KR20180080714A - 와이어 또는 와이어 부품의 산세 및 인산염 처리 장치, 및 와이어 또는 와이어 부품의 코팅 처리 방법 및 처리 설비 - Google Patents

Abstract

본 발명은 처리될 금속 대상물(2)을 처리하기 위한 처리 장치에 대한 것이며, 상기 대상물(2)은 와이어 또는 와이어 부품이고, 상기 처리는 적어도 상기 처리 대상물(2)의 산세 및 인산염 처리를 포함하며, 상기 인산염 처리에 의해 상기 처리 대상물(2)의 표면에 보호층이 생성되며; 상기 처리 장치(1)는, 처리 대상물(2)을 보유하고 유동성 처리 물질(6)을 보유하기 위한 처리 용기(4)와, 상기 처리 물질(6)의 전부 또는 일부를 순환시키기 위한 펌프 장치(10)를 포함하며, 상기 처리 물질(6)은 상기 처리 대상물(2)의 전부 또는 일부, 특히 전체 처리 대상물(2) 둘레로 흐르고, 상기 처리 물질(6)은 인 또는 인산염 함유 용액, 특히 인산이며, 여기서 인 또는 인산염 함유 용액은 한편으로 물과 다른 한편으로 반응 물질로 이루어지며, 상기 반응 물질은 인 또는 인산염, 그리고 바람직하게는 하나 이상의 억제제를 함유하는 처리 효과를 향상시키는 하나 이상의 추가 물질로 이루어지며, 반응 물질 중의 인 또는 인산염의 분율은 98 부피% 이상, 특히 바람직하게는 99 부피% 이상이고, 상기 반응 물질은 바람직하게는 염산 또는 황산을 함유하지 않으며, 바람직하게는 불소, 염소, 붕소, 요오드, 납, 수은 및 셀레늄을 함유하지 않으며, 또한, 반응 물질은 물과 특정 비율로 혼합되며, 여기서 특정 비율은 하한과 상한 사이이고, 하한은 2 리터 물에 대해 1 kg 반응 물질의 비율의 혼합물에 의해 규정되며, 상한은 12 리터 물에 대해 1 kg 반응 물질의 비율로 규정되며, 특히 상기 혼합물은 6 리터 물에 대해 1kg 반응 물질의 비율로 존재한다.

Description

와이어 또는 와이어 부품의 산세 및 인산염 처리 장치, 및 와이어 또는 와이어 부품의 코팅 처리 방법 및 처리 설비

청구항 1에 기재된 본 발명은 대상물의 단일-단계 처리 장치에 관한 것이고, 청구항 10에 기재된 발명은 처리 설비에 관한 것이며, 청구항 11에 기재된 발명은 금속 처리 대상물을 적어도 산세 및 인산염 처리하는 처리 방법에 관한 것이다.

대상물을 인산염 처리하기 위한 이전의 처리 설비는 다수의 작업 단계, 특히 7개의 작업 단계가 필요하며, 이를 위해 복수의 상이한 처리조(bath)를 갖는다. 대상물은 초기에 대상물을 탈지하기 위한 제1 액체가 제공되는 제1 처리조에 배치된다. 탈지 후, 대상물은 제1 처리조로부터 제거되어 제2 처리조로 운반되어야 한다. 제2 처리조에는 대상물을 헹구기 위한 린스 액이 제공된다. 헹군 후, 대상물은 제3 처리조로 운반된다. 제3 처리조는 염산/황산 혼합물로 채워진다. 염산/황산 처리 후, 대상물은 대상물을 헹구기 위해 각각 린스 액으로 채워진 2개의 추가 처리조로 연속으로 운반된다. 또한, 마지막 헹굼 처리조 이후 대상물은 안정화(passivation)를 위한 처리조로 운반된다. 안정화 후, 대상물은 인산염 처리된 다음 건조를 위해 다른 위치로 운반된다. 이러한 시설에서, 탈지 처리조들 및 처리조들 내의 독성이 강하고 환경에 유해한 화학 물질은 약 6 ~ 8주의 제조 시간 후에 완전히 교체되어야 한다. 왜냐하면, 이 시간 이후에는 상기 화학 물질들이 고갈되고, 형성되는 슬러지는 처리조에서 제거되어야 하기 때문이다. 이는 설비 가동 중단 시간과 높은 교체 및 폐기 비용을 의미한다.

종래 기술로부터 공지된 설비는 한편으로는 6개의 상이한 처리조를 제공해야 하므로 매우 많은 양의 공간이 필요하지만, 다른 한편으로는 매우 많은 수의 상이한 화학 물질을 대량으로 요구하는 것이 명백하다. 또한, 대상물을 한 처리조에서 다른 처리조로 운반하는 데는 많은 시간과 적절한 운송 장치 및 작업 인력이 필요하다. 또한, 사용되는 화학 물질들은 예를 들어 황산과 염산이 사용된다는 사실로 인해 독성이 있거나 또는 환경적으로 유해하며, 그 결과 고가의 안전 조치가 수행되어야 하거나 작업자 및 환경뿐만 아니라 보통 강으로 만들어진 생산 설비 구조에 높은 위험이 있다.

추가의 목표는 처리된 공작물 또는 처리 대상물의 수소 취성(hydrogen emb- rittlement)을 방지하는 것이다. 수소 취성은 일반적으로 금속 격자 내에 수소의 침투 및 층간 삽입(intercalation)으로 인해 발생하며, 재료 피로를 초래할 수 있다. 수소가 포함된 금속 가공에서 수소 부식 또는 기타 화학 반응으로 인하여, 재료 표면에 비확산 H₂ 분자를 형성하는 것보다 더 빠르게 재료에 결합하는 원자 수소가 금속 표면을 형성할 때, 수소 취성은 일어난다. 수소의 일부는 금속 격자 내에 층간 삽입되거나 결함 또는 결정립계에 부착된다. 예를 들어 인장 잔류 응력 및/또는 인장 하중 응력의 도입으로 인해 특정 대상물에 작용하는 응력에 따라 재료 파손의 위험이 있다.

따라서, 본 발명의 목적은 처리 장치 및 처리 방법을 제공하는 것이며, 본 발명에 따른 처리 장치 및 본 발명에 따른 처리 방법의 사용에 의해 종래 기술로부터 공지된 대상물을 인산염 처리하기 위한 처리 설비의 하나 이상의 단점, 바람직하게는 몇 가지 단점, 특히 바람직하게는 전술한 모든 단점을 극복하는 것이다.

또한 본 발명의 다른 목적은 특히 바람직하게는 본 발명에 따라 처리되는 처리 대상물의 표면 품질을 개선시키는 것이다.

본 발명의 제1 측면에 따르면, 상기 목적은 금속 처리 대상물을 처리하기 위한 처리 장치에 의해 달성되며, 상기 처리 대상물은 와이어 또는 와이어 부품이고, 상기 처리는 적어도 상기 처리 대상물의 산세 및 인산염 처리를 포함하며, 상기 인산염 처리에 의해 상기 처리 대상물의 표면에 보호층이 생성된다. 본 발명에 따른 처리 장치, 특히 처리조 설비는 바람직하게는 처리 대상물을 보유하고 유동성 처리 물질을 보유하기 위한 처리 용기와, 상기 처리 물질의 전부 또는 일부를 교체하기 위한 펌프 장치를 포함하며, 상기 처리 물질은 상기 처리 대상물의 전부 또는 일부, 특히 전체 처리 대상물 둘레로 흐르고, 상기 처리 물질은 인 또는 인산염 함유 용액, 특히 인산이며, 여기서 인 또는 인산염 함유 용액은 한편으로 물과 다른 한편으로 반응 물질로 이루어지며, 상기 반응 물질은 인 또는 인산염 그리고 바람직하게는 하나 이상의 억제제를 함유하는 처리 효과를 향상시키는 하나 이상의 추가 물질 및 물, 특히 탈 이온 수로 이루어지며, 반응 물질 중의 인 또는 인산염의 분율은 98 부피% 이상, 바람직하게는 98 부피% 이상이고, 처리 효과를 향상시키는 물질, 특히 하나 이상의 억제제는 바람직하게는 반응 물질의 0.1 부피% - 2.5 부피%, 바람직하게는 0.2 부피% - 2 부피%, 특히 바람직하게는 0.5 부피% - 1.5 부피% 이다. 100 부피% 이하의 추가 부분들이 바람직하게는 물, 특히 탈 이온수에 의해 형성된다. 상기 반응 물질은 바람직하게는 염산 또는 황산을 함유하지 않으며, 바람직하게는 불소, 염소, 붕소, 요오드, 납, 수은 또는 셀레늄도 함유하지 않는다. 또한, 반응 물질은 바람직하게는 물과 특히 특정 비율로 혼합되며, 여기서 특정 비율은 하한과 상한 사이이고, 하한은 1 리터 물에 대해 1 kg 반응 물질의 비율의 혼합물에 의해 정의되며, 상한은 12 리터 물의 비율로 정의되며, 특히 상기 혼합물은 6 리터 물에 대해 1kg 반응 물질의 비율로 존재한다.

따라서, 반응 물질은 반응 물질 1 kg 대 물 3 리터와 반응 물질 1 kg 대 물 9 리터의 사이의 비율로 물과 혼합되는 것이 바람직하다. 특히 반응 물질 1 kg 대 물 5 리터와 반응 물질 1 kg 대 물 7 리터 사이의 비율로 물과 혼합되며, 특히 정확하게 또는 실질적으로 1 kg의 반응 물질 대 5.5 리터의 물의 비율로 또는 정확히 또는 실질적으로 반응 물질 1 kg 대 물 5.8 리터 또는 정확하게 또는 실질적으로 반응 물질 1 kg 대 물 6.2 리터의 비율로 또는 정확히 또는 실질적으로 반응 물질 1 kg 대 물 6.5 리터의 비율로 혼합된다.

이러한 접근은 후속하는 형성 단계, 특히 후속 인발(drawing) 단계에서도 손상되지 않고 유지되는 보호층이 제조된다는 사실로 인해 유리하다. 본 발명에 따른 장치에 의해 제조된 층은 탄성을 가지므로, 형성, 특히 인발에 적합하게 된다. 또한, 보호층은 예를 들어 처리 대상물의 재료가 산화되는 것을 방지하여, 본 발명에 따른 장치로 처리되는 처리 대상물이 처리되지 않은 대상물보다 훨씬 더 오래 공기에 노출될 수 있다.

본 발명의 다른 바람직한 실시 예에 따르면, 처리 물질 내에 부착되는 불순물, 특히 고체 입자를 교란시키는 교란 장치(turbulence device)가 제공되고, 상기 교란 장치는 하나 이상의 공급 장치 및 상기 처리 물질에 교란 유체를 공급하기 위한 복수의 출구 개구들을 가진 유체 라인 요소를 포함하며, 상기 교란 유체는 2 바(bar)보다 더 크고, 특히 3 바보다 더 크고, 4 바보다 더 크고, 5 바보다 더 크고, 6 바보다 더 크고, 7 바보다 더 크고 또는 최대 10보다 더 크고 또는 최대 15 바 또는 최대 20 바까지의 압력에서 상기 공급 장치에 의해 상기 유체 라인 요소에 공급된다.

이 실시 예는 독성 있는 또는 환경적으로 유해한 화학 물질이 사용되지 않기 때문에 효과적이다. 또한, 본 발명에 따른 처리 장치로 인해, 사용된 화학 시스템이 연속적으로 정제되는 시스템 레이아웃이 생성되기 때문에, 처리 물질은 6-8 주마다 교체되고 폐기될 필요가 없다. 증발 및 유출(carryover)로 인한 처리 물질의 손실은 물과 반응 물질을 첨가함으로써 보충될 수 있는데, 이는 연간 처리 물질의 필요한 변경 횟수를 4회 미만, 특히 2회 미만 또는 1회 미만으로 감소시킬 수 있다. 바람직하게는, 처리 물질은, 처리 물질 중에 미리 정해진 농도의 용해된 철이 존재하는 경우에만 교체되고, 용해된 철의 농도가 2%를 넘는 경우에만 교체가 일어나는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 따른 접근법으로 인해, 오염물 또는 불순물, 특히 슬러지 및/또는 금속 또는 녹 입자가 부착 방지되고, 및/또는 부착으로 인한 축적이 제거된다. 축적물은 상기 교란 장치에 의해 분리될 수 있으므로, 상기 불순물은 처리 물질 내에 부유 물질로서 다시 한번 유지될 수 있다. 부유 물질로서, 상기 불순물은, 처리 물질의 일부를 필터 장치에 공급함으로써 유지 챔버로부터 배출될 수 있다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시 예에 따르면, 상기 유체 라인 요소는 밸브 장치들에 의해 적어도 기능적으로 또는 부피로 서로 분리될 수 있는 다수의 라인 섹션들을 형성하며, 적어도 상기 라인 섹션들의 대부분은 처리 용기의 기저부의 영역 내에 위치된다. 상기 기저부의 영역은 처리 용기의 상부 측보다 기저부에 더 가깝게 위치되거나 배치되는 처리 용기의 임의의 부분으로 간주된다. 그러나 유체 라인 요소가 기저부의 일체형 부품으로 설계되거나 기저부 내에 형성되어, 유지 챔버를 향하는 기저부의 표면 아래에 완전히 또는 부분적으로 제공되는 것도 가능할 수 있다. 상기 유체 라인 요소는, 유지 챔버의 기저부로부터 50 cm 미만, 바람직하게는 30 cm 미만, 특히 바람직하게는 10 cm 미만 거리에 위치되도록 적어도 부분적으로 설계되는 것이 바람직하다. 기저부 위에 위치한 유체 라인 요소의 경우, 출구 개구들 또는 개별 출구 개구들, 또는 출구 개구들의 대부분 또는 출구 개구들의 소수는, 바닥에 도입 가능하거나(즉, 기저부의 방향으로 지향되거나), 또는 측면에 도입 가능하거나(즉, 유지 챔버의 벽 또는 측벽의 방향으로 지향되거나), 또는 상부에 도입 가능하다(즉, 처리 대상물이 통과하여 유지 챔버 내로 도입될 수 있는 유지 챔버의 입구 개구의 방향으로 지향된다). 또한, 다양한 튜브의 출구 개구가 다양한 방향으로 지향될 수 있다고 생각된다. 또한, 각각의 라인 섹션 또는 튜브 또는 개별 라인 섹션들 또는 튜브들에 대해, 제1 방향으로 지향된 제1 출구 개구들 및 제2 방향으로 지향된 제2 출구 개구들이 제공될 수 있으며, 제1 방향 및 제2 방향은, 바람직하게는 적어도 10 °, 바람직하게는 적어도 20 °, 특히 바람직하게는 적어도 45 ° 또는 적어도 60 °또는 적어도 90 °또는 적어도 120 °또는 적어도 150 °또는 최대 180 °다른 방향을 가지는 것이 바람직하다. 또한, 상기 제1 출구 개구에 대해서, 상기 제1 출구 개구와 제2 출구 개구 사이의 각도와 다른 각도로 지향된 제3 출구 개구들이 제공되는 것도 가능하다. 이것은 제4 출구 개구 및/또는 제5 출구 개구 등에도 유사하게 적용할 수 있다. 이 실시 예는, 교란 유체 또는 기능 유체 또는 유체 특히 공기의 도입이, 교란 유체에 의해 생성된 난류가 효과적으로 부착을 파괴하는 방식으로 지시된 방식으로 일어날 수 있다는 사실 때문에 효과적이다.

본 발명의 다른 바람직한 실시 예에 따르면, 라인 섹션은 튜브에 의해 형성되고, 특히 구리, 알루미늄, 철 및 / 또는 스테인리스 강으로 제조되며, 특히 2mm 내지 12mm 사이, 바람직하게는 3mm 내지 9mm 사이, 특히 바람직하게는 4mm 내지 6mm 사이의 튜브 직경을 가지며, 상기 튜브는 하나 이상의 분배기 유닛에 의해 서로 연결되고, 각각의 밸브 장치는 차단 밸브, 특히 차단 솔레노이드 밸브로서 설계된다.

출구 개구들은 바람직하게 구멍, 특히 보링 구멍으로 설계되며, 바람직하게는 0.5 mm 내지 8 mm 사이, 바람직하게는 1.5 mm 내지 6 mm 사이, 특히 바람직하게는 2.5 mm 내지 4 mm 사이, 특히 정확히 또는 실질적으로 3mm의 직경을 가진다.

본 발명의 다른 바람직한 실시 예에 따르면, 상기 공급 장치는 적어도 2 바 압력하에서 가스 특히 공기를 제공하기 위한 장치로서 설계된다. 상기 가스가 공기인 경우, 공기는 바람직하게는 본 발명에 따른 장치의 주위로부터의 주변 공기로 구성된다. 이 실시 예는 주변 공기가 무료로 이용 가능하다는 사실 때문에 효과적이고, 밀도가 낮기 때문에 처리 물질을 통해 자동으로 이동하고 이동 물질 밖으로 자동으로 이동한다. 공기는 처리 물질을 통과함으로써 처리 물질의 국부적인 변위를 가져와서 이동시키며, 그 결과로서 난류가 발생할 수 있다.

본 발명의 다른 바람직한 실시 예에 따르면, 처리 물질을 여과하기 위한 여과 장치가 제공되며, 여기서 처리 물질 내에 농축된 불순물이 상기 여과에 의해 제거된다. 또한, 상기 여과 장치 및 난류 장치를 작동시키기 위한 제어 장치가 제공되는 것이 바람직하다. 상기 여과 장치 및 난류 장치는 특히 바람직하게는 서로에 종속하여 적어도 가끔 작동 가능한 것이다.

이 실시 예는 상기 난류 장치와 여과 장치의 상호 작용에 의해 불순물이 매우 효율적으로 처리 물질로부터 제거될 수 있다는 사실 때문에 효과적이다.

본 발명의 다른 바람직한 실시 예에 따르면, 상기 난류 장치의 작동은, 유체를 제공하는 과정과 적어도 가끔 밸브 장치를 제어하는 과정을 포함하며, 여기서 밸브 장치들은 미리 결정된 패턴에 따라 특히 프로그램된 시간 간격으로 제어 가능하다. 따라서 상기 라인 요소 또는 개별 라인 섹션들의 개별, 복수, 대다수, 또는 모든 밸브 장치는, 유체가 개방 밸브 장치들에 부피로 연결된 모든 출구 개구들을 통해, 바람직하게는 소정의 기간 동안, 처리 물질에 공급되는 방식으로, 전환될 수 있다. 그러나 개개의 하나 이상의 밸브 장치가 연속적으로 특히 펄스 방식으로 전환되는 것도 생각할 수 있다. 그러나 개개의 밸브 장치들은 특히 바람직하게는 미리 결정된 프로그램 및/또는 바람직하게는 설정 가능한 간격 스위칭 및/또는 센서 장치에 의해 검출된 처리 물질의 상태 데이터의 함수로서 제어되는 것이다. 이에 의해 상기 난류 장치는 특히 바람직하게는 센서 데이터에 기초하여 활성화 및/또는 비활성화되는 것이다. 상기 센서 데이터는 예를 들어 상기 장치의 기저부 영역 및/또는 처리 용기의 하나 또는 개별 영역(들) 내 불순물의 비율에 관한 데이터를 포함할 수 있다. 추가로 또는 대안으로, 상기 난류 장치가 수동 및/또는 원격 제어에 의해 활성화 및/또는 비활성화되는 것을 생각할 수 있다.

또한, 상기 반응 물질은 염산 또는 황산을 함유하지 않는 것이 특히 바람직하다. 이것은 처리 대상물의 매우 간단한 처리가 본 발명을 통해 가능하다는 사실 때문에 효과적이다. 처리 대상물이 처리 물질에 침지되고, 처리 물질이 작용하고, 및 처리 대상물이 처리조로부터 제거된 후에 건조되는 것이 본질적으로 필수적이다. 특히, 초순수 인 또는 초순수 인산염으로 인해, 건조 후 처리 대상물에 보호층이 형성되므로, 선행 기술에서 필수적인 표면 안정화 및 후속 인삼염 처리 없이 상당히 긴 기간, 특히 수주 동안 추가의 부작용으로부터 보호되며, 특히 생성된 보호층은 선행 기술에 따른 인산염 처리보다 훨씬 우수하다. 이 방법은, 처리 물질이 불연성이고, 처리 물질의 사용에 의해 허용한계값(TLV: threshold limit value)을 초과하지 않으며, 부식성 증기가 발생하지 않으므로 배출 통풍이 필요하지 않다는 사실 때문에 효과적이다.

본 발명의 또 다른 이점은 처리 효과를 개선시키는 물질(들)로 인해 재료에 대한 상당한 보호가 제공되고 용접성이 악영향을 받지 않는다는 것이다.

또 다른 이점은 본 발명의 융통성이다. 예를 들어, 경화 설비에서의 전처리 및 후처리에서 또는 알루미늄 상의 산화물층 제거에서 사용될 수 있다. 또한, 주조 부품의 갈바니(galvanic) 마무리 중 백화(efflorescence)가 회피될 수 있다. 이는 주조 표면의 제거를 위한 스크레이퍼에서 상당한 절감을 제공한다. 또한, 예를 들어 수압 파이프와 파이프 라인은 헹굼 또는 중화의 필요 없이 단일 작업으로 건설 현장에서 직접 산세될 수 있다.

처리 대상 물체의 산세 및 인산염 처리에 추가하여, 처리 대상물의 탈지 및/녹 제거 및/또는 물때 제거 및/또는 보존 및/또는 석회질 제거가 특히 바람직하게는 본 발명에 따른 처리 장치에 의해 마찬가지로 이루어질 수 있다.

본 발명의 목적에 대해 달리 명시하지 않는 한, 본 발명에 관해 언급된 백분율은 부피% 이다. 또한, 본 발명과 관련하여 언급된 백분율 및 온도(℃)는 본 발명의 목적을 위해 달리 명시하지 않는 한 대기압 또는 표준 압력에 관련되며, 또한 명시된 온도(℃)는 상응하여 절대 온도에도 적용된다. 그러나, 본 발명의 전반적인 개시와 관련하여, 통상의 기술자는 물리적 파라미터가 변경되어야 할 경우에 물리적 단위에 관한 본 발명의 기재에 대한 추가 설명을 필요하지 않다. 왜냐하면, 통상의 기술자는 본 발명의 보호 범위를 벗어나지 않고서 결과적인 변화를 다른 물리적 변수에 대해 적절하게 적응시킬 수 있기 때문이다.

본 발명의 유리한 실시 예는 종속 청구항들에 의해 달성되고, 여기서 처리 용기 내에 유지될 수 있는 처리 물질의 온도를 제어하기 위한 온도 제어 장치가 제공되며, 처리 물질의 온도는 규정된 방식으로 상기 온도 제어 장치에 의해 조절 가능하다.

처리 물질의 바람직한 온도는 바람직하게는 0℃ 초과, 특히 5℃ 이상, 10℃ 이상, 15℃ 이상, 또는 17℃ 이상, 20℃ 이상, 25℃ 이상, 30℃ 이상, 35℃ 이상, 37℃ 이상 40℃ 이상, 바람직하게는 20℃ 내지 60℃ 사이, 특히 바람직하게는 30℃ 내지 50℃ 사이이다. 처리 물질의 온도 제어는 바람직하게는 처리 물질의 가열을 나타내는 것이지만, 온도 제어가 냉각을 나타내는 것으로 생각할 수도 있다. 또한, 온도 제어 장치에 의해 처리 물질이 때때로 가열될 수 있고 때때로 냉각될 수 있는 것으로 생각할 수 있다. 상기 온도 제어 장치는 바람직하게는 전기 가열 장치, 전기 냉각 장치 및/또는 열교환 시스템으로 설계된다. 작업 시퀀스는 처리 물질의 온도의 함수로서 제어될 수 있다. 엄밀하게는 예를 들면, 가속 인자는 녹의 탈지의 경우 20:20Cx6 일 수 있다. 즉, 처리 대상물은 20℃에서 2시간 동안 지속되는 처리에 의해, 또는 40℃에서 20분간 지속되는 처리에 의해 녹이 제거될 수 있다.

특히 바람직한 작동 온도 범위는 35℃ 내지 45℃이며; 이 온도 범위는 부식성을 갖거나 건강에 유해한 증기가 발생하지 않으므로 배기 환기가 필요하지 않기 때문에 유리하다. 그러나 예를 들어, 작업 영역이 극단적으로 낮거나 작업 영역이 환기되지 않을 때 배기 환기가 제공되는 것을 생각할 수 있다.

인 및 인산염 함유 용액은 바람직하게는 탈 이온수 및 반응 물질로 이루어지며, 탈 이온수 대 반응 물질의 비율은 1:4 내지 1:7 사이이고, 반응 물질이 고체 상태로 존재할 때 탈 이온수 대 반응 물질의 비율은 1:6, 또는 반응 물질이 액체 상태로 존재할 때 반응 물질 대 탈 이온수의 비율은 1:5인 것이 바람직하다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시 예에 따르면, 반응 물질은 또한 불소, 염소, 붕소, 요오드, 납, 수은 또는 셀레늄을 함유하지 않으므로, 본 발명에 따른 장치는 건강 또는 환경에 해로운 재료 또는 물질 없이 동작한다.

상기 펌프 장치는 바람직하게는 재순환 펌프로서 설계되고, 바람직하게는 처리 용기 내에서 처리 물질의 재순환을 일으킨다. 그러나 위어 흐름(weir flow)을 생성하기 위해 펌프 장치가 제공되는 것을 대안으로 또는 추가로 생각할 수 있다. 처리 물질이 특히 처리 용기 내로, 특히 처리조 재순환을 위해 배출되는 하나 이상의 노즐이 바람직하게는 상기 펌프 장치에 연결된다.

상기 처리 용기는 바람직하게는 임의의 원하는 크기로 구현 가능하다. 내측에, 즉 처리 물질과 접촉하고 있는 측에, 처리 용기는 특히 바람직하게는 처리 물질에 의해 공격받지 않는 재료 또는 재료 혼합물을 갖는다. 특히, 바람직한 재료의 예로는 스테인레스 강, GVP, PVC 등이 있다. 그러나 처리 물질과 접촉하는 표면이 이러한 물질로 제조될 뿐만 아니라, 처리 용기의 추가 요소, 특히 전체 처리 용기도 마찬가지로 그러한 재료 또는 재료의 혼합물로 만들어 질 수 있다.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 따르면, 처리 물질을 여과하기 위한 여과 장치가 제공되며, 여기서 처리 물질 내에 농축된 불순물이 상기 여과에 의해 처리 물질로부터 제거된다. 이 실시 예는 처리 물질이 처리 용기 내에서 연속적으로 또는 때때로 세정되거나 준비될 수 있기 때문에 유리하다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시 예에 따르면, 처리 용기는 2개 이상의 유지 챔버에 결합되며, 제1 유지 챔버는, 바람직하게는 처리 용기의 아래에 제공되고 일정량의 처리 물질을 보관하는 보충 유지 챔버이고, 제2 유지 챔버는 처리 용기의 측면에 제공된 온도 제어 챔버이고, 상기 온도 제어 장치는 적어도 부분적으로 상기 온도 제어 챔버 내에 위치된다. 제1 유지 챔버 또는 보충 챔버는 예를 들면 원하는 부피의 처리 물질을 보관하기 위해 사용될 수 있다. 또한, 상기 제1 유지 챔버 또는 보충 챔버가 보관을 위해 또는 침전물의 부착을 위해 사용되는 것을 생각할 수 있다. 상기 침전물은, 예를 들어, 처리 중에 처리 대상물로부터 분리되는 부분 또는 입자 일 수 있다. 온도 제어 챔버는 처리 용기의 측면에 배치되는 것이 바람직한데, 그 이유는 그리하면 온도 제어 장치에 대한 매우 양호한 접근이 제공될 수 있기 때문이다. 그러나 대안으로 온도 제어 장치가 제1 유지 챔버 또는 보충 챔버 내에, 즉 처리 용기 아래에 제공되거나 배치될 수도 있다. 이 실시 예는, 처리 물질의 개별 분량들이, 하나 이상의 보관 영역에 제공되거나 위치된 온도 제어 장치와 같은 장치에, 처리 대상물과의 충돌로 인해 손상을 줄 가능성 없이, 상이한 기능 영역들 또는 유지 챔버들 및 주요 유지 챔버 내로 통과할 수 있기 때문에 효과적이다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 처리 용기는 벽 위로 흐르는 처리 물질을 수집하기 위하여 수집 챔버로부터 벽에 의하여 분리되고, 수집 챔버에 수집된 처리 물질은 운반 장치에 의하여, 특히 펌프 장치에 의하여 컨베어 라인을 거쳐 처리 용기 내로 복귀 운반될 수 있다. 이 실시예는 처리 물질의 표면 위에 집적되고 처리 대상물로부터 분리되는 입자들과, 및/또는 처리 물질 표면 위에 형성되는 거품과, 및/또는 다른 재료 집적물이 처리 용기로부터 배출될 수 있으며 바람직하게 필터 장치로 공급될 수 있는 사실에 기인하여 바람직하다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 펌프 장치와 필터 장치는 컨베어 라인의 일체형 부품을 형성하고, 그리고 운반된 처리 물질은 바람직하게 펌프 장치에 의하여 필터 장치를 통해 운반된다. 이 실시예는 필터 장치를 통한 처리 물질의 운반이 그리고 적어도 처리 용기 내의 처리 물질의 부분적인 재순환이 이러한 배치에 의하여 발생되는 사실에 기인하여 바람직하다.

본 발명의 또 다른바람직한 실시예에 따라, 컨베어 라인은 처리 용기로부터 처리 물질의 일부를 수집 챔버 내로 배출하기 위한 경계 흐름이, 바람직하게 처리 용기 내로 복귀 운반되는 처리 물질을 통해 재생가능하도록 설계된다. 이 실시예는 필터 장치를 통한 처리 물질의 운반, 처리 용기의 처리 물질의 적어도 재순환과, 둑 흐름의 재생이 바람직하게 펌프 장치에 의하여 발생될 수 있는 사실에 기인하여 효과적이다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 처리 물질의 조성을 조정하기 위한 선량(dosing)성분의 첨가는, 장치가 제공되고, 처리 물질은 다수 성분들의 혼합물로 구성된다. 선량 장치는 치는 바람직하게 하나 이상의 센서 장치에 직접, 또는 제어 장치를 거쳐 간접으로 결합되고, 센서 장치들에 의하여 바람직하게 처리 물질의 조성의 감시 또는 분석 및/또는 처리 용기에 존재하는 처리 물질의 충진 레벨 또는 잔류 양 또는 부피의 감시가 가능해진다.

선량 장치는 특히 적절한 양의 손실된 처리 물질을 첨가함으로써 손실의 보충을 발생할 수 있고; 특히 증발 및/또는 침지 손실은 보충된다. 처리 물질, 특히 이온수, 반응 물질, 및 처리 효과를 향상시키는 처리 물질을 형성하는 성분의 첨가는 바람직하게 선량도징 장치를 통해 발생한다. 처리 물질을 형성하는 성분의 첨가는 바람직하게 고정 비율로, 특히 개별 성분들이 또한 처리 용기에 공급되는 비율, 또는 일부 다른 비율로 발생한다. 또한, 완성된 혼합물 또는 완성된 용액의 형태로 이미 첨가된 처리 물질이 첨가되는 것을 고려할 수 있다.

센서 장치는 바람직하게 농도를 결정하기 위하여, 적정을 실행하기 위한 장치로서 설계될 수 있다. 그러나, 또한 처리 물질 내로 물질을 선량하고 도입하는 것은 부분적으로, 때로, 또는 항상 수동으로 발생할 수 있는 것으로 생각할 수 있다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 이온수에 대한 반응 물질의 비율은 1:4와 1: 7 사이이고, 고체 상태로 반응 물질이 이온수에 혼합될 때 이온수에 대한 반응 물질의 비율은 바람직하게 1:6이거나, 또는 액체 상태의 반응 물질이 이온수에 혼합될 때 이온수에 대한 반응 물질의 비율은 바람직하게 1:5이다.

손실은 바람직하게 고정된 비율의 다수 물질로 유사하게 교체된다. 바람직한 물질은 이와 같이 희석 물질, 예컨대, 물, 특히 바람직하게 염분 제거수, 증류수, 또는 이온수와 혼합되는 유동가능하고, 특히 액체, 또는 고체 반응 물질이다. 또한, 희석 물질에 대한 반응 물질의 바람직한 혼합 비율은 1:2, 1:3, 1:4, 1:5, 1:5.5, 1:6, 1:6.5, 1:7.5; 1:8; 1:8.5; 1:9이다.

하나 이상의 첨가 물질의 용액 또는 혼합물은, 특히 하나 이상의 액체, 특히 이온수, 및/또는 하나 이상의 용해가능한 첨가제는 바람직하게 센서들에 의하여 생성된 값의 함수로서 자동으로 또는 수동으로 처리 물질과 혼합된다. 또한, 처리 물질에는 특히 산세 탈지 및/또는 소포용 첨가 물질을 고려할 수 있다. 첨가 물질은 바람직하게 처리 물질의 대략 0.5% 내지 10%, 특히 1% 내지 5%로서 혼합된다. 처리 대상물의 기본적인 균일한 표면 품질은 이로써 얻어지므로 이온수를 사용하는 것이 바람직하다.

가벼운 그리이스 부착물, 먼지 입자들, 오일, 탄소, 및 그래파이트와 같은 불순물이 처리 물질에 산세 탈지제를 첨가함으로써 동일한 공정 작동에서 제거될 수 있으므로 산세용 탈지제의 사용은 바람직하다.

본 발명의 하나의 특히 바람직한 실시예에 따라, 처리 물질은 인 또는 인산염-함유 용액, 특히 인산이고, 용액의 인 비율 또는 인산염 비율은 바람직하게 초순수, 즉, 75%보다 큰, 특히 75%, 80%, 82%, 85%보다 크며, 그리고 바람직하게 정확하게 또는 기본적으로 86%의 순도를 가지며, 값들은 부피 %로서 표현된다. 본 발명에 따른 처리 물질은 인 비율 또는 인산염 비율의 순도에 기인하여 실제로 불순물이 없으므로, 대응하는 보호층이 처리 대상물에 형성된다.

반응 물질의 pH는 바람직하게 기본적으로 1이고, 반응 물질의 밀도는 20℃에서 바람직하게 1.8이고, 반응 물질의 점화 온도는 바람직하게 280℃ 또는 바람직하게 280℃보다 더 높다.

알루미늄을 포함하거나 알루미늄으로 이루어진 처리 대상물의 경우, 처리 물질은 바람직하게 이온수를 함유하고, 이온수에 추가로 바람직하게 이온수 양의 1-10%, 특히 3-5% 양의 반응 물질을 함유한다. 처리조의 온도가 40℃ 내지 45℃에서, 즉, 처리 물질이 40℃ 내지 45℃ 온도로 제어될 때, 노출 시간, 즉, 처리 대상물이 처리 용기의 처리 물질에 노출되는 시간이 바람직하게 0.5분 내지 20분이고, 특히 바람직하게 1분 내지 10분이다. 반응 물질은 바람직하게 인산, 물, 특히 이온수와, 억제제로 구성된다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 처리 물질은 산세 탈지용 추가 물질을 함유하고, 또는 그러한 추가 물질은 처리 물질에 첨가되고, 산세 탈지 첨가제는 바람직하게 비이온 생분해성 계면활성제 및 억제제의 수용액, 특히 2-부틴-1,4-디올을 함유하고, 산세 탈지 첨가제는 처리 물질의 인 또는 인산염 함유 용액의 부피의 0.5% 내지 7% 부피로 첨가된다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 처리 물질은 소포제용 추가 물질을 함유하고, 소포제 첨가제는 바람직하게 트리이소부틸 포스페이트를 함유하고, 소포제 첨가제는 0.01% 내지 5% 부피로, 특히 처리 물질의 인 또는 인산염 함유 용액의 부피의 0.1% 내지 1% 부피로, 또는 0.01% 내지 5% 부피로, 특히 산세 탈지 첨가제에 첨가된 인 또는 인산염 함유 용액, 또는 처리 물질의 부피의 0.1% 내지 1% 부피로 첨가된다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 제어 장치가 구비되고, 제어 장치는 처리 물질이 목표 온도 또는 목표 온도 프로파일로 제어되도록 온도제어장치를 제어하고, 및/또는 제어 장치는 처리 물질이 목표 흐름속도 또는 목표 흐름 특성으로 운반되도록 펌프 장치를 제어하고, 및/또는 제어 장치는 처리 물질의 여과된 부분이 목표 순도를 가지도록 여과 장치를 제어하고, 및/또는 제어장치는 처리 물질의 목표 조성이 설정가능하도록 선량장치를 제어한다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 처리 대상물 및/또는 처리 물질에 작용하기 위한 초음파 장치는 처리 용기 내 또는 위에 위치된다. 처리 대상물의 전부 또는 일부분들의 이동은 바람직하게 초음파 작용에 의하여 발생된다. 와이어 또는 와이어 코일로서 설계된 처리 대상물은 서로에 대해 개별적인 표면들이 이동하지 않고 처리 물질에 접촉할 수 없는 상호 인접하는 표면들을 가지는 사실에 기인하여 효과적이다.

또한, 하나 이상의 추가적인 실시예의 또 다른 실시예에 따르면, 분리 시스템(들), 초음파 시스템(들), 고압 시스템(들), 회전 및 인상 장치(들), 및/또는 탈이온수 공급 시스템(들)을 처리 장치가 가지는 것을 고려할 수 있다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 특히 제공되고, 보통 높은 그리이스 함량을 가지는 처리 대상물을 탈지하기 위한 탈지 처리조가 특히 처리 용기로부터 상류에 제공된다.

탈지욕의 처리 물질이 바람직하게 처리 용기의 처리 물질의 처리 온도 또는 바람직한 작동 온도보다 높은 온도로 가열될 수 있는 사실에 기인하여 이 실시예는 효과적이다. 탈지 처리조의 온도는 바람직하게 50℃보다, 특히 52℃보다 더 높으며, 특히 바람직하게 60℃보다 더 높거나 같다. 단지 매우 오일 같거나 그리이스같은 처리 대상물만이 탈지에 적합한 온도로 제어되는 탈지 처리조에 도입될 수 있는 사실에 기인하여 이 실시예는 효과적이다. 바람직하게 50℃보다 높게 가열되는 탈지 처리조의 온도 제어가 바람직하게 연속으로 발생할 수 없고, 단지 때때로 실행될 수 있으므로 이는 매우 에너지-관련 이점을 가진다. 또한, 본 발명에 따른 처리 장치의 처리 용기의 영역에서 수증기의 형성은 처리 물질의 온도가 임계 온도 아래, 특히 52℃ 이하인 때, 또는 처리 물질이 이러한 임계 온도 이상으로 가열되지 않으면 방지될 수 있다.

본 발명은 또한 특히 금속인 처리 대상물을 적어도 산세하고 인산염 처리하기 위한 처리 방법에 대한 것이다. 본 발명에 따른 방법은, 탈지 및 인산염 처리를 위한 추가 용기가 사용되지 않으면서, 적어도 처리 대상물을 보유하고 유동가능한 처리 물질을 보유하기 위한 처리 용기를 제공하는 단계; 처리 물질과 처리 대상물 사이의 접촉에 의하여 적어도 처리 대상물의 산세와 인산염 처리가 발생하고, 처리 물질은 인 또는 인산염 함유 용액, 특히 인산인, 처리 용기 내에 처리 물질을 도입하고 처리 물질에 처리 대상물이 접촉하도록 처리 물질로 적어도 부분적으로 충진된 처리 용기 내에 처리 대상물을 도입하는 단계를 포함하고; 여기서 인 또는 인산염 함유 용액은 한편으로 이온수와 다른 한편으로 반응 물질로 구성되고, 반응 물질은 인 또는 인산염, 물, 특히 이온수, 및 바람직하게 처리 효과를 향상시키는 추가 물질로 구성되고, 반응 물질 중에서 인 또는 인산염의 비율은 적어도 75%이고, 반응 물질에서의 인 또는 인산염의 비율은 75부피%와 94부피% 사이이고, 바람직하게 80부피%와 90부피% 사이이고 그리고 특히 바람직하게 83부피%와 88부피% 사이이다. 반응 물질은 특히 염산이나 황산을 함유하지 않는다.

본 발명에 따른 처리 방법은 상승 작용을 수행하는 폐쇄 회로가 형성되고, 이로써 대상물의 린스 탱크로의 운반은 필요하지 않은 사실에 의하여 효과적이다. 또한, 본 발명에 따른 방법은, 특히 기계적인 처리 방법에 비추어, 처리 대상물의 매우 철저한, 그리고 신속한 처리를 가능하게 하는 사실에 의하여 매우 효과적이다. 이러한 방안은 또한 처리 물질이 불연성이고, 처리 물질의 사용에 의하여 사용 한계 값(TLVs)이 초과되지 않고, 부식 증기가 발생하지 않으므로 배기 통풍이 필요하지 않은 사실에 의하여 효과적이다.

본 발명에 따른 방법은 바람직하게 추가로: 처리 용기로부터 처리 대상물을 제거하고, 교란 장치에 의하여 처리 대상물에 의하여 처리 물질에 전달된 불순물을 교란시키고, 불순물을 교란하기 위하여, 교란 장치를 거쳐 처리 물질에 교란 유체가 공급되고, 교란된 불순물이 구비된 처리 물질을 필터 장치에 공급하고, 처리 물질 부분에서 여과 장치에 공급된 불순물을 여과시키고, 여과된 처리 물질과 처리 대상물을 접촉시키기 위하여 처리 물질로 적어도 부분적으로 충진된 처리 용기 내에 처리 대상물을 재도입하고, 또는 여과된 처리 물질과 처리 대상물을 접촉시키기 위하여 처리 물질로 적어도 부분적으로 충진된 처리 용기에 추가적인 처리 대상물을 도입하는 단계를 포함한다.

본 발명에 따른 또 다른 바람직한 실시예에 따라, 여과 장치 및/또는 교란 장치를 작동시키기 위한 제어 장치가 제공된다. 여과 장치의 작동은 교란 장치의 작동의 함수로서 적어도 때때로 발생하고, 또는 교란 장치의 작동은 적어도 때때로 여과 장치의 작동의 함수로서 발생하는 것이 바람직하다.

교란 장치의 작동은 바람직하게 적어도 때때로, 유체 또는 교란 유체를 제공하고 밸브 장치를 제어하는 것을 포함한다. 밸브 장치는 바람직하게 정해진 패턴, 특히 프로그램된 시간 간격에 따라 제어된다. 이러한 방안은 불순물이 처리 물질로부터 매우 신속하고 효과적으로 여과될 수 있는 사실에 기인하여 효과적이다.

처리 물질과 같이 처리 대상물은 바람직하게 처리 용기 내에 5분보다 길게, 특히 10분, 그리고 바람직하게 20분과 120분 사이, 특히 30분과 90분 사이 동안 유지된다.

본 발명에 따른 방법의 결과, 처리 대상물의 탈지 및/또는 스케일 제거 및/또는 보존 및/또는 석회질 제거는 산세와 인산염 처리에 부가해서, 특히 보호층의 생성에 부가해서, 특히 바람직하게 처리 대상물이 처리 물질에 노출되는 사실에 기인하여 유사하게 발생한다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 기공-없는 보호층은 처리 물질에 의하여, 특히 반응 물질에 의하여 수소 취성의 방지와 같이, 처리 대상물의 표면에 생성되고, 보호층은 적어도 2 ㎛ 그리고 바람직하게 적어도 3㎛ 두께를 가진다. 특히, 기공-없는 보호층은 산소와 물로부터 처리 대상물을 보호하므로, 녹 부식이 효과적으로 방지된다.

보호층, 특히 인산염 층, 특히 철 인산염층은 바람직하게, 처리 대상물(특히 스테인레스강이나 표준 강으로 제조된)의 재료 표면에서, 분위기 공기에서, 특히 3시간 내지 48시간, 특히 6시간 내지 24시간의 건조 시간 후에, 또는 70℃ 내지 150℃에서, 특히 대략 또는 정확하게 100℃의 오븐에서 대략 5분 내지 60분, 특히 대략 20분의 건조 시간 후에, 본 발명에 따른 처리 방법에 따라 형성된다. 형성되는 보호층은 바람직하게 2㎛와 10㎛ 사이, 특히 3㎛, 4㎛, 또는 5㎛보다 더 크거나 같은 두께를 가진다. 보호층은 바람직하게 2㎛ 내지 20㎛, 바람직하게 3㎛ 내지 18㎛, 그리고 특히 바람직하게 8㎛ 내지 15㎛의 두께를 가진다. 보호층은 바람직하게 또는 기본적으로 기공을 가지지 않고, 따라서 특히 바람직하게 기공이 없다.

또한, 보호층은 탄성적이고, 특히 바람직하게 -60℃와 750℃ 사이에서 그리고 특히 바람직하게 -40℃와 680℃ 사이에서 박리되지 않고 변동에 적응되고, 보호층은 바람직하게 최대 180°또는 180°예컨대, 철 로드의 경우) 보다 더 큰 높은 굽힘 성능을 가진다. 보호층은 추가적인 처리를 위한, 특히 칼라 처리를 위한 양호한 베이스일 수 있고, 이는 예컨대, 본 발명에 따른 방법을 따를 수 있다. 보호층은 바람직하게 중립적으로 반응하고 유압 유체와 화학적인 화합물을 형성하지 않는다. 본 발명에 따른 방법의 추가적인 가장 중요한 이점들은 보호층에 기인하여, 처리 대상물의 녹 부식이 발생하지 않고, 산세 동안 바람직하게 10g/m² 작은, 특히 5g/m²보다 작은, 특히 바람직하게 2.24g/m² 또는 그보다 작은 재료 제거가 발생하는 것이다.

또한, 본 발명에 따른 처리 방법은 바람직하게 또한 처리 용기 내에 유지될 수 있는 처리 물질의 온도를 제어하는 단계, 및/또는 처리 대상물의 전부 또는 일부 둘레에 흐르는 처리 물질의 전부 또는 일부의 흐름을 발생하는 단계를 포함한다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 처리 용기 내에 유지될 수 있는 처리 물질의 온도 제어는 온도제어장치에 의하여 발생하고, 온도제어장치에 의하여 처리 물질의 온도는 규정된 방식으로 조정되고, 처리 물질의 전부 또는 일부를 이동시키기 위한 흐름은 펌프 장치에 의하여 발생되고, 처리 물질은 처리 대상물의 전부 또는 일부 둘레에 흐른다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 처리 물질은 여과 장치에 의하여 여과되고, 처리 물질에 농축된 불순물은 여과에 의하여 처리 물질로부터 제거된다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 처리 용기는 벽 위로 흐르는 처리 물질을 수집하기 위하여 수집 챔버로부터 벽에 의하여 분리되고, 수집 챔버에 수집된 처리 물질은 컨베어 라인을 통해 운송 장치, 특히 펌프 장치에 의하여 처리 용기 내로 복귀 운반된다.

본 발명에 따른 처리 방법의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 펌프 장치와 여과 장치가 컨베어 라인의 일체 부품을 형성하고, 운반된 처리 물질은 펌프 장치에 의하여 여과 장치를 관통하여 운반된다.

본 발명에 따른 처리 방법의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 컨베어 라인은 처리 용기로부터 처리 물질의 일부를 수집 챔버 내로 배출하기 위한 경계 흐름이 처리 용기로 복귀 이송되는 처리 물질을 통해 생성되도록 설계된다.

본 발명에 따른 처리 방법의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 처리 물질의 조성은 선량 장치에 의하여 제어되고, 처리 물질은 다수 성분들의 혼합물로 구성된다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 청구범위 1 내지 9의 하나에 따른 하나 이상의 처리 장치가 와이어 또는 와이어 부품으로 설계된 처리 대상물 위에 보호층을 생성하기 위하여 제공되고, 보호층은 1㎛ 내지 20㎛ , 바람직하게 3㎛ 내지 18㎛ , 또는 특히 바람직하게 8㎛ 내지 15㎛ 두께를 가지며, 처리 대상물을 처리하기 위한 성형 장치, 특히 인발 장치를 적어도 포함하고, 바람직하게 청구범위 1 내지 9의 하나에 따라 처리 장치에 의하여 처리된 처리 대상물을 성형 장치로 운반하기 위하여 운송 장치가 제공된다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 처리 용기로부터 처리 대상물을 제거하고 그리고 특히 보호층을 인접하게 유지하면서 성형 장치에 의하여 처리 대상물을 성형, 특히 인발하는 단계는 본 발명에 따른 방법의 주제이다. 특히 건조 오븐에 의한 처리 대상물의 건조 단계는 바람직하게 또한 본 발명에 따른 방법의 주제일 수 있고, 이 단계는 바람직하게 처리 장치에 의한 처리 후에 그리고 성형 전에 발생할 수 있다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 산세 탈지를 위한 추가 물질 및/또는 거품 제거를 위한 추가 물질은 처리 물질과 혼합되고, 산세 탈지 첨가제는 바람직하게 비이온. 생분해성 계면활성제 및 억제제, 특히 2-부틴-1,4-디올의 수용액을 함유하고, 산세 탈지 첨가제는 처리 물질의 또는 인 또는 인산염-함유 용액의 부피의 0.1% 내지 1% 부피로, 또는 산세 탈지 첨가제에 첨가된 인 또는 인산염-함유 용액, 또는 처리 물질의 부피의 0.1% 내지 1% 부피로 처리 물질에 첨가된다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따르면, 처리 물질이 표적 온도 또는 목표 온도 프로파일로 제어되도록, 온도 제어장치는 제어 장치에 의하여 제어되고, 및/또는 펌프 장치는, 처리 물질이 목표 흐름 속도 또는 목표 흐름 특성으로 운반되도록 제어 장치에 의하여 제어되고, 및/또는 여과 장치는 처리 물질의 여과된 부분이 목표 순도를 가지도록 제어 장치에 의하여 제어되고, 및/또는 선량 장치는 처리 물질의 목표 조성이 설정가능하도록 제어 장치에 의하여 제어되고, 및/또는 특히 유체라인 요소 및/또는 공급 장치의 교란 장치, 특히 공급 장치 및/또는 밸브 장치가, 처리 물질에 존재하는, 특히 부착된 불순물, 특히 녹 입자와 같은 금속 입자인 고체 입자들의 교란, 또는 회전 추출이 발생하도록 제어 장치에 의하여 제어된다.

본 발명은 바람직하게 처리 설비에 의하여 유사하게 달성된다. 본 발명에 따른 처리 설비는 바람직하게 위에서 또는 아래에서 설명되고 언급된 하나 이상 이상의 처리 장치, 특히 처리 대상물 위에 보호층을 형성하도록 설계된 청구범위 1 내지 9의 하나에 따른 하나 이상의 처리 장치를 포함하고, 보호층은 바람직하게 1㎛ 내지 20㎛, 그리고 바람직하게 3㎛ 내지 18㎛, 또는 바람직하게 8㎛ 내지 15㎛ 두께를 가지며, 처리 대상물을 처리하기 위한 하나 이상의 추가적인 성형 장치를 가진다. 와이어 또는 와이어 부품으로 설계된 처리 대상물은 바람직하게 성형 장치에 의하여 성형, 특히 인발된다.

“기본적으로(essentially)”라는 용어의 사용은, 바람직하게 이 용어가 본 발명의 범위 내에서 사용되는 모든 경우들에서, 이 용어를 사용하지 않고 제공되는 명세서로부터 1%-30%, 특히 1%-20%, 특히 1%-10%, 특히 1%-5%, 특히 1%-2% 범위의 편차를 포함한다.

이하 설명되는 도면들의 단일 또는 모든 표현은 바람직하게 디자인 도면들로서 간주되고; 즉, 도면(들)로부터 유래된 크기, 비율, 기능 관계, 및/또는 장치는 바람직하게 정확하게 또는 바람직하게 기본적으로 본 발명에 따른 장치 또는 본 발명에 따른 제품에 대응한다.

본 발명의 추가적인 이점들, 목적들, 및 특징들은 첨부 도면들의 이하의 상세한 설명을 참조하여 설명되며, 여기서 본 발명에 따른 처리 장치는 예로서 도시된다. 도면들에서 서로 일치하는 본 발명에 따른 방법들과 장치의 요소들은, 적어도 기본적으로, 그들의 기능과 관련해서, 동일한 참조 부호로 표시될 수 있고, 이들 성분들이나 요소들은 모든 도면들에서 표시되고 설명될 필요는 없다. 본 발명은 단지 예로서 확실히 첨부 도면들을 참조하여 이하 설명된다.

도 1은 비작동 상태의 본 발명에 따른 처리 장치의 제1 예시를 도시하고;
도 2는 작동 상태의 본 발명에 따른 처리 장치의 제2 예시를 도시하고;
도 3은 본 발명에 따른 추가적인 처리 장치의 사시도를 도시하고;
도 4는 본 발명에 따른 또 다른 추가적인 처리 장치의 사시도를 도시하고;
도 5는 본 발명에 따른 처리 장치의 또 다른 추가적인 사시도를 도시하고;
도 6은 도 4와 5 도시 본 발명에 따른 처리 장치의 일 부분의 사시적인 상세 예시를 도시하고;
도 7은 도 4 내지 6 도시의 본 발명에 따른 처리 장치의 제1의 평면도를 도시하고;
도 8은 도 4 내지 6 도시의 본 발명에 따른 처리 장치의 제2의 평면도를 도시하고;
도 9는 도 4 내지 8 도시의 본 발명에 따른 처리 장치의 기본적인 저면 사시도를 도시하고;
도 10a는 도 4 내지 9 도시의 본 발명에 따른 처리 장치의 제1의 개략 측면도를 도시하고;
도 10b는 도 4 내지 9 도시의 본 발명에 따른 처리 장치의 제2의 개략 측면도를 도시하고;
도 11은 본 발명에 따른 방법에 의하여 처리된 강 시트의 스캐닝 전자 현미경 사진을 도시하고;
도 12는 도 11로부터의 스캐닝 전자 현미경 사진의 확대된 예시를 도시하고;
도 13은 도 1 내지 10의 하나에 따른 처리 용기에 바람직하게, 본 발명에 따라 바람직하게 제공된 바와 같은 교란 장치의 예를 도시하고;
도 14는 정확히 예로서 처리 용기 내에 위치된, 정확히 예로서의 도 13으로부터 공지된 교란 장치를 도시하고;
도 15는 바람직하게 내부에 위치된 교란 장치를 가진 본 발명에 따른 장치의 측면도를 도시하고;
도 16은 산세 및 인산염 처리용 처리장치, 및 성형 장치를 가진 본 발명에 따른 처리 설비를 도시하고;
도 17은 세로방향 단면으로 연마된, 본 발명에 따라 처리된 와이어 또는 와이어 부품의 표면 품질의 예를 도시한다.

본 발명에 따른 처리 장치(1)가 도 1에 도시된다. 처리 장치(1)는 하나 이상의 처리 대상물(2)을 처리, 특히 탈지, 산세, 인산염 처리, 스케일 제거, 보존, 및 녹제거를 위하여 사용된다. 처리 대상물(2)은 바람직하게 처리 장치(1)의 처리 용기(4) 내로 위로부터 도입된다. 처리 용기(4)는 바람직하게 적어도 부분적으로, 그리고 특히 바람직하게 완전히 처리 물질(6)로 충진된다. 또한, 온도를 제어하기 위한, 특히 처리 물질(6)을 가열하기 위한 온도 제어장치(8)가 바람직하게 제공된다. 또한, 바람직하게 처리 물질(6)을 재순환시키기 위하여 및/또는 경계 흐름(weir flow)(20)을 생성하기 위하여 및/또는 처리 용기(4)를 떠난 처리 물질(6)을 다시 처리 용기(4)로 복귀 운반하기 위한 하나 이상의 펌프 장치(10)가 제공된다. 처리 용기(6)는 벽(12)에 의하여 수집 챔버(14)로부터 분리된다. 처리 용기(4)에서 발생한 흐름에 의하여, 처리 용액(6)은 벽(12) 위로 처리 용기(4)에서 배출되고 따라서 수집 챔버(14) 내로 유입한다. 그러나, 처리 대상물(2)을 처리 챔버(4) 내로 도입되므로, 처리 물질 또는 액체(6)는 처리 용기(4)로부터 벽(12) 위로 처리 물질(6)의 일 부분이 흐르도록 이동하는 것을 고려할 수 있다. 도면부호(16)는 컨베어 라인을 표시하고 그에 의하여 처리 용기(4)를 떠난 처리 물질(6)이 처리 용기(4) 내로 복귀 운반된다. 처리 물질(4)을 여과 또는 준비하기 위한 여과 장치(18)는 바람직하게 컨베어 라인 영역 또는 컨베어 라인(16)에 또는 컨베어 라인(16)의 일부로서 위치된다. 펌프 장치(10) 또는 또 다른 펌프 장치(도시 없음)가 컨베어 라인(16)의 경로에 제공되거나 위치되는 것이 고려할 만하다. 또한, 펌프 여과 장치는 펌프 장치 및/또는 여과 장치를 대체하도록 제공될 수 있고 또는 이들에 추가로 제공될 수 있다.

또한 도시로부터 명백한 바와 같이, 처리 용기(4)는 바람직하게 하나 이상의 주 보유챔버(22), 제1의 2차 보유챔버(24), 및 제2의 2차보유챔버(26)를 가진다. 개별적인 보유챔버(22, 24, 26)들은 예컨대 그리드(27), 특히 각각의 경우 격자판(grating)에 의하여 서로로부터 분리된다. 그리드(27)는 처리 대상물(2)이 2차 보유챔버(24, 26)들의 하나 내로 유입하는 것을 방지한다. 도면 부호(28)는 노즐을 표시하고 이에 의해 처리 물질(6)의 흐름이 생성된다. 도 1은 또한 초음파에 의하여 처리 물질(6)에 작용하기 위한 초음파 장치(11)를 도시한다. 초음파 장치(11)는 처리 용기(4) 내 또는 위에 위치될 수 있다. 초음파 장치(11)의 초음파 작용의 결과, 처리 대상물(2), 특히 와이어, 특히 와이어 코일은, 바람직하게 이동되거나 또는 진동 설정되므로 처리 물질(6)은 또한 초음파 작용 없이 또 다른 표면에 접촉하는 처리 대상물(2)의 표면에 도달할 수 있으며, 따라서 처리 물질(6)을 이들 표면에 접촉시키는 것이 가능하지 않을 것이다. 또한, 또는 대신해서, 초음파 장치는 와이어 또는 와이어 코일을 수용하는 보유 장치 위에 위치될 수 있다.

도 2는 도 1로부터 공지된 도면을 도시하며, 여기서 이 도면에 따른 처리 대상물(2)은 처리 용기(4) 내에 위치되고 따라서 처리 물질(6)에 접촉한다.

도 3은 특히 와이어 코일 처리를 위한 본 발명에 따른 처리 장치(1)의 변형의 또 다른 실시예를 도시한다. 도 3 도시 처리 장치(1)는 예로서 바람직하게 처리될 다수의 와이어 코일(39)을 수용한 보유 랙(40)을 가진다. 보유 랙(40)은 공급 지점(41)에 위치되고, 바람직하게 다수의 보유 랙(40)들과 다수의 공급 지점(41)들이 제공된다.

게다가, 처리 장치(1)는 바람직하게 다수의, 특히 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 또는 그 이상의 처리조(42)를 가진다. 복수의, 특히 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 또는그 이상의 와이어 코일들이 바람직하게 특히 동시에 처리용 처리조(42)에 도입될 수 있다. 도면 부호(43)는 바람직하게 엄밀히 임의 장치, 예컨대, 고정 처리조를 표시한다.

특히 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 또는 그 이상의 다수의 와이어 코일(39)들이 고정 처리조(43)에 동시에 도입될 수 있는 것으로 생각할 수 있다. 또한, 다수의 고정 처리조(43)들이 제공되는 것을 생각할 수 있다. 처리된 와이어 코일(39)들은 제거하기 위하여 제거 지점(44)에 위치될 수 있다. 처리된 와이어 코일(39)들은 바람직하게 운반 장치(45), 특히 운반 카 또는 레일-안내 갠트리 기중기와 같은 운반 장치에 의하여 특히 분리 지점(44)으로 운반된다.

또한, 바람직하게 처리 장치(1)를 공급, 조정, 및 제어하기 위한 다수의 장치들이 제공된다. 이와 같이, 예시된 실시예는 예컨대 압력 벨트 여과장치(46), 선량 장치(47), 이온화 수처리 유닛(48), 제어 장치(49), 추가적인 압력벨트 여과장치(50), 처리조용 저장 탱크(51), 및 다수의 측면채널 압축기(52), 특히 8개 유닛을 포함한다. 선량 장치(47)는 바람직하게 자동화되고, 특히 바람직하게 5mm³보다 더 큰 부피, 특히 바람직하게 10m³보다 더 큰, 그리고 가장 바람직하게 20m³보다 더 크거나 같은 부피를 가진 보충 탱크를 가진다.

도 4는 본 발명에 따른 처리 장치(1)의 사시도를 도시한다. 처리 장치(1)는 바람직하게 L-형상으로; 즉, 이는 처리 용기(4)를 포함하고, 처리 용기(4)는 제2 내부 부분에 대해 직각으로 바람직하게 연장하는 내부 부분을 가진다. 하나의 내부 부분은 바람직하게 다른 내부 부분보다 더 길고, 또한 내부 부분들이 같은 길이 또는 기본적으로 같은 길이를 가지는 것으로 생각할 수 있다. 예컨대, 예시된 디자인에 의하면, 파이프, 서포트, 클래딩, 등과 같은 구부러진 요소들이 처리될 수 있다. 처리 용기(4)는 바람직하게 적어도 또는 정확하게 하나의 벽(12)을 가지며, 처리된 처리 대상물이 내부로 도입되는 영역은 벽(12)에 의하여 수집 챔버(14)로부터 분리된다. 수집 챔버(14)는 바람직하게 벽(12) 위로 처리 챔버에서 배출되는 처리 물질을 수집하기 위하여 사용된다.

도면 부호(10)는 펌프 장치, 특히 처리 챔버 내로 도입되는 처리 물질 내에 흐름을 생성하기 위한 펌프 장치를 표시한다. 도면 부호(18)는 처리 물질을 여과하거나 또는 준비하기 위한 여과 장치(18)를 표시한다.

처리 물질의 운동 또는 흐름은 노즐(28a, 28b 및 29a, 29b, 29c)(도 5 참조)에 의하여 발생되고, 펌프 장치에 의하여 운반되는 처리 물질이 그로부터 처리 챔버 내로 압송된다.

인클로져(61)는 노즐(29a-29c)들을 봉지 또는 내장한다. 3열의 두 개의 노즐(28a, 28b)들과 3열의 3개의 노즐(29a, 29b, 29c)들이 바람직하게 제공되고, 또한 정확하게 또는 하나 이상의 노즐(28 및/또는 29)이 제공되는 것을 생각할 수 있다. 노즐(28)들은 특히 바람직하게 노즐(29)에 대해 일정한 각도, 특히 직각으로 배치된다.

도면 부호(60)는 주 흡입 라인을 표시하고 그에 의하여 처리 물질이 배출되고, 특히 처리 챔버로부터 유출구(57a-57g)(도 7 참조)를 통해 배출된다. 배출된 처리 물질은 바람직하게 여과 장치(18)에 의하여 준비되고 펌프 장치(10)에 의하여 노즐(28 및 29)을 통해 처리 챔버로 복귀 운반된다.

처리 장치(1)는 바람직하게 5100mm x 3800mm 설치 영역이 필요하도록 형성될 수 있다. 처리 장치(1)는 바람직하게 기본적으로 최대, 적어도, 또는 정확하게 14m³의 욕조 부피를 포함한다. 본 발명에 따른 처리 장치(1)의 유용한 용적은 바람직하게 3400mm x 1500mm이며, 상부 에지에서의 넘침 흐름의 높이는 바람직하게 200mm이다.

도 5는 본 발명에 따른 처리 장치(1)의 상기-셜명된 실시예의 또 다른 도면을 도시한다. 이러한 도시로부터 명백한 바와 같이, 노즐(29A-29C)들이나 3X3 노즐 장치는 바람직하게 유용한 면적에 저촉하거나 손상하지 않도록 처리 용기(4)의 벽의 포켓(61)에 수용된다. 노즐(28a-28b)들은 바람직하게 유용한 면적에 저촉하거나 손상하지 않도록 처리 용기(4)의 또 다른 벽의 포켓에 바람직하게 유사하게 수용된다. 포켓(61)에는 바람직하게 도시되지 않은 고정물에 대한 손상을 피하기 위하여 충격 보호가 제공된다.

또한, 추가의 필터 장치(19)가 예시되고, 추가적인 필터 장치(19)는 바람직하게 조립 필터로서 설계된다. 준비될 처리 물질이 처리 용기로부터 처음으로 흡입되고, 이어서 추가 필터 장치(19)에 공급되고, 이어서 펌프(10)에 의하여 유도되어, 이어서 백 필터로서 구성될 수 있는 필터 장치(19)를 관통하여, 이어서 노즐(28, 29)을 거쳐 처리 용기 내로 복귀 운반된다.

또한, 도면은 처리 용기(4)의 베이스는 수평에 대해 경사되는 표면 부분(53, 54, 55, 56)들을 가지는 것을 도시한다. 표면 부분(53-54 및 55-56)들은 각 경우 바람직하게 수직 방향에 대해 보여진 저점 영역에 위치되므로, 그들은 서로 선 접촉 영역을 형성한다. 접촉 영역은 바람직하게 수직 방향으로 연장하는 용기 외벽과 각 표면 부분 또는 베이스 부분(53, 54) 사이의 접촉 영역 아래 레벨에 위치된다. 이와 같이 표면 부분 또는 베이스 부분(53, 54 및 55, 56)들은 바람직하게 처리 물질과 먼지 입자들이 하나 이상의 유출구들로 목표된 방식으로 관통 유도되는 채널을 형성한다. 표면 부분(53-56)들은 바람직하게 2°내지 25°경사로서 수평에 대해 정위되고, 특히 바람직하게 6°내지 15°경사로, 그리고 가장 바람직하게 기본적으로 또는 정확하게 10°의 경사로서 위치된다.

도면 부호(8)는 바람직하게 설치된 온도제어장치를 표시한다. 온도제어장치(8)는 바람직하게 8개의, 특히 각각 2kW인 전기가열 요소를 가진다. 가열 요소들은 바람직하게 필요한 유용한 영역에 저촉하거나 손상시키지 않도록 벽의 포켓(61)에 유사하게 수용된다. 온도제어 장치의 열 출력의 디자인은 바람직하게 웨슬링(Wessling) 유닛(20m³ = 20kW 열출력)을 기초로 할 수 있다.

도 6은 특히 노즐(29a-29c)들과 온도제어 장치(8)가 바람직하게 위치되는 포켓(61)의 상세 도시를 도시한다.

도 7은 처리 용기(4)의 상호 경사된 베이스 부분(53, 54 및 55, 56)들로부터 발생하는 제1 부분과, 얻어지는 채널의 제2 부분(63)을 도시한다. 채널은 바람직하게 또한 수집 챔버(14) 내로 연장한다. 처리 챔버로부터 처리 물질을 배출하거나 흡입하기 위한 유출구(57a-57f)들, 특히 다수의 유출구들은, 특히 바람직하게 채널 또는 채널의 영역에 제공된다. 또한, 수집 챔버(14)로부터 처리 물질을 배출하거나 또는 흡입하기 위한 하나 이상의 유출구(57g)가 바람직하게 수집 챔버(14)에 설치된다. 유출구(57a-57g)들은 바람직하게 연결 라인들을 거쳐 주 흡입 라인(61)에 유체 연결된다.

바람직하게 수평으로 향해지는 격자는 예시되지 않거나, 또는 처리 용기(4)의 측벽들에 직각으로 향해지는 격자는, 처리 챔버의 베이스(53, 54, 55, 56)에 중첩하고, 격자는 베이스로부터 특히 바람직하게 20mm 보다 더 큰, 바람직하게 50mm보다 더 큰, 그리고 특히 바람직하게 100mm보다 더 큰 거리에 이격되고, 격자는 특히 바람직하게 처리 용기의 베이스로부터 500mm의 최대 거리에 위치된다. 격자는 바람직하게 처리 챔버로부터 일정한 거리에서 처리 챔버 내로 도입되는 처리 대상물을 이격시키는 작용을 수행하고, 그 결과 처리된 처리 대상물로부터 분리된 입자들은 처리 대상물 아래 축적될 수 있으며, 따라서 이들 입자들의 흡입 추출은 항상 가능하다.

도 8은 주 흡입 라인(60)과, 유출구(57a-57g)들이 그를 통해 주 흡입 라인(60)에 연결되는 연결 튜브(58a-58g)들의 일부를 도시한다. 바람직하게 적어도 연결 튜브(58a-58g)와 주 라인(60)으로 구성되는 전체 흡입 라인이, 바람직하게 떨어뜨릴 수 있는 디자인을 가진다. 전체 흡입 라인의 개별 부분들을 세척하기 위하여 이는 특히 바람직하다.

도 9는 본 발명에 따른 처리 장치(1)의 바닥 측면의 사시도를 도시한다. 특히 유출구들과 주 흡입 라인으로 연결되는 연결 튜브(58a-58g)들은 이 도면에서 명백하다.

도 10a와 10b는 도 4 내지 9에 도시된 본 발명에 따른 처리 장치의 다른 측면도들을 도시한다.

도 11과 12는 각각 본 발명에 따른 방법을 사용하여 처리되어, 강 시트 위에 부착된 인으로 구성된 폐쇄된 표면 구조를 발생하는 강 시트를 도시한다. 스캐닝 전자 현미경 사진은 도면들에 기재된 이하의 사양을 기초하여 프라운호퍼 인스티튜트에 의하여 생성되었다:

IFAM

GEMINI

해상도: 10 ㎛

EHT = 10.00 kV

WD = 12.3 mm

신호 A = SE2

신호 B = InLens

신호 = 0.5000

10 미만의 해상도로부터, 고배율로 인하여 현미경 사진의 구조가 다소 이완하는 듯한 사진 디자인을 가지는 것이 알려지고, 이 기술 분야의 통상의 전문가는 유연한 닫힌 표면 구조가 강 시트 위에 부착된 인으로부터 발생하는 것이 명백하다. 인으로 이루어진 이러한 닫힌 표면 구조는 초순수 인의 사용으로부터 생성되었고, 부착된 인 층들은 그들 사이의 공간 없이 강 시트 위에 서로 인접하여 위치되는 사실에 기인하여 이는 특히 바람직하고, 그 경과, 강 시트는 매우 내식성이다(rust-resistant).

도 13은 평면도의 교란 장치(70)의 예의 개략적인 도시를 도시한다. 교란 장치(70)는 처리 용기(4)의 고정된 일체형 부품으로 설계될 수 있으며, 또는 그러한 처리 용기(4)에 분리가능하게 연결될 수 있다. 교란 장치(70)는 바람직하게 하나 이상의 라인 부분(80a-80e)들로 형성되는 유체라인 요소(74)를 포함한다. 개별적인 라인 부분(80a-80e)들은 라인들로, 특히 호스들 또는 튜브들로 형성될 수 있다. 각각의 라인 부분(80a-80e)들은 바람직하게 유체 공급장치(72)를 거쳐 유체라인 요소(74)에 공급될 수 있는, 교란하는 유체가 유체라인 요소(74)로부터 그를 통해 배출되거나 이탈할 수 있는 복수의 유출구(76)들을 가진다. 개별적인 라인 부분(바람직하게 튜브)들이 특히 바람직하게 분배장치(84)에 연결되거나 결합된다. 각 라인 부분(80a- 80e)은 바람직하게 밸브 장치(78), 특히 솔레노이드 차단 밸브에 연결되거나 또는 결합된다. 밸브 장치(78)는 각각의 경우 바람직하게 유체라인 요소를 통해 인도되는 교란 유체의 유체 흐름 방향으로 분배기 장치(84)와 제1 유출 장치(76) 사이에 위치된다.

또한, 공동 밸브 장치(78)에, 또는 하나 이상의 라인 부분들의 경우, 공동 밸브 장치(78)에 대해, 특히 차단 밸브, 예컨대, 설치될 솔레노이드 차단 밸브에 결합되는 것을 생각할 수 있다. 제어 장치(86) 및/또는 펄스 발생 장치(86)는 바람직하게 분배기 장치(84)에 연결된다. 제어 장치(86)는 바람직하게 하나, 개별적인, 다수, 대다수, 또는 모든 밸브 장치(78), 특히 차단 밸브(78)의 개방 및/또는 폐쇄를 발생한다.

제어장치(86)는 바람직하게 그에 의해 교란 유체가 제어장치(86)로 공급되는 유체 연통 채널이 그를 거쳐 차단되고, 한정되고, 또는 개방되는 밸브 기구를 가진다. 유체 연통 채널은 바람직하게 한편으로 거기에 연결된 라인 부분(80a-80e)들과 함께 분배기 유닛(84)에 의하여 형성되고 다른 한편 유체공급 장치(72)에 연통 접속되는 라인 연결(73), 특히 호스에 의하여 형성된다.

그러나, 대신해서, 유체공급 장치(72)는 또한 직접 제어 장치(86) 및/또는 분배기 유닛(84)에 연결될 수 있다. 유체공급장치(72)는 바람직하게 가압유체 소스, 예컨대, 가압된 가스 소스의 가압된 가스 연결, 특히 압축공기 소스의 압축공기 연결이다. 예컨대, 이는 압축기 및/또는 가압 저장 장치이다.

도 14에서, 단지 예로서 상세하게 설명되고 도 13에서 공지된 교란 장치(70)는 처리 용기(4)에 위치되고, 따라서 예로서 본 발명에 따른 장치를 형성한다. 세로방향으로, 처리 용기(4)는 한편으로 경계 벽(12)에 의하여 한정되고 다른 한편 후방 벽(92)에 의하여 한정된다.

폭 방향으로, 처리 용기는 한편으로 제1 측벽(90)에 의하여 다른 한편으로 제2 측벽(91)에 의하여 한정된다. 처리 용기(4)의 베이스(82)는 바람직하게 처리 물질이 주 보유챔버로부터 배출가능한, 특히 유도되거나 또는 압송될 수 있는 배출 개구(85)를 가진다.

배출 개구(85)는 바람직하게 여과 장치(18)에 연결되므로 배출구(85)를 통해 배출되는 처리 물질은 여과 장치에 공급되거나 공급될 수 있다. 경계벽(12) 위로 흐르는 처리 물질과 함께 교란 장치(70)에 의하여 교란된 불순물이 여과를 위하여 여과 장치(18) 내로 배출 개구(83)를 거쳐 유도될 수 있는 수집 챔버(14)를 한정한다.

특히 스테인레스강으로 제조된, 4mm와 6mm 사이의 바람직한 직경을 가지는 튜브는, 이와 같이 바람직하게 처리 설비의 벽 베이스에 고정되게 장착된다. 이들 튜브들은 바람직하게 분배기 유닛을 통해 결합된다. 각 튜브는 특히 바람직하게 차단 밸브가 구비되고, 대신해서 단지 분배기 유닛에는 밸브 장치, 특히 솔레노이드 밸브와 같은 차단 밸브가 구비되므로, 욕조의 개별적인 부분 영역 또는 전체 영역은 표적 방식으로 작용될 수 있다.

즉, 교란하는 유체가 하나 이상의 튜브들에 필요한 바와 같이, 표적 방식으로 공급될 수 있으며, 그 결과, 특정 흐름 또는 난류가 처리 물질에서 발생할 수 있다. 가압된 교란 유체, 특히 압축 공기는, 본 발명에 따른 장치 또는 처리 설비의 정지시간 동안 바람직하게 유체라인 요소 또는 배관을 통해 처리조 또는 처리 물질로 유입되고, 여전히 베이스 위에 잔류하는 오염물은 이와 같이 선회 상승하므로 유체 또는 처리 물질 내에 분포될 수 있다.

교란 물질, 특히 압축 공기의 유입, 특히 취입은 바람직하게 타이밍 밸브 및/또는 제어 장치(86)에 의하여 제어되고, 균일하거나 맥동 방식으로, 연속으로 또는 프로그램된 시간 간격으로, 또는 검출된 센서 측정 데이터의 함수로서 발생할 수 있다. 필터 장치(18) 또는 장착된 필터 유닛은 바람직하게 동시에 가동되고 유체는 취입되고, 그리고 특히 바람직하게 이후 3시간까지, 또는 이후 2시간까지, 또는 이후 1시간까지, 또는 이후 3시간 이상, 작동하고, 처리 물질로부터 교란된 오염물을 제거한다.

도 15는 개략적으로 상승하는 교란 유체, 특히 상승하는 공기 버블(88)을 개략적으로 도시한다. 처리 물질은 유출 개구(76)를 통해 배출되는 공기 버블(88)에 의하여 교란된다. 또한, 공기 버블이 본 발명에 따른 장치의 베이스 영역으로부터 불순물, 특히 슬러지가 교란되어 상승하도록 작동하고, 경계 흐름에 의하여 위로 운반된다. 도 15는 또한 라인(73)에 대한 정확한 대체안으로서 라인(75)을 도시한다. 처리 물질 부분이 처리 용기(4)로부터 제거될 수 있도록 라인(75)은 처리 용기(4)에 결합될 수 있다. 라인(75)에 의하여 제거된 처리 물질 부분은 이어서 바람직하게 펌프 장치(도시 없음)에 의하여 교란장치(7)에 공급되며, 바람직하게 하나의 펌프 장치(도시 없음)에 의하여 공급된다.

처리 용기에 제공되고 교란 장치(70)에 의하여 이 경우 처리 용기에 구비된 처리물질에 공급되는 처리 물질을 교란하기 위한 교란 유체는, 따라서 라인(75)을 통해 배출된 처리 물질의 일부이다. 라인(75)은 예컨대, 처리 물질 제거수단 또는 개구 또는 입구 또는 흡입구(85)에 연결될 수 있다.

물론, 도 13-15와 관련해서 설명된 교란 장치(70)는 와이어 또는 와이어 코일을 처리하도록 설계된 처리 장치(1)에 유사하게 또는 동일하게 적응된 방식으로 사용될 수 있거나 제공될 수 있다. 특히, 도 13-15에 관련해서 설명된 대상물은 도 3에 따라 설명된 처리 장치(1)에서 유사하게 실행가능하다. 도 3 도시의 처리조(42) 또는 처리 배쓰(42)는 이와 같이 각 경우 처리 용기(2)에 대응한다. 초음파 장치는 유사하게 도시된 모든 처리 장치(1)에서 사용가능하다.

도 16은 확실히 예로서, 본 발명에 따른 처리 설비(100)의 개략적인 디자인을 도시한다. 이러한 도시에 따르면, 이전의 도면들로부터 공지된 바와 같은 하나 이상의 처리 장치(1)가, 예컨대, 제공될 수 있다. 또한, 처리 장치(1)에 의하여 이전에 처리된 처리 대상물(2)의 성형용, 특히 인발을 위한 하나 이상의 성형 장치(94)가 내식성에 부정적인 영향을 미치지 않고 더 큰 길이로 추가로 처리 또는 제거하기 위하여 처리 장치(1)에 의하여 처리될 수 있다.

또한, 처리 대상물(2)을 건조하기 위한 건조 장치(도시 없음)가 처리 장치(1)와 처리 장치(94) 표면 사이에 운반 경로(96)에 제공 또는 위치될 수 있다.

도 17은 본 발명에 따라 처리되고, 세로방향 단면으로 연마된, 와이어 또는 와이어 부품의 표면 품질의 예시를 도시한다.

본 발명은 바람직하게 금속 처리 대상물(2)의 단일-단계 처리용 처리장치(1)에 대한 것이며, 처리는 처리 대상물(2)의 산세와 인산염 처리를 적어도 포함하고, 처리 장치(1)는 적어도 이하의, 처리 대상물(2)을 보유하고 유동가능한 처리 물질을 보유하기 위한 처리 용기(4), 처리 물질(6)의 전부 또는 일부를 재순환시키기 위한 펌프 장치(10)를 포함하고, 처리 물질(6)은 처리 대상물(2)의 전부 또는 일부, 특히 전체 처리 대상물(2) 둘레로 흐르며, 처리 물질(6)은 인- 또는 인산염-함유 용액, 특히 인산이고, 인- 또는 인산염-함유 용액은 한편으로 물과 다른 한편으로 반응 물질, 그리고 처리 물질에 부착하는 불순물, 특히 고체 입자들을 교란하기 위한 교란 장치(70)로 구성되고, 교란 장치(70)는 하나 이상의 공급 장치(72)와 처리 물질(6)로 교란 유체를 공급하기 위한 복수의 유출 개구(76)들을 가진 유체라인 요소(74)를 가지며, 교란 유체는 2바 이상의 압력에서 유체라인 요소(74)에 공급 장치(72)에 의하여 공급가능하다.

본 발명은 특히 바람직하게 금속 처리 대상물(2)의 처리를 위한 처리 장치(1)에 대한 것이며, 처리 대상물(2)은 와이어 또는 와이어 부품이고, 보호층이 인산염 처리에 의하여 처리 대상물(2) 표면에 생성되고, 처리 장치(1)는 바람직하게 적어도 이하 기재된, 처리 대상물(2)을 보유하고 유동가능한 처리 물질(2)을 보유하기 위한 처리 용기(4), 처리 물질(2)의 전부 또는 일부를 재순환시키기 위한 펌프 장치(10)를 포함하고, 처리 물질(6)은 처리 대상물(2)의 전부 또는 일부, 특히 전체 처리 대상물(2) 둘레로 흐르고, 처리 물질(6)은 인- 또는 인산염-함유 용액, 특히 인산이며, 인 또는 인산염 함유 용액은 한편으로 물, 특히 이온수와, 다른 한편으로 반응 물질로 구성된다. 반응 물질은 바람직하게 인 또는 인산염으로 구성되고 바람직하게 처리 효과를 향상시키는 하나 이상의 추가적인 물질, 특히 하나 이상의 억제제를 함유하는 물질로 구성되고, 반응 물질에서 인 또는 인산염의 비율은 바람직하게 98 부피%이고 특히 바람직하게 99 부피%보다 더 크다. 반응 물질은 바람직하게 염산 또는 황산을 함유하지 않으며, 그리고 바람직하게 불소, 염소, 붕소, 요드, 납, 수은, 또는 셀레니움을 함유하지 않는다.

반응 물질은 바람직하게 특정 비율로 물과 혼합되고, 특정 비율은 하한과 상한 사이이고, 하한은 2리터의 물에 대한 1kg의 반응 물질의 비율의 혼합물에 의하여 규정되고, 상한은 12리터의 물에 대한 1kg의 반응 물질의 혼합물에 의하여 규정되고, 특히 6리터의 물에 대한 1kg의 반응 물질의 비율로 혼합물이 존재한다.

1: 처리 장치 47: 도징 장치
2: 처리 대상물 48: 이온수 처리 유닛
4: 처리 용기 49: 제어 장치
6: 처리 물질 50: 추가압력벨트 여과장치
8: 온도제어 장치 51: 저장 탱크
10: 펌프 장치 52: 측면채널 압축기
11: 초음파 장치 53: 제1 경사 베이스부
12: 벽 54: 제2 경사 베이스부
14: 수집 챔버 55: 제3 경사 베이스부
16: 이송 라인 56: 제4 경사 베이스부
18: 여과 장치 57: 유출구
19: 추가 여과장치 58: 연결튜브
20: 경계(weir) 흐름 22: 주 보유챔버
61: 노즐 구비포켓 24: 제1 2차보유챔버
62: 채널 제1 부 26: 제2의 2차 보유챔버
63: 채널 제2 부 27: 그리드
70: 난류 장치 28: 노즐
72: 공급 장치 39: 와이어 코일
73: 라인 40: 와이어 처리용 처리장치
74: 유체라인 요소 41: 공급 지점
76: 유출구 42: 처리조
78: 밸브 장치 43: 고정 수조
80: 라인 섹션/튜브 44: 분리점
80a: 제1 라인 섹션 45: 운송 장치
80b: 제2 라인 섹션 46: 압력벨트 여과장치
80c: 제3 라인 섹션 80d: 제4 라인 섹션
90: 측벽 80e: 제5 라인 섹션
92: 후부 벽 82: 베이스
94: 성형 장치 84: 분배기 유닛
96: 이송 경로 86: 제어 유닛
100: 처리 설비 84: 수집챔버의 배출구
I1: 제1 표시점 86: 주 보수챔버의 배출구
I2: 제2 표시점 88: 상승 유체(바람직하게 공기)

Claims (15)

1. 금속 처리 대상물(2)의 처리용 처리장치(1)로서,
   상기 처리 대상물(2)은 와이어 또는 와이어 부품이며, 상기 처리는 적어도 처리 대상물(2)의 산세와 인산염 처리를 포함하고, 보호층이 인산염 처리에 의한 처리 대상물(2) 표면에 생성되고,
   상기 처리 장치(1)는 적어도:
   유동성 처리 물질(6)을 보유하고 처리 대상물(2)을 보유하기 위한 처리 용기(4), 및
   상기 처리 물질(6)의 전부 또는 일부를 재순환시키기 위한 펌프 장치(10)를 포함하고,
   상기 처리 물질(6)은 처리 대상물(2)의 전부 또는 일부, 특히 전체 처리 대상물(2) 주위에 흐르며,
   상기 처리 물질(6)은 인산 또는 인산염 함유 용액, 특히 인산이며,
   상기 인산 또는 인산염 함유 용액은 한편으로 물, 특히 이온화된 물과 다른 한편으로 반응 물질이고, 및
   상기 반응 물질은 특히 하나 이상의 억제제를 함유하는, 인 또는 인산염 및 처리 효과를 향상시키는 하나 이상의 첨가 물질로 구성되고,
   상기 반응 물질 중에서 인 또는 인산염의 비율은 98부피% 초과이며 특히 바람직하게는 99부피% 초과이며,
   상기 반응 물질은 바람직하게 염산 또는 황산을 함유하지 않고 바람직하게 또한 불소, 염소, 브롬, 요오드, 납, 수은, 또는 셀레늄을 함유하지 않고, 및
   상기 반응 물질은 특정 비율로 물과 혼합되고, 상기 특정 비율은 하한과 상한 사이이고, 상기 하한은 2리터의 물에 대한 1kg의 반응 물질의 비율의 혼합물에 의하여 규정되고, 상기 상한은 12리터의 물에 대한 1kg의 반응 물질의 비율의 혼합물에 의하여 규정되고, 특히 상기 혼합물은 6리터 물에 대한 1kg의 반응 물질의 비율로 존재하는, 처리장치.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 처리 물질에 피착되는 불순물, 특히 고체 입자를 교란하기 위한 교란 장치(70)가 제공되고,
   상기 교란 장치(70)는 상기 처리 물질(6)에 교란 유체를 공급하기 위하여 복수의 유출구(76)를 가진 유체라인 요소(74) 및 하나 이상의 공급장치(72)를 가지며,
   상기 교란 유체는 2 bar 초과 압력에서 상기 공급장치(72)에 의하여 상기 유체라인 요소(74)에 공급가능하고, 상기 유체라인 요소(74)는 밸브 장치(78)에 의하여 서로 분리가능한 복수의 라인 섹션(80)들을 형성하고, 적어도 다수의 상기 라인 섹션(80)들은 처리 용기(4)의 베이스(82) 영역에 위치하는, 처리 장치.
3. 제 2 항에 있어서,
   상기 라인 섹션들은 튜브에 의해 형성되며, 상기 튜브는, 특히 2mm와 12mm 사이의 직경을 가지고, 바람직하게는 3mm와 9mm 사이의 직경을 가지며, 특히 바람직하게는 4mm와 6mm 사이의 직경을 가지고,
   상기 튜브(80)들은 처리 용기(4)의 베이스(82)에 결합되거나 또는 그 위에 위치되고,
   상기 튜브(80)들은 하나 이상의 분배기 유닛(84)에 의하여 서로 연결되고, 및
   각각의 밸브 장치(78)는 차단 밸브, 특히 차단 솔레노이드 밸브이고, 및 상기 공급 장치(72)는 최소 2 bar 압력 하인 가스, 특히 공기를 공급하기 위한 장치인, 처리 장치.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 처리 물질(6)을 여과하기 위한 여과 장치(18)가 제공되고, 상기 처리 물질(6)에 농축되는 불순물은 여과에 의하여 처리 물질(6)로부터 제거되고,
   상기 여과 장치 및 상기 교란 장치 중 적어도 하나를 작동시키기 위한 제어 장치가 제공되고,
   상기 여과 장치 및 상기 교란 장치는 적어도 때때로 서로 의존해서 작동가능한, 처리 장치.
5. 제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 교란 장치의 작동은, 적어도 때때로, 상기 유체를 공급하는 것 및 상기 밸브 장치를 제어하는 것을 포함하고,
   상기 밸브 장치는 미리 정해진 패턴, 특히 프로그램된 시간 간격에 따라 제어 가능한, 처리 장치.
6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 처리 용기(4)는, 벽(12) 위로 유동하는 처리 물질(6)을 수집하기 위한 수집 챔버(14)로부터 벽(12)에 의하여 분리되고,
   상기 수집 챔버(14)에 수집된 상기 처리 물질(6)은 컨베어 라인(16)에 의하여 상기 처리 용기(4) 내로 재이송 가능하고,
   상기 펌프 장치(10) 및 상기 여과 장치(18)는 상기 컨베어 라인(16)의 내장된 부분이고, 운송된 상기 처리 물질(6)은 상기 펌프 장치(10)에 의하여 상기 여과 장치(18)를 통하여 운반되고,
   상기 컨베이어 라인(16)은 상기 처리 용기(4)로부터 수집 챔버(14) 내로 상기 처리 물질(6)의 일부를 배출하기 위한 둑 흐름(wier-flow)(20)이 상기 처리 용기(4) 내로 재이송된 처리 물질(6)을 통해 생산 가능하도록 설계되는, 처리 장치.
7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
   거품제거를 위한 첨가 물질이 상기 처리 물질(6)에 첨가되고,
   소포용 첨가제는 바람직하게 트리이소부틸 인삼염(triisobutyl phosphate)을 함유하고, 및
   소포용 첨가제는 인 또는 인산염 함유 용액의 부피의 0.01% 내지 5%, 특히 0.2%의 부피로 처리 물질(6)에 첨가되거나, 또는
   산세 탈지(degreaser) 첨가제에 인 또는 인산염 함유 용액의 부피의 0.01% 내지 5%, 특히 0.2% 부피로 첨가되고, 및/또는
   산세 탈지용 첨가 물질은 처리 물질(6)에 첨가되고,
   상기 산세 탈지용 첨가제는 바람직하게 비이온성 생분해성 계면활성제와 억제제의 수용액, 특히 2-부틴-1,4-디올을 함유하고, 및
   상기 산세 탈지용 첨가제는 인 또는 인산염 함유 용액의 부피의 0.5% 내지 7&, 특히 1% 내지 5%의 부피로 첨가되는, 처리 장치.
8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 처리 용기(4)는 처리 대상물이 도입될 수 있는 주 보유챔버(22) 및 하나 이상의 제1의 2차 보유챔버(24)를 가지며, 상기 주 보유챔버(22)와 상기 제1의 2차 보유챔버(24)는 한편으로 처리 물질(6)이 주 보유챔버(22)로부터 제1의 2차 보유챔버(24) 내로 흐를 수 있고, 다른 한편으로 제1의 2차 보유챔버(24)로부터 주 보유 챔버(22)로 흐를 수 있도록 서로 연결되고, 상기 주 보유챔버(22)와 상기 제1의 2차 보유챔버(24)는 제1의 2차 보유챔버(24)로의 처리 대상물(2)의 침투가 전체 또는 부분적으로, 바람직하게는 완전히 방지되도록 서로 구분되고, 및
   상기 주 보유 챔버(22)는 제2의 2차 보유챔버(26)에 유사하게 연결되고,
   상기 제1의 2차 보유챔버(24)는 일정 양의 처리 물질(6)을 보유하기 위해 주 보유 챔버(22) 아래 제공된 보충 보유 챔버이며, 및
   상기 제2의 2차 보유챔버(26)는 바람직하게 상기 주 보유챔버(22) 측면에 제공된 온도제어 챔버이고, 온도 제어장치(8)가 상기 제2의 2차 보유챔버(26)에 전체 또는 부분적으로 위치되는, 처리 장치.
9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 처리 대상물(2) 및 처리 물질(6) 중 적어도 하나에 작용하기 위한 초음파 장치는 상기 처리 용기(4) 내에 또는 위에 위치되고, 상기 처리 대상물(2)의 전부 또는 일부들의 이동은 바람직하게 초음파 작용에 의하여 이루어지는, 처리 장치.
10. 처리 시설로서,
    적어도, 와이어 또는 와이어 부품으로 설계된 처리 대상물에, 보호층을 형성하기 위하여 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나에 따른 하나 이상의 처리 장치를 포함하고, 및
    처리 대상물을 처리하기 위한 성형 장치, 특히 인발 장치를 적어도 포함하고, 및
    바람직하게는 이송 장치가 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 처리 장치에 의하여 처리된 처리 대상물을 상기 성형 장치에 운반하기 위하여 제공되고,
    상기 보호층은 1 ㎛ 내지 20 ㎛ 바람직하게 3 ㎛ 내지 18 ㎛ 또는 특히 바람직하게 8 ㎛ 내지 15 ㎛의 두께인, 처리 시설.
11. 와이어 또는 와이어 부품인 특히 금속의 처리 대상물(2)을 준비하기 위한 처리 방법으로서, 적어도:
    하나 이상의 처리 대상물(2)을 보유하고 유동 가능한 처리 물질(6)을 보유하기 위한 처리 용기(4)를 제공하는 단계,
    상기 처리 용기(4)에 상기 처리 물질(6)을 도입하는 단계로서, 산세 및 인산염 처리하기 위한 추가적인 처리 용기가 사용되지 않고, 및
    상기 처리 대상물(2)을 상기 처리 물질(6)과 접촉시키기 위하여 상기 처리 물질(6)로 전체 또는 부분적으로 충진되는 상기 처리 용기(4) 내에 상기 처리 대상물(2)을 도입하는 단계를 포함하고,
    상기 처리 물질(6)과 상기 처리 대상물(2) 사이의 접촉에 기인하여, 상기 처리 대상물(2)의 세척, 특히 탈지(degreasing), 및 인산염처리가 실행되고,
    상기 처리 물질(6)은 인 또는 인산염 함유 용액, 특히 인산이고,
    인 또는 인삼염 함유 용액은 한편으로 물과 다른 한편으로 반응 물질로 구성되고,
    상기 반응 물질은 인 또는 인산염과 물로 구성되고,
    상기 반응에서 인 또는 인산염의 비율은 98부피% 이상이고 바람직하게 99 부피% 이상이며,
    상기 반응 물질은 바람직하게 염산 또는 황산을 함유하지 않고, 및
    바람직하게 리터 단위의 물에 대한 kg 단위의 반응 물질의 특정 비율로 존재하고, 상기 특정 비율은 상한과 하한 사이이고, 상기 하한은 2리터의 물에 대한 1kg의 반응 물질의 비율의 혼합물에 의하여 규정되고, 상기 상한은 12리터의 물에 대한 1kg의 반응 물질의 혼합물에 의하여 규정되고, 특히 상기 혼합물은 6리터의 물에 대한 1kg의 반응 물질의 비율로 존재하는 처리 대상물(2)을 준비하기 위한, 처리 방법.
12. 제 11 항에 있어서,
    상기 처리 물질은 35℃와 70℃ 사이, 특히 40℃와 60℃ 사이 온도로 제어되고, 및
    상기 처리 대상물은 15분과 90분 사이, 특히 30분과 60분 사이 상기 처리 물질에 침지되는, 처리 방법.
13. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 처리 용기로부터 상기 처리 대상물을 제거하는 단계,
    바람직하게는 특히 건조 오븐에 의하여 상기 처리 대상물을 건조시키는 단계,
    보호층을 접촉 유지하면서, 성형 장치를 사용하여 처리 대상물을 성형, 특히 인발하는 단계를 추가로 포함하는, 처리 방법.
14. 제 11 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리 물질(6)에 산세 탈지용 첨가 물질을 첨가하는 단계, 및
    상기 처리 물질(6)에 소포용 첨가 물질을 첨가하는 단계 중 적어도 하나의 단계를 포함하고,
    상기 산세 탈지 첨가제는 바람직하게 비이온성 생분해 계면활성제와 억제제의 수용액, 특히 2-부틴-1,4-디올을 함유하고, 및
    상기 산세 탈지 첨가제는 상기 처리 물질(6)의 부피의 0.5% 내지 7% 부피, 특히 1% 내지 5% 부피로 첨가되고,
    상기 소포용 첨가제는 트리이소부틸 인산염을 함유하고, 및
    상기 소포용 첨가제는 상기 처리 물질(6)의 부피의 0.01% 내지 5% 부피, 특히 0.2% 부피로 상기 처리 물질(6)에 첨가되거나, 또는
    상기 산세 탈지 첨가제에 첨가된 상기 처리 물질(6)의 부피의 0.01% 내지 5% 부피, 특히 0.2% 부피로 첨가되는, 처리 방법.
15. 제 11 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리 용기로부터의 상기 처리 대상물을 제거하는 단계,
    상기 처리 대상물에 의하여 상기 처리 물질로 이송되는 불순물을 교란 장치에 의하여 교란하는 단계로서, 상기 불순물을 교란하기 위하여 상기 교란 장치를 통해 상기 처리 물질로 유체가 공급되고,
    교란된 상기 불순물이 제공된 상기 처리 물질을 여과 장치에 공급하는 단계,
    상기 여과 장치에 공급된 상기 불순물을 상기 처리 물질 부분으로부터 여과하는 단계,
    상기 처리 대상물(2)을 여과된 상기 처리 물질(6)과 접촉시키기 위하여 전체 또는 부분적으로 상기 처리 물질(6)로 충진된 상기 처리 용기(4) 내에 상기 처리 대상물(2)을 재도입하는 단계, 또는
    상기 처리 대상물(2)을 여과된 상기 처리 물질(6)과 접촉시키기 위하여 전체 또는 부분적으로 상기 처리 물질(6)로 충진된 상기 처리 용기(4) 내에 추가적인 처리 대상물(2)을 도입하는 단계를 추가로 포함하고,
    상기 여과 장치 및 상기 교란 장치 중 적어도 하나를 작동시키기 위한 제어 장치가 제공되고,
    상기 여과 장치의 작동은 상기 교란 장치의 작동 기능으로서 적어도 때때로 실행되거나, 또는 상기 교란 장치의 작동은 상기 여과 장치의 작동 기능으로서 적어도 때때로 실행되며,
    상기 교란 장치의 작동은 적어도 때때로 상기 유체를 제공하고 상기 밸브 장치를 제어하는 것을 포함하고,
    상기 밸브 장치는 미리 정해진 패턴, 특히 프로그램된 시간 간격에 따라 제어되는, 처리 방법.

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