KR20180089351A - Exposure apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 회로 또는 미세회로 또는 미세 패턴을 구성하는 데 사용이 되어지는 수직광 렌티큐라 노광기에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 렌티큐라의 집광기능을 노광장치에 사용함으로써 감광제의 깨끗한 노광이 가능한 노광기에 관한 것이다. 본 발명의 수직광 렌티큐라에 의하여 만들어지는 수직광에 의하여 다양한 패턴의 문양이 형성된 필름의 형상대로 감광층에 미세한 노광이 가능한 것이 특징이다.BACKGROUND OF THE
일반적으로 노광장치는 빛에 반응하는 물질(Photo-resist :PR, 감광제)이 도포된 기판, 웨이퍼, 유리 등의 위에 원하는 패턴이 형성된 필름을 올려놓고 자외선을 쬐어주어 감광제에 원하는 패턴을 전사시키는 장치를 말한다.Generally, an exposure apparatus is a device for transferring a desired pattern onto a photosensitive agent by placing a film on which a desired pattern is formed on a substrate, a wafer, glass or the like having a photo-resist (PR) .
종래에는 미세 피치의 회로를 노광시키는 노광장치는 평형광을 만드는 고가 장비의 구성이 필수적이었다. 그러나 본 발명에서는 고가의 평형광 구성을 위한 설비를 생략하여 단지 렌티큐라에 의한 수직광을 조사하는 구성으로 이러한 기능을 대체를 할 수가 있도록 구성을 한 것이다.Conventionally, in an exposure apparatus for exposing a fine pitch circuit, a configuration of expensive equipment for producing balanced light has been essential. However, in the present invention, the facility for expensive balanced light configuration is omitted, and the configuration for irradiating the vertical light by the lenticule is substituted for such a function.
노광작업에 있어서는 광원과, 감광제가 도포되어 있으며 상기 광원에 대향하게 배치되는 평판과, 평판의 상면에 밀착되는 투명부와 불투명부로 이루어진 필름이 사용이 되어진다.In the exposure operation, a light source, a flat plate coated with a photosensitive agent and opposed to the light source, and a transparent part and an opaque part adhering to the upper surface of the flat plate are used.
광원으로부터 필름으로 빛이 조사되면 투명부는 빛이 투과되고 불투명부는 빛을 차단하게 된다. 광원을 통하여 노광제를 노광을 시키게 되면 평판에 도포된 감광제에는 필름의 투명부를 통하여 빛이 투과된 부분만 감광제의 경화가 일어나게 되어진다.When light is irradiated from a light source to a film, the transparent portion transmits light and the opaque portion blocks light. When the exposure agent is exposed through the light source, the photosensitive agent applied to the flat plate is cured only in the portion through which the light is transmitted through the transparent portion of the film.
이러한 노광장치를 이용한 노광작업 후에는 감광제의 경화되지 않은 부분을 물 또는 현상액으로 제거하여 평판에 노광부에 의한 회로패턴이 형성된다.After the exposure operation using such an exposure apparatus, the uncured portions of the photosensitive agent are removed with water or a developing solution to form a circuit pattern by the exposure unit on the flat plate.
종래의 노광장치는 평판에 도포되어진 감광제의 두께가 두꺼워지면(예: 50 마이크론 이상) 감광제의 노광 상태가 깨끗하지 못하거나 불가능하게 된다. In conventional exposure apparatuses, when the thickness of a photosensitive agent applied to a flat plate becomes thick (for example, 50 microns or more), the exposed state of the photosensitive agent becomes unclear or impossible.
또한, 회로의 피치가 10 ~ 20 마이크론의 경우에는 높은 불량률을 야기하였다.In addition, when the pitch of the circuit is 10 to 20 microns, a high defect rate is caused.
본 발명은 저가의 수직광 노광기를 만들어서 비용을 절감할 수가 있을 뿐만아니라 미세피치의 회로도 용이하게 제작이 가능하도록 안출된 것이다. 본 발명은 렌티큐라의 집광기능과 수직광 기능을 노광장치에 사용함으로써 감광제의 두께가 수십마이크론에서 수백마이크론이 되더라도 깨끗한 노광이 가능하며, 회로의 피치가 2 ~ 20 마이크론 일지라도 깨끗한 노광으로 불량이 없고 선명하여 깨끗한 회로의 구성이 가능한 렌티큐라 노광장치를 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention has been made so that not only a cost can be reduced by forming a low-cost vertical light exposure device, but also a circuit of a fine pitch can be easily manufactured. The present invention uses a light-condensing function and a vertical light function of a lenticure in an exposure apparatus, so that a clean exposure can be performed even if the thickness of the photosensitizer is several tens of microns to several hundreds of microns. Even if the pitch of the circuit is 2 to 20 microns, It is an object of the present invention to provide a lenticular exposure apparatus capable of forming a clear and clean circuit.
본 발명의 가장 큰 특징은 극히 미세한 회로의 감광이 가능한 데에 있다. 극히 미세한 회로의 감광에는 종래에는 평형광 노광기가 사용되며, 이러한 평형광 노광기는 장비가 복잡하며 고가의 제작비가 소요되나 본 발명은 복잡한 장치나 고가의 장비를 이용하지 아니하고 극히 간단한 구성으로 경제적으로 상기의 목적을 달성시킬 수가 있는 큰 특징을 갖고 있다.The most significant feature of the present invention is that the extremely fine circuit can be dimmed. Conventionally, a balanced light exposure apparatus is used for extremely minute circuit light exposure. Such a balanced light exposure apparatus is complicated in equipment and requires a high production cost. However, the present invention is not limited to a complicated apparatus or expensive equipment, And can achieve the object of the present invention.
본 발명은 조사되는 수직광은 빛의 확산이나 산란작용이 없는 수직광 임으로 인하여 극도로 미세한 패턴을 노광시킬 수가 있는 장점이 있다.The present invention is advantageous in that the vertical light to be irradiated is a vertical light having no light diffusion or scattering action, and can expose an extremely fine pattern.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 빛을 발하는 광원과; 상기 광원 하부에는 렌티큐라 렌즈의 중앙부에서 만들어 내는 수직광을 유도하는 수직광 렌티큐라를 포함하고 있는 광원장치를 구성한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a light source device comprising: a light source emitting light; The light source unit includes a vertical light source for guiding vertical light generated at the center of the lenticular lens.
본 발명의 광원장치는 패턴이 형성된 필름의 상부에 위치한다. 본 발명의 광원장치는 상기 필름과 소정거리 이격되어 위치되므로 광원장치와 필름에 마찰없이 상호 이동이 되도록 구성한다.The light source device of the present invention is located on the top of the film on which the pattern is formed. Since the light source device of the present invention is spaced apart from the film by a predetermined distance, the light source device and the film can be moved without friction.
본 발명은 노광장치와 필름 간의 관계에서, 상대적으로 이동이 가능하므로서 아무리 대면적의 감광제라 할지라도 용이하게 짧은 시간에 경제적으로 노광을 시킬 수가 있을 뿐만 아니라, 렌티큐라에 의한 집광되어진 수직광을 이용하므로서 노광의 정확도가 1미크론 2미크론 단위의 정도까지 이를 수도가 있게 된다.In the present invention, relative to the relationship between the exposure apparatus and the film, it is possible to relatively easily expose the photoreceptor in a short time, regardless of the large area of the photoreceptor, and to use the condensed vertical light by the lenticure The accuracy of the exposure can be in the order of 1 micron to 2 micron units.
본 발명은 렌티큐라의 렌티큐라 렌즈 각각이 가지는 집광기능을 노광장치에 사용하여 수직광을 형성함으로써 감광제의 두께가 수십마이크론 이상의 두꺼운 감광제 층일지라도 깨끗한 노광이 가능하며, 수직광으로 인하여 빛의 간섭과 산란이 방지되므로 회로의 피치가 1 ~ 2 마이크론일지라도 깨끗한 노광이 가능하다. 작업의 안전성이 이루어지며 불량이 없고 선명하며 깨끗한 회로의 구성이 가능하다. 또한 넓은 대 면적의 감광제라 할지라도 수직광 렌티큐라 광원장치의 이동을 통하여 용이하게 경제적으로 노광을 시킬 수가 있는 특징이 있다.In the present invention, by using the condensing function of each of the lenticurea lenses of Lenticular lenses in the exposure apparatus to form the vertical light, it is possible to perform a clear exposure even if the thickness of the photosensitive agent is a thick layer of the photosensitive agent of several tens of microns or more, Because scattering is prevented, clean exposure is possible even if the pitch of the circuit is 1 to 2 microns. The safety of the operation is ensured and the circuit configuration without defects and clear and clear is possible. In addition, even a wide-area photosensitive agent can be easily and economically exposed through the movement of the vertical light source.
본 발명에서는 상기 광원장치는 패턴이 형성된 필름에 대하여 좌우방향 또는 전후방향으로 상대적인 이송운동을 하는 것을 특징으로 한다. 이러한 상대적인 이송운동의 개념에는, 필름은 정지한 상태로 광원장치가 이송이 되는 경우와 광원장치는 정지한 상태에서 필름이 이송을 하는 경우가 포함된다.In the present invention, the light source device performs a relative movement in the left-right direction or the back-and-forth direction with respect to the film on which the pattern is formed. The concept of such a relative movement motion includes the case where the film is transported while the light source device is stopped and the case where the film is transported while the light source device is stationary.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 수직광 렌티큐라 노광기는 광원 하부에 위치하는 렌티큐라 렌즈의 중앙부의 수직광을 이용하는 것을 특징으로 한다. 또한 본 발명은 렌티큐라를 구성하는 각각의 렌티큐라 렌즈가 가지는 독립적인 집광성능을 이용한다. As described above, the vertical light lenticular exposure apparatus according to the present invention uses vertical light at the central portion of the lenticular lens located under the light source. Further, the present invention utilizes the independent light condensing performance of each lenticular lens constituting the lenticular.
본 발명의 수직광 렌티큐라 노광기는 각각의 렌티큐라 렌즈가 가지는 물리적 현상인 집광기능을 노광기에 사용함으로써, 감광제의 두께가 수십마이크론이상이 l 되더라도 깨끗한 노광이 가능하며, 회로 피치의 크기가 작은 극히 미세피치라 하더라도 빛의 산란이나 확산 분산 등이 없는 수직광에 의하여 깨끗하고 선명한 노광이 가능하다. 즉, 불량이 없고 선명하여 깨끗한 회로의 구성이 가능하다.By using the condensing function, which is a physical phenomenon of each lenticular lens, in the exposure apparatus, the vertical light lenticular exposure apparatus of the present invention can perform a clear exposure even when the thickness of the photosensitive agent is several tens of microns or more, Even with a fine pitch, a clear and clear exposure can be achieved by vertical light without scattering of light or diffusion dispersion. In other words, it is possible to construct a circuit that is clean and free of defects.
또한 종래와 같이 평행광을 만들기 위하여 고가의 장치를 사용하지 아니하고, 렌티큐라 렌즈의 물리학적 기능을 충분히 활용하므로서 종래의 고가의 장치가 가지는 기능을 극히 용이하게 수행할 수가 있다. In addition, since the expensive function is not used to make parallel light as in the prior art, the function of the conventional expensive apparatus can be extremely easily performed by making full use of the physical function of the lenticular lens.
종래의 기술로서는 대면적의 노광이 어려운데 비하여 본 발명은 광원장치의 이송 면적을 넓게 하므로서 대면적의 노광이 극히 용이하게 실현이 될 수가 있다는 큰 특징을 가진다.In contrast to the conventional technique, it is difficult to expose a large area, whereas the present invention has a great feature that exposure of a large area can be extremely easily realized by enlarging the transfer area of the light source device.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 수직광 렌티큐라 노광기의 구조를 보여주는 도면,
도 2는 일반적인 렌티큐라의 사시도,
도 3은 광원의 빛이 일반적 렌티큐라를 통과하여 감광제를 노광하는 상태를 보여주는 도면,
도 4는 일반적 렌티큐라의 각 렌즈의 중앙부에서 발생하는 수직광에 의하여 감광제가 노광되는 상태를 보여주는 도면,
도 5는 본 발명의 수직광 렌티큐라의 구성을 설명하는 설명도,
도 6은 렌티큐라의 렌즈차폐물을 통하여 수직광을 구현하는 수직광 렌티큐라를 설명하는 설명도이다.
도 7은 렌티큐라의 투광량 슬리터를 통하여 수직광을 구현하는 수직광 렌티큐라를 설명하는 설명도이다.1 is a view showing a structure of a vertical light lenticular exposure apparatus according to an embodiment of the present invention,
2 is a perspective view of a typical Lenticular,
3 is a view showing a state in which light of a light source passes through a general lenticule to expose a photosensitizer,
4 is a view showing a state in which a photosensitizer is exposed by vertical light generated in a central portion of each lens of a general lenticular,
5 is an explanatory view for explaining a configuration of a vertical optical lenticular according to the present invention,
FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating a vertical light lenticule that implements vertical light through a lens shield of Lenticular.
FIG. 7 is an explanatory view for explaining a vertical light lenticule for realizing vertical light through a light amount slit of a lenticular.
이하, 본 발명의 다양한 실시예에 대하여 상세히 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 이탈하지 않는 한 이하의 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the following embodiments unless it departs from the gist thereof.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 수직광 렌티큐라 노광기의 구조를 보여주는 도면이다.1 is a view showing a structure of a vertical light lenticular exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 수직광 렌티큐라 노광기(1)의 몸체는 주로 평판으로 구성되어지는 기판 구조물(9)과 광원장치(2)와 개폐구로 구성이 되어진다.The body of the vertical light
일반적으로 감광제를 감광시키려 할 경우에는, 패턴이 형성된 필름(6)의 하부에 감광제(7)가 도포되어진 평판(8)을 기판 구조물(9) 위에 위치시킨 후, 광원장치를 사용하여 상기 감광제를 노광시키게 된다. Generally, in order to sensitize a photosensitive agent, a flat plate 8 having a
광원장치를 통하여 빛이 패턴이 형성되어진 필름을 통하여 조사되며, 상기 조사되어진 빛에 의하여 필름에 형성된 패턴의 형상대로 감광제는 노광되게 된다.The light is irradiated through the patterned film through the light source device and the photosensitive agent is exposed according to the shape of the pattern formed on the film by the irradiated light.
본 발명의 광원장치(2)는 빛을 발하는 광원(4)과 상기 광원 하부에 위치하는 수직광 렌티큐라(5)로 구성 되어진다. The light source device (2) of the present invention comprises a light source (4) emitting light and a vertical light source (5) located below the light source.
본 발명의 광원장치는 좌우 또는 전후의 방향으로 이송을 가능케하는 이송수단(3)을 포함할 수가 있다.The light source device of the present invention may include a
본 발명에서의 광원장치는 패턴이 형성된 필름의 상부에 위치하며, 상기 필름과 소정거리 이격되어 위치되어, 상기 필름에 대하여 마찰없이 상대적인 이동을 하는 것을 특징으로 한다. 패턴이 형성된 필름(6)의 하부에 감광제(7)가 도포되어진 평판(8)이 놓여진다.The light source device according to the present invention is positioned above the film on which the pattern is formed, and is positioned at a predetermined distance from the film so as to make relative movement without friction with respect to the film. A flat plate 8 on which a
상기 평판(8)은 회로 패턴을 형성하기 위한 기판으로서, 감광제의 노광공정을 위해 노광부가 형성되어서 감광층의 상부에 있는 필름의 패턴에 상응하는 회로를 만드는 것이다.The flat plate 8 is a substrate for forming a circuit pattern, in which an exposure section is formed for the exposure process of the photosensitizer to make a circuit corresponding to the pattern of the film on top of the photosensitive layer.
이러한 평판의 상부에 있는 감광층에 빛이 조사되도록 하기 위하여 본 발명의 광원장치(2)는 필름의 상부에 배치된다. 패턴이 형성된 필름(6)은 감광제(7)가 도포된 평판(8)의 상면에 밀착된다. 상기 필름(6)은 투명부와 불투명부로 이루어져 있다. 광원장치(2)로부터 필름(6)으로 빛이 조사되면 투명부는 빛이 투과되고 불투명부는 빛을 차단하게 된다. 따라서, 광원장치(2)를 통하여 빛을 조사시키면 필름(6)의 투명부(51)를 통하여 빛이 투과된 부분은 감광제가 경화되어진다. 노광작업 후에는 감광제의 노광되지 않은 부분 즉, 경화되지 않은 부분을 물 또는 현상액으로 제거하여 평판(8)에 회로 패턴을 형성한다.The
도 2는 일반적인 렌티큐라를 보여주는 사시도이다.2 is a perspective view showing a typical lenticular.
렌티큐라(10)는 도 2에서 도시된 바와 같이 단면이 볼록형상이며, 길이가 길게 구성되는 다수개의 렌티큐라 렌즈(11)들이 측면으로 연결된 것이 일반적이다. As shown in FIG. 2, the
도 3은 광원의 빛이 일반적 렌티큐라를 통과하여 감광제를 노광하는 상태를 3 shows a state in which the light of the light source passes through the general lenticule to expose the photosensitive agent
보여주는 도면이다. 렌티큐라의 하부에 감광층을 밀착시킨 후, 광원의 빛을 조사하Fig. After the photosensitive layer is adhered to the lower part of the lenticule, the light of the light source is irradiated
게 되면, 렌티큐라 렌즈(13,14)는 광원(12)의 빛을 집광시키는 성질이 있다. 상기 집광되어진 빛은 감광층(16)에 노광부(15)를 형성시킨다. The
렌티큐라를 통하여 빛을 조사시키면 렌티큐라에 밀착되어진 감광층에는 노광부와 비노광부가 규칙적으로 배열을 하게 된다. 렌티큐라는 한쪽 표면은 평면이며, 다른 한쪽 표면에는 원기둥의 일부로 이루어지는 볼록렌즈가 길이 방향으로 복수로 연결 된 투명체로 설명을 할 수가 있다. 렌티큐라는 볼록렌즈의 기능을 하여 빛을 집광시키는 기능이 있다.When the light is irradiated through the lenticule, the exposed portion and the non-exposed portion are regularly arranged in the photosensitive layer adhered to the lenticule. The lenticule can be described as a transparent body in which one surface is planar and the other surface is a convex lens, which is a part of a cylinder, connected in plural in the longitudinal direction. It has the function of condensing light by functioning as a convex lens called Lenticular.
도시된 바와 같이, 광원(12)의 빛이 렌티큐라를 통하여 비추어 지면 렌티큐라에 형성된 볼록렌즈(13,14)에 의해 볼록렌즈의 초점을 향하여 빛이 집광되어 진다. 감광제(15)에 빛이 집광되어지는 정도는 렌트큘라의 볼록렌즈와 감광제 사이의 거리(a)에 따라 조절가능하다. 감광층에는 집광되어진 빛에 의하여 노광부(16)가 형성된다.As shown in the figure, when the light of the
본 발명의 도면을 설명함에 있어서, 엄밀하게는 수직광 렌티큐라와 감광층 사이에는 패턴이 형성된 필름이 놓여져 있음은 물론이다. 설명의 편의를 위하여 패턴이 형성되어진 필름은 도시화시키지 아니하고 설명을 진행한다.In describing the drawings of the present invention, it is needless to say that a film formed with a pattern is placed between the vertical light-transmissive layer and the photosensitive layer. For convenience of explanation, the film on which the pattern is formed is not illustrated and proceeded to explain.
도 4는 일반적 렌티큐라의 각 렌티큐라 렌즈의 중앙부 부근에서 발생하는 수직광에 의하여 감광제가 노광되는 상태를 보여주는 도면이다. 4 is a view showing a state in which a photosensitizer is exposed by vertical light generated in the vicinity of a central portion of each lenticure lens of a general lenticular.
렌티큐라 렌즈의 굴곡면은 상부에서 받은 빛을 집광시켜서 하부의 감광층에 빛을 전달하게 된다. 이때, 렌티큐라 렌즈의 정 중앙부에 위치하는 빛은 하부 방향으로 수직으로 내려가며, 렌티큐라 렌즈의 정 중앙부에서 벗어난 곡면부에서는 빛을 일정 각도씩 굴절시켜서 빛을 집광을 시키게 된다.The curved surface of the Lenticular lens condenses the light received from the top to transmit light to the underlying photosensitive layer. At this time, the light located at the center of the lens of the Lenticular lens is vertically downwardly downward, and at the curved portion of the Lenticular lens, which is deviated from the center of the lens, the light is refracted at a predetermined angle to condense the light.
본 발명에서의 수직광 렌티큐라는 각각의 렌티큐라 렌즈의 중앙부의 빛이 수직으로 내려가는 기능을 이용한 것이다. 각각의 렌티큐라 렌즈의 중앙부 영역들을 절단하여 하여 이들을 옆으로 연결하게 되면 조사받은 빛이 수직으로만 내려가는 기능을 하게 된다.In the present invention, the function of vertically lowering the light in the central portion of each lenticular lens is called vertical light Lenticular. When the central regions of the respective Lenticular lenses are cut and connected to the side, the irradiated light functions to vertically downward.
본 발명에서 각각의 렌티큐라 렌즈의 중앙부 영역이란 정확히 렌티큐라 렌즈의 정 중앙부만을 의미하는 것이 아니라, 정 중앙부를 중심으로 하여 좌우의 작은 범위의 영역을(18) 포함하는 것으로 정의한다.In the present invention, the central region of each lenticular lens is not limited to the central portion of the lenticular lens but is defined as including a region of a small region on the right and left sides with respect to the central region.
이러한 각각의 렌티큐라 렌즈의 정 중앙부를 중심으로 하여 좌우의 일정범위 영역(18)에서는 상부에 위치한 광원(17)에서 받은 빛은 수직방향으로 조사된다. 즉 빛의 굴절작용이 최소로 일어나는 영역에, 집광되어진 빛이 거의 수직으로 조사되게 되며, 이러한 수직광에 의하여 하부의 감광층(20)에 노광부(19)를 형성하게 된다.The light received from the
광원(17)에서 조사되어지는 빛을 최소의 굴절작용으로 노광층에 거의 수직방향으로 조사되도록 하는 것을 특징으로 하는 렌티큐라를 본 발명에서는 수직광 렌티큐라라고 정의한다.And the light irradiated from the
또한 빛이 최소의 굴절작용으로 노광층에 거의 수직방향으로 조사되는 각각의 렌티큐라 렌즈의 영역을 렌티큐라의 수직광 영역이라 정의한다.Also, the area of each lenticure lens, in which light is irradiated in an almost vertical direction to the exposure layer with a minimum refracting action, is defined as a vertical optical area of the lenticular.
따라서 각각의 렌티큐라 렌즈의 정 중앙부를 중심으로 좌우의 작은 일정 범위의 영역(18)이 렌티큐라 렌즈의 수직광 영역이 되는 것이다.Therefore, the
도 5는 본 발명의 수직광 렌티큐라의 실시예의 구성을 설명하는 설명도이다. 5 is an explanatory view for explaining a configuration of an embodiment of the vertical optical lenticular according to the present invention.
본 발명에서의 수직광 렌티큐라는, 다양한 형태의 실시예로서 구성이 되어진다.The vertical optical lenticular according to the present invention is configured as various embodiments.
도 5는 가장 대표적인 수직광 렌티큐라이며, 이는 각각의 렌티큐라 렌즈의 수직광 영역(21)만을 모아서 이들을 연결시켜서 재구성시킨 형태이다. 본 발명의 수직광 렌티큐라는 상부에 위치한 광원의 빛을 집광시키서 하부로 수직 전달하는 특징이 있다. 광원에서 받은 빛을 최소의 굴절작용으로 집광시키어, 하부에 놓인 노광층(22)에 대하여 거의 수직방향으로 빛이 노광층에 조사되도록 구성된 렌티큐라이다.5 is a typical vertical lenticular lens, in which only the
본 실시예의 수직광 렌티큐라를 제작하기 위하여서는 각각의 렌티큐라 렌즈의 정 중앙부를 중심으로 좌우의 작은 일정범위의 형상을 구성시킨 바이트로 기계적 제작을 할 수도 있으며, 레이저 가공 등 다양한 방법으로 행할 수가 있다. In order to fabricate the vertical optical lenticular according to the present embodiment, it is possible to mechanically manufacture the lenticular lenses by forming the left and right sides of the lenticular lenses in a small range around the center, have.
또 다른 방법으로는 수직광 렌티큐라 렌즈를 소량 제작 후, 도금으로 복사하여 연결하여 제작할 수도 있다.Alternatively, a vertical lenticular lens may be fabricated by making a small amount of photoresist, then plated with photoresist.
본 실시예에서의 수직광 렌티큐라의 피치는 일반적인 렌티큐라의 피치의 크기에 비하여 작을 수밖에 없다. 왜냐하면 일반적인 렌티큐라 렌즈의 정 중앙부 부근의 영역만으로 렌티큐라 렌즈를 구성하기 때문이다. 본 발명에서의 수직광 렌티큐라의 피치는 수십 미크론의 크기로 극히 작은 피치로 구성하는 것이 바람직하다.The pitch of the vertical light lenticular in this embodiment is inevitably smaller than the pitch of the normal lenticular. This is because the lenticular lens is constituted only by the region near the center of the general lenticular lens. In the present invention, it is preferable that the pitch of the vertical light lenticular is set to a very small pitch with a size of several tens of microns.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예로서 렌티큐라의 렌즈차폐물을 구성하여 수직광 렌티큐라를 구현하는 설명도이다.FIG. 6 is an explanatory view of a vertical lens cantilever constituting a lens shield of a lenticular according to another embodiment of the present invention.
본 실시예에서는 각각의 렌티큐라 렌즈의 수직광 영역(25)을 제외하고는 각각의 렌티큐라 렌즈에 불투명 차폐물(24)로 빛의 통과를 차폐시키는 것이 특징이다. 즉, 각각의 렌티큐라 렌즈의 수직광 영역 이외의 영역에는 불투명 차폐물을 형성시켜서 렌티큐라를 구성하는 것이다. 이 경우 조사되어진 빛은 각각의 렌티큐라 렌즈의 수직광 영역(25)만을 통하여 감광층(27)에 노광부(26)을 형성시키게 된다. In this embodiment, except for the vertical
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예로서 렌티큐라의 하부에 형성된 광투과 슬리트를 통하여 수직광을 구현하는 수직광 렌티큐라를 설명하는 설명도이다. FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a vertical optical lenticular according to another embodiment of the present invention, which realizes vertical light through a light transmitting slit formed at the bottom of the lenticular.
렌티큐라의 하부에는 광투과 슬리트(30)가 구성된다. 상기 광투과 슬리트는 각각의 렌티큐라 렌즈(29)의 정 중앙부의 하부에 구성이 된다. 상기 광투과 슬리트(30)는 각각의 렌티큐라 렌즈의 길이방향을 따라서 길게 형성이 되어진다. 광투가 슬리트(30)는 슬리트 지지체(30)에 길게 형성되어진 홈으로 구성이 되어진다.A light transmission slit 30 is formed in the lower portion of the lenticular. The light transmitting slit is configured at the lower part of the central portion of each
빛은 렌티큐라를 거쳐서 상기 광투과 슬리트(30)를 통하여 통과한 후, 감광제가 도포된 감광층(31)에 조사되어 노광부(33)을 형성한다. 도시화 되지는 않았지만, 물론 슬리트 지지체의 하부에는 패턴이 형성되어진 필름이 놓여지고, 상기 필름의 하부에는 감광층이 놓여진다.The light passes through the light transmission slit 30 through the lenticule, and then is irradiated to the photosensitive layer 31 to which the photosensitive agent is applied to form an
광투과 슬리트(30)는 패턴이 형성된 필름과 마찰이 되지 않는 상태로 상호간에 움직임이 가능하도록 미세한 간극을 두는 것이 바람직하다. It is preferable that the light transmitting slit 30 has a fine gap so that the light transmitting slit 30 can move with respect to each other without friction with the patterned film.
광투과 슬리트(30)는 인쇄로 구성을 할 수도 있다. 즉, 상기 각각의 렌티큐라 렌즈의 정 중앙하부의 하부에는 렌티큐라 렌즈의 길이방향을 따라서 투명부가 구성되도록 하고, 나머지 부위는 모두 빛이 통과되지 못하는 불투명부로 인쇄를 하는 것이다.The light transmitting slit 30 may be constituted by printing. That is, a transparent portion is formed along the longitudinal direction of the lenticular lens in the lower center of the lower center of the respective lenticular lenses, and the opaque portion in which the remaining portions are not allowed to pass the light is printed.
이 역시 각각의 렌티큐라 렌즈의 정 중앙부의 하부에 렌티큐라 렌즈의 길이방향을 따라서 광투과 슬리트가 형성된 렌티큐라에 해당이 되어진다.This also corresponds to the lenticurea in which the light transmitting slit is formed along the longitudinal direction of the lenticurea lens at the lower part of the central part of each lenticular lens.
본 발명의 또 다른 실시예로서는 상기 도 6의 렌티큐라의 렌즈차폐물과 상기 도 7의 렌티큐라의 광투과 슬리트를 동시 렌티큐라에 동시에 구성하는 것이 있다.In another embodiment of the present invention, the lens shield of the lenticular lens shown in Fig. 6 and the light transmitting slit of the lenticular lens of Fig. 7 are simultaneously formed in the lenticular lens.
본 발명에서의 수직광 렌티큐라는 각각의 렌티큐라 렌즈를 연속으로 연결하여 구성하는 것이 일반적이다. 그러나 본 발명에서는 단 하나의 렌티큐라 렌즈로 구성할 수가 있음은 물론이고, 두 개 또는 세 개 또는 네 개 등의 소수의 렌티큐라 렌즈를 연결하여 구성을 한 것도 포함한다. 본 발명에서는 렌티큐라 렌즈의 갯수가 적어면 적어질수록 노광시간은 길어짐은 당연하다. 또한 연결되어지는 렌티큐라의 렌즈의 숫자가 같은 경우에는 렌티큐라의 피치가 작아지면 작아질수록 노광시간이 길어짐은 당연하다. It is general that each of the lenticular lenses of the present invention is called a vertical optical lenticular lens. However, in the present invention, not only a single lenticular lens but also a configuration in which a few lenticular lenses such as two, three, or four lenses are connected may be included. In the present invention, the smaller the number of the lenticular lenses is, the longer the exposure time becomes. Also, when the number of lenses of the Lenticular lens is the same, it is natural that the smaller the pitch of the Lenticular lens is, the longer the exposure time becomes.
일반적으로 렌티큐라는 수없이 많은 렌티큐라 렌즈를 연결한 것을 의미한다. 그러나 본 발명에서의 렌티큐라의 렌즈의 갯수가 적어도 하나 이상이기만 하면 렌티큐라라고 칭하는 것으로 한다. 따라서 렌티큐라의 렌즈의 갯수가 하나인 것도 본 발명에 속함은 물론이다.In general, Lenticure means connecting a large number of Lenticular lenses. However, if the number of lenses of the lenticular lens in the present invention is at least one, it is referred to as lenticular. Therefore, it is needless to say that the number of lenses of the Lenticular lens is one.
본 발명은 상기에서 실시예로서 설명한 수직광 렌티큐라 노광기뿐만 아니라, 각각의 렌티큐라 렌즈의 정 중앙부를 중심으로 좌우의 작은 일정 범위의 영역, 달리 표현하면 렌티큐라 렌즈의 수직광 영역을 활용하는 모든 형태의 노광기는 본 발명의 영역에 속한다 하겠다.The present invention can be applied not only to the vertical light lenticular exposure apparatus described above as an embodiment but also to a small range of left and right constant regions centering on the central part of each lenticular lens, Type exposure apparatus belong to the scope of the present invention.
또한 본 발명의 모든 실시예에 있어서, 렌티큐라의 상부에는 프레넬 렌즈를 위치시켜 보다 효율적인 빛의 집광을 유도할 수가 있다. 이 역시 본 발명의 실시예에 속한다 하겠다.In addition, in all the embodiments of the present invention, a Fresnel lens can be disposed on the upper portion of the lenticular to induce more efficient light condensation. This also belongs to the embodiment of the present invention.
본 발명에서는 광원과, 수직광 렌티큐라를 포함하고 있는 장치를 광원장치라고 정의한다. In the present invention, a device including a light source and a vertical optical lenticular is defined as a light source device.
본 발명에서의 광원은 다양하다. LED와 레이져 광원도 포함이 됨은 당연하다. 본 발명에서 사용되는 광원은 다수개의 점광원으로 구성을 할 수도 있으며, 점광원을 연결하여 선광원의 형태나 면광원 형태의 것으로 구성을 시킬 수도 있다.The light sources in the present invention are various. LEDs and laser light sources are also included. The light source used in the present invention may be constituted by a plurality of point light sources, or may be constituted by a shape of a linear light source or a surface light source type by connecting point light sources.
본 발명에서는 광원에서 발하는 빛이 수직광 렌티큐라를 통하여 필름에 조사되어 질 때, 필름에 조사되는 빛은 복수개의 라인형상의 보인다. 수직광 렌티큐라를 구성하는 렌티큐라 렌즈의 갯수에 대응한 라인의 개수가 필름상에 조사된다. In the present invention, when the light emitted from the light source is irradiated to the film through the vertical light lenticular, the light irradiated to the film is seen as a plurality of lines. The number of lines corresponding to the number of lenticular lenses constituting the vertical optical lenticular is irradiated onto the film.
상기의 라인상으로 조사되어진 수직광을 대 면적의 필름 전체에 조사하기 위하여서는, 광원장치 이송이 필요가 되어진다. 따라서 본 발명의 광원장치는 상기 광원장치의 이송을 시키는 이송수단이 포함된다. 그러나 만약에 광원장치를 고정시키는 경우에는 하부의 감광제가 놓여진 베이스를 이동시키면 된다. 광원장치와 감광제가 놓여지는 베이스 중 어느 하나의 이동이 가능하면 본 발명의 이송은 만족이 된다. 광원장치가 좌측에서 우측 또는 전방에서 후방 등으로 이동하게 되면, 광원장치의 이동함에 따라 감광부 전체가 고루 노광이 이루어 지게 된다. In order to irradiate the entire surface of the large-area film with the vertical light irradiated on the line, it is necessary to transfer the light source device. Therefore, the light source device of the present invention includes a conveying means for conveying the light source device. However, if the light source device is fixed, the base on which the lower photosensitizer is placed may be moved. The transfer of the present invention is satisfactory if the movement of either the light source device or the base on which the photosensitizer is placed is possible. When the light source device is moved from the left side to the right side or from the front side to the rear side, the entire light-sensitive portion is exposed with the movement of the light source device.
본 발명에서의 광원장치는, 필름의 상부에 위치된다. 본 발명에서 보통의 경우는 광원장치가 필름과 조금 이격되어 광원장치와 필름의 상대적인 이동을 시키는 것이나, 특별한 경우에는 광원장치를 필름과 접한 상태에서 이동을 시킬 수도 있다.The light source device in the present invention is located on the top of the film. In the present invention, in general, the light source device is slightly spaced from the film to allow relative movement of the light source device and the film. In a special case, however, the light source device may be moved in contact with the film.
필름과 광원장치가 마찰없이 움직일 수가 있도록 하기 위하여 상기 필름과 광원장치는 소정거리 이격되도록 구성한다. 본 발명은 광원장치와 필름과의 상대적인 이동을 통하여 대 면적의 노광부를 형성할 수가 있다. In order to allow the film and the light source device to move without friction, the film and the light source device are separated from each other by a predetermined distance. The present invention can form a large-area exposed portion through relative movement between the light source device and the film.
본 발명에서 광원장치의 이동수단의 구체적 실시예로서는 광원장치에 레일부와 구동부를 구성할 수가 있다.As a specific embodiment of the moving means of the light source device in the present invention, the light source device can be constituted by a rail portion and a driving portion.
구동부는 구동기어를 갖는 구동모터로 이루어지며, 레일부에는 구동기어가 맞물리는 렉기어가 형성될 수 있다. 이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 수직광 렌티큐라 노광기는 렌티큐라의 집광기능을 노광장치에 사용함으로써 감광제의 두께가 수십 미크론이상이 되더라도 깨끗한 노광이 가능하며, 회로의 피치가 수 미크론 일지라도 깨끗한 노광으로 불량이 없고 선명하여 깨끗한 회로의 구성이 가능하다. 이는 수직광은 조사되어지는 빛의 산란작용과 반사작용을 최대한 방지시킬 수가 있음으로 가장 이상적으로 깨끗한 노광이 가능함을 의미한다.The driving portion is composed of a driving motor having a driving gear, and a lever having a driving gear engaged with the rail portion may be formed. As described above, the vertical light lenticular exposure apparatus according to the present invention uses a condensing function of lenticure in an exposure apparatus, thereby enabling a clear exposure even if the thickness of the photosensitizer is several tens of microns or more. Even if the pitch of the circuit is several microns, It is possible to construct a clean circuit with no defects due to exposure and clear. This means that vertical light can maximally prevent scattering and reflections of light to be irradiated, which means that it is possible to provide an ideal, clean exposure.
본 발명의 또다른 실시예로서 렌티큐라를 사용지 아니하고 광원의 하부에는 광투과 슬리트만을 구성하여 수직광 노광기를 구성을 할 수도 있다. 즉 광원장치의 빛이 패턴이 형성된 필름에 조사되며, 상기 광원장치는 광원과 광투과 슬리트로 구성되며, 상기 광원장치는 필름과 상대적인 이동을 하는 것을 특징으로 하는 수직광 노광기의 구성이 가능하다.As another embodiment of the present invention, a lenticular is not used, and a vertical light exposer may be constituted by constituting only a light transmission slit below the light source. That is, the light of the light source device is irradiated on the patterned film, and the light source device is composed of the light source and the light transmission slit, and the light source device moves relative to the film.
이때 광투과 슬리트는 길게 형성된 투명부와 상기 투명부의 사이 사이에 길게 형성된 불투명부가 구성이 되어진다. 이때 투명부의 폭은 수 미크론의 크기로 구성이 되는 것이 바람직하며, 불투명부 폭 역시 수 미크론에서 수십 미크론 단위의 크기로 구성이 되는 것이 바람직하다. 이때 유의할 점은 광투과 슬리트와 필름간의 간격은 극히 좁게 구성이 되는 것이 바람직하다. At this time, the light transmitting slit has a long transparent portion and a non-transparent portion formed between the transparent portion. At this time, it is preferable that the width of the transparent portion is several microns, and the width of the opaque portion is preferably several microns to several tens of microns. It should be noted that it is preferable that the interval between the light transmitting slit and the film is extremely narrow.
본 발명은, 본 발명에 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환 변형이 가능하므로 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것은 아니다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined by the appended claims. .
1 : 노광기 2 : 광원장치
6 : 필름 7 : 감광제
8 : 평판 9 : 기판구조물
11 : 렌티큐라 렌즈1: Exposure device 2: Light source device
6: Film 7: Photosensitizer
8: Plate 9: Substrate structure
11: Lenticular lens
Claims (8)
광원의 빛이 수직으로 내려가는 렌티큐라 렌즈의 중앙부 영역의 기능을 이용하여 수직광을 구성하는 광원장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 수직광 렌티큐라 노광기. Wherein the light emitted from the light source device is irradiated onto a patterned film, and the irradiated light exposes a photosensitizer in a shape of a pattern formed on the film,
And a light source device constituting vertical light by using a function of a central region of a lenticular lens in which light of a light source is vertically lowered.
상기 광원장치는 빛을 발하는 광원과;
광원 하부에 위치되며, 각각의 렌티큐라 렌즈의 중앙부 영역을 연결시켜 구성한 렌티큐라를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 수직광 렌티큐라 노광기. The method according to claim 1,
The light source device includes a light source emitting light;
And a lenticure located at a lower portion of the light source, the central portion of each lenticure lens being connected to each other.
상기 광원장치는 빛을 발하는 광원과;
각각의 렌티큐라 렌즈의 수직광 영역 이외의 영역에는 불투명 차폐물을 구성시킨 렌티큐라를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 수직광 렌티큐라 노광기. The method according to claim 1,
The light source device includes a light source emitting light;
Wherein each of the lenticular lenses includes a lenticurea constituting opaque shields in a region other than a vertical light region thereof.
상기 광원장치는 빛을 발하는 광원과;
각각의 렌티큐라 렌즈의 중앙부의 하부에 각각의 렌티큐라 렌즈의 길이방향을 따라 광투과 슬리트가 형성된 렌티큐라를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 수직광 렌티큐라 노광기. The method according to claim 1,
The light source device includes a light source emitting light;
Wherein the lenticular lens comprises a lenticular having a light transmitting slit formed along a longitudinal direction of each lenticular lens at a lower portion of a central portion of each lenticular lens.
상기 광원장치는 빛을 발하는 광원과;
상부에는 불투명 차폐물을 구성하고 하부에는 광투과 슬리트를 구성한 렌티큐라를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 수직광 렌티큐라 노광기. The method according to claim 1,
The light source device includes a light source emitting light;
And a lenticurea constituting an opaque shield at the upper part and a light transmitting slit at the lower part.
광원과 렌티큐라 사이에 프레넬 렌즈를 위치시킨 것을 특징으로 하는 수직광 렌티큐라 노광기. 6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the Fresnel lens is positioned between the light source and the lenticular.
상기 광원장치는 패턴이 형성된 필름과 소정거리 이격되어진 상태로 구성되며, 상기 광원장치와 필름은 마찰없이 상대적인 이동을 하는 것을 특징으로 하는 수직광 렌티큐라 노광기. 6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the light source device is configured to be spaced apart from the patterned film by a predetermined distance, and the light source device and the film move relatively without friction.
상기 광원장치는 광원과 광투과 슬리트로 구성되며, 상기 광원장치는 필름과 상대적인 이동을 하는 것을 특징으로 하는 수직광 노광기.Wherein the light emitted from the light source device is irradiated onto a patterned film, and the irradiated light exposes a photosensitizer in a shape of a pattern formed on the film,
Wherein the light source device comprises a light source and a light transmitting slit, and the light source device moves relative to the film.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020180088875A KR20180089351A (en) | 2018-07-30 | 2018-07-30 | Exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1020180088875A KR20180089351A (en) | 2018-07-30 | 2018-07-30 | Exposure apparatus |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| KR1020110123966A Division KR20130058121A (en) | 2011-11-16 | 2011-11-25 | Exposure apparatus |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020190066659A Division KR20190067752A (en) | 2019-06-05 | 2019-06-05 | Exposure apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20180089351A true KR20180089351A (en) | 2018-08-08 |
Family
ID=63230096
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020180088875A KR20180089351A (en) | 2018-07-30 | 2018-07-30 | Exposure apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20180089351A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2018
- 2018-07-30 KR KR1020180088875A patent/KR20180089351A/en active Search and Examination
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|---|---|---|---|---|
| KR20200069942A (en) | 2018-12-07 | 2020-06-17 | 이인텔리전스 주식회사 | System for determining driver's intention of lane change |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A107 | Divisional application of patent | ||
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E601 | Decision to refuse application | ||
| AMND | Amendment |