KR102518398B1 - Copper foil with high stability, electrode comprisng the same, secondary battery comprising the same and method for manufacturing the same - Google Patents

Copper foil with high stability, electrode comprisng the same, secondary battery comprising the same and method for manufacturing the same Download PDF

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Abstract

본 발명의 일 실시예는, 구리층을 포함하며, 0.02 내지 0.37의 두께 프로파일 피크비율(PTP), 0.71 이하의 두께 프로파일 피크비율 편의(BPTP) 및 0.79 내지 1.21의 반가폭(FWHM) 변동률을 갖는 동박을 제공한다.An embodiment of the present invention includes a copper layer and has a thickness profile peak ratio (PTP) of 0.02 to 0.37, a thickness profile peak ratio bias (BPTP) of 0.71 or less, and a full width at half maximum (FWHM) variation of 0.79 to 1.21. Provide copper foil.

Description

고신뢰성 동박, 그것을 포함하는 전극, 그것을 포함하는 이차전지, 및 그것의 제조 방법{COPPER FOIL WITH HIGH STABILITY, ELECTRODE COMPRISNG THE SAME, SECONDARY BATTERY COMPRISING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}High-reliability copper foil, electrode including the same, secondary battery including the same, and manufacturing method thereof

본 발명은 주름과 찢김이 최소화되어 우수한 신뢰성을 갖는 동박, 그것을 포함하는 전극, 그것을 포함하는 이차전지, 및 그것의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a copper foil having excellent reliability by minimizing wrinkles and tears, an electrode including the same, a secondary battery including the same, and a manufacturing method thereof.

동박은 이차전지의 음극, 연성인쇄회로기판(Flexible Printed Circuit Board: FPCB) 등 다양한 제품들을 제조하는데 이용되고 있다.Copper foil is used to manufacture various products such as anodes of secondary batteries and flexible printed circuit boards (FPCB).

이 중, 전기 도금에 의하여 제조된 동박을 전해동박이라고도 한다. 이러한 동박은, 일반적으로 롤투롤(Roll To Roll: RTR) 공정을 통해 제조되며, 또한, 롤투롤(RTR) 공정을 통한 이차전지의 음극, 연성인쇄회로기판(FPCB) 등의 제조에 이용된다. 연속적 생산이 가능하기 때문에, 롤투롤(RTR) 공정은 제품의 대량 생산에 적합한 공정으로 알려져 있다. 동박은 얇은 두께를 가지기 때문에, 동박 제조시 또는 동박을 이용한 제품의 제조시 생산 조건이 정밀하게 제어되지 않으면, 동박이 찢어지거나 전해동박에 주름이 발생할 수 있다. 이 경우, 공정 설비를 중단하고 발생된 문제들을 해결한 후 설비를 재가동시켜야 하기 때문에, 생산성이 저하된다.Among these, copper foil manufactured by electroplating is also referred to as electrodeposited copper foil. Such copper foil is generally manufactured through a roll-to-roll (RTR) process, and is also used in the manufacture of a negative electrode of a secondary battery, a flexible printed circuit board (FPCB), and the like through a roll-to-roll (RTR) process. Since continuous production is possible, the roll-to-roll (RTR) process is known as a process suitable for mass production of products. Since copper foil has a thin thickness, if production conditions are not precisely controlled when manufacturing copper foil or products using copper foil, the copper foil may be torn or wrinkles may occur in the electrodeposited copper foil. In this case, since the process equipment must be stopped and the equipment must be restarted after resolving the problems, productivity is lowered.

도 9는 동박에 찢김이 발생한 상태의 사진이다.9 is a photograph of a state where tearing has occurred in the copper foil.

동박의 제조과정에서 도 9와 같은 찢김 또는 주름이 발생하거나, 또는, 동박을 이용하여 이차전지를 제조하는 공정에서 동박에 주름이나 찢김이 발생하는 경우, 안정적인 제품 생산이 어려워지며, 제품의 제조 수율이 저하되어, 제품의 제조 단가가 상승하는 요인이 된다. When tears or wrinkles occur in the copper foil manufacturing process as shown in FIG. 9, or when wrinkles or tears occur in the copper foil in the process of manufacturing a secondary battery using copper foil, stable product production becomes difficult, and product manufacturing yield This decline becomes a factor in increasing the manufacturing cost of the product.

동박을 이용하는 제품, 예를 들어, 이차전지의 제조공정에서 발생되는 주름 및 찢김 불량의 원인들 중, 동박에 기인하는 원인을 해결하는 방법으로 동박의 중량편차를 낮은 수준으로 제어하는 방법이 알려져 있다. 그러나, 동박의 중량편차 제어만으로는 이차전지 제조공정에서 발생하는 주름 및 찢김의 문제를 해결하는 데는 한계가 있다. 특히, 최근 이차전지의 용량 증대를 위해 초박형의 동박, 예를 들어, 8㎛ 이하의 두께를 갖는 동박이 음극 집전체로 사용되는 비율이 증가함에 따라, 동박의 중량편차를 정밀하게 제어하더라도 이차전지의 제조 공정에서 주름 및 찢김 불량이 간헐적으로 발생하고 있다. 따라서, 이차전지의 제조 공정에서 동박에 주름이나 찢김이 발생하는 것을 방지하거나 억제하는 것이 필요하다.Among the causes of wrinkles and tear defects occurring in the manufacturing process of products using copper foil, for example, secondary batteries, a method of controlling the weight variation of copper foil to a low level is known as a method of solving the cause caused by copper foil. . However, there is a limit to solving the problem of wrinkles and tears occurring in the secondary battery manufacturing process only by controlling the weight variation of the copper foil. In particular, as the ratio of ultra-thin copper foil, for example, copper foil having a thickness of 8 μm or less, is used as an anode current collector to increase the capacity of a secondary battery, even if the weight deviation of the copper foil is precisely controlled, the secondary battery Wrinkles and tear defects occur intermittently in the manufacturing process of Therefore, it is necessary to prevent or suppress the occurrence of wrinkles or tears in the copper foil in the manufacturing process of the secondary battery.

본 발명은 위와 같은 문제점들을 해결할 수 있는 동박, 그것을 포함하는 전극, 그것을 포함하는 이차전지, 및 그것의 제조 방법을 제공하고자 한다.The present invention is to provide a copper foil that can solve the above problems, an electrode including the same, a secondary battery including the same, and a manufacturing method thereof.

본 발명의 일 실시예는 주름 또는 찢김이 최소화된 동박을 제공하고자 한다. 본 발명의 일 실시예는 특히, 얇은 두께를 가지더라도, 이차전지의 제조공정에서 주름, 찢김 및 울음의 발생이 방지되어, 우수한 공정성 및 신뢰성을 갖는 동박을 제공하고자 한다.One embodiment of the present invention is to provide a copper foil with minimized wrinkles or tears. In particular, one embodiment of the present invention is to provide a copper foil having excellent processability and reliability by preventing wrinkles, tears, and crying in the manufacturing process of a secondary battery, even if it has a thin thickness.

본 발명의 다른 일 실시예는 이러한 동박을 포함하는 이차전지용 전극 및 이러한 이차전지용 전극을 포함하는 이차전지를 제공하고자 한다.Another embodiment of the present invention is to provide a secondary battery electrode including such a copper foil and a secondary battery including such a secondary battery electrode.

본 발명의 또 다른 일 실시예는 이러한 동박을 포함하는 연성동박적층필름을 제공하고자 한다.Another embodiment of the present invention is to provide a flexible copper clad laminated film including such a copper foil.

본 발명의 또 다른 일 실시예는, 제조 공정 중 주름, 찢김 또는 울음의 발생을 방지되어 신뢰성이 향상된 동박의 제조 방법을 제공하는 것이다.Another embodiment of the present invention is to provide a method for manufacturing a copper foil with improved reliability by preventing wrinkles, tears, or cries during the manufacturing process.

위에서 언급된 본 발명의 관점들 외에도, 본 발명의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 설명되거나, 그러한 설명으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.In addition to the aspects of the present invention mentioned above, other features and advantages of the present invention will be described below, or will be clearly understood by those skilled in the art from such description.

이러한 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 일 실시예는, 구리층을 포함하며, 0.02 내지 0.37의 두께 프로파일 피크비율(Proportion of Thickness to Profile peak height, PTP), 0.71 이하의 두께 프로파일 피크비율 편의(Bias for Proportion of Thickness to Profile peak height, BPTP) 및 0.79 내지 1.21의 반가폭(Full Width at Half Maximum, FWHM) 변동률을 갖는 동박을 제공한다.In order to solve these problems, an embodiment of the present invention includes a copper layer, a thickness profile peak ratio of 0.02 to 0.37 (Proportion of Thickness to Profile peak height, PTP), a thickness profile peak ratio bias of 0.71 or less ( Provided is a copper foil having a Bias for Proportion of Thickness to Profile peak height (BPTP) and a Full Width at Half Maximum (FWHM) variation of 0.79 to 1.21.

여기서, 상기 두께 프로파일 피크비율(PTP)은 아래 식 1로 구해지며,Here, the thickness profile peak ratio (PTP) is obtained by Equation 1 below,

[식 1][Equation 1]

PTP = Rp / Tcopper PTP = Rp/T copper

상기 식 1에서 Rp는 동박의 피크 조도(peak roughness) 이고, Tcopper는 동박의 두께이다.In Equation 1, Rp is the peak roughness of the copper foil, and T copper is the thickness of the copper foil.

상기 두께 프로파일 피크비율 편의(BPTP)는 아래 식 2로 구해지며,The thickness profile peak ratio bias (BPTP) is obtained by Equation 2 below,

[식 2][Equation 2]

BPTP = (PTPmax - PTPmin)/ PTPaveBPTP = (PTPmax - PTPmin)/PTPave

상기 식 2에서, PTPmax는 상기 두께 프로파일 피크비율(PTP)의 최대값이고, PTPmin은 상기 두께 프로파일 피크비율(PTP)의 최소값이고, PTPave는 상기 두께 프로파일 피크비율(PTP)의 평균값이다.In Equation 2, PTPmax is the maximum value of the thickness profile peak ratio (PTP), PTPmin is the minimum value of the thickness profile peak ratio (PTP), and PTPave is the average value of the thickness profile peak ratio (PTP).

상기 반가폭(FWHM) 변동률은 아래 식 3으로 구해지며, The full width at half maximum (FWHM) fluctuation rate is obtained by Equation 3 below,

[식 3][Equation 3]

반가폭 변동률 = (열처리 후 반가폭)/(열처리 전 반가폭)Rate of change in half width = (half width after heat treatment)/(half width before heat treatment)

상기 식 3에서 열처리 후 반가폭은 110℃에서 30분간 열처리 후 상기 동박의 (220)면의 반가폭(FWHM)을 나타내고, 열처리 전 반가폭은 상기 110℃에서 30분간 열처리 전 상기 동박의 (220)면의 반가폭(FWHM)을 나타낸다.In Equation 3, the half width after heat treatment represents the half width (FWHM) of the (220) surface of the copper foil after heat treatment at 110 ° C. for 30 minutes, and the half width before heat treatment is the half width of the copper foil before heat treatment at 110 ° C. for 30 minutes (220 ) represents the full width at half maximum (FWHM) of the plane.

상온(25±15℃)에서 상기 (220)면의 집합조직계수[TC(220)]는 0.48 내지 1.28 이다.The texture coefficient [TC (220)] of the (220) plane at room temperature (25 ± 15 ° C) is 0.48 to 1.28.

상기 동박은 0.6 내지 3.5㎛의 최대 높이 조도(Rmax)를 갖는다.The copper foil has a maximum height roughness (Rmax) of 0.6 to 3.5 μm.

상기 동박은 3% 이하의 중량 편차를 갖는다.The copper foil has a weight variation of 3% or less.

상기 동박은 상기 구리층 상에 배치된 방청막을 더 포함한다. The copper foil further includes an anti-rust film disposed on the copper layer.

상기 방청막은 크롬(Cr), 실란 화합물 및 질소 화합물 중 적어도 하나를 포함한다.The anti-rust film includes at least one of chromium (Cr), a silane compound, and a nitrogen compound.

본 발명의 다른 일 실시예는, 상기의 동박 및 상기 동박 상에 배치된 활물질층을 포함하는 이차전지용 전극을 제공한다. Another embodiment of the present invention provides a secondary battery electrode including the copper foil and an active material layer disposed on the copper foil.

본 발명의 또 다른 일 실시예는, 양극(cathode), 상기 양극과 대향 배치된 음극(anode), 상기 양극과 상기 음극 사이에 배치되어 리튬 이온이 이동할 수 있는 환경을 제공하는 전해질(electrolyte) 및 상기 양극과 상기 음극을 전기적으로 절연시켜 주는 분리막(separator)을 포함하고, 상기 음극은 상기의 동박 및 상기 동박 상에 배치된 활물질층을 포함하는 이차전지를 제공한다.Another embodiment of the present invention, a cathode, an anode disposed opposite to the cathode, an electrolyte disposed between the anode and the cathode to provide an environment in which lithium ions can move, and A secondary battery including a separator electrically insulating the positive electrode and the negative electrode, and the negative electrode including the copper foil and an active material layer disposed on the copper foil.

본 발명의 또 다른 일 실시예는, 고분자막 및 상기 고분자막 상에 배치된 상기의 동박을 포함하는 연성동박적층필름을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides a flexible copper clad laminated film including a polymer film and the copper foil disposed on the polymer film.

본 발명의 또 다른 일 실시예는, 구리 이온을 포함하는 전해액 내에 서로 이격되게 배치된 전극판(anode) 및 회전 전극드럼(cathode)을 40 내지 80 A/dm2의 전류밀도로 통전시켜 구리층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 전해액은 70 내지 90 g/L의 구리 이온, 50 내지 150 g/L의 황산 및 15 ppm 이하의 비소(As)를 포함하는 동박의 제조 방법을 제공한다.In another embodiment of the present invention, an electrode plate (anode) and a rotating electrode drum (cathode) disposed spaced apart from each other in an electrolyte solution containing copper ions are energized at a current density of 40 to 80 A/dm 2 to form a copper layer. Including the step of forming, wherein the electrolyte solution provides a method for manufacturing a copper foil containing copper ions of 70 to 90 g / L, sulfuric acid of 50 to 150 g / L and arsenic (As) of 15 ppm or less.

상기 전해액은 2 내지 20 ppm의 오라민(auramine)을 포함한다.The electrolyte solution contains 2 to 20 ppm of auramine.

상기 전해액은, 2 내지 20 ppm의 시트르산(citric acid)을 포함한다.The electrolyte solution contains 2 to 20 ppm of citric acid.

상기 구리층을 형성하는 단계 전에, 상기 회전 전극드럼의 표면을 #800 내지 #3000의 입도를 갖는 브러시로 연마하는 단계를 포함한다.Before the step of forming the copper layer, a step of polishing the surface of the rotating electrode drum with a brush having a particle size of #800 to #3000 may be included.

상기 전해액은 39 내지 46m3/hour의 유량으로 순환된다.The electrolyte is circulated at a flow rate of 39 to 46 m 3 /hour.

상기 전해액의 유량 편차는 단위시간(초, second)당 5% 이하이다.The flow rate deviation of the electrolyte solution is 5% or less per unit time (second, second).

위와 같은 본 발명에 대한 일반적 서술은 본 발명을 예시하거나 설명하기 위한 것일 뿐으로서, 본 발명의 권리범위를 제한하지 않는다.The general description of the present invention as above is only for exemplifying or explaining the present invention, and does not limit the scope of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 동박은 주름 또는 찢김에 대해 우수한 저항성을 가지며, 동박의 제조 과정 또는 동박을 이용한 이차전지의 제조 과정에서 주름, 찢김 또는 울음의 발생이 방지된다. 그에 따라, 안정적인 제품 생산이 가능해지고, 제품의 제조 수율이 향상되어 제품의 제조 단가 상승이 방지되고, 제품의 신뢰성이 향상된다. The copper foil according to an embodiment of the present invention has excellent resistance to wrinkles or tears, and wrinkles, tears, or cries are prevented during the manufacturing process of the copper foil or the manufacturing process of a secondary battery using the copper foil. Accordingly, stable product production is possible, and product manufacturing yield is improved, thereby preventing an increase in manufacturing cost of the product and improving product reliability.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 동박은 우수한 롤투롤(RTR) 공정성을 가지며, 본 발명의 다른 일 실시예에 따르면 주름, 찢김 또는 울음의 발생이 방지되거나 최소화된 이차전지용 전극이 제조될 수 있다. In addition, the copper foil according to an embodiment of the present invention has excellent roll-to-roll (RTR) processability, and according to another embodiment of the present invention, an electrode for a secondary battery in which wrinkles, tears, or crying is prevented or minimized can be manufactured there is.

첨부된 도면은 본 발명의 이해를 돕고 본 명세서의 일부를 구성하기 위한 것으로서, 본 발명의 실시예들을 예시하며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 원리들을 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 동박의 개략적인 단면도이다.
도 2a는 표면조도 프로파일(roughness profile)의 그래프에 대한 일례이고, 도 2b는 동박의 XRD 그래프에 대한 일례이다.
도 3은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 동박의 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극의 개략적인 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극의 개략적인 단면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지의 개략적인 단면도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 연성동박적층필름의 단면도이다.
도 8은 도 3에 도시된 동박의 제조 공정에 대한 개략도이다.
도 9는 동박에 찢김이 발생한 상태의 사진이다.
The accompanying drawings are intended to aid understanding of the present invention and constitute a part of this specification, illustrate embodiments of the present invention, and explain the principles of the present invention together with the detailed description of the present invention.
1 is a schematic cross-sectional view of a copper foil according to an embodiment of the present invention.
2A is an example of a graph of a surface roughness profile, and FIG. 2B is an example of an XRD graph of a copper foil.
3 is a schematic cross-sectional view of a copper foil according to another embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view of an electrode for a secondary battery according to another embodiment of the present invention.
5 is a schematic cross-sectional view of an electrode for a secondary battery according to another embodiment of the present invention.
6 is a schematic cross-sectional view of a secondary battery according to another embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view of a flexible copper clad laminate according to another embodiment of the present invention.
Figure 8 is a schematic diagram of a manufacturing process of the copper foil shown in Figure 3.
9 is a photograph of a state where tearing has occurred in the copper foil.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명의 다양한 변경 및 변형이 가능하다는 점은 당업자에게 자명할 것이다. 따라서, 본 발명은 특허청구범위에 기재된 발명 및 그 균등물의 범위 내의 변경과 변형을 모두 포함한다.It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications of the present invention are possible without departing from the spirit and scope of the present invention. Accordingly, the present invention includes all modifications and variations within the scope of the invention described in the claims and equivalents thereof.

본 발명의 실시예들을 설명하기 위해 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로, 본 발명이 도면에 도시된 사항에 의해 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 구성 요소는 동일 참조 부호로 지칭될 수 있다. The shape, size, ratio, angle, number, etc. disclosed in the drawings to describe the embodiments of the present invention are exemplary, and the present invention is not limited by the details shown in the drawings. Like elements may be referred to by like reference numerals throughout the specification.

본 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소가 단수로 표현된 경우, 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함한다. 또한, 구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석된다.When 'includes', 'has', 'consists of', etc. mentioned in this specification is used, other parts may be added unless the expression 'only' is used. When a component is expressed in the singular, the plural is included unless specifically stated otherwise. In addition, in interpreting the components, even if there is no separate explicit description, it is interpreted as including the error range.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수 있다.In the case of a description of a positional relationship, for example, 'on top of', 'on top of', 'at the bottom of', 'next to', etc. Or, unless the word 'directly' is used, one or more other parts may be located between the two parts.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이라는 표현이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, 'immediately' or 'directly' when a temporal precedence relationship is described in terms of 'after', 'following', 'next to', 'before', etc. Unless the expression is used, non-continuous cases may also be included.

다양한 구성요소들을 서술하기 위해, '제1', '제2' 등과 같은 표현이 사용되지만, 이들 구성요소들은 이러한 용어에 의해 제한되지 않는다. 이러한 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Expressions such as 'first', 'second', etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Therefore, the first component mentioned below may also be the second component within the technical spirit of the present invention.

"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. The term “at least one” should be understood to include all possible combinations from one or more related items.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시될 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention can be partially or entirely combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each embodiment can be implemented independently of each other or can be implemented together in a related relationship. may be

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 동박(100)의 개략적인 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a copper foil 100 according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 동박(100)은 구리층(110)을 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(100)은 구리층(110) 상에 배치된 방청막(210)을 더 포함할 수 있다. 방청막(210)은 생략될 수 있다.Referring to FIG. 1 , the copper foil 100 includes a copper layer 110 . According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 may further include a rust-prevention film 210 disposed on the copper layer 110 . The anti-rust film 210 may be omitted.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 구리층(110)은 매트면(matte surface) (MS) 및 그 반대편의 샤이니면(shiny surface)(SS)을 갖는다.According to one embodiment of the present invention, the copper layer 110 has a matte surface (MS) and an opposite shiny surface (SS).

구리층(110)은, 예를 들어, 전기 도금을 통해 회전 전극드럼 상에 형성될 수 있다(도 8 참조). 이 때, 샤이니면(SS)은 전기 도금 과정에서 회전 전극드럼과 접촉하였던 면을 지칭하고, 매트면(MS)은 샤이니면(SS)의 반대편 면을 지칭한다.The copper layer 110 may be formed on the rotating electrode drum through, for example, electroplating (see FIG. 8). At this time, the shiny surface SS refers to a surface that is in contact with the rotating electrode drum during the electroplating process, and the matte surface MS refers to a surface opposite to the shiny surface SS.

샤이니면(SS)이 매트면(MS)에 비해 더 낮은 표면조도(Rz)를 갖는 것이 일반적이기는 하지만, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 샤이니면(SS)의 표면조도(Rz)가 매트면(MS)의 표면조도(Rz)와 동일하거나 더 높을 수도 있다. Although it is common for the shiny surface (SS) to have a lower surface roughness (Rz) than the matte surface (MS), one embodiment of the present invention is not limited thereto. The surface roughness (Rz) of the shiny surface (SS) may be equal to or higher than the surface roughness (Rz) of the matte surface (MS).

방청막(210)은 구리층(110)의 매트면(MS) 및 샤이니면(SS) 중 적어도 하나에 배치될 수 있다. 도 1을 참조하면, 방청막(210)이 매트면(MS)에 배치된다. 그러나, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 방청막(210)은 샤이니면(SS)에만 배치될 수도 있고, 매트면(MS)과 샤이니면(SS) 모두에 배치될 수도 있다. The anti-rust film 210 may be disposed on at least one of the matte surface MS and the shiny surface SS of the copper layer 110 . Referring to FIG. 1 , an anti-rust film 210 is disposed on the mat surface MS. However, an embodiment of the present invention is not limited thereto, and the anti-rust film 210 may be disposed only on the shiny surface SS, or may be disposed on both the matte surface MS and the shiny surface SS.

방청막(210)은 구리층(110)을 보호한다. 방청막(210)은 보존 과정에서 구리층(110)이 산화되거나 변질되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 방청막(210)을 보호층이라고도 한다.The anti-rust film 210 protects the copper layer 110 . The anti-rust film 210 can prevent the copper layer 110 from being oxidized or deteriorated during preservation. Therefore, the anti-rust film 210 is also referred to as a protective layer.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 방청막(210)은 크롬(Cr), 실란 화합물 및 질소 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the anti-rust film 210 may include at least one of chromium (Cr), a silane compound, and a nitrogen compound.

예를 들어, 크롬(Cr)을 포함하는 방청액, 즉, 크롬산 화합물을 포함하는 방청액에 의하여 방청막(210)이 만들어질 수 있다.For example, the anti-rust film 210 may be made by using an anti-rust liquid containing chromium (Cr), that is, a anti-rust liquid containing a chromic acid compound.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(100)은 구리층(110)을 기준으로 매트면(MS) 방향의 표면인 제1 면(S1) 및 샤이니면(SS) 방향의 표면인 제2 면(S2)을 갖는다. 도 1에서, 동박(100)의 제1 면(S1)은 방청막(210)의 표면이고, 제2 면(S2)은 샤이니면(SS)이다. 구리층(110)에 방청막(210)이 배치되지 않는 경우, 구리층(110)의 매트면(MS)이 동박(100)의 제1 면(S1)이 된다.According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a first surface S1 that is a surface in the direction of the mat surface (MS) and a second surface that is a surface in the direction of the shiny surface (SS) with respect to the copper layer 110. (S2). In FIG. 1 , the first surface S1 of the copper foil 100 is the surface of the anti-rust film 210, and the second surface S2 is the shiny surface SS. When the anti-rust film 210 is not disposed on the copper layer 110, the matte surface MS of the copper layer 110 becomes the first surface S1 of the copper foil 100.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(100)은 0.02 내지 0.37의 두께 프로파일 피크비율(Proportion of Thickness to Profile peak height, PTP)을 갖는다.According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a thickness profile peak ratio (Proportion of Thickness to Profile peak height, PTP) of 0.02 to 0.37.

동박(100)의 두께 프로파일 피크비율(PTP)은 아래 식 1로 구해진다.The thickness profile peak ratio (PTP) of the copper foil 100 is obtained by Equation 1 below.

[식 1][Equation 1]

PTP = Rp / Tcopper PTP = Rp/T copper

식 1에서 "Rp"는 동박의 피크 조도(peak roughness) 이고, "Tcopper"는 동박의 두께이다.In Equation 1, “Rp” is the peak roughness of the copper foil, and “T copper ” is the thickness of the copper foil.

본 발명의 일 실시예에 따르면, "피크 조도(Rp)"는 JIS B 0601-2001 규격에 따라 조도계로 측정될 수 있다. 예를 들어, 피크 조도(Rp)는 Mitutotyo 社의 조도계(SJ-310)로 측정될 수 있다. 구체적으로, Mitutotyo 社의 SJ-310 조도계를 이용하여, 컷 오프(Cut off) 길이를 제외한 측정 길이를 4mm로, 초기와 말기의 컷 오프(Cut off) 길이를 각각 0.8mm로, 스타일러스 팁(Stylus Tip)의 반지름(Radius)을 2㎛로, 측정 압력을 0.75mN로 설정한 후 Rp 값을 측정할 수 있다. 이와 같이 측정된 값은 Mitutoyo 조도계 측정값 기준의 피크 조도(Rp)에 해당된다.According to one embodiment of the present invention, "peak roughness (Rp)" may be measured with a roughness meter according to the JIS B 0601-2001 standard. For example, the peak roughness (Rp) may be measured with a roughness meter (SJ-310) manufactured by Mitutotyo. Specifically, using Mitutotyo's SJ-310 roughness meter, the measurement length excluding the cut-off length was 4 mm, the initial and final cut-off lengths were each 0.8 mm, and the stylus tip (Stylus The Rp value can be measured after setting the radius of Tip) to 2㎛ and the measurement pressure to 0.75mN. The value measured in this way corresponds to the peak roughness (Rp) based on the measured value of the Mitutoyo illuminance meter.

도 2a는 표면조도 프로파일(roughness profile)의 그래프의 일례이다. 도 2a에 표시된 바와 같이, 피크 조도(Rp)는 표면조도 프로파일(샘플링 길이: 4mm)의 평균선(mean line, ML)으로부터 가장 높은 피크의 높이를 의미한다.2A is an example of a graph of a surface roughness profile. As shown in FIG. 2A, the peak roughness (Rp) means the height of the highest peak from the mean line (ML) of the surface roughness profile (sampling length: 4 mm).

동박(100)의 두께(Tcopper)는 단위 면적당 동박의 중량과 동박의 밀도로부터 구해진다. The thickness (T copper ) of the copper foil 100 is obtained from the weight of the copper foil per unit area and the density of the copper foil.

예를 들어, 10cm x 10cm의 면적을 갖는 동박(100)의 샘플로부터 동박(100)의 두께가 구해질 수 있다. 구체적으로, 10cm x 10cm의 면적을 갖는 동박(100)의 중량이 C g인 경우, 구리의 밀도가 8.94g/cm3인 것을 고려할 때, 다음의 계산식 1에 따라 동박(100)의 두께가 구해질 수 있다.For example, the thickness of the copper foil 100 may be obtained from a sample of the copper foil 100 having an area of 10 cm x 10 cm. Specifically, when the weight of the copper foil 100 having an area of 10 cm x 10 cm is C g, considering that the density of copper is 8.94 g / cm 3 , the thickness of the copper foil 100 is obtained according to the following formula 1 it can be done

[계산식 1] [Calculation 1]

Figure 112018060585704-pat00001
Figure 112018060585704-pat00001

두께 프로파일 피크비율(PTP)이 0.02 미만이면 동박(100) 표면 프로파일이 낮아 동박(100)을 이용한 제품, 예를 들어, 이차전지 제조공정에서 미끄러짐(slip)에 의한 주름이 발생될 수 있다. 두께 프로파일 피크비율(PTP)이 0.37을 초과하면, 동박(100)의 두께 대비 프로파일이 높아 롤투롤(Roll to Roll) 공정에 의해 이차전지를 제조과정에서, 두께 대비 상대적으로 높은 표면 프로파일이 노치(Notch)로 작용하여 동박(100)에 찢김이 발생될 수 있다.If the thickness profile peak ratio (PTP) is less than 0.02, the surface profile of the copper foil 100 is low, and wrinkles due to slip may occur in the manufacturing process of a product using the copper foil 100, for example, a secondary battery. When the thickness profile peak ratio (PTP) exceeds 0.37, the profile to the thickness of the copper foil 100 is high, and in the process of manufacturing a secondary battery by the Roll to Roll process, a relatively high surface profile to the thickness is notched ( It acts as a notch, and tearing may occur in the copper foil 100.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(100)은 0.71 이하의 두께 프로파일 피크비율 편의(偏倚)(Bias for Proportion of Thickness to Profile peak height, BPTP)를 갖는다.According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a thickness profile peak ratio bias (Bias for Proportion of Thickness to Profile peak height, BPTP) of 0.71 or less.

동박(100)의 두께 프로파일 피크비율 편의(BPTP)는 아래 식 2로 구해진다.The thickness profile peak ratio shift (BPTP) of the copper foil 100 is obtained by Equation 2 below.

[식 2][Equation 2]

BPTP = (PTPmax - PTPmin)/ PTPaveBPTP = (PTPmax - PTPmin)/PTPave

식 2에서, PTPmax는 두께 프로파일 피크비율(PTP)의 최대값이고, PTPmin은 두께 프로파일 피크비율(PTP)의 최소값이고, PTPave는 두께 프로파일 피크비율(PTP)의 평균값이다.In Equation 2, PTPmax is the maximum value of the thickness profile peak ratio (PTP), PTPmin is the minimum value of the thickness profile peak ratio (PTP), and PTPave is the average value of the thickness profile peak ratio (PTP).

PTPmax, PTPmin 및 PTPave는 다음과 같이 구해질 수 있다. 동박(100)의 폭방향 3개 지점(왼쪽 L, 중앙 C 및 오른쪽 R)에서 각각 3회씩 PTP를 측정하고 평균하여, 그 값이 가장 낮은 지점의 평균값을 PTPmin이라 하고, 가장 높은 지점의 평균값을 RRTmax라 하고, 3개 지점에서 측정된 9개의 PTP 값 전체의 평균을 PTPave라 한다.PTPmax, PTPmin and PTPave can be obtained as follows. PTP was measured three times each at three points in the width direction (left L, center C, and right R) of the copper foil 100 and averaged, and the average value at the lowest point was PTPmin, and the average value at the highest point It is called RRTmax, and the average of all nine PTP values measured at three points is called PTPave.

두께 프로파일 피크비율 편의(BPTP)가 0.71를 초과하면, 국부적인 두께 프로파일 피크비율의 차이로 인해 롤투롤(Roll to Roll)를 공정을 이용한 제품, 예를 들어, 이차전지의 제조 공정에서 동박(100) 찢김 또는 주름이 발생될 수 있다. If the thickness profile peak ratio bias (BPTP) exceeds 0.71, due to the difference in the local thickness profile peak ratio, copper foil (100 ) tear or crease may occur.

또한, 동박(100)은 0.79 내지 1.21의 반가폭(Full Width at Half Maximum, FWHM) 변동률을 갖는다.In addition, the copper foil 100 has a full width at half maximum (FWHM) variation rate of 0.79 to 1.21.

반가폭(FWHM) 변동률은 아래 식 3으로 구해진다.The full width at half maximum (FWHM) rate of change is obtained by Equation 3 below.

[식 3][Equation 3]

반가폭 변동률 = (열처리 후 반가폭)/(열처리 전 반가폭)Rate of change in half width = (half width after heat treatment)/(half width before heat treatment)

식 3에서 열처리 후 반가폭은 110℃에서 30분간 열처리된 후 동박(100)의 (220)면의 반가폭(FWHM)이고, 열처리 전 반가폭은 110℃에서 30분간 열처리되기 전 동박(100)의 (220)면의 반가폭(FWHM)으로 상온(25℃±15℃)에서 측정된다.In Equation 3, the half width after heat treatment is the half width (FWHM) of the (220) surface of the copper foil 100 after heat treatment at 110 ° C. for 30 minutes, and the half width before heat treatment is copper foil 100 before heat treatment at 110 ° C. for 30 minutes The full width at half maximum (FWHM) of the (220) plane of is measured at room temperature (25°C ± 15°C).

반가폭은 동박(100)의 XRD 그래프로부터 구해질 수 있다.The half width can be obtained from the XRD graph of the copper foil 100.

도 2b는 동박의 XRD 그래프에 대한 일례이다. 도 2b를 참조하면, 30° 내지 95°의 회절각(2θ) 범위에서 X선 회절 분석(XRD)[(i) Target: Copper K alpha 1, (ii) 2θ interval: 0.01°, (iii) 2θ scan speed: 3°/min]이 실시됨으로써, n개의 결정면들에 대응하는 피크들을 갖는 XRD 그래프가 얻어질 수 있다. 얻어진 동박(100)의 XRD 그래프로부터 동박(100)의 (220)면의 반가폭(FWHM)이 측정된다. 반가폭(FWHM)은 X선 회절 분석(XRD) 장치의 소프트웨어로부터 얻어질 수 있다.2B is an example of an XRD graph of copper foil. Referring to Figure 2b, X-ray diffraction analysis (XRD) in the diffraction angle (2θ) range of 30 ° to 95 ° [(i) Target: Copper K alpha 1, (ii) 2θ interval: 0.01 °, (iii) 2θ scan speed: 3°/min], an XRD graph having peaks corresponding to n crystal planes can be obtained. From the XRD graph of the obtained copper foil 100, the full width at half maximum (FWHM) of the (220) plane of the copper foil 100 is measured. The full width at half maximum (FWHM) can be obtained from the software of the X-ray diffraction analysis (XRD) instrument.

동박(100)의 (220)면에 대한 XRD 피크(Peak)의 반가폭(FWHM) 변동률이 0.79 미만이거나 1.21을 초과하는 것은, 동박(100)을 이용하여 제조되는 제품, 예를 들어, 이차전지의 제조 공정에서 받는 열이력에 의해 동박(100)의 치수가 크게 변한다는 것을 의미한다. 이러한 치수 변동으로 인해 롤투롤(RTR)에 의한 이차전지 제조 공정에서 주름이 발생될 수 있다. A product manufactured using the copper foil 100, for example, a secondary battery, in which the FWHM variation rate of the XRD peak on the (220) plane of the copper foil 100 is less than 0.79 or exceeds 1.21. This means that the dimensions of the copper foil 100 change greatly due to the thermal history received in the manufacturing process of. Due to such dimensional variation, wrinkles may occur in a secondary battery manufacturing process by roll-to-roll (RTR).

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(100)은 (220)면을 가지며, 상온(25±15℃)에서 동박(100)의 (220)면의 집합조직계수[TC(220)]는 0.48 내지 1.28이다. 집합조직계수[TC(220)]는 동박(100) 표면의 결정구조와 관련된다.According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a (220) plane, and the texture coefficient [TC (220)] of the (220) plane of the copper foil 100 at room temperature (25 ± 15 ° C) is 0.48 to 1.28. The texture coefficient [TC(220)] is related to the crystal structure of the surface of the copper foil 100.

이하, 도 2b를 참조하여, 동박의 (220)면의 집합조직계수[TC(220)]를 측정 및 산출하는 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of measuring and calculating the texture coefficient [TC(220)] of the (220) plane of copper foil will be described with reference to FIG. 2B.

도 2b를 참조하면, 먼저, 30° 내지 95°의 회절각(2θ) 범위에서 X선 회절 분석(XRD)[Target: Copper K alpha 1, 2θ interval: 0.01°, 2θ scan speed: 3°/min]에 의해, n개의 결정면들에 대응하는 피크들을 갖는 XRD 그래프가 얻어진다. 예를 들어, 도 2b에 예시된 바와 같이 (111)면, (200)면, (220)면, 및 (311)면에 해당하는 피크들이 나타난 XRD 그래프가 얻어질 수 있다. Referring to FIG. 2B, first, X-ray diffraction analysis (XRD) in the diffraction angle (2θ) range of 30 ° to 95 ° [Target: Copper K alpha 1, 2θ interval: 0.01 °, 2θ scan speed: 3 ° / min ], an XRD graph having peaks corresponding to n crystal planes is obtained. For example, as illustrated in FIG. 2B , an XRD graph showing peaks corresponding to the (111) plane, the (200) plane, the (220) plane, and the (311) plane can be obtained.

다음, 이 그래프로부터 각 결정면(hkl)의 XRD 회절강도[I(hkl)]가 구해진다. 또한, JCPDS(Joint Committee on Powder Diffraction Standards)에 의해 규정된 표준 구리 분말의 n개의 결정면들 각각에 대한 XRD 회절강도[I0(hkl)]가 구해진다. 이어서, n개의 결정면들의 I(hkl)/I0(hkl)의 산술평균값이 산출되고, 그 산술평균값으로 (220)면의 I(220)/I0(220)가 나누어짐으로써 (220)면의 집합조직계수[TC(220)]가 산출된다. 구체적으로, (220)면의 집합조직계수[TC(220)]는 다음의 식 4에 기초하여 산출된다.Next, the XRD diffraction intensity [I(hkl)] of each crystal plane (hkl) is obtained from this graph. In addition, the XRD diffraction intensity [I 0 (hkl)] for each of the n crystal planes of the standard copper powder specified by the Joint Committee on Powder Diffraction Standards (JCPDS) is obtained. Subsequently, the arithmetic average value of I(hkl)/I 0 (hkl) of the n crystal planes is calculated, and the arithmetic average value is divided by I(220)/I 0 (220) of the (220) plane to (220) plane. The texture coefficient [TC (220)] of is calculated. Specifically, the texture coefficient [TC(220)] of the (220) plane is calculated based on the following Equation 4.

[식 4][Equation 4]

Figure 112018060585704-pat00002
Figure 112018060585704-pat00002

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(100)의 제1 및 제2 면(S1, S2) 각각의 (220)면은 0.48 내지 1.28의 집합조직계수[TC(220)]를 가질 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the (220) surface of each of the first and second surfaces S1 and S2 of the copper foil 100 may have a texture coefficient [TC (220)] of 0.48 to 1.28.

(220)면의 집합조직계수[TC(220)]가 0.48 미만이면, 동박(100)의 결정 조직이 치밀하지 못하여, 이차전지 제조 공정에서 받는 응력 및 열에 의해 조직이 변형되어 동박(100)에 주름이 발생된다. (220)면의 집합조직의 계수가 1.28을 초과하면 동박(100)의 조직이 너무 치밀하여 취성이 강해져 이차전지 제조 공정에서 동박(100)에 찢김이 발생하여, 안정적인 제품 생산에 어려움이 생길 수 있다. If the texture coefficient [TC(220)] of the (220) plane is less than 0.48, the crystal structure of the copper foil 100 is not dense, and the structure is deformed by the stress and heat received in the secondary battery manufacturing process, so that the copper foil 100 wrinkles occur. If the coefficient of the texture of the (220) plane exceeds 1.28, the copper foil 100 is too dense and brittle, resulting in tearing of the copper foil 100 in the secondary battery manufacturing process, which may cause difficulties in stable product production. there is.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(100)은 0.6 내지 3.5㎛의 최대 높이 조도(Rmax)를 갖는다.According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a maximum height roughness (Rmax) of 0.6 to 3.5 μm.

최대 높이 조도(Rmax)는 JIS B 0601-2001 규격에 따라 조도계로 측정될 수 있다. 예를 들어, Mitutoyo SJ-310 모델에 의해 최대 높이 조도(Rmax)가 측정될 수 있다. 구체적으로, 컷 오프(Cut off) 길이를 제외한 측정 길이 4mm, 초기와 말기의 컷 오프(Cut off) 길이 각각 0.8mm, 스타일러스 팁(Stylus Tip)의 반지름(Radius)은 2㎛, 측정 압력 0.75mN로 설정 후 측정하여 Rmax 값을 얻을 수 있다. 이와 같이 측정된 값은 Mitutoyo 조도계 측정 기준의 최대 높이 조도(Rmax)에 해당된다.The maximum height roughness (Rmax) may be measured with a roughness meter according to the JIS B 0601-2001 standard. For example, the maximum height roughness (Rmax) can be measured by the Mitutoyo SJ-310 model. Specifically, the measurement length excluding the cut off length is 4 mm, the initial and final cut off lengths are each 0.8 mm, the radius of the stylus tip is 2 μm, and the measurement pressure is 0.75 mN. After setting to , the Rmax value can be obtained by measuring. The value measured in this way corresponds to the maximum height roughness (Rmax) of the Mitutoyo roughness meter measurement standard.

동박(100)의 최대 높이 조도(Rmax)가 0.6㎛ 미만이면 동박(100) 표면에 활물질이 코팅될 수 있는 활성자리가 충분하지 못하여, 활물질이 동박(100)에 충분히 강하게 결합력으로 결합되지 못할 수 있다. 그에 따라, 동박(100)의 표면에서 활물질의 박리가 발생될 수 있다. If the maximum height roughness (Rmax) of the copper foil 100 is less than 0.6 μm, the surface of the copper foil 100 may not have enough active sites where the active material can be coated, so the active material may not be bonded to the copper foil 100 with a sufficiently strong bonding force. there is. Accordingly, peeling of the active material may occur on the surface of the copper foil 100 .

동박(100)의 최대 높이 조도(Rmax)가 3.5㎛를 초과하면, 동박(100) 표면의 불균일로 인하여 활물질이 동박(100) 표면에 균일하게 코팅되지 못할 수 있다.If the maximum height roughness (Rmax) of the copper foil 100 exceeds 3.5 μm, the active material may not be uniformly coated on the surface of the copper foil 100 due to non-uniformity of the surface of the copper foil 100 .

본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(100)은 3% 이하의 중량 편차를 갖는다.According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a weight deviation of 3% or less.

중량 편차는 동박(100)의 폭 방향, 즉, TD(Transverse Direction)를 따라 배열된 3개 지점들에서 10cm x 10cm의 샘플들을 각각 취한 후 각 샘플의 중량을 측정하여 단위면적당 중량을 산출하고, 3개 샘플의 단위면적당 중량으로부터 "3 지점의 평균 중량"과 "중량의 표준편차"를 산출함으로써 구해질 수 있다. 중량 편차는 다음 식 5로 구해질 수 있다.The weight deviation is calculated by measuring the weight of each sample after taking samples of 10 cm x 10 cm from three points arranged along the width direction of the copper foil 100, that is, TD (Transverse Direction), It can be obtained by calculating the "average weight of three points" and the "standard deviation of weight" from the weight per unit area of the three samples. The weight deviation can be obtained by Equation 5 below.

[식 5][Equation 5]

Figure 112018060585704-pat00003
Figure 112018060585704-pat00003

동박(100)의 중량 편차가 3%를 초과하면, 이차전지 제조를 위한 롤투롤 공정 중에 동박(100)에 가해지는 장력 또는 중량 중첩에 의해 동박(100)에 주름 또는 울음이 발생할 수 있다.If the weight variation of the copper foil 100 exceeds 3%, wrinkles or cries may occur in the copper foil 100 due to tension or weight overlap applied to the copper foil 100 during a roll-to-roll process for manufacturing a secondary battery.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 동박(100)은 4㎛ 내지 30㎛의 두께를 가질 수 있다. 동박(100)의 두께가 4㎛ 미만인 경우, 동박(100)을 이용한 이차전지용 전극 또는 이차전지의 제조 과정에서 작업성이 저하된다. 동박(100)의 두께가 30㎛를 초과하는 경우, 동박(100)을 이용한 이차전지용 전극의 두께가 커지고, 이러한 큰 두께로 인하여 이차전지의 고용량 구현에 어려움이 발생할 수 있다.Also, according to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 may have a thickness of 4 μm to 30 μm. When the thickness of the copper foil 100 is less than 4 μm, workability is reduced in the process of manufacturing a secondary battery electrode or a secondary battery using the copper foil 100 . When the thickness of the copper foil 100 exceeds 30 μm, the thickness of the secondary battery electrode using the copper foil 100 increases, and this large thickness may cause difficulties in implementing a high capacity secondary battery.

도 3은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 동박(200)의 개략적인 단면도이다. 이하, 중복을 피하기 위하여 이미 설명된 구성요소에 대한 설명은 생략된다.3 is a schematic cross-sectional view of a copper foil 200 according to another embodiment of the present invention. Hereinafter, descriptions of components already described are omitted to avoid redundancy.

도 3을 참조하면, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 동박(200)은 구리층(110) 및 구리층(110)의 매트면(MS)과 샤이니면(SS)에 각각 배치된 두 개의 방청막(210, 220)을 포함한다. 도 1에 도시된 동박(100)과 비교하여, 도 3에 도시된 동박(200)은 구리층(110)의 샤이니면(SS)에 배치된 방청막(220)을 더 포함한다.Referring to FIG. 3 , the copper foil 200 according to another embodiment of the present invention includes a copper layer 110 and two anti-rust surfaces disposed on the matte surface MS and the shiny surface SS of the copper layer 110, respectively. It includes membranes 210 and 220. Compared to the copper foil 100 shown in FIG. 1 , the copper foil 200 shown in FIG. 3 further includes an anti-rust film 220 disposed on the shiny surface SS of the copper layer 110 .

설명의 편의를 위해, 두 개의 방청막(210, 220) 중 구리층(110)의 매트면(MS)에 배치된 방청막(210)을 제1 보호층이라고 하고, 샤이니면(SS)에 배치된 방청막(220)을 제2 보호층이라 할 수 있다.For convenience of description, among the two anti-rust films 210 and 220, the anti-rust film 210 disposed on the matte surface MS of the copper layer 110 is referred to as a first protective layer and disposed on the shiny surface SS. The rust-prevention film 220 may be referred to as a second protective layer.

도 3에 도시된 동박(200)의 제1 면(S2)은 매트면(MS)에 배치된 방청막(210)의 표면이고, 제2 면(S2)은 샤이니면(SS)에 배치된 방청막(220)의 표면이다.The first surface S2 of the copper foil 200 shown in FIG. 3 is the surface of the anti-rust film 210 disposed on the mat surface MS, and the second surface S2 is disposed on the shiny surface SS. It is the surface of the film 220.

본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 두 개의 방청막(210, 220)은 각각 크롬(Cr), 실란 화합물 및 질소 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to another embodiment of the present invention, each of the two anti-rust films 210 and 220 may include at least one of chromium (Cr), a silane compound, and a nitrogen compound.

도 3에 도시된 동박(200)은 0.02 내지 0.37의 두께 프로파일 피크비율(PTP), 0.71 이하의 두께 프로파일 피크비율 편의(BPTP), 0.79 내지 1.21의 반가폭(FWHM) 변동률, 0.6 내지 3.5㎛의 최대 높이 조도(Rmax) 및 3% 이하의 중량 편차를 갖는다. The copper foil 200 shown in FIG. 3 has a thickness profile peak ratio (PTP) of 0.02 to 0.37, a thickness profile peak ratio deviation (BPTP) of 0.71 or less, a full width at half maximum (FWHM) variation of 0.79 to 1.21, and a variation of 0.6 to 3.5 μm. It has a maximum height roughness (Rmax) and a weight deviation of less than 3%.

또한, 도 3에 도시된 동박(200)에 있어서, 상온(25±15℃)에서 (220)면의 집합조직계수[TC(220)]는 0.48 내지 1.28이다. 도 3에 도시된 동박(200)은 4㎛ 내지 30㎛의 두께를 가질 수 있다.In addition, in the copper foil 200 shown in FIG. 3, the texture coefficient [TC(220)] of the (220) plane at room temperature (25±15° C.) is 0.48 to 1.28. The copper foil 200 shown in FIG. 3 may have a thickness of 4 μm to 30 μm.

도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극(300)의 개략적인 단면도이다.4 is a schematic cross-sectional view of an electrode 300 for a secondary battery according to another embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극(300)은 동박(100) 및 동박(100) 상에 배치된 활물질층(310)을 포함한다. 도 4에 도시된 이차전지용 전극(300)은, 예를 들어, 도 6에 도시된 이차전지(500)에 적용될 수 있다. Referring to FIG. 4 , an electrode 300 for a secondary battery according to another embodiment of the present invention includes a copper foil 100 and an active material layer 310 disposed on the copper foil 100 . The secondary battery electrode 300 shown in FIG. 4 may be applied to, for example, the secondary battery 500 shown in FIG. 6 .

동박(100)의 표면들(S1, S2) 중 제1 면(S1)에만 활물질층(310)이 배치된 구조가 도 4에 도시되어 있으나, 본 발명의 또 다른 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 동박(100)의 제1 면(S1)과 제 2면(S2) 모두에 활물질층(310)이 각각 배치될 수도 있고, 동박(100)의 제 2면(S2)에만 활물질층(310)이 배치될 수도 있다.A structure in which the active material layer 310 is disposed only on the first surface S1 of the surfaces S1 and S2 of the copper foil 100 is shown in FIG. 4, but another embodiment of the present invention is not limited thereto. . The active material layer 310 may be disposed on both the first surface S1 and the second surface S2 of the copper foil 100, respectively, and the active material layer 310 is provided only on the second surface S2 of the copper foil 100. may be placed.

구체적으로, 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극(300)은 제1 면(S1)과 제2 면(S2)을 갖는 동박(100) 및 동박(100)의 제1 면(S1)과 제2 면(S2) 중 적어도 하나에 배치된 활물질층(310)을 포함할 수 있다. Specifically, the electrode 300 for a secondary battery according to another embodiment of the present invention includes a copper foil 100 having a first surface S1 and a second surface S2 and a first surface S1 of the copper foil 100. ) and the active material layer 310 disposed on at least one of the second surface S2.

도 4에 전류 집전체로 도 1의 동박(100)이 이용된 것이 도시되어 있다. 그러나, 본 발명의 또 다른 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 도 3에 도시된 동박(200)이 이차전지용 전극(300)의 집전체로 사용될 수도 있다. 4 shows that the copper foil 100 of FIG. 1 is used as a current collector. However, another embodiment of the present invention is not limited thereto, and the copper foil 200 shown in FIG. 3 may be used as a current collector of the electrode 300 for a secondary battery.

이차전지용 전극(300)에서 동박(100)은 전류 집전체로 사용된다. 예를 들어, 동박(100)은 음극 전류 집전체 또는 음극 집전체로 사용될 수 있다.In the secondary battery electrode 300, the copper foil 100 is used as a current collector. For example, the copper foil 100 may be used as an anode current collector or an anode current collector.

도 4에 도시된 활물질층(310)은 전극 활물질로 이루어지며, 특히 음극 활물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 도 4에 도시된 이차전지용 전극(300)은 음극으로 사용될 수 있다.The active material layer 310 shown in FIG. 4 is made of an electrode active material, and in particular, may be made of an anode active material. For example, the secondary battery electrode 300 shown in FIG. 4 may be used as a negative electrode.

활물질층(310)은, 탄소, 금속, 금속의 산화물 및 금속과 탄소의 복합체 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 금속으로, Ge, Sn, Li, Zn, Mg, Cd, Ce, Ni 및 Fe 중 적어도 하나가 사용될 수 있다. 또한, 이차전지의 충방전 용량을 증가시키기 위하여, 활물질층(310)은 실리콘(Si)을 포함할 수 있다.The active material layer 310 may include at least one of carbon, a metal, an oxide of a metal, and a composite of metal and carbon. As the metal, at least one of Ge, Sn, Li, Zn, Mg, Cd, Ce, Ni and Fe may be used. Also, in order to increase the charge/discharge capacity of the secondary battery, the active material layer 310 may include silicon (Si).

본 발명의 일 실시예에 따른 동박(100)이 사용되는 경우, 이차전지용 전극(300)의 제조과정에서 동박(100)의 찢김 또는 주름이 방지된다. 그에 따라, 이차전지용 전극(300)의 제조 효율이 향상되며, 이러한 이차전지용 전극(300)을 포함하는 이차전지의 충방전 효율 및 용량 유지율이 향상될 수 있다.When the copper foil 100 according to an embodiment of the present invention is used, tearing or wrinkles of the copper foil 100 are prevented during the manufacturing process of the electrode 300 for a secondary battery. Accordingly, the manufacturing efficiency of the secondary battery electrode 300 may be improved, and the charge/discharge efficiency and capacity retention rate of the secondary battery including the secondary battery electrode 300 may be improved.

도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극(400)의 개략적인 단면도이다. 5 is a schematic cross-sectional view of an electrode 400 for a secondary battery according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지용 전극(400)은 동박(200) 및 동박(200) 상에 배치된 활물질층(310, 320)을 포함한다. An electrode 400 for a secondary battery according to another embodiment of the present invention includes a copper foil 200 and active material layers 310 and 320 disposed on the copper foil 200 .

도 5를 참조하면, 동박(200)은 구리층(110) 및 구리층(110)의 양면에 배치된 두 개의 방청막(210, 220)을 포함한다.Referring to FIG. 5 , the copper foil 200 includes a copper layer 110 and two anti-rust films 210 and 220 disposed on both sides of the copper layer 110 .

또한, 도 5에 도시된 이차전지용 전극(300)은 동박(200)의 양면에 배치된 두 개의 활물질층(310, 320)을 포함한다. 여기서, 동박(200)의 제1 면(S1) 상에 배치된 활물질층(310)을 제1 활물질층이라 하고, 동박(200)의 제2 면(S2)에 배치된 활물질층(320)을 제2 활물질층이라 할 수 있다.In addition, the secondary battery electrode 300 shown in FIG. 5 includes two active material layers 310 and 320 disposed on both sides of the copper foil 200 . Here, the active material layer 310 disposed on the first surface S1 of the copper foil 200 is referred to as the first active material layer, and the active material layer 320 disposed on the second surface S2 of the copper foil 200 It may be referred to as the second active material layer.

두 개의 활물질층(310, 320)은 서로 동일한 재료에 의해 동일한 방법으로 만들어질 수도 있고, 다른 재료 또는 다른 방법으로 만들어질 수도 있다.The two active material layers 310 and 320 may be made of the same material using the same method, or may be made of different materials or methods.

도 6은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 이차전지(500)의 개략적인 단면도이다. 도 6에 도시된 이차전지(500)는, 예를 들어, 리튬 이차전지이다.6 is a schematic cross-sectional view of a secondary battery 500 according to another embodiment of the present invention. The secondary battery 500 shown in FIG. 6 is, for example, a lithium secondary battery.

도 6을 참조하면, 이차전지(500)는, 양극(cathode)(370), 양극(370)과 대향 배치된 음극(anode)(340), 양극(370)과 음극(340) 사이에서 이온이 이동할 수 있는 환경을 제공하는 전해질(electrolyte)(350), 및 양극(370)과 음극(340)을 전기적으로 절연시켜 주는 분리막(separator)(360)을 포함한다. 여기서, 양극(370)과 음극(340) 사이에서 이동하는 이온은 리튬 이온이다. 분리막(360)은 하나의 전극에서 발생된 전하가 이차전지(500)의 내부를 통해 다른 전극으로 이동하여 무익하게 소모되는 것을 방지하기 위해 양극(370)과 음극(340)을 분리한다. 도 6을 참조하면, 분리막(360)은 전해질(350) 내에 배치된다.Referring to FIG. 6, the secondary battery 500 has a cathode 370, an anode 340 opposite to the cathode 370, and ions between the anode 370 and the cathode 340. An electrolyte 350 providing a movable environment and a separator 360 electrically insulating the anode 370 and the cathode 340 are included. Here, ions moving between the positive electrode 370 and the negative electrode 340 are lithium ions. The separator 360 separates the positive electrode 370 and the negative electrode 340 to prevent charges generated from one electrode from moving to the other electrode through the inside of the secondary battery 500 and being useless. Referring to FIG. 6 , a separator 360 is disposed within an electrolyte 350 .

양극(370)은 양극 집전체(371) 및 양극 활물질층(372)을 포함한다. 양극 집전체(371)로 알루미늄 호일(foil)이 사용될 수 있다.The cathode 370 includes a cathode current collector 371 and a cathode active material layer 372 . Aluminum foil may be used as the positive current collector 371 .

음극(340)은 음극 집전체(341) 및 음극 활물질층(342)을 포함한다. 음극 활물질층(342)은 음극 활물질을 포함한다.The negative electrode 340 includes a negative electrode current collector 341 and a negative electrode active material layer 342 . The negative active material layer 342 includes a negative active material.

음극 집전체(341)로, 도 1 및 3에 개시된 동박(100, 200)이 사용될 수 있다. 또한, 도 4 및 5에 도시된 이차전지용 전극(300, 400)이 도 6에 도시된 이차전지(500)의 음극(340)으로 사용될 수 있다.As the negative current collector 341, the copper foils 100 and 200 disclosed in FIGS. 1 and 3 may be used. In addition, the secondary battery electrodes 300 and 400 shown in FIGS. 4 and 5 may be used as the negative electrode 340 of the secondary battery 500 shown in FIG. 6 .

도 7은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 연성동박적층필름(600)의 개략적인 단면도이다.7 is a schematic cross-sectional view of a flexible copper clad laminated film 600 according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 연성동박적층필름(600)은 고분자막(410) 및 고분자막(410) 상에 배치된 동박(100)을 포함한다. 도 1에 도시된 동박(100)을 포함하는 연성동박적층필름(600)이 도 7에 도시되어 있지만, 본 발명의 또 다른 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 도 3에 도시된 동박(200) 또는 다른 도 7의 연성동박적층필름(600)에 사용될 수 있다.The flexible copper clad laminated film 600 according to another embodiment of the present invention includes a polymer film 410 and the copper foil 100 disposed on the polymer film 410 . Although the flexible copper clad laminated film 600 including the copper foil 100 shown in FIG. 1 is shown in FIG. 7, another embodiment of the present invention is not limited thereto. For example, it may be used for the copper foil 200 shown in FIG. 3 or the flexible copper clad laminated film 600 shown in FIG. 7 .

고분자막(410)은 연성(flexibility)을 가지며 비전도성을 갖는다. 고분자막(410)의 종류에 특별한 제한이 있는 것은 아니다. 고분자막(410)은, 예를 들어, 폴리이미드를 포함할 수 있다. 롤 프레스(Roll Press)를 통해 폴리이미드 필름과 동박(100)이 라미네이팅되어 연성동박적층필름(600)이 만들어질 수 있다. 또는, 동박(100) 상에 폴리이미드 전구체 용액이 코팅된 후 열처리되어 연성동박적층필름(600)이 만들어질 수도 있다.The polymer film 410 has flexibility and non-conductivity. The type of polymer film 410 is not particularly limited. The polymer film 410 may include, for example, polyimide. The flexible copper clad laminated film 600 may be made by laminating the polyimide film and the copper foil 100 through a roll press. Alternatively, after the polyimide precursor solution is coated on the copper foil 100, the flexible copper clad laminated film 600 may be made by heat treatment.

동박(100)은 매트면(MS)과 샤이니면(SS)을 갖는 구리층(110) 및 구리층(110)의 매트면(MS) 및 샤이니면(SS) 중 적어도 하나에 배치된 방청막(210)을 포함한다. 여기서, 방청막(210)은 생략될 수도 있다.The copper foil 100 includes a copper layer 110 having a matte surface MS and a shiny surface SS, and an anticorrosive film disposed on at least one of the matte surface MS and the shiny surface SS of the copper layer 110 ( 210). Here, the anti-rust film 210 may be omitted.

도 7을 참조하면, 방청막(210) 상에 고분자막(410)이 배치된 것이 예시되어 있지만, 본 발명의 또 다른 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 고분자막(410)이 구리층(110)의 샤이니면(SS) 상에 배치될 수도 있다.Referring to FIG. 7 , the arrangement of the polymer film 410 on the anti-rust film 210 is exemplified, but another embodiment of the present invention is not limited thereto. A polymer film 410 may be disposed on the shiny surface SS of the copper layer 110 .

이하, 도 8를 참조하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 동박(200)의 제조 방법을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, with reference to FIG. 8, a manufacturing method of copper foil 200 according to another embodiment of the present invention will be described in detail.

도 8는 도 3에 도시된 동박(200)의 제조 방법에 대한 개략도이다.8 is a schematic diagram of a manufacturing method of the copper foil 200 shown in FIG. 3 .

먼저, 구리 이온을 포함하는 전해액(11) 내에 서로 이격되어 배치된 전극판(13) 및 회전 전극드럼(12)을 40 내지 80 ASD(A/dm2)의 전류밀도로 통전시켜 구리층(110)을 형성한다.First, the electrode plate 13 and the rotating electrode drum 12 disposed apart from each other in the electrolyte solution 11 containing copper ions are energized at a current density of 40 to 80 ASD (A/dm 2 ) to form a copper layer 110 ) to form

전해액(11)은 70 내지 90 g/L의 구리 이온 및 50 내지 150 g/L의 황산을 포함한다. The electrolyte solution 11 contains 70 to 90 g/L of copper ions and 50 to 150 g/L of sulfuric acid.

전해액(11)은 15 ppm 이하의 비소(As)를 포함한다. 여기서, 비소(As)는 전해액(11)에 해리된 상태의 비소 이온을 포함한다.The electrolyte solution 11 contains 15 ppm or less of arsenic (As). Here, arsenic (As) includes arsenic ions in a dissociated state in the electrolyte 11 .

전해액(11) 내에서 비소(As)는 불순물에 해당되며, 비소(As)의 농도는 15 ppm 이하로 관리된다. 전해액(11) 내에서 비소(As)의 농도가 15 ppm을 초과하면, 동박(200)의 피크 조도(Rp)가 상승하여 동박(200)의 두께 프로파일 피크비율(PTP)이 0.37을 초과하게 된다. 이러한 현상은 동박(200)의 두께가 6㎛ 이하인 경우 더 심해진다.In the electrolyte 11, arsenic (As) corresponds to an impurity, and the concentration of arsenic (As) is managed to 15 ppm or less. When the concentration of arsenic (As) in the electrolyte 11 exceeds 15 ppm, the peak roughness (Rp) of the copper foil 200 rises so that the thickness profile peak ratio (PTP) of the copper foil 200 exceeds 0.37. . This phenomenon becomes more severe when the thickness of the copper foil 200 is 6 μm or less.

전해액(11) 내의 비소(As) 농도를 15 ppm이하로 조절하기 위해, 비소(As)을 포함하지 않는 원재료를 사용하거나, 도금에 의한 구리층(110)의 형성 공정 중 비소(As)가 전해액(11) 내로 유입되지 않도록 한다. 전해액(11) 내의 비소(As) 농도가 15 ppm이하로 유지되도록 하기 위해, 전해액(11)에 염소(Cl)를 투입하여, 비소(As)가 염화비소 화합물(AsClx) 형태로 침전되도록 함으로써, 비소(As)을 제거할 수 있다.In order to adjust the concentration of arsenic (As) in the electrolyte 11 to 15 ppm or less, a raw material that does not contain arsenic (As) is used, or arsenic (As) is added to the electrolyte during the formation process of the copper layer 110 by plating. (11) Make sure that it does not flow into the interior. In order to maintain the concentration of arsenic (As) in the electrolyte 11 below 15 ppm, chlorine (Cl) is added to the electrolyte 11 so that arsenic (As) is precipitated in the form of an arsenic chloride compound (AsClx), Arsenic (As) can be removed.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 전해액(11)은 첨가제를 포함할 수 있다. 첨가제로, 예를 들어, 오라민(auramine)이 사용될 수 있다. 전해액(11)은 2 내지 20 ppm의 오라민(auramine)을 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the electrolyte solution 11 may include an additive. As an additive, for example, auramine may be used. The electrolyte solution 11 may include 2 to 20 ppm of auramine.

오라민(auramine)은 하기 화학식 1로 표현될 수 있다.Auramine may be represented by Formula 1 below.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018060585704-pat00004
Figure 112018060585704-pat00004

본 발명의 일 실시예에 따르면, 첨가제의 종류 및 농도에 의해 동박(100)의 (220)면의 반가폭(FWHM) 변동률이 제어될 수 있는데, 특히, 오라민의 농도 조절을 통해 동박(200)의 (220)면의 반가폭(FWHM) 변동률이 조정될 수 있다. 오라민의 농도가 2 ppm 미만인 경우 동박(200)의 반가폭(FWHM)의 변동률이 0.79 미만이 되고, 오라민의 농도가 20 ppm을 초과하는 경우 동박(200)의 반가폭(FWHM)의 변동률이 1.21을 초과하여 동박(200)에 주름이 발생될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the variation rate of the full width at half maximum (FWHM) of the (220) plane of the copper foil 100 can be controlled by the type and concentration of the additive. In particular, the copper foil 200 The rate of change of the full width at half maximum (FWHM) of the (220) plane of can be adjusted. When the concentration of auramine is less than 2 ppm, the rate of change of the full width at half maximum (FWHM) of the copper foil 200 is less than 0.79, and when the concentration of auramine is greater than 20 ppm, the rate of change of the full width at half maximum (FWHM) of the copper foil 200 is 1.21 Wrinkles may be generated in the copper foil 200 in excess of .

다른 첨가제로, 시트르산(citric acid, CA)이 사용될 수 있다. 예를 들어, 전해액(11)은 2 내지 20 ppm의 시트르산(CA)을 포함할 수 있다. 시트르산(CA)은 광택제로 사용될 수 있다.As another additive, citric acid (CA) may be used. For example, the electrolyte solution 11 may include 2 to 20 ppm of citric acid (CA). Citric acid (CA) can be used as a brightener.

전해액(11) 내의 시트르산(CA)의 농도가 20 ppm을 초과하여 과도하게 높으면 동박(200)의 (220)면의 집합조직이 발달하여 (220)면의 집합조직계수가 1.28을 초과하게 된다. 반대로, 전해액(11) 내의 시트르산(CA)의 농도가 2 ppm 미만인 경우, 동박(200)의 (220)면의 집합조직계수가 0.48 미만이 된다.If the concentration of citric acid (CA) in the electrolyte 11 is excessively high, exceeding 20 ppm, the texture of the (220) plane of the copper foil 200 develops, and the texture coefficient of the (220) plane exceeds 1.28. Conversely, when the concentration of citric acid (CA) in the electrolyte solution 11 is less than 2 ppm, the texture coefficient of the (220) plane of the copper foil 200 becomes less than 0.48.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 전해조(10)에 담긴 전해액(11) 내에 서로 이격되게 배치된 전극판(13) 및 회전 전극드럼(12)이 40 내지 80 ASD(A/dm2)의 전류밀도로 통전되어 회전 전극드럼(12) 상에 구리가 전착(electrodeposit)되어 구리층(110)이 형성될 수 있다. 전극판(13)과 회전 전극드럼(12) 사이의 간격은 8 내지 13 mm의 범위로 조정될 수 있다. According to another embodiment of the present invention, the electrode plate 13 and the rotating electrode drum 12 disposed spaced apart from each other in the electrolyte 11 contained in the electrolytic cell 10 are 40 to 80 ASD (A / dm 2 ) The copper layer 110 may be formed by electrodepositing copper on the rotary electrode drum 12 by being energized at a current density of . The gap between the electrode plate 13 and the rotating electrode drum 12 can be adjusted in the range of 8 to 13 mm.

전극판(13)과 회전 전극드럼(12) 사이에 인가되는 전류밀도가 높을수록 균일한 도금이 이루어져 구리층(110)의 매트면(MS)의 표면조도가 감소하고, 전류밀도가 낮을수록 불균일한 도금이 이루어져 매트면(MS)의 표면조도가 커진다.The higher the current density applied between the electrode plate 13 and the rotating electrode drum 12, the more uniform the plating, the lower the surface roughness of the matte surface MS of the copper layer 110, and the lower the current density. One plating is performed to increase the surface roughness of the mat surface MS.

구리층(110)의 샤이니면(SS)의 표면 조도는 회전 전극드럼(12)의 표면의 연마 정도에 따라 달라질 수 있다. 샤이니면(SS)의 표면 조도 조절을 위해, 구리층(110) 형성 전에, 예를 들어, #800 내지 #3000의 입도(Grit)를 갖는 브러시로 회전 전극드럼(12)의 표면을 연마할 수 있다. 예를 들어, 브러시의 입도(#)가 #3000을 초과하면 두께 프로파일 피크비율(PTP)이 0.02 미만이 될 수 있다. The surface roughness of the shiny surface SS of the copper layer 110 may vary depending on the degree of polishing of the surface of the rotating electrode drum 12 . In order to control the surface roughness of the shiny surface SS, the surface of the rotating electrode drum 12 may be polished with a brush having a grit of #800 to #3000 before forming the copper layer 110, for example. there is. For example, when the particle size (#) of the brush exceeds #3000, the thickness profile peak ratio (PTP) may be less than 0.02.

구리층(110) 형성 과정에서, 전해액(11)은 40 내지 65℃ 온도로 유지될 수 있다. In the process of forming the copper layer 110, the electrolyte solution 11 may be maintained at a temperature of 40 to 65 °C.

전해액(11) 내의 불순물의 함량을 줄이기 위해 구리 이온의 재료가 되는 구리 와이어가 열처리되고, 열처리된 구리 와이어가 산세된 후, 산세된 구리 와이어가 전해액용 황산에 투입될 수 있다.In order to reduce the content of impurities in the electrolyte 11, a copper wire serving as a material for copper ions is heat-treated, and after the heat-treated copper wire is pickled, the pickled copper wire may be put into sulfuric acid for the electrolyte.

전해액(11)은 39 내지 46 m3/hour의 유량으로 순환될 수 있다. 이러한 전해액(11)의 순환 과정에서 전해액(11)이 여과되어, 구리층(110) 형성을 위한 전기 도금이 수행되는 동안 전해액(11)에 존재하는 고형 불순물이 제거될 수 있다. 전해액(110)의 여과에 의하여, 예를 들어 염화비소 화함물(AsClx)이 제거됨으로써, 전해액(11) 내의 비소(As) 함량이 15 ppm이하로 유지될 수 있다.The electrolyte solution 11 may be circulated at a flow rate of 39 to 46 m 3 /hour. During the circulation process of the electrolyte 11 , the electrolyte 11 is filtered, and solid impurities present in the electrolyte 11 may be removed while electroplating for forming the copper layer 110 is performed. By filtering the electrolyte 110, for example, by removing arsenic chloride (AsClx), the content of arsenic (As) in the electrolyte 11 may be maintained at 15 ppm or less.

전해액(11)의 유량이 39 m3/hour 미만이면, 유속이 낮아 과전압이 발생할 수 있고 구리층(110)이 불균일하게 형성될 수 있다. 반면, 유량이 46 m3/hour를 초과하면, 필터 손상이 유발되어 전해액(11) 내로 이물질이 유입될 수 있다.If the flow rate of the electrolyte 11 is less than 39 m 3 /hour, the flow rate is low and overvoltage may occur and the copper layer 110 may be non-uniformly formed. On the other hand, if the flow rate exceeds 46 m 3 /hour, foreign substances may flow into the electrolyte 11 due to damage to the filter.

동박(200)이 폭 방향으로 3% 이하의 중량 편차를 가지도록 하기 위해, 단위시간(초)당 전해액(11)의 유량 편차는 5% 이하로 관리될 수 있다. 단위 시간(초)당 전해액(11)의 유량 편차가 5%를 초과하는 경우, 불균일 도금에 의해 불균일한 구리층(110)이 형성될 수 있으며, 그에 따라, 동박(200)의 중량 편차가 증가할 수 있다. In order for the copper foil 200 to have a weight variation of 3% or less in the width direction, the flow rate variation of the electrolyte 11 per unit time (second) may be managed to 5% or less. When the flow rate deviation of the electrolyte 11 per unit time (second) exceeds 5%, the non-uniform copper layer 110 may be formed by non-uniform plating, and accordingly, the weight deviation of the copper foil 200 increases. can do.

또한, 단위 시간(초)당 전해액(11)의 유량 편차가 5%를 초과하는 경우, 불균일 도금에 의해 동박(200)의 두께 프로파일 피크비율 편의(BPTP)가 0.71을 초과할 수 있다.In addition, when the flow rate deviation of the electrolyte 11 per unit time (second) exceeds 5%, the thickness profile peak ratio deviation (BPTP) of the copper foil 200 may exceed 0.71 due to non-uniform plating.

전해액(11)의 청정도 유지 또는 향상을 위해, 전해액(11)이 오존 처리되거나, 전기 도금에 의해 구리층(110)이 형성되는 동안 전해액(11)에 과산화수소 및 공기가 투입될 수 있다.In order to maintain or improve the cleanliness of the electrolyte 11, hydrogen peroxide and air may be injected into the electrolyte 11 while the electrolyte 11 is ozonated or the copper layer 110 is formed by electroplating.

다음, 세정조(20)에서 구리층(110)이 세정된다.Next, the copper layer 110 is cleaned in the cleaning bath 20 .

예를 들어, 구리층(110) 표면의 불순물을 제거하기 위해, 세정조(20)에서 수세가 이루어질 수 있다. 또는, 구리층(110) 표면의 불순물을 제거하기 위해 산세(acid cleaning)가 수행되고, 이어서 산세에 사용된 산성 용액 제거를 위한 수세(water cleaning)가 수행될 수도 있다. 세정 공정은 생략될 수도 있다.For example, in order to remove impurities on the surface of the copper layer 110, water washing may be performed in the cleaning tank 20. Alternatively, acid cleaning may be performed to remove impurities on the surface of the copper layer 110, followed by water cleaning to remove an acidic solution used for pickling. A cleaning process may be omitted.

다음, 구리층(110) 상에 방청막(210, 220)이 형성된다.Next, antirust films 210 and 220 are formed on the copper layer 110 .

도 8을 참조하면, 방청조(30)에 담긴 방청액(31) 내에 구리층(110)이 침지되어, 구리층(110) 상에 방청막(210, 220)이 형성될 수 있다. 여기서, 방청액(31)은 크롬을 포함하며, 방청액(31) 내에서 크롬(Cr)은 이온 상태로 존재할 수 있다. 방청액(31)은 0.5 내지 5 g/L의 크롬을 포함할 수 있다. 이와 같이 형성된 방청막(210, 220)을 보호층이라고도 한다. Referring to FIG. 8 , the copper layer 110 may be immersed in the anti-rust solution 31 contained in the anti-rust bath 30, and thus the anti-rust films 210 and 220 may be formed on the copper layer 110. Here, the anti-rust liquid 31 includes chromium, and chromium (Cr) may exist in an ionic state in the anti-rust liquid 31 . The anti-rust solution 31 may contain 0.5 to 5 g/L of chromium. The anti-rust films 210 and 220 thus formed are also referred to as protective layers.

한편, 방청막(210, 220)은 실란 처리에 의한 실란 화합물을 포함할 수도 있고, 질소 처리에 의한 질소 화합물을 포함할 수도 있다.Meanwhile, the anti-rust films 210 and 220 may include a silane compound by silane treatment or a nitrogen compound by nitrogen treatment.

이러한 방청막(210, 220) 형성에 의해 동박(200)이 만들어진다.The copper foil 200 is made by forming the anti-rust films 210 and 220 .

다음, 동박(200)이 세정조(40)에서 세정된다. 이러한 세정 공정은 생략될 수 있다.Next, the copper foil 200 is cleaned in the cleaning tank 40. This cleaning process can be omitted.

다음, 건조 공정이 수행된 후 동박(200)이 와인더(WR)에 권취된다.Next, after a drying process is performed, the copper foil 200 is wound around the winder WR.

이하, 실시예들 및 비교예들을 통해 본 발명을 구체적으로 설명한다. 다만, 하기의 실시예들은 본 발명의 이해를 돕기 위한 것일 뿐, 본 발명의 권리범위가 이들 실시예들로 제한되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be specifically described through Examples and Comparative Examples. However, the following examples are only for helping understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to these examples.

실시예 1-7 및 비교예 1-7Example 1-7 and Comparative Example 1-7

전해조(10), 전해조(10)에 배치된 회전 전극드럼(12) 및 회전 전극드럼(12)과 이격되어 배치된 전극판(13)을 포함하는 제박기를 이용하여 동박을 제조하였다. 전해액(11)은 황산동 용액이며, 전해액(11)의 구리이온 농도는 75g/L, 황산 농도는 100g/L이었고, 전해액(11)의 온도는 55℃로 유지되었다. Copper foil was manufactured using a stripping machine including an electrolytic bath 10, a rotating electrode drum 12 disposed in the electrolytic bath 10, and an electrode plate 13 disposed spaced apart from the rotating electrode drum 12. The electrolyte solution 11 was a copper sulfate solution, the copper ion concentration of the electrolyte solution 11 was 75 g/L, the sulfuric acid concentration was 100 g/L, and the temperature of the electrolyte solution 11 was maintained at 55°C.

회전 전극드럼(12)은 표 1에 개시된 바와 같은 입도를 갖는 브러시에 의하여 연마되었다.The rotating electrode drum 12 was polished with a brush having a particle size as shown in Table 1.

전해액(11)은 첨가제로 10 mg/L의 폴리에틸렌 글리콜을 포함한다. 또한, 전해액(11)은, 비소(As), 오라민 및 시트르산(CA)을 포함하며, 이들의 함량은 표 1과 같다. 전해액(11)은 42 m3/hour의 유량으로 순환되며, 단위시간(초)당 유량 편차는 표 1에 개시된 바와 같다.The electrolyte solution 11 contains 10 mg/L of polyethylene glycol as an additive. In addition, the electrolyte solution 11 includes arsenic (As), auramine, and citric acid (CA), the contents of which are shown in Table 1. The electrolyte 11 is circulated at a flow rate of 42 m 3 /hour, and the flow rate deviation per unit time (second) is shown in Table 1.

전해액(11) 내에 배치된 회전드럼(12)과 전극판(13) 사이에 60 ASD의 전류밀도를 인가하여 구리층(110)을 형성하였다. 다음, 방청조(30)에 담긴 방청액(31)에 구리층(110)을 침지시켜 구리층(110) 표면에 크롬을 포함하는 방청막(210, 220)을 형성하였다. 방청액(31)의 온도는 30℃로 유지되었으며, 방청액(31)은 2.2g/L의 크롬(Cr)을 포함한다. 그 결과, 실시예 1-7 및 비교예 1-7의 동박들이 제조되었다.A current density of 60 ASD was applied between the rotary drum 12 and the electrode plate 13 disposed in the electrolyte 11 to form the copper layer 110 . Next, the copper layer 110 was immersed in the antirust liquid 31 contained in the antirust bath 30 to form anticorrosive films 210 and 220 containing chromium on the surface of the copper layer 110 . The temperature of the anti-rust liquid 31 was maintained at 30°C, and the anti-rust liquid 31 contained 2.2 g/L of chromium (Cr). As a result, copper foils of Examples 1-7 and Comparative Examples 1-7 were manufactured.

구분division 브러시 입도(#)Brush granularity (#) As(ppm)As (ppm) 오라민(ppm)Auramine (ppm) CA(ppm)CA (ppm) 유량편차(%/초)Flow Deviation (%/sec) 실시예 1Example 1 30003000 88 1111 1111 33 실시예 2Example 2 20002000 1414 1111 1111 2.82.8 실시예 3Example 3 20002000 88 33 1111 2.82.8 실시예 4Example 4 20002000 88 1919 1111 2.82.8 실시예 5Example 5 20002000 88 1111 1111 4.84.8 실시예 6Example 6 20002000 88 1111 33 2.82.8 실시예 7Example 7 20002000 88 1111 1919 2.82.8 비교예 1Comparative Example 1 40004000 88 1111 1111 0.180.18 비교예 2Comparative Example 2 20002000 1616 1111 1111 0.180.18 비교예 3Comparative Example 3 20002000 88 1One 1111 0.180.18 비교예 4Comparative Example 4 20002000 88 2222 1111 0.180.18 비교예 5Comparative Example 5 20002000 88 1111 1111 5.35.3 비교예 6Comparative Example 6 20002000 88 1111 1One 0.180.18 비교예 7Comparative Example 7 20002000 88 1111 2222 0.180.18

이와 같이 제조된 실시예 1-7 및 비교예 1-7의 동박들에 대해 (i) 두께 프로파일 피크비율(PTP), (ii) 두께 프로파일 피크비율 편의(BPTP), (iii) 반가폭(FWHM) 변동률 및 (iv) (220)면의 집합조직계수[TC(220)]를 측정하였다. 또한, 동박을 이용한 이차전지의 제조 과정에서 동박에 발생된 주름, 찢김 및 울음을 관찰하였다. 그 결과는 표 2에 개시되어 있다.For the copper foils of Examples 1-7 and Comparative Examples 1-7 prepared as described above, (i) thickness profile peak ratio (PTP), (ii) thickness profile peak ratio bias (BPTP), (iii) full width at half maximum (FWHM) ) and (iv) the texture coefficient [TC(220)] of the (220) plane was measured. In addition, wrinkles, tears, and cries generated in the copper foil during the manufacturing process of the secondary battery using the copper foil were observed. The results are disclosed in Table 2.

(i) 두께 프로파일 피크비율(PTP)(i) Thickness Profile Peak Ratio (PTP)

실시예 1-7 및 비교예 1-7의 동박들을 10cm x 10cm의 크기로 잘라 중량을 측정하여 이들의 단위면적당 중량을 구하고, 구리의 밀도(8.94g/cm3) 및 계산식 1을 이용하여 동박들의 두께(Tcopper)를 산출하였다. The copper foils of Examples 1-7 and Comparative Examples 1-7 were cut into a size of 10 cm x 10 cm and their weight was measured to obtain the weight per unit area, and the copper foil was obtained using the density of copper (8.94 g/cm 3 ) and Equation 1. Their thickness (T copper ) was calculated.

또한, Mitutotyo 社의 SJ-310 조도계를 이용하여, 컷 오프(Cut off) 길이를 제외한 측정 길이 4mm, 초기와 말기의 컷 오프(Cut off) 길이 각각 0.8mm, 스타일러스 팁(Stylus Tip)의 반지름(Radius) 2㎛, 및 측정 압력 0.75mN로 설정하여, 피크 조도(Rp)를 측정하였다.In addition, using Mitutotyo's SJ-310 roughness meter, the measurement length excluding the cut-off length was 4 mm, the initial and final cut-off lengths were each 0.8 mm, and the radius of the stylus tip ( Radius) was set to 2 μm, and the measurement pressure was set to 0.75 mN, and the peak roughness (Rp) was measured.

동박의 두께 프로파일 피크비율(PTP)은 아래 식 1로 구해진다.The thickness profile peak ratio (PTP) of the copper foil is obtained by Equation 1 below.

[식 1][Equation 1]

PTP = Rp / Tcopper PTP = Rp/T copper

(ii) 두께 프로파일 피크비율 편의(BPTP)(ii) Thickness Profile Peak Ratio Bias (BPTP)

동박(100)의 폭방향 3개 지점(왼쪽 L, 중앙 C 및 오른쪽 R)에서 각각 3회씩 PTP를 측정하고 평균하여, 그 값이 가장 낮은 지점의 평균값을 PTPmin이라 하고, 가장 높은 지점의 평균값을 RRTmax라 하고, 3개 지점에서 측정된 9개의 PTP 값 전체의 평균을 PTPave라 하였다. 다음, PTPmax, PTPmin 및 PTPave를 이용하여 다음 식 2에 따라 동박의 두께 프로파일 피크비율 편의(BPTP)를 측정하였다.PTP was measured three times each at three points in the width direction (left L, center C, and right R) of the copper foil 100 and averaged, and the average value at the lowest point was PTPmin, and the average value at the highest point It was called RRTmax, and the average of all nine PTP values measured at three points was called PTPave. Next, the thickness profile peak ratio bias (BPTP) of the copper foil was measured according to the following equation 2 using PTPmax, PTPmin, and PTPave.

[식 2][Equation 2]

BPTP = (PTPmax - PTPmin)/ PTPaveBPTP = (PTPmax - PTPmin)/PTPave

(iii) 반가폭(FWHM) 변동률(iii) FWHM change rate

먼저, 상온(25℃±15℃)에서 동박의 XRD 그래프를 얻었다. 구체적으로, 30° 내지 95°의 회절각(2θ) 범위에서 X선 회절법(XRD)[(i) Target: Copper K alpha 1, (ii) 2θ interval: 0.01°, (iii) 2θ scan speed: 3°/min]을 실시함으로써, n개의 결정면들에 대응하는 피크들을 갖는 XRD 그래프를 얻었다. 얻어진 동박의 XRD 그래프로부터 동박의 (220)면의 열처리 전 반가폭(FWHM)을 측정하였다. 다음, 동박을 110℃에서 30분간 열처리한 후, 동박의 XRD 그래프를 구하고, 이로부터 동박의 (220)면의 열처리 후 반가폭(FWHM)을 측정하였다. 반가폭(FWHM) 변동률은 하기 식 3으로 구해진다.First, an XRD graph of copper foil was obtained at room temperature (25°C ± 15°C). Specifically, X-ray diffraction (XRD) in the diffraction angle (2θ) range of 30 ° to 95 ° [(i) Target: Copper K alpha 1, (ii) 2θ interval: 0.01 °, (iii) 2θ scan speed: 3°/min], an XRD graph having peaks corresponding to n crystal planes was obtained. The full width at half maximum (FWHM) of the (220) plane of the copper foil before heat treatment was measured from the XRD graph of the obtained copper foil. Next, after heat-treating the copper foil at 110 ° C. for 30 minutes, an XRD graph of the copper foil was obtained, and from this, the full width at half maximum (FWHM) after heat treatment of the (220) surface of the copper foil was measured. The full width at half maximum (FWHM) fluctuation rate is obtained by Equation 3 below.

[식 3][Equation 3]

반가폭(FWHM) 변동률 = (열처리 후 반가폭)/(열처리 전 반가폭)Fluctuation rate of half width (FWHM) = (half width after heat treatment) / (half width before heat treatment)

(iv) (220)면의 집합조직계수[TC(220)](iv) Texture factor of (220) plane [TC(220)]

먼저, 30° 내지 95°의 회절각(2θ) 범위에서 X선 회절법(XRD)[(i) Target: Copper K alpha 1, (ii) 2θ interval: 0.01°, (iii) 2θ scan speed: 3°/min]을 실시함으로써, n개의 결정면들에 대응하는 피크들을 갖는 XRD 그래프를 얻었다. 다음, 이 그래프로부터 각 결정면(hkl)의 XRD 회절강도[I(hkl)]를 구하였다. 또한, JCPDS(Joint Committee on Powder Diffraction Standards)에 의해 규정된 표준 구리 분말의 n개의 결정면들 각각에 대한 XRD 회절강도[I0(hkl)]를 구하였다. 이어서, n개의 결정면들의 I(hkl)/I0(hkl)의 산술평균값을 구한 후 구해진 산술평균값으로 (220)면의 I(220)/I0(220)을 나눔으로써 동박의 (220)면의 집합조직계수[TC(220)]를 산출하였다. (220)면의 집합조직계수[TC(220)]는 다음의 식 4에 기초하여 산출되었다.First, X-ray diffraction (XRD) in the diffraction angle (2θ) range of 30 ° to 95 ° [(i) Target: Copper K alpha 1, (ii) 2θ interval: 0.01 °, (iii) 2θ scan speed: 3 °/min], an XRD graph having peaks corresponding to n crystal planes was obtained. Next, the XRD diffraction intensity [I(hkl)] of each crystal plane (hkl) was obtained from this graph. In addition, the XRD diffraction intensity [I 0 (hkl)] for each of the n crystal planes of the standard copper powder specified by the Joint Committee on Powder Diffraction Standards (JCPDS) was obtained. Subsequently, the arithmetic average of I(hkl)/I 0 (hkl) of the n crystal planes is calculated, and then I(220)/I 0 (220) of the (220) plane is divided by the obtained arithmetic average value to (220) plane of the copper foil. The texture coefficient [TC(220)] of was calculated. The texture coefficient [TC(220)] of the (220) plane was calculated based on the following equation 4.

[식 4][Equation 4]

Figure 112018060585704-pat00005
Figure 112018060585704-pat00005

(v) 주름, 찢김 울음 발생 관찰(v) Observe the occurrence of wrinkles, tears and crying

1) 음극 제조1) Cathode manufacturing

상업적으로 이용가능한 음극 활물질용 카본 100 중량부에 2 중량부의 스티렌부타디엔고무(SBR) 및 2 중량부의 카르복시메틸 셀룰로오스(CMC)를 혼합하고, 증류수를 용제로 이용하여 음극 활물질용 슬러리를 조제하였다. 닥터 블레이드를 이용하여 10㎝ 폭을 가진 실시예 1-7 및 비교예 1-7의 동박 상에 40㎛ 두께로 음극 활물질용 슬러리를 도포하고, 이를 120℃에서 건조하고, 1 ton/㎠의 압력에서 가압하여 이차전지용 음극을 제조하였다. A slurry for an anode active material was prepared by mixing 2 parts by weight of styrene-butadiene rubber (SBR) and 2 parts by weight of carboxymethyl cellulose (CMC) with 100 parts by weight of commercially available carbon for an anode active material, and using distilled water as a solvent. Using a doctor blade, the slurry for negative electrode active material was applied to a thickness of 40 μm on the copper foils of Examples 1-7 and Comparative Examples 1-7 having a width of 10 cm, dried at 120 ° C, and a pressure of 1 ton / cm 2 was pressed to prepare a negative electrode for a secondary battery.

2) 전해액 제조2) Manufacture of electrolyte solution

에틸렌카보네이트(EC) 및 에틸메틸카보네이트(EMC)를 1:2의 비율로 혼합한 비수성 유기용매에 용질인 LiPF6을 1M의 농도로 용해하여 기본 전해액을 제조하였다. 99.5중량%의 기본 전해액과 0.5중량%의 숙신산 무수물(Succinic anhydride)을 혼합하여 비수전해액을 제조하였다.A basic electrolyte solution was prepared by dissolving LiPF 6 as a solute at a concentration of 1 M in a non-aqueous organic solvent in which ethylene carbonate (EC) and ethyl methyl carbonate (EMC) were mixed at a ratio of 1:2. A nonaqueous electrolyte was prepared by mixing 99.5% by weight of the basic electrolyte and 0.5% by weight of succinic anhydride.

3) 양극 제조 3) Anode manufacturing

Li1.1Mn1.85Al0.05O4인 리튬 망간 산화물과 o-LiMnO2인 orthorhombic 결정구조의 리튬 망간 산화물을 90:10(중량비)의 비로 혼합하여, 양극 활물질을 제조하였다. 양극 활물질, 카본 블랙, 및 결착제인 PVDF [Poly(vinylidenefluoride)]를 85:10:5(중량비)로 혼합하고, 이를 유기 용매인 NMP와 혼합하여 슬러리를 제조하였다. 이와 같이 제조된 슬러리를 20㎛의 두께 Al박(foil) 양면에 도포한 후 건조하여 양극을 제조하였다.A cathode active material was prepared by mixing Li 1.1 Mn 1.85 Al 0.05 O 4 lithium manganese oxide and o-LiMnO 2 lithium manganese oxide having an orthorhombic crystal structure in a ratio of 90:10 (weight ratio). A slurry was prepared by mixing a cathode active material, carbon black, and PVDF [Poly(vinylidenefluoride)] as a binder in a weight ratio of 85:10:5 (weight ratio) and mixing them with NMP, an organic solvent. The prepared slurry was coated on both sides of a 20 μm thick Al foil and dried to prepare a positive electrode.

4) 시험용 리튬 이차전지 제조4) Production of lithium secondary battery for testing

알루미늄 캔의 내부에, 알루미늄 캔과 절연되도록 양극과 음극을 배치하고, 그 사이에 비수전해액 및 분리막을 배치하여, 코인 형태의 리튬 이차전지를 제조하였다. 분리막으로 폴리프로필렌(Celgard 2325; 두께 25㎛, average poresize φ28 nm, porosity 40%)이 사용되었다. Inside the aluminum can, a positive electrode and a negative electrode are disposed so as to be insulated from the aluminum can, and a non-aqueous electrolyte and a separator are disposed therebetween to prepare a coin-type lithium secondary battery. Polypropylene (Celgard 2325; thickness 25㎛, average poresize φ28 nm, porosity 40%) was used as the separator.

5) 주름, 찢김 및 울음 발생 관찰5) Observe the occurrence of wrinkles, tears and crying

일련의 리튬 이차전지 제조 과정에서 동박의 주름, 찢김 및 울음을 관찰하였다. 주름, 찢김 또는 울임이 발생한 경우를 "발생"으로 표시하고, 발생하지 않은 경우를 "양호"라 표시하였다.During the manufacturing process of a series of lithium secondary batteries, wrinkles, tears, and cries of copper foil were observed. A case where wrinkles, tears or weeping occurred was marked as "Occurred", and a case where it did not occur was marked as "Good".

이상의 시험 및 관찰 결과는 하기 표 2에 개시되어 있다.The above test and observation results are disclosed in Table 2 below.

PTPPTP BPTPBPTP 반가폭(FWHM) 변동률Full width at half maximum (FWHM) rate of change (220)면의
집합조직계수
(220) cotton
texture factor
주름wrinkle 찢김tear 울음weeping
실시예 1Example 1 0.020.02 0.340.34 0.990.99 0.890.89 양호Good 양호Good 양호Good 실시예 2Example 2 0.370.37 0.340.34 0.98 0.98 0.870.87 양호Good 양호Good 양호Good 실시예 3Example 3 0.190.19 0.330.33 0.790.79 0.860.86 양호Good 양호Good 양호Good 실시예 4Example 4 0.190.19 0.340.34 1.211.21 0.870.87 양호Good 양호Good 양호Good 실시예 5Example 5 0.180.18 0.710.71 0.990.99 0.860.86 양호Good 양호Good 양호Good 실시예 6Example 6 0.190.19 0.360.36 1.011.01 0.480.48 양호Good 양호Good 양호Good 실시예 7Example 7 0.200.20 0.350.35 1.011.01 1.281.28 양호Good 양호Good 양호Good 비교예 1Comparative Example 1 0.010.01 0.330.33 0.97 0.97 0.880.88 발생generation 양호Good 양호Good 비교예 2Comparative Example 2 0.390.39 0.330.33 0.98 0.98 0.870.87 양호Good 발생generation 양호Good 비교예 3Comparative Example 3 0.180.18 0.340.34 0.780.78 0.860.86 발생generation 양호Good 양호Good 비교예 4Comparative Example 4 0.190.19 0.350.35 1.231.23 0.860.86 발생generation 양호Good 양호Good 비교예 5Comparative Example 5 0.200.20 0.730.73 1.011.01 0.870.87 발생generation 발생generation 발생generation 비교예 6Comparative Example 6 0.180.18 0.360.36 0.990.99 0.470.47 발생generation 양호Good 양호Good 비교예 7Comparative Example 7 0.180.18 0.350.35 0.98 0.98 1.301.30 양호Good 발생generation 양호Good

비교예 1-7에 따른 동박을 이용하여 리튬 이차전지를 제조하는 과정에서 동박에 주름, 찢김 또는 울음이 발생하였으나, 실시예 1-7에 따른 동박을 이용하여 리튬 이차전지를 제조하는 과정에서는 동박에 주름, 찢김 또는 울음이 발생하지 않았다. 이와 같이 실시예 1-7에 따른 박막은 우수한 신뢰성을 갖는다.In the process of manufacturing a lithium secondary battery using the copper foil according to Comparative Example 1-7, wrinkles, tears or crying occurred in the copper foil, but in the process of manufacturing a lithium secondary battery using the copper foil according to Example 1-7, the copper foil No wrinkles, tears or weeping occurred. As such, the thin films according to Examples 1-7 have excellent reliability.

본 발명의 일 실시예 따르면, 울음(bagginess)은 동박(100)이 국부적으로 늘어나서 평평하게 펴지지 않은 상태 또는 그 부분을 지칭한다. 주름(wrinkle)은 동박(100)이 국부적으로 접힌 상태 또는 그 부분을 지칭한다. 본 발명의 표 2에서는 울음(bagginess)과 주름(wrinkle)을 구별하였다. 그러나, 울음(bagginess)과 주름(wrinkle)은 어떤 필름, 막 또는 층에 평평하지 않은 부분이 있다는 것을 지칭한다는 점에서 동일성이 있기 때문에, 이들을 서로 구별하지 않고 울음(bagginess)과 주름(wrinkle)을 모두 주름(wrinkle)으로 표현하기도 한다.According to one embodiment of the present invention, bagginess refers to a state or a portion thereof in which the copper foil 100 is not flattened due to local stretching. A wrinkle refers to a state or a portion thereof in which the copper foil 100 is locally folded. In Table 2 of the present invention, bagginess and wrinkles were distinguished. However, since bagginess and wrinkles are identical in that they refer to non-flat areas in a certain film, film or layer, we do not differentiate between them and use bagginess and wrinkle. All of them are also expressed as wrinkles.

구체적으로 다음의 동박을 이용하여 리튬 이차전지를 제조하는 과정에서 동박에 주름 또는 찢김이 발생하였다.Specifically, in the process of manufacturing a lithium secondary battery using the following copper foil, wrinkles or tears occurred in the copper foil.

(1) #3000을 초과하는 입도(Grit)를 갖는 브러시로 회전 전극드럼(12)의 표면을 연마하여, PTP가 0.02 미만인 비교예 1(주름 발생);(1) Comparative Example 1 in which the surface of the rotating electrode drum 12 was polished with a brush having a grit greater than #3000, and the PTP was less than 0.02 (wrinkling);

(2) 전해액 내의 비소(As) 함량이 15 ppm을 초과하여, PTP가 0.37을 초과하는 비교예 2(찢김 발생);(2) Comparative Example 2 in which the arsenic (As) content in the electrolyte exceeds 15 ppm and the PTP exceeds 0.37 (tear occurs);

(3) 전해액 내의 오라민의 함량이 2 ppm 미만이며, 반가폭(FWHM) 변동률이 0.79 미만인 비교예 3(주름 발생);(3) Comparative Example 3 in which the content of auramine in the electrolyte solution is less than 2 ppm and the full width at half maximum (FWHM) fluctuation rate is less than 0.79 (wrinkling);

(4) 전해액 내의 오라민의 함량이 20 ppm을 초과하며, 반가폭 변동률이 1.21을 초과하는 비교예 4(주름 발생);(4) Comparative Example 4 in which the content of auramine in the electrolyte exceeds 20 ppm and the rate of change at half maximum exceeds 1.21 (wrinkles);

(5) 전해액의 유량 편차가 초당 5%를 초과하며, BPTP가 0.71을 초과하는 비교예 5(주름, 찢김 및 울음 발생);(5) Comparative Example 5 in which the flow rate deviation of the electrolyte exceeds 5% per second and the BPTP exceeds 0.71 (wrinkles, tears, and crying);

(6) 시트르산(CA)의 함량이 2 ppm 미만이며, (220)면의 집합조직계수[TC(220)]가 0.48 미만인 비교예 6(주름 발생);(6) Comparative Example 6 in which the content of citric acid (CA) is less than 2 ppm and the texture coefficient [TC (220)] of (220) cotton is less than 0.48 (wrinkling);

(7) 시트르산(CA)의 함량이 20 ppm을 초과하며, (220)면의 집합조직계수[TC(220)]가 1.28을 초과하는 비교예 7(찢김 발생).(7) Comparative Example 7 in which the content of citric acid (CA) exceeds 20 ppm and the texture coefficient [TC (220)] of (220) cotton exceeds 1.28 (tear occurs).

이러한 비교예 1-7에 따른 동박은 리튬 이차전지용 음극 집전체로 부적합하다고 평가할 수 있다.The copper foil according to Comparative Examples 1-7 may be evaluated as unsuitable for a negative current collector for a lithium secondary battery.

반면, 본 발명에 따른 조건의 범위에서 제조된 실시예 1 내지 7의 동박은 리튬 이차전지의 제조과정에서 찢어지지 않으며, 동박에 울음 또는 주름이 발생하지 않았다. 따라서, 본 발명의 실시예들에 따른 동박은 우수한 롤투롤(RTR) 공정성 및 공정 신뢰성을 가져, 리튬 이차전지용 음극 집전체로 유용하게 사용될 수 있다.On the other hand, the copper foils of Examples 1 to 7 manufactured within the range of conditions according to the present invention were not torn during the manufacturing process of the lithium secondary battery, and no weeping or wrinkles were generated in the copper foil. Therefore, the copper foil according to the embodiments of the present invention has excellent roll-to-roll (RTR) processability and process reliability, and can be usefully used as an anode current collector for a lithium secondary battery.

이상에서 설명된 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 사항을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 표현되며, 특허청구범위의 의미, 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The present invention described above is not limited by the foregoing embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible within the scope of the technical details of the present invention. will be clear to those skilled in the art. Therefore, the scope of the present invention is expressed by the following claims, and all changes or modifications derived from the meaning, scope and equivalent concepts of the claims should be construed as being included in the scope of the present invention.

100, 200: 동박
210, 220: 방청막
310: 활물질층
300, 400: 이차전지용 전극
340: 이차전지용 음극
370: 이차전지용 양극
MS: 매트면
SS: 샤이니면
100, 200: copper foil
210, 220: anti-rust film
310: active material layer
300, 400: electrode for secondary battery
340: negative electrode for secondary battery
370: anode for secondary battery
MS: matte side
SS: if it's shiny

Claims (15)

구리층을 포함하며,
0.02 내지 0.37의 두께 프로파일 피크비율(Proportion of Thickness to Profile peak height, PTP);
0.71 이하의 두께 프로파일 피크비율 편의(Bias for Proportion of Thickness to Profile peak height, BPTP); 및
0.79 내지 1.21의 반가폭(Full Width at Half Maximum, FWHM) 변동률;
을 갖는 동박:
여기서, 상기 두께 프로파일 피크비율(PTP)은 아래 식 1로 구해지며,
[식 1]
PTP = Rp / Tcopper
상기 식 1에서 Rp는 동박의 피크 조도(peak roughness) 이고, Tcopper는 동박의 두께이고,
상기 두께 프로파일 피크비율 편의(BPTP)는 아래 식 2로 구해지며,
[식 2]
BPTP = (PTPmax - PTPmin)/ PTPave
상기 식 2에서, PTPmax는 상기 두께 프로파일 피크비율(PTP)의 최대값이고, PTPmin은 상기 두께 프로파일 피크비율(PTP)의 최소값이고, PTPave는 상기 두께 프로파일 피크비율(PTP)의 평균값이고,
상기 반가폭(FWHM) 변동률은 아래 식 3으로 구해지며,
[식 3]
반가폭 변동률 = (열처리 후 반가폭)/(열처리 전 반가폭)
상기 식 3에서 열처리 후 반가폭은 110℃에서 30분간 열처리 후 상기 동박의 (220)면의 반가폭(FWHM)을 나타내고, 열처리 전 반가폭은 상기 110℃에서 30분간 열처리 전 상기 동박의 (220)면의 반가폭(FWHM)을 나타낸다.
It contains a copper layer,
a Proportion of Thickness to Profile peak height (PTP) of 0.02 to 0.37;
a Bias for Proportion of Thickness to Profile peak height (BPTP) of 0.71 or less; and
Full Width at Half Maximum (FWHM) change rate of 0.79 to 1.21;
Copper foil having:
Here, the thickness profile peak ratio (PTP) is obtained by Equation 1 below,
[Equation 1]
PTP = Rp/T copper
In Equation 1, Rp is the peak roughness of the copper foil, T copper is the thickness of the copper foil,
The thickness profile peak ratio bias (BPTP) is obtained by Equation 2 below,
[Equation 2]
BPTP = (PTPmax - PTPmin)/PTPave
In Equation 2, PTPmax is the maximum value of the thickness profile peak ratio (PTP), PTPmin is the minimum value of the thickness profile peak ratio (PTP), PTPave is the average value of the thickness profile peak ratio (PTP),
The full width at half maximum (FWHM) fluctuation rate is obtained by Equation 3 below,
[Equation 3]
Rate of change in half width = (half width after heat treatment)/(half width before heat treatment)
In Equation 3, the half width after heat treatment represents the half width (FWHM) of the (220) surface of the copper foil after heat treatment at 110 ° C. for 30 minutes, and the half width before heat treatment is the half width of the copper foil before heat treatment at 110 ° C. for 30 minutes (220 ) represents the full width at half maximum (FWHM) of the plane.
제1항에 있어서,
상온(25±15℃)에서 상기 (220)면의 집합조직계수[TC(220)]는 0.48 내지 1.28인 동박.
According to claim 1,
At room temperature (25 ± 15 ℃), the texture coefficient [TC (220)] of the (220) plane is 0.48 to 1.28 copper foil.
제1항에 있어서,
0.6 내지 3.5㎛의 최대 높이 조도(Rmax)를 갖는 동박.
According to claim 1,
Copper foil having a maximum height roughness (Rmax) of 0.6 to 3.5 μm.
제1항에 있어서,
3% 이하의 중량 편차를 갖는 동박.
According to claim 1,
Copper foil having a weight variation of 3% or less.
제1항에 있어서,
상기 구리층 상에 배치된 방청막을 더 포함하는 동박.
According to claim 1,
Copper foil further comprising a rust-preventive film disposed on the copper layer.
제5항에 있어서,
상기 방청막은 크롬(Cr), 실란 화합물 및 질소 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 동박.
According to claim 5,
The rust-preventive film includes at least one of chromium (Cr), a silane compound, and a nitrogen compound.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 동박; 및
상기 동박 상에 배치된 활물질층;
을 포함하는 이차전지용 전극.
The copper foil according to any one of claims 1 to 6; and
an active material layer disposed on the copper foil;
An electrode for a secondary battery comprising a.
양극(cathode);
상기 양극과 대향 배치된 음극(anode);
상기 양극과 상기 음극 사이에 배치되어 리튬 이온이 이동할 수 있는 환경을 제공하는 전해질(electrolyte); 및
상기 양극과 상기 음극을 전기적으로 절연시켜 주는 분리막(separator);을 포함하고,
상기 음극은,
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 동박; 및
상기 동박 상에 배치된 활물질층;
을 포함하는 이차전지.
cathode;
a cathode disposed opposite to the anode;
an electrolyte disposed between the positive electrode and the negative electrode to provide an environment in which lithium ions can move; and
Including; a separator that electrically insulates the anode and the cathode;
The cathode is
The copper foil according to any one of claims 1 to 6; and
an active material layer disposed on the copper foil;
A secondary battery comprising a.
고분자막; 및
상기 고분자막 상에 배치된, 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 동박;
을 포함하는 연성동박적층필름.
polymer membrane; and
The copper foil according to any one of claims 1 to 6 disposed on the polymer film;
A flexible copper clad laminated film comprising a.
구리 이온을 포함하는 전해액 내에 서로 이격되게 배치된 전극판(anode) 및 회전 전극드럼(cathode)을 40 내지 80 A/dm2의 전류밀도로 통전시켜 구리층을 형성하는 단계를 포함하며,
상기 전해액은,
70 내지 90 g/L의 구리 이온;
50 내지 150 g/L의 황산; 및
8 ppm 내지 15 ppm의 비소(As);
를 포함하는 동박의 제조 방법.
Forming a copper layer by conducting an anode and a rotating electrode drum (cathode) spaced apart from each other in an electrolyte solution containing copper ions at a current density of 40 to 80 A/dm 2 ,
The electrolyte is
70 to 90 g/L copper ions;
50 to 150 g/L sulfuric acid; and
8 ppm to 15 ppm arsenic (As);
Method for manufacturing a copper foil comprising a.
제10항에 있어서,
상기 전해액은 2 내지 20 ppm의 오라민(auramine)을 포함하는 동박의 제조방법.
According to claim 10,
The electrolyte solution is a method of manufacturing a copper foil containing 2 to 20 ppm of auramine.
제10항에 있어서,
상기 전해액은, 2 내지 20 ppm의 시트르산(citric acid)을 포함하는 동박의 제조 방법.
According to claim 10,
The method of manufacturing copper foil, wherein the electrolyte solution contains 2 to 20 ppm of citric acid.
제10항에 있어서,
상기 구리층을 형성하는 단계 전에, 상기 회전 전극드럼의 표면을 #800 내지 #3000의 입도를 갖는 브러시로 연마하는 단계를 포함하는 동박의 제조 방법.
According to claim 10,
and polishing the surface of the rotating electrode drum with a brush having a particle size of #800 to #3000 before the step of forming the copper layer.
제10항에 있어서,
상기 전해액은 39 내지 46m3/hour의 유량으로 순환되는 동박의 제조 방법.
According to claim 10,
The method of manufacturing a copper foil in which the electrolyte is circulated at a flow rate of 39 to 46 m 3 /hour.
제14항에 있어서,
상기 전해액의 유량 편차는 단위시간(초, second)당 5% 이하인 동박의 제조 방법.
According to claim 14,
The flow rate deviation of the electrolyte is 5% or less per unit time (second, second).
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