KR20190006147A - Method for fabricating transparent electrode - Google Patents

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Abstract

A method of manufacturing a transparent electrode includes a step of preparing a first conductive layer including graphene, a step of disposing a second conductive layer including metal nanowires on the first conductive layer. The step of disposing the second conductive layer includes a step of forming a pre-coat layer by applying the metal nanowires onto the first conductive layer, and a step of simultaneously applying pressure and light to the pre-coat layer to weld the metal nanowires. The transparent electrode includes can be used as a stretchable electrode.

Description

투명 전극의 제조 방법{METHOD FOR FABRICATING TRANSPARENT ELECTRODE}[0001] METHOD FOR FABRICATING TRANSPARENT ELECTRODE [0002]

본 발명은 투명 전극의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로, 신축성 전극으로 활용 가능한 투명 전극의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a transparent electrode, and more particularly, to a method of manufacturing a transparent electrode usable as a stretchable electrode.

최근, 유연하면서 변형이 용이한 신축성 전자소자 기술에 대한 요구가 이어져 오고 있으며, 신축성 전자소자 기술은 웨어러블(wearable) 소자, 로봇용 센서 피부 등의 기술분야에서 향후 많은 응용이 가능할 것으로 기대된다.In recent years, there has been a demand for a flexible electronic device technology that is flexible and easy to deform, and the elastic electronic device technology is expected to be applicable in a future technology field such as a wearable device, a sensor sensor for a robot, and the like.

신축성 전자소자 기술은 단순한 휨(bendable) 또는 유연(flexible) 특성이 우수한 것을 뛰어 넘어 높은 광투과도를 보이며 인장 또는 수축된 형태에서도 전기적 및 기계적 물성이 유용한 전극이 필수적이다.Elastic electronic device technology is superior to simple bendable or flexible properties, and it is essential that electrodes exhibit high light transmittance and are useful in electrical and mechanical properties even in a tensile or contracted form.

본 발명은 신축성 전극으로 활용 가능한 투명 전극의 제조 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a transparent electrode which can be used as a stretchable electrode.

본 발명의 일 실시예는 그래핀을 포함하는 제1 도전층을 준비하는 단계 및 제1 도전층 상에 금속 나노와이어를 포함하는 제2 도전층을 배치하는 단계를 포함하고, 제2 도전층을 배치하는 단계는 제1 도전층 상에 금속 나노와이어를 도포하여 예비 코팅층을 형성하는 단계 및 예비 코팅층에 압력 및 광(light)을 동시에 가하여 금속 나노와이어를 용접하는 단계를 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법을 제공한다.One embodiment of the present invention includes the steps of preparing a first conductive layer comprising graphene and disposing a second conductive layer comprising metal nanowires on the first conductive layer, Wherein the step of disposing comprises the steps of: applying a metal nanowire on the first conductive layer to form a precoat layer; and applying pressure and light to the precoat layer simultaneously to weld the metal nanowire. And a manufacturing method thereof.

금속 나노와이어를 용접하는 단계는 광원이 내부에 배치되어 있는 제1 투명 롤러를 이용하여 수행되는 것일 수 있다. 금속 나노와이어를 용접하는 단계는 제1 투명 롤러를 커버하는 차광막을 배치한 후 수행되는 것일 수 있다.The step of welding the metal nanowires may be performed using a first transparent roller having a light source disposed therein. The step of welding the metal nanowires may be performed after arranging the light-shielding film covering the first transparent roller.

금속 나노와이어를 용접하는 단계는 금속 나노와이어 상호 간의 접합 부분이 융착되는 단계인 것일 수 있다.The step of welding the metal nanowires may be a step in which the joint portions of the metal nanowires are fused.

제1 도전층을 준비하는 단계는 제1 롤러에 감겨 있는 제1 도전층이 풀려 나오는 단계를 포함하는 것일 수 있다.The step of preparing the first conductive layer may include a step of releasing the first conductive layer wound on the first roller.

투명 전극의 제조 방법은 제2 도전층을 배치하는 단계 이후에 제2 도전층이 배치된 상기 제1 도전층이 제2 롤러에 감겨지는 단계를 더 포함하는 것일 수 있다.The method of manufacturing a transparent electrode may further include a step in which the first conductive layer on which the second conductive layer is disposed is wound on the second roller after the step of disposing the second conductive layer.

제1 도전층을 준비하는 단계는 베이스 기판 상에 제1 도전층을 배치하는 단계를 포함하고, 제1 도전층을 배치하는 단계는 제1 롤러에 감겨 있는 제1 도전층이 풀려 나오는 제1 단계 및 제3 롤러에 감겨 있는 베이스 기판이 풀려 나오는 제2 단계를 포함하며, 제1 단계 및 제2 단계는 동시에 수행되는 것일 수 있다.The step of preparing the first conductive layer includes disposing a first conductive layer on the base substrate, wherein the step of disposing the first conductive layer includes a first step of releasing the first conductive layer wound on the first roller, And a second step in which the base substrate wound on the third roller is released, and the first step and the second step may be performed simultaneously.

제1 도전층은 다층 구조를 갖는 것일 수 있다.The first conductive layer may have a multilayer structure.

투명 전극의 제조 방법은 제2 도전층 상에 그래핀을 포함하는 제3 도전층을 배치하는 단계를 더 포함하는 것일 수 있다.The manufacturing method of the transparent electrode may further include disposing a third conductive layer including graphene on the second conductive layer.

제3 도전층을 배치하는 단계는 제4 롤러에 감겨 있는 제3 도전층이 풀려 나오는 단계를 포함하는 것일 수 있다.The step of disposing the third conductive layer may include a step of releasing the third conductive layer wound on the fourth roller.

제3 도전층은 다층 구조를 갖는 것일 수 있다.The third conductive layer may have a multilayer structure.

투명 전극의 제조 방법은 예비 코팅층을 용액조(chemical bath)에 침지시켜 금속 나노와이어를 화학적 용접(chemical welding)하는 단계를 더 포함하는 것일 수 있다. 용액조는 NaCl, NaBr, NaI, KCl, FeCl2, AlCl3, MgCl2, CaCl2, NH4F, 또는 이들의 조합을 포함하는 것일 수 있다. 용액조는 극성 용매를 포함하는 것일 수 있다. 금속 나노와이어를 화학적 용접하는 단계 이후에 예비 코팅층을 수조에 침지시켜 세척하는 단계를 더 포함하는 것일 수 있다.The manufacturing method of the transparent electrode may further include chemical welding the metal nanowire by immersing the precoating layer in a chemical bath. Joe solution can be to include NaCl, NaBr, NaI, KCl, FeCl 2, AlCl 3, MgCl 2, CaCl 2, NH 4 F, or a combination thereof. The solution tank may contain a polar solvent. The step of chemically welding the metal nanowires may further include a step of immersing the preliminary coating layer in a water bath to be washed.

금속 나노와이어는 은 나노와이어인 것일 수 있다.The metal nanowires may be silver nanowires.

본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법에 의하면, 인장 또는 수축된 형태에서도 전기적 및 기계적 물성이 우수한 투명 전극을 제조할 수 있다.According to the method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention, a transparent electrode having excellent electrical and mechanical properties can be manufactured even in a tensile or contracted form.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 순서도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.
도 3a는 예비 코팅층 내의 금속 나노와이어 사시도이다.
도 3b는 제2 도전층 내의 금속 나노와이어 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법으로 제조된 투명 전극의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법으로 제조된 투명 전극의 단면도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.
도 11은 실시예 및 비교예에 따른 투명 전극의 스트레인(strain) 변화에 따른 상대적 면저항 비 변화를 측정한 그래프이다.
도 12는 실시예 및 비교예에 따른 투명 전극의 스트레인(strain) 변화에 따른 정규화된 전도도(normalized conductivity) 변화를 측정한 그래프이다.1 is a schematic flow diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.
3A is a perspective view of a metal nanowire in a precoat layer.
3B is a perspective view of the metal nanowire in the second conductive layer.
4 is a schematic diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.
5 is a schematic diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram illustrating a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view of a transparent electrode manufactured by a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.
8 is a schematic diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a cross-sectional view of a transparent electrode manufactured by a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.
10 is a schematic diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.
11 is a graph showing a change in relative sheet resistance ratio according to changes in strain of a transparent electrode according to Examples and Comparative Examples.
FIG. 12 is a graph showing changes in normalized conductivity according to strain of a transparent electrode according to Examples and Comparative Examples. FIG.

이상의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 통상의 기술자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other objects, features, and advantages of the present invention will become more readily apparent from the following description of preferred embodiments with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Rather, the embodiments disclosed herein are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art.

각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown enlarged from the actual for the sake of clarity of the present invention. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "상에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "하부에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof. Also, where a portion such as a layer, film, region, plate, or the like is referred to as being "on" another portion, this includes not only the case where it is "directly on" another portion, but also the case where there is another portion in between. On the contrary, when a part such as a layer, film, region, plate or the like is referred to as being "under" another part, it includes not only the case where it is "directly underneath" another part but also another part in the middle.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a method for manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention will be described.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 순서도이다.1 is a schematic flow diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법은 그래핀을 포함하는 제1 도전층을 준비하는 단계(S100) 및 제1 도전층 상에 금속 나노와이어를 포함하는 제2 도전층을 배치하는 단계(S200)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a method of manufacturing a transparent electrode according to an exemplary embodiment of the present invention includes the steps of preparing a first conductive layer including graphene (S100) and forming a first conductive layer including a metal nanowire 2 conductive layer (S200).

제1 도전층을 준비하는 단계(S100)는 당 기술분야에 알려진 일반적인 방법으로 수행될 수 있으며, 예를 들어, 구리 포일(Cu foil) 상에 그래핀을 성장시킨 후, 폴리에틸렌테레프날레이트(PET), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA) 등의 베이스 기판 상에 상기 그래핀을 전사시킴으로써 제1 도전층을 준비하는 단계(S100)가 수행될 수 있다. 다만, 이에 의하여 한정되는 것은 아니며, 제1 도전층을 준비하는 단계(S100)는 시판하는 그래핀 층을 구입하는 단계일 수도 있다.The step of preparing the first conductive layer (S100) may be performed by a general method known in the art. For example, after growing graphene on a copper foil, polyethylene terephthalate ( (S100) may be performed by transferring the graphene onto a base substrate such as PET, polymethylmethacrylate (PMMA) or the like, thereby preparing a first conductive layer. However, the present invention is not limited thereto, and the step of preparing the first conductive layer (S100) may be a step of purchasing a commercially available graphene layer.

제1 도전층(CL1)은 그래핀으로 이루어진 그래핀 층일 수 있다.The first conductive layer CL1 may be a graphene layer made of graphene.

금속 나노와이어(MN)는 금, 은, 동, 니켈, 백금, 팔라듐 또는 이들의 합금을 포함하는 것일 수 있다. 예를 들어, 금속 나노와이어(MN)는 은 나노와이어인 것일 수 있다.The metal nanowire (MN) may be one comprising gold, silver, copper, nickel, platinum, palladium or an alloy thereof. For example, the metal nanowire (MN) may be a silver nanowire.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.2 is a schematic diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 제2 도전층(CL2)을 배치하는 단계(S200)는 제1 도전층(CL1) 상에 금속 나노와이어(MN)를 도포하여 예비 코팅층(PC)을 형성하는 단계(S210) 및 예비 코팅층(PC)에 압력 및 광(light)을 동시에 가하여 금속 나노와이어(MN)를 용접하는 단계(S220)를 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 2, a step S200 of arranging the second conductive layer CL2 includes forming a precoat layer PC by coating a metal nanowire MN on the first conductive layer CL1 (S220) simultaneously welding the metal nanowire (MN) by applying pressure and light to the precoating layer (PC) at step S210.

예비 코팅층(PC)을 형성하는 단계(S210)는 예를 들어, 금속 나노와이어 공급기(10)로부터 금속 나노와이어(MN)가 분산된 분산 용액을 제1 도전층(CL1) 상에 도포하여 코팅하는 방법으로 수행될 수 있다. 금속 나노와이어(MN)가 분산된 분산 용액은 필요에 따라 부식방지제, 점도조절제 등의 첨가제 등을 더 포함할 수 있다.The step S210 of forming the precoating layer PC may be performed by coating a dispersion solution in which the metal nanowire MN is dispersed from the metal nanowire feeder 10 on the first conductive layer CL1 . ≪ / RTI > The dispersion solution in which the metal nanowires (MN) are dispersed may further contain an additive such as a corrosion inhibitor, a viscosity control agent and the like as necessary.

예비 코팅층(PC)을 형성하는 단계(S210)에 이어 금속 나노와이어(MN)를 용접하는 단계(S220)가 수행된다. 예비 코팅층(PC)에 광원을 이용하여 광을 조사함으로써 플라즈모닉 용접(plasmonic welding)이 진행될 수 있다. 광원을 예를 들어, UV-lamp, Halogen lamp 등을 이용할 수 있다. The step S210 of forming the precoat layer PC followed by the step S220 of welding the metal nanowires MN is performed. Plasmonic welding can be performed by irradiating the precoated layer PC with light using a light source. The light source may be, for example, a UV lamp or a halogen lamp.

도 3a는 예비 코팅층 내의 금속 나노와이어 사시도이다. 도 3b는 제2 도전층 내의 금속 나노와이어 사시도이다.3A is a perspective view of a metal nanowire in a precoat layer. 3B is a perspective view of the metal nanowire in the second conductive layer.

도 3a를 참조하면, 금속 나노와이어(MN)는 복수 개의 나노와이어들을 포함하고, 예를 들어, 예비 코팅층(PC) 내에서 제1 금속 나노와이어(MN1)와 제2 금속 나노와이어(MN2)가 서로 만나 단순히 접촉 부분(JC1)을 형성하고 있다. 금속 나노와이어(MN) 간의 단순한 표면접촉은 인장, 수축, 벤딩 등의 스트레인에 의해 손쉽게 분리되거나 크랙이 발생할 수 있으며, 결과적으로 투명 전극의 전기적, 기계적 안정성이 충분하지 않다.3A, the metal nanowire MN includes a plurality of nanowires, for example, a first metal nanowire MN1 and a second metal nanowire MN2 in a precoating layer PC So that the contact portion JC1 is simply formed. Simple surface contact between metal nanowires (MN) can be easily separated or cracked by strain such as tensile, shrinkage, bending, etc., resulting in insufficient electrical and mechanical stability of the transparent electrode.

이에, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조방법은 금속 나노와이어(MN)를 용접하는 단계를 포함하며, 이로 인해 나노와이어(MN) 네트워크가 형성된다.Accordingly, a method of fabricating a transparent electrode according to an embodiment of the present invention includes a step of welding a metal nanowire (MN), thereby forming a nanowire (MN) network.

구체적으로, 도 3b를 참조하면, 예비 코팅층(PC)에 광을 조사하여 플라즈모닉 용접이 진행됨에 따라 제1 금속 나노와이어(MN1)와 제2 금속 나노와이어(MN2)의 접촉 부분(JC1)이 융착(융합)되어 하나의 접합 부분(JC2)을 형성하며, 이로 인해 금속 나노와이어(MN) 네트워크를 형성하게 된다. 이로 인해, 금속 나노와이어(MN) 상호 간의 접촉 면적도 증가하며, 보다 견고하게 연결되어 있게 되고, 결과적으로 투명 전극의 전기적, 기계적 안정성이 향상된다. 다시 말해, 금속 나노와이어(MN)를 용접하는 단계(S220)는 금속 나노와이어(예를 들어, MN1, MN2) 상호 간의 접합 부분(JC2)이 융착되는 단계이다. 3B, the contact portion JC1 between the first metal nanowire MN1 and the second metal nanowire MN2 is irradiated with light by irradiating the precoating layer PC with light. As a result, (Fused) to form one joint portion JC2, thereby forming a metal nanowire (MN) network. As a result, the contact area between the metal nanowires (MN) also increases and they are connected more firmly, resulting in improved electrical and mechanical stability of the transparent electrode. In other words, the step S220 of welding the metal nanowire MN is a step in which the joint portion JC2 between the metal nanowires (e.g., MN1 and MN2) is fused.

다시, 도 1 및 도 2를 참조하면, 금속 나노와이어(MN)를 용접하는 단계(S220)에서 광(light)뿐만 아니라 압력도 동시에 가해지는 단계이다. 단순히 광만 조사하는 것이 아니라 압력까지 함께 가함으로써, 금속 나노와이어(MN) 네트워크 형성 효과를 보다 극대화할 수 있다. 다시 말해, 플라즈모닉 용접이 진행될 때 물리적으로 압력을 가해주면서 용접 효과를 극대화할 수 있다.Referring again to FIGS. 1 and 2, in step S220 of welding the metal nanowires MN, not only light but also pressure is applied. By merely applying pressure together rather than simply irradiating light, the effect of forming a metal nanowire (MN) network can be further maximized. In other words, it is possible to maximize the welding effect by physically applying pressure when the plasmonic welding proceeds.

금속 나노와이어(MN)를 용접하는 단계(S220)는 광원(30)이 내부에 배치되어 있는 제1 투명 롤러(20)를 이용하여 수행될 수 있다. 제1 투명 롤러(20) 내에 광원(30)이 배치되어 있기 때문에 광원(30)으로부터 출사된 광이 롤러(20)를 통과하여 예비 코팅층(PC) 내의 금속 나노와이어(MN)에 도달할 수 있게 된다. 제1 투명 롤러(20)의 광 투과도는 예를 들어, 85% 이상, 또는 90% 이상인 것일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The step S220 of welding the metal nanowire MN may be performed using the first transparent roller 20 in which the light source 30 is disposed. Since the light source 30 is disposed in the first transparent roller 20, the light emitted from the light source 30 can pass through the roller 20 and reach the metal nanowire MN in the precoating layer PC do. The light transmittance of the first transparent roller 20 may be, for example, 85% or more, or 90% or more, but is not limited thereto.

제1 투명 롤러(20)의 회전 방향은 예비 코팅층(PC)이 형성된 제1 도전층(CL1)의 주행 방향과 동일할 수 있으며, 이로 인해 가압 효과를 높일 수 있다.The rotation direction of the first transparent roller 20 may be the same as the running direction of the first conductive layer CL1 in which the precoating layer PC is formed, thereby increasing the pressing effect.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.4 is a schematic diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 4를 참조하면, 금속 나노와이어(MN)를 용접하는 단계(S220)를 더욱 효율적으로 수행하기 위해서는 제1 투명 롤러(20)를 커버하는 차광막(40)을 배치시킨 후 수행되는 것이 바람직하다. 차광막(40)은 제1 투명 롤러(20)의 예비 코팅층(PC)과 인접하게 마주하는 방향을 제외하고 모든 방향에서 제1 투명 롤러(20)를 커버하는 것일 수 있다. 차광막(40)을 배치함에 따라, 광원(30)으로부터 출사된 광이 다른 방향으로 누설되는 양을 최소화할 수 있게 된다.1 and 4, in order to more efficiently perform the step S220 of welding the metal nanowire MN, it is necessary to dispose the light shielding film 40 covering the first transparent roller 20 desirable. The light shielding film 40 may cover the first transparent roller 20 in all directions except the direction in which the light shielding film 40 is adjacent to the precoating layer PC of the first transparent roller 20. [ By disposing the light shielding film 40, it is possible to minimize the amount of light leaking out of the light source 30 in the other direction.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.5 is a schematic diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법은 롤-투-롤 공정으로 수행되는 것일 수 있다. 이로 인해, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법은 전기적 및 기계적 물성이 우수한 투명 전극을 제조할 수 있을 뿐만 아니라 생산성도 우수하다.Referring to FIG. 5, a method of manufacturing a transparent electrode according to an exemplary embodiment of the present invention may be performed by a roll-to-roll process. Therefore, the method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention not only can produce a transparent electrode having excellent electrical and mechanical properties, but also excellent in productivity.

예를 들어, 제1 도전층(CL1)을 준비하는 단계(S100)는 제1 롤러(RL1)에 감겨 있는 제1 도전층(CL1)이 풀려 나오는 단계를 포함할 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법은 제2 도전층(CL2)을 배치하는 단계(S200)가 완료되면 제2 도전층(CL2)이 배치된 제1 도전층(CL1) 즉, 제1 도전층(CL1) 및 제2 도전층(CL2)의 적층체가 제2 롤러(RL2)에 감겨지는 단계를 더 포함할 수 있다. 제1 롤러(RL1) 및 제2 롤러(RL2)는 전술한 제1 투명 롤러(20)와 달리 투명할 것이 요구되지는 않는다. 다만, 필요에 따라 투명할 수도 있다.For example, the step S100 of preparing the first conductive layer CL1 may include a step of releasing the first conductive layer CL1 wound on the first roller RL1. A method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention includes forming a first conductive layer CL1 on which a second conductive layer CL2 is disposed after the step S200 of arranging the second conductive layer CL2 is completed, That is, the laminated body of the first conductive layer CL1 and the second conductive layer CL2 may be wound around the second roller RL2. The first roller RL1 and the second roller RL2 are not required to be transparent unlike the first transparent roller 20 described above. However, it may be transparent if necessary.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.6 is a schematic diagram illustrating a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 6을 참조하면, 그래핀을 포함하는 제1 도전층(CL1)을 준비하는 단계(S100)는 베이스 기판(BS) 상에 제1 도전층(CL1)을 배치하는 단계를 포함할 수 있다. 예를 들어, 베이스 기판(BS) 상에 제1 도전층(CL1)을 배치하는 단계는 제1 롤러(RL1)에 감겨 있는 제1 도전층(CL1)이 풀려 나오는 제1 단계와 제3 롤러(RL3)에 감겨 있는 베이스 기판(BS)이 풀려 나오는 제2 단계가 동시에 수행되면서 베이스 기판(BS)과 제1 도전층(CL1) 적층체가 형성되는 단계일 수 있다. 다만, 이에 의하여 한정되는 것은 아니다.Referring to FIGS. 1 and 6, a step S100 of preparing a first conductive layer CL1 including graphene includes the step of disposing a first conductive layer CL1 on a base substrate BS . For example, the step of disposing the first conductive layer CL1 on the base substrate BS includes a first step in which the first conductive layer CL1 wound on the first roller RL1 is released, (BS) and the first conductive layer (CL1) may be formed while the second step of releasing the base substrate (BS) wound on the base substrate (BS) and the second conductive layer (RL3). However, it is not limited thereto.

베이스 기판(BS)은 제1 도전층(CL1)을 지지해 주는 역할을 할 수 있다. 베이스 기판(BS)은 당 기술분야에 알려진 일반적인 것이라면 제한없이 채용될 수 있으며, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르설폰(PES), 폴리이미드(PI), 폴리올레핀류 및 셀룰로오스류로 이루어진 군으로부터 선택되는 것일 수 있다.The base substrate BS may serve to support the first conductive layer CL1. The base substrate (BS) can be employed without limitation as long as it is a general one known in the art and includes, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), polyimide , Polyolefins, and celluloses.

구체적으로 도시하지는 않았으나, 필요에 따라 베이스 기판(BS)은 제1 도전층(CL1) 및 제2 도전층(CL2) 적층체가 형성된 후에 박리될 수 있다. 이 경우, 별도의 롤러를 이용하여 베이스 기판(BS)을 박리하는 단계가 추가될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 베이스 기판(BS)이 투명 전극의 하나의 구성요소가 될 수도 있다.Although not specifically shown, if necessary, the base substrate BS may be peeled after the first conductive layer CL1 and the second conductive layer CL2 are formed. In this case, a step of peeling the base substrate BS using a separate roller may be added. However, the present invention is not limited thereto, and the base substrate BS may be one component of the transparent electrode.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법으로 제조된 투명 전극의 단면도이다.7 is a cross-sectional view of a transparent electrode manufactured by a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법에 의해 제조된 투명 전극(TE)은 제1 도전층(CL1)이 다층 구조를 갖는 것일 수 있다. 예를 들어, 제1 도전층(CL1)은 순차적으로 적층된 제1 서브 그래핀 층(GL1-1), 제2 서브 그래핀 층(GL1-2), 제3 서브 그래핀 층(GL1-3) 및 제4 서브 그래핀 층(GL1-4)을 포함하는 것일 수 있다.Referring to FIG. 7, the transparent electrode TE manufactured by the transparent electrode manufacturing method according to an embodiment of the present invention may have a multilayer structure of the first conductive layer CL1. For example, the first conductive layer CL1 may include a first sub-graphene layer GL1-1, a second sub-graphene layer GL1-2, and a third sub-graphene layer GL1-3 ) And a fourth subgraffin layer (GL1-4).

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.8 is a schematic diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법은 제2 도전층(CL2) 상에 그래핀을 포함하는 제3 도전층(CL3)을 배치하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 제2 도전층(CL2)이 제1 도전층(CL1) 및 제3 도전층(CL3) 사이에 배치된 적층 구조의 투명 전극이 제조될 수 있다.Referring to FIG. 8, a method of manufacturing a transparent electrode according to an exemplary embodiment of the present invention may further include disposing a third conductive layer CL3 including graphene on a second conductive layer CL2 have. In this case, a transparent electrode having a laminated structure in which the second conductive layer CL2 is disposed between the first conductive layer CL1 and the third conductive layer CL3 can be manufactured.

제3 도전층(CL3)은 그래핀으로 이루어진 그래핀 층일 수 있다.The third conductive layer CL3 may be a graphene layer made of graphene.

제3 도전층(CL3)을 배치하는 단계도 롤-투-롤 공정으로 진행될 수 있다. 예를 들어, 제3 도전층(CL3)을 배치하는 단계는 제4 롤러(RL4)에 감겨있는 제3 도전층(CL3)이 풀려 나오는 단계를 포함하는 것일 수 있다. 다만, 이에 의하여 한정되는 것은 아니다.The step of disposing the third conductive layer CL3 may also be performed by a roll-to-roll process. For example, the step of disposing the third conductive layer CL3 may include a step of releasing the third conductive layer CL3 wound on the fourth roller RL4. However, it is not limited thereto.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법으로 제조된 투명 전극의 단면도이다.FIG. 9 is a cross-sectional view of a transparent electrode manufactured by a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법에 의해 제조된 투명 전극(TE)은 제3 도전층(CL3)이 다층 구조를 갖는 것일 수 있다. 예를 들어, 제3 도전층(CL3)은 순차적으로 적층된 제5 서브 그래핀 층(GL2-1), 제6 서브 그래핀 층(GL2-2), 제7 서브 그래핀 층(GL2-3), 및 제8 서브 그래핀 층(GL2-4)을 포함하는 것일 수 있다. 구체적으로 도시하지는 않았으나, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법에 의해 제조된 투명 전극(TE)은 제1 도전층(CL1) 및 제3 도전층(CL3) 각각이 다층 구조를 갖는 것일 수도 있다.Referring to FIG. 9, the transparent electrode TE formed by the transparent electrode manufacturing method according to an embodiment of the present invention may have a multilayer structure of the third conductive layer CL3. For example, the third conductive layer CL3 may include a fifth subgraffin layer GL2-1, a sixth subgrained fin layer GL2-2, a seventh subgraffin layer GL2-3 ), And an eighth sub graphene layer (GL2-4). Although not shown in detail, the transparent electrode TE manufactured by the method for manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention has a structure in which each of the first conductive layer CL1 and the third conductive layer CL3 has a multilayer structure It is possible.

도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극 제조 방법의 개략적인 모식도이다.10 is a schematic diagram of a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법은 화학적 용접(chemical welding) 단계를 더 포함하는 것일 수 있다. 예를 들어, 제1 전도층(CL1) 상에 예비 코팅층(PC)이 형성된 적층체를 용액조(50)에 침지시켜 금속 나노와이어(MN)를 화학적 용접하는 단계가 수행될 수 있다. 화학적 용접이 진행되기 위해서, 용액조(50)는 금속 할로겐화물 등을 포함하는 것일 수 있다. 예를 들어, 용액조(50)는 NaCl, NaBr, NaI, KCl, FeCl2, AlCl3, MgCl2, CaCl2, NH4F, 또는 이들의 조합을 포함하는 것일 수 있다.Referring to FIG. 10, a method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention may further include a chemical welding step. For example, a step of chemically welding the metal nanowire (MN) can be performed by immersing the layered product having the precoating layer PC formed on the first conductive layer CL1 in the solution tank 50. [ In order for the chemical welding to proceed, the solution tank 50 may contain a metal halide or the like. For example, the solution tank 50 may be one containing NaCl, NaBr, NaI, KCl, FeCl 2, AlCl 3, MgCl 2, CaCl 2, NH 4 F, or a combination thereof.

용액조(50)는 극성 용매를 포함하는 것일 수 있다. 이에 한정되는 것은 아니나, 극성 용매는 예를 들어 에탄올, 메탄올, 이소프로필알콜, 1-부탄올, 디메틸설폭사이드, 또는 디메틸포름아미드를 포함하는 것일 수 있다.The solution tank 50 may be one containing a polar solvent. The polar solvent may be, for example, but not limited to, ethanol, methanol, isopropyl alcohol, 1-butanol, dimethyl sulfoxide, or dimethylformamide.

용액조(50)에 침지시키는 단계에서 금속 나노와이어(MN) 상호 간의 접합 부분이 융착되는 단계가 진행될 수 있다. 화학적 용접(chemical welding) 단계는 전술한 압력 및 광을 동시에 가하여 용접하는 단계 이후에 수행될 수도 있고, 이전에 수행될 수도 있다. 화학적 용접 단계가 추가됨으로써 금속 나노와이어(MN) 네트워크 형성이 보다 효율적으로 진행될 수 있다.In the step of immersing the metal nanowires (MN) in the solution tank (50), a step of fusing the bonding portions of the metal nanowires (MN) may proceed. The chemical welding step may be performed after or simultaneously with the step of applying the above-described pressure and light simultaneously, or may be performed before. The addition of a chemical welding step allows the metal nanowire (MN) network formation to proceed more efficiently.

이어서, 금속 나노와이어(MN)를 화학적 용접하는 단계 이후에 수조(60)에 침지시켜 세척하는 단계가 수행될 수 있다. 수조(60)는 증류수 또는 초순수물을 포함하는 것일 수 있다. 제1 전도층(CL1) 상에 예비 코팅층(PC)이 형성된 적층체를 용액조(50)에 침지시킨 후 수조(60)에 시키는 공정은 복수 개의 롤러(70)를 이용하여 연속적으로 수행될 수 있다.Subsequently, a step of immersing and washing the metal nanowires (MN) in the water tank 60 after chemical welding may be performed. The water tank 60 may be one containing distilled water or ultrapure water. The step of immersing the layered product having the precoating layer PC formed on the first conductive layer CL1 in the solution tank 50 and then applying the layered product to the water tray 60 can be continuously performed using the plurality of rollers 70 have.

구체적으로 도시하지는 않았으나, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법은 필요에 따라 추가의 단계를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 예비 코팅층이 형성된 후에 건조하는 단계가 수행될 수 있으며, 건조하는 단계는 용접하는 단계 이전에 수행될 수도 있고 이후에 수행될 수도 있다.Although not specifically shown, the method of fabricating a transparent electrode according to an embodiment of the present invention may further include additional steps as needed. For example, a drying step may be performed after the precoating layer is formed, and the drying step may be performed before or after the welding step.

본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법은 광학적 용접인 플라즈모닉 용접 단계에서 압력도 동시에 가함으로써 금속 나노와이어 네트워크 형성이 보다 효율적으로 진행될 수 있으며, 결과적으로 제조된 투명 전극의 전기적 및 기계적 물성이 우수하다. 특히, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법에 의해 제조된 투명 전극은 인장 또는 수축된 형태에서도 우수한 전기적 및 기계적 물성을 유지할 수 있어, 신축성 전극으로 용이하게 활용될 수 있다.In the method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention, the formation of a metal nanowire network can proceed more efficiently by simultaneously applying pressure in a plasmonic welding step as an optical welding. As a result, the electrical and mechanical Excellent physical properties. In particular, the transparent electrode manufactured by the method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention can maintain excellent electrical and mechanical properties even in a tensile or contracted form, and can be easily utilized as a stretchable electrode.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법은 롤-투-롤 공정으로 진행될 수 있어 생산성도 우수하다.In addition, the method of manufacturing a transparent electrode according to an embodiment of the present invention can be performed by a roll-to-roll process, and therefore, productivity is also excellent.

이하, 구체적인 실시예 및 비교예를 통해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 예시에 불과하며, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples and comparative examples. The following examples are provided to aid understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

[실시예 1][Example 1]

그래핀으로 이루어진 제1 도전층 상에 은 나노와이어를 포함하는 용액을 스프레이 코팅한 후, 광원이 배치된 투명 롤러를 이용하여 은 나노와이어의 용접을 진행하여 투명 전극을 제조하였다.After spraying a solution containing silver nanowires on the first conductive layer made of graphene, the silver nanowires were welded by using a transparent roller on which the light source was disposed to manufacture a transparent electrode.

[비교예 1][Comparative Example 1]

그래핀으로 이루어진 제1 도전층만을 포함하는 단층 구조의 투명 전극을 제조하였다.A transparent electrode having a single-layer structure including only the first conductive layer made of graphene was produced.

[비교예 2][Comparative Example 2]

그래핀으로 이루어진 제1 도전층 상에 은 나노와이어를 포함하는 용액을 스프레이 코팅한 후, 광을 조사하여 은 나노와이어의 용접을 진행하여 투명 전극을 제조하였다. 비교예 2는 투명 롤러를 이용한 가압은 진행되지 않았다.A solution containing silver nanowires was spray-coated on the first conductive layer made of graphene, and then silver nanowires were welded by irradiating light to produce a transparent electrode. In Comparative Example 2, the pressing using the transparent roller was not advanced.

도 11은 실시예 및 비교예에 따른 투명 전극의 스트레인(strain) 변화에 따른 상대적 면저항 비 변화를 측정한 그래프이다. 도 12는 실시예 및 비교예에 따른 투명 전극의 스트레인(strain) 변화에 따른 정규화된 전도도(normalized conductivity) 변화를 측정한 그래프이다.11 is a graph showing a change in relative sheet resistance ratio according to changes in strain of a transparent electrode according to Examples and Comparative Examples. FIG. 12 is a graph showing changes in normalized conductivity according to strain of a transparent electrode according to Examples and Comparative Examples. FIG.

도 11을 참조하면, 비교예 1의 경우, 20% 미만의 스트레인에서도 급격히 면저항이 증가함을 볼 수 있으며, 광학적 용접이 진행된 비교예 2의 경우, 은 나노와이어 네트워크가 일정 수준 형성되어 기계적 물성이 향상됨을 볼 수 있다. 광학적 용접 단계에서 압력까지 가해진 실시예 1의 경우, 은 나노와이어 용접이 보다 효율적으로 진행되어 보다 견고한 은 나노와이어 네트워크가 형성되고, 이로 인해, 기계적 물성이 더욱 향상됨을 볼 수 있다.Referring to FIG. 11, in Comparative Example 1, the sheet resistance was rapidly increased even under a strain of less than 20%. In Comparative Example 2 in which optical welding was performed, the silver nanowire network was formed at a certain level, Can be seen. In the case of Example 1 in which the pressure was applied to the optical welding step, it can be seen that the silver nanowire welding proceeded more efficiently and a more robust silver nanowire network was formed, thereby further improving the mechanical properties.

도 12를 참조하면, 비교예 1의 경우, 약 20%의 스트레인만 가해지더라도 전기적 물성이 급격히 하락함을 볼 수 있으며, 비교예 2의 경우, 일정 수준의 은 나노와이어 네트워크 형성으로 인해 전기적 물성이 일정 수준 향상됨을 볼 수 있다. 실시예 1의 경우, 보다 견고한 은 나노와이어 네트워크 형성으로 인해 비교예 2 보다 더욱 우수한 전기적 물성을 보이고 있다.Referring to FIG. 12, it can be seen that, in the case of Comparative Example 1, even if only about 20% of strain is applied, the electrical properties are drastically decreased. In Comparative Example 2, You can see a certain level of improvement. In the case of Example 1, more excellent electrical properties are shown than in Comparative Example 2 due to the formation of a more solid silver nanowire network.

상기의 결과를 통해, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 전극의 제조 방법으로 제조된 투명 전극은 기계적 및 전기적 물성이 우수함을 알 수 있으며, 특히 인장 또는 수축된 형태에서도 우수한 기계적 및 전기적 물성을 유지할 수 있음을 알 수 있다.As a result, it can be seen that the transparent electrode manufactured by the method of the present invention has excellent mechanical and electrical properties, .

이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징으로 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative and non-restrictive in every respect.

CL1: 제1 도전층 CL2: 제2 도전층
MN: 금속 나노와이어 10: 금속 나노와이어 공급기
20: 제1 투명 롤러 30: 광원CL1: first conductive layer CL2: second conductive layer
MN: metal nanowire 10: metal nanowire feeder
20: first transparent roller 30: light source

Claims (16)

그래핀을 포함하는 제1 도전층을 준비하는 단계; 및
상기 제1 도전층 상에 금속 나노와이어를 포함하는 제2 도전층을 배치하는 단계를 포함하고,
상기 제2 도전층을 배치하는 단계는
상기 제1 도전층 상에 금속 나노와이어를 도포하여 예비 코팅층을 형성하는 단계; 및
상기 예비 코팅층에 압력 및 광(light)을 동시에 가하여 상기 금속 나노와이어를 용접하는 단계를 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법.Preparing a first conductive layer comprising graphene; And
And disposing a second conductive layer including metal nanowires on the first conductive layer,
The step of disposing the second conductive layer
Coating a metal nanowire on the first conductive layer to form a precoat layer; And
And simultaneously applying pressure and light to the precoat layer to weld the metal nanowires. 제1항에 있어서,
상기 금속 나노와이어를 용접하는 단계는
광원이 내부에 배치되어 있는 제1 투명 롤러를 이용하여 수행되는 것인 투명 전극의 제조 방법.The method according to claim 1,
The step of welding the metal nanowire
Wherein the first transparent roller is disposed inside the light source. 제2항에 있어서,
상기 금속 나노와이어를 용접하는 단계는
상기 제1 투명 롤러를 커버하는 차광막을 배치한 후 수행되는 것인 투명 전극의 제조 방법.3. The method of claim 2,
The step of welding the metal nanowire
Wherein the light shielding film is formed after the light shielding film covering the first transparent roller is disposed. 제1항에 있어서,
상기 금속 나노와이어를 용접하는 단계는
상기 금속 나노와이어 상호 간의 접합 부분이 융착되는 단계인 것인 투명 전극의 제조 방법.The method according to claim 1,
The step of welding the metal nanowire
And the bonding portions of the metal nanowires are fused to each other. 제1항에 있어서,
상기 제1 도전층을 준비하는 단계는
제1 롤러에 감겨 있는 상기 제1 도전층이 풀려 나오는 단계를 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법.The method according to claim 1,
The step of preparing the first conductive layer
And a step of releasing the first conductive layer wound on the first roller. 제1항에 있어서,
상기 제2 도전층을 배치하는 단계 이후에
상기 제2 도전층이 배치된 상기 제1 도전층이 제2 롤러에 감겨지는 단계를 더 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법.The method according to claim 1,
After the step of disposing the second conductive layer
And the first conductive layer on which the second conductive layer is disposed is wound on the second roller. 제1항에 있어서,
상기 제1 도전층을 준비하는 단계는
베이스 기판 상에 상기 제1 도전층을 배치하는 단계를 포함하고,
상기 제1 도전층을 배치하는 단계는
제1 롤러에 감겨 있는 상기 제1 도전층이 풀려 나오는 제1 단계; 및
제3 롤러에 감겨 있는 베이스 기판이 풀려 나오는 제2 단계를 포함하며,
상기 제1 단계 및 상기 제2 단계는 동시에 수행되는 것인 투명 전극의 제조 방법.The method according to claim 1,
The step of preparing the first conductive layer
And disposing the first conductive layer on the base substrate,
The step of disposing the first conductive layer
A first step of releasing the first conductive layer wound on the first roller; And
And a second step of releasing the base substrate wound on the third roller,
Wherein the first step and the second step are performed simultaneously. 제1항에 있어서,
상기 제1 도전층은 다층 구조를 갖는 것인 투명 전극의 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein the first conductive layer has a multilayer structure. 제1항에 있어서,
상기 제2 도전층 상에 그래핀을 포함하는 제3 도전층을 배치하는 단계를 더 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법.The method according to claim 1,
And disposing a third conductive layer including graphene on the second conductive layer. 제9항에 있어서,
상기 제3 도전층을 배치하는 단계는
제4 롤러에 감겨 있는 상기 제3 도전층이 풀려 나오는 단계를 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법.10. The method of claim 9,
The step of disposing the third conductive layer
And the third conductive layer wound on the fourth roller is released. 제9항에 있어서,
상기 제3 도전층은 다층 구조를 갖는 것인 투명 전극의 제조 방법.10. The method of claim 9,
Wherein the third conductive layer has a multilayer structure. 제1항에 있어서,
상기 예비 코팅층을 용액조(chemical bath)에 침지시켜 상기 금속 나노와이어를 화학적 용접(chemical welding)하는 단계를 더 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법.The method according to claim 1,
Further comprising the step of chemically welding the metal nanowires by immersing the precoating layer in a chemical bath. 제12항에 있어서,
상기 용액조는 NaCl, NaBr, NaI, KCl, FeCl2, AlCl3, MgCl2, CaCl2, NH4F, 또는 이들의 조합을 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법.13. The method of claim 12,
The solution was Joe NaCl, NaBr, NaI, KCl, FeCl 2, AlCl 3, MgCl 2, CaCl 2, NH 4 F, or a method of manufacturing a transparent electrode comprises a combination of the two. 제12항에 있어서,
상기 용액조는 극성 용매를 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법.13. The method of claim 12,
Wherein the solution tank contains a polar solvent. 제12항에 있어서,
상기 금속 나노와이어를 화학적 용접하는 단계 이후에
상기 예비 코팅층을 수조에 침지시켜 세척하는 단계를 더 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법.13. The method of claim 12,
After the step of chemically welding the metal nanowires
Further comprising the step of immersing the preliminary coating layer in a water bath to clean the preliminary coating layer. 제1항에 있어서,
상기 금속 나노와이어는 은 나노와이어인 것인 투명 전극의 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein the metal nanowires are silver nanowires.
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