KR20190039599A - Optical laminate and image display device - Google Patents
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Abstract
고온 고습 하에서의 도전층의 크랙이 억제된 광학 적층체를 제공한다. 본 발명의 광학 적층체는, 편광자와 해당 편광자의 적어도 한쪽 측에 보호층을 포함하는 편광판과, 제1 위상차층과, 제2 위상차층과, 도전층을 이 순서로 갖는다. 이 광학 적층체에서는 제2 위상차층과 도전층을 접착하는 점착제층이 설치되어 있고, 점착제층을 구성하는 점착제는 점착성 폴리머를 포함하고, 점착성 폴리머를 구성하는 전체 모노머 성분 중의 산 성분의 양은 4중량% 미만이며, 점착제의 85℃에서의 저장 탄성률은 1.0×104Pa∼7.0×104Pa이다. (EN) Disclosed is an optical laminate in which cracking of a conductive layer under high temperature and high humidity is suppressed. The optical laminate of the present invention has a polarizer, a polarizing plate including a protective layer on at least one side of the polarizer, a first retardation layer, a second retardation layer, and a conductive layer in this order. In this optical laminate, a pressure-sensitive adhesive layer for bonding the second retardation layer and the conductive layer is provided. The pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer includes a pressure-sensitive adhesive polymer. The amount of the acid component in the total monomer component constituting the pressure- is less than%, the storage elastic modulus at 85 ℃ of the pressure-sensitive adhesive is 1.0 × 10 4 Pa~7.0 × 10 4 Pa.
Description
본 발명은 광학 적층체 및 이를 이용한 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical laminate and an image display apparatus using the same.
최근, 박형 디스플레이의 보급과 함께, 유기 EL 패널을 탑재한 디스플레이(유기 EL 표시 장치)가 제안되고 있다. 유기 EL 패널은 반사성이 높은 금속층을 가지므로 외광 반사나 배경의 비침(reflectance) 등의 문제를 일으키기 쉽다. 그래서, 원 편광판을 시인(視認) 측에 설치함으로써 이러한 문제들을 방지하는 것이 알려져 있다. 한편, 표시 셀(예컨대, 유기 EL 셀)과 편광판과의 사이에 터치 센서가 내장된, 소위 이너 터치 패널형 입력 표시 장치의 수요가 높아지고 있다. 이와 같은 구성의 입력 표시 장치는 화상 표시 셀과 터치 센서와의 거리가 가깝기 때문에 사용자에게 자연스러운 입력 조작감을 부여하는 것이 가능하다.Recently, with the spread of thin type displays, a display (organic EL display device) on which an organic EL panel is mounted has been proposed. Since the organic EL panel has a highly reflective metal layer, it tends to cause problems such as reflection of external light and background reflection. Thus, it is known to prevent such problems by providing a circular polarizer on the viewing side. On the other hand, there is an increasing demand for a so-called inner touch panel type input display device in which a touch sensor is incorporated between a display cell (e.g., an organic EL cell) and a polarizing plate. In the input display device having such a configuration, since the distance between the image display cell and the touch sensor is close to each other, it is possible to give a natural input operation feeling to the user.
이너 터치 패널형 입력 표시 장치용의 편광판(또는 원편광판)에 있어서는 박형화, 품질의 편차 방지, 제조 효율의 향상 등의 관점에서 편광판(또는 원편광판)과 터치 센서용 도전성 필름과의 일체화가 검토되고 있다. 그러나 터치 센서용 도전성 필름을 일체화한 편광판은 고온 고습 하에서 도전성 필름의 도전층에 크랙이 발생하기 쉽다는 문제가 있다. In the polarizing plate (or the circularly polarizing plate) for the inner touch panel type input display device, the integration of the polarizing plate (or circularly polarizing plate) and the conductive film for the touch sensor is considered from the viewpoints of thinning, prevention of deviation in quality, have. However, the polarizing plate in which the conductive film for a touch sensor is integrated has a problem that cracks are easily generated in the conductive layer of the conductive film under high temperature and high humidity.
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이고, 그 주된 목적은 고온 고습 하에서의 도전층의 크랙이 억제된 광학 적층체를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and its main object is to provide an optical laminate in which cracking of a conductive layer is suppressed under high temperature and high humidity.
본 발명의 광학 적층체는 편광자와 해당 편광자의 적어도 한쪽 측에 보호층을 포함하는 편광판과, 제1 위상차층과, 제2 위상차층과, 도전층을 이 순서로 갖는다. 이 광학 적층체에 있어서는 제2 위상차층과 도전층을 접착하는 접착제층이 설치되어 있고, 해당 점착제층을 구성하는 점착제는 점착성 폴리머를 포함하며, 해당 점착성 폴리머를 구성하는 전체 모노머 성분 중의 산 성분의 양은 4중량% 미만이고, 해당 점착제의 85℃에서의 저장 탄성률은 1.0×104Pa∼7.0×104Pa이다. The optical laminate of the present invention has a polarizer, a polarizing plate including a protective layer on at least one side of the polarizer, a first retardation layer, a second retardation layer, and a conductive layer in this order. In this optical laminate, an adhesive layer for bonding the second retardation layer and the conductive layer is provided, and the adhesive constituting the pressure sensitive adhesive layer includes a pressure sensitive adhesive polymer. in an amount less than 4 wt%, the storage elastic modulus at 85 ℃ of the adhesive is 1.0 × 10 4 Pa~7.0 × 10 4 Pa.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 편광자의 흡수축과 상기 제1 위상차층의 지상(遲相)축이 이루는 각도는 10°∼20°이고, 해당 흡수축과 상기 제2 위상차층의 지상축이 이루는 각도는 65°∼85°이다.In one embodiment, the angle formed between the absorption axis of the polarizer and the phase axis of the first retardation layer is 10 ° to 20 °, and the angle between the absorption axis and the slow axis of the second retardation layer The angle is between 65 ° and 85 °.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 제1 위상차층 및 상기 제2 위상차층은 환상 올레핀계 수지 필름으로 구성되어 있다. 이 경우, 상기 제2 위상차층의 치수 변화율은 예컨대 1% 이하이다.In one embodiment, the first retardation layer and the second retardation layer are composed of a cyclic olefin based resin film. In this case, the dimensional change rate of the second retardation layer is, for example, 1% or less.
다른 실시 형태에 있어서는, 상기 제1 위상차층 및 상기 제2 위상차층은 액정 화합물의 배향 고화층이다. 이 경우, 상기 편광판과 상기 제1 위상차층과 상기 제2 위상차층과의 적층체의 치수 변화율은 예컨대 1% 이하이다.In another embodiment, the first retardation layer and the second retardation layer are oriented solidified layers of a liquid crystal compound. In this case, the dimensional change ratio of the laminate of the polarizing plate, the first retardation layer and the second retardation layer is, for example, 1% or less.
본 발명의 다른 국면에 의하면 화상 표시 장치가 제공된다. 이 화상 표시 장치는 상기의 광학 적층체를 구비한다.According to another aspect of the present invention, an image display apparatus is provided. This image display apparatus is provided with the above optical laminate.
본 발명에 의하면, 편광판과 2개의 위상차층과 터치 센서용 도전층을 갖는 광학 적층체에 있어서, 위상차층과 도전층을 접착하는 접착층을 구성하는 점착제에 대하여 당해 점착층을 구성하는 점착성 폴리머의 전체 모노머 성분 중의 산 성분을 소정량 이하로 최적화하고 또한 당해 점착제의 저장 탄성률을 소정 범위로 최적화함으로써 고온 고습하에서의 도전층의 크랙 발생을 현저하게 억제할 수 있다. 그 결과, 매우 우수한 내구성을 갖는 광학 적층체를 실현할 수 있다. According to the present invention, in the optical laminate having the polarizing plate, the two retardation layers and the conductive layer for the touch sensor, the adhesive layer constituting the adhesive layer for bonding the retardation layer and the conductive layer to the whole of the adhesive polymer constituting the adhesive layer It is possible to optimize the acid component in the monomer component to a predetermined amount or less and to optimize the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive to a predetermined range, whereby cracking of the conductive layer under high temperature and high humidity can be remarkably suppressed. As a result, an optical laminate having extremely excellent durability can be realized.
도 1은 본 발명의 하나의 실시 형태에 따른 광학 적층체의 개략 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the present invention.
아래에 본 발명의 실시 형태를 설명하지만, 본 발명은 이들 실시 형태로는 한정되지 않는다. Embodiments of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these embodiments.
(용어 및 기호의 정의)(Definition of terms and symbols)
본 명세서에서의 용어 및 기호의 정의는 다음과 같다.The definitions of the terms and symbols in the present specification are as follows.
(1) 굴절률(nx, ny, nz)(1) Refractive index (nx, ny, nz)
'nx'는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, 'ny'는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상(進相)축 방향)의 굴절률이며, 'nz'는 두께 방향의 굴절률이다.'nx' is a refractive index in a direction perpendicular to the slow axis in the plane (that is, the fast phase axis direction), and 'nx' is a refractive index in a direction in which the in- 'nz' is the refractive index in the thickness direction.
(2) 면내 위상차(Re)(2) In-plane retardation (Re)
'Re(λ)'는 23℃에서의 파장 λ㎚의 광으로 측정한 면내 위상차이다. 예컨대, 'Re(550)'은 23℃에서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(λ)는 층(필름)의 두께를 d(㎚)로 하였을 때, 식: Re(λ)=(nx-ny)×d에 의하여 구할 수 있다.'Re (?)' Is an in-plane retardation measured with light having a wavelength of? Nm at 23 占 폚. For example, 'Re (550)' is an in-plane retardation measured at a wavelength of 550 nm at 23 ° C. Re (λ) can be obtained by the formula: Re (λ) = (nx-ny) × d where d (nm) is the thickness of the layer (film).
(3) 두께 방향의 위상차(Rth) (3) The retardation in the thickness direction (Rth)
'Rth(λ)'는 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. 예컨대, 'Rth(550)'은 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는 층(필름)의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식: Rth(λ)=(nx-nz)×d에 의하여 구할 수 있다.'Rth (?)' Is a retardation in the thickness direction measured by light having a wavelength of? Nm at 23 占 폚. For example, 'Rth (550)' is the retardation in the thickness direction measured by light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. Rth (?) Can be obtained by the formula: Rth (?) = (Nx-nz) xd where d (nm) is the thickness of the layer (film).
(4) Nz 계수(4) Nz coefficient
Nz 계수는 Nz=Rth/Re에 의하여 구할 수 있다. The Nz coefficient can be obtained by Nz = Rth / Re.
A. 광학 적층체의 전체 구성A. Overall construction of optical laminate
도 1은 본 발명의 하나의 실시 형태에 따른 광학 적층체의 개략 단면도이다. 본 실시 형태의 광학 적층체(100)는 편광판(10)과 제1 위상차층(20)과 제2 위상차층(30)과 도전층(50)을 이 순서로 갖는다. 광학 적층체(100)에서는 제2 위상차층(30)과 도전층(50)을 접착하는 점착제층(40)이 설치되어 있다. 편광판(10)은 편광자(11)와 편광자(11)의 한쪽 측에 배치된 제1 보호층(12)과, 편광자(11)의 또 한쪽 측에 배치된 제2 보호층(13)을 포함한다. 목적에 따라 제1 보호층(12) 및 제2 보호층(13)의 한쪽은 생략되어도 된다. 예컨대, 제1 위상차층(20)이 편광자(11)의 보호층으로도 기능할 수 있는 경우에는, 제2 보호층(13)은 생략되어도 된다. 실용적으로는 도전층은 도전층(51)과 기재(52)를 갖는 기재 부착 도전층으로 제공될 수 있다. 따라서 광학 적층체(100)는 도전층(51)의 기재(52)를 추가로 갖고 있어도 된다. 또한 보기 쉽게 하기 위하여 도면에서의 각 층의 두께 비율은 실제와는 상이하다. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the present invention. The
본 발명의 실시 형태에서는, 점착제층(40)을 구성하는 점착제는 점착성 폴리머를 포함하고, 당해 점착성 폴리머를 구성하는 전체 모노머 성분 중의 산 성분의 양은 4중량% 미만이고, 바람직하게는 0∼3중량%이며, 보다 바람직하게는 0∼2중량%이고, 더욱 바람직하게는 0∼1중량%이며, 특히 바람직하게는 실질적으로 제로이다. 산 성분의 양이 이와 같은 범위이면, 도전층에 대한 산 성분의 영향이 무시할 수 있는 정도로 작아져, 결과로서 고온 고습 하에서 도전층의 크랙의 발생을 현저하게 억제할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서 '실질적으로 제로'란 불가피하게 혼입되는 경우를 제외하고 능동적으로 배합하지 않는 것을 의미한다. 또한, 점착제의 85℃에서의 저장 탄성률은 1.0×104Pa∼7.0×104Pa이고, 바람직하게는 2.0×104Pa∼6.0×104Pa이며 더욱 바람직하게는 3.0×104Pa∼5.5×104Pa이다. 저장 탄성률은 JIS K 7244에 준하여 측정될 수 있다.In the embodiment of the present invention, the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer 40 includes a pressure-sensitive adhesive polymer, and the amount of the acid component in the total monomer component constituting the pressure-sensitive adhesive polymer is less than 4% by weight, preferably 0 to 3% %, More preferably 0 to 2 wt%, still more preferably 0 to 1 wt%, and particularly preferably substantially zero. If the amount of the acid component is in this range, the influence of the acid component on the conductive layer becomes negligibly small, and as a result, occurrence of cracks in the conductive layer under high temperature and high humidity can be remarkably suppressed. In this specification, "substantially zero" means not actively mixing, except when it is inevitably incorporated. Further, the storage elastic modulus at 85 ℃ of the pressure-sensitive adhesive was 1.0 × 10 4 Pa~7.0 × 10 4 Pa , preferably 2.0 × 10 4 Pa~6.0 × 10 4 Pa , and more preferably from 3.0 × 10 4 Pa~5.5 × 10 4 Pa. The storage elastic modulus can be measured in accordance with JIS K 7244.
하나의 실시 형태에 있어서는, 제1 위상차층(20) 및 제2 위상차층(30)은 각각 수지 필름으로 구성되어 있다. 다른 실시 형태에 있어서는, 제1 위상차층(20) 및 제2 위상차층(30)은 각각 액정 화합물의 배향 고화층일 수 있다. 또한, 수지 필름에 대해서는 C-2항 및 D-2항에서, 액정 화합물의 배향 고화층에 대해서는 C-3항 및 D-3항에서 각각 상세하게 설명한다. In one embodiment, the first retardation layer 20 and the
제2 위상차층(30)과 도전층(50)과의 접착 이외에는 광학 적층체를 구성하는 각 층은 임의의 적절한 접착층(접착제층 또는 점착제층: 도시하지 않음)을 개재하여 적층되어도 되고, 직접(즉, 접착층을 이용하지 않고) 적층되어 있어도 된다. Other than the adhesion between the
광학 적층체는 치수 변화율이 바람직하게는 1% 이하이고, 보다 바람직하게는 0.95% 이하이다. 광학 적층체의 치수 변화율은 작으면 작을수록 바람직하다. 광학 적층체의 치수 변화율의 하한은, 예컨대 0.01%이다. 광학 적층체의 치수 변화율이 이와 같은 범위이면, 고온 고습 하에서의 도전층의 크랙의 발생을 현저하게 억제할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 치수 변화율은 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 환경 하에 240시간 놓였을 때의 치수 변화율을 말한다. The dimensional change ratio of the optical laminate is preferably 1% or less, and more preferably 0.95% or less. The dimensional change ratio of the optical laminate is preferably as small as possible. The lower limit of the rate of dimensional change of the optical laminate is, for example, 0.01%. When the dimensional change ratio of the optical laminate is in this range, generation of cracks in the conductive layer under high temperature and high humidity can be remarkably suppressed. In the present specification, the dimensional change rate refers to the rate of dimensional change when the sample is placed under an environment of a temperature of 85 캜 and a relative humidity of 85% for 240 hours.
광학 적층체의 총 두께는 바람직하게는 220㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 80㎛∼190㎛이다. 제1 위상차층(20) 및 제2 위상차층(30)이 액정 화합물의 배향 고화층인 경우에는 광학 적층체의 총 두께는 바람직하게는 175㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 80㎛∼140㎛이다. The total thickness of the optical laminate is preferably 220 占 퐉 or less, and more preferably 80 占 퐉 to 190 占 퐉. When the first retardation layer 20 and the
광학 적층체는 장척상(長尺狀)(예컨대, 롤상)이어도 되고, 매엽상(枚葉狀)이어도 된다. The optical laminate may be elongated (for example, in the form of a roll) or may be in a sheet form.
이하에, 광학 적층체를 구성하는 각 층, 광학 필름 및 점착제에 대하여 보다 상세하게 설명한다. Hereinafter, each layer constituting the optical laminate, the optical film and the pressure-sensitive adhesive will be described in more detail.
B. 편광판B. Polarizer
B-1. 편광자B-1. Polarizer
편광자(11)로는 임의의 적절한 편광자가 채용될 수 있다. 예컨대, 편광자를 형성하는 수지 필름은 단층의 수지 필름이어도 되고, 2층 이상의 적층체이어도 된다. As the
단층의 수지 필름으로 구성되는 편광자의 구체예로는 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포멀화 PVA계 필름, 에틸렌·초산 비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것; PVA의 탈수 처리물이나 폴리 염화 비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 바람직하게는 광학 특성이 우수한 것에서 PVA계 필름을 요오드로 염색하고 일축 연신하여 얻어진 편광자가 이용된다. Specific examples of the polarizer composed of the single-layer resin film include a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol (PVA) film, a partially formalized PVA film, and an ethylene / vinyl acetate copolymer system partially saponified film, A dyeing treatment and a stretching treatment using a dichroic material; A polyene-based oriented film such as a dehydrated product of PVA or a dehydrochlorinated product of polyvinyl chloride. Preferably, a polarizer obtained by dying a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching is used because it has excellent optical properties.
상기 요오드에 의한 염색은 예컨대, PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지함으로써 수행된다. 상기 일축 연신의 연신 배율은 바람직하게는 3∼7배이다. 연신은 염색 처리 후에 수행하여도 되고, 염색하면서 수행하여도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색하여도 된다. 필요에 따라 PVA계 필름에 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예컨대, 염색 전에 PVA계 필름을 물에 침지하여 수세함으로써 PVA계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있을 뿐만 아니라, PVA계 필름을 팽창시켜 염색 얼룩 등을 방지할 수 있다. The dyeing with iodine is carried out, for example, by immersing the PVA-based film in an aqueous iodine solution. The draw ratio of the uniaxial stretching is preferably 3 to 7 times. The stretching may be performed after the dyeing treatment, or may be performed while dyeing. Further, it may be dyed after stretching. The PVA film is subjected to swelling treatment, crosslinking treatment, washing treatment, drying treatment, and the like, if necessary. For example, the PVA film is dipped in water and washed with water before dyeing, so that it is possible not only to clean the contamination of the surface of the PVA film and the antiblocking agent but also to prevent the dyeing unevenness and the like by expanding the PVA film.
적층체를 이용하여 얻어지는 편광자의 구체예로서는 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)과의 적층체, 또는 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자는, 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고 건조시켜 수지 기재 상에 PVA계 수지층을 형성하여 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것에 의하여 제작될 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 연신은 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은 필요에 따라 붕산 수용액 중에서 연신 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)으로 공중 연신하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 이용하여도 되고(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 하여도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하고 당해 박리면에 목적에 따라 임의의 적절한 보호층을 적층하여 이용하여도 된다. 이와 같은 편광자의 제조 방법의 상세는, 예컨대 일본공개특허공보 제2012-73580호에 기재되어 있다. 당해 공보는 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로 원용된다. Specific examples of the polarizer obtained by using the laminate include a laminate of a resin substrate and a PVA resin layer (PVA resin film) laminated on the resin substrate, or a laminate of a resin substrate and a PVA resin layer formed on the resin substrate And a polarizer obtained by using a laminate. A polarizer obtained by using a laminate of a resin substrate and a PVA resin layer formed on the resin substrate is obtained by, for example, applying a PVA resin solution to a resin substrate and drying the PVA resin layer to form a PVA resin layer on the resin substrate, To obtain a laminate of a substrate and a PVA-based resin layer; And stretching and dyeing the laminate to prepare a PVA-based resin layer as a polarizer. In the present embodiment, the stretching typically includes immersing the laminate in an aqueous solution of boric acid and stretching. Further, the stretching may further include, if necessary, air-stretching the laminate at a high temperature (for example, 95 DEG C or higher) before stretching in an aqueous solution of boric acid. The obtained resin substrate / polarizer laminate may be used as is (that is, the resin substrate may be used as a protective layer of the polarizer), the resin substrate may be peeled off from the laminate of the resin substrate / polarizer, Any suitable protective layer may be used by being laminated. Details of the method for producing such a polarizer are described, for example, in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-73580. This publication is incorporated herein by reference in its entirety.
편광자의 두께는 바람직하게는 18㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 1㎛∼12㎛이며, 더욱 바람직하게는 3㎛∼12㎛이고, 특히 바람직하게는 5㎛∼12㎛이다. The thickness of the polarizer is preferably 18 占 퐉 or less, more preferably 1 占 퐉 to 12 占 퐉, still more preferably 3 占 퐉 to 12 占 퐉, and particularly preferably 5 占 퐉 to 12 占 퐉.
편광자의 붕산 함유량은 바람직하게는 18중량% 이상이고, 보다 바람직하게는 18중량%∼25중량%이다. 편광자의 붕산 함유량이 이와 같은 범위이면, 후술하는 요오드 함유량과의 상승적인 효과에 의하여 첩합 시의 컬 조정의 용이성을 양호하게 유지하고, 또한, 가열 시의 컬을 양호하게 억제하면서, 가열 시의 외관 내구성을 개선할 수 있다. 붕산 함유량은 예컨대, 중화법으로부터 하기의 식 1을 이용하여 단위 중량 당 편광자에 포함되는 붕산량으로 산출할 수 있다. The content of boric acid in the polarizer is preferably 18% by weight or more, and more preferably 18% by weight to 25% by weight. When the content of boric acid in the polarizer is in this range, it is possible to maintain the ease of curl adjustment at the time of conjugation favorably due to the synergistic effect with the iodine content to be described later, Durability can be improved. The boric acid content can be calculated, for example, from the neutralization method by the amount of boric acid contained in the polarizer per unit weight by using the following formula (1).
[식 1] [Formula 1]
편광자의 요오드 함유량은 바람직하게는 2.1중량% 이상이고, 보다 바람직하게는 2.1중량%∼3.5중량%이다. 편광자의 요오드 함유량이 이와 같은 범위이면, 상기의 붕산 함유량과의 상승적인 효과에 의하여 첩합 시의 컬 조정의 용이성을 양호하게 유지하고, 또한, 가열 시의 컬을 양호하게 억제하면서 가열 시의 외관 내구성을 개선할 수 있다. 본 명세서에 있어서 '요오드 함유량'이란, 편광자(PVA계 수지 필름) 중에 포함되는 모든 요오드의 양을 의미한다. 보다 구체적으로는, 편광자 중에서 요오드는 요오드 이온(I-), 요오드 분자(I2), 폴리요오드 이온(I3 -,I5 -) 등의 형태로 존재하는 바, 본 명세서에서의 요오드 함유량은 이들의 형태를 모두 포함한 요오드의 양을 의미한다. 요오드 함유량은 예컨대, 형광 X선 분석의 검량선법(檢量線法)에 의하여 산출할 수 있다. 또한, 폴리요오드 이온은 편광자 중에서 PVA-요오드 착체를 형성한 상태로 존재하고 있다. 이와 같은 착체가 형성됨으로써 가시광의 파장 범위에 있어서 흡수 이색성이 발현할 수 있다. 구체적으로는, PVA와 3요오드화물 이온과의 착체(PVA·I3 -)는 470nm 부근에 흡광 피크를 갖고, PVA와 5요오드화물 이온과의 착체(PVA·I5 -)는 600nm 부근에 흡수 피크를 갖는다. 결과로서 폴리요오드 이온은 그 형태에 따라 가시광의 폭넓은 범위에서 광을 흡수할 수 있다. 한편, 요오드 이온(I-)은 230nm 부근에 흡광 피크를 갖고, 가시광의 흡수에는 실질적으로는 관여하지 않는다. 따라서, PVA와의 착체 상태로 존재하는 폴리요오드 이온이 주로 편광자의 흡수 성능에 관여할 수 있다. The iodine content of the polarizer is preferably 2.1% by weight or more, and more preferably 2.1% by weight to 3.5% by weight. When the content of iodine in the polarizer is in this range, it is possible to maintain the ease of curl adjustment at the time of bonding by satisfactory effect with the boric acid content as described above, and to improve the appearance durability Can be improved. In the present specification, the term "iodine content" means the amount of all iodine contained in the polarizer (PVA resin film). More specifically, the iodine in the polarizer is present in the form of iodine ion (I - ), iodine molecule (I 2 ), polydiode ion (I 3 - , I 5 - ), And the amount of iodine including all of these forms. The iodine content can be calculated, for example, by the calibration curve method of fluorescence X-ray analysis. Also, the poly iodide exists in the form of a PVA-iodine complex in the polarizer. By forming such a complex, absorption dichroism can be expressed in the wavelength range of visible light. Specifically, the complex (PVA · I 3 - ) between PVA and triiodide ion has an absorption peak near 470 nm, and the complex (PVA · I 5 - ) between PVA and 5-iodide ion is absorbed Peak. As a result, the polyiodide ion can absorb light in a wide range of visible light depending on its form. On the other hand, the iodine ion (I < - >) has an absorption peak near 230 nm and is not substantially involved in the absorption of visible light. Therefore, the poly iodide ion existing in a complex state with PVA can mainly participate in the absorption performance of the polarizer.
편광자는 바람직하게는 파장 380nm∼780nm 중 어느 파장에서도 흡수 이색성을 나타낸다. 편광자의 단체 투과율은 상기와 같이 43.0%∼46.0%이고, 바람직하게는 44.5%∼46.0%이다. 편광자의 편광도는 바람직하게는 97.0% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.0% 이상이며, 더욱 바람직하게는 99.9% 이상이다. The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm. The transmittance of the polarizer is in the range of 43.0% to 46.0%, preferably 44.5% to 46.0%, as described above. The degree of polarization of the polarizer is preferably 97.0% or more, more preferably 99.0% or more, and still more preferably 99.9% or more.
B-2. 제1 보호층B-2. The first protective layer
제1 보호층(12)은 편광자의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로는 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지나, 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 폴리노보넨계, 폴리올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 투명 수지 등을 들 수 있다. 또한, (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열 경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 그 밖에도, 예컨대, 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또한, 일본공개특허공보 제2001-343529호(WO01/37007)에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다. 이 필름의 재료로서는 예컨대, 측쇄에 치환 또는 비치환의 이미드기를 갖는 열가소성 수지와 측쇄에 치환 또는 비치환의 페닐기 및 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 사용할 수 있고, 예컨대, 이소부텐과 N-메틸말레이미드로 이루어지는 교호 공중합체와 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 갖는 수지 조성물을 들 수 있다. 당해 폴리머 필름은 예컨대, 상기 수지 조성물의 압출 성형물일 수 있다. The first
본 발명의 광학 적층체는 후술하는 바와 같이 대표적으로는 화상 표시 장치의 시인측에 배치되고, 제1 보호층(12)은 대표적으로는 그 시인측에 배치된다. 따라서, 제1 보호층(12)에는 필요에 따라 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 또한/또는 제1 보호층(12)에는 필요에 따라 편광 선글라스를 통해 시인하는 경우의 시인성을 개선하는 처리(대표적으로는 (타)원 편광 기능을 부여하는 것, 초고위상차를 부여하는 것)가 실시되어 있어도 된다. 이와 같은 처리를 실시함으로써 편광 선글라스 등의 편광 렌즈를 통해 표시 화면을 시인한 경우에도 우수한 시인성을 실현할 수 있다. 따라서 광학 적층체는 야외에서 이용될 수 있는 화상 표시 장치에도 적합하게 적용될 수 있다. The optical laminate of the present invention is typically disposed on the viewer side of the image display apparatus, as will be described later, and the first
제1 보호층의 두께는, 상기 소망하는 편광판의 두께 및 제2 보호층과의 두께의 차가 얻어지는 범위에 한하여, 임의의 적절한 두께가 채용될 수 있다. 제1 보호층의 두께는 예컨대 10㎛∼50㎛이고, 바람직하게는 15㎛∼40㎛이다. 또한, 표면 처리가 실시되어 있는 경우, 제1 보호층의 두께는 표면 처리층의 두께를 포함한 두께이다. Any suitable thickness may be employed as long as the thickness of the first protective layer is within a range in which the difference between the thickness of the desired polarizing plate and the thickness of the second protective layer is obtained. The thickness of the first protective layer is, for example, 10 mu m to 50 mu m, preferably 15 mu m to 40 mu m. When the surface treatment is performed, the thickness of the first protective layer includes the thickness of the surface treatment layer.
B-3. 제2 보호층B-3. The second protective layer
제2 보호층(13)도 또한, 편광자의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료는 제1 보호층에 관하여 상기 B-2항에서 설명한 바와 같다. 제2 보호층(13)은 광학적으로 등방성인 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서, '광학적으로 등방성인'이란 면내 위상차 Re(550)이 0nm∼10nm이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550)이 -10nm∼+10nm인 것을 말한다. The second
제2 보호층의 두께는 예컨대 15㎛∼35㎛이고, 바람직하게는 20㎛∼30㎛이다. 제1 보호층의 두께와 제2 보호층의 두께와의 차는 바람직하게는 15㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 10㎛ 이하이다. 두께의 차가 이와 같은 범위이면, 첩합 시의 컬을 양호하게 억제할 수 있다. 제1 보호층의 두께와 제2 보호층의 두께는 동일하여도 되고, 제1 보호층 쪽이 두꺼워도 되며, 제2 보호층 쪽이 두꺼워도 된다. 대표적으로는 제2 보호층보다도 제1 보호층 쪽이 두껍다. The thickness of the second protective layer is, for example, 15 mu m to 35 mu m, preferably 20 mu m to 30 mu m. The difference between the thickness of the first protective layer and the thickness of the second protective layer is preferably 15 占 퐉 or less, more preferably 10 占 퐉 or less. When the difference in thickness is in this range, curling at the time of bonding can be satisfactorily suppressed. The thickness of the first protective layer and the thickness of the second protective layer may be the same, or the first protective layer may be thicker and the second protective layer may be thicker. Typically, the first protective layer is thicker than the second protective layer.
C. 제1 위상차층C. First retardation layer
C-1. 제1 위상차층의 특성C-1. Characteristics of the first retardation layer
제1 위상차층(20)은 목적에 따라 임의의 적절한 광학적 특성 및/또는 기계적 특성을 가질 수 있다. 제1 위상차층(20)은 대표적으로는 지상축을 갖는다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 제1 위상차층(20)의 지상축과 편광자(11)의 흡수축이 이루는 각도는 바람직하게는 10°∼20°이고, 보다 바람직하게는 13°∼17°이며, 더욱 바람직하게는 약 15°이다. 제1 위상차층(20)의 지상축과 편광자(11)의 흡수축이 이루는 각도가 이와 같은 범위이면, 후술하는 바와 같이 제1 위상차층 및 제2 위상차층의 면내 위상차를 각각 소정의 범위로 설정하고, 제2 위상차층의 지상축을 편광자의 흡수축에 대하여 소정의 각도로 배치함으로써 광대역에 있어서 매우 우수한 원편광 특성(결과로서, 매우 우수한 반사 방지 특성)을 갖는 광학 적층체를 얻을 수 있다. The first retardation layer 20 may have any suitable optical and / or mechanical properties depending on the purpose. The first retardation layer 20 typically has a slow axis. In one embodiment, the angle formed by the slow axis of the first retardation layer 20 and the absorption axis of the
제1 위상차층은 바람직하게는 굴절률 특성이 nx>ny≥nz의 관계를 나타낸다. 제1 위상차층의 면내 위상차 Re(550)은 바람직하게는 180nm∼320nm이고, 보다 바람직하게는 200nm∼290nm이며, 더욱 바람직하게는 230nm∼280nm이다. 또한, 여기서 'ny=nz'는 ny와 nz가 완전히 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우를 포함한다. 따라서, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서 ny<nz가 되는 경우가 있을 수 있다. The first retardation layer preferably exhibits a refractive index characteristic of nx > ny > = nz. The in-plane retardation Re (550) of the first retardation layer is preferably 180 nm to 320 nm, more preferably 200 nm to 290 nm, still more preferably 230 nm to 280 nm. Here, 'ny = nz' includes not only cases where ny and nz are completely equal but also substantially the same case. Therefore, there may be a case where ny < nz is satisfied within a range that does not impair the effect of the present invention.
제1 위상차층의 Nz계수는 바람직하게는 0.9∼3, 보다 바람직하게는 0.9∼2.5, 더욱 바람직하게는 0.9∼1.5, 특히 바람직하게는 0.9∼1.3이다. 이와 같은 관계를 만족함으로써, 얻어지는 광학 적층체를 화상 표시 장치에 이용한 경우에 매우 우수한 반사 색상을 달성할 수 있다. The Nz coefficient of the first retardation layer is preferably 0.9 to 3, more preferably 0.9 to 2.5, still more preferably 0.9 to 1.5, particularly preferably 0.9 to 1.3. By satisfying this relationship, a very excellent reflection color can be achieved when the resulting optical laminate is used in an image display apparatus.
제1 위상차층은 위상차값이 측정 광의 파장에 따라 커지는 역분산 파장 특성을 나타내어도 되고, 위상차값이 측정 광의 파장에 따라 작아지는 양의 파장 분산 특성을 나타내어도 되며, 위상차값이 측정 광의 파장에 따라서도 거의 변화하지 않는 플랫한 파장 분산 특성을 나타내어도 된다. 제1 위상차층은 하나의 실시 형태에 있어서는, 위상차값이 측정 광의 파장에 따라서도 거의 변화하지 않는 플랫한 파장 분산 특성을 나타낸다. 이 경우, 위상차층의 Re(450)/Re(550)은 바람직하게는 0.99∼1.03이고, Re(650)/Re(550)은 바람직하게는 0.98∼1.02이다. 플랫한 파장 분산 특성을 나타내고 소정의 면내 위상차를 갖는 제1 위상차층과 플랫한 파장 분산 특성을 나타내고 소정의 면내 위상차를 갖는 제2 위상차층을 소정의 지상축 각도로 조합하여 이용함으로써, 광대역에서 매우 우수한 반사 방지 특성을 실현할 수 있다. The first retardation layer may exhibit a reverse dispersion wavelength characteristic in which the retardation value increases with the wavelength of the measurement light or may exhibit a positive wavelength dispersion characteristic in which the retardation value decreases with the wavelength of the measurement light. Therefore, a flat wavelength dispersion characteristic which hardly changes is also possible. In one embodiment, the first retardation layer exhibits a flat wavelength dispersion characteristic in which the retardation value hardly changes according to the wavelength of the measurement light. In this case, Re (450) / Re (550) of the retardation layer is preferably 0.99 to 1.03, and Re (650) / Re (550) is preferably 0.98 to 1.02. A first retardation layer exhibiting a flat wavelength dispersion characteristic and having a predetermined in-plane retardation and a second retardation layer exhibiting a flat wavelength dispersion characteristic and having a predetermined in-plane retardation at a predetermined retard angle, Excellent antireflection characteristics can be realized.
제1 위상차층은 광탄성 계수의 절대값이 바람직하게는 2×10-11m2/N 이하, 보다 바람직하게는 2.0×10-13m2/N∼1.5×10-11m2/N, 더욱 바람직하게는 1.0×10-12m2/N∼1.2×10-11m2/N의 수지를 포함한다. 광탄성 계수의 절대값이 이와 같은 범위이면, 가열 시의 수축 응력이 발생하였을 경우에 위상차 변화가 발생하기 어렵다. 그 결과 얻어지는 화상 표시 장치의 열 불균일(heat unevenness)이 양호하게 방지될 수 있다. A first retardation layer has the absolute value of photoelastic coefficient of preferably from 2 × 10 -11 m 2 / N or less, more preferably 2.0 × 10 -13 m 2 /N~1.5×10 -11 m 2 / N, and more preferably it comprises a resin of 1.0 × 10 -12 m 2 /N~1.2×10 -11 m 2 / N. When the absolute value of the photoelastic coefficient is within this range, the retardation change hardly occurs when shrinkage stress is generated at the time of heating. The heat unevenness of the resulting image display device can be well prevented.
C-2. 수지 필름으로 구성되는 제1 위상차층C-2. A first retardation layer made of a resin film
제1 위상차층이 수지 필름으로 구성되는 경우, 그 두께는 바람직하게는 60㎛ 이하이고, 바람직하게는 30㎛∼50㎛이다. 제1 위상차층의 두께가 이와 같은 범위이면 소망하는 면내 위상차를 얻을 수 있다. When the first retardation layer is made of a resin film, its thickness is preferably 60 占 퐉 or less, and preferably 30 占 퐉 to 50 占 퐉. If the thickness of the first retardation layer is within this range, a desired in-plane retardation can be obtained.
제1 위상차층(20)은 상기 C-1항에 기재된 특성을 만족할 수 있는 임의의 적절한 수지 필름으로 구성될 수 있다. 그와 같은 수지의 대표예로서는 환상 올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리스티렌계 수지, 아크릴계 수지를 들 수 있다. 제1 위상차층이 플랫한 파장 특성을 나타내는 수지 필름으로 구성되는 경우, 환상 올레핀계 수지가 바람직하게 이용될 수 있다. The first retardation layer 20 may be composed of any suitable resin film that can satisfy the characteristics described in the above section C-1. Representative examples of such a resin include a resin such as a cyclic olefin resin, a polycarbonate resin, a cellulose resin, a polyester resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyether resin, a polystyrene resin , And acrylic resins. When the first retardation layer is composed of a resin film exhibiting flat wavelength characteristics, a cyclic olefin-based resin can be preferably used.
환상 올레핀계 수지는 환상 올레핀을 중합 단위로서 중합하는 수지의 총칭이고, 예컨대, 일본공개특허공보 평1-240517호, 일본공개특허공보 평3-14882호, 일본공개특허공보 평3-122137호 등에 기재되어 있는 수지를 들 수 있다. 구체예로는 환상 올레핀의 개환 (공)중합체, 환상 올레핀의 부가 중합체, 환상 올레핀과 에틸렌, 프로필렌 등의 α-올레핀과의 공중합체(대표적으로는 랜덤 공중합체) 및 이들을 불포화 카복실산이나 그 유도체로 변성한 그라프트 변성체 및 그들의 수소화물을 들 수 있다. 환상 올레핀의 구체예로는 노보넨계 모노머를 들 수 있다. 노보넨계 모노머로서는, 예컨대, 노보넨 및 그 알킬 및/또는 알킬리덴 치환체, 예컨대, 5-메틸-2-노보넨, 5-디메틸-2-노보넨, 5-에틸-2-노보넨, 5-부틸-2-노보넨, 5-에틸리덴-2-노보넨 등, 이들의 할로겐 등의 극성기 치환체; 디시클로펜타디엔, 2,3-디히드로디시클로펜타디엔 등; 디메타노옥타히드로나프탈렌, 그 알킬 및/또는 알킬리덴 치환체 및 할로겐 등의 극성기 치환체, 예컨대, 6-메틸-1,4:5,8-디메타노-1,4,4a,5,6,7,8,8a-옥타히드로나프탈렌, 6-에틸-1,4:5,8-디메타노-1,4,4a,5,6,7,8,8a-옥타히드로나프탈렌, 6-에틸리덴-1,4:5,8-디메타노-1,4,4a,5,6,7,8,8a-옥타히드로나프탈렌, 6-클로로-1,4:5,8-디메타노-1,4,4a,5,6,7,8,8a-옥타히드로나프탈렌, 6-시아노-1,4:5,8-디메타노-1,4,4a,5,6,7,8,8a-옥타히드로나프탈렌, 6-피리딜-1,4:5,8-디메타노-1,4,4a,5,6,7,8,8a-옥타히드로나프탈렌, 6-메톡시카르보닐-1,4:5,8-디메타노-1,4,4a,5,6,7,8,8a-옥타히드로나프탈렌 등; 시클로펜타디엔의 3∼4량체, 예컨대, 4,9:5,8-디메타노-3a,4,4a,5,8,8a,9,9a-옥타히드로-1H-벤조인덴, 4,11:5,10:6,9-트리메타노-3a,4,4a,5,5a,6,9,9a,10,10a,11,11a-도데카히드로-1H-시클로펜타안트라센 등을 들 수 있다.The cyclic olefin resin is a generic name of a resin that polymerizes a cyclic olefin as a polymerization unit and is disclosed in, for example, JP-A-1-240517, JP-A-3-14882, JP-A-3-122137 And the resins described therein. Specific examples include ring-opened (co) polymers of cyclic olefins, addition polymers of cyclic olefins, copolymers (typically random copolymers) of cyclic olefins and? -Olefins such as ethylene and propylene, and unsaturated carboxylic acids and their derivatives Modified graft-modified compounds and hydrides thereof. Specific examples of cyclic olefins include norbornene monomers. Examples of the norbornene monomers include norbornene and its alkyl and / or alkylidene substituents such as 5-methyl-2-norbornene, 5-dimethyl-2-norbornene, 5- Butyl-2-norbornene, and 5-ethylidene-2-norbornene; halogen-substituted polar groups such as halogen; Dicyclopentadiene, 2,3-dihydrodicyclopentadiene and the like; Dimethanooctahydronaphthalene, its alkyl and / or alkylidene substituents and polar substituents such as halogen, such as 6-methyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6, 7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-ethyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6- -1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-chloro-1,4: , 4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-cyano-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8, Octahydronaphthalene, 6-pyridyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-methoxycarbonyl- 1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene and the like; Tetramers of cyclopentadiene such as 4,9: 5,8-dimethano-3a, 4,4a, 5,8,8a, 9,9a-octahydro-1H-benzoindene, 4, 11: 5,10: 6,9-trimethano-3a, 4,4a, 5,5a, 6,9,9a, 10,10a, 11,11a- dodecahydro-1H-cyclopentanthracene, etc. .
본 발명에 있어서는 본 발명의 목적을 해치지 않는 범위 내에서, 개환중합 가능한 다른 시클로올레핀류를 병용할 수 있다. 이와 같은 시클로올레핀의 구체예로는, 예컨대, 시클로펜텐, 시클로옥텐, 5,6-디히드로디시클로펜타디엔 등의 반응성의 이중 결합을 1개 갖는 화합물을 들 수 있다. In the present invention, other cycloolefins capable of ring-opening polymerization may be used in combination as long as the object of the present invention is not impaired. Specific examples of such cycloolefins include compounds having one reactive double bond such as cyclopentene, cyclooctene, and 5,6-dihydrodicyclopentadiene.
상기 환상 올레핀계 수지는 톨루엔 용매에 의한 겔·투과·크로마토그래피(GPC)법으로 측정한 수 평균 분자량(Mn)이 바람직하게는 25,000∼200,000, 더욱 바람직하게는 30,000∼100,000, 가장 바람직하게는 40,000∼80,000이다. 수 평균 분자량이 상기의 범위이면 기계적 강도가 우수하고, 용해성, 성형성, 유연 조작성이 좋은 것이 된다.The cyclic olefin resin preferably has a number average molecular weight (Mn) measured by a gel permeation chromatography (GPC) method using a toluene solvent of preferably 25,000 to 200,000, more preferably 30,000 to 100,000, and most preferably 40,000 ~ 80,000. When the number average molecular weight is within the above range, the mechanical strength is excellent and the solubility, moldability, and flexibility operability are good.
상기 환상 올레핀계 수지가 노보넨계 모노머의 개환 중합체를 수소 첨가하여 얻어지는 것인 경우에는, 수소 첨가율은 바람직하게는 90% 이상이고, 더욱 바람직하게는 95% 이상이며, 가장 바람직하게는 99% 이상이다. 이와 같은 범위이면, 내열 열화성 및 내광 열화성 등이 우수하다. When the cyclic olefin resin is obtained by hydrogenating a ring-opening polymer of a norbornene monomer, the hydrogenation ratio is preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and most preferably 99% or more . With such a range, heat resistance and heat resistance are excellent.
상기 환상 올레핀계 수지 필름으로서 시판되는 필름을 이용하여도 된다. 구체예로는 일본 제온사 제조의 상품명 '제오넥스', '제오노아', JSR사 제조의 상품명 '아톤(Arton)', TICONA사 제조의 상품명 '토파스', 미쓰이 화학사 제조의 상품명 'APEL'을 들 수 있다. A commercially available film may be used as the cyclic olefin based resin film. Specific examples thereof include trade name "Zeonex", "Zeonoa" manufactured by Japan Zeon Company, "Arton" manufactured by JSR Corporation, "Topaz" manufactured by TICONA, and "APEL" .
제1 위상차층(20)은 예컨대, 상기 환상 올레핀계 수지로 형성된 필름을 연신함으로써 얻어진다. 환상 올레핀계 수지로부터 필름을 형성하는 방법으로는 임의의 적절한 성형 가공법이 채용될 수 있다. 구체예로는 압축 성형법, 트랜스퍼 성형법, 사출 성형법, 압출 성형법, 블로우 성형법, 분말 성형법, FRP 성형법, 캐스트 도공법(예컨대 유연법), 캘린더 성형법, 열 프레스법 등을 들 수 있다. 압출 성형법 또는 캐스트 도공법이 바람직하다. 얻어지는 필름의 평활성을 높이고, 양호한 광학적 균일성을 얻을 수 있기 때문이다. 성형 조건은 사용되는 수지의 조성이나 종류, 위상차층에 소망되는 특성 등에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 또한, 상기한 바와 같이, 환상 올레핀계 수지는 많은 필름 제품이 시판되어 있으므로, 당해 시판 필름을 그대로 연신 처리에 제공하여도 된다. The first retardation layer 20 is obtained, for example, by stretching a film formed of the cyclic olefin based resin. As a method of forming a film from a cyclic olefin resin, any appropriate molding processing method may be employed. Specific examples include a compression molding method, a transfer molding method, an injection molding method, an extrusion molding method, a blow molding method, a powder molding method, an FRP molding method, a cast coating method (for example, a casting method), a calender molding method and a hot pressing method. Extrusion molding method or cast coating method is preferable. This is because the smoothness of the obtained film can be enhanced and favorable optical uniformity can be obtained. The molding conditions can be appropriately set according to the composition and kind of the resin to be used, the desired properties of the retardation layer, and the like. As described above, since many film products are commercially available as the cyclic olefin-based resin, the commercially available film may be directly supplied to the stretching treatment.
수지 필름(미연신 필름)의 두께는 제1 위상차층의 소망하는 두께, 소망하는 광학 특성, 후술하는 연신 조건 등에 따라 임의의 적절한 값으로 설정될 수 있다. 바람직하게는 50㎛∼300㎛이다. The thickness of the resin film (unstretched film) can be set to any appropriate value according to the desired thickness of the first retardation layer, desired optical properties, stretching conditions to be described later, and the like. Mu] m to 300 [mu] m.
상기 연신은 임의의 적절한 연신 방법, 연신 조건(예컨대, 연신 온도, 연신 배율, 연신 방향)이 채용될 수 있다. 구체적으로는 자유단 연신, 고정단 연신, 자유단 수축, 고정단 수축 등의 다양한 연신 방법을 단독으로 이용하는 것도, 동시 또는 순차로 이용하는 것도 가능하다. 연신 방향에 관해서도, 길이 방향, 폭 방향, 두께 방향, 경사 방향 등, 다양한 방향이나 차원으로 실시할 수 있다. 연신의 온도는 수지 필름의 유리 전이 온도(Tg)에 대하여, Tg-30℃∼Tg+60℃인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 Tg-10℃∼Tg+50℃이다. The stretching may be carried out by any suitable stretching method, stretching conditions (e.g., stretching temperature, stretching magnification, stretching direction). Specifically, various drawing methods such as free-end drawing, fixed-end drawing, free-end shrinking, and fixed-end shrinking may be used alone or simultaneously or sequentially. The stretching direction can also be performed in various directions and dimensions such as the longitudinal direction, the width direction, the thickness direction, and the oblique direction. The stretching temperature is preferably from Tg-30 캜 to Tg + 60 캜, more preferably from Tg-10 캜 to Tg + 50 캜, with respect to the glass transition temperature (Tg) of the resin film.
상기 연신 방법, 연신 조건을 적절히 선택함으로써 상기 소망하는 광학 특성(예컨대, 굴절률 특성, 면내 위상차, Nz 계수)을 갖는 위상차 필름을 얻을 수 있다. By appropriately selecting the stretching method and stretching conditions, a retardation film having desired optical properties (for example, refractive index characteristics, in-plane retardation, and Nz coefficient) can be obtained.
하나의 실시 형태에 있어서는, 위상차 필름은 수지 필름을 일축 연신 또는 고정단 일축 연신함으로써 제작된다. 고정단 일축 연신의 구체예로는 수지 필름을 길이 방향으로 주행시키면서 폭 방향(횡 방향)으로 연신하는 방법을 들 수 있다. 연신 배율은 바람직하게는 1.1배∼3.5배이다. In one embodiment, the retardation film is produced by uniaxially stretching or uniaxially stretching the resin film. As a specific example of the monolayer uniaxial stretching, there is a method of stretching the resin film in the width direction (transverse direction) while running in the longitudinal direction. The draw ratio is preferably 1.1 to 3.5 times.
다른 실시 형태에 있어서는, 위상차 필름은 장척상의 수지 필름을 길이 방향에 대하여 소정의 각도 방향으로 연속적으로 경사 연신함으로써 제작될 수 있다. 경사 연신을 채용함으로써 필름의 길이 방향에 대하여 소정 각도의 배향각(당해 각도의 방향으로 지상축)을 갖는 장척상의 연신 필름이 얻어지고, 예컨대, 편광자와의 적층 시에 롤-투-롤이 가능하게 되어, 제조 공정을 간략화할 수 있다. 또한, 당해 각도는 광학 적층체에 있어서 편광자의 흡수축과 제1 위상차층의 지상축이 이루는 각도일 수 있다. 당해 각도는 상기와 같이 바람직하게는 10°∼20°이고, 보다 바람직하게는 13°∼17°이며, 더욱 바람직하게는 약 15°이다. In another embodiment, the retardation film can be produced by obliquely stretching a long-length resin film continuously in a predetermined angular direction with respect to the longitudinal direction. By employing the oblique stretching, a stretched film of elongated shape having an orientation angle (a slow axis in the direction of the angle) at a predetermined angle with respect to the longitudinal direction of the film is obtained. For example, roll-to- So that the manufacturing process can be simplified. The angle may be an angle formed by the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the first retardation layer in the optical laminate. The angle is preferably 10 ° to 20 °, more preferably 13 ° to 17 °, and still more preferably about 15 ° as described above.
경사 연신에 이용하는 연신기로서는 예컨대, 가로 및/또는 세로 방향으로, 좌우 상이한 속도의 이송력 또는 인장력 또는 인취력을 부가할 수 있는 텐터식 연신기를 들 수 있다. 텐터식 연신기로서는 가로 일축 연신기, 동시 이축 연신기 등이 있지만, 장척상의 수지 필름을 연속적으로 경사 연신할 수 있는 한, 임의의 적절한 연신기를 이용할 수 있다. Examples of the stretching machine used for oblique stretching include a tenter stretcher capable of imparting a feed force or a pulling force or a pulling force at right and left different speeds in the transverse and / or longitudinal direction. As the tenter-like stretching machine, there are a transverse stretching machine and a simultaneous biaxial stretching machine. However, any suitable stretching machine can be used as long as the elongated-phase resin film can be continuously obliquely stretched.
상기 연신기에 있어서 좌우의 속도를 각각 적절하게 제어함으로써, 상기 소망하는 면내 위상차를 갖고, 또한 상기 소망하는 방향으로 지상축을 갖는 제1 위상차층(실질적으로는 장척상의 위상차 필름)을 얻을 수 있다. By appropriately controlling the right and left velocities in the stretcher, it is possible to obtain a first retardation layer (substantially a long-axis phase retardation film) having the desired in-plane retardation and a slow axis in the desired direction.
상기 필름의 연신 온도는 제1 위상차층에 소망되는 면내 위상차값 및 두께, 사용되는 수지의 종류, 사용되는 필름의 두께, 연신 배율 등에 따라 변화될 수 있다. 구체적으로는 연신 온도는 바람직하게는 Tg-30℃∼Tg+30℃, 더욱 바람직하게는 Tg-15℃∼Tg+15℃, 가장 바람직하게는 Tg-10℃∼Tg+10℃이다. 이와 같은 온도에서 연신함으로써, 본 발명에 있어서 적절한 특성을 갖는 제1 위상차층을 얻을 수 있다. 또한, Tg는 필름의 구성 재료의 유리 전이 온도이다. The stretching temperature of the film may be changed depending on the desired in-plane retardation value and thickness of the first retardation layer, the type of resin used, the thickness of the film to be used, the stretching magnification, and the like. Specifically, the stretching temperature is preferably Tg-30 ° C to Tg + 30 ° C, more preferably Tg-15 ° C to Tg + 15 ° C, and most preferably Tg-10 ° C to Tg + 10 ° C. By drawing at such a temperature, a first retardation layer having suitable properties in the present invention can be obtained. Tg is the glass transition temperature of the constituent material of the film.
C-3. 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성되는 제1 위상차층C-3. A first retardation layer made of an oriented solidified layer of a liquid crystal compound
제1 위상차층(20)은 액정 화합물의 배향 고화층이어도 된다. 액정 화합물을 이용함으로써 얻어지는 위상차층의 nx와 ny와의 차를 비액정 재료에 비하여 현격하게 크게 할 수 있으므로, 소망하는 면내 위상차를 얻기 위한 제1 위상차층의 두께를 현격하게 작게 할 수 있다. 그 결과, 광학 적층체의 또 다른 박형화를 실현할 수 있다. 제1 위상차층(20)이 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성되는 경우, 그 두께는 바람직하게는 1㎛∼7㎛이고, 보다 바람직하게는 1.5㎛∼2.5㎛이다. 액정 화합물을 이용함으로써, 수지 필름보다도 현격하게 얇은 두께로 수지 필름과 동등한 면내 위상차를 실현할 수 있다. The first retardation layer 20 may be an oriented solidified layer of a liquid crystal compound. The difference between nx and ny of the retardation layer obtained by using the liquid crystal compound can be made significantly larger than that of the non-liquid crystal material, so that the thickness of the first retardation layer for obtaining a desired in-plane retardation can be remarkably reduced. As a result, another thinning of the optical laminate can be realized. When the first retardation layer 20 is composed of an oriented solidified layer of a liquid crystal compound, the thickness thereof is preferably 1 m to 7 m, more preferably 1.5 m to 2.5 m. By using the liquid crystal compound, in-plane retardation equivalent to that of the resin film can be achieved with a significantly thinner thickness than the resin film.
본 명세서에 있어서 '배향 고화층'이란, 액정 화합물이 층 내에서 소정의 방향으로 배향하고, 그 배향 상태가 고정되어 있는 층을 말한다. 또한, '배향 고화층'은 후술하는 바와 같이 액정 모노머를 경화시켜 얻어지는 배향 경화층을 포함하는 개념이다. 본 실시 형태에 있어서는, 대표적으로는 봉상의 액정 화합물이 제1 위상차층의 지상축 방향으로 나열한 상태로 배향하고 있다(호모지니어스 배향). 액정 화합물로서는, 예컨대, 액정 상(相)이 네마틱 상인 액정 화합물(네마틱 액정)을 들 수 있다. 이와 같은 액정 화합물로서, 예컨대, 액정 폴리머나 액정 모노머가 사용 가능하다. 액정 화합물의 액정성의 발현 기구는 리오트로픽이어도, 서모트로픽이어도 어느 쪽이어도 된다. 액정 폴리머 및 액정 모노머는 각각 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여도 된다. In this specification, the term 'oriented solidified layer' refers to a layer in which a liquid crystal compound is oriented in a predetermined direction in a layer and its alignment state is fixed. The 'oriented solidified layer' is a concept including an oriented hardened layer obtained by curing a liquid crystal monomer as described later. In the present embodiment, the rod-like liquid crystal compound is typically oriented in a state in which it is aligned in the slow axis direction of the first retardation layer (homogeneous orientation). The liquid crystal compound includes, for example, a liquid crystal compound (nematic liquid crystal) in which the liquid crystal phase is a nematic phase. As such a liquid crystal compound, for example, a liquid crystal polymer or a liquid crystal monomer can be used. The liquid crystal display mechanism of the liquid crystal compound may be either lyotropic or thermotropic. The liquid crystal polymer and the liquid crystal monomer may be used alone or in combination.
액정 화합물이 액정 모노머인 경우, 당해 액정 모노머는 중합성 모노머 및 가교성 모노머인 것이 바람직하다. 액정 모노머를 중합 또는 가교(즉, 경화)시킴으로써, 액정 모노머의 배향 상태를 고정할 수 있기 때문이다. 액정 모노머를 배향시킨 후에, 예컨대, 액정 모노머끼리를 중합 또는 가교시키면, 그에 따라 상기 배향 상태를 고정할 수 있다. 여기에서 중합에 의하여 폴리머가 형성되고, 가교에 의하여 3차원 망목(網目) 구조가 형성되게 되는데, 이들은 비액정성이다. 따라서 형성된 제1 위상차층은 예컨대, 액정성 화합물에 특유의 온도 변화에 의한 액정 상, 유리 상, 결정 상으로의 전이가 일어나지는 않는다. 그 결과, 제1 위상차층은 온도 변화에 영향을 받지 않는, 매우 안정성이 우수한 위상차층이 된다. When the liquid crystal compound is a liquid crystal monomer, the liquid crystal monomer is preferably a polymerizable monomer and a crosslinkable monomer. This is because the alignment state of the liquid crystal monomer can be fixed by polymerizing or crosslinking (i.e., curing) the liquid crystal monomer. After the liquid crystal monomer is aligned, for example, when the liquid crystal monomers are polymerized or crosslinked, the alignment state can be fixed accordingly. Here, a polymer is formed by polymerization and a three-dimensional mesh structure is formed by crosslinking, which are non-liquid crystalline. Therefore, the first retardation layer formed does not cause transition to a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystal phase due to, for example, a temperature change peculiar to the liquid crystalline compound. As a result, the first retardation layer becomes a highly stable retardation layer which is not affected by the temperature change.
액정 모노머가 액정성을 나타내는 온도 범위는 그 종류에 따라 상이하다. 구체적으로는 당해 온도 범위는 바람직하게는 40℃∼120℃이고, 더욱 바람직하게는 50℃∼100℃이며, 가장 바람직하게는 60℃∼90℃이다. The temperature range in which the liquid crystal monomer exhibits liquid crystallinity differs depending on the kind thereof. Specifically, the temperature range is preferably 40 to 120 占 폚, more preferably 50 to 100 占 폚, and most preferably 60 to 90 占 폚.
상기 액정 모노머로서는 임의의 적절한 액정 모노머가 채용될 수 있다. 예컨대, 일본출원공표 제2002-533742호(WO00/37585), EP358208(US5211877), EP66137(US4388453), WO93/22397, EP0261712, DE19504224, DE4408171 및 GB2280445 등에 기재된 중합성 메소겐 화합물 등을 사용할 수 있다. 이와 같은 중합성 메소 겐 화합물의 구체예로는, 예컨대, BASF사 제조의 상품명 LC242, Merck사 제조의 상품명 E7, Wacker-Chem사 제조의 상품명 LC-Sillicon-CC3767을 들 수 있다. 액정 모노머로서는, 예컨대 네마틱성 액정 모노머가 바람직하다. As the liquid crystal monomer, any appropriate liquid crystal monomer may be employed. Polymerizable mesogen compounds described in Japanese Patent Application Publication Nos. 2002-533742 (WO00 / 37585), EP358208 (US5211877), EP66137 (US4388453), WO93 / 22397, EP0261712, DE19504224, DE4408171 and GB2280445. Specific examples of such a polymerizable mesogen compound include, for example, a trade name LC242 manufactured by BASF Corporation, a trade name E7 manufactured by Merck Co., and a trade name LC-Sillicon-CC3767 manufactured by Wacker-Chem. As the liquid crystal monomer, for example, a nematic liquid crystal monomer is preferable.
액정 화합물의 배향 고화층은 소정의 기재의 표면에 배향 처리를 실시하고, 당해 표면에 액정 화합물을 포함하는 도공액을 도공하여 당해 액정 화합물을 상기 배향 처리에 대응하는 방향으로 배향시켜 당해 배향 상태를 고정함으로써 형성될 수 있다. 이와 같은 배향 처리를 이용함으로써 장척상의 기재의 장척 방향에 대하여 소정의 방향으로 액정 화합물을 배향시킬 수 있고, 결과로서 형성되는 위상차층의 소정 방향으로 지상축을 발현시킬 수 있다. 예컨대, 장척상의 기재 상에 장척 방향에 대하여 15°의 방향으로 지상축을 갖는 위상차층을 형성할 수 있다. 이와 같은 위상차층은 경사 방향으로 지상축을 갖는 것이 소망되는 경우이어도, 롤-투-롤을 이용하여 적층할 수 있기 때문에, 광학 적층체의 생산성이 현격하게 향상될 수 있다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 기재는 임의의 적절한 수지 필름이고, 당해 기재 상에 형성된 배향 고화층은 편광판(10)의 표면에 전사될 수 있다. 다른 실시 형태에 있어서는, 기재는 제2 보호층(13)일 수 있다. 이 경우에는 전사 공정이 생략되어 배향 고화층(제1 위상차층)의 형성으로부터 연속하여 롤-투-롤에 의하여 적층이 수행될 수 있으므로 생산성이 더욱 향상된다. The oriented solidified layer of the liquid crystal compound is obtained by subjecting the surface of a predetermined substrate to an orientation treatment, coating the surface with a coating liquid containing a liquid crystal compound, aligning the liquid crystal compound in a direction corresponding to the alignment treatment, As shown in Fig. By using such alignment treatment, the liquid crystal compound can be oriented in a predetermined direction with respect to the longitudinal direction of the elongated base material, and the retardation axis can be expressed in a predetermined direction of the resulting retardation layer. For example, a phase difference layer having a slow axis in the direction of 15 DEG with respect to the longitudinal direction can be formed on a long phase substrate. Even when it is desired that the retardation layer has a slow axis in the oblique direction, since the lamination can be performed using a roll-to-roll, the productivity of the optical laminate can be remarkably improved. In one embodiment, the substrate is any suitable resin film, and the oriented solidified layer formed on the substrate can be transferred to the surface of the
상기 배향 처리로서는 임의의 적절한 배향 처리가 채용될 수 있다. 구체적으로는 기계적인 배향 처리, 물리적인 배향 처리, 화학적인 배향 처리를 들 수 있다. 기계적인 배향 처리의 구체예로는 러빙 처리, 연신 처리를 들 수 있다. 물리적인 배향 처리의 구체예로는 자기장 배향 처리, 전기장 배향 처리를 들 수 있다. 화학적인 배향 처리의 구체예로는 사방(斜方) 증착법, 광 배향 처리를 들 수 있다. 각종 배향 처리의 처리 조건은 목적에 따라 임의의 적절한 조건이 채택될 수 있다. As the alignment treatment, any suitable alignment treatment may be employed. Specifically, there are mechanical orientation treatment, physical orientation treatment, and chemical orientation treatment. Specific examples of the mechanical alignment treatment include rubbing treatment and stretching treatment. Specific examples of the physical orientation treatment include magnetic field orientation treatment and electric field orientation treatment. Specific examples of the chemical alignment treatment include an oblique deposition method and a photo alignment treatment. The processing conditions for the various alignment treatments may be any suitable conditions depending on the purpose.
액정 화합물의 배향은 액정 화합물의 종류에 따라 액정 상을 나타내는 온도로 처리함으로써 수행된다. 이와 같은 온도 처리를 수행함으로써, 액정 화합물이 액정 상태를 취하고, 기재 표면의 배향 처리 방향에 따라 당해 액정 화합물이 배향한다. The orientation of the liquid crystal compound is carried out by treating the liquid crystal compound at a temperature which indicates the liquid crystal phase depending on the kind of the liquid crystal compound. By performing such a temperature treatment, the liquid crystal compound takes a liquid crystal state, and the liquid crystal compound is oriented in accordance with the orientation treatment direction of the substrate surface.
배향 상태의 고정은 하나의 실시 형태에 있어서는, 상기와 같이 배향된 액정 화합물을 냉각함으로써 수행된다. 액정 화합물이 중합성 모노머 또는 가교성 모노머인 경우에는 배향 상태의 고정은 상기와 같이 배향된 액정 화합물에 중합 처리 또는 가교 처리를 실시함으로써 수행된다. The fixation of the alignment state is carried out in one embodiment by cooling the liquid crystal compound oriented as described above. In the case where the liquid crystal compound is a polymerizable monomer or a crosslinkable monomer, the fixing of the alignment state is carried out by subjecting the liquid crystal compound thus oriented to a polymerization treatment or a crosslinking treatment.
액정 화합물의 구체예 및 배향 고화층의 형성 방법의 상세는 일본공개특허공보 제2006-163343호에 기재되어 있다. 당해 공보의 기재는 본 명세서에 참고로 원용된다. Specific examples of the liquid crystal compound and the method of forming the oriented solidified layer are described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-163343. The disclosure of such publications is incorporated herein by reference.
D. 제2 위상차층D. Second phase difference layer
D-1. 제2 위상차층의 특성D-1. Characteristics of the second retardation layer
제2 위상차층(30)은 목적에 따라 임의의 적절한 광학적 특성 및/또는 기계적 특성을 가질 수 있다. 제2 위상차층(30)은 대표적으로는 지상축을 갖는다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 제2 위상차층(30)의 지상축과 편광자(11)의 흡수축이 이루는 각도는 바람직하게는 65°∼85°이고, 보다 바람직하게는 72°∼78°이며, 더욱 바람직하게는 약 75°이다. 제2 위상차층(30)의 지상축과 제1 위상차층(20)의 지상축이 이루는 각도는 바람직하게는 52°∼68°이고, 보다 바람직하게는 57°∼63°이며, 더욱 바람직하게는 약 60°이다. 제2 위상차층(30)의 지상축과 편광자(11)의 흡수축이 이루는 각도가 이와 같은 범위이면, 상기와 같이 제1 위상차층의 면내 위상차를 소정의 범위로 설정하고, 제1 위상차층의 지상축을 편광자의 흡수축에 대하여 소정의 각도로 배치하며, 후술하는 바와 같이 제2 위상차층의 면내 위상차를 소정의 범위로 설정함으로써 광대역에서 매우 우수한 원편광 특성(결과로서 매우 우수한 반사 방지 특성)을 갖는 광학 적층체를 얻을 수 있다. The
제2 위상차층은 바람직하게는 굴절률 특성이 nx>ny≥nz의 관계를 나타낸다. 제2 위상차층의 면내 위상차 Re(550)은 바람직하게는 80nm∼200nm, 보다 바람직하게는 100nm∼180nm, 더욱 바람직하게는 110nm∼170nm이다. The second retardation layer preferably exhibits a refractive index characteristic of nx > ny > = nz. The in-plane retardation Re (550) of the second retardation layer is preferably 80 nm to 200 nm, more preferably 100 nm to 180 nm, still more preferably 110 nm to 170 nm.
제2 위상차층의 그 밖의 특성에 대해서는 제1 위상차층에 관하여 상기 C-1항에서 설명한 바와 같다. The other characteristics of the second retardation layer are the same as described in the above-mentioned section C-1 with respect to the first retardation layer.
D-2. 수지 필름으로 구성되는 제2 위상차층D-2. A second retardation layer made of a resin film
제2 위상차층이 수지 필름으로 구성되는 경우, 그 두께는 바람직하게는 40㎛ 이하이고, 바람직하게는 25㎛∼35㎛이다. 제2 위상차층의 두께가 이와 같은 범위이면, 소망하는 면내 위상차를 얻을 수 있다. 제2 위상차층이 수지 필름으로 구성되는 경우, 그 재료, 특성, 제조 방법 등은 제1 위상차층에 관하여 상기 C-2항에서 설명한 바와 같다. When the second retardation layer is made of a resin film, its thickness is preferably 40 占 퐉 or less, and preferably 25 占 퐉 to 35 占 퐉. When the thickness of the second retardation layer is in this range, a desired in-plane retardation can be obtained. In the case where the second retardation layer is made of a resin film, its material, properties, manufacturing method and the like are the same as described in the above section C-2 with respect to the first retardation layer.
D-3. 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성되는 제2 위상차층D-3. A second retardation layer constituted of an oriented solidified layer of a liquid crystal compound
제2 위상차층(30)은 제1 위상차층과 마찬가지로 액정 화합물의 배향 고화층이어도 된다. 제2 위상차층(30)이 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성되는 경우, 그 두께는 바람직하게는 0.5㎛∼2㎛이고, 보다 바람직하게는 1㎛∼1.5㎛이다. 제2 위상차층이 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성되는 경우, 그 재료, 특성, 제조 방법 등은 제1 위상차층에 관하여 상기 C-3항에서 설명한 바와 같다. The
D-4. 제1 위상차층과 제2 위상차층과의 조합D-4. The combination of the first retardation layer and the second retardation layer
제1 위상차층 및 제2 위상차층은 임의의 적절한 조합으로 이용될 수 있다. 구체적으로는 제1 위상차층이 수지 필름으로 구성되고, 제2 위상차층이 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성되어도 되며; 제1 위상차층이 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성되고, 제2 위상차층이 수지 필름으로 구성되어도 되며; 제1 위상차층 및 제2 위상차층이 모두 수지 필름으로 구성되어도 되고; 제1 위상차층 및 제2 위상차층이 모두 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성되어도 된다. 바람직하게는 제1 위상차층이 수지 필름으로 구성되는 경우에는 제2 위상차층도 수지 필름으로 구성되고; 제1 위상차층이 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성되는 경우에는 제2 위상차층도 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성된다. 또한, 제1 위상차층 및 제2 위상차층이 모두 수지 필름으로 구성되는 경우, 제1 위상차층 및 제2 위상차층은 동일하여도 되고, 상세한 구성이 상이하여도 된다. 제1 위상차층 및 제2 위상차층이 모두 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성되는 경우도 마찬가지이다. The first retardation layer and the second retardation layer can be used in any suitable combination. Specifically, the first retardation layer may be composed of a resin film and the second retardation layer may be composed of an oriented solidified layer of a liquid crystal compound; The first retardation layer may be composed of an oriented solidified layer of a liquid crystal compound and the second retardation layer may be composed of a resin film; The first retardation layer and the second retardation layer may all be composed of a resin film; The first retardation layer and the second retardation layer may all be composed of an oriented solidified layer of a liquid crystal compound. Preferably, when the first retardation layer is made of a resin film, the second retardation layer is also composed of a resin film; When the first retardation layer is composed of an oriented solidified layer of a liquid crystal compound, the second retardation layer is also composed of an oriented solidified layer of the liquid crystal compound. When both the first retardation layer and the second retardation layer are made of a resin film, the first retardation layer and the second retardation layer may be the same or different in detail. The same applies to the case where both the first retardation layer and the second retardation layer are composed of the oriented solidified layer of the liquid crystal compound.
제1 위상차층 및 제2 위상차층이 모두 수지 필름으로 구성되는 경우, 제2 위상차층의 치수 변화율은 바람직하게는 1% 이하이고, 보다 바람직하게는 0.95% 이하이다. 제2 위상차층의 치수 변화율은 작으면 작을수록 바람직하다. 제2 위상차층의 치수 변화율의 하한은 예컨대 0.01%이다. 제2 위상차층의 치수 변화율이 이와 같은 범위이면, 고온 고습 하에서의 도전층의 크랙 발생을 현저하게 억제할 수 있다. When both the first retardation layer and the second retardation layer are made of a resin film, the dimensional change ratio of the second retardation layer is preferably 1% or less, more preferably 0.95% or less. The dimensional change ratio of the second retardation layer is preferably as small as possible. The lower limit of the rate of dimensional change of the second retardation layer is, for example, 0.01%. When the dimensional change rate of the second retardation layer is in this range, cracking of the conductive layer under high temperature and high humidity can be remarkably suppressed.
제1 위상차층 및 제2 위상차층이 모두 액정 화합물의 배향 고화층으로 구성되는 경우, 편광판과 제1 위상차층과 제2 위상차층과의 적층체의 치수 변화율은 바람직하게는 1% 이하이고, 보다 바람직하게는 0.95% 이하이다. 당해 적층체의 치수 변화율은 작으면 작을수록 바람직하다. 당해 적층체의 치수 변화율의 하한은 예컨대 0.01%이다. 당해 적층체의 치수 변화율이 이와 같은 범위이면, 고온 고습 하에서의 도전층의 크랙 발생을 현저하게 억제할 수 있다. When the first retardation layer and the second retardation layer are both composed of an oriented solidified layer of a liquid crystal compound, the dimensional change ratio of the layered product of the polarizing plate, the first retardation layer and the second retardation layer is preferably 1% or less, It is preferably 0.95% or less. The dimensional change ratio of the laminate is preferably as small as possible. The lower limit of the rate of dimensional change of the laminate is, for example, 0.01%. When the dimensional change ratio of the laminate is in this range, cracking of the conductive layer under high temperature and high humidity can be remarkably suppressed.
E. 점착제층E. Pressure-sensitive adhesive layer
점착제층은 상기 A항에 기재된 구성 및 특성을 만족하는 한, 임의의 적절한 점착제로 구성될 수 있다. 다시 말하면, 점착제는 상기 A항에 기재된 구성 및 특성을 만족하는 한, 임의의 적절한 점착성 폴리머를 함유한다. 점착성 폴리머로서는 점도 성능의 밸런스를 취하기 쉽다는 관점에서 Tg가 0℃ 이하(통상적으로 -100℃ 이상)의 폴리머가 바람직하다. 이와 같은 폴리머 중에서도, 폴리에스테르계 폴리머, (메트)아크릴계 폴리머가 바람직하게 이용된다. The pressure-sensitive adhesive layer may be composed of any suitable pressure-sensitive adhesive as long as the constitution and characteristics described in the above-mentioned section A are satisfied. In other words, the pressure-sensitive adhesive contains any suitable pressure-sensitive adhesive polymer as long as it satisfies the composition and characteristics described in the above section A As the adhesive polymer, a polymer having a Tg of 0 占 폚 or lower (usually -100 占 폚 or higher) is preferable from the viewpoint of easily balancing the viscosity performance. Among such polymers, polyester polymers and (meth) acrylic polymers are preferably used.
폴리에스테르계 폴리머로서는 대표적으로는 다가 알코올과 다가 카르복실산과의 포화 폴리에스테르 또는 코폴리에스테르가 이용될 수 있다. 다가 알코올로서는, 예컨대, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 헥사메틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 1,2-시클로헥산디메탄올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 데카메틸렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥사디올, 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 비스(4-히드록시페닐)설폰 등의 디올을 들 수 있다. 다가카르복실산으로서는 예컨대, 테레프탈산, 이소프탈산, 오르토프탈산, 2,5-나프탈렌디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 1,4-나프탈렌디카르복실산, 1,5-나프탈렌디카르복실산, 디페닐카르 복실산, 디페녹시에탄디카르복실산, 디페닐설폰카르복실산, 안트라센디카르복실산 등의 방향족 디카르복실산; 1,3-시클로펜탄디카르복실산, 1,3-시클로헥산디카르복실산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 헥사히드로테레프탈산, 헥사히드로이소프탈산 등의 지환족 디카르복실산; 말론산, 디메틸말론산, 숙신산, 3,3-디에틸숙신산, 글루타르산, 2,2-디메틸글루타르산, 아디프산, 2-메틸아디프산, 트리메틸아디프산, 피멜산, 아젤라산, 다이머산, 세바스산, 수베르산, 도데카디카르복실산 등의 지방족 디카르복실산을 들 수 있다. 다가 카르복실산으로서는 2종 이상의 다가 카르복실산, 예컨대, 방향족 디카르복실산과 지방족 디카르복실산을 병용하는 경우가 많다. As the polyester-based polymer, a saturated polyester or copolyester with a polyhydric alcohol and a polyvalent carboxylic acid can be typically used. Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, hexamethylene glycol, neopentyl glycol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, decamethylene glycol, 1,3-propanediol, Diols such as 4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane and bis (4-hydroxyphenyl) sulfone. Examples of the polycarboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 2,5-naphthalene dicarboxylic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, 1,4-naphthalene dicarboxylic acid, Aromatic dicarboxylic acids such as dicarboxylic acid, diphenylcarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, diphenylsulfonic acid and anthracenedicarboxylic acid; Alicyclic dicarboxylic acids such as 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, hexahydroterephthalic acid and hexahydroisophthalic acid; But are not limited to, malonic acid, dimethyl malonic acid, succinic acid, 3,3-diethyl succinic acid, glutaric acid, 2,2-dimethylglutaric acid, adipic acid, 2-methyladipic acid, trimethyladipic acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as acid, dimer acid, sebacic acid, suberic acid, and dodecadicarboxylic acid. As the polycarboxylic acid, two or more polycarboxylic acids such as an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic dicarboxylic acid are often used in combination.
폴리에스테르계 폴리머를 구성하는 모노머에서의 산 성분으로서는 예컨대, 3가 이상의 폴리카르복실산을 들 수 있다. 구체예로는 1,2,4-벤젠트리카르복실산(트리 멜리트산), 2,5,7-나프탈렌트리카르복실산 등의 트리카르복실산; 피로멜리트산 등의 테트라카르복실산을 들 수 있다. Examples of the acid component in the monomer constituting the polyester-based polymer include polycarboxylic acids having three or more hydroxyl groups. Specific examples include tricarboxylic acids such as 1,2,4-benzenetricarboxylic acid (trimellitic acid) and 2,5,7-naphthalenetricarboxylic acid; And tetracarboxylic acids such as pyromellitic acid.
상기 A항에 기재한 바와 같이, 폴리에스테르계 폴리머를 구성하는 전체 모노머 성분 중의 산 성분의 양은 4중량% 미만이고, 바람직하게는 0∼3중량%이며, 보다 바람직하게는 0∼2중량%이고, 더욱 바람직하게는 0∼1중량%이며, 특히 바람직하게는 실질적으로 제로이다. 산 성분의 양이 이와 같은 범위이면 도전층에 대한 산 성분의 악영향이 무시할 수 있을 정도로 작아져, 결과로서 고온 고습 하에서 도전층의 크랙의 발생을 현저히 억제할 수 있다. As described in the above section A, the amount of the acid component in the total monomer component constituting the polyester polymer is less than 4% by weight, preferably 0 to 3% by weight, more preferably 0 to 2% by weight , More preferably 0 to 1 wt%, and particularly preferably substantially zero. If the amount of the acid component is within this range, the adverse effect of the acid component on the conductive layer becomes negligibly small, and as a result, occurrence of cracks in the conductive layer under high temperature and high humidity can be remarkably suppressed.
(메트)아크릴계 폴리머는 통상적으로 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트를 주성분으로 함유한다. (메트)아크릴계 폴리머의 주 골격을 구성하는 알킬(메트)아크릴레이트로서는 직쇄상 또는 분지쇄상 알킬기의 탄소수 1∼18의 것을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 이들 알킬기의 평균 탄소수는 3∼9인 것이 바람직하다. 또한, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트와 같은 방향족환을 함유하는 알킬(메트)아크릴레이트를 이용할 수 있다. 방향족환을 함유하는 알킬(메트)아크릴레이트는 이를 중합한 폴리머를 상기 예시의 (메트)아크릴계 폴리머에 혼합하여 이용하여도 되고, 상기 알킬(메트)아크릴레이트와 공중합하여 이용하여도 된다. 투명성의 관점에서 공중합이 바람직하다. The (meth) acryl-based polymer usually contains alkyl (meth) acrylate as a main component as a monomer unit. As the alkyl (meth) acrylate constituting the main skeleton of the (meth) acrylic polymer, straight chain or branched chain alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms can be exemplified. These may be used alone or in combination. The average carbon number of these alkyl groups is preferably from 3 to 9. Further, alkyl (meth) acrylates containing an aromatic ring such as phenoxyethyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate can be used. The alkyl (meth) acrylate containing an aromatic ring may be obtained by mixing a polymer obtained by polymerizing the aromatic ring with the (meth) acrylic polymer exemplified above or by copolymerizing the alkyl (meth) acrylate with the alkyl (meth) acrylate. From the viewpoint of transparency, copolymerization is preferable.
상기 (메트)아크릴계 폴리머 중에는 접착력이나 내열성의 개선을 목적으로, 중합성 관능기(예컨대, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합)를 갖는 1종류 이상의 공중합 모노머를 공중합에 의해 도입하여도 된다. (Meth) acryl-based polymer is introduced by copolymerization with one or more kinds of copolymerizable monomers having a polymerizable functional group (for example, an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or vinyl group) for the purpose of improving the adhesive force and heat resistance .
(메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머에서의 산성분으로서는 상기 공중합 모노머로서, 산기를 갖는 모노머를 들 수 있다. 구체예로서는 아크릴산, (메트)아크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등의 카르복실기 함유 모노머; 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 산무수물기 함유 모노머; 아크릴산의 카프로락톤 부가물; 스티렌술폰산이나 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미드프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 모노머; 2-히드록시에틸아크릴로일포스페이트 등의 인산기 함유 모노머를 들 수 있다. 산 성분으로서는 산에 의한 악영향의 적음이라는 관점에서 약산성인 카르복실기 함유 모노머가 바람직하다. Examples of the acid component in the monomer constituting the (meth) acrylic polymer include monomers having an acid group as the copolymerizable monomer. Specific examples include carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid, (meth) acrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid and crotonic acid; Monomers containing acid anhydride groups such as maleic anhydride and itaconic anhydride; Caprolactone adducts of acrylic acid; Containing sulfonic acid group such as styrene sulfonic acid or allyl sulfonic acid, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropane sulfonic acid, (meth) acrylamide propane sulfonic acid, sulfopropyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxynaphthalene sulfonic acid Monomers; And a phosphate group-containing monomer such as 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate. As the acid component, a carboxyl group-containing monomer which is slightly acidic is preferable from the viewpoint of less adverse effect by an acid.
상기 (메트)아크릴계 폴리머 중에는 상기 공중합 모노머 이외의 임의의 적절한 공중합 모노머를 공중합에 의해 도입하여도 된다. 이와 같은 공중합 모노머의 종류, 수, 공중합비 등은 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. Any suitable copolymerizable monomer other than the copolymerized monomer may be introduced into the (meth) acryl-based polymer by copolymerization. The kind, number and copolymerization ratio of such a copolymerizable monomer can be appropriately set according to the purpose.
(메트)아크릴계 폴리머는 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 중의 어느 하나여도 된다. The (meth) acryl-based polymer may be any one of a random copolymer, a block copolymer and a graft copolymer.
상기 A항에 기재된 바와 같이, (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 전체 모노머 성분 중의 산 성분의 양은 4중량% 미만이고, 바람직하게는 0∼3중량%이며, 보다 바람직하게는 0∼2중량%이고, 더욱 바람직하게는 0∼1중량%이며, 특히 바람직하게는 실질적으로 제로이다. 산 성분의 양이 이와 같은 범위이면 도전층에 대한 산 성분의 악영향이 무시할 수 있을 정도로 작아져, 결과로서 고온 고습 하에서 도전층의 크랙의 발생을 현저하게 억제할 수 있다. As described in the above section A, the amount of the acid component in the total monomer component constituting the (meth) acrylic polymer is less than 4% by weight, preferably 0 to 3% by weight, more preferably 0 to 2% by weight , More preferably 0 to 1 wt%, and particularly preferably substantially zero. If the amount of the acid component is within this range, the adverse effect of the acid component on the conductive layer becomes negligibly small, and as a result, occurrence of cracks in the conductive layer under high temperature and high humidity can be remarkably suppressed.
점착제에는 가교제를 함유할 수 있다. 가교제로서는 유기계 가교제나 다관능성 금속 킬레이트를 이용할 수 있다. 유기계 가교제로서는 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제, 에폭시계 가교제, 이민계 가교제 등을 들 수 있다. 다관 능성 금속 킬레이트는 다가 금속이 유기 화합물과 공유 결합 또는 배위 결합하는 것이다. 다가 금속 원자로서는, Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 공유 결합 또는 배위 결합하는 유기 화합물 중의 원자로서는 산소 원자 등을 들 수 있고, 유기 화합물로서는 알킬에스테르, 알콜 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다. 가교제로서는 이소시아네이트계 가교제 및 과산화물형 가교제가 바람직하다. The pressure-sensitive adhesive may contain a crosslinking agent. As the crosslinking agent, an organic crosslinking agent or a polyfunctional metal chelate can be used. Examples of the organic crosslinking agent include isocyanate crosslinking agents, peroxide crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, and imine crosslinking agents. A polyfunctional metal chelate is a covalent bond or a coordination bond of a polyvalent metal with an organic compound. Examples of the polyvalent metal atom include Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, have. Examples of the atom in the covalent bond or coordination organic compound include an oxygen atom, and examples of the organic compound include alkyl esters, alcohol compounds, carboxylic acid compounds, ether compounds, and ketone compounds. As the crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent and a peroxide crosslinking agent are preferable.
이소시아네이트계 가교제로서는 예컨대, 톨릴렌디이소시아네이트, 클로로페닐렌디이소시아네이트, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가된 디페닐메탄디이소시아네이트 등의 이소시아네이트 모노머 및 이들 이소시아네이트 모노머를 트리메틸올프로판 등과 부가 한 이소시아네이트 화합물이나 이소시아누레이트화물, 뷰렛형 화합물, 또한 폴리 에테르폴리올이나 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리 이소프렌폴리올 등 부가 반응시킨 우레탄 프리폴리머형의 이소시아네이트를 들 수 있다. Examples of the isocyanate crosslinking agent include isocyanate monomers such as tolylene diisocyanate, chlorophenylenediisocyanate, tetramethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate and the like, and these isocyanate monomers are reacted with trimethylol Propane and the like, isocyanurate compounds, biuret type compounds, and urethane prepolymer type isocyanates which have been subjected to addition reaction such as polyether polyol, polyester polyol, acrylic polyol, polybutadiene polyol, polyisoprene polyol and the like.
과산화물형 가교제로서는 가열 또는 광 조사에 의해 라디칼 활성 종을 발생하여 점착제의 베이스 폴리머의 가교를 진행시키는 것이라면 임의의 적절한 것이 사용 가능하다. 작업성 및 안정성을 고려하면, 과산화물형 가교제의 1분간 반감기 온도는 바람직하게는 80℃∼160℃이고, 보다 바람직하게는 90℃∼140℃이다. 가교제로서 사용할 수 있는 과산화물의 구체예로는, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트(1분간 반감기 온도: 90.6℃, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트(1분간 반감기 온도: 92.1℃), 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트(1분간 반감기 온도: 92.4℃), t-부틸퍼옥시네오데카노에이트(1분 반감기 온도: 103.5℃), t-헥실퍼옥시피발레이트(1분간 반감기 온도: 109.1℃), t-부틸퍼옥시피발레이트(1분간 반감기 온도: 110.3℃), 디라우로일퍼옥사이드(1분간 반감기 온도: 116.4℃), 디-n-옥타노일퍼옥사이드(1분간 반감기 온도: 117.4℃), 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(1분간 반감기 온도: 124.3℃), 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드(1분간 반감기 온도: 128.2℃), 디벤조일퍼옥사이드(1분 반감기 온도: 130.0℃), t-부틸퍼옥시이소부틸레이트 (1분간 반감기 온도: 136.1℃), 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산(1분간 반감기 온도: 149.2℃)을 들 수 있다. As the peroxide type crosslinking agent, any suitable one can be used as far as it promotes crosslinking of the base polymer of the pressure-sensitive adhesive by generating radical active species by heating or light irradiation. Considering workability and stability, the one-minute half-life temperature of the peroxide type crosslinking agent is preferably 80 ° C to 160 ° C, more preferably 90 ° C to 140 ° C. Specific examples of the peroxide that can be used as the crosslinking agent include di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate (half-life half-hour temperature: 90.6 ° C, di (4-t- butylcyclohexyl) peroxydicarbonate (half- Butyl peroxyneodecanoate (1 minute half life temperature: 103.5 占 폚), t-hexyl peroxy pivalate (1 minute half-life temperature: 92.1 占 폚), di-sec-butyl peroxydicarbonate (1 minute half-life temperature: 109.1 占 폚), t-butyl peroxypivalate (1 minute half life temperature: 110.3 占 폚), dilauroyl peroxide (1 minute half life temperature: 116.4 占 폚), di-n-octanoyl peroxide (Half-life temperature: 117.4 占 폚), 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate (1 minute half life temperature: 124.3 占 폚), di (4-methylbenzoyl) peroxide Half-life temperature: 128.2 占 폚), dibenzoyl peroxide (one minute half life temperature: 130.0 占 폚), t-butyl peroxyisobutyrate (one minute half life temperature: 136.1 占 폚) Di (t-hexylperoxy) cyclohexane (1 minute half-life temperature: 149.2 ° C).
점착제에는 첨가제로서 실란 커플링제가 배합될 수 있다. 실란 커플링제로서는 예컨대, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시 구조를 갖는 규소 화합물; 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸) 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸) 3-아미노프로필메틸디메톡시실란 등의 아미노기 함유 규소 화합물; 3-클로로프로필트리메톡시실란; 아세토아세틸기 함유 트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란 등의 (메트)아크릴기 함유 실란커플링제; 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트기 함유 실란 커플링제를 들 수 있다. A silane coupling agent may be added to the pressure-sensitive adhesive as an additive. Examples of the silane coupling agent include epoxy compounds having an epoxy structure such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, Silicon compounds; Amino group-containing silicon compounds such as 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane and N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane; 3-chloropropyltrimethoxysilane; (Meth) acrylic group-containing silane coupling agents such as trimethoxysilane containing acetoacetyl group, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltriethoxysilane; And an isocyanate group-containing silane coupling agent such as 3-isocyanatepropyltriethoxysilane.
점착제의 상세에 대해서는 예컨대, 일본공개특허공보 제2012-247517호의 [00 23]-[0080]에 기재되어 있다. 당해 공보의 기재는 본원에 참고로 원용된다. Details of the pressure-sensitive adhesive are described, for example, in [0023] - [0080] of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-247517. The description of the publication is incorporated herein by reference.
점착성 폴리머를 구성하는 모노머 성분의 종류, 수, 공중합비, 가교제의 종류, 첨가제의 종류, 수, 배합량 등(특히 모노머 성분에서의 산 성분의 양)을 조정함으로써 소망하는 특성(특히 고온 고습 하에서의 도전층의 크랙 방지 특성)을 갖는 점착제를 얻을 수 있다. (In particular, a high-temperature high-humidity environment) can be obtained by adjusting the kind, number, copolymerization ratio, type of cross-linking agent, kind of additives, number and amount of the monomer components constituting the viscous polymer Crack resistance of the layer) can be obtained.
점착제층(40)의 두께는 바람직하게는 5㎛∼30㎛이고, 보다 바람직하게는 5㎛ ∼20㎛이다. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 40 is preferably 5 m to 30 m, and more preferably 5 m to 20 m.
F. 도전층 또는 기재 부착 도전층F. Conductive layer or substrate-attached conductive layer
도전층은 임의의 적절한 성막 방법(예컨대, 진공 증착법, 스퍼터링법, CVD법, 이온 플레이팅법, 스프레이법 등)에 의하여, 임의의 적절한 기재 상에 금속 산화물막을 성막하여 형성될 수 있다. 성막 후, 필요에 따라 가열 처리(예컨대, 100℃∼200℃)를 실시하여도 된다. 가열 처리를 실시함으로써 비정질막이 결정화될 수 있다. 금속 산화물로서는, 예컨대 산화 인듐, 산화 주석, 산화 아연, 인듐-주석 복합 산화물, 주석-안티몬 복합 산화물, 아연-알루미늄 복합 산화물, 인듐-아연 복합 산화물을 들 수 있다. 인듐 산화물에는 2가 금속 이온 또는 4가 금속 이온이 도핑되어 있어도 된다. 바람직하게는 인듐계 복합 산화물이고, 보다 바람직하게는 인듐-주석 복합 산화물(ITO)이다. 인듐계 복합 산화물은 가시광 영역(380nm∼780nm)에서 높은 투과율(예컨대, 80% 이상)을 갖고, 또한 단위 면적당의 표면 저항값이 낮다는 특징을 갖고 있다. The conductive layer can be formed by depositing a metal oxide film on any suitable substrate by any suitable film forming method (e.g., vacuum deposition, sputtering, CVD, ion plating, spraying, etc.). After the film formation, a heat treatment (for example, 100 ° C to 200 ° C) may be performed as necessary. By performing the heat treatment, the amorphous film can be crystallized. Examples of the metal oxide include indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin composite oxide, tin-antimony composite oxide, zinc-aluminum composite oxide and indium-zinc composite oxide. The indium oxide may be doped with a divalent metal ion or a tetravalent metal ion. Preferably an indium-based composite oxide, and more preferably an indium-tin composite oxide (ITO). The indium based composite oxide has a high transmittance (for example, 80% or more) in a visible light region (380 nm to 780 nm) and a low surface resistance value per unit area.
도전층이 금속 산화물을 포함하는 경우, 해당 도전층의 두께는 바람직하게는 50nm 이하이고, 보다 바람직하게는 35nm 이하이다. 도전층의 두께의 하한은 바람직하게는 10nm이다. When the conductive layer contains a metal oxide, the thickness of the conductive layer is preferably 50 nm or less, more preferably 35 nm or less. The lower limit of the thickness of the conductive layer is preferably 10 nm.
도전층의 표면 저항값은 바람직하게는 300Ω/□ 이하이고, 보다 바람직하게는 150Ω/□ 이하이며, 더욱 바람직하게는 100Ω/□ 이하이다. The surface resistance value of the conductive layer is preferably 300? / ?, more preferably 150? / ?, still more preferably 100? /? Or less.
도전층은 상기 기재로부터 제2 위상차층에 전사되어 도전층 단독으로 광학 적층체의 구성층으로 되어도 되고, 기재와의 적층체(기재 부착 도전층)로서 제2 위상차층에 적층되어도 된다. The conductive layer may be transferred from the base material to the second retardation layer so that the conductive layer alone may be a constituent layer of the optical laminate or may be laminated to the second retarder layer as a laminate (base conductive layer).
기재를 구성하는 재료로서는 임의의 적절한 수지를 들 수 있다. 바람직하게는 투명성이 우수한 수지이다. 구체예로서는 환상 올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지를 들 수 있다. As a material constituting the substrate, any suitable resin may be mentioned. It is preferably a resin having excellent transparency. Specific examples thereof include a cycloolefin resin, a polycarbonate resin, a cellulose resin, a polyester resin and an acrylic resin.
바람직하게는 상기 기재는 광학적으로 등방성이고, 따라서 도전층은 등방성 기재 부착 도전층으로서 광학 적층체에 이용될 수 있다. 광학적으로 등방성인 기재(등방성 기재)를 구성하는 재료로서는 예컨대, 노보넨계 수지나 올레핀계 수지 등의 공액계를 갖지 않는 수지를 주골격으로 하고 있는 재료, 락톤환이나 글루타르이미드 환 등의 환상 구조를 아크릴계 수지의 주쇄 중에 갖는 재료 등을 들 수 있다. 이와 같은 재료를 이용하면, 등방성 기재를 형성하였을 때에, 분자 쇄의 배향을 따르는 위상차의 발현을 작게 억제할 수 있다. Preferably, the substrate is optically isotropic, and thus the conductive layer can be used in the optical laminate as an electrically conductive layer with an isotropic substrate. Examples of the material constituting the optically isotropic base material (isotropic base material) include a material having a main skeleton of a resin having no conjugated system such as a norbornene resin or an olefin resin, a cyclic structure such as a lactone ring or a glutarimide ring For example, a material having an acryl-based resin in the main chain of the acrylic resin. By using such a material, the occurrence of the phase difference along the molecular chain orientation can be suppressed to a small degree when the isotropic base material is formed.
기재의 두께는 바람직하게는 10㎛∼200㎛이고, 보다 바람직하게는 20㎛∼60㎛이다.The thickness of the substrate is preferably 10 to 200 mu m, more preferably 20 to 60 mu m.
기재의 투습도는 5mg/m2·24h∼10mg/m2·24h이고, 바람직하게는 6mg/m2·24h∼9mg/m2·24h이고, 보다 바람직하게는 7mg/m2·24h∼8mg/m2·24h이다. 기재의 치수 변화율은, 0.3% 이하이고, 바람직하게는 0.1 % 이하이며, 보다 바람직하게는 0.05% 이하이다. 또한, 기재의 선 팽창 계수는 6(×10-6/℃)∼9 (×10-6/℃)이고, 바람직하게는 7(×10-6/℃)∼8(×10-6/℃)이다. 기재의 상기 특성이 이와 같은 범위이면 , 고온 고습 하에서의 도전층의 크랙 발생을 현저하게 억제할 수 있다. 또한, 투습도는 JIS Z0208의 투습도 시험(컵 법)에 준거하여 결정될 수 있다. 선 팽창 계수는 JIS K 7197에 준한 TMA 측정에 의하여 결정될 수 있다.Water vapor permeability of the substrate is 5mg / m 2 · 24h~10mg / m 2 · 24h , preferably 6mg / m 2 · 24h~9mg / m 2 · 24h , more preferably from 7mg / m 2 · 24h~8mg / m 2 · 24h. The rate of dimensional change of the substrate is 0.3% or less, preferably 0.1% or less, and more preferably 0.05% or less. Further, the linear expansion coefficient of the substrate 6 (× 10 -6 / ℃) ~9 (× 10 -6 / ℃) , preferably from 7 (× 10 -6 / ℃) ~8 (× 10 -6 / ℃ )to be. When the above-mentioned characteristics of the base material are in this range, cracking of the conductive layer under high temperature and high humidity can be remarkably suppressed. The moisture permeability can be determined in accordance with the moisture permeability test (cup method) of JIS Z0208. Linear expansion coefficient can be determined by TMA measurement according to JIS K 7197.
상기 도전층 및/또는 상기 도전층 부착 등방성 기재의 도전층은 필요에 따라 패턴화될 수 있다. 패턴화에 의하여 도통부와 절연부가 형성될 수 있다. 패터닝 방법으로서는 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 패터닝 방법의 구체예로서는 웨트 에칭법, 스크린 인쇄법을 들 수 있다. The conductive layer and / or the conductive layer of the isotropic substrate with the conductive layer may be patterned as required. Conductive portions and insulating portions can be formed by patterning. As the patterning method, any suitable method can be employed. Specific examples of the patterning method include a wet etching method and a screen printing method.
필요에 따라, 도전층(51)과 기재(52)와의 사이에 하드 코트층(도시하지 않음)이 설치되어도 된다. 하드 코트층으로서는 임의의 적절한 구성을 갖는 하드 코트층이 이용될 수 있다. 하드 코트층의 두께는 예컨대 0.5㎛∼2㎛이다. 헤이즈가 허용 범위이면, 하드 코트층에 뉴턴 링(newton ring) 저감을 위한 미립자를 첨가하여도 된다. 또한, 필요에 따라 도전층(51)과 기재(52)(존재하는 경우에는 하드 코트층)와의 사이에 도전층의 밀착성을 높이기 위한 앵커 코트층 및/또는 반사율을 조정하기 위한 굴절률 조정층이 설치되어도 된다. 앵커 코트층 및 굴절률 조정층으로서는 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 앵커 코트층 및 굴절률 조정층은 수nm∼수십nm의 박층일 수 있다. If necessary, a hard coat layer (not shown) may be provided between the conductive layer 51 and the
필요에 따라, 기재(52)의 도전층과 반대측(광학 적층체의 최외측)에 다른 하드 코트층이 설치되어도 된다. 당해 하드 코트층은 대표적으로는 바인더 수지층과 구형 입자를 포함하고, 구형 입자가 바인더 수지층으로부터 돌출하여 돌출부를 형성하고 있다. 이와 같은 하드 코트층의 상세는 일본공개특허공보 제2013-145547호에 기재되어 있고, 당해 공보의 기재는 본 명세서에 참고로 원용된다. If necessary, another hard coat layer may be provided on the opposite side of the conductive layer of the base material 52 (the outermost side of the optical laminate). The hard coat layer typically includes a binder resin layer and spherical particles, and spherical particles protrude from the binder resin layer to form protrusions. Details of such a hard coat layer are described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-145547, and the description of such a publication is incorporated herein by reference.
G. 기타G. Other
본 발명의 실시 형태에 따른 광학 적층체는 그 밖의 위상차층을 추가로 포함하고 있어도 된다. 그 밖의 위상차층의 광학적 특성(예컨대, 굴절률 특성, 면내 위상차, Nz 계수, 광탄성 계수), 두께, 배치 위치 등은 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. The optical laminate according to the embodiment of the present invention may further include another retardation layer. The optical properties (for example, refractive index characteristics, in-plane retardation, Nz coefficient, photoelastic coefficient), thickness, arrangement position and the like of other retardation layers can be appropriately set according to the purpose.
실용적으로는, 도전층(50)(존재하는 경우에는 도전층의 기재(52))의 표면에는 표시 셀에 첩합하기 위한 점착제층(도시하지 않음)이 설치되어 있다. 당해 점착제층의 표면에는 광학 적층체가 사용에 제공될 때까지, 박리 필름이 첩합되어 있는 것이 바람직하다. Practically, a pressure-sensitive adhesive layer (not shown) for bonding to the display cell is provided on the surface of the conductive layer 50 (
H. 화상 표시 장치H. Image display device
상기 A항에서 G항에 기재된 광학 적층체는 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명은 이와 같은 광학 적층체를 이용한 화상 표시 장치를 포함한다. 화상 표시 장치의 대표예로서는 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다. 본 발명의 실시 형태에 따른 화상 표시 장치는 그 시인측에 상기 A항으로부터 G항에 기재된 광학 적층체를 구비한다. 광학 적층체는 도전층이 표시 셀(예컨대, 액정 셀, 유기 EL 셀)측이 되도록(편광자가 시인측이 되도록) 적층되어 있다. 즉, 본 발명의 실시 형태에 따른 화상 표시 장치는, 표시 셀(예컨대, 액정 셀, 유기 EL 셀)과 편광판과의 사이에 터치 센서가 내장된, 소위 이너 터치 패널형 입력 표시 장치 일 수 있다. 이 경우, 터치 센서는 도전층(또는 기재 부착 도전층)과 표시 셀과의 사이에 배치될 수 있다. 터치 센서의 구성에 대해서는 업계에서 주지의 구성이 채용될 수 있으므로 상세한 설명은 생략한다. The optical laminate described in item A to G of the above can be applied to an image display device. Therefore, the present invention includes an image display apparatus using such an optical laminate. Typical examples of the image display device include a liquid crystal display device and an organic EL display device. The image display apparatus according to the embodiment of the present invention has the optical laminate described in the items A to G above on its viewing side. The optical laminate is laminated such that the conductive layer is on the side of the display cell (liquid crystal cell, organic EL cell, for example) (the polarizer is on the viewing side). That is, the image display apparatus according to the embodiment of the present invention may be a so-called inner touch panel type input display device in which a touch sensor is incorporated between a display cell (e.g., liquid crystal cell, organic EL cell) and a polarizing plate. In this case, the touch sensor can be disposed between the conductive layer (or the substrate-attached conductive layer) and the display cell. The configuration of the touch sensor may be well known in the art, and thus a detailed description thereof will be omitted.
[실시예][Example]
이하, 실시예에 의하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 특성의 측정 방법은 다음과 같다. Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, but the present invention is not limited to these examples. The measurement method of each characteristic is as follows.
(1) 두께(1) Thickness
도포 형성된 위상차층(액정 화합물의 배향 고화층)에 대해서는 오오츠카 전자사 제조의 MCPD2000을 이용하여 간섭막 두께 측정법에 의하여 측정하였다. 그 밖의 필름에 대해서는 디지털 마이크로미터(안리츠사 제조의 KC-351C)를 이용하여 측정하였다.The applied retardation layer (oriented solidified layer of liquid crystal compound) was measured by interference film thickness measurement method using MCPD2000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Other films were measured using a digital micrometer (KC-351C manufactured by Anritsu).
(2) 위상차층의 위상차값(2) The retardation value of the retardation layer
실시예 및 비교예에서 이용한 위상차층의 굴절률 nx, ny 및 nz를 자동 복굴절 측정 장치(오우지 계측 기기 주식회사 제조, 자동 복굴절계 KOBRA-WPR)에 의하여 계측하였다. 면내 위상차 Re의 측정 파장은 450nm 및 550nm이고, 두께 방향 위상차 Rth의 측정 파장은 550nm이며, 측정 온도는 23℃이었다. The refractive indexes nx, ny and nz of the retardation layer used in Examples and Comparative Examples were measured by an automatic birefringence measurement apparatus (automatic birefringence system KOBRA-WPR manufactured by Oji Measurement Instruments Co., Ltd.). The measurement wavelength of the in-plane retardation Re was 450 nm and 550 nm, the measurement wavelength of the thickness direction retardation Rth was 550 nm, and the measurement temperature was 23 占 폚.
(3) 저장 탄성률(3) Storage modulus
실시예 및 비교예에서 이용한 점착제층에 관하여 레오메트릭사 제조의 동적 점탄성 측정 장치 'ARES'를 이용하여 JIS K 7244에 근거하여 85℃에서의 저장 탄성률을 측정하였다. With respect to the pressure-sensitive adhesive layer used in Examples and Comparative Examples, the storage modulus at 85 캜 was measured based on JIS K 7244 using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus 'ARES' manufactured by Rheometric Company.
(4) 위상차층 또는 광학 적층체의 치수 변화율(4) Dimensional change rate of retardation layer or optical laminate
실시예 및 비교예에서 이용한 위상차층 또는 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체를 100mm×100mm로 절취하여 측정 시료로 하였다. 당해 측정 시료를 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 오븐 중에 240시간 보관한 후의 치수를 측정하고, 롤의 장척 방향과 직교하는 방향에 대한 오븐 투입 전의 치수로부터의 변화율을 치수 변화율로하였다. The retardation layer used in Examples and Comparative Examples or the optical laminate obtained in Examples and Comparative Examples was cut into 100 mm x 100 mm and used as a measurement sample. The dimension after the sample was stored for 240 hours in an oven at a temperature of 85 캜 and a relative humidity of 85% was measured and the rate of change from the dimension before the oven was introduced into the oven in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the roll was regarded as a rate of dimensional change.
(5) 광학 적층체의 내구성(5) Durability of optical laminate
실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체를 100mm×50mm로 절취하고, 무알카리 유리에 첩합하여 측정 시료로 하였다. 당해 측정 시료를 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 오븐 중에서 120시간 보관하였다. 그 후, 측정 시료를 오븐으로부터 취출하고 도전층의 상태를 레이저 현미경에 의해 관찰하여 다음의 기준으로 평가하였다. The optical laminate obtained in Examples and Comparative Examples was cut into a size of 100 mm x 50 mm and attached to a non-alkali glass to obtain a measurement sample. The sample to be measured was stored in an oven at a temperature of 85 캜 and a relative humidity of 85% for 120 hours. Thereafter, the measurement sample was removed from the oven, and the state of the conductive layer was observed by a laser microscope and evaluated according to the following criteria.
양호: 크랙이 인정되지 않았다.Good: Cracks were not recognized.
불량: 크랙이 현저하게 인정되었다.Poor: Crack was recognized significantly.
[참고예 1: 편광판의 제작][Reference Example 1: Production of polarizer]
두께 30㎛의 폴리비닐알코올(PVA)계 수지 필름(쿠라레사 제조, 제품명 'PE3000')의 장척 롤을, 롤 연신기에 의해 장척 방향으로 5.9배가 되도록 장척 방향으로 일축 연신하면서 동시에 팽윤, 염색, 가교, 세정 처리를 실시하고, 마지막으로 건조 처리를 실시함으로써 두께 12㎛의 편광자(1)를 제작하였다.A long roll of a polyvinyl alcohol (PVA) type resin film (product name "PE3000", manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a thickness of 30 탆 was uniaxially stretched in the longitudinal direction such that it was 5.9 times in the longitudinal direction by a roll stretching machine, , A cleaning treatment was carried out, and finally a drying treatment was carried out to produce a polarizer 1 having a thickness of 12 탆.
구체적으로는 팽윤 처리는 20℃의 순수(純水)로 처리하면서 2.2배로 연신하였다. 이어서, 염색 처리는 얻어지는 편광자의 단체 투과율이 45.0%가 되도록 요오드 농도가 조정된 요오드와 요오드화 칼륨의 중량비가 1:7인 30℃의 수용액 중에서 처리하면서 1.4배로 연신하였다. 또한, 가교 처리는 2단계의 가교 처리를 채용하되, 1단계째의 가교 처리는 40℃의 붕산과 요오드화 칼륨을 용해한 수용액에서 처리하면서 1.2배로 연신하였다. 1단계째의 가교 처리의 수용액의 붕산 함유량은 5.0중량%로, 요오드화 칼륨 함유량은 3.0중량%로 하였다. 2단계째의 가교 처리는 65℃의 붕산과 요오드화 칼륨을 용해한 수용액에서 처리하면서 1.6배로 연신하였다. 2단계째의 가교 처리의 수용액의 붕산 함유량은 4.3중량%로, 요오드화 칼륨 함유량은 5.0중량%로 하였다. 또한 세정 처리는 20℃의 요오드화 칼륨 수용액으로 처리하였다. 세정 처리의 수용액의 요오드화 칼륨 함유량은 2.6중량%로 하였다. 마지막으로, 건조 처리는 70℃에서 5분간 건조시켜 편광자(1)를 얻었다.More specifically, the swelling treatment was conducted at a stretching ratio of 2.2 times while being treated with pure water at 20 ° C. Then, in the dyeing treatment, the film was stretched to 1.4 times while being treated in an aqueous solution of 30 DEG C at a weight ratio of iodine and potassium iodide adjusted to an iodine concentration of 1: 7 such that the ultraviolet transmittance of the resulting polarizer was 45.0%. The cross-linking treatment was carried out in two stages while the first-stage cross-linking treatment was carried out at 1.2 times while being treated in an aqueous solution of boric acid and potassium iodide dissolved at 40 占 폚. The content of boric acid in the aqueous solution of the crosslinking treatment in the first step was 5.0 wt%, and the content of potassium iodide was 3.0 wt%. The crosslinking treatment in the second step was conducted in an aqueous solution containing boric acid and potassium iodide at 65 DEG C while being stretched to 1.6 times. The content of boric acid in the aqueous solution of the crosslinking treatment in the second step was 4.3% by weight, and the content of potassium iodide was 5.0% by weight. Further, the cleaning treatment was performed with an aqueous solution of potassium iodide at 20 占 폚. The potassium iodide content in the aqueous solution for the washing treatment was 2.6 wt%. Finally, the drying treatment was conducted at 70 캜 for 5 minutes to obtain a polarizer (1).
얻어진 편광자(1)의 양면에 폴리비닐알코올계 접착제를 개재하여 코니카 미놀타 주식회사 제조의 TAC 필름(제품명: KC2UA, 두께: 25㎛, 제2 보호층에 대응) 및 당해 TAC 필름의 편면에 하드 코트 처리에 의해 형성된 하드 코트(HC)층을 갖는 HC-TAC 필름(두께: 32㎛, 제1 보호층에 대응)을 각각 첩합하여 제1 보호층/편광자(1)/제2 보호층의 구성을 갖는 편광판(1)을 얻었다. A TAC film (product name: KC2UA, thickness: 25 mu m, corresponding to the second protective layer) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. was applied to both surfaces of the obtained polarizer 1 via a polyvinyl alcohol adhesive agent and a hard coat treatment (Thickness: 32 탆, corresponding to the first protective layer) having a hard coat (HC) layer formed thereon with the first protective layer / polarizer 1 / second protective layer To obtain a polarizing plate (1).
[참고예 2: 제1 위상차층을 구성하는 액정 배향 고화층의 제작][Reference Example 2: Production of liquid crystal alignment solidified layer constituting the first retardation layer]
네마틱 액정 상을 나타내는 중합성 액정(BASF사 제조: 상품명 'Palio color LC242', 하기 화학식 1에 나타냄) 10g과 당해 중합성 액정 화합물에 대한 광중합 개시제(BASF사 제조: 상품명 '이르가큐어 907') 3g을 톨루엔 40g에 용해하여 액정 조성물(도공액)을 조제하였다.10 g of a polymerizable liquid crystal showing a nematic liquid crystal phase (trade name: 'Palio color LC242', manufactured by BASF) and 10 g of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907 manufactured by BASF) ) Was dissolved in 40 g of toluene to prepare a liquid crystal composition (coating liquid).
[화학식 1] [Chemical Formula 1]
폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(두께 38㎛) 표면을 러빙 천(rubbing cloth)을 이용하여 러빙하여 배향 처리를 실시하였다. 배향 처리의 조건은 러빙 횟수(러빙 롤 개수)가 1, 러빙 롤 반경(r)이 76.89mm, 러빙 롤 회전 수(nr)가 1500rpm, 필름 반송 속도(v)가 83mm/sec이고, 러빙 강도(RS) 및 압입량(M)은 표 1에 나타내는 5종류의 조건 (a)∼(e)에서 수행하였다. The surface of the polyethylene terephthalate (PET) film (38 mu m thick) was subjected to orientation treatment by rubbing with a rubbing cloth. The conditions of the alignment treatment were as follows: the number of rubbing times (the number of rubbing rolls) was 1, the rubbing roll radius r was 76.89 mm, the rubbing roll speed nr was 1,500 rpm, the film conveying speed v was 83 mm / RS and the amount of indentation M were carried out under the five conditions (a) to (e) shown in Table 1.
[표 1] [Table 1]
배향 처리의 방향은 편광판에 첩합 시에 편광자의 흡수축의 방향에 대하여 시인측에서 볼 때 -75°방향이 되도록 하였다. 이 배향 처리 표면에 상기 액정 도공액을 바 코터에 의해 도공하고 90℃에서 2분간 가열 건조함으로써 액정 화합물을 배향시켰다. 조건 (a)∼(c)에서는 액정 화합물의 배향 상태가 매우 양호하였다. 조건 (d) 및 (e)에서는 액정 화합물의 배향에 약간의 어긋남이 발생하였지만, 실용상으로는 문제가 없는 정도이었다. 이와 같이 하여 형성된 액정층에 메탈할라이드 램프를 이용하여 1mJ/cm2의 광을 조사하고 당해 액정층을 경화시킴으로써 PET 필름상에 위상차층(액정 배향 고화층)(1)을 형성하였다. 위상차층(1)의 두께는 2㎛, 면내 위상차 Re(550)은 236nm이었다. 또한 위상차층(1)은 nx>ny=nz의 굴절률 분포를 갖고 있었다.The direction of the alignment treatment was -75 ° when viewed from the viewer side with respect to the direction of the absorption axis of the polarizer at the time of conjugation to the polarizer. The liquid crystal coating liquid was coated on this alignment treatment surface by a bar coater and heated and dried at 90 DEG C for 2 minutes to orient the liquid crystal compound. In the conditions (a) to (c), the alignment state of the liquid crystal compound was very good. In the conditions (d) and (e), slight misalignment occurred in the alignment of the liquid crystal compound, but there was no problem in practical use. The thus formed liquid crystal layer was irradiated with light of 1 mJ / cm 2 using a metal halide lamp, and the liquid crystal layer was cured to form a retardation layer (liquid crystal alignment solidified layer) 1 on the PET film. The thickness of the retardation layer 1 was 2 탆 and the in-plane retardation Re (550) was 236 nm. Further, the retardation layer 1 had a refractive index distribution of nx > ny = nz.
[참고예 3: 제2 위상차층을 구성하는 액정 배향 고화층의 제작][Reference Example 3: Preparation of liquid crystal alignment solidified layer constituting the second retardation layer]
폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(두께 38㎛) 표면을 러빙 천을 이용하여 러빙하여 배향 처리를 실시하였다. 배향 처리의 방향은 편광판에 첩합 시에 편광자의 흡수축의 방향에 대하여 시인측에서 볼 때 -15°방향이 되도록 하였다. 이 배향 처리 표면에 참고예 2와 동일한 액정 도공액을 도공하고, 참고예 2와 동일하게 하여 액정 화합물을 배향 및 경화시켜 PET 필름 상에 위상차층(2)을 형성하였다. 위상차층(2)의 두께는 1.2㎛, 면내 위상차 Re(550)은 115nm이었다. 또한 위상차층(2)은 nx>ny=nz의 굴절률 분포를 갖고 있었다. The surface of the polyethylene terephthalate (PET) film (38 mu m thick) was subjected to orientation treatment by rubbing with a rubbing cloth. The direction of the alignment treatment was -15 ° when viewed from the viewer side with respect to the direction of the absorption axis of the polarizer at the time of conjugation to the polarizer. The alignment treatment surface was coated with the same liquid crystal coating solution as in Reference Example 2, and the liquid crystal compound was aligned and cured in the same manner as in Reference Example 2 to form a retardation layer (2) on the PET film. The retardation layer 2 had a thickness of 1.2 占 퐉 and the in-plane retardation Re (550) was 115 nm. Further, the retardation layer 2 had a refractive index distribution of nx > ny = nz.
[참고예 4: 제1 위상차층 및 제2 위상차층을 구성하는 적층 위상차 필름의 제작][Reference Example 4: Production of laminated retardation film constituting the first retardation layer and the second retardation layer]
주식회사 카네카 제조의 시클로올레핀계의 위상차 필름(A)(제품명: KUZ-필름 #270, 두께: 33㎛, Re(550)=270nm)와 주식회사 카네카 제조의 시클로올레핀계의 위상차 필름(B)(제품명: KUZ-필름 #140, 두께: 28㎛, Re(550)=140nm)를 각각의 지상축이 이루는 각도가 60°가 되도록 두께가 5㎛인 아크릴계 접착층을 개재하여 첩합하고 적층 위상차 필름을 얻었다. 이 적층 위상차 필름을 위상차층(3)으로 하였다. 이 적층 위상차 필름에서 도전층 측에 배치되는 위상차 필름(위상차 필름(B))의 상기 (4)에 의한 치수 변화율은 0.95%이었다. (A) (trade name: KUZ-Film # 270, thickness: 33 μm, Re (550) = 270 nm) manufactured by Kaneka Corporation and a cycloolefin-based retardation film (B) (Thickness: 28 占 퐉, Re (550) = 140 nm) having a thickness of 5 占 퐉 so that the angle formed by the respective slow axes was 60 占 and the laminated retardation film was laminated . This laminated retardation film was used as a retardation layer (3). The dimensional change ratio of the retardation film (retardation film (B)) disposed on the conductive layer side in this laminated retardation film was 0.95%.
[참고예 5: 위상차층을 구성하는 위상차 필름의 제작][Reference Example 5: Production of retardation film constituting retardation layer]
5-1. 폴리카보네이트 수지 필름의 제작5-1. Production of polycarbonate resin film
이소소르비드(ISB) 26.2 질량부, 9,9-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]플루오렌(BHEPF) 100.5 질량부, 1,4-시클로헥산디메탄올(1,4-CHDM) 10.7 질량부, 디페닐카보네이트(DPC) 105.1 질량부 및 촉매로서 탄산 세슘(0.2질량% 수용액) 0.591 질량부를 각각 반응 용기에 투입하여, 질소 분위기 하에서 반응의 제1단째의 공정으로서 반응 용기의 열매(熱媒) 온도를 150℃로 하고, 필요에 따라 교반하면서 원료를 용해시켰다(약 15분). 26.5 parts by mass of isophorone diisocyanate (ISB), 100.5 parts by mass of 9,9- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene (BHEPF), 1,4-cyclohexanedimethanol ), 105.1 parts by mass of diphenyl carbonate (DPC), and 0.591 parts by mass of cesium carbonate (0.2 mass% aqueous solution) as a catalyst were charged into a reaction vessel, respectively. (Heat medium) was set at 150 ° C., and the raw material was dissolved (about 15 minutes) while stirring as required.
이어서, 반응 용기 내의 압력을 상압으로부터 13.3kPa로 하고, 반응 용기의 열매 온도를 190℃까지 1시간에 상승시키면서 발생하는 페놀을 반응 용기 밖으로 취출하였다. Then, the pressure in the reaction vessel was changed from the atmospheric pressure to 13.3 kPa, and the phenol generated while raising the heat temperature of the reaction vessel to 190 deg. C over 1 hour was taken out of the reaction vessel.
반응 용기 내의 온도를 190℃에서 15분 유지한 후, 제2단째의 공정으로서 반응 용기 내의 압력을 6.67kPa로 하고, 반응 용기의 열매 온도를 230℃까지 15분에 상승시켜, 발생하는 페놀을 반응 용기 밖으로 취출하였다. 교반기의 교반 토크가 상승함에 따라 8분에 250℃까지 승온하고, 추가로 발생하는 페놀을 제거하기 위하여 반응 용기 내의 압력을 0.200kPa 이하로 감압하였다. 소정의 교반 토크에 도달한 후, 반응을 종료하고 생성된 반응물을 수중에 압출한 후에 펠릿화를 수행하여 BHEPF/ISB/1,4-CHDM=47.4 몰%/37.1 몰%/15.5 몰%의 폴리카보네이트 수지를 얻었다.After maintaining the temperature in the reaction vessel at 190 占 폚 for 15 minutes, the pressure in the reaction vessel was set to 6.67 kPa as the second step, the temperature of the reaction vessel was elevated to 230 占 폚 in 15 minutes, And was taken out of the container. As the stirring torque of the stirrer rises, the temperature was raised to 250 ° C in 8 minutes, and the pressure in the reaction vessel was reduced to 0.200 kPa or less in order to remove additional phenol. After reaching a predetermined stirring torque, the reaction was terminated and the resulting reaction product was extruded into water and then pelletized to obtain 47.4 mol% / 37.1 mol% / 15.5 mol% BHEPF / ISB / 1,4- To obtain a carbonate resin.
얻어진 폴리카보네이트 수지의 유리 전이 온도는 136.6℃이고, 환원 점도는 0.395dL/g이었다.The obtained polycarbonate resin had a glass transition temperature of 136.6 ° C and a reduced viscosity of 0.395 dL / g.
얻어진 폴리카보네이트 수지를 80℃에서 5시간 진공 건조를 한 후, 단축 압출기(이스즈 화공기사 제조, 스크류 직경 25mm, 실린더 설정 온도: 220℃), T다이(폭 200mm, 설정 온도: 220℃), 냉각 롤(chill roll)(설정 온도: 120∼130℃) 및 권취기를 구비한 필름 제막 장치를 이용하여 두께 120㎛의 폴리카보네이트 수지 필름을 제작하였다. The obtained polycarbonate resin was vacuum-dried at 80 占 폚 for 5 hours and then dried by a single screw extruder (manufactured by Isuzu Chemical Co., screw diameter 25 mm, cylinder set temperature 220 占 폚), T die (width 200 mm, set temperature 220 占 폚) A polycarbonate resin film having a thickness of 120 占 퐉 was prepared using a film-forming apparatus equipped with a roll (set temperature: 120 to 130 占 폚) and a winding machine.
5-2. 위상차 필름의 제작5-2. Production of phase difference film
텐터 연신기를 이용하여 얻어진 폴리카보네이트 수지 필름을 가로 연신하여 두께 50㎛의 위상차 필름을 얻었다. 그 때, 연신 배율은 250%이고, 연신 온도를 137∼139℃로 하였다. The polycarbonate resin film obtained by using a tenter stretching machine was transversely stretched to obtain a retardation film having a thickness of 50 占 퐉. At that time, the stretching magnification was 250% and the stretching temperature was 137 to 139 占 폚.
얻어진 위상차 필름의 Re(550)은 137∼147nm이고, Re(450)/Re(550)은 0.89이며, Nz계수는 1.21이고, 배향각(지상축의 방향)은 장척 방향에 대하여 90°이었다. 이 위상차 필름을 위상차층(4)로 이용하였다. 이 위상차 필름의 상기 (4)에 의한 치수 변화율은 1.6%이었다. Re (550) of the obtained retardation film was 137 to 147 nm, Re (450) / Re (550) was 0.89, Nz coefficient was 1.21, and the orientation angle (direction of the slow axis) was 90 degrees with respect to the long axis direction. This retardation film was used as the retardation layer 4. The dimensional change ratio of the retardation film according to (4) was 1.6%.
[참고예 6: 도전성 필름(기재 부착 도전층)의 제작][Reference Example 6: Production of conductive film (base-attached conductive layer)] [
기재로서 두께 50㎛의 폴리시클로올레핀 필름(일본 제온사 제조, 상품명 'ZEONOR(등록 상표)')을 이용하였다. 이 기재의 한쪽 면에 자외선 경화성 수지 조성물(DIC사 제조, 상품명 'UNIDIC(등록 상표) RS29-120')을 도포하고, 80℃에서 1분간 건조시킨 후, 자외선 경화시켜, 두께 1.0㎛의 하드 코트층을 형성하였다. 이어서 기재의 다른 쪽 면에 상기와 동일한 자외선 경화성 수지 조성물 100중량부와, 최빈(最頻) 입자경이 1.9㎛인 아크릴계 구상(球狀) 입자(소켄 화학사 제조, 상품명 'MX-180TA') 0.002 중량부를 포함하는 구상 입자 포함 경화성 수지 조성물을 도포 하고, 그 후 자외선 경화시켜 두께 1.0㎛의 하드 코트층을 형성하였다. 상기에서 얻어진 폴리시클로올레핀 필름을 스퍼터 장치에 투입하고 입자를 포함하지 않는 하드 코트층 표면에 두께 27nm의 인듐 주석 산화물의 비정질층을 형성하였다. 이어서, 인듐 주석 산화물의 비정질층이 형성된 폴리올레핀 필름을 130℃의 가열 오븐에서 90분간 가열 처리하여 표면 저항값이 100Ω/□인 투명 도전성 필름을 제작하였다. 이 투명 도전성 필름을 기재 부착 도전층으로 하였다. A polycycloolefin film (trade name "ZEONOR (registered trademark)", manufactured by Zeon Corporation, Japan) having a thickness of 50 μm was used as a substrate. An ultraviolet ray curable resin composition (trade name: UNIDIC (registered trademark) RS29-120 ') was coated on one side of this substrate, dried at 80 DEG C for 1 minute, and then cured by ultraviolet rays to obtain a hard coat Layer. Subsequently, 100 parts by weight of the same ultraviolet-curable resin composition as above, and 0.002 wt% of acrylic spherical particles (trade name: MX-180TA, manufactured by Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.) having a minimum particle diameter of 1.9 μm Containing spherical particle-containing curable resin composition was coated thereon and then cured by ultraviolet rays to form a hard coat layer having a thickness of 1.0 탆. The polycycloolefin film obtained above was charged into a sputtering apparatus to form an amorphous layer of indium tin oxide having a thickness of 27 nm on the surface of the hard coat layer not containing particles. Subsequently, the polyolefin film on which the amorphous layer of indium tin oxide was formed was heat-treated in a heating oven at 130 캜 for 90 minutes to prepare a transparent conductive film having a surface resistance of 100? / ?. This transparent conductive film was used as the substrate-attached conductive layer.
[참고예 7: 도전성 필름(기재 부착 도전층)의 제작]Reference Example 7: Fabrication of conductive film (substrate-attached conductive layer)
기재로서 두께 50㎛의 PET 필름(도레이사 제조, 상품명 '루미라 #50')을 이용한 것 외에는 참고예 5와 동일하게 하여, 표면 저항값이 100Ω/□인 투명 도전성 필름을 제작하였다. 이 투명 도전성 필름을 기재 부착 도전층으로 하였다. A transparent conductive film having a surface resistance of 100? /? Was prepared in the same manner as in Reference Example 5 except that a PET film having a thickness of 50 占 퐉 (
[참고예 8: 점착제층의 제작][Reference Example 8: Production of pressure-sensitive adhesive layer]
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에 아크릴산 부틸 99부, 아크릴산 4-히드록시부틸 1.0부 및 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.3부를 초산 에틸과 함께 첨가하였다. 반응 용기 중의 혼합물을 질소 가스 기류 하에서 60℃에서 4시간 반응시킨 후, 당해 반응액에 초산 에틸을 첨가하여 중량 평균 분자량 165만의 아크릴계 폴리머를 함유하는 용액(고형분 농도 30%)을 얻었다. 상기 아크릴계 폴리머 용액의 고형분 100부 당 0.15부의 디벤조일퍼옥사이드(일본 유지(주) 제조: 나이퍼(NYPER)-BO-Y)와 0.1부의 트리메틸올프로판크실렌디이소시아네이트(미츠이다케다 케미컬(주): 타케네이트 D110N)와 0.2부의 실란커플링제(소켄 화학(주) 제조: A-100, 아세토아세틸기 함유 실란커플링제)를 배합하여 점착제층 형성용 용액을 얻었다. 상기 점착제층 형성용 용액을 실리콘계 박리제로 표면 처리한 폴리에스테르 필름으로 이루어지는 세퍼레이트에 도공하고 155℃에서 3분간 가열 처리하여 두께 15㎛의 점착제층(A)를 얻었다. 점착제층(A)의 상기 (3)에 의한 저장 탄성률은 5.3×104Pa이었다. To the reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirrer were added 99 parts of butyl acrylate, 1.0 part of 4-hydroxybutyl acrylate and 0.3 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile together with ethyl acetate . The mixture in the reaction vessel was reacted at 60 DEG C for 4 hours in a stream of nitrogen gas, and ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (solid content concentration: 30%) containing an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 1,600,000. 0.15 part of dibenzoyl peroxide (NYPER-BO-Y, manufactured by Nippon Oil and Fats Co., Ltd.) and 0.1 part of trimethylolpropane xylene diisocyanate (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) were added to 100 parts of solid content of the acryl- Nate D110N) and 0.2 part of a silane coupling agent (A-100, manufactured by Soken Chemical & Engineering Co., Ltd., acetoacetyl group-containing silane coupling agent) were blended to obtain a pressure-sensitive adhesive layer forming solution. The solution for forming a pressure-sensitive adhesive layer was coated on a separator composed of a polyester film surface-treated with a silicone-based releasing agent and heat-treated at 155 캜 for 3 minutes to obtain a pressure-sensitive adhesive layer (A) with a thickness of 15 탆. The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer (A) according to the above (3) was 5.3 x 10 < 4 >
[참고예 9: 점착제층의 제작][Referential Example 9: Production of pressure-sensitive adhesive layer]
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에 아크릴산 부틸 94.9부, 아크릴산 5부 및 아크릴산 2-히드록시에틸 0.1부, 및 이들의 모노머(고형분) 100부에 대하여 0.3부의 벤조일퍼옥사이드를 초산 에틸과 함께 첨가하였다. 반응 용기 중의 혼합물을, 질소 가스 기류 하에서 60℃에서 7시간 반응시킨 후, 당해 반응액에 초산 에틸을 첨가하여 중량 평균 분자량 220만의 아크릴계 폴리머를 함유하는 용액(고형분 농도 30중량%)을 얻었다. 상기 아크릴계 폴리머 용액의 고형분 100부당 0.6부의 트리메틸올프로판톨릴렌디이소시아네이트(일본 폴리우레탄(주) 제조: 콜로네이트 L)와 0.075부의 γ-글리시독시프로필메톡시실란(신에츠 화학 공업(주) 제조: KBM-403)을 배합하여, 점착제층 형성용 용액을 얻었다. 상기 점착제층 형성용 용액을 실리콘계 박리제로 표면 처리한 폴리에스테르 필름으로 이루어지는 세퍼레이터에 도공하고, 155℃에서 3분간 가열 처리하여 두께 15㎛의 점착제층(B)를 얻었다. 점착제층(B)의 상기 (3)에 의한 저장 탄성률은 8.3×104Pa이었다. A reaction vessel equipped with a condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirrer was charged with 94.9 parts of butyl acrylate, 5 parts of acrylic acid, 0.1 part of acrylic acid 2-hydroxyethyl and 0.3 parts of benzoyl peroxide The oxide was added with ethyl acetate. The mixture in the reaction vessel was reacted at 60 DEG C for 7 hours under a nitrogen gas stream, and ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (
[실시예 1][Example 1]
편광판(1)의 제2 보호층 면과 위상차층(1)을, 편광자의 흡수축과 위상차층(1)의 지상축이 이루는 각도가 15°가 되도록 두께 5㎛의 아크릴계 접착제를 개재하여 첩합하였다. 이어서 위상차층(1)이 형성되어 있었던 PET 필름을 박리하고, 당해 박리면에 위상차층(2)을 편광자의 흡수축과 위상차층(2)의 지상축이 이루는 각도가 75°가 되도록 두께 5㎛의 아크릴계 접착제를 개재하여 첩합하였다. 또한, 위상차층(2)이 형성되어 있었던 PET 필름을 박리하고, 편광판/제1 위상차층/제2 위상차층의 구성을 갖는 원편광판(1)을 얻었다. 원편광판(1)의 상기 (4)에 의한 치수 변화율은 0.20%이었다. 원편광판(1)의 제2 위상차층과 참고예 6에서 얻어진 기재 부착 도전층의 도전층을 점착제층(A)를 개재하여 첩합하여 광학 적층체(1)를 얻었다. 얻어진 광학 적층체(1)를 상기 (5)의 평가에 제공하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. The second protective layer surface of the polarizing plate 1 and the retardation layer 1 were bonded via an acrylic adhesive agent having a thickness of 5 占 퐉 so that the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the retardation layer 1 made an angle of 15 ° . Subsequently, the PET film on which the retardation layer 1 was formed was peeled off. The retardation layer 2 was peeled off to a thickness of 5 占 퐉 so that the absorption axis of the polarizer and the retardation axis of the retardation layer 2 made an angle of 75 占Of an acrylic adhesive. Further, the PET film on which the retardation layer 2 was formed was peeled off to obtain a circularly polarizing plate 1 having the configuration of the polarizing plate / first retardation layer / second retardation layer. The dimensional change ratio of the circularly polarizing plate 1 according to the above (4) was 0.20%. The second retardation layer of the circularly polarizing plate 1 and the conductive layer of the base material-adhered conductive layer obtained in Reference Example 6 were bonded to each other via the pressure-sensitive adhesive layer (A) to obtain an optical laminate (1). The obtained optical laminate (1) was subjected to the evaluation of the above (5). The results are shown in Table 2.
[실시예 2][Example 2]
위상차층(1 및 2) 대신에 위상차층(3)(적층 위상차 필름)을 이용하여, 편광판(1)의 제2 보호층 면과 위상차층 필름(A)의 면을, 편광자의 흡수축과 위상차 필름(A)의 지상축이 이루는 각도가 15°가 되고, 편광자의 흡수축과 위상차 필름(B)의 지상축이 이루는 각도가 75°가 되도록 두께 12㎛의 아크릴계 접착제를 개재하여 첩합하고, 편광판/제1 위상차층/제2 위상차층의 구성을 갖는 원편광판(2)을 얻었다. 원편광판(2)의 제2 위상차층과 참고예 6에서 얻어진 기재 부착 도전층의 도전층을 점착제층(A)을 개재하여 첩합하고, 광학 적층체(2)를 얻었다. 얻어진 광학 적층체(2)를 상기 (5)의 평가에 제공하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. The surface of the second protective layer surface of the polarizing plate 1 and the surface of the retardation film A were set to be in phase with the absorption axis of the polarizer using the retardation layer 3 (laminated retardation film) in place of the retardation layers 1 and 2, The film A was laminated via an acrylic adhesive having a thickness of 12 占 퐉 so that the angle formed by the slow axis of the film A was 15 占 and the angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the retardation film B was 75 占, / The first retardation layer / the second retardation layer. The second retardation layer of the circularly polarizing plate 2 and the conductive layer of the base material-adhered conductive layer obtained in Reference Example 6 were bonded together via the pressure-sensitive adhesive layer (A) to obtain an optical laminate (2). The obtained optical laminate (2) was subjected to the evaluation of the above (5). The results are shown in Table 2.
[비교예 1][Comparative Example 1]
편광판(1)의 제2 보호층 면과 위상차층(4)을, 편광자의 흡수축과 위상차층(4)의 지상축의 이루는 각도가 45°가 되도록 두께 12㎛의 아크릴계 접착제를 개재하여 첩합하고 편광판/위상차층의 구성을 갖는 원편광판(3)을 얻었다. 원편광판(3)의 위상차층과 참고예 6에서 얻어진 기재 부착 도전층의 도전층을 점착제층(B)를 개재하여 첩합하고 광학 적층체(3)를 얻었다. 얻어진 광학 적층체(3)를 상기 (5)의 평가에 제공하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. The second protective layer surface of the polarizing plate 1 and the retardation layer 4 were laminated via an acrylic adhesive having a thickness of 12 占 퐉 so that the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the retardation layer 4 made an angle of 45 占, / Retardation layer (circular polarizer plate 3). The retardation layer of the circularly polarizing plate 3 and the conductive layer of the base material-adhered conductive layer obtained in Reference Example 6 were bonded together via the pressure-sensitive adhesive layer (B) to obtain an optical laminate (3). The obtained optical laminate (3) was subjected to the evaluation of the above (5). The results are shown in Table 2.
[표 2][Table 2]
* COP는 시클로올레핀계 수지 필름이고, PC는 폴리카보네이트계 수지 필름이다.* COP is a cycloolefin resin film, and PC is a polycarbonate resin film.
** 위상차층의 치수 변화율은, 액정 배향 고화층의 경우는 원편광판의 치수 변화율, 그 이외에는 도전층에 접하는 위상차층의 치수 변화율이다. ** The dimensional change rate of the retardation layer is the rate of dimensional change of the circularly polarized plate in the case of the liquid crystal alignment solidified layer and the dimensional change rate of the retardation layer in contact with the conductive layer.
<평가><Evaluation>
표 2로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 실시예의 광학 적층체는 고온 고습 하에서의 도전층의 크랙이 현저하게 억제되고 있다.As can be seen from Table 2, in the optical laminate of the embodiment of the present invention, cracks in the conductive layer under high temperature and high humidity are remarkably suppressed.
[산업상의 이용 가능성] [Industrial Availability]
본 발명의 광학 적층체는 액정 표시 장치 및 유기 EL 표시 장치와 같은 화상 표시 장치에 바람직하게 이용되고, 특히 유기 EL 표시 장치의 반사 방지 필름으로서 바람직하게 이용될 수 있다. 또한, 본 발명의 광학 적층체는 이너 터치 패널형 입력 표시 장치에 바람직하게 이용될 수 있다. The optical laminate of the present invention is preferably used in an image display apparatus such as a liquid crystal display apparatus and an organic EL display apparatus, and can be preferably used particularly as an antireflection film of an organic EL display apparatus. Further, the optical laminate of the present invention can be preferably used for an inner touch panel type input display device.
10: 편광판
11: 편광자
12: 제1 보호층
13: 제2 보호층
20: 제1 위상차층
30: 제2 위상차층
40: 점착제층
50: 도전층
100: 광학 적층체 10: polarizer
11: Polarizer
12: first protective layer
13: second protective layer
20: first retardation layer
30: second retardation layer
40: pressure-sensitive adhesive layer
50: conductive layer
100: Optical laminate
Claims (7)
제1 위상차층과, 제2 위상차층과, 도전층을 이 순서로 갖고
상기 제2 위상차층과 상기 도전층을 접착하는 점착제층이 설치되어 있으며,
상기 점착제층을 구성하는 점착제가 점착성 폴리머를 포함하고,
상기 점착성 폴리머를 구성하는 전체 모노머 성분 중의 산 성분의 양이 4중량% 미만이며,
상기 점착제의 85℃에서의 저장 탄성률이 1.0×104Pa∼7.0×104Pa인
광학 적층체. A polarizing plate comprising a polarizer and a protective layer on at least one side of the polarizer,
A first retardation layer, a second retardation layer, and a conductive layer in this order
A pressure sensitive adhesive layer for bonding the second retardation layer and the conductive layer is provided,
Wherein the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer comprises a pressure-sensitive adhesive polymer,
The amount of the acid component in the total monomer component constituting the viscous polymer is less than 4% by weight,
The storage elastic modulus at 85 ℃ of the adhesive of 1.0 × 10 4 Pa~7.0 × 10 4 Pa
Optical laminate.
상기 편광자의 흡수축과 상기 제1 위상차층의 지상축이 이루는 각도가 10°∼20°이고, 상기 흡수축과 상기 제2 위상차층의 지상축이 이루는 각도가 65°∼85°인 광학 적층체. The method according to claim 1,
Wherein an angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the first retardation layer is 10 to 20 and an angle formed by the absorption axis and the slow axis of the second retardation layer is 65 to 85 .
상기 제1 위상차층 및 상기 제2 위상차층이 환상 올레핀계 수지 필름으로 구성되어 있는 광학 적층체. 3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the first retardation layer and the second retardation layer are composed of a cyclic olefin based resin film.
상기 제2 위상차층의 치수 변화율이 1% 이하인 광학 적층체. The method of claim 3,
And the dimensional change ratio of the second retardation layer is 1% or less.
상기 제1 위상차층 및 상기 제2 위상차층이 액정 화합물의 배향 고화층인
광학 적층체. 3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the first retardation layer and the second retardation layer are oriented solidified layers of a liquid crystal compound
Optical laminate.
상기 편광판과 상기 제1 위상차층과 상기 제2 위상차층과의 적층체의 치수 변화율이 1% 이하인 광학 적층체. 6. The method of claim 5,
And the dimensional change ratio of the laminate of the polarizing plate, the first retardation layer and the second retardation layer is 1% or less.
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JP2021018524A (en) * | 2019-07-18 | 2021-02-15 | 住友化学株式会社 | Optical laminate and manufacturing method |
JP7498606B2 (en) * | 2019-10-30 | 2024-06-12 | 日東電工株式会社 | Image display device and optical member set |
WO2021095794A1 (en) * | 2019-11-15 | 2021-05-20 | 株式会社クラレ | Liquid crystal display protective plate |
WO2021117788A1 (en) * | 2019-12-11 | 2021-06-17 | 株式会社クラレ | Liquid crystal display protective plate |
WO2021149312A1 (en) * | 2020-01-24 | 2021-07-29 | 日東電工株式会社 | Retardation-layer-equipped polarizing plate and image display device using same |
KR20220124150A (en) * | 2020-01-24 | 2022-09-13 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Polarizing plate with retardation layer and image display device using same |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3325560B2 (en) | 1998-10-30 | 2002-09-17 | 帝人株式会社 | Retardation film and optical device using the same |
JP2002372622A (en) | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Nitto Denko Corp | Composite optical retardation plate, circularly polarizing plate and liquid crystal display, organic el display device |
JP2003036143A (en) | 2001-07-25 | 2003-02-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | Inner touch panel |
JP2003311239A (en) | 2002-04-23 | 2003-11-05 | Matsushita Electric Works Ltd | Apparatus for treating garbage |
JP2007279083A (en) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Fujifilm Corp | Optical compensation film, polarization plate and liquid crystal display device |
JP2009079203A (en) * | 2007-09-06 | 2009-04-16 | Nitto Denko Corp | Pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive product and display using it |
KR20090064350A (en) * | 2007-02-28 | 2009-06-18 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Backlight system and optical sheet with adhesive |
WO2014050387A1 (en) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | Optical laminate |
JP2015232647A (en) * | 2014-06-10 | 2015-12-24 | 日東電工株式会社 | Laminate and image display device |
JP2016105166A (en) * | 2014-11-20 | 2016-06-09 | 日東電工株式会社 | Circular polarization plate for organic el display device and organic el display device |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4814000B2 (en) * | 2006-07-26 | 2011-11-09 | リンテック株式会社 | Optical functional film bonding adhesive, optical functional film and method for producing the same |
EP2033998B1 (en) * | 2007-09-06 | 2010-11-10 | Nitto Denko Corporation | Pressure sensitive adhesive composition, product using the same, and display using the product |
JP4800363B2 (en) * | 2008-09-26 | 2011-10-26 | 日東電工株式会社 | Adhesive sheet for bonding optical members |
JP2015210459A (en) * | 2014-04-30 | 2015-11-24 | 日東電工株式会社 | Circularly polarizing plate for organic el display device, and organic el display device |
-
2016
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2017
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3325560B2 (en) | 1998-10-30 | 2002-09-17 | 帝人株式会社 | Retardation film and optical device using the same |
JP2002372622A (en) | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Nitto Denko Corp | Composite optical retardation plate, circularly polarizing plate and liquid crystal display, organic el display device |
JP2003036143A (en) | 2001-07-25 | 2003-02-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | Inner touch panel |
JP2003311239A (en) | 2002-04-23 | 2003-11-05 | Matsushita Electric Works Ltd | Apparatus for treating garbage |
JP2007279083A (en) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Fujifilm Corp | Optical compensation film, polarization plate and liquid crystal display device |
KR20090064350A (en) * | 2007-02-28 | 2009-06-18 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Backlight system and optical sheet with adhesive |
JP2009079203A (en) * | 2007-09-06 | 2009-04-16 | Nitto Denko Corp | Pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive product and display using it |
WO2014050387A1 (en) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | Optical laminate |
JP2015232647A (en) * | 2014-06-10 | 2015-12-24 | 日東電工株式会社 | Laminate and image display device |
JP2016105166A (en) * | 2014-11-20 | 2016-06-09 | 日東電工株式会社 | Circular polarization plate for organic el display device and organic el display device |
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