KR20190013755A - Method of forming cured electrodeposited coating - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 경면 광택도가 낮은 저광택 도막 또는 무광택 도막 등, 광택도가 조정된 경화 전착 도막의 형성 방법을 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명은, 경화 전착 도막의 형성 방법으로서, 상기 방법은, 음이온 전착 도료 조성물 중에 피도물을 침지해서 전착 도막을 형성하는, 전착 도장 공정, 및 상기 도장 공정에서 형성한 전착 도막을 가열해서 경화시키는, 가열 경화 공정을 포함하고, 상기 음이온 전착 도료 조성물은, 아크릴 수지(A), 경화제(B), 수분산형 광택 조정제(C) 및 경화 촉매(D)를 포함하고, 상기 수분산형 광택 조정제(C)는, 천연 왁스 및 폴리올레핀 왁스로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 그 이상의 왁스의 수분산물이고, 상기 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스는, 연화점(Tm)이 100℃ 이상이며, 또한 밀도가 0.91∼1.10의 범위 내이고, 상기 음이온 전착 도료 조성물 중에 포함되는 수분산형 광택 조정제(C)의 고형분 질량은, 음이온 전착 도료 조성물의 수지 고형분 100질량부에 대해서 6∼20질량부이고, 상기 전착 도장 공정에 있어서 형성된 전착 도막의 50℃에 있어서의 도막 점도가 10,000∼100,000Pa·s의 범위 내인, 방법을 제공한다.An object of the present invention is to provide a method for forming a cured electrodeposited coating film having a gloss-adjusted property, such as a low-gloss coating film or a matte coating film having a low mirror-surface gloss. The present invention relates to a method of forming a cured electrodeposition coating film, which comprises: an electrodeposition coating step of immersing a substrate in an anion electrodeposition coating composition to form an electrodeposited coating film; and a step of curing the electrodeposition coating film formed in the coating step, Wherein the anionic electrodeposition coating composition comprises an acrylic resin (A), a curing agent (B), an aqueous dispersion type of gloss control agent (C) and a curing catalyst (D) Is a water dispersion of one or more waxes selected from the group consisting of natural waxes and polyolefin waxes and the wax constituting the water dispersible gloss control agent (C) has a softening point (T m ) of 100 ° C or higher The solid content of the aqueous dispersion type gloss control agent (C) contained in the anionic electrodeposition coating composition is in the range of 0.91 to 1.10, and the solid content of the resin solid component 100 And 6 to 20 parts by mass with respect to ryangbu, the coating viscosity at 50 ℃ of the electrodeposition coating film formed in the electrodeposition coating process is provided a method, in the range of · s 10,000~100,000Pa.

Description

경화 전착 도막의 형성 방법Method of forming cured electrodeposited coating

본 발명은, 음이온 전착 도료 조성물을 이용한 경화 전착 도막의 형성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for forming a cured electrodeposited coating film using an anion electrodeposition coating composition.

전착 도장은, 전착 도료 조성물 중에 피도물을 침지시키고, 전압을 인가하는 것에 의해 행해지는 도장 방법이다. 이 방법은, 복잡한 형상을 갖는 피도물이더라도 세부까지 도장을 실시할 수 있고, 자동적이면서 연속적으로 도장할 수 있으므로, 각종 피도물의 하도(下塗) 도장 방법으로서 널리 이용되고 있다. 이 전착 도료 조성물로서, 양이온 전착 도료 조성물 및 음이온 전착 도료 조성물의 2종류가 있다. 양이온 전착 도료 조성물은 일반적으로, 보다 우수한 방청성 및 내식성을 갖는 경화 전착 도막을 형성할 수 있다. 한편으로, 알루미늄 소재에 대해서는, 음이온 전착 조성물이 이용되는 경우가 많다. 이것은, 알루미늄 소재는, 우선, 양극 산화 처리에 의해 양극 산화 피막(알루마이트 피막)을 형성시키고, 이어서, 음이온 전착 조성물을 이용한 음이온 전착 도장을 행하는 것에 의해, 알루미늄 소재에 대해서 우수한 내식성을 부여할 수 있기 때문이다.Electrodeposition coating is a coating method performed by immersing a substrate in an electrodeposition coating composition and applying a voltage. This method is widely used as a method of applying undercoats of various objects because it can be painted even to a detail even if it has a complicated shape and can be painted automatically and continuously. As this electrodeposition coating composition, there are two kinds of electrodeposition coating composition and anion electrodeposition coating composition. The cationic electrodeposition coating composition can generally form a cured electrodeposition coating film having better rust resistance and corrosion resistance. On the other hand, for an aluminum material, an anion electrodeposition composition is often used. This is because, in the case of the aluminum material, excellent corrosion resistance can be imparted to an aluminum material by first forming an anodic oxidation coating (an alumite coating) by an anodic oxidation treatment and then performing an anion electrodeposition coating using an anion electrodeposition composition Because.

음이온 전착 도장에 있어서, 예를 들면 알루미늄 새시의 도장에 있어서는, 경면 광택도가 낮은 저광택 도막 또는 무광택 도막 등이 마련된 피도물은, 일반적으로 차분한 시각적 인상을 줄 수 있고, 또한 고급감도 느껴지기 때문에, 근년, 그와 같은 도막을 형성할 수 있는 도장 방법에 대한 요망이 높아지고 있다.In the anion electrodeposition coating, for example, in the case of painting an aluminum chassis, a low-gloss coating film or a matte coating film having a low mirror-surface gloss is generally provided with a calm visual impression, , A demand for a coating method capable of forming such a coating film is increasing.

무광택 음이온 전착 도료 조성물로서, 예를 들면 일본 특허공개 2002-188044호 공보(특허문헌 1)에는, 아크릴 수지(I), 물 및 유화제의 존재하에서, 중합성 불포화 단량체를 이용해서 다단계로 유화 중합하여 제조되는 유화 중합체로서, 해당 중합성 불포화 단량체로서 알콕시실릴기 함유 중합성 불포화 단량체를 다단으로 사용되는 전체 단량체 중량에 대해서 5∼40중량%의 비율로 포함하는 알콕시실릴기 함유 유화 중합체(II), 및 가교제(III)를 포함하는 도료 조성물로서, 해당 아크릴 수지(I), 알콕시실릴기 함유 유화 중합체(II) 및 가교제(III)의 배합 비율이 이들의 수지 고형분의 합계에 대해서 (I)이 20∼70중량%, (II)가 5∼40중량%, (III)이 20∼60중량%인 것을 특징으로 하는 음이온형 무광택 전착 도료 조성물이 기재되어 있다(청구항 1). 또한 일본 특허공개 2005-307161호 공보(특허문헌 2)에는, 물 및 유화제의 존재하에서, 중합성 불포화 단량체를 이용해서 다단계로 유화 중합하여 제조되는 유화 중합체로서, 해당 중합성 불포화 단량체로서 알콕시실릴기 함유 중합성 불포화 단량체를 다단으로 사용되는 전체 단량체 중량에 대해서 1∼40중량%의 비율로 포함하는 코어/셸형 에멀션(A), 아크릴 수지(B), 경화제(C)를 함유하는 음이온 전착 도료에 대해서 기재되어 있다. 그러나, 이들 음이온 전착 도료 조성물에 의해 얻어진 경화 전착 도막은, 그 광택도가 도장 조건 및/또는 피도물의 형상 등에 의존해서 크게 변동되어 버려, 이른바 광택 불균일을 일으킨다는 문제가 있었다.As a matte anionic electrodeposition coating composition, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-188044 (patent document 1) discloses a multi-stage emulsion polymerization using a polymerizable unsaturated monomer in the presence of an acrylic resin (I), water and an emulsifier (II) containing an alkoxysilyl group-containing polymerizable unsaturated monomer as the polymerizable unsaturated monomer in a proportion of 5 to 40% by weight based on the total weight of monomers used in multiple stages, Wherein the mixing ratio of the acrylic resin (I), the alkoxysilyl group-containing emulsion polymer (II) and the crosslinking agent (III) is 20% or more based on the sum of the resin solids of the resin (I) (II) is contained in an amount of 5 to 40% by weight, and (III) is contained in an amount of 20 to 60% by weight based on the total weight of the composition. Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 2005-307161 (Patent Document 2) discloses an emulsion polymer produced by emulsion polymerization in a multistage manner using a polymerizable unsaturated monomer in the presence of water and an emulsifier, wherein the polymerizable unsaturated monomer is an alkoxysilyl group Shell emulsion (A), an acrylic resin (B) and a curing agent (C), which comprises a core / shell type emulsion (A) containing a polymerizable unsaturated monomer in a proportion of 1 to 40% . However, the cured electrodeposition coating film obtained by these anionic electrodeposition coating compositions largely fluctuates depending on the coating condition and / or the shape of the coated object, and there is a problem in that so-called gloss unevenness is caused.

일본 특허공개 평5-039445호 공보(특허문헌 3)에는, 무광택 전착 도료 조성물을 희석해서 전착하는 무광택 도막의 형성 방법에 있어서, 상기 무광택 전착 도료 조성물이, (A) 카복실기 및 수산기를 갖는 수용성 함불소 공중합 수지 5∼50중량%와, (B1) 알콕시실레인기를 갖는 수용성 또는 수분산형 아크릴 공중합 수지 5∼60중량%와, (C) 가교제 20∼60중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 무광택 도막의 형성 방법이 기재되어 있다(청구항 1). 이 특허문헌 3에 있어서의 무광택 전착 도료 조성물은, (B1) 알콕시실레인기를 갖는 수용성 또는 수분산형 아크릴 공중합 수지가, 가교되는 것에 의해, 불용성의 겔 구조가 되고, 이 불용성의 겔 입자가 무광택 효과를 준다는 점에 있어서, 본 발명의 방법과는 그 구성이 상이하다.JP-A-5-039445 (Patent Document 3) discloses a method for forming a matte coating film by electrodepositing a matte electrodeposition coating composition by diluting, wherein the matte electrodeposition coating composition comprises (A) a water- (B) 5 to 60% by weight of a water-soluble or water-dispersible acrylic copolymer resin having alkoxysilyl groups, and (C) 20 to 60% by weight of a cross-linking agent. A method of forming a coating film is described (claim 1). In the matte electrodeposition coating composition of Patent Document 3, the water-soluble or water-dispersible acrylic copolymer resin (B1) having alkoxysilyl content is crosslinked to become an insoluble gel structure, and the insoluble gel particles have a matte effect The method of the present invention is different from that of the method of the present invention.

일본 특허공개 평8-113735호 공보(특허문헌 4)에는, 카복실기 및 하이드록실기를 측쇄에 갖는 수용성 또는 수분산성의 바이닐계 공중합체(A)의 존재하에, (a) α,β-에틸렌성 불포화 카복실산의 하이드록시알킬 함유 에스터 단량체, (b) α,β-에틸렌성 불포화 카복실산의 알콕시실레인기 함유 에스터 단량체, (c) 카복실기를 갖지 않는 공중합성 바이닐기 함유 단량체의 혼합 단량체(B)를 공중합시켜서 얻어지는 공중합체(D)에 아미노 수지(E)를 가한 후, 왁스(F)를 혼합하고 유기 아민으로 부분적으로 중화한 후, 물을 가해서 에멀션으로 하는 것을 특징으로 하는 무광택 전착 도료용 수지 조성물의 제조 방법이 기재되어 있다(청구항 1). 그러나, 이 제조 방법에 의해 얻어진 전착 도료용 수지 조성물을 이용해서 얻어지는 무광택 경화 전착 도막은, 가열 경화 온도에 의해, 얻어지는 경화 전착 도막의 광택도가 크게 변화하여, 원하는 광택도의 경화 전착 도막이 얻어지지 않는 경우가 있다.Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-113735 (Patent Document 4) discloses a process for producing a water-soluble or water-dispersible vinyl-based copolymer (A) having a carboxyl group and a hydroxyl group in the side chain, (B) an alkoxysilyl-containing ester monomer of an alpha, beta -ethylenically unsaturated carboxylic acid, (c) a monomer mixture (B) of a monomer containing a copolymerizable vinyl group having no carboxyl group, (E) is added to a copolymer (D) obtained by copolymerizing a polyamide resin (A), and then the wax (F) is mixed and partially neutralized with an organic amine, followed by adding water to form an emulsion (Claim 1). However, in the matte-cured electrodeposition coating film obtained by using the resin composition for electrodeposition coating obtained by this production method, the gloss of the resulting cured electrodeposition coating film greatly changes depending on the heating curing temperature, and a cured electrodeposition coating film of desired gloss is obtained .

그런데, 근년에 있어서의 에너지 절약화 및 CO2 배출량 삭감과 같은 환경 부하 저감에 대한 더한층의 요청에 의해, 도막 형성에 있어서의 가열 경화 온도를 낮게 할 것이 요구되고 있다. 한편으로, 가열 경화 온도를 낮게 하는 것에 의해, 얻어지는 경화 전착 도막의 가교 밀도가 낮아져, 도막 경도 또는 내식성 등의 도막 물성이 낮아질 우려가 있다.However, in recent years, it has been demanded to lower the heat curing temperature in forming a coating film by further request for reduction of environmental load such as energy saving and CO 2 emission reduction. On the other hand, by lowering the heat curing temperature, the crosslinking density of the resulting cured electrodeposition coating film is lowered, and the physical properties of the coating film such as coating film hardness or corrosion resistance may be lowered.

일본 특허공개 2002-188044호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2002-188044 일본 특허공개 2005-307161호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-307161 일본 특허공개 평5-039445호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-039445 일본 특허공개 평8-113735호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 8-113735

본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하는 것으로, 그 목적으로 하는 바는, 경면 광택도가 낮은 저광택 도막 또는 무광택 도막 등, 광택도가 조정된 경화 전착 도막의 형성 방법을 제공하는 것에 있다.An object of the present invention is to provide a method of forming a cured electrodeposited coating film having a gloss-adjusted state, such as a low-gloss coating film or a matte coating film having a low mirror-surface gloss.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 하기 태양을 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention provides the following aspects.

[1] [One]

경화 전착 도막의 형성 방법으로서, 상기 방법은, A method for forming a cured electrodeposited coating film,

음이온 전착 도료 조성물 중에 피도물을 침지하고, 전압을 인가해서 전착 도막을 형성하는, 전착 도장 공정, 및 An electrodeposition coating step of immersing a substrate in an anionic electrodeposition coating composition and applying a voltage to form an electrodeposited coating film, and

상기 전착 도장 공정에서 형성한 전착 도막을 가열 경화시켜서 경화 전착 도막을 형성하는, 가열 경화 공정 A heat curing step of forming a cured electrodeposited coating film by thermally curing the electrodeposited coating film formed in the electrodeposition coating step

을 포함하고, / RTI >

상기 음이온 전착 도료 조성물은, 아크릴 수지(A), 경화제(B), 수분산형 광택 조정제(C) 및 경화 촉매(D)를 포함하고, Wherein the anionic electrodeposition coating composition comprises an acrylic resin (A), a curing agent (B), an aqueous dispersion type gloss control agent (C) and a curing catalyst (D)

상기 수분산형 광택 조정제(C)는, 천연 왁스 및 폴리올레핀 왁스로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 그 이상의 왁스의 수분산물이고, The aqueous dispersion type gloss adjuster (C) is an aqueous dispersion of one or more waxes selected from the group consisting of natural wax and polyolefin wax,

상기 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스는, 연화점(Tm)이 100℃ 이상이며, 또한 밀도가 0.91∼1.10의 범위 내이고, The wax constituting the aqueous dispersion type gloss adjuster (C) preferably has a softening point (T m ) of 100 ° C or higher and a density of 0.91 to 1.10,

상기 음이온 전착 도료 조성물 중에 포함되는 수분산형 광택 조정제(C)의 고형분 질량은, 음이온 전착 도료 조성물의 수지 고형분 100질량부에 대해서 6∼20질량부이고, The solid content of the aqueous dispersion type gloss control agent (C) contained in the anionic electrodeposition coating composition is 6 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin solid content of the anion electrodeposition coating composition,

상기 전착 도장 공정에 있어서 형성된 전착 도막의 50℃에 있어서의 도막 점도가 10,000∼100,000Pa·s의 범위 내인, Wherein the electrodeposition coating film formed in the electrodeposition coating step has a coating film viscosity at 50 캜 within a range of 10,000 to 100,000 Pa · s,

방법.Way.

[2] [2]

상기 가열 경화 공정에 있어서의 가열 온도(Th)가 110∼160℃인 상기 방법.Wherein the heating temperature (T h ) in the heat curing step is 110 to 160 캜.

[3] [3]

상기 연화점(Tm)은 100∼140℃의 범위 내인 상기 방법.Wherein the softening point (T m ) is in the range of 100 to 140 캜.

[4] [4]

상기 전착 도장 공정에 있어서 형성된 전착 도막의 80℃에 있어서의 도막 점도가 1,000∼10,000Pa·s의 범위 내인, 상기 방법.Wherein the electrodeposition coating film formed in the electrodeposition coating step has a coating film viscosity at 80 캜 within a range of 1,000 to 10,000 Pa · s.

[5] [5]

상기 아크릴 수지(A)는, 카복실기 및 수산기를 갖는 아크릴 수지이고, The acrylic resin (A) is an acrylic resin having a carboxyl group and a hydroxyl group,

상기 경화제(B)는, 아미노 수지 및 블록 아이소사이아네이트 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 그 이상인, Wherein the curing agent (B) is one or more selected from the group consisting of an amino resin and a block isocyanate compound,

상기 방법. Gt;

[6] [6]

상기 연화점(Tm) 및 가열 온도(Th)의 차(ΔT)가 10℃ 이상 50℃ 이하이고, 또한 Th>Tm인, 상기 방법.Wherein the difference (DELTA T) between the softening point (T m ) and the heating temperature (T h ) is not less than 10 ° C and not more than 50 ° C, and T h > T m .

[7] [7]

상기 형성 방법에 의해서 형성된 경화 전착 도막은, 60° 경면 광택도가 70 이하인, 상기 방법.Wherein the cured electrodeposition coating film formed by the forming method has a 60 占 specular gloss of 70 or less.

한편 본 명세서에 있어서는, 가열 경화 전의 미경화된 전착 도막을 「전착 도막」이라고 하고, 그것을 가열 경화시킨 후의 도막을 「경화 전착 도막」 또는 간단히 「경화 도막」이라고 한다.On the other hand, in the present specification, the uncured electrodeposition coating film before heat curing is referred to as an " electrodeposition coating film ", and the coated film after heat curing is referred to as a " cured electrodeposition coating film "

본 발명의 방법에 의하면, 경면 광택도가 낮은 저광택 도막 또는 무광택 도막 등, 광택도가 조정된 경화 전착 도막을 얻을 수 있다. 본 발명의 방법에 의해, 가열 경화 온도 변화에 의한 광택도 변화 등의 광택 불균일이 없고, 우수한 마무리 외관을 갖는 경화 전착 도막을 얻을 수 있다. 본 발명의 방법에 있어서는 더욱이, 전착 도막을 형성한 후, 저온 경화 조건에서 가열 경화시키는 경우이더라도, 양호한 경도를 갖는 경화 전착 도막을 얻을 수 있다.According to the method of the present invention, it is possible to obtain a cured electrodeposited coating film whose gloss is adjusted, such as a low-gloss coating film having low mirror-surface gloss or a matte coating film. By the method of the present invention, it is possible to obtain a cured electrodeposited coating film having excellent finish appearance without gloss unevenness such as change in gloss due to a change in the heat curing temperature. In the method of the present invention, a cured electrodeposited coating film having good hardness can be obtained even when the electrodeposited coating film is formed and then heat cured under low temperature curing conditions.

본 발명의 경화 전착 도막의 형성 방법은, 하기 공정, The method for forming a cured electrodeposition coating film of the present invention comprises the steps of:

음이온 전착 도료 조성물 중에 피도물을 침지하고, 전압을 인가해서 전착 도막을 형성하는, 전착 도장 공정, 및 An electrodeposition coating step of immersing a substrate in an anionic electrodeposition coating composition and applying a voltage to form an electrodeposited coating film, and

상기 전착 도장 공정에서 형성한 전착 도막을 가열 경화시켜서 경화 전착 도막을 형성하는, 가열 경화 공정 A heat curing step of forming a cured electrodeposited coating film by thermally curing the electrodeposited coating film formed in the electrodeposition coating step

을 포함한다. 이하, 본 발명의 방법에 대해서 상술한다.. Hereinafter, the method of the present invention will be described in detail.

피도물Object

본 발명의 형성 방법에 있어서의 피도물은, 도전성을 갖는 기재이면 특별히 한정되지 않고 이용할 수 있다. 피도물로서, 예를 들면, 철, 스테인리스, 알루미늄, 구리, 아연, 주석 및 이들의 합금 등의 금속 재료, 이들 금속 재료의 성형물, 그리고 도전성 플라스틱 및 그의 표면 처리품 등을 들 수 있다. 상기 금속 재료는, 도금 처리가 실시된 기재여도 된다. 본 발명에 있어서 적합한 피도물로서는, 철, 스테인리스 등의 철 기재, 그리고 알루미늄, 알루미늄 합금 등의 알루미늄 기재를 들 수 있다.The substrate to be used in the forming method of the present invention is not particularly limited as long as it is a substrate having conductivity. Examples of the substrate include metallic materials such as iron, stainless steel, aluminum, copper, zinc, tin and alloys thereof, molded products of these metallic materials, and conductive plastics and surface treated products thereof. The metal material may be a substrate on which a plating treatment has been performed. Suitable substrates for the present invention include iron substrates such as iron and stainless steel, and aluminum substrates such as aluminum and aluminum alloys.

음이온 전착 도료 조성물Anionic electrodeposition coating composition

본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물은, 아크릴 수지(A), 경화제(B), 수분산형 광택 조정제(C) 및 경화 촉매(D)를 포함한다.The anionic electrodeposition coating composition of the present invention comprises an acrylic resin (A), a curing agent (B), an aqueous dispersion type of gloss control agent (C) and a curing catalyst (D).

아크릴 수지(A)Acrylic resin (A)

음이온 전착 도료 조성물 중에 포함되는 아크릴 수지(A)는, 도막 형성 수지이다. 아크릴 수지(A)는, 카복실기 및 수산기를 갖는 아크릴 수지인 것이 바람직하다. 이와 같은 아크릴 수지(A)로서는, 예를 들면, 카복실기 함유 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-1) 및 수산기 함유 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-2), 추가로 필요에 따라서 그 밖의 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-3)을 이용해서, 이들 단량체를 라디칼 중합시켜서 얻어지는 아크릴 수지를 들 수 있다.The acrylic resin (A) contained in the anionic electrodeposition coating composition is a film-forming resin. The acrylic resin (A) is preferably an acrylic resin having a carboxyl group and a hydroxyl group. Examples of such an acrylic resin (A) include a carboxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer (a-1) and a hydroxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer (a-2), and further, And an acrylic resin obtained by radical polymerization of these monomers using the unsaturated monomer (a-3).

카복실기 함유 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-1)은, 1분자 중에 카복실기와 중합성 불포화 결합을 각각 적어도 1개 갖는 화합물이다. 카복실기 함유 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-1)로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산, 이타콘산, 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 말레산 모노에스터, 이타콘산 모노에스터, 크로톤산, 시트라콘산 등의 바이닐 중합 가능한 α,β-불포화 지방산, 카프로락톤 변성 카복실기 함유 (메트)아크릴계 단량체, 및 이들의 혼합물 등을 들 수 있다. 카복실기 함유 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-1)로서, 아크릴산 및 메타크릴산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 이용하는 것이 바람직하다.The carboxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer (a-1) is a compound having at least one carboxyl group and at least one polymerizable unsaturated bond in one molecule. Examples of the carboxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer (a-1) include (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, maleic acid monoester, itaconic acid monoester, (Meth) acrylic monomers containing a vinyl polymerizable α, β-unsaturated fatty acid, caprolactone-modified carboxyl group, and mixtures thereof, and the like. As the carboxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer (a-1), at least one member selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid is preferably used.

한편, 본 명세서 중에 있어서, (메트)아크릴산은, 아크릴산 또는 메타크릴산을 나타낸다.In the present specification, (meth) acrylic acid represents acrylic acid or methacrylic acid.

수산기 함유 라디칼 중합성 불포화계 단량체(a-2)는, 1분자 중에 수산기와 중합성 불포화 결합을 각각 적어도 1개 갖는 화합물이다. 수산기 함유 라디칼 중합성 불포화계 단량체(a-2)로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 하이드록시에틸, (메트)아크릴산 하이드록시프로필, (메트)아크릴산 하이드록시뷰틸 등의 (메트)아크릴산 하이드록시알킬류; (메트)아크릴산 (폴리)에틸렌 글라이콜, (메트)아크릴산 (폴리)프로필렌 글라이콜 등의 (메트)아크릴산 (폴리)알킬렌 글라이콜류; 및 이들 수산기 함유 아크릴계 단량체와, β-프로피오락톤, 다이메틸프로피오락톤, 뷰티로락톤, γ-발레로락톤, γ-카프로락톤, γ-카프릴로락톤, γ-라우로락톤, ε-카프로락톤, δ-카프로락톤 등의 락톤류 화합물의 반응물 등을 들 수 있다. 이와 같은 반응물로서 시판품을 이용해도 되고, 예를 들면, 플락셀 FM1(다이셀화학사제, 상품명, 카프로락톤 변성 (메트)아크릴산 하이드록시 에스터류), 플락셀 FM2(동좌(同左)), 플락셀 FM3(동좌), 플락셀 FA1(동좌), 플락셀 FA2(동좌), 플락셀 FA3(동좌) 등을 들 수 있다.The hydroxyl-containing radical polymerizable unsaturated monomer (a-2) is a compound having at least one hydroxyl group and at least one polymerizable unsaturated bond in one molecule. Examples of the hydroxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer (a-2) include (meth) acrylate such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate and hydroxybutyl Alkyls; (Meth) acrylic acid (poly) alkylene glycols such as (meth) acrylic acid (poly) ethylene glycol and (meth) acrylic acid (poly) propylene glycol; And a copolymer of these hydroxyl group-containing acrylic monomers and at least one monomer selected from the group consisting of? -Propiolactone, dimethylpropiolactone, butyrolactone,? -Valerolactone,? -Caprolactone,? -Caprylolactone,? -Laurolactone, Lactones, and lactone compounds such as? -Caprolactone. Examples of such reactants include commercially available products such as Flaccel FM1 (trade name, product name, caprolactone-modified (meth) acrylic acid hydroxy esters), Flaxel FM2 FM3 (co-worker), Flaxel FA1 (co-worker), Flaxel FA2 (co-worker), Flaxel FA3 (co-worker).

그 밖의 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-3)은, 상기의 카복실기 함유 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-1) 및 수산기 함유 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-2) 이외의 단량체로서, 1분자 중에 라디칼 중합성 불포화 결합을 적어도 1개 갖는 화합물이다. 그 밖의 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-3)으로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 프로필, (메트)아크릴산 뷰틸, (메트)아크릴산 헥실, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 옥틸, (메트)아크릴산 라우릴, (메트)아크릴산 사이클로헥실 등의 (메트)아크릴산의 C1-8 알킬 에스터 또는 C3-8 사이클로알킬 에스터; 스타이렌, α-메틸스타이렌, 바이닐톨루엔 등의 방향족 중합성 단량체; (메트)아크릴산 아마이드, N-뷰톡시메틸 (메트)아크릴아마이드, N-메틸올 (메트)아크릴아마이드 등의 (메트)아크릴아마이드 및 그의 유도체; (메트)아크릴로나이트릴 화합물류; γ-(메트)아크릴옥시프로필트라이메톡시실레인, γ-(메트)아크릴옥시프로필메틸다이메톡시실레인, γ-(메트)아크릴옥시프로필트라이에톡시실레인, 바이닐트라이메톡시실레인 등의 알콕시실릴기 함유 중합성 단량체; 등을 들 수 있다.The other radically polymerizable unsaturated monomer (a-3) is a monomer other than the carboxyl group-containing radically polymerizable unsaturated monomer (a-1) and the hydroxyl group-containing radically polymerizable unsaturated monomer (a-2) Radically polymerizable unsaturated bonds. Examples of other radically polymerizable unsaturated monomer (a-3) include (meth) acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, ) C 1-8 alkyl ester or C 3-8 cycloalkyl ester of (meth) acrylic acid such as 2-ethylhexyl acrylate, octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate and cyclohexyl (meth) acrylate; Aromatic polymerizable monomers such as styrene,? -Methylstyrene, and vinyltoluene; (Meth) acrylamide and derivatives thereof such as (meth) acrylic acid amide, N-butoxymethyl (meth) acrylamide and N-methylol (meth) acrylamide; (Meth) acrylonitrile compounds; (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, etc. An alkoxysilyl group-containing polymerizable monomer; And the like.

상기 단량체(a-1), (a-2) 및 (a-3)을 라디칼 공중합 반응시키는 방법으로서, 당업자에 있어서 통상 이용되는 용액 중합 방법, 유화 중합법 등을 이용할 수 있다. 아크릴 수지(A)의 조제에 있어서, As the method of radical copolymerization reaction of the monomers (a-1), (a-2) and (a-3), solution polymerization methods and emulsion polymerization methods commonly used in the art can be used. In the preparation of the acrylic resin (A)

카복실기 함유 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-1)을, 단량체의 합계 질량에 대해서 바람직하게는 3∼30질량%, 보다 바람직하게는 4∼20질량%, The content of the carboxyl group-containing radical polymerizable unsaturated monomer (a-1) is preferably 3 to 30% by mass, more preferably 4 to 20% by mass,

수산기 함유 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-2)를, 단량체의 합계 질량에 대해서 바람직하게는 3∼40질량%, 보다 바람직하게는 5∼30질량%, 및 The amount of the hydroxyl-containing radical polymerizable unsaturated monomer (a-2) is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass with respect to the total mass of the monomers,

그 밖의 라디칼 중합성 불포화 단량체(a-3)을, 단량체의 합계 질량에 대해서 바람직하게는 30∼90질량%, 보다 바람직하게는 40∼85질량% Is preferably 30 to 90% by mass, more preferably 40 to 85% by mass, based on the total mass of the monomers, of the other radical polymerizable unsaturated monomer (a-3)

의 범위 내에서 이용하는 것이 바람직하다.Is preferably used within a range of < RTI ID = 0.0 >

상기 아크릴 수지(A)는, 산가가 15∼150mgKOH/g인 것이 바람직하고, 40∼80mgKOH/g인 것이 보다 바람직하다. 아크릴 수지(A)의 산가가 15mgKOH/g 이상인 경우, 수지의 수분산성이 높아져, 균일한 도료를 제조할 수 있다. 또한, 150mgKOH/g 이하인 경우, 경화 도막의 내식성, 내산성 등이 높아지는 등의 이점이 있다.The acrylic resin (A) preferably has an acid value of 15 to 150 mgKOH / g, more preferably 40 to 80 mgKOH / g. When the acid value of the acrylic resin (A) is 15 mgKOH / g or more, the water dispersibility of the resin becomes high, and a uniform paint can be produced. When it is 150 mgKOH / g or less, there is an advantage such that the corrosion resistance and acid resistance of the cured coating film are increased.

상기 아크릴 수지(A)는, 수산기가가 30∼200mgKOH/g인 것이 바람직하고, 50∼150mgKOH/g인 것이 보다 바람직하다. 아크릴 수지(A)의 수산기가가 30mgKOH/g 이상인 경우, 경화 반응이 충분히 일어나, 본래의 도막 성능이 얻어진다. 또한, 200mgKOH/g 이하인 경우, 미반응의 수산기가 도막에 잔존하지 않고, 내식성, 내산성 등을 저하시키는 경우가 없는 등의 이점이 있다.The acrylic resin (A) preferably has a hydroxyl value of 30 to 200 mgKOH / g, more preferably 50 to 150 mgKOH / g. When the hydroxyl value of the acrylic resin (A) is 30 mgKOH / g or more, the curing reaction sufficiently occurs, and the original coating film performance is obtained. Further, when it is 200 mgKOH / g or less, unreacted hydroxyl groups do not remain in the coating film, and corrosion resistance and acid resistance are not lowered.

한편, 본 명세서에서, 산가 및 수산기가는, 각각 고형분 산가, 고형분 수산기가를 나타내고, JIS K 0070에 기재되는 방법에 의해서 측정할 수 있다.In the present specification, the acid value and the hydroxyl value indicate the solid acid value and the hydroxyl value of the solid content, respectively, and can be measured by the method described in JIS K 0070.

아크릴 수지(A)는, 중량 평균 분자량(Mw)이 5,000∼100,000인 것이 바람직하고, 10,000∼50,000인 것이 보다 바람직하다. 아크릴 수지(A)의 중량 평균 분자량(Mw)이 5000 이상인 경우, 내식성, 내산성 등의 도막 성능이 높아지는 등의 이점이 있다. 또한, 100,000 이하인 경우, 전착 도막의 플로성이 높아져, 도막 외관이 양호한 경화 전착 도막이 얻어지는 등의 이점이 있다.The acrylic resin (A) preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 5,000 to 100,000, more preferably 10,000 to 50,000. When the weight average molecular weight (Mw) of the acrylic resin (A) is 5000 or more, the coating film performance such as corrosion resistance and acid resistance is advantageously increased. When it is 100,000 or less, there is an advantage that the electrophotographic coating film has a high flow property and a cured electrodeposited coating film having a good coating film appearance can be obtained.

한편, 본 명세서에서는, 중량 평균 분자량(Mw)은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)로 측정한 폴리스타이렌 환산의 값이다.In the present specification, the weight average molecular weight (Mw) is a polystyrene reduced value measured by gel permeation chromatography (GPC).

본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물에 있어서, 상기 아크릴 수지(A)는, 카복실기를, 염기성 물질(예를 들면, 트라이에틸아민, 다이메틸에탄올아민, 암모니아 등)로 중화해서, 수용성 또는 수분산성의 수지로서 이용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 아크릴 수지(A)의 중화에 있어서, 중화율은, 30∼100%인 것이 바람직하고, 50∼80%인 것이 보다 바람직하다. 중화율이 상기 범위인 것에 의해, 음이온 전착 도료 조성물 중에 있어서 상기 아크릴 수지(A)를 양호하게 분산시킬 수 있다.In the anionic electrodeposition coating composition of the present invention, the acrylic resin (A) is obtained by neutralizing a carboxyl group with a basic substance (for example, triethylamine, dimethylethanolamine, ammonia, etc.) Is preferably used as the resin. In the neutralization of such an acrylic resin (A), the neutralization ratio is preferably 30 to 100%, more preferably 50 to 80%. When the neutralization ratio is in the above range, the acrylic resin (A) can be well dispersed in the anionic electrodeposition coating composition.

본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물에 있어서, 상기 아크릴 수지(A)의 함유량은, 상기 아크릴 수지(A) 및 경화제(B)의 합계 수지 고형분 100질량%에 대해서, 50∼80질량%인 것이 바람직하다. 50질량% 이상임으로써, 내산성, 내알칼리성 등의 내약품성 및 내식성이 높아진다. 또한, 80질량% 이하인 경우, 전착 도막이 충분히 경화되어, 원하는 도막 성능이 얻어진다.In the anionic electrodeposition coating composition of the present invention, the content of the acrylic resin (A) is preferably 50 to 80% by mass based on 100% by mass of the total resin solid content of the acrylic resin (A) and the curing agent (B) desirable. When it is 50 mass% or more, the chemical resistance and corrosion resistance such as acid resistance and alkali resistance are improved. When the content is 80 mass% or less, the electrodeposition coating film is sufficiently cured, and desired coating film performance is obtained.

본 발명의 도료 조성물은, 상기 아크릴 수지(A) 이외의, 필요에 따른 다른 도막 형성 수지를 포함해도 된다. 다른 도막 형성 수지로서, 예를 들면, 폴리에스터 수지, 유레테인 수지, 에폭시 수지, 뷰타다이엔계 수지, 페놀 수지, 자일렌 수지 등을 들 수 있다. 경화 전착 도막의 내식성 향상의 관점에서 에폭시 수지가 바람직하다. 또한, 이와 같은 다른 도막 형성 수지를 이용하는 경우에 있어서의 함유량은, 도료 조성물 중에 포함되는 수지 고형분에 대해서 20질량% 미만인 것이 바람직하고, 10질량% 미만인 것이 보다 바람직하다.The coating composition of the present invention may contain other coating film forming resin as needed other than the acrylic resin (A). Examples of other coating film forming resins include polyester resins, urethane resins, epoxy resins, butadiene resins, phenol resins, and xylene resins. From the viewpoint of improving the corrosion resistance of the cured electrodeposition coating film, an epoxy resin is preferable. The content of such another film-forming resin is preferably less than 20 mass%, more preferably less than 10 mass%, based on the solid content of the resin contained in the coating composition.

경화제(B)The curing agent (B)

본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물은, 경화제(B)를 포함한다. 경화제(B)는, 아미노 수지 및 블록 아이소사이아네이트 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 그 이상인 것이 바람직하다.The anionic electrodeposition coating composition of the present invention contains a curing agent (B). The curing agent (B) is preferably one or more selected from the group consisting of an amino resin and a block isocyanate compound.

아미노 수지는, 멜라민, 요소, 벤조구아나민 등의 아미노 화합물과, 폼알데하이드, 아세트알데하이드 등의 알데하이드 화합물의 축합체에, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 뷰탄올 등의 저급 알코올을 이용해서 변성시키는 것에 의해 얻어지는 축합체이다. 이와 같은 아미노 수지의 구체예로서, 예를 들면, 완전 알킬형 메틸/뷰틸 혼합 에터화 멜라민 수지, 메틸올기형 메틸/뷰틸 혼합 에터화 멜라민 수지, 이미노형 메틸/뷰틸 혼합 에터화 멜라민 수지, 완전 알킬형 메틸화 멜라민 수지, 이미노기형 메틸화 멜라민 수지를 들 수 있다.The amino resin is obtained by modifying a condensate of an amino compound such as melamine, urea, benzoguanamine and the like with an aldehyde compound such as formaldehyde or acetaldehyde using a lower alcohol such as methanol, ethanol, propanol or butanol Lt; / RTI > As specific examples of such amino resins, there may be mentioned, for example, a mixture of a fully alkyl type methyl / butyl mixed esterified melamine resin, a methylol modified methyl / butyl mixed esterified melamine resin, an imino type mixed methyl / butyl mixed esterified melamine resin, Methylated melamine resins, and imino modified methylated melamine resins.

아미노 수지로서는, 시판품을 이용해도 된다. 시판품으로서는, 예를 들면, 사이멜 232, 사이멜 232S, 사이멜 235, 사이멜 236, 사이멜 238, 사이멜 266, 사이멜 267, 사이멜 285 등의 완전 알킬형 메틸/뷰틸 혼합 에터화 멜라민 수지; 사이멜 272 등의 메틸올기형 메틸/뷰틸 혼합 에터화 멜라민 수지; 사이멜 202, 사이멜 207, 사이멜 212, 사이멜 253, 사이멜 254 등의 이미노형 메틸/뷰틸 혼합 에터화 멜라민 수지; 사이멜 300, 사이멜 301, 사이멜 303, 사이멜 350 등의 완전 알킬형 메틸화 멜라민 수지; 사이멜 325, 사이멜 327, 사이멜 703, 사이멜 712, 사이멜 254, 사이멜 253, 사이멜 212, 사이멜 1128 등의 이미노기형 메틸화 멜라민 수지(이상, 올넥스재팬사제), 유반 20SE60(미쓰이화학사제, 뷰틸 에터화 멜라민 수지) 등을 들 수 있다.As the amino resin, a commercially available product may be used. Commercially available products include, for example, methyl methacrylate / methyl methacrylate copolymers such as Cymel 232, Cymel 232S, Cymel 235, Cymel 236, Cymel 238, Cymel 266, Cymel 267, Cymel 285, Suzy; Butyl melamine resin in a methylol group type methyl / butyl mixture such as Cymel 272; Butyl methacrylate resin such as Cymel 202, Cymel 207, Cymel 212, Cymel 253, Cymel 254 and the like; Methylated melamine resins such as Cymel 300, Cymel 301, Cymel 303, and Cymel 350; Imino type methylated melamine resins (such as those manufactured by Allenex Japan) such as Cymel 325, Cymel 327, Cymel 703, Cymel 712, Cymel 254, Cymel 253, Cymel 212 and Cymel 1128, (Manufactured by Mitsui Chemicals, butyl ethereal melamine resin), and the like.

블록 아이소사이아네이트 화합물로서는, 하기 1)∼3); As the block isocyanate compound, the following 1) to 3);

1) 트라이메틸렌 다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트 등의 지방족 다이아이소사이아네이트, 아이소포론 다이아이소사이아네이트 등의 지환식 다이아이소사이아네이트, 1) alicyclic diisocyanates such as trimethylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; alicyclic diisocyanates such as isophorone diisocyanate;

2) 상기 다이아이소사이아네이트류와 에틸렌 글라이콜, 트라이메틸올프로페인, 펜톨 등의 다가 알코올류를 반응시켜서 얻어지는 2작용성 이상의 폴리아이소사이아네이트, 2) bifunctional or higher polyisocyanates obtained by reacting the above diisocyanates with polyhydric alcohols such as ethylene glycol, trimethylol propane and pentol,

3) 상기 1)의 다이아이소사이아네이트류 3몰을 반응시켜서 얻어지는 아이소사이아누레이트 결합 함유 3작용성 아이소사이아네이트; 3) an isocyanurate bond-containing trifunctional isocyanate obtained by reacting 3 mol of the diisocyanates of the above 1);

로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종에, 블록제를 반응시켜서 얻어지는 블록 아이소사이아네이트 화합물이 적합하게 이용된다.Is suitably used as a block isocyanate compound obtained by reacting a block agent with at least one member selected from the group consisting of

블록제로서는, 예를 들면, n-뷰탄올, n-헥실알코올, 2-에틸헥산올, 라우릴알코올, 페놀카비놀, 메틸페닐카비놀 등의 1가의 알킬(또는 방향족) 알코올류; 에틸렌 글라이콜 모노헥실 에터, 에틸렌 글라이콜 모노-2-에틸헥실 에터 등의 셀로솔브류; 폴리에틸렌 글라이콜, 폴리프로필렌 글라이콜, 폴리테트라메틸렌 에터 글라이콜 페놀 등의 폴리에터형 양 말단 다이올류; 에틸렌 글라이콜, 프로필렌 글라이콜, 1,4-뷰테인다이올 등의 다이올류와, 옥살산, 석신산, 아디프산, 수베르산, 세바스산 등의 다이카복실산류로부터 얻어지는 폴리에스터형 양 말단 폴리올류; 파라-t-뷰틸페놀, 크레졸 등의 페놀류; 다이메틸 케톡심, 메틸 에틸 케톡심, 메틸 아이소뷰틸 케톡심, 메틸 아밀 케톡심, 사이클로헥산온 옥심 등의 옥심류; 및 ε-카프로락탐, γ-뷰티로락탐으로 대표되는 락탐류 등이 바람직하게 이용된다.Examples of the blocking agent include monovalent alkyl (or aromatic) alcohols such as n-butanol, n-hexyl alcohol, 2-ethylhexanol, lauryl alcohol, phenol carbinol and methylphenyl carbinol; Cellosolves such as ethylene glycol monohexyl ether and ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether; Polyether terminal diol such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene ether glycolphenol; Diols such as ethylene glycol, propylene glycol and 1,4-butanediol, and polyester-type polyols obtained from dicarboxylic acids such as oxalic acid, succinic acid, adipic acid, suberic acid and sebacic acid Terminal polyols; Para-tert-butylphenol, and cresol; Oximes such as dimethyl ketoxime, methyl ethyl ketoxime, methyl isobutyl ketoxime, methyl amyl ketoxime, and cyclohexanone oxime; And lactams represented by? -Caprolactam and? -Butyrolactam are preferably used.

폴리아이소사이아네이트 화합물의 시판품의 구체예로서는, 바이히두르 VPLS2186(스미카바이엘유레테인사제) 등을 들 수 있다.Specific examples of commercially available products of the polyisocyanate compound include Baiduur VPLS2186 (manufactured by Sumika Bayer Eletenzhen) and the like.

경화제(B)로서, 상기 아미노 수지 및 블록 아이소사이아네이트 화합물의 혼합물을 이용해도 된다. 상기 경화제(B)로서, 본 발명의 효과가 효과적으로 얻어진다는 점에서, 아미노 수지를 이용하는 것이 보다 바람직하다.As the curing agent (B), a mixture of the amino resin and the block isocyanate compound may be used. As the curing agent (B), an amino resin is more preferably used because the effect of the present invention can be effectively obtained.

본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물에 있어서, 상기 경화제(B)의 함유량은, 상기 아크릴 수지(A) 및 경화제(B)의 합계 수지 고형분 100질량%에 대해서, 20∼50질량%인 것이 바람직하다. 20질량% 이상인 경우, 충분히 경화 반응이 진행되어, 원하는 도막 성능이 얻어진다. 또한, 50질량% 이하인 경우, 도막의 밀착성이나 유연성이 높아진다.In the anionic electrodeposition coating composition of the present invention, the content of the curing agent (B) is preferably 20 to 50% by mass based on 100% by mass of the total resin solid content of the acrylic resin (A) and the curing agent (B) Do. When it is 20% by mass or more, the curing reaction proceeds sufficiently, and desired coating film performance is obtained. When it is 50 mass% or less, the adhesion and flexibility of the coating film are enhanced.

수분산형 광택 조정제(C)Water-dispersible polish regulator (C)

본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물은, 수분산형 광택 조정제(C)를 포함한다. 수분산형 광택 조정제(C)는, 천연 왁스 및 폴리올레핀 왁스로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 그 이상의 왁스의 수분산물이다. 이 왁스는, 연화점(Tm)이 100℃ 이상이며, 그리고 밀도가 0.91∼1.10의 범위 내인 것을 조건으로 한다.The anionic electrodeposition coating composition of the present invention includes an aqueous dispersion type of gloss control agent (C). The water-dispersible gloss-adjusting agent (C) is an aqueous dispersion of one or more waxes selected from the group consisting of natural waxes and polyolefin waxes. The wax has a softening point (T m ) of 100 ° C or higher and a density of 0.91 to 1.10.

상기 왁스 중, 천연 왁스의 구체예로서, 예를 들면, 목랍, 카르나우바 왁스, 석유계의 마이크로크리스탈린 왁스, 파라핀 왁스, 광물계의 몬탄 왁스 등을 들 수 있다. 폴리올레핀 왁스의 구체예로서, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 산화 폴리에틸렌, 산화 폴리프로필렌, 염화 폴리에틸렌, 염소화 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 왁스 등을 들 수 있다.Specific examples of the natural waxes include waxes, carnauba waxes, petroleum-based microcrystalline waxes, paraffin waxes, mineral waxes, and the like. Specific examples of the polyolefin wax include polyolefin waxes such as polyethylene, polypropylene, polyethylene oxide, oxidized polypropylene, chlorinated polyethylene, and chlorinated polypropylene.

상기 왁스의 수분산물의 조제 방법의 예로서, 예를 들면, As an example of a method of preparing the water dispersion of the wax, for example,

상기 왁스를 친수성 유기 용매에 용해시키고, 이어서 수성 용매 중에 기계적으로 분산시키는 방법, A method in which the wax is dissolved in a hydrophilic organic solvent and then mechanically dispersed in an aqueous solvent,

계면활성제 또는 고분자 유화제 등을 이용해서, 상기 왁스를 수성 용매 중에 분산시키는 방법, 및 A method of dispersing the wax in an aqueous solvent using a surfactant or a polymer emulsifier, and

상기 왁스에 α,β-불포화 카복실산을 반응시켜서, 카복실기를 도입하고, 이어서, 도입한 카복실기를 유기 아민 또는 무기 염기로 중화하는 것에 의해, 수성 용매 중에 유화 분산시키는 방법 A method of reacting the wax with an?,? - unsaturated carboxylic acid to introduce a carboxyl group and then neutralizing the introduced carboxyl group with an organic amine or an inorganic base to emulsify and disperse the resulting compound in an aqueous solvent

등을 들 수 있다.And the like.

이들 조제 방법에 있어서, 왁스로서, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 산화 폴리에틸렌, 산화 폴리프로필렌 등을 이용하는 것이 바람직하다.In these preparation methods, it is preferable to use polyethylene, polypropylene, polyethylene oxide, oxidized polypropylene or the like as the wax.

본 발명에 있어서, 상기 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스로서, 연화점(Tm)이 100℃ 이상인 것이 이용된다. 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 연화점(Tm)이 100℃ 미만인 경우는, 충분한 광택 조정 효과가 얻어지지 않는다. 또한, 경화 전착 도막에 있어서 광택 불균일이 생기는 문제가 있다. 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 연화점(Tm)은 100∼140℃의 범위 내인 것이 바람직하다.In the present invention, a wax having a softening point (T m ) of 100 캜 or higher is used as the wax constituting the aqueous dispersion type gloss adjuster (C). If the softening point (T m) of the aqueous dispersion type wax constituting the gloss-adjusting agent (C) is less than 100 ℃ is, a sufficient luster-adjusting effect can not be obtained. Further, there is a problem that gloss unevenness occurs in the cured electrodeposition coating film. Dispersed in water glossy softening point (T m) of the wax constituting the controlling agent (C) is preferably within a range of 100~140 ℃.

수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 연화점(Tm)은, 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스가 수분산되기 전의 고형 상태에 있어서, 가열에 의해 연화되는 시점의 온도를 측정하는 것에 의해 결정할 수 있다. 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 연화점(Tm)의 측정은, 구체적으로는, 수분산형 광택 조정제(C)의 조제에 이용하는, 수분산 전 상태의 상기 왁스를 이용해서, JIS K 2207에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다. 상기 측정에 있어서, 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스가 수분산되기 전의 고형 상태 대신에, 수분산형 광택 조정제(C)에 있어서 수성 매체를 증발시켜서, 왁스가 고형 상태가 된 것을 이용할 수도 있다.The softening point of the wax constituting the aqueous dispersion type gloss-adjusting agent (C) (T m) is dispersed in water in the solid state prior to dispersing the wax constituting the gloss-adjusting agent (C) may, measure the temperature at the time of softening by heating And the like. Measurement of the water dispersion type glossy softening point (T m) of the wax constituting the controlling agent (C) is, specifically, for use in the preparation of the aqueous dispersion type gloss-adjusting agent (C), can by means of the wax in the dispersed state before, JIS K 2207, which is incorporated herein by reference. In the above measurement, it is also possible to use the water dispersion type gloss control agent (C) in which the aqueous medium is evaporated and the wax becomes solid state instead of the solid state before the wax constituting the water dispersion type gloss control agent (C) have.

또한 본 발명에 있어서, 상기 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스는, 밀도가 0.91∼1.10의 범위 내인 것을 이용한다. 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 밀도는, 0.92∼1.05의 범위 내인 것이 바람직하다. 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 밀도가 상기 범위를 벗어나는 경우는, 얻어지는 경화 전착 도막에 있어서, 경화 도막의 외관에 문제가 생길 우려가 있다.In the present invention, the wax constituting the aqueous dispersion type gloss adjuster (C) has a density in the range of 0.91 to 1.10. It is preferable that the density of the wax constituting the aqueous dispersion type of the gloss adjusting agent (C) is in the range of 0.92 to 1.05. When the density of the wax constituting the water dispersible type gloss adjuster (C) is out of the above range, there is a possibility that the appearance of the cured coating film may be problematic in the resulting cured electrodeposition coating film.

수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 밀도는, JIS K 7112에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.The density of the wax constituting the water dispersible type gloss adjuster (C) can be measured by a method in accordance with JIS K 7112.

상기 수분산형 광택 조정제(C)는, 음이온 분산형인 것이 바람직하다. 수분산형 광택 조정제(C)가 음이온 분산형인 것에 의해, 얻어지는 음이온 전착 도료 조성물의 도료 안정성이 향상되는 등의 이점이 있다.It is preferable that the aqueous dispersion type gloss adjuster (C) is an anion dispersion type. When the aqueous dispersion type of gloss control agent (C) is an anion dispersion type, there is an advantage that the paint stability of the resulting anionic electrodeposition coating composition is improved.

수분산형 광택 조정제(C)로서, 시판품을 이용해도 된다. 시판품으로서, 예를 들면, 기후셀락사제의 HI-DISPER(상표) 시리즈, 빅케미재팬사제의 AQUACER(상표) 시리즈 및 AQUAMAT(상표) 시리즈, 미쓰이화학사제의 케미펄 W(상표) 시리즈, 유니티카사제의 애로베이스(상표) 시리즈 등을 들 수 있다.A commercially available product may be used as the water-dispersible type gloss-adjusting agent (C). As a commercial product, for example, HI-DISPER (trademark) series of Climate Cell Co. , AQUACER (trademark) series and AQUAMAT (trademark) series of Big Chemie Japan, Chemie Pearl W (trademark) series of Mitsui Chemicals, And the erotic base (trademark) series made by the manufacturer.

본 발명에 있어서, 상기 음이온 전착 도료 조성물 중에 포함되는 수분산형 광택 조정제(C)의 고형분 질량은, 음이온 전착 도료 조성물의 수지 고형분 100질량부에 대해서 6∼20질량부이다. 수분산형 광택 조정제(C)의 고형분 질량은 7∼20질량부인 것이 바람직하고, 10∼15질량부인 것이 보다 바람직하다. 수분산형 광택 조정제(C)의 고형분 질량이 20질량부를 초과하는 경우는, 얻어지는 경화 전착 도막의 경도가 저하될 우려가 있다. 또한, 수분산형 광택 조정제(C)의 고형분 질량이 6질량부 미만인 경우는, 충분한 광택 조정 효과가 얻어지지 않는다.In the present invention, the solid content of the aqueous dispersion type gloss control agent (C) contained in the anionic electrodeposition coating composition is 6 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin solid content of the anionic electrodeposition coating composition. The solid content of the water-dispersible gloss-regulating agent (C) is preferably 7 to 20 parts by mass, more preferably 10 to 15 parts by mass. When the solids content of the water dispersible type gloss control agent (C) exceeds 20 parts by mass, the hardness of the resulting cured electrodeposition coating film may be lowered. Further, when the solids content of the water dispersible type gloss control agent (C) is less than 6 parts by mass, sufficient gloss control effect can not be obtained.

한편 본 명세서에 있어서 「음이온 전착 도료 조성물의 수지 고형분」이란, 전착 도료 조성물 중에 포함되는 도막 형성 수지의 수지 고형분을 말하고, 구체적으로는, 아크릴 수지(A), 경화제(B), 그리고 필요에 따른 다른 도막 형성 수지의 수지 고형분을 말한다.As used herein, the term "resin solid content of the anionic electrodeposition coating composition" refers to the resin solid content of the coating film forming resin contained in the electrodeposition coating composition, and specifically refers to a resin solid content of an acrylic resin (A), a curing agent (B) Refers to the resin solid content of the other coating film forming resin.

경화 촉매(D) The curing catalyst (D)

본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물은, 경화 촉매(D)를 포함한다. 경화 촉매(D)로서는, 예를 들면, n-뷰틸벤젠설폰산, 아밀벤젠설폰산, 옥틸벤젠설폰산, 도데실벤젠설폰산, 옥타데실벤젠설폰산, 다이뷰틸벤젠설폰산, i-프로필나프탈렌설폰산, p-톨루엔설폰산, 도데실나프탈렌설폰산, 다이노닐나프탈렌설폰산, 다이노닐나프탈렌다이설폰산 등의 설폰산 촉매, 및 이들 설폰산 촉매의 아민 중화물 등; 다이옥틸주석 다이라우레이트, 다이옥틸주석 다이벤조에이트, 다이뷰틸주석 다이벤조에이트 등의 주석 화합물 촉매; 등을 들 수 있다.The anionic electrodeposition coating composition of the present invention comprises a curing catalyst (D). Examples of the curing catalyst (D) include n-butyl benzene sulfonic acid, amyl benzene sulfonic acid, octyl benzene sulfonic acid, dodecyl benzene sulfonic acid, octadecyl benzene sulfonic acid, dibutyl benzene sulfonic acid, Sulfonic acid catalysts such as sulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, dodecylnaphthalenesulfonic acid, dynonylnaphthalenesulfonic acid, and dynonylnaphthalenedisulfonic acid; and amine halides of these sulfonic acid catalysts; Tin compound catalysts such as dioctyltin dilaurate, dioctyltin dibenzoate, and dibutyltin dibenzoate; And the like.

경화 촉매(D)로서, 상기 설폰산 촉매를 이용하는 것이 보다 바람직하고, 도데실벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산, 도데실나프탈렌설폰산, 다이노닐나프탈렌설폰산, 다이노닐나프탈렌다이설폰산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 그 이상을 이용하는 것이 더 바람직하다. 본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물에 있어서, 이와 같은 경화 촉매(D)를 이용하는 것에 의해, 가열 경화 공정에 있어서의 가열 온도를, 예를 들면 100∼160℃, 바람직하게는 110∼160℃와 같은, 비교적 저온 가열 조건으로 설정할 수 있다. 또한, 가열 경화 공정에 있어서의 가열 온도가 상기와 같이 비교적 저온의 가열 조건이더라도, 내찰상성 등의 성능이 양호한 경화 전착 도막을 형성할 수 있는 이점이 있다.As the curing catalyst (D), it is more preferable to use the above-mentioned sulfonic acid catalyst, and it is more preferable to use the above-mentioned sulfonic acid catalyst as the curing catalyst (D) It is more preferable to use one or more selected from the group consisting of In the anionic electrodeposition coating composition of the present invention, by using such a curing catalyst (D), the heating temperature in the heat curing step is set to, for example, 100 to 160 캜, preferably 110 to 160 캜 The temperature can be set at a comparatively low temperature. Further, there is an advantage that a cured electrodeposited coating film having excellent performance such as scratch resistance can be formed even if the heating temperature in the heat curing step is a relatively low temperature heating condition as described above.

음이온 전착 도료 조성물 중에 포함되는 경화 촉매(D)의 양은, 아크릴 수지(A) 및 가교제(B)의 고형분 합계 100질량부를 기준으로 해서, 경화 촉매(D)의 고형분량으로서 0.05∼10질량부인 것이 바람직하고, 0.1∼5질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.2∼4질량부인 것이 더 바람직하다. 상기 범위로 이용함으로써, 내찰상성 등의 성능이 양호한 경화 전착 도막을 형성할 수 있다.The amount of the curing catalyst (D) contained in the anionic electrodeposition coating composition is preferably 0.05 to 10 parts by mass as a solid content of the curing catalyst (D) based on 100 parts by mass of the total solid content of the acrylic resin (A) and the crosslinking agent (B) More preferably from 0.1 to 5 parts by mass, and most preferably from 0.2 to 4 parts by mass. When used in the above range, a cured electrodeposited coating film having excellent performance such as scratch resistance can be formed.

그 밖의 성분 등Other components

본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물은, 수성 도료 조성물이고, 물을 주용매로서 포함한다. 한편으로, 본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물은, 필요에 따라서 유기 용매를 포함해도 된다. 유기 용매의 구체예로서는, 메탄올, 아이소프로판올, 에틸렌 글라이콜, 프로필렌 글라이콜, 다이에틸렌 글라이콜, 다이프로필렌 글라이콜, 메톡시프로판올 등의 알코올류, 에틸렌 글라이콜 모노뷰틸 에터, 프로필렌 글라이콜 모노뷰틸 에터, 다이에틸렌 글라이콜 모노뷰틸 에터 등의 에터류, 아세틸아세톤 등의 케톤류, 에틸렌 글라이콜 모노에틸 에터 아세테이트 등의 에스터류, 헥세인 등을 들 수 있다. 이들 유기 용매는, 1종만을 이용해도 되고, 2종 또는 그 이상을 병용해도 된다. 단, VOC 배출 규제의 관점에서, 유기 용매의 양은 가능한 한 적은 것이 바람직하다.The anionic electrodeposition coating composition of the present invention is a water-based coating composition and contains water as a main solvent. On the other hand, the anionic electrodeposition coating composition of the present invention may contain an organic solvent if necessary. Specific examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, isopropanol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol and methoxypropanol, ethylene glycol monobutyl ether, propylene Ethers such as glycerol monobutyl ether and diethylene glycol monobutyl ether, ketones such as acetyl acetone, esters such as ethylene glycol monoethyl ether acetate, and hexane. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. However, from the viewpoint of regulation of VOC emission, the amount of the organic solvent is preferably as small as possible.

본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물은, 필요에 따라서, 착색제, 안료, 조막(造膜) 조제, 건조 지연 조제, 점성 조정제, 방부제, 방미제, 방부제, 소포제, 광 안정제(예를 들면 힌더드 아민계 광 안정제 등), 산화 방지제, 자외선 흡수제, pH 조정제 등, 당해 분야에 있어서 공지의 다른 첨가제를 포함해도 된다.The anionic electrodeposition coating composition of the present invention may contain a colorant, a pigment, a film forming auxiliary, a drying retarding auxiliary, a viscosity adjusting agent, an antiseptic, an antiseptic, an antiseptic, a defoaming agent, a light stabilizer (for example, An amine-based light stabilizer, etc.), an antioxidant, an ultraviolet absorber, a pH adjuster, and other additives known in the art.

본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물은, 필요에 따라서 안료를 포함해도 된다. 이 안료로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 황산 바륨, 탤크, 탄산 칼슘, 황산 바륨 등의 체질 안료; 인 몰리브데넘산 알루미늄 아연, 인 몰리브데넘산 아연, 인 몰리브데넘산 칼슘 등의 인 몰리브데넘산염계 방청 안료, 및 몰리브데넘산염계 방청 안료, 인산염계 방청 안료 등의 방청 안료; 및 도료 분야에 있어서 통상 이용되는 착색 안료; 등을 들 수 있다.The anionic electrodeposition coating composition of the present invention may contain a pigment as required. The pigment is not particularly limited, and examples thereof include extender pigments such as barium sulfate, talc, calcium carbonate and barium sulfate; Rust inhibitive pigments such as phosphorous acid salt-based antirust pigments such as zinc molybdate zinc oxide, zinc molybdate zinc oxide, zinc molybdate zinc oxide and calcium molybdate dehydrogenate; and rust inhibitive pigments such as molybdate salt based antirust pigments and phosphate based antirust pigments; And coloring pigments commonly used in the field of paints; And the like.

음이온성 안료 분산 페이스트Anionic pigment dispersion paste

음이온 전착 도료 조성물에 안료를 함유시키는 경우, 안료의 분산 용이성의 관점에서, 안료를 미리 안료 분산 페이스트의 형태로 조제하는 것이 바람직하다. 음이온성 안료 분산 페이스트는, 안료를 음이온성 안료 분산 수지에 분산시키는 것에 의해 조제할 수 있다.When the pigment is contained in the anionic electrodeposition coating composition, it is preferable to prepare the pigment in the form of a pigment dispersion paste in advance from the viewpoint of ease of dispersion of the pigment. The anionic pigment dispersion paste can be prepared by dispersing the pigment in an anionic pigment dispersion resin.

음이온성 안료 분산 수지로서, 예를 들면, 아크릴산 에스터, 아크릴산 및 아조나이트릴 화합물 등을 이용해서 조제되는 변성 아크릴 수지를 이용할 수 있다.As the anionic pigment dispersing resin, for example, a modified acrylic resin prepared by using acrylic acid ester, acrylic acid and azonitrile compound can be used.

음이온성 안료 분산 페이스트는, 음이온성 안료 분산 수지, 안료, 수성 매체, 그리고 필요에 따라서 중화 염기를 혼합한 후, 그 혼합물 중의 안료의 입자경이 소정의 균일한 입자경이 될 때까지, 볼 밀 또는 샌드 그라인드 밀 등의 통상 이용되는 분산 장치를 이용해서 분산시키는 것에 의해 조제할 수 있다.The anionic pigment dispersion paste may be prepared by mixing an anionic pigment dispersing resin, a pigment, an aqueous medium and, if necessary, a neutralizing base, and then mixing the pigment with a ball mill or a sand mill until the particle diameter of the pigment in the mixture becomes a predetermined uniform particle diameter. And dispersing them using a commonly used dispersing device such as a mill or a grind mill.

중화 염기로서는, 예를 들면, 암모니아; 다이에틸아민, 에틸에탄올아민, 다이에탄올아민, 모노에탄올아민, 모노프로판올아민, 아이소프로판올아민, 에틸아미노에틸아민, 하이드록시에틸아민, 다이에틸렌트라이아민, 트라이에틸아민 등의 유기 아민; 수산화 나트륨, 수산화 칼륨 등의 알칼리 금속 수산화물 등의 염기성 화합물; 등을 들 수 있다. 일반적으로, 음이온성 안료 분산 페이스트는, 고형분 35∼70질량%, 바람직하게는 40∼65질량%로 조제된다.As the neutralizing base, for example, ammonia; Organic amines such as diethylamine, ethylethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, monopropanolamine, isopropanolamine, ethylaminoethylamine, hydroxyethylamine, diethylenetriamine and triethylamine; Basic compounds such as alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; And the like. Generally, the anionic pigment dispersion paste is prepared at a solid content of 35 to 70% by mass, preferably 40 to 65% by mass.

음이온성 안료 분산 페이스트로서, 시판되는 음이온성의 착색 페이스트를 이용해도 된다. 시판품으로서는, 예를 들면, WAJ-AAT-907 블랙, WAJ-AAT-825 바이올렛, WAJ-AAT-731 블루(이상, 도요켐사제), 에마콜 NS 오커 4622(산요색소사제) 등을 들 수 있다.As an anionic pigment dispersion paste, a commercially available anionic coloring paste may be used. Examples of commercially available products include WAJ-AAT-907 Black, WAJ-AAT-825 Violet, WAJ-AAT-731 Blue (manufactured by Toyobo Co., Ltd.), Emarkol NS Oaker 4622 .

음이온 전착 도료 조성물의 조제Preparation of anionic electrodeposition coating composition

본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물은, 상기 아크릴 수지(A), 경화제(B), 수분산형 광택 조정제(C), 경화 촉매(D), 추가로 필요에 따른 음이온성 안료 분산 페이스트를, 수성 매체 중에 분산시키는 것에 의해 조제할 수 있다. 수성 매체는, 물, 또는 물과 상기의 유기 용매의 혼합물이다. 물로서는, 이온 교환수를 이용하는 것이 바람직하다. 여기에서, 필요에 따라서 상기 중화 염기를 이용해도 된다.The anionic electrodeposition coating composition of the present invention can be obtained by mixing the acrylic resin (A), the curing agent (B), the water dispersible gloss control agent (C), the curing catalyst (D) And dispersing it in a medium. The aqueous medium is water, or a mixture of water and the above organic solvent. As the water, it is preferable to use ion exchange water. The neutralizing base may be used here if necessary.

중화 염기의 양은, 아크릴 수지(A) 등의 도막 형성 수지가 갖는 음이온성기(카복실기)의 적어도 30%, 바람직하게는 50∼120%를 중화하는 데 충분한 양으로 이용하는 것이 바람직하다. 또한 중화 염기를 이용해서, 음이온 전착 도료 조성물의 pH의 조절을 행해도 된다. 음이온 전착 도료 조성물의 pH는 7.0∼9.0인 것이 바람직하고, 7.0∼8.5인 것이 보다 바람직하다.The amount of the neutralizing base is preferably used in an amount sufficient to neutralize at least 30%, preferably 50 to 120%, of the anionic group (carboxyl group) of the coating film forming resin such as the acrylic resin (A). Further, the pH of the anionic electrodeposition coating composition may be adjusted using a neutralized base. The pH of the anionic electrodeposition coating composition is preferably 7.0 to 9.0, more preferably 7.0 to 8.5.

경화 전착 도막의 형성Formation of cured electrodeposited coating

본 발명의 방법은, 하기 공정, The method of the present invention comprises the steps of:

음이온 전착 도료 조성물 중에 피도물을 침지하고, 전압을 인가해서 전착 도막을 형성하는, 전착 도장 공정, 및 An electrodeposition coating step of immersing a substrate in an anionic electrodeposition coating composition and applying a voltage to form an electrodeposited coating film, and

상기 전착 도장 공정에서 형성한 전착 도막을 가열 경화시켜서 경화 전착 도막을 형성하는, 가열 경화 공정 A heat curing step of forming a cured electrodeposited coating film by thermally curing the electrodeposited coating film formed in the electrodeposition coating step

을 포함한다..

이 방법에 있어서, 상기 음이온 전착 도료 조성물을 이용하는 것, 그리고, 상기 전착 도장 공정에 있어서 형성된 전착 도막의 50℃에 있어서의 도막 점도가 10,000∼100,000Pa·s의 범위 내인 것에 의해, 가열 온도의 차이에 의한 광택차 또는 무광택 효과 불량 등의 문제를 수반하지 않는 것을 특징으로 하는, 경면 광택도가 낮은 저광택 도막 또는 무광택 도막 등의 광택도가 조정된 경화 전착 도막을 얻는 것이 가능해진다.In this method, the anodic electrodeposition coating composition is used, and the electrodeposition coating film formed in the electrodeposition coating step has a coating film viscosity at 50 ° C in the range of 10,000 to 100,000 Pa · s, It is possible to obtain a cured electrodeposited coating film whose gloss is adjusted such as a low-gloss coating film or a matte coating film having a low mirror-surface glossiness, which does not involve a problem such as gloss difference caused by the surface gloss or bad matte effect.

음이온 전착 도료 조성물의 전착 도장은, 피도물을 양극으로 해서 음이온 전착 도료 조성물 중에 침지하고, 이어서, 음극과의 사이에, 통상 1∼400V의 전압을 인가하는 것에 의해 행해진다. 전착 도장 시에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물의 도료 온도는, 10∼45℃인 것이 바람직하고, 15∼30℃인 것이 보다 바람직하다. 전압을 인가하는 시간은, 전착 도장 조건에 따라서 임의로 선택할 수 있고, 예를 들면 30초∼5분으로 할 수 있다. 전압을 인가하는 것에 의해, 피도물의 표면에 전착 도막이 형성된다. 형성된 전착 도막은, 필요에 따라서 수세해도 된다.The electrodeposition coating of the anionic electrodeposition coating composition is carried out by immersing the substrate in an anion electrodeposition coating composition using the substrate as an anode and then applying a voltage of usually 1 to 400 V between the substrate and the negative electrode. The coating temperature of the anionic electrodeposition coating composition in electrodeposition coating is preferably 10 to 45 캜, more preferably 15 to 30 캜. The time for applying the voltage can be arbitrarily selected in accordance with electrodeposition coating conditions, and can be, for example, 30 seconds to 5 minutes. By applying a voltage, an electrodeposited coating film is formed on the surface of the substrate. The formed electrodeposition coating film may be washed with water if necessary.

본 발명의 방법에 있어서는, 상기 전착 도장 공정에 있어서 형성된 전착 도막의 50℃에 있어서의 도막 점도가 10,000∼100,000Pa·s의 범위 내인 것을 조건으로 한다. 전착 도막의 50℃에 있어서의 도막 점도가 상기 범위 내인 것에 의해, 본 발명에 있어서의 음이온 전착 도료 조성물 중에 포함되는 수분산형 광택 조정제(C)가, 광택 조정 기능을 양호하게 발휘하게 되어, 얻어지는 경화 전착 도막의 광택도를 낮은 범위(60° 경면 광택도가 70 이하)로 설계할 수 있다.In the method of the present invention, the electrodeposition coating film formed in the electrodeposition coating step has a coating film viscosity at 50 ° C within a range of 10,000 to 100,000 Pa · s. When the coating film viscosity at 50 ° C of the electrodeposition coating film is within the above range, the aqueous dispersion type gloss control agent (C) contained in the anion electrodeposition coating composition of the present invention exerts a satisfactory gloss control function, The gloss of the electrodeposition coating film can be designed in a low range (60 ° specular gloss is 70 or less).

본 발명에 있어서, 전착 도막의 점도를 50℃에서 측정하는 이유는 이하와 같다. 전착 도막은, 전압의 인가에 의해 피도물 표면에 석출된 도막이다. 전착 도막은 일반적으로, 보다 고점도(고Tg)로 설계되어 있다. 그 때문에, 일반적인 전착조의 온도(예를 들면 30℃)에 있어서 전착 도막의 점도를 측정하면, 점도가 매우 높기 때문에 측정이 불가능해지는 경우마저 있다. 이 때문에, 30℃에 있어서 전착 도막의 도막 점도를 측정하는 것은 곤란하다. 한편, 석출된 전착 도막은, 가열에 의해 열 플로가 생겨서 일단 점도가 저하된다. 그리고 추가로 가열하는 것에 의해, 전착 도막 중에 포함되는 아크릴 수지(A) 및 경화제(B) 등의 도막 형성 수지가 가교 반응하여, 도막 점도는 급상승한다. 이에 의해 전착 도막은 경화되어, 경화 전착 도막이 된다. 즉, 전착 도막은 가열에 의해 일단 점도가 저하되고, 그 후에 점도가 상승하게 된다.In the present invention, the reason why the viscosity of the electrodeposition coating film is measured at 50 캜 is as follows. The electrodeposition coating film is a coating film deposited on the surface of the substrate by application of a voltage. The electrodeposited coating is generally designed to have a higher viscosity (high Tg). Therefore, when the viscosity of the electrodeposition coating film is measured at a temperature of a general electrodeposition bath (for example, 30 ° C), the measurement is sometimes impossible because the viscosity is very high. For this reason, it is difficult to measure the coating film viscosity of the electrodeposition coating film at 30 占 폚. On the other hand, the precipitated electrodeposited coating film is thermally flowed by heating, and the viscosity once decreased. By further heating, the coating film forming resin such as the acrylic resin (A) and the curing agent (B) contained in the electrodeposited coating film undergoes a crosslinking reaction, and the viscosity of the coating film rapidly increases. As a result, the electrodeposition coating film is cured to become a cured electrodeposition coating film. That is, the viscosity of the electrodeposition coating film is once lowered by heating, and then the viscosity is increased.

더욱이, 전착 도장 시에 있어서는, 줄 열이 발생하는 것에 의해, 피도물 부근은, 40∼50℃ 정도로 상승하고 있다. 즉 50℃에서의 점도 측정은, 전착 도막 석출 시의 물리적 성질을 재현시킨 상태라고 할 수 있다. 이상으로부터 50℃라는 온도는, 전착 도료 조성물의 상기 성질로부터 도막 점도의 측정에 바람직한 온도이고, 또한 도막 형성 수지의 가교도 생겨 있지 않은 온도, 즉 미경화된 전착 도막의 석출 시의 성질을 판단하는 데 적절한 온도라고 생각된다.Further, in the electrodeposition coating, the vicinity of the workpiece rises to about 40 to 50 占 폚 due to the occurrence of the line heat. That is, the viscosity measurement at 50 ° C can be said to be a state in which the physical properties at the time of deposition of the electrodeposited coating film are reproduced. From the above, the temperature of 50 占 폚 is a temperature which is a preferable temperature for measuring the viscosity of the coating film from the above properties of the electrodeposition coating composition, and a temperature at which no crosslinking of the coating film forming resin occurs, that is, a property at the time of precipitation of the uncured electrodeposition coating film I think it is suitable temperature.

전착 도막의 50℃에 있어서의 도막 점도가 10,000Pa·s 미만인 경우는, 석출된 전착 도막의 열 플로성이 향상되기 때문에, 얻어지는 경화 전착 도막의 광택도가 높아진다. 한편으로, 전착 도막의 50℃에 있어서의 도막 점도가 100,000Pa·s를 초과하는 경우는, 얻어지는 전착 도막의 플로성 저하에 의해, 경화 도막의 외관 불량이 된다.When the coating viscosity of the electrodeposition coating film at 50 ° C is less than 10,000 Pa · s, the deposited electrodeposited coating film has an improved thermal flow property, so that the gloss of the resulting cured electrodeposition coating film is increased. On the other hand, when the coating film viscosity of the electrodeposition coating film at 50 캜 exceeds 100,000 Pa · s, the appearance of the cured coating film becomes poor due to the reduced flowability of the resulting electrodeposition coating film.

본 발명에 있어서는, 상기 전착 도장 공정에 있어서 형성된 전착 도막의 80℃에 있어서의 도막 점도가 1,000∼10,000Pa·s의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 전착 도막의 80℃에 있어서의 도막 점도가 상기 범위 내인 것에 의해, 얻어지는 경화 전착 도막의 광택도를 낮은 범위로 설계하면서, 경화 전착 도막의 마무리 외관을 균일하게 할 수 있다. 이 80℃라는 온도는, 전착 도막에 포함되는 아크릴 수지(A) 및 경화제(B)의 경화 반응이 개시되기 직전의 온도라고 할 수 있다. 이와 같은 온도 조건하에 있어서의, 전착 도막의 80℃에 있어서의 도막 점도가 상기 범위인 것에 의해, 가열에 의한 전착 도막의 플로성이 지나치게 증가하지 않아, 저광택도인 경화 전착 도막의 형성이 가능해지고, 또한 경화 전착 도막의 외관 불량을 회피할 수 있다.In the present invention, it is more preferable that the electrodeposition coating film formed in the electrodeposition coating step has a coating film viscosity at 80 ° C in the range of 1,000 to 10,000 Pa · s. When the coating viscosity of the electrodeposition coating film at 80 캜 is within the above range, the finished appearance of the cured electrodeposition coating film can be made uniform while designing the obtained cured electrodeposition coating film in a low range. The temperature of 80 占 폚 is a temperature immediately before the curing reaction of the acrylic resin (A) and the curing agent (B) contained in the electrodeposition coating film is started. When the viscosity of the electrodeposition coating film at such a temperature condition is within the above-mentioned range, the flowability of the electrodeposition coating film due to heating does not excessively increase and formation of a cured electrodeposition coating film with low glossiness becomes possible , And it is also possible to avoid defective appearance of the cured electrodeposition coating film.

전착 도막의 50℃에 있어서의 도막 점도 및 80℃에 있어서의 도막 점도는, 다음과 같이 해서 측정할 수 있다. 우선 피도물에 막 두께 약 20μm가 되도록 180초간 전착 도장을 행하여, 전착 도막을 형성하고, 이것을 수세해서 여분으로 부착된 전착 도료 조성물을 제거한다. 이어서, 전착 도막 표면에 부착된 여분의 수분을 제거한 후, 건조시키지 않고 즉시 도막을 취출해서, 시료를 조제한다. 이렇게 해서 얻어진 시료를, 동적 점탄성 측정 장치를 이용해서 점도 측정하는 것에 의해, 50℃ 및 80℃ 각각에 있어서의 도막 점도를 측정할 수 있다.The coating film viscosity at 50 캜 and the coating film viscosity at 80 캜 of the electrodeposition coating film can be measured as follows. First, electrodeposition coating is performed on the substrate for 180 seconds so as to have a film thickness of about 20 占 퐉 to form an electrodeposited coating film, which is then washed with water to remove the excess electrodeposition coating composition. Subsequently, after removing excess moisture adhering to the surface of the electrodeposition coating film, the coating film is immediately taken out without drying, and a sample is prepared. The viscosity of the thus-obtained sample is measured using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus, whereby the viscosity of the coating film at 50 ° C and 80 ° C can be measured.

상기 도장 공정에서 형성한 전착 도막을 가열하는 것에 의해, 전착 도막이 경화되어, 경화 전착 도막이 얻어지게 된다(가열 경화 공정). 본 발명의 방법에 있어서는, 이 가열 경화 공정에 있어서의 가열 온도(Th)가 110∼160℃인 것이 바람직하다.By heating the electrodeposition coating film formed in the coating step, the electrodeposition coating film is cured to obtain a cured electrodeposition coating film (heat curing step). In the method of the present invention, it is preferable that the heating temperature (T h ) in the heat curing step is 110 to 160 캜.

상기 연화점(Tm) 및 가열 온도(Th)의 차(ΔT)는 10℃ 이상 50℃ 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기 연화점(Tm) 및 가열 온도(Th)에 대해서는, The difference? T between the softening point (T m ) and the heating temperature (T h ) is more preferably from 10 ° C to 50 ° C. With respect to the softening point (T m ) and the heating temperature (T h )

Th>Tm 및, T h > T m ,

연화점(Tm) 및 가열 온도(Th)의 차 ΔT가 10℃ 이상 50℃ 이하 Softening point (T m) and a heating temperature (T h) of the difference ΔT is more than 10 ℃ below 50 ℃

인 것이 보다 바람직하다.Is more preferable.

또한 상기 ΔT는 10℃ 이상 30℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.It is more preferable that the above-mentioned? T is 10 占 폚 or more and 30 占 폚 or less.

가열 경화 공정에 있어서의 가열 온도(Th)가 상기 범위 내인 것에 의해, 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 연화점(Tm)과의 차가 적절한 범위가 되어, 얻어지는 경화 전착 도막의 광택도를 낮은 범위(60° 경면 광택도가 70 이하)로 양호하게 설계할 수 있고, 더욱이 광택 불균일의 발생을 억제할 수 있는 이점이 있다.The difference between the heating temperature (T h ) in the heat hardening step and the softening point (T m ) of the wax constituting the water dispersible type gloss adjuster (C) is within a suitable range and the gloss of the resulting cured electrodeposited coating film The degree of gloss uniformity can be satisfactorily designed in a low range (60 ° specular gloss is 70 or less), and the occurrence of gloss unevenness can be suppressed.

전착 도막의 가열 시간은, 피도물의 크기 및 상기 가열 온도(Th) 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 가열 시간은, 예를 들면 5∼60분이고, 바람직하게는 10∼30분이다.The heating time of the electrodeposition coating film can be appropriately selected depending on the size of the substrate and the heating temperature (T h ). The heating time is, for example, 5 to 60 minutes, preferably 10 to 30 minutes.

본 발명의 방법에 있어서 형성되는 경화 전착 도막의 막 두께는, 5∼30μm인 것이 바람직하고, 10∼25μm인 것이 보다 바람직하다.The film thickness of the cured electrodeposition coating film formed in the method of the present invention is preferably 5 to 30 m, more preferably 10 to 25 m.

본 발명의 방법에 의해서 형성된 경화 전착 도막은, 60° 경면 광택도가 70 이하인 것이 보다 바람직하다. 60° 경면 광택도는, 일반적으로 60˚ 글로스(Gs(60˚))라고 말해지는 지표이고, 도막면에 입사각 60도의 광원으로부터의 광을 조사해서 그의 경면 반사 광속(ψs)을 측정하고, 동일 조건에 있어서의 굴절률 n=1.567인 유리면의 경면 반사 광속(ψos)을 기준으로 해서, 그의 비로 나타낸 수치 [Gs(60˚)=ψs/os×100(%)]이고, JIS Z 8741에 준거한 방법으로 측정되는 값이다. 상기 60° 경면 광택도는, 예를 들면 Uni-Gross 60(코니카미놀타사제) 등의 광택계를 이용해서 측정할 수 있다.It is more preferable that the cured electrodeposition coating film formed by the method of the present invention has a 60 占 specular gloss of 70 or less. The 60 占 specular glossiness is an index commonly referred to as a 60 占 gloss (Gs (60 占). The surface of the coating film is irradiated with light from a light source at an incident angle of 60 degrees to measure the specularly reflected light flux? Gs (60 占 = ψs / os × 100 (%)], which is expressed by a ratio of the specularly reflected light flux ψos of the glass surface having the refractive index n = 1.567 under the condition, It is the value measured by the method. The 60 占 specular gloss can be measured using a gloss meter such as Uni-Gross 60 (manufactured by Konica Minolta).

본 발명의 방법에 의해, 광택 불균일의 발생을 수반하지 않고, 저광택도로 조정된 경화 전착 도막을 형성할 수 있다. 이와 같은 기술적 효과는, 이론에 구속되는 것은 아니지만, 음이온 전착 도료 조성물 중에 포함되는 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 연화점(Tm)을 제어하고, 또한 전착 도막의 50℃에 있어서의 도막 점도를 특정 범위로 제어하는 것에 의해, 전착 도막의 가열 경화 시에 생기는 도막 상태의 변화를 컨트롤할 수 있고, 이에 의해, 저광택도를 갖는 경화 전착 도막의 형성에 있어서, 광택 불균일의 발생을 억제하는 것이 가능해졌기 때문이라고 생각된다.By the method of the present invention, it is possible to form a cured electrodeposited coating film adjusted to a low gloss without causing occurrence of gloss unevenness. The technical effect of such include, but are not bound by theory, and control the anionic electrodeposition the aqueous dispersion type glossy softening point (T m) of the wax constituting the controlling agent (C) contained in the coating composition, and in 50 ℃ the electrodeposited coating By controlling the viscosity of the coating film to a specific range, it is possible to control the change in the state of the coating film that occurs during heating and curing of the electrodeposition coating film, thereby suppressing the occurrence of gloss unevenness in the formation of a cured electrodeposition coating film having low glossiness It is thought that it is possible to do.

본 발명의 방법에서는 더욱이, 가열 경화 공정에 있어서의 가열 온도가 예를 들면 100∼160℃와 같은, 통상의 전착 도장에 있어서의 가열 경화 공정과 비교해서 저온 조건하에 있어서, 경화 전착 도막을 형성하는 경우이더라도, 충분한 도막 경도를 갖는 도막을 형성할 수 있는 이점이 있다. 이에 의해, 도장 공정에 있어서 환경 부하를 저감할 수 있는 등의 이점이 있다.In the method of the present invention, the heating temperature in the heat curing step is, for example, in the range of 100 to 160 DEG C, which is lower than that in the ordinary heat curing step in electrodeposition coating, There is an advantage that a coating film having sufficient coating film hardness can be formed. Thereby, there is an advantage that the environmental load can be reduced in the coating step.

실시예Example

이하의 실시예에 의해 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되지 않는다. 실시예 중, 「부」 및 「%」는, 예고가 없는 한, 질량 기준에 의한다.The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, "part" and "%" are based on mass unless otherwise noted.

제조예Manufacturing example 1 아크릴1 Acrylic 수지(A)의 제조 Preparation of Resin (A)

교반 장치, 냉각관, 질소 도입관, 온도 조정기에 연결한 온도계를 장비한 2L의 반응 용기에, 아이소프로필알코올 700부를 투입하고, 질소 분위기하에서 80℃로 가열했다. 이 반응 용기에, 메타크릴산 메틸(MMA) 322부, 아크릴산 뷰틸(nBA) 140부, 스타이렌(St) 105부, 메타크릴산 하이드록시에틸(HEMA) 84부, 아크릴산(AA) 49부, 아조아이소뷰티로나이트릴 7부의 혼합 용액을, 3시간에 걸쳐서 등속 적하하고, 그 후, 2시간 80℃에서 유지하는 것에 의해, 산가 55mgKOH/g, 수산기가 52mgKOH/g, 중량 평균 분자량 30,000의 아크릴 수지(A)를 얻었다.700 parts of isopropyl alcohol was placed in a 2 L reaction vessel equipped with a stirrer, a cooling tube, a nitrogen inlet tube, and a thermometer connected to a temperature regulator, and the mixture was heated to 80 DEG C under a nitrogen atmosphere. 324 parts of methyl methacrylate (MMA), 140 parts of butyl acrylate (nBA), 105 parts of styrene (St), 84 parts of hydroxyethyl methacrylate (HEMA), 49 parts of acrylic acid (AA) And 7 parts of azoisobutyronitrile was added dropwise at a constant rate over 3 hours and then maintained at 80 DEG C for 2 hours to obtain an acrylic resin having an acid value of 55 mg KOH / g, a hydroxyl value of 52 mg KOH / g and a weight average molecular weight of 30,000 To obtain a resin (A).

실시예Example 1 음이온1 anion 전착 도료 조성물의 제조 Preparation of electrodeposition coating composition

상기 제조예 1에서 조제한 아크릴 수지(A) 328부(고형분 농도 50%), 경화제(B)로서 멜라민 수지인 사이멜 235(올넥스재팬사제, 고형분량 농도 100%) 86부, 트라이에틸아민 11부를 혼합 교반하면서, 하기 표에 기재된 양의 다이노닐나프탈렌설폰산(경화 촉매(D)) 3.75부 및, 하기 표에 기재된 종류 및 양의 수분산형 광택 조정제(C) 71.4부를 가해서 혼합했다. 얻어진 혼합물을, 이온 교환수를 이용해서 고형분 10%로 희석하여, 음이온 전착 도료 조성물을 얻었다., 328 parts of the acrylic resin (A) prepared in Preparation Example 1 (solid content concentration 50%), 86 parts of Cymel 235 (a product of Alnex Japan, solid content concentration 100%) as a curing agent (B) , 3.75 parts of the dynonylnaphthalenesulfonic acid (curing catalyst (D)) in the amounts shown in the following table and 71.4 parts of the aqueous dispersion type of gloss-adjusting agent (C) of the kind and amount described in the following table were added and mixed. The obtained mixture was diluted to a solid content of 10% by using ion-exchanged water to obtain an anionic electrodeposition coating composition.

하기 표에 기재된 수분산형 광택 조정제(C)의 양은, 도막 형성 수지인 아크릴 수지(A) 및 경화제(B)의 총 수지 고형분 100질량부에 대한 고형분 질량부이다.The amount of the aqueous dispersion type of gloss-adjusting agent (C) described in the following table is the solid content part by mass of 100 parts by mass of the total resin solids of the acrylic resin (A) and the curing agent (B)

경화 전착 도막 형성Formation of hardened electrodeposited coating

상기로부터 얻어진 음이온 전착 도료 조성물 중에, 피도물인 SUS430판을 침지하고, 도장 전압 80∼200V의 직류 전압을 2.5분간 인가해서, 경화 막 두께가 20μm가 되도록 전착 도장하여, 전착 도막을 마련했다. 이 도장판을 3개 작성했다.A SUS430 plate as a substrate was immersed in the anodic electrodeposition coating composition obtained above, and a direct current voltage of 80 to 200 V was applied for 2.5 minutes to electrodeposition the coating so that the cured film thickness became 20 占 퐉 to prepare an electrodeposition coating film. Three of these paintings were made.

전착 도막을 갖는 도장판을, 음이온 전착 도료 조성물의 조제에 있어서 이용한 수분산형 광택 조정제(C)의 연화점(Tm)으로부터 10℃, 30℃ 및 50℃ 높은 가열 온도(각각 145℃, 165℃, 185℃)에서, 각각 30분간 소부해서, 경화 전착 도막을 갖는 도장판을 얻었다.The coated plate having the electrodeposited coating, in the preparation of the anionic electrodeposition coating composition using the aqueous dispersion type gloss 10 ℃ from the softening point (T m) of the controlling agent (C), 30 ℃ and 50 ℃ high heating temperature (each 145 ℃, 165 ℃, 185 DEG C) for 30 minutes, respectively, to obtain a coated plate having a cured electrodeposited coating film.

실시예 2 및 비교예 1∼5Example 2 and Comparative Examples 1 to 5

음이온 전착 도료 조성물의 조제에 있어서, 수분산형 광택 조정제(C)의 종류 및 양, 경화 촉매(D)의 양을 아래 표와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 음이온 전착 도료 조성물을 조제했다.An anion electrodeposition coating composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the kind and amount of the aqueous dispersion type gloss control agent (C) and the amount of the curing catalyst (D) were changed as shown in the following table in the preparation of the anionic electrodeposition coating composition It was prepared.

얻어진 음이온 전착 도료 조성물을 이용해서, 실시예 1과 마찬가지로 전착 도장을 행하여, 경화 전착 도막을 갖는 도장판을 얻었다.Using the obtained anion electrodeposition coating composition, electrodeposition coating was performed in the same manner as in Example 1 to obtain a coated plate having a cured electrodeposited coating film.

비교예 6Comparative Example 6

음이온 전착 도료 조성물의 조제에 있어서, 수분산형 광택 조정제(C)를 이용하지 않았던 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지로 해서, 음이온 전착 도료 조성물을 조제했다.An anion electrodeposition coating composition was prepared in the same manner as in Example 2, except that the aqueous dispersion type gloss control agent (C) was not used in the preparation of the anionic electrodeposition coating composition.

얻어진 음이온 전착 도료 조성물을 이용해서, 실시예 1과 마찬가지로 전착 도장을 행하고, 120℃, 140℃, 160℃에서, 각각 30분간 소부해서, 경화 전착 도막을 갖는 도장판을 얻었다.Using the obtained anodic electrodeposition coating composition, electrodeposition coating was carried out in the same manner as in Example 1, and baking was carried out at 120 캜, 140 캜 and 160 캜 for 30 minutes, respectively, to obtain a coated plate having a cured electrodeposited coating film.

상기 실시예 및 비교예에 의해 얻어진 도장판을 이용해서, 하기 기준에 의해 평가를 행했다. 평가 결과를 하기 표에 나타낸다.Evaluation was carried out by the following standards using the coating plates obtained by the above-mentioned Examples and Comparative Examples. The evaluation results are shown in the following table.

전착 도막의 50℃ 및 80℃에 있어서의 전착 도막 점도의 측정Measurement of the electrodeposited coating viscosity at 50 ° C and 80 ° C of the electrodeposited coating film

상기 실시예 및 비교예에 의해 얻어진 음이온 전착 도료 조성물을 이용해서, 피도물에 막 두께 약 20μm가 되도록 180초간 전착 도장을 행하여, 전착 도막을 형성하고, 이것을 수세해서 여분의 전착 도료 조성물을 제거했다. 이어서 수분을 제거한 후, 건조시키지 않고 즉시 도막을 취출해서, 시료를 조제했다. 이렇게 해서 얻어진 시료를, 회전형 동적 점탄성 측정 장치인 Rheosol G-3000(유비엠사제)을 이용해서, 동적 점탄성에 있어서의 주파수 의존 측정을, 변형 0.5deg, 주파수 0.02Hz의 설정 조건에서 행했다. 조제한 시료를 세팅하고, 측정 온도를 50℃로 유지했다. 측정 개시 후, 콘 플레이트 내에서 전착 도막이 균일하게 퍼진 상태가 된 시점에서 도막의 점도의 측정을 행했다. 80℃에 있어서의 도막 점도는, 측정 온도를 변경한 것 이외에는 상기와 마찬가지로 해서 측정했다.Using the anionic electrodeposition coating composition obtained in the above Examples and Comparative Examples, electrodeposition coating was performed on the substrate for 180 seconds so as to have a film thickness of about 20 μm to form an electrodeposited coating film, which was then washed with water to remove the excess electrodeposition coating composition. Subsequently, after the moisture was removed, the coating film was immediately taken out without drying, and a sample was prepared. The sample thus obtained was subjected to frequency-dependent measurement of dynamic viscoelasticity under the conditions of a deformation of 0.5 deg and a frequency of 0.02 Hz by using a rotating dynamic viscoelasticity measuring instrument, Rheosol G-3000 (manufactured by UBM Co., Ltd.). The prepared sample was set and the measurement temperature was maintained at 50 캜. After the start of the measurement, the viscosity of the coating film was measured when the electrodeposition coating film was uniformly spread in the cone plate. The coating film viscosity at 80 캜 was measured in the same manner as above except that the measurement temperature was changed.

가열 온도 변화에 의한 광택도 변화의 평가Evaluation of gloss change by heating temperature change

60° 경면 광택도의 측정 및 광택도 평가Measurement of 60 ° specular gloss and evaluation of gloss

상기로부터 얻어진 도장판의 60° 경면 광택도를, Uni-Gross 60(코니카미놀타사제)을 이용해서 측정했다.The 60 degree mirror polish of the coated plate thus obtained was measured using Uni-Gross 60 (manufactured by Konica Minolta).

이 60° 경면 광택도가 70 이하인 경우를, 저광택 범위로 조정이 되어 있어 「○」라고 평가하고, 70을 초과하는 경우를, 저광택 범위로 조정이 되어 있지 않아 「×」라고 평가했다.The case where the 60 占 specular glossiness was 70 or less was evaluated as "? &Quot; because it was adjusted to the low gloss range, and the case of exceeding 70 was evaluated as " X "

가열 온도 변화에 의해서 생기는 Caused by heating temperature change 광택도의Polished  car

상기 여러 가지의 가열 온도에 있어서 가열 경화시킨 도장판 각각의 60° 경면 광택도를 비교해서, 60° 경면 광택도의 최대값에서 최소값을 빼고, 광택도의 차로서 산출하여, 이하의 기준에 의해 평가했다.The 60 ° mirror surface glossiness of each of the coating plates heated and cured at the above heating temperatures was compared and the minimum value was subtracted from the maximum value of the mirror surface gloss of 60 ° and the difference in glossiness was calculated. I appreciated.

○: 광택도의 차가 20 이하이다 ?: The difference in glossiness is 20 or less

×: 광택도의 차가 20을 초과한다X: Difference in glossiness exceeds 20

이 차의 값이 클수록, 가열 온도의 변화에 의존한 광택도 변화가 생기기 쉽다고 판단할 수 있다. 광택도의 차가 20을 초과하는 경우는, 육안 평가에 있어서도 명확하게 광택도의 차이가 인식될 수 있다.It can be judged that the larger the value of this difference is, the more likely a change in gloss depending on the change in heating temperature is likely to occur. When the difference in glossiness exceeds 20, the difference in glossiness can be clearly recognized even in the visual evaluation.

가열 온도의 변화에 의존한 광택도 변화가 생기기 쉬운 경우는, 예를 들면 대형의 피도물 또는 두께가 상이한 피도물에 마련된 전착 도막을 가열 경화시키는 경우에 있어서, 피도물의 각 부위에 있어서의 가열 온도에 격차가 생긴 경우, 광택 불균일이 발생한다는 문제가 있다.When the gloss change depending on the change of the heating temperature is likely to occur, for example, when a large-sized substrate or an electrodeposition coating film provided on a substrate having a different thickness is heated and cured, There is a problem that gloss unevenness occurs.

도막 외관 평가Appearance evaluation

수분산형 광택 조정제(C)의 연화점+30℃의 온도에서 가열해서 얻어진 경화 전착 도막을, 하기 기준에 기초하여 육안 평가를 행했다.The cured electrodeposition coating film obtained by heating at the softening point + 30 占 폚 of the aqueous dispersion type gloss control agent (C) was visually evaluated based on the following criteria.

○: 교반 자국 등의 도막 외관 불량이 인식되지 않는다 ○: The coating film appearance defects such as agitation marks are not recognized

×: 교반 자국 등의 도막 외관 불량이 인식된다 X: defective appearance of coating film such as agitating mark is recognized

* 교반 자국: 전착 도막 형성 시에 있어서의 전착 도료 조성물의 교반에서 유래한다고 생각되는, 경화 전착 도막 상에 있어서 줄무늬상 자국이라고 인식되는, 도막 외관 불량.Stirring mark: Defective appearance of the coating film, which is recognized as a stripe mark on the cured electrodeposited coating film, which is thought to originate from the stirring of the electrodeposition coating composition at the time of forming the electrodeposition coating film.

수평 외관 불균일의 평가Evaluation of horizontal appearance unevenness

각 실시예 및 비교예에 기재된 전착 도료 조성물을 이용해서, 무교반 상태의 전착 도료 조성물 중에 수평 상태로 기재를 두어 전착 도장을 행했다. 얻어진 전착 도막을, 수분산형 광택 조정제(C)의 연화점+30℃의 온도에서 30분 가열해서 경화시켰다. 얻어진 도장판의 소부 후의 도막 외관을 육안 관찰하고, 상면, 하면의 외관의 차이에 대해서, 하기 기준에 의해 육안 평가했다.Using the electrodeposition coating composition described in each of the Examples and Comparative Examples, the electrodeposition coating was carried out by placing the base material in a horizontal state in the electrodeposition coating composition in an uncrosslinked half-state. The obtained electrodeposition coating film was cured by heating at a softening point of the aqueous dispersion type gloss control agent (C) + 30 占 폚 for 30 minutes. The outer appearance of the obtained coating film after baking was visually observed, and the difference in appearance of the upper and lower surfaces was visually evaluated by the following criteria.

○: 육안 관찰로 차이가 인식되지 않아, 외관 양호하다고 판단된다.&Amp; cir &: No difference was recognized by visual observation, and the appearance was judged to be good.

×: 상하면의 무광택 정도가 육안 관찰로 상이하다고 인식되기 때문에, 외관 불량이라고 판단된다.X: Since the degree of mattiness of the upper and lower surfaces is recognized as being different by visual observation, it is judged that the appearance is defective.

연필 경도의 측정Measurement of pencil hardness

수분산형 광택 조정제(C)의 연화점+30℃의 온도에서 가열해서 얻어진 경화 전착 도막을 이용해서, JIS K 5600-5-4에 준거하여, 도막의 연필 경도를 측정했다. 구체적으로는, 경화 전착 도막 표면에 연필(미쓰비시엔피쓰사제: 일본 도료 검사 협회의 긁기 경도 시험용)을 긁기 각도가 45°가 되도록 눌러서 이동시키고, 연필의 심에 의한 흠집의 유무를 육안에 의해 관찰했다.The pencil hardness of the coating film was measured in accordance with JIS K 5600-5-4 using a cured electrodeposition coating film obtained by heating at a softening point + 30 占 폚 of the aqueous dispersion type gloss control agent (C). Specifically, a pencil (for scratching hardness test of Japan Paint Inspection Association, manufactured by Mitsubishi Nippon Paint Co., Ltd.) was pushed and moved on the surface of the cured electrodeposition coating film so that the scratch angle was 45 °, and the presence or absence of scratches by the core of the pencil was visually observed did.

예를 들면 H의 연필을 이용한 시험의 경우, 흠집의 발생이 없는 경우, H 이상이라고 판단했다. 5회의 시험 중 1회의 시험에 있어서 약간 함몰의 발생을 시인한 경우는, H라고 판단했다. 그리고, 5회의 시험 중에 있어서 2회 이상, 함몰의 발생이 있는 경우는, H 미만이라고 판단하고, 1단계 낮춘 평가를 마찬가지로 실시했다.For example, in the case of a test using a pencil of H, it was judged that H was abnormal when no scratch occurred. When the occurrence of a slight depression in one test in five tests was recognized, it was judged to be H. Then, in the case where there were two or more occurrences during the five tests and there was a recess, it was judged to be less than H, and the evaluation of lowering by one level was carried out in the same manner.

연필 경도가 F 미만인 경우는, 경도·내찰상성이 뒤떨어져 있다고 판단할 수 있다.When the pencil hardness is less than F, it can be judged that the hardness and scratch resistance are inferior.

Figure pct00001
Figure pct00001

상기 실시예 및 비교예에 있어서 이용한 수분산형 광택 조정제(C)는, 하기와 같다.The aqueous dispersion type of gloss control agent (C) used in the above Examples and Comparative Examples is as follows.

(C1) 실시예 1, 비교예 3 및 4: 빅케미재팬사제 AQUAMAT 208(고형분 농도(NV)=35%, 연화점(Tm)=135℃, 밀도=1.00) (C1) of Example 1, Comparative Examples 3 and 4: Big Chemie Japan Co. AQUAMAT 208 (solid concentration (NV) = 35%, softening point (T m) = 135 ℃, density = 1.00)

(C2) 실시예 2: 유니티카사제 애로베이스 SD-1010(NV=20%, Tm=105℃, 밀도=0.93) (C2 = 20%, Tm = 105 占 폚, density = 0.93)

(C3) 비교예 1: 유니티카사제 애로베이스 SB-1010(NV=25%, Tm=80℃, 밀도=0.93) (C3 = 25%, Tm = 80 deg. C, density = 0.93). Comparative Example 1:

(C4) 비교예 2: 미쓰이화학사제 케미펄 WP-100(NV=40%, Tm=148℃, 밀도=0.90) (C4) Comparative Example 2: Chemipearl WP-100 (NV = 40%, Tm = 148 占 폚, density = 0.90) manufactured by Mitsui Chemicals,

(C5) 비교예 5: 빅케미재팬사제 AQUACER 531(비이온형 에멀션 왁스, NV=45%, Tm=130℃, 밀도=0.98) (C5) Comparative Example 5: Big Chemie Japan Co. AQUACER 531 (non-ionic wax emulsion, NV = 45%, T m = 130 ℃, density = 0.98)

상기 평가 결과에 나타나는 바와 같이, 실시예에 의해 얻어진 음이온 전착 도료 조성물을 이용한 경화 전착 도막 형성에 있어서는, 가열 온도 변화에 의해서 생기는 광택도의 변화가 작고, 또한 도막 외관 불량 등도 수반하지 않는다는 것이 확인되었다.As shown in the above evaluation results, it was confirmed that in the formation of the cured electrodeposition coating film using the anionic electrodeposition coating composition obtained by the examples, the change in the gloss caused by the change in heating temperature was small and the coating film appearance defect was not accompanied .

비교예 1은 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 연화점(Tm)이 100℃ 미만인 실험예이다. 이 경우에 있어서는, 얻어지는 경화 전착 도막의 광택도가 전체적으로 높아지고, 또한 가열 온도 변화에 의해서 생기는 광택도의 차가 커졌다. 더욱이, 경화 전착 도막의 경도가 낮아지는 문제가 있었다.Comparative Example 1 is an experimental example in which the softening point (T m ) of the wax constituting the aqueous dispersion type gloss control agent (C) is lower than 100 캜. In this case, the gloss of the resulting cured electrodeposition coating film was increased as a whole, and the difference in glossiness caused by the heating temperature change was increased. Furthermore, there is a problem that the hardness of the cured electrodeposited coating film is lowered.

비교예 2는 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 밀도가 0.91 미만인 실험예이다. 이 경우는 가열 온도 변화에 의해서 생기는 광택도의 차가 커졌다. 또한, 수평 외관 불균일의 발생이 확인되었다. 이것은, 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스의 밀도가 낮은 것에 의해, 음이온 전착 도료 조성물 중에 있어서 수분산형 광택 조정제(C)가 양호하게 분산되지 않고, 또한 전착 도장 공정 및 가열 경화 공정에 있어서, 전착 도막 및 경화 전착 도막 중에 수분산형 광택 조정제(C)가 기재의 상하면에서 균일하게 존재하지 않았기 때문이라고 생각된다.Comparative Example 2 is an experimental example in which the density of the wax constituting the water dispersible type gloss adjuster (C) is less than 0.91. In this case, the difference in gloss caused by the change in heating temperature was large. Further, occurrence of horizontal uneven appearance was confirmed. This is because the density of the wax constituting the water-dispersible type gloss-adjusting agent (C) is low, so that the water-dispersible type gloss-adjusting agent (C) is not well dispersed in the anionic electrodeposition coating composition, and in the electrodeposition coating step and the heat- (C) in the electrodeposition coating film and the cured electrodeposited coating film were not uniformly present on the upper and lower surfaces of the substrate.

비교예 3은 수분산형 광택 조정제(C)의 양이 적은 실험예이다. 이 경우에 있어서는, 얻어지는 경화 전착 도막의 광택도가 전체적으로 높아지고, 또한 가열 온도 변화에 의해서 생기는 광택도의 차가 커졌다. 더욱이, 도막 외관 불균일이 확인되었다.Comparative Example 3 is an experimental example in which the amount of the aqueous dispersion type of gloss control agent (C) is small. In this case, the gloss of the resulting cured electrodeposition coating film was increased as a whole, and the difference in glossiness caused by the heating temperature change was increased. Furthermore, uneven appearance of the coating film was confirmed.

비교예 4는 수분산형 광택 조정제(C)의 양이 많은 실험예이다. 이 경우에 있어서는, 광택도의 값은 낮아진 한편, 가열 온도 변화에 의해서 생기는 광택도의 차가 커졌다. 더욱이, 경화 전착 도막의 경도가 낮아지는 문제가 있었다.Comparative Example 4 is an experimental example in which the amount of the aqueous dispersion type of gloss control agent (C) is large. In this case, the gloss value was lowered while the difference in glossiness caused by the heating temperature change was larger. Furthermore, there is a problem that the hardness of the cured electrodeposited coating film is lowered.

비교예 5는 전착 도막의 50℃에 있어서의 도막 점도가 10,000 미만인 실험예이다. 이 경우는 가열 온도 변화에 의해서 생기는 광택도의 차가 커졌다.Comparative Example 5 is an experimental example in which the coating film viscosity of the electrodeposition coating film at 50 캜 is less than 10,000. In this case, the difference in gloss caused by the change in heating temperature was large.

비교예 6은 수분산형 광택 조정제(C)를 포함하지 않는 실험예이다. 이 경우는 경화 전착 도막의 광택도가 매우 높아졌다.Comparative Example 6 is an experimental example which does not include the aqueous dispersion type of gloss control agent (C). In this case, the gloss of the cured electrodeposited coating film was very high.

본 발명의 방법에 의하면, 경면 광택도가 낮은 저광택 도막 또는 무광택 도막 등, 광택도가 조정된 경화 전착 도막을, 가열 온도 변화에 의한 광택도 변화 등의 광택 불균일을 수반하지 않고 형성할 수 있다고 하는 이점이 있다. 본 발명의 방법에 있어서는 더욱이, 전착 도막을 형성한 후, 저온 경화 조건에서 가열 경화시키는 경우이더라도, 양호한 경도를 갖는 경화 전착 도막을 얻을 수 있는 이점이 있다.According to the method of the present invention, it is possible to form a cured electrodeposited coating film whose gloss has been adjusted, such as a low-gloss coating film or a matte coating film having a low mirror-surface glossiness, without involving glossy unevenness There is an advantage. In the method of the present invention, furthermore, there is an advantage that a cured electrodeposited coating film having good hardness can be obtained even when the electrodeposited coating film is formed and then heat cured under low temperature curing conditions.

Claims (7)

경화 전착 도막의 형성 방법으로서, 상기 방법은,
음이온 전착 도료 조성물 중에 피도물을 침지하고, 전압을 인가해서 전착 도막을 형성하는, 전착 도장 공정, 및
상기 전착 도장 공정에서 형성한 전착 도막을 가열 경화시켜서 경화 전착 도막을 형성하는, 가열 경화 공정
을 포함하고,
상기 음이온 전착 도료 조성물은, 아크릴 수지(A), 경화제(B), 수분산형 광택 조정제(C) 및 경화 촉매(D)를 포함하고,
상기 수분산형 광택 조정제(C)는, 천연 왁스 및 폴리올레핀 왁스로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 그 이상의 왁스의 수분산물이고,
상기 수분산형 광택 조정제(C)를 구성하는 왁스는, 연화점(Tm)이 100℃ 이상이며, 또한 밀도가 0.91∼1.10의 범위 내이고,
상기 음이온 전착 도료 조성물 중에 포함되는 수분산형 광택 조정제(C)의 고형분 질량은, 음이온 전착 도료 조성물의 수지 고형분 100질량부에 대해서 6∼20질량부이고,
상기 전착 도장 공정에 있어서 형성된 전착 도막의 50℃에 있어서의 도막 점도가 10,000∼100,000Pa·s의 범위 내인,
방법.
A method for forming a cured electrodeposited coating film,
An electrodeposition coating step of immersing a substrate in an anionic electrodeposition coating composition and applying a voltage to form an electrodeposited coating film, and
A heat curing step of forming a cured electrodeposited coating film by thermally curing the electrodeposited coating film formed in the electrodeposition coating step
/ RTI >
Wherein the anionic electrodeposition coating composition comprises an acrylic resin (A), a curing agent (B), an aqueous dispersion type gloss control agent (C) and a curing catalyst (D)
The aqueous dispersion type gloss adjuster (C) is an aqueous dispersion of one or more waxes selected from the group consisting of natural wax and polyolefin wax,
The wax constituting the aqueous dispersion type gloss adjuster (C) preferably has a softening point (T m ) of 100 ° C or higher and a density of 0.91 to 1.10,
The solid content of the aqueous dispersion type gloss control agent (C) contained in the anionic electrodeposition coating composition is 6 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin solid content of the anion electrodeposition coating composition,
Wherein the electrodeposition coating film formed in the electrodeposition coating step has a coating film viscosity at 50 캜 within a range of 10,000 to 100,000 Pa · s,
Way.
제 1 항에 있어서,
상기 가열 경화 공정에 있어서의 가열 온도(Th)가 110∼160℃인, 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the heating temperature (T h ) in the heat hardening step is 110 to 160占 폚.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 연화점(Tm)은 100∼140℃의 범위 내인, 방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the softening point (T m ) is in the range of 100 to 140 캜.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전착 도장 공정에 있어서 형성된 전착 도막의 80℃에 있어서의 도막 점도가 1,000∼10,000Pa·s의 범위 내인, 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the electrodeposited coating film formed in the electrodeposition coating step has a coating film viscosity at 80 ° C in a range of 1,000 to 10,000 Pa · s.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 아크릴 수지(A)는, 카복실기 및 수산기를 갖는 아크릴 수지이고,
상기 경화제(B)는, 아미노 수지 및 블록 아이소사이아네이트 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 그 이상인,
방법.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The acrylic resin (A) is an acrylic resin having a carboxyl group and a hydroxyl group,
Wherein the curing agent (B) is one or more selected from the group consisting of an amino resin and a block isocyanate compound,
Way.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 연화점(Tm) 및 가열 온도(Th)의 차(ΔT)가 10℃ 이상 50℃ 이하이고, 또한 Th>Tm인, 방법.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the difference (DELTA T) between the softening point (T m ) and the heating temperature (T h ) is not less than 10 ° C. and not more than 50 ° C., and T h > T m .
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 형성 방법에 의해서 형성된 경화 전착 도막은, 60° 경면 광택도가 70 이하인, 방법.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein the cured electrodeposition coating film formed by the forming method has a 60 占 specular gloss of 70 or less.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108587293B (en) * 2018-03-26 2020-09-22 江阴恒兴涂料有限公司 Water-soluble bridging agent for extinction electrophoresis coating and preparation method thereof
CN108467655B (en) * 2018-03-26 2020-09-22 江阴恒兴涂料有限公司 Low-water-solubility amino resin for extinction electrophoresis coating and preparation method thereof
CN108395802B (en) * 2018-03-28 2021-02-26 江阴恒兴涂料有限公司 Transparent electrophoresis coating with adjustable gloss and extinction and preparation method thereof
CN110079174A (en) * 2019-05-27 2019-08-02 枣阳市旺前电泳涂料有限公司 Electrophoretic coating and its processing technology based on acrylic resin

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08113735A (en) 1994-05-17 1996-05-07 Honny Chem Ind Co Ltd Production of resin composition for delustered electrodeposition coating
JP2002143756A (en) * 2000-11-07 2002-05-21 Nippon Paint Co Ltd Method for forming double-layer coating film and substrate coated thereby
JP2002188044A (en) 2000-10-11 2002-07-05 Kansai Paint Co Ltd Anionic delustered electrodeposition coating composition
JP2005307161A (en) 2004-03-22 2005-11-04 Kansai Paint Co Ltd Anionic electrodeposition coating material and coated artice
JP2007216220A (en) * 2006-01-23 2007-08-30 Kansai Paint Co Ltd Dual layer pattern coating forming method

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05179175A (en) * 1991-12-27 1993-07-20 Nippon Paint Co Ltd Matted electrodeposition coating composition
US5431791A (en) * 1993-12-21 1995-07-11 Basf Corporation Cathodic electrodeposition method utilizing cyclic carbonate-curable coating composition
JPH11256080A (en) * 1998-01-07 1999-09-21 Nippon Paint Co Ltd Flat electrodeposition coating composition
JP2000080332A (en) * 1998-06-24 2000-03-21 Toray Ind Inc Resin composition for flatting anion electrodeposition coating
CN1331959C (en) * 2003-11-20 2007-08-15 关西涂料株式会社 Extinction anion electrophoresis film forming method and coating implement
JP2008202122A (en) * 2007-02-22 2008-09-04 Nippon Paint Co Ltd Method for forming cured electrodeposition coating film and method for forming multiple layer coating film
JP5546877B2 (en) * 2010-01-19 2014-07-09 神東塗料株式会社 Matte electrodeposition coating composition capable of thick film coating
JP6406842B2 (en) * 2014-03-25 2018-10-17 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 Electrodeposition coating composition and electrodeposition coating method
JP6253154B2 (en) * 2014-09-22 2017-12-27 関西ペイント株式会社 Anionic electrodeposition coating composition

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08113735A (en) 1994-05-17 1996-05-07 Honny Chem Ind Co Ltd Production of resin composition for delustered electrodeposition coating
JP2002188044A (en) 2000-10-11 2002-07-05 Kansai Paint Co Ltd Anionic delustered electrodeposition coating composition
JP2002143756A (en) * 2000-11-07 2002-05-21 Nippon Paint Co Ltd Method for forming double-layer coating film and substrate coated thereby
JP2005307161A (en) 2004-03-22 2005-11-04 Kansai Paint Co Ltd Anionic electrodeposition coating material and coated artice
JP2007216220A (en) * 2006-01-23 2007-08-30 Kansai Paint Co Ltd Dual layer pattern coating forming method

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