KR20180062857A - Method for patterning organic thin film using laser beam and organic light emitting diode - Google Patents

Method for patterning organic thin film using laser beam and organic light emitting diode Download PDF

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Abstract

The present invention relates to a method for patterning an organic thin film using a laser beam, and an organic electroluminescent device and, more specifically, to a method for patterning an organic thin film of an already completed organic device by irradiating a laser beam. According to the method for patterning an organic thin film, an organic thin film of a light emitting device can be patterned even after completing the manufacture of the light emitting device. According to the method for patterning an organic thin film, various layers of the organic thin film can be patterned in various forms even after completing the manufacture of the light emitting device. In addition, according to the method for patterning an organic thin film, the organic thin film can be patterned in various forms without damaging any portion other than an organic thin film portion to be patterned even after completing the manufacture of an organic electroluminescent device.

Description

레이저빔을 이용한 유기박막의 패터닝 방법 및 유기전계발광소자{Method for patterning organic thin film using laser beam and organic light emitting diode}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of patterning an organic thin film using a laser beam and a method of patterning the organic thin film using a laser beam and an organic light emitting diode

본 발명은 레이저빔을 이용한 유기박막의 패터닝 방법 및 유기전계발광소자에 대한 것으로, 보다 구체적으로는 이미 완성된 유기소자의 유기박막을 레이저빔을 조사하여 패터닝하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of patterning an organic thin film using a laser beam and to an organic electroluminescent device, and more particularly, to a method of patterning an organic thin film of an already completed organic device by irradiating a laser beam.

일반적으로 유기전계발광소자는 애노드와 캐소드, 및 정공수송층, 발광층, 및 전자수송층을 포함하는 유기층으로 이루어진다. 또한 정공과 전자를 좀 더 효율적으로 주입하기 위해 애노드와 정공수송층 사이, 그리고 전자수송층과 캐소드 사이에 각각 정공주입층과 전자주입층을 더 포함할 수도 있다.Generally, an organic electroluminescent device comprises an anode and a cathode, and an organic layer including a hole transporting layer, a light emitting layer, and an electron transporting layer. In addition, a hole injecting layer and an electron injecting layer may be further included between the anode and the hole transporting layer and between the electron transporting layer and the cathode, respectively, in order to more efficiently inject holes and electrons.

이때 상기 애노드로부터 정공주입층과 정공수송층을 통해 발광층으로 주입된 정공과, 캐소드로부터 전자주입층 및 전자수송층을 통해 발광층으로 주입된 전자가 엑시톤을 형성하고, 이 엑시톤으로부터 정공과 전자 사이의 에너지에 해당하는 빛을 발광하게 된다.At this time, holes injected from the anode into the light emitting layer through the hole injecting layer and the hole transporting layer, and electrons injected from the cathode into the light emitting layer through the electron injecting layer and the electron transporting layer form excitons. From the excitons, energy between holes and electrons The corresponding light is emitted.

상기 애노드는 통상적으로 일함수가 높은 ITO, IZO, ITZO와 같은 투명 도전성 물질에서 선택되고, 캐소드는 통상적으로 일함수가 낮고 화학적으로 안정한 금속에서 선택된다. The anode is typically selected from transparent conducting materials such as ITO, IZO, and ITZO having a high work function, and the cathode is typically selected from a metal having a low work function and a chemically stable function.

이러한 유기전계발광소자에는 발광을 위한 일정한 패턴을 형성하게 되는데 예를 들면, ITO 전극 또는 캐소드를 포토리소그래피법을 이용하여 에칭하거나, 유기발광층의 선택적 증착 통해 패터닝한다. For example, the ITO electrode or the cathode may be etched by using a photolithography method or may be patterned by selective deposition of an organic light emitting layer.

하지만 종래의 패터닝 방법은 소자의 제작 중에 패터닝하는 방법들로서, 소자 제작 중에 이미 발광을 위한 패턴이 결정되게 되므로 소자 제작 완료 후에는 소자의 손상 없이는 발광을 위한 패턴 변경이 불가하다는 한계를 가지고 있다. 이 경우 소자 제작 완료 후 패턴을 변경하게 되면 패턴이 형성된 상부층 예를 들어, 발광층 상의 유기물층 및 캐소드가 모두 제거되므로 이를 다시 제작해야 하는 문제점이 발생한다.However, the conventional patterning method is a method of patterning during fabrication of a device, and since a pattern for light emission is already determined during fabrication of a device, there is a limitation that it is not possible to change a pattern for light emission without damaging the device after fabricating the device. In this case, if the pattern is changed after completion of the device fabrication, the organic layer and the cathode on the patterned upper layer, for example, the light emitting layer, are all removed.

공개특허번호 제10-2006-0089839호(2006.08.09. 공개)Published Patent No. 10-2006-0089839 (Published Aug. 2006, 2006)

본 발명자들은 이러한 문제점을 해결하기 위하여 연구 노력한 결과 유기전계발광소자의 제작 후 레이저빔을 조사하여 유기박막을 패터닝함으로써 본 발명을 완성하였다. The present inventors have made efforts to solve these problems, and as a result, they have completed the present invention by patterning an organic thin film by irradiating a laser beam after the fabrication of the organic electroluminescent device.

따라서, 본 발명의 목적은 유기전계발광소자의 제작 완료 후에 소자의 유기박막을 패터닝 할 수 있는 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of patterning an organic thin film of an element after the fabrication of the organic electroluminescent element is completed.

또한, 본 발명의 다른 목적은 유기전계발광소자의 제작 완료 후에 패터닝하고자 하는 유기박막 부분 이외의 부분에 어떠한 손상을 가하지 않으면서 유기박막을 패터닝 할 수 있는 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of patterning an organic thin film without damaging a portion other than the organic thin film portion to be patterned after the fabrication of the organic electroluminescent device is completed.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 소자 제작 완료 후 레이저빔에 의해 화학적 또는 물리적 특성이 변성된 패턴이 형성되어 있는 유기박막을 구비한 유기전계발광소자를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an organic electroluminescent device having an organic thin film formed with a pattern in which a chemical or physical property is modified by a laser beam after fabrication of a device.

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 유기박막을 포함하는 유기소자를 준비하는 제1단계; 상기 유기박막만을 변성시키는 레이저빔의 조사범위를 설정하는 제2단계; 및 설정된 조사범위 내에서 레이저빔을 조사하여 상기 유기박막을 패터닝하는 제3단계;를 포함하는 유기박막의 패터닝 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic thin film transistor, A second step of setting an irradiation range of a laser beam for denaturing only the organic thin film; And a third step of patterning the organic thin film by irradiating a laser beam within a set irradiation range.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제2단계는 패터닝하고자 하는 상기 유기박막 이외의 상기 유기소자를 구성하는 구성요소의 손상이 없도록 상기 레이저빔의 조사범위를 설정한다.In a preferred embodiment, the second step sets the irradiation range of the laser beam so that the components constituting the organic device other than the organic thin film to be patterned are not damaged.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 유기소자는 기판상에 제1전극, 유기박막 및 제2전극이 순차적으로 적층된 유기소자이며, 상기 제3단계에서 설정된 레이저빔이 조사되면 상기 유기박막이 변성되어 전류가 통하지 않는다.In a preferred embodiment, the organic device is an organic device in which a first electrode, an organic thin film, and a second electrode are sequentially stacked on a substrate, and when the laser beam set in the third step is irradiated, the organic thin film is denatured, .

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제2단계는 상기 제1전극 및 상기 제2전극의 광흡수 범위에는 해당하지 않으면서, 상기 유기박막의 광흡수 범위 내에서 상기 레이저빔의 조사범위를 설정한다.In a preferred embodiment, the second step sets the irradiation range of the laser beam within the light absorption range of the organic thin film, not within the light absorption range of the first electrode and the second electrode.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 유기소자는 기판상에 제1전극, 발광층을 구비하는 유기박막 및 제2전극이 순차적으로 적층되어 있는 유기전계발광소자(OLED)이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔이 조사되면 유기박막이 변성되어 전류가 통하지 않아 발광되지 않는다.In a preferred embodiment, the organic EL device is an organic light emitting diode (OLED) in which a first electrode, an organic thin film having a light emitting layer, and a second electrode are sequentially laminated on a substrate, The organic thin film is denatured and the current does not pass therethrough, so that the organic thin film is not emitted.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제2단계는 상기 제1전극 및 상기 제2전극의 광흡수 범위에는 해당하지 않으면서, 상기 유기박막의 광흡수 범위 내에서 상기 레이저빔의 조사범위를 설정한다.In a preferred embodiment, the second step sets the irradiation range of the laser beam within the light absorption range of the organic thin film, not within the light absorption range of the first electrode and the second electrode.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제2단계 및 상기 제3단계를 복수 회 수행하여 상기 유기박막에 서로 다른 형태의 패턴을 형성한다.In a preferred embodiment, the second step and the third step are performed a plurality of times to form different patterns on the organic thin film.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 기판은 투명기판이고, 상기 제1전극은 투명전극이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔을 상기 투명기판 쪽에서 조사한다.In a preferred embodiment, the substrate is a transparent substrate, the first electrode is a transparent electrode, and the third step irradiates the set laser beam on the transparent substrate side.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 기판은 불투명기판이고, 상기 제2전극은 투명전극이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔을 상기 제2전극 쪽에서 조사한다.In a preferred embodiment, the substrate is an opaque substrate, the second electrode is a transparent electrode, and the third step irradiates the set laser beam on the second electrode side.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 기판은 투명기판이고, 상기 제1전극 및 상기 제2전극은 투명전극이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔을 상기 투명기판 또는 상기 제2전극 쪽에서 조사한다.In a preferred embodiment, the substrate is a transparent substrate, the first electrode and the second electrode are transparent electrodes, and the third step irradiates the set laser beam on the transparent substrate or the second electrode side.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 또한 제1전극; 상기 제1전극에 대향하여 구비되는 제2전극; 및 상기 제1전극 및 상기 제2전극 사이에 구비되며, 발광층을 구비하는 유기박막;을 포함하며, 상기 유기박막에는 소자 제작 완료 후 레이저빔에 의해 변성되어 형성된 패턴이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 발광소자를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention also provides a plasma display panel comprising: a first electrode; A second electrode facing the first electrode; And an organic thin film provided between the first electrode and the second electrode and having a light emitting layer, wherein the organic thin film is provided with a pattern formed by modifying the organic thin film by a laser beam after the fabrication of the device is completed A light emitting device is provided.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 또한 투명기판; 상기 투명기판상에 구비되는 투명전극; 상기 투명전극 상에 구비되며, 발광층을 포함하는 유기박막; 및 상기 유기박막 상에 구비되는 제2전극;을 포함하며, 상기 유기박막에는 소자 제작 완료 후 레이저빔에 의해 변성되어 형성된 패턴이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention also provides a transparent substrate; A transparent electrode provided on the transparent substrate; An organic thin film provided on the transparent electrode and including a light emitting layer; And a second electrode provided on the organic thin film, wherein the organic thin film includes a pattern formed by modifying the organic thin film by a laser beam after the device is fabricated.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 유기박막 중에서 상기 발광층에만 레이저빔에 의해 변성된 패턴이 형성되어 있다.In a preferred embodiment, a pattern denatured by a laser beam is formed only in the light emitting layer in the organic thin film.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 유기박막에는 상기 발광층에 형성된 제1패턴과, 상기 발광층 이외의 유기박막에 형성된 제2패턴이 형성되어 있다.In a preferred embodiment, the organic thin film has a first pattern formed on the light emitting layer and a second pattern formed on the organic thin film other than the light emitting layer.

본 발명은 다음과 같은 우수한 효과를 갖는다.The present invention has the following excellent effects.

먼저, 본 발명의 유기박막의 패터닝 방법에 의하면, 발광소자의 제작 완료 후에도 발광소자의 유기박막을 패터닝 할 수 있는 효과가 있다.According to the method of patterning an organic thin film of the present invention, the organic thin film of the light emitting device can be patterned after the fabrication of the light emitting device.

본 발명의 유기박막의 패터닝 방법에 의하면, 발광소자의 제작 완료 후에도 유기박막의 다양한 층을 다양한 형태로 패터닝할 수 있는 효과가 있다.According to the patterning method of the organic thin film of the present invention, various layers of the organic thin film can be patterned into various shapes even after the fabrication of the light emitting device is completed.

또한, 본 발명의 유기박막의 패터닝 방법에 의하면, 유기전계발광소자의 제작 완료 후에도 패터닝하고자 하는 유기박막 부분 이외의 부분에 어떠한 손상을 가하지 않으면서 유기박막을 다양한 형태로 패터닝할 수 있는 효과가 있다.According to the patterning method of the organic thin film of the present invention, after the fabrication of the organic electroluminescent device, the organic thin film can be patterned into various shapes without any damage to portions other than the organic thin film portion to be patterned .

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 유기박막의 패터닝 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 유기소자를 구성하는 구성요소들의 파장에 따른 광흡수율을 보여주는 그래프이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기박막의 패터닝 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따라 형성된 유기박막의 패턴을 보여주는 유기전계발광소자의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따라 형성된 유기박막의 패턴을 보여주는 유기전계발광소자의 사진이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 유기박막의 패터닝 후 유기박막의 거칠기를 분석한 결과이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따라 형성된 유기전계발광소자의 전력특성 및 효율 변화를 보여주는 그래프이다.1 is a view for explaining a method of patterning an organic thin film according to an embodiment of the present invention.
2 is a graph showing the light absorptance according to the wavelength of the constituent elements constituting the organic device.
3 is a view for explaining a method of patterning an organic thin film according to another embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of an organic electroluminescent device showing patterns of an organic thin film formed according to an embodiment of the present invention.
5 is a photograph of an organic electroluminescent device showing a pattern of an organic thin film formed according to an embodiment of the present invention.
6 is a graph illustrating the roughness of the organic thin film after patterning of the organic thin film according to the embodiment of the present invention.
7 is a graph illustrating power characteristics and efficiency of an organic electroluminescent device formed according to an embodiment of the present invention.

본 발명에서 사용되는 용어는 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어를 선택하였으나, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있는데 이 경우에는 단순한 용어의 명칭이 아닌 발명의 상세한 설명 부분에 기재되거나 사용된 의미를 고려하여 그 의미가 파악되어야 할 것이다. Although the terms used in the present invention have been selected as general terms that are widely used at present, there are some terms selected arbitrarily by the applicant in a specific case. In this case, the meaning described or used in the detailed description part of the invention The meaning must be grasped.

이하, 첨부한 도면에 도시된 바람직한 실시예들을 참조하여 본 발명의 기술적 구성을 상세하게 설명한다. Hereinafter, the technical structure of the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐 동일한 참조번호는 동일한 구성요소를 나타낸다.However, the present invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 유기박막의 패터닝 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 유기소자를 구성하는 구성요소들의 파장에 따른 광흡수율을 보여주는 그래프이다. FIG. 1 is a view for explaining a method of patterning an organic thin film according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a graph showing a light absorption rate according to wavelengths of constituent elements of an organic device.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 유기박막의 패터닝 방법은 크게 유기박막을 포함하는 유기소자를 준비하는 제1단계와, 상기 유기박막을 변성시키는 레이저빔의 조사범위를 설정하는 제2단계 및 설정된 조사범위 내에서 레이저빔을 조사하여 상기 유기박막을 패터닝하는 제3단계를 포함하여 이루어지는데, 유기박막을 변성시키는 레이저빔을 조사함으로써 기 제작된 유기소자의 유기박막을 패터닝할 수 있다.Referring to FIG. 1, a method of patterning an organic thin film according to an embodiment of the present invention includes a first step of preparing an organic device including an organic thin film, a step of setting an irradiation range of the laser beam for denaturing the organic thin film And a third step of patterning the organic thin film by irradiating a laser beam within a predetermined irradiation range. The organic thin film of the organic device manufactured by irradiating a laser beam for denaturing the organic thin film can be patterned have.

먼저, 상기 제1단계에서는 유기박막을 포함하는 유기소자(100)를 준비한다(S10).First, in the first step, an organic device 100 including an organic thin film is prepared (S10).

상기 유기소자(100)는 유기태양전지, 유기전계발광 소자, 유기전계효과트랜지스터 등과 같이 전하수송성 유기화합물을 구비하는 소자이며, 일반적으로 한 개의 층 이상으로 구성되는 유기 박막 구조를 갖는 장치이다.The organic device 100 is a device having a charge-transporting organic compound such as an organic solar cell, an organic electroluminescent device, an organic field effect transistor and the like, and is generally an apparatus having an organic thin film structure composed of one or more layers.

이러한 상기 유기소자(100)는 일반적으로 기판(110)상에 제1전극(120), 유기박막(130) 및 제2전극(140)이 순차적으로 적층되어 있으며, 일정한 발광패턴을 형성하기 위해 상기 유기박막(130)을 패터닝한다. The first electrode 120, the organic thin film 130, and the second electrode 140 are sequentially stacked on the substrate 110. In order to form a uniform light emission pattern, The organic thin film 130 is patterned.

즉, 본 발명은 상기 유기박막(130)을 패터닝함에 있어서, 기 제작된 유기소자(100)를 준비한 다음 레이저빔을 조사하여 상기 유기박막(130)을 패터닝하는 기술이다.That is, in patterning the organic thin film 130, the organic thin film 130 is patterned by irradiating the prepared organic device 100 with a laser beam.

이어서, 상기 제2단계에서는 상기 유기박막(130)을 변성시키는 레이저빔의 조사범위를 설정한다(S20).Next, in the second step, the irradiation range of the laser beam for denaturing the organic thin film 130 is set (S20).

이때, 패터닝하고자 하는 상기 유기박막(130) 이외의 상기 유기소자(100)를 구성하는 구성요소 즉, 기판(110), 제1전극(120) 및 제2전극(140)에는 어떠한 손상을 주지 않는 범위 내에서 상기 레이저빔의 조사범위를 설정한다.At this time, the substrate 110, the first electrode 120, and the second electrode 140, which constitute the organic device 100 other than the organic thin film 130 to be patterned, The irradiation range of the laser beam is set.

도 2를 참조하면, (a)영역에서는 약 350nm 미만의 자외선 영역에서 광흡수가 강하게 일어나며, (b)영역에서는 약 350㎚ 내지 2㎛ 범위의 가시광선 및 근적외선 영역에서 광흡수가 일어나며, (c)영역에서는 약 2㎛ 이상의 영역에서 광흡수가 강하게 일어나는 것을 알 수 있다. 즉, (a)영역은 상기 제1전극(120)으로서 ITO 등과 같은 투명전극의 광흡수를 보여주는 영역이고, (b)영역은 상기 유기박막(130)의 광흡수를 보여주는 영역이며, (c)영역은 상기 제2전극(140)으로서 Al, Ag 등과 같은 금속전극의 광흡수를 보여주는 영역이다.2, in the region (a), light absorption occurs strongly in an ultraviolet region of less than about 350 nm, and in the region (b), light absorption occurs in a visible light region and a near infrared region in a range of about 350 nm to 2 ) Region, light absorption occurs strongly in a region of about 2 탆 or more. That is, the region (a) shows the absorption of light by the transparent electrode such as ITO as the first electrode 120, the region (b) shows the light absorption of the organic thin film 130, Region is an area showing the absorption of light of the metal electrode such as Al, Ag or the like as the second electrode 140.

따라서 상기 제2단계에서는 상기 유기박막(130)을 변성시킬 수 있는 레이저빔의 조사범위 즉, 광흡수가 일어나는 약 350㎚ 내지 2㎛ 범위의 가시광선 및 근적외선 영역에서 레이저빔의 조사범위를 설정한다. Accordingly, in the second step, the irradiation range of the laser beam capable of denaturing the organic thin film 130, that is, the irradiation range of the laser beam in the visible light and the near-infrared region in the range of about 350 nm to 2 μm where light absorption occurs is set .

상기 유기박막(130)은 다양한 유기물이나 유기반도체 등의 소재를 사용하여 형성되는 것이 일반적인바 열에 매우 약한 특성을 보이므로, 레이저빔과 같은 고열의 에너지가 짧은 시간에 가해질 경우 상기 유기박막(130)의 변성(탄화 등)을 유발시키게 된다. 이 경우 상기 유기소자(100)에 전기장 인가 시, 수직 방향으로만 전류가 흐를 수 있는 유기소자(100)의 구조적 특성 때문에 레이저에 의해 변성된 영역에서는 전류의 흐름이 제한되게 되는데, 발광소자의 경우에는 발광이 이루어지지 않게 된다. 본 발명에서는 이러한 원리를 이용함으로써 기 완성된 유기소자의 유기박막을 패터닝할 수 있는 것이다.Since the organic thin film 130 is formed using various organic materials or organic semiconductors, the organic thin film 130 exhibits a very weak characteristic in a bar. Therefore, when energy of high heat such as a laser beam is applied for a short time, (Carbonization and the like). In this case, current flow in the region denatured by the laser is limited due to the structural characteristic of the organic device 100, which can only flow in the vertical direction when an electric field is applied to the organic device 100. In the case of the light emitting device, The light is not emitted. In the present invention, by using such a principle, the organic thin film of the completed organic device can be patterned.

이때, 상기 제1전극(120) 및 상기 제2전극(140)의 광흡수 범위에는 해당하지 않으면서, 상기 유기박막(130)의 광흡수 범위 내에서 상기 레이저빔의 조사범위를 설정하는 것이 바람직하다. 이는 레이저 패터닝 공정 중 상기 제1전극(120) 및 제2전극(140)에서 레이저 흡수가 일어나게 되면 변성될 수 있는데, 이 경우 열 전달을 통한 형상변화, 두께변화, 표면거칠기 변화 등이 유발되어 저항 증가나 전류 밀도 변화 등 유기소자의 전기적 특성이 변할 수 있기 때문이다. 이러한 점을 고려하여 상기 레이저빔의 최적 조사범위를 설정할 필요가 있으며, 따라서 레이저 파장 및 출력의 선택이 매우 중요하다.At this time, it is preferable that the irradiation range of the laser beam is set within the light absorption range of the organic thin film 130 without being affected by the light absorption range of the first electrode 120 and the second electrode 140 Do. This can be modified when the laser absorption occurs at the first electrode 120 and the second electrode 140 during the laser patterning process. In this case, shape change, thickness change, surface roughness change, The electric characteristics of the organic device such as the increase or the change of the current density may be changed. In consideration of this point, it is necessary to set the optimum irradiation range of the laser beam, and therefore, the selection of the laser wavelength and the output is very important.

본 발명의 실시예에서 사용될 수 있는 레이저는 연속레이저나 펄스레이저 등 그 종류를 불문하고 사용될 수 있으나, 파장 영역이 대략 400 내지 4000㎚ 범위(가시광에서 근적외선 영역)인 레이저를 사용하는 것이 적합하다. The laser which can be used in the embodiment of the present invention can be used regardless of the kind such as a continuous laser or a pulsed laser, but it is suitable to use a laser having a wavelength range of approximately 400 to 4000 nm (visible light to near infrared region).

상기 제2단계에서는 상기 유기박막(130)이 복수 층으로 구비되는 경우 모든 층에서 광흡수가 일어나는 파장을 선택할 수 있으며, 구성 박막 중 특정 층에서만 흡수하는 파장을 선택할 수도 있다. In the second step, when the organic thin film 130 is provided in a plurality of layers, a wavelength at which light absorption occurs in all layers can be selected, and a wavelength to be absorbed only in a specific layer among the constituent thin films can be selected.

마지막으로, 제3단계에서는 설정된 조사범위 내에서 레이저빔을 조사하여 상기 유기박막(130)을 패터닝한다(S30).Finally, in the third step, the organic thin film 130 is patterned by irradiating a laser beam within the set irradiation range (S30).

상기 제3단계에서는 레이저 장비의 파워, 스캔속도, 스캔 범위 및 스팟사이즈(spot size) 등을 다양하게 설정하여 원하고자 하는 패턴(150)을 형성할 수 있다.In the third step, a desired pattern 150 may be formed by variously setting power, scan speed, scan range, and spot size of the laser device.

한편, 상기 제3단계를 복수 회로 수행함으로써 상기 유기박막(130)에 서로 다른 형태의 다양한 패턴(150)을 형성할 수 있다.Meanwhile, by performing the third step in a plurality of circuits, various patterns 150 of different shapes can be formed on the organic thin film 130. [

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 유기박막의 패터닝 방법은 설정된 레이저빔이 조사되면 상기 기판(110), 제1전극(120) 및 제2전극(140)에는 어떠한 손상도 주지 않으나, 상기 유기박막(130)은 변성되어 전류가 통하지 않게 되므로 패턴(150)을 형성할 수 있다. 다시 말해서, 상기 유기박막(130)의 패턴(150) 형성이 이루어지고 난 다음에도 하부전극인 상기 제1전극(120) 및 상부전극인 상기 제2전극(140)은 여전히 남아있기 때문에 손상으로 인한 전극층의 보강이 필요 없을 뿐만아니라, 상기 유기박막(130)의 추가적인 패턴형성이 가능하다.As described above, the method of patterning an organic thin film according to an embodiment of the present invention does not damage the substrate 110, the first electrode 120 and the second electrode 140 when the laser beam is irradiated, Since the organic thin film 130 is denatured and current does not pass therethrough, the pattern 150 can be formed. In other words, since the first electrode 120, which is a lower electrode and the second electrode 140, which is an upper electrode, remain after the pattern 150 of the organic thin film 130 is formed, It is not necessary to reinforce the electrode layer, and further pattern formation of the organic thin film 130 is possible.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기박막의 패터닝 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따라 형성된 유기박막의 패턴을 보여주는 유기전계발광소자의 단면도이다.FIG. 3 is a view for explaining a method of patterning an organic thin film according to another embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view of an organic electroluminescent device showing patterns of an organic thin film formed according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기박막의 패터닝 방법은 크게 유기박막을 포함하는 유기전계발광소자를 준비하는 제1단계와, 상기 유기박막을 변성시키는 레이저빔의 조사범위를 설정하는 제2단계 및 설정된 조사범위 내에서 레이저빔을 조사하여 상기 유기박막을 패터닝하는 제3단계를 포함하여 이루어지는데, 유기박막을 변성시키는 레이저빔을 조사함으로써 기 제작된 유기전계발광소자의 유기박막을 패터닝할 수 있다.Referring to FIG. 3, a method of patterning an organic thin film according to another embodiment of the present invention includes a first step of preparing an organic electroluminescent device including an organic thin film, a step of irradiating the organic thin film with a laser beam, And a third step of patterning the organic thin film by irradiating the organic thin film with a laser beam within a set irradiation range. The organic thin film is formed by irradiating a laser beam to denature the organic thin film, The thin film can be patterned.

상기 제1단계에서는 유기박막을 포함하는 유기소자로서 유기전계발광소자(300)를 준비한다(S100).In the first step, an organic electroluminescent device 300 is prepared as an organic device including an organic thin film (S100).

상기 유기전계발광소자(300)는 일반적으로 기판(310)상에 제1전극(320), 유기박막(330) 및 제2전극(340)이 순차적으로 적층되어 있으며, 일정한 발광패턴을 형성하기 위해 상기 유기박막(330)을 패터닝한다. The organic electroluminescent device 300 generally includes a first electrode 320, an organic thin film 330, and a second electrode 340 sequentially stacked on a substrate 310. In order to form a uniform emission pattern, The organic thin film 330 is patterned.

상기 기판(310)은 유리와 같은 투명기판을 사용하고, 상기 제1전극(320)은 ITO, ZTO 등과 같은 투명전극을 사용하며, 상기 제2전극(340)은 Al, Ag 등과 같은 금속전극을 사용한다. The first electrode 320 may be a transparent electrode such as ITO or ZTO and the second electrode 340 may be a metal electrode such as Al or Ag. use.

그리고, 상기 유기박막(330)은 정공수송층-정공주입층(331), 발광층(332) 및 전자주입층-전자수송층(333) 등을 포함하여 구성될 수 있으며, 다양한 유기물이나 유기물반도체 등의 소재로 형성된다.The organic thin film 330 may include a hole transporting layer-a hole injecting layer 331, a light emitting layer 332, an electron injecting layer-electron transporting layer 333, and the like. The organic thin film 330 may include various organic materials, .

즉, 본 발명의 다른 실시예는 상기 유기박막(330)을 패터닝함에 있어서, 기 제작된 유기전계발광소자(300)를 준비한 다음 레이저빔을 조사하여 상기 유기박막(330)을 패터닝하는 기술이다.That is, in another embodiment of the present invention, the organic thin film 330 is patterned by preparing a prepared organic electroluminescent device 300 and then irradiating the laser beam to the organic thin film 330.

이어서, 상기 제2단계에서는 상기 유기박막(330)을 변성시키는 레이저빔의 조사범위를 설정한다(S200).Next, in the second step, an irradiation range of the laser beam for denaturing the organic thin film 330 is set (S200).

이때, 패터닝하고자 하는 상기 유기박막(330) 이외의 상기 유기전계발광소자(300)를 구성하는 구성요소 즉, 기판(310), 제1전극(320) 및 제2전극(340)의 손상을 주지 않는 범위내에서 상기 레이저빔의 조사범위를 설정한다.The first electrode 320 and the second electrode 340 constituting the organic electroluminescent device 300 other than the organic thin film 330 to be patterned are damaged The irradiation range of the laser beam is set.

도 2를 참조하면, (a)영역에서는 약 350nm 미만의 자외선 영역에서 광흡수가 강하게 일어나며, (b)영역에서는 약 350㎚ 내지 2㎛ 범위의 가시광선 및 근적외선 영역에서 광흡수가 일어나면, (c)영역에서는 약 2㎛ 이상의 영역에서 광흡수가 강하게 일어나는 것을 알 수 있다. 즉, (a)영역은 상기 제1전극(320)으로서 ITO 등과 같은 투명전극의 광흡수를 보여주는 영역이고, (b)영역은 상기 유기박막(330)의 광흡수를 보여주는 영역이며, (c)영역은 상기 제2전극(340)으로서 Al, Ag 등과 같은 금속전극의 광흡수를 보여주는 영역이다.Referring to FIG. 2, in the region (a), light absorption occurs strongly in the ultraviolet region of less than about 350 nm, and in the region (b), when light absorption occurs in the visible region and the near- ) Region, light absorption occurs strongly in a region of about 2 탆 or more. That is, the region (a) shows the absorption of light by the transparent electrode such as ITO as the first electrode 320, the region (b) shows the light absorption of the organic thin film 330, The second electrode 340 is a region showing light absorption of a metal electrode such as Al, Ag or the like.

따라서 상기 제2단계에서는 상기 유기박막(330)을 변성시킬 수 있는 레이저빔의 조사범위 즉, 광흡수가 일어나는 약 350㎚ 내지 2㎛ 범위의 가시광선 영역에서 레이저빔의 조사범위를 설정한다. Therefore, in the second step, the irradiation range of the laser beam that can denature the organic thin film 330, that is, the irradiation range of the laser beam in the visible light range of about 350 nm to 2 μm in which light absorption occurs is set.

상기 유기박막(330)은 다양한 유기물이나 유기반도체 등의 소재를 사용하여 형성되는 것이 일반적인바 열에 매우 약한 특성을 보이므로, 레이저빔과 같은 고열의 에너지가 짧은 시간에 가해질 경우 상기 유기박막(330)의 변성(탄화 등)을 유발시키게 된다. 이 경우 상기 유기전계발광소자(300)에 전기장 인가 시, 수직 방향으로만 전류가 흐를 수 있는 유기전계발광소자(300)의 구조적 특성 때문에 레이저에 의해 변성된 영역에서는 전류의 흐름이 제한되게 되는데, 발광소자의 경우에는 발광이 이루어지지 않게 된다. 본 발명에서는 이러한 원리를 이용함으로써 기 완성된 유기소자의 유기박막을 패터닝할 수 있는 것이다.Since the organic thin film 330 is formed using various organic materials or organic semiconductors, the organic thin film 330 has a very weak characteristic. Therefore, when a high energy such as a laser beam is applied for a short time, (Carbonization and the like). In this case, when the electric field is applied to the organic electroluminescent device 300, the flow of current is restricted in the region denatured by the laser due to the structural characteristics of the organic electroluminescent device 300, In the case of the light emitting element, the light emission is not performed. In the present invention, by using such a principle, the organic thin film of the completed organic device can be patterned.

이때, 상기 제1전극(320) 및 상기 제2전극(340)의 광흡수 범위에는 해당하지 않으면서, 상기 유기박막(330)의 광흡수 범위 내에서 상기 레이저빔의 조사범위를 설정하는 것이 바람직하다. 이는 레이저 패터닝 공정 중 상기 제1전극(320) 및 제2전극(340)에서 레이저 흡수가 일어나게 되면 변성될 수 있는데, 이 경우 열 전달을 통한 형상변화, 두께변화, 표면거칠기 변화 등이 유발되어 저항 증가나 전류 밀도 변화 등 유기전계발광소자(300)의 전기적 특성이 변할 수 있기 때문이다. 이러한 점을 고려하여 상기 레이저빔의 최적 조사범위를 설정할 필요가 있으며, 따라서 레이저 파장 및 출력의 선택이 매우 중요하다.At this time, it is preferable that the irradiation range of the laser beam is set within the light absorption range of the organic thin film 330 without being affected by the light absorption range of the first electrode 320 and the second electrode 340 Do. In this case, the shape change, the thickness change, the surface roughness change, and the like are caused by the heat transfer, so that the resistance The electric characteristics of the organic electroluminescent device 300 may be changed such as an increase in current density or a change in current density. In consideration of this point, it is necessary to set the optimum irradiation range of the laser beam, and therefore, the selection of the laser wavelength and the output is very important.

본 발명의 실시예에서 사용될 수 있는 레이저는 연속레이저나 펄스레이저 등 그 종류를 불문하고 사용될 수 있으나, 파장 영역이 대략 400 내지 4000㎚ 범위(가시광에서 근적외선 영역)인 레이저를 사용하는 것이 적합하다. 그리고, 레이저빔의 조사에너지는 단위면적(직경 50㎛)당 1uJ ~ 1000uJ이 적절하며, 바람직하게는 5uJ~500uJ이 적절하다.The laser which can be used in the embodiment of the present invention can be used regardless of the kind such as a continuous laser or a pulsed laser, but it is suitable to use a laser having a wavelength range of approximately 400 to 4000 nm (visible light to near infrared region). The irradiation energy of the laser beam is suitably 1 uJ to 1000 uJ per unit area (diameter 50 m), preferably 5 uJ to 500 uJ.

상기 제2단계에서는 상기 유기박막(330)을 구성하는 모든 층에서 광흡수가 일어나는 파장을 선택할 수 있으며, 정공수송층-정공주입층(331), 발광층(332) 및 전자주입층-전자수송층(333) 중 특정 층에서만 흡수하는 파장을 선택할 수도 있다. In the second step, a wavelength at which light absorption occurs in all the layers constituting the organic thin film 330 can be selected. The hole transport layer-hole injection layer 331, the emission layer 332, and the electron injection layer-electron transport layer 333 ) May be selected.

마지막으로, 제3단계에서는 설정된 조사범위 내에서 레이저빔을 조사하여 상기 유기박막(330)을 패터닝한다(S300).Finally, in the third step, the organic thin film 330 is patterned by irradiating a laser beam within the set irradiation range (S300).

상기 제3단계에서는 레이저 장비의 파워, 스캔속도, 스캔 범위 및 스팟사이즈(spot size) 등을 다양하게 설정하여 원하고자 하는 패턴(350)을 형성할 수 있다.In the third step, a desired pattern 350 may be formed by variously setting power, scan speed, scan range, and spot size of laser equipment.

이때, 상기 제3단계를 복수 회로 수행함으로써 상기 유기박막(330)에 서로 다른 형태의 다양한 패턴(150)을 형성할 수 있다.At this time, by performing the third step in a plurality of circuits, various patterns 150 of different shapes can be formed on the organic thin film 330.

도 4를 참조하면, 처음 제3단계에서는 상기 발광층(332)에 레이저빔을 조사하여 변성시킴으로서 제1패턴(350)을 형성하였으며, 두 번째 제3단계에서는 상기 전자주입층-전자수송층(333)에 레이저빔을 조사하여 변성시킴으로서 상기 제1패턴(350)과는 다른 형태의 제2패턴(360)을 형성하였음을 알 수 있다. 즉, 본 발명의 실시예에서는 제2단계 및 제3단계를 복수 회 수행함으로써, 상기 유기박막(330)을 구성하는 특정 층 또는 복수 층에 다양한 형태의 패턴들을 형성할 수 있다.4, a first pattern 350 is formed by irradiating the light emitting layer 332 with a laser beam to denature the light emitting layer 332, and in the third step, the electron injection layer-electron transport layer 333 is formed, The second pattern 360 having a shape different from that of the first pattern 350 is formed by irradiating the laser beam with the laser beam. That is, in the embodiment of the present invention, by performing the second step and the third step a plurality of times, various types of patterns can be formed on a specific layer or a plurality of layers constituting the organic thin film 330.

상기 제3단계서 설정된 레이저빔은 투명전극쪽으로 조사되어야 하므로 상기 투명기판(310) 쪽에서 조사하는 것이 바람직하다.Since the laser beam set in the third step needs to be irradiated toward the transparent electrode, it is preferable that the laser beam is irradiated from the transparent substrate 310 side.

한편, 상기 유기전계발광소자가 전면발광(top emission)인 경우, 상기 기판(310)은 불투명기판이고, 상기 제2전극(334)은 투명전극이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔을 상기 제2전극 쪽에서 조사하는 것이 바람직하다. 그리고, 상기 유기전계발광소자가 양면발광인 경우, 상기 기판(310)은 투명기판이고, 상기 제1전극(320) 및 상기 제2전극(340)은 투명전극이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔을 상기 투명기판(310) 또는 상기 제2전극(340) 어느 쪽에서 조사할 수 있다.Meanwhile, in the case where the organic EL device is top emission, the substrate 310 is an opaque substrate, the second electrode 334 is a transparent electrode, It is preferable to conduct irradiation from the two electrode side. The first electrode 320 and the second electrode 340 are transparent electrodes. In the third step, the substrate 310 is a transparent substrate, and the first electrode 320 and the second electrode 340 are transparent electrodes, The beam can be irradiated from either the transparent substrate 310 or the second electrode 340.

상술한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기박막의 패터닝 방법은 설정된 레이저빔이 조사되면 상기 기판(310), 제1전극(320) 및 제2전극(340)에는 어떠한 손상도 주지 않으면서 패턴(350)을 형성할 수 있다. 다시 말해서, 상기 유기박막(330)의 패턴(350) 형성이 이루어지고 난 다음에도 하부전극인 상기 제1전극(120) 및 상부전극인 상기 제2전극(140)은 여전히 남아있기 때문에 손상으로 인한 전극층의 보강이 필요 없을 뿐만 아니라, 상기 유기박막(330)의 추가적인 패턴(360) 형성이 가능하다. 특히, 두 번째 패턴(360) 형성을 위해 전자주입층-전자수송층(333)에 패턴을 형성하는 경우에는 상기 기판(310), 제1전극(320), 제2전극(340)뿐만 아니라, 상기 정공수송층-정공주입층(331) 및 발광층(332)에는 어떠한 손상도 주지 않으나, 상기 전자주입층-전자수송층(333)은 변성되어 전류가 통하지 않게 되므로 패턴(350)을 형성할 수 있다. As described above, in the method of patterning an organic thin film according to another embodiment of the present invention, when a predetermined laser beam is irradiated, the substrate 310, the first electrode 320 and the second electrode 340 are not damaged The pattern 350 can be formed. In other words, since the first electrode 120, which is a lower electrode, and the second electrode 140, which is an upper electrode, remain after the pattern 350 of the organic thin film 330 is formed, It is not necessary to reinforce the electrode layer and it is possible to form an additional pattern 360 of the organic thin film 330. In particular, when a pattern is formed on the electron injection layer-electron transport layer 333 to form the second pattern 360, not only the substrate 310, the first electrode 320, and the second electrode 340, The electron injection layer-electron transport layer 333 is denatured and the current is not passed through the hole injection layer 331 and the emission layer 332, so that the pattern 350 can be formed.

실시예Example

레이저 장비로서 연속레이저(continuous wave laser)를 사용하였는데, 출력 8~10W, 파장 1064 ㎚으로 설정하였고, 레이저의 스팟 직경(spot diameter)은 20~70㎛, 스캐닝 속도 1000mm/sec로 설정하여 조사하였다. 유기소자로서 Glass/ ITO (150nm)/ ZnO (zinc oxide) nanoparticle 층 (20nm)/PEIE (Polyethyleneimine ethoxylated) 층 (1nm)/ Merck PDY-132 (Brand name : super yellow) (70nm)/ MoO3 (molybdenum trioxide) (1nm)/ Aluminium (150nm)의 구조를 갖는 유기전계발광소자를 사용하였다.A continuous wave laser was used as the laser device. The output was set to 8 to 10 W and the wavelength to 1064 nm. The spot diameter of the laser was set to 20 to 70 μm and the scanning speed was set to 1000 mm / sec. . As an organic device, a glass / ITO (150 nm) / ZnO nanoparticle layer (20 nm) / PEIE (Polyethyleneimine ethoxylated) layer (1 nm) / Merck PDY-132 (Brand name: super yellow) (70 nm) / MoO 3 trioxide (1 nm) / aluminum (150 nm) was used as the organic electroluminescent device.

도 5는 본 발명의 실시예에 따라 형성된 유기박막의 패턴을 보여주는 유기전계발광소자의 사진으로서, (a)는 패터닝 전 완성된 유기전계발광소자의 사진이고, (b)는 레이저빔을 이용한 1차 패터닝이 이루어진 유기전계발광소자의 사진이며, (c)는 레이저빔을 이용한 2차 패터닝이 이루어진 유기전계발광소자의 사진이다.FIG. 5 is a photograph of an organic electroluminescent device showing patterns of an organic thin film formed according to an embodiment of the present invention, wherein (a) is a photograph of a completed organic electroluminescent device before patterning, (b) (C) is a photograph of an organic electroluminescent device subjected to second patterning using a laser beam.

도 5를 참조하면, 이미 완성된 유기전계발광소자의 유기박막에 레이저빔을 조사함으로써 원하고자 하는 제1패턴을 형성하였음을 알 수 있으며, 레이저 패터닝 공정을 다시 수행함으로써 제1패턴과는 다른 형태의 제2패턴을 형성하였음을 확인할 수 있다. Referring to FIG. 5, it can be seen that a first pattern to be desired is formed by irradiating a laser beam onto an organic thin film of an already completed organic electroluminescent device, and by repeating the laser patterning process, The second pattern of FIG.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 유기박막의 패터닝 후 유기박막의 거칠기를 분석한 결과이다.6 is a graph illustrating the roughness of the organic thin film after patterning of the organic thin film according to the embodiment of the present invention.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 유기박막의 패터닝 공정은 유기박막의 화학적 변화를 유발(변성)하여 전류가 흐르지 않게 하는 것이 기본 원리이다. 여기서, 레이저 패터닝 공정 이후 표면 거칠기 등이 증가할 경우에는 유기전계발광소자의 전력효율이 감소하고, 수명에 큰 영향을 줄 수 있기 때문에 레이터 패터닝 공정 전과 후의 표면 거칠기를 비교하였다.As described above, in the patterning process of the organic thin film according to the embodiment of the present invention, the chemical change of the organic thin film is induced (denatured) so that the current does not flow. Here, when the surface roughness or the like increases after the laser patterning process, the power efficiency of the organic electroluminescent device is reduced and the surface roughness before and after the laser patterning process is compared because it may significantly affect the lifetime.

도 6을 참조하면, 원자현미경(AFM: Atomic Force Microscope)의 결과에서 확인할 수 있는 바와 같이, 레이저 패터닝 이후에도 유기박막의 표면 거칠기는 크게 변하지 않았음을 알 수 있으며, 레이저 패터닝 전 전체적으로 작은 돌기처럼 분포해 있던 유기박막의 표면이 레이저 패터닝 공정 이후에는 뭉쳐져서 원만한 표면 거칠기 분포를 보여주고 있음을 알 수 있다.Referring to FIG. 6, as can be seen from the results of Atomic Force Microscope (AFM), it can be seen that the surface roughness of the organic thin film is not largely changed even after the laser patterning, And the surface of the organic thin film was solidified after the laser patterning process to show a smooth surface roughness distribution.

도 7은 본 발명의 실시예에 따라 형성된 유기전계발광소자의 전력특성 및 효율 변화를 보여주는 그래프이다.7 is a graph illustrating power characteristics and efficiency of an organic electroluminescent device formed according to an embodiment of the present invention.

도 7(a)을 참조하면, 본 발명의 유기박막의 패터닝 공정에 따른 발광 면적 감소로 인하여 전류 밀도와 휘도가 감소한 것을 알 수 있다. 하지만, 도 7(b)에서와 같이 발광 효율(Luminous efficiency) (cd/A) 값에는 큰 변화가 없는 것으로 확인되어 레이저 패터닝에 따른 전력 효율 변화는 거의 없음을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 7 (a), the current density and the luminance are decreased due to the reduction of the light emitting area according to the patterning process of the organic thin film of the present invention. However, as shown in FIG. 7 (b), there is no significant change in the luminous efficiency (cd / A) value, and it can be confirmed that there is almost no change in the power efficiency due to the laser patterning.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation, Various changes and modifications will be possible.

100: 유기소자 300: 유기전계발광소자
110, 310: 기판 120, 320: 제1전극
130, 330: 유기박막 140, 340: 제2전극
150: 패턴 350: 제1패턴
360: 제2패턴100: organic device 300: organic electroluminescence device
110, 310: substrate 120, 320: first electrode
130, 330: organic thin film 140, 340: second electrode
150: pattern 350: first pattern
360: second pattern

Claims (11)

유기박막을 포함하는 유기소자를 준비하는 제1단계;
상기 유기박막만을 변성시키는 레이저빔의 조사범위를 설정하는 제2단계; 및
설정된 조사범위 내에서 레이저빔을 조사하여 상기 유기박막을 패터닝하는 제3단계;를 포함하는 유기박막의 패터닝 방법.A first step of preparing an organic device including an organic thin film;
A second step of setting an irradiation range of a laser beam for denaturing only the organic thin film; And
And a third step of patterning the organic thin film by irradiating a laser beam within a set irradiation range. 제 1 항에 있어서,
상기 제2단계는 패터닝하고자 하는 상기 유기박막 이외의 상기 유기소자를 구성하는 구성요소의 손상이 없도록 상기 레이저빔의 조사범위를 설정하는 것을 특징으로 하는 유기박막의 패터닝 방법.The method according to claim 1,
Wherein the second step is to set the irradiation range of the laser beam so that the components constituting the organic device other than the organic thin film to be patterned are not damaged. 제 2 항에 있어서,
상기 유기소자는 기판상에 제1전극, 유기박막 및 제2전극이 순차적으로 적층된 유기소자이며,
상기 제3단계에서 설정된 레이저빔이 조사되면 상기 유기박막이 변성되어 전류가 통하지 않는 것을 특징으로 하는 유기박막의 패터닝 방법.3. The method of claim 2,
The organic device is an organic device in which a first electrode, an organic thin film, and a second electrode are sequentially stacked on a substrate,
Wherein the organic thin film is denatured when a laser beam set in the third step is irradiated so that no current flows through the organic thin film. 제 3 항에 있어서,
상기 제2단계는 상기 제1전극 및 상기 제2전극의 광흡수 범위에는 해당하지 않으면서, 상기 유기박막의 광흡수 범위 내에서 상기 레이저빔의 조사범위를 설정하는 것을 특징으로 하는 유기박막의 패터닝 방법.The method of claim 3,
Wherein the second step sets the irradiation range of the laser beam within the light absorption range of the organic thin film without falling within the light absorption range of the first electrode and the second electrode. Way. 제 2 항에 있어서,
상기 유기소자는 기판상에 제1전극, 발광층을 구비하는 유기박막 및 제2전극이 순차적으로 적층되어 있는 유기전계발광소자(OLED)이며,
상기 제3단계는 설정된 레이저빔이 조사되면 유기박막이 변성되어 전류가 통하지 않아 발광되지 않는 것을 특징으로 하는 유기박막의 패터닝 방법.3. The method of claim 2,
The organic device includes an organic electroluminescent device (OLED) having a first electrode, an organic thin film having a light emitting layer, and a second electrode sequentially laminated on a substrate,
Wherein the organic thin film is denatured when the laser beam is irradiated, and the organic thin film is not emitted because no current flows through the organic thin film. 제 5 항에 있어서,
상기 제2단계는 상기 제1전극 및 상기 제2전극의 광흡수 범위에는 해당하지 않으면서, 상기 유기박막의 광흡수 범위 내에서 상기 레이저빔의 조사범위를 설정하는 것을 특징으로 하는 유기박막의 패터닝 방법.6. The method of claim 5,
Wherein the second step sets the irradiation range of the laser beam within a light absorption range of the organic thin film without falling within a light absorption range of the first electrode and the second electrode. Way. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
상기 제2단계 및 상기 제3단계를 복수 회 수행하여 상기 유기박막에 서로 다른 형태의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 유기박막의 패터닝 방법.The method according to claim 5 or 6,
Wherein the second step and the third step are performed a plurality of times to form different patterns on the organic thin film. 제1전극;
상기 제1전극에 대향하여 구비되는 제2전극; 및
상기 제1전극 및 상기 제2전극 사이에 구비되며, 발광층을 구비하는 유기박막;을 포함하며,
상기 유기박막에는 소자 제작 완료 후 레이저빔에 의해 변성되어 형성된 패턴이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 발광소자.A first electrode;
A second electrode facing the first electrode; And
And an organic thin film provided between the first electrode and the second electrode and having a light emitting layer,
Wherein the organic thin film is provided with a pattern formed by modifying the organic thin film by a laser beam after fabricating the device. 투명기판;
상기 투명기판상에 구비되는 투명전극;
상기 투명전극 상에 구비되며, 발광층을 포함하는 유기박막; 및
상기 유기박막 상에 구비되는 제2전극;을 포함하며,
상기 유기박막에는 소자 제작 완료 후 레이저빔에 의해 변성되어 형성된 패턴이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.A transparent substrate;
A transparent electrode provided on the transparent substrate;
An organic thin film provided on the transparent electrode and including a light emitting layer; And
And a second electrode provided on the organic thin film,
Wherein the organic thin film is provided with a pattern formed by modifying the organic thin film by a laser beam after fabricating the device. 제 9 항에 있어서,
상기 유기박막 중에서 상기 발광층에만 레이저빔에 의해 변성된 패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.10. The method of claim 9,
Wherein a pattern denatured by a laser beam is formed only in the light emitting layer in the organic thin film. 제 9 항에 있어서,
상기 유기박막에는 상기 발광층에 형성된 제1패턴과, 상기 발광층 이외의 유기박막에 형성된 제2패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자.10. The method of claim 9,
Wherein the organic thin film has a first pattern formed on the light emitting layer and a second pattern formed on an organic thin film other than the light emitting layer.
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