KR20180107422A - Stainless steel with excellent surface gloss and corrosion resistance, method of method for treating surface the same - Google Patents

Stainless steel with excellent surface gloss and corrosion resistance, method of method for treating surface the same Download PDF

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KR20180107422A KR1020170035109A KR20170035109A KR20180107422A KR 20180107422 A KR20180107422 A KR 20180107422A KR 1020170035109 A KR1020170035109 A KR 1020170035109A KR 20170035109 A KR20170035109 A KR 20170035109A KR 20180107422 A KR20180107422 A KR 20180107422A
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Abstract

The present invention relates to stainless steel with excellent surface gloss and corrosion resistance and a method for treating surface thereof that are capable of removing metals causing corrosion through simple processes to thus improve an amount of chrome among the metals exposed to the surface thereof, so that chromium oxide can be thicker and tighter in a passivation process, thereby having excellent surface gloss and corrosion resistance and being utilized in more various industrial fields. According to the present invention, the method for treating a surface of stainless steel with excellent surface gloss and corrosion resistance includes the steps of: (1) selectively etching a second component among a first component and the second component contained on the surface of a stainless base metal; (2) applying electro polishing liquid to the selectively etched stainless base metal to perform electro polishing; and (3) applying a passivation liquid to the electro polished stainless base metal to form an oxidation film.

Description

표면 광택성 및 내부식성이 우수한 스테인레스 강 및 이의 표면처리방법{Stainless steel with excellent surface gloss and corrosion resistance, method of method for treating surface the same}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a stainless steel having excellent surface gloss and corrosion resistance and a surface treatment method of the stainless steel,

본 발명은 스테인레스 강에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 스테인레스 모재의 선택적 에칭, 전해연마 및 부동태 처리를 통하여 내부식성, 내변색성 및 광택성이 향상되어 다양한 산업군으로의 활용도를 제고한 스테인레스 강 및 이에 표면처리방법에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a stainless steel which is improved in corrosion resistance, discoloration resistance and luster through selective etching of stainless steel base material, electrolytic polishing and passivation treatment, And a surface treatment method.

스테인레스 강은 자동차용 부재나 건축용 부재, 고온배관, 주방기기 등의 내식성(corrosion resistance)이 요구되는 다양한 산업군에서 부품으로 적용되는 소재이다. 스테인레스 강은 일반적으로 오스테나이트계 스테인레스 강, 페라이트계 스테인레스 강, 오스테나이트-페라이트계 스테인레스 강 및 마르텐사이트계 스테인레스 강(martensitic stainless stee1)으로 분류할 수 있으며, 특히 SUS304이나 SUS301로 대표되는 오스테나이트계 스테인레스 강은 가공성도 뛰어나기 때문에 다양한 산업군에서 널리 이용되고 있다. Stainless steel is used as a component in various industries requiring corrosion resistance such as automobile members, construction members, high-temperature piping, and kitchen appliances. Stainless steels generally can be classified as austenitic stainless steels, ferritic stainless steels, austenite-ferritic stainless steels and martensitic stainless steels, and in particular, austenitic steels such as SUS304 and SUS301 Stainless steel is widely used in various industries because of its excellent processability.

한편, 스테인레스 강은 철(Fe)와 크롬(Cr), 니켈(Ni) 등의 주요 물질에 구리(Cu), 망간(Mn) 등의 다양한 합금 원소를 사용함으로써, 대기 환경 중에서는 우수한 내부식성을 나타내지만 고온 및 산성 복합 환경에서 시간에 따라 부식 및 변색의 문제가 발생할 수 있다. 특히 자동차용 머플러와 같이 고온, 산화성 분위기에서는 적녹 부식 또는 황변(Yellow feel)이 발생할 수 있어서, 이로 인한 재료의 기계적 물성이 저하될 수 있고 나아가, 기능적 또는 외관 감성 품질이 저하될 우려가 있다.Stainless steel uses various alloying elements such as copper (Cu) and manganese (Mn) for the main materials such as iron (Fe), chrome (Cr) and nickel However, corrosion and discoloration may occur over time in a high temperature and acidic hybrid environment. In particular, in a high-temperature oxidative atmosphere such as a muffler for an automobile, red rust corrosion or yellow feel may occur, which may result in deterioration of the mechanical properties of the material and further deterioration of functional or appearance sensibility.

이를 개선하기 위해 오스테나이트계 스테인리스 강을 광휘 소둔 및 조질 압연을 통해 광택을 부여하는 방법이 소개되고 있으나 이러한 광휘 소둔 및 조질 압연은 드로잉 및 프레스 성형을 필요로 하지 않는 광택 요구 제품에만 사용할 수 있는 제한이 따른다.In order to improve this, a method of applying austenitic stainless steel to a steel sheet by brilliant annealing and temper rolling has been introduced. However, such a brass annealing and temper rolling is not limited to a steel sheet which can be used only for gloss- .

또한, 스테인레스 합금 물질을 이용하거나, 스테인레스 강의 표면을 개질하고, 원자 단위에서 구조를 변경하는 등의 방법으로 내부식성 및 표면 광택성을 향상시키는 기술이 소개되고 있으나, 종래 기술만으로는 목적하는 만큼의 내부식성 및 표면 광택성이 향상된 스테인레스 강을 구현하기 어려우며 특히 자동차용 머플러와 같이, 고온, 산화성 분위기에서 화학적으로 안정하고 고유의 광택성이 저하되지 않는 기술에 대한 연구는 보고되고 있지 않다.In addition, techniques for improving corrosion resistance and surface luster by using a stainless alloy material, modifying the surface of a stainless steel, and changing the structure at an atomic unit have been introduced, It is difficult to realize a stainless steel having improved corrosion resistance and surface gloss, and there is no report on a technique that is chemically stable and does not deteriorate inherent glossiness in a high temperature and oxidizing atmosphere such as automobile muffler.

이에 따라서 고온, 산화성 분위기에서도 스테인레스 강의 부식이 발생하지 않고, 고유의 광택성이 저하를 방지함과 동시에 추가적인 공정이나 첨가제를 필요로 하지 않음으로 인해 경제성 및 공정 단순화에 도움이 되고, 내부식성 및 표면 광택성이 우수한 스테인레스 강에 대한 기술 개발이 시급한 실정이다.Accordingly, corrosion of stainless steel does not occur even in a high-temperature and oxidizing atmosphere, and inherent glossiness is prevented from deteriorating, and further processing and additives are not required, which contributes to economical efficiency and process simplification, It is urgent to develop a technique for stainless steel having excellent luster.

공개특허공보 제 10-2011-0104631호Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-2011-0104631

본 발명은 상기와 같은 점을 감안하여 안출한 것으로, 스테인레스 강 표면에 부식을 유발하는 물질을 제거하는 선택적 에칭을 통하여, 스테인레스 강 표면에 보다 많은 크롬 산화물을 치밀하게 형성함으로써 우수한 표면 광택성, 내식성 및 고온 내변색성을 나타내는 스테인레스 강을 제공하는데 발명의 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a method of selectively etching a material causing corrosive corrosion on a stainless steel surface to form more chromium oxide on the surface of stainless steel, And stainless steel showing high discoloration resistance at high temperatures.

또한, 본 발명은 스테인레스 강의 합금 성분으로 존재하는 철, 크롬, 니켈, 구리, 망간 등의 물질 중 부식을 유발하는 물질을 선택적으로 제거하여 우수한 내식성을 가지는 크롬 성분을 표면에 보다 많이 노출시키고, 표면 요철을 저하시킴과 동시에 크롬 산화물 층을 치밀하게 형성함으로써 내식성을 더욱 견고히 할 수 있는 스테인레스 강에 대한 제조방법을 제공하는데 발명의 다른 목적이 있다.The present invention also provides a method of selectively removing a corrosion-inducing substance such as iron, chromium, nickel, copper, and manganese present in an alloy component of stainless steel to expose a chromium component having excellent corrosion resistance to the surface, It is another object of the present invention to provide a manufacturing method for stainless steel which is capable of reducing the unevenness and densely forming the chromium oxide layer to further strengthen the corrosion resistance.

상술한 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 (1) 스테인레스 모재를 표면부에 포함된 제1성분 및 제2성분 중 제2성분을 선택적 에칭하는 단계 (2) 상기 선택적 에칭된 스테인레스 모재에 전해연마액을 처리하여 전해연마시키는 단계 및 (3) 상기 전해연마된 스테인레스 모재에 부동태 처리액을 처리하여 산화피막을 형성시키는 단계; 를 포함하는 내식성 및 광택성이 우수한 스테인레스 강의 표면처리방법을 제공한다.In order to solve the above-described problems, the present invention provides a method of manufacturing a stainless steel substrate, comprising the steps of: (1) selectively etching a first component and a second component contained in a surface portion of a stainless steel base material; (2) (3) treating the electrolytically polished stainless base material with a passive processing solution to form an oxide film; The present invention also provides a surface treatment method of stainless steel excellent in corrosion resistance and gloss.

또한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 (1) 단계는 상기 스테인레스 모재를 선택적 에칭액을 처리하여 제2성분을 제거하는 단계일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the step (1) may be a step of treating the stainless steel base material with a selective etching solution to remove the second component.

또한, 상기 제2성분은 제1성분보다 산화되기 쉬울 수 있다.In addition, the second component may be more susceptible to oxidation than the first component.

또한, 상기 제1성분은 크롬을 포함하고, 상기 제2성분은 철, 니켈 또는 구리 중 적어도 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.In addition, the first component may include chromium, and the second component may include at least one of iron, nickel, and copper.

또한, 상기 선택적 에칭액은 질산 100 중량부에 대하여 25 ~ 200 중량부의 피크랄, 50 ~ 200 중량부의 과산화수소, 25 ~ 200 중량부의 글루콘산, 15 ~ 100 중량부의 옥살산 및 5 ~ 50 중량부의 계면활성제를 포함할 수 있다.The selective etchant may further contain 25 to 200 parts by weight of a perchloric acid, 50 to 200 parts by weight of hydrogen peroxide, 25 to 200 parts by weight of gluconic acid, 15 to 100 parts by weight of oxalic acid, and 5 to 50 parts by weight of a surfactant based on 100 parts by weight of nitric acid. .

또한, 상기 스테인레스 모재를 30 ℃ ~ 100 ℃의 온도에서 상기 선택적 에칭액에 2 ~ 60 분간 처리하는 수 있다.Also, the stainless base material may be treated with the selective etching solution at a temperature of 30 ° C to 100 ° C for 2 to 60 minutes.

또한, 상기 (1) 단계를 수행한 스테인레스 모재 표면부의 포함된 제1성분의 중량%는 스테인레스 모재의 내부에 포함된 제1성분의 중량% 보다 클 수 있다.The weight percentage of the first component included in the surface of the stainless steel base material subjected to the step (1) may be greater than the weight percentage of the first component contained in the stainless base metal.

또한, 상기 전해연마액은 황산 100 중량부에 대하여, 200 ~ 350 중량부의 인산, 0.5 ~ 25 중량부의 계면활성제를 포함할 수 있다.The electrolytic polishing solution may contain 200 to 350 parts by weight of phosphoric acid and 0.5 to 25 parts by weight of a surfactant based on 100 parts by weight of sulfuric acid.

또한, 상기 스테인레스 모재를 30 ℃ ~ 120 ℃의 온도 및 30 ~ 90 A/dm2의 전류밀도에서 상기 전해연마액에 10 ~ 500 초간 처리할 수 있다.Further, the stainless base material can be treated in the electrolytic polishing solution at a temperature of 30 ° C to 120 ° C and a current density of 30 to 90 A / dm 2 for 10 to 500 seconds.

또한, 상기 부동태 처리액은 질산 100 중량부에 대하여, 30 ~ 200 중량부의 과산화수소, 15 ~ 100 중량부의 구연산, 100 ~ 250 중량부의 물 및 0.3 ~ 25의 계면활성제를 포함할 수 있다.The passive solution may contain 30 to 200 parts by weight of hydrogen peroxide, 15 to 100 parts by weight of citric acid, 100 to 250 parts by weight of water, and 0.3 to 25 surfactants per 100 parts by weight of nitric acid.

또한 본 발명은, 스테인레스 모재 표면부 상에 형성된 제1성분에 대한 산화피막을 포함하고, 표면조도(Ra)가 0.07 μm이하인 스테인레스 강을 제공한다.The present invention also provides a stainless steel including an oxide film for the first component formed on the surface of the stainless steel base material and having a surface roughness (Ra) of 0.07 탆 or less.

또한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 스테인레스 강은 360mV 이상의 부식전위(Ecorr)를 가질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the stainless steel may have a corrosion potential (Ecorr) of 360 mV or more.

또한, 상기 스테인레스 강은 20°에서 1000 GU 이상의 광택도를 가지고, 60°에서 600 GU 이상의 광택도를 가지며, 85°에서 100 GU 이상의 광택도를 가질 수 있다.In addition, the stainless steel has a gloss of more than 1000 GU at 20 DEG, more than 600 GU at 60 DEG, and a gloss of more than 100 GU at 85 DEG.

본 발명에 의하면, 간단한 공정을 통해 스테인레스 강의 부식을 유발하는 금속들을 제거하여 스테인레스 강 표면에 노출된 금속 중 크롬의 함량을 높임으로써, 부동태 처리공정에서 크롬 산화물을 보다 두껍고 치밀하게 형성되어 내부식성 및 광택성이 우수한 스테인레스 강을 구현할 수 있으며, 이를 통해 보다 다양한 산업군으로의 활용도를 제고할 수 있다.According to the present invention, by removing the metals causing corrosion of the stainless steel through a simple process, the content of chrome in the metal exposed to the stainless steel surface is increased, so that the chromium oxide is formed thicker and denser in the passivation process, It is possible to realize a stainless steel having excellent gloss and it can be utilized for various industries.

도 1은 본 발명에 따른 스테인레스 강의 제조방법을 나타내는 순서도,
도 2a 및 2b는 선택적 에칭을 통해 스테인레스 강에서 제2성분을 제거하는 모습을 나타내는 모식도,
도 3은 전해연마 단계를 통해 스테인레스 강의 표면 요철을 제거하고 평탄화시켜 경면 광택을 부여하는 모습을 나타내는 모식도,
도 4는 전해연마된 스테인레스 강 표면에 산화피막을 형성시키는 부동태 처리 단계를 나타내는 모식도,
도 5는 스테인레스 강의 각 단계에 따른 분극 곡선을 나타내는 그래프, 그리고
도 6a은 스테인레스 강의 표면 광택을 나타내는 도면이고, 도 6b는 선택적 에칭 및 전해연마 단계 후 스테인레스 강의 표면 광택을 나타내는 도면이며, 도 6c는 부동태 처리 후 표면 광택을 나타내는 도면이다.
1 is a flowchart showing a method of manufacturing stainless steel according to the present invention,
FIGS. 2A and 2B are schematic views showing a state where a second component is removed from stainless steel through selective etching;
FIG. 3 is a schematic view showing a state in which surface irregularities of stainless steel are removed through an electrolytic polishing step,
4 is a schematic view showing a passivation step of forming an oxide film on the surface of electrolytically polished stainless steel,
5 is a graph showing a polarization curve according to each step of a stainless steel, and
6A is a view showing the surface gloss of stainless steel, FIG. 6B is a view showing the surface gloss of stainless steel after the selective etching and electrolytic polishing step, and FIG. 6C is a view showing surface gloss after passivation.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 부가한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same reference numerals are assigned to the same or similar components throughout the specification.

일반적으로 스테인레스 강은 우수한 내식성 및 광택성을 가지기 때문에, 전자부품, 건축 자재뿐만 아니라 항공 산업 분야에 이르는 다양한 산업에 재료로 사용되고 있다. 이러한 스테인레스 강은 철(Fe)와 크롬(Cr), 니켈(Ni) 등의 주요 물질을 기본 금속으로 포함하고, 구리(Cu), 망간(Mn) 등의 다양한 금속을 첨가하여 사용하고 있으며, 신소재 산업의 발달과 더불어 다양한 용도로 변형, 제작되고 있다.Generally, stainless steel is used as a material for various industries ranging from aerospace industry to electronic components and building materials because of its excellent corrosion resistance and gloss. Such stainless steel contains a main material such as iron (Fe), chromium (Cr), and nickel (Ni) as a base metal and various metals such as copper (Cu) and manganese With the development of the industry, it has been modified and manufactured for various purposes.

한편 상술한 스테인레스 강은 통상의 대기 중에서는 높은 내식성을 나타내고 있으나, 고온 또는 산성 조건에서 금속 특유의 부식 및 변색이 발생하여 스테인레스 강 자체의 기계적 물성 저하가 유발될 수 있고, 고유의 광택성을 요하는 분야에서는 외관 변색으로 인한 감성 품질이 저하될 우려가 있다. 특히 머플러 또는 테일트림과 같이 차량용 소재로 상기 스테인레스 강이 사용되는 경우, 차량에서 발생하는 NOx, SOx 등의 산화성 가스에 의하여 머플러 또는 테일트림이 부식되어 목적하는 기계적및/또는 기능적 성능을 달성하지 못하는 문제가 발생할 수 있으며, 나아가 외관이 변색됨으로 인해 광택성이 저하되어 차량 소재로써 사용에 제한이 따른다.On the other hand, the stainless steel described above exhibits high corrosion resistance in a normal atmosphere, but corrosion and discoloration specific to the metal under high temperature or acidic conditions may occur, which may cause mechanical property deterioration of the stainless steel itself, There is a fear that the quality of sensibility due to appearance discoloration is lowered. Particularly, when the stainless steel is used as a vehicle material such as a muffler or a tail trim, the muffler or the tail trim is corroded by the oxidizing gas such as NOx, SOx or the like, which is generated in the vehicle, and the target mechanical and / Problems may arise, and further, as the appearance is discolored, the gloss is degraded, which limits the use as a vehicle material.

최근 이에 대한 해결방안으로, 스테인레스 강을 부동태 처리하여 산화피막으로 스테인레스 강의 외부 표면을 보호하는 기술에 대한 연구가 진행되고 있다. 즉 스테인레스 강에 존재하는 내부식성이 상대적으로 강한 크롬(Cr)을 산화시켜 산화피막을 형성시킴으로써 스테인레스 강의 외부 표면을 보호하는 방법이며, 이를 통해 스테인레스 강의 광택성을 향상시키고 변색을 방지를 도모할 수 있다.Recently, as a solution to this problem, research is being conducted on a technique for protecting the outer surface of a stainless steel with an oxide film by passivating the stainless steel. That is, a method of protecting an outer surface of a stainless steel by oxidizing chromium (Cr) having relatively high corrosion resistance existing in stainless steel to form an oxide film, thereby improving the luster of stainless steel and preventing discoloration have.

그러나 일반적인 스테인레스 강에 존재하는 크롬의 양은 상술한 방법을 통해 산화피막을 형성할 정도로 충분하지 않으며, 설사 크롬의 산화피막이 외부 표면을 모두 덮도록 형성된다 하여도, 크롬의 함량이 부족하여 산화피막의 균일도가 저하될 수 있다. 이로 인해 스테인레스 강을 소재로 사용한 머플러 또는 테일트림은 오히려 부분적인 변색과 부식이 발생할 수 있어 당초 목적하였던 기계적 및/또는 기능적 성능의 달성과 감성 품질 향상을 기대하기 어려운 문제가 있다.However, the amount of chromium existing in general stainless steel is not sufficient to form an oxide film through the above-described method, and even if the oxidation film of chromium is formed so as to cover the entire outer surface, the content of chromium is insufficient, The uniformity may be lowered. As a result, the muffler or tail trim using stainless steel as a material may cause partial discoloration and corrosion, so that it is difficult to achieve the intended mechanical and / or functional performance and improve the sensibility.

또한, 산화피막이 균일하게 형성될 수 있도록 스테인레스 강 자체에서 크롬의 함량을 늘리는 경우 취성에 따른 문제가 발생하여 가공성이 현저히 저하될 수 있어 산화피막을 형성하는 부동태 처리만으로는 상술한 문제점을 해결하는데 제한이 있다.In addition, when the content of chromium in the stainless steel itself is increased so that the oxide film can be formed uniformly, there arises a problem depending on the brittleness and the workability can be significantly lowered. Therefore, only the passivation treatment for forming the oxide film has a limitation in solving the above- have.

이에 본 발명은 스테인레스 강 자체에 추가적인 첨가를 통한 크롬의 함량을 높이지 않으면서도, 표면에 크롬 산화 피막이 균일하게 형성되어 우수한 내부식성과 광택성을 동시에 나타내는 스테인레스 강의 표면처리방법을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a method for surface treatment of stainless steel, wherein the chromium oxide film is uniformly formed on the surface without increasing the content of chromium by further adding to the stainless steel itself, thereby simultaneously exhibiting excellent corrosion resistance and gloss.

이를 위해 본 발명에 따른 스테인레스 강의 표면처리방법 (1) 스테인레스 모재를 표면부에 포함된 제1성분 및 제2성분 중 제2성분을 선택적 에칭하는 단계 (2) 상기 선택적 에칭된 스테인레스 모재에 전해연마액을 처리하여 전해연마시키는 단계 및 (3) 상기 전해연마된 스테인레스 모재에 부동태 처리액을 처리하여 산화피막을 형성시키는 단계를 포함하여 수행된다.For this, a surface treatment method of stainless steel according to the present invention (1) a step of selectively etching a first component and a second component contained in a surface portion of a stainless steel base material, (2) a step of selectively etching the selectively etched stainless- And (3) treating the electrolytically polished stainless base material with a passivation solution to form an oxide film.

먼저 (1) 단계로써, 스테인레스 모재를 표면부에 포함된 제1성분 및 제2성분 중 제2성분을 선택적 에칭하는 단계를 수행한다.In step (1), the step of selectively etching the first and second components included in the surface portion of the stainless steel base material is performed.

상기 제1성분과 제2성분은 모두 스테인레스 강의 포함되는 금속성분이며 특히 상기 제1성분은 제2성분보다 산화되기 어려운 금속성분을 포함한다. 일 예에 따라 본 발명에 따른 스테인레스 강이 철(Fe)와 크롬(Cr), 니켈(Ni), 구리(Cu)를 포함하여 구성되는 경우 상기 제1성분은 크롬을 포함할 수 있고 상기 제2성분은 철, 니켈 또는 구리 중 적어도 어느 하나 이상을 포함할 수 있다. The first component and the second component are both metal components included in stainless steel, and in particular, the first component includes a metal component that is more difficult to oxidize than the second component. According to one example, when the stainless steel according to the present invention comprises iron (Fe), chromium (Cr), nickel (Ni), copper (Cu), the first component may include chromium, The component may comprise at least one or more of iron, nickel or copper.

한편 선택적 에칭이란 스테인레스 모재를 금속성분 중 산화되기 쉬운 금속을 산화시켜 제거하는 것을 의미한다. 일 예에 따라 상기 제1성분이 크롬을 포함하고, 제2성분이 철, 니켈 또는 구리 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하는 경우 철, 니켈 및 구리는 크롬보다 산화되기 쉬운 금속이기 때문에 스테인레스 모재 표면을 선택적 에칭하면 모재 표면에서 공식(pitting)으로 부식이 유발될 수 있는 철 및 니켈 또는 구리가 제거되고, 제거되지 않은 크롬의 노출을 유도할 수 있다. 즉 도2a 및 도2b에 도시된 것과 같이, 스테인레스 강의 표면부(A)는 선택적 에칭을 통해 에칭되어 요철을 형성(A')할 수 있다. 이때, 요철과 요철 사이의 골부는 상기 제2성분이 제거됨으로 형성되고 제1성분은 요철의 형태로 남아 외부표면으로 노출될 수 있다.On the other hand, selective etching means that a stainless steel base material is oxidized by oxidizing metal which is easily oxidized among metal components. According to one example, when the first component contains chromium and the second component comprises at least one of iron, nickel, and copper, iron, nickel, and copper are metals that are more likely to be oxidized than chromium. Selective etching can remove iron and nickel or copper that can cause corrosion by pitting at the surface of the base material, and can lead to exposure of unremoved chrome. That is, as shown in FIGS. 2A and 2B, the surface portion A of the stainless steel can be etched through selective etching to form irregularities (A '). At this time, the valleys between the concavities and convexities may be formed by removing the second component, and the first component may be exposed to the outer surface in the form of concave and convex portions.

이를 위해 상기 (1) 단계는 스테인레스 모재를 30 ℃ ~ 100 ℃의 온도에서 선택적 에칭액에 2 ~ 60 분간 침지시켜 스테인레스 모재 표면을 선택적으로 에칭할 수 있으며 보다 바람직하게는 70 ℃ ~ 80 ℃의 온도에서 상기 선택적 에칭액에 20~40 분간 침지시켜 선택적으로 에칭할 수 있다. 만일 상기 (1) 단계를 수행하는 온도가 30 ℃ 미만이거나 2분 미만의 침지시간을 가질 경우 반응시간이 지나지게 오래 걸려서 크롬에 대한 산화막을 형성하는 하는 화학반응이 충분히 진행되지 않을 수 있으며 또한 만일 100 ℃를 초과하는 온도 또는 60분의 침지시간을 초과하는 경우 수분 증발에 의한 용액의 불균일성이 유발되어 산화막 표면이 불균일해 질 우려가 있다.The step (1) may be carried out by immersing the stainless base material in a selective etching solution at a temperature of 30 ° C to 100 ° C for 2 to 60 minutes to selectively etch the surface of the stainless base material, more preferably at a temperature of 70 ° C to 80 ° C It may be selectively etched by immersing in the selective etching solution for 20 to 40 minutes. If the temperature at which the step (1) is performed is less than 30 ° C. or the immersion time is less than 2 minutes, it takes a long time for the reaction to take place and the chemical reaction for forming an oxide film on chromium may not proceed sufficiently, If the temperature exceeds 100 DEG C or the immersion time is 60 minutes, non-uniformity of the solution due to evaporation of water may be caused and the surface of the oxide film may be uneven.

이때, 상기 선택적 에칭액은 철과 니켈의 효과적인 제거를 위하여 질산 100 중량부에 대하여 25 ~ 200 중량부의 피크랄, 50 ~ 200 중량부의 과산화수소, 25 ~ 200 중량부의 글루콘산, 15 ~ 100 중량부의 옥살산 및 5 ~ 50 중량부의 계면활성제 및 물을 포함할 수 있다. 보다 바람직하게는 질산 100 중량부에 대하여 40 ~ 160 중량부의 피크랄, 70 ~ 160 중량부의 과산화수소, 50 ~ 150 중량부의 글루콘산, 30 ~ 80 중량부의 옥살산 및 10 ~ 25 중량부의 계면활성제 및 물을 포함할 수 있다. The selective etchant may be selected from the group consisting of 25 to 200 parts by weight of polycarboxylic acid, 50 to 200 parts by weight of hydrogen peroxide, 25 to 200 parts by weight of gluconic acid, 15 to 100 parts by weight of oxalic acid, 5 to 50 parts by weight of a surfactant and water. More preferably, 40 to 160 parts by weight of a perchloric acid, 70 to 160 parts by weight of hydrogen peroxide, 50 to 150 parts by weight of gluconic acid, 30 to 80 parts by weight of oxalic acid and 10 to 25 parts by weight of a surfactant and water are added to 100 parts by weight of nitric acid, .

상기 질산은 스테인레스 모재 표면의 철, 니켈 또는 구리 등의 부식을 유발하는 금속을 산화시키는 역할을 하며 상기 선택적 에칭액 전체 중량의 10 ~ 20 중량%로 포함될 수 있다. 만일 질산이 상기 선택적 에칭액 전체 중량의 10 중량% 미만으로 포함되는 경우, 스테인레스 모재 표면에서 부식을 유발하는 철 또는 니켈 등의 금속이 충분히 이온화되지 못하여 스테인레스 모재 표면의 크롬의 함량이 상대적으로 줄어들어 후술할 산화피막을 목적하는 만큼 형성하지 못할 수 있다. 또한 만일 산이 상기 선택적 에칭액 전체 중량의 20 중량%를 초과하여 포함되는 경우 피크랄 등의 선택적 에칭액의 조성물의 함량이 줄어들게 되어 선택적 에칭 효율이 저하될 수 있고, 나아가 크롬의 산화를 유발할 수 있어 이로 인한 크롬의 산화 피막을 충분히 형성하지 못하는 문제가 발생할 수 있다.The nitric acid serves to oxidize corrosion-causing metals such as iron, nickel, or copper on the surface of the stainless steel base material, and may be included in an amount of 10 to 20% by weight based on the total weight of the selective etching solution. If nitric acid is contained in an amount of less than 10% by weight of the total weight of the selective etching solution, iron or nickel or other metals which cause corrosion on the surface of the stainless steel base material are not sufficiently ionized, so that the content of chromium on the surface of the stainless steel base material is relatively reduced, An oxide film may not be formed as much as desired. Also, if the acid contains more than 20% by weight of the total weight of the selective etching solution, the content of the composition of the selective etching solution such as Piclal may be reduced and the selective etching efficiency may be deteriorated. Further, There may arise a problem that an oxide film of chromium can not be sufficiently formed.

또한, 상기 피크랄은 피크린산과 알코올의 혼합물로써, 상기 질산에 의하여 산화된 철, 니켈 또는 구리 등의 금속의 이온을 용해시키는 역할을 한다. 이때 만일 상기 피크랄의 함량이 질산 100 중량부에 대하여 25 중량부 미만으로 포함되는 경우 질산에 의해 산화된 금속 이온의 용해가 충분히 일어나지 않아, 스테인레스 모재 표면에 불순물로 남아 광택성이 저하될 우려가 있다. 또한 만일 상기 피크랄의 함량이 질산 100 중량부에 대하여 200 중량부를 초과하여 포함되는 경우, 금속 이온의 용해를 촉진한 후 피크랄이 불순물로 부유하게 되어, 스테인레스 모재 표면의 균일성 및 광택성이 저하되는 문제가 있을 수 있다.The Picallal is a mixture of picric acid and alcohol and dissolves ions of metal such as iron, nickel, or copper oxidized by the nitric acid. If the content of the above-mentioned polycarboxylic acid is less than 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of nitric acid, dissolution of the metal ions oxidized by nitric acid does not occur sufficiently, and the surface of the stainless steel base material remains impurities, have. If the content of the above-mentioned polycarboxylic acid exceeds 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of nitric acid, the polycarboxylic acid floats as an impurity after accelerating the dissolution of metal ions, and the uniformity and glossiness of the surface of the stainless- There may be a problem of degradation.

또한, 상기 과산화수소는 금속 이온을 산화시키는 촉매로 작용함과 동시에 분해를 완충하는 역할을 한다. 이때 만일 상기 과산화수소가 상기 질산 100 중량부에 대하여 25 중량부 미만으로 포함되는 경우 금속 이온의 산화가 충분히 일어나지 않고, 설사 산화가 이루어져도 균일성이 저하되어 불순물로 남아 스테인레스 모재 표면의 광택성을 저하시키는 원인이 될 수 있다. 또한, 만일 상기 과산화수소가 상기 질산 100 중량부에 대하여 200 중량부를 초과하는 경우 상기 선택적 에칭액의 기타 조성물의 함량이 상대적으로 저하되어 목적하는 금속의 제거가 용이하지 않을 수 있다.In addition, the hydrogen peroxide functions as a catalyst for oxidizing metal ions and serves to buffer decomposition. If the hydrogen peroxide is contained in an amount of less than 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the nitric acid, oxidation of the metal ions does not sufficiently take place, and even if oxidation is carried out, the uniformity is lowered so that impurities are left on the surface of the stainless steel base material . In addition, if the hydrogen peroxide exceeds 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the nitric acid, the content of the other composition of the selective etching solution may be relatively decreased, and the removal of the target metal may not be easy.

또한, 상기 글루콘산은 크롬 결정립계의 침식을 가속화시켜 표면을 산화막의 활성을 돕는 역할을 수행하고, 상기 옥살산은 두개의 카르복실기가 산화를 촉진하는 역할을 수행하며, 이때 만일 상기 글루콘산, 옥살산 및 계면활성제의 중량부가 상기 수치 범위 이외의 중량부를 가지는 경우, 산화가 충분히 일어나지 않아 균일한 산화막을 형성하는데 제한이 따르며 표면 처리 후 전극 전위값이 떨어지는 문제가 발생할 수 있다. Also, the gluconic acid accelerates the erosion of chromium grain boundaries to facilitate the activity of the oxide film on the surface, and the oxalic acid plays a role of accelerating the oxidation of two carboxyl groups. If the gluconic acid, oxalic acid, When the weight of the activator has a weight part other than the above-mentioned range, oxidation is not sufficiently carried out and there is a limitation in forming a uniform oxide film, and the electrode potential value after the surface treatment may be lowered.

상기 (1) 단계의 선택적 에칭을 통하여 상기 스테인레스 모재는 모재 표면에서 공식(pitting)으로 부식을 유발할 수 있는 제2성분이 제거되고, 제거되지 않은 제1성분의 노출을 유도할 수 있다. 즉, 상기 (1) 단계를 수행한 스테인레스 모재 표면부의 포함된 제1성분의 중량%는 스테인레스 모재의 내부에 포함된 제1성분의 중량% 보다 클 수 있다. 이때 스테인레스 모재 표면부는 도 2a 및 도2에 도시된 A 및 A' 영역을 의미하며 표층으로부터 0.01 ㎛ 이내의 영역일 수 있다. 일 예로, 후술할 실시예와 같이 상기 (1) 단계의 선택적 에칭을 통하여 스테인레스 모재 표면부에 포함된 전체 금속성분 중 제1성분인 크롬의 중량%는 스테인레스 모재 내부에 포함된 전체 금속성분 중 제1성분인 크롬의 중량%보다 큰 값을 가질 수 있다. 이를 통해 후술할 부동태 처리에서 크롬 산화피막을 보다 균일하고 두껍게 형성할 수 있어 스테인레스 강의 내부식성 및 광택성이 크게 향상될 수 있다.Through the selective etching of step (1), the stainless steel base material can remove the second component that may cause corrosion by pitting on the surface of the base metal, and can induce exposure of the first component that has not been removed. That is, the weight percentage of the first component included in the surface of the stainless steel base material subjected to the step (1) may be greater than the weight percentage of the first component contained in the stainless base metal. At this time, the surface portion of the stainless steel base material refers to the regions A and A 'shown in FIGS. 2A and 2 and may be a region within 0.01 μm from the surface layer. For example, as in the following embodiments, the weight percentage of chromium, which is the first component of all the metal components included in the surface portion of the stainless steel base material through the selective etching of the step (1), of the entire metal components contained in the stainless base metal It may have a value larger than the weight% of chromium which is one component. This makes it possible to form the chromium oxide film more uniformly and thickly in passivation treatment to be described later, so that the corrosion resistance and gloss of the stainless steel can be greatly improved.

다음, 본 발명의 (2) 단계로써 상기 선택적 에칭된 스테인레스 모재에 전해연마액을 처리하여 전해연마 시키는 단계를 수행한다. 상기 전해연마 단계는 양극 산화에 의하여 표면 요철을 제거하고 광택성을 부여하는 단계이며 보다 구체적으로 상기 선택적 에칭된 스테인레스 모재의 요철에서 볼록한 부분에 전류가 집중됨으로 인해 연마되어 표면 조도가 낮아지고 광택성이 향상될 수 있다. (도2b의 A' 및 도 3의 A'' 참조)Next, in the step (2) of the present invention, the step of electrolytically polishing the selectively etched stainless base material by treating the electrolytic polishing liquid is performed. The electrolytic polishing step is a step of removing the surface irregularities by anodic oxidation and imparting luster. More specifically, since the current is concentrated on the convex portions of the irregularities of the selectively etched stainless steel base material, the surface roughness is lowered, Can be improved. (See A 'in FIG. 2B and A' 'in FIG. 3)

이를 위해 상기 스테인레스 모재를 30 ℃ ~ 120 ℃의 온도 및 5 ~ 90 ASD(A/dm2)의 전류밀도에서 전해연마액에 10 ~ 500 초간 침지시켜 전해연마를 수행할 수 있으며, 보다 바람직하게는 10 ~ 20 ASD(A/dm2)의 전류밀도에서 전해연마액에 120 ~ 210초간 침지시켜 전해연마를 수행할 수 있다.For this purpose, the stainless steel base material may be immersed in an electrolytic polishing solution at a temperature of 30 ° C. to 120 ° C. and a current density of 5 to 90 ASD (A / dm 2 ) for 10 to 500 seconds, It is possible to perform electrolytic polishing by immersing in an electrolytic polishing solution for 120 to 210 seconds at a current density of 10 to 20 ASD (A / dm 2 ).

만일 전해연마 온도가 30 ℃ 미만인 경우 전기 분해 시 발생되는 산소 가스로 인한 결무늬 현상이 발생할 수 있고, 전해연마 온도가 120 ℃를 초과하는 경우, 우수한 광택성을 얻을 수 있으나 비산되는 가스를 용이하게 제어할 수 없는 제한이 따른다.If the electrolytic polishing temperature is less than 30 ° C, a fringing phenomenon may occur due to oxygen gas generated during electrolysis. When the electrolytic polishing temperature exceeds 120 ° C, excellent luster can be obtained. However, There are restrictions that can not be controlled.

또한, 만일 전류밀도가 5 A/dm2 미만일 경우, 스테인레스 모재 표면의 외관 광택성이 저하될 우려가 있으며, 스테인레스 모재 표면의 모서리부와 중심부에 각각 엷은 광택과 흐린 현상이 반복되어 나타남으로 인한 광택 균일도 또한 저하될 수 있다.If the current density is less than 5 A / dm 2 , there is a possibility that the appearance gloss of the surface of the stainless steel base material is lowered, and the gloss and blurring phenomenon repeatedly appear at the corners and center portions of the surface of the stainless steel base material, The uniformity may also be lowered.

또한, 만일 침지 시간이 10초 미만일 경우, 표면 요철이 충분히 감소되지 못하여 표면 조도를 목적하는 만큼 낮추지 못할 수 있으며, 침지 시간이 500초를 초과하는 경우, 요철 제거 및 광택성 향상 측면에서는 유리할 수 있으나 비용이 증가하여 얻는 효과 대비 경제적이지 못한 단점이 있다.If the immersion time is less than 10 seconds, the surface irregularities may not be sufficiently reduced and the surface roughness may not be lowered as desired. If the immersion time exceeds 500 seconds, There is a disadvantage that it is not economical compared to the effect obtained by the increase of the cost.

이때, 상기 전해연마액은 황산 100 중량부에 대하여, 200 ~ 350 중량부의 인산, 0.5 ~ 25 중량부의 계면활성제 및 물을 포함할 수 있으며, 보다 바람직하게는 황산 100 중량부에 대하여, 260 ~ 300 중량부의 인산, 2 ~ 20 중량부의 계면활성제를 포함할 수 있다. The electrolytic polishing solution may contain 200 to 350 parts by weight of phosphoric acid, 0.5 to 25 parts by weight of a surfactant and water per 100 parts by weight of sulfuric acid, more preferably 260 to 300 parts by weight per 100 parts by weight of sulfuric acid. Parts by weight of phosphoric acid, and 2 to 20 parts by weight of a surfactant.

상기 황산은 인산과 더불어 스테인레스 모재 표면의 금속 요철을 제거하여 표면 조도를 낮추는 역할을 하며, 상기 황산은 전해연마액 전체 중량에서 40 ~ 50 중량%로 포함될 수 있다. 만일 황산이 전해연마액에 40 중량% 미만으로 포함되거나, 인산이 황산 100 중량부에 대하여 200 중량부 미만으로 포함되는 경우, 표면 요철이 충분히 제거되지 않거나, 제거된다 하더라도 목적하는 만큼 표면 조도를 균일하게 낮추기 어려울 수 있다. 또한 만일 상기 황산이 전해연마액에 50 중량%를 초과하여 포함되는 경우 국부 침식(pit)이 발생하여 스테인레스 모재 표면 외관이 조잡하게 될 우려가 있으며, 인산이 황산 100 중량부에 대하여 350 중량부를 초과하는 경우, 표면 요철 제거 측면에서는 유리할 수 있으나, 스테인레스 모재 표면의 광택성이 떨어지는 문제가 있을 수 있다.The sulfuric acid serves to lower the surface roughness by removing metal irregularities on the surface of the stainless steel base material in addition to phosphoric acid. The sulfuric acid may be contained in an amount of 40 to 50% by weight based on the total weight of the electrolytic polishing solution. If sulfuric acid is contained in the electrolytic polishing solution in an amount of less than 40% by weight or phosphoric acid is contained in an amount of less than 200 parts by weight based on 100 parts by weight of sulfuric acid, surface irregularities are not sufficiently removed, It can be difficult to lower. If the sulfuric acid is contained in the electrolytic polishing solution in an amount exceeding 50% by weight, local corrosion may occur and the appearance of the surface of the stainless steel base material may become coarse. If the amount of phosphoric acid exceeds 350 parts by weight based on 100 parts by weight of sulfuric acid , It may be advantageous from the viewpoint of surface unevenness removal, but there may be a problem that the surface of the stainless steel base material is inferior in glossiness.

상기 (2) 단계의 전해연마 단계를 통해 스테인레스 모재 표면에 제1성분의 요철이 평탄화되어 표면 조도가 낮아질 수 있고, 후술한 (3) 단계의 산화피막 형성의 균일성을 제고하여 내부식성 향상에 기여할 수 있다.The irregularities of the first component can be flattened on the surface of the stainless steel base material through the electrolytic polishing step of the step (2) to lower the surface roughness, and the uniformity of the formation of the oxide film in the step (3) You can contribute.

다음, 본 발명의 (3) 단계로써, 상기 전해연마된 스테인레스 모재에 부동태 처리액을 처리하여 산화피막을 형성시키는 단계를 수행한다. (도 4)Next, as step (3) of the present invention, a step of treating the passive corrosion treatment liquid on the electrolytically polished stainless base material to form an oxide film is carried out. (Figure 4)

상기 산화피막(A''')을 형성시키는 단계는 스테인레스 모재의 제1성분에 대한 산화물을 형성시켜, 스테인레스 모재 표면에 산화피막이 치밀하게 형성되도록 하는 단계이다. 이로 인해 스테인레스 모재 표면의 부식 저항이 강해져서 내부식성이 현저히 향상됨과 동시에 열변색 저항성이 강해져서 표면의 광택성 또한 향상될 수 있다. 일 예로 상기 제1성분이 크롬일 경우, 스테인레스 모재 표면에 크롬 산화피막이 형성될 수 있다. 즉 전술한 (1) 및 (2) 단계의 선택적 에칭 및 전해연마단계를 거치면서 스테인레스 모재 표면에 크롬성분의 노출이 극대화 되는 경우, 상기 (3) 단계의 부동태 처리액을 처리하여 치밀한 크롬 산화피막을 형성시킬 수 있다.The step of forming the oxide film (A '' ') is a step of forming an oxide for the first component of the stainless steel base material so that an oxide film is densely formed on the surface of the stainless base material. As a result, the corrosion resistance on the surface of the stainless steel base material becomes strong, so that the corrosion resistance is remarkably improved, and the resistance to thermal discoloration becomes strong, so that the gloss of the surface can be improved. For example, when the first component is chromium, a chromium oxide coating may be formed on the surface of the stainless steel base material. That is, when the exposure of the chromium component to the surface of the stainless steel base material is maximized through the selective etching and electrolytic polishing steps of the above steps (1) and (2), the passivation solution of step (3) is treated to form a dense chromium oxide film Can be formed.

이를 위해 30 ℃ ~ 90 ℃의 온도 조건에서 상기 스테인레스 모재를 부동태 처리액에 및 5 ~ 40 분간 침지시킬 수 있다. 부동태 처리액에 대한 침지시간이 5분미만일 경우 산화피막이 치밀하게 형성되지 않을 수 있으며, 침지시간이 40분을 초과하는 경우 치밀한 산화피막 형성에 용이할 수 있으나, 산화피막의 박막화에 불리할 수 있다.For this purpose, the stainless base material can be immersed in the passive processing solution for 5 to 40 minutes at a temperature of 30 ° C to 90 ° C. If the immersion time for the passivation solution is less than 5 minutes, the oxidation film may not be formed densely. If the immersion time exceeds 40 minutes, it may be easy to form a dense oxidation film, but it may be disadvantageous for making the oxidation film thinner .

이때 상기 부동태 처리액은 질산 100 중량부에 대하여, 30 ~ 200 중량부의 과산화수소, 15 ~ 100 중량부의 구연산, 100 ~ 250 중량부의 물 및 0.3 ~ 25의 계면활성제를 포함할 수 있으며 보다 바람직하게는 질산 100 중량부에 대하여, 50 ~ 160 중량부의 과산화수소, 25 ~ 85 중량부의 구연산, 120 ~ 200 중량부의 물 및 1 ~ 15의 계면활성제를 포함할 수 있다.The passivation solution may contain 30 to 200 parts by weight of hydrogen peroxide, 15 to 100 parts by weight of citric acid, 100 to 250 parts by weight of water, and 0.3 to 25 surfactants per 100 parts by weight of nitric acid, Per 100 parts by weight of water, 50 to 160 parts by weight of hydrogen peroxide, 25 to 85 parts by weight of citric acid, 120 to 200 parts by weight of water and 1 to 15 surfactants.

상기 질산은 크롬을 산화시키는 역할을 하며 부동태 처리액 전체 중량에 대하여 20 ~ 30 중량%로 포함될 수 있다. 만일 상기 질산이 부동태 처리액 전체 중량에 대하여 20 중량% 미만으로 포함되는 경우 스테인레스 모재 표면에 노출된 크롬에 대한 불균일한 산화가 진행되어, 치밀한 산화피막 형성에 불리할 수 있으며 만일 30 중량%를 초과하는 경우 크롬을 완전히 산화시키고 남은 질산으로 인한 스테인레스 모재 표면에 손상이 발생할 수 있다. The nitric acid serves to oxidize chromium and can be contained in an amount of 20 to 30% by weight based on the total weight of the passive treatment liquid. If the nitric acid is contained in an amount of less than 20% by weight based on the total weight of the passive processing solution, non-uniform oxidation to chromium exposed on the surface of the stainless base material proceeds, which may be disadvantageous for forming a dense oxide film. , The chromium may be completely oxidized and the surface of the stainless steel base material may be damaged due to the remaining nitric acid.

상기 과산화수소는 고유의 자체 분해 반응으로 인하여 크롬의 산화반응에서 산소를 제공하는 역할을 하며, 만일 질산 100 중량부에 대하여 25 중량부 미만으로 부동태 처리액에 포함되는 경우 전극전위가 저하되어 크롬 산화막의 두께가 낮아지고, 이로 인한 내식성 저하가 유발될 수 있다.The hydrogen peroxide serves to provide oxygen in the oxidation reaction of chromium due to intrinsic self-decomposition reaction. If the hydrogen peroxide is contained in the passive treatment solution in an amount of less than 25 parts by weight based on 100 parts by weight of nitric acid, the electrode potential lowers, The thickness may be lowered, and the corrosion resistance may be deteriorated.

이와 같이 본 발명에 따른 스테인레스 강의 표면처리방법은 전술한 (1) 내지 (3) 단계를 통해 스테인레스 모재 표면에 부식을 유발하는 물질을 선택적으로 제거하고, 스테인레스 강 표면에 보다 많은 크롬 산화물을 치밀하게 형성함으로써 우수한 표면 광택성, 내식성 및 고온 내변색성을 나타내는 스테인레스 강을 얻을 수 있다.As described above, the surface treatment method of stainless steel according to the present invention is a method for selectively removing the corrosion-causing substance on the surface of the stainless steel base material through the steps (1) to (3) It is possible to obtain a stainless steel exhibiting excellent surface luster, corrosion resistance and high temperature discoloration resistance.

나아가 본 발명은 스테인레스 모재 표면부 상에 형성된 제1성분에 대한 산화피막을 포함하고, 표면조도(Ra)가 0.07 μm 이하인 스테인레스 강을 구현한다. Further, the present invention provides a stainless steel including an oxide film for the first component formed on the surface of the stainless steel base material, and having a surface roughness (Ra) of 0.07 탆 or less.

상기 스테인레스 강은 전술한 선택적 에칭 단계, 전해연마 단계 및 부동태 처리 단계를 통해 0.7 μm 이하의 Ra, 0.09μm 이하의 Rq 및 0.51μm 이하의 Rz 값을 가질 수 있으며, 낮은 표면조도로 인해 우수한 광택성을 나타낸다. 일 예로 상기 스테인레스 강은 20°에서 1000 GU(Gloss Unit) 이상의 광택도를 가질 수 있고, 60°에서는 600 GU 이상의 광택도를 가질 수 있으며, 85°에서 100 GU 이상의 광택도를 가질 수 있다.The stainless steel may have an Ra of less than 0.7 m, an Rq of less than 0.09 m and an Rz value of less than 0.51 m through the above-described selective etching step, electrolytic polishing step and passivation step, . For example, the stainless steel may have a gloss of more than 1000 GU (Gloss Unit) at 20 °, more than 600 GU at 60 °, and a gloss of more than 100 GU at 85 °.

또한 상기 스테인레스 강은 표면에 형성된 치밀한 산화피막으로 인해 우수한내부식성을 나타내며 일 예로, 360mV 이상의 부식전위(Ecorr)를 가질 수 있다.In addition, the stainless steel exhibits excellent corrosion resistance due to a dense oxide film formed on the surface, and may have a corrosion potential (Ecorr) of 360 mV or more, for example.

이하, 본 발명을 하기 실시예들을 통해 보다 상세하게 설명한다. 하기 실시예들은 본 발명을 예시하기 위하여 제시된 것일 뿐 본 발명의 권리범위가 하기 실시예들에 의하여 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. The following examples are provided to illustrate the present invention, but the scope of the present invention is not limited by the following examples.

[[ 실시예Example 1] One]

탄소 0.1%, 니켈 14.8%, 크롬 16.9%, 망간 0.9%, 실리콘 0.4%, 철 66.9% 성분을 가지는 오스테나이크계 스테인레스 모재를 20 중량%의 질산, 15 중량%의 피크랄, 20 중량%의 과산화수소, 5 중량%의 글루콘산 나트륨, 5 중량%의 옥살산, 2 중량%의 계면활성제를 포함하는 선택적 에칭액에 70℃의 온도에서 20 분간 침지시켜 선택적 에칭하고 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.Austenic stainless steel base material having 0.1% carbon, 14.8% nickel, 16.9% chromium, 0.9% manganese, 0.4% silicon and 66.9% iron was mixed with 20 wt% nitric acid, 15 wt% , 5% by weight of sodium gluconate, 5% by weight of oxalic acid, and 2% by weight of a surfactant was immersed in a selective etching solution at a temperature of 70 캜 for 20 minutes to selectively etch the resultant.

다음으로, 선택적 에칭된 상기 스테인레스 모재를 45 중량%의 황산, 45 중량%의 인산, 7 중량%의 물 및 3 중량%의 계면활성제를 포함하는 전해연마액에, 20 A/dm2 의 전류밀도 및 75 ℃의 온도에서 약 150초 간 침지시켜 전해연마를 수행하였다.Next, the selectively etched stainless steel base material was immersed in an electrolytic polishing solution containing 45 wt% sulfuric acid, 45 wt% phosphoric acid, 7 wt% water, and 3 wt% of surfactant at a current density of 20 A / dm 2 And 75 Lt; 0 > C for about 150 seconds to perform electrolytic polishing.

이후, 전해연마된 상기 스테인레스 모재를 25 중량%의 질산, 25 중량%의 과산화수소, 10 중량%의 구연산, 39 중량%의 물 및 1 중량%의 계면활성제를 포함하는 부동태 처리액에 50℃의 온도에서 10분간 침지시켜 부동태 처리를 수행하였다.Thereafter, the electrolytically polished stainless base material was immersed in a passivation solution containing 25 wt% of nitric acid, 25 wt% of hydrogen peroxide, 10 wt% of citric acid, 39 wt% of water and 1 wt% of a surfactant, For 10 minutes to perform passivation treatment.

[[ 실시예Example 2 ~ 10] 2 to 10]

선택적 에칭액의 조성을 표 1과 같이 변경하여 실시한 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하였다.The composition of the selective etching solution was changed as shown in Table 1, and the same procedure as in Example 1 was carried out.

[[ 비교예Comparative Example 1] One]

선택적 에칭을 수행하지 않은 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 실시하였다.The same process as in Example 1 was carried out except that selective etching was not performed.

구분division 선택정 에칭액 조성(중량%)Selective etching solution composition (% by weight) 질산nitric acid 피크랄Pechral 과산화수소Hydrogen peroxide 글루콘산 Gluconic acid 옥살산Oxalic acid 계면활성제Surfactants water 실시예 1Example 1 1818 1818 1818 1818 55 22 2121 실시예 2Example 2 99 1717 1717 1717 88 44 2828 실시예 3Example 3 2323 1515 1515 1515 55 22 2525 실시예 4Example 4 1818 88 1818 1818 55 22 3131 실시예 5Example 5 1212 2626 1212 1212 55 22 3131 실시예 6Example 6 1818 1818 88 1818 55 22 3131 실시예 7Example 7 1212 1212 2626 1212 55 22 3131 실시예 8Example 8 1818 1818 1818 88 55 22 3131 실시예 9Example 9 1212 1212 1212 2626 55 22 3131 실시예 10Example 10 1818 1818 1818 1818 22 22 2424 실시예 11Example 11 1212 1212 1212 1212 1515 22 3535

실시예 1
내지
실시예 11
Example 1
To
Example 11
선택적 에칭 전 함량(중량%)Selective Etching Content (wt.%)
탄소carbon 니켈nickel 크롬chrome 망간manganese 실리콘silicon iron 0.10.1 14.814.8 16.916.9 0.90.9 0.40.4 66.966.9 구분division 선택적 에칭 후 함량(중량%)Content after selective etching (% by weight) 탄소carbon 니켈nickel 크롬chrome 망간manganese 실리콘silicon iron 실시예 1Example 1 0.140.14 11.211.2 32.532.5 0.760.76 0.90.9 54.554.5 실시예 2Example 2 0.150.15 12.312.3 26.626.6 0.770.77 0.780.78 59.459.4 실시예 3Example 3 0.180.18 13.213.2 25.425.4 0.740.74 0.880.88 59.659.6 실시예 4Example 4 0.190.19 12.812.8 27.227.2 0.710.71 0.780.78 58.3258.32 실시예 5Example 5 0.210.21 12.112.1 27.427.4 0.740.74 0.790.79 58.7658.76 실시예 6Example 6 0.210.21 12.812.8 26.826.8 0.750.75 0.780.78 58.6658.66 실시예 7Example 7 0.190.19 13.113.1 26.726.7 0.760.76 0.80.8 58.4558.45 실시예 8Example 8 0.180.18 13.113.1 25.125.1 0.770.77 0.820.82 60.0360.03 실시예 9Example 9 0.190.19 12.512.5 26.126.1 0.740.74 0.830.83 59.6459.64 실시예 10Example 10 0.220.22 11.811.8 24.824.8 0.730.73 0.840.84 61.6161.61 실시예 11Example 11 0.230.23 13.513.5 24.124.1 0.770.77 0.850.85 60.5560.55 *스테인레스 강 표면 15nm 기준 * Stainless steel surface based on 15nm

상기 표 1 및 표 2를 참조하면, (1) 단계에 따른 선택적 에칭액이 본 발명의 수치범위를 모두 만족하는 실시예 1의 경우, 선택적 에칭액의 조성 중 어느 하나가 본 발명의 수치범위를 만족하지 못하는 실시예 2 내지 11의 대비 스테인레스 강 표면 15 nm에서 크롬의 함량이 최대 35% 더 포함되어 있음을 알 수 있다. 즉 본 발명의 수치범위를 만족하는 선택적 에칭액을 사용하는 경우 철, 니켈 등의 부식을 유발하는 물질들은 제거함과 동시에 스테인레스 강 표면의 크롬의 함량을 증가시켜 이후 단계를 통해 보다 많은 크롬 산화물을 치밀하게 형성함으로써 우수한 표면 광택성, 내부식성 및 고온 내변색성을 나타내는 스테인레스 강을 제공할 수 있다.Referring to Tables 1 and 2, in the case of Example 1 in which the selective etching solution according to the step (1) satisfies the numerical ranges of the present invention, any one of the compositions of the selective etching solutions does not satisfy the numerical range of the present invention It can be seen that the content of chromium is up to 35% at the 15 nm of the comparative stainless steel surface of Examples 2 to 11 which can not be obtained. That is, when a selective etching solution satisfying the numerical range of the present invention is used, the corrosion-causing substances such as iron and nickel are removed, and at the same time, the content of chromium on the surface of the stainless steel is increased so that more chromium oxide is densely It is possible to provide stainless steel exhibiting excellent surface luster, corrosion resistance and high temperature discoloration resistance.

[[ 실험예Experimental Example 1] 광택도 평가 1] gloss evaluation

실시예 1 내지 11 및 비교예 1을 통해 제조된 스테인레스 모재를 측정장비(NIPPON DENSHOKU/PG-1M)로 입사각 20°, 60° 및 85°에서 광택도를 측정하여 하기 표 3에 나타내었다.The gloss of the stainless steel base material prepared in Examples 1 to 11 and Comparative Example 1 was measured at incidence angles of 20 °, 60 ° and 85 ° using a measuring instrument (NIPPON DENSHOKU / PG-1M).

구분division 20°20 ° 60°60 ° 85°85 ° 실시예 1Example 1 10591059 652652 113.1113.1 실시예 2Example 2 898.2898.2 514.3514.3 101.5101.5 실시예 3Example 3 842.3842.3 489.4489.4 99.499.4 실시예 4Example 4 746.4746.4 433.6433.6 97.797.7 실시예 5Example 5 812.3812.3 470.6470.6 98.398.3 실시예 6Example 6 784.5784.5 452.7452.7 97.997.9 실시예 7Example 7 847.4847.4 490.5490.5 99.699.6 실시예 8Example 8 792.6792.6 456.4456.4 98.198.1 실시예 9Example 9 724.6724.6 415.8415.8 96.596.5 실시예 10Example 10 759.4759.4 440.2440.2 96.896.8 실시예 11Example 11 811.3811.3 469.4469.4 98.398.3 비교예 1Comparative Example 1 112.9112.9 132.9132.9 94.594.5

상기 표 3을 참조하면, (1) 단계에 따른 선택적 에칭액이 본 발명의 수치범위를 모두 만족하는 실시예 1의 경우, 선택적 에칭액의 조성 중 어느 하나가 본 발명의 수치범위를 만족하지 못하는 실시예 2 내지 11의 대비 우수한 광택도를 나타냄을 알 수 있다. 즉 본 발명의 수치범위를 만족하는 선택적 에칭액을 사용하는 경우 20°에서 1000 GU(Gloss Unit) 이상의 광택도를 가질 수 있고, 60° 에서는 600 GU 이상의 광택도를 가질 수 있으며, 85°에서 100 GU 이상의 광택도를 가질 수 있다. 나아가 선택적 에칭 단계를 수행하지 않은 비교예 1 대비 최대 900% 이상의 광택도를 나타내어, 자동차용 머플러 또는 테일트림과 같이 외관의 감성 품질이 중요시되는 산업군에서 활용도를 크게 제고시킬 수 있다. Referring to Table 3, in the case of Example 1 in which the selective etching solution according to the step (1) satisfies all the numerical ranges of the present invention, in the case where any of the compositions of the selective etching solutions does not satisfy the numerical range of the present invention 2 to 11 shows excellent glossiness. That is, when a selective etching solution satisfying the numerical range of the present invention is used, it can have a gloss of more than 1000 GU (Gloss Unit) at 20 °, a gloss of 600 GU or more at 60 °, Or more. Furthermore, it exhibits a glossiness of 900% or more higher than that of Comparative Example 1 in which the selective etching step is not performed. Thus, it is possible to greatly improve the utilization in an industrial group in which the quality of the sensibility of the appearance is important, such as a muffler for motor vehicles or a tail trim.

[[ 실험예Experimental Example 2] 표면 조도 평가 2] Surface roughness evaluation

실시예 1 및 비교예 1의 선택적 에칭 단계, 전해연마 단계 및 부동태 처리 단계를 각각 수행하기 전 표면 조도를 측정하여 하기 표 4에 나타내었다.Surface roughness was measured before performing each of the selective etching step, the electrolytic polishing step and the passivation step of Example 1 and Comparative Example 1, and is shown in Table 4 below.

실시예 1Example 1 표면조도Surface roughness 초기Early 선택적 에칭+전해 연마Selective Etching + Electrolytic Polishing 부동태처리Passive processing RaRa 0.8880.888 0.0720.072 0.0660.066 RqRq 0.1190.119 0.0930.093 0.0870.087 RzRz 0.7840.784 0.5110.511 0.50.5 비교예 1Comparative Example 1 표면조도Surface roughness 초기Early 전해연마Electrolytic polishing 부동태처리Passive processing RaRa 0.8880.888 0.1130.113 0.1050.105 RqRq 0.1190.119 0.1750.175 0.1640.164 RzRz 0.7840.784 0.6030.603 0.6190.619

상기 표 4를 참조하면, 전해연마 단계 수행 전 선택적 에칭 단계를 수행한 실시예 1의 경우, 선택적 에칭 단계를 수행하지 않고 전해연마 단계를 수행한 비교예 1 대비 표면조도 값이 현저히 낮은 값을 나타냄을 알 수 있다. 즉, 선택적 에칭 단계를 수행함으로써 스테인레스 모재 표면 요철에 전류를 집중시킴으로써 연마 정도가 높임으로써 이후 부동태처리 단계 후에도 크게 낮은 표면조도를 나타냄을 알 수 있다. 이를 통해 스테인레스 모재 표면의 모서리부와 중심부에 각각 엷은 광택과 흐린 현상이 반복되어 나타나는 불량 등을 용이하게 제어할 수 있고, 낮은 표면 조도로 인한 높은 광택성을 나타냄과 동시에 광택 균일도 또한 향상시킬 수 있다. Referring to Table 4, in the case of Example 1 in which the selective etching step was performed before the electrolytic polishing step, the surface roughness value was significantly lower than that of Comparative Example 1 in which the electrolytic polishing step was performed without performing the selective etching step . That is, by performing the selective etching step, the degree of polishing is increased by concentrating the electric current on the surface irregularities of the stainless steel base material, so that it can be seen that the surface roughness is greatly reduced even after the passivation step. As a result, it is possible to easily control defects such as lightness and blurring appearing repeatedly at the corners and center portions of the stainless steel base material surface, high gloss due to low surface roughness and gloss uniformity can be improved .

[[ 실험예Experimental Example 3] 부식 전위 및 부식 전류 측정 3] Corrosion potential and corrosion current measurement

실시예 1 내지 11 및 비교예 1을 통해 제조된 스테인레스 모재의 부식 전위 및 부식 전류를 측정장비(AMETEK/VersaStudio V4)를 이용하여 측정하여 하기 표 5에 나타내었다.The corrosion potential and corrosion current of the stainless steel base material prepared in Examples 1 to 11 and Comparative Example 1 were measured using an AMETEK / VersaStudio V4 measuring device and are shown in Table 5 below.

구분division 부식전위(mV)Corrosion potential (mV) 부식전류(mA)Corrosion current (mA) 실시예 1Example 1 363.493363.493 -85.332-85.332 실시예 2Example 2 248.95248.95 -184.75-184.75 실시예 3Example 3 210.48210.48 -194.24-194.24 실시예 4Example 4 194.85194.85 -228.65-228.65 실시예 5Example 5 208.47208.47 -190.87-190.87 실시예 6Example 6 199.49199.49 -213.15-213.15 실시예 7Example 7 204.38204.38 -197.52-197.52 실시예 8Example 8 242.54242.54 -182.46-182.46 실시예 9Example 9 192.45192.45 -214.91-214.91 실시예 10Example 10 219.48219.48 -194.28-194.28 실시예 11Example 11 234.31234.31 -189.40-189.40 비교예 1Comparative Example 1 -67.465-67.465 -410.21-410.21 *측정조건(potentio dynamic mode)
Step height : 2 mV
Step time : 0.2 sec
Scan rate(mV/sec) : 10
* Measuring conditions (potentio dynamic mode)
Step height: 2 mV
Step time: 0.2 sec
Scan rate (mV / sec): 10

또한 상기 표 5를 참조하면, (1) 단계에 따른 선택적 에칭액이 본 발명의 수치범위를 모두 만족하는 실시예 1의 경우, 선택적 에칭액의 조성 중 어느 하나가 본 발명의 수치범위를 만족하지 못하는 실시예 2 내지 11의 대비 최대 190% 높은 부식전위와 최대 약 100 mA 높은 부식전류를 나타내고 있어 내부식성이 현저히 우수함을 알 수 있다. 특히 선택적 에칭 단계를 수행하지 않은 비교예 1 대비 선택적 에칭 단계를 수행한 실시예 1의 경우 약 430 mV 더 높은 부식전위와 약 325 mA 높은 부식전류를 나타내고 있어, 선택적 에칭 단계를 통해 내부식성이 상대적으로 약한 철 및 니켈을 스테인레스 모재 표면에서 제거하고, 내부식성이 상대적으로 강한 크롬의 함량을 높임으로써 내부식성을 현저히 향상시킬 수 있음을 알 수 있다.Further, referring to Table 5, in the case of Example 1 in which the selective etching solution according to the step (1) satisfies the numerical range of the present invention, any one of the compositions of the selective etching solution does not satisfy the numerical range of the present invention It shows corrosion potentials up to 190% higher than those of Examples 2 to 11 and corrosion currents up to about 100 mA higher than those of Examples 2 to 11, showing remarkably excellent corrosion resistance. In particular, Example 1, which performed the selective etching step compared to Comparative Example 1 in which the selective etching step was not performed, exhibited a higher corrosion potential of about 430 mV and a corrosion current of about 325 mA, , It can be seen that the corrosion resistance can be remarkably improved by removing the weak iron and nickel from the surface of the stainless steel base material and increasing the content of chromium having a relatively high corrosion resistance.

이상에서 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 본 발명의 사상은 본 명세서에 제시되는 실시 예에 제한되지 아니하며, 본 발명의 사상을 이해하는 당업자는 동일한 사상의 범위 내에서, 구성요소의 부가, 변경, 삭제, 추가 등에 의해서 다른 실시 예를 용이하게 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명의 사상범위 내에 든다고 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

Claims (13)

(1) 스테인레스 모재를 표면부에 포함된 제1성분 및 제2성분 중 제2성분을 선택적 에칭하는 단계;
(2) 상기 선택적 에칭된 스테인레스 모재에 전해연마액을 처리하여 전해연마시키는 단계; 및
(3) 상기 전해연마된 스테인레스 모재에 부동태 처리액을 처리하여 산화피막을 형성시키는 단계; 를 포함하는 내식성 및 광택성이 우수한 스테인레스 강의 표면처리방법.
(1) selectively etching the first component and the second component contained in the surface portion of the stainless steel base material;
(2) electrolytically polishing the selectively etched stainless base material by treating the electrolytic polishing solution; And
(3) treating the electrolytically polished stainless base material with a passivation solution to form an oxide film; Wherein the surface of the stainless steel is excellent in corrosion resistance and gloss.
제1항에 있어서 상기 (1) 단계는,
상기 스테인레스 모재를 선택적 에칭액을 처리하여 제2성분을 제거하는 단계인 스테인레스 강의 표면처리방법.
The method of claim 1, wherein the step (1)
And treating the stainless steel base material with a selective etching solution to remove the second component.
제1항에 있어서,
상기 제2성분은 제1성분보다 산화되기 쉬운 스테인레스 강의 표면처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the second component is more susceptible to oxidation than the first component.
제1항에 있어서,
상기 제1성분은 크롬을 포함하고,
상기 제2성분은 철, 니켈 또는 구리 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하는 스테인레스 강의 표면처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the first component comprises chromium,
Wherein the second component comprises at least one of iron, nickel, and copper.
제2항에 있어서,
상기 선택적 에칭액은 질산 100 중량부에 대하여 25 ~ 200 중량부의 피크랄, 50 ~ 200 중량부의 과산화수소, 25 ~ 200 중량부의 글루콘산, 15 ~ 100 중량부의 옥살산 및 5 ~ 50 중량부의 계면활성제를 포함하는 스테인레스 강의 표면처리방법.
3. The method of claim 2,
Wherein the selective etchant comprises 25 to 200 parts by weight of a perchloric acid, 50 to 200 parts by weight of hydrogen peroxide, 25 to 200 parts by weight of gluconic acid, 15 to 100 parts by weight of oxalic acid, and 5 to 50 parts by weight of a surfactant, based on 100 parts by weight of nitric acid Method of surface treatment of stainless steel.
제2항에 있어서 상기 (1) 단계는,
상기 스테인레스 모재를 30 ℃ ~ 100 ℃의 온도에서 상기 선택적 에칭액에 2 ~ 60 분간 처리하는 스테인레스 강의 표면처리방법.
The method of claim 2, wherein the step (1)
Wherein the stainless steel base material is treated with the selective etching solution at a temperature of 30 DEG C to 100 DEG C for 2 to 60 minutes.
제1항에 있어서,
상기 (1) 단계를 수행한 스테인레스 모재 표면부의 포함된 제1성분의 중량%는 스테인레스 모재의 내부에 포함된 제1성분의 중량% 보다 큰 스테인레스 모재 스테인레스 강의 표면처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the weight percentage of the first component included in the surface of the stainless steel base material subjected to the step (1) is greater than the weight percentage of the first component contained in the stainless base metal.
제1항에 있어서,
상기 전해연마액은 황산 100 중량부에 대하여, 200 ~ 350 중량부의 인산, 0.5 ~ 25 중량부의 계면활성제를 포함하는 스테인레스 강의 표면처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the electrolytic polishing liquid contains 200 to 350 parts by weight of phosphoric acid and 0.5 to 25 parts by weight of a surfactant based on 100 parts by weight of sulfuric acid.
제8항에 있어서,
상기 스테인레스 모재를 30 ℃ ~ 120 ℃의 온도 및 5 ~ 90 A/dm2의 전류밀도에서 상기 전해연마액에 10 ~ 500 초간 처리하는 스테인레스 강의 표면처리방법.
9. The method of claim 8,
Wherein said stainless base material is treated with said electrolytic polishing solution for 10 to 500 seconds at a temperature of 30 ° C to 120 ° C and a current density of 5 to 90 A / dm 2 .
제1항에 있어서,
상기 부동태 처리액은 질산 100 중량부에 대하여, 30 ~ 200 중량부의 과산화수소, 15 ~ 100 중량부의 구연산, 100 ~ 250 중량부의 물 및 0.3 ~ 25의 계면활성제를 포함하는 스테인레스 강의 표면처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the passive treatment liquid comprises 30 to 200 parts by weight of hydrogen peroxide, 15 to 100 parts by weight of citric acid, 100 to 250 parts by weight of water and 0.3 to 25 surfactants per 100 parts by weight of nitric acid.
스테인레스 모재 표면부 상에 형성된 제1성분에 대한 산화피막을 포함하고, 표면조도(Ra)가 0.07 μm 이하인 스테인레스 강.A stainless steel comprising an oxide film for a first component formed on a surface of a stainless steel base material and having a surface roughness (Ra) of 0.07 탆 or less. 제11항에 있어서,
상기 스테인레스 강은 360 mV 이상의 부식전위(Ecorr)를 가지는 스테인레스 강.
12. The method of claim 11,
Wherein the stainless steel has a corrosion potential (Ecorr) of 360 mV or more.
제11항에 있어서,
상기 스테인레스 강은 20°에서 1000 GU 이상의 광택도를 가지고, 60°에서 600 GU 이상의 광택도를 가지며, 85°에서 100 GU 이상의 광택도를 가지는 스테인레스 강.
12. The method of claim 11,
The stainless steel has a gloss of more than 1000 GU at 20 °, a gloss of more than 600 GU at 60 °, and a gloss of more than 100 GU at 85 °.
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