JP2014220342A - Printed wiring board material and printed wiring board using the same - Google Patents

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Takenori Sumiya
武徳 角谷
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Daisuke Shibata
大介 柴田
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Shigeru Ushiki
滋 宇敷
遠藤新
Arata Endo
新 遠藤
崇夫 三輪
Takao Miwa
崇夫 三輪
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board material excellent in crack resistance and to provide a printed wiring board using the same.SOLUTION: The printed wiring board material includes: a binder component; and a cellulose nanofiber, containing a carboxylate, having a number-average fiber diameter of 3 nm to 1000 nm, which may be suitably used for a solder resist 12, a core material 2, and interlayer insulation materials 6, 9 of a multi-layer printed wiring board. The printed wiring board material is used for the printed wiring board.

Description

本発明は、プリント配線板材料およびそれを用いたプリント配線板に関する。   The present invention relates to a printed wiring board material and a printed wiring board using the same.

プリント配線板などの配線基板としては、コア材と呼ばれる、ガラスなどの繊維にエポキシ樹脂などを含浸させたものに銅などの金属箔を貼って、エッチング法で回路を形成したものや、さらに、絶縁性樹脂組成物を塗工またはシート状の絶縁性樹脂組成物をラミネートすることにより絶縁層を形成した後に、回路を形成したものなどがある。また、配線基板の最外層には、形成された回路の保護や、電子部品を正しい位置に実装する目的で、ソルダーレジストが形成される。ソルダーレジストには、一般に、エポキシ樹脂やアクリレート樹脂などの絶縁材料が用いられている(例えば、特許文献1,2,3参照)。   As a wiring board such as a printed wiring board, a metal material such as copper is applied to a fiber such as glass impregnated with an epoxy resin, which is called a core material, and a circuit is formed by an etching method, There is one in which a circuit is formed after an insulating layer is formed by coating an insulating resin composition or laminating a sheet-like insulating resin composition. In addition, a solder resist is formed on the outermost layer of the wiring board for the purpose of protecting the formed circuit and mounting the electronic component at the correct position. In general, an insulating material such as an epoxy resin or an acrylate resin is used for the solder resist (see, for example, Patent Documents 1, 2, and 3).

かかる配線基板においては、配線基板を構成する半導体チップ、アンダーフィル、はんだ等の部品接合材、および、上記各絶縁材料からなる絶縁層の熱膨張係数が異なることや、硬化後の各絶縁層が硬いことから、部品実装プロセス時の膨張や収縮により、絶縁層内や部品接合部にクラックが発生するという問題があった(例えば、特許文献4,5参照)。例えば、−65℃〜150℃の温度サイクル試験の際には、異なる材料間での応力による変形や破壊によりクラックが発生しやすくなるため、これに対する耐クラック性が求められている。   In such a wiring board, the component bonding material such as a semiconductor chip, underfill, and solder constituting the wiring board, and the insulating layer made of each of the above insulating materials have different thermal expansion coefficients, Since it is hard, there has been a problem that cracks occur in the insulating layer and in the component joint due to expansion and contraction during the component mounting process (for example, see Patent Documents 4 and 5). For example, in a temperature cycle test at -65 ° C to 150 ° C, cracks are likely to occur due to deformation or breakage due to stress between different materials, and thus crack resistance against this is required.

特開2006−182991号公報(特許請求の範囲等)JP 2006-182991 A (Claims etc.) 特開2013−36042号公報(特許請求の範囲等)JP 2013-36042 A (Claims etc.) 特開平08−269172号公報(特許請求の範囲等)Japanese Patent Laid-Open No. 08-269172 (Claims etc.) 特開2009−271290号公報(特許請求の範囲等)JP 2009-271290 A (Claims etc.) 国際公開第2011/086895号(特許請求の範囲等)International Publication No. 2011/088685 (Claims etc.)

本発明の目的は、耐クラック性に優れるプリント配線板材料およびそれを用いたプリント配線板を提供することにある。   The objective of this invention is providing the printed wiring board material which is excellent in crack resistance, and a printed wiring board using the same.

本発明者らは鋭意検討した結果、プリント配線板材料として、特定のセルロースナノファイバーを含有するものを用いることで、上記課題を解決できることを見出して、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by using a material containing specific cellulose nanofibers as a printed wiring board material, and have completed the present invention.

すなわち、本発明のプリント配線板材料は、バインダー成分と、構造中にカルボン酸塩を有する数平均繊維径3nm〜1000nmのセルロースナノファイバーと、を含むことを特徴とするものである。   That is, the printed wiring board material of the present invention includes a binder component and cellulose nanofibers having a number average fiber diameter of 3 nm to 1000 nm having a carboxylate salt in the structure.

本発明においては、前記セルロースナノファイバーが、天然セルロース繊維を原料とし、該天然セルロース繊維を、水中において、N−オキシル化合物を酸化触媒とし、共酸化剤を作用させて酸化することにより得られたものであることが好ましい。また、本発明のプリント配線板材料において、前記バインダー成分としては、熱可塑性樹脂、および、硬化性樹脂を好適に用いることができる。本発明のプリント配線板材料は、ソルダーレジスト用、コア材用、および、多層プリント配線板の層間絶縁材用に好適に用いることができる。   In the present invention, the cellulose nanofiber was obtained by using natural cellulose fiber as a raw material, and oxidizing the natural cellulose fiber in water using an N-oxyl compound as an oxidation catalyst and a co-oxidant acting. It is preferable. In the printed wiring board material of the present invention, a thermoplastic resin and a curable resin can be suitably used as the binder component. The printed wiring board material of the present invention can be suitably used for a solder resist, a core material, and an interlayer insulating material of a multilayer printed wiring board.

また、本発明のプリント配線板は、上記本発明のプリント配線板材料を用いたことを特徴とするものである。   The printed wiring board of the present invention is characterized by using the printed wiring board material of the present invention.

本発明によれば、上記構成としたことにより、耐クラック性に優れたプリント配線板材料およびそれを用いたプリント配線板を実現することが可能となった。   According to the present invention, it is possible to realize a printed wiring board material excellent in crack resistance and a printed wiring board using the printed wiring board material because of the above configuration.

本発明に係る多層プリント配線板の一構成例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows one structural example of the multilayer printed wiring board which concerns on this invention.

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しつつ詳細に説明する。
本発明のプリント配線板材料は、バインダー成分と、構造中にカルボン酸塩を有する数平均繊維径3nm〜1000nmのセルロースナノファイバーと、を含む点に特徴を有する。かかるセルロースナノファイバーは、以下に従い、天然セルロース繊維を酸化させた後、微細化することにより得ることができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
The printed wiring board material of the present invention is characterized in that it contains a binder component and cellulose nanofibers having a number average fiber diameter of 3 nm to 1000 nm having a carboxylate salt in the structure. Such cellulose nanofibers can be obtained by oxidizing natural cellulose fibers and then refining them according to the following.

まず、天然セルロース繊維を、絶対乾燥基準で約10〜1000倍量(質量基準)の水中に、ミキサー等を用いて分散させることにより、水分散液を調製する。上記セルロースナノファイバーの原料となる天然セルロース繊維としては、例えば、針葉樹系パルプや広葉樹系パルプ等の木材パルプ、麦わらパルプやバガスパルプ等の非木材系パルプ、コットンリントやコットンリンター等の綿系パルプ、バクテリアセルロース等を挙げることができる。これらは、1種を単独で用いても、2種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。また、これら天然セルロース繊維には、あらかじめ表面積を大きくするために叩解等の処理を施しておいてもよい。   First, an aqueous dispersion is prepared by dispersing natural cellulose fibers in about 10 to 1000 times (mass basis) of water on an absolute dry basis using a mixer or the like. Examples of the natural cellulose fiber used as a raw material for the cellulose nanofiber include wood pulp such as softwood pulp and hardwood pulp, non-wood pulp such as straw pulp and bagasse pulp, cotton pulp such as cotton lint and cotton linter, Examples include bacterial cellulose. These may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types as appropriate. Further, these natural cellulose fibers may be subjected to a treatment such as beating in order to increase the surface area in advance.

次に、上記水分散液中で、N−オキシル化合物を酸化触媒として用いて、天然セルロース繊維の酸化処理を行う。かかるN−オキシル化合物としては、例えば、TEMPO(2,2,6,6−テトラメチルピペリジンーN−オキシル)の他、4−カルボキシ−TEMPO、4−アセトアミド−TEMPO、4−アミノ−TEMPO、4−ジメチルアミノ−TEMPO、4−フォスフォノオキシ−TEMPO、4−ヒドロキシTEMPO、4−オキシTEMPO、4−メトキシTEMPO、4−(2−ブロモアセトアミド)−TEMPO、2−アザアダマンタンN−オキシル等の、C4位に各種の官能基を有するTEMPO誘導体等を用いることができる。これらN−オキシル化合物の添加量としては、触媒量で十分であり、通常、天然セルロース繊維に対し、絶対乾燥基準で0.1〜10質量%となる範囲とすることができる。   Next, the natural cellulose fiber is oxidized in the aqueous dispersion using an N-oxyl compound as an oxidation catalyst. Examples of such N-oxyl compounds include TEMPO (2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl), 4-carboxy-TEMPO, 4-acetamido-TEMPO, 4-amino-TEMPO, 4 -Dimethylamino-TEMPO, 4-phosphonooxy-TEMPO, 4-hydroxy TEMPO, 4-oxy TEMPO, 4-methoxy TEMPO, 4- (2-bromoacetamido) -TEMPO, 2-azaadamantane N-oxyl, etc. TEMPO derivatives having various functional groups at the C4 position can be used. As the addition amount of these N-oxyl compounds, a catalytic amount is sufficient, and it can usually be in a range of 0.1 to 10% by mass with respect to natural cellulose fiber on an absolute dry basis.

上記天然セルロース繊維の酸化処理においては、酸化剤と共酸化剤とを併用する。酸化剤としては、例えば、亜ハロゲン酸、次亜ハロゲン酸および過ハロゲン酸並びにそれらの塩、過酸化水素、過有機酸を挙げることができ、中でも、次亜塩素酸ナトリウムや次亜臭素酸ナトリウム等のアルカリ金属次亜ハロゲン酸塩が好適である。また、共酸化剤としては、例えば、臭化ナトリウム等の臭化アルカリ金属を用いることができる。酸化剤の使用量は、通常、天然セルロース繊維に対し、絶対乾燥基準で約1〜100質量%となる範囲であり、共酸化剤の使用量は、通常、天然セルロース繊維に対し、絶対乾燥基準で約1〜30質量%となる範囲である。   In the oxidation treatment of the natural cellulose fiber, an oxidizing agent and a co-oxidizing agent are used in combination. Examples of the oxidizing agent include halous acid, hypohalous acid and perhalogenic acid and salts thereof, hydrogen peroxide, perorganic acid, among which sodium hypochlorite and sodium hypobromite. Alkali metal hypohalites such as are preferred. Further, as the co-oxidant, for example, an alkali metal bromide such as sodium bromide can be used. The amount of the oxidizing agent used is usually in a range of about 1 to 100% by mass based on the absolute dry standard with respect to the natural cellulose fiber, and the amount of the co-oxidant used is usually based on the absolute dry standard with respect to the natural cellulose fiber. Is about 1 to 30% by mass.

上記天然セルロース繊維の酸化処理の際には、水分散液のpHを9〜12の範囲で維持することが、酸化反応を効率よく進行させる観点から好ましい。また、酸化処理の際の水分散液の温度は、1〜50℃の範囲で任意に設定することができ、温度制御なしで、室温においても反応可能である。反応時間としては、1〜240分間の範囲とすることができる。なお、水分散液には、天然セルロース繊維の内部まで薬剤を浸透させて、より多くのカルボキシル基を繊維表面に導入するために、浸透剤を添加することもできる。浸透剤としては、カルボン酸塩、硫酸エステル塩、スルホン酸塩、リン酸エステル塩等のアニオン系界面活性剤や、ポリエチレングルコール型、多価アルコール型等の非イオン界面活性剤などが挙げられる。   In the oxidation treatment of the natural cellulose fiber, it is preferable to maintain the pH of the aqueous dispersion in the range of 9 to 12 from the viewpoint of efficiently proceeding the oxidation reaction. Further, the temperature of the aqueous dispersion during the oxidation treatment can be arbitrarily set within the range of 1 to 50 ° C., and the reaction can be performed at room temperature without temperature control. The reaction time can be in the range of 1 to 240 minutes. In addition, a penetrant can be added to the aqueous dispersion in order to allow the drug to penetrate into the inside of the natural cellulose fiber and introduce more carboxyl groups into the fiber surface. Examples of the penetrating agent include anionic surfactants such as carboxylate, sulfate ester salt, sulfonate salt, and phosphate ester salt, and nonionic surfactants such as polyethylene glycol type and polyhydric alcohol type. .

上記天然セルロース繊維の酸化処理の後には、微細化を行うに先立って、水分散液中に含まれる未反応の酸化剤や各種副生成物等の不純物を除去する精製処理を行うことが好ましい。具体的には例えば、酸化処理された天然セルロース繊維の水洗および濾過を繰り返し行う手法を用いることができる。精製処理後に得られる天然セルロース繊維は、通常、適量の水が含浸された状態で微細化処理に供されるが、必要に応じ、乾燥処理を行って、繊維状または粉末状としてもよい。   After the oxidation treatment of the natural cellulose fiber, it is preferable to perform a purification treatment to remove impurities such as unreacted oxidant and various by-products contained in the aqueous dispersion prior to the refinement. Specifically, for example, a technique of repeatedly washing and filtering the oxidized natural cellulose fiber can be used. The natural cellulose fiber obtained after the refining treatment is usually subjected to a refining treatment in a state impregnated with an appropriate amount of water. However, if necessary, the natural cellulose fiber may be dried to obtain a fibrous or powdery form.

次に、天然セルロース処理の微細化は、所望に応じ精製処理された天然セルロース繊維を、水等の溶媒中に分散させた状態で行う。微細化処理において使用する分散媒としての溶媒は、通常は水が好ましいが、所望に応じ、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、イソブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコール、グリセリン等)やエーテル類(エチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等)等の水に可溶な有機溶媒を使用してもよく、これらの混合物を用いることもできる。これら溶媒の分散液中の天然セルロース繊維の固形分濃度は、好適には、50質量%以下とする。天然セルロース繊維の固形分濃度が50質量%を超えると、分散に極めて高いエネルギーを必要とするため好ましくない。天然セルロース処理の微細化は、低圧ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、グラインダー、カッターミル、ボールミル、ジェットミル、叩解機、離解機、短軸押出機、2軸押出機、超音波攪拌機、家庭用ジューサーミキサー等の分散装置を使用して行うことができる。   Next, refinement | purification of the natural cellulose process is performed in the state which disperse | distributed the natural cellulose fiber refine | purified if desired in solvents, such as water. The solvent as a dispersion medium used in the micronization treatment is usually preferably water, but if desired, alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, isobutanol, sec-butanol, tert-butanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, Ethylene glycol, glycerol, etc.), ethers (ethylene glycol dimethyl ether, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, etc.) A water-soluble organic solvent may be used, or a mixture thereof may be used. The solid content concentration of the natural cellulose fiber in the dispersion of these solvents is preferably 50% by mass or less. When the solid content concentration of the natural cellulose fiber exceeds 50% by mass, extremely high energy is required for dispersion, which is not preferable. Refinement of natural cellulose treatment includes low-pressure homogenizers, high-pressure homogenizers, grinders, cutter mills, ball mills, jet mills, beating machines, disintegrators, short-screw extruders, twin-screw extruders, ultrasonic agitators, household juicer mixers, etc. This can be done using a dispersing device.

微細化処理により得られるセルロースナノファイバーは、所望に応じ、固形分濃度を調整した懸濁液状、または、乾燥させた粉末状とすることができる。ここで、懸濁液状にする場合には、分散媒として水のみを使用してもよく、水と他の有機溶媒、例えば、エタノール等のアルコール類や、界面活性剤、酸、塩基等との混合溶媒を使用してもよい。   Cellulose nanofibers obtained by the refining treatment can be made into a suspension in which the solid content concentration is adjusted or a dried powder as desired. Here, in the case of a suspension, only water may be used as a dispersion medium, and water and other organic solvents, for example, alcohols such as ethanol, surfactants, acids, bases, etc. A mixed solvent may be used.

上記天然セルロース繊維の酸化処理および微細化処理により、セルロース分子の構成単位のC6位の水酸基がアルデヒド基を経由してカルボキシル基へと選択的に酸化され、かかるカルボキシル基の含有量が0.1〜3mmol/gであるセルロース分子からなる、上記所定の数平均繊維径を有する高結晶性のセルロースナノファイバーを得ることができる。この高結晶性のセルロースナノファイバーは、セルロースI型結晶構造を有している。これは、かかるセルロースナノファイバーが、I型結晶構造を有する天然由来のセルロース分子が表面酸化され微細化されたものであることを意味している。すなわち、天然セルロース繊維は、その生合成の過程において生産されるミクロフィブリルと呼ばれる微細な繊維が多束化して高次な固体構造を構築しており、そのミクロフィブリル間の強い凝集力(表面間の水素結合)を、酸化処理によるアルデヒド基またはカルボキシル基の導入によって弱め、さらに、微細化処理を経ることで、セルロースナノファイバーが得られる。酸化処理の条件を調整することにより、カルボキシル基の含有量を増減させて、極性を変化させたり、カルボキシル基の静電反発や微細化処理により、セルロースナノファイバーの平均繊維径や平均繊維長、平均アスペクト比等を制御することができる。   By the oxidation treatment and refinement treatment of the natural cellulose fiber, the hydroxyl group at the C6 position of the structural unit of the cellulose molecule is selectively oxidized to a carboxyl group via an aldehyde group, and the content of the carboxyl group is 0.1. A highly crystalline cellulose nanofiber having a predetermined number average fiber diameter, which is composed of cellulose molecules of ˜3 mmol / g, can be obtained. This highly crystalline cellulose nanofiber has a cellulose I-type crystal structure. This means that the cellulose nanofibers are those obtained by surface-oxidizing naturally-derived cellulose molecules having an I-type crystal structure. That is, natural cellulose fibers have a high-order solid structure formed by a bundle of fine fibers called microfibrils produced in the process of biosynthesis, and a strong cohesive force between the microfibrils (between surfaces). The cellulose nanofibers can be obtained by weakening the hydrogen bond) by introducing an aldehyde group or a carboxyl group by an oxidation treatment, and further through a refinement treatment. By adjusting the conditions of the oxidation treatment, the content of the carboxyl group is increased or decreased, the polarity is changed, or by the electrostatic repulsion or refinement treatment of the carboxyl group, the average fiber diameter or average fiber length of the cellulose nanofiber, The average aspect ratio can be controlled.

上記天然セルロース繊維がI型結晶構造であることは、その広角X線回折像の測定により得られる回折プロファイルにおいて、2θ=14〜17°付近と2θ=22〜23°付近の二つの位置に典型的なピークをもつことから同定することができる。また、セルロースナノファイバーのセルロース分子中にカルボキシル基が導入されていることは、水分を完全に除去したサンプルにおいて、全反射式赤外分光スペクトル(ATR)においてカルボニル基に起因する吸収(1608cm−1付近)が存在することにより確認することができる。カルボキシル基(COOH)の場合には、上記の測定において1730cm−1に吸収が存在する。 That the natural cellulose fiber has the I-type crystal structure is typical at two positions near 2θ = 14-17 ° and 2θ = 22-23 ° in the diffraction profile obtained by measuring the wide-angle X-ray diffraction image. It can be identified from having a typical peak. In addition, the introduction of a carboxyl group into the cellulose molecule of the cellulose nanofibers indicates that in a sample from which moisture has been completely removed, absorption due to a carbonyl group (1608 cm −1 ) in the total reflection infrared spectroscopic spectrum (ATR). This can be confirmed by the presence of the vicinity. In the case of a carboxyl group (COOH), there is an absorption at 1730 cm −1 in the above measurement.

なお、酸化処理後の天然セルロース繊維にはハロゲン原子が付着または結合しているため、このような残留ハロゲン原子を除去する目的で、脱ハロゲン処理を行うこともできる。脱ハロゲン処理は、過酸化水素溶液やオゾン溶液に酸化処理後の天然セルロース繊維を浸漬することにより、行うことができる。   In addition, since halogen atoms are attached or bonded to the natural cellulose fiber after the oxidation treatment, dehalogenation treatment can be performed for the purpose of removing such residual halogen atoms. The dehalogenation treatment can be performed by immersing the oxidized natural cellulose fiber in a hydrogen peroxide solution or an ozone solution.

具体的には、例えば、酸化処理後の天然セルロース繊維を、濃度が0.1〜100g/Lの過酸化水素溶液に、浴比1:5〜1:100程度、好ましくは1:10〜1:60程度(質量比)の条件で浸漬する。この場合の過酸化水素溶液の濃度は、好適には1〜50g/Lであり、より好適には5〜20g/Lである。また、過酸化水素溶液のpHは、好適には8〜11であり、より好適には9.5〜10.7である。   Specifically, for example, the oxidized natural cellulose fiber is added to a hydrogen peroxide solution having a concentration of 0.1 to 100 g / L in a bath ratio of about 1: 5 to 1: 100, preferably 1:10 to 1. : Immerse under conditions of about 60 (mass ratio). The concentration of the hydrogen peroxide solution in this case is preferably 1 to 50 g / L, and more preferably 5 to 20 g / L. The pH of the hydrogen peroxide solution is preferably 8 to 11, and more preferably 9.5 to 10.7.

なお、水分散液に含まれるセルロースナノファイバーの重量に対するセルロース中のカルボキシル基の量[mmol/g]は、以下の手法により評価することができる。すなわち、あらかじめ乾燥重量を精秤したセルロースナノファイバー試料の0.5〜1質量%水分散液を60ml調製し、0.1Mの塩酸水溶液によってpHを約2.5とした後、0.05Mの水酸化ナトリウム水溶液をpHが約11になるまで滴下して、電気伝導度を測定する。電気伝導度の変化が緩やかな弱酸の中和段階において消費された水酸化ナトリウム量(V)から、下記式を用いて官能基量を決定することができる。この官能基量が、カルボキシル基の量を示す。
官能基量[mmol/g]=V[ml]×0.05/セルロースナノファイバー試料[g]
The amount [mmol / g] of carboxyl groups in cellulose relative to the weight of cellulose nanofibers contained in the aqueous dispersion can be evaluated by the following method. That is, 60 ml of a 0.5 to 1% by mass aqueous dispersion of a cellulose nanofiber sample whose dry weight was precisely weighed in advance was prepared, and the pH was adjusted to about 2.5 with a 0.1 M aqueous hydrochloric acid solution. An aqueous sodium hydroxide solution is dropped until the pH is about 11, and the electrical conductivity is measured. From the amount (V) of sodium hydroxide consumed in the weak acid neutralization stage where the change in electrical conductivity is slow, the functional group amount can be determined using the following formula. This amount of functional groups indicates the amount of carboxyl groups.
Functional group amount [mmol / g] = V [ml] × 0.05 / cellulose nanofiber sample [g]

本発明に用いられるセルロースナノファイバーの数平均繊維径は、3nm〜1000nmであることが必要であり、好適には3nm〜200nm、より好適には3nm〜100nmである。セルロースナノファイバー単繊維の最小径が3nmであるため、3nm未満は実質的に製造できず、また、数平均繊維径が1000nmを超えると、本発明の所期の効果を得るためには過剰に添加する必要があり、製膜性が悪化する。なお、セルロースナノファイバーの数平均繊維径は、SEM(Scanning Electron Microscope;走査型電子顕微鏡)やTEM(Transmission Electron Microscope;透過型電子顕微鏡)等で観察して、写真の対角線に線を引き、その近傍にある繊維をランダムに12点抽出して、最も太い繊維と最も細い繊維を除去した後、残る10点を測定して、平均した値である。   The number average fiber diameter of the cellulose nanofiber used in the present invention is required to be 3 nm to 1000 nm, preferably 3 nm to 200 nm, and more preferably 3 nm to 100 nm. Since the minimum diameter of cellulose nanofiber single fiber is 3 nm, less than 3 nm cannot be produced substantially, and when the number average fiber diameter exceeds 1000 nm, it is excessive to obtain the desired effect of the present invention. It is necessary to add, and film forming property deteriorates. In addition, the number average fiber diameter of the cellulose nanofiber is observed with SEM (Scanning Electron Microscope; Scanning Electron Microscope), TEM (Transmission Electron Microscope; Transmission Electron Microscope), etc., and the diagonal line of the photograph is drawn. This is an average value obtained by extracting 12 points of fibers in the vicinity at random, removing the thickest fiber and the thinnest fiber, and measuring the remaining 10 points.

本発明のプリント配線板材料における上記セルロースナノファイバーの配合量は、溶剤を除く組成物の全体量に対し、好適には0.1〜80質量%、より好適には0.2〜70質量%である。セルロースナノファイバーの配合量が0.1質量%以上の場合、本発明の所期の効果を良好に得ることができる。一方、80質量%以下の場合、製膜性が向上する。   The blending amount of the cellulose nanofibers in the printed wiring board material of the present invention is preferably 0.1 to 80% by mass, more preferably 0.2 to 70% by mass with respect to the total amount of the composition excluding the solvent. It is. When the blending amount of the cellulose nanofiber is 0.1% by mass or more, the desired effect of the present invention can be obtained satisfactorily. On the other hand, in the case of 80 mass% or less, film forming property improves.

本発明で用いられるバインダー成分としては、熱可塑性樹脂、および、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂などの硬化性樹脂を好適に用いることができる。   As the binder component used in the present invention, a thermoplastic resin and a curable resin such as a thermosetting resin or a photocurable resin can be suitably used.

(熱可塑性樹脂)
熱可塑性樹脂としては、アクリル、変性アクリル、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、変性ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、酢酸セルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ乳酸等の汎用プラスチック類、ポリアミド、熱可塑性ポリウレタン、ポリアセタール、ポリカーボネート、超高分子量ポリエチレン、ポリブチレンテレフタレート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、液晶ポリマー、ポリアミド6T、ポリアミド9T、ポリテトラフロロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリエステルイミド、熱可塑性ポリイミド等のエンジニアリングプラスチック類、オレフィン系、スチレン系、ポリエステル系、ウレタン系、アミド系、塩化ビニル系、水添系等の熱可塑性エラストマーが挙げられる。
(Thermoplastic resin)
Thermoplastic resins include acrylic, modified acrylic, low density polyethylene, high density polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene terephthalate, polypropylene, modified polypropylene, polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer. General-purpose plastics such as polymers, cellulose acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polylactic acid, polyamide, thermoplastic polyurethane, polyacetal, polycarbonate, ultrahigh molecular weight polyethylene, polybutylene terephthalate, modified polyphenylene ether, polysulfone, Polyphenylene sulfide, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyarylate, polyetherimide, polyar Doimide, liquid crystal polymer, polyamide 6T, polyamide 9T, polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, polyesterimide, engineering plastics such as thermoplastic polyimide, olefin, styrene, polyester, urethane, amide, vinyl chloride And thermoplastic elastomers such as hydrogenated systems.

(熱硬化性樹脂)
熱硬化性樹脂としては、加熱により硬化して電気絶縁性を示す樹脂であればよく、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールM型エポキシ樹脂、ビスフェノールP型エポキシ樹脂、ビスフェノールZ型エポキシ樹脂などのビスフェノール型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂などのノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、アリールアルキレン型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、フェノキシ型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ノルボルネン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、グリシジルメタアクリレート共重合系エポキシ樹脂、シクロヘキシルマレイミドとグリシジルメタアクリレートとの共重合エポキシ樹脂、エポキシ変性のポリブタジエンゴム誘導体、CTBN変性エポキシ樹脂、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、フェニル−1,3−ジグリシジルエーテル、ビフェニル−4,4’−ジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールまたはプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂などのノボラック型フェノール樹脂、未変性のレゾールフェノール樹脂、桐油、アマニ油、クルミ油などで変性した油変性レゾールフェノール樹脂などのレゾール型フェノール樹脂などのフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、尿素(ユリア)樹脂、メラミン樹脂などのトリアジン環含有樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビスマレイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ベンゾオキサジン環を有する樹脂、ノルボルネン系樹脂、シアネート樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、マレイミド樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、ポリアゾメチン樹脂、熱硬化性ポリイミド等が挙げられる。
(Thermosetting resin)
The thermosetting resin may be any resin that is cured by heating and exhibits electrical insulation. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol E type epoxy resin, bisphenol M type epoxy resin, bisphenol P type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin such as bisphenol Z type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, novolac type epoxy resin such as cresol novolac epoxy resin, biphenyl type epoxy Resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, aryl alkylene type epoxy resin, tetraphenylol ethane type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, anthracene type epoxy resin Fatty, phenoxy type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, norbornene type epoxy resin, adamantane type epoxy resin, fluorene type epoxy resin, glycidyl methacrylate copolymer epoxy resin, copolymer epoxy resin of cyclohexylmaleimide and glycidyl methacrylate , Epoxy-modified polybutadiene rubber derivatives, CTBN-modified epoxy resins, trimethylolpropane polyglycidyl ether, phenyl-1,3-diglycidyl ether, biphenyl-4,4′-diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether , Ethylene glycol or propylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate Modified with novolak type phenolic resin such as triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, phenol novolak resin, cresol novolak resin, bisphenol A novolak resin, unmodified resole phenolic resin, tung oil, linseed oil, walnut oil, etc. Phenol resins such as resol type phenol resins such as oil-modified resole phenol resin, triazine ring-containing resins such as phenoxy resin, urea (urea) resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, bismaleimide resin, diallyl phthalate resin, silicone resin, Resin having benzoxazine ring, norbornene resin, cyanate resin, isocyanate resin, urethane resin, benzocyclobutene resin, maleimide resin, bismaleimide triazine resin, polyester Azomethine resins, thermosetting polyimides.

(光硬化性樹脂(ラジカル重合))
かかる光硬化性樹脂としては、活性エネルギー線照射により硬化して電気絶縁性を示す樹脂であればよく、特に、分子中に1個以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物が好ましく用いられる。エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、公知慣用の光重合性オリゴマーおよび光重合性ビニルモノマー等が用いられる。
(Photo-curing resin (radical polymerization))
Such a photocurable resin may be any resin that is cured by irradiation with active energy rays and exhibits electrical insulation, and particularly a compound having one or more ethylenically unsaturated bonds in the molecule is preferably used. As the compound having an ethylenically unsaturated bond, known and commonly used photopolymerizable oligomers and photopolymerizable vinyl monomers are used.

光重合性オリゴマーとしては、不飽和ポリエステル系オリゴマー、(メタ)アクリレート系オリゴマー等が挙げられる。(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、フェノールノボラックエポキシ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラックエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等のエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリブタジエン変性(メタ)アクリレート等が挙げられる。なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート、メタクリレートおよびそれらの混合物を総称する用語であり、他の類似の表現についても同様である。   Examples of the photopolymerizable oligomer include unsaturated polyester oligomers and (meth) acrylate oligomers. Examples of (meth) acrylate oligomers include phenol novolac epoxy (meth) acrylate, cresol novolac epoxy (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylates such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy urethane (meta ) Acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polybutadiene-modified (meth) acrylate, and the like. In addition, in this specification, (meth) acrylate is a term which generically refers to acrylate, methacrylate and a mixture thereof, and the same applies to other similar expressions.

光重合性ビニルモノマーとしては、公知慣用のもの、例えば、スチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン誘導体;酢酸ビニル、酪酸ビニルまたは安息香酸ビニルなどのビニルエステル類;ビニルイソブチルエーテル、ビニル−n−ブチルエーテル、ビニル−t−ブチルエーテル、ビニル−n−アミルエーテル、ビニルイソアミルエーテル、ビニル−n−オクタデシルエーテル、ビニルシクロヘキシルエーテル、エチレングリコールモノブチルビニルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルビニルエーテルなどのビニルエーテル類;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−ヒドロキシメチルメタクリルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド、N−エトキシメチルアクリルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド類;トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリルなどのアリル化合物;2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸のエステル類;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート類;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート類、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどのアルキレンポリオールポリ(メタ)アクリレート、;ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなどのポリオキシアルキレングリコールポリ(メタ)アクリレート類;ヒドロキシビバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジ(メタ)アクリレートなどのポリ(メタ)アクリレート類;トリス[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレートなどのイソシアヌルレート型ポリ(メタ)アクリレート類などが挙げられる。   As the photopolymerizable vinyl monomer, known and commonly used monomers, for example, styrene derivatives such as styrene, chlorostyrene and α-methylstyrene; vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl butyrate or vinyl benzoate; vinyl isobutyl ether, vinyl- vinyl ethers such as n-butyl ether, vinyl-t-butyl ether, vinyl-n-amyl ether, vinyl isoamyl ether, vinyl-n-octadecyl ether, vinyl cyclohexyl ether, ethylene glycol monobutyl vinyl ether, triethylene glycol monomethyl vinyl ether; acrylamide, Methacrylamide, N-hydroxymethylacrylamide, N-hydroxymethylmethacrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-ethoxymethylacrylate (Meth) acrylamides such as luamide and N-butoxymethylacrylamide; allyl compounds such as triallyl isocyanurate, diallyl phthalate and diallyl isophthalate; 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl Esters of (meth) acrylic acid such as (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate; hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as tri (meth) acrylate; alcohols such as methoxyethyl (meth) acrylate and ethoxyethyl (meth) acrylate Xylalkylene glycol mono (meth) acrylates; ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylates, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylol Alkylene polyol poly (meth) acrylates such as propane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, Polyoxyalkylene glycol poly (such as ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate) A) acrylates; poly (meth) acrylates such as neopentyl glycol ester di (meth) acrylate of hydroxybivalic acid; isocyanurate type poly (meth) acrylates such as tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate Is mentioned.

(光硬化性樹脂(カチオン重合))
かかる光硬化性樹脂としては、脂環エポキシ化合物、オキセタン化合物およびビニルエーテル化合物等を好適に用いることができる。このうち脂環エポキシ化合物としては、3,4,3’,4’−ジエポキシビシクロヘキシル、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)−1,3−ヘキサフルオロプロパン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)メタン、1−[1,1−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)]エチルベンゼン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル)メチル−3’,4’−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エチレン−1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボン酸)エステル、シクロヘキセンオキサイド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアルコール、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等のエポキシ基を有する脂環エポキシ化合物などが挙げられる。市販品としては、例えば、ダイセル化学工業(株)製のセロキサイド2000、セロキサイド2021、セロキサイド3000、EHPE3150;三井化学(株)製のエポミックVG−3101;油化シェルエポキシ(株)製のE−1031S;三菱ガス化学(株)製のTETRAD―X、TETRAD−C;日本曹達(株)製のEPB−13、EPB−27などが挙げられる。
(Photocurable resin (cationic polymerization))
As such a photocurable resin, an alicyclic epoxy compound, an oxetane compound, a vinyl ether compound and the like can be suitably used. Among these, alicyclic epoxy compounds include 3,4,3 ′, 4′-diepoxybicyclohexyl, 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane, and 2,2-bis (3,4-epoxy). Cyclohexyl) -1,3-hexafluoropropane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) methane, 1- [1,1-bis (3,4-epoxycyclohexyl)] ethylbenzene, bis (3,4-epoxycyclohexyl) Adipate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate, (3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl) methyl-3 ′, 4′-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate, ethylene -1,2-bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylic acid) ester, chic Examples thereof include alicyclic epoxy compounds having an epoxy group such as rohexene oxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl alcohol, and 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane. Examples of commercially available products include Celoxide 2000, Celoxide 2021, Celoxide 3000, and EHPE3150 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd .; Epomic VG-3101 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc .; E-1031S manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. ; TETRAD-X, TETRAD-C manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd .; EPB-13, EPB-27 manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., and the like.

オキセタン化合物としては、ビス[(3−メチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]エーテル、ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]エーテル、1,4−ビス[(3−メチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、(3−メチル−3−オキセタニル)メチルアクリレート、(3−エチル−3−オキセタニル)メチルアクリレート、(3−メチル−3−オキセタニル)メチルメタクリレート、(3−エチル−3−オキセタニル)メチルメタクリレートやそれらのオリゴマーまたは共重合体などの多官能オキセタン類の他、オキセタンアルコールとノボラック樹脂、ポリ(p−ヒドロキシスチレン)、カルド型ビスフェノール類、カリックスアレーン類、カリックスレゾルシンアレーン類、またはシルセスキオキサンなどの水酸基を有する樹脂とのエーテル化物、オキセタン環を有する不飽和モノマーとアルキル(メタ)アクリレートとの共重合体等のオキセタン化合物が挙げられる。市販品としては、例えば、宇部興産(株)製のエタナコールOXBP、OXMA、OXBP、EHO、キシリレンビスオキセタン、東亞合成(株)製のアロンオキセタンOXT−101 、OXT−201、OXT−211、OXT−221、OXT−212、OXT−610、PNOX−1009等が挙げられる。   Examples of the oxetane compound include bis [(3-methyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ether, bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ether, 1,4-bis [(3-methyl-3- Oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, (3-methyl-3-oxetanyl) methyl acrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl acrylate In addition to polyfunctional oxetanes such as (3-methyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate and oligomers or copolymers thereof, oxetane alcohol and novolak resin, poly (p -Hydroxystyrene), cardo-type bisphenols Examples include oxetane compounds such as calixarenes, calixresorcinarenes, etherification products with hydroxyl group-containing resins such as silsesquioxane, and copolymers of unsaturated monomers having an oxetane ring and alkyl (meth) acrylates. . Commercially available products include, for example, Etanacol OXBP, OXMA, OXBP, EHO, xylylene bisoxetane manufactured by Ube Industries, Ltd., Aron Oxetane OXT-101, OXT-201, XT-211, OXT manufactured by Toagosei Co., Ltd. -221, OXT-212, OXT-610, PNOX-1009, and the like.

ビニルエーテル化合物としては、イソソルバイトジビニルエーテル、オキサノルボルネンジビニルエーテル等の環状エーテル型ビニルエーテル(オキシラン環、オキセタン環、オキソラン環等の環状エーテル基を有するビニルエーテル);フェニルビニルエーテル等のアリールビニルエーテル;n−ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル;シクロヘキシルビニルエーテル等のシクロアルキルビニルエーテル;ハイドロキノンジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等の多官能ビニルエーテル、αおよび/またはβ位にアルキル基、アリル基等の置換基を有するビニルエーテル化合物などが挙げられる。市販品としては、例えば、丸善石油化学(株)製の2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(HEVE)、ジエチレングリコールモノビニルエーテル(DEGV)、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル(HBVE)、トリエチレングリコールジビニルエーテルなどが挙げられる。   Examples of vinyl ether compounds include cyclic ether type vinyl ethers such as isosorbite divinyl ether and oxanorbornene divinyl ether (vinyl ethers having cyclic ether groups such as oxirane ring, oxetane ring and oxolane ring); aryl vinyl ethers such as phenyl vinyl ether; n-butyl vinyl ether Alkyl vinyl ethers such as octyl vinyl ether; cycloalkyl vinyl ethers such as cyclohexyl vinyl ether; polyfunctional vinyl ethers such as hydroquinone divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, cyclohexane divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, α and / or β position And vinyl ether compounds having substituents such as alkyl groups and allyl groups. The Examples of commercially available products include 2-hydroxyethyl vinyl ether (HEVE), diethylene glycol monovinyl ether (DEGV), 2-hydroxybutyl vinyl ether (HBVE), and triethylene glycol divinyl ether manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.

また、本発明のプリント配線板材料をアルカリ水溶液で現像可能なアルカリ現像型のフォトソルダーレジストとして使用する場合には、バインダー成分としてカルボキシル基含有樹脂を使用することも好ましい。   When the printed wiring board material of the present invention is used as an alkali development type photo solder resist that can be developed with an aqueous alkali solution, it is also preferable to use a carboxyl group-containing resin as a binder component.

(カルボキシル基含有樹脂)
カルボキシル基含有樹脂としては、感光性の不飽和二重結合を1個以上有する感光性のカルボキシル基含有樹脂、および、感光性の不飽和二重結合を有しないカルボキシル基含有樹脂のいずれも使用可能であり、特定のものに限定されるものではない。カルボキシル基含有樹脂としては、特には、以下に列挙する樹脂を好適に使用することができる。
(1)不飽和カルボン酸と不飽和二重結合を有する化合物との共重合によって得られるカルボキシル基含有樹脂、および、それを変性して分子量や酸価を調整したカルボキシル基含有樹脂。
(2)カルボキシル基含有(メタ)アクリル系共重合樹脂に1分子中にオキシラン環とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られる感光性のカルボキシル基含有樹脂。
(3)1分子中にそれぞれ1個のエポキシ基および不飽和二重結合を有する化合物と不飽和二重結合を有する化合物との共重合体に不飽和モノカルボン酸を反応させ、この反応により生成した第2級の水酸基に飽和または不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる感光性のカルボキシル基含有樹脂。
(4)水酸基含有ポリマーに飽和または不飽和多塩基酸無水物を反応させた後、この反応により生成したカルボン酸に1分子中にそれぞれ1個のエポキシ基および不飽和二重結合を有する化合物を反応させて得られる感光性の水酸基およびカルボキシル基含有樹脂。
(5)多官能エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸とを反応させ、この反応により生成した第2級の水酸基の一部または全部に多塩基酸無水物を反応させて得られる感光性のカルボキシル基含有樹脂。
(6)多官能エポキシ化合物と、1分子中に2個以上の水酸基およびエポキシ基と反応する水酸基以外の1個の反応基を有する化合物と、不飽和基含有モノカルボン酸とを反応させ、得られた反応生成物に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂。
(7)フェノール性水酸基をもつ樹脂とアルキレンオキシドまたは環状カーボネートとの反応生成物に不飽和基含有モノカルボン酸を反応させ、得られた反応生成物に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂。
(8)多官能エポキシ化合物と、1分子中に少なくとも1個のアルコール性水酸基および1個のフェノール性水酸基を有する化合物と、不飽和基含有モノカルボン酸とを反応させ、得られた反応生成物のアルコール性水酸基に対して多塩基酸無水物の無水物基を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂。
(Carboxyl group-containing resin)
As the carboxyl group-containing resin, any of a photosensitive carboxyl group-containing resin having at least one photosensitive unsaturated double bond and a carboxyl group-containing resin having no photosensitive unsaturated double bond can be used. However, it is not limited to a specific one. As the carboxyl group-containing resin, in particular, the resins listed below can be suitably used.
(1) A carboxyl group-containing resin obtained by copolymerization of an unsaturated carboxylic acid and a compound having an unsaturated double bond, and a carboxyl group-containing resin having a molecular weight and an acid value adjusted by modifying it.
(2) A photosensitive carboxyl group-containing resin obtained by reacting a carboxyl group-containing (meth) acrylic copolymer resin with a compound having an oxirane ring and an ethylenically unsaturated group in one molecule.
(3) An unsaturated monocarboxylic acid is reacted with a copolymer of a compound having one epoxy group and an unsaturated double bond in each molecule and a compound having an unsaturated double bond, and formed by this reaction. A photosensitive carboxyl group-containing resin obtained by reacting a secondary hydroxyl group with a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride.
(4) After reacting a hydroxyl group-containing polymer with a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride, a compound having one epoxy group and an unsaturated double bond in each molecule of the carboxylic acid produced by this reaction. Photosensitive hydroxyl group and carboxyl group-containing resin obtained by reaction.
(5) A photosensitive carboxyl group obtained by reacting a polyfunctional epoxy compound with an unsaturated monocarboxylic acid and reacting a polybasic acid anhydride with some or all of the secondary hydroxyl groups produced by this reaction. Containing resin.
(6) A polyfunctional epoxy compound is reacted with a compound having one reactive group other than a hydroxyl group that reacts with two or more hydroxyl groups and an epoxy group in one molecule, and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid. A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting the obtained reaction product with a polybasic acid anhydride.
(7) Obtained by reacting a reaction product of a resin having a phenolic hydroxyl group with an alkylene oxide or a cyclic carbonate with an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, and reacting the resulting reaction product with a polybasic acid anhydride. Carboxyl group-containing photosensitive resin.
(8) A reaction product obtained by reacting a polyfunctional epoxy compound, a compound having at least one alcoholic hydroxyl group and one phenolic hydroxyl group in one molecule, and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid. A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting an anhydride group of a polybasic acid anhydride with an alcoholic hydroxyl group.

本発明のプリント配線板材料には、セルロースナノファイバーおよびバインダー成分の他、その用途に応じて、慣用の他の配合成分を適宜配合することが可能である。   In addition to cellulose nanofibers and binder components, other conventional compounding components can be appropriately blended with the printed wiring board material of the present invention.

慣用の他の配合成分として、例えば、本発明のプリント配線板材料には、官能基を有するエラストマーを添加することができる。官能基を有するエラストマーの商品名としては、R−45HT、Poly bd HTP−9(出光興産(株)製)、エポリード PB3600((株)ダイセル製)、デナレックス R−45EPT(ナガセケムテックス(株)製)、Ricon 130、Ricon 131、Ricon 134、Ricon 142、Ricon 150、Ricon 152、Ricon 153、Ricon 154、Ricon 156、Ricon 157、Ricon 100、Ricon 181、Ricon 184、Ricon 130MA8、Ricon 130MA13、Ricon 130MA20、Ricon 131MA5、Ricon 131MA10、Ricon 131MA17、Ricon 131MA20、Ricon 184MA6、Ricon 156MA17(サートマー社製)などがあり、ポリエステル系エラストマー、ポリウレタン系エラストマー、ポリエステルウレタン系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、ポリエステルアミド系エラストマー、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー等を用いることができる。また、種々の骨格を有するエポキシ樹脂の一部または全部のエポキシ基を両末端カルボン酸変性型ブタジエン−アクリロニトリルゴムで変性した樹脂なども使用できる。さらに、エポキシ含有ポリブタジエン系エラストマー、アクリル含有ポリブタジエン系エラストマー、水酸基含有ポリブタジエン系エラストマー、水酸基含有イソプレン系エラストマーなども使用することができる。これらのエラストマーは、1種を単独で使用しても、または、2種類以上を併用してもよい。   As another conventional compounding component, for example, an elastomer having a functional group can be added to the printed wiring board material of the present invention. Trade names of elastomers having functional groups include R-45HT, Poly bd HTP-9 (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), Epolide PB3600 (manufactured by Daicel Corporation), Denarex R-45EPT (Nagase ChemteX Corporation) Ricon 130, Ricon 131, Ricon 134, Ricon 142, Ricon 150, Ricon 152, Ricon 152, Ricon 153, Ricon 154, Ricon 156, Ricon 157, Ricon 100, Ricon 181, Ricon 184, Ricon 130MA 13013 MA8 13 , Ricon 131MA5, Ricon 131MA10, Ricon 131MA17, Ricon 131MA20, Ricon 184 A6, Ricon 156MA17 (manufactured by Sartomer Corp.) include, can be used polyester elastomer, polyurethane elastomer, polyester urethane-based elastomers, polyamide elastomers, polyester amide elastomer, acrylic elastomer, a olefinic elastomer or the like. In addition, resins in which some or all of the epoxy groups of epoxy resins having various skeletons are modified with carboxylic acid-modified butadiene-acrylonitrile rubber at both ends can be used. Furthermore, epoxy-containing polybutadiene elastomers, acrylic-containing polybutadiene elastomers, hydroxyl group-containing polybutadiene elastomers, hydroxyl group-containing isoprene elastomers, and the like can also be used. These elastomers may be used alone or in combination of two or more.

その他の成分として、熱硬化触媒、光重合開始剤、着色剤、有機溶剤を加えてもよい。
硬化触媒は、硬化性樹脂のうち、主に熱硬化性樹脂を硬化させるためのものであり、例えば、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、4−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体;ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、4−(ジメチルアミノ)−N,N−ジメチルベンジルアミン、4−メトキシ−N,N−ジメチルベンジルアミン、4−メチル−N,N−ジメチルベンジルアミン等のアミン化合物、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド等のヒドラジン化合物;トリフェニルホスフィン等のリン化合物などが挙げられる。また、市販品としては、例えば、2MZ−A、2MZ−OK、2PHZ、2P4BHZ、2P4MHZ(四国化成工業(株)製)、U−CAT3503N、U−CAT3502T、DBU、DBN、U−CATSA102、U−CAT5002(サンアプロ(株)製)などが挙げられ、単独で、または2種以上を混合して使用してもかまわない。また同様に、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、メラミン、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−S−トリアジン、2−ビニル−2,4−ジアミノ−S−トリアジン、2−ビニル−4,6−ジアミノ−S−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−S−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等のS−トリアジン誘導体を用いることもできる。
As other components, a thermosetting catalyst, a photopolymerization initiator, a colorant, and an organic solvent may be added.
The curing catalyst is mainly for curing a thermosetting resin among curable resins. For example, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2- Imidazole derivatives such as phenylimidazole, 4-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole; dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4- (dimethylamino) Amine compounds such as -N, N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N, N-dimethylbenzylamine, 4-methyl-N, N-dimethylbenzylamine, hydrazine compounds such as adipic acid dihydrazide, sebacic acid dihydrazide; Phosphorylation of phenylphosphine, etc. Things and the like. Examples of commercially available products include 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), U-CAT3503N, U-CAT3502T, DBU, DBN, U-CATSA102, U- CAT5002 (manufactured by San Apro Co., Ltd.) and the like may be mentioned, and these may be used alone or in admixture of two or more. Similarly, guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melamine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine, 2-vinyl-2,4-diamino-S-triazine, 2-vinyl-4,6 S-triazine derivatives such as -diamino-S-triazine / isocyanuric acid adduct and 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine / isocyanuric acid adduct can also be used.

また、光重合開始剤は、硬化性樹脂のうち、光硬化性樹脂を硬化させるためのものであり、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルフォリニル)フェニル]−1−ブタノン等のアミノアルキルフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリーブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;又はキサントン類;(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィネイト等のフォスフィンオキサイド類;各種パーオキサイド類、チタノセン系開始剤などが挙げられる。これらは、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類のような光増感剤等と併用してもよい。これらの光重合開始剤は単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。   In addition, the photopolymerization initiator is for curing the photocurable resin among the curable resins, for example, benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether. Acetophenones such as acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone; 2-methyl -1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) ) -2-[(4-Methylphenyl) methyl Aminoalkylphenones such as -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertiarybutylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone; Thioxanthones such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2,4-diisopropylthioxanthone; Ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyldimethyl ketal; Benzophenones such as benzophenone; or xanthone (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-tri Chill diphenylphosphine oxide, phosphine oxide such as ethyl 2,4,6-trimethylbenzoylphenyl phosphinate Nate; various peroxides, and the like titanocene initiators. These are photosensitized like tertiary amines such as N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, triethanolamine and the like. You may use together with an agent etc. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

着色剤としては、着色顔料や染料等としてカラーインデックスで表される公知慣用のものが使用可能である。例えば、Pigment Blue 15、15:1、15:2、15:3、15:4 15:6、16、60、Solvent Blue 35、63、68、70、83、87、94、97、122、136、67、70、Pigment Green 7、36、3、5、20、28、Solvent Yellow 163、Pigment Yellow 24、108、193、147、199、202、110、109、139 179 185 93、94、95、128、155、166、180、120、151、154、156、175、181、1、2、3、4、5、6、9、10、12、61、62、62:1、65、73、74、75、97、100、104、105、111、116、167、168、169、182、183、12、13、14、16、17、55、63、81、83、87、126、127、152、170、172、174、176、188、198、Pigment Orange 1、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、61、63、64、71、73、Pigment Red 1、2、3、4、5、6、8、9、12、14、15、16、17、21、22、23、31、32、112、114、146、147、151、170、184、187、188、193、210、245、253、258、266、267、268、269、37、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、52:2、53:1、53:2、57:1、58:4、63:1、63:2、64:1、68、171、175、176、185、208、123、149、166、178、179、190、194、224、254、255、264、270、272、220、144、166、214、220、221、242、168、177、216、122、202、206、207、209、Solvent Red 135、179、149、150、52、207、Pigment Violet 19、23、29、32、36、38、42、Solvent Violet 13、36、Pigment Brown 23、25、Pigment Black 1、7等が挙げられる。   As the colorant, a known and conventional one represented by a color index as a color pigment or dye can be used. For example, Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4 15: 6, 16, 60, Solvent Blue 35, 63, 68, 70, 83, 87, 94, 97, 122, 136 , 67, 70, Pigment Green 7, 36, 3, 5, 20, 28, Solvent Yellow 163, Pigment Yellow 24, 108, 193, 147, 199, 202, 110, 109, 139 179 185 93, 94, 95, 128, 155, 166, 180, 120, 151, 154, 156, 175, 181, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62: 1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 104, 105, 111, 116, 167, 168, 169, 182 , 183, 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, 81, 83, 87, 126, 127, 152, 170, 172, 174, 176, 188, 198, Pigment Orange 1, 5, 13, 14 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63, 64, 71, 73, Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 112, 114, 146, 147, 151, 170, 184, 187, 188, 193, 210, 245, 253, 258, 266 267, 268, 269, 37, 38, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 52: 2, 53 1,5 : 2, 57: 1, 58: 4, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 68, 171, 175, 176, 185, 208, 123, 149, 166, 178, 179, 190, 194, 224 254, 255, 264, 270, 272, 220, 144, 166, 214, 220, 221, 242, 168, 177, 216, 122, 202, 206, 207, 209, Solvent Red 135, 179, 149, 150 , 52, 207, Pigment Violet 19, 23, 29, 32, 36, 38, 42, Solvent Violet 13, 36, Pigment Brown 23, 25, Pigment Black 1, 7, and the like.

有機溶剤としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロプレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートおよび上記グリコールエーテル類のエステル化物などのエステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール類;オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素類;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤等を挙げることができる。   Examples of organic solvents include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol Glycol ethers such as monoethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate and esterified products of the above glycol ethers; Alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol, propylene glycol; octa Aliphatic hydrocarbons such as decane may be mentioned petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, a petroleum solvent or the like, such as solvent naphtha.

また、必要に応じて、消泡・レベリング剤、チクソトロピー付与剤・増粘剤、カップリング剤、分散剤、難燃剤等の添加剤を含有させることができる。
消泡剤・レベリング剤としては、シリコーン、変性シリコーン、鉱物油、植物油、脂肪族アルコール、脂肪酸、金属石鹸、脂肪酸アミド、ポリオキシアルキレングリコール、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル等の化合物等が使用できる。
Moreover, additives, such as a defoaming and leveling agent, a thixotropy imparting agent / thickening agent, a coupling agent, a dispersant, and a flame retardant, may be included as necessary.
Antifoaming and leveling agents include compounds such as silicone, modified silicone, mineral oil, vegetable oil, aliphatic alcohol, fatty acid, metal soap, fatty acid amide, polyoxyalkylene glycol, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyalkylene fatty acid ester, etc. Etc. can be used.

チクソトロピー付与剤・増粘剤としては、カオリナイト、スメクタイト、モンモリロナイト、ベントナイト、タルク、マイカ、ゼオライト等の粘土鉱物や微粒子シリカ、シリカゲル、不定形無機粒子、ポリアミド系添加剤、変性ウレア系添加剤、ワックス系添加剤などが使用できる。   As thixotropy imparting agent / thickening agent, clay minerals such as kaolinite, smectite, montmorillonite, bentonite, talc, mica, zeolite, etc., fine silica, silica gel, amorphous inorganic particles, polyamide additives, modified urea additives, Wax-based additives can be used.

カップリング剤としては、アルコキシ基としてメトキシ基、エトキシ基、アセチル等であり、反応性官能基としてビニル、メタクリル、アクリル、エポキシ、環状エポキシ、メルカプト、アミノ、ジアミノ、酸無水物、ウレイド、スルフィド、イソシアネート等である、例えば、ビニルエトキシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニル・トリス(β―メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシラン等のビニル系シラン化合物、γ−アミノプロピルトリメトキシラン、Ν―β―(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のアミノ系シラン化合物、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β―(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等のエポキシ系シラン化合物、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト系シラン化合物、Ν―フェニル―γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のフェニルアミノ系シラン化合物等のシランカップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイル化チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート、テトラ(1,1−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス−(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、ジクミルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート等のチタネート系カップリング剤、エチレン性不飽和ジルコネート含有化合物、ネオアルコキシジルコネート含有化合物、ネオアルコキシトリスネオデカノイルジルコネート、ネオアルコキシトリス(ドデシル)ベンゼンスルホニルジルコネート、ネオアルコキシトリス(ジオクチル)ホスフェートジルコネート、ネオアルコキシトリス(ジオクチル)ピロホスフェートジルコネート、ネオアルコキシトリス(エチレンジアミノ)エチルジルコネート、ネオアルコキシトリス(m−アミノ)フェニルジルコネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル)ブチル,ジ(ジトリデシル)ホスフィトジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリネオデカノイルジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリ(ドデシル)ベンゼン−スルホニルジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリ(ジオクチル)ホスファトジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリ(ジオクチル)ピロ−ホスファトジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリ(N−エチレンジアミノ)エチルジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリ(m−アミノ)フェニルジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリメタクリルジルコネート、ネオペンチル(ジアリル)オキシ,トリアクリルジルコネート、ジネオペンチル(ジアリル)オキシ,ジパラアミノベンゾイルジルコネート、ジネオペンチル(ジアリル)オキシ,ジ(3−メルカプト)プロピオニックジルコネート、ジルコニウム(IV)2,2−ビス(2−プロペノラトメチル)ブタノラト,シクロジ[2,2−(ビス2−プロペノラトメチル)ブタノラト]ピロホスファト−O,O等のジルコネート系カップリング剤、ジイソブチル(オレイル)アセトアセチルアルミネート、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート等のアルミネート系カップリング剤等が使用できる。   As the coupling agent, alkoxy group is methoxy group, ethoxy group, acetyl, etc., and reactive functional group is vinyl, methacryl, acrylic, epoxy, cyclic epoxy, mercapto, amino, diamino, acid anhydride, ureido, sulfide, Isocyanates and the like, for example, vinyl silane compounds such as vinyl ethoxylane, vinyl trimethoxysilane, vinyl tris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxylane, γ-aminopropyltrimethoxylane,系 -β- (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, amino-based silane compounds such as γ-ureidopropyltriethoxysilane, and γ-glycid Xipropyltrimethoxy Epoxy silane compounds such as silane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxylane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, mercapto silane compounds such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, Silane coupling agents such as phenylamino silane compounds such as phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, isopropyl triisostearoylated titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate , Isopropyltridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyltris (dioctylpyrophosphate) titanate, tetraisopropylbis (dioctylphosphite) titanate, La (1,1-diallyloxymethyl-1-butyl) bis- (ditridecyl) phosphite titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate, isopropyltrioctanoyl titanate, isopropyldimethacrylisostearoyl titanate, isopropyltristearoyl diacryl Titanate, isopropyl tri (dioctyl phosphate) titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate, dicumylphenyloxyacetate titanate, diisostearoyl ethylene titanate, etc., ethylenically unsaturated zirconate-containing compound, neoalkoxy zirconate-containing compound , Neoalkoxytris neodecanoyl zirconate, neoalkoxytris (dodecyl) benzenes Lulphonyl zirconate, neoalkoxy tris (dioctyl) phosphate zirconate, neoalkoxy tris (dioctyl) pyrophosphate zirconate, neoalkoxy tris (ethylenediamino) ethyl zirconate, neoalkoxy tris (m-amino) phenyl zirconate, tetra (2,2-diallyloxymethyl) butyl, di (ditridecyl) phosphito zirconate, neopentyl (diallyl) oxy, trineodecanoyl zirconate, neopentyl (diallyl) oxy, tri (dodecyl) benzene-sulfonyl zirconate, neopentyl (Diallyl) oxy, tri (dioctyl) phosphatozirconate, neopentyl (diallyl) oxy, tri (dioctyl) pyro-phosphatozirconate, neopentyl (di Ryl) oxy, tri (N-ethylenediamino) ethyl zirconate, neopentyl (diallyl) oxy, tri (m-amino) phenyl zirconate, neopentyl (diallyl) oxy, trimethacryl zirconate, neopentyl (diallyl) oxy, triacryl Zirconate, dineopentyl (diallyl) oxy, diparaaminobenzoyl zirconate, dineopentyl (diallyl) oxy, di (3-mercapto) propionic zirconate, zirconium (IV) 2,2-bis (2-propenolatomethyl) Zirconate coupling agents such as butanolato, cyclodi [2,2- (bis-2-propenolatomethyl) butanolato] pyrophosphato-O, O, diisobutyl (oleyl) acetoacetylaluminate, alkylacetoacetate Diisopropylate aluminate coupling agents such like.

分散剤としては、ポリカルボン酸系、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合系、ポリエチレングリコール、ポリカルボン酸部分アルキルエステル系、ポリエーテル系、ポリアルキレンポリアミン系等の高分子型分散剤、アルキルスルホン酸系、四級アンモニウム系、高級アルコールアルキレンオキサイド系、多価アルコールエステル系、アルキルポリアミン系等の低分子型分散剤等が使用できる。   Dispersants include polycarboxylic acid-based, naphthalene sulfonic acid formalin condensation-based, polyethylene glycol, polycarboxylic acid partial alkyl ester-based, polyether-based, polyalkylene polyamine-based polymeric dispersants, alkyl sulfonic acid-based, four Low molecular weight dispersants such as secondary ammonium series, higher alcohol alkylene oxide series, polyhydric alcohol ester series and alkylpolyamine series can be used.

難燃剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の水和金属系、赤燐、燐酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛、モリブデン化合物系、臭素化合物系、塩素化合物系、燐酸エステル、含燐ポリオール、含燐アミン、メラミンシアヌレート、メラミン化合物、トリアジン化合物、グアニジン化合物、シリコンポリマー等が使用できる。   Flame retardants include hydrated metal such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, red phosphorus, ammonium phosphate, ammonium carbonate, zinc borate, zinc stannate, molybdenum compound, bromine compound, chlorine compound, phosphate ester Phosphorus-containing polyol, phosphorus-containing amine, melamine cyanurate, melamine compound, triazine compound, guanidine compound, silicon polymer, and the like can be used.

その他配合成分としては、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩等の光酸発生剤、カルバメート化合物、α−アミノケトン化合物、O−アシルオキシム化合物等の光塩基発生剤、硫酸バリウム、球状シリカ、ハイドロタルサイト等の無機フィラー、シリコンパウダー、ナイロンパウダー、フッ素パウダー等の有機フィラー、ラジカル捕捉剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、過酸化物分解剤、密着促進剤、防錆剤等が挙げられる。   Other ingredients include photoacid generators such as diazonium salts, sulfonium salts, iodonium salts, photobase generators such as carbamate compounds, α-aminoketone compounds, O-acyloxime compounds, barium sulfate, spherical silica, hydrotalcite. And inorganic fillers such as silicon powder, nylon powder and fluorine powder, radical scavengers, ultraviolet absorbers, antioxidants, peroxide decomposers, adhesion promoters, rust inhibitors and the like.

以上説明したような構成の本発明に係るプリント配線板材料は、ソルダーレジストおよびコア材に好適に適用することができる他、多層プリント配線板の層間絶縁材用に好適に使用することができ、これにより、得られたプリント配線板において、本発明の所期の効果を得ることができるものである。さらに、本発明をプリント配線板材料に適用する場合には、例えば、上記セルロースナノファイバーをシート状に成形し、このシート状セルロースナノファイバーにバインダー成分を含浸、乾燥させてプリプレグを作製する方法も用いることができる。   The printed wiring board material according to the present invention having the configuration as described above can be suitably used for the solder resist and the core material, and can be suitably used for the interlayer insulating material of the multilayer printed wiring board, Thereby, in the obtained printed wiring board, the expected effect of the present invention can be obtained. Furthermore, when the present invention is applied to a printed wiring board material, for example, there is a method of forming a prepreg by forming the cellulose nanofibers into a sheet shape, impregnating the sheet-like cellulose nanofibers with a binder component, and drying. Can be used.

図1に、本発明に係る多層プリント配線板の一構成例を示す部分断面図を示す。図示する多層プリント配線板は、例えば、以下のように製造することができる。まず、導体パターン1が形成されたコア基板2に貫通穴を形成する。貫通穴の形成は、ドリルや金型パンチ、レーザー光など適切な手段によって行うことができる。その後、粗化剤を用いて粗化処理を行う。一般に、粗化処理は、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、メトキシプロパノール等の有機溶剤、または苛性ソーダ、苛性カリ等のアルカリ性水溶液等で膨潤させ、重クロム酸塩、過マンガン酸塩、オゾン、過酸化水素/硫酸、硝酸等の酸化剤を用いて行われる。   FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a configuration example of a multilayer printed wiring board according to the present invention. The illustrated multilayer printed wiring board can be manufactured, for example, as follows. First, a through hole is formed in the core substrate 2 on which the conductor pattern 1 is formed. The through hole can be formed by an appropriate means such as a drill, a die punch, or laser light. Then, a roughening process is performed using a roughening agent. Generally, the roughening treatment is performed by swelling with an organic solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, methoxypropanol, or an alkaline aqueous solution such as caustic soda or caustic potash, and then dichromate and permanganic acid. It is carried out using an oxidizing agent such as salt, ozone, hydrogen peroxide / sulfuric acid or nitric acid.

次に、無電解めっきや電解めっきの組合せ等により、導体パターン3を形成する。無電解めっきにより導体層を形成する工程は、めっき用触媒を含む水溶液に浸漬し、触媒の吸着を行った後、めっき液に浸漬してめっきを析出させるという工程である。常法(サブトラクティブ法、セミアデティブ法等)に従って、コア基板2の表面の導体層に所定の回路パターンを形成し、図示するように、両側に導体パターン3を形成する。このとき、貫通穴にもめっき層が形成され、その結果、上記多層プリント配線板の導体パターン3のコネクション部4と導体パターン1のコネクション部1aとの間は電気的に接続されることになり、スルーホール5が形成される。   Next, the conductor pattern 3 is formed by a combination of electroless plating or electrolytic plating. The step of forming the conductor layer by electroless plating is a step of immersing in an aqueous solution containing a plating catalyst, adsorbing the catalyst, and then immersing in a plating solution to deposit the plating. A predetermined circuit pattern is formed on the conductor layer on the surface of the core substrate 2 in accordance with a conventional method (subtractive method, semi-additive method, etc.), and a conductor pattern 3 is formed on both sides as shown. At this time, a plated layer is also formed in the through hole, and as a result, the connection portion 4 of the conductor pattern 3 of the multilayer printed wiring board and the connection portion 1a of the conductor pattern 1 are electrically connected. Through hole 5 is formed.

次に、スクリーン印刷法やスプレーコーティング法、カーテンコーティング法等の適切な方法により、例えば、熱硬化性組成物を塗布した後、加熱硬化させ、層間絶縁層6を形成する。ドライフィルムまたはプリプレグを用いる場合には、ラミネートもしくは熱板プレスして加熱硬化させ、層間絶縁層6を形成する。次に、各導体層のコネクション部間を電気的に接続するためのビア7を、例えば、レーザー光など適切な手段によって形成し、上記導体パターン3と同様の方法で導体パターン8を形成する。さらに、同様の方法で層間絶縁層9、ビア10および導体パターン11を形成する。その後、最外層にソルダーレジスト層12を形成することで、多層プリント配線板が製造される。上記においては、積層基板上に層間絶縁層および導体層を形成する例について説明したが、積層基板の代わりに片面基板、または、両面基板を用いてもよい。   Next, for example, after applying a thermosetting composition by an appropriate method such as a screen printing method, a spray coating method, or a curtain coating method, the interlayer insulating layer 6 is formed by heating and curing. When a dry film or prepreg is used, the interlayer insulating layer 6 is formed by laminating or hot plate pressing and heat curing. Next, vias 7 for electrically connecting the connection portions of the conductor layers are formed by appropriate means such as laser light, and the conductor pattern 8 is formed by the same method as the conductor pattern 3. Further, the interlayer insulating layer 9, the via 10 and the conductor pattern 11 are formed by the same method. Then, a multilayer printed wiring board is manufactured by forming the solder resist layer 12 in the outermost layer. In the above, the example in which the interlayer insulating layer and the conductor layer are formed on the multilayer substrate has been described. However, a single-sided substrate or a double-sided substrate may be used instead of the multilayer substrate.

以下、本発明を、実施例を用いてより詳細に説明する。なお、以下の表中の数字は、すべて質量部を示す。
[カルボン酸塩を有するセルロースナノファイバー分散液の製造]
(製造例1)
針葉樹晒クラフトパルプ(王子製紙(株)製、水分50質量%、カナダ標準濾水度(CSF)550ml、主に数平均繊維径1000nm超の絶乾状態)5gを、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル(TEMPO)79mg(0.5mmol)と臭化ナトリウム515mg(5mmol)とを溶解した水溶液500mlに加え、パルプが均一分散するまで撹拌した。ここに、有効塩素5%の次亜塩素酸ナトリウム水溶液18mlを添加し、0.5N塩酸水溶液でpHを10に調整し、酸化反応を開始した。反応中は系内pHは低下するが、0.5N水酸化ナトリウム水溶液を逐次添加し、pHを10に調整した。2時間反応の後、ガラスフィルターで濾過し、濾物を十分に水洗して反応物を得た。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In addition, all the numbers in the following table | surfaces show a mass part.
[Production of Cellulose Nanofiber Dispersion Having Carboxylate]
(Production Example 1)
2, 2, 6, 6 -Tetramethylpiperidine-N-oxyl (TEMPO) 79 mg (0.5 mmol) and sodium bromide 515 mg (5 mmol) were added to 500 ml of an aqueous solution and stirred until the pulp was uniformly dispersed. To this, 18 ml of an aqueous sodium hypochlorite solution containing 5% effective chlorine was added, the pH was adjusted to 10 with an aqueous 0.5N hydrochloric acid solution, and an oxidation reaction was started. During the reaction, the pH in the system was lowered, but a 0.5N aqueous sodium hydroxide solution was successively added to adjust the pH to 10. After the reaction for 2 hours, the mixture was filtered through a glass filter, and the residue was sufficiently washed with water to obtain a reaction product.

次に、上記反応物に蒸留水を加え、パルプ濃度2質量%の水分散液とし、回転刃式ミキサーで5分間攪拌分散した。攪拌に伴い著しくスラリーの粘度が上昇したため、蒸留水を少しずつ加え、固形分濃度が0.2質量%となるまでミキサーによる攪拌分散を続け、透明なゲル状水溶液を得た。これをTEMで観察し、数平均繊維径10nmのカルボン酸塩を有するセルロースナノファイバーの水分散液であることを確認した。上記水分散液のカルボキシル基の量は、1.25mmol/gであった。   Next, distilled water was added to the reaction product to obtain an aqueous dispersion having a pulp concentration of 2% by mass, and the mixture was stirred and dispersed with a rotary blade mixer for 5 minutes. Since the viscosity of the slurry significantly increased with stirring, distilled water was added little by little, and stirring and dispersion with a mixer was continued until the solid content concentration reached 0.2% by mass to obtain a transparent gelled aqueous solution. This was observed with TEM and confirmed to be an aqueous dispersion of cellulose nanofibers having a carboxylate having a number average fiber diameter of 10 nm. The amount of carboxyl groups in the aqueous dispersion was 1.25 mmol / g.

これを脱水濾過し、濾物重量の10倍量のカルビトールアセテートを加え、30分間攪拌した後に濾過した。この置換操作を3回繰返して、濾物重量の10倍量のカルビトールアセテートを加え、10質量%のカルボン酸塩を有するセルロースナノファイバー分散液1を作製した。   This was subjected to dehydration filtration, 10 times the amount of carbitol acetate as the weight of the filtrate was added, and the mixture was stirred for 30 minutes and then filtered. This substitution operation was repeated three times to add 10 times the amount of carbitol acetate as the weight of the filtrate to prepare cellulose nanofiber dispersion 1 having 10% by mass of carboxylate.

(製造例2)
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル(TEMPO)79mg(0.5mmol)に代えて4−ジメチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル(4−ジメチルアミノ−TEMPO)100mg(0.5mmol)を用いた以外は、製造例1と同様にして、10質量%のカルボン酸塩を有するセルロースナノファイバー分散液2を作製した。なお、水分散液のカルボキシル基の量は1.30mmol/gであり、カルボン酸塩を有するセルロースナノファイバーの数平均繊維径は12nmであった。
(Production Example 2)
Instead of 79 mg (0.5 mmol) of 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl (TEMPO), 4-dimethylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl (4- A cellulose nanofiber dispersion 2 having 10% by mass of a carboxylate was produced in the same manner as in Production Example 1 except that 100 mg (0.5 mmol) of (dimethylamino-TEMPO) was used. The amount of carboxyl groups in the aqueous dispersion was 1.30 mmol / g, and the number average fiber diameter of the cellulose nanofibers having a carboxylate salt was 12 nm.

(製造例3)
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル(TEMPO)79mg(0.5mmol)に代えて4−カルボキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル(4−カルボキシ−TEMPO)101mg(0.5mmol)を用いた以外は、製造例1と同様にして、10質量%のカルボン酸塩を有するセルロースナノファイバー分散液3を作製した。なお、水分散液のカルボキシル基の量は1.16mmol/gであり、カルボン酸塩を有するセルロースナノファイバーの数平均繊維径は10nmであった。
(Production Example 3)
Instead of 79 mg (0.5 mmol) of 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl (TEMPO), 4-carboxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl (4-carboxyl) -TEMPO) A cellulose nanofiber dispersion 3 having 10% by mass of a carboxylate was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that 101 mg (0.5 mmol) was used. The amount of carboxyl groups in the aqueous dispersion was 1.16 mmol / g, and the number average fiber diameter of the cellulose nanofibers having a carboxylate salt was 10 nm.

[セルロースナノファイバー分散液の製造]
(製造例4)
ユーカリを製材した板を、カッターミルを用いて粉砕し、0.2mm角程度の木粉を作製した。次に、この木粉を、亜硫酸ナトリウムや水酸化ナトリウム等の水溶液中で高温高圧処理し、リグニンを除去した。50倍の蒸留水を加えて攪拌し、ディスクミルを用いた機械的粉砕を15回施した後、10質量%となるように蒸留水を加え、撹拌し、数平均繊維径80nmのセルロースナノファイバーを得た。これを脱水濾過し、濾物重量の10倍量のカルビトールアセテートを加え、30分間攪拌した後に濾過した。この置換操作を3回繰返して、濾物重量の10倍量のカルビトールアセテートを加え、10質量%のセルロースナノファイバー分散液1を作製した。
[Production of cellulose nanofiber dispersion]
(Production Example 4)
A plate made of eucalyptus was pulverized using a cutter mill to produce a wood powder of about 0.2 mm square. Next, this wood flour was subjected to high-temperature and high-pressure treatment in an aqueous solution such as sodium sulfite and sodium hydroxide to remove lignin. 50 times distilled water was added and stirred, and after mechanical pulverization using a disk mill 15 times, distilled water was added and stirred to 10% by mass, and cellulose nanofibers having a number average fiber diameter of 80 nm Got. This was subjected to dehydration filtration, 10 times the amount of carbitol acetate as the weight of the filtrate was added, and the mixture was stirred for 30 minutes and then filtered. This replacement operation was repeated three times, and 10 times the weight of the filtrate was added with carbitol acetate to prepare a 10% by mass cellulose nanofiber dispersion 1.

*1)熱硬化性化合物1:エピコート828 三菱化学(株)製
*2)熱硬化性化合物2:エピコート807 三菱化学(株)製
*3)硬化触媒1:2MZ−A 四国化成工業(株)製
*4)着色剤:フタロシアニンブルー
*5)有機溶剤:カルビトールアセテート
* 1) Thermosetting compound 1: Epicote 828, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation * 2) Thermosetting compound 2: Epicote 807, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation * 3) Curing catalyst 1: 2MZ-A Shikoku Chemicals Co., Ltd. * 4) Colorant: Phthalocyanine Blue
* 5) Organic solvent: carbitol acetate

*6)熱硬化性化合物3:ユニディックV−8000 DIC(株)製(固形分40質量%)
*7)熱硬化性化合物4:デナコールEX−830 ナガセケムテックス(株)製
*8)硬化触媒2:トリフェニルホスフィン
* 6) Thermosetting compound 3: Unidic V-8000 manufactured by DIC Corporation (solid content 40% by mass)
* 7) Thermosetting compound 4: Denacol EX-830 manufactured by Nagase ChemteX Corporation * 8) Curing catalyst 2: Triphenylphosphine

*9)熱可塑性樹脂1:ソクシール SOXR−OB ニッポン高度紙工業(株)製のワニス(固形分70質量%、N−メチルピロリドン30質量%) * 9) Thermoplastic resin 1: Socsea SOXR-OB Varnish manufactured by Nippon Kogyo Paper Industries Co., Ltd. (solid content 70% by mass, N-methylpyrrolidone 30% by mass)

*10)光硬化性化合物1:ビスフェノールA型エポキシアクリレート 三菱化学(株)製
*11)光硬化性化合物2:トリメチロールプロパントリアクリレート
*12)光硬化性化合物3:カヤマーPM2 日本化薬(株)製
*13)光硬化性化合物4:ライトエステルHO 共栄社化学(株)製
*14)光重合開始剤1:2−エチルアントラキノン
* 10) Photocurable compound 1: Bisphenol A type epoxy acrylate Mitsubishi Chemical Co., Ltd. * 11) Photocurable compound 2: Trimethylolpropane triacrylate * 12) Photocurable compound 3: Kayamar PM2 Nippon Kayaku Co., Ltd. * 13) Photocurable compound 4: Light ester HO Kyoeisha Chemical Co., Ltd. * 14) Photopolymerization initiator 1: 2-ethylanthraquinone

[カルボキシル基含有樹脂の合成例1]
(ワニス1)
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下ロートおよび窒素導入管を備えた2リットルセパラブルフラスコに、溶媒としてのジエチレングリコールジメチルエーテル900g、および、重合開始剤としてのt−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(日油(株)製、商品名;パーブチルO)21.4gを加えて90℃に加熱した。加熱後、ここに、メタクリル酸309.9g、メタクリル酸メチル116.4g、および、ラクトン変性2−ヒドロキシエチルメタクリレート((株)ダイセル製、商品名;プラクセルFM1)109.8gを、重合開始剤としてのビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート(日油(株)製、商品名;パーロイルTCP)21.4gとともに、3時間かけて滴下して加えた。さらに、これを6時間熟成することにより、カルボキシル基含有共重合樹脂を得た。なお、これらの反応は、窒素雰囲気下で行った。
[Synthesis example 1 of carboxyl group-containing resin]
(Varnish 1)
In a 2 liter separable flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping funnel and nitrogen introduction tube, 900 g of diethylene glycol dimethyl ether as a solvent and t-butylperoxy 2-ethylhexanoate as a polymerization initiator 21.4 g (manufactured by NOF Corporation, trade name: Perbutyl O) was added and heated to 90 ° C. After heating, 309.9 g of methacrylic acid, 116.4 g of methyl methacrylate, and 109.8 g of lactone-modified 2-hydroxyethyl methacrylate (manufactured by Daicel Corporation, trade name: Plaxel FM1) were used as a polymerization initiator. Bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate (manufactured by NOF Corporation, trade name: Parroyl TCP) was added dropwise over 3 hours. Further, this was aged for 6 hours to obtain a carboxyl group-containing copolymer resin. These reactions were performed in a nitrogen atmosphere.

次に、得られたカルボキシル基含有共重合樹脂に、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート((株)ダイセル製、商品名;サイクロマーA200)363.9g、開環触媒としてのジメチルベンジルアミン3.6g、重合抑制剤としてのハイドロキノンモノメチルエーテル1.80gを加え、100℃に加熱し、これを攪拌することにより、エポキシの開環付加反応を行った。16時間後、固形分の酸価が108.9mgKOH/g、質量平均分子量が25,000のカルボキシル基含有樹脂を53.8質量%(不揮発分)含む溶液を得た。   Next, to the obtained carboxyl group-containing copolymer resin, 363.9 g of 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate (manufactured by Daicel Corporation, trade name: Cyclomer A200), 3. dimethylbenzylamine as a ring-opening catalyst; 6 g and 1.80 g of hydroquinone monomethyl ether as a polymerization inhibitor were added, heated to 100 ° C., and stirred to carry out an epoxy ring-opening addition reaction. After 16 hours, a solution containing 53.8% by mass (nonvolatile content) of a carboxyl group-containing resin having a solid acid value of 108.9 mgKOH / g and a weight average molecular weight of 25,000 was obtained.

[カルボキシル基含有樹脂の合成例2]
(ワニス2)
温度計、攪拌機、滴下ロートおよび還流冷却器を備えたフラスコに、溶媒としてのジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、触媒としてのアゾビスイソブチロニトリルを入れ、窒素雰囲気下、これを80℃に加熱し、メタアクリル酸とメチルメタアクリレートとを0.40:0.60のモル比で混合したモノマーを約2時間かけて滴下した。さらに、これを1時間攪拌した後、温度を115℃にまで上げ、失活させて樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を冷却後、これを触媒として臭化テトラブチルアンモニウムを用い、95〜105℃で30時間の条件で、ブチルグリシジルエーテルを0.40のモル比で、得られた樹脂のカルボキシル基の等量と付加反応させ、冷却した。
[Synthesis example 2 of carboxyl group-containing resin]
(Varnish 2)
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, diethylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent and azobisisobutyronitrile as a catalyst were placed and heated to 80 ° C. in a nitrogen atmosphere. A monomer in which methacrylic acid and methyl methacrylate were mixed at a molar ratio of 0.40: 0.60 was dropped over about 2 hours. Furthermore, after stirring this for 1 hour, the temperature was raised to 115 ° C. and deactivated to obtain a resin solution. After cooling the resin solution, tetrabutylammonium bromide was used as a catalyst, and butyl glycidyl ether was added at a molar ratio of 0.40 at 95 to 105 ° C. for 30 hours. Addition reaction with an equal volume and cooling.

さらに、上記で得られた樹脂のOH基に対して、95〜105℃で8時間の条件で、無水テトラヒドロフタル酸を0.26のモル比で付加反応させた。これを、冷却後に取り出して、固形分の酸価が78.1mgKOH/g、質量平均分子量が35,000のカルボキシル基含有樹脂を50質量%(不揮発分)含む溶液を得た。   Furthermore, tetrahydrophthalic anhydride was subjected to addition reaction at a molar ratio of 0.26 under the condition of 95 to 105 ° C. for 8 hours with respect to the OH group of the resin obtained above. This was taken out after cooling to obtain a solution containing 50% by mass (nonvolatile content) of a carboxyl group-containing resin having a solid acid value of 78.1 mgKOH / g and a mass average molecular weight of 35,000.

[カルボキシル基含有樹脂の合成例3]
(ワニス3)
温度計、攪拌器、滴下ロートおよび還流冷却器を備えたフラスコに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(DIC(株)製、エピクロンN−680、エポキシ当量=210)210gと、溶媒としてのカルビトールアセテート96.4gとを加え、加熱溶解させた。続いて、これに重合禁止剤としてのハイドロキノン0.1g、反応触媒としてのトリフェニルホスフィン2.0gを加えた。この混合物を95〜105℃に加熱し、アクリル酸72gを徐々に滴下し、酸価が3.0mgKOH/g以下となるまで約16時間反応させた。この反応生成物を、80〜90℃にまで冷却した後、テトラヒドロフタル酸無水物76.1gを加え、赤外吸光分析により、酸無水物の吸収ピーク(1780cm−1)が無くなるまで、約6時間反応させた。この反応溶液に、出光興産(株)製の芳香族系溶剤イプゾール#150を96.4g加え、希釈した後、取り出した。このようにして得られたカルボキシル基含有の感光性ポリマー溶液は、不揮発分が65質量%、固形分の酸価が78mgKOH/gであった。
[Synthesis Example 3 of carboxyl group-containing resin]
(Varnish 3)
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser, 210 g of cresol novolac type epoxy resin (DIC Corporation, Epicron N-680, epoxy equivalent = 210) and carbitol acetate 96 as a solvent .4 g was added and dissolved by heating. Subsequently, 0.1 g of hydroquinone as a polymerization inhibitor and 2.0 g of triphenylphosphine as a reaction catalyst were added thereto. This mixture was heated to 95 to 105 ° C., 72 g of acrylic acid was gradually added dropwise, and the mixture was reacted for about 16 hours until the acid value became 3.0 mgKOH / g or less. The reaction product was cooled to 80 to 90 ° C., 76.1 g of tetrahydrophthalic anhydride was added, and about 6 until an absorption peak (1780 cm −1 ) of the acid anhydride disappeared by infrared absorption analysis. Reacted for hours. To this reaction solution, 96.4 g of aromatic solvent ipsol # 150 manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd. was added, diluted, and then taken out. The thus obtained carboxyl group-containing photosensitive polymer solution had a nonvolatile content of 65 mass% and a solid content acid value of 78 mgKOH / g.

*15)硬化触媒3:微粉砕メラミン 日産化学(株)製
*16)硬化触媒4:ジシアンジアミド
*17)光重合開始剤2:イルガキュア907 BASF製
*18)光硬化性化合物5:ジペンタエリスリトールテトラアクリレート
*19)熱硬化性化合物5:TEPIC−H 日産化学(株)製
* 15) Curing catalyst 3: Finely pulverized melamine * 16) Curing catalyst 4: Dicyandiamide * 17) Photopolymerization initiator 2: Irgacure 907 manufactured by BASF * 18) Photocurable compound 5: Dipentaerythritol tetra Acrylate * 19) Thermosetting compound 5: TEPIC-H manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.

[破断強度および破断伸度評価用シートの作製]
上記表1の記載に従って、各成分を配合、攪拌して、3本ロールにて分散させて、各組成物を作製した。次に、この組成物を、厚さ18μmの銅箔に、スクリーン印刷法にて全面に印刷し、熱風循環式乾燥炉で140℃、30分間の条件で硬化させた。その後、銅箔を除去し、厚さ50μmの評価用シートを作製した。
[Production of sheet for evaluation of breaking strength and breaking elongation]
In accordance with the description in Table 1 above, each component was blended, stirred, and dispersed with a three roll to prepare each composition. Next, this composition was printed on a copper foil having a thickness of 18 μm on the entire surface by a screen printing method, and cured in a hot air circulation type drying furnace at 140 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the copper foil was removed to prepare an evaluation sheet having a thickness of 50 μm.

上記表2の記載に従って、各成分を配合、攪拌して、3本ロールにて分散させて、各組成物を作製した。次に、この組成物を、厚さ18μmの銅箔に、スクリーン印刷法にて全面に印刷し、熱風循環式乾燥炉で100℃、30分間の条件で乾燥後、170℃、60分間の条件で硬化させた。その後、銅箔を除去し、厚さ50μmの評価用シートを作製した。   In accordance with the description in Table 2 above, each component was blended, stirred, and dispersed by a three roll to prepare each composition. Next, this composition was printed on a copper foil having a thickness of 18 μm on the entire surface by a screen printing method, dried in a hot air circulation drying oven at 100 ° C. for 30 minutes, and then at 170 ° C. for 60 minutes. And cured. Thereafter, the copper foil was removed to prepare an evaluation sheet having a thickness of 50 μm.

上記表3の記載に従って、各成分を配合、攪拌して、3本ロールにて分散させて、各組成物を作製した。次に、この組成物を、厚さ18μmの銅箔に、スクリーン印刷法にて全面に印刷し、熱風循環式乾燥炉で120℃、10分間の条件で乾燥後、250℃、30分間の条件で硬化させた。その後、銅箔を除去し、厚さ50μmの評価用シートを作製した。   In accordance with the description in Table 3 above, each component was blended, stirred, and dispersed by a three roll to prepare each composition. Next, this composition was printed on a copper foil having a thickness of 18 μm on the entire surface by a screen printing method, dried in a hot air circulating drying oven at 120 ° C. for 10 minutes, and then at 250 ° C. for 30 minutes. And cured. Thereafter, the copper foil was removed to prepare an evaluation sheet having a thickness of 50 μm.

上記表4の記載に従って、各成分を配合、攪拌して、3本ロールにて分散させて、各組成物を作製した。次に、この組成物を、厚さ18μmの銅箔に、スクリーン印刷法にて全面に印刷し、メタルハライドランプにて350nmの波長で2J/cmの積算光量を照射し、硬化させた。その後、銅箔を除去し、厚さ50μmの評価用シートを作製した。 In accordance with the description in Table 4 above, each component was blended, stirred, and dispersed with three rolls to prepare each composition. Next, this composition was printed on a copper foil having a thickness of 18 μm on the entire surface by a screen printing method, and cured by irradiating an integrated light amount of 2 J / cm 2 at a wavelength of 350 nm with a metal halide lamp. Thereafter, the copper foil was removed to prepare an evaluation sheet having a thickness of 50 μm.

上記表5〜表7の記載に従って、各成分を配合、攪拌して、3本ロールにて分散させて、各組成物を作製した。次に、この組成物を、厚さ18μmの銅箔に、スクリーン印刷法にて全面に印刷し、熱風循環式乾燥炉にて、80℃、30分間で乾燥させた。次に、銅箔中央部をカバーできるネガパターンを用い、プリント配線板用露光機HMW−680GW((株)オーク製作所製)により、700mJ/cmの積算光量で露光し、30℃で1%の炭酸ナトリウム水溶液を現像液として、プリント配線板用現像機にて60秒間現像し、銅箔縁部を除去した。続いて150℃で60分間、熱風循環式乾燥炉で硬化させた。その後、銅箔を除去し、厚さ50μmの評価用シートを作製した。 According to the description in Tables 5 to 7, the respective components were blended, stirred, and dispersed by a three roll to prepare each composition. Next, this composition was printed on a copper foil having a thickness of 18 μm on the entire surface by a screen printing method, and dried at 80 ° C. for 30 minutes in a hot air circulation drying furnace. Next, using a negative pattern that can cover the center of the copper foil, the printed wiring board exposure machine HMW-680GW (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) is exposed with an integrated light amount of 700 mJ / cm 2 and 1% at 30 ° C. The aqueous sodium carbonate solution was developed for 60 seconds with a developing machine for printed wiring boards, and the copper foil edge was removed. Subsequently, it was cured at 150 ° C. for 60 minutes in a hot air circulating drying oven. Thereafter, the copper foil was removed to prepare an evaluation sheet having a thickness of 50 μm.

[破断強度および破断伸度の評価]
JIS K7127に準拠し、上記評価用シートを所定の大きさに裁断して試験片を作製した。この試験片を、引張試験機((株)島津製作所製AGS−G)を用い、引っ張り速度10mm/分にて破断強度[MPa]、破断伸度[%]を測定した後、下記評価基準に基づき評価した。その結果を、下記の表8〜表11に示す。破断強度および破断伸度の評価基準において、ともに○の場合、試験片の硬化物は高い靭性を有しており、耐クラック性に優れていることがわかる。
[Evaluation of breaking strength and breaking elongation]
Based on JIS K7127, the said evaluation sheet | seat was cut | judged to the predetermined magnitude | size, and the test piece was produced. After measuring the breaking strength [MPa] and the breaking elongation [%] at a tensile speed of 10 mm / min using a tensile testing machine (AGS-G manufactured by Shimadzu Corporation), the test piece was subjected to the following evaluation criteria. Based on the evaluation. The results are shown in Tables 8 to 11 below. In the evaluation criteria of the breaking strength and breaking elongation, when both are good, it can be seen that the cured product of the test piece has high toughness and excellent crack resistance.

(破断強度の評価基準)
○:75MPa以上
△:50MPa以上75MPa未満
×:50MPa未満
(破断伸度の評価基準)
○:6%以上
△:4%以上6%未満
×:4%未満
(Evaluation criteria for breaking strength)
○: 75 MPa or more Δ: 50 MPa or more and less than 75 MPa x: less than 50 MPa (Evaluation criteria for breaking elongation)
○: 6% or more Δ: 4% or more and less than 6% ×: less than 4%

[耐クラック性評価用基板の作製]
上記破断強度および破断伸度評価シートの作製において、銅箔の代わりに1.6mmの厚さのFR−4銅張り積層板(銅厚18μm)を用い、膜厚20μmの硬化物を得た以外は同様の工程を経て、銅張り積層板上に硬化物が形成された評価用基板を作製した。
[Preparation of crack resistance evaluation substrate]
In preparation of the said breaking strength and breaking elongation evaluation sheet | seat, it used the FR-4 copper clad laminated board (copper thickness 18 micrometers) with a thickness of 1.6 mm instead of copper foil, and obtained the hardened | cured material with a film thickness of 20 micrometers. Went through the same steps to produce an evaluation substrate having a cured product formed on a copper-clad laminate.

[耐クラック性の評価]
上記評価用基板を、−65℃で30分間、150℃で30分間を1サイクルとして、1000サイクルの温度履歴を与え、その後の評価用基板のクラックおよび剥離の程度を、光学顕微鏡((株)キーエンス製VHX−2000)により観察し、下記評価基準に基づき評価した。その結果を、下記の表8〜表11に示す。
(評価基準)
○:クラック発生がない
△:クラック発生がある
×:クラック発生が著しい
[Evaluation of crack resistance]
The evaluation substrate was given a temperature history of 1000 cycles with -65 ° C. for 30 minutes and 150 ° C. for 30 minutes as one cycle, and the degree of cracking and peeling of the evaluation substrate thereafter was measured with an optical microscope (Corporation). Observation was performed by VHX-2000) manufactured by Keyence, and evaluation was performed based on the following evaluation criteria. The results are shown in Tables 8 to 11 below.
(Evaluation criteria)
○: No crack is generated Δ: Crack is generated ×: Crack is significantly generated

以上詳述した通り、カルボン酸塩を有するセルロースナノファイバーを含有するプリント配線板材料を用いることにより、耐クラック性を向上できることが確認された。   As described above in detail, it was confirmed that the crack resistance can be improved by using a printed wiring board material containing cellulose nanofibers having a carboxylate.

1,3,8,11 導体パターン
2 コア基板
1a,4 コネクション部
5 スルーホール
6,9 層間絶縁層
7,10 ビア
12 ソルダーレジスト層
1, 3, 8, 11 Conductor pattern 2 Core substrate 1a, 4 Connection portion 5 Through hole 6, 9 Interlayer insulating layer 7, 10 Via 12 Solder resist layer

Claims (8)

バインダー成分と、構造中にカルボン酸塩を有する数平均繊維径3nm〜1000nmのセルロースナノファイバーと、を含むことを特徴とするプリント配線板材料。   A printed wiring board material comprising a binder component and cellulose nanofibers having a number average fiber diameter of 3 nm to 1000 nm having a carboxylate in the structure. 前記セルロースナノファイバーが、天然セルロース繊維を原料とし、該天然セルロース繊維を、水中において、N−オキシル化合物を酸化触媒とし、共酸化剤を作用させて酸化することにより得られたものである請求項1記載のプリント配線板材料。   The cellulose nanofiber is obtained by using natural cellulose fiber as a raw material, and oxidizing the natural cellulose fiber in water using an N-oxyl compound as an oxidation catalyst and a co-oxidant acting. The printed wiring board material according to 1. 前記バインダー成分が熱可塑性樹脂である請求項1または2記載のプリント配線板材料。   The printed wiring board material according to claim 1, wherein the binder component is a thermoplastic resin. 前記バインダー成分が硬化性樹脂である請求項1または2記載のプリント配線板材料。   The printed wiring board material according to claim 1, wherein the binder component is a curable resin. ソルダーレジスト用である請求項1〜4のうちいずれか一項記載のプリント配線板材料。   It is for soldering resists, The printed wiring board material as described in any one of Claims 1-4. コア材用である請求項1〜4のうちいずれか一項記載のプリント配線板材料。   It is for core materials, The printed wiring board material as described in any one of Claims 1-4. 多層プリント配線板の層間絶縁材用である請求項1〜4のうちいずれか一項記載のプリント配線板材料。   The printed wiring board material according to any one of claims 1 to 4, which is used for an interlayer insulating material of a multilayer printed wiring board. 請求項1〜7のうちいずれか一項記載のプリント配線板材料を用いたことを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board comprising the printed wiring board material according to claim 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015200851A (en) * 2014-04-10 2015-11-12 凸版印刷株式会社 Photosensitive composition and manufacturing method thereof
WO2018030465A1 (en) * 2016-08-09 2018-02-15 太陽ホールディングス株式会社 Curable resin composition for printed wiring board, dry film, cured product, and printed wiring board

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008001728A (en) * 2006-06-20 2008-01-10 Asahi Kasei Corp Fine cellulose fiber
JP2011140632A (en) * 2009-12-11 2011-07-21 Kao Corp Composite material
JP2012119470A (en) * 2010-11-30 2012-06-21 Mitsubishi Chemicals Corp Wiring board
WO2013022025A1 (en) * 2011-08-08 2013-02-14 王子ホールディングス株式会社 Process for producing microfibrous cellulose, process for producing nonwoven fabric, microfibrous cellulose, slurry containing microfibrous cellulose, nonwoven fabric, and composite

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008001728A (en) * 2006-06-20 2008-01-10 Asahi Kasei Corp Fine cellulose fiber
JP2011140632A (en) * 2009-12-11 2011-07-21 Kao Corp Composite material
JP2012119470A (en) * 2010-11-30 2012-06-21 Mitsubishi Chemicals Corp Wiring board
WO2013022025A1 (en) * 2011-08-08 2013-02-14 王子ホールディングス株式会社 Process for producing microfibrous cellulose, process for producing nonwoven fabric, microfibrous cellulose, slurry containing microfibrous cellulose, nonwoven fabric, and composite

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015200851A (en) * 2014-04-10 2015-11-12 凸版印刷株式会社 Photosensitive composition and manufacturing method thereof
WO2018030465A1 (en) * 2016-08-09 2018-02-15 太陽ホールディングス株式会社 Curable resin composition for printed wiring board, dry film, cured product, and printed wiring board

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