KR20180095142A - Resin particle group and method for manufacturing same - Google Patents

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Abstract

수지 입자군은 가교 비닐계 수지로 이루어지는 체적 평균 입자 직경이 0.5∼10㎛인 수지 입자군으로서, 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수가 10만개 중 5개 이하이고, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 1% 이하이다. 가교 비닐계 수지로 이루어지는 체적 평균 입자 직경이 0.5∼10㎛인 수지 입자군의 제조 방법은 수지 입자군의 생성 후에 해쇄 공정을 거치지 않고 분급 공정을 실시하고, 상기 분급 공정에 있어서, 복수의 가이드 날개로부터의 공기에 의해 분급용 공동부에 선회류를 발생시켜, 분급용 공동부의 상부 및 하부에 각각 제1 및 제2 분사 노즐로부터 공기를 분사하는 기류 분급기를 이용하여 분급을 행한다.The resin particle group is a group of resin particles consisting of a crosslinked vinyl resin having a volume average particle diameter of 0.5 to 10 占 퐉, wherein the number of resin particles having a particle diameter at least twice the volume average particle diameter is 5 or less, The proportion of the resin particles having a circularity of 0.97 or less is 1% or less. The method for producing a resin particle group composed of a crosslinked vinyl resin having a volume average particle diameter of 0.5 to 10 占 퐉 is characterized in that after the generation of the resin particle group, a classifying step is carried out without a descaling step, And air is supplied from the first and second injection nozzles to the upper and lower portions of the classifying cavity, respectively, to classify the air in the classifying cavities.

Description

수지 입자군 및 그 제조 방법{RESIN PARTICLE GROUP AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a resin particle group,

본 발명은 가교 비닐계 수지로 이루어지는 체적 평균 입자 직경이 0.5∼10.0㎛인 수지 입자군 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이러한 수지 입자군 및 그 제조 방법으로서, 조대 수지 입자의 함유율이 적고, 또한 균열된 수지 입자나 변형된 수지 입자의 함유율이 적은 수지 입자군 및 그 제조 방법 및 그 용도(수지 조성물 및 방현 필름)에 관한 것이다.The present invention relates to a resin particle group composed of a crosslinked vinyl resin having a volume average particle diameter of 0.5 to 10.0 占 퐉 and a method for producing the resin particle group. More particularly, the present invention relates to a resin particle group and a production method thereof, (Resin composition and antiglare film), and a method for producing the same and a use thereof (a resin composition and an antiglare film).

액정 디스플레이 등의 화상 표시 장치에 있어서, 그 주위가 밝으면 그 표시면에 거울과 같이 외광이 비쳐, 표시면에 표시되는 정지 화상이나 영상 등의 화상을 보기 어렵다는 과제가 있다. 이러한 과제를 해결하기 위해, 화상 표시 장치의 표시면의 표면 상에 방현 필름을 형성하여 표시면에 입사되는 광을 확산시킴으로써, 표시면의 표면에 방현성을 부여하여 표시면의 반사에 의한 외광의 비침을 저감시키는 기술이 채용되고 있다.In an image display apparatus such as a liquid crystal display, if its surroundings are bright, there is a problem that it is difficult to observe an image such as a still image or a picture displayed on the display surface because external light is reflected on the display surface as a mirror. In order to solve such a problem, an antiglare film is formed on the surface of the display surface of the image display device to diffuse the light incident on the display surface, thereby imparting the antiglare property to the surface of the display surface, A technique for reducing non-contact is employed.

일반적인 방현 필름은 그 표면에 미세한 요철 형상이 형성된 구성으로, 이 미세한 요철 형상에 의해 화상 표시 장치의 표시면에 방현성을 부여하도록 되어 있다.A typical antiglare film has a structure in which fine irregularities are formed on the surface thereof, and the display surface of the image display device is provided with the irregularity by the fine irregularities.

방현 필름 표면에 미세한 요철 형상을 형성하는 방법으로는 요철 형상의 조정 용이성 및 생산 효율의 관점에서, 수지 입자군과 바인더를 포함하는 수지 조성물을 기재 필름 상에 도포하여 건조시킴으로써, 수지 입자군에서 유래하는 미세한 요철 형상이 표면에 형성된 수지 조성물층(도막)을 형성하는 방법이 주류가 되어 있다.As a method for forming a fine concavo-convex shape on the surface of the antiglare film, a resin composition comprising a resin particle group and a binder is coated on a base film and dried to obtain a resin composition, A method of forming a resin composition layer (coating film) on the surface of which fine irregularities are formed is mainstream.

방현 필름에 사용되는 수지 입자군은 입자 직경이 균일한 것이 요구되고, 응집 입자(복수의 수지 입자가 응집됨으로써 형성된 조대 수지 입자) 및 조대 수지 입자는 방현 필름 표면에 흠집을 발생시키거나, 방현 필름에 휘점 결함을 발생시켜, 화상 표시 장치의 표시 품질을 저하시키는 원인이 되고 있다.The resin particle group used in the antiglare film is required to have a uniform particle diameter. Coarse particles (coarse resin particles formed by agglomeration of a plurality of resin particles) and coarse resin particles cause scratches on the surface of the antiglare film, Defocus defects are caused in the image display device, thereby causing the display quality of the image display device to deteriorate.

또한, 근래에는 고정밀화 및 비용 절감의 목적으로 방현 필름의 박층화가 진행되고 있어, 요구되는 입자 직경도 보다 작아지고 있다.Further, in recent years, the antiglare film has been made thinner for the purpose of high precision and cost reduction, and the required particle diameter has also become smaller.

보다 작은 입자 직경의 수지 입자군은 수지 입자간의 응집력이 보다 강해져, 응집을 풀기 어려운 응집 입자를 형성하기 쉽다. 이 때문에, 종래의 방법에서는 분급하는 것만으로는 응집 입자의 응집을 푸는 것이 곤란하였다. 그러므로, 종래의 방법에서는 응집 입자의 응집을 풀고, 그 수지 입자군으로부터 조대 입자를 제거하기 위해서는 분급 공정 전에 응집 입자를 해쇄하는 해쇄(분쇄) 공정을 필요로 하고 있었다. 예를 들면, 특허문헌 1의 방법은 분체 미립자를 건식 분급하는 공정 전에, 분체 미립자를 분쇄하는 공정을 필요로 하고 있다. 또한, 특허문헌 2의 방법은 미분말 중합체를 분급하는 공정 전에, 제트 밀로 해쇄하는 공정을 필요로 하고 있다.The resin particle group having a smaller particle diameter is more likely to form agglomerated particles that are difficult to agglomerate because the agglomeration force between the resin particles becomes stronger. For this reason, in the conventional method, it is difficult to solve the coagulation of aggregated particles simply by classifying. Therefore, in the conventional method, in order to solve aggregation of aggregated particles and remove coarse particles from the resin particle group, a crushing (crushing) step of crushing the aggregated particles before the classification step is required. For example, the method of Patent Document 1 requires a step of pulverizing the powder microparticles before the dry classification of the powder microparticles. In addition, the method of Patent Document 2 requires a step of crushing with a jet mill before the step of classifying the fine powder polymer.

국제 공개 공보 제2008/023648호International Publication No. 2008/023648 일본 특허공보 평4-71081호Japanese Patent Publication No. 4-71081 일본 공개특허공보 2002-40204호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-40204

그러나, 해쇄 공정에서 수지 입자군의 응집이 해쇄될 뿐만 아니라, 수지 입자의 균열(파쇄)이나 변형이 일어나는 경우가 있다. 균열된(파쇄된) 수지 입자나 변형된 수지 입자는 구상의 수지 입자와는 광확산성 등의 특성이 상이하다. 이 때문에, 균열된 수지 입자나 변형된 수지 입자가 수지 입자군에 많이 포함되어 있으면, 예를 들면, 화상 표시 장치의 표시면 상에 배치되는 방현 필름 중에 수지 입자군을 사용했을 때, 방현 필름에 투과광의 편차나 광의 불균일(국소적으로 확산율이 낮은 부분이 발생하는 결함)이 생겨 화상 표시 장치의 표시 품질을 저하시킨다는 과제가 있다.However, not only agglomeration of the resin particle group is disrupted in the crushing process but also cracking (crushing) or deformation of the resin particle occurs. Cracked (crushed) resin particles or deformed resin particles are different in properties such as light diffusibility from spherical resin particles. Therefore, when the resin particle group contains a large amount of the resin particles and the resin particles that have been cracked, for example, when the resin particle group is used in the anti-glare film disposed on the display surface of the image display device, There is a problem that the deviation of transmitted light and the nonuniformity of light (a defect in which a portion with a low diffusion rate occurs locally) occurs, and the display quality of the image display device is deteriorated.

또한, 방현성 반사 방지 필름에 함유되는 수지 입자에 있어서, 돌기 형상의 면상 고장의 핵심이 되는 조대 입자의 비율을 소정 비율 미만으로 저감시킨 수지 입자가 제안되어 있다(특허문헌 3 참조). 그러나, 특허문헌 3에는 조대 입자의 비율을 저감시키는 방법에 대해서는 전혀 구체적으로 기재되어 있지 않고, 실시예에 있어서 풍력 분급품의 가교 폴리스티렌 입자를 사용한 것이 기재되어 있을 뿐이다. 상기 풍력 분급품도 해쇄 공정을 거쳐 제조된 것으로 추측되고, 따라서 해쇄 공정에서 수지 입자의 균열이나 변형이 일어나는 경우가 있다.In addition, in the resin particles contained in the antireflection type antireflection film, resin particles in which the ratio of the coarse particles, which are the core of the protrusion-like surface defect, are reduced to less than a predetermined ratio have been proposed (see Patent Document 3). However, Patent Literature 3 does not disclose a method for reducing the ratio of coarse particles at all, and only the crosslinked polystyrene particles of the wind power component are described in the examples. It is assumed that the above-described wind power component is also manufactured through a crushing process, and thus cracking or deformation of resin particles may occur in the crushing process.

본 발명은 상기 종래의 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 그 목적은 조대 수지 입자의 함유율이 적고, 또한 균열된 수지 입자나 변형된 수지 입자의 함유율이 적은 수지 입자군 및 그 제조 방법, 및 그 수지 입자군을 사용한 수지 조성물 및 방현 필름을 제공하는 것에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to provide a resin particle group having a small content of coarse resin particles and having a small content of cracked resin particles or deformed resin particles, And an antiglare film using the same.

본 발명의 수지 입자군은 상기 과제를 해결하기 위해, 가교 비닐계 수지로 이루어지는 체적 평균 입자 직경이 0.5∼10㎛인 수지 입자군으로서, 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수가 10만개 중 5개 이하이며, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 1% 이하인 것을 특징으로 하고 있다.In order to solve the above-mentioned problems, the resin particle group of the present invention is a resin particle group composed of a crosslinked vinyl resin having a volume average particle diameter of 0.5 to 10 占 퐉 and comprising a resin particle group having a particle diameter not less than twice the volume average particle diameter Wherein the number of resin particles having a circularity of 0.97 or less is 5% or less, and the ratio of resin particles having a circularity of 0.97 or less is 1% or less.

상기 구성에 의하면, 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수가 10만개 중 5개 이하로, 조대 수지 입자의 함유율이 적다. 이 때문에, 수지 입자군을 방현 필름이나 광확산 필름 등의 광학 부품에 사용했을 때, 광학 부품 표면에 흠집을 발생시키거나 광학 부품에 휘점 결함을 발생시키는 것을 억제할 수 있다.According to the above constitution, the number of the resin particles having a particle diameter twice or more of the volume average particle diameter is 5 or less out of 100,000, and the content of the coarse resin particles is small. Therefore, when the resin particle group is used for an optical component such as an antiglare film or a light diffusion film, generation of scratches on the surface of the optical component or generation of a spot defect in the optical component can be suppressed.

또한, 상기 구성에 의하면, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 1% 이하이므로, 균열된 수지 입자나 변형된 수지 입자의 함유율이 적고, 대부분이 거의 진구의 수지 입자로 구성된다. 이 때문에, 수지 입자군을 방현 필름이나 광확산 필름 등의 광학 부품에 사용했을 때, 광학 부품에 투과광의 편차나 광의 불균일이 발생하는 것을 억제할 수 있다.According to the above constitution, since the proportion of the resin particles having a circularity degree of 0.97 or less is 1% or less, the content of the cracked resin particles or the deformed resin particles is small and most of them are composed of resin particles of substantially spherical shape. Therefore, when the resin particle group is used for an optical component such as an antiglare film or a light diffusion film, it is possible to suppress deviation of transmitted light and unevenness of light in the optical component.

이로써, 수지 입자군을 방현 필름이나 광확산 필름 등의 광학 부품에 사용하고, 상기 광학 부품을 화상 표시 장치에 사용했을 때, 표시 품질이 양호한 화상 표시 장치를 실현할 수 있다.This makes it possible to realize an image display device having a good display quality when the resin particle group is used for an optical component such as an antiglare film or a light diffusion film and the optical component is used for an image display device.

본 발명의 수지 입자군의 제조 방법은 상기 과제를 해결하기 위해, 수지 입자군의 생성 후에, 기류 분급기를 이용한 분급에 의해 상기 수지 입자군으로부터 조대 수지 입자군을 제거하는 분급 공정을 포함하는 가교 비닐계 수지로 이루어지는 체적 평균 입자 직경이 0.5∼10㎛인 수지 입자군의 제조 방법으로서, 상기 수지 입자군의 분급 공정은 수지 입자군의 생성 후에 해쇄 공정을 거치지 않고 실시되고, 상기 기류 분급기는 수지 입자군이 공급되는 분급용 공동부와, 상기 분급용 공동부의 외주부에 배치되고, 상기 분급용 공동부에 선회류가 발생하도록 상기 분급용 공동부에 서로의 사이로부터 공기를 내보내는 복수의 가이드 날개와, 상기 분급용 공동부의 상부 및 하부에 각각 공기를 분사하는 제1 및 제2 분사 노즐과, 상기 분급용 공동부로부터 분급된 수지 입자군을 포함하는 기류를 상방에 배출하는 분급 수지 입자군 배출구와, 상기 분급용 공동부로부터 조대 수지 입자군을 하방에 배출하는 조대 수지 입자군 배출구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하고 있다.In order to solve the above problems, the present invention provides a process for producing a resin particle group, comprising the steps of: after formation of a resin particle group, a classification step of removing the coarse resin particle group from the resin particle group by classification using an airflow classifier, And a volume average particle diameter of 0.5 to 10 占 퐉, wherein the classification step of the resin particle group is carried out after the formation of the resin particle group without the step of breaking, and the air flow classifier is a resin particle A plurality of guide vanes arranged in the outer periphery of the classifying cavity and for introducing air from each other into the classifying cavity so that a swirling flow is generated in the classifying cavity; First and second injection nozzles for injecting air into upper and lower portions of the classifying cavity, respectively, A is characterized in that comprises a coarse resin particle group port delivering below the coarse resin particle group from the classified resin particle group outlet, and a cavity for the classification for discharging the air stream containing the resin particles, the group above.

상기 방법에 의하면, 상기 구성의 기류 분급기를 이용함으로써, 제1 분사 노즐로부터 상기 분급용 공동부의 상부에 분사된 공기가 응집된 수지 입자군을 풀어, 수지 입자군을 거의 단일 수지 입자 상태로 선회류를 통해 분급할 수 있다. 그 결과, 해쇄 공정을 행하지 않고, 조대 수지 입자의 함유율이 적은 수지 입자군을 얻을 수 있다. 또한, 해쇄 공정을 행하지 않음으로써, 해쇄 공정에서 수지 입자의 균열이나 변형이 일어나는 것을 회피할 수 있어, 균열된 수지 입자나 변형된 수지 입자의 함유율이 적은 수지 입자군을 얻을 수 있다. 따라서, 상기 방법에 의해얻어지는 수지 입자군은 방현 필름이나 광확산 필름 등의 광학 부품에 사용했을 때, 광학 부품 표면에 흠집을 발생시키거나 광학 부품에 휘점 결함을 발생시키는 것을 억제할 수 있으며, 또한 광학 부품에 투과광의 편차나 광의 불균일이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 그러므로, 상기 광학 부품을 화상 표시 장치에 사용했을 때, 표시 품질이 양호한 화상 표시 장치를 실현할 수 있다.According to the above method, by using the airflow classifier having the above-described configuration, the resin particle group in which the air jetted from the first injection nozzle onto the upper portion of the classification cavity is released, . ≪ / RTI > As a result, a resin particle group having a small content of coarse resin particles can be obtained without carrying out a decarburization step. In addition, by not carrying out the crushing step, cracking or deformation of the resin particles in the crushing step can be avoided, and a resin particle group having a small content of cracked resin particles or deformed resin particles can be obtained. Therefore, when the resin particle group obtained by the above method is used for an optical component such as an antiglare film or a light diffusion film, scratches on the surface of the optical component or generation of a spot defect in the optical component can be suppressed, It is possible to suppress deviation of transmitted light and unevenness of light on the optical component. Therefore, when the optical component is used in an image display apparatus, an image display apparatus having a good display quality can be realized.

본 발명의 수지 조성물은 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 수지 입자군과 바인더를 포함하는 것을 특징으로 하고 있다.The resin composition of the present invention is characterized by comprising a resin particle group of the present invention and a binder in order to solve the above problems.

상기 구성에 의하면, 상기 수지 조성물을 기재 필름 상에 도포하거나 상기 수지 조성물을 성형함으로써 방현 필름이나 광확산 필름 등의 광학 부품을 제작했을 때, 광학 부품 표면에 흠집을 발생시키거나 광학 부품에 휘점 결함을 발생시키는 것을 억제할 수 있고, 또한 광학 부품에 투과광의 편차나 광의 불균일이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 그러므로, 상기 광학 부품을 화상 표시 장치에 사용했을 때, 표시 품질이 양호한 화상 표시 장치를 실현할 수 있다.According to the above configuration, when an optical component such as an antiglare film or a light diffusion film is produced by applying the resin composition onto a base film or by molding the resin composition, scratches may be formed on the surface of the optical component, It is possible to suppress generation of unevenness of the transmitted light and unevenness of the transmitted light on the optical component. Therefore, when the optical component is used in an image display apparatus, an image display apparatus having a good display quality can be realized.

본 발명의 방현 필름은 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 수지 조성물을 기재 필름 상에 도포하여 이루어지는 것을 특징으로 하고 있다.In order to solve the above problems, the antiglare film of the present invention is characterized in that the resin composition of the present invention is applied on a base film.

상기 구성에 의하면, 방현 필름 표면에 흠집을 발생시키거나 광학 부품에 휘점 결함을 발생시키는 것을 억제할 수 있고, 또한 방현 필름에 투과광의 편차나 광의 불균일이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 그러므로, 상기 방현 필름을 화상 표시 장치에 사용했을 때, 표시 품질이 양호한 화상 표시 장치를 실현할 수 있다.According to the above-described constitution, it is possible to suppress the generation of scratches on the surface of the antiglare film or the occurrence of defocus defects on the optical components, and it is possible to suppress the occurrence of deviations of the transmitted light and irregularities of light in the antiglare film. Therefore, when the antiglare film is used in an image display apparatus, an image display apparatus having a good display quality can be realized.

본 발명에 의하면, 이상과 같이 조대 수지 입자의 함유율이 적고, 또한 균열된 수지 입자나 변형된 수지 입자의 함유율이 적은 수지 입자군 및 그 제조 방법, 및 그 수지 입자군을 사용한 수지 조성물 및 방현 필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a resin particle group having a small content of coarse resin particles and a small content of cracked resin particles or deformed resin particles as described above, and a process for producing the resin particle group, a resin composition using the resin particle group, Can be provided.

도 1은 본 발명의 제조 방법의 일 실시형태에 사용하는 선회 기류식 분급기를 나타내는 모식 단면도이다.1 is a schematic sectional view showing a swirler type classifier used in an embodiment of the production method of the present invention.

이하, 본 발명에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

[수지 입자군][Resin Particle Group]

본 발명의 수지 입자군은 가교 비닐계 수지로 이루어지는 체적 평균 입자 직경이 0.5∼10㎛인 수지 입자군으로서, 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수가 10만개 중 5개 이하이며, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 1% 이하이다.The resin particle group of the present invention is a group of resin particles comprising a crosslinked vinyl resin having a volume average particle diameter of 0.5 to 10 占 퐉, wherein the number of resin particles having a particle diameter at least twice the volume average particle diameter is 5 Or less, and the ratio of resin particles having a circularity of 0.97 or less is 1% or less.

본 발명의 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수가 10만개 중 4개 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 조대 수지 입자의 함유율이 더욱 적은 수지 입자군을 실현할 수 있으므로, 수지 입자군을 방현 필름이나 광확산 필름 등의 광학 부품에 사용했을 때, 광학 부품 표면에 흠집을 발생시키거나 광학 부품에 휘점 결함을 발생시키는 것을 추가로 억제할 수 있다. 따라서, 상기 광학 부품을 화상 표시 장치에 사용했을 때, 화상 표시 장치의 표시 품질을 더욱 향상시킬 수 있다.It is preferable that the resin particle group of the present invention has four or less resin particles having a particle diameter of at least two times the volume average particle diameter of 100,000. This makes it possible to realize a resin particle group having a smaller content of coarse resin particles. Therefore, when the resin particle group is used for an optical component such as an antiglare film or a light diffusion film, scratches are generated on the surface of the optical component, It is possible to further suppress generation of defects. Therefore, when the optical component is used in an image display apparatus, the display quality of the image display apparatus can be further improved.

본 발명의 수지 입자군은 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 0.7% 이하인 것이 바람직하고, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 0.5% 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 0.3% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 이로써, 균열된 수지 입자나 변형된 수지 입자의 함유율이 적은 수지 입자군을 실현할 수 있으므로, 수지 입자군을 방현 필름이나 광확산 필름 등의 광학 부품에 사용했을 때, 광학 부품에 투과광의 편차나 광의 불균일이 발생하는 것을 추가로 억제할 수 있다. 따라서, 상기 광학 부품을 화상 표시 장치에 사용했을 때, 화상 표시 장치의 표시 품질을 더욱 향상시킬 수 있다.In the resin particle group of the present invention, the proportion of the resin particles having a circularity of 0.97 or less is preferably 0.7% or less, more preferably 0.5% or less of the resin particles having a circularity of 0.97 or less, And more preferably 0.3% or less. This makes it possible to realize a resin particle group having a small content of cracked resin particles or deformed resin particles. Therefore, when the resin particle group is used for an optical component such as an antiglare film or a light diffusion film, It is possible to further suppress occurrence of unevenness. Therefore, when the optical component is used in an image display apparatus, the display quality of the image display apparatus can be further improved.

본 발명의 수지 입자군의 체적 평균 입자 직경은 0.5∼3.5㎛인 것이 바람직하다. 이로써, 방현 필름이나 광확산 필름 등의 광학 부품에 수지 입자군을 사용했을 때, 광학 부품의 방현성이나 광확산성 등의 특성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 상기 광학 부품을 화상 표시 장치에 사용했을 때, 화상 표시 장치의 표시 품질을 더욱 향상시킬 수 있다.The volume average particle diameter of the resin particle group of the present invention is preferably 0.5 to 3.5 占 퐉. As a result, when the resin particle group is used for an optical component such as an antiglare film or a light diffusion film, characteristics of the optical component, such as the retardation and optical diffusibility, can be improved. Therefore, when the optical component is used in an image display apparatus, the display quality of the image display apparatus can be further improved.

상기 비닐계 수지는 중합성 비닐계 단량체의 중합체이다. 상기 중합성 비닐계 단량체는 에틸렌성 불포화기(광의의 비닐기)를 갖는 것이다. 상기 가교 비닐계 수지는 단관능 중합성 비닐계 단량체와 다관능 중합성 비닐계 단량체의 공중합체로서, 단관능 중합성 비닐계 단량체에서 유래하는 구조 단위와 다관능 중합성 비닐계 단량체에서 유래하는 구조 단위(가교 구조)를 포함하는 것이다. 상기 단관능 중합성 비닐계 단량체는 1개의 에틸렌성 불포화기를 갖는 것이고, 상기 다관능 중합성 비닐계 단량체는 2개 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 것이다.The vinyl-based resin is a polymer of a polymerizable vinyl-based monomer. The polymerizable vinyl-based monomer has an ethylenic unsaturated group (a broad vinyl group). The crosslinked vinyl resin is a copolymer of a monofunctional polymerizable vinyl-based monomer and a polyfunctional polymerizable vinyl-based monomer, and includes a structural unit derived from a monofunctional polymerizable vinyl-based monomer and a structure derived from a polyfunctional polymerizable vinyl- Unit (crosslinked structure). The monofunctional polymerizable vinyl monomer has one ethylenic unsaturated group, and the polyfunctional polymerizable vinyl monomer has two or more ethylenic unsaturated groups.

상기 단관능 중합성 비닐계 단량체로는, 예를 들면, (메타)아크릴산에스테르계 단량체; 스티렌계 단량체(방향족 비닐계 단량체); 초산비닐, 프로피온산비닐, 버사틱산비닐 등의 포화 지방산 비닐계 단량체; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시안화 비닐계 단량체; 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 시트라콘산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산 등의 에틸렌성 불포화 카르복실산; 무수 말레산 등의 에틸렌성 불포화 카르복실산 무수물; 모노부틸말레산 등의 에틸렌계성 불포화 디카르복실산모노알킬에스테르; 상기 에틸렌성 불포화 카르복실산이나 에틸렌계성 불포화 디카르복실산모노알킬에스테르의 암모늄염 또는 알칼리 금속염 등의 에틸렌성 불포화 카르복실산염류; 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 디아세톤아크릴아미드 등의 에틸렌성 불포화 카르복실산아미드류; N-메틸올아크릴아미드, N-메틸올메타크릴아미드, 메틸올화디아세톤아크릴아미드 및 이들 단량체와 탄소수 1∼8의 알코올류의 에테르화물(예를 들면, N-이소부톡시메틸아크릴아미드) 등의 에틸렌성 불포화 카르복실산아미드류의 메틸올화물 및 그 유도체 등을 들 수 있다.Examples of the monofunctional polymerizable vinyl monomer include (meth) acrylic acid ester monomers; Styrene-based monomers (aromatic vinyl-based monomers); Saturated fatty acid vinyl monomers such as vinyl acetate, vinyl propionate and vinyl versatate; Vinyl cyanide monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Ethylenically unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, citraconic acid, itaconic acid, maleic acid and fumaric acid; Ethylenically unsaturated carboxylic acid anhydrides such as maleic anhydride; Ethylenically unsaturated dicarboxylic acid monoalkyl esters such as monobutyl maleic acid; Ethylenically unsaturated carboxylic acid salts such as an ammonium salt or an alkali metal salt of the ethylenically unsaturated carboxylic acid or the ethylenically unsaturated dicarboxylic acid monoalkyl ester; Ethylenically unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide, methacrylamide and diacetone acrylamide; Methylol acrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, methylol diacetone acrylamide, and ether of these monomers and alcohols having 1 to 8 carbon atoms (for example, N-isobutoxymethyl acrylamide) Methylol compounds of ethylenically unsaturated carboxylic acid amides and derivatives thereof, and the like.

상기 (메타)아크릴산에스테르계 단량체로는, 아크릴산메틸, 아크릴산에틸, 아크릴산 n-부틸, 아크릴산이소부틸, 아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산 n-옥틸, 아크릴산이소노닐, 아크릴산라우릴, 아크릴산스테아릴 등의 아크릴산알킬계 단량체; 메타크릴산메틸, 메타크릴산에틸, 메타크릴산 n-부틸, 메타크릴산 2-에틸헥실, 메타크릴산스테아릴 등의 메타크릴산알킬계 단량체; 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 에폭시기(글리시딜기)를 갖는 (메타)아크릴산에스테르; 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트; 디메틸아미노에틸메타크릴레이트, 디에틸아미노에틸메타크릴레이트 등의 아미노기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산에스테르계 단량체는 아크릴산알킬계 단량체 및 메타크릴산알킬계 단량체 중 적어도 일방을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 본 출원 서류에 있어서, 「(메타)아크릴레이트」는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미하고, 「(메타)아크릴」은 아크릴 또는 메타크릴을 의미하는 것으로 한다.Examples of the (meth) acrylate monomer include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-octyl acrylate, isononyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate An acrylic acid alkyl-based monomer; Methacrylic acid alkyl monomers such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, and stearyl methacrylate; (Meth) acrylic acid esters having an epoxy group (glycidyl group) such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl methacrylate and 2-hydroxypropyl acrylate; (Meth) acrylic acid esters having an amino group such as dimethylaminoethyl methacrylate and diethylaminoethyl methacrylate. The (meth) acrylic acid ester-based monomer preferably includes at least one of an acrylic acid alkyl-based monomer and an alkyl methacrylate-based monomer. In the present application, "(meth) acrylate" means acrylate or methacrylate, and "(meth) acryl" means acryl or methacryl.

상기 스티렌계 단량체로는, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 에틸비닐벤젠 등을 들 수 있다.Examples of the styrene-based monomer include styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, and ethylvinylbenzene.

상기 다관능 중합성 비닐계 단량체로는, 예를 들면, 디비닐벤젠, 디알릴프탈레이트, 트리알릴시아누레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중합성 비닐계 단량체는 1종을 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of the polyfunctional polymerizable vinyl monomer include divinylbenzene, diallyl phthalate, triallyl cyanurate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol Di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate and the like. These polymerizable vinyl monomers may be used singly or in combination of two or more.

상기 가교 비닐계 수지는 가교 (메타)아크릴계 수지, 가교 스티렌계 수지, 가교 (메타)아크릴-스티렌 공중합 수지 중 어느 것인 것이 바람직하다. 이로써, 광투과성이 높은 수지 입자를 실현할 수 있다. 상기 가교 (메타)아크릴계 수지는 단관능 (메타)아크릴산에스테르계 단량체를 포함하는 단관능 중합성 비닐계 단량체와 다관능 중합성 비닐계 단량체의 공중합체이다. 상기 가교 스티렌계 수지는 단관능 스티렌계 단량체를 포함하는 단관능 중합성 비닐계 단량체와 다관능 중합성 비닐계 단량체의 공중합체이다. 상기 가교 (메타)아크릴-스티렌 공중합 수지는 단관능 (메타)아크릴산에스테르계 단량체 및 단관능 스티렌계 단량체를 포함하는 단관능 중합성 비닐계 단량체와 다관능 중합성 비닐계 단량체의 공중합체이다. 이들 중, 바인더와 혼합한 수지 조성물을 기재 필름에 도공하여 얻어진 방현 필름의 광학 특성을 용이하게 조정할 수 있는 관점에서, 가교 (메타)아크릴-스티렌 공중합 수지가 보다 바람직하고, 그 중에서도 메타크릴산메틸-스티렌-에틸렌글리콜디메타크릴레이트 공중합체가 내광성의 관점에서 가장 바람직하다.The crosslinked vinyl resin is preferably any one of crosslinked (meth) acrylic resin, crosslinked styrene resin and crosslinked (meth) acryl-styrene copolymer resin. Thus, resin particles having high light transmittance can be realized. The crosslinked (meth) acrylic resin is a copolymer of a monofunctional polymerizable monomer containing a monofunctional (meth) acrylic ester monomer and a polyfunctional polymerizable monomer. The crosslinked styrene-based resin is a copolymer of a monofunctional polymerizable monomer containing a monofunctional styrene monomer and a polyfunctional polymerizable monomer. The crosslinked (meth) acrylic-styrene copolymer resin is a copolymer of a monofunctional polymerizable vinyl monomer and a polyfunctional polymerizable vinyl monomer including a monofunctional (meth) acrylic acid ester monomer and a monofunctional styrene monomer. Of these, crosslinked (meth) acrylic-styrene copolymer resins are more preferable, from the viewpoint that optical characteristics of an antiglare film obtained by coating a resin composition mixed with a binder on a base film can be easily adjusted, -Styrene-ethylene glycol dimethacrylate copolymer is most preferable from the standpoint of light resistance.

상기 다관능 중합성 비닐계 단량체에서 유래하는 구성 단위의 양은 상기 가교 비닐계 수지 100중량%에 대해 5∼50중량%의 범위 내인 것이 바람직하다. 상기 다관능 중합성 비닐계 단량체에서 유래하는 구성 단위의 양이 상기 범위보다 적은 경우, 상기 가교 비닐계 수지의 가교도가 낮아진다. 그 결과, 수지 입자를 바인더와 혼합하여 수지 조성물로서 도공하는 경우에, 수지 입자가 팽윤되어 수지 조성물의 점도 상승이 일어나 도공의 작업성이 저하될 우려가 있다. 또한, 상기 가교 비닐계 수지의 가교도가 낮아지는 결과, 수지 입자를 바인더와 혼합하여 성형하는 용도(이른바, 반죽 용도)에 있어서 혼합시나 성형시에 수지 입자에 열을 가했을 때, 수지 입자가 용해 또는 변형되기 쉬워진다. 상기 다관능 중합성 비닐계 단량체에서 유래하는 구성 단위의 양이 상기 범위보다 많은 경우, 상기 다관능 중합성 비닐계 단량체의 사용량에 알맞는 효과의 향상이 인정되지 않아, 생산 비용이 상승하는 경우가 있다.The amount of the structural unit derived from the polyfunctional polymerizable vinyl-based monomer is preferably within a range of 5 to 50% by weight based on 100% by weight of the crosslinked vinyl-based resin. When the amount of the structural unit derived from the polyfunctional polymerizable vinyl monomer is less than the above range, the degree of crosslinking of the crosslinked vinyl resin becomes low. As a result, when the resin particles are mixed with a binder to be coated as a resin composition, the resin particles are swollen to increase the viscosity of the resin composition, which may lower the workability of the coating. In addition, as a result of lowering the degree of crosslinking of the crosslinked vinyl-based resin, when heat is applied to the resin particles during mixing or during molding in a case where the resin particles are mixed with a binder and molded (so-called kneading application) It becomes easy to deform. When the amount of the structural unit derived from the polyfunctional polymerizable vinyl monomer is more than the above range, improvement in the effect suited to the usage amount of the polyfunctional polymerizable vinyl monomer is not recognized and the production cost rises have.

[수지 입자군의 제조 방법][Manufacturing method of resin particle group]

본 발명의 수지 입자군은 임의의 제조 방법에 따라 제조 가능하지만, 본 발명의 제조 방법에 따라 용이하게 제조할 수 있다. 본 발명의 제조 방법은 가교 비닐계 수지로 이루어지는 체적 평균 입자 직경이 0.5∼10㎛인 수지 입자군의 제조 방법으로서, 수지 입자군의 생성 후에 기류 분급기를 이용한 분급에 의해 상기 수지 입자군으로부터 조대 수지 입자군을 제거하는 분급 공정을 포함하고 있다. 그리고, 본 발명의 수지 입자군의 제조 방법은 수지 입자군의 생성 후에 해쇄 공정을 거치지 않고 상기 수지 입자군의 분급 공정이 실시되고, 상기 기류 분급기가 후술하는 선회 기류식 분급기인 것을 특징으로 하고 있다.The resin particle group of the present invention can be produced according to any production method, but can be easily produced according to the production method of the present invention. The production method of the present invention is a production method of a resin particle group composed of a crosslinked vinyl resin having a volume average particle diameter of 0.5 to 10 占 퐉, characterized in that after the production of the resin particle group, the coarse resin And a classifying step of removing the group of particles. The method of producing a resin particle group according to the present invention is characterized in that the resin particle group is subjected to a classification step without a descaling step after the formation of the resin particle group and the air current classifier is a swirling air current classifier .

[수지 입자군의 생성 공정][Production step of resin particle group]

상기 수지 입자군을 생성하는 공정은 상기 중합성 비닐계 단량체를 중합함으로써 행할 수 있다.The step of producing the resin particle group can be performed by polymerizing the polymerizable vinyl monomer.

중합성 비닐계 단량체의 중합법으로는, 공지의 중합 방법이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 시드 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 소프 프리 유화 중합, 현탁 중합 등의 방법을 들 수 있다. 이들 중합법 중, 얻어지는 수지 입자군의 입자 직경의 편차가 가장 적은 점에서, 시드 중합이 가장 바람직하다.Polymerization of the polymerizable vinyl monomer is not particularly limited as long as it is a known polymerization method, and examples thereof include seed polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, soap-free emulsion polymerization, suspension polymerization and the like. Among these polymerization methods, seed polymerization is most preferable because the deviation of the particle diameter of the obtained resin particle group is the smallest.

상기 괴상 중합의 경우에는, 중합 후에 분쇄하여 분급함으로써 원하는 입자 직경의 수지 입자군을 생성할 수 있다. 상기 유화 중합이란, 물 등의 매체와, 매체에 용해되기 어려운 중합성 비닐계 단량체와, 유화제(계면활성제)를 혼합하고, 여기에 매체에 용해 가능한 중합 개시제를 첨가하고 중합을 행하는 중합법이다. 상기 유화 중합은 얻어지는 수지 입자군의 입자 직경의 편차가 적다는 특징이 있다. 상기 소프 프리 유화 중합이란, 상기 유화 중합에 있어서 유화제를 사용하지 않도록 한 중합법으로서, 비교적 균일한 입자 직경의 수지 입자군이 얻어진다는 특징이 있다. 상기 현탁 중합이란, 중합성 비닐계 단량체와 물 등의 수성 매체를 기계적으로 교반하고, 중합성 비닐계 단량체를 수성 매체 내에 현탁하여 중합시키는 중합법이다. 상기 현탁 중합은 입자 직경이 작고, 또한 입자 직경이 비교적 균일한 수지 입자군이 얻어진다는 특징이 있다.In the case of the bulk polymerization, a resin particle group having a desired particle diameter can be produced by pulverization after classification and classification. The emulsion polymerization is a polymerization method in which a medium such as water, a polymerizable vinyl monomer that is difficult to dissolve in a medium, and an emulsifier (surfactant) are mixed, a polymerization initiator soluble in the medium is added thereto, and polymerization is carried out. The emulsion polymerization is characterized in that the deviation of the particle diameters of the obtained resin particle group is small. The soap-free emulsion polymerization is a polymerization method in which an emulsifier is not used in the emulsion polymerization, and a feature that a resin particle group having a relatively uniform particle diameter can be obtained. The suspension polymerization is a polymerization method in which a polymerizable vinyl-based monomer and an aqueous medium such as water are mechanically stirred, and the polymerizable vinyl-based monomer is suspended in an aqueous medium to polymerize. The suspension polymerization is characterized in that a resin particle group having a small particle diameter and a relatively uniform particle diameter is obtained.

상기 시드 중합은, 중합성 비닐계 단량체의 중합을 개시할 때, 별도 제작된 중합성 비닐계 단량체의 중합체로 이루어지는 종(시드) 입자군을 넣어, 중합을 행하는 방법이다. 보다 상세하게는 상기 시드 중합법은 중합성 비닐계 단량체의 중합체로 이루어지는 수지 입자군을 종입자군으로서 사용하고, 수성 매체 내에서 상기 종입자군에 중합성 비닐계 단량체를 흡수시켜, 종입자군 내에서 중합성 비닐계 단량체를 중합시키는 방법이다. 이 방법에서는 종입자군을 성장시킴으로써, 원래 종입자군보다 큰 입자 직경의 수지 입자군을 얻을 수 있다.The seed polymerization is a method in which, when initiating polymerization of a polymerizable vinyl-based monomer, a seed (seed) particle group made of a polymer of a separately prepared polymerizable vinyl monomer is added and polymerization is carried out. More specifically, in the seed polymerization method, a resin particle group composed of a polymer of a polymerizable vinyl monomer is used as a seed particle group, and the polymerizable vinyl monomer is absorbed into the seed particle group in an aqueous medium, In the presence of a polymerization initiator. In this method, by growing a seed particle group, a resin particle group having a particle diameter larger than that of the original seed particle group can be obtained.

이하에 시드 중합의 일반적인 방법을 서술하지만, 본 발명의 제조 방법에 있어서의 중합법은 이 방법에 한정되지 않는다.The general method of seed polymerization is described below, but the polymerization method in the production method of the present invention is not limited to this method.

시드 중합에서는 우선, 중합성 비닐계 단량체와 수성 매체를 포함하는 유화액(현탁액)에 종입자군을 첨가한다. 상기 유화액은 공지의 방법에 의해 제작할 수 있다. 예를 들면, 중합성 비닐계 단량체를 수성 매체에 첨가하고, 호모지나이저, 초음파 처리기, 나노마이저 등의 미세 유화기에 의해 분산시킴으로써, 유화액을 얻을 수 있다. 상기 수성 매체로는, 물, 또는, 물과 유기 용매(예를 들면, 저급 알코올(탄소수 5 이하의 알코올))의 혼합물을 사용할 수 있다.In the seed polymerization, first, a seed particle group is added to an emulsion (suspension) containing a polymerizable vinyl monomer and an aqueous medium. The emulsion can be prepared by a known method. For example, an emulsion can be obtained by adding a polymerizable vinyl-based monomer to an aqueous medium and dispersing it by a micro emulsifier such as a homogenizer, an ultrasonic wave processor, or a nanometer. As the aqueous medium, water or a mixture of water and an organic solvent (for example, a lower alcohol (an alcohol having 5 or less carbon atoms)) can be used.

종입자군은 그대로 유화액에 첨가되어도 되고, 수성 매체에 분산된 형태로 유화액에 첨가되어도 된다. 종입자군이 유화액에 첨가된 후, 중합성 비닐계 단량체가 종입자군에 흡수된다. 이 흡수는 통상, 유화액을 실온(약 20℃)에서 1∼12시간 교반함으로써 행할 수 있다. 또한, 종입자군에 대한 중합성 비닐계 단량체의 흡수를 촉진시키기 위해, 유화액을 30∼50℃ 정도로 가온시켜도 된다.The seed particles may be added to the emulsion as it is, or may be added to the emulsion in the form dispersed in an aqueous medium. After the seed particles are added to the emulsion, the polymerizable vinyl monomer is absorbed into the seed particles. This absorption can be usually carried out by stirring the emulsion at room temperature (about 20 ° C) for 1 to 12 hours. Further, in order to accelerate the absorption of the polymerizable vinyl-based monomer to the seed particles, the emulsion may be heated to about 30 to 50 캜.

종입자군은 중합성 비닐계 단량체를 흡수함으로써 팽윤된다. 중합성 비닐계 단량체와 종입자군의 혼합 비율은 종입자군 1중량부에 대해, 중합성 비닐계 단량체가 5∼300중량부의 범위 내인 것이 바람직하고, 100∼250중량부의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 중합성 비닐계 단량체의 혼합 비율이 상기 범위보다 작아지면, 중합에 의한 입자 직경의 증가가 작아지므로, 제조 효율이 저하된다. 한편, 중합성 비닐계 단량체의 혼합 비율이 상기 범위보다 커지면, 중합성 비닐계 단량체가 완전히 종입자군에 흡수되지 않고, 수성 매체 내에서 독자적으로 현탁 중합하여, 비정상적으로 입자 직경이 작은 수지 입자가 생성되는 경우가 있다. 또한, 종입자군에 대한 중합성 비닐계 단량체의 흡수의 종료는 광학 현미경의 관찰에 의해 입자 직경의 확대를 확인함으로써 판정할 수 있다.The seed particles swell by absorbing the polymerizable vinyl-based monomer. The mixing ratio of the polymerizable vinyl-based monomer and the seed particle group is preferably in the range of 5 to 300 parts by weight, more preferably 100 to 250 parts by weight, relative to 1 part by weight of the seed particles group . When the mixing ratio of the polymerizable vinyl monomer is smaller than the above range, the increase of the particle diameter due to polymerization becomes small, and the production efficiency is lowered. On the other hand, when the mixing ratio of the polymerizable vinyl monomer is larger than the above range, the polymerizable vinyl monomer is not completely absorbed in the seed particle group, and suspension polymerization is carried out independently in the aqueous medium to give resin particles having abnormally small particle diameter May be generated. The completion of the absorption of the polymerizable vinyl monomer to the species of the seed particles can be judged by confirming enlargement of the particle diameter by observation of an optical microscope.

다음으로, 종입자군에 흡수된 중합성 비닐계 단량체를 중합시킴으로써, 수지 입자군이 얻어진다. 또한, 중합성 비닐계 단량체를 종입자군에 흡수시켜 중합시키는 공정을 복수회 반복함으로써 수지 입자군을 얻어도 된다.Next, by polymerizing the polymerizable vinyl monomer absorbed in the seed particle group, a resin particle group is obtained. In addition, a resin particle group may be obtained by repeating the step of polymerizing and absorbing the polymerizable vinyl monomer into the group of seed particles and performing the polymerization a plurality of times.

상기 중합성 비닐계 단량체에는, 필요에 따라 중합 개시제를 첨가해도 된다. 상기 중합 개시제는, 상기 중합 개시제를 중합성 비닐계 단량체에 혼합한 후 얻어진 혼합물을 수성 매체 내에 분산시켜도 되고, 중합 개시제와 중합성 비닐계 단량체 양자를 따로 따로 수성 매체에 분산시킨 것을 혼합해도 된다. 얻어진 유화액 중에 존재하는 중합성 비닐계 단량체의 액적의 입자 직경은 종입자군의 입자 직경보다 작은 것이 중합성 비닐계 단량체가 종입자군에 효율적으로 흡수되므로 바람직하다.A polymerization initiator may be added to the polymerizable vinyl-based monomer, if necessary. The polymerization initiator may be obtained by mixing the polymerization initiator with the polymerizable vinyl monomer, dispersing the resulting mixture in an aqueous medium, or dispersing the polymerization initiator and the polymerizable vinyl monomer separately in an aqueous medium. The particle diameter of the liquid droplets of the polymerizable vinyl monomer present in the resulting emulsion is preferably smaller than the particle diameter of the seed particle group because the polymerizable vinyl monomer is efficiently absorbed into the seed particle group.

상기 중합 개시제로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 과산화벤조일, 과산화라우로일, o-클로로과산화벤조일, o-메톡시과산화벤조일, 3,5,5-트리메틸헥사노일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디-tert-부틸퍼옥사이드 등의 유기 과산화물; 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,3-디메틸부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,3,3-트리메틸부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2-이소프로필부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴), (2-카르바모일아조)이소부티로니트릴, 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산), 디메틸-2,2'-아조비스이소부틸레이트 등의 아조 화합물 등을 들 수 있다. 상기 중합 개시제는 중합성 비닐계 단량체 100중량부에 대해, 0.1∼1.0중량부의 범위 내에서 사용되는 것이 바람직하다.Examples of the polymerization initiator include, but are not limited to, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, o-chloro benzoyl peroxide, o-methoxy benzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, t- Organic peroxides such as butyl peroxy-2-ethylhexanoate and di-tert-butyl peroxide; (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2,3-dimethylbutyronitrile), 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'- Azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobis (2,3,3-trimethylbutyronitrile), 2,2'-azobis (2-isopropylbutyronitrile) Azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), (2-carbamoyl azo) iso Azo compounds such as butyronitrile, 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), and dimethyl-2,2'-azobisisobutylate. The polymerization initiator is preferably used in an amount of 0.1 to 1.0 part by weight based on 100 parts by weight of the polymerizable vinyl monomer.

상기 시드 중합의 중합 온도는 중합성 비닐계 단량체의 종류나, 필요에 따라 사용되는 중합 개시제의 종류에 따라 적절히 선택할 수 있다. 상기 시드 중합의 중합 온도는 구체적으로는 25∼110℃인 것이 바람직하고, 50∼100℃인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 시드 중합의 중합 시간은 1∼12시간인 것이 바람직하다. 상기 시드 중합의 중합 반응은 중합에 대해 불활성인 불활성 가스(예를 들면, 질소)의 분위기하에서 행해도 된다. 또한, 상기 시드 중합의 중합 반응은 중합성 비닐계 단량체 및 필요에 따라 사용되는 중합 개시제가 종입자군에 완전히 흡수된 후에, 승온시켜 행해지는 것이 바람직하다.The polymerization temperature of the seed polymerization can be appropriately selected depending on the kind of the polymerizable vinyl-based monomer and the kind of the polymerization initiator to be used, if necessary. The polymerization temperature of the seed polymerization is preferably 25 to 110 캜, more preferably 50 to 100 캜. The polymerization time of the seed polymerization is preferably 1 to 12 hours. The polymerization reaction of the seed polymerization may be carried out in an atmosphere of an inert gas (for example, nitrogen) inert to polymerization. It is preferable that the polymerization reaction of the seed polymerization is carried out by raising the temperature after the polymerizable vinyl-based monomer and the polymerization initiator to be used, if necessary, are completely absorbed by the seed particles.

상기 시드 중합에 있어서는, 수지 입자군의 분산 안정성을 향상시키기 위해, 고분자 분산 안정제를 중합 반응계에 첨가해도 된다. 상기 고분자 분산 안정제로는, 예를 들면, 폴리비닐알코올, 폴리카르복실산, 셀룰로오스류(히드록시에틸셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스 등), 폴리비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 또한, 상기 고분자 분산 안정제와, 트리폴리인산나트륨 등의 무기계 수용성 고분자 화합물이 병용되어도 된다. 이들 고분자 분산 안정제 중, 폴리비닐알코올 및 폴리비닐피롤리돈이 바람직하다. 상기 고분자 분산 안정제의 첨가량은 중합성 비닐계 단량체 100중량부에 대해 1∼10중량부의 범위 내인 것이 바람직하다.In the seed polymerization, in order to improve the dispersion stability of the resin particle group, a polymeric dispersion stabilizer may be added to the polymerization reaction system. Examples of the polymer dispersion stabilizer include polyvinyl alcohol, polycarboxylic acid, cellulose (hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose, etc.), and polyvinylpyrrolidone. The polymer dispersion stabilizer may be used in combination with an inorganic water-soluble polymeric compound such as sodium tripolyphosphate. Of these polymer dispersion stabilizers, polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone are preferable. The addition amount of the polymer dispersion stabilizer is preferably within a range of 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymerizable vinyl monomer.

상기 유화액에는 계면활성제를 첨가해도 된다. 상기 계면활성제로는, 음이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 비이온계 계면활성제 및 양성 이온계 계면활성제 중 어느 것도 사용할 수 있다.A surfactant may be added to the emulsion. As the surfactant, any of an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, and a positive ion surfactant can be used.

상기 음이온계 계면활성제로는, 예를 들면, 올레산나트륨, 피마자유 칼륨 비누 등의 지방산 비누; 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산에스테르 염; 도데실벤젠술폰산나트륨 등의 알킬벤젠술폰산염; 알킬나프탈렌술폰산염, 알칸술폰산염, 디옥틸술포숙신산나트륨 등의 디알킬술포숙신산염; 알케닐숙신산염(디칼륨염); 알킬인산에스테르염; 나프탈렌술폰산포르말린 축합물; 폴리옥시에틸렌알킬 페닐에테르황산에스테르염; 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산나트륨 등의 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산염; 폴리옥시에틸렌알킬황산에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the anionic surfactant include fatty acid soaps such as sodium oleate and castor oil potassium soap; Alkyl sulfuric acid ester salts such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate; Alkylbenzene sulfonic acid salts such as sodium dodecylbenzenesulfonate; Dialkylsulfosuccinates such as alkylnaphthalenesulfonate, alkanesulfonate and sodium dioctylsulfosuccinate; Alkenylsuccinates (dipotassium salts); Alkyl phosphoric acid ester salts; Naphthalenesulfonic acid formalin condensate; Polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfuric acid ester salts; Polyoxyethylene alkyl ether sulfate such as polyoxyethylene lauryl ether sodium sulfate; Polyoxyethylene alkyl sulfates and the like.

상기 비이온성 계면활성제로는, 예를 들면, 폴리옥시에틸렌트리데실에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌스티렌화페닐에테르, 알킬렌기의 탄소수가 3 이상인 폴리옥시알킬렌트리데실에테르 등의 폴리옥시알킬렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌 지방산에스테르, 소르비탄 지방산에스테르, 모노라우르산폴리옥시에틸렌소르비탄 등의 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민, 글리세린 지방산에스테르, 옥시에틸렌-옥시프로필렌 블록 폴리머 등을 들 수 있다.Examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether such as polyoxyethylene tridecyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether such as polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene styrenated phenyl ether, alkyl A polyoxyalkylene alkyl ether such as a polyoxyalkylene tridecyl ether having a carbon number of 3 or more of the phenoxyethylene group, a polyoxyethylene sorbitan fatty acid such as a polyoxyethylene fatty acid ester, a sorbitan fatty acid ester, and monolauric polyoxyethylene sorbitan Esters, polyoxyethylene alkylamines, glycerin fatty acid esters, and oxyethylene-oxypropylene block polymers.

상기 양이온계 계면활성제로는, 예를 들면, 라우릴아민아세테이트, 스테아릴 아민아세테이트 등의 알킬아민염, 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 제4급 암모늄염 등을 들 수 있다.Examples of the cationic surfactant include alkylamine salts such as laurylamine acetate and stearylamine acetate, quaternary ammonium salts such as lauryltrimethylammonium chloride, and the like.

상기 양성 이온계 계면활성제로는, 라우릴디메틸아민옥사이드, 인산에스테르계 계면활성제, 아인산에스테르계 계면활성제 등을 들 수 있다. 상기 계면활성제는 1종을 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. Examples of the amphoteric surfactant include lauryldimethylamine oxide, phosphate ester surfactant, phosphorous ester surfactant, and the like. These surfactants may be used alone or in combination of two or more.

상기 시드 중합에 있어서의 계면활성제의 사용량은 중합성 비닐계 단량체 100중량부에 대해 0.01∼5중량부의 범위 내인 것이 바람직하다. 계면활성제의 사용량이 상기 범위보다 적은 경우에는, 중합 안정성이 낮아질 우려가 있다. 또한, 계면활성제의 사용량이 상기 범위보다 많은 경우에는 비용면에서 비경제적이다.The amount of the surfactant used in the seed polymerization is preferably in the range of 0.01 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymerizable vinyl monomer. If the amount of the surfactant used is less than the above range, the polymerization stability may be lowered. In addition, when the amount of the surfactant used is larger than the above range, it is not economical from the viewpoint of cost.

또한, 상기 중합 반응에 있어서의 수성 매체 내에서의 유화 입자(입자 직경 이 지나치게 작은 수지 입자)의 발생을 억제하기 위해, 아질산나트륨 등의 아질산 염류, 아황산염류, 하이드로퀴논류, 아스코르브산류, 수용성 비타민B류, 구연산, 폴리페놀류 등의 수용성 중합 금지제를 수성 매체에 첨가해도 된다. 상기 중합 금지제의 첨가량은 중합성 비닐계 단량체 100중량부에 대해 0.02∼0.2중량부의 범위 내인 것이 바람직하다.In order to suppress the generation of emulsified particles (resin particles having excessively small particle diameters) in the aqueous medium in the polymerization reaction, nitrite salts such as sodium nitrite, sulfites, hydroquinones, ascorbic acids, water-soluble vitamins B water, citric acid, polyphenols and the like may be added to an aqueous medium. The addition amount of the polymerization inhibitor is preferably in the range of 0.02 to 0.2 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymerizable vinyl monomer.

또한, 중합성 비닐계 단량체를 중합하여 종입자군을 얻기 위한 중합법에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 소프 프리 유화 중합, 분산 중합, 유화 중합, 현탁 중합 등을 사용할 수 있다. 시드 중합에 의해 대략 균일한 입자 직경의 수지 입자군을 얻기 위해서는, 맨 처음에 대략 균일한 입자 직경의 종입자군을 사용하여, 이들 종입자군을 대략 균일하게 성장시키는 것이 필요해진다. 원료가 되는 대략 균일한 입자 직경의 종입자군은 중합성 비닐계 단량체를 소프 프리 유화 중합 및 분산 중합 등의 중합법으로 중합함으로써 제조할 수 있다. 따라서, 중합성 비닐계 단량체를 중합하여 종입자군을 얻기 위한 중합법으로는, 소프 프리 유화 중합 및 분산 중합이 바람직하다.The polymerization method for polymerizing the polymerizable vinyl-based monomer to obtain the seed particle group is not particularly limited, but may be selected from soap-free emulsion polymerization, dispersion polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization and the like. In order to obtain a resin particle group having an approximately uniform particle diameter by seed polymerization, it is necessary to grow the group of these species to be substantially uniform by using a group of seed particles having an approximately uniform particle diameter at the beginning. The group of seed particles having a substantially uniform particle diameter serving as a raw material can be produced by polymerizing a polymerizable vinyl-based monomer by a polymerization method such as soap-free emulsion polymerization or dispersion polymerization. Therefore, as the polymerization method for obtaining the seed particle group by polymerizing the polymerizable vinyl-based monomer, so-called pre-emulsion polymerization and dispersion polymerization are preferable.

종입자군을 얻기 위한 중합에 있어서도, 필요에 따라 중합 개시제가 사용된다. 상기 중합 개시제로는, 예를 들면, 과황산칼륨, 과황산암모늄, 과황산나트륨 등의 과황산염류; 과산화벤조일, 과산화라우로일, o-클로로과산화벤조일, o-메톡시과산화벤조일, 3,5,5-트리메틸헥사노일퍼옥사이드, tert-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디-tert-부틸퍼옥사이드 등의 유기 과산화물; 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 1,1'-아조비스시클로헥산카르보니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등의 아조계 화합물 등을 들 수 있다. 상기 중합 개시제의 사용량은 종입자군을 얻기 위해 사용하는 중합성 비닐계 단량체 100중량부에 대해 0.1∼3중량부의 범위 내인 것이 바람직하다. 상기 중합 개시제의 사용량의 가감에 의해, 얻어지는 종입자군의 중량 평균 분자량을 조정할 수 있다.In the polymerization for obtaining the seed particle group, a polymerization initiator is used if necessary. Examples of the polymerization initiator include persulfates such as potassium persulfate, ammonium persulfate and sodium persulfate; Benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, o-chloro benzoyl peroxide, o-methoxy benzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, tert-butyl peroxy-2-ethylhexanoate, di- Organic peroxides such as butyl peroxide; Azo compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile, 1,1'-azobiscyclohexanecarbonitrile, and 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile). have. The amount of the polymerization initiator to be used is preferably in the range of 0.1 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymerizable vinyl monomer used for obtaining the seed particle group. By adjusting the amount of the polymerization initiator used, the weight average molecular weight of the obtained seed particle group can be adjusted.

종입자군을 얻기 위한 중합에 있어서는 얻어지는 종입자군의 중량 평균 분자량을 조정하기 위해, 분자량 조정제를 사용해도 된다. 상기 분자량 조정제로는, n-옥틸메르캅탄, tert-도데실메르캅탄 등의 메르캅탄류; α-메틸스티렌 다이머; γ-테르피넨, 디펜텐 등의 테르펜류; 클로로포름, 사염화탄소 등의 할로겐화탄화수소류 등을 사용할 수 있다. 상기 분자량 조정제의 사용량의 가감에 의해, 얻어지는 종입자군의 중량 평균 분자량을 조정할 수 있다.In the polymerization for obtaining the seed particle group, a molecular weight adjuster may be used to adjust the weight average molecular weight of the obtained seed particle group. Examples of the molecular weight adjusting agent include mercaptans such as n-octyl mercaptan and tert-dodecyl mercaptan; ? -methylstyrene dimer; terpenes such as? -terpinene and dipentene; And halogenated hydrocarbons such as chloroform and carbon tetrachloride. The weight average molecular weight of the obtained seed particle group can be adjusted by adding or subtracting the amount of the molecular weight adjuster used.

상기 시드 중합에서는, 중합 후, 수지 입자군을 수계 매체 내에서 꺼내어, 건조 수지 입자군으로 한 후, 건조 수지 입자군에 분급 공정을 실시하여 조대 수지 입자군을 제거한다. 이 때, 건조 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경이 0.5∼10㎛ 또는 이에 가까운 미소 수지 입자군이며, 수지 입자간의 응집력이 강하여, 응집을 풀기 어려운 응집 입자가 되기 쉽다. 이 때문에, 만약 상기 시드 중합 후에 종래 제조 방법에 사용되고 있는 분급 공정을 실시하는 경우에는, 분급 공정 전에 수지 입자군의 응집을 풀기 위해 해쇄 공정을 실시하는 것이 필요하다.In the seed polymerization, after the polymerization, the resin particle group is taken out from the aqueous medium to form a dry resin particle group, and then the dry resin particle group is subjected to a classification step to remove the coarse resin particle group. In this case, the dry resin particle group is a group of fine resin particles having a volume average particle diameter of 0.5 to 10 占 퐉 or so, and the cohesive force between the resin particles is strong, so that the coagulated particles tend to become aggregated particles which are difficult to aggregate. Therefore, if the classification step used in the conventional production method after the seed polymerization is carried out, it is necessary to carry out a decolorizing step in order to release aggregation of the resin particle group before the classification step.

[분급 공정][Classification Process]

본 발명의 제조 방법에 있어서의 분급 공정은 수지 입자군의 생성 후에 해쇄 공정을 거치지 않고, 이하에 설명하는 선회 기류식 분급기를 이용하여 실시된다. 본 발명의 제조 방법에 사용하는 선회 기류식 분급기는 수지 입자군의 생성 공정에서 얻어진 수지 입자군(이하, 「원료 수지 입자군」으로 칭한다)이 공급되는 분급용 공동부와, 상기 분급용 공동부의 외주부에 배치되고, 상기 분급용 공동부에 선회류가 발생하도록 상기 분급용 공동부에 서로의 사이로부터 공기를 내보내는 복수의 가이드 날개와, 상기 분급용 공동부의 상부 및 하부에 각각 공기를 분사하는 제1 및 제2 분사 노즐과, 상기 분급용 공동부로부터 분급된 수지 입자군(이하, 「분급 수지 입자군」으로 칭한다)을 포함하는 기류를 상방에 배출하는 분급 수지 입자군 배출구와, 상기 분급용 공동부로부터 조대 수지 입자군을 하방에 배출하는 조대 수지 입자군 배출구를 구비하는 선회 기류식 분급기이다.The classifying step in the production method of the present invention is carried out by using a swirler type classifier described below without going through a descaling step after the formation of the resin particle group. The swirler type classifier used in the production method of the present invention comprises a classifying cavity portion to which a group of resin particles (hereinafter referred to as " raw resin particle group ") obtained in the production step of the resin particle group is supplied, A plurality of guide vanes disposed in the outer periphery of the classifying cavity and configured to allow air to flow between the classifying cavities so that a swirling flow is generated in the classifying cavities; 1, and a second injection nozzle, and a classifying resin particle group outlet for discharging the airflow including the resin particle group classified from the classifying cavity portion (hereinafter referred to as "classified resin particle group") upwards, And a coarse resin particle group outlet for discharging the group of coarse resin particles from the cavity portion downward.

이하, 도 1에 기초하여, 본 발명의 제조 방법의 일 실시형태에 사용하는 선회 기류식 분급기를 상세하게 설명한다. 도 1은 본 발명의 제조 방법의 일 실시형태에 사용하는 선회 기류식 분급기를 나타내는 모식 단면도이다.Hereinafter, the swirler type classifier used in one embodiment of the production method of the present invention will be described in detail with reference to Fig. 1 is a schematic sectional view showing a swirler type classifier used in an embodiment of the production method of the present invention.

도 1에 나타내는 선회 기류식 분급기(10)는 상부 원반상 부재(12)와 하부 원반상 부재(14)를 소정의 간격을 유지하여 대향시켜 배치해 형성한 원반상의, 원료 분산존을 겸하는 원심 분리실(16)을 갖고 있고, 이 원심 분리실(16)의 상방에는 후술하는 가이드 날개(40)와 교착하지 않는 위치에, 원료 수지 입자군을 원심 분리실(16) 내에 공급하기 위한 원료 투입구(18)가 배치되어 있다.The swirler type classifier 10 shown in Fig. 1 is a disk-shaped disk formed by disposing an upper disk member 12 and a lower disk member 14 at a predetermined interval so as to face each other, and a centrifugal unit A centrifugal separation chamber 16 is provided at a position above the centrifugal separation chamber 16 in such a manner that the centrifugal separation chamber 16 does not interfere with a guide vane 40 (Not shown).

또한, 상기 원심 분리실(16)의 하방에는 상기 하부 원반상 부재(14)의 외주벽을 따라, 도넛상의 원료 재분급존(28) 및 조대 수지 입자군 회수구(30)가 형성되어 있고, 또한 상기 원료 재분급존(28)의 외주벽의 접선 방향을 따라 배치되는 분출 노즐(22)이 복수개 배치되어 있다. 이 분출 노즐(제1 분출 노즐)(22)은 원심 분리실(16) 내에 있어서 원료 수지 입자군을 분산시킴과 함께, 원심 분리실(16) 내에 있어서의 원심 분리 작용을 가속하기(선회류를 가속하기) 위한 고압 공기(압축 공기)를 원심 분리실(16) 내에 분출하는 노즐이다.A donut-shaped material material classification zone 28 and a coarse resin particle group collecting port 30 are formed along the outer peripheral wall of the lower circular member 14 below the centrifugal separation chamber 16, A plurality of jetting nozzles 22 are arranged along the tangential direction of the outer peripheral wall of the material classification chamber 28. The ejection nozzle (first ejection nozzle) 22 disperses the raw resin particle group in the centrifugal separation chamber 16 and accelerates the centrifugal separation action in the centrifugal separation chamber 16 Pressure air (compressed air) for accelerating the centrifugal force in the centrifugal separation chamber 16.

여기에서는, 일례로서 상기 분출 노즐(22)은 원주 상에 6개가 균등하게 배치되어 있지만, 이것은 일례이며, 분출 노즐(22)의 배치에는 자유도가 있다.Here, as an example, six of the ejection nozzles 22 are evenly arranged on the circumference, but this is an example, and the ejection nozzles 22 can be freely arranged.

원심 분리실(16) 내에는 버그 필터 등의 적절한 필터를 개재하여 도시되어 있지 않은 흡인 블로어에 접속되는 분급 수지 입자군 회수구(32) 및 상기 원료 재분급존(28)으로부터 하방을 향하는 조대 수지 입자군 회수구(30)가 각각 형성되어 있다.In the centrifugal separation chamber 16, there are provided a classifying resin particle group collecting port 32 connected to a suction blower (not shown) via an appropriate filter such as a bug filter, and a coarse resin And a particle group collecting port 30 are respectively formed.

상기 원심 분리실(16)의 중앙부에는 그 상면 하측 및 하면 상측의 양면에 이들 면으로부터 내려간 (및 올라간) 형태로 형성되는 링 형상의 엣지(12a 및 14a)가 배치되어 있다.Ring-shaped edges 12a and 14a are formed at the central portion of the centrifugal separation chamber 16 in such a manner that both sides of the upper and lower surfaces of the centrifugal separation chamber 16 are downward (and raised) from these surfaces.

이 링 형상의 엣지(12a 및 14a)는 본 실시형태에 따른 선회 기류식 분급기(10)에 있어서의 분급 성능을 결정하는 것으로, 그 설치 위치 및 높이의 결정에는 충분한 검토가 필요하다.These ring-shaped edges 12a and 14a determine the classifying performance of the swirler type classifier 10 according to the present embodiment, and it is necessary to sufficiently study the determination of the installation position and height.

상기 원심 분리실(16)의 외주부에는 이 원심 분리실(16) 내부를 선회하면서 하방으로 이동하는 동안에 원심 분리되는 수지 입자군의 선회 속도를 조정하는 기능을 갖는 복수(여기에서는, 일례로서 16장)의 가이드 날개(40)가 배치되어 있다. 이 가이드 날개(40)는 회동축(40a)에 의해 상부 원반상 부재(12)와 하부 원반상 부재(14) 사이에 회동 가능하게 축 지지됨과 함께, 핀(40b)에 의해 도시되어 있지 않은 회동판에 걸려 있고, 이 회동판(회동 수단)을 회동시킴으로써 모든 가이드 날개(40)를 동시에 소정 각도 회동시킬 수 있도록 구성되어 있다.The outer circumferential portion of the centrifugal separation chamber 16 is provided with a plurality of (sixteen in this example, for example, sixteen The guide wings 40 are disposed on the left and right sides. The guide vane 40 is rotatably supported between the upper and lower disk-shaped members 12 and 14 by a rotary shaft 40a and is rotatably supported by a pin 40b And is configured so that all the guide blades 40 can be simultaneously rotated at a predetermined angle by rotating the rotary plate (rotating means).

또한, 이와 같이, 회동판을 회동시킴으로써 가이드 날개(40)를 소정 각도 회동시킴에 따라 각 가이드 날개(40)의 간격을 조정하고, 이를 통과하는 공기의 유속을 바꿀 수 있다. 그리고, 이로써, 본 실시형태에 따른 선회 기류식 분급기(10)에 있어서의 분급 성능(구체적으로는, 분급점)을 변경시킬 수 있다. 또한, 미리 소정의 각도에 고정된 여러 종류의 가이드 날개를 준비해 두고, 이들 가이드 날개 중에서 원하는 분급 성능에 따라 1종류의 가이드 날개를 선택하고, 그 가이드 날개를 회동 가능한 가이드 날개(40)를 대신하여 사용할 수도 있다. 분급 수지 입자군 회수부가 구비되어 있는 블로어에 의해 원심 분리실(16) 내의 공기가 흡인되어 원심 분리실(16) 내가 부압이 되기 때문에, 주위의 공기가 가이드 날개(40) 사이로부터 원심 분리실(16) 내에 흡입되고(보내지고)(화살표 참조), 그 결과로서, 원심 분리실(16) 내에 원심 분리에 사용되는 선회류가 가이드 날개(40)의 방향을 따라 발생한다.In this way, by rotating the guide plate 40 by rotating the guide plate 40 in this manner, the distance between the guide vanes 40 can be adjusted and the flow rate of the air passing therethrough can be changed. This makes it possible to change the classifying performance (more specifically, the classifying point) in the swirler type classifier 10 according to the present embodiment. In addition, various kinds of guide wings fixed in advance at predetermined angles are prepared, and one kind of guide wing is selected in accordance with a desired classifying performance among these guide wings, and the guide wing is replaced with a guide wing (40) It can also be used. The air in the centrifugal separation chamber 16 is sucked by the blower equipped with the classification resin particle collection unit so that the air in the centrifugal separation chamber 16 becomes negative pressure so that ambient air flows from the guide vanes 40 to the centrifugal separation chamber (See arrows). As a result, a swirl flow used for centrifugal separation in the centrifugal separation chamber 16 occurs along the direction of the guide vane 40.

원심 분리실(16)의 외주부에 배치되어 있는 가이드 날개(40)의 더욱 외주부에는 측벽 등의 구성체는 존재하지 않는다. 여기에는, 먼지의 침입을 막고, 소음을 저감시키기 위한 에어 필터를 설치하는 것이 좋다.The outer peripheral portion of the guide vane 40 disposed at the outer peripheral portion of the centrifugal separation chamber 16 does not have a constituent such as a side wall. It is recommended to install an air filter to prevent dust from entering and to reduce noise.

이 에어 필터에서는 분급 수지 입자군 회수부가 구비되어 있는 블로어에 흡인되어 원심 분리실(16) 내가 부압이 되기 때문에, 원심 분리실(16) 내에 주위의 공기가 흡입되게 되고(화살표 참조), 결과적으로, 원심 분리실(16) 내의 원심 분리에 사용되는 공기량을 보충하는 기능을 실현하고 있다.In this air filter, air is sucked into the blower equipped with the collection resin particle group collecting section and becomes negative pressure in the centrifugal separation chamber (16), so that ambient air is sucked into the centrifugal separation chamber (see arrow) , And the function of supplementing the amount of air used for centrifugal separation in the centrifugal separation chamber 16 is realized.

상기 원심 분리실(16)의 상방에는 원료 투입구(18) 및 상기 상부 원반상 부재(12)의 외주벽을 따라 원환상 공동부인 원료 분산존(24)이 형성되고, 또한 상기 원심 분리실(16)의 하방에는 상기 하부 원반상 부재(14)의 외주벽을 따라 원환상 공동부인 원료 재분급존(28)이 형성되어 있다. 상기 원심 분리실(16), 원료 분산존(24) 및 원료 재분급존(28)이 상기 분급용 공동부를 구성한다. A material dispersion zone 24 is formed above the centrifugal separation chamber 16 as a ring-shaped cavity along the outer circumferential wall of the material inlet 18 and the upper circular member 12, and the centrifugal separation chamber 16 , A raw material material classifying zone 28, which is a ring-shaped cavity, is formed along the outer peripheral wall of the lower circular member 14. The centrifugal separation chamber (16), the material dispersion zone (24), and the material material classification zone (28) constitute the classification cavity.

그리고, 상기 원료 분산존(24) 내에는 그 외주벽에 그 접선 방향을 따라 배치되는 원료 수지 입자군 분산용 고압 공기의 분출 노즐(제2 분출 노즐)(20)이 배치되어 있다. 또한, 상기 원료 재분급존(28) 내에는 그 외주벽에 그 접선 방향을 따라 배치되고, 원심 분리 작용을 가속하기 위한 고압 공기의 분출 노즐(22)이 배치되어 있다. 분출 노즐(20)은 가이드 날개(40)의 상방에 배치되고, 원료 분산존(24)(분급용 공동부의 상부)에 압축 공기를 분사한다. 분출 노즐(22)은 가이드 날개(40)의 하방에 배치되어 있고, 원료 재분급존(28)(분급용 공동부의 하부)에 압축 공기를 분사한다.In the raw material dispersion zone 24, there is disposed a discharge nozzle (second discharge nozzle) 20 for discharging high-pressure air for dispersing the raw resin particles in a tangential direction on the outer circumferential wall thereof. In the raw material classification zone 28, a high-pressure air spray nozzle 22 for accelerating the centrifugal action is disposed on the outer peripheral wall thereof in the tangential direction thereof. The jet nozzle 20 is disposed above the guide vane 40 and injects compressed air to the raw material dispersion zone 24 (upper part of the classification cavity). The jet nozzle 22 is disposed below the guide vane 40 and injects compressed air to the raw material classification zone 28 (the lower portion of the classification cavity).

본 실시형태에 따른 선회 기류식 분급기(10)에 있어서는, 상술한 2개의 분출 노즐(20) 및 분출 노즐(22)의 배치 방법에 이하와 같은 배려가 이루어져 있다. 즉, 분출 노즐(20)은 원료 분산존(24)의 외주벽에 그 접선 방향을 따라 배치되고, 분출 노즐(22)은 원료 재분급존(28)의 외주벽에 그 접선 방향을 따라 배치되는 것이지만, 이 때의 분출 노즐(20) 및 분출 노즐(22)의 접선 방향에서 중심을 향한 경사각은 분출 노즐(22)의 경사각을 분출 노즐(20)의 경사각보다 조금 크게 하는 것이 양호한 결과를 가져온다.In the swirler type classifier 10 according to the present embodiment, the following arrangements are given to the two arranging methods of the ejection nozzles 20 and the ejection nozzles 22 described above. That is, the jet nozzle 20 is disposed along the tangential direction on the outer peripheral wall of the material dispersion zone 24, and the jet nozzle 22 is disposed along the tangential direction on the outer peripheral wall of the material classification chamber 28 It is preferable that the inclination angle of the ejection nozzle 22 and the ejection nozzle 22 toward the center in the tangential direction is set to be slightly larger than the inclination angle of the ejection nozzle 20.

즉, 상기 원심 분리실(16)의 상방의, 상기 분출 노즐(20)의 공기 분출 구멍에 대향하는 위치에는 도넛상의 원료 분산존(24)이 형성되고, 또한 상기 원심 분리실(16)의 하방의, 상기 분출 노즐(22)의 공기 분출 구멍에 대향하는 위치에는 동일하게 도넛상의 원료 재분급존(28)이 각각 형성되어 있다.That is, a donut-shaped material dispersion zone 24 is formed above the centrifugal separation chamber 16 at a position opposed to the air ejection hole of the ejection nozzle 20, A donut-shaped material sorting zone 28 is formed at a position opposite to the air spray hole of the spray nozzle 22, respectively.

또한, 상기 원료 재분급존(28)의 하방에는 도시되어 있지 않은 조대 수지 입자군 회수부에 통하는 도넛상의 조대 수지 입자군 회수 유로를 개재하는 조대 수지 입자군 회수구(조대 수지 입자군 배출구)(30)가 형성되어 있고, 한편, 상기 원심 분리실(16)의 상방에는 도시되어 있지 않은 분급 수지 입자군 회수부에 통하는 분급 수지 입자군 회수구(분급 수지 입자군 배출구)(32)가 형성되어 있다. 또한, 분급 수지 입자군 회수구(32)에는 통상, 버그 필터 등의 적절한 필터를 개재하여 흡기 블로어에 접속된다.Further, a coarse resin particle group recovery port (coarse resin particle group discharge port) (hereinafter referred to as " coarse resin particle recovery port ") through which a coarse resin particle group recovery flow path passing through a coarse resin particle group recovery unit (Classifying resin particle group outlet) 32 communicating with a classifying resin particle group collecting section (not shown) is formed above the centrifuging chamber 16 have. The classifying resin particle group collecting port 32 is usually connected to the intake air blower via a suitable filter such as a bug filter.

상기 원심 분리실(16)의 중앙부에는 그 상면 하측 및 하면 상측의 양면에 이들 면으로부터 내려간 (및 올라간) 형태로 형성되는 링 형상의 엣지(12a 및 14a)가 배치되어 있다. 이 링 형상의 엣지(12a 및 14a)는 본 실시형태에 따른 선회 기류식 분급기(10)에 있어서의 분급 성능을 결정하는 것으로, 그 설치 위치 및 높이의 결정에는 충분한 검토가 필요하다.Ring-shaped edges 12a and 14a are formed at the central portion of the centrifugal separation chamber 16 in such a manner that both sides of the upper and lower surfaces of the centrifugal separation chamber 16 are downward (and raised) from these surfaces. These ring-shaped edges 12a and 14a determine the classifying performance of the swirler type classifier 10 according to the present embodiment, and it is necessary to sufficiently study the determination of the installation position and height.

상기 원심 분리실(16)의 외주부에는, 상술한 바와 같은 가이드 날개(40)가 배치되어 있다. 이 가이드 날개(40)는 회동축(40a)에 의해 상부 원반상 부재(12)와 하부 원반상 부재(14) 사이에 회동 가능하게 축 지지됨과 함께, 핀(40b)에 의해 도시되어 있지 않은 회동판(회동 수단)에 걸려 있고, 이 회동판을 회동시킴으로써 모든 가이드 날개(40)를 소정 각도 회동시킬 수 있도록 구성되어 있다.On the outer peripheral portion of the centrifugal separation chamber 16, a guide vane 40 as described above is disposed. The guide vane 40 is rotatably supported between the upper and lower disk-shaped members 12 and 14 by a rotary shaft 40a and is rotatably supported by a pin 40b And is configured to be able to rotate all the guide vanes 40 by a predetermined angle by rotating the rotary plate.

여기서, 상술한 분출 노즐(20)의 공기 분출 구멍에 대향하는 위치에 형성되어 있는 도넛상의 원료 분산존(24)의 벽면 중, 상기 분출 노즐(20)의 공기 분출 구멍에 대향하는 면의 수직 방향에 대한 경사 각도는 45∼90도의 범위로 하는 것이 바람직하다.Here, among the wall surface of the donut-shaped material dispersion zone 24 formed at a position opposite to the air ejection hole of the ejection nozzle 20 described above, the direction perpendicular to the surface of the ejection nozzle 20 facing the air ejection hole Is preferably in the range of 45 to 90 degrees.

이와 같이 구성함으로써, 본래는 분급 수지 입자군 회수부 방향으로 분리되어야 할 분급 수지 입자군이 분급 수지 입자군에 섞여 조대 수지 입자군 회수부 방향으로 분리되는 것을 방지하는데 큰 효과를 얻을 수 있다.By such a constitution, it is possible to obtain a great effect in preventing the group of classified resin particles to be separated in the direction of the group of the classified resin particle group collecting part from being separated in the direction of the collecting resin particle group collecting part mixed with the classified resin particle group.

상술한 바와 같이 구성되는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 선회 기류식 분급기(10)의 동작에 대해, 이하에 설명한다.The operation of the swirling airflow classifier 10 constructed as described above according to the second embodiment of the present invention will be described below.

선회 기류식 분급기(10)의 분급 수지 입자군 회수구(32) 및 조대 수지 입자군 회수구(30)에 각각 분급 수지 입자군 회수부 및 조대 수지 입자군 회수부가 접속되어 있는 것을 확인하면, 가이드 날개(40)의 설정 각도를 미리 정해진 각도로 설정하고, 압축 공기원에 접속되어 있는 분출 노즐(20) 및 분출 노즐(22)로부터 이것도 미리 정해진 조건으로 압축 공기를 분출한다.When it is confirmed that the classified resin particle group collecting section and the coarse resin particle collecting section are respectively connected to the classified resin particle collecting section 32 and the coarse resin particle collecting section 30 of the swirling flow classifier 10, The set angle of the guide vane 40 is set to a predetermined angle and the compressed air is ejected from the ejection nozzles 20 and the ejection nozzles 22 connected to the compressed air source under predetermined conditions.

이 상태로, 원료 투입구(18)로부터 분급 대상인 원료 수지 입자군을 소정의 투입 유량으로 투입한다. 투입된 원료 수지 입자군은 상술한 분출 노즐(20)로부터 분출되는 압축 공기의 작용에 의해, 도넛상의 원료 분산존(24) 내를 고속 선회하는 선회류를 통해, 여기서 예비적으로 분산되면서 원심 분리실(16) 내에 낙하한다.In this state, a group of raw resin particles to be classified is fed from the raw material inlet 18 at a predetermined feed flow rate. By the action of the compressed air ejected from the above-described ejection nozzle 20, the charged raw resin particle group is dispersed in the centrifugal separation chamber 24 through the swirling flow that swings at high speed in the raw material dispersion zone 24 on the donut, (16).

이 과정에서, 상술한 원심 분리실(16) 외주부에 배치되어 있는 복수의 가이드 날개(40)의 각각의 간극으로부터 외부의 공기가 흡입됨으로써(화살표 참조), 원심 분리실(16) 내에 있어서의 원심 분리 작용이 촉진된다.In this process, outside air is sucked from the respective gaps of the plurality of guide vanes 40 disposed at the outer circumferential portion of the centrifugal separation chamber 16 (see arrows) Separation action is promoted.

상기 원심 분리실(16)에 있어서의 원심 분리 작용의 결과, 기본적으로는, 분급점 이하의 사이즈를 갖는 분급 수지 입자군은 원심 분리실(16) 중앙부의 링 형상의 엣지(12a 및 14a)에 의해, 혼재되어 있는 수지 입자군 중의 조대 수지 입자군을 남기고, 분급 수지 입자군 회수구(32)로부터 계외의 분급 수지 입자군 회수부에 회수된다. 이 분급 수지 입자군 중에는 분급점을 초과하는 조대 수지 입자가 포함되는 경우는 극히 적다.As a result of the centrifugal separation operation in the centrifugal separation chamber 16, basically, the group of the classified resin particles having a size equal to or smaller than the classification point is separated into ring-shaped edges 12a and 14a at the center of the centrifugal separation chamber 16 , The fine resin particle group in the mixed resin particle group is left, and is recovered from the classified resin particle group collecting port 32 to the out-of-grade classified resin particle group collecting unit. In this group of classified resin particles, the case where the coarse resin particles exceeding the classification point are included is extremely small.

이에 비해, 상기 원심 분리실(16)에 있어서의 원심 분리 작용의 결과, 분급점을 초과하는 조대 수지 입자군에 대해서는 실제상 상당한 확률로 미소 수지 입자가 포함되어 있는 경우가 있다. 이것은 원심 분리법의 숙명이라고 해야 하는 것이지만, 상기 선회 기류식 분급기에 있어서는 이를 개선하기 위해, 상기 원심 분리실(16)의 하방의 원료 재분급존(28)의 입구부에 분출 노즐(22)을 형성하고, 이로부터 분출되는 공기류에 의해, 원료 재분급존(28)에 유입되는 미소 수지 입자를 원심 분리실(16) 내에 되돌리도록 하고 있다.On the other hand, as a result of the centrifugal separation operation in the centrifugal separation chamber 16, the fine resin particles may be contained in a large probability with respect to the coarse resin particle group exceeding the classification point. In order to improve the above-described swirling flow type classifier, an ejection nozzle 22 is formed at the inlet of the material material classification zone 28 below the centrifugal separation chamber 16 And the micro resin particles flowing into the raw material material classification zone 28 are returned into the centrifugal separation chamber 16 by the air flow ejected therefrom.

상술한 분출 노즐(22)에 의한 재분급 조작에 의해, 미소 수지 입자가 효율적으로 제거된 조대 수지 입자군은 원료 재분급존(28)을 통해 조대 수지 입자군 회수부에 회수된다.The coarse resin particle group in which the fine resin particles are efficiently removed by the above-described re-classification operation by the ejection nozzle 22 is collected in the coarse resin particle group collecting unit through the material material classification zone 28.

이상이 본 발명의 제조 방법의 일 실시형태에 사용하는 선회 기류식 분급기의 동작의 개요이다.The above is an outline of the operation of the swirler type classifier used in one embodiment of the manufacturing method of the present invention.

상기 선회 기류식 분급기에 의하면, 원심 분리실(16) 외주부에 배치되어 있는 복수의 가이드 날개(40)의 각각의 간극으로부터 외부의 공기가 흡입됨으로써(화살표 참조), 원심 분리실(16) 내에 있어서의 원심 분리가 촉진되는 작용에 추가하여, 상기 원료 재분급존(28)의 분출 노즐(22) 하방의 경사 부분에 의해 형성되는 보조 분급 기능부(50)에 의해, 조대 수지 입자군측에 대한 미소 수지 입자의 혼입이 효과적으로 방지되어, 체적 평균 입자 직경이 0.5∼10㎛인 수지 입자군의 제조에 유리한 선회 기류식 분급기를 실현할 수 있다.According to the swirling flow type classifier, outside air is sucked from the gaps of the plurality of guide vanes 40 disposed in the outer peripheral portion of the centrifugal separation chamber 16 (see arrows) In addition to the function of accelerating the centrifugal separation of the fine resin particles in the raw material classification zone 28 by the auxiliary classification function section 50 formed by the inclined portion below the jet nozzle 22 of the raw material classification zone 28, It is possible to effectively prevent the incorporation of the resin particles and realize the swirler type classifier advantageous for the production of the resin particle group having the volume average particle diameter of 0.5 to 10 mu m.

[수지 입자군의 용도][Use of resin particle group]

본 발명의 수지 입자군은 방현 필름이나 광확산 필름 등의 광학 부품용으로서 바람직하고, 또한 바인더와 혼합하여 수지 조성물로서 사용하는데 바람직하다.The resin particle group of the present invention is preferably used for an optical component such as an antiglare film or a light diffusion film, and is preferably used as a resin composition by mixing with a binder.

[수지 조성물][Resin composition]

본 발명의 수지 조성물은 수지 입자군과 바인더를 포함하고 있다.The resin composition of the present invention comprises a resin particle group and a binder.

상기 바인더로는, 투명성, 수지 입자 분산성, 내광성, 내습성 및 내열성 등의 요구되는 특성에 따라, 당해 분야에 있어 사용되는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 상기 바인더로는, 예를 들면, (메타)아크릴계 수지; (메타)아크릴-우레탄계 수지; 우레탄계 수지; 폴리염화비닐계 수지; 폴리염화비닐리덴계 수지; 멜라민계 수지; 스티렌계 수지; 알키드계 수지; 페놀계 수지; 에폭시계 수지; 폴리에스테르계 수지; 알킬폴리실록산계 수지 등의 실리콘계 수지; (메타)아크릴-실리콘계 수지, 실리콘-알키드계 수지, 실리콘-우레탄계 수지, 실리콘-폴리에스테르 수지 등의 변성 실리콘 수지; 폴리불화비닐리덴, 플루오로올레핀비닐에테르 폴리머 등의 불소계 수지 등의 바인더 수지를 들 수 있다.The binder is not particularly limited as long as it is used in the art depending on required properties such as transparency, resin particle dispersibility, light resistance, moisture resistance and heat resistance. As the binder, for example, a (meth) acrylic resin; (Meth) acryl-urethane-based resin; Urethane resin; Polyvinyl chloride resins; Polyvinylidene chloride resins; Melamine resin; Styrene type resin; Alkyd resins; Phenolic resin; Epoxy resin; Polyester-based resin; Silicone resins such as alkylpolysiloxane resins; Modified silicone resins such as (meth) acrylic-silicone resins, silicone-alkyd resins, silicone-urethane resins and silicone-polyester resins; And fluorine-based resins such as polyvinylidene fluoride and fluoroolefin vinyl ether polymer.

상기 바인더 수지는 수지 조성물의 내구성을 향상시키는 관점에서, 가교 반응에 의해 가교 구조를 형성할 수 있는 경화성 수지인 것이 바람직하다. 상기 경화성 수지는 여러 경화 조건으로 경화시킬 수 있다. 상기 경화성 수지는 경화 타입에 의해, 자외선 경화성 수지, 전자선 경화성 수지 등의 전리 방사선 경화성 수지, 열경화성 수지, 온기 경화성 수지 등으로 분류된다.The binder resin is preferably a curable resin capable of forming a crosslinked structure by a crosslinking reaction from the viewpoint of improving the durability of the resin composition. The curable resin can be cured under various curing conditions. The curable resin is classified into an ionizing radiation curable resin such as an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, a thermosetting resin, and a heat curable resin depending on the curing type.

상기 열경화성 수지로는, 아크릴폴리올과 이소시아네이트 프레폴리머로 이루어지는 열경화형 우레탄 수지, 페놀 수지, 요소 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다.Examples of the thermosetting resin include a thermosetting urethane resin composed of an acrylic polyol and an isocyanate prepolymer, a phenol resin, a urea melamine resin, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, and a silicone resin.

상기 전리 방사선 경화성 수지로는, 다가 알코올 다관능 (메타)아크릴레이트등과 같은 다관능 (메타)아크릴레이트 수지; 디이소시아네이트, 다가 알코올 및 히드록시기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 등으로 합성되는 다관능 우레탄 아크릴레이트 수지 등을 들 수 있다. 상기 전리 방사선 경화성 수지로는, 다관능 (메타)아크릴레이트 수지가 바람직하고, 1분자 중에 3개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 다가 알코올 다관능 (메타)아크릴레이트가 보다 바람직하다. 1분자 중에 3개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 다가 알코올 다관능 (메타)아크릴레이트로는, 구체적으로는, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 1,2,4-시클로헥산트리(메타)아크릴레이트, 펜타글리세롤트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 등을 들 수 있다. 상기 전리 방사선 경화성 수지는 2종류 이상을 병용해도 된다.Examples of the ionizing radiation curable resin include polyfunctional (meth) acrylate resins such as polyhydric alcohol polyfunctional (meth) acrylates and the like; Polyfunctional urethane acrylate resins synthesized with diisocyanate, polyhydric alcohols and (meth) acrylic acid esters having a hydroxy group, and the like. As the ionizing radiation curable resin, polyfunctional (meth) acrylate resins are preferable, and polyhydric alcohol polyfunctional (meth) acrylates having three or more (meth) acryloyl groups in one molecule are more preferable. Specific examples of the multivalent alcohol polyfunctional (meth) acrylate having three or more (meth) acryloyl groups in one molecule include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylol ethane tri (meth) acrylate, (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol triacrylate, di Pentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol triacrylate, tripentaerythritol hexaacrylate, and the like. Two or more ionizing radiation curable resins may be used in combination.

상기 전리 방사선 경화성 수지로는, 이들 외에도 아크릴레이트계의 관능기를 갖는 폴리에테르 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등도 사용할 수 있다.As the ionizing radiation curable resin, a polyether resin, a polyester resin, an epoxy resin, an alkyd resin, a spiroacetal resin, a polybutadiene resin, a polythiol polyene resin and the like having an acrylate functional group may also be used.

상기 전리 방사선 경화성 수지 중 자외선 경화성 수지를 사용하는 경우, 자외선 경화성 수지에 광중합 개시제를 첨가하여 바인더로 한다. 상기 광중합 개시제는 어떤 것을 사용해도 되지만, 사용하는 자외선 경화성 수지에 있는 것을 사용하는 것이 바람직하다.When an ultraviolet ray curable resin is used as the ionizing radiation curable resin, a photopolymerization initiator is added to the ultraviolet ray curable resin to form a binder. Any of the above photopolymerization initiators may be used, but it is preferable to use those in the ultraviolet-curable resin to be used.

상기 광중합 개시제로는, 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀옥사이드류, 케탈류, α-히드록시알킬페논류, α-아미노알킬페논, 안트라퀴논류, 티옥산톤류, 아조 화합물, 과산화물류(일본 공개특허공보 2001-139663호 등에 기재), 2,3-디알킬디온 화합물류, 디술파이드 화합물류, 플루오로아민 화합물류, 방향족 술포늄류, 오늄염류, 붕산염, 활성 할로겐 화합물, α-아실옥심에스테르 등을 들 수 있다.The photopolymerization initiator may be at least one selected from the group consisting of acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphinoxides, ketals,? -Hydroxyalkylphenones,? -Aminoalkylphenones, anthraquinones, thioxanthones, Peroxides, peroxides (described in JP 2001-139663 A), 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, onium salts, borates, active halogen compounds, -Acyl oxime ester, and the like.

상기 아세토페논류로는, 예를 들면, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, 1-히드록시디메틸페닐케톤(별명: 2-히드록시-2-메틸프로피오페논), 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-4'-메틸티오-2-모르폴리노프로피오페논, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부탄온 등을 들 수 있다. 상기 벤조인류로는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인벤조에이트, 벤조인벤젠술폰산에스테르, 벤조인톨루엔술폰산에스테르, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 등을 들 수 있다. 상기 벤조페논류로는, 예를 들면, 벤조페논, 2,4-디클로로벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, p-클로로벤조페논 등을 들 수 있다. 상기 포스핀옥사이드류로는, 예를 들면, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 상기 케탈류로는, 예를 들면, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등의 벤질메틸케탈류를 들 수 있다. 상기 α-히드록시알킬페논류로는, 예를 들면, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤을 들 수 있다. 상기 α-아미노알킬페논류로는, 예를 들면, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(4-모르폴리닐)-1-프로판온을 들 수 있다.The acetophenones include, for example, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone (also known as 2-hydroxy- Methyl-4'-methylthio-2-morpholinopropiophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, and the like. Examples of the benzoin include benzoin, benzoin benzoate, benzoin benzenesulfonic acid ester, benzoin toluenesulfonic acid ester, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and the like . Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and p-chlorobenzophenone. Examples of the phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like. Examples of the kettle stream include benzylmethyl ketalization such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one. Examples of the? -Hydroxyalkylphenols include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone. Examples of the? -Aminoalkylphenols include 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- (4-morpholinyl) -1-propanone.

시판되는 광 라디칼 중합 개시제로는, BASF 재팬 주식회사 제조의 상품명 「이르가큐어(등록상표) 651」(2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온), BASF 재팬 주식회사 제조의 상품명 「이르가큐어(등록상표) 184」, BASF 재팬 주식회사 제조의 상품명 「이르가큐어(등록상표) 907」(2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(4-모르폴리닐)-1-프로판온) 등을 바람직한 예로서 들 수 있다.Commercially available photo radical polymerization initiators include trade name "Irgacure (registered trademark) 651" (2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one) manufactured by BASF Japan KK, Irgacure (registered trademark) 184 "manufactured by BASF Japan, trade name" Irgacure (registered trademark) 907 "(trade name, manufactured by BASF Japan KK) -Morpholinyl) -1-propanone), and the like can be mentioned as preferable examples.

상기 광중합 개시제의 사용량은 바인더 100중량%에 대해, 통상, 0.5∼20중량%의 범위 내이고, 바람직하게는 1∼5중량%의 범위 내이다.The amount of the photopolymerization initiator used is usually in the range of 0.5 to 20 wt%, preferably in the range of 1 to 5 wt%, based on 100 wt% of the binder.

상기 바인더 수지로서, 상기 경화성 수지 이외에, 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 상기 열가소성 수지로는, 아세틸셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 아세틸부틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 메틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체; 초산비닐의 단독 중합체 및 공중합체, 염화비닐의 단독 중합체 및 공중합체, 염화비닐리덴의 단독 중합체 및 공중합체 등의 비닐계 수지; 폴리비닐포르말, 폴리비닐부티랄 등의 아세탈 수지; 아크릴산에스테르의 단독 중합체 및 공중합체, 메타크릴산에스테르의 단독 중합체 및 공중합체 등의 (메타)아크릴계 수지; 폴리스티렌 수지; 폴리아미드 수지; 선형 폴리에스테르 수지; 폴리카보네이트 수지 등을 들 수 있다.As the binder resin, in addition to the curable resin, a thermoplastic resin can be used. Examples of the thermoplastic resin include cellulose derivatives such as acetylcellulose, nitrocellulose, acetyl butylcellulose, ethylcellulose, and methylcellulose; Vinyl resins such as homopolymers and copolymers of vinyl acetate, homopolymers and copolymers of vinyl chloride, homopolymers and copolymers of vinylidene chloride, and the like; Acetal resins such as polyvinyl formal, polyvinyl butyral and the like; (Meth) acrylic resins such as homopolymers and copolymers of acrylic acid esters, homopolymers and copolymers of methacrylic acid esters; Polystyrene resin; Polyamide resins; Linear polyester resins; Polycarbonate resin and the like.

또한, 상기 바인더로서, 상기 바인더 수지 외에, 합성 고무나 천연 고무 등의 고무계 바인더나, 무기계 결착제 등을 사용할 수도 있다. 상기 고무계 바인더로는, 에틸렌-프로필렌 공중합 고무, 폴리부타디엔 고무, 스티렌-부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 등을 들 수 있다. 이들 고무계 바인더는 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.As the binder, a rubber binder such as synthetic rubber or natural rubber, or an inorganic binder may be used in addition to the binder resin. Examples of the rubber binder include an ethylene-propylene copolymer rubber, a polybutadiene rubber, a styrene-butadiene rubber, and an acrylonitrile-butadiene rubber. These rubber binders may be used alone or in combination of two or more.

상기 무기계 결착제로는, 실리카 졸, 알칼리규산염, 실리콘 알콕사이드, 인산염 등을 들 수 있다. 상기 무기계 결착제로서 금속 알콕사이드 또는 실리콘 알콕사이드를 가수 분해 및 탈수 축합하여 얻어지는 무기계 또는 유기 무기 복합계 매트릭스를 사용할 수도 있다. 상기 무기계 또는 유기 무기 복합계 매트릭스로는, 실리콘 알콕사이드, 예를 들면, 테트라에톡시실란 등을 가수 분해 및 탈수 축합하여 얻어지는 산화 규소계 매트릭스를 사용할 수 있다. 이들 무기계 결착제는 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.Examples of the inorganic binders include silica sol, alkali silicate, silicon alkoxide, phosphate and the like. As the inorganic binder, an inorganic or organic-inorganic hybrid matrix obtained by hydrolysis and dehydration condensation of a metal alkoxide or a silicon alkoxide may be used. As the inorganic or organic-inorganic composite matrix, a silicon oxide matrix, for example, a silicon oxide matrix obtained by hydrolysis and dehydration condensation of tetraethoxysilane can be used. These inorganic binders may be used alone or in combination of two or more.

상기 수지 조성물은 유기 용제를 추가로 포함하고 있어도 된다. 후술하는 기재 필름 등의 기재에 상기 수지 조성물을 도공하는 경우, 상기 유기 용제는 그것을 수지 조성물에 함유시킴으로써, 기재에 대한 수지 조성물의 도공이 용이해지는 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 상기 유기 용제로는, 예를 들면, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족계 용매; 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올계 용매; 초산에틸, 초산부틸 등의 에스테르계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논 등의 케톤계 용매; 2-메톡시에탄올, 2-에톡시에탄올, 2-부톡시에탄올, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 2-메톡시에틸아세테이트, 초산 2-에톡시에틸아세테이트(셀로솔브아세테이트), 2-부톡시에틸아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 등의 글리콜에테르에스테르류; 클로로포름, 디클로로메탄, 트리클로로메탄, 염화메틸렌 등의 염소계 용매; 테트라히드로푸란, 디에틸에테르, 1,4-디옥산, 1,3-디옥소란 등의 에테르계 용매; N-메틸피롤리돈, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭사이드, 디메틸아세트아미드 등의 아미드계 용매 등을 사용할 수 있다. 이들 유기 용제는 1종을 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.The resin composition may further contain an organic solvent. When the resin composition is applied to a substrate such as a substrate film described later, the organic solvent is not particularly limited as long as the organic solvent is contained in the resin composition to facilitate coating of the resin composition on the substrate. Examples of the organic solvent include aromatic solvents such as toluene and xylene; Alcohol solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol and propylene glycol monomethyl ether; Ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone; Glycol ethers such as 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and propylene glycol methyl ether; Glycol ether esters such as 2-methoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate (cellosolve acetate), 2-butoxyethyl acetate and propylene glycol methyl ether acetate; Chlorinated solvents such as chloroform, dichloromethane, trichloromethane and methylene chloride; Ether solvents such as tetrahydrofuran, diethyl ether, 1,4-dioxane, and 1,3-dioxolane; Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylsulfoxide and dimethylacetamide can be used. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

상기 수지 조성물은 후술하는 방현 필름의 제조에 사용할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 수지 조성물을 소정 형상(예를 들면, 필름 형상)으로 성형함으로써 광확산 필름 등의 제품을 제조하는데 사용할 수도 있다.The resin composition can be used not only for the production of an antiglare film described later but also for producing a product such as a light diffusion film by molding the resin composition into a predetermined shape (for example, a film shape).

[방현 필름][Antidrug films]

본 발명의 방현 필름은 상기 수지 조성물을 기재 필름 상에 도포하여 이루어진다.The antiglare film of the present invention is formed by applying the resin composition onto a base film.

상기 기재 필름은 투명한 것이 바람직하다. 투명한 기재 필름으로는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 폴리머, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 폴리머, 폴리카보네이트계 폴리머, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 폴리머 등의 폴리머로 이루어지는 필름을 들 수 있다. 또한, 투명한 기재 필름으로서 폴리스티렌, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체 등의 스티렌계 폴리머, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 고리형 내지 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 올레핀계 폴리머, 염화비닐계 폴리머, 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 폴리머 등의 폴리머로 이루어지는 필름도 들 수 있다. 또한, 투명한 기재 필름으로서 이미드계 폴리머, 술폰계 폴리머, 폴리에테르술폰계 폴리머, 폴리 에테르에테르케톤계 폴리머, 폴리페닐술파이드계 폴리머, 비닐알코올계 폴리머, 염화비닐리덴계 폴리머, 비닐부티랄계 폴리머, 아릴레이트계 폴리머, 폴리옥시메틸렌계 폴리머, 에폭시계 폴리머나 상기 폴리머의 블렌드물 등의 폴리머로 이루어지는 필름 등도 들 수 있다. 상기 기재 필름으로서 특히 복굴절률이 적은 것이 바람직하게 사용된다. 또한, 이들 필름에 추가로 아크릴계 수지, 공중합 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 스티렌-말레산 그래프트 폴리에스테르 수지, 아크릴 그래프트 폴리에스테르 수지 등의 이(易)접착층을 형성한 필름도 상기 기재 필름으로서 사용할 수 있다.The base film is preferably transparent. Examples of the transparent base film include polyester polymers such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate, cellulosic polymers such as diacetylcellulose and triacetylcellulose (TAC), polycarbonate polymers, polymethylmethacrylate And an acrylic polymer such as methacrylate. Examples of the transparent base film include styrene polymers such as polystyrene, acrylonitrile and styrene copolymer, polyolefins having polyethylene or polypropylene, cyclic or norbornene structure, olefin polymers such as ethylene / propylene copolymer, Based polymer, and amide-based polymer such as nylon or aromatic polyamide. Further, as the transparent base film, it is possible to use an imide polymer, a sulfon polymer, a polyether sulfone polymer, a polyether ether ketone polymer, a polyphenyl sulfide polymer, a vinyl alcohol polymer, a vinylidene chloride polymer, A film made of a polymer such as an aryl-based polymer, a polyoxymethylene-based polymer, an epoxy-based polymer, or a blend of the above-mentioned polymers. As the base film, those having a small birefringence are preferably used. Further, a film in which an easy adhesive layer such as an acrylic resin, a copolymerized polyester resin, a polyurethane resin, a styrene-maleic acid graft polyester resin, and an acrylic graft polyester resin is further formed on these films is also used as the base film Can be used.

상기 기재 필름의 두께는 적절히 결정할 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급 등의 작업성, 박층성 등의 점에서 10∼500㎛의 범위 내이고, 20∼300㎛의 범위 내인 것이 바람직하며, 30∼200㎛의 범위 내인 것이 보다 바람직하다.The thickness of the base film can be appropriately determined, but it is generally within a range of 10 to 500 m, preferably within a range of 20 to 300 m from the viewpoints of workability such as strength and handling, And more preferably in the range of 200 mu m.

또한, 기재 필름에는 첨가제를 첨가해도 된다. 상기 첨가제로는, 예를 들면, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 대전 방지제, 굴절률 조정제, 증강제 등을 들 수 있다.An additive may be added to the base film. Examples of the additive include an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antistatic agent, a refractive index adjuster, and an enhancer.

상기 수지 조성물을 기재 필름 상에 도포하는 방법으로는, 바 코팅, 블레이드 코팅, 스핀 코팅, 리버스 코팅, 다이 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅, 마이크로 그라비아 코팅, 립 코팅, 에어 나이프 코팅, 디핑법 등의 공지의 도공 방법을 들 수 있다.Examples of the method of applying the resin composition on the base film include a bar coating, a blade coating, a spin coating, a reverse coating, a die coating, a spray coating, a roll coating, a gravure coating, a microgravure coating, And a coating method known in the art.

상기 수지 조성물에 포함되는 바인더가 전리 방사선 경화성 수지인 경우, 상기 수지 조성물의 도포 후에, 필요에 따라 용제를 건조시키고, 다시 활성 에너지선을 조사함으로써 전리 방사선 경화성 수지를 경화시키면 된다.When the binder contained in the resin composition is an ionizing radiation curable resin, the ionizing radiation curable resin may be cured by drying the solvent after the application of the resin composition, if necessary, and then irradiating with an active energy ray.

상기 활성 에너지선으로는, 예를 들면, 크세논 램프, 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈할라이드 램프, 카본 아크 등, 텅스텐 램프 등의 광원으로부터 나오는 자외선; 통상 20∼2000KeV의 코크로프트·월턴형, 밴더그래프형, 공진 변압형, 절연 코어 변압기형, 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 전자선 가속기로부터 취출되는 전자선, α선, β선, γ선 등을 사용할 수 있다.Examples of the active energy ray include ultraviolet rays emitted from a light source such as a xenon lamp, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp or a tungsten lamp; Electron beams, alpha rays, beta rays, gamma rays, and the like, which are extracted from electron beam accelerators of 20cc to 2,000 KeV in general, such as a co-clock, a vandal graph, a resonant transformer, an insulating core transformer, a linear, a dynamitron, Etc. may be used.

수지 조성물의 도포 (및 경화)에 의해 형성되는, 바인더 내에 수지 입자군이 분산된 층(방현층)의 두께는 특별히 한정되지 않고, 수지 입자군의 입자 직경에 따라 적절히 결정되지만, 1∼10㎛인 범위 내인 것이 바람직하고, 3∼7㎛의 범위 내인 것이 보다 바람직하다.The thickness of the layer (the antiglare layer) in which the resin particle group is dispersed in the binder formed by applying (and curing) the resin composition is not particularly limited and is appropriately determined according to the particle diameter of the resin particle group, , And more preferably in the range of 3 to 7 mu m.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 우선, 이하의 실시예 및 비교예에 있어서의 수지 입자군의 체적 평균 입자 직경 및 입자 직경의 변동 계수의 측정 방법, 종입자군의 중량 평균 분자량의 측정 방법 및 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수 및 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율의 측정 방법을 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. First, the method of measuring the coefficient of variation of the volume average particle diameter and the particle diameter of the resin particle group in the following Examples and Comparative Examples, the method of measuring the weight average molecular weight of the group of the particulate particles, A method of measuring the number of resin particles having a diameter and a ratio of resin particles having a circularity of 0.97 or less will be described.

[수지 입자군의 체적 평균 입자 직경의 측정 방법][Method for measuring volume average particle diameter of resin particle group]

수지 입자군(종입자군의 제조예 1·2에서 얻어진 종입자군 및 실시예 1∼3 및 비교예 1·2에서 얻어진 수지 입자군)의 체적 평균 입자 직경의 측정은 레이저 회절·산란 방식 입도 분포 측정 장치(베크만·쿨터 주식회사 제조 「LS 13 320」) 및 유니버설 리퀴드 샘플 모듈에 의해 행하였다.The volume average particle diameter of the resin particle group (the seed particle group obtained in Production Example 1-2 of the seed particle group and the resin particle group obtained in each of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2) was measured by laser diffraction- (LS 13 320 manufactured by Beckman Coulter, Inc.) and a universal liquid sample module.

측정에는 수지 입자군 0.1g을 0.1중량% 비이온성 계면활성제 수용액 10㎖ 내에 터치 믹서(야마토 과학 주식회사 제조, 「TOUCHMIXER MT-31」) 및 초음파 세정기(주식회사 벨보 클리어사 제조, 「ULTRASONIC CLEANER VS-150」)를 이용하여 분산시켜, 분산액으로 한 것을 사용한다.(TOUCHMIXER MT-31, manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) and an ultrasonic cleaner (ULTRASONIC CLEANER VS-150, manufactured by Belvo Clear Co., Ltd.) were placed in 0.1 mL of a 0.1 wt% nonionic surfactant aqueous solution, ), And the dispersion liquid is used.

또한, 상기 레이저 회절·산란 방식 입도 분포 측정 장치의 소프트웨어에 있어서, 미에 이론에 기초한 평가를 위해 필요한 이하에 나타내는 광학적인 파라미터를 설정한다.In the software of the laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring apparatus, the following optical parameters necessary for evaluation based on the Mie theory are set.

<파라미터><Parameter>

액체(비이온성 계면활성제 수용액)의 굴절률 B.I.의 실수부=1.333(물의 굴절률)The refractive index of liquid (aqueous nonionic surfactant solution) The real part of B.I. = 1.333 (refractive index of water)

고체(측정 대상의 수지 입자군)의 굴절률의 실수부=수지 입자군의 굴절률The real part of the refractive index of the solid (the resin particle group to be measured) = the refractive index of the resin particle group

고체의 굴절률의 허수부=0The imaginary part of the refractive index of the solid = 0

고체의 형상 인자=1Form factor of solid = 1

또한, 측정 조건 및 측정 순서는 이하와 같이 한다.The measuring conditions and the measuring procedure are as follows.

<측정 조건><Measurement Conditions>

측정 시간: 60초 Measurement time: 60 seconds

측정 횟수: 1 Number of measurements: 1

펌프 속도: 50∼60% Pump speed: 50 to 60%

PIDS 상대 농도: 40∼55% 정도PIDS relative concentration: about 40 to 55%

초음파 출력: 8Ultrasonic output: 8

<측정 순서><Measurement procedure>

오프셋 측정, 광축 조정, 백그라운드 측정을 행한 후, 상기한 분산액을 스포이드를 이용하여, 상기 레이저 회절·산란 방식 입도 분포 측정 장치의 유니버설 리퀴드 샘플 모듈 내에 주입한다. 상기 유니버설 리퀴드 샘플 모듈 내의 농도가 상기 PIDS 상대 농도에 이르러, 상기 레이저 회절·산란 방식 입도 분포 측정 장치의 소프트웨어가 「OK」로 표시되면, 측정을 개시한다. 또한, 측정은 유니버설 리퀴드 샘플 모듈 내에서 펌프 순환을 행함으로써 상기 수지 입자군을 분산시킨 상태, 또한 초음파 유닛(ULM ULTRASONIC MODULE)을 기동시킨 상태로 행한다.After offset measurement, optical axis adjustment and background measurement are performed, the dispersion is injected into a universal liquid sample module of the laser diffraction / scattering type particle size distribution measurement apparatus using a syringe. When the concentration in the universal liquid sample module reaches the PIDS relative concentration and the software of the laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring apparatus is indicated as &quot; OK &quot;, the measurement is started. Further, the measurement is performed in a state in which the resin particle groups are dispersed by performing pump circulation in the universal liquid sample module, and in a state in which the ultrasonic unit (ULM ULTRASONIC MODULE) is activated.

또한, 측정은 실온에서 행하고, 얻어진 데이터로부터 상기 레이저 회절·산란 방식 입도 분포 측정 장치의 소프트웨어에 의해, 상기 미리 설정된 광학적인 파라미터를 이용하여, 수지 입자군의 체적 평균 입자 직경(체적 기준의 입도 분포에 있어서의 산술 평균 직경)을 산출한다.The measurement was carried out at room temperature. From the obtained data, the volume average particle diameter (volume-based particle size distribution) of the resin particle group was measured by the software of the laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring apparatus using the above- Is calculated.

또한, 수지 입자군의 굴절률에 대해서는 수지 입자군을 구성하는 중합체의 굴절률을 입력하여 측정을 실시하였다. 예를 들면, 수지 입자군을 구성하는 중합체가 폴리메타크릴산메틸 또는 폴리메타크릴산에틸인 경우에는 주지된 폴리메타크릴산메틸 및 폴리메타크릴산에틸의 굴절률 1.495를 입력하고, 수지 입자군을 구성하는 중합체가 폴리스티렌인 경우에는 주지된 폴리스티렌의 굴절률 1.595를 입력하였다.The refractive index of the resin particle group was measured by inputting the refractive index of the polymer constituting the resin particle group. For example, when the polymer constituting the resin particle group is methyl polymethacrylate or ethyl polymethacrylate, the known refractive index of methyl polymethacrylate and ethyl polymethacrylate of 1.495 is input, When the constituent polymer is polystyrene, the refractive index of the known polystyrene is 1.595.

[수지 입자군의 입자 직경의 변동 계수의 측정 방법][Method of measuring the coefficient of variation of the particle diameter of the resin particle group]

수지 입자군의 입자 직경의 변동 계수(CV값)는 상술한 수지 입자군의 체적 평균 입자 직경의 측정 방법에 의해 측정된 체적 기준의 입도 분포의 표준 편차(σ) 및 체적 평균 입자 직경(D)로부터, 이하의 식에 의해 산출하였다.The coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the resin particle group is determined by the standard deviation (?) And volume average particle diameter (D) of the particle size-based particle size distribution measured by the method of measuring the volume average particle diameter of the above- Was calculated from the following formula.

수지 입자군의 입자 직경의 변동 계수(%)=(σ/D)×100Variation coefficient of particle diameter of resin particle group (%) = (? / D) 占 100

[종입자군의 중량 평균 분자량의 측정 방법][Method of measuring weight average molecular weight of seed particle group]

종입자군의 제조예 1·2에서 얻어진 종입자군의 중량 평균 분자량(Mw)의 측정은 이하와 같이 하여 행하였다.The weight average molecular weight (Mw) of the seed particles group obtained in Preparative Examples 1 and 2 was measured as follows.

종입자군의 중량 평균 분자량(Mw)은 GPC(겔 퍼미에이션 크로마토그래피)를 이용하여 측정한다. 측정하는 중량 평균 분자량(Mw)은 폴리스티렌(PS) 환산 중량 평균 분자량이다.The weight average molecular weight (Mw) of the seed particle group is measured by GPC (Gel Permeation Chromatography). The weight average molecular weight (Mw) measured is the polystyrene (PS) equivalent weight average molecular weight.

시료(종입자군) 0.003g을 테트라히드로푸란(THF) 10㎖에 23℃에서 24시간 정치함으로써 완전히 용해시킨다. 이 시점에서 완전히 용해되어 있지 않는 경우는 다시 24시간 정치마다(합계 72시간까지) 완전히 용해되어 있는지 여부를 확인한다. 72시간 후에 완전히 용해할 수 없는 경우는 상기 시료에 가교 성분이 포함되어 있는 것으로 판단한다. 얻어진 용액을 0.45㎛의 비수계 크로마토디스크를 이용하여 여과한다. 얻어진 여과액을 GPC에 의해 분석하고, PS 환산 중량 평균 분자량을 측정한다(완전히 용해할 수 없는 경우는 용해한 성분을 여과시켜, 여과액을 이용해 PS 환산 중량 평균 분자량을 측정한다). 이하에 나타내는 검량선의 작성 방법에 의해 미리 작성한 검량선으로부터, 상기 시료의 PS 환산 중량 평균 분자량을 구한다. 또한, 측정 조건은 하기와 같이 한다.0.003 g of a sample (seed particle group) is completely dissolved by standing in 10 ml of tetrahydrofuran (THF) at 23 占 폚 for 24 hours. If it is not completely dissolved at this point, it is confirmed whether or not it is completely dissolved for every 24 hours (up to 72 hours in total). If it can not be completely dissolved after 72 hours, it is judged that the sample contains a crosslinking component. The resulting solution is filtered using a 0.45 占 퐉 nonaqueous chromatographic disk. The obtained filtrate was analyzed by GPC, and the weight average molecular weight in terms of PS was measured. (If it was not completely dissolved, the dissolved components were filtered, and the weight average molecular weight in terms of PS was measured using the filtrate). The PS-converted weight average molecular weight of the sample is obtained from the calibration curve previously prepared by the following method for preparing a calibration curve. The measurement conditions are as follows.

<측정 조건><Measurement Conditions>

측정 장치: 고속 GPC 장치(도소 주식회사 제조의 상품명 「HLC-8320GPC EcoSEC-WorkStation」, RI 검출기(시차 굴절률 검출기) 내장) Measuring apparatus: a high-speed GPC apparatus (HLC-8320GPC EcoSEC-WorkStation, manufactured by Toso Co., Ltd., built-in RI detector (differential refractive index detector)

컬럼: 도소 주식회사 제조의 상품명 「TSKgel Super HZM-H」(내경 4.6㎜×길이 15㎝)×2개 Column: &quot; TSKgel Super HZM-H &quot; (inner diameter: 4.6 mm x length 15 cm) manufactured by TOSOH CORPORATION x 2

가드 컬럼: 도소 주식회사 제조의 상품명 「TSK guard column Super HZ-H」(내경 4.6㎜×길이 2㎝)×1개Guard column: "TSK guard column Super HZ-H" (inner diameter 4.6 mm × length 2 cm) manufactured by TOSOH CORPORATION × 1

유량: 시료측 0.175㎖/min, 레퍼런스측 0.175㎖/minFlow rate: 0.175 ml / min on the sample side, 0.175 ml / min on the reference side

검출기: 상기 고속 GPC 장치에 내장된 RI 검출기Detector: RI detector built in the high speed GPC device

농도: 0.3g/ℓConcentration: 0.3 g / l

주입량: 50㎕ Injection amount: 50 μl

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ° C

시스템 온도: 40℃System temperature: 40 ℃

용리액: 테트라히드로푸란(THF) Eluent: tetrahydrofuran (THF)

<검량선의 작성 방법><Method of preparing calibration curve>

검량선용 표준 폴리스티렌 시료로는, 도소사 주식회사 제조의 상품명 「TSK standard POLYSTYRENE」의 중량 평균 분자량이 500, 2630, 9100, 37900, 102000, 355000, 3840000 및 5480000인 표준 폴리스티렌 시료와, 쇼와 전공 주식회사 제조 상품명 「Shodex(등록상표) STANDARD」의 중량 평균 분자량이 1030000인 표준 폴리스티렌 시료를 사용한다.As a standard polystyrene sample for the calibration curve, a standard polystyrene sample having a weight average molecular weight of 500, 2630, 9100, 37900, 102000, 355000, 3840000 and 5480000 of trade name "TSK standard POLYSTYRENE" manufactured by Tosoh Corporation, A standard polystyrene sample having a weight average molecular weight of 1030000 of trade name &quot; Shodex (registered trademark) STANDARD &quot;

검량선의 작성 방법은 이하와 같다. 우선, 상기 검량선용 표준 폴리스티렌 시료를 그룹 A(중량 평균 분자량이 1030000인 것), 그룹 B(중량 평균 분자량이 500, 9100, 102000 및 3480000인 것) 및 그룹 C(중량 평균 분자량이 2630, 37900, 355000 및 5480000인 것)로 나눈다. 그룹 A에 속하는 중량 평균 분자량이 1030000인 표준 폴리스티렌 시료를 5㎎ 칭량한 후에 THF 20㎖에 용해하고, 얻어진 용액 50㎕를 시료측 컬럼에 주입한다. 그룹 B에 속하는 중량 평균 분자량이 500, 9100, 102000 및 3480000인 표준 폴리스티렌 시료를 각각 10㎎, 5㎎, 5㎎, 및 5㎎ 칭량한 후에 THF 50㎖에 용해하고, 얻어진 용액 50㎕를 시료측 컬럼에 주입한다. 그룹 C에 속하는 중량 평균 분자량이 2630, 37900, 355000 및 5480000인 표준 폴리스티렌 시료를 각각 5㎎, 5㎎, 5㎎, 및 1㎎ 칭량한 후에 THF 40㎖에 용해하고, 얻어진 용액 50㎕를 시료측 컬럼에 주입한다. 이들 표준 폴리스티렌 시료의 유지 시간부터 교정 곡선(삼차식)을 상기 고속 GPC 장치 전용 데이터 해석 프로그램 GPC 워크스테이션(EcoSEC-WS)으로 작성하고, 이것을 PS 환산 중량 평균 분자량 측정의 검량선으로서 사용한다.The method of preparing the calibration curve is as follows. First, the standard polystyrene sample for the calibration curve was divided into a group A (having a weight average molecular weight of 1030000), a group B having a weight average molecular weight of 500, 9100, 102000 and 3480000 and a group C having a weight average molecular weight of 2630, 37900, 355000 and 5480000). 5 mg of a standard polystyrene sample having a weight average molecular weight of 1030000 belonging to Group A was weighed and dissolved in 20 ml of THF, and 50 占 퐇 of the obtained solution was injected into the column on the sample side. 5 mg, 5 mg, and 5 mg of a standard polystyrene sample having a weight average molecular weight of 500, 9100, 102000 and 3480000 belonging to Group B were respectively weighed and dissolved in 50 ml of THF, and 50 μl of the obtained solution was added to the sample side Is injected into the column. 5 mg, 5 mg, and 1 mg of a standard polystyrene sample having a weight average molecular weight of 2630, 37900, 355000 and 5480000 belonging to Group C were respectively weighed and dissolved in 40 ml of THF, and 50 μl of the obtained solution was added to the sample side Is injected into the column. A calibration curve (cubic formula) is prepared from the retention time of these standard polystyrene samples by a data analysis program GPC workstation (EcoSEC-WS) dedicated to the high-speed GPC apparatus and used as a calibration curve for the PS-converted weight average molecular weight measurement.

[체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수 및 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율의 측정 방법] [Method of measuring the number of resin particles having a particle diameter at least twice the volume average particle diameter and the ratio of the resin particles having a circularity of 0.97 or less]

이하의 실시예 및 비교예의 수지 입자군에 있어서의, 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수 및 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율은 플로우식 입자상 분석 장치(상품명 「FPIA(등록상표)-3000S」, 시스멕스 주식회사 제조)를 이용하여 측정하였다.The number of resin particles having a particle diameter of not less than twice the volume average particle diameter and the ratio of the resin particles having a circularity of 0.97 or less in the resin particle group of the following Examples and Comparative Examples were measured with a flow particle image analyzer Quot; FPIA (registered trademark) -3000S &quot;, manufactured by Sysmex Corporation).

구체적인 측정 방법으로는, 이온 교환수 20㎖에 분산제로서 계면활성제, 바람직하게는 알킬벤젠술폰산염 0.05g을 첨가하고 계면활성제 수용액을 얻었다. 그 후, 상기 계면활성제 수용액에 측정 대상의 수지 입자군 0.02g을 첨가하고, 분산기로서 초음파 세정기(예를 들면, 주식회사 벨보 클리어 제조의 「VS-150」등)를 이용하여, 2분에 걸쳐 수지 입자군을 계면활성제 수용액 내에 분산시키는 분산 처리를 행하여, 측정용 분산액을 얻었다.As a specific measuring method, 0.05 g of a surfactant, preferably an alkylbenzenesulfonate, was added as a dispersant to 20 ml of ion-exchanged water to obtain a surfactant aqueous solution. Thereafter, 0.02 g of the resin particle group to be measured was added to the surfactant aqueous solution, and the dispersion was stirred for 2 minutes using an ultrasonic cleaner (e.g., &quot; VS-150 &quot; A dispersion treatment was carried out by dispersing the particles in a surfactant aqueous solution to obtain a dispersion for measurement.

측정에는 표준 대물 렌즈(10배)를 탑재한 상기 플로우식 입자상 분석 장치를 이용하여, 상기 플로우식 입자상 분석 장치에 사용하는 시스액으로는 파티클 시스(상품명 「PSE-900A」, 시스멕스 주식회사 제조)를 사용하였다. 상기 순서에 따라 조정한 측정용 분산액을 상기 플로우식 입자상 분석 장치에 도입하고, 하기 측정 조건에서 측정하였다.The flow type particle image analyzer equipped with a standard objective lens (10 times) was used for measurement. Particle sis (trade name &quot; PSE-900A &quot;, manufactured by Sysmex Corporation) Were used. The dispersion for measurement adjusted in the above procedure was introduced into the flow type particulate analyzer and measured under the following measurement conditions.

측정 모드: HPF 측정 모드 Measurement mode: HPF measurement mode

입자 직경의 측정 범위: 0.5∼200㎛ Measurement range of particle diameter: 0.5 to 200 탆

입자의 원형도의 측정 범위: 0.2∼1.0 Measuring range of particle circularity: 0.2 to 1.0

입자의 측정 개수: 100000개 Number of particles measured: 100000

측정에 있어서는, 측정 개시 전에 표준 폴리머 입자군의 현탁액(예를 들면, Thermo Fisher Scientific사 제조의 「5200A」(표준 폴리스티렌 입자군을 이온 교환수로 희석한 것))을 이용하여 상기 플로우식 입자상 분석 장치의 자동 초점 조정을 행하였다. 또한, 원형도는 수지 입자를 촬영한 화상과 동일한 투영 면적을 갖는 진원의 직경으로부터 산출한 주위 길이를 수지 입자를 촬영한 화상의 주위 길이로 나눈 값이다.For the measurement, a suspension of the standard polymer particle group (for example, &quot; 5200A &quot; (a standard polystyrene particle group diluted with ion exchange water) manufactured by Thermo Fisher Scientific) The automatic focus adjustment of the apparatus was performed. The circularity is a value obtained by dividing the circumferential length calculated from the diameter of the circle having the same projection area as that of the image of the resin particle by the circumferential length of the image of the resin particle.

상기 방법에 의해 측정한 수지 입자군의 입자 직경으로부터, 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수를 카운트하였다. 또한, 상기 방법에 의해 측정한 수지 입자군의 원형도로부터, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 개수를 카운트하고, 이 개수를 측정 개수로 나눔으로써, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율을 산출하였다.The number of resin particles having a particle diameter at least two times the volume average particle diameter was counted from the particle diameter of the resin particle group measured by the above method. The number of resin particles having a circularity of 0.97 or less is counted from the circularity of the resin particle group measured by the above method and the number of resin particles is determined by dividing the number of the resin particles by the number of the resin particles having a circularity of 0.97 or less .

[종입자군의 제조예 1][Production Example 1 of seed particle group]

교반기, 온도계 및 환류 콘덴서를 구비한 분리형 플라스크에 수성 매체로서의 물 3000g과, (메타)아크릴산에스테르계 단량체로서의 메타크릴산메틸 500g과, 분자량 조정제로서의 n-옥틸메르캅탄 5g을 주입하고, 분리형 플라스크의 내용물을 교반하면서 분리형 플라스크의 내부를 질소 치환하고 분리형 플라스크의 내온을 70℃로 승온하였다. 추가로, 분리형 플라스크의 내온을 70℃로 유지하면서, 중합 개시제로서의 과황산칼륨 2.5g을 분리형 플라스크의 내용물에 첨가한 후에 12시간 중합 반응시켜, 에멀션을 얻었다. 얻어진 에멀션은 고형분(폴리메타크릴산메틸 입자군)을 14중량% 함유하고, 그 고형분은 체적 평균 입자 직경이 0.45㎛이며, 중량 평균 분자량이 15000인 진구상 입자군이었다. 이 진구상 입자군을 포함하는 에멀션을 종입자군 분산액으로 하여, 후술하는 단분산 입자군의 제조예 1 및 2에 사용하였다.In a separate flask equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser, 3000 g of water as an aqueous medium, 500 g of methyl methacrylate as a (meth) acrylic acid ester-based monomer and 5 g of n-octylmercaptan as a molecular weight regulator were introduced, The inside of the separable flask was purged with nitrogen while stirring the contents, and the inner temperature of the separable flask was raised to 70 캜. Further, 2.5 g of potassium persulfate as a polymerization initiator was added to the contents of the separable flask while keeping the inner temperature of the separable flask at 70 占 폚, followed by polymerization reaction for 12 hours to obtain an emulsion. The resulting emulsion contained 14% by weight of a solid component (polymethylmethacrylate particle group), and its solid content was a true spherical particle group having a volume average particle diameter of 0.45 탆 and a weight average molecular weight of 15,000. The emulsion containing the spherical spherical particle group was used as the seed particle group dispersion in Production Examples 1 and 2 of the monodisperse particle group described later.

[종입자군의 제조예 2][Production Example 2 of seed particle group]

교반기, 온도계 및 환류 콘덴서를 구비한 분리형 플라스크에 수성 매체로서의 물 3150g과, (메타)아크릴산에스테르계 단량체로서의 메타크릴산메틸 350g, 분자량 조정제로서의 n-옥틸메르캅탄 3g을 주입하고, 분리형 플라스크의 내용물을 교반하면서 분리형 플라스크의 내부를 질소 치환하고 분리형 플라스크의 내온을 80℃로 승온하였다. 추가로, 분리형 플라스크의 내온을 80℃로 유지하면서, 중합 개시제로서의 과황산칼륨 1.8g을 분리형 플라스크의 내용물에 첨가한 후에 12시간 중합 반응시켜, 에멀션을 얻었다. 얻어진 에멀션은 고형분을 10중량% 함유하고, 그 고형분은 체적 평균 입자 직경이 0.35㎛이며, 중량 평균 분자량이 15000인 진구상 입자군이었다. 이 진구상 입자군을 포함하는 에멀션을 종입자군 분산액으로 하여, 후술하는 단분산 입자군의 제조예 3에 사용하였다.A separable flask equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser was charged with 3150 g of water as an aqueous medium, 350 g of methyl methacrylate as a (meth) acrylic acid ester-based monomer and 3 g of n-octylmercaptan as a molecular weight regulator, The inside of the separable flask was purged with nitrogen, and the inner temperature of the separable flask was raised to 80 캜. Further, 1.8 g of potassium persulfate as a polymerization initiator was added to the contents of the separable flask while keeping the internal temperature of the separable flask at 80 캜, and polymerization reaction was carried out for 12 hours to obtain an emulsion. The obtained emulsion contained 10% by weight of solid content, and the solid content thereof was a true spherical particle group having a volume average particle diameter of 0.35 탆 and a weight average molecular weight of 15,000. The emulsion containing the spherical spherical particle group was used as the seed particle group dispersion and used in Production Example 3 of the later-described monodisperse particle group.

[단분산 입자군의 제조예 1][Production Example 1 of Monodisperse Particle Group]

스티렌계 단량체로서의 스티렌 300g과, (메타)아크릴산에스테르계 단량체로서의 메타크릴산메틸 400g과, 다관능 중합성 비닐계 단량체로서의 에틸렌글리콜디메타크릴레이트 300g과, 중합 개시제로서의 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 8g을 서로 용해시켜 단량체 혼합물을 얻었다. 얻어진 단량체 혼합물을 미리 비이온성 계면활성제로서의 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르 10g을 이온 교환수 990g에 용해시킴으로써 얻어진 계면활성제 수용액 1000g과 혼합하고, 고속 유화·분산기(상품명 「호모 믹서-MARK II 2.5형」, 프라이믹스 주식회사 제조)에 넣어 10000rpm으로 10분간 처리하여, 유화액을 얻었다.300 g of styrene as a styrene monomer, 400 g of methyl methacrylate as a (meth) acrylate monomer, 300 g of ethylene glycol dimethacrylate as a multifunctional polymerizable vinyl monomer, and 20 g of 2,2'-azobis 8 g of isobutyronitrile were dissolved together to obtain a monomer mixture. The resultant monomer mixture was mixed with 1000 g of a surfactant aqueous solution obtained by dissolving 10 g of polyoxyethylene octyl phenyl ether as a nonionic surfactant in 990 g of ion-exchanged water, and the resulting mixture was dispersed by a high-speed emulsification / dispersing machine (trade name: Homomixer- Manufactured by Primix Co., Ltd.) and treated at 10,000 rpm for 10 minutes to obtain an emulsion.

이 유화액에, 상기 종입자군 제조예 1에서 얻어진 체적 평균 입자 직경이 0.45㎛인 종입자군 분산액 23g(고형분 3g)을 첨가하고 30℃에서 3시간 교반하여, 분산액을 얻었다. 이 분산액에, 고분자 분산 안정제로서의 폴리비닐알코올(닛폰 합성 화학 공업 주식회사 제조, 상품명 「고세놀(등록상표) GH-17」)의 4중량% 수용액 2000g과, 중합 금지제로서의 아질산나트륨 0.6g을 첨가하고, 그 후, 70℃에서 5시간 교반하고, 이어서 105℃에서 2.5시간 교반함으로써 중합 반응을 행하였다.To this emulsion was added 23 g (solid content: 3 g) of the dispersion of the seed particle group having a volume average particle diameter of 0.45 mu m obtained in the above-mentioned seed particle group production example 1 and stirred at 30 DEG C for 3 hours to obtain a dispersion. To this dispersion were added 2000 g of a 4 wt% aqueous solution of polyvinyl alcohol (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: GOSENOL (registered trademark) GH-17) as a polymer dispersion stabilizer and 0.6 g of sodium nitrite as a polymerization inhibitor Then, the mixture was stirred at 70 ° C for 5 hours and then at 105 ° C for 2.5 hours to effect polymerization reaction.

중합 후의 분산액을 가압 여과기로 탈수하고, 온수를 사용하여 세정한 후, 70℃에서 24시간 진공 건조시킴으로써, 가교 (메타)아크릴-스티렌 공중합 수지로 이루어지는 수지 입자군인 중합체 입자군 A(건조 수지 입자군)를 얻었다.The dispersion liquid after polymerization was dehydrated with a pressure filter, washed with warm water, and vacuum-dried at 70 캜 for 24 hours to obtain polymer particles A (dry resin particles, group of resin particles, group of resin particles made of crosslinked (meth) ).

[단분산 입자의 제조예 2][Production Example 2 of Monodisperse Particles]

스티렌계 단량체로서의 스티렌 510g과, (메타)아크릴산에스테르계 단량체로서의 메타크릴산 n-부틸 370g과, 다관능 중합성 비닐계 단량체로서의 디비닐벤젠 120g과, 중합 개시제로서의 과산화벤조일 8g을 서로 용해시켜 단량체 혼합물을 얻었다. 이 단량체 혼합물을 실시예 1의 단량체 혼합물을 대신하여 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 유화액을 얻었다.510 g of styrene as a styrene monomer, 370 g of n-butyl methacrylate as a (meth) acrylate monomer, 120 g of divinylbenzene as a multifunctional polymerizable vinyl monomer and 8 g of benzoyl peroxide as a polymerization initiator were dissolved together to prepare a monomer A mixture was obtained. An emulsion was obtained in the same manner as in Example 1 except that this monomer mixture was used instead of the monomer mixture of Example 1.

이 유화액에, 상기 종입자군의 제조예 1에서 얻어진 체적 평균 입자 직경이 0.45㎛인 종입자군 분산액 70g(고형분 9.8g)을 첨가하고 30℃에서 3시간 교반하여, 분산액을 얻었다. 이 분산액을 실시예 1의 분산액을 대신하여 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 중합 반응, 탈수, 세정, 및 진공 건조를 행함으로써, 가교 (메타)아크릴-스티렌 공중합 수지로 이루어지는 수지 입자군인 중합체 입자군 B(건조 수지 입자군)를 얻었다.To this emulsion was added 70 g (solid content: 9.8 g) of the seed particle group dispersion having a volume average particle diameter of 0.45 탆 obtained in Production Example 1 of the seed particle group and stirred at 30 캜 for 3 hours to obtain a dispersion. The polymerization reaction, dehydration, washing and vacuum drying were carried out in the same manner as in Example 1 except that this dispersion was used in place of the dispersion of Example 1 to obtain a resin particle composed of a crosslinked (meth) acrylic-styrene copolymer resin To obtain a group of solder polymer particles B (dry resin particle group).

[단분산 입자군의 제조예 3][Production Example 3 of Monodisperse Particle Group]

(메타)아크릴산에스테르계 단량체로서의 메타크릴산메틸 900g과, 다관능 중합성 비닐계 단량체로서의 에틸렌글리콜디메타크릴레이트 100g과, 중합 개시제로서의 과산화벤조일 8g을 서로 용해시켜 단량체 혼합물을 얻었다. 이 단량체 혼합물을 실시예 1의 단량체 혼합물을 대신하여 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 유화액을 얻었다.900 g of methyl methacrylate as a (meth) acrylic acid ester monomer, 100 g of ethylene glycol dimethacrylate as a polyfunctional polymerizable vinyl monomer, and 8 g of benzoyl peroxide as a polymerization initiator were dissolved with each other to obtain a monomer mixture. An emulsion was obtained in the same manner as in Example 1 except that this monomer mixture was used instead of the monomer mixture of Example 1.

이 유화액에, 상기 종입자군의 제조예 2에서 얻어진 체적 평균 입자 직경이 0.35㎛인 종입자군 분산액 500g(고형분 50g)을 첨가하고 30℃에서 3시간 교반하여, 분산액을 얻었다. To this emulsion was added 500 g of a seed particle group dispersion (solid content: 50 g) having a volume average particle diameter of 0.35 占 퐉 obtained in Production Example 2 of the seed particle group and stirred at 30 占 폚 for 3 hours to obtain a dispersion.

이 분산액을 실시예 1의 분산액을 대신하여 사용하고, 폴리비닐알코올의 4중량% 수용액을 대신하여 비이온성 계면활성제로서의 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르의 0.5중량% 수용액 2000g을 사용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 중합 반응을 행하였다. 중합 후의 분산액을 스프레이 드라이에 의해 건조시켜, 가교 (메타)아크릴계 수지로 이루어지는 수지 입자군인 중합체 입자군 C(건조 수지 입자군)를 얻었다.This dispersion was used in place of the dispersion of Example 1 and that 2000 g of a 0.5 wt% aqueous solution of polyoxyethylene octyl phenyl ether as a nonionic surfactant was used instead of the 4 wt% aqueous solution of polyvinyl alcohol. , A polymerization reaction was carried out. The polymerization liquid dispersion was dried by spray drying to obtain a polymer particle group C (dry resin particle group), which is a resin particle group made of a crosslinked (meth) acrylic resin.

[실시예 1][Example 1]

단분산 입자군의 제조예 1에서 얻어진 중합체 입자군 A를 분쇄기를 이용하지 않는 도 1에 나타내는 선회 기류식 분급기(10)로서, 닛세이 엔지니어링 주식회사 제조로부터 시판되고 있는 상품명 「에어로파인 클래시파이어 AC-20」의 선회 기류식 분급기를 이용하여, 분급하였다.The polymer particle group A obtained in Preparation Example 1 of the monodisperse particle group was used as a swirling air current classifier 10 shown in Fig. 1 without using a pulverizer, and a commercially available product "Aerofine Classifier" commercially available from Nissei Engineering Co., AC-20 &quot; swirl flow type classifier.

본 실시예에서는 가이드 날개(40)의 각도는 원심 분리실(16)의 외주면의 접선 방향에서 중심을 향한 경사각을 80도로 하였다. 또한, 상하의 분출 노즐(20 및 22)로부터의 토출 압력을 0.5MPa로 하였다. 또한, 흡인 풍량 3.5㎥/min의 블로어를 이용하여 분급 수지 입자군 회수구(32)로부터 공기를 흡인하면서, 분급을 행하였다. 이로써, 가교 비닐계 수지로서의 가교 (메타)아크릴-스티렌 공중합 수지로 이루어지는 수지 입자군을 얻었다.In this embodiment, the angle of the guide vane 40 is 80 degrees from the tangential direction of the outer peripheral surface of the centrifugal separation chamber 16 toward the center. In addition, the discharge pressure from the upper and lower spray nozzles 20 and 22 was 0.5 MPa. Further, classification was carried out while sucking air from the classified resin particle group collecting port 32 by using a blower having a suction air volume of 3.5 m &lt; 3 &gt; / min. Thus, a resin particle group composed of a crosslinked (meth) acrylic-styrene copolymer resin as a crosslinked vinyl resin was obtained.

얻어진 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경이 3.15㎛이고, 입자 직경의 변동 계수가 11.55%였다. 또한, 얻어진 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수가 100000개 중 2개이고, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 개수가 100000개 중 200개(0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 0.2%)였다.The obtained resin particle group had a volume average particle diameter of 3.15 mu m and a variation coefficient of particle diameter of 11.55%. In the obtained resin particle group, the number of resin particles having a particle diameter of at least two times the volume average particle diameter was 2 out of 100,000, and the number of resin particles having a circularity degree of 0.97 or less was 200 out of 100000 (0.97 or less Of the resin particles having a circularity of 0.2%).

[실시예 2][Example 2]

단분산 입자군의 제조예 1에서 얻어진 중합체 입자군 A를 대신하여 단분산 입자군의 제조예 2에서 얻어진 중합체 입자군 B를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 분급을 행하고, 가교 비닐계 수지로서의 가교 (메타)아크릴-스티렌 공중합 수지로 이루어지는 수지 입자군을 얻었다.The classification was carried out in the same manner as in Example 1 except that the polymer particle group A obtained in Preparation Example 2 of the monodisperse particle group was used instead of the polymer particle group A obtained in Preparation Example 1 of the monodisperse particle group, (Meth) acryl-styrene copolymer resin was obtained.

얻어진 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경이 2.27㎛이고, 입자 직경의 변동 계수가 9.54%였다. 또한, 얻어진 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수가 100000개 중 2개이고, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 개수가 100000개 중 100개(0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 0.1%)였다.The obtained resin particle group had a volume average particle diameter of 2.27 mu m and a variation coefficient of particle diameter of 9.54%. The number of the resin particles obtained was 2 out of 100,000 resin particles having a particle diameter twice or more of the volume average particle diameter, and the number of the resin particles having a circularity of 0.97 or less was 100 out of 100000 (0.97 or less Of the resin particles having a circularity of 0.1%).

[실시예 3][Example 3]

단분산 입자군의 제조예 1에서 얻어진 중합체 입자군 A를 대신하여 단분산 입자군의 제조예 3에서 얻어진 중합체 입자군 C를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 분급을 행하고, 가교 비닐계 수지로서의 가교 (메타)아크릴계 수지로 이루어지는 수지 입자군을 얻었다.The classification was carried out in the same manner as in Example 1 except that the polymer particle group A obtained in Production Example 3 of monodispersed particle group was used instead of the polymer particle group A obtained in Production Example 1 of monodispersed particle group, (Meth) acrylic resin was obtained.

얻어진 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경이 1.01㎛이고, 입자 직경의 변동 계수가 13.24%였다. 또한, 얻어진 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수가 100000개 중 4개이고, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 개수가 100000개 중 300개(0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 0.3%)였다.The obtained resin particle group had a volume average particle diameter of 1.01 mu m and a variation coefficient of particle diameter of 13.24%. The number of the resin particles obtained was 4 out of 100000 number of resin particles having a particle diameter twice or more of the volume average particle diameter, and the number of resin particles having a circularity of 0.97 or less was 300 out of 100000 (0.97 or less Of the resin particles having a circularity of 0.3%).

[비교예 1][Comparative Example 1]

단분산 입자군의 제조예 1에서 얻어진 중합체 입자군 A를 해머 밀(제품 번호 「AIIW-5」, 주식회사 달톤 제조)로 해쇄하고, 강제 와식 분급기(상품명 「터보 클래시파이어 TC-15」, 닛세이 엔지니어링 주식회사 제조)로 분급을 행하여, 수지 입자군을 얻었다.The polymer particle group A obtained in Preparation Example 1 of the monodisperse particle group was crushed with a hammer mill (product number &quot; AIIW-5 &quot;, manufactured by Dalton Co., Ltd.) and subjected to a forced warming classifier (trade name: Turbo Classifier TC- Manufactured by Nissei Engineering Co., Ltd.) to obtain a resin particle group.

얻어진 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경이 3.15㎛이고, 입자 직경의 변동 계수가 11.18%였다. 또한, 얻어진 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수가 100000개 중 4개이고, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 개수가 100000개 중 1300개(0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 1.3%)였다.The obtained resin particle group had a volume average particle diameter of 3.15 mu m and a variation coefficient of particle diameter of 11.18%. The number of the resin particles obtained was 4 out of 100000 number of resin particles having a particle diameter twice or more of the volume average particle diameter, and the number of resin particles having a circularity of 0.97 or less was 1300 (0.97 or less Of the resin particles having a circularity of 1.3%).

[비교예 2][Comparative Example 2]

단분산 입자군의 제조예 1에서 얻어진 중합체 입자군 A를 대신하여 단분산 입자군의 제조예 2에서 얻어진 중합체 입자군 B를 사용한 것 이외에는 비교예 1과 동일하게 하고, 분급을 행하여, 수지 입자군을 얻었다.The classification was carried out in the same manner as in Comparative Example 1 except that the polymer particle group A obtained in Preparation Example 2 of monodispersed particle group was used instead of the polymer particle group A obtained in Preparation Example 1 of the monodispersed particle group, &Lt; / RTI &gt;

얻어진 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경이 2.27㎛이고, 입자 직경의 변동 계수가 9.54%였다. 또한, 얻어진 수지 입자군은 체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수가 100000개 중 4개이고, 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 개수가 100000개 중 2000개(0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 2.0%)였다.The obtained resin particle group had a volume average particle diameter of 2.27 mu m and a variation coefficient of particle diameter of 9.54%. The number of the resin particles obtained was 4 out of 100000 number of resin particles having a particle diameter twice or more of the volume average particle diameter, and the number of resin particles having a circularity degree of 0.97 or less was 2000 out of 100000 (0.97 or less Of the resin particles having a circularity of 2.0%).

[실시예 4] (방현 필름용 수지 조성물의 제조 및 방현 필름의 제작)[Example 4] (Production of resin composition for antiglare film and production of antiglare film)

자외선 경화형 수지로서 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 및 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트의 혼합물(상품명 「아로닉스(등록상표) M-305」, 도아 합성 주식회사 제조) 80중량부와, 유기 용제로서의 톨루엔 및 시클로펜타논의 혼합액(톨루엔과 시클로펜타논의 체적비=7:3) 120중량부와, 실시예 1에서 제조한 수지 입자군 5중량부와, 광중합 개시제(2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 상품명 「이르가큐어(등록상표) 907」, BASF(등록상표) 재팬 주식회사 제조) 5중량부를 혼합하여, 수지 조성물로서의 방현 필름용 수지 조성물을 제조하였다.80 parts by weight of a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (trade name: Aronix (registered trademark) M-305, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) as an ultraviolet curable resin, and 80 parts by weight of toluene and cyclopenta 120 parts by weight of a mixed solution of toluene and cyclopentane (volume ratio of toluene to cyclopentanone = 7: 3), 5 parts by weight of the resin particle group prepared in Example 1, 2 parts by weight of a photopolymerization initiator (2-methyl- 5 parts by weight of 2-morpholinopropane-1-one, trade name: Irgacure (registered trademark) 907, and BASF (registered trademark) Japan KK were mixed to prepare a resin composition for an antiglare film as a resin composition.

기재 필름으로서 투명 플라스틱 필름인 두께 0.2㎜의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 준비하였다. 상기 방현 필름용 수지 조성물을 상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 한쪽 면에, 바코터를 이용하여 도포함으로써, 도막을 형성하였다. 다음으로, 상기 도막을 80℃에서 1분간 가열함으로써 상기 도막을 건조시켰다. 그 후, 고압 수은 램프로 자외선을 적산 광량 300mJ/㎠로 상기 도막에 조사 함으로써, 상기 도막을 경화시켜 방현성 하드 코트층을 형성하였다. 이로써, 방현 필름(성형품)으로서 실시예 1에서 제조한 수지 입자군을 함유한 방현성 하드 코트 필름을 제작하였다.A polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 0.2 mm as a transparent plastic film was prepared as a base film. The resin composition for an antiglare film was applied to one side of the polyethylene terephthalate film using a bar coater to form a coating film. Next, the coating film was heated at 80 DEG C for 1 minute to dry the coating film. Thereafter, ultraviolet rays were irradiated to the coating film with a cumulative light quantity of 300 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp to cure the coating film to form a flash-resistant hard coat layer. Thus, a flash-resistant hard coat film containing the resin particle group prepared in Example 1 was produced as an antiglare film (molded article).

[실시예 5][Example 5]

실시예 1에서 제조한 수지 입자군을 대신하여 실시예 2에서 제조한 수지 입자군을 사용하는 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하고, 방현 필름용 수지 조성물을 제조하여, 실시예 2에서 제조한 수지 입자군을 함유한 방현성 하드 코트 필름을 제작하였다.A resin composition for an antiglare film was prepared in the same manner as in Example 4 except that the resin particle group prepared in Example 2 was used in place of the resin particle group prepared in Example 1, Abrasion-resistant hard coat film containing particles was prepared.

[실시예 6][Example 6]

실시예 1에서 제조한 수지 입자군을 대신하여 실시예 3에서 제조한 수지 입자군을 사용하는 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하고, 방현 필름용 수지 조성물을 제조하여, 실시예 3에서 제조한 수지 입자군을 함유한 방현성 하드 코트 필름을 제작하였다.A resin composition for an antiglare film was prepared in the same manner as in Example 4 except that the resin particle group prepared in Example 3 was used in place of the resin particle group prepared in Example 1, Abrasion-resistant hard coat film containing particles was prepared.

[비교예 3][Comparative Example 3]

실시예 1에서 제조한 수지 입자군을 대신하여 비교예 1에서 제조한 수지 입자군을 사용하는 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하고, 방현 필름용 수지 조성물을 제조하여, 비교예 1에서 제조한 수지 입자군을 함유한 방현성 하드 코트 필름을 제작하였다.A resin composition for an antiglare film was produced in the same manner as in Example 4 except that the resin particle group prepared in Comparative Example 1 was used in place of the resin particle group prepared in Example 1, Abrasion-resistant hard coat film containing particles was prepared.

[비교예 4][Comparative Example 4]

실시예 1에서 제조한 수지 입자군을 대신하여 비교예 2에서 제조한 수지 입자군을 사용하는 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하고, 방현 필름용 수지 조성물을 제조하여, 비교예 2에서 제조한 수지 입자군을 함유한 방현성 하드 코트 필름을 제작하였다.A resin composition for an antiglare film was prepared in the same manner as in Example 4 except that the resin particle group prepared in Comparative Example 2 was used in place of the resin particle group prepared in Example 1, Abrasion-resistant hard coat film containing particles was prepared.

[방현 필름의 방현성의 평가][Evaluation of anti-glare properties of anti-glare film]

실시예 4∼6 및 비교예 3·4에서 제작한 방현 필름의 각각의 도공면이 아닌 면을 ABS 수지(아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합 수지)판에 붙이고, 당해 방현 필름의 2m 떨어진 장소로부터, 휘도 10000cd/㎠의 형광등을 도공면에 비추어, 육안으로 방현 필름의 방현성을 평가하였다. 방현성의 평가 기준은 형광등의 반사상의 윤곽이 명확히 보이지 않는 경우에는 방현성이 「○」(양호), 형광등의 반사상의 윤곽이 명확히 보이는 경우에는 방현성이 「×」(불량)인 것으로 평가하였다.The non-coated surfaces of the antiglare films prepared in Examples 4 to 6 and Comparative Examples 3 and 4 were stuck to an ABS resin (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin) plate, and from the place 2 m away from the antiglare film , And a fluorescent lamp having a luminance of 10000 cd / cm &lt; 2 &gt; was irradiated onto the coated surface, and the antiglare property of the antiglare film was evaluated visually. The evaluation criterion of the flicker-resistance was evaluated to be "○" (good) when the outline of the reflection image of the fluorescent lamp was not clearly visible (good), and when the outline of the reflection image of the fluorescent lamp was clearly visible, the flicker was rated "×" .

[방현 필름의 표면성의 평가][Evaluation of Surface Property of Antiglare Film]

실시예 4∼6 및 비교예 3·4에서 제작한 방현 필름의 각각을 형광등의 바로 위에 배치하고, 육안으로 방현 필름의 표면성을 평가하였다. 표면성의 평가 기준은 투과광의 편차 및 광의 불균일(결점)이 아무것도 없는 경우를 표면성이 「○」(양호), 투과광의 편차 및 광의 불균일(결점) 중 적어도 한 쪽이 있는 경우를 표면성이 「×」(불량)인 것으로 평가하였다.Each of the antiglare films prepared in Examples 4 to 6 and Comparative Examples 3 and 4 was placed just above a fluorescent lamp, and the surface property of the antiglare film was evaluated visually. The evaluation criterion of the surface property is a case where there is no deviation of transmitted light and no unevenness (defect) of light, a case where at least one of the surface property is "good" (good), the transmitted light is uneven and the light is uneven X &quot; (defective).

실시예 4∼6 및 비교예 3·4에서 제작한 방현 필름의 방현성 및 표면성의 평가 결과를 실시예 4∼6 및 비교예 3·4에서 사용한 수지 입자군의 종류 및 입자 직경 분포와 함께 표 1에 나타낸다.The results of the evaluation of the anti-glare properties and surface properties of the antiglare films produced in Examples 4 to 6 and Comparative Examples 3 and 4 are shown in Table 4 together with the types and particle diameter distributions of the resin particle groups used in Examples 4 to 6 and Comparative Examples 3 and 4 1.

Figure pat00001
Figure pat00001

표 1의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 1%보다 많은 수지 입자군을 포함하는 비교예 3 및 4의 방현 필름은 투과광의 편차나 광의 불균일이 발생하여 표면성이 불량인 것에 비해, 본 발명에 따른 0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 1% 이하인 수지 입자군을 포함하는 실시예 4∼6의 방현 필름은 투과광의 편차나 광의 불균일이 발생하지 않아 표면성이 양호하였다.As can be seen from the results shown in Table 1, the antiglare films of Comparative Examples 3 and 4 including the resin particle group having a ratio of the resin particles having a circularity of 0.97 or less according to the present invention of more than 1% The antiglare films of Examples 4 to 6 including the resin particle group in which the proportion of resin particles having a circularity degree of 0.97 or less according to the present invention is 1% or less, No unevenness of light was generated and the surface property was good.

본 발명은 그 정신 또는 주요한 특징으로부터 벗어나지 않고, 다른 여러 형태로 실시할 수 있다. 이 때문에, 상기 서술한 실시예는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않으며, 한정적으로 해석해서는 안된다. 본 발명의 범위는 특허청구범위에 의해 나타내는 것으로서, 명세서 본문에는 전혀 구속되지 않는다. 또한, 특허청구범위의 균등 범위에 속하는 변형이나 변경은 전부 본 발명의 범위 내의 것이다.The present invention may be embodied in other forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. For this reason, the above-described embodiments are merely examples in all respects, and should not be construed as limiting. The scope of the present invention is defined by the appended claims, and is not to be construed as being limited thereto at all. Modifications and variations that fall within the equivalents of the claims are all within the scope of the present invention.

또한, 이 출원은 2013년 8월 30일에 일본에서 출원된 특허출원 2013-180231에 기초하는 우선권을 청구한다. 이에 언급함으로써, 그 모든 내용은 본 출원에 포함되는 것이다.This application also claims priority based on patent application 2013-180231, filed on August 30, 2013, in Japan. By way of example, the entire contents of which are incorporated herein by reference.

10: 선회 기류식 분급기(기류 분급기)
12: 상부 원반상 부재
12a 및 14a: 링 형상의 엣지
14: 하부 원반상 부재
16: 원심 분리실(분급용 공동부)
18: 원료 투입구
20: 분출 노즐(제1 분출 노즐)
22: 분출 노즐(제2 분출 노즐)
24: 원료 분산존(분급용 공동부, 분급용 공동부의 상부)
28: 원료 재분급존(분급용 공동부, 분급용 공동부의 하부)
30: 조대 수지 입자군 회수구(조대 수지 입자군 배출구)
32: 분급 수지 입자군 회수구(분급 수지 입자군 배출구)
40: 가이드 날개
40a: 회동축
40b: 핀
50: 보조 분급 기능부
10: swirl type air classifier (air classifier)
12: upper circular member
12a and 14a: a ring-shaped edge
14: Lower circular member
16: Centrifuge (Classifying cavity)
18: Feed inlet
20: ejection nozzle (first ejection nozzle)
22: ejection nozzle (second ejection nozzle)
24: raw material dispersion zone (classifying cavity, upper part of classifying cavity)
28: Raw material classification zone (classifying cavity, lower part of classifying cavity)
30: coarse resin particle group recovery port (coarse resin particle discharge port)
32: Classified resin particle group recovery port (Classified resin particle discharge port)
40: guide wing
40a:
40b: pin
50: auxiliary classification function section

Claims (6)

가교 비닐계 수지로 이루어지는 체적 평균 입자 직경이 0.5∼10㎛인 수지 입자군으로서,
체적 평균 입자 직경의 2배 이상의 입자 직경을 갖는 수지 입자의 개수가 10만개 중 5개 이하이며,
0.97 이하의 원형도를 갖는 수지 입자의 비율이 1% 이하인 것을 특징으로 하는 수지 입자군.
A resin particle group composed of a crosslinked vinyl resin having a volume average particle diameter of 0.5 to 10 占 퐉,
The number of resin particles having a particle diameter of at least two times the volume average particle diameter is 5 or less out of 100,000,
Wherein the ratio of resin particles having a circularity of 0.97 or less is 1% or less.
제 1 항에 있어서,
상기 가교 비닐계 수지가 가교 (메타)아크릴계 수지, 가교 스티렌계 수지, 가교 (메타)아크릴-스티렌 공중합 수지 중 어느 것인 것을 특징으로 하는 수지 입자군.
The method according to claim 1,
Wherein the crosslinked vinyl resin is any of a crosslinked (meth) acrylic resin, a crosslinked styrene resin and a crosslinked (meth) acrylic-styrene copolymer resin.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
광학 부품용인 것을 특징으로 하는 수지 입자군.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the resin particles are used for optical parts.
수지 입자군의 생성 후에, 기류 분급기를 이용한 분급에 의해 상기 수지 입자군으로부터 조대 수지 입자군을 제거하는 분급 공정을 포함하는 가교 비닐계 수지로 이루어지는 체적 평균 입자 직경이 0.5∼10㎛인 수지 입자군의 제조 방법으로서,
상기 수지 입자군의 분급 공정은 수지 입자군의 생성 후에 해쇄 공정을 거치지 않고 실시되고,
상기 기류 분급기는, 수지 입자군이 공급되는 분급용 공동부와,
상기 분급용 공동부의 외주부에 배치되고, 상기 분급용 공동부에 선회류가 발생하도록 상기 분급용 공동부에 서로의 사이로부터 공기를 내보내는 복수의 가이드 날개와,
상기 분급용 공동부의 상부 및 하부에 각각 공기를 분사하는 제1 및 제2 분사 노즐과,
상기 분급용 공동부로부터 분급된 수지 입자군을 포함하는 기류를 상방에 배출하는 분급 수지 입자군 배출구와,
상기 분급용 공동부로부터 조대 수지 입자군을 하방에 배출하는 조대 수지 입자군 배출구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 수지 입자군의 제조 방법.
And a classification step of removing the coarse resin particle group from the resin particle group by classification using an air stream classifier after formation of the resin particle group, wherein the resin particle group comprises a resin particle group having a volume average particle diameter of 0.5 to 10 占A process for producing
The classifying step of the resin particle group is carried out after the generation of the resin particle group,
The airflow classifier includes a classification cavity portion to which a resin particle group is supplied,
A plurality of guide vanes arranged in the outer periphery of the classifying cavity and for introducing air from each other into the classifying cavity so that a swirling flow is generated in the classifying cavity;
First and second injection nozzles for spraying air to upper and lower portions of the classifying cavity, respectively,
A classifying resin particle group outlet for discharging the airflow including the resin particle group classified from the classifying cavity,
And a coarse resin particle group outlet for discharging the coarse resin particle group from the classifying cavity to the bottom.
제 1 항 또는 제 2 항의 수지 입자군과 바인더를 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.A resin composition comprising the resin particle group of claim 1 or 2 and a binder. 제 5 항의 수지 조성물을 기재 필름 상에 도포하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 방현 필름.An antiglare film comprising the resin composition of claim 5 applied on a base film.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6363607B2 (en) * 2013-08-30 2018-07-25 積水化成品工業株式会社 Resin particle group and method for producing the same
EP3357934B8 (en) * 2015-09-30 2024-01-17 Sekisui Kasei Co., Ltd. Polymer particles and use thereof
JP6877685B2 (en) * 2016-02-01 2021-05-26 日本エクスラン工業株式会社 A composite agglomerated resin particle group, a method for producing the particle group, and a composition containing the particle group.
JP6650857B2 (en) * 2016-03-29 2020-02-19 積水化成品工業株式会社 Polymer particles, production method and use thereof
CN111819224B (en) * 2018-03-23 2023-08-08 积水化成品工业株式会社 Vinyl resin particles and method for producing same
JP7101070B2 (en) * 2018-07-26 2022-07-14 デクセリアルズ株式会社 Method of manufacturing resin particles
JP7244233B2 (en) * 2018-08-08 2023-03-22 東京インキ株式会社 Method for producing polymethyl methacrylate particles, method for producing colloidal crystals, and water suspension
JP2022007837A (en) * 2020-06-27 2022-01-13 正文 松永 Method of manufacturing particle, method of applying particle or slurry, secondary battery or method of manufacturing secondary battery, all-solid battery or method of manufacturing all-solid battery, led or method of manufacturing led, phosphor sheet or method of manufacturing phosphor sheet

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0471081A (en) 1990-07-11 1992-03-05 Yasutomo Oguchi Method for constituting neural network having pattern identifying function
JP2002040204A (en) 2000-07-19 2002-02-06 Fuji Photo Film Co Ltd Antidazzle antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display
WO2008023648A1 (en) 2006-08-21 2008-02-28 Nippon Shokubai Co., Ltd. Microparticle, process for producing microparticle, and, loaded with the microparticle, resin composition and optical film
KR20090013107A (en) * 2007-07-31 2009-02-04 가부시키가이샤 닛신 세이훈 구루프혼샤 Powder classifying device
WO2013030977A1 (en) * 2011-08-31 2013-03-07 積水化成品工業株式会社 Resin particle aggregate, method for manufacturing same and application of same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4247147B2 (en) * 2004-03-26 2009-04-02 積水化成品工業株式会社 Production method of monodisperse resin particles
JP2012193244A (en) * 2011-03-15 2012-10-11 Sekisui Plastics Co Ltd Resin particle for light diffusing agent, method for production thereof, and light diffusing film including the resin particle
KR102133923B1 (en) * 2011-09-29 2020-07-14 가부시기가이샤 닛뽕쇼꾸바이 Vinyl polymer microparticles, method for producing same, resin composition, and optical material
JP6363607B2 (en) * 2013-08-30 2018-07-25 積水化成品工業株式会社 Resin particle group and method for producing the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0471081A (en) 1990-07-11 1992-03-05 Yasutomo Oguchi Method for constituting neural network having pattern identifying function
JP2002040204A (en) 2000-07-19 2002-02-06 Fuji Photo Film Co Ltd Antidazzle antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display
WO2008023648A1 (en) 2006-08-21 2008-02-28 Nippon Shokubai Co., Ltd. Microparticle, process for producing microparticle, and, loaded with the microparticle, resin composition and optical film
KR20090013107A (en) * 2007-07-31 2009-02-04 가부시키가이샤 닛신 세이훈 구루프혼샤 Powder classifying device
WO2013030977A1 (en) * 2011-08-31 2013-03-07 積水化成品工業株式会社 Resin particle aggregate, method for manufacturing same and application of same

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