JP6700347B2 - Copper foil with minimal sagging and tearing, electrode including the same, secondary battery including the same, and manufacturing method thereof - Google Patents

Copper foil with minimal sagging and tearing, electrode including the same, secondary battery including the same, and manufacturing method thereof Download PDF

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Description

本発明はたるみ及び引裂が最小化した銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a copper foil with minimal sagging and tearing, an electrode including the same, a secondary battery including the same, and a method for manufacturing the same.

銅箔は二次電池の負極、フレキシブルプリント回路基板(Flexible Printed Circuit Board:FPCB)などの多様な製品を製造するのに用いられている。   Copper foil is used to manufacture various products such as a negative electrode for a secondary battery and a flexible printed circuit board (FPCB).

このうち、電気メッキによって製造された銅箔を電解銅箔とも言う。このような電解銅箔は、一般的にロールツーロール(Roll To Roll:RTR)工程で製造され、また、ロールツーロール(RTR)工程による二次電池の負極、フレキシブルプリント回路基板(FPCB)などの製造に用いられる。連続生産が可能であるから、ロールツーロール(RTR)工程は製品の大量生産に適した工程であると知られている。ところが、ロールツーロール(RTR)工程中に銅箔が折れるか、裂けるか、又は銅箔のたるみ(bagginess)が発生する場合、ロールツーロール工程設備の稼働を中断し、発生した問題を解決した後、設備を再稼動しなければならないため、生産性が低下する。   Among these, the copper foil manufactured by electroplating is also called an electrolytic copper foil. Such an electrolytic copper foil is generally manufactured by a roll-to-roll (RTR) process, a negative electrode of a secondary battery by a roll-to-roll (RTR) process, a flexible printed circuit board (FPCB), etc. Used in the manufacture of. The roll-to-roll (RTR) process is known to be suitable for mass production of products because continuous production is possible. However, when the copper foil is broken, torn or bagging occurs during the roll-to-roll (RTR) process, the operation of the roll-to-roll process equipment is interrupted and the problem that has occurred is solved. After that, the equipment must be restarted, which reduces productivity.

特に、銅箔を用いて二次電池を製造する工程中に銅箔にたるみ又は引裂(tear)が発生する場合、安定的な製品生産が難しくなる。このように、二次電池の製造工程で発生する銅箔のたるみ又は引裂は二次電池の製造収率を低下させ、製品の製造コストを高める要因となる。   In particular, when sagging or tearing occurs in the copper foil during the process of manufacturing the secondary battery using the copper foil, stable product production becomes difficult. As described above, the sagging or tearing of the copper foil generated in the manufacturing process of the secondary battery lowers the manufacturing yield of the secondary battery and increases the manufacturing cost of the product.

二次電池製造工程で発生するたるみ及び引裂不良の原因のうち、銅箔に起因する原因を解決する方法として、銅箔の重量偏差を低い水準に制御する方法が知られている。しかし、銅箔の重量偏差の制御のみでは二次電池の製造工程で発生するたるみ及び引裂の問題を解決するのには限界がある。特に、近年、二次電池の容量増大のために超薄型の銅箔、例えば8μm以下の厚さを有する銅箔が負極集電体として使われる比率が増加している。この場合、銅箔の重量偏差を精密に制御しても、二次電池の製造工程でたるみ及び引裂不良が間欠的に発生している。よって、二次電池の製造工程で銅箔にたるみ又は引裂が発生することを防止するか抑制することが必要である。   Among the causes of slack and tearing that occur in the secondary battery manufacturing process, a method of controlling the weight deviation of the copper foil to a low level is known as a method of solving the cause of the copper foil. However, there is a limit to solving the problems of sagging and tearing that occur in the manufacturing process of the secondary battery, only by controlling the weight deviation of the copper foil. In particular, in recent years, in order to increase the capacity of secondary batteries, an ultra-thin copper foil, for example, a copper foil having a thickness of 8 μm or less, is increasingly used as a negative electrode current collector. In this case, even if the weight deviation of the copper foil is precisely controlled, sagging and tearing defects are intermittently generated in the secondary battery manufacturing process. Therefore, it is necessary to prevent or suppress the occurrence of sagging or tearing of the copper foil in the manufacturing process of the secondary battery.

本発明はこのような問題点を解決することができる銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、及びその製造方法を提供しようとする。   The present invention intends to provide a copper foil, an electrode including the same, a secondary battery including the same, and a method for manufacturing the same, which can solve such problems.

本発明の一実施例はたるみ又は引裂が最小化した銅箔を提供しようとする。本発明の一実施例は、特に、小さい厚さを有しても、二次電池の製造工程でたるみ又は引裂の発生を防止して、優れたロールツーロール(RTR)工程性を有する銅箔を提供しようとする。   One embodiment of the present invention seeks to provide a copper foil with minimal sagging or tearing. One embodiment of the present invention is a copper foil having an excellent roll-to-roll (RTR) processability by preventing the occurrence of sagging or tearing in the manufacturing process of a secondary battery, even if it has a small thickness. Try to provide.

本発明の他の一実施例はこのような銅箔を含む二次電池用電極及びこのような二次電池用電極を含む二次電池を提供しようとする。   Another embodiment of the present invention is to provide a secondary battery electrode including such a copper foil and a secondary battery including such a secondary battery electrode.

本発明のさらに他の一実施例はこのような銅箔を含む軟性銅箔積層フィルムを提供しようとする。   Yet another embodiment of the present invention seeks to provide a flexible copper foil laminated film containing such a copper foil.

本発明のさらに他の一実施例は、製造工程中のたるみ又は引裂の発生を防止することができる銅箔の製造方法を提供しようとする。   Yet another embodiment of the present invention seeks to provide a method of manufacturing a copper foil capable of preventing the occurrence of sagging or tearing during the manufacturing process.

前述した本発明の観点の他にも、本発明の他の特徴及び利点は以下で説明されるか、そのような説明によって本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明らかに理解可能であろう。   In addition to the aspects of the invention described above, other features and advantages of the invention will be described hereinafter or will be apparent to those having ordinary skill in the art to which the invention pertains. Will.

このような課題を解決するために、本発明の一実施例は、銅層及び前記銅層上に配置された防錆膜を含み、0.8〜12.5のPAR(Peak to Arithmetical Mean Roughness)、29〜58kgf/mmの引張強度及び3%以下の重量偏差を有する銅箔を提供する。ここで、前記PARは下記の式1で求められる。 In order to solve such a problem, an embodiment of the present invention includes a copper layer and an anticorrosive film disposed on the copper layer, and has a PAR (Peak to Arithmetic Mean Roughness) of 0.8 to 12.5. ), a copper foil having a tensile strength of 29 to 58 kgf/mm 2 and a weight deviation of 3% or less. Here, the PAR is calculated by the following equation 1.

(式1)
PAR=Rp/Ra
(Equation 1)
PAR=Rp/Ra

前記式1で、Rpは最大プロファイルピーク高さ(maximum profile peak height)、Raは算術平均粗度(arithmetical mean roughness)である。   In the above formula 1, Rp is a maximum profile peak height, and Ra is an arithmetic mean roughness.

前記銅箔は(220)面を有し、前記(220)面の集合組職係数[TC(220)]は0.49〜1.28であってもよい。   The copper foil may have a (220) plane, and the collective tissue coefficient [TC(220)] of the (220) plane may be 0.49 to 1.28.

前記防錆膜は、クロム(Cr)、シラン化合物及び窒素化合物の少なくとも一つを含むことができる。   The rust preventive layer may include at least one of chromium (Cr), a silane compound and a nitrogen compound.

前記銅箔は4μm〜30μmの厚さを有してもよい。   The copper foil may have a thickness of 4 μm to 30 μm.

本発明の他の一実施例は、前記銅箔及び前記銅箔上に配置された活物質層を含む二次電池用電極を提供する。   Another embodiment of the present invention provides a secondary battery electrode including the copper foil and an active material layer disposed on the copper foil.

本発明のさらに他の一実施例は、正極(cathode)、前記正極と対向して配置された負極(anode)、前記正極と前記負極の間に配置され、イオンが移動することができる環境を提供する電解質(electrolyte)、及び前記正極と前記負極を電気的に絶縁させる分離膜(separator)を含み、前記負極は前記銅箔及び前記銅箔上に配置された活物質層を含む二次電池を提供する。   Yet another embodiment of the present invention provides a positive electrode, a negative electrode facing the positive electrode, and an environment in which ions can move, the positive electrode being disposed between the positive electrode and the negative electrode. A secondary battery including an electrolyte to be provided and a separator that electrically insulates the positive electrode and the negative electrode, the negative electrode including the copper foil and an active material layer disposed on the copper foil. I will provide a.

本発明のさらに他の一実施例は、高分子膜及び前記高分子膜上に配置された前記銅箔を含む軟性銅箔積層フィルムを提供する。   Yet another embodiment of the present invention provides a flexible copper foil laminated film including a polymer film and the copper foil disposed on the polymer film.

本発明のさらに他の一実施例は、銅イオンを含む電解液内に互いに離隔して配置された正極板及び回転負極ドラムを40〜80A/dmの電流密度で通電させて銅層を形成する段階を含み、前記電解液は、70〜90g/Lの銅イオン、50〜150g/Lの硫酸、2〜20mg/Lの1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール(1−Phenyl−5−mercapto−1H−tetrazole)及び2〜20mg/Lのポリエチレングリコール(PEG)を含む銅箔の製造方法を提供する。 According to another embodiment of the present invention, a positive electrode plate and a rotating negative electrode drum, which are spaced apart from each other in an electrolytic solution containing copper ions, are energized at a current density of 40 to 80 A/dm 2 to form a copper layer. The electrolytic solution includes 70 to 90 g/L of copper ions, 50 to 150 g/L of sulfuric acid, 2 to 20 mg/L of 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole (1-Phenyl-5). -Mercapto-1H-tetrazole) and a method for producing a copper foil containing 2 to 20 mg/L of polyethylene glycol (PEG).

前記電解液は50mg/L以下の銀(Ag)を含むことができる。   The electrolytic solution may include silver (Ag) in an amount of 50 mg/L or less.

前記銅層を形成する段階前、前記回転負極ドラムの表面を#800〜#3000の粒度のブラシで研磨する段階を含むことができる。   Before the step of forming the copper layer, the step of polishing the surface of the rotating negative electrode drum with a brush having a grain size of #800 to #3000 may be included.

前記電解液は39〜46m/hourの流量を有してもよい。 The electrolyte may have a flow rate of 39 to 46 m 3 /hour.

単位時間(秒、second)当たり流量偏差が5%以下であってもよい。   The flow rate deviation per unit time (second, second) may be 5% or less.

このような本発明についての一般的な敍述は本発明を例示するか説明するためのものであるだけで、本発明の権利範囲を制限しない。   The general description of the present invention is merely for the purpose of illustrating or explaining the present invention, and does not limit the scope of rights of the present invention.

本発明の一実施例による銅箔はたるみ又は引裂に対して優れた抵抗性を有する。したがって、本発明の一実施例によれば、銅箔の製造過程又は銅箔を用いた二次電池の製造過程中のたるみ又は引裂の発生が防止される。このように、本発明の一実施例による銅箔は優れたロールツーロール(RTR)工程性を有する。   The copper foil according to one embodiment of the present invention has excellent resistance to sagging or tearing. Therefore, according to one embodiment of the present invention, the occurrence of slack or tear during the manufacturing process of the copper foil or the manufacturing process of the secondary battery using the copper foil is prevented. As described above, the copper foil according to the embodiment of the present invention has excellent roll-to-roll (RTR) processability.

また、本発明の他の一実施例によれば、たるみ又は引裂の発生を防止するか最小化した二次電池用電極を製造することができる。   In addition, according to another embodiment of the present invention, it is possible to manufacture an electrode for a secondary battery in which sagging or tearing is prevented or minimized.

添付図面は、本発明の理解を助けるためにこの明細書の一部を構成するためのものであり、本発明の実施例を例示し、発明の詳細な説明とともに本発明の原理を説明する。
本発明の一実施例による銅箔の概略断面図である。 銅箔のXRDグラフを示す図である。 本発明の他の一実施例による銅箔の概略断面図である。 本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極の概略断面図である。 本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極の概略断面図である。 本発明のさらに他の一実施例による二次電池の概略断面図である。 本発明のさらに他の一実施例による軟性銅箔積層フィルムの断面図である。 図3に示した銅箔の製造工程を示す概略図である。 銅箔にたるみ(bagginess)が発生した状態を示す写真である。 銅箔が引き裂かれた状態を示す写真である。
The accompanying drawings are formed to form a part of this specification to facilitate the understanding of the present invention, illustrate the embodiments of the present invention, and explain the principle of the present invention together with the detailed description of the invention.
1 is a schematic sectional view of a copper foil according to an embodiment of the present invention. It is a figure which shows the XRD graph of copper foil. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a copper foil according to another embodiment of the present invention. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of an electrode for a secondary battery according to still another embodiment of the present invention. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of an electrode for a secondary battery according to still another embodiment of the present invention. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a secondary battery according to still another embodiment of the present invention. FIG. 6 is a cross-sectional view of a flexible copper foil laminated film according to still another embodiment of the present invention. It is a schematic diagram which shows the manufacturing process of the copper foil shown in FIG. It is a photograph showing a state in which sagging (bagginess) is generated in the copper foil. It is a photograph showing a state where the copper foil is torn.

以下では添付図面に基づいて本発明の実施例を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

本発明の技術的思想及び範囲を逸脱しない範疇内で本発明の多様な変更及び変形が可能であるという点は当業者に明らかであろう。よって、本発明は特許請求範囲に記載された発明及びその均等物の範囲内の変更及び変形を全て含む。   It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations of the present invention can be made without departing from the technical idea and scope of the present invention. Therefore, the present invention includes all modifications and variations within the scope of the invention described in the claims and equivalents thereof.

本発明の実施例を説明するために図面に開示した形状、寸法、比率、角度、個数などは例示的なものであるので、本発明が図面に示した事項に限定されるものではない。明細書全般にわたって同じ構成要素は同じ参照符号で指称する。   The shapes, dimensions, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for describing the embodiments of the present invention are mere examples, and the present invention is not limited to the matters shown in the drawings. Like components are referred to by like reference numerals throughout the specification.

本明細書で‘含む’、‘有する’、‘なる’などが使われる場合、‘〜のみ’という表現が使われない限り、他の部分が付け加わることができる。構成要素が単数で表現された場合、特に明示的な記載事項がない限り、複数を含む。また、構成要素の解釈において、別途の明示的記載がなくても誤差範囲を含むものと解釈される。   When the terms “include”, “have”, “consist”, etc. are used in this specification, other parts may be added unless the expression “only” is used. When a component is expressed in the singular, the plural is included unless otherwise specified. Further, in the interpretation of the constituent elements, it is construed that the error range is included even if not explicitly stated otherwise.

位置関係についての説明の場合、例えば、‘〜上に’、‘〜の上部に’、‘〜の下部に’、‘〜のそばに’などのように二つの部分の位置関係が説明される場合、‘すぐ’又は‘直接’という表現が使わない限り、二つの部分の間に一つ以上の他の部分が位置することもある。   In the case of the explanation of the positional relationship, for example, the positional relationship between the two parts is explained, such as'up above','upper part of','lower part of','next to', etc. In some cases, there may be one or more other parts between the two parts, unless the expressions'immediately' or'directly' are used.

時間関係についての説明の場合、例えば、‘〜の後に’、‘〜に続き’、‘〜の次に’、‘〜の前に’などのように時間的先後関係が説明される場合、‘すぐ’又は‘直接’という表現を使わない限り、連続的ではない場合も含むことがある。   In the case of an explanation of a temporal relationship, for example, when a temporal predecessor relationship is explained, such as'after','followed by','next to','before', etc. Unless the expression "immediately" or "directly" is used, it may include a case where it is not continuous.

多様な構成要素を敍述するために、‘第1’、‘第2’などの表現を使うが、これらの構成要素はこのような用語に制限されない。このような用語はただ一構成要素を他の構成要素と区別するために使用するものである。よって、以下で言及する第1構成要素は本発明の技術的思想内で第2構成要素であることもある。   The terms'first','second', etc. are used to describe various components, but these components are not limited to such terms. Such terms are only used to distinguish one element from another. Therefore, the first component referred to below may be the second component within the technical idea of the present invention.

“少なくとも一つ”の用語は一つ以上の関連項目から提示可能な全ての組合せを含むものと理解されなければならない。   The term "at least one" should be understood to include all combinations that can be presented from one or more related items.

本発明の多くの実施例のそれぞれの特徴は部分的に又は全体的に互いに結合又は組合可能であり、技術的に多様な連動及び駆動が可能であり、各実施例が互いに対して独立的に実施されることもでき、連関関係で一緒に実施されることもできる。   The respective features of the many embodiments of the present invention can be combined or combined with each other in part or in whole, and various technically various interlocking and driving are possible, and the respective embodiments can be independent of each other. It can be carried out or together in an associative relationship.

図1は本発明の一実施例による銅箔100の概略断面図である。   FIG. 1 is a schematic sectional view of a copper foil 100 according to an embodiment of the present invention.

図1を参照すれば、銅箔100は、銅層110及び銅層110上に配置された防錆膜210を含む。   Referring to FIG. 1, the copper foil 100 includes a copper layer 110 and a rust preventive film 210 disposed on the copper layer 110.

本発明の一実施例によれば、銅層110はマット面(matte surface)MS及びその反対側のシャイニー面(shiny surface)SSを有する。   According to one embodiment of the present invention, the copper layer 110 has a matte surface MS and an opposite shiny surface SS.

銅層110は、例えば電気メッキで回転負極ドラム上に形成されることができる(図8参照)。ここで、シャイニー面SSは電気メッキ過程で回転負極ドラムと接触した面を指称し、マット面MSはシャイニー面SSの反対側面を指称する。   The copper layer 110 can be formed on the rotating negative electrode drum, for example, by electroplating (see FIG. 8). Here, the shiny surface SS refers to the surface that comes into contact with the rotating negative electrode drum during the electroplating process, and the matte surface MS refers to the side surface opposite to the shiny surface SS.

シャイニー面SSがマット面MSより低い表面粗度(Rz)を有することが一般的ではあるが、本発明の一実施例がこれに限定されるものではない。シャイニー面SSの表面粗度(Rz)がマット面MSの表面粗度(Rz)と同一であるかそれより高いこともある。   Although the shiny surface SS generally has a lower surface roughness (Rz) than the matte surface MS, one embodiment of the present invention is not limited thereto. The surface roughness (Rz) of the shiny surface SS may be the same as or higher than the surface roughness (Rz) of the matte surface MS.

防錆膜210は銅層110のマット面MS及びシャイニー面SSの少なくとも一面に配置されることができる。図1を参照すれば、防錆膜210がマット面MSに配置される。しかし、本発明の一実施例がこれに限定されるものではなく、防錆膜210はシャイニー面SSにのみ配置されることもでき、マット面MSとシャイニー面SSの両方に配置されることもできる。   The rust preventive film 210 may be disposed on at least one of the matte surface MS and the shiny surface SS of the copper layer 110. Referring to FIG. 1, a rust preventive film 210 is disposed on the mat surface MS. However, the embodiment of the present invention is not limited to this, and the anticorrosive film 210 may be disposed only on the shiny surface SS, or may be disposed on both the mat surface MS and the shiny surface SS. it can.

防錆膜210は銅層110を保護する。防錆膜210は保存過程で銅層110が酸化するか変質することを防止することができる。したがって、防錆膜210を保護層とも言う。防錆膜210に特別な制限があるものではなく、銅層110を保護することができる膜又は層はいずれも防錆膜210となることができる。   The anticorrosion film 210 protects the copper layer 110. The anti-corrosion film 210 may prevent the copper layer 110 from being oxidized or deteriorated during the storage process. Therefore, the rust preventive film 210 is also referred to as a protective layer. The rust preventive film 210 is not particularly limited, and any film or layer capable of protecting the copper layer 110 can be the rust preventive film 210.

本発明の一実施例によれば、防錆膜210は、クロム(Cr)、シラン化合物及び窒素化合物の少なくとも1種を含むことができる。   According to an embodiment of the present invention, the rust preventive film 210 may include at least one of chromium (Cr), a silane compound, and a nitrogen compound.

例えば、クロム(Cr)を含む防錆液、すなわちクロム酸化合物を含む防錆液で防錆膜210を形成することができる。   For example, the rustproof film 210 can be formed with a rustproofing solution containing chromium (Cr), that is, a rustproofing solution containing a chromic acid compound.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は、銅層110を基準としてマット面MS方向の表面である第1面S1及びシャイニー面SS方向の表面である第2面S2を有する。図1で、銅箔100の第1面S1は防錆膜210の表面、第2面S2はシャイニー面SSである。   According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a first surface S1 that is a surface in the mat surface MS direction and a second surface S2 that is a surface in the shiny surface SS direction with respect to the copper layer 110. In FIG. 1, the first surface S1 of the copper foil 100 is the surface of the rust preventive film 210, and the second surface S2 is the shiny surface SS.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は0.8〜12.5のPAR(Peak to Arithmetical Mean Roughness)を有する。   According to an embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a PAR (Peak to Arithmetic Mean Roughness) of 0.8 to 12.5.

ここで、前記PARは下記の式1で求めることができる。   Here, the PAR can be calculated by the following equation 1.

(式1)
PAR=Rp/Ra
(Equation 1)
PAR=Rp/Ra

式1で、Rpは最大プロファイルピーク高さ(maximum profile peak height)、Raは算術平均粗度(arithmetical mean roughness)である。   In Equation 1, Rp is the maximum profile peak height and Ra is the arithmetic mean roughness.

Rp及びRaはJIS B 0601−2001規格にしたがって粗度計で測定することができる。具体的に、本発明の一実施例によれば、ミツトヨ社のSJ−310モデルでRp及びRaを測定することができる。ミツトヨ社のSJ−310モデルを用いたRp及びRa測定において、カットオフ(cutoff)長を除いた測定長は4mm、カットオフ(cutoff)長は初期と末期にそれぞれ0.8mmにする。また、スタイラスチップ(stylus tip)の半径(radius)は2μmに、測定圧力は0.75mNにする。以上のような設定後、測定によってRp及びRa値を得ることができ、これはミツトヨ粗度計による測定値を基準としたRp及びRaとなる。物性評価のために、Rp及びRaはそれぞれ3回ずつ繰り返し測定してその算術平均値を使う。   Rp and Ra can be measured with a roughness meter according to JIS B 0601-2001 standard. Specifically, according to one embodiment of the present invention, Rp and Ra can be measured with the SJ-310 model of Mitutoyo Corporation. In the Rp and Ra measurement using the SJ-310 model of Mitutoyo, the measurement length excluding the cutoff length is 4 mm, and the cutoff length is 0.8 mm at the initial and final stages, respectively. The radius of the stylus tip is 2 μm and the measurement pressure is 0.75 mN. After the above setting, the Rp and Ra values can be obtained by the measurement, which are the Rp and Ra based on the measured value by the Mitutoyo roughness meter. For the evaluation of physical properties, Rp and Ra are repeatedly measured three times each and the arithmetic mean value thereof is used.

銅箔100のPARが12.5を超えれば、銅箔100の製造工程で銅箔100がロール(Roll)、ワインダー又はボビンに巻き取られるとき、銅箔と銅箔の間に空気が閉じこめられてたるみ(bagginess)が発生することがある。   If the PAR of the copper foil 100 exceeds 12.5, when the copper foil 100 is wound on a roll, a winder or a bobbin in the manufacturing process of the copper foil 100, air is trapped between the copper foils. Bagging may occur.

一方、銅箔100のPARが0.8未満であれば、ロールツーロール(Roll To Roll)工程による銅箔100の製造時、銅箔100が巻き取られるとき、銅箔と銅箔の間に重量重畳が容易に発生し、巻取長が長くなるほど銅箔100が局部的に増えてたるみ不良が発生することがある。   On the other hand, if the PAR of the copper foil 100 is less than 0.8, during the production of the copper foil 100 by the roll-to-roll process, when the copper foil 100 is wound up, it is between the copper foil and the copper foil. Weight superposition easily occurs, and as the winding length becomes longer, the copper foil 100 may locally increase and a sagging defect may occur.

図9は銅箔にたるみが発生した状態を示す写真である。図9で、矢印(↑)で表示した部分がたるみが発生した部分である。本発明の一実施例によれば、たるみは銅箔100が平たく広がっていない状態又はその部分を指称する。場合によって、たるみ(bagginess)をしわ(wrinkle)とも言う。   FIG. 9 is a photograph showing a state in which the copper foil has sagging. In FIG. 9, the portion indicated by the arrow (↑) is the portion where the slack has occurred. According to an embodiment of the present invention, the slack refers to a state in which the copper foil 100 is flat and not spread, or a portion thereof. In some cases, bagging is also called wrinkle.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は29〜58kgf/mmの引張強度を有する。引張強度はIPC−TM−650 Test Method Manualの規定にしたがって万能試験器(UTM)で測定することができる。本発明の一実施例によれば、Instron社の万能試験器で引張強度を測定することができる。ここで、引張強度測定用サンプルの幅は12.7mm、グリップ(grip)間の距離は50mm、測定速度は50mm/minである。 According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a tensile strength of 29 to 58 kgf/mm 2 . The tensile strength can be measured by a universal tester (UTM) according to the regulations of IPC-TM-650 Test Method Manual. According to one embodiment of the present invention, tensile strength can be measured with an Instron universal tester. Here, the width of the tensile strength measurement sample is 12.7 mm, the distance between the grips is 50 mm, and the measurement speed is 50 mm/min.

物性評価のために、サンプルの引張強度を3回にかけて繰り返し測定し、その平均値を銅箔100の引張強度として使う。   To evaluate the physical properties, the tensile strength of the sample is repeatedly measured three times, and the average value is used as the tensile strength of the copper foil 100.

銅箔100の引張強度が29kgf/mm未満であれば、銅箔100の巻取時に塑性変形によるたるみ不良が発生することがある。一方、銅箔100の引張強度が58kgf/mmを超えれば、たるみ又はしわ発生の現象は減少することができるが、銅箔100そのものの脆性が増加して銅箔100の使用性が低下する。例えば、銅箔の製造工程又は銅箔を用いた二次電池用電極の製造工程で引裂(tear)が発生して安定的な製品製造に難しさが生じることがある。 If the tensile strength of the copper foil 100 is less than 29 kgf/mm 2 , a slack defect due to plastic deformation may occur during winding of the copper foil 100. On the other hand, when the tensile strength of the copper foil 100 exceeds 58 kgf/mm 2 , the phenomenon of sagging or wrinkling can be reduced, but the brittleness of the copper foil 100 itself increases and the usability of the copper foil 100 decreases. .. For example, a tear may occur in a manufacturing process of a copper foil or a manufacturing process of an electrode for a secondary battery using the copper foil, which may cause difficulty in manufacturing a stable product.

図10は銅箔が引き裂かれた状態を示す写真である。例えば、ロールツーロール工程による銅箔の製造工程中にこのような引裂が発生する場合、ロールツーロール工程設備の稼働を中断し、引き裂かれた部分を除去してから工程設備を再稼動しなければならない。この場合、工程時間及び費用が増加し、生産性が低下する。   FIG. 10 is a photograph showing a state where the copper foil is torn. For example, if such tearing occurs during the copper foil manufacturing process by the roll-to-roll process, the operation of the roll-to-roll process equipment must be interrupted, the torn portion must be removed, and the process equipment must be restarted. I have to. In this case, the process time and cost increase, and the productivity decreases.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は3%以下の重量偏差を有する。より具体的に、銅箔100は0〜3%の重量偏差を有することができる。ここで、重量偏差が0であるというのは重量偏差がないことを言う。   According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a weight deviation of 3% or less. More specifically, the copper foil 100 can have a weight deviation of 0-3%. Here, the weight deviation of 0 means that there is no weight deviation.

本発明の一実施例によれば、重量偏差は銅箔100の幅方向に任意の3地点で測定した重量の平均(平均重量)及び重量の標準偏差から求めることができる。具体的に、銅箔100の幅方向、すなわち巻取方向に垂直な方向(Transverse Direction、TD)に沿って配列された3つの地点で5cm×5cmのサンプルをそれぞれ取った後、それぞれの取ったサンプルの重量を測定して単位面積当たり重量を算出し、3個サンプルの単位面積当たり重量から3地点の“平均重量”と“重量の標準偏差”を算出した後、式2によって重量偏差を求めることができる。   According to one embodiment of the present invention, the weight deviation can be obtained from the average (average weight) of the weights measured at three arbitrary points in the width direction of the copper foil 100 and the standard deviation of the weights. Specifically, after each of 5 cm×5 cm samples was taken at three points arranged along the width direction of the copper foil 100, that is, a direction (Transverse Direction, TD) perpendicular to the winding direction, each was taken. Measure the weight of the sample to calculate the weight per unit area, calculate the “average weight” and “standard deviation of weight” at three points from the weight per unit area of three samples, and then calculate the weight deviation by Equation 2. be able to.

銅箔100の重量偏差が3%を超えれば、ロールツーロール工程で銅箔100が巻き取られるとき、銅箔100に加わる張力又は重量重畳によって銅箔100が局部的に伸びる現象によって、銅箔100にたるみが発生することがある。よって、本発明の一実施例によれば、銅箔100の重量偏差が3%以下に減少するようにする。   If the weight deviation of the copper foil 100 exceeds 3%, when the copper foil 100 is wound in a roll-to-roll process, the copper foil 100 is locally stretched due to a tension applied to the copper foil 100 or a weight superposition. Slack may occur at 100. Therefore, according to an embodiment of the present invention, the weight deviation of the copper foil 100 is reduced to 3% or less.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は(220)面を有し、(220)面の集合組職係数[TC(220)]は0.49〜1.28である。集合組職係数[TC(220)]は銅箔100の表面の結晶構造に係わる。   According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a (220) plane, and the collective composition coefficient [TC(220)] of the (220) plane is 0.49 to 1.28. The collective tissue coefficient [TC(220)] relates to the crystal structure of the surface of the copper foil 100.

以下、図2を参照して、本発明の一実施例による、銅箔100の(220)面の集合組職係数[TC(220)]を測定及び算出する方法を説明する。   Hereinafter, a method for measuring and calculating the collective composition coefficient [TC(220)] of the (220) plane of the copper foil 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図2は銅箔のXRDグラフを示す図である。より具体的に、図2は銅箔100を構成する銅層110のXRDグラフである。   FIG. 2 is a diagram showing an XRD graph of copper foil. More specifically, FIG. 2 is an XRD graph of the copper layer 110 that constitutes the copper foil 100.

(220)面の集合組職係数[TC(220)]の測定のために、まず、30°〜95°の回折角(2θ)の範囲でX線回折法(XRD)によって、n個の結晶面に対応するピークを有するXRDグラフが得られる[Target:Copper K alpha 1,2θ interval:0.01°、2θ scan speed:3°/min]。例えば、図2に示したように、(111)面、(200)面、(220)面、及び(311)面に相当するピークが示されているXRDグラフを得ることができる。図2を参照すれば、nは4である。   In order to measure the collective tissue coefficient [TC(220)] of the (220) plane, first, n crystals were measured by the X-ray diffraction method (XRD) in the range of the diffraction angle (2θ) of 30° to 95°. An XRD graph having peaks corresponding to the planes is obtained [Target: Copper K alpha 1,2θ interval: 0.01°, 2θ scan speed: 3°/min]. For example, as shown in FIG. 2, an XRD graph showing peaks corresponding to the (111) plane, the (200) plane, the (220) plane, and the (311) plane can be obtained. Referring to FIG. 2, n is 4.

ついで、このグラフから各結晶面(hkl)のXRD回折強度[I(hkl)]を求める。また、JCPDS(Joint Committee on Powder Diffraction Standards)によって規定された標準銅粉末のn個の結晶面のそれぞれに対するXRD回折強度[I(hkl)]を求める。ついで、n個の結晶面の“I(hkl)/I(hkl)”に対する算術平均値を算出し、その算術平均値で(220)面のI(220)/I(220)を割ることによって(220)面の集合組職係数[TC(220)]を算出する。すなわち、(220)面の集合組職係数[TC(220)]は次の式3によって算出する。 Then, the XRD diffraction intensity [I(hkl)] of each crystal plane (hkl) is obtained from this graph. Further, the XRD diffraction intensity [I 0 (hkl)] for each of the n crystal faces of the standard copper powder defined by JCPDS (Joint Committee on Powder Diffraction Standards) is determined. Then, the arithmetic mean value for “I(hkl)/I 0 (hkl)” of n crystal planes is calculated, and I(220)/I 0 (220) of the (220) plane is divided by the arithmetic mean value. By doing so, the collective organization coefficient [TC(220)] of the (220) plane is calculated. That is, the collective organization coefficient [TC(220)] of the (220) plane is calculated by the following Expression 3.

本発明の一実施例によれば、銅箔100の第1及び第2面S1、S2のそれぞれにおいて(220)面は0.49〜1.28の集合組職係数[TC(220)]を有することができる。より具体的に、銅層110の(220)面は0.49〜1.28の集合組職係数[TC(220)]を有することができる。(220)面の集合組職係数[TC(220)]が高いほど銅箔100がもっと緻密な結晶構造を有することを意味する。   According to one embodiment of the present invention, the (220) plane of each of the first and second surfaces S1 and S2 of the copper foil 100 has a collective composition coefficient [TC(220)] of 0.49 to 1.28. Can have. More specifically, the (220) plane of the copper layer 110 may have a collective tissue coefficient [TC(220)] of 0.49 to 1.28. It means that the higher the collective composition coefficient [TC(220)] of the (220) plane, the more dense the crystal structure of the copper foil 100.

(220)面の集合組職係数[TC(220)]が0.49未満であれば、銅箔100の結晶組織が緻密ではなくて、銅箔100がロール、ワインダー又はボビンに巻き取られるとき、易しく組職が変形して銅箔100にたるみが発生する可能性が増加する。(220)面の集合組職の係数が1.28を超えれば、銅箔100の組職があまりにも緻密であって脆性が強くなり、銅箔100の製造工程又は銅箔100を用いた製品の製造工程で銅箔100の引裂が発生するため、安定的な製品生産に難しさが生じることがある。   When the collective composition coefficient [TC(220)] of the (220) plane is less than 0.49, the crystal structure of the copper foil 100 is not dense and the copper foil 100 is wound on a roll, winder or bobbin. The possibility that the organization is easily deformed and the copper foil 100 is slackened increases. If the coefficient of the collective composition of the (220) plane exceeds 1.28, the composition of the copper foil 100 becomes too dense and brittle, and the manufacturing process of the copper foil 100 or a product using the copper foil 100 Since the copper foil 100 is torn in the manufacturing process of 1., it may be difficult to produce a stable product.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は4μm〜30μmの厚さを有することができる。銅箔100の厚さが4μm未満の場合、銅箔100の製造工程又は銅箔100を用いた製品、例えば二次電池用電極又は二次電池の製造工程で作業性が低下する。銅箔100の厚さが30μmを超える場合、銅箔100を用いた二次電池用電極の厚さが大きくなり、このような大きい厚さによって高容量の二次電池の具現に難しさが生じることがある。   According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 may have a thickness of 4 μm to 30 μm. When the thickness of the copper foil 100 is less than 4 μm, workability is deteriorated in the manufacturing process of the copper foil 100 or a product using the copper foil 100, for example, a manufacturing process of a secondary battery electrode or a secondary battery. When the thickness of the copper foil 100 exceeds 30 μm, the thickness of the secondary battery electrode using the copper foil 100 becomes large, and such a large thickness causes difficulty in realizing a high capacity secondary battery. Sometimes.

図3は本発明の他の一実施例による銅箔200の概略断面図である。以下、重複を避けるために、先に説明した構成要素についての説明は省略する。   FIG. 3 is a schematic sectional view of a copper foil 200 according to another embodiment of the present invention. Hereinafter, in order to avoid duplication, description of the components described above will be omitted.

図3を参照すれば、本発明の他の一実施例による銅箔200は、銅層110及び銅層110のマット面MSとシャイニー面SSにそれぞれ配置された二つの防錆膜210、220を含む。図1に示した銅箔100と比較して、図3に示した銅箔200は、銅層110のシャイニー面SSに配置された防錆膜220をさらに含む。   Referring to FIG. 3, a copper foil 200 according to another embodiment of the present invention includes a copper layer 110 and two rust preventive films 210 and 220 disposed on a mat surface MS and a shiny surface SS of the copper layer 110, respectively. Including. Compared to the copper foil 100 shown in FIG. 1, the copper foil 200 shown in FIG. 3 further includes a rust preventive film 220 disposed on the shiny surface SS of the copper layer 110.

説明の便宜のために、二つの防錆膜210、220のうち銅層110のマット面MSに配置された防錆膜210を第1保護層と、シャイニー面SSに配置された防錆膜220を第2保護層と言う。   For convenience of description, of the two anticorrosion films 210 and 220, the anticorrosion film 210 disposed on the mat surface MS of the copper layer 110 is the first protection layer and the anticorrosion film 220 disposed on the shiny surface SS. Is referred to as a second protective layer.

また、図3に示した銅箔200の第1面S1はマット面MSに配置された防錆膜210の表面と同一であり、第2面S2はシャイニー面SSに配置された防錆膜220の表面と同一である。   Further, the first surface S1 of the copper foil 200 shown in FIG. 3 is the same as the surface of the rust preventive film 210 arranged on the mat surface MS, and the second surface S2 is the rust preventive film 220 arranged on the shiny surface SS. Is the same as the surface of.

本発明の他の一実施例によれば、二つの防錆膜210、220はそれぞれクロム(Cr)、シラン化合物及び窒素化合物の少なくとも一つを含むことができる。   According to another embodiment of the present invention, the two anticorrosive films 210 and 220 may each include at least one of chromium (Cr), a silane compound and a nitrogen compound.

図3に示した銅箔200は0.8〜12.5のPAR(Peak to Arithmetical Mean Roughness)、29〜58kgf/mmの引張強度及び3%以下の重量偏差を有する。 The copper foil 200 shown in FIG. 3 has a PAR (Peak to Arithmetic Mean Roughness) of 0.8 to 12.5, a tensile strength of 29 to 58 kgf/mm 2 and a weight deviation of 3% or less.

また、銅箔200の(220)面は0.49〜1.28の集合組職係数[TC(220)]を有する。より具体的に、銅箔200を構成する銅層110の(220)面は0.49〜1.28の集合組職係数[TC(220)]を有する。   Further, the (220) plane of the copper foil 200 has a collective composition coefficient [TC(220)] of 0.49 to 1.28. More specifically, the (220) plane of the copper layer 110 forming the copper foil 200 has a collective composition coefficient [TC(220)] of 0.49 to 1.28.

図3に示した銅箔200は4μm〜30μmの厚さを有する。   The copper foil 200 shown in FIG. 3 has a thickness of 4 μm to 30 μm.

図4は本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極300の概略断面図である。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a secondary battery electrode 300 according to still another embodiment of the present invention.

図4に示した二次電池用電極300は、例えば図6に示した二次電池500に適用可能である。   The secondary battery electrode 300 shown in FIG. 4 can be applied to the secondary battery 500 shown in FIG. 6, for example.

図4を参照すれば、本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極300は、銅箔100及び銅箔100上に配置された活物質層310を含む。ここで、銅箔100は電流集電体として使われる。   Referring to FIG. 4, an electrode 300 for a secondary battery according to another embodiment of the present invention includes a copper foil 100 and an active material layer 310 disposed on the copper foil 100. Here, the copper foil 100 is used as a current collector.

より具体的に、本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極300は、第1面S1と第2面S2を有する銅箔100及び銅箔100の第1面S1と第2面S2の少なくとも一方に配置された活物質層310を含む。また、銅箔100は、銅層110及び銅層110上に配置された防錆膜210を含む。   More specifically, an electrode 300 for a secondary battery according to still another embodiment of the present invention is a copper foil 100 having a first surface S1 and a second surface S2, and a first surface S1 and a second surface of the copper foil 100. The active material layer 310 arranged on at least one of S2 is included. The copper foil 100 also includes a copper layer 110 and a rustproof film 210 disposed on the copper layer 110.

図4には電流集電体として図1の銅箔100を用いたものが示されている。しかし、本発明のさらに他の一実施例がこれに限定されるものではなく、図3に示した銅箔200を二次電池用電極300の集電体として使うこともできる。   FIG. 4 shows the current collector using the copper foil 100 of FIG. However, another embodiment of the present invention is not limited to this, and the copper foil 200 shown in FIG. 3 can be used as a collector of the secondary battery electrode 300.

また、銅箔100の表面S1、S2のうち第1面S1にだけ活物質層310が配置された構造が図4に示されているが、本発明のさらに他の一実施例がこれに限定されるものではない。銅箔100の第1面S1と第2面S2の両方に活物質層310がそれぞれ配置されることもでき、銅箔100の第2面S2にだけ活物質層310が配置されることもできる。   Further, the structure in which the active material layer 310 is arranged only on the first surface S1 of the surfaces S1 and S2 of the copper foil 100 is shown in FIG. 4, but another embodiment of the present invention is not limited thereto. It is not something that will be done. The active material layer 310 may be disposed on both the first surface S1 and the second surface S2 of the copper foil 100, or the active material layer 310 may be disposed only on the second surface S2 of the copper foil 100. .

図4に示した活物質層310は電極活物質からなり、特に負極活物質からなることができる。すなわち、図4に示した二次電池用電極300は負極として使われることができる。   The active material layer 310 shown in FIG. 4 is made of an electrode active material, and in particular, may be made of a negative electrode active material. That is, the secondary battery electrode 300 shown in FIG. 4 can be used as a negative electrode.

活物質層310は、炭素、金属、金属の酸化物及び金属と炭素の複合体の少なくとも一つを含むことができる。金属として、Ge、Sn、Li、Zn、Mg、Cd、Ce、Ni及びFeの少なくとも1種を使うことができる。また、二次電池の充放電容量を増加させるために、活物質層310はシリコン(Si)を含むことができる。   The active material layer 310 may include at least one of carbon, metal, metal oxide, and metal-carbon composite. As the metal, at least one kind of Ge, Sn, Li, Zn, Mg, Cd, Ce, Ni and Fe can be used. In addition, the active material layer 310 may include silicon (Si) to increase the charge/discharge capacity of the secondary battery.

本発明の一実施例による銅箔100が使われる場合、二次電池用電極300の製造過程で銅箔100の引裂又はたるみが防止される。よって、二次電池用電極300の製造効率が向上し、このような二次電池用電極300を含む二次電池の充放電効率及び容量維持率が向上することができる。   When the copper foil 100 according to the embodiment of the present invention is used, tearing or sagging of the copper foil 100 is prevented during the manufacturing process of the secondary battery electrode 300. Therefore, the manufacturing efficiency of the secondary battery electrode 300 can be improved, and the charging/discharging efficiency and the capacity retention rate of the secondary battery including the secondary battery electrode 300 can be improved.

図5は本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極400の概略断面図である。   FIG. 5 is a schematic sectional view of a secondary battery electrode 400 according to another embodiment of the present invention.

本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極400は、銅箔200及び銅箔200上に配置された活物質層310、320を含む。   The secondary battery electrode 400 according to another embodiment of the present invention includes a copper foil 200 and active material layers 310 and 320 disposed on the copper foil 200.

図5を参照すれば、銅箔200は、銅層110及び銅層110の両面MS、SSに配置された二つの防錆膜210、220を含む。また、図5に示した二次電池用電極300は、銅箔200の両面に配置された二つの活物質層310、320を含む。ここで、銅箔200の第1面S1上に配置された活物質層310を第1活物質層と、銅箔200の第2面S2に配置された活物質層320を第2活物質層と言う。   Referring to FIG. 5, the copper foil 200 includes a copper layer 110 and two rust preventive films 210 and 220 disposed on both surfaces MS and SS of the copper layer 110. In addition, the secondary battery electrode 300 shown in FIG. 5 includes two active material layers 310 and 320 disposed on both surfaces of the copper foil 200. Here, the active material layer 310 disposed on the first surface S1 of the copper foil 200 is the first active material layer, and the active material layer 320 disposed on the second surface S2 of the copper foil 200 is the second active material layer. Say

二つの活物質層310、320は互いに同一の材料から同じ方法で形成することもでき、相異なる材料又は相異なる方法で作ることもできる。   The two active material layers 310 and 320 may be formed of the same material by the same method, or may be formed by different materials or different methods.

図6は本発明のさらに他の一実施例による二次電池500の概略断面図である。図6に示した二次電池500は、例えばリチウム二次電池である。   FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a secondary battery 500 according to still another embodiment of the present invention. The secondary battery 500 shown in FIG. 6 is, for example, a lithium secondary battery.

図6を参照すれば、二次電池500は、正極(cathode)370、正極370と対向して配置された負極(anode)340、正極370と負極340の間に配置され、イオンが移動することができる環境を提供する電解質(electrolyte)350、及び正極370と負極340を電気的に絶縁させる分離膜(separator)360を含む。ここで、正極370と負極340の間で移動するイオンはリチウムイオンである。分離膜360は一つの電極で発生した電荷が二次電池500の内部を通じて他の電極に移動して無駄に消耗することを防止するために、正極370と負極340を分離する。図6を参照すれば、分離膜360は電解質350内に配置される。   Referring to FIG. 6, a secondary battery 500 includes a cathode 370, a negative electrode 340 facing the positive electrode 370, and a positive electrode 370 and a negative electrode 340. An electrolyte 350 that provides an environment in which the positive electrode 370 and the negative electrode 340 are electrically insulated from each other is included. Here, the ions that move between the positive electrode 370 and the negative electrode 340 are lithium ions. The separation film 360 separates the positive electrode 370 and the negative electrode 340 in order to prevent the charge generated at one electrode from moving to another electrode through the inside of the secondary battery 500 and wasting it. Referring to FIG. 6, the separation membrane 360 is disposed inside the electrolyte 350.

正極370は正極集電体371及び正極活物質層372を含む。正極集電体371として、例えばアルミニウムホイル(foil)を使うことができる。   The positive electrode 370 includes a positive electrode current collector 371 and a positive electrode active material layer 372. As the positive electrode current collector 371, for example, an aluminum foil can be used.

負極340は、負極集電体341及び活物質層342を含む。負極340の活物質層342は負極活物質を含む。   The negative electrode 340 includes a negative electrode current collector 341 and an active material layer 342. The active material layer 342 of the negative electrode 340 includes a negative electrode active material.

負極集電体341として、図1及び図3に示した銅箔100、200を使うことができる。また、図4及び図5に示した二次電池用電極300、400を図6に示した二次電池500の負極340として使うことができる。   As the negative electrode current collector 341, the copper foils 100 and 200 shown in FIGS. 1 and 3 can be used. Further, the secondary battery electrodes 300 and 400 shown in FIGS. 4 and 5 can be used as the negative electrode 340 of the secondary battery 500 shown in FIG.

図7は本発明のさらに他の一実施例による軟性銅箔積層フィルム600の概略断面図である。   FIG. 7 is a schematic sectional view of a flexible copper foil laminated film 600 according to still another embodiment of the present invention.

本発明のさらに他の一実施例による軟性銅箔積層フィルム600は、高分子膜410及び高分子膜410上に配置された銅箔100を含む。図1に示した銅箔100を含む軟性銅箔積層フィルム600が図7に示されているが、本発明のさらに他の一実施例がこれに限定されるものではない。例えば、図3に示した銅箔200又は他の銅箔を軟性銅箔積層フィルム600に使うことができる。   A soft copper foil laminated film 600 according to another embodiment of the present invention includes a polymer film 410 and a copper foil 100 disposed on the polymer film 410. A soft copper foil laminated film 600 including the copper foil 100 shown in FIG. 1 is shown in FIG. 7, but another embodiment of the present invention is not limited thereto. For example, the copper foil 200 shown in FIG. 3 or another copper foil can be used for the flexible copper foil laminated film 600.

高分子膜410は軟性(flexibility)及び非伝導性を有する。高分子膜410の種類に特別な制限があるものではない。高分子膜410は、例えばポリイミドを含むことができる。ロールプレス(Roll Press)によってポリイミドフィルムと銅箔100をラミネートして軟性銅箔積層フィルム600を形成することができる。もしくは、銅箔100上にポリイミド前駆体溶液をコートしてから熱処理することによって軟性銅箔積層フィルム600を作ることもできる。   The polymer film 410 has flexibility and non-conductivity. There is no particular limitation on the type of polymer film 410. The polymer film 410 may include polyimide, for example. The flexible copper foil laminated film 600 may be formed by laminating the polyimide film and the copper foil 100 with a roll press. Alternatively, the flexible copper foil laminated film 600 can be prepared by coating the polyimide precursor solution on the copper foil 100 and then heat-treating it.

銅箔100は、マット面MSとシャイニー面SSを有する銅層110及び銅層110のマット面MS及びシャイニー面SSの少なくとも一方に配置された防錆膜210を含む。ここで、防錆膜210は省略することもできる。   The copper foil 100 includes a copper layer 110 having a matte surface MS and a shiny surface SS, and a rust preventive film 210 disposed on at least one of the matte surface MS and the shiny surface SS of the copper layer 110. Here, the rust preventive film 210 may be omitted.

図7を参照すれば、防錆膜210上に高分子膜410が配置されたものが例示されているが、本発明のさらに他の一実施例がこれに限定されるものではない。高分子膜410が銅層110のシャイニー面SS上に配置されることもできる。   Referring to FIG. 7, the polymer film 410 is disposed on the anticorrosion film 210, but another embodiment of the present invention is not limited thereto. The polymer film 410 may be disposed on the shiny surface SS of the copper layer 110.

以下、図8を参照して、本発明の他の実施例による銅箔200の製造方法を具体的に説明する。   Hereinafter, a method of manufacturing the copper foil 200 according to another embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

図8は図3に示した銅箔200の製造方法を示す概略図である。   FIG. 8 is a schematic view showing a method for manufacturing the copper foil 200 shown in FIG.

まず、銅イオンを含む電解液11内に互いに離隔して配置された正極板13及び回転負極ドラム12を40〜80ASD(A/dm)の電流密度で通電させて銅層110を形成する。 First, the positive electrode plate 13 and the rotating negative electrode drum 12 which are arranged apart from each other in the electrolytic solution 11 containing copper ions are energized at a current density of 40 to 80 ASD (A/dm 2 ) to form the copper layer 110.

具体的に、図8を参照すれば、電解槽10に収容された電解液11内に配置された正極板13及び回転負極ドラム12を40〜80ASD(A/dm)の電流密度で通電させて回転負極ドラム12上に銅を電着(electrodeposit)することによって銅層110を形成する。このとき、正極板13と回転負極ドラム12間の間隔は8〜13mmの範囲に調整することができる。 Specifically, referring to FIG. 8, the positive electrode plate 13 and the rotating negative electrode drum 12 arranged in the electrolytic solution 11 housed in the electrolytic cell 10 are energized at a current density of 40 to 80 ASD (A/dm 2 ). The copper layer 110 is formed on the rotating negative electrode drum 12 by electrodepositing copper. At this time, the distance between the positive electrode plate 13 and the rotating negative electrode drum 12 can be adjusted within the range of 8 to 13 mm.

正極板13と回転負極ドラム12の間に印加される電流密度が高いほど均一にメッキされて銅層110のマット面MSの表面粗度が減少し、電流密度が低いほど不均一にメッキされて銅層110のマット面MSの表面粗度が高くなる。   The higher the current density applied between the positive electrode plate 13 and the rotating negative electrode drum 12 is, the more uniform the plating is and the less the surface roughness of the matte surface MS of the copper layer 110 is. The surface roughness of the matte surface MS of the copper layer 110 is increased.

電解液11は70〜90g/Lの銅イオン及び50〜150g/Lの硫酸を含む。このような濃度を有する電解液11内で、回転負極ドラム12上に銅が容易に電着されることができる。   The electrolytic solution 11 contains 70 to 90 g/L of copper ions and 50 to 150 g/L of sulfuric acid. In the electrolytic solution 11 having such concentration, copper can be easily electrodeposited on the rotating negative electrode drum 12.

また、電解液11は2〜20mg/Lの1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール(1−Phenyl−5−mercapto−1H−tetrazole)及び2〜20mg/Lのポリエチレングリコール(PEG)を含む。   In addition, the electrolytic solution 11 includes 2 to 20 mg/L of 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole (1-Phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole) and 2 to 20 mg/L of polyethylene glycol (PEG). ..

1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール(1−Phenyl−5−mercapto−1H−tetrazole)は略称して“PMT”とも言い、下記の化学式1で表現することができる。   1-Phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole (1-Phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole) is also abbreviated as “PMT” and can be represented by the following chemical formula 1.

1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール(PMT)の濃度調節によって銅箔200の引張強度を調節することができる。銅箔200の引張強度を29〜58kgf/mmの範囲に調節するために、1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾールの濃度は2〜20mg/Lの範囲に調節する。1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾールの濃度が2mg/L未満の場合、銅箔200の引張強度が29kgf/mm未満に減少することがある。一方、1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾールの濃度が20mg/Lを超える場合、銅箔200の引張強度が58kgf/mmを超えることがある。 The tensile strength of the copper foil 200 can be adjusted by adjusting the concentration of 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole (PMT). In order to adjust the tensile strength of the copper foil 200 within the range of 29 to 58 kgf/mm 2 , the concentration of 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole is adjusted within the range of 2 to 20 mg/L. When the concentration of 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole is less than 2 mg/L, the tensile strength of the copper foil 200 may decrease to less than 29 kgf/mm 2 . On the other hand, when the concentration of 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole exceeds 20 mg/L, the tensile strength of the copper foil 200 may exceed 58 kgf/mm 2 .

ポリエチレングリコール(PEG)は電解液11内で光沢剤として作用する。   Polyethylene glycol (PEG) acts as a brightening agent in the electrolytic solution 11.

ポリエチレングリコール(PEG)の濃度が20mg/Lを超えて過度に高ければ、銅箔200の(220)面の集合組職が発達して(220)面の集合組職係数[TC(220)]が1.28を超えることになる。一方、ポリエチレングリコール(PEG)の濃度が2mg/L未満の場合、銅箔200の(220)面の集合組職係数[TC(220)]が0.49未満となる。よって、銅箔200の(220)面の集合組織係数[TC(220)]が0.49〜1.28の範囲となるようにするために、ポリエチレングリコール(PEG)の濃度は2〜20mg/Lの範囲に調節する。   If the concentration of polyethylene glycol (PEG) exceeds 20 mg/L and is excessively high, the collective composition of the (220) plane of the copper foil 200 develops and the collective composition coefficient of the (220) plane [TC (220)]. Will exceed 1.28. On the other hand, when the concentration of polyethylene glycol (PEG) is less than 2 mg/L, the collective tissue coefficient [TC(220)] of the (220) plane of the copper foil 200 is less than 0.49. Therefore, in order to set the texture coefficient [TC(220)] of the (220) plane of the copper foil 200 in the range of 0.49 to 1.28, the concentration of polyethylene glycol (PEG) is 2 to 20 mg/. Adjust to L range.

電解液11は50mg/L以下の銀(Ag)を含む。ここで、銀(Ag)は電解液11に解離したイオン状態(Ag+)及び解離しなかった状態(Ag)を含み、塩として存在する状態も全て含む。   The electrolytic solution 11 contains 50 mg/L or less of silver (Ag). Here, silver (Ag) includes an ionic state (Ag+) dissociated in the electrolytic solution 11 and a state (Ag) not dissociated in the electrolytic solution 11, and includes all states existing as a salt.

本発明のさらに他の一実施例によれば、銀(Ag)の濃度が減少するほど銅箔200のPAR(Peak to Arithmetical Mean Roughness)が増加する。   According to another embodiment of the present invention, as the concentration of silver (Ag) decreases, the PAR (Peak to Arithmetic Mean Roughness) of the copper foil 200 increases.

一般に、電解液11内で銀(Ag)は不純物に相当する。0.8〜12.5のPAR(Peak to Arithmetical Mean Roughness)を有する銅箔200を製造するために、銀(Ag)の濃度は50mg/L以下に管理する。   Generally, silver (Ag) in the electrolytic solution 11 corresponds to impurities. In order to manufacture the copper foil 200 having a PAR (Peak to Arithmetic Mean Roughness) of 0.8 to 12.5, the concentration of silver (Ag) is controlled to 50 mg/L or less.

例えば、電解液11内で銀(Ag)の濃度が50mg/Lを超えれば、回転負極ドラム12上に銅が不均一に電着されて銅箔200の最大プロファイルピーク(Rp)が急激に増加し、それによってPARが12.5を超える結果をもたらすことができる
電解液11内の銀(Ag)の濃度を50mg/L以下に調節するために、銀(Ag)を含んでいない原材料を使うか、メッキ工程中に銀(Ag)が電解液11内に流入しないようにする。また、電解液11内の銀(Ag)の濃度を50mg/L以下に維持するために、電解液11に塩素(Cl)を投入して銀(Ag)が塩化銀(AgCl)の形態として沈澱するようにすることによって銀(Ag)を除去することができる。
For example, when the concentration of silver (Ag) in the electrolytic solution 11 exceeds 50 mg/L, copper is non-uniformly electrodeposited on the rotating negative electrode drum 12 and the maximum profile peak (Rp) of the copper foil 200 rapidly increases. Which can result in a PAR of over 12.5. Use raw materials that do not contain silver (Ag) to adjust the concentration of silver (Ag) in the electrolyte 11 to 50 mg/L or less. Alternatively, the silver (Ag) is prevented from flowing into the electrolyte solution 11 during the plating process. Further, in order to maintain the concentration of silver (Ag) in the electrolytic solution 11 at 50 mg/L or less, chlorine (Cl) is added to the electrolytic solution 11 to precipitate silver (Ag) in the form of silver chloride (AgCl). By doing so, silver (Ag) can be removed.

一方、銅箔200のPAR(Peak to Arithmetical Mean Roughness)は回転負極ドラム12の表面の研磨程度によって変わることができる。   On the other hand, the PAR (Peak to Arithmetic Mean Roughness) of the copper foil 200 may vary depending on the degree of polishing of the surface of the rotating negative electrode drum 12.

銅箔200のPAR(Peak to Arithmetical Mean Roughness)の調節のために、銅層110の形成前、例えば#800〜#3000の粒度(Grit)を有するブラシによって回転負極ドラム12の表面を研磨する。   In order to adjust the PAR (Peak to Arithmetic Mean Roughness) of the copper foil 200, the surface of the rotating negative electrode drum 12 is polished by a brush having a grain size (Grit) of, for example, #800 to #3000 before the copper layer 110 is formed.

#3000を超える粒度を有するブラシ(brush)によって回転負極ドラム12の表面を研磨する場合、回転負極ドラム12の表面のプロファイルがあまりにも低くて非常に均一に電着され、それによって最大プロファイルピーク高さ(Rp)が算術平均粗度(Ra)より低くなり、PARが0.8未満に低くなることがある。すなわち、電解液11内で銀(Ag)濃度が50mg/L以下に管理されても、#3000を超える粒度を有するブラシ(brush)によって回転負極ドラム12の表面が研磨される場合、PARが0.8未満に低くなることがある。   When the surface of the rotating negative electrode drum 12 is polished by a brush having a particle size of more than #3000, the surface profile of the rotating negative electrode drum 12 is too low to be electrodeposited very uniformly, which results in a maximum profile peak height. The roughness (Rp) may be lower than the arithmetic average roughness (Ra), and the PAR may be lowered to less than 0.8. That is, even if the silver (Ag) concentration in the electrolytic solution 11 is controlled to 50 mg/L or less, when the surface of the rotating negative electrode drum 12 is polished by a brush having a particle size exceeding #3000, the PAR is 0. It can be as low as less than 0.8.

一方、#800未満の粒度を有するブラシ(brush)によって回転負極ドラム12の表面を研磨する場合、回転負極ドラム12の表面が粗くなり、最大プロファイルピーク高さ(Rp)が算術平均粗度(Ra)より過度に大きくなることによってPARが12.5を超えることがある。   On the other hand, when the surface of the rotating negative electrode drum 12 is polished by a brush having a particle size of less than #800, the surface of the rotating negative electrode drum 12 becomes rough, and the maximum profile peak height (Rp) becomes the arithmetic mean roughness (Ra). ), the PAR may exceed 12.5 due to excessive increase.

また、回転負極ドラム12を研磨又はバフ(buffing)するとき、回転負極ドラム12の幅方向に水を噴射して、回転負極ドラム12の幅方向に均一にバフされるようにすることができる。   In addition, when the rotating negative electrode drum 12 is polished or buffed, water can be jetted in the width direction of the rotating negative electrode drum 12 so that the rotating negative electrode drum 12 is uniformly buffed in the width direction.

銅層110の形成過程で、電解液11は40〜65℃の温度で維持されることができる。   During the process of forming the copper layer 110, the electrolyte solution 11 may be maintained at a temperature of 40 to 65°C.

電解液11内の不純物の含量を減らすために、銅イオンの材料となる銅ワイヤを熱処理し、熱処理された銅ワイヤを酸洗した後、酸洗された銅ワイヤを電解液用硫酸に投入することができる。   In order to reduce the content of impurities in the electrolytic solution 11, a copper wire that is a material of copper ions is heat-treated, the heat-treated copper wire is pickled, and then the pickled copper wire is put into sulfuric acid for electrolytic solution. be able to.

電解液11は39〜46m/hourの流量を有することができる。すなわち、電気メッキを行ううち電解液11に存在する固形不純物を除去するために、電解液11を39〜46m/hourの流量を循環させることができる。電解液11の循環過程で電解液11を濾過することができる。このような濾過によって塩化銀(AgCl)を除去することにより、電解液11内の銀(Ag)の含量を50mg/L以下に維持することができる。 The electrolyte solution 11 may have a flow rate of 39 to 46 m 3 /hour. That is, the electrolytic solution 11 can be circulated at a flow rate of 39 to 46 m 3 /hour in order to remove solid impurities existing in the electrolytic solution 11 during electroplating. The electrolytic solution 11 can be filtered during the circulation process of the electrolytic solution 11. By removing silver chloride (AgCl) by such filtration, the content of silver (Ag) in the electrolytic solution 11 can be maintained at 50 mg/L or less.

電解液11の流量が39m/hour未満であれば、流速が低くて過電圧が発生することがあり、銅層110が不均一に形成されることがある。一方、流量が46m/hourを超えれば、フィルターが損傷して電解液11内に異物が流入することができる。 If the flow rate of the electrolytic solution 11 is less than 39 m 3 /hour, the flow rate may be low and overvoltage may occur, and the copper layer 110 may be formed unevenly. On the other hand, when the flow rate exceeds 46 m 3 /hour, the filter is damaged and foreign matter can flow into the electrolytic solution 11.

また、銅箔200が幅方向に3%以下の重量偏差を有するようにするために、単位時間(秒)当たり電解液11の流量変化量(以下“流量偏差”と言う)が5%以下となるようにすることができる。流量偏差が5%を超える場合、不均一なメッキによって不均一な銅層110が形成されることがあり、それによって銅箔200の重量偏差が増加することがある。   Further, in order that the copper foil 200 has a weight deviation of 3% or less in the width direction, the flow rate change amount of the electrolytic solution 11 (hereinafter referred to as “flow rate deviation”) per unit time (second) is 5% or less. Can be. If the flow rate deviation exceeds 5%, the uneven copper layer 110 may be formed due to the uneven plating, which may increase the weight deviation of the copper foil 200.

一方、電解液11をオゾン処理するか、電気メッキによって銅層110を形成するうちに電解液11に過酸化水素及び空気を投入することによって電解液11の清浄度を維持又は向上させることができる。   On the other hand, the cleanliness of the electrolytic solution 11 can be maintained or improved by treating the electrolytic solution 11 with ozone or by introducing hydrogen peroxide and air into the electrolytic solution 11 while forming the copper layer 110 by electroplating. .

ついで、洗浄槽20で銅層110を洗浄する。   Then, the copper layer 110 is cleaned in the cleaning tank 20.

銅層110の表面の不純物を除去するために、洗浄槽20で水洗を行うことができる。もしくは、銅層110の表面の不純物を除去するために、酸洗(acid cleaning)を行い、ついで酸洗に使用された酸性溶液の除去のための水洗(water cleaning)を行うこともできる。洗浄工程は省略することもできる。   In order to remove impurities on the surface of the copper layer 110, washing with water can be performed in the washing tank 20. Alternatively, acid cleaning may be performed to remove impurities on the surface of the copper layer 110, and then water cleaning may be performed to remove the acidic solution used for the acid cleaning. The washing step can be omitted.

ついで、銅層110上に防錆膜210、220を形成する。   Then, anticorrosion films 210 and 220 are formed on the copper layer 110.

図8を参照すれば、防錆槽30に収容された防錆液31内に銅層110を浸漬することで、銅層110上に防錆膜210、220を形成することができる。ここで、防錆液31はクロムを含み、防錆液31内でクロム(Cr)はイオン状態で存在することができる。防錆液31は0.5〜5g/Lのクロムを含むことができる。このように形成された防錆膜210、220を保護層とも言う。   Referring to FIG. 8, by immersing the copper layer 110 in the rust preventive liquid 31 stored in the rust preventive tank 30, the rust preventive films 210 and 220 can be formed on the copper layer 110. Here, the anticorrosive liquid 31 contains chromium, and chromium (Cr) can exist in an ionic state in the anticorrosive liquid 31. The anticorrosive liquid 31 can contain 0.5 to 5 g/L of chromium. The rust preventive films 210 and 220 thus formed are also referred to as protective layers.

一方、防錆膜210、220はシラン処理によるシラン化合物を含むこともでき、窒素処理による窒素化合物を含むこともできる。   On the other hand, the anticorrosive films 210 and 220 may contain a silane compound by a silane treatment or a nitrogen compound by a nitrogen treatment.

このような防錆膜210、220の形成によって銅箔200が形成される。   The copper foil 200 is formed by forming the rust preventive films 210 and 220.

ついで、銅箔200を洗浄槽40で洗浄する。このような洗浄工程は省略することができる。   Then, the copper foil 200 is washed in the washing tank 40. Such a washing process can be omitted.

ついで、乾燥工程を行った後、銅箔200をワインダー(WR)で巻き取る。   Then, after performing a drying process, the copper foil 200 is wound with a winder (WR).

以下、製造例及び比較例に基づいて本発明を具体的に説明する。ただ、下記の製造例は本発明の理解を助けるためのものであるだけ、本発明の権利範囲がこれらの製造例に制限されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on production examples and comparative examples. However, the following production examples are only for facilitating understanding of the present invention, and the scope of rights of the present invention is not limited to these production examples.

製造例1〜6及び比較例1〜7
電解槽10、電解槽10に配置された回転負極ドラム12及び回転負極ドラム12から離隔して配置された正極板13を含む製箔機を用いて銅箔を製造した。電解液11は硫酸銅溶液であり、電解液11の銅イオン濃度は75g/L、硫酸濃度は100g/Lであり、電解液11の温度は55℃に維持し、電解液11に60 ASDの電流密度で電流を印加した。
Production Examples 1-6 and Comparative Examples 1-7
Copper foil was manufactured using a foil making machine including the electrolytic cell 10, the rotating negative electrode drum 12 disposed in the electrolytic cell 10, and the positive electrode plate 13 disposed apart from the rotating negative electrode drum 12. The electrolytic solution 11 is a copper sulfate solution, the copper ion concentration of the electrolytic solution 11 is 75 g/L, the sulfuric acid concentration is 100 g/L, the temperature of the electrolytic solution 11 is maintained at 55° C., and the electrolytic solution 11 has 60 ASD. The current was applied at the current density.

回転負極ドラム12は表1に開示したような粒度(#)を有するブラシによって研磨した。   The rotating negative electrode drum 12 was polished with a brush having a particle size (#) as disclosed in Table 1.

電解液11は表1に開示した濃度の銀(Ag)、ポリエチレングリコール(PEG)及び1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール(PMT)を含む。また、電解液11は42m/hourの流量で循環し、流量偏差は表1に開示した通りである。 Electrolyte solution 11 contains silver (Ag), polyethylene glycol (PEG) and 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole (PMT) in the concentrations disclosed in Table 1. Further, the electrolytic solution 11 circulates at a flow rate of 42 m 3 /hour, and the flow rate deviation is as disclosed in Table 1.

まず、回転負極ドラム12と正極板13の間に60 ASDの電流密度を印加して銅層110を形成した。   First, a current density of 60 ASD was applied between the rotating negative electrode drum 12 and the positive electrode plate 13 to form the copper layer 110.

ついで、防錆槽30に収容された防錆液31に銅層110を浸漬させることにより、銅層110の表面にクロムを含む防錆膜210、220を形成した。このとき、防錆液31の温度は30℃で維持し、防錆液31は2.2g/Lのクロム(Cr)を含む。その結果、製造例1〜6及び比較例1〜7の銅箔が製造された。   Then, the copper layer 110 was immersed in the rust preventive liquid 31 contained in the rust preventive tank 30 to form rust preventive films 210 and 220 containing chromium on the surface of the copper layer 110. At this time, the temperature of the anticorrosive liquid 31 is maintained at 30° C., and the anticorrosive liquid 31 contains 2.2 g/L of chromium (Cr). As a result, the copper foils of Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 7 were produced.

このように製造された製造例1〜6及び比較例1〜7の銅箔の(i)PAR、(ii)引張強度、(iii)重量偏差及び(iv)(220)面の集合組職係数[TC(220)]を測定した。その結果は表2に示した。   The (i) PAR, (ii) tensile strength, (iii) weight deviation, and (iv) (220) face collective composition coefficient of the copper foils of Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 7 thus produced [TC(220)] was measured. The results are shown in Table 2.

(i)PAR測定
粗度計としてミツトヨ社のSJ−310モデルを用いて製造例1〜6及び比較例1〜7で製造された銅箔のRp及びRaを測定した。Rp及びRaの測定において、カットオフ(cutoff)長を除いた測定長は4mmであり、カットオフ(cutoff)長は初期と末期にそれぞれ0.8mmにした。また、スタイラスチップ(stylus tip)の半径(radius)は2μmに、測定圧力は0.75mNにした。以上のような設定後、Rp及びRaをそれぞれ3回ずつ繰り返し測定し、その平均値をそれぞれRp及びRaの測定値とした。このように測定されたRp及びRaを用いて、下記の式1によってPARを計算した。
(I) PAR measurement Rp and Ra of the copper foils manufactured in Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 7 were measured using SJ-310 model manufactured by Mitutoyo Corporation as a roughness meter. In the measurement of Rp and Ra, the measurement length excluding the cutoff length was 4 mm, and the cutoff length was 0.8 mm in each of the initial and final stages. The radius of the stylus tip was set to 2 μm, and the measurement pressure was set to 0.75 mN. After the above settings, Rp and Ra were repeatedly measured three times, and their average values were used as the measured values of Rp and Ra, respectively. Using Rp and Ra thus measured, PAR was calculated according to the following formula 1.

(式1)
PAR=Rp/Ra
(Equation 1)
PAR=Rp/Ra

(ii)引張強度測定
IPC−TM−650 Test Method Manualの規定にしたがってInstron社の万能試験器を用いて製造例1〜6及び比較例1〜7で製造した銅箔の引張強度を測定した。引張強度測定用サンプルの幅は12.7mm、グリップ(grip)間の距離は50mm、測定速度は50mm/minであった。サンプルの引張強度を3回にかけて繰り返し測定し、その平均を測定結果として評価した。
(Ii) Tensile Strength Measurement The tensile strength of the copper foils produced in Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 7 was measured using a universal tester manufactured by Instron in accordance with the regulations of IPC-TM-650 Test Method Manual. The sample for tensile strength measurement had a width of 12.7 mm, the distance between the grips was 50 mm, and the measurement speed was 50 mm/min. The tensile strength of the sample was repeatedly measured three times, and the average thereof was evaluated as the measurement result.

(iii)重量偏差測定
製造例1〜6及び比較例1〜7で製造した銅箔の巻取方向に垂直な幅方向(Transverse Direction、TD)に3つの地点で5cm×5cmのサンプルを取った後、各サンプルの重量を測定して単位面積当たり重量を算出した。3個サンプルの単位面積当たり重量から“平均重量”と“重量の標準偏差”を算出した後、式2によって重量偏差を計算した。
(Iii) Weight deviation measurement Samples of 5 cm x 5 cm were taken at three points in the width direction (Transverse Direction, TD) perpendicular to the winding direction of the copper foils manufactured in Manufacturing Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 7. Then, the weight of each sample was measured to calculate the weight per unit area. The "average weight" and "standard deviation of weight" were calculated from the weight per unit area of three samples, and then the weight deviation was calculated by the formula 2.

(iv)(220)面の集合組職係数[TC(220)]測定
製造例1〜6及び比較例1〜7で製造した銅箔に対して30°〜95°の回折角(2θ)の範囲でX線回折法(XRD)[(i)Target:Copper K alpha 1、(ii)2θ interval:0.01°、(iii)2θ scan speed:3°/min]を実施することにより、n個の結晶面に対応するピークを有するXRDグラフを得た。このグラフから各結晶面(hkl)のXRD回折強度[I(hkl)]を求めた。また、JCPDS(Joint Committee on Powder Diffraction Standards)によって規定された標準銅粉末のn個の結晶面のそれぞれに対するXRD回折強度[I(hkl)]を求めた。ここで、結晶面は(111)面、(200)面、(220)面及び(311)面であり、nは4である。
(Iv) Measurement of collective composition coefficient [TC(220)] of (220) plane For diffraction angles (2θ) of 30° to 95° with respect to the copper foils produced in Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 7. By performing an X-ray diffraction method (XRD) [(i) Target: Copper K alpha 1, (ii) 2θ interval: 0.01°, (iii) 2θ scan speed: 3°/min] in the range, An XRD graph having peaks corresponding to individual crystal planes was obtained. From this graph, the XRD diffraction intensity [I(hkl)] of each crystal plane (hkl) was obtained. Moreover, the XRD diffraction intensity [I 0 (hkl)] for each of the n crystal faces of the standard copper powder defined by JCPDS (Joint Committee on Powder Diffraction Standards) was determined. Here, the crystal planes are the (111) plane, the (200) plane, the (220) plane, and the (311) plane, and n is 4.

ついで、n個の結晶面のI(hkl)/I(hkl)の算術平均値を求めた後、求めた算術平均値で(220)面のI(220)/I(220)を割ることによって銅箔の(220)面の集合組職係数[TC(220)]を算出した。(220)面の集合組職係数[TC(220)]は次の式3によって算出した。 Then, after calculating the arithmetic mean value of I(hkl)/I 0 (hkl) of n crystal planes, I(220)/I 0 (220) of the (220) plane is divided by the calculated arithmetic mean value. By doing so, the collective composition coefficient [TC(220)] of the (220) plane of the copper foil was calculated. The group composition coefficient [TC(220)] of the (220) plane is calculated by the following Expression 3.

(v)たるみ及び引裂発生観察
1)負極製造
商業的に利用可能な負極活物質用カーボン100重量部に2重量部のスチレンブタジエンゴム(SBR)及び2重量部のカルボキシメチルセルロース(CMC)を混合し、蒸溜水を溶剤として用いて負極活物質用スラリーを調製した。ドクターブレードを用いて10cmの幅を有する製造例1〜6及び比較例1〜7の銅箔上に40μmの厚さで負極活物質用スラリーを塗布し、これを120℃で乾燥し、1ton/cmの圧力で加圧して二次電池用負極を製造した。
(V) Observation of occurrence of sagging and tearing 1) Negative electrode production 100 parts by weight of commercially available carbon for negative electrode active material was mixed with 2 parts by weight of styrene butadiene rubber (SBR) and 2 parts by weight of carboxymethyl cellulose (CMC). A slurry for negative electrode active material was prepared using distilled water as a solvent. The slurry for negative electrode active material was applied to the copper foils of Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 7 having a width of 10 cm with a thickness of 40 μm using a doctor blade, dried at 120° C., and 1 ton/ A negative electrode for a secondary battery was manufactured by applying a pressure of cm 2 .

2)電解液製造
エチレンカーボネート(EC)及びエチレンメチルカーボネート(EMC)を1:2の比率で混合した非水性有機溶媒に溶質であるLiPFを1Mの濃度で溶解して基本電解液を製造した。99.5重量%の基本電解液と0.5重量%の無水コハク酸(Succinic anhydride)を混合して非水性電解液を製造した。
2) Preparation of Electrolyte Solution A basic electrolyte solution was prepared by dissolving LiPF 6 as a solute at a concentration of 1 M in a non-aqueous organic solvent in which ethylene carbonate (EC) and ethylene methyl carbonate (EMC) were mixed in a ratio of 1:2. .. A non-aqueous electrolyte was prepared by mixing 99.5 wt% of the basic electrolyte and 0.5 wt% of succinic anhydride.

3)正極製造
Li1.1Mn1.85Al0.05のリチウムマンガン酸化物とo−LiMnOの斜方晶系(orthorhombic)結晶構造のリチウムマンガン酸化物を90:10(重量比)の比で混合して正極活物質を製造した。正極活物質、カーボンブラック、及び決着剤であるPVDF[Poly(vinylidenefluoride)]を85:10:5(重量比)で混合し、これを有機溶媒であるNMPと混合してスラリーを製造した。このように製造されたスラリーを20μm厚さのAl箔(foil)の両面に塗布してから乾燥して正極を製造した。
3) Positive electrode production Li 1.1 Mn 1.85 Al 0.05 O 4 lithium manganese oxide and o-LiMnO 2 orthorhombic crystal lithium lithium manganese oxide 90:10 (weight ratio). ) And mixed to prepare a positive electrode active material. A positive electrode active material, carbon black, and PVDF [Poly(vinylidenefluoride)] as a binder were mixed at a ratio of 85:10:5 (weight ratio), and this was mixed with NMP as an organic solvent to prepare a slurry. The slurry thus prepared was applied to both sides of an Al foil having a thickness of 20 μm and then dried to prepare a positive electrode.

4)試験用リチウム二次電池製造
アルミニウム缶の内部に、アルミニウム缶と絶縁されるように正極と負極を配置し、その間に非水性電解液及び分離膜を配置してコイン状のリチウム二次電池を製造した。分離膜としてポリプロピレン(Celgard2325;厚さ25μm、平均細孔径(average pore size)φ28nm、気孔率(porosity)40%)を使った。
4) Manufacture of lithium secondary battery for test Coin-shaped lithium secondary battery in which a positive electrode and a negative electrode are arranged inside an aluminum can so as to be insulated from the aluminum can, and a non-aqueous electrolytic solution and a separation film are arranged between them. Was manufactured. Polypropylene (Celgard 2325; thickness 25 μm, average pore size φ28 nm, porosity 40%) was used as the separation membrane.

5)たるみ及び引裂発生観察
一連のリチウム二次電池製造過程で銅箔の引裂とたるみを観察した。特に、銅箔及び負極の製造過程で銅箔の引裂とたるみ発生有無を肉眼で観察した。たるみ又は引裂が発生しない場合を“良好”と表示した。その評価及び観察の結果は下記の表2に示した。
5) Observation of sagging and tearing Tearing and sagging of the copper foil were observed during a series of lithium secondary battery manufacturing processes. In particular, the presence or absence of tearing and sagging of the copper foil was observed with the naked eye during the manufacturing process of the copper foil and the negative electrode. The case where no sagging or tearing occurred was indicated as "good". The results of the evaluation and observation are shown in Table 2 below.

比較例1〜7による銅箔の製造及びリチウム二次電池製造過程で銅箔にたるみ又は引裂が発生したが、製造例1〜6による銅箔の製造及びリチウム二次電池を製造する過程では銅箔にたるみに引裂が発生しなかった。   Although sagging or tearing occurred in the copper foil during the production of the copper foil and the lithium secondary battery according to Comparative Examples 1 to 7, copper was produced during the production of the copper foil and the lithium secondary battery according to Production Examples 1 to 6. No tearing occurred on the slack in the foil.

具体的に、次の銅箔を用いてリチウム二次電池を製造する過程で銅箔にたるみ又は引裂が発生した。   Specifically, in the process of manufacturing a lithium secondary battery using the following copper foil, sagging or tearing occurred in the copper foil.

(1)#3000を超える粒度(Grit)を有するブラシで回転負極ドラム12の表面を研磨して、PARが0.8未満の比較例1(たるみ発生);
(2)電解液内の銀(Ag)含量が50mg/Lを超えて、PARが12.5を超える比較例2(たるみ発生);
(3)電解液内の1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール(PMT)の含量が2mg/L未満であり、引張強度が29kgf/mm未満の比較例3(たるみ発生);
(4)電解液内の1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール(PMT)の含量が20mg/Lを超え、引張強度が58kgf/mmを超える比較例4(引裂発生);
(5)電解液流量偏差が秒当たり5%を超え、重量偏差が3%を超える比較例5(たるみ発生);
(6)電解液内のポリエチレングリコール(PEG)の含量が2mg/L未満であり、(220)面の集合組職係数[TC(220)]が0.49未満の比較例6(たるみ発生);
(7)電解液内のポリエチレングリコール(PEG)の含量が20mg/Lを超え、(220)面の集合組職係数[TC(220)]が1.28を超える比較例7(たるみ及び引裂発生)。
(1) Comparative Example 1 having a PAR of less than 0.8 by polishing the surface of the rotating negative electrode drum 12 with a brush having a particle size (Grit) exceeding #3000 (sagging);
(2) Comparative Example 2 in which the content of silver (Ag) in the electrolytic solution exceeds 50 mg/L and the PAR exceeds 12.5 (slackening occurs);
(3) Comparative Example 3 in which the content of 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole (PMT) in the electrolytic solution is less than 2 mg/L and the tensile strength is less than 29 kgf/mm 2 (sagging occurs);
(4) Comparative Example 4 in which the content of 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole (PMT) in the electrolytic solution exceeds 20 mg/L and the tensile strength exceeds 58 kgf/mm 2 (tear generation);
(5) Comparative Example 5 in which the electrolyte flow rate deviation exceeds 5% per second and the weight deviation exceeds 3% (sagging occurs);
(6) Comparative Example 6 in which the content of polyethylene glycol (PEG) in the electrolytic solution is less than 2 mg/L and the collective tissue coefficient [TC(220)] of the (220) plane is less than 0.49 (sagging occurs). ;
(7) Comparative Example 7 in which the content of polyethylene glycol (PEG) in the electrolytic solution exceeds 20 mg/L and the collective composition coefficient [TC(220)] of the (220) plane exceeds 1.28 (sagging and tearing occur ).

このような比較例1〜7による銅箔はリチウム二次電池用負極集電体として適しないと評価することができる。   It can be evaluated that the copper foils according to Comparative Examples 1 to 7 are not suitable as a negative electrode current collector for a lithium secondary battery.

一方、本発明の実施例による条件範囲で製造された製造例1〜6の場合、銅箔の製造過程又は銅箔を用いたリチウム二次電池の製造過程で銅箔が破れなく、銅箔にたるみが発生しない。したがって、本発明の実施例による銅箔は優れたロールツーロール(RTR)工程性を有し、リチウム二次電池用負極集電体として有用に使われることができる。   On the other hand, in the case of Production Examples 1 to 6 produced under the condition range according to the embodiment of the present invention, the copper foil is not broken during the production process of the copper foil or the production process of the lithium secondary battery using the copper foil, and the copper foil is formed. There is no slack. Therefore, the copper foil according to the embodiment of the present invention has an excellent roll-to-roll (RTR) processability and can be effectively used as a negative electrode current collector for a lithium secondary battery.

以上で説明した本発明は前述した実施例及び添付図面に限定されるものではなく、本発明の技術的事項を逸脱しない範疇内でさまざまな置換、変形及び変更が可能であることが本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明らかであろう。したがって、本発明の範囲は後述する特許請求範囲によって限定され、特許請求範囲の意味、範囲及びその等価の概念から導出される全ての変更又は変形の形態が本発明の範囲に含まれると解釈されなければならない。   The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and the present invention is capable of various substitutions, modifications and changes without departing from the technical matters of the present invention. It will be apparent to one of ordinary skill in the art. Therefore, the scope of the present invention is limited by the scope of the claims to be described later, and all modifications or variations derived from the meaning of the scope of the claims, the scope and the equivalent concept thereof are construed to be included in the scope of the present invention. There must be.

100、200 銅箔
210、220 防錆膜
310 活物質層
300、400 二次電池用電極
340 二次電池用負極
370 二次電池用正極
MS マット面
SS シャイニー面
100, 200 Copper foil 210, 220 Rust preventive film 310 Active material layer 300, 400 Secondary battery electrode 340 Secondary battery negative electrode 370 Secondary battery positive electrode MS matte surface SS shiny surface

Claims (8)

銅層及び前記銅層上に配置された防錆膜を含み、
0.8〜12.5のPAR(Peak to Arithmetical Mean Roughness)、
29〜58kgf/mmの引張強度、及び
3%以下の重量偏差、
を有し、
(220)面を有し、前記(220)面の集合組織係数[TC(220)]は0.49〜1.28であり、
前記PARは下記の式1で求められ、
(式1)
PAR=Rp/Ra
前記式1で、Rpは最大プロファイルピーク高さ(maximum profile peak height)であり、Raは算術平均粗度(arithmetical mean roughness)である、銅箔。
Including a copper layer and an anticorrosive film disposed on the copper layer,
PAR of 0.8 to 12.5 (Peak to Arithmetic Mean Roughness),
A tensile strength of 29 to 58 kgf/mm 2 and a weight deviation of 3% or less,
Have
A (220) plane, and the texture coefficient [TC(220)] of the (220) plane is 0.49 to 1.28;
The PAR is calculated by the following formula 1,
(Equation 1)
PAR=Rp/Ra
In Formula 1, Rp is a maximum profile peak height, and Ra is an arithmetic mean roughness.
前記防錆膜は、クロム(Cr)、シラン化合物及び窒素化合物の少なくとも一つを含む、請求項1に記載の銅箔。   The copper foil according to claim 1, wherein the rustproof film contains at least one of chromium (Cr), a silane compound, and a nitrogen compound. 4μm〜30μmの厚さを有する、請求項1に記載の銅箔。   The copper foil according to claim 1, having a thickness of 4 μm to 30 μm. 請求項1〜のいずれか一項に記載の銅箔、及び
前記銅箔上に配置された活物質層、
を含む、二次電池用電極。
Copper foil, and the active material layer disposed on the copper foil according to any one of claims 1 to 3
An electrode for a secondary battery, including:
正極(cathode)、
前記正極と対向して配置された負極(anode)、
前記正極と前記負極の間に配置され、イオンが移動することができる環境を提供する電解質(electrolyte)、及び
前記正極と前記負極を電気的に絶縁させる分離膜(separator)、を含み、
前記負極は、
請求項1〜のいずれか一項による銅箔、及び
前記銅箔上に配置された活物質層、
を含む、二次電池。
A cathode,
An anode arranged opposite to the cathode,
An electrolyte that is disposed between the positive electrode and the negative electrode and provides an environment in which ions can move, and a separator that electrically insulates the positive electrode and the negative electrode from each other,
The negative electrode is
Active material layer disposed foil, and on the copper foil according to any one of claims 1 to 3,
Including a secondary battery.
高分子膜、及び
前記高分子膜上に配置された請求項1〜のいずれか一項による銅箔、
を含む、軟性銅箔積層フィルム。
Polymer film, and the copper foil according to any one of the polymer film 1 to claim arranged on 3,
Including a flexible copper foil laminated film.
回転負極ドラムの表面を#800〜#3000の粒度のブラシで研磨する段階、及び
銅イオンを含む電解液内に互いに離隔して配置された正極板及び前記回転負極ドラムを40〜80A/dmの電流密度で通電させて銅層を形成する段階を含み、
単位時間(秒、second)当たり流量偏差が5%以下であり、
前記電解液は、
70〜90g/Lの銅イオン、
50〜150g/Lの硫酸、
50mg/L以下の銀(Ag)、
2〜20mg/Lの1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール(1−Phenyl−5−mercapto−1H−tetrazole)、及び
2〜20mg/Lのポリエチレングリコール(PEG)、
を含む、銅箔の製造方法。
The step of polishing the surface of the rotating anode drum brush particle size of # 800 to # 3000, and a positive electrode plate and the rotary anode drum which is spaced apart from each other in the electrolytic solution in the containing copper ion 40 to 80 A / dm 2 Including forming a copper layer by energizing at a current density of
The flow rate deviation per unit time (second, second) is 5% or less,
The electrolytic solution is
70-90 g/L copper ion,
50-150 g/L sulfuric acid,
50 mg/L or less of silver (Ag),
2 to 20 mg/L of 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole (1-Phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole), and 2 to 20 mg/L of polyethylene glycol (PEG),
And a method for producing a copper foil.
前記電解液は39〜46m/hourの流量を有する、請求項に記載の銅箔の製造方法。 The method for producing a copper foil according to claim 7 , wherein the electrolytic solution has a flow rate of 39 to 46 m 3 /hour.
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