KR20180078620A - 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법 - Google Patents

친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 개시 내용에서는 복수의 공정을 결합하여 티타늄 재질의 임플란트 표면을 처리함으로써 개선된 친수성 및 안정성에 의하여 우수한 골 유착 또는 세포 부착 특성을 제공하는 임플란트의 제조방법이 기재된다.

Description

친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법{Method for Preparing Implants Having Hydrophilic Surface}
본 발명은 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 복수의 처리 공정의 결합을 통하여 티타늄 재질의 임플란트 표면을 처리함으로써 개선된 골 유착 특성 또는 세포부착 특성을 제공할 수 있는 임플란트의 제조방법에 관한 것이다.
치과에서 임플란트는 치아가 결손된 부위에 소실된 자연 치아를 대신하여 상, 하악골에 매식체를 식립하고 안정적으로 구강의 기능과 치아의 기능을 회복시키는 시술 방법이다. 임플란트의 기능 회복과 안정적 골 유착에 영향을 주는 요소로서 임플란트의 재질, 디자인, 표면특성, 골량 및 골질, 외과적 시술, 하중 조건과 환자의 구강 환경 등을 예시할 수 있다. 따라서, 임플란트는 구강 내 치조골에 이식되는 경우에 생체 조직에 대한 생체친화성(biocompatibility)이 양호한 재료를 선택하여 생체조직과 생화학적으로 부작용이 없는 재료를 선택할 필요가 있다. 이와 관련하여, 티타늄(또는 티타늄 합금), 코발트 합금, 스테인레스 스틸, 백금, 이리듐, 니오븀, 탄탈륨 등의 금속 재료를 사용할 수 있다.
상기 예시된 금속 중 티타늄(Ti) 또는 티타늄 합금은 생체친화성 및 부식저항성이 양호한 재료로서 임플란트 재료로 사용될 경우, 용해 속도가 느리고 용해산물은 화학적으로 불활성이기 때문에 골의 성장을 허용하여 골과의 계면에서 골 유착 반응이 일어난다. 그러나, 티타늄 또는 티타늄 합금은 일반적으로 생체 불활성으로 인하여 골조직과의 직접적인 결합은 이루어지지 않는다. 이로 인하여, 생체활성을 갖는 재료를 금속성 임플란트 표면에 코팅을 하는 등 표면처리를 하여 임플란트에 생체활성을 부여함으로써 임플란트의 성공률을 높이고 치유기간을 단축하기 위한 다양한 시도가 이루어져 왔다. 이와 같이 티타늄 또는 티타늄 합금 표면에 활성을 부여하는 표면처리는 치조골 내에서 염증의 유발 없이 빠른 골 유착이 일어나도록 유도할 수 있기 때문에 치조골에 고정되는 기간을 감소시킬 수 있다.
최근, 나노 기술의 급격한 발전으로 인하여 임플란트 소재 분야에서 티타늄 등의 금속 표면에 나노구조의 산화물 층을 형성하는 방법이 연구되어 왔다. 이와 관련하여, 균일한 나노튜브 TiO2 층은 골과 접촉하는 비표면적을 넓혀주므로 골유착에 유리하게 작용하는 것으로 보고되고 있으며, 수산화인회석(Hydroxyapatite, HAp) 코팅법에 의한 골유착 반응은 티타늄 표면과 코팅층 간에 강력한 결합이 곤란하기 때문에 두꺼운 피막 층에서 박리가 쉽게 일어나는 문제점이 있다.
택일적으로, HAp 코팅법과 유사한 효과를 갖고, 얇은 피막층을 형성할 수 있는 석회화 순환처리법이 이용되고 있고, 화학적 산처리, 미세입자를 이용한 분사처리, 양극산화처리, 플라즈마 분사처리 등의 표면처리를 통하여 임플란트와 골의 경계면에서 혈병(blood clot)의 형성을 안정화하며, 골모세포(Osteoblast cell)의 분화를 촉진시키며, 또한 시술 후 초기에 임플란트 주변의 골 치유를 향상시키는 기술도 알려져 있다.
이와 같이, 보다 신속한 초기 골융합을 유도하기 위하여 높은 젖음성(또는 친수성) 또는 부착성 및 안정성이 우수한 임플란트 표면 처리기술에 대한 요구가 지속적으로 증가하고 있다.
본 개시 내용에서는 종래의 티타늄 또는 티타늄 합금 재질의 임플란트의 표면 처리 기술에 비하여 개선된 특성, 구체적으로 친수성 및 안정성이 양호하여 골 유착 특성이 우수한 티타늄계 임플란트를 제조하기 위한 표면 처리방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 구체예에 따르면,
a) 티타늄 또는 티타늄 합금 재질의 임플란트를 제공하는 단계;
b) 상기 임플란트 표면에 대하여 SLA(sandblasting and acid etching) 처리하는 단계;
c) 이와 별도로, 칼슘 이온 소스를 함유하는 전해액을 제조하는 단계; 및
d) 상기 SLA-처리된 임플란트를 상기 전해액의 존재 하에서 수열 반응시킴으로써 상기 SLA-처리된 임플란트의 표면에 CaTiO3을 형성하는 단계;
를 포함하는, 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법이 제공된다.
예시적 구체예에 있어서, 상기 칼슘 이온 소스는 CaO, CaCl2 또는 이의 조합일 수 있다.
예시적 구체예에 있어서, 상기 전해액은 0.005 내지 0.05 M의 CaO 수용액 및 3 내지 8 M의 CaCl2 수용액의 혼합물을 포함할 수 있다.
예시적 구체예에 있어서, 상기 수열 반응은 150 내지 250℃의 온도 및 15 내지 25 bar의 압력 조건 하에서, 1 내지 6시간 동안 수행될 수 있다.
예시적 구체예에 따르면, 상기 단계 d)를 거친 임플란트의 표면의 수접촉각은 20ㅀ 이하일 수 있다.
예시적 구체예에 따르면, 상기 단계 b)에서 제공된 티타늄 또는 티타늄 합금 재질의 임플란트 표면의 접촉각은 적어도 100°일 수 있다.
본 개시 내용의 구체예에 따른 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법은 복수의 표면 처리 단계를 결합함으로써 개선된 친수성 및 안정성에 의하여 티타늄 또는 티타늄 합금 재질의 임플란트가 우수한 골 유착 또는 세포부착 특성을 갖도록 하는 장점을 제공한다.
따라서, 향후 광범위한 상용화가 기대된다.
도 1은 본 발명의 일 구체예에 따른 티타늄계 임플란트의 표면 처리 방법의 개략적인 공정 순서를 도시하는 도면이고;
도 2a 및 도 2b 각각은 실시예 2에 있어서 실시예 1에 따라 표면처리된(또는 코팅된) 티타늄 디스크 및 비교예 1에 따라 SLA 처리된 티타늄 디스크의 미세표면을 보여주는 주사전자현미경(SEM) 사진이고;
도 3a 및 도 3b 각각은 실시예 3에 있어서 실시예 1에 따라 표면처리된(또는 코팅된) 티타늄 디스크 및 비교예 1에 따라 SLA 처리된 티타늄 디스크의 접촉각 측정 결과를 나타내는 도면이고;
도 4a는 실시예 4에 있어서 실시예 1에 따라 표면처리된(또는 코팅된) 티타늄 디스크 및 비교예 1에 따라 SLA 처리된 티타늄 디스크에 대한 세포부착 후 크리스탈 바이올렛(crystal violet) 염색법에 의한 테스트 결과를 나타내는 그래프이고; 그리고
도 4b는 실시예 4에 있어서 실시예 1에 따라 표면처리된(또는 코팅된) 티타늄 디스크 및 비교예 1에 따라 SLA 처리된 티타늄 디스크에 부착된 조골세포를 염색한 사진이다.
본 발명은 하기의 설명에 의하여 모두 달성될 수 있다. 하기의 설명은 본 발명의 바람직한 구체예를 기술하는 것으로 이해되어야 하며, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 첨부된 도면은 이해를 돕기 위한 것으로, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 개별 구성에 관한 세부 사항은 후술하는 관련 기재의 구체적 취지에 의하여 적절히 이해될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 어떠한 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 별도의 언급이 없는 한, 다른 구성 요소 및/또는 단계를 더 포함할 수 있음을 의미한다.
도 1은 본 발명의 일 구체예에 따른 티타늄계 임플란트의 표면 처리 방법의 개략적인 공정 순서를 도시한다. 이하에서는 전체 공정을 구성하는 개별 단계에 대하여 상세히 설명하기로 한다.
티타늄계 임플란트의 SLA 처리 단계
본 개시 내용의 일 구체예에 따르면, 티타늄계 재질의 임플란트를 이용한다. 이때, 티타늄계 임플란트는 순수 티타늄 또는 티타늄 합금 재질일 수 있다. 이와 관련하여, 티타늄 합금은 (i) 티타늄(Ti)과 (ii) 알루미늄(Al), 실리콘(Si), 바나듐(V), 니오븀(Nb), 지크코늄(Zr), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 주석(Sn), 탄탈륨(Ta) 및 팔라듐(Pd)으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나가 선택되는 금속의 조합으로 이루어질 수 있다. 티타늄 합금의 구체적인 예는 Ti-6Al-4V, Ti-6Al-7Nb, Ti-13Nb-13Zr, Ti-8Al-1Mo-1V, Ti-6Al-6V-2Sn, Ti-35.3Nb-5.1Ta-7.1Zr, Ti-29Nb-13Ta-4.6Zr, Ti-29Nb-13Ta-2Sn, Ti-29Nb-13Ta-4.6Sn, Ti-29Nb-13Ta-6Sn, Ti-16Nb-13Ta-4Mo, Ti-6Al-5Zr-0.5Mo-0.2Si, Ti-6Al-2Sn-4Zr-2Mo-0.08Si, Ti-5.5Al-3.5Sn-3Zr-1Nb-0.5Mo-0.3Si, Ti-6Al-3Sn-4Zr-0.5Mo-0.5-Si, Ti-4Al-4Mo-2Sn-0.5Si, Ti-4Al-4Mo-4Sn-0.5Si, Ti-6Al-2Sn-4Zr-6Mo, Ti-3Al-8V-6Cr-4Zr-4Mo, Ti-15Mo-3Nb-3Al-0.2Si, Ti-15V-3Cr-3Sn-3Al 또는 Ti/Pd일 수 있다.
일 구체예에 있어서, SLA(sandblasted, large grit, acid etched) 처리 방법은 전형적으로 티타늄 합금 표면에 세라믹 입자를 분사처리(large grit sand blasting)하여 마이크론 수준의 표면 조도를 형성하고, 이후 산 에칭(acid etching)에 의하여 보다 미세한 마이크론 수준의 표면 조도를 추가적으로 형성하는 방식이다. 그 결과, 티타늄계 임플란트의 표면적은 증가하게 되는 바, 표면에 형성된 다양한 사이즈의 포어가 스폰지와 유사한 네트워크 구조를 형성할 수 있다.
일 구체예에 따르면, 샌드블라스팅을 위하여 세라믹 입자, 구체적으로 알루미나 입자를 티타늄계 임플란트의 표면에 분사한다. 이때, 세라믹 입자의 평균 입경(사이즈)는, 예를 들면 약 100 내지 550 ㎛, 구체적으로 약 140 내지 500 ㎛, 보다 구체적으로 약 180 내지 425 ㎛ 범위일 수 있다. 또한, 분사 압력은, 예를 들면 약 1 내지 10 atm, 구체적으로 약 2 내지 7 atm, 보다 구체적으로 약 3 내지 5 atm 범위일 수 있다. 이를 위하여 당업계에서 알려진 샌드블라스팅 장비를 사용할 수 있는 바, 상기 장비는 가압된 공기 회로에 연결되어 세라믹 그릿(grit)을 분사하도록 구성될 수 있다.
이와 같이, 샌드블라스팅에 의하여 티타늄계 임플란트의 생체적합성은 어느 정도 증가하게 되며, 후속적으로 티타늄계 임플란트의 표면을 가압 공기, 및/또는 초음파를 이용하여 세척 또는 세정할 수 있다.
후속적으로, 산 조성물을 이용하여 샌드블라스팅된 티타늄 표면을 처리하는 과정이 수행되는 바, 산 조성물은 염산 및 황산을 함유할 수 있다.
전술한 샌드블라스팅 및 산 에칭 조건은 예시적 목적으로 제공되는 것으로, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
상술한 SLA 처리 공정의 완료 후, 잔여 산 성분을 제거하기 위하여 세척하고, 초음파에 의하여 세정한 다음, 건조시키는 후속 공정을 수행할 수 있다.
전해질 용액의 제조 단계
본 개시 내용의 일 구체예에 따르면, SLA 처리된 티타늄계 임플란트의 표면에 대하여 염기성 전해액을 이용한 수열 반응 또는 처리를 추가적으로 수행할 수 있다. 이를 위하여, 염기성 전해액을 별도로 제조하는데, 상기 전해액은 칼슘 이온 소스를 함유한다. 칼슘 이온 소스는, 구체적으로 CaO, CaCl2 또는 이의 조합일 수 있는 바, 보다 구체적으로는 CaO 및 CaCl2의 조합일 수 있다. 이와 관련하여, CaO는 후속 수열 반응 시 티타늄계 표면 상에서 코팅층(즉, CaTiO3 코팅층) 형성을 촉진하는 성분인 한편, CaCl2는 양호한 생활성(bioactivity)을 제공하는데 효과적이다.
예시적 구체예에 있어서, 상기 전해액은 약 0.005 내지 0.05 M(구체적으로 약 0.008 내지 0.04 M, 보다 구체적으로 약 0.01 내지 0.03 M)의 CaO 수용액 및 약 3 내지 8 M(구체적으로 약 3.5 내지 7 M, 보다 구체적으로 약 4 내지 6 M)의 CaCl2 수용액의 혼합물을 포함할 수 있다.
수열 반응 단계
일 구체예에 따르면, 전술한 바와 같이 SLA 처리된 티타늄계 임플란트는 칼슘 이온 소스를 함유하는 전해액의 존재 하에서 수열 반응된다. 이러한 수열 반응은 하기 반응식 1에 의하여 수행될 수 있다.
[반응식 1]
Ti + 2H2O → TiO2 + 2H2
TiO2 + 2H2O → Ti(OH)4
Ti(OH)4 + Ca2+ → CaTiO3 + 2H+ + H2O
상술한 반응식에 따르면, 전해액으로부터 공급된 칼슘 이온이 임플란트 표면에 형성된 TiO2와 반응하여 CaTiO3을 형성하는 바, 이와 같이 형성된 CaTiO3은 친수성뿐만 안정성이 양호하기 때문에 구강 환경 하에서 유리하게 적용 가능하다.
예시적 구체예에 있어서, 상기 수열 반응의 온도는, 예를 들면 약 150 내지 280℃, 구체적으로 약 160 내지 250℃, 보다 구체적으로 약 180 내지 220℃ 범위 내에서 조절할 수 있다.
또한, 반응 압력은, 예를 들면 약 4 내지 40 bar, 구체적으로 약 10 내지 35 bar, 보다 구체적으로 약 15 내지 25 bar 범위 내일 수 있다. 이와 관련하여, 반응기 내부는 불활성 가스가 제공되는 바, 예를 들면 헬륨, 아르곤, 제논, 질소 등이 사용 가능하다.
이외에도, 상기 수열 반응은, 예를 들면 약 1 내지 6시간, 구체적으로 약 2 내지 5 시간, 보다 구체적으로 약 3 내지 4 시간에 걸쳐 수행될 수 있다. 다만, 본 발명이 전술한 반응 조건으로 한정되는 것은 아니다.
수열 반응의 완료 후, 후속 공정으로 처리된 티타늄계 임플란트를 물(예를 들면, 초순수)로 세정하고, 알코올(예를 들면, 에탄올)에 투입하여 초음파 세척을 수행할 수 있다. 이러한 세정 및 세척 과정은 1회 또는 2회 이상 수행될 수 있다.
상술한 바와 같이 수열 반응이 완료되는 티타늄계 임플란트의 표면 상에 CaTiO3 층이 형성되어 친수성이 증가하게 된다. 예시적으로, 수열 반응 전 티타늄계 임플란트의 표면의 수접촉각은, 예를 들면 적어도 약 100°로서 낮은 친수성을 나타낸다. 반면, 본 구체예에 따라 표면처리된 티타늄계 임플란트의 수접촉각은, 예를 들면 약 20° 이하, 구체적으로 약 15° 이하, 보다 구체적으로 약 13° 이하일 수 있다. 그 결과, 구강 이식 후에도 주변 조직과의 부착 특성이 현저히 개선될 수 있다.
본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 명확히 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시 목적에 불과하며 발명의 영역을 제한하고자 하는 것은 아니다.
실시예 1
표면 처리된 임플란트의 제조
- SLA 표면 처리
시판 중인 10 mm ㅧ 1.6 mm 사이즈의 티타늄 디스크를 시편으로 사용하였다. SLA 처리를 위하여, 노즐과 티타늄 디스크 표면 사이의 간격 3㎝를 두고 평균입경 70 ㎛ 세라믹 입자를 3 atm으로 분사 처리한 다음, 순수에 넣고 10분 동안 초음파 세척하였으며, 압축 공기로 건조시켰다. 그 다음, 염산 및 황산의 혼합산 수용액을 이용한 산처리법에 의하여 티타늄 디스크 표면에 매크로-마이크로 포어를 형성하였다. 그리고 증류수로 초음파 세척 후 건조시켰다.
- 수열 반응
SLA 표면처리된 티타늄 디스크를 지그에 체결하였다. 이와 별도로, CaO 0.02 M 수용액 및 CaCl2 5.4 M 수용액을 각각 제조한 후에 15분 동안 교반하였다. CaO 수용액 및 CaCl2 수용액을 1 : 1의 체적 비로 혼합하였고, 재차 15분 동안 교반하여 전해액을 제조하였다.
전해액을 제조한 후, Hastelloy 수열 반응기에 지그가 체결된 티타늄 디스크를 상기 제조된 전해액을 침적시켰다. 이후, 아르곤 가스로 3회 퍼징하여 반응기 내부에 아르곤 분위기를 형성하였으며, 200℃의 반응 온도 및 20 bar의 반응 압력 조건 하에서 3 시간 동안 수열 반응시켰다.
수열 반응이 종료된 후에 지그를 취출하여 초순수에 처리된 티타늄 디스크를 세정하였고, 에탄올(수용액)에 넣어 30분 동안 초음파 세척을 수행하였다. 에탄올 내에서 초음파 세척된 지그를 초순수에 옮긴 후, 60분 동안 추가적으로 초음파 세척하고 건조시켜 표면처리된 티타늄 디스크를 수득하였다.
비교예 1
수열 반응을 수행하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 표면처리된 티타늄 디스크를 수득하였다.
실시예 2
시편의 미세 표면 분석
실시예 1 및 비교예 1 각각에서 제조된 티타늄 디스크의 미세표면 형상을 주사전자현미경(Scanning Electron Microscopy; SEM)으로 관찰하였고, 그 결과를 도 2a 및 도 2b에 나타내었다. 상기 도면에 따르면, 수열 반응에 의하여 SLA 처리 표면은 유지되면서 추가적인 코팅층이 형성되어 있음을 확인할 수 있다.
실시예 3
친수성 평가 테스트
실시예 1 및 비교예 1 각각에서 제조된 티타늄 디스크 표면의 친수성을 평가하기 위하여 접촉각을 측정하였으며, 그 결과를 도 3a 및 도 3b에 나타내었다. 이와 관련하여, 접촉각 측정은 정적법(sessile drop method)을 이용하여 시편의 표면에 형성된 유사체액의 접촉각을 측정하는 방식으로 수행되었다. 정확한 접촉각 측정을 위하여 동영상 카메라가 부착된 장비로 사진을 촬영하였고, 사진에서 좌우 접촉각을 측정한 후에 평균값을 구하였다.
도 3a에 따르면, 실시예 1에 따라 표면처리된 티타늄 디스크의 접촉각은 104.718°인 반면, 비교예 1에 따라 표면처리된 티타늄 디스크의 접촉각은 12.766°로 측정되었는 바, 실시예 1에 따른 표면 처리를 통하여 티타늄 디스크 표면의 친수성이 현저히 증가하였음을 알 수 있다.
실시예 4
세포부착 테스트
실시예 1 및 비교예 1 각각에 따라 표면처리된 티타늄 디스크에 대하여 세포부착 테스트를 수행하였다. 상기 각각의 티타늄 디스크에 조골 세포(MG63 cell)를 1 ㅧ 104 cell/100 ㎕로 부착하였다. 3 시간 후, 조골 세포가 시편에 부착되는 정도를 크리스탈 바이올렛(crystal violet) 염색법을 이용하여 ELISA Reader 595 nm에서 측정하였다. 도 4a 및 도 4b에서 확인되는 바와 같이, 실시예 1에 따른 티타늄 디스크가 비교예 1에 따른 티타늄 디스크에 비하여 초기 세포 부착능이 증가하였음을 확인할 수 있는 바, 이는 증가된 친수성 표면으로부터 기인하는 것으로 볼 수 있다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로, 본 발명의 구체적인 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.

Claims (9)

  1. a) 티타늄 또는 티타늄 합금 재질의 임플란트를 제공하는 단계;
    b) 상기 임플란트 표면에 대하여 SLA(sandblasting and acid etching) 처리하는 단계;
    c) 이와 별도로, 칼슘 이온 소스를 함유하는 전해액을 제조하는 단계; 및
    d) 상기 SLA-처리된 임플란트를 상기 전해액의 존재 하에서 수열 반응시킴으로써 상기 SLA-처리된 임플란트의 표면에 CaTiO3을 형성하는 단계;
    를 포함하는, 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 칼슘 이온 소스는 CaO, CaCl2 또는 이의 조합인 것을 특징으로 하는 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 전해액은 0.005 내지 0.05 M의 CaO 수용액 및 3 내지 8 M의 CaCl2 수용액의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 수열 반응은 150 내지 250℃의 온도 및 4 내지 40 bar의 압력 조건 하에서, 1 내지 6시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 단계 d)를 거친 임플란트의 표면의 수접촉각은 20° 이하인 것을 특징으로 하는 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 단계 b)를 거친 티타늄 또는 티타늄 합금 재질의 임플란트 표면의 접촉각은 적어도 100°인 것을 특징으로 하는 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 티타늄 합금은 (i) 티타늄(Ti)과 (ii) 알루미늄(Al), 실리콘(Si), 바나듐(V), 니오븀(Nb), 지크코늄(Zr), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 주석(Sn), 탄탈륨(Ta) 및 팔라듐(Pd)으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나가 선택되는 금속의 조합으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기 단계 b)는 180 내지 425 ㎛의 평균 입경을 갖는 세라믹 입자를 1 내지 10 atm의 분사 압력으로 분사하여 샌드 블라스팅하는 단계; 및
    상기 샌드 블라스팅된 티타늄 또는 티타늄 합금 재질의 임플란트 표면을 황산 및 염산을 함유하는 산 조성물을 이용하여 산 에칭하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 산 에칭하는 단계는 50 내지 120℃에서 4 내지 60분 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 친수성 표면을 갖는 임플란트의 제조방법.
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