KR20190036461A - Organic Light Emitting Diode display panel and Organic Light Emitting Diode display device using the same - Google Patents

Organic Light Emitting Diode display panel and Organic Light Emitting Diode display device using the same Download PDF

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KR20190036461A
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김경민
한인효
박해진
장영인
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a display panel in which a GIP of a gate driving circuit is arranged in a pixel array, and an OLED display device using the same. The display panel comprises: a display region in which data lines and gate lines are intersecting, and which includes sub-pixels arranged at the intersections where the data lines and gate lines are intersecting; and a plurality of GIPs which is distributed in unit pixel regions driven by each gate line in the display region and supplies scan pulse to the gate lines.

Description

OLED 표시패널과 이를 이용한 OLED 표시 장치{Organic Light Emitting Diode display panel and Organic Light Emitting Diode display device using the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic light emitting diode (OLED) display panel and an organic light emitting diode (OLED) display using the organic light emitting diode display panel.

본 발명은 화소 어레이 내에 게이트 구동 회로의 GIP가 배치되고, GIP 배치에 따른 화질 불량을 개선할 수 있는 OLED 표시패널과 이를 이용한 OLED 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an OLED display panel in which a GIP of a gate driving circuit is disposed in a pixel array and an image quality defect due to GIP arrangement can be improved, and an OLED display using the OLED display panel.

정보화 사회가 발전하고, 이동통신 단말기 및 노트북 컴퓨터와 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 평판 표시 장치(Flat Panel Display Device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다.As an information-oriented society develops and various portable electronic devices such as a mobile communication terminal and a notebook computer develop, a demand for a flat panel display device that can be applied to the portable electronic device is gradually increasing.

이와 같은 평판 표시 장치로는, 액정을 이용한 액정 표시 장치(LCD: Liquid Crystal Display)와 유기 발광 다이오드(Organic Light Emitting Diode; 이하 OLED)를 이용한 OLED 표시 장치가 활용되고 있다.As such a flat panel display device, an OLED display device using a liquid crystal display (LCD) and an organic light emitting diode (OLED) is used.

이러한 평판 표시 장치들은 영상을 표시하기 위해 복수개의 게이트 라인들 및 복수개의 데이터 라인들을 구비한 표시 패널과, 상기 표시 패널을 구동하기 위한 구동회로로 구성된다.Such flat panel display devices include a display panel having a plurality of gate lines and a plurality of data lines for displaying an image, and a driving circuit for driving the display panel.

상기와 같은 표시 장치들 중 액정 표시 장치의 표시 패널은, 유리 기판상에 박막트랜지스터 어레이가 형성되는 박막트랜지스터 어레이 기판과, 유리 기판상에 칼라 필터 어레이가 형성되는 칼라 필터 어레이 기판과, 상기 박막트랜지스터 어레이 기판과 상기 칼라 필터 어레이 기판 사이에 충진된 액정층을 구비한다.A display panel of the liquid crystal display device among the display devices includes a thin film transistor array substrate on which a thin film transistor array is formed on a glass substrate, a color filter array substrate on which a color filter array is formed, And a liquid crystal layer filled between the array substrate and the color filter array substrate.

상기 박막 트랜지스터 어레이 기판은, 제1방향으로 연장되는 복수개의 게이트 라인들(GL)과, 제1방향과 수직인 제2방향으로 연장되는 복수개의 데이터 라인들(DL)을 포함하며, 각 게이트 라인과 각 데이터 라인에 의하여 하나의 서브 화소 영역(Pixel; P)이 정의된다. 하나의 서브 화소 영역(P) 내에는 하나의 박막 트랜지스터와 화소 전극이 형성된다.The thin film transistor array substrate includes a plurality of gate lines GL extending in a first direction and a plurality of data lines DL extending in a second direction perpendicular to the first direction, And one sub pixel region (Pixel P) is defined by each data line. One thin film transistor and a pixel electrode are formed in one sub pixel region (P).

이러한 액정 표시 장치의 표시 패널은, 전기장 생성 전극 (화소 전극 및 공통 전극)에 전압을 인가하여 상기 액정층에 전기장을 생성하고, 상기 전기장에 의해 액정층의 액정 분자들의 배열 상태를 조절하여 입사광의 편광을 제어함으로써 영상을 표시한다.In the display panel of such a liquid crystal display device, a voltage is applied to an electric field generating electrode (pixel electrode and common electrode) to generate an electric field in the liquid crystal layer, and the arrangement state of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer is adjusted by the electric field, The image is displayed by controlling the polarization.

또한, 상기와 같은 표시 장치들 중 OLED 표시 장치의 표시 패널은, 상기 복수개의 게이트 라인들과 복수개의 데이터 라인들이 교차하여 서브 화소가 정의되고, 각 서브 화소들은, 애노드 및 캐소드와 상기 애노드 및 캐소드 사이의 유기 발광층으로 구성된 OLED와, 상기 OLED를 독립적으로 구동하는 화소 회로를 구비한다.In the display panel of the OLED display device among the above-described display devices, a plurality of gate lines and a plurality of data lines intersect to define sub-pixels, and each sub-pixel includes an anode and a cathode, And a pixel circuit for independently driving the OLED.

상기 화소 회로는 다양하게 구성될 수 있으나, 적어도 하나의 스위칭 TFT, 커패시터 및 구동 TFT를 포함한다.The pixel circuit may be variously configured, but includes at least one switching TFT, a capacitor, and a driving TFT.

상기 적어도 하나의 스위칭 TFT는 스캔 펄스에 응답하여 데이터 전압을 상기 커패시터에 충전한다. 상기 구동 TFT는 상기 커패시터에 충전된 데이터 전압에 따라 OLED로 공급되는 전류량을 제어하여 OLED의 발광량을 조절한다.The at least one switching TFT charges the capacitor with a data voltage in response to a scan pulse. The driving TFT controls the amount of current supplied to the OLED according to the data voltage charged in the capacitor to control the amount of light emitted from the OLED.

이러한 표시 장치용 표시 패널은, 사용자에게 이미지를 제공하는 표시 영역(active area, AA)과 상기 표시영역(AA)의 주변 영역인 비표시 영역(non-active area, NA)으로 정의된다.The display panel for a display device is defined as a non-active area (NA) that is a peripheral area of the display area AA and a display area (AA) that provides an image to the user.

또한, 상기 표시 패널을 구동하기 위한 상기 구동회로는 상기 표시 패널의 상기 복수개의 게이트 라인들에 게이트 펄스(또는 스캔 펄스)를 순차적으로 공급하는 게이트 구동 회로와, 상기 표시 패널의 상기 복수개의 데이터 라인들에 데이터 전압을 공급하는 데이터 구동 회로와, 상기 게이트 구동 회로와 상기 데이터 구동 회로에 영상 데이터 및 각종 제어신호를 공급하는 타이밍 콘트롤러 등으로 이루어진다.The driving circuit for driving the display panel may further include: a gate driving circuit for sequentially supplying gate pulses (or scan pulses) to the plurality of gate lines of the display panel; And a timing controller for supplying video data and various control signals to the gate driving circuit and the data driving circuit, and the like.

상기 게이트 구동 회로는, 적어도 하나의 게이트 드라이브 IC로 구성될 수도 있지만, 상기 표시 패널의 상기 복수개의 신호 라인 (게이트 라인들 및 데이터 라인들)과 서브 화소를 형성하는 과정에서 상기 표시 패널의 비표시 영역상에 동시에 형성될 수 있다.The gate driving circuit may be constituted by at least one gate drive IC, but it is preferable that in the process of forming the sub-pixel and the plurality of signal lines (gate lines and data lines) of the display panel, Region can be formed simultaneously.

즉, 상기 게이트 구동 회로를 상기 표시 패널에 직접화시키는 게이트-인-패널(Gate-In-Panel; 이하 "GIP"라고도 함) 방식이 적용되고 있다.In other words, a gate-in-panel (hereinafter referred to as "GIP") method of directly driving the gate driving circuit to the display panel is applied.

상기와 같은 게이트 구동 회로는 각 게이트 라인들에 스캔 펄스를 순차적으로 공급하기 위하여, 게이트 라인의 개수 이상의 복수개의 스테이지(stage; 이하 "GIP"로 표현한다)를 포함하여 구성되고, 구동 특성을 향상시키기 위하여 산화물 반도체 박막트랜지스터들을 이용한다.The gate driving circuit includes a plurality of stages (hereinafter, referred to as "GIP") equal to or greater than the number of gate lines in order to sequentially supply scan pulses to the respective gate lines, Oxide semiconductor thin film transistors.

즉, 상기 게이트 구동 회로는 종속적으로 접속된 복수개의 스테이지(GIP)를 포함한다. 그리고, 각 스테이지(GIP)는 각 게이트 라인에 연결되어, 상기 타이밍 콘트롤러로부터 인가되는 클럭신호, 게이트 스타트 신호, 게이트 하이 전압 및 게이트 로우 전압을 수신하여, 하나의 캐리 펄스와 하나의 스캔 펄스를 생성하는 출력부를 포함한다.That is, the gate driving circuit includes a plurality of stages (GIP) that are connected in a dependent manner. Each stage GIP is connected to each gate line and receives a clock signal, a gate start signal, a gate high voltage and a gate low voltage applied from the timing controller to generate one carry pulse and one scan pulse .

도1은 일반적인 (n)번째 GIP의 구성 블럭도이다.1 is a block diagram of a general (n) -th GIP.

상기 각 GIP는, 도 1에 도시한 바와 같이, 스타트 펄스(start pulse) 또는 전단의 GIP에서 출력되는 캐리 펄스(SET)에 의해 셋팅되고, 후단의 GIP에서 출력되는 캐리 펄스(RST)에 의해 리셋팅되어 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb)의 전압을 제어하는 노드 제어부(100)와, 다수의 스캔 펄스 출력용 클럭신호(SCCLKs) 중 하나의 스캔 펄스 출력용 클럭신호와 상기 다수의 캐리 펄스 출력용 클럭신호(CRCLKs) 중 하나의 캐리 펄스 출력용 클럭 신호를 수신하여, 상기 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb)의 전압 레벨에 따라 하나의 스캔 펄스((So(n)) 및 하나의 캐리 펄스(Co(n))를 출력하는 출력부(200)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, each of the GIPs is set by a start pulse or a carry pulse SET output from the GIP of the preceding stage, and is set by a carry pulse RST output from the GIP of the following stage. A node controller 100 for controlling the voltages of the first and second nodes Q and Qb and a scan pulse output clock signal SCCLKs for a plurality of scan pulse output signals, And one carry pulse (So (n)) according to the voltage levels of the first and second nodes (Q, Qb), and a carry pulse output clock signal of one of the clock signals (CRCLKs) And an output unit 200 for outputting Co (n).

6상의 클럭 신호에 의해 구동되는 GIP의 경우, 상기 노드 제어부(100)는 3번째 전단의 GIP에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n-3))에 의해 셋팅되고, 3번째 후단의 GIP에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n+3))에 의해 리셋팅되어 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb)의 전압을 제어한다.In the case of the GIP driven by the 6-phase clock signal, the node control unit 100 is set by the carry pulse Co (n-3) outputted from the GIP of the third previous stage, and output by the GIP of the third And is reset by the carry pulse Co (n + 3) to control the voltages of the first and second nodes Q and Qb.

도면에는 도시되지 않았지만, 상기 GIP의 출력부(200)는, 캐리 펄스 출력부 및 스캔 펄스 출력부를 구비하여 구성된다.Although not shown in the figure, the output unit 200 of the GIP includes a carry pulse output unit and a scan pulse output unit.

상기 캐리 펄스 출력부는 복수개의 캐리용 클럭 신호 중 하나의 캐리 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 단과 제 1 게이트 로우 전압단(VGL1) 사이에 직렬 연결되는 제 1 풀업 트랜지스터 및 제 1 풀다운 트랜지스터를 구비하여 구성된다.The carry pulse output unit includes a first pull-up transistor and a second pull-down transistor connected in series between a carry signal output clock signal for applying a carry pulse output clock signal of a plurality of carry clock signals and a first gate low voltage signal line (VGL1) And a transistor.

상기 제 1 풀업 트랜지스터는 상기 제 1 노드(Q)의 전압 레벨에 따라 온/오프되고, 상기 제 1 풀다운 트랜지스터는 상기 제 2 노드(Qb)의 전압 레벨에 따라 온/오프되어 상기 입력된 캐리 펄스 출력용 클럭 신호를 캐리 펄스(Co(n))로 출력한다.The first pull-up transistor is turned on / off according to a voltage level of the first node (Q), and the first pull-down transistor is turned on / off according to a voltage level of the second node (Qb) And outputs the output clock signal as a carry pulse Co (n).

상기 스캔 펄스 출력부는 복수개의 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 단과 제 2 게이트 로우 전압단(VGL2) 사이에 직렬 연결되는 제 2 풀업 트랜지스터 및 제 2 풀다운 트랜지스터와, 상기 제 2 풀업 트랜지스터의 게이트 전극과 소오스 전극 사이에 연결되는 부트스트랩(bootstrap) 커패시터를 구비하여 구성된다.The scan pulse output unit includes a second pull-up transistor connected in series between a clock signal output clock pulse signal for applying one scan pulse output clock signal of the plurality of scan pulse output clock signals and a second gate low voltage terminal (VGL2) A pull-down transistor, and a bootstrap capacitor connected between a gate electrode of the second pull-up transistor and a source electrode.

상기 제 2 풀업 트랜지스터는 상기 제 1 노드(Q)의 전압 레벨에 따라 온/오프되고, 상기 제 2 풀다운 트랜지스터는 상기 제 2 노드(Qb)의 전압 레벨에 따라 온/오프되어 상기 입력된 스캔 펄스 출력용 클럭 신호를 스캔 펄스(So(n))로 출력한다.The second pull-up transistor is turned on / off according to the voltage level of the second node (Qb), and the second pull- And outputs the output clock signal as a scan pulse So (n).

도 2는 도 1에 도시된 (n) 번째 GIP의 동작을 보여 주는 파형도이다.FIG. 2 is a waveform diagram showing the operation of the (n) -th GIP shown in FIG.

도 2에서는 상술한 바와 같이, 상기 노드 제어부(100)는 3번째 전단의 GIP에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n-3))에 의해 셋팅되고, 3번째 후단의 GIP에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n+3))에 의해 리셋팅되어 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb)의 전압을 제어함을 도시한 것이다.2, the node controller 100 sets the carry pulse Co (n-3) output from the third preceding GIP and the carry pulse Co (n-3) (n + 3)) to control the voltages of the first and second nodes Q and Qb.

상기 (n)번째 GIP(GIP(n))는 3번째 전단의 GIP에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n-3))에 의해 셋팅되어 상기 제 1 노드(Q)를 게이트 하이 전압(VGH)으로 충전하고, 상기 제 2 노드(Qb)를 게이트 로우 전압(VGL) 상태로 방전한다. 따라서, 상기 캐리 펄스 출력부의 제 1 풀업 트랜지스터와 상기 스캔 펄스 출력부의 제 2 풀업 트랜지스터는 턴-온되고, 상기 캐리 펄스 출력부의 제 1 풀다운 트랜지스터와 상기 스캔 펄스 출력부의 제 2 풀다운 트랜지스터는 턴-오프된다.The (n) -th GIP (GIP (n)) is set by the carry pulse Co (n-3) output from the GIP of the third previous stage to turn the first node Q to the gate high voltage VGH , And discharges the second node (Qb) to a gate low voltage (VGL) state. Therefore, the first pull-up transistor of the carry pulse output unit and the second pull-up transistor of the scan pulse output unit are turned on, and the first pull-down transistor of the carry pulse output unit and the second pull- do.

그리고, 상기 캐리 펄스 출력부의 제 1 풀업 트랜지스터의 드레인 전극과 상기 스캔 펄스 출력부의 제 2 풀업 트랜지스터의 드레인 전극에는 동일 위상을 갖는 클럭 신호(CRCLK, SCCLK)가 인가된다.Clock signals (CRCLK and SCCLK) having the same phase are applied to the drain electrode of the first pull-up transistor of the carry pulse output unit and the drain electrode of the second pull-up transistor of the scan pulse output unit.

상기 제 1 풀업 트랜지스터의 드레인 전극과 상기 제 2 풀업 트랜지스터의 드레인 전극에 하이 레벨의 클럭 신호(CRCLK, SCCLK)가 인가되면, 상기 부트스트랩 커패시터에 의해 상기 플로팅된 제 1 노드(Q)의 전압이 부트스트래핑되어 2VGH 만큼 상승된다.When high level clock signals (CRCLK, SCCLK) are applied to the drain electrode of the first pull-up transistor and the drain electrode of the second pull-up transistor, the voltage of the floating first node (Q) And is bootstrapped and raised by 2VGH.

이와 같이 상기 제 1 노드(Q)가 브트스트랩핑된 상태에서, 상기 캐리 펄스 출력부 및 상기 스캔 펄스 출력부는 입력되는 클럭 펄스(CRCLK, SCCLK)를 각각 캐리 펄스(Co(n)) 및 스캔 펄스(So(n))로 출력한다.In the state where the first node Q is bootstrapped, the carry pulse output unit and the scan pulse output unit convert the input clock pulses CRCLK and SCCLK into carry pulses Co (n) (So (n)).

그리고, 상기 3번째 후단 GIP 에서 출력되는 캐리 펄스(Co(n+3))에 의해 리셋되어 상기 제 1 노드(Q)는 로우 상태가 되고, 상기 제 2 노드(Qb)를 하이 상태가 된다. 따라서, 상기 캐리 펄스 출력부의 제 1 풀업 트랜지스터와 상기 스캔 펄스 출력부의 제 2 풀업 트랜지스터는 턴-오프되고, 상기 캐리 펄스 출력부의 제 1 풀다운 트랜지스터와 상기 스캔 펄스 출력부의 제 2 풀다운 트랜지스터는 턴-온되어, 캐리 펄스(Co(n)) 및 스캔 펄스(So(n))로 게이트 로우 전압(VGL)을 출력한다.The first node Q is reset by the carry pulse Co (n + 3) output from the third rear-end GIP, and the second node Qb becomes a high state. Accordingly, the first pull-up transistor of the carry pulse output unit and the second pull-up transistor of the scan pulse output unit are turned off, and the first pull-down transistor of the carry pulse output unit and the second pull- And outputs the gate low voltage VGL to the carry pulse Co (n) and the scan pulse So (n).

이와 같이 종래의 게이트 구동 회로는 상기 표시 패널의 비표시 영역에 직접화되므로, 평판 표시 장치의 네로우 베젤(Narrow bezel) 설계가 어렵다.Thus, since the conventional gate driving circuit is directly formed in the non-display region of the display panel, it is difficult to design a narrow bezel of the flat panel display device.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 베젤을 최소화하고 베젤 형상과 관계 없이 표시 패널의 표시 영역에 GIP를 배치할 수 있으며, GIP가 표시 영역에 배치됨에 따른 화질 불량을 개선할 수 있는 OLED 표시 패널과 이를 이용한 OLED 표시 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to minimize the bezel and to arrange the GIP in the display area of the display panel regardless of the bezel shape, And an OLED display device using the OLED display panel.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 OLED 표시 패널은, 데이터 라인들과 게이트 라인들이 교차되고, 상기 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역; 및 상기 표시 영역 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 GIP를 구비하고, 하나의 단위 화소 영역에는 상기 GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되며, 상기 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들이 배치되는 GIP 내부 연결 배선부를 구비하고, 상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 우측에 상기 GIP부가 배치되거나, 상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 좌측에 상기 GIP부가 배치됨을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an OLED display panel including: a display region including data lines and gate lines intersecting each other and including sub-pixels arranged at the intersections; And a plurality of GIPs distributed in unit pixel regions driven by the gate lines in the display region and supplying scan pulses to the gate lines, wherein one unit pixel region includes one element constituting the GIP Wherein the unit pixel region includes at least three sub-pixel portions, a GIP portion in which one element constituting the GIP is disposed, and a GIP internal connection wiring portion in which connection wirings connecting the elements of the GIP are disposed The GIP portion is disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring portion and on the right side of the at least three sub pixel portions or the GIP portion is disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring portion and on the left side of the at least three sub pixel portions .

여기서, 상기 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 적어도 하나의 GIP가 분산 배치됨을 특징으로 한다.Herein, at least one GIP is distributed and arranged in the unit pixel regions driven by the gate lines.

상기 표시 영역에는 터치 센서들이 더 배치됨을 특징으로 한다.And the touch sensor is further disposed in the display area.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 OLED 표시 패널은, 데이터 라인들과 게이트 라인들이 교차되고, 상기 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역; 및 상기 표시 영역 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 GIP를 구비하고, 제 1 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들이 배치되고, 제 2 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, 더미 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들 및 더미 연결 배선이 배치됨에 또 다른 특징이 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided an OLED display panel including: a display region including data lines and gate lines intersecting each other and including sub-pixels arranged at the intersections; And a plurality of GIPs distributed in unit pixel regions driven by the gate lines in the display region and supplying scan pulses to the gate lines, wherein the first unit pixel region includes at least three sub- A GIP section in which one element constituting the GIP is arranged and connection wirings connecting the elements of the GIP are arranged and the second unit pixel section is composed of at least three sub-pixel sections, a dummy GIP section, Another feature is that the connection wires connecting the respective elements and the dummy connection wires are disposed.

여기서, 상기 더미 GIP부는 상기 GIP부와 동일한 구조로 구성되거나 상기 GIP부와 다른 구조로 구성됨을 특징으로 한다.Here, the dummy GIP unit may have the same structure as the GIP unit or may have a structure different from that of the GIP unit.

상기 더미 GIP부는 차광 금속 패턴, 게이트 전극 패턴 및 소오스/드레인 전극 패턴의 조합으로 구성됨을 특징으로 한다.The dummy GIP unit is formed of a combination of a light shielding metal pattern, a gate electrode pattern, and a source / drain electrode pattern.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 OLED 표시 패널은, 데이터 라인들과 게이트 라인들이 교차되고, 상기 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역; 및 상기 표시 영역 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 GIP를 구비하고, 상기 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 GIP 내부 연결 배선부를 구비하고, 상기 GIP부에 GIP 신호를 공급하기 위한 복수개의 GIP 신호 라인들이 배치되며, 상기 GIP 신호 라인들 중 적어도 하나의 GIP 신호 라인상에는 빛을 차단하는 차광층이 형성됨에 또 다른 특징이 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided an OLED display panel including: a display region including data lines and gate lines intersecting each other and including sub-pixels arranged at the intersections; And a plurality of GIPs distributed in unit pixel regions driven by the gate lines in the display region and supplying scan pulses to the gate lines, wherein the unit pixel region includes at least three sub-pixel portions, A plurality of GIP signal lines for supplying a GIP signal to the GIP unit are disposed, and the GIP signal lines for supplying the GIP signal to the GIP unit are disposed. And a light shielding layer for blocking light is formed on at least one GIP signal line among the signal lines.

여기서, 상기 차광층은 R, G, B 칼라 필터층 중 적어도 2개의 칼라 필터층이 적층되어 구성되거나, 블랙 뱅크층으로 구성됨을 특징으로 한다.Here, the light-shielding layer may be formed by stacking at least two color filter layers of R, G, and B color filter layers or a black bank layer.

상기 적어도 하나의 GIP 신호 라인은 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가됨을 특징으로 한다.Wherein the at least one GIP signal line is applied with a carry pulse output clock signal or a scan pulse output clock signal.

상기 GIP 내부 연결 배선부는 인가되는 전압에 따라 GIP의 출력 버퍼부를 제어하는 제 1 노드 및 상기 제 2 노드를 구비하고, 상기 제 1 노드 또는 상기 제 2 노드 상에 빛을 차단하는 차광층이 더 형성됨을 특징으로 한다.The GIP internal connection wiring portion includes a first node and a second node controlling the output buffer portion of the GIP according to a voltage applied thereto, and further includes a light shielding layer blocking light on the first node or the second node .

한편, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 OLED 표시 장치는, 복수개의 데이터 라인들과 복수개의 게이트 라인들이 교차되고, 상기 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역; 상기 복수개의 데이터 라인들을 복수개의 그룹으로 분할하여 각 그룹의 데이터 라인들을 구동하는 복수개의 소스 드라이브 IC들; 및 각 소스 드라이브 IC에 의해 구동되는 그룹으로 상기 표시 영역이 구분되고, 구분된 각 표시 영역 그룹 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 GIP를 구비하고, 하나의 단위 화소 영역에는 상기 GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되며, 상기 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들이 배치되는 GIP 내부 연결 배선부를 구비하고, 상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 우측에 상기 GIP부가 배치되거나, 상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 좌측에 상기 GIP부가 배치됨에 그 특징이 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided an OLED display comprising: a display region including a plurality of data lines and a plurality of gate lines intersecting each other and including sub-pixels arranged at the intersections; A plurality of source drive ICs for dividing the plurality of data lines into a plurality of groups and driving data lines of each group; And a plurality of source driver ICs, each of which is divided into a plurality of unit pixel regions driven by respective gate lines in each of the divided display region groups, for supplying scan pulses to the corresponding gate lines, One GIP, one element constituting the GIP is arranged in one unit pixel region, and the unit pixel region includes at least three sub-pixel portions and a GIP portion in which one element constituting the GIP is arranged. And a GIP internal connection wiring portion in which connection wirings for connecting the respective elements of the GIP are disposed. The GIP portion is disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring portion and on the right side of the at least three sub pixel portions, And the GIP unit is disposed on the left side of the at least three sub-pixel units.

여기서, 각 소스 드라이브 IC는 화소를 구동하기 위한 데이터 전압 및 각종 전원들을 공급할 뿐만 아니라, GIP를 구동하기 위한 캐리 펄스 출력용 캐리 펄스, 스캔 펄스 출력용 스캔 펄스, 전원, 스타트 신호, 리셋 신호, 라인 선택 신호 중 적어도 하나를 공급함을 특징으로 한다.Here, each source driver IC not only supplies a data voltage and various power supplies for driving pixels, but also carries out a carry pulse for driving a GIP, a scan pulse for a scan pulse, a power supply, a start signal, a reset signal, Or the like.

각 게이트 라인은 각 소스 드라이브 IC에 의해 구동되는 표시 영역별로 전기적으로 독립되거나 각 소스 드라이브 IC에 의해 구동되는 표시 영역에 일체로 형성됨을 특징으로 한다.Each of the gate lines is electrically independent for each display region driven by each source drive IC or is integrally formed in a display region driven by each source drive IC.

한편, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 OLED 표시 장치는, 복수개의 데이터 라인들과 복수개의 게이트 라인들이 교차되고, 상기 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역; 상기 복수개의 데이터 라인들을 복수개의 그룹으로 분할하여 각 그룹의 데이터 라인들을 구동하는 복수개의 소스 드라이브 IC들; 및 인접한 2개 이상의 소스 드라이브 IC들에 의해 구동되는 그룹으로 상기 표시 영역이 구분되고, 구분된 각 표시 영역 그룹 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 GIP를 구비하고, 하나의 단위 화소 영역에는 상기 GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되며, 상기 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들이 배치되는 GIP 내부 연결 배선부를 구비하고, 상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 우측에 상기 GIP부가 배치되거나, 상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 좌측에 상기 GIP부가 배치됨에 또 다른 특징이 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided an OLED display comprising: a display region including a plurality of data lines and a plurality of gate lines intersecting each other and including sub-pixels arranged at the intersections; A plurality of source drive ICs for dividing the plurality of data lines into a plurality of groups and driving data lines of each group; And the display region is divided into groups driven by two or more adjacent source drive ICs. The display regions are distributed and arranged in the unit pixel regions driven by the respective gate lines in the divided display region groups, And one unit constituting the GIP is arranged in one unit pixel region, and the unit pixel region comprises at least three sub-pixel units and one element constituting the GIP And a GIP internal connection wiring portion in which connection wirings for connecting the respective elements of the GIP are arranged. The GIP portion is disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring portion and on the right side of the at least three sub pixel portions, The GIP portion is disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring portion and on the left side of the at least three sub-pixel portions .

상기와 같은 특징을 갖는 본 발명에 따른 OLED 표시 패널 및 이를 이용한 OLED 표시 장치에 있어서는 다음과 같은 효과가 있다.The OLED display panel according to the present invention having the above characteristics and the OLED display using the OLED display panel have the following effects.

첫째, 표시 영역 내에 GIP를 분산 배치하므로, 표시 영역 좌우측의 비표시 영역에 GIP를 구성하는 종래의 표시 패널에 비해 표시 패널의 좌우 베젤을 최소화 할 수 있다.First, since the GIPs are dispersedly arranged in the display area, the left and right bezels of the display panel can be minimized as compared with the conventional display panel constituting the GIP in the non-display areas on the left and right sides of the display area.

둘째, GIP를 표시 영역 내에 배치하면서, 하나의 게이트 라인(스캔 라인)에 1개의 GIP를 배치할 경우 가운데 부분에 배치하거나 하나의 스캔 라인에 2개 이상의 GIP를 배치하므로, 화질의 균일도 등에 효율적이다.Second, when one GIP is arranged in one gate line (scan line) while arranging the GIP in the display region, it is effective in the uniformity of image quality and the like because it is arranged in the middle portion or two or more GIPs are arranged in one scan line .

셋째, GIP의 구성들을 기능별로 분리하여 배치하므로 GIP 내부 배선 연결부를 간소화 할 수 있다.Third, the GIP internal wiring connections can be simplified by arranging the GIP configurations separately for each function.

넷째, GIP의 구성 중 사이즈가 상대적으로 큰 소자는 분할 배치하여 병렬로 연결할 수 있으므로 표시 영역에 GIP를 구성하는 소자들을 충분히 분산 시킬 수 있다.Fourth, since a device having a relatively large size can be divided and arranged in parallel, it is possible to sufficiently disperse the elements constituting the GIP in the display area.

다섯째, 표시 영역내의 단위 화소 영역에 적어도 3개의 서브 화소부과 GIP부를 나누어 배치하므로 화소와 GIP 간의 신호 간섭 현상을 최소화 할 수 있다.Fifth, since at least three sub-pixel units and GIP units are separately arranged in the unit pixel region within the display region, signal interference between the pixel and the GIP can be minimized.

여섯째, 각 소스 드라이브 IC에 의해 구동되는 그룹으로 상기 표시 영역이 구분되고, 구분된 각 표시 영역 그룹 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 GIP를 구성하는 소자들이 분산 배치되므로, 각 소스 드라이브 IC를 통해 GIP를 구동하기 위한 신호들을 공급할 수 있다.Sixthly, the display area is divided into groups driven by the respective source drive ICs, and the elements constituting the GIP are distributed and arranged in the unit pixel areas driven by the gate lines in the divided display area groups, And can supply signals for driving the GIP through the drive IC.

일곱째, GIP부가 배치되지 않은 단위 화소에 더미 GIP부를 배치하고, 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 더미 배선을 배치하므로, 표시 장치의 비 구동 시 설계 편차가 인지됨을 방지할 수 있다.Seventh, a dummy GIP unit is arranged in the unit pixel in which the GIP unit is not arranged, and the dummy wiring is arranged in the GIP internal connection wiring unit 32, so that the design deviation in the non-driving of the display unit can be prevented.

여덟번째, 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인 또는 상기 GIP 내부 연결 배선부에 배치되는 Q 노드 또는 Qb 노드 상에 R, G, B 칼라 필터층을 적층하거나, 블랙 뱅크층을 형성하므로, 상기 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인과 상기 Q 노드 또는 상기 Qb 노드에 의해 이상 발광 현상이 발생하더라도 저계조 빛셈 현상을 방지할 수 있다.G, and B color filter layers are laminated on the GIP signal line to which the carry pulse output clock signal or the scan pulse output clock signal is applied, or on the Q node or the Qb node disposed in the GIP internal connection wiring portion, A low gradation light emission phenomenon can be prevented even if an abnormal light emission phenomenon occurs due to the GIP signal line to which the carry pulse output clock signal or the scan pulse output clock signal is applied and the Q node or the Qb node .

도 1은 일반적인 (n)번째 GIP의 구성 블럭도
도 2는 도 1에 도시된 (n)번째 GIP의 동작 파형도
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 OLED 표시 장치를 개략적으로 보여 주는 블록도
도 4는 도 3의 OLED 표시 장치에서 하나의 서브 화소의 회로 구성도
도 5는 본 발명에 따른 (n)번째 GIP의 회로 구성도
도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표시 패널의 표시 영역 구성도
도 7은 도 6의 표시 패널의 표시 영역에 배치된 인접한 2개의 단위 화소를 보다 구체적으로 도시한 구성도
도 8a 내지 8d는 본 발명에 따른 GIP부의 배치 위치를 나타낸 설명도
도 9는 본 발명에 따른 GIP 소자들의 배치 상태를 도시한 설명도
도 10은 본 발명에 따른 GIP 소자들 중 큰 사이즈를 갖는 박막트랜지스터의 배치 상태를 도시한 설명도
도 11은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시 패널의 표시 영역 구성도
도 12a는 본 발명에 따른 표시 패널에서 GIP부가 배치된 단위 화소의 구성도
도 12b는 본 발명에 따른 표시 패널에서 GIP부가 배치되지 않은 단위 화소의 구성도
도 13은 본 발명에 따른 표시 패널에서 GIP부가 배치되지 않은 단위 화소에 더미 GIP부가 배치되고, 상대적으로 배선 수가 적은 단위 화소의 GIP 내부 연결 배선부에 더미 배선이 배치된 구성도
도 14는 도 12a에 도시된 본 발명에 따른 표시 패널에서 GIP부의 구조 단면도
도 15는 본 발명에 따른 표시 패널에서 제1 실시예에 따른 더미 GIP부의 구조 단면도
도 16은 본 발명에 따른 표시 패널에서 제2 실시예에 따른 더미 GIP부의 구조 단면도
도 17은 본 발명에 따른 표시 패널에서 제3 실시예에 따른 더미 GIP부의 구조 단면도
도 18은 본 발명에 따른 OLED 표시 패널에서 제 1 실시예에 따른 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(GIP S/L) 상의 구조 단면도
도 19는 본 발명에 따른 OLED 표시 패널에서 제 2 실시예에 따른 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(GIP S/L) 상의 구조 단면도
도 20은 본 발명에 따른 OLED 표시 패널에서 제 1 실시예에 따른 Q 노드 또는 Qb 노드 상의 구조 단면도
도 21은 본 발명에 따른 OLED 표시 패널에서 제 2 실시예에 따른 Q 노드 또는 Qb 노드 상의 구조 단면도
1 is a block diagram of a general (n) -th GIP;
Fig. 2 is an operation waveform diagram of the (n) -th GIP shown in Fig. 1
3 is a block diagram schematically showing an OLED display device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a circuit diagram of one sub-pixel in the OLED display of FIG.
5 is a circuit configuration diagram of the (n) -th GIP according to the present invention
Fig. 6 is a view showing a display region configuration diagram of the display panel according to the first embodiment of the present invention
Fig. 7 is a configuration diagram more specifically showing two adjacent unit pixels arranged in the display region of the display panel of Fig. 6
8A to 8D are explanatory diagrams showing the arrangement positions of the GIP unit according to the present invention;
FIG. 9 is an explanatory view showing the arrangement state of GIP devices according to the present invention
10 is an explanatory view showing the arrangement state of thin film transistors having a large size among the GIP devices according to the present invention
11 is a view showing a display region configuration diagram of a display panel according to a second embodiment of the present invention
12A is a configuration diagram of a unit pixel in which a GIP section is arranged in a display panel according to the present invention
12B is a diagram showing a unit pixel in which the GIP unit is not disposed in the display panel according to the present invention
13 is a diagram showing a configuration in which a dummy GIP portion is arranged in a unit pixel in which a GIP portion is not arranged in a display panel according to the present invention and a dummy wiring is arranged in a GIP internal connecting wiring portion of a unit pixel having a relatively small number of wirings
Fig. 14 is a structural cross-sectional view of the GIP portion in the display panel according to the present invention shown in Fig.
15 is a structural cross-sectional view of the dummy GIP portion according to the first embodiment in the display panel according to the present invention
16 is a structural cross-sectional view of the dummy GIP portion according to the second embodiment in the display panel according to the present invention
17 is a structural cross-sectional view of the dummy GIP portion according to the third embodiment in the display panel according to the present invention
18 is a structural cross-sectional view of a GIP signal line (GIP S / L) to which a carry pulse output clock signal or a scan pulse output clock signal according to the first embodiment is applied in the OLED display panel according to the present invention
19 is a structural cross-sectional view of a GIP signal line (GIP S / L) to which a carry pulse output clock signal or a scan pulse output clock signal according to the second embodiment is applied in the OLED display panel according to the present invention
20 is a cross-sectional view of a structure on a Q-node or Qb node according to the first embodiment in an OLED display panel according to the present invention
21 is a cross-sectional view of a structure on a Q-node or Qb node according to the second embodiment in an OLED display panel according to the present invention

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and the manner of achieving them, will be apparent from and elucidated with reference to the embodiments described hereinafter in conjunction with the accompanying drawings. It will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention as defined by the following claims and their equivalents. To fully disclose the scope of the invention, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명은 도면에 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 실질적으로 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like disclosed in the drawings for describing the embodiments of the present invention are illustrative, and thus the present invention is not limited to those shown in the drawings. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. In the following description of the present invention, detailed description of known related arts will be omitted when it is determined that the gist of the present invention may be unnecessarily blurred.

본 명세서 상에서 언급된 "구비한다", "포함한다", "갖는다", "이루어진다" 등이 사용되는 경우 ' ~ 만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수로 해석될 수 있다.Where the term "comprises", "comprising", "having", "having", or the like is used herein, other parts may be added as long as "only" is not used. The singular forms of the components may be construed in plural unless otherwise expressly stated.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is construed to include the error range even if there is no separate description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, ' ~ 상에', ' ~ 상부에', ' ~ 하부에', ' ~ 옆에' 등으로 두 구성요소들 간에 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 그 구성요소들 사이에 하나 이상의 다른 구성 요소가 개재될 수 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two components is described as 'on', 'on top', 'under', or 'next to' Quot; directly " or " direct " may be interposed between those components that are not used.

구성 요소들을 구분하기 위하여 제1, 제2 등이 사용될 수 있으나, 이 구성 요소들은 구성 요소 앞에 붙은 서수나 구성 요소 명칭으로 그 기능이나 구조가 제한되지 않는다.The first, second, etc. may be used to distinguish the components, but these components are not limited to the function or structure of the component or the names of components attached to the components.

이하의 실시예들은 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하며, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하다. 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시 가능할 수도 있다.The following embodiments can be combined or combined with each other partly or entirely, and technically various interlocking and driving are possible. Each embodiment may be feasible independently of one another and may be feasible in conjunction.

본 발명에 따른 GIP의 회로와 서브 화소의 회로는 n 타입 또는 p 타입 MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) 구조의 TFT로 구현될 수 있다. 이하의 실시예에서 n 타입 TFT를 예시하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않는다는 것에 주의하여야 한다. TFT는 게이트(gate), 소스(source) 및 드레인(drain)을 포함한 3 전극 소자이다. 소스는 캐리어(carrier)를 트랜지스터에 공급하는 전극이다. TFT 내에서 캐리어는 소스로부터 흐르기 시작한다. 드레인은 TFT에서 캐리어가 외부로 나가는 전극이다. 즉, MOSFET에서의 캐리어의 흐름은 소스로부터 드레인으로 흐른다. n 타입 MOSFET(NMOS)의 경우, 캐리어 가 전자(electron)이기 때문에 소스에서 드레인으로 전자가 흐를 수 있도록 소스 전압이 드레인 전압보다 낮은 전압을 가진다. n 타입 MOSFET에서 전자가 소스로부터 드레인 쪽으로 흐르기 때문에 전류의 방향은 드레인으로부터 소스 쪽으로 흐른다. p 타입 TFT(PMOS)의 경우, 캐리어가 정공(hole)이기 때문에 소스로부터 드레인으로 정공이 흐를 수 있도록 소스 전압이 드레인 전압보다 높다. p 타입 TFT에서 정공이 소스로부터 드레인 쪽으로 흐르기 때문에 전류가 소스로부터 드레인 쪽으로 흐른다. MOSFET의 소스와 드레인은 고정된 것이 아니라는 것에 주의하여야 한다. 예컨대, MOSFET의 소스와 드레인은 인가 전압에 따라 변경될 수 있다. 이하의 실시예에서 GIP 회로와 화소 회로를 구성하는 트랜지스터들을 n 타입 TFT로 예시되었지만, 이에 한정되지 않는다. 따라서, 이하의 설명에서 TFT의 소스와 드레인으로 인하여 발명이 제한되어서는 안된다.The circuit of the GIP and the circuit of the sub-pixel according to the present invention can be realized by a TFT of an n-type or p-type MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) structure. Although the n-type TFT is exemplified in the following embodiments, it should be noted that the present invention is not limited to this. A TFT is a three-electrode element including a gate, a source, and a drain. The source is an electrode that supplies a carrier to the transistor. In the TFT, carriers begin to flow from the source. The drain is an electrode in which the carrier exits from the TFT. That is, the flow of carriers in the MOSFET flows from the source to the drain. In the case of an n-type MOSFET (NMOS), since the carrier is an electron, the source voltage has a voltage lower than the drain voltage so that electrons can flow from the source to the drain. In an n-type MOSFET, the direction of current flows from drain to source because electrons flow from source to drain. In the case of the p-type TFT (PMOS), since the carrier is a hole, the source voltage is higher than the drain voltage so that holes can flow from the source to the drain. In a p-type TFT, the current flows from the source to the drain because the holes flow from the source to the drain. It should be noted that the source and drain of the MOSFET are not fixed. For example, the source and drain of the MOSFET may be changed depending on the applied voltage. In the following embodiments, the transistors constituting the GIP circuit and the pixel circuit are illustrated as n-type TFTs, but the present invention is not limited thereto. Therefore, the invention should not be limited by the source and drain of the TFT in the following description.

GIP 회로로부터 출력되는 게이트 펄스는 게이트 온 전압(Gate High Voltage, VGH)과 게이트 오프 전압(Gate Low Voltage, VGL) 사이에서 스윙한다. 게이트 온 전압(VGH)은 TFT의 문턱 전압 보다 높은 전압으로 설정되며, 게이트 오프 전압(VGH)은 TFT의 문턱 전압 보다 낮은 전압으로 설정된다. n 타입 TFT의 경우에, 게이트 온 전압은 게이트 하이 전압(Gate High Voltage, VGH)이고, 게이트 오프 전압은 게이트 로우 전압(Gate Low Voltage, VGL)일 수 있다. p 타입 TFT의 경우에, 게이트 온 전압은 게이트 로우 전압(VGL)이고, 게이트 오프 전압은 게이트 하이 전압(VGH)일 수 있다.The gate pulse output from the GIP circuit swings between the gate high voltage (VGH) and the gate low voltage (VGL). The gate-on voltage VGH is set to a voltage higher than the threshold voltage of the TFT, and the gate-off voltage VGH is set to a voltage lower than the threshold voltage of the TFT. In the case of an n-type TFT, the gate-on voltage may be a gate high voltage (VGH) and the gate-off voltage may be a gate low voltage (VGL). In the case of a p-type TFT, the gate-on voltage may be a gate-low voltage (VGL) and the gate-off voltage may be a gate-high voltage (VGH).

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 OLED 표시 장치를 개략적으로 보여 주는 구성 블록도이다.3 is a block diagram of a configuration of an OLED display device according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 OLED 표시 장치는 표시패널(PNL)과, 상기 표시 패널(PNL)에 영상 데이터를 제공하기 위한 구동 회로를 구비한다.Referring to FIG. 3, an OLED display device according to the present invention includes a display panel (PNL) and a driving circuit for providing image data to the display panel (PNL).

상기 표시 패널(PNL)의 표시 영역(AA)은 교차 배열되는 복수개의 데이터 라인들(DL1~DLm) 및 복수개의 게이트 라인들(GL1~GLn)과, 상기 복수개의 데이터 라인들(DL1~DLm)과 상기 복수개의 게이트 라인들(GL1~GLn)에 의해 매트릭스 형태로 배치되는 복수개의 서브 화소들을 구비한다. 상기 표시 패널(PNL)의 표시 영역(AA)에는 터치 센서들(touch sensor)이 더 배치될 수 있다.The display area AA of the display panel PNL includes a plurality of data lines DL1 to DLm and a plurality of gate lines GL1 to GLn and a plurality of data lines DL1 to DLm, And a plurality of sub-pixels arranged in a matrix form by the plurality of gate lines GL1 to GLn. A touch sensor may further be disposed in the display area AA of the display panel PNL.

상기 복수개의 서브 화소들은, 컬러 구현을 위하여, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 서브 화소들을 포함하고, 상기 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 서브 화소들 이외에 백색(W) 서브 화소를 더 포함할 수 있다.The plurality of sub-pixels may include red (R), green (G), and blue (B) sub-pixels for color implementation and the red (R), green (G), and blue (W) sub-pixel in addition to the pixels.

상기 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 서브 화소들이 하나의 단위 화소를 구성하거나, 상기 적색(R), 녹색(G), 청색(B), 및 백색(W) 서브 화소들이 하나의 단위 화소를 구성한다.The red (R), green (G), and blue (B) subpixels constitute one unit pixel or the red (R), green Constitute one unit pixel.

그리고, 상기 단위 화소 영역들에는 게이트 구동 회로의 GIP를 구성하는 소자들(TFT, Capacitor 등)이 분산 배치된다.In the unit pixel regions, elements (TFT, capacitor, etc.) constituting the GIP of the gate driving circuit are distributed and arranged.

즉, 각 게이트 라인에 배치되는 복수개의 단위 화소 영역들에 게이트 구동 회로의 적어도 하나의 GIP를 구성하는 소자들(TFT, Capacitor 등)이 분산 배치된다. 물론, 각 게이트 라인에 배치되는 복수개의 단위 화소 영역들에 다수개의 GIP를 구성하는 소자들(TFT, Capacitor 등)이 분산 배치될 수 있다. 그 구체적인 GIP의 배치 방법은 후술한다.That is, elements (TFT, capacitor, etc.) constituting at least one GIP of the gate driving circuit are distributedly arranged in a plurality of unit pixel regions arranged in each gate line. Of course, elements (TFTs, capacitors, etc.) constituting a plurality of GIPs may be distributedly arranged in a plurality of unit pixel regions arranged in each gate line. The concrete method of arranging the GIP will be described later.

상기 구동 회로는 상기 표시 패널(PNL)의 데이터 라인들(DL1~DLm)에 영상 데이터 전압을 공급하는 데이터 구동회로와, 상기 영상 데이터 전압에 동기되는 스캔 펄스를 표시패널(PNL)의 게이트 라인들(GL1~GLn)에 공급하는 게이트 구동회로, 및 상기 데이터 구동 회로와 상기 게이트 구동회로의 동작 타이밍을 제어하기 위한 타이밍 콘트롤러(Timing controller, T-CON) 등을 포함한다.The driving circuit includes a data driving circuit for supplying a video data voltage to the data lines DL1 to DLm of the display panel PNL and a scan pulse synchronized with the video data voltage to gate lines And a timing controller (T-CON) for controlling the operation timings of the data driving circuit and the gate driving circuit.

상기 데이터 구동회로는 하나 이상의 소스 드라이브 IC(SIC)를 포함할 수 있다. 상기 소스 드라이브 IC(SIC)는 상기 타이밍 콘트롤러(T-CON)의 제어 하에 입력 영상의 디지털 비디오 데이터를 아날로그 감마보상전압으로 변환하여 데이터전압을 발생하고 그 데이터전압을 데이터라인들(DL1~DLm)로 출력한다. 상기 소스 드라이브 IC(SIC)는 구부러질 수 있는 연성 회로 기판 예를 들어, COF(Chip on Film)에 실장되거나 COG 공정으로 상기 표시 패널(PNL)의 비 표시 영역의 기판 상에 직접 접착될 수 있다.The data drive circuit may include one or more source drive ICs (SIC). The source driver IC SIC generates a data voltage by converting the digital video data of the input image into an analog gamma compensation voltage under the control of the timing controller T-CON and supplies the data voltage to the data lines DL1 to DLm. . The source driver IC (SIC) may be mounted on a flexible circuit board, for example, a chip on film (COF) that can be bent, or may be directly adhered on a substrate in the non-display area of the display panel (PNL) .

상기 COF들은 ACF(anisotropic conductive film)를 통해 상기 표시 패널(PNL)의 하부 기판(SUBS1)의 패드 영역과 소스 PCB(SPCB)에 접착된다. 상기 COF들의 입력 핀들은 상기 소스 PCB(SPCB)의 출력단자들(패드)에 전기적으로 연결된다. 상기 소스 COF들(COF)의 출력 핀들은 ACF를 통해 상기 표시 패널(PNL)의 기판에 형성된 데이터 패드들에 전기적으로 연결된다.The COFs are adhered to the pad area of the lower substrate SUBS1 of the display panel PNL and the source PCB SPCB through an ACF (anisotropic conductive film). The input pins of the COFs are electrically connected to the output terminals (pads) of the source PCB (SPCB). The output pins of the source COFs (COFs) are electrically connected to data pads formed on the substrate of the display panel (PNL) through the ACF.

상기 게이트 구동회로는 상기 타이밍 콘트롤러(T-CON)로부터의 스타트 펄스(VST), 클럭 신호(CRCLK, SCCLK), 게이트 하이 전압(VGH), 게이트 로우 전압(VGL) 등을 수신하여 각 게이트 라인(GL1~GLn)에 순차적으로 스캔 펄스를 출력하는 복수개의 GIP를 포함한다. 상기 복수개의 GIP들은 상기 타이밍 콘트롤러(T-CON)의 제어 하에 상기 데이터 전압에 동기되는 스캔 펄스를 각 게이트 라인들(GL1~GLn)에 순차적으로 공급하여 영상 데이터 전압이 인가되는 1 라인의 화소들을 선택한다.The gate driving circuit receives the start pulse VST, the clock signals CRCLK and SCCLK, the gate high voltage VGH and the gate low voltage VGL from the timing controller T-CON and outputs the gate pulse And a plurality of GIPs sequentially outputting scan pulses to the scan lines GL1 to GLn. The plurality of GIPs sequentially supply scan pulses synchronized with the data voltages to the gate lines GL1 to GLn under the control of the timing controller T-CON, Select.

상기 타이밍 콘트롤러(T-CON)는 제어 PCB(CPCB) 상에 실장되고, 상기 제어 PCB(CPCB)와 상기 소스 PCB(SPCB)는 FFC(Flecible Flat Cable)에 의해 연결된다.The timing controller T-CON is mounted on a control PCB CPCB and the control PCB CPCB and the source PCB SPCB are connected by a flexible flat cable (FFC).

본 발명에 따른 OLED 표시 장치에서 하나의 서브 화소의 회로 구성과, 본 발명에 따른 하나의 GIP의 회로는 도 4 및 도 5에 도시한 바와 같다.The circuit configuration of one sub-pixel in the OLED display according to the present invention and the circuit of one GIP according to the present invention are as shown in FIGS.

도 4는 도 3의 OLED 표시 장치에서 하나의 서브 화소의 회로 구성도이고, 도 5는 본 발명에 따른 (n)번째 GIP의 회로 구성도이다.FIG. 4 is a circuit configuration diagram of one sub-pixel in the OLED display device of FIG. 3, and FIG. 5 is a circuit configuration diagram of the (n) th GIP according to the present invention.

본 발명에 따른 OLED 표시 장치의 각 서브 화소는, 도 4에 도시한 바와 같이, 유기 발광 다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode)와, 상기 유기 발광 다이오드는 구동하는 화소 회로를 구비한다.Each sub-pixel of the OLED display according to the present invention includes an organic light emitting diode (OLED) and a pixel circuit for driving the organic light emitting diode, as shown in FIG.

상기 화소 회로는 제 1 및 제 2 스위칭 TFT(T1, T2), 스토리지 커패시터(Cst), 및 구동 TFT(DT)를 포함한다.The pixel circuit includes first and second switching TFTs T1 and T2, a storage capacitor Cst, and a driving TFT DT.

상기 제 1스위칭 TFT(T1)는 스캔 펄스(Scan)에 응답하여 데이터(DATA) 전압을 상기 스토리지 커패시터(Cst)에 충전한다. 상기 구동 TFT(DT)는 상기 스토리지 커패시터(Cst)에 충전된 데이터 전압에 따라 OLED로 공급되는 전류량을 제어하여 OLED의 발광량을 조절한다. 상기 제 2 스위칭 TFT(T2)는 센싱(Sense) 신호에 응답하여 상기 구동 TFT(DT)의 문턱 전압 및 이동도를 센싱한다.The first switching TFT Tl charges the storage capacitor Cst with a data voltage in response to a scan pulse Scan. The driving TFT DT controls the amount of current supplied to the OLED according to the data voltage charged in the storage capacitor Cst to control the amount of light emitted from the OLED. The second switching TFT (T2) senses the threshold voltage and the mobility of the driving TFT (DT) in response to a sensing signal.

상기 유기 발광 다이오드(OLED)는 제1전극(예: 애노드 전극 또는 캐소드 전극), 유기 발광층 및 제2전극(예: 캐소드 전극 또는 애노드 전극) 등으로 이루어질 수 있다.The organic light emitting diode OLED may include a first electrode (e.g., an anode electrode or a cathode electrode), an organic light emitting layer, and a second electrode (e.g., a cathode electrode or an anode electrode).

상기 스토리지 커패시터(Cst)는 상기 구동 TFT(DT)의 게이트 전극(gate)과 소오스 전극(source) 사이에 전기적으로 연결되어, 영상 신호 전압에 해당하는 데이터 전압 또는 이에 대응되는 전압을 한 프레임 시간 동안 유지해줄 수 있다. The storage capacitor Cst is electrically connected between a gate electrode of the driving TFT DT and a source electrode so that a data voltage corresponding to a video signal voltage or a voltage corresponding thereto is applied for one frame time I can keep it.

도 4에서는 3개의 TFT(T1, T2, DT)와 하나의 스토리지 커패시터(Cst)로 구성되는 3T1C 서브 화소의 구성을 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 본 발명에 따른 OLED 표시 장치의 각 서브 화소는 4T1C, 4T2C, 5T1C, 5T2C 등의 서브 화소를 갖을 수 있다.4 shows a structure of a 3T1C sub-pixel composed of three TFTs (T1, T2, DT) and one storage capacitor (Cst), but the present invention is not limited thereto. 4T1C, 4T2C, 5T1C, 5T2C, and the like.

한편, 본 발명에 따른 (k)번째 GIP의 회로는, 도 5에 도시한 바와 같이, 트랜지스터(TA, TB, T3qA, T1B, T1C, T5A, T5B) 및 커패시터(C1)를 구비하여 구성되어, 라인 선택 신호(LSP; Line select pulse)에 따라 세트 신호(CP(k))를 선택적으로 저장하고, 해당 스테이지를 블랭크 구간(Blank time)에 실시간 보상용 신호(VRT; Vertical real time)에 따라 제 1 노드(Q)를 제 1 정전압(GVDD)으로 충전하고 제 2 노드(Qb)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전하는 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb) 제어부(21, 26); 트랜지스터(T1, T1A, T3n, T3nA, T3q, T3, T3A, T5)를 구비하여 구성되어 해당 스테이지를 구동 구간에 3번째 전단의 캐리 펄스(CP(k-3))에 따라 상기 제 1 노드(Q)를 상기 캐리 펄스(CP(k-3)) 전압으로 충전하고 3번째 후단의 캐리 펄스(CP(k+3))에 따라 상기 제 1 노드(Q) 및 제 3 노드(Qh)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전하며, 상기 제 1 노드(Q)의 전압에 따라 제 3노드(Qh)를 상기 제 1정전압(GVDD)으로 충전하는 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23, 25); 트랜지스터(T4, T4l, T4q, T5q) 및 커패시터(C2)를 구비하여 구성되어 상기 제 1 노드(Q)의 전압을 반전하여 제 2 노드(Qb)에 인가하는 인버터부(24); 풀업 트랜지스터(T6cr, T6) 및 풀다운 트랜지스터(T7cr, T7) 및 부트스트랩핑 커패시터(C3)를 구비하여 구성되어 복수개의 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호(CRCLK(k)) 및 복수개의 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호(SCCLK(k))을 수신하여 상기 제 1 노드(Q) 및 상기 제 2 노드(Qb)의 전압에 따라 캐리 펄스(CP(k)) 및 스캔 펄스(SP(k))를 출력하는 출력 버퍼부(27); 그리고, 트랜지스터(T3nB, T3nC)를 구비하여 구성되어 상기 블랭크 구간(Blank time)에 상기 타이밍 컨트롤러에서 출력되는 리세트 신호(RST)에 따라 상기 제 1 노드(Q)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전하는 리세트부(22)를 구비하여 구성된다.5, the circuit of the (k) th GIP according to the present invention includes transistors TA, TB, T3qA, T1B, T1C, T5A and T5B and a capacitor C1, And selectively stores the set signal CP (k) in accordance with a line select pulse (LSP) and outputs the set signal CP (k) in accordance with a real time compensation signal (VRT) at a blank time The first and second node Q and Qb control sections 21 and 26 for charging one node Q with the first constant voltage GVDD and discharging the second node Qb with the second constant voltage GVSS2, ; The driving circuit includes a plurality of transistors T1, T1A, T3n, T3nA, T3q, T3, T3A and T5. The first node Q and the third node Qh are charged with the carry pulse CP (k-3) and the carry pulse CP (k + 3) The first to third node controllers 23 and 25 for discharging the first node Q1 to the second constant voltage GVSS2 and charging the third node Qh to the first constant voltage GVDD according to the voltage of the first node Q, ); An inverter unit 24 having transistors T4, T4l, T4q and T5q and a capacitor C2 for inverting the voltage of the first node Q and applying the inverted voltage to the second node Qb; (K) of the plurality of carry pulse output clock signals CRCLK (k) and a plurality of scan signals RCLK (k) constituted by pull-up transistors T6cr and T6, pull-down transistors T7cr and T7 and bootstrapping capacitor C3, (K) and a scan pulse SP (k) according to the voltage of the first node Q and the second node Qb, receiving one of the clock signals SCCLK (k) (k) output from the output buffer unit 27; The first node Q is configured to have a second constant voltage GVSS2 according to a reset signal RST output from the timing controller during the blank period in which the transistors T3nB and T3nC are provided. And a resetting unit 22 for discharging.

상기 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb) 제어부(21, 26)는 상기 라인 선택 신호(LSP)가 하이 레벨일 때 상기 트랜지스터(TA, TB, T3q)가 턴-온 되어 세트 신호(CP(k))를 상기 커패시터(C1)에 저장한다.When the line selection signal LSP is at a high level, the transistors TA, TB, and T3q are turned on and the set signals (Q, Qb) are applied to the first and second nodes Q and Qb of the blank section CP (k) is stored in the capacitor C1.

그리고, 상기 블랭크 구간에 상기 실시간 보상용 신호(VRT)가 하이 레벨일 때 상기 트랜지스터(T1C, T5B)가 턴-온 되어 상기 제 1 노드(Q)를 제 1 정전압(GVDD)으로 충전하고, 상기 제 2 노드(Qb)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전한다.The transistors T1C and T5B are turned on to charge the first node Q with the first constant voltage GVDD when the real time compensation signal VRT is at a high level in the blank section, And discharges the second node Qb to the second constant voltage GVSS2.

상기 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23, 25)는 구동 구간에 상기 3번째 전단의 캐리 펄스(CP(k-3))가 하이 레벨일 때 상기 트랜지스터(T1, T1A, T5)가 턴-온되어 상기 제 1 노드(Q)를 상기 3번째 전단의 캐리 펄스(CP(k-3)) 전압으로 충전하고 상기 제 2 노드(Qb)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전한다. 이와 같이 상기 제 1 노드(Q)가 충전되고 상기 제 2 노드(Qb)가 방전 될 때 상기 트랜지스터(T3q)가 턴-온되어 상기 제 3 노드(Qh)를 제 1 정전압(GVDD)으로 충전한다.The first to third node control sections 23 and 25 of the driving section turn on the transistors T1, T1A and T5 when the third preceding carry pulse CP (k-3) - on to charge the first node Q with the third preceding carry pulse CP (k-3) and discharge the second node Qb with the second constant voltage GVSS2. Thus, when the first node Q is charged and the second node Qb is discharged, the transistor T3q is turned on to charge the third node Qh with the first constant voltage GVDD .

그리고 3번째 후단의 캐리 펄스(CP(k+3))가 하이 레벨일 때 상기 트랜지스터(T3n, T3nA)가 턴-온되어 상기 제 1 노드(Q) 및 상기 제 3 노드(Qh)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전한다.The transistors T3n and T3nA are turned on when the carry pulse CP (k + 3) at the third trailing end is at the high level to turn the first node Q and the third node Qh to the second And discharges to the constant voltage (GVSS2).

상기 인버터부(24)는 상기 제 1 노드(Q)의 전압을 반전하여 제 2 노드(Qb)에 인가한다.The inverter unit 24 inverts the voltage of the first node Q and applies the inverted voltage to the second node Qb.

상기 출력 버퍼부(27)는 상기 제 1 노드(Q)가 하이 레벨이고 상기 제 2 노드(Qb)가 로우 레벨일 때 상기 풀업 트랜지스터(T6cr)가 턴-온되고 상기 풀다운 트랜지스터(T7cr)가 턴-오프되어 상기 복수개의 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호(CRCLK(k))를 캐리 펄스(CP(k))로 출력한다. 또한 상기 제 1 노드(Q)가 하이 레벨이고 상기 제 2 노드(Qb)가 로우 레벨일 때 상기 풀업 트랜지스터(T6)가 턴-온되고 상기 풀다운 트랜지스터(T7)가 턴-오프되어 상기 복수개의 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호(SCCLK(k))을 스캔 펄스(SP(k))로 출력한다.The output buffer unit 27 is turned on when the first node Q is at the high level and the second node Qb is at the low level and the pull-down transistor T7cr is turned on when the pull- - off and outputs one of the plurality of carry pulse output clock signals CRCLK (k) as a carry pulse CP (k). Also, when the first node Q is at a high level and the second node Qb is at a low level, the pull-up transistor T6 is turned on and the pull-down transistor T7 is turned off, And outputs one clock signal SCCLK (k) of the pulse output clock signal as the scan pulse SP (k).

이 때, 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호(SCCLK(k))가 하이 레벨로 인가되면 상기 출력 버퍼부(27)의 상기 부트스트랩핑 커패시터(C3)에 의해 상기 제 1노드(Q)는 부트스트랩핑(또는 커플링(Coupling))되어 더 높은 전위를 갖는다.At this time, when the scan pulse output clock signal SCCLK (k) is applied at a high level, the first node Q is activated by the bootstrapping capacitor C3 of the output buffer unit 27, (Or coupled) to have a higher potential.

이와 같이 상기 제 1 노드(Q)가 부트스트랩핑된 상태에서, 상기 출력 버퍼부(27)는 각각 입력된 캐리 펄스 출력용 클럭 신호(CRCLK(k)) 및 스캔 펄스 출력용 클럭 신호(SCCLK(k))를 캐리 펄스(CP(k)) 및 스캔 펄스(SP(k))로 출력하므로 출력 손실(Loss)을 방지할 수 있다.The output buffer unit 27 outputs the inputted carry pulse output clock signal CRCLK (k) and the scan pulse output clock signal SCCLK (k), respectively, in the state where the first node Q is bootstrapped, Is output as the carry pulse CP (k) and the scan pulse SP (k), so that the output loss Loss can be prevented.

상기 리세트부(22)는 상기 블랭크 구간(Blank time)에 상기 타이밍 컨트롤러(4)에서 출력되는 리세트 신호(RST)가 하이 레벨일 때 상기 트랜지스터(T3nB, T3nC)가 턴-온되어 상기 제 1 노드(Q)를 제 2 정전압(GVSS2)으로 방전한다.The reset unit 22 turns on the transistors T3nB and T3nC when the reset signal RST outputted from the timing controller 4 is at a high level during the blank period, And discharges one node Q to the second constant voltage GVSS2.

상기 도 5에서는 6상(Phase)으로 구동되는 GIP를 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 본 발명에 따른 GIP는 다양하게 구성될 수 있다.Although FIG. 5 shows a GIP driven in six phases, the present invention is not limited thereto, and the GIP according to the present invention can be variously configured.

상기 도 5에 도시한 바와 같이, 상기 GIP는 25개의 트랜지스터와 3개의 커패시터를 구비하여 구성된다.As shown in FIG. 5, the GIP includes 25 transistors and 3 capacitors.

따라서, 하나의 단위 화소 영역에 상기 GIP의 회로를 구성하는 하나의 단위 소자(트랜지스터 또는 커패시터)를 분산 배치하면, 하나의 게이트 라인(스캔 라인)을 구동하기 위한 하나의 GIP의 회로를 배치할 수 있다.Therefore, if one unit element (transistor or capacitor) constituting the circuit of the GIP is dispersedly arranged in one unit pixel area, one GIP circuit for driving one gate line (scan line) can be arranged have.

도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표시 패널의 표시 영역 구성도이고, 도 7은 도 6의 표시 패널의 표시 영역에 배치된 인접한 2개의 단위 화소를 보다 구체적으로 도시한 구성도이다.FIG. 6 is a diagram showing the configuration of a display area of the display panel according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a diagram showing more specifically two adjacent unit pixels arranged in the display area of the display panel of FIG.

도 6 및 도 7에서는 단위 화소가 적색(R), 녹색(G), 청색(B), 및 백색(W) 서브 화소들로 구성됨을 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 서브 화소들로 구성될 수 있다.6 and 7 illustrate that the unit pixel includes red (R), green (G), blue (B), and white (W) subpixels, G) and blue (B) sub-pixels.

본 발명에 따른 표시 패널의 표시 영역의 단위 화소 영역은 적어도 3개의 서브 화소부(R, G, B, W)(33), GIP부(31), 및 GIP 내부 연결 배선부(32) 등으로 구분된다.The unit pixel region of the display region of the display panel according to the present invention includes at least three sub-pixel portions (R, G, B, W) 33, a GIP portion 31 and a GIP internal connection wiring portion 32 Respectively.

상기 적어도 3개의 서브 화소부(R, G, B, W)(33)들은 복수개의 데이터 라인(DL1~DLm), 복수개의 기준 전압 라인(Vref) 및 제 1 및 제 2 정전압 라인(EVDD, EVSS) 들이 수직 방향으로 배열되고, 복수개의 게이트 라인(스캔 라인)이 수평 방향으로 배열되어 구성된다.The at least three sub-pixel units R, G, B, and W may include a plurality of data lines DL1 to DLm, a plurality of reference voltage lines Vref, and first and second constant voltage lines EVDD and EVDD, Are arranged in the vertical direction and a plurality of gate lines (scan lines) are arranged in the horizontal direction.

상기 GIP부(31)는 GIP의 회로를 구성하는 하나의 단위 소자(트랜지스터 또는 커패시터)에 해당된다. 즉, 적색(R), 녹색(G), 청색(B), 및 백색(W) 서브 화소들로 구성되는 단위 화소 영역에, 도 5에 도시한 GIP의 회로를 구성하는 하나의 단위 소자(트랜지스터 또는 커패시터)가 분산 배치된다.The GIP unit 31 corresponds to one unit element (transistor or capacitor) constituting a GIP circuit. In other words, one unit element (transistor) constituting the GIP circuit shown in Fig. 5 is formed in the unit pixel region composed of the red (R), green (G), blue (B) Or capacitors) are distributed and arranged.

즉, 하나의 게이트 라인(스캔 라인)을 구동하기 위한 하나의 GIP가 해당 게이트 라인(스캔 라인)에 의해 구동되는 복수개의 단위 화소 영역에 분산하여 배치된다.That is, one GIP for driving one gate line (scan line) is dispersedly disposed in a plurality of unit pixel regions driven by the corresponding gate line (scan line).

물론, 하나의 게이트 라인(스캔 라인)을 구동하기 위한 GIP를 2개 이상 해당 게이트 라인(스캔 라인)에 의해 구동되는 복수개의 단위 화소 영역에 분산 배치할 수도 있다.Of course, a GIP for driving one gate line (scan line) may be distributed and arranged in a plurality of unit pixel regions driven by two or more gate lines (scan lines).

만약, GIP를 하나 배치할 경우, 해당 게이트 라인(스캔 라인)에 의해 구동되는 복수개의 단위 화소 영역들 중 가운데 부분의 복수개의 단위 화소 영역에 상기 GIP를 구성하는 소자들(트랜지스터 또는 커패시터)를 분산 배치하는 것이 바람직하다.If one GIP is arranged, elements (transistors or capacitors) constituting the GIP are dispersed in a plurality of unit pixel regions in the middle of a plurality of unit pixel regions driven by the corresponding gate line (scan line) .

만약, 하나의 게이트 라인(스캔 라인)을 구동하기 위한 GIP를 2개 배치할 경우, 해당 게이트 라인(스캔 라인)에 의해 구동되는 복수개의 단위 화소들 중 양쪽 가장자리 부분의 복수개의 단위 화소 영역에 각각 상기 GIP를 구성하는 소자들(트랜지스터 또는 커패시터)를 분산 배치하는 것이 바람직하다.If two GIPs for driving one gate line (scan line) are arranged, a plurality of unit pixel regions on both edge portions of a plurality of unit pixels driven by the corresponding gate line (scan line) It is preferable to dispersively arrange the elements (transistors or capacitors) constituting the GIP.

또한, 도 6 및 도 7에서는 모든 단위 화소 영역에 GIP부(31)가 배치됨을 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 일부 단위 화소 영역에는 GIP부(31)가 배치되지 않을 수도 있다.Although FIGS. 6 and 7 illustrate that the GIP unit 31 is disposed in all the unit pixel regions, the present invention is not limited thereto, and the GIP unit 31 may not be disposed in some unit pixel regions.

상기 GIP 내부 연결 배선부(32)는 상기 도 5에 도시한 바와 같이, GIP의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들(Q 노드, QB 노드, 소자와 소자 연결 라인 등)이 배치되는 영역이다.As shown in FIG. 5, the GIP internal connection wiring portion 32 is an area in which connection wirings (Q node, QB node, device and device connection line, etc.) for connecting the respective elements of the GIP are arranged.

또한, 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33), GIP부(31), 및 GIP 내부 연결 배선부(32)의 배치 위치를 다양하게 할 수 있다.In addition, the arrangement positions of the at least three sub-pixel units 33, the GIP unit 31, and the GIP internal connection wiring unit 32 can be varied.

도 8a 내지 8d는 본 발명에 따른 GIP부의 배치 위치를 나타낸 설명도이다.8A to 8D are explanatory diagrams showing the arrangement positions of the GIP units according to the present invention.

즉, 도 8a에 도시한 바와 같이, 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)의 상측 및 상기 단위 적어도 3개의 서브 화소부(33)의 우측에 상기 GIP부(31)를 배치할 수 있다.That is, as shown in FIG. 8A, the GIP unit 31 can be disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring unit 32 and on the right side of at least three sub-pixel units 33 of the unit.

도 8b에 도시한 바와 같이, 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)의 좌측에 상기 GIP부(31)를 배치할 수 있다.The GIP portion 31 may be disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring portion 32 and on the left side of the at least three sub-pixel portions 33, as shown in FIG. 8B.

도 8c에 도시한 바와 같이, 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)와 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33) 사이에 상기 GIP부(31)를 배치할 수 있다.The GIP unit 31 may be disposed between the GIP internal connection wiring unit 32 and the at least three sub-pixel units 33, as shown in FIG. 8C.

도 8d에 도시한 바와 같이, 상기 적어도 3개의 서브 화소부(33)의 반대편인 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)의 하측에 상기 GIP부(31)를 배치할 수 있다.8D, the GIP unit 31 may be disposed below the GIP internal connection wiring unit 32, which is opposite to the at least three sub-pixel units 33. As shown in FIG.

한편, GIP의 각 소자들을 표시 영역에 배치함에 있어, 기능별로 배치하면 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)의 배선을 간소화 할 수 있다.On the other hand, when the respective elements of the GIP are arranged in the display area by function, the wiring of the GIP internal connection wiring part 32 can be simplified.

도 9는 본 발명에 따른 GIP 소자들의 배치 상태를 도시한 설명도이다.FIG. 9 is an explanatory view showing an arrangement state of GIP devices according to the present invention.

도 5에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 GIP의 회로는, 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb) 제어부(21, 26)와, 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23, 25)와, 인버터부(24)와, 출력 버퍼부(27)와 리세트부(22)를 구비하여 구성된다.5, the circuit of the GIP according to the present invention includes first and second node (Q, Qb) control sections 21, 26 for the blank section, first to third node control sections 23, 25 An inverter unit 24, an output buffer unit 27, and a reset unit 22. The inverter unit 24 includes an output buffer unit 27,

여기서, 상기 출력 버퍼부(27)는 상기 풀업 트랜지스터(T6cr)와 상기 풀다운 트랜지스터(T7cr)로 구성되어 캐리 펄스(CP(k))를 출력하는 캐리 펄스 출력 버퍼부와, 상기 풀업 트랜지스터(T6)와 상기 풀다운 트랜지스터(T7) 및 부트스트랩핑 커패시터(C3)로 구성되어 스캔 펄스(SP(k))를 출력하는 스캔 펄스 출력 버퍼부로 구분된다.The output buffer unit 27 includes a carry pulse output buffer unit including the pull-up transistor T6cr and the pull-down transistor T7cr and outputting a carry pulse CP (k) And a scan pulse output buffer unit composed of the pull-down transistor T7 and the bootstrapping capacitor C3 and outputting the scan pulse SP (k).

따라서, 상기 GIP의 각 소자들을 표시 영역에 배치함에 있어, 도 9에 도시한 바와 같이, 상기 출력 버퍼부(27) 중 상기 스캔 펄스 출력 버퍼부(T6, T7, C3)을 먼저 배치하고, 그 다음으로 인버터부(24), 상기 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb) 제어부(21, 26), 상기 출력 버퍼부(27) 중 상기 캐리 펄스 출력 버퍼부(T6cr, T7cr), 상기 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23, 25) 및 리세트부(22) 순서로 배치하면 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)의 배선을 간소화 할 수 있다.Therefore, in disposing the elements of the GIP in the display area, the scan pulse output buffer units T6, T7, and C3 of the output buffer unit 27 are arranged first, The control section 21 and 26 of the blank section and the first and second nodes Q and Qb of the blank section and the carry pulse output buffer sections T6cr and T7cr of the output buffer section 27, The wiring of the GIP internal connection wiring part 32 can be simplified by disposing the driving section in the order of the first to third node control parts 23 and 25 and the reset part 22 in this order.

또한, 상술한 바와 같이, 상기 GIP의 각 소자들을 표시 영역에 배치함에 있어, 상기 GIP의 각 소자들 중 상기 출력 버퍼부(27)의 상기 스캔 펄스 출력 버퍼부를 구성하는 트랜지스터(T6)는 다른 트랜지스터들보다 상대적으로 큰 폭이 요구된다.In addition, as described above, when the elements of the GIP are arranged in the display region, the transistor T6 constituting the scan pulse output buffer portion of the output buffer portion 27 among the elements of the GIP, A relatively large width is required.

즉, 상기 스캔 펄스 출력 버퍼부를 구성하는 트랜지스터(T6)는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호(SCCLK)를 스캔 펄스로 출력할 때 지연(Delay)을 최소화하여 출력하여야 한다. 따라서, 상기 스캔 펄스 출력 버퍼부를 구성하는 트랜지스터(T6)의 폭은 다른 트랜지스터들의 폭보다 상대적으로 크다.That is, the transistor T6 constituting the scan pulse output buffer unit must output the scan pulse output clock signal SCCLK with a minimum delay time when outputting the scan pulse SCCLK as a scan pulse. Therefore, the width of the transistor T6 constituting the scan pulse output buffer unit is relatively larger than the width of the other transistors.

또한, 마찬가지 이유로, 상기 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23)의 트랜지스터(T1)도 다른 트랜지스터들보다 상대적으로 큰 폭이 요구된다.For the same reason, the transistors T1 of the first through third node control sections 23 of the driving period are required to have a relatively larger width than the other transistors.

이와 같이, 상기 스캔 펄스 출력 버퍼부를 구성하는 트랜지스터(T6)의 폭 및 상기 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23)의 트랜지스터(T1)의 폭은 다른 트랜지스터들의 폭보다 상대적으로 크게 설계되어야 하지만, 단위 화소 영역이 제한되어 있으므로, 한 개의 단위 화소 영역에 상기 스캔 펄스 출력 버퍼부를 구성하는 트랜지스터(T6)를 배치할 수 없다. 따라서, 상기 스캔 펄스 출력 버퍼부를 구성하는 트랜지스터(T6) 및 상기 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23)의 트랜지스터(T1) 등 상대적으로 큰 폭이 요구되는 소자를 분할하여 가로 방향으로 병렬(spreading) 배치하여, 제한된 단위 화소 영역에 큰 사이즈의 박막트랜지스터를 배치할 수 있다.As described above, the width of the transistor T6 constituting the scan pulse output buffer unit and the width of the transistor T1 of the first through third node control units 23 in the driving period should be designed to be relatively larger than the widths of the other transistors , The transistor unit T6 constituting the scan pulse output buffer unit can not be arranged in one unit pixel region since the unit pixel region is limited. Therefore, the transistor T6 constituting the scan pulse output buffer section and the transistor T1 of the first through third node control sections 23 of the drive section are divided into a plurality of devices in parallel spreading), so that a large-sized thin film transistor can be arranged in a limited unit pixel region.

도 10은 본 발명에 따른 GIP 소자들 중 큰 사이즈를 갖는 박막트랜지스터의 배치 상태를 도시한 설명도이다.10 is an explanatory view showing the arrangement state of thin film transistors having a large size among the GIP devices according to the present invention.

도 10에서는 상기 스캔 펄스 출력 버퍼부를 구성하는 트랜지스터(T6)를 분할하여 가로 방향으로 병렬(spreading) 배치함을 도시하였다. 상기 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23)의 트랜지스터(T1)도 같은 방법으로 분할하여 가로 방향으로 병렬(spreading) 배치할 수 있다.In FIG. 10, the transistors T6 constituting the scan pulse output buffer section are divided and arranged in the horizontal direction in a spreading manner. The transistors T1 of the first to third node control units 23 of the driving period may be divided and arranged in the horizontal direction in the same manner.

즉, 도 10에 도시한 바와 같이, 상기 스캔 펄스 출력 버퍼부를 구성하는 트랜지스터(T6)를 4개의 단위 화소 영역에 분할하여 가로 방향으로 병렬(spreading) 배치할 수 있다.That is, as shown in FIG. 10, the transistor T6 constituting the scan pulse output buffer section can be divided into four unit pixel regions and arranged in the horizontal direction in a spreading manner.

상술한 상기 스캔 펄스 출력 버퍼부를 구성하는 트랜지스터(T6) 및 상기 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23)의 트랜지스터(T1)뿐만 아니라, 다른 큰 사이즈를 갖는 박막트랜지스터들도 상기 도 10에서 설명한 바와 같은 방법으로 분할하여 가로 방향으로 병렬(spreading) 배치할 수 있다. 또한, 표시 패널 내에서 GIP 구동에 필요한 신호들의 드롭 및 라이징(Drop and Rising)을 줄이기 위하여 배선 폭을 늘려야 될 경우에도 단위 화소 영역별로 나누어 배치할 수 있다.The transistors T6 constituting the scan pulse output buffer section and the transistors T1 of the first through third node control sections 23 of the drive section as well as the thin film transistors having other large sizes And can be arranged in the horizontal direction in a spreading manner. Further, even if the wiring width needs to be increased in order to reduce drop and rising of signals required for GIP driving in the display panel, it is possible to arrange them separately for each unit pixel region.

이와 같이, 단위 화소 내에 GIP를 구성하는 소자들을 분산 배치하여, 하나의 스캔 라인에 적어도 하나의 GIP를 배치하므로 표시 패널의 좌우 베젤을 최소화할 수 있다.As described above, since the elements constituting the GIP are arranged in a unit pixel and at least one GIP is disposed in one scan line, the left and right bezels of the display panel can be minimized.

상기 도 6 내지 도 10에서는 표시 영역 내의 하나의 스캔 라인에 적어도 하나의 GIP를 배치함을 설명하였다.In FIGS. 6 to 10, at least one GIP is arranged in one scan line in the display area.

도 3에서 설명한 바와 같이, 상기 데이터 구동회로는 복수개의 소스 드라이브 IC(SIC)를 포함한다. 도 3에서는 6개의 소스 드라이브 IC로 구성됨을 도시하였다.As shown in FIG. 3, the data driving circuit includes a plurality of source drive ICs (SIC). In FIG. 3, six source drive ICs are shown.

따라서, 다른 실시예로, 각 소스 드라이브 IC(SIC)별로 각 스캔 라인을 따라 GIP를 배치할 수 있다.Thus, in another embodiment, a GIP can be placed along each scan line for each source drive IC (SIC).

도 11은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시 패널의 표시 영역 구성도이다.11 is a view showing the configuration of a display area of a display panel according to a second embodiment of the present invention.

도 11을 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 OLED 표시 장치는 표시패널(PNL)과, 상기 표시 패널(PNL)에 영상 데이터를 제공하기 위한 구동 회로를 구비한다.Referring to FIG. 11, the OLED display according to the second embodiment of the present invention includes a display panel PNL and a driving circuit for providing image data to the display panel PNL.

상기 표시 패널(PNL)의 표시 영역(AA)은 교차 배열되는 복수개의 데이터 라인들(DL1~DLm) 및 복수개의 게이트 라인들(GL1~GLn)과, 상기 복수개의 데이터 라인들(DL1~DLm)과 상기 복수개의 게이트 라인들(GL1~GLn)에 의해 매트릭스 형태로 배치되는 복수개의 서브 화소들을 구비한다. 상기 표시 패널(PNL)의 표시 영역(AA)에는 터치 센서들(touch sensor)이 더 배치될 수 있다.The display area AA of the display panel PNL includes a plurality of data lines DL1 to DLm and a plurality of gate lines GL1 to GLn and a plurality of data lines DL1 to DLm, And a plurality of sub-pixels arranged in a matrix form by the plurality of gate lines GL1 to GLn. A touch sensor may further be disposed in the display area AA of the display panel PNL.

상기 복수개의 서브 화소들은, 컬러 구현을 위하여, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 서브 화소들을 포함하고, 상기 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 서브 화소들 이외에 백색(W) 서브 화소를 더 포함할 수 있다.The plurality of sub-pixels may include red (R), green (G), and blue (B) sub-pixels for color implementation and the red (R), green (G), and blue (W) sub-pixel in addition to the pixels.

상기 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 서브 화소들이 하나의 단위 화소를 구성하거나, 상기 적색(R), 녹색(G), 청색(B), 및 백색(W) 서브 화소들이 하나의 단위 화소를 구성한다.The red (R), green (G), and blue (B) subpixels constitute one unit pixel or the red (R), green Constitute one unit pixel.

그리고, 상기 단위 화소 영역들에 게이트 구동 회로의 GIP를 구성하는 소자들(TFT, Capacitor 등)이 분산 배치된다.In addition, elements (TFT, capacitor, etc.) constituting the GIP of the gate driving circuit are distributedly arranged in the unit pixel regions.

보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.More specifically, it is as follows.

상기 구동 회로는 상기 표시 패널(PNL)의 데이터 라인들(DL1~DLm)에 영상 데이터 전압을 공급하는 데이터 구동회로와, 상기 영상 데이터 전압에 동기되는 스캔 펄스를 표시패널(PNL)의 게이트 라인들(GL1~GLn)에 공급하는 게이트 구동회로, 및 상기 데이터 구동 회로와 상기 게이트 구동회로의 동작 타이밍을 제어하기 위한 타이밍 콘트롤러(Timing controller, 도 3의 T-CON 참조) 등을 포함한다.The driving circuit includes a data driving circuit for supplying a video data voltage to the data lines DL1 to DLm of the display panel PNL and a scan pulse synchronized with the video data voltage to gate lines A timing controller (see T-CON in FIG. 3) for controlling the operation timings of the data driving circuit and the gate driving circuit, and the like.

상기 데이터 구동회로는 복수개의 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)를 포함한다. 도 11에서는 상기 데이터 구동회로가 6개의 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)를 포함함을 도시하였다.The data driving circuit includes a plurality of source drive ICs (SIC1 to SIC6). In FIG. 11, the data driving circuit includes six source drive ICs (SIC1 to SIC6).

따라서, 6개의 상기 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)는 6개의 COF(Chip on Film)에 각각 실장되고, 상기 각 COF들은 ACF를 통해 상기 표시 패널(PNL)의 하부 기판(SUBS1)의 패드 영역과 소스 PCB(SPCB)에 접착된다. 상기 각 COF들의 입력 핀들은 상기 소스 PCB(SPCB)의 출력단자들(패드)에 전기적으로 연결되고, 상기 각 소스 COF들(COF)의 출력 핀들은 ACF를 통해 상기 표시 패널(PNL)의 기판에 형성된 데이터 패드들에 전기적으로 연결된다.Therefore, the six source drive ICs (SIC1 to SIC6) are respectively mounted on six COFs (Chip on Film), and the respective COFs are connected to the pad region of the lower substrate SUBS1 of the display panel (PNL) Source PCB (SPCB). The input pins of the COFs are electrically connected to the output terminals (pads) of the source PCB (SPCB), and the output pins of the source COFs (COF) are connected to the substrate of the display panel And are electrically connected to the formed data pads.

상기 게이트 구동회로는 상기 타이밍 콘트롤러로부터의 스타트 펄스(VST), 클럭 신호(CRCLK, SCCLK), 게이트 하이 전압(VGH), 게이트 로우 전압(VGL) 등을 수신하여 각 게이트 라인(GL1~GLn)에 순차적으로 스캔 펄스를 출력하는 복수개의 GIP를 포함한다.The gate driving circuit receives the start pulse VST, the clock signals CRCLK and SCCLK, the gate high voltage VGH and the gate low voltage VGL from the timing controller and outputs the gate pulses to the gate lines GL1 to GLn And a plurality of GIPs sequentially outputting scan pulses.

상기 복수개의 GIP들은 상기 타이밍 콘트롤러의 제어 하에 상기 데이터 전압에 동기되는 스캔 펄스를 각 게이트 라인들(GL1~GLn)에 순차적으로 공급하여 영상 데이터 전압이 인가되는 1 라인의 화소들을 선택한다.The plurality of GIPs sequentially supply scan pulses synchronized with the data voltages to the gate lines GL1 to GLn under the control of the timing controller to select one line of pixels to which the image data voltage is applied.

여기서, 상기 복수개의 GIP들은 상기 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6) 별로 구분되어, 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6) 별로 각 게이트 라인의 복수개의 단위 화소 영역에 적어도 하나의 GIP를 구성하는 소자들(TFT, Capacitor 등)이 분산 배치된다.Here, the plurality of GIPs are divided into the plurality of source drive ICs (SIC1 to SIC6), and each of the source drive ICs (SIC1 to SIC6) has at least one GIP in a plurality of unit pixel regions of each gate line (TFT, capacitor, etc.) are distributed and arranged.

즉, 각 소스 드라이브 IC(SIC1, SIC2, SIC3, SIC4, SIC5, SIC6))에 의해 구동되는 표시 영역 별로 복수개의 GIP를 구비한 하나의 GIP 블록이 배치된다. 이 때, 각 블록의 복수개의 게이트 라인(스캔 라인) 각각의 복수개의 단위 화소 영역에 GIP를 구성하는 소자들(TFT, Capacitor 등)이 분산 배치된다.That is, one GIP block having a plurality of GIPs is arranged for each display region driven by each source drive IC (SIC1, SIC2, SIC3, SIC4, SIC5, SIC6). At this time, elements (TFT, capacitor, etc.) constituting a GIP are distributedly arranged in a plurality of unit pixel regions of each of a plurality of gate lines (scan lines) of each block.

예를들면, 표시 패널이 UHD (3840 * 2160) 모델이라면, 각 소스 드라이브 IC(SIC1, SIC2, SIC3, SIC4, SIC5, SIC6))에 의해 구동되는 표시 영역 별로 2160개의 GIP가 배치된다.For example, if the display panel is a UHD (3840 * 2160) model, 2160 GIPs are arranged for each display region driven by each source drive IC (SIC1, SIC2, SIC3, SIC4, SIC5, SIC6).

또한, 상기에서 언급한 바와 같이, 상기 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역 별로 구분되어 GIP들이 배치되고, 각 게이트 라인(스캔 라인)에 배치되는 복수개의 단위 화소 영역들에 2개 이상의 GIP가 배치될 수 있다.In addition, as mentioned above, the GIPs are arranged by the display regions driven by the source drive ICs (SIC1 to SIC6), and a plurality of unit pixel regions arranged in each gate line (scan line) Two or more GIPs may be deployed.

따라서, 상기 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역 별로 구분하여 GIP들이 배치되고, 단위 화소 영역에 GIP를 구성하는 소자들(TFT, Capacitor 등)이 분산 배치되는 구성은 도 6 및 도 7에서 설명한 바와 같이, 적어도 3개의 서브 화소부(R, G, B, W), GIP부(31), 및 GIP 내부 연결 배선부(32) 등으로 구분된다.Therefore, a configuration in which GIPs are arranged for each display region driven by each of the source drive ICs (SIC1 to SIC6), and elements (TFTs, capacitors, etc.) constituting a GIP are distributed and arranged in a unit pixel region, G, B, and W, a GIP 31, and a GIP internal connection wiring portion 32, as described with reference to FIG.

또한, 상기 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역 별로 구분하여 GIP들이 배치되고, 상기 적어도 3개의 서브 화소부(R, G, B, W), GIP부(31), 및 GIP 내부 연결 배선부(32)의 배치 위치는 상기 도 8a 내지 8d에서 설명한 바와 같이 다양하게 배치할 수 있다.In addition, the GIPs are divided according to the display regions driven by the source drive ICs SIC1 to SIC6, and the at least three sub-pixel portions (R, G, B, and W), the GIP portion 31, The arrangement positions of the GIP internal connection wiring portions 32 can be variously arranged as described in FIGS. 8A to 8D.

또한, 상기 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역 별로 구분되어 GIP들이 배치되고, 상기 도 9에서 설명한 바와 같이, 상기 출력 버퍼부(27) 중 상기 스캔 펄스 출력 버퍼부(T6, T7, C3)을 먼저 배치하고, 그 다음으로 인버터부(24), 상기 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb) 제어부(21, 26), 상기 출력 버퍼부(27) 중 상기 캐리 펄스 출력 버퍼부(T6cr, T7cr), 상기 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부(23, 25) 및 리세트부(22) 순서로 배치하면 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)의 배선을 간소화 할 수 있다.9, the scan pulse output buffer unit T6 (T6) of the output buffer unit 27 is connected to the scan pulse output buffer unit T6 The first and second nodes Q and Qb of the blank section 21 and 26 and the output buffer section 27 of the output buffer section 27, The pulse output buffer units T6cr and T7cr, the first to third node control units 23 and 25 and the reset unit 22 are arranged in this order to simplify the wiring of the GIP internal connection wiring unit 32 .

또한, 상기 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역 별로 구분되어 GIP들이 배치되고, 상기 도 10에서 설명한 바와 같이, 상대적으로 큰 폭이 요구되는 소자를 분할하여 가로 방향으로 병렬(spreading) 배치하여, 제한된 단위 화소 영역에 큰 사이즈의 박막트랜지스터를 배치할 수 있다.In addition, the GIPs are divided according to the display regions driven by the respective source drive ICs (SIC1 to SIC6). As described with reference to FIG. 10, the devices requiring a relatively large width are divided into parallel spreading), so that a large-sized thin film transistor can be arranged in a limited unit pixel region.

또한, 상기 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역 별로 구분되어 GIP들이 배치되고, 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6) 별로 동일 게이트 라인(스캔 라인)에 배치되는 GIP는 동일 캐리 펄스 출력용 캐리 펄스(CRCLK) 및 동일 스캔 펄스 출력용 스캔 펄스(SCCLK)에 의해 구동되어 동시에 캐리 펄스 및 스캔 펄스를 출력한다.In addition, the GIPs are divided according to the display areas driven by the respective source drive ICs (SIC1 to SIC6), and the GIPs arranged in the same gate line (scan line) for each source drive IC (SIC1 to SIC6) Is driven by a carry pulse (CRCLK) for pulse output and a scan pulse (SCCLK) for outputting the same scan pulse, and simultaneously outputs a carry pulse and a scan pulse.

또한, 상기 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역 별로 구분되어 GIP들이 배치되지만, 각 게이트 라인(스캔 라인은) 상기 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역별로 전기적으로 독립될 수 있고, 상기 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역에 일체로 형성될 수 있다.Although the GIPs are divided into the display areas driven by the respective source drive ICs SIC1 to SIC6, the gate lines (scan lines) are divided into the display areas driven by the respective source drive ICs (SIC1 to SIC6) And may be integrally formed in a display region driven by each of the source drive ICs SIC1 to SIC6.

그리고, 상기 각 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC6)는 화소를 구동하기 위한 데이터 전압 및 각종 전원들을 공급할 뿐만 아니라, GIP 그룹 별로 6상(Phase)의 GIP일 경우, GIP를 구동하기 위한 캐리 펄스 출력용 캐리 펄스(CRCLK1~CRCLK6), 스캔 펄스 출력용 스캔 펄스(SCCLK1~SCCLK6), 전원(GVDD, GVSS0, GVSS1, GVSS2), 스타트 신호(VST), 리셋 신호(RESET, RST), 라인 선택 신호(LSP) 등을 GIP부(31) 및 GIP 내부 연결 배선부(32)에 공급한다.Each of the source drive ICs (SIC1 to SIC6) not only supplies data voltages and various power supplies for driving pixels, but also carries out carry-pulse output driving for driving GIP when the GIP is a 6-phase GIP for each GIP group The scan signals SCCLK1 to SCCLK6 for the scan pulses, the power supply signals GVDD, GVSS0, GVSS1 and GVSS2, the start signal VST, the reset signals RESET and RST, and the line selection signals LSP To the GIP unit 31 and the GIP internal connection wiring unit 32.

또한, 도 11에서는 하나의 소스 드라이브 IC(SIC1, SIC2, SIC3, SIC4, SIC5, 또는 SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역에 적어도 하나의 GIP 블럭이 배치됨을 설명하였지만, 이에 한정되지 않고, 인접한 2개의 소스 드라이브 IC(SIC1 및 SIC2, SIC3 및 SIC4, 또는 SIC5 및 SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역에 하나의 GIP 블럭이 배치될 수 있고, 인접한 3개의 소스 드라이브 IC(SIC1 ~ SIC3, 또는 SIC4 ~ SIC6)에 의해 구동되는 표시 영역에 하나의 GIP 블럭이 배치될 수 있다.11, at least one GIP block is arranged in a display area driven by one source drive IC (SIC1, SIC2, SIC3, SIC4, SIC5, or SIC6). However, One GIP block can be arranged in the display area driven by the source drive ICs (SIC1 and SIC2, SIC3 and SIC4, or SIC5 and SIC6), and three adjacent source drive ICs (SIC1 to SIC3, or SIC4 to SIC6) One GIP block may be arranged in the display area driven by the GIP block.

한편, 상술한 바와 같이, 하나의 게이트 라인(스캔 라인)을 구동하기 위한 적어도 하나의 GIP를 해당 게이트 라인(스캔 라인)에 의해 구동되는 복수개의 단위 화소 영역에 분산하여 배치할 경우, 상기 GIP부(31)가 배치되는 단위 화소와, 상기 GIP부(31)가 배치되지 않은 단위 화소가 존재하게 된다.Meanwhile, as described above, when at least one GIP for driving one gate line (scan line) is dispersed and arranged in a plurality of unit pixel regions driven by the corresponding gate line (scan line), the GIP portion The unit pixel in which the GIP unit 31 is arranged and the unit pixel in which the GIP unit 31 is not arranged exist.

그리고, 상기 GIP부(31)의 소자에 따라 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 배치되는 배선 수에 차이가 있다.There is a difference in the number of wirings disposed in the GIP internal connection wiring portion 32 in accordance with the elements of the GIP portion 31. [

이와 같이, 상기 GIP부(31)가 배치되는 단위 화소와, 상기 GIP부(31)가 배치되지 않은 단위 화소 간의 차이와 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 배치되는 배선 수의 차이에 따라 반사도 및 투과도에 차이가 발생하여 표시 장치의 비 구동 시 설계 편차가 인지될 수 있다.As described above, depending on the difference between the unit pixel in which the GIP unit 31 is arranged and the unit pixel in which the GIP unit 31 is not arranged and the number of wiring lines arranged in the GIP internal connection wiring unit 32, And the design deviation of the display device during non-operation can be recognized.

이와 같은 문제점을 예방하기 위하여, 상기 GIP부(31)가 배치되지 않은 단위 화소에 더미 GIP부를 배치하고, 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에도 더미 배선을 배치할 수 있다.In order to prevent such a problem, a dummy GIP unit may be disposed in a unit pixel in which the GIP unit 31 is not disposed, and a dummy wiring may be disposed in the GIP internal connection wiring unit 32. [

이와 같이 더미 GIP부 및 더미 배선을 배치하는 방법을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.A method of arranging the dummy GIP portion and the dummy wiring in this way will be described in more detail as follows.

도 12a는 본 발명에 따른 표시 패널에서 GIP부가 배치된 단위 화소의 구성도이고, 도 12b는 본 발명에 따른 표시 패널에서 GIP부가 배치되지 않은 단위 화소의 구성도이다.12A is a configuration diagram of a unit pixel in which a GIP unit is arranged in a display panel according to the present invention, and FIG. 12B is a configuration diagram of a unit pixel in which a GIP unit is not arranged in a display panel according to the present invention.

상기 도 5에서 설명한 바와 같이, 하나의 게이트 라인을 구동하는 하나의 GIP는 25개의 트랜지스터와 3개의 커패시터를 구비하여 구성되고, 하나의 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소들의 수는 상기 하나의 GIP를 구성하는 소자들(트랜지스터 및 커패시터)의 개수보다 훨씬 많이 구성되므로, 도 12a와 같이 단위 화소에 상기 GIP부(31)가 배치될 수 있고, 도 12b에 도시한 바와 같이, 임의의 단위 화소에는 상기 GIP부가 배치되지 않을 수 있다.As described with reference to FIG. 5, one GIP for driving one gate line includes 25 transistors and three capacitors, and the number of unit pixels driven by one gate line corresponds to the number of GIPs 12A, the GIP unit 31 may be arranged in a unit pixel, and as shown in FIG. 12B, a unit pixel may be provided with a plurality of pixels The GIP unit may not be disposed.

또한, 도 12a와 같이, 단위 화소에 상기 GIP부(31)가 배치되더라도, 해당 단위 화소에 배치되는 상기 GIP부(31)의 소자에 따라 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 배치되는 배선 수에 차이가 있다.12A, even if the GIP unit 31 is arranged in the unit pixel, the number of wiring lines arranged in the GIP internal connection wiring unit 32 in accordance with the element of the GIP unit 31 arranged in the unit pixel .

이와 같이, 상기 GIP부(31)의 배치 유무와 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 배치되는 배선 수의 차이에 따라 각 단위 화소별로 반사도 및 투과도에 차이가 발생하게 된다. 따라서, 표시 패널의 비 구동 시에 설계 편차가 발생되고, 상기 설계 편차에 따라 화질에 저하되는 문제점이 있을 수 있다.As described above, there is a difference in reflectivity and transmittance between the GIP unit 31 and the GIP internal connection wiring unit 32 depending on the unit pixel. Therefore, a design deviation may occur when the display panel is not driven, and the image quality may deteriorate due to the design deviation.

즉, 도 12b에 도시한 바와 같이, 임의의 단위 화소에 상기 GIP부가 배치되지 않으면, 상기 GIP부가 배치되지 않은 단위 화소는 상기 GIP부가 배치되는 단위 화소에 비해 금속층이 적게 형성된다. 따라서, 상기 GIP부가 배치되지 않은 단위 화소는 상기 GIP부가 배치되는 단위 화소에 비해 반사도가 낮아진다.That is, as shown in FIG. 12B, if the GIP unit is not arranged in any unit pixel, the unit pixel in which the GIP unit is not disposed is formed to have a smaller metal layer than the unit pixel in which the GIP unit is disposed. Therefore, the unit pixel in which the GIP unit is not disposed has a lower reflectivity than the unit pixel in which the GIP unit is disposed.

마찬가지로, 임의의 단위 화소의 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 배치되는 배선 수가 다른 단위 화소의 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 배치되는 배선 수보다 적으로 경우, 상기 임의의 단위 화소는 상기 다른 단위 화소에 반사도가 낮아진다.Similarly, when the number of wirings disposed in the GIP internal connection wiring portion 32 of any unit pixel is smaller than the number of wirings arranged in the GIP internal connection wiring portion 32 of another unit pixel, The reflectivity of the other unit pixel is lowered.

이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 GIP부가 배치되지 않은 단위 화소에 더미 GIP부를 배치하고, 상대적으로 배선 수가 적은 단위 화소의 GIP 내부 연결 배선부에 더미 배선을 형성한다.In order to solve such problems, the present invention arranges a dummy GIP unit in a unit pixel in which a GIP unit is not arranged, and a dummy wiring in a GIP internal connecting wiring unit of a unit pixel in which the wiring is relatively small.

도 13은 본 발명에 따른 표시 패널에서 GIP부가 배치되지 않은 단위 화소에 더미 GIP부가 배치되고, 상대적으로 배선 수가 적은 단위 화소의 GIP 내부 연결 배선부에 더미 배선이 배치된 구성도이다.13 is a view showing a configuration in which a dummy GIP unit is arranged in a unit pixel in which a GIP unit is not arranged in a display panel according to the present invention and a dummy wiring is arranged in a GIP internal connection wiring unit of a unit pixel having a relatively small number of wirings.

도 13에 도시한 바와 같이, 게이트 라인에 스캔 신호를 공급하는 GIP가 표시 영역에 내장되는 표시 패널에서, GIP를 구성하는 소자들 중 하나에 해당하는 GIP부가 배치되지 않은 단위 화소에 더미 GIP부(34)를 구성한다.As shown in Fig. 13, in a display panel in which a GIP for supplying a scan signal to a gate line is embedded in a display area, a dummy GIP unit (not shown) is formed in a unit pixel in which a GIP unit corresponding to one of the elements constituting the GIP is not arranged 34).

상기 더미 GIP부(34)는 GIP를 구성하는 소자와 무관한 것으로, OLED 표시 패널 공정에 사용되는 물질을 이용하여 형성한다.The dummy GIP unit 34 is formed by using a material used in an OLED display panel process, irrespective of elements constituting the GIP.

즉, 상기 더미 GIP부(34)도 상기 GIP부(31)와 동일한 구성으로 형성하여도 되고, 상기 GIP부(31)와 다른 구성으로 형성하여도 무방하다.That is, the dummy GIP unit 34 may have the same structure as that of the GIP unit 31, or may have a structure different from that of the GIP unit 31.

상기 더미 GIP부(34)는, 상기 GIP부(31)가 배치되는 단위 화소와 동등한 반사도 및 투과도를 갖도록 하기 위하여, OLED 표시 패널의 구성에서 금속층을 패터닝하여 형성함이 바람직하다.The dummy GIP section 34 is preferably formed by patterning a metal layer in the structure of the OLED display panel so as to have the same reflectivity and transmittance as the unit pixel in which the GIP section 31 is disposed.

참고로, OLED 표시 패널에서는 3개의 금속층(차광 금속 패턴, 게이트 전극 패턴, 및 소오스/드레인 전극 패턴)이 적층된 구조를 갖는다.For reference, the OLED display panel has a structure in which three metal layers (a light-shielding metal pattern, a gate electrode pattern, and a source / drain electrode pattern) are stacked.

도 12a, 12b 및 13에서, 미설명 부호는 데이터 라인(Data), 기준 전압 라인(Ref), 화소의 전원 공급 라인(EVDD) 및 GIP 신호 라인(GIP S/L)이다.12A, 12B and 13, reference numerals not shown are a data line Data, a reference voltage line Ref, a power supply line EVDD of a pixel, and a GIP signal line GIP S / L.

상기 GIP부(31)와 상기 더미 GIP부(34)의 단면 구조를 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.The cross-sectional structure of the GIP unit 31 and the dummy GIP unit 34 will be described in more detail as follows.

도 14는 도 12a에 도시된 본 발명에 따른 표시 패널에서 GIP부의 단면 구성도이다.FIG. 14 is a cross-sectional view of the GIP portion in the display panel according to the present invention shown in FIG. 12A.

상기 도 5와 같이 구성되는 GIP 회로에서, 임의의 단위 화소에 박막트랜지스터가 형성된다고 가정할 때, 도 14에 도시한 바와 같이, 유리 기판(1)상에 차광 금속 패턴(3)이 형성되고, 상기 차광 금속 패턴(3)을 포함한 상기 기판(1) 전면에 버퍼층(2)이 형성된다. 상기 차광 금속 패턴(3)은 도 12a, 도 12b 및 도 13에서의 GIP 신호 라인(GIP S/L)으로 이용된다.5, assuming that a thin film transistor is formed in an arbitrary unit pixel, a light shielding metal pattern 3 is formed on a glass substrate 1 as shown in Fig. 14, A buffer layer (2) is formed on the entire surface of the substrate (1) including the light shielding metal pattern (3). The light shielding metal pattern 3 is used as the GIP signal line (GIP S / L) in Figs. 12A, 12B and 13.

그리고, 상기 버퍼층(2)상에 활성층(4)이 형성되고, 상기 활성층(4) 상의 소정 영역에 게이트 절연막(5) 및 게이트 전극(6)이 형성된다. 상기 게이트 전극(6)을 포함한 기판 전면에 층간 절연막(7)이 형성되고, 상기 층간 절연막(7)상에 소오스/드레인 전극(8, 9)이 형성된다.An active layer 4 is formed on the buffer layer 2 and a gate insulating film 5 and a gate electrode 6 are formed on a predetermined region of the active layer 4. An interlayer insulating film 7 is formed on the entire surface of the substrate including the gate electrode 6 and source and drain electrodes 8 and 9 are formed on the interlayer insulating film 7.

상기 소오스/드레인 전극(8, 9)은 상기 층간 절연막(7)에 형성되는 콘택홀을 통해 상기 활성층(4)의 소오스/드레인 영역에 전기적으로 연결된다.The source / drain electrodes 8 and 9 are electrically connected to a source / drain region of the active layer 4 through a contact hole formed in the interlayer insulating film 7.

또한, 도 12b에서 설명한 상기 더미 GIP부(34)도, 상기 도 14에 도시한 바와 같이, 상기 GIP부(31)와 동일한 구조로 형성할 수 있다.Also, the dummy GIP section 34 described with reference to FIG. 12B may be formed in the same structure as the GIP section 31, as shown in FIG.

상기 더미 GIP부(34)는, 상기 도 14에 도시한 바와 같은 상기 GIP부(31)에서 활성층(4)이 형성되지 않을 수도 있다.In the dummy GIP section 34, the active layer 4 may not be formed in the GIP section 31 as shown in FIG.

한편, 상기 더미 GIP부(34)는 상기 GIP부(31)와 다른 구조로 형성할 수 있다.Meanwhile, the dummy GIP unit 34 may have a structure different from that of the GIP unit 31.

도 15는 본 발명의 표시 패널에서 제1 실시예에 따른 더미 GIP부의 구조 단면도이다.15 is a structural cross-sectional view of a dummy GIP portion according to the first embodiment of the display panel of the present invention.

본 발명의 제1 실시예에 따른 상기 더미 GIP부는, 도 15에 도시한 바와 같이, 유리 기판(11)상에 상기 GIP 신호 라인(GIP S/L)으로 이용되는 차광 금속 패턴(13)이 형성되고, 상기 차광 금속 패턴(13)을 포함한 상기 기판(11) 전면에 버퍼층(12)이 형성된다.The dummy GIP portion according to the first embodiment of the present invention is formed by forming a light shielding metal pattern 13 used as the GIP signal line (GIP S / L) on a glass substrate 11 And a buffer layer 12 is formed on the entire surface of the substrate 11 including the light shielding metal pattern 13. [

그리고, 상기 버퍼층(12)상에 활성층 패턴(14)이 형성되고, 상기 활성층 패턴(14) 상의 소정 영역에 게이트 절연막 패턴(15) 및 게이트 전극 패턴(16)이 형성된다. 상기 게이트 전극 패턴(16)을 포함한 기판 전면에 층간 절연막(17)이 형성되고, 상기 층간 절연막(17)상에 소오스/드레인 전극 패턴(18, 19)이 형성된다.An active layer pattern 14 is formed on the buffer layer 12 and a gate insulating film pattern 15 and a gate electrode pattern 16 are formed on a predetermined region of the active layer pattern 14. An interlayer insulating film 17 is formed on the entire surface of the substrate including the gate electrode pattern 16 and source and drain electrode patterns 18 and 19 are formed on the interlayer insulating film 17.

상기 소오스/드레인 전극 패턴(18, 19)은 상기 활성층 패턴(14)에 전기적으로 연결되지 않는다.The source / drain electrode patterns 18 and 19 are not electrically connected to the active layer pattern 14.

상기 도 15에서는 상기 활성층 패턴(14)이 형성됨을 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 상기 활성층 패턴(14)이 형성되지 않을 수도 있다.Although the active layer pattern 14 is illustrated in FIG. 15, the active layer pattern 14 may not be formed.

즉, 상기 게이트 전극 패턴(16)과 상기 소오스/드레인 전극 패턴(18, 19)에 의해 박막트랜지스터의 구성과 같은 구조를 갖도록 형성된다.That is, the gate electrode pattern 16 and the source / drain electrode patterns 18 and 19 are formed to have the same structure as that of the thin film transistor.

또한, 도 16은 본 발명의 표시 패널에서 제2 실시예에 따른 더미 GIP부의 구조 단면도이다.16 is a structural cross-sectional view of the dummy GIP portion according to the second embodiment in the display panel of the present invention.

본 발명의 제2 실시예에 따른 상기 더미 GIP부는, 도 16에 도시한 바와 같이, 유리 기판(11)상에 상기 GIP 신호 라인(GIP S/L)으로 이용되는 차광 금속 패턴(13)이 형성되고, 이와 별도로 상기 더미 GIP부(34)에 2개의 차광 금속 패턴(13a, 13b)이 더 형성되고, 상기 차광 금속 패턴(13, 13a, 13b)을 포함한 상기 기판(11) 전면에 버퍼층(12)이 형성된다. 상기 2개의 차광 금속 패턴(13a, 13b)은, 상기 도 14에서 설명한 소오스/드레인 전극(8, 9)에 상응하는 위치에 형성된다.The dummy GIP portion according to the second embodiment of the present invention is formed by forming a light shielding metal pattern 13 used as the GIP signal line (GIP S / L) on a glass substrate 11 And two light shielding metal patterns 13a and 13b are further formed on the dummy GIP section 34 and a buffer layer 12 is formed on the entire surface of the substrate 11 including the light shielding metal patterns 13 and 13a and 13b. Is formed. The two light-shielding metal patterns 13a and 13b are formed at positions corresponding to the source / drain electrodes 8 and 9 described with reference to FIG.

그리고, 상기 버퍼층(12)상에 활성층 패턴(14)이 형성되고, 상기 활성층 패턴(14) 상의 소정 영역에 게이트 절연막 패턴(15) 및 게이트 전극 패턴(16)이 형성된다. 상기 게이트 전극 패턴(16)을 포함한 기판 전면에 층간 절연막(17)이 형성된다.An active layer pattern 14 is formed on the buffer layer 12 and a gate insulating film pattern 15 and a gate electrode pattern 16 are formed on a predetermined region of the active layer pattern 14. An interlayer insulating film 17 is formed on the entire surface of the substrate including the gate electrode pattern 16.

마찬가지로, 상기 도 16에서는 상기 활성층 패턴(14)이 형성됨을 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 상기 활성층 패턴(14)이 형성되지 않을 수도 있다.Similarly, although the active layer pattern 14 is shown in FIG. 16, the active layer pattern 14 may not be formed.

즉, 상기 게이트 전극 패턴(16)과 2개의 차광 금속 패턴(13a, 13b)에 의해 박막트랜지스터의 구성과 같은 구조를 갖도록 형성된다.That is, the gate electrode pattern 16 and the two shielding metal patterns 13a and 13b are formed to have the same structure as that of the thin film transistor.

또한, 도 17은 본 발명의 표시 패널에서 제3 실시예에 따른 더미 GIP부의 구조 단면도이다.17 is a structural cross-sectional view of a dummy GIP portion according to the third embodiment in the display panel of the present invention.

본 발명의 제3 실시예에 따른 상기 더미 GIP부는, 도 17에 도시한 바와 같이, 유리 기판(11)상에 상기 GIP 신호 라인(GIP S/L)으로 이용되는 차광 금속 패턴(13)이 형성되고, 상기 차광 금속 패턴(13)을 포함한 상기 기판(11) 전면에 버퍼층(12)이 형성된다.The dummy GIP unit according to the third embodiment of the present invention is formed by forming a light shielding metal pattern 13 used as the GIP signal line (GIP S / L) on a glass substrate 11 And a buffer layer 12 is formed on the entire surface of the substrate 11 including the light shielding metal pattern 13. [

그리고, 상기 버퍼층(12)상에 활성층 패턴(14)이 형성되고, 상기 활성층 패턴(14) 상의 소정 영역에 3개의 게이트 절연막 패턴(15) 및 3개의 게이트 전극 패턴(16)이 형성된다.An active layer pattern 14 is formed on the buffer layer 12 and three gate insulating film patterns 15 and three gate electrode patterns 16 are formed on a predetermined region of the active layer pattern 14.

여기서, 상기 3개의 게이트 절연막 패턴(15) 및 3개의 게이트 전극 패턴(16) 중 양측에 형성되는 2개의 게이트 절연막 패턴(15) 및 2개의 게이트 전극 패턴(16) 은 상기 도 14에서 설명한 소오스/드레인 전극(8, 9)에 상응하는 위치에 형성된다.The two gate insulating film patterns 15 and the two gate electrode patterns 16 formed on both sides of the three gate insulating film patterns 15 and the three gate electrode patterns 16 are the same as the source / Drain electrodes 8 and 9, respectively.

상기 게이트 전극 패턴(16)을 포함한 기판 전면에 층간 절연막(17)이 형성된다.An interlayer insulating film 17 is formed on the entire surface of the substrate including the gate electrode pattern 16.

마찬가지로, 상기 도 17에서는 상기 활성층 패턴(14)이 형성됨을 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 상기 활성층 패턴(14)이 형성되지 않을 수도 있다.Similarly, although the active layer pattern 14 is illustrated in FIG. 17, the active layer pattern 14 may not be formed.

즉, 3개의 게이트 전극 패턴(16)에 의해 박막트랜지스터의 구성과 같은 구조를 갖도록 형성된다.That is, the gate electrode patterns 16 are formed to have the same structure as that of the thin film transistors.

본 발명에 따른 상기 더미 GIP부는, 상기 도 15 내지 도 17에서 설명한 바와 같은 실시예에 한정되지 않고, 3개의 금속층(차광 금속 패턴, 게이트 전극 패턴, 및 소오스/드레인 전극 패턴)을 다양하게 조합하여 형성할 수 있다.The dummy GIP unit according to the present invention is not limited to the embodiments described with reference to Figs. 15 to 17, but may be applied to various combinations of three metal layers (light-shielding metal pattern, gate electrode pattern, and source / drain electrode pattern) .

예를들면, 상기 더미 GIP부는, 하나의 소오스 또는 드레인 전극 패턴(18 or 19)과 하나의 게이트 전극 패턴(16) 및 하나의 차광 금속 패턴(13a or 13b))의 조합으로 형성할 수 있고, 하나의 소오스 또는 드레인 전극 패턴(18, 19)과 2개의 게이트 전극 패턴(16)의 조합으로 형성할 수 있고, 하나의 소오스 또는 드레인 전극 패턴(18, 19)과, 2개의 차광 금속 패턴(13a, 13b))의 조합으로 형성할 수 있고, 3개의 소오스 또는 드레인 전극 패턴(18 or 19)의 조합으로 형성할 수 있다.For example, the dummy GIP portion may be formed by a combination of one source or drain electrode pattern (18 or 19), one gate electrode pattern (16), and one light shielding metal pattern (13a or 13b) The source and drain electrode patterns 18 and 19 and the two gate electrode patterns 16 can be formed by a combination of one source or drain electrode pattern 18 and 19 and two gate electrode patterns 16, , 13b), and can be formed by a combination of three source or drain electrode patterns (18 or 19).

또한, 상기 더미 GIP부는, 상기 소오스/드레인 전극 패턴(18, 19)과 하나의 차광 금속 패턴(13a or 13b))의 조합으로 형성할 수 있고, 3개의 차광 금속 패턴(13a, 13b))의 조합으로 형성할 수 있고, 2개의 게이트 전극 패턴(16)과 하나의 차광 금속 패턴(13a or 13b))의 조합으로 형성할 수 있다.The dummy GIP portion may be formed by a combination of the source / drain electrode patterns 18 and 19 and one light-shielding metal pattern 13a or 13b, And a combination of two gate electrode patterns 16 and one light-shielding metal pattern 13a or 13b) can be formed.

상기 도 12a 내지 도 17에서 설명한 바와 같이, GIP부(31)가 배치되지 않은 단위 화소에 더미 GIP부를 배치하고, 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 더미 배선을 배치하므로, 표시 장치의 비 구동 시 설계 편차가 인지됨을 방지할 수 있다.12A to 17, a dummy GIP unit is arranged in the unit pixel in which the GIP unit 31 is not arranged, and the dummy wiring is arranged in the GIP internal connection wiring unit 32, It is possible to prevent the design deviation from being recognized.

한편, 본 발명은 게이트 구동 회로의 GIP가 화소 어레이 내에 배치되고, 상기 게이트 구동 회로의 GIP를 구동하기 위해서는 외부에서 각종 GIP 신호들이 공급된다.On the other hand, in the present invention, the GIP of the gate driving circuit is arranged in the pixel array, and various GIP signals are supplied from the outside in order to drive the GIP of the gate driving circuit.

즉, 도 5에 도시한 바와 같은 GIP의 회로 구성에서, 상기 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb) 제어부(21, 26)의 트랜지스터(TA)의 게이트 전극에는 라인 선택 신호(LSP)가 공급되고, 상기 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb) 제어부(21, 26)의 트랜지스터(T5A)의 게이트 전극에는 실시간 보상용 신호(VRT)가 공급된다.5, a line selection signal LSP is applied to the gate electrodes of the transistors TA of the control sections 21 and 26 of the blank section first and second node Q and Qb, And a real time compensation signal VRT is supplied to the gate electrode of the transistor T5A of the first and second node Q and Qb control sections 21 and 26 of the blank section.

또한, 상기 출력 버퍼부(27)의 풀업 트랜지스터(T6cr, T6)의 소오스 전극에는 복수개의 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호(CRCLK(k)) 및 복수개의 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호(SCCLK(k))가 공급되고, 상기 리세트부(22)의 트랜지스터(T3nB, T3nC)의 게이트 전극에는 리세트 신호(RST)가 공급된다.One of the clock signals CRCLK (k) and the plurality of scan pulse output clock signals among the plurality of carry pulse output clock signals is supplied to the source electrodes of the pull-up transistors T6cr and T6 of the output buffer unit 27 The reset signal RST is supplied to the gate electrodes of the transistors T3nB and T3nC of the reset unit 22. The clock signal SCCLK

또한, 트랜지스터들(T3qA, T1B, T3q, T4)의 소오스 전극에는 전원 전압(GVDD)이 공급되고, 트랜지스터들(T3nC, T3nA, T3A, T5qT4q, T5, T5B)의 드레인 전극 및 풀다운 트랜지스터들(T7cr, T7)의 드레인 전극에는 접지 전압(GVSS0, GVSS1, GVSS2)들이 공급된다.The power source voltage GVDD is supplied to the source electrodes of the transistors T3qA, T1B, T3q and T4 and the drain electrodes of the transistors T3nC, T3nA, T3A, T5qT4q, T5 and T5B and the pulldown transistors T7cr And T7 are supplied with the ground voltages GVSS0, GVSS1 and GVSS2.

따라서, 임의의 단위 화소의 상기 GIP부(31)에 상기 트랜지스터(TA), 상기 트랜지스터(T5A), 상기 풀업 트랜지스터들(T6cr, T6), 상기 트랜지스터들(T3nB, T3nC), 상기 트랜지스터들(T3qA, T1B, T3q, T4), 상기 트랜지스터들(T3nC, T3nA, T3A, T5qT4q, T5, T5B), 및 상기 풀다운 트랜지스터들(T7cr, T7)이 배치되는 경우, 상기 도 12a에 도시된 GIP 신호 라인(GIP S/L)을 통해 해당 신호를 공급한다.Therefore, the transistor TA, the transistor T5A, the pull-up transistors T6cr and T6, the transistors T3nB and T3nC, and the transistors T3qA The transistors T3nC, T3nA, T3A, T5qT4q, T5 and T5B and the pull-down transistors T7cr and T7 are arranged in the GIP signal line GIP S / L).

여기서, 상기 라인 선택 신호(LSP), 상기 실시간 보상용 신호(VRT), 상기 리세트 신호(RST), 전원 전압(GVDD) 및 접지 전압(GVSS0, GVSS1, GVSS2) 등의 신호들은 주파수가 낮지만, 상기 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 및 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호들은 상대적으로 고전압이고 매우 높은 주파수를 갖는다.The signals such as the line selection signal LSP, the real-time compensation signal VRT, the reset signal RST, the power supply voltage GVDD and the ground voltages GVSS0, GVSS1 and GVSS2 are low in frequency , The carry pulse output clock signal and the scan pulse output clock signal are relatively high voltage and have a very high frequency.

따라서, 상기 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 및 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(GIP S/L)을 따라 이상 발광 현상이 발생하여 저계조 빛셈 현상이 발생할 수 있다.Therefore, an abnormal light emission phenomenon may occur along the GIP signal line (GIP S / L) to which the carry pulse output clock signal and the scan pulse output clock signal are applied, resulting in low gradation light generation.

본 발명은 상기와 같은 상기 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 및 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(GIP S/L)을 따라 발생할 수 있는 빛셈 현상을 방지하고자 한다.The present invention is intended to prevent a light emission phenomenon that may occur along the GIP signal line (GIP S / L) to which the carry pulse output clock signal and the scan pulse output clock signal are applied.

이를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.This will be described in detail as follows.

도 18은 본 발명의 OLED 표시 패널에서 제 1 실시예에 따른 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(GIP S/L) 상의 구조 단면도이다.18 is a structural cross-sectional view of a GIP signal line (GIP S / L) to which a carry pulse output clock signal or a scan pulse output clock signal according to the first embodiment is applied in the OLED display panel of the present invention.

유리 기판(40)상에 GIP 신호 라인(GIP S/L) 들 중 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(41)이 형성되고, 상기 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(41)을 포함한 상기 기판(40) 전면에 버퍼층(42)이 형성된다.A GIP signal line 41 to which a clock pulse for outputting a carry pulse or a clock pulse for outputting a scan pulse is applied is formed on the glass substrate 40. The GIP signal line 41 for the carry pulse output, A buffer layer 42 is formed on the entire surface of the substrate 40 including the GIP signal line 41 to which the clock signal for pulse output is applied.

그리고, 상기 버퍼층(42)상에 층간 절연막(43) 및 보호층(44)이 차례로 형성된다.An interlayer insulating film 43 and a protective layer 44 are sequentially formed on the buffer layer 42.

물론, 도면에는 도시되지 않았지만, 서브 화소 영역 및 상기 GIP부(31) 영역의 상기 버퍼층(42)상에 활성층, 게이트 절연막 및 게이트 전극이 형성되고, 상기 서브 화소 영역 및 상기 GIP부(31) 영역의 상기 층간 절연막(43)상에 소오스/드레인 전극 등이 형성되어, 서브 화소 영역에는 도 4에 도시한 바와 같은 유기 발광 다이오드는 구동하는 화소 회로가 형성되고, 단위 화소의 각 GIP부(31)에는 GIP를 구성하는 소자가 형성된다 (도 14 참조).Although not shown in the drawing, an active layer, a gate insulating film, and a gate electrode are formed on the buffer layer 42 in the sub pixel area and the GIP area 31, A pixel circuit for driving an organic light emitting diode as shown in FIG. 4 is formed in each sub-pixel region, and each GIP portion 31 of each unit pixel is formed with a source / drain electrode on the interlayer insulating film 43, An element constituting the GIP is formed (see Fig. 14).

그리고, 상기 보호층(44)위에 R, G, B 칼라 필터층(45R, 45B, 45G)이 적층된다. 상기 R, G, B 칼라 필터층(45R, 45B, 45G)의 적층 순서에는 큰 영향을 받지 않는다.The R, G, and B color filter layers 45R, 45B, and 45G are stacked on the protective layer 44. [ The order of lamination of the R, G, and B color filter layers 45R, 45B, and 45G is not greatly affected.

물론, 도 13에 도시된 각 R, G, B 서브 화소에는 각각 R 칼라 필터층(45R), G 칼라 필터층(45G) 및 B 칼라 필터층(45B)만 형성된다.Of course, only the R color filter layer 45R, the G color filter layer 45G, and the B color filter layer 45B are formed in each of the R, G, and B sub-pixels shown in FIG.

상기 적층된 R, G, B 칼라 필터층(45R, 45B, 45G)위에 오버 코트층(46), 뱅크층(47), 발광층(48) 및 발광소자의 제 2 전극(캐소드 전극; 49)이 차례로 형성된다.The overcoat layer 46, the bank layer 47, the light emitting layer 48 and the second electrode (cathode electrode) 49 of the light emitting element are sequentially formed on the R, G, and B color filter layers 45R, 45B, .

물론, 도면에는 도시되지 않았지만, 각 서브 화소 영역에서는 상기 뱅크층(47)이 선택적으로 제거되고, 박막트랜지스터(구동 트랜지스터)의 드레인 전극에 연결되도록 상기 오버 코트층(46)상에 제 1 전극(애노드 전극)이 형성되고, 상기 제 1 전극상에 상기 발광층(48)이 형성된다.Of course, although not shown in the drawing, the bank layer 47 is selectively removed in each sub pixel region, and the first electrode (not shown) is formed on the overcoat layer 46 so as to be connected to the drain electrode of the thin film transistor An anode electrode) is formed on the first electrode, and the light emitting layer 48 is formed on the first electrode.

한편, 다른 실시예로 상기 R, G, B 칼라 필터층(45R, 45B, 45G)을 적층하지 않고, 상기 뱅크층(47)을 빛을 차단할 수 있는 블랙 뱅크층을 이용할 수 있다.In another embodiment, a black bank layer capable of blocking light from the bank layer 47 without stacking the R, G, and B color filter layers 45R, 45B, and 45G can be used.

도 19는 본 발명의 OLED 표시 패널에서 제 2 실시예에 따른 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(GIP S/L) 상의 구조 단면도이다.19 is a structural cross-sectional view of a GIP signal line (GIP S / L) to which a carry pulse output clock signal or a scan pulse output clock signal according to the second embodiment is applied in the OLED display panel of the present invention.

유리 기판(40)상에 GIP 신호 라인(GIP S/L) 들 중 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(41)이 형성되고, 상기 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(41)을 포함한 상기 기판(40) 전면에 버퍼층(42)이 형성된다.A GIP signal line 41 to which a clock pulse for outputting a carry pulse or a clock pulse for outputting a scan pulse is applied is formed on the glass substrate 40. The GIP signal line 41 for the carry pulse output, A buffer layer 42 is formed on the entire surface of the substrate 40 including the GIP signal line 41 to which the clock signal for pulse output is applied.

그리고, 상기 버퍼층(42)상에 층간 절연막(43) 및 보호층(44)이 차례로 형성된다.An interlayer insulating film 43 and a protective layer 44 are sequentially formed on the buffer layer 42.

마찬가지로, 도면에는 도시되지 않았지만, 서브 화소 영역 및 상기 GIP부(31) 영역의 상기 버퍼층(42)상에 활성층, 게이트 절연막 및 게이트 전극이 형성되고, 상기 서브 화소 영역 및 상기 GIP부(31) 영역의 상기 층간 절연막(43)상에 소오스/드레인 전극 등이 형성되어, 서브 화소 영역에는 도 4에 도시한 바와 같은 유기 발광 다이오드는 구동하는 화소 회로가 형성되고, 단위 화소의 각 GIP부(31)에는 GIP를 구성하는 소자가 형성된다 (도 14 참조).Although not shown in the drawing, an active layer, a gate insulating film, and a gate electrode are formed on the buffer layer 42 in the sub pixel area and the GIP area 31, A pixel circuit for driving an organic light emitting diode as shown in FIG. 4 is formed in each sub-pixel region, and each GIP portion 31 of each unit pixel is formed with a source / drain electrode on the interlayer insulating film 43, An element constituting the GIP is formed (see Fig. 14).

그리고, 상기 보호층(44)위에 오버 코트층(46)이 형성되고, 상기 오버 코트층(46)상에 블랙(Black) 뱅크층(47a)이 형성되고, 상기 블랙 뱅크층(47a) 상에 발광층(48) 및 발광소자의 제 2 전극(캐소드 전극; 49)이 차례로 형성된다.An overcoat layer 46 is formed on the protective layer 44 and a black bank layer 47a is formed on the overcoat layer 46. A black bank layer 47a is formed on the black bank layer 47a, A light emitting layer 48 and a second electrode (cathode electrode) 49 of the light emitting element are formed in order.

마찬가지로, 도면에는 도시되지 않았지만, 각 서브 화소 영역에서는 상기 블랙 뱅크층(47a)이 선택적으로 제거되고, 박막트랜지스터(구동 트랜지스터)의 드레인 전극에 연결되도록 상기 오버 코트층(46)상에 제 1 전극(애노드 전극)이 형성되고, 상기 제 1 전극상에 상기 발광층(48)이 형성된다.Similarly, although not shown in the drawing, the black bank layer 47a is selectively removed in each sub pixel region, and the first electrode (not shown) is formed on the overcoat layer 46 so as to be connected to the drain electrode of the thin film transistor (Anode electrode) is formed, and the light emitting layer 48 is formed on the first electrode.

한편, 상기 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 및 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(GIP S/L)뿐만 아니라, 단위 화소의 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 배치되는 배선들 중 제 1 노드(Q)와 제 2 노드(Qb)에도 상대적으로 높은 주파수의 고전압이 인가되기 때문에, 단위 화소의 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 배치되는 배선들 중 제 1 노드(Q)와 제 2 노드(Qb)에 의해서도 이상 발광 현상이 발생하여 저계조 빛셈 현상이 발생할 수 있다.On the other hand, not only the GIP signal line (GIP S / L) to which the carry pulse output clock signal and the scan pulse output clock signal are applied, but also the GIP signal line Since a high voltage of a relatively high frequency is applied to the node Q and the second node Qb, the first node Q and the second node Q2 of the wirings disposed in the GIP internal connection wiring portion 32 of the unit pixel, An abnormal light emission phenomenon may occur even at the node Qb, and low-level light emission phenomenon may occur.

본 발명은 상기와 같이 상기 제 1 노드(Q)와 제 2 노드(Qb)에 의해서 발생할 수 있는 빛셈 현상을 방지하고자 한다.As described above, the present invention is intended to prevent a light emission phenomenon that may be caused by the first node (Q) and the second node (Qb).

이를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.This will be described in detail as follows.

도 20은 본 발명의 OLED 표시 패널에서 제 1 실시예에 따른 제 1 노드(Q)와 제 2 노드(Qb)상의 구조 단면도이다.20 is a structural cross-sectional view of a first node (Q) and a second node (Qb) according to the first embodiment in the OLED display panel of the present invention.

유리 기판(40)상에 버퍼층(42)이 형성되고, 상기 버퍼층(42)상에 층간 절연막(43)이 형성된다. 그리고, 상기 층간 절연막(43) 상에 제 1 노드(Q)와 제 2 노드(Qb)(50)가 형성되고, 상기 제 1 노드(Q)와 제 2 노드(Qb)(50)를 포함한 기판 전면에 보호층(44)이 형성된다.A buffer layer 42 is formed on the glass substrate 40 and an interlayer insulating film 43 is formed on the buffer layer 42. A first node Q and a second node Qb 50 are formed on the interlayer insulating layer 43 and the substrate including the first node Q and the second node Qb 50 And a protective layer 44 is formed on the entire surface.

물론, 도면에는 도시되지 않았지만, 서브 화소 영역 및 상기 GIP부(31) 영역의 상기 버퍼층(42)상에 활성층, 게이트 절연막 및 게이트 전극이 형성되고, 상기 서브 화소 영역 및 상기 GIP부(31) 영역의 상기 층간 절연막(43)상에 소오스/드레인 전극 등이 형성되어, 서브 화소 영역에는 도 4에 도시한 바와 같은 유기 발광 다이오드는 구동하는 화소 회로가 형성되고, 단위 화소의 각 GIP부(31)에는 GIP를 구성하는 소자가 형성된다 (도 14 참조).Although not shown in the drawing, an active layer, a gate insulating film, and a gate electrode are formed on the buffer layer 42 in the sub pixel area and the GIP area 31, A pixel circuit for driving an organic light emitting diode as shown in FIG. 4 is formed in each sub-pixel region, and each GIP portion 31 of each unit pixel is formed with a source / drain electrode on the interlayer insulating film 43, An element constituting the GIP is formed (see Fig. 14).

그리고, 상기 보호층(44)위에 R, G, B 칼라 필터층(45R, 45B, 45G)이 적층된다. 상기 R, G, B 칼라 필터층(45R, 45B, 45G)의 적층 순서에는 큰 영향을 받지 않는다.The R, G, and B color filter layers 45R, 45B, and 45G are stacked on the protective layer 44. [ The order of lamination of the R, G, and B color filter layers 45R, 45B, and 45G is not greatly affected.

물론, 도 13에 도시된 각 R, G, B 서브 화소에는 각각 R 칼라 필터층(45R), G 칼라 필터층(45G) 및 B 칼라 필터층(45B)만 형성된다.Of course, only the R color filter layer 45R, the G color filter layer 45G, and the B color filter layer 45B are formed in each of the R, G, and B sub-pixels shown in FIG.

상기 적층된 R, G, B 칼라 필터층(45R, 45B, 45G)위에 오버 코트층(46), 뱅크층(47), 발광층(48) 및 발광소자의 제 2 전극(캐소드 전극; 49)이 차례로 형성된다.The overcoat layer 46, the bank layer 47, the light emitting layer 48 and the second electrode (cathode electrode) 49 of the light emitting element are sequentially formed on the R, G, and B color filter layers 45R, 45B, .

도면에는 도시되지 않았지만, 각 서브 화소 영역에서는 상기 뱅크층(47)이 선택적으로 제거되고, 박막트랜지스터(구동 트랜지스터)의 드레인 전극에 연결되도록 상기 오버 코트층(46)상에 제 1 전극(애노드 전극)이 형성되고, 상기 제 1 전극상에 상기 발광층(48)이 형성된다.Although not shown in the figure, in each sub pixel region, the bank layer 47 is selectively removed, and the first electrode (the anode electrode) is formed on the overcoat layer 46 so as to be connected to the drain electrode of the thin film transistor And the light emitting layer 48 is formed on the first electrode.

한편, 다른 실시예로 상기 R, G, B 칼라 필터층(45R, 45B, 45G)을 적층하지 않고, 상기 뱅크층(47)을 빛을 차단할 수 있는 블랙 뱅크층을 이용할 수 있다.In another embodiment, a black bank layer capable of blocking light from the bank layer 47 without stacking the R, G, and B color filter layers 45R, 45B, and 45G can be used.

도 21은 본 발명의 OLED 표시 패널에서 제 2 실시예에 따른 제 1 노드(Q)와 제 2 노드(Qb)상의 구조 단면도이다.21 is a structural cross-sectional view of a first node (Q) and a second node (Qb) according to the second embodiment in the OLED display panel of the present invention.

유리 기판(40)상에 버퍼층(42)이 형성되고, 상기 버퍼층(42)상에 층간 절연막(43)이 형성된다. 그리고, 상기 층간 절연막(43) 상에 제 1 노드(Q)와 제 2 노드(Qb)(50)가 형성되고, 상기 제 1 노드(Q)와 제 2 노드(Qb)(50)를 포함한 기판 전면에 보호층(44)이 형성된다.A buffer layer 42 is formed on the glass substrate 40 and an interlayer insulating film 43 is formed on the buffer layer 42. A first node Q and a second node Qb 50 are formed on the interlayer insulating layer 43 and the substrate including the first node Q and the second node Qb 50 And a protective layer 44 is formed on the entire surface.

그리고, 상기 버퍼층(42)상에 층간 절연막(43) 및 보호층(44)이 차례로 형성된다.An interlayer insulating film 43 and a protective layer 44 are sequentially formed on the buffer layer 42.

마찬가지로, 도면에는 도시되지 않았지만, 서브 화소 영역 및 상기 GIP부(31) 영역의 상기 버퍼층(42)상에 활성층, 게이트 절연막 및 게이트 전극이 형성되고, 상기 서브 화소 영역 및 상기 GIP부(31) 영역의 상기 층간 절연막(43)상에 소오스/드레인 전극 등이 형성되어, 서브 화소 영역에는 도 4에 도시한 바와 같은 유기 발광 다이오드는 구동하는 화소 회로가 형성되고, 단위 화소의 각 GIP부(31)에는 GIP를 구성하는 소자가 형성된다 (도 14 참조).Although not shown in the drawing, an active layer, a gate insulating film, and a gate electrode are formed on the buffer layer 42 in the sub pixel area and the GIP area 31, A pixel circuit for driving an organic light emitting diode as shown in FIG. 4 is formed in each sub-pixel region, and each GIP portion 31 of each unit pixel is formed with a source / drain electrode on the interlayer insulating film 43, An element constituting the GIP is formed (see Fig. 14).

그리고, 상기 보호층(44)위에 오버 코트층(46)이 형성되고, 상기 오버 코트층(46)상에 블랙(Black) 뱅크층(47a)이 형성되고, 상기 블랙 뱅크층(47a) 상에 발광층(48) 및 발광소자의 제 2 전극(캐소드 전극; 49)이 차례로 형성된다.An overcoat layer 46 is formed on the protective layer 44 and a black bank layer 47a is formed on the overcoat layer 46. A black bank layer 47a is formed on the black bank layer 47a, A light emitting layer 48 and a second electrode (cathode electrode) 49 of the light emitting element are formed in order.

마찬가지로, 도면에는 도시되지 않았지만, 각 서브 화소 영역에서는 상기 블랙 뱅크층(47a)이 선택적으로 제거되고, 박막트랜지스터(구동 트랜지스터)의 드레인 전극에 연결되도록 상기 오버 코트층(46)상에 제 1 전극(애노드 전극)이 형성되고, 상기 제 1 전극상에 상기 발광층(48)이 형성된다.Similarly, although not shown in the drawing, the black bank layer 47a is selectively removed in each sub pixel region, and the first electrode (not shown) is formed on the overcoat layer 46 so as to be connected to the drain electrode of the thin film transistor (Anode electrode) is formed, and the light emitting layer 48 is formed on the first electrode.

상기 도 18 및 도 21에서 설명한 바와 같이, 상기 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 및 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(GIP S/L) 또는 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)에 배치되는 Q 노드 또는 Qb 노드 상에 R, G, B 칼라 필터층을 적층하거나, 블랙 뱅크층을 형성하므로, 상기 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(GIP S/L)과 상기 Q 노드 또는 상기 Qb 노드에 의해 이상 발광 현상이 발생하더라도 저계조 빛셈 현상을 방지할 수 있다.As described with reference to FIGS. 18 and 21, the GIP signal line (GIP S / L) to which the carry pulse output clock signal and the scan pulse output clock signal are applied or the Q The GIP signal line (GIP S / L) to which the carry pulse output clock signal or the scan pulse output clock signal is applied, and the GIP signal line (GIP S / L) to which the carry pulse output clock signal or the scan pulse output clock signal is applied, Even if an abnormal light emission phenomenon occurs by the Q node or the Qb node, the low gradation light emission phenomenon can be prevented.

상기 도 18 내지 도 21에서, 상기 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 상기 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 GIP 신호 라인(GIP S/L)과 상기 GIP 내부 연결 배선부의 Q 노드 또는 Qb 노드 상에만 R, G, B 칼라 필터층을 적층하거나 블랙 뱅크층을 형성함을 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 모든 GIP 신호 라인(GIP S/L)과 상기 GIP 내부 연결 배선부(32)의 모드 배선 상에 R, G, B 칼라 필터층을 적층하거나 블랙 뱅크층을 형성할 수 있다.In FIGS. 18 to 21, R, G, and G are shown only on the GIP signal line (GIP S / L) to which the carry pulse output clock signal or the scan pulse output clock signal is applied and the Q- (GIP S / L) and the GIP internal connection wiring portion 32 are formed on the mode wirings R, G, and B, respectively. However, the present invention is not limited to this, , A B color filter layer may be laminated or a black bank layer may be formed.

상기 도 18 및 도 20에서는 GIP 신호 라인(GIP S/L), Q 노드 또는 Qb 노드 상에 3개의 칼라 필터층이 적층됨을 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, R, G, B 칼라 필터층들 중 적어도 2개의 층이 적층되어도 무방하다.18 and 20, three color filter layers are stacked on the GIP signal line (GIP S / L), the Q node or the Qb node. However, the present invention is not limited thereto. Layer may be stacked.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

PNL: 표시패널 SIC1~SIC: 소스 드라이브 IC
1, 11, 40: 유리 기판 2, 12, 42: 버퍼층
3, 13: 차광 금속 패턴 4, 14: 활성층
5, 15: 게이트 절연막 6: 게이트 전극
7, 17, 43: 층간 절연막 8,9: 소오스/드레인 전극
16: 게이트 전극 패턴 18, 19: 소오스/드레인 전극 패턴
21, 26: 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드(Q, Qb) 제어부
22: 리세트부 24: 인버터부
23, 25: 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부
27: 출력 버퍼부 31: GIP 회로부
32: GIP 내부 연결 배선부 33: 서브 화소부
41: GIP 신호 라인 44: 보호막
45R, 45G, 45B: 칼라 필터층 46: 오버 코트층
47: 뱅크층 47a: 블랙 뱅크층
48: 발광층 49: 제 2 전극
50: Q 노드 또는 Qb 노드
PNL: Display panel SIC1 to SIC: Source drive IC
1, 11, 40: glass substrate 2, 12, 42: buffer layer
3, 13: shielding metal pattern 4, 14: active layer
5, 15: gate insulating film 6: gate electrode
7, 17, 43: interlayer insulating film 8, 9: source / drain electrode
16: gate electrode pattern 18, 19: source / drain electrode pattern
21, 26: the first and second nodes (Q, Qb)
22: reset section 24: inverter section
23, 25: Driving section The first to third node control sections
27: output buffer unit 31: GIP circuit unit
32: GIP internal connection wiring portion 33: Sub-pixel portion
41: GIP signal line 44: protective film
45R, 45G, 45B: color filter layer 46: overcoat layer
47: bank layer 47a: black bank layer
48: light emitting layer 49: second electrode
50: Q node or Qb node

Claims (28)

데이터 라인들과 게이트 라인들이 교차되고, 상기 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역; 및
상기 표시 영역 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 GIP를 구비하고,
하나의 단위 화소 영역에는 상기 GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되며,
상기 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들이 배치되는 GIP 내부 연결 배선부를 구비하고,
상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 우측에 상기 GIP부가 배치되거나,
상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 좌측에 상기 GIP부가 배치되는 OLED 표시패널.
A display region including data lines and gate lines intersecting each other and including sub pixels arranged at the intersections; And
And a plurality of GIPs distributed in the unit pixel regions driven by the gate lines in the display region and supplying scan pulses to the gate lines,
One element constituting the GIP is disposed in one unit pixel region,
Wherein the unit pixel region includes at least three sub-pixel portions, a GIP portion in which one element constituting the GIP is disposed, and a GIP internal connection wiring portion in which connection wirings connecting the elements of the GIP are arranged,
The GIP portion is disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring portion and on the right side of the at least three sub-pixel portions,
Wherein the GIP unit is disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring unit and on the left side of the at least three sub pixel units.
제 1 항에 있어서,
상기 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 적어도 하나의 GIP가 분산 배치되는 OLED 표시패널.
The method according to claim 1,
And at least one GIP is distributed and arranged in unit pixel regions driven by the gate lines.
제 1 항에 있어서,
상기 GIP는,
라인 선택 신호에 따라 세트 신호를 선택적으로 저장하고, 해당 스테이지를 블랭크 구간에 실시간 보상용 신호에 따라 제 1 노드를 제 1 정전압으로 충전하고 제 2 노드를 제 2 정전압으로 방전하는 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드 제어부와,
해당 스테이지를 구동 구간에 전단의 캐리 펄스에 따라 상기 제 1 노드를 상기 전단의 캐리 펄스 전압으로 충전하고 후단의 캐리 펄스에 따라 상기 제 1 노드 및 제 3 노드를 제 2 정전압으로 방전하며, 상기 제 1 노드의 전압에 따라 상기 제 3 노드를 상기 제 1 정전압으로 충전하는 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부와,
상기 제 1 노드의 전압을 반전하여 제 2 노드에 인가하는 인버터부와,
복수개의 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호 및 복수개의 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호를 수신하여 상기 제 1 노드 및 상기 제 2 노드의 전압에 따라 캐리 펄스 및 스캔 펄스를 출력하는 출력 버퍼부와,
상기 블랭크 구간에 타이밍 컨트롤러에서 출력되는 리세트 신호에 따라 상기 제 1 노드를 제 2 정전압으로 방전하는 리세트부를 구비하고,
상기 출력 버퍼부의 스캔 펄스 출력 버퍼부, 상기 인버터부, 상기 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드 제어부, 상기 출력 버퍼부의 캐리 펄스 출력 버퍼부, 상기 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부 및 리세트부 순서로 배치되는 OLED 표시패널.
The method according to claim 1,
The GIP,
A blank section for selectively storing a set signal according to a line selection signal and charging the first node to a first constant voltage and discharging a second node to a second constant voltage in accordance with a signal for real- A second node controller,
The stage is charged with the carry pulse voltage of the previous stage in accordance with the carry pulse of the previous stage in the driving period and the first node and the third node are discharged to the second constant voltage in accordance with the carry pulse of the following stage, A first node controller for charging the third node to the first constant voltage according to a voltage of the first node,
An inverter unit for inverting the voltage of the first node and applying the inverted voltage to the second node,
An output for receiving one clock signal among a plurality of carry pulse output clock signals and one clock signal for a plurality of scan pulse output signals and outputting a carry pulse and a scan pulse according to the voltages of the first node and the second node; A buffer unit,
And a reset unit for discharging the first node to a second constant voltage in accordance with a reset signal output from the timing controller in the blank interval,
The scan pulse output buffer unit of the output buffer unit, the inverter unit, the blank interval first and second node control units, the carry pulse output buffer unit of the output buffer unit, the drive period first through third node control units, OLED display panel.
제 1 항에 있어서,
상기 GIP를 구성하는 소자들 중 적어도 하나의 소자는 분할되어 해당 게이트 라인 방향을 따라 복수의 단위 화소 영역에 병렬로 배치되는 OLED 표시패널.
The method according to claim 1,
Wherein at least one of the elements constituting the GIP is divided and arranged in parallel in a plurality of unit pixel regions along a direction of the gate line.
제 1 항에 있어서,
상기 표시 영역에는 터치 센서들이 더 배치되는 OLED 표시패널.
The method according to claim 1,
And the touch sensors are further disposed in the display area.
복수개의 데이터 라인들과 복수개의 게이트 라인들이 교차되고, 상기 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역;
상기 복수개의 데이터 라인들을 복수개의 그룹으로 분할하여 각 그룹의 데이터 라인들을 구동하는 복수개의 소스 드라이브 IC들; 및
각 소스 드라이브 IC에 의해 구동되는 그룹으로 상기 표시 영역이 구분되고, 구분된 각 표시 영역 그룹 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 GIP를 구비하고,
하나의 단위 화소 영역에는 상기 GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되며,
상기 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들이 배치되는 GIP 내부 연결 배선부를 구비하고,
상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 우측에 상기 GIP부가 배치되거나,
상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 좌측에 상기 GIP부가 배치되는 OLED 표시 장치.
A display region including a plurality of data lines and a plurality of gate lines intersecting each other and including sub-pixels arranged at the intersections;
A plurality of source drive ICs for dividing the plurality of data lines into a plurality of groups and driving data lines of each group; And
The display area is divided into groups driven by respective source drive ICs. The display areas are divided into unit pixel areas driven by gate lines in each of the divided display area groups, and a plurality of GIP,
One element constituting the GIP is disposed in one unit pixel region,
Wherein the unit pixel region includes at least three sub-pixel portions, a GIP portion in which one element constituting the GIP is disposed, and a GIP internal connection wiring portion in which connection wirings connecting the elements of the GIP are arranged,
The GIP portion is disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring portion and on the right side of the at least three sub-pixel portions,
Wherein the GIP unit is disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring unit and on the left side of the at least three sub-pixel units.
제 6 항에 있어서,
각 소스 드라이브 IC에 의해 구동되는 그룹으로 상기 표시 영역이 구분되고, 구분된 각 표시 영역 그룹 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 적어도 하나의 GIP가 분산 배치되는 OLED 표시 장치.
The method according to claim 6,
Wherein the display region is divided into groups driven by respective source drive ICs and at least one GIP is distributedly arranged in unit pixel regions driven by gate lines in the divided display region groups.
제 6 항에 있어서,
상기 GIP는,
라인 선택 신호에 따라 세트 신호를 선택적으로 저장하고, 해당 스테이지를 블랭크 구간에 실시간 보상용 신호에 따라 제 1 노드를 제 1 정전압으로 충전하고 제 2 노드를 제 2 정전압으로 방전하는 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드 제어부와,
해당 스테이지를 구동 구간에 전단의 캐리 펄스에 따라 상기 제 1 노드를 상기 전단의 캐리 펄스 전압으로 충전하고 후단의 캐리 펄스에 따라 상기 제 1 노드 및 제 3 노드를 제 2 정전압으로 방전하며, 상기 제 1 노드의 전압에 따라 상기 제 3 노드를 상기 제 1 정전압으로 충전하는 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부와,
상기 제 1 노드의 전압을 반전하여 제 2 노드에 인가하는 인버터부와,
복수개의 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호 및 복수개의 스캔 펄스 출력용 클럭 신호 중 하나의 클럭 신호를 수신하여 상기 제 1 노드 및 상기 제 2 노드의 전압에 따라 캐리 펄스 및 스캔 펄스를 출력하는 출력 버퍼부와,
상기 블랭크 구간에 타이밍 컨트롤러에서 출력되는 리세트 신호에 따라 상기 제 1 노드를 제 2 정전압으로 방전하는 리세트부를 구비하고,
상기 출력 버퍼부의 스캔 펄스 출력 버퍼부, 상기 인버터부, 상기 블랭크 구간 제 1 및 제 2 노드 제어부, 상기 출력 버퍼부의 캐리 펄스 출력 버퍼부, 상기 구동 구간 제 1 내지 제 3 노드 제어부 및 리세트부 순서로 배치되는 OLED 표시 장치.
The method according to claim 6,
The GIP,
A blank section for selectively storing a set signal according to a line selection signal and charging the first node to a first constant voltage and discharging a second node to a second constant voltage in accordance with a signal for real- A second node controller,
The stage is charged with the carry pulse voltage of the previous stage in accordance with the carry pulse of the previous stage in the driving period and the first node and the third node are discharged to the second constant voltage in accordance with the carry pulse of the following stage, A first node controller for charging the third node to the first constant voltage according to a voltage of the first node,
An inverter unit for inverting the voltage of the first node and applying the inverted voltage to the second node,
An output for receiving one clock signal among a plurality of carry pulse output clock signals and one clock signal for a plurality of scan pulse output signals and outputting a carry pulse and a scan pulse according to the voltages of the first node and the second node; A buffer unit,
And a reset unit for discharging the first node to a second constant voltage in accordance with a reset signal output from the timing controller in the blank interval,
The scan pulse output buffer unit of the output buffer unit, the inverter unit, the blank interval first and second node control units, the carry pulse output buffer unit of the output buffer unit, the drive period first through third node control units, The OLED display comprising:
제 6 항에 있어서,
GIP를 구성하는 소자들 중 적어도 하나의 소자는 분할되어 해당 게이트 라인 방향을 따라 복수의 단위 화소 영역에 병렬로 배치되는 OLED 표시 장치.
The method according to claim 6,
Wherein at least one of the elements constituting the GIP is divided and arranged in parallel in a plurality of unit pixel regions along the gate line direction.
제 6 항에 있어서,
각 소스 드라이브 IC는 화소를 구동하기 위한 데이터 전압 및 각종 전원들을 공급할 뿐만 아니라, GIP를 구동하기 위한 캐리 펄스 출력용 캐리 펄스, 스캔 펄스 출력용 스캔 펄스, 전원, 스타트 신호, 리셋 신호, 라인 선택 신호 중 적어도 하나를 공급하는 OLED 표시 장치.
The method according to claim 6,
Each source driver IC not only supplies a data voltage and various power supplies for driving pixels, but also carries a carry pulse for driving a GIP, a scan pulse for a scan pulse, a power supply, a start signal, a reset signal, An OLED display that supplies one.
제 6 항에 있어서,
각 게이트 라인은 각 소스 드라이브 IC에 의해 구동되는 표시 영역별로 전기적으로 독립되거나 각 소스 드라이브 IC에 의해 구동되는 표시 영역에 일체로 형성되는 OLED 표시 장치.
The method according to claim 6,
Wherein each of the gate lines is electrically independent for each display region driven by each source drive IC or integrally formed in a display region driven by each source drive IC.
복수개의 데이터 라인들과 복수개의 게이트 라인들이 교차되고, 상기 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역;
상기 복수개의 데이터 라인들을 복수개의 그룹으로 분할하여 각 그룹의 데이터 라인들을 구동하는 복수개의 소스 드라이브 IC들; 및
인접한 2개 이상의 소스 드라이브 IC들에 의해 구동되는 그룹으로 상기 표시 영역이 구분되고, 구분된 각 표시 영역 그룹 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 GIP를 구비하고,
하나의 단위 화소 영역에는 상기 GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되며,
상기 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들이 배치되는 GIP 내부 연결 배선부를 구비하고,
상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 우측에 상기 GIP부가 배치되거나,
상기 GIP 내부 연결 배선부의 상측 및 상기 적어도 3개의 서브 화소부의 좌측에 상기 GIP부가 배치되는 OLED 표시 장치.
A display region including a plurality of data lines and a plurality of gate lines intersecting each other and including sub-pixels arranged at the intersections;
A plurality of source drive ICs for dividing the plurality of data lines into a plurality of groups and driving data lines of each group; And
The display region is divided into groups driven by two or more adjacent source drive ICs, and the gate lines are distributed in the unit pixel regions driven by the respective gate lines in the divided display region groups, and scan pulses are applied to the gate lines A plurality of GIPs to be supplied,
One element constituting the GIP is disposed in one unit pixel region,
Wherein the unit pixel region includes at least three sub-pixel portions, a GIP portion in which one element constituting the GIP is disposed, and a GIP internal connection wiring portion in which connection wirings connecting the elements of the GIP are arranged,
The GIP portion is disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring portion and on the right side of the at least three sub-pixel portions,
Wherein the GIP unit is disposed on the upper side of the GIP internal connection wiring unit and on the left side of the at least three sub-pixel units.
데이터 라인들과 게이트 라인들이 교차되고, 상기 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역; 및
상기 표시 영역 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 GIP를 구비하고,
제 1 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들이 배치되고,
제 2 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, 더미 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 연결 배선들 및 더미 연결 배선이 배치되는 OLED 표시패널.
A display region including data lines and gate lines intersecting each other and including sub pixels arranged at the intersections; And
And a plurality of GIPs distributed in the unit pixel regions driven by the gate lines in the display region and supplying scan pulses to the gate lines,
The first unit pixel region includes at least three sub-pixel portions, a GIP portion in which one element constituting the GIP is disposed, and connection wirings connecting the elements of the GIP,
The second unit pixel region includes at least three sub-pixel portions, a dummy GIP portion, connection wirings connecting the elements of the GIP, and dummy connection wirings.
제 13 항에 있어서,
상기 더미 GIP부는 상기 GIP부와 동일한 구조로 구성되거나 상기 GIP부와 다른 구조로 구성되는 OLED 표시패널.
14. The method of claim 13,
Wherein the dummy GIP unit has the same structure as the GIP unit or has a different structure from the GIP unit.
제 13 항에 있어서,
상기 더미 GIP부는 차광 금속 패턴, 게이트 전극 패턴 및 소오스/드레인 전극 패턴의 조합으로 구성되는 OLED 표시패널.
14. The method of claim 13,
Wherein the dummy GIP portion is formed of a combination of a light shielding metal pattern, a gate electrode pattern, and a source / drain electrode pattern.
제 13 항에 있어서,
상기 더미 GIP부는,
기판;
상기 유리 기판상에 형성되는 차광 금속 패턴;
상기 차광 금속 패턴을 포함한 상기 기판 전면에 형성되는 버퍼층;
상기 버퍼층상에 형성되는 게이트 절연막 및 게이트 전극 패턴;
상기 게이트 전극을 포함한 기판 전면에 형성되는 층간 절연막; 그리고
상기 층간 절연막상에 형성되는 소오스/드레인 전극 패턴을 포함하여 구성되는 OLED 표시패널.
14. The method of claim 13,
The dummy GIP unit,
Board;
A light shielding metal pattern formed on the glass substrate;
A buffer layer formed on the entire surface of the substrate including the light-shielding metal pattern;
A gate insulating film and a gate electrode pattern formed on the buffer layer;
An interlayer insulating film formed on the entire surface of the substrate including the gate electrode; And
And a source / drain electrode pattern formed on the interlayer insulating film.
제 16 항에 있어서,
상기 더미 GIP부는,
상기 버퍼층과 상기 게이트 절연막 및 게이트 전극 패턴 사이에 형성되는 활성층을 더 구비하는 OLED 표시패널.
17. The method of claim 16,
The dummy GIP unit,
And an active layer formed between the buffer layer and the gate insulating layer and the gate electrode pattern.
제 17 항에 있어서,
상기 더미 GIP부는,
상기 소오스/드레인 전극 패턴은 상기 활성층에 전기적으로 연결되는 OLED 표시패널.
18. The method of claim 17,
The dummy GIP unit,
And the source / drain electrode pattern is electrically connected to the active layer.
제 13 항에 있어서,
상기 더미 GIP부는,
기판;
상기 기판상에 형성되는 GIP 신호 라인용 제 1 차광 금속 패턴 및 2개의 제 2 차광 금속 패턴;
상기 제 1 및 제 2 차광 금속 패턴을 포함한 상기 기판 전면에 형성되는 버퍼층;
상기 버퍼층상에 형성되는 게이트 절연막 및 게이트 전극 패턴; 그리고
상기 게이트 전극 패턴을 포함한 기판 전면에 형성되는 층간 절연막을 포함하여 구성되는 OLED 표시패널.
14. The method of claim 13,
The dummy GIP unit,
Board;
A first light-shielding metal pattern for GIP signal lines and two second light-shielding metal patterns formed on the substrate;
A buffer layer formed on the entire surface of the substrate including the first and second light-shielding metal patterns;
A gate insulating film and a gate electrode pattern formed on the buffer layer; And
And an interlayer insulating film formed on the entire surface of the substrate including the gate electrode pattern.
제 13 항에 있어서,
상기 더미 GIP부는,
기판;
상기 기판상에 형성되는 GIP 신호 라인용 차광 금속 패턴;
상기 차광 금속 패턴을 포함한 상기 기판 전면에 형성되는 버퍼층;
상기 버퍼층상에 형성되는 3개의 게이트 절연막 및 게이트 전극 패턴; 그리고
상기 3개의 게이트 전극 패턴을 포함한 기판 전면에 형성되는 층간 절연막을 포함하여 구성되는 OLED 표시패널.
14. The method of claim 13,
The dummy GIP unit,
Board;
A shielding metal pattern for a GIP signal line formed on the substrate;
A buffer layer formed on the entire surface of the substrate including the light-shielding metal pattern;
Three gate insulating films and gate electrode patterns formed on the buffer layer; And
And an interlayer insulating film formed on the entire surface of the substrate including the three gate electrode patterns.
제 19 항 또는 제 20 항에 있어서,
상기 더미 GIP부는,
상기 버퍼층과 상기 게이트 절연막 및 게이트 전극 패턴 사이에 형성되는 활성층을 더 구비하는 OLED 표시패널.
21. The method according to claim 19 or 20,
The dummy GIP unit,
And an active layer formed between the buffer layer and the gate insulating layer and the gate electrode pattern.
데이터 라인들과 게이트 라인들이 교차되고, 상기 교차부에 배치된 서브 화소들을 포함한 표시 영역; 및
상기 표시 영역 내의 각 게이트 라인에 의해 구동되는 단위 화소 영역들에 분산 배치되어 해당 게이트 라인에 스캔 펄스를 공급하는 복수개의 GIP를 구비하고,
상기 단위 화소 영역은, 적어도 3개의 서브 화소부와, GIP를 구성하는 하나의 소자가 배치되는 GIP부와, GIP의 각 소자들을 연결하는 GIP 내부 연결 배선부를 구비하고,
상기 GIP부에 GIP 신호를 공급하기 위한 복수개의 GIP 신호 라인들이 배치되며,
상기 GIP 신호 라인들 중 적어도 하나의 GIP 신호 라인상에는 빛을 차단하는 차광층이 형성되는 OLED 표시패널.
A display region including data lines and gate lines intersecting each other and including sub pixels arranged at the intersections; And
And a plurality of GIPs distributed in the unit pixel regions driven by the gate lines in the display region and supplying scan pulses to the gate lines,
Wherein the unit pixel region includes at least three sub-pixel portions, a GIP portion in which one element constituting the GIP is arranged, and a GIP internal connection wiring portion connecting the elements of the GIP,
A plurality of GIP signal lines for supplying a GIP signal to the GIP unit are arranged,
And a light shielding layer for blocking light is formed on at least one GIP signal line among the GIP signal lines.
제 22 항에 있어서,
상기 차광층은 R, G, B 칼라 필터층 중 적어도 2개의 칼라 필터층이 적층되어 구성되는 OLED 표시패널.
23. The method of claim 22,
Wherein the light shielding layer is formed by stacking at least two color filter layers of R, G, and B color filter layers.
제 22 항에 있어서,
상기 차광층은 블랙 뱅크층으로 구성되는 OLED 표시패널.
23. The method of claim 22,
Wherein the light-shielding layer comprises a black bank layer.
제 22 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 GIP 신호 라인은 캐리 펄스 출력용 클럭 신호 또는 스캔 펄스 출력용 클럭 신호가 인가되는 OLED 표시패널.
23. The method of claim 22,
Wherein the at least one GIP signal line is applied with a carry pulse output clock signal or a scan pulse output clock signal.
제 22 항에 있어서,
상기 GIP 내부 연결 배선부는 인가되는 전압에 따라 GIP의 출력 버퍼부를 제어하는 제 1 노드 및 상기 제 2 노드를 구비하고,
상기 제 1 노드 또는 상기 제 2 노드 상에 빛을 차단하는 차광층이 더 형성되는 OLED 표시패널.
23. The method of claim 22,
Wherein the GIP internal connection wiring portion includes a first node and a second node for controlling an output buffer portion of the GIP according to an applied voltage,
And a light shielding layer for blocking light is further formed on the first node or the second node.
제 26 항에 있어서,
상기 차광층은 R, G, B 칼라 필터층 중 적어도 2개의 칼라 필터층이 적층되어 구성되는 OLED 표시패널.
27. The method of claim 26,
Wherein the light shielding layer is formed by stacking at least two color filter layers of R, G, and B color filter layers.
제 26 항에 있어서,
상기 차광층은 블랙 뱅크층으로 구성되는 OLED 표시패널.
27. The method of claim 26,
Wherein the light-shielding layer comprises a black bank layer.
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