KR20180070922A - Multi-line imaging system - Google Patents

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신동혁
김영섭
정덕
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애니모션텍 주식회사
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Abstract

An object of the present invention is to provide a laser direct imaging system which can shorten operation time and enhance processing accuracy. The multi-line imaging system according to the present invention includes: a laser output unit for generating and outputting a laser light; a light splitting unit for splitting the laser light output from the laser output unit into a plurality of lights; a polygon mirror having a plurality of reflection surfaces formed on an outer surface thereof and rotating around a rotation axis to reflect the plurality of split lights; a light guiding unit located between the light splitting unit and the polygon mirror to form a light path so that each of the plurality of lights emitted from the light splitting unit is incident on a different position of the polygon mirror; and an imaging unit for imaging a plurality of lights reflected from the polygon mirror and incident on the substrate.

Description

멀티 라인 이미징 시스템{MULTI-LINE IMAGING SYSTEM}Multi-line imaging system {MULTI-LINE IMAGING SYSTEM}

본 발명은 멀티 라인 이미징 시스템에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 기판에 레이저를 이용하여 직접 이미징(또는 패터닝)을 수행하는 레이저 다이렉트 이미징(Laser Direct Imaging) 과정에서, 복수의 라인으로 이미징을 수행함으로써 작업 시간을 보다 단축시킬 수 있는 동시에, 가공 정확도를 향상시킬 수 있는 기술에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a multi-line imaging system, and more particularly, to a multi-line imaging system in which, in a laser direct imaging process in which imaging (or patterning) The present invention relates to a technique capable of shortening the time and improving the processing accuracy.

기판에 패턴을 형성하는 포토리소그라피(Photo Lithography) 기술은 마스크와 광학계로 된 노광장치를 이용하여 포토레지스트막을 노광시키는 방식이다. 이러한 포토리소그라피 기술은 공정이 까다롭고 복잡하며, 마스크를 제작하는 비용의 부담에 따라, 최근에는 레이저를 직접적으로 막에 조사하여 기정된 패턴을 형성하는 레이저 다이렉트 이미징(LDI, Laser Direct Imaging) 기술이 활용되고 있다. A photolithography technique for forming a pattern on a substrate is a method of exposing a photoresist film using an exposure apparatus made of a mask and an optical system. Such photolithographic techniques are complicated and complicated, and due to the burden of manufacturing masks, recently, Laser Direct Imaging (LDI) technology, which forms a predetermined pattern by directly irradiating a laser onto a film, .

현재 레이저 다이렉트 이미징 기술과 관련된 다양한 기술이 제공되고 있다. 한국 등록특허 제467,307호(2005.01.12. 등록)는 레이저 다이렉트 패터닝 기술에 관한 것으로, 상기 선행문헌을 참조하면, 레이저 다이렉트 패터닝 시스템은 레이저를 출력하는 레이저 광원과, 출력된 레이저를 주사(scanning)하는 수단으로서 등속 회전하며 레이저를 반사시키는 폴리곤 미러와, 폴리곤 미러로부터 반사되는 레이저를 기판에 결상시키는 에프-세타 렌즈를 포함하여 구성된다. 상기 선행 문헌을 포함하는 종래 기술에 따르면, 레이저 다이렉트 패터닝 시스템은 폴리곤 미러의 회전에 따라 레이저를 횡방향으로 스캐닝하는 동시에, 기정의된 패턴 이미지에 대응되도록 레이저의 출력을 제어하고, 하나의 라인에 대한 스캐닝 과정에 완료되면 기판을 이동시키는 과정을 반복함으로써, 원하는 패턴 이미지를 기판 상에 형성시킬 수 있다. Various technologies related to laser direct imaging technology are currently being provided. Korean Patent No. 467,307 (registered Jan. 12, 2005) discloses a laser direct patterning technique. Referring to the prior art, a laser direct patterning system includes a laser light source for outputting a laser beam, A polygon mirror that rotates at a constant speed and reflects the laser beam, and an F-theta lens that focuses the laser beam reflected from the polygon mirror on the substrate. According to the prior art which includes the above prior art, the laser direct patterning system scans the laser in the lateral direction in accordance with the rotation of the polygon mirror, while controlling the output of the laser to correspond to the predetermined pattern image, A desired pattern image can be formed on the substrate by repeating the process of moving the substrate when the scanning process is completed.

다만, 이러한 종래 기술을 이용하는 경우, 단일 라인으로 패터닝을 수행함으로써 작업 시간이 지연되며, 작업 시간을 단축시키기 위하여 폴리곤 미러의 회전 속도를 증가시키는 경우 기판 상에 형성되는 패턴의 가공 정확도가 떨어지는 문제점이 나타날 수 있다. However, in the case of using such a conventional technique, there is a problem that the working time is delayed by performing patterning in a single line, and when the rotation speed of the polygon mirror is increased in order to shorten the working time, .

현재, 레이저 다이렉트 이미징 기술 분야에서 작업 시간을 단축시키는 동시에 가공 정확도를 향상시킬 수 있는 신규한 기술의 개발이 필요한 실정이다. Currently, there is a need in the field of laser direct imaging technology to develop new technologies that can shorten the working time and improve the processing accuracy.

한국 등록특허 제467,307호(2005.01.12. 등록)Korean Registered Patent No. 467,307 (Registered on January 12, 2005)

따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 작업 시간을 보다 단축시킬 수 있는 동시에 가공 정확도를 향상시킬 수 있는 레이저 다이렉트 이미징(Laser Direct Imaging) 시스템을 제공하고자 한다. SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a laser direct imaging system capable of shortening the working time and improving the processing accuracy.

본 발명의 다른 목적들은 이하에 서술되는 바람직한 실시예들을 통하여 보다 명확해질 것이다.Other objects of the present invention will become apparent from the following description of preferred embodiments.

본 발명의 일 측면에 따르면, 멀티 라인 이미징 시스템은 레이저 광을 생성하여 출력하는 레이저 출력부; 상기 레이저 출력부에서 출력되는 레이저 광을 복수의 광으로 분할하는 광 분할부; 외측면에 복수의 반사면이 형성되고, 회전축을 중심으로 회전하며 상기 분할된 복수의 광을 반사시키는 폴리곤 미러; 상기 광 분할부와 상기 폴리곤 미러 사이에 위치하여, 상기 광 분할부에서 출사되는 복수의 광 각각이 상기 폴리곤 미러의 상이한 위치에 입사하도록 광 경로를 형성하는 광 유도부; 및 상기 폴리곤 미러로부터 반사되어 입사되는 복수의 광을 기판 상에 결상시키는 결상부;를 포함한다.According to an aspect of the present invention, a multi-line imaging system includes a laser output unit for generating and outputting laser light; A light splitting unit splitting the laser light output from the laser output unit into a plurality of lights; A polygon mirror having a plurality of reflection surfaces formed on an outer surface thereof and rotating about a rotation axis to reflect the plurality of divided lights; A light guiding unit positioned between the light splitting unit and the polygon mirror to form a light path so that a plurality of lights emitted from the light splitting unit are incident on different positions of the polygon mirror; And an imaging unit for imaging a plurality of lights reflected from the polygon mirror and incident on the substrate.

일 실시예에서, 상기 광 유도부는 상기 광 분할부에서 출사되는 복수의 광 각각이 상기 폴리곤 미러의 회전축 방향을 기준으로 상기 폴리곤 미러의 상이한 위치에 입사하도록 광 경로를 형성하는, 적어도 하나의 반사 미러를 포함할 수 있다. In one embodiment, the light guiding portion forms a light path so that each of the plurality of lights emitted from the light splitting portion is incident on a different position of the polygon mirror with respect to the direction of the rotation axis of the polygon mirror. . ≪ / RTI >

일 실시예에서, 상기 광 유도부는 상기 광 분할부에서 출사되는 복수의 광 각각이, 상기 폴리곤 미러의 상이한 반사면에 입사하도록 광 경로를 형성할 수 있다. In one embodiment, the light guide portion may form a light path such that each of the plurality of lights emitted from the light splitting portion is incident on different reflection surfaces of the polygon mirror.

일 실시예에서, 복수의 폴리곤 미러가 적층되어 구성되고, 상기 광 유도부는 상기 광 분할부에서 출사되는 복수의 광 각각이 상기 복수의 폴리곤 미러 각각에 입사하도록 광 경로를 형성할 수 있다. In one embodiment, a plurality of polygon mirrors are stacked, and the light guide portion may form a light path so that each of the plurality of lights emitted from the light splitting portion is incident on each of the plurality of polygon mirrors.

일 실시예에서, 상기 복수의 폴리곤 미러는 상호 상이한 방향으로 회전하도록 제어될 수 있다. In one embodiment, the plurality of polygon mirrors may be controlled to rotate in mutually different directions.

일 실시예에서, 상기 광 유도부는 상기 폴리곤 미러에 입사되는 광의 위치가 상기 회전축 방향을 기준으로 이동되도록 제어하는, 적어도 하나의 갈바노 미러(Galvano Mirror)를 포함할 수 있다.In one embodiment, the light guiding portion may include at least one Galvano Mirror that controls the position of light incident on the polygon mirror to be moved with respect to the rotation axis direction.

일 실시예에서, 멀티 라인 이미징 시스템은 상기 광 분할부와 상기 폴리곤 미러의 사이에 위치하여, 상기 광 분할부로부터 입사되는 복수의 광 각각을 독립적으로 제어하는 복수의 광 변조부;를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the multi-line imaging system further includes a plurality of optical modulators positioned between the light splitting section and the polygon mirror and independently controlling each of the plurality of lights incident from the light splitting section .

본 발명에 따르면, 광 분할부와 폴리곤 미러 사이에 위치하는 광 유도부가 광 분할부에 의하여 분할된 복수의 광을 폴리곤 미러의 상이한 위치에 입사시켜, 폴리곤 미러가 등속 회전하며 복수의 광을 출력하도록 구성됨으로써, 기판 상에 복수의 라인으로 이미징을 수행할 수 있어 작업 시간을 보다 단축할 수 있다. According to the present invention, the light guiding unit positioned between the light splitting unit and the polygon mirror makes a plurality of lights divided by the light splitting unit enter a different position of the polygon mirror so that the polygon mirror rotates at a constant speed and outputs a plurality of lights It is possible to perform imaging with a plurality of lines on the substrate, thereby further shortening the working time.

또한, 본 발명에 따르면, 폴리곤 미러에 입사되는 광의 위치를 갈바노 미러를 통해 이동 시킴으로써, 멀티 라인 가공 시 라인 간 피치를 보다 정교하게 제어할 수 있어 가공 정확도를 보다 향상시킬 수 있다. Further, according to the present invention, by shifting the position of the light incident on the polygon mirror through the galvanometer mirror, the pitch between lines can be more precisely controlled during multi-line processing, and the processing accuracy can be further improved.

도 1은 본 발명에 따른 멀티 라인 이미징 시스템을 설명하기 위한 참고도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광 유도부를 설명하기 위한 참고도이다.
도 3은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 광 유도부를 설명하기 위한 참고도이다.
도 4는 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 광 유도부를 설명하기 위한 참고도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 멀티 라인 이미징 시스템을 설명하기 위한 참고도이다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 멀티 라인 이미징 시스템을 설명하기 위한 참고도이다.
도 7은 도 6에 도시된 멀티 라인 이미징 시스템의 동작을 설명하기 위한 참고도이다.
1 is a reference diagram for explaining a multi-line imaging system according to the present invention.
2 is a reference view for explaining a light guide unit according to an embodiment of the present invention.
3 is a reference view for explaining a light guide unit according to another embodiment of the present invention.
4 is a reference view for explaining a light guide according to another embodiment of the present invention.
5 is a reference diagram for explaining a multi-line imaging system according to an embodiment of the present invention.
6 is a reference diagram for explaining a multi-line imaging system according to another embodiment of the present invention.
Fig. 7 is a reference diagram for explaining the operation of the multi-line imaging system shown in Fig. 6. Fig.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 이하, 본 발명의 실시예를 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 멀티 라인 이미징 시스템을 설명하기 위한 참고도이다. 한편, 도 1은 본 발명에서 기술하는 멀티 라인 이미징 시스템을 개략적으로 도식화한 것으로, 본 발명의 권리범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 즉, 도 1에서는 멀티 라인 이미징 시스템이 2 개의 라인으로 다이렉트 이미징을 수행하는 것을 도시하고 있으나, 이는 예시에 불과하며 필요에 따라 3 개 이상의 라인으로 이미징이 가능하도록 구현될 수 있다. 1 is a reference diagram for explaining a multi-line imaging system according to the present invention. FIG. 1 schematically illustrates the multi-line imaging system described in the present invention, and is not intended to limit the scope of the present invention. That is, although FIG. 1 shows that the multi-line imaging system performs direct imaging on two lines, this is merely an example, and may be implemented so that imaging can be performed on three or more lines as needed.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 멀티 라인 이미징 시스템(10)은 레이저 출력부(100), 광 분할부(200), 광 유도부(300), 폴리곤 미러(400) 및 결상부(500)를 포함한다. Referring to FIG. 1, a multi-line imaging system 10 according to the present invention includes a laser output unit 100, a light splitting unit 200, a light guide unit 300, a polygon mirror 400, .

레이저 출력부(100)는 레이저 광을 생성하여 출력한다. 여기에서, 레이저 출력부(100)는 레이저를 발산하는 레이저 광원과, 레이저 광원의 출력을 제어하거나 또는 최적화하기 위한 드라이버 등의 부가 장치를 포함할 수 있다. 한편, 레이저 광원은 레이저 다이오드에 해당할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 레이저 다이렉트 이미징 기술에서 활용되는 다양한 공지의 레이저 광원이 적용될 수 있다. The laser output unit 100 generates and outputs laser light. Here, the laser output section 100 may include a laser light source that emits a laser, and an additional device such as a driver for controlling or optimizing the output of the laser light source. Meanwhile, the laser light source may correspond to a laser diode, but the present invention is not limited thereto, and various known laser light sources utilized in laser direct imaging technology can be applied.

광 분할부(200)는 레이저 출력부(100)에서 출력되는 레이저 광을 복수의 광으로 분할한다. 한편, 도 1에서는 광 분할부(200)가 레이저 출력부(100)에서 출력되는 레이저 광을 입사 방향과 평행한 방향으로 분할하는 것으로 도식하였으나, 이는 광 분할부(200)의 기능을 보다 명확하게 하기 위한 것으로, 레이저 광의 분할 방향과 무관하게 입사광을 적어도 2개 이상의 광으로 분할하는 기능의 장치라면 본 발명에 따른 광 분할부(200)에 해당하는 것으로 해석되어야 할 것이다.The light splitting unit 200 splits the laser light output from the laser output unit 100 into a plurality of lights. 1, the light splitting unit 200 splits the laser light output from the laser output unit 100 in a direction parallel to the incident direction. However, the function of the light splitting unit 200 is more clearly described It is to be understood that the present invention should be construed as a light dividing unit 200 according to the present invention as long as it is a device capable of dividing the incident light into at least two or more lights regardless of the direction of the laser light.

일 실시예에서, 광 분할부(200)는 입사되는 광의 일부는 투과시키고 나머지 일부는 일정 각도로 반사시키는 빔 스플리터를 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 2 내지 6에 도시된 바와 같이, 광 분할부(200)는 레이저 출력부(100)에서 출력되는 레이저 광의 일부는 투과시키고 나머지 일부는 직각 방향으로 반사시키는 빔 스플리터(210, 220, 230, 240)로 구현될 수 있다. In one embodiment, the light splitting section 200 may include a beam splitter that transmits a portion of the incident light and reflects the remaining portion at a certain angle. For example, as shown in FIGS. 2 to 6, the light splitting unit 200 includes beam splitters 210 and 220 for transmitting a part of the laser light output from the laser output unit 100, , 230, 240).

광 유도부(300)는 광 분할부(200)와 폴리곤 미러(400) 사이에 위치하며, 광 분할부(200)에서 출사되는 복수의 광을 폴리곤 미러(400)로 입사시킨다. 여기에서, 광 유도부(300)는 광 분할부(200)에서 출사되는 복수의 광 각각이 폴리곤 미러(400)의 상이한 위치에 입사하도록 광 경로를 형성할 수 있다. The light guiding unit 300 is positioned between the light splitting unit 200 and the polygon mirror 400 and allows the light emitted from the light splitting unit 200 to enter the polygon mirror 400. Here, the light guiding unit 300 may form an optical path such that a plurality of lights emitted from the light splitting unit 200 are incident on different positions of the polygon mirror 400.

일 실시예에서, 광 유도부(300)는 광 분할부(200)에서 출사되는 복수의 광 각각이 폴리곤 미러(400)의 회전축 방향(도 1에서 수직 방향)을 기준으로 폴리곤 미러(400)의 상이한 위치에 입사하도록 광 경로를 형성할 수 있다. 본 실시예에 따르면, 멀티 라인 이미징 시스템(10)은 도 1에 도시된 바와 같이, 복수의 라인을 겹쳐지지 않게 기판(600) 상에 스캐닝할 수 있어 하나의 패턴 이미지를 보다 신속하게 작업할 수 있다.In one embodiment, the light guiding unit 300 may be configured such that each of the plurality of lights emitted from the light splitting unit 200 is different from the direction of the rotation axis of the polygon mirror 400 (vertical direction in FIG. 1) The optical path can be formed so as to be incident on the position. According to the present embodiment, the multi-line imaging system 10 can scan a plurality of lines on the substrate 600 without overlapping, as shown in Fig. 1, so that one pattern image can be processed more quickly have.

다른 일 실시예에서, 광 유도부(300)는 광 분할부(200)에서 출사되는 복수의 광 각각이 폴리곤 미러(400)의 회전축과 수직한 방향(도 1에서 수평 방향)을 기준으로 폴리곤 미러(400)의 상이한 위치에 입사하도록 광 경로를 형성할 수 있다. 본 실시예에 따르면, 멀티 라인 이미징 시스템(10)은 복수의 라인을 겹쳐지게 기판(600) 상에 스캐닝하되 미세한 시간 간격을 두고 스캐닝할 수 있다. 즉, 멀티 라인 이미징 시스템(10)은 분할되는 광의 개수에 상응하는 횟수만큼의 중복 스캐닝이 가능하고, 필요에 따라 복수의 광 각각에 대한 제어 신호를 독립적으로 제어하여 각 광의 출력 크기 및 출력 시간을 상이하게 조절할 수 있으며, 이를 통해 보다 정교한 이미징 작업을 수행할 수 있다.In another embodiment, the light guiding unit 300 may include a polygon mirror (not shown) in a direction perpendicular to the rotation axis of the polygon mirror 400 (the horizontal direction in FIG. 1) with respect to a plurality of lights emitted from the light splitting unit 200 400 at a different position. According to the present embodiment, the multi-line imaging system 10 can scan a plurality of lines on the substrate 600 in a superimposed manner with fine time intervals. That is, the multi-line imaging system 10 can perform a number of times of scanning corresponding to the number of divided lights, and independently control the control signals for each of the plurality of lights, Which allows for more sophisticated imaging operations.

폴리곤 미러(400)는 외측면에 복수의 반사면이 형성된 장치로, 회전축을 중심으로 회전하며 광 분할부(200)에 의하여 분할된 복수의 광을 반사시킨다. 일 실시예에서, 폴리곤 미러(400)의 하부에는 폴리곤 미러(400)의 회전 속도 또는 회전 방향을 제어하기 위한 회전 제어 장치와 폴리곤 미러(400)의 수평 및/또는 수직 방향의 위치 변경을 위한 위치 제어 장치가 구성될 수 있다. The polygon mirror 400 is a device having a plurality of reflection surfaces formed on its outer surface. The polygon mirror 400 rotates around a rotation axis and reflects a plurality of light beams divided by the light splitter 200. In one embodiment, a rotation control device for controlling the rotational speed or the rotational direction of the polygon mirror 400 and a position for changing the position of the polygon mirror 400 in the horizontal and / A control device can be constructed.

결상부(500)는 폴리곤 미러(400)로부터 반사되어 입사되는 복수의 광을 기판(600) 상에 결상시킨다. 여기에서, 결상부(500)는 폴리곤 미러(400)의 회전에 따라 입사되는 광의 각도가 변화하며 입사되더라도 스캐닝되는 광의 초점이 기판(600)에 형성되도록 기능하며, 폴리곤 미러(500)의 회전 각속도와 기판(600) 상의 스캐닝 거리가 선형 관계를 형성하도록 기능할 수 있다. 예를 들어, 결상부(500)는 에프-세타 렌즈(f-theta lens)를 포함하여 구성될 수 있다. The imaging element 500 images a plurality of lights reflected from the polygon mirror 400 and incident on the substrate 600. Here, the imaging unit 500 functions so that the focal point of the scanned light is formed on the substrate 600 even if the angle of the incident light changes with the rotation of the polygon mirror 400, and the angle of rotation of the polygon mirror 500 And the scanning distance on the substrate 600 form a linear relationship. For example, the imaging element 500 may comprise an f-theta lens.

이하에서는 도 2 내지 도 7을 참조하여, 본 발명의 다양한 실시예에 대하여 보다 상세하게 설명한다. Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to Figs. 2 to 7. Fig.

도 2 내지 4는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 광 유도부를 설명하기 위한 참고도이고, 도 5 내지 7은 본 발명의 다양한 실시예에 따른 멀티 라인 이미징 시스템을 설명하기 위한 참고도이다.FIGS. 2 to 4 are reference views for explaining a light guide portion according to various embodiments of the present invention, and FIGS. 5 to 7 are reference views for explaining a multi-line imaging system according to various embodiments of the present invention.

일 실시예에서, 광 유도부(300)는 광 분할부(200)에서 출사되는 복수의 광 각각이 폴리곤 미러(400)의 회전축 방향을 기준으로 폴리곤 미러의 상이한 위치에 입사하도록 광 경로를 형성하는, 적어도 하나의 반사 미러를 포함할 수 있다. In one embodiment, the light guiding part 300 forms a light path so that each of the plurality of lights emitted from the light splitting part 200 is incident on a different position of the polygon mirror with respect to the direction of the rotation axis of the polygon mirror 400, And may include at least one reflecting mirror.

도 2를 참조하면, 광 분할부(210)는 레이저 출력부(100)에서 출력되는 광의 일부를 반사시켜 폴리곤 미러(400)의 제1 위치에 입사시키고, 나머지 일부의 광은 투과시켜 반사 미러(310)로 입사시킬 수 있다. 이때, 반사 미러(310)는 입사되는 광을 반사시켜 폴리곤 미러(400)의 제2 위치(제1 위치와 수직 방향으로 상이한 위치)에 입사시킬 수 있다. 2, the light splitting unit 210 reflects a part of the light output from the laser output unit 100 and enters the first position of the polygon mirror 400, transmits the remaining part of the light to form a reflection mirror 310, respectively. At this time, the reflection mirror 310 may reflect the incident light and may enter the second position (a position different from the first position) of the polygon mirror 400.

도 3을 참조하면, 광 유도부(300)는 제1 내지 제3 반사미러(320, 330, 340)를 포함하여 구성될 수 있다. 보다 구체적으로, 광 분할부(220)는 레이저 출력부(100)에서 출력되는 광의 일부를 반사시켜 제1 반사 미러(320)로 입사시키고, 나머지 일부의 광은 투과시켜 제2 반사 미러(330)로 입사시킬 수 있다. 여기에서, 제1 반사 미러(320)는 입사되는 광을 반사시켜 폴리곤 미러(400)의 제1 위치에 입사시킬 수 있고, 제2 반사 미러(330)는 입사되는 광을 반사시켜 제3 반사 미러(340)로 입사시키고, 제3 반사 미러(340)는 입사되는 광을 반사시켜 폴리곤 미러(400)의 제2 위치(제1 위치와 수직 방향으로 상이한 위치)에 입사시킬 수 있다. Referring to FIG. 3, the light guiding unit 300 may include first through third reflection mirrors 320, 330, and 340. More specifically, the light splitting unit 220 reflects a part of the light output from the laser output unit 100 and enters the first reflection mirror 320, transmits the remaining part of the light, As shown in FIG. Here, the first reflection mirror 320 reflects the incident light to enter the first position of the polygon mirror 400, and the second reflection mirror 330 reflects the incident light, The third reflecting mirror 340 reflects the incident light and may enter the second position of the polygon mirror 400 at a position different from the first position.

즉, 도 2는 광 유도부(300)가 하나의 반사미러(310)로 구성되는 실시예가 도시된 것이며. 도 3은 광 유도부(300)가 세 개의 반사미러(320 내지 340)로 구성되는 다른 실시예가 도시된 것이다. 한편, 도 2 및 3은 본 발명의 권리범위를 한정하고자 하는 것은 아니며, 광 유도부(300)는 도 2 및 3에 도시된 구성과 상이한 구성으로 적어도 하나 이상의 반사미러가 조합되어, 광 분할부(200)에 의하여 분할된 광을 폴리곤 미러(400)의 상이한 위치에 입사시키는 것이 가능함은 물론이다. That is, FIG. 2 shows an embodiment in which the light guiding unit 300 is composed of one reflection mirror 310. FIG. 3 shows another embodiment in which the light guide portion 300 is composed of three reflection mirrors 320 to 340. 2 and 3 are not intended to limit the scope of the present invention, and the optical guide unit 300 is different from the configuration shown in Figs. 2 and 3 in that at least one reflection mirror is combined, 200 may be incident on the polygon mirror 400 at different positions.

일 실시예에서, 광 유도부(300)는 광 분할부(200)에서 출사되는 복수의 광 각각이, 폴리곤 미러(400)의 상이한 반사면에 입사하도록 광 경로를 형성할 수 있다. In one embodiment, the light guide 300 may form a light path such that each of the plurality of lights emitted from the light splitting part 200 is incident on different reflection surfaces of the polygon mirror 400. [

도 4는 본 실시예를 설명하기 위한 참고도로서, 도 3에 도시된 실시예에서 제2 및 제3 반사미러(330, 340)의 위치를 변경시켜, 광 분할부(200)에서 출사되는 복수의 광 각각이 폴리곤 미러(400)의 상이한 반사면에 입사하도록 구성되는 멀티 라인 이미징 시스템을 도시한 것이다. FIG. 4 is a view for explaining the embodiment. In the embodiment shown in FIG. 3, the positions of the second and third reflection mirrors 330 and 340 are changed, and a plurality of In which each of the lights of the polygon mirror 400 is incident on different reflection surfaces of the polygon mirror 400. [

도 4를 참조하면, 광 분할부(230)에서 반사되는 광은 제1 반사미러(320)에서 반사되어 폴리곤 미러(400)의 제1 반사면의 제1 위치에 입사되고, 광 분할부(200)를 투과하는 광은 제2 및 제3 반사미러(330, 340)를 각각 반사하여 폴리곤 미러(400)의 제2 반사면의 제2 위치에 입사될 수 있다. 4, the light reflected by the light splitting unit 230 is reflected by the first reflection mirror 320 and is incident on the first reflection surface of the first reflection surface of the polygon mirror 400, and the light splitting unit 200 May reflect the second and third reflection mirrors 330 and 340 and may be incident on the second reflection surface of the polygon mirror 400 at a second position.

본 실시예에 따르면, 폴리곤 미러(40)의 회전에 따른 복수의 광 각각에 의한 라인스캐닝 방향은 서로 동일하나, 기판(600) 상에서의 스캐닝 위치는 상이하게 형성되어, 복수 개의 패턴 이미징 작업을 동시에 수행할 수 있어 작업 시간을 보다 단축시킬 수 있다. According to the present embodiment, the line scanning directions by the plurality of lights due to the rotation of the polygon mirror 40 are the same, but the scanning positions on the substrate 600 are formed differently so that a plurality of pattern imaging operations are performed simultaneously So that the working time can be further shortened.

일 실시예에서, 멀티 라인 이미징 시스템(10)은 복수의 폴리곤 미러가 적층되어 구성되고, 광 유도부(300)는 광 분할부(200)에서 출사되는 복수의 광 각각이 복수의 폴리곤 미러 각각에 입사하도록 광 경로를 형성할 수 있다. In one embodiment, the multi-line imaging system 10 is constructed by stacking a plurality of polygon mirrors, and each of the plurality of lights emitted from the light splitting unit 200 is incident on each of the plurality of polygon mirrors The optical path can be formed.

도 5는 본 실시예를 설명하기 위한 참고도로서, 도 2에 도시된 실시예에서 폴리곤 미러(400)를 적층된 제1 및 제2 폴리곤 미러(410, 420)로 변경하고, 광 분할부(240) 및 반사미러(350)에서 각각 반사되는 광이 제1 및 제2 폴리곤 미러(410, 420)로 입사하도록 구성되는 멀티 라인 이미징 시스템을 도시한 것이다. FIG. 5 is a view for explaining the present embodiment. In the embodiment shown in FIG. 2, the polygon mirror 400 is changed to the stacked first and second polygon mirrors 410 and 420, 240 and the reflective mirror 350 are incident on the first and second polygon mirrors 410, 420, respectively.

도 5(A)를 참조하면, 광 분할부(240)에서 반사되는 광은 제1 폴리곤 미러(410)의 제1 위치에 입사되고, 광 분할부(240)를 투과하는 광은 반사미러(350)를 반사하여 제2 폴리곤 미러(420)의 제2 위치에 입사될 수 있다. 5A, the light reflected by the light splitting unit 240 is incident on the first position of the first polygon mirror 410, the light passing through the light splitting unit 240 is reflected by the reflection mirror 350 And may be incident on the second position of the second polygon mirror 420. [

여기에서, 복수의 폴리곤 미러 각각은 상호 상이한 방향으로 회전하도록 제어될 수 있다. 도 5(A)에 도시된 바와 같이, 제1 폴리곤 미러(410)는 반시계 방향으로, 제2 폴리곤 미러(420)는 시계 방향으로 회전하도록 제어될 수 있다. 이에 따라, 도 5(B)에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 폴리곤 미러(40)의 회전 방향에 따른 복수의 광 각각에 의한 라인스캐닝 방향은 서로 상이하게 형성될 수 있다. Here, each of the plurality of polygon mirrors may be controlled to rotate in mutually different directions. As shown in Fig. 5 (A), the first polygon mirror 410 can be controlled to rotate counterclockwise, and the second polygon mirror 420 can be controlled to rotate clockwise. Accordingly, as shown in FIG. 5B, the line scanning directions by the plurality of lights according to the rotation directions of the first and second polygon mirrors 40 may be different from each other.

단일 방향으로 레이저 스캐닝을 수행하는 과정에서, 스캔 라인 방향을 따라 레이저 출력이 균일하게 제어되지 못하는 경우, 기판 상 특정 위치에서 패턴 이미지가 정확하게 가공되지 않는 문제가 발생될 수 있다. 본 실시예에 따르면, 복수의 광 각각에 의한 라인 스캐닝 방향을 서로 상이하게 형성하여 가공함으로써, 레이저 출력 불안정에 따라 특정 위치에 집중되는 가공 패턴의 오류를 분산시킬 수 있는 장점이 있다. In the course of performing laser scanning in a single direction, if the laser output can not be uniformly controlled along the scan line direction, the pattern image may not be precisely processed at a specific position on the substrate. According to this embodiment, there is an advantage that errors in the processing patterns concentrated at specific positions can be dispersed according to the laser output instability by forming and processing the line scanning directions of the plurality of lights differently from each other.

한편, 도 5는 2개의 폴리곤 미러가 적층되어 구성되는 실시예가 도시된 것으로, 본 발명의 권리범위를 한정하고자 하는 것은 아니며, 필요에 따라 3개 이상의 폴리곤 미러가 적층되어 구성될 수 있다. 이러한 경우, 광 유도부(300)는 추가적인 반사 미러가 구성될 수 있으며, 복수의 폴리곤 미러 각각에 분할된 광이 입사하도록 광 경로를 형성할 수 있다. Meanwhile, FIG. 5 shows an embodiment in which two polygon mirrors are stacked. It is not intended to limit the scope of the present invention, and three or more polygon mirrors may be stacked as needed. In this case, the light guiding unit 300 may be constituted by an additional reflecting mirror, and may form an optical path such that the divided light enters each of the plurality of polygon mirrors.

일 실시예에서, 광 유도부(300)는 폴리곤 미러(400)에 입사되는 광의 위치가 회전축 방향을 기준으로 이동되도록 제어하는, 적어도 하나의 갈바노 미러(Galvano Mirror)를 포함할 수 있다. In one embodiment, the light guide 300 may include at least one Galvano Mirror that controls the position of light incident on the polygon mirror 400 to be moved relative to the rotational axis direction.

도 6 및 7은 본 실시예를 설명하기 위한 참고도로서, 도 3에 도시된 실시예에서 제3 반사 미러(340)를 갈바노 미러(360)로 변경하고, 갈바노 미러(360)에서 반사되어 폴리곤 미러(400)에 입사되는 광의 위치(제2 위치)를 수직 방향으로 이동 제어하는 멀티 라인 이미징 시스템을 도시한 것이다. 6 and 7 are views for explaining the present embodiment. In the embodiment shown in FIG. 3, the third reflecting mirror 340 is changed to the galvanometer mirror 360, and the reflected light from the galvanometer mirror 360 is reflected (Second position) of light incident on the polygon mirror 400 is controlled to move in the vertical direction.

도 6을 참조하면, 광 유도부(300)는 제1 및 제2 반사미러(320, 330)와 갈바노 미러(360)를 포함하여 구성될 수 있다. 보다 구체적으로, 광 분할부(220)는 레이저 출력부(100)에서 출력되는 광의 일부를 반사시켜 제1 반사 미러(320)로 입사시키고, 나머지 일부의 광은 투과시켜 제2 반사 미러(330)로 입사시킬 수 있다. 여기에서, 제1 반사 미러(320)는 입사되는 광을 반사시켜 폴리곤 미러(400)의 제1 위치에 입사시킬 수 있고, 제2 반사 미러(330)는 입사되는 광을 반사시켜 갈바노 미러(360)로 입사시키고, 갈바노 미러(360)는 입사되는 광을 반사시켜 폴리곤 미러(400)의 제2 위치(제1 위치와 수직 방향으로 상이한 위치)에 입사시킬 수 있다. Referring to FIG. 6, the light guiding unit 300 may include first and second reflective mirrors 320 and 330 and a galvanometer mirror 360. More specifically, the light splitting unit 220 reflects a part of the light output from the laser output unit 100 and enters the first reflection mirror 320, transmits the remaining part of the light, As shown in FIG. Here, the first reflection mirror 320 may reflect the incident light and enter the first position of the polygon mirror 400, and the second reflection mirror 330 reflects incident light to form a galvanometer mirror 360, and the galvanometer mirror 360 reflects incident light and can enter the second position (a position different from the first position) of the polygon mirror 400.

여기에서, 갈바노 미러(360)는 폴리곤 미러(400)에 입사되는 광의 위치(제2 위치)가 회전축 방향(수직 방향)을 기준으로 이동되도록 제어할 수 있다. 도 7(A)에 도시된 바와 같이, 갈바노 미러(360)의 회전축은 폴리곤 미러(400)의 회전축과 수직 방향으로 설정되고, 갈바노 미러(360)가 회전축을 중심으로 회전됨에 따라 폴리곤 미러(400)에 입사되는 광의 위치(제2 위치)가 변화될 수 있다. 이에 따라, 도 7(B)에 도시된 바와 같이, 복수의 스캐닝 라인 중 갈바노 미러(360)에서 반사되는 광에 의한 스캐닝 라인은 수직 방향으로 이동될 수 있다. Here, the galvanometer mirror 360 can control the position (second position) of the light incident on the polygon mirror 400 to be moved with reference to the rotation axis direction (vertical direction). 7A, the rotation axis of the galvanometer mirror 360 is set perpendicular to the rotation axis of the polygon mirror 400, and as the galvanometer mirror 360 is rotated about the rotation axis, (Second position) of the light incident on the light source 400 can be changed. Accordingly, as shown in FIG. 7 (B), the scanning line by the light reflected by the galvano mirror 360 among the plurality of scanning lines can be moved in the vertical direction.

일반적으로 다이렉트 레이저 이미징을 수행하는 과정에서, 가공물의 재료, 레이저의 출력 강도 등의 여러 요인으로 인하여 기판(600)에 형성되는 선폭의 굵기가 상이하게 형성될 수 있다. 본 실시예에 따르면, 광 유도부(300)에 갈바노 미러(360)를 구성시켜 폴리곤 미러(400)에 입사되는 광의 위치를 변경할 수 있도록 함으로써, 멀티 라인 이미징 과정에서 스캐닝 라인 간의 피치를 제어할 수 있어, 보다 정교한 작업을 수행할 수 있다. Generally, in the process of performing direct laser imaging, the thickness of the line width formed on the substrate 600 may be different due to various factors such as the material of the workpiece, the output intensity of the laser, and the like. According to the present embodiment, the galvanomirror 360 can be configured in the light guiding unit 300 to change the position of light incident on the polygon mirror 400, thereby controlling the pitch between the scanning lines in the multi-line imaging process So that more sophisticated work can be performed.

일 실시예에서, 멀티 라인 이미징 시스템(10)은 광 분할부(200)와 폴리곤 미러(400)의 사이에 위치하여, 광 분할부(200)로부터 입사되는 복수의 광 각각을 독립적으로 제어하는 복수의 광 변조부를 더 포함할 수 있다. 여기에서, 광 변조부는 음향 광학 변조기(AOM, Acousto-Optic Modulator)를 포함하여 구성될 수 있다. In one embodiment, the multi-line imaging system 10 is located between the light splitting unit 200 and the polygon mirror 400, and includes a plurality (not shown) for independently controlling each of the plurality of lights incident from the light splitting unit 200 The optical modulator of FIG. Here, the optical modulator may be configured to include an acousto-optic modulator (AOM).

도 2를 참조하면, 멀티 라인 이미징 시스템(10)은 광 분할부(210)와 폴리곤 미러(400) 사이에 제1 광 변조부(710)를, 반사미러(310)와 폴리곤 미러(400) 사이에 제2 광 변조부(720)를 구성할 수 있다. 2, the multi-line imaging system 10 includes a first optical modulator 710 between the light splitting unit 210 and the polygon mirror 400, a first optical modulator 710 between the reflection mirror 310 and the polygon mirror 400, The second optical modulator 720 can be configured.

도 3을 참조하면, 멀티 라인 이미징 시스템(10)은 광 분할부(220)와 제1 반사 미러(320) 사이에 제1 광 변조부(730)를, 제2 반사미러(330)와 제3 반사 미러(340) 사이에 제2 광 변조부(740)를 구성할 수 있다.3, the multi-line imaging system 10 includes a first light modulator 730 between the light splitter 220 and the first reflection mirror 320, a second light mirror 330, And the second optical modulator 740 can be configured between the reflection mirrors 340.

도 4를 참조하면, 멀티 라인 이미징 시스템(10)은 광 분할부(230)와 제1 반사 미러(320) 사이에 제1 광 변조부(750)를, 제2 반사미러(330)와 제3 반사 미러(340) 사이에 제2 광 변조부(760)를 구성할 수 있다.4, the multi-line imaging system 10 includes a first light modulator 750 between the light splitter 230 and the first reflection mirror 320, a second light mirror 330 between the second reflection mirror 330 and the third mirror 340, And the second optical modulator 760 can be configured between the reflection mirrors 340.

도 5를 참조하면, 멀티 라인 이미징 시스템(10)은 광 분할부(240)와 제1 폴리곤 미러(410) 사이에 제1 광 변조부(770)를, 반사미러(350)와 제2 폴리곤 미러(420) 사이에 제2 광 변조부(780)를 구성할 수 있다. 5, the multi-line imaging system 10 includes a first optical modulator 770 between the light splitting unit 240 and the first polygon mirror 410, a first optical modulator 770 between the reflection mirror 350 and the second polygon mirror 410, The second optical modulator 780 can be configured between the first optical modulator 420 and the second optical modulator 780. [

도 6을 참조하면, 멀티 라인 이미징 시스템(10)은 광 분할부(220)와 제1 반사 미러(320) 사이에 제1 광 변조부(730)를, 제2 반사미러(330)와 갈바노 미러(360) 사이에 제2 광 변조부(740)를 구성할 수 있다.6, the multi-line imaging system 10 includes a first light modulator 730 between the light splitter 220 and the first reflection mirror 320, a second light mirror 330, And the second optical modulator 740 can be configured between the mirrors 360.

만약 광 변조부를 레이저 출력부(100)와 광 분할부(200) 사이에 구성하여 멀티 라인 이미징 작업을 수행하는 경우, 스캐닝되는 복수의 광은 모두 동일한 출력 특성을 나타내게 된다. 본 실시예에 따르면, 광 분할부(200)와 폴리곤 미러(400)의 사이에 분할된 광 각각을 제어하기 위한 복수의 광 변조부가 구성되고, 복수의 광 변조부는 각각 독립적으로 광을 변조함으로써, 멀티 라인으로 이미징하는 과정에서 스캐닝 라인 별로 상이한 가공을 가능케 한다. 예를 들어, 도 2에서 제1 광 변조부(710)는 전체 패턴 이미지에 대한 가공 제어 신호 중 홀수 행에 대한 가공 제어 신호를 기초로 출력 광을 제어하고, 제2 광 변조부(720)는 짝수 행에 대한 대한 가공 제어 신호를 기초로 출력 광을 제어함으로써, 하나의 패턴 이미지를 보다 신속하게 완성할 수 있다. If a multi-line imaging operation is performed by configuring the optical modulating unit between the laser output unit 100 and the light splitting unit 200, the plurality of scanned lights exhibit the same output characteristics. According to the present embodiment, a plurality of optical modulating sections for controlling each of the divided lights are constituted between the light splitting section 200 and the polygon mirror 400, and the plurality of optical modulating sections independently modulate the light, It enables different processing for each scanning line in the process of imaging in multi-line. For example, in FIG. 2, the first optical modulator 710 controls the output light based on the machining control signal for the odd rows of the machining control signals for the entire pattern image, and the second optical modulator 720 By controlling the output light based on the processing control signal for the even rows, one pattern image can be completed more quickly.

상술한 본 발명 다양한 실시예에 따르면, 기판(600) 상에 복수의 라인으로 이미징을 수행할 수 있어 작업 시간을 보다 단축할 수 있으며, 폴리곤 미러(400)에 입사되는 광의 위치를 갈바노 미러(360)를 통해 이동시킴으로써, 멀티 라인 가공 시 라인 간 피치를 보다 정교하게 제어할 수 있어 가공 정확도를 보다 향상시킬 수 있다. 더욱이, 단일의 레이저 광원을 이용하여 멀티 라인 이미징을 수행할 수 있어 시스템 설계 비용을 절감할 수 있다.According to various embodiments of the present invention described above, it is possible to perform imaging with a plurality of lines on the substrate 600, thereby shortening the working time. Further, the position of the light incident on the polygon mirror 400 can be detected by a galvanometer mirror 360), it is possible to more precisely control the pitch between lines in the multi-line processing, thereby further improving the processing accuracy. Furthermore, multi-line imaging can be performed using a single laser light source, thereby reducing system design cost.

상기한 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대해 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the relevant art that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. The appended claims are to be considered as falling within the scope of the following claims.

100 : 레이저 출력부
200 : 광 분할부
300 : 광 유도부
400 : 폴리곤 미러
500 : 결상부
600 : 기판
700 : 광 변조부
100: laser output section
200: optical splitter
300:
400: polygon mirror
500:
600: substrate
700: light modulation section

Claims (7)

레이저 광을 생성하여 출력하는 레이저 출력부;
상기 레이저 출력부에서 출력되는 레이저 광을 복수의 광으로 분할하는 광 분할부;
외측면에 복수의 반사면이 형성되고, 회전축을 중심으로 회전하며 상기 분할된 복수의 광을 반사시키는 폴리곤 미러;
상기 광 분할부와 상기 폴리곤 미러 사이에 위치하여, 상기 광 분할부에서 출사되는 복수의 광 각각이 상기 폴리곤 미러의 상이한 위치에 입사하도록 광 경로를 형성하는 광 유도부; 및
상기 폴리곤 미러로부터 반사되어 입사되는 복수의 광을 기판 상에 결상시키는 결상부;
를 포함하는 멀티 라인 이미징 시스템.
A laser output unit for generating and outputting laser light;
A light splitting unit splitting the laser light output from the laser output unit into a plurality of lights;
A polygon mirror having a plurality of reflection surfaces formed on an outer surface thereof and rotating about a rotation axis to reflect the plurality of divided lights;
A light guiding unit positioned between the light splitting unit and the polygon mirror to form a light path so that a plurality of lights emitted from the light splitting unit are incident on different positions of the polygon mirror; And
An imaging unit for imaging a plurality of lights reflected and incident on the polygon mirror on a substrate;
/ RTI > imaging system.
제1항에 있어서, 상기 광 유도부는
상기 광 분할부에서 출사되는 복수의 광 각각이 상기 폴리곤 미러의 회전축 방향을 기준으로 상기 폴리곤 미러의 상이한 위치에 입사하도록 광 경로를 형성하는, 적어도 하나의 반사 미러를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 라인 이미징 시스템.
The light guide plate according to claim 1,
And at least one reflection mirror for forming a light path such that each of a plurality of lights emitted from the light splitting section is incident on a different position of the polygon mirror with respect to a rotation axis direction of the polygon mirror, Imaging system.
제2항에 있어서, 상기 광 유도부는
상기 광 분할부에서 출사되는 복수의 광 각각이, 상기 폴리곤 미러의 상이한 반사면에 입사하도록 광 경로를 형성하는 것을 특징으로 하는 멀티 라인 이미징 시스템.
The light guide plate according to claim 2,
And a plurality of light beams emitted from the light splitting part form light paths so as to be incident on different reflection surfaces of the polygon mirror.
제2항에 있어서,
복수의 폴리곤 미러가 적층되어 구성되고,
상기 광 유도부는
상기 광 분할부에서 출사되는 복수의 광 각각이 상기 복수의 폴리곤 미러 각각에 입사하도록 광 경로를 형성하는 것을 특징으로 하는 멀티 라인 이미징 시스템.
3. The method of claim 2,
A plurality of polygon mirrors are stacked,
The light-
And a plurality of light beams emitted from the light splitting section are incident on each of the plurality of polygon mirrors.
제4항에 있어서,
상기 복수의 폴리곤 미러는 상호 상이한 방향으로 회전하도록 제어되는 것을 특징으로 하는 멀티 라인 이미징 시스템.
5. The method of claim 4,
Wherein the plurality of polygon mirrors are controlled to rotate in mutually different directions.
제2항에 있어서, 상기 광 유도부는
상기 폴리곤 미러에 입사되는 광의 위치가 상기 회전축 방향을 기준으로 이동되도록 제어하는, 적어도 하나의 갈바노 미러(Galvano Mirror)를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 라인 이미징 시스템.
The light guide plate according to claim 2,
And at least one galvano mirror for controlling the position of light incident on the polygon mirror to be moved with respect to the rotation axis direction.
제1항에 있어서, 멀티 라인 이미징 시스템은
상기 광 분할부와 상기 폴리곤 미러의 사이에 위치하여, 상기 광 분할부로부터 입사되는 복수의 광 각각을 독립적으로 제어하는 복수의 광 변조부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 라인 이미징 시스템.
The system of claim 1, wherein the multi-line imaging system
And a plurality of optical modulators located between the light splitting section and the polygon mirror and independently controlling each of a plurality of lights incident from the light splitting section.
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