KR20180113222A - Photosensitive coloring composition, cured product, coloring spacer, image display device - Google Patents

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Abstract

파장 700 ㎚ 부근의 광 누설이 적고, 파장 900 ㎚ 부근의 투과율이 우수하고, 또한 자외선 조사 후의 전기 신뢰성이 우수한 감광성 착색 조성물을 제공한다. 본 발명의 감광성 착색 조성물은, (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광 중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 함유하는 감광성 착색 조성물로서, 상기 (a) 착색제가, (a1) 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 유기 흑색 안료, (a2) C. I. 피그먼트 블루 60, 그리고 (a3) 카본 블랙을 함유하고, 상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 상기 (a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 150 질량부 이상이다.
[화학식 1]

Figure pct00052
Provided is a photosensitive coloring composition having less light leakage near a wavelength of 700 nm, excellent transmittance near a wavelength of 900 nm, and excellent electrical reliability after ultraviolet irradiation. The photosensitive coloring composition of the present invention is a photosensitive coloring composition comprising (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, (A) at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (I), a geometric isomer of the compound, a salt of the compound, and a salt of a geometric isomer of the compound: (A3) a content ratio of the organic black pigment (a1) relative to 100 parts by mass of the carbon black is 150 (a2) Mass part or more.
[Chemical Formula 1]
Figure pct00052

Description

감광성 착색 조성물, 경화물, 착색 스페이서, 화상 표시 장치Photosensitive coloring composition, cured product, coloring spacer, image display device

본 발명은 감광성 착색 조성물 등에 관한 것이다. 상세하게는, 예를 들어 액정 디스플레이 등의 화상 표시 장치에 있어서 착색 스페이서 등의 형성에 바람직하게 사용되는 감광성 착색 조성물, 이 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물, 이 경화물로 형성되는 착색 스페이서, 이 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive coloring composition and the like. More specifically, the present invention relates to a photosensitive coloring composition which is preferably used for forming coloring spacers and the like in an image display apparatus such as a liquid crystal display, a cured product obtained by curing the photosensitive coloring composition, a colored spacer formed by the cured product, And an image display device having the coloring spacer.

2017년 2월 15일에 일본 특허청에 출원된 일본 특허출원 2017-026369, 및 2017년 8월 31일에 일본 특허청에 출원된 일본 특허출원 2017-166318 의 명세서, 특허 청구의 범위, 도면 및 요약서의 전체 내용, 그리고 본 명세서에서 인용된 문헌 등에 개시된 내용의 일부 또는 전부를 여기에 인용하고, 본 명세서의 개시 내용으로서 받아들인다.Japanese Patent Application No. 2017-026369 filed on February 15, 2017, and Japanese Patent Application No. 2017-166318 filed on August 31, 2017, Japanese Patent Application No. 2017-166318, claims, drawings and summary Some or all of the contents disclosed in the entire contents and the documents cited in this specification are hereby incorporated herein by reference.

액정 디스플레이 (LCD) 는 액정에의 전압의 온·오프에 의해 액정 분자의 나열법이 바뀌는 성질을 이용하고 있다. 한편, LCD 의 셀을 구성하는 각 부재는, 포토리소그래피법으로 대표되는, 감광성 조성물을 이용한 방법에 의해 형성되는 것이 많다. 이 감광성 조성물은, 미세한 구조를 형성하기 쉽고, 대화면용의 기판에 대한 처리도 하기 쉽다는 이유에서, 향후 더욱 그 적용 범위는 넓어지는 경향이 있다.A liquid crystal display (LCD) utilizes a property of changing the arrangement of liquid crystal molecules by turning on / off the voltage to the liquid crystal. On the other hand, each member constituting the cell of an LCD is often formed by a method using a photosensitive composition represented by a photolithography method. This photosensitive composition tends to have a wider range of application in the future because it is easy to form a fine structure and is easy to treat a substrate for a large screen.

그러나, 감광성 조성물을 사용하여 제조한 LCD 는, 감광성 조성물 자체의 전기 특성이나, 감광성 조성물 중에 함유되는 불순물의 영향으로, 액정에 가해지는 전압이 유지되지 않고, 이로써 디스플레이의 표시 불균일 등의 문제가 발생하는 경우가 있다. 특히, 컬러 액정 디스플레이에 있어서의 액정층에 보다 가까운 부재, 예를 들어, 액정 패널에 있어서 2 장의 기판의 간격을 일정하게 유지하기 위해서 사용되고 있는, 소위, 주상 (柱狀) 스페이서, 포토 스페이서 등에서는 그 영향은 크다.However, the LCD manufactured by using the photosensitive composition is not maintained with the voltage applied to the liquid crystal due to the electric characteristics of the photosensitive composition itself or the influence of impurities contained in the photosensitive composition, thereby causing problems such as display unevenness of the display . Particularly, in a so-called columnar spacer, a photo spacer, or the like, which is used to keep a gap between two substrates closer to the liquid crystal layer in a color liquid crystal display, for example, a liquid crystal panel The effect is large.

종래, 차광성을 갖지 않는 스페이서를 TFT 형 LCD 에 사용하는 경우, 스페이서를 투과해 오는 광에 의해 스위칭 소자로서의 TFT 가 오작동을 일으키는 경우가 있었다. 이것을 방지하기 위해, 차광성을 갖는 스페이서 (착색 스페이서) 를 사용하는 방법이 검토되고 있다.Conventionally, when a spacer having no light shielding property is used for a TFT-type LCD, a TFT serving as a switching element may malfunction due to light transmitted through a spacer. In order to prevent this, a method of using spacers (colored spacers) having light shielding properties has been studied.

한편 최근, 패널의 구조의 변화에 수반하여, 높이가 상이한 착색 스페이서를 포토리소그래피법에 의해 일괄 형성하는 방법이 제안되어 있다. 예를 들어 특허문헌 1 에는, 특정한 흑색 안료종을 사용함으로써, 차광성, 분산성, 제판성이 우수하고, 또한 충분히 낮은 비유전률을 실현할 수 있는 것이 개시되어 있다.On the other hand, in recent years, a method of collectively forming colored spacers having different heights by a photolithography method has been proposed along with a change in the structure of the panel. For example, Patent Document 1 discloses that by using a specific black pigment species, it is possible to realize a light-shielding property, a dispersibility, a plate-making property, and a sufficiently low relative permittivity.

또 특허문헌 2 에는, 안료에 복수종의 유기 착색 안료를 사용함으로써, 탄성 회복률, 해상도, 내화학성이 우수하고, 또 블랙 매트릭스의 특성도 만족시키는 착색 감광성 수지 조성물에 대해 개시되어 있다.Patent Document 2 discloses a colored photosensitive resin composition which is excellent in elastic recovery rate, resolution, and chemical resistance and satisfies the characteristics of a black matrix by using a plurality of organic colored pigments in the pigment.

국제 공개 제2015/046178호International Publication No. 2015/046178 한국 공개 특허 제10-2014-0096423호Korean Patent Publication No. 10-2014-0096423

최근의 패널 구조의 변화에 수반하여, 착색 스페이서에 있어서, 파장 700 ㎚ 부근에서도 광 누설을 일으키는 일 없이, 또 노광시에 마스크 위치 맞춤을 위한 마크를 인식할 수 있도록 파장 900 ㎚ 부근의 투과율을 확보하는 것이 필요한 경우가 있다.Along with the recent change in the panel structure, in the colored spacer, the transmittance near the wavelength 900 nm is secured so as not to cause light leakage even in the vicinity of the wavelength 700 nm and to recognize the mark for mask alignment at the time of exposure .

한편, 액정 배향성 향상을 위해 액정 셀 제조 후에 자외선 조사를 실시하는 방법이 확대되어 오고 있다. 자외선 조사를 실시하면 안료 혹은 그 처리제 등의 일부가 분해되어, 불순물을 발생시키는 경향이 있지만, 그 경우에 있어서도 충분한 전기 신뢰성을 유지할 것이 요구되고 있다.On the other hand, in order to improve the liquid crystal alignment property, a method of irradiating ultraviolet rays after manufacturing a liquid crystal cell has been expanded. When ultraviolet ray irradiation is performed, a part of the pigment or its treating agent tends to be decomposed to generate impurities. However, even in this case, it is required to maintain sufficient electrical reliability.

본 발명자들이 특허문헌 1 에 기재되어 있는 감광성 착색 조성물에 대해 검토한 결과, 파장 700 ㎚ 부근의 광 누설의 억제와, 파장 900 ㎚ 부근의 광의 투과율의 확보의 양립이 곤란하였다.As a result of studies on the photosensitive coloring composition described in Patent Document 1, the inventors of the present invention have found that it is difficult to achieve both suppression of light leakage near a wavelength of 700 nm and securing of light transmittance near a wavelength of 900 nm.

또 특허문헌 2 에 기재되어 있는 감광성 착색 조성물에 대해 검토한 결과, 특히 자외선 조사 후에 전기 신뢰성을 확보하는 것이 곤란하였다.As a result of studies on the photosensitive coloring composition described in Patent Document 2, it has been difficult to secure electrical reliability particularly after ultraviolet ray irradiation.

그래서 본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 파장 700 ㎚ 부근의 광 누설이 적고, 파장 900 ㎚ 부근의 광의 투과율이 우수하고, 또한 자외선 조사 후의 전기 신뢰성이 우수한 감광성 착색 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a photosensitive coloring composition having less light leakage near a wavelength of 700 nm, excellent light transmittance near 900 nm and excellent electrical reliability after ultraviolet irradiation do.

본 발명자들이 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 실시한 결과, 감광성 착색 조성물에 있어서, 특정한 유기 흑색 안료, C. I. 피그먼트 블루 60 및 카본 블랙을 사용하고, 또한 카본 블랙에 대한 특정한 유기 흑색 안료의 함유 비율을 특정 범위로 함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명에 이르렀다.The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to solve the above problems. As a result, it has been found that a specific organic black pigment, CI Pigment Blue 60 and carbon black are used in the photosensitive coloring composition and the content ratio of a specific organic black pigment to carbon black To a specific range, the present inventors have found out that the above problems can be solved, and have reached the present invention.

즉, 본 발명은 이하의 [1] ∼ [12] 의 구성을 갖는다.That is, the present invention has the following structures [1] to [12].

[1] (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광 중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 함유하는 감광성 착색 조성물로서,[1] A photosensitive coloring composition comprising (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, and (f)

상기 (a) 착색제가, (a1) 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 유기 흑색 안료, (a2) C. I. 피그먼트 블루 60, 그리고 (a3) 카본 블랙을 함유하고,Wherein the (a) colorant comprises (a1) at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (I), a geometric isomer of the compound, a salt of the compound and a salt of a geometric isomer of the compound (A2) CI Pigment Blue 60, and (a3) carbon black,

상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 상기 (a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 150 질량부 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 착색 조성물.Wherein the content of the organic black pigment (a1) in the (a3) 100 parts by mass of the carbon black is 150 parts by mass or more.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 (I) 중, R1 및 R6 은 각각 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이고 ;(In the formula (I), R 1 and R 6 are each independently a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;

R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이고 ; R 2, R 3, R 4 , R 5, R 7, R 8, R 9 and R 10 is a halogen atom, R 11, COOH, COOR 11, COO hydrogen atoms, each independently -, CONH 2, CONHR 11, CONR 11 R 12, CN, OH , OR 11, COCR 11, OOCNH 2, OOCNHR 11, OOCNR 11 R 12, NO 2, NH 2, NHR 11, NR 11 R 12, NHCOR 12, NR 11 COR 12, N = CH 2, N = CHR 11, N = CR 11 R 12, SH, SR 11, SOR 11, SO 2 R 11, SO 3 R 11, SO 3 H, SO 3 -, SO 2 NH 2, SO 2 NHR 11 or SO 2 NR 11 R 12 and;

또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합할 수도 있고, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브릿지에 의해 서로 결합할 수도 있고 ;At least one combination selected from the group consisting of R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 7 and R 8 , R 8 and R 9 , and R 9 and R 10 , Or they may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR < 11 > bridges;

R11 및 R12 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다)R 11 and R 12 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms )

[2] 상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 상기 (a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 200 질량부 이상인, [1] 에 기재된 감광성 착색 조성물.[2] The photosensitive coloring composition according to [1], wherein the content of (a1) the organic black pigment in the (a3) 100 parts by mass of the carbon black is 200 parts by mass or more.

[3] 상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 상기 (a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 210 질량부 이상인, [1] 또는 [2] 에 기재된 감광성 착색 조성물.[3] The photosensitive colored composition according to [1] or [2], wherein the content of the organic black pigment (a1) is 210 parts by mass or more based on 100 parts by mass of the carbon black (a3).

[4] 상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 상기 (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 의 함유 비율이 200 질량부 이상인, [1] ∼ [3] 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 조성물.[4] The photosensitive colored composition according to any one of [1] to [3], wherein the (a3) content of the C. I. Pigment Blue 60 (a2) relative to 100 parts by mass of the carbon black is 200 parts by mass or more.

[5] 상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 전체 유기 안료의 함유 비율의 합계가 550 질량부 이상인, [1] ∼ [4] 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 조성물.[5] The photosensitive colored composition according to any one of [1] to [4], wherein the total content of the organic pigments in the (a3) 100 parts by mass of the carbon black is 550 parts by mass or more.

[6] 상기 (a) 착색제의 함유 비율이 전체 고형분 중 10 질량% 이상인, [1] ∼ [5] 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 조성물.[6] The photosensitive colored composition according to any one of [1] to [5], wherein the content of the colorant (a) in the total solid content is 10% by mass or more.

[7] 상기 (a) 착색제의 함유 비율이 전체 고형분 중 45 질량% 이하인, [1] ∼ [6] 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 조성물.[7] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [6], wherein the content of the colorant (a) in the total solid content is 45% by mass or less.

[8] 상기 (b) 알칼리 가용성 수지가, (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지를 함유하는, [1] ∼ [7] 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 조성물.[8] The photosensitive colored composition according to any one of [1] to [7], wherein the alkali-soluble resin (b) comprises (b1) an epoxy (meth) acrylate resin.

[9] 경화된 도막의 막두께 1 ㎛ 당의 광학 농도가 1.0 이상인, [1] ∼ [8] 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 조성물.[9] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [8], wherein the cured coating film has an optical density per 1 μm of the film thickness of 1.0 or more.

[10] [1] ∼ [9] 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.[10] A cured product obtained by curing the photosensitive colored composition according to any one of [1] to [9].

[11] [10] 에 기재된 경화물로 형성되는 착색 스페이서.[11] A colored spacer formed from the cured product according to [10].

[12] [11] 에 기재된 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치.[12] An image display apparatus comprising the coloring spacer according to [11].

본 발명에 의하면, 파장 700 ㎚ 부근의 광 누설이 적고, 파장 900 ㎚ 부근에서의 광의 투과율이 우수하고, 자외선 조사 후의 전기 신뢰성이 우수한 감광성 착색 조성물, 경화물 및 착색 스페이서를 제공할 수 있고, 또한 이와 같은 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive coloring composition, a cured product, and a colored spacer excellent in electrical reliability after irradiation with ultraviolet rays, having less light leakage near a wavelength of 700 nm, excellent transmittance of light at a wavelength of 900 nm, An image display apparatus having such a coloring spacer can be provided.

도 1 은 실시예에서 사용한 전극 기판 (B) 의 상면의 모식도이다.
도 2 는 실시예에서 사용한 측정용 액정 셀의 측면의 모식도이다.
도 3 은 이온 밀도 측정에 있어서의 1 사이클의 인가 전압의 파형의 개략도와, 측정 전류의 파형의 개략도이다.
1 is a schematic view of an upper surface of an electrode substrate B used in the embodiment.
2 is a schematic view of a side surface of a liquid crystal cell for measurement used in the embodiment.
3 is a schematic diagram of a waveform of an applied voltage in one cycle in ion density measurement and a schematic diagram of a waveform of a measured current.

이하, 본 발명의 실시형태를 구체적으로 설명하지만, 본 발명은, 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 그 요지의 범위 내에서 여러 가지로 변경하여 실시할 수 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications may be made within the scope of the present invention.

또한, 본 발명에 있어서, 「(메트)아크릴」 이란 「아크릴 및/또는 메타크릴」 을 의미하고, 「(메트)아크릴레이트」, 「(메트)아크릴로일」 에 대해서도 동일하다.In the present invention, "(meth) acryl" means "acrylic and / or methacrylic", and "(meth) acrylate" and "(meth) acryloyl"

「(공)중합체」 란, 단일 중합체 (호모폴리머) 와 공중합체 (코폴리머) 의 쌍방을 포함하는 것을 의미하고, 「산(무수물)」, 「(무수)… 산」 이란, 산과 그 무수물의 쌍방을 포함하는 것을 의미한다. 또, 본 발명에 있어서 「아크릴계 수지」 란, (메트)아크릴산을 포함하는 (공)중합체, 카르복실기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 포함하는 (공)중합체를 의미한다.The term "(co) polymer" means both of a homopolymer (homopolymer) and a copolymer (copolymer), and the term "(co) polymer" Quot; acid " means containing both an acid and an anhydride thereof. In the present invention, "acrylic resin" means a (co) polymer containing (meth) acrylic acid or a (co) polymer containing a (meth) acrylic ester having a carboxyl group.

또, 본 발명에 있어서 「모노머」 란, 이른바 고분자 물질 (폴리머) 에 상대되는 용어이고, 협의의 단량체 (모노머) 외에, 2 량체, 3 량체, 올리고머 등도 포함하는 의미이다.In the present invention, the term " monomer " refers to a so-called polymer material (polymer), and includes not only the monomer (monomer) but also the dimer, trimer and oligomer.

본 발명에 있어서 「전체 고형분」 이란, 감광성 착색 조성물 중 또는 후술하는 잉크 중에 함유되는, 용제 이외의 전체 성분을 의미하는 것으로 한다.In the present invention, the term " total solid content " means all components other than the solvent contained in the photosensitive coloring composition or in the ink described below.

본 발명에 있어서, 「중량 평균 분자량」 이란, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 을 가리킨다.In the present invention, the "weight average molecular weight" refers to the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by GPC (Gel Permeation Chromatography).

또, 본 발명에 있어서, 「아민가」 란, 특별히 언급하지 않는 한, 유효 고형분 환산의 아민가를 나타내고, 분산제의 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내는 값이다. 또한, 측정 방법에 대해서는 후술한다. 한편, 「산가」 란, 특별히 언급하지 않는 한 유효 고형분 환산의 산가를 나타내고, 중화 적정에 의해 산출된다.In the present invention, " amine value " means the amine value in terms of effective solid content, unless otherwise specified, and is a value expressed by mass of KOH in terms of the amount of the base group per 1 g of the solid content of the dispersant. The measuring method will be described later. On the other hand, "acid value" means an acid value in terms of effective solid content unless otherwise stated, and is calculated by neutralization titration.

또 안료에 관해, 「C. I.」 란 컬러 인덱스를 의미한다.Regarding the pigment, " C.I. I. " means a color index.

또, 본 명세서에 있어서, 「질량」 으로 나타내는 백분율이나 부는 「중량」 으로 나타내는 백분율이나 부와 동일한 의미이다.In the present specification, the percentages and parts denoted by " mass " have the same meaning as the percentages and parts denoted by " weight ".

[감광성 착색 조성물][Photosensitive coloring composition]

본 발명의 감광성 착색 조성물은,In the photosensitive coloring composition of the present invention,

(a) 착색제(a) a colorant

(b) 알칼리 가용성 수지(b) an alkali-soluble resin

(c) 광 중합 개시제(c) a photopolymerization initiator

(d) 에틸렌성 불포화 화합물(d) Ethylenically unsaturated compound

(e) 용제(e) Solvent

(f) 분산제를 필수 성분으로서 함유하고, 필요에 따라, 추가로 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 도포성 향상제, 현상 개량제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면 활성제, 안료 유도체 등, 그 밖의 배합 성분을 함유하는 것이고, 통상, 각 배합 성분이, 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다.(f) a dispersant as an essential component and, if necessary, further additives such as a silane coupling agent and the like adhesion improver, a coating property improving agent, a development improving agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a surfactant, , And usually, each compounding ingredient is used in a state dissolved or dispersed in a solvent.

본 발명의 감광성 착색 조성물은, (a) 착색제가, (a1) 후술하는 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 유기 흑색 안료, (a2) C. I. 피그먼트 블루 60, 및 (a3) 카본 블랙을 함유하고, 상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 상기 (a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 150 질량부 이상이다. 이하, 각 성분을 상세히 서술한다.The photosensitive coloring composition of the present invention is characterized in that (a) the coloring agent comprises (a1) a group consisting of a compound represented by the general formula (I) described later, a geometric isomer of the compound, a salt of the compound and a salt of a geometric isomer of the compound (A2) CI Pigment Blue 60, and (a3) carbon black, wherein (a3) the organic black pigment (a1) based on 100 parts by mass of the carbon black, Is not less than 150 parts by mass. Hereinafter, each component will be described in detail.

<(a) 착색제>< (a) Colorant >

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서의 (a) 착색제는, 하기 (a1), (a2) 및 (a3) 을 필수 성분으로서 함유한다.The colorant (a) in the photosensitive coloring composition of the present invention contains the following (a1), (a2) and (a3) as essential components.

(a1) 후술하는 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 유기 흑색 안료(a1) an organic black pigment containing at least one member selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (I), a geometric isomer of the compound, a salt of the compound, and a salt of a geometric isomer of the compound

(a2) C. I. 피그먼트 블루 60(a2) C. I. Pigment Blue 60

(a3) 카본 블랙(a3) carbon black

이들 안료 중, (a1) 및 (a2) 는 유기 안료이고, (a3) 은 무기 안료이다.Among these pigments, (a1) and (a2) are organic pigments, and (a3) is an inorganic pigment.

<(a1) 유기 흑색 안료>< (a1) Organic black pigment >

전술한 바와 같이, 본 발명의 감광성 착색 조성물에 함유되는 (a) 착색제는, (a1) 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 유기 흑색 안료 (이하, 「(a1) 유기 흑색 안료」 라고 약기하는 경우가 있다) 를 필수 성분으로서 함유한다. (a1) 유기 흑색 안료를 함유함으로써, 차광성을 확보하고, 액정의 전압 유지율의 저하를 억제하고, 또, 자외선의 흡수를 억제하여 형상이나 단차를 컨트롤하기 쉽다고 생각된다.As described above, the colorant (a) contained in the photosensitive coloring composition of the present invention comprises (a1) a compound represented by the following general formula (I), a geometric isomer of the compound, a salt of the compound and a geometric isomer (Hereinafter sometimes to be abbreviated as &quot; (a1) organic black pigment &quot;) as an essential component. (a1) It is considered that by containing the organic black pigment, it is easy to secure the light shielding property, to suppress the decrease of the voltage holding ratio of the liquid crystal, to suppress the absorption of ultraviolet rays, and to control the shape and the level difference.

[화학식 2](2)

Figure pct00002
Figure pct00002

식 (I) 중, R1 및 R6 은 각각 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이고 ;In the formula (I), R 1 and R 6 are each independently a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;

R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이고 ; R 2, R 3, R 4 , R 5, R 7, R 8, R 9 and R 10 is a halogen atom, R 11, COOH, COOR 11, COO hydrogen atoms, each independently -, CONH 2, CONHR 11, CONR 11 R 12, CN, OH , OR 11, COCR 11, OOCNH 2, OOCNHR 11, OOCNR 11 R 12, NO 2, NH 2, NHR 11, NR 11 R 12, NHCOR 12, NR 11 COR 12, N = CH 2, N = CHR 11, N = CR 11 R 12, SH, SR 11, SOR 11, SO 2 R 11, SO 3 R 11, SO 3 H, SO 3 -, SO 2 NH 2, SO 2 NHR 11 or SO 2 NR 11 R 12 and;

또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합할 수도 있고, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브릿지에 의해 서로 결합할 수도 있고 ;At least one combination selected from the group consisting of R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 7 and R 8 , R 8 and R 9 , and R 9 and R 10 , Or they may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR &lt; 11 &gt; bridges;

R11 및 R12 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.R 11 and R 12 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms .

일반식 (I) 로 나타내는 화합물이나 그 화합물의 기하 이성체는, 이하의 코어 구조를 갖고 (단, 구조식 중의 치환기는 생략하고 있다), 트랜스-트랜스 이성체가 아마 가장 안정적이다.The compound represented by the general formula (I) or the geometric isomer of the compound has the following core structure (however, the substituent in the structural formula is omitted), and the trans-trans isomer is probably the most stable.

[화학식 3](3)

Figure pct00003
Figure pct00003

일반식 (I) 로 나타내는 화합물이 아니온성인 경우, 그 전하를 임의의 공지된 적합한 카티온, 예를 들어 금속, 유기, 무기 또는 금속 유기 카티온, 구체적으로는 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 천이 금속, 1 급 암모늄, 2 급 암모늄, 트리알킬암모늄 등의 3 급 암모늄, 테트라알킬암모늄 등의 4 급 암모늄 또는 유기 금속 착물에 의해 보상한 염인 것이 바람직하다. 또, 일반식 (I) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체가 아니온성인 경우, 동일한 염인 것이 바람직하다.When the compound represented by the general formula (I) is not anionic, its charge can be converted to any known suitable cation such as a metal, an organic, an inorganic or a metal organic cation, particularly an alkali metal, an alkaline earth metal, , Quaternary ammonium such as primary ammonium, secondary ammonium or trialkylammonium, quaternary ammonium such as tetraalkylammonium, or salt compensated by an organometallic complex. When the geometric isomer of the compound represented by the general formula (I) is not anionic, the same salt is preferred.

일반식 (I) 의 치환기 및 그들의 정의에 있어서는, 차폐율이 높아지는 경향이 있으므로, 이하가 바람직하다. 이것은, 이하의 치환기는 흡수가 없고, 안료의 색상에 영향을 미치지 않는다고 생각되기 때문이다.In the substituent groups of the formula (I) and their definitions, the shielding ratio tends to be high. This is because it is considered that the following substituents do not absorb and do not affect the color of the pigment.

R2, R4, R5, R7, R9 및 R10 은 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, 불소 원자, 또는 염소 원자이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.R 2 , R 4 , R 5 , R 7 , R 9 and R 10 are each independently preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom, more preferably a hydrogen atom.

R3 및 R8 은 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자 또는 SO3H 이다.R 3 and R 8 are each independently preferably a hydrogen atom, NO 2, OCH 3, OC 2 H 5, a bromine atom, a chlorine atom, CH 3, C 2 H 5 , N (CH 3) 2, N (CH 3 ) (C 2 H 5 ), N (C 2 H 5 ) 2 , α-naphthyl, β-naphthyl, SO 3 H or SO 3 - , more preferably a hydrogen atom or SO 3 H.

R1 및 R6 은 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, CH3 또는 CF3 이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.R 1 and R 6 are each independently preferably a hydrogen atom, CH 3 or CF 3 , more preferably a hydrogen atom.

바람직하게는, R1 과 R6, R2 와 R7, R3 과 R8, R4 와 R9, 및 R5 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합이 동일한 치환기로 구성되고, 보다 바람직하게는, R1 은 R6 과 동일한 치환기이고, R2 는 R7 과 동일한 치환기이고, R3 은 R8 과 동일한 치환기이고, R4 는 R9 와 동일한 치환기이고, 또한 R5 는 R10 과 동일한 치환기이다.Preferably, at least one combination selected from the group consisting of R 1 and R 6 , R 2 and R 7 , R 3 and R 8 , R 4 and R 9 , and R 5 and R 10 is composed of the same substituent , More preferably R 1 is the same substituent as R 6 , R 2 is the same substituent as R 7 , R 3 is the same substituent as R 8 , R 4 is the same substituent as R 9, and R 5 is R 10 .

탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 2-메틸부틸기, n-펜틸기, 2-펜틸기, 3-펜틸기, 2,2-디메틸프로필기, n-헥실기, 헵틸기, n-옥틸기, 1,1,3,3-테트라메틸부틸기, 2-에틸헥실기, 노닐기, 데실기, 운데실기 또는 도데실기이다.Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, Pentyl group, 3-pentyl group, 2,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, heptyl group, n- octyl group, 1,1,3,3- An ethylhexyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group or a dodecyl group.

탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기는, 예를 들어, 시클로프로필기, 시클로프로필메틸기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기, 트리메틸시클로헥실기, 투일기, 노르보르닐기, 보르닐기, 노르카릴기, 카릴기, 멘틸기, 노르피닐기, 피닐기, 1-아다만틸기 또는 2-아다만틸기이다.The cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms includes, for example, a cyclopropyl group, a cyclopropylmethyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexylmethyl group, a trimethylcyclohexyl group, a toluyl group, a norbornyl group, A norbornyl group, a norbornyl group, a norbornyl group, a norbornyl group, a norbornyl group, a norbornyl group, a norbornyl group, a norbornyl group,

탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기는, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 2-프로펜-2-일기, 2-부텐-1-일기, 3-부텐-1-일기, 1,3-부타디엔-2-일기, 2-펜텐-1-일기, 3-펜텐-2-일기, 2-멘틸-1-부텐-3-일기, 2-메틸-3-부텐-2-일기, 3-메틸-2-부텐-1-일기, 1,4-펜타디엔-3-일기, 헥세닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기 또는 도데세닐기이다.Examples of the alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, a 2-propen-2-yl group, a 2-buten-1-yl group, Methyl-3-butene-2-yl group, 3-methyl-2-thiol group, A buten-1-yl group, a 1,4-pentadiene-3-yl group, a hexenyl group, an octenyl group, a nonenyl group, a decenyl group or a dodecenyl group.

탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기는, 예를 들어, 2-시클로부텐-1-일기, 2-시클로펜텐-1-일기, 2-시클로헥센-1-일기, 3-시클로헥센-1-일기, 2,4-시클로헥사디엔-1-일기, 1-p-멘텐-8-일기, 4(10)-투옌-10-일기, 2-노르보르넨-1-일기, 2,5-노르보르나디엔-1-일기, 7,7-디메틸-2,4-노르카라디엔-3-일기 또는 캄페닐기이다.The cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms includes, for example, a 2-cyclobutene-1-yl group, a 2-cyclopenten-1-yl group, a 2-cyclohexene- Cyclohexadien-1-yl group, 1-p-menthen-8-yl group, 4 (10) -toyen-10-yl group, 2-norbornen- En-1-yl group, a 7,7-dimethyl-2,4-norcaradien-3-yl group or a camphhenyl group.

탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기는, 예를 들어, 1-프로핀-3-일기, 1-부틴-4-일기, 1-펜틴-5-일기, 2-메틸-3-부틴-2-일기, 1,4-펜타디인-3-일기, 1,3-펜타디인-5-일기, 1-헥실-6-일기, 시스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 트랜스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 1,3-헥사디인-5-일기, 1-옥틴-8-일기, 1-노닌-9-일기, 1-데신-10-일기 또는 1-도데신-12-일기이다.The alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms includes, for example, a 1-propyn-3-yl group, a 1-butyne-4-yl group, Pentadien-5-yl group, a 1-hexyl-6-yl group, a cis-3-methyl- Octyne-8-yl group, 1-nonyne-9-yl group, 1-decyne- Yl group or a 1-dodecyn-12-yl group.

할로겐 원자는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자이다.The halogen atom is, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

상기 (a1) 유기 흑색 안료는, 상기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하면 되지만, 그들 중 복수종을 함유하고 있어도 된다. 상기 (a1) 유기 흑색 안료는, 차광성이나 전기 신뢰성의 관점에서, 상기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 이루어지는 것임이 바람직하다.When the organic black pigment (a1) contains at least one member selected from the group consisting of the compound represented by the general formula (I), the geometric isomer of the compound, the salt of the compound, and the salt of the geometric isomer of the compound However, they may contain a plurality of them. The organic black pigment (a1) is preferably at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the general formula (I), a geometric isomer of the compound, a salt of the compound, and a salt of a geometric isomer of the compound from the viewpoints of light- , And the like.

상기 (a1) 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 하기 일반식 (I-1) 로 나타내는 화합물 및/또는 상기 화합물의 기하 이성체이고, 보다 바람직하게는 하기 일반식 (I-1) 로 나타내는 화합물이다.The organic black pigment (a1) is preferably a compound represented by the following formula (I-1) and / or a geometric isomer of the compound, more preferably a compound represented by the following formula (I-1).

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

이와 같은 유기 흑색 안료의 구체예로는, 상품명으로, Irgaphor (등록상표) Black S 0100 CF (BASF 사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of such organic black pigments include Irgaphor (registered trademark) Black S 0100 CF (manufactured by BASF) under the trade name.

이 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 후술되는 분산제, 용제, 방법에 의해 분산되어 사용된다. 또, 분산시에 상기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물의 술폰산 유도체 (술폰산 치환체), 특히 상기 일반식 (I-1) 로 나타내는 화합물의 술폰산 유도체가 존재하면, 분산성이나 보존성이 향상되는 경우가 있기 때문에, 상기 (a1) 유기 흑색 안료가 이들 술폰산 유도체를 추가로 함유하는 것이 바람직하다. 술폰산 유도체로는, 예를 들어, 상기 일반식 (I) 에 있어서, R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개가 SO3H 인 것을 들 수 있다.The organic black pigment is preferably dispersed and used by a dispersant, a solvent and a method described later. The presence of a sulfonic acid derivative (sulfonic acid substituent) of the compound represented by the above general formula (I), particularly, a sulfonic acid derivative of the compound represented by the above general formula (I-1) at the time of dispersion improves dispersibility and storage stability , It is preferable that the organic black pigment (a1) further contains these sulfonic acid derivatives. As the sulfonic acid derivative, for example, at least one selected from the group consisting of R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 in the general formula (I) SO &lt; 3 &gt; H.

또, 색도 조정을 위해, 상기 (a1) 유기 흑색 안료가 추가로 하기 일반식 (I-2) 로 나타내는 화합물 및/또는 상기 화합물의 기하 이성체를 함유하는 것이 바람직하다.In order to adjust the chromaticity, it is preferable that the organic black pigment (a1) further contains a compound represented by the following general formula (I-2) and / or a geometric isomer of the above compound.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

<(a2) C. I. 피그먼트 블루 60>< (a2) C. I. Pigment Blue 60 >

본 발명의 감광성 착색 조성물에 함유되는 (a) 착색제는, (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 을 필수 성분으로서 함유한다.The colorant (a) contained in the photosensitive coloring composition of the present invention contains (a2) C. I. Pigment Blue 60 as an essential component.

상기 (a1) 유기 흑색 안료는 파장 650 ∼ 750 ㎚ 부근의 투과율이 높고, 그 파장 영역의 차광성이 불충분하지만, (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 은 그 파장 영역에 흡수대를 가지고 있기 때문에, (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 을 병용함으로써 그 파장 영역에 있어서의 투과율을 저하시킬 수 있는 것으로 생각된다.Since the organic black pigment (a1) has a high transmittance in the vicinity of 650 to 750 nm and insufficient light shielding property in its wavelength region, (a2) CI Pigment Blue 60 has an absorption band in its wavelength region, ) CI Pigment Blue 60 is used in combination, it is considered that the transmittance in the wavelength region can be lowered.

또 (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 은, C. I. 피그먼트 블루 15 : 6 등의 다른 청색 안료에 대해, 300 ∼ 400 ㎚ 부근의 투과율이 높고, 자외선의 흡수를 억제하여 착색 스페이서의 형상이나 단차를 컨트롤하기 쉽다. 또, 불순물의 용출이 적어 전압 유지율이 높고, 이온 밀도가 낮다. 특히, 자외선의 흡수가 적으므로, 자외선 조사에 의한 분해나 불순물의 용출 등도 적다고 생각되고, 액정 배향성 향상을 위한 자외선 조사 후에 있어서도, 전압 유지율이나 이온 밀도의 저하가 적고, 전기 신뢰성이 우수하다.(A2) CI Pigment Blue 60 has a high transmittance in the vicinity of 300 to 400 nm with respect to other blue pigments such as CI Pigment Blue 15: 6, suppressing the absorption of ultraviolet rays and controlling the shape and level difference of colored spacers easy to do. In addition, since the elution of impurities is small, the voltage holding ratio is high and the ion density is low. Particularly, since absorption of ultraviolet rays is small, decomposition by ultraviolet irradiation and elution of impurities are considered to be small, and even after irradiation with ultraviolet rays for improving liquid crystal alignability, reduction in voltage retention rate and ion density is small and electrical reliability is excellent.

<(a3) 카본 블랙><(a3) Carbon Black>

본 발명의 감광성 착색 조성물에 함유되는 (a) 착색제는, (a3) 카본 블랙을 필수 성분으로서 함유한다.The colorant (a) contained in the photosensitive coloring composition of the present invention contains (a3) carbon black as an essential component.

(a3) 카본 블랙은 가시 영역의 전체 파장에 있어서 전면적으로 흡수 스펙트럼을 갖고, 또한 투과율도 낮기 때문에, (a1) 유기 흑색 안료, (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 에 더하여, (a3) 카본 블랙을 함유함으로써, 고차광성을 달성할 수 있음과 함께, 광 누설도 억제할 수 있고, 또, 전체 고형분에 대한 착색제의 함유 비율을 낮게 할 수 있고, 그에 따라 높은 전기 신뢰성을 확보할 수 있는 것으로 생각된다.(a3) Since the carbon black has an absorption spectrum over the entire wavelength at the entire wavelength of the visible region and has a low transmittance, (a1) an organic black pigment, (a2) CI Pigment Blue 60, (a3) , It is considered that it is possible to suppress the light leakage and to reduce the content ratio of the coloring agent to the total solid content and thereby to secure a high electrical reliability .

카본 블랙의 예로는, 이하와 같은 카본 블랙을 들 수 있다.Examples of the carbon black include the following carbon blacks.

미츠비시 케미컬사 제조 : MA7, MA8, MA11, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, MA600, MCF88, #5, #10, #20, #25, #30, #32, #33, #40, #44, #45, #47, #50, #52, #55, #650, #750, #850, #900, #950, #960, #970, #980, #990, #1000, #2200, #2300, #2350, #2400, #2600, #2650, #3030, #3050, #3150, #3250, #3400, #3600, #3750, #3950, #4000, #4010, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B, OIL31BManufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: MA7, MA8, MA11, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, MA600, MCF88, # 5, # 10, # 20, # 25, # 30, # 32, # 33, # 40 , # 44, # 45, # 47, # 50, # 52, # 55, # 650, # 750, # 850, # 900, # 950, # 960, # 970, # 980, # 990, # 1000, 2200, # 2300, # 2350, # 2400, # 2600, # 2650, # 3030, # 3050, # 3150, # 3250, # 3400, # 3600, # 3750, # 3950, # 4000, # 4010, , OIL11B, OIL30B, OIL31B

데구사사 제조 : Printex (등록상표, 이하 동일) 3, Printex3OP, Printex30, Printex30OP, Printex40, Printex45, Printex55, Printex60, Printex75, Printex80, Printex85, Printex90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex U, Printex V, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Color Black S170Printex 3, Printex 3OP, Printex 30, Printex 30, Printex 40, Printex 45, Printex 55, Printex 60, Printex 75, Printex 80, Printex 85, Printex 90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex (registered trademark) U, Printex V, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Color Black S170

캐봇사 제조 : Monarch (등록상표, 이하 동일) 120, Monarch280, Monarch460, Monarch800, Monarch880, Monarch900, Monarch1000, Monarch1100, Monarch1300, Monarch1400, Monarch4630, REGAL (등록상표, 이하 동일) 99, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL55R0, REGAL660R, BLACK PEARLS480, PEARLS130, VULCAN (등록상표, 이하 동일) XC72R, ELFTEX (등록상표)-8Monarch 180, Monarch 460, Monarch 800, Monarch 880, Monarch 900, Monarch 1000, Monarch 1100, Monarch 1300, Monarch 1400, Monarch 4630, REGAL (registered trademark), REGAL 99R, REGAL 415, REGAL 415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL55R0, REGAL660R, BLACK PEARLS480, PEARLS130, VULCAN (registered trademark) XC72R, ELFTEX (registered trademark) -8

비를라사 제조 : RAVEN (등록상표, 이하 동일) 11, RAVEN14, RAVEN15, RAVEN16, RAVEN22RAVEN30, RAVEN35, RAVEN40, RAVEN410, RAVEN420, RAVEN450, RAVEN500, RAVEN780, RAVEN850, RAVEN890H, RAVEN1000, RAVEN1020, RAVEN1040, RAVEN1060U, RAVEN1080U, RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000(Registered trademark) 11, RAVEN 14, RAVEN 15, RAVEN 16, RAVEN 15, RAVEN 15, RAVEN 15, RAVEN 14, RAVEN 14, RAVEN 14, RAVEN 14, RAVEN 14, RAVEN 14, RAVEN 10, RAVEN 880, , RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000

또한, 본 발명에서 사용하는 카본 블랙의 표면의 pH 는 특별히 한정되지 않지만, 9 이하가 바람직하고, 7 이하가 보다 바람직하고, 5 이하가 더욱 바람직하고, 4 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한값 이하로 함으로써 분산제가 부착되기 쉽고, 분산성이 양호해지는 경향이 있다. 카본 블랙의 표면의 pH 는 낮을수록 바람직하지만, 통상 2 이상이다.The pH of the surface of the carbon black used in the present invention is not particularly limited, but is preferably 9 or less, more preferably 7 or less, further preferably 5 or less, and particularly preferably 4 or less. When the amount is less than the upper limit, the dispersant tends to adhere and the dispersibility tends to be good. The lower the pH of the surface of the carbon black is, the more preferable it is usually 2 or more.

또한, 카본 블랙의 표면의 pH 는, 카본 블랙의 분체를 물에 분산시키고, 그 분산액에 대해 수계의 pH 측정을 실시함으로써 측정된다.The pH of the surface of the carbon black is measured by dispersing the powder of the carbon black in water and conducting a pH measurement of the aqueous solution against the dispersion.

또 카본 블랙의 평균 입자경은, 8 ㎚ 이상이 바람직하고, 17 ㎚ 이상이 보다 바람직하고, 21 ㎚ 이상이 더욱 바람직하고, 또 100 ㎚ 이하가 바람직하고, 65 ㎚ 이하가 보다 바람직하고, 40 ㎚ 이하가 더욱 바람직하고, 32 ㎚ 이하가 특히 바람직하다. 상기 상한값 이하로 함으로써, 분산 안정성, 보존성이 양호해지는 경향이 있고, 또 하한값 이상으로 함으로써 차광성이 양호해지는 경향이 있다.The average particle diameter of the carbon black is preferably 8 nm or more, more preferably 17 nm or more, further preferably 21 nm or more, further preferably 100 nm or less, more preferably 65 nm or less, and 40 nm or less Still more preferably 32 nm or less. When the amount is less than the above upper limit value, dispersion stability and storage stability tends to be good, and when it is more than the lower limit value, the light shielding property tends to be good.

본 발명에 있어서의 카본 블랙의 평균 입자경은 수평균 입자경을 의미한다. 일반적으로 카본 블랙의 평균 입자경은 전자 현미경 관찰에 의해 수만배로 촬영된 사진을 수시야 촬영하고, 이들 사진의 입자를 화상 처리 장치에 의해 2000 ∼ 3000 개 정도 계측하는 입자 화상 해석에 의해 구해진다.The average particle diameter of the carbon black in the present invention means the number average particle diameter. In general, the average particle diameter of carbon black is obtained by photographing a photograph taken at several tens of magnifications by electron microscope observation, and by particle image analysis in which particles of these photographs are measured by an image processing apparatus to about 2,000 to 3,000 pieces.

또, 카본 블랙은 수지로 피복된 것을 사용해도 상관없다. 수지로 피복된 카본 블랙을 사용하면, 유리 기판에의 밀착성이나 체적 저항값을 향상시키는 효과가 있다. 수지로 피복된 카본 블랙으로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 평09-71733호에 기재되어 있는 카본 블랙 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 체적 저항이나 유전율의 점에서, 수지 피복 카본 블랙이 바람직하게 사용된다.The carbon black coated with a resin may be used. The use of carbon black coated with a resin has the effect of improving the adhesion to a glass substrate and the volume resistance value. As the carbon black coated with resin, for example, carbon black described in JP-A-09-71733 can be preferably used. Resin-coated carbon black is preferably used in terms of volume resistance and permittivity.

수지에 의한 피복 처리에 제공하는 카본 블랙으로는, Na 와 Ca 의 합계 함유량이 100 ppm 이하인 것이 바람직하다. 카본 블랙은, 통상, 제조시의 원료유나 연소유 (또는 가스), 반응 정지수나 조립수 (造粒水), 나아가서는 반응로의 노재 등으로부터 혼입된 Na 나, Ca, K, Mg, Al, Fe 등을 조성으로 하는 회분 (灰分) 이 함유되어 있다. 이 중, Na 나 Ca 는, 각각 수백 ppm 이상 함유되어 있는 것이 일반적이지만, 이들을 줄임으로써, 투명 전극 (ITO) 이나 그 밖의 전극에의 침투를 억제하여, 전기적 단락을 방지할 수 있는 경향이 있다.It is preferable that the total content of Na and Ca is 100 ppm or less as the carbon black to be provided for the coating treatment by the resin. Carbon black is usually mixed with Na, Ca, K, Mg, Al, or the like mixed in from raw oil, lead oxide (or gas), reaction stop water, granulated water, Fe and so on. Among these, Na and Ca are generally contained in several hundreds ppm or more, respectively. However, by reducing these, penetration into the transparent electrode (ITO) and other electrodes is suppressed, and electric short-circuiting can be prevented.

이들 Na 나 Ca 를 함유하는 회분의 함유량을 저감시키는 방법으로는, 카본 블랙을 제조할 때의 원료유나 연료유 (또는 가스) 그리고 반응 정지수로서, 이들 함유량이 최대한 적은 것을 엄선하는 것, 및 스트럭처를 조정하는 알칼리 물질의 첨가량을 최대한 줄임으로써 가능하다. 다른 방법으로는, 노로부터 제출 (製出) 된 카본 블랙을 물이나 염산 등으로 씻어 Na 나 Ca 를 용해시켜 제거하는 방법을 들 수 있다.As a method for reducing the content of the ash containing Na or Ca, there are a method of selecting as the raw material oil, fuel oil (or gas), and reaction stop water at the time of producing carbon black as few as possible, This is possible by minimizing the addition amount of the alkali substance to be adjusted. Another method is to wash the carbon black produced from the furnace with water or hydrochloric acid to dissolve Na or Ca and remove the carbon black.

구체적으로는 카본 블랙을 물, 염산, 또는 과산화수소수에 혼합 분산시킨 후, 물에 난용의 용매를 첨가해가면 카본 블랙은 용매측으로 이행하여, 물과 완전히 분리됨과 함께 카본 블랙 중에 존재한 대부분의 Na 나 Ca 는, 물이나 산에 용해, 제거된다. Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 저감시키기 위해서는, 원재료를 엄선한 카본 블랙 제조 과정 단독, 또는 물이나 산 용해 방식 단독으로도 가능한 경우도 있지만, 이 양 방식을 병용함으로써 더욱 용이하게 Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 할 수 있다.Specifically, when carbon black is mixed and dispersed in water, hydrochloric acid, or aqueous hydrogen peroxide and then a soft solvent is added to the water, the carbon black migrates to the solvent side and is completely separated from the water, and most Na Ca is dissolved and removed in water or acid. In order to reduce the total amount of Na and Ca to 100 ppm or less, it is possible to use a raw material in a carbon black manufacturing process alone or in a water or acid dissolving method alone. However, The total amount can be made 100 ppm or less.

또 수지 피복 카본 블랙은, pH6 이하의 이른바 산성 카본 블랙인 것이 바람직하다. 수중에서의 분산 직경 (어글로머레이트 직경) 이 작아지므로, 미세 유닛까지의 피복이 가능해져 바람직하다. 또한 평균 입자경 40 ㎚ 이하, 디부틸프탈레이트 (DBP) 흡수량 140 ㎖/100 g 이하인 것이 바람직하다. 상기 범위 내로 함으로써, 차광성이 양호한 도막이 얻어지는 경향이 있다.The resin-coated carbon black is preferably an acidic carbon black having a pH of 6 or less. The dispersion diameter (Agglomerate diameter) in water becomes small, so that it is possible to cover up to the fine unit. And an average particle diameter of 40 nm or less and a dibutyl phthalate (DBP) absorption amount of 140 ml / 100 g or less. Within the above range, a coating film having good light shielding property tends to be obtained.

수지로 피복된 카본 블랙을 조제하는 방법에는 특별히 한정은 없지만, 예를 들어 카본 블랙 및 수지의 배합량을 적절히 조정한 후, 1. 수지와 시클로헥사논, 톨루엔, 자일렌 등의 용제를 혼합하여 가열 용해시킨 수지 용액과, 카본 블랙 및 물을 혼합한 현탁액을 혼합 교반하고, 카본 블랙과 물을 분리시킨 후, 물을 제거하여 가열 혼련하여 얻어진 조성물을 시트상으로 성형하여, 분쇄한 후, 건조시키는 방법 ; 2. 상기와 동일하게 하여 조제한 수지 용액과 현탁액을 혼합 교반하여 카본 블랙 및 수지를 입상화한 후, 얻어진 입상물을 분리, 가열하여 잔존하는 용제 및 물을 제거하는 방법 ; 3. 상기 예시한 용제에 말레산, 푸마르산 등의 카르복실산을 용해시키고, 카본 블랙을 첨가, 혼합하여 건조시키고, 용제를 제거하여 카르복실산 첨착 (添着) 카본 블랙을 얻은 후, 이것에 수지를 첨가하여 드라이 블렌드하는 방법 ; 4. 피복시키는 수지를 구성하는 반응성기 함유 모노머 성분과 물을 고속 교반하여 현탁액을 조제하고, 중합 후 냉각시켜 중합체 현탁액으로부터 반응성기 함유 수지를 얻은 후, 이것에 카본 블랙을 첨가하여 혼련하고, 카본 블랙과 반응성기를 반응시키고 (카본 블랙을 그래프트시키고), 냉각 및 분쇄하는 방법 등을 채용할 수 있다.The method for preparing the carbon black coated with the resin is not particularly limited. For example, after appropriately adjusting the amount of the carbon black and the resin, the resin is mixed with a solvent such as cyclohexanone, toluene or xylene, A suspension obtained by mixing the resin solution dissolved with carbon black and water is mixed and stirred to separate the carbon black and water, and then the water is removed and heated and kneaded. The composition obtained is shaped into a sheet, pulverized and then dried Way ; 2. A method of granulating carbon black and a resin by mixing and stirring the resin solution and suspension prepared in the same manner as above to separate and heat the obtained granular material to remove remaining solvent and water; 3. Carboxylic acid such as maleic acid or fumaric acid is dissolved in the above-mentioned solvent, carbon black is added, mixed and dried, and the solvent is removed to obtain carboxylic acid-impregnated carbon black, Followed by dry blending; 4. A suspension containing a reactive group-containing monomer component constituting the resin to be coated and water is stirred at a high speed to prepare a suspension. After polymerization and cooling to obtain a reactive group-containing resin from the polymer suspension, carbon black is added thereto, A method of reacting black with a reactive group (grafting carbon black), cooling, and pulverizing can be adopted.

피복 처리하는 수지의 종류도 특별히 한정되는 것은 아니지만, 합성 수지가 일반적이고, 또한 구조 중에 벤젠 고리를 갖는 수지가, 양쪽성 계면 활성제와 동일한 작용이 있어, 분산성 및 분산 안정성의 점에서 바람직하다.The kind of the resin to be coated is not particularly limited, but a synthetic resin is common, and a resin having a benzene ring in its structure has the same action as an amphoteric surfactant, and is preferable in terms of dispersibility and dispersion stability.

구체적인 합성 수지로는, 페놀 수지, 멜라민 수지, 자일렌 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 글립탈 수지, 에폭시 수지, 알킬벤젠 수지 등의 열경화성 수지나, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 변성 폴리페닐렌옥사이드, 폴리술폰, 폴리파라페닐렌테레프탈아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리아미노비스말레이미드, 폴리에테르술포폴리페닐렌술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르에테르케톤 등의 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 피복 수지의 양은, 카본 블랙과 수지의 합계량에 대하여 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 피복을 충분한 것으로 할 수 있는 경향이 있다. 한편, 상기 상한값 이하로 함으로써, 수지끼리의 점착을 막아, 분산성이 양호한 것으로 할 수 있는 경향이 있다.Specific examples of the synthetic resin include thermosetting resins such as phenol resin, melamine resin, xylene resin, diallyl phthalate resin, grit resin, epoxy resin and alkylbenzene resin, and thermosetting resins such as polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate Examples of the thermoplastic resin composition of the present invention include thermoplastic resins such as polybutylene terephthalate, phthalate, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyamino bismaleimide, polyethersulfopolyphenylene sulfone, polyarylate, Resin can be used. The amount of the coating resin is preferably 1 to 30% by mass based on the total amount of the carbon black and the resin. When the amount is above the lower limit value, there is a tendency that the coating can be made sufficient. On the other hand, when the amount is less than the upper limit, adhesion between the resins is prevented, and the dispersibility tends to be good.

이와 같이 하여 수지로 피복 처리하여 이루어지는 카본 블랙은, 통상적인 방법에 따라 착색 스페이서의 착색제로서 사용할 수 있고, 이 착색 스페이서를 구성 요소로 하는 컬러 필터를 통상적인 방법에 의해 제조할 수 있다. 이와 같은 카본 블랙을 사용하면, 고차광률로 또한 표면 반사율이 낮은 착색 스페이서를 저비용으로 형성할 수 있는 경향이 있다. 또, 카본 블랙 표면을 수지로 피복함으로써, Ca 나 Na 를 카본 블랙 중에 가두어두는 기능이 있는 것도 추측된다.Carbon black obtained by coating with a resin in this way can be used as a coloring agent for a coloring spacer according to a conventional method, and a color filter having the coloring spacer as a component can be produced by a conventional method. When such carbon black is used, there is a tendency that a color spacer having a high light-shielding ratio and a low surface reflectance can be formed at low cost. It is also presumed that the carbon black surface has a function of confining Ca or Na in the carbon black by coating the surface with a resin.

<그 밖의 착색제>&Lt; Other coloring agents >

본 발명의 감광성 착색 조성물에 함유되는 (a) 착색제는, 상기 (a1), (a2) 및 (a3) 의 안료 이외에, 그 밖의 안료나 그 밖의 염료 등의 그 밖의 착색제를 함유하고 있어도 된다. 그 밖의 착색제의 색에는 특별히 제한은 없고, 적색, 등색, 청색, 자색, 녹색, 황색 등의 각 색의 착색제를 사용할 수 있다. 또, 상기 (a1) 및 (a3) 이외의 흑색 안료를 사용할 수도 있다. 그 밖의 착색제로는, 액정의 전압 유지율의 저하를 억제하고, 또, 자외선의 흡수를 억제하여 착색 스페이서의 형상이나 단차를 컨트롤하기 쉽게 한다는 관점에서는, 유기 안료를 사용하는 것이 바람직하다.The colorant (a) contained in the photosensitive coloring composition of the present invention may contain other coloring agents such as other pigments and other dyes in addition to the pigments of (a1), (a2) and (a3). The color of the other colorants is not particularly limited, and colorants of the respective colors such as red, orange, blue, purple, green, and yellow can be used. In addition, black pigments other than the above-mentioned (a1) and (a3) may be used. As other coloring agents, it is preferable to use an organic pigment from the viewpoint of suppressing a decrease in the voltage holding ratio of the liquid crystal, suppressing absorption of ultraviolet rays, and facilitating control of the shape and level difference of the colored spacer.

그 밖의 안료의 화학 구조는 특별히 한정되지 않지만, 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 인단트렌계, 페릴렌계 등의 유기 안료 외에 여러 가지 무기 안료 등도 이용 가능하다. 이하, 사용할 수 있는 유기 안료의 구체예를 피그먼트 넘버로 나타낸다.The chemical structure of the other pigments is not particularly limited. However, in addition to organic pigments such as azo pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, benzimidazolone pigments, isoindolinone pigments, dioxazine pigments, indanthrene pigments, Pigments and the like can also be used. Specific examples of the organic pigments that can be used hereinafter are represented by pigment numbers.

적색 안료로는, C. I. 피그먼트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48 : 1, 48 : 2, 48 : 3, 48 : 4, 49, 49 : 1, 49 : 2, 50 : 1, 52 : 1, 52 : 2, 53, 53 : 1, 53 : 2, 53 : 3, 57, 57 : 1, 57 : 2, 58 : 4, 60, 63, 63 : 1, 63 : 2, 64, 64 : 1, 68, 69, 81, 81 : 1, 81 : 2, 81 : 3, 81 : 4, 83, 88, 90 : 1, 101, 101 : 1, 104, 108, 108 : 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276 을 들 수 있다. 이 중에서도 차광성, 분산성의 관점에서, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 레드 48 : 1, 122, 149, 168, 177, 179, 194, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, 272, 더욱 바람직하게는 C. I. 피그먼트 레드 177, 209, 224, 254, 272, 특히 바람직하게는 C. I. 피그먼트 레드 177, 254, 272 를 들 수 있다. 자외선으로 경화시키는 경우에는 적색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 레드 254, 272 가 보다 바람직하다.As the red pigment, CI Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38 50: 1, 52: 1, 52: 2, 53, 53: 1, 48: 3, 48: 4, 49, 49: 63: 63: 2, 64, 64: 1, 68, 69, 81, 81: 1, 53: 2, 53: 3, 57, 57: , 81: 2, 81: 3, 81: 4, 83, 88, 90: 1, 101, 101: 1, 104, 108, 108: 1, 109, 112, 113, 114, , 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202 , 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, , 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, . Of these, CI Pigment Red 48: 1, 122, 149, 168, 177, 179, 194, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, 272 Preferred are CI Pigment Red 177, 209, 224, 254, 272, particularly preferably CI Pigment Red 177, 254, 272. In the case of curing with ultraviolet rays, it is preferable to use a red pigment having a low ultraviolet absorption rate. From this viewpoint, C. I. Pigment Red 254, 272 is more preferable.

등색 (오렌지) 안료로는, C. I. 피그먼트 오렌지 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79 를 들 수 있다. 또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C. I. 피그먼트 오렌지 13, 43, 64, 72 가 바람직하고, 자외선으로 경화시키는 경우에는 오렌지 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 오렌지 64, 72 가 보다 바람직하고, C. I. 피그먼트 오렌지 64 가 더욱 바람직하다.Examples of orange color pigments include CI Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, In addition, CI Pigment Orange 13, 43, 64 and 72 are preferable from the viewpoints of dispersibility and light shielding property. When curing with ultraviolet rays, it is preferable to use an orange pigment having a low ultraviolet ray absorption rate. CI Pigment Orange 64 is more preferable, and CI Pigment Orange 64 is more preferable.

청색 안료로는, C. I. 피그먼트 블루 1, 1 : 2, 9, 14, 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56 : 1, 61, 61 : 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79 를 들 수 있다. 이 중에서도, 분산성이나 차광성의 점에서, C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, 16 이 바람직하다.The blue pigments include CI Pigment Blue 1, 1: 2, 9, 14, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 17, 19, , 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56: 1, 61, 61: 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, . Among these, CI Pigment Blue 15: 6 and 16 are preferable from the viewpoints of dispersibility and light shielding.

자색 안료로는, C. I. 피그먼트 바이올렛 1, 1 : 1, 2, 2 : 2, 3, 3 : 1, 3 : 3, 5, 5 : 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50 을 들 수 있다. 이 중에서도 차광성의 관점에서, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 29, 더욱 바람직하게는 C. I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 를 들 수 있다.CI Pigment Violet 1, 1: 1, 2, 2: 2, 3, 3: 1, 3: 3, 5, 5: 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27 , 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, Among these, CI Pigment Violet 19, CI 23 and CI 29, and more preferably CI Pigment Violet 23 and 29 are preferable from the viewpoint of light shielding.

또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C. I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 가 바람직하고, 자외선으로 경화시키는 경우에는 자색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 바이올렛 29 가 보다 바람직하다. 또, 차광성의 관점에서도, C. I. 피그먼트 바이올렛 29 가 바람직하다.CI Pigment Violet 23 and 29 are preferable from the viewpoints of dispersibility and light shielding property. In the case of curing with ultraviolet rays, it is preferable to use a violet pigment having a low ultraviolet absorption rate. From this viewpoint, CI Pigment Violet 23 29 is more preferable. Also, from the viewpoint of light shielding property, C.I. Pigment Violet 29 is preferable.

적색 안료, 등색 안료, 청색 안료, 자색 안료 외에 사용할 수 있는 유기 착색 안료로는 예를 들어, 녹색 안료, 황색 안료 등을 들 수 있다.Examples of the organic coloring pigments that can be used in addition to the red pigment, the orange pigment, the blue pigment, and the purple pigment include green pigments and yellow pigments.

녹색 안료로는, C. I. 피그먼트 그린 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55 를 들 수 있다. 이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 그린 7, 36 을 들 수 있다.As the green pigment, CI Pigment Green 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, . Among these, CI Pigment Green 7 and CI 36 are preferably used.

황색 안료로는, C. I. 피그먼트 옐로우 1, 1 : 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35 : 1, 36, 36 : 1, 37, 37 : 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62 : 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127 : 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191 : 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202, 203, 204, 205, 206, 207, 208 을 들 수 있다. 이 중에서도 분산성, 신뢰성의 관점에서, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 옐로우 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, 더욱 바람직하게는 C. I. 피그먼트 옐로우 83, 138, 139, 150, 180 을 들 수 있다.Examples of the yellow pigments include CI Pigment Yellow 1, 1: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35 : 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62: 1, 63, 65, 73, 74, 75, , 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127: , 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170 , 172, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191: 1, 192, 193, 194, 195, 196, , 200, 202, 203, 204, 205, 206, 207, 208. Of these, CI Pigment Yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180 and 185, and more preferably CI Pigment Yellow 83, 138, 139 , 150, and 180, respectively.

이들 중에서도, 차광성 및 신뢰성의 관점에서, 등색 안료 및/또는 자색 안료가 바람직하고, 차광성의 관점에서는 자색 안료가 보다 바람직하고, C. I. 피그먼트 바이올렛 29 가 더욱 바람직하다.Among these, an orange color pigment and / or a purple pigment are preferable from the viewpoint of light shielding property and reliability, and a purple pigment is more preferable from the viewpoint of light shielding property, and C. I. Pigment Violet 29 is more preferable.

(a1) 및 (a3) 이외의 흑색 안료로는, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 본 블랙, 흑연, 철흑, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 페릴렌 블랙 등을 들 수 있다.Examples of the black pigments other than (a1) and (a3) include acetylene black, lamp black, black black, graphite, iron black, aniline black, cyanine black, titanium black and perylene black.

또, 그 밖의 염료로는, 아조계 염료, 안트라퀴논계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 퀴논이민계 염료, 퀴놀린계 염료, 니트로계 염료, 카르보닐계 염료, 메틴계 염료 등을 들 수 있다.Examples of other dyes include azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, quinoneimine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, carbonyl dyes, and methine dyes.

아조계 염료로는, 예를 들어, C. I. 애시드 옐로우 11, C. I. 애시드 오렌지 7, C. I. 애시드 레드 37, C. I. 애시드 레드 180, C. I. 애시드 블루 29, C. I. 다이렉트 레드 28, C. I. 다이렉트 레드 83, C. I. 다이렉트 옐로우 12, C. I. 다이렉트 오렌지 26, C. I. 다이렉트 그린 28, C. I. 다이렉트 그린 59, C. I. 리액티브 옐로우 2, C. I. 리액티브 레드 17, C. I. 리액티브 레드 120, C. I. 리액티브 블랙 5, C. I. 디스퍼스 오렌지 5, C. I. 디스퍼스 레드 58, C. I. 디스퍼스 블루 165, C. I. 베이직 블루 41, C. I. 베이직 레드 18, C. I. 모르단트 레드 7, C. I. 모르단트 옐로우 5, C. I. 모르단트 블랙 7 등을 들 수 있다.Examples of the azo dyes include CI Acid Yellow 11, CI Acid Orange 7, CI Acid Red 37, CI Acid Red 180, CI Acid Blue 29, CI Direct Red 28, CI Direct Red 83, CI Direct Yellow 12, CI Direct Orange 26, CI Direct Green 28, CI Direct Green 59, CI Reactive Yellow 2, CI Reactive Red 17, CI Reactive Red 120, CI Reactive Black 5, CI Disperse Orange 5, CI Dispersed Red 58 CI Disperse Blue 165, CI Basic Blue 41, CI Basic Red 18, CI Mordant Red 7, CI Mordant Yellow 5, CI Mordant Black 7, and the like.

안트라퀴논계 염료로는, 예를 들어, C. I. 배트 블루 4, C. I. 애시드 블루 40, C. I. 애시드 그린 25, C. I. 리액티브 블루 19, C. I. 리액티브 블루 49, C. I. 디스퍼스 레드 60, C. I. 디스퍼스 블루 56, C. I. 디스퍼스 블루 60 등을 들 수 있다.Examples of the anthraquinone dyes include CI BAT BLUE 4, CI Acid Blue 40, CI Acid Green 25, CI Reactive Blue 19, CI Reactive Blue 49, CI Disperse Red 60, CI Disperse Blue 56, CI Disperse Blue 60, and the like.

이 밖에, 프탈로시아닌계 염료로서 예를 들어, C. I. 패드 블루 5 등을, 퀴논이민계 염료로서 예를 들어, C. I. 베이직 블루 3, C. I. 베이직 블루 9 등을, 퀴놀린계 염료로서 예를 들어, C. I. 솔벤트 옐로우 33, C. I. 애시드 옐로우 3, C. I. 디스퍼스 옐로우 64 등을, 니트로계 염료로서 예를 들어, C. I. 애시드 옐로우 1, C. I. 애시드 오렌지 3, C. I. 디스퍼스 옐로우 42 등을 들 수 있다.In addition, examples of the phthalocyanine dyes include CI Pad Blue 5, quinoneimine dyes such as CI Basic Blue 3 and CI Basic Blue 9, quinoline dyes such as CI Solvent Yellow, 33, CI Acid Yellow 3 and CI Disperse Yellow 64, and nitro-based dyes, for example, CI Acid Yellow 1, CI Acid Orange 3 and CI Disperse Yellow 42.

상기 (a1), (a2), (a3), 및 그 밖의 안료는, 평균 입자경이 통상 1 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 0.25 ㎛ 이하가 되도록, 분산시켜 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 평균 입자경의 기준은 안료 입자의 수이다.The above-mentioned (a1), (a2), (a3) and other pigments are preferably dispersed and used so that the average particle size is usually 1 μm or less, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.25 μm or less Do. Here, the reference of the average particle size is the number of pigment particles.

또한, 안료의 평균 입자경은, 동적 광 산란 (DLS) 에 의해 측정된 안료 입자경으로부터 구한 값이다. 입자경 측정은, 충분히 희석된 감광성 착색 조성물 (통상은 희석시켜, 안료 농도 0.005 ∼ 0.2 질량% 정도로 조제. 단 측정 기기에 의해 추천된 농도가 있으면, 그 농도에 따른다.) 에 대해 실시하고, 25 ℃ 에서 측정한다.The average particle size of the pigment is a value obtained from the pigment particle size measured by dynamic light scattering (DLS). The particle size measurement was carried out for a sufficiently diluted photosensitive coloring composition (usually diluted to a pigment concentration of about 0.005 to about 0.2 mass%, and if there is a recommended concentration by a measuring instrument, the concentration depends on the concentration) .

<(b) 알칼리 가용성 수지><(b) Alkali-soluble resin>

본 발명에서 사용하는 (b) 알칼리 가용성 수지로는, 카르복실기 또는 수산기를 함유하는 수지이면 특별히 한정은 없고, 예를 들어 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지, 아크릴계 수지, 카르복실기 함유 에폭시 수지, 카르복실기 함유 우레탄 수지, 노볼락계 수지, 폴리비닐페놀계 수지 등을 들 수 있지만, 그 중에서도The alkali-soluble resin (b) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a resin containing a carboxyl group or a hydroxyl group, and examples thereof include an epoxy (meth) acrylate resin, an acrylic resin, a carboxyl group-containing epoxy resin, Resins, novolac-based resins, and polyvinylphenol-based resins. Of these,

(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지(b1) an epoxy (meth) acrylate resin

(b2) 아크릴 공중합 수지(b2) Acrylic copolymer resin

가 우수한 제판성의 관점에서 바람직하게 사용된다. 이들은 1 종을 단독으로, 혹은 복수종을 혼합하여 사용할 수 있다.Is preferably used from the viewpoint of excellent formability. These may be used singly or in combination of plural kinds.

<(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지><(b1) Epoxy (meth) acrylate resin>

(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지는, 에폭시 화합물 (에폭시 수지) 과 α,β-불포화 모노카르복실산 및/또는 에스테르 부분에 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물의, 그 반응에 의해 생성한 수산기를 추가로 다염기산 및/또는 그 무수물 등의 수산기와 반응할 수 있는 치환기를 2 개 이상 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 수지이다.(b1) The epoxy (meth) acrylate resin is obtained by reacting an epoxy compound (epoxy resin) with a reaction product of an?,? - unsaturated monocarboxylic acid and / or an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group in the ester moiety Is a resin obtained by reacting a compound having two or more substituents capable of reacting with a hydroxyl group such as a polybasic acid and / or an anhydride thereof in addition to the hydroxyl group generated by the reaction.

또, 상기 다염기산 및/또는 그 무수물을 수산기와 반응시키기 전에, 그 수산기와 반응할 수 있는 치환기를 2 개 이상 갖는 화합물을 반응시킨 후, 다염기산, 및/또는 그 무수물을 반응시켜 얻어지는 수지도, 상기 (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지에 포함된다.The resin obtained by reacting the polybasic acid and / or the anhydride with a compound having two or more substituents capable of reacting with the hydroxyl group before reacting the polybasic acid and / or the anhydride with the hydroxyl group, and then reacting the polybasic acid and / (b1) an epoxy (meth) acrylate resin.

또 상기 반응으로 얻어진 수지의 카르복실기에, 추가로 반응할 수 있는 관능기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 수지도, 상기 (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지에 포함된다.The resin obtained by reacting the carboxyl group of the resin obtained by the above reaction with a compound having a functional group which can further react is also included in the epoxy (meth) acrylate resin (b1).

이와 같이, 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지는 화학 구조상, 실질적으로 에폭시기를 갖지 않고, 또한 「(메트)아크릴레이트」 에 한정되는 것은 아니지만, 에폭시 화합물 (에폭시 수지) 이 원료이고, 또한 「(메트)아크릴레이트」 가 대표예이므로 관용에 따라 이와 같이 명명되고 있다.As such, the epoxy (meth) acrylate resin has no chemical structure and substantially no epoxy group and is not limited to "(meth) acrylate", but an epoxy compound (epoxy resin) ) Acrylate &quot; is a representative example, so it is named according to the common usage.

본 발명에서 사용하는 (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지로는, 특히 하기 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-1) 및/또는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-2) (이하 「카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지」 라고 칭하는 경우가 있다) 가 현상성, 신뢰성의 관점에서 바람직하게 사용된다.The epoxy (meth) acrylate resin (b1-1) and / or the epoxy (meth) acrylate resin (b1-2) used as the (meth) (Hereinafter sometimes referred to as a &quot; carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin &quot;) is preferably used from the viewpoints of developability and reliability.

<에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (b1-1)>&Lt; Epoxy (meth) acrylate resin (b1-1) >

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다염기산 및/또는 그 무수물을 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.An alkali-soluble resin obtained by adding an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group to an epoxy resin and further reacting the polybasic acid and / or an anhydride thereof.

<에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 알칼리 가용성 수지 (b1-2)><Epoxy (meth) acrylate-series resin alkali-soluble resin (b1-2)>

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다가 알코올, 및 다염기산 및/또는 그 무수물과 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.An alkali-soluble resin obtained by adding an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group to an epoxy resin and further reacting with a polyhydric alcohol and a polybasic acid and / or an anhydride thereof.

여기서, 에폭시 수지란, 열경화에 의해 수지를 형성하기 이전의 원료 화합물도 포함하여 말하는 것으로 하고, 그 에폭시 수지로는, 공지된 에폭시 수지 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또, 에폭시 수지는, 페놀성 화합물과 에피할로하이드린을 반응시켜 얻어지는 화합물을 사용할 수 있다. 페놀성 화합물로는, 2 가 혹은 2 가 이상의 페놀성 수산기를 갖는 화합물이 바람직하고, 단량체이어도 되고 중합체이어도 된다.Here, the epoxy resin is also referred to as a raw material compound before the resin is formed by thermal curing, and the epoxy resin can be appropriately selected from among known epoxy resins. As the epoxy resin, a compound obtained by reacting a phenolic compound with epihalohydrin can be used. As the phenolic compound, a compound having a phenolic hydroxyl group with a divalent or trivalent or more is preferable, and a monomer or a polymer may be used.

원료가 되는 에폭시 수지의 종류로는, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 트리스페놀메탄형 에폭시 수지, 비페닐 노볼락형 에폭시 수지, 나프탈렌 노볼락형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔과 페놀 또는 크레졸의 중부가 반응물과 에피할로하이드린의 반응 생성물인 에폭시 수지, 아다만틸기 함유 에폭시 수지, 플루오렌형 에폭시 수지 등을 바람직하게 사용할 수 있고, 이와 같이 주사슬에 방향족 고리를 갖는 것을 바람직하게 사용할 수 있다.Examples of the raw material epoxy resin include cresol novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, biphenyl novolak type epoxy resin , Naphthalene novolak type epoxy resin, epoxy resin, adamanthyl group-containing epoxy resin, fluorene type epoxy resin and the like which are reaction products of dicyclopentadiene and phenol or cresol and epihalohydrin are preferably used , And thus having an aromatic ring in the main chain can be preferably used.

또, 에폭시 수지의 구체예로는, 예를 들어, 비스페놀 A 형 에폭시 수지 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의 「jER (등록상표, 이하 동일) 828」, 「jER1001」, 「jER1002」, 「jER1004」 등), 비스페놀 A 형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로르하이드린의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「NER-1302」 (에폭시 당량 323, 연화점 76 ℃)), 비스페놀 F 형 수지 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의 「jER807」, 「EP-4001」, 「EP-4002」, 「EP-4004」 등), 비스페놀 F 형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로르하이드린의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「NER-7406」 (에폭시 당량 350, 연화점 66 ℃)), 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비페닐글리시딜에테르 (예를 들어, 미츠비시 케미컬사 제조의 「YX-4000」), 페놀 노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EPPN-201」, 미츠비시 케미컬사 제조의 「EP-152」, 「EP-154」, 다우 케미컬사 제조의 「DEN-438」), (o, m, p-) 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EOCN (등록상표, 이하 동일)-102S」, 「EOCN-1020」, 「EOCN-104S」), 트리글리시딜이소시아누레이트 (예를 들어, 닛산 화학사 제조의 「TEPIC (등록상표)」), 트리스페놀메탄형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰 화약사 제조의 「EPPN (등록상표, 이하 동일)-501」, 「EPPN-502」, 「EPPN-503」), 지환식 에폭시 수지 (다이셀사 제조의 「셀록사이드 (등록상표, 이하 동일) 2021P」, 「셀록사이드 EHPE」), 디시클로펜타디엔과 페놀의 반응에 의한 페놀 수지를 글리시딜화한 에폭시 수지 (예를 들어, DIC 사 제조의 「EXA-7200」, 닛폰 화약사 제조의 「NC-7300」), 하기 일반식 (B1) ∼ (B4) 로 나타내는 에폭시 수지 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 구체적으로는, 하기 일반식 (B1) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰 화약사 제조의 「XD-1000」, 하기 일반식 (B2) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰 화약사 제조의 「NC-3000」, 하기 일반식 (B4) 로 나타내는 에폭시 수지로서 신닛테츠 스미킨 화학사 제조의 「ESF-300」 등을 들 수 있다.Specific examples of the epoxy resin include, for example, bisphenol A type epoxy resins (for example, &quot; jER (registered trademark, the same hereinafter) 828 &quot;, &quot; jER1001 &quot;, &quot; jER1002 &quot; NER-1302 &quot; (epoxy equivalent 323, softening point 76 캜) obtained by reaction of an alcoholic hydroxyl group of a bisphenol A type epoxy resin with epichlorohydrin (for example, (E.g., "jER807", "EP-4001", "EP-4002", and "EP-4004" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), bisphenol F type resins NER-7406 &quot; (epoxy equivalent weight: 350, softening point: 66 占 폚) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), bisphenol S type epoxy resin, biphenyl glycidyl ether For &quot; YX-4000 &quot; manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation EP-152 "manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation," EP-154 "manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation," DEN-EP-154 "manufactured by Dow Chemical Company), phenol novolak type epoxy resin EOCN (registered trademark, hereinafter the same) -102S "," EOCN-1020 "," EOCN-10 "manufactured by Nippon Kayaku Co., 104S "), triglycidylisocyanurate (for example," TEPIC (registered trademark) "manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), trisphenol methane type epoxy resin (for example," EPPN (Hereinafter, referred to as the same) -501, EPPN-502, and EPPN-503), alicyclic epoxy resins ("Celloxide (registered trademark)", "Celloxide EHPE" Epoxy resin obtained by glycidylating a phenol resin by reaction of dicyclopentadiene and phenol (for example, &quot; EXA-7200 &quot; manufactured by DIC Corporation, &quot; NC-730 0 "), and epoxy resins represented by the following general formulas (B1) to (B4). Specifically, "XD-1000" manufactured by Nippon Yakusha Co., Ltd., "NC-3000" manufactured by Nippon Yakusha Co., Ltd. as an epoxy resin represented by the following general formula (B2) As the epoxy resin represented by the formula (B4), "ESF-300" manufactured by Shinnitetsu Sumikin Chemical Co., Ltd. and the like can be mentioned.

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

상기 일반식 (B1) 에 있어서, a 는 평균값이고, 0 ∼ 10 의 수를 나타내고, R111 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기를 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R111 은 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In the general formula (B1), a is an average value of 0 to 10, and each R 111 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, , A naphthyl group, or a biphenyl group. A plurality of R &lt; 111 &gt; in each molecule may be the same or different.

[화학식 7](7)

Figure pct00007
Figure pct00007

상기 일반식 (B2) 에 있어서, b 는 평균값이고, 0 ∼ 10 의 수를 나타내고, R121 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기를 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R121 은, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In the general formula (B2), b is an average value and represents a number of 0 to 10, and each R 121 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, , A naphthyl group, or a biphenyl group. The plurality of R 121 present in one molecule may be the same or different.

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

상기 일반식 (B3) 에 있어서, X 는 하기 일반식 (B3-1) 또는 (B3-2) 로 나타내는 연결기를 나타낸다. 단, 분자 구조 중에 1 개 이상의 아다만탄 구조를 포함한다. c 는 2 또는 3 을 나타낸다.In the general formula (B3), X represents a linking group represented by the following general formula (B3-1) or (B3-2). However, it includes at least one adamantane structure in the molecular structure. c represents 2 or 3;

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

상기 일반식 (B3-1) 및 (B3-2) 에 있어서, R131 ∼ R134 및 R135 ∼ R137 은, 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 아다만틸기, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.In the general formulas (B3-1) and (B3-2), R 131 to R 134 and R 135 to R 137 each independently represent an adamantyl group which may have a substituent, a hydrogen atom, An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a phenyl group which may have a substituent, and * indicates a bond.

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

상기 일반식 (B4) 에 있어서, p 및 q 는 각각 독립적으로 0 ∼ 4 의 정수 (整數) 를 나타내고, R141 및 R142 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타내고, R143 및 R144 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, x 및 y 는 각각 독립적으로 0 이상의 정수를 나타낸다.In the general formula (B4), p and q each independently represent an integer of 0 to 4, R 141 and R 142 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom, and R 143 And R 144 each independently represent an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and x and y each independently represent an integer of 0 or more.

이들 중에서, 일반식 (B1) ∼ (B4) 중 어느 것으로 나타내는 에폭시 수지를 사용하는 것이 바람직하다.Among them, it is preferable to use an epoxy resin represented by any one of the general formulas (B1) to (B4).

α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르로는, (메트)아크릴산, 크로톤산, o-, m- 또는 p-비닐벤조산, (메트)아크릴산의 α 위치 할로알킬, 알콕실, 할로겐, 니트로, 시아노 치환체 등의 모노카르복실산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필테트라하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸말레산(메트), 아크릴산에 ε-카프로락톤, β-프로피오락톤, γ-부티로락톤, δ-발레로락톤 등의 락톤류를 부가시킨 것인 단량체, 혹은 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트에 (무수)숙신산, (무수)프탈산, (무수)말레산 등의 산(무수물) 을 부가시킨 단량체, (메트)아크릴산 다이머 등을 들 수 있다.Examples of the?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? -unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group include (meth) acrylic acid, crotonic acid, o-, m- or p-vinylbenzoic acid, (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl adipic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, (Meth) acryloyloxypropyl succinic acid, 2 (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2- (Meth) acryloyloxypropyl adipic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyltetrahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropylphthalic acid, 2- (Meth) acryloyloxybutyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxybutyl adipic acid, 2- (meth) acryloyloxy (Meth) acryloyloxybutylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxybutylmaleic acid (meth), acrylic acid with? -Caprolactone,? -Propiolactone,? -Butyrolactone (anhydrous) phthalic acid, (anhydrous) phthalic acid, (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth) acrylate, or a monomer having a lactone such as δ- Monomers having an acid (anhydride) added thereto such as maleic acid, and (meth) acrylic acid dimer.

이들 중 감도의 점에서, 특히 바람직한 것은 (메트)아크릴산이다.Of these, in view of sensitivity, (meth) acrylic acid is particularly preferable.

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키는 방법으로는, 공지된 수법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 에스테르화 촉매의 존재하, 50 ∼ 150 ℃ 의 온도에서, α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르와 에폭시 수지를 반응시킬 수 있다. 여기서 사용하는 에스테르화 촉매로는, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 벤질디메틸아민, 벤질디에틸아민 등의 3 급 아민, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 도데실트리메틸암모늄클로라이드 등의 4 급 암모늄염 등을 사용할 수 있다.As a method for adding an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group to an epoxy resin, a known technique may be used. For example, an α, β-unsaturated monocarboxylic acid or an α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester having an α, β-unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group can be reacted with an epoxy resin at a temperature of 50 to 150 ° C. in the presence of an esterification catalyst . Examples of the esterification catalyst used herein include tertiary amines such as triethylamine, trimethylamine, benzyldimethylamine and benzyldiethylamine, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride and dodecyltrimethylammonium chloride Etc. may be used.

또한, 에폭시 수지, α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르, 및 에스테르화 촉매의 각 성분은, 각 성분을 1 종씩 선택하여 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Further, each component of the epoxy resin, the?,? -Unsaturated monocarboxylic acid or the?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group and the esterification catalyst may be used singly, More than one species may be used in combination.

α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 사용량은, 에폭시 수지의 에폭시기 1 당량에 대하여 0.5 ∼ 1.2 당량의 범위가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.7 ∼ 1.1 당량의 범위이다. α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 사용량을 상기 하한값 이상으로 함으로써 불포화기의 도입량의 부족을 억제할 수 있고, 계속되는 다염기산 및/또는 그 무수물과의 반응도 충분한 것으로 하기 쉬운 경향이 있다. 한편, 상기 상한값 이하로 함으로써 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 미반응물의 잔존을 억제할 수 있고, 경화 특성을 양호한 것으로 하기 쉬운 경향이 확인된다.The amount of the?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or carboxyl group is preferably in the range of 0.5 to 1.2 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group in the epoxy resin, more preferably 0.7 To 1.1 equivalents. When the amount of the?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? -unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group is set to the lower limit value or more, insufficient introduction of the unsaturated group can be suppressed and the subsequent addition of the polybasic acid and / It is easy to make the reaction with the organic solvent to be sufficient. On the other hand, by keeping the content below the above upper limit, the unreacted materials of the?,? - unsaturated monocarboxylic acid esters having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group can be restrained and tend to be easily cured Is confirmed.

다염기산 및/또는 그 무수물로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 및 이들의 무수물 등에서 선택된 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.Examples of the polybasic acid and / or anhydride thereof include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, Hydrofluoric acid, chlorophthalic acid, hydrophthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, and anhydrides thereof, and the like.

바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산, 또는 이들의 무수물이다. 특히 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 무수 테트라하이드로프탈산, 또는 비페닐테트라카르복실산 2 무수물이다.Preferred are maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, or anhydrides thereof. Particularly preferred are tetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, anhydrous tetrahydrophthalic acid, or biphenyltetracarboxylic acid dianhydride.

다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응에 관해서도 공지된 수법을 사용할 수 있고, 에폭시 수지에의 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 부가 반응과 동일한 조건하에서, 계속 반응시켜 목적물을 얻을 수 있다. 다염기산 및/또는 그 무수물 성분의 부가량은, 생성하는 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 산가가 10 ∼ 150 ㎎KOH/g 의 범위가 되는 정도인 것이 바람직하고, 또한 20 ∼ 140 ㎎KOH/g 의 범위가 되는 정도인 것이 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 알칼리 현상성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 경화성능이 양호해지는 경향이 있다.The addition reaction of a polybasic acid and / or an anhydride thereof can be carried out by a known method, and an addition reaction of an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group to an epoxy resin and Under the same conditions, the target product can be obtained by continuous reaction. The addition amount of the polybasic acid and / or the anhydride component thereof is preferably such that the acid value of the resulting carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin is in the range of 10 to 150 mgKOH / g, more preferably 20 to 140 mgKOH / g. &lt; / RTI &gt; When the amount is above the lower limit value, the alkali developability tends to be good, and when it is not more than the upper limit value, the curing performance tends to become good.

또한, 이 다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응시에, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 등의 다관능 알코올 (다가 알코올) 을 첨가하여, 다분기 구조를 도입한 것으로 해도 된다.In addition, polyfunctional alcohols (polyhydric alcohols) such as trimethylolpropane, pentaerythritol and dipentaerythritol may be added during the addition reaction of the polybasic acid and / or anhydride thereof to introduce a multibranched structure.

카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지는, 통상, 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물에, 다염기산 및/또는 그 무수물을 혼합한 후, 혹은 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물에, 다염기산 및/또는 그 무수물 및 다관능 알코올을 혼합한 후에, 가온함으로써 얻어진다. 이 경우, 다염기산 및/또는 그 무수물과 다관능 알코올의 혼합 순서에 특별히 제한은 없다. 가온에 의해, 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물과 다관능 알코올의 혼합물 중에 존재하는 어느 수산기에 대해 다염기산 및/또는 그 무수물이 부가 반응한다.The carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin is usually prepared by reacting a reaction product of an epoxy resin and an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group with a polybasic acid and / , Or after mixing a reaction product of an epoxy resin and an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group with a polybasic acid and / or an anhydride thereof and a polyfunctional alcohol , &Lt; / RTI &gt; In this case, the mixing order of the polybasic acid and / or the anhydride thereof and the polyfunctional alcohol is not particularly limited. By heating, a polybasic acid and / or a polybasic acid may be added to any hydroxyl groups present in a mixture of an epoxy resin and an α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester having an α, β-unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group and a polyfunctional alcohol The anhydride undergoes addition reaction.

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지로는, 전술한 것 이외에, 한국 공개 특허 제10-2013-0022955호에 기재된 것 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy (meth) acrylate resin include those described in Korean Patent Publication No. 10-2013-0022955, and the like.

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상 1000 이상, 바람직하게는 1500 이상, 보다 바람직하게는 2000 이상, 보다 바람직하게는 3000 이상, 더욱 바람직하게는 4000 이상, 특히 바람직하게는 5000 이상이고, 통상 10000 이하, 바람직하게는 8000 이하, 보다 바람직하게는 7000 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상액에 대한 용해성이 지나치게 높아지는 것을 억제할 수 있는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상액에 대한 용해성이 양호한 것으로 하기 쉬운 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1000 ∼ 10000 이 바람직하고, 1500 ∼ 8000 이 보다 바람직하고, 2000 ∼ 8000 이 더욱 바람직하고, 3000 ∼ 8000 이 보다 더 바람직하고, 4000 ∼ 8000 이 특히 바람직하고, 5000 ∼ 7000 을 가장 바람직하게 들 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the epoxy (meth) acrylate resin as measured by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene is usually 1000 or more, preferably 1,500 or more, more preferably 2,000 or more Preferably not less than 3000, more preferably not less than 4000, particularly preferably not less than 5000, and usually not more than 10,000, preferably not more than 8,000, more preferably not more than 7,000. When the amount is above the lower limit value, there is a tendency that the solubility in the developer is prevented from becoming too high. When the amount is less than the upper limit value, the solubility in the developer tends to be good. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 1,000 to 10,000, more preferably from 1,500 to 8,000, even more preferably from 2,000 to 8,000, even more preferably from 3,000 to 8,000, and particularly preferably from 4,000 to 8,000 And most preferably 5,000 to 7,000.

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 10 ㎎KOH/g 이상이 바람직하고, 20 ㎎KOH/g 이상이 보다 바람직하고, 40 ㎎KOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 50 ㎎KOH/g 이상이 보다 더 바람직하고, 또, 200 ㎎KOH/g 이하가 바람직하고, 150 ㎎KOH/g 이하가 보다 바람직하고, 120 ㎎KOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 100 ㎎KOH/g 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 적당한 현상 용해성이 얻어지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상이 지나치게 진행되어 막 용해되는 것을 억제할 수 있는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 200 ㎎KOH/g 이 바람직하고, 20 ∼ 150 ㎎KOH/g 이 보다 바람직하고, 40 ∼ 100 ㎎KOH/g 이 더욱 바람직하고, 50 ∼ 100 ㎎KOH/g 을 특히 바람직하게 들 수 있다.The acid value of the epoxy (meth) acrylate resin is not particularly limited, but is preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 20 mgKOH / g or more, even more preferably 40 mgKOH / g or more, More preferably not more than 200 mg KOH / g, more preferably not more than 150 mg KOH / g, even more preferably not more than 120 mg KOH / g, even more preferably not more than 100 mg KOH / g Is particularly preferable. When the amount is above the lower limit value, adequate developing solubility tends to be obtained. When the amount is less than the upper limit value, the development tends to proceed excessively to prevent the film from dissolving. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 10 to 200 mgKOH / g, more preferably from 20 to 150 mgKOH / g, still more preferably from 40 to 100 mgKOH / g, MgKOH / g are particularly preferable.

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 화학 구조는 특별히 한정되지 않지만, 현상성, 신뢰성의 관점에서, 하기 일반식 (b1-I) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (이하, 「(b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지」 라고 약기하는 경우가 있다) 및/또는 하기 일반식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 (이하, 「(b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지」 라고 약기하는 경우가 있다) 를 함유하는 것이 바람직하다.Although the chemical structure of the epoxy (meth) acrylate resin is not particularly limited, from the viewpoint of developability and reliability, an epoxy (meth) acrylate resin having a partial structure represented by the following general formula (b1-I) An epoxy (meth) acrylate resin having a partial structure represented by the following general formula (b1-II) (hereinafter sometimes abbreviated as "(b1-I) epoxy (meth) (B1-II) epoxy (meth) acrylate-based resin ").

[화학식 11](11)

Figure pct00011
Figure pct00011

식 (b1-I) 중, R11 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R12 는 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다. 식 (b1-I) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.Formula (I-b1) of, R 11 is a hydrogen atom or a methyl group, R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, and * represents a bonding hand. The benzene ring in the formula (b1-I) may be further substituted by an arbitrary substituent.

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

식 (b1-II) 중, R13 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타내고, R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타내고, m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.In the formula (b1-II), each R 13 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain, R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, And m and n each independently represent an integer of 0 to 2, and * represents a bonded linkage.

<(b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지><(b1-I) Epoxy (meth) acrylate resin>

먼저, 상기 일반식 (b1-I) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지에 대해 상세히 서술한다.First, an epoxy (meth) acrylate resin having a partial structure represented by the general formula (b1-I) will be described in detail.

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

식 (b1-I) 중, R11 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R12 는 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다. 식 (b1-I) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.Formula (I-b1) of, R 11 is a hydrogen atom or a methyl group, R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, and * represents a bonding hand. The benzene ring in the formula (b1-I) may be further substituted by an arbitrary substituent.

(R12)(R 12 )

상기 식 (b1-I) 에 있어서, R12 는 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다.In the above formula (b1-I), R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent.

2 가의 탄화수소기로는, 2 가의 지방족기, 2 가의 방향족 고리기, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 들 수 있다.Examples of the divalent hydrocarbon group include a divalent aliphatic group, a divalent aromatic ring group, and a group having at least one divalent aliphatic group and at least one divalent aromatic ring group linked to each other.

2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기 사슬형, 고리형의 것을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 것이 바람직하다. 한편 노광부에의 현상액의 침투 저감의 관점에서는 고리형의 것이 바람직하다. 그 탄소수는 통상 1 이상이고, 3 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않고, 기판에의 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 10 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.Examples of the divalent aliphatic group include linear, branched, and cyclic groups. Of these, a linear type is preferable from the viewpoint of developing solubility. On the other hand, from the viewpoint of reducing penetration of the developer into the exposed portion, it is preferable to use a ring. The number of carbon atoms thereof is usually 1 or more, preferably 3 or more, more preferably 6 or more, further preferably 20 or less, more preferably 15 or less, still more preferably 10 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film is easily obtained, surface roughness hardly occurs, and adhesiveness to the substrate tends to be good. When the content is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development can be suppressed, There is a tendency that the resolution is improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 20, more preferably 3 to 15, and even more preferably 6 to 10.

2 가의 직사슬형의 지방족기의 구체예로는, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-펜틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.Specific examples of the divalent linear aliphatic group include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an n-butylene group, an n-pentylene group, a n-hexylene group, and an n-heptylene group . Among them, a methylene group is preferable in view of rigidity of the skeleton.

2 가의 분기 사슬형의 지방족기로는, 전술한 2 가의 직사슬형의 지방족기에, 측사슬로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 갖는 구조를 들 수 있다.Examples of the divalent branched-chain aliphatic group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, a sec- Butyl group, tert-butyl group, and the like.

2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상 12 이하이고, 10 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 되어, 기판 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 2 가의 고리형의 지방족기의 구체예로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리, 디시클로펜타디엔 등의 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 디시클로펜타디엔 고리, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.The number of rings of the bivalent cyclic aliphatic group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 12 or less, preferably 10 or less. When the amount is higher than the lower limit value, the film becomes a strong film, and the substrate adhesion tends to be good. When it is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development tends to be suppressed and resolution is improved. Specific examples of the bivalent cyclic aliphatic group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isoborane ring, an adamantane ring, a cyclododecane ring, And groups obtained by removing two hydrogen atoms from a ring such as dicyclopentadiene. Among these, from the viewpoint of rigidity of the skeleton, a group obtained by removing two hydrogen atoms from a dicyclopentadiene ring and an adamantane ring is preferable.

2 가의 지방족기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복실기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 합성 용이성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent which the divalent aliphatic group may have include an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; A hydroxyl group; A nitro group; Cyano; A carboxyl group and the like. Of these, from the viewpoint of easiness of synthesis, it is preferable that it is indefinite.

또, 2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 통상 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않고, 기판에의 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 20 이 바람직하고, 5 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 10 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.Examples of the divalent aromatic ring group include a divalent aromatic hydrocarbon ring group and a divalent aromatic heterocyclic ring group. The number of carbon atoms thereof is usually 4 or more, preferably 5 or more, more preferably 6 or more, further preferably 20 or less, more preferably 15 or less, still more preferably 10 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film is easily obtained, surface roughness hardly occurs, and adhesiveness to the substrate tends to be good. When the content is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development can be suppressed, There is a tendency that the resolution is improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 4 to 20, more preferably 5 to 15, and even more preferably 6 to 10.

2 가의 방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리이어도 되고 축합 고리이어도 된다. 방향족 탄화수소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등의 기를 들 수 있다.The aromatic hydrocarbon ring in the bivalent aromatic hydrocarbon ring group may be a single ring or a condensed ring. Examples of the aromatic hydrocarbon ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, A phenylene ring, an acenaphthene ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring.

또, 방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리이어도 되고 축합 고리이어도 된다. 방향족 복소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 벤조이미다졸 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리 등의 기를 들 수 있다.The aromatic heterocyclic ring in the aromatic heterocyclic group may be a monocyclic ring or a condensed ring. Examples of the aromatic heterocyclic group include groups having two free valences such as furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, indole A thiophenol ring, a thiophenol ring, a thiophenol ring, a thiophenol ring, a thienophenol ring, a benzoisooxazole ring, a thiophenol ring, A pyrimidine ring, a pyrimidine ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a cinnoline ring, a quinoxaline ring, a phenanthridine ring, a benzoimidazole ring, A benzimidazole ring, a perimidine ring, a quinazoline ring, a quinazolinone ring, and an azulene ring.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리가 바람직하고, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리가 보다 바람직하다.Of these, benzene rings or naphthalene rings having two free valences are preferable, and benzene rings having two free valences are more preferable in view of the patterning property.

2 가의 방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.Examples of the substituent which the divalent aromatic ring group may have include a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group and a propoxy group. Of these, from the viewpoint of solubility in development, unsubstituted is preferable.

또, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 전술한 2 가의 지방족기를 1 이상과, 전술한 2 가의 방향족 고리기를 1 이상을 연결한 기를 들 수 있다.The group in which at least one divalent aliphatic group and at least one divalent aromatic ring group are linked includes a group in which one or more of the above-mentioned divalent aliphatic groups is linked to one or more of the aforementioned divalent aromatic ring groups.

2 가의 지방족기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않고, 기판에의 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of the bivalent aliphatic groups is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, usually 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 3 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film is easily obtained, surface roughness hardly occurs, and adhesiveness to the substrate tends to be good. When the content is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development can be suppressed, There is a tendency that the resolution is improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 5, and still more preferably 2 to 3.

2 가의 방향족 고리기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않고, 기판에의 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of divalent aromatic ring groups is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, usually 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 3 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film is easily obtained, surface roughness hardly occurs, and adhesiveness to the substrate tends to be good. When the content is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development can be suppressed, There is a tendency that the resolution is improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 5, and still more preferably 2 to 3.

1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기의 구체예로는, 하기 식 (b1-I-A) ∼ (b1-I-F) 로 나타내는 기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성과 막의 소수화의 관점에서, 하기 식 (b1-I-A) 로 나타내는 기가 바람직하다.Specific examples of the group linking at least one bivalent aliphatic group and at least one bivalent aromatic ring group include the groups represented by the following formulas (b1-I-A) to (b1-I-F). Among them, the group represented by the following formula (b1-I-A) is preferable from the viewpoints of rigidity of the skeleton and hydrophobicity of the film.

[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

상기와 같이, 식 (b1-I) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 그 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개이어도 되고, 2 개 이상이어도 된다.As described above, the benzene ring in the formula (b1-I) may be further substituted by an arbitrary substituent. Examples of the substituent include a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group and a propoxy group. The number of substituents is not particularly limited and may be one or two or more.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.Among them, from the viewpoint of the patterning characteristic, it is preferable that it is irregular.

또, 상기 식 (b1-I) 로 나타내는 부분 구조는, 합성의 간이성의 관점에서, 하기 식 (b1-I-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.The partial structure represented by the formula (b1-I) is preferably a partial structure represented by the following formula (b1-I-1) from the viewpoint of simplicity of synthesis.

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

식 (b1-I-1) 중, R11 및 R12 는, 상기 식 (b1-I) 의 것과 동일한 의미이고, RX 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다. 식 (b1-I-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.In the formula (b1-I-1), R 11 and R 12 have the same meanings as those of the formula (b1-I), R X represents a hydrogen atom or a polybasic acid residue, and * represents a bonding bond. The benzene ring in the formula (b1-I-1) may be further substituted by an arbitrary substituent.

다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다. 다염기산으로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.The polybasic acid residue means a monovalent group obtained by removing one OH group from a polybasic acid or an anhydride thereof. Examples of the polybasic acid include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, There may be mentioned one or two or more selected from acid, methyltetrahydrophthalic acid and biphenyltetracarboxylic acid.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이고, 보다 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 비페닐테트라카르복실산이다.Of these, from the viewpoint of the patterning property, it is preferable to use maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid and biphenyltetracarboxylic acid, , Tetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, biphenyltetracarboxylic acid.

(b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 1 분자 중에 함유되는 상기 식 (b1-I-1) 로 나타내는 부분 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 되고, 예를 들어, RX 가 수소 원자의 것과, RX 가 다염기산 잔기의 것이 혼재되어 있어도 된다.(b1-I) an epoxy (meth) partial structure represented by the formula (b1-I-1) contained in the acrylate-based resin 1 molecule, the least one member, and may be two or more kinds, for example, R X is A hydrogen atom, and R x may be a polybasic acid residue.

또, (b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 1 분자 중에 함유되는 상기 식 (b1-I) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 15 를 보다 바람직하게 들 수 있다.The number of partial structures represented by the formula (b1-I) contained in one molecule of the epoxy (meth) acrylate resin (b1-I) is not particularly limited, but is preferably 1 or more, more preferably 3 or more , More preferably 20 or less, and further preferably 15 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film tends to be obtained, surface roughness tends not to be easily generated, and if it is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development tends to be suppressed, have. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 20, more preferably 3 to 15.

(b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 1000 이상이 바람직하고, 1500 이상이 보다 바람직하고, 2000 이상이 더욱 바람직하고, 3000 이상이 보다 더 바람직하고, 4000 이상이 특히 바람직하고, 5000 이상이 가장 바람직하고, 또, 30000 이하가 바람직하고, 20000 이하가 보다 바람직하고, 10000 이하가 더욱 바람직하고, 8000 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 감광성 착색 조성물의 잔막률이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 해상성이 양호해지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1000 ∼ 30000 이 바람직하고, 1500 ∼ 20000 이 보다 바람직하고, 2000 ∼ 10000 이 더욱 바람직하고, 3000 ∼ 10000 이 보다 더 바람직하고, 4000 ∼ 80000 이 특히 바람직하고, 5000 ∼ 8000 을 가장 바람직하게 들 수 있다. The weight average molecular weight (Mw) of the (b1-I) epoxy (meth) acrylate based resin measured by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene is not particularly limited, but is preferably 1,000 or more, More preferably not less than 2000, still more preferably not less than 3,000, particularly preferably not less than 4,000, most preferably not less than 5,000, further preferably not more than 30,000, more preferably not more than 20,000, And still more preferably 8000 or less. When the ratio is above the lower limit value, the residual film ratio of the photosensitive coloring composition tends to be good. When the content is made lower than the upper limit value, the resolution tends to be good. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 1,000 to 30,000, more preferably from 1,500 to 20,000, still more preferably from 2,000 to 10,000, even more preferably from 3,000 to 10,000, and particularly preferably from 4,000 to 80,000 And most preferably 5,000 to 8,000.

(b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 10 ㎎KOH/g 이상이 바람직하고, 20 ㎎KOH/g 이상이 보다 바람직하고, 40 ㎎KOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 50 ㎎KOH/g 이상이 보다 더 바람직하고, 80 ㎎KOH/g 이상이 특히 바람직하고, 또, 200 ㎎KOH/g 이하가 바람직하고, 150 ㎎KOH/g 이하가 보다 바람직하고, 130 ㎎KOH/g 이하가 보다 더 바람직하고, 100 ㎎KOH/g 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 용해성이 향상되고, 해상성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감광성 착색 조성물의 잔막률이 양호해지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 200 ㎎KOH/g 이 바람직하고, 20 ∼ 150 ㎎KOH/g 이 보다 바람직하고, 40 ∼ 100 ㎎KOH/g 이 더욱 바람직하고, 50 ∼ 100 ㎎KOH/g 이 보다 더 바람직하고, 80 ∼ 100 ㎎KOH/g 을 특히 바람직하게 들 수 있다.The acid value of the epoxy resin (b1-I) epoxy (meth) acrylate resin is not particularly limited, but is preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 20 mgKOH / g or more, G, more preferably at least 50 mgKOH / g, particularly preferably at least 80 mgKOH / g, even more preferably at most 200 mgKOH / g, even more preferably at most 150 mgKOH / g, MgKOH / g or less, and particularly preferably 100 mgKOH / g or less. When the amount is above the lower limit value, development solubility is improved and the resolution tends to be good. When the amount is less than the upper limit value, the residual film ratio of the photosensitive coloring composition tends to become good. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 10 to 200 mgKOH / g, more preferably from 20 to 150 mgKOH / g, still more preferably from 40 to 100 mgKOH / g, MgKOH / g is more preferable, and 80-100 mgKOH / g is particularly preferable.

이하에 (b1-I) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 구체예를 든다. 또한, 예 중의 * 는 결합손을 나타낸다.Specific examples of the (b1-I) epoxy (meth) acrylate resin are given below. Also, in the example, * indicates a combined hand.

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

[화학식 18][Chemical Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

[화학식 19][Chemical Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

<(b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지><(b1-II) Epoxy (meth) acrylate resin>

다음으로, 상기 일반식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지에 대해 상세히 서술한다.Next, the epoxy (meth) acrylate resin having the partial structure represented by the general formula (b1-II) will be described in detail.

[화학식 20][Chemical Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

식 (b1-II) 중, R13 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타내고, R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타내고, m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다.In the formula (b1-II), each R 13 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain, R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, And m and n each independently represent an integer of 0 to 2, and * represents a bonded linkage.

(R14)(R 14)

상기 일반식 (b1-II) 에 있어서, R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다.Wherein in the formula (b1-II), R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.Examples of the cyclic hydrocarbon group include an aliphatic cyclic group and an aromatic cyclic group.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of rings of the aliphatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less, more preferably 3 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film tends to be obtained, surface roughness tends not to be easily generated, and if it is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development tends to be suppressed, have. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 5, and still more preferably 2 to 3.

또, 지방족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms in the aliphatic cyclic group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, further preferably 40 or less, more preferably 30 or less, still more preferably 20 or less, Is particularly preferable. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film tends to be obtained, surface roughness tends not to be easily generated, and if it is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development tends to be suppressed, have. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 4 to 40, more preferably 6 to 30, and even more preferably 8 to 20.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리의 구체예로는 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 감광성 착색 조성물의 잔막률과 해상성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Specific examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isoborane ring, an adamantane ring, a cyclododecane ring, and the like. . Of these, adamantane rings are preferable from the viewpoint of the residual film ratio and resolution of the photosensitive coloring composition.

한편, 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 4 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 4 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.On the other hand, the number of rings of the aromatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less, desirable. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film tends to be obtained, surface roughness tends not to be easily generated, and if it is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development tends to be suppressed, have. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 5, and still more preferably 3 to 4.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 보다 더 바람직하고, 12 이상이 특히 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 를 특히 바람직하게 들 수 있다.Examples of the aromatic ring group include an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic ring group. The number of carbon atoms in the aromatic ring group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, more preferably 10 or more, particularly preferably 12 or more, More preferably 20 or less, and particularly preferably 15 or less. When the amount is higher than the lower limit value, a strong film tends to be obtained, surface roughness tends not to be easily generated, and when it is made lower than the upper limit value, the patterning property tends to become good. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 4 to 40, more preferably 6 to 30, even more preferably 8 to 20, and particularly preferably 10 to 15.

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리의 구체예로는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.Specific examples of the aromatic ring in the aromatic ring group include benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, An acenaphthene ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring. Among them, from the viewpoint of the patterning property, a fluorene ring is preferable.

또, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기에 있어서의 2 가의 탄화수소기는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 2 가의 지방족기, 2 가의 방향족 고리기, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 들 수 있다.The divalent hydrocarbon group in the divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain is not particularly limited. For example, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic ring group, at least one divalent aliphatic group and at least one divalent group And a group connecting an aromatic ring group.

2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기 사슬형, 고리형의 것을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 것이 바람직하고, 한편 노광부에의 현상액의 침투 저감의 관점에서는 고리형의 것이 바람직하다. 그 탄소수는 통상 1 이상이고, 3 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 25 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않고, 기판에의 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 25 가 바람직하고, 3 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.Examples of the divalent aliphatic group include linear, branched, and cyclic groups. Of these, a linear type is preferred from the viewpoint of developing solubility, and a cyclic type is preferable from the viewpoint of reducing penetration of the developing solution into the exposed portion. The number of carbon atoms is usually 1 or more, preferably 3 or more, more preferably 6 or more, further preferably 25 or less, more preferably 20 or less, still more preferably 15 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film is easily obtained, surface roughness hardly occurs, and adhesiveness to the substrate tends to be good. When the content is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development can be suppressed, There is a tendency that the resolution is improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 25, more preferably 3 to 20, and even more preferably 6 to 15.

2 가의 직사슬형의 지방족기의 구체예로는, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-펜틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.Specific examples of the divalent linear aliphatic group include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an n-butylene group, an n-pentylene group, a n-hexylene group, and an n-heptylene group . Among them, a methylene group is preferable in view of rigidity of the skeleton.

2 가의 분기 사슬형의 지방족기로는, 전술한 2 가의 직사슬형의 지방족기에, 측사슬로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 갖는 구조를 들 수 있다.Examples of the divalent branched-chain aliphatic group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, a sec- Butyl group, tert-butyl group, and the like.

2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 되어, 기판 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of rings of the bivalent cyclic aliphatic group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less, more preferably 3 or less. When the amount is higher than the lower limit value, the film becomes a strong film, and the substrate adhesion tends to be good. When it is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development tends to be suppressed and resolution is improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 5, and still more preferably 2 to 3.

2 가의 고리형의 지방족기의 구체예로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리 등의 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.Specific examples of the bivalent cyclic aliphatic group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isoborane ring, an adamantane ring, a cyclododecane ring, etc. And a group obtained by removing two hydrogen atoms from the ring of R &lt; 2 &gt; Among these, from the viewpoint of rigidity of the skeleton, a group obtained by removing two hydrogen atoms from the adamantane ring is preferable.

2 가의 지방족기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복실기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 합성 용이성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent which the divalent aliphatic group may have include an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; A hydroxyl group; A nitro group; Cyano; A carboxyl group and the like. Of these, from the viewpoint of easiness of synthesis, it is preferable that it is indefinite.

또, 2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 통상 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않고, 기판에의 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.Examples of the divalent aromatic ring group include a divalent aromatic hydrocarbon ring group and a divalent aromatic heterocyclic ring group. The number of carbon atoms thereof is usually 4 or more, preferably 5 or more, more preferably 6 or more, further preferably 30 or less, more preferably 20 or less, still more preferably 15 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film is easily obtained, surface roughness hardly occurs, and adhesiveness to the substrate tends to be good. When the content is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development can be suppressed, There is a tendency that the resolution is improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 4 to 30, more preferably 5 to 20, and even more preferably 6 to 15.

2 가의 방향족 탄화수소 고리기에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리이어도 되고 축합 고리이어도 된다. 방향족 탄화수소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등의 기를 들 수 있다.The aromatic hydrocarbon ring in the bivalent aromatic hydrocarbon ring group may be a single ring or a condensed ring. Examples of the aromatic hydrocarbon ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, A phenylene ring, an acenaphthene ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring.

또, 방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리이어도 되고 축합 고리이어도 된다. 방향족 복소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 벤조이미다졸 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리 등의 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리가 바람직하고, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리가 보다 바람직하다.The aromatic heterocyclic ring in the aromatic heterocyclic group may be a monocyclic ring or a condensed ring. Examples of the aromatic heterocyclic group include a furan ring having two free valences, a benzofuran ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, , A carbazole ring, a pyrroloimidazole ring, a pyrrolopyrazole ring, a pyrrolopyrrole ring, a thienopyrrole ring, a thienothiophene ring, a furopyrrole ring, a furofuran ring, a thienofuran ring, a benzoisoxazole ring, A pyrimidine ring, a pyrimidine ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a cinnoline ring, a quinoxaline ring, a phenanthridine ring, a benzoimidazole ring, a benzoimidazole ring, An imidazole ring, a perimidine ring, a quinazoline ring, a quinazolinone ring, and an azulene ring. Of these, benzene rings or naphthalene rings having two free valences are preferable, and benzene rings having two free valences are more preferable in view of the patterning property.

2 가의 방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.Examples of the substituent which the divalent aromatic ring group may have include a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group and a propoxy group. Of these, from the viewpoint of solubility in development, unsubstituted is preferable.

또, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 전술한 2 가의 지방족기를 1 이상과, 전술한 2 가의 방향족 고리기를 1 이상을 연결한 기를 들 수 있다.The group in which at least one divalent aliphatic group and at least one divalent aromatic ring group are linked includes a group in which one or more of the above-mentioned divalent aliphatic groups is linked to one or more of the aforementioned divalent aromatic ring groups.

2 가의 지방족기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않고, 기판에의 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of the bivalent aliphatic groups is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, usually 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 3 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film is easily obtained, surface roughness hardly occurs, and adhesiveness to the substrate tends to be good. When the content is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development can be suppressed, There is a tendency that the resolution is improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 5, and still more preferably 2 to 3.

2 가의 방향족 고리기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않고, 기판에의 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of divalent aromatic ring groups is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, usually 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 3 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film is easily obtained, surface roughness hardly occurs, and adhesiveness to the substrate tends to be good. When the content is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development can be suppressed, There is a tendency that the resolution is improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 5, and still more preferably 2 to 3.

1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기의 구체예로는, 상기 식 (b1-I-A) ∼ (b1-I-F) 로 나타내는 기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성과 막의 소수화의 관점에서, 상기 식 (b1-I-C) 로 나타내는 기가 바람직하다.Specific examples of the group linking at least one bivalent aliphatic group and at least one bivalent aromatic ring group include the groups represented by the above formulas (b1-I-A) to (b1-I-F). Among them, the group represented by the above formula (b1-I-C) is preferable from the viewpoints of rigidity of the skeleton and hydrophobicity of the film.

이들 2 가의 탄화수소기에 대해, 측사슬인 고리형 탄화수소기의 결합 양태는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 지방족기나 방향족 고리기의 수소 원자 1 개를 그 측사슬로 치환한 양태나, 지방족기의 탄소 원자의 하나를 포함하여 측사슬인 고리형 탄화수소기를 구성한 양태를 들 수 있다.The bonding state of the cyclic hydrocarbon group as a side chain with respect to these bivalent hydrocarbon groups is not particularly limited. For example, there may be mentioned an embodiment in which one hydrogen atom of an aliphatic group or aromatic ring group is substituted with a side chain thereof, A cyclic hydrocarbon group having a side chain including one of carbon atoms is constituted.

(R15, R16)(R 15 , R 16 )

상기 일반식 (b1-II) 에 있어서, R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타낸다.In the general formula (b1-II), R 15 and R 16 each independently represent a divalent aliphatic group which may have a substituent.

2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기 사슬형, 고리형의 것을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 것이 바람직하고, 한편 노광부에의 현상액의 침투 저감의 관점에서는 고리형의 것이 바람직하다. 그 탄소수는 통상 1 이상이고, 3 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않고, 기판에의 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 10 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.Examples of the divalent aliphatic group include linear, branched, and cyclic groups. Of these, a linear type is preferred from the viewpoint of developing solubility, and a cyclic type is preferable from the viewpoint of reducing penetration of the developing solution into the exposed portion. The number of carbon atoms thereof is usually 1 or more, preferably 3 or more, more preferably 6 or more, further preferably 20 or less, more preferably 15 or less, still more preferably 10 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film is easily obtained, surface roughness hardly occurs, and adhesiveness to the substrate tends to be good. When the content is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development can be suppressed, There is a tendency that the resolution is improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 20, more preferably 3 to 15, and even more preferably 6 to 10.

2 가의 직사슬형의 지방족기의 구체예로는, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-펜틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.Specific examples of the divalent linear aliphatic group include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an n-butylene group, an n-pentylene group, a n-hexylene group, and an n-heptylene group . Among them, a methylene group is preferable in view of rigidity of the skeleton.

2 가의 분기 사슬형의 지방족기로는, 전술한 2 가의 직사슬형의 지방족기에, 측사슬로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 갖는 구조를 들 수 있다.Examples of the divalent branched-chain aliphatic group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, a sec- Butyl group, tert-butyl group, and the like.

2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상 12 이하이고, 10 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 되어, 기판 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 12 가 바람직하고, 2 ∼ 10 을 보다 바람직하게 들 수 있다.The number of rings of the bivalent cyclic aliphatic group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 12 or less, preferably 10 or less. When the amount is higher than the lower limit value, the film becomes a strong film, and the substrate adhesion tends to be good. When it is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development tends to be suppressed and resolution is improved. For example, as the combination of the upper limit and the lower limit, 1 to 12 is preferable, and 2 to 10 is more preferable.

2 가의 고리형의 지방족기의 구체예로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리, 디시클로펜타디엔 등의 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 디시클로펜타디엔 고리, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.Specific examples of the bivalent cyclic aliphatic group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isoborane ring, an adamantane ring, a cyclododecane ring, And groups obtained by removing two hydrogen atoms from a ring such as dicyclopentadiene. Among these, from the viewpoint of rigidity of the skeleton, a group obtained by removing two hydrogen atoms from a dicyclopentadiene ring and an adamantane ring is preferable.

2 가의 지방족기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복실기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 합성 용이성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent which the divalent aliphatic group may have include an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; A hydroxyl group; A nitro group; Cyano; A carboxyl group and the like. Of these, from the viewpoint of easiness of synthesis, it is preferable that it is indefinite.

(m, n)(m, n)

상기 일반식 (b1-II) 에 있어서, m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 패터닝 적정이 양호해지고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 현상성의 관점에서 m 및 n 이 0 인 것이 바람직하다. 한편, 패터닝 적정, 표면 거침의 관점에서 m 및 n 이 1 이상인 것이 바람직하다.In the general formula (b1-II), m and n each independently represents an integer of 0 to 2. When the amount is above the lower limit value, the patterning titration tends to be good and the surface roughness tends to be hard to occur. On the other hand, when the amount is less than the upper limit value, the developing property tends to be good. From the viewpoint of developability, it is preferable that m and n are 0. On the other hand, from the viewpoints of patterning titration and surface roughness, m and n are preferably 1 or more.

또, 상기 일반식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조는, 기판에의 밀착성의 관점에서, 하기 일반식 (b1-II-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.The partial structure represented by the general formula (b1-II) is preferably a partial structure represented by the following general formula (b1-II-1) from the viewpoint of adhesiveness to a substrate.

[화학식 21][Chemical Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

식 (b1-II-1) 중, R13, R15, R16, m 및 n 은 상기 식 (b1-II) 과 동일한 의미이고, Rα 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타내고, p 는 1 이상의 정수이고, * 는 결합손을 나타낸다. 식 (b1-II-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.In the formula (b1-II-1), R 13 , R 15 , R 16 , m and n have the same meanings as in the formula (b1-II), R α represents a monovalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent, p is an integer of 1 or more, . The benzene ring in the formula (b1-II-1) may be further substituted by an arbitrary substituent.

(Rα)(R ? )

상기 일반식 (b1-II-1) 에 있어서, Rα 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.In the general formula (b1-II-1), R ? Represents a monovalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.Examples of the cyclic hydrocarbon group include an aliphatic cyclic group and an aromatic cyclic group.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상 6 이하이고, 4 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 6 이 바람직하고, 2 ∼ 4 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of rings of the aliphatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 6 or less, preferably 4 or less, and more preferably 3 or less. When the amount is higher than the lower limit value, a strong film tends to be obtained, surface roughness tends not to be easily generated, and when it is made lower than the upper limit value, the patterning property tends to become good. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 6, more preferably 2 to 4, and still more preferably 2 to 3.

또, 지방족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 8 ∼ 15 를 특히 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms in the aliphatic cyclic group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, further preferably 40 or less, more preferably 30 or less, still more preferably 20 or less, Is particularly preferable. When the amount is higher than the lower limit value, a strong film tends to be obtained, surface roughness tends not to be easily generated, and when it is made lower than the upper limit value, the patterning property tends to become good. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 4 to 40, more preferably from 6 to 30, still more preferably from 8 to 20, and particularly preferably from 8 to 15.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리의 구체예로는 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 강고한 막 특성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Specific examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isoborane ring, an adamantane ring, a cyclododecane ring, and the like. . Of these, adamantane rings are preferred from the viewpoint of strong film properties.

한편, 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 5 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.On the other hand, the number of rings of the aromatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and usually 10 or less and preferably 5 or less. When the amount is higher than the lower limit value, a strong film tends to be obtained, surface roughness tends not to be easily generated, and when it is made lower than the upper limit value, the patterning property tends to become good. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 5, and still more preferably 3 to 5.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.Examples of the aromatic ring group include an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic ring group. The number of carbon atoms in the aromatic ring group is usually 4 or more, preferably 5 or more, more preferably 6 or more, further preferably 30 or less, more preferably 20 or less, still more preferably 15 or less. When the amount is higher than the lower limit value, a strong film tends to be obtained, surface roughness tends not to be easily generated, and when it is made lower than the upper limit value, the patterning property tends to become good. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 4 to 30, more preferably 5 to 20, and even more preferably 6 to 15.

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리의 구체예로는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.Specific examples of the aromatic ring in the aromatic ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring and a fluorene ring. Among them, a fluorene ring is preferable from the viewpoint of developing solubility.

고리형 탄화수소기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, iso-아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복실기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 합성의 용이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.Examples of the substituent which the cyclic hydrocarbon group may have include a carbon number such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert- An alkyl group of 1 to 5; An alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms such as methoxy group and ethoxy group; A hydroxyl group; A nitro group; Cyano; A carboxyl group and the like. Of these, from the viewpoint of easiness of synthesis, unsubstituted is preferable.

p 는 1 이상의 정수를 나타내지만, 2 이상이 바람직하고, 또, 3 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막 경화도와 잔막률이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 3 이 바람직하고, 2 ∼ 3 을 보다 바람직하게 들 수 있다.p represents an integer of 1 or more, but is preferably 2 or more, and is preferably 3 or less. When the amount is higher than the lower limit value, the film curability and the residual film tends to be good, and when it is less than the upper limit value, the developability tends to be good. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 3, more preferably 2 to 3.

이들 중에서도, 강고한 막 경화도의 관점에서, Rα 가 1 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 아다만틸기인 것이 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of a strong film hardening degree, R ? Is preferably a monovalent aliphatic cyclic group, more preferably an adamantyl group.

상기와 같이, 식 (b1-II-1) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 그 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개이어도 되고, 2 개 이상이어도 된다.As described above, the benzene ring in the formula (b1-II-1) may be further substituted by an arbitrary substituent. Examples of the substituent include a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group and a propoxy group. The number of substituents is not particularly limited and may be one or two or more.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.Among them, from the viewpoint of the patterning characteristic, it is preferable that it is irregular.

이하에 상기 식 (b1-II-1) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다.Specific examples of the partial structure represented by the above formula (b1-II-1) are shown below.

[화학식 22][Chemical Formula 22]

Figure pct00022
Figure pct00022

[화학식 23](23)

Figure pct00023
Figure pct00023

[화학식 24]&Lt; EMI ID =

Figure pct00024
Figure pct00024

[화학식 25](25)

Figure pct00025
Figure pct00025

[화학식 26](26)

Figure pct00026
Figure pct00026

또, 상기 일반식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조는, 골격의 강직성, 및 막 소수화의 관점에서, 하기 일반식 (b1-II-2) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.The partial structure represented by the general formula (b1-II) is preferably a partial structure represented by the following general formula (b1-II-2) from the viewpoints of rigidity of the skeleton and film hydrophobicity.

[화학식 27](27)

Figure pct00027
Figure pct00027

식 (b1-II-2) 중, R13, R15, R16, m 및 n 은 상기 식 (b1-II) 와 동일한 의미이고, Rβ 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타내고, * 는 결합손을 나타낸다. 식 (b1-II-2) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.In the formula (b1-II-2), R 13 , R 15 , R 16 , m and n have the same meanings as in the formula (b1-II), R β denotes a divalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent, and * denotes a bonding hand. The benzene ring in the formula (b1-II-2) may be further substituted by an arbitrary substituent.

(Rβ)(R ? )

상기 식 (b1-II-2) 에 있어서, Rβ 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.In the above formula (b1-II-2), R ? Represents a divalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.Examples of the cyclic hydrocarbon group include an aliphatic cyclic group and an aromatic cyclic group.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 를 보다 바람직하게 들 수 있다.The number of rings of the aliphatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 10 or less, preferably 5 or less. When the content is not less than the above lower limit value, a strong film tends to be obtained, surface roughness tends not to be easily generated, and if it is made lower than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and film reduction during development tends to be suppressed, have. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, and more preferably 2 to 5.

또, 지방족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 35 이하가 보다 바람직하고, 30 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상시의 막 거침을 억제하는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 현상시의 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 35 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 30 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms in the aliphatic cyclic group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, further preferably 40 or less, more preferably 35 or less, still more preferably 30 or less. When the amount is not less than the above lower limit value, film tackiness at the time of development tends to be suppressed, and when it is not more than the upper limit value, deterioration of the sensitivity and reduction of film at the time of development tends to be suppressed and the resolution tends to be improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 4 to 40, more preferably 6 to 35, and even more preferably 8 to 30.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리의 구체예로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상시의 막 감소, 해상성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Specific examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecane ring, a norbornane ring, an isoborane ring, an adamantane ring, a cyclododecane ring, etc. . Of these, adamantane rings are preferable from the viewpoint of film reduction and resolution at the time of development.

한편, 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 통상 10 이하이고, 5 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 5 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.On the other hand, the number of rings of the aromatic ring group is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and usually 10 or less and preferably 5 or less. By setting the value above the lower limit value, a strong film tends to be easily obtained, surface roughness tends not to occur easily, and if it is made lower than the upper limit value, deterioration of sensitivity and film reduction can be suppressed easily and resolution tends to be improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 5, and still more preferably 3 to 5.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 통상 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 더욱 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 를 특히 바람직하게 들 수 있다.Examples of the aromatic ring group include an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic ring group. The number of carbon atoms in the aromatic ring group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, further preferably 10 or more, further preferably 40 or less, more preferably 30 or less, More preferably 15 or less. By setting the value above the lower limit value, a strong film tends to be easily obtained, surface roughness tends not to occur easily, and if it is made lower than the upper limit value, deterioration of sensitivity and film reduction can be suppressed easily and resolution tends to be improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 4 to 40, more preferably 6 to 30, even more preferably 8 to 20, and particularly preferably 10 to 15.

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리의 구체예로는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.Specific examples of the aromatic ring in the aromatic ring group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring and a fluorene ring. Of these, fluorene rings are preferred from the viewpoint of developability.

고리형 탄화수소기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, iso-아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기 ; 수산기 ; 니트로기 ; 시아노기 ; 카르복실기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 합성의 간이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.Examples of the substituent which the cyclic hydrocarbon group may have include a carbon number such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert- An alkyl group of 1 to 5; An alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms such as methoxy group and ethoxy group; A hydroxyl group; A nitro group; Cyano; A carboxyl group and the like. Of these, from the viewpoint of simplicity of synthesis, unsubstituted is preferable.

이들 중에서도, 막 감소의 억제, 해상성의 관점에서, Rβ 가 2 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 2 가의 아다만탄 고리기인 것이 보다 바람직하다.Among these, R &lt; beta &gt; is preferably a divalent aliphatic ring group, more preferably a divalent adamantane ring group, from the viewpoint of suppression of film reduction and resolution.

한편, 패터닝 특성의 관점에서, Rβ 가 2 가의 방향족 고리기인 것이 바람직하고, 2 가의 플루오렌 고리기인 것이 보다 바람직하다.On the other hand, from the viewpoint of the patterning property, R ? Is preferably a divalent aromatic ring group, more preferably a divalent fluorene ring group.

상기와 같이, 식 (b1-II-2) 중의 벤젠 고리는, 추가로 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 그 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개이어도 되고, 2 개 이상이어도 된다.As described above, the benzene ring in the formula (b1-II-2) may be further substituted by an arbitrary substituent. Examples of the substituent include a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group and a propoxy group. The number of substituents is not particularly limited and may be one or two or more.

또, 치환기를 개재하여 2 개의 벤젠 고리가 연결되어 있어도 된다. 이 경우의 치환기로는, -O-, -S-, -NH-, -CH2- 등의 2 가의 기를 들 수 있다.Two benzene rings may be connected via a substituent. Examples of the substituent in this case include divalent groups such as -O-, -S-, -NH-, -CH 2 - and the like.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다. 또, 막 감소 등을 잘 생기지 않게 하는 관점에서, 메틸기 치환인 것이 바람직하다.Among them, from the viewpoint of the patterning characteristic, it is preferable that it is irregular. In addition, from the viewpoint of preventing film reduction or the like from occurring, methyl group substitution is preferable.

이하에 상기 식 (b1-II-2) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다. 또한, 예 중의 * 는 결합손을 나타낸다.Specific examples of the partial structure represented by the above formula (b1-II-2) are listed below. Also, in the example, * indicates a combined hand.

[화학식 28](28)

Figure pct00028
Figure pct00028

[화학식 29][Chemical Formula 29]

Figure pct00029
Figure pct00029

[화학식 30](30)

Figure pct00030
Figure pct00030

[화학식 31](31)

Figure pct00031
Figure pct00031

한편, 상기 식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조는, 도막 잔막률과 패터닝 특성의 관점에서, 하기 식 (b1-II-3) 으로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.On the other hand, the partial structure represented by the formula (b1-II) is preferably a partial structure represented by the following formula (b1-II-3) from the viewpoints of the coating film remaining ratio and the patterning property.

[화학식 32](32)

Figure pct00032
Figure pct00032

식 (b1-II-3) 중, R13, R14, R15, R16, m 및 n 은 상기 식 (b1-II) 와 동일한 의미이고, RZ 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다.In the formula (b1-II-3), R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , m and n have the same meanings as in the formula (b1-II), and R Z represents a hydrogen atom or a polybasic acid residue.

다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다. 또한, 추가로 또 하나의 OH 기가 제거되고, 식 (b1-II-3) 으로 나타내는 다른 분자에 있어서의 RZ 와 공용되어 있어도 되고, 요컨대, RZ 를 개재하여 복수의 식 (b1-II-3) 이 연결되어 있어도 된다.The polybasic acid residue means a monovalent group obtained by removing one OH group from a polybasic acid or an anhydride thereof. In addition, the added group is also removed by one OH, formula (b1-II-3) as shown, and may be shared with the R Z according to another molecule, that is, a plurality of R Z formula (b1-II- via the 3) may be connected.

다염기산으로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산에서 선택된 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.Examples of the polybasic acid include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, Acid, methyltetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, and the like.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이고, 보다 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 비페닐테트라카르복실산이다.Of these, from the viewpoint of the patterning property, it is preferable to use maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid and biphenyltetracarboxylic acid, , Tetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, biphenyltetracarboxylic acid.

(b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 1 분자 중에 함유되는, 상기 식 (b1-II-3) 으로 나타내는 부분 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 되고, 예를 들어, RZ 가 수소 원자의 것과, RZ 가 다염기산 잔기의 것이 혼재되어 있어도 된다.(b1-II) The partial structure represented by the above formula (b1-II-3) contained in one molecule of the epoxy (meth) acrylate resin may be one or two or more, for example, R Z May be a hydrogen atom, and R Z may be a polybasic acid residue.

또, (b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지 1 분자 중에 함유되는, 상기 식 (b1-II) 로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도의 악화나 막 감소를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of the partial structure represented by the above formula (b1-II) contained in one molecule of the epoxy (meth) acrylate resin (b1-II) is not particularly limited, but is preferably 1 or more, And is preferably 20 or less, more preferably 15 or less, and even more preferably 10 or less. By setting the value above the lower limit value, a strong film tends to be easily obtained, surface roughness tends not to occur easily, and if it is made lower than the upper limit value, deterioration of sensitivity and film reduction can be suppressed easily and resolution tends to be improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 20, more preferably 3 to 15, and even more preferably 3 to 10.

(b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 1000 이상이 바람직하고, 2000 이상이 보다 바람직하고, 또, 30000 이하가 바람직하고, 20000 이하가 보다 바람직하고, 10000 이하가 더욱 바람직하고, 7000 이하가 보다 더 바람직하고, 5000 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉽고, 표면 거침이 잘 생기지 않는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1000 ∼ 30000 이 바람직하고, 1000 ∼ 20000 이 보다 바람직하고, 2000 ∼ 10000 이 더욱 바람직하고, 2000 ∼ 7000 이 보다 더 바람직하고, 2000 ∼ 5000 을 특히 바람직하게 들 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the (b1-II) epoxy (meth) acrylate based resin measured by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene is not particularly limited, but is preferably 1,000 or more, More preferably 30,000 or less, more preferably 20,000 or less, still more preferably 10,000 or less, still more preferably 7,000 or less, and particularly preferably 5,000 or less. When the amount is above the lower limit value, the patterning property tends to be good, and when it is not more than the upper limit value, a strong film tends to be obtained, and surface roughness tends not to occur easily. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 1,000 to 30,000, more preferably from 1,000 to 20,000, still more preferably from 2,000 to 10,000, even more preferably from 2,000 to 7,000, even more preferably from 2,000 to 5,000 .

(b1-II) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 10 ㎎KOH/g 이상이 바람직하고, 20 ㎎KOH/g 이상이 보다 바람직하고, 40 ㎎KOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 60 ㎎KOH/g 이상이 보다 더 바람직하고, 80 ㎎KOH/g 이상이 특히 바람직하고, 100 ㎎KOH/g 이상이 가장 바람직하고, 또, 200 ㎎KOH/g 이하가 바람직하고, 150 ㎎KOH/g 이하가 보다 바람직하고, 120 ㎎KOH/g 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막을 얻기 쉬워지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 용해성이 향상되고, 해상성이 양호해지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 200 ㎎KOH/g 이 바람직하고, 20 ∼ 150 ㎎KOH/g 이 보다 바람직하고, 40 ∼ 150 ㎎KOH/g 이 더욱 바람직하고, 60 ∼ 120 ㎎KOH/g 이 보다 더 바람직하고, 80 ∼ 120 ㎎KOH/g 을 특히 바람직하게 들 수 있다.The acid value of the epoxy resin (b1-II) epoxy (meth) acrylate resin is not particularly limited, but is preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 20 mgKOH / g or more, G, more preferably at least 60 mgKOH / g, particularly preferably at least 80 mgKOH / g, most preferably at least 100 mgKOH / g, even more preferably at least 200 mgKOH / g, MgKOH / g or less, and more preferably 120 mgKOH / g or less. When the amount is above the lower limit value, a strong film tends to be easily obtained, and when it is not more than the upper limit value, development solubility is improved and resolution is improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 10 to 200 mgKOH / g, more preferably from 20 to 150 mgKOH / g, still more preferably from 40 to 150 mgKOH / g, MgKOH / g is more preferable, and 80 to 120 mgKOH / g is particularly preferable.

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상의 수지를 혼합하여 사용해도 된다.The epoxy (meth) acrylate resin may be used singly or as a mixture of two or more resins.

또, 전술한 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 일부를 다른 바인더 수지로 치환하여 사용해도 된다. 즉, 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지와 다른 바인더 수지를 병용해도 된다. 이 경우에 있어서, (b) 알칼리 가용성 수지에 있어서의 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 비율을 50 질량% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 60 질량% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하고, 70 질량% 이상으로 하는 것이 더욱 바람직하고, 80 질량% 이상으로 하는 것이 특히 바람직하고, 통상 100 질량% 이하이다.A part of the above-mentioned epoxy (meth) acrylate resin may be substituted by another binder resin. That is, the epoxy (meth) acrylate resin may be used in combination with another binder resin. In this case, the proportion of the epoxy (meth) acrylate resin in the alkali-soluble resin (b) is preferably 50 mass% or more, more preferably 60 mass% or more, and more preferably 70 mass% or more , More preferably 80 mass% or more, and most preferably 100 mass% or less.

예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 50 ∼ 100 질량% 가 바람직하고, 60 ∼ 100 질량% 가 보다 바람직하고, 70 ∼ 100 질량% 가 더욱 바람직하고, 80 ∼ 100 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 50 to 100 mass%, more preferably 60 to 100 mass%, still more preferably 70 to 100 mass%, and particularly preferably 80 to 100 mass% .

에폭시(메트)아크릴레이트계 수지와 병용할 수 있는 다른 바인더 수지에 제한은 없고, 감광성 착색 조성물에 통상 사용되는 수지에서 선택하면 된다. 예를 들어, 일본 공개특허공보 2007-271727호, 일본 공개특허공보 2007-316620호, 일본 공개특허공보 2007-334290호 등에 기재된 바인더 수지 등을 들 수 있다. 또한, 다른 바인더 수지는 모두, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Other binder resins that can be used in combination with the epoxy (meth) acrylate-based resin are not limited and may be selected from resins commonly used in photosensitive coloring compositions. For example, binder resins described in JP-A-2007-271727, JP-A-2007-316620, JP-A-2007-334290 and the like can be given. Further, all of the other binder resins may be used alone or in combination of two or more.

또, (b) 알칼리 가용성 수지로서, 안료나 분산제 등과의 상용성의 관점에서, (b2) 아크릴 공중합 수지를 사용하는 것이 바람직하고, 일본 공개특허공보 2014-137466호에 기재된 것을 바람직하게 사용할 수 있다.As the alkali-soluble resin (b), from the viewpoint of compatibility with the pigment and the dispersant, (b2) an acrylic copolymer resin is preferably used, and those described in JP-A-2014-137466 can be preferably used.

아크릴 공중합 수지로는, 예를 들어, 1 개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체 (이하, 「불포화 단량체 (b2-1)」 라고 한다) 와 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체 (이하, 「불포화 단량체 (b2-2)」 라고 한다) 의 공중합체를 들 수 있다.Examples of the acrylic copolymer resin include an ethylenically unsaturated monomer having at least one carboxyl group (hereinafter referred to as &quot; unsaturated monomer (b2-1) &quot;) and a copolymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter referred to as &quot; unsaturated monomer b2-2) &quot;). &lt; / RTI &gt;

불포화 단량체 (b2-1) 로는, 예를 들어, (메트)아크릴산, 크로톤산, α-클로르아크릴산, 계피산 등의 불포화 모노카르복실산 ; 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 메사콘산 등의 불포화 디카르복실산 또는 그 무수물 ; 숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 등의 2 가 이상의 다가 카르복실산의 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르 ; ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복실기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메트)아크릴레이트 ; p-비닐벤조산 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated monomer (b2-1) include unsaturated monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, alpha -chloroacrylic acid and cinnamic acid; Unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, citraconic acid, citraconic anhydride, and mesaconic acid, or anhydrides thereof; Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] monovalent monocarboxylic acids such as mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] succinate and phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] Esters; mono (meth) acrylate of a polymer having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals such as? -carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate; p-vinylbenzoic acid and the like.

이들 불포화 단량체 (b2-1) 는, 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These unsaturated monomers (b2-1) may be used alone or in combination of two or more.

또, 불포화 단량체 (b2-2) 로는, 예를 들어, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 N-치환 말레이미드 ;Examples of the unsaturated monomer (b2-2) include N-substituted maleimides such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide;

스티렌, α-메틸스티렌, p-하이드록시스티렌, p-하이드록시-α-메틸스티렌, p-비닐벤질글리시딜에테르, 아세나프틸렌 등의 방향족 비닐 화합물 ;Aromatic vinyl compounds such as styrene,? -Methylstyrene, p-hydroxystyrene, p-hydroxy-? -Methylstyrene, p-vinylbenzylglycidylether and acenaphthylene;

메틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글루콜 (중합도 2 ∼ 10) 메틸에테르(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글루콜 (중합도 2 ∼ 10) 메틸에테르(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 (중합도 2 ∼ 10) 모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 (중합도 2 ∼ 10) 모노(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시페닐(메트)아크릴레이트, 파라쿠밀페놀의 에틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 3-[(메트)아크릴로일옥시메틸]옥세탄, 3-[(메트)아크릴로일옥시메틸]-3-에틸옥세탄 등의 (메트)아크릴산에스테르 ;Acrylates such as methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate, polyethylene glycol (polymerization degree 2 to 10), methyl ether (meth) acrylate, polypropylene glycol (polymerization degree 2 to 10) , Polypropylene glycol (polymerization degree 2 to 10) mono (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan- (Meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, 4-hydroxyphenyl (meth) acrylate, ethylene oxide- (Meth) acrylate, 3,4- Acrylate such as (meth) acryloyloxymethyl (meth) acrylate, 3 - [(meth) acryloyloxymethyl] oxetane and 3 - [(meth) acryloyloxymethyl] ;

시클로헥실비닐에테르, 이소보르닐비닐에테르, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일비닐에테르, 펜타시클로펜타데카닐비닐에테르, 3-(비닐옥시메틸)-3-에틸옥세탄 등의 비닐에테르 ;Cyclohexyl vinyl ether, isobornyl vinyl ether, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl vinyl ether, pentacyclopentadecanyl vinyl ether, 3- (vinyloxymethyl) Vinyl ethers such as vinyl ether;

폴리스티렌, 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메트)아크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자 사슬의 말단에 모노(메트)아크릴로일기를 갖는 매크로모노머 등을 들 수 있다.And macromonomers having a mono (meth) acryloyl group at the ends of polymer molecular chains such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate and polysiloxane.

이들 불포화 단량체 (b2-2) 는, 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These unsaturated monomers (b2-2) may be used singly or in combination of two or more.

불포화 단량체 (b2-1) 와 불포화 단량체 (b2-2) 의 공중합체에 있어서, 그 공중합체 중의 불포화 단량체 (b2-1) 의 공중합 비율은, 바람직하게는 5 ∼ 50 질량%, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 40 질량% 이다. 이와 같은 범위에서 불포화 단량체 (b2-1) 를 공중합시킴으로써, 알칼리 현상성 및 보존 안정성이 우수한 감광성 착색 조성물을 얻을 수 있는 경향이 있다.In the copolymer of the unsaturated monomer (b2-1) and the unsaturated monomer (b2-2), the copolymerization ratio of the unsaturated monomer (b2-1) in the copolymer is preferably 5 to 50% by mass, 10 to 40% by mass. By copolymerizing the unsaturated monomer (b2-1) in such a range, there is a tendency to obtain a photosensitive coloring composition excellent in alkali developability and storage stability.

불포화 단량체 (b2-1) 와 불포화 단량체 (b2-2) 의 공중합체의 구체예로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평7-140654호, 일본 공개특허공보 평8-259876호, 일본 공개특허공보 평10-31308호, 일본 공개특허공보 평10-300922호, 일본 공개특허공보 평11-174224호, 일본 공개특허공보 평11-258415호, 일본 공개특허공보 2000-56118호, 일본 공개특허공보 2004-101728호 등에 개시되어 있는 공중합체를 들 수 있다.Specific examples of the copolymer of the unsaturated monomer (b2-1) and the unsaturated monomer (b2-2) include, for example, those described in JP-A-7-140654, JP-A-8-259876, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 10-31308, 10-300922, 11-174224, 11-258415, 2000-56118, And JP-A-2004-101728.

불포화 단량체 (b2-1) 와 불포화 단량체 (b2-2) 의 공중합체는, 공지된 방법에 의해 제조할 수 있지만, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2003-222717호, 일본 공개특허공보 2006-259680호, 국제 공개 제2007/029871호 등에 개시되어 있는 방법에 의해, 그 구조나 Mw, Mw/Mn 을 제어할 수도 있다.The copolymer of the unsaturated monomer (b2-1) and the unsaturated monomer (b2-2) can be produced by a known method. For example, JP-A-2003-222717, JP-A-2006-259680 The structure, Mw, and Mw / Mn can also be controlled by a method disclosed in International Publication No. 2007/029871.

<(c) 광 중합 개시제>< (c) Photopolymerization initiator >

(c) 광 중합 개시제는, 광을 직접 흡수하여, 분해 반응 또는 수소 인발 반응을 일으켜, 중합 활성 라디칼을 발생시키는 기능을 갖는 성분이다. 필요에 따라 중합 촉진제 (연쇄 이동제), 증감 색소 등의 부가제를 첨가하여 사용해도 된다.(c) The photopolymerization initiator is a component having a function of directly absorbing light to generate a decomposition reaction or a hydrogen withdrawing reaction to generate a polymerization activity radical. If necessary, additives such as polymerization accelerators (chain transfer agents), sensitizing dyes and the like may be added and used.

광 중합 개시제로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 소59-152396호, 일본 공개특허공보 소61-151197호에 기재된 티타노센 화합물을 함유하는 메탈로센 화합물 ; 일본 공개특허공보 2000-56118호에 기재된 헥사아릴비이미다졸 유도체 ; 일본 공개특허공보 평10-39503호 기재된 할로메틸화옥사디아졸 유도체, 할로메틸-s-트리아진 유도체 ; α-아미노알킬페논 유도체 ; 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공개특허공보 2006-36750호 등에 기재되어 있는 옥심에스테르계 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include metallocene compounds containing a titanocene compound described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197; Hexaarylbimidazole derivatives described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-56118; Halomethylated oxadiazole derivatives, halomethyl-s-triazine derivatives described in JP-A-10-39503; alpha -aminoalkylphenone derivatives; Oxime ester compounds described in JP-A-2000-80068, JP-A-2006-36750, and the like.

구체적으로는, 예를 들어, 티타노센 유도체류로는, 디시클로펜타디에닐티타늄디클로라이드, 디시클로펜타디에닐티타늄비스페닐, 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,5,6-테트라플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,4,6-트리플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,6-디플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,4-디플루오로페닐), 디(메틸시클로펜타티에닐)티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페닐), 디(메틸시클로펜타티에닐)티타늄비스(2,6-디플루오로페닐), 디시클로펜타디에닐티타늄[2,6-디-플루오로-3-(피로-1-일)-페닐] 등을 들 수 있다.Specific examples of the titanocene derivative include dicyclopentadienyl titanium dichloride, dicyclopentadienyl titanium bisphenyl, dicyclopentadienyl titanium bis (2, 3, 4, 5, 6 (Pentafluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium bis (2,3,5,6-tetrafluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium bis (2,4,6-trifluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium Dicyclopentadienyltitanium di (2,4-difluorophenyl), di (methylcyclopentadienyl) titanium bis (2,3,6-difluorophenyl) Pentafluorophenyl), di (methylcyclopentadienyl) titanium bis (2,6-difluorophenyl), dicyclopentadienyl titanium [2,6-di-fluoro- - (pyrro-1-yl) -phenyl], and the like.

또, 헥사아릴비이미다졸 유도체류로는, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-비스(3'-메톡시페닐)이미다졸 2 량체, 2-(2'-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, (4'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체 등을 들 수 있다.Examples of hexaaryl biimidazole derivatives include 2- (2'-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2'-chlorophenyl) -4,5-bis (2'-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (2'-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- Diphenylimidazole dimer, (4'-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, and the like.

또, 할로메틸화 옥사디아졸 유도체류로는, 2-트리클로로메틸-5-(2'-벤조푸릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-[β-(2'-벤조푸릴)비닐]-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-[β-(2'-(6''-벤조푸릴)비닐)]-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-푸릴-1,3,4-옥사디아졸 등을 들 수 있다.Examples of halomethylated oxadiazole derivatives include 2-trichloromethyl-5- (2'-benzofuryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- [ Vinyl] -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5 - [? - (2 '- (6 "-benzofuryl) 4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5-furyl-1,3,4-oxadiazole, and the like.

또, 할로메틸-s-트리아진 유도체류로는, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시카르보닐나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of halomethyl-s-triazine derived products include 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, and the like.

또, α-아미노알킬페논 유도체류로는, 2-메틸-1[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 4-디메틸아미노에틸벤조에이트, 4-디메틸아미노이소아밀벤조에이트, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 2-에틸헥실-1,4-디메틸아미노벤조에이트, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 7-디에틸아미노-3-(4-디에틸아미노벤조일)쿠마린, 4-(디에틸아미노)칼콘 등을 들 수 있다.Examples of the? -Aminoalkylphenone derivatives include 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 4-dimethylaminoethyl benzoate, 4-dimethylamino Diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, 2-ethylhexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, 2,5-bis (4-diethylaminobenzal) cyclohexane Diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin, and 4- (diethylamino) chalcone.

광 중합 개시제로는, 특히, 감도나 제판성의 점에서 옥심에스테르계 화합물이 유효하고, 페놀성 수산기를 함유하는 알칼리 가용성 수지를 사용하는 경우 등은, 특히 이와 같은 감도가 우수한 옥심에스테르계 화합물이 유용하다. 옥심에스테르계 화합물은, 그 구조 중에 자외선을 흡수하는 구조와 광 에너지를 전달하는 구조와 라디칼을 발생하는 구조를 겸비하고 있기 때문에, 소량이어도 감도가 높고, 또한 열반응에 대해 안정적이고, 소량이어도 고감도인 감광성 착색 조성물을 얻는 것이 가능하다.As the photopolymerization initiator, oxime ester compounds are effective, particularly in view of sensitivity and formability. When an alkali-soluble resin containing a phenolic hydroxyl group is used, oxime ester compounds having such excellent sensitivity are particularly useful Do. The oxime ester compound has a structure that absorbs ultraviolet rays, a structure that transmits light energy, and a structure that generates radicals in its structure. Therefore, even a small amount of oxime ester compound has high sensitivity, is stable to thermal reaction, It is possible to obtain a photosensitive coloring composition.

옥심에스테르계 화합물로는, 예를 들어, 하기 일반식 (IV) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.As the oxime ester compound, for example, a compound represented by the following general formula (IV) can be mentioned.

[화학식 33](33)

Figure pct00033
Figure pct00033

상기 식 (IV) 중, R21a 는, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기를 나타내고, R21b 는 방향 고리 또는 헤테로 방향 고리를 함유하는 임의의 치환기를 나타내고, R22a 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 알카노일기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴로일기를 나타낸다.In formula (IV), R 21a represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aromatic ring group which may have a substituent, and R 21b represents an arbitrary substituent containing an aromatic ring or a hetero ring, R 22a represents an alkanoyl group which may have a substituent or an aryloyl group which may have a substituent.

R21a 에 있어서의 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에의 용해성이나 감도의 관점에서, 통상 1 이상, 바람직하게는 2 이상, 또, 통상 20 이하, 바람직하게는 15 이하, 보다 바람직하게는 10 이하이다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 시클로펜틸에틸기, 프로필기 등을 들 수 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 2 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 10 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms of the alkyl group in R 21a is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably 15 or less in terms of solubility in a solvent and sensitivity. 10 or less. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a cyclopentylethyl group, and a propyl group. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 20, more preferably 2 to 15, and even more preferably 2 to 10.

알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 방향족 고리기, 수산기, 카르복실기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 4-(2-메톡시-1-메틸)에톡시-2-메틸페닐기 또는 N-아세틸-N-아세톡시아미노기 등을 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent which the alkyl group may have include an aromatic ring group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an amino group, an amide group, a 4- (2-methoxy- -Acetoxyamino group, and the like, and from the viewpoint of ease of synthesis, it is preferable that the group is indefinite.

R21a 에 있어서의 방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기 및 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 방향족 고리기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물에의 용해성의 관점에서 5 이상인 것이 바람직하다. 또, 현상성의 관점에서 30 이하인 것이 바람직하고, 20 이하인 것이 보다 바람직하고, 12 이하인 것이 더욱 바람직하다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 5 ∼ 12 를 더욱 바람직하게 들 수 있다. Examples of the aromatic ring group in R 21a include an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic ring group. The number of carbon atoms of the aromatic ring group is not particularly limited, but is preferably 5 or more from the viewpoint of solubility in a photosensitive coloring composition. From the viewpoint of developability, it is preferably 30 or less, more preferably 20 or less, and even more preferably 12 or less. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 30, more preferably 5 to 20, and still more preferably 5 to 12.

방향족 고리기의 구체예로는, 페닐기, 나프틸기, 피리딜기, 푸릴기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 현상성의 관점에서, 페닐기 또는 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다.Specific examples of the aromatic ring group include a phenyl group, a naphthyl group, a pyridyl group, and a furyl group. Among them, a phenyl group or a naphthyl group is preferable from the viewpoint of developability, and a phenyl group is more preferable.

방향족 고리기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 수산기, 카르복실기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 알킬기, 알콕시기, 이들의 치환기가 연결된 기 등을 들 수 있고, 현상성의 관점에서 알킬기, 알콕시기, 이들을 연결한 기가 바람직하고, 연결한 알콕시기가 보다 바람직하다.Examples of the substituent which the aromatic ring group may have include a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an amino group, an amide group, an alkyl group, an alkoxy group and a group to which a substituent thereof is connected. One group is preferable, and the connected alkoxy group is more preferable.

이들 중에서도, 현상성의 관점에서, R21a 가 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 고리기인 것이 바람직하고, 연결한 알콕시기를 치환기에 갖는 방향족 고리기인 것이 더욱 바람직하다.Among them, from the viewpoint of developability, R 21a is preferably an aromatic ring group which may have a substituent, more preferably an aromatic ring group which has a connected alkoxy group in a substituent.

또, R21b 로는, 바람직하게는 치환되어 있어도 되는 카르바졸릴기, 치환되어 있어도 되는 티오크산토닐기 또는 치환되어 있어도 되는 디페닐술파이드기를 들 수 있다. 이들 중에서도, 감도의 관점에서, 치환되어 있어도 되는 카르바졸릴기가 바람직하다. 한편, 전기 신뢰성의 관점에서, 치환되어 있어도 되는 디페닐술파이드기가 바람직하다.Examples of R 21b include a carbazolyl group which may be substituted, a thioxanthonyl group which may be substituted, or a diphenylsulfide group which may be substituted. Among them, a carbazolyl group which may be substituted is preferable from the viewpoint of sensitivity. On the other hand, from the viewpoint of electrical reliability, a diphenyl sulfide group which may be substituted is preferable.

또, R22a 에 있어서의 알카노일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에의 용해성이나 감도의 관점에서, 통상 2 이상, 바람직하게는 3 이상, 또, 통상 20 이하, 바람직하게는 15 이하, 보다 바람직하게는 10 이하, 더욱 바람직하게는 5 이하이다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 2 ∼ 20 이 바람직하고, 2 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 이 더욱 바람직하고, 3 ∼ 5 를 특히 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms of the alkanoyl group in R 22a is not particularly limited, but is usually 2 or more, preferably 3 or more, and usually 20 or less, preferably 15 or less, from the viewpoint of solubility and sensitivity to a solvent. More preferably 10 or less, still more preferably 5 or less. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 15, still more preferably 3 to 10, and particularly preferably 3 to 5.

알카노일기의 구체예로는, 아세틸기, 프로파노일기, 부타노일기 등을 들 수 있다.Specific examples of the alkanoyl group include an acetyl group, a propanoyl group, and a butanoyl group.

알카노일기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 방향족 고리기, 수산기, 카르복실기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기 등을 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent which the alkanoyl group may have include an aromatic ring group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an amino group, and an amide group, and from the viewpoint of ease of synthesis, it is preferable that the substituent is indeterminate.

또, R22a 에 있어서의 아릴로일기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 용매에의 용해성이나 감도의 관점에서, 통상 7 이상, 바람직하게는 8 이상, 또, 통상 20 이하, 바람직하게는 15 이하, 보다 바람직하게는 10 이하이다. 아릴로일기의 구체예로는, 벤조일기, 나프토일기 등을 들 수 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 7 ∼ 20 이 바람직하고, 8 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 10 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms of the aryloyl group in R 22a is not particularly limited, but is usually 7 or more, preferably 8 or more, and usually 20 or less, preferably 15 or less, from the viewpoint of solubility and sensitivity to a solvent. More preferably 10 or less. Specific examples of the aryloxy group include a benzoyl group and a naphthoyl group. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 7 to 20, more preferably 8 to 15, and even more preferably 8 to 10.

아릴로일기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 수산기, 카르복실기, 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기, 알킬기 등을 들 수 있고, 합성 용이성의 관점에서는, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent which the arylthio group may have include a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an amino group, an amide group, and an alkyl group, and from the viewpoint of ease of synthesis, an amorphous is preferable.

이들 중에서도, 감도의 관점에서, R22a 가 치환기를 가지고 있어도 되는 알카노일기인 것이 바람직하고, 무치환의 알카노일기인 것이 보다 바람직하고, 아세틸기인 것이 더욱 바람직하다.Of these, from the viewpoint of sensitivity, R 22a is preferably an alkanoyl group which may have a substituent, more preferably an unsubstituted alkanoyl group, and more preferably an acetyl group.

광 중합 개시제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합하여 사용해도 된다.One type of photopolymerization initiator may be used alone, or two or more types may be used in combination.

광 중합 개시제에는, 필요에 따라, 감응 감도를 높일 목적으로, 화상 노광 광원의 파장에 따른 증감 색소, 중합 촉진제를 배합시킬 수 있다. 증감 색소로는, 일본 공개특허공보 평4-221958호, 일본 공개특허공보 평4-219756호에 기재된 잔텐 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 복소 고리를 갖는 쿠마린 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 3-케토쿠마린 화합물, 일본 공개특허공보 평6-19240호에 기재된 피로메텐 색소, 그 밖에, 일본 공개특허공보 소47-2528호, 일본 공개특허공보 소54-155292호, 일본 특허공보 소45-37377호, 일본 공개특허공보 소48-84183호, 일본 공개특허공보 소52-112681호, 일본 공개특허공보 소58-15503호, 일본 공개특허공보 소60-88005호, 일본 공개특허공보 소59-56403호, 일본 공개특허공보 평2-69호, 일본 공개특허공보 소57-168088호, 일본 공개특허공보 평5-107761호, 일본 공개특허공보 평5-210240호, 일본 공개특허공보 평4-288818호에 기재된 디알킬아미노벤젠 골격을 갖는 색소 등을 들 수 있다.The photopolymerization initiator may be compounded with a sensitizing dye and a polymerization promoter depending on the wavelength of the image exposure light source, for the purpose of increasing the sensitivity of sensitivity, if necessary. Examples of the sensitizing dye include those described in JP-A-4-221958, JP-A-4-219756, JP-A-3-239703 and JP-A-5-289335 Coumarin dyes having heterocyclic rings, 3-ketocoumarin compounds described in JP-A Nos. 3-239703 and 5-289335, pyromethene dyes described in JP-A No. 6-19240, In addition, JP-A-47-2528, JP-A-54-155292, JP-A-45-37377, JP-A-48-84183, JP-A-52-112681 Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-15503, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 60-88005, Japanese Laid-Open Patent Application No. 59-56403, Japanese Laid-Open Patent Application No. 2-69, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 57-168088 JP-A-5-107761, JP-A-5-210240, and JP-A- Described in No. Hei 4-288818 it can be mentioned the dye or the like having a dialkyl aminobenzene skeleton.

이들 증감 색소 중 바람직한 것은, 아미노기 함유 증감 색소이고, 더욱 바람직한 것은, 아미노기 및 페닐기를 동일 분자 내에 갖는 화합물이다. 특히, 바람직한 것은, 예를 들어, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 2-아미노벤조페논, 4-아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,4-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 화합물 ; 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[4,5]벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[6,7]벤조옥사졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-티아디아졸, (p-디메틸아미노페닐)피리딘, (p-디에틸아미노페닐)피리딘, (p-디메틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디에틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디메틸아미노페닐)피리미딘, (p-디에틸아미노페닐)피리미딘 등의 p-디알킬아미노페닐기 함유 화합물 등이다. 이 중 가장 바람직한 것은, 4,4'-디알킬아미노벤조페논이다.Among these sensitizing dyes, preferred are amino group-containing sensitizing dyes, and more preferred are compounds having an amino group and a phenyl group in the same molecule. Particularly preferred are, for example, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, 2-aminobenzophenone, 4-aminobenzophenone, 4,4'- Benzophenone compounds such as phenone, 3,3'-diaminobenzophenone and 3,4-diaminobenzophenone; Benzooxazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzooxazole, 2- (p-diethylaminophenyl) benzoxazole, 2- (Dimethylaminophenyl) benzo [6,7] benzoxazole, 2,5-bis (p-diethylaminophenyl) -1,3,4-oxazole, 2- (P-dimethylaminophenyl) benzimidazole, 2- (p-diethylaminophenyl) benzothiazole, 2- Diethylaminophenyl) -1,3,4-thiadiazole, (p-dimethylaminophenyl) pyridine, (p-diethylaminophenyl) pyridine, (p- dimethylaminophenyl) quinoline, Phenyl) quinoline, (p-dimethylaminophenyl) pyrimidine, and (p-diethylaminophenyl) pyrimidine. Of these, 4,4'-dialkylaminobenzophenone is most preferable.

증감 색소는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The sensitizing dye may be used singly or in combination of two or more species.

중합 촉진제로는, 예를 들어, p-디메틸아미노벤조산에틸, 벤조산2-디메틸아미노에틸 등의 방향족 아민, n-부틸아민, N-메틸디에탄올아민 등의 지방족 아민, 후술하는 메르캅토 화합물 등이 사용된다. 중합 촉진제는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the polymerization accelerator include aromatic amines such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and 2-dimethylaminoethyl benzoate, aliphatic amines such as n-butylamine and N-methyldiethanolamine, mercapto compounds described later, and the like Is used. The polymerization accelerator may be used alone or in combination of two or more.

<(d) 에틸렌성 불포화 화합물>< (d) Ethylenically unsaturated compound >

본 발명의 감광성 착색 조성물은, (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 함유한다. (d) 에틸렌성 불포화 화합물을 함유함으로써, 감도가 향상된다.The photosensitive coloring composition of the present invention contains (d) an ethylenically unsaturated compound. (d) By containing an ethylenically unsaturated compound, the sensitivity is improved.

본 발명에 사용되는 에틸렌성 불포화 화합물은, 분자 내에 에틸렌성 불포화기를 적어도 1 개 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 예를 들어 (메트)아크릴산, (메트)아크릴산알킬에스테르, 아크릴로니트릴, 스티렌, 및 에틸렌성 불포화 결합을 1 개 갖는 카르복실산과, 다가 또는 1 가 알코올의 모노에스테르 등을 들 수 있다.The ethylenically unsaturated compound used in the present invention is a compound having at least one ethylenic unsaturated group in the molecule. Specific examples thereof include (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid alkyl ester, acrylonitrile, styrene, and carboxylic acid having one ethylenic unsaturated bond and monoester of polyhydric or monohydric alcohol have.

본 발명에 있어서는, 특히, 1 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 2 개 이상 갖는 다관능 에틸렌성 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 다관능 에틸렌성 단량체가 갖는 에틸렌성 불포화기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 2 개 이상이고, 바람직하게는 4 개 이상이고, 보다 바람직하게는 5 개 이상이고, 또, 바람직하게는 8 개 이하이고, 보다 바람직하게는 7 개 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 고감도가 되는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 용매에의 용해성이 향상되는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 2 ∼ 8 개가 바람직하고, 4 ∼ 7 개가 보다 바람직하고, 5 ∼ 7 개를 더욱 바람직하게 들 수 있다.In the present invention, it is particularly preferable to use a polyfunctional ethylenic monomer having two or more ethylenic unsaturated groups in one molecule. The number of ethylenic unsaturated groups contained in the polyfunctional ethylenic monomer is not particularly limited, but is usually 2 or more, preferably 4 or more, more preferably 5 or more, and preferably 8 or less , And more preferably 7 or less. The above-mentioned lower limit value tends to give higher sensitivity, and when it is lower than the upper limit value, the solubility in a solvent tends to be improved. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 2 to 8, more preferably 4 to 7, and still more preferably 5 to 7.

다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 예를 들어 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르; 지방족 폴리하이드록시 화합물, 방향족 폴리하이드록시 화합물 등의 다가 하이드록시 화합물과, 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional ethylenic monomer include, for example, an ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid; An ester of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid; Aliphatic polyhydroxy compounds, and aromatic polyhydroxy compounds, and esters obtained by esterification reaction of an unsaturated carboxylic acid and a polybasic carboxylic acid.

상기 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트 등의 지방족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르, 이들 예시 화합물의 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 대신한 메타크릴산에스테르, 동일하게 이타코네이트로 대신한 이타콘산에스테르, 크로네이트로 대신한 크로톤산에스테르 혹은 말레에이트로 대신한 말레산에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the ester of the aliphatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylol ethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, Examples of the aliphatic polyhydroxy compound such as pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and glycerol acrylate include acrylic acid Esters, methacrylic acid esters in which acrylates of these exemplified compounds are replaced by methacrylates, itaconic acid esters in place of itaconates in the same manner, crotonic acid esters in place of crotonates, or maleic esters in place of maleate To have.

방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 하이드로퀴논디아크릴레이트, 하이드로퀴논디메타크릴레이트, 레조르신디아크릴레이트, 레조르신디메타크릴레이트, 피로갈롤트리아크릴레이트 등의 방향족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the ester of the aromatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid include aromatic polyesters such as hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcinodiacrylate, resorcine dimethacrylate and pyrogallol triacrylate; Acrylic acid esters and methacrylic acid esters of hydroxy compounds, and the like.

다염기성 카르복실산 및 불포화 카르복실산과, 다가 하이드록시 화합물의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르로는 반드시 단일물은 아니지만, 대표적인 구체예를 들면, 아크릴산, 프탈산, 및 에틸렌글리콜의 축합물, 아크릴산, 말레산, 및 디에틸렌글리콜의 축합물, 메타크릴산, 테레프탈산 및 펜타에리트리톨의 축합물, 아크릴산, 아디프산, 부탄디올 및 글리세린의 축합물 등을 들 수 있다.The esters obtained by the esterification reaction between the polybasic carboxylic acid and the unsaturated carboxylic acid and the polyhydric hydroxy compound are not necessarily a single substance. Representative examples thereof include condensates of acrylic acid, phthalic acid and ethylene glycol, acrylic acid, maleic acid Acid and condensation products of diethylene glycol, condensates of methacrylic acid, terephthalic acid and pentaerythritol, condensates of acrylic acid, adipic acid, butanediol and glycerin, and the like.

그 밖에, 본 발명에 사용되는 다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 및 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르를 반응시켜 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트류 ; 다가 에폭시 화합물과 하이드록시(메트)아크릴레이트 또는 (메트)아크릴산의 부가 반응물과 같은 에폭시아크릴레이트류 ; 에틸렌비스아크릴아미드 등의 아크릴아미드류 ; 프탈산디알릴 등의 알릴에스테르류 ; 디비닐프탈레이트 등의 비닐기 함유 화합물 등이 유용하다.Examples of the polyfunctional ethylenic monomer used in the present invention include urethane (meth) acrylate obtained by reacting a polyisocyanate compound, a hydroxyl group-containing (meth) acrylate or polyisocyanate compound with a polyol and a hydroxyl group-containing (meth) Acrylates; Epoxy acrylates such as polyaddition epoxy compounds and addition reactants of hydroxy (meth) acrylate or (meth) acrylic acid; Acrylamides such as ethylenebisacrylamide; Allyl esters such as diallyl phthalate; And vinyl group-containing compounds such as divinyl phthalate.

상기 우레탄(메트)아크릴레이트류로는, 예를 들어, DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (닛폰 화약사 제조), U-2PPA, U-6LPA, U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (신나카무라 화학 공업사 제조), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (쿄에이샤 화학사 제조), UV-1700B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (닛폰 합성 화학 공업사 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the urethane (meth) acrylates include DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (manufactured by Nippon Yakusha), U-2PPA, U- UA-510H, UF-8001G (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.), UV-1700B (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industrial Co., Ltd.), UA-10PA, U-33H, UA-53H, UA- , UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B and UV7640B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.).

이들 중에서도, 경화성의 관점에서 (d) 에틸렌성 불포화 화합물로서, (메트)아크릴산알킬에스테르를 사용하는 것이 바람직하고, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트를 사용하는 것이 보다 바람직하다.Among them, from the viewpoint of the curability, it is preferable to use (meth) acrylic acid alkyl ester as the ethylenically unsaturated compound (d), and it is more preferable to use dipentaerythritol hexaacrylate.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used singly or in combination of two or more.

<(e) 용제><(e) Solvent>

본 발명의 감광성 착색 조성물은 (e) 용제를 함유한다. (e) 용제를 함유함으로써, (a) 착색제를 용제 중에 용해 또는 분산시킬 수 있고, 또, 도포가 용이해진다.The photosensitive coloring composition of the present invention contains (e) a solvent. (e) By containing a solvent, (a) the colorant can be dissolved or dispersed in a solvent, and the application is facilitated.

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상, (a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광 중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (f) 분산제, 및 필요에 따라 사용되는 그 밖의 각종 재료가, 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다. 용제 중에서도, 분산성이나 도포성의 관점에서 유기 용제가 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention is usually prepared by a method comprising the steps of (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (f) Various materials are used in a state dissolved or dispersed in a solvent. Among the solvents, organic solvents are preferable from the viewpoints of dispersibility and coatability.

유기 용제 중에서도, 도포성의 관점에서 비점이 100 ∼ 300 ℃ 의 범위인 것을 선택하는 것이 바람직하고, 비점이 120 ∼ 280 ℃ 의 범위인 것을 선택하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 여기서 말하는 비점은, 압력 1013.25 hPa 에 있어서의 비점을 의미하고, 이하 비점에 관해서는 모두 동일하다.Among organic solvents, those having a boiling point in the range of 100 to 300 占 폚 are preferably selected from the viewpoint of coatability, and those having a boiling point in the range of 120 to 280 占 폚 are more preferable. The boiling point referred to here means the boiling point at a pressure of 1013.25 hPa, and the boiling point is all the same.

이와 같은 유기 용제로는, 예를 들어, 다음과 같은 것을 들 수 있다.Examples of such an organic solvent include the following.

에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜-t-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 메톡시메틸펜탄올, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메톡시부탄올, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르와 같은 글리콜모노알킬에테르류 ;Ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol- Butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, methoxymethyl pentanol, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, Glycol monoalkyl ethers such as butoxybutanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether and tripropylene glycol methyl ether;

에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르와 같은 글리콜디알킬에테르류 ;Glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether and dipropylene glycol dimethyl ether ;

에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트와 같은 글리콜알킬에테르아세테이트류 ;Ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether But are not limited to, acetate, methoxybutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, dipropylene glycol mono Glycol alkyl ether acetates such as methyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate and 3-methyl-3-methoxybutyl acetate;

에틸렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트 등의 글리콜디아세테이트류 ;Glycol diacetates such as ethylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate and 1,6-hexanediol acetate;

시클로헥산올아세테이트 등의 알킬아세테이트류 ;Alkyl acetates such as cyclohexanol acetate;

아밀에테르, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 디아밀에테르, 에틸이소부틸에테르, 디헥실에테르와 같은 에테르류 ;Ethers such as amyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, diamyl ether, ethyl isobutyl ether and dihexyl ether;

아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소아밀케톤, 디이소프로필케톤, 디이소부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 에틸아밀케톤, 메틸부틸케톤, 메틸헥실케톤, 메틸노닐케톤, 메톡시메틸펜타논과 같은 케톤류 ;Examples of the solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisopropyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl amyl ketone, Ketones such as ketone, methyl nonyl ketone, methoxymethyl pentanone;

에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 메톡시메틸펜탄올, 글리세린, 벤질알코올과 같은 1 가 또는 다가 알코올류 ;But are not limited to, monohydric or polyhydric alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, methoxymethylpentanol, glycerin, Ryu;

n-펜탄, n-옥탄, 디이소부틸렌, n-헥산, 헥센, 이소프렌, 디펜텐, 도데칸과 같은 지방족 탄화수소류 ;aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-octane, diisobutylene, n-hexane, hexene, isoprene, dipentene and dodecane;

시클로헥산, 메틸시클로헥산, 메틸시클로헥센, 비시클로헥실과 같은 지환식 탄화수소류 ; Alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexene and bicyclohexyl;

벤젠, 톨루엔, 자일렌, 쿠멘과 같은 방향족 탄화수소류 ;Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and cumene;

아밀포르메이트, 에틸포르메이트, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산프로필, 아세트산아밀, 메틸이소부틸레이트, 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸프로피오네이트, 프로필프로피오네이트, 부티르산부틸, 부티르산이소부틸, 이소부티르산메틸, 에틸카프릴레이트, 부틸스테아레이트, 에틸벤조에이트, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, γ-부티로락톤과 같은 사슬형 또는 고리형 에스테르류 ;Ethyl propionate, propyl propionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, methyl isobutyrate, ethyl isobutyrate, ethyl propionate, propyl propionate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, Ethyl propionate, ethyl caprylate, butyl stearate, ethyl benzoate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, Chain or cyclic esters such as butyl methoxypropionate and? -Butyrolactone;

3-메톡시프로피온산, 3-에톡시프로피온산과 같은 알콕시카르복실산류 ;Alkoxycarboxylic acids such as 3-methoxypropionic acid and 3-ethoxypropionic acid;

부틸클로라이드, 아밀클로라이드와 같은 할로겐화 탄화수소류 ;Halogenated hydrocarbons such as butyl chloride and amyl chloride;

메톡시메틸펜타논과 같은 에테르케톤류 ;Ether ketones such as methoxymethylpentanone;

아세토니트릴, 벤조니트릴과 같은 니트릴류 등.Nitriles such as acetonitrile, benzonitrile, and the like.

상기에 해당하는 시판되는 유기 용제로는, 미네랄 스피릿, 바르솔 #2, 아프코 #18 솔벤트, 아프코 시너, 소칼 솔벤트 No.1 및 No.2, 솔벳소 #150, 쉘 TS28 솔벤트, 카르비톨, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 메틸셀로솔브 (「셀로솔브」 는 등록상표. 이하 동일), 에틸셀로솔브, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트, 디글라임 (모두 상품명) 등을 들 수 있다.Examples of commercially available organic solvents include Mineral Spray, Barthol # 2, Acco # 18 Solvent, Afucosiner, SoCal Solvent No.1 and No.2, Solvesso # 150, Shell TS28 Solvent, , Ethyl carbitol, butyl carbitol, methyl cellosolve ("Cellosolve" is a registered trademark), ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, diglyme (all trade names) .

이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

포토리소그래피법으로 착색 스페이서를 형성하는 경우, 유기 용제로는 비점이 100 ∼ 200 ℃ 의 범위인 것을 선택하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 120 ∼ 170 ℃ 의 비점을 갖는 것이다.When a colored spacer is formed by a photolithography method, it is preferable to select an organic solvent having a boiling point of 100 to 200 캜. More preferably a boiling point of 120 to 170 占 폚.

상기 유기 용제 중, 도포성, 표면 장력 등의 밸런스가 양호하고, 조성물 중의 구성 성분의 용해도가 비교적 높은 점에서는, 글리콜알킬에테르아세테이트류가 바람직하다.Among the above-mentioned organic solvents, glycol alkyl ether acetates are preferred from the viewpoints of good balance of coatability, surface tension and the like, and relatively high solubility of the constituent components in the composition.

또, 글리콜알킬에테르아세테이트류는, 단독으로 사용해도 되지만, 다른 유기 용제를 병용해도 된다. 병용하는 유기 용제로서, 특히 바람직한 것은 글리콜모노알킬에테르류이다. 그 중에서도, 특히 조성물 중의 구성 성분의 용해성에서 프로필렌글리콜모노메틸에테르가 바람직하다. 또한, 글리콜모노알킬에테르류는 극성이 높고, 첨가량이 지나치게 많으면 안료가 응집되기 쉽고, 이후에 얻어지는 감광성 착색 조성물의 점도가 높아져가는 등의 보존 안정성이 저하되는 경향이 있으므로, 용제 중의 글리콜모노알킬에테르류의 비율은 5 질량% ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다.The glycol alkyl ether acetates may be used alone or in combination with other organic solvents. As the organic solvent to be used in combination, glycol monoalkyl ethers are particularly preferable. Among them, propylene glycol monomethyl ether is particularly preferable from the viewpoint of the solubility of the constituent components in the composition. The glycol monoalkyl ether has a high polarity. When the amount of the glycol monoalkyl ether to be added is too large, the pigment tends to aggregate and the storage stability such as the viscosity of the resulting photosensitive colored composition tends to be lowered. Therefore, Is preferably from 5% by mass to 30% by mass, and more preferably from 5% by mass to 20% by mass.

또, 150 ℃ 이상의 비점을 갖는 유기 용제 (이하 「고비점 용제」 라고 칭하는 경우가 있다) 를 병용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 고비점 용제를 병용함으로써, 감광성 착색 조성물은 잘 마르지 않게 되지만, 조성물 중에 있어서의 안료의 균일한 분산 상태가 급격한 건조에 의해 파괴되는 것을 방지하는 효과가 있다. 즉, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에 있어서의 착색제 등의 석출·고화에 의한 이물질 결함의 발생을 방지하는 효과가 있다. 이와 같은 효과가 높은 점에서, 상기 서술한 각종 용제 중에서도, 특히 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 및 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트가 바람직하다.It is also preferable to use an organic solvent having a boiling point of 150 캜 or more (hereinafter sometimes referred to as a &quot; high boiling point solvent &quot;). When such a high-boiling solvent is used in combination, the photosensitive coloring composition is not dried well, but there is an effect of preventing the uniform dispersion state of the pigment in the composition from being destroyed by rapid drying. That is, for example, there is an effect of preventing the occurrence of foreign matter defects due to precipitation and solidification of a coloring agent or the like at the tip of the slit nozzle. Among these various solvents, diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate and diethylene glycol monoethyl ether acetate are particularly preferable from the viewpoint of high effect.

고비점 용제를 병용하는 경우, 유기 용제 중의 고비점 용제의 함유 비율은, 3 질량% ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 5 질량% ∼ 30 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에서 색재 등이 석출·고화되어 이물질 결함을 일으키는 것을 억제할 수 있는 경향이 있고, 또 상기 상한값 이하로 함으로써 조성물의 건조 온도가 느려지는 것을 억제하여, 감압 건조 프로세스의 택트 불량이나, 프리베이크의 핀 자국과 같은 문제를 억제할 수 있는 경향이 있다.When the high boiling point solvent is used in combination, the content ratio of the high boiling point solvent in the organic solvent is preferably 3% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 40% by mass, still more preferably 5% by mass to 30% Particularly preferred. By setting the temperature at or above the lower limit value, for example, the coloring material or the like precipitates and solidifies at the tip of the slit nozzle to prevent occurrence of foreign matter defects. In addition, Problems such as defective tack in the reduced-pressure drying process and pin marks on pre-baking tend to be suppressed.

또한, 비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제가 글리콜알킬에테르아세테이트류이어도 되고, 또 글리콜알킬에테르류이어도 되고, 이 경우에는, 비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제를 별도로 함유시키지 않아도 상관없다.The high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C or higher may be a glycol alkyl ether acetate or a glycol alkyl ether. In this case, a high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C or more may be not separately contained.

바람직한 고비점 용제로서, 예를 들어 전술한 각종 용제 중에서는 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트, 트리아세틴 등을 들 수 있다.As preferred high boiling point solvents, for example, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, 1,3-butylene glycol diacetate , 1,6-hexanediol diacetate, triacetin, and the like.

<(f) 분산제><(f) Dispersant>

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서는, (a) 착색제를 미세하게 분산시키고, 또한 그 분산 상태를 안정화시키는 것이 품질의 안정성 확보에는 중요하기 때문에, (f) 분산제를 함유한다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, (f) a dispersing agent is contained because (a) finely dispersing the colorant and stabilizing the dispersed state are important for securing the stability of the quality.

(f) 분산제로는, 관능기를 갖는 고분자 분산제가 바람직하고, 또한 분산 안정성 면에서 카르복실기 ; 인산기 ; 술폰산기 ; 또는 이들의 염기 ; 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 4 급 암모늄염기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 관능기를 갖는 고분자 분산제가 바람직하다. 그 중에서도 특히, 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 4 급 암모늄염기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 염기성 관능기를 갖는 고분자 분산제가 안료를 분산시킬 때에 소량의 분산제로 분산시킬 수 있다는 관점에서 특히 바람직하다.As the (f) dispersing agent, a polymer dispersing agent having a functional group is preferable, and from the viewpoint of dispersion stability, a carboxyl group; Phosphate group; Sulfonic acid group; Or a base thereof; A primary, secondary or tertiary amino group; Quaternary ammonium salt group; A polymer dispersant having a functional group such as a group derived from a nitrogen-containing heterocycle such as pyridine, pyrimidine or pyrazine is preferable. Among them, a primary, secondary or tertiary amino group; Quaternary ammonium salt group; A polymer dispersant having a basic functional group such as a group derived from a nitrogen-containing heterocycle such as pyridine, pyrimidine or pyrazine is particularly preferable from the viewpoint that the pigment can be dispersed with a small amount of a dispersant when the pigment is dispersed.

또, 고분자 분산제로는, 예를 들어 우레탄계 분산제, 아크릴계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리알릴아민계 분산제, 아미노기를 갖는 모노머와 매크로모노머로 이루어지는 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌디에스테르계 분산제, 폴리에테르인산계 분산제, 폴리에스테르인산계 분산제, 소르비탄 지방족 에스테르계 분산제, 지방족 변성 폴리에스테르계 분산제 등을 들 수 있다.Examples of the polymer dispersing agent include a urethane dispersant, an acrylic dispersant, a polyethyleneimine dispersant, a polyallyl amine dispersant, a dispersant comprising a monomer having an amino group and a macromonomer, a polyoxyethylene alkyl ether dispersant, An ester-based dispersant, a polyether phosphoric acid-based dispersant, a polyester phosphoric acid-based dispersant, a sorbitan aliphatic ester-based dispersant, and an aliphatic modified polyester-based dispersant.

이와 같은 분산제의 구체예로는, 상품명으로, EFKA (등록상표. BASF 사 제조.), DISPERBYK (등록상표. 빅케미사 제조.), 디스파론 (등록상표. 쿠스모토 화성사 제조.), SOLSPERSE (등록상표. 루브리졸사 제조.), KP (신에츠 화학 공업사 제조), 폴리플로우 (쿄에이샤 화학사 제조), 아지스퍼 (등록상표. 아지노모토사 제조.) 등을 들 수 있다.Specific examples of such dispersants include, but are not limited to, EFKA (registered trademark, manufactured by BASF), DISPERBYK (registered trademark, manufactured by BICKEMISA), DIPARON (registered trademark, (Registered trademark, manufactured by Lubrizol Corporation), KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) and Ajisper (registered trademark by Ajinomoto Co., Ltd.).

이들 고분자 분산제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또는 2 종 이상을 병용해도 된다.These polymer dispersants may be used singly or in combination of two or more.

고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상 700 이상, 바람직하게는 1000 이상이고, 또 통상 100000 이하, 바람직하게는 50000 이하이다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 700 ∼ 100000 이 바람직하고, 1000 ∼ 50000 을 보다 바람직하게 들 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the polymer dispersant is usually 700 or more, preferably 1000 or more, and usually 100000 or less, preferably 50000 or less. For example, as the combination of the upper limit and the lower limit, 700 to 100000 is preferable, and 1000 to 50000 is more preferable.

이들 중, 안료의 분산성의 관점에서, (f) 분산제는 관능기를 갖는 우레탄계 고분자 분산제 및/또는 아크릴계 고분자 분산제를 함유하는 것이 바람직하고, 아크릴계 고분자 분산제를 함유하는 것이 특히 바람직하다.Among them, from the viewpoint of dispersibility of the pigment, (f) the dispersant preferably contains a urethane-based polymer dispersant having functional groups and / or an acrylic polymer dispersant, and particularly preferably contains an acrylic polymer dispersant.

또 분산성, 보존성 면에서, 염기성 관능기를 갖고, 폴리에스테르 결합 및/또는 폴리에테르 결합을 갖는 고분자 분산제가 바람직하다.In view of dispersibility and preservability, a polymer dispersant having a basic functional group and having a polyester bond and / or a polyether bond is preferable.

우레탄계 및 아크릴계 고분자 분산제로는, 예를 들어 DISPERBYK160 ∼ 166, 182 시리즈 (모두 우레탄계), DISPERBYK2000, 2001, BYK-LPN21116 등 (모두 아크릴계) (이상 모두 빅케미사 제조) 을 들 수 있다.Examples of the urethane-based and acrylic-based polymer dispersing agents include DISPERBYK 160 to 166 and 182 series (all-urethane type), DISPERBYK 2000, 2001 and BYK-LPN21116 (all acrylic type).

우레탄계 고분자 분산제로서 바람직한 화학 구조를 구체적으로 예시한다면, 예를 들어, 폴리이소시아네이트 화합물과, 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물과, 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는, 중량 평균 분자량 1000 ∼ 200000 의 분산 수지 등을 들 수 있다. 이들을 벤질클로라이드 등의 4 급화제로 처리함으로써, 3 급 아미노기의 전부 또는 일부를 4 급 암모늄염기로 할 수 있다.For example, a polyisocyanate compound, a compound having a number average molecular weight of 300 to 10000 having one or two hydroxyl groups in the molecule, a compound having an active hydrogen and a tertiary amino group And a dispersion resin having a weight average molecular weight of 1,000 to 200,000. By treating them with a quaternizing agent such as benzyl chloride, all or a part of the tertiary amino group can be quaternary ammonium salt group.

상기의 폴리이소시아네이트 화합물의 예로는, 파라페닐렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신메틸에스테르디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 다이머산디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), ωω'-디이소시아네이트디메틸시클로헥산 등의 지환족 디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향 고리를 갖는 지방족 디이소시아네이트, 리신에스테르트리이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트메틸옥탄, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐메탄), 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트 등의 트리이소시아네이트, 및 이들의 3 량체, 물 부가물, 및 이들의 폴리올 부가물 등을 들 수 있다. 폴리이소시아네이트로서 바람직한 것은 유기 디이소시아네이트의 3 량체이고, 가장 바람직한 것은 톨릴렌디이소시아네이트의 3 량체와 이소포론디이소시아네이트의 3 량체이다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the polyisocyanate compound include p-phenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, naphthalene- Aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, lysine methyl ester diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and dimer acid diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4 ', 4,4'-tetramethylene diisocyanate and the like, aromatic diisocyanates such as toluidine diisocyanate, Alicyclic diisocyanates such as methylenebis (cyclohexylisocyanate) and omega'-diisocyanate dimethylcyclohexane, xylylene diisocyanate, and aromatic rings such as alpha, alpha, alpha ', alpha'-tetramethyl xylylene diisocyanate Alicyclic diisocyanate, lysine ester triisocyanate, 1,6,11- (Isocyanatophenyl) thiophosphate, and the like can be used. Examples of the isocyanate compound include decanediisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyloctane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, bicycloheptane triisocyanate, Triisocyanates, trimer thereof, water adducts thereof, and polyol adducts thereof. The polyisocyanate is preferably a trimer of an organic diisocyanate, most preferably a trimer of tolylene diisocyanate and a trimer of isophorone diisocyanate. These may be used singly or in combination of two or more.

이소시아네이트의 3 량체의 제조 방법으로는, 상기 폴리이소시아네이트류를 적당한 3 량화 촉매, 예를 들어 제 3 급 아민류, 포스핀류, 알콕사이드류, 금속 산화물, 카르복실산염류 등을 사용하여 이소시아네이트기의 부분적인 3 량화를 실시하고, 촉매독의 첨가에 의해 3 량화를 정지시킨 후, 미반응의 폴리이소시아네이트를 용제 추출, 박막 증류에 의해 제거하여 목적으로 하는 이소시아누레이트기 함유 폴리이소시아네이트를 얻는 방법을 들 수 있다.As a method for producing the trimer of isocyanate, the above polyisocyanate is reacted with an appropriate trimerization catalyst such as tertiary amines, phosphines, alkoxides, metal oxides, carboxylic acid salts, And then the polymerization is terminated by addition of a catalyst poison. Thereafter, unreacted polyisocyanate is removed by solvent extraction or thin-film distillation to obtain a desired isocyanurate group-containing polyisocyanate .

분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물로는, 폴리에테르글리콜, 폴리에스테르글리콜, 폴리카보네이트글리콜, 폴리올레핀글리콜 등, 및 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 것 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다.Examples of the compound having a number average molecular weight of 300 to 10000 having one or two hydroxyl groups in the molecule include polyether glycols, polyester glycols, polycarbonate glycols, polyolefin glycols and the like, and compounds in which the terminal hydroxyl groups of these compounds have 1 to 25 carbon atoms Alkoxylated with an alkyl group, and mixtures of two or more thereof.

폴리에테르글리콜로는, 폴리에테르디올, 폴리에테르에스테르디올, 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에테르디올로는, 알킬렌옥사이드를 단독 또는 공중합시켜 얻어지는 것, 예를 들어 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌-프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜, 폴리옥시헥사메틸렌글리콜, 폴리옥시옥타메틸렌글리콜 및 그들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다.Examples of the polyether glycol include polyether diol, polyether ester diol, and mixtures of two or more thereof. Examples of the polyether diol include those obtained by using an alkylene oxide alone or by copolymerization, such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene-propylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyoxyhexamethylene glycol, polyoxyoctamethylene glycol, And mixtures of two or more thereof.

폴리에테르에스테르디올로는, 에테르기 함유 디올 혹은 다른 글리콜과의 혼합물을 디카르복실산 또는 그들의 무수물과 반응시키거나, 또는 폴리에스테르글리콜에 알킬렌옥사이드를 반응시킴으로써 얻어지는 것, 예를 들어 폴리(폴리옥시테트라메틸렌)아디페이트 등을 들 수 있다. 폴리에테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜 또는 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 화합물이다.Polyetherester diols include those obtained by reacting a mixture with an ether group-containing diol or other glycol with a dicarboxylic acid or anhydride thereof, or by reacting an alkylene oxide with a polyester glycol, for example, poly Oxytetramethylene) adipate, and the like. Polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, or compounds in which one terminal hydroxyl group of these compounds is alkoxylated with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms is most preferable as the polyether glycol.

폴리에스테르글리콜로는, 디카르복실산 (숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세바크산, 푸마르산, 말레산, 프탈산 등) 또는 그들의 무수물과 글리콜 (에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2,5-디메틸-2,5-헥산디올, 1,8-옥타메틸렌글리콜, 2-메틸-1,8-옥타메틸렌글리콜, 1,9-노난디올 등의 지방족 글리콜, 비스하이드록시메틸시클로헥산 등의 지환족 글리콜, 자일릴렌글리콜, 비스하이드록시에톡시벤젠 등의 방향족 글리콜, N-메틸디에탄올아민 등의 N-알킬디알칸올아민 등) 을 중축합시켜 얻어진 것, 예를 들어 폴리에틸렌아디페이트, 폴리부틸렌아디페이트, 폴리헥사메틸렌아디페이트, 폴리에틸렌/프로필렌아디페이트 등, 또는 상기 디올류 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 1 가 알코올을 개시제로서 사용하여 얻어지는 폴리락톤디올 또는 폴리락톤모노올, 예를 들어 폴리카프로락톤글리콜, 폴리메틸발레로락톤 및 이들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에스테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리카프로락톤글리콜 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 알코올을 개시제로 한 폴리카프로락톤이다.Examples of the polyester glycol include dicarboxylic acids (succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, phthalic acid, etc.) or anhydrides thereof and glycols (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, Propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 3- 2-methyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, 1, 2-methyl- Methyl-2,4-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,5- Aliphatic glycols such as 5-hexanediol, 1,8-octamethylene glycol, 2-methyl-1,8-octamethylene glycol and 1,9-nonanediol, alicyclic glycols such as bishydroxymethylcyclohexane, Aromatic glycols such as glycols and bishydroxyethoxybenzenes, , N-alkyldialkanolamines such as N-methyldiethanolamine), for example, polyethylene adipate, polybutylene adipate, polyhexamethylene adipate, polyethylene / propylene adipate, Or a polylactone diol or polylactone monool obtained by using the diol or a monohydric alcohol having 1 to 25 carbon atoms as an initiator, for example, polycaprolactone glycol, polymethylvalerolactone, and a mixture of two or more thereof . The most preferable polyester glycol is polycaprolactone glycol or polycaprolactone having an alcohol having 1 to 25 carbon atoms as an initiator.

폴리카보네이트글리콜로는, 폴리(1,6-헥실렌)카보네이트, 폴리(3-메틸-1,5-펜틸렌)카보네이트 등, 폴리올레핀글리콜로는 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리이소프렌글리콜 등을 들 수 있다.Examples of the polycarbonate glycol include poly (1,6-hexylene) carbonate and poly (3-methyl-1,5-pentylene) carbonate. Polyolefin glycols include polybutadiene glycol, hydrogenated polybutadiene glycol, Isoprene glycol and the like.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used singly or in combination of two or more.

동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 화합물의 수평균 분자량은, 통상 300 ∼ 10000, 바람직하게는 500 ∼ 6000, 더욱 바람직하게는 1000 ∼ 4000 이다.The number average molecular weight of the compound having one or two hydroxyl groups in the same molecule is usually 300 to 10000, preferably 500 to 6000, and more preferably 1000 to 4000.

본 발명에 사용되는 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 설명한다.Compounds having active hydrogen and tertiary amino groups in the same molecule used in the present invention will be described.

활성 수소, 즉, 산소 원자, 질소 원자 또는 황 원자에 직접 결합하고 있는 수소 원자로는, 수산기, 아미노기, 티올기 등의 관능기 중의 수소 원자를 들 수 있고, 그 중에서도 아미노기, 특히 1 급의 아미노기의 수소 원자가 바람직하다.Examples of the active hydrogen atom, that is, a hydrogen atom directly bonded to an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom include a hydrogen atom in a functional group such as a hydroxyl group, an amino group and a thiol group. Among them, an amino group, The atom is preferred.

3 급 아미노기는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 갖는 아미노기, 또는 헤테로 고리 구조, 보다 구체적으로는 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리 등을 들 수 있다.The tertiary amino group is not particularly limited and includes, for example, an amino group having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a heterocyclic structure, more specifically, an imidazole ring or a triazole ring.

이와 같은 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 예시한다면, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, N,N-디프로필-1,3-프로판디아민, N,N-디부틸-1,3-프로판디아민, N,N-디메틸에틸렌디아민, N,N-디에틸에틸렌디아민, N,N-디프로필에틸렌디아민, N,N-디부틸에틸렌디아민, N,N-디메틸-1,4-부탄디아민, N,N-디에틸-1,4-부탄디아민, N,N-디프로필-1,4-부탄디아민, N,N-디부틸-1,4-부탄디아민 등을 들 수 있다.Examples of such a compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule include N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl- 1,3-propanediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N-diethylethylenediamine, N, N-dipropylethylenediamine, N , N-dibutylethylenediamine, N, N-dimethyl-1,4-butanediamine, N, N-diethyl-1,4-butanediamine, , N-dibutyl-1,4-butanediamine, and the like.

또, 3 급 아미노기가 함질소 헤테로 고리 구조인 경우의 그 함질소 헤테로 고리로는, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리, 테트라졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 인다졸 고리, 벤즈이미다졸 고리, 벤조트리아졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 벤조티아졸 고리, 벤조티아디아졸 고리 등의 함질소 헤테로 5 원 (員) 고리, 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 아크리딘 고리, 이소퀴놀린 고리 등의 함질소 헤테로 6 원 고리를 들 수 있다. 이들 함질소 헤테로 고리 중 바람직한 것은 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리이다.Examples of the nitrogen-containing heterocyclic ring when the tertiary amino group is a nitrogen-containing heterocyclic ring structure include a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, an indole ring, a carbazole ring, an indazole ring, A nitrogen-containing hetero 5 membered ring such as imidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring and benzothiadiazole ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a triazine ring , A nitrogen-containing hetero-six-membered ring such as a quinoline ring, an acridine ring, and an isoquinoline ring. Preferred among these nitrogen-containing heterocyclic rings are imidazole rings or triazole rings.

이들 이미다졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시한다면, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 히스티딘, 2-아미노이미다졸, 1-(2-아미노에틸)이미다졸 등을 들 수 있다. 또, 트리아졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시한다면, 3-아미노-1,2,4-트리아졸, 5-(2-아미노-5-클로로페닐)-3-페닐-1H-1,2,4-트리아졸, 4-아미노-4H-1,2,4-트리아졸-3,5-디올, 3-아미노-5-페닐-1H-1,3,4-트리아졸, 5-아미노-1,4-디페닐-1,2,3-트리아졸, 3-아미노-1-벤질-1H-2,4-트리아졸 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 3-아미노-1,2,4-트리아졸이 바람직하다.Specific examples of the compound having an imidazole ring and an amino group include 1- (3-aminopropyl) imidazole, histidine, 2-aminoimidazole and 1- (2-aminoethyl) imidazole. Specific examples of the compound having a triazole ring and an amino group include 3-amino-1,2,4-triazole, 5- (2-amino-5-chlorophenyl) 2,4-triazole, 4-amino-4H-1,2,4-triazole-3,5-diol, 3-amino- 1, 4-diphenyl-1,2,3-triazole, 3-amino-1-benzyl-1H-2,4-triazole and the like. Among these, N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, 1- (3-aminopropyl) imidazole, -Triazole is preferred.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used singly or in combination of two or more.

우레탄계 고분자 분산제를 제조할 때의 원료의 바람직한 배합 비율은 폴리이소시아네이트 화합물 100 질량부에 대하여, 동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물이 10 ∼ 200 질량부, 바람직하게는 20 ∼ 190 질량부, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 180 질량부, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물이 0.2 ∼ 25 질량부, 바람직하게는 0.3 ∼ 24 질량부이다.The preferable mixing ratio of the starting materials in the production of the urethane polymer dispersant is 10 to 200 parts by mass of a compound having a number average molecular weight of 300 to 10000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule per 100 parts by mass of the polyisocyanate compound Preferably 20 to 190 parts by mass, more preferably 30 to 180 parts by mass, and the compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule in an amount of 0.2 to 25 parts by mass, preferably 0.3 to 24 parts by mass.

우레탄계 고분자 분산제의 제조는 폴리우레탄 수지 제조의 공지된 방법에 따라 실시된다. 제조할 때의 용매로는, 통상, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산셀로솔브 등의 에스테르류, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 헥산 등의 탄화수소류, 다이아세톤알코올, 이소프로판올, 제 2 부탄올, 제 3 부탄올 등 일부의 알코올류, 염화메틸렌, 클로로포름 등의 염화물, 테트라하이드로푸란, 디에틸에테르 등의 에테르류, 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드 등의 비프로톤성 극성 용매 등이 사용된다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The production of the urethane-based polymeric dispersant is carried out according to a known method of producing a polyurethane resin. As the solvent in the preparation, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone and isophorone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate and cellosolve acetate, Examples of the solvent include hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and hexane, alcohols such as diacetone alcohol, isopropanol, secondary butanol and tertiary butanol, chlorides such as methylene chloride and chloroform, ethers such as tetrahydrofuran and diethyl ether Aprotic polar solvents such as dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and dimethylsulfoxide, and the like are used. These may be used singly or in combination of two or more.

상기 제조시에, 통상, 우레탄화 반응 촉매가 사용된다. 이 촉매로는, 예를 들어, 디부틸틴디라우레이트, 디옥틸틴디라우레이트, 디부틸틴디옥토에이트, 스태너스옥토에이트 등의 주석계, 철 아세틸아세토네이트, 염화 제 2 철 등의 철계, 트리에틸아민, 트리에틸렌디아민 등의 3 급 아민계 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용하여 사용해도 된다.In the above production, usually, a urethanization reaction catalyst is used. Examples of the catalyst include tin-based catalysts such as dibutyl tin dilaurate, dioctyl tin dilaurate, dibutyl tin dioctoate and stannous octoate; iron-based catalysts such as iron acetylacetonate and ferric chloride; Tertiary amines such as ethylamine and triethylenediamine, and the like. These may be used singly or in combination of two or more.

동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물의 도입량은 반응 후의 아민가로 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 의 범위로 제어하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 5 ∼ 95 ㎎KOH/g 의 범위이다. 아민가는, 염기성 아미노기를 산에 의해 중화 적정하고, 산가에 대응시켜 KOH 의 ㎎ 수로 나타낸 값이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산 능력이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성의 저하가 억제되기 쉬운 경향이 있다.The introduction amount of the compound having active hydrogen and tertiary amino group in the same molecule is preferably controlled in the range of 1 to 100 mgKOH / g of the amine after the reaction. And more preferably in the range of 5 to 95 mgKOH / g. The amine value is a value expressed by the number of mg of KOH corresponding to the acid value by neutralizing the basic amino group with an acid. When the amount is above the lower limit value, the dispersing ability tends to be good. When the amount is less than the upper limit value, the decrease in developability tends to be suppressed.

또한, 이상의 반응에서 고분자 분산제에 이소시아네이트기가 잔존하는 경우에는 추가로, 알코올이나 아미노 화합물로 이소시아네이트기를 찌부러뜨리면 생성물의 시간 경과적 안정성이 높아지므로 바람직하다.Further, when the isocyanate group remains in the polymer dispersant in the above reaction, it is preferable to further crush the isocyanate group with an alcohol or an amino compound because the stability with time of the product increases.

우레탄계 고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상 1000 ∼ 200000, 바람직하게는 2000 ∼ 100000, 보다 바람직하게는 3000 ∼ 50000 의 범위이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성 및 분산 안정성이 양호해지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 용해성이나 분산성의 저하를 억제하기 쉬운 경향이 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the urethane type polymeric dispersant is usually in the range of 1,000 to 200,000, preferably 2,000 to 100,000, and more preferably 3,000 to 50,000. When the amount is above the lower limit value, the dispersibility and the dispersion stability tend to be good. When the amount is less than the upper limit value, the decrease in solubility and dispersibility tends to be suppressed.

한편, 아크릴계 고분자 분산제로는, 관능기 (여기서 말하는 관능기란, 고분자 분산제에 함유되는 관능기로서 전술한 관능기이다) 를 갖는 불포화기 함유 단량체와, 관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체의 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체, 블록 공중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 공중합체는 공지된 방법으로 제조할 수 있다.On the other hand, as the acrylic polymer dispersant, a random copolymer of an unsaturated group-containing monomer having a functional group (the functional group mentioned above is a functional group contained in the polymer dispersant as described above) and an unsaturated group-free monomer having no functional group, It is preferable to use a block copolymer. These copolymers can be prepared by known methods.

관능기를 갖는 불포화기 함유 단량체로는, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 아크릴산 다이머 등의 카르복실기를 갖는 불포화 단량체, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 및 이들 4 급화물 등의 3 급 아미노기, 4 급 암모늄염기를 갖는 불포화 단량체를 구체예로서 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the unsaturated group-containing monomer having a functional group include (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylsuccinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- Unsaturated monomers having a tertiary amino group and a quaternary ammonium salt group such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, and quaternary compounds thereof, such as unsaturated monomers having a carboxyl group such as hydrophthalic acid and dimethacrylic acid, Specific examples include: These may be used singly or in combination of two or more.

관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체로는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시메틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, N-비닐피롤리돈, 스티렌 및 그 유도체, α-메틸스티렌, N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드, N-벤질말레이미드 등의 N-치환 말레이미드, 아크릴로니트릴, 아세트산비닐 및 폴리메틸(메트)아크릴레이트 매크로모노머, 폴리스티렌 매크로모노머, 폴리2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 매크로모노머, 폴리에틸렌글리콜 매크로모노머, 폴리프로필렌글리콜 매크로모노머, 폴리카프로락톤 매크로모노머 등의 매크로모노머 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the unsaturated group-containing monomer having no functional group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclodecane (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone , Styrene and its derivatives, N-substituted maleimides such as? -Methylstyrene, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide and N-benzylmaleimide, acrylonitrile, vinyl acetate and polymethyl (meth) Rate macro maco Macromonomers such as nomar, polystyrene macromonomer, poly 2-hydroxyethyl (meth) acrylate macromonomer, polyethylene glycol macromonomer, polypropylene glycol macromonomer and polycaprolactone macromonomer. These may be used singly or in combination of two or more.

아크릴계 고분자 분산제는, 특히 바람직하게는, 관능기를 갖는 A 블록과 관능기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체이지만, 이 경우, A 블록 중에는 상기 관능기를 함유하는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조 외에, 상기 관능기를 함유하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조가 함유되어 있어도 되고, 이들이 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 관능기를 함유하지 않는 부분 구조의 A 블록 중의 함유 비율은, 통상 80 질량% 이하이고, 바람직하게는 50 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이하이다.Particularly preferably, the acrylic polymer dispersant is an AB or BAB block copolymer comprising an A block having a functional group and a B block having no functional group. In this case, in the A block, a portion derived from the monomer containing an unsaturated group containing the functional group Or may contain a partial structure derived from an unsaturated group-containing monomer containing no functional group, and these may be contained in the A block in any of random copolymerization and block copolymerization. The proportion of the partial structure containing no functional group in the A block is usually 80 mass% or less, preferably 50 mass% or less, more preferably 30 mass% or less.

B 블록은, 상기 관능기를 함유하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조로 이루어지는 것이지만, 1 개의 B 블록 중에 2 종 이상의 단량체 유래의 부분 구조가 함유되어 있어도 되고, 이들은, 그 B 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.The B block is composed of a partial structure derived from an unsaturated group-containing monomer not containing the above-mentioned functional group. However, one B block may contain a partial structure derived from two or more kinds of monomers. Or block copolymerization.

그 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체는, 예를 들어, 이하에 나타내는 리빙 중합법으로 조제된다.The AB or B-A-B block copolymer is prepared, for example, by a living polymerization method shown below.

리빙 중합법에는, 아니온 리빙 중합법, 카티온 리빙 중합법, 라디칼 리빙 중합법이 있고, 이 중, 아니온 리빙 중합법은, 중합 활성종이 아니온이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타낸다.Examples of the living polymerization method include anionic polymerization, cationic living polymerization, and radical living polymerization. Of these, the anionic living polymerization method is a polymerization activity type anion, and is represented by the following scheme, for example.

[화학식 34](34)

Figure pct00034
Figure pct00034

상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이고, M 은 금속 원자이고, s 및 t 는 각각 1 이상의 정수이다.In the scheme, Ar 1 is a monovalent organic group, Ar 2 is a monovalent organic group different from Ar 1 , M is a metal atom, and s and t are each an integer of 1 or more.

라디칼 리빙 중합법은 중합 활성종이 라디칼이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타낸다.The radical living polymerization method is a polymerization active radical, and is represented by the following scheme, for example.

[화학식 35](35)

Figure pct00035
Figure pct00035

상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이고, j 및 k 는 각각 1 이상의 정수이고, Ra 는 수소 원자 또는 1 가의 유기기이고, Rb 는 Ra 와는 상이한 수소 원자 또는 1 가의 유기기이다.Wherein Ar 1 is a monovalent organic group, Ar 2 is a monovalent organic group different from Ar 1 , j and k are each an integer of 1 or more, R a is a hydrogen atom or a monovalent organic group, R b is a hydrogen atom or a monovalent organic group different from R a .

이 아크릴계 고분자 분산제를 합성할 때에는, 일본 공개특허공보 평9-62002호나, P. Lutz, P. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79(1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601(1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. J. 17, 977(1985), 18, 1037(1986), 우테 코이치, 하타다 코우이치, 고분자 가공, 36, 366(1987), 히가시무라 토시노부, 사와모토 미츠오, 고분자 논문집, 46, 189(1989), M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737(1987), 아이다 타쿠조우, 이노우에 쇼헤이, 유기 합성 화학, 43, 300(1985), D. Y. Sogoh, W. R. Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473(1987) 등에 기재된 공지된 방법을 채용할 수 있다.When this acrylic polymer dispersant is synthesized, it is disclosed in JP-A-9-62002, P. Lutz, P. Masson et al., Polym. Bull. 12, 79 (1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. 36, 366 (1987), Higashimura Toshinobu, Mitsuo Sawamoto, Polymer, Journal of Polymer, 46, 189 (1989), 17, 977 (1985), 18, 1037 , M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. (1987), DY Sogoh, WR Hertler et al., Macromolecules, 20, 1473 (1987), etc. can do.

본 발명에서 사용할 수 있는 아크릴계 고분자 분산제는 A-B 블록 공중합체이어도 되고, B-A-B 블록 공중합체이어도 되고, 그 공중합체를 구성하는 A 블록/B 블록비는 1/99 ∼ 80/20, 특히 5/95 ∼ 60/40 (질량비) 인 것이 바람직하고, 이 범위 내로 함으로써 분산성과 보존 안정성의 밸런스의 확보를 할 수 있는 경향이 있다.The acrylic polymer dispersant that can be used in the present invention may be an AB block copolymer or a BAB block copolymer. The A block / B block ratio constituting the copolymer is 1/99 to 80/20, 60/40 (mass ratio), and if it is within this range, there is a tendency that a balance between dispersibility and storage stability can be secured.

또, 본 발명에서 사용할 수 있는 A-B 블록 공중합체, B-A-B 블록 공중합체 1 g 중의 4 급 암모늄염기의 양은, 통상 0.1 ∼ 10 m㏖ 인 것이 바람직하고, 이 범위 내로 함으로써 양호한 분산성을 확보할 수 있는 경향이 있다.The amount of the quaternary ammonium salt group in 1 g of the AB block copolymer and the BAB block copolymer which can be used in the present invention is preferably 0.1 to 10 moles, and if it is within this range, There is a tendency.

또한, 이와 같은 블록 공중합체 중에는, 통상, 제조 과정에서 생긴 아미노기가 함유되는 경우가 있지만, 그 아민가는 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 정도이고, 분산성의 관점에서, 바람직하게는 10 ㎎KOH/g 이상, 보다 바람직하게는 30 ㎎KOH/g 이상, 더욱 바람직하게는 50 ㎎KOH/g 이상, 또, 바람직하게는 90 ㎎KOH/g 이하, 보다 바람직하게는 80 ㎎KOH/g 이하, 더욱 바람직하게는 75 ㎎KOH/g 이하이다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 90 ㎎KOH/g 이 바람직하고, 30 ∼ 80 ㎎KOH/g 이 보다 바람직하고, 50 ∼ 75 ㎎KOH/g 을 들 수 있다.Such an amino group may be contained in the block copolymer in an amount of usually 1 to 100 mgKOH / g, and preferably 10 mgKOH / g or more from the viewpoint of dispersibility , More preferably not less than 30 mgKOH / g, even more preferably not less than 50 mgKOH / g, still more preferably not more than 90 mgKOH / g, even more preferably not more than 80 mgKOH / g, 75 mgKOH / g or less. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 10 to 90 mgKOH / g, more preferably 30 to 80 mgKOH / g, and 50 to 75 mgKOH / g.

여기서, 이들 블록 공중합체 등의 분산제의 아민가는, 분산제 시료 중의 용제를 제외한 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내고, 다음의 방법에 의해 측정한다. 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 90 ㎎KOH/g 이 바람직하고, 30 ∼ 80 ㎎KOH/g 이 보다 바람직하고, 50 ∼ 75 ㎎KOH/g 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.Here, the amine value of the dispersant such as the block copolymer is represented by the amount of the basic group per 1 g of the solid component excluding the solvent in the dispersant sample and the mass of the equivalent KOH, and is measured by the following method. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 10 to 90 mgKOH / g, more preferably 30 to 80 mgKOH / g, and still more preferably 50 to 75 mgKOH / g.

100 ㎖ 의 비커에 분산제 시료의 0.5 ∼ 1.5 g 을 정밀 칭량하고, 50 ㎖ 의 아세트산으로 용해시킨다. pH 전극을 구비한 자동 적정 장치를 사용하여, 이 용액을 0.1 ㏖/ℓ 의 HClO4 아세트산 용액으로 중화 적정한다. 적정 pH 곡선의 변곡점을 적정 종점으로 하여 다음 식에 의해 아민가를 구한다.Precisely weigh 0.5 to 1.5 g of the dispersant sample in a 100 ml beaker and dissolve in 50 ml of acetic acid. Using an automatic titrator equipped with a pH electrode, this solution is neutralized with 0.1 mol / l HClO 4 acetic acid solution. Using the inflection point of the appropriate pH curve as the appropriate end point, the amine value is obtained by the following formula.

아민가 [㎎KOH/g] = (561 × V)/(W × S)Amine value [mgKOH / g] = (561 x V) / (W x S)

[단, W : 분산제 시료 칭취량 (秤取量) [g] , V : 적정 종점에서의 적정량 [㎖], S : 분산제 시료의 고형분 농도 [질량%] 를 나타낸다](Where W is the amount of the dispersant sample taken out [g], V is the titration amount [ml] at the appropriate end point, and S is the solid content concentration [mass%] of the dispersant sample]

또, 이 블록 공중합체의 아민가는, 그 산가의 근원이 되는 산성기의 유무 및 종류에 따라 다르기도 하지만, 일반적으로 낮은 편이 바람직하고, 통상 10 ㎎KOH/g 이하이고, 그 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 1000 ∼ 100000 의 범위가 바람직하다. 상기 범위 내로 함으로써 양호한 분산성을 확보할 수 있는 경향이 있다.The amine value of the block copolymer is generally preferably low, usually 10 mgKOH / g or less, and the weight average molecular weight (Mw (g)) of the block copolymer is preferably 10 mgKOH / g or less, though it may vary depending on the presence or kind of an acid group ) Is preferably in the range of 1,000 to 100,000. Within the above range, good dispersibility tends to be secured.

아크릴계 고분자 분산제가 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 경우, 아크릴계 고분자 분산제의 구체적인 구조에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서는, 하기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (i)」 이라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.When the acrylic polymer dispersant has a quaternary ammonium salt group as a functional group, the specific structure of the acrylic polymer dispersant is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, the repeating unit represented by the following formula (i) ) May be used.

[화학식 36](36)

Figure pct00036
Figure pct00036

상기 식 (i) 중, R31 ∼ R33 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R31 ∼ R33 중 2 개 이상이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 되고, R34 는 수소 원자 또는 메틸기이고, X 는 2 가의 연결기이고, Y- 는 카운터 아니온이다.In the formula (i), R 31 to R 33 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, and R 31 to R 33 R 34 is a hydrogen atom or a methyl group, X is a divalent linking group, and Y - is a counter anion.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 1 ∼ 6 을 보다 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms of the alkyl group which may have a substituent in R 31 to R 33 of the above formula (i) is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 10 or less, and more preferably 6 or less. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6.

알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분기 사슬형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 함유해도 된다.Specific examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl and octyl. Or a hexyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group. It may be either linear or branched. It may contain a cyclic structure such as a cyclohexyl group or a cyclohexylmethyl group.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 6 이상이고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다. 상한과 하한의 조합으로는, 6 ∼ 16 이 바람직하고, 6 ∼ 12 를 보다 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms of the aryl group which may have a substituent in R 31 to R 33 of the above formula (i) is not particularly limited, but is usually 6 or more, preferably 16 or less, and more preferably 12 or less. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 6 to 16, more preferably 6 to 12.

아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다.Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, a diethylphenyl group, a naphthyl group and an anthracenyl group. Of these, a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, An ethylphenyl group, and more preferably a phenyl group, a methylphenyl group, or an ethylphenyl group.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 7 이상이고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다. 상한과 하한의 조합으로는, 7 ∼ 16 이 바람직하고, 7 ∼ 12 를 보다 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms of the aralkyl group which may have a substituent in R 31 to R 33 of the above formula (i) is not particularly limited, but is usually 7 or more, preferably 16 or less, and more preferably 12 or less. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 7 to 16, more preferably 7 to 12.

아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸기 (벤질기), 페닐에틸기 (페네틸기), 페닐프로필기, 페닐부틸기, 페닐이소프로필기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 페닐메틸기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 또는 페닐부틸기인 것이 바람직하고, 페닐메틸기, 또는 페닐에틸기인 것이 보다 바람직하다.Specific examples of the aralkyl group include a phenylmethyl group (benzyl group), a phenylethyl group (phenethyl group), a phenylpropyl group, a phenylbutyl group and a phenylisopropyl group. A propyl group or a phenylbutyl group, more preferably a phenylmethyl group or a phenylethyl group.

이들 중에서도, 분산성의 관점에서, R31 ∼ R33 이 각각 독립적으로 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 구체적으로는, R31 및 R33 이 각각 독립적으로 메틸기, 또는 에틸기이고, 또한 R32 가 페닐메틸렌기, 또는 페닐에틸렌기인 것이 바람직하고, R31 및 R33 이 메틸기이고, 또한 R32 가 페닐메틸렌기인 것이 더욱 바람직하다.Of these, R 31 to R 33 are preferably independently an alkyl group or an aralkyl group, and more specifically, R 31 and R 33 are each independently a methyl group or an ethyl group, and R 32 is A phenylmethylene group, or a phenylethylene group, more preferably R 31 and R 33 are methyl groups, and R 32 is a phenylmethylene group.

또, 아크릴계 고분자 분산제가 3 급 아민을 관능기로서 갖는 경우, 분산성의 관점에서는, 하기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (ii)」 라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.When the acrylic polymer dispersant has a tertiary amine as a functional group, it is preferable to have a repeating unit represented by the following formula (ii) (hereinafter sometimes referred to as a "repeating unit (ii)") from the viewpoint of dispersibility .

[화학식 37](37)

Figure pct00037
Figure pct00037

상기 식 (ii) 중, R35 및 R36 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R35 및 R36 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 되고, R37 은 수소 원자 또는 메틸기이고, Z 는 2 가의 연결기이다.In the formula (ii), R 35 and R 36 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent or an aralkyl group which may have a substituent, and R 35 and R 36 May be bonded to each other to form a cyclic structure, R 37 is a hydrogen atom or a methyl group, and Z is a divalent linking group.

또, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.As the alkyl group which may have a substituent in R 35 and R 36 in the above formula (ii), those exemplified as R 31 to R 33 in the above formula (i) can be preferably employed.

동일하게, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다. 또, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Similarly, the aryl group which may have a substituent in R 35 and R 36 of the above formula (ii) is preferably an aryl group exemplified as R 31 to R 33 in the above formula (i). As the aralkyl group which may have a substituent in R 35 and R 36 in the above formula (ii), those exemplified as R 31 to R 33 in the above formula (i) can be preferably employed.

이들 중에서도, R35 및 R36 이 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기인 것이 보다 바람직하다.Among them, R 35 and R 36 are each independently preferably an alkyl group which may have a substituent, more preferably a methyl group or an ethyl group.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 및 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의 알킬기, 아르알킬기 또는 아릴기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 할로겐 원자, 알콕시기, 벤조일기, 수산기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent which the alkyl group, aralkyl group or aryl group in R 31 to R 33 of the formula (i) and R 35 and R 36 of the formula (ii) may have include a halogen atom, an alkoxy group, a benzoyl group, And the like.

상기 식 (i) 및 (ii) 에 있어서, 2 가의 연결기 X 및 Z 로는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴렌기, -CONH-R43- 기, -COOR44- 기 [단, R43 및 R44 는 단결합, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 또는 탄소수 2 ∼ 10 의 에테르기 (알킬옥시알킬기) 이다] 등을 들 수 있고, 바람직하게는 -COO-R44- 기이다.Examples of the divalent linking groups X and Z in the formulas (i) and (ii) include an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, a -CONH-R 43 group, (Wherein R 43 and R 44 are a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or an ether group (alkyloxyalkyl group) having 2 to 10 carbon atoms], and the like, R &lt; 44 &gt; - group.

또, 상기 식 (i) 에 있어서, 카운터 아니온의 Y- 로는, Cl-, Br-, I-, ClO4 -, BF4 -, CH3COO-, PF6 - 등을 들 수 있다.In the above formula (i), Y - of the counteranion may be Cl - , Br - , I - , ClO 4 - , BF 4 - , CH 3 COO - , PF 6 - and the like.

상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율과 상기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율의 합계에 대해 바람직하게는 60 몰% 이하이고, 보다 바람직하게는 50 몰% 이하이고, 더욱 바람직하게는 40 몰% 이하이고, 특히 바람직하게는 35 몰% 이하이고, 또, 바람직하게는 5 몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 10 몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 20 몰% 이상이고, 특히 바람직하게는 30 몰% 이상이다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 60 몰% 가 바람직하고, 10 ∼ 50 몰% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 40 몰% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 40 몰% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.The content ratio of the repeating unit represented by the above formula (i) is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, the sum of the content ratio of the repeating unit represented by the above formula (i) and the content ratio of the repeating unit represented by the above formula (ii) Is preferably 60 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, still more preferably 40 mol% or less, particularly preferably 35 mol% or less and preferably 5 mol% or more , More preferably at least 10 mol%, even more preferably at least 20 mol%, and particularly preferably at least 30 mol%. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 60 mol%, more preferably 10 to 50 mol%, still more preferably 20 to 40 mol%, particularly preferably 30 to 40 mol% .

또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 5 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 10 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 50 몰% 이하인 것이 바람직하고, 30 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 20 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 15 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 50 몰% 가 바람직하고, 5 ∼ 30 몰% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 20 몰% 가 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 몰% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.The content of the repeating unit represented by the above formula (i) in the total repeating units of the polymer dispersant is not particularly limited, but is preferably 1 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, More preferably 10 mol% or more, further preferably 50 mol% or less, more preferably 30 mol% or less, still more preferably 20 mol% or less, particularly preferably 15 mol% or less. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 5 to 30 mol%, still more preferably 10 to 20 mol%, and particularly preferably 10 to 15 mol% .

또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 5 몰% 이상인 것이 바람직하고, 10 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 15 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 20 몰% 이상인 것이 특히 바람직하고, 또, 60 몰% 이하인 것이 바람직하고, 40 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 30 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 25 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 60 몰% 가 바람직하고, 10 ∼ 40 몰% 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 30 몰% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 25 몰% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.The content ratio of the repeating unit represented by the formula (ii) in the total repeating units of the polymer dispersant is not particularly limited, but is preferably 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more from the viewpoint of dispersibility, , More preferably not less than 15 mol%, particularly preferably not less than 20 mol%, more preferably not more than 60 mol%, more preferably not more than 40 mol%, further preferably not more than 30 mol% Is particularly preferable. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 60 mol%, more preferably 10 to 40 mol%, still more preferably 15 to 30 mol%, and particularly preferably 20 to 25 mol% .

또, 고분자 분산제는, 용매 등의 바인더 성분에 대한 상용성을 높이고, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (iii)」 이라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.The polymeric dispersant is preferably a repeating unit represented by the following formula (iii) (hereinafter referred to as a "repeating unit (iii)") from the viewpoint of improving compatibility with a binder component such as a solvent and improving dispersion stability ).

[화학식 38](38)

Figure pct00038
Figure pct00038

상기 식 (iii) 중, R40 은 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R41 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기이고, R42 는 수소 원자 또는 메틸기이고, n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.In the formula (iii), R 40 is an ethylene group or a propylene group, R 41 is an alkyl group which may have a substituent, R 42 is a hydrogen atom or a methyl group, and n is an integer of 1 to 20.

상기 식 (iii) 의 R41 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 6 을 보다 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms of the alkyl group which may have a substituent in R 41 in the formula (iii) is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 10 or less, and even more preferably 6 or less . For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, and more preferably 2 to 6.

알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분기 사슬형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 함유해도 된다.Specific examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl and octyl. Or a hexyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group. It may be either linear or branched. It may contain a cyclic structure such as a cyclohexyl group or a cyclohexylmethyl group.

또, 상기 식 (iii) 에 있어서의 n 은 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산성의 관점에서, 1 이상인 것이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 5 이하인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 를 보다 바람직하게 들 수 있다.In the formula (iii), n is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, further preferably 10 or less, and more preferably 5 or less, from the viewpoint of compatibility and dispersion with respect to the binder component such as a solvent desirable. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, and more preferably 2 to 5.

또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 2 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 4 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 30 몰% 이하인 것이 바람직하고, 20 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기 범위 내의 경우에는 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산 안정성의 양립이 가능해지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 30 몰% 가 바람직하고, 2 ∼ 20 몰% 가 보다 바람직하고, 4 ∼ 10 몰% 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.The content of the repeating unit represented by the formula (iii) in the total repeating units of the polymer dispersant is not particularly limited, but is preferably 1 mol% or more, more preferably 2 mol% or more, and 4 mol% or more , More preferably 30 mol% or less, more preferably 20 mol% or less, and still more preferably 10 mol% or less. Within the above range, compatibility with the binder component such as a solvent tends to be compatible with dispersion stability. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 30 mol%, more preferably 2 to 20 mol%, still more preferably 4 to 10 mol%.

또, 고분자 분산제는, 분산제의 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성을 높이고, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (iv) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (iv)」 라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.The polymer dispersant is preferably a repeating unit represented by the following formula (iv) (hereinafter referred to as a &quot; repeating unit (iv) &quot;) in terms of improving compatibility with a binder component such as a solvent of a dispersant and improving dispersion stability ).

[화학식 39][Chemical Formula 39]

Figure pct00039
Figure pct00039

상기 식 (iv) 중, R38 은 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기이고, R39는 수소 원자 또는 메틸기이다.In the formula (iv), R 38 is an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, and R 39 is a hydrogen atom or a methyl group.

상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하고, 4 이상인 것이 보다 바람직하고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 8 이하인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 8 이 보다 바람직하고, 4 ∼ 8 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms of the alkyl group which may have a substituent in R 38 in the formula (iv) is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 4 or more, and is preferably 10 or less , And more preferably 8 or less. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 8, and even more preferably 4 to 8.

알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분기 사슬형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 함유해도 된다.Specific examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl and octyl. Or a hexyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group. It may be either linear or branched. It may contain a cyclic structure such as a cyclohexyl group or a cyclohexylmethyl group.

상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 6 이상이고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 8 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상한과 하한의 조합으로는, 6 ∼ 16 이 바람직하고, 6 ∼ 12 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 8을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms of the aryl group which may have a substituent in R 38 of the formula (iv) is not particularly limited, but is usually 6 or more, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, desirable. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 6 to 16, more preferably 6 to 12, and even more preferably 6 to 8.

아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다.Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, a diethylphenyl group, a naphthyl group and an anthracenyl group. Of these, a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, An ethylphenyl group, and more preferably a phenyl group, a methylphenyl group, or an ethylphenyl group.

상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의 치환기를 가지고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 7 이상이고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상한과 하한의 조합으로는, 7 ∼ 16 이 바람직하고, 7 ∼ 12 가 보다 바람직하고, 7 ∼ 10 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The number of carbon atoms of the aralkyl group which may have a substituent in R 38 in the formula (iv) is not particularly limited, but is usually 7 or more, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, desirable. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 7 to 16, more preferably 7 to 12, and even more preferably 7 to 10.

아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 페닐부틸기, 페닐이소프로필기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 페닐메틸기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 또는 페닐부틸기인 것이 바람직하고, 페닐메틸기, 또는 페닐에틸기인 것이 보다 바람직하다.Specific examples of the aralkyl group include a phenylmethyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, a phenylbutyl group, and a phenylisopropyl group. Among these, a phenylmethyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, or a phenylbutyl group More preferably a phenylmethyl group or a phenylethyl group.

이들 중에서도, 용제 상용성과 분산 안정성의 관점에서, R38 이 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 또는 페닐메틸기인 것이 보다 바람직하다.Of these, R 38 is preferably an alkyl group or an aralkyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, or a phenylmethyl group, from the viewpoint of solvent compatibility and dispersion stability.

R38 에 있어서의 알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또, 아릴기 또는 아르알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 사슬형의 알킬기, 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또, R38 로 나타내는 사슬형의 알킬기에는, 직사슬형 및 분기 사슬형 모두 포함된다.Examples of the substituent that the alkyl group in R 38 may have include a halogen atom, an alkoxy group, and the like. Examples of the substituent which the aryl group or the aralkyl group may have include a chain-like alkyl group, a halogen atom and an alkoxy group. The chain alkyl group represented by R 38 includes both linear and branched chain types.

또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (iv) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은, 분산성의 관점에서, 30 몰% 이상인 것이 바람직하고, 40 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 50 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 80 몰% 이하인 것이 바람직하고, 70 몰% 이하인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 30 ∼ 80 몰% 가 바람직하고, 40 ∼ 80 몰% 가 보다 바람직하고, 50 ∼ 70 몰% 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.The content of the repeating unit represented by the formula (iv) in the total repeating units of the polymer dispersant is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, and more preferably 50 mol% or more , More preferably 80 mol% or less, and still more preferably 70 mol% or less. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 30 to 80 mol%, more preferably 40 to 80 mol%, still more preferably 50 to 70 mol%.

고분자 분산제는, 반복 단위 (i), 반복 단위 (ii), 반복 단위 (iii) 및 반복 단위 (iv) 이외의 반복 단위를 가지고 있어도 된다. 그러한 반복 단위의 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다.The polymer dispersant may have a repeating unit other than the repeating unit (i), the repeating unit (ii), the repeating unit (iii) and the repeating unit (iv). Examples of such repeating units include styrene-based monomers such as styrene and? -Methylstyrene; (Meth) acrylic acid salt monomers such as (meth) acrylic acid chloride; (Meth) acrylamide, N-methylol acrylamide, and other (meth) acrylamide monomers; Vinyl acetate; Acrylonitrile; Allyl glycidyl ether, crotonic acid glycidyl ether; And repeating units derived from monomers such as N-methacryloylmorpholine.

고분자 분산제는, 분산성을 보다 높인다는 관점에서, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 를 갖는 A 블록과, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 를 갖지 않는 B 블록을 갖는 블록 공중합체인 것이 바람직하다. 그 블록 공중합체는, A-B 블록 공중합체 또는 B-A-B 블록 공중합체인 것이 바람직하다. A 블록에 4 급 암모늄염기뿐만 아니라 3 급 아미노기도 도입함으로써, 의외로, 분산제의 분산 능력이 현저하게 향상되는 경향이 있다. 또, B 블록이 반복 단위 (iii) 을 갖는 것이 바람직하고, 추가로 반복 단위 (iv) 를 갖는 것이 보다 바람직하다.The polymer dispersant is preferably a block copolymer having an A block having a repeating unit (i) and a repeating unit (ii) and a B block having no repeating unit (i) and a repeating unit (ii) Chain is preferable. The block copolymer is preferably an A-B block copolymer or a B-A-B block copolymer. By introducing a quaternary ammonium group as well as a tertiary amino group in the A block, the dispersing ability of the dispersing agent tends to remarkably improve remarkably. The B block preferably has a repeating unit (iii), and more preferably a repeating unit (iv).

A 블록 중에 있어서, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 는, 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 는, 1 개의 A 블록 중에 각각 2 종 이상 함유되어 있어도 되고, 그 경우, 각각의 반복 단위는, 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.In the A block, the repeating unit (i) and the repeating unit (ii) may be contained in any form of random copolymerization or block copolymerization. The repeating unit (i) and the repeating unit (ii) may contain two or more kinds of repeating units in each of the A blocks. In this case, the repeating units may be either random copolymerization or block copolymerization Or may be contained in a form.

또, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 이외의 반복 단위가, A 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는, 전술한 (메트)아크릴산에스테르계 단량체 유래의 반복 단위 등을 들 수 있다. 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 이외의 반복 단위의 A 블록 중의 함유량은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 A 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다.The repeating unit other than the repeating unit (i) and the repeating unit (ii) may be contained in the A block. Examples of such repeating units include repeating units derived from the above-mentioned (meth) . The content of the repeating units other than the repeating unit (i) and the repeating unit (ii) in the A block is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol% Most preferably.

반복 단위 (iii) 및 (iv) 이외의 반복 단위가 B 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다. 반복 단위 (iii) 및 반복 단위 (iv) 이외의 반복 단위의 B 블록 중의 함유 비율은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 B 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다.The repeating units other than the repeating units (iii) and (iv) may be contained in the B block. Examples of such repeating units include styrene-based monomers such as styrene and? -Methylstyrene; (Meth) acrylic acid salt monomers such as (meth) acrylic acid chloride; (Meth) acrylamide, N-methylol acrylamide, and other (meth) acrylamide monomers; Vinyl acetate; Acrylonitrile; Allyl glycidyl ether, crotonic acid glycidyl ether; And repeating units derived from monomers such as N-methacryloylmorpholine. The content of the repeating unit other than the repeating unit (iii) and the repeating unit (iv) in the B block is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol% Most preferably not contained.

또 분산 안정성 향상의 점에서, (f) 분산제는, 후술하는 안료 유도체와 병용하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of improving the dispersion stability, (f) the dispersant is preferably used in combination with the pigment derivative described later.

<감광성 착색 조성물의 그 밖의 배합 성분>&Lt; Other components of photosensitive coloring composition >

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 상기 서술한 성분 외에, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 계면 활성제 (도포성 향상제), 안료 유도체, 광산 발생제, 가교제, 메르캅토 화합물, 중합 금지제, 현상 개량제, 자외선 흡수제, 산화 방지제 등의 첨가제를 적절히 배합할 수 있다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain, in addition to the above-described components, adhesion promoting agents such as silane coupling agents, surfactants (coating property improving agents), pigment derivatives, photoacid generators, crosslinking agents, mercapto compounds, polymerization inhibitors, An ultraviolet absorber, and an antioxidant can be appropriately added.

(1) 밀착 향상제(1) Adhesion improving agent

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 기판과의 밀착성을 개선하기 위해, 밀착 향상제를 함유시켜도 된다. 밀착 향상제로는, 실란 커플링제, 인산기 함유 화합물 등이 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain an adhesion improving agent in order to improve adhesion with the substrate. As the adhesion improver, a silane coupling agent, a phosphoric acid group-containing compound and the like are preferable.

실란 커플링제의 종류로는, 에폭시계, (메트)아크릴계, 아미노계 등 여러 가지 것을 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.As the type of silane coupling agent, various types such as epoxy type, (meth) acryl type, amino type, etc. may be used singly or in combination of two or more kinds.

바람직한 실란 커플링제로서 예를 들어, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 (메트)아크릴옥시실란류, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란 등의 에폭시실란류, 3-우레이도프로필트리에톡시실란 등의 우레이도실란류, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트실란류를 들 수 있지만, 특히 바람직하게는, 에폭시실란류의 실란 커플링제이다.Preferred silane coupling agents include, for example, (meth) acryloxysilanes such as 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl ) Epoxy silanes such as ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyl Ureido silanes such as triethoxy silane, and isocyanate silanes such as 3-isocyanate propyl triethoxy silane. Particularly preferred are silane coupling agents of epoxysilanes.

인산기 함유 화합물로는, (메트)아크릴로일기 함유 포스페이트류가 바람직하고, 하기 일반식 (g1), (g2) 또는 (g3) 으로 나타내는 것이 바람직하다.The phosphate group-containing compound is preferably a (meth) acryloyl group-containing phosphate, and is preferably represented by the following general formula (g1), (g2) or (g3).

[화학식 40](40)

Figure pct00040
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상기 일반식 (g1), (g2) 및 (g3) 에 있어서, R51 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, l 및 l' 는 1 ∼ 10 의 정수이고, m 은 1, 2 또는 3 이다.In the above general formulas (g1), (g2) and (g3), R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group, l and l 'are integers of 1 to 10, and m is 1, 2 or 3.

이들 인산기 함유 화합물은, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These phosphoric acid group-containing compounds may be used singly or in combination of two or more.

(2) 계면 활성제(2) Surfactants

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 도포성 향상을 위해, 계면 활성제를 함유시켜도 된다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain a surfactant in order to improve the coating property.

계면 활성제로는, 예를 들어, 아니온계, 카티온계, 비이온계, 양쪽성 계면 활성제 등 각종의 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 여러 특성에 악영향을 미칠 가능성이 낮은 점에서, 비이온계 계면 활성제를 사용하는 것이 바람직하고, 그 중에서도 불소계나 실리콘계의 계면 활성제가 도포성 면에서 효과적이다.As the surfactant, various kinds of surfactants such as anionic surfactants, cationic surfactants, nonionic surfactants and amphoteric surfactants can be used. Among them, it is preferable to use a nonionic surfactant in view of a low possibility of adversely affecting various properties, and in particular, a fluorine-based or silicone-based surfactant is effective in terms of application.

이와 같은 계면 활성제로는, 예를 들어, TSF4460 (모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조), DFX-18 (네오스사 제조), BYK-300, BYK-325, BYK-330 (빅케미사 제조), KP340 (신에츠 실리콘사 제조), F-470, F-475, F-478, F-559 (DIC 사 제조), SH7PA (도레이·다우코닝사 제조), DS-401 (다이킨사 제조), L-77 (닛폰 유니카사 제조), FC4430 (3M 사 제조) 등을 들 수 있다.Such surfactants include, for example, TSF4460 (manufactured by Momentive Performance Materials), DFX-18 (manufactured by NEOS), BYK-300, BYK-325 and BYK- (Manufactured by Shin-Etsu Silicone), F-470, F-475, F-478, F-559 (manufactured by DIC), SH7PA (manufactured by Dow Corning), DS- Manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) and FC4430 (manufactured by 3M Co., Ltd.).

또한, 계면 활성제는, 1 종을 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다.The surfactant may be used alone or in combination of two or more in any combination.

(3) 안료 유도체(3) Pigment derivatives

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 분산성, 보존성 향상을 위해, 분산 보조제로서 안료 유도체를 함유시켜도 된다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, a pigment derivative may be contained as a dispersion auxiliary agent in order to improve dispersibility and storage stability.

안료 유도체로는 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 퀴노프탈론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 안트라퀴논계, 인단트렌계, 페릴렌계, 페리논계, 디케토피롤로피롤계, 디옥사진계 등의 유도체를 들 수 있지만, 그 중에서도 프탈로시아닌계, 퀴노프탈론계가 바람직하다.Examples of the pigment derivative include azo, phthalocyanine, quinacridone, benzimidazolone, quinophthalone, isoindolinone, dioxazine, anthraquinone, indanthrene, perylene, perinone, Pyrrole, dioxazine and the like. Of these, phthalocyanine and quinophthalone are preferred.

안료 유도체의 치환기로는 술폰산기, 술폰아미드기 및 그 4 급염, 프탈이미드메틸기, 디알킬아미노알킬기, 수산기, 카르복실기, 아미드기 등이 안료 골격에 직접 또는 알킬기, 아릴기, 복소 고리기 등을 개재하여 결합한 것을 들 수 있고, 바람직하게는 술폰산기이다. 또 이들 치환기는 하나의 안료 골격에 복수 치환되어 있어도 된다.Examples of the substituent of the pigment derivative include a sulfonic acid group, a sulfonamide group and a quaternary salt thereof, a phthalimidemethyl group, a dialkylaminoalkyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amide group and the like directly to the pigment skeleton or an alkyl group, an aryl group, , And preferably a sulfonic acid group. These substituents may be substituted by plural substituents on one pigment skeleton.

안료 유도체의 구체예로는 프탈로시아닌의 술폰산 유도체, 퀴노프탈론의 술폰산 유도체, 안트라퀴논의 술폰산 유도체, 퀴나크리돈의 술폰산 유도체, 디케토피롤로피롤의 술폰산 유도체, 디옥사진의 술폰산 유도체 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Specific examples of the pigment derivative include a sulfonic acid derivative of phthalocyanine, a sulfonic acid derivative of quinophthalone, an anthraquinone sulfonic acid derivative, a quinacridone sulfonic acid derivative, a diketopyrrolopyrrole sulfonic acid derivative, and a dioxazine sulfonic acid derivative . These may be used singly or in combination of two or more.

(4) 광산 발생제(4)

광산 발생제란, 자외선에 의해 산을 발생할 수 있는 화합물이고, 노광을 실시했을 때에 발생하는 산의 작용에 의해, 예를 들어 멜라민 화합물 등 가교제가 있음으로써 가교 반응을 진행시키게 된다. 이러한 광산 발생제 중에서도, 용제에 대한 용해성, 특히 감광성 착색 조성물에 사용되는 용제에 대한 용해성이 큰 것이 바람직한 것이고, 예를 들어, 디페닐요오드늄, 디톨릴요오드늄, 페닐(p-아니실)요오드늄, 비스(m-니트로페닐)요오드늄, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄, 비스(p-클로로페닐)요오드늄, 비스(n-도데실)요오드늄, p-이소부틸페닐(p-톨릴)요오드늄, p-이소프로필페닐(p-톨릴)요오드늄 등의 디아릴요오드늄, 혹은 트리페닐술포늄 등의 트리아릴술포늄의 클로라이드, 브로마이드, 혹은 붕불화염, 헥사플루오로포스페이트염, 헥사플루오로아르세네이트염, 방향족 술폰산염, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트염 등이나, 디페닐페나실술포늄(n-부틸)트리페닐보레이트 등의 술포늄 유기 붕소 착물류, 혹은 2-메틸-4,6-비스트리클로로메틸트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스트리클로로메틸트리아진 등의 트리아진 화합물 등을 들 수 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.The photoacid generator is a compound capable of generating an acid by ultraviolet rays, and by the action of an acid generated upon exposure, a cross-linking agent such as a melamine compound is allowed to advance the cross-linking reaction. Of these photoacid generators, those having a high solubility in a solvent, particularly a solvent used in a photosensitive coloring composition, are preferred. For example, diphenyliodonium, ditolyl iodonium, phenyl (p- anisyl) iodine Iodonium, bis (p-chlorophenyl) iodonium, bis (n-dodecyl) iodonium, p-isobutylphenyl ( diaryl iodonium such as p-tolyl) iodonium and p-isopropylphenyl (p-tolyl) iodonium, or chloride, bromide, or boronate of triarylsulfonium such as triphenylsulfonium, hexafluorophosphate (Pentafluorophenyl) borate salts and the like, sulfonium organic boron complexes such as diphenylphenazylsulfonium (n-butyl) triphenylborate, or the like, 2-methyl-4,6-bist trichloromethyltriazine , And 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bistricloromethyltriazine, but the present invention is not limited thereto.

(5) 가교제(5) Crosslinking agent

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 추가로 가교제를 첨가할 수 있고, 예를 들어 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 사용할 수 있다. 이들 가교제로는, 예를 들어, 하기 일반식 (6) 으로 나타내는 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 들 수 있다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, a crosslinking agent may be further added, and for example, a melamine or guanamine-based compound may be used. These crosslinking agents include, for example, melamine or guanamine-based compounds represented by the following general formula (6).

[화학식 41](41)

Figure pct00041
Figure pct00041

식 (6) 중, R61 은 -NR66R67 기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타내고, R61 이 -NR66R67 기인 경우에는 R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 중 하나가 -CH2OR68 기를 나타내고, R61 이 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 중 하나가 -CH2OR68 기를 나타내고, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 서로 독립적으로, 수소 또는 -CH2OR68 기를 나타내고, R68 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.In the formula (6), R 61 represents an -NR 66 R 67 group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and when R 61 represents -NR 66 R 67 group, R 62 , R 63 , R 64 , R 65 and R 66 and one of R 67 a represents a group -CH 2 OR 68, R 61 in this case, an aryl group having 6 to 12, R 62, R 63, R 64 and one R 65 represents a group -CH 2 OR 68, R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 independently represent hydrogen or a -CH 2 OR 68 group, and R 68 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

여기서, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기는 전형적으로는 페닐기, 1-나프틸기 또는 2-나프틸기이고, 이들 페닐기나 나프틸기에는, 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 등의 치환기가 결합되어 있어도 된다. 알킬기 및 알콕시기는, 각각 탄소수 1 ∼ 6 정도일 수 있다. R68 로 나타내는 알킬기는, 상기 중에서도, 메틸기 또는 에틸기, 특히 메틸기인 것이 바람직하다.Here, the aryl group having 6 to 12 carbon atoms is typically a phenyl group, a 1-naphthyl group or a 2-naphthyl group, and the phenyl group or the naphthyl group may have a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom. The alkyl group and the alkoxy group may each have about 1 to 6 carbon atoms. The alkyl group represented by R 68 is preferably a methyl group or an ethyl group, particularly a methyl group.

일반식 (6) 에 상당하는 멜라민계 화합물, 즉 하기 일반식 (6-1) 의 화합물에는, 헥사메틸올멜라민, 펜타메틸올멜라민, 테트라메틸올멜라민, 헥사메톡시메틸멜라민, 펜타메톡시메틸멜라민, 테트라메톡시메틸멜라민, 헥사에톡시메틸멜라민 등이 포함된다.Examples of the melamine compound corresponding to the general formula (6), that is, the compound represented by the general formula (6-1) include hexamethylolmelamine, pentamethylolmelamine, tetramethylolmelamine, hexamethoxymethylmelamine, pentamethoxymethyl Melamine, tetramethoxymethyl melamine, hexaethoxymethyl melamine, and the like.

[화학식 42](42)

Figure pct00042
Figure pct00042

식 (6-1) 중, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 중 하나가 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 중 하나가 -CH2OR68 기를 나타내고, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 -CH2OR68 기를 나타내고, R68 은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다.When one of R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 in the formula (6-1) is an aryl group, one of R 62 , R 63 , R 64 and R 65 is -CH 2 OR And the remaining of R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 independently represent a hydrogen atom or a -CH 2 OR 68 group, and R 68 represents a hydrogen atom or an alkyl group.

또, 일반식 (6) 에 상당하는 구아나민계 화합물, 즉 일반식 (6) 중의 R61 이 아릴인 화합물에는, 테트라메틸올벤조구아나민, 테트라메톡시메틸벤조구아나민, 트리메톡시메틸벤조구아나민, 테트라에톡시메틸벤조구아나민 등이 포함된다.In addition, a guanamine compound corresponding to the formula (6), that is, a compound wherein R 61 in the formula (6) is aryl includes tetramethylolbenzoguanamine, tetramethoxymethylbenzoguanamine, trimethoxymethylbenzo Guanamine, tetraethoxymethylbenzoguanamine, and the like.

또한 메틸올기 또는 메틸올알킬에테르기를 갖는 가교제를 사용할 수도 있다. 이하에 그 예를 든다.A crosslinking agent having a methylol group or a methylol alkyl ether group may also be used. An example is given below.

2,6-비스(하이드록시메틸)-4-메틸페놀, 4-tert-부틸-2,6-비스(하이드록시메틸)페놀, 5-에틸-1,3-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-트리아진-2-온 (통칭 N-에틸디메틸올트리아존) 또는 그 디메틸에테르체, 디메틸올트리메틸렌우레아 또는 그 디메틸에테르체, 3,5-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-옥사디아진-4-온 (통칭 디메틸올우론) 또는 그 디메틸에테르체, 테트라메틸올글리옥살디우레인 또는 그 테트라메틸에테르체.(Hydroxymethyl) -4-methylphenol, 4-tert-butyl-2,6-bis (hydroxymethyl) phenol, 5-ethyl- -1,3,5-triazin-2-one (commonly known as N-ethyldimethyloltriazone) or its dimethyl ether, dimethyloltrimethyleneurea or its dimethyl ether, 3,5-bis (hydroxymethyl) Perhydro-1,3,5-oxadiazin-4-one (also known as dimethyloluron) or a dimethyl ether thereof, tetramethylolglyoxaldiurene or tetramethyl ether thereof.

또한, 이들 가교제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 가교제를 사용할 때의 양은, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 0.1 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 특히 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량% 이다.These crosslinking agents may be used singly or in combination of two or more kinds. The amount when the crosslinking agent is used is preferably from 0.1 to 15% by mass, particularly preferably from 0.5 to 10% by mass, based on the total solid content of the photosensitive coloring composition.

(6) 메르캅토 화합물(6) Mercapto compound

중합 촉진제로서, 또, 기판에의 밀착성의 향상을 위해, 메르캅토 화합물을 첨가할 수도 있다.As a polymerization promoter, a mercapto compound may also be added in order to improve adhesion to a substrate.

메르캅토 화합물의 종류로는, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토부틸레이트), 1,4-비스(3-메르캅토부티릴옥시)부탄, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부틸레이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토이소부틸레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등의 복소 고리를 갖는 메르캅토 화합물 또는 지방족 다관능 메르캅토 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 여러 가지 것을 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the mercapto compound include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, hexanedithiol, decanedithiol, 1,4-dimethylmercaptobenzene, butanediol Butadiene bis-thioglycolate, trimethylolpropane tris-thioglycolate, trimethylolpropane tris-thiopropionate, trimethylolpropane tristy- thioglycolate, , Pentaerythritol tetrakisthiopropionate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, trishydroxyethyl tris thiopropionate, ethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), butanediol bis (3-mercaptobutyl (3-mercaptobutyryloxy) butane, trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tri (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tris (3-mercaptobutyrate), ethylene glycol bis (3-mercaptoisobutylate), butanediol bis (3-mercaptoisobutyl Triethylolpropane tris (3-mercaptoisobutylate), 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 1H, 3H, 5H) -trione, and the like, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

(7) 중합 금지제(7) Polymerization inhibitor

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 형상 제어의 관점에서, 중합 금지제를 함유시켜도 된다. 중합 금지제를 함유함으로써 그것이 도포막 하층의 라디칼 중합을 저해하므로, 테이퍼각 (경화물 단면에 있어서의 지지체와 경화물이 이루는 각도) 을 제어할 수 있는 것으로 생각된다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain a polymerization inhibitor in view of shape control. By containing a polymerization inhibitor, it is considered that the taper angle (the angle formed by the support body and the cured product in cross section of the cured product) can be controlled because it inhibits radical polymerization in the layer under the coating film.

중합 금지제로는, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논, 메톡시페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-크레졸 (BHT) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 형상 제어의 관점에서, 2,6-디-tert-부틸-4-크레졸이 바람직하다. 또 인체에의 안전성의 관점에서, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논이 바람직하다.Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, methylhydroquinone, methoxyphenol and 2,6-di-tert-butyl-4-cresol (BHT). Among them, 2,6-di-tert-butyl-4-cresol is preferable from the viewpoint of shape control. From the viewpoint of safety to the human body, hydroquinone monomethyl ether and methylhydroquinone are preferable.

중합 금지제는, 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 것이 바람직하다. (b) 알칼리 가용성 수지를 제조할 때, 당해 수지 중에 중합 금지제가 함유되는 경우가 있고, 그것을 본 발명의 중합 금지제로서 사용해도 되고, 수지 중에 중합 금지제 외에, 그것과 동일, 또는 상이한 중합 금지제를 감광성 착색 조성물 제조시에 첨가해도 된다.The polymerization inhibitor preferably contains one kind or two or more kinds thereof. (b) when the alkali-soluble resin is produced, the polymerization inhibitor may be contained in the resin and may be used as the polymerization inhibitor of the present invention. In addition to the polymerization inhibitor, the same or different polymerization inhibitors May be added during the production of the photosensitive coloring composition.

감광성 착색 조성물이 중합 금지제를 함유하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 통상 0.0005 질량% 이상, 바람직하게는 0.001 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.01 질량% 이상이고, 또, 통상 0.3 질량% 이하, 바람직하게는 0.2 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 형상 제어할 수 있는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 필요한 감도를 유지할 수 있는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 0.0005 ∼ 0.3 질량% 가 바람직하고, 0.001 ∼ 0.2 질량% 가 보다 바람직하고, 0.01 ∼ 0.1 질량% 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.When the photosensitive coloring composition contains a polymerization inhibitor, the content thereof is not particularly limited, but it is usually 0.0005% by mass or more, preferably 0.001% by mass or more, more preferably 0.01% by mass or more in the total solid content of the photosensitive coloring composition And is generally 0.3 mass% or less, preferably 0.2 mass% or less, and more preferably 0.1 mass% or less. There is a tendency that the shape can be controlled by setting the upper limit value to be higher than the lower limit value, and when it is made lower than the upper limit value, the necessary sensitivity tends to be maintained. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 0.0005 to 0.3 mass%, more preferably from 0.001 to 0.2 mass%, still more preferably from 0.01 to 0.1 mass%.

<감광성 착색 조성물 중의 각 성분의 함유 비율><Content Ratio of Each Component in Photosensitive Coloring Composition>

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (a) 착색제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분 중에 통상 10 질량% 이상이고, 20 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 25 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 30 질량% 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 32 질량% 이상인 것이 특히 바람직하고, 35 질량% 이상인 것이 가장 바람직하고, 또, 60 질량% 이하인 것이 바람직하고, 50 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 45 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 40 질량% 이하인 것이 보다 더 바람직하고, 38 질량% 이하인 것이 특히 바람직하고, 35 질량% 이하인 것이 가장 바람직하다. (a) 착색제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 충분한 차광성이 얻어지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 충분한 제판 특성을 얻기 쉽고, 또 전기 신뢰성이 우수한 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 60 질량% 가 바람직하고, 20 ∼ 50 질량% 가 보다 바람직하고, 25 ∼ 45 질량% 가 다음으로 바람직하고, 30 ∼ 40 질량% 가 더욱 바람직하고, 32 ∼ 38 질량% 가 보다 더 바람직하고, 35 ∼ 38 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, the content ratio of the coloring agent (a) is not particularly limited, but is preferably 10 mass% or more, more preferably 20 mass% or more, and more preferably 25 mass% or more in the total solid content in the photosensitive coloring composition More preferably 30% by mass or more, particularly preferably 32% by mass or more, most preferably 35% by mass or more, further preferably 60% by mass or less, more preferably 50% By mass, more preferably 45% by mass or less, further preferably 40% by mass or less, particularly preferably 38% by mass or less, most preferably 35% by mass or less. When the content of the colorant (a) is set to the lower limit value or more, sufficient light shielding property tends to be obtained. When the content is less than the above upper limit value, sufficient plate making characteristics are easily obtained and electrical reliability tends to be excellent. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 10 to 60 mass%, more preferably 20 to 50 mass%, still more preferably 25 to 45 mass%, still more preferably 30 to 40 mass% By mass, more preferably from 32 to 38% by mass, and particularly preferably from 35 to 38% by mass.

(a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 5 질량% 이상인 것이 바람직하고, 10 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 15 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 40 질량% 이하인 것이 바람직하고, 30 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 25 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 20 질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 차광성이 얻어지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 전기 신뢰성이 높아지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 40 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 30 질량% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 25 질량% 가 더욱 바람직하고, 15 ∼ 20 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.(a1) The content of the organic black pigment is not particularly limited, but it is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, further preferably 15% by mass or more in the total solid content of the photosensitive coloring composition, More preferably 30 mass% or less, further preferably 25 mass% or less, particularly preferably 20 mass% or less. When the value is equal to or more than the lower limit value, sufficient light shielding property tends to be obtained, and when it is less than the upper limit value, electrical reliability tends to be increased. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 40 mass%, more preferably 5 to 30 mass%, still more preferably 10 to 25 mass%, and particularly preferably 15 to 20 mass% .

(a2) C. I. 피그먼트 블루 60 의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 2 질량% 이상인 것이 바람직하고, 3 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 4 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 6 질량% 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 8 질량% 이상인 것이 특히 바람직하고, 10 질량% 이상인 것이 가장 바람직하다. 또, 15 질량% 이하인 것이 바람직하고, 12 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 9 질량% 이하인 것이 보다 더 바람직하고, 8 질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 700 ㎚ 부근의 투과율이 낮아지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 전기 신뢰성이 높아지고, 또 충분한 제판 특성을 얻기 쉬운 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 2 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 3 ∼ 15 질량% 가 보다 바람직하고, 4 ∼ 12 질량% 가 더욱 바람직하고, 6 ∼ 12 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.(a2) The content ratio of the CI Pigment Blue 60 is not particularly limited, but is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, further preferably 4% by mass or more in the total solid content of the photosensitive coloring composition, More preferably at least 6% by mass, particularly preferably at least 8% by mass, most preferably at least 10% by mass. It is more preferably 15 mass% or less, more preferably 12 mass% or less, further preferably 10 mass% or less, even more preferably 9 mass% or less, particularly preferably 8 mass% or less. The transmittance of about 700 nm tends to be lowered by setting it at the lower limit value or more, and when it is less than the upper limit value, electrical reliability tends to be high and sufficient plate making characteristics tend to be obtained. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 2 to 15 mass%, more preferably 3 to 15 mass%, still more preferably 4 to 12 mass%, and particularly preferably 6 to 12 mass% .

(a3) 카본 블랙의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 1 질량% 이상인 것이 바람직하고, 2 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 3 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 4 질량% 이상인 것이 특히 바람직하고, 또, 10 질량% 이하인 것이 바람직하고, 9 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 8 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 7 질량% 이하인 것이 보다 더 바람직하고, 5 질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 차광성이 얻어지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 근적외 영역에서의 투과율이 높아지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 질량% 가 바람직하고, 2 ∼ 9 질량% 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 8 질량% 가 더욱 바람직하고, 4 ∼ 7 질량% 가 보다 더 바람직하고, 4 ∼ 5 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.(a3) The content of the carbon black is not particularly limited, but is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, further preferably 3% by mass or more, more preferably 4% By mass or less, more preferably 10% by mass or less, further preferably 9% by mass or less, further preferably 8% by mass or less, further preferably 7% by mass or less, and most preferably 5% desirable. If it is at least the lower limit value, sufficient light shielding property tends to be obtained, and if it is less than the upper limit value, the transmittance in the near infrared region tends to be increased. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 1 to 10 mass%, more preferably from 2 to 9 mass%, still more preferably from 3 to 8 mass%, even more preferably from 4 to 7 mass% By mass, and particularly preferably 4 to 5% by mass.

감광성 착색 조성물이 그 밖의 착색제로서 자색 안료를 함유하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 1 질량% 이상이 바람직하고, 2 질량% 이상이 보다 바람직하고, 3 질량% 이상이 더욱 바람직하고, 4 질량% 이상이 보다 더 바람직하고, 6 질량% 이상이 특히 바람직하고, 7 질량% 이상이 가장 바람직하고, 또, 15 질량% 이하가 바람직하고, 12 질량% 이하가 보다 바람직하고, 10 질량% 이하가 더욱 바람직하고, 8 질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 차광성이 얻어지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 전기 신뢰성이 높아지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 2 ∼ 12 질량% 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 10 질량% 가 더욱 바람직하고, 4 ∼ 8 질량% 가 보다 더 바람직하고, 6 ∼ 8 질량% 가 특히 바람직하고, 7 ∼ 8 질량% 를 가장 바람직하게 들 수 있다.When the photosensitive coloring composition contains a purple pigment as the other coloring agent, the content thereof is not particularly limited, but is preferably at least 1% by mass, more preferably at least 2% by mass, and most preferably at least 3% by mass, based on the total solid content of the photosensitive coloring composition , More preferably not less than 4 mass%, even more preferably not less than 4 mass%, particularly preferably not less than 6 mass%, most preferably not less than 7 mass%, most preferably not more than 15 mass% , More preferably 10 mass% or less, and particularly preferably 8 mass% or less. When the value is equal to or more than the above lower limit value, sufficient light shielding property tends to be obtained, and when it is made lower than the upper limit value, electric reliability tends to be increased. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 1 to 15 mass%, more preferably from 2 to 12 mass%, still more preferably from 3 to 10 mass%, still more preferably from 4 to 8 mass% By mass, particularly preferably from 6 to 8% by mass, and most preferably from 7 to 8% by mass.

또 감광성 착색 조성물에 함유되는 전체 착색제, 요컨대 (a) 착색제에 대한 (a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 20 질량% 이상인 것이 바람직하고, 30 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 40 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 50 질량% 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 60 질량% 이상인 것이 특히 바람직하고, 또, 80 질량% 이하인 것이 바람직하고, 75 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 70 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 65 질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 차광성이 얻어지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 전기 신뢰성이 높아지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 20 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 30 ∼ 80 질량% 가 보다 바람직하고, 40 ∼ 75 질량% 가 보다 바람직하고, 50 ∼ 70 질량% 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.The content of the organic black pigment (a1) relative to the total coloring agent, that is, (a) the coloring agent contained in the photosensitive coloring composition is not particularly limited, but is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, More preferably 50 mass% or more, still more preferably 60 mass% or more, further preferably 80 mass% or less, more preferably 75 mass% or less, and 70 mass% or less , And particularly preferably at most 65 mass%. When the value is equal to or more than the lower limit value, sufficient light shielding property tends to be obtained, and when it is less than the upper limit value, electrical reliability tends to be increased. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 20 to 80 mass%, more preferably from 30 to 80 mass%, still more preferably from 40 to 75 mass%, still more preferably from 50 to 70 mass% .

또 감광성 착색 조성물에 함유되는 전체 착색제, 요컨대 (a) 착색제에 대한 (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 10 질량% 이상인 것이 바람직하고, 12 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 15 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 18 질량% 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 20 질량% 이상인 것이 특히 바람직하고, 24 질량% 이상인 것이 보다 특히 바람직하고, 28 질량% 이상인 것이 특히 바람직하고, 또, 50 질량% 이하인 것이 바람직하고, 40 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 35 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 30 질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 700 ㎚ 부근의 투과율이 낮아지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 전기 신뢰성이 높아지고, 또 충분한 제판 특성을 얻기 쉬운 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 18 ∼ 40 질량% 가 더욱 바람직하고, 24 ∼ 35 질량% 가 보다 더 바람직하고, 28 ∼ 35 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.In addition, the content ratio of (a2) CI Pigment Blue 60 to the total colorant contained in the photosensitive coloring composition, that is, (a) colorant is not particularly limited, but is preferably 10% by mass or more, more preferably 12% , More preferably at least 15 mass%, even more preferably at least 18 mass%, particularly preferably at least 20 mass%, even more preferably at least 24 mass%, particularly preferably at least 28 mass% Is preferably 50 mass% or less, more preferably 40 mass% or less, even more preferably 35 mass% or less, particularly preferably 30 mass% or less. The transmittance of about 700 nm tends to be lowered by setting it at the lower limit value or more, and when it is less than the upper limit value, electrical reliability tends to be high and sufficient plate making characteristics tend to be obtained. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 10 to 50 mass%, more preferably from 10 to 40 mass%, still more preferably from 18 to 40 mass%, still more preferably from 24 to 35 mass% By mass, and particularly preferably from 28 to 35% by mass.

또 감광성 착색 조성물에 함유되는 전체 착색제, 요컨대 (a) 착색제에 대한 (a3) 카본 블랙의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 10 질량% 이상인 것이 바람직하고, 12 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 15 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 18 질량% 이상이 보다 더 바람직하고, 20 질량% 이상이 특히 바람직하고, 또, 35 질량% 이하인 것이 바람직하고, 30 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 25 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 20 질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 차광성이 얻어지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 근적외 영역에서의 투과율이 높아지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 35 질량% 가 바람직하고, 12 ∼ 30 질량% 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 25 질량% 가 더욱 바람직하고, 18 ∼ 20 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.The content ratio of (a3) carbon black to (a) the coloring agent is not particularly limited, but is preferably 10% by mass or more, more preferably 12% by mass or more, and more preferably 15% by mass , More preferably not less than 18 mass%, even more preferably not less than 20 mass%, particularly preferably not less than 35 mass%, more preferably not more than 30 mass%, and most preferably not more than 25 mass% And even more preferably 20 mass% or less. If it is at least the lower limit value, sufficient light shielding property tends to be obtained, and if it is less than the upper limit value, the transmittance in the near infrared region tends to be increased. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 10 to 35 mass%, more preferably 12 to 30 mass%, still more preferably 15 to 25 mass%, and particularly preferably 18 to 20 mass% .

한편, 근적외 영역에서의 투과율과 전기 신뢰성을 양립하기 위해, 흑색 안료에서 차지하는 (a1) 유기 흑색 안료와 (a3) 카본 블랙의 함유 비율을 적절히 조정하는 것이 바람직하다. 카본 블랙은 가시 영역에 있어서 높은 흡광도를 가지므로, 파장 700 ㎚ 부근의 투과율을 효과적으로 저감시킬 수 있고, 또한 소정의 차광성을 얻기 위해서 필요한 착색제 함유 비율도 저감시킬 수 있어 전기 신뢰성이 높아지는 경향이 있다. 한편, 카본 블랙은 근적외 영역에 있어서도 흡수를 갖기 때문에, (a3) 카본 블랙에 더하여 (a1) 유기 흑색 안료를 소정량 함유함으로써, 파장 900 ㎚ 부근의 투과율을 확보한 후에 충분한 차광성을 확보할 수 있는 것으로 생각된다.On the other hand, it is preferable to appropriately adjust the content ratio of (a1) organic black pigment and (a3) carbon black in the black pigment in order to achieve both transmittance and electrical reliability in the near infrared region. Since carbon black has a high absorbance in the visible region, it is possible to effectively reduce the transmittance in the vicinity of the wavelength of 700 nm, to reduce the content of the coloring agent necessary for obtaining a predetermined light shielding property, and to have high electric reliability . On the other hand, since carbon black has absorption in the near infrared region, (a3) a predetermined amount of (a1) organic black pigment is added in addition to carbon black to ensure sufficient light shielding property after securing the transmittance in the vicinity of 900 nm .

(a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 (a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 150 질량부 이상이고, 180 질량부 이상인 것이 바람직하고, 200 질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 210 질량부 이상인 것이 다음으로 바람직하고, 220 질량부 이상인 것이 더욱 바람직하고, 250 질량부 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 300 질량부 이상인 것이 특히 바람직하고, 350 질량부 이상인 것이 보다 특히 바람직하고, 400 질량부 이상인 것이 더욱 특히 바람직하고, 450 질량부 이상이 특히 바람직하고, 480 질량부 이상이 가장 바람직하다. 또, 1000 질량부 이하인 것이 바람직하고, 800 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 600 질량부 이하인 것이 더욱 바람직하고, 500 질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 근적외 영역에서의 투과율이 높아지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 전기 신뢰성이 높아지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 150 ∼ 1000 질량부가 바람직하고, 180 ∼ 800 질량부가 보다 바람직하고, 200 ∼ 800 질량부가 다음으로 바람직하고, 210 ∼ 600 질량부가 더욱 바람직하고, 220 ∼ 600 질량부가 보다 더 바람직하고, 250 ∼ 600 질량부가 특히 바람직하고, 300 ∼ 600 질량부가 보다 특히 바람직하고, 350 ∼ 600 질량부가 더욱 특히 바람직하고, 400 ∼ 600 질량부가 다음으로 특히 바람직하고, 450 ∼ 500 질량부가 특히 바람직하고, 480 ∼ 500 질량부를 가장 바람직하게 들 수 있다.(a3) The content of the organic black pigment (a1) relative to 100 parts by mass of carbon black is usually 150 parts by mass or more, preferably 180 parts by mass or more, more preferably 200 parts by mass or more, and 210 parts by mass or more, More preferably 250 parts by mass or more, particularly preferably 300 parts by mass or more, particularly preferably 350 parts by mass or more, even more preferably 400 parts by mass or more Particularly preferably not less than 450 parts by mass, and most preferably not less than 480 parts by mass. It is more preferably 1000 parts by mass or less, more preferably 800 parts by mass or less, even more preferably 600 parts by mass or less, particularly preferably 500 parts by mass or less. The transmittance in the near infrared region tends to be higher by setting it to be equal to or higher than the lower limit value, and when it is made lower than the upper limit value, the electrical reliability tends to be increased. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 150 to 1000 parts by mass, more preferably from 180 to 800 parts by mass, still more preferably from 200 to 800 parts by mass, still more preferably from 210 to 600 parts by mass, More preferably from 600 to 600 parts by mass, particularly preferably from 250 to 600 parts by mass, particularly preferably from 300 to 600 parts by mass, still more preferably from 350 to 600 parts by mass, still more preferably from 400 to 600 parts by mass, Particularly preferably 500 parts by mass, and most preferably 480 to 500 parts by mass.

또, 차광성과 파장 900 ㎚ 부근의 투과율을 양립한다는 관점에서는, (a3) 카본 블랙에 대한 전체 유기 안료의 함유 비율을 적절히 조정하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of achieving both light shielding and transmittance in the vicinity of 900 nm, it is preferable to appropriately adjust the content ratio of (a3) the total organic pigment to carbon black.

(a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 전체 유기 안료의 함유 비율은, 통상 300 질량부 이상, 400 질량부 이상이 바람직하고, 500 질량부 이상이 보다 바람직하고, 550 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 600 질량부 이상이 보다 더 바람직하고, 620 질량부 이상이 특히 바람직하고, 650 질량부 이상이 가장 바람직하고, 또, 900 질량부 이하가 바람직하고, 800 질량부 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 파장 900 ㎚ 부근의 투과율이 높아지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 충분한 차광성을 얻을 수 있고, 또, 파장 700 ㎚ 부근의 광 누설을 억제할 수 있는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 300 ∼ 900 질량부가 바람직하고, 400 ∼ 900 질량부가 보다 바람직하고, 500 ∼ 900 질량부가 다음으로 바람직하고, 550 ∼ 800 질량부가 더욱 바람직하고, 600 ∼ 800 질량부가 보다 더 바람직하고, 620 ∼ 800 질량부가 특히 바람직하고, 650 ∼ 800 질량부를 가장 바람직하게 들 수 있다.(a3) The content ratio of the total organic pigment to 100 parts by mass of carbon black is usually 300 parts by mass or more, preferably 400 parts by mass or more, more preferably 500 parts by mass or more, further preferably 550 parts by mass or more, More preferably not less than 600 parts by mass, particularly preferably not less than 620 parts by mass, most preferably not less than 650 parts by mass, more preferably not more than 900 parts by mass, and most preferably not more than 800 parts by mass. The transmittance at a wavelength of 900 nm tends to be higher by setting it at the lower limit value or more, and when it is not more than the upper limit value, sufficient light shielding property can be obtained and light leakage around a wavelength of 700 nm tends to be suppressed. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 300 to 900 parts by mass, more preferably 400 to 900 parts by mass, still more preferably 500 to 900 parts by mass, still more preferably 550 to 800 parts by mass, More preferably 800 to 800 parts by mass, particularly preferably 620 to 800 parts by mass, and most preferably 650 to 800 parts by mass.

또, 파장 700 ㎚ 부근의 광 누설을 억제한다는 관점에서는, (a3) 카본 블랙에 대한 (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 의 함유 비율을 적절히 조정하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of suppressing light leakage in the vicinity of the wavelength of 700 nm, it is preferable to appropriately adjust the content ratio of (a3) C. I. pigment blue 60 to (a2) carbon black.

(a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 의 함유 비율은, 50 질량부 이상이 바람직하고, 100 질량부 이상이 보다 바람직하고, 150 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 180 질량부 이상이 보다 더 바람직하고, 200 질량부 이상이 특히 바람직하고, 210 질량부 이상이 보다 특히 바람직하고, 220 질량부 이상이 특히 바람직하고, 240 질량부 이상이 가장 바람직하고, 또, 400 질량부 이하가 바람직하고, 300 질량부 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 파장 700 ㎚ 부근의 광 누설을 억제할 수 있는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 파장 900 ㎚ 부근의 투과율이 높아지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 50 ∼ 400 질량부가 바람직하고, 100 ∼ 400 질량부가 보다 바람직하고, 150 ∼ 400 질량부가 더욱 바람직하고, 200 ∼ 300 질량부가 보다 더 바람직하고, 220 ∼ 300 질량부가 특히 바람직하고, 240 ∼ 300 질량부를 가장 바람직하게 들 수 있다.(a3) The content ratio of (a2) CI Pigment Blue 60 to 100 parts by mass of carbon black is preferably 50 parts by mass or more, more preferably 100 parts by mass or more, still more preferably 150 parts by mass or more, and 180 More preferably not less than 200 parts by mass, particularly preferably not less than 200 parts by mass, particularly preferably not less than 200 parts by mass, more preferably not less than 210 parts by mass, particularly preferably not less than 220 parts by mass, most preferably not less than 240 parts by mass, Or less, more preferably 300 parts by mass or less. By setting the value above the lower limit value, light leakage around a wavelength of 700 nm tends to be suppressed, and when it is lower than the upper limit value, the transmittance around 900 nm tends to increase. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 50 to 400 parts by mass, more preferably 100 to 400 parts by mass, further preferably 150 to 400 parts by mass, still more preferably 200 to 300 parts by mass, Particularly preferably 300 parts by mass, and most preferably 240 to 300 parts by mass.

감광성 착색 조성물이 그 밖의 착색제로서 자색 안료를 함유하는 경우, 차광성의 관점에서, (a1) 유기 흑색 안료에 대한 자색 안료의 함유 비율을 적절히 조정하는 것이 바람직하다.When the photosensitive coloring composition contains a purple pigment as another coloring agent, it is preferable to appropriately adjust the content ratio of the purple pigment to (a1) the organic black pigment from the viewpoint of light shielding property.

(a1) 유기 흑색 안료 100 질량부에 대한 자색 안료의 함유 비율은, 10 질량부 이상이 바람직하고, 20 질량부 이상이 보다 바람직하고, 40 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 55 질량부 이상이 보다 더 바람직하고, 60 질량부 이상이 특히 바람직하고, 65 질량부 이상이 특히 바람직하고, 70 질량부 이상이 가장 바람직하고, 또, 100 질량부 이하가 바람직하고, 90 질량부 이하가 보다 바람직하고, 80 질량부 이하가 더욱 바람직하고, 70 질량부 이하가 보다 더 바람직하고, 65 질량부 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 차광성을 확보할 수 있고, 또, 신뢰성이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 파장 700 ㎚ 부근의 광 누설을 억제할 수 있는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 100 질량부가 바람직하고, 20 ∼ 100 질량부가 보다 바람직하고, 40 ∼ 100 질량부가 다음으로 바람직하고, 55 ∼ 100 질량부가 더욱 바람직하고, 60 ∼ 100 질량부가 보다 더 바람직하고, 65 ∼ 90 질량부가 특히 바람직하고, 70 ∼ 90 질량부를 가장 바람직하게 들 수 있다.(a1) The content of the violet pigment in 100 parts by mass of the organic black pigment is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more, still more preferably 40 parts by mass or more, and more preferably 55 parts by mass or more More preferably 60 parts by mass or more, particularly preferably 65 parts by mass or more, most preferably 70 parts by mass or more, most preferably 100 parts by mass or less, more preferably 90 parts by mass or less, More preferably 80 parts by mass or less, still more preferably 70 parts by mass or less, and particularly preferably 65 parts by mass or less. By setting the value to be equal to or more than the lower limit value, sufficient light shielding property can be ensured and reliability tends to be improved. Also, when the value is set to the upper limit value or less, light leakage around 700 nm tends to be suppressed. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 10 to 100 parts by mass, more preferably 20 to 100 parts by mass, still more preferably 40 to 100 parts by mass, still more preferably 55 to 100 parts by mass, More preferably 100 to 100 parts by mass, still more preferably 65 to 90 parts by mass, most preferably 70 to 90 parts by mass.

(b) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 통상 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 20 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이상, 특히 바람직하게는 35 질량% 이상이고, 통상 85 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 60 질량% 이하, 보다 더 바람직하게는 50 질량% 이하, 특히 바람직하게는 45 질량% 이하이다. (b) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성의 저하를 억제하고, 현상 불량을 억제할 수 있는 경향이 있다. 또 상기 상한값 이하로 함으로써, 적정한 감도를 유지하고, 노광부의 현상액에 의한 용해를 억제할 수 있고, 또 화소의 샤프성이나 밀착성의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 예를 들어, 10 ∼ 85 질량% 가 바람직하고, 20 ∼ 80 질량% 가 보다 바람직하고, 30 ∼ 70 질량% 가 다음으로 바람직하고, 35 ∼ 60 질량% 가 더욱 바람직하고, 40 ∼ 60 질량% 가 보다 더 바람직하고, 40 ∼ 50 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.The content of the alkali-soluble resin (b) in the photosensitive coloring composition of the present invention is not particularly limited, but is generally 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 20% , Preferably not less than 80 mass%, more preferably not more than 70 mass%, still more preferably not more than 60 mass%, and most preferably not more than 30 mass%, particularly preferably not less than 35 mass% More preferably 50 mass% or less, and particularly preferably 45 mass% or less. When the content of the alkali-soluble resin (b) is set to the lower limit value or more, the lowering of the solubility of the unexposed portion in the developer is suppressed, and the development defects can be suppressed. Further, by setting the amount to be the upper limit value or less, proper sensitivity can be maintained, dissolution of the developing solution in the exposed portion can be suppressed, and reduction in sharpness and adhesion of the pixel can be suppressed. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 10 to 85% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, still more preferably 30 to 70% by mass, more preferably 35 to 60% , Even more preferably from 40 to 60 mass%, and particularly preferably from 40 to 50 mass%.

(b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 통상 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상, 특히 바람직하게는 25 질량% 이상이고, 통상 45 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하, 보다 바람직하게는 35 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성을 확보할 수 있는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 적정한 감도를 유지하고, 노광부의 현상액에 의한 용해를 억제할 수 있고, 또 화소의 샤프성이나 밀착성의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 45 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 40 질량% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 35 질량% 가 보다 더 바람직하고, 25 ∼ 35 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.The content of the epoxy (meth) acrylate resin (b1) is not particularly limited, but is generally 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, and more preferably 15% by mass or more in the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention , More preferably not less than 20 mass%, particularly preferably not less than 25 mass%, and usually not more than 45 mass%, preferably not more than 40 mass%, and more preferably not more than 35 mass%. By setting the amount above the lower limit value, the solubility of the unexposed portion in the developing solution tends to be ensured. When the amount is less than the upper limit value, appropriate sensitivity can be maintained and dissolution of the developing solution in the exposed portion can be suppressed. There is a tendency that the reduction of sharpness and adhesion can be suppressed. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 45 mass%, more preferably 10 to 40 mass%, still more preferably 15 to 40 mass%, and still more preferably 20 to 35 mass% By mass, and particularly preferably 25 to 35% by mass.

(b) 알칼리 가용성 수지 중에 함유되는 (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 통상 20 질량% 이상, 바람직하게는 30 질량% 이상, 보다 바람직하게는 40 질량% 이상이고, 통상 90 질량% 이하, 바람직하게는 85 질량% 이하, 보다 바람직하게는 80 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성을 확보할 수 있는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 적정한 감도를 유지하고, 노광부의 현상액에 의한 용해를 억제할 수 있고, 또 화소의 샤프성이나 밀착성의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 20 ∼ 90 질량% 가 바람직하고, 30 ∼ 85 질량% 가 보다 바람직하고, 40 ∼ 80 질량% 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.The content of the epoxy (meth) acrylate resin (b1) contained in the alkali-soluble resin (b) is not particularly limited, but is usually 20 mass% or more, preferably 30 mass% or more, more preferably 40 mass% Or more, and usually 90 mass% or less, preferably 85 mass% or less, and more preferably 80 mass% or less. By setting the amount above the lower limit value, the solubility of the unexposed portion in the developing solution tends to be ensured. When the amount is less than the upper limit value, appropriate sensitivity can be maintained and dissolution of the developing solution in the exposed portion can be suppressed. There is a tendency that the reduction of sharpness and adhesion can be suppressed. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 20 to 90 mass%, more preferably from 30 to 85 mass%, still more preferably from 40 to 80 mass%.

(c) 광 중합 개시제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 통상 0.1 질량% 이상, 바람직하게는 0.5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 1 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 2 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 3 질량% 이상, 특히 바람직하게는 4 질량% 이상이고, 통상 15 질량% 이하, 바람직하게는 10 질량% 이하, 보다 바람직하게는 8 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 7 질량% 이하이다. (c) 광 중합 개시제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써 감도 저하를 억제할 수 있는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성의 저하를 억제하고, 현상 불량을 억제할 수 있는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 0.1 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 0.5 ∼ 10 질량% 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 8 질량% 가 더욱 바람직하고, 2 ∼ 8 질량% 가 보다 더 바람직하고, 3 ∼ 8 질량% 가 특히 바람직하고, 4 ∼ 7 질량% 를 가장 바람직하게 들 수 있다.(c) the content of the photopolymerization initiator is not particularly limited, but is usually 0.1% by mass or more, preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and still more preferably 1% by mass or more in the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention , More preferably not less than 3 mass%, particularly preferably not less than 4 mass%, and usually not more than 15 mass%, preferably not more than 10 mass%, more preferably not more than 8 mass% More preferably, it is 7 mass% or less. (c) When the content of the photopolymerization initiator is set to the above-mentioned lower limit value or more, the sensitivity lowering can be suppressed. When the content is lower than the above upper limit value, deterioration of the solubility of the unexposed portion in the developer is suppressed, There is a tendency to be able to. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 0.1 to 15 mass%, more preferably from 0.5 to 10 mass%, still more preferably from 1 to 8 mass%, still more preferably from 2 to 8 mass% By mass, particularly preferably 3 to 8% by mass, and most preferably 4 to 7% by mass.

(c) 광 중합 개시제와 함께 중합 촉진제를 사용하는 경우, 중합 촉진제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 바람직하게는 0.05 질량% 이상, 통상 10 질량% 이하, 바람직하게는 5 질량% 이하이고, 중합 촉진제는, (c) 광 중합 개시제 100 질량부에 대하여 통상 0.1 ∼ 50 질량부, 특히 0.1 ∼ 20 질량부의 비율로 사용하는 것이 바람직하다. 중합 촉진제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 노광 광선에 대한 감도의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성의 저하를 억제하고, 현상 불량을 억제할 수 있는 경향이 있다.When the polymerization initiator (c) is used together with the photopolymerization initiator, the content of the polymerization promoter is not particularly limited, but is preferably 0.05% by mass or more, usually 10% by mass or less, Preferably 5% by mass or less, and the polymerization promoter is preferably used in a proportion of usually 0.1 to 50 parts by mass, particularly 0.1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the (c) photopolymerization initiator. When the content of the polymerization accelerator is set to the above-mentioned lower limit value or more, a decrease in sensitivity to exposure light tends to be suppressed. When the content is lower than the upper limit value, the degradation of the solubility of the unexposed portion in the developer is suppressed, There is a tendency to inhibit.

또, (c) 광 중합 개시제와 함께 증감 색소를 사용하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감도의 관점에서 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분 중에 통상 20 질량% 이하, 바람직하게는 15 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이하이다.When the sensitizing dye (c) is used together with the photopolymerization initiator, the content is not particularly limited, but from the viewpoint of sensitivity, generally 20 mass% or less, preferably 15 mass% or less, of the total solid content in the photosensitive coloring composition , And more preferably 10 mass% or less.

(d) 에틸렌성 불포화 화합물의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 통상 1 질량% 이상, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상이고, 또, 통상 30 질량% 이하, 바람직하게는 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 15 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 적정한 감도를 유지하고, 노광부의 현상액에 의한 용해를 억제할 수 있고, 또 화소의 샤프성이나 밀착성의 저하를 억제할 수 있는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써, 노광부에의 현상액의 침투성이 높아지는 것을 억제하여, 양호한 화상을 얻는 것이 용이해지는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 15 질량% 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.The content of the ethylenically unsaturated compound (d) is not particularly limited, but is usually 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more in the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention, Further, it is usually 30 mass% or less, preferably 20 mass% or less, and more preferably 15 mass% or less. When the amount is above the lower limit value, proper sensitivity can be maintained, dissolution of the developing solution in the exposed portion can be suppressed, and the sharpness and adhesion of the pixel can be suppressed from deteriorating. The permeability of the developer to the light portion is prevented from increasing, and a good image tends to be easily obtained. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, and still more preferably 10 to 15% by mass.

또한, 본 발명의 감광성 착색 조성물은, (e) 용제를 사용함으로써, 전체 고형분의 함유 비율이 통상 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상, 또 통상 50 질량% 이하, 바람직하게는 30 질량% 이하, 보다 바람직하게는 25 질량% 이하가 되도록 조액된다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 30 질량% 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 25 질량% 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.The photosensitive coloring composition of the present invention can be obtained by using (e) a solvent, and the content ratio of the total solid content is usually 5 mass% or more, preferably 10 mass% or more, more preferably 15 mass% By mass or less, preferably 30% by mass or less, and more preferably 25% by mass or less. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably from 5 to 50 mass%, more preferably from 10 to 30 mass%, still more preferably from 15 to 25 mass%.

(f) 분산제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 통상 1 질량% 이상이고, 3 질량% 이상이 바람직하고, 5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또 통상 30 질량% 이하, 20 질량% 이하가 바람직하고, 15 질량% 이하가 보다 바람직하고, 10 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써, 충분한 분산성을 얻기 쉬운 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 상대적으로 다른 성분의 비율이 줄어듦으로써 감도, 제판성 등이 저하되는 것을 억제할 수 있는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 3 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 5 ∼ 15 질량% 가 더욱 바람직하고, 5 ∼ 10 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.(f) The content of the dispersing agent is not particularly limited, but is usually 1% by mass or more, preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and usually 30% , Preferably 20 mass% or less, more preferably 15 mass% or less, and further preferably 10 mass% or less. When the content is above the lower limit value, sufficient dispersibility tends to be obtained. When the content is less than the upper limit value, the ratio of the other components is decreased, and sensitivity, plate formability and the like tend to be suppressed. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 30 mass%, more preferably 3 to 20 mass%, still more preferably 5 to 15 mass%, and particularly preferably 5 to 10 mass% .

또, (a) 착색제 100 질량부에 대한 (f) 분산제의 함유 비율은, 통상 5 질량부 이상, 10 질량부 이상이 보다 바람직하고, 15 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 통상 50 질량부 이하, 특히 30 질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써, 충분한 분산성을 얻기 쉬운 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 상대적으로 다른 성분의 비율이 줄어듦으로써 감도, 제판성 등이 저하되는 것을 억제할 수 있는 경향이 있다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 50 질량부가 바람직하고, 10 ∼ 30 질량부가 보다 바람직하고, 15 ∼ 30 질량부를 더욱 바람직하게 들 수 있다.The content of the dispersing agent (f) in 100 parts by mass of the colorant (a) is more preferably 5 parts by mass or more, still more preferably 10 parts by mass or more, still more preferably 15 parts by mass or more, Particularly preferably 30 parts by mass or less. When the content is above the lower limit value, sufficient dispersibility tends to be obtained. When the content is less than the upper limit value, the ratio of the other components is decreased, and sensitivity, plate formability and the like tend to be suppressed. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 50 parts by mass, more preferably 10 to 30 parts by mass, and still more preferably 15 to 30 parts by mass.

한편, (d) 에틸렌성 불포화 화합물 100 질량부에 대한 (b) 알칼리 가용성 수지의 함유 비율은, 통상 80 질량부 이상, 100 질량부 이상이 바람직하고, 150 질량부 이상이 보다 바람직하고, 200 질량부 이상이 더욱 바람직하고, 250 질량부 이상이 특히 바람직하고, 또, 통상 700 질량부 이하, 500 질량부 이하가 바람직하고, 400 질량부 이하가 보다 바람직하고, 300 질량부 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 박리 등이 없는 적정한 용해 현상 상태가 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상액에 대해 적절한 용해 시간을 얻을 수 있는 경향이 있다. 또, 상한과 하한의 조합으로는, 예를 들어, 80 ∼ 700 질량부가 바람직하고, 100 ∼ 500 질량부가 보다 바람직하고, 150 ∼ 400 질량부가 더욱 바람직하고, 200 ∼ 300 질량부가 특히 바람직하고, 250 ∼ 300 질량부를 가장 바람직하게 들 수 있다.On the other hand, the content of the alkali-soluble resin (b) in 100 parts by mass of the ethylenically unsaturated compound (d) is preferably 80 parts by mass or more and 100 parts by mass or more, more preferably 150 parts by mass or more, More preferably not less than 250 parts by mass, particularly preferably not less than 700 parts by mass and not more than 500 parts by mass, more preferably not more than 400 parts by mass, and most preferably not more than 300 parts by mass. When the amount is above the lower limit value, there is a tendency that an appropriate dissolution phenomenon state in which there is no peeling or the like occurs. On the other hand, when it is made lower than the upper limit value, an appropriate dissolution time tends to be obtained with respect to the developer. The combination of the upper limit and the lower limit is, for example, preferably 80 to 700 parts by mass, more preferably 100 to 500 parts by mass, further preferably 150 to 400 parts by mass, particularly preferably 200 to 300 parts by mass, To 300 parts by mass are most preferable.

밀착 향상제를 사용하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 통상 0.1 ∼ 5 질량%, 바람직하게는 0.2 ∼ 3 질량%, 더욱 바람직하게는 0.4 ∼ 2 질량% 이다. 밀착 향상제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써 밀착성의 향상 효과를 충분히 얻을 수 있는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 감도가 저하되거나, 현상 후에 잔류물이 남아 결함이 되거나 하는 것을 억제할 수 있는 경향이 있다.When the adhesion improver is used, the content is not particularly limited, but it is usually 0.1 to 5% by mass, preferably 0.2 to 3% by mass, more preferably 0.4 to 2% by mass in the total solid content of the photosensitive coloring composition. When the content ratio of the adhesion-improving agent is set to the above-mentioned lower limit value or more, the effect of improving adhesion can be sufficiently obtained. When the content is lower than the upper limit value, the sensitivity is lowered or the residue remains after development. .

또, 계면 활성제를 사용하는 경우, 그 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분 중에 통상 0.001 ∼ 10 질량%, 바람직하게는 0.005 ∼ 1 질량%, 더욱 바람직하게는 0.01 ∼ 0.5 질량%, 가장 바람직하게는 0.03 ∼ 0.3 질량% 이다. 계면 활성제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써 도포막의 평활성, 균일성이 발현되기 쉬운 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 도포막의 평활성, 균일성이 발현되기 쉽고, 다른 특성의 악화도 억제할 수 있는 경향이 있다.When a surfactant is used, the content thereof is not particularly limited, but it is usually 0.001 to 10% by mass, preferably 0.005 to 1% by mass, more preferably 0.01 to 0.5% by mass, based on the total solid content of the photosensitive coloring composition. , And most preferably 0.03 to 0.3 mass%. When the content ratio of the surfactant is set to the lower limit value or more, the smoothness and uniformity of the coated film tends to be exhibited. When the content is lower than the upper limit, smoothness and uniformity of the coated film are liable to occur, There is a tendency.

<감광성 착색 조성물의 물성>&Lt; Physical Properties of Photosensitive Coloring Composition >

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 착색 스페이서 형성용에 바람직하게 사용할 수 있고, 착색 스페이서로서 사용한다는 관점에서는 흑색을 나타내고 있는 것이 바람직하다. 또, 그 도막의 막두께 1 ㎛ 당의 광학 농도 (OD) 가 1.0 이상인 것이 바람직하고, 1.2 이상인 것이 보다 바람직하고, 1.3 이상인 것이 더욱 바람직하고, 1.4 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 1.5 이상인 것이 특히 바람직하고, 1.8 이상인 것이 가장 바람직하고, 통상 4.0 이하이고, 3.0 이하인 것이 바람직하고, 2.5 이하인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1.0 ∼ 4.0 이 바람직하고, 1.2 ∼ 3.0 이 보다 바람직하고, 1.3 ∼ 3.0 이 더욱 바람직하고, 1.4 ∼ 3.0 이 보다 더 바람직하고, 1.5 ∼ 3.0 이 특히 바람직하고, 1.8 ∼ 2.5 를 가장 바람직하게 들 수 있다.The photosensitive coloring composition of the present invention can be preferably used for forming colored spacers, and preferably exhibits black color from the viewpoint of use as colored spacers. The optical density (OD) per 1 m of the film thickness of the coating film is preferably 1.0 or more, more preferably 1.2 or more, further preferably 1.3 or more, even more preferably 1.4 or more, particularly preferably 1.5 or more , And most preferably 1.8 or more, and is usually 4.0 or less, preferably 3.0 or less, and more preferably 2.5 or less. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1.0 to 4.0, more preferably 1.2 to 3.0, still more preferably 1.3 to 3.0, even more preferably 1.4 to 3.0, even more preferably 1.5 to 3.0 , And most preferably 1.8 to 2.5.

또 본 발명의 감광성 착색 조성물은, 파장 700 ㎚ 에 있어서의 투과율이 2.5 % 이하인 것이 바람직하고, 2.0 % 이하가 보다 바람직하고, 1.5 % 이하가 더욱 바람직하고, 또, 통상 0.01 % 이상이다. 상기 상한값 이하로 함으로써, 파장 700 ㎚ 에 있어서의 광 누설을 억제할 수 있고, 표시되는 화상이 붉은 기운이 되는 것을 억제할 수 있는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 0.01 ∼ 2.5 % 가 바람직하고, 0.01 ∼ 2.0 % 가 보다 바람직하고, 0.01 ∼ 1.5 % 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.The photosensitive coloring composition of the present invention preferably has a transmittance at a wavelength of 700 nm of 2.5% or less, more preferably 2.0% or less, further preferably 1.5% or less, and usually 0.01% or more. By setting the value at or below the upper limit value, light leakage at a wavelength of 700 nm can be suppressed, and the displayed image tends to be suppressed from being red. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 0.01 to 2.5%, more preferably 0.01 to 2.0%, still more preferably 0.01 to 1.5%.

한편 본 발명의 감광성 착색 조성물은, 파장 900 ㎚ 에 있어서의 투과율이 10 % 이상인 것이 바람직하고, 15 % 이상이 보다 바람직하고, 20 % 이상이 더욱 바람직하고, 또, 통상 100 % 이하이다. 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 100 % 가 바람직하고, 15 ∼ 100 % 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 100 % 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.Meanwhile, the photosensitive coloring composition of the present invention preferably has a transmittance at a wavelength of 900 nm of 10% or more, more preferably 15% or more, more preferably 20% or more, and usually 100% or less. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 10 to 100%, more preferably 15 to 100%, still more preferably 20 to 100%.

일반적으로, 블랙 매트릭스 및 화소를 포함하는 컬러 필터는 유리 기판 상에 직접 형성되기 때문에, 블랙 매트릭스를 형성하기 위한 포토마스크의 위치 맞춤이 문제가 되는 일은 없다. 한편, 착색 스페이서는 어레이 기판 (TFT 측의 기판) 상에 형성하는 경우가 있고, 이 경우에는 기판 상의 TFT 패턴의 위치에 맞춰 착색 스페이서를 형성할 필요가 있다. 소정의 위치에 착색 스페이서를 형성하는 방법으로서, 어레이 기판 상의 마크를 파장 900 ㎚ 부근의 광으로 판독하여 포토마스크의 위치 맞춤을 실시하는 것을 들 수 있지만, 위치 맞춤을 실시할 때에는 당해 마크가 착색 스페이서를 형성하기 위한 도막으로 피복되어 있기 때문에, 당해 도막의 파장 900 ㎚ 에 있어서의 투과율이 소정값 이상인 것이 중요해진다. 그 때문에 파장 900 ㎚ 이상의 투과율을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 마크의 시인성이 향상되어, 소정 위치에 착색 스페이서를 형성하기 쉬운 경향이 있다.Generally, since the color filter including the black matrix and the pixels is directly formed on the glass substrate, alignment of the photomask for forming the black matrix is not a problem. On the other hand, the coloring spacers may be formed on the array substrate (substrate on the TFT side), and in this case, it is necessary to form the coloring spacers in accordance with the position of the TFT pattern on the substrate. As a method of forming a colored spacer at a predetermined position, there is a method in which marks on the array substrate are read with light near a wavelength of 900 nm to align the photomask, but when the alignment is performed, It is important that the transmittance of the coating film at a wavelength of 900 nm is not less than a predetermined value. Therefore, when the transmittance of 900 nm or more is set to the lower limit value or more, the visibility of the mark is improved, and the coloring spacer tends to be easily formed at a predetermined position.

감광성 착색 조성물의 파장 700 ㎚ 나 900 ㎚ 에 있어서의 투과율은, 당해 감광성 착색 조성물을 사용하여 막두께가 2.5 ㎛ 인 경화막을 형성하고, 분광 광도계로 파장 700 ㎚ 나 900 ㎚ 에 있어서의 투과율을 측정하면 된다. 상세한 측정 조건 등은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.The transmittance of the photosensitive coloring composition at a wavelength of 700 nm or 900 nm can be measured by forming a cured film having a film thickness of 2.5 탆 using the photosensitive coloring composition and measuring the transmittance at a wavelength of 700 nm or 900 nm using a spectrophotometer do. The detailed measurement conditions and the like are not particularly limited, but can be measured by, for example, the method described in the following examples.

<감광성 착색 조성물의 제조 방법>&Lt; Method for producing photosensitive coloring composition >

본 발명의 감광성 착색 조성물 (이하, 「레지스트」 라고 칭하는 경우가 있다) 은, 통상적인 방법에 따라 제조된다.The photosensitive coloring composition of the present invention (hereinafter sometimes referred to as &quot; resist &quot;) is produced by a conventional method.

통상, (a) 착색제는, 미리 페인트 컨디셔너, 샌드 그라인더, 볼 밀, 롤 밀, 스톤 밀, 제트 밀, 호모게나이저 등을 사용하여 분산 처리하는 것이 바람직하다. 분산 처리에 의해 (a) 착색제가 미립자화되기 때문에, 레지스트의 도포 특성이 향상된다.Usually, (a) the colorant is preferably dispersed in advance by using a paint conditioner, a sand grinder, a ball mill, a roll mill, a stone mill, a jet mill, a homogenizer or the like. (A) Since the colorant is made into fine particles by the dispersion treatment, the coating property of the resist is improved.

분산 처리는, 통상, (a) 착색제, (e) 용제, 및 (f) 분산제, 그리고 (b) 알칼리 가용성 수지의 일부 또는 전부를 병용한 계에서 실시하는 것이 바람직하다 (이하, 분산 처리에 제공하는 혼합물, 및 그 처리에서 얻어진 조성물을 「잉크」 또는 「안료 분산액」 이라고 칭하는 경우가 있다). 특히 (f) 분산제로서 고분자 분산제를 사용하면, 얻어진 잉크 및 레지스트의 시간 경과적인 증점이 억제되므로 (분산 안정성이 우수하다) 바람직하다.The dispersion treatment is preferably carried out in a system in which a part or all of (a) a colorant, (e) a solvent, (f) a dispersant and (b) an alkali-soluble resin are used in combination , And the composition obtained by the treatment may be referred to as "ink" or "pigment dispersion"). Particularly, when (f) a polymeric dispersant is used as a dispersant, it is preferable that the obtained ink and resist are suppressed from increasing in time (excellent dispersion stability).

이와 같이, 레지스트를 제조하는 공정에 있어서, (a) 착색제, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 적어도 함유하는 안료 분산액을 제조하는 것이 바람직하다.Thus, in the step of producing a resist, it is preferable to prepare a pigment dispersion containing at least a colorant, (e) a solvent, and (f) a dispersant.

안료 분산액에 사용할 수 있는 (a) 착색제, (e) 유기 용제, 및 (f) 분산제로는, 각각 감광성 착색 조성물에 사용할 수 있는 것으로서 기재한 것을 바람직하게 채용할 수 있다. 또, 안료 분산액에 있어서의 (a) 착색제의 각 착색제의 함유 비율로서도, 감광성 착색 조성물에 있어서의 함유 비율로서 기재한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.As the (a) coloring agent, (e) organic solvent, and (f) dispersing agent which can be used in the pigment dispersion, those described as being usable in the photosensitive coloring composition can be preferably employed. In addition, as the content ratio of each coloring agent in the pigment dispersion (a), the content described as the content ratio in the photosensitive coloring composition can be preferably employed.

또한, 감광성 착색 조성물에 배합하는 전체 성분을 함유하는 액에 대해 분산 처리를 실시했을 경우, 분산 처리시에 생기는 발열 때문에, 고반응성의 성분이 변성될 가능성이 있다. 따라서, 고분자 분산제를 함유하는 계에서 분산 처리를 실시하는 것이 바람직하다.Further, when a dispersion containing the entire components to be blended in the photosensitive coloring composition is subjected to dispersion treatment, there is a possibility that the highly reactive component is denatured due to the heat generated during the dispersion treatment. Therefore, it is preferable to carry out the dispersion treatment in a system containing a polymeric dispersant.

샌드 그라인더로 (a) 착색제를 분산시키는 경우에는, 0.1 ∼ 8 ㎜ 정도의 입자경의 유리 비드 또는 지르코니아 비드가 바람직하게 사용된다. 분산 처리 조건은, 온도는 통상 0 ℃ 내지 100 ℃ 이고, 바람직하게는 실온 내지 80 ℃ 의 범위이다. 분산 시간은 액의 조성 및 분산 처리 장치의 사이즈 등에 따라 적정 시간이 상이하기 때문에 적절히 조절한다. 레지스트의 20 도 경면 광택도 (JIS Z8741) 가 50 ∼ 300 의 범위가 되도록, 잉크의 광택을 제어하는 것이 분산의 기준이다. 레지스트의 광택도가 낮은 경우에는, 분산 처리가 충분하지 않고 거친 안료 (색재) 입자가 남아 있는 경우가 많아, 현상성, 밀착성, 해상성 등이 불충분해질 가능성이 있다. 또, 광택값이 상기 범위를 초과할 때까지 분산 처리를 실시하면, 안료가 파쇄되어 초미립자가 다수 발생하기 때문에, 오히려 분산 안정성이 저해되는 경향이 있다.In the case of (a) dispersing the colorant with a sand grinder, glass beads or zirconia beads having a particle diameter of about 0.1 to 8 mm are preferably used. The dispersion treatment conditions are usually 0 ° C to 100 ° C, preferably room temperature to 80 ° C. The dispersion time is appropriately adjusted because the appropriate time differs depending on the composition of the liquid and the size of the dispersion treatment apparatus. It is the standard of dispersion that the gloss of the ink is controlled such that the 20-degree specular gloss (JIS Z8741) of the resist is in the range of 50 to 300. When the gloss of the resist is low, there is a possibility that the dispersion treatment is not sufficient and rough pigment (coloring material) particles remain in many cases, which may result in insufficient developability, adhesion, resolution and the like. If the dispersion treatment is carried out until the gloss value exceeds the above range, the pigment tends to be broken and the dispersion stability tends to be rather deteriorated because many ultrafine particles are generated.

또, 잉크 중에 분산된 안료의 분산 입경은 통상 0.03 ∼ 0.3 ㎛ 이고, 동적 광 산란법 등에 의해 측정된다.The dispersion particle diameter of the pigment dispersed in the ink is usually 0.03 to 0.3 占 퐉 and is measured by a dynamic light scattering method or the like.

다음으로, 상기 분산 처리에 의해 얻어진 잉크와, 레지스트 중에 함유되는 상기의 다른 성분을 혼합하여, 균일한 용액으로 한다. 레지스트의 제조 공정에 있어서는, 미세한 먼지가 액 중에 섞이는 경우가 있기 때문에, 얻어진 레지스트는 필터 등에 의해 여과 처리하는 것이 바람직하다.Next, the ink obtained by the dispersion treatment and the above-mentioned other components contained in the resist are mixed to obtain a homogeneous solution. In the process of producing a resist, fine dust may be mixed in the liquid. Therefore, the obtained resist is preferably subjected to filtration treatment with a filter or the like.

[경화물][Cured goods]

본 발명의 감광성 착색 조성물을 경화시킴으로써, 경화물을 얻을 수 있다. 감광성 착색 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물은, 착색 스페이서로서 바람직하게 사용할 수 있다.By curing the photosensitive coloring composition of the present invention, a cured product can be obtained. The cured product obtained by curing the photosensitive coloring composition can be preferably used as a coloring spacer.

[착색 스페이서][Coloring Spacer]

다음으로, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용한 착색 스페이서에 대해, 그 제조 방법에 따라 설명한다.Next, the coloring spacer using the photosensitive coloring composition of the present invention will be described according to the production method thereof.

(1) 지지체(1)

착색 스페이서를 형성하기 위한 지지체로는, 적당한 강도가 있으면, 그 재질은 특별히 한정되는 것은 아니다. 주로 투명 기판이 사용되지만, 재질로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리술폰 등의 열가소성 수지제 시트, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리(메트)아크릴계 수지 등의 열경화성 수지 시트, 또는 각종 유리 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 내열성의 관점에서 유리, 내열성 수지가 바람직하다. 또, 기판의 표면에 ITO, IZO 등의 투명 전극이 성막되어 있는 경우도 있다. 투명 기판 이외에서는, TFT 어레이 상에 형성할 수도 있다.The support for forming the coloring spacer is not particularly limited as long as it has a suitable strength. As a material, for example, a polyester resin such as polyethylene terephthalate, a polyolefin resin such as polypropylene and polyethylene, a thermoplastic resin such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, polysulfone and the like A thermosetting resin sheet such as a sheet, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, and a poly (meth) acrylic resin, or various glasses. Of these, glass and heat-resistant resins are preferable from the viewpoint of heat resistance. In some cases, a transparent electrode such as ITO or IZO is formed on the surface of the substrate. Other than a transparent substrate, it may be formed on a TFT array.

지지체에는, 접착성 등의 표면 물성의 개량을 위해, 필요에 따라, 코로나 방전 처리, 오존 처리, 실란 커플링제나, 우레탄계 수지 등의 각종 수지의 박막 형성 처리 등을 실시해도 된다.The support may be subjected to a corona discharge treatment, an ozone treatment, a silane coupling agent, a thin film formation treatment of various resins such as a urethane resin, etc., if necessary, in order to improve surface physical properties such as adhesiveness.

투명 기판의 두께는, 통상 0.05 ∼ 10 ㎜, 바람직하게는 0.1 ∼ 7 ㎜ 의 범위가 된다. 또 각종 수지의 박막 형성 처리를 실시하는 경우, 그 막두께는, 통상 0.01 ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 0.05 ∼ 5 ㎛ 의 범위이다.The thickness of the transparent substrate is usually in the range of 0.05 to 10 mm, preferably 0.1 to 7 mm. When thin films of various resins are formed, the film thickness is usually in the range of 0.01 to 10 mu m, preferably 0.05 to 5 mu m.

(2) 착색 스페이서(2) colored spacers

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 공지된 컬러 필터용 감광성 착색 조성물과 동일한 용도로 사용되지만, 이하, 착색 스페이서 (블랙 포토스페이서) 로서 사용되는 경우에 대해, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용한 블랙 포토스페이서의 형성 방법의 구체예에 따라 설명한다.The photosensitive coloring composition of the present invention is used for the same purpose as the known photosensitive coloring composition for a color filter. Hereinafter, when used as a colored spacer (black photo spacer), a black color spacer using the photosensitive coloring composition of the present invention Will be described with reference to specific examples of the method for forming the film.

통상, 블랙 포토스페이서가 형성되어야 할 기판 상에, 감광성 착색 조성물을, 도포 등의 방법에 의해 막상 혹은 패턴상으로 공급하여, 용제를 건조시킨다. 계속해서, 노광-현상을 실시하는 포토리소그래피법 등의 방법에 의해 패턴 형성을 실시한다. 그 후, 필요에 의해 추가 노광이나 열경화 처리를 실시함으로써, 그 기판 상에 블랙 포토스페이서가 형성된다.Usually, a photosensitive coloring composition is supplied onto a substrate on which a black photo spacer is to be formed, in a film or pattern form by a method such as coating, and the solvent is dried. Subsequently, pattern formation is performed by a method such as photolithography in which exposure-development is performed. Thereafter, a black photo spacer is formed on the substrate by performing additional exposure or thermal curing if necessary.

(3) 착색 스페이서의 형성(3) Formation of colored spacers

[1] 기판에의 공급 방법[1] Method of supplying to substrate

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상, 용제에 용해 혹은 분산된 상태로, 기판 상에 공급된다. 그 공급 방법으로는, 종래 공지된 방법, 예를 들어, 스피너법, 와이어 바법, 플로우 코트법, 다이 코트법, 롤 코트법, 스프레이 코트법 등에 의해 실시할 수 있다. 또, 잉크젯법이나 인쇄법 등에 의해, 패턴상으로 공급되어도 된다. 그 중에서도, 다이 코트법에 의하면, 도포액의 사용량이 대폭 삭감되고, 또한 스핀 코트법에 따랐을 때에 부착되는 미스트 등의 영향이 전혀 없는, 이물질 발생이 억제되는 등, 종합적인 관점에서 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention is usually supplied onto a substrate in a state dissolved or dispersed in a solvent. The supplying method can be carried out by a conventionally known method, for example, a spinner method, a wire bar method, a flow coat method, a die coat method, a roll coat method, a spray coat method and the like. It may also be supplied in the form of a pattern by an ink-jet method or a printing method. Among them, the die coating method is preferable from the viewpoint of the comprehensive viewpoint that the amount of the coating liquid to be used is greatly reduced and the generation of foreign matter is not affected by the mist or the like adhering to the spin coating method.

도포량은 용도에 따라 상이하지만, 예를 들어 블랙 포토스페이서의 경우에는, 건조 막두께로서, 통상 0.5 ㎛ ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 9 ㎛, 특히 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 7 ㎛ 의 범위이다. 또, 건조 막두께 혹은 최종적으로 형성된 스페이서의 높이가 기판 전역에 걸쳐 균일한 것이 중요하다. 편차가 큰 경우에는, 액정 패널에 불균일 결함을 발생시키게 된다.The coating amount varies depending on the application. For example, in the case of a black photo spacer, the dry film thickness is usually in the range of 0.5 탆 to 10 탆, preferably 1 탆 to 9 탆, particularly preferably 1 탆 to 7 탆 to be. It is also important that the dry film thickness or the height of the finally formed spacer is uniform over the entire substrate. When the deviation is large, nonuniform defects are generated in the liquid crystal panel.

단, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용하여, 포토리소그래피법에 의해 높이가 상이한 블랙 포토스페이서를 일괄 형성하는 경우에는, 최종적으로 형성된 블랙 포토스페이서의 높이는 상이한 것이 된다.However, when the photosensitive coloring composition of the present invention is used to collectively form black photo spacers having different heights by the photolithography method, the height of the finally formed black photo spacers is different.

또한, 기판으로는 유리 기판 등, 공지된 기판을 사용할 수 있다. 또, 기판 표면은 평면인 것이 바람직하다.As the substrate, a known substrate such as a glass substrate can be used. The substrate surface is preferably flat.

[2] 건조 방법[2] Drying method

기판 상에 감광성 착색 조성물 용액을 공급한 후의 건조는, 핫 플레이트, IR 오븐, 컨벡션 오븐을 사용한 건조 방법에 의한 것이 바람직하다. 또, 온도를 높이지 않고, 감압 챔버 내에서 건조를 실시하는, 감압 건조법을 조합해도 된다.The drying after supplying the photosensitive coloring composition solution onto the substrate is preferably performed by a drying method using a hot plate, an IR oven, or a convection oven. It is also possible to combine the vacuum drying method in which the drying is performed in the decompression chamber without raising the temperature.

건조의 조건은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 건조 시간은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라, 통상은, 40 ℃ ∼ 130 ℃ 의 온도에서 15 초 ∼ 5 분간의 범위에서 선택되고, 바람직하게는 50 ℃ ∼ 110 ℃ 의 온도에서 30 초 ∼ 3 분간의 범위에서 선택된다.The drying conditions can be appropriately selected depending on the kind of the solvent component, the performance of the dryer to be used, and the like. The drying time is generally selected in the range of 40 to 130 占 폚 for 15 seconds to 5 minutes, preferably 50 to 110 占 폚, depending on the kind of the solvent component, the performance of the dryer to be used, 30 seconds to 3 minutes.

[3] 노광 방법[3] Exposure method

노광은, 감광성 착색 조성물의 도포막 상에, 네거티브의 마스크 패턴을 겹치고, 이 마스크 패턴을 개재하여, 자외선 또는 가시광선의 광원을 조사하여 실시한다. 노광 마스크를 사용하여 노광을 실시하는 경우에는, 노광 마스크를 감광성 착색 조성물의 도포막에 근접시키는 방법이나, 노광 마스크를 감광성 착색 조성물의 도포막으로부터 멀어진 위치에 배치하고, 그 노광 마스크를 개재한 노광광을 투영하는 방법에 의한 것이어도 좋다. 또, 마스크 패턴을 사용하지 않는 레이저 광에 의한 주사 노광 방식에 의한 것이어도 좋다. 이 때, 필요에 따라, 산소에 의한 광 중합성층의 감도의 저하를 방지하기 위해, 탈산소 분위기하에서 실시하거나, 광 중합성층 상에 폴리비닐알코올층 등의 산소 차단층을 형성한 후에 노광을 실시하거나 해도 된다.The exposure is carried out by overlapping a negative mask pattern on a coating film of the photosensitive coloring composition and irradiating a light source of ultraviolet rays or visible light rays through the mask pattern. In the case of performing exposure using an exposure mask, a method of bringing the exposure mask close to the coating film of the photosensitive coloring composition, a method of disposing the exposure mask at a position away from the coating film of the photosensitive coloring composition, Or by a method of projecting light. It is also possible to use a scanning exposure method using a laser beam not using a mask pattern. At this time, in order to prevent deterioration of the sensitivity of the photopolymerizable layer due to oxygen, if necessary, it may be carried out in a deoxygenated atmosphere, or an oxygen barrier layer such as a polyvinyl alcohol layer may be formed on the photopolymerizable layer, followed by exposure .

본 발명의 바람직한 양태로서, 포토리소그래피법에 의해 높이가 상이한 블랙 포토스페이서를 동시에 형성하는 경우에는, 예를 들어, 차광부 (광 투과율 0 %) 와, 복수의 개구부로서, 평균 광 투과율이 가장 높은 개구부 (완전 투과 개구부) 에 대해 평균 광 투과율이 작은 개구부 (중간 투과 개구부) 를 갖는 노광 마스크를 사용한다. 이 방법에 의해, 중간 투과 개구부와 완전 투과 개구부의 평균 광 투과율의 차, 즉 노광량의 차에 의해, 잔막률의 차이를 발생시킨다.As a preferred embodiment of the present invention, in the case of simultaneously forming black photo spacers having different heights by a photolithography method, for example, a light shielding portion (light transmittance of 0%) and a plurality of openings having the highest average light transmittance An exposure mask having an opening portion (intermediate transmission opening portion) having a small average light transmittance with respect to the opening portion (full permeation opening portion) is used. By this method, a difference in the residual film ratio is caused by the difference in the average light transmittance between the intermediate transmission opening portion and the full transmission opening portion, that is, the difference in exposure amount.

중간 투과 개구부는, 예를 들어, 미소한 다각형의 차광 유닛을 갖는 매트릭스상 차광 패턴에 의해 제조하는 방법 등이 알려져 있다. 또 흡수체로서, 크롬계, 몰리브덴계, 텅스텐계, 실리콘계 등의 재료의 막에 의해, 광 투과율을 제어하여 제조하는 방법 등이 알려져 있다.It is known that the intermediate transmission opening is manufactured by, for example, a matrix-type shielding pattern having a light-shielding unit of a small polygon. Also known is a method for producing an absorber by controlling the light transmittance by a film of a material such as chromium, molybdenum, tungsten, or silicon.

상기의 노광에 사용되는 광원은, 특별히 한정되는 것은 아니다. 광원으로는, 예를 들어, 크세논 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 중압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크, 형광 램프 등의 램프 광원이나, 아르곤 이온 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 질소 레이저, 헬륨카드듐 레이저, 청자색 반도체 레이저, 근적외 반도체 레이저 등의 레이저 광원 등을 들 수 있다. 특정한 파장의 광을 조사하여 사용하는 경우에는, 광학 필터를 이용할 수도 있다.The light source used for the above exposure is not particularly limited. Examples of the light source include a lamp light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, , Excimer lasers, nitrogen lasers, helium cadmium lasers, blue violet semiconductor lasers, and near infrared semiconductor lasers. An optical filter may be used when irradiating light of a specific wavelength.

광학 필터로는, 예를 들어 박막이고 노광 파장에 있어서의 광 투과율을 제어 가능한 타입이어도 되고, 그 경우의 재질로는, 예를 들어 Cr 화합물 (Cr 의 산화물, 질화물, 산질화물, 불화물 등), MoSi, Si, W, Al 등을 들 수 있다.The optical filter may be, for example, a thin film and a type that can control the light transmittance at the exposure wavelength. In this case, for example, a Cr compound (oxide, nitride, oxynitride, MoSi, Si, W, and Al.

노광량으로는, 통상, 1 mJ/㎠ 이상, 바람직하게는 5 mJ/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 10 mJ/㎠ 이상이고, 통상 300 mJ/㎠ 이하, 바람직하게는 200 mJ/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 150 mJ/㎠ 이하이다.The exposure dose is usually 1 mJ / cm2 or more, preferably 5 mJ / cm2 or more, more preferably 10 mJ / cm2 or more, usually 300 mJ / cm2 or less, preferably 200 mJ / Lt; 2 &gt; / cm &lt; 2 &gt;

또, 근접 노광 방식의 경우에는, 노광 대상과 마스크 패턴의 거리로는, 통상 10 ㎛ 이상, 바람직하게는 50 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 75 ㎛ 이상이고, 통상 500 ㎛ 이하, 바람직하게는 400 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 300 ㎛ 이하이다.In the proximity exposure method, the distance between the object to be exposed and the mask pattern is usually 10 占 퐉 or more, preferably 50 占 퐉 or more, more preferably 75 占 퐉 or more, usually 500 占 퐉 or less, preferably 400 占 퐉 Or less, more preferably 300 m or less.

[4] 현상 방법[4] Development method

상기의 노광을 실시한 후, 알칼리성 화합물의 수용액, 또는 유기 용제를 사용하는 현상에 의해, 기판 상에 화상 패턴을 형성할 수 있다. 이 수용액에는, 추가로 계면 활성제, 유기 용제, 완충제, 착화제, 염료 또는 안료를 함유시킬 수 있다.After the exposure described above, an image pattern can be formed on the substrate by developing using an aqueous solution of an alkaline compound or an organic solvent. This aqueous solution may further contain a surfactant, an organic solvent, a buffer, a complexing agent, a dye or a pigment.

알칼리성 화합물로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 메타규산나트륨, 인산나트륨, 인산칼륨, 인산수소나트륨, 인산수소칼륨, 인산 2 수소나트륨, 인산 2 수소칼륨, 수산화암모늄 등의 무기 알칼리성 화합물이나, 모노-·디- 또는 트리에탄올아민, 모노-·디- 또는 트리메틸아민, 모노-·디- 또는 트리에틸아민, 모노- 또는 디이소프로필아민, n-부틸아민, 모노-·디- 또는 트리이소프로판올아민, 에틸렌이민, 에틸렌디이민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드 (TMAH), 콜린 등의 유기 알칼리성 화합물을 들 수 있다. 이들 알칼리성 화합물은, 2 종 이상의 혼합물이어도 된다.Examples of the alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium phosphate, sodium hydrogen phosphate, potassium hydrogen phosphate Mono-di- or triethanolamine, mono- di- or trimethylamine, mono- di- or triethylamine, mono-di- or triethanolamine, mono-, di- or triethanolamine, Or organic alkaline compounds such as diisopropylamine, n-butylamine, mono- di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), choline and the like. These alkaline compounds may be a mixture of two or more kinds.

상기 계면 활성제로는, 예를 들어, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬에스테르류, 소르비탄알킬에스테르류, 모노글리세라이드알킬에스테르류 등의 논이온계 계면 활성제 ; 알킬벤젠술폰산염류, 알킬나프탈렌술폰산염류, 알킬황산염류, 알킬술폰산염류, 술포숙신산에스테르염류 등의 아니온성 계면 활성제 ; 알킬 베타인류, 아미노산류 등의 양쪽성 계면 활성제를 들 수 있다.Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters and monoglyceride alkyl esters, An activator; Anionic surfactants such as alkylbenzenesulfonic acid salts, alkylnaphthalenesulfonic acid salts, alkylsulfuric acid salts, alkylsulfonic acid salts and sulfosuccinic acid ester salts; Amphoteric surfactants such as alkyl betaines and amino acids.

유기 용제로는, 예를 들어, 이소프로필알코올, 벤질알코올, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 페닐셀로솔브, 프로필렌글리콜, 디아세톤알코올 등을 들 수 있다. 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고 수용액과 병용하여 사용해도 된다.Examples of the organic solvent include isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol and the like. The organic solvent may be used alone or in combination with an aqueous solution.

현상 처리의 조건은 특별히 제한은 없고, 통상, 현상 온도는 10 ∼ 50 ℃ 의 범위, 그 중에서도 15 ∼ 45 ℃, 특히 바람직하게는 20 ∼ 40 ℃ 에서, 현상 방법은, 침지 현상법, 스프레이 현상법, 브러시 현상법, 초음파 현상법 등 중 어느 방법에 의한 것일 수 있다.The developing conditions are not particularly limited and the developing temperature is usually in the range of 10 to 50 占 폚, preferably 15 to 45 占 폚, particularly preferably 20 to 40 占 폚, the developing method is the immersion developing method, , A brush developing method, an ultrasonic developing method, or the like.

[5] 추가 노광 및 열경화 처리[5] Additional exposure and heat curing treatment

현상 후의 기판에는, 필요에 의해 상기의 노광 방법과 동일한 방법에 의해 추가 노광을 실시해도 되고, 또 열경화 처리를 실시해도 된다. 이 때의 열경화 처리 조건은, 온도는 100 ℃ ∼ 280 ℃ 의 범위, 바람직하게는 150 ℃ ∼ 250 ℃ 의 범위에서 선택되고, 시간은 5 분간 ∼ 60 분간의 범위에서 선택된다.The substrate after development may be subjected to additional exposure by the same method as the above-described exposure method, if necessary, or may be subjected to heat curing treatment. The heat curing treatment condition at this time is selected in the range of 100 占 폚 to 280 占 폚, preferably 150 占 폚 to 250 占 폚, and the time is selected in the range of 5 minutes to 60 minutes.

본 발명의 착색 스페이서의 크기나 형상 등은, 이것을 적용하는 컬러 필터의 사양 등에 따라 적절히 조정되지만, 본 발명의 감광성 착색 조성물은, 특히, 포토리소그래피법에 의해 스페이서와 서브 스페이서의 높이가 상이한 블랙 포토스페이서를 동시에 형성하는 데에 유용하고, 그 경우, 스페이서의 높이는 통상 2 ∼ 7 ㎛ 정도이고, 서브 스페이서는, 스페이서보다 통상 0.2 ∼ 1.5 ㎛ 정도 낮은 높이를 갖는다.The size, shape and the like of the colored spacer of the present invention are appropriately adjusted according to the specification of the color filter to which the color filter is applied. However, in the photosensitive coloring composition of the present invention, In this case, the height of the spacer is usually about 2 to 7 mu m, and the sub-spacer has a height generally lower than that of the spacer by about 0.2 to 1.5 mu m.

또, 본 발명의 착색 스페이서의 1 ㎛ 당의 광학 농도 (OD) 는, 차광성의 관점에서, 1.2 이상이 바람직하고, 1.5 이상이 보다 바람직하고, 1.8 이상이 더욱 바람직하고, 통상 4.0 이하이고, 3.0 이하인 것이 바람직하다. 여기서 광학 농도 (OD) 는 후술하는 방법으로 측정한 값이다. 예를 들어, 상한과 하한의 조합으로는, 1.2 ∼ 4.0 이 바람직하고, 1.5 ∼ 3.0 이 보다 바람직하고, 1.8 ∼ 3.0 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.The optical density (OD) per 1 탆 of the colored spacer of the present invention is preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, further preferably 1.8 or more, usually 4.0 or less and 3.0 Or less. Here, the optical density (OD) is a value measured by the method described later. For example, the combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1.2 to 4.0, more preferably 1.5 to 3.0, and even more preferably 1.8 to 3.0.

[컬러 필터][Color Filter]

컬러 필터는, 액정 구동 기판 (어레이 기판) 상에, 적색, 녹색, 청색의 화소 착색층을 형성할 수 있다. 혹은 투명 기판으로서의 유리 기판 상에, 화소 착색층을 형성해도 된다.The color filter can form red, green, and blue pixel coloring layers on a liquid crystal driving substrate (array substrate). Alternatively, the pixel coloring layer may be formed on a glass substrate as a transparent substrate.

[화상 표시 장치][Image display device]

본 발명의 화상 표시 장치는, 상기 서술한 바와 같은 본 발명의 착색 스페이서를 구비하는 것이다.The image display apparatus of the present invention comprises the above-described coloring spacer of the present invention.

예를 들어, 본 발명의 착색 스페이서를 갖는 액정 구동 기판 (어레이 기판) 상에 배향막을 형성하고, 대극 기판과 첩합 (貼合) 하여 액정 셀을 형성하고, 형성한 액정 셀에 액정을 주입함으로써, 본 발명의 착색 스페이서를 구비한, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 제조할 수 있다.For example, an alignment film is formed on a liquid crystal driving substrate (array substrate) having a coloring spacer of the present invention, and a liquid crystal cell is formed by bonding to a counter electrode substrate. Liquid crystal is injected into the formed liquid crystal cell, An image display device such as a liquid crystal display device having the colored spacer of the present invention can be manufactured.

한편, 본 발명의 착색 스페이서를 대극 기판측에 설치하고, 액정 구동 기판 (어레이 기판) 과 첩합하여 액정 셀을 형성하고, 형성한 액정 셀에 액정을 주입함으로써도, 본 발명의 착색 스페이서를 구비한, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 제조할 수 있다.On the other hand, when the colored spacer of the present invention is provided on the counter substrate side, and the liquid crystal cell is formed by stacking with the liquid crystal drive substrate (array substrate), and the liquid crystal is injected into the formed liquid crystal cell, , An image display apparatus such as a liquid crystal display apparatus can be manufactured.

또 예를 들어, 일본 공개특허공보 2014-215614호에 기재되어 있는 바와 같이, 특정한 배향 물질을 사용하여, 액정 셀에 액정을 주입한 후에 자외선을 조사함으로써, 액정 배향성을 향상시킬 수 있다.For example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-215614, liquid crystal alignability can be improved by irradiating ultraviolet light after injecting liquid crystal into a liquid crystal cell using a specific alignment material.

실시예Example

다음으로, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 벗어나지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples without departing from the gist thereof.

이하의 실시예 및 비교예에서 사용한 감광성 착색 조성물의 구성 성분은 다음과 같다.The components of the photosensitive coloring composition used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.

<알칼리 가용성 수지-I><Alkali-soluble resin-I>

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 145 질량부를 질소 치환하면서 교반하고, 120 ℃ 로 승온시켰다. 여기에 스티렌 10 질량부, 글리시딜메타크릴레이트 85.2 질량부 및 트리시클로데칸 골격을 갖는 모노메타크릴레이트 (히타치 화성사 제조 FA-513M) 66 질량부를 적하하고, 및 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴 8.47 질량부를 3 시간에 걸쳐 적하하고, 추가로 90 ℃ 에서 2 시간 계속 교반하였다. 다음으로 반응 용기 내를 공기 치환으로 바꾸고, 아크릴산 43.2 질량부에 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.7 질량부 및 하이드로퀴논 0.12 질량부를 투입하고, 100 ℃ 에서 12 시간 반응을 계속하였다. 그 후, 테트라하이드로무수프탈산 (THPA) 56.2 질량부, 트리에틸아민 0.7 질량부를 첨가하고, 100 ℃ 3.5 시간 반응시켰다. 이렇게 하여 얻어진 알칼리 가용성 수지-I 의 GPC 에 의해 측정한 중량 평균 분자량 Mw 는 약 8400, 산가는 80 ㎎KOH/g 이었다.And 145 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate were stirred while substituting with nitrogen, and the temperature was raised to 120 占 폚. 10 parts by mass of styrene, 85.2 parts by mass of glycidyl methacrylate and 66 parts by mass of monomethacrylate having a tricyclodecane skeleton (FA-513M manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) were added dropwise thereto, and 2,2'-azobis -2-methylbutyronitrile was added dropwise over 3 hours, and further stirring was continued at 90 캜 for 2 hours. Subsequently, 0.7 parts by mass of trisdimethylaminomethylphenol and 0.12 parts by mass of hydroquinone were added to 43.2 parts by mass of acrylic acid, and the reaction was continued at 100 占 폚 for 12 hours. Thereafter, 56.2 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride (THPA) and 0.7 part by mass of triethylamine were added, and the mixture was reacted at 100 ° C for 3.5 hours. The alkali-soluble resin-I thus obtained had a weight-average molecular weight Mw of about 8400 and an acid value of 80 mgKOH / g, as measured by GPC.

<알칼리 가용성 수지-II><Alkali-soluble resin-II>

닛폰 화약사 제조 「ZCR-1664H」 (Mw = 6500, 산가 = 60 ㎎KOH/g)ZCR-1664H "(Mw = 6500, acid value = 60 mgKOH / g) manufactured by Nippon Kayaku Co.,

<안료-I><Pigment-I>

BASF 사 제조, 「Irgaphor (등록상표) Black S 0100 CF」 (하기 식 (I-1) 로 나타내는 화학 구조를 갖는다). 이것은 착색제 (a1) 에 해당한다.Irgaphor (registered trademark) Black S 0100 CF "(having the chemical structure represented by the following formula (I-1)), manufactured by BASF. This corresponds to the colorant (a1).

[화학식 43](43)

Figure pct00043
Figure pct00043

<안료-II><Pigment-II>

C. I. 피그먼트 블루 60. 이것은 착색제 (a2) 에 해당한다.C. I. Pigment Blue 60. This corresponds to the colorant (a2).

<안료-III><Pigment-III>

카본 블랙. 비를라사 제조 「RAVEN1060U」 (구콜롬비아사 제조 「R1060」). 이것은 착색제 (a3) 에 해당한다.Carbon black. &Quot; RAVEN1060U &quot; (formerly &quot; R1060 &quot; This corresponds to the colorant (a3).

<안료-IV><Pigment-IV>

C. I. 피그먼트 블루 15 : 6.C. I. Pigment Blue 15: 6.

<안료-V><Pigment-V>

C. I. 피그먼트 바이올렛 29.C. I. Pigment Violet 29.

<안료-VI><Pigment-VI>

BASF 사 제조, 「Paliogen (등록상표) Black L0086」. 페릴렌 블랙. 착색제 (a1) 이외의 유기 흑색 안료."Paliogen (registered trademark) Black L0086", manufactured by BASF Corporation. Perylene black. An organic black pigment other than the colorant (a1).

<분산제-I><Dispersant-I>

빅케미사 제조 「BYK-LPN21116」 (측사슬에 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 갖는 A 블록과, 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는 아크릴계 A-B 블록 공중합체. 아민가는 70 ㎎KOH/g. 산가는 1 ㎎KOH/g 이하.)Quot; BYK-LPN21116 &quot; (an A block having a quaternary ammonium group and a tertiary amino group in the side chain, and an AB block copolymer comprising a B block having no quaternary ammonium group and tertiary amino group) MgKOH / g. Acid value is 1 mgKOH / g or less.)

분산제-I 의 A 블록 중에는, 하기 식 (1a) 및 (2a) 의 반복 단위가 함유되고, B 블록 중에는 하기 식 (3a) 의 반복 단위가 함유된다. 분산제-I 의 전체 반복 단위에서 차지하는 하기 식 (1a), (2a), 및 (3a) 의 반복 단위의 함유 비율은 각각 11.1 몰%, 22.2 몰%, 6.7 몰% 이다.The repeating units represented by the following formulas (1a) and (2a) are contained in the A block of the dispersant-I, and the repeating unit represented by the following formula (3a) is contained in the B block. The content of the repeating units represented by the following formulas (1a), (2a) and (3a) in the total repeating units of the dispersant-I was 11.1 mol%, 22.2 mol%, and 6.7 mol%, respectively.

[화학식 44](44)

Figure pct00044
Figure pct00044

<분산제-II><Dispersant-II>

빅케미사 제조 「DISPERBYK-167」 (우레탄계 고분자 분산제)&Quot; DISPERBYK-167 &quot; (urethane-based polymer dispersing agent)

<안료 유도체><Pigment Derivative>

루브리졸사 제조 「Solsperse12000」 &Quot; Solsperse 12000 &quot; manufactured by Lubrizol Corporation

<용제-I><Solvent-I>

PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

<용제-II><Solvent-II>

MB : 3-메톡시-1-부탄올MB: 3-methoxy-1-butanol

<광 중합 개시제-I>&Lt; Photopolymerization initiator-I >

이하에 기재된 화학 구조를 갖는 옥심에스테르 개시제.An oxime ester initiator having the chemical structure described below.

[화학식 45][Chemical Formula 45]

Figure pct00045
Figure pct00045

<광 중합성 모노머>&Lt; Photopolymerizable monomer >

DPHA : 닛폰 화약사 제조 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트DPHA: dipentaerythritol hexaacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

<첨가제><Additives>

닛폰 화약사 제조, 「KAYAMER PM-21」 (메타크릴로일기 함유 포스페이트)Quot; KAYAMER PM-21 &quot; (methacryloyl group-containing phosphate) manufactured by Nippon Kayaku Co.,

<계면 활성제><Surfactant>

DIC 사 제조 「메가팍 F-559」&Quot; Megafac F-559 &quot; manufactured by DIC Corporation

<안료 분산액 1, 2, 4, 5 및 6 의 조제><Preparation of pigment dispersions 1, 2, 4, 5 and 6>

표 1 에 기재된 안료, 분산제, 분산 보조제, 알칼리 가용성 수지, 및 용제를, 표 1 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하였다. 이 혼합액을 페인트 쉐이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 3 시간 분산 처리를 실시하였다. 비드로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비드를 사용하고, 분산액의 2.5 배의 질량을 첨가하였다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비드와 분산액을 분리하고, 안료 분산액 1, 2, 4, 5 및 6 을 조제하였다. 또한, 안료-VI 을 안료 분산액 2 와 동일한 조건으로 분산시킨 결과 점도가 크게 증가했기 때문에, 안료 분산액 6 에서는 안료에 대한 분산제의 함유 비율을 높게 설정할 필요가 있었다.The pigments, dispersant, dispersion assisting agent, alkali-soluble resin, and solvent described in Table 1 were mixed in a mass ratio as shown in Table 1. This mixed solution was subjected to dispersion treatment at 25 to 45 캜 for 3 hours by means of a paint shaker. As for the beads, zirconia beads of 0.5 mm phi were used and a mass of 2.5 times the dispersion was added. After the dispersion was completed, the beads and the dispersion liquid were separated by a filter to prepare pigment dispersions 1, 2, 4, 5 and 6. Further, since the viscosity of the pigment-VI was dispersed under the same conditions as those of the pigment dispersion 2, the content of the dispersing agent in the pigment dispersion 6 was required to be set high.

Figure pct00046
Figure pct00046

<안료 분산액 3 의 조제><Preparation of Pigment Dispersion 3>

표 1 에 기재된 안료, 분산제, 분산 보조제, 알칼리 가용성 수지, 및 용제를, 표 1 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하고, 분산 처리 시간을 6 시간으로 변경한 것 이외에는, 안료 분산액 1, 2, 4, 5 및 6 과 동일한 방법으로 분산을 실시하여, 안료 분산액 3 을 조제하였다.The pigment dispersions 1, 2, 4, and 5 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the pigment, dispersant, dispersion assisting agent, alkali-soluble resin, and solvent described in Table 1 were mixed in the mass ratios shown in Table 1 and the dispersing treatment time was changed to 6 hours. And 6 in the same manner as in Example 1 to prepare a pigment dispersion 3.

[실시예 1 ∼ 12 및 비교예 1 ∼ 5][Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 5]

상기 조제한 안료 분산액 1 ∼ 6 을 사용하고, 고형분 중의 비율이 표 2 ∼ 5 의 배합 비율이 되도록 다른 각 성분을 첨가하고, 또한 전체 고형분의 함유 비율이 19 질량% 가 되도록 PGMEA 를 첨가하고, 교반, 용해시켜, 감광성 착색 조성물을 조제하고, 이하의 방법으로 평가를 실시하였다.The above-prepared pigment dispersions 1 to 6 were used, and PGMEA was added thereto so that the ratio of the solid content to the total content of the solid content was 19 mass%, and the mixture was stirred, To prepare a photosensitive coloring composition, and evaluation was conducted in the following manner.

<단위 막두께당의 광학 농도 (단위 OD 값), 투과율의 측정>&Lt; Optical density per unit film thickness (unit OD value), measurement of transmittance >

단위 막두께당의 광학 농도는 이하의 순서로 측정하였다.The optical density per unit film thickness was measured in the following order.

먼저, 조제한 각 감광성 착색 조성물을 포스트베이크 후의 막두께가 2.5 ㎛ 가 되도록 스핀 코터로 유리 기판에 도포하고, 1 분간 감압 건조시킨 후에, 핫 플레이트로 90 ℃ 에서 90 초간 건조시켰다. 그 후, 고압 수은등을 사용하여 400 mJ/㎠, 조도 45 mW/㎠ 의 노광 조건으로 전체면 노광을 실시하고, 230 ℃ 에서 20 분간 가열 (포스트베이크) 함으로써, 레지스트 도공 기판을 얻었다. 얻어진 기판의 광학 농도 (OD 값) 를 투과 농도계 그레택맥베스 D200-II 에 의해 측정하고, 막두께를 료카 시스템사 제조 비접촉 표면·층 단면 형상 계측 시스템 VertScan (R) 2.0 에 의해 측정하고, 광학 농도 (OD 값) 및 막두께로부터, 단위 막두께 (1 ㎛) 당의 광학 농도 (단위 OD 값) 를 산출하였다. 또한, OD 값은 차광 능력을 나타내는 수치이고, 수치가 클수록 고차광성인 것을 나타낸다.First, each of the photosensitive color compositions thus prepared was applied to a glass substrate with a spin coater so that the film thickness after post-baking was 2.5 占 퐉, dried under reduced pressure for 1 minute, and then dried at 90 占 폚 for 90 seconds with a hot plate. Thereafter, the entire surface was exposed using a high-pressure mercury lamp at an exposure condition of 400 mJ / cm 2 and an illuminance of 45 mW / cm 2, and heated at 230 ° C for 20 minutes (post-baking) to obtain a resist coated substrate. The optical density (OD value) of the obtained substrate was measured by a transmission densitometer Gretech Macbeth D200-II and the film thickness was measured by a non-contact surface / layer sectional shape measuring system VertScan (R) 2.0 manufactured by Ryoka Corporation, (Unit OD value) per unit film thickness (1 占 퐉) was calculated from the film thickness (OD value) and the film thickness. Further, the OD value is a numerical value indicative of the shielding ability, and the larger the numerical value is, the higher order light is exhibited.

또 동일한 기판을 사용하여, 분광 광도계 UV-3100 (시마즈 제작소사 제조) 으로 파장 700 ㎚ 및 900 ㎚ 에 있어서의 투과율을 측정하였다. 이 때, 감광성 착색 조성물을 도포하고 있지 않은 유리 기판을 레퍼런스로 하였다.Using the same substrate, the transmittance at wavelengths of 700 nm and 900 nm was measured with a spectrophotometer UV-3100 (manufactured by Shimadzu Corporation). At this time, a glass substrate to which the photosensitive coloring composition was not applied was regarded as a reference.

파장 700 ㎚ 의 투과율은 광 누설의 지표가 되고, 수치가 작을수록 바람직하다. 2.5 % 이하이면 바람직한 경향이 있다.The transmittance at a wavelength of 700 nm is an index of light leakage, and a smaller value is preferable. If it is 2.5% or less, there is a preferable tendency.

또 파장 900 ㎚ 의 투과율은 마스크 위치 맞춤을 위한 마크의 판독 적성의 지표가 되고, 수치가 클수록 바람직하다. 10 % 이상이면 바람직한 경향이 있다.The transmittance at a wavelength of 900 nm is an index of the readability of the mark for mask alignment, and a larger value is preferable. If it is 10% or more, there is a preferable tendency.

단위 OD 값 및 투과율의 측정 결과를 표 2 ∼ 5 에 나타낸다.The measurement results of the unit OD value and the transmittance are shown in Tables 2 to 5.

<전압 유지율 (VHR), 이온 밀도의 평가>&Lt; Evaluation of voltage holding ratio (VHR) and ion density >

이하에 기재한 방법에 의해, 전압 유지율 (VHR), 이온 밀도의 평가를 실시하였다.The voltage holding ratio (VHR) and the ion density were evaluated by the method described below.

(액정 셀의 제조)(Production of liquid crystal cell)

편 (片) 전체면에 ITO 막을 형성한 전극 기판 A (EHC 사 제조, 평가용 유리 ITO 편 전체면 피복) 와, 유리 기판의 편면 중앙부에 2 ㎜ 폭의 취출 전극이 연결된 가로세로 1 ㎝ 의 ITO 막 (2) 을 형성한 전극 기판 B (20) (EHC 사 제조, 평가용 유리 SZ-B111MIN(B)) 를 준비하였다. 도 1 에 전극 기판 B (20) 의 상면의 모식도를 나타낸다.An electrode substrate A having an ITO film formed on the entire surface thereof (an entire surface of a glass ITO glass sheet for evaluation, manufactured by EHC Corporation) and an ITO film having a length of 1 cm and a lead electrode with a width of 2 mm connected to the central portion of the glass substrate, An electrode substrate B (20) (glass for evaluation SZ-B111MIN (B) manufactured by EHC Corporation) on which the film 2 was formed was prepared. Fig. 1 is a schematic view of the upper surface of the electrode substrate B (20).

전극 기판 A 상에, 각 감광성 착색 조성물을 도포하고, 1 분간 진공 건조시킨 후, 핫 플레이트 상에서 90 ℃ 에서 90 초간 프리베이크하여, 건조 막두께 2.5 ㎛ 의 도포막을 얻었다. 그 후, 외측 가장자리부를 2 ㎜ 마스킹하고, 각각 고압 수은등을 사용하여 400 mJ/㎠, 조도 45 mW/㎠ 의 노광 조건으로 화상 노광을 실시하였다. 이어서, 25 ℃ 의 약 0.1 질량% 의 수산화칼륨 수용액을 사용하여, 25 ℃ 에 있어서 수압 0.15 ㎫ 의 샤워 현상을 실시한 후, 순수로 현상을 정지시키고, 수세 스프레이로 린스하였다. 샤워 현상 시간은, 10 ∼ 120 초간의 사이에서 조정하고, 미노광의 감광성 착색 조성물층이 용해 제거되는 시간 (브레이크 타임) 의 약 1.6 배로 하였다.Each of the photosensitive coloring compositions was coated on the electrode substrate A, vacuum-dried for 1 minute, and then pre-baked on a hot plate at 90 DEG C for 90 seconds to obtain a coated film having a dry film thickness of 2.5 mu m. Thereafter, the outer edge portion was masked with a thickness of 2 mm, and image exposure was performed using a high-pressure mercury lamp at an exposure condition of 400 mJ / cm 2 and an illuminance of 45 mW / cm 2, respectively. Subsequently, a shower phenomenon of 0.15 MPa of water pressure at 25 캜 was performed using an aqueous 0.1% by mass aqueous solution of potassium hydroxide at 25 캜, and the development was stopped with pure water and rinsed with a water spray. The shower developing time was adjusted between 10 and 120 seconds, and was set to about 1.6 times of the time (break time) during which the photosensitive coloring composition layer of unexposed light was dissolved and removed.

이렇게 하여 도막 형성된 전극 기판 A 를 230 ℃ 에서 20 분간 포스트베이크하여, 착색 경화막 (3) 이 형성된 전극 기판 (레지스트 기판) 을 얻었다. 그 후, 레지스트 기판에 폴리이미드 용액을 도포하고, 핫 플레이트 상에서 70 ℃ 에서 2 분간 프리베이크하고, 220 ℃ 에서 24 분간 포스트베이크하였다. 이렇게 하여 얻어진 레지스트 기판을 가로세로 2.5 ㎝ 의 기판으로 커트하여, 평가용 전극 기판 A (8) 를 완성하였다.The electrode substrate A thus formed was subjected to post-baking at 230 DEG C for 20 minutes to obtain an electrode substrate (resist substrate) on which the colored cured film 3 was formed. Thereafter, the polyimide solution was coated on the resist substrate, pre-baked on a hot plate at 70 DEG C for 2 minutes, and post-baked at 220 DEG C for 24 minutes. The thus-obtained resist substrate was cut into a substrate having a width of 2.5 cm and a length of 2.5 cm to complete an electrode substrate for evaluation A (8).

한편, 전극 기판 B (20) 상에도, 폴리이미드 용액을 도포하고, 핫 플레이트 상에서 70 ℃ 에서 2 분간 프리베이크하고, 220 ℃ 에서 24 분간 포스트베이크하여, 평가용 전극 기판 B (9) 를 완성하였다.On the other hand, a polyimide solution was applied on the electrode substrate B (20), prebaked on a hot plate at 70 DEG C for 2 minutes, and post baked at 220 DEG C for 24 minutes to complete the evaluation electrode substrate B (9) .

그 후, 평가용 전극 기판 B (9) 의 외주 상에, 디스펜서를 사용하여, 직경 5 ㎛ 의 실리카 비드를 함유하는 에폭시 수지계 시일제 (5) 를 도포한 후, 평가용 전극 기판 B (9) 의 표측 (시일제측) 에 평가용 전극 기판 A (8) 의 도포면을 압착한 채로 첩부 (貼付) 하여, 빈 셀을 제조하였다. 제조한 빈셀을 열풍 순환로 내에서 180 ℃, 2 시간 가열하였다.Thereafter, an epoxy resin sealant 5 containing silica beads having a diameter of 5 탆 was applied on the outer circumference of the evaluation electrode substrate B (9) using a dispenser, and then the evaluation electrode substrate B (9) (Sealing side) of the evaluation electrode substrate A (8) with the coated surface of the evaluation electrode substrate A (8) being squeezed to manufacture empty cells. The prepared cell was heated in a hot air circulation furnace at 180 DEG C for 2 hours.

이렇게 하여 얻어진 빈 셀에, 액정 (7) (머크 재팬사 제조 MLC-6608) 을 주입하고, 주변부를 UV 경화형 시일제 (6) 에 의해 봉지 (封止) 하였다. 상기 액정 셀을, 어닐 처리 (열풍 순환로 내에서 105 ℃, 2.5 시간 가열) 한 후, 고압 수은등으로 18 J/㎠, 조도 40 mW/㎠ 로 자외선 조사하여, 측정용 액정 셀 (30) 을 완성하였다. 완성된 셀에 있어서 상기 착색 경화막이 가로세로 1.7 ㎝, 전극부는 가로세로 1 ㎝ 가 된다. 도 2 에 완성한 측정용 액정 셀 (30) 의 측면의 모식도를 나타낸다.A liquid crystal 7 (MLC-6608, manufactured by Merck Japan Co., Ltd.) was injected into the empty cell thus obtained, and the periphery thereof was sealed with a UV curable sealant 6. The liquid crystal cell was subjected to annealing (heating at 105 ° C for 2.5 hours in a hot air circulation furnace) followed by ultraviolet irradiation at 18 J / cm 2 and an illuminance of 40 mW / cm 2 using a high-pressure mercury lamp to complete the measurement liquid crystal cell 30 . In the completed cell, the colored cured film is 1.7 cm long and the electrode portion is 1 cm long. 2 is a schematic view of a side surface of the liquid crystal cell for measurement 30 completed in FIG.

(전압 유지율 (VHR) 의 평가)(Evaluation of voltage holding ratio (VHR)) [

제조한 측정용 액정 셀에 전압 5 V 로, 2.0 ㎐, 프레임 시간 1667 msec 의 조건으로 전압 인가하고, 토요 테크니카사 제조 「액정 물성 평가 장치-6254 형」 으로 전압 유지율을 측정하고, 전기 신뢰성의 지표로서 평가하였다. 또한 전압 유지율은 높을수록 바람직하다. 결과를 표 2 ∼ 5 에 나타냈다.A voltage was applied to the liquid crystal cell for measurement at a voltage of 5 V, 2.0 Hz, and a frame time of 1667 msec, and voltage retention ratio was measured with a &quot; liquid crystal physical property evaluation device -6254 type &quot; manufactured by Toyotechnika Co., . The voltage holding ratio is preferably as high as possible. The results are shown in Tables 2 to 5.

또, 주파수를 0.6 ㎐ 로 변경한 것 이외에는 동 조건으로 전압 유지율을 측정하였다. 결과를 표 2, 4 및 5 에 나타냈다.The voltage holding ratio was measured under the same conditions except that the frequency was changed to 0.6 Hz. The results are shown in Tables 2, 4 and 5.

(이온 밀도의 평가)(Evaluation of ion density)

이온 밀도는, 예를 들어 International Display Workshop (IDW) '06 예고집 LCT7-1 에도 기재되어 있는 방법으로 측정할 수 있다. 이온 밀도 측정은 서서히 전압을 인가하기 때문에, 이온 피크와 액정 배향 피크를 구별하여 측정할 수 있고, 전압 유지율에서는 차가 잘 나지 않는 신뢰성의 차를 측정할 수 있는 경우가 있다. 불순물 이온은, 액정 표시 장치에 있어서는 잔상, 플리커 (깜박임) 등 표시 불량의 원인이 되는 경우가 있으며, 이온 밀도 측정은 그 평가에 유효하다.The ion density can be measured, for example, by the method described in International Display Workshop (IDW) '06 Notice LCT7-1. Since the voltage is gradually applied to the ion density measurement, it is possible to measure the difference between the ion peak and the liquid crystal alignment peak, and to measure the difference in reliability in which the difference does not occur at the voltage holding ratio. In a liquid crystal display device, impurity ions sometimes cause display defects such as afterimage and flicker, and ion density measurement is effective for the evaluation.

측정에서는, 토요 테크니카사 제조 「액정 물성 평가 장치-6254 형」 으로, 측정용 액정 셀에 주파수 0.1 ㎐, ±5 V 의 삼각파를 인가했을 때의 전류를 시간 경과적으로 측정하고, 전류의 시간 변화의 파형을 얻었다. 파형 중의 불순물 이온 피크부 (13) 의 면적을 측정하고, 이온 밀도를 구하였다. 도 3 에 1 사이클의 시간을 가로축으로 했을 때의 인가 전압값 (11), 측정 전류값 (12) 및 불순물 이온 피크부 (13) 의 개략도를 나타낸다. 측정 결과를 표 2, 4 및 5 에 나타냈다.In the measurement, the current when a triangular wave with a frequency of 0.1 Hz and a voltage of 5 V was applied to the liquid crystal cell for measurement was measured with time using a &quot; liquid crystal physical property evaluation apparatus -6254 type &quot; manufactured by Toyotechnika Co., . The area of the impurity ion peak portion 13 in the waveform was measured to determine the ion density. FIG. 3 shows schematic diagrams of the applied voltage value 11, the measured current value 12 and the impurity ion peak portion 13 when the time of one cycle is taken as the horizontal axis. The measurement results are shown in Tables 2, 4 and 5.

Figure pct00048
Figure pct00048

Figure pct00049
Figure pct00049

표 2 의 실시예 1 ∼ 4, 비교예 1 ∼ 4 의 감광성 착색 조성물은 모두 그 도포 기판의 단위 OD 값이 동등, 요컨대 동등한 차광 특성을 갖지만, 그 중에서도 실시예 1 ∼ 4 의 감광성 착색 조성물을 사용한 도포 기판은 파장 700 ㎚ 의 투과율이 충분히 낮아 장파장 영역의 가시광의 차광성이 우수하고, 파장 900 ㎚ 의 투과율이 충분히 높아 마스크 위치 맞춤을 위한 마크의 판독 적성이 양호하다는 것이 확인되었다. 또, 자외선 조사 후의 2.0 ㎐ 에 있어서의 전압 유지율이 높으므로, 액정 셀 제조 후에 자외선 조사를 실시하는 패널 제조 방법을 채용했을 경우에도 액정 구동을 저해시키지 않는 것이 확인되었다.The photosensitive coloring compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 in Table 2 all had equivalent unit OD values of the coated substrate, that is, equivalent light shielding characteristics. Among them, the photosensitive coloring compositions of Examples 1 to 4 were used It was confirmed that the coated substrate had a sufficiently low transmittance at a wavelength of 700 nm and was excellent in shielding visible light in a long wavelength region and had a sufficiently high transmittance at a wavelength of 900 nm so that the readability of marks for mask alignment was good. It was also confirmed that since the voltage holding ratio at 2.0 Hz after irradiation with ultraviolet rays was high, the liquid crystal driving was not inhibited even when a panel manufacturing method of irradiating ultraviolet rays after the production of a liquid crystal cell was employed.

이에 대해, 비교예 1 의 감광성 착색 조성물을 사용한 도포 기판은 파장 900 ㎚ 의 투과율이 낮아, 마스크 위치 맞춤을 위한 마크의 판독 적성이 불충분하다는 것이 확인되었다.On the other hand, it was confirmed that the coated substrate using the photosensitive coloring composition of Comparative Example 1 had a low transmittance at a wavelength of 900 nm and insufficient readability of marks for mask alignment.

또 비교예 2, 3 의 감광성 착색 조성물을 사용한 도포 기판은 파장 700 ㎚ 의 투과율이 높아, 장파장 영역의 가시광의 차광성이 불충분하고, 광 누설이 발생하고 있는 것이 확인되었다. 또 비교예 2 의 감광성 착색 조성물을 사용한 도포 기판은 자외선 조사 후의 2.0 ㎐ 에 있어서의 전압 유지율이 낮으므로, 액정 구동을 저해시키는 것임이 확인되었다.In addition, it was confirmed that the coated substrate using the photosensitive coloring compositions of Comparative Examples 2 and 3 had a high transmittance at a wavelength of 700 nm, insufficient shielding of visible light in the long wavelength region, and light leakage. It was also confirmed that the coated substrate using the photosensitive coloring composition of Comparative Example 2 had a low voltage holding ratio at 2.0 Hz after irradiation with ultraviolet light, thereby inhibiting liquid crystal driving.

한편 비교예 4 의 감광성 착색 조성물을 사용한 도포 기판은, 파장 900 ㎚ 의 투과율 및 파장 700 ㎚ 의 투과율에 문제는 없었지만, 자외선 조사 후의 2.0 ㎐ 에 있어서의 전압 유지율이 낮으므로, 액정 구동을 저해시키는 것임이 확인되었다.On the other hand, the coated substrate using the photosensitive coloring composition of Comparative Example 4 had no problem with the transmittance of 900 nm wavelength and the transmittance of 700 nm wavelength, but the liquid crystal driving was inhibited because the voltage holding ratio at 2.0 Hz after irradiation with ultraviolet rays was low .

감광성 착색 조성물의 차광성을 확보하기 위해 흑색 안료를 사용하는 경우에 있어서, 흑색 안료 중에서도 카본 블랙은 가시광의 전체 파장역에 있어서 흡광도가 높으므로 파장 700 ㎚ 에 있어서의 투과율을 충분히 낮게 할 수 있지만, 적외 영역의 흡광도도 높아 그 영역에 있어서의 투과율이 낮아지기 때문에, 비교예 1 과 같이 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 (a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 낮은 경우, 요컨대, 흑색 안료에서 차지하는 (a3) 카본 블랙의 비율이 높은 경우에는 파장 900 ㎚ 의 투과율이 낮아져 버린다.In the case of using a black pigment for securing the light-shielding property of the photosensitive coloring composition, among the black pigments, the carbon black has a high absorbance in the entire wavelength range of visible light, so that the transmittance at a wavelength of 700 nm can be sufficiently low, (A3) the content of (a1) organic black pigment is low relative to 100 parts by mass of carbon black as in Comparative Example 1. In other words, the content of the organic black pigment in the black pigment (a3) When the proportion of carbon black is high, the transmittance at a wavelength of 900 nm is lowered.

한편, 비교예 2 와 같이 (a3) 카본 블랙이 없는 경우에는, (a1) 유기 흑색 안료의 파장 700 ㎚ 에 있어서의 투과율이 높은 것에서 기인하여, 얻어지는 도포 기판의 파장 700 ㎚ 에 있어서의 투과율도 높아져 버린다. 또, 흡광도가 높은 카본 블랙이 없는 것에서 기인하여 소정의 OD 값으로 하기 위해서 필요한 안료 함유 비율이 높아져 버리고, 그 때문에 자외선 조사 후의 2.0 ㎐ 에 있어서의 전압 유지율이 악화되고, 전기 신뢰성이 낮아져 버린다.On the other hand, when (a3) carbon black is not present as in Comparative Example 2, (a1) the transmittance of the obtained coated substrate at a wavelength of 700 nm is also increased due to the fact that the transmittance of the organic black pigment at a wavelength of 700 nm is high Throw away. In addition, since the carbon black having a high absorbance is absent, the content of the pigment necessary for obtaining a predetermined OD value increases, and the voltage retention rate at 2.0 Hz after irradiation with ultraviolet rays deteriorates, and the electrical reliability lowers.

또, 비교예 3 과 같이 (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 이 없는 경우에도, (a1) 유기 흑색 안료의 파장 700 ㎚ 에 있어서의 투과율이 높은 것에서 기인하여, 얻어지는 도포 기판의 파장 700 ㎚ 에 있어서의 투과율도 높아져 버린다. 한편, (a3) 카본 블랙의 함유 비율을 더욱 높게함으로써 파장 700 ㎚ 에 있어서의 투과율을 낮게 할 수 있는 것으로 생각되지만, 비교예 1 과 같이 파장 900 ㎚ 의 투과율도 낮아져 버릴 것으로 예상된다. 따라서, (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 이 없는 경우에는, 파장 700 ㎚ 투과율과 파장 900 ㎚ 투과율을 양립하는 것이 곤란한 것으로 생각된다.Further, even when (a2) CI Pigment Blue 60 was not present as in Comparative Example 3, (a1) the transmittance of the organic black pigment at a wavelength of 700 nm was high, The transmittance is also increased. On the other hand, it is considered that (a3) the transmittance at a wavelength of 700 nm can be lowered by increasing the content ratio of (a3) carbon black. However, as in Comparative Example 1, the transmittance at 900 nm is also expected to be lowered. Therefore, when C. I. Pigment Blue 60 (a2) is not present, it is considered that it is difficult to achieve both a transmittance of 700 nm and a transmittance of 900 nm.

이와 같이 파장 700 ㎚ 에 있어서의 광 누설을 개선하기 위해서 청색 안료를 넣는 것이 유효하지만, 비교예 4 와 같이 적절한 안료종을 선택하지 않는 경우에는 자외선 조사 후의 2.0 ㎐ 에 있어서의 전압 유지율이 낮고, 전기 신뢰성이 낮아져 버린다.Although it is effective to add a blue pigment to improve light leakage at a wavelength of 700 nm as described above, when a suitable pigment species is not selected as in Comparative Example 4, the voltage holding ratio at 2.0 Hz after irradiation with ultraviolet rays is low, Reliability is lowered.

이들 비교예에 대해, 실시예 1 ∼ 4 와 같이, 특정한 유기 흑색 안료, 청색 안료 및 카본 블랙을 병용하고, 또한 특정한 유기 흑색 안료와 카본 블랙의 비율을 적절히 함으로써, 파장 900 ㎚ 의 투과율이 충분히 높아, 마스크 위치 맞춤의 마크의 판독 적성이 충분하고, 또, 파장 700 ㎚ 의 투과율이 충분히 낮아, 광 누설을 발생시키지 않게 하는 것이 가능해진다. 특히 청색 안료로서 C. I. 피그먼트 블루 60 을 선택함으로써, 자외선 조사 후의 2.0 ㎐ 에 있어서의 전압 유지율이 높고, 전기 신뢰성을 높게 하는 것이 가능하다. 특히, 실시예 2 와 실시예 1 의 비교, 또한 실시예 1 과 실시예 3 및 4 의 비교로부터, 카본 블랙 100 질량부에 대한 전체 유기 안료의 함유 비율을 높게함으로써, 파장 900 ㎚ 에 있어서의 투과율을 더욱 높게 할 수 있는 것이 분명해졌다.For these Comparative Examples, as in Examples 1 to 4, by using a specific organic black pigment, a blue pigment, and carbon black in combination, and by appropriately adjusting the ratio of the specific organic black pigment and carbon black, the transmittance at a wavelength of 900 nm was sufficiently high , It is possible to sufficiently read marks of the mask alignment and sufficiently reduce the transmittance of 700 nm and to prevent light leakage. In particular, when CI Pigment Blue 60 is selected as the blue pigment, the voltage retention ratio at 2.0 Hz after irradiation with ultraviolet rays is high, and the electrical reliability can be increased. In particular, from the comparison between Example 2 and Example 1, and from the comparison between Example 1 and Examples 3 and 4, it was found that by increasing the content ratio of the total organic pigment to 100 parts by mass of carbon black, the transmittance at 900 nm Can be made higher.

한편, 표 3 의 실시예 5 ∼ 8 의 감광성 착색 조성물은 모두 그 도포 기판의 단위 OD 값이 동등, 요컨대 동등한 차광 특성을 갖고, 파장 900 ㎚ 에 있어서의 투과율 및 전기 신뢰성이 우수하지만, 그 중에서도 실시예 7 및 8, 특히 실시예 8 의 감광성 착색 조성물을 사용한 도포 기판은 파장 700 ㎚ 의 투과율이 매우 낮아, 장파장 영역의 가시광의 차광성이 특히 우수한 것이 확인되었다. 이러한 점에서, 카본 블랙 100 질량부에 대한 (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 의 함유 비율을 높게함으로써, 파장 700 ㎚ 에 있어서의 투과율을 더욱 낮게 할 수 있는 것이 분명해졌다.On the other hand, all of the photosensitive coloring compositions of Examples 5 to 8 in Table 3 had equivalent unit OD values, that is, equivalent light shielding properties, excellent transmittance and electrical reliability at a wavelength of 900 nm, It was confirmed that the coated substrates using the photosensitive coloring compositions of Examples 7 and 8, particularly Example 8, had a very low transmittance at a wavelength of 700 nm and were particularly excellent in blocking the visible light in the long wavelength region. In this respect, it has become clear that the transmittance at 700 nm can be further reduced by increasing the content ratio of (a2) C. I. Pigment Blue 60 to 100 parts by mass of carbon black.

또 표 4 의 실시예 9 ∼ 12 의 감광성 착색 조성물은, 전체 안료의 함유 비율을 동일로 하고, (a1) 유기 흑색 안료 100 질량부에 대한 자색 안료의 함유 비율을 바꾼 것이지만, 그 중에서도 실시예 10 ∼ 12, 특히 실시예 11 및 12 의 감광성 착색 조성물의 도포 기판의 단위 OD 값이 높은 것이 확인되었다. 이러한 점에서, (a1) 유기 흑색 안료 100 질량부에 대한 자색 안료의 함유 비율을 높게함으로써, 단위 OD 값을 높게 할 수 있는 것이 분명해졌다.The photosensitive coloring compositions of Examples 9 to 12 in Table 4 were prepared so that the total pigment content was the same and the content ratio of the purple pigment to (a1) 100 parts by mass of the organic black pigment was changed. Among them, To 12, in particular, the photosensitive coloring composition of Examples 11 and 12 had a high unit OD value. From this point of view, it has become clear that (a1) the unit OD value can be increased by increasing the content ratio of the purple pigment to 100 parts by mass of the organic black pigment.

표 5 의 실시예 1 과 비교예 5 의 감광성 착색 조성물은, 유기 흑색 안료의 종류가 상이한 것 이외에는 동일한 조성의 것이지만, 실시예 1 의 감광성 착색 조성물쪽이 자외선 조사 후의 2.0 ㎐ 에 있어서의 전압 유지율이 높으므로, 전기 신뢰성이 양호하다는 것이 확인되었다. 이러한 점에서, 유기 흑색 안료로서 (a1) 유기 흑색 안료를 사용함으로써, 전기 신뢰성을 양호하게 할 수 있는 것이 분명해졌다.The photosensitive coloring compositions of Example 1 and Comparative Example 5 in Table 5 were of the same composition except that the kinds of the organic black pigment were different. The photosensitive coloring composition of Example 1 had a voltage holding ratio at 2.0 Hz after irradiation with ultraviolet light It was confirmed that the electrical reliability was good. In this respect, it has become clear that the use of the organic black pigment (a1) as the organic black pigment makes it possible to improve the electrical reliability.

산업상 이용가능성Industrial availability

본 발명의 감광성 착색 조성물에 의하면, 파장 700 ㎚ 부근의 광 누설이 적고, 파장 900 ㎚ 부근의 투과율이 우수하고, 또한 자외선 조사 후의 전기 신뢰성이 우수한 경화물 및 착색 스페이서를 제공할 수 있고, 또한 이와 같은 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다. 따라서, 본 발명은 감광성 착색 조성물, 경화물, 착색 스페이서 및 화상 표시 장치의 각 분야에 있어서, 산업상의 이용 가능성은 매우 높다.According to the photosensitive coloring composition of the present invention, it is possible to provide a cured product and a coloring spacer having a low light leakage around 700 nm, an excellent transmittance at a wavelength of 900 nm and an excellent electrical reliability after irradiation with ultraviolet rays, It is possible to provide an image display apparatus having the same coloring spacers. Therefore, the present invention is very industrially applicable in the fields of photosensitive coloring compositions, cured products, colored spacers and image display devices.

1 유리
2 ITO 막
3 착색 경화막
4 폴리이미드막
5 에폭시 수지계 시일제
6 UV 경화형 시일제
7 액정
8 평가용 전극 기판 A
9 평가용 전극 기판 B
11 인가 전압값
12 측정 전류값
13 불순물 이온 피크부
20 전극 기판 B
30 측정용 액정 셀
1 Glass
2 ITO film
3 colored hardening film
4 polyimide film
5 Epoxy resin sealant
6 UV curing type sealant
7 LCD
8 Evaluation electrode substrate A
9 Evaluation electrode substrate B
11 Applied voltage value
12 Measured current value
13 Impurity ion peak portion
20 electrode substrate B
30 Liquid crystal cell for measurement

Claims (12)

(a) 착색제, (b) 알칼리 가용성 수지, (c) 광 중합 개시제, (d) 에틸렌성 불포화 화합물, (e) 용제, 및 (f) 분산제를 함유하는 감광성 착색 조성물로서,
상기 (a) 착색제가, (a1) 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 유기 흑색 안료, (a2) C. I. 피그먼트 블루 60, 그리고 (a3) 카본 블랙을 함유하고,
상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 상기 (a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 150 질량부 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 착색 조성물.
[화학식 1]
Figure pct00051

(식 (I) 중, R1 및 R6 은 각각 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이고 ;
R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이고 ;
또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합할 수도 있고, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브릿지에 의해 서로 결합할 수도 있고 ;
R11 및 R12 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다)
A photosensitive coloring composition comprising (a) a colorant, (b) an alkali-soluble resin, (c) a photopolymerization initiator, (d) an ethylenically unsaturated compound, (e) a solvent, and (f)
Wherein the (a) colorant comprises (a1) at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (I), a geometric isomer of the compound, a salt of the compound and a salt of a geometric isomer of the compound (A2) CI Pigment Blue 60, and (a3) carbon black,
Wherein the content of the organic black pigment (a1) in the (a3) 100 parts by mass of the carbon black is 150 parts by mass or more.
[Chemical Formula 1]
Figure pct00051

(In the formula (I), R 1 and R 6 are each independently a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;
R 2, R 3, R 4 , R 5, R 7, R 8, R 9 and R 10 is a halogen atom, R 11, COOH, COOR 11, COO hydrogen atoms, each independently -, CONH 2, CONHR 11, CONR 11 R 12, CN, OH , OR 11, COCR 11, OOCNH 2, OOCNHR 11, OOCNR 11 R 12, NO 2, NH 2, NHR 11, NR 11 R 12, NHCOR 12, NR 11 COR 12, N = CH 2, N = CHR 11, N = CR 11 R 12, SH, SR 11, SOR 11, SO 2 R 11, SO 3 R 11, SO 3 H, SO 3 -, SO 2 NH 2, SO 2 NHR 11 or SO 2 NR 11 R 12 and;
At least one combination selected from the group consisting of R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 7 and R 8 , R 8 and R 9 , and R 9 and R 10 , Or they may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR &lt; 11 &gt; bridges;
R 11 and R 12 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms )
제 1 항에 있어서,
상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 상기 (a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 200 질량부 이상인, 감광성 착색 조성물.
The method according to claim 1,
The content of (a1) the organic black pigment in the (a3) 100 parts by mass of the carbon black is 200 parts by mass or more.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 상기 (a1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 210 질량부 이상인, 감광성 착색 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
(A3) The content of the organic black pigment (a1) relative to 100 parts by mass of the carbon black is 210 parts by mass or more.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 상기 (a2) C. I. 피그먼트 블루 60 의 함유 비율이 200 질량부 이상인, 감광성 착색 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
(A3) the content ratio of (a2) CI Pigment Blue 60 to 100 parts by mass of carbon black is 200 parts by mass or more.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (a3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 전체 유기 안료의 함유 비율의 합계가 550 질량부 이상인, 감광성 착색 조성물.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the total content of the total organic pigment in (a3) 100 parts by mass of carbon black is 550 parts by mass or more.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (a) 착색제의 함유 비율이 전체 고형분 중 10 질량% 이상인, 감광성 착색 조성물.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The content of the colorant (a) in the total solid content is 10% by mass or more.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (a) 착색제의 함유 비율이 전체 고형분 중 45 질량% 이하인, 감광성 착색 조성물.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein the content of the colorant (a) in the total solid content is 45 mass% or less.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (b) 알칼리 가용성 수지가, (b1) 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지를 함유하는, 감광성 착색 조성물.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Wherein the alkali-soluble resin (b) comprises (b1) an epoxy (meth) acrylate resin.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
경화된 도막의 막두께 1 ㎛ 당의 광학 농도가 1.0 이상인, 감광성 착색 조성물.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Wherein the optical density per 1 mu m of the thickness of the cured coating film is 1.0 or more.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.A cured product obtained by curing the photosensitive colored composition according to any one of claims 1 to 9. 제 10 항에 기재된 경화물로 형성되는 착색 스페이서.A colored spacer formed from the cured product according to claim 10. 제 11 항에 기재된 착색 스페이서를 구비하는 화상 표시 장치.An image display device comprising the coloring spacer according to claim 11.
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