KR20180067922A - Composition for manufacturing polysilicon etchant and polysilicon etchant comprising the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 및 이를 포함하는 폴리실리콘 식각액에 관한 것이다. The present invention relates to a composition for preparing an etching solution for a polysilicon and a polysilicon etching solution containing the same.
IT(information technology) 분야의 발전과 함께 현대 사회에서 반도체 직접 회로(IC;integrated circuit), 반도체 소자, 반도체 장치 등의 역할은 갈수록 중요해지고 있으며, 다양한 산업 분야의 전자기기에서 광범위하게 사용되고 있다. 최근 전자기기들이 소형화, 박형화, 경량화, 고성능화가 진행됨에 따라서, 사용되는 반도체 소자도 우수한 저장 능력과 고속 저장 동작이 요구되고 있다. 이러한 반도체 소자의 고집적화에 따라 수십 나노미터(㎚) 이하의 미세한 패턴형성이 필요하게 되었다. With the development of the information technology (IT) field, the roles of semiconductor integrated circuits (ICs), semiconductor devices and semiconductor devices have become increasingly important in modern society, and they are widely used in various industrial electronic devices. [0002] As electronic devices have become more compact, thinner, lighter, and have higher performance, semiconductor devices to be used require excellent storage capacity and high-speed storage operation. With such high integration of semiconductor devices, it is necessary to form fine patterns of several tens nanometers (nm) or less.
반도체 소자 제조 공정은 증착 공정, 사진 공정, 식각 공정 및 이온주입 공정 등의 일련의 공정들을 수행하여 이루어지며, 이들 공정을 통하여 웨이퍼 위에 산화막, 질화막, 폴리실리콘막, 금속막 등 다양한 막들을 형성하고, 이들 막을 원하는 형상으로 패터닝하여 원하는 소자들을 완성한다. 이때 반도체 소자의 고집적화, 미세화를 위해서는 식각 대상 막질이 높은 식각 선택비로 제거되어야 한다.The semiconductor device manufacturing process is performed by performing a series of processes such as a deposition process, a photolithography process, an etching process, and an ion implantation process. Through these processes, various films such as an oxide film, a nitride film, a polysilicon film, , And these films are patterned into a desired shape to complete desired devices. At this time, in order to highly integrate and miniaturize the semiconductor device, the film quality of the etching target must be removed with a high etch selectivity.
반도체 소자에서 폴리실리콘은 다결정 실리콘(polycrystalline silicon, poly-Si) 물질로써, 게이트 전극, 캐패시터 전극, 플러그, 식각 마스크 등을 형성과 같은 매우 다양한 용도로 사용되고 있다. 이를 위해 폴리실리콘을 이용하여 막을 형성하는 방법과 함께, 형성된 폴리실리콘막을 제거하는 방법도 다양하게 개발되어 왔다.In semiconductor devices, polysilicon is a polycrystalline silicon (poly-Si) material and is used in a wide variety of applications such as forming gate electrodes, capacitor electrodes, plugs, etch masks, and the like. For this purpose, a method of forming a film using polysilicon and a method of removing a formed polysilicon film have been developed variously.
폴리실리콘막을 제거하는 방법은 크게 건식 식각 공정과 습식 식각 공정으로 나눌 수 있는데, 습식 식각 공정이 건식 식각 공정에 비하여 장비의 구성이 간단하고 시간이 단축되는 장점이 있어, 이러한 습식 식각 공정에 사용되는 식각액의 수요가 급속도로 성장하였다.The method of removing the polysilicon film can be roughly divided into a dry etching process and a wet etching process. The wet etching process is advantageous in that the equipment is simple in structure and shortened in time compared with the dry etching process. Demand for etchant grew rapidly.
대한민국 공개특허 제2000-0013247호는 폴리실리콘막의 습식식각방법에 관한 것으로서, 불산(HF)과 질산(HNO3)과 순수한 물(Deionized water)의 혼합비가 1:50:25인 식각액을 사용하여 폴리실리콘막을 습식식각하는 방법을 개시하고 있다.Korean Patent Laid-Open No. 2000-0013247 relates to a wet etching method of a polysilicon film using an etching solution having a mixed ratio of hydrofluoric acid (HF), nitric acid (HNO 3 ) and pure water (Deionized water) of 1:50:25, Discloses a method of wet etching a silicon film.
그러나, 상기 문헌의 경우 웨이퍼 상에 함께 형성된 실리콘 산화막(SiOx)에 손상을 입힐 수 있어 반도체 소자의 성능의 저하를 야기할 수 있는 문제점이 있다.However, in the case of the above document, there is a problem that the silicon oxide film (SiO x ) formed on the wafer may be damaged, thereby deteriorating the performance of the semiconductor device.
그러므로, 실리콘 산화막(SiOx)에 손상을 가하지 않으면서, 폴리실리콘을 제거할 수 있는 폴리실리콘 식각액의 개발이 요구되고 있다.Therefore, development of a polysilicon etchant capable of removing polysilicon without damaging the silicon oxide film (SiO x ) is required.
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위한 것으로서, 실리콘 산화막(SiOx)에 손상을 가하지 않으면서, 폴리실리콘막을 제거할 수 있는 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물을 제공하는 데 그 목적이 있다.It is an object of the present invention to provide a composition for producing a polysilicon etchant which can remove a polysilicon film without damaging the silicon oxide film (SiO x ).
또한, 본 발명은 전술한 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물을 포함하는 폴리실리콘 식각액을 제공하는 데 그 목적이 있다.It is another object of the present invention to provide a polysilicon etchant containing the above composition for producing an etching solution for a polysilicon.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 폴리 실리콘 식각액 제조용 조성물은 4급 암모늄플루오라이드; 폴리인산, 아인산 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 인 화합물; 아미노실란올 및 이의 가수분해성 전구체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 아미노실란계 화합물; 및 물을 포함하고, 상기 4급 암모늄플루오라이드는 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 전체 100 중량%에 대하여 1 내지 30 중량%로 포함되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a composition for the production of a polysilicon etchant, comprising: quaternary ammonium fluoride; A phosphorus compound selected from the group consisting of polyphosphoric acid, phosphorous acid, and organic phosphonic acid; Aminosilane compounds selected from the group consisting of aminosilanols and hydrolysable precursors thereof; And water, wherein the quaternary ammonium fluoride is contained in an amount of 1 to 30% by weight based on 100% by weight of the entire composition for producing an etching solution for a polysilicon.
또한, 본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액은 전술한 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물; 및 산화제;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the etching solution for polysilicon according to the present invention may further comprise the above-mentioned composition for preparing an etching solution for a polysilicon; And an oxidizing agent.
본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물을 포함하는 폴리실리콘 식각액은 실리콘 산화막(SiOx)에 손상을 가하지 않으면서, 폴리실리콘막의 제거가 용이한 이점이 있다.The polysilicon etchant containing the composition for preparing a polysilicon etchant according to the present invention has an advantage that the polysilicon film can be easily removed without damaging the silicon oxide film (SiO x ).
이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
본 발명에서 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.When a member is referred to as being " on "another member in the present invention, this includes not only when a member is in contact with another member but also when another member exists between the two members.
본 발명에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Whenever a part is referred to as "including " an element in the present invention, it is to be understood that it may include other elements as well, without departing from the other elements unless specifically stated otherwise.
본 발명은 4급 암모늄플루오라이드; 폴리인산, 아인산 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 인 화합물; 아미노실란올 및 이의 가수분해성 전구체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 아미노실란계 화합물; 및 물을 포함하고, 상기 4급 암모늄플루오라이드는 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 전체 100 중량%에 대하여 1 내지 30 중량%로 포함되는 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to quaternary ammonium fluoride; A phosphorus compound selected from the group consisting of polyphosphoric acid, phosphorous acid, and organic phosphonic acid; Aminosilane compounds selected from the group consisting of aminosilanols and hydrolysable precursors thereof; And water, wherein the quaternary ammonium fluoride is contained in an amount of 1 to 30% by weight based on 100% by weight of the entire composition for producing an etching solution for a polysilicon.
또한, 본 발명은 전술한 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물; 및 산화제;를 포함하는 폴리실리콘 식각액에 관한 것이다.The present invention also relates to a composition for producing an etching solution for a polysilicon film as described above; And an oxidizing agent.
<< 폴리실리콘Polysilicon 식각액Etchant 제조용 조성물> ≪
본 발명의 한 양태는 4급 암모늄플루오라이드; 폴리인산, 아인산 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 인 화합물; 아미노실란올 및 이의 가수분해성 전구체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 아미노실란계 화합물; 및 물을 포함하고, 상기 4급 암모늄플루오라이드는 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 전체 100 중량%에 대하여 1 내지 30 중량%로 포함되는 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물에 관한 것이다.One aspect of the present invention relates to a process for the preparation of quaternary ammonium fluoride; A phosphorus compound selected from the group consisting of polyphosphoric acid, phosphorous acid, and organic phosphonic acid; Aminosilane compounds selected from the group consisting of aminosilanols and hydrolysable precursors thereof; And water, wherein the quaternary ammonium fluoride is contained in an amount of 1 to 30% by weight based on 100% by weight of the entire composition for producing an etching solution for a polysilicon.
본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물은 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 전체 100 중량%에 대하여 1 내지 30 중량%의 4급 암모늄플루오라이드를 포함한다.The composition for preparing an etching solution for poly-silicon according to the present invention comprises 1 to 30% by weight of quaternary ammonium fluoride based on 100% by weight of the total composition for producing the etching solution for a polysilicon.
상기 4급 암모늄플루오라이드가 상기 폴리실리콘식각액 제조용 조성물에 포함되는 경우 폴리실리콘 산화막을 식각하는 역할을 수행할 수 있다. 상기 폴리실리콘 산화막은 폴리실리콘막이 후술할 산화제에 의하여 산화됨으로써 형성될 수 있다.When the quaternary ammonium fluoride is included in the composition for preparing the polysilicon etching solution, the quaternary ammonium fluoride may be etched. The polysilicon oxide film may be formed by oxidizing the polysilicon film with an oxidizing agent to be described later.
본 발명에 있어서, 폴리실리콘막은 폴리실리콘을 포함하고 있는 막을 의미하는 것으로서, 본 발명에서 "폴리실리콘"을 식각 또는 제거한다는 용어는 "폴리실리콘막"을 식각 또는 제거한다는 의미를 포함한다.In the present invention, the polysilicon film refers to a film containing polysilicon, and the term "polysilicon" in the present invention means to etch or remove the "polysilicon film ".
상기 4급 암모늄플루오라이드는 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 전체 100 중량%에 대하여 1 내지 30 중량%, 바람직하게는 1 내지 20 중량%, 가장 바람직하게는 1 내지 15 중량%로 포함될 수 있으며, 이 경우 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물을 포함하는 폴리실리콘 식각액의 폴리실리콘 식각 속도가 우수한 이점이 있다.The quaternary ammonium fluoride may be contained in an amount of 1 to 30% by weight, preferably 1 to 20% by weight, and most preferably 1 to 15% by weight based on 100% by weight of the entire composition for producing an etching solution for a polysilicon. There is an advantage in that the etching rate of the polysilicon of the polysilicon etchant containing the composition for producing the polysilicon etchant is excellent.
상기 4급 암모늄플루오라이드가 상기 범위 미만으로 포함되는 경우 폴리 실리콘에 대한 식각 속도가 다소 저하될 수 있으며, 상기 범위를 초과하는 경우 용해도가 다소 저하될 수 있어 식각 성능이 저하될 수 있는 문제가 있으므로, 상기 범위 내로 사용하는 것이 바람직하다.When the quaternary ammonium fluoride is contained in an amount less than the above range, the etching rate for polysilicon may be somewhat lowered, and if it exceeds the above range, the solubility may be lowered to some extent, , And is preferably used within the above range.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 4급 암모늄플루오라이드는 암모늄플루오라이드, 알킬암모늄플루오라이드 및 벤질알킬암모늄플루오라이드로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the quaternary ammonium fluoride may be at least one selected from the group consisting of ammonium fluoride, alkylammonium fluoride, and benzylalkylammonium fluoride.
구체적으로, 상기 4급 암모늄플루오라이드는 암모늄플루오라이드; 테트라부틸암모늄플루오라이드(TBAF), 테트라부틸암모늄바이플루오라이드(TBAF·HF), 테트라메틸암모늄플루오라이드(TMAF), 테트라에틸암모늄플루오라이드(TEAF), 테트라옥틸암모늄플루오라이드(TOAF) 등의 알킬암모늄플루오라이드; 벤질트리메틸암모늄플루오라이드(BTMAF) 등의 벤질알킬암모늄플루오라이드;일 수 있으나 이에 한정되지는 않는다.Specifically, the quaternary ammonium fluoride is selected from the group consisting of ammonium fluoride; (Such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF), tetrabutylammonium bifluoride (TBAF.HF), tetramethylammonium fluoride (TMAF), tetraethylammonium fluoride (TEAF), tetraoctylammonium fluoride Ammonium fluoride; But are not limited to, benzylalkylammonium fluoride such as benzyltrimethylammonium fluoride (BTMAF).
본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물은 폴리인산, 아인산 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 인 화합물을 포함한다. 상기 인 화합물은 상기 인 화합물을 포함하는 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 또는 폴리실리콘 식각액 내에 H+를 공급하여 폴리실리콘의 산화막을 제거하는 역할을 수행할 수 있다.The composition for preparing an etching solution for poly-silicon according to the present invention comprises a phosphorus compound selected from the group consisting of polyphosphoric acid, phosphorous acid and organic phosphonic acid. The phosphorus compound may serve to remove the oxide film of polysilicon by supplying H + into the composition for producing a polysilicon etchant containing the phosphorus compound or the polysilicon etchant.
구체적으로, 본 발명에 따른 인 화합물은 폴리인산, 아인산 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군으로부터 선택된다. 더욱 구체적으로, 본 발명에 따른 인 화합물은 폴리인산, 아인산, 유기 포스폰산 및 이들의 유도체로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.Specifically, the phosphorus compound according to the present invention is selected from the group consisting of polyphosphoric acid, phosphorous acid and organic phosphonic acid. More specifically, the phosphorus compound according to the present invention may include at least one member selected from the group consisting of polyphosphoric acid, phosphorous acid, organic phosphonic acid, and derivatives thereof.
상기 폴리인산은 예컨대, 피로인산, 3인산, 4개 인산의 인산이 축합한 폴리인산 등을 들 수 있다. 상기의 유도체의 예로서는 인산, 폴리인산, 아인산, 포스폰산의 염, (부분) 에스테르 화합물, 할로겐화물(염화물 등), 탈수물(오산화이인 등) 등을 들 수 있다.Examples of the polyphosphoric acid include pyrophosphoric acid, triphosphoric acid, and polyphosphoric acid in which four phosphoric acid is condensed with phosphoric acid. Examples of the above-mentioned derivatives include phosphoric acid, polyphosphoric acid, phosphorous acid, salts of phosphonic acid, (partial) ester compounds, halides (chloride, etc.) and dehydrated products (such as pentoxide).
상기 유기 포스폰산의 유도체의 예로는 포스폰산(H-P(=O)(OH)2)의 인 원자에 직접 결합한 수소 원자가 다양한 관능기를 가지고 있어도 좋은 알킬기로 치환되어 있는 화합물이나, 그 염, (부분) 에스테르 화합물, 할로겐화물 및 탈수물도 포함된다. 또한, 인산화 전분이나, 인 원자를 갖는 유기 고분자를 포함할 수 있다.Examples of the derivative of the organic phosphonic acid include a compound in which a hydrogen atom directly bonded to a phosphorus atom of a phosphonic acid (HP (═O) (OH) 2 ) is substituted with an alkyl group which may have various functional groups, Ester compounds, halides and dehydrates. Further, it may contain phosphorylated starch or an organic polymer having phosphorus atoms.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 폴리인산, 아인산 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 인 화합물은 메틸 포스폰산(methyl phosphonic acid), 에틸 포스폰산(ethyl phosphonic acid), 페닐 포스폰산(phenyl phosphonic acid), 피로인산(Pyrophosphoric acid), 1-히드록시에탄-1,1-디포스폰산(1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, HEDP) 등을 포함할 수 있다.In another embodiment of the present invention, the phosphorus compound selected from the group consisting of polyphosphoric acid, phosphorous acid and organic phosphonic acid is selected from the group consisting of methyl phosphonic acid, ethyl phosphonic acid, phenylphosphonic acid phenyl phosphonic acid, pyrophosphoric acid, 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid (HEDP), and the like.
상기 폴리인산, 아인산 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 인 화합물은 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 전체 100 중량%에 대하여 0.5 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 3 중량%, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 2.5 중량%로 포함될 수 있으며, 이 경우 폴리실리콘 산화막의 제거 효율이 우수하면서도, 실리콘 산화막의 손상을 최소화 할 수 있는 이점이 있다.The phosphorus compound selected from the group consisting of polyphosphoric acid, phosphorous acid and organic phosphonic acid is added in an amount of 0.5 to 5% by weight, preferably 0.5 to 3% by weight, more preferably 0.5 To 2.5% by weight. In this case, the removal efficiency of the polysilicon oxide film is excellent and the damage of the silicon oxide film can be minimized.
상기 인 화합물, 구체적으로 폴리인산, 아인산 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 인 화합물이 상기 범위 미만으로 포함될 경우, 폴리실리콘 산화막의 제거 성능이 다소 저하될 수 있으며, 상기 범위를 초과할 경우 실리콘 산화막이 다소 손상될 수 있고, 제조 단가가 상승하는 문제점이 있을 수 있으므로, 상기 범위 내로 포함하는 것이 바람직하다.If the amount of the phosphorus compound, specifically, a phosphorus compound selected from the group consisting of polyphosphoric acid, phosphorous acid and organic phosphonic acid is less than the above range, the removal performance of the polysilicon oxide film may be somewhat lowered. The oxide film may be somewhat damaged, and the manufacturing cost may increase. Therefore, it is preferable to include the oxide film within the above range.
본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물은 아미노실란올 및 이의 가수분해성 전구체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 아미노실란계 화합물을 포함한다. 구체적으로, 본 발명에 있어서 상기 아미노실란계 화합물은 아미노기 및 실란올기를 포함하는 화합물, 아미노기 및 가수분해하여 실란올기를 생성하는 가수분해성 실릴기를 포함하는 화합물을 포함할 수 있다.The composition for preparing an etching solution for polysilicon according to the present invention comprises an aminosilane compound selected from the group consisting of aminosilanols and hydrolysable precursors thereof. Specifically, in the present invention, the aminosilane compound may include a compound containing an amino group and a silanol group, an amino group, and a compound containing a hydrolyzable silyl group which hydrolyzes to produce a silanol group.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 아미노실란올 및 이의 가수분해성 전구체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 아미노실란계 화합물은 N-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란(N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane), 3-아미노프로필실란트리올(3-aminopropylsilanetriol) 및 3-아미노프로필디메틸에톡시실란(3-aminopropyldimethylethoxysilane)로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상이다.In another embodiment of the present invention, the aminosilane compound selected from the group consisting of the aminosilanols and hydrolysable precursors thereof is N- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane (N- (2 aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropylsilanetriol, and 3-aminopropyldimethylethoxysilane.
상기 아미노실란계 화합물은 SiOx 표면에 흡착하여 SiOx 표면을 보호하는 역할을 수행할 수 있다.The aminosilane compound may serve to protect the surface of SiO x to SiO x adsorbed on the surface.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 아미노실란계 화합물은 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 전체에 대하여 50ppm 내지 1000ppm으로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 100ppm 내지 1000ppm 으로 포함될 수 있고, 더욱 바람직하게는 200ppm 내지 1000ppm으로 포함될 수 있다.In another embodiment of the present invention, the aminosilane compound may be contained in an amount of 50 ppm to 1000 ppm, preferably 100 ppm to 1000 ppm, more preferably 200 ppm to 1000 ppm, 1000 ppm.
상기 아미노실란계 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우 SiOx의 표면을 보호하여 SiOx 표면의 손상을 방지할 수 있는 이점이 있다. 이론에 의해 구속되는 것을 바라지는 않으나, 상기 아미노실란계 화합물이 SiOx막의 표면을 패시베이션(passivation)함으로써, 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물, 폴리실리콘 식각액에 의하여 손상을 입는 현상을 방지할 수 있다.When the aminosilane-based compound to be included within the above range to protect the surface of the SiO x it has the advantage of preventing damage to the SiO x surface. Although it is not desired to be bound by theory, the passivation of the surface of the SiO x film by the aminosilane compound can prevent the damage caused by the composition for producing a polysilicon etchant and the etching solution of polysilicon.
상기 아미노실란올 및 이의 가수분해성 전구체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 아미노실란계 화합물이 상기 범위 미만으로 포함될 경우 SiOx막의 표면이 다소 손상될 수 있으며, 상기 아미노실란계 화합물이 상기 범위를 초과하여 포함되는 경우 SiOx 막의 표면의 손상을 방지하는 효과의 증대가 미비할 수 있고, 제조 단가가 증가할 수 있어 바람직하지 않을 수 있으므로, 상기 범위 내로 포함되는 것이 바람직하다.When the aminosilane compound selected from the group consisting of the aminosilanols and the hydrolyzable precursors thereof is included in the range below the range, the surface of the SiO x film may be somewhat damaged, and the aminosilane compound may be contained in an amount exceeding the range The effect of preventing damage to the surface of the SiO x film may be insufficient, and the manufacturing cost may increase, which may be undesirable.
본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물은 물을 포함한다. 상기 물은 본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물에 포함되는 조성을 용해 또는 분산시키는 역할을 수행할 수 있다. 상기 물은 불순물을 최대한 저감시킨 탈이온수(deionized water) 또는 초순수(ultrapure water)일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The composition for preparing the etching solution for poly-silicon according to the present invention comprises water. The water may serve to dissolve or disperse the composition contained in the composition for producing an etching solution for a polysilicon according to the present invention. The water may be, but is not limited to, deionized water or ultrapure water with the impurities being minimized.
상기 물은 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 전체 100 중량%에 대하여 잔부로 포함될 수 있다.The water may be included in an amount of about 100% by weight of the entire composition for producing an etching solution for a polysilicon.
본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물의 제조방법은 특별히 한정하지는 않는다. 예컨대, 상기한 조성 및 함량을 교반기나 순환 장치에서 충분히 혼합하여 제조할 수 있다.The method for producing the composition for producing an etching solution for a polysilicon according to the present invention is not particularly limited. For example, the above composition and content can be sufficiently mixed in an agitator or a circulation apparatus.
본 발명의 다른 양태는, 전술한 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물; 및 산화제;를 포함하는 폴리실리콘 식각액에 관한 것이다.Another aspect of the present invention is a composition for producing an etching solution for a polysilicon film as described above; And an oxidizing agent.
구체적으로, 상기 산화제는 과산화수소일 수 있다. Specifically, the oxidizing agent may be hydrogen peroxide.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 산화제는 상기 폴리실리콘 식각액 전체 100 중량%에 대하여 2 내지 18 중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 5 내지 15 중량%, 더욱 바람직하게는 10 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.In another embodiment of the present invention, the oxidizing agent may be contained in an amount of 2 to 18% by weight, preferably 5 to 15% by weight, more preferably 10 to 15% by weight based on 100% %. ≪ / RTI >
상기 산화제가 수용액 상태로 포함되는 경우 상기 산화제의 함량은 상기 산화제의 고형분을 기준으로 한다. 예컨대, 폴리실리콘 식각액이 과산화수소 수용액을 포함하는 경우, 상기 산화제의 함량은 상기 과산화수소 수용액에서 물을 제외한 함량을 의미할 수 있으며, 상기 수용액에 포함되는 물은, 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물에 포함되는 물과 구별되는 것일 수 있다. When the oxidizing agent is contained in an aqueous solution, the content of the oxidizing agent is based on the solid content of the oxidizing agent. For example, when the etching solution of polysilicon contains an aqueous hydrogen peroxide solution, the content of the oxidizing agent may mean the content of the aqueous hydrogen peroxide solution excluding water, and the water contained in the aqueous solution may be water . ≪ / RTI >
상기 산화제는 폴리실리콘 막의 표면을 산화시킴으로써, 식각종, 요컨대 전술한 4급 암모늄플루오라이드, 폴리인산, 아인산 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 인 화합물에 의하여 제거가 용이하게 하는 역할을 수행한다. By oxidizing the surface of the polysilicon film, the oxidizing agent plays a role of facilitating the removal by various phosphorus compounds selected from the group consisting of quaternary ammonium fluoride, polyphosphoric acid, phosphorous acid and organic phosphonic acid .
상기 산화제가 상기 범위 미만으로 포함되는 경우 폴리실리콘 막의 표면의 산화가 충분하지 않아 상기 식각종에 의한 제거가 다소 저하될 수 있으며, 상기 범위를 초과하는 경우 폴리실리콘 막의 제거 속도 향상에 큰 개선이 없을 수 있으므로, 상기 범위 내로 포함되는 것이 바람직하다.If the oxidizing agent is contained in the range below the range, oxidation of the surface of the polysilicon film may not be sufficient, so that the removal by the various types of oxidizing agent may be somewhat deteriorated. And therefore, it is preferable to be included within the above range.
상기 폴리실리콘 식각액의 제조방법은 특별히 한정하지 않는다. 예컨대, 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물을 제조하는 것처럼, 전술한 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물과 산화제를 함께 교반기나 순환 장치에서 충분히 혼합하여 제조할 수 있다.The method of producing the polysilicon etchant is not particularly limited. For example, as in the case of preparing the composition for preparing the polysilicon etching solution, the composition for preparing the etching solution for polysilicon and the oxidizing agent may be sufficiently mixed together in an agitator or a circulating device.
본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액은 본 발명에 따른 목적을 저해하지 않는 범위에서 당업계에서 통상적으로 사용하는 첨가제를 더 포함할 수 있다. 상기 첨가제는 예컨대, 계면활성제, 부식방지제 등을 포함할 수 있으며, 상기 첨가제는 상기 폴리실리콘 식각액을 제조하기 이전 단계, 즉 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 내에 포함되어도 무방하고, 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물을 제조한 뒤 산화제와 혼합하는 과정에서 포함되어도 무방하다.The polysilicon etchant according to the present invention may further contain additives conventionally used in the art insofar as the object of the present invention is not impaired. The additive may include, for example, a surfactant, a corrosion inhibitor, and the like. The additive may be included in the composition for preparing the polysilicon etchant, that is, the composition for preparing the polysilicon etchant. It may be included in the process of mixing with an oxidizing agent after the preparation.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 폴리실리콘 식각액은, 실리콘 산화막(SiOx)에 대하여 폴리실리콘막을 선택적으로 식각하는 것일 수 있다.In another embodiment of the present invention, the polysilicon etchant may selectively etch the polysilicon film with respect to the silicon oxide film (SiO x ).
구체적으로, 본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액 조성물은 실리콘 산화막에는 손상을 주지 않으면서, 폴리실리콘막을 선택적으로 식각할 수 있다.Specifically, the polysilicon etchant composition according to the present invention can selectively etch the polysilicon film without damaging the silicon oxide film.
상기 폴리실리콘막은 상기 실리콘 산화막과 그 일부가 접하고 있는 것이라면, 그 형태를 제한하지 않는다. 예컨대, 상기 폴리실리콘막과 상기 실리콘 산화막은 상기 실리콘 산화막 및 상기 폴리실리콘막이 순서대로 적층되고 있는 다층막의 형태일 수도 있고, 상기 실리콘 산화막의 하부와 상기 폴리실리콘막의 하부가 동일한 평면상에 위치하는 단일막의 형태일 수도 있으며, 상기 실리콘 산화막의 홈부 내에 상기 폴리실리콘막이 형성된 상태일 수도 있다.The shape of the polysilicon film is not limited as long as it is in contact with the silicon oxide film. For example, the polysilicon film and the silicon oxide film may be in the form of a multilayer film in which the silicon oxide film and the polysilicon film are stacked in order, and the lower part of the silicon oxide film and the lower part of the polysilicon film are in the same plane Or may be a state in which the polysilicon film is formed in the trench of the silicon oxide film.
요컨대, 본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액은 4급 암모늄플루오라이드, 폴리인산, 아인산 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 인 화합물, 아미노실란올 및 이의 가수분해성 전구체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 아미노실란계 화합물, 산화제 등을 포함함으로써 상기 실리콘 산화막과 상기 폴리실리콘막의 적어도 일부가 접하고 있는 상태인 경우 상기 실리콘 산화막에는 데미지를 주지 않고, 상기 폴리실리콘막을 선택적으로 제거할 수 있는 이점이 있다. 그러므로, 후속 공정의 신뢰성을 높여 제조된 반도체 소자의 품질 및 생산성을 향상시킬 수 있다.In short, the etching solution for a polysilicon film according to the present invention is an aminosilane compound selected from the group consisting of phosphorus compounds selected from the group consisting of quaternary ammonium fluoride, polyphosphoric acid, phosphorous acid and organic phosphonic acid, aminosilanol and hydrolyzable precursors thereof A compound, an oxidizing agent, and the like, there is an advantage that the polysilicon film can be selectively removed without damaging the silicon oxide film when the silicon oxide film and at least a part of the polysilicon film are in contact with each other. Therefore, the reliability of the subsequent process can be increased, and the quality and productivity of the manufactured semiconductor device can be improved.
상기 폴리실리콘 식각액은 폴리실리콘막의 식각 공정에 사용될 수 있으며, 이때 폴리실리콘막의 식각방법을 본 발명에서 한정하지는 않는다. 예컨대, 배치 타입(batch type)의 식각 장치 또는 싱글 타입(single type)의 식각 장치에서 침적, 분무, 또는 침적 및 분무를 이용한 방법을 통해 식각할 수 있으나 이에 한정하지는 않으며, 당업계에서 사용하는 통상적인 방법에 의하여 수행할 수 있다. 상기 식각 공정의 온도 및 식각 시간 또한 당업자에 의해 적절히 조절하여 수행할 수 있다.The polysilicon etchant may be used for etching the polysilicon film, and the method of etching the polysilicon film is not limited to the present invention. For example, the etching may be performed by a method using deposition, spraying, or deposition and spraying in a batch type etching apparatus or a single type etching apparatus, but the present invention is not limited thereto, The method of the present invention can be carried out. The temperature and etch time of the etch process may also be suitably adjusted by those skilled in the art.
본 발명에 따른 폴리실리콘 식각액은 반도체 소자 뿐 아니라 이를 포함하는 각종 표시장치, MEMS 장치, 배선 기판 등의 제조 공정에도 적용이 가능하다.The polysilicon etchant according to the present invention is applicable not only to semiconductor devices but also to various display devices including the semiconductor devices, MEMS devices, and wiring boards.
이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세히 설명한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지는 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 또한, 이하에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples to illustrate the present invention. However, the embodiments according to the present disclosure can be modified in various other forms, and the scope of the present specification is not construed as being limited to the above-described embodiments. Embodiments of the present disclosure are provided to more fully describe the present disclosure to those of ordinary skill in the art. In the following, "%" and "part" representing the content are by weight unless otherwise specified.
폴리실리콘Polysilicon 식각액Etchant 제조용 조성물의 제조: Preparation of the preparation composition: 실시예Example 1 내지 9 및 1 to 9 and 비교예Comparative Example 1 내지 5 1 to 5
하기 표 1에 기재된 성분 및 조성에 따라 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물을 제조하였다.A composition for producing a polysilicon etchant was prepared according to the ingredients and compositions shown in Table 1 below.
(50%)HF 3)
(50%)
2) TBAF: Tetrabutylammonium fluoride
3) HF: Hydrofluoric acid
4) HEDP: 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid
5) MP: Methyl phosphonic acid
6) FA: Formic acid
7) A_SiOH: N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane
8) S_SiOH: 3-aminopropylsilanetriol
9) Deionized water1) AF: Ammonium fluoride
2) TBAF: Tetrabutylammonium fluoride
3) HF: Hydrofluoric acid
4) HEDP: 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid
5) MP: Methyl phosphonic acid
6) FA: Formic acid
7) A_SiOH: N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane
8) S ~ SiOH: 3-aminopropylsilanetriol
9) Deionized water
폴리실리콘Polysilicon 식각액의Etchant 제조: Produce: 실시예Example 10 내지 18 및 10 to 18 and 비교예Comparative Example 6 내지 10 6 to 10
상기 표 1에서 제조한 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물에 하기 표 2에 따른 성분 및 조성을 추가하여 폴리실리콘 식각액을 제조하였다. The components and compositions shown in Table 2 below were added to the composition for preparing an etching solution for a polysilicon prepared in Table 1 to prepare a polysilicon etching solution.
(31%)Hydrogen peroxide
(31%)
(70%)nitric acid
(70%)
실험예Experimental Example : : PolyPoly -- SiSi 및 And SiOSiO xx 의of 식각Etching 속도 speed
Poly-Si 1750Å의 두께로 증착된 웨이퍼를 2×2cm2의 크기로 잘라 준비하였다. 실시예 및 비교예에 따른 25℃의 폴리실리콘 식각액을 350rpm으로 회전시키면서 준비한 웨이퍼를 1분간 침지시켰다. 1분간 침지한 웨이퍼는 DIW 세정 후 상온에서 질소 블로잉(blowing)을 이용하여 건조하였으며, 그 후 엘립소미터로 막두께를 측정하여 Poly-Si 및 SiOx의 식각 속도를 측정하여 하기 표 3에 나타내었다.Poly-Si The wafer deposited to a thickness of 1750 ANGSTROM was cut into a size of 2 × 2 cm 2 and prepared. The prepared wafers were immersed for 1 minute while rotating the poly-silicon etchant at 25 DEG C according to the examples and the comparative example at 350 rpm. The wafer immersed for 1 minute was washed with DIW and dried at room temperature by nitrogen blowing. The etch rate of the poly-Si and SiO x was measured by measuring the film thickness with an ellipsometer, .
E/R (Å/min)Poly-Si
E / R (A / min)
E/R (Å/min)SiO x
E / R (A / min)
상기 표 3을 참고하면, 실시예에 따른 폴리실리콘 식각액을 사용한 경우 실리콘 산화막 손상은 최소화하는 동시에 폴리실리콘막을 제거할 수 있는 반면, 비교예에 따른 식각액을 사용할 경우 실리콘 산화막의 식각 속도(E/R, etching rate)가 1 Å/min 이상이거나, 폴리실리콘 산화막의 제거 속도가 느린 것을 확인하였다. Referring to Table 3, when using the polysilicon etchant according to the embodiment, the polysilicon film can be removed while minimizing the damage of the silicon oxide film. On the other hand, when the etchant according to the comparative example is used, the etch rate , etching rate) of 1 Å / min or more, or that the removal rate of the polysilicon oxide film is slow.
Claims (9)
상기 4급 암모늄플루오라이드는 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 전체 100 중량%에 대하여 1 내지 30 중량%로 포함되는 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물.Quaternary ammonium fluoride; A phosphorus compound selected from the group consisting of polyphosphoric acid, phosphorous acid, and organic phosphonic acid; Aminosilane compounds selected from the group consisting of aminosilanols and hydrolysable precursors thereof; And water,
Wherein the quaternary ammonium fluoride is contained in an amount of 1 to 30% by weight based on 100% by weight of the total composition for the production of a polysilicon etchant.
상기 아미노실란계 화합물은 N-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-아미노프로필실란트리올 및 3-아미노프로필디메틸에톡시실란으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상인 것인 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the aminosilane compound is at least one selected from the group consisting of N- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropylsilane triol and 3-aminopropyldimethylethoxysilane, Compositions for the preparation of etchants.
상기 아미노실란계 화합물은 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 전체에 대하여 50ppm 내지 1000ppm으로 포함되는 것인 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물. The method according to claim 1,
Wherein the aminosilane compound is contained in an amount of 50 ppm to 1000 ppm with respect to the whole composition for producing an etching solution for a polysilicon.
상기 4급 암모늄플루오라이드는 상기 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물 전체 100 중량%에 대하여 1 내지 15 중량%로 포함되는 것인 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the quaternary ammonium fluoride is contained in an amount of 1 to 15% by weight based on 100% by weight of the total composition for preparing the polysilicon etchant.
상기 4급 암모늄플루오라이드는 암모늄플루오라이드, 알킬암모늄플루오라이드 및 벤질알킬암모늄플루오라이드로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상인 것인 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the quaternary ammonium fluoride is at least one selected from the group consisting of ammonium fluoride, alkylammonium fluoride and benzylalkylammonium fluoride.
상기 인 화합물은 메틸 포스폰산, 에틸 포스폰산, 페닐 포스폰산, 피로인산, 1-히드록시에탄-1,1-디포스폰산으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상인 것인 폴리실리콘 식각액 제조용 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the phosphorus compound is at least one selected from the group consisting of methylphosphonic acid, ethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, pyrophosphoric acid, and 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid.
산화제;를 포함하는 폴리실리콘 식각액.7. A composition for preparing an etching solution for a polysilicon according to any one of claims 1 to 6; And
And an oxidizing agent.
상기 산화제는 상기 폴리실리콘 식각액 전체 100 중량%에 대하여 2 내지 18 중량%로 포함되는 것인 폴리실리콘 식각액.8. The method of claim 7,
Wherein the oxidizing agent is contained in an amount of 2 to 18% by weight based on 100% by weight of the entirety of the polysilicon etching solution.
상기 폴리실리콘 식각액은, 실리콘 산화막(SiOx)에 대하여 폴리실리콘막을 선택적으로 식각하는 것인 폴리실리콘 식각액.8. The method of claim 7,
Wherein the polysilicon etchant is a polysilicon etchant selectively etched with respect to the silicon oxide film (SiO x ).
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