KR20190046669A - Transfer apparatus and transfer method - Google Patents
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Abstract
Description
실시 형태는 전사 장치에 관한 것이고, 특히 기판에 도공되어 있는 수지에, 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴을 전사하기 위한 전사 장치 및 전사 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a transfer apparatus, and more particularly to a transfer apparatus and a transfer method for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a resin coated on a substrate.
기판에 도공되어 있는 수지에, 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴을 전사하기 위한 종래예의 전사 장치가 알려져 있다(US9,604,402B2 참조). 종래예의 전사 장치에서는, 전사에 사용되는 몰드는 몰드 원단과 권취 롤 사이에서 연신되어 있다.A conventional transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a resin coated on a substrate is known (see US9,604,402B2). In the conventional transfer device, the mold used for transferring is stretched between the mold fabric and the winding roll.
종래예의 전사 장치에서는, 몰드의 사용량을 적게 하기 위해서, 전사에 사용되는 몰드(몰드 원단과 권취 롤 사이에서 연신되어 있는 몰드)를 복수회 반복하여 사용함으로써, 복수매의 기판에 전사를 행하는 경우가 있다.In the transfer device of the conventional example, in order to reduce the amount of use of the mold, there is a case where transfer is performed to a plurality of substrates by repeatedly using a mold used for transferring (a mold stretched between the mold fabric and the winding roll) have.
종래의 전사 장치에서는, 몰드를 복수회 반복하여 사용하므로, 몰드의 이형성의 악화(전사 패턴을 기판의 수지에 눌러 수지를 경화한 후에 있어서의 수지로부터의 몰드의 박리 어려움의 증대)나, 몰드의 전사 패턴에의 미세한 티끌 등의 부착물의 증가 등에 의한 기판에 전사된 패턴의 형상의 악화가 발생할 우려가 있다.In the conventional transfer device, since the mold is repeatedly used a plurality of times, deterioration of mold releasability (increase in the difficulty of peeling the mold from the resin after the resin is cured by pressing the transfer pattern onto the resin of the substrate) There is a possibility that the shape of the transferred pattern on the substrate may be deteriorated due to an increase in adhesion of fine particles or the like to the transfer pattern.
본 출원은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것이며, 기판에 도공되어 있는 수지에 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴을 전사하는 전사 장치에 있어서, 몰드를 복수회 반복하여 사용하는 경우에도, 몰드의 이형성의 악화나, 기판에 전사된 패턴의 형상의 악화를 방지할 수 있는 것을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present application has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a resin coated on a substrate, even when the mold is used repeatedly a plurality of times, And to provide a device capable of preventing deterioration of the shape of a pattern transferred to a substrate.
본 출원의 제1 양태에 관한 전사 장치는, 기판에 도공되어 있는 수지에 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴을 전사하기 위한 전사 장치이며, 미경화의 수지를 기판에 도공하기 위한 도공부와, 기판이 위치 결정되어 일체적으로 설치되는 기판 설치부와, 시트상의 몰드가 설치되는 몰드 설치부와, 기판에 도공되어 있는 수지에 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사하기 위한 전사 롤러와, 기판에 도공되어 있는 수지에 몰드에 형성되어 있는 전사 패턴을 전사한 후에, 기판의 수지로부터 박리된 몰드에 플라스마를 조사하여 몰드를 클리닝하기 위한 플라스마 유닛을 구비한다. 기판의 수지로부터 박리된 몰드는, 플라스마 유닛에 의해 플라스마를 조사하여 클리닝된 후에, 다시 전사 패턴의 전사에 사용된다.A transfer device according to a first aspect of the present application is a transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a resin coated on a substrate and includes a coating portion for coating an uncured resin on a substrate, A mold mounting part for mounting a mold on the sheet, a transfer roller for fine transfer, which is formed on the mold in the resin coated on the substrate, and a transfer roller And a plasma unit for cleaning the mold by irradiating a plasma to the mold which has been peeled from the resin of the substrate after transferring the transfer pattern formed on the mold to the resin. The mold that has been peeled off from the resin of the substrate is used for transferring the transfer pattern again after cleaning by irradiating the plasma with the plasma unit.
플라스마 유닛은, 몰드가 전사를 행한 횟수에 따라서, 몰드에의 플라스마의 조사량을 바꾸도록 구성되어 있어도 된다.The plasma unit may be configured to change the irradiation amount of the plasma to the mold according to the number of times the mold is transferred.
전사 장치는, 몰드가 감겨 있는 원단 몰드와, 원단 몰드로부터 조출되고 있는 몰드를 권취하는 권취 롤을 더 구비하고, 전사 롤러에는, 원단 몰드와 권취 롤 사이에서 연신되어 있는 몰드가 감아 걸려 있으며, 전사 롤러를 사용하여 몰드를 수지에 누른 상태에서 전사 롤러를 이동하는 롤 전사에 의해, 수지에의 몰드의 누름과, 수지로부터의 몰드의 박리가 실행되며, 수지로부터의 몰드의 박리가 종료된 후에, 플라스마 유닛은 박리된 몰드에 플라스마를 조사하도록 구성되어 있어도 된다.The transfer device further comprises a fabric mold in which the mold is wound and a winding roll for winding a mold fed out from the fabric mold. A mold stretched between the fabric mold and the winding roll is wound around the transfer roller, The pressing of the mold to the resin and the peeling of the mold from the resin are carried out by the roll transfer in which the transfer roller is moved while the mold is pressed against the resin by using the roller and after the peeling of the mold from the resin is completed, The plasma unit may be configured to irradiate the plasma to the peeled mold.
플라스마 유닛에 의한 몰드의 클리닝이 불충분한 경우에는, 권취 롤이 수지로부터 박리된 몰드의 부위를 권취하고, 몰드의 새로운 부위가 원단 몰드로부터 조출되게 구성되어 있어도 된다.If the cleaning of the mold by the plasma unit is insufficient, the winding roll may take up the portion of the mold which is peeled off from the resin, and a new portion of the mold may be drawn out from the raw mold.
제1 형태에 관한 전사 장치는, 수지로부터 박리된 몰드의 오염을 검출하기 위한 몰드 검출부를 더 구비하고, 몰드 검출부에서의 검출 결과에 따라서, 플라스마 유닛에 의한 몰드의 클리닝이 불충분한지 여부를 판단하도록 해도 된다.The transfer apparatus according to the first aspect further includes a mold detection unit for detecting contamination of the mold peeled from the resin and determines whether or not the cleaning of the mold by the plasma unit is insufficient in accordance with the detection result in the mold detection unit You can.
본 출원의 제2 양태에 관한 전사 장치는, 기판에 도공되어 있는 수지에, 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴을 전사하기 위한 전사 장치이며, 미경화의 수지를 기판에 도공하기 위한 도공부와, 기판이 위치 결정되어 일체적으로 설치되는 기판 설치부와, 시트상의 몰드가 설치되는 몰드 설치부와, 기판에 도공되어 있는 수지에 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴을 전사하기 위한 전사 롤러와, 기판에 플라스마를 조사하기 위한 플라스마 유닛을 구비한다. 플라스마 유닛은 헤드와 구동부를 구비한다. 도공부와 플라스마 유닛은 기판에 대하여 동시에 이동하고, 플라스마 유닛에서 기판에 플라스마를 조사하면서, 도공부에서 기판에 미경화의 수지를 도공한다.A transfer device according to a second aspect of the present application is a transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a resin coated on a substrate and includes a coating portion for coating an uncured resin on a substrate, A transferring roller for transferring a fine transfer pattern formed on the mold to the resin coated on the substrate, and a transfer roller for transferring the fine transfer pattern formed on the mold to the substrate, And a plasma unit for irradiating the plasma. The plasma unit has a head and a driving unit. The coating portion and the plasma unit are simultaneously moved with respect to the substrate, and the uncured resin is coated on the substrate in the coating portion while the plasma is irradiated on the substrate in the plasma unit.
플라스마 유닛은, 전사 후에 기판의 수지로부터 박리된 몰드에도 플라스마를 조사하도록 구성되어 있고, 플라스마 유닛의 구동부는 도공부에 지지되어 있으며, 플라스마 유닛의 구동부에 의해 구동된 플라스마 유닛으로부터, 기판과 전사 후에 기판의 수지로부터 박리된 몰드에 플라스마가 조사되도록 구성되어 있어도 된다.The plasma unit is configured to irradiate the plasma, which has been peeled off from the resin of the substrate after transfer, with plasma. The driving unit of the plasma unit is supported by the coating unit, and the plasma unit is moved from the plasma unit driven by the driving unit of the plasma unit, And the plasma may be configured to be irradiated to the mold which is peeled from the resin of the substrate.
플라스마 유닛의 헤드로부터, 기판과 전사 후에 기판의 수지로부터 박리된 몰드에 플라스마가 조사되도록 해도 된다.Plasma may be irradiated from the head of the plasma unit to the mold which has been peeled off from the resin of the substrate after transfer to the substrate.
헤드는 도공부에 대하여 회동 위치 결정 가능하게 되어 있으며, 헤드로부터 기판에 플라스마를 조사할 때의 헤드의 자세가, 헤드부터 몰드에 플라스마를 조사할 때의 헤드의 자세에 대하여, 소정의 각도 회동하도록 구성되어 있어도 된다.The head is capable of pivoting with respect to the coated portion so that the posture of the head when irradiating the plasma from the head with the plasma is rotated at a predetermined angle with respect to the posture of the head when irradiating the plasma from the head to the mold .
본 출원의 제3 양태에 관한 전사 방법은, 기판에 도공되어 있는 수지에 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴을 전사하기 위한 전사 방법이며, 도공부를 사용하여 미경화의 수지를 기판에 도공을 하는 공정과, 기판에 플라스마 유닛을 사용하여 플라스마를 조사하는 공정을 포함하고, 플라스마 유닛은 헤드와 구동부를 구비하며, 도공부와 플라스마 유닛이 기판에 대하여 동시에 이동함으로써, 플라스마 조사 공정에서 기판에 플라스마를 조사하면서, 도공 공정에서 기판에 미경화의 수지를 도공한다.The transfer method according to the third aspect of the present application is a transfer method for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a resin coated on a substrate and includes a step of coating an uncured resin onto a substrate using a coated portion And a step of irradiating a plasma using a plasma unit on the substrate, wherein the plasma unit has a head and a driving unit, and the coating unit and the plasma unit move simultaneously with respect to the substrate, , And the uncured resin is applied to the substrate in the coating step.
본 출원의 제4 양태에 관한 전사 장치는, 기판에 도공되어 있는 수지에 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴을 전사하기 위한 전사 장치이며, 소정의 파장의 전자파에 의해 경화 가능한 미경화의 수지를 기판에 도공하기 위한 도공부와, 기판이 위치 결정되어 일체적으로 설치되는 기판 설치부와, 시트상의 몰드가 설치되는 몰드 설치부와, 기판에 플라스마를 조사하기 위한 플라스마 유닛과, 몰드가 감아 걸리는 전사 롤러이며, 몰드를 수지에 누른 상태에서 전사 롤러를 이동하는 롤 전사에 의해, 수지에의 몰드의 누름과, 수지로부터의 몰드의 박리를 실행하는 전사 롤러와, 전사 롤러에 의해 수지에의 몰드의 누름을 행하고 있는 상태에서, 수지에 소정의 파장의 전자파를 조사하는 수지 경화부와, 롤 전사에서 몰드의 수지에의 누름을 행하는 방향으로 전사 롤러가 이동하고 있을 때, 소정의 파장의 전자파를 수지에 조사하도록 수지 경화부를 제어하는 제어부를 구비한다.The transfer device according to the fourth aspect of the present application is a transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a resin coated on a substrate and is a transfer device for transferring an uncured resin which can be cured by electromagnetic waves of a predetermined wavelength, A mold mounting portion for mounting a mold on a sheet, a plasma unit for irradiating a plasma to the substrate, and a transferring portion for transferring the transferring A transfer roller for carrying out the pressing of the mold to the resin and the separation of the mold from the resin by the roll transfer in which the transfer roller is moved while the mold is pressed against the resin and a transfer roller for transferring the mold A resin hardening section for irradiating the resin with electromagnetic waves of a predetermined wavelength in a state in which the pressing is performed, When the transfer roller is moved to, and a control unit to control the resin curing portion to emit an electromagnetic wave of predetermined wavelength into the resin.
제어부는, 롤 전사에서 몰드의 수지로부터의 박리를 행하는 방향으로 전사 롤러가 이동하고 있을 때에도, 소정의 파장의 전자파를 수지에 조사하도록, 수지 경화부를 제어하도록 해도 된다.The control unit may control the resin hardening unit to irradiate the resin with electromagnetic waves of a predetermined wavelength even when the transfer roller is moving in the direction of peeling the mold from the resin in the roll transfer.
제어부는, 롤 전사에서의 전사 롤러의 이동량에 따라서, 수지에 조사하는 소정의 파장의 전자파의 강도를 조정하도록 수지 경화부를 제어하도록 해도 된다.The control unit may control the resin hardening unit to adjust the intensity of the electromagnetic wave having a predetermined wavelength to be irradiated to the resin, in accordance with the amount of movement of the transfer roller in the roll transfer.
도공부는, 번갈아 배치되어 있는 복수의 잉크젯 헤드를 구비하고, 미립자상의 미경화 수지를 복수의 잉크젯 헤드로부터 방출함으로써 기판에 도공을 행하게 해도 된다.The coating portion may include a plurality of ink jet heads arranged alternately, and the substrate may be coated with the uncured resin in a particulate state by being discharged from the plurality of inkjet heads.
제어부는, 기판에 도공되는 미경화의 수지가, 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴에 대응한 형상이 되도록, 도공부를 제어하도록 해도 된다.The control unit may control the coated portion so that the uncured resin to be coated on the substrate has a shape corresponding to a fine transfer pattern formed on the mold.
제어부는, 몰드에 형성되어 있는 전사 패턴에 따라서, 미경화의 수지량을 조정하여 도공하도록 도공부를 제어하고, 도공된 수지량에 따라서, 소정의 파장의 전자파의 강도를 조정하도록 수지 경화부를 제어하도록 해도 된다.The control unit controls the coating unit so as to adjust the amount of the uncured resin so as to control the resin hardening unit so as to adjust the intensity of the electromagnetic wave of a predetermined wavelength in accordance with the amount of the coated resin in accordance with the transfer pattern formed on the mold You can.
본 출원의 양태에 의하면, 기판에 도공되어 있는 수지에 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴을 전사하는 전사 장치에 있어서, 몰드를 복수회 반복하여 사용하는 경우에도, 몰드의 이형성의 악화나, 기판에 전사된 패턴의 형상의 악화를 방지할 수 있다는 효과를 발휘한다.According to the embodiment of the present application, even when the mold is repeatedly used a plurality of times in the transfer device for transferring the fine transfer pattern formed on the mold to the resin coated on the substrate, the mold releasability is deteriorated, It is possible to prevent the deterioration of the shape of the transferred pattern.
도 1은, 실시 형태에 따른 전사 장치의 개략 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는, 도 1에 있어서의 II 화살표도이다.
도 3은, 도 1에 있어서의 III 화살표도이다.
도 4는, 도 1에 있어서의 IV 화살표도이다.
도 5는, 도 2에 있어서의 V부의 확대도이다.
도 6은, 실시 형태에 따른 전사 장치의 동작을 나타내는 도면이다.
도 7은, 실시 형태에 따른 전사 장치의 동작을 나타내는 도면이다.
도 8은, 실시 형태에 따른 전사 장치의 동작을 나타내는 도면이다.
도 9는, 실시 형태에 따른 전사 장치의 동작을 나타내는 도면이다.
도 10은, 실시 형태에 따른 전사 장치의 동작을 나타내는 도면이다.
도 11은, 실시 형태에 따른 전사 장치의 동작을 나타내는 도면이다.
도 12는, 실시 형태에 따른 전사 장치의 동작을 나타내는 도면이다.
도 13은, 실시 형태에 따른 전사 장치에의 몰드의 설치를 나타내는 도면이다.
도 14는, 실시 형태에 따른 전사 장치에의 몰드의 설치를 나타내는 도면이다.
도 15는, 실시 형태에 따른 전사 장치에의 몰드의 설치를 나타내는 도면이다.
도 16은, 실시 형태에 따른 전사 장치에의 몰드의 설치를 나타내는 도면이다.
도 17은, 실시 형태에 따른 전사 장치에의 몰드의 설치를 나타내는 도면이다.
도 18의 (a) 내지 도 18의 (c)는, 실시 형태에 따른 전사 장치의 전사 롤러 등의 동작을 나타내는 도면이다.
도 19의 (a) 내지 도 19의 (d)는, 실시 형태에 따른 전사 장치로의 전사를 나타내는 도면이다.
도 20은, 실시 형태에 따른 전사 장치의 도공부에서 도공된 변형예에 관한 수지의 형태를 나타내는 도면이다.
도 21의 (a), 도 21의 (b)는, 실시 형태에 따른 전사 장치에 있어서 기판 유지부에 전사 롤러 가이드부를 설치한 경우의 도면이며, 도 21의 (c)는 도 21의 (a)에 있어서의 XXIC부의 확대도이다.
도 22의 (a), 도 22의 (b)는, 실시 형태에 따른 전사 장치의 기판 유지부에 설치된 기판 상의 수지의 경화의 양태를 나타내는 도면이다.
도 23은, 도 1에 있어서의 XXIII부의 확대도이다.
도 24의 (a)는 기판에 형성된 전사 패턴의 예시이며, 도 24의 (b)는 도 24의 (a)에 있어서의 XXIVB-XXIVB 단면을 나타내는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a view showing a schematic configuration of a transfer device according to an embodiment; FIG.
Fig. 2 is an II arrow in Fig. 1. Fig.
Fig. 3 is an arrow III in Fig. 1. Fig.
Fig. 4 is an IV arrow diagram in Fig. 1. Fig.
5 is an enlarged view of a portion V in Fig.
6 is a diagram showing the operation of the transfer device according to the embodiment.
7 is a diagram showing the operation of the transfer device according to the embodiment.
8 is a diagram showing the operation of the transfer device according to the embodiment.
9 is a diagram showing the operation of the transfer device according to the embodiment.
10 is a diagram showing the operation of the transfer apparatus according to the embodiment.
11 is a diagram showing the operation of the transfer apparatus according to the embodiment.
12 is a diagram showing the operation of the transfer device according to the embodiment.
13 is a view showing the installation of a mold in a transfer device according to the embodiment.
14 is a view showing the setting of a mold in a transfer device according to the embodiment.
Fig. 15 is a view showing the installation of a mold in a transfer device according to the embodiment. Fig.
16 is a view showing the installation of a mold in a transfer device according to the embodiment.
17 is a view showing the setting of a mold in a transfer device according to the embodiment.
18A to 18C are diagrams showing the operation of the transfer roller and the like of the transfer device according to the embodiment.
19 (a) to 19 (d) are diagrams showing transfer to a transfer device according to the embodiment.
Fig. 20 is a view showing the shape of a resin according to a modified example applied in a coated portion of a transfer device according to the embodiment. Fig.
21 (a) and 21 (b) are views showing the case where the transfer roller guide portion is provided in the substrate holding portion in the transfer device according to the embodiment. Fig. 21 (c) Fig. 4 is an enlarged view of the XXIC portion in Fig.
Figs. 22A and 22B are views showing the curing of the resin on the substrate provided on the substrate holding portion of the transfer apparatus according to the embodiment. Fig.
23 is an enlarged view of a portion XXIII in Fig.
FIG. 24A is an example of a transfer pattern formed on a substrate, and FIG. 24B is a cross-sectional view taken along line XXIVB-XXIVB in FIG. 24A.
이하, 실시 형태에 따른 전사 장치에 대해서, 도 1 내지 24의 (b)에 기초하여 설명한다.Hereinafter, a transfer apparatus according to the embodiment will be described with reference to Figs. 1 to 24 (b).
실시 형태에 따른 전사 장치(1)는 도 19의 (a) 내지 도 19의 (d)에서 나타내는 바와 같이, 기판(3)의 상면에 도공되어 있는, 예를 들어 얇은 막상의 수지(5)에, 몰드(7)에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴(9)을 전사하기 위한 장치이다.As shown in Figs. 19A to 19D, the
여기서, 수지(5)로서, 소정의 파장의 전자파로 경화되는 수지, 더욱 구체적으로는 자외선 경화 수지를 들 수 있다. 기판(3)로서 유리나 PET 수지 등으로 구성된 것을 들 수 있다.Here, as the resin (5), a resin which is cured by an electromagnetic wave of a predetermined wavelength, more specifically, an ultraviolet ray hardening resin can be mentioned. Examples of the
또한, 미세한 전사 패턴(9)은 도 19의 (b)에서 나타내는 바와 같이, 예를 들어 미세한 요철의 반복으로 형성되어 있다. 요철의 폭(B1, B2)이나 높이(H1)의 치수는 가시광선의 파장보다도 크거나, 가시광선의 파장과 동일한 정도이거나, 가시광선의 파장보다도 작으며, 예를 들어 가시광선 파장의 수분의 1 정도로 되어 있다. 즉, 요철의 폭(B1, B2)이나 높이(H1)의 치수는 가시광선 파장의 수분의 1 내지 수배 정도로 되어 있다. 또한, 요철의 애스펙트비(H1/B1 또는 H1/B2)는 예를 들어 1 내지 2 정도로 되어 있다.Further, as shown in Fig. 19 (b), the
여기서 설명의 편의를 위해 수평인 소정의 일방향을 X축 방향으로 하고, 수평인 다른 소정의 일방향이며 X축 방향에 대하여 직교하는 방향을 Y축 방향으로 하며, X축 방향과 Y축 방향에 대하여 직교하는 방향을 Z축 방향(상하 방향)으로 한다. X축 방향의 한쪽의 측을 전방측으로 하고, X축 방향의 다른 쪽의 측을 후방측으로 한다.For convenience of explanation, it is assumed that a predetermined one horizontal direction is an X-axis direction, another predetermined horizontal direction is a Y-axis direction orthogonal to the X-axis direction, and an X- (Vertical direction) in the Z-axis direction. One side in the X-axis direction is set as the front side and the other side in the X-axis direction is set as the rear side.
여기서, 전사에 대해서, 도 19의 (a) 내지 도 19의 (d)를 참조하면서 설명한다.Here, the transfer will be described with reference to Figs. 19 (a) to 19 (d).
전사는, 기판(3) 상의 미경화의 수지(5)에 몰드(7)를 누른 상태에서 수지(5)를 경화시키고, 이 후, 수지(5)로부터 몰드(7)를 박리함으로써 이루어진다.The transfer is performed by hardening the
더욱 상세하게 설명하면, 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 얇은 막상으로 되어 상면에 설치되어 있는 기판(3)(도 19의 (a) 참조)에, 몰드(7)를 누른다(도 19의 (b) 참조).More specifically, the
몰드(7)를 누른 상태에서는, 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 몰드(7)의 전사 패턴(9)에 충전되어 있다. 또한, 도 19의 (b)에서 나타내는 상태로, 전사 패턴(9)의 선단(하단)과 기판(3)의 상면은 약간 이격되어 있으며 이들 사이에도 미경화의 자외선 경화 수지(두께 T1의 자외선 경화 수지)(5)가 들어가 있다. 또한, 두께 T1의 값은 「0」으로 되어 있는 것이 바람직하지만 이것은 매우 곤란한 것이다.In the state in which the
계속해서, 도 19의 (b)에서 나타내는 상태로, 기판(3), 몰드(7) 중 적어도 어느 것을 통해서, 미경화의 자외선 경화 수지(5)에 자외선을 조사하고, 자외선 경화 수지(5)를 경화시킨다.19 (b), ultraviolet rays are irradiated to the uncured ultraviolet-
계속해서, 도 19의 (b)에서 나타내는 상태로부터 몰드(7)를 박리한다. 이에 의해, 기판(3) 상에 경화된 자외선 경화 수지(5)가 남는다(도 19의 (c) 참조). 이 경화된 자외선 경화 수지(5)에는, 전사 패턴(9)의 형상(패턴)이 전사되어 있다.Subsequently, the
또한, 도 19의 (c)에서 나타내는 상태에서는, 잔막(11)이 기판(3) 상에 존재하고 있다. 잔막(11)은 도 19의 (b)에서 나타내는 두께 T1의 수지(5)가 경화된 것이다.In the state shown in Fig. 19 (c), the
도 19의 (c)에서 나타내는 것에 대하여 애싱에 의해 잔막(11)을 제거함으로써, 도 19의 (d)에서 나타내는 바와 같이, 잔막(11)이 없어지고 기판(3)의 상면의 일부에서 기판(3)이 노출된 양태가 된다.The
전사 장치(1)는 도 1 등에서 나타내는 바와 같이, 기판 설치부(13)와, 도공부(15)와, 몰드 설치부(17)와, 몰드 누름부(19)와, 수지 경화부(21)와, 몰드 박리부(23)를 구비한다.1, the
기판 설치부(13)에는, 기판(3)이 위치 결정되어 일체적으로 설치되어 있다. 도공부(15)는, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)의 상면에 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 도공한다. 기판(3) 상에의 도공부(15)에 의한 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 도공에 의해, 도 19의 (a)에서 나타내는 상태가 된다.In the
몰드 설치부(17)에는, 두께 방향의 한쪽 면에 전사 패턴(9)이 형성되어 있는 시트상의 몰드(7)가 설치된다.The
몰드 누름부(19)는, 기판(3)의 상면의 미경화 자외선 경화 수지(5)에 몰드 설치부(17)에 설치되어 있는 몰드(7)를 누른다. 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)에의 몰드 누름부(19)에 의한 몰드(7)의 누름에 의해, 도 19의 (b), 도 18의 (c)에서 나타내는 상태가 된다.The
수지 경화부(21)는, 몰드(7)가 눌러져 있는 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 경화한다. 몰드 박리부(23)는 경화된 수지(5)로부터 몰드(7)를 박리한다. 경화된 수지(5)로부터의 몰드(7)를 박리함으로써, 도 19의 (c)에서 나타내는 상태가 된다.The
기판 설치부(13)는, 도 1, 22 등에서 나타내는 바와 같이, 기판 설치체(25)를 구비하고, 예를 들어 진공 흡착에 의해 기판(3)을 유지한다. 기판 설치체(25)의 상면(예를 들어, 직사각형의 평면 형상의 상면)에는, 진공 흡착을 행하기 위한 환형(예를 들어 직사각형상)의 홈(27)이 형성되어 있다. 홈(27)은 기판 설치체(25)의 상면으로부터 하측으로 오목해져 있는 부위로 형성되어 있다.1 and 22, etc., the
홈(27)에는, 공기를 흡인하는 공기 흡인 구멍(29)이 설치되어 있다. 공기 흡인 구멍(29)은 기판 설치체(25)의 하부에서 진공 펌프(도시하지 않음)에 연결된다. 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)은, 두께 방향이 상하 방향으로 되어 있으며, 기판(3)의 하면이 기판 설치체(25)의 상면에 면 접촉되어 있다.In the
도 22의 (a), 도 22의 (b)에 나타내는 바와 같이, 직사각형의 평판 형상으로 형성되어 있는 기판(3)이 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 상태를 Z축 방향에서 보면, 기판 설치체(25)의 내측에 기판(3)이 위치하고 있으며, 기판(3)의 내측에 홈(27)이 위치하고 있다. 홈(27)은 기판(3)의 외주 근방에 위치하고 있다.As shown in Figs. 22 (a) and 22 (b), when the state in which the
그리고, 홈(27) 내의 공기압을 낮춤으로써, 기판(3)이 기판 설치체(25)에 고정된다. 이 상태에서는, Z축 방향에서 보아서 홈(27)의 내측(직사각형상의 부위)에서는, 공기압이 거의 「0」으로 되어 있으므로, 기판(3)이 비교적 강한 힘으로 유지되어 있다.Then, by lowering the air pressure in the
도공부(15)는, 미립자상의 미경화 자외선 경화 수지(5)를 잉크젯 헤드(31)로부터 방출함으로써, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3) 상에, 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 얇은 막상으로 도공을 한다. 잉크젯 헤드(31)는 미립자상의 미경화 자외선 경화 수지(5)를 토출하는 노즐을 복수 배열한 것이다. 잉크젯 헤드(31)는 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)의 상방에서 기판(3)으로부터 약간 이격되어 있다.The
잉크젯 헤드(31)는 복수(31A, 31B, 31C, 31D) 설치되어 있다. 또한, 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3) 상에 목표로 하는 형태로 도공되게 하기 위해서, 도 5 등에서 나타내는 바와 같이, 각 잉크젯 헤드(31)는 번갈아 배치되어 있다.A plurality of inkjet heads 31 (31A, 31B, 31C, and 31D) are provided. 5 and the like, in order that the uncured UV
기판(3) 상에 도공된 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 목표로 하는 형태로 되어 있는 상태를 Z축 방향에서 보면, 도시하지는 않았지만, 도공된 미경화의 자외선 경화 수지(5)가, 예를 들어 기판(3)보다도 한층 작은 직사각형상으로 형성되어 있고, 기판(3)의 내측에 위치하고 있다. 또한, 기판(3)의 상면의 전체면에 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 설치되어 있어도 된다.When a state in which the uncured UV cured
그리고, 각 잉크젯 헤드(31(31A, 31B, 31C, 31D))를 번갈아 배치하고 있음으로써, 도공된 미경화의 자외선 경화 수지(5)에 공극이 형성되는 것이 저지된다.By alternately arranging the ink jet heads 31 (31A, 31B, 31C, and 31D), voids are prevented from being formed in the uncured UV
즉, Z축 방향에서 보았을 때, 기판(3)의 상면의 일부(예를 들어 기판(3)의 중앙부; 미경화의 자외선 경화 수지(5)로 둘러싸여 있는 부위)에서, 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 비존재함으로써, 기판(3)이 노출되는 것(미경화의 자외선 경화 수지(5)가 목표로 하는 형태로 되지 않는 것)이 방지된다.That is, when viewed in the Z-axis direction, in a part of the upper surface of the substrate 3 (for example, the central portion of the
또는, 원래 하나의 연속된 형태가 되어야 할 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 도중에 끊겨, 2개 이상의 부위로 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 분할되어버리는 것(미경화의 자외선 경화 수지(5)가 목표로 하는 형태로 되지 않는 것)이 방지된다.Or an uncured ultraviolet-
잉크젯 헤드(31)의 하우징(33)의 외형은 직육면체형으로 형성되어 있고, Y축 방향의 치수가 X축 방향의 치수에 비교하여 크게 되어 있다. 잉크젯 헤드(31)는 하우징(33)의 저면으로부터 하측을 향해 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 방출한다.The outer shape of the
잉크젯 헤드(31)의 수지(5)를 방출하는 수지 방출 부위(35)는, 도 5에서 나타내는 바와 같이, 가늘고 긴 직사각형상으로 형성되어 있다. Z축 방향에서 보면, 수지 방출 부위(35)의 길이 방향이 Y축 방향으로 되어 있으며, 잉크젯 헤드의 하우징(33)의 내측에서 잉크젯 헤드의 하우징(33)의 중앙부에 수지 방출 부위(35)가 존재하고 있다.As shown in Fig. 5, the
각 잉크젯 헤드(31(31A, 31B, 31C, 31D))는 Y축 방향으로 배열되어 있음과 함께, 잉크젯 헤드(31)가 X축 방향에서는 교대로 어긋나 있다. 또한, 잉크젯 헤드(31)의 수지 방출 부위(35)의 길이 방향의 단부는, 이 잉크젯 헤드(31)에 인접하고 있는 인접 잉크젯 헤드(31)의 수지 방출 부위(35)의 단부와 오버랩(도 5의 L1의 부위 참조)되어 있다.The ink jet heads 31 (31A, 31B, 31C and 31D) are arranged in the Y axis direction and the ink jet heads 31 are shifted alternately in the X axis direction. The lengthwise end of the
더욱 설명하면, Y축 방향의 일단부에 위치하고 있는 제1 잉크젯 헤드(31A)는, 수지 방출 부위(35)(잉크젯 헤드의 하우징(33))의 길이 방향이 Y축 방향이 되도록 배치되어 있다. 제1 잉크젯 헤드(31A)에 인접하고 있는 제2 잉크젯 헤드(31B)는, 수지 방출 부위(35)의 길이 방향이 Y축 방향이 되도록 배치되어 있음과 함께, X축 방향에서 제1 잉크젯 헤드(31A)로부터 약간 후방측으로 이격되어 있다.More specifically, the first ink-
또한, Z축 방향에서 보면, 제1 잉크젯 헤드(31A)의 수지 방출 부위(35)와 제2 잉크젯 헤드(31B)의 수지 방출 부위(35)는, X축 방향에서는 약간 이격되어 있으며, Y축 방향에서는, 제1 잉크젯 헤드(31A)의 수지 방출 부위(35)의 제2 잉크젯 헤드(31B)측의 단부와, 제2 잉크젯 헤드(31B)의 수지 방출 부위(35)의 제1 잉크젯 헤드(31A)측의 단부는, 서로가 오버랩되어 있다.In view of the Z axis direction, the
제2 잉크젯 헤드(31B)에 인접하고 있는 제3 잉크젯 헤드(31C)는, 수지 방출 부위(35)의 길이 방향이 Y축 방향이 되도록 배치되어 있음과 함께, X축 방향에서는, 제2 잉크젯 헤드(31B)로부터 약간 이격되어 있음과 함께, 제1 잉크젯 헤드(31A)와 동일한 부분에 위치하고 있다.The
또한, Z축 방향에서 보면, 제2 잉크젯 헤드(31B)의 수지 방출 부위(35)와 제3 잉크젯 헤드(31C)의 수지 방출 부위(35)는, 동일하게 하여, X축 방향에서는 약간 이격되어 있으며, Y축 방향에서는, 제2 잉크젯 헤드(31B)의 수지 방출 부위(35)의 제3 잉크젯 헤드(31C)측의 단부와, 제3 잉크젯 헤드(31C)의 수지 방출 부위(35)의 제2 잉크젯 헤드(31B)측의 단부는, 서로가 오버랩되어 있다. 제4 잉크젯 헤드(31D)도 상술한 양태로 설치되어 있다.In the Z-axis direction, the resin-releasing
이와 같이, 각 잉크젯 헤드(31(31A, 31B, 31C, 31D))가 배치되어 있음으로써, 각 잉크젯 헤드(31)가 번갈아 배치되어 있게 된다. 또한, 각 잉크젯 헤드(31)는 예를 들어 동일한 사양의 것이고, Z축 방향에서는 동일한 부분에 위치하고 있다.In this way, the respective ink jet heads 31 (31A, 31B, 31C, and 31D) are arranged so that the respective ink jet heads 31 are alternately arranged. Each of the ink jet heads 31 has the same specifications, for example, and is located at the same position in the Z-axis direction.
상술한 설명에서는, 잉크젯 헤드(31)가 4개 설치되어 있는 경우를 예로 들고 있지만, 잉크젯 헤드(31)가 2개 또는 3개 설치되어 있는 구성이어도 되고, 잉크젯 헤드(31)가 5개 이상 설치되어 있는 구성이어도 된다. 이 경우에도, 각 잉크젯 헤드(31)는 번갈아 배치된다.In the above description, four inkjet heads 31 are provided, but two or three inkjet heads 31 may be provided, or five or more inkjet heads 31 may be provided. . Even in this case, the respective ink jet heads 31 are alternately arranged.
각 잉크젯 헤드(31)가 번갈아 배치되어 있음으로써, 각 잉크젯 헤드(31)로부터 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 방출하면서, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 대하여 각 잉크젯 헤드(31)를 X축 방향에서 상대적으로 이동하면, 기판(3) 상에, 도중에 끊어지지 않고 얇은 막상의 자외선 경화 수지(5)를 용이하게 도공할 수 있다.Curing ultraviolet
CPU(37)와 메모리(39)를 구비한 제어부(41)(도 1 참조)의 제어 하, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)의 사이즈(예를 들어 Y축 방향의 치수)에 따라서, 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 토출하는 잉크젯 헤드(31)와 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 토출하지 않는 잉크젯 헤드(31)를 설정하게 되어 있어도 된다.Under the control of the control unit 41 (see FIG. 1) including the
상술한 설명에서는, 기판(3) 상에 도공된 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 두께는 일정하게 되어 있지만, 도 20에서 나타내는 바와 같이, 기판(3) 상에 도공된 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 두께를 적절히 변화시켜도 된다.In the above description, the thickness of the uncured UV cured
즉, 제어부(41)에서 도공부(15)를 제어함으로써, 기판(3)에 도공되는 미경화의 자외선 경화 수지(5)가, 몰드(7)에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴(9)에 대응한 형상이 되도록 해도 된다.That is, by controlling the
더욱 설명하면, 기판(3)에 도공되어 있는 미경화의 자외선 경화 수지(5)에 몰드(7)에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴(9)을 전사할 때, 전사 패턴(9)의 선단과 기판(3) 사이에 생기는 간극을 작게 하여, 이 간극에 들어간 수지(5)에 의해 형성되는 잔막(11)을 얇게 하기 때문에, 자외선 경화 수지(5)를 미세한 전사 패턴(9)에 대응한 형상으로 해도 된다.When transferring the
예를 들어 설명하면 미세한 전사 패턴(9)은 라인 & 스페이스의 형상으로 되어 있다. 즉, Y축 방향에서 보았을 때에 미세한 전사 패턴(9)의 형상이, 직사각형상의 볼록부와 직사각형상의 오목부가 교대로 반복하는 구형파 형상으로 되어 있다(도 19의 (b) 참조). 이 경우, 기판(3)에 도공된 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 파형상으로 한다.For example, the
예를 들어, Y축 방향에서 보아서 도 20에서 나타낸 바와 같이, 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 두껍게 도공한 부분과 얇게 도공한 부분이 교대로 반복되는 파형상으로 한다. 이 파형에서는, 예를 들어 파의 피치값이 파의 높이(수지(5)의 최대 두께-수지(5)의 최소 두께)의 값보다도 커져 있으며, 또한 파의 높이값이 수지(5)의 최소 두께의 값보다도 크게 되어 있다.For example, as shown in Fig. 20 as viewed in the Y-axis direction, a wave-like shape in which a portion coated with an uncured UV-
그리고, 전사(자외선 경화 수지(5)에의 몰드(7)의 누름)를 행할 때에는, 전사 패턴(9)의 직사각형상의 볼록부가 수지(5)를 얇게 도공한 부분에 들어가고, 수지(5)를 두껍게 도공한 부분이 전사 패턴(9)의 직사각형상 오목부에 들어가게 한다.When the transfer (pressing of the
도 20과 같이 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 도공함으로써, 도 19의 (c)에 나타내는 잔막(11)을 적게 할 수 있다.The
또한, 전사가 되기 전의 기판(3)에 도공된 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 두께를, X축 방향에서 변화시켜도 된다. 예를 들어, 전사 종료 시(기판(3) 상의 수지(5)에의 몰드(7)를 누름이 종료되었을 때)의 잉여 수지를 없애거나 적게 하기 위해서, 누름이 개시되는 측(도 19의 (a), 도 18의 (a)의 우측)에서 두껍게, 누름이 종료되는 측(도 19의 (a), 도 18의 (a)의 좌측)에서 얇게 해도 된다. 또한, 도 18의 (a) 내지 도 18의 (c)에 나타내는 롤 전사의 상세에 대해서는 후술한다.The thickness of the uncured ultraviolet-cured
또한, 전사가 되기 전의 기판(3)에 도공된 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 두께를, Y축 방향에서 변화시켜도 된다. 예를 들어, 전사를 행하고 있을 때에 기판(3)의 중앙부에서의 수지(5)의 부족을 없애기 위해서, 수지(5)의 두께를, Y축의 중앙부에서 두껍게 단부에서 얇게 해도 된다.The thickness of the uncured UV
이어서, 몰드 설치부(17), 몰드 누름부(19), 몰드 박리부(23)에 대하여 설명한다.Next, the
몰드 설치부(17)는, 도 2 내지 4에서 나타내는 바와 같이, 소정의 폭(Y축 방향의 치수)으로 길게 형성되어 있는 몰드(7)가 감겨 있는 원단 몰드(몰드 원단)(43)를 설치하는 원단 몰드 설치부(조출 롤 설치부)(45)와, 원단 몰드 설치부(45)에 설치되어 있는 원단 몰드(원단 롤)(43)로부터 조출되는 몰드(7)를 권취하는 권취 롤(47)이 설치되는 권취 롤 설치부(49)를 구비한다. 또한, 도 2에서는, 도면의 표시가 번잡해져 보기 어려워지는 것을 피하기 위해서, 몰드(7)의 표시를 생략하였다.As shown in Figs. 2 to 4, the
원단 몰드 설치부(45)에 설치되어 있는 원단 몰드(43)와, 권취 롤 설치부(49)에 설치되어 있는 권취 롤(47) 사이에서는, 몰드(7)가 소정의 장력으로 팽팽해짐으로써 이완이 없는 상태에서 평판 형상이 되며 항상 연신되어 있다.The
원단 몰드(43)와 권취 롤(47) 사이에서 연신되어 있는 몰드(7)는, 원단 몰드(43)와 권취 롤(47)을 적절히 회전시킴으로써, 이완이 없는 상태를 유지한 채, 원단 몰드(43)로부터 권취 롤(47)로 이동하고, 반대로 권취 롤(47)로부터 원단 몰드(43)로 이동한다.The
몰드 누름부(19)와 몰드 박리부(23)는, 도 1, 2, 18의 (a) 내지 도 18의 (c)에서 나타내는 바와 같이, 전사 롤러(51)를 구비한다. 전사 롤러(51)에는, 원단 몰드 설치부(45)에 설치되어 있는 원단 몰드(43)와 권취 롤 설치부(49)에 설치되어 있는 권취 롤(47) 사이에서 연신되어 있는 몰드(7)가 감아 걸려 있다.The
전사 롤러(51)를 사용한 롤 전사에 의해, 전사 중 미경화의 자외선 경화 수지(5)에의 몰드(7)의 누름과, 전사 중 경화된 자외선 경화 수지(5)로부터의 몰드(7)의 박리가 행해진다.The transfer of the rolls using the
롤 전사는, 전사 롤러(51)에 몰드(7)를 감아 걸기, 기판(3)과 기판(3)에 도공되어 얇은 막상으로 되어 있는 미경화의 자외선 경화 수지(5)에, 전사 롤러(51)를 사용하여 몰드(7)(Y축 방향으로 직선형으로 연장되어 있는 몰드(7)의 하단)를 누른 상태에서, 전사 롤러(51)를 X축 방향에서, 기판(3)에 대하여 상대적으로, 기판(3)의 일단부(후단부)로부터 타단부(전단부)를 향해 이동함으로써 이루어진다(도 18의 (a) 내지 도 18의 (c) 참조).The roll transfer is carried out by transferring the
더욱 설명하면, 도 18의 (a)에서 나타내는 상태로부터, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 대하여, 몰드(7)가 감아 걸려 있는 전사 롤러(51)를 X축 방향 전방측(도18의 (a)의 좌측)으로 예를 들어 일정한 속도로 이동함으로써, 도 18의 (b)에서 나타내는 상태를 거쳐, 도 18의 (c)에서 나타내는 상태가 되고, 몰드(7)의 누름이 종료된다.18 (a), the
도 18의 (c)로 나타내는 상태에서 수지 경화부(21)를 사용하여 자외선 경화 수지(5)를 경화시킨 후, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 대하여, 몰드(7)가 감아 걸려 있는 전사 롤러(51)를 X축 방향 후방측(도 18의 (c)의 우측)으로 예를 들어 일정한 속도로 이동함으로써, 몰드(7)의 박리가 종료된다.The
이 때, 전사 롤러(51)는 공기압 실린더 등의 액추에이터(도시하지 않음)로, 기판(3)측(하측)에 가압되어 있다. 또한, 전사 롤러(51)의 이동에 의한 전사 롤러(51)의 위치에 관계없이, 원단 몰드 설치부(45)에 설치되어 있는 원단 몰드(43)와 권취 롤 설치부(49)에 설치되어 있는 권취 롤(47) 사이에서는, 몰드(7)가 이완이 없는 상태에서 평판 형상이 되어 연신된다.At this time, the
전사 장치(1)에는, 도 1, 18 등에서 나타내는 바와 같이, 수지 경화부(21)(예를 들어, 자외선 발생 장치(53))가 설치되어 있다. 자외선 발생 장치(53)는, 자외선 경화 수지(5)에의 몰드(7)의 누름을 행하고 있는 상태에서, 자외선 경화 수지(5)를 경화하기 위해 자외선 경화 수지(5)에 자외선을 조사한다.The transferring
자외선 발생 장치(53)는, X축 방향에서는 전사 롤러(51)의 후방측에서 전사 롤러(51)로부터 약간 떨어진 부분에 위치하고 있으며, Z축 방향에서는, 전사 롤러(51)의 후방측에서 X축 방향으로 연신되어 있는(두께 방향이 Z축 방향이 되어 있는) 몰드(7)의 부위의 상측에서, 이 몰드(7)의 부위로부터 약간 떨어진 부분에 위치하고 있다.The
그리고, 자외선 발생 장치(53)는 하측을 향해 자외선을 발생하고, 이 발생한 자외선이, 몰드(7)를 통해, 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)에 조사된다.The
자외선 발생 장치(53)가 발하는 자외선의 영역을 Z축 방향에서 보면, 도시하지는 않았지만 Y축 방향으로 길게 연장되어 있으며, 자외선 발생 장치(53)가, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 대하여, X축 방향으로 상대적으로 이동함으로써, 기판(3)에 설치되어 있는 자외선 경화 수지(전사 패턴(9)이 압박되어 있는 수지)(5)의 전부가 경화된다.Although not shown, the
또한, 전사 장치(1)에서는, 제어부(41)의 제어 하, 몰드(7)의 자외선 경화 수지(5)에의 누름을 행하는 방향(전방향)으로 전사 롤러(51)가 이동하고 있을 때, 및 몰드의 자외선 경화 수지(5)로부터의 박리를 행하는 방향(후방향)으로 전사 롤러(51)가 이동하고 있을 때, 자외선 발생 장치(53)가 자외선을 자외선 경화 수지(5)에 조사한다.In the
즉, 롤 전사에서 몰드(7)의 자외선 경화 수지(5)에의 눌림 면적이 증가하는 방향(전방측)으로 전사 롤러(51)가 이동하고 있을 때(몰드(7)의 누름을 행하고 있을 때), 및 롤 전사에서 몰드(7)의 자외선 경화 수지(5)에의 눌림 면적이 감소하는 방향(후방측)으로 전사 롤러(51)가 이동하고 있을 때(몰드(7)의 박리를 행하고 있을 때)에, 자외선 발생 장치(53)가 자외선을 자외선 경화 수지(5)에 조사한다.That is, when the
더욱 설명하면, 전사 롤러(51)가 왕복 이동할 때, 자외선 발생 장치(53)가 자외선을 자외선 경화 수지(5)에 조사한다. 또한, 전사 롤러(51)가 전방측으로 이동하고 있을 때, 전사 롤러(51)가 후방측으로 이동하고 있을 때 중 어느 때에만, 자외선 발생 장치(53)가 자외선을 자외선 경화 수지(5)에 조사하게 되어 있어도 된다.More specifically, when the
또한, 전사 장치(1)에서는, 제어부(41)의 제어 하, 자외선 경화 수지(5)에서의 함몰(sink marks)의 발생을 방지하기 위해서, 롤 전사에서의 전사 롤러(51)의 이동량에 따라서, 자외선 발생 장치(53)가 발하여 자외선 경화 수지(5)에 조사되는 자외선 강도를 조정한다(조사 패턴을 변경한다).In order to prevent occurrence of sink marks in the ultraviolet-
여기서, 함몰에 대하여 설명한다. 자외선 경화 수지(5)는 경화될 때에 수축하는 경우가 있다. 이 수축에 의한 체적의 감소분만큼 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 공급하지 않으면, 몰드(7)의 전사 패턴(9)에 의해 자외선 경화 수지(5)에 형성된 패턴에 함몰이라 불리는 결손이 발생하는 것이다.Here, the depression will be described. The ultraviolet-curing
함몰의 발생을 방지하기 위해서, 예를 들어 몰드(7)에 형성되어 있는 전사 패턴(9)의 면적보다도 한층 큰 면적의 영역(기판(3)의 영역)에 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 도공한다. 그리고, 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 도공되어 있는 영역의 중앙부가 최초에 경화되도록 하여, 자외선 경화 수지(5)의 수축에 의한 체적의 감소분을, 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 도공되어 있는 영역의 주변으로부터, 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 자연적으로 약간 유동시켜 보충하도록 한다. 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 경화는, 도공되어 있는 영역의 중앙부로부터 주변부를 향해 진행한다.Curing ultraviolet
예를 들어, 도 22의 (a)에서 나타내는 바와 같이, 몰드(7)의 수지(5)에의 압박을 행하고 있을 때에는, 중심선(L2)을 지난 부분으로부터(화살표 A1로 나타낸 바와 같은 중심선(L2)보다도 전방측에서), 자외선의 조사를 개시하고, 몰드(7)의 수지(5)로부터의 박리를 행하고 있을 때에는, 중심선(L2)을 지난 부분으로부터(화살표 A2로 나타낸 바와 같이 중심선(L2)보다도 후방측에서), 자외선의 조사를 개시해도 된다. 이에 의해, 자외선 경화 수지(5)의 중앙부가 마지막으로 경화되는 일이 없어져, 자외선 경화 수지(5)에서의 함몰의 발생이 방지된다.For example, as shown in Fig. 22 (a), when the
이 경우, 자외선의 강도는, 시각의 경과에 관계없이(X축 방향에서의 전사 롤러(51)의 위치에 관계없이) 일정하게 되어 있고, 게다가, Y축 방향(자외선 발생 장치(53)에서의 자외선 부위의 길이 방향)에서의 위치에 관계없이 일정하게 되어 있다. 또한, 중심선(L2)이 도 22의 (a)의 좌우 어느 쪽으로 치우져 있어도 된다.In this case, the intensity of ultraviolet light is constant (regardless of the position of the
또한, 자외선의 강도를, 자외선 발생 장치(53)의 Y축 방향이나 X축 방향의 위치에 의해 적절히 변화시킴으로써, 도 22의 (b)에서 나타내는 바와 같이, 기판(3)의 중앙부로부터 외측을 향하여, 자외선 경화 수지(5)가 경화되도록 해도 된다.22 (b), the intensity of the ultraviolet rays is changed toward the outside from the central portion of the
자외선 발생 장치(53)는, 예를 들어 LED 방식의 소형의 UV 램프를 Y축 방향으로 직선형으로 다수 배열하고, 각각의 UV 램프의 조도를 제어부(41)에서 조정할 수 있다. 이에 의해, 자외선 발생 장치(53)의 광원은, 하나의 직선형이 되어 Y축 방향으로 연장되어 있다.The
자외선 발생 장치(53)는, UV 램프를 복수개 통합하여 1 블록으로 하고, 하나의 직선형의 UV 램프를 복수의 블록으로 구성하며, 블록마다 램프의 조도를 제어(조정)할 수 있도록 해도 된다. 각 블록은, 예를 들어 Y축 방향에서 직선형으로 배열되어 있다.The
또한, 상기 설명에서는, 복수의 UV 램프가 1열로 되어 있지만, 복수의 UV 램프가 2열 등의 복수열로 되어 배열되어 있어도 된다(각 열이 X축 방향에서 약간의 간격을 두고 배열되어 있는 형태가 되어 있어도 된다). 이 경우, 각 열에 있어서의 UV 램프가 Y축 방향에서 어긋나 있음으로써, 평면에서 보아(Z 방향에서 보아), 복수의 UV 램프가 번갈아 배열되어 있는 것이 바람직하다.In the above description, a plurality of UV lamps are arranged in one row, but a plurality of UV lamps may be arranged in a plurality of rows such as two rows (a form in which each row is arranged at a slight interval in the X- . In this case, it is preferable that the UV lamps in each row are shifted from the Y-axis direction so that a plurality of UV lamps are alternately arranged in a plan view (as viewed in the Z direction).
또한, 몰드(7)에 형성되어 있는 전사 패턴(9)에 따라서, 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 양을 조정하여 도공하도록, 제어부(41)가 도공부(15)를 제어하게 되어 있어도 된다. 또한, 도공된 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 양에 따라서, 자외선의 강도(조사량이어도 됨)를 조정하도록, 제어부(41)가 수지 경화부(21)를 제어하게 되어 있어도 된다.Even if the
여기서, 도공부(15)의 상기 제어와 수지 경화부(21)의 상기 제어에 대해서, 예를 들어 설명한다. 도 24의 (a), 도 24의 (b)는 성형품(103)의 일례를 나타내는 도면이며, 도 19의 (d)에 대응하는 도면이다. 성형품(103)의 전사 패턴(9)은 약간 복잡한 형상으로 되어 있으며, 성형품(103)에서는, 평면에서 보아, 기판(3)의 중앙부에 경화된 자외선 경화 수지(5)로 형성되어 있는 큰 복수의 볼록부(105)(예를 들어, 체적이 큰 원주형의 패턴(105B))가 소정의 간격을 두고 배열되어 있다.Here, the control of the
또한, 성형품(103)에서는, 평면에서 보아, 기판(3)의 주변부에 경화된 자외선 경화 수지(5)로 형성되어 있는 작은 복수의 볼록부(105)(예를 들어, 체적이 작은 원주형의 패턴(105A))가 소정의 간격(큰 복수의 볼록부(105B)와 동일한 간격)을 두고 배열되어 있다.In the molded
도 24의 (a), 도 24의 (b)에서 나타내는 성형품(103)을 얻는 경우, 기판(3)의 면에 평균적으로 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 도공하면(균일한 두께로 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 도공하면), 기판(3)의 중앙부에서는 자외선 경화 수지(5)가 부족해진다.24 (a) and 24 (b), when an uncured ultraviolet-curing
그래서, 기판(3)의 중앙부에서의 자외선 경화 수지(5)의 부족이 발생하지 않도록, 기판(3)의 면에 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 균일하게 두껍게 공급하면, 기판(3)의 주변부에서는 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 과잉으로 공급되게 된다. 이에 의해, 전사를 행한 경우에, 기판(3)의 주변부에서 잔막(11)(도 19의 (c) 참조)이 많아지고, 잔막(11)을 제거하는 데 손이 많이 간다. 또한, 사용하는 자외선 경화 수지(5)의 양도 많아져버린다.When the uncured UV
이러한 문제점을 해소하기 위해서, 제어부(41)에서 도공부(15)에서의 도공량을 제어하여, 기판(3)의 중앙부에서는 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 많이(두껍게), 기판(3)의 주변부에서는 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 적게(얇게) 공급한다. 이에 의해, 전사 패턴 전체에서 과부족없이 적절하게, 자외선 경화 수지(5)를 공급할 수 있다.In order to solve this problem, the coating amount in the
또한, 전사 패턴을, 평면에서 보아 복수의 부위(예를 들어, 9 등분)로 분할하고, 그 분할된 장소마다 필요한 수지(5)의 양을 계산하여 공급해도 된다.Further, the transfer pattern may be divided into a plurality of portions (for example, nine equal parts) as viewed in plan, and the amount of the
도 24의 (a), 도 24의 (b)와 같은 전사 패턴(복수의 볼록부(105))을 갖는 성형품(103)을, 자외선 발생 장치(53)에서 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 경화하여 얻는 경우에는, 균일한 강도(균일의 양)의 자외선을 조사한 것에는 문제점이 발생한다.The molded
즉, 기판(3)의 주변부의 자외선 경화 수지(5)가 경화될 정도의 강도의 자외선을 조사하면 기판(3)의 중앙부에서는 자외선이 너무 약해서, 자외선 경화 수지(5)의 경화 부족이 발생한다. 한편, 기판(3)의 중앙부의 자외선 경화 수지(5)가 충분히 경화될 정도의 강도의 자외선을 조사하면, 기판(3)의 주변부에서 자외선 경화 수지(5)가 먼저 경화되고, 기판(3)의 중앙부에 주변으로부터 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 공급되지 않게 되어 기판(3)의 중앙부에서 함몰이 발생한다.That is, when ultraviolet light of a strength enough to cure the ultraviolet
이러한 문제점을 해소하기 위해서, 자외선 경화 수지(5)의 도공량에 따라서 자외선의 조사량(강도)을 제어부(41)에서 조정함으로써, 성형품(103)의 품질을 양호하게 할 수 있다.In order to solve this problem, the quality of the molded
또한, 도 24의 (a), 도 24의 (b)와 같은 전사 패턴을 갖는 성형품(103)을 얻는 경우에는, 기판(3)의 주변부에서의 자외선의 조사량을 적게 하고, 기판(3)의 중앙부에서의 자외선의 조사량을 많게 한다. 또한, 자외선 발생 장치(53)을 전방측으로 이동할 때에 기판(3)의 중앙부에서만 자외선을 조사하고, 후방측으로 이동할 때에 기판(3)의 전체에 균일한 강도의 자외선을 조사해도 된다.24 (a) and 24 (b), the amount of ultraviolet rays to be irradiated on the peripheral portion of the
또한, 자외선 발생 장치(53)의 X축 방향에서의 이동 속도를 적절히 조정함으로써, 기판(3)에 도공된 자외선 경화 수지에의 자외선의 조사량을 조정해도 된다.Further, the irradiation amount of ultraviolet rays to the ultraviolet cured resin coated on the
또한, 전사 장치(1)에는, 플라스마 유닛(55)이 설치되어 있다. 플라스마 유닛(55)은, 전사 후에 기판(3)의 수지(5)로부터 박리된 몰드(7)에 마련되어 있는 미세한 전사 패턴(9)에 플라스마를 조사한다. 또한, 플라스마 유닛(55)에 의한 플라스마의 조사는, 몰드(7)에 마련되어 있는 미세한 전사 패턴(9)의 클리닝을 하기 위해 행해진다.In the
플라스마 유닛(55)은 헤드(57)와 구동부(59)를 구비한다. 그리고, 헤드(57)로부터 대기압 플라스마(AP 플라스마; Atmospheric Pressure Plasma)를 발생하고, 이 발생한 대기압 플라스마를 몰드(7)에 조사하고, 몰드(7)의 미세한 전사 패턴(9) 등의 오염을 분해·제거를 행한다.The
몰드(7)에의 플라스마의 조사는, 1회의 전사가 종료될 때마다 행해도 되고, 복수회의 전사가 종료될 때마다 행해도 된다.The irradiation of the plasma to the
전사 장치(1)는, 플라스마 유닛(55)에 의한 몰드(7)의 미세한 전사 패턴(9)의 클리닝이 불충분한 경우에는, 자외선 경화 수지(5)로부터 박리시켜, 플라스마의 조사가 된 몰드(7)의 부위를, 권취 롤(47)로 권취함으로써, 원단 몰드(43)로부터 몰드(7)의 새로운 미사용 부위를 조출한다. 새롭게 조출된 몰드(7)의 미사용 부위는, 다음 전사에 사용된다.When the cleaning of the
또한, 플라스마 유닛(55)에 의해, 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 설치되기 전의 기판(3)의 상면에도, 플라스마의 조사가 된다. 기판(3)의 상면에의 플라스마의 조사는, 기판(3)의 습윤성을 개선하기 위해 행해진다.Plasma is also irradiated onto the upper surface of the
도공부(15)는, X축 방향에서 기판(3)에 대하여 잉크젯 헤드(31)를 기판(3)의 일단부로부터 타단부를 향하여 이동함으로써, 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 기판(3)에 얇은 막상으로 도공하도록 구성되어 있다. 플라스마 유닛(55)(헤드(57), 구동부(59))은 도공부(15)에 지지되어 있다.The
전사 장치(1)는 몰드 설치 보조부(61)를 구비한다. 몰드 설치 보조부(61)는, 원단 몰드 설치부(45)에 설치되어 있는 원단 몰드(43)로부터 조출되는 몰드(7)를 전사 롤러(51)에 감아 걸어, 권취 롤 설치부(49)에 설치되어 있는 권취 롤(47)까지 가이드하도록 구성되어 있다. 이 가이드는, 원단 몰드(43)로부터 조출되는 몰드(7) 부위에서의 주름의 발생을 저지하면서, 조출되는 몰드(7)의 부위가, 예를 들어 거의 팽팽해진 상태에서 이루어진다.The
더욱 설명하면, 전사 장치(1)에 설치되기 전의 몰드(7)는, 도 13에서 나타내는 바와 같이, 길이 방향의 일단부측의 대부분이 원단 몰드(43)의 코어재(63)에 감아 걸려 있다. 또한, 전사 장치(1)에 설치되기 전의 몰드(7)는, 길이 방향의 타단부측의 약간의 부위가 원단 몰드(43)로부터 연장 돌출되어 있으며, 이 연장 돌출되어 있는 부위의 가일층의 선단부가, 몰드 지지부(65)에 일체적으로 설치되어 있다. 또한, 몰드 지지부(65)는 권취 롤(47)의 코어재(67)와는 별체의 것이지만, 권취 롤(47)의 코어재(67)여도 된다.More specifically, as shown in Fig. 13, the
몰드 설치 보조부(61)는, 원단 몰드 설치부(45)와 전사 롤러(51)와 권취 롤 설치부(49)에 대하여 이동 가능한 몰드 설치 보조 부재(69)를 구비한다. 몰드 설치 보조 부재(69)에는, 몰드 지지부(65)가 일체적으로 설치된다. 그리고, 몰드 설치 보조 부재(69)와 몰드 설치 보조 부재(69)에 설치된 몰드 지지부(65)가 이동함으로써, 상술한 가이드가 행해진다.The mold installation
전사 장치(1)에 대하여 더욱 설명한다.The
전사 장치(1)는 도 1 등에서 나타내는 바와 같이, 예를 들어 평면 형상의 상면을 갖는 베이스체(71)를 구비한다. 베이스체(71)의 상면에는, 기판 설치체(25)가 일체적으로 설치되어 있다. 기판 설치체(25)는 X축 방향 및 Y축 방향에서, 베이스체(71)의 중간부에 위치하고 있다.As shown in Fig. 1 and the like, the
또한, 전사 장치(1)는 제1 지지체(73)와 제2 지지체(75)와 제3 지지체(77)를 구비한다.The
제1 지지체(73)는 베이스체(71)의 상면으로부터 상방으로 기립하고 있으며, 리니어 가이드 베어링(도시하지 않음)에 의해 베이스체(71)에 지지되어 있고, 서보 모터 등의 액추에이터(도시하지 않음)에 의해, X축 방향에서 베이스체(71)에 대하여 이동 위치 결정 가능하게 되어 있다.The
제1 지지체(73)에는, 잉크젯 헤드(31)와 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)와 구동부(59)가 지지되어 있다. 잉크젯 헤드(31)는 제1 지지체(73)에 일체적으로 설치되어 있다.The
잉크젯 헤드(31)는 X축 방향에서는, 제1 지지체(73)보다도 후방측에 위치하고 있다. 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)는 X축 방향에서는, 잉크젯 헤드(31)보다도 후방측에 위치하고 있다.The
잉크젯 헤드(31)와 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)는, Z축 방향에서는, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)보다도 상측에 위치하고 있다.The
플라스마 유닛(55)의 구동부(59)는 제1 지지체(73) 상에 적재되어, 제1 지지체(73)와 일체화되어 있다.The driving
제1 지지체(73), 잉크젯 헤드(31), 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)는, 초기 상태에서는, X축 방향에서 베이스체(71)의 전단부 부분에 위치하고 있으며, 이 초기 상태의 위치로부터, 잉크젯 헤드(31)와 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)가, 기판 설치체(25)보다도 후방측에 오는 위치(도 8 참조)까지, X축 방향에서 이동 가능하게 되어 있다.The
또한, 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)는 Z축 방향에서 이동 위치 결정 가능하도록, 제1 지지체(73)에 지지되어 있음과 함께, Y축 방향으로 연장되어 있는 축(C1)을 회동 중심으로 하여, 예를 들어 90°의 각도로 회동 위치 결정된다.The
이 회동 위치 결정이 됨으로써, 플라스마를 발생하는 방향을, X축 방향 후방측과 Z축 방향 하측으로 전환할 수 있다.By this pivotal positioning, the direction in which the plasma is generated can be switched between the rear side in the X-axis direction and the lower side in the Z-axis direction.
또한, 잉크젯 헤드(31)가 Z축 방향에서 이동 위치 결정 가능하도록, 제1 지지체(73)에 지지되어 있어도 된다.Further, the
제2 지지체(75)는 베이스체(71)의 상면으로부터 상방으로 기립하고 있으며, 리니어 가이드 베어링(도시하지 않음)에 의해 베이스체(71)에 지지되어 있고, 서보 모터 등의 액추에이터(도시하지 않음)에 의해, X축 방향에서 베이스체(71)에 대하여 이동 위치 결정 가능하게 되어 있다. 또한, 제2 지지체(75)는 도 2, 3, 4에서 나타내는 바와 같이, Y축 방향의 한쪽의 측으로만 베이스체(71)에 걸림 결합되어 있다.The
제2 지지체(75)에는, 원단 몰드 설치부(45)가 설치되어 있음과 함께, 전사 롤러(51)와 자외선 발생 장치(53)가 지지되어 있다.The
전사 롤러(51)와 자외선 발생 장치(53)는, Z축 방향에서는, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)보다도 상측에 위치하고 있다. 원단 몰드 설치부(45)는 Z축 방향에서는, 전사 롤러(51)나 자외선 발생 장치(53)보다도 상측에 위치하고 있다.The
원단 몰드 설치부(45)와 전사 롤러(51)와 자외선 발생 장치(53)는, X축 방향에서는, 예를 들어 제2 지지체(75)의 내측에 위치하고 있다. 또한, X축 방향에서는, 원단 몰드 설치부(45)와 전사 롤러(51)는, 제2 지지체(75)의 전방측에 위치하고 있으며, 자외선 발생 장치(53)는 전사 롤러(51)로부터 약간 떨어져 전사 롤러(51)보다도 후방측에 위치하고 있다.The far-end
제2 지지체(75)는 초기 상태에서는, 기판 설치체(25)보다도 후방측에 위치(도 1 참조)하고 있으며, 이 초기 상태의 위치로부터, 자외선 발생 장치(53)가, 기판 설치체(25)보다도 전방측에 오는 위치(도 11 참조)까지, X축 방향에서 이동 가능하게 되어 있다.1) from the initial position, and the
원주형의 전사 롤러(51)는, 제2 지지체(75)에 대하여 전사 롤러(51)의 중심축(Y축 방향으로 연장되어 있는 중심축)을 회전 중심으로 하여, 회전 가능하게 지지되어 있고, 서보 모터 등의 액추에이터에 의해, 소정의 토크나 회전 속도로 회전하여 소정의 회전 위치에서 정지할 수 있다.The
기판(3)의 수지(5)에의 몰드(7)의 누름이나, 수지(5)로부터의 몰드(7)의 박리를 행할 때에는, 몰드(7)와의 사이에서 미끄럼이 발생하지 않도록, 전사 롤러(51)의 X축 방향의 이동 속도에 동기한 회전 속도로 전사 롤러(51)가 회전한다. 또한, 액추에이터를 사용하지 않고, 전사 롤러(51)의 X축 방향의 이동 속도에 추종하여 전사 롤러(51)가 회전하게 되어 있어도 된다.When the
전사 롤러(51)는 제2 지지체(75)에 대하여 Z축 방향에서 이동 가능하게 되어 있고, 자외선 발생 장치(53)도 제2 지지체(75)에 대하여, 예를 들어 전사 롤러(51)와는 별개로 또는 전사 롤러(51)와 함께, Z축 방향에서 이동 가능하게 되어 있으며, 상단 위치와 하단 위치 중 어느 하나에 위치하게 되어 있다.The
원단 몰드 설치부(45)는 도 1, 4에서 나타내는 바와 같이, 원주형의 제1축 부재(79)를 구비한다. 제1축 부재(79)는 제2 지지체(75)로부터 Y축 방향 타단부측으로 돌출되어 있다. 즉, 제1축 부재(79)는 외팔보인 것처럼 하여 제2 지지체(75)에 설치되어 있다. 또한, 제1축 부재(79)는 제2 지지체(75)에, 제1축 부재(79)의 중심축(Y축 방향으로 연장되어 있는 중심축)을 회전 중심으로 하여, 회전 가능하게 지지되어 있으며, 서보 모터 등의 액추에이터에 의해, 소정의 토크나 회전 속도로 회전하고, 소정의 회전 위치에서 정지하며, 소정의 토크를 가지고 회전을 정지할 수 있다.As shown in FIGS. 1 and 4, the far-end
원단 몰드(43)의 코어재(63)는 원통형으로 형성되어 있다. 제1축 부재(79)를 코어재(63)의 통에 관통시킴으로써, 원단 몰드(43)가 제1축 부재(79)에 일체적으로 설치된다. 원단 몰드(43)는 외팔보 형상의 제1축 부재(79)에 대하여 용이하게 착탈 가능하게 되어 있다.The
원단 몰드(43)에서는, 도 23에서 나타내는 바와 같이, 중첩된 몰드(7)의 사이에 간지(81)가 삽입되어 있음으로써, 몰드(7)의 흠집 발생 등이 방지된다. 몰드(7)가 원단 몰드(43)로부터 연장 돌출됨으로써 불필요해진 간지(81)는, 도 1 등에서 나타내는 바와 같이, 제2 지지체(75)에 설치되어 있는 간지 권취 롤(83)로 권취된다. 간지 권취 롤(83)로 권취된 간지(81)는, 필요에 따라서 간지 권취 롤(83)로부터 다시 연장 돌출된다.In the far-
제3 지지체(77)도 베이스체(71)의 상면으로부터 상방으로 기립하고 있으며, 베이스체(71)에 일체적으로 설치되어 있다. 제3 지지체(77)도 도 2, 3에서 나타내는 바와 같이, Y축 법선 방향의 한쪽 측에서만 베이스체(71)에 걸림 결합되어 있다.The
제3 지지체(77)에는, 권취 롤 설치부(49)가 설치되어 있음과 함께, 가이드 롤러(85)가 지지되어 있다.The
Z축 방향에서는, 가이드 롤러(85)의 하단의 위치는, 몰드(7)를 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)의 수지(5)에 눌렀을 때의 전사 롤러(51)의 하단의 위치와 일치한다. 따라서, 몰드(7)를 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)의 수지(5)에 눌렀을 때, 가이드 롤러(85)와 전사 롤러(51) 사이에서 연신되어 있는 몰드(7)의 부위는, 수평 방향으로 전개하게 된다.The position of the lower end of the
또한, 기판(3)의 두께 등에 따라서, 가이드 롤러(85)가 Z축 방향에서 제3 지지체(77)에 대하여 이동 위치 결정 가능하게 되어 있어도 된다.The
Z축 방향에서는, 권취 롤 설치부(49)는 가이드 롤러(85)보다도 약간 상방에 위치하고 있다.In the Z-axis direction, the take-up
X축 방향에서는, 권취 롤 설치부(49)와 가이드 롤러(85)는, 예를 들어 제3 지지체(77)의 내측에 위치하고 있다. 제3 지지체(77)는 X축 방향에서는, 제2 지지체(75)보다도 후방측에 위치하고 있다.In the X-axis direction, the take-up
원주형의 가이드 롤러(85)는, 제3 지지체(77)에 대하여 가이드 롤러(85)의 Y축 방향으로 연장되어 있는 중심축을 회전 중심으로 하여, 회전 가능하게 지지되어 있다. 가이드 롤러(85)는 서보 모터 등의 액추에이터(도시하지 않음)에 의해, 소정의 토크나 회전 속도로 회전하여 소정의 회전 위치에서 정지할 수 있다.The
권취 롤 설치부(49)에 설치되어 있는 권취 롤(47)에 의해 몰드(7)를 권취할 때에는, 몰드(7)와의 사이에서 미끄럼이 발생하지 않도록, 전사 롤러(51)의 X축 방향의 이동 속도에 동기한 회전 속도로 회전한다. 또한, 액추에이터를 사용하지 않고, 몰드(7)의 권취 속도에 추종하여 가이드 롤러(85)가 회전하게 되어 있어도 된다.When the
권취 롤 설치부(49)는 도 1 내지 3 등에서 나타내는 바와 같이, 원주형의 제2축 부재(87)를 구비한다. 제2축 부재(87)는 제3 지지체(77)로부터 Y축 방향 타단부측으로 돌출되어 있다. 즉, 제2축 부재(87)는 외팔보인 것처럼 하여 제3 지지체(77)에 설치되어 있다. 제2축 부재(87)는 제3 지지체(77)에, 제2축 부재(87)의 Y축 방향으로 연장되어 있는 중심축을 회전 중심으로 하여, 회전 가능하게 지지되어 있다. 제2축 부재(87)는 서보 모터 등의 액추에이터(도시하지 않음)에 의해, 소정의 토크나 회전 속도로 회전하고, 소정의 회전 위치에서 정지하며, 소정의 토크를 가지고 회전을 정지할 수 있다.As shown in Figs. 1 to 3 and the like, the winding
권취 롤(47)의 코어재(67)는 원통형으로 형성되어 있다. 제2축 부재(87)를 코어재(67)의 통에 관통시킴으로써, 권취 롤(47)이 제2축 부재(87)에 일체적으로 설치된다. 권취 롤(47)은 제2축 부재(87)에 대하여 용이하게 착탈 가능하게 되어 있다.The
권취 롤(47)에서는, 도 23에서 나타내는 바와 같이, 중첩된 몰드(7) 사이에 간지(81)가 삽입된다. 권취 롤(47)로 몰드(7)를 권취할 때, 도 1 등에서 나타내는 바와 같이, 중첩된 몰드(7) 사이에 간지(81)를 삽입할 필요가 있는 경우에는, 제3 지지체(77)에 설치되어 있는 간지 공급 롤(89)로부터 간지(81)가 공급된다. 간지 공급 롤(89)로부터 공급된 간지(81)는, 필요에 따라서 간지 공급 롤(89)로 다시 권취된다.In the take-
몰드 설치 보조 부재(69)는 베이스체(71)의 상면에 설치되어 있고, 리니어 가이드 베어링(도시하지 않음)에 의해 베이스체(71)에 지지되어 있으며, 서보 모터 등의 액추에이터(도시하지 않음)에 의해, X축 방향에서 베이스체(71)에 대하여 이동 위치 결정 가능하게 되어 있다.The mold
몰드 설치 보조 부재(69)가 X축 방향에서 가장 전방측에 위치(도 15 참조)하고 있을 때에는, 몰드 설치 보조 부재(69)는 초기 상태에 있어서의 제2 지지체(75)의 위치보다도 약간 전방측에서 기판 설치체(25)보다도 후방측에 위치하고 있다.15), the mold
몰드 설치 보조 부재(69)가 X축 방향에서 가장 후방측에 위치(도 16 참조)하고 있을 때에는, 몰드 설치 보조 부재(69)는 권취 롤 설치부(49)의 거의 바로 아래 부분에 위치하고 있다.16), the mold
또한, 몰드 설치 보조 부재(69)가 수동으로(사람 손에 의해) 베이스체(71)에 대하여 이동 위치 결정되게 되어 있어도 된다.Further, the mold
몰드 설치 보조 부재(69)는 도 3 등에서 나타내는 바와 같이, 제2 지지체(75)나 제3 지지체(77)의 베이스체(71)의 걸림 결합부보다도, Y축 방향에서 타단부측의 중앙부에 설치되어 있다.The mold mounting
몰드 설치 보조 부재(69)는 도 15 등에서 나타내는 바와 같이, Z축 방향에서는, 가이드 롤러(85)보다도 약간 하측에 위치하고 있다.As shown in Fig. 15 and the like, the mold
몰드 설치 보조 부재(69)에는, 몰드(7)가 연장 돌출되어 있는 몰드 지지부(65)가 일체적이면서 착탈 가능하게 설치된다.A
원단 몰드 설치부(45)에 원단 몰드(43)를 설치하고, 원단 몰드(43)로부터 연장 돌출되어 있는 몰드(7)의 선단이 고정되어 있는 몰드 지지부(65)를 몰드 설치 보조 부재(69)에 설치하고, 원단 몰드(43)로부터 몰드(7)를 연장 돌출시키면서 몰드 설치 보조 부재(69)(몰드 지지부(65))를 이동시킴으로써, 몰드(7)가 전사 롤러(51)에 감아 걸림과 함께, 권취 롤 설치부(49)에 설치되어 있는 권취 롤(47)의 부분까지(예를 들어, 도 16에서 나타내는 바와 같이, 권취 롤(47)의 근방까지) 가이드된다.A
원단 몰드(43)로부터 연장 돌출되어 있는 몰드(7)의 선단부는, 몰드 지지부(65)에 점착제 또는 점착 테이프에 의해 부착되어 있다.The distal end portion of the
이렇게 몰드 지지부(65)가 가이드됨으로써, 몰드(7)의 선단부가 부착되어 있는 몰드 지지부(65)가 권취 롤 설치부(49)에 설치되어 있는 권취 롤(47)의 근방에까지 도달한다. 이 후, 몰드 지지부(65)로부터 몰드(7)의 선단부를 박리하고, 몰드(7)의 선단부를 권취 롤(47)에 부착시키면, 몰드(7)의 전사 장치(1)에의 설치를 행할 수 있다(도 17 등 참조). 또한, 앞에서 나타낸 바와 같이 몰드 지지부(65)를 권취 롤(47)의 코어재(67)로 해도 된다.The
도 21에서 나타내는 바와 같이, 기판 설치체(25)의 전후에 전사 롤러 가이드부(91)를 설치해도 된다.As shown in Fig. 21, a transfer
이 경우, 전사 롤러(51)의 이동에 의한 몰드(7)의 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 도공되어 있는 수지(5)에의 누름이 행해질 때, 전사 롤러 가이드부(91)가 전사 롤러(51)를 가이드한다.In this case, when the
또한, 전사 롤러 가이드부(91)에 의해, 몰드(7)를 지지하고 있는 전사 롤러(51)를 이동하여 몰드(7)의 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 도공되어 있는 수지(5)에의 누름이 개시될 때에 있어서의 쇼크를, 없애거나 완화시키도록 구성되어 있어도 된다. 쇼크의 발생을 없애거나 완화시킴으로써 전사 정밀도에 악영향을 주는 일이 없어진다.The
즉, 전사 롤러 가이드부(91)에 의해, 전사 롤러(51)를 전방측으로 이동하여, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에의 전사 롤러(51)를 사용한 몰드(7)의 누름 개시 시에 있어서의 쇼크(전사 롤러(51)가 몰드(7)를 사이에 두고 갑자기 기판(3)에 맞닿을 때의 쇼크)를 없애거나 완화시켜도 된다.That is, the
또한, 전사 롤러 가이드부(91)에 의해, 몰드(7)를 지지하고 있는 전사 롤러(51)를 이동하여 몰드(7)의 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 도공되어 있는 수지(5)에의 누름이 종료될 때에 있어서의 쇼크를, 없애거나 완화시키도록 구성되어 있어도 된다.The
즉, 전사 롤러(51)를 후방측으로 이동하여, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)으로부터의 몰드(7)의 박리 개시 시에 있어서의 쇼크(전사 롤러(51)가 몰드(7)를 사이에 두고 갑자기 기판(3)에 맞닿을 때의 쇼크)를 없애거나 완화시켜도 된다.That is, the
전사 롤러 가이드부(91)는, 기판 설치체(25)의 전방측과 후방측에 일체적으로 설치되어 있는 경사 부재(93)를 구비한다. 각각의 경사 부재(93)는 평판 형상의 기판 설치체 걸림 결합 부위(95)와 대략 평판 형상의 전사 롤러 걸림 결합 부위(97)를 구비하고, Y축 방향에서 보아서 L자 형상으로 형성되어 있다.The transfer
Y축 방향에서 보아, 기판 설치체 걸림 결합 부위(95)는 Z축 방향으로 길게 형성되어 있으며, 기판 설치체(25)에 접해 있다.When viewed in the Y-axis direction, the substrate mounting
Y축 방향에서 보아서(전사 롤러(51)의 중심축의 연신 방향에서 보아), 전사 롤러 걸림 결합 부위(97)는 X축 방향(전사 롤러(51)의 이동 방향)으로 길게 형성되어 있고, 기판 설치체 걸림 결합 부위(95)의 상단으로부터 대략 X축 방향이며 기판 설치체(25)로부터 이격되는 방향으로 연장되어 있다.The transfer
전사 롤러 걸림 결합 부위(97)는, 기판 설치체(25)측에 위치하고 있는 기단측 부위(99)와 기판 설치체(25)로부터 이격되어 있는 선단측 부위(101)를 구비한다. 기단측 부위(99)는 X축 방향으로 연신되어 있지만, 선단측 부위(101)는 X축 방향에 대하여 약간의 각도(1 내지 20°)로 기울어 비스듬히 연신되어 있다. 기단측 부위(99)와 선단측 부위(101)의 경계는 원호형으로 둥글게 되어 있다(도 21의 (c)의 참조 부호 R을 참조).The transfer
전사 롤러(51)나 이 전사 롤러(51)에 감아 걸려 있는 몰드(7)는, Y축 방향의 전체 길이에 걸쳐, 경사 부재(93)에 맞닿게 구성되어 있지만, 전사 롤러(51)나 이 전사 롤러(51)에 감아 걸려 있는 몰드(7)의 일부가, 경사 부재(93)에 맞닿게 구성되어 있어도 된다. 예를 들어, 전사 패턴이 형성되지 않은 전사 롤러(51)의 단부나 이 전사 롤러(51)에 감아 걸려 있는 몰드(7)의 단부(Y축 방향에 있어서 일단부나 타단부)만이, 경사 부재(93)에 맞닿게 구성되어 있어도 된다.The
또한, 롤 전사에 의해 수지(5)로부터의 몰드(7)의 박리가 행해질 때에는, 전사 롤러 가이드부(91)(전방측 경사 부재(93B))가 수지(5)로부터의 몰드(7)의 박리를 개시할 때에 있어서의 쇼크를 없애거나 완화시키도록 구성되어 있고, 전사 롤러 가이드부(91)(후방측 경사 부재(93A))가, 수지(5)로부터의 몰드(7)의 박리를 종료할 때에 있어서의 쇼크를 없애거나 완화시키도록 구성되어 있다.When the
또한, 전방측 경사 부재(93B), 후방측 경사 부재(93A) 중 어느 것이 삭제되어 있어도 된다.Further, either the front side inclined
여기서, 몰드(7)의 자외선 경화 수지(5)(기판(3))에의 압박을 시작할 때(전사 롤러(51)가 기판 설치체(25)에 설치되어 있는 기판(3) 등에의 걸림 결합을 하기 시작할 때)의, 전사 롤러(51) 등의 동작을 설명한다.When the pressing of the
먼저, 전사 롤러(51)가 도 21의 (a)에서 나타내는 위치보다도 우측(후방측)에 위치하고 있는 상태에서는, 전사 롤러(51)와 몰드(7)는 후방측 경사 부재(93A)로부터 이격되어 있다. 이 상태로부터 전사 롤러(51)가 전방측(좌측)으로 이동하면, 도 21의 (a)에서 나타내는 바와 같이, 전사 롤러(51)가 몰드(7)를 사이에 두고, 후방측 경사 부재(93A)의 선단측 부위(101)에 맞닿는다. 이 맞닿을 때의 몰드(7)(선단측 부위(101)에 맞닿아 있는 부위)의 위치는, Z축 방향에서, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)의 상면보다도 약간 하측에 위치하고 있다.21 (a), the
또한, 선단측 부위(101)의 경사 각도가 작으므로, 맞닿을 때의 쇼크를 작게 할 수 있다.In addition, since the inclination angle of the distal
도 21의 (a)에서 나타내는 위치로부터, 전사 롤러(51)가 더욱 전방측(좌측)으로 이동하면, 전사 롤러(51)는 선단측 부위(101)에 의해 상측에 눌리는 대로 상측으로 이동한다. 이 때, 전사 롤러(51)는 몰드(7)를 사이에 두고 선단측 부위(101)에 맞닿아 있는 상태를 유지하고 있다.When the
전사 롤러(51)가 더욱 전방측(좌측)으로 이동하면, 전사 롤러(51)가 몰드(7)를 사이에 두고, 후방측 경사 부재(93A)의 기단측 부위(99)에 맞닿는다.When the
전사 롤러(51)가 더욱 전방측(좌측)으로 이동하면, 전사 롤러(51)가 몰드(7)를 사이에 두고 기단측 부위(99)에 맞닿아 있는 상태를 유지한 채 수평 방향(X축 방향)으로 이동한다. 이 때의 몰드(7)(선단측 부위(101)에 맞닿아 있는 부위)의 위치는, Z축 방향에서, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)의 상면의 위치와 일치한다.When the
전사 롤러(51)가 더욱 전방측(좌측)으로 이동하면, 도 21의 (b)에서 나타내는 바와 같이, 몰드(7)의 수지(5)(기판(3))에의 압박이 시작된다. 이 압박의 개시 시에 있어서는, 전사 롤러(51)의 높이가 변화되지 않으므로, 쇼크의 발생은 거의 없다. 그리고, 기판(3) 등의 단부가 결손될 우려가 없어진다.When the
또한, 전사 롤러(51)가 전방측(좌측)으로 이동하면, 전사 롤러(51)가 몰드(7)를 사이에 두고 전방측 경사 부재(93B)에 맞닿는다. 이 때, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)으로부터 이격된 전사 롤러(51)의 높이 위치가 급격하게 변화되는 일은 없으므로, 기판(3)에의 전사 롤러(51)를 사용한 몰드(7)의 누름 종료 시에 있어서의 쇼크를 없애거나 완화시킬 수 있어, 기판(3) 등의 단부가 결손될 우려가 없어진다.When the
또한, 도 21의 (c)에서 나타내는 바와 같이, 후방측 경사 부재(93A)(전방측 경사 부재(93B))와 기판(3) 사이에는, X축 방향에서 약간의 거리(예를 들어 기판(3)의 두께보다도 작고, 전사 롤러(51)의 반경의 값보다도 훨씬 작은 거리) L3만큼 이격되어 있지만, 상기 거리 L3이 「0」으로 되어 있어도 된다.21 (c), a slight distance in the X-axis direction (for example, a distance between the front side inclined
또한, 기판(3)의 두께에 맞추어서, 후방측 경사 부재(93A)(전방측 경사 부재(93B))의 높이 위치를, 기판 설치체(25)에 대하여 조정 가능하게 구성해도 된다.The height position of the rear side inclined
몰드(7)의 경화된 자외선 경화 수지(5)(기판(3))로부터의 박리 시의, 전사 롤러(51) 등의 동작은, 상술한 몰드(7)의 수지(5)에의 압박을 시작할 때의 동작과 역동작이 된다. 단, 전사 롤러(51)나 몰드(7)는 전방측 경사 부재(93B)에 먼저 맞닿는다.The operation of the
후방측 경사 부재(93A) 또는 전방측 경사 부재(93B)를 삭제한 구성이어도 된다. 도 1 등에서는 삭제되어 있다.The rear side inclined
이어서, 전사 장치(1)의 동작을 설명한다.Next, the operation of the
초기 상태에서는, 도 1에서 나타내는 바와 같이, 몰드(7)가 전사 장치(1)에 설치되어 있고, 제1 지지체(73)가 전단부 위치에 위치하고 있으며, 제2 지지체(75)가 후단부 위치에 위치하고 있으며, 플라스마 유닛(55)의 플라스마를 발생하지 않은 상태의 헤드(57)가 상단 위치에 위치하고 있으며, 전사 롤러(51)와 자외선 발생 장치(53)는 상단 위치에 위치하고 있다. 또한, 기판 설치체(25)에는 기판(3)이 설치되어 있다.In the initial state, as shown in Fig. 1, the
기판 설치체(25)의 상부는 도전체로 구성되어 있고, 플라스마를 조사할 때에는 전극으로서 작용한다.The upper portion of the
제어부(41)의 제어 하, 상술한 초기 상태로부터, 도 6에서 나타내는 바와 같이, 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)를 하단 위치에 위치시키고, 도 7에서 나타내는 바와 같이, 헤드(57)로부터 하측의 기판(3)을 향해 플라스마를 발생시키면서, 제1 지지체(73)를 후방측으로 이동하고, 잉크젯 헤드(31)로 기판(3) 상에 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 도공한다.6, the
도 8은, 기판(3) 상에의 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 도공이 종료된 상태를 나타내고 있으며, 이 상태에서는, 헤드(57)로부터 플라스마는 발생하지 않고, 잉크젯 헤드(31)로부터의 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 방출도 정지하였다.8 shows a state in which coating of the uncured
계속해서, 제1 지지체(73)를 전방측으로 이동하고, 도 9에서 나타내는 바와 같이, 전단부 위치에 위치시킴과 함께, 전사 롤러(51)와 자외선 발생 장치(53)를 하단 위치에 위치시킨다.Subsequently, the first supporting
계속해서, 도 10에서 나타내는 바와 같이, 제2 지지체(75)를 전방측으로 이동하면서 기판(3)에의 몰드(7)의 누름을 행한다. 이 때, 몰드(7)가 전사 롤러(51)의 전방측으로의 이동에 따라서 원단 몰드(43)로부터 연장 돌출되고, 자외선 발생 장치(53)로부터 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)에 자외선을 조사한다.Subsequently, as shown in Fig. 10, the
도 11은, 기판(3)에의 몰드(7)의 누름이 종료된 상태를 나타내고 있으며, 이 상태에서는, 자외선 발생 장치(53)로부터 자외선은 발생하지 않았다.11 shows a state in which the pressing of the
계속해서, 도 11에서 나타내는 상태로부터, 제2 지지체(75)를 후방측으로 이동하고, 기판(3)이나 수지(5)로부터의 몰드(7)의 박리를 행한다. 이 때, 원단 몰드(43)에서 몰드(7)를 권취하고, 자외선 발생 장치(53)로부터 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)에 자외선을 조사한다.Subsequently, the
기판(3)이나 수지(5)로부터의 몰드(7)의 박리가 종료된 상태(도 12 참조)에서, 제2 지지체(75)가 후단부 위치에 위치하여, 몰드(7)의 전사 패턴(9)의, 기판(3)의 수지(5)에의 전사가 종료된다. 다음 전사를 행하는 경우에는, 다음에 전사가 될 기판(3)을 교환한다.The
이어서, 플라스마 유닛(55)에 의한 몰드(7)의 클리닝 동작에 대하여 설명한다.Next, the cleaning operation of the
플라스마 유닛(55)에 의한 몰드(7)의 클리닝 대상은, 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)에의 전사에 사용된 몰드(7)의 부위(특히, 미세한 전사 패턴(9))이다.The cleaning object of the
도 12에서 나타내는 바와 같이, 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)를 상단 위치에 위치시킴과 함께, 후방측을 향해 플라스마를 발생하도록 도 1에 도시한 축(C1)을 중심으로 하여 회동하고, 제1 지지체(73)를 후단부 위치에 위치시키며, 헤드(57)를 몰드(7)의 근방에 위치시킨다.As shown in Fig. 12, the
도 12에서 나타내는 상태로, 헤드(57)로부터 몰드(7)를 향해 플라스마를 발생함과 함께, 원단 몰드(43)와 권취 롤(47)에 의해 몰드(7)의 권취와 조출을 적절하게 행하여, 기판(3)의 수지(5)에의 전사에 사용된 몰드(7)의 부위의 전체에 플라스마를 조사하여 클리닝한다.Plasma is generated from the
몰드(7)를 사이에 둔 헤드(57)의 반대측에는, 도전성의 판(도시하지 않음)이 설치되어 있다. 도전성의 판은, 플라스마 유닛(55)이 몰드(7)에 플라스마를 조사할 때, 전극으로서 작용한다.A conductive plate (not shown) is provided on the opposite side of the
플라스마 유닛(55)에 의한 몰드(7)의 클리닝을, 도 12에서 나타내는 상태로의 클리닝 대신에 또는 부가적으로, 경화된 자외선 경화 수지(5)로부터의 몰드(7)의 박리가 되었을 때에 행해도 된다. 즉, 롤 전사 중 경화된 자외선 경화 수지(5)로부터 박리가 된 직후의 몰드(7)의 부위에, 플라스마 유닛(55)으로부터 플라스마를 조사함으로써, 몰드(7)의 클리닝을 해도 된다.The cleaning of the
더욱 설명하면, 도 11에서 나타내는 상태로부터 도 12에서 나타내는 상태가 될 때까지, 제2 지지체(75)를 후방측으로 이동하여 기판(3)이나 자외선 경화 수지(5)로부터의 몰드(7)의 박리를 행하고 있을 때, 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)(제1 지지체(73))도 후방측으로 이동하고, 자외선 경화 수지(5)로부터 박리된 직후의 몰드(7)에, 플라스마 유닛(55)으로부터 플라스마를 조사해도 된다.11, the
플라스마 유닛(55)의 헤드(57)의 후방측으로의 이동 속도는, 예를 들어 제2 지지체(75)의 이동 속도와 일치하고 있으며, 제2 지지체(75)와 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)가 후방측으로 이동하고 있을 때에는, 제2 지지체(75)와 헤드(57)의 X 방향의 거리가 몰드(7)에의 플라스마의 조사가 가능한 일정한 거리로 되어 있다.The moving speed of the
또한, 복수매의 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)에 몰드(7)의 일정한 부위를 반복해서 사용함으로써, 순서대로 복수회의 전사를 행하는 경우, 전사의 횟수에 따라서, 플라스마 유닛(55)에 의한 전사에 사용된 몰드(7)의 부위에의 플라스마의 조사량(조사 횟수, 조사 강도 중 적어도 어느 것)을 변화시켜도 된다.When a plurality of transfers are performed in order by repeatedly using a certain portion of the
더욱 상세하게 설명한다. 도 12에서 나타내는 바와 같이, 자외선 경화 수지(5)로부터의 몰드(7)의 박리가 종료된 후에, 이 박리가 된 몰드(7)에, 플라스마 유닛(55)으로부터 플라스마를 조사한다. 몰드(7)의 클리닝은, 몰드(7)의 박리가 종료된 후에, 원단 몰드(43)와 권취 롤(47)에 의해 몰드(7)의 권취와 조출을 적시에 행하여, 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)에의 전사에 사용된 몰드(7)의 부위의 전체에 플라스마를 조사함으로써 이루어진다. 클리닝된 몰드(7)의 부위는, 다음 전사에 다시 사용된다.Will be described in more detail. 12, plasma is irradiated from the
이와 같이 하여, 전사에 사용된 몰드(7)의 부위는, 플라스마 조사에 의해 클리닝되는 것과, 다시 전사에 사용되는 것을 반복한다. 이 경우에 있어서, 몰드(7)의 클리닝은, 전사에 사용된 횟수가 증가함에 따라서 유념해서 행해진다.In this way, the portion of the
예를 들어, 1회째의 전사가 된 후에는, 도 12에서 나타내는 상태로부터, 원단 몰드(43)와 권취 롤(47)에 의해 몰드(7)의 권취와 조출을 1 왕복만 행하고, 이 때, 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)에의 전사에 사용된 몰드(7)의 부위의 전체에 플라스마를 조사한다.For example, after the first transfer, the
또한, 상기 플라스마의 조사는, 몰드(7)의 권취와 조출의 1 왕복의 동작의 양쪽으로 행해도 되고, 몰드(7)의 권취와 조출의 1 왕복의 동작 중 어느 한쪽으로 행해도 된다.The irradiation of the plasma may be performed either in one operation of winding and drawing the
동일하게 하여, 2회째의 전사가 된 후에는, 도 12에서 나타내는 상태로부터, 몰드(7)의 권취와 조출의 왕복 동작을 2 왕복 행하고, 이 때, 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)에의 전사에 사용된 몰드(7)의 부위의 전체에 플라스마를 조사한다.12, the reciprocating operation of the winding and drawing of the
또한, 동일하게 하여, 3회째 이후의 전사에 있어서도, 전사의 횟수와 동일한 횟수의 몰드(7)의 권취와 조출의 왕복 동작을 행하고, 이 때, 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)에의 전사에 사용된 몰드(7)의 부위의 전체에 플라스마를 조사한다. 그리고, 소정의 횟수(예를 들어 5회)의 전사가 되었을 때, 원단 몰드(43)로부터 권취 롤(47)에 몰드(7)를 보내고, 전사에 사용되는 몰드(7)의 부위를 교환한다.In the same manner, also in the third and subsequent transfers, the reciprocating operation of the winding and feeding of the
이와 같이, 전사의 횟수에 따라서, 플라스마 유닛(55)에 의한 몰드(7)에의 플라스마의 조사량을 변화시킴으로써, 전사 횟수가 증가할 때마다 오염이 심해지는 몰드(7)를 적절하게 클리닝할 수 있다.As described above, by changing the irradiation amount of the plasma to the
또한, 자외선 경화 수지(5)로부터의 박리가 된 몰드(7)의 부위의 오염을 검출하기 위한 몰드 검출부(도시하지 않음)를 설치해도 된다. 몰드 검출부로서, 예를 들어 투과형 광전 센서나 반사형 광전 센서 등을 사용할 수 있다.It is also possible to provide a mold detection unit (not shown) for detecting the contamination of the portion of the
그리고, 몰드 검출부에서의 검출 결과에 따라서, 플라스마 유닛(55)에 의한 몰드(7)의 클리닝이 불충분한지 여부를 판단하도록 구성해도 된다.It is also possible to determine whether or not the cleaning of the
예를 들어, 플라스마 유닛(55)에 의한 몰드(7)의 클리닝을 모두 마친 후, 몰드 검출부에서 검출한 결과, 자외선 경화 수지(5)로부터의 박리가 된 몰드(7)의 부위의 오염이 소정의 역치보다 심한 경우(예를 들어 잔존 수지의 양이 소정의 값을 초과한 경우), 플라스마 유닛(55)에 의한 몰드(7)의 클리닝이 불충분하다고 판단하여, 몰드(7)의 교환을 하도록 구성해도 된다.For example, after the completion of the cleaning of the
또한, 몰드 검출부에 의해, 자외선 경화 수지(5)로부터의 박리가 된 몰드(7)의 부위에 있어서의 전사 패턴(9)의 혼란(예를 들어 결손 등의 문제)을 검출해도 된다. 즉, 플라스마 유닛(55)에 의한 몰드(7)의 클리닝을 모두 마친 후, 몰드 검출부에서 검출한 결과, 자외선 경화 수지(5)로부터의 박리가 된 몰드(7)의 부위의 전사 패턴(9)의 형상이 소정의 역치보다도 무너진 경우, 몰드(7)의 교환을 행하도록 구성해도 된다.It is also possible to detect confusion (for example, defects or the like) of the transferred
또한, 도공부(15)와 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)는, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 대하여 상대적으로 동시에 이동하지만, 이 이동 시, 플라스마 유닛(55)에서 기판(3)에 플라스마를 조사하면서, 도공부(15)에서 기판(3)에 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 도공하도록 구성해도 된다.The
더욱 설명하면, 도공부(15)와 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)는, X축 방향에서, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 대하여 함께 이동하도록 되어 있다. 또한, 도공부(15)는 X축 방향에서, 플라스마 유닛(55)보다도 전방측에 위치하고 있다.More specifically, the
그리고, 도공부(15)와 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)가 도 6에서 나타내는 바와 같이, 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)보다도 전방측에 위치하고 있는 상태로부터, 도공부(15)와 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)를 후방측으로 이동할 때, 먼저 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)로부터 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 플라스마를 조사하고, 이 직후에, 도공부(15)에서 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 도공하도록 구성해도 된다.6, the
또한, 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)로부터 기판(3)에 조사되는 플라스마에서는, 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 경화되지 않게 되어 있지만, 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)로부터 기판(3)에 조사되는 플라스마로 미경화의 자외선 경화 수지(5)가 경화될 우려가 있는 경우에는, 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)로부터 조사되는 플라스마를 차단하는 실드(도시하지 않음)를 설치하고, 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)로부터 조사되는 플라스마가, 도공부(15)에서 도공된 미경화의 자외선 경화 수지(5)에 도달하지 않도록 한다.Although the
도공부(15)와 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)가 기판 설치부(13)에 설치되어 있는 기판(3)에 대하여 동시에 이동하고, 플라스마 유닛(55)에서 기판(3)에 플라스마를 조사하면서, 도공부(15)에서 기판(3)에 미경화의 수지(5)를 도공하므로, 기판(3)의 습윤성 개선과 기판(3)에의 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 도공을 거의 동시에 행할 수 있어, 전사에 소요되는 시간을 단축시킬 수 있다.The
또한, 플라스마 유닛(55)이, 전사 후에 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)로부터 박리된 몰드(7)에도 플라스마를 조사하도록 구성되어 있지만, 구동부(59)가 도공부(15)에 지지되어 있음으로써, X축 방향에서 도공부(15)와 헤드(57)와 구동부(59)가 동시에 함께 이동하도록 되어 있다.Although the
플라스마 유닛(55)의 구동부(59)에 의해 구동된 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)로부터, 기판(3)과 전사 후에 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)로부터 박리된 몰드(7)에 플라스마가 조사되도록 구성되어 있음으로써, 플라스마 유닛(55)의 구동부(59)나 헤드(57)가 공통화되어 있게 된다.The
여기서, 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)의 공통화에 대하여 상세하게 설명한다.Here, the common use of the
플라스마 유닛(55)에 의해 플라스마가 조사되는 기판(3)의 면과, 플라스마 유닛(55)에 의해 플라스마가 조사되는 몰드(7)의 면과는 서로 교차하고 있다.The surface of the
플라스마 유닛(55)에 의해 플라스마가 조사되는 기판(3)의 면은, 예를 들어 Z축 방향에 대하여 직교하고 있는 평면이며, 플라스마 유닛(55)에 의해 플라스마가 조사되는 몰드(7)의 면은, 예를 들어 X축 방향에 대하여 직교하고 있는 평면이다. 이와 같이, 플라스마 유닛(55)에 의해 플라스마가 조사되는 기판(3)의 면과, 플라스마 유닛(55)에 의해 플라스마가 조사되는 몰드(7)의 면과는 서로 직교하고 있다.The surface of the
헤드(57)는 도공부(15) 등에 대하여 회동 위치 결정 가능하게 되어 있다. 기판(3)의 면에 헤드(57)로부터 플라스마를 조사할 때의 헤드(57)의 자세는, 몰드(7)의 면에 헤드(57)로부터 플라스마를 조사할 때의 헤드(57)의 자세에 대하여, 소정의 각도(예를 들어 90°) 회동되게 구성되어 있다.The
더욱 설명하면, 플라스마 유닛(55)의 헤드(57)는 Y축 방향으로 연장되어 있는 축(C1)을 회동 중심으로 하여, 예를 들어 90°의 각도로 회동 위치 결정되도록 제1 지지체(73)에 지지되어 있다. 이 회동 위치 결정이 됨으로써, 플라스마를 발생하는 방향을, X축 방향 후방측과 Z축 방향 하측으로 전환할 수 있다.The
그리고, 기판(3)의 면에 헤드(57)로부터 플라스마를 조사할 때에는, Z축 방향 하측을 향해 플라스마를 발생하고, 몰드(7)의 면에 헤드(57)로부터 플라스마를 조사할 때에는, X축 방향 후방측을 향해 플라스마를 발생한다.When plasma is irradiated to the surface of the
기판(3)의 면에 헤드(57)로부터 플라스마를 조사할 때의 헤드(57)의 자세가, 몰드(7)의 면에 헤드(57)로부터 플라스마를 조사할 때의 헤드(57)의 자세에 대하여, 소정의 각도 회동되어 있으므로, 하나의 헤드(57)를 사용하여, 서로가 다른 위치나 자세에 있는 기판(3)과 몰드(7)에 적확하게 플라스마를 조사할 수 있다.The position of the
이어서, 몰드 설치 보조부(61)를 사용한 전사 장치(1)에의 몰드(7)의 설치에 대하여 설명한다.Next, the installation of the
초기 상태로서, 도 13에서 나타내는 바와 같이, 제2 지지체(75)가 후단부 위치에 위치하고 있고, 몰드 설치 보조 부재(69)가 전단부 위치에 위치하고 있으며, 원단 몰드 설치부(45)에는, 원단 몰드(43)가 설치되지 않은 것으로 한다.13, the
상술한 바와 같은 초기 상태에서, 원단 몰드(43)의 코어재(63)를 원단 몰드(43)에 설치하고(도 14 참조), 원단 몰드(43)로부터 몰드(7)를 적절히 연장 돌출시켜, 몰드 지지부(65)를 몰드 설치 보조 부재(69)에 일체적으로 설치한다(도 15 참조).The
계속해서, 몰드 설치 보조 부재(69)를, 원단 몰드(43)로부터 몰드(7)를 적절히 연장 돌출시키면서 후방측으로 이동하여 후단부 위치에 위치시킨다(도 16 참조). 이 이동 시, 원단 몰드(43)와 몰드 지지부(65) 사이에서 연장 돌출되어 있는 몰드(7)가 전사 롤러(51)와 가이드 롤러(85)에 감아 걸린다.Subsequently, the mold
계속해서, 몰드(7)의 선단부를, 몰드 지지부(65)로부터 떼어내어, 권취 롤(47)의 코어재(67)에 고정시킨다(도 17 참조).The leading end portion of the
전사 장치(1)에 의하면, 잉크젯 헤드(31)를 사용하여 미경화의 수지(5)를 기판(3)에 도공하므로, 기판(3)에 도공되는 미경화의 수지(5)의 도공 정밀도(예를 들어, 자외선 경화 수지(5)의 막 두께의 정밀도)를 양호한 것으로 할 수 있다. 즉, 스프레이 등의 다른 도공 방법을 사용하는 경우보다도, 얇으며 양호한 정밀도로 수지(5)를 기판(3)에 설치할 수 있다.According to the
수지(5)의 막 두께의 정밀도를 양호한 것으로 함으로써, 전사 전의 수지(5)의 체적과 전사 후의 수지(5)의 체적을 거의 동등하게 할 수 있고, 전사 후에 있어서의 잔막(11)의 두께를 최대한 얇게 하거나, 잔막(11)의 발생을 억제할 수 있다.It is possible to make the volume of the
또한, 전사 장치(1)에 의하면, 잉크젯 헤드(31)가 복수 설치되어 있기 때문에, 수지(5)의 도공이 필요한 기판(3)의 개소에만, 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 도공을 할 수 있다. 예를 들어, 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 토출하는 잉크젯 헤드(31)와 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 토출하지 않는 잉크젯 헤드(31)를 설정할 수 있어, 기판(3)의 사이즈가 변경되어도 유연하게 대응할 수 있다. 또한, 1회의 전사로 복수의 전사 패턴(9)을 전사하는 경우(예를 들어, 1매의 기판(3)에서 4개 취득 또는 8개 취득을 행하는 경우), 8개 취득으로부터 4개 취득하도록 몰드(7)의 형태가 변화되어도 유연하게 대응할 수 있다.Since the
또한, 전사 장치(1)에 의하면, 복수의 잉크젯 헤드(31)가 번갈아 배치되어 있으므로, 기판(3)에 미경화의 자외선 경화 수지(5)를 도공했을 때, 잉크젯 헤드(31) 사이에 간극(수지(5)가 도공되지 않은 부위)이 발생하는 것이 방지된다.Since the plurality of inkjet heads 31 are arranged alternately according to the
또한, 전사 장치(1)에 의하면, 도 20에서 나타내는 바와 같이, 기판(3)에 도공되는 미경화의 자외선 경화 수지(5)가, 몰드(7)에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴(9)에 대응한 형상으로 되어 있으므로, 전사를 행할 때에 있어서의 미경화의 자외선 경화 수지(5)의 유동량이 적어지고, 잔막(11)의 발생 등을 한층 억제할 수 있음과 함께, 수지(5)에 형성된 전사 패턴(9)의 형상이 샤프해져 형상 정밀도가 향상된다.20, the uncured UV
또한, 전사 장치(1)에 의하면, 전사 롤러(51)가 전방측으로 이동하고 있을 때, 및 전사 롤러(51)가 후방측으로 이동하고 있을 때, 자외선 경화 수지(5)에 자외선을 조사하므로, 자외선 경화 수지(5)에 자외선을 조사하는 시간을 길게 취할 수 있어, 큰 출력의 자외선 발생 장치(53)를 사용하지 않고(자외선 발생 장치(53)를 대형화하지 않고), 자외선 경화 수지(5)를 확실하게 경화시킬 수 있다.According to the
또한, 전사 장치(1)에 의하면, 전사 후에 기판(3)의 자외선 경화 수지(5)로부터 박리된 몰드(7)의 미세한 전사 패턴(9)을 플라스마 유닛(55)으로 클리닝하므로, 몰드(7)를 복수회 반복하여 사용하는 경우에, 몰드(7)의 이형성의 악화나, 기판(3)의 수지(5)에 전사되는 패턴의 형태의 악화를 방지할 수 있다.In addition, according to the
또한, 전사 장치(1)에 의하면, 플라스마 유닛(55)으로 기판(3)의 습윤성을 개선하도록 구성되어 있으므로, 기판(3)의 친수성을 증가시켜 기판(3)과 수지(5)의 밀착 강도를 높일 수 있다.Since the
또한, 전사 장치(1)에 의하면, 플라스마 유닛(55)이, 부피가 커지지 않고 설치 용적이 작은 도공부(15)에 지지되어 있으므로, 크고 부피가 커지는 플라스마 유닛(55)의 구동부(59)의 배치가 용이하게 되어 있다.Since the
또한, 전사 장치(1)에 의하면, 원단 몰드 설치부(45)에 설치되어 있는 원단 몰드(43)로부터 조출되는 몰드(7)를, 조출되는 부위에서의 주름의 발생을 억제하면서, 전사 롤러(51)에 감아 걸어, 권취 롤 설치부(49)에 설치되어 있는 권취 롤(47)까지 가이드하는 몰드 설치 보조부(61)가 설치되어 있기 때문에, 몰드(7)의 전사 장치(1)에의 정확한 설치를, 숙련자를 요구하지 않고, 쉬우면서도 빨리 행할 수 있다.According to the
그런데, 상기 설명에서는, 1매의 기판(3)에 1회의 전사를 행함으로써, 1매의 기판(3)의 수지(5)에 하나의 전사 패턴(9)이 전사되는 것으로 하였지만, 1매의 기판(3)에 1회의 전사를 행함으로써, 복수의 전사 패턴(9)이 1매의 기판(3)의 수지(5)에 전사되게 구성되어 있어도 된다.In the above description, although one
1매의 기판(3)의 수지(5)에 복수의 전사 패턴(9)이 전사된 경우, 1매의 기판(3)을 하나의 전사 패턴(9)이 전사된 부위마다 분할하여, 복수매의 제품 또는 반제품을 얻게 된다.When a plurality of
예를 들어, 1매의 기판(3)의 수지(5)가 설치되어 있는 4개 부위의 각각에 전사 패턴(예를 들어 동일한 전사 패턴)(9)이 1회의 전사로 전사된 경우, 이 기판(3)을 4 등분으로 분할함으로써, 4매의 제품 또는 반제품을 얻게 된다.For example, in the case where a transfer pattern (for example, the same transfer pattern) 9 is transferred by one transfer onto each of the four portions in which the
또한, 상기 설명에서는, 원단 몰드(43)와 권취 롤(47) 사이에서 연신되어 있는 몰드(7)의 부위의 일부를 전사 롤러(51)에 감아서 전사를 행하였지만, 1매의 몰드(길이가 전사 롤러(51)의 외주의 길이와 동일한 정도의 짧은 몰드)(7)를, 전사 롤러(51)의 외주에 고정시켜두고(일체적으로 감아 두고) 전사를 행해도 된다. 이 경우, 몰드(7)는 전사 롤러(51)에 대하여 착탈 가능(교환 가능)하게 설치되어 있게 된다.In the above description, a portion of the
즉, 기판(3)과 기판(3)에 도공되어 얇은 막상으로 되어 있는 미경화의 수지(5)에 전사 롤러(51)를 사용하여 몰드(7)를 누른 상태에서 전사 롤러(51)를 X축 방향에서 기판에 대하여 상대적으로 기판(3)의 일단부로부터 타단부를 향하여 이동함으로써, 전사 중 수지(5)에의 몰드(7)의 누름, 전사 중 수지(5)로부터의 몰드(7)의 박리가 되도록 구성되어 있어도 된다. 이 경우, 수지(5)로서 열가소성 수지가 사용되는 경우가 있다.That is, the
또한, 상술한 것을 방법의 발명으로서 파악해도 된다.Further, the above-described method may be grasped as an invention of the method.
즉, 기판(3)에 도공되어 있는 수지(5)에 몰드(7)에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴(9)을 전사하는 전사 방법이며, 미립자상의 미경화 수지(5)를 잉크젯 헤드(31)로부터 방출함으로써 기판(3)에 수지(5)를 도공하는 도공 공정을 갖는 전사 방법으로서 파악해도 된다.That is, a transfer method in which a
또한, 기판(3)에 도공되어 있는 수지(5)에 몰드(7)에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴(9)을 전사하는 전사 방법이며, 전사를 행한 후에 기판(3)의 수지(5)로부터 박리된 몰드(7)의 미세한 전사 패턴(9)에 플라스마를 조사하는 플라스마 조사 공정을 갖는 전사 방법으로서 파악해도 된다.A transfer method in which a
또한, 기판(3)에 도공되어 있는 수지(5)에 몰드(7)에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴(9)을 전사하는 전사 방법이며, 몰드(7)가 감겨 있는 원단 몰드(43)를, 원단 몰드 설치부(45)에 설치하는 원단 몰드 설치 공정과, 원단 몰드 설치 공정에서 설치된 원단 몰드(43)로부터 조출되는 몰드(7)를 전사 롤러(51)에 감아 거는 몰드 감아 걸기 공정과, 원단 몰드 설치 공정에서 원단 몰드 설치부(45)에 설치된 원단 몰드(43)로부터 조출되어 전사 롤러(51)에 감아 걸린 몰드(7)의 단부를, 권취 롤 설치부(49)에 설치되어 있는 권취 롤(47)에 설치하는 몰드 권취 롤 설치 공정과, 원단 몰드 설치 공정에서의 원단 몰드(43)의 설치 후, 몰드 감아 걸기 공정, 몰드 권취 롤 설치 공정을 행할 때, 원단 몰드 설치부(45)에서 설치되어 있는 원단 몰드(43)로부터 조출되는 몰드(7)를, 조출되고 있는 부위에서의 주름의 발생을 억제하면서 조출되고 있는 부위가 팽팽해진 상태에서, 전사 롤러(51)에 감아 걸어, 권취 롤 설치부(49)에 설치되어 있는 권취 롤(47)의 근방까지, 몰드 설치 보조부(61)를 사용하여 가이드하는 몰드 가이드 공정을 갖는 전사 방법으로서 파악해도 된다.A transfer method in which a
이 경우, 원단 몰드 설치 공정, 몰드 감아 걸기 공정, 몰드 권취 롤 설치 공정이 행해지기 전의 몰드(7)는, 길이 방향의 일단부측의 대부분이 원단 몰드(43)의 코어재(63)에 감아 걸려 있으며, 길이 방향의 타단부측의 약간의 부위가, 원단 몰드(43)으로부터 연장 돌출되어 있으며, 이 연장 돌출되어 있는 부위의 가일층의 선단부가, 몰드 지지부(65)에 설치되어 있다. 몰드 설치 보조부(61)는, 원단 몰드 설치부(45)와 전사 롤러(51)와 권취 롤 설치부(49)에 대하여 이동 가능한 몰드 설치 보조 부재(61)를 구비하고, 몰드 설치 보조 부재(69)에 몰드 지지부(65)가 설치된다.In this case, most of the one end side in the longitudinal direction of the
1
전사 장치
3
기판
5
수지
7
몰드
9
전사 패턴
11
잔막
13
기판 설치부
15
도공부
17
몰드 설치부
19
누름부
21
수지 경화부
23
박리부
25
기판 설치체
27
홈
29
공기 흡인 구멍
31
잉크젯 헤드
31A
제1 잉크젯 헤드
31B
제2 잉크젯 헤드
31C
제3 잉크젯 헤드
31D
제4 잉크젯 헤드
33
하우징
35
수지 방출 부위
39
메모리
41
제어부
43
원단 몰드
45
원단 몰드 설치부
47
권취 롤
49
권취 롤 설치부
51
전사 롤러
53
자외선 발생 장치
55
플라스마 유닛
57
헤드
59
구동부
61
몰드 설치 보조부
63
코어재
65
몰드 지지부
67
코어재
69
몰드 설치 보조 부재
71
베이스체
73
제1 지지체
75
제2 지지체
77
제3 지지체
79
제1 축 부재
81
간지
83
간지 권취 롤
85
가이드 롤러
87
제2 축 부재
89
간지 공급 롤
91
전사 롤러 가이드부
93
경사 부재
93A
후방측 경사 부재
93B
전방측 경사 부재
95
기판 설치체 걸림 결합 부위
97
전사 롤러 걸림 결합 부위
99
기단측 부위
101
선단측 부위
105
볼록부1 transfer device
3 substrate
5 resin
7 mold
9 Transcription pattern
11 Substrate
13 Substrate mounting part
15 porcelain
17 Mold mounting part
19 pressing portion
21 Resin hardening part
23 peeling section
25 substrate mounting body
27 Home
29 Air suction hole
31 inkjet head
31A First inkjet head
31B Second inkjet head
31C third ink jet head
31D Fourth inkjet head
33 Housing
35 resin release site
39 Memory
41 control unit
43 Fabric Mold
45 Fabric mold installation part
47 Winding Roll
49 Winding roll mounting part
51 transfer roller
53 Ultraviolet ray generator
55 Plasma unit
57 head
59 driver
61 Mold installation assistant
63 core material
65 mold support
67 core material
69 Mold mounting auxiliary member
71 base body
73 First support
75 second support
77 Third support
79 First shaft member
81 kanji
83 Separator winding roll
85 Guide rollers
87 Second shaft member
89 sheet feed roll
91 Transfer roller guide portion
93 inclined member
93A rear side inclined member
93B Front side inclined member
95 Substrate mounting body Joint part
97 Transfer roller jamming area
99 base area
101 tip portion
105 convex portion
Claims (16)
미경화의 상기 수지를 상기 기판에 도공하기 위한 도공부와,
상기 기판이 위치 결정되어 일체적으로 설치되는 기판 설치부와,
시트상의 상기 몰드가 설치되는 몰드 설치부와,
상기 기판에 도공되어 있는 상기 수지에 상기 몰드에 형성되어 있는 상기 미세한 전사 패턴을 전사하기 위한 전사 롤러와,
상기 기판에 도공되어 있는 상기 수지에 상기 몰드에 형성되어 있는 상기 전사 패턴을 전사한 후에, 상기 기판의 상기 수지로부터 박리된 상기 몰드에 플라스마를 조사하여 상기 몰드를 클리닝하기 위한 플라스마 유닛을
구비하고,
상기 기판의 상기 수지로부터 박리된 상기 몰드는, 상기 플라스마 유닛에 의해 플라스마를 조사하여 클리닝된 후에, 다시 상기 전사 패턴의 전사에 사용되는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.A transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a resin coated on a substrate,
A coating portion for coating the uncured resin with the resin on the substrate,
A substrate mounting part for positioning and integrally mounting the substrate,
A mold mounting portion for mounting the mold on the sheet,
A transfer roller for transferring the fine transfer pattern formed on the mold to the resin coated on the substrate,
A plasma unit for cleaning the mold by irradiating a plasma to the mold separated from the resin of the substrate after transferring the transfer pattern formed on the mold to the resin coated on the substrate,
Respectively,
The mold peeled off from the resin of the substrate is cleaned by irradiating the plasma with the plasma unit and then used again for transferring the transfer pattern
Wherein the transfer device is a transfer device.
상기 플라스마 유닛은, 상기 몰드가 상기 전사를 행한 횟수에 따라서, 상기 몰드에의 플라스마의 조사량을 바꾸도록 구성되어 있는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.The method according to claim 1,
The plasma unit is configured to change the irradiation amount of the plasma to the mold according to the number of times the mold has performed the transfer
Wherein the transfer device is a transfer device.
상기 몰드가 감겨 있는 원단 몰드와,
상기 원단 몰드로부터 조출되고 있는 상기 몰드를 권취하는 권취 롤을 더 구비하고,
상기 전사 롤러에는, 상기 원단 몰드와 상기 권취 롤 사이에서 연신되어 있는 상기 몰드가 감아 걸려 있으며,
상기 전사 롤러를 사용하여 상기 몰드를 상기 수지에 누른 상태에서 상기 전사 롤러를 이동하는 롤 전사에 의해, 상기 수지에의 상기 몰드의 누름과, 상기 수지로부터의 상기 몰드의 박리가 실행되고,
상기 수지로부터의 상기 몰드의 박리가 종료된 후에, 상기 플라스마 유닛은, 박리된 상기 몰드에 플라스마를 조사하는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.The method according to claim 1,
A fabric mold in which the mold is wound,
Further comprising a winding roll for winding the mold fed from the far-end mold,
Wherein the transfer roller is wound with the mold drawn between the fabric mold and the winding roll,
The pressing of the mold to the resin and the peeling of the mold from the resin are carried out by roll transfer in which the transfer roller is moved while the mold is pressed on the resin by using the transfer roller,
After the peeling of the mold from the resin is completed, the plasma unit is irradiated with plasma by irradiating plasma to the peeled mold
Wherein the transfer device is a transfer device.
상기 플라스마 유닛에 의한 상기 몰드의 클리닝이 불충분한 경우에는, 상기 권취 롤이 상기 수지로부터의 박리가 된 상기 몰드의 부위를 권취하고, 상기 몰드의 새로운 부위가 상기 원단 몰드로부터 조출되는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.The method of claim 3,
When the cleaning of the mold by the plasma unit is insufficient, the winding roll takes up the part of the mold which has been peeled off from the resin, and a new part of the mold is fed out from the fabric mold
Wherein the transfer device is a transfer device.
상기 수지로부터의 박리가 된 상기 몰드의 오염을 검출하기 위한 몰드 검출부를 더 구비하고,
상기 몰드 검출부에서의 검출 결과에 따라서, 상기 플라스마 유닛에 의한 상기 몰드의 클리닝이 불충분한지 여부를 판단하는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.5. The method of claim 4,
Further comprising a mold detecting section for detecting contamination of the mold which has been peeled off from the resin,
Whether or not the cleaning of the mold by the plasma unit is insufficient is determined in accordance with the detection result of the mold detection unit
Wherein the transfer device is a transfer device.
미경화의 상기 수지를 상기 기판에 도공하기 위한 도공부와,
상기 기판이 위치 결정되어 일체적으로 설치되는 기판 설치부와,
시트상의 상기 몰드가 설치되는 몰드 설치부와,
상기 기판에 도공되어 있는 상기 수지에, 상기 몰드에 형성되어 있는 상기 미세한 전사 패턴을 전사하기 위한 전사 롤러와,
상기 기판에 플라스마를 조사하기 위한 플라스마 유닛을
구비하고,
상기 플라스마 유닛은 헤드와 구동부를 구비하고,
상기 도공부와 상기 플라스마 유닛은, 상기 기판에 대하여 동시에 이동하고, 상기 플라스마 유닛에서 상기 기판에 플라스마를 조사하면서, 상기 도공부에서 상기 기판에 미경화의 상기 수지를 도공하는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.A transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a resin coated on a substrate,
A coating portion for coating the uncured resin with the resin on the substrate,
A substrate mounting part for positioning and integrally mounting the substrate,
A mold mounting portion for mounting the mold on the sheet,
A transfer roller for transferring the fine transfer pattern formed on the mold to the resin coated on the substrate,
And a plasma unit for irradiating the plasma to the substrate
Respectively,
The plasma unit includes a head and a driving unit,
The coating unit and the plasma unit simultaneously move with respect to the substrate, and while the plasma is irradiated on the substrate in the plasma unit, the uncured coating is applied to the substrate by the coating unit
Wherein the transfer device is a transfer device.
상기 플라스마 유닛은, 상기 전사 후에 상기 기판의 상기 수지로부터 박리된 상기 몰드에도 플라스마를 조사하도록 구성되어 있고,
상기 플라스마 유닛의 상기 구동부는 상기 도공부에 지지되어 있고,
상기 플라스마 유닛의 상기 구동부에 의해 구동된 상기 플라스마 유닛으로부터, 상기 기판과 상기 전사 후에 상기 기판의 상기 수지로부터 박리된 상기 몰드에 플라스마가 조사되는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.The method according to claim 6,
The plasma unit is configured to irradiate plasma to the mold which is peeled from the resin of the substrate after the transfer,
Wherein the driving unit of the plasma unit is supported by the coating unit,
The plasma is irradiated from the plasma unit driven by the driving unit of the plasma unit to the mold which is peeled from the substrate and the resin of the substrate after the transfer
Wherein the transfer device is a transfer device.
상기 플라스마 유닛의 상기 헤드로부터, 상기 기판과 상기 전사 후에 상기 기판의 상기 수지로부터 박리된 상기 몰드에 플라스마가 조사되는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.8. The method of claim 7,
The plasma is irradiated from the head of the plasma unit to the substrate and the mold peeled off from the resin of the substrate after the transfer
Wherein the transfer device is a transfer device.
상기 헤드는 상기 도공부에 대하여 회동 위치 결정 가능하게 되어 있으며,
상기 헤드로부터 상기 기판에 플라스마를 조사할 때의 상기 헤드의 자세가, 상기 헤드로부터 상기 몰드에 플라스마를 조사할 때의 상기 헤드의 자세에 대하여, 소정의 각도 회동하도록 구성되어 있는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.The method according to claim 6,
Wherein the head is rotatable with respect to the coated portion,
Wherein the posture of the head when irradiating the plasma from the head with the plasma is configured to rotate by a predetermined angle with respect to the posture of the head when the plasma is irradiated to the mold from the head
Wherein the transfer device is a transfer device.
도공부를 사용하여 미경화의 상기 수지를 상기 기판에 도공을 하는 공정과,
상기 기판에 플라스마 유닛을 사용하여 플라스마를 조사하는 공정을
포함하고,
상기 플라스마 유닛은 헤드와 구동부를 구비하고,
상기 도공부와 상기 플라스마 유닛이, 상기 기판에 대하여 동시에 이동함으로써, 상기 플라스마 조사 공정에서 상기 기판의 플라스마를 조사하면서, 상기 도공 공정에서 상기 기판에 미경화의 상기 수지를 도공하는
것을 특징으로 하는, 전사 방법.A transfer method for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a resin coated on a substrate,
A step of coating the substrate with the uncured resin on the substrate using a coating part;
A step of irradiating the plasma with a plasma unit on the substrate
Including,
The plasma unit includes a head and a driving unit,
The coating unit and the plasma unit move simultaneously with the substrate to irradiate the plasma of the substrate in the plasma irradiating step and to apply the uncured resin to the substrate in the coating step
≪ / RTI >
소정의 파장의 전자파에 의해 경화 가능한 미경화의 상기 수지를 상기 기판에 도공하기 위한 도공부와,
상기 기판이 위치 결정되어 일체적으로 설치되는 기판 설치부와,
시트상의 상기 몰드가 설치되는 몰드 설치부와,
상기 기판에 플라스마를 조사하기 위한 플라스마 유닛과,
상기 몰드가 감아 걸리는 전사 롤러이며, 상기 몰드를 상기 수지에 누른 상태에서 상기 전사 롤러를 이동하는 롤 전사에 의해, 상기 수지에의 상기 몰드의 누름과, 상기 수지로부터의 상기 몰드의 박리를 실행하는 상기 전사 롤러와,
상기 전사 롤러에 의해 상기 수지에의 상기 몰드의 누름을 행하고 있는 상태에서, 상기 수지에 소정의 파장의 전자파를 조사하는 수지 경화부와,
상기 롤 전사에서 상기 몰드의 상기 수지에의 누름을 행하는 방향으로 상기 전사 롤러가 이동하고 있을 때, 상기 소정의 파장의 전자파를 상기 수지에 조사하도록 상기 수지 경화부를 제어하는 제어부를
구비하는 것을 특징으로 하는, 전사 장치.A transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a resin coated on a substrate,
A coating portion for coating said substrate with said uncured resin that can be cured by electromagnetic waves of a predetermined wavelength,
A substrate mounting part for positioning and integrally mounting the substrate,
A mold mounting portion for mounting the mold on the sheet,
A plasma unit for irradiating the substrate with plasma,
The transfer of the mold to the resin is carried out by the roll transfer in which the mold is wound on the resin while the mold is being pressed against the resin and the transfer roller is moved to carry out the separation of the mold from the resin The transfer roller,
A resin hardening portion for irradiating the resin with electromagnetic waves of a predetermined wavelength in a state in which the mold is pressed onto the resin by the transfer roller,
And a control unit for controlling the resin hardening unit to irradiate the resin with the electromagnetic wave of the predetermined wavelength when the transfer roller is moving in the direction of pressing the mold against the resin in the roll transfer
Wherein the transferring device is a transferring device.
상기 제어부는, 상기 롤 전사에서 상기 몰드의 상기 수지로부터의 박리를 행하는 방향으로 상기 전사 롤러가 이동하고 있을 때에도, 상기 소정의 파장의 전자파를 상기 수지에 조사하도록, 상기 수지 경화부를 제어하는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.12. The method of claim 11,
The control unit controls the resin hardening unit to irradiate the resin with the electromagnetic wave of the predetermined wavelength even when the transfer roller is moving in the direction of peeling the mold from the resin in the roll transfer
Wherein the transfer device is a transfer device.
상기 제어부는, 상기 롤 전사에서의 상기 전사 롤러의 이동량에 따라서, 상기 수지에 조사하는 상기 소정의 파장의 전자파의 강도를 조정하도록 상기 수지 경화부를 제어하는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.12. The method of claim 11,
The control unit controls the resin hardening unit to adjust the intensity of the electromagnetic wave of the predetermined wavelength irradiated to the resin in accordance with the amount of movement of the transfer roller in the roll transfer
Wherein the transfer device is a transfer device.
상기 도공부는, 번갈아 배치되어 있는 복수의 잉크젯 헤드를 구비하고,
미립자상의 미경화의 상기 수지를 상기 복수의 잉크젯 헤드로부터 방출함으로써, 상기 기판에 상기 도공을 행하는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.12. The method of claim 11,
Wherein the coating portion comprises a plurality of ink jet heads arranged alternately,
Curing the fine-patterned resin from the plurality of inkjet heads,
Wherein the transfer device is a transfer device.
상기 제어부는, 상기 기판에 도공되는 미경화의 상기 수지가, 상기 몰드에 형성되어 있는 미세한 전사 패턴에 대응한 형상이 되도록, 상기 도공부를 제어하는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.12. The method of claim 11,
The control unit controls the coating unit so that the uncured resin coated on the substrate has a shape corresponding to a fine transfer pattern formed on the mold
Wherein the transfer device is a transfer device.
상기 제어부는, 상기 몰드에 형성되어 있는 전사 패턴에 따라서, 미경화의 상기 수지량을 조정하여 도공하도록 상기 도공부를 제어하고, 도공된 상기 수지량에 따라서, 상기 소정의 파장의 전자파의 강도를 조정하도록 상기 수지 경화부를 제어하는
것을 특징으로 하는, 전사 장치.16. The method of claim 15,
Wherein the control unit controls the coating unit so as to adjust the coating amount of the uncured coating material in accordance with the transfer pattern formed on the mold so as to adjust the intensity of the electromagnetic wave of the predetermined wavelength in accordance with the coated resin amount To control the resin curing section
Wherein the transfer device is a transfer device.
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Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010131985A (en) * | 2008-11-07 | 2010-06-17 | Canon Inc | Optical element molding die, and method of molding optical element |
JP2010182758A (en) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Toyo Gosei Kogyo Kk | Photocurable composition for resin pattern formation, and pattern forming method using the same |
WO2011030660A1 (en) * | 2009-09-10 | 2011-03-17 | コニカミノルタオプト株式会社 | Film production method and film produced by the production method |
KR20110112412A (en) * | 2009-01-08 | 2011-10-12 | 가부시키가이샤 브리지스톤 | Photocurable transfer sheet, and method for forming uneven pattern using same |
JP2013069902A (en) * | 2011-09-22 | 2013-04-18 | Toshiba Corp | Template regeneration method and template regeneration apparatus |
KR20130133184A (en) * | 2010-11-22 | 2013-12-06 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | Transfer device and method for producing resin pattern |
KR20150020282A (en) * | 2012-05-24 | 2015-02-25 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | Manufacturing method for optical member, optical member, optical member having protective film, and manufacturing method for optical panel |
JP5841618B2 (en) * | 2012-02-08 | 2016-01-13 | シャープ株式会社 | Method for repairing mold and method for producing functional film using the same |
JP2017059641A (en) * | 2015-09-15 | 2017-03-23 | キヤノン株式会社 | Imprint device, imprint method and method for manufacturing article |
Family Cites Families (1)
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---|---|---|---|---|
JP5912996B2 (en) * | 2012-08-23 | 2016-04-27 | 東芝機械株式会社 | Transfer device |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010131985A (en) * | 2008-11-07 | 2010-06-17 | Canon Inc | Optical element molding die, and method of molding optical element |
KR20110112412A (en) * | 2009-01-08 | 2011-10-12 | 가부시키가이샤 브리지스톤 | Photocurable transfer sheet, and method for forming uneven pattern using same |
JP2010182758A (en) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Toyo Gosei Kogyo Kk | Photocurable composition for resin pattern formation, and pattern forming method using the same |
WO2011030660A1 (en) * | 2009-09-10 | 2011-03-17 | コニカミノルタオプト株式会社 | Film production method and film produced by the production method |
KR20130133184A (en) * | 2010-11-22 | 2013-12-06 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | Transfer device and method for producing resin pattern |
JP2013069902A (en) * | 2011-09-22 | 2013-04-18 | Toshiba Corp | Template regeneration method and template regeneration apparatus |
JP5841618B2 (en) * | 2012-02-08 | 2016-01-13 | シャープ株式会社 | Method for repairing mold and method for producing functional film using the same |
KR20150020282A (en) * | 2012-05-24 | 2015-02-25 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | Manufacturing method for optical member, optical member, optical member having protective film, and manufacturing method for optical panel |
JP2017059641A (en) * | 2015-09-15 | 2017-03-23 | キヤノン株式会社 | Imprint device, imprint method and method for manufacturing article |
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