KR20180127257A - 프레임 시트를 갖는 다중구조의 초 미세정밀 메탈 마스크 및 그의 제조방법 - Google Patents

프레임 시트를 갖는 다중구조의 초 미세정밀 메탈 마스크 및 그의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20180127257A
KR20180127257A KR1020180057903A KR20180057903A KR20180127257A KR 20180127257 A KR20180127257 A KR 20180127257A KR 1020180057903 A KR1020180057903 A KR 1020180057903A KR 20180057903 A KR20180057903 A KR 20180057903A KR 20180127257 A KR20180127257 A KR 20180127257A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
thin film
film pattern
holes
base
Prior art date
Application number
KR1020180057903A
Other languages
English (en)
Inventor
이승호
노병관
이명수
박찬호
김상길
장근수
이주승
정헌호
Original Assignee
(주)아이씨디
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)아이씨디 filed Critical (주)아이씨디
Publication of KR20180127257A publication Critical patent/KR20180127257A/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • H01L51/0011—
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • H01L27/3211—
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명은 고해상도 AMOLED 디스플레이 패턴을 구현할 수 있는 초 미세정밀 메탈 마스크를 제공한다. 이는 다수의 홀이 형성된 베이스 마스크에 수 마이크로미터의 두께를 갖는 박막 패턴 마스크를 적층 후 화학적 식각을 통해 박막 패턴 마스크 상에 다수의 미세홀을 형성함으로써 고해상도 AMOLED 디스플레이 패턴을 구현할 수 있다. 또한, 소정의 두께를 갖는 베이스 마스크 상에 박막 패턴 마스크를 적층 후 마스크 프레임에 적층되어 고정되기 때문에 수 마이크로미터의 두께를 갖는 박막 패턴 마스크가 마스크 프레임에 적층 시 처짐을 방지할 수 있다.

Description

프레임 시트를 갖는 다중구조의 초 미세정밀 메탈 마스크 및 그의 제조방법{Ultrafine Precision Metal Mask with Multi-Structure with Frame Sheet and Manufacturing Method Thereof}
본 발명은 증착을 위한 초 미세정밀 메탈 마스크에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고해상도 AMOLED 디스플레이 패널 제작을 위한 FMM(Fine Metal Mask) 구조 및 제작과 관련하여 프레임 시트를 갖는 다중구조의 초 미세정밀 메탈 마스크 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
디스플레이 장치들 중 유기 발광 표시 장치는 시야각이 넓고, 컨트라스트가 우수할 뿐만 아니라, 응답 속도가 빠르다는 장점을 가지고 있다. 이러한 유기 발광 표시 장치는 여러 개의 서브 픽셀이 하나의 픽셀을 이룬다.
유기 발광 표시 장치를 제조하는 과정에서 각각의 서브 픽셀은 여러 가지 방법에 의하여 형성시킬 수 있는데, 이중 하나의 방법이 증착법이다.
증착 방법을 이용하여 서브 픽셀을 형성하기 위해서는 기판 상에 형성될 박막 등의 패턴과 동일한 패턴을 가지는 파인 메탈 마스크(FMM: fine metal mask)를 정렬한다. 파인 메탈 마스크에서 패턴과 대응되는 부분에는 관통부들이 형성된다. 이러한 파인 메달 마스크로 유기물을 기판 상에 증착하여 소망하는 패턴의 박막을 형성하게 된다.
허나, 종래의 FMM방식을 적용해서는 고해상도 AMOLED 디스플레이 패널 제작이 매우 어려울 뿐 아니라 마스크의 생산 및 수율 저하로 AMOLED 디스플레이 패널의 수율 저하 및 생산단가의 상승으로 이어지게 되고, 이는 고해상도 기술로 생성될 수 있는 시장의 확대가 늦춰질 수 있다. 따라서, 고해상도 AMOLED 디스플레이 패널 제작을 위한 획기적인 FMM 방식 도입이 시급한 실정이다.
한국등록특허 10-0959110
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 다수의 박막 마스크 패턴을 겹친 후 두께에 따른 에칭 레이트(Etching Rate)를 통해 필요한 사이즈의 패턴구현이 가능한 프레임 시트를 갖는 다중구조의 초 미세정밀 메탈 마스크 및 그의 제조방법을 제공하는데 있다.
상술한 과제를 해결하기 위해 본 발명의 초 미세정밀 메탈 마스크는 마스크 프레임 상에 적층되고, 다수의 홀들이 형성된 베이스 마스크 및 상기 베이스 마스크 상에 적층되고, 다수의 미세홀들이 형성된 박막 패턴 마스크를 포함한다.
상기 박막 패턴 마스크의 두께는 상기 베이스 마스크의 두께 보다 얇은 두께를 갖을 수 있다.
상기 박막 패턴 마스크는 수 마이크로미터의 두께를 갖을 수 있다.
상기 다수의 홀들은 동일한 크기를 가지며, 동일한 간격으로 이격되어 형성될 수 있다.
상기 다수의 미세홀들은 다수의 군을 이루며 형성되되, 상기 다수의 군은 동일한 크기를 갖고, 동일한 간격으로 이격되어 형성될 수 있다.
상기 다수의 군은 상기 다수의 홀들의 위치에 대응되도록 형성될 수 있다.
상기 다수의 군 중 각각의 군의 크기는 상기 다수의 홀들의 각각의 크기와 같거나 또는 작은 크기를 갖을 수 있다.
상기 베이스 마스크는 본딩 또는 용접을 이용하여 상기 마스크 프레임 상에 고정될 수 있다.
상기 다수의 미세홀들은 Wet 또는 Dry Etching을 이용하여 형성될 수 있다.
상술한 과제를 해결하기 위해 본 발명의 초 미세정밀 메탈 마스크의 제조방법은 다수의 홀들이 형성된 베이스 마스크 및 상기 베이스 마스크 보다 얇은 두께를 갖는 박막 패턴 마스크를 준비하는 단계, 상기 베이스 마스크 상에 상기 박막 패턴 마스크를 적층하는 단계, 상기 박막 패턴 마스크 상에 다수의 미세홀들을 형성하는 단계 및 상기 박막 패턴 마스크가 적층된 상기 베이스 마스크를 마스크 프레임 상에 고정하는 단계를 포함한다.
상기 다수의 미세홀들은 Wet 또는 Dry Etching을 이용하여 형성될 수 있다.
상기 다수의 미세홀들은 다수의 군을 이루며 형성되되, 각각의 군의 크기는 상기 다수의 홀들의 각각의 크기보다 작은 크기를 갖을 수 있다.
상술한 본 발명에 따르면, OLED 공정 중 패터닝(patterning) 공정과 관련하여 파인 메탈 마스크의 베이스 마스크에 수 마이크로미터의 두께를 갖는 박막 패턴 마스크를 적층 후 화학적 식각을 통해 고해상도 AMOLED 디스플레이 패턴을 구현할 수 있다. 따라서, 향후 고해상도가 필요한 새로운 VR관련 시장 진입이 용의 및 생산 수율의 향상으로 제조 단가 낮출 수 있어 관련 제품의 대중화 및 시장을 확대할 수 있다.
또한, 소정의 두께를 갖는 베이스 마스크 상에 박막 패턴 마스크를 적층 후 마스크 프레임에 적층되어 고정되기 때문에 수 마이크로미터의 두께를 갖는 박막 패턴 마스크가 마스크 프레임에 적층 시 처짐을 방지할 수 있다.
본 발명의 기술적 효과들은 이상에서 언급한 것들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 초 미세정밀 메탈 마스크를 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 베이스 마스크를 나타내는 도면이다.
도 3은 도 2에 도시한 베이스 마스크의 확대도이다.
도 4는 본 발명의 박막 패턴 마스크를 나타내는 도면이다.
도 5는 도 4에 도시한 박막 패턴 마스크의 확대도이다.
도 6은 본 발명의 베이스 마스크 상에 박막 패턴 마스크를 적층했을 때를 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 초 미세정밀 메탈 마스크를 제조하는 방법을 나타내는 순서도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
이하, 본 발명에 따른 실시 예들을 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 초 미세정밀 메탈 마스크를 나타내는 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 초 미세정밀 메탈 마스크는 다수의 홀(110)들이 형성된 베이스 마스크(100) 및 베이스 마스크(100) 상에 적층되고, 다수의 미세홀(210)들이 형성된 박막 패턴 마스크(200)를 포함한다. 또한, 박막 패턴 마스크(200)가 적층된 베이스 마스크(100)는 마스크 프레임(300) 상에 적층될 수 있다.
도 2는 본 발명의 베이스 마스크를 나타내는 도면이고, 도 3은 도 2에 도시한 베이스 마스크의 확대도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 베이스 마스크(100)는 소정의 두께를 가지며, 베이스 마스크(100)는 다수의 홀(110)을 포함할 수 있다.
일예로, 베이스 마스크(100)가 소정의 두께를 가지되, 박막 패턴 마스크(200)를 지지할 수 있을 정도의 두께를 갖는 것이 바람직하다.
베이스 마스크(100)에 형성된 홀(110)은 원, 삼각 또는 사각으로 형성될 수 있으나, 바람직하게는 창문 형태의 사각으로 형성 될 수 있다.
또한, 베이스 마스크(100)에 형성된 홀(110)은 소정의 간격으로 이격되어 다수 개가 형성될 수 있으며, 각각의 홀(110)들은 동일한 크기를 갖는 것이 바람직하다.
홀(110)과 홀(110) 사이에 형성된 리브(120)는 베이스 마스크(100)에 형성된 다수의 홀(110)들에 의해 베이스 마스크(100)의 자체 무게에 의해 중심이 하부 방향으로 휘어지지 않도록 소정의 폭을 갖으며, 홀(110)과 홀(110) 사이의 각각의 리브(120)는 동일한 폭을 갖는 것이 바람직하다.
일예로, 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 적층될 박막 패턴 마스크(200)에 의해 형성되는 미세 패턴들이 동일한 간격으로 형성될 수 있도록 베이스 마스크(100)에 형성된 홀(110)들은 모두 동일한 크기와 동일한 간격으로 이격되어 형성되며, 홀(110)과 홀(110) 사이의 리브(120)의 폭도 동일한 크기의 폭을 갖을 수 있다.
도 4는 본 발명의 박막 패턴 마스크를 나타내는 도면이고, 도 5는 도 4에 도시한 박막 패턴 마스크의 확대도이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 박막 패턴 마스크(200)는 다수의 미세홀(210)을 포함할 수 있다.
미세홀(210)은 원, 삼각 또는 사각으로 형성될 수 있으나, 바람직하게는 사각으로 형성될 수 있다.
미세홀(210)의 크기는 상기 베이스 마스크(100)의 홀(110)의 크기보다 작은 크기의 홀일 수 있다. 좀 더 상세하게는, 미세홀(210)의 크기는 초고밀도 패턴이 형성될 수 있도록 매우 작은 크기의 홀일 수 있다.
미세홀(210)과 미세홀(210) 사이에는 미세리브(220)를 가지며, 동일한 폭을 갖는 미세리브(220)에 의해 다수의 미세홀(210)은 동일한 간격으로 형성될 수 있다. 즉, 미세홀(210)은 x축 방향과 y축 방향으로 동일한 크기로 형성되되, 미세리브(220)에 의해 동일한 간격으로 형성될 수 있다.
이러한 미세리브(220)를 갖는 미세홀(210)들은 하나의 군(201)을 이루며 형성될 수 있으며, 이러한 미세홀(210)들에 의해 형성된 군(201)은 동일한 크기를 가지고, x축과 y축 방향으로 동일한 간격으로 다수개 형성될 수 있다.
하나의 군(201)의 전체 크기는 베이스 마스크(100)에 형성된 홀(110)의 크기와 같거나, 또는 작게 형성됨이 바람직하다. 이는 박막 패턴 마스크(200)가 베이스 마스크(100)에 적층되고, 적층된 박막 패턴 마스크(200)에 형성된 미세홀(210)에 의해 패턴이 형성되기 때문이다. 따라서, 미세홀(210)에 의해 형성된 군(201)들은 각각 베이스 마스크(100)에 형성된 홀(110)에 대응되는 위치에 형성됨이 바람직하다.
또한, 이러한 미세홀(210)의 크기는 초고밀도 패턴이 형성될 수 있도록 매우 작은 크기를 갖기 때문에 화학적 방법(Wet 또는 Dry Etching)을 통해 형성될 수 있다.
허나, 종래기술에 따른 패턴 마스크 두께에서는 화학적 방법에 의한 홀 형성시 초고밀도의 패턴이 형성될 수 있는 미세홀 형성에 어려움이 있었다. 이는 화학적 방법에 의한 미세홀 형성시 패턴 마스크의 두께가 충분히 얇지 못하기 때문에 홀 형성시 홀이 원하는 크기나 모양으로 형성되지 않는 불량을 초래할 수 있다.
이러한 단점을 극복하기 위해 본 발명에 따른 박막 패턴 마스크(200)의 두께는 상기 베이스 마스크(100)보다 작은 두께를 가질 수 있으며, 바람직하게는 박막 패턴 마스크(200)는 수 마이크로미터의 두께를 가질 수 있다. 즉, 박막 패턴 마스크(200)의 두께를 충분히 얇게 하여 홀을 형성하기 때문에 고해상도의 AMOLED 디스플레이 패널에 적합한 미세홀(210)을 화학적 방법에 의해 형성하는 것이 가능하다.
그러나 미세홀(210)을 형성하기 위해 박막 패턴 마스크(200)의 두께를 수 마이크로미터의 두께로 얇게 형성하면 박막 패턴 마스크(200)를 마스크 프레임(300)에 적층시 박막 패턴 마스크(200)의 무게에 의해 중심이 하부방향으로 휘어지는 단점을 갖는다. 따라서, 본 발명에 따른 박막 패턴 마스크(200)는 중심이 휘어지는 단점을 보완하기 위해 베이스 마스크(100)에 적층되어 마스크 프레임(300) 상에 적층될 수 있다. 즉, 베이스 마스크(100)는 박막 패턴 마스크(200)가 휘어지지 않도록 지지하는 기능을 수행할 수 있다.
도 6은 본 발명의 베이스 마스크와 박막 패턴 마스크를 부착했을 때를 나타내는 도면이다.
도 6을 참조하면, 상기 베이스 마스크(100) 상에 박막 패턴 마스크(200)가 적층될 수 있다. 도 6에 도시한 바와 같이, 박막 패턴 마스크(200)는 베이스 마스크(100) 상에 적층되되, 적층 됐을 때 박막 패턴 마스크(200)에 형성된 미세홀(210)로 이루어진 군(201)들이 베이스 마스크(100) 상에 형성된 홀(110)들에 각각 포함되도록 적층될 수 있다.
이렇게 적층된 베이스 마스크(100)와 박막 패턴 마스크(200)는 패턴 공정을 수행하기 위해 마스크 프레임(300) 상에 적층될 수 있다.
적층하는 방식은 본딩, 용접 및 여러 가지 가능한 방식을 사용하여 베이스 마스크(100)와 마스크 프레임(300)이 고정되도록 형성될 수 있으며, 고정시에는 고 정밀 얼라인 기능 및 고정 전후에 패턴의 사이즈 및 형태가 변형되지 않도록 별도의 기능이 추가될 수 있다. 이는 물리적인 강성을 주거나 일정한 힘으로 당겨 작은 외력에도 쉽게 형태나 사이즈 위치가 변형되지 않도록 고정하기 위함이다.
도 7은 본 발명의 초 미세정밀 메탈 마스크를 제조하는 방법을 나타내는 순서도이다.
도 7을 참조하면 본 발명에 따른 초 미세정밀 메탈 마스크를 제조하는 방법은 다수의 홀(110)들이 형성된 베이스 마스크(100) 및 베이스 마스크(100) 보다 얇은 두께를 갖는 박막 패턴 마스크(200)를 준비하는 단계(S410), 베이스 마스크(100) 상에 박막 패턴 마스크(200)를 적층하는 단계(S420), 박막 패턴 마스크(200) 상에 다수의 미세홀(210)들을 형성하는 단계(S430) 및 박막 패턴 마스크(200)가 적층된 상기 베이스 마스크(100)를 마스크 프레임(300) 상에 고정하는 단계(S440)를 포함한다.
우선 다수의 홀(110)들이 형성된 베이스 마스크(100)와 박막 패턴 마스크(200)를 제작한다. 박막 패턴 마스크(200)는 베이스 마스크(100)보다 얇은 두께로 제작될 수 있으며, 바람직하게는 수 마이크로미터의 두께를 가질 수 있다.
박막 패턴 마스크(200)가 수 마이크로미터의 두께를 가지기 때문에 박막 패턴 마스크(200) 단독으로 마스크 프레임(300) 상에 장착 시 처짐 또는 물리적인 변형으로 인하여 그 형태를 보존하기 힘들다. 따라서, 이러한 박막 패턴 마스크(200)의 처짐을 보완하기 위해 베이스 마스크(100) 상에 박막 패턴 마스크(200)를 적층한다. 즉, 베이스 마스크(100)는 박막 패턴 마스크(200)가 처지지 않도록 하는 기능을 수행할 수 있다.
베이스 마스크(100) 상에 박막 패턴 마스크(200)를 적층한 후 박막 패턴 시트를 Wet 또는 Dry Etching 등의 화학적 방법을 통해 다수의 미세홀(210)들을 형성한다. 또한, 이러한 미세홀(210)들은 원형 또는 사각, 삼각 등의 형태를 가질 수 있으며, 미세홀(210)을 형성시에는 하부의 베이스 마스크(100)에 형성된 홀(110)의 크기 및 위치에 미세홀(210)들이 포함되도록 형성함이 바람직하다.
박막 패턴 마스크(200)에 미세홀(210)이 형성되면, 박막 패턴 마스크(200)가 적층된 베이스 마스크(100)를 마스크 프레임(300) 상에 적층하여 고정한다. 적층 방식은 본딩, 용접 및 여러 가지 가능한 방식을 사용하여 겹치게 고정할 수 있으며, 겹치거나 프레임에 고정시에는 고 정밀 얼라인 기능 및 고정 전후에 패턴의 사이즈 및 형태가 변형되지 않도록 별도의 기능이 추가될 수 있다. 이는 물리적인 강성을 주거나 일정한 힘으로 당겨 작은 외력에도 쉽게 형태나 사이즈 위치가 변형이 되지 않도록 고정하기 위함이다.
상기와 같은 제조방법으로 생산된 패턴 마스크는 종래의 마스크 사이즈와 큰 차이가 없으므로 기존 생산라인에 적용하여 사용 가능하다. 또한 대형 사이즈의 마스크 제작도 가능하다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 초 미세정밀 메탈 마스크는 OLED 공정 중 패터닝(patterning) 공정과 관련하여 파인 메탈 마스크의 베이스 마스크(100)에 얇은 두께의 박막 패턴 마스크(200)를 적층 후 화학적 식각을 통해 고해상도 AMOLED 디스플레이 패턴을 구현할 수 있다. 따라서, 향후 고해상도가 필요한 새로운 VR관련 시장 진입이 용의 및 생산 수율의 향상으로 제조 단가 낮출 수 있어 관련 제품의 대중화 및 시장을 확대할 수 있다.
또한, 소정의 두께를 갖는 베이스 마스크 상에 박막 패턴 마스크를 적층 후 마스크 프레임에 적층되어 고정되기 때문에 수 마이크로미터의 두께를 갖는 박막 패턴 마스크가 마스크 프레임에 적층 시 처짐을 방지할 수 있다.
한편, 본 명세서와 도면에 개시된 본 발명의 실시 예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시 예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형 예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.
100 : 베이스 마스크 110 : 홀
200 : 박막 패턴 마스크 210 : 미세홀
300 : 마스크 프레임

Claims (12)

  1. 마스크 프레임 상에 적층되고, 다수의 홀들이 형성된 베이스 마스크; 및
    상기 베이스 마스크 상에 적층되고, 다수의 미세홀들이 형성된 박막 패턴 마스크를 포함하는 초 미세정밀 메탈 마스크.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 박막 패턴 마스크의 두께는 상기 베이스 마스크의 두께 보다 얇은 두께를 갖는 것인 초 미세정밀 메탈 마스크.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 박막 패턴 마스크는 수 마이크로미터의 두께를 갖는 것인 초 미세정밀 메탈 마스크.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 다수의 홀들은 동일한 크기를 가지며, 동일한 간격으로 이격되어 형성된 것인 초 미세정밀 메탈 마스크.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 다수의 미세홀들은 다수의 군을 이루며 형성되되, 상기 다수의 군은 동일한 크기를 갖고, 동일한 간격으로 이격되어 형성된 것인 초 미세정밀 메탈 마스크.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 다수의 군은 상기 다수의 홀들의 위치에 대응되도록 형성되는 것인 초 미세정밀 메탈 마스크.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 다수의 군 중 각각의 군의 크기는 상기 다수의 홀들의 각각의 크기와 같거나 또는 작은 크기를 갖는 것인 초 미세정밀 메탈 마스크.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 베이스 마스크는 본딩 또는 용접을 이용하여 상기 마스크 프레임 상에 고정되는 것인 초 미세정밀 메탈 마스크.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 다수의 미세홀들은 Wet 또는 Dry Etching을 이용하여 형성되는 것인 초 미세정밀 메탈 마스크.
  10. 다수의 홀들이 형성된 베이스 마스크 및 상기 베이스 마스크 보다 얇은 두께를 갖는 박막 패턴 마스크를 준비하는 단계;
    상기 베이스 마스크 상에 상기 박막 패턴 마스크를 적층하는 단계;
    상기 박막 패턴 마스크 상에 다수의 미세홀들을 형성하는 단계; 및
    상기 박막 패턴 마스크가 적층된 상기 베이스 마스크를 마스크 프레임 상에 고정하는 단계를 포함하는 초 미세정밀 메탈 마스크 제조방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 다수의 미세홀들은 Wet 또는 Dry Etching을 이용하여 형성되는 것인 초 미세정밀 메탈 마스크 제조방법.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 다수의 미세홀들은 다수의 군을 이루며 형성되되, 각각의 군의 크기는 상기 다수의 홀들의 각각의 크기보다 작은 크기를 갖는 것인 초 미세정밀 메탈 마스크 제조방법.
KR1020180057903A 2017-05-19 2018-05-21 프레임 시트를 갖는 다중구조의 초 미세정밀 메탈 마스크 및 그의 제조방법 KR20180127257A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170062131 2017-05-19
KR20170062131 2017-05-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20180127257A true KR20180127257A (ko) 2018-11-28

Family

ID=64561806

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180057903A KR20180127257A (ko) 2017-05-19 2018-05-21 프레임 시트를 갖는 다중구조의 초 미세정밀 메탈 마스크 및 그의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20180127257A (ko)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102000548B1 (ko) 2019-01-11 2019-07-17 (주)세우인코퍼레이션 펨토초 레이저 가공 방식을 이용한 마스크 시트 제조방법
KR102193044B1 (ko) 2020-07-10 2020-12-18 풍원정밀(주) 금속 마스크 제조 시스템 및 방법
KR102242859B1 (ko) 2020-07-22 2021-04-21 풍원정밀(주) 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법
KR102242860B1 (ko) 2020-07-22 2021-04-21 풍원정밀(주) 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법
KR102284404B1 (ko) 2020-07-22 2021-08-02 풍원정밀(주) 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102000548B1 (ko) 2019-01-11 2019-07-17 (주)세우인코퍼레이션 펨토초 레이저 가공 방식을 이용한 마스크 시트 제조방법
KR102193044B1 (ko) 2020-07-10 2020-12-18 풍원정밀(주) 금속 마스크 제조 시스템 및 방법
KR102242859B1 (ko) 2020-07-22 2021-04-21 풍원정밀(주) 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법
KR102242860B1 (ko) 2020-07-22 2021-04-21 풍원정밀(주) 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법
KR102284404B1 (ko) 2020-07-22 2021-08-02 풍원정밀(주) 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20180127257A (ko) 프레임 시트를 갖는 다중구조의 초 미세정밀 메탈 마스크 및 그의 제조방법
US10934613B2 (en) Mask plate, mask plate assembly including mask plate and method for manufacturing same
JP4444909B2 (ja) マスク組立体及びそれを用いたマスクフレーム組立体
US11414739B2 (en) Mask frame assembly and evaporation device
JP6344505B2 (ja) フレーム一体型の樹脂層付き金属マスクの製造方法
CN109487206B (zh) 掩膜版及采用该掩膜版的掩膜装置
TWI623632B (zh) 蒸鍍用磁性掩模板的製作方法
US10626492B2 (en) Mask assembly for thin film deposition and method of manufacturing the same
EP3456856B1 (en) Mask plate
JP2018525529A (ja) 小開口の蒸着用マスキングプレート
WO2017117999A1 (zh) 金属掩模板及其制作方法
EP3444845B1 (en) Method for manufacturing a display substrate
KR20170112673A (ko) 증착용마스크 및 이를 이용한 oled 패널
JP5895540B2 (ja) 蒸着マスク
KR100853544B1 (ko) 평판 표시장치 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 이를이용한 증착장비
WO2021073191A1 (zh) 一种掩膜版
US9905762B2 (en) Display substrate and fabricating method thereof, and system for fabricating display substrate and display device
WO2016145763A1 (zh) 一种金属掩膜板及其制作出的有机电致发光显示器件
WO2021027794A1 (zh) 掩膜板组件
CN107815641A (zh) 掩膜板
US20140251210A1 (en) Mask structure, mask assembly including the same, and mask structure manufacturing method
KR20180127258A (ko) 고해상도 amoled 디스플레이 패널 제작을 위한 초 미세정밀 메탈 마스크 및 그의 제조방법
CN103966548B (zh) 一种掩模板及其制作方法、掩模组件
KR102100296B1 (ko) 분할 마스크 조립체
JP6123928B2 (ja) 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application