compounds such as triallyl isocyanurate, diallyl phthalate and diallyl isophthalate; (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl Esters of (meth) acrylic acid such as acrylate; Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth) acrylate; Alkoxyalkylene glycol mono (meth) acrylates such as methoxyethyl (meth) acrylate and ethoxyethyl (meth) acrylate; Acrylates such as ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6- hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (Meth) acrylates such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; Polyoxyalkylene glycol poly (meth) acrylates such as diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, propoxylated trimethylolpropane tri Methacrylate; Poly (meth) acrylates such as hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester di (meth) acrylate; And isocyanurate type poly (meth) acrylates such as tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate.
지환 에폭시 화합물로서는, 3,4,3',4'-디에폭시비시클로헥실, 2,2-비스(3,4-에폭시시클로헥실)프로판, 2,2-비스(3,4-에폭시시클로헥실)-1,3-헥사플루오로프로판, 비스(3,4-에폭시시클로헥실)메탄, 1-[1,1-비스(3,4-에폭시시클로헥실)]에틸벤젠, 비스(3,4-에폭시시클로헥실)아디페이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(3,4-에폭시)시클로헥산카르복실레이트, (3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실)메틸-3',4'-에폭시-6-메틸시클로헥산카르복실레이트, 에틸렌-1,2-비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실산)에스테르, 시클로헥센옥사이드, 3,4-에폭시시클로헥실메틸알코올, 3,4-에폭시시클로헥실에틸트리메톡시실란 등의 에폭시기를 갖는 지환 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the alicyclic epoxy compound include 3,4,3 ', 4'-diepoxybicyclohexyl, 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane, 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl (3,4-epoxycyclohexyl) methane, 1- [1,1-bis (3,4-epoxycyclohexyl)] ethylbenzene, bis Epoxycyclohexyl) adipate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate, (3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl) methyl-3 ', 4'- (3,4-epoxycyclohexanecarboxylic acid) ester, cyclohexene oxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl alcohol, 3,4-epoxycyclohexanecarboxylic acid, And alicyclic epoxy compounds having an epoxy group such as cyclohexylethyltrimethoxysilane.
시판품으로서, 예를 들어 다이셀 가가꾸 고교사제의 셀록사이드 2000, 셀록사이드 2021, 셀록사이드 3000, EHPE3150; 미쯔이 가가꾸사제의 에포믹 VG-3101; 유카 셸 에폭시사제의 E-1031S; 미쯔비시 가스 가가꾸사제의 TETRAD-X, TETRAD-C; 닛본 소다사제의 EPB-13, EPB-27 등을 들 수 있다.As a commercial product, for example, Celllock 2000, Celloxide 2021, Celllock 3000, EHPE 3150, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.; Epomic VG-3101 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.; E-1031S manufactured by Yucca Shell Epoxy; TETRAD-X and TETRAD-C of Mitsubishi Gas Chemical Company; EPB-13 and EPB-27 manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., and the like.
옥세탄 화합물로서는, 비스[(3-메틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에테르, 비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에테르, 1,4-비스[(3-메틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, (3-메틸-3-옥세타닐)메틸아크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸아크릴레이트, (3-메틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트나 이들의 올리고머 또는 공중합체 등의 다관능 옥세탄류 이외에, 옥세탄 알코올과 노볼락 수지, 폴리(p-히드록시스티렌), 카르도형 비스페놀류, 칼릭스아렌류, 칼릭스레조르신아렌류, 또는 실세스퀴옥산 등의 수산기를 갖는 수지와의 에테르화물, 옥세탄환을 갖는 불포화 모노머와 알킬(메타)아크릴레이트의 공중합체 등의 옥세탄 화합물을 들 수 있다.Examples of the oxetane compound include bis [(3-methyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ether, bis [ Methyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate, (3-methyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate, Or polyfunctional oxetanes such as polytetrafluoroethylene, polytetrafluoroethylene, polytetrafluoroethylene, polytetrafluoroethylene, polytetrafluoroethylene, polytetrafluoroethylene, polytetrafluoroethylene, polytetrafluoroethylene, An oxetane compound such as a copolymer of an unsaturated monomer having an oxetane ring and an alkyl (meth) acrylate, and the like.
시판품으로서는, 우베 고산사제의 에터나콜 OXBP, OXMA, OXBP, EHO, 크실릴렌비스옥세탄, 도아 고세사제의 알론옥세탄 OXT-101, OXT-201, OXT-211, OXT-221, OXT-212, OXT-610, PNOX-1009 등을 들 수 있다.OXT-211, OXT-221, OXT-212, and OXT-212 manufactured by Ube Kosan Co., Ltd., , OXT-610, and PNOX-1009.
광중합 개시제는, 경화성 수지 중, 광경화성 수지를 경화시키기 위한 것이며, 광 라디칼 중합 개시제여도 되고, 광 양이온 중합 개시제여도 된다.The photopolymerization initiator is for curing the photopolymerizable resin in the curable resin, and may be a photo radical polymerization initiator or a photo cationic polymerization initiator.
광 라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 등의 벤조인과 벤조인알킬에테르류; 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논 등의 아세토페논류; 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논 등의 아미노알킬페논류; 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-tert-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논류; 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤류; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 벤조페논 등의 벤조페논류; 또는 크산톤류; (2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-펜틸포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 에틸-2,4,6-트리메틸벤조일페닐포스피네이트 등의 포스핀옥사이드류; 각종 퍼옥사이드류, 티타노센계 개시제 등을 들 수 있다. 이들은, N,N-디메틸아미노 벤조산에틸에스테르, N,N-디메틸아미노벤조산이소아밀에스테르, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 트리에틸아민, 트리에탄올아민 등의 3급 아민류와 같은 광증감제 등과 병용해도 된다.Examples of the photo radical polymerization initiator include benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether; Acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, etc. Acetophenones; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane- Aminoalkylphenones such as 1,2- (dimethylamino) -2 - [(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone; Anthraquinones such as 2-methyl anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, 2-tert-butyl anthraquinone, and 1-chloro anthraquinone; Thioxanthones such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; Ketal such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophenones such as benzophenone; Or xanthones; (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine Phosphine oxides such as oxide and ethyl 2,4,6-trimethylbenzoyl phenylphosphinate; Various peroxides, titanocene initiators, and the like. These include photoinitiators such as tertiary amines such as N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine and triethanolamine Or may be used in combination.
광 양이온 중합 개시제로서는, 예를 들어 디아조늄염, 요오도늄염, 브로모늄염, 클로로늄염, 술포늄염, 셀레노늄염, 피릴륨염, 티아피릴륨염, 피리디늄염 등의 오늄염; 트리스(트리할로메틸)-s-트리아진 및 그의 유도체 등의 할로겐화 화합물; 술폰산의 2-니트로벤질에스테르; 이미노술포네이트; 1-옥소-2-디아조나프토퀴논-4-술포네이트 유도체; N-히드록시이미드=술포네이트; 트리(메탄술포닐옥시)벤젠 유도체; 비스술포닐디아조메탄류; 술포닐카르보닐알칸류; 술포닐카르보닐디아조메탄류; 디술폰 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the photo cationic polymerization initiator include onium salts such as diazonium salts, iodonium salts, bromonium salts, chloronium salts, sulfonium salts, selenonium salts, pyrylium salts, thiapyrylium salts and pyridinium salts; Halogenated compounds such as tris (trihalomethyl) -s-triazine and its derivatives; 2-nitrobenzyl ester of sulfonic acid; Iminosulfonate; 1-oxo-2-diazonaphthoquinone-4-sulfonate derivatives; N-hydroxyimide = sulfonate; Tri (methanesulfonyloxy) benzene derivatives; Bis-sulfonyldiazomethanes; Sulfonylcarbonylalkanes; Sulfonylcarbonyldiazomethanes; Disulfone compounds and the like.
이들 광중합 개시제는 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
광중합 개시제의 배합량은, 고형분 환산으로 광경화성 수지 100질량부에 대하여, 예를 들어 0.05 내지 20질량부, 바람직하게는 0.1 내지 15질량부, 보다 바람직하게는 0.5 내지 10질량부이다. 광중합 개시제를 이 범위에서 배합함으로써, 구리 상에서의 광경화성이 충분해지고, 도막의 경화성이 양호해지고, 내약품성 등의 도막 특성이 향상되고, 또한 심부 경화성도 향상된다.The blending amount of the photopolymerization initiator is, for example, 0.05 to 20 parts by mass, preferably 0.1 to 15 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the photocurable resin in terms of solid content. By incorporating the photopolymerization initiator in this range, the photocurability on copper becomes satisfactory, the curability of the coating film becomes good, the coating film characteristics such as chemical resistance are improved, and the deep portion curability is also improved.
무기 필러로서는, 상기 열경화성 수지 조성물에 있어서 사용되는 것과 마찬가지인 것을 사용할 수 있으며, 배합량도 마찬가지로 할 수 있다.As the inorganic filler, those similar to those used in the above-mentioned thermosetting resin composition can be used, and the blending amount can also be used.
착색제로서는, 상기 열경화성 수지 조성물에서 사용되는 것과 마찬가지의 것을 사용할 수 있다. 착색제를 포함함으로써, 광경화성 수지 조성물에 있어서 과잉의 적산 광량을 조사해도, 밀착성의 저하를 방지할 수 있다. 또한, 도막의 시인성을 향상시킬 수도 있다.As the colorant, those similar to those used in the thermosetting resin composition can be used. By including the colorant, deterioration of the adhesiveness can be prevented even when an excessive amount of accumulated light is irradiated in the photo-curable resin composition. Further, the visibility of the coating film can be improved.
본 발명의 광경화성 수지 조성물에는, 소수화 미세 셀룰로오스 섬유, 광경화성 수지, 무기 필러, 광중합 개시제 및 착색제 이외에, 그의 용도에 따라 관용의 다른 배합 성분을 적절히 배합하는 것이 가능하다.In addition to the hydrophobic microcellulose fiber, the photo-curing resin, the inorganic filler, the photopolymerization initiator and the coloring agent, the photocurable resin composition of the present invention can appropriately blend other blending ingredients for general use according to the use thereof.
관용의 다른 배합 성분으로서는, 예를 들어 유기 용제, 분산제, 소포제·레벨링제, 요변제, 커플링제, 난연제 등을 들 수 있다. 이들 유기 용제, 분산제, 소포제·레벨링제, 요변제, 커플링제, 난연제로서는, 열경화성 수지 조성물과 마찬가지의 것을 사용할 수 있다.Examples of other compounding ingredients for tolerance include organic solvents, dispersants, defoamers and leveling agents, thixotropic agents, coupling agents, flame retardants and the like. As the organic solvent, dispersant, defoaming agent, leveling agent, thixotropic agent, coupling agent, and flame retardant, the same thermosetting resin composition as the composition can be used.
(광경화성 열경화성 수지 조성물) (Photo-curable thermosetting resin composition)
본 발명의 광경화성 열경화성 수지 조성물은, 광경화성 수지 및 열경화성 수지를 포함하는 것이며, 특히 본 발명의 광경화성 열경화성 수지 조성물을, 알칼리 수용액을 사용하는 현상형으로 하는 경우에는, 경화성 수지로서 카르복실기 함유 수지를 포함하는 것이 바람직하다.The photo-curable thermosetting resin composition of the present invention comprises a photo-curable resin and a thermosetting resin. When the photo-curable thermosetting resin composition of the present invention is a development type using an aqueous alkali solution, .
카르복실기 함유 수지는, 감광성의 불포화 이중 결합을 1개 이상 갖는 감광성의 카르복실기 함유 수지, 및 감광성의 불포화 이중 결합을 갖지 않는 카르복실기 함유 수지 모두 사용 가능하며, 특정한 것으로 한정되는 것은 아니다. 특히, 이하에 열거하는 수지를 적합하게 사용할 수 있다.The carboxyl group-containing resin can be a photosensitive carboxyl group-containing resin having at least one photosensitive unsaturated double bond and a carboxyl group-containing resin having no photosensitive unsaturated double bond, and is not limited to a specific one. In particular, the resins listed below can be suitably used.
(1) 불포화 카르복실산과 불포화 이중 결합을 갖는 화합물의 공중합에 의해 얻어지는 카르복실기 함유 수지, 및 그것을 변성하여 분자량이나 산가를 조정한 카르복실기 함유 수지.(1) a carboxyl group-containing resin obtained by copolymerization of a compound having an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated double bond, and a carboxyl group-containing resin obtained by modifying the molecular weight and acid value thereof.
(2) 카르복실기 함유 (메타)아크릴계 공중합 수지에 1분자 중에 옥시란환과에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(2) A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a carboxyl group-containing (meth) acrylic copolymer resin with a compound having an oxirane ring and an ethylenically unsaturated group in one molecule.
(3) 1분자 중에 각각 1개의 에폭시기와 불포화 이중 결합을 갖는 화합물과 불포화 이중 결합을 갖는 화합물의 공중합체에 불포화 모노카르복실산을 반응시키고, 이 반응에 의해 생성된 제2급의 수산기에 포화 또는 불포화 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(3) an unsaturated monocarboxylic acid is reacted with a copolymer of a compound having an epoxy group and an unsaturated double bond in each molecule and a compound having an unsaturated double bond, and the unsaturated monocarboxylic acid is saturated with a second-class hydroxyl group generated by the reaction Or an unsaturated polybasic acid anhydride.
(4) 수산기 함유 폴리머에 포화 또는 불포화된 다염기산 무수물을 반응시킨 후, 이 반응에 의해 생성된 카르복실산에 1분자 중에 각각 1개의 에폭시기와 불포화 이중 결합을 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 수산기 및 카르복실기 함유 감광성 수지.(4) a method of reacting a hydroxyl group-containing polymer with a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride, and then reacting the resulting carboxylic acid with a compound having one epoxy group and one unsaturated double bond in one molecule, Photosensitive resin.
(5) 다관능 에폭시 화합물과 불포화 모노카르복실산을 반응시키고, 이 반응에 의해 생성된 제2급의 수산기에 일부 또는 전부에 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(5) A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a polyfunctional epoxy compound with an unsaturated monocarboxylic acid, and reacting a part or all of the polybasic acid anhydride with the second-class hydroxyl group generated by the reaction.
(6) 다관능 에폭시 화합물과, 1분자 중에 2개 이상의 수산기와 에폭시기와 반응하는 수산기 이외의 1개의 반응기를 갖는 화합물과, 불포화기 함유 모노카르복실산을 반응시키고, 얻어진 반응 생성물에 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(6) A process for producing a polyfunctional epoxy compound, which comprises reacting a polyfunctional epoxy compound and a compound having at least two reactive groups other than a hydroxyl group reacting with at least two hydroxyl groups and an epoxy group in a molecule with a monocarboxylic acid containing an unsaturated group, A carboxyl group-containing photosensitive resin.
(7) 페놀성 수산기를 갖는 수지와 알킬렌옥사이드의 반응 생성물에 불포화기 함유 모노카르복실산을 반응시키고, 얻어진 반응 생성물에 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(7) A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a reaction product of a resin having a phenolic hydroxyl group with an alkylene oxide with a monocarboxylic acid containing an unsaturated group, and reacting the obtained reaction product with a polybasic acid anhydride.
(8) 다관능 에폭시 화합물과, 1분자 중에 적어도 1개의 알코올성 수산기와 1개의 페놀성 수산기를 갖는 화합물과, 불포화기 함유 모노카르복실산을 반응시키고, 얻어진 반응 생성물의 알코올성 수산기에 대하여 다염기산 무수물의 무수물기를 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(8) A process for producing a polyfunctional epoxy compound, which comprises reacting a polyfunctional epoxy compound, a compound having at least one alcoholic hydroxyl group and at least one phenolic hydroxyl group in a molecule with an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting an anhydride group.
본 발명의 광경화성 열경화성 수지 조성물에 사용하는 광경화성 수지 및 열경화성 수지는, 상기한 광경화성 수지 및 열경화성 수지와 마찬가지의 것을 사용할 수 있다. 본 발명의 광경화성 열경화성 수지 조성물은, 그 밖에 상기한 무기 필러, 경화 촉매 및 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하고, 그의 용도에 따라 관용의 다른 배합 성분을 적절히 배합하는 것이 가능하다.As the photo-curing resin and the thermosetting resin used in the photo-curable thermosetting resin composition of the present invention, the same photo-curable resin and thermosetting resin as those described above can be used. The photocurable thermosetting resin composition of the present invention preferably contains the inorganic filler, the curing catalyst and the photopolymerization initiator described above, and it is possible to appropriately blend other blending components for general use according to the use thereof.
관용의 다른 배합 성분으로서는, 예를 들어 상기한 착색제, 유기 용제, 분산제, 소포제·레벨링제, 요변제, 커플링제, 난연제 등을 들 수 있다.Examples of other compounding ingredients for tolerance include the above-mentioned coloring agents, organic solvents, dispersants, defoamers and leveling agents, thixotropic agents, coupling agents, flame retardants and the like.
본 발명의 경화성 수지 조성물은, 드라이 필름화하여 사용해도 액상으로서 사용해도 된다. 액상으로서 사용하는 경우에는, 1액성이어도 2액성 이상이어도 된다. 2액성 조성물로서는, 예를 들어 소수화 미세 셀룰로오스 섬유와 경화성 수지를 나눈 조성물로 해도 된다.The curable resin composition of the present invention may be used as a dry film or as a liquid phase. When used as a liquid phase, it may be one-liquid or two-liquid or more. The two-component composition may be, for example, a composition obtained by dividing hydrophobic microcellulose fibers and a curable resin.
이어서, 본 발명의 드라이 필름은, 캐리어 필름 상에, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 도포, 건조시킴으로써 얻어지는 수지층을 갖는다. 드라이 필름을 형성할 때에는, 우선, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 상기 유기 용제로 희석하여 적절한 점도로 조정한 후, 콤마 코터, 블레이드 코터, 립 코터, 로드 코터, 스퀴즈 코터, 리버스 코터, 트랜스퍼 롤 코터, 그라비아 코터, 스프레이 코터 등에 의해, 캐리어 필름 상에 균일한 두께로 도포한다. 그 후, 도포된 조성물을, 통상 40 내지 130℃의 온도에서 1 내지 30분간 건조함으로써, 수지층을 형성할 수 있다. 도포막 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 일반적으로 건조 후의 막 두께로 3 내지 150㎛, 바람직하게는 5 내지 60㎛의 범위에서 적절히 선택된다.Next, the dry film of the present invention has a resin layer obtained by applying and drying the curable resin composition of the present invention on a carrier film. When the dry film is formed, first, the curable resin composition of the present invention is diluted with the organic solvent and adjusted to an appropriate viscosity. Thereafter, a comma coater, blade coater, lip coater, rod coater, squeeze coater, reverse coater, , A gravure coater, a spray coater, or the like, on the carrier film in a uniform thickness. Thereafter, the applied composition is dried at a temperature of usually 40 to 130 DEG C for 1 to 30 minutes to form a resin layer. The thickness of the coating film is not particularly limited, but is generally appropriately selected in the range of 3 to 150 占 퐉, preferably 5 to 60 占 퐉 in the film thickness after drying.
캐리어 필름으로서는 플라스틱 필름이 사용되며, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 폴리에스테르 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드이미드 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리스티렌 필름 등을 사용할 수 있다. 캐리어 필름의 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 일반적으로 10 내지 150㎛의 범위에서 적절히 선택된다. 보다 바람직하게는 15 내지 130㎛의 범위이다.As the carrier film, a plastic film is used. For example, a polyester film such as polyethylene terephthalate (PET), a polyimide film, a polyamideimide film, a polypropylene film, a polystyrene film and the like can be used. The thickness of the carrier film is not particularly limited, but is generally appropriately selected in the range of 10 to 150 mu m. More preferably in the range of 15 to 130 mu m.
캐리어 필름 상에 본 발명의 경화성 수지 조성물을 포함하는 수지층을 형성한 후, 수지층의 표면에 티끌이 부착되는 것을 방지하는 등의 목적으로, 수지층의 표면에 박리 가능한 커버 필름을 더 적층하는 것이 바람직하다. 박리 가능한 커버 필름으로서는, 예를 들어 폴리에틸렌 필름이나 폴리테트라플루오로에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 표면 처리한 종이 등을 사용할 수 있다. 커버 필름으로서는, 커버 필름을 박리할 때에 수지층과의 사이의 접착력이, 수지층과 캐리어 필름의 접착력보다도 작은 것이면 된다.A peelable cover film is further laminated on the surface of the resin layer for the purpose of preventing the attachment of dust to the surface of the resin layer after the resin layer containing the curable resin composition of the present invention is formed on the carrier film . As the peelable cover film, for example, a polyethylene film, a polytetrafluoroethylene film, a polypropylene film, a surface-treated paper and the like can be used. As the cover film, the adhesive force between the cover film and the resin layer when peeling the cover film is smaller than the adhesive force between the resin layer and the carrier film.
또한, 본 발명에 있어서는, 상기 커버 필름 상에 본 발명의 경화성 수지 조성물을 도포, 건조시킴으로써 수지층을 형성하여, 그의 표면에 캐리어 필름을 적층하는 것이어도 된다. 즉, 본 발명에 있어서 드라이 필름을 제조할 때에 본 발명의 경화성 수지 조성물을 도포하는 필름으로서는, 캐리어 필름 및 커버 필름 중 어느 것을 사용해도 된다.In the present invention, a resin layer may be formed by applying and drying the curable resin composition of the present invention on the cover film, and a carrier film may be laminated on the surface of the resin layer. That is, in the present invention, as a film to which the curable resin composition of the present invention is applied when producing a dry film, either a carrier film or a cover film may be used.
본 발명의 프린트 배선판은, 본 발명의 경화성 수지 조성물 또는 드라이 필름의 수지층으로부터 얻어지는 경화물을 갖는 것이다. 본 발명의 프린트 배선판의 제조 방법으로서는, 우선, 예를 들어 본 발명의 경화성 수지 조성물을, 상기 유기 용제를 사용하여 도포 방법에 적합한 점도로 조정하여, 기재 상에 딥 코팅법, 플로우 코팅법, 롤 코팅법, 바 코터법, 스크린 인쇄법, 커튼 코팅법 등의 방법에 의해 도포한 후, 60 내지 100℃의 온도에서 조성물 중에 포함되는 유기 용제를 휘발 건조(가건조)시킴으로써, 지촉 건조의 수지층을 형성한다. 또한, 드라이 필름의 경우, 라미네이터 등에 의해 수지층이 기재와 접촉하도록 기재 상에 접합한 후, 캐리어 필름을 박리함으로써 기재 상에 수지층을 형성한다.The printed wiring board of the present invention has a cured product obtained from the resin layer of the curable resin composition or the dry film of the present invention. As a method for producing the printed wiring board of the present invention, first, for example, the curable resin composition of the present invention is adjusted to a viscosity suitable for the application method by using the above-mentioned organic solvent and dip coating, flow coating, (By drying) the organic solvent contained in the composition at a temperature of 60 to 100 ° C after coating by a coating method, a bar coater method, a screen printing method, a curtain coating method or the like, . Further, in the case of a dry film, the resin layer is bonded to a substrate such that the resin layer comes into contact with the substrate by a laminator or the like, and then the carrier film is peeled off to form a resin layer on the substrate.
상기 기재로서는, 미리 구리 등에 의해 회로 형성된 프린트 배선판이나 플렉시블 프린트 배선판 이외에, 종이 페놀, 종이 에폭시, 유리천 에폭시, 유리 폴리이미드, 유리천/부직포 에폭시, 유리천/종이 에폭시, 합성 섬유 에폭시, 불소 수지·폴리에틸렌·폴리페닐렌에테르, 폴리페닐렌옥사이드·시아네이트 등을 사용한 고주파 회로용 동장 적층판 등의 재질을 사용한 것이며, 모든 그레이드(FR-4 등)의 동장 적층판, 그 밖에 금속 기판, 폴리이미드 필름, PET 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 필름, 유리 기판, 세라믹 기판, 웨이퍼판 등을 들 수 있다.Examples of the substrate include a substrate such as a paper phenol, a paper epoxy, a glass cloth epoxy, a glass polyimide, a glass cloth / nonwoven epoxy, a glass cloth / paper epoxy, a synthetic fiber epoxy, a fluororesin · Copper-clad laminate for high-frequency circuit using polyethylene · Polyphenylene ether, polyphenylene oxide · cyanate, etc., and it is possible to use copper clad laminate of all grades (FR-4 etc.), metal substrate, polyimide film , A PET film, a polyethylene naphthalate (PEN) film, a glass substrate, a ceramic substrate, and a wafer plate.
본 발명의 경화성 수지 조성물을 도포한 후에 행하는 휘발 건조는, 열풍 순환식 건조로, IR로, 핫 플레이트, 컨벡션 오븐 등(증기에 의한 공기 가열 방식의 열원을 구비한 것을 사용하여 건조기 내의 열풍을 향류 접촉시키는 방법 및 노즐로부터 지지체에 분사하는 방식)을 사용하여 행할 수 있다.The volatile drying after application of the curable resin composition of the present invention can be carried out by a hot-air circulating drying furnace, a hot plate, a convection oven or the like (which is equipped with a heat source of air heating by steam) A method of bringing the nozzle into contact with the support, and a method of spraying the solution from the nozzle onto the support).
본 발명의 조성물이 열경화성 수지 조성물인 경우에는, 기재 상에 조성물을 도포하여 도막을 형성하거나, 또는 드라이 필름을 라미네이트하여 수지층을 형성한 후, 예를 들어 약 100 내지 180℃의 온도로 가열하여 열경화시킴으로써, 내열성, 내약품성, 내흡습성, 밀착성, 전기 특성 등의 여러 특성이 우수한 경화막(경화물)을 형성할 수 있다.When the composition of the present invention is a thermosetting resin composition, a composition is applied to a substrate to form a coating film, or a dry film is laminated to form a resin layer, followed by heating to a temperature of, for example, about 100 to 180 ° C (Cured product) having various properties such as heat resistance, chemical resistance, hygroscopicity, adhesion, electrical properties and the like can be formed by heat curing.
본 발명의 조성물이 광경화성 수지 조성물인 경우에는, 기재 상에 조성물을 도포하여 도막을 형성하거나, 또는 드라이 필름을 라미네이트하여 수지층을 형성한 후, 활성 에너지선을 조사하여 경화막(경화물)을 형성한다. 또한, 필요에 따라 활성 에너지선의 조사 전에 도막을 가열해도 된다.When the composition of the present invention is a photo-curable resin composition, a composition is applied to a substrate to form a coating film, or a dry film is laminated to form a resin layer, and then an active energy ray is irradiated to form a cured film (cured product) . If necessary, the coating film may be heated before irradiation with an active energy ray.
본 발명의 조성물이 알칼리 현상형의 광경화성 열경화성 수지 조성물인 경우에는, 프린트 배선판 상에 수지층을 형성한 후, 소정의 패턴을 형성한 포토마스크를 통해 선택적으로 활성 에너지선에 의해 노광하고, 미노광부를 희알칼리 수용액(예를 들어, 0.3 내지 3질량% 탄산소다 수용액)에 의해 현상하여 경화물의 패턴을 형성한다. 또한, 경화물에 활성 에너지선을 조사한 후 가열 경화하거나(예를 들어, 100 내지 220℃), 혹은 가열 경화 후 활성 에너지선을 조사하거나, 또는 가열 경화만으로 최종 마무리 경화(본경화)시킴으로써, 밀착성, 경도 등의 여러 특성이 우수한 경화막을 형성한다. 또한, 본 발명의 조성물은 상기 열경화성 수지와 광경화성 수지를 포함하고, 현상 처리하지 않는 비현상형의 광경화성 열경화성 수지 조성물이어도 된다.When the composition of the present invention is an alkali developing type photocurable thermosetting resin composition, after a resin layer is formed on a printed wiring board, the resin layer is selectively exposed through an active energy ray through a photomask having a predetermined pattern, The light portion is developed with a dilute aqueous alkali solution (for example, 0.3 to 3 mass% aqueous solution of sodium carbonate) to form a pattern of the cured product. Further, by irradiating the cured product with an active energy ray and then curing by heating (for example, 100 to 220 ° C), or by irradiating an active energy ray after heat curing, or by final curing (final curing) , Hardness, and the like. Further, the composition of the present invention may be an unexplained photocurable thermosetting resin composition containing the above-mentioned thermosetting resin and a photocurable resin and not subjected to development processing.
상기 활성 에너지선 조사에 사용되는 노광기로서는, 고압 수은등 램프, 초고압 수은등 램프, 메탈 할라이드 램프, 수은 쇼트 아크 램프 등을 탑재하며, 350 내지 450nm의 범위에서 자외선을 조사하는 장치이면 되고, 또한 직접 묘화 장치(예를 들어, 컴퓨터로부터의 CAD 데이터에 의해 직접 레이저로 화상을 그리는 레이저 다이렉트 이미징 장치)도 사용할 수 있다. 직묘기의 램프 광원 또는 레이저 광원으로서는, 최대 파장이 350 내지 450nm의 범위에 있는 것이어도 된다. 화상 형성을 위한 노광량은 막 두께 등에 따라 상이하지만, 일반적으로는 10 내지 1000mJ/cm2, 바람직하게는 20 내지 800mJ/cm2의 범위 내로 할 수 있다.As an exposure device used for the irradiation of the active energy ray, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a mercury short arc lamp, or the like may be used, and an apparatus for irradiating ultraviolet rays in a range of 350 to 450 nm may be used. (E. G., A laser direct imaging device that draws images directly with a laser by CAD data from a computer). As the lamp light source or the laser light source of the direct game machine, the maximum wavelength may be in the range of 350 to 450 nm. Light exposure for image formation film varies, depending upon the thickness, but in general can be within the 10 to 1000mJ / cm 2, preferably in the range of 20 to a range of 800mJ / cm 2.
상기 현상 방법으로서는, 디핑법, 샤워법, 스프레이법, 브러시법 등에 의해 행할 수 있으며, 현상액으로서는 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 인산나트륨, 규산나트륨, 암모니아, 아민류 등의 알칼리 수용액을 사용할 수 있다.Examples of the developing method include a dipping method, a shower method, a spraying method, a brushing method and the like. As the developing solution, an aqueous alkali solution such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia, .
실시예 Example
이하, 본 발명을, 실시예를 사용하여 보다 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 표 중의 배합량은, 모두 질량부를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In the following table, the amounts are all parts by mass.
〔산화 펄프의 제조〕 [Preparation of oxidized pulp]
(산화 펄프 1) (Oxidized pulp 1)
침엽수의 표백 크래프트 펄프(플레처 챌린지 캐나다사제, 상품명 「Machenzie」, CSF 650ml)를 천연 셀룰로오스 섬유로서 사용하였다. TEMPO로서는, 시판품(ALDRICH사제, Free radical, 98질량%)을 사용하였다. 차아염소산나트륨으로서는, 시판품(와코 쥰야꾸 고교사제)을 사용하였다. 브롬화나트륨으로서는, 시판품(와코 쥰야꾸 고교사제)을 사용하였다.Bleached kraft pulp of conifer (Fletcher Challenge Canada, trade name " Machenzie ", CSF 650 ml) was used as the natural cellulose fiber. As the TEMPO, a commercially available product (ALDRICH, Free radical, 98% by mass) was used. As sodium hypochlorite, a commercially available product (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used. As sodium bromide, a commercially available product (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used.
우선, 침엽수의 표백 크래프트 펄프 섬유 100g을 9900g의 이온 교환수로 충분히 교반한 후, 이 펄프 질량 100g에 대하여 TEMPO 1.25질량%, 브롬화나트륨 12.5질량%, 차아염소산나트륨 28.4질량%를 이 순서대로 첨가하였다. pH 스터드를 사용하여, 0.5M 수산화나트륨을 적하하여 pH를 10.5로 유지하였다. 반응을 120분(20℃) 행한 후, 수산화나트륨의 적하를 정지하고, 산화 펄프를 얻었다. 이온 교환수를 사용하여 얻어진 산화 펄프를 충분히 세정하고, 이어서 탈수 처리를 행하여 고형분 30.4%의 산화 펄프를 얻었다.First, 100 g of the bleached kraft pulp fiber of conifer was sufficiently stirred with 9900 g of ion-exchanged water, and then 1.25 mass% of TEMPO, 12.5 mass% of sodium bromide and 28.4 mass% of sodium hypochlorite were added in this order to 100 g of this pulp mass . Using a pH-stud, 0.5 M sodium hydroxide was added dropwise to maintain the pH at 10.5. After the reaction was carried out for 120 minutes (20 占 폚), the dropwise addition of sodium hydroxide was stopped to obtain oxidized pulp. The oxidized pulp obtained by using ion-exchanged water was thoroughly washed, and then subjected to dehydration treatment to obtain oxidized pulp having a solid content of 30.4%.
(산화 펄프 2) (Oxidized pulp 2)
사용하는 원료를 유칼립투스 유래의 활엽수 표백 크래프트 펄프(CENIBRA사제)로 변경한 것 이외는, 산화 펄프 1과 마찬가지의 방법을 사용함으로써 고형분 30.4%의 산화 펄프를 얻었다.Oxidized pulp having a solid content of 30.4% was obtained in the same manner as in the case of the oxidized pulp 1 except that the raw material used was changed to a hardwood bleached craft pulp derived from eucalyptus (manufactured by CENIBRA).
〔미세 셀룰로오스 섬유 수분산액의 제조〕 [Preparation of microcellulose fiber aqueous dispersion]
(제조예 1) (Production Example 1)
산화 펄프 1 1.18g과 이온 교환수 34.8g을 고압 호모지나이저를 사용하여 150MPa로 미세화 처리를 10회 행하여, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유 분산액(고형분 농도 5.0질량%)을 얻었다. 이 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 직경은 2.7nm, 평균 섬유 길이는 578nm, 평균 애스펙트비는 214, 카르복실기 함유량은 1.4mmol/g이었다.1.18 g of oxidized pulp 1 and 34.8 g of ion-exchanged water were subjected to fineness treatment at 150 MPa for 10 times using a high-pressure homogenizer to obtain a carboxyl-group-containing microcellulose fiber dispersion (solid concentration 5.0 mass%). The average fiber diameter of the microcellulose fibers was 2.7 nm, the average fiber length was 578 nm, the average aspect ratio was 214, and the carboxyl group content was 1.4 mmol / g.
(제조예 2) (Production Example 2)
105.3g의 산화 펄프 1을 1000g의 이온 교환수로 희석하고, 농염산을 346g 가하여, 산화 펄프 고형분 농도 2.34wt%, 염산 농도 2.5M의 분산액으로 제조하고, 3분간 환류시켰다. 얻어진 산화 펄프를 충분히 세정하여, 고형분 41%의 산 가수분해 TEMPO 산화 펄프를 얻었다. 그 후, 산화 펄프 0.88g과 이온 교환수 35.12g을 고압 호모지나이저를 사용하여 150MPa로 미세화 처리를 10회 행하여, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유 분산액(고형분 농도 5.0질량%)을 얻었다. 이 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 직경은 2.9nm, 평균 섬유 길이는 491nm, 평균 애스펙트비는 169, 카르복실기 함유량은 1.4mmol/g이었다.105.3 g of the oxidized pulp 1 was diluted with 1000 g of ion-exchanged water and 346 g of concentrated hydrochloric acid was added to prepare a dispersion having a concentration of solidified pulp of 2.34% by weight and a hydrochloric acid concentration of 2.5 M and refluxed for 3 minutes. The obtained oxidized pulp was thoroughly washed to obtain an acid hydrolyzed TEMPO oxidized pulp having a solid content of 41%. Thereafter, 0.88 g of oxidized pulp and 35.12 g of ion-exchanged water were subjected to refinement treatment at 150 MPa for 10 times using a high-pressure homogenizer to obtain a carboxyl group-containing microcellulose fiber dispersion (solid concentration: 5.0% by mass). The average fiber diameter of the microcellulose fibers was 2.9 nm, the average fiber length was 491 nm, the average aspect ratio was 169, and the carboxyl group content was 1.4 mmol / g.
(제조예 3) (Production Example 3)
환류 시간을 10분으로 변경한 것 이외는 제조예 2와 마찬가지의 방법으로 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유를 제조하였다. 이 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 직경은 4.6nm, 평균 섬유 길이는 331nm, 평균 애스펙트비는 72, 카르복실기 함유량은 1.4mmol/g, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유 분산액의 고형분 농도는 5.0질량%다.The carboxyl group-containing microcellulose fiber was prepared in the same manner as in Preparation Example 2 except that the refluxing time was changed to 10 minutes. The microfine cellulose fibers had an average fiber diameter of 4.6 nm, an average fiber length of 331 nm, an average aspect ratio of 72, a carboxyl group content of 1.4 mmol / g and a solid content concentration of 5.0% by mass of the carboxyl group-containing microcellulose fiber dispersion.
(제조예 4) (Production Example 4)
산화 펄프 2를 사용한 것 이외는 제조예 3과 마찬가지의 방법으로 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유를 제조하였다. 이 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 직경은 11.0nm, 평균 섬유 길이는 187nm, 평균 애스펙트비는 17, 카르복실기 함유량은 1.1mmol/g, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유 분산액의 고형분 농도는 5.0질량%였다.Carboxyl group-containing microcellulose fibers were produced in the same manner as in Production Example 3 except that oxidized pulp 2 was used. The average microfine cellulose fibers had an average fiber diameter of 11.0 nm, an average fiber length of 187 nm, an average aspect ratio of 17, a carboxyl group content of 1.1 mmol / g, and a solid content concentration of 5.0% by mass of the carboxyl group-containing microcellulose fiber dispersion.
(제조예 5) (Production Example 5)
환류 시간을 60분으로 변경한 것 이외는 제조예 4와 마찬가지의 방법으로 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유를 제조하였다. 이 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 직경은 19.4nm, 평균 섬유 길이는 174nm, 평균 애스펙트비는 9, 카르복실기 함유량은 1.1mmol/g, 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유 분산액의 고형분 농도는 5.0질량%였다.Carboxyl group-containing microcellulose fiber was prepared in the same manner as in Production Example 4, except that the refluxing time was changed to 60 minutes. The microcellulose fibers had an average fiber diameter of 19.4 nm, an average fiber length of 174 nm, an average aspect ratio of 9, a carboxyl group content of 1.1 mmol / g and a solid content concentration of 5.0% by mass of the carboxyl group-containing microcellulose fiber dispersion.
〔수식기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유 DMF 분산액의 제작〕 [Preparation of dispersion of microcellulose fiber DMF having a receiver]
(CNF1) (CNF1)
마그네틱 스터러, 교반자를 구비한 비이커에, 제조예 1에서 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유 40g(고형분 농도 5.0질량%)을 투입하였다. 이어서, 아닐린을, 미세 셀룰로오스 섬유의 카르복실기 1mol에 대하여 아미노기 1.2mol에 상당하는 양, 4-메틸모르폴린 0.34g, 축합제인 DMT-MM을 1.98g 투입하고, DMF 300g 중에 용해시켰다. 반응액을 실온(25℃)에서 14시간 반응시켰다. 반응 종료 후 여과하고, 에탄올로 세정, DMT-MM염을 제거하고, DMF로 세정 및 용매 치환함으로써, 미세 셀룰로오스 섬유에 방향족 탄화수소기가 아미드 결합을 통해 연결된 미세 셀룰로오스 섬유 DMF 분산액을 얻었다. 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유 DMF 분산액의 고형분 농도는 2.2질량%였다.40 g (solid concentration: 5.0% by mass) of the microcellulose fibers obtained in Preparation Example 1 was added to a beaker equipped with a magnetic stirrer and a stirrer. Subsequently, aniline was added to 0.34 g of 4-methylmorpholine and 1.98 g of DMT-MM as a condensing agent in an amount corresponding to 1.2 mol of the amino group to 1 mol of the carboxyl group of the microcellulose fiber and dissolved in 300 g of DMF. The reaction solution was reacted at room temperature (25 ° C) for 14 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was filtered, washed with ethanol, and the DMT-MM salt was removed. The DMF-MM salt was washed with DMF and replaced with a solvent to obtain a DMF dispersion of microcellulose fibers in which aromatic hydrocarbon groups were bonded via amide bonds to the microcellulose fibers. The solid content concentration of the resulting microcellulose fiber DMF dispersion was 2.2% by mass.
(CNF2) (CNF2)
미세 셀룰로오스 섬유로서, 제조예 1에서 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유를 제조예 2에서 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유로 바꾼 것 이외는, CNF1과 마찬가지로 하여 미세 셀룰로오스 섬유 DMF 분산액(고형분 5.0질량%)을 얻었다.A microcellulose fiber DMF dispersion (solid content: 5.0% by mass) was obtained in the same manner as in CNF1 except that the microcellulose fibers obtained in Preparation Example 1 were replaced with the microcellulose fibers obtained in Preparation Example 2 as the microcellulose fibers.
(CNF3) (CNF3)
마그네틱 스터러, 교반자를 구비한 비이커에, 제조예 2에서 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유 35g(고형분 농도 5질량%)을 투입하였다. 이어서, 테트라부틸암모늄히드록시드를, 미세 셀룰로오스 섬유의 카르복실기 1mol에 대하여 아미노기 1mol에 상당하는 양을 투입하고, DMF 300g으로 용해시켰다. 반응액을 실온(25℃)에서 1시간 반응시켰다. 반응 종료 후 여과하고, DMF로 세정함으로써, 미세 셀룰로오스 섬유에 아민염이 결합한 미세 셀룰로오스 섬유를 얻었다. 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유 DMF 분산액의 고형분 농도는 4.0질량%였다.35 g (solid content concentration: 5 mass%) of the fine cellulose fiber obtained in Production Example 2 was added to a beaker equipped with a stirrer and a magnetic stirrer. Subsequently, tetrabutylammonium hydroxide was added in an amount corresponding to 1 mol of the amino group to 1 mol of the carboxyl group of the microcellulose fiber, and dissolved in 300 g of DMF. The reaction solution was reacted at room temperature (25 ° C) for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction product was filtered and washed with DMF to obtain microcellulose fibers having an amine salt bonded to the microcellulose fibers. The solid content concentration of the resulting microcellulose fiber DMF dispersion was 4.0% by mass.
(CNF4) (CNF4)
미세 셀룰로오스 섬유로서, 제조예 2에서 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유를 제조예 3에서 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유로, 테트라부틸암모늄히드록시드를 JEFFAMINE M-600(HUNTSMAN사제)로 바꾼 것 이외는, CNF3과 마찬가지로 하여 미세 셀룰로오스 섬유 DMF 분산액(고형분 8.0질량%)을 얻었다.Except that the microcellulose fibers obtained in Preparation Example 2 were replaced with the fine cellulosic fibers obtained in Preparation Example 3 and the tetrabutylammonium hydroxide was replaced with JEFFAMINE M-600 (manufactured by HUNTSMAN) as the fine cellulosic fibers, A cellulose fiber DMF dispersion (solid content 8.0% by mass) was obtained.
(CNF5) (CNF5)
미세 셀룰로오스 섬유로서, 제조예 1에서 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유를 제조예 4에서 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유로 바꾼 것 이외는, CNF1과 마찬가지로 하여 미세 셀룰로오스 섬유 DMF 분산액(고형분 12.0질량%)을 얻었다.A microcellulose fiber DMF dispersion (solid content 12.0 mass%) was obtained in the same manner as CNF1 except that the microcellulose fibers obtained in Preparation Example 1 were changed to the microcellulose fibers obtained in Preparation Example 4 as microcellulose fibers.
(CNF6) (CNF6)
미세 셀룰로오스 섬유로서, 제조예 1에서 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유를 제조예 5에서 얻어진 미세 셀룰로오스 섬유로, 아닐린을 옥타데실아민으로 바꾼 것 이외는, CNF1과 마찬가지로 하여 미세 셀룰로오스 섬유 DMF 분산액(고형분 13.0질량%)을 얻었다.A microcellulose fiber DMF dispersion (solid content 13.0% by mass) was obtained in the same manner as in CNF1 except that the microcellulose fibers obtained in Preparation Example 1 were replaced with the microcellulose fibers obtained in Preparation Example 5 and the aniline was changed to octadecylamine. ≪ / RTI >
이들 각 미세 셀룰로오스 섬유에 대하여, 하기의 표 1 중에 통합하여 나타낸다.These microcellulose fibers are collectively shown in Table 1 below.
〔경화성 수지 조성물에 사용하는 카르복실기 함유 수지의 제조〕 [Production of carboxyl group-containing resin for use in curable resin composition]
[합성예 1] [Synthesis Example 1]
(바니시 1) (Varnish 1)
교반기, 온도계, 환류 냉각기, 적하 깔때기 및 질소 도입관을 구비한 2리터 세퍼러블 플라스크에, 용매로서의 디에틸렌글리콜디메틸에테르 900g, 및 중합 개시제로서의 t-부틸퍼옥시2-에틸헥사노에이트(니치유(주)제, 상품명; 퍼부틸 O) 21.4g을 가하여, 90℃로 가열하였다. 가열 후, 여기에 메타크릴산 309.9g, 메타크릴산메틸 116.4g, 및 락톤 변성 2-히드록시에틸메타크릴레이트((주)다이셀제, 상품명; 플락셀 FM1) 109.8g을, 중합 개시제인 비스(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트(니치유(주)제, 상품명; 퍼로일 TCP) 21.4g과 함께 3시간에 걸쳐서 적하하여 가하였다. 또한, 이것을 6시간 숙성함으로써, 카르복실기 함유 공중합 수지를 얻었다. 또한, 이들의 반응은 질소 분위기하에서 행하였다.A 2-liter separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was charged with 900 g of diethylene glycol dimethyl ether as a solvent and t-butylperoxy 2-ethylhexanoate (Trade name: Perbutyl O, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), and the mixture was heated to 90 占 폚. After heating, 309.9 g of methacrylic acid, 116.4 g of methyl methacrylate, and 109.8 g of lactone-modified 2-hydroxyethyl methacrylate (Daicel Co., Ltd., trade name: Flaccel FM1) (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate (manufactured by Nichiyu Corporation, product name: Perillo TCP) was added dropwise over 3 hours. This was aged for 6 hours to obtain a carboxyl group-containing copolymer resin. These reactions were carried out in a nitrogen atmosphere.
이어서, 얻어진 카르복실기 함유 공중합 수지에 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트((주)다이셀제, 상품명; 사이크로마 A200) 363.9g, 개환 촉매로서의 디메틸벤질아민 3.6g, 중합 억제제로서의 하이드로퀴논모노메틸에테르 1.80g을 가하고, 100℃로 가열하고, 이것을 교반함으로써, 에폭시의 개환 부가 반응을 행하였다. 16시간 후, 고형분의 산가가 108.9mgKOH/g, 질량 평균 분자량이 25,000인 카르복실기 함유 수지를 53.8질량%(불휘발분) 포함하는 용액을 얻었다.Then, 363.9 g of 3,4-epoxycyclohexylmethylacrylate (Daicel Co., Ltd., product name: Cychroma A200), 3.6 g of dimethylbenzylamine as a ring-opening catalyst, 5 g of hydroquinone monomethyl 1.80 g of ether was added and the mixture was heated to 100 占 폚 and stirred to carry out the ring-opening addition reaction of epoxy. After 16 hours, a solution containing 53.8% by mass (nonvolatile content) of a carboxyl group-containing resin having an acid value of solid content of 108.9 mgKOH / g and a mass average molecular weight of 25,000 was obtained.
[합성예 2] [Synthesis Example 2]
(바니시 2) (Varnish 2)
온도계, 교반기, 적하 깔때기 및 환류 냉각기를 구비한 플라스크에, 용매로서의 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 및 촉매로서의 아조비스이소부티로니트릴을 넣고, 질소 분위기하에서 이것을 80℃로 가열하고, 메타아크릴산과 메틸메타크릴레이트를 0.40:0.60의 몰비로 혼합한 모노머를 약 2시간에 걸쳐서 적하하였다. 또한, 이것을 1시간 교반한 후, 온도를 115℃까지 높이고, 실활시켜 수지 용액을 얻었다.Diethylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent and azobisisobutyronitrile as a catalyst were placed in a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, and the mixture was heated to 80 DEG C under a nitrogen atmosphere, The monomer mixture of methyl methacrylate at a molar ratio of 0.40: 0.60 was added dropwise over about 2 hours. After stirring for 1 hour, the temperature was raised to 115 캜, and the solution was deactivated to obtain a resin solution.
이 수지 용액을 냉각한 후, 이것을 촉매로서 브롬화테트라부틸암모늄을 사용하여, 95 내지 105℃에서 30시간의 조건으로, 부틸글리시딜에테르를 0.40의 몰비로, 얻어진 수지의 카르복실기 등량과 부가 반응시키고, 냉각하였다.After the resin solution was cooled, butylglycidyl ether was added thereto at a molar ratio of 0.40 under the condition of 95 to 105 ° C for 30 hours using tetrabutylammonium bromide as a catalyst, and the resultant was subjected to addition reaction with the carboxyl group equivalent of the obtained resin , And cooled.
또한, 상기에서 얻어진 수지의 OH기에 대하여, 95 내지 105℃에서 8시간의 조건으로, 무수 테트라히드로프탈산을 0.26의 몰비로 부가 반응시켰다. 이것을 냉각 후에 취출하여, 고형분의 산가가 78.1mgKOH/g, 질량 평균 분자량이 35,000인 카르복실기 함유 수지를 50질량%(불휘발분) 포함하는 용액을 얻었다.Further, the OH group of the resin obtained above was subjected to an addition reaction at a molar ratio of 0.26 of anhydrous tetrahydrophthalic acid under the condition of 95 to 105 캜 for 8 hours. This was taken out after cooling to obtain a solution containing 50 mass% (nonvolatile content) of a carboxyl group-containing resin having an acid value of a solid content of 78.1 mgKOH / g and a mass average molecular weight of 35,000.
[합성예 3] [Synthesis Example 3]
(바니시 3) (Varnish 3)
온도계, 교반기, 적하 깔때기 및 환류 냉각기를 구비한 플라스크에, 크레졸노볼락형 에폭시 수지(DIC(주)제, 에피클론 N-680, 에폭시 당량=210) 210g과, 용매로서의 카르비톨아세테이트 96.4g을 가하고, 가열 용해시켰다. 이어서, 이것에 중합 금지제로서의 하이드로퀴논 0.1g, 및 반응 촉매로서의 트리페닐포스핀 2.0g을 가하였다. 이 혼합물을 95 내지 105℃로 가열하고, 아크릴산 72g을 서서히 적하하고, 산가가 3.0mgKOH/g 이하가 될 때까지 약 16시간 반응시켰다. 이 반응 생성물을 80 내지 90℃까지 냉각한 후, 테트라히드로프탈산 무수물 76.1g을 가하고, 적외 흡광 분석에 의해, 산 무수물의 흡수 피크(1780cm-1)가 없어질 때까지 약 6시간 반응시켰다. 이 반응 용액에, 이데미쯔 고산(주)제의 방향족계 용제 이프졸 #150을 96.4g 가하고, 희석한 후에 취출하였다. 이와 같이 하여 얻어진 카르복실기 함유의 감광성 폴리머 용액은 불휘발분이 65질량%, 고형분의 산가가 78mgKOH/g이었다.210 g of cresol novolak type epoxy resin (Epiclon N-680, manufactured by DIC Corporation, epoxy equivalent = 210) and 96.4 g of carbitol acetate as a solvent were placed in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser Followed by heating and dissolution. Then, 0.1 g of hydroquinone as a polymerization inhibitor and 2.0 g of triphenylphosphine as a reaction catalyst were added thereto. The mixture was heated to 95 to 105 DEG C, and 72 g of acrylic acid was gradually added dropwise, and the reaction was carried out for about 16 hours until the acid value became 3.0 mgKOH / g or less. After the reaction product was cooled to 80 to 90 캜, 76.1 g of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted for about 6 hours by infrared absorption analysis until the absorption peak (1780 cm -1 ) of the acid anhydride disappeared. To this reaction solution, 96.4 g of aromatic solvent Solp Sol # 150 manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd. was added, and the solution was taken out after dilution. The thus-obtained photosensitive polymer solution containing the carboxyl group had a nonvolatile content of 65% by mass and an acid value of a solid content of 78 mgKOH / g.
〔경화성 수지 조성물의 제조〕 [Preparation of curable resin composition]
하기의 표 2 내지 6 중의 기재에 따라 각 성분을 배합 교반한 후, 요시다 기까이 고교제 고압 호모지나이저 Nanovater NVL-ES008을 사용하고, 6회 반복하여 분산시켜 각 조성물을 제조하였다. 또한, 표 2 내지 6 중의 수치는, 질량부를 나타낸다.Each component was mixed and stirred in accordance with the description in the following Tables 2 to 6, and then each composition was prepared by dispersing it six times using a high-pressure homogenizer Nanovater NVL-ES008 manufactured by Yoshida Kagai Kogyo Co., Ltd. The numerical values in Tables 2 to 6 indicate mass parts.
<점도 측정> <Viscosity Measurement>
각 조성물의 점도를, 도끼 산교제 콘플레이트형 점도계 TPE-100-H로 콘플레이트 1°34′을 사용하고, 회전수 0.5rpm으로 측정하였다. 그 결과를 표 2 내지 6에 나타낸다. 또한, 장치의 측정 한계를 초과하여, 측정할 수 없었던 조성물은 불가능이라 하였다.The viscosity of each composition was measured using a cone plate 1 ° 34 'with an axon contact cone plate type viscometer TPE-100-H at a rotation number of 0.5 rpm. The results are shown in Tables 2 to 6. In addition, it was impossible to make a composition that could not be measured beyond the measurement limit of the apparatus.
<열팽창 측정용 샘플의 제작> ≪ Preparation of sample for thermal expansion measurement >
(열경화성 수지 조성물) (Thermosetting resin composition)
두께 38㎛의 PET 필름에 갭 120㎛의 애플리케이터로 각 조성물을 도포하고, 열풍 순환식 건조로에서 90℃ 10분간 건조시켜, 각 조성물의 수지층을 갖는 드라이 필름을 얻었다. 그 후, 두께 18㎛의 구리박에 진공 라미네이터에서 60℃, 압력 0.5MPa의 조건으로 60초간 압착하여 각 조성물의 수지층을 라미네이트하여, PET 필름을 박리하였다. 이어서, 열풍 순환식 건조로에서 180℃ 30분 가열하여 경화시키고, 구리박을 박리하여 경화막의 샘플을 얻었다. 또한, 조성물의 점도가 높고, 애플리케이터로 도포할 수 없었던 조성물은 불가능이라 하였다.Each composition was coated on a PET film having a thickness of 38 mu m with an applicator having a gap of 120 mu m and dried at 90 DEG C for 10 minutes in a hot air circulation type drying furnace to obtain a dry film having a resin layer of each composition. Then, a copper foil having a thickness of 18 탆 was pressed in a vacuum laminator at 60 캜 under a pressure of 0.5 MPa for 60 seconds to laminate the resin layers of each composition, and the PET film was peeled off. Then, it was cured by heating in a hot air circulation type drying furnace at 180 DEG C for 30 minutes, and the copper foil was peeled off to obtain a sample of the cured film. Further, it was considered impossible to prepare a composition which had a high viscosity and could not be applied with an applicator.
(광경화성 수지 조성물) (Photo-curable resin composition)
두께 18㎛의 구리박을 두께 1.6mm의 FR-4 동장 적층판에 붙이고, 갭 120㎛의 애플리케이터로 각 조성물을 도포하고, 열풍 순환식 건조로에서 90℃ 10분간 건조시켰다. 그 후, 120W/cm의 컨베이어형 고압 수은등으로 적산 광량 2000mJ/cm2로 조사하였다. 그리고, 구리박을 박리하여 경화막의 샘플을 얻었다. 또한, 조성물의 점도가 높고, 애플리케이터로 도포할 수 없었던 조성물은 불가능이라 하였다.A copper foil having a thickness of 18 mu m was attached to an FR-4 copper clad laminate having a thickness of 1.6 mm, each composition was coated with an applicator having a gap of 120 mu m, and dried in a hot air circulation type drying oven at 90 DEG C for 10 minutes. Thereafter, the sample was irradiated with a cumulative light quantity of 2000 mJ / cm 2 using a conveyor type high-pressure mercury lamp of 120 W / cm. Then, the copper foil was peeled off to obtain a sample of the cured film. Further, it was considered impossible to prepare a composition which had a high viscosity and could not be applied with an applicator.
(광경화성 열경화성 수지 조성물) (Photo-curable thermosetting resin composition)
두께 18㎛의 구리박을 두께 1.6mm의 FR-4 동장 적층판에 붙이고, 갭 120㎛의 애플리케이터로 각 조성물을 도포하고, 열풍 순환식 건조로에서 90℃ 10분간 건조시켰다. 그 후, 3mm 폭×30mm 길이의 패턴이 붙은 네거티브 마스크를 밀착시키고, 프린트 배선판용 메탈 할라이드 램프 노광기로 700mJ/cm2로 노광하였다. 이어서, 30℃의 1wt% Na2CO3의 현상액을 사용하여, 현상기로 60초간 현상하였다. 그 후, 열풍 순환식 건조로에서 150℃ 60분 가열하여 경화시키고, 구리박을 박리하여 경화막의 샘플을 얻었다. 또한, 조성물의 점도가 높고, 애플리케이터로 도포할 수 없었던 조성물은 불가능이라 하였다.A copper foil having a thickness of 18 mu m was attached to an FR-4 copper clad laminate having a thickness of 1.6 mm, each composition was coated with an applicator having a gap of 120 mu m, and dried in a hot air circulation type drying oven at 90 DEG C for 10 minutes. Thereafter, a negative mask with a pattern of 3 mm wide × 30 mm long was closely contacted and exposed at 700 mJ / cm 2 using a metal halide lamp exposure apparatus for printed wiring boards. Subsequently, the resist film was developed with a developer of 1 wt% Na 2 CO 3 at 30 ° C for 60 seconds. Thereafter, it was cured by heating in a hot air circulation type drying furnace at 150 DEG C for 60 minutes, and the copper foil was peeled off to obtain a sample of the cured film. Further, it was considered impossible to prepare a composition which had a high viscosity and could not be applied with an applicator.
<열팽창률의 측정> <Measurement of Thermal Expansion Rate>
(열경화성 수지 조성물 및 광경화성 수지 조성물) (Thermosetting resin composition and photocurable resin composition)
제작한 열팽창 측정용 샘플을, 3mm 폭×30mm 길이로 커트하였다. 이 시험편을 티·에이·인스트루먼트사제 TMA(Thermomechanical Analysis) Q400을 사용하여, 인장 모드로 척간 16mm, 하중 30mN, 질소 분위기하에서 20부터 250℃까지 5℃/분으로 승온하고, 이어서 250부터 20℃까지 5℃/분으로 강온하여 측정하였다. 강온시에 있어서의 30℃부터 100℃의 평균 열팽창률 α1 및 200℃부터 230℃의 평균 열팽창률 α2를 구하였다. 그 결과를 표 2 내지 6에 나타낸다.The prepared thermal expansion measurement sample was cut into a length of 3 mm width x 30 mm. This test piece was heated in a tensile mode at a rate of 5 DEG C / min from 20 to 250 DEG C under a nitrogen atmosphere at a chuck distance of 16 mm and a load of 30 mN using TMA (Thermomechanical Analysis) Q400 manufactured by T.A. And then cooled at a rate of 5 DEG C / min. An average coefficient of thermal expansion? 1 at 30 DEG C to 100 DEG C during the temperature lowering and an average coefficient of thermal expansion? 2 at 200 DEG C to 230 DEG C were obtained. The results are shown in Tables 2 to 6.
(광경화성 열경화성 수지 조성물) (Photo-curable thermosetting resin composition)
제작한 샘플을 그대로 사용한 것 이외는, 열경화성 수지 조성물 및 광경화성 수지 조성물과 동일한 방법으로 행하였다. 결과를 표 2 내지 6에 나타낸다.The same procedure as in the case of the thermosetting resin composition and the photo-curing resin composition was carried out except that the prepared sample was used as it was. The results are shown in Tables 2 to 6.
<도금 구리의 필 강도 측정용 샘플의 제작> ≪ Preparation of sample for measuring the peel strength of plated copper &
(열경화성 수지 조성물) (Thermosetting resin composition)
두께 38㎛의 PET 필름에 갭 120㎛의 애플리케이터로 각 조성물을 도포하고, 열풍 순환식 건조로에서 90℃ 10분간 건조시켜 각 조성물의 수지층을 갖는 드라이 필름을 얻었다. 그 후, 두께 1.6mm의 FR-4 동장 적층판에 진공 라미네이터로 60℃, 압력 0.5MPa의 조건으로 60초간 압착하여 각 조성물의 수지층을 라미네이트하여, PET 필름을 박리하였다. 이어서, 열풍 순환식 건조로에서 180℃ 30분 가열하여 경화시켰다. 그리고, 과망간산 디스미어(ATOTECH사제), 무전해 구리 도금(스루컵 PEA, 우에무라 고교사제), 전해 구리 도금 처리의 순서로 처리를 행하여, 수지층 상에 구리 두께 25㎛의 구리 도금 처리를 실시하였다. 이어서, 열풍 순환식 건조로에서 190℃에서 60분간 어닐 처리를 행하여, 구리 도금 처리를 실시한 시험 기판을 얻었다. 또한, 조성물의 점도가 높고, 애플리케이터로 도포할 수 없었던 조성물은 불가능이라 하였다.Each composition was applied to a PET film having a thickness of 38 mu m with an applicator having a gap of 120 mu m and dried at 90 DEG C for 10 minutes in a hot air circulation type drying furnace to obtain a dry film having a resin layer of each composition. Thereafter, the FR-4 copper-clad laminate having a thickness of 1.6 mm was pressed with a vacuum laminator at 60 DEG C under a pressure of 0.5 MPa for 60 seconds to laminate the resin layer of each composition and peel off the PET film. Then, it was cured by heating in a hot air circulation type drying furnace at 180 DEG C for 30 minutes. Then, the copper plating treatment was carried out in the order of permanganic acid dismear (manufactured by ATOTECH), electroless copper plating (through cup PEA, manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.) and electrolytic copper plating treatment, Respectively. Subsequently, annealing was performed at 190 캜 for 60 minutes in a hot-air circulating type drying furnace to obtain a test substrate subjected to copper plating treatment. Further, it was considered impossible to prepare a composition which had a high viscosity and could not be applied with an applicator.
(광경화성 수지 조성물) (Photo-curable resin composition)
두께 1.6mm의 FR-4 동장 적층판에 갭 120㎛의 애플리케이터로 각 조성물을 도포하고, 열풍 순환식 건조로에서 90℃ 10분간 건조시켰다. 그 후, 120W/cm의 컨베이어형 고압 수은등으로 적산 광량 2000mJ/cm2로 건조막에 조사하였다. 그리고, 과망간산 디스미어(ATOTECH사제), 무전해 구리 도금(스루컵 PEA, 우에무라 고교사제), 전해 구리 도금 처리의 순서로 처리를 행하여, 경화막 상에 구리 두께 25㎛의 구리 도금 처리를 실시하였다. 이어서, 열풍 순환식 건조로에서 190℃에서 60분간 어닐 처리를 행하여, 구리 도금 처리를 실시한 시험 기판을 얻었다. 또한, 조성물의 점도가 높고, 애플리케이터로 도포할 수 없었던 조성물은 불가능이라 하였다.Each composition was applied to an FR-4 copper-clad laminate having a thickness of 1.6 mm with an applicator having a gap of 120 탆 and dried in a hot-air circulation type drying oven at 90 캜 for 10 minutes. Thereafter, the dried film was irradiated with a cumulative light quantity of 2000 mJ / cm 2 using a conveyor type high-pressure mercury lamp of 120 W / cm. Then, a treatment was conducted in the order of permanganic acid dismear (manufactured by ATOTECH), electroless copper plating (through cup PEA, manufactured by UEMURA KOGYO CO., LTD.) And electrolytic copper plating treatment, and copper plating treatment of copper thickness of 25 μm was carried out on the cured film Respectively. Subsequently, annealing was performed at 190 캜 for 60 minutes in a hot-air circulating type drying furnace to obtain a test substrate subjected to copper plating treatment. Further, it was considered impossible to prepare a composition which had a high viscosity and could not be applied with an applicator.
(광경화성 열경화성 수지 조성물) (Photo-curable thermosetting resin composition)
두께 1.6mm의 FR-4 동장 적층판에 갭 120㎛의 애플리케이터로 각 조성물을 도포하고, 열풍 순환식 건조로에서 90℃ 10분간 건조시켰다. 그 후, 전체면 투명한 마스크를 밀착시키고, 프린트 배선판용 메탈 할라이드 램프 노광기로 700mJ/cm2로 노광하였다. 이어서, 30℃의 1wt% Na2CO3의 현상액을 사용하여, 현상기로 60초간 현상하였다. 그 후, 열풍 순환식 건조로에서 150℃ 60분 가열하여 경화시켰다. 그리고, 과망간산 디스미어(ATOTECH사제), 무전해 구리 도금(스루컵 PEA, 우에무라 고교사제), 전해 구리 도금 처리의 순서로 처리를 행하여, 경화막 상에 구리 두께 25㎛의 구리 도금 처리를 실시하였다. 이어서, 열풍 순환식 건조로에서 190℃에서 60분간 어닐 처리를 행하여, 구리 도금 처리를 실시한 시험 기판을 얻었다. 조성물의 점도가 높고, 애플리케이터로 도포할 수 없었던 조성물은 불가능이라 하였다.Each composition was applied to an FR-4 copper-clad laminate having a thickness of 1.6 mm with an applicator having a gap of 120 탆 and dried in a hot-air circulation type drying oven at 90 캜 for 10 minutes. Thereafter, the entire surface transparent mask was closely contacted and exposed at 700 mJ / cm 2 using a metal halide lamp exposure apparatus for printed wiring boards. Subsequently, the resist film was developed with a developer of 1 wt% Na 2 CO 3 at 30 ° C for 60 seconds. Thereafter, it was cured by heating in a hot air circulation type drying furnace at 150 DEG C for 60 minutes. Then, a treatment was conducted in the order of permanganic acid dismear (manufactured by ATOTECH), electroless copper plating (through cup PEA, manufactured by UEMURA KOGYO CO., LTD.) And electrolytic copper plating treatment, and copper plating treatment of copper thickness of 25 μm was carried out on the cured film Respectively. Subsequently, annealing was performed at 190 캜 for 60 minutes in a hot-air circulating type drying furnace to obtain a test substrate subjected to copper plating treatment. It was impossible to prepare a composition which had a high viscosity and could not be applied with an applicator.
<도금 구리의 필 강도 측정> <Measurement of Peel Strength of Plated Copper>
제작한 도금 구리 처리 샘플을 1cm 폭, 길이 7cm 이상으로 잘라내고, 시마즈 세이사꾸쇼제 소형 탁상 시험기 EZ-SX를 사용하고, 90° 프린트 박리 지그를 사용하여, 90도의 각도에서의 박리 강도를 구하였다. 그 결과를 표 2 내지 6에 나타낸다.The prepared copper-plated copper sample was cut to a width of 1 cm and a length of 7 cm or more, and the peel strength at an angle of 90 degrees was measured using a 90 ° print peeling jig using a small table tester EZ-SX manufactured by Shimadzu Seisakusho Co., Respectively. The results are shown in Tables 2 to 6.
<화학 연마 처리 구리박의 필 강도 측정용 샘플의 제작> ≪ Preparation of Sample for Peel Strength Measurement of Chemical Polished Copper foil >
(열경화성 수지 조성물) (Thermosetting resin composition)
(공정 1) (Step 1)
두께 38㎛의 PET 필름에 갭 120㎛의 애플리케이터로 각 조성물을 도포하고, 열풍 순환식 건조로에서 90℃ 10분간 건조시켜, 각 조성물의 수지층을 형성한 필름을 제작하였다. 또한, 조성물의 점도가 높고, 애플리케이터로 도포할 수 없었던 조성물은 불가능이라 하였다.Each composition was applied to a PET film having a thickness of 38 mu m with an applicator having a gap of 120 mu m and dried in a hot air circulation type drying oven at 90 DEG C for 10 minutes to prepare a film in which a resin layer of each composition was formed. Further, it was considered impossible to prepare a composition which had a high viscosity and could not be applied with an applicator.
(공정 2) (Step 2)
두께 1.6mm의 FR-4 동장 적층판에 염화제2철을 사용한 에칭법으로 완전히 구리박을 제거한 판(이하, 간단히 「에치 아웃판」이라 한다)에, 4변이 이 제1 에치 아웃판보다도 조금 작은 18㎛ 두께의 전해 구리박의 4변을 내약품성 점착 테이프로 고정하였다. 이 상태에서는 테이프 부착 개소 이외는 전해 구리박이 노출되어 있는 상태이다. 이어서, 맥크사제 에치 본드 CZ-8101로 붙인 전해 구리박을 화학 연마하여, 구리박 부착 기판을 제작하였다.The FR-4 copper-clad laminate having a thickness of 1.6 mm was coated with a copper foil (hereinafter simply referred to as " etch-out plate ") with a copper foil completely removed by an etching method using ferric chloride, Four sides of an electrolytic copper foil having a thickness of 18 mu m were fixed with a chemical-resistant adhesive tape. In this state, the electrolytic copper foil is exposed except for the tape adhered portion. Subsequently, an electrolytic copper foil adhered with Etch Bond CZ-8101 manufactured by Mack Co. was chemically polished to prepare a copper foil-attached substrate.
(공정 3) (Step 3)
상기 공정 1에서 제작한 필름의 수지층면을, 상기 공정 2에서 제작한 구리박 부착 기판의 구리박면에 진공 라미네이터로 60℃, 압력 0.5MPa의 조건으로 60초간 압착하였다. 그 후 PET 필름을 박리하였다. 이어서, 열풍 순환식 건조로에서 180℃ 30분 가열하여 경화시켜, 구리박 부착 기판의 구리박 상에 각 조성물의 경화막이 형성된 시험편을 제작하였다.The resin layer surface of the film produced in the above step 1 was pressed on the copper foil surface of the copper foil-attached substrate produced in the above step 2 with a vacuum laminator at 60 캜 under a pressure of 0.5 MPa for 60 seconds. Thereafter, the PET film was peeled off. Subsequently, the resultant was heated in a hot air circulating type drying oven at 180 DEG C for 30 minutes to cure, thereby preparing a test piece having a cured film of each composition formed on a copper foil of a copper foil-attached substrate.
(공정 4) (Step 4)
공정 3에서 제작한 시험편의 경화막면에, 시험편의 구리박보다도 4변이 조금 작은 제2 에치 아웃판을 2액성 에폭시계 접착제(아랄다이트 스탠다드)로 접착하고, 실온에서 60분 방치한 후 60℃ 5시간 경화시켰다. 경화 후에 접착한 제2 에치 아웃판의 크기로 커터로 잘라내어, 제1 에치 아웃판으로부터 이탈하여 표리를 역전하고, 제2 에치 아웃판에 접착된 각 조성물의 경화막에 화학 연마된 구리박이 형성되어 있는 필 강도 측정용 샘플을 제작하였다.A second etch-out plate slightly smaller in four sides than the copper foil of the test piece was adhered to the cured film surface of the test piece prepared in step 3 with a two-liquid epoxy adhesive (Araldite Standard), left at room temperature for 60 minutes, And cured for 5 hours. After the curing, the second etch-out plate adhered to the second etch-out plate was cut with a cutter to remove the first etch-out plate from the first etch-out plate, and the chemically polished copper foil was formed on the cured film of each composition bonded to the second etch- A sample for measuring the peel strength was prepared.
(광경화성 수지 조성물) (Photo-curable resin composition)
(공정 1) (Step 1)
두께 1.6mm의 FR-4 동장 적층판에 염화제2철을 사용한 에칭법으로 완전히 구리박을 제거한 판(이하, 간단히 「에치 아웃판」이라 한다)에, 4변이 이 제1 에치 아웃판보다도 조금 작은 18㎛ 두께의 전해 구리박의 4변을 내약품성 점착 테이프로 고정하였다. 이 상태에서는 테이프 부착 개소 이외는 전해 구리박이 노출되어 있는 상태이다. 이어서, 맥크사제 에치 본드 CZ-8101로 붙인 전해 구리박을 화학 연마하여, 구리박 부착 기판을 제작하였다.The FR-4 copper-clad laminate having a thickness of 1.6 mm was coated with a copper foil (hereinafter simply referred to as " etch-out plate ") with a copper foil completely removed by an etching method using ferric chloride, Four sides of an electrolytic copper foil having a thickness of 18 mu m were fixed with a chemical-resistant adhesive tape. In this state, the electrolytic copper foil is exposed except for the tape adhered portion. Subsequently, an electrolytic copper foil adhered with Etch Bond CZ-8101 manufactured by Mack Co. was chemically polished to prepare a copper foil-attached substrate.
(공정 2) (Step 2)
상기 공정 1에서 제작한 구리박 부착 기판에 갭 120㎛의 애플리케이터로 각 조성물을 도포하고, 열풍 순환식 건조로에서 90℃ 10분간 건조시켰다. 그 후, 120W/cm의 컨베이어형 고압 수은등으로 적산 광량 2000mJ/cm2로 조사하여, 구리박 부착 기판의 구리박 상에 각 조성물의 경화막이 형성된 시험편을 제작하였다. 또한, 조성물의 점도가 높고, 애플리케이터로 도포할 수 없었던 조성물은 불가능이라 하였다.Each composition was applied to the copper foil-bonded substrate prepared in the above step 1 with an applicator having a gap of 120 탆 and dried at 90 캜 for 10 minutes in a hot air circulation type drying furnace. Thereafter, the test piece was irradiated with a cumulative light quantity of 2000 mJ / cm 2 with a conveyer type high-pressure mercury lamp of 120 W / cm to prepare a test piece having a cured film of each composition formed on a copper foil of a copper foil- Further, it was considered impossible to prepare a composition which had a high viscosity and could not be applied with an applicator.
(공정 3) (Step 3)
상기 공정 2에서 제작한 시험편의 경화막면에, 시험편의 구리박보다도 4변이 조금 작은 제2 에치 아웃판을 2액성 에폭시계 접착제(아랄다이트 스탠다드)로 접착하고, 실온에서 60분 방치한 후 60℃ 5시간 경화시켰다. 경화 후에 접착한 제2 에치 아웃판의 크기로 커터로 잘라내어, 제1 에치 아웃판으로부터 이탈하여 표리를 역전하고, 제2 에치 아웃판에 접착된 각 조성물의 경화막에 화학 연마된 구리박이 형성되어 있는 필 강도 측정용 샘플을 제작하였다.A second etch-out plate slightly smaller in four sides than the copper foil of the test piece was adhered to the cured film surface of the test piece prepared in the above step 2 with a two-liquid epoxy adhesive (Araldite Standard), left at room temperature for 60 minutes, Lt; 0 > C for 5 hours. After the curing, the second etch-out plate adhered to the second etch-out plate was cut with a cutter to remove the first etch-out plate from the first etch-out plate, and the chemically polished copper foil was formed on the cured film of each composition bonded to the second etch- A sample for measuring the peel strength was prepared.
(광경화성 열경화성 수지 조성물) (Photo-curable thermosetting resin composition)
(공정 1) (Step 1)
두께 1.6mm의 FR-4 동장 적층판에 염화제2철을 사용한 에칭법으로 완전히 구리박을 제거한 판(이하, 간단히 「에치 아웃판」이라 한다)에, 4변이 이 제1 에치 아웃판보다도 조금 작은 18㎛ 두께의 전해 구리박의 4변을 내약품성 점착 테이프로 고정하였다. 이 상태에서는 테이프 부착 개소 이외는 전해 구리박이 노출되어 있는 상태이다. 이어서, 맥크사제 에치 본드 CZ-8101로 붙인 전해 구리박을 화학 연마하여, 구리박 부착 기판을 제작하였다.The FR-4 copper-clad laminate having a thickness of 1.6 mm was coated with a copper foil (hereinafter simply referred to as " etch-out plate ") with a copper foil completely removed by an etching method using ferric chloride, Four sides of an electrolytic copper foil having a thickness of 18 mu m were fixed with a chemical-resistant adhesive tape. In this state, the electrolytic copper foil is exposed except for the tape adhered portion. Subsequently, an electrolytic copper foil adhered with Etch Bond CZ-8101 manufactured by Mack Co. was chemically polished to prepare a copper foil-attached substrate.
(공정 2) (Step 2)
상기 공정 1에서 제작한 구리박 부착 기판에 갭 120㎛의 애플리케이터로 각 조성물을 도포하고, 열풍 순환식 건조로에서 90℃ 10분간 건조시켰다. 그 후, 전체면 투명한 마스크를 밀착시키고, 프린트 배선판용 메탈 할라이드 램프 노광기로 700mJ/cm2로 노광하였다. 이어서, 30℃의 1wt% Na2CO3의 현상액을 사용하여, 현상기로 60초간 현상하였다. 그 후, 열풍 순환식 건조로에서 150℃ 60분 가열하여 경화시켜, 구리박 부착 기판의 구리박 상에 각 조성물의 경화막이 형성된 시험편을 제작하였다. 또한, 조성물의 점도가 높고, 애플리케이터로 도포할 수 없었던 조성물은 불가능이라 하였다.Each composition was applied to the copper foil-bonded substrate prepared in the above step 1 with an applicator having a gap of 120 탆 and dried at 90 캜 for 10 minutes in a hot air circulation type drying furnace. Thereafter, the entire surface transparent mask was closely contacted and exposed at 700 mJ / cm 2 using a metal halide lamp exposure apparatus for printed wiring boards. Subsequently, the resist film was developed with a developer of 1 wt% Na 2 CO 3 at 30 ° C for 60 seconds. Thereafter, the resultant was heated in a hot-air circulation type drying furnace at 150 DEG C for 60 minutes to be cured, and a test piece on which a cured film of each composition was formed on a copper foil of a copper foil- Further, it was considered impossible to prepare a composition which had a high viscosity and could not be applied with an applicator.
(공정 3) (Step 3)
상기 공정 2에서 제작한 시험편의 경화막면에, 시험편의 구리박보다도 4변이 조금 작은 제2 에치 아웃판을 2액성 에폭시계 접착제(아랄다이트 스탠다드)로 접착하고, 실온에서 60분 방치한 후 60℃ 5시간 경화시켰다. 경화 후에 접착한 제2 에치 아웃판의 크기로 커터로 잘라내어, 제1 에치 아웃판으로부터 이탈하여 표리를 역전하고, 제2 에치 아웃판에 접착된 각 조성물의 경화막에 화학 연마된 구리박이 형성되어 있는 필 강도 측정용 샘플을 제작하였다.A second etch-out plate slightly smaller in four sides than the copper foil of the test piece was adhered to the cured film surface of the test piece prepared in the above step 2 with a two-liquid epoxy adhesive (Araldite Standard), left at room temperature for 60 minutes, Lt; 0 > C for 5 hours. After the curing, the second etch-out plate adhered to the second etch-out plate was cut with a cutter to remove the first etch-out plate from the first etch-out plate, and the chemically polished copper foil was formed on the cured film of each composition bonded to the second etch- A sample for measuring the peel strength was prepared.
<화학 연마 처리 구리박의 필 강도 측정> ≪ Peel strength measurement of chemical polishing copper foil &
제작한 필 강도 측정용 샘플을 1cm 폭, 길이 7cm 이상으로 잘라내고, 시마즈 세이사꾸쇼제 소형 탁상 시험기 EZ-SX를 사용하고, 90° 프린토 박리 지그를 사용하여, 90도의 각도에서의 박리 강도를 구하였다. 그 결과를 표 2 내지 6에 나타낸다.The sample for peel strength measurement was cut out to a width of 1 cm and a length of 7 cm or more and a peel strength at an angle of 90 degrees was measured using a 90 ° printer peeling jig using a small desk tester EZ-SX manufactured by Shimadzu Seisakusho Co., Respectively. The results are shown in Tables 2 to 6.
<열 처리 후의 화학 연마 처리 구리박의 박리> ≪ Peeling of chemical polishing treated copper foil after heat treatment >
제작한 화학 연마 처리 구리박 부착 샘플을 1cm 폭, 길이 7cm 이상으로 잘라내고, 흡습한 수분을 제거하기 위해 100℃에서 60분간 건조하였다. 건조 후의 샘플을 리플로우로(최고 270℃)에서 3회 반복 처리한 후, 화학 연마 처리 구리박의 박리의 유무를 눈으로 보아 확인하였다. 박리가 없었던 것을 ○, 박리된 것을 ×라 하였다. 그 결과를 표 2 내지 6에 나타낸다.A sample with a chemical polishing copper foil prepared was cut to a width of 1 cm and a length of 7 cm or more and dried at 100 ° C for 60 minutes to remove moisture. After drying, the sample was repeatedly subjected to reflow treatment (maximum 270 DEG C) three times, and the presence or absence of peeling of the chemical polishing treated copper foil was visually confirmed. &Quot;, " peeled ", and " x " The results are shown in Tables 2 to 6.
열경화성 수지 1: 에피클론 830(비스페놀 F형 에폭시 수지) DIC(주)제Thermosetting resin 1: Epiclon 830 (bisphenol F type epoxy resin) manufactured by DIC Corporation
열경화성 수지 2: JER827(비스페놀 A형 에폭시 수지) 미쯔비시 가가꾸(주)제Thermosetting resin 2: JER827 (bisphenol A type epoxy resin) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation
열경화성 수지 3: EPPN-502H(트리페닐메탄형 에폭시 수지) 닛본 가야꾸(주)제(고형분 60% 시클로헥사논 바니시) Thermosetting resin 3: EPPN-502H (triphenylmethane type epoxy resin) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (solid content 60% cyclohexanone varnish)
열경화성 수지 4: FX-293(플루오렌형 페녹시 수지) 신닛테츠 스미또모 가가꾸(주)제(고형분 30% 시클로헥사논 바니시) Thermosetting resin 4: FX-293 (Fluorene type phenoxy resin) (manufactured by Shinnitetsu Sumitomo Chemical Co., Ltd. (solid content 30% cyclohexanone varnish)
열경화성 수지 5: HF-1(페놀노볼락 수지) 메이와 가세이(주)제(고형분 60% 시클로헥사논 바니시) Thermosetting resin 5: HF-1 (phenol novolac resin) (manufactured by Meiwa Chemical Industries, Ltd.) (solid content 60% cyclohexanone varnish)
경화 촉매 1: 2E4MZ(2-에틸-4-메틸이미다졸) 시꼬꾸 가세이 고교(주)제Curing catalyst 1: 2E4MZ (2-ethyl-4-methylimidazole) manufactured by Shikoku Chemicals Co.,
필러 1: 실리카, 애드마파인 SO-C2(주) 애드마텍스제Filler 1: Silica, Admapine SO-C2 (manufactured by Admatechs Co., Ltd.)
필러 2: 황산바륨, B-30 사까이 가가꾸 고교(주)제Filler 2: barium sulfate, B-30 manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.
유기 용제 1: 디메틸포름아미드Organic solvent 1: Dimethylformamide
소포제 1: 빅 케미·재팬(주)제 BYK-352Antifoaming agent 1: BYK-352 manufactured by Big Chem Japan Co., Ltd.
광경화성 수지 1: 비스페놀 A형 에폭시아크릴레이트 미쯔비시 가가꾸(주)제Photo-curable resin 1: bisphenol A type epoxy acrylate [0154] Mitsubishi Chemical Co., Ltd.
광경화성 수지 2: 트리메틸올프로판트리아크릴레이트Photocurable resin 2: Trimethylolpropane triacrylate
광경화성 수지 3: 가야마 PM2(인산수소=비스[2-(메타크릴로일옥시)에틸])닛본 가야꾸(주)제Photocurable resin 3: Kayama PM2 (hydrogen phosphate = bis [2- (methacryloyloxy) ethyl]) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
광경화성 수지 4: 라이트에스테르 HO 교에샤 가가꾸(주)제Photocurable resin 4: Light ester HO Kyoe Shagaku Co., Ltd.
광중합 개시제 1: 2-에틸안트라퀴논Photopolymerization initiator 1: 2-Ethylanthraquinone
착색제 1: 프탈로시아닌 블루Colorant 1: Phthalocyanine blue
경화 촉매 2: 미분쇄 멜라민 닛산 가가꾸(주)제Curing catalyst 2: fine pulverized melamine manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
경화 촉매 3: 디시안디아미드Curing catalyst 3: Dicyandiamide
광중합 개시제 2: 이르가큐어 907 BASF(주)제Photopolymerization initiator 2: Irgacure 907 manufactured by BASF
광경화성 수지 5: 디펜타에리트리톨테트라아크릴레이트Photocurable resin 5: Dipentaerythritol tetraacrylate
열경화성 수지 6: TEPIC-H(트리글리시딜이소시아누레이트) 닛산 가가꾸(주)제Thermosetting resin 6: TEPIC-H (triglycidyl isocyanurate) [0158]
이상 상세히 기술한 바와 같이, 평균 섬유 직경이 0.1nm 이상 200nm 이하이고, 평균 섬유 길이가 600nm 이하이고, 평균 섬유 직경과 평균 섬유 길이의 비를 나타내는 애스펙트비가 1 이상 200 이하인 카르복실기 함유 미세 셀룰로오스 섬유로부터 얻어지는 소수화 미세 셀룰로오스 섬유와, 경화성 수지를 포함하는 경화성 수지 조성물을 사용함으로써, 저열팽창성이며, 금속 도체와의 밀착성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다는 것이 확인되었다.As described in detail above, it is possible to obtain a cellulose-containing microcellulose fiber having an average fiber diameter of not less than 0.1 nm and not more than 200 nm, an average fiber length of not more than 600 nm, and an aspect ratio of not less than 1 but not more than 200 showing a ratio of an average fiber diameter to an average fiber length It has been confirmed that a cured product having low heat expansion and excellent adhesion to a metal conductor can be obtained by using the curable resin composition comprising the hydrophobic microcellulose fiber and the curable resin.
Claims (6)
상기 카르복실기를 갖는 미세 셀룰로오스 섬유의 평균 섬유 직경이 0.1nm 이상 200nm 이하이고, 평균 섬유 길이가 600nm 이하이고, 또한 평균 애스펙트비가 1 이상 200 이하인 것을 특징으로 하는 프린트 배선판용 경화성 수지 조성물.A resin composition comprising a microcellulose fiber in which a corresponding carboxyl group of a microcellulose fiber having a carboxyl group is hydrophobically modified by at least one of an amine compound and a quaternary ammonium compound and a curable resin,
Wherein the microcellulose fibers having carboxyl groups have an average fiber diameter of not less than 0.1 nm and not more than 200 nm and an average fiber length of not more than 600 nm and an average aspect ratio of not less than 1 and not more than 200. The curable resin composition for printed wiring boards according to claim 1,
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2016-156944 | 2016-08-09 | ||
JP2016156944 | 2016-08-09 | ||
PCT/JP2017/028927 WO2018030465A1 (en) | 2016-08-09 | 2017-08-09 | Curable resin composition for printed wiring board, dry film, cured product, and printed wiring board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190050980A true KR20190050980A (en) | 2019-05-14 |
Family
ID=61162357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197006887A KR20190050980A (en) | 2016-08-09 | 2017-08-09 | Curable resin composition for printed wiring board, dry film, cured product and printed wiring board |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2018024878A (en) |
KR (1) | KR20190050980A (en) |
CN (1) | CN109565932A (en) |
TW (1) | TW201817783A (en) |
WO (1) | WO2018030465A1 (en) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6910703B2 (en) * | 2016-09-16 | 2021-07-28 | 第一工業製薬株式会社 | Thermosetting resin composition |
WO2018181802A1 (en) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 太陽ホールディングス株式会社 | Curable resin composition, dry film, cured product, electronic component, and printed-wiring board |
JP2019119868A (en) * | 2017-12-27 | 2019-07-22 | 花王株式会社 | Fine cellulose fiber composite dispersion |
JP6993245B2 (en) * | 2018-01-18 | 2022-01-13 | 関西ペイント株式会社 | Nanocellulose dispersion composition and paint composition |
KR20200110780A (en) * | 2018-02-23 | 2020-09-25 | 오지 홀딩스 가부시키가이샤 | Method for producing fibrous cellulose-containing film, resin composition, film and laminate |
US11959194B2 (en) | 2018-06-08 | 2024-04-16 | Kao Corporation | Method for producing shortened anionically modified cellulose fibers |
JP2020105516A (en) * | 2018-12-27 | 2020-07-09 | 花王株式会社 | Composition |
JP7176945B2 (en) * | 2018-12-27 | 2022-11-22 | 太陽ホールディングス株式会社 | Curable resin composition, dry film, cured product, wiring board and electronic component |
JP7168443B2 (en) * | 2018-12-28 | 2022-11-09 | 太陽ホールディングス株式会社 | Curable resin composition, dry film, cured product, wiring board and electronic component |
JP6708274B1 (en) * | 2019-02-12 | 2020-06-10 | 王子ホールディングス株式会社 | Method for producing fibrous cellulose-containing coating, resin composition, coating and laminate |
JP7359560B2 (en) * | 2019-03-29 | 2023-10-11 | 太陽ホールディングス株式会社 | Curable resin compositions, dry films, cured products, and electronic components |
JP7393268B2 (en) * | 2020-03-25 | 2023-12-06 | 第一工業製薬株式会社 | insulating paste |
CN111880371B (en) * | 2020-08-13 | 2022-05-03 | 常州华睿芯材科技有限公司 | Photoresist and method for patterning imine material |
GB202202736D0 (en) * | 2022-02-28 | 2022-04-13 | Kiss House Ltd | Material and method |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011001559A (en) | 2003-07-31 | 2011-01-06 | Kyoto Univ | Fiber-reinforced composite material, method for producing the same, and wiring board |
JP2012119470A (en) | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | Wiring board |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008103622A (en) * | 2006-10-20 | 2008-05-01 | Fujifilm Corp | Laminate for fabricating printed wiring board and method for fabricating printed wiring board using it |
JP5355918B2 (en) * | 2008-03-26 | 2013-11-27 | 太陽ホールディングス株式会社 | Thermosetting resin composition, cured product thereof and printed wiring board using the same |
JP5150381B2 (en) * | 2008-06-20 | 2013-02-20 | 太陽ホールディングス株式会社 | Thermosetting resin composition |
JP6082591B2 (en) * | 2012-12-27 | 2017-02-15 | 花王株式会社 | Rubber composition |
JP2014220342A (en) * | 2013-05-07 | 2014-11-20 | 太陽ホールディングス株式会社 | Printed wiring board material and printed wiring board using the same |
TWI662867B (en) * | 2013-04-23 | 2019-06-11 | 日商太陽控股股份有限公司 | Printed wiring board material and printed wiring board using the same |
JP5823600B2 (en) * | 2013-12-26 | 2015-11-25 | 花王株式会社 | Fine cellulose fiber composite |
-
2017
- 2017-08-09 CN CN201780048663.2A patent/CN109565932A/en active Pending
- 2017-08-09 TW TW106126977A patent/TW201817783A/en unknown
- 2017-08-09 KR KR1020197006887A patent/KR20190050980A/en unknown
- 2017-08-09 JP JP2017154669A patent/JP2018024878A/en active Pending
- 2017-08-09 WO PCT/JP2017/028927 patent/WO2018030465A1/en active Application Filing
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011001559A (en) | 2003-07-31 | 2011-01-06 | Kyoto Univ | Fiber-reinforced composite material, method for producing the same, and wiring board |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018030465A1 (en) | 2018-02-15 |
JP2018024878A (en) | 2018-02-15 |
CN109565932A (en) | 2019-04-02 |
TW201817783A (en) | 2018-05-16 |
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