KR20180101321A - 다중 디스플레이를 포함하는 디스플레이 시스템에서의 모아레 간섭을 줄이기 위한 굴절 빔 맵퍼를 사용하는 방법 및 시스템 - Google Patents

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Abstract

멀티 디스플레이 시스템(예컨대, 다중 디스플레이 패널을 포함하는 디스플레이)은 3 차원(3D) 피처를 관찰자(들)에게 디스플레이하기 위해 서로 실질적으로 평행하게 배열된 적어도 제1 및 제2 디스플레이(예로서, 디스플레이 패널 또는 디스플레이 층)를 포함한다. 모아레 간섭을 줄이기 위해 적어도 굴절 빔 맵퍼(RBM)와 같은 광학 요소(들)가 사용된다.

Description

다중 디스플레이를 포함하는 디스플레이 시스템에서의 모아레 간섭을 줄이기 위한 굴절 빔 맵퍼를 사용하는 방법 및 시스템
본 출원은 2016년 1월 20일자로 출원된 미국 가특허 출원 제62/281,037호(참조 번호 6468-16), 2016년 1월 20일자로 출원된 제62/280,993호(참조 번호 6468-17); 및 2015년 10월 2일자로 출원된 제62/236,776호(참조 번호 6468-8) 각각에 관련하며 그에 대한 우선권을 주장하고, 이들 모두는 그 전문이 본 명세서에 참조로 통합되어 있다.
본 발명은 적어도 제1 및 제2 디스플레이(예컨대, 디스플레이 패널 또는 디스플레이 층)가 실질적으로 서로 평행하게 배열되어 3 차원(3D) 피처를 관찰자(들)에게 보여주는 멀티 디스플레이 시스템(예로서, 다중 디스플레이 패널/디스플레이 층을 포함하는 디스플레이)에 관한 것이다. 따라서, 본 발명은 일반적으로 디스플레이에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 3 차원 피처를 디스플레이하기 위한 디스플레이 시스템 및 방법에 관한 것이다.
전통적으로, 디스플레이는 이차원으로 정보를 표시한다. 이러한 디스플레이에 의해 디스플레이된 이미지는 깊이 정보가 없는 평면 이미지이다. 사람들은 세계를 3 차원에서 관찰하기 때문에 3 차원으로 대상을 디스플레이할 수 있는 디스플레이를 제공하려는 노력이 이루어져 왔다. 예로서, 스테레오 디스플레이는 좌측 및 우측 눈에 개별적으로 디스플레이되는 오프셋 이미지를 디스플레이하여 깊이 정보를 전달한다. 관찰자가 이들 평면 이미지를 볼 때, 이들은 두뇌에서 결합되어 깊이에 대한 인식을 제공한다. 그러나, 그러한 시스템은 복잡하고 디스플레이된 대상의 사실적인 인식을 제공하기 위해 증가된 해상도 및 프로세서 계산 능력을 필요로 한다.
적층 배열된 다중 디스플레이 스크린을 포함한 다중 구성요소 디스플레이가 실제 깊이를 디스플레이하기 위해 개발되어 왔다. 각각의 디스플레이 스크린은 그 자신의 이미지를 디스플레이하여 디스플레이 스크린의 물리적 변위로 인해 시각적 깊이를 제공할 수 있다. 예로서, 멀티 디스플레이 시스템은 미국 특허 공보 제2015/0323805호 및 제2016/0012630호에 개시되어 있으며, 이들의 개시내용은 둘 모두가 본원에 참고로 포함된다.
제1 및 제2 디스플레이 또는 디스플레이 층이 멀티 디스플레이 시스템에서 통상적으로 서로 적층되면 모아레 간섭이 발생한다. 모아레 간섭은 관찰자의 망막에 투영될 때 층 내의 컬러 필터 사이의 상호 작용에 의해 유발된다. 예로서, 녹색 컬러 필터들이 겹쳐지면 광이 투과되어 비교적 밝은 패치를 형성한다. 녹색 필터가 소위 적색 필터 위에 있으면 많은 광이 투과되지 않아 어두운 영역을 형성한다. 후면 및 전면 디스플레이 또는 디스플레이 층은 망막에 투영될 때 약간 다른 크기를 가지기 때문에 픽셀은 동위상으로부터 위상차를 갖는 상태로 천천히 변한다. 이는 다르게는 모아레 간섭이라 알려져 있는 어둡고 밝은 밴드들을 생성하는 효과가 있다.
본 발명의 특정 예시적인 실시예는 MLD 시스템에서의 모아레 간섭을 없애거나 실질적으로 없애지만 후면 디스플레이 해상도 및 콘트라스트를 크게 희생시키지 않는 해결책(들)을 제공한다. 본 발명의 특정 예시적 실시예에서, MLD 시스템은 제1 및 제2 디스플레이를 포함한다. 모아레 간섭을 줄이거나 제거하기 위해 굴절 빔 맵퍼(RBM)를 사용할 수 있다.
본 발명의 예시적 실시예에 따라, 디스플레이 장치가 제공되며, 제1 이미지를 디스플레이하기 위한 제1 평면 내의 제1 디스플레이; 제2 이미지를 디스플레이하기 위한 제2 평면 내의 제2 디스플레이로서, 상기 제1 평면 및 제2 평면은 서로 대략 평행한, 제2 디스플레이; 및 제1 디스플레이와 제2 디스플레이 사이에 위치하고, 제2 디스플레이로부터의 입사 광선을 제1 디스플레이의 서브-픽셀을 통해 관찰자를 향해 의사 무작위 방식으로 지향시키도록 구성된 복수의 마이크로렌즈를 포함하는 빔 맵핑 요소(예로서, 굴절 빔 맵퍼)를 포함한다.
굴절 빔 맵퍼는 본 발명의 다양한 실시예에서 모아레 간섭을 줄이기 위한 다른 기술(예를 들어, 각각의 디스플레이 상의 컬러 필터 오프셋 또는 상이한 컬러 필터 패턴, 확산기 기술 및/또는 서브픽셀 압축)과 조합하여 사용되거나 그렇지 않을 수 있다.
본 특허 또는 출원 파일에는 컬러로 그려진 적어도 하나의 도면이 포함되어 있다. 컬러 도면(들)이 있는 본 특허 또는 특허 출원 공보의 사본은 요청시 및 필요한 수수료 지불시에 관청에서 제공될 것이다.
이들 및 다른 특징 및 장점은 도면과 관련한 예시적인 실시예들의 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 보다 완전하게 잘 이해할 수 있다.
도 1은 픽셀들이 각 열(또는 행)에서 동일한 컬러인 액정 디스플레이(LCD)의 컬러 필터의 평면도이다.
도 2는 픽셀들이 각 열(또는 행)에서 동일한 컬러인 다른 액정 디스플레이(LCD)의 컬러 필터의 평면도이다.
도 3은 도 1 및 도 2의 LCD의 조합으로부터 얻어지는 MLD 시스템의 평면도이며, 도 1 및 2의 LCD는 적층 관계로 서로 중첩되어 모아레 간섭을 초래한다.
도 4는 MLD 시스템의 전면 디스플레이의 픽셀들에 대한 후면 디스플레이의 픽셀들의 의사 무작위 맵핑을 나타내는 개략도이다.
도 5는 도 4의 모아레 간섭을 줄이기 위해 사용되는 의사 무작위 맵핑과 연계하여 사용될 수 있는 맵핑 요소(이는 본 발명의 다양한 실시예에서 서브픽셀 압축 실시예와 조합하여 사용되거나 그렇지 않을 수 있음)를 도시하는 개략도이다.
도 6은 본원의 임의의 도면의 실시예와 함께 사용될 수 있는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 MLD의 개략적인 측단면도이다.
도 7은 굴절 광학장치를 갖는 RBM의 대역폭 제한된 구현을 도시한다.
도 8은 렌즈 피처 크기가 160 미크론 이하이고 p=40인 각도 범위에 걸쳐 향상된 수퍼-로렌치안(super-Lorentzian) 특성을 나타내는 강도 프로파일이다.
도 9는 더 큰 마이크로렌즈가 전형적으로 더 우수한 모아레 확산기 프로파일을 갖는 다는 것을 도시하는 그래프이다.
도 10은 본 발명의 다양한 실시예들에서 사용될 수 있는 RBM에 대한 예시적인 제조 프로세스들을 나타내는 개략도이다.
도 11은 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 마이크로렌즈를 도시한다.
도 12는 S 및 P 파에 대한 투과 계수 대 입사각을 도시하는 곡선을 보여주는 입사각 대 투과 계수 그래프이다.
도 13은 시스템 콘트라스트(콘트라스트(θi, n1, n2, N))를 나타내는 그래프이고, 여기서, θi는 입사각이고, n1은 LCD 사이의 물질의 굴절률, n2는 유리의 굴절률 및 N은 계면의 수이다.
도 14 내지 도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 MLD 시스템의 측면 단면도이며, 여기서, 모아레를 줄이는 요소(예를 들어, RBM)는 본 발명의 다양한 실시예에 따라 MLD 시스템의 스택의 다양한 위치에 배치된다(이는 본 발명의 다양한 실시예에서 서브-픽셀 압축과 조합하여 사용되거나 그렇지 않을 수 있다).
본 발명은 적어도 제1 및 제2 디스플레이(예로서, 디스플레이 패널 또는 디스플레이 층)가 실질적으로 서로 평행하게 배열되어 3 차원(3D) 피처를 관찰자(들)에게 디스플레이하는 멀티 디스플레이 시스템(예로서, 다중 디스플레이 패널을 포함하는 디스플레이)에 관한 것이다. 디스플레이는 다른 실시예에서 평탄하거나 곡선일 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예는 일반적으로 디스플레이에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 3 차원 피처를 디스플레이하기 위한 디스플레이 시스템 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 MLD는 예로서(예로서, 속도계, 차량 계기, 차량 네비게이션 디스플레이 등을 위한) 3D 이미지를 제공하기 위해 차량 대시의 디스플레이로서 사용될 수 있다.
컬러 모아레 간섭 문제는 예로서 RGB 픽셀이 MLD 시스템의 두 디스플레이에서 RGB 열로 정렬될 때 두 액정 디스플레이(LCD) 컬러 필터 어레이의 패턴 규칙성 때문에 발생한다. 컬러 모아레 간섭은 수평 방향으로 크게 만연할 수 있다.
도 1 내지 도 3은 모아레 간섭을 받는 MLD 시스템에서의 배열을 도시한다. 도 1은 픽셀 또는 서브픽셀이 각 열에서 동일한 컬러인 제1 액정 디스플레이(LCD)의 컬러 필터/픽셀의 평면도이다. 특히, 도 1은 픽셀 또는 서브픽셀이 각 열에서 동일한 컬러인, 종래의 적-녹-청(R-G-B) 반복 패턴 또는 배열을 갖는 LCD를 도시한다. 도 1의 좌측으로부터 시작하여, 컬러 필터 스트라이프는 BGR 순서로 수직선으로 배열되고, 이 BGR 순서는 도 1의 디스플레이를 가로 질러 좌측에서 우측으로 반복적으로 반복된다. 따라서, 도 1의 디스플레이 또는 디스플레이 층의 패턴은 청색 열, 녹색 열 및 적색 열을 포함한다. 녹색(G) 열은 청색(B)과 적색(R) 열 사이에 위치된다. 서브픽셀은 특정 컬러 필터의 영역 내에 주어진 픽셀 전극의 영역으로 간주될 수 있다. 예로서, R, G 및 B 서브픽셀은 픽셀을 구성할 수 있다. 대안적으로, 서브픽셀이 픽셀로 간주될 수 있다. 도 1은 컬러 마스크 회전 없이 도시된다. 통상적으로, 다중 층 디스플레이(MLD)의 두 패널은 이와 유사한 R-G-B 배열로 구성될 수 있다. 반복 가능한 패턴은 R-G-B 또는 R-B-G 또는 임의의 다른 조합일 수 있다.
마찬가지로, 도 2는 또한 픽셀 또는 서브픽셀이 각 열에서 동일한 컬러인 제2 LCD의 컬러 필터/픽셀/서브픽셀의 평면도이다. 도 2의 좌측에서 시작하여 컬러 필터 스트라이프는 RGB 순서로 수직선으로 배열되며, 이 순서는 도 2에서 좌측에서 우측으로 반복적으로 반복된다. 반복 가능한 패턴은 R-G-B 또는 R-B-G 또는 이들 컬러를 포함하는 임의의 다른 조합일 수 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 도 1에서와 유사하게, 녹색(G) 열은 청색(B) 및 적색(R) 열 사이에 위치한다.
도 3은 하나가 MLD 시스템에서 적층된 중첩 관계로 다른 하나의 상단에 위치되는, 도 1 및 도 2의 LCD의 조합으로부터 얻어지는 MLD 시스템의 평면도이다. 도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 컬러 필터와 픽셀/서브픽셀 패턴의 혼합을 도시한다. 특히, 도 3은 양 LCD가 유사한 R-G-B 열 배열을 갖는 경우 모아레 간섭의 출현을 도시하며, 픽셀은 각 열에서 동일한 컬러이다. 예로서, 도 2의 패턴이 MLD 시스템에서 도 1의 패턴과 중첩되면, 녹색 컬러 필터 라인은 중첩되며(예로서, 도 3의 좌측 부분 참조), 이 녹색 필터 라인 중첩 영역의 광은 MLD 시스템을 통해 투과되어 비교적 밝은 녹색 패치를 형성한다. 예를 들어, 녹색 필터가 적색 필터와 겹치는 경우(또는 청색 필터가 적색 필터 위에 있는 경우), 그리 많지 않은 광이 투과되어 어두운 영역을 형성한다(예를 들어, 도 3 좌측의 녹색 스트라이프를 둘러싼 어두운 영역 참조). 후면 및 전면 디스플레이 또는 디스플레이 층은 망막에 투영될 때 약간 다른 크기를 갖기 때문에, 픽셀은 동위상에서 위상차를 갖는 상태로 천천히 변화할 것이다. 이는 다르게는 모아레 간섭으로 알려진 어둡고 밝은 밴드들을 생성하는 효과가 있다.
본 발명의 실시예는 이 모아레 간섭 문제를 다루고, 줄이거나 해결한다. 본 발명의 특정 예시적인 실시예는 MLD 시스템에서의 모아레 간섭을 없애거나 실질적으로 없애지만 후면 디스플레이 해상도 및 콘트라스트를 크게 희생시키지 않는 해결책(들)을 제공한다.
본 발명의 특정 실시예에서, 다수의 마이크로-렌즈로 구성된 회절 광학 요소(DOE) 또는 굴절 빔 맵퍼(RBM)과 같은 빔 맵핑 요소가 모아레 간섭을 줄이기 위해 사용된다. RBM이 사용되는 경우, 추가 모아레 효과를 유발하지 않기 위해 의사 무작위 맵핑이 제공될 수 있다. 개별 빔의 발산은 한정될 수 있으며, 그래서, 특정 예시적 실시예에서 전면 LCD에 도달할 때까지 후면 LCD의 임의의 지점이 직선으로부터 1 픽셀 거리를 초과하여 전향되지 않는다. 또한, 이러한 빔 맵핑 요소를 전면 디스플레이에 라미네이팅하고, 특정 예시적 실시예에서 비-복굴절 재료로 두 개의 LCD 사이의 매체들을 광학적으로 매칭될 수 있으며, 이러한 실시예는 여기에 설명된 서브픽셀 압축 기술과 조합하여 사용될 수 있거나 그렇지 않을 수 있다.
본 명세서의 디스플레이 또는 디스플레이 층(예로서, 도 6의 전면 디스플레이(1) 및 후면 디스플레이(2) 또는 도 4, 도 5, 도 7, 도 14 내지 도 16의 대응 디스플레이 참조)은 LCD, OLED 등일 수 있다. 트위스트 네마틱(TN) LCD는 적색 녹색 및 청색 서브픽셀로 수평(또는 수직)으로 연장하는 세 부분으로 나뉘어진 정사각형과 같은 매우 일반적인 픽셀 레이아웃을 따를 수 있다. 서브픽셀은 수평 및 수직 방향으로 블랙 마스크에 의해 분리될 수 있다. 구동 트랜지스터를 덮기 위해 서브픽셀의 코너에 정사각형 돌출부가 종종 존재한다. 최신 데스크톱 모니터 및 텔레비전에 필요한 와이드 스크린 관찰 및 시간 성능을 가능하게 하는 여러 가지 유형의 픽셀 기술이 있다. 본 발명의 실시예는 백플레인이 기본 RGB 스트라이프 픽셀 레이아웃을 따르도록 설계되기 때문에 이들 LCD 모두와 호환 가능하다. 따라서 각 픽셀에 필요한 백플레인 레이아웃은 변경할 필요가 없다. 예로서 제조자에 따른 픽셀 유형 디스플레이는 다음을 포함한다: Panasonic(IPS Pro), LG Display(H-IPS & P-IPS), Hannstar(S-IPS), AU Optronics(A-MVA), Samsung(AFFS), S-LCD(S-PVA) 및 Sharp Corporation(ASV 및 MVA). 특정 실시예에서, 디스플레이 또는 디스플레이 층 모두는 OLED일 수 있거나, 하나의 디스플레이는 OLED일 수 있고 다른 하나는 LCD일 수 있다. OLED에서, 각각의 서브픽셀 또는 픽셀은 (LCD 유형 컬러 필터를 갖는 것과는 대조적으로) 컬러 필터 재료로서 적색, 녹색 및 청색 재료로 채워진다.
도 6은 본 명세서에서 임의의 도면의 적층된 중첩 층/디스플레이가 제공되고 이용될 수 있는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 MLD를 도시한다. 예로서, 도 4 및 도 5와 도 14 내지 도 16 중 임의의 것에 도시된 디스플레이는 각각 도 6의 전면(1) 및 후면(2) 디스플레이일 수 있다. MLD의 제1 디스플레이 또는 디스플레이 층은 요소(1)(또는 2)일 수 있고, MLD의 제2 디스플레이 또는 디스플레이 층은 요소(2)(또는 1)일 수 있다. 디스플레이 또는 디스플레이 층(2)은 MLD의 백라이트에 가장 가까우며 백라이트 시스템에 대면하는 백플레인을 구비하여 행 드라이버, 열 드라이버, 트랜지스터 및 스토리지 커패시턴스 라인을 통해 백라이트에 전달될 수 있는 광을 재활용하는 것이 바람직할 수 있다. 도면에 도시된 바와 같이 2개의 편광자 구성이 사용될 수 있으며, 간극은 원하는 경우 디스플레이의 흑색 상태를 유지하도록 설계된 복굴절을 갖는 물질이나 공기를 포함하도록 설계될 수 있다. 간극은 내부 반사 및/또는 탈편광 효과를 감소시키기 위해 각 측면 상의 층이나 유리에 근접하게 매칭된 굴절률을 갖는 물질을 포함할 수 있다. 전면 디스플레이 또는 디스플레이 층(1)의 경우 그 백플레인은 디스플레이 또는 디스플레이 층(2)에 대향하게 배향될 수 있다. 특히, 전면 디스플레이(1)의 경우, 내부 반사를 줄이기 위해 백플레인이 관찰자를 향하도록 배향될 수 있다. 따라서, 도 6에서 각각의 디스플레이(1 및 2)의 컬러 필터 층(각각 하나 이상의 층으로 구성될 수 있음)이 서로 대면하도록 설계될 수 있음을 볼 수 있으며, 각 디스플레이로부터의 액정 재료 층 중 어떠한 것도 특정 예시적인 실시예에서 제1 및 제2 디스플레이의 컬러 필터 층 사이에 위치되지 않는다. 특정 예시적인 실시예에서, 주변 광의 외부 반사를 줄이기 위해, 1/4 파장 지연기 및 반사 방지 편광자로 구성된 도 6에 도시된 것과 같은 반사 방지 시스템이 전면에 제공될 수 있으므로, 일반적으로 반사되는 주변 광은 AR 편광자를 통과하는 제1 패스에서 1/4 파장 회전을 겪게 되고 백플레인 요소에 의해 반사되고 1/4 파장 지연기를 통해 제2 회전을 겪게된다. 이 제2 회전을 통과할 때까지는 AR 편광자의 투과 축과 실질적으로 직교하고 따라서 실질적으로 흡수될 것이다. 또한 반사를 줄이기 위해 블랙 마스크(BM) 또는 기타 비 반사 물질을 디스플레이의 전도성 트레이스 후면에 추가할 수 있다. 또한, 반사 방지(AR) 코팅(들)이 본 발명의 특정 예시적인 실시예에서 내부 표면에 적용될 수 있다. AR 코팅은 예로서, 가시 범위에서 예컨대 나방 눈, 단일 층 간섭, 다층 간섭 등을 작용할 수 있다.
굴절 빔 맵퍼(RBM)와 관련하여, 그러한 빔 맵핑 요소는 복수의 마이크로-렌즈들로 이루어지거나 이를 포함하며, 의사 무작위 맵핑을 통해 모아레 간섭을 줄이기 위한 독립형 요소로서 사용될 수 있다(예를 들어, 도 4 내지 도 6 및 도 14 내지 도 16 참조). 특정 예시적인 의사 무작위 맵핑 실시예들(예로서, 도 4 및 도 5)에서, RBM의 굴절 마이크로-렌즈들의 각각은 후면 LCD(2)로부터의 입사 광선을 정의된 경로에서 관찰자에게 지향하도록 설계될 수 있으며, 각각의 광선은 의사 무작위 맵핑에 따라 전면 LCD(1)의 상이한 서브-픽셀을 통과한다. 예로서, 도 4는 후면 디스플레이(2)의 후면 서브픽셀 또는 픽셀의 전면 디스플레이(1)의 서브픽셀 또는 픽셀에 대한 의사 무작위 맵핑을 보여준다(후면 디스플레이는 도 4의 가장 좌측에 있는 디스플레이이다). 의사 무작위 맵핑은 추가적 모아레 효과를 도입하지 않기 위해 사용되며 모아레 간섭을 줄일 수 있다. 예시적인 실시예에서, 이들 개별 빔의 발산은 제한되며, 그래서, 후면 LCD의 임의의 픽셀 또는 서브픽셀로부터의 광은 전면 디스플레이에서 직선으로부터 1 픽셀 또는 서브픽셀 거리를 초과하여 전향되지 않는다. 선택적으로, RBM은 상부 LCD(1)(도 5, 도 14 및 도 16 참조)에 라미네이팅될 수 있고, 선택적으로 비-복굴절 물질로 2개의 LCD 사이의 매체들에 광학적으로 매칭되거나 실질적으로 매칭될 수 있다. 그러나, 다른 실시예들에서, 굴절 빔 맵퍼는 LCD 적층체 내의 임의의 위치에 배치될 수 있다. 예로서, 도 5는 전면 및 후면 LCD 사이에 위치되고 전면 디스플레이의 내부 측에 라미네이팅되는 빔 맵핑 요소(예로서, 마이크로렌즈 어레이를 포함하는 RBM)를 도시한다.
특정 예시적인 실시예에서, RBM의 마이크로렌즈는 그레이 스케일 리소그래피를 사용하여 제조되어 마이크로렌즈 포맷으로 임의의 표면 구조를 생성할 수 있다. 각각의 렌즈 요소는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 임의적 및 비대칭적 산란 각도를 가능하게 하는 제어된 방향으로 광을 지향시키도록 구성될 수 있다. 마이크로렌즈 피처의 복제에서 프로파일 경사 각도가 프로파일 높이 보다 중요하기 때문에, 하나의 마스터(master)로 다양한 대량 생산 프로세스 및 재료를 사용하여 RBM을 복제하는 것을 가능하게 한다. 도 4 및 도 5는 굴절 빔 맵퍼가 어떻게 관찰자의 관점에서 후면 LCD(2)로부터의 광선을 전면 LCD(1) 상에 중첩시키는지를 도시한다. 빔 경로는 의사 무작위 형태로 맵핑되어 추가 모아레와 같은 다른 인공물(artifact)을 도입하지 않는다. 하위 LCD 구조(2)는 무작위화되고, 따라서 상부 LCD(1)와의 상당한 모아레 간섭을 생성할 수 없다.
대안적으로, 확산기는 모아레 억제 요소의 구성을 위해 대신 사용될 수 있다. 이 프로세스는 굴절 빔 맵퍼를 만드는 데 적응될 수 있지만, 가공된 확산기가 더 많은 감소를 위해 최적의 확산기 요소로서 사용될 수도 있다. 확산기는 굴절 빔 요소만큼 바람직하지 않는다.
굴절 빔 맵퍼는 다양한 특징을 나타낼 수 있다. 예로서, RBM은 무색 성능(achromatic performance)을 나타낼 수 있다. 또한, RBM은 임의적/비대칭 산란 각도를 나타낼 수 있다. 또한, RBM은 제어된 강도 분포 패턴(예로서, 원형, 정사각형, 직사각형, 타원형, 선, 링 등)을 나타낼 수 있다. 또한, RBM은 제어된 강도 프로파일(예로서, 평탄한 상부, 가우시안, 배트윙, 맞춤형 등)을 나타낼 수 있다. RBM은 또한 높은 광학 투과 효율(예로서, 90 %)을 나타낼 수 있다. 또한, RBM은 편광 보존을 나타낼 수 있다. RBM은 폴리머 사출 성형, 고온 엠보싱된 폴리머, 폴리머-온-글래스(polymer-on-glass) 구성요소 등과 같이 다양한 물질로 이루어지거나 그를 포함할 수 있다.
MLD에서의 모아레 간섭은 일반적으로 후면 LCD와 관찰자 사이에 확산기 요소(빔 맵핑 요소와 반대됨)를 추가하여 후면 LCD의 픽셀 구조가 흐려지게 하는 것에 의해 억제된다. 확산기가 넓어질수록 모아레가 적게 퍼지지만, 이에 상응하여 후면 LCD의 관찰된 해상도가 감소된다. 이는 최적화 문제가 되고, 0 내지 4의 범위일 수 있는 이미지 품질 비용 함수(IQC)로서 기술될 수 있으며, 0은 완벽이고 4는 모아레 및 블러링(blurring) 모두에 대해 최악이다. 고려해야 할 요소는 다음을 포함한다: 콘트라스트 =(max-min)/(max+min)(여기서 1은 최상 0은 최악); 누화 = 1 - 교번 흑색 및 백색 선들의 콘트라스트(범위 0:1); 모아레 = 양 LCD 상의 일정한 백색 패턴에 대한 모아레의 콘트라스트(범위 0:1); IQC = moire_X + moire_Y + crosstalk_X + crosstalk_Y(즉, 범위는 0:4), 이 값은 낮을수록 더 양호함. 일반적으로 비용 함수는 다음 제한에 나타난 것처럼 약 2의 실제 최대 값을 가진다: 확산기 없음: moire_X + moire_Y = 2, crosstalk_X + crosstalk_Y= 0; 및 강한 확산기: moire_X + moire_Y = 0, crosstalk_X + crosstalk_Y= 2.
도 7은 원거리 필드 패턴이 평탄한 상부 프로파일에 가능한 가깝도록 평탄한 상부 프로파일에 근접한 맞춤 굴절 광학장치를 갖는 RBM의 대역폭 제한된 구현을 도시한다. 산란 요구 사항을 기반으로 한 피처 크기 및 경사 각도를 포함하는, 분포를 포함한 렌즈 세트에 대한 처방이 정의된다. 이러한 파라미터는 특정 렌즈가 특정 처방을 취할 가능성을 지정하는 확률 분포 함수에 관하여 정의될 수 있다. 표면 구조를 생성하기 위한 마이크로렌즈의 공간 분포는 원하는 분포 함수에 따라 표면 구조를 생성하도록 설계되었다. 특정 예시적인 실시예에서는 마이크로렌즈의 공간 분포에서 임의의 기본 주기성이 제거될 수 있음을 알 수 있다. 또한, 광각 산란을 초래할 수 있는 렌즈 불일치가 제거될 수 있고, 제거된다. 이 두 가지 개선점은 사용 가능한 광의 사용을 최대화한다. 도 8은 p = 40이고 렌즈 피처 크기가 ≤ 160㎛인 전체 각도 범위에서 훨씬 더 향상된 수퍼-로렌치안 거동을 나타내는 강도 프로파일을 보여준다. 표면 구조의 신중한 의사 무작위화는 또한 인공물 및 유도된 모아레가 없는 산란 분포를 생성한다. 이는 규칙적인 패턴이 추가적인 모아레 간섭을 일으킬 수 있기 때문에 중요할 수 있다.
도 9는 마이크로렌즈 크기와 도입된 이미지 인공물 사이에 절충점이 있음을 보여준다. 큰 마이크로렌즈는 일반적으로 더 우수한 모아레 방지 확산기 프로파일을 가질 것이다. 마이크로렌즈가 나안으로 볼 수 있는 크기가 되면, 이때, 추가 이미지 인공물이 나타난다. 이들은 스파클(sparkle), 픽셀 워킹(pixel walking) 및 패턴과 한쪽 또는 양쪽 LCD 사이의 더 많은 간섭을 포함한다. 도 9는 다양한 직경(um) 값에 대한 단일 마이크로렌즈에 대한 PSF를 도시한다. 피처 크기의 최소화는 또한 LCD 모아레 감소 요소의 설계에 이용될 수 있다. 피처 크기는 도 4에 도시된 바와 같이 나안으로는 실질적으로 보이지 않는 채로 유지되도록 이상적으로 서브 픽셀보다 작아야 한다. 산란 중심이 마이크로렌즈의 형태를 취하는 경우, 피처 크기는 마이크로렌즈 직경에 의해 주어진다. 특히, 소형 굴절 요소가 바람직하다. 마이크로렌즈가 나안으로 볼 수 있는 크기가 되면, 이때, 추가적 이미지 인공물이 나타난다. 이들은 스파클, 픽셀 워킹 및 패턴과 한쪽 또는 양쪽 LCD 사이의 모아레 간섭을 포함한다. 스파클은 디스플레이 표면이 비광택 조직 표면(matte textured surface)을 생성하도록 처리된 눈부심 방지 디스플레이에서 가장 많이 나타난다. 이러한 표면 피처는 굴절 또는 회절 요소로서 작용하며, 관찰자의 위치에 따라 개별 픽셀 요소를 초점화 또는 탈초점화하여 강도 변화 또는 스파클을 초래할 수 있다. 픽셀 워킹은 개별 픽셀을 이동시키고 왜곡시키는 것으로 나타나는 굴절 왜곡의 결과이며 관찰자는 위치를 이동한다. 추가 모아레 간섭은 마이크로렌즈의 어레이에 있는 규칙적 피처가 LCD 중 하나 또는 둘 모두에서 "비트(beat)"될 때 도입된다. RBM 또는 확산기에서 렌즈 크기의 무작위화 및 감소 그리고 배치는 이러한 추가적 모아레 인공물을 감소시킨다. 이와 관련하여 처짐 및 평균화를 고려하기 위한 두 가지 요소가 있다. 최상의 균일성 및 모아레의 감소를 보장하기 위해, 도 4에 도시된 바와 같이, 다수의 산란 중심이 각각의 픽셀 영역 내에서 조명되어야 한다. 동시에, 특정 파라미터 세트(예로서, 분산 각도, 굴절률 및 원추 상수)에 대하여, 렌즈 깊이는 마이크로렌즈 직경이 감소함에 따라 감소한다. 프로세스가 계속되면 결국 렌즈 깊이가 2π의 작은 부분인 위상 지연만 부여하는 회절 체계에 도달한다. 이와 관련하여 다음 수학식에서 위상 수를 정의하는 것이 유용하다:
Figure pct00001
수학식에서, ymax는 전체 렌즈 처짐을 나타내고, λ는 고려되는 파장이고, Δn은 n(λ)1과 같고, n은 공기 중의 요소에 대한 파장 λ에서의 굴절률이다. 위상 수는 기본적으로 위상 주기의 언어로 전체 처짐을 표현하고 회절 또는 굴절인 마이크로렌즈가 작동하는 체계를 정의한다. M = 1은 정확하게 2π 위상 이동을 갖는 회절성 요소를 의미한다. 일 실시예에서, 높은 목표 효율을 갖는 무색 성분에 대해 바람직한 바와 같이, 마이크로렌즈가 굴절 영역에서 작동하기 위해서는, 위상 수 M은 가능한한 커야만 한다.
40° 확산을 갖는 시준된 빔을 산란시키는 마이크로렌즈의 경우를 다시 고려한다. 직경이 작아짐에 따라 원거리 필드 산란은 더 거친 진동과 더 경사진 하락(falloff)을 나타내어 목표 효율성이 낮아진다. 활용할 최소 피처 크기 또는 렌즈 직경을 결정하는 데 도움이 되는 간단한 경험 법칙은 다음 수학식에 의해 제공된다.
Figure pct00002
위의 수학식에서 θ0은 반치폭 빔 확산 각도(공기중)이다. 확실하게 굴절 체계 내에 있으려면 M은 약 8 이상이어야 한다. θ = 2° 및 λ = 0.633 ㎛이고 M = 8이라고 가정하면, D ≥ 582 ㎛에 대한 결과가 얻어지며 이는 200 um 픽셀에 비해 너무 크고, 매우 가시적이어서 이미지를 열화시킨다. 확산을 20도까지 증가시키면 D가 58 ㎛까지 1/10으로 감소한다. 위의 식에서 확산기가 후면 패널에 가까울수록 FWHM 각도 θ0이 커진다. 수학식은 또한 θ0에 대한 마이크로렌즈 직경의 경험 법칙을 제공한다.
공기가 아닌 실리콘 OCA와 같은 더 높은 굴절률(RI)의 매체에 굴절 장치를 매설하면 더 큰 RI가 각 마이크로렌즈의 굴절력을 감소시키므로 더 넓은 각도의 굴절 장치의 효과적 사용을 가능하게 한다. RI = 1.42일 때, θ0은 θ = ~ 11°의 각도 또는 위에서 언급된 수학식에 의해 더 수용 가능한 D ≥ 105 ㎛에 일치한다. 일 실시예에서, 고 RI 물질 내에 매설하는 것은 마이크로렌즈 직경을 효과적으로 감소시켜, 더 적은 이미지 인공물을 초래한다. 특히, 두 패널 사이의 공기를 인덱스 매칭된 매체로 교체하는 것은 또한 공기 중에서 측정한 더 작은 발산 각도를 허용하여 더 작은 마이크로렌즈 직경을 허용한다.
도 10은 웨이퍼 지지체 상에 마이크로렌즈의 형성을 포함하여, 전술한 관점에서 본 개시내용의 일 실시예에 따른 RBM의 제조 프로세스를 도시한다. RBM은 MLD의 이미지 콘트라스트를 향상시키기 위해 프레넬 탈편광을 줄이기 위해 고 RI 물질에 매설될 수 있다.
도 11은 일반적으로 0 ~ 약 20도 사이의 표면 법선 분포를 갖는 마이크로렌즈 표면을 보여준다. 표면 법선의 분포는 S 및 P 편광이 서로 다른 감쇠로 투과되기 때문에 콘트라스트 감소로 이어진다. 도 12는 S 및 P 파에 대한 투과 계수 대 입사각을 나타내는 곡선을 도시하고, 도 13은 시스템 콘트라스트(콘트라스트(θi, n1, n2, N))를 도시하고, 여기서 θi는 입사각, n1은 LCD 사이의 물질의 굴절률, n2는 유리의 굴절률, N은 계면의 수이다. 도시된 바와 같이, 1.4와 1.5에서 RI를 가진 맨 우측으로의 선은 프레넬 탈편광이 최소이므로 최상의 콘트라스트를 나타낸다.
도 14 내지 도 16은 모아레 감소 요소(예컨대, RBM과 같은 굴절 요소)의 다양한 배치를 도시한다. 예로서, 도 14 및 도 16에서, 모아레 감소 요소는, 전술한 바와 같이, 피처 크기가 작아지도록 패턴화된 표면을 아래쪽으로 향하게 하여 라미네이팅 가능한 필름으로서 전면 디스플레이(1)의 상부 표면 상에 위치될 수 있다. 이들 실시예는 서브픽셀 압축 기술과 조합하여 사용되거나 그렇지 않을 수 있다. 일 실시예에서, 상향으로 향한 패턴화된 표면을 갖는 것은 또한 눈부심 방지 메커니즘으로서 작용하지만, 70 ㎛보다 작은 피처 크기를 달성하기 위해 약 1.5의 굴절률을 갖는 광학 커플링 접착제(OCA)에 매설될 필요가 있을 것이다. 대안적으로, 도 15에 도시된 바와 같이, 발산이 더 커지고, 따라서, 피처 크기가 더 작아지는 경우 2개의 LCD(예로서, 후면 디스플레이에 라미네이팅됨) 사이에 모아레 감소 요소를 배치하는 것도 가능하다. 1.4보다 큰 R.I.의 물질(OCA 참조)과 내부 공극을 인덱스 매칭하는 것은 프레넬 탈편광을 크게 감소시켜 콘트라스트를 향상시키고 반사를 감소시킨다. 프레넬 편광을 줄이기 위해 유리 및 OCA와 인덱스 매칭된 내부 공극은 또한 콘트라스트를 개선하고 반사를 감소시킨다. 일 실시예에서, 이 구현에 대한 FWHM 폭은 정사각형 프로파일에서 약 1.8 도일 수 있다.
전술한 개시내용이 특정 블록도, 흐름도 및 예를 사용하여 다양한 실시예를 설명하였지만, 본 명세서에 설명 및/또는 도시된 각각의 블록도 구성요소, 순서도 단계, 동작 및/또는 구성요소는 개별적으로 및/또는 집합적으로 광범위한 하드웨어, 소프트웨어 또는 펌웨어(또는 이들의 조합) 구성을 사용하여 구현될 수 있다. 또한 많은 다른 아키텍처가 동일한 기능을 달성하기 위해 구현될 수 있기 때문에 다른 구성요소에 포함된 구성요소에 대한 임의의 개시내용은 예시로 고려되어야 한다.
본 명세서에서 설명 및/또는 예시된 프로세스 파라미터 및 단계의 순서는 단지 예로서 주어지며, 필요에 따라 변경될 수 있다. 예로서, 여기에 도시 및/또는 설명된 단계들이 특정 순서로 도시되거나 설명될 수 있지만, 이들 단계들은 도시되거나 설명된 순서로 반드시 수행될 필요는 없다. 여기에 설명 및/또는 예시된 다양한 예시적인 방법은 또한 여기에 설명되거나 예시된 단계 중 하나 이상을 생략하거나 개시된 단계에 추가적인 단계를 포함할 수 있다.
다양한 실시예가 본 명세서에서 완전한 기능의 컴퓨팅 시스템의 맥락에서 설명 및/또는 도시되었지만, 하나 이상의 이들 예시적인 실시예는 배포를 실제로 수행하기 위해 사용되는 컴퓨터 판독 가능 매체의 특정 유형에 관계없이 다양한 형태로 프로그램 제품으로서 배포될 수 있다. 본 명세서에 개시된 실시예는 또한 특정 작업을 수행하는 소프트웨어 모듈을 사용하여 구현될 수 있다. 이들 소프트웨어 모듈은 컴퓨터 판독 가능 저장 매체 또는 컴퓨팅 시스템에 저장될 수 있는 스크립트, 배치 또는 다른 실행 가능 파일을 포함할 수 있다. 이러한 소프트웨어 모듈들은 본 명세서에 개시된 예시적인 실시예들 중 하나 이상을 수행하도록 컴퓨팅 시스템을 구성할 수 있다. 여기에 설명된 다양한 기능들은 원격 데스크톱 환경 또는 임의의 다른 클라우드 기반 컴퓨팅 환경을 통해 제공될 수 있다.
전술한 설명은 설명의 목적을 위해 특정 실시예를 참조하여 설명되었다. 그러나, 전술한 예시적인 설명은 본 발명을 개시된 정확한 형태로 제한하거나 포괄하려는 것은 아니다. 전술한 내용을 고려하여 많은 수정 및 변형이 가능하다. 실시예는 본 발명의 원리 및 그 실제 응용을 가장 잘 설명하고, 통상의 숙련자가 본 발명 및 다양한 실시예를 고려되는 특정 용도에 적합할 수 있는 다양한 수정을 동반하여 최상으로 활용할 수 있게 하기 위해 선택 및 설명되었다.
또한, 본원의 범위는 명세서에 설명된 물질, 수단, 방법 및 단계의 프로세스, 기계, 제조, 및/또는 조성의 특정 실시예에 한정되는 것으로 의도되지 않는다. 통상의 숙련자는 본 발명의 개시내용으로부터 실질적으로 동일한 기능을 수행하는 또는 본 명세서에 설명된 대응 실시예와 실질적으로 동일한 결과를 달성하는, 현재 존재하는 또는 미래에 개발될, 프로세스, 기계, 제조, 물질의 조성, 수단, 방법 또는 단계가 본 발명에 따라 사용될 수 있다는 것을 쉽게 알 수 있을 것이다. 따라서, 첨부된 청구범위는 그러한 프로세스, 기계, 제조, 물질의 조성물, 수단, 방법 또는 단계를 그들의 범위 내에 포함하는 것을 의도한다.
본 발명의 예시적 실시예에 따라, 디스플레이 장치가 제공되며, 제1 이미지를 디스플레이하기 위한 제1 평면 내의 제1 디스플레이; 제2 이미지를 디스플레이하기 위한 제2 평면 내의 제2 디스플레이- 상기 제1 평면 및 제2 평면은 서로 대략 평행함 -; 및 제1 디스플레이와 제2 디스플레이 사이에 위치하고, 제2 디스플레이로부터의 광선을 제1 디스플레이의 서브-픽셀을 통해 관찰자를 향해 의사 무작위 방식으로 지향시키도록 구성된 복수의 마이크로렌즈를 포함하는 빔 맵핑 요소를 포함한다.
직전 단락의 디스플레이 장치에서, 빔 맵핑 요소는 굴절 빔 맵퍼(RBM)를 포함할 수 있다. RBM은 비대칭 산란 각도를 가질 수 있으며, 후면 디스플레이로부터의 광의 편광을 실질적으로 보존할 수 있다. RBM은 실질적으로 평탄한 상부 프로파일을 실현하기 위한 굴절 광학장치를 가질 수 있어, 출력의 원거리 필드 패턴이 평탄한 상부 프로파일에 근접한다.
직전 두 단락 중 임의의 것의 디스플레이 장치에서, 빔 맵핑 요소는 광선이 제1 디스플레이를 통해 진행할 때 제2 디스플레이상의 임의의 지점으로부터의 발산을 1 픽셀 오프셋의 거리보다 작게 제한할 수 있다.
직전 네 단락 중 임의의 것의 디스플레이 장치에서, 마이크로렌즈 각각은 제2(예를 들어, 후면) 디스플레이에서 서브픽셀의 길이 및 폭보다 작은 직경을 가질 수 있다.
직전 다섯 단락 중 임의의 것의 디스플레이 장치에서, 마이크로렌즈는 8 이상의 위상 수(M)를 특징으로 할 수 있다.
직전 여섯 단락 중 임의의 것의 디스플레이 장치에서 마이크로렌즈는 0과 약 20도 사이의 표면 법선의 분포를 가질 수 있다.
직전 일곱 단락 중 임의의 것의 디스플레이 장치에서, 빔 맵핑 요소는 제2 디스플레이에 라미네이팅될 수 있다.
직전 여덟 문단 중 임의의 것의 디스플레이 장치에서, 마이크로렌즈의 곡면은 굴절률이 적어도 1.4인 고굴절률 물질과 접촉하거나 그에 매설될 수 있다.
직전의 아홉 단락 중 임의의 것의 디스플레이 장치에서, 제2 디스플레이 내에 주어진 서브픽셀로부터의 광선은 제1 디스플레이의 다수의 상이한 서브픽셀을 향하여 지향될 수 있고, 제2 디스플레이의 복수의 상이한 서브픽셀로부터의 광선은 제1 디스플레이의 주어진 서브픽셀을 통해 진행할 수 있다. 이는 각 디스플레이의 각 서브픽셀에 적용될 수 있다.
본 개시내용에 따른 실시예가 설명된다. 본 개시내용이 특정 실시예에서 설명되었지만, 본 개시내용은 그러한 실시예들에 의해 제한되는 것으로 해석되지 않아야 함을 이해해야 한다.

Claims (19)

  1. 디스플레이 장치이며,
    제1 이미지를 디스플레이하기 위한 제1 평면 내의 제1 디스플레이,
    제2 이미지를 디스플레이하기 위한 제2 평면 내의 제2 디스플레이로서, 상기 제1 평면과 제2 평면은 서로 대략 평행한, 제2 디스플레이,
    제1 및 제2 디스플레이 사이에 위치하고, 제1 디스플레이의 서브-픽셀을 통해 그리고 관찰자를 향해 제2 디스플레이로부터 출력된 광선을 의사 무작위 방식으로 지향시키도록 구성된 복수의 마이크로렌즈를 포함하는 빔 맵핑 요소를 포함하는, 디스플레이 장치.
  2. 제1항에 있어서, 빔 맵핑 요소는 굴절 빔 맵퍼를 포함하는, 디스플레이 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 굴절 빔 맵퍼는 비대칭 산란 각도를 갖는, 디스플레이 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 굴절 빔 맵퍼는 편광을 실질적으로 보존하는, 디스플레이 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 굴절 빔 맵퍼는, 출력의 원거리 필드 패턴이 평탄한 상부 프로파일에 근접하도록, 실질적으로 평탄한 상부 프로파일을 실현하기 위한 굴절 광학장치를 가지는, 디스플레이 장치.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 빔 맵핑 요소는 광선이 제1 디스플레이를 통해 진행할 때 제2 디스플레이상의 임의의 지점으로부터의 발산을 1 픽셀 오프셋의 거리보다 작게 제한하는, 디스플레이 장치.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 마이크로렌즈 각각은 제2 디스플레이 내의 서브픽셀의 길이 및 폭보다 작은 직경을 갖는, 디스플레이 장치.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 마이크로렌즈는 위상 수(M)가 8 이상인 것을 특징으로 하는, 디스플레이 장치.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 마이크로렌즈는 0도 내지 약 20도 사이의 표면 법선 분포를 갖는, 디스플레이 장치.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 빔 맵핑 요소는 제2 디스플레이에 라미네이팅되는, 디스플레이 장치.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 마이크로렌즈의 곡면은 적어도 1.4의 굴절률을 갖는 고 굴절률 물질과 접촉하는, 디스플레이 장치.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 디스플레이는 후면 디스플레이이며, 제1 디스플레이는 디스플레이 장치의 전면 디스플레이인, 디스플레이 장치.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 디스플레이 내의 주어진 서브픽셀로부터의 광선은 제1 디스플레이의 다수의 상이한 서브픽셀을 향해 지향되며, 제2 디스플레이의 복수의 상이한 서브픽셀로부터의 광선은 제1 디스플레이의 주어진 서브픽셀을 통해 진행하는, 디스플레이 장치.
  14. 제1 이미지를 디스플레이하기 위한 제1 평면 내의 제1 디스플레이 및 제2 이미지를 디스플레이하기 위한 제2 평면 내의 제2 디스플레이를 포함하는 디스플레이 장치를 통해 이미지를 디스플레이하는 방법이며, 상기 제1 및 제2 평면은 대략 서로 평행하고, 방법은
    의사 무작위 방식으로 제2 디스플레이로부터 출력된 광선을, 제1 및 제2 디스플레이 사이에 위치한 복수의 마이크로렌즈를 통해, 제1 디스플레이의 서브-픽셀을 통해 그리고 관찰자를 향해 지향시키는 단계를 포함하는, 방법.
  15. 제14항에 있어서, 마이크로렌즈 각각은 제2 디스플레이에서 서브픽셀의 길이 및 폭보다 작은 직경을 갖는, 방법.
  16. 제14항 또는 제15항에 있어서, 마이크로렌즈는 제2 디스플레이에 라미네이팅되는, 방법.
  17. 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 마이크로렌즈의 곡면은 적어도 1.4의 굴절률을 갖는 고 굴절률 물질과 접촉하는, 방법.
  18. 제14항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 디스플레이는 후면 디스플레이이고, 제1 디스플레이는 디스플레이 장치의 전면 디스플레이인, 방법.
  19. 제14항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 디스플레이 내의 주어진 서브픽셀로부터의 광선은 제1 디스플레이의 다수의 상이한 서브픽셀을 향해 지향되며, 제2 디스플레이의 복수의 상이한 서브픽셀로부터의 광선은 제1 디스플레이의 주어진 서브픽셀을 통해 진행하는, 방법.
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