KR20180133423A - Robot-assist grinding device - Google Patents

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KR20180133423A
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로날드 나드러
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페로보틱스 컴플라이언트 로봇 테크놀로지 게엠베하
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Abstract

조작자, 선형 엑츄에이터 및 회전 연마 도구를 포함하고 선형 엑츄에이터를 통해 조작자에 연결되는 연마 기계를 포함하는, 로봇-보조 연마 장치가 개시된다. 이 장치는 회전 연마 도구를 부분적으로 둘러싸는 보호 커버를 더 포함하고, 회전 연마 도구는 적어도 제1 측 상에서 보호 커버로부터 돌출된다. 보호 커버를 연마 기계에 연결하고 연마 기계와 관련하여 보호 커버의 위치를 조정하도록 설계되는 조정 메카니즘이 마련된다. A robot-assisted grinding device is disclosed that includes an operator, a linear actuator and a grinding machine including a rotating abrasive tool and connected to the operator via a linear actuator. The apparatus further includes a protective cover partially surrounding the rotating abrasive tool, wherein the rotating abrasive tool protrudes from the protective cover at least on the first side. An adjustment mechanism is provided which is designed to connect the protective cover to the polishing machine and to adjust the position of the protective cover in relation to the polishing machine.

Description

로봇-보조 연마 장치Robot-assist grinding device

본 발명은 회전하는 연마 도구를 가지는 연마 기계가 조작자(manipulator, 예. 산업 로봇)에 의해 안내되는 로봇-보조 연마 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a robot-assisted grinding apparatus in which a grinding machine having a rotating grinding tool is guided by a manipulator (e.g., an industrial robot).

연마(grinding) 및 폴리싱(polishing) 프로세스들은 작업편들의 표면 마감에 있어서 점점 더 중요한 역할을 하고 있다. 자동화된, 로봇-보조 제조에 있어서, 산업 로봇들이 채용되고, 산업 로봇들의 도움으로, 예를 들어 연마 프로세스들이 자동화될 수 있다. The grinding and polishing processes are playing an increasingly important role in the surface finish of work pieces. In automated, robotic-assisted manufacturing, industrial robots are employed, and with the help of industrial robots, for example, polishing processes can be automated.

로봇-보조 연마 장치들에 있어서, 회전하는 연마 도구(예. 연마 디스크)를 가지는 연마 기계는 조작자, 예를 들어 산업 로봇에 의해 안내된다. 연마 프로세스 동안, 소위 TCP(Tool Center Point)는 (미리 프로그램가능한, 예를 들어 Teach-In을 이용해) 경로(궤적)를 따라 움직인다. TCP의 특정 경로는, 시간 단위로 매 지점마다, TCP의 위치 및 방향을 결정하며, 이로써 연마 장치의 위치 및 방향을 결정한다. 조작자의 움직임을 제어하는 로봇 제어는 이로써 일반적으로 위치 제어를 포함한다.In robot-assisted grinding devices, a grinding machine having a rotating grinding tool (e.g. a grinding disk) is guided by an operator, for example an industrial robot. During the polishing process, a so-called Tool Center Point (TCP) moves along a path (trajectory) (using a preprogrammable, e.g. Teach-In). The specific path of the TCP determines the position and orientation of the TCP at every point in time, thereby determining the position and orientation of the polishing apparatus. The robot control for controlling the movement of the operator thus generally includes position control.

연마, 폴리싱 등과 같은, 표면 마감 프로세스들에 있어서, 프로세싱 힘(도구와 작업편 사이의 힘) 또한 마감 결과에 중요한 역할을 하기 때문에 보통은 도구의 위치를 제어하는 것만으로는 충분치 않다. 이런 이유로, 도구는 일반적으로 조작자의 TCP에 견고하게 연결되지 않고, 대신 탄성 요소, 가장 단순한 경우에 있어서는 스프링일 수 있는 탄성 요소에 의해 연결된다. 프로세싱 힘을 조정하기 위해, 많은 경우들에 있어서 프로세싱 힘의 조정(폐쇄 루프 제어)이 필요하다. 힘 제어를 구현하기 위해, 탄성 요소는 조작자의 TCP와 도구 사이에(예를 들어, TCP와 그 위에 연마 디스크가 장착된 연마 기계 사이에) 기계적으로 결합되는 별개의 선형 엑츄에이터일 수 있다. 선형 엑츄에이터는 조작자와 비교하여 상대적으로 작을 수 있고 또한 대부분의 경우 위치를 제어하는 방식으로 이전에 프로그램된 궤도를 따라 조작자가 (선형 엑츄에이터와 함께) 도구를 움직이는 동안 프로세싱 힘을 제어하는 데 사용된다. In surface finishing processes, such as polishing, polishing, etc., it is not usually sufficient to control the position of the tool because the processing forces (forces between the tool and the workpiece) also play an important role in the finish results. For this reason, the tool is typically not rigidly connected to the operator's TCP, but instead is connected by an elastic element, which in the simplest case may be a spring. In order to adjust the processing force, adjustment of the processing force (closed loop control) is necessary in many cases. To implement force control, the elastic element may be a separate linear actuator that is mechanically coupled between the operator's TCP and the tool (e.g., between the TCP and the polishing machine with the polishing disc mounted thereon). The linear actuator can be relatively small compared to the operator and is used to control the processing force while the operator moves the tool (along with the linear actuator) along a previously programmed trajectory in a manner that controls the position in most cases.

실제, 도구의 마모는, 예를 들어 연마 동안, 문제들을 야기시킬 수 있다. 연마 디스크는 연마 프로세스 동안 마모되고, 그 결과 연마 디스크의 직경은 감소된다. 이 결과, (관련된 프로세싱 변수일 수 있는) 둘레 속도가 감소될 뿐만 아니라, 작업편의 표면에 대한 연마 기계의 위치 (특히 연마 도구의 회전 축의 위치) 또한 변하게 된다. 연마 디스크가 더 많이 마모될수록, 연마 기계는 작업편의 표면에 더 가까이 가져가야 한다. . In fact, wear of the tool can cause problems, for example during polishing. The polishing disk is worn during the polishing process, and as a result, the diameter of the polishing disk is reduced. As a result, not only the peripheral speed (which may be an associated processing variable) is reduced, but also the position of the polishing machine relative to the surface of the workpiece, especially the position of the rotational axis of the polishing tool. The more abrasive discs wear, the closer the polishing machine is to the surface of the workpiece. .

상기에서 언급된 마모-관련 연마 도구(연마 디스크)의 크기의 감소는 다른 것들 중에서, 2 개의 결론들을 가진다. 소정의 조건에서, TCP의 궤도가 이전에 특정되었을 때, 연마 도구는 작업편 표면에 늦게(결과적으로 잘못된 지점에) 접촉할 수 있다. 나아가, 가능하다면 존재하는 연마 기계 상에 장착되고 또한 부분적으로 연마 디스크를 둘러싸는 보호 커버 사이와 작업편 표면 사이의 간격의 크기 또한 변한다. 이 간격의 크기는 가능하다면 존재하는 (연마 먼지의 제거를 위한) 흡입 시스템의 효율에 영향을 준다. The reduction in size of the wear-related abrasive tool (abrasive disc) mentioned above has, among other things, two conclusions. Under certain conditions, when the trajectory of the TCP has previously been specified, the polishing tool can contact the workpiece surface late (consequently, at the wrong point). Further, if possible, the size of the gap between the workpiece surface and the protective cover mounted on an existing polishing machine and also partially surrounding the polishing disk also changes. The size of this gap affects the efficiency of the suction system (if possible) for the removal of the abrasive dust.

따라서, 본 발명의 하나의 목적은 연마 도구의 마모로 인한 부정적인 또는 바람직하지 않은 악영향들을 적어도 부분적으로 보상하는, 로봇-보조 연마 장치를 제안하는 데 있을 수 있다. Accordingly, one object of the present invention may be to propose a robot-assisted abrasive apparatus that at least partially compensates for negative or undesirable adverse effects due to wear of the abrasive tool.

상기에서 언급된 목적은 제 1 항, 제 15 항 및 제 21 항에 따른 장치들을 이용해, 뿐만 아니라 제 9 항 및 제 25 항에 따른 방법을 이용해 달성된다. 다양한 실시예들 및 추가의 개선들은 종속항들의 요지를 포함한다. The above-mentioned object is achieved by means of the devices according to claims 1, 15 and 21, as well as using the method according to claims 9 and 25. The various embodiments and further improvements include the gist of the dependent claims.

로봇-보조 연마 장치가 개시된다. 일 실시예에 따르면, 이 장치는 조작자, 선형 엑츄에이터 및 회전 연마 도구를 가지는 연마 기계를 포함한다. 상기 연마 기계는 상기 선형 엑츄에이터를 통해 상기 조작자에 결합된다. 나아가, 이 장치는 상기 선형 엑츄에이터의 최대 편위(maximum deflection)를 정의하는 정지 단(end stop)을 포함하고, 상기 정지 단의 위치는 조정가능하다. A robot-assisted polishing apparatus is disclosed. According to one embodiment, the apparatus comprises a polishing machine having an operator, a linear actuator and a rotating abrasive tool. The polishing machine is coupled to the operator through the linear actuator. Further, the apparatus includes an end stop defining a maximum deflection of the linear actuator, the position of the stop being adjustable.

다른 실시예에 따르면, 로봇-보조 연마 장치는 조작자, 선형 엑츄에이터 및 회전 연마 도구를 가지는 연마 기계를 포함하고, 상기 연마 기계는 상기 선형 엑츄에이터를 통해 상기 조작자에 결합된다. 상기 장치는 상기 회전 연마 도구를 부분적으로 둘러싸는 보호 커버를 더 포함하고, 상기 회전 연마 도구는 적어도 일 측 상의 보호 커버로부터 돌출된다. 상기 보호 커버를 상기 연마 기계에 연결하고 또한 상기 연마 기계에 대하여 상기 보호 커버의 위치를 조정하도록 구성되는 위치결정 장치(positioning device)가 마련된다. According to another embodiment, the robot-assisted grinding device comprises an abrasive machine having an operator, a linear actuator and a rotating abrasive tool, wherein the abrasive machine is coupled to the operator via the linear actuator. The apparatus further includes a protective cover partially surrounding the rotating abrasive tool, wherein the rotating abrasive tool projects from a protective cover on at least one side. A positioning device is provided which is configured to connect the protective cover to the polishing machine and to adjust the position of the protective cover relative to the polishing machine.

다른 실시예에 따르면, 로봇-보조 연마 장치는 조작자, 선형 엑츄에이터 및 회전 연마 도구를 가지는 연마 기계를 포함하고, 상기 연마 기계는 상기 선형 엑츄에이터를 통해 상기 조작자의 TCP에 결합된다. 상기 장치는 상기 회전 연마 도구를 부분적으로 둘러싸는 보호 커버를 더 포함한다. 상기 보호 커버는 상기 조작자의 TCP에 견고하게 연결되어 상기 회전 연마 도구가 적어도 하나의 제1 측 상의 상기 보호 커버로부터 돌출된다. According to another embodiment, the robot-assisted grinding device includes an abrasive machine having an operator, a linear actuator and a rotating abrasive tool, the abrasive machine being coupled to the operator's TCP via the linear actuator. The apparatus further includes a protective cover partially surrounding the rotating abrasive tool. The protective cover is rigidly connected to the operator's TCP such that the rotating abrasive tool protrudes from the protective cover on at least one first side.

나아가, 조작자, 조정가능한 정지 단을 가지는 선형 엑츄에이터 및 회전 연마 도구를 가지는 연마 기계를 포함하는 로봇-보조 연마 장치를 작동하기 위한 방법이 개시된다. 여기서 상기 연마 기계는 상기 선형 엑츄에이터를 통해 상기 조작자에 결합된다. 일 실시예에 따르면, 이 방법은 상기 선형 엑츄에이터의 최대 변위를 정의하는 상기 정지 단의 위치를 조정하는 단계를 포함한다. Furthermore, a method for operating a robot-assisted abrasive machine including an operator, a linear actuator having an adjustable stop, and a polishing machine having a rotating abrasive tool is disclosed. Wherein the polishing machine is coupled to the operator through the linear actuator. According to one embodiment, the method includes adjusting the position of the stationary end defining the maximum displacement of the linear actuator.

다른 실시예에 따르면, 이 방법은 상기 조작자의 도움으로 기준 표면에 대하여 상기 연마 도구를 누르는 단계를 포함하고, 동시에 보호 커버의 제1 측이 정지(41)에 대하여 안착한다. 상기 보호 커버는 적어도 부분적으로 상기 연마 도구를 둘러싸고 상기 회전 연마 도구는 적어도 일 측 상의 상기 보호 커버로부터 돌출된다. According to another embodiment, the method comprises pressing the grinding tool against the reference surface with the aid of the operator, while at the same time the first side of the protective cover rests against the stop 41. The protective cover at least partially surrounds the polishing tool and the rotating abrasive tool projects from the protective cover on at least one side.

본 발명은 도면들에 도시된 예들을 이용해 이하에서 더 상세하게 설명된다. 도면들은 반드시 실제 비율일 필요는 없고 본 발명은 도시된 측면들에 한정되지 않는다. 대신, 본 발명의 원리들을 설명하는 데에 집중한다.
도 1은 힘이 제어되는 선형 엑츄에이터를 이용해 산업 로봇에 결합되는 연마 기계를 가지는 로봇-보조 연마 장치의 예시적인 대략도이다.
도 2는 마모가 유발된 직경에 있어서의 감소를 가지는 연마 디스크가 보호 커버의 위치에 미치는 영향을 대략적인 스케치를 이용해 보여준다.
도 3은 연마 디스크의 보호 커버가 스냅-인 잠금 장치를 통해 연마 기계에 결합되는 일 실시예의 대략도이다.
도 4는 지지 평면 및 적어도 하나의 정지의 도움으로 보호 커버의 위치의 자동 조정 동안 도 3에 도시된 보호 커버를 포함하는 연마 디스크의 정면도이다.
도 5는 도 3에 도시된 스냅-인 잠금 장치의 일 예의 보다 상세한 측면도(연마 디스크의 회전 축에 수직하는, 도 5a) 및 정면도(연마 디스크의 회전 축에 평행한, 도 5b)를 제공한다.
도 6은 연마 디스크의 보호 커버가 연마 기계에 연결되지 않지만, 대신 조작자의 TCP에 견고하게 연결되는 다른 실시예의 대략도이고; 도 6a에서는 연마 디스크가 새것이고 도 6b는 연마 디스크가 이미 부분적으로 마모된 것이다.
도 7은 영구적으로 특정된 궤적에서, (마모로 인해) 더 작은 연마 디스크(도 7b)의 TCP가 더 큰 연마 디스크들(도 7a)보다 후에 작업편에 접촉할 때 발생하는 문제를 대략적으로 보여준다.
도 8은 작업편과 연마 도구 사이에 접촉이 없을 때 연마 기계와 TCP를 연결하는 선형 엑츄에이터가 조정가능한 정지 단에 안착하는 다른 실시예의 대략도이다. 정지 단의 조정은 연마 도구의 크기에 종속하여 수행될 수 있다.
도 9는 도 8에 도시된 실시예의 대안을 보여준다.
도 10은 여기서 추가적인 엑츄에이터 대신 정지 단을 조정하기 위해 로드 블로킹(rod blocking) 장치를 가지는, 도 8에 도시된 실시예의 다른 대안을 보여준다.
도 11은 정지 단의 자동 조정/적응을 위한 예시적인 방법을 보여주는 흐름도이다.
The invention is described in more detail below using the examples shown in the Figures. The drawings are not necessarily to scale, and the invention is not limited to the aspects shown. Instead, it focuses on explaining the principles of the present invention.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 is an exemplary schematic view of a robot-assisted grinding device having a grinding machine coupled to an industrial robot using a force-controlled linear actuator.
Figure 2 shows the approximate sketch of the effect of a polishing disc having a reduction in wear induced diameter on the position of the protective cover.
3 is a schematic view of an embodiment in which the protective cover of the polishing disc is coupled to the polishing machine via a snap-in lock.
Figure 4 is a front view of a polishing disc comprising the protective cover shown in Figure 3 during automatic adjustment of the position of the protective cover with the aid of a supporting plane and at least one stop.
Figure 5 provides a more detailed side view (Figure 5a, perpendicular to the axis of rotation of the polishing disk, Figure 5a) and a front view (Figure 5b, parallel to the axis of rotation of the polishing disk) of an example of the snap- do.
Figure 6 is a schematic view of another embodiment in which the protective cover of the polishing disc is not connected to the polishing machine but instead is rigidly connected to the operator's TCP; In Fig. 6A, the polishing disk is new, and Fig. 6B shows that the polishing disk is already partially worn.
Figure 7 roughly shows the problem that occurs when the TCP of the smaller polishing disc (Figure 7b) comes into contact with the workpiece later than the larger polishing discs (Figure 7a) (due to wear) in permanently specified trajectories .
8 is a schematic view of another embodiment in which a linear actuator connecting the polishing machine and the TCP is seated in an adjustable stop end when there is no contact between the workpiece and the polishing tool. The adjustment of the stationary stage may be performed depending on the size of the polishing tool.
FIG. 9 shows an alternative of the embodiment shown in FIG.
Fig. 10 shows another alternative of the embodiment shown in Fig. 8, which has a rod blocking arrangement for adjusting the stopping end instead of an additional actuator.
Figure 11 is a flow chart illustrating an exemplary method for automatic adjustment / adaptation of a stationary end.

다양한 실시예들을 상세하게 설명하기 전에, 로봇-지지 연마 장치의 일반적인 예가 설명될 것이다. 이것은 조작자(1)(예를 들어, 산업 로봇) 및 회전 여남 도구(연마 디스크)를 가지는 연마 기계(10)를 포함하고, 이 연마 기계(10)는 선형 엑츄에이터(20)를 통해 조작자(1)의 도구 중심점(TCP)에 결합된다. 자유도 6을 가지는 산업 로봇의 경우에 있어서, 조작자는 4 개의 세그먼트들(2a, 2b, 2c, 2d)로 구성될 수 있고, 그 각각은 조인트들(3a, 3b, 3c)을 통해 연결된다. 제1 세그먼트는 보통 베이스(B)에 견고하게 연결된다(하지만, 반드시 이 경우일 필요는 없다). 조인트(3c)는 세그먼트들(2c 및 2d)을 연결한다. 조인트(3c)는 2축일 수 있고 또한 수평 회전 축 주위로(elevation angle, 고각) 또한 수직 회전 축 주위로(azimuth angle, 방위각) 세그먼트(2c)의 회전을 허용한다. 조인트(3b)는 세그먼트들(2b 및 2c)를 연결하고 또한 세그먼트(2c)의 위치에 대한 세그먼트(2b)의 스위블 움직임(swivel movement)을 허용한다. 조인트(3a)는 세그먼트들(2a 및 2b)를 연결한다. 조인트(3a)는 2축일 수 있고, 이로써 (조인트(3c)와 유사하게) 2 개의 방향들로 스위블 움직임을 허용한다. TCP는 세그먼트(2a)에 대하여 영구적인 위치를 가지는데, 이것은 보통 길이방향의 축(A)(점선으로 도 1에 지시된) 주위의 회전 움직임을 허용하는 회전 조인트(미도시)를 포함한다. 엑츄에이터는 조인트의 각 축에 할당되고 각각의 조인트 축 주위로 회전 움직임에 영향을 줄 수 있다. 조인트들 내의 엑츄에이터들은 로봇 프로그램에 따라 로봇 제어(4)에 의해 제어된다. TCP는 원하는 대로 위치될 수 있다(소정의 한계들 내에 또한 원하는 축(A) 방향을 가지고). Before describing various embodiments in detail, a general example of a robot-supported grinding apparatus will be described. This includes a polishing machine 10 having an operator 1 (e.g., an industrial robot) and a spinning tool (polishing disk), which is connected to the operator 1 via a linear actuator 20, (TCP) of the tool. In the case of an industrial robot having a degree of freedom 6, the operator can be composed of four segments 2a, 2b, 2c and 2d, each of which is connected via joints 3a, 3b and 3c. The first segment is typically connected rigidly to the base B (but this is not necessarily the case). The joint 3c connects the segments 2c and 2d. The joint 3c can be two-axis and also allows the rotation of the segment 2c around an axis of horizontal rotation (elevation angle) and also around a vertical axis of rotation (azimuth angle). The joint 3b connects the segments 2b and 2c and also permits a swivel movement of the segment 2b relative to the position of the segment 2c. The joint 3a connects the segments 2a and 2b. The joint 3a can be biaxial, thereby allowing swivel motion in two directions (similar to joint 3c). The TCP has a permanent position relative to the segment 2a, which usually includes a rotating joint (not shown) that allows rotational movement about an axis A in the longitudinal direction (indicated by dotted line in FIG. 1). The actuator is assigned to each axis of the joint and can affect the rotational motion around each joint axis. The actuators in the joints are controlled by the robot control 4 according to the robot program. TCP can be positioned as desired (with desired axis A orientation within certain limits).

조작자(1)는 보통 위치를 제어하는데, 즉 로봇 제어는 TCP의 포즈(위치 및 방향)를 결정할 수 있고 또한 미리 정의된 궤적을 따라 TCP를 움직일 수 있다. 엑츄에이터(20)가 정지 단에 안착할 때, TCP의 포즈 또한 연마 도구의 포즈를 정의한다. 먼저 언급된 바와 같이, 엑츄에이터(20)는 연마 프로세스 동안 원하는 값까지 도구(연마 디스크(11))와 작업편(W) 사이의 접촉력(프로세싱 힘)을 조정하도록 기능한다. 조작자(1)를 통해 직접 프로세싱 힘을 제어하는 것은, 조작자(1)의 세그먼트들(2a-2c)의 높은 관성으로 인해, 공통 조작자들을 이용해 힘 피크들을 빠르게 보상하는 것(예: 연마 도구가 작업편(40)에 접촉할 때)이 가상적으로 불가능하기 때문에, 일반적으로 연마 응용들에 있어서 매우 부정확하다. 이런 이유로, 로봇 제어는 TCP의 포즈(위치 및 방향)을 제어하도록 구성되는 반면, 접촉력(도 2 참조, 접촉력(FK))을 제어하는 것은 연마 기계(10)와 조작자(1) 사이에 결합된 엑츄에이터(20)에 의해 배타적으로 수행된다. The operator 1 normally controls the position, i.e. the robot control can determine the pose (position and orientation) of the TCP and also move the TCP along a predefined trajectory. When the actuator 20 is seated on the stop, the pose of the TCP also defines the pose of the polishing tool. As mentioned earlier, the actuator 20 functions to adjust the contact force (processing force) between the tool (polishing disk 11) and the workpiece W to a desired value during the polishing process. Controlling the processing power directly through the operator 1 is due to the high inertia of the segments 2a-2c of the operator 1, which can quickly compensate for force peaks using common operators (e.g., (In contact with the piece 40) is virtually impossible, it is generally very inaccurate in polishing applications. For this reason, the robot control is configured to control the pose (position and direction) of TCP while controlling the contact force (see Fig. 2, contact force F K ) Is performed exclusively by the actuator (20).

이미 언급된 바와 같이, 도구(연마 디스크(11))와 작업편(W) 사이의 접촉력(FK)은 (선형) 엑츄에이터(20) 및 힘 제어 유닛(예를 들어, 제어(4) 안에 구현될 수 있는)의 도움으로 연마 프로세스 동안 조정될 수 있어 연마 도구와 작업편(W) 사이의 접촉력(FK)은 특정할 수 있는 원하는 값에 대응한다. 이로써 접촉력은 선형 엑츄에이터(20)가 작업편 표면(S)에 대하여 누르는(도 2 참조) 엑츄에이터 힘(FA)에 대한 반작용이다. 작업편(W)과 연마 디스크(11) 사이에 접촉이 발생하지 않는다면, 엑츄에이터(20)는, 접촉력(FK)의 부재에 대한 반작용으로서, 정지 단(도 1에 미도시 또는 엑츄에이터(20)에 통합된)까지 움직인다. 조작자(1)의 위치 제어(제어(4)에 통합될 수 있는)는 엑츄에이터(20)의 힘 제어에 완전히 독립적으로 작용할 수 있다. 엑츄에이터(20)는 연마 기계(10)를 위치시키는 것에 책임은 없지만, 대신 연마 프로세스 동안, 도구와 작업편 사이의 접촉을 검출할 뿐만 아니라, 원하는 접촉력을 조정 및 유지하는 데에는 책임이 있다. 접촉은 예를 들어, 엑츄에이터(20)의 편위가, 정지 단에서 시작하여, 더 작아지거나 또는 엑츄에이터(20)의 편위에 있어서의 변화가 음(negative)이 될 때, 결정될 수 있다. As already mentioned, the contact force F K between the tool (polishing disc 11) and the workpiece W is implemented in the (linear) actuator 20 and force control unit (e.g., control 4) ), The contact force F K between the polishing tool and the workpiece W corresponds to a desired value that can be specified. The contact force is thus a reaction against the actuator force FA (see FIG. 2) that the linear actuator 20 presses against the workpiece surface S. The actuator 20 is a stopper (not shown in FIG. 1 or the actuator 20) as a reaction against the member of the contact force F K , if no contact occurs between the workpiece W and the polishing disk 11. Lt; / RTI > The position control of the operator 1 (which may be incorporated in the control 4) can act completely independent of the force control of the actuator 20. [ The actuator 20 is not responsible for positioning the polishing machine 10 but is instead responsible for detecting contact between the tool and the workpiece during the polishing process as well as adjusting and maintaining the desired contact force. The contact can be determined, for example, when the deviation of the actuator 20 starts at the stop, becomes smaller, or the change in the deviation of the actuator 20 becomes negative.

엑츄에이터는 공압식 엑츄에이터, 예를 들어 이중-작용 공압식 실린더(double-acting pneumatic cylinder)일 수 있다. 하지만 예를 들어 벨로우즈 실린더들(bellows cylinders) 및 에어 머슬들(air muscles)과 같은, 다른 공압식 엑츄에이터들 또한 적용가능하다. 대안으로, 직접적인 전기 드라이브들(기어 없는) 또한 고려될 수 있다. 공압식 엑츄에이터의 경우에 있어서, 힘 제어 그 자체는 제어 밸브, 조정기(제어(4)에 구현된) 및 압축 공기 저장소(compressed air reservoir)를 이용해 실현될 수 있다. 하지만, 특정 구현은 추가적인 설명에 있어서 중요하지 않고 그러므로 상세하게 설명하지 않을 것이다. The actuator may be a pneumatic actuator, for example a double-acting pneumatic cylinder. However, other pneumatic actuators, such as, for example, bellows cylinders and air muscles, are also applicable. Alternatively, direct electrical drives (without gears) can also be considered. In the case of a pneumatic actuator, the force control itself can be realized using a control valve, a regulator (implemented in control 4) and a compressed air reservoir. However, the particular implementation is not critical to the further description and therefore will not be described in detail.

도 2는, - 정면도로(즉, 연마 디스크(11)의 회전 축의 방향으로) - 보호 커버(12)에 의해 부분적으로 덮히는 연마 디스크(11)의 일 예를 보여준다. 도 2에서 연마 기계(10), 엑츄에이터(20) 및 조작자(1)는 단순함을 위해 생략되었다. 도 2a (좌측) 및 도 2b(우측)는 각각의 연마 디스크들(11)의 크기만 다르다. 도 2a에서, 연마 디스크(11)의 직경(d0)은 도 2b보다 더 크고, 이 직경(d1)은 마모로 인해 더 작다(d1 < d0). 보호 커버(12)가 연마 기계(10)(도 2에 미도시) 상에 장착된 때 - 보통 이 경우에 있어서 -, 보호 커버(12)는 연마 기계(10)(및 그 회전 축(R))와 함께 움직인다. 이 예에 있어서, 연마 디스크(11)가 (예. 작업편의) 표면(S)에 접촉할 때, 간격(cREF 또는 c)(표면(S)과 보호 커버(12)의 바닥 모서리 사이의 거리)의 크기는 연마 디스크(11)의 직경에 종속한다. 2 shows an example of a polishing disk 11 partially covered by a protective cover 12 - in front view (that is, in the direction of the rotation axis of the polishing disk 11). 2, the polishing machine 10, the actuator 20 and the operator 1 have been omitted for the sake of simplicity. 2a (left) and 2b (right) differ only in the size of each of the polishing discs 11. In Fig. 2a, the diameter d 0 of the polishing disk 11 is larger than that of Fig. 2b, and the diameter d 1 is smaller due to wear (d 1 <d 0 ). When the protective cover 12 is mounted on the polishing machine 10 (not shown in Fig. 2) (usually in this case), the protective cover 12 is placed on the polishing machine 10 (and its rotation axis R) ). In this example, the distance c REF or c (the distance between the surface S and the bottom edge of the protective cover 12) when the polishing disk 11 contacts the surface S ) Is dependent on the diameter of the polishing disk 11.

도 2a에 도시된 경우에 있어서(직경(d0)을 가지는 새로운 연마 디스크), 갭(cREF)의 크기는 연마 디스크의 반경(d0/2)과 회전 축(R)과 보호 커버의 바닥 모서리 사이의 거리(b) 사이의 차이와 같다(cREF = d0/2-b). 여기서 거리(b)의 값은 보호 커버(12)가, 보통 이 경우에 있어서, 연마 기계(10) 상에 견고하게 장착되기 때문에 연마 기계(10)가 작동중일 때 동일하게 유지된다. 도 2b에 도시된 경우에 있어서(직경(d1)을 가지는 마모된 연마 디스크), 갭(c)의 크기는 연마 디스크(11)의 직경(d1)이 도 2a의 경우보다 작기 때문에(c<cREF) 더 작다(c = d0/2-b). 갭(c 또는 cREF)의 크기는, 예를 들어 연마 먼지의 제거를 위한 흡입 시스템(미도시)이 보호 커버에 결합된 때, 중요할 수 있다. 공기는 표면(S)와 보호 커버(12) 사이의 갭을 통해 흡입된다. 좋은 먼지 추출을 달성하기 위해, 갭의 크기는 - 용도 및 구현에 종속하여 - 수 센티미터의 범위 안에 놓이는 값(cREF)에 대응해야 한다. 직경, 예를 들어 150 mm(d0 = 150 mm)의, 새로운 연마 디스크는 사용 동안 75 mm까지 마모될 수 있다. 실제 응용에 있어서 이것은 연마 디스크가 마모되었을 때 갭 크기 c는 cREF보다 더 크게 선택되어야 하고(결과적으로 최적 흡입 성능보다 더 작게), 이로써 갭 크기 c는 0보다 더 크게(적어도 수 밀리미터)로 유지됨을 의미한다. 또는, 보호 커버의 위치는 (값 b를 변경하기 위해) 순서 대로 서비스 기술자에 의해 수동으로 적용될 수 있는데, 이것은 상대적으로 작업 강도가 세고 또한 로봇-보조 제조(robot-supported manufacturing)에 있어서 바람직하지 않다. The method (diameter (d 0 new abrasive disc having a)) in the case shown in Figure 2a, the gap (c REF) is the radius of the abrasive disc size (d 0/2) and the rotation axis (R), the bottom of the protective cover (C REF = d 0 /2-b). Where the value of distance b remains the same when the polishing machine 10 is operating, since the protective cover 12 is firmly mounted on the polishing machine 10, usually in this case. Since also in the case shown in 2b size (diameter (d 1) to have the worn abrasive disc), the gap (c) it is smaller than in the case of Figure 2a the diameter (d 1) of the polishing disk (11), (c <c REF ) is smaller (c = d 0 /2-b). The size of the gap (c or c REF ) may be important, for example, when a suction system (not shown) for removing abrasive dust is coupled to the protective cover. Air is sucked through the gap between the surface S and the protective cover 12. To achieve good dust extraction, the size of the gap must correspond to a value (c REF ) lying within a few centimeters - depending on the application and implementation. A new abrasive disc of diameter, for example 150 mm (d 0 = 150 mm), may wear up to 75 mm during use. In practical applications, this means that when the abrasive disc is worn, the gap size c must be chosen to be greater than c REF (and consequently smaller than the optimal suction performance), so that the gap size c is kept greater than zero (at least a few millimeters) . Alternatively, the position of the protective cover can be manually applied by the service technician in order (to change the value b), which is relatively high in work intensity and is not desirable for robot-supported manufacturing .

도 3에 도시된 실시예는 갭 크기 c의 자동 적용을 허용하여, 이것이 다소 일정하게 유지되고 또한 연마 디스크(11)의 크기가 변할 때 (원하는) 값 cREF에 대응되도록(c

Figure pct00001
cREF) 보장한다. 도 3은, 측면도로(연마 디스크의 회전 축(R)에 수직하게 놓인 시선으로), 보호 커버(12)에 의해 부분적으로 둘러싸인 연마 디스크(11)를 가지는 연마 기계(10)를 보여준다. 연마 기계(10)는 엑츄에이터(20)를 통해 조작자(1)에 기계적으로 연결된다. 도시된 예에 있어서, 대략 L과 유사한 형태의 장착 브라켓(21)은 엑츄에이터(20)와 조작자(1)의 최외측 세그먼트(2a) 사이에 배치된다(도 1 참조). 장착 브라켓(21)은 조작자(1) 상에, 세그먼트(2a)의 축(A)에 동심축으로가 아니라 차라리 90°틸팅되어 선형 엑츄에이터(20)를 장착하기 위한 것이어서, 연마 기계의 회전 축(R)은 축(A)에 필수적으로 평행하게 놓인다. 로봇 셀의 의도된 용도 및 특정 설계에 종속하여, 장착 브라켓은 생략될 수 있거나(엑츄에이터(20)는 이때 조작자(1) 상에 직접 장착되고), 또는 90°가 아닌 다른 각을 가지는 장착 브라켓이 사용될 수 있다. The embodiment shown in Fig. 3 allows automatic application of the gap size c, so that it is kept somewhat constant and also corresponds to the (preferred) value c REF when the size of the polishing disk 11 changes (c
Figure pct00001
c REF ). 3 shows a polishing machine 10 having a polishing disk 11 partially surrounded by a protective cover 12 in a side view (with a line of sight lying perpendicular to the rotation axis R of the polishing disk). The polishing machine 10 is mechanically connected to the operator 1 through an actuator 20. [ In the illustrated example, a mounting bracket 21 of a similar shape to L is disposed between the actuator 20 and the outermost segment 2a of the operator 1 (see FIG. 1). The mounting bracket 21 is for mounting the linear actuator 20 on the operator 1 by tilting it 90 degrees rather than concentrically about the axis A of the segment 2a so that the rotating shaft R are essentially parallel to the axis A. Depending on the intended use and specific design of the robotic cell, the mounting brackets may be omitted (the actuator 20 is then mounted directly on the operator 1), or a mounting bracket having an angle other than 90 [deg. Can be used.

도 2와 관련하여 설명되었던 것과 대조적으로, 여기서 보호 커버(12)는 연마 기계(10) 상에 견고하게 고정되지 않고, 차라리 보호 커버(12)가 연마 기계(10)에 대하여 천이되는 것을 허용하는 스냅-인 잠금 장치(13)를 이용해 고정된다. 스냅-인 잠금 장치(13)는 보호 커버(12)가 회전 축(R)에 대해 직각으로 선형적으로(이로써 엑츄에이터(20)의 유효 방향에 전반적으로 평행하게), 연마 기계의 하우징에 대하여(이로써 연마 디스크에 대하여), 천이되는 것을 허용하도록 구축된다. 연마 디스크(11)이 직경이 마모로 인해, 예를 들어 d0에서 d1으로 변하면, 보호 커버는 적어도 대략 원하는 값 cREF에 대응하는 작업편 표면과 보호 커버의 바닥 면 사이의 갭 크기를 유지하기 위해 스냅-인 잠금 장치(13)를 이용해 값 (d0-d1)/2 만큼 상승될 수 있다(도 2 참조). 보호 커버(12)가 천이된 때, 스냅-인 잠금 장치(13)는 원하는 위치(거리 b)로 잠길(snap) 수 있고 보호 커버(12)는 연마 기계에 대하여 원하는 위치에 남겨진다(작업편까지 cREF의 거리에). 2, where the protective cover 12 is not rigidly fixed on the polishing machine 10 but rather allows the protective cover 12 to be shifted relative to the polishing machine 10 Is secured using a snap-in locking device (13). The snap-in locking device 13 is configured such that the protective cover 12 extends linearly at a right angle to the axis of rotation R (thereby generally parallel to the effective direction of the actuator 20), relative to the housing of the polishing machine To the polishing disk). If the diameter of the polishing disc 11 changes from wear, for example from d 0 to d 1 , the protective cover maintains a gap size between the workpiece surface corresponding to at least the desired value c REF and the bottom surface of the protective cover (D 0 -d 1 ) / 2 using a snap-in lock 13 (see FIG. 2). When the protective cover 12 is transited, the snap-in lock 13 can snap to the desired position (distance b) and the protective cover 12 is left at a desired position relative to the polishing machine To the distance of c REF ).

스냅-인 잠금 장치 대신, 이를 이용해 보호 커버(12)가 (연마 기계(10)에 대하여) 다양한 위치들에 고정될 수 있는 다른 위치결정 장치 또한 사용될 수 있다. 하나의 가능한 대안은 예를 들어, 거리 b(도 3 참조)가 2 개의 마찰-결합 요소들을 이용해 조정될 수 있는 자체-유지 위치결정 장치(self-retaining positioning device)일 수 있다. 이러한 경우에 있어서, 위치결정 장치 내의 2 개의 요소들 사이의 정지마찰은 중력 및 보호 커버(12)의 발생하는 관성력들보다 훨씬 더 커야 한다. 거리 b를 변경하기 위해, 위치결정 장치의 정지마찰보다 더 큰 힘이 적용되어야 한다. 하지만, 다른 대안은 일반적으로 자체-블로킹(self-blocking)는 아닌, 즉 로드 블로킹 장치를 해제할 때(조정 전), 보호 커버(12)가 최하 위치로 떨어지는, (피스톤) 로드 블로킹 장치일 수 있다. Instead of a snap-in lock, other positioning devices can also be used in which the protective cover 12 can be secured in various positions (relative to the polishing machine 10). One possible alternative may be, for example, a self-retaining positioning device in which the distance b (see FIG. 3) can be adjusted using two friction-engagement elements. In this case, the stiction friction between the two elements in the positioning device must be much greater than the gravitational forces and the generated inertial forces of the protective cover 12. To change the distance b, a force greater than the static friction of the positioning device must be applied. However, another alternative is generally a (piston) rod-blocking device which is not self-blocking, i.e., when the rod-blocking device is released (before adjustment), the protective cover 12 falls to the lowest position. have.

연마 디스크는 정상 작동 동안 더 작아지기 때문에, 한 방향으로 - 더 작은 거리들 b을 향해 - 보호 커버(12)의 위치의 적응(예. 거리 b)을 허용하기에 위치결정 장치(예. 스냅-인 잠금 장치(13))에는 충분하고 이때 연마 디스크(11)가 교체된 때, 위치결정 장치는 그 최대 거리(bMAX)에서 리셋된다. 스냅-인 잠금 장치는 이로써 위치가 (더 작은 거리들 b를 향해) 한 방향으로 선형적으로 조정되도록 허용하는 적어도 하나의 잠금 래치를 포함할 수 있는 한편 (더 큰 거리들 b를 향해) 다른 방향으로 위치의 조정은 잠금 래치(래칫(ratchet)과 유사한, 도 5 참조)에 의해 막힌다. Since the grinding disk is smaller during normal operation, the positioning device (e.g., snap-to-swing) is used to allow adaptation (e.g., distance b) of the position of the protective cover 12 in one direction- towards smaller distances b. In lock device 13) is sufficient and when the polishing disc 11 is replaced, the positioning device is reset at its maximum distance b MAX . The snap-in locking device may thus include at least one locking latch that allows the position to be linearly adjusted in one direction (towards smaller distances b) (while towards the larger distances b) The position adjustment is blocked by a locking latch (see Figure 5, similar to a ratchet).

이제 보호 커버(12)가, 시작에서, 직경(d0)(예. d0 = 150 mm)을 가지는 새로운, 마모되지 않은 연마 디스크(11)와의 갭 크기(c)가 정확하게 원하는 값 cREF(c = cREF)에 대응되도록 조정되는 상황이 가정된다. 수 번의 연마 후, 연마 디스크는 부분적으로 마모되고 연마 디스크(11)의 직경은 d1의 값(예. d1 = 140 mm)까지 감소되고, 그 결과 갭의 크기(c)는 (예. 10 mm 만큼, c < cREF) 감소된다. 갭 크기(c)를 다시 그 원래 값까지 확대하기 위해, 거리 b는 (해당 예에 있어서, b는 10 mm 만큼 감소되어야 함) 적응되어야 한다. 그 자체의 드라이브를 필요로 하지 않는, 스냅-인 잠금 장치(13)를 자동으로 조정할 수 있기 위해, 연마 디스크가 부분적으로 마모된 때, 지지 평면(40)(예. 평면 기준 표면)은 적어도 하나의 정지(41)가 배치되는 조작자 근처에(예. 로봇 셀 안의 작업편(W) 옆에) 위치된다. 정지(41)는 지지 평면(40)에 평행하게 놓이고 또한 원하는 값(cREF)에 대응되는 지지 평면까지의 거리에 있는 평면을 정의한다. 조작자(1)는 연마 디스크(11)를 지지 평면(40)에 대하여 누르면서 - 작업편에 대하여 누르는 것과 유사하지만, 연마 디스크는 회전하지 않는 -, 지지 평면(40)을 향해 기준 위치로 연마 기계(10)를 주기적으로(예. 매번 또는 매 2번째 연마 작업 후) 움직이도록 프로그램된다. 적어도 하나의 정지(41)는 - 연마 기계가 기준 위치에 있을 때 - 보호 커버(12)의 바닥 면이 적어도 하나의 정지(41)에 대하여 안착하도록 배치된다. 지지 평면(40)(기준 평면)에 대하여 연마 디스크(11)를 누르는 것에 의해, 보호 커버(12)는 갭 크기(c)가 다시 원하는 값(cREF)에 (대략) 대응할 때까지 위쪽으로 민다. In the now protective cover 12, the start, the diameter (d 0) (eg. D 0 = 150 mm) is exactly the desired value new, the gap size between the non-worn grinding disc (11), (c) having a c REF ( c = c REF ). After several polishing cycles, the polishing disk is partly worn and the diameter of the polishing disk 11 is reduced to a value of d 1 (e.g. d 1 = 140 mm), so that the size c of the gap mm, c &lt; c REF ). To increase the gap size c back to its original value, the distance b should be adapted (in this example, b should be reduced by 10 mm). When the abrasive disc is partially worn, the support plane 40 (e.g., a planar surface) has at least one (e.g., at least one) (For example, next to the workpiece W in the robot cell) where the stop 41 of the workpiece W is placed. The stop 41 defines a plane which lies parallel to the support plane 40 and which is at a distance to the support plane corresponding to the desired value c REF . The operator 1 presses the polishing disc 11 against the support plane 40 while pressing the workpiece against the support plane 40 while the polishing disc does not rotate- 10) periodically (e.g. after every or every second polishing operation). The at least one stop 41 is arranged so that the bottom surface of the protective cover 12 rests against at least one stop 41 when the polishing machine is in the reference position. By pressing the polishing disc 11 against the support plane 40 (reference plane), the protective cover 12 is pushed upwards until the gap size c again corresponds to the desired value c REF (approximately) .

갭 크기(cREF)에 대한 조정 절차는 도 4에 도시되어 있고, 이것은 보호 커버(12)와 함께 연마 디스크(11)를 보여준다. 도 4는 도 3에 도시된 측면도에 대응하는 (회전 축(R)의 방향으로) 도 3의 정면도이다. 조작자를 기준 위치로 움직이는 것에 의해, 거리(b)는 기준 위치에서, 도 4에 도시된 바와 같이, 연마 디스크(11)가 지지 평면(40)에 접촉하고(이 동안 회전 축(R)은 지지 평면(40)에 실질적으로 평행하게 놓이고) 또한 갭(cREF)이 적어도 하나의 정지(41)에 의해 결정되기 때문에 값(d1/2-cREF)까지 조정된다. 상기에서 언급된 엑츄에이터(20)의 힘 제어의 도움으로, 엑츄에이터 힘은 이 조정 프로세스 동안 연마 디스크(11)가 지지 평면(40)에 대하여 단단히 안착하도록 조정될 수 있다. 연마 기계(10)가 다시 떨어져서 지지 평면으로부터 멀리 움직이게 되면, 위치결정 장치의 자체-제동 기능이 이를 막기 때문에(스냅-인 잠금 장치(13)가 구현된 때, 예를 들어 잠금 래치를 이용해 또는 상기에서 설명된 정지 마찰을 이용해) 보호 커버(12)는 다시 그 원래 위치로 더 이상 슬라이드할 수 없다 .The adjustment procedure for the gap size c REF is shown in Fig. 4, which shows the polishing disc 11 with the protective cover 12. Fig. 4 is a front view of Fig. 3 (in the direction of the axis of rotation R) corresponding to the side view shown in Fig. By moving the operator to the reference position, the distance b contacts the support plane 40 at the reference position, as shown in FIG. 4, while the polishing disk 11 contacts the support plane 40 (D 1 /2-c REF ) since the gap c REF is determined by at least one stop 41. In this case, With the help of the force control of the actuator 20 mentioned above, the actuator force can be adjusted so that the polishing disc 11 is firmly seated against the support plane 40 during this adjustment process. Since the self-braking function of the positioning device prevents this (when the snap-in locking device 13 is implemented), for example by means of a locking latch, The protective cover 12 can no longer slide back to its original position.

도 5에 있어서, 도 3의 스냅-인 잠금 장치의 일 실시예가 - 보호 커버(12)와 연마 기계(10) 사이에 잠금 장치의 일 구현으로서 - 보다 상세하게 도시되어 있다. 도 5a는 측면도(회전 축(R)에 수직하게 놓인 시선)를 보여주고 또한 도 5b는 뒤에서 본 대응도(회전 축(R)에 평행하게 놓인 시선)를 보여준다. 연마 디스크(11)는 모터 섀프트(회전 축(R))를 통해 연마 기계(10)의 모터에 연결된다. 보호 커버(12)는 스냅-인 잠금 장치(13)를 통해 연마 기계(10)에 연결된다. 스냅-인 잠금 장치의 기능은 상기에서 설명하였다. 도 5는 스냅-인 잠금 장치의 가능한 구현을 설명하기 위해 제공된다. 이에 따라, 스냅-인 잠금 장치(13)는 선형 방향으로 천이될 수 있는 캐리지(carriage, 131)가 장착되는 프레임(130)을 포함한다. 본 예에 있어서, 캐리지는 z방향으로 천이(shift)될 수 있다. 캐리지는 잠금 래치(133)가 결합되는 잠금 기어링(132)을 포함하며, 잠금 래치(133)은 스프링(135)으로 프리텐션되고 틸팅 축(134) 주위로 프레임(130) 상에 피봇가능하게 장착된다. 스프링(135)은 잠금 기어링(132)에 대하여 잠금 래치(133)를 누른다. 잠금 기어링(132)은 캐리지가 z방향으로 천이될 수 있지만(거리(b)는 더 작아지고), 잠금 래치(133)가 스프링(135)의 스프링 힘에 대하여 수동으로 들어올려질 때에 한하여 원래 위치(방향(z)에 대하여)로 다시 이동시킬 수 있다.In FIG. 5, one embodiment of the snap-in locking device of FIG. 3 is shown in more detail - as an embodiment of a locking device between the protective cover 12 and the polishing machine 10. Fig. 5A shows a side view (sight line lying perpendicular to the rotation axis R), and Fig. 5B shows a back view (sight line placed parallel to the rotation axis R). The polishing disc 11 is connected to the motor of the polishing machine 10 through a motor shaft (rotation axis R). The protective cover 12 is connected to the polishing machine 10 via a snap-in locking device 13. The function of the snap-in locking device has been described above. Figure 5 is provided to illustrate a possible implementation of a snap-in locking device. Accordingly, the snap-in locking device 13 includes a frame 130 on which a carriage 131, which can be shifted in a linear direction, is mounted. In this example, the carriage can be shifted in the z direction. The carriage includes a locking gear 132 to which a locking latch 133 is coupled and the locking latch 133 is pre-tensioned by a spring 135 and pivotally mounted on a frame 130 about a tilting axis 134 do. The spring 135 pushes the lock latch 133 against the lock gear ring 132. [ Lock gearing 132 can be used only when the carriage can be shifted in the z direction (the distance b becomes smaller) and the locking latch 133 is manually lifted against the spring force of the spring 135, (With respect to direction z).

도 3 및 도 4에 도시된 예에 있어서, 작업편 표면과 조작자의 TCP 사이의 (표면에 수직한)거리는 z1과 같다. 조작자의 TCP의 궤적은 일반적으로 TCP가 소정의 거리(z1)에서 작업편 표면까지 움직이도록 프로그램된다. 연마 작용 동안, 거리(z1)는 보통 로봇 프로그램에 의해 미리 특정된다. 연마 디스크 직경(d0)의 d1의 값까지(d1 < d0) 마모로 유발된 감소는 값(Δa)(Δa = (d0 - d1)/2)에 따라 엑츄에이터(20)의 편위(a)를 증가시킴으로써 보상된다. 엑츄에이터(20)는 원하는 접촉력을 유지하기 위해 그 편위(a)를 적응해야 한다(도 1 및 도 2 참조). 연마 기계(10)는 그후 값(Δa)에 의해 작업편에 더 가까이 천이된다. 작업편(W)의 표면(S)에 대한 보호 커버(12)의 위치가 연마 디스크 직경이 변할 때 변하지 않도록 하기 위해, 도 6의 실시예에 있어서 보호 커버(12)는 연마 기계 상에 장착되지 않고, 대신 조작자(1)의 TCP에 견고하게 연결된다(예. 장착 브라켓(21) 상 엘보(21')를 통해 부착되는). 도 6a에 있어서 연마 디스크(11)는 새롭고 마모되지 않은 것인 반면(직경(d0), 도 6b에 있어서 연마 디스크는 부분적으로 마모되고(직경 d1 < d0), 그렇지 않은 상황에서는 동일하다. In the example shown in Figs. 3 and 4 (perpendicular to the surface) of the TCP between the workpiece surface and the distance between the operator as z 1. The trajectory of the operator's TCP is typically programmed such that TCP moves from the predetermined distance z 1 to the workpiece surface. During the grinding operation, the distance z 1 is usually specified in advance by the robot program. The reduction caused by the wear (d 1 <d 0 ) up to the value of d 1 of the polishing disk diameter (d 0 ) depends on the value (? A) (? A = (d 0 - d 1 ) / 2) Is compensated for by increasing the deviation a. The actuator 20 must adapt its deviation a to maintain the desired contact force (see Figures 1 and 2). The polishing machine 10 then transitions closer to the workpiece by the value [Delta] a. In order to ensure that the position of the protective cover 12 relative to the surface S of the workpiece W does not change when the diameter of the polishing disk changes, the protective cover 12 in the embodiment of Fig. 6 is mounted on the polishing machine Instead, it is firmly connected to the TCP of the operator 1 (e.g., attached through the mounting elbow 21 'of the mounting bracket 21). In Fig. 6A, the polishing disk 11 is new and not worn (diameter d o , whereas in Fig. 6b the polishing disk is partially worn (diameter d 1 <d 0 ) .

본 실시예에 있어서, 보호 커버(12)는 조작자(1)의 TCP에 견고하게 연결되기 때문에(즉, 엑츄에이터(20)를 통하지 않고), 갭 크기(c)는 연마 디스크(11)의 직경에 종혹하지 않고, 대신 작업편의 표면(S)에 대한 TCP의 포즈에만 종속한다(도 6 참조, 거리(z1)). TCP의 포즈는 갭 크기가 원하는 값(c = cREF)에 대응하도록 프로그램될 수 있다. 하지만, 거리들(a 및 b)는 연마 디스크의 감소된 직경에 서로 다르게 종속하고, 이로써 b는 더 작아지고 a는 더 커지고 합계 a + b는 항상 차이(z1-cREF)와 같다. b = d1/2-cREF 및 a = z1-d1/2는 유효하다. 보호 커버(12)를 TCP에 고정함으로써(즉, TCP와 보호 커버 사이의 상대적 위치는 연마 디스크가 마모되기 때문에 변하지 않고), 이전 실시예에서 사용되는 스냅-인 잠금 장치는 생략될 수 있다. Since the protective cover 12 is firmly connected to the TCP of the operator 1 (that is, without passing through the actuator 20), the gap size c is smaller than the diameter of the polishing disk 11 And is instead only dependent on the pose of the TCP to the workpiece surface S (see FIG. 6, distance z 1 ). The pose of TCP can be programmed such that the gap size corresponds to the desired value (c = c REF ). However, the distances a and b are differently dependent on the reduced diameter of the grinding disk, whereby b is smaller and a is larger and the sum a + b is always equal to the difference z 1 -c REF . b = d 1/2-c REF and a = z 1 -d 1/2 are available. By securing the protective cover 12 to the TCP (i.e., the relative position between the TCP and the protective cover does not change since the abrasive disc is worn), the snap-in lock used in the previous embodiment can be omitted.

도 7에 있어서, 마모로 인한 연마 디스크의 직경의 감소의 추가적인 결과가 도시되어 있다. 도 7a의 도면은 연마 작용의 시작을 대략적으로 보여주는데, 회전 연마 디스크(새로운, 직경 d0)를 가지는 연마 기계(10)는 프로세싱되는 표면(S)를 향해 조작자(1)에 의해 움직인다. TCP의 궤적은 도 7a에 예시적으로 지시되어 있다. TCP는 원하는 전진 속도(vx)에서 방향(x)로 움직이는 한편, (시작 위치(x1)로부터) 표면(S) 근방에서 당겨진다. 이 단계에서 엑츄에이터(20)는 그 정지 단에 대하여 안착할 때 최대 편위(aMAX)를 보여준다. 위치(x2)에서 연마 디스크(11)는 표면(S)에 접촉하고 엑츄에이터의 편위는 감소하는 한편 힘 제어는 능동적이다(a < aMAX). 위치(x3)에서, 연마 디스크는 일정한 전진 속도에서 정지 연마 작용에 있게 된다. In Fig. 7, an additional result of reducing the diameter of the polishing disk due to abrasion is shown. 7A schematically shows the beginning of the polishing action, in which the polishing machine 10 having a rotating polishing disc (new, diameter d 0 ) is moved by the operator 1 towards the surface S to be processed. The locus of TCP is illustratively shown in FIG. 7A. TCP is pulled in the vicinity of the surface S (from the start position (x 1 )) while moving in the direction x at the desired advancing speed v x . At this stage, the actuator 20 shows the maximum deviation (a MAX ) when it is seated against its stop. At position x 2 , the polishing disk 11 contacts the surface S and the deviation of the actuator decreases while force control is active (a <a MAX ). At position (x 3 ), the polishing disk is in a stationary polishing action at a constant advancing speed.

도 7b 내지 도 7d에, 예를 들어 마모(d1 < d0)의 결과로, 연마 디스크(11)의 직경이 감소된, 다양한 상황들이 도시되어 있다. 도 7b에 도시된 도시로부터 TCP의 궤적이 동일하게 유지될 때, (직경 d1을 가지는)더 작은 연마 디스크(11)는 점(x2)에서 표면에 접촉하지 않고, 도 7a에서와 같이, 차라리 점(x2')(이때 x2' > x2)에서 접촉하는데, 이것은 프로세싱된 표면이 도 7a에 도시된 경우에서와 같이 더 이상 동일하지 않기 때문에 몇몇의 응용들에 있어서 바람직하지 않을 수 있다. 이 문제는 예를 들어 표면(S)에 더 근접하게 TCP의 궤적을 움직임으로써, 교정될 수 있다. 이러한 상황은 도 7c에 도시되어 있다. TCP 궤적은 (방향(z)에 대하여)표면(S)를 향해 (d0 - d1)/2의 거리 만큼 천이된다. 하지만, 이 해결책은 TCP 궤적이 몇몇의 생산 라인들에서 추가적인 원치 않는 결과를 수반할 수 있는 연마 디스크(11)의 마모 상태에 종속하여 적응(천이)되는 것을 필요로 한다.7B to 7D show various situations in which the diameter of the polishing disk 11 is reduced, for example, as a result of wear (d1 < d0). 7B, the smaller polishing disk 11 (having a diameter d 1 ) does not contact the surface at point x 2 , and, as in Fig. 7A, rather be undesirable in some applications because of points (x 2 ') to contact at (wherein x 2'> x 2), this is not more same or higher as in the shown in Fig. the processing surface 7a case have. This problem can be corrected, for example, by moving the locus of the TCP closer to the surface S. This situation is shown in Fig. 7C. The TCP trajectory is transited by a distance of (d 0 - d 1 ) / 2 toward the surface S (with respect to direction z). However, this solution requires that the TCP trajectory be adapted (transited) depending on the wear state of the polishing disk 11, which may carry additional unwanted results in some production lines.

다른 접근이 도 7d에 도시되어 있다. 이 경우에 있어서, TCP 궤적은 위치(x2)에서 연마 기계가 표면(S)에 대하여 수직으로 움직이고 이로써 위치(x2)에서 궤적이 표면(S)에 직각으로 이어지도록 프로그램된다. 이 경우에 있어서 연마 디스크(11)의 직경은 중요하지 않다. 연마 디스크는 항상 위치(x2)에서 표면(S)에 접촉할 수 있다(정지 상태(위치(x3))에서, 엑츄에이터(20)의 편위(a)만이 연마 디스크의 직경에 종속할 것이다). 하지만, 수직으로 표면에 접촉하는 것은 또한 이것이 너무 많은 물질이 위치(x2)에서 표면(S)으로부터 제거될 위험을 생성하기 때문에, 몇몇의 응용들에서 바람직하지 않다. 최적 결과들을 위해, 몇몇의 응용들에 있어서 연마 기계가 표면(S)에 평행한 원하는 전진 속도에 이미 도달된 후 연마 디스크(11)가 표면(S)에 접촉하는 것이 바람직하다. 이러한 상황들 하에서, 도 7c에 대략적으로 도시된(TCP의 평행 천이) 접근이 더 나을 수 있다. Another approach is shown in Figure 7d. In this case, the TCP locus is programmed so that at the location (x 2 ) the polishing machine moves perpendicular to the surface S, whereby the locus at position (x 2 ) continues perpendicularly to the surface S. In this case, the diameter of the polishing disk 11 is not important. The polishing disc may always touch the surface S at position x 2 (only the deviation a of the actuator 20 will depend on the diameter of the polishing disc in the stationary state (position x 3 )), . However, contact with the surface in a vertical direction is also undesirable in some applications, since this creates the risk of too much material being removed from the surface S at position (x 2 ). For optimal results, it is desirable for the polishing disk 11 to contact the surface S after the polishing machine has already reached the desired advancing speed parallel to the surface S, in some applications. Under these circumstances, the approach shown roughly in Figure 7C (parallel shift of TCP) may be better.

도 8 및 도 9에 도시된 실시예들을 가지고, 도 7c와 동일한 결과들이 조작자(1)의 TCP를 적응할 필요 없이 획득될 수 있다. 이전에 언급된 바와 같이, 여기서 힘을 제어하는 엑츄에이터(20)는, 작업편(W)의 표면(S)과 연마 디스크(11) 사이에 접촉이 없는 한, 그 정지 단에 대하여 안착한다(그 편위(a)는 최대 편위(aMAX)에 대응한다). 표면에 대한 연마 디스크(11)의 위치는 이로써 TCP의 포즈(도 8 또는 도 9 참조, 거리(z1)) 및 엑츄에이터의 최대 편위(aMAX)에 의해 결정된다. 도 8 및 도 9에 따른 예들에 있어서, 표면(S)와 연마 디스크(11)의 회전 축(R) 사이의 거리는 z1-aMAX와 같다(접촉이 없는 한, 이후 이것은 z1-a와 같다). TCP 궤적을 표면에 더 가까이 천이하는 대신, 엑츄에이터(20)의 정지 단이 표면에 더 가까이 움직일 수 있다. 이것은 최대 편위(aMAX)는 더 커지고 또한 TCP 궤적을 천이하는 것과 동일한 결과들을 생성하는 것으로 귀결될 것이다. With the embodiments shown in Figs. 8 and 9, the same results as in Fig. 7C can be obtained without having to adapt the TCP of the operator 1. The actuator 20 for controlling the force is seated against the stopper as long as there is no contact between the surface S of the workpiece W and the polishing disk 11 The deviation a corresponds to the maximum deviation a max ). Position of the abrasive disc 11 on the surface is thus determined by the pose of TCP (see Fig. 8 or 9, the distance (z 1)) and the maximum deviation of the actuator (a MAX). In the examples according to Figs. 8 and 9, the surface distance between the rotation axis (R) of the (S) and a grinding disc 11 equal to z 1 -a MAX (a non-contact, and this z 1 -a after same). Instead of moving the TCP locus closer to the surface, the stationary end of the actuator 20 can move closer to the surface. This will result in the largest deviation (a MAX ) being larger and producing the same results as transiting the TCP trajectory.

도 8 및 도 9의 예들은 엑츄에이터(20)를 위한 조정가능한 정지 단(EA)을 제외하고, 도 6의 예와 필수적으로 동일하다. 모든 예들(도 8 및 도 9)에 있어서, 장착 브라켓(21)에 대한 정지 단(EA)의 위치는 위치결정 요소(50)를 이용해 조정될 수 있다(예. 전기적 선형 엑츄에이터, 스핀들 드라이브 또는 드라이브를 가지는 또는 드라이브 없는 다른 위치결정 요소). 도 9의 예에 있어서, 엑츄에이터(20)의 하부 단은 (위치결정 요소(50)를 가지고 조정가능한) 정지 단(EA)에 대하여 직접 안착한다. 도 8의 예에 있어서, 연마 기계의 모터 하우징의 하부 단은 정지 단(EA)에 대하여 안착한다. 도 8의 모터 하우징이 정지 단(EA)에 대하여 안착하더라도, 연마 기계(10)가 엑츄에이터(20)의 하부 단에 견고하게 연결되기 때문에, 이 정지 단은 엑츄에이터(20)를 위한 정지 단으로서 효과적으로 기능할 것이다. The examples of Figs. 8 and 9 are essentially the same as the example of Fig. 6 except for the adjustable stop EA for the actuator 20. Fig. 8 and 9), the position of the stop EA relative to the mounting bracket 21 can be adjusted using the positioning element 50 (e.g., an electric linear actuator, a spindle drive or a drive) Or other positioning elements that are not drives). In the example of Figure 9, the lower end of the actuator 20 is seated directly against the stop (EA) (adjustable with the positioning element 50). In the example of Fig. 8, the lower end of the motor housing of the polishing machine is seated against the stop EA. Since the polishing machine 10 is rigidly connected to the lower end of the actuator 20, this stopping end effectively acts as a stopping end for the actuator 20, even if the motor housing of Fig. 8 is seated against the stopping end EA Function.

정지 단(EA)을 조정하기 위한 위치결정 요소는 또한 엑츄에이터(20) 및 완전히 수동적인 요소(예를 들어, 브레이크 또는 블로킹 요소와 같은)에 의해 형성될 수 있다. 도 10에 도시된 예는 필수적으로 도 8의 예와 동일하고, 여기서 위치결정 요소(50)는 (피스톤) 로드 블로킹 장치에 의해 대체되었다. 로드 블로킹 장치는 필수적으로 블로킹 요소(53)(예. 전자기계적인 또는 공압식 브레이크/클램프)를 이용해 (정의된 움직임 범위 내의) 어떠한 위치에서든 고정될 수 있는 선형 가이드(51) 내의 로드(52)이다. 로드 블로킹 장치들은 잘 알려져 있고 그러므로 여기서 더 설명하지 않을 것이다. 블로킹 요소(53)가 연결해제된 때, 연마 기계(10)의 하우징에서 원하는 위치에 정지 단(EA)을 유지하기 위해 이것은 예를 들어, 스프링 요소(54)의 도움으로, 연마 기계(10)에 더 가까이 정지 단(EA)을 위치시키는 데 사용될 수 있다. 블로킹 요소가 활성화된 때(로드(52)가 선형 가이드(51) 내에 막혀 있을 때), 스프링 요소(54)의 스프링 힘은 어떠한 결과도 생성하지 않는다(스프링 요소(54)는 엑츄에이터(20)에 작용하지 않는다). 스프링 요소(54)은 선택적이고 또한 TCP의 기준 위치에 종속한다. 예를 들어, TCP의 기준 위치는 또한 연마 디스크가 표면(S) 상에 거꾸로(upside down) 안착하도록 설정될 수 있다. 이 경우에 있어서 피스톤 로드(52)의 중력은 브레이크(53)가 연결해제된 때조차도 원하는 위치에(연마 기계(10)의 하우징에 대하여 안착하여) 이를 유지하기에 충분하다. The positioning element for adjusting the stop EA may also be formed by the actuator 20 and a fully passive element (such as a brake or blocking element). The example shown in FIG. 10 is essentially the same as the example of FIG. 8, where the positioning element 50 has been replaced by a (piston) rod blocking device. The rod blocking device is essentially a rod 52 in a linear guide 51 that can be secured in any position (within a defined range of motion) using a blocking element 53 (e.g., electromechanical or pneumatic brake / clamp) . Roadblocking devices are well known and will not be described further herein. This can be done, for example, with the aid of a spring element 54, in order to maintain the stop EA at the desired position in the housing of the polishing machine 10 when the blocking element 53 is disconnected, (EA) closer to the stopper (EA). The spring force of the spring element 54 does not produce any result when the blocking element is activated (when the rod 52 is clogged in the linear guide 51) Does not work). Spring element 54 is optional and is also dependent on the reference position of TCP. For example, the reference position of the TCP may also be set so that the polishing disk lands on the surface S upside down. In this case, the gravity of the piston rod 52 is sufficient to maintain it at a desired position (with respect to the housing of the polishing machine 10) even when the brake 53 is disengaged.

정지 단(EA)의 위치를 조정하기 위해, 조작자는 TCP를 기준 표면(S)에 대하여 주어진 기준 위치(거리)(예. 도 8에 있어서, 표면까지의 거리 z1)로 움직일 수 있는데, 이때 연마 디스크(11)는 표면(S)에 접촉한다. 이것은 로드 블로킹 장치가 연결해제되는(비활성화되는) 동안 수행된다. 엑츄에이터(20)의 편위(aEA)는 이제 연마 디스크(11)의 현재 직경(d1)에 종속한다. 로드 블로킹 장치는 이후 이 기준 위치에서 막히고(위치(z1)에서의 TCP), 이것은 엑츄에이터(20)의 현재 편위(aEA)가 최대 편위로서(및 이로써 정지 단의 사실상 위치로서)로 "저장되는" 것으로 귀결된다. 정지 단(aEA)의 위치(aEA = z1 - d1/2)는 이로써 연마 디스크(11)가 항상 연마 작용(도 7 참조)을 수행할 때, 연마 디스크(11)의 실제 직경(d1)에 상관없이, z = z1의 TCP 위치에서 접촉하도록 조정된다(직경(d1)에 있어서의 변화는 위치(aEA)에 있어서의 변화에 의해 보상된다). To adjust the position of the stop EA, the operator can move the TCP to a given reference position (distance) with respect to the reference surface S (e. G. A distance z 1 to the surface in Fig. 8) The polishing disk 11 contacts the surface S. This is done while the load blocking device is disconnected (deactivated). The deviation a EA of the actuator 20 now depends on the current diameter d 1 of the polishing disk 11. The load blocking device is then clogged in this reference position (TCP at position z 1 ), which means that the current deviation a EA of the actuator 20 is "stored " as the maximum deviation (and thereby as the virtual position of the stop) To be ". The position (a EA = z 1 - d 1/2 ) of the stopping end a EA is set so that the actual diameter of the abrasive disc 11 regardless of the d 1), it is adjusted to contact at the TCP position z = z 1 changes in (a diameter (d 1) the position is compensated by the change in the (a EA)).

도 11은 엑츄에이터(20)의 최대 편위(aEA)를 결정하는 정지 단의 자동 조정/적응을 가지는 로봇-보조 연마 장치를 작동시키기 위한 방법의 일 예를 흐름도를 이용해 보여준다. 적절한 연마 장치들이 도 7 내지 도 10을 참조하여 상기에서 상세하게 설명되었다. 먼저, 조작자(1)는 그 TCP를 (표면(S)에 대하여) 기준 위치로 움직이고, 이것은 도 8 내지 도 10의 예들에서 z = z1으로 지시된다(도 11, 단계 S1). 이 기준 위치에서 연마 디스크(11)는 표면(S)에 접촉하고, 엑츄에이터(20)의 편위(a)는 연마 디스크의 현재 직경(d1)에 종속한다. 도 8 내지 도 10의 예들에 있어서 a = z1 - d1/2 (도 11, 결과 R1)는 유효하다. 이 편위는 예를 들어 로드 블로킹 장치를 활성화시킴으로써(도 10 참조) 또는 위치결정 요소(50)의 도움으로 정지 단(EA)의 위치를 적응함으로써(도 8 또는 도 9 참조), 최대 편위로서 "저장(saved)"될 수 있고, 이로써 엑츄에이터(20)의 현재 편위는 최대 편위(aEA)로서 설정된다. Figure 11 is a robot having an auto-adjust / adapt the stop stage to determine a maximum deviation (a EA) of the actuator (20) shows an example using a flowchart of a method for operating the secondary polishing apparatus. Suitable polishing apparatuses have been described above in detail with reference to Figures 7 to 10. First, the operator 1 moves the TCP to the reference position (with respect to the surface S), which is indicated by z = z 1 in the examples of Figs. 8-10 (Fig. 11, step S1). At this reference position, the polishing disk 11 contacts the surface S and the deviation a of the actuator 20 is dependent on the current diameter d 1 of the polishing disk. In the examples of Figs. 8 to 10 a = z 1 - d 1 /2 ( FIG. 11, the result R1) is available. This deviation can be achieved, for example, by adapting the position of the stop EA (see FIG. 8 or FIG. 9) by activating the roadblocking device (see FIG. 10) or by the aid of the positioning element 50, Quot; saved &quot;, whereby the current deviation of the actuator 20 is set as the maximum deviation a EA .

Claims (25)

로봇-보조 연마 장치에 있어서,
조작자(1);
선형 엑츄에이터(20);
회전 연마 도구(11)를 가지는 연마 기계(10), 상기 연마 기계(10)는 상기 선형 엑츄에이터(20)를 통해 상기 조작자(1)에 결합되고;
상기 선형 엑츄에이터(20)의 최대 편위를 정의하는 정지 단(EA)을 포함하고, 상기 정지 단(EA)의 위치는 조정가능한, 로봇-보조 연마 장치.
In the robot-assisted grinding apparatus,
An operator 1;
A linear actuator 20;
A polishing machine (10) having a rotary polishing tool (11), the polishing machine (10) being coupled to the operator (1) through the linear actuator (20);
And a stop (EA) defining a maximum deviation of said linear actuator (20), said position of said stop (EA) being adjustable.
제 1 항에 있어서,
상기 정지 단(EA)의 위치(aEA)를 조정하도록 구성되는 위치결정 요소(50)를 더 포함하는, 로봇-보조 연마 장치.
The method according to claim 1,
Auxiliary grinding device, the robot further comprising a positioning element (50) configured to adjust the position (a EA) of the stop end (EA).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 위치결정 요소(50)는 상기 선형 엑츄에이터(20) 및 로드 잠금 장치를 포함하는, 로봇-보조 연마 장치. 3. A robot-assisted abrasive according to any one of the preceding claims, wherein the positioning element (50) comprises the linear actuator (20) and a load lock device. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 위치결정 요소(50)는 선형 전기 드라이브를 포함하는, 로봇-보조 연마 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the positioning element (50) comprises a linear electric drive.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 회전 연마 도구의 직경(d1)에 종속하여 상기 정지 단(EA)의 위치(aEA)를 조정하도록 구성되는 제어(4)를 더 포함하는, 로봇-보조 연마 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The rotary grinding tool having a diameter (d 1) to slave further comprises a control (4) is configured to adjust the position (a EA) of the stop end (EA), the robot-assisted grinding device.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 회전 연마 도구(11)가 표면(S)에 접촉하는 기준 위치로 상기 조작자(1)의 공구 끝단점(TCP)을 움직이고,
상기 정지 단(EA)의 위치(aEA)를 조정하여 상기 엑츄에이터(20)의 현재 편위(a)를 상기 정지 단(EA)의 위치(aEA)에 의해 정의되는 최대 편위와 같도록 구성되는 제어(4)를 더 포함하는, 로봇-보조 연마 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The tool tip end point TCP of the operator 1 is moved to a reference position at which the rotary polishing tool 11 contacts the surface S,
Wherein a current deviation a of the actuator 20 is configured to be equal to a maximum deviation defined by a position a a EA of the stop EA by adjusting the position a EA of the stop EA , Further comprising a control (4).
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 회전 연마 도구(11)가 표면(S)에 접촉하는 기준 위치로 상기 조작자(1)의 공구 끝단점(TCP)을 움직이고,
상기 엑츄에이터(20)의 현재 편위(a)에 종속하여 상기 정지 단(EA)의 위치(aEA)를 조정하도록 구성되는 제어(4)를 더 포함하는, 로봇-보조 연마 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The tool tip end point TCP of the operator 1 is moved to a reference position at which the rotary polishing tool 11 contacts the surface S,
Further comprising a control (4) configured to adjust a position (a EA ) of the stop (EA) depending on a current deviation (a) of the actuator (20).
제 3 항에 있어서,
상기 로드 잠금 장치를 연결해제하고,
상기 회전 연마 도구(11)가 표면(S)에 접촉하는 기준 위치로 상기 조작자(1)의 공구 끝단점(TCP)을 움직이고,
상기 정지 단(EA)의 위치를 고정하기 위해 상기 잠금 장치를 활성화하도록 구성되는 제어(4)를 더 포함하는, 로봇-보조 연마 장치.
The method of claim 3,
Disconnect the load lock device,
The tool tip end point TCP of the operator 1 is moved to a reference position at which the rotary polishing tool 11 contacts the surface S,
Further comprising a control (4) configured to activate the locking device to lock the position of the stop (EA).
조작자(1), 조정가능한 정지 단(EA)을 가지는 선형 엑츄에이터(20) 및 회전 연마 도구(11)를 가지는 연마 기계(10)를 포함하는 로봇-보조 연마 장치를 작동하기 위한 방법에 있어서,
상기 연마 기계(10)는 상기 선형 엑츄에이터(20)를 통해 상기 조작자(1)에 결합되고;
상기 엑츄에이터(20)의 정지 단(EA)의 위치(aEA)을 조정하는 단계를 포함하는, 로봇-보조 연마 장치를 작동하기 위한 방법.
1. A method for operating a robot-assisted abrasive machine comprising an abrasive machine (10) having an operator (1), a linear actuator (20) having an adjustable stop (EA) and a rotary abrasive tool (11)
The polishing machine (10) is coupled to the operator (1) through the linear actuator (20);
And adjusting the position (a EA ) of the stop (EA) of the actuator (20).
제 9 항에 있어서,
상기 정지 단(EA)의 위치는 상기 연마 도구의 크기에 종속하는, 로봇-보조 연마 장치를 작동하기 위한 방법.
10. The method of claim 9,
Wherein the position of the stop (EA) is dependent on the size of the abrasive tool.
제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
상기 연마 도구는 연마 디스크(11)이고 상기 정지 단(EA)의 위치는 상기 연마 디스크(11)의 직경에 종속하여 조정되는, 로봇-보조 연마 장치를 작동하기 위한 방법.
11. The method according to claim 9 or 10,
Wherein the polishing tool is a polishing disc and the position of the stop (EA) is adjusted depending on the diameter of the polishing disc (11).
제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 정지 단(EA)의 위치(aEA)를 조정하는 단계는,
상기 회전 연마 도구(11)가 표면(S)에 접촉하는 기준 위치로 상기 조작자(1)의 공구 끝단점(TCP)을 움직이는 단계;
상기 정지 단(EA)의 위치(aEA)를 조정하여 상기 엑츄에이터(20)의 현재 편위(a)를 상기 정지 단(EA)의 위치(aEA)에 의해 정의되는 최대 편위와 같아지는 단계를 포함하는, 로봇-보조 연마 장치를 작동하기 위한 방법.
12. The method according to any one of claims 9 to 11, wherein adjusting the position (a EA ) of the stop (EA)
Moving a tool end point (TCP) of the operator (1) to a reference position at which the rotary polishing tool (11) contacts the surface (S);
Adjusting the position a EA of the stop EA so that the current deviation a of the actuator 20 equals the maximum deviation defined by the position a EA of the stop EA &Lt; / RTI &gt; A method for operating a robot-assisted abrasive machine.
제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 정지 단(EA)의 위치(aEA)를 조정하는 단계는,
상기 회전 연마 도구(11)가 표면(S)에 접촉하는 기준 위치로 상기 조작자(1)의 공구 끝단점(TCP)을 움직이는 단계;
상기 엑츄에이터(20)의 현재 편위(a)에 종속하여 상기 정지 단(EA)의 위치(aEA)를 조정하는 단계를 포함하는, 로봇-보조 연마 장치를 작동하기 위한 방법.
12. The method according to any one of claims 9 to 11, wherein adjusting the position (a EA ) of the stop (EA)
Moving a tool end point (TCP) of the operator (1) to a reference position at which the rotary polishing tool (11) contacts the surface (S);
Adjusting a position (a EA ) of the stop (EA) depending on a current deviation (a) of the actuator (20).
제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 정지 단(EA)의 위치(aEA)를 조정하는 단계는,
상기 정지 단(EA)의 위치를 천이시키는 것을 가능하게 하기 위해 로드 잠금 장치를 연결해제하는 단계;
상기 회전 연마 도구(11)가 표면(S)에 접촉하는 기준 위치로 상기 조작자(1)의 공구 끝단점(TCP)을 움직이는 단계;
상기 정지 단(EA)의 위치를 고정하기 위해 상기 로드 잠금 도구를 활성화시키는 단계를 포함하는, 로봇-보조 연마 장치를 작동하기 위한 방법.
12. The method according to any one of claims 9 to 11, wherein adjusting the position (a EA ) of the stop (EA)
Disconnecting the load lock to enable shifting of the position of the stop (EA);
Moving a tool end point (TCP) of the operator (1) to a reference position at which the rotary polishing tool (11) contacts the surface (S);
Activating the load lock tool to lock the position of the stop (EA). &Lt; Desc / Clms Page number 16 &gt;
로봇-보조 연마 장치에 있어서,
조작자(1);
선형 엑츄에이터(20);
회전 연마 도구(11)를 가지는 연마 기계(10), 상기 연마 기계(10)는 상기 선형 엑츄에이터(20)를 통해 상기 조작자(1)에 결합되고;
상기 회전 연마 도구(11)를 부분적으로 둘러싸는 보호 커버(12), 상기 회전 연마 도구(11)는 적어도 하나의 제1 측 상의 상기 보호 커버(12)로부터 돌출되고;
상기 보호 커버(12)를 상기 연마 기계(10)에 연결하고 또한 상기 연마 기계(10)에 대하여 상기 보호 커버(12)의 위치(b)를 조정하도록 구성되는 위치결정 장치(13)를 포함하는, 로봇-보조 연마 장치.
In the robot-assisted grinding apparatus,
An operator 1;
A linear actuator 20;
A polishing machine (10) having a rotary polishing tool (11), the polishing machine (10) being coupled to the operator (1) through the linear actuator (20);
A protective cover (12) partially surrounding said rotating abrasive tool (11), said rotating abrasive tool (11) projecting from said protective cover (12) on at least one first side;
And a positioning device (13) configured to connect the protective cover (12) to the polishing machine (10) and to adjust the position (b) of the protective cover (12) with respect to the polishing machine , A robot-assisted grinding device.
제 15 항에 있어서,
상기 위치결정 장치는 외력이 존재하지 않을 때 상기 보호 커버(12)의 조정된 위치(b)를 유지하도록 더 구성되는, 로봇-보조 연마 장치.
16. The method of claim 15,
Wherein the positioning device is further configured to maintain the adjusted position (b) of the protective cover (12) when no external force is present.
제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,
상기 위치결정 장치는 상기 보호 커버(12)의 제1 측이 상기 조작자(1) 및/또는 상기 엑츄에이터(20)를 이용해 적어도 하나의 정지(41)에 대하여 눌러질 때 상기 보호 커버(12)의 위치(b)에 있어서의 변화를 허용하고 얻도록 더 구성되는, 로봇-보조 연마 장치.
17. The method according to claim 15 or 16,
The positioning device is arranged such that when the first side of the protective cover 12 is pressed against at least one stop 41 using the operator 1 and / or the actuator 20, Is further configured to allow and obtain a change in position (b).
제 15 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 위치결정 장치는 잠금 기어링(132)을 가지는 제1 성분 및 잠금 래치(133)를 가지는 제2 성분을 포함하는 스냅-인 잠금 장치(13)인, 로봇-보조 연마 장치.18. A device according to any one of claims 15 to 17, wherein the positioning device comprises a snap-in lock device (13) comprising a first component having a lock gear ring (132) and a second component having a lock latch ). &Lt; / RTI &gt; 제 15 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 위치결정 장치는 자가-잠금이고 또한 상기 위치결정 장치에 가해지는 정지 마찰을 극복하기에 충분히 큰 외력이 위치결정 장치에 적용될 때만 조정될 수 있는, 로봇-보조 연마 장치.18. A device according to any one of claims 15 to 17, wherein the positioning device is self-locking and can be adjusted only when an external force large enough to overcome the static friction applied to the positioning device is applied to the positioning device , A robot-assisted grinding device. 제 15 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조작자(1)를 제어하여 상기 회전 연마 도구(11)가 기준 표면(40)에 대하여 눌러지고 상기 보호 커버(12)의 제1 측이 정지(41)에 대하여 안착하도록 구성되는 로봇 제어(4)를 더 포함하여, 상기 보호 커버(12)의 위치(b)는 상기 기준 표면(40)까지 상기 정지(41)의 거리(cREF)에 종속하여 조정되는, 로봇-보조 연마 장치.A method according to any one of claims 15 to 19, wherein the operator (1) is controlled so that the rotating abrasive tool (11) is pressed against the reference surface (40) and the first side of the protective cover (B) of the protective cover (12) is adapted to rest against a distance (c REF ) of the stop (41) to the reference surface (40) Wherein said robot-assisted grinding device is adapted to be subordinate to said robot. 로봇-보조 연마 장치에 있어서,
조작자(1);
선형 엑츄에이터(20);
회전 연마 도구(11)를 가지는 연마 기계(10), 상기 연마 기계(10)는 상기 선형 엑츄에이터(20)를 통해 상기 조작자(1)의 TCP에 결합되고;
상기 회전 연마 도구(11)를 부분적으로 둘러싸는 보호 커버(12)를 포함하고,
상기 보호 커버(12)는 상기 조작자의 TCP에 견고하게 연결되어 상기 회전 연마 도구(11)가 적어도 하나의 제1 측 상의 상기 보호 커버(12)로부터 돌출되는, 로봇-보조 연마 장치.
In the robot-assisted grinding apparatus,
An operator 1;
A linear actuator 20;
A polishing machine (10) having a rotary polishing tool (11), the polishing machine (10) being coupled to the TCP of the operator (1) through the linear actuator (20);
And a protective cover (12) partially surrounding the rotary polishing tool (11)
Wherein the protective cover (12) is rigidly connected to the operator's TCP such that the rotating abrasive tool (11) protrudes from the protective cover (12) on at least one first side.
제 15 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 보호 커버(12)에 연결되는 흡입 시스템을 더 포함하는, 로봇-보조 연마 장치.22. A robot-assisted grinding apparatus according to any one of claims 15 to 21, further comprising a suction system connected to the protective cover (12). 제 15 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 선형 엑츄에이터(20)를 위한 조정가능한 정지 단(EA)을 더 포함하는, 로봇-보조 연마 장치.
23. The method according to any one of claims 15 to 22,
Further comprising an adjustable stop (EA) for the linear actuator (20).
조작자(1), 선형 엑츄에이터(20), 회전 연마 도구(11)를 가지는 연마 기계(10) 및 상기 연마 도구(11)를 적어도 부분적으로 둘러싸는 보호 커버(12)를 포함하는 로봇-보조 연마 장치를 작동하기 위한 방법에 있어서,
상기 조작자(10)는 상기 선형 엑츄에이터(20)를 통해 상기 조작자(1)에 결합되고 상기 회전 연마 도구(11)는 적어도 하나의 제1 측 상의 상기 보호 커버(12)로부터 돌출되고,
상기 조작자(1)의 도움으로 기준 표면에 대하여 상기 연마 도구(11)를 누르는 단계, 상기 보호 커버(12)의 제1 측이 동시에 정지(41)에 대하여 안착하는, 로봇-보조 연마 장치를 작동하기 위한 방법.
A robot-assisted polishing apparatus (1) comprising an abrasive machine (10) having an operator (1), a linear actuator (20), a rotary abrasive tool (11) and a protective cover (12) at least partially surrounding the abrasive tool The method comprising:
The operator 10 is coupled to the operator 1 via the linear actuator 20 and the rotary abrasive tool 11 protrudes from the protective cover 12 on at least one first side,
Pressing the polishing tool 11 against the reference surface with the aid of the operator 1 and actuating the robot-assisted polishing apparatus in which the first side of the protective cover 12 seats against the stop 41 at the same time Lt; / RTI &gt;
제 24 항에 있어서,
상기 보호 커버(12)는 누르는 것에 의해 상기 연마 기계(10)에 대하여 천이되고 또한 상기 보호 커버(12)와 상기 연마 기계(10) 사이의 상대적 위치가 조정되는, 로봇-보조 연마 장치를 작동하기 위한 방법.
25. The method of claim 24,
The protective cover 12 is moved relative to the polishing machine 10 by pressing and the relative position between the protective cover 12 and the polishing machine 10 is adjusted, Way.
KR1020187029942A 2016-04-07 2017-04-04 Robot-assisted grinding device KR102305086B1 (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200125928A (en) * 2018-03-15 2020-11-05 페로보틱스 컴플라이언트 로봇 테크놀로지 게엠베하 Rotation speed control in robot-assisted polishing

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK201600053U3 (en) * 2015-08-12 2016-11-25 Senex As Grinding head for a grinding arrangement
JP7197859B2 (en) * 2018-12-14 2022-12-28 川崎重工業株式会社 Work robot and waste scraping device equipped with it
JP7275288B2 (en) * 2019-01-23 2023-05-17 フェルロボティクス コンプライアント ロボット テクノロジー ゲーエムベーハー Robot-assisted grinding machine with built-in maintenance unit
CN109807734B (en) * 2019-03-19 2024-02-23 王承辉 Automatic polishing machine
DE102020111921B4 (en) 2019-05-07 2022-04-14 Ati Industrial Automation, Inc. PNEUMATIC ROBOT MACHINING TOOL
US11759961B2 (en) 2019-05-07 2023-09-19 Ati Industrial Automation, Inc. Pneumatic robotic finishing tool
CN110340792A (en) * 2019-06-19 2019-10-18 禹奕智能科技(上海)有限公司 Suitable for robot end's intelligence polishing system
CN110340806A (en) * 2019-06-19 2019-10-18 禹奕智能科技(上海)有限公司 Housing is intelligently polished suitable for robot end
CN110450016B (en) * 2019-07-29 2020-09-29 重庆工商大学 Grinding device with chip removal structure for spring machining
US20210260720A1 (en) * 2020-02-21 2021-08-26 Wichita State University Systems and methods for automated sanding
EP3974123A1 (en) * 2020-09-29 2022-03-30 Flexmill Oy Method and system for automatic compensation of tool wear
CN112692659B (en) * 2020-12-24 2022-08-26 佛山湘众盛锦金属建材有限公司 Grinding device is used in processing of aluminium alloy of high security performance
CA3237893A1 (en) * 2021-11-10 2023-05-19 J. Louie MENESES Systems and methods for mechanical polishing
KR102424699B1 (en) 2021-11-19 2022-07-22 곽동성 Device to be polished for automatic abrasive machining of a robot having a structure that enables selective movement of a jig support and a method for supplying the same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6020893A (en) * 1983-07-15 1985-02-02 新明和工業株式会社 Work tool device
JPH0691581A (en) * 1992-09-10 1994-04-05 Torai Eng Kk Tool used for articulated robot and work support device
US5355631A (en) * 1992-11-19 1994-10-18 Robotics And Automation Corporation Regulated force and speed control of a surface treating wheel
JP2000202771A (en) * 1999-01-14 2000-07-25 Toshiba Mach Co Ltd Automatic grinding device
KR20140066156A (en) * 2011-07-06 2014-05-30 이그젝트 툴스 오와이 Apparatus for machining a tubular piece

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1210357A (en) 1966-12-09 1970-10-28 Owen Hayden Thermal insulation structures
US3353305A (en) * 1965-01-27 1967-11-21 Bliss E W Co Tilted spindle grinder
JPS4838493U (en) * 1971-09-10 1973-05-12
JPS60120762A (en) 1983-12-06 1985-06-28 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Surface coating agent
JPS60120762U (en) * 1984-01-23 1985-08-15 豊田工機株式会社 Grinding machine grinding wheel cover - automatic correction device
US4604835A (en) 1984-09-12 1986-08-12 Charles Borin Apparatus for automatic maintenance of surface speed and work-bearing force for rotary tool apparatus
JPS63288658A (en) * 1987-05-21 1988-11-25 Mitsubishi Electric Corp Robot device for removing burr
US4860500A (en) 1987-08-27 1989-08-29 General Electric Company Passive actuator to maintain a constant normal cutting force during robotic deburring
JP2642162B2 (en) 1988-09-16 1997-08-20 新東ブレーター株式会社 Method and apparatus for detecting work surface in deburring grinder
DE69130397T2 (en) * 1990-02-27 1999-04-15 Toshiba Kawasaki Kk Device for controlling the machining force of a tool
EP0492014B1 (en) * 1990-12-28 1996-03-20 Aiko Engineering Co. Ltd. Automatic grinding apparatus
US5448146A (en) * 1993-01-29 1995-09-05 Board Of Regents, The University Of Texas System Method for applying constant force with nonlinear feedback control and constant force device using same
JPH0737559A (en) 1993-07-21 1995-02-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacture of flat-shaped battery
JPH0737559U (en) 1993-12-15 1995-07-11 晃 室星 Height adjustment device for dustproof skirt of floor polishing machine
CN2282479Y (en) 1997-01-15 1998-05-27 佛山市石湾区江湾五金电器公司明华模具厂 Pneumatic compensated polishing grinding head
WO2008083079A2 (en) * 2006-12-27 2008-07-10 Mako Surgical Corp. Apparatus and method for providing an adjustable positive stop in space
DE102007000415A1 (en) 2007-07-30 2009-02-05 Hilti Aktiengesellschaft Cover device of a tool device
DE102009048757A1 (en) * 2009-10-08 2011-04-14 Satisloh Ag Device for fine machining optically effective surfaces on workpieces, in particular spectacle lenses
JP5579575B2 (en) * 2010-11-02 2014-08-27 株式会社マキタ Disc grinder
CN201848748U (en) 2010-11-15 2011-06-01 浙江名媛工艺饰品有限公司 Rhinestone grinding and polishing machine
DE102011006679B4 (en) 2011-03-16 2018-07-12 Ferrobotics Compliant Robot Technology Gmbh Active handling device and method for contact tasks
CN202155778U (en) * 2011-06-01 2012-03-07 张文锦 Automatic grinding wheel abrasion detecting device
FR2983105B1 (en) 2011-11-24 2014-11-21 Peugeot Citroen Automobiles Sa DEVICE FOR GRINDING A WELD CORD, ESPECIALLY FOR A MOTOR VEHICLE
JP5845212B2 (en) * 2013-06-28 2016-01-20 ファナック株式会社 Deburring device with visual sensor and force sensor
JP6197751B2 (en) 2014-06-11 2017-09-20 トヨタ自動車株式会社 Polishing apparatus and polishing apparatus control method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6020893A (en) * 1983-07-15 1985-02-02 新明和工業株式会社 Work tool device
JPH0691581A (en) * 1992-09-10 1994-04-05 Torai Eng Kk Tool used for articulated robot and work support device
US5355631A (en) * 1992-11-19 1994-10-18 Robotics And Automation Corporation Regulated force and speed control of a surface treating wheel
JP2000202771A (en) * 1999-01-14 2000-07-25 Toshiba Mach Co Ltd Automatic grinding device
KR20140066156A (en) * 2011-07-06 2014-05-30 이그젝트 툴스 오와이 Apparatus for machining a tubular piece

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200125928A (en) * 2018-03-15 2020-11-05 페로보틱스 컴플라이언트 로봇 테크놀로지 게엠베하 Rotation speed control in robot-assisted polishing

Also Published As

Publication number Publication date
US11780099B2 (en) 2023-10-10
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