KR20190025418A - Copper foil capable of manufacturing high capacity secondary battery, electrode comprisng the same, secondary battery comprising the same and method for manufacturing the same - Google Patents

Copper foil capable of manufacturing high capacity secondary battery, electrode comprisng the same, secondary battery comprising the same and method for manufacturing the same Download PDF

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KR20190025418A
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Abstract

One embodiment of the present invention provides a copper foil, comprising: a copper layer having a matte surface and a shiny surface; and a rust preventive film disposed on the copper layer. The copper foil has a room temperature (25±15°C) tensile strength of 40-60 kgf/mm^2 and a high temperature tensile strength of 36-55 kgf/mm^2 after heat treatment at 190°C for 1 hour. The copper layer has crystalline particles, wherein the crystalline particles have an average particle size of 0.7-1.5 μm after the heat treatment at room temperature and 190°C for 1 hour.

Description

고용량 이차전지 제조를 가능하게 하는 동박, 그것을 포함하는 전극, 그것을 포함하는 이차전지, 및 그것의 제조방법{COPPER FOIL CAPABLE OF MANUFACTURING HIGH CAPACITY SECONDARY BATTERY, ELECTRODE COMPRISNG THE SAME, SECONDARY BATTERY COMPRISING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a copper foil capable of producing a high-capacity secondary battery, an electrode including the same, a secondary battery including the same, and a method of manufacturing the same. BACKGROUND ART [0002] MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 고용량 이차전지의 제조를 가능하게 하는 동박, 그것을 포함하는 전극, 그것을 포함하는 이차전지, 및 그것의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a copper foil that enables the production of a high capacity secondary battery, an electrode including the same, a secondary battery including the electrode, and a method of manufacturing the same.

이차전지는 전기 에너지를 화학 에너지로 바꾸어 저장하였다가 전기가 필요할 때 화학 에너지를 다시 전기 에너지로 변환시킴으로써 전기를 발생시키는 에너지 변환 기기의 일종이다. 이처전지는 재충전이 가능하다는 점에서 충전식 전지(rechargeable battery)로도 지칭된다. A secondary cell is a type of energy conversion device that converts electrical energy into chemical energy, stores it, and converts the chemical energy into electrical energy when electricity is needed. The secondary battery is also referred to as a rechargeable battery in that it is rechargeable.

이러한 이차전지 중 리튬 이차전지는 높은 작동전압, 높은 에너지 밀도 및 우수한 수명 특성을 갖는다. 이차전지는 동박으로 이루어진 음극 집전체를 포함하는데, 동박들 중 전해 동박이 이차전지의 음극 집전체로 널리 사용되고 있다. Among these secondary batteries, lithium secondary batteries have high operating voltage, high energy density and excellent lifetime characteristics. The secondary battery includes an anode current collector made of a copper foil, and the electrolytic copper foil among the copper foils is widely used as a cathode current collector of a secondary battery.

음극 집전체로 사용되는 전해 동박은 통상적으로 약 30 내지 40kgf/mm2 정도의 인장강도를 갖는다. 최근, 고용량 리튬 이차전지 제조를 위해, 고용량 특성을 갖는 금속계 또는 복합계 활물질이 각광받고 있는데, 금속계 또는 복합계 활물질은 충방전 과정에서 부피팽창이 심하다. 따라서, 동박이 활물질의 부피 팽창에 대응할 수 있어야만, 활물질이 부피 팽창하더라도 동박이 찢어지지 않고, 동박으로부터 활물질이 탈리되지 않는다. 활물질의 부피 팽창에 대응하기 위해 동박은 고강도 특성을 가져야 하며, 활물질 코팅 및 건조와 같은 고온 공정을 거치더라도 동박의 인장강도가 유지되어야 한다. The electrolytic copper foil used as the negative electrode collector usually has a tensile strength of about 30 to 40 kgf / mm 2 . Recently, a metal or composite active material having a high capacity characteristic has been spotlighted for the production of a high capacity lithium secondary battery, and the metal or composite active material has a significant volume expansion during charging and discharging. Therefore, the copper foil is not torn even when the active material expands in volume, and the active material is not removed from the copper foil, as long as the copper foil can cope with the volume expansion of the active material. In order to cope with the volume expansion of the active material, the copper foil must have a high strength property and the tensile strength of the copper foil should be maintained even after the high temperature process such as coating and drying of the active material.

한편, 40kgf/mm2 이상의 인장강도를 갖는 고강도 동박의 제조를 위해, 예를 들어, 다원계(multi-component) 첨가제 또는 티오요소계의 유기 첨가제가 첨가된 황산계 전해액을 이용하여 전기 도금을 실시하는 방법이 있다.On the other hand, for the production of a high strength copper foil having a tensile strength of 40 kgf / mm 2 or more, electroplating is carried out using, for example, a sulfuric acid-based electrolyte to which a multi-component additive or a thiourea-based organic additive is added There is a way.

그러나, 동박의 인장강도가 증가하는 경우, 동박 내부의 응력이 증가하여 동박에 휨(curl)이 발생하는 빈도가 증가한다. 동박에 휨(curl)이 발생되는 경우, 롤투롤(Roll to Roll, RTR) 공정에 의한 동박의 제조과정 또는 동박을 이용한 이차전지용 전극의 제조과정에서, 동박에 주름이 발생하거나 동박이 찢어지는 등의 불량이 발생할 수 있다.However, when the tensile strength of the copper foil increases, the stress in the copper foil increases and the frequency of occurrence of curl in the copper foil increases. When a curl occurs in the copper foil, a process of manufacturing a copper foil by the roll-to-roll (RTR) process or a process of manufacturing an electrode for a secondary battery using the copper foil causes wrinkles in the copper foil or tearing of the copper foil May occur.

이차전지의 고용량화를 위해 매우 얇은 극박 형택의 동박이 이차전지의 전극 제조에 사용되고 있다. 예를 들어, 10㎛ 이하의 두께를 갖는 극박 형태의 동박이 사용되고 있다. 그러나 이러한 얇은 동박은 낮은 핸들링성(handling)을 가지며, 낮은 핸들링성으로서 인해 동박을 이용한 이차전지용 전극의 제조가 불가능한 경우가 발생할 수도 있다.In order to increase the capacity of the secondary battery, a very thin ultra-thin copper foil has been used in the manufacture of electrodes for secondary batteries. For example, an ultra-thin copper foil having a thickness of 10 mu m or less is used. However, such a thin copper foil has a low handling property, and due to its low handling property, it may be impossible to manufacture an electrode for a secondary battery using a copper foil.

따라서, 이차전지 제조과정에서의 핸들링성과 작업성 향상 및 금속계 활물질 사용을 위해, 고온 공정을 거치더라도 높은 인장강도를 유지할 수 있는 동박의 개발이 필요하다.Therefore, it is necessary to develop a copper foil capable of maintaining a high tensile strength even in a high-temperature process in order to improve handling and operability in the secondary battery manufacturing process and use of a metal-based active material.

본 발명은 위와 같은 요구를 만족할 수 있는 동박, 그것을 포함하는 전극, 그것을 포함하는 이차전지, 및 동박의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a copper foil capable of satisfying the above requirements, an electrode including the same, a secondary battery comprising the same, and a method of manufacturing the copper foil.

본 발명의 일 실시예는 고온에서의 열처리 후에도 높은 인장강도를 갖는 동박을 제공하고자 한다.One embodiment of the present invention is to provide a copper foil having a high tensile strength even after heat treatment at a high temperature.

본 발명의 다른 일 실시예는 동박의 결정 조직을 제어하여 고온에서의 열처리 후에도 동박이 높은 인장강도를 가지도록 한다.Another embodiment of the present invention controls the crystal structure of the copper foil so that the copper foil has a high tensile strength even after heat treatment at a high temperature.

본 발명의 또 다른 일 실시예는 유기 첨가제를 적절하게 선정하고 그 함량을 조절함으로써, 조밀하게 배열된 결정질 입자를 갖는 동박을 제공하고자 한다.Another embodiment of the present invention is to provide a copper foil having crystalline particles arranged densely by properly selecting an organic additive and controlling its content.

본 발명의 또 다른 일 실시예는 이러한 동박을 포함하는 이차전지용 전극, 및 이러한 이차전지용 전극을 포함하는 이차전지를 제공하고자 한다.Another embodiment of the present invention is to provide an electrode for a secondary battery including such a copper foil, and a secondary battery including such an electrode for a secondary battery.

본 발명의 또 다른 일 실시예는, 동박의 제조에 사용되는 전해액에 포함되는 유기 첨가제를 적절하게 선정하고 그 함량을 조정하여 동박의 결정조직을 제어함으로써, 조밀하게 배열된 결정질 입자를 갖는 동박의 제조방법을 제공하고자 한다.Another embodiment of the present invention relates to a method for manufacturing a copper foil, which comprises: appropriately selecting an organic additive contained in an electrolytic solution used in the production of a copper foil and adjusting the content thereof to control the crystal structure of the copper foil; And to provide a manufacturing method thereof.

위에서 언급된 본 발명의 관점들 외에도, 본 발명의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 설명되거나, 그러한 설명으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Other features and advantages of the invention will be set forth in the description which follows, or may be learned by those skilled in the art from the description.

본 발명의 일 실시예는 동박의 결정성을 제어하여, 열처리 후에도 우수한 인장강도를 갖는 동박을 제공한다.One embodiment of the present invention provides a copper foil having excellent tensile strength even after heat treatment by controlling the crystallinity of the copper foil.

이를 위해 본 발명의 일 실시예는, 매트면 및 샤이니면을 갖는 구리층; 및 상기 구리층 상에 배치된 방청막;을 포함하고, 40 내지 60kgf/mm2 의 상온(25±15℃) 인장강도; 및 190℃에서 1시간 열처리 후, 36 내지 55kgf/mm2 의 고온 인장강도;를 가지며, 상기 구리층은 결정질(crystalline) 입자를 가지며, 상온 및 190℃에서 1시간 열처리 후 상기 결정질(crystalline) 입자는 0.7 내지 1.5㎛ 의 평균 입자크기를 갖는, 동박을 제공한다.To this end, one embodiment of the present invention provides a copper layer having a matte surface and a shiny surface; And a rust-preventive layer disposed on the copper layer, and including, 40 to room temperature (25 ± 15 ℃) tensile strength of 60kgf / mm 2; And a high temperature tensile strength of 36 to 55 kgf / mm 2 after heat treatment at 190 ° C for 1 hour. The copper layer has crystalline particles, and after heat treatment at room temperature and 190 ° C for 1 hour, the crystalline particles Has an average particle size of 0.7 to 1.5 [mu] m.

상기 동박은 15mm 이하의 최대 휨(curl) 높이를 갖는다. The copper foil has a maximum curl height of 15 mm or less.

상기 동박은 상기 매트면 방향의 제1 면 및 상기 샤이니면 방향의 제2면을 가지며, 상기 제1 면과 상기 제2 면은 각각 0.5 내지 2.0㎛의 표면조도(Rz JIS)를 갖는다.The copper foil has a first surface in the matte surface direction and a second surface in the shiny surface direction, and the first surface and the second surface each have a surface roughness (Rz JIS) of 0.5 to 2.0 mu m.

상기 동박은 4 내지 35㎛의 두께를 갖는다.The copper foil has a thickness of 4 to 35 mu m.

상기 방청막은 크롬, 실란 화합물 및 질소 화합물 중 적어도 하나를 포함한다.The rustproofing film includes at least one of chromium, a silane compound and a nitrogen compound.

본 발명의 다른 일 실시예는, 상기의 동박 및 상기 동박의 적어도 일면에 배치된 활물질층을 포함하는 이차전지용 전극을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides an electrode for a secondary battery comprising the copper foil and the active material layer disposed on at least one side of the copper foil.

본 발명의 또 다른 일 실시예는, 양극(cathode); 상기 양극과 대향 배치된 음극(anode); 상기 양극과 상기 음극 사이에 배치되어 리튬 이온이 이동할 수 있는 환경을 제공하는 전해질(electrolyte); 및 상기 양극과 상기 음극을 전기적으로 절연시켜 주는 분리막(separator);을 포함하고, 상기 음극은 상기의 동박 및 상기 동박 상에 배치된 활물질층을 포함하는 이차전지를 제공한다. Another embodiment of the present invention is a fuel cell comprising: a cathode; An anode disposed opposite to the anode; An electrolyte disposed between the anode and the cathode to provide an environment in which lithium ions can move; And a separator for electrically insulating the positive electrode and the negative electrode, wherein the negative electrode comprises the copper foil and the active material layer disposed on the copper foil.

본 발명의 다른 일 실시예는, 구리 이온을 포함하는 전해액 내에 서로 이격되게 배치된 양극판 및 회전 음극드럼을 30 내지 80 ASD(A/dm2)의 전류밀도로 통전시켜 구리층을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 전해액은 60 내지 120 g/L의 구리 이온; 80 내지 150 g/L의 황산; 50 ppm 미만의 염소(Cl); 및 유기 첨가제;를 포함하며, 상기 유기 첨가제는 광택제(A 성분) 및 감속제(B 성분) 중에서 선택된 적어도 하나; 및 레벨링제(C 성분);를 포함하며, 상기 광택제(A 성분)는 술폰산 또는 그 금속염을 포함하고, 상기 감속제(B 성분)는 비이온성 수용성 고분자를 포함하고, 상기 레벨링제(C 성분)는 질소(N) 및 황(S) 중 적어도 하나를 포함하는, 동박의 제조방법을 제공한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming a copper layer by passing a positive electrode plate and a rotating cathode drum spaced apart from each other in an electrolytic solution containing copper ions at a current density of 30 to 80 ASD (A / dm 2 ); Wherein the electrolytic solution contains 60 to 120 g / L of copper ions; 80 to 150 g / L sulfuric acid; Less than 50 ppm chlorine (Cl); And an organic additive, wherein the organic additive is at least one selected from a brightener (component A) and a retarder (component B); And a leveling agent (component C), wherein the brightener (component A) comprises a sulfonic acid or a metal salt thereof, the retarder (component B) comprises a nonionic water soluble polymer, and the leveling agent (component C) Comprises at least one of nitrogen (N) and sulfur (S).

상기 구리층을 형성하는 단계에서, 상기 전해액의 온도는 40 내지 60℃의 범위로 유지된다.In the step of forming the copper layer, the temperature of the electrolyte is maintained in the range of 40 to 60 占 폚.

상기 광택제는 5 내지 100 ppm의 농도를 갖는다.The brightener has a concentration of 5 to 100 ppm.

상기 광택제는, 비스-(3-술포프로필)-디설파이드 디소디움염[bis-(3-Sulfopropyl)-disulfide disodium salt](SPS), 3-머캅토-1-프로판술폰산, 3-(N,N-디메틸티오카바모일)-티오프로판술포네이트 소디움염, 3-[(아미노-이미노메틸)티오]-1-프로판술포네이트 소디움염, o-에틸디티오카보네이토-S-(3-설포프로필)-에스테르 소디움염,3-(벤조티아졸릴-2-머캅토)-프로필-술폰산 소디움염 및 에틸렌디티오디프로필술폰산 소디움염(ethylenedithiodipropylsulfonic acid sodium salt) 중에서 선택된 적어도 하나를 포함한다.The polish may be selected from the group consisting of bis- (3-sulfopropyl) -disulfide disodium salt (SPS), 3-mercapto-1-propanesulfonic acid, 3- -Dimethylthiocarbamoyl) -thiopropanesulfonate sodium salt, 3 - [(amino-iminomethyl) thio] -1-propanesulfonate sodium salt, o-ethyldithiocarbonate-S- ) -Ester sodium salt, 3- (benzothiazolyl-2-mercapto) -propyl-sulfonic acid sodium salt and ethylenedithiodipropylsulfonic acid sodium salt.

상기 감속제는, 5 내지 50 ppm 의 농도를 갖는다.The retarder has a concentration of 5 to 50 ppm.

상기 감속제는, 폴리에틸렌 클리콜(PEG), 폴리 프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌폴리프로필렌 코폴리머, 폴리글리세린, 폴리에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 하이드록시에틸렌셀룰로오스, 폴리비닐 알코올, 스테아릭산 폴리글리콜 에테르 및 스테아릴 알코올 폴리글리콜 에테르 중에서 선택된 적어도 하나의 비이온성 수용성 고분자를 포함한다.The decelerator may be selected from the group consisting of polyethylene glycol (PEG), polypropylene glycol, polyethylene polypropylene copolymer, polyglycerin, polyethylene glycol dimethyl ether, hydroxyethylene cellulose, polyvinyl alcohol, stearic acid polyglycol ether and stearyl alcohol polyglycol And at least one non-ionic water-soluble polymer selected from the group consisting of water and ether.

상기 비이온성 수용성 고분자는 500 내지 25,000의 수평균 분자량을 갖는다.The nonionic water soluble polymer has a number average molecular weight of 500 to 25,000.

상기 레벨링제는, 1 내지 50ppm의 농도를 갖는다.The leveling agent has a concentration of 1 to 50 ppm.

상기 레벨링제는, 디알릴디메틸암모늄 클로라이드(DDAC), 티오요소, N,N'-디메틸티오요소, N,N'-디에틸티오요소, 테트라메틸티오요소, 에틸렌티오요소, 2-머캅토-5-벤즈이미다졸술폰산, 3(5-머캅토-1H-테트라졸)벤젠술포네이트, 2-머캅토벤조티아졸, 5-머캅토-1-메틸테트라졸(5-MM) 및 폴리에틸렌이민(PEI) 중에서 선택된 적어도 하나를 포함한다.The leveling agent may be at least one selected from the group consisting of diallyldimethylammonium chloride (DDAC), thiourea, N, N'-dimethylthiourea, N, N'-diethylthiourea, tetramethylthiourea, Mercapto benzothiazole, 5-mercapto-1-methyl tetrazole (5-MM) and polyethyleneimine (5-mercapto- PEI). ≪ / RTI >

상기 유기 첨가제는 서로 다른 2종류 이상의 상기 레벨링제(C성분)을 포함할 수 있다.The organic additive may include two or more different leveling agents (component C).

상기 유기 첨가제는 질소(N)를 포함하는 적어도 하나의 레벨링제(C성분) 및 황(S)을 포함하는 적어도 하나의 레벨링제(C성분)를 포함할 수 있다.The organic additive may include at least one leveling agent (C component) including nitrogen (N) and at least one leveling agent (C component) including sulfur (S).

상기 동박의 제조방법은 상기 구리층에 방청막을 형성하는 단계를 더 포함한다. The method of manufacturing the copper foil further includes forming a rustproof film on the copper layer.

위와 같은 본 발명에 대한 일반적 서술은 본 발명을 예시하거나 설명하기 위한 것일 뿐으로서, 본 발명의 권리범위를 제한하지 않는다.The foregoing general description of the present invention is intended to be illustrative of or explaining the present invention, but does not limit the scope of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박의 결정성 및 인장강도가 제어되어 동박의 휨(curl)이 감소된다. 이에 따라, 동박의 제조 과정 또는 이러한 동박을 이용한 이차전지용 전극 또는 이차전지의 제조 과정에서 동박의 주름 또는 찢김의 발생이 방지된다. 또한, 이러한 동박을 이용하여 제조된 이차전지는 우수한 용량 유지율을 가져, 이차전지의 고용량화가 구현될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the crystallinity and the tensile strength of the copper foil are controlled to reduce the curl of the copper foil. This prevents wrinkles or tearing of the copper foil in the manufacturing process of the copper foil or the manufacturing process of the secondary battery electrode or the secondary battery using such a copper foil. In addition, the secondary battery manufactured using such a copper foil has an excellent capacity retention ratio, and the capacity of the secondary battery can be increased.

첨부된 도면은 본 발명의 이해를 돕고 본 명세서의 일부를 구성하기 위한 것으로서, 본 발명의 실시예들을 예시하며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 원리들을 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 동박의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 동박의 개략적인 단면도이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극의 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극의 개략적인 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지의 개략적인 단면도이다.
도 6은 도 2에 도시된 동박의 제조 공정에 대한 개략도이다.
도 7은 동박의 휨(curl) 높이 측정을 설명하는 개략도이다.
도 8a 및 8b는 각각 열처리 전 후 제조예 3에 따른 동박의 단면을 도시한다.
도 9a 및 9b는 각각 열처리 전 후 비교예 3에 따른 동박의 단면을 도시한다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are included to provide a further understanding of the invention and are incorporated in and constitute a part of this specification, illustrate embodiments of the invention and, together with the description, serve to explain the principles of the invention.
1 is a schematic cross-sectional view of a copper foil according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view of a copper foil according to another embodiment of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view of an electrode for a secondary battery according to another embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view of an electrode for a secondary battery according to another embodiment of the present invention.
5 is a schematic cross-sectional view of a secondary battery according to another embodiment of the present invention.
6 is a schematic view of a process for manufacturing the copper foil shown in Fig.
7 is a schematic view for explaining the measurement of the curl height of the copper foil.
8A and 8B show cross sections of the copper foil according to Production Example 3 before and after the heat treatment, respectively.
9A and 9B show cross sections of the copper foil according to Comparative Example 3 before and after the heat treatment, respectively.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명의 다양한 변경 및 변형이 가능하다는 점은 당업자에게 자명할 것이다. 따라서, 본 발명은 청구범위에 기재된 발명 및 그 균등물 범위 내의 변경과 변형을 모두 포함한다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the invention includes all modifications and variations within the scope of the invention as defined in the claims and their equivalents.

본 발명의 실시예들을 설명하기 위해 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로, 본 발명이 도면에 도시된 사항에 의해 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 구성 요소는 동일 참조 부호로 지칭될 수 있다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like disclosed in the drawings are illustrative to describe embodiments of the present invention, and thus the present invention is not limited by what is shown in the drawings. Like elements throughout the specification may be referred to by like reference numerals.

본 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소가 단수로 표현된 경우, 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함한다. 또한, 구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석된다.Where the terms "comprises", "having", "comprising", and the like are used herein, other portions may be added unless the expression "only" is used. Where an element is referred to in the singular, it includes the plural unless specifically stated otherwise. Further, in interpreting the constituent elements, even if there is no separate description, it is interpreted to include an error range.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two parts is described as 'on', 'on top', 'under', and 'next to' Or " direct " is used, one or more other portions may be located between the two portions.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우가 포함될 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, if the temporal relationship is described by 'after', 'after', 'after', 'before', etc., May not be continuous unless the expression " expression " is used.

다양한 구성요소들을 서술하기 위해, '제1', '제2' 등과 같은 표현이 사용되지만, 이들 구성요소들은 이러한 용어에 의해 제한되지 않는다. 이러한 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.In order to describe various components, expressions such as 'first', 'second', etc. are used, but these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. It should be understood that the term " at least one " includes all possible combinations from one or more related items.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시될 수도 있다.It is to be understood that each of the features of the various embodiments of the present invention may be combined or combined with each other, partially or wholly, technically various interlocking and driving, and that the embodiments may be practiced independently of each other, It is possible.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 동박(101)의 개략적인 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a copper foil 101 according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 동박(101)은 구리층(110)을 포함한다. 구리층(110)은 매트면(matte surface)(MS) 및 그 반대편의 샤이니면(shiny surface)(SS)을 갖는다.The copper foil 101 according to an embodiment of the present invention includes a copper layer 110. The copper layer 110 has a matte surface MS and a shiny surface SS opposite the matte surface MS.

구리층(110)은, 예를 들어, 전기 도금을 통해 회전 음극드럼 상에 형성될 수 있다(도 6 참조). 이 때, 샤이니면(SS)은 전기 도금 과정에서 회전 음극드럼과 접촉하였던 면을 지칭하고, 매트면(MS)은 샤이니면(SS)의 반대 편 면을 지칭한다.The copper layer 110 may be formed on the rotating cathode drum, for example, by electroplating (see FIG. 6). In this case, the shiny surface SS refers to the surface that has contacted the rotating cathode drum in the electroplating process, and the mat surface MS refers to the opposite surface to the shiny surface SS.

일반적으로 샤이니면(SS)은 매트면(MS)에 비해 낮은 표면조도를 갖는다. 그러나, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며 샤이니면(SS)의 표면조도가 매트면(MS)의 표면조도와 동일하거나 더 높을 수도 있다. 예를 들어, 구리층(110)의 제조에 사용되는 회전 음극드럼(12)(도 6 참조)의 연마 정도에 따라, 샤이니면(SS)의 표면조도는 매트면(MS)의 표면조도보다 낮을 수도 있고 높을 수도 있다. 회전 음극드럼(12)의 표면은 #800 내지 #3000의 입도(Grit)를 갖는 연마 브러시에 의해 연마될 수 있다.Generally, the shiny surface SS has a lower surface roughness than the matte surface MS. However, the embodiment of the present invention is not limited to this, and the surface roughness of the shiny surface SS may be equal to or higher than the surface roughness of the mat surface MS. For example, depending on the degree of polishing of the rotary cathode drum 12 (see FIG. 6) used for manufacturing the copper layer 110, the surface roughness of the shiny surface SS is lower than the surface roughness of the matte surface MS It may or may not be high. The surface of the rotating cathode drum 12 can be polished by an abrasive brush having a grain size of # 800 to # 3000.

도 1을 참조하면, 동박(101)은 구리층(110) 상에 배치된 방청막(211)을 포함한다. 방청막(211)은 생략될 수도 있다.Referring to FIG. 1, the copper foil 101 includes a rust preventive film 211 disposed on a copper layer 110. The anticorrosive film 211 may be omitted.

방청막(211)은 구리층(110)의 매트면(MS) 및 샤이니면(SS) 중 적어도 하나에 배치될 수 있다. 도 1을 참조하면, 방청막(211)이 매트면(MS)에 배치된다. 그러나, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 방청막(211)이 샤이니면(SS)에만 배치될 수도 있고, 매트면(MS)과 샤이니면(SS) 모두에 배치될 수도 있다.The rust preventive film 211 may be disposed on at least one of the matte surface MS and the shiny surface SS of the copper layer 110. [ Referring to Fig. 1, a rust preventive film 211 is disposed on the mat surface MS. However, the embodiment of the present invention is not limited to this, and the rust preventive film 211 may be disposed only on the shiny side SS or on both the mat side MS and the shiny side SS.

방청막(211)은 구리층(110)을 보호하여, 구리층(110)이 산화되거나 변질되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 방청막(211)을 보호층이라고도 한다.The anticorrosive film 211 protects the copper layer 110 to prevent the copper layer 110 from being oxidized or deteriorated. Therefore, the anticorrosive film 211 is also referred to as a protective layer.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 방청막(211)은 크롬(Cr), 실란 화합물 및 질소 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 크롬(Cr)을 포함하는 방청액, 즉, 크롬산 화합물을 포함하는 방청액에 의하여 방청막(211)이 만들어질 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the anticorrosive film 211 may include at least one of chromium (Cr), a silane compound, and a nitrogen compound. For example, the anticorrosive film 211 can be made of a rustproofing solution containing chromium (Cr), that is, a rustproofing solution containing a chromate compound.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(101)은 구리층(110)을 기준으로 매트면(MS) 방향의 표면인 제1 면(S1) 및 샤이니면(SS) 방향의 표면인 제2 면(S2)을 갖는다. 도 1을 참조하면, 동박(101)의 제1 면(S1)은 방청막(211)의 표면이며, 제2 면(S2)는 샤이니면(SS)이다. 방청막(211)이 생략되는 경우, 구리층(110)의 매트면(MS)이 동박(101)의 제1 면(S1)이 된다.According to one embodiment of the present invention, the copper foil 101 has a first surface S1 in the direction of the mat surface MS and a second surface S1 in the direction of the shiny surface SS, (S2). 1, the first surface S1 of the copper foil 101 is the surface of the anticorrosive film 211, and the second surface S2 is the shiny surface SS. When the anticorrosive film 211 is omitted, the mat surface MS of the copper layer 110 becomes the first surface S1 of the copper foil 101. [

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(100)의 제1 면(S1)과 제2 면(S2)은 각각 0.5 내지 2.0㎛의 표면조도(Rz JIS)를 갖는다.According to one embodiment of the present invention, the first surface S1 and the second surface S2 of the copper foil 100 each have a surface roughness (Rz JIS) of 0.5 to 2.0 占 퐉.

본 발명의 일 실시예에 따른 표면조도(Rz JIS)는 십점 평균 조도라고도 하며, JIS B 0601-2001 규격에 따라 표면조도 측정기(M300, Mahr)에 의해 측정될 수 있다.The surface roughness (Rz JIS) according to an embodiment of the present invention is also referred to as a ten-point average roughness and can be measured by a surface roughness meter (M300, Mahr) according to JIS B 0601-2001.

동박(101)의 제1 면(S1)과 제2 면(S2)의 표면조도(Rz JIS)가 각각 0.5㎛ 미만인 경우, 동박(101)이 이차전지용 전극의 전류 집전체로 사용될 때, 동박(101)과 활물질의 접착력이 낮아 박리강도가 저하되며, 그에 따라, 이차전지의 충방전시 활물질이 동박(101)으로부터 탈리될 수 있다. 반면 제1 면(S1)과 제2 면(S2)의 표면조도(Rz JIS)가 2.0㎛를 초과하는 경우, 동박(101)이 이차전지용 전극의 전류 집전체로 사용될 때, 활물질이 동박(101)에 균일하게 코팅되지 않아 이차전지의 충방전시에 전류가 국부적으로 집중되어 충방전 사이클 특성이 저하될 수 있으며, 이차전지의 용량 유지율이 저하될 수 있다.When the surface roughness (Rz JIS) of the first surface S1 and the second surface S2 of the copper foil 101 is less than 0.5 mu m each, when the copper foil 101 is used as the current collector of the electrode for the secondary battery, 101 and the active material is low, so that the peeling strength is lowered. As a result, the active material can be removed from the copper foil 101 during charging / discharging of the secondary battery. On the other hand, when the surface roughness Rz JIS of the first surface S1 and the second surface S2 exceeds 2.0 占 퐉, when the copper foil 101 is used as a current collector of the electrode for a secondary battery, ), The current may locally concentrate at the time of charge / discharge of the secondary battery, so that the charge / discharge cycle characteristic may be deteriorated, and the capacity retention rate of the secondary battery may be lowered.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(101)의 제1 면(S1)과 제2 면(S2)의 표면조도(Rz JIS) 차이는 0.5㎛ 이하로 조정될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the difference in surface roughness Rz JIS between the first surface S1 and the second surface S2 of the copper foil 101 can be adjusted to 0.5 占 퐉 or less.

동박(101)의 제1 면(S1)과 제2 면(S2)의 표면조도(Rz JIS) 차이가 0.5㎛를 초과하는 경우, 동박(101)이 이차전지용 전극의 전류 집전체로 사용될 때, 제1 면(S1)과 제2 면(S2)의 표면조도(Rz JIS) 차이로 인해 활물질이 제1 면(S1)과 제2 면(S2) 양면에서 균등하게 코팅되지 않을 수 있다. 그에 따라, 이차 전지의 충방전시 양면(S1, S2)의 전기적 및 물리적 특성의 차이가 발생할 수 있고, 이로 인해 이차 전지의 수명이 급격히 저하될 수 있다.When the difference in surface roughness Rz JIS between the first surface S1 of the copper foil 101 and the second surface S2 exceeds 0.5 占 퐉, when the copper foil 101 is used as the current collector of the electrode for the secondary battery, The active material may not be uniformly coated on both surfaces of the first surface S1 and the second surface S2 due to the difference in surface roughness Rz JIS between the first surface S1 and the second surface S2. Accordingly, when the secondary battery is charged and discharged, the electrical and physical characteristics of the two surfaces (S1, S2) may be different from each other, and the service life of the secondary battery may be rapidly deteriorated.

반면, 동박(101)의 제1 면(S1)과 제2 면(S2)의 표면조도(Rz JIS) 차이가 0.5㎛ 이하인 경우, 동박(101)이 이차전지용 전극의 전류 집전체로 사용될 때 동박(101)의 양면에서 활물질의 코팅이 유사하여 이차전지의 충방전시 안정성 및 용량유지율이 우수해지며, 그에 따라 이차전지의 수명이 증가될 수 있다.On the other hand, when the difference in surface roughness Rz JIS between the first surface S1 of the copper foil 101 and the second surface S2 is 0.5 탆 or less, when the copper foil 101 is used as a current collector of a secondary battery electrode, The coating of the active material is similar on both sides of the secondary battery 101, so that the stability and the capacity retention rate of the secondary battery upon charging and discharging are improved, and the lifetime of the secondary battery can be increased accordingly.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(101)은 40 내지 60 kgf/mm2 의 상온(25±15℃) 인장강도를 갖는다. 상온(25±15℃)에서의 인장강도를 상온 인장강도라 한다.According to one embodiment of the invention, the copper foil 101 has a room temperature (25 ± 15 ℃) a tensile strength of 40 to 60 kgf / mm 2. The tensile strength at room temperature (25 占 15 占 폚) is referred to as room temperature tensile strength.

인장강도는 IPC-TM-650 Test Method Manual의 규정에 따라 만능시험기(UTM)에 의해 측정될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, Instron사(社)의 만능시험기에 의해 인장강도가 측정된다. 인장강도 측정용 샘플의 폭은 12.7 mm이고, 그립(grip)간 거리는 50 mm이고, 측정 속도는 50 mm/min이다.The tensile strength can be measured by a universal testing machine (UTM) in accordance with the provisions of the IPC-TM-650 Test Method Manual. According to one embodiment of the present invention, the tensile strength is measured by an universal testing machine of Instron. The width of the sample for tensile strength measurement is 12.7 mm, the distance between the grips is 50 mm, and the measurement speed is 50 mm / min.

상온에서 동박(101)의 인장강도가 40 ㎏f/mm2 미만인 경우, 동박(101)이 이차전지용 전극의 전류 집전체로 사용될 때, 활물질의 부피 팽창으로 인해 동박(101)에 파단이 발생할 수 있다. 예를 들어, 주석(Sn) 또는 규소(Si)를 포함하는 금속계 활물질은 충방전시 부피팽창이 매우 크며, 이러한 큰 부피팽창으로 인해 활물질과 부착되어 있는 동박이 파단될 수 있다. 이를 방지하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 동박(101)은 40 ㎏f/mm2 이상의 인장강도를 갖는다.When the tensile strength of the copper foil 101 is less than 40 kgf / mm 2 at room temperature, when the copper foil 101 is used as the current collector of the electrode for the secondary battery, the copper foil 101 may be broken due to the volume expansion of the active material have. For example, a metal-based active material containing tin (Sn) or silicon (Si) has a very large volume expansion upon charging and discharging, and the large-volume expansion of the metal-based active material can break the copper foil attached to the active material. To prevent this, the copper foil 101 according to an embodiment of the present invention has a tensile strength of 40 kgf / mm 2 or more.

또한, 상온에서 동박(101)의 인장강도가 40 ㎏f/mm2 미만인 경우, 동박(101) 또는 이차전지의 제조를 위한 롤투롤(Roll to Roll) 공정에서 동박(101)에 휨(curl) 또는 주름이 발생할 수 있다.When the tensile strength of the copper foil 101 is less than 40 kgf / mm 2 at room temperature, the copper foil 101 curls in the roll-to-roll process for producing the copper foil 101 or the secondary battery, Or wrinkles may occur.

반면, 상온에서 동박(101)의 인장강도가 60 ㎏f/mm2 를 초과하는 경우, 취성이 증가하여 동박(101)의 제조공정 또는 동박(101)을 이용한 이차전지의 제조공정 중 동박(101)이 파단될 수 있다. On the other hand, when the tensile strength of the copper foil 101 exceeds 60 kgf / mm < 2 > at room temperature, the brittleness of the copper foil 101 increases during the manufacturing process of the copper foil 101 or the manufacturing process of the secondary battery using the copper foil 101 Can be broken.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(101)은 190℃에서 1시간 열처리 후 36 내지 55kgf/mm2 의 고온 인장강도를 갖는다. 여기서, 고온 인장장도는 동박(101)을 190℃에서 1시간 열처리 후 측정된 인장강도를 의미한다. 측정 조건 등을 고려하여, 190±5℃의 온도에서 1시간±5분의 시간동안 열처리 후 측정된 인장강도를 고온 인장강도라고 할 수도 있다.Further, according to an embodiment of the present invention, the copper foil 101 has a high temperature tensile strength of 36 to 55 kgf / mm 2 after heat treatment at 190 ° C for 1 hour. Here, the high-temperature tensile elongation refers to a tensile strength measured after heat treatment of the copper foil 101 at 190 占 폚 for 1 hour. The tensile strength measured after the heat treatment at a temperature of 190 ± 5 ° C for 1 hour ± 5 minutes may be referred to as a high temperature tensile strength.

190℃에서 1시간 열처리 후의 고온 인장강도가 36kgf/mm2 미만인 경우, 고온의 가혹한 공정 조건에서 동박(101)에 연화가 발생되어, 주름 등이 발생될 수 있다.If at 190 ℃ high-temperature tensile strength after heat treatment 1 hours 36kgf / mm 2 is less than, it is the softening of the copper foil 101 is generated in the harsh processing conditions of high temperature, and the like can be wrinkling.

반면, 열처리 후의 고온 인장강도가 55kgf/mm2 를 초과하는 경우, 활물질 코팅 또는 고온 건조와 같은 가혹조건에서 동박(101)의 취성이 증가하여 동박(101)에 파단 등이 발생될 수 있다.On the other hand, if the high temperature tensile strength after heat treatment exceeds 55 kgf / mm 2 , the brittleness of the copper foil 101 may increase under severe conditions such as coating with an active material or high temperature drying, and breakage or the like may occur in the copper foil 101.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(101)의 구리층(110)이 결정성을 가지며, 결정질 입자(crystalline grain)를 포함할 수 있다(도 8a, 8b, 9a, 9b 참조). 구리층(110)의 결정성에 따라 구리층(110)을 포함하는 동박(101)의 물리적, 기계적 특성이 달라질 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the copper layer 110 of the copper foil 101 has crystallinity and may include crystalline grains (see Figs. 8A, 8B, 9A, and 9B). The physical and mechanical characteristics of the copper foil 101 including the copper layer 110 may vary depending on the crystallinity of the copper layer 110. [

본 발명의 일 실시예에 있어서, 결정질(crystalline) 입자는 특정 다면체의 외형을 가지거나, 또는 특정 다면체의 외형을 가지고 있지 않더라도 원자의 주기적인 배열로 이루어진 결정 격자에 의해 X선 회절 현상이 확인될 수 있는 입자를 모두 포함한다.In one embodiment of the present invention, the crystalline particles have the appearance of a specific polyhedron, or X-ray diffraction phenomenon is confirmed by a crystal lattice consisting of a periodic array of atoms even if it does not have the appearance of a specific polyhedron It contains all the particles that can be.

구리층(110)에 포함된 결정질(crystalline) 입자는, 190℃에서 1시간 열처리 전 및 후 0.7 내지 1.5㎛의 평균 입자크기를 갖는다. 보다 구체적으로, 구리층(110)을 두께 방향으로 절단한 구리층(110)의 단면에 걸쳐, 결정질(crystalline) 입자의 평균 입자크기는, 열처리 전 및 190℃에서 1시간 열처리에 있어서 모두 0.7 내지 1.5㎛이다.The crystalline particles contained in the copper layer 110 have an average particle size of 0.7 to 1.5 占 퐉 before and after the heat treatment at 190 占 폚 for 1 hour. More specifically, over the cross-section of the copper layer 110 cut in the thickness direction of the copper layer 110, the average grain size of the crystalline particles is 0.7 to 1.0 μm in both the heat treatment and the heat treatment for 1 hour at 190 ° C. Lt; / RTI >

구리층(110)에 포함된 결정질(crystalline) 입자의 평균 입자크기는 전자 회절 후방 굴절(Electron Back Scattered Diffraction, EBSD) 방법에 의해 측정될 수 있다. 보다 구체적으로, 열처리 전 또는 후, EBSD 방법에 의해 동박(101)의 제1 면(S1)과 제2 면(S2)를 분석한 후, 분석 결과를 이용하여 결정질 입자의 평균 입자크기를 산출할 수 있다. 예를 들어, FE-SEM (Field Emission - Scanning Electron Microscope) 장치(Hitachi社, 모델명 S-4300SE)에 EBSD(Electron Backscatter Diffraction) 디텍터(detector)(예; EDAX社의 EBSD 카메라)를 장착한 장비를 이용하여, 전압 15kV, 전류 50mA, 배율 2000배의 측정 조건으로 동박(101)의 단면을 관찰하여 구리층(110)에 포함된 결정질(crystalline) 입자의 평균 입자크기를 측정할 수 있다.The average particle size of the crystalline particles contained in the copper layer 110 can be measured by an Electron Back Scattered Diffraction (EBSD) method. More specifically, after analyzing the first surface S1 and the second surface S2 of the copper foil 101 by the EBSD method before or after the heat treatment, the average particle size of the crystalline particles is calculated using the analysis result . For example, a device equipped with an Electron Backscatter Diffraction (EBSD) detector (eg EDAX EBSD camera) on a Field Emission-Scanning Electron Microscope (FE-SEM) The average particle size of the crystalline particles contained in the copper layer 110 can be measured by observing the cross section of the copper foil 101 under the measurement conditions of a voltage of 15 kV, a current of 50 mA and a magnification of 2000 times.

190℃에서 1시간 열처리 전 및 후, 구리층(110)에 포함된 결정질 입자의 평균 입자크기가 0.7 내지 1.5㎛인 경우, 동박(101)은 40 내지 60kgf/mm2 의 상온(25±15℃) 인장강도 및 36 내지 55kgf/mm2 의 고온 인장강도를 가질 수 있다. 반면, 구리층(110)에 포함된 결정질 입자의 평균 입자크기가 0.7 내지 1.5㎛의 범위를 벗어나는 경우, 동박(101)의 상온(25±15℃) 인장강도가 40 내지 60kgf/mm2 의 범위를 벗어나거나, 고온 인장강도가 36 내지 55kgf/mm2 의 범위를 벗어날 수 있다.At 190 1 sigan heat treatment before and after, when the average particle size of the crystalline particles comprising the copper layer 110 is 0.7 to 1.5㎛, the copper foil 101 of 40 to room temperature for 60kgf / mm 2 (25 ± 15 ℃ ) Tensile strength and high temperature tensile strength of 36 to 55 kgf / mm < 2 >. On the other hand, when the average particle size of the crystalline particles comprising the copper layer 110 is outside the range of 0.7 to 1.5㎛, temperature of the copper foil (101) (25 ± 15 ℃ ) a tensile strength of 40 to a range of 60kgf / mm 2 Or the high temperature tensile strength may be out of the range of 36 to 55 kgf / mm < 2 >.

보다 구체적으로, 구리층(110)에 포함된 결정질 입자의 평균 입자크기가 미세하고 작아야 동박(101)이 고강도를 가질 수 있다. 이와 관련하여, 전해액에 첨가된 유기 첨가제로부터 유래된 질소(N) 또는 황(S)성분은 구리층(110)의 결정립 구조에 공석되어, 열처리 후에도 구리층(110)에 포함된 결정질 입자의 평균 입자크기가 커지지 않도록 하는 핀(pin) 효과를 나타낸다. 상온에서 구리층(110)에 포함된 결정질 입자의 평균 입자크기가 0.7㎛이하인 경우, 결정질 입자가 너무 미세하여 동박(101)의 강도가 과도하게 높아 동박(101) 취성이 증가되며, 그에 따라, 회전 음극드럼을 이용한 제박 공정에서 찢김이 발생할 가능성이 커진다. 반면, 구리층(110)에 포함된 결정질 입자의 평균 입자크기가 1.5㎛를 초과하는 경우 동박(101)의 고강도 구현이 어려워진다.More specifically, if the average particle size of the crystalline particles contained in the copper layer 110 is small and small, the copper foil 101 can have high strength. In this regard, the nitrogen (N) or sulfur (S) component derived from the organic additive added to the electrolytic solution is vacated in the grain structure of the copper layer 110 so that even after the heat treatment, And exhibits a pin effect that prevents the particle size from becoming large. When the average particle size of the crystalline particles contained in the copper layer 110 at room temperature is 0.7 μm or less, the crystalline particles are too fine and the strength of the copper foil 101 is excessively high, resulting in increased brittleness of the copper foil 101, The possibility of tearing is increased in the stripping process using a rotating cathode drum. On the other hand, when the average particle size of the crystalline particles contained in the copper layer 110 exceeds 1.5 탆, it becomes difficult to realize the high strength of the copper foil 101.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 열처리 후에도 구리층(110)에 포함된 결정질 입자의 크기가 크게 증가하지 않고 유지될 수 있다. 그에 따라, 열처리 후에도 동박(101)이 우수한 인장강도를 가질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the size of the crystalline particles included in the copper layer 110 can be maintained without significantly increasing even after the heat treatment. Accordingly, the copper foil 101 can have an excellent tensile strength even after the heat treatment.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(101)의 최대 휨(curl) 높이는 15mm 이하이다. According to an embodiment of the present invention, the maximum curl height of the copper foil 101 is 15 mm or less.

동박(101)의 최대 휨(curl) 높이 측정을 위해, 동박(101)을 60㎜ X 60㎜으로 절단하고, 제1 면(S1)이 상부를 향하도록 동박(101)을 지지대 위에 배치한 후, 동박(101) 상에 유리판을 배치한다. 이 때, 절단된 동박의 30㎜ 길이만큼만 유리판과 중첩하여 동박(101)의 절반만이 지지대와 유리판 사이에 위치하도록 세팅한 후, 유리판 밖으로 노출된 동박의 높이를 측정하여, 그 최대 높이를 동박(101)의 최대 휨(curl) 높이로 정의한다(도 7 참조).In order to measure the maximum curl height of the copper foil 101, the copper foil 101 is cut into 60 mm X 60 mm, and the copper foil 101 is placed on the support so that the first surface S1 faces upward , A glass plate is disposed on the copper foil 101. [ At this time, the length of the cut copper foil was set so that only half the length of the copper foil was overlapped with the glass plate so that only half of the copper foil 101 was positioned between the support and the glass plate. Then, the height of the copper foil exposed to the outside of the glass plate was measured, Is defined as the maximum curl height of the base 101 (see FIG. 7).

동박(101)의 최대 휨(curl) 높이가 15mm를 초과하는 경우, 동박(101)의 권취시 또는 동박(101)을 이용한 이차전지의 제조 과정에서 동박(101)에 찢김(tear) 또는 주름(wrinkle)과 같은 불량이 발생할 수 있다. 또한, 동박(101)에 휨(Curl)이 발생되는 경우 동박(101) 제조 후 동박(101)을 와인더(WR)로부터 분리하는 데 어려움이 생길 수 있다.When the maximum curl height of the copper foil 101 exceeds 15 mm, the copper foil 101 may be teared or wrinkled during the winding of the copper foil 101 or during the manufacturing process of the secondary battery using the copper foil 101 wrinkle may occur. Further, when a curl is generated in the copper foil 101, it may be difficult to separate the copper foil 101 from the winder WR after the production of the copper foil 101.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(101)은 4㎛ 내지 35㎛의 두께를 가질 수 있다. 동박(101)이 이차전지용 전극의 집전체로 사용될 때, 동박(101)의 두께가 얇을수록 동일한 공간 내에 보다 많은 집전체가 수용될 수 있으므로 이차전지의 고용량화에 유리하다. 그러나, 동박(101)의 두께가 4㎛ 미만인 경우, 동박(101)을 이용한 이차전지용 전극 또는 이차전지의 제조 과정에서 작업성이 저하된다. According to one embodiment of the present invention, the copper foil 101 may have a thickness of 4 mu m to 35 mu m. When the copper foil 101 is used as the current collector of the electrode for the secondary battery, the thinner the copper foil 101, the more current collectors can be accommodated in the same space, which is advantageous for the high capacity of the secondary battery. However, when the thickness of the copper foil 101 is less than 4 占 퐉, workability in the process of manufacturing the secondary battery electrode or the secondary battery using the copper foil 101 is lowered.

반면, 동박(101)의 두께가 35㎛를 초과하는 경우, 동박(101)을 이용한 이차전지용 전극의 두께가 커지고, 이러한 큰 두께로 인하여 이차전지의 고용량 구현에 어려움이 발생할 수 있다.On the other hand, when the thickness of the copper foil 101 is more than 35 μm, the thickness of the electrode for the secondary battery using the copper foil 101 becomes large, and it may be difficult to realize a high capacity of the secondary battery due to such a large thickness.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(100)은 25±15℃의 상온 또는 190℃에서 1시간 열처리 후 2 내지 20%의 연신율을 가질 수 있다. 연신율은 IPC-TM-650 Test Method Manual에 규정된 방법에 따라 만능시험기(UTM)에 의해 측정될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면 Instron社의 설비가 사용될 수 있다. 이때, 연신율 측정용 샘플의 폭은 12.7 mm이고, 그립(grip)간 거리는 50 mm이며, 측정 속도는 50 mm/min이다. According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 may have an elongation of 2 to 20% after heat treatment at room temperature of 25 占 15 占 폚 or 1 hour at 190 占 폚. The elongation can be measured by a universal testing machine (UTM) according to the method specified in the IPC-TM-650 Test Method Manual. According to an embodiment of the present invention, an equipment of Instron can be used. At this time, the width of the sample for elongation measurement was 12.7 mm, the distance between the grips was 50 mm, and the measurement speed was 50 mm / min.

동박(100)의 연신율이 2% 미만이면, 고용량 이차전지에 사용되는 활물질의 큰 부피 팽창에 대응하여 동박(101)이 충분히 늘어나지 못하고 찢어질 위험이 있다. 반면, 연신율이 20%를 초과하여 과도하게 크면, 이차전지용 전극 제조공정에서 동박(101)이 쉽게 늘어나서 전극의 변형이 발생될 수 있다.If the elongation percentage of the copper foil 100 is less than 2%, there is a risk that the copper foil 101 will not sufficiently stretch and tear in response to a large volume expansion of the active material used in the high capacity secondary battery. On the other hand, if the elongation is excessively large exceeding 20%, the copper foil 101 easily stretches in the electrode manufacturing process for the secondary battery, and the electrode may be deformed.

도 2는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 동박(102)의 개략적인 단면도이다. 이하, 중복을 피하기 위하여 이미 설명된 구성요소에 대한 설명은 생략된다.2 is a schematic cross-sectional view of a copper foil 102 according to another embodiment of the present invention. Hereinafter, in order to avoid redundancy, a description of the components already described is omitted.

도 2를 참조하면, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 동박(102)은 구리층(110) 및 구리층(110)의 매트면(MS)과 샤이니면(SS)에 각각 배치된 두 개의 방청막(211, 212)을 포함한다. 도 1에 도시된 동박(101)과 비교하여, 도 2에 도시된 동박(102)은 구리층(110)의 샤이니면(SS)에 배치된 방청막(212)을 더 포함한다.2, a copper foil 102 according to another embodiment of the present invention includes two copper foils 110 and two copper foils 110 disposed on a mat surface MS and a shiny surface SS, respectively, Films 211 and 212, respectively. Compared to the copper foil 101 shown in Fig. 1, the copper foil 102 shown in Fig. 2 further includes the anticorrosive film 212 disposed on the shiny side SS of the copper layer 110. Fig.

설명의 편의를 위해, 두 개의 방청막(211, 212) 중 구리층(110)의 매트면(MS)에 배치된 방청막(211)을 제1 보호층이라고 하고, 샤이니면(SS)에 배치된 방청막(212)을 제2 보호층이라고도 한다.The rust preventive film 211 disposed on the mat surface MS of the copper layer 110 among the two rustproof films 211 and 212 is referred to as a first protective layer and is disposed on the shiny surface SS The rust-preventive film 212 is also referred to as a second protective layer.

또한, 도 2에 도시된 동박(102)은, 구리층(110)을 기준으로, 매트면(MS) 방향의 표면인 제1 면(S1)과 샤이니면(SS) 방향의 표면인 제2 면(S2)을 갖는다. 여기서, 동박(102)의 제1 면(S1)은 매트면(MS)에 배치된 방청막(211)의 표면이고, 제2 면(S2)은 샤이니면(SS)에 배치된 방청막(212)의 표면이다. The copper foil 102 shown in Fig. 2 has a first surface S1 which is a surface in the direction of the mat surface MS and a second surface which is a surface in the direction of the shiney surface SS, (S2). Here, the first surface S1 of the copper foil 102 is the surface of the anticorrosive film 211 disposed on the matte surface MS and the second surface S2 is the antireflection film 212 disposed on the shiny surface SS ).

본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 두 개의 방청막(211, 212)은 각각 크롬(Cr), 실란 화합물 및 질소 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to another embodiment of the present invention, the two rustproofing films 211 and 212 may each include at least one of chromium (Cr), a silane compound and a nitrogen compound.

본 발명의 다른 일 실시예에 따른 동박(102)은 40 내지 60kgf/mm2 의 상온(25±15℃) 인장강도 및 190℃에서 1시간 열처리 후 36 내지 55kgf/mm2 의 고온 인장강도를 갖는다. 또한, 동박(102)의 구리층(110)은 결정질(crystalline) 입자를 가지며, 190℃에서 1시간 열처리 전 및 후, 구리층(110)의 결정질(crystalline) 입자는 0.7 내지 1.5㎛ 의 평균 입자크기를 갖는다.Copper foil 102 according to another embodiment of the present invention has a high temperature tensile strength of 40 to 60kgf / mm 2 at room temperature (25 ± 15 ℃) after 1 hour heat treatment at a tensile strength and 190 ℃ 36 to 55kgf / mm 2 . The copper layer 110 of the copper foil 102 has crystalline particles and the crystalline particles of the copper layer 110 have a mean particle size of 0.7 to 1.5 占 퐉 before and after the heat treatment at 190 占 폚 for 1 hour Size.

또한, 동박(102)은 15mm 이하의 최대 휨(curl) 높이를 가지며, 동박(102)의 제1 면(S1)과 제2 면(S2)은 각각 0.5 내지 2.0㎛의 표면조도(Rz JIS)를 갖는다. 또한, 동박(102)은 4 내지 35㎛의 두께를 갖는다.The copper foil 102 has a maximum curl height of 15 mm or less and the first surface S1 and the second surface S2 of the copper foil 102 have a surface roughness Rz JIS of 0.5 to 2.0 占 퐉, . Further, the copper foil 102 has a thickness of 4 to 35 mu m.

도 3은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극(103)의 개략적인 단면도이다. 도 3에 도시된 이차전지용 전극(103)은, 예를 들어, 도 5에 도시된 이차전지(105)에 적용될 수 있다. 3 is a schematic cross-sectional view of an electrode 103 for a secondary battery according to another embodiment of the present invention. The secondary battery electrode 103 shown in Fig. 3 can be applied to the secondary battery 105 shown in Fig. 5, for example.

도 3을 참조하면, 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극(103)은 동박(101) 및 동박(101) 상에 배치된 활물질층(310)을 포함한다. 여기서, 동박(101)은 구리층(110) 및 구리층(110) 상에 배치된 방청막(211)을 포함하며, 전류 집전체로 사용된다.3, an electrode 103 for a secondary battery according to another embodiment of the present invention includes a copper foil 101 and an active material layer 310 disposed on the copper foil 101. As shown in FIG. Here, the copper foil 101 includes a copper foil 110 and a rust preventive film 211 disposed on the copper foil 110, and is used as a current collector.

구체적으로, 동박(101)은 제1 면(S1)과 제2 면(S2)을 가지며, 활물질층(310)은 동박(101)의 제1 면(S1)과 제2 면(S2) 중 적어도 하나에 배치된다. 활물질층(310)은 방청막(211) 상에 배치될 수 있다.Specifically, the copper foil 101 has a first surface S1 and a second surface S2, and the active material layer 310 is formed on at least one of the first surface S1 and the second surface S2 of the copper foil 101 Lt; / RTI > The active material layer 310 may be disposed on the anticorrosive film 211.

도 3에 전류 집전체로 도 1의 동박(101)이 이용된 예가 도시되어 있다. 그러나, 본 발명의 또 다른 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 도 2에 도시된 동박(102)이 이차전지용 전극(103)의 집전체로 사용될 수도 있다. Fig. 3 shows an example in which the copper foil 101 of Fig. 1 is used as a current collector. However, another embodiment of the present invention is not limited thereto, and the copper foil 102 shown in Fig. 2 may be used as a collector of the electrode 103 for a secondary battery.

또한, 동박(101)의 제1 면(S1)에만 활물질층(310)이 배치된 구조가 도 3에 도시되어 있으나, 본 발명의 또 다른 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 동박(101)의 제1 면(S1)과 제 2면(S2) 모두에 활물질층(310)이 각각 배치될 수 있다. 또한, 활물질층(310)은 동박(101)의 제 2면(S2)에만 배치될 수도 있다.3 shows a structure in which the active material layer 310 is disposed only on the first surface S1 of the copper foil 101. However, the present invention is not limited thereto, The active material layer 310 may be disposed on both the first surface S1 and the second surface S2. In addition, the active material layer 310 may be disposed only on the second surface S2 of the copper foil 101. [

도 3에 도시된 활물질층(310)은 전극 활물질을 포함하며, 특히 음극 활물질을 포함할 수 있다. 즉, 도 3에 도시된 이차전지용 전극(103)은 음극으로 사용될 수 있다.The active material layer 310 shown in FIG. 3 includes an electrode active material, and may particularly include a negative active material. That is, the secondary battery electrode 103 shown in FIG. 3 can be used as a negative electrode.

활물질층(310)은, 탄소, 금속, 금속의 산화물 및 금속과 탄소의 복합체 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 금속으로, Ge, Sn, Li, Zn, Mg, Cd, Ce, Ni 및 Fe 중 적어도 하나가 사용될 수 있다. 또한, 이차전지의 충방전 용량을 증가시키기 위하여, 활물질층(310)은 실리콘(Si)을 포함할 수 있다.The active material layer 310 may include at least one of carbon, a metal, an oxide of a metal, and a complex of a metal and carbon. As the metal, at least one of Ge, Sn, Li, Zn, Mg, Cd, Ce, Ni and Fe may be used. In addition, in order to increase the charge / discharge capacity of the secondary battery, the active material layer 310 may include silicon (Si).

이차전지의 충방전이 반복됨에 따라 활물질층(310)의 수축 및 팽창이 번갈아 발생하고, 이것은 활물질층(310)과 동박(101)의 분리를 유발하여 이차전지의 충방전 효율을 저하시킨다. 특히, 실리콘(Si)을 포함하는 활물질(310)은 팽창과 수축의 정도가 크다.As the secondary battery is repeatedly charged and discharged, the active material layer 310 alternately shrinks and expands, causing separation between the active material layer 310 and the copper foil 101, thereby reducing the charge / discharge efficiency of the secondary battery. Particularly, the active material 310 containing silicon (Si) has a large degree of expansion and contraction.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 집전체로 사용된 동박(101)이 활물질층(310)의 수축 및 팽창에 대응하여 수축 및 팽창할 수 있기 때문에, 활물질층(310)이 수축 및 팽창하더라도 의해 동박(101)이 변형되거나 찢어지지 않는다. 그에 따라, 동박(101)과 활물질층(310) 사이에서 분리가 발생되지 않는다. 따라서, 이러한 이차전지용 전극(103)을 포함하는 이차전지는 우수한 충방전 효율 및 우수한 용량 유지율을 갖는다.According to another embodiment of the present invention, since the copper foil 101 used as the current collector can shrink and expand in response to contraction and expansion of the active material layer 310, the active material layer 310 can contract and expand The copper foil 101 is not deformed or torn. Thereby, separation does not occur between the copper foil 101 and the active material layer 310. Therefore, the secondary battery including the electrode 103 for the secondary battery has excellent charge / discharge efficiency and excellent capacity maintenance ratio.

도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극(104)의 개략적인 단면도이다.4 is a schematic cross-sectional view of an electrode 104 for a secondary battery according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극(104)은 동박(102) 및 동박(102) 상에 배치된 활물질층(310, 320)을 포함한다. 동박(102)은 구리층(110) 및 구리층(110)의 양면에 배치된 방청막(211, 212)을 포함한다.The electrode 104 for a secondary battery according to another embodiment of the present invention includes a copper foil 102 and active material layers 310 and 320 disposed on the copper foil 102. [ The copper foil 102 includes the copper foil 110 and the anticorrosive films 211 and 212 disposed on both sides of the copper foil 110. [

구체적으로, 도 4에 도시된 이차전지용 전극(104)은 동박(102)의 제1 면(S1)과 제2 면(S2)에 각각 배치된 두 개의 활물질층(310, 320)을 포함한다. 여기서, 동박(102)의 제1 면(S1) 상에 배치된 활물질층(310)을 제1 활물질층이라 하고, 동박(102)의 제2 면(S2)에 배치된 활물질층(320)을 제2 활물질층이라고도 한다.4 includes two active material layers 310 and 320 disposed on the first surface S1 and the second surface S2 of the copper foil 102, respectively. The active material layer 310 disposed on the first surface S1 of the copper foil 102 is referred to as a first active material layer and the active material layer 320 disposed on the second surface S2 of the copper foil 102 It may be referred to as a second active material layer.

두 개의 활물질층(310, 320)은 서로 동일한 재료에 의해 동일한 방법으로 만들어질 수도 있고, 다른 재료 또는 다른 방법으로 만들어질 수도 있다.The two active material layers 310 and 320 may be made of the same material by the same method, or may be made of different materials or by other methods.

도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지(105)의 개략적인 단면도이다. 도 5에 도시된 이차전지(105)는, 예를 들어, 리튬 이차전지이다.5 is a schematic cross-sectional view of a secondary battery 105 according to another embodiment of the present invention. The secondary battery 105 shown in Fig. 5 is, for example, a lithium secondary battery.

도 5를 참조하면, 이차전지(105)는, 양극(cathode)(370), 양극(370)과 대향 배치된 음극(anode)(340), 양극(370)과 음극(340) 사이에 배치되어 이온이 이동할 수 있는 환경을 제공하는 전해질(electrolyte)(350), 및 양극(370)과 음극(340)을 전기적으로 절연시켜 주는 분리막(separator)(360)을 포함한다. 여기서, 양극(370)과 음극(340) 사이에서 이동하는 이온은, 예를 들어, 리튬 이온이다. 분리막(360)은 하나의 전극에서 발생된 전하가 이차전지(105)의 내부를 통해 다른 전극으로 이동함으로써 무익하게 소모되는 것을 방지하기 위해 양극(370)과 음극(340)을 분리한다. 도 5를 참조하면, 분리막(360)은 전해질(350) 내에 배치된다.5, the secondary battery 105 includes a cathode 370, an anode 340 disposed opposite to the anode 370, and an anode 340 disposed between the anode 370 and the cathode 340 An electrolyte 350 that provides an environment in which ions can move, and a separator 360 that electrically isolates the anode 370 from the cathode 340. Here, the ions moving between the anode 370 and the cathode 340 are, for example, lithium ions. The separator 360 separates the positive electrode 370 and the negative electrode 340 from each other in order to prevent the charge generated from one electrode from being wasted by moving to the other electrode through the inside of the secondary battery 105. Referring to FIG. 5, a separation membrane 360 is disposed within the electrolyte 350.

양극(370)은 양극 집전체(371) 및 양극 활물질층(372)을 포함한다. 양극 집전체(371)로 알루미늄 호일(foil)이 사용될 수 있다.The anode 370 includes a cathode current collector 371 and a cathode active material layer 372. An aluminum foil may be used for the positive electrode current collector 371.

음극(340)은 음극 집전체(341) 및 활물질층(342)을 포함한다. 음극(340)의 활물질층(342)은 음극 활물질을 포함한다.The cathode 340 includes an anode current collector 341 and an active material layer 342. The active material layer 342 of the cathode 340 includes a negative electrode active material.

음극 집전체(341)로, 도 1 또는 도 2에 개시된 동박(101, 102)이 사용될 수 있다. 또한, 도 3 또는 도 4에 도시된 이차전지용 전극(103, 104)이 도 5에 도시된 이차전지(105)의 음극(340)으로 사용될 수 있다.As the anode current collector 341, the copper foils 101 and 102 disclosed in Figs. 1 or 2 may be used. The secondary battery electrodes 103 and 104 shown in FIG. 3 or 4 may be used as the cathode 340 of the secondary battery 105 shown in FIG.

이하, 도 6을 참조하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 동박(102)의 제조방법을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, with reference to FIG. 6, a method of manufacturing the copper foil 102 according to another embodiment of the present invention will be described in detail.

도 6은 도 2에 도시된 동박(102)의 제조 공정에 대한 개략도이다.6 is a schematic view of the manufacturing process of the copper foil 102 shown in Fig.

동박(102)을 제조하기 위해, 먼저 구리 이온을 포함하는 전해액(11)이 제조된다. 전해액(11)은 전해조(10)에 수용된다.In order to produce the copper foil 102, the electrolytic solution 11 containing copper ions is first prepared. The electrolytic solution (11) is accommodated in the electrolytic bath (10).

다음, 구리 이온을 포함하는 전해액(11) 내에 서로 이격되어 배치된 양극판(13) 및 회전 음극드럼(12)이 30 내지 80 ASD(A/dm2)의 전류밀도로 통전되어 구리층(110)이 형성된다. 구리층(110)은 전기 도금의 원리에 의해 형성된다. 양극판(13)과 회전 음극드럼(12) 사이의 간격은 8 내지 13 mm의 범위로 조정될 수 있다. Next, the positive electrode plate 13 and the rotating negative electrode drum 12, which are spaced apart from each other in the electrolyte solution 11 containing copper ions, are energized at a current density of 30 to 80 ASD (A / dm 2 ) . The copper layer 110 is formed by the principle of electroplating. The distance between the positive electrode plate 13 and the rotating cathode drum 12 can be adjusted in the range of 8 to 13 mm.

양극판(13)과 회전 음극드럼(12) 사이에 인가되는 전류밀도가 30 ASD 미만인 경우 구리층(110) 결정질 입자의 생성이 증가하고, 80 ASD를 초과하는 경우 결정질 입자의 미세화가 가속화된다. 전류밀도는 40 ASD 이상으로 조정될 수 있다.When the current density applied between the positive electrode plate 13 and the rotating cathode drum 12 is less than 30 ASD, the generation of the crystalline particles of the copper layer 110 increases, and when the ASD exceeds 80 ASD, the microcrystallization of the crystalline particles accelerates. The current density can be adjusted above 40 ASD.

구리층(110)의 샤이니면(SS)의 표면 특성은 회전 음극드럼(12)의 표면의 버핑 또는 연마 정도에 따라 달라질 수 있다. 샤이니면(SS) 방향의 표면 특성 조정을 위해, 예를 들어, #800 내지 #3000의 입도(Grit)를 갖는 연마 브러시로 회전 음극드럼(12)의 표면이 연마될 수 있다.The surface characteristics of the shiny surface SS of the copper layer 110 may vary depending on the degree of buffing or polishing of the surface of the rotary cathode drum 12. [ The surface of the rotary cathode drum 12 can be polished with an abrasive brush having a grain size (Grit) of, for example, # 800 to # 3000 in order to adjust the surface properties in the direction of the shiny plane SS.

구리층(110) 형성 과정에서, 전해액(11)은 40 내지 60℃ 온도로 유지된다. 보다 구체적으로, 전해액(11)의 온도는 50℃ 이상으로 유지될 수 있다. In the process of forming the copper layer 110, the electrolyte solution 11 is maintained at a temperature of 40 to 60 占 폚. More specifically, the temperature of the electrolytic solution 11 can be maintained at 50 DEG C or higher.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 전해액(11)의 조성이 조정됨으로써 구리층(110)의 물리적, 화학적 및 전기적 특성이 제어될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the physical, chemical, and electrical properties of the copper layer 110 can be controlled by adjusting the composition of the electrolyte solution 11.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 전해액(11)은 60 내지 120 g/L의 구리 이온, 80 내지 150 g/L의 황산, 50 ppm 미만의 염소(Cl) 및 유기 첨가제를 포함한다.According to one embodiment of the present invention, the electrolyte 11 comprises 60 to 120 g / l of copper ions, 80 to 150 g / l of sulfuric acid, less than 50 ppm of chlorine (Cl) and organic additives.

구리의 전착에 의한 구리층(110) 형성이 원활해지도록 하기 위해, 전해액(11) 내의 구리 이온 농도와 황산의 농도는 각각 60 내지 120 g/L의 및 80 내지 150 g/L로 조정된다.The copper ion concentration and the sulfuric acid concentration in the electrolytic solution 11 are adjusted to 60 to 120 g / L and 80 to 150 g / L, respectively, so as to smooth the formation of the copper layer 110 by electrodeposition of copper.

염소(Cl)는 염소 이온(Cl-) 및 분자 내에 존재하는 염소 원자를 모두 포함한다. 염소(Cl)는, 예를 들어, 구리층(110)이 형성되는 과정에서 전해액(11)으로 유입된 은(Ag) 이온의 제거에 사용될 수 있다. 염소(Cl)는 은(Ag) 이온을 염화은(AgCl) 형태로 침전시킬 수 있다. 이러한 염화은(AgCl)은 여과에 의해 제거될 수 있다.Chlorine (Cl) includes both chloride ion (Cl < - >) and chlorine atoms present in the molecule. Chlorine (Cl) can be used, for example, to remove silver (Ag) ions introduced into the electrolyte 11 in the process of forming the copper layer 110. Chlorine (Cl) can precipitate silver (Ag) ions in the form of silver chloride (AgCl). This silver chloride (AgCl) can be removed by filtration.

염소(Cl)의 농도가 50 ppm 이상인 경우 과량의 염소(Cl)에 의한 불필요한 반응이 생길 수 있다. 따라서, 전해액(11) 내의 염소(Cl) 농도는 50 ppm 이하로 관리된다. 보다 구체적으로, 염소(Cl)의 농도는 25 ppm 이하로 관리될 수 있으며, 예를 들어, 5 내지 25 ppm의 범위로 관리될 수 있다.If the concentration of chlorine (Cl) is 50 ppm or more, unnecessary reaction due to excess chlorine (Cl) may occur. Therefore, the concentration of chlorine (Cl) in the electrolytic solution 11 is controlled to be 50 ppm or less. More specifically, the concentration of chlorine (Cl) can be controlled to be 25 ppm or less, for example, in the range of 5 to 25 ppm.

전해액(11)은 유기 첨가제를 포함한다. The electrolyte solution (11) contains an organic additive.

유기 첨가제는, 광택제(A 성분) 및 감속제(B 성분) 중 적어도 하나 및 레벨링제(C 성분)를 포함한다. 즉, 유기 첨가제는 광택제(A 성분) 및 감속제(B 성분) 중 어느 하나를 포함할 수도 있고, 광택제(A 성분)와 감속제(B 성분)를 모두 포함할 수도 있다. 또한, 유기 첨가제는 레벨링제(C 성분)를 포함한다.The organic additive includes at least one of a brightener (component A) and a retarder (component B) and a leveling agent (component C). That is, the organic additive may include any one of a brightening agent (component A) and a retarding agent (component B), and may include both a brightening agent (component A) and a retarding agent (component B). Further, the organic additive includes a leveling agent (component C).

광택제(A 성분)는 술폰산 또는 그 금속염을 포함한다. 광택제(A 성분)는 전해액(11)의 전하량을 증가시켜 구리의 전착 속도를 증가시키고 동박의 휨(curl) 특성을 개선하며, 동박(102)의 광택을 증진시킬 수 있다.The polishing agent (component A) includes a sulfonic acid or a metal salt thereof. The polishing agent (component A) can increase the charge amount of the electrolytic solution 11 to increase the electrodeposition rate of copper, improve the curl characteristic of the copper foil, and improve the gloss of the copper foil 102.

광택제(A 성분)는 전해액(11) 내에서 5 내지 100 ppm의 농도를 가질 수 있다.The polishing agent (component A) may have a concentration of 5 to 100 ppm in the electrolytic solution 11.

광택제(A 성분)의 농도가 10 ppm 미만이면 동박(102)의 광택이 저하되고, 100 ppm을 초과하면 동박(102)의 조도가 상승되고 강도가 저하될 수 있다. If the concentration of the polishing agent (component A) is less than 10 ppm, the gloss of the copper foil 102 is lowered. If the concentration is more than 100 ppm, the lightness of the copper foil 102 may be increased and the strength may be lowered.

보다 구체적으로, 광택제(A 성분)는 전해액(11) 내에서 5 내지 30 ppm의 농도를 가질 수 있다.More specifically, the brightener (component A) may have a concentration of 5 to 30 ppm in the electrolyte solution 11. [

광택제는, 예를 들어, 비스-(3-술포프로필)-디설파이드 디소디움염[bis-(3-Sulfopropyl)-disulfide disodium salt](SPS), 3-머캅토-1-프로판술폰산, 3-(N,N-디메틸티오카바모일)-티오프로판술포네이트 소디움염, 3-[(아미노-이미노메틸)티오]-1-프로판술포네이트 소디움염, o-에틸디티오카보네이토-S-(3-설포프로필)-에스테르 소디움염,3-(벤조티아졸릴-2-머캅토)-프로필-술폰산 소디움염 및 에틸렌디티오디프로필술폰산 소디움염(ethylenedithiodipropylsulfonic acid sodium salt) 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.The brightener may be, for example, bis- (3-sulfopropyl) -disulfide disodium salt (SPS), 3-mercapto-1-propanesulfonic acid, 3- N-dimethylthiocarbamoyl) -thiopropanesulfonate sodium salt, 3 - [(amino-iminomethyl) thio] -1-propanesulfonate sodium salt, o-ethyldithiocarbonate-S- -Sulfopropyl) -ester sodium salt, 3- (benzothiazolyl-2-mercapto) -propyl-sulfonate sodium salt and ethylenedithiodipropylsulfonic acid sodium salt. .

감속제(B 성분)는 비이온성 수용성 고분자를 포함한다. 감속제(B 성분)는 구리의 전착 속도를 감소시켜 동박(102)의 급격한 조도 상승 및 강도 저하를 방지한다. 이러한 감속제(B 성분)는 억제제 또는 suppressor라고도 불려진다.The slowing agent (component B) includes a nonionic water soluble polymer. The decelerator (component B) reduces the electrodeposition rate of copper, thereby preventing rapid increase in the roughness of the copper foil 102 and decrease in strength. These decelerating agents (component B) are also referred to as inhibitors or suppressors.

감속제(B 성분)는 전해액(11) 내에서 5 내지 50 ppm의 농도를 가질 수 있다.The decelerator (component B) may have a concentration of 5 to 50 ppm in the electrolytic solution 11.

감속제(B 성분)의 농도가 5 ppm 미만이면 동박(102)의 조도가 급격히 상승하며, 동박(102)의 강도가 저하되는 문제가 발생할 수 있다. 반면, 감속제(B 성분)의 농도가 50 ppm을 초과하더라도, 동박(102)의 외관, 광택, 조도, 강도, 연신율 등의 물성 변화가 거의 없다. 따라서, 감속제(B 성분)의 농도를 불필요하게 높여 제조 비용을 상승시키고 원료를 낭비할 필요 없이, 감속제(B 성분)의 농도를 5 내지 50 ppm의 범위로 조정할 수 있다.If the concentration of the decelerating agent (component B) is less than 5 ppm, the roughness of the copper foil 102 sharply increases, and the strength of the copper foil 102 may be lowered. On the other hand, even if the concentration of the decelerator (component B) exceeds 50 ppm, the physical properties of the copper foil 102 such as appearance, gloss, roughness, strength, elongation and the like hardly change. Therefore, the concentration of the decelerator (component B) can be adjusted to a range of 5 to 50 ppm without unnecessarily raising the concentration of the decelerator (component B) to raise the manufacturing cost and waste of the raw material.

감속제(B 성분)는, 예를 들어, 폴리에틸렌 클리콜(PEG), 폴리 프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌폴리프로필렌 코폴리머, 폴리글리세린, 폴리에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 하이드록시에틸렌셀룰로오스, 폴리비닐 알코올, 스테아릭산 폴리글리콜 에테르 및 스테아릴 알코올 폴리글리콜 에테르 중에서 선택된 적어도 하나의 비이온성 수용성 고분자를 포함할 수 있다. 그러나, 감속제의 종류가 이에 한정되는 것은 아니며, 고강도 동박(102)의 제조에 사용될 수 있는 다른 비이온성 수용성 고분자가 감속제로 사용될 수도 있다.The slowing agent (component B) may be, for example, polyethylene glycol (PEG), polypropylene glycol, polyethylene polypropylene copolymer, polyglycerin, polyethylene glycol dimethyl ether, hydroxyethylene cellulose, polyvinyl alcohol, stearic acid polyglycol Ether and stearyl alcohol polyglycol ethers. ≪ RTI ID = 0.0 > [0031] < / RTI > However, the type of the retarder is not limited thereto, and other nonionic water-soluble polymers that can be used in the production of the high strength copper foil 102 may also be used as the decelerating agent.

감속제(B 성분)로 사용되는 비이온성 수용성 고분자는 500 내지 25,000의 수평균 분자량을 가질 수 있다. 감속제(B 성분)의 수평균 분자량이 500 미만이면 감속제(B 성분)에 의한 동박(102)의 조도 상승 방지 및 강도 저하 방지의 효과가 미미하며, 25,000을 초과하면 감속제(B 성분)의 큰 분자량으로 인해 구리층(110)의 형성이 용이하게 이루어지지 않을 수 있다. The nonionic water soluble polymer used as the decelerating agent (component B) may have a number average molecular weight of 500 to 25,000. When the number average molecular weight of the decelerator (component B) is less than 500, the effect of preventing the rise of the roughness of the copper foil 102 due to the decelerating agent (component B) The formation of the copper layer 110 may not be easily performed due to the large molecular weight of the copper layer.

보다 구체적으로, 감속제(B 성분)로 사용되는 비이온성 수용성 고분자는 1,000 내지 10,000의 분자량을 가질 수 있다More specifically, the nonionic water-soluble polymer used as the decelerating agent (component B) may have a molecular weight of 1,000 to 10,000

레벨링제(C 성분)는 질소(N) 및 황(S) 중 적어도 하나를 포함한다. 즉, 레벨링제(C 성분)는 하나의 분자 내에 하나 이상의 질소 원자(N), 또는 하나 이상의 황 원자(S)를 포함할 수 있으며, 하나 이상의 질소 원자(N)와 하나 이상의 황 원자(S)를 모두 포함할 수도 있다. 예를 들어, 레벨링제(C 성분)로 질소(N) 또는 황(S)을 포함하는 사슬형, 헤테로 고리형 또는 방향족 유기 화합물이 있다. The leveling agent (component C) includes at least one of nitrogen (N) and sulfur (S). That is, the leveling agent (component C) may contain one or more nitrogen atoms (N) or one or more sulfur atoms (S) in one molecule, and may contain one or more nitrogen atoms (N) May be included. For example, there is a chain type, a heterocyclic type, or an aromatic organic compound containing nitrogen (N) or sulfur (S) as a leveling agent (component C).

레벨링제(C 성분)는 구리층(110)에 과도하게 높은 피크나 과도하게 큰 돌기가 생성되는 것을 방지하여, 구리층(110)이 거시적으로 평탄해지도록 한다. The leveling agent (C component) prevents excessive peaks or excessively large protrusions from being produced in the copper layer 110, so that the copper layer 110 becomes macroscopically flat.

레벨링제(C 성분)는 전해액(11) 내에서 1 내지 50 ppm의 농도를 가질 수 있다.The leveling agent (C component) may have a concentration of 1 to 50 ppm in the electrolyte solution (11).

레벨링제(C 성분)의 농도가 1 ppm 미만인 경우, 동박(102)의 강도가 저하되어 고강도 동박(102)을 제조하는 데 어려움이 발생한다. 반면, 레벨링제(C 성분)의 농도가 50 ppm을 초과하는 경우, 동박(102)의 표면조도가 과도하게 상승하여 강도가 저하될 수 있으며, 동박(102)의 표면에 얼룩이 생기고 동박(102)이 푸석푸석하여 잘 부스러질 수 있으며, 동박(102)의 연신율이 저하될 수 있다.When the concentration of the leveling agent (component C) is less than 1 ppm, the strength of the copper foil 102 is lowered, which makes it difficult to produce the high-strength copper foil 102. On the other hand, when the concentration of the leveling agent (component C) exceeds 50 ppm, the surface roughness of the copper foil 102 may excessively increase and the strength may be lowered. If the surface of the copper foil 102 is uneven, The copper foil 102 may be crushed and crushed, and the elongation of the copper foil 102 may be lowered.

보다 구체적으로, 레벨링제(C 성분)는 전해액(11) 내에서 5 내지 30 ppm의 농도를 가질 수 있다.More specifically, the leveling agent (component C) may have a concentration of 5 to 30 ppm in the electrolytic solution 11.

레벨링제(C 성분)는, 예를 들어, 디알릴디메틸암모늄 클로라이드(DDAC), 티오요소, N,N'-디메틸티오요소, N,N'-디에틸티오요소, 테트라메틸티오요소, 에틸렌티오요소, 2-머캅토-5-벤즈이미다졸술폰산, 3(5-머캅토-1H-테트라졸)벤젠술포네이트, 2-머캅토벤조티아졸, 5-머캅토-1-메틸테트라졸(5MM) 및 폴리에틸렌이민(PEI) 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.The leveling agent (component C) may be, for example, diallyldimethylammonium chloride (DDAC), thiourea, N, N'-dimethylthiourea, N, N'-diethylthiourea, tetramethylthiourea, Mercapto-5-benzimidazole sulfonic acid, 3 (5-mercapto-1H-tetrazole) benzenesulfonate, 2- mercaptobenzothiazole, 5-mercapto- ) And polyethyleneimine (PEI).

유기 첨가제는 서로 다른 2종류 이상의 상기 레벨링제(C성분)을 포함할 수 있다. The organic additive may include two or more different leveling agents (component C).

또한, 유기 첨가제는, 질소(N)를 포함하는 적어도 하나의 레벨링제(C성분) 및 황(S)을 포함하는 적어도 하나의 레벨링제(C성분)를 포함할 수 있다. 레벨링제에 포함된 질소(N) 및 황(S)은 구리층(110)의 결정립 구조에 공석되어, 열처리 후에도 구리층(110)에 포함된 결정질 입자의 평균 입자크기가 커지지 않도록 하는 핀(pin) 효과를 나타낸다. 그에 따라, 열처리 후에도 동박(102)이 우수한 인장강도를 가질 수 있다.Further, the organic additive may include at least one leveling agent (C component) including nitrogen (N) and at least one leveling agent (C component) including sulfur (S). The nitrogen (N) and sulfur (S) contained in the leveling agent are released to the grain structure of the copper layer 110 so that even after the heat treatment, the pin ) Effect. Accordingly, the copper foil 102 can have an excellent tensile strength even after the heat treatment.

구리층(110)을 형성하는 단계는 전해액(11)을 여과하는 단계를 포함할 수 있다. 전해액(11) 여과를 위해, 예를 들어 전해액(11)이 35 내지 45 m3/hour의 유량으로 순환될 수 있다. 또한, 전해액(11)의 청정도를 위해, 전해액(11)의 원료가 되는 구리 와이어(Cu wire)가 열처리 및 세정될 수 있다.The step of forming the copper layer 110 may include filtering the electrolyte solution 11. For the electrolytic solution 11 filtration, for example, the electrolyte 11 can be circulated at a flow rate of 35 to 45 m 3 / hour. Also, for cleanliness of the electrolyte solution 11, a Cu wire to be a raw material of the electrolyte solution 11 can be heat-treated and cleaned.

이와 같이 제조된 구리층(110)은 세정조(20)에서 세정될 수 있다.The thus-produced copper layer 110 can be cleaned in the cleaning tank 20. [

예를 들어, 구리층(110) 표면 상의 불순물, 예를 들어, 수지 성분 또는 자연 산화막(natural oxide) 등을 제거하기 위한 산세(acid cleaning) 및 산세에 사용된 산성 용액 제거를 위한 수세(water cleaning)가 순차적으로 수행될 수 있다. 세정 공정은 생략될 수도 있다.For example, acid cleaning for removing impurities such as resin components or natural oxide on the surface of the copper layer 110, and water cleaning for acidic solution used in pickling ) Can be performed sequentially. The cleaning process may be omitted.

다음, 구리층(110) 상에 방청막(211, 212)이 형성된다.Next, the anticorrosive films 211 and 212 are formed on the copper layer 110.

도 6을 참조하면, 방청조(30)에 담긴 방청액(31) 내에 구리층(110)을 침지하여, 구리층(110) 상에 방청막(211, 212)을 형성할 수 있다. 방청액(31)은 크롬을 포함할 수 있다. 크롬(Cr)은 방청액(31) 내에서 이온 상태로 존재할 수 있다.6, the copper layer 110 may be immersed in the rust preventive solution 31 contained in the anti-corrosion bath 30 to form the anticorrosive films 211 and 212 on the copper layer 110. [ The rust preventive liquid 31 may contain chromium. Chromium (Cr) can exist in the rust preventive liquid 31 in an ionic state.

방청액(31)은 1 내지 10 g/L의 크롬을 포함할 수 있다. 방청막(211, 212) 형성을 위해, 방청액(31)의 온도는 20 내지 40℃로 유지될 수 있다. 구리층(110)은 방청액(31) 내에 1 내지 30초 정도 침지될 수 있다.The rust preventive liquid 31 may contain 1 to 10 g / L of chromium. For the formation of the anticorrosive films 211 and 212, the temperature of the anticorrosive solution 31 can be maintained at 20 to 40 占 폚. The copper layer 110 may be immersed in the rust preventive liquid 31 for about 1 to 30 seconds.

방청막(211, 212)은 실란 처리에 의한 실란 화합물을 포함할 수도 있고, 질소 처리에 의한 질소 화합물을 포함할 수도 있다.The anticorrosive films 211 and 212 may contain a silane compound by silane treatment or may contain a nitrogen compound by nitrogen treatment.

이러한 방청막(211, 212) 형성에 의해 동박(102)이 만들어진다.The copper foil 102 is formed by forming the antirust films 211 and 212.

다음, 동박(102)이 세정조(40)에서 세정된다. 이러한 세정 공정은 생략될 수 있다.Next, the copper foil 102 is cleaned in the cleaning tank 40. Such a cleaning process may be omitted.

다음, 건조 공정이 수행된 후 동박(102)이 와인더(WR)에 권취된다.Next, after the drying process is performed, the copper foil 102 is wound on the winder WR.

이하, 제조예들 및 비교예들을 통해 본 발명을 구체적으로 설명한다. 다만, 하기의 제조예들 및 비교예들은 본 발명의 이해를 돕기 위한 것일 뿐으로, 본 발명의 권리범위가 제조예들 또는 비교예들에 의해 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to production examples and comparative examples. However, the following production examples and comparative examples are provided only to aid understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited by the production examples or the comparative examples.

제조예Manufacturing example 1-4 및  1-4 and 비교예Comparative Example 1-4 1-4

전해조(10), 전해조(10)에 배치된 회전 음극드럼(12) 및 회전 음극드럼(12)과 이격되어 배치된 양극판(13)을 포함하는 제박기를 이용하여 동박을 제조하였다. 전해액(11)은 황산동 용액이다. 전해액(11) 내의 구리이온 농도는 80g/L, 황산의 농도는 100g/L, 염소 농도는 20ppm 이었다. A copper foil was manufactured by using a negative electrode plate including an electrolytic bath 10, a rotating negative electrode drum 12 disposed in the electrolytic bath 10, and a positive electrode plate 13 disposed apart from the rotating negative electrode drum 12. The electrolytic solution (11) is a copper sulfate solution. The copper ion concentration in the electrolytic solution 11 was 80 g / L, the sulfuric acid concentration was 100 g / L and the chlorine concentration was 20 ppm.

전해액은 유기 첨가제를 포함한다. 유기 첨가제 중 광택제(A 성분)로 비스-(3-술포프로필)-디설파이드 디소디움염(SPS)가 사용되었고, 감속제(B 성분)로 폴리에틸렌 클리콜(PEG)이 사용되었고, 레벨링제(C 성분)로 디알릴디메틸암모늄 클로라이드(diallyldimethylammonium chloride, DDAC), 5-머캅토-1-메틸테트라졸(5-Mercapto-1-methyltetrazole, 5MM) 및 폴리에틸렌이민(Polyethyleneimine, PEI)이 사용되었다. 이들의 함량(농도)은 아래 표 1과 같다.The electrolytic solution contains an organic additive. Bis (3-sulfopropyl) -disulfide disodium salt (SPS) was used as a brightener (component A), a polyethylene glycol (PEG) was used as a decelerator (component B) Diallyldimethylammonium chloride (DDAC), 5-mercapto-1-methyltetrazole (5MM) and polyethyleneimine (PEI) These contents (concentrations) are shown in Table 1 below.

전해액의 온도를 55℃로 유지하면서, 회전 음극드럼(12)과 양극판(13) 사이에 50 ASD의 전류 밀도로 전류를 인가하여 구리층(110)을 제조하였다. 다음, 구리층(110)을 크롬을 포함하는 방청액에 약 2초간 침지시켜서 구리층(110)의 표면에 크로메이트 처리를 하여 방청막(211, 212)을 형성하였다. 그 결과, 6㎛의 두께를 갖는 제조예 1-4 및 비교예 1-4의 동박들이 제조되었다. The copper layer 110 was produced by applying a current between the rotating cathode drum 12 and the positive electrode plate 13 at a current density of 50 ASD while maintaining the temperature of the electrolyte at 55 占 폚. Next, the copper layer 110 was immersed in a rust-preventive solution containing chromium for about 2 seconds to perform chromate treatment on the surface of the copper layer 110 to form rust-preventive films 211 and 212. As a result, copper foils of Production Example 1-4 and Comparative Example 1-4 having a thickness of 6 mu m were produced.

유기 첨가제 농도(ppm)Organic additive concentration (ppm) SPS
(A 성분)
SPS
(Component A)
PEG
(B 성분)
PEG
(Component B)
DDAC
(C 성분)
DDAC
(Component C)
5MM
(C 성분)
5MM
(Component C)
PEI
(C 성분)
PEI
(Component C)
제조예 1Production Example 1 2020 3030 3030 -- -- 제조예 2Production Example 2 2020 3030 -- 3030 -- 제조예 3Production Example 3 2020 3030 2020 2020 -- 제조예 4Production Example 4 2020 3030 2020 -- 2020 비교예 1Comparative Example 1 2020 -- -- -- -- 비교예 2Comparative Example 2 -- 3030 -- -- -- 비교예 3Comparative Example 3 2020 3030 -- -- -- 비교예 4Comparative Example 4 -- -- -- -- 2020

SPS: Bis(3-Sulfo-Propyl)di-SulfideSPS: Bis (3-Sulfo-Propyl) di-Sulfide

PEG: Polyethylene GlycolPEG: Polyethylene Glycol

DDAC: Diallyldimethylammonium chlorideDDAC: Diallyldimethylammonium chloride

5MM: 5-Mercapto-1-methyltetrazole5MM: 5-Mercapto-1-methyltetrazole

PEI: PolyethyleneiminePEI: Polyethyleneimine

이와 같이 제조된 제조예 1-4 및 비교예 1-4의 동박들에 대해 (i) 상온 및 190℃에서 1시간 열처리 후의 인장강도 (ii) 상온 및 190℃에서 1시간 열처리 후 결정질 입자의 평균 입자크기, (iii) 휨(curl), (iv) 표면조도 및 (v) 연신율을 측정하였다. (I) tensile strength after heat treatment at room temperature and 190 ° C for 1 hour (ii) average thermal grains after heat treatment at room temperature and 190 ° C for 1 hour, and Particle size, (iii) curl, (iv) surface roughness and (v) elongation were measured.

또한, 동박을 이용하여 이차전지를 제조하고, 이차전지에 대해 충방전을 실시하여 (vi) 용량 유지율을 평가하고, (vii) 이차전지를 해체하여 동박의 파단 여부를 관찰하였다.Further, the secondary battery was manufactured using the copper foil, and the secondary battery was charged and discharged (vi), the capacity retention rate was evaluated, and (vii) the secondary battery was disassembled to observe whether or not the copper foil was broken.

(i) 인장강도 측정(i) Tensile strength measurement

상온(25±15℃)에서 동박의 상온 인장강도를 측정하고, 동박을 190℃에서 1시간 열처리한 후 동박의 고온 인장강도를 측정하였다.The tensile strength at room temperature of the copper foil was measured at room temperature (25 占 15 占 폚), and the high temperature tensile strength of the copper foil was measured after the copper foil was heat treated at 190 占 폚 for 1 hour.

구체적으로, IPC-TM-650 Test Method Manual의 규정에 따라, Instron사(社)의 만능시험기(UTM)를 이용하여 인장강도를 측정하였다. 인장강도 측정용 샘플의 폭은 12.7 mm이고, 그립(grip)간 거리는 50 mm이고, 측정 속도는 50 mm/min이었다.Specifically, the tensile strength was measured using an Instron universal testing machine (UTM) according to the IPC-TM-650 Test Method Manual. The width of the sample for tensile strength measurement was 12.7 mm, the distance between the grips was 50 mm, and the measurement speed was 50 mm / min.

(ii) 결정질 입자의 평균 입자크기(ii) the average particle size of the crystalline particles

상온(25±15℃)에서 동박을 구성하는 구리층에 포함된 결정질 입자의 평균 입자크기를 측정하고, 동박을 190℃에서 1시간 열처리한 후 구리층에 포함된 결정질 입자의 평균 입자크기를 측정하였다.The average particle size of the crystalline particles contained in the copper layer constituting the copper foil was measured at room temperature (25 ± 15 ° C), and the average particle size of the crystalline particles contained in the copper layer was measured after the copper foil was heat- Respectively.

전자 회절 후방 굴절(Electron Back Scattered Diffraction, EBSD) 방법에 따라 동박의 제1 면(S1)과 제2 면(S2)를 분석한 후, 분석 결과를 이용하여 결정질 입자의 평균 입자크기를 산출하였다. 구체적으로, FE-SEM (Field Emission - Scanning Electron Microscope) 장치(Hitachi社, 모델명 S-4300SE)에 EBSD(Electron Backscatter Diffraction) 디텍터(detector)(예; EDAX社의 EBSD 카메라)가 장착된 장비를 이용하여, 전압 15kV, 전류 50mA, 배율 2000배의 측정 조건으로 동박(101)의 단면을 관찰하여 구리층(110)에 포함된 결정질(crystalline) 입자의 평균 입자크기를 측정하였다.The first and second faces S1 and S2 of the copper foil were analyzed according to the Electron Back Scattered Diffraction (EBSD) method, and the average particle size of the crystalline particles was calculated using the analysis results. Specifically, a device equipped with an EBSD (Electron Backscatter Diffraction) detector (eg, EDAX EBSD camera) is mounted on a Field Emission-Scanning Electron Microscope (FE-SEM) The average particle size of the crystalline particles contained in the copper layer 110 was measured by observing the cross section of the copper foil 101 under the measurement conditions of a voltage of 15 kV, a current of 50 mA and a magnification of 2000 times.

(iii) 휨(curl) 측정(iii) curl measurement

동박(101)의 휨(curl) 측정을 위해, 제조예 1-4 및 비교예 1-4의 동박을 60㎜ X 60㎜으로 절단하여 동박 시편(510)을 제조하였다. 도 7은 동박의 휨(curl) 측정을 설명하는 개략도이다.For the curl measurement of the copper foil 101, the copper foils of Production Example 1-4 and Comparative Example 1-4 were cut to 60 mm X 60 mm to prepare a copper foil specimen 510. 7 is a schematic view for explaining curl measurement of the copper foil.

도 7을 참조하면, 시편(510)의 제1 면(S1)이 상부를 향하도록 시편(510)을 지지대(520) 위에 배치한 후, 시편(510) 상에 유리판(530)을 배치하였다. 이 때, 시편의 30㎜ 길이만 유리판과 중첩하여 시편(510)의 절반만이 지지대(520)와 유리판(530) 사이에 위치하고 나머지 절반은 유리판(530)으로부터 노출되도록 세팅하였다. 측정수단(540)(미터 자)을 이용하여 유리판(530) 밖으로 노출된 시편(510)의 높이를 측정하여, 그 최대 높이를 동박의 휨(curl) 높이 값으로 정의하였다.7, a specimen 510 is placed on a supporter 520 such that the first surface S1 of the specimen 510 faces upward, and then a glass plate 530 is placed on the specimen 510. As shown in FIG. At this time, only the 30 mm length of the specimen was overlapped with the glass plate so that only half of the specimen 510 was positioned between the support plate 520 and the glass plate 530 and the other half was exposed from the glass plate 530. The height of the specimen 510 exposed outside the glass plate 530 was measured using the measuring unit 540 (meter scale), and the maximum height thereof was defined as a curl height value of the copper foil.

제조예 1-4 및 비교예 1-4의 동박 각각에 대해 4개의 시편(510)을 제조하여 휨 높이를 측정한 후, 평균값을 계산하여 동박의 휨(curl) 높이 값을 산정하였다.Four specimens 510 were prepared for each of the copper foils of Production Examples 1-4 and 1-4, and the flexural height was measured. The curl height value of the copper foil was calculated by calculating the average value.

(iv) 표면조도(Rz JIS) 측정(iv) Surface roughness (Rz JIS) measurement

JIS B 0601-2001 규격에 따라 표면조도 측정기(M300, Mahr)를 이용하여, 제조예 1-4 및 비교예 1-4에서 제조된 동박의 제1 면(S1)과 제2 면(S2)의 표면조도(Ra)를 각각 측정하였다. (S1) and the second surface (S2) of the copper foil prepared in Production Examples 1-4 and Comparative Examples 1-4 were measured using a surface roughness meter (M300, Mahr) according to JIS B 0601-2001 And surface roughness (Ra) were respectively measured.

(v) 연신율 측정(v) elongation measurement

연신율은 IPC-TM-650 Test Method Manual의 규정에 따라 만능시험기(UTM)에 의해 측정되었다. 구체적으로, Instron사(社)의 만능시험기를 이용하여 연신율을 측정하였다. 연신율 측정용 샘플의 폭은 12.7 mm이고, 그립(grip)간 거리는 50 mm이고, 측정 속도는 50 mm/min 였다.The elongation was measured by a universal testing machine (UTM) according to the IPC-TM-650 Test Method Manual. Specifically, the elongation was measured using an universal testing machine manufactured by Instron. The width of the sample for elongation measurement was 12.7 mm, the distance between the grips was 50 mm, and the measurement speed was 50 mm / min.

(vi) 용량 유지율 평가(vi) Capacity retention rate evaluation

1) 음극 제조1) Negative electrode manufacturing

상업적으로 이용가능한 음극 활물질용 실리콘/카본 복합 음극재 100 중량부에 2 중량부의 스티렌부타디엔고무(SBR) 및 2 중량부의 카르복시메틸 셀룰로오스(CMC)를 혼합하고, 증류수를 용제로 이용하여 음극 활물질용 슬러리를 조제하였다. 닥터 블레이드를 이용하여 10㎝ 폭을 가진 제조예 1-4 및 비교예 1-4의 동박 상에 20 내지 60㎛ 두께로 음극 활물질용 슬러리를 도포하고, 이를 120℃에서 건조하고, 1 ton/cm2의 압력을 가하여 이차전지용 음극을 제조하였다. 2 parts by weight of styrene butadiene rubber (SBR) and 2 parts by weight of carboxymethyl cellulose (CMC) were mixed with 100 parts by weight of a commercially available silicon / carbon composite anode active material for a negative electrode active material and distilled water was used as a solvent to prepare a slurry . Slurry for negative electrode active material was applied on the copper foil of Production Examples 1-4 and Comparative Example 1-4 having a width of 10 cm using a doctor blade to a thickness of 20 to 60 탆, dried at 120 캜, 2 < / RTI > was applied to produce a negative electrode for a secondary battery.

2) 전해액 제조2) Manufacture of electrolytic solution

에틸렌카보네이트(EC) 및 에틸메틸카보네이트(EMC)를 1:2의 비율로 혼합한 비수성 유기용매에 용질인 LiPF6을 1M의 농도로 용해하여 기본 전해액을 제조하였다. 99.5중량%의 기본 전해액과 0.5중량%의 숙신산 무수물(Succinic anhydride)을 혼합하여 비수전해액을 제조하였다.A basic electrolytic solution was prepared by dissolving LiPF 6 as a solute in a non-aqueous organic solvent in which ethylene carbonate (EC) and ethyl methyl carbonate (EMC) were mixed at a ratio of 1: 2 in a concentration of 1M. A non-aqueous electrolyte was prepared by mixing 99.5% by weight of the basic electrolyte and 0.5% by weight of succinic anhydride.

3) 양극 제조 3) Anode manufacturing

Li1.1Mn1.85Al0.05O4인 리튬 망간 산화물과 o-LiMnO2인 orthorhombic 결정구조의 리튬 망간 산화물을 90:10(중량비)의 비로 혼합하여, 양극 활물질을 제조하였다. 양극 활물질, 카본 블랙, 및 결착제인 PVDF[Poly(vinylidenefluoride)]를 85:10:5 (중량비)로 혼합하고, 이를 유기 용매인 NMP와 혼합하여 슬러리를 제조하였다. 이와 같이 제조된 슬러리를 두께 20㎛의 Al박(foil) 양면에 도포한 후 건조하여 양극을 제조하였다.Lithium manganese oxide of Li 1.1 Mn 1.85 Al 0.05 O 4 and lithium manganese oxide of orthorhombic crystal structure of o-LiMnO 2 were mixed at a ratio of 90:10 (weight ratio) to prepare a cathode active material. The cathode active material, carbon black, and PVDF [poly (vinylidenefluoride)] as a binder were mixed at a weight ratio of 85: 10: 5 and mixed with NMP as an organic solvent to prepare a slurry. The slurry thus prepared was coated on both sides of an aluminum foil having a thickness of 20 탆 and dried to prepare a positive electrode.

4) 시험용 리튬 이차전지 제조4) Manufacture of lithium secondary battery for test

알루미늄 캔의 내부에, 알루미늄 캔과 절연되도록 양극과 음극을 배치하고, 그 사이에 비수전해액 및 분리막을 배치하여, 코인 형태의 리튬 이차전지를 제조하였다. 사용된 분리막은 폴리프로필렌(Celgard 2325; 두께 25㎛, average pore size φ28 nm, porosity 40%)이었다. A lithium secondary battery in the form of a coin was produced by disposing an anode and a cathode in the aluminum can to insulate the aluminum can from each other, and arranging a non-aqueous electrolyte and a separator therebetween. The separator used was polypropylene (Celgard 2325; thickness 25 μm, average pore size 28 nm, porosity 40%).

5) 용량 유지율 평가5) Capacity retention rate evaluation

이와 같이 제조된 리튬 이차전지를 이용하여, 4.3V 충전 전압 및 3.4V 방전 전압으로 전지를 구동하여 양극의 g당 용량을 측정하였다. 다음, 고온 수명을 평가하기 위해 50℃의 고온에서 0.2C율(current rate, C-rate)로 50회의 충/방전 실험을 수행하여 용량 유지율을 계산하였다. 용량 유지율은 다음 식 1으로 계산될 수 있다.Using the thus prepared lithium secondary battery, the capacity per g of the positive electrode was measured by driving the cell at a charge voltage of 4.3 V and a discharge voltage of 3.4 V. Next, to evaluate the high-temperature lifetime, 50 charge / discharge experiments were performed at a high temperature of 50 ° C at a current rate (C-rate) of 50 C to calculate the capacity retention rate. The capacity retention rate can be calculated by the following equation (1).

[식 1] [Formula 1]

용량 유지율(%) = [(50회 충방전후 용량)/(1회 충방전후 용량)] x 100Capacity retention rate (%) = [(50 times charge / discharge capacity) / (1 charge / discharge charge capacity)] x 100

용량 유지율을 3회 반복 측정하여 그 평균값을 채택하였다. 용량 유지율이 90% 미만인 경우, 동박이 리튬 이온전지용 음극 집전체로 부적합하다고 판정하였다The capacity retention rate was measured three times and the average value was adopted. When the capacity retention rate is less than 90%, it is determined that the copper foil is unsuitable as a negative electrode current collector for a lithium ion battery

(vii) 동박의 파단 여부 관찰(vii) Observe whether or not the copper foil is broken.

50회의 충방전 후 이차전지를 분해하여 동박에 파단이 발생되는지 여부를 관찰하였다. 동박에 파단이 발행한 경우를 "O"으로 표시하고, 발생하지 않은 경우를 "X"로 표기하였다.After 50 charge / discharge cycles, the secondary battery was disassembled and it was observed whether or not the copper foil was broken. The case where breakage was issued to the copper foil was indicated as " 0 ", and the case where breakage was not occurred was indicated as " X ".

이상의 시험 결과는 표 2와 같다. 다만, 제조예 1-4 및 비교예 1-4의 동박들이 모드 2% 이상의 연신율을 갖는 것으로 측정되었기 때문에, 표 2에서 연신율을 제외하였다.The results of the above tests are shown in Table 2. However, since the copper foils of Production Example 1-4 and Comparative Example 1-4 were measured to have an elongation of mode 2% or more, the elongation was excluded in Table 2.

인장강도
(㎏f/mm2)
The tensile strength
(㎏f / mm 2)
평균입자크기
(㎛)
Average particle size
(탆)
표면조도
(Rz JIS)
Surface roughness
(Rz JIS)
휨 (curl)
(㎜)
Curl
(Mm)
용량 유지율
(%)
Capacity retention rate
(%)
파단 발생 유무Occurrence of breakage
상온Room temperature 고온High temperature 상온Room temperature 고온High temperature 제1면The first side 제2면Second side 차이Difference 제조예1Production Example 1 4141 3737 1.11.1 1.41.4 1.11.1 0.90.9 0.20.2 88 9191 xx 제조예2Production Example 2 4343 4040 1.21.2 1.51.5 1.01.0 0.90.9 0.20.2 1414 9090 xx 제조예3Production Example 3 5050 4848 0.90.9 1.11.1 1.11.1 1.01.0 0.10.1 1111 9292 xx 제조예4Production Example 4 5252 4949 0.80.8 0.90.9 1.31.3 0.90.9 0.40.4 99 9191 xx 비교예1Comparative Example 1 3333 2929 3.23.2 4.74.7 1.21.2 1.01.0 0.20.2 1717 7979 oo 비교예2Comparative Example 2 5555 3535 1.71.7 3.33.3 1.71.7 0.90.9 0.80.8 2525 7373 oo 비교예3Comparative Example 3 3333 2727 3.43.4 4.54.5 1.51.5 0.90.9 0.60.6 1919 8282 oo 비교예4Comparative Example 4 4545 3030 1.91.9 3.73.7 1.61.6 1.01.0 0.60.6 3232 7575 oo

표 1 및 2를 참조하면, 다음과 같은 결과를 확인할 수 있다.Referring to Tables 1 and 2, the following results are obtained.

유기 첨가제 중 광택제(A 성분)만을 포함하고 감속제(B 성분) 및 레벨링제(C 성분)를 포함하지 않는 전해액으로 만들어진 비교예 1의 동박에서 15mm를 초과하는 휨(curl)이 발생하였으며, 비교예 1의 동박을 이용하여 제조된 이차전지는 90% 미만의 용량 유지율을 가지며, 동박에 파단이 발생하였다. A curl exceeding 15 mm occurred in the copper foil of Comparative Example 1 made of an electrolytic solution containing only the polish (A component) and the electrolytic solution not containing the decelerating agent (B component) and the leveling agent (C component) The secondary battery produced using the copper foil of Example 1 had a capacity retention rate of less than 90% and fracture occurred in the copper foil.

유기 첨가제 중 감속제(B 성분)만을 포함하고 광택제(A 성분) 및 레벨링제(C 성분)를 포함하지 않는 전해액으로 만들어진 비교예 2의 동박에서 15mm를 초과하는 휨(curl)이 발생하였으며, 비교예 2의 동박을 이용하여 제조된 이차전지는 90% 미만의 용량 유지율을 가지며, 동박에 파단이 발생하였다. A curl exceeding 15 mm occurred in the copper foil of Comparative Example 2, which was made of an electrolytic solution containing only a decelerating agent (component B) and not containing a polish (component A) and a leveling agent (component C) The secondary battery produced using the copper foil of Example 2 had a capacity retention rate of less than 90% and fracture occurred in the copper foil.

유기 첨가제 중 광택제(A 성분) 및 감속제(B 성분)을 포함하고 레벨링제(C 성분)를 포함하지 않는 전해액으로 만들어진 비교예 3의 동박에서 15mm를 초과하는 휨(curl)이 발생하였으며, 비교예 3의 동박을 이용하여 제조된 이차전지는 90% 미만의 용량 유지율을 가지며, 동박에 파단이 발생하였다. A curl exceeding 15 mm occurred in the copper foil of Comparative Example 3 made of an electrolytic solution containing a polish (A component) and a decelerating agent (B component) and not containing a leveling agent (C component) in the organic additive, The secondary battery produced using the copper foil of Example 3 had a capacity retention rate of less than 90% and fracture occurred in the copper foil.

유기 첨가제 중 레벨링제(C 성분)만을 포함하고 광택제(A 성분) 및 감속제(B 성분)를 포함하지 않는 전해액으로 만들어진 비교예 4의 동박에서 15mm를 초과하는 휨(curl)이 발생하였으며, 비교예 4의 동박을 이용하여 제조된 이차전지는 90% 미만의 용량 유지율을 가지며, 동박에 파단이 발생하였다. A curl exceeding 15 mm occurred in the copper foil of Comparative Example 4 which was made of an electrolyte containing only a leveling agent (C component) and not containing a polish (A component) and a decelerator (B component) The secondary battery produced using the copper foil of Example 4 had a capacity retention rate of less than 90% and fracture occurred in the copper foil.

반면, 본 발명의 일 실시예에 따라, 유기 첨가제로 광택제(A 성분) 및 감속제(B 성분) 중 적어도 하나를 포함하고 또한 레벨링제(C 성분)를 포함하는 전해액으로 만들어진 제조예 1 내지 4의 동박에서 휨(curl)의 높이가 15mm 이하이고, 이러한 동박을 이용하여 제조된 이차전지는 90% 이상의 용량 유지율을 가지며, 동박에 파단이 발생하지 않았다.On the other hand, according to one embodiment of the present invention, in Examples 1 to 4 (Comparative Examples 1 to 4) made of an electrolytic solution containing at least one of a brightener (component A) and a retarder (component B) The height of the curl in the copper foil of the present invention is 15 mm or less, and the secondary battery produced by using such a copper foil has a capacity retention rate of 90% or more, and the copper foil does not break.

또한, 비교예 2 내지 4의 경우 동박의 양면에서 표면조도(Rz JIS) 의 차이가 0.5㎛ 이상이다.In the case of Comparative Examples 2 to 4 , the difference in surface roughness (Rz JIS) between both surfaces of the copper foil is 0.5 mu m or more.

도 8a 및 8b는 각각 열처리 전 후 제조예 3에 따른 동박의 단면을 도시하고, 도 9a 및 9b는 각각 열처리 전 후 비교예 3에 따른 동박의 단면을 도시한다. 도 8a, 8b, 9a 및 9b에 있어서, 도면의 위쪽 방향이 매트면(MS) 방향이고 도면의 아래쪽 방향이 샤이니면(SS) 방향이다.Figs. 8A and 8B show cross sections of the copper foil according to Production Example 3 before and after the heat treatment, respectively, and Figs. 9A and 9B show cross sections of the copper foil according to Comparative Example 3 before and after the heat treatment, respectively. 8A, 8B, 9A and 9B, the upward direction of the drawing is the direction of the matte surface MS and the downward direction of the drawing is the direction of the shiny surface SS.

도 8a를 참조하면, 제조예 3에 따른 동박에 있어서, 열처리전 구리층의 결정질 입자의 평균 입자크기는 입경 기준으로 0.9㎛이고, 도 8b를 참조하면 190℃에서 1시간 열처리 후 구리층의 결정질 입자의 평균 입자크기는 입경 기준으로 1.1㎛이다. 이와 같이 제조예 3에 따른 동박에 있어서, 열처리 전 및 후 구리층의 결정질 입자의 평균 입자크기는 입경 기준으로 0.7 내지 1.5㎛의 범위 내에 있다.Referring to FIG. 8A, in the copper foil according to Production Example 3, the average particle size of the crystalline particles of the copper layer before heat treatment is 0.9 μm on the basis of the particle diameter, and referring to FIG. 8B, after the heat treatment at 190 ° C. for 1 hour, The average particle size of the particles is 1.1 mu m on the basis of the particle diameter. Thus, in the copper foil according to Production Example 3, the average particle size of the crystalline particles of the copper layer before and after the heat treatment is in the range of 0.7 to 1.5 占 퐉 on the basis of the particle size.

반면, 도 9a를 참조하면, 비교예 3에 따른 동박에 있어서, 열처리전 구리층의 결정질 입자의 평균 입자크기는 입경 기준으로 3.4㎛이고, 도 9b를 참조하면 190℃에서 1시간 열처리 후 구리층의 결정질 입자의 평균 입자크기는 입경 기준으로 4.5㎛이다. 비교예 3에 따른 동박에 있어서, 열처리 전 및 후 구리층의 결정질 입자의 평균 입자크기는 입경 기준으로 1.5㎛를 초과한다. 9A, on the copper foil of Comparative Example 3, the average particle size of the crystalline particles of the copper layer before heat treatment is 3.4 μm on the basis of the particle diameter, and referring to FIG. 9B, after the heat treatment for 1 hour at 190 ° C., Of the average particle size of the crystalline particles is 4.5 mu m on the basis of the particle diameter. In the copper foil of Comparative Example 3, the average particle size of the crystalline particles of the copper layer before and after the heat treatment exceeded 1.5 占 퐉 on the basis of the particle size.

특히, 비교예 3뿐만 아니라, 비교예 1, 2, 및 4에 있어서, 열처리 후 구리층의 결정립 입자의 평균 입자크기가 열처리 전에 비하여 1㎛ 이상 더 증가한다는 것을 확인할 수 있다.Particularly, it can be confirmed that the average grain size of the crystal grains of the copper layer after the heat treatment in Comparative Examples 1, 2 and 4, as well as Comparative Example 3, increased by 1 占 퐉 or more compared to that before the heat treatment.

이상에서 설명된 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 사항을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 표현되며, 특허청구범위의 의미, 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. To those skilled in the art. Therefore, the scope of the present invention is defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning, scope and equivalents of the claims are to be construed as being included in the scope of the present invention.

101, 102: 동박
211, 212: 방청막
310, 320: 활물질층
103, 104: 이차전지용 전극
MS: 매트면
SS: 샤이니면
101, 102: copper foil
211, 212: Antirust film
310, 320: active material layer
103, 104: electrode for secondary battery
MS: Matte cotton
SS: Shiny Face

Claims (19)

매트면 및 샤이니면을 갖는 구리층; 및
상기 구리층 상에 배치된 방청막;을 포함하고,
40 내지 60kgf/mm2 의 상온(25±15℃) 인장강도; 및
190℃에서 1시간 열처리 후, 36 내지 55kgf/mm2 의 고온 인장강도;를 가지며,
상기 구리층은 결정질(crystalline) 입자를 가지며, 상온 및 190℃에서 1시간 열처리 후 상기 결정질(crystalline) 입자는 0.7 내지 1.5㎛ 의 평균 입자크기를 갖는, 동박.
A copper layer having a matte surface and a shiny surface; And
And a rust preventive film disposed on the copper layer,
40 to room temperature (25 ± 15 ℃) tensile strength of 60kgf / mm 2; And
At 190 ℃ 1 hour after the heat treatment, a high temperature tensile strength of 36 to 55kgf / mm 2; having a,
Wherein the copper layer has crystalline particles and the crystalline particles after heat treatment at room temperature and 190 占 폚 for 1 hour have an average particle size of 0.7 to 1.5 占 퐉.
제1항에 있어서,
15mm 이하의 최대 휨(curl) 높이를 갖는, 동박.
The method according to claim 1,
A copper foil having a maximum curl height of 15 mm or less.
제1항에 있어서,
상기 매트면 방향의 제1 면 및 상기 샤이니면 방향의 제2면을 가지며,
상기 제1 면과 상기 제2 면은 각각 0.5 내지 2.0㎛의 표면조도(Rz JIS)를 갖는, 동박.
The method according to claim 1,
A first surface in the matte surface direction and a second surface in the shiny surface direction,
Wherein the first surface and the second surface each have a surface roughness (Rz JIS) of 0.5 to 2.0 mu m.
제1항에 있어서,
4 내지 35㎛의 두께를 갖는 동박.
The method according to claim 1,
A copper foil having a thickness of 4 to 35 μm.
제1항에 있어서,
상기 방청막은 크롬, 실란 화합물 및 질소 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 동박.
The method according to claim 1,
Wherein the rustproofing film comprises at least one of chromium, a silane compound and a nitrogen compound.
동박; 및
상기 동박의 적어도 일면에 배치된 활물질층;을 포함하며,
상기 동박은 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 동박인,
이차전지용 전극.
Copper foil; And
And an active material layer disposed on at least one side of the copper foil,
Wherein the copper foil is a copper foil according to any one of claims 1 to 5,
Electrode for secondary battery.
양극(cathode);
상기 양극과 대향 배치된 음극(anode);
상기 양극과 상기 음극 사이에 배치되어 리튬 이온이 이동할 수 있는 환경을 제공하는 전해질(electrolyte); 및
상기 양극과 상기 음극을 전기적으로 절연시켜 주는 분리막(separator);을 포함하고,
상기 음극은,
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 동박; 및
상기 동박 상에 배치된 활물질층;
을 포함하는 이차전지.
A cathode;
An anode disposed opposite to the anode;
An electrolyte disposed between the anode and the cathode to provide an environment in which lithium ions can move; And
And a separator for electrically insulating the anode and the cathode,
The negative electrode,
The copper foil according to any one of claims 1 to 5, And
An active material layer disposed on the copper foil;
And a secondary battery.
구리 이온을 포함하는 전해액 내에 서로 이격되게 배치된 양극판 및 회전 음극드럼을 30 내지 80 ASD(A/dm2)의 전류밀도로 통전시켜 구리층을 형성하는 단계;를 포함하며,
상기 전해액은,
60 내지 120 g/L의 구리 이온;
80 내지 150 g/L의 황산;
50 ppm 미만의 염소(Cl); 및
유기 첨가제;를 포함하며,
상기 유기 첨가제는,
광택제(A 성분) 및 감속제(B 성분) 중에서 선택된 적어도 하나; 및
레벨링제(C 성분);를 포함하며,
상기 광택제(A 성분)는 술폰산 또는 그 금속염을 포함하고,
상기 감속제(B 성분)는 비이온성 수용성 고분자를 포함하고,
상기 레벨링제(C 성분)는 질소(N) 및 황(S) 중 적어도 하나를 포함하는,
동박의 제조방법.
A positive electrode plate and a rotating negative electrode arranged to be spaced apart from each other in an electrolytic solution containing copper ions, at a current density of 30 to 80 ASD (A / dm < 2 >) to form a copper layer,
The electrolyte solution,
60 to 120 g / L of copper ions;
80 to 150 g / L sulfuric acid;
Less than 50 ppm chlorine (Cl); And
An organic additive,
The organic additive may include,
At least one selected from a brightener (component A) and a retarder (component B); And
A leveling agent (component C)
The brightener (component A) comprises a sulfonic acid or a metal salt thereof,
Wherein the retarder (component B) comprises a nonionic water-soluble polymer,
Wherein the leveling agent (C component) comprises at least one of nitrogen (N) and sulfur (S)
A method of manufacturing a copper foil.
제8항에 있어서,
상기 구리층을 형성하는 단계에서, 상기 전해액의 온도는 40 내지 60℃의 범위로 유지되는, 동박의 제조방법.
9. The method of claim 8,
Wherein in the step of forming the copper layer, the temperature of the electrolytic solution is maintained in the range of 40 to 60 占 폚.
제8항에 있어서,
상기 광택제는 5 내지 100 ppm의 농도를 갖는, 동박의 제조방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the brightener has a concentration of 5 to 100 ppm.
제8항에 있어서,
상기 광택제는, 비스-(3-술포프로필)-디설파이드 디소디움염[bis-(3-Sulfopropyl)-disulfide disodium salt](SPS), 3-머캅토-1-프로판술폰산, 3-(N,N-디메틸티오카바모일)-티오프로판술포네이트 소디움염, 3-[(아미노-이미노메틸)티오]-1-프로판술포네이트 소디움염, o-에틸디티오카보네이토-S-(3-설포프로필)-에스테르 소디움염,3-(벤조티아졸릴-2-머캅토)-프로필-술폰산 소디움염 및 에틸렌디티오디프로필술폰산 소디움염(ethylenedithiodipropylsulfonic acid sodium salt) 중에서 선택된 적어도 하나를 포함하는, 동박의 제조방법.
9. The method of claim 8,
The polish may be selected from the group consisting of bis- (3-sulfopropyl) -disulfide disodium salt (SPS), 3-mercapto-1-propanesulfonic acid, 3- -Dimethylthiocarbamoyl) -thiopropanesulfonate sodium salt, 3 - [(amino-iminomethyl) thio] -1-propanesulfonate sodium salt, o-ethyldithiocarbonate-S- ) -Ester sodium salt, 3- (benzothiazolyl-2-mercapto) -propyl-sulfonic acid sodium salt and ethylenedithiodipropylsulfonic acid sodium salt. .
제8항에 있어서,
상기 감속제는, 5 내지 50 ppm 의 농도를 갖는, 동박의 제조방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the retarder has a concentration of 5 to 50 ppm.
제8항에 있어서,
상기 감속제는, 폴리에틸렌 클리콜(PEG), 폴리 프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌폴리프로필렌 코폴리머, 폴리글리세린, 폴리에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 하이드록시에틸렌셀룰로오스, 폴리비닐 알코올, 스테아릭산 폴리글리콜 에테르 및 스테아릴 알코올 폴리글리콜 에테르 중에서 선택된 적어도 하나의 비이온성 수용성 고분자를 포함하는, 동박의 제조방법.
9. The method of claim 8,
The decelerator may be selected from the group consisting of polyethylene glycol (PEG), polypropylene glycol, polyethylene polypropylene copolymer, polyglycerin, polyethylene glycol dimethyl ether, hydroxyethylene cellulose, polyvinyl alcohol, stearic acid polyglycol ether and stearyl alcohol polyglycol Ether and at least one nonionic water-soluble polymer selected from the group consisting of an ether and a nonionic water-soluble polymer.
제13항에 있어서,
상기 비이온성 수용성 고분자는 500 내지 25,000의 수평균 분자량을 갖는, 동박의 제조방법.
14. The method of claim 13,
Wherein the nonionic water soluble polymer has a number average molecular weight of 500 to 25,000.
제8항에 있어서,
상기 레벨링제는, 1 내지 50ppm의 농도를 갖는, 동박의 제조방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the leveling agent has a concentration of 1 to 50 ppm.
제8항에 있어서,
상기 레벨링제는, 디알릴디메틸암모늄 클로라이드(DDAC), 티오요소, N,N'-디메틸티오요소, N,N'-디에틸티오요소, 테트라메틸티오요소, 에틸렌티오요소, 2-머캅토-5-벤즈이미다졸술폰산, 3(5-머캅토-1H-테트라졸)벤젠술포네이트, 2-머캅토벤조티아졸, 5-머캅토-1-메틸테트라졸(5-MM) 및 폴리에틸렌이민(PEI) 중에서 선택된 적어도 하나를 포함하는, 동박의 제조방법.
9. The method of claim 8,
The leveling agent may be at least one selected from the group consisting of diallyldimethylammonium chloride (DDAC), thiourea, N, N'-dimethylthiourea, N, N'-diethylthiourea, tetramethylthiourea, Mercapto benzothiazole, 5-mercapto-1-methyl tetrazole (5-MM) and polyethyleneimine (5-mercapto- PEI). ≪ / RTI >
제8항에 있어서,
상기 유기 첨가제는 서로 다른 2종류 이상의 상기 레벨링제(C성분)을 포함하는, 동박의 제조방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the organic additive comprises two or more different leveling agents (component C).
제8항에 있어서,
상기 유기 첨가제는 질소(N)를 포함하는 적어도 하나의 레벨링제(C성분) 및 황(S)을 포함하는 적어도 하나의 레벨링제(C성분)를 포함하는, 동박의 제조방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the organic additive comprises at least one leveling agent (C component) comprising nitrogen (N) and at least one leveling agent (C component) comprising sulfur (S).
제8항에 있어서,
상기 구리층에 방청막을 형성하는 단계를 더 포함하는, 동박의 제조방법.
9. The method of claim 8,
And forming a rustproof film on the copper layer.
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