KR20190008821A - A Machining Tool for a Cell Unit of a Particle Accelerator and the Method for Producing the Same - Google Patents

A Machining Tool for a Cell Unit of a Particle Accelerator and the Method for Producing the Same Download PDF

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Abstract

The present invention relates to a machining tool for a cell unit for an accelerator and a method for manufacturing a cell unit for an accelerator thereby, and more specifically, to a machining tool for a cell unit for an accelerator and a method for manufacturing a cell unit for an accelerator thereby which machines a cavity of a curved surface structure formed at a cell unit for an accelerator. The machining tool for a cell unit for an accelerator according to the present invention comprises: a wearing unit (11) which is extended in a fan shape; an insert unit (12) which is formed at one end part of the wearing unit (11); and a machining tip (13) which is fixated at an end part of the insert unit (12), and which has a width at least identical to the insert unit (12), wherein a protruding part (131) is formed.

Description

가속기용 단위 셀의 가공 툴 및 그에 의한 가속기용 단위 셀의 제조 방법{A Machining Tool for a Cell Unit of a Particle Accelerator and the Method for Producing the Same}Technical Field [0001] The present invention relates to a machining tool for a unit cell for an accelerator, and a method for manufacturing a unit cell for an accelerator,

본 발명은 가속기용 단위 셀의 가공 툴 및 그에 의한 가속기용 단위 셀의 제조 방법에 관한 것이고, 구체적으로 가속기용 단위 셀에 형성되는 곡면 구조의 공동(cavity)을 가공하는 가속기용 단위 셀의 가공 툴 및 그에 의한 가속기용 단위 셀의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a processing tool for a unit cell for an accelerator, and a method for manufacturing the unit cell for an accelerator, and more particularly to a processing tool for an accelerator unit cell for processing a cavity of a curved surface structure formed in the unit cell for an accelerator, And a method of manufacturing the unit cell for an accelerator.

컨테이너의 보안 검색기, 방사선 의료 장비 또는 비파괴 검사 장비에 적용되는 고주파 전자가속기는 전자 빔의 발생을 위한 전자 총, 전자 빔의 가속을 위한 고주파 가속 관, 고주파 가속 관에 고주파를 공급하는 고주파 발생 장치, 펄스 전원 장치 및 전자 빔의 충돌에 의하여 엑스선을 발생시키는 표적으로 이루어질 수 있다. 전자 가속기를 이루는 각각의 장치는 정밀한 제어가 요구되고, 다수 개의 단위 셀이 서로 결합되어 형성되는 고주파 가속 관은 전자 빔의 가속을 위하여 정밀한 기하학적 구조를 가질 필요가 있다. The high frequency electron accelerator applied to the security detector of the container, the radiation medical instrument or the nondestructive inspection equipment includes an electron gun for electron beam generation, a high frequency acceleration tube for acceleration of the electron beam, a high frequency generator for supplying high frequency to the high frequency acceleration tube, A pulse power source, and a target that generates x-rays by collision of an electron beam. Each of the devices constituting the electron accelerator is required to be precisely controlled, and the high frequency acceleration tube, in which a plurality of unit cells are coupled to each other, needs to have a precise geometric structure for accelerating the electron beam.

특허공개번호 제10-2013-0129815호는 CNT 실을 전자빔 방출 소스로 사용하여 전자빔을 발생시키는 전자빔 발생부, 전자빔이 입사되어 가속되는 가속 관 및 고주파를 발생시키고, 전자빔 발생부와 가속 관에 고주파를 인가하고, 전자빔 발생부와 가속 관에 서로 다른 파워를 갖는 고주파를 인가하는 고주파 발생부를 포함하는 전자빔 발생 장치에 대하여 개시한다. 또한 특허공개번호 제10-2014-0086859호는 전자빔을 생성하도록 배치된 직류 고압 전자 총; 메인 펄스 전력 신호를 제공하도록 배치된 펄스 전력원; 펄스 전력원이 출력하는 메인 펄스 전력 신호를 제1 펄스 전력 신호와 제2 펄스 전력 신호로 분할하는 전력 분배기; 제1 펄스 전력 신호를 이용하여 전자빔을 가속하는 제1 가속관; 제2 펄스 전력 신호를 이용하여 전자 빔을 가속하는 제2 가속관; 제2 가속관의 출력이 에너지가 연속적으로 조절되는 가속 전자빔을 생성하도록 제1 펄스 전력 신호와 제2 펄스 전력 신호 사이의 위상차를 연속적으로 조절하는 위상 천이기를 포함하는 정상파 전자 선형 가속기 장치에 대하여 개시한다. Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-2013-0129815 discloses an electron beam generating unit for generating an electron beam by using a CNT chamber as an electron beam emission source, an acceleration tube accelerated by an electron beam incident thereon, And a high frequency generator for applying high frequency waves having different powers to the electron beam generator and the acceleration tube. Patent Publication No. 10-2014-0086859 also discloses a direct current high voltage electron gun arranged to generate an electron beam; A pulse power source arranged to provide a main pulse power signal; A power divider for dividing a main pulse power signal output from a pulse power source into a first pulse power signal and a second pulse power signal; A first acceleration tube for accelerating the electron beam using the first pulse power signal; A second acceleration tube for accelerating the electron beam using a second pulse power signal; And a phase shifter that continuously adjusts the phase difference between the first pulse power signal and the second pulse power signal such that the output of the second acceleration tube produces an accelerating electron beam whose energy is continuously adjusted. do.

전자 가속기에서 가속 관은 정상파의 형성, 항복 전압, RF 특성 또는 전기장 또는 자기장의 형성에 영향을 미치고 이에 의하여 가속되는 전자 빔의 특성을 결정하므로 그에 적합한 구조를 가질 필요가 있다. 특히 전자 빔의 공진 특성은 가속기 셀에 형성된 공동(cavity)의 기하학적 형상에 의하여 결정될 수 있고, 이러한 기하학적 형상은 공지된 가공 툴에 의하여 가공되기 어렵다. 그러므로 가속기 셀의 공동을 위하여 그에 적합한 가공 툴이 개발될 필요가 있고, 선행기술 또는 공지 기술은 이와 같은 가공 툴에 대하여 개시하지 않는다. In an electron accelerator, an acceleration tube needs to have a structure suitable for forming a standing wave, a breakdown voltage, an RF characteristic, or an electric field or a magnetic field and thereby determining the characteristics of an accelerated electron beam. Particularly, the resonance characteristics of the electron beam can be determined by the geometry of the cavity formed in the accelerator cell, and the geometry is difficult to be processed by known processing tools. Therefore, a machining tool suitable for the cavity of the accelerator cell needs to be developed, and prior art or publicly known technology does not disclose such machining tool.

본 발명은 선행기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로 아래와 같은 목적을 가진다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art and has the following purpose.

선행기술 1: 특허공개번호 제10-2013-0129815호(한국원자력연구원, 2013년11월29일 공개) 전자빔 발생 장치Prior Art 1: Patent Publication No. 10-2013-0129815 (Korea Atomic Energy Research Institute, published on Nov. 29, 2013) Electron Beam Generator 선행기술 2: 특허공개번호 제10-2014-0086859호(칭화 유니버시티, 2014년07월08일 공개) 정상파 전자 선형 가속기 장치 및 그 방법Prior Art 2: Patent Publication No. 10-2014-0086859 (Tsinghua University, published on Jul. 08, 2014) Standing wave electron linear accelerator apparatus and method thereof

본 발명의 목적은 가속기 셀의 공진 공동 또는 커플링 공동의 형성을 위한 가공 툴 및 그에 의한 가속기 셀을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a processing tool for forming a resonant cavity or coupling cavity of an accelerator cell and a method of manufacturing an accelerator cell therefrom.

본 발명의 적절한 실시 형태에 따르면, 가속기용 단위 셀의 가공 툴 및 그에 의한 가속기용 단위 셀의 제조 방법은 선형으로 연장되는 착용 유닛; 착용 유닛의 한쪽 끝 부분에 형성되는 인서트 유닛; 및 인서트 유닛의 끝 부분에 고정되면서 인서트 유닛과 적어도 동일한 폭이 되면서 돌출 부분이 형성된 가공 팁을 포함한다.According to a preferred embodiment of the present invention, a processing tool for a unit cell for an accelerator and a method for manufacturing the unit cell for an accelerator by the same include a linearly extending wear unit; An insert unit formed at one end of the wear unit; And a machining tip which is fixed to an end of the insert unit and has at least the same width as the insert unit and has a protruding portion.

본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 돌출 부분은 판 형상이 되면서 접촉 부분이 곡선 형상 또는 직선 형상이 된다.According to another preferred embodiment of the present invention, the protruding portion becomes a plate shape, and the contact portion becomes a curved shape or a linear shape.

본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 가공 팁은 경사진 측면 구조를 가진다.According to another preferred embodiment of the present invention, the machining tip has an inclined side structure.

본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 가공 팁은 다이아몬드 또는 초경합금이 된다.According to another preferred embodiment of the present invention, the machining tip is diamond or cemented carbide.

본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 가속기용 단위 셀을 위한 셀 소재의 표면이 가공되는 단계; 전체적으로 평면 형상이 되면서 접촉 부분이 곡선 형상 또는 직선 형상이 되는 가공 팁을 가진 가공 툴이 준비되는 단계; 공진 공동 또는 커플링 공동의 형성을 위한 가공 경로가 형성되는 단계; 셀 소재 또는 가공 툴이 회전이 되면서 가공 툴이 선형으로 이동이 되는 단계; 및 상기 회전 및 선형 이동에 의하여 공진 공동 또는 커플링 공동이 형성되는 단계를 포함한다.According to another preferred embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plasma display panel, comprising the steps of: machining a surface of a cell material for a unit cell for an accelerator; Preparing a machining tool having a machining tip which is generally planar and whose contact portion is a curved or straight shape; Forming a processing path for forming a resonant cavity or coupling cavity; A step of linearly moving the processing tool as the cell material or the processing tool rotates; And forming a resonant cavity or coupling cavity by the rotation and linear movement.

본 발명에 따른 가공 툴은 가속기 셀의 공진 공동 또는 커플링 공동이 정해진 기하학적 형상으로 만들어지도록 한다. 이에 의하여 가공 툴에 의하여 가공된 가속기 셀이 정해진 주파수 대역에서 공진에 따른 에너지 흡수가 이루어지도록 한다. 본 발명에 따른 가공 툴은 다양한 규격의 가속기 셀에 적용되어 공진 공동의 표면 조도 또는 곡률 반지름이 가속기의 입자 가속 조건에 적합한 형상으로 만들어지도록 한다. 본 발명에 따른 단위 셀의 제조 방법은 소재의 측면을 고정하여 표면을 형성하는 것에 의하여 가공 과정에서 소재의 물리적 특성이 유지되도록 한다. 추가로 본 발명에 따른 단위 셀은 다양한 구조의 가속기 또는 다양한 대역의 엑스선 발생을 위한 가속 관에 적용될 수 있다. The processing tool according to the invention allows the resonant cavity or coupling cavity of the accelerator cell to be made into a defined geometrical shape. Thereby allowing the accelerator cell processed by the processing tool to absorb energy according to the resonance in a predetermined frequency band. The processing tool according to the present invention is applied to accelerator cells of various sizes so that the surface roughness or radius of curvature of the resonant cavity can be made to conform to the particle acceleration conditions of the accelerator. The method of manufacturing a unit cell according to the present invention allows the side surface of a material to be fixed to form a surface, thereby maintaining the physical properties of the material during processing. Further, the unit cell according to the present invention can be applied to accelerators of various structures or acceleration tubes for generating various bands of X-rays.

도 1은 본 발명에 따른 가속기 셀의 공진 공동 또는 커플링 공동의 가공을 위한 가공 툴의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 가속기 셀의 공진 공동 또는 커플링 공동의 가공을 위한 가공 툴의 다른 실시 예를 도시한 것이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명에 따른 가공 툴의 또 다른 실시 예를 도시한 것이다.
도 4a는 본 발명에 따른 가공 툴이 적용되는 가속기 셀의 가공 방법의 실시 예를 도시한 것이다.
도 4b는 본 발명에 따른 가공 툴이 적용되는 머시닝 장치의 실시 예를 도시한 것이다.
도 5는 본 발명에 따른 가공 방법에서 곡면 가공이 이루어지는 과정의 실시 예를 도시한 것이다.
도 6은 본 발명에 따른 가공 툴에 의하여 제도된 가속기 셀의 실시 예를 도시한 것이다.
1 shows an embodiment of a processing tool for machining a resonant cavity or coupling cavity of an accelerator cell according to the present invention.
2 shows another embodiment of a machining tool for machining a resonant cavity or coupling cavity of an accelerator cell according to the invention.
3A and 3B show another embodiment of a processing tool according to the present invention.
4A shows an embodiment of a method of processing an accelerator cell to which a processing tool according to the present invention is applied.
4B shows an embodiment of a machining apparatus to which a machining tool according to the present invention is applied.
FIG. 5 illustrates an example of a process of curving a surface in the processing method according to the present invention.
Figure 6 shows an embodiment of an accelerator cell embodied by a processing tool according to the present invention.

아래에서 본 발명은 첨부된 도면에 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되지만 실시 예는 본 발명의 명확한 이해를 위한 것으로 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 아래의 설명에서 서로 다른 도면에서 동일한 도면 부호를 가지는 구성요소는 유사한 기능을 가지므로 발명의 이해를 위하여 필요하지 않는다면 반복하여 설명이 되지 않으며 공지의 구성요소는 간략하게 설명이 되거나 생략이 되지만 본 발명의 실시 예에서 제외되는 것으로 이해되지 않아야 한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the embodiments shown in the accompanying drawings, but the present invention is not limited thereto. In the following description, components having the same reference numerals in different drawings have similar functions, so that they will not be described repeatedly unless necessary for an understanding of the invention, and the known components will be briefly described or omitted. However, It should not be understood as being excluded from the embodiment of Fig.

도 1은 본 발명에 따른 가속기 셀의 공진 공동 또는 커플링 공동의 가공을 위한 가공 툴의 실시 예를 도시한 것이다.1 shows an embodiment of a processing tool for machining a resonant cavity or coupling cavity of an accelerator cell according to the present invention.

도 1을 참조하면, 가속기용 단위 셀의 가공 방법은 선형으로 연장되는 착용 유닛(11); 착용 유닛(11)의 한쪽 끝 부분에 형성되는 인서트 유닛(12); 및 인서트 유닛(12)의 끝 부분에 고정되면서 인서트 유닛(12)과 적어도 동일한 폭이 되면서 돌출 부분(131)이 형성된 가공 팁(13)을 포함한다. Referring to FIG. 1, a method of processing a unit cell for an accelerator includes a linearly extending wear unit 11; An insert unit (12) formed at one end of the wear unit (11); And a machining tip (13) which is fixed to an end of the insert unit (12) and has at least the same width as the insert unit (12) and in which a protruding part (131) is formed.

가속기 셀은 X-밴드 또는 S-밴드의 X선을 발생시킬 수 있는 가속기의 가속 관의 형성하는 구조적 단위체가 될 수 있고, 다양한 대역의 X-선의 발생을 위한 가속 관에 적용될 수 있다. 두 개의 단위 셀이 결합되어 하나의 가속기 셀을 형성할 수 있고, 다수 개의 가속기 셀이 서로 결합되어 가속 관을 형성할 수 있다. 가속기 셀은 가속 관의 반 AC-SC(half Accelerating Cavity-Side Coupling Cavity)를 형성할 수 있고, 두 개의 단위 셀이 납땜 또는 용접(brazing)과 같은 방법에 의하여 서로 결합되어 공진 공동(resonant cavity)을 형성할 수 있다. 단위 셀은 다양한 종류의 가속기의 가속 관에 적용될 수 있다. The accelerator cell may be a structural unit forming an accelerator tube of an accelerator capable of generating X-band or S-band X-rays, and may be applied to an acceleration tube for generation of X-rays of various bands. Two unit cells may be combined to form one accelerator cell, and a plurality of accelerator cells may be coupled to each other to form an acceleration tube. The accelerator cell can form a half Accelerating Cavity-Side Coupling Cavity (AC-SC) of the accelerator tube, and the two unit cells are coupled together by a method such as brazing or brazing to form a resonant cavity. Can be formed. The unit cell can be applied to accelerator tubes of various kinds of accelerators.

착용 유닛(11)은 위치 조절이 가능한 기기에 장착될 수 있는 다양한 구조로 만들어질 수 있고, 예를 들어 전체적으로 직선 형상으로 연장되는 튜브 형상이 될 수 있다. 착용 유닛(11)은 전체적으로 원형 단면이 되면서 원형의 일부가 선형이 되는 구조로 만들어져 안정적으로 기기에 장착될 수 있다. 선형 부분은 착용 유닛(11)의 길이 방향을 따라 연장되어 고정 면(112)을 형성할 수 있다. 착용 유닛(11)의 한쪽 끝에 점차적으로 반지름이 작아지면서 연장되는 원뿔 형상의 연결 부위(113)가 형성될 수 있다. 그리고 연결 부위(113)의 끝 부분에 인서트 유닛(12)이 결합되거나 형성될 수 있다. The wearing unit 11 may be formed in various structures that can be mounted on a position adjustable apparatus, and may be, for example, a tubular shape extending as a whole. The wearing unit 11 is formed into a structure in which a part of the circular shape becomes a linear shape while having a circular cross section as a whole, and can be stably mounted on the apparatus. The linear portion can extend along the longitudinal direction of the wear unit 11 to form the fixing surface 112. A connecting portion 113 having a conical shape may be formed at one end of the wearable unit 11 so as to be gradually reduced in radius. And the insert unit 12 may be coupled or formed at the end of the connection portion 113. [

인서트 유닛(12)은 원형의 단면을 가지는 선형 연장 구조가 될 수 있고, 내부에 유동 경로가 형성된 실린더 형상이 될 수 있다. 착용 유닛(11)에 또한 유동 경로와 연결되는 배출 경로가 형성될 수 있다. 인서트 유닛(12)은 연장 길이와 지름이 서로 관련성을 가지도록 형성될 수 있고, 예를 들어 연장 길이 : 지름 = 10: 2 내지 4가 되도록 형성될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 예를 들어 인서트 유닛(12)의 길이는 5.6 내지 6이 되면서 지름은 1.6 내지 2.0이 될 수 있다. 인서트 유닛(12)은 깊이 형성 부분(121)과 팁 고정 부분(122)으로 이루어질 수 있고, 팁 고정 부분(122)은 연결 부위(113)와 유사하여 원뿔대 형상이 될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. The insert unit 12 may have a linear extending structure having a circular cross section, and may be a cylinder shape having a flow path formed therein. A discharge path may also be formed in the wear unit 11 which is connected to the flow path. The insert unit 12 may be formed to have an extension length and a diameter that are related to each other, but may be formed to be, for example, an extension length: diameter = 10: 2 to 4, but is not limited thereto. For example, the length of the insert unit 12 may be from 5.6 to 6, and the diameter may be from 1.6 to 2.0. The insert unit 12 may be composed of a depth forming portion 121 and a tip fixing portion 122 and the tip fixing portion 122 may be in the shape of a truncated cone similar to the connecting portion 113 but is not limited thereto.

가공 팁(13)은 팁 고정 부분(122)의 위쪽 부분에 결합될 수 있고, 원뿔대 형상의 팁 고정 부분(122)의 앞쪽으로 돌출되는 돌출 부분(131)을 형성하면서 깊이 형성 부분(121)으로 연장되는 형태로 인서트 유닛(12)에 결합될 수 있다. 도 1의 오른쪽 부분을 참조하면, 깊이 형성 부분(121)의 끝 부분으로부터 팁 고정 부분(122)의 위쪽 면에 계단 형상의 결합 면(CS)이 형성될 수 있고, 가공 팁(13)은 결합 면(CS)에 고정될 수 있다. 도 1의 아래쪽에 도시된 것처럼, 인서트 유닛(12)은 전체적으로 길이 방향을 따라 실린더의 한쪽 부분이 절단된 반 실린더 형상이 될 수 있고, 가공 팁(13)은 실린더 형상의 평면 위쪽 부분에 결합될 수 있다. 이와 같은 구조에서 인서트 유닛(12)에 유동 경로가 형성되지 않으며 연결 부위(113)의 끝 부분에 유입 홀(114)이 형성될 수 있다. 그리고 유입 홀(114)을 통하여 가공 과정에서 발생되는 칩이 배출되거나, 가공 과정에서 발생되는 열의 제거를 위한 냉각수가 공급될 수 있다. The machining tip 13 can be coupled to the upper portion of the tip fixing portion 122 and can be formed into the depth forming portion 121 while forming the protruding portion 131 protruding forward of the truncated tip fixing portion 122 And may be coupled to the insert unit 12 in an extended form. 1, a stepped coupling surface CS may be formed on the upper surface of the tip fixing portion 122 from the end of the depth forming portion 121, and the machining tip 13 may be coupled Can be fixed to the surface CS. 1, the insert unit 12 may have a semi-cylindrical shape in which one side of the cylinder is cut along the longitudinal direction as a whole, and the machining tip 13 is joined to the upper portion of the cylindrical shape . In this structure, a flow path is not formed in the insert unit 12, and an inlet hole 114 may be formed at the end of the connection portion 113. Then, the chips generated in the machining process can be discharged through the inlet holes 114, or cooling water for removing heat generated in the machining process can be supplied.

본 발명의 하나의 실시 예에 따르면, 가공 팁(13)은 경사진 측면 구조를 가질 수 있다. 또한 가공 팁(13)의 돌출 부분(131)은 판 형상이 되면서 접촉 부분이 곡선 형상 또는 직선 형상이 된다. According to one embodiment of the present invention, the machining tip 13 may have a beveled side structure. Further, the protruding portion 131 of the machining tip 13 becomes a plate shape, and the contact portion becomes a curved shape or a linear shape.

가공 팁(13)은 인조 또는 천연 다이아몬드 소재로 만들어지거나 초경합금 소재로 만들어질 수 있다. 가공 팁(13)은 전체적으로 두께를 가진 판 형상이 되면서 가속기 셀 소재와 접촉이 되는 앞부분은 반원 형상과 같은 곡면 형상이 되거나, 아래에서 설명되는 것처럼 매우 큰 곡률 반지름을 가진 곡선 형상 또는 직선 형상이 될 수 있다.The machining tip 13 can be made of artificial or natural diamond or can be made of cemented carbide. The front end of the processing tip 13, which is in contact with the accelerator cell material, may have a curved shape such as a semicircular shape or a curved or straight shape having a very large curvature radius as described below .

도 1의 오른쪽 부분의 상세도를 참조하면, 가공 팁(13)은 인서트 유닛(12)의 끝 부분에 계단 형상으로 만들어진 결합 면(CS)에 고정될 수 있고, 두께의 일부가 인서트 유닛(12)의 위쪽으로 돌출될 수 있고, 예들 들어 두께의 1/4 내지 4/5이 인서트 유닛(12)의 위쪽 평면으로 돌출될 수 있다. 가공 팁(13)의 폭은 인서트 유닛(12)의 폭과 동일하거나, 클 수 있고, 예를 들어 인서트 유닛(12)의 폭에 대하여 10/10 내지 15/10이 되는 크기를 가질 수 있다. 가공 팁(13)은 또한 인서트 유닛(12)에 대응되는 부분에서 사각형상으로 연장되면서 인서트 유닛(12)의 깊이 형성 부분(121)의 끝 부분으로부터 반원 형상 또는 이와 유사한 곡면 형상이 될 수 있다. 예를 들어 반원 형상 또는 이와 유사하게 앞쪽으로 돌출되는 볼록한 곡면 형상이 될 수 있고, 0.9 내지 1.5 ㎜의 곡률 반지름을 가지면서 중심으로부터 양쪽 방향으로 90 내지 94도의 원주각을 가지도록 곡면 부분이 형성될 수 있다. 1, the machining tip 13 can be fixed to the engagement surface CS, which is stepped at the end of the insert unit 12, and a part of the thickness can be fixed to the insert unit 12 For example, 1/4 to 4/5 of the thickness may protrude into the upper plane of the insert unit 12. [0031] The width of the machining tip 13 may be equal to or greater than the width of the insert unit 12 and may have a size of, for example, 10/10 to 15/10 with respect to the width of the insert unit 12. The machining tip 13 may also have a semicircular shape or a similar curved shape from the end of the depth forming portion 121 of the insert unit 12 while extending in a rectangular shape at a portion corresponding to the insert unit 12. [ For example, a semicircular shape or similarly convexly curved surface that protrudes forward, and a curved portion may be formed with a radius of curvature of 0.9 to 1.5 mm and a circumferential angle of 90 to 94 degrees in both directions from the center have.

도 1의 아래쪽 부분에 도시된 것처럼, 가공 팁(13)은 앞쪽에서 볼 때 전체적으로 사각형이 되면서 두께를 형성하는 양쪽 면이 아래쪽 방향으로 가면서 안쪽으로 경사진 형상이 될 수 있다. 이에 따라 가공 팁(13)의 위쪽 면의 폭이 아래쪽 면의 폭에 비하여 클 수 있고, 도 1의 아래의 오른쪽에 화살표로 표시된 것처럼, 여유 각이 형성되도록 할 수 있다. 여유 각은 예를 들어 예를 들어 1 내지 5도의 각이 될 수 있고, 바람직하게 1.5 내지 3도가 될 수 있다. 가공 팁(13)의 위쪽 평면은 연결 부위(113)의 끝 부분에 형성되는 원형 단면을 상하로 이등분을 하는 위치에 배치될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. As shown in the lower part of Fig. 1, the machining tip 13 may be formed as a rectangle as viewed from the front, and both sides forming the thickness may be inclined inward as it goes downward. Accordingly, the width of the upper surface of the processing tip 13 can be larger than the width of the lower surface, and a clearance angle can be formed as indicated by an arrow at the lower right of FIG. The clearance angle may be, for example, an angle of 1 to 5 degrees, for example, and may preferably be 1.5 to 3 degrees. The upper plane of the processing tip 13 may be disposed at a position where the circular cross section formed at the end portion of the connection portion 113 is vertically bisected, but is not limited thereto.

위에서 설명된 인서트 유닛(12) 또는 가공 팁(13)의 구조는 공진 공동 또는 커플링 공동의 곡면 가공을 위한 것이고, 특히 한 번의 공정 과정에 의하여 공진 공동 또는 커플링 공동이 가공될 수 있도록 한다. The structure of the insert unit 12 or the machining tip 13 described above is for the curved machining of resonant cavities or coupling cavities, and in particular enables the resonant cavities or coupling cavities to be machined by a single process.

아래에서 이와 같이 한 번의 공정 과정에 의하여 공진 공동 또는 커플링 공동이 가공이 되도록 하는 가공 툴의 다른 실시 예에 대하여 설명된다.Another embodiment of a machining tool that allows resonant cavities or coupling cavities to be machined by one such process is described below.

도 2는 본 발명에 따른 가속기 셀의 공진 공동 또는 커플링 공동의 가공을 위한 가공 툴의 다른 실시 예를 도시한 것이다.2 shows another embodiment of a machining tool for machining a resonant cavity or coupling cavity of an accelerator cell according to the invention.

도 2는 도 1에 도시된 실시 예와 동일 또는 유사한 구조로 만들어질 수 있고, 예를 들어 착용 유닛(11); 인서트 유닛(12); 및 가공 팁(13)을 포함할 수 있고, 가공 팁(13)은 다이아몬드 또는 초경합금으로 이루어질 수 있다. 아래에서 동일 또는 유사한 구조를 가지는 구조에 대하여 구체적으로 설명되지 않거나 생략이 된다. 다만 아래에서 설명이 되는 부분이 반드시 도 1과 서로 다른 구조가 되는 것이 아니며, 도 2에서 설명되는 구조가 도 1의 실시 예에 적용될 수 있다. Fig. 2 can be made in the same or similar structure as the embodiment shown in Fig. 1 and comprises, for example, a wear unit 11; An insert unit (12); And a machining tip 13, and the machining tip 13 may comprise diamond or a cemented carbide. The structures having the same or similar structures are not specifically described or are omitted below. However, the structure described below is not necessarily different from that of FIG. 1, and the structure described in FIG. 2 can be applied to the embodiment of FIG.

가공 팁(13)은 결합 면(CS)에 배치될 수 있고, 가공 팁(13)의 앞쪽 면은 경사면이 될 수 있다. 예를 들어 가공 팁(13)의 전체 두께는 0.4 내지 0.8 ㎜가 될 수 있고, 경사면은 위쪽 면에 수직이 되는 방향에 대하여 3 내지 8도의 경사각(LA)을 형성할 수 있다. 또한 가공 팁(13)은 길이 방향으로 연장되는 측면 연장 부분과 폭 방향으로 연장되는 돌출 부분(131)으로 이루어질 수 있다. 도 1의 실시 예와 달리 돌출 부분(131) 곡률 반지름이 매우 큰 곡선 형상이 되거나 직선 형상이 될 수 있고, 측면 연장 부분과 돌출 부분(131)은 곡선 형태로 연결될 수 있다. 예를 들어 가공 팁(13)의 폭이 2.5 내지 3.0 ㎜가 되는 경우 돌출 부분(131)의 폭은 0.8 내지 1.2 ㎜의 크기가 되는 접촉 길이(SL)를 가질 수 있지만 이에 제한되지 않는다.The machining tip 13 may be disposed on the engaging surface CS and the front surface of the machining tip 13 may be an inclined surface. For example, the entire thickness of the processing tip 13 may be 0.4 to 0.8 mm, and the inclined surface may form an inclination angle LA of 3 to 8 degrees with respect to a direction perpendicular to the upper surface. Further, the processing tip 13 may be formed of a side extending portion extending in the longitudinal direction and a protruding portion 131 extending in the width direction. Unlike the embodiment of FIG. 1, the protruding part 131 may have a curved shape with a very large radius of curvature, or may have a straight shape, and the side extending part and the protruding part 131 may be connected in a curved shape. For example, when the width of the processing tip 13 is 2.5 to 3.0 mm, the width of the protruding portion 131 may have a contact length SL of 0.8 to 1.2 mm, but is not limited thereto.

가공 팁(13)은 가속기 셀의 공진 공동 또는 커플링 공동의 형성을 위한 다양한 구조를 가질 수 있고, 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.The processing tip 13 may have various structures for forming resonant cavities or coupling cavities of the accelerator cell, and is not limited to the embodiments shown.

도 2의 중간 부분을 참조하면, 연결 부위(113)는 원뿔대 형상이 될 수 있고, 원뿔대의 원주각(SA)은 50 내지 70도가 될 수 있다. 또한 도 2의 아래쪽 부분을 참조하면, 측면 연장 부분은 착용 유닛(11)의 방향으로 좁아지는 형상이 될 수 있고, 예를 들어 측면 연장 경사 각(C1, C2)은 인서트 유닛(12)의 연장 방향에 대하여 예를 들어 1 내지 3도가 될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 이와 같은 측면 연장 경사 각(C1, C2)은 도 1에 제시된 실시 예의 여유 각에 대하여 동일 또는 유사한 크기로 형성될 수 있다. Referring to the middle portion of FIG. 2, the connecting portion 113 may have a truncated cone shape, and the truncated cone SA of the truncated cone may be 50 to 70 degrees. 2, the side extension may be of a shape that narrows in the direction of the wear unit 11, for example the side extension tilt angles C1, C2 may be the same as the extension of the insert unit 12 But it is not limited thereto. Such side extended inclination angles C1 and C2 can be formed with the same or similar size with respect to the allowance angle of the embodiment shown in Fig.

도 1 또는 도 2에 제시된 인서트 유닛(12) 또는 가공 팁(13)의 구조는 오목한 곡면 형상을 가지는 가속 공동 또는 커플링 공동이 정해진 기하학적 구조를 가지도록 가공이 되도록 한다. The structure of the insert unit 12 or the machining tip 13 shown in FIG. 1 or 2 allows the acceleration cavity or coupling cavity having a concave curved shape to be machined to have a predetermined geometrical structure.

가공 팁(13)은 다양한 구조로 만들어져 다양한 형태의 인서트 유닛(12)에 결합될 수 있다. The machining tip 13 can be made in a variety of configurations and can be coupled to various types of insert units 12.

도 3a 및 도 3b는 본 발명에 따른 가공 툴의 또 다른 실시 예를 도시한 것으로, 도 3의 (가), (나) 및 (다)는 사시도, 배면도 및 측면도를 각각 도시한 것이다. Figs. 3A and 3B show another embodiment of the processing tool according to the present invention, and Figs. 3 (A), 3 (B) and 3 (C) show a perspective view, a rear view and a side view, respectively.

도 3a를 참조하면, 가공 팁(13a)은 전체적으로 마름모 형상이 되는 팁 몸체(32); 팁 몸체(32)의 마름모 형상의 한쪽 모서리 부분을 형성하는 팁 부위(31); 및 경사 측면(33)을 포함할 수 있다. 팁 몸체(32)의 서로 마주보는 면은 서로 다른 면적을 가질 수 있고, 이에 따라 둘레 면은 경사 측면(33)을 형성할 수 있다. 경사 측면(33)은 예를 들어 5 내지 40도의 경사면을 형성할 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 팁 부위(31)는 팁 몸체(32)에 대하여 계단 면을 형성할 수 있고, 팁 몸체(32)에 예를 들어 납땜(brazing) 또는 이와 유사한 방법으로 결합될 수 있다. 팁 부위(31)는 천연 또는 인조 다이아몬드와 같은 소재로 만들어질 수 있고, 끝 부분이 경사 날(cutter) 구조로 만들어질 수 있다. 팁 몸체(32)의 중앙 부분에 인서트 유닛(12)에 고정하기 위한 고정 홀(34)이 형성될 수 있다. Referring to FIG. 3A, the processing tip 13a includes a tip body 32 having a rhombic shape as a whole; A tip portion 31 forming a rhombic one-corner portion of the tip body 32; And an inclined side surface 33. [ The mutually facing surfaces of the tip body 32 may have different areas, so that the circumferential surface can form the inclined side surface 33. The inclined side surface 33 may form an inclined surface of, for example, 5 to 40 degrees, but is not limited thereto. The tip portion 31 may form a stepped surface with respect to the tip body 32 and may be coupled to the tip body 32, for example, by brazing or the like. The tip portion 31 can be made of a material such as natural or artificial diamond, and the tip can be made in a cutter structure. A fixing hole 34 for fixing the insert unit 12 to the tip body 32 may be formed at a central portion thereof.

도 3b를 참조하면, 착용 유닛(11)은 선형 구조로 만들어질 수 있고, 인서트 유닛(12)은 선형으로 연장되는 착용 유닛(11)에 대하여 꺾인 형상으로 만들어질 수 있다. 인서트 유닛(12)은 예를 들어 30 내지 60도의 각도로 꺾인 형상이 될 수 있고, 삼각형 형상의 삽입 고정 홈을 가질 수 있다. 삽입 고정 홈에 스크루 또는 핀과 같은 고정 수단(35)에 의하여 가공 팁(13a)이 고정될 수 있고, 고정된 상태에서 팁 부위(31)가 앞쪽으로 돌출되어 셀 소재와 접촉될 수 있다. 인서트 유닛(12)이 꺾인 형상으로 되고 이에 따라 팁 부위(31)가 회전 과정에서 기울어진 형태로 소재에 접촉하는 것에 의하여 마찰이 감소되면서 이와 동시에 가속 공동 또는 커플링 공동의 형성 과정에서 물결 형태(wave)가 만들어지는 것이 방지되도록 한다. Referring to FIG. 3B, the wear unit 11 can be made in a linear structure, and the insert unit 12 can be made in a bent shape with respect to the linearly extending wear unit 11. FIG. The insert unit 12 may be bent at an angle of, for example, 30 to 60 degrees, and may have a triangular-shaped insertion fixing groove. The machining tip 13a can be fixed to the insertion fixing groove by a fixing means 35 such as a screw or a pin and in a fixed state the tip portion 31 can be projected forward and brought into contact with the cell material. The insert unit 12 is bent so that the tip portion 31 is tilted in the course of the rotation, thereby reducing the friction. At the same time, in the process of forming the acceleration cavity or the coupling cavity, waves are prevented from being created.

아래에서 위에서 설명된 가공 툴에 의하여 가속기를 위한 단위 셀이 제조되는 과정에 대하여 설명된다. A process for manufacturing a unit cell for an accelerator by the above-described processing tool will be described below.

도 4a는 본 발명에 따른 가공 툴이 적용되는 가속기 셀의 가공 방법의 실시 예를 도시한 것이다. 4A shows an embodiment of a method of processing an accelerator cell to which a processing tool according to the present invention is applied.

도 4a를 참조하면, 가속기 셀의 가공 방법은 가속기용 단위 셀을 위한 셀 소재의 표면이 가공되는 단계(P42); 전체적으로 평면 형상이 되면서 접촉 부분이 곡선 형상 또는 직선 형상이 되는 가공 팁을 가진 가공 툴이 준비되는 단계(P43); 공진 공동 또는 커플링 공동의 형성을 위한 가공 경로가 형성되는 단계(P44); 셀 소재 또는 가공 툴이 회전이 되면서 가공 툴이 선형으로 이동이 되는 단계(P45); 및 상기 회전 및 선형 이동에 의하여 공진 공동 또는 커플링 공동이 형성되는 단계(P46)를 포함한다. Referring to FIG. 4A, a method of processing an accelerator cell includes a step (P42) of processing a surface of a cell material for an accelerator unit cell; A step (P43) of preparing a machining tool having a machining tip whose planar shape as a whole becomes a curved or linear shape of the contact portion; Forming a machining path for forming a resonant cavity or coupling cavity (P44); A step (P45) in which the processing tool is linearly moved as the cell material or the processing tool rotates; And forming a resonant cavity or coupling cavity by the rotation and linear movement (P46).

단위 셀은 X-밴드 또는 S-밴드의 X선을 발생시킬 수 있는 가속기의 가속 관의 형성하는 구조적 단위체가 될 수 있지만 이에 제한되지 않고, 다양한 대역의 X-선의 발생을 위한 가속 관에 적용될 수 있다. 단위 셀은 가속 관의 반 AC-SC(half Accelerating Cavity-Side Coupling Cavity)를 형성할 수 있고, 두 개의 단위 셀이 납땜 또는 용접(brazing)과 같은 방법에 의하여 서로 결합되어 공진 공동(resonant cavity)을 형성할 수 있다. 단위 셀은 다양한 종류의 가속기의 가속 관에 적용될 수 있다. The unit cell may be a structural unit forming an acceleration tube of an accelerator capable of generating X-band or S-band X-rays, but is not limited thereto and may be applied to an acceleration tube for generation of X- have. The unit cell can form a half Accelerating Cavity-Side Coupling Cavity (AC-SC) of the accelerator tube, and the two unit cells are coupled together by a method such as brazing or brazing to form a resonant cavity. Can be formed. The unit cell can be applied to accelerator tubes of various kinds of accelerators.

단위 셀의 제조를 위하여 셀 소재가 준비되어야 하고, 셀 소재는 예를 들어 99.9 % 또는 99.99 % 이상의 순도를 가지는 무산소 구리(Oxygen Free Copper)로 만들어질 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 셀 소재는 분말 형태로부터 만들어질 수 있고, 두께 면을 가진 사각 판 형상이 될 수 있다. 분말 소재는 예를 들어 85 ㎛ 이하의 최대 직경을 가질 수 있고, 미리 결정된 형상을 가지는 금형에 투입되어 셀 소재로 만들어질 수 있다. 이와 같이 형성된 셀 소재는 10 ppm 이하의 산소 또는 이와 유사한 기체를 포함할 수 있다. 이와 같은 방법으로 셀 소재가 준비되면(P41), 셀 소재의 표면이 가공될 수 있다(P42). 셀 소재의 표면 가공은 다양한 절삭 공구에 의하여 이루어질 수 있고, 절삭용 기계 또는 선반에서 단일 수정 다이아몬드(single crystal diamond)에 의하여 머시닝이 될 수 있다. 소재 표면은 예를 들어 형상 오차가 ±1 내지 ±6 ㎛, 바람직하게 ±1 내지 ±2.5 ㎛가 되도록 가공이 될 수 있고, 표면 거칠기가 Ra 0.01 내지 0.05 ㎛가 되도록 가공이 될 수 있다. The cell material should be prepared for the production of the unit cell, and the cell material may be made of, for example, oxygen free copper having a purity of 99.9% or more, but not limited thereto. The cell material can be made from a powder form and can be a rectangular plate shape having a thickness face. The powder material may have a maximum diameter of, for example, 85 占 퐉 or less, and may be put into a mold having a predetermined shape to be made into a cell material. The cell material thus formed may contain up to 10 ppm oxygen or similar gas. When the cell material is prepared in this manner (P41), the surface of the cell material can be processed (P42). The surface treatment of the cell material can be done by various cutting tools and can be machined by a single crystal diamond in a cutting machine or a lathe. The material surface can be processed, for example, to have a shape error of ± 1 to ± 6 μm, preferably ± 1 to ± 2.5 μm, and can be processed to have a surface roughness Ra of 0.01 to 0.05 μm.

소재의 표면 가공 또는 공동(cavity)이 가공되는 과정에서 소재의 열 변형 또는 잔류 응력(residual stress)이 발생되지 않도록 할 필요가 있다. 또한 가공 툴 또는 셀 소재의 가공 위치에 대한 변이(deviation)로 인하여 돌출 띠(burr) 또는 파형(waviness)이 발생되지 않도록 할 필요가 있다. 이를 위하여 표면 가공 과정에서 소재의 고정을 위한 고정 지그와 소재의 접촉면이 작아지는 것이 유리하다. 예를 들어 셀 소재는 두께 면의 양쪽이 고정 지그에 접촉이 되면서 아래쪽 부분이 지그에 고정될 수 있다. 이와 같은 고정 구조에 의하여 셀 소재는 정해진 고정 위치에서 양쪽 면이 머시닝이 될 수 있다. 이에 의하여 가공된 단위 셀의 서로 다른 위치에서 두께 편차가 감소될 수 있다. It is necessary to prevent the occurrence of thermal deformation or residual stress of the material during surface processing of the material or processing of the cavity. It is also necessary to avoid the occurrence of burrs or waviness due to the deviation of the processing tool or the cell material from the processing position. For this purpose, it is advantageous that the contact surface between the fixing jig and the material for fixing the material during the surface processing is reduced. For example, the cell material may be fixed to the jig while the lower portion thereof is in contact with the fixing jig on both sides of the thickness surface. With such a fixed structure, the cell material can be machined on both sides at a fixed position. Thus, the thickness deviation can be reduced at different positions of the processed unit cells.

셀 소재의 두께 편차는 형상 오차와 유사하게 ±1 내지 ±6 ㎛, 바람직하게 ±1 내지 ±2.5 ㎛가 될 수 있고, 평면도(flatness)는 0.0001 내지 0.1 ㎜, 바람직하게 0.006 내지 0.05 ㎜, 가장 바람직하게 0.006 내지 0.01 ㎜가 될 수 있다. 평면도(flatness)는 기준선에 대한 하나의 점을 기준으로 모든 방향의 직선과 비교하여 측정되는 경사 수준을 의미한다. 또는 하나의 평면에서 최고의 높이가 되는 점과 최소의 높이가 되는 점 사이의 높이 차를 의미한다.The thickness variation of the cell material may be in the range of ± 1 to ± 6 μm, preferably ± 1 to ± 2.5 μm, similar to the shape error, and the flatness is 0.0001 to 0.1 mm, preferably 0.006 to 0.05 mm, Lt; RTI ID = 0.0 > mm. ≪ / RTI > Flatness refers to the level of inclination measured relative to a straight line in all directions relative to a point relative to a baseline. Or a height difference between a point which becomes the highest height in one plane and a point which becomes the minimum height.

셀 소재의 표면이 미리 결정된 조건에 따라 가공이 되면 공동(cavity)의 가공을 위한 가공 툴이 준비될 수 있다(P43). 가공 툴은 도 1 또는 도 2에 제시된 실시 예와 동일 또는 유사한 구조를 가지는 가공 툴이 될 수 있다. 예를 들어 가공 툴은 전체적으로 평면 형상이 되면서 접촉 부분이 곡선 형상 또는 직선 형상이 되는 가공 팁이 될 수 있다. 가공 팁은 단결정 다이아몬드(Mono Crystalline Diamond) 소재 또는 다결정 다이아몬드(Poly Crystalline Diamond) 소재로 만들어지거나, 초경 티타늄 합금 또는 이와 유사한 강도를 가지는 소재로 만들어질 수 있다. 이와 같은 가공 툴이 준비되면, 셀 소재 및 가공 툴이 정해진 기기 또는 위치에 고정될 수 있다. When the surface of the cell material is processed according to predetermined conditions, a processing tool for processing the cavity can be prepared (P43). The machining tool may be a machining tool having the same or similar structure as the embodiment shown in Fig. 1 or Fig. For example, the machining tool may be a machining tip in which the contact portion becomes a curved shape or a straight shape while being entirely planar. Machining tips can be made of Mono Crystalline Diamond or Poly Crystalline Diamond, or made of a carbide titanium alloy or similar strength material. When such a processing tool is prepared, the cell material and the processing tool can be fixed to a predetermined device or position.

셀 소재는 예를 들어 스핀들과 같은 고정 공구에 고정될 수 있고, 고정 공구는 속도 조절이 가능한 모터와 같은 장치에 의하여 회전될 수 있다. 고정 공구에 셀 소재의 고정을 위한 장착 홈이 형성될 수 있고, 장착 홈에 셀 소재의 한쪽 면이 마주보도록 고정될 수 있다. 가공 툴은 고정 공구와 마주보도록 배치될 수 있고, 회전 또는 선형 이동이 가능하도록 배치될 수 있다. 또한 가공 툴은 바람직하게 5축 가공이 가능한 기기에 배치될 수 있다. The cell material may be secured to a stationary tool, such as a spindle, for example, and the stationary tool may be rotated by a device such as a speed adjustable motor. A mounting groove for fixing the cell material can be formed in the stationary tool and one side of the cell material can be fixed to the mounting groove so as to face each other. The processing tool may be arranged to face the stationary tool and be arranged to be capable of rotation or linear movement. The machining tool can also be preferably arranged in a machine capable of 5-axis machining.

셀 소재와 가공 툴의 배치가 결정되면, 툴 이송 경로가 설정될 수 있다(P44). 툴 이송 경로는 셀 소재에 대한 상대적인 이동을 의미하고, 셀 소재의 이동 또는 회전 이동을 포함한다. 툴 이송 경로는 가속 공동의 둘레 면 또는 원주로부터 가속 공동의 중심에 이르는 선형 이동 경로를 의미한다. 툴 또는 소재가 회전이 되면서 이동이 될 수 있고, 곡면 가공을 위하여 툴은 다양한 각도로 소재에 접할 수 있다. 툴 이송 경로는 툴의 절삭 바이트의 소재에 대한 상대적인 이동 경로를 의미한다.When the arrangement of the cell material and the processing tool is determined, the tool feed path can be set (P44). The tool transfer path refers to relative movement relative to the cell material and includes movement or rotational movement of the cell material. The tool transfer path means a linear travel path from the circumferential surface of the acceleration cavity or from the circumference to the center of the acceleration cavity. The tool or material can be moved as it rotates, and the tool can contact the material at various angles for surface processing. The tool transfer path refers to the relative movement path of the cutting byte of the tool to the workpiece.

그리고 툴 이송 경로가 설정되면 소재 또는 가공 툴이 회전되면서 이와 동시에 소재와 툴의 상대적인 거리가 조절되면서(P45), 가속 공진 홀 또는 측면 커플링 공동이 형성될 수 있다(P46). When the tool transfer path is set, an accelerating resonance hole or a side coupling cavity can be formed (P46) while the workpiece or the tool is rotated while the relative distance between the workpiece and the tool is adjusted (P45).

셀 소재와 가공 툴은 공동(cavity)의 둘레 면의 한 지점으로부터 중심에 이르는 선형 경로를 형성하고, 셀 소재는 선형 경로로 이동되는 과정에서 미리 결정된 속도로 회전이 될 수 있다. 소재의 표면을 비롯하여 공동의 표면을 가공하는 과정에서 소재의 표면에 가해지는 압력이 조절되면서 잔류 응력이 발생되지 않도록 할 필요가 있다. 이와 동시에 소재의 이동 방향에 수직이 되는 방향 또는 원주 방향으로 돌출 턱(burr) 또는 파형(waviness)이 생기지 않도록 할 필요가 있다. 이를 위하여 소재가 구리가 되고, 경도(hardness)가 (20 내지 60)HV30이 되는 경우 소재의 회전 속도가 100 내지 1,500 rpm, 바람직하게 300 내지 1,000 rpm, 가장 바람직하게 600 내지 800 rpm이 되고, 소재에 대한 툴의 상대적인 선형 이동 속도가 0.0001 내지 0.02 mm/rev, 바람직하게 0.0005 내지 0.01 mm/rev, 가장 바람직하게 0.0005 내지 0.005 mm/rev가 될 수 있다. 이와 같은 조건에서 가속 공진 공동 또는 측면 커플링 공정은 하나의 공정 과정에서 의하여 형성될 수 있다. 소재의 한쪽 표면에 가속 공진 공동이 형성될 수 있고, 소재의 다른 표면에 측면 커플링 공동이 형성될 수 있다. 가속 공진 공동 또는 측면 커플링 공동이 형성되면 필요에 따라 두께 면에 아래에서 설명되는 튜닝 홀이 형성될 수 있다. 이후 적절한 후처리 공정을 통하여 가속기용 단위 셀이 완성될 수 있다. The cell material and the processing tool form a linear path from one point to the center of the circumferential surface of the cavity and the cell material can be rotated at a predetermined rate in the course of moving to a linear path. It is necessary to prevent the residual stress from being generated by controlling the pressure applied to the surface of the material in the process of processing the surface of the material including the surface of the cavity. At the same time, it is necessary to prevent burrs or waviness from occurring in the direction perpendicular to the moving direction of the blank or in the circumferential direction. When the material becomes copper and the hardness becomes (20 to 60) HV30, the rotation speed of the material becomes 100 to 1,500 rpm, preferably 300 to 1,000 rpm, and most preferably 600 to 800 rpm, The relative linear moving speed of the tool relative to the tool may be 0.0001 to 0.02 mm / rev, preferably 0.0005 to 0.01 mm / rev, most preferably 0.0005 to 0.005 mm / rev. Under such conditions, the accelerated resonant cavity or side coupling process can be formed by a single process. Accelerated resonant cavities may be formed on one surface of the workpiece, and side coupling cavities may be formed on other surfaces of the workpiece. Once the accelerated resonant cavities or side coupling cavities are formed, the tuning holes described below may be formed on the thickness side as required. Then, the unit cell for the accelerator can be completed through an appropriate post-treatment process.

다수 개의 가속기용 단위 셀이 동일 또는 유사한 가공 공정을 통하여 만들어질 수 있고, 다수 개의 단위 셀이 예를 들어 납땜 또는 용접(brazing)과 같은 방법에 의하여 서로 결합되어 가속 관을 형성할 수 있다. A plurality of unit cells for accelerators may be formed through the same or similar processing process, and a plurality of unit cells may be coupled to each other by, for example, brazing or brazing to form an acceleration tube.

가속기용 단위 셀은 다양한 방법으로 형성될 수 있고 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.The unit cell for the accelerator may be formed in various ways and is not limited to the illustrated embodiment.

도 4b는 본 발명에 따른 가공 툴이 적용되는 머시닝 장치의 실시 예를 도시한 것이다. 4B shows an embodiment of a machining apparatus to which a machining tool according to the present invention is applied.

도 4b를 참조하면, 셀 소재의 표면 또는 측면 가공이 완료된 이후 가속 공진 공동 또는 측면 커플링 공동의 가공을 위하여 셀 소재가 장착 공구(40)에 고정될 수 있고, 장착 공구(40)는 예를 들어 스핀들과 같은 소재의 고정을 위한 공구에 고정될 수 있다. 장착 공구(40)는 다수 개의 고정 척(44a, 44b)에 의하여 정해진 위치에 고정되는 실린더 형상의 고정 실린더(41)의 원형 면(411)에 고정될 수 있다. 원형 면(411)에 필요에 따라 셀 소재(M)의 고정을 위한 고정 홈이 형성될 수 있지만 고정 홈은 선택적으로 형성될 수 있다. 4b, the cell material may be secured to the mounting tool 40 for machining of the accelerated resonant cavities or side coupling cavities after the surface or side machining of the cell material is completed, and the mounting tool 40 may, for example, It can be fixed to a tool for fixing a material such as a spindle. The mounting tool 40 may be fixed to the circular surface 411 of the cylinder-shaped fixed cylinder 41 fixed at a position determined by the plurality of fixing chucks 44a, 44b. A fixing groove for fixing the cell material M may be formed on the circular surface 411 as needed, but the fixing groove may be selectively formed.

가속 공진 공동(RC)의 형성을 위하여 셀 소재(M)의 전면이 가공 툴을 향하고, 셀 소재(M)의 후면이 원형 면(411)을 향하도록 셀 소재(M)가 원형 면(411)에 고정될 수 있다. 셀 소재(M)는 예를 들어 위에서 설명된 유동 홀에 의하여 원형 면(411)에 고정될 수 있다. 예를 들어 유동 홀을 관통하여 원형 면(411)에 고정되는 고정 핀(43a, 43b, 43c, 43d)에 의하여 고정 실린더(41)에 고정될 수 있다. 장착 공구(40)의 구조에 따라 셀 소재(M)의 가공되지 않는 표면은 하나의 표면에 공동(RC)이 형성되는 원형 면(411)으로부터 분리되어 유지될 수 있다. The front surface of the cell material M faces the processing tool and the rear surface of the cell material M faces the circular surface 411 in order to form the acceleration resonant cavity RC. As shown in FIG. The cell material M may be secured to the circular surface 411, for example, by the flow holes described above. For example, can be fixed to the fixed cylinder 41 by the fixing pins 43a, 43b, 43c, 43d fixed to the circular surface 411 through the flow holes. Depending on the construction of the mounting tool 40, the unworked surface of the cell material M can be kept separate from the circular surface 411 where the cavity RC is formed on one surface.

셀 소재(M)가 장착 공구(40)에 고정되면 공동 가공 툴에 의하여 가속 공진 공동(RC) 또는 측면 커플링 공동이 가공될 수 있고, 가공 툴은 미리 설정된 툴 이송 경로를 따라 이동되면서 가속 공진 공동(RC) 또는 측면 커플링 공동이 가공되도록 할 수 있다. When the cell material M is fixed to the mounting tool 40, the acceleration resonant cavity RC or the side coupling cavity can be machined by the co-machining tool, and the machining tool is moved along the predetermined tool feed path, The cavity (RC) or side coupling cavity can be machined.

도 5는 본 발명에 따른 가공 방법에서 곡면 가공이 이루어지는 과정의 실시 예를 도시한 것이다. FIG. 5 illustrates an example of a process of curving a surface in the processing method according to the present invention.

도 5를 참조하면, 가공 툴은 전면(FS)으로부터 깊이 방향으로, 안쪽 방향으로 전면(FS) 방향으로, 다시 안쪽 방향으로 그리고 깊이 방향으로 이동되면서 하나의 가공 과정을 통하여 가속 공진 공동(AC) 또는 측면 커플링 공동(SC)을 형성할 수 있다. 공동(AC, SC)의 가공 과정에서 셀 소재(M)가 회전될 수 있고, 예를 들어 셀 소재의 회전 속도가 100 내지 1,500 rpm, 바람직하게 300 내지 1,000 rpm, 가장 바람직하게 600 내지 800 rpm이 될 수 있다. 5, the machining tool is moved in the depth direction from the front surface FS, in the forward direction (FS) direction inward, again in the inward direction and in the depth direction, Or a side coupling cavity (SC). The cell material M can be rotated during the processing of the cavities AC and SC and the rotation speed of the cell material is, for example, 100 to 1,500 rpm, preferably 300 to 1,000 rpm, and most preferably 600 to 800 rpm .

셀 소재(M)가 회전되면서 가공 툴이 기준 라인(BL1, BL2)에 대하여 수직 방향으로 그리고 수평 방향으로 이동될 수 있다. 가속 공진 공동(AC) 또는 측면 커플링 공동(SC)을 형성하는 기준이 되는 기준 라인(BL1, BL2)은 체결 홀(26)을 기준으로 결정될 수 있다. 구체적으로 전면(FS) 또는 후면(RS)에 각각 4개의 체결 홀(26)이 형성될 수 있고, 체결 홀(26)을 기준으로 기준 라인(BL1, BL2)이 설정되고, 기준 라인(BL2, BL2)으로부터 이동 거리가 측정되면서 가속 공진 공동(AC) 및 측면 공진 공동(SC)의 시작 위치, 곡률 반지름, 수직 깊이, 수평 이동 거리 또는 중심 위치가 측정되면서 가속 공진 공동(AC) 및 측면 공진 공동(SC)이 가공될 수 있다. 각각의 단위 셀의 가공 과정에서 체결 홀(26)의 위치가 동일하게 결정되고, 이후 체결 홀(26)에 기초하여 가속 공진 공동(AC) 및 측면 공진 공동(SC)이 가공될 수 있다. 그리고 이와 같이 각각의 단위 셀이 가공되는 것에 의하여 가속 관의 형성을 위하여 단위 셀이 서로 결합되는 경우 정확하게 일치된 위치에 형성된 가속 공진 공동(AC) 또는 측면 공진 공동(SC)이 서로 결합될 수 있다. 셀 소재(M)에 대한 가공 툴의 상대적인 선형 이동 속도가 0.0001 내지 0.02 mm/rev, 바람직하게 0.0005 내지 0.01 mm/rev, 가장 바람직하게 0.0005 내지 0.005 mm/rev가 될 수 있다. 이와 같은 가공 과정에서 가공 툴은 형성되어야 할 가속 공진 공동(RC) 또는 측면 커플링 공동(SC)의 둘레 면으로부터 중심에 이르도록 하나의 지름 방향을 따라 선형으로 이동될 수 있다. 선형 이동은 셀 소재(M)의 전면(FS) 또는 후면(RS)에 대하여 평행이 되는 기준 라인(BL1, BL2)에 대하여 수직이 되는 방향으로 이동을 포함한다. 형성되어야 하는 가속 공진 공동(RC) 또는 측면 커플링 공동(SC)의 형상에 따라 가공 툴을 셀 소재(M)를 5축 또는 이와 유사한 방식으로 가공할 수 있다. 그리고 이와 같이 가공 툴이 둘레 면으로부터 중심으로 선형으로 이동되면서 가속 공진 공동(RC) 또는 측면 커플링 공동(SC)을 형성하는 것에 의하여 다양한 조건이 요구되는 가속 공진 공동(RC) 또는 측면 커플링 공동(SC)에 적합한 형상이 만들어지도록 한다. 이로 인하여 본 발명에 따른 단위 셀에 의하여 만들어지는 가속 관에서 전자 빔이 요구되는 수준으로 가속되도록 한다.The processing tool can be moved in the vertical direction and in the horizontal direction with respect to the reference lines BL1 and BL2 while the cell material M is being rotated. The reference lines BL1 and BL2 which form the acceleration resonant cavity AC or the side coupling cavities SC can be determined based on the fastening holes 26. [ Concretely, four fastening holes 26 may be formed on the front face FS or the rear face RS, respectively, and the reference lines BL1 and BL2 are set with reference to the fastening holes 26, and the reference lines BL2, (AC) and the side resonance cavity (SC) while measuring the starting position, curvature radius, vertical depth, horizontal movement distance or center position of the acceleration resonant cavity (AC) and the side resonant cavity (SC) can be machined. The position of the fastening hole 26 in the processing of each unit cell is determined equally and then the acceleration resonant cavity AC and the side resonant cavity SC can be processed based on the fastening hole 26. [ When the unit cells are coupled to each other for forming the acceleration tube, the acceleration resonant cavity (AC) or the side resonant cavity (SC) formed at the precisely matched position can be coupled to each other by machining each unit cell . The relative linear movement speed of the processing tool relative to the cell material M may be 0.0001 to 0.02 mm / rev, preferably 0.0005 to 0.01 mm / rev, most preferably 0.0005 to 0.005 mm / rev. In such a machining process, the machining tool can be linearly moved along one radial direction so as to reach the center from the circumferential surface of the acceleration resonant cavity RC or the side coupling cavity SC to be formed. The linear movement includes a movement in a direction perpendicular to the reference lines BL1 and BL2 which are parallel to the front surface FS or rear surface RS of the cell material M. [ Depending on the shape of the acceleration resonant cavity RC or the side coupling cavity SC to be formed, the processing tool can process the cell material M in a five-axis or similar manner. And thus the acceleration resonant cavity RC or the side coupling cavity RC in which various conditions are required by forming the acceleration resonant cavity RC or the side coupling cavity SC while linearly moving the working tool from the circumferential surface to the center, So that a shape suitable for the SC is formed. Thereby accelerating the electron beam to a required level in the acceleration tube made by the unit cell according to the present invention.

도 6은 본 발명에 따른 가공 툴에 의하여 제도된 가속기 셀의 실시 예를 도시한 것이다. Figure 6 shows an embodiment of an accelerator cell embodied by a processing tool according to the present invention.

도 6을 참조하면, 위에서 설명된 제조 방법에 따른 가속기용 단위 셀(20)은 두께 면을 가지는 베이스 몸체(21); 및 베이스 몸체(21)의 두께 면을 관통하도록 형성된 도파 홀(225)을 중심을 중심으로 형성된 가속 공진 공동(22)을 포함하고, 가속 공진 공동(22)은 도파 홀(225)을 중심으로 서로 다른 곡률 반지름을 가지는 적어도 두 개의 곡면 부분을 포함하고, 서로 인접하는 곡면 부분은 곡선 형상으로 연결된다. Referring to FIG. 6, the accelerator unit cell 20 according to the above-described manufacturing method includes a base body 21 having a thickness surface; And an acceleration resonance cavity 22 formed around a center of a waveguide hole 225 formed so as to penetrate the thickness surface of the base body 21 and the acceleration resonance cavity 22 is formed around the waveguide hole 225 At least two curved portions having different radii of curvature, and curved portions adjacent to each other are connected in a curved shape.

단위 셀(20)은 다수 개가 서로 연결되어 가속 관을 형성할 수 있고, 가속 관은 집중 선형 가속기(Compact Linear Colliding Device: CLIC) 또는 이와 유사한 가속기에 적용될 수 있다. 단위 셀(20)은 반(half) AC-SC(Accelerating Cavity and Side Coupling Cavity) 블록이 될 수 있고, 두 개의 단위 셀(20)은 서로 결합되어 하나의 가속 공진 공동 또는 측면 커플링 공동을 형성할 수 있다. A plurality of unit cells 20 may be connected to each other to form an acceleration tube, and the acceleration tube may be applied to a Compact Linear Colliding Device (CLIC) or a similar accelerator. The unit cell 20 may be a half AC-SC (Accelerating Cavity and Side Coupling Cavity) block and the two unit cells 20 may be coupled together to form one acceleration resonant cavity or a side coupling cavity can do.

베이스 몸체(21)는 두께 면을 가지는 직육면체 구조가 될 수 있고, 평면 형상의 전면(211); 전면(211)과 평행하도록 형성되는 후면(212); 및 전면(211)과 후면(212)을 연결하면서 두께 면을 형성하는 4개의 두께 면(213, 214, 215)으로 이루어질 수 있다. 전면(211) 및 후면(212)은 평면 구조로 이루어질 수 있고, 위에서 설명된 것처럼 전면(211) 또는 후면(212)의 평면도(flatness)는 0.0001 내지 0.1 ㎜, 바람직하게 0.006 내지 0.05 ㎜, 가장 바람직하게 0.006 내지 0.01 ㎜가 될 수 있다. 평면도(flatness)는 기준선에 대한 하나의 점을 기준으로 모든 방향의 직선과 비교하여 측정되는 경사 수준을 의미한다. 또는 하나의 평면에서 최고의 높이가 되는 점과 최소의 높이가 되는 점 사이의 높이 차를 의미한다. 대안으로 베이스 몸체(21)의 서로 다른 두 위치에서 두께 편차의 허용 범위가 위에서 제시된 범위가 될 수 있다. The base body 21 may be a rectangular parallelepiped structure having a thickness surface, and has a planar front surface 211; A rear surface 212 formed to be parallel to the front surface 211; And four thickness surfaces 213, 214, and 215 that connect the front surface 211 and the rear surface 212 to form a thickness surface. The front surface 211 and the rear surface 212 may have a flat structure and the flatness of the front surface 211 or the rear surface 212 is 0.0001 to 0.1 mm, preferably 0.006 to 0.05 mm, Lt; RTI ID = 0.0 > mm. ≪ / RTI > Flatness refers to the level of inclination measured relative to a straight line in all directions relative to a point relative to a baseline. Or a height difference between a point which becomes the highest height in one plane and a point which becomes the minimum height. Alternatively, the allowable range of the thickness deviation at two different positions of the base body 21 can be the above-mentioned range.

베이스 몸체(21)의 한쪽 부분에 또는 다른 적절한 위치에 가속 공진 공동(22)이 형성될 수 있다. 가속 공진 공동(22)은 외부에서 유입되는 RF 고주파 에너지에 의하여 전자 빔이 공진이 되면서 에너지를 흡수하여 가속이 되는 영역이 될 수 있다. 이에 따라 가속 공진 공동(22)의 기하학적 구조가 단위 셀(20)의 설계의 주요 인자가 된다. 가속 공진 공동(22)은 베이스 몸체(21)의 한쪽 면을 기준으로 오목한 형상으로 만들어질 수 있고, 중심 부분에 베이스 몸체(21)를 관통하는 형상으로 가속되는 전자 빔이 유도되는 도파 홀(225)이 형성될 수 있다. 도파 홀(225)은 원형의 단면을 가질 수 있고, 도파 홀(225)의 주위로 차례대로 3, 2 및 1 유도 부분(224, 223, 222)이 형성될 수 있다. 그리고 1 유도 부분(222)의 주위로 공동 형성 부분(221)이 형성될 수 있다. An acceleration resonant cavity 22 may be formed at one portion of the base body 21 or at another suitable position. The acceleration resonant cavity 22 can be an area where the electron beam is resonated by the RF high frequency energy introduced from the outside, and the energy is absorbed and accelerated. Thus, the geometry of the acceleration resonant cavity 22 becomes a major factor in the design of the unit cell 20. The acceleration resonant cavity 22 may be formed in a concave shape with respect to one surface of the base body 21 and may include a waveguide hole 225 in which an accelerated electron beam is guided to a shape passing through the base body 21 May be formed. The guide hole 225 may have a circular cross section and three, two and one guide portions 224, 223, and 222 may be formed around the guide hole 225 in order. And a cavity-forming portion 221 may be formed around the one-inducing portion 222.

공동 형성 부분(221)은 두 개의 단위 셀(20)이 서로 결합되어 가속 공진 공동(22)이 외부에 대하여 밀폐가 되도록 하는 기능을 가질 수 있다. 공동 형성 부분(221)은 전면(211)의 표면으로부터 내부를 향하여 계단 형상이 되는 원형 띠 형상이 될 수 있다. 공동 형성 부분(221)의 안쪽 원주면을 따라 1 유도 부분(222)이 형성될 수 있다. 1 유도 부분(222)은 공동 형성 부분(221)의 안쪽 원주면으로부터 전면(211)에 대하여 수직으로 연장되는 21 유도 부분과 11 유도 부분으로부터 도파 홀(225)의 방향으로 곡면으로 연장되는 12 유도 부분으로 이루어질 수 있다. 그리고 12 유도 부분의 끝 부분으로부터 2 유도 부분(223)이 형성될 수 있다. The cavity forming portion 221 may have a function to couple the two unit cells 20 to each other so that the acceleration resonant cavity 22 is hermetically sealed to the outside. The cavity forming portion 221 may be in the shape of a circular band which is stepped from the front surface 211 toward the inside. A one-guided portion 222 may be formed along the inner circumferential surface of the cavity-forming portion 221. 1 guiding portion 222 has 21 guiding portions extending perpendicularly to the front surface 211 from the inner circumferential surface of the cavity forming portion 221 and 12 guiding portions 22 extending from the guiding portion to the curved surface in the direction of the waveguide hole 225 ≪ / RTI > And a two-guided portion 223 may be formed from the end of the twelve-lead portion.

2 유도 부분(223)은 1 유도 부분(222)의 끝 부분으로 평면 형상 또는 그에 유사한 형상으로 연장되는 21 유도 부분과 21 유도 부분으로부터 전면 방향으로 향하도록 돌출되는 형상으로 연장되는 22 유도 부분으로 이루어질 수 있다. 2 유도 부분(223)은 3 유도 부분(224)과 함께 도파 홀(225)이 형성되도록 하는 기능을 한다. 도파 홀의 형성을 위하여 3 유도 부분(224)은 위쪽 방향으로 또는 전면(211) 방향으로 향하는 곡면 구조로 형성될 수 있고 예를 들어 전체적으로 원뿔 형상으로 만들어질 수 있다. 구체적으로 3 유도 부분(224)은 2 유도 부분(223)에 비하여 작은 곡률 반지름을 가지면서 전면(211) 방향으로 연장되는 31 유도 부분과 31 유도 부분으로부터 다시 후면(212)으로 경사진 형상으로 연장되는 32 유도 부분으로 이루어질 수 있다. 이러한 31 유도 부분과 32 유도 부분의 구조에 의하여 31 유도 부분과 32 유도 부분의 경계 부분에 원형의 골이 형성될 수 있다. 그리고 32 유도 부분의 끝 부분으로부터 실린더 형상의 도파 홀(225)이 형성될 수 있다. 도파 홀(225)은 전체적으로 속이 빈 실린더 형상이 되면서 전면(211)으로부터 후면(212)을 관통하는 형상으로 만들어질 수 있다. 이와 같은 가속 공진 공동(22)의 구조는 전기장 또는 자기장 분포에 의하여 다양한 모드로 전파되는 전자 빔이 외부에서 공급되는 고주파 RF 에너지를 흡수하여 가속이 되도록 한다. 이를 위하여 가속 공진 공동(22)은 적절한 내부 표면 조건을 가질 필요가 있다. 2 induction portion 223 is composed of a 21 induction portion extending in a planar or similar shape to the end portion of the 1 induction portion 222 and a 22 induction portion extending in a shape protruding in the front direction from the 21 induction portion . 2 guiding portion 223 functions to form the waveguide hole 225 together with the triple guiding portion 224. [ For the formation of the waveguide hole, the three-guided portion 224 may be formed in a curved surface structure directed upwardly or in the direction of the front surface 211, and may be formed, for example, as a conical shape as a whole. Specifically, the triple-guiding portion 224 has a guiding portion 31 having a small radius of curvature as compared with the guiding portion 223 and extending in the direction of the front surface 211 and a guiding portion extending from the guiding portion 31 back to the rear surface 212 in an inclined shape Lt; RTI ID = 0.0 > 32 < / RTI > Circular valleys can be formed at the boundary between the 31-lead portion and the 32-lead portion by the structure of the 31-lead portion and the 32-lead portion. And a cylindrical waveguide hole 225 may be formed from the end of the 32 guiding portion. The waveguide hole 225 may be formed into a shape penetrating from the front surface 211 to the rear surface 212 while being wholly hollow cylinder-shaped. The structure of the acceleration resonant cavity 22 is such that an electron beam propagated in various modes by an electric field or a magnetic field distribution absorbs high frequency RF energy supplied from the outside and accelerates. To this end, the acceleration resonant cavity 22 needs to have an appropriate internal surface condition.

가속 공진 공동(22)의 내부 표면은 중심으로 둘레 면을 따라 서로 다른 곡률 반지름을 가지면서 부드럽게 이어지는 하나의 곡선 형상을 가진다. 하나의 곡선 형상은 연장 방향에 대하여 수직이 되는 방향으로 경계 부분 또는 경계선을 형성하는 것을 의미한다. 하나의 곡선 형상은 예를 들어 산 또는 골과 같은 오목하거나 볼록한 부분을 포함할 수 있지만 이로 인하여 서로 다른 부분으로 구분되는 높이 차 또는 결(grain)을 형성하지 않는다. 이와 같은 가속 공진 공동(22)의 단일 곡선 형상은 절삭 공구 또는 이와 유사한 머시닝 공구(machining)에 의하여 외부로부터 중심으로 또는 공동 형성 부분(221)으로부터 도파 홀(225)의 방향으로 또는 그 반대 방향으로 한 번의 공정에 의하여 가공하는 것에 의하여 형성될 수 있다. 예를 들어 5축 가공 또는 이와 유사한 가공 방법에 의하여 공구 또는 단위 셀(20)을 위한 소재가 공동 형성 부분(221)과 도파 홀(225)에 이르는 거리만큼 이동되면서 형성될 수 있다. 이와 같은 가공 과정에서 서로 다른 곡률 반지름을 가진 면의 가공을 위하여 공구가 교체되거나 또는 소재의 고정 위치가 변경되지 않는다. 그리고 이와 같은 가공 공정에 의하여 곡면의 표면 조도는 예를 들어 0.005 내지 5 ㎛, 바람직하게 0.01 내지 2 ㎛, 가장 바람직하게 0.01 내지 0.2 ㎛가 될 수 있고, 서로 다른 곡률 반지름을 가지는 경계 부분은 부드럽게 이어지면서 경계 부분의 표면 조도가 0.01 내지 0.2 ㎛가 될 수 있다. 이와 같은 구조적 특성에 의하여 가속 공진 공동(22)에서 원하는 공진 조건이 얻어질 수 있다. The inner surface of the acceleration resonant cavity 22 has a curved shape that smoothly extends along the circumferential surface with different radii of curvature. One curve shape means forming a boundary portion or a boundary line in a direction perpendicular to the extending direction. One curved shape may include concave or convex portions, such as, for example, an acid or a bone, but does not form a height difference or grain that is divided into different portions. The single curved shape of such an accelerating resonant cavity 22 can be formed by a cutting tool or similar machining from the outside to the center or from the cavity forming portion 221 in the direction of the waveguide hole 225 or vice versa Can be formed by a single step of processing. The material for the tool or the unit cell 20 can be formed while being moved by a distance reaching the cavity forming portion 221 and the waveguide hole 225 by, for example, 5-axis machining or a similar processing method. In such a machining process, the tool is not replaced or the fixed position of the workpiece is not changed for machining a surface having a different radius of curvature. The surface roughness of the curved surface may be, for example, from 0.005 to 5 mu m, preferably from 0.01 to 2 mu m, and most preferably from 0.01 to 0.2 mu m by such a processing step, and the boundary portion having different radius of curvature The surface roughness of the boundary portion can be 0.01 to 0.2 탆. With this structural characteristic, a desired resonance condition can be obtained in the acceleration resonance cavity 22.

가속 공진 공동(22)은 전체적으로 반-구형이 되면서 측면에 형성된 연결 홀(24)을 포함할 수 있다. 연결 홀(24)은 1 유도 부분(222)에 형성될 수 있고, 타원 또는 이와 유사한 형상으로 만들어질 수 있다. 연결 홀(24)은 가속 공진 공동(22)의 내부를 진공 상태로 만드는 기능을 가질 수 있고, 가속 공진 공동(22)의 측면에 측면 커플링 공동(23)이 형성되는 경우 두 개의 공동(22, 23)을 연결하는 기능을 가질 수 있다. The acceleration resonant cavity 22 may include a connection hole 24 formed in the side surface while being semi-spherical as a whole. The connection hole 24 may be formed in the one lead portion 222 and may be formed in an elliptical or similar shape. The connection hole 24 may have the function of making the interior of the acceleration resonant cavity 22 to be in a vacuum state and when the side coupling cavity 23 is formed on the side of the acceleration resonant cavity 22, , 23).

베이스 몸체(21)에 적어도 하나의 유동 홀(25)이 형성될 수 있고, 유동 홀(25)은 베이스 몸체(21)를 관통하는 형태로 만들어질 수 있고, 가속 공진 공동(22)의 주위에 사각 형상이 되도록 배치될 수 있다. 또한 유동 홀(25)은 측면 커플링 공동(23)은 둘레에 형성될 수 있다. 예를 들어 유동 홀(25)은 베이스 몸체(21)의 둘레를 따라 여섯 개가 형성될 수 있다. 유동 홀(25)은 작동 과정에서 가속 관을 냉각시키는 기능을 할 수 있고, 물과 같은 냉각 유체의 유동 경로가 될 수 있다. At least one flow hole 25 may be formed in the base body 21 and the flow hole 25 may be formed through the base body 21 and around the acceleration resonant cavity 22 It can be arranged so as to have a rectangular shape. The flow holes 25 may also be formed around the side coupling cavities 23. For example, six flow holes 25 may be formed along the circumference of the base body 21. The flow hole 25 may function to cool the accelerating tube during operation and may be a flow path of the cooling fluid such as water.

베이스 몸체(21)의 전면(211)과 후면(212)에 각각 적어도 하나의 체결 홀(26a, 26b)이 형성될 수 있고, 각각의 체결 홀(26a, 26b)은 전면(211)과 후면(212)의 표면으로부터 두께 방향으로 수직이 되는 형상으로 형성될 수 있다. 예를 들어 체결 홀(26a, 26b)은 베이스 몸체(21)의 두께의 1/3 내지 2/3의 깊이를 가지는 홈 형상으로 만들어질 수 있다. 서로 다른 두 개의 단위 셀(20)이 납땜 또는 용접(brazing)과 같은 방법에 의하여 서로 결합시키기 위하여 체결 홀(26a, 26b)에 체결 핀이 결합될 수 있다. 또한 단위 셀의 제조 과정에서 체결 홀(26a, 26b)은 가속 공진 공동 또는 측면 커플링 공동을 형성하는 기준이 될 수 있다. 구체적으로 전면(211)에 형성되는 가속 공진 공동은 4개의 체결 홀(26a, 26b)을 기준으로 중심 및 둘레 면의 위치가 결정되고, 후면(212)에 형성되는 측면 커플링 공정은 2개의 체결 홀을 기준으로 중심 및 둘레 면의 위치가 결정될 수 있다. At least one fastening holes 26a and 26b may be formed on the front surface 211 and the rear surface 212 of the base body 21 and the fastening holes 26a and 26b may be formed on the front surface 211 and the rear surface 212 212) perpendicular to the thickness direction. For example, the fastening holes 26a and 26b may be formed in a groove shape having a depth of 1/3 to 2/3 of the thickness of the base body 21. [ The fastening pins may be coupled to the fastening holes 26a, 26b to couple the two different unit cells 20 to each other by a method such as brazing or brazing. Also, in the manufacturing process of the unit cell, the fastening holes 26a and 26b can be a reference for forming the acceleration resonant cavity or the side coupling cavity. Concretely, the acceleration resonant cavity formed in the front surface 211 is determined in terms of the positions of the center and circumferential surfaces with respect to the four fastening holes 26a and 26b, and the side coupling process formed in the rear surface 212, The position of the center and circumferential surfaces with respect to the hole can be determined.

단위 셀(20)은 가속 공진 공동(22)이 형성되는 깊이 방향과 반대 방향으로 깊이가 형성되는 측면 커플링 공동(23)을 포함할 수 있다. 측면 커플링 공동(23)은 가속 공진 공동(22)을 따라 유도되는 전자 빔의 전기장 또는 자기장의 모드에 따라 활성화가 될 수 있고, 전체적으로 가속 공진 공동(22)과 유사한 구조로 만들어질 수 있다. 측면 커플링 공동(23)은 가속 공진 공동(22)의 측면에 위치할 수 있고, 베이스 몸체(21)의 평면을 기준으로 서로 반대되는 방향으로 전체적으로 반-구형으로 형성될 수 있다. 예를 들어 가속 공진 공동(22)은 전면(211)으로부터 후면(212)을 향하여 반-구형으로 형성될 수 있고, 측면 커플링 공동(23)은 후면(212)으로부터 전면(211)을 향하여 반-구형으로 형성될 수 있다. The unit cell 20 may include a side coupling cavity 23 having a depth formed opposite to the depth direction in which the acceleration resonant cavity 22 is formed. The side coupling cavity 23 may be activated depending on the mode of the electric field or magnetic field of the electron beam that is induced along the acceleration resonant cavity 22 and may be made in a structure similar to the acceleration resonant cavity 22 as a whole. The side coupling cavities 23 may be located on the sides of the acceleration resonant cavity 22 and may be formed semi-spherically as a whole in directions opposite to each other with respect to the plane of the base body 21. For example, the acceleration resonant cavity 22 may be formed in a semi-spherical shape from the front surface 211 toward the rear surface 212, and the side coupling cavity 23 may extend from the rear surface 212 toward the front surface 211 - may be formed in a spherical shape.

측면 커플링 공동(23)은 중앙 부분에 속이 빈 실린더 구조로 만들어진 커플링 홀(235)을 포함할 수 있고, 커플링 홀(235)로부터 차례대로 3, 2 및 1 커플링 유도 부분(234, 233, 232)이 형성될 수 있다. 그리고 1 커플링 유도 부분(232)의 둘레 면을 따라 실린더 형상의 커플링 공동 유도 부분(231)이 형성될 수 있다. The side coupling cavity 23 may include a coupling hole 235 made in a hollow cylinder structure in the central portion and may have three, two and one coupling induction portions 234, 233 and 232 may be formed. And a cylindrical coupling-coupling-inducing portion 231 may be formed along the circumferential surface of the coupling-inducing portion 232.

커플링 공동 유도 부분(231)은 후면(212)으로부터 수직이 되는 방향으로 실린더 형상으로 연장될 수 있다. 1 커플링 유도 부분(232)은 커플링 공동 유도 부분(231)으로부터 안쪽 방향으로 곡면의 환형 고리 구조로 만들어질 수 있다. 2 커플링 유도 부분(233)은 1 커플링 유도 부분(232)의 끝 부분으로부터 후면(212)에 평행한 평면 형상으로 연장되는 21 커플링 유도 부분과 21 커플링 유도 부분으로부터 위쪽 방향으로 곡면 형상으로 연장되는 22 커플링 유도 부분으로 이루어질 수 있다. 2 커플링 유도 부분(233)으로부터 3 커플링 유도 부분(234)이 형성될 수 있다. The coupling cavity guiding portion 231 may extend in a cylindrical shape in a direction perpendicular to the rear face 212. 1 coupling induction portion 232 can be made into a circular annular ring structure inward from the coupling cavity induction portion 231. 2 coupling induction portion 233 has a coupling inducing portion 21 extending in a plane shape parallel to the rear face 212 from the end portion of the coupling inducing portion 232 and a coupling portion 21 extending upward from the coupling inducing portion in a curved shape And a coupling portion 22 extending from the coupling portion. 2 coupling inducing portion 233 may be formed from the coupling inducing portion 233.

3 커플링 유도 부분(234)은 전체적으로 돔 형상으로 만들어지면서 중앙 부분에 실린더 형상의 커플링 홀(235)이 관통되는 형상으로 배치되는 구조로 만들어질 수 있다. 구체적으로 3 커플링 유도 부분(234)은 2 커플링 유도 부분(233)으로 전체적으로 위쪽 방향으로 곡면 형상으로 연장되는 31 커플링 유도 부분과 31 커플링 유도 부분으로부터 후면(212)과 평행한 평면으로 연장되는 32 커플링 유도 부분으로 이루어질 수 있다. 그리고 32 커플링 유도 부분의 중앙 부분에 베이스 몸체(21)를 관통하는 속이 빈 실린더 형상으로 만들어질 수 있다. 측면 커플링 공동(23)은 가속 공진 공동(22)과 임피던스 정합이 가능한 다양한 구조로 만들어질 수 있다. 3 coupling-inducing portion 234 may be formed in a dome-like shape as a whole and in a structure in which a cylindrical coupling hole 235 penetrates the central portion. Specifically, the three-coupling-inducing portion 234 includes a coupling-inducing portion 31, which extends in a curved shape as a whole upwardly with two coupling-inducing portions 233, and a coupling-inducing portion 31, which extends in a plane parallel to the rear 212 from the coupling- Lt; RTI ID = 0.0 > 32 < / RTI > And a hollow cylindrical shape passing through the base body 21 can be formed in the central portion of the coupling induction portion. The side coupling cavity 23 can be made in a variety of structures capable of impedance matching with the acceleration resonant cavity 22.

가속 공진 공동(22) 또는 측면 커플링 공동(23)은 단위 셀(20)이 서로 결합되어 가속 관으로 만들어지면서 서로 정합이 될 필요가 있다. 이를 위하여 각각의 단위 셀이 튜닝(tuning)이 될 필요가 있다. 단위 셀(20)은 베이스 몸체(21)의 두께 면에 형성된 적어도 하나의 튜닝 홀(27a, 27b, 27e)을 포함할 수 있다. 튜닝 홀(27a, 27b, 27e)은 가속 공진 공동(22)의 양쪽 측면에 형성될 수 있고, 예를 들어 베이스 몸체(21)의 긴 둘레 벽을 형성하는 1 두께 면(213) 및 1 두께 면(213)과 마주보는 2 두께 면(214)에 각각 형성될 수 있다. 또한 튜닝 홀(27e)은 짧은 둘레 벽을 형성하는 3 두께 면(215) 및 4 두께 면에 형성될 수 있다. 각각의 튜닝 홀(27a, 27b, 27e)은 두께 면(213, 214, 215)을 형성하는 평면에 대하여 수직이 되는 방향으로 연장되는 홀 형상이 될 수 있다. 각각의 튜닝 홀(27a, 27b, 27e)은 가속 공진 공동(22) 또는 측면 커플링 공동(23)을 중심으로 서로 마주보도록 형성될 수 있다. 각각의 튜닝 홀(27a, 27b, 27e)은 가속 공진 공동(22) 또는 측면 커플링 공동(23)의 깊이 및 폭의 중심 부분에 대응되도록 1, 2, 3 두께 면(213, 214, 215)에 형성될 수 있다. 그리고 각각의 두께 면(213, 214, 215)으로부터 가속 공진 공동(22) 또는 측면 커플링 공동(23)에 이르는 거리의 1/4 내지 4/5에 이르는 깊이, 바람직하게 1/2이 되는 깊이의 실린더 형상으로 만들어질 수 있다. The acceleration resonant cavity 22 or the side coupling cavity 23 needs to be matched with each other as the unit cells 20 are coupled to each other and made into an acceleration tube. To do this, each unit cell needs to be tuned. The unit cell 20 may include at least one tuning hole 27a, 27b, 27e formed on the thickness surface of the base body 21. [ The tuning holes 27a, 27b and 27e may be formed on both sides of the acceleration resonant cavity 22 and may include a first thickness surface 213 forming a long circumferential wall of the base body 21, And the second thickness surface 214 facing the second thickness surface 213, respectively. Also, the tuning holes 27e may be formed on the three-thickness surface 215 and the four-thickness surface forming the short circumferential wall. Each of the tuning holes 27a, 27b and 27e may have a hole shape extending in a direction perpendicular to the plane forming the thickness planes 213, 214 and 215. Each of the tuning holes 27a, 27b and 27e may be formed so as to face each other about the acceleration resonant cavity 22 or the side coupling cavity 23. Each of the tuning holes 27a, 27b and 27e has one, two and three thickness surfaces 213, 214 and 215 so as to correspond to the center portion of the depth and width of the acceleration resonant cavity 22 or the side coupling cavity 23, As shown in FIG. And a depth ranging from 1/4 to 4/5 of the distance from each of the thickness surfaces 213,214 and 215 to the acceleration resonant cavity 22 or side coupling cavity 23, As shown in Fig.

각각의 튜닝 홀(27a, 27b, 27e)은 단위 셀(20)에서 전자 빔이 흡수하는 주파수 대역의 튜닝을 위하여 사용될 수 있다. 예를 들어 짧은 주파수 대역으로 튜닝을 위하여 튜닝 홀(27a, 27b, 27e)에 주입 압력을 가할 수 있고, 긴 주파수 대역으로 튜닝을 위하여 튜닝 홀(27a, 27b, 27e)로부터 흡입 압력이 가해질 수 있다. 각각의 튜닝 홀(27a, 27b, 27e)에 대한 튜닝은 다양한 방법으로 이루어질 수 있다. Each of the tuning holes 27a, 27b and 27e can be used for tuning a frequency band in which the electron beam absorbs the unit cell 20. For example, an injection pressure can be applied to the tuning holes 27a, 27b, 27e for tuning in a short frequency band, and a suction pressure can be applied from the tuning holes 27a, 27b, 27e for tuning in a long frequency band . Tuning for each tuning hole 27a, 27b, 27e can be accomplished in various ways.

단위 셀(20)은 다수 개가 서로 결합되어 가속 관을 형성할 수 있고, 예를 들어 1 내지 50 GHz의 주파수를 가지는 에너지가 흡수되거나 해당 주파수 대역의 전자기파에 대하여 공진되는 구조로 만들어질 수 있다. 그리고 X-밴드 또는 S-밴드의 전자기파가 발생되도록 할 수 있다. 그리고 이에 적합한 규격을 가질 필요가 있다. A plurality of unit cells 20 may be coupled to each other to form an acceleration tube. For example, the unit cell 20 may be configured such that energy having a frequency of 1 to 50 GHz is absorbed or resonated with respect to an electromagnetic wave of the frequency band. And X-band or S-band electromagnetic waves can be generated. And it is necessary to have a suitable standard.

본 발명에 따른 가공 툴 또는 제조 방법은 다양한 구조를 가지는 가속기용 단위 셀의 가공에 적용될 수 있고 제시된 실시 예에 제한되지 않는다. The processing tool or the manufacturing method according to the present invention can be applied to the processing of a unit cell for an accelerator having various structures and is not limited to the embodiment shown.

본 발명에 따른 가공 툴은 가속기 셀의 공진 공동 또는 커플링 공동이 정해진 기하학적 형상으로 만들어지도록 한다. 이에 의하여 가공 툴에 의하여 가공된 가속기 셀이 정해진 주파수 대역에서 공진에 따른 에너지 흡수가 이루어지도록 한다. 본 발명에 따른 가공 툴은 다양한 규격의 가속기 셀에 적용되어 공진 공동의 표면 조도 또는 곡률 반지름이 가속기의 입자 가속 조건에 적합한 형상으로 만들어지도록 한다. 본 발명에 따른 단위 셀의 제조 방법은 소재의 측면을 고정하여 표면을 형성하는 것에 의하여 가공 과정에서 소재의 물리적 특성이 유지되도록 한다. 추가로 본 발명에 따른 단위 셀은 다양한 구조의 가속기 또는 다양한 대역의 엑스선 발생을 위한 가속 관에 적용될 수 있다. The processing tool according to the invention allows the resonant cavity or coupling cavity of the accelerator cell to be made into a defined geometrical shape. Thereby allowing the accelerator cell processed by the processing tool to absorb energy according to the resonance in a predetermined frequency band. The processing tool according to the present invention is applied to accelerator cells of various sizes so that the surface roughness or radius of curvature of the resonant cavity can be made to conform to the particle acceleration conditions of the accelerator. The method of manufacturing a unit cell according to the present invention allows the side surface of a material to be fixed to form a surface, thereby maintaining the physical properties of the material during processing. Further, the unit cell according to the present invention can be applied to accelerators of various structures or acceleration tubes for generating various bands of X-rays.

위에서 본 발명은 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되었지만 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 제시된 실시 예를 참조하여 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형 및 수정 발명을 만들 수 있을 것이다. 본 발명은 이와 같은 변형 및 수정 발명에 의하여 제한되지 않으며 다만 아래에 첨부된 청구범위에 의하여 제한된다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention . The invention is not limited by these variations and modifications, but is limited only by the claims appended hereto.

11: 착용 유닛 12: 인서트 유닛
13: 가공 팁 13a: 가공 팁
20: 단위 셀 21: 베이스 몸체
22: 가속 공진 공동 23: 측면 커플링 공동
24: 연결 홀 25: 유동 홀
26: 체결 홀 26a, 26b: 체결 홀
27a, 27b, 27e: 튜닝 홀 31: 팁 부위
32: 팁 몸체 33: 경사 측면
34: 고정 홀 35: 고정 수단
40: 장착 공구 41: 고정 실린더
43a, 43b, 43c, 43d: 고정 핀 44a, 44b: 고정 척
112: 고정 면 113: 연결 부위
114: 유입 홀 121: 깊이 형성 부분
122: 팁 고정 부분 131: 돌출 부분
211: 전면 212: 후면
213, 214, 215: 1, 2, 3 두께 면 221: 공동 형성 부분
222, 223, 224: 1, 2, 3 유도 부분
225: 도파 홀 231: 커플링 공동 유도 부분
232, 233, 234: 1, 2, 3 커플링 유도 부분
235: 커플링 홀 411: 원형 면
AC: 가속 공진 공동 BL1, BL2: 기준 라인
C1, C2: 측면 연장 경사 각 CS: 결합 면
FS: 전면 LA: 경사각
M: 셀 소재 RC: 가속 공진 공동
RS: 후면 SA: 원주각
SC: 측면 커플링 공동 SL: 접촉 길이
11: Wear unit 12: Insert unit
13: machining tip 13a: machining tip
20: unit cell 21: base body
22: acceleration resonance cavity 23: side coupling cavity
24: connection hole 25: flow hole
26: fastening holes 26a, 26b: fastening holes
27a, 27b, 27e: tuning hole 31: tip portion
32: tip body 33: oblique side
34: Fixing hole 35: Fixing means
40: mounting tool 41: stationary cylinder
43a, 43b, 43c, 43d: fixing pins 44a, 44b:
112: fixing surface 113: connection portion
114: inlet hole 121: depth forming portion
122: tip fixing portion 131: protruding portion
211: Front 212: Rear
213, 214, 215: 1, 2, 3 thickness face 221:
222, 223, 224: 1, 2, 3 guide portions
225: waveguide hole 231: coupling cavity guiding portion
232, 233, 234: 1, 2, 3 coupling induction portion
235: Coupling hole 411: Circular surface
AC: Acceleration resonant cavity BL1, BL2: Reference line
C1, C2: side extension inclination angle CS: coupling surface
FS: Front LA: Incline angle
M: Cell material RC: Acceleration resonant cavity
RS: rear SA: circumference angle
SC: Side coupling joint SL: Contact length

Claims (2)

선형으로 연장되는 착용 유닛(11);
착용 유닛(11)의 한쪽 끝 부분에 형성되는 인서트 유닛(12); 및
인서트 유닛(12)의 끝 부분에 고정되면서 인서트 유닛(12)과 적어도 동일한 폭이 되면서 돌출 부분(131)이 형성된 가공 팁(13)을 포함하고,
상기 인서트 유닛(12)은 내부에 유동 경로가 형성되고 끝부분에 계단 형상의 결합 면(CS)이 형성되며,
상기 가공 팁(13)은 다이아몬드 또는 초경합금이 되고 상기 결합 면(CS)에 고정되며, 두께를 형성하는 양쪽 면이 아래쪽 방향으로 가면서 안쪽으로 경사진 형상을 가지는 가속기용 단위 셀의 가공 툴.
A linearly extending wear unit (11);
An insert unit (12) formed at one end of the wear unit (11); And
And a machining tip (13) fixed to an end of the insert unit (12) and having at least the same width as the insert unit (12) and formed with a protruding part (131)
The insert unit 12 has a flow path formed therein and a stepped coupling surface CS formed at an end thereof,
Wherein the machining tip (13) is a diamond or cemented carbide and is fixed to the coupling surface (CS), and both sides forming the thickness have a shape tilted inward with a downward direction.
청구항 1에 있어서, 상기 돌출 부분(131)은 판 형상이 되면서 가속기 셀 소재와 접촉이 되는 앞부분은 곡선 형상 또는 직선 형상이 되는 것을 특징으로 하는 가속기용 단위 셀의 가공 툴.
The tool according to claim 1, wherein the projecting portion (131) has a plate shape and a front portion which is in contact with the accelerator cell material has a curved shape or a linear shape.
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