KR20180085096A - Copper clad laminates for preventing short-circuit of a via hole and the manufacturing method - Google Patents

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KR20180085096A KR1020170007273A KR20170007273A KR20180085096A KR 20180085096 A KR20180085096 A KR 20180085096A KR 1020170007273 A KR1020170007273 A KR 1020170007273A KR 20170007273 A KR20170007273 A KR 20170007273A KR 20180085096 A KR20180085096 A KR 20180085096A
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Abstract

The present invention provides a copper-clad laminate capable of preventing short-circuiting of via holes. The copper-clad laminate of the present invention comprises: an upper laminated part in which an upper copper-clad laminate formed on an upper part thereof, and an upper insulator for insulating the upper copper-clad laminate are laminated; a lower laminated part in which a lower copper-clad laminate formed on a lower part thereof, and a lower insulator are laminated; a shielding part which has a shielding body for shielding noise between the upper laminated part and the lower laminated part; via holes which are plated so that the via holes communicate between the upper copper-clad laminate and the lower copper-clad laminate, thereby being electrified mutually, wherein the shielding body includes a filling hole facing inward such as to form a space with outer walls of the plated via holes. Therefore, the copper-clad laminate of the present invention can allow the copper-clad laminates connected through the via holes and the shielding body formed of a conductive metal material to be insulated from each other, thereby being applicable to a combo antenna including two or more antennas integrally formed.

Description

비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판 및 그 제조방법{COPPER CLAD LAMINATES FOR PREVENTING SHORT-CIRCUIT OF A VIA HOLE AND THE MANUFACTURING METHOD}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a copper clad laminate capable of preventing short-circuiting of via-

본 발명은 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판 및 그 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a copper-clad laminate capable of preventing short-circuiting of a via hole and a method of manufacturing the same.

인쇄회로기판(Printed Circuit Board; PCB)은 전자기기의 부품실장 및 배선에 사용되는 것으로, 페놀수지 절연판 또는 에폭시 수지 절연판 등의 일면에 구리 등의 박판을 부착시킨 후에, 회로의 배선패턴에 따라 식각(선상의 회로만 남기고 부식시켜 제거함)하여 필요한 회로를 구성하고, 부품들을 부착 탑재시키기 위한 홀(hall)을 뚫어서 만든다.BACKGROUND ART Printed circuit boards (PCBs) are used for component mounting and wiring of electronic devices. After a thin plate of copper or the like is attached to one side of a phenol resin insulating plate or an epoxy resin insulating plate or the like, (By leaving the circuit on board only and removing it by corrosion) to make the required circuit, and to drill a hole to mount the components.

이러한 인쇄회로기판에는 절연기판의 한쪽 면에만 배선을 형성한 단면 PCB, 양쪽 면에 배선을 형성한 양면 PCB, 그리고 회로 패턴을 다층으로 배선한 다층 인쇄회로기판(multi layered board, MLB)이 있다.Such a printed circuit board includes a single-sided PCB on which wiring is formed on only one side of an insulating substrate, a double-sided PCB on which wiring is formed on both sides, and a multi-layered board (MLB) in which circuit patterns are multilayered.

과거에는 부품 소자들이 단순하고 회로 패턴도 간단하여 단면 인쇄회로기판을 사용하였으나, 최근에는 회로의 복잡도 증가하고 고밀도 및 소형화 회로에 대한 요구가 증가하여 대부분 양면 인쇄회로기판 또는 다층인쇄회로기판을 사용하는 것이 일반적이다.In recent years, the complexity of circuits has increased, and the demand for high density and miniaturization circuits has increased. In recent years, the use of double-sided printed circuit boards or multi-layer printed circuit boards It is common.

이러한 인쇄회로기판을 제조하는 방법은 절연체와 차폐체(310) 및 동박판이 순차적으로 적층된 동박 적층판을 이용하여 인쇄회로기판을 제조하는 과정을 진행한다. 이중에서 양면 동박 적층판 및 그 제조과정은 도 1 및 도 2에서 그 일예가 소개되었다.A method for manufacturing such a printed circuit board includes the steps of fabricating a printed circuit board using an insulator, a shield 310, and a copper-clad laminate in which a copper foil is sequentially laminated. The double-sided copper-clad laminate and its manufacturing process are shown in Figs. 1 and 2.

도 1은 종래의 동박 적층판 제조과정을 도시한 순서도, 도 2는 종래의 동박 적층판을 도시한 단면도이다. FIG. 1 is a flow chart showing a process of manufacturing a conventional copper-clad laminate, and FIG. 2 is a sectional view showing a conventional copper-clad laminate.

도 1을 참조하면, 종래의 양면에 상부 동박판(1)과 하부 동박판(7)을 적층시키는 S10 단계와, 비아홀(9)을 가공하는 S20 단계와, 비아홀(9)의 내면을 도금시키는 S30 단계를 포함한다. 1, step S10 of stacking the upper copper foil 1 and the lower copper foil 7 on both sides of the conventional wafer, step S20 of processing the via hole 9, plating the inner surface of the via hole 9 S30.

S10 단계는 최상측과 최하측에 위치되어 인쇄회로기판의 일면과 반대면을 형성하는 하부 동박판(7)과 상부 동박판(1)과, 그 사이에 하부 절연체(3)와 차폐체(4) 및 상부 절연체(5)를 각각 접착제(2)로서 적층시키는 단계이다. Step S10 includes a lower copper foil 7 and an upper copper foil 1 which are positioned on the uppermost and lowermost sides to form a surface opposite to the one surface of the printed circuit board and a lower insulator 3 and a shield 4, And the upper insulator 5 as the adhesive 2, respectively.

여기서, 차폐체(4)는 후술되는 비아홀(9)을 통하여 통전되는 전자파를 차폐할 수 있도록 금속 계열의 판형 시트(SHEET)로 형성되고, 하부 절연체(3) 및 상부 절연체(5)는 전기적 절연을 위한 폴리이미드(POLYIMIDE) 계열의 시트(SHEET)로 형성될 수 있다. The lower shield 3 and the upper shield 5 are electrically insulated from each other by a plate type sheet SHEET which is made of a metal material so as to shield electromagnetic waves to be supplied through a via hole 9 And may be formed of a polyimide series sheet SHEET.

S20 단계는 S10 단계의 적층 구조를 관통하는 비아홀(9)을 형성하는 단계이다. 여기서, 비아홀(9)은 하부 동박판(7)과 상부 동박판(1) 사이를 통전 시키기 위한 것으로서 드릴(DRILL)과 같은 장비로서 형성된다. Step S20 is a step of forming a via hole 9 passing through the lamination structure of step S10. Here, the via hole 9 is formed as a device such as a drill for conducting electricity between the lower copper foil 7 and the upper copper foil 1.

S30 단계는 비아홀(9)의 내면을 동도금하는 단계이다. 동도금은 하부 동박판(7)과 상부 동박판(1) 사이가 전기적으로 통전시킨다.Step S30 is a step of copper plating the inner surface of the via hole 9. The copper plating electrically conducts between the lower copper foil 7 and the upper copper foil 1.

이와 같은 과정으로 제조된 동박 적층판은 드라이 필름(Dry Film;DF)을 적층하고, 적층된 드라이 필름 위에 아트워크필름(Artwork Film)(미도시)을 올려 놓고 자외선(UV)을 조사하여 회로 이미지를 형성하는 노광 및 에칭이나 박리 과정을 거쳐 인쇄회로기판으로 제조된다. The copper-clad laminate produced by such a process was produced by laminating a dry film (DF), placing an artwork film (not shown) on the laminated dry film, irradiating ultraviolet rays (UV) And then is subjected to an exposure and etching process to form a printed circuit board.

여기서, 상술한 종래의 동박 적층판은 차폐체가 메탈계열의 판형의 시트로 이루어짐에 따라 비아홀 가공 후 도금관이 형성되면, 도금관과 차폐체 간에 통전이 이루어질 수 있다. Here, in the conventional copper-clad laminate, when the shielding body is formed of a metal-type plate-like sheet, when the plating tube is formed after the via hole processing, electricity can be conducted between the plating tube and the shielding body.

즉, 종래의 동박 적층판은 비아홀을 통한 수직적 통전과 함께, 비아홀과 차폐체간의 수평 방향의 통전이 이루어지게 됨에 해당 차폐체를 연통하는 전체 비아홀들에 통전이 이루어진다. That is, in the conventional copper-clad laminate, horizontal current is supplied between the via hole and the shielding body together with the vertical energization through the via hole, so that all the via-holes communicating with the shielding body are energized.

따라서, 예를 들면, 최근 스마트폰에 설치되는 2 이상의 안테나(예를 들면, 근거리 통신용 안테나와, 무선 충전용 안테나)가 일체형으로 설치되는 콤보형 안테나는 일면의 동박판에 근거리 통신용 안테나의 A 패턴과, 무선 충전용 안테나의 A패턴이 형성되고, 반대면에 근거리 통신용 안테나의 B 패턴과 무선 충전용 안테나의 B 패턴이 형성되었다면, 근거리 통신용 안테나의 A, B 패턴은 무선 충전용 안테나의 A, B 패턴과 통전되지 않아야 된다. Therefore, for example, a combo antenna in which two or more antennas (for example, an antenna for short-range communication and a wireless-rechargeable antenna) And the B pattern of the antenna for short-range communication and the B pattern of the antenna for short-range communication are formed on the opposite surface, the patterns A and B of the short-range communication antenna are A, B patterns of the wireless- B pattern.

하지만, 종래기술은 위와 같이 차폐체가 동박 적층판의 비아홀들중 어느 하나와 전기적으로 통전됨에 따라 전체 비아홀과 통전될 수 있어 콤보안테나에 포함된 2 이상의 안테나들이 상호 통전이 이루어짐에 따라 하나의 안테나로서 작동되는 문제점이 발생되었다. However, according to the conventional art, as the shield is electrically connected to any one of the via-holes of the copper-clad laminate as described above, it can be electrically connected to the entire via hole, so that two or more antennas included in the combo antenna are operated as one antenna .

한국 공개특허공보 제10-2014-0057861호(2014.05.14, 공개)Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2014-0057861 (published May 4, 2014)

따라서, 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 본 발명의 목적은 동박 적층판에서 차폐체와 동박판간의 단락을 방지할 수 있는 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판 및 그 제조 방법을 제공함에 있다. SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a copper clad laminate capable of preventing a short circuit between a shield and a copper foil, and a method for manufacturing the same.

또한, 본 발명의 다른 목적은 2 이상의 안테나가 일체형으로 이루어진 콤보안테나에 적합한 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판 및 그 제조방법을 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide a copper-clad laminate capable of preventing short-circuiting of a via hole, which is suitable for a combo antenna in which two or more antennas are integrated, and a method of manufacturing the same.

그러므로, 본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 하기와 같은 실시예를 제공할 수 있다. Therefore, the present invention can provide the following embodiments in order to achieve the above object.

본 발명에 따른 바람직한 실시예는, 상부에 형성되는 상부 동박판과 상부동박판을 절연시키는 상부 절연체가 적층된 상부 적층부와, 하부에 형성된 하부 동박판과 하부 절연체가 적층된 하부 적층부와, 상부 적층부와 하부 적층부 사이에서 노이즈를 차폐시키는 차폐체를 구비하는 차폐부와, 상부 동박판과 하부 동박판 사이로 연통되어 상호 간에 통전 가능하도록 도금된 비아홀을 포함하고, 차폐체는 도금된 비아홀의 외벽과 이격된 공간을 이루도록 내향된 충진홀을 포함하는 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판을 제공한다.A preferred embodiment according to the present invention is characterized in that it comprises an upper lamination part in which an upper copper foil formed on the upper part is laminated with an upper insulator which insulates the upper copper foil, a lower lamination part in which a lower copper foil and a lower insulator are laminated, A shielding portion having a shield for shielding noise between the upper laminated portion and the lower laminated portion; and a via hole plated so as to communicate between the upper copper foil and the lower copper foil so as to be energizable with each other, And a filling hole which is inwardly directed to form a spaced-apart space.

그러므로, 본 발명은 비아홀을 통해 연결되는 동박판과 전도성 금속재로 이루어진 차폐체간을 상호 절연시킬 수 있어 인쇄회로기판에서 비아홀들간의 비정상적인 단락으로 인한 특성 약화를 방지할 수 있다. Therefore, the present invention can mutually isolate the copper foil connected through the via hole and the shield made of the conductive metal material, thereby preventing the characteristic deterioration due to the abnormal short-circuit between the via-holes in the printed circuit board.

또한, 본 발명은 2 이상의 안테나가 일체형으로 이루어진 콤보 안테나의 특성을 향상시킬 수 있는 효과를 얻는다. Further, the present invention obtains the effect of improving the characteristics of the combo antenna in which two or more antennas are integrated.

도 1은 종래의 동박 적층판의 제조과정을 도시한 순서도이다.
도 2는 종래의 동박 적층판을 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 비아홀의 층간 단락을 방지할 수 있는 동박 적층판을 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 비아홀의 층간 단락을 방지할 수 있는 동박 적층판의 제조방법을 도시한 순서도이다.
도 5는 S100 단계를 도시한 단면도이다.
도 6은 S200 단계를 도시한 단면도이다.
도 7은 S300 단계를 도시한 단면도이다.
도 8은 S400 단계를 도시한 단면도이다.
도 9는 S500 단계를 도시한 단면도이다.
1 is a flowchart showing a manufacturing process of a conventional copper clad laminate.
2 is a cross-sectional view showing a conventional copper-clad laminate.
3 is a cross-sectional view illustrating a copper-clad laminate capable of preventing an interlayer short-circuit of a via hole according to the present invention.
4 is a flowchart showing a method of manufacturing a copper clad laminate capable of preventing an interlayer short circuit of a via hole according to the present invention.
5 is a sectional view showing the step S100.
6 is a cross-sectional view showing the step S200.
7 is a sectional view showing the step S300.
8 is a sectional view showing the step S400.
9 is a sectional view showing the step S500.

이하에서는 본원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 구현예 및 실시예를 들어 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments and examples of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention.

그러나 본원은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 구현예 및 실시예에 한정되지 않으며, 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정 해석되지 아니하며, 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.However, the present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments and examples described herein, and the terms and words used in the specification and claims are not to be construed in a conventional or dictionary sense, It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements as well, without excluding other elements unless specifically stated otherwise.

이하에서는 본 발명에 따른 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판 및 그 제조 방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of a copper-clad laminate and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판을 도시한 단면도이다. 3 is a cross-sectional view illustrating a copper-clad laminate capable of preventing short-circuiting of a via hole according to the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판은 하부 적층부(100)과 상부 적층부(200), 그리고 하부 적층부(100)과 상부 적층부(200)의 합지 및 차폐시키는 차폐부(300)와, 비아홀(400) 및 도금관(500)을 포함한다.3, the copper-clad laminate according to the present invention includes a lower laminate 100, an upper laminate 200, a laminate of the lower laminate 100 and the upper laminate 200, A shielding portion 300 for shielding the via hole 400, and a plating pipe 500.

하부 적층부(100)은 동박 적층판의 하면을 이루는 하부 동박판(110)과, 하부 동박판(110)의 상측에 적층되는 하부 절연체(120)를 포함한다. The lower laminate part 100 includes a lower copper foil 110 forming a lower face of the copper-clad laminate and a lower insulator 120 laminated above the lower copper foil 110.

하부 동박판(110)은 동박 적층판의 하면을 이루며 안테나의 패턴이 형성된다. The lower copper foil 110 forms the lower surface of the copper clad laminate and forms a pattern of the antenna.

하부 절연체(120)는 양면에 각각 접착제(131, 132)가 도포되어 하부 동박판(110)의 상면과 차폐체(310)의 하면에 각각 접착된다. 여기서, 하부 절연체(120)는 차폐체(310)와 하부 동박판(110) 사이를 절연시킬 수 있도록, 예를 들면, 폴리이미드(POLYIMIDE) 계열로 제조될 수 있다. Adhesives 131 and 132 are applied to both surfaces of the lower insulator 120 and bonded to the upper surface of the lower copper foil 110 and the lower surface of the shield 310, respectively. Here, the lower insulator 120 may be made of, for example, a polyimide series so as to insulate the shield 310 from the lower copper foil 110. [

차폐부(300)는 전자파등의 전기적 특성의 노이즈를 차폐할 수 있는 금속 계열의 판형 시트로 제작된 차폐체(310)와, 차폐체(310)의 상면에서 도포되어 상부 적층부(200)을 접착 고정시키는 합지수단(320)을 포함한다. The shielding unit 300 includes a shield 310 made of a metal plate type sheet capable of shielding noise of electrical characteristics such as electromagnetic waves and a shielding unit 310. The shielding unit 300 is coated on the upper surface of the shielding unit 310, (320).

차폐체(310)는 금속 계열의 판형 시트(SHEET)로서 하부 절연체(120)의 상면에 도포된 제2접착제(132)에 의해 하부 절연체(120)의 상면에 적층된다. 여기서, 차폐체(310)는 충진홀(311)과, 충진홀(311)의 내측 벽면에 고정되는 홀 절연재(312)를 포함한다. The shield 310 is laminated on the upper surface of the lower insulator 120 by a second adhesive 132 applied to the upper surface of the lower insulator 120 as a metal type sheet SHEET. The shield 310 includes a filling hole 311 and a hole insulating material 312 fixed to an inner wall surface of the filling hole 311.

충진홀(311)은 차폐체(310)의 상면에서 내향된 오목형의 홀로서 상면이 개방되고, 바닥면과 벽면에 의해 차폐체(310)의 내측에 빈공간을 이룬다.The filling hole 311 is a concave hole opened inwardly from the upper surface of the shielding body 310 and has an open space inside the shielding body 310 by the bottom surface and the wall surface.

홀 절연재(312)는 충진홀(311)의 벽면 및/또는 바닥면에 고정되어 후술되는 도금된 비아홀(400)과의 차폐체(310)간을 절연시킨다. The hole insulating material 312 is fixed to the wall surface and / or the bottom surface of the filling hole 311 to insulate the shielding body 310 from the plated via hole 400 described later.

합지수단(320)은 차폐체(310)의 상면에 도포되어 충진홀(311)을 충진시킴과 동시에 상부 적층부(200)를 접착 고정시키는 역할을 수행한다. 예를 들면, 합지수단(320)은 액상 또는 젤형상의 에폭시(EPOXY), 글라스 에폭시계, 아크릴계, 실리콘계, PET계 및 PC계 레진(RESIN)중 선택된 어느 하나로 차폐체(310)의 상면에 소정의 두께로서 도포됨과 동시에 충진홀(311)을 충진 시킨다. The laminating means 320 is applied to the upper surface of the shielding body 310 to fill the filling hole 311 and adhesively fix the upper stacking portion 200. For example, the luting means 320 may be formed of any one selected from liquid or gel epoxy (EPOXY), glass epoxy, acrylic, silicone, PET, and PC resin And is filled with the filling hole 311 at the same time.

또한, 합지수단(320)은 충진홀(311)을 충진시키는 충진수단(도면번호 부여되지 않음)과, 상부 적층부(200)을 합지시킬 수 있는 접착 수단(도면번호 부여되지 않음)으로 구분하여 사용함도 가능하다. 예를 들면, 충진수단은 액상 또는 젤 형상의 에폭시 계열 레진을 적용하고, 접착수단은 에폭시 계열의 레진이 충진홀(311)에 충진된 이후에 차폐체(310)의 상면에 접착되는 양면테이프를 적용할 수 있다. The laminating means 320 is divided into packing means (not numbered) for filling the filling hole 311 and bonding means (not numbered) for laminating the upper laminated portion 200 It is possible to use it. For example, a liquid or gel-like epoxy resin is used as the filling means, and the adhesive means is a double-sided tape applied to the upper surface of the shielding body 310 after the epoxy resin is filled in the filling hole 311 can do.

합지수단(320)은 상술한 바로서 한정되는 것이 아니며, 충진홀(311)을 충진시킬 수 있고, 차폐체(310)의 상면에 적측되는 상부 적층부(200)을 접착고정시킬 수 있는 단수 또는 복수의 수단을 포함한다. The laminating means 320 is not limited to the one described above and may be a single or a plurality of laminating means capable of filling the filling hole 311 and adhering and fixing the upper laminate portion 200 on the upper surface of the shielding material 310 Lt; / RTI >

상부 적층부(200)는 합지수단(320)의 상측에 적층되는 상부 절연체(220)와, 상부 절연체(220)의 상측에 적층되는 상부 동박판(210)을 포함한다. The upper laminate portion 200 includes an upper insulator 220 laminated on the upper side of the lamination means 320 and an upper copper laminate 210 laminated on the upper side of the upper insulator 220.

여기서, 상부 절연체(220)는 합지수단(320)에 의해 접착고정되어 차폐체(310)와 상부 동박판(210) 사이를 절연시킨다. Here, the upper insulator 220 is adhered and fixed by the joining means 320 to insulate the shield 310 from the upper copper foil 210.

상부 동박판(210)은 상부 절연체(220)의 상면에 도포된 접착제(231)에 의해 접착 고정되어 동박 적층판의 상면을 이룬다.The upper copper foil 210 is adhered and fixed by an adhesive 231 applied on the upper surface of the upper insulator 220 to form the upper surface of the copper clad laminate.

비아홀(400)은 하부 동박판(110)과 상부 동박판(210) 사이를 연통하도록 연통되고, 도금관(500)은 비아홀(400)의 내측에 도금된 것으로서 하부 동박판(110)과 상부 동박판(210) 사이를 전기적으로 통전시킨다. The via hole 400 is communicated to communicate between the lower copper foil 110 and the upper copper foil 210. The plating pipe 500 is plated on the inner side of the via hole 400, And the thin plate 210 is electrically energized.

여기서, 구리 도금된 비아홀(400)은 충진홀(311)을 거쳐 연장된다. 이때, 충진홀(311)은 가로방향 길이가 비아홀(400)의 직경보다 크기 때문에 비아홀(400)의 도금관(500)과 차폐체(310)간에 직접적인 접촉이 이루어지지 않도록 한다. Here, the copper-plated via hole 400 extends through the filling hole 311. At this time, since the length of the filling hole 311 is larger than the diameter of the via hole 400, direct contact between the plating pipe 500 of the via hole 400 and the shielding body 310 is prevented.

즉, 본 발명은 차폐체(310)에 에폭시 계열의 레진으로 충진된 충진홀(311)을 연통하도록 비아홀(400)을 형성함에 따라 차폐체(310)와 비아홀(400)간의 단락(SHORT)을 방지할 수 있다. That is, according to the present invention, since the via hole 400 is formed in the shield 310 so as to communicate the fill hole 311 filled with the epoxy resin, it is possible to prevent the short circuit between the shield 310 and the via hole 400 .

이하에서는 상기와 같은 구성을 포함하는 본 발명의 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판의 제조 방법을 설명한다. Hereinafter, a method of manufacturing a copper-clad laminate capable of preventing short-circuiting of a via hole according to the present invention will be described.

도 4는 본 발명에 따른 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판의 제조방법을 도시한 순서도이다.4 is a flowchart showing a method of manufacturing a copper clad laminate capable of preventing short-circuiting of a via hole according to the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명은 차폐체(310)에 충진홀(311)을 가공하는 S100 단계와, 차폐부(300)와 하부 적층부(100)을 합지하는 S200 단계와, 차폐부(300)에 합지수단(320)을 도포하는 S300 단계와, 상부 적층부(200)을 합지시키는 S400 단계와, 비아홀(400)을 가공하는 S500 단계와, 비아홀(400)을 도금하는 S600 단계를 포함한다. Referring to FIG. 4, the present invention includes a step S100 of processing the filler hole 311 in the shielding body 310, a step S200 of joining the shielding part 300 and the lower stacking part 100, The step S300 of applying the laminating means 320 to the upper layer portion 200, the step S400 of joining the upper layer portion 200, the step S500 of processing the via hole 400, and the step S600 of plating the via hole 400.

S100 단계는, 도 5를 참조하면, 차폐체(310)의 상면에서 내향되어 바닥면과 벽면을 갖는 소정의 공간을 갖도록 충진홀(311)을 가공하는 단계이다. 여기서, 충진홀(311)은, 예를 들면, 상면이 개방되고 벽면과 바닥면을 갖는 컵 형상으로 이루어진다. Referring to FIG. 5, step S100 is a step of processing the filling hole 311 so as to have a predetermined space having a bottom surface and a wall surface inwardly from the top surface of the shield 310. [ Here, the filling hole 311 is, for example, in the form of a cup having a top surface opened and a wall surface and a bottom surface.

또한, S100 단계는 충진홀(311)의 벽면에 밀착되도록 홀 절연재(312)를 설치한다. In step S100, a hole insulating material 312 is provided so as to be in close contact with a wall surface of the filling hole 311.

이때, 홀 절연재(312)는 판재로서 충진홀(311)의 벽면에 밀착되어 고정된다. 바람직하게로는 홀 절연재(312)는 절연 가능한 재질의 판재로서 일면에 접착액이 도포되어 충진홀(311)의 벽면에 고정된다. At this time, the hole insulating material 312 is fixed to the wall surface of the filling hole 311 as a plate material. Preferably, the hole insulating material 312 is an insulating plate material, and the adhesive liquid is coated on one surface thereof and fixed to the wall surface of the filling hole 311.

S200 단계는, 도 6을 참조하면, 충진홀(311) 및 홀 절연재(312)가 형성된 차폐체(310)를 하부 적층부(100)에 합지시키는 단계이다. 여기서, 하부 적층부(100)은 하면을 이루는 하부 동박판(110)의 상측에서 하부 절연체(120)가 적층되며, 하부 절연체(120)의 양면에는 각각 접착제(131, 132)가 도포되었다. 따라서, 차폐체(310)는 하부 절연체(120)의 상면에 도포된 접착제(131, 132)에 의해 접착되어 하부 적층부(100)에 합지된다. Referring to FIG. 6, in step S200, the shield 310 having the filling hole 311 and the hole insulating material 312 is joined to the lower stacking unit 100. The lower laminate part 100 has a lower insulator 120 laminated on the lower surface of the lower copper foil 110. Adhesives 131 and 132 are applied to both surfaces of the lower insulator 120. [ Therefore, the shielding body 310 is bonded to the lower stacking unit 100 by the adhesive 131 or 132 applied on the upper surface of the lower insulator 120.

S300 단계는, 도 7을 참조하면, 합지수단(320)(예를 들면, 에폭시 계열의 레진)을 도포하여 충진홀(311)을 충진시킴과 동시에 차폐체(310)의 상면에 설정된 두께 만큼 도포하는 단계이다. 이때, 충진홀(311)은 합지수단(320)이 충진된다. Referring to FIG. 7, in step S300, the filler hole 311 is coated by applying a joining means 320 (e.g., an epoxy resin) to the upper surface of the shielding body 310 . At this time, the filling hole 311 is filled with the joining means 320.

S400 단계는, 도 8을 참조하면, 상부 동박판(210)과 상부 절연체(220)가 순차적으로 적층된 상부 적층부(200)을 합지수단(320)의 상측으로 적층시켜 하부 적층부(100)와 상부 적층부(200)를 합지하는 단계이다. 여기서, 상부 적층부(200)는 다리미나 퀵프레스(QUICK PRESS)와 같은 장비를 이용하여 가접착된 상태이며, 상부 적층부(200)가 차폐체(310)의 상면에 적층된 이후에 핫프레스(HOT-PRESS)와 같은 장비를 이용한 열압착 공정에 의해 합지된다. 이때, 열압착 공정은 60~250℃의 온도와, 150 Kg/㎠ 이하의 압력에서 진행될 수 있다. 8, the upper laminate part 200 in which the upper copper foil 210 and the upper insulator 220 are sequentially laminated is laminated on the upper side of the lamination means 320 to form the lower laminate part 100, And the upper stacking unit 200 are joined together. The upper lamination part 200 is laminated on the upper surface of the shielding body 310 and is then pressed by a hot press (for example, HOT-PRESS). At this time, the thermocompression process can be carried out at a temperature of 60 to 250 ° C and a pressure of 150 Kg / cm 2 or less.

S500 단계는, 도 9를 참조하면, S400 단계에서 합지된 동박 적층판에 비아홀(400)을 가공하는 단계이다. 여기서, 비아홀(400)은 하측의 하부 동박판(110)과, 상측의 상부 동박판(210) 사이를 통전시키도록 수직으로 관통형성된다. 이때, 비아홀(400)은 충진홀(311)을 통과하도록 연장된다. Referring to FIG. 9, step S500 is a step of processing the via hole 400 in the copper-clad laminate laminated in step S400. Here, the via hole 400 is vertically formed so as to conduct electricity between the lower movable copper foil 110 and the upper upper copper foil 210. At this time, the via hole 400 extends to pass through the filling hole 311.

아울러, 충진홀(311)의 직경은 비아홀(400)의 직경보다 크게 형성됨에 따라 차폐체(310)와 비아홀(400) 사이가 이격되고, 이격된 공간은 상술한, 합지수단(320)에 의해 충진되어 있다. Since the diameter of the filling hole 311 is larger than the diameter of the via hole 400, the shield 310 is spaced apart from the via hole 400 and the spaced space is filled with the above- .

S600 단계는 비아홀(400)이 통전될 수 있도록 비아홀(400)의 내벽에 도금공정을 진행하여 도금관(500)을 형성하는 단계이다. 이때, 도금관(500)의 외벽은 차폐체(310)의 충진홀(311) 벽면과의 사이에 이격되어 합지수단(320)으로 충진된 공간을 이룬다. In step S600, the plating process is performed on the inner wall of the via hole 400 to form the plating pipe 500 so that the via hole 400 can be energized. At this time, the outer wall of the plating pipe 500 is spaced apart from the wall surface of the filling hole 311 of the shielding body 310 to form a space filled with the joining means 320.

따라서, 본 발명에 따른 비아홀(400)은 차폐체(310)와 도금관(500) 사이가 이격되고, 그 사이가 합지수단(320)이 충진됨에 따라 종래의 비아홀(400)과 도금관(500)간의 전기적 접촉에 의한 통전이 이루어지지 않는다. Accordingly, the via hole 400 according to the present invention is formed by the conventional via hole 400 and the plating tube 500 as the shielding body 310 and the plating tube 500 are spaced apart and the gap means 320 is filled therebetween. No electric current is generated due to electrical contact between the electrodes.

이상에서 설명된 본 발명의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations may be made in the present invention.

그러므로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Therefore, it is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiments. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims. It is also to be understood that the invention includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

100 : 하부 적층부 110 : 하부 동박판
120 : 하부 절연체 131, 132, 231 : 접착제
200 : 상부 적층부 210 : 상부 동박판
220 : 상부 절연체 300 : 차폐부
310 : 차폐체 311 : 충진홀
312 : 홀 절연재 320 : 합지수단
400 : 비아홀 500 : 도금관
100: lower lamination part 110: lower copper laminate
120: lower insulator 131, 132, 231: adhesive
200: upper laminate part 210: upper copper thin plate
220: upper insulator 300: shield
310: shielding body 311: filling hole
312: Hole insulating material 320: Lapping means
400: via hole 500: plating tube

Claims (8)

상부에 형성되는 상부 동박판과, 상기 상부동박판을 절연시키는 상부 절연체가 적층된 상부 적층부;
하부에 형성된 하부 동박판과, 상기 하부 동박판을 절연시키는 하부 절연체가 적층된 하부 적층부;
상기 상부 적층부와 하부 적층부 사이에서 노이즈를 차폐시키는 차폐체를 구비하는 차폐부; 및
상기 상부 동박판과 하부 동박판 사이로 연통되어 상호 간에 통전 가능하도록 도금된 비아홀;을 포함하고,
상기 차폐체는
도금된 비아홀의 외벽과 이격된 공간을 이루도록 내향된 충진홀;을 포함하는 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판.
An upper laminate part having an upper copper foil formed on the upper part and an upper insulating part insulating the upper copper foil;
A lower laminated portion having a lower copper foil formed on a lower portion thereof and a lower insulator insulating the lower copper foil;
A shielding portion having a shield for shielding noise between the upper laminated portion and the lower laminated portion; And
And a via hole which is connected to the upper copper foil and the lower copper foil and is plated so as to be energized with each other,
The shield
And a filling hole which is inwardly directed to form a spaced space from an outer wall of the plated via hole.
제1항에 있어서, 상기 차폐부는
상기 차폐체의 상면에 도포되어 상기 상부 적층부와 차폐체를 접착시키도록 합지수단을 더 포함하는 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판.
The apparatus of claim 1, wherein the shield
And a jointing means for applying a top coat to the upper surface of the shielding member and bonding the upper laminated portion to the shielding member.
제2항에 있어서, 상기 합지수단은
액상 또는 젤형상의 에폭시, 글라스 에폭시, 아크릴, 실리콘, PET, PC중 선택된 어느 하나로 제조된 레진(RESIN)인 것을 특징으로 하는 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판.
3. The apparatus of claim 2,
Wherein the resin is a resin made of one selected from the group consisting of epoxy, glass epoxy, acrylic, silicone, PET and PC.
제2항에 있어서, 상기 충진홀은 상기 합지수단이 충진되는 것을 특징으로 하는 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판.
3. The copper-clad laminate according to claim 2, wherein the filling hole is filled with the joining means.
a)노이즈를 차폐시키는 차폐체에 내향된 충진홀을 가공하는 단계;
b)하부면을 이루는 하부 동박판과, 하부 절연체를 적층시키고, 하부절연체의 상면에서 상기 차폐체를 합지하는 단계;
c)상기 차폐체의 상면에 액상 또는 젤 형상으로 접착력을 갖는 합지수단을 도포하는 단계;
d)상면을 이루는 상부 동박판과 상부 절연체를 적층시키고, 상기 합지수단이 도포된 차폐체의 상면에 적층시켜 합지하는 단계;
e)상기 상부 동박판과 하부 동박판 사이를 수직으로 연통하는 비아홀을 형성하고, 상기 비아홀에 통전 가능하게 도금하는 단계;를 포함하고,
도금된 상기 비아홀의 외벽과 상기 충진홀의 벽면 사이는 이격된 것을 특징으로 하는 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판의 제조방법.
a) machining an inward filling hole in a shield for shielding noise;
b) stacking the lower copper foil, the lower copper foil and the lower insulator, and joining the shield on the upper surface of the lower insulator;
c) applying a jointing means having an adhesive force in liquid or gel form to the upper surface of the shielding body;
d) laminating an upper copper foil and an upper insulator, which form an upper surface, and laminating and laminating the upper copper foil and the upper insulator on the upper surface of the shielding material coated with the joining means;
e) forming a via hole vertically communicating between the upper copper foil and the lower copper foil, and plating the via hole to be conductive,
And the outer wall of the plated via hole and the wall surface of the filling hole are spaced apart from each other.
제5항에 있어서, 상기 합지수단은
액상 또는 젤형상의 에폭시, 글라스 에폭시, 아크릴, 실리콘, PET, PC중 선택된 어느 하나로 제조된 레진(RESIN)인 것을 특징으로 하는 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판의 제조방법.
6. The apparatus of claim 5,
Wherein the resin is a resin made of at least one selected from the group consisting of epoxy, glass epoxy, acrylic, silicone, PET, and PC in the form of liquid or gel.
제5항에 있어서, 상기 a) 단계에서 상기 충진홀은
상면이 개방되고, 벽면과 바닥면을 갖는 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판의 제조방법.
6. The method of claim 5, wherein in step a)
A method for manufacturing a copper-clad laminate, which is capable of preventing short-circuiting of a via hole having an open top surface and a wall surface and a bottom surface.
제5항에 있어서, 상기 c) 단계에서 상기 합지수단은
상기 차폐체의 상면과, 상기 충진홀의 빈 공간에 충진되는 것을 특징으로 하는 비아홀의 단락 방지가 가능한 동박 적층판의 제조방법.

6. The method of claim 5, wherein, in step c)
Wherein the filler is filled in an upper surface of the shielding body and in an empty space of the filler hole.

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KR20140057861A (en) 2012-11-05 2014-05-14 삼성전기주식회사 Method of manufacturing printed circuit board

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