KR20180087896A - Apparatus and method for repairing bad elements - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a method for repairing a bad element which can selectively replace only a bad element present on a substrate, and a repairing apparatus therefor. According to the present invention, the method for repairing a bad element comprises: a pressurizing step; a bad element removing step; and a replacement element bonding step. According to the present inventin, the repairing apparatus of a bad element comprises a first adhesive film, a pressurizing unit, and a second adhesive film. According to the present invention, the method for repairing a bad element and a repairing apparatus therefor attaches and detaches a bad element to and from the first adhesive film, and attaches a replacement element attached to the second adhesive film to a removal position from whihch the bad element is removed for bonding.

Description

불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치{Apparatus and method for repairing bad elements}Technical Field [0001] The present invention relates to a repair method for a defective device,

본 발명은 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판에 존재하는 불량소자만 선택적으로 교체할 수 있는 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a repair method for a defective device and a repair apparatus therefor, and more particularly, to a repair method for a defective device capable of selectively replacing only defective devices existing in a substrate and a repair apparatus therefor.

전자부품은 인쇄회로기판(PCB: Printed Circuit Board)에 다양한 회로소자를 탑재하는 공정을 통하여 제조된다. 예를 들어, 컴퓨터에 사용되는 메모리 카드는 다수의 메모리 소자를 인쇄회로기판에 실장하는 공정을 통하여 제조될 수 있고, 최근 각광받고 있는 마이크로 LED를 사용한 디스플레이는 다수의 LED 소자를 모듈화 된 회로기판에 솔더로 접속하여 제조되고 있다.Electronic components are manufactured through a process of mounting various circuit elements on a printed circuit board (PCB). For example, a memory card used in a computer can be manufactured through a process of mounting a plurality of memory devices on a printed circuit board. Recently, a display using a micro LED has attracted a great deal of attention because a large number of LED devices are mounted on a modular circuit board And are connected by solder.

제조된 전자부품은 그 성능을 확인하기 위한 검수 공정을 거치는데, 불량으로 판별된 소자는 인쇄회로기판으로부터 제거하여 양품으로 전환하는 리페어 공정을 거치게 된다.The manufactured electronic parts are subjected to a check process to check the performance thereof. The defective device is removed from the printed circuit board and is then subjected to a repair process for switching to a good product.

종래의 불량소자의 리페어 장치는 미리 가열된 미소 인두를 이용하여 기판에 배열된 다수의 소자 중 불량소자만 국부적으로 가열하여 불량소자에 부착된 솔더를 녹이고, 미소한 진공 흡착도구(suction tool)를 이용하여 불량소자와 솔더를 제거하였다.In the conventional defective device repairing device, only the defective device among a plurality of devices arranged on the substrate is locally heated by using the pre-heated micro-solder to dissolve the solder adhered to the defective device, and a fine vacuum suction tool The defective element and the solder were removed.

최근 나노 기술이 발달함에 따라 소자의 크기가 갈수록 작아지고 있는데, 종래의 불량소자의 리페어 장치는 진공 흡착도구의 물리적 크기로 인해 이러한 미소 소자에는 적용하기 어려워지고 있다. 따라서, 기판에 배열된 다수의 미소 소자에 포함된 불량소자를 효과적으로 제거하여 새로운 소자로 대체할 수 있는 불량소자의 리페어 장치가 요구되고 있다.As nanotechnology has recently developed, the size of the device has become smaller and smaller. However, the repair device of the conventional defective device is becoming difficult to apply to such a small device due to the physical size of the vacuum adsorption tool. Therefore, there is a demand for a defective device repair device capable of effectively removing a defective device included in a plurality of micro devices arranged on a substrate and replacing the defective device with a new device.

대한민국 등록특허공보 제10-1228306호(2013. 01. 31. 등록공고, 발명의 명칭 : 회로소자 제거장치 및 방법)Korean Registered Patent No. 10-1228306 (Registered on Mar. 31, 201, entitled " Device and method for removing circuit elements "

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 점착필름을 이용하여 기판에 부착된 불량소자를 떼어낸 후 탄성 스탬프 혹은 점착필름을 이용하여 잔류솔더를 제거함으로써, 미소한 불량소자를 쉽게 제거할 수 있고, 불량소자가 제거된 위치에 새로운 소자를 견고하게 부착할 수 있는 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a flexible printed circuit board, which removes a defective element attached to a substrate using an adhesive film and removes residual solder using an elastic stamp or an adhesive film, The present invention provides a repair method of a defective device capable of easily removing a minute defective device and firmly attaching a new device at a position where a defective device is removed, and a repair device therefor.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 불량소자의 리페어 방법은, 광투과성 재질의 제1점착필름을 가압하여 기판에 부착된 불량소자에 밀착시키는 가압단계; 상기 불량소자가 상기 제1점착필름에 점착된 상태에서 상기 제1점착필름을 상기 기판으로부터 이격시켜 상기 불량소자를 상기 기판에서 떼어내는 불량소자 제거단계; 광투과성 재질의 제2점착필름에 부착된 대체소자를 상기 불량소자가 제거된 기판의 제거위치에 밀착시켜 상기 대체소자를 상기 기판에 접합시키는 대체소자 접합단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a repair method for a defective device, including: pressing a first adhesive film of a light-transmitting material to adhere to a defective device attached to a substrate; Removing the defective device from the substrate by separating the first adhesive film from the substrate while the defective device is adhered to the first adhesive film; And a substitute device joining step of bringing the substitute device attached to the second adhesive film of the light transmitting material into contact with the removed position of the substrate from which the defective device has been removed, thereby bonding the substitute device to the substrate.

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 방법에 있어서, 상기 불량소자 제거단계 이후에 수행되며, 탄성 스탬프의 일부분이 변형되어 상기 기판의 제거위치에 밀착되도록 가압하여 상기 기판의 제거위치에 남아있는 잔류솔더를 제거하는 잔류솔더 제거단계;를 더 포함할 수 있다.The method of repairing a defective device according to the present invention is characterized in that after the defective device removing step, a portion of the elastic stamp is deformed and pressed so as to be in close contact with the removal position of the substrate, And removing the residual solder removing step.

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 방법에 있어서, 상기 불량소자 제거단계 이후에 수행되며, 상기 기판 중 상기 불량소자가 제거된 제거위치에 대체솔더를 형성하거나, 상기 기판에 밀착되는 대체소자의 일면에 대체솔더를 형성하는 대체솔더 도포단계;를 더 포함할 수 있다.The method of repairing a defective device according to the present invention may further comprise the steps of forming an alternative solder at a removal position where the defective device is removed from the substrate after the defective device removing step, An alternative solder application step to form an alternate solder.

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 방법에 있어서, 상기 가압단계는, 상기 불량소자와 상기 기판 사이에 경화된 솔더에 레이저빔을 조사하여 상기 솔더를 용융시킬 수 있다.In the repair method of a defective device according to the present invention, the pressing step may melt the solder by irradiating a laser beam to the hardened solder between the defective device and the substrate.

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 방법에 있어서, 상기 잔류솔더 제거단계는, 상기 탄성 스탬프가 상기 기판의 제거위치에 밀착된 상태에서 상기 잔류솔더에 레이저빔을 조사할 수 있다.In the defective element repairing method according to the present invention, the residual solder removing step may irradiate the residual solder with the laser beam in a state in which the elastic stamp is in close contact with the removal position of the substrate.

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 방법에 있어서, 상기 잔류솔더 제거단계는, 상기 기판과 접촉되는 상기 탄성 스탬프의 일면에 형성된 금속구조체층에 의해 상기 탄성 스탬프와 상기 잔류솔더 사이의 점착력이 커지게 할 수 있다.In the defective element repairing method according to the present invention, the residual solder removing step may include a step of removing the residual solder by increasing the adhesive force between the elastic stamp and the residual solder by a metal structure layer formed on one surface of the elastic stamp, .

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 방법에 있어서, 상기 대체소자 접합단계는, 상기 대체소자를 상기 기판 측으로 가압한 상태에서 상기 대체솔더에 레이저빔을 조사하여 상기 대체소자와 상기 대체솔더를 접합시키거나 또는 상기 대체소자를 상기 기판 측으로 가압한 상태에서 초음파를 인가하여 상기 대체소자와 상기 대체솔더를 접합시킬 수 있다.In the defective element repairing method according to the present invention, the replacing element bonding step includes irradiating a laser beam onto the replacement solder while pressing the replacement element to the substrate side to bond the replacement element and the replacement solder Alternatively, ultrasonic waves may be applied in a state in which the substitute element is pressed toward the substrate to bond the substitute element and the substitute solder.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 불량소자의 리페어 장치는, 불량소자가 포함된 기판과 마주보게 배치되고, 광투과성 재질로 된 제1점착필름; 상기 불량소자가 상기 제1점착필름에 점착되어 제거되도록 상기 제1점착필름을 상기 불량소자에 밀착되도록 가압하는 가압부; 상기 불량소자가 제거된 기판의 제거위치에 밀착되어 부착되는 대체소자를 구비하는 제2점착필름;을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a repair device for a defective device, including: a first adhesive film disposed to face a substrate including a defective device and made of a light-transmitting material; A pressing part for pressing the first adhesive film so as to be in close contact with the defective element so that the defective element is adhered to and removed from the first adhesive film; And a second adhesive film having an alternative element which is adhered to the removed position of the substrate from which the defective element is removed.

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 장치에 있어서, 상기 불량소자와 상기 기판 사이에 경화된 솔더를 용융시키기 위하여 상기 제1점착필름을 투과하여 상기 솔더에 레이저빔을 조사하는 레이저 조사부;를 더 포함할 수 있다.And a laser irradiating unit for irradiating the solder with a laser beam to transmit the first adhesive film to melt the cured solder between the defective device and the substrate in the defective device repair apparatus according to the present invention .

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 장치에 있어서, 상기 불량소자가 제거된 상기 기판의 제거위치와 마주보게 배치되고, 일부분이 상기 기판의 제거위치에 밀착되도록 변형되면서 상기 기판의 제거위치에 남아있는 잔류솔더를 제거하는 탄성 스탬프;를 더 포함할 수 있다.In the repairing apparatus for a defective element according to the present invention, a remaining portion of the substrate remaining at the removal position of the substrate, while being opposed to the removal position of the substrate from which the defective element has been removed, And an elastic stamp for removing the solder.

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 장치에 있어서, 상기 탄성 스탬프는, 상기 탄성 스탬프와 상기 잔류솔더 사이의 점착력이 커지도록 상기 기판과 접촉되는 상기 탄성 스탬프의 일면에 금속구조체층이 형성될 수 있다.In the repair device for defective devices according to the present invention, the elastic stamp may be formed with a metal structure layer on one side of the elastic stamp, which is in contact with the substrate, so that the adhesive force between the elastic stamp and the residual solder increases.

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 장치에 있어서, 상기 가압부는, 상기 기판에서 이격되어 배치되는 가압지그와, 상기 가압지그가 상기 제1점착필름 또는 상기 탄성 스탬프에 가압밀착되도록 상기 가압지그를 승강시키는 가압구동부를 구비할 수 있다.In the defective device repair device according to the present invention, the pressing portion may include a pressing jig disposed apart from the substrate, and a pressing jig for moving the pressing jig up and down so that the pressing jig is pressed against the first adhesive film or the elastic stamp And may include a pressure driver.

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 장치에 있어서, 상기 가압지그는, 광투과성 재질을 갖는 렌즈 형상으로 마련되고, 상기 레이저 조사부에서 조사된 레이저빔이 상기 가압지그를 통과하면서 상기 불량소자 또는 상기 솔더에 초점을 형성하도록 구성될 수 있다.In the defective device repair apparatus according to the present invention, the pressing jig is provided in a lens shape having a light-transmitting material, and the laser beam irradiated from the laser irradiation portion passes through the pressing jig, May be configured to form a focus.

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 장치에 있어서, 상기 불량소자가 제거된 기판의 제거위치에 대체솔더를 형성하거나, 상기 기판에 밀착되는 대체소자의 일면에 대체솔더를 형성하는 솔더 도포부;를 더 포함할 수 있다.In the defective device repair apparatus according to the present invention, a solder application section for forming an alternative solder at a removal position of the substrate from which the defective element is removed, or a solder application section for forming an alternative solder on one surface of the replacement element closely attached to the substrate .

본 발명에 따른 불량소자의 리페어 장치에 있어서, 상기 가압부는 상기 대체소자가 상기 기판에 밀착되도록 상기 대체소자를 가압하고, 상기 대체소자와 상기 대체솔더를 접합하기 위하여 상기 제2점착필름을 투과하여 상기 대체솔더에 레이저빔을 조사하는 레이저 조사부; 또는 상기 대체소자와 상기 대체솔더를 접합하기 위하여 상기 대체소자에 초음파를 인가하는 초음파 발생부;를 더 포함할 수 있다.In the repair device for a defective device according to the present invention, the pressing portion presses the replacement device so that the replacement device is brought into close contact with the substrate, and transmits the second adhesive film to bond the replacement device and the replacement solder A laser irradiating unit for irradiating the replacement solder with a laser beam; Or an ultrasonic generator for applying ultrasonic waves to the substitute element to join the substitute element and the substitute solder.

본 발명의 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치에 따르면, 불량소자의 면적 또는 두께에 구애받지 않고 불량소자를 쉽고 간단하게 제거할 수 있다.According to the repair method and the repair apparatus for the defective device of the present invention, it is possible to easily and easily remove the defective device regardless of the area or the thickness of the defective device.

또한, 본 발명의 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치에 따르면, 대체솔더가 기판에 견고하게 접착될 수 있고, 대체솔더에 밀착되는 대체소자가 잔류솔더에 의해 이웃하는 소자들보다 높게 실장되거나 경사지게 실장되는 것을 방지할 수 있다.Further, according to the repair method of a defective element of the present invention and the repair apparatus therefor, the replacement solder can be firmly adhered to the substrate, and the replacement element which is adhered to the replacement solder is mounted higher than the neighboring elements by the residual solder It is possible to prevent inclined mounting.

또한, 본 발명의 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치에 따르면, 탄성 스탬프의 일면에 형성된 금속구조체층을 통해 탄성 스탬프와 잔류솔더 사이의 점착력을 증대시켜 기판에 남아있는 잔류솔더를 보다 말끔하게 제거할 수 있다.According to the repair method and repair apparatus for defective devices of the present invention, the adhesive force between the elastic stamp and the residual solder is increased through the metal structure layer formed on one surface of the elastic stamp to make the residual solder remaining on the substrate cleaner Can be removed.

또한, 본 발명의 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치에 따르면, 금속구조체층을 솔더와 젖음성이 좋은 재질로 구성하여 탄성 스탬프와 잔류솔더 사이의 점착력을 더욱 증대시킬 수 있다.In addition, according to the repair method and repair apparatus for defective devices of the present invention, the metal structure layer can be made of a material having good wettability with the solder, so that the adhesion between the elastic stamp and the residual solder can be further increased.

또한, 본 발명의 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치에 따르면, 가압지그를 광투과성 재질을 갖는 렌즈 형상으로 마련함으로써, 집광렌즈의 기능을 대신함과 동시에 탄성 스탬프의 일부분을 가압하는 기능을 수행할 수 있고, 필요에 따라 대체소자를 가압하는 기능을 수행할 수 있다.Further, according to the repairing method and the repairing apparatus therefor of the present invention, the pressing jig is provided in the form of a lens having a light-transmitting material to replace the function of the condensing lens and to press a part of the elastic stamp And perform the function of pressing the substitute element as necessary.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 불량소자의 리페어 장치의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이고,
도 2는 도 1의 불량소자의 리페어 장치에 구성된 제1점착필름에 의해 불량소자가 제거되는 과정을 나타낸 도면이고,
도 3은 도 1의 불량소자의 리페어 장치에 구성된 탄성 스탬프에 잔류솔더가 제거되는 과정을 나타낸 도면이고,
도 4는 도 1의 불량소자의 리페어 장치에 구성된 솔더 도포부에 의해 대체솔더가 형성되는 것을 나타낸 도면이고,
도 5는 도 1의 불량소자의 리페어 장치에 구성된 제2점착필름에 부착된 대체소자가 불량소자가 제거된 기판의 제거위치에 접합되는 과정을 나타낸 도면이고,
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 불량소자의 리페어 방법을 나타낸 블록도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic view showing the configuration of a repair device for a defective device according to an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a view illustrating a process of removing a defective device by a first adhesive film formed in a defective device repair device of FIG. 1,
FIG. 3 is a view illustrating a process of removing residual solder on an elastic stamp formed in the repairing apparatus of FIG. 1,
FIG. 4 is a view showing that an alternative solder is formed by a solder applying unit configured in the repairing apparatus of FIG. 1,
FIG. 5 is a view showing a process in which an alternative device attached to a second adhesive film formed in the repair device of the defective device of FIG. 1 is bonded to a removal position of the substrate from which the defective device is removed,
6 is a block diagram illustrating a repair method of a defective device according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 따른 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a repair method of a defective device and a repair device therefor according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 불량소자의 리페어 장치의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 2는 도 1의 불량소자의 리페어 장치에 구성된 제1점착필름에 의해 불량소자가 제거되는 과정을 나타낸 도면이고, 도 3은 도 1의 불량소자의 리페어 장치에 구성된 탄성 스탬프에 잔류솔더가 제거되는 과정을 나타낸 도면이고, 도 4는 도 1의 불량소자의 리페어 장치에 구성된 솔더 도포부에 의해 대체솔더가 형성되는 것을 나타낸 도면이고, 도 5는 도 1의 불량소자의 리페어 장치에 구성된 제2점착필름에 부착된 대체소자가 불량소자가 제거된 기판의 제거위치에 접합되는 과정을 나타낸 도면이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 불량소자의 리페어 방법을 나타낸 블록도이다.FIG. 1 is a view schematically showing the construction of a repair device for a defective device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a view showing a process of removing a defective device by a first adhesive film formed in the repair device of FIG. FIG. 3 is a view showing a process of removing residual solder on the elastic stamp formed in the repair device of FIG. 1, and FIG. 4 is a view showing a process of removing the residual solder by the solder application unit provided in the repair device of FIG. FIG. 5 is a view showing a process in which an alternative device attached to the second adhesive film formed in the repair device of the defective device of FIG. 1 is bonded to a removal position of the substrate from which the defective device is removed And FIG. 6 is a block diagram illustrating a repair method of a defective device according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 불량소자의 리페어 장치는 기판(W)에 존재하는 불량소자(E1)만 선택적으로 교체하기 위한 장치로서, 제1점착필름(100)과, 가압부(200)와, 제2점착필름(300)을 포함한다.1 to 6, the repair device for a defective device according to the present embodiment is an apparatus for selectively replacing a defective device E1 existing on a substrate W. The repair device includes a first adhesive film 100, A pressing portion 200, and a second adhesive film 300.

상기 제1점착필름(100)은 도 1에 도시된 바와 같이 불량소자(E1)가 포함된 기판(W)과 마주보게 배치되고, 광투과성 재질로 제작된다. 제1점착필름(100)은 소자(E)와의 인력(전자기력 또는 반데르발스 인력)이 작용될 수 있는 점탄성 물질을 포함하여 구성되며, 롤러에 감길 수 있도록 플렉서블(flexible)한 물질로 제작된다.As shown in FIG. 1, the first adhesive film 100 is disposed to face the substrate W including the defective element E1 and is made of a light-transmitting material. The first adhesive film 100 includes a viscoelastic material to which an attraction force (electromagnetic force or van der Waals attractive force) with the element E can be applied and is made of a flexible material so as to be wound on the roller.

제1점착필름(100)은 대표적으로, PO(Polyolefin), PEN(Polyethylene Naphthalate), PI(Polyimide), COC(Cyclic Olefin Copolymer)와 같은 투명하고 유연한 플라스틱 소재로 된 필름에 OCA(optically clear adhesive)와 같은 점착물질을 도포하여 제작될 수 있다.The first adhesive film 100 typically includes an optically clear adhesive (OCA) film on a film made of a transparent plastic material such as polyolefin (PO), polyethylene naphthalate (PEN), polyimide (PI), or cyclic olefin copolymer (COC) And the like.

제1점착필름(100)은 제1롤러(110)에 감아져 제1롤러(110)의 구동에 의해 일측으로 이동될 수 있다. 도시되지 않았지만, 제1점착필름(100)의 위치를 이동시켜 제1점착필름(100)이 기판(W)과 마주보게 하기 위해 제1롤러(110)를 수평 방향 및 수직 방향으로 이동시키는 제1이동수단(미도시)을 더 포함할 수 있다.The first adhesive film 100 may be wound on the first roller 110 and moved to one side by driving the first roller 110. [ Although not shown, the first adhesive film 100 may be moved in the first and second directions to move the first roller 110 in the horizontal and vertical directions to move the first adhesive film 100 against the substrate W, And may further include a moving means (not shown).

불량소자(E1)란, 기판(W)에 배열된 수많은 소자(E) 중에서 크랙이 발생한 소자, 잘못된 위치에 실장된 소자, 전류 흐름이 원활하지 않거나 단락된 소자 등을 말한다.The defective element E1 refers to a device in which cracks have occurred in a large number of elements E arranged on the substrate W, a device mounted at a wrong position, a device in which the current flow is not smooth or short-circuited.

상기 가압부(200)는 불량소자(E1)와 마주보는 제1점착필름(100)의 일부분이 상기 불량소자(E1)에 밀착되도록 가압한다. 가압부(200)의 가압이 해제되면, 불량소자(E1)는 제1점착필름(100)에 점착되어 기판(W)에서 제거된다.The pressing portion 200 presses a portion of the first adhesive film 100 facing the defective element E1 so as to be in close contact with the defective element E1. When the pressurization of the pressing portion 200 is released, the defective element E1 is adhered to the first adhesive film 100 and removed from the substrate W. [

가압부(200)는 기판(W)에서 이격되어 배치되는 가압지그(210)와, 가압지그(210)가 제1점착필름(100) 또는 후술되는 탄성 스탬프(500)에 가압밀착되도록 가압지그(210)를 승강시키는 가압구동부(220)를 구비할 수 있다.The pressing unit 200 includes a pressing jig 210 spaced apart from the substrate W and a pressing jig 210 so that the pressing jig 210 is pressed against the first adhesive film 100 or an elastic stamp 500 And a pressure driver 220 for lifting and lowering the pressure chamber 210.

불량소자(E1)가 기판(W)에서 원활히 제거될 수 있도록 본 실시예에서는 레이저 조사부(400)가 더 포함될 수 있다. 레이저 조사부(400)는 불량소자(E1)와 기판(W) 사이에 경화된 솔더(P)를 용융시키기 위하여 제1점착필름(100)을 투과하여 솔더(P)에 레이저빔(L)을 조사한다.In this embodiment, the laser irradiation unit 400 may further be included so that the defective device E1 can be smoothly removed from the substrate W. The laser irradiation unit 400 transmits the first adhesive film 100 to melt the solder P between the defective element E1 and the substrate W to irradiate the solder P with the laser beam L do.

레이저 조사부(400)는 레이저빔(L)을 출력하는 발진기(410), 기판을 향해 레이저빔을 반사시키는 반사렌즈(420), 레이저빔(L)의 초점(f)이 소자(E) 또는 솔더(P)에 형성되도록 레이저빔(L)을 집광시키는 집광렌즈(미도시)를 포함할 수 있다.The laser irradiation unit 400 includes an oscillator 410 for outputting a laser beam L, a reflection lens 420 for reflecting the laser beam toward the substrate, a focal point f of the laser beam L, (Not shown) that condenses the laser beam L so that the laser beam L is formed on the substrate P as shown in FIG.

솔더(P)는 소자(E)와 기판(W)을 서로 물리적·전기적으로 연결시키는 접착물질로서, 저온용융 금속입자와 융제(flux)를 포함한 페이스트(paste) 형태, 혹은 저온용융 금속합금을 전극에 형성한 형태를 포함한다.The solder P is an adhesive material that physically and electrically connects the element E and the substrate W to each other and is a paste containing low temperature molten metal particles and a flux or a low- As shown in FIG.

불량소자(E1)가 제1점착필름(100)에 점착되어 기판(W)에서 제거된 후에 불량소자(E1)가 제거된 기판(W)의 제거위치(Wa)에 도 2 또는 도 3에 도시된 바와 같이 미량의 잔류솔더(P1)가 남아있게 된다. 이를 제거하기 위해 본 발명은 탄성 스탬프(500)를 더 포함할 수 있다.In the removal position Wa of the substrate W from which the defective element E1 has been removed after the defective element E1 is adhered to the first adhesive film 100 and removed from the substrate W, Leaving a trace amount of residual solder P1 remaining. To eliminate this, the present invention may further include an elastic stamp 500.

상기 탄성 스탬프(500)는 도 3에 도시된 바와 같이 불량소자(E1)가 제거된 기판(W)과 마주보게 배치되고, 일부분이 기판(W)의 제거위치(Wa)에 밀착되도록 변형되면서 기판(W)의 제거위치(Wa)에 남아있는 잔류솔더(P1)를 제거한다.3, the elastic stamp 500 is arranged to face the substrate W from which the defective element E1 has been removed, and a part of the elastic stamp 500 is deformed to come in close contact with the removal position Wa of the substrate W, The remaining solder P1 remaining in the removal position Wa of the wafer W is removed.

탄성 스탬프(500)의 재질은 특별히 한정되지 않으나, 일정기준 이상의 점착력을 가지고, 유연하며, 레이저빔(L)이 통과될 수 있는 투명도를 가진 재질로 구성되는 것이 바람직하다. 대표적으로 PDMS(Polydimethylsiloxane), 실리콘 rubber, EVA(Ethylene Vinyl Acetate), PET(Polyethylene terephthalate), PES(Polyether Sulfone), PEN(Polyethylene Naphthalate), COC(Cyclic Olefin Copolymer)로 된 필름이 사용될 수 있다.The material of the elastic stamp 500 is not particularly limited, but it is preferably made of a material having an adhesive strength of a certain standard or more, being flexible, and having transparency through which the laser beam L can pass. Films made of PDMS (Polydimethylsiloxane), silicone rubber, EVA (Ethylene Vinyl Acetate), PET (Polyethylene terephthalate), PES (Polyether Sulfone), PEN (Polyethylene Naphthalate) and COC (Cyclic Olefin Copolymer) may be used.

탄성 스탬프(500)에 의해 잔류솔더(P1)가 제거됨으로써, 이후에 도포되는 대체솔더(P2)가 기판(W)에 견고하게 접착될 수 있고, 대체솔더(P2)에 밀착되는 대체소자(E2)가 잔류솔더(P1)에 의해 이웃하는 소자들보다 높게 실장되거나 경사지게 실장되는 것을 방지할 수 있다.The residual solder P1 is removed by the elastic stamp 500 so that the subsequent replacement solder P2 can be firmly adhered to the substrate W and the replacement element E2 Can be prevented from being mounted or inclinedly mounted by the residual solder P1 higher than the neighboring elements.

이때, 탄성 스탬프(500)와 잔류솔더(P1) 사이의 점착력이 커지도록 기판(W)과 접촉되는 탄성 스탬프(500)의 일면에 금속구조체층(510)이 형성될 수 있다. 금속구조체층(510)은 탄성 스탬프(500)와 잔류솔더(P1) 사이의 점착력을 증대시키는 작용을 하며, 탄성 스탬프(500)와 함께 휘어질 수 있을 정도의 얇은 두께(보통 50 nm 이내)로 금속이 코팅되거나 또는 패터닝 방법을 통해 2차원 또는 3차원 형상으로 형성되는 것이 바람직하다.At this time, the metal structure layer 510 may be formed on one side of the elastic stamp 500 contacting with the substrate W so that the adhesive force between the elastic stamp 500 and the residual solder P1 is increased. The metal structure layer 510 acts to increase the adhesive force between the elastic stamp 500 and the residual solder P1 and has a thickness (usually within 50 nm) so as to be bent together with the elastic stamp 500 It is preferable that the metal is coated or formed into a two-dimensional or three-dimensional shape through a patterning method.

금속구조체층(510)은 금, 백금, 은, 주석, 팔라듐, 로듐 중 어느 하나의 금속 또는 이러한 금속을 포함하는 합금으로 구성될 수 있다. 이러한 금속들은 솔더(P)와의 젖음성(wettability)이 상대적으로 좋은 금속으로서, 이러한 젖음성에 비례하여 탄성 스탬프(500)와 잔류솔더(P1) 사이의 점착력은 더욱 증대된다. 이를 통해, 기판(W)에 남아있는 잔류솔더(P1)를 보다 말끔하게 제거할 수 있다.The metal structure layer 510 may be composed of any one of gold, platinum, silver, tin, palladium, and rhodium, or an alloy containing such a metal. These metals are metals having a relatively good wettability with the solder P, and the adhesion between the elastic stamp 500 and the residual solder P1 is further increased in proportion to the wettability. As a result, residual solder P1 remaining on the substrate W can be removed more smoothly.

제1점착필름(100)과 탄성 스탬프(500)를 하나의 가압수단을 이용하여 가압하는 것이 설비 측면에서 유리하다. 따라서, 탄성 스탬프(500)의 일부분이 변형되면서 기판(W)의 제거위치(Wa)에 밀착되도록 가압부(200)가 탄성 스탬프(500)를 가압하는 것이 바람직하다.It is advantageous in view of the facility to press the first adhesive film 100 and the elastic stamp 500 by using one pressing means. Therefore, it is preferable that the pressing portion 200 presses the elastic stamp 500 so that the elastic stamp 500 is partially deformed and brought into close contact with the removal position Wa of the substrate W. [

상술한 바와 같이 레이저 조사부(400)에 집광렌즈를 별도로 설치하여 레이저빔(L)을 집광시킬 수도 있으나, 설비 절감을 위해 본 실시예에서는 가압지그(210)를 광투과성 재질을 갖는 렌즈 형상으로 마련하고, 레이저 조사부(400)에서 조사된 레이저빔(L)이 가압지그(210)를 통과하면서 불량소자(E1) 또는 솔더(P)에 초점(f)을 형성하도록 구성된다.The condensing lens may be separately installed in the laser irradiating unit 400 so as to condense the laser beam L. However, in order to reduce facilities, in this embodiment, the pressing jig 210 is provided in a lens shape having a light- And forms a focus f on the defective element E1 or the solder P while the laser beam L irradiated from the laser irradiation part 400 passes through the pressing jig 210. [

레이저 조사부(400)에 구비해야 하는 집광렌즈의 기능을 대신함과 동시에 탄성 스탬프(500)의 일부분을 가압하는 기능을 수행할 수 있고, 필요에 따라 대체소자(E2)가 대체솔더(P2)에 확실히 점착되도록 대체소자(E2)를 가압하는 기능을 수행할 수도 있기 때문이다.The function of the condensing lens to be provided in the laser irradiating unit 400 can be replaced with a function of pressing a part of the elastic stamp 500 and the substitute element E2 can be replaced with the replacement solder P2 It may perform the function of pressing the substitute element E2 so as to be surely adhered.

본 실시예에서는 솔더 도포부(600)를 더 포함할 수 있다. 솔더 도포부(600)는 도 4에 도시된 바와 같이 불량소자(E1)가 제1점착필름(100)에 점착되어 제거된 기판(W)의 제거위치(Wa)에 대체솔더(P2)를 도포하거나, 도시되지는 않았으나 편의에 따라 기판(W)에 밀착되는 대체소자(E2)의 일면에 대체솔더(P2)를 형성할 수도 있다. In this embodiment, the solder applying unit 600 may be further included. The solder applying unit 600 applies the replacement solder P2 to the removed position Wa of the substrate W where the defective element E1 is adhered to the first adhesive film 100 as shown in FIG. Alternatively, an alternative solder P2 may be formed on one surface of the substitute element E2, which is not shown, but which is in close contact with the substrate W at a convenience.

솔더 도포부(600)는 노즐로 미세한 솔더 잉크를 분사하기 위하여 열 또는 기계적인 진동을 이용하는 잉크젯 프린팅 방식, 또는 솔더 잉크를 흘러나오도록 밀어내는 전기장을 사용하는 e-jet 프린팅 방식 등 다양한 방식으로 구성될 수 있다.The solder applying unit 600 may be configured in various ways such as an inkjet printing method using thermal or mechanical vibration to jet fine solder ink to a nozzle, or an e-jet printing method using an electric field that pushes solder ink to flow out .

상기 제2점착필름(300)은 대체솔더(P2)가 도포된 기판(W)과 마주보게 배치되고, 대체솔더(P2)에 부착되는 대체소자(E2)를 구비한다. 제2점착필름(300)은 제작편의상 제1점착필름(100)과 동일한 필름으로 할 수 있으나, 동일한 필름으로 한정되는 것은 아니다.The second adhesive film 300 has an alternative element E2 which is disposed opposite the substrate W to which the replacement solder P2 is applied and which is attached to the replacement solder P2. The second adhesive film 300 may be made of the same film as the first adhesive film 100 for convenience of production, but is not limited to the same film.

제2점착필름(300)은 제1점착필름(100)과 마찬가지로 제2롤러(310)에 감아져 제2롤러(310)의 구동에 의해 일측으로 이동될 수 있다. 이는 대체소자(E2)가 기판(W)에 접합되면, 제2점착필름(300)을 일정길이로 감아서 제2점착필름(300)에 부착된 또 다른 대체소자(E2)를 기판(W)과 마주보게 위치시키기 위함이다.The second adhesive film 300 may be wound around the second roller 310 and moved to one side by driving the second roller 310, like the first adhesive film 100. When the replacement element E2 is bonded to the substrate W, the second adhesive film 300 is wound to a predetermined length, and another replacement element E2 attached to the second adhesive film 300 is wound on the substrate W. [ As shown in FIG.

도시되지 않았지만, 제2점착필름(300)의 위치를 이동시켜 제2점착필름(300)이 기판(W)과 밀착되도록 하기 위해 제2롤러(310)를 수평 방향 및 수직 방향으로 이동시키는 제2이동수단을 더 포함할 수 있다. 기판(W)이 일정높이로 반송되는 상태에서 제1, 2점착필름(100, 300)을 포함한 본 발명의 기본 구성들을 기판(W)을 기준으로 상대적으로 이동시키는 것이 공정의 연속성 측면에서 바람직하다.Although not shown, the second roller 310 is moved in the horizontal direction and the vertical direction to move the second adhesive film 300 in order to bring the second adhesive film 300 into close contact with the substrate W, And may further include a moving means. It is preferable to relatively move the basic structures of the present invention including the first and second adhesive films 100 and 300 relative to the substrate W in a state in which the substrate W is transported at a constant height in terms of continuity of the process .

이와 같이 구성되는 본 발명의 불량소자의 리페어 장치는 종래의 진공흡착식 리페어 장치와는 달리 점착필름이 가지는 점착력을 이용하여 미소한 불량소자(E1)를 쉽게 제거할 수 있다.Unlike the conventional vacuum suction type repair device, the repair device of the present invention having the above-described structure can easily remove the minute defective device E1 using the adhesive force of the adhesive film.

종래의 진공흡착식 리페어 장치는 불량소자(E1)의 폭이 0.5 mm 이상이거나 불량소자(E1)의 두께가 20μm 이상인 경우, 이를 흡착하여 제거할 수 있었으나, 이보다 폭 또는 두께가 작은 불량소자(E1)의 경우, 흡착패드의 설계적 한계(진공홈 가공 제한)로 인해 불량소자(E1)를 원활하게 처리할 수 없었다.The conventional vacuum suction type repair apparatus can adsorb and remove the defective element E1 when the width of the defective element E1 is 0.5 mm or more or the thickness of the defective element E1 is 20 μm or more, , The defective element E1 can not be smoothly processed due to the design limit of the adsorption pad (vacuum grooving restriction).

이에 반해, 본 발명의 불량소자의 리페어 장치는 제1점착필름(100)을 기판에 잠시 붙였다 떼어내는 과정에서 제1점착필름(100)에 불량소자(E1)가 점착되므로, 불량소자(E1)의 면적 또는 두께에 구애받지 않고 불량소자(E1)를 원활하게 제거할 수 있게 된다.On the other hand, the defective device E1 is adhered to the first adhesive film 100 in the process of attaching and detaching the first adhesive film 100 to the substrate for a while, It is possible to smoothly remove the defective element E1 regardless of the area or the thickness of the defective element E1.

지금부터는 본 발명에 따른 불량소자의 리페어 방법에 대해 설명한다. 본 발명에 따른 불량소자의 리페어 방법은 가압단계(S1)와, 불량소자 제거단계(S2)와, 대체소자 접합단계(S3)를 포함한다.Hereinafter, a repair method of a defective device according to the present invention will be described. A repair method of a defective device according to the present invention includes a pressing step (S1), a defective element removing step (S2), and a replacement device bonding step (S3).

상기 가압단계(S1)는 도 2 또는 도 6에 도시된 바와 같이 광투과성 재질의 제1점착필름(100)을 가압하여 기판(W)에 부착된 불량소자(E1)에 밀착시키는 단계이다. The pressing step S1 is a step of pressing the first adhesive film 100 of a light-transmitting material to adhere to the defective element E1 attached to the substrate W as shown in FIG. 2 or FIG.

가압단계(S1)에서 불량소자(E1)와 기판(W)의 상호 결합력이 상실되도록 불량소자(E1)와 기판(W) 사이에 경화되어 있는 솔더(P)에 레이저빔(L)을 조사하여 솔더(P)를 용융시키는 것이 바람직하다.The laser beam L is irradiated to the solder P hardened between the defective element E1 and the substrate W so that the mutual coupling force between the defective element E1 and the substrate W is lost in the pressing step S1 It is preferable to melt the solder (P).

상기 불량소자 제거단계(S2)는 불량소자(E1)가 제1점착필름(100)에 점착되고, 제1점착필름(100)을 기판(W)으로부터 이격시켜 불량소자(E1)를 기판(W)에서 떼어내는 단계이다.In the defective element removing step S2, the defective element E1 is adhered to the first adhesive film 100, and the first adhesive film 100 is separated from the substrate W to remove the defective element E1 from the substrate W ).

이후, 제1롤러(110)의 구동에 의해 제1점착필름(100)에 점착된 불량소자(E1)가 일측으로 이동되어 처리되고, 또 다른 불량소자(E1)를 점착하기 위해 제1점착필름(100)의 새로운 면이 기판(W)과 마주보게 배치될 수 있다.Thereafter, the defective element E1 adhered to the first adhesive film 100 by the driving of the first roller 110 is moved to one side and processed. In order to adhere the other defective element E1, A new side of the substrate 100 may be disposed facing the substrate W.

불량소자(E1)가 제거된 기판(W)의 제거위치(Wa)에 남아있는 미량의 잔류솔더(P1)를 처리하기 위해 잔류솔더 제거단계(S2a)가 수행될 수 있다. 도 3을 참조하면, 잔류솔더 제거단계(S2a)는 탄성 스탬프(500)의 일부분이 변형되어 기판(W)의 제거위치(Wa)에 밀착되도록 가압하여 기판(W)의 제거위치(Wa)에 남아있는 잔류솔더(P1)를 제거하는 단계이다.Residual solder removing step S2a may be performed to treat a small amount of remaining solder P1 remaining in the removal position Wa of the substrate W from which the defective element E1 has been removed. 3, the residual solder removing step S2a is performed so that a part of the elastic stamp 500 is deformed to be pressed against the removal position Wa of the substrate W, And removing the remaining residual solder P1.

가압단계(S1)에서 레이저빔(L)에 의해 용융되었던 잔류솔더(P1)는 일정시간이 지나면 경화되기 때문에 잔류솔더 제거단계(S2a)에서 탄성 스탬프(500)에 제대로 점착되지 않을 수 있다. 따라서, 잔류솔더 제거단계(S2a) 과정에서 잔류솔더(P1)에 레이저빔(L)을 조사하여 잔류솔더(P1)를 용융시킴과 동시에 탄성 스탬프(500)를 기판(W)의 제거위치(Wa)에 밀착하여 잔류솔더(P1)를 제거하는 것이 효과적이다.The remaining solder P1 which has been melted by the laser beam L in the pressing step S1 may hardly stick to the elastic stamp 500 in the residual solder removing step S2a because it hardens after a certain time. Accordingly, in the residual solder removing step S2a, the residual solder P1 is irradiated with the laser beam L to melt the residual solder P1, and at the same time, the elastic stamp 500 is removed from the removal position Wa of the substrate W To remove the residual solder P1 effectively.

잔류솔더 제거단계(S2a) 과정에서 탄성 스탬프(500)와 잔류솔더(P1) 사이의 점착력이 커질 수 있도록 기판(W)과 접촉되는 탄성 스탬프(500)의 일면에 미리 금속구조체층(510)을 형성하는 것이 바람직하고, 이때 금속구조체층(510)은 금, 백금, 은, 주석, 팔라듐, 로듐 중 어느 하나로 구성될 수 있다. 이에 대한 효과는 상술한 바와 같다.The metal structure layer 510 is previously formed on one side of the elastic stamp 500 contacting the substrate W so that the adhesive force between the elastic stamp 500 and the residual solder P1 can be increased in the residual solder removing step S2a And the metal structure layer 510 may be formed of any one of gold, platinum, silver, tin, palladium, and rhodium. The effect is as described above.

잔류솔더 제거단계(S2a) 이후에 대체솔더 도포단계(S2b)가 수행될 수 있다. 대체솔더 도포단계(S2b)는 도 4에 도시된 바와 같이 기판(W) 중 불량소자(E1)가 제거된 제거위치(Wa)에 대체솔더(P2)를 도포하거나, 도시되지는 않았으나 기판에 밀착되는 대체소자의 일면에 대체솔더를 형성하는 단계이다.An alternative solder applying step S2b may be performed after the residual solder removing step S2a. The alternative solder applying step S2b may be performed by applying the replacement solder P2 to the removed position Wa where the defective element E1 is removed from the substrate W as shown in FIG. Forming an alternate solder on one side of the replacement element.

대체솔더(P2)는 정확한 양으로 정밀하게 공급되어 이미 형성된 솔더(P)와 대등한 폭과 두께로 형성된다. 이를 위해 E-jet 프린팅 방식을 채택한 헤드부를 이용하여 기판(W)의 제거위치(Wa)에 솔더 잉크를 공급할 수 있다.The replacement solder P2 is precisely supplied in an accurate amount and is formed to have a width and a thickness equal to those of the solder P already formed. For this purpose, the solder ink can be supplied to the removal position Wa of the substrate W by using the head unit employing the E-jet printing method.

상기 대체소자 접합단계(S3)는 도 5에 도시된 바와 같이 광투과성 재질의 제2점착필름(300)에 부착된 대체소자(E2)를 가압지그(210)로 눌러 기판(W)의 제거위치(Wa)에 가압밀착시키고, 대체소자(E2)와 기판(W) 사이의 대체솔더(P2)에 레이저빔(L)을 조사하여 대체솔더(P2)를 경화시켜 대체소자(E2)를 기판(W)에 접합시킨다.5, the replacement element E2 attached to the second adhesive film 300 of a light transmitting material is pressed by the pressing jig 210 to the removal position of the substrate W And the replacement solder P2 is hardened by irradiating the laser beam L to the replacement solder P2 between the replacement device E2 and the substrate W to remove the replacement device E2 from the substrate W W).

대체소자(E2)가 대체솔더(P2)에 밀착된 상태에서 페이스트(paste) 상태의 대체솔더(P2)가 레이저빔(L)에 의해 발생된 열에 의해 경화되기 시작하고, 일정시간이 경과한 후에 대체솔더(P2)가 완전히 경화되어 대체소자(E2)가 기판(W)에 물리적, 전기적으로 접합된다.The replacement solder P2 in the paste state in the state in which the replacement element E2 is in close contact with the replacement solder P2 starts to be hardened by the heat generated by the laser beam L, The replacement solder P2 is completely cured and the replacement element E2 is physically and electrically bonded to the substrate W. [

한편, 대체소자 접합단계(S3)에 있어서 대체소자(E2)와 기판(W) 사이의 대체솔더(P2)에 레이저빔(L)을 조사하는 방법 외에도 초음파를 인가하는 것도 가능하다. 즉, 제2점착필름(300)에 부착된 대체소자(E2)를 가압지그(210)로 눌러 기판(W)의 제거위치(Wa)에 가압밀착시킨 상태에서, 가압지그(210)에 설치된 초음파 발생부(미도시)를 이용하여 가압지그(210)를 초음파를 인가하고 압력을 가함으로써, 대체소자(E2)와 대체솔더(P2)를 접합시킬 수 있다.It is also possible to apply ultrasonic waves in addition to the method of irradiating the laser beam L to the replacement solder P2 between the replacement element E2 and the substrate W in the replacement element bonding step S3. That is, in a state in which the substitute element E2 attached to the second adhesive film 300 is pressed by the pressing jig 210 to the removal position Wa of the substrate W, The replacement element E2 and the replacement solder P2 can be bonded by applying ultrasonic waves to the pressing jig 210 using a generating unit (not shown) and applying pressure.

이후, 제2접합필름(300)을 기판(W)으로부터 이격시키고, 다음 리페어 공정을 위해 제2롤러(310)의 구동에 의해 제2점착필름(300)이 일정길이로 감아져 새로운 대체소자가 기판(W)과 마주보게 위치될 수 있다.Thereafter, the second adhesive film 300 is separated from the substrate W, and the second adhesive film 300 is wound to a predetermined length by driving the second roller 310 for the next repair process, And may be positioned to face the substrate W.

상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치는, 제1점착필름을 기판에 잠시 붙였다 떼어내는 과정에서 제1점착필름에 불량소자가 점착됨으로써, 불량소자의 면적 또는 두께에 구애받지 않고 불량소자를 쉽고 원활하게 제거할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.The repair method and the repair apparatus for the defective device of the present invention constructed as described above are characterized in that the defective device is adhered to the first adhesive film in the process of temporarily sticking and peeling the first adhesive film to the substrate, It is possible to easily and smoothly remove the defective device without being affected by the defects.

또한, 상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치는, 탄성 스탬프에 의해 잔류솔더가 제거됨으로써, 이후에 도포되는 대체솔더가 기판에 견고하게 접착될 수 있고, 대체솔더에 밀착되는 대체소자가 잔류솔더에 의해 이웃하는 소자들보다 높게 실장되거나 경사지게 실장되는 것을 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.Further, in the repair method and repair apparatus for a defective device of the present invention constructed as described above, since the residual solder is removed by the elastic stamp, the subsequent solder to be applied subsequently can be firmly adhered to the substrate, It is possible to prevent an alternative device which is brought into close contact with the first and second substrates by preventing the solder from being mounted higher or higher than the neighboring devices by the residual solder.

또한, 상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치는, 탄성 스탬프의 일면에 형성된 금속구조체층을 통해 탄성 스탬프와 잔류솔더 사이의 점착력을 증대시켜 기판에 남아있는 잔류솔더를 보다 말끔하게 제거할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.The method for repairing a defective element of the present invention having the structure as described above and the repair apparatus for the same may further comprise the steps of increasing the adhesive force between the elastic stamp and the residual solder through the metal structure layer formed on one surface of the elastic stamp, It is possible to obtain an effect that it can be removed more cleanly.

또한, 상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치는, 금속구조체층을 솔더와 젖음성이 좋은 재질로 구성하여 탄성 스탬프와 잔류솔더 사이의 점착력은 더욱 증대시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, the repair method and the repair apparatus for the defective device according to the present invention, which are constructed as described above, have a structure in which the metal structure layer is made of a material having good wettability with the solder to further increase the adhesive force between the elastic stamp and the residual solder Can be obtained.

또한, 상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 불량소자의 리페어 방법 및 이를 위한 리페어 장치는, 가압지그를 광투과성 재질을 갖는 렌즈 형상으로 마련함으로써, 집광렌즈의 기능을 대신함과 동시에 탄성 스탬프의 일부분을 가압하는 기능을 수행할 수 있고, 필요에 따라 대체소자를 가압하는 기능을 수행할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, the repairing method and the repairing apparatus for the defective element of the present invention constructed as described above are characterized in that the pressing jig is provided in the form of a lens having a light-transmitting material so that the function of the collecting lens is replaced, It is possible to perform the function of pressurizing and to perform the function of pressing the substitute element as necessary.

본 발명의 권리범위는 상술한 실시예 및 변형례에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.The scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, but can be implemented in various forms of embodiments within the scope of the appended claims. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention as defined by the appended claims.

100 : 제1점착필름
200 : 가압부
300 : 제2점착필름
400 : 레이저 조사부
500 : 탄성 스탬프
600: 솔더 도포부
W : 기판
E1 : 불량소자
E2 : 대체소자
P : 솔더
P1 : 잔류솔더
P2 : 대체솔더
100: First adhesive film
200:
300: Second adhesive film
400: laser irradiation unit
500: elastic stamp
600: Solder dispensing part
W: substrate
E1: Defective element
E2: Replacement device
P: Solder
P1: Residual solder
P2: Replacement solder

Claims (15)

광투과성 재질의 제1점착필름을 가압하여 기판에 부착된 불량소자에 밀착시키는 가압단계;
상기 불량소자가 상기 제1점착필름에 점착된 상태에서 상기 제1점착필름을 상기 기판으로부터 이격시켜 상기 불량소자를 상기 기판에서 떼어내는 불량소자 제거단계; 및
광투과성 재질의 제2점착필름에 부착된 대체소자를 상기 불량소자가 제거된 기판의 제거위치에 밀착시켜 상기 대체소자를 상기 기판에 접합시키는 대체소자 접합단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 방법.
A pressing step of pressing the first adhesive film of a light-transmitting material to adhere to a defective element attached to the substrate;
Removing the defective device from the substrate by separating the first adhesive film from the substrate while the defective device is adhered to the first adhesive film; And
And an alternative device bonding step of bonding an alternative device attached to the second adhesive film of a light-transmitting material to the substrate at a removal position of the substrate from which the defective device is removed to bond the replacement device to the substrate. Repair method.
제1항에 있어서,
상기 불량소자 제거단계 이후에 수행되며,
탄성 스탬프의 일부분이 변형되어 상기 기판의 제거위치에 밀착되도록 가압하여 상기 기판의 제거위치에 남아있는 잔류솔더를 제거하는 잔류솔더 제거단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 방법.
The method according to claim 1,
After the defective element removing step,
Further comprising a remaining solder removing step of removing residual solder remaining at a removal position of the substrate by pressing the portion of the elastic stamp to be deformed and brought into close contact with the removal position of the substrate.
제1항에 있어서,
상기 불량소자 제거단계 이후에 수행되며,
상기 기판 중 상기 불량소자가 제거된 제거위치에 대체솔더를 형성하거나, 상기 기판에 밀착되는 대체소자의 일면에 대체솔더를 형성하는 대체솔더 도포단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 방법.
The method according to claim 1,
After the defective element removing step,
Further comprising an alternative solder applying step of forming an alternative solder at a removal position where the defective device is removed from the substrate or forming an alternative solder on one surface of the replacement device which is in close contact with the substrate, Way.
제1항에 있어서,
상기 가압단계는,
상기 불량소자와 상기 기판 사이에 경화된 솔더에 레이저빔을 조사하여 상기 솔더를 용융시키는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the pressing step comprises:
And irradiating a laser beam onto the hardened solder between the defective device and the substrate to melt the solder.
제2항에 있어서,
상기 잔류솔더 제거단계는,
상기 탄성 스탬프가 상기 기판의 제거위치에 밀착된 상태에서 상기 잔류솔더에 레이저빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 방법.
3. The method of claim 2,
The residual solder removing step includes:
And the laser beam is irradiated to the residual solder while the elastic stamp is in close contact with the removal position of the substrate.
제2항에 있어서,
상기 잔류솔더 제거단계는,
상기 기판과 접촉되는 상기 탄성 스탬프의 일면에 형성된 금속구조체층에 의해 상기 탄성 스탬프와 상기 잔류솔더 사이의 점착력이 커지는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 방법.
3. The method of claim 2,
The residual solder removing step includes:
Wherein the adhesive strength between the elastic stamp and the residual solder is increased by the metal structure layer formed on one surface of the elastic stamp contacting the substrate.
제3항에 있어서,
상기 대체소자 접합단계는,
상기 대체소자를 상기 기판 측으로 가압한 상태에서 상기 대체솔더에 레이저빔을 조사하여 상기 대체소자와 상기 대체솔더를 접합시키거나 또는 상기 대체소자를 상기 기판 측으로 가압한 상태에서 초음파를 인가하여 상기 대체소자와 상기 대체솔더를 접합시키는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 방법.
The method of claim 3,
The alternative device bonding step may include:
The alternate element is pressed to the substrate side, the laser beam is irradiated to the replacement solder to bond the replacement element and the replacement solder, or ultrasonic waves are applied in a state where the replacement element is pressed toward the substrate, And the replacement solder are bonded to each other.
불량소자가 포함된 기판과 마주보게 배치되고, 광투과성 재질로 된 제1점착필름;
상기 불량소자가 상기 제1점착필름에 점착되어 제거되도록 상기 제1점착필름을 상기 불량소자에 밀착되도록 가압하는 가압부; 및
상기 불량소자가 제거된 기판의 제거위치에 밀착되어 부착되는 대체소자를 구비하는 제2점착필름;을 포함하는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 장치.
A first adhesive film disposed opposite the substrate including the defective device and made of a light transmitting material;
A pressing part for pressing the first adhesive film so as to be in close contact with the defective element so that the defective element is adhered to and removed from the first adhesive film; And
And a second adhesive film having an alternative element which is adhered to the removed position of the substrate from which the defective element is removed.
제8항에 있어서,
상기 불량소자와 상기 기판 사이에 경화된 솔더를 용융시키기 위하여 상기 제1점착필름을 투과하여 상기 솔더에 레이저빔을 조사하는 레이저 조사부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 장치.
9. The method of claim 8,
And a laser irradiating unit for irradiating the solder with a laser beam through the first adhesive film to melt the cured solder between the defective device and the substrate.
제8항에 있어서,
상기 불량소자가 제거된 상기 기판의 제거위치와 마주보게 배치되고, 일부분이 상기 기판의 제거위치에 밀착되도록 변형되면서 상기 기판의 제거위치에 남아있는 잔류솔더를 제거하는 탄성 스탬프;를 더 포함하는 것을 불량소자의 리페어 장치.
9. The method of claim 8,
And an elastic stamp disposed opposite to the removed position of the substrate from which the defective element has been removed and removing residual solder remaining in the removed position of the substrate while being deformed to come in close contact with the removed position of the substrate Repair device of defective device.
제10항에 있어서,
상기 탄성 스탬프는, 상기 탄성 스탬프와 상기 잔류솔더 사이의 점착력이 커지도록 상기 기판과 접촉되는 상기 탄성 스탬프의 일면에 금속구조체층이 형성되는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the elastic stamp has a metal structure layer formed on one surface of the elastic stamp that contacts the substrate so that the adhesion between the elastic stamp and the residual solder becomes large.
제10항에 있어서,
상기 가압부는, 상기 기판에서 이격되어 배치되는 가압지그와, 상기 가압지그가 상기 제1점착필름 또는 상기 탄성 스탬프에 가압밀착되도록 상기 가압지그를 승강시키는 가압구동부를 구비하는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the pressing portion includes a pressing jig which is disposed apart from the substrate and a pressing driving portion that moves the pressing jig up and down so that the pressing jig is pressed against the first adhesive film or the elastic stamp. Repair device.
제12항에 있어서,
상기 가압지그는, 광투과성 재질을 갖는 렌즈 형상으로 마련되고,
상기 레이저 조사부에서 조사된 레이저빔이 상기 가압지그를 통과하면서 상기 불량소자 또는 상기 솔더에 초점을 형성하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 장치.
13. The method of claim 12,
The pressing jig is provided in a lens shape having a light-transmitting material,
And the laser beam irradiated from the laser irradiation unit passes through the pressing jig to form a focus on the defective element or the solder.
제10항에 있어서,
상기 불량소자가 제거된 기판의 제거위치에 대체솔더를 형성하거나, 상기 기판에 밀착되는 대체소자의 일면에 대체솔더를 형성하는 솔더 도포부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 장치.
11. The method of claim 10,
Further comprising a solder applying unit for forming an alternative solder at a removal position of the substrate from which the defective device is removed or a solder applying unit for forming replacement solder on one surface of the replacement device closely contacting the substrate.
제14항에 있어서,
상기 가압부는 상기 대체소자가 상기 기판에 밀착되도록 상기 대체소자를 가압하고,
상기 대체소자와 상기 대체솔더를 접합하기 위하여 상기 제2점착필름을 투과하여 상기 대체솔더에 레이저빔을 조사하는 레이저 조사부; 또는 상기 대체소자와 상기 대체솔더를 접합하기 위하여 상기 대체소자에 초음파를 인가하는 초음파 발생부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 불량소자의 리페어 장치.
15. The method of claim 14,
The pressing portion presses the substitute element so that the substitute element is brought into close contact with the substrate,
A laser irradiator for transmitting the laser beam to the replacement solder through the second adhesive film to bond the replacement device and the replacement solder; Or an ultrasonic generator for applying ultrasonic waves to the substitute element to bond the substitute element and the substitute solder.
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